(57)【要約】【課題】【解決手段】本発明は、フレキシブル基板；前記フレキシブル基板より狭い面積を有し、前記フレキシブル基板上に積層される平坦化層；前記平坦化層上に積層されるディスプレイ素子；および前記フレキシブル基板上に設けられ、前記平坦化層と前記ディスプレイ素子を共に覆う保護層を含むことを特徴とするフレキシブルディスプレイ装置およびその製造方法を提供する。【選択図】図１
2009522593.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブル基板；
前記フレキシブル基板より狭い面積を有し、前記フレキシブル基板上に積層される平坦化層；
前記平坦化層上に積層されるディスプレイ素子；および
前記フレキシブル基板上に設けられ、前記平坦化層と前記ディスプレイ素子を共に覆う保護層を含むことを特徴とするフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項２】
前記保護層は、前記平坦化層より広い面積を有し、前記フレキシブル基板よりは狭い面積を有することを特徴とする、請求項１に記載のフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項３】
前記平坦化層の周縁端部と前記フレキシブル基板の周縁端部との離隔間隔は１０ｃｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載のフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項４】
前記保護層は、気体防御膜物質を含むプラスチックシート形態で設けられ、前記フレキシブル基板上に付着されることを特徴とする、請求項１に記載のフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項５】
前記保護層は、気体防御膜物質、有機物質およびこれらの混合物質のうちから選択されたものを、前記フレキシブル基板上に単層と複層形態のうちのいずれか１つの形態で成膜して設けられることを特徴とする、請求項１に記載のフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項６】
前記平坦化層は１０μｍ以下の厚さを有することを特徴とする、請求項１に記載のフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項７】
前記ディスプレイ素子は、コレステリックＬＣＤ、ＰＤＬＣ（高分子分散液晶）、電気泳動装置(Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｃｔｉｃ  ｄｅｖｉｃｅ)およびＯＬＥＤのうちのいずれか１つであることを特徴とする、請求項１に記載のフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項８】
前記フレキシブル基板は、樹脂層および前記樹脂層に積層される金属層を含むことを特徴とする、請求項１に記載のフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項９】
前記樹脂層は、ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリエステル、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎｅ）、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ）、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ＰＡＲ（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）、ＰＣＯ（ｐｏｌｙｃｙｃｌｉｃｏｌｅｆｉｎ）およびポリノルボルネンのうちから選択された１種以上で設けられることを特徴とする、請求項８に記載のフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記金属層は、アルミニウムおよびステンレス鋼（ｓｔａｉｎｌｅｓｓ  ｓｔｅｅｌ）のうちから選択された１種以上で設けられることを特徴とする、請求項８に記載のフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項１１】
前記フレキシブル基板は、前記樹脂層上に前記金属層をラミネーティング法によって積層させて設けられることを特徴とする、請求項８に記載のフレキシブルディスプレイ装置。
【請求項１２】
ａ）フレキシブル基板を準備するステップ；
ｂ）前記フレキシブル基板上に前記フレキシブル基板より狭い面積を有する平坦化層を形成するステップ；
ｃ）前記平坦化層上にディスプレイ素子を形成するステップ；および
ｄ）前記平坦化層と前記ディスプレイ素子を共に覆う保護層を前記フレキシブル基板上に形成するステップを含むことを特徴とするフレキシブルディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１３】
前記ｄ）ステップにおいて、前記保護層は、前記平坦化層より広い面積を有し、前記フレキシブル基板よりは狭い面積を有するように設けられることを特徴とする、請求項１２に記載のフレキシブルディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１４】
前記ｂ）ステップにおいて、前記平坦化層の周縁端部と前記フレキシブル基板の周縁端部との離隔間隔が１０ｃｍ以下になるように、前記平坦化層を前記フレキシブル基板上に形成することを特徴とする、請求項１２に記載のフレキシブルディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１５】
前記ｄ）ステップにおいて、前記保護層は気体防御膜物質を含むプラスチックシート形態で設けられ、前記フレキシブル基板上に付着されることを特徴とする、請求項１２に記載のフレキシブルディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１６】
前記ｄ）ステップにおいて、気体防御膜物質、有機物質およびこれらの混合物質のうちから選択されたものを、前記フレキシブル基板に単層と複層形態のうちのいずれか１つの形態で前記フレキシブル基板上に成膜し、前記保護層を設けることを特徴とする、請求項１２に記載のフレキシブルディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１７】
前記ｂ）ステップにおいて、前記平坦化層は１０μｍ以下の厚さを有するように設けられることを特徴とする、請求項１２に記載のフレキシブルディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１８】
前記ｃ）ステップにおいて、前記ディスプレイ素子は、コレステリックＬＣＤ、ＰＤＬＣ（高分子分散液晶）、電気泳動装置(Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｃｔｉｃ  ｄｅｖｉｃｅ)およびＯＬＥＤのうちのいずれか１つであることを特徴とする、請求項１２に記載のフレキシブルディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１９】
前記ａ）ステップにおいては、樹脂層上に金属層をラミネーティング法によって積層させて前記フレキシブル基板を設けることを特徴とする、請求項１２に記載のフレキシブルディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２０】
前記樹脂層は、ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリエステル、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎｅ）、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ）、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ＰＡＲ（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）、ＰＣＯ（ｐｏｌｙｃｙｃｌｉｃｏｌｅｆｉｎ）およびポリノルボルネンのうちから選択された１種以上で設けられることを特徴とする、請求項１９に記載のフレキシブルディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２１】
前記金属層は、アルミニウムおよびステンレス鋼（ｓｔａｉｎｌｅｓｓ  ｓｔｅｅｌ）のうちから選択された１種以上で設けられることを特徴とする、請求項１９に記載のフレキシブルディスプレイ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護層を用いて平坦化層に外部の水分または酸素が浸透することを効果的に遮断できるフレキシブルディスプレイ装置およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
本出願は２００５年１２月３０日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２００５−０１３４８８２号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。
【背景技術】
【０００３】
一般的に、フレキシブルディスプレイ装置とは厚いガラス基板ではなくフレキシブル基板上にディスプレイ素子を形成することにより、畳んだり曲げたりしても視覚的情報を示すことができるディスプレイ装置のことをいう。
【０００４】
フレキシブルディスプレイ装置に適用されるフレキシブル基板としては、有機物からなるプラスチック基板、有機物と無機物との積層構造を有する基板、薄いステンレス鋼やアルミニウムのような金属を含む基板などが挙げられる。
【０００５】
フレキシブルディスプレイ装置に適用されるディスプレイ素子としては、コレステリック（Ｃｈｏｌｅｓｔｅｒｉｃ）ＬＣＤ、ＰＤＬＣ（高分子分散液晶: Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、電気泳動装置(Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｃｔｉｃ  ｄｅｖｉｃｅ)および有機発光素子（ＯＬＥＤ）などが挙げられる。
【０００６】
このようなディスプレイ素子は、その種類により、フレキシブル基板を通した酸素や水分などの気体透過性が重要である。
【０００７】
特に有機発光素子の場合、酸素や水分に非常に感受性があるため、これらの浸透によって有機発光素子の性能が低下し寿命が短縮する問題点がある。
【０００８】
それを解決するために、韓国登録特許第０３００４２５号（特許文献１）には、複数のガスバリア層（気体防御膜）が設けられた有機電界発光素子のプラスチック基板が開示されている。
【０００９】
ガスバリア層は、韓国公開特許第２００４−０１１１４０３号（特許文献２）に開示されているように様々な種類の金属酸化物が用いられたり、韓国公開特許第２００３−００７４７８３号（特許文献３）に開示されているように有機−無機混合物が用いられたりもする。
【００１０】
このようなガスバリア層が設けられたフレキシブルディスプレイ装置の一例として、図４に示したフレキシブルディスプレイ装置の場合、フレキシブル基板１１０とディスプレイ素子１３０との間にガスバリア層１２０が介在し、フレキシブル基板１１０の上にはディスプレイ素子１３０を覆う保護層１４０が設けられている。
【００１１】
一方、酸素や水分の浸透を効果的に遮断するために開発されたＳｔａｉｎｌｅｓｓ  ｓｔｅｅｌ  ｆｏｉｌ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅ（Ｚ．Ｘｉｅ  ｅｔ  ａｌ，Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，３８１，６９１（２００３）（非特許文献１））またはａｌｕｍｉｎｕｍ  ｆｏｉｌをプラスチック基板にラミネーションしたフレキシブル基板（Ｙ．Ｌｉ  ｅｔ  ａｌ，Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，８６，１５３５０８（２００５）（非特許文献２））を用いてフレキシブルディスプレイ装置を製造することもできる。
【００１２】
前述したフレキシブル基板を用いる場合、フレキシブルディスプレイ装置に求められるフレキシブル基板の平坦度を確保するためにフレキシブル基板上に有機物の平坦化層を設ける。
【００１３】
より具体的に説明すれば、図５に示すように、プラスチック基板２１１と金属薄膜２１２を有するフレキシブル基板２１０とディスプレイ素子２３０との間には平坦化層２２０が介在し、フレキシブル基板２１０の上にはディスプレイ素子２３０を覆う保護層２４０が設けられている。
【００１４】
ここで、平坦化層２２０はフレキシブル基板２１０とほぼ同じ横幅を有し、保護層２４０よりは大きい横幅を有するため、平坦化層２２０の周縁端部領域が外部に露出配置される。
【００１５】
そこで、図５に示すように、保護層２４０によって上側方向から水分または酸素が浸透することを防止することができ、フレキシブル基板２１０によって下側方向から水分および酸素が浸透することを防止することができるが、前述したように、平坦化層２２０の周縁端部領域が外部に露出しているため、側面方向から水分または酸素が平坦化層２２０に浸透することを防止できない問題点がある。
【特許文献１】韓国登録特許第０３００４２５号
【特許文献２】韓国公開特許第２００４−０１１１４０３号
【特許文献３】韓国公開特許第２００３−００７４７８３号
【非特許文献１】Ｚ．Ｘｉｅら，Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，３８１，６９１（２００３）
【非特許文献２】Ｙ．Ｌｉら，Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，８６，１５３５０８（２００５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、保護層を用いて外部から水分または酸素が平坦化層に浸透することを効果的に遮断できるフレキシブルディスプレイ装置およびその製造方法を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の一実施様態は、フレキシブル基板；前記フレキシブル基板より 狭い面積を有し、前記フレキシブル基板上に積層される平坦化層；前記平坦化層上に積層されるディスプレイ素子；および前記フレキシブル基板上に設けられ、前記平坦化層と前記ディスプレイ素子を共に覆う保護層を含むことを特徴とするフレキシブルディスプレイ装置を提供する。
【００１８】
前記フレキシブル基板は樹脂層および前記樹脂層に積層される金属層を含むことができる。
【００１９】
前記樹脂層は、ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリエステル、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎｅ）、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ）、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ＰＡＲ（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）、ＰＣＯ（ｐｏｌｙｃｙｃｌｉｃｏｌｅｆｉｎ）およびポリノルボルネンのうちから選択された１種以上で設けることができる。
【００２０】
前記金属層は、アルミニウムおよびステンレス鋼（ｓｔａｉｎｌｅｓｓ  ｓｔｅｅｌ）のうちから選択された１種以上で設けることができる。
【００２１】
ここで、前記フレキシブル基板は前記樹脂層上に前記金属層をラミネーティング法によって積層させて設けることができる。
【００２２】
前記平坦化層は１０μｍ以下の厚さを有することが好ましく、前記平坦化層の周縁端部と前記フレキシブル基板の周縁端部との離隔間隔は１０ｃｍ以下であることが好ましい。
【００２３】
前記ディスプレイ素子は、コレステリックＬＣＤ、ＰＤＬＣ（高分子分散液晶）、電気泳動装置(Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｃｔｉｃ  ｄｅｖｉｃｅ)およびＯＬＥＤのうちのいずれか１つであり得る。
【００２４】
前記保護層は前記平坦化層より広い面積を有し、前記フレキシブル基板よりは狭い面積を有することが好ましい。
【００２５】
前記保護層は気体防御膜物質を含むプラスチックシート形態で設けられ、前記フレキシブル基板上に付着され得る。
【００２６】
あるいは、前記保護層は、気体防御膜物質、有機物質およびこれらの混合物質のうちから選択されたものを、前記フレキシブル基板上に単層と複層形態のうちのいずれか１つの形態で成膜して設けることができる。
【００２７】
本発明の他の一実施様態は、ａ）フレキシブル基板を準備するステップ；ｂ）前記フレキシブル基板上に前記フレキシブル基板より狭い面積を有する平坦化層を形成するステップ；ｃ）前記平坦化層上にディスプレイ素子を形成するステップ；およびｄ）前記平坦化層と前記ディスプレイ素子を共に覆う保護層を前記フレキシブル基板上に形成するステップを含むことを特徴とするフレキシブルディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【００２８】
前記ａ）ステップにおいては、樹脂層上に金属層をラミネーティング法によって積層させ、前記フレキシブル基板を準備することができる。
【００２９】
前記樹脂層は、ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリエステル、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎｅ）、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ）、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ＰＡＲ（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）、ＰＣＯ（ｐｏｌｙｃｙｃｌｉｃｏｌｅｆｉｎ）およびポリノルボルネンのうちから選択された１種以上で設けることができる。
【００３０】
前記金属層は、アルミニウムおよびステンレス鋼（ｓｔａｉｎｌｅｓｓ  ｓｔｅｅｌ）のうちから選択された１種以上で設けることができる。
【００３１】
前記ｂ）ステップにおいて、前記平坦化層は１０μｍ以下の厚さを有するように設けることができる。
【００３２】
前記ｂ）ステップにおいては、前記平坦化層の周縁端部と前記フレキシブル基板の周縁端部との離隔間隔が１０ｃｍ以下になるように、前記平坦化層を前記フレキシブル基板上に形成することができる。
【００３３】
前記ｃ）ステップにおいて、前記ディスプレイ素子は、コレステリックＬＣＤ、ＰＤＬＣ（高分子分散液晶）、電気泳動装置(Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｃｔｉｃ  ｄｅｖｉｃｅ)およびＯＬＥＤのうちのいずれか１つであり得る。
【００３４】
前記ｄ）ステップにおいて、前記保護層は前記平坦化層より広い面積を有し、前記フレキシブル基板よりは狭い面積を有するように設けられることが好ましい。
【００３５】
前記ｄ）ステップにおいて、前記保護層は気体防御膜物質を含むプラスチックシート形態で設けられ、前記フレキシブル基板上に付着され得る。
【００３６】
あるいは、気体防御膜物質、有機物質およびこれらの混合物質のうちから選択されたものを、前記フレキシブル基板に単層と複層形態のうちのいずれか１つの形態で前記フレキシブル基板上に成膜して前記保護層を準備することもできる。
【発明の効果】
【００３７】
本発明によれば、平坦化層が保護層の内部に収容される形態で配置されることにより、外部から水分または酸素が平坦化層に浸透することを効果的に遮断することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下では添付図面を参照して本発明についてより詳細に説明する。
【００３９】
本発明に係るフレキシブルディスプレイ装置は、図１に示すように、フレキシブル基板１０およびディスプレイ素子３０を含む。
【００４０】
ここで、フレキシブル基板１０とディスプレイ素子３０との間には平坦化層２０が介在し、平坦化層２０とディスプレイ素子３０はフレキシブル基板１０の上に設けられる保護層４０によって共に覆われている。
【００４１】
フレキシブル基板１０は、樹脂層であるプラスチック基板１１およびプラスチック基板１１の上に積層される金属層である金属薄膜１２を含む。
【００４２】
プラスチック基板１１は、ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリエステル、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎｅ）、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ）、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ＰＡＲ（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）、ＰＣＯ（ｐｏｌｙｃｙｃｌｉｃｏｌｅｆｉｎ）およびポリノルボルネンのうちから選択された１種以上で形成したプラスチック基板であり得る。
【００４３】
金属薄膜１２は、プラスチック基板１１を通した酸素や水分などの気体透過性を解決する気体防御膜の役割をすることができる。
【００４４】
金属薄膜１２は、アルミニウムおよびステンレス鋼（ｓｔａｉｎｌｅｓｓ  ｓｔｅｅｌ）のうちから選択された１種以上をフィルム形態に薄く設けたものである。経済性を考慮した時、金属薄膜１２としてはアルミニウム薄膜を用いることが好ましい。金属薄膜１２として用いられ得る金属の種類はこれに限定されず、様々な種類の金属を用いて金属薄膜を形成することができる。
【００４５】
金属薄膜１２は導体であるため、金属薄膜１２によりディスプレイ素子３０の電極と駆動回路（図示せず）との間の短絡が誘導され得るため、それを防止するためにプラズマ処理または電気化学的方法を用いて金属薄膜１２の上に酸化膜を形成することもできる。
【００４６】
平坦化層２０は、フレキシブルディスプレイ装置に求められるフレキシブル基板１０の平坦度を確保するために、フレキシブル基板１０とディスプレイ素子３０との間に設けられる。
【００４７】
実質的にフレキシブルディスプレイ装置においてフレキシブル基板１０の粗さは重要な要素である。有機発光素子の場合は粗さ値が１ｎｍ以下であるべきであり、ＬＣＤの場合は５ｎｍ以下の値を有するべきであるが、大部分の金属薄膜の場合、製造方法上、前述した条件を満たし難いため、この平坦化層２０が求められるのである。
【００４８】
図３に示すように、平坦化層２０の周縁端部がフレキシブル基板１０の周縁端部から１０ｃｍ以下の離隔間隔（Ｄ）を置いて配置されるように、平坦化層２０がフレキシブル基板１０の上に積層される。つまり、平坦化層２０はフレキシブル基板１０の面積より狭い面積を有するように設けられ、フレキシブル基板１０の上に積層される。
【００４９】
平坦化層２０の厚さはフレキシブルディスプレイ装置の柔軟性を大きく低下させない限り特に制限されないが、１０μｍ以下にすることが好ましい。
【００５０】
平坦化層２０のエッジ部分はディスプレイ素子３０の電極ライン（図示せず）の短絡を防止するために傾斜面２１を有することが好ましい。
【００５１】
平坦化層２０の上に積層されるディスプレイ素子３０としては、コレステリックＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＤＬＣ（高分子分散液晶）、電気泳動装置(Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｃｔｉｃ  ｄｅｖｉｃｅ)およびＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）等が挙げられる。
【００５２】
コレステリック（Ｃｈｏｌｅｓｔｅｒｉｃ）ＬＣＤの場合、平面的に（ｐｌａｎａｒ）に配向された螺旋状構造を有し、その捩られた方向と繰り返される構造の長さ（ｐｉｔｃｈ）に応じて光を選択的に反射する特性を有している。
【００５３】
ＰＤＬＣは液晶表示装置（ＬＣＤ）に用いられる液晶セルの１つであり、光の透過を光の散乱強度によって制御し、偏光板を必要としないことを特徴とする。
【００５４】
電気泳動(Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｃｔｉｃ)方式のデバイスとしては、カプセル化した微粒子を用いたｅ−ｉｎｋ社方式のデバイス、帯電された微粒子そのものを用いたブリヂストン（Ｂｒｉｄｇｅｓｔｏｎｅ）社方式のデバイス、微粒子のスピンを用いたＧｙｒｉｃｏｎ方式のデバイス、および微粒子の側面（ｌａｔｅｒａｌ）方向への動きを用いた方式のデバイスなどが挙げられる。
【００５５】
有機発光素子（ＯＬＥＤ）は電極と有機物層が平坦に蒸着された構造を有する。図１に具体的に図示してはいないが、正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子輸送層の４種類の有機物層と電極が平坦に蒸着された多層構造を有する。ここで、２つの電極の間に電圧を印加すると、陽極からは正孔が、陰極からは電子が有機物層に注入され、注入された正孔と電子が発光層において結合し、励起子（ｅｘｃｉｔｏｎ）になった後、この励起子の非活性化過程で光を発生させ、発光層の種類に応じて赤色、緑色および青色を発生させる。
【００５６】
保護層４０は、図１に示すように、フレキシブル基板１０上に設けられ、ディスプレイ素子３０と平坦化層２０を共に覆う。ここで、保護層４０とフレキシブル基板１０が形成する空間内にディスプレイ素子３０と平坦化層２０が共に収容される形態をなす。つまり、保護層４０とフレキシブル基板１０が形成する空間内にディスプレイ素子３０と平坦化層２０が共に密封されるのである。
【００５７】
ここで、保護層４０はフレキシブル基板１０の面積より狹く、平坦層２０の 面積よりは広い面積を有するように設けられる。
【００５８】
以下では本発明に係るフレキシブルディスプレイ装置の製造方法について説明する。
【００５９】
フレキシブルディスプレイ装置の製造方法は、ａ）フレキシブル基板を準備するステップ；ｂ）前記フレキシブル基板上に前記フレキシブル基板より狭い面積を有する平坦化層を形成するステップ；ｃ）前記平坦化層上にディスプレイ素子を形成するステップ；およびｄ）前記平坦化層と前記ディスプレイ素子を共に覆う保護層を前記フレキシブル基板上に形成するステップを含む。
【００６０】
ａ）ステップにおいて、金属薄膜１２は真空熱蒸着（ｖａｃｕｕｍ  ｔｈｅｒｍａｌ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法、電子ビーム蒸着（ｅ−ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法およびスパッタリング（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）法のような方法を用いてプラスチック基板１１の上に準備することもできる。好ましくは、図２に示すように、プラスチック基板１１と金属薄膜１２をラミネーティング（ｌａｍｉｎａｔｉｎｇ）法によって貼り合わせることができる。ラミネーティング法を使うと、高価な装置を使うことなく、簡便にプラスチック基板１１の上に金属薄膜１２を積層させることができる。
【００６１】
要するに、図２に示すように、プラスチック基板１１と金属薄膜１２を回転する１対のローラ（５１，５２）の間で 圧搾するとによって、容易にプラスチック基板１１の上に金属薄膜１２を形成することができる。このようなラミネーティング法を使うと、大量生産、大面積化、経済性の面において既存の真空装置を使う工程より有利である。
【００６２】
ここで、金属薄膜１２は前述したラミネーティング法によってプラスチック基板１１に貼り合わせられる場合、フレキシブル基板１０の柔軟性を確保するために、１００μｍ以下の厚さを有することが好ましい。金属薄膜１２が厚すぎる場合にはフレキシブル基板１０の柔軟性が低下するためである。
【００６３】
ｂ）ステップにおいて、平坦化層２０はポリイミド系の高分子、フォトアクリル系の高分子、オーバーコート材またはＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）をバーコーティング、スピンコーティングのようなコーティング法によってフレキシブル基板１０の上に準備することができる。そこで、フレキシブル基板１０の粗さ値を良くすることができる。また、ＳＯＧ（ｓｐｉｎ−ｏｎ−ｇｌａｓｓ）物質を用いて平坦化層２０を形成することもできる。
【００６４】
ｃ）ステップにおいて、ディスプレイ素子３０は真空蒸着法または溶液塗布法、例えば、インクジェット印刷、スクリーン印刷、ロールコーティングおよびスピンコーティング方法などによって平坦化層２０の上に積層させることができる。
【００６５】
ｄ）ステップにおいては、気体防御膜物質を含むプラスチックを用いてシートを製作し、これを接着剤によってフレキシブル基板１０上に付着させることによって保護層４０をフレキシブル基板１０の上に形成させることができる。
【００６６】
ここで、プラスチック物質としては、ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリエステル、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎｅ）、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ）、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ＰＡＲ（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）、ＰＣＯ（ｐｏｌｙｃｙｃｌｉｃｏｌｅｆｉｎ）およびポリノルボルネンなどが挙げられる。
【００６７】
前記プラスチックに含まれる気体防御膜物質としては当業界に知られた気体防御膜物質は全部適用することができる。
【００６８】
接着剤としては熱硬化または紫外線硬化が可能なエポキシ系またはアクリレート系を用いることができる。
【００６９】
また、ｄ）ステップにおいて、気体防御膜物質、有機物質およびこれらの混合物質のうちから選択された物質をフレキシブル基板１０の上に成膜することによって保護層４０を準備することもできる。
【００７０】
気体防御膜物質、有機物質およびこれらの混合物質のうちから選択された１つの物質でフレキシブル基板１０の上に単一膜形態の保護層４０を形成することもでき、気体防御膜物質、有機物質およびこれらの混合物質のうちから選択された２以上の物質で２層以上の複層形態を有する保護層４０を形成することもできる。
【００７１】
ここで、保護層４０は、気体防御膜物質の酸化物または窒化物系の物質を真空熱蒸着（ｖａｃｕｕｍ  ｔｈｅｒｍａｌ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法、電子ビーム蒸着（ｅ−ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法、スパッタリング（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）法のような方法またはゾル−ゲルコーティング（ｓｏｌ−ｇｅｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）方法などによって形成することができる。
【００７２】
酸化物系の物質としてはシリコン酸化物、ホウ素酸化物、リン酸化物、ナトリウム酸化物、カリウム酸化物、鉛酸化物、チタン酸化物、マグネシウム酸化物およびバリウム酸化物のうちの少なくとも１つであり得るし、窒化物系の物質としてはシリコン窒化物が挙げられる。
【００７３】
このような製造方法によって製造された本発明に係るフレキシブルディスプレイ装置において、フレキシブル基板１０の上の平坦化層２０がディスプレイ素子３０と共に保護層４０によって覆われることによって、すなわち、平坦化層２０がディスプレイ素子３０と共に保護層４０の内部に密封される形態になることにより、水分や酸素が平坦化層２０に浸透することを効果的に遮断することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】図１は本発明に係るフレキシブルディスプレイ装置の概略側面図である。
【図２】図２は本発明に係るプラスチック基板と金属薄膜をラミネーティング法によって貼り合わせる過程を示す図である。
【図３】図３は本発明に係るフレキシブル基板と平坦化層の平面図である。
【図４】図４は従来のフレキシブルディスプレイ装置の概略側面図である。
【図５】図５は従来のフレキシブルディスプレイ装置の概略側面図である。
【符号の説明】
【００７５】
１０：フレキシブル基板
１１：プラスチック基板
１２：金属薄膜
２０：平坦化層
２１：傾斜面
３０：ディスプレイ素子
４０：保護層
５１、５２：ローラ
【図１】
2009522593.tif 000003
【図２】
2009522593.tif 000004
【図３】
2009522593.tif 000005
【図４】
2009522593.tif 000006
【図５】
2009522593.tif 000007
【国際調査報告】
2009522593.tif 000008
2009522593.tif 000009