(57)【要約】  極端紫外線領域における放射を用いるマイクロリソグラフィで使用される投影露光機のための照明装置に備えられるファセットミラーの鏡面ファセット（１）を製造する方法において、個別の傾斜角が鏡面ファセット（１）の光学面（２）に設けられ、好ましくは鏡面ファセット（１）の基準面に対する傾斜角を有する面が前記光学面の中あるいは表面に機械加工される。
2009514188.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
極端紫外線領域における放射を用いるマイクロリソグラフィで使用される投影露光機のための照明装置に備えられるファセットミラーの鏡面ファセットを製造する方法であって、個別の傾斜角が鏡面ファセット（１）の光学面（２）に設けられ、好ましくは鏡面ファセットの基準面に対する傾斜角を有する面が前記光学面の中あるいは表面に機械加工されることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
光学面（２）が非常に高いアスペクト比を備え、鏡面ファセット（１）に傾斜角が設けられた後、あるいは鏡面ファセット（１）が機械加工された後、光学面（２）には反射層が設けられ、その後、鏡面ファセット（１）が鏡面支持体に配置されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
鏡面ファセット（１）の面（２）が、平面、球面あるいは非球面の構成であることを特徴とする請求項１あるいは２に記載の方法。
【請求項４】
２つの傾斜角が鏡面ファセット（１）の光学面（２）に設けられることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
傾斜角φxを設定するために、鏡面ファセット（１）が位置決め傾斜面を有する２つの軸受体（３）の間に配置され、保持されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
鏡面ファセット（１）の傾斜角φyが、鏡面ファセット（１）の光学面（２）の反対に位置する面に作用するねじ装置によって設定されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項７】
傾斜角φxおよびφyが同時に鏡面ファセット（１）の光学面（２）の中に設けられる、あるいは表面に形成されることを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
傾斜角φxおよびφyを設定するために、鏡面ファセット（１）が、支持体（６）上において機械加工工具（５）の軸（７）に対して軸外に画定された機械加工工具（５）の機械加工領域に配置され、鏡面ファセット（１）を機械加工する機械加工工具（５）の面は、球面あるいは非球面として構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項９】
鏡面ファセット（１）が補助部材によって支持体（６）に載置されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
鏡面ファセット（１）が、支持体（６）上の位置決め保持装置（９）の中に固定されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
鏡面ファセット（１）が、位置決め保持装置（９）のＵ字体要素（１０）内面において整列されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
位置決め保持装置（９）が支持体（６）に配置され、センタリングピン（１２）によってねじ留めされていることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
鏡面ファセット（１）が構造ユニット（１６）に載置され、該構造ユニット（１６）はその後支持体（６）の定められた軸外の位置に配置されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
構造ユニット（１６）が、磁石あるいは真空固定を用いた固定方法の少なくとも１つによって、あるいはリンギングによって支持体（６）に固定されることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
構造ユニット（１６）が支持体（６）にボンディングあるいはセメンティングされることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
鏡面ファセット（１）が、適宜に支持体（６）上の機械加工工具（５）の機械加工領域に配置され、鏡面ファセット（１）を機械加工する機械加工工具（５）表面が球面あるいは非球面に構成されており、必要とされる傾斜角が支持体（６）に設けられ、鏡面ファセット（１）が傾斜角を設けることによって形成された位置決め傾斜面に配置されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項１７】
鏡面ファセット（１）が、適宜に支持体（６）上の機械加工工具（５）の機械加工領域に配置され、鏡面ファセット（１）を機械加工する機械加工工具（５）表面が球面あるいは非球面に構成されており、所要の傾斜角に対応する補助体（８）が支持体（６）に取り付けられ、鏡面ファセット（１）が補助体（８）上に配置されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項１８】
傾斜角が、鏡面の中点における鏡面法線と工具法線との偏差によって生じる量により補正されることを特徴とする請求項１６または１７に記載の方法。
【請求項１９】
極端紫外線領域における放射を用いるマイクロリソグラフィで使用される投影露光機のための照明装置に備えられる、多数の鏡面ファセットを備えるファセットミラーであって、鏡面ファセットがそれぞれ反射光学面を備え、鏡面ファセットが鏡面支持体に配置されていて、鏡面ファセット（１）の光学面（２）にはそれぞれ個別の傾斜角が設けられることを特徴とするファセットミラー。
【請求項２０】
鏡面ファセット（１）の面の形状が、平面、球面、あるいは非球面であることを特徴とする請求項１９に記載のファセットミラー。
【請求項２１】
２つの傾斜角が鏡面ファセット（１）の光学面（２）に設けられているか、鏡面ファセット（１）の基準面に対する傾斜角を有する面が前記光学面の中あるいは表面に機械加工されたことを特徴とする請求項１９に記載のファセットミラー。
【請求項２２】
λ＜２００ｎｍの波長で使用されることを特徴とする請求項１９に記載のファセットミラー。
【請求項２３】
支持体に配置された鏡面ファセットのための位置決め装置であって、鏡面ファセット（１）の光学面（２）に傾斜角が設けられる、あるいは鏡面ファセット（１）の基準面に対する傾斜角を有する面が前記光学面の中あるいは表面に機械加工されるために、該装置は、
Ｕ字体要素（１０）であって、鏡面ファセット（１）がその切欠に案内されるＵ字体要素（１０）と、
鏡面ファセットを所定の位置に固定するための端度器（１１）と、
鏡面ファセット（１）を端度器（１１）に押え付けるための固定要素（１３，１３‘）とを備える装置。
【請求項２４】
Ｕ字体要素（１０）がセンタリングピン（１２）によって支持体（６）に位置付けられている、あるいは支持体（６）に永久的に接続されていることを特徴とする請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
支持体に配置された鏡面ファセットのための位置決め装置であって、鏡面ファセット（１）の光学面（２）に傾斜角が設けられる、あるいは鏡面ファセット（１）の基準面に対する傾斜角を有する面が前記光学面の中あるいは表面に機械加工されるために、該装置は、
鏡面ファセットサポート（１７）であって、鏡面ファセット（１）が取付けられる鏡面ファセットサポート（１７）と、
鏡面ファセットサポート（１７）に取付けられる位置決め要素（１９）であって、該位置決め要素（１９）の自由側に鏡面ファセット（１）が配置される位置決め要素（１９）と、
鏡面ファセットサポート（１７）に取付けられた固定要素（２０）であって、該固定要素（２０）の自由側が鏡面ファセット（１）の自由側に配置される固定要素（２０）と、
鏡面ファセット（１）の機械加工領域を拡大するための補助要素（２１）とを備える装置。
【請求項２６】
支持体（６）にリンギングされることを特徴とする請求項２５に記載の装置。
【請求項２７】
極端紫外線領域における放射を用いるマイクロリソグラフィで使用される投影露光機のための照明装置に備えられる、多数の鏡面ファセットを備えるファセットミラーであって、鏡面ファセットがそれぞれ反射光学面を備え、鏡面ファセットが鏡面支持体に配置されていて、少なくとも１つの鏡面ファセット（３３，３４）は、法線あるいは法平面が傾斜角によって前記鏡面ファセット（３３，３４）の基準面の法線あるいは法平面に対して傾斜される、少なくとも１つの光学面（３７，３８）を有し、支持体（３１）に配置される少なくとも１つの傾斜光学面を有する２つの隣接する鏡面ファセット（３２，３３あるいは３４，３５あるいは３３，３４）の光学面（３６，３７あるいは３８，３９あるいは３７，３８）の幾何学的な投影は、前記支持体（３１）に配置される各鏡面ファセットの幾何学的な投影と少なくとも同じ大きさの領域を覆うことを特徴とするファセットミラー。
【請求項２８】
鏡面ファセット（３２，３３，３４，３５）の光学面（３６，３７，３８，３９）が、平面、球面あるいは非球面の形状を備えることを特徴とする請求項２７に記載のファセットミラー。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、極端紫外線領域における放射を用いるマイクロリソグラフィで使用される投影露光機のための照明装置に備えられる多数の鏡面ファセットを有するファセットミラーに関する。該鏡面ファセットはそれぞれ反射光学面を有し、鏡面支持体の上に配置されている。また本発明は鏡面ファセットの製造方法と、支持体に鏡面ファセットを配置するための装置に関する。
【０００２】
ＵＳ２００３／００５８５５５Ａ１には、ベースプレートに載置された多数の鏡面ファセットを有するファセットミラーが開示されている。各鏡面ファセットは反射面と、鏡面ファセットの反射層とは反対側に設けられた磁気層とを有する。鏡面ファセットは、位置決め装置によってベースプレート上に正確に位置決めされることが可能である。また、鏡面ファセットは互いに隣接するようにベースプレート上に配置される。ベースプレートは磁石を含むということと、鏡面ファセットが磁気フィルムあるいは磁気層を底面に備えるということから、鏡面ファセットをベースプレートに接続するための接着剤あるいは他の接続手段を使用する必要がない。
【０００３】
このようなファセットミラーの製造は、第１に、反射層をプリント基板に配置することにある。その後、多数の鏡面ファセットがプリント基板から切り抜かれる。このタイプの鏡面ファセットは、その後ベースプレートに配置され、鏡面ファセットが互いに隣接する方法で所定のパターンを形成するよう、磁力によってベースプレートに接続される。
【０００４】
さらに、ＪＰ２００００９８１１４Ａには、鏡面ファセットを正確に位置決めすべくメインプレートに配置された基準面が使用される、鏡面ファセットをメインプレートに位置決めするための方法が開示されている。水平方向および垂直方向の位置決めを行うのための基準面は、鏡面ファセットの後側に形成されている。関連した対応する基準面を有するブロック要素が、鏡面ファセットのメインベースとしてメインプレートに載置されている。この場合ブロック要素はＬ字型の構成のブロック要素である。このようにすることで、複数の鏡面ファセットをメインプレート上のブロック要素と共に接合し、ファセットミラーを形成することが可能である。
【０００５】
鏡面ファセットの製造および利用はさらに以下の特許文献に記載されている：
ＪＰ２００００９８１０８，ＪＰ２００００９８１１０，ＪＰ２００００９８１１１，ＪＰ２００００９８１１２，ＪＰ２００００９８１１３，ＪＰ２０００１６２４１４，ＪＰ２０００１６２４１６，ＪＰ２００２１３１５２０
例えば矩形にエッジングされた光学面を有する小型ミラー光学の製造を、一般に従来の標準的な光学的加工方法を用いて行うことが可能である。しかし、このタイプの矩形光学面が非常に狭い場合、例えば＜５ｍｍ、また、光学面に傾斜が設けられる場合（つまり、光学面が基準面に対して傾けられる必要がある場合）、従来の光学的加工方法の限界がすぐに明確となる。このような鏡面ファセットは、概してＥＵＶリソグラフィのための照明システムの構成要素である。
【０００６】
特に、ＥＵＶリソグラフィのためのこのような鏡面ファセットの状態は、ファセットミラーが非常に高品質のファセットミラーとなるよう、観察される（考慮される）必要がある。具体的には、ここでは所定の粗さに注意すべきである。
【０００７】
従って本発明の目的は、ファセットミラーのための鏡面ファセットを製造する方法を提供することである。該鏡面ファセットは、非常に狭い光学面を有し、ファセットミラーの完成時には傾斜のついた光学面を有する。
【０００８】
この目的は、請求項１に記載のファセットミラーのための鏡面ファセットの製造方法と、請求項１９に記載のファセットミラーと、請求項２３および２６に定義される鏡面ファセットを支持体に位置決めするための装置によって達成される。
【０００９】
本発明によると、傾斜光学面を有するファセットミラーの製造は、鏡面ファセットあるいは鏡体を回転あるいは傾斜させる代わりに、ミラーファセットの光学面に傾斜角が設けられることにより実施される。つまり、ファセットミラーの基準面に対する前記ミラーの光学面の傾斜角は、ミラーを傾斜させることなく、ミラーを機械加工することによって形成される。従って、光学面はできる限り鋭利な、５０μｍより小さなエッジを有するように製造可能である。さらに、各鏡面ファセットは全体として堅固に集合されるあるいは集合可能であるということと、それにより見込まれる光損失を最小限にすることが可能であるという利点がある。
【００１０】
従って、傾斜角は、後者の鏡面ファセットの光学面に最初に設けられる。この製造方法における必要条件は、光学面が非常に高いアスペクト比を有するというを特に確実にすることである。その後、鏡面ファセットには光学面上に反射層が備えられ、互いに堅固に集合された状態で鏡面支持体上に配置される。
【００１１】
本発明の有利な改良点により、傾斜角φxを設定するために、鏡面ファセットは位置決め斜面を有する２つの軸受体の間に置かれ、該軸受体間で保持され、光学面の反対側に配置された鏡面ファセットの面に作用するねじ装置によって、鏡面ファセットの傾斜角φyが設定される。
【００１２】
この方法の特有の利点は、２つの傾斜角を非常に高い精度で鏡面ファセットの表面に設けることが可能であり（つまり、形成された表面が基準面に対して、好ましくは鏡面ファセットの基準面に対して、１つあるいは２つの傾斜角に傾けられ得るので、任意の形状の表面が鏡面ファセットの表面中あるいは表面上に形成可能であり）、ここでは特に、傾斜面を非常に効果的に製造可能であるという点である。鏡面ファセットを囲む軸受体により、広い面積を機械加工することが可能である。このことは非常に高い光学的品質をもたらし、従って光学面は鋭利なエッジを有するよう製造可能である。
【００１３】
本発明の更なる有利な改良点により、傾斜角φxおよびφyを設定するために、鏡面ファセットが、支持体上の機械加工工具の軸外に画定された機械加工工具の加工領域に配置される。鏡面ファセットを機械加工する機械化工具の表面は球面あるいは非球面に構成されている。
【００１４】
具体的には、規定された傾斜角を、球面あるいは非球面の機械加工方法を用いて鏡面ファセットの表面に設けることが可能であり、該鏡面ファセットは、支持体の軸外に配置される。さらに、軸外の位置決めである場合、任意にエッジングされた鏡面ファセット体を規定された傾斜角を設定するのに用いることが可能である。この場合、特に複数の鏡面ファセットを同時に加工可能であるということと、任意に異なる様々な半径を用いることが可能であるという更なる利点がある。
【００１５】
本発明の有利な改良点および発展が、更なる下位クレームおよび原則として図に示された以下の実施例より明らかになる。
図１に概略的に示されているのは、光学面２が非常に高いアスペクト比を有する鏡面ファセット１である。ここでは、光学的品質、例えば粗さおよび表面フォーム誤差に高い要求を課された光学面２を製造するため、鏡面ファセット面２は、ＥＵＶリソグラフィのための典型的な面積、例えば２〜５ｍｍの幅および数１０ｍｍの長さを有する。光学面２はこの場合、可能な限り鋭利な（５０μｍより小さい）１つのあるいは複数のエッジと、基面に対する光学面２の個別の傾斜角とを有するよう加工される必要がある。この場合、鏡面ファセットが回転あるいは傾斜される代わりに、光学面２に所要の傾斜角が設けられる。これは、光学面２の形状（平面あるいは湾曲面であり得る）が、基面に対する、あるいはより良好には基面の法線に対する傾斜角を有する法線あるいは法平面を有するということである。それにより各鏡面ファセット１が互いに堅固に隣合って集合され、光損失ができるだけ低く抑えられることから、このことは特に有利である。
【００１６】
既述の要件を有する鏡面ファセット１の矩形にエッジングされた光学面２を機械加工するための第１の方法が以下に示される。
図２および３は、どのように２つの傾斜角が極めて正確に光学面２に設けられるのかを概略的に示している。図２に独自に示された回転角φxをｘ軸の周囲に設定するため、鏡面ファセット１は位置決め傾斜面を有する２つの軸受体３の間に保持あるいは固定可能である。これは、ミラーファセット１に触れる位置決め斜面が非常に効果的に平坦に機械加工される、あるいは非常に効果的に平面に機械加工されるようにするためである。つまり、鏡面ファセット１に接する軸受体３の表面は、例えば平坦性および角度の偏差に関して所定の精度を持って機械加工される必要がある。軸受体３の位置決め斜面はｘ軸周囲の所要の傾斜角φxに正確に対応する。この場合、鏡面ファセット１に非常に正確な傾斜面２を設けることを可能にするため、傾斜角φxは所要の公差を超えるべきではない。面を設けるということは、鏡面ファセット１の表面を機械加工することによって鏡面ファセット１に光学面２を形成するということである。機械加工は、フライス加工、研削、ラップ仕上げ、あるいは研磨、あるいは光学面２を形成するために材料が鏡面ファセット１の表面から除去されるその他の機械加工で構成されてもよい。また、機械加工は、光学面２を形成するために材料が鏡面ファセット１の表面に堆積されるステップを備えていてもよい。軸受体３によって傾斜角φxが設定可能なだけでなく、光学面２が確実に鋭利なエッジを有するよう、機械加工される光学面２を機械加工工程のために拡大することも有利に可能である。光学面２の拡大により、光学面２の機械工程によって生じる周辺効果が、軸受体３の縁に伝達され、鏡面ファセット１における周辺効果を最小化する。従って光学面２の鋭利なエッジが獲得可能である。ファセットの高さが３０ｍｍ、および製造精度が０．５μｍであるとすると、位置決め斜面は約３”の角度誤差で有利に製造可能である。
【００１７】
鏡面ファセットの短い側面（ｙ軸）周囲の傾斜角φyは、図３に図示のように、２つのマイクロメータねじ４によって非常に正確に設定可能である。この場合、高いアスペクト比が、角度の微調整のための良好なレバーであることが分かる。鏡面ファセット１は所定の角度φyまで押し上げられ、マイクロメータねじ４によって正確に設定されることが可能である。２つのマイクロメータねじ４の間の距離が約５０ｍｍであるとすると、マイクロメータねじ４の位置決め精度が１μｍであれば、約４”の角度の精度が得られる。傾斜角φyの設定はマイクロメータねじ４によって直接鏡面ファセット１に行われても、あるいはベースプレートの長いレバーアームを介して行われてもよい。傾斜角を設定するためのベースプレートを用い、ベースプレートの長さの比および鏡面ファセット１の長さ（例えば５０ｍｍ）によって与えられる因子によって、傾斜角φyの精度を改善することが可能である。これには、マイクロメータねじ４間の距離が、鏡面ファセット１が取り付けられるベースプレートの、前記ねじ４によって調節される長さによって規定されることが必要である。
【００１８】
２つの傾斜角φxおよびφyの設定は、本発明では同時に行われる。よって、加工工程中に、例えば研削および研磨のような光学における標準的な方法を用いて、機械加工工具が軸受体３によって拡大された光学面２を機械加工（フライス加工、研削、ラップ仕上げ、研磨）することによって、２つの傾斜角φxおよびφyが光学面２に同時に設けられるようにすることが可能である。これは、該加工工程によって、傾斜角φxおよびφyによって鏡面ファセット１の基面に対して傾いた任意の光学面２（平面あるいは任意の曲率の湾曲面、例えば球面あるいは非球面）を形成することが可能であるということである。光学面２に傾斜角φxおよびφyが導入され、光学面２の高精度品質が獲得された後、光学面２に反射層を取り付けることが可能である。その後においてのみ、ファセットミラーを製造するために、鏡面ファセット１は基体に配置され、永久的に基体に取付けられる。
【００１９】
図４には、複数の鏡面ファセット１に所要の傾斜角φxおよびφyを同時に設けることが示されている。ここでも、傾斜角φxは軸受体３によって決定され、傾斜角φyはマイクロメータねじ４によって設定される。
【００２０】
この方法は、特に、高い精度を有する光学平面２を製造するために用いることが可能である。しかし、この方法を球面あるいは非球面に用いることも考えられる。その場合は、球状あるいは非球状の工具を用いるが、後者は軸対称に設けられた光学面２にのみに効果を有するであろう。これは、それ以外の形状の場合には、設けられた傾斜角が誤差に影響される、あるいは影響され得るからである。ただし、軸受体３の間に固定された鏡面ファセット１を順次機械加工することは可能である。しかし、特別なコンピュータプログラムによって、球状あるいは非球状の工具が複数の鏡面ファセット１を同時に機械加工できるよう、鏡面ファセット１を配置することも可能である。
【００２１】
この方法は、同様に、金属製のミラーを機械加工するのに適しており、また、ガラス、ガラスセラミックあるいはシリコン製のミラー、あるいは半導体を備えるミラーを機械加工するのにも適している。また、この方法を用いて、傾斜角φxおよびφyを有する任意にエッジングされた鏡面ファセット１（任意の形状の光学面２を有する鏡面ファセット１）を提供することも可能であるが、非常に高い精度を獲得するため、軸受体３には鏡面ファセット１の外面に対応する位置決め面が備えられている必要があるということを念頭に置く必要がある。
【００２２】
さらに、図５には、平面ではない傾斜面２を有する鏡面ファセットの製造の可能性が示されている。この場合、傾斜角φxおよびφyが設けられた後（つまり、光学面２の法線あるいは法平面が該角度φxおよびφyによって鏡面ファセット１の基面あるいは該基面の法線に対して傾けられるよう、光学面２が形成された後）、鏡面ファセットは球面あるいは非球面２を有することが可能である。以下に示される製造方法は、この実施例において、特に、上記の要件を有する立方鏡面ファセット体１に関する。
【００２３】
図５に概略的に図示されているのは、鏡面ファセット１が軸外に配置された支持体６である。鏡面ファセット１の光学面２を機械加工するために、球状工具５あるいは球状機械加工方法が用いられる場合、鏡面ファセット１と工具５の球面の軸７との間に間隔をあけることによって、２つの傾斜角φxおよびφy（工具軸に垂直な軸の回転）が所定の方法で鏡面ファセット１の光学面２に導入することが可能である。鏡面ファセット１はこの場合支持体６の所定の位置に配置される。球状工具５が自身の軸７から「徐々に外側に上昇し」、任意の角スペクトルを有することから、２つの所定の傾斜角を鏡面ファセット１の光学面２に設けることが可能である。図５において、傾斜角はαで示されており、該傾斜角の設定はここでは一次元でのみ示されている。このように示された方法で、球面が鏡面ファセット１の光学面２に形成される。前記面の半径は、回転軸７を回転する工具５によって与えられる。鏡面ファセット１の回転軸７に対する位置によって、球面は鏡面ファセット１の基面に対して傾斜角φxおよびφyで形成される。鏡面ファセット１が例えば回転軸７に対称的に配置され、傾斜角φxおよびφyがゼロである場合は、光学面の法線あるいは法平面が鏡面ファセット１の基面に垂直、あるいは回転軸７の方向を向いているということである。鏡面ファセット１が前記対称的な配置以外の位置に配置されると、光学面２は前記基面に対して傾斜する。概して、工具５は球状、また非球状である必要はないが、回転対称的な工具が光学面２を形成するために使用可能である。
【００２４】
また、図５の鏡面ファセット１は全て異なる高さを有する。必要であれば、全ての鏡面ファセット１が同じ高さを有することも可能である。これは、異なる高さの補助片（図示なし）によって可能となる。該補助片は、距離ｒの関数として鏡面ファセット１の下に配置される必要がある。高さΔｈの補正は以下の円あるいは球の数式で与えられる。
【００２５】
【数１】
2009514188.tif 000003
【００２６】
Ｒは球の半径、ｒは鏡面ファセット１の中心から回転軸７までの法線距離である。
同じように、２つの傾斜角（ｘおよびｙ周囲の回転）を図６に示すように設定することも可能である。この場合、２つの傾斜角あるいは軸ｘおよびｙ周囲の回転角φxおよびφyは、各点ｘおよびｙに対して規定される。図１および６に示される座標の形式が適用される。回転角φxおよびφyがオイラーの角と同様に規定される場合、鏡面ファセット１の空間的な座標（中点あるいは傾斜角が規定される点）と傾斜角φxおよびφyとの以下の関係が得られる。
ｘ０  ＝Ｒ  ｓｉｎ  φy および
Ｙ０  ＝Ｒ  ｓｉｎ  φx ｃｏｓ  φy
Ｒは球面２の半径である。
例
球面の半径をＲ＝１００ｍｍとし、φx＝２°およびφy＝−３．５°が傾斜角φxおよびφyを保持するとする。よって傾斜角φxおよびφyに関する位置はｘ＝６１．０５ｍｍおよびｙ＝−３４．８３ｍｍである。傾斜角が小さい場合、つまり＜１０°である場合、鏡面ファセット１の位置決めによって生じる角度誤差は以下のように推定可能である。
Δφx＝Δｙ／Ｒ  および
Δφy＝Δｘ／Ｒ
角度φxおよびφyはラジアンで与えられる。例えばΔｘ＝５μｍの位置の不確定性の場合、比較的大きな半径Ｒにおける大幅な減少は、Δφy＝５μｒａｄの角度誤差をもたらし、この角度誤差はおよそ１”に相当する。
【００２７】
約１μｍの位置の不確定性は、例えばポータル顕微鏡を用いた、あるいは例えば高精度の端度器（あるいはゲージブロック）を適切に用いた顕微鏡観察によって設定可能であり、よって傾斜角は１μｒａｄの精度で獲得可能である。
【００２８】
これにより、軸外の位置決めのこの方法が、任意にエッジングされた鏡面ファセット体１を用いて所定の傾斜角を設定するのに何ら問題なく実行されることが可能であるが、この方法も同様に球面に限定されない。傾斜された非球面２を有する鏡面ファセット１をこのように製造することも可能である。
【００２９】
本発明による更なる可能性が、特に、位置とは無関係に所定の方法で傾斜された光学面２がどのように製造可能であるかについて、図７に示されている。この可能性の利点は、球状あるいは非球状の機械加工工具５の軸７からの鏡面ファセット１の距離が正確に制御される必要がなく、鏡面ファセット１が機械加工のための正確な位置に固定される必要がないということである。よって、以下に示される鏡面ファセット１の機械加工方法は、所要の傾斜角φxおよびφyが支持体６に設けられる、あるいはウェッジとして機械加工されたボディ８が支持体６に配置されるため、より一層柔軟性があり、従ってより生産がしやすい。ウェッジとして機械加工されたボディ、あるいは補助片８はここでは鏡面ファセット１を支持する役割を果たす。２つの角度、具体的には角度αおよび角度βは、図７からわかるように同時に設定される。しかし、この場合、ウェッジ角度αは、最終的には光学面２に設けられる角度に正確に一致しない。よって、鏡面の中点０における鏡面の法線の工具の法線からの偏差によって生じる寄与によって、ウェッジ角度αは補正されなければならない。従ってウェッジ角αは選択された位置に対応して、角度補正βを考慮して設定される必要がある。これは適当なコンピュータ操作によって行うことが可能である。２つの方法のためのウェッジ角度はそれぞれ図７においてαで示されており、鏡面の法線と工具５内での光線との間の角度差はβで示されている。
【００３０】
角度βは平坦な半径の場合において非常に小さく、例えばＲ〜１０００ｍｍの場合、傾斜を本質的に設定するウェッジ角αのみを補正する。図７の目的は、検知可能な角度βを用いた原理を図示することである。該方法は、本実施例において１つの角度についてのみ示されているが、二次元あるいは２つの傾斜角についても同様に有効である。
【００３１】
従って本発明の方法は、任意の角度を有する、所定の方法に球状あるいは非球状に傾斜された面２を製造するため、鏡面ファセット１を支持体６の実質的にどの所望の位置へも配置可能にする。
【００３２】
光学面２が球状あるいは非球状工具５を用いて機械加工される場合、２つの傾斜角φxおよびφyを、鏡面ファセット１と球面の軸７との間の距離によって規定された方法で、光学面２に設けることが可能である。この場合、角度誤差は鏡面ファセット１の位置の不確定性を通じて調べられ、工具５の半径Ｒ、あるいは球面あるいは非球面２の半径が大きくなると、角度誤差は特に小さくなる。光学軸あるいは工具軸７の位置は、この場合十分に正確にわからなければならない。
【００３３】
非球状の光学面２を有する鏡面ファセット１を製造するときに、３つの傾斜角、具体的には、φx、φyおよびφzを光学面２に設けることは有利になり得る。
図８は、鏡面ファセット１がどのようにして機械加工工程のために支持体６に所定の方法で位置決めされ保持され得るのかに関する第１の可能性を示す。ここでは位置決め保持装置９が備えられていてもよい。該位置決め保持装置はこの場合、Ｕ字体要素１０を有する。鏡面ファセット１はＵ字体要素１０の切欠に案内され、鏡面位置がＵ字体要素１０の内面を基準にして設定される。Ｕ字体要素１０は、例えば金属、セラミックあるいは材料類似ガラスで構成されてもよく、該内面は高精度に加工されている必要がある。よって、Ｕ字体要素１０は、ゼロ点、例えば工具軸７、を基準に画定された方法で支持体６に配置されることが可能である。鏡面ファセット１の正確な位置は端度計１１で得られるため、ここでは支持体６へのＵ字体要素１０の高精度な位置決めは必要はない。Ｕ字体要素１０はセンタリングピン１２によって支持体６に正確に位置付けることが可能である。また、さらにＵ字体要素１０を、例えばねじで留めて、支持体６に固定させることも可能である。鏡面ファセットの最終的な位置は、例えば金属あるいはセラミック製の、高精度の端度計１１で調整することが可能である。
【００３４】
Ｕ字体要素１０および中心穴の加工は、必ずしも高い精度で機械加工される必要はない。最終的に取付けられたＵ字体要素１０の位置は、例えば座標測定機を用いて、決定可能であり、また、その後、鏡面位置は工具５の対称軸７を基準に高性能の端度器１１によって決定可能である。
【００３５】
鏡面ファセット１は、適当な固定要素１３によって端度器１１に押付けられることが可能である。該固定要素１３は、鏡面ファセット１の長い方の側面を固定するため、ねじ要素１４’を用いて対応する固定要素をＵ字体要素１０のＵの端部に対して固定し、該対応する固定要素をその位置に固定することが可能である。この目的で、対応する固定要素１３には貫通孔が、Ｕ字体要素１０あるいはＵの端部にはねじ山が設けられていてもよい。固定のための適当なバネ要素をここで用いることも可能である。鏡面ファセット１の短い方の側面に取付けられた固定要素１３’が、本実施例では球状の端部を有する２つのねじ要素１４によって鏡面ファセット１に押付けられてもよい。そのためにはＵ字体要素１０にはねじ穴が必要である。この場合でも、鏡面ファセット１の固定は適当なねじ要素によって行われることが可能である。
【００３６】
工具５の球面の高さは鏡面位置の関数として異なるため、適切な場合には所定のベースプレート、例えば鏡面ファセット１の下に配置可能な端度器を用いて、高さにおける差異を釣合わせることも可能である。高さの補正は、既述の円あるいは球の数式によって行われる。
【００３７】
【数２】
2009514188.tif 000004
【００３８】
Ｒは工具５の球面の半径を示し、ｒは鏡面の中点の距離、あるいは傾斜角が工具５の回転軸から特定される鏡面ファセット１上の点の距離である。鏡面ファセット１のエッジをできる限り鋭利に機械加工できるよう、該エッジは正確に加工され正確に計測された、同じ高さで同じ材料の補助要素１５に、図９に示されるように、囲まれてもよい。光学面２に傾斜角を設けるため、ここで記述された可能性の助けをかりて、任意にエッジングされた鏡面ファセット１を作製することも可能であるため、補助片１５は、鏡面ファセット１に対して正確に対応する外面あるいは配置面を有する必要がある。この場合、端度器１１は該任意のエッジングに対応するように適合される必要がある。
【００３９】
所定の傾斜角を設定するための軸外の位置決めの方法は、任意にエッジングされた鏡面ファセット体１について実行可能であり、非球面、球面あるいは平面に制限されない。非球状の傾斜面を有する鏡面ファセット１も、同様に加工あるいは製造可能である。例えば、鏡面１が矩形にエッジングされていない場合は、図９に示されるように、鏡面ファセット１に面する側面に同じエッジングを有し、端度器１１に隣接する側面に平面を有する隣接補助片１５を使用することが可能である。
【００４０】
図１０および１１は、機械加工工程において、図１０では図示されていないが、鏡面ファセット１を支持体６の所定の位置で保持するための更なる可能性を示している。ここでは鏡面ファセット１は、観察下あるいは継続的な制御下において、キャリアプレート６の所定の位置に固定された別個のモジュール１６の中に配置されている。キャリアプレート６へのモジュール１６の固定はリンギングによって行われることが可能であるが、柔軟性は該工程において引き続き確保される。モジュール１６は、鏡面ファセット１が配置される個々に調整可能な鏡面ファセットサポート１７を備える。鏡面サポート１７は上面と底面の両方にリンギング面１８を有していてもよい。下部リンギング面１８は、機械加工工程のために鏡面サポート１７を所定の方法で支持体６に固定する役割を果たし、上部リンギング面１８は、同様に鏡面サポート１７にリンギングされる軸受要素１９のための役割を果たす。鏡面サポート１７と共に、軸受要素１９はファセットの横軸の角度（ｘ軸周囲の回転）の角度基準面としての役割を果たす。支持体６上のリンギング面１８同様、鏡面サポート１７および軸受要素１９は所要の角度誤差に従って加工されなければならない。鏡面ファセット１は軸受要素１９に対して配置され、固定要素２０によって固定される。鏡面ファセット１の機械加工面２を拡大するために、補助要素２１が鏡面ファセット１の周囲に配置され、エッジオーバーフローとして、あるいは製造された鏡面の延長としての役割を果たす。鏡面ファセット１をモジュール１６に正確に配置するため、固定要素２０は、ねじ要素２２によって軸受要素１９に直接接続可能である。ねじ要素２２は図１１には図示されていない。
【００４１】
モジュール１６は機械加工工程のために、更なる方法で、例えば、オン・オフの切替が可能な磁石を用いた磁気ホルダによって、キャリアプレート６に固定可能である。さらに固定は真空固定、ボンディングあるいはセメンティングによって行うことも可能である。その場合、傾斜角の公差に従うため、接着あるいはセメンティング手段を用いるときには、所定のボンディング領域を設ける必要がある。
【００４２】
例えばキャリアボディ６に設けられた穴によって固定位置が規定されていない場合、鏡面ファセット１とモジュール１６のキャリアボディ６への固定は、常に観察下において行われる必要がある。支持体６における鏡面ファセット１の位置、従って対称軸（工具軸）７に対する鏡面ファセット１の位置を独自に画定する所定のつめを用いて行うことも可能である。
【００４３】
図１２は本発明のファセットミラー３０の一部を概略的に示している。複数（少なくとも２つ）の鏡面ファセット３２，３３，３４，３５が鏡面サポート３１に配置されている。本実施例において、鏡面ファセット３２および３５はそれぞれ、各鏡面ファセットの基準面に対して傾斜されていない光学面３６，３９を有する。基準面として、この場合鏡面サポート３１に接している基準面が選択されている。図示の実施例においてこれらの面は平面である。鏡面ファセット３３，３４は、例えば本発明による光学面を有する本発明の装置を用いて、本発明の方法によって製造されている。これは、鏡面ファセットが、法線あるいは法平面が少なくとも１つの傾斜角あるいは２つの傾斜角によって鏡面ファセットの基準面の法線あるいは法平面に対して傾斜される、少なくとも１つの光学面を有するということである。ここでも、基準面は鏡面サポートに接する面である。
【００４４】
本発明の鏡面ファセット３３，３４の使用は、３２，３３あるいは３４，３５あるいは３３，３４のような２つの隣接する鏡面ファセットの光学面の支持体３１への幾何学的な投影が、各鏡面ファセットの前記支持体３１への幾何学的な投影と少なくとも同じ大きさの領域を被覆するという利点を有する小型ファセットミラー３０の形成を可能にする。この特徴は、特に少なくとも１つの傾斜光学面を有する隣接する鏡面ファセットに有効である。つまり、隣接する鏡面ファセットの少なくとも１つの鏡面ファセットが少なくとも１つの傾斜光学面を有するということであり、実際、鏡面ファセット３３、３４はそれぞれ傾斜面３７および３８を有する。傾斜光学面は、平面、球面あるいは非球面でもよく、あるいは法線あるいは法平面が基準面の法線あるいは法平面とは異なるように、湾曲構造を備えていてもよい。当然、光学面は１つあるいは２つの方向において凸状あるいは凹状でもよく、あるいは１つの方向において凸状、他方向において凹状でもよい。基準面は有利に、本発明の鏡面ファセットの光学面とは本質的に反対の面である。
【００４５】
本発明のファセットミラーを用いた記述の投影に関する利点によって、支持体３１の領域あるいは面における光学面の漏出なしに、支持体３１の前記領域あるいは表面は鏡面のような光学面で覆うことが可能である。この利点をより明確に示すため、図１３が参照される。図１３は、本発明の傾斜光学面なしに鏡面ファセット４２，４３，４４が用いられているファセットミラー４０の一部を概略的に示している。鏡面ファセット４３は凹状の光学面を有し、該光学面の法平面は各基準面の法平面に対して傾斜されていない。この場合、基準面は補助要素４６に隣接する面である。補助要素４６は、図１２の実施例と同じ光学挙動が得られるよう、鏡面ファセット４３を支持する。ファセットミラーの製造においてあるいはミラーを保持するために補助要素を適用することは、ＵＳ４，２７７，１４１、ＵＳ４，１９５，９１３およびＤＥ  １９７  ３５  ８３１あるいは出願人によって提出された未発行のＵＳ０９／８８８，２１４に記載されている。
【００４６】
特別な配置により、鏡面ファセット４２および４３は、図１２のファセットミラー３０の鏡面ファセット３２および３３に対応している。鏡面ファセット４３の光学面４７は本発明に従って形成されていないので、鏡面ファセット４３全体が傾斜されなければならず、傾斜された鏡面ファセット４３と他の隣接する鏡面ファセット４４との間に間隙４５（あるいは光学面の漏出）が生じる。当然、該他の隣接する鏡面ファセット４４は、図１２の各鏡面ファセット３４の各面に対応する光学面を伴って形成されてもよい。
【００４７】
ファセットミラー３０の光学面における漏出あるいは間隙４５を防ぐあるいは最小限にすることは、複雑な反射パターンを有するミラーであっても反射の効率が最適化するという利点を有する。
【００４８】
本発明は記載の実施例に限定されるべきではない。本発明の更なる実施例は、様々な記載の実施例の特徴を組合せることおよび／または置換することによって得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】矩形の光学面および高いアスペクト比を有する鏡面ファセットの原理を示す図である。
【図２】傾斜角φxを設定するための鏡面ファセットの原理を示す図である。
【図３】傾斜角φyを設定するための鏡面ファセットの原理を示す図である。
【図４】傾斜角φxおよびφyを有する複数の鏡面ファセットの同時機械加工の原理を示す図である。
【図５】鏡面ファセットの軸外の位置によって設けられる工具の軸に対する傾斜角を有する鏡面ファセットを製造する方法の代替方法の原理を示す図である。
【図６】鏡面ファセットの規定された軸外の位置によって、光軸に対する図５の２つの傾斜角φxおよびφyを設定する原理を示す平面図である。
【図７】規定された傾斜角を鏡面ファセットの光学面に設けるための更なる可能性の原理を示す図である。
【図８】支持体上の規定された位置に固定されている鏡面ファセットのための位置決め装置の原理を示す図である。
【図９】任意にエッジングされた鏡面ファセットと、適合する隣接補助片を示す図である。
【図１０】鏡面ファセットを支持体に位置決めするための更なる発明の装置の原理を示す図である。
【図１１】支持体への位置決め後の、図１０の位置決め装置の概略を示す側面図である。
【図１２】本発明のファセットミラーの一部を概略的に示す図である。
【図１３】光学傾斜面のないファセットミラーの一部を概略的に示す図である。
【図１】
2009514188.tif 000005
【図２】
2009514188.tif 000006
【図３】
2009514188.tif 000007
【図４】
2009514188.tif 000008
【図５】
2009514188.tif 000009
【図６】
2009514188.tif 000010
【図７】
2009514188.tif 000011
【図８】
2009514188.tif 000012
【図９】
2009514188.tif 000013
【図１０】
2009514188.tif 000014
【図１１】
2009514188.tif 000015
【図１２】
2009514188.tif 000016
【図１３】
2009514188.tif 000017
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月5日(2007.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
極端紫外線領域における放射を用いるマイクロリソグラフィで使用される投影露光機のための照明装置に備えられるファセットミラーの鏡面ファセット（１）を製造する方法であって、個別の傾斜角が鏡面ファセット（１）の光学面（２）に設けられることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
極端紫外線領域における放射を用いるマイクロリソグラフィで使用される投影露光機のための照明装置に備えられるファセットミラーの鏡面ファセット（１）を製造する方法であって、該鏡面ファセット（１）の基準面に対する傾斜角を有する面が、前記光学面（２）の中あるいは表面に機械加工されることを特徴とする製造方法。
【請求項３】
鏡面ファセット（１）を設け、かつ該鏡面ファセット（１）の中あるいは表面に反射光学面（２）を機械加工することによる、ファセットミラー（３０）用の鏡面ファセットを製造する方法。
【請求項４】
前記鏡面ファセットの先端が５０マイクロメータ未満の鋭さを有することを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記光学面（２）が、傾斜角を有することを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記傾斜角が、３’’未満の精度を有することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記鏡面ファセット（１）が、２乃至２５の範囲内における長さ対幅のアスペクト比を有することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記傾斜角が、前記光学面（２）の法線と前記鏡面ファセット（１）のベース面あるいは基準面との間の角度であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記鏡面ファセット（１）が設けられた後、前記光学面（２）上に反射層が備えられ、次に該鏡面ファセット（１）がミラー上に配置されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１０】
前記光学面（２）が、非常に高いアスペクト比を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１１】
前記鏡面ファセット（１）の前記面（２）が、平面、球面あるいは非球面の形状を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１２】
前記鏡面ファセット（１）の前記面（２）に、２つの傾斜角が設けられたことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１３】
傾斜角φxを設定するために、鏡面ファセット（１）が位置決め傾斜面を有する２つの軸受体（３）の間に配置され、保持されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１４】
前記鏡面ファセット（１）の傾斜角φyが、前記鏡面ファセット（１）の前記光学面（２）の反対に位置する面に作用するねじ装置（４）によって設定されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１５】
前記傾斜角φxおよびφyが、同時に前記鏡面ファセット（１）の前記光学面（２）の中に設けられる、あるいは表面に形成されることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の方法。
【請求項１６】
傾斜角φxおよびφyを設定するために、前記鏡面ファセット（１）が、前記支持体（６）上において機械加工工具（５）の軸（７）に対して軸外に画定された前記機械加工工具（５）の機械加工領域に配置され、前記鏡面ファセット（１）を機械加工する前記機械加工工具（５）の面は、球面あるいは非球面として構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１７】
前記鏡面ファセット（１）が補助部材によって前記支持体（６）に載置されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記鏡面ファセット（１）が、前記支持体（６）上で前記位置決め保持装置（９）内に固定されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記鏡面ファセット（１）が、前記位置決め保持装置（９）内においてＵ字体要素（１０）の内表面上に配列されることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記位置決め保持装置（９）がセンタリングピン（１２）によって前記支持体（６）上に配置され、ねじ留めされていることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記鏡面ファセット（１）が構造ユニット（１６）に載置され、次に該構造ユニット（１６）が前記支持体（６）の定められた軸外の位置に配置されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
前記構造ユニット（１６）が、磁石あるいは真空固定を用いるかもしくはリンギングによる固定方法の少なくとも１つによって、前記支持体（６）に固定されることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記構造ユニット（１６）が前記支持体（６）にボンディングあるいはセメンティングされることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
前記鏡面ファセット（１）が、適宜に前記支持体（６）上の前記機械加工工具（５）の機械加工領域に配置され、前記鏡面ファセット（１）を機械加工する前記機械加工工具（５）表面が球面あるいは非球面に構成されており、所要の傾斜角が前記支持体（６）内に設けられ、前記鏡面ファセット（１）が前記傾斜角を設けることによって形成された位置決め傾斜面上に配置されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項２５】
前記鏡面ファセット（１）が、適宜に前記支持体（６）上の前記機械加工工具（５）の機械加工領域に配置され、前記鏡面ファセット（１）を機械加工する前記機械加工工具（５）表面が球面あるいは非球面に構成されており、所要の傾斜角に対応する補助体（８）が前記支持体（６）に取り付けられ、前記鏡面ファセット（１）が該補助体（８）上に配置されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項２６】
前記傾斜角が、鏡面の中点における鏡面法線と工具法線との偏差によって生じる量により補正されることを特徴とする請求項２４又は２５に記載の方法。
【請求項２７】
請求項１、２又は３のうちのいずれかに従って製造された少なくとも２つの鏡面ファセット（１）を備えたファセットミラー。
【請求項２８】
鏡面ファセット（１）の面の形状が、平面状、球面状、あるいは非球面状であることを特徴とする請求項２７に記載のファセットミラー。
【請求項２９】
λ＜２００ｎｍの波長で使用されることを特徴とする請求項２７又は２８に記載のファセットミラー。
【請求項３０】
前記少なくとも２つの鏡面ファセットが、異なる傾斜角を有することを特徴とする請求項２７あるいは２８に記載のファセットミラー。
【請求項３１】
基部と、極端紫外線領域における放射を用いるマイクロリソグラフィで使用される投影露光機のための照明装置に備えられる、多数の鏡面ファセット（１）とを備えるファセットミラーであって、該鏡面ファセット（１）がそれぞれ反射光学面（２）を備え、前記光学面（２）の法線と前記基部あるいは前記鏡面ファセット（１）の基準面の間に傾斜角を有しており、３つより多い鏡面ファセットが異なる傾斜角を有することを特徴とするファセットミラー。
【請求項３２】
前記鏡面ファセットの一端部が、５０マイクロメータ未満の鋭さを有することを特徴とする請求項２７又は３１に記載のファセットミラー。
【請求項３３】
支持体上に配置された鏡面ファセットのための位置決め装置であって、鏡面ファセット（１）の光学面（２）に傾斜角が設けられる、あるいは該鏡面ファセット（１）の基準面に対する傾斜角を有する面が前記光学面の中あるいは表面に機械加工されるために、該装置は、
Ｕ字体要素（１０）であって、前記鏡面ファセット（１）が該Ｕ字体要素（１０）の切欠に案内されるＵ字体要素（１０）と、
鏡面ファセット位置を決定するための端度器（１１）と
前記鏡面ファセット（１）を端度器（１１）に押え付けるための固定要素（１３，１３‘）とを備える装置。
【請求項３４】
前記Ｕ字体要素（１０）がセンタリングピン（１２）によって前記支持体（６）上に位置決めされるか、あるいは前記支持体（６）に永久的に接続されていることを特徴とする請求項３３に記載の装置。
【請求項３５】
支持体上に鏡面ファセットを位置決めするための位置決め装置であって、前記鏡面ファセット（１）の光学面（２）に傾斜角が設けられる、あるいは鏡面ファセット（１）の基準面に対する傾斜角を有する面が前記光学面の中あるいは表面に機械加工されるために、該装置は、
鏡面ファセットサポート（１７）であって、前記鏡面ファセット（１）が取付けられる鏡面ファセットサポート（１７）と、
前記鏡面ファセットサポート（１７）に取付けられる位置決め要素（１９）であって、該位置決め要素（１９）の自由側に前記鏡面ファセット（１）が配置される位置決め要素（１９）と、
前記鏡面ファセットサポート（１７）に取付けられた固定要素（２０）であって、該固定要素（２０）の自由側が前記鏡面ファセット（１）の自由側に配置される固定要素（２０）と、
前記鏡面ファセット（１）の機械加工領域を拡大するための補助要素（２１）とを備える装置。
【請求項３６】
前記支持体（６）にリンギングされることを特徴とする請求項３５に記載の装置。
【請求項３７】
極端紫外線領域における放射を用いるマイクロリソグラフィで使用される投影露光機のための照明装置に備えられる、多数の鏡面ファセットを備えるファセットミラーであって、前記鏡面ファセットがそれぞれ反射光学面を備え、前記鏡面ファセットが鏡面支持体に配置されており、３つを超える鏡面ファセット（３３，３４）は、法線あるいは法平面が前記鏡面ファセット（３３，３４）の基準面の法線あるいは法平面に対して異なった傾斜角によって傾斜される、少なくとも１つの光学面（３７，３８）を有し、少なくとも１つの傾斜光学面を有する２つの隣接する鏡面ファセット（３２，３３あるいは３４，３５あるいは３３，３４）の光学面（３６，３７あるいは３８，３９あるいは３７，３８）の支持体（３１）上への幾何学的な投影は、前記各鏡面ファセットの前記支持体（３１）上への幾何学的な投影と少なくとも同じ大きさの領域を覆うことを特徴とするファセットミラー。
【請求項３８】
前記鏡面ファセット（３２，３３，３４，３５）の前記光学面（３６，３７，３８，３９）が、平面、球面あるいは非球面の形状を備えることを特徴とする請求項３７に記載のファセットミラー。
【国際調査報告】
2009514188.tif 000018
2009514188.tif 000019
2009514188.tif 000020