(57)【要約】  本発明は、接触酸化反応の生成物ガス流を、反応器の反応帯域からの排出後に直接、少なくとも１の供給装置によって下部反応床と生成物ガス流の出口との間の領域で供給される温度調整されたガス流の供給によって冷却することを特徴とする、反応器内に設置された触媒を用いた、炭化水素の接触酸化反応を実施するための方法に関する。
2009537479.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応器内に設置された触媒を用いた、炭化水素の接触酸化反応を実施するための方法において、酸化反応の生成物ガス流を、反応器の反応帯域からの排出後に直接、温度調整されたガス流の供給によって冷却することを特徴とする、反応器内に設置された触媒を用いた、炭化水素の接触酸化反応を実施するための方法。
【請求項２】
前記接触酸化反応が、相応するジオールと空気中の酸素とからの、ビシナルジオキソ化合物の製造のための酸化脱水素反応であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記反応器が多管式反応器であること、前記触媒が多管式反応器の管内に設置されていること、および反応管の排出開口部の下部で直接、前記温度調整されたガス流を供給することを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記温度調整されたガス流が、循環される工程の循環ガスの部分流であることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記温度調整されたガス流の温度が、３０〜３００℃の範囲、好ましくは８０〜２００℃の範囲、および特に好ましくは８０〜１２０℃の範囲であることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記温度調整されたガス流を、１：２０〜８：１０の比で、好ましくは１：１０〜１：５の比で生成物ガス流に供給することを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記温度調整されたガス流を放射状に供給することを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記温度調整されたガス流を接線方向に供給することを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
上部管板と下部管板との間の、触媒で充填された多数の反応管から成る、触媒を含む反応帯域、上部反応器フードへの原料ガス流のための入り口、および下部反応器フードへの生成物ガス流のための出口を含む、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法に記載の接触酸化反応を実施するための反応器において、
前記温度調整されたガス流のための少なくとも１の供給装置が、反応帯域からの生成物ガス流の排出後に直接、下部反応床と、生成物ガス流の出口との間の領域で反応器内壁に備えられていることを特徴とする、上部管板と下部管板との間の、触媒で充填された多数の反応管から成る、触媒を含む反応帯域、上部反応器フードへの原料ガス流のための入り口、および下部反応器フードへの生成物ガス流のための出口を含む、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法に記載の接触酸化反応を実施するための反応器。
【請求項１０】
上部管板と下部管板との間に設置されている、触媒固定床を含む多数の反応管、および上部管板と下部管板との間の空間に反応熱の除去のための熱交換媒体循環が含まれており、かつ前記温度調整されたガス流のための少なくとも１の供給装置が、反応管からの生成物ガス流の排出開口部の下部に直接、下部管板と、反応器からの生成混合物の出口との間の領域で、反応器内壁に備えられていることを特徴とする、請求項９に記載の反応器。
【請求項１１】
前記供給装置が、下部反応床と生成物ガス流の出口との間の反応器フードの領域で反応器内壁の円周上に備えられていることを特徴とする、請求項９または１０に記載の反応器。
【請求項１２】
前記供給装置が、前記温度調整されたガス流の放射状の供給を可能にすることを特徴とする、請求項９から１１までのいずれか１項に記載の反応器。
【請求項１３】
前記供給装置が、前記温度調整されたガス流の接線方向への供給を、半径に対して２０゜〜６０゜の角度、好ましくは４０゜〜５０゜の角度で可能にすることを特徴とする、請求項９から１１までのいずれか１項に記載の反応器。
【請求項１４】
前記供給装置が、１または複数のノズルを含むことを特徴とする、請求項９から１３までのいずれか１項に記載の反応器。
【請求項１５】
前記ノズルが、反応器の内壁と同一平面上で終了することを特徴とする、請求項１４に記載の反応器。
【請求項１６】
前記供給装置が、５０〜１００ｍ／秒の流速で前記温度調整されたガス流を供給することを特徴とする、請求項９から１５までのいずれか１項に記載の反応器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、炭化水素の接触酸化反応の実施のための方法、とりわけ相応するジオールからのビシナルジオキソ化合物の製造、および反応器の出口領域における温度調整のための装置を含む反応器に関する。
【０００２】
気相における接触酸化反応を含む方法のための、例えばグリオキサールの製造のための多管式反応器の使用は、ＥＰ１１６９１１９より公知である。この際ガス混合物を、内部に触媒活性を有する複合金属酸化物の固定床が設置されている反応管に導入する。反応熱を供給、もしくは排出するために、最上部の管板と、最下部の管板との間に存在する、反応管を取り囲む空間によって、熱交換媒体循環が導かれる。
【０００３】
熱交換媒体としては、存在する反応温度の範囲において液体状である温度調整媒体が公知であり、とりわけ塩の溶融液が使用される。
【０００４】
ＤＥ１９２３０４８より、触媒を用いた、ヒドロキシ化合物であるエチレングリコールの酸化によるグリオキサールの製造は公知である。適切な酸化触媒としては、銅−錫の合金の酸化、銅−錫−リンの合金の酸化、または銅−リンの合金の酸化により得られる酸化触媒が挙げられる。この酸化は気相で起こり、この際ヒドロキシ化合物、例えば蒸発器内で気相に移送されるエチレングリコールは、酸素含有ガス、例えば空気と、酸化触媒の存在下で高められた温度において反応する。ガス混合物には希釈ガス、例えば窒素、二酸化炭素、水蒸気、または反応関与物と生成物に対して反応条件下で不活性である他のガスを混合することができる。エチレングリコールからのグリオキサールの製造の場合、典型的には３００℃〜４５０℃の反応温度である。
【０００５】
上記の方法における欠点として、達成されるグリオキサールの収率が、使用されるエチレングリコールの量に対して６５〜７０％と、比較的僅少であることが実証されている。
【０００６】
これに対してはとりわけ、グリオキサールの収率損失につながる均一気相反応、およびまた不均一触媒壁面反応（Ｗａｎｄｒｅａｋｔｉｏｎ）でもあり得る、後接続された配管と装置における副反応に責任があり得る。この非選択的酸化反応は、反応器内でグリオキサールを含む生成物ガス流の排出領域に存在する高い温度においては、より激しく起こる。
【０００７】
ＵＳ５，８４０，９３２より、多管式反応器における接触酸化によるエチレンオキシドの製造方法において、排出領域で生成物流を直接冷却するという目的設定で、管の下部領域で、冷却された、生成物流から調製された部分流を導入し、かつこの部分流を、排出する生成物流と混合することは公知である。この導入は、詳しくは述べられていないノズルシステムを介して行う。
【０００８】
ＤＥ２７３７８９４より、反応槽内での無水マレイン酸の製造において、生成物ガス流の強度の冷却のために、冷却棚内を流れる冷却液体による熱交換、または反応器返送ガスの一部、酸素含有ガスの一部、または生成物流の一部であってもよい冷却ガスのとの混合により温度低下させることは、公知である。冷却ガスの導入は、反応槽の下部領域、すなわち反応槽フードに設置されている、スプリンクラー装置の形態でのガス分散システムを介して行うことができる。このような反応槽フードにおけるガス分散システムの大きな所要面積はこの場合不利に働き、このことによって反応槽のコストが上昇しうる。しかしながら、凝縮工程、および／または昇華工程につながっていてもよい、冷却ガスを貫流させる装置もまた、問題があると実証されている。その際生じる装置上への付着物を装置から剥離させ、かつ下流の装置部で誘発沈殿させる。
【０００９】
グリオキサールの製造例において、原料のモノエチレングリコールは、高い、ほぼ完全な反応率を示すにも関わらず、グリオキサールの収率は使用されるモノエチレングリコールに対して僅少である。とりわけ生成物ガス流に存在する高温が、多管式反応器上に続く導管と装置にグリオキサールの均一反応、および／または不均一反応を導入し、このことが明らかな収率損失につながり得る。
【００１０】
従って本発明の課題は、炭化水素の接触酸化反応の実施において、とりわけ相応するジオールからの、ビシナルジオキソ化合物の製造、例えば原料であるモノエチレングリコールからのグリオキサールの製造において改善された収率を達成する、方法概念および相応する装置を提供することである。
【００１１】
この課題の解決は、反応器内に設置された触媒を用いた、炭化水素の接触酸化反応の実施のための方法、例えば多管式反応器の反応管内に設置された触媒固定床を用いた、ジオールと空気中の酸素との接触酸化脱水素反応による、相応するビシナルジオールからの、ビシナルジオキソ化合物の製造から出発する。この方法は、酸化反応の生成物ガス流を反応器の反応帯域からの排出後に直接、温度調整されたガス流の供給によって冷却することによって特徴付けられる。
【００１２】
反応帯域からの排出後直接の生成物ガス流の温度調整は、存在する条件下で熱的に非安定性の、温度調整されたガス流を用いた冷却により安定化することができる生成物が存在する場合にはいつでも適用可能である。反応帯域は、内部に触媒が例えば流動床として、または固定床として、とりわけ多管式反応器の反応管に設置されている反応器の領域を含む。
【００１３】
本発明による方法を、多管式反応器内でのビシナルジオキソ化合物の製造を考慮して記述する。
【００１４】
ビシナルジオキソ化合物の製造方法は、とりわけ相応するビシナルジオールを含む原料混合物の調製を含む。モノエチレングリコールの接触酸化脱水素反応によるグリオキサールの製造の場合、モノエチレングリコールを適切な蒸発器で気相中に移送する。気体状のモノエチレングリコールを、存在する反応条件下で反応関与物に対して、および生成物に対して不活性である循環ガスに添加する。循環ガスは基本的に窒素と、酸素の成分、二酸化炭素の成分、一酸化炭素の成分、および水の成分を含むことができる。例えば、循環ガスは０〜５体積％のＯ2、０〜１０体積％のＣＯ2、０〜５体積％のＣＯ、０〜１５体積％のＨ2Ｏ、および相応する量の残分窒素を有する。しかしながら、さらなる循環ガスの成分もまた可能である。ビシナルジオールの酸化脱水素に必要な酸素を、ビシナルジオールで飽和された循環ガスに新鮮な空気を添加混合することによって供給する。
【００１５】
多管式反応器内への導入前の酸素対エチレングリコールのモル比は、典型的には１ｍｏｌのエチレングリコールあたり、１．５ｍｏｌ未満の酸素である。
【００１６】
このように製造された原料ガス流を多管式反応器内へと導入し、かつ触媒床を含む多数の反応管に到達させる。好適には、リンでドープされた銅触媒であり、また金、白金、ロジウム、またはパラジウムでドープされている銀触媒の使用、銅を有する銀触媒、または酸化モリブデンベースの触媒も可能である。
【００１７】
接触酸化脱水素で発生する反応熱を、反応管を取り囲む熱交換媒体によって、好適には塩循環の形態で、および蒸気発生器と蒸気過熱器とから成るシステムで除去する。こうして除去された反応熱を、例えば工程蒸気の生成のために利用することができる。通常、使用される多管式反応器は一帯域で実施されているが、また個々の熱交換循環によりその都度異なる温度に調整することができる複数の連続して設置された反応帯域による、複数の帯域での実施も可能である。
【００１８】
使用される多管式反応器はさらに、両端で通常フードにより閉鎖されている円筒形状の領域を含む。円筒形の領域には、最上部の管板と最下部の管板との間に多数の反応管が設置されている。円筒形領域の典型的な直径は、２．５〜５ｍである。このような直径を有する多管式反応器は一般的に、１，０００〜１５，０００の反応管、好ましくは２，０００〜１０，０００の反応管を有する。通常反応管の内径は２０〜７０ｍｍ、好ましくは４０〜６０ｍｍである。反応管の典型的な長さ、ひいては反応器の円筒形領域の長さは、１．５〜５ｍ、好ましくは２〜３．５ｍの範囲である。
【００１９】
グリオキサールの製造においては、触媒を用いた、使用されるモノエチレングリコールの所望される可能な限り完全な反応のために、３６０℃〜３９０℃の塩循環の入口温度が有利であると実証されている。反応管を離れる生成物ガス流の温度は、典型的には３５０〜３７０℃である。引き続き、多管式反応器を離れる生成物ガス流を循環ガス熱回収装置内で冷却し、かつ後続の急冷工程において、基本的にはグリオキサールを、ならびに副生成物、例えばホルムアルデヒド、グリコールアルデヒド、ギ酸などを含むことができる凝縮可能な成分を、凝縮して取り出すことができる。最終的には非常に僅少なグリオキサールにつながる、さらなる後処理工程が続く。
【００２０】
本発明による方法は、反応帯域からの排出領域で直接、生成物ガス流の温度を低下させることを意図する。多管式反応器の場合、この領域は反応管の排出開口部の下部にある反応器フードの領域であり、その結果、収率損失に責任のある、生成物の不所望な副反応を充分に抑制することができる。
【００２１】
本発明によれば、このために供給装置が反応器の出口領域に、一般的には下部フードに、とりわけ反応管の排出開口部の下部に直接、多管式反応器の場合は、最下部の管板と反応器の出口との間の領域に備えられている。本発明による供給装置は、生成物ガス流との激しい混合によって存在する温度を低下させる、温度調整されたガス流の供給を可能にする。
【００２２】
供給される温度調整されたガス流としては、常温の不活性ガス、好ましくは冷却された循環ガスの部分流を使用することができる。ガス流を好適には生成物ガス流に対して１：２０〜８：１０の体積比で、とりわけ１：１０〜１：５の比で供給する。
【００２３】
適切な方法で不所望の副反応を抑制する、生成物ガス流の充分な冷却を達成するために、供給される温度調整されたガス流の温度は一般的に、３０〜３００℃、好ましくは８０〜２００℃、および特に好ましくは８０〜１２０℃である。生成物ガス流の冷却において、循環ガスの予熱のための加熱システム（Ｗａｅｒｍｅｖｅｒｂｕｎｄ）もまた、考慮すべきであり、その結果使用される方法によっては、温度の下限が存在する。グリオキサールの製造の例では、３０〜６０℃の冷却が適していると実証されており、その際温度の下限は約３００℃である。
【００２４】
本発明による方法において、循環ガスの部分流を相応する温度調整されたガス流として供給する。使用された循環ガスから、接触酸化反応に後接続された後処理工程で生成物を分離し、かつ原料による飽和後、および新鮮な空気もしくは反応空気との混合後、適切な温度で再び工程に返送する。本発明によれば、この循環ガスから相応する部分流を誘導し、かつ下部の反応床と出口との間の領域にある、反応帯域からの排出開口部の下部で直接供給し、ここで部分流が生成物ガス流と混合される。
【００２５】
本発明によれば、温度調整されたガス流は、放射状に、または接線方向に供給することができる。放射状とは、供給される温度調整されたガス流を、反応器の内部にある供給装置から、基本的に反応器壁面に対して垂直に排出させることを意味する。
【００２６】
温度調整されたガス流の供給を、好適には下部の反応床と反応器の出口との間にある反応器壁面の領域に設置されている例えばノズルとして形成されている、本発明による反応器の壁面に設置された供給装置を介して行うことができる。
【００２７】
温度調整されたガス流を反応器の壁面の円周に均等に配置された複数の供給装置によって、放射状に、または好適には半径に対して１の角度で接線方向に供給することができる。この角度は反応器の半径に対して２０〜６０゜の範囲、好ましくは４０〜５０゜であることができる。
【００２８】
接線方向への供給を、好適には温度調整されたガス流の流れに対して反応器の内壁に沿った、好適には多管式反応器の内壁に沿った円周方向で、反応帯域からの排出開口部の領域で、好適には反応管の排出開口部の領域で実施する。冷却による生成物の均一気相反応の抑制に加えて、生成物ガス流を壁面領域から排除することがこうして達成され、このことによって壁面における生成物の不均一触媒反応を回避する。
【００２９】
これに加えて、温度調整されたガス流の接線方向への供給は、反応器の壁面を付加的に冷却する必要がないという利点をもたらす。と言うのも、不所望の後反応によるエネルギー放出が避けられるからである。
【００３０】
この供給により生じる、生成物ガス流の温度調整の効果は、ガス流の迅速な混合次第である。使用される供給装置の相応する選択により、迅速な混合、ひいては所望の素早い冷却をもたらす、供給されるべきガス流の高い流速を達成することができる。供給装置はとりわけ、ノズルとして形成されていることができる。とりわけ、複数のノズル、好適には４〜８、好ましくは６つのノズルを円周に均等に設置する。ノズルはフードの内壁と同一平面上で終了する。ノズルの横断面は、５０〜１００ｍ／秒の範囲という温度調整されたガス流の排出流速が達成できるように選択されている。
【００３１】
供給装置の有利な実施態様においては、温度調整されたガス流の接線方向への供給を達成することができ、このことによって円周方向に流れる回転運動を生む、接線方向への流れ成分を有するガス流が生じ、該回転運動が乱流状態により素早い混合に対してさらなる肯定的な影響をもたらす。
【００３２】
起こり得る反応と副反応による条件によっては、とりわけ流れが緩い帯域における堆積物の生成が、助長されていることがあり得る。従ってこの堆積物の生成を充分に避けることができるように、フードを含むすべての反応器の領域において、反応器の内壁を平滑に実施することが有利である。従って供給装置を好ましくは、供給装置が反応器の内壁と同一平面上で終了するように形成する。
【００３３】
図を用いて、本発明をより詳しく説明する。
図１は、グリオキサールの製造のために使用される多管式反応器の縦断面図である。
図２は、図１の多管式反応器の横断面図である。
【００３４】
図１は、図示的に示された、内部に反応管３が収容されている円筒形の反応器ジャケット２を含む、公知の多管式反応器１である。グリオキサールの製造の場合にはモノエチレングリコールと、例えば加熱器により所望の温度に加熱された空気、および循環ガスとから成る原料混合物を、多管式反応器１内に到達させ、該混合物を上部フード４の領域に反応器全体の横断面上方に均一に分散させる。上部フード４を円筒形の反応器ジャケット２に対して上部管板５によって閉鎖する。管板５には、反応管束６の反応管３が導通している。反応管３は、その上部の領域で管板５により封止溶接されている。反応管３内には、触媒材料（図示せず）が存在する。その下部領域には、反応管３が下部管板７で封止溶接されており、かつ多管式反応器１の下部フード８に導通している。モノエチレングリコール−空気の混合物は反応管を貫流し、かつ大部分がグリオキサールへと反応する。
【００３５】
反応管束６を、参照番号９で示されている熱交換媒体循環によって温度調整する。このために例えば溶融塩を反応器ジャケット開口部１０、１１を介して多管式反応器１の円筒形ジャケット断面内へ導入、もしくは導出し、かつその場所で反応管束６の反応管３に対して長さ方向の流れ、十字流、向流、または並流で通過させ、モノエチレングリコールの酸化脱水素の際に発生する反応熱を排出する。
【００３６】
この熱い生成物ガス流を、円周上に備えられた供給装置１２による温度調整されたガス流の供給によって、下部フード８で直接冷却する。
【００３７】
供給装置１２は、好ましくは一平面上で下部管板７の下部に直接、ひいては反応管の排出開口部の下部に直接設置されている。
【００３８】
図２は、供給装置１２が設置されている平面における、図１の多管式反応器１の横断面図を示す。好ましい実施形態においては、供給装置１２が半径に対して１の角度で、例えば、４５゜の角度で設置されている。供給装置１２は、下部フード８の円周に規則的に配置されており、これらの供給装置は多管式反応器８の内壁１３と同一平面で終了する。
【００３９】
本発明による方法を用いて、生成物ガス流の相応する温度調整によりグリオキサールの製造の収率を約３〜５％上昇させることができる。生成物ガス流の排出領域に直接、省スペース的に供給装置を配置することにより、使用される反応器のフードの長さにも影響を受ける反応器のコストを減少させることができる。接線方向への流れ成分につながる供給装置の有利な配置は、生成物ガス流の強度の冷却をもたらすことができ、かつ内壁に沿って生じる流れ形態（Ｓｔｒｏｅｍｕｎｇｓｆｏｒｍ）によって、その場所での触媒的な、および非選択的な副反応を抑制することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】グリオキサールの製造のために使用される多管式反応器の縦断面図である。
【図２】図１の多管式反応器の横断面図である。
【符号の説明】
【００４１】
１  多管式反応器、  ２  反応器ジャケット、  ３  反応管、  ４  上部フード、  ５  上部管板、  ６  反応管束、  ７  下部管板、  ８  下部フード、  ９  熱交換媒体循環、  １０  反応器ジャケット開口部、  １１  反応器ジャケット開口部、  １２  供給装置、  １３  内壁
【図１】
2009537479.tif 000003
【図２】
2009537479.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月19日(2009.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部管板と下部管板との間に触媒で充填された多数の反応管を含む、触媒を含む反応帯域、上部フードへの原料ガス流のための入り口、および下部フードへの生成物ガス流のための出口を含む反応器における、炭化水素の接触酸化反応を実施するための方法において、酸化反応の生成物ガス流を反応器の反応帯域からの排出後に直接、放射状の、および／または接線方向への供給によって、下部管板と生成物ガス流との排出口との間の領域で反応器内壁に備えられた、少なくとも１の供給装置を用いて温度調整されたガス流で冷却することを特徴とする、上部管板と下部管板との間に触媒で充填された多数の反応管を含む、触媒を含む反応帯域、上部フードへの原料ガス流のための入り口、および下部フードへの生成物ガス流のための出口を含む反応器における、炭化水素の接触酸化反応を実施するための方法。
【請求項２】
前記接触酸化反応が、相応するジオールと空気中の酸素とからの、ビシナルジオキソ化合物の製造のための酸化脱水素反応であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記反応器が多管式反応器であること、前記触媒が多管式反応器の管内に設置されていること、および反応管の排出開口部の下部で直接、前記温度調整されたガス流を供給することを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記温度調整されたガス流が、循環される工程の循環ガスの部分流であることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記温度調整されたガス流の温度が、３０〜３００℃の範囲、好ましくは８０〜２００℃の範囲、および特に好ましくは８０〜１２０℃の範囲であることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記温度調整されたガス流を、１：２０〜８：１０の比で、好ましくは１：１０〜１：５の比で生成物ガス流に供給することを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
上部管板と下部管板との間の、触媒で充填された多数の反応管から成る、触媒を含む反応帯域、上部反応器フードへの原料ガス流のための入り口、および下部反応器フードへの生成物ガス流のための出口を含む、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法に記載の接触酸化反応を実施するための反応器において、
前記温度調整されたガス流のための少なくとも１の供給装置が、反応帯域からの生成物ガス流の排出後に直接、下部管板と、生成物ガス流の排出口との間の領域で反応器内壁に備えられていることを特徴とする、上部管板と下部管板との間の、触媒で充填された多数の反応管から成る、触媒を含む反応帯域、上部反応器フードへの原料ガス流のための入り口、および下部反応器フードへの生成物ガス流のための出口を含む、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法に記載の接触酸化反応を実施するための反応器。
【請求項８】
上部管板と下部管板との間に設置されている、触媒固定床を含む多数の反応管、および上部管板と下部管板との間の空間に反応熱の除去のための熱交換媒体循環が含まれており、かつ前記温度調整されたガス流のための少なくとも１の供給装置が、反応管からの生成物ガス流の排出開口部の下部に直接、下部管板と、反応器からの生成混合物の排出口との間の領域で、反応器内壁に備えられていることを特徴とする、請求項７に記載の反応器。
【請求項９】
前記供給装置が、下部反応床と生成物ガス流の排出口との間の反応器フードの領域で反応器内壁の円周上に備えられていることを特徴とする、請求項７または８に記載の反応器。
【請求項１０】
前記供給装置が、前記温度調整されたガス流の放射状の供給を可能にすることを特徴とする、請求項７から９までのいずれか１項に記載の反応器。
【請求項１１】
前記供給装置が、前記温度調整されたガス流の接線方向への供給を、半径に対して２０゜〜６０゜の角度、好ましくは４０゜〜５０゜の角度で可能にすることを特徴とする、請求項７から９までのいずれか１項に記載の反応器。
【請求項１２】
前記供給装置が、１または複数のノズルを含むことを特徴とする、請求項７から１１までのいずれか１項に記載の反応器。
【請求項１３】
前記ノズルが、反応器の内壁と同一平面上で終了することを特徴とする、請求項１２に記載の反応器。
【請求項１４】
前記供給装置が、５０〜１００ｍ／秒の流速で前記温度調整されたガス流を供給することを特徴とする、請求項７から１３までのいずれか１項に記載の反応器。
【国際調査報告】
2009537479.tif 000005
2009537479.tif 000006
2009537479.tif 000007
2009537479.tif 000008