(57)【要約】  本発明は、下方の領域の方へ通じている燃料ガス用の供給装置４２と、粉砕装置と、粉砕装置上へ材料を上方から供給する材料注入口３１とが、交互に重なって設けられている、ハウジング３９を、有する、粉末状又はきめの細かい材料用の、また、特にか焼石膏に適した、乾燥粉砕機に関するものであり、材料吐出口３８は、作業チェンバ３０の上方の領域から外部につながり、戻りは、下方の粉砕装置につながっており、粉砕装置は、水平面内で回転し、且つ、ハウジングの内部上に配置された衝突ケーシング３５と相互作用する、遠心ディスク３２である。本発明では、下方から遠心ディスク３２を取り囲むノズル・リング（４５）が、作業チェンバに燃料ガスを供給するように、設けられている。その結果、特に、か焼プロセスが、ノズル・リングを用いて作業チェンバ内に供給される高温ガスの熱エネルギーと、作業チェンバ内のドウェル時間と、を利用することにより、効率的な方法で促進される。また、本発明は、対応する粉砕方法に関する。
2009502459.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉末状又はきめの細かい材料用の、また、特に、か焼石膏に適した、乾燥粉砕機において、作業チェンバ（３０）を囲むハウジング（３９）を備えており、ハウジング（３９）においては、下方の領域につながっている推進ガス用の供給装置（４２）と、粉砕装置と、前記粉砕装置上へ前記材料を上端から供給する材料注入口（３１）とが、交互に重なって設けられており、材料吐出口（３８）は、作業チェンバ（３０）の上方の領域から外方へつながり、戻り流路は、下方の前記粉砕装置につながっており、前記粉砕装置は、水平面内で回転し、且つ、ハウジング（３９）の内部上に配置された衝突ケーシング（３５）と相互作用する、遠心ディスク（３２）であり、
底部から遠心ディスク（３２）を取り囲むノズル・リング（４５）が、作業チェンバ（３０）内に推進ガスを供給するように、設けられていることを特徴とする、乾燥粉砕機。
【請求項２】
遠心ディスク（３２）用の駆動モータ（４９）が、作業チェンバ（３０）の外側に配置されていることを特徴とする、請求項１に記載の乾燥粉砕機。
【請求項３】
遠心ディスク（３２）が、空気軸受（３４）により支持されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の乾燥粉砕機。
【請求項４】
衝突ケーシング（３５）が、複数の交換可能なセグメントを有する多くの部分で構成されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１つに記載の乾燥粉砕機。
【請求項５】
作業チェンバ（３０）を負圧にするために、負圧接続（４０）が設けられていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１つに記載の乾燥粉砕機。
【請求項６】
高温ガス発生器（４１）が、供給装置（４２）を介してノズル・リング（４５）に接続されていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１つに記載の乾燥粉砕機。
【請求項７】
ノズル・リング（４５）に、可変空気ギャップが設けられていることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１つに記載の乾燥粉砕機。
【請求項８】
遠心ディスク（３２）が、その縁端部にストレーナ・バスケット（３３）を有することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１つに記載の乾燥粉砕機。
【請求項９】
遠心ディスク（３２）から上昇する材料のきめの粗い部分を、遠心ディスク（３２）に戻すために分離する、篩分け装置（３６）が、作業チェンバ（３０）の上方の領域に配置されていることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１つに記載の乾燥粉砕機。
【請求項１０】
下向き戻り流路（３７）が設けられており、この下向き戻り流路を通って、きめの粗い部分が、重力により、遠心ディスク（３２）上に搬送されることを特徴とする、請求項９に記載の乾燥粉砕機。
【請求項１１】
粉末状又はきめの細かい材料、特に石膏を、粉砕する方法において、
前記材料を供給することと、前記材料を上端から粉砕装置上へ供給することと、前記材料に水平に遠心力を作用させて衝突ケーシング（３５）にぶつけることにより前記材料を粉砕することと、前記粉砕された材料を推進ガス流により上方に移動させることと、前記粉砕された材料を排出することと、重力を用いて大きな成分を戻すことにより、前記粉砕することを繰り返すことと、を含んでおり、
ノズル・リング（４５）を介して前記推進ガスを供給し、且つ、前記推進ガス流内で前記材料をか焼することを特徴とする、方法。
【請求項１２】
前記材料を粉砕するために外側から遠心ディスク（３２）を駆動することを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
反応装置の上方の領域に配置されている篩分け装置（３６）を用いて、粉砕された材料を分類することを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の方法。
【請求項１４】
動的な篩分けを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
反応装置を、好ましくは−１５ミリバールから−３ミリバールの範囲の負圧にすることを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１６】
前記推進ガスを、好ましくは５００℃〜７００℃の温度の高温ガスとして供給することを特徴とする、請求項１１〜１５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１７】
前記推進ガス流を、ノズル・リング（４５）に設けられている空気ギャップを用いて調整することを特徴とする、請求項１１〜１６のいずれか１つに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、下方の領域につながる推進ガス用の供給装置と、粉砕装置とが、交互に重なって配置された、ハウジング、を有する、きめの粗い材料又はきめの細かい材料用の、また、特に、か焼石膏に適した、乾燥粉砕機に関する。
【背景技術】
【０００２】
乾燥機能を有する粉砕機は、特に、か焼石膏用のプラントで使用されている。原料は、焼成前に粉砕されなければならない。したがって、か焼プラントは、必須構成要素として粉砕装置を有する。そのことは、特に、原料物質としてＲＥＡ石膏のような再利用された石膏を処理する場合に、当てはまる。
【０００３】
ボール及びリング粉砕機に基づく乾燥粉砕機は、従来の公知の使用で知られている。それらは、例えば、クラウディウス・ピーターズ・テクノロジーズ（Claudius Peters Technologies）によりＥＭミルの名称で市販されている。それは、粉砕トラック上を走る複数の大きな粉砕ボールを含む、粉砕装置を有する。動作時には、粉砕された材料は、外方へ放出され、粉砕装置の垂直上方に配置されている篩分け装置に到達するまで、上昇する推進ガスにより、そこで、集められて、乾燥される。大き過ぎる粒子は、推進ガス流で上方に搬送されることができず、粉砕トラック上へ戻る。篩分け装置に到達した材料は、きめの細かい部分と、きめの粗い部分とに、分けられて、きめの粗い部分はガイドを介して粉砕装置に戻される。きめの細かい部分は、分離されて、粉砕機から排出される。確かに、これらの粉砕機は、非常に良好な結果をもたらし且つ非常に安定しているが、全ての原料の処理に適しているわけではない。すり潰すときのように押し潰すよりも、切り裂くことにより、より良く粉砕できるこのような材料では、困難を生じさせる可能性がある。また、重い粉砕歯車を駆動するためのエネルギーの消費は、かなり大きい。
【０００４】
そのような材料を、本質的には凝集体の分解により定義されている粉砕によって、処理するために、他の種類の構成が知られている。この場合、このような種類の構成は、ハンマー・ミルに関係する。それは、例えば、クラウディウス・ピーターズ・テクノロジーズによりデルタ・ミル（Delta Mill）の名称で市販されている。それは、ハンマー破砕歯車と、同じ駆動軸上に隣接して配置された篩分け歯車と、を有している。片側からハンマー粉砕歯車に供給された材料は、粉砕され、更に推進ガス流によって篩分け歯車に搬送される。篩分け歯車は、大き過ぎる粒子を排除するパドルを含み、細粒だけを吐出口に伝達する。確かに、このようなハンマー・ミルは、ボール及びリング粉砕機によって処理できないか又はかろうじて処理される材料を、処理するのに適しているが、また、欠点も有する。ハンマー・ミルは、異物に弱く、可動ハンマー要素のために摩耗しやすい。更に、ハンマー・ミルは、ハンマー破砕歯車の駆動軸が横向き姿勢であるので、比較的広い空間を必要とする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
最初に挙げた種類の構成を根幹として、本発明は、乾燥機能を有するとともに高い安定性を有しており、それほど高価ではない、粉砕機を、作ること、及び、対応する運転方法を提供すること、を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に基づく解決手段は、独立クレームの特徴内に存在している。有利な展開は、従属クレームの対象である。
【０００７】
作業チェンバを囲むハウジングを備えており、ハウジングにおいては、下方の領域につながっている推進ガス用の供給装置と、粉砕装置と、粉砕装置上へ材料を上端から供給する材料注入口とが、交互に重なって設けられている、粉末状又はきめの細かい材料用の、また、特にか焼石膏に適した、乾燥粉砕機において、材料吐出口は、作業チェンバの上方の領域から外方へつながり、戻り流路は、下方の粉砕装置につながっており、粉砕装置は、水平面内で回転し、且つ、ハウジングの内部上に配置された衝突ケーシングと相互作用する、遠心ディスクであり、本発明においては、底部から遠心ディスクを取り囲むノズル・リングが、作業チェンバ内に推進ガスを供給するように、設けられている。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の本質は、遠心ディスクとノズル・リングとの機能的相互作用であり、遠心ディスクは、粉砕装置としての役目を果たし、それによって粉砕される材料は、遠心力の作用を受けて衝突ケーシングにぶつかり、その結果、材料は、分解を引き起こすとともに確率的な分布を示す断片の運動を引き起こす、大きい衝撃を、保持し、底部から遠心ディスクを取り囲むノズル・リングを介して、方向性をもった状態で推進ガスが作業チェンバに更に供給され、このように推進ガスを用いて遠心ディスクのすぐ近傍で断片をすでに流動化させ、且つ、材料吐出口の方向に上向きに断片を移動させる。大きく、したがって重い粒子は、追従することができず、遠心ディスク上へ戻り、それらの粒子は、再び遠心力の作用を受けて粉砕される。戻り流路は、分離した構造要素として構成されることが絶対に必要というわけではなく、粒子は、重力だけを使って自由空間を通って戻ることもできる。このようにして、作業チェンバ内で一種の循環粉砕が起こり、この間に、同時に推進ガス流による乾燥を実行することができる。材料は、最終的に材料吐出口に到達するとき、確実に粉砕されている。したがって、本発明の粉砕機は、個別の構成要素無しに制御する内部の戻り流路を有しており、ほとんど摩耗無しに高度の粉砕を達成する。相互につながり且つ異物によりブロックできる、部分が、無いため、異物に関するロバスト性が大きい。構成はそれほど高価ではなく、比較的軽い遠心ディスクだけを駆動する必要があるため、運転は、ほとんどエネルギーを必要としない。その結果、本発明は、驚くほど平易な方法で、簡素な構成と低摩耗性を有する好ましい動作とに関する利点を組み合わせる。
【０００９】
遠心ディスクを駆動するために設けられたモータを、作業チェンバの外側に配置することが好都合である。これにより、保守のための良好なアクセスを確保するとともに、粉砕ダストが原因の摩耗から、モータを保護する。更に、作業チェンバ内部への配置と比較して、より簡素でより良好な冷却が得られる。更に、遠心ディスクは、空気軸受を介して支持されていることが有利である。これは、低摩擦動作を確保するだけでなく、粉砕ダストが原因の摩耗に対する高い耐摩耗性をも提供する。更に、注油された軸受け部が不要であることは、保守を簡素化する。衝突ケーシングは、複数のセグメントを有する多くの部分で構成されていることが好都合である。セグメントは磨耗部品である。このような多部分構成により、必要に応じてセグメントをそれぞれ交換できる。更に、取り扱いをより容易にする。
【００１０】
粉砕ダストから環境を保護するために、負圧接続を提供することが好ましい。このようにして、乾燥粉砕機を負圧にすることができ、粉砕ダストの発生を防止できるようになされている。−１５ミリバールから−３ミリバールの範囲の負圧が好ましいことが判明した。材料の供給に対して、材料注入口に圧力ロックが提供されることが好都合である。
【００１１】
ノズル・リングを介して作業チェンバに供給される推進ガスは、乾燥作用を高めるために昇温して（いわゆる高温ガスとして）供給されるのが、好ましい。粉砕された材料の乾燥が主として達成されるべきであるとき、供給される高温ガスの温度は１００℃〜４００℃の範囲内にあることが好ましく、また、乾燥に加えて、粉砕された材料のか焼がすぐに達成されるべきであるとき、供給される高温ガスの温度は５００℃〜７００℃の範囲内にあることが好ましい。か焼プロセスを特に適正に制御するために、粉砕機への高温ガス供給流を、それに対応して調整しなければならない。この目的のために、ノズル・リングには、ノズル・リングを通る高温ガスの貫流速度を調整し又は制限する、可変空気ギャップの形態の調整装置が、設けられていることが、好都合である。ノズル・リングによる高温ガスの供給の結果、本発明は、プロセスの流れ、特にか焼プロセスの流れが、高温ガスの温度及び貫流速度により影響されるような、特に好都合な方法で、開発されている。このようにして、粉砕している間に、すぐにか焼を実行することができ、本発明の循環動作のために、特に長い接触時間、及びその結果としてのエネルギー利用を、達成できる。したがって、本発明の粉砕機は、予備反応装置として機能できる。
【００１２】
異物から衝突ケーシングを保護するために、及び、妥当な場合にはノズル・リングを保護するために、遠心ディスクの縁端部上にストレーナ・バスケットを設けることができる。ストレーナ・バスケットは、異物の通過及び過度に重い断片の通過を、阻止する。これにより、損傷又は閉塞の、危険性が、排除される。
【００１３】
妥当な場合に独立保護に値する、特に好都合な実施形態では、篩分け装置は、作業チェンバの上方の領域に配置されており、遠心ディスクから上昇する材料のきめの粗い部分を分離して、遠心ディスクに戻す。この場合、篩分け装置は、静的篩分け装置又は動的篩分け装置でよい。篩分け装置は、きめの粗い部分及びきめの細かい部分への粉砕された材料の分類を改善する。更に、篩分け装置は、本発明の循環動作を支援し且つ促進し、その結果、粉砕品質の向上をもたらす。達成される粉砕品質は、篩分け装置の調整により直接影響を受ける。動的篩分け装置では、循環速度の変更によって、これを容易に実行することができる。
【００１４】
篩分け装置から伸張する下向き戻り流路が、設けられていることが好ましく、この下向き戻り流路を通って、きめの粗い部分が重力により遠心ディスクに搬送される。このようにして、篩分け装置で分離されるきめの粗い部分に対する制御された経路が、作業チェンバ内に確保されている。これは、きめの粗い部分が最初に遠心ディスクにぶつかってから、再び篩分け装置まで上昇してくる前に、もう一度粉砕されるという効果を達成する。戻り流路は、材料注入口の近傍につながっていることが好ましく、きめの粗い部分が、粉砕された材料とではなく、新規に供給された材料と、混合するようになされている。
【００１５】
材料を供給することと、上端から材料を粉砕装置上へ供給することと、材料に水平に遠心力を作用させて衝突ケーシングにぶつけることにより材料を粉砕することと、粉砕された材料を推進ガス流により上方に移動させることと、粉砕された材料を排出することと、重力を用いて大きな成分を戻すことにより、遠心力を作用させることを繰り返すことと、を含む、本発明の方法によれば、粉末状又はきめの細かい材料、特に石膏を、粉砕している間、推進ガスはノズル・リングを介して供給され、材料のか焼は推進ガス流内で実行される。高温ガス流であり、また、ノズル・リングにより作業チェンバに供給される、推進ガス流を、用いて、粉砕された材料の搬送が成し遂げられるだけでなく、また、乾燥、特にか焼を達成することができる。
【００１６】
推進ガスは、加熱された状態で供給されるか、又は、加熱ガスと混ぜられている。したがって、温度調整された推進ガスは、高温ガスとみなされる。高温ガスを底部からノズル・リングを介して作業チェンバに供給することにより、熱対流がより良好に利用される。好ましい温度は、５００℃〜７００℃の範囲内である。更に、反応装置内でのか焼の温度、及び、材料吐出口を通って出て行くときの材料の温度は、特に、ノズル・リングに設けられている空気ギャップによって推進ガス流を調整することに関連して、調整できる。
【００１７】
粉砕された材料は、反応装置の上方の領域に配置されている篩分け装置で分類されることが好ましい。静的篩分け装置又は好ましくは動的篩分け装置によって、分類を実行することができる。この場合、遠心ディスクは、外側から駆動されることが好都合である。このようにして、駆動装置は、材料による悪影響から保護される。
【００１８】
動作時には、反応装置を負圧にすることが好都合である。それによって、特にリークが原因の粉砕された材料の好ましくない逸出の危険性が排除される。−１５ミリバールから−３ミリバールの範囲の負圧が好ましいことが判明した。反応装置への材料の供給は、圧力ロックを介して実行されることが好都合である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
より詳細な説明のために、乾燥粉砕機の上述した説明に言及する。
【００２０】
続いて、本発明を、有利な典型的実施形態が示されている図面に関して説明する。
【００２１】
最初に図１を参照する。図１は、本発明の乾燥粉砕機のか焼プラントへの組込みを示しており、更に、方法の実施態様の例示に役立っている。
【００２２】
原料は、供給点１でか焼プラントに導入される。原料は、特に、石膏建築用板材及び排煙脱硫プラントからのいわゆるＲＥＡ石膏のような再生された石膏製品である。本発明は、燐石膏のような他の種類の合成石膏と同様に、これらに特に適している。石膏原料は、供給点１から、好適な搬送装置２１により貯蔵サイロ２に、到達する。この貯蔵サイロは、高架式に配置され、本発明の乾燥粉砕機３の、完全に正確に上方ではないとしても、上方に、位置付けられている。原料は、重力により、制御スライド２３を有する縦樋２２を介して、乾燥粉砕機３の圧力ロックに到達する。供給系統４２を介してノズル・リング４５に接続されている高温ガス発生器４１を含む推進ガス源が、更に、乾燥粉砕機に接続されている。更に、乾燥粉砕機３を負圧にするために、接続４０が設けられている。乾燥粉砕機３の構成及び動作原理は、更に詳細に後述される。
【００２３】
ここで、粉砕された石膏は、垂直パイプ２５を介して乾燥粉砕機３を出て、フィルタリング・プラント５に到達する。そこから、粉砕された石膏は、配管２６を介して更なる処理段階６に搬送され、ロータリ・クーラ７の供給端部に搬送される。そこに、石膏が、冷却するために供給される。次に、冷却され且つ燃焼された石膏は、分配系統２８を介して貯蔵サイロ８に導かれる。これらから、冷却され且つ燃焼された石膏は、必要に応じて抜き取ることができる。
【００２４】
ここで図２を参照する。石膏は、圧力ロック（図示せず）を介して乾燥粉砕機３に到達する。圧力ロックは、乾燥粉砕機３内の負圧を保持するために役立つ。圧力ロックは、次第に変化して、乾燥粉砕機３の中で、作業チェンバ３０につながっている材料注入口３１につながる。材料注入口３１は、その末端が、作業チェンバ３０内の上端から下端まで垂直に伸張する、中心に配置された縦樋に、なっている。この縦樋から、原料石膏は、中心の、縦樋の真下に配置されている遠心ディスク３２上に、上端から直接落下する。生の石膏の非対称供給を回避するために、材料注入口３１は、正確に遠心ディスク３２の中央上方に開口を有している。中心に配置されたコーン（図示せず）を、材料注入口３１の開口と遠心ディスクとの間に、設けることができる。コーンは、入ってくる原料を遠心ディスク３２全体に渡って均等に分散させるために役立つ。
【００２５】
遠心ディスク３２は、ベルト伝動装置４７を介して駆動モータ４９に接続されている。粉砕ダストの悪影響からの保護、より良い冷却、及び保守の容易さのために、モータは、作業チェンバ３０の外側のハウジング壁３９上に配置されている。また、維持費を更に減少させるために、アンギュラ・ギヤを有するシャフト・ドライブを設けることができる。駆動モータ４９は、乾燥粉砕機３の作動状態に基づいて種々のパラメータを調整できるように、速度制御ユニットに接続されている。遠心ディスクは、地上に配置されている空気軸受３４を介して支持されている。遠心ディスク３２は、上述したように毎分数百回転の高速回転運動に設定されている。
【００２６】
材料吐出口３１からの原料は、遠心ディスク３２に到達して、異なった方向に確率的に分散される。インパクト・エッジを有する本体（図示せず）は、遠心ディスク３２上に配置されている。原料は、インパクト・エッジと衝突し、プロセスにおいて予め粉砕されている。インパクト・エッジにより集められた材料は、強制的に回転運動させられて、遠心ディスク３２により遠心力の作用を受ける。材料は、接線方向外方へ動かされて、衝突ケーシング３５に衝突する。衝突ケーシングは、遠心ディスク３２から所定の距離をおいて、遠心ディスク３２と同じ高さに配置されており、この所定の距離は、実際には、遠心力が作用した後に予想される粒子の高さ損失により多少短縮される。インパクト・エッジとの接触及び衝突ケーシング３５との衝突の結果、原料は壊れて、すなわち、より小さい粒子に砕かれる。遠心ディスク３２は、端面部上に取り付けられたインパクト・エッジを有するディスク状の基本構造を有するように、構成できる。更に、遠心ディスク３２は、その外側の縁端部にストレーナ・バスケット３３を有する。その開口部の幅は、衝突ケーシング３５の損傷に通じ得る、異物及び大き過ぎる粒子を、阻止するように、選択される。しかしながら、また、他の典型的実施形態では、遠心ディスク３２は、十字のアームのそれぞれの端部上にインパクト・エッジを載設する隆起した本体を有する、十字状の基本構造３２’を、有するように形成できる。遠心力の作用を受けて衝突ケーシング３５にぶつかる粒子は、ほぼ均質に作業チェンバ３０を満たす。このようにして、作業チェンバ３０内のケーキング及びデッド・ゾーンを確実に回避できる。
【００２７】
高温ガス発生器４１で作られた推進ガスは、遠心ディスク３２を取り囲んでおり、遠心ディスク３２の遠心力作用領域のすぐ下方に配置されたノズル・リング４５に、供給される。高温推進ガス（高温ガス）は、遠心ディスク３２と衝突ケーシング３５との間の空間を通って上昇し、プロセスにおいて、粉砕された粒子の形態の粉砕された材料を捕捉する。この流れにおいて、高温ガスで形成されたガス流は、粉砕された粒子、すなわち、粉砕された材料を、流動化させ、このようにして、作業チェンバ３０の上方の領域に粉砕された材料を上向きに搬送するとともに、プロセスにおいて、粉砕された材料を乾燥させる。
【００２８】
その上、この間に、すぐにか焼を始めることができる。高温ガスの温度が、粉砕された材料の通過量に応じて、４００℃〜７００℃、好ましくは約６３０℃であるとき、このか焼を実行することができ、この高温ガスの作業チェンバへの流入速度は、ノズル・リング４５の空気ギャップにより調整されている。更に、高温ガスの混合は、粉砕された材料が、１４０℃〜１９０℃、好ましくは１５８℃の出口温度を有するように調整される。この温度は、乾燥粉砕機３を出た後の石膏の特性温度の結果、か焼の継続を可能にするほど十分高い。このようにして、か焼プロセスに対するエネルギー入力は、全体として低減できる。更に、原料を粉砕するときの特性エネルギーの、より良い利用の結果、後続の冷却のために必要とされるエネルギー量を低減できる。
【００２９】
上昇するとき、粉砕されていない、したがって、大き過ぎるとともに過度に重い粒子は、追従できず、下方の遠心ディスク３２上へ戻る。粒子は、ディスクにより集められて、再度、遠心力の作用を受けて衝突ケーシング３５にぶつかる。したがって、粉砕された材料に対する循環プロセスが生じる。試行の結果、最大３回の繰り返しを予想できることがわかった。戻り流路の空間的分離は必要ではない。この構成により、本発明は、循環の結果、粉砕された材料の良好な粉砕を簡素な構成で達成できるとともに、か焼もまた低エネルギー入力で達成できる方法の実施態様を可能にする。
【００３０】
図２では、更に、任意の篩分け装置３６が示されている。篩分け装置３６は、遠心ディスク３２の真上に配置されている。篩分け装置は、図示されている典型的実施形態と同様に、静的又は動的でありうる。この篩分け装置用に、駆動装置（図示せず）が設けられている。篩分け装置３６の回転速度を通じて、篩分け装置３６のきめの細かい部分ときめの粗い部分との間の分離モードに、影響を及ぼすことができる。戻り流路３７は、直接、篩分け装置３６上で始まる。戻り流路は、きめの粗い部分の戻りのための限定された経路を形成する。戻り流路は、中央流路として構成され、材料注入口３１を取り囲む。これは、篩分け装置３６で排除された粉砕された材料が、新規に導入された材料と共に混合状態で遠心ディスク３２に加えられる効果を、達成する。流動化した粒子に対する垂直パイプの機能を果たす環状の空間が、乾燥粉砕機３の戻り流路３７とハウジング３９との間に、残っている。このようにして、衝突ケーシング３５により遠心ディスク３２からの粉砕された粒子が篩分け装置３６に到達する経路、又は、篩分け装置３６からのきめの粗い部分が遠心ディスク３２に戻る経路が、互いに分離されている。きめの粗い部分は、もう一度、通常の粉砕プロセスを通過して、必要である限り循環動作でこれを繰り返す。本発明を支持する循環の概念は、これにより継続される。
【００３１】
篩分け装置３６においてきめの細かい部分に分類された粒子ボリュームは、乾燥粉砕機３から材料吐出口３８を通って排出され、上述したように、垂直パイプ２５を介してフィルタリング・プラント５に到達する。篩分け装置３６を用いて、簡素で好都合な方法で、作業チェンバ３０内の材料の滞留時間に影響を及ぼすことができる。動的篩分け装置３６の場合には、回転速度を上げることにより、戻されるきめの粗い部分の割合が、増加する。結果として、滞留時間は長くなる。このようにして、か焼プロセスの反応特性に影響を及ぼすことができる。
【００３２】
特に、か焼に対する本発明の乾燥粉砕機及びその運転方法の本質的な利点は、下記のように簡潔にまとめられる。原料を粉砕することは、ほとんど費用をかけずに製作されるとともに低摩耗且つ低消費電力で作動される、遠心ディスクを、用いて、実行される。粉砕された材料の内部の戻りが、提供される。これは、短期間の変動を均等にすることと、満足できる粉砕を確保することと、か焼に対する特性エネルギーの、より良い利用と、によって、粉砕の品質を改善する。その結果、エネルギー消費が低減される。か焼プロセスは、底部から遠心ディスクを取り囲むノズル・リング、を用いて乾燥粉砕機の作業チェンバ内に供給される、高温ガス、の熱エネルギーを利用することにより、且つ、効率的な方法で作業チェンバ内の滞留時間を利用することにより、促進される。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】か焼プラントの概略図を示している。
【図２】本発明の乾燥粉砕機の典型的実施形態の断面図を示している。
【図３】図２に示されている乾燥粉砕機の遠心ディスクの平面図を示している。
【図１】
2009502459.tif 000003
【図２】
2009502459.tif 000004
【図３】
2009502459.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月14日(2008.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
材料注入口３１からの原料は、遠心ディスク３２に到達して、異なった方向に確率的に分散される。インパクト・エッジを有する本体（図示せず）は、遠心ディスク３２上に配置されている。原料は、インパクト・エッジと衝突し、プロセスにおいて予め粉砕されている。インパクト・エッジにより集められた材料は、強制的に回転運動させられて、遠心ディスク３２により遠心力の作用を受ける。材料は、接線方向外方へ動かされて、衝突ケーシング３５に衝突する。衝突ケーシングは、遠心ディスク３２から所定の距離をおいて、遠心ディスク３２と同じ高さに配置されており、この所定の距離は、実際には、遠心力が作用した後に予想される粒子の高さ損失により多少短縮される。インパクト・エッジとの接触及び衝突ケーシング３５との衝突の結果、原料は壊れて、すなわち、より小さい粒子に砕かれる。遠心ディスク３２は、端面部上に取り付けられたインパクト・エッジを有するディスク状の基本構造を有するように、構成できる。更に、遠心ディスク３２は、その外側の縁端部にストレーナ・バスケット３３を有する。その開口部の幅は、衝突ケーシング３５の損傷に通じ得る、異物及び大き過ぎる粒子を、阻止するように、選択される。しかしながら、また、他の典型的実施形態では、遠心ディスク３２は、十字のアームのそれぞれの端部上にインパクト・エッジを載設する隆起した本体を有する、十字状の基本構造３２’を、有するように形成できる。遠心力の作用を受けて衝突ケーシング３５にぶつかる粒子は、ほぼ均質に作業チェンバ３０を満たす。このようにして、作業チェンバ３０内のケーキング及びデッド・ゾーンを確実に回避できる。
【国際調査報告】
2009502459.tif 000006
2009502459.tif 000007
2009502459.tif 000008
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