(57)【要約】  本発明は、高開口数イメージングシステムの一端部の複レンズを特徴とする。この複レンズは、液体媒質によって互いに結合された２つの部材を含む。第１の部材は、中程度のパワー密度の領域内で集束光を受光するよう構成されており、第２の部材は、より高いパワー密度の領域を通るこの光を更に収束させる。第２の部材を、より耐久性の高い材料で作ることにより高いパワー密度に耐えるようにすることができ、又は、容易に交換可能な形態で作ることができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光イメージングシステム用の液浸型複レンズであって、
空気より大きい屈折率を有する液体媒質によって光学的に互いに結合された第１及び第２の光学的に透過性の部材を備え、
前記複レンズの前記第１の部材は、第１のパワー密度で光を伝搬するよう構成され、
前記複レンズの前記第２の部材は、（ａ）第２のより高いパワー密度で光を伝搬するよう構成され、且つ、（ｂ）前記第２の部材を前記第１の部材に光学的に結合する液体媒質との液体界面及び前記第２の部材を共役面に光学的に結合する浸漬液媒質との液体界面をそれぞれ有し、
前記第２の部材が、前記第２のより高いパワー密度に耐えるために、前記第１の部材よりも耐久性が高い材料で作られる
ことを特徴とする複レンズ。
【請求項２】
前記第１の部材が、凸面状の外面と、前記第２の部材を前記第１の部材に光学的に結合する前記液体媒質との前記液体界面の一部分を構成する凹面状の内面とを有し、
前記第２の部材が、前記第１の部材を該第２の部材に光学的に結合する前記液体媒質との前記液体界面の別の部分を構成する凸面状の内面と、該第２の部材を前記共役面に光学的に結合する前記浸漬液媒質との前記液体界面の一部分を構成する平面状の外面とを有する
ことを特徴とする請求項１記載の複レンズ。
【請求項３】
前記第２の部材を前記第１の部材に光学的に結合する前記液体媒質が、水より大きい屈折率を有し、前記第２の部材が、前記第１の部材並びに前記第１及び第２の部材を光学的に結合する前記液体媒質より大きい屈折率を有することを特徴とする請求項１記載の複レンズ。
【請求項４】
前記第２の部材が、２００ナノメートル以下で光学的に透過性であり、１．８より大きい屈折率を有することを特徴とする請求項１記載の複レンズ。
【請求項５】
前記第２の部材が、サファイア、結晶スピネル、セラミックスピネル、ルテチウム・アルミニウム・ガーネット及びゲルマニウム・ガーネットからなる群から選択される高屈折率の深紫外線透過性材料であることを特徴とする請求項４記載の複レンズ。
【請求項６】
前記第１の部材が、溶融シリカ及びフッ化カルシウムの一方から作られることを特徴とする請求項５記載の複レンズ。
【請求項７】
基体上に物体の画像を投影する投影型光イメージングシステムの液浸型複レンズであって、
前記基体に隣接して配置された末端の光学素子であって、空気より大きい屈折率を有する液体媒質によって互いに結合された第１及び第２の光学的に透過性の部材を有する末端の光学素子
を備え、
前記光学素子の前記第１の部材が、第１のレベルのパワー密度で集束光を集光するよう構成され、
前記光学素子の前記第２の部材が、第２のレベルのパワー密度で前記基体上の焦点に向かって光を更に集束させるよう構成され、
浸漬液媒質が前記第２の部材を結像面に光学的に結合し、
前記第２のレベルのパワー密度が前記第１のレベルのパワー密度より高く、
前記第２の部材が前記第１の部材よりも高いレベルのパワー密度に対応するよう構成される
ことを特徴とする複レンズ。
【請求項８】
前記第２の部材が、前記より高いレベルのパワー密度に耐えるために、前記第１の部材よりも耐久性が高い材料で作られることを特徴とする請求項７記載の複レンズ。
【請求項９】
前記第２の部材が、２００ナノメートル未満の波長の光を透過させる１．８より大きい屈折率を有する光学的に透過性の材料で作られることを特徴とする請求項８記載の複レンズ。
【請求項１０】
前記第２の部材が、前記複レンズ内での交換のために構成された平行平面状の光学素子として作られることを特徴とする請求項７記載の複レンズ。
【請求項１１】
前記第２の部材を前記第１の部材に光学的に結合するために用いられる前記液体媒質が、前記第２の部材を前記結像面に光学的に結合する前記浸漬液媒質と同じ材料であることを特徴とする請求項１０記載の複レンズ。
【請求項１２】
前記第１及び第２の部材が、共通の光軸に垂直な径方向の寸法を有し、前記第２の部材の径方向の寸法が、前記第１の部材の径方向の寸法より小さいことを特徴とする請求項７記載の複レンズ。
【請求項１３】
前記第１及び第２の部材が、共通の光軸に沿ったそれぞれの厚さを有し、前記第２の部材の厚さが、前記第１の部材の厚さより小さいことを特徴とする請求項７記載の複レンズ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、イメージングシステムに関し、特に、深紫外線スペクトル内で動作する高開口数のマイクロリソグラフィ用イメージングシステムと、これらの又は類似のイメージングシステムの画像又は対物面に隣接する、高い光エネルギーの集中を受けるレンズ素子とに関する。
【背景技術】
【０００２】
高開口数のイメージングシステム（即ち、ＮＡが０.８５以上）の末端の光学素子は、特に画像が縮小もされる場合には、比較的高い光エネルギーの集中を受け得る。例えば、高ＮＡ縮小システムの像平面に隣接する最後の光学素子は、複数の像点に向けて広範囲の角度で光を集中させる。この光の集中により、光が集中する光学材料が変化又は損傷し得る。この問題は、光子の高い集中に加えて光子のエネルギーが比較的高い深紫外線で動作するマイクロリソグラフィ用のイメージングシステムで特に顕著である。これに付随する光学材料の損傷には、屈折率が徐々に変化することや透過率の減少が含まれ得る。
【０００３】
高開口数システム、特に液浸型イメージングシステムの最後の光学素子としては、このようなシステムの高開口数の対物系を達成するために、高屈折率材料が好ましい。最後の光学素子は、少なくとも最後の光学素子と像平面とを結合する浸漬液と同じくらい高い屈折率を有するべきである。１．８より大きい屈折率を有する材料に関連付けられる格別な長所は、非特許文献１で論じられており、ここに参照することにより本願明細書に組み込む。しかし、意図される設計では、必要なサイズ及び品質のそのような高屈折率材料（例えば、サファイア、セラミックスピネル、ルテチウム・アルミニウム・ガーネット、又はゲルマニウム・ガーネット）を製造する（例えば、成長させる）ことは現実的ではない。
【非特許文献１】James Webb共著の「１９３ｎｍ液浸リソグラフィ用の高屈折率材料（High-Index Materials for 193nm Immersion Lithography）」（ＳＰＩＥ会報Ｖｏ．５７５４‐Optical Microlithography XVIII）という題名の論文
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記問題に鑑み、本発明は、深紫外線スペクトル内で動作する高開口数のマイクロリソグラフィ用イメージングシステムの画像又は対物面に隣接する、高い光エネルギーの集中を受けるレンズ素子の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
高開口数イメージングシステムの末端の光学素子は、高屈折率の液体によって互いに結合された第１及び第２の部材を有する複レンズとして構成される。複レンズの第１の部材は、中程度のパワー密度の領域内に配置される。複レンズの第２の部材は、より高いパワー密度の領域内に配置される。第１の部材は、所望の周波数帯域に適した従来の光学材料で作られ得る。第２の部材は、予期されるより高いパワー密度に耐えることができるより耐久性の高い材料で作られるのが好ましい。また、第２の要素は、開口数を増加させるためにパワーを追加するものであることが好ましい。或いは、第２の部材は、さほど耐久性は高くない材料で作られ、交換が容易なように構成された平面状の光学素子として構成されてもよい。
【０００６】
本発明の光イメージングシステム用の液浸型複レンズとしての１つのバージョンは、空気より大きい屈折率を有する液体媒質によって光学的に互いに結合された第１及び第２の光学的に透過性の部材を備える。複レンズの第１の部材は、第１のパワー密度で光を伝搬するよう構成され、複レンズの第２の部材は、第２のより高いパワー密度で光を伝搬するよう構成される。第２の部材は、（ａ）第２の部材を第１の部材に光学的に結合する液体媒質との液体界面、及び（ｂ）第２の部材を画像又は対物面等といった共役面に光学的に結合する浸漬液媒質との液体界面をそれぞれ有する。第２の部材は、第２のより高いパワー密度に耐えるために、第１の部材よりも耐久性が高い材料で作られる。
【０００７】
好ましくは、第１の部材は、凸面状の外面と、第１の部材を第２の部材に光学的に結合する液体媒質との液体界面の一部分を構成する内面とを有する。第１の部材の内面は凹面であってもよく、第２の部材は、第１の部材を第２の部材に光学的に結合する液体媒質との液体界面の別の部分を構成する凸面状の内面を有してもよい。第２の部材は、該第２の部材を共役面に光学的に結合する液体界面の一部分を構成する平面状の外面を有するのが好ましい。
【０００８】
第１及び第２の部材は、共通の光軸に垂直な径方向の寸法を有し、第２の部材の径方向の寸法は、第１の部材径方向の寸法より小さいのが好ましい。より小さい径方向の寸法により、より耐久性の高い高屈折率材料を含むより多くの材料を第２の部材に用いることが可能になる。第２の部材は、第１の部材の屈折率より高い屈折率を有するのが好ましい。例えば、第２の部材は、２００ナノメートル以下で光学的に透過性であり、１．８より大きい屈折率を有する材料で作ることができる。このような高屈折率の深紫外線透過性材料は、サファイア、結晶スピネル、セラミックスピネル、ルテチウム・アルミニウム・ガーネット及びゲルマニウム・ガーネットからなる群から選択され得る。一方、第１の部材は、溶融シリカ又はフッ化カルシウムで作られるのが好ましい。
【０００９】
第２の部材を前記第１の部材に光学的に結合する液体媒質は、水より大きい屈折率を有するのが好ましい。第２の部材を共役面に光学的に結合する浸漬液媒質は、第２の部材を第１の部材に光学的に結合する液体媒質と同じ材料であり得る。しかし、第２の部材は、第１及び第２の部材を光学的に結合する液体媒質より大きい屈折率を有するのが好ましい。
【００１０】
本発明の別のバージョンは、基体上に物体の画像を投影する投影型光イメージングシステムの液浸型複レンズを特徴とする。基体に隣接して配置された投影型光学系の末端の光学素子は、空気より大きい屈折率を有する液体媒質によって互いに結合された第１及び第２の光学的に透過性の部材を有する。光学素子の第１の部材は、第１のレベルのパワー密度で集束光を集光し、光学素子の第２の部材は、第２のレベルのパワー密度で基体上の焦点に向かって光を更に集束させる。浸漬液媒質は、第２の部材を結像面に光学的に結合する。第２のレベルのパワー密度は第１のレベルのパワー密度より高く、第２の部材は第１の部材よりも高いレベルのパワー密度に対応するよう構成される。
【００１１】
例えば、第２の部材は、より高いレベルのパワー密度に耐えるために、第１の部材よりも耐久性が高い材料で作られ得る。深紫外線（３００ナノメートル未満の波長)における投影型イメージングとしてのそのような目的で、第２の部材は、１．８より大きい屈折率を有する光学的に透過性の材料で作られ得る。このような高屈折率の深紫外線透過性材料は、サファイア、結晶スピネル、セラミックスピネル、ルテチウム・アルミニウム・ガーネット及びゲルマニウム・ガーネットからなる群から選択され得る。この場合には、第１の部材は、溶融シリカ又はフッ化カルシウムで作られるのが好ましい。
【００１２】
第１の部材は、凸面状の入射面及び凹面状の出射面を有してもよく、第２の部材は、凸面状の入射面及び平行平面状の出射面を有してもよい。第１及び第２の部材は、共通の光軸に垂直な径方向の寸法を有し、第２の部材の径方向の寸法は、第１の部材の径方向の寸法より小さいのが好ましい。同様に、第１及び第２の部材は、共通の光軸に沿ったそれぞれの厚さを有し、第２の部材の厚さは、第１の部材の厚さより小さいのが好ましい。第２の部材を第１の部材に光学的に結合する液体媒質は、水より大きい屈折率を有する。
【００１３】
或いは、第２の部材は、複レンズ内での交換のために構成された平行平面状の光学素子として作られてもよい。平面平行形状により、イメージングシステム内での第２の部材の容易な取り外し及び交換が可能になる。このような場合には、第２の部材を第１の部材に光学的に結合するために用いられる液体媒質は、第２の部材を結像面に光学的に結合する浸漬液媒質と同じ材料であるのが好ましい。
【００１４】
本発明の投影型光学系としての別のバージョンは、基体上に物体の画像を転写するための、０.８５より大きい高開口数を有する投影レンズを含む。投影レンズの末端の光学素子は、基体との液浸型の界面を有する。末端の光学素子は、第１のレベルのパワー密度で集束光を集光する第１の部材と、第２のレベルのパワー密度で基体上の焦点に向かって光を更に集束させる第２の部材とを有する複レンズとして構成される。水の屈折率以上の屈折率を有する液体媒質が、第１及び第２の部材を光学的に互いに結合する。第２のレベルのパワー密度は第１のレベルのパワー密度より高く、第２の部材は第１の部材よりも高いレベルのパワー密度に対応する。
【００１５】
第２の部材は、第１の部材よりも耐久性が高い材料で作られ得る。この投影システムの目的に対応するために、第２の部材は、上記に列挙したような、２００ナノメートル未満の波長の光を透過させる１．８より大きい屈折率を有する光学的に透過性の材料で作られ得る。
【００１６】
第１の部材は、凸面状の入射面及び凹面状の出射面を有してもよく、第２の部材は、凸面状の入射面及び平行平面状の出射面を有してもよい。また、第１及び第２の部材は、上述のような形状及び寸法を有し得る。
【００１７】
或いは、第２の部材は、複レンズ内での交換のために構成された平行平面状の光学素子として作られてもよい。第２の部材を第１の部材に光学的に結合する液体媒質は、第２の部材を基体に光学的に結合する浸漬液媒質と同じ材料であってもよい。
【００１８】
様々な実施形態における本発明は、パワー密度が最も高い領域内で耐久性が高い高屈折率材料を用いて、深紫外線で動作する高開口数システムに関連する高いパワー密度に対応すると共に、開口数を高める又は複レンズに導く光学素子の開口寸法を減らすために、高屈折率材料を相対的な形状にする。或いは、本発明は、末端の光学素子の一部分を交換可能なプレートとして作ることにより、高いパワー密度に対応する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
図１を参照すると、特に本発明による利益を得ることが可能なタイプのマイクロリソグラフィ用ステッパー（又はスキャナ）１０は、レチクル１２上に形成されたパターンを基体１４上に転写する。レチクル１２は、レーザ源１６によって発生され照射レンズ１８によって成形された光によって照射される。照射レンズ１８は基体１４に均一な照射野を生じるよう設計されている。シャッター２０は、露光の持続時間を制御するために照射レンズ１８を遮る。
【００２０】
投影レンズ２２は、照射されたレチクルパターンの縮小と縮小画像の基体１４上への転写との両方を行う。台２４は、１つ以上のレチクルパターンを基体１４の複数の異なる領域上に転写するために必要なステッピング又はスキャニング動作を行うために、投影レンズ２２及びレチクル１２に対して基体１４を平行移動又は回転させる。投影レンズ２２及びレチクル１２も、焦点合わせ、位置決め、及び他のイメージング条件の目的で、それぞれ台２６及び台２８に担持されている。
【００２１】
投影レンズ２２は、レチクルパターンの密に離間した特徴を正確に再現するために、厳密な解像度の要件を満たす。ここで、特徴は、一般的に１１０ナノメートル以下の範囲内の寸法まで解像可能であるが、６５ナノメートル以下の範囲内の特徴サイズが好ましい。解像度の要件は、高品質の光学素子及び目標とする角度的及び空間的照射プロファイルを用いることに加えて、短い波長での照射及び高開口数のイメージングの組み合わせによって達成される。この短い波長は、２４８ｎｍクリプトン・フッ素（ＫｒＦ）エキシマレーザが発するような２５０ナノメートル未満の波長を含むが、１９３ｎｍフッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザが発するような２００ナノメートル未満の波長が好ましい。高開口数は、０．８５より大きい開口数、好ましくは１．０以上、より好ましくは約１．５以上の開口数を含む。
【００２２】
高開口数の縮小レンズとして機能する投影レンズ２２内では、図２に示されるような末端の光学素子（例えば「最後のガラス体」）は複レンズ３０として構成される。図３によりわかりやすく示されている複レンズ３０は、凸面状の（外）入射面３４を有する第１の部材３２と、高いパワー密度（第２の部材３６の期待寿命にわたって高いパワー密度での露光が繰り返されることを含む）に対応可能な材料で作られる第２の部材３６とに分けられる。第２の部材３６は、全内部反射条件を回避することによって十分な結合を確実にするために、第１の部材３２の屈折率以上の屈折率を有する液体で満たされている液浸界面３８を介して、第１の部材３２に結合されている。第２の部材３６を像平面４０に結合する第２の液浸界面４８でも、同じ浸漬液を用いることができるが、同じ又は異なる屈折率を有する異なる浸漬液を用いてもよい。例えば、第２の液浸界面４８に、より高い屈折率を有する浸漬液を用いて、第２の部材３６の屈折率の増加を図ってもよい。
【００２３】
第２の部材３６の凸面状の入射（内）面４６は、第１の部材３２内の凹面状の出射（内）面４２と一致するのが好ましい。第１及び第２の部材３２及び３６の２つの内面４６及び４２は、液浸界面３８の境界を定める。第２の部材３６のより高い屈折率は、その凸面状の入射（内）面４６と併せて、複レンズ３０の開口数を高めるために又は複レンズ３０に導く光学素子の開口寸法を小さくするために構成できる。
【００２４】
第２の部材３６は、サファイア等の単軸結晶や、結晶スピネル（ＭｇＡｌ２Ｏ４）、セラミックスピネル、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、ルテチウム・アルミニウム・ガーネット（Ａｌ５Ｌｕ３Ｏ１２）又はゲルマニウム・ガーネット等といった、予期されるパワー密度に対応可能な他の高屈折率光学材料であり得る。部材３２又は部材３６の材料選択の結果として複屈折が生じる場合には、部材を通る透過長を制限することによって、テレセントリックの物体／画像空間内で径方向／方位角偏光等を用いることによって透過光の偏光を調整することによって、又は投影レンズ２２内の他の複屈折材料（例えば、ＣａＦ２）を相対的にクロッキングすることによって対応できる。複レンズ３０の部材３２及び３６には、セラミックスピネルやイットリウム・アルミニウム・ガーネット（ＹＡＧ）光学素子等といった非複屈折材料も用いられ得る。
【００２５】
第２の部材３６の、第１及び第２の部材３２及び３６の共通の光軸４９に沿った凸面状の入射（内）面４６と平面状の出射（外）面４４との間の厚さは、より耐久性が低い材料を損傷し得る予期される光エネルギーの高い集中に対応するのに必要な量によって決定される。即ち、第２の部材３６は、予期されるパワー密度に同様に対応できない第１の部材３２の一部分を置き換えるものである。第１の部材３２の複屈折が第２の部材３６の複屈折よりも強い場合には、第２の部材１６の厚さを、バランスのとれたクロッキング効果を提供するよう調節することも可能である。
【００２６】
第２の部材３６の、光軸４９に垂直な径方向の寸法は、像平面４０等といった共役面における焦点に近づくより小さい光の体積と一致するよう決定される。これにより、第１の部材３２に対する第２の部材３６のサイズの要件が減り、第２の部材３６の制限された厚さと共に、焦点に近づく予期されるパワー密度に対応するため及びより高い開口数ＮＡ又は上流の光学素子のより小さい開口寸法を達成するために、第２の部材３６を構成するために用いられる材料をより幅広く選択できる。
【００２７】
第１の部材３２は、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）又は溶融シリカで作られるのが好ましい。１９３ｎｍの波長に対するフッ化カルシウム（ＣａＦ２）の屈折率は約１．５であり、溶融シリカの屈折率は約１．５６であり、一方、水の屈折率は約１．４４である。水より高い屈折率を有する浸漬液が好ましい。このような高屈折率の浸漬液としては、塩又は酸が添加された水、アルコール及びその誘導体、リン酸、並びに、例えば、カリフォルニア州サニーベールに所在するＪＳＲ Ｍｉｃｒｏ社の１９３ｎｍの波長において１．６４程度の屈折率を有するＨＩＦ−００１のような特殊な液体が挙げられる。第２の部材３６に好ましい高屈折率材料は、使用が意図される波長において、１．８以上の屈折率を有する。例えば、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）及びルテチウム・アルミニウム・ガーネット（Ａｌ５Ｌｕ３Ｏ１２）の屈折率は、１９３ｎｍの波長で約２．１である。結晶スピネル及びセラミックスピネルの屈折率は、同じ波長で約１．９である。
【００２８】
像平面４０との浸漬液界面４８の屈折率を更に高めると、開口数を変えずに焦点深度が増加するという効果がある。屈折率「ｎ」は増加するが、光軸に対する傾斜角θは減少する。換言すれば、有効波長は短くなる（これにより解像度が高くなる）が、光が集光される角度は小さくなる（これにより解像度が低くなる)。
【００２９】
高い開口数ＮＡを達成するいかなる可能性も諦めないために、第２の部材３６の屈折率は、浸漬液界面３８内の液体の屈折率以上であるのが好ましい。正弦関数の最大値が１であるため、この屈折率は、開口数ＮＡが１を超え得る上限に対して制限を設定する。
【００３０】
第２の部材３６の屈折率と浸漬液３８の屈折率との比率は、この設計の他の光学素子が実質的に変わらないように（例えば、球面収差を変えないように）維持できる。例えば、水に対するＣａＦ２の比率は約１．０４である。浸漬液３８が１．６５の屈折率を有する場合には、第２の部材３６は、この比率に一致する１．７２の屈折率を有してもよい。
【００３１】
図４に示されるように、別の複レンズ５０の第１及び第２の部材５２及び５６は、浸漬液で満たされている第１の平面状の界面５８で合わさっている。複レンズ５０の第２の部材５６は、より高い開口数ＮＡに寄与するためでなく、パワー密度への対応のためにのみ用いられるのであれば、平面状の光学素子として構成できる。第２の部材５６も、溶融シリカやフッ化カルシウム等といった従来の材料の交換可能な平面状の光学素子として構成されてもよく、これは、損傷を受けた際に定期的に交換できる。平面状の形状の第２の部材５６は、容易に交換できる。
【００３２】
第１の部材５２は、凸面状の入射（外）面５４と、平面状の出射（内）面６２とを有する。第２の部材５６は、平面状の入射（内）面６６と、平面状の出射（外）面６４とを有する。第１及び第２の部材５２及び５６の内面６２及び６６は、第１の液浸界面５８の境界を定める。第２の部材５６の平面状の出射面６４は、基体１４（図１及び図２に示される)上の像平面４０と共に、第２の平面状の液浸界面６８を定める。図示されている第２の平面状の液浸界面６８は、第１の平面状の液浸界面５８と同じ浸漬液で満たされている。２つの界面５８及び６８には、先の実施形態で述べたそれぞれ異なる浸漬液を用いることもできる。
【００３３】
第２の平行平面部材５６の厚さは、溶融シリカやフッ化カルシウム等といった従来の光学材料を損傷するパワー密度が予期される領域を占めるように設定されるのが好ましい。とはいえ、別様で容易な取り外し及び交換のために構成される場合には、第２の部材を従来の光学材料で作ることも可能である。そうでなければ、先の実施形態で第２の部材３６について示唆したもののような、より耐久性の高い材料を用いるのが好ましい。
【００３４】
また、図示されている第２の光学素子５６は、光を焦点まで伝搬するよう意図される動作領域をカバーする径方向の寸法が小さくなっており、これにより、第２の光学素子５６を耐久性が高い材料で作ることがより実用的になる。しかし、従来の光学材料で作られる場合には、径方向の寸法を、容易な取り外し及び交換に最良に対応するよう設定できる。
【００３５】
本発明は、半導体やフラットパネルディスプレイの製造に用いられることが知られているもののような、ステッパーやスキャナのフォトリソグラフィ用のイメージングシステムでの使用に特に適している。しかし、高いパワー密度による損傷を受ける他の高パワーイメージングシステムも、本発明による利益を得ることができる。本発明は、イメージングシステムのいずれの端部に用いることも可能であるが、特に、光学系の高開口数ＮＡ側の端部に用いられることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】像平面に隣接する最後の要素が液浸型複レンズである、マイクロリソグラフィ用ステッパーの模式図。
【図２】照射レンズと、照射されたレチクルの画像を、像平面に隣接する液浸型複レンズを介して拡大する投影レンズとを示す模式図。
【図３】本発明に従って構成された複レンズの断面図。
【図４】本発明に従って構成された別の複レンズの断面図。
【符号の説明】
【００３７】
１０    マイクロリソグラフィ用ステッパー（又はスキャナ）
１２    レチクル
１４    基体
１６    レーザ源
１８    照射レンズ
２０    シャッター
２２    投影レンズ
３０、５０    複レンズ
３２、５２    第１の部材
３６、５６    第２の部材
３８    液浸界面
４０    像平面（共役面）
４８    浸漬液界面
４９    光軸
５８    第１の液浸界面
６８    第２の液浸界面
【図１】
2009521727.tif 000003
【図２】
2009521727.tif 000004
【図３】
2009521727.tif 000005
【図４】
2009521727.tif 000006
【国際調査報告】
2009521727.tif 000007