(57)【要約】  クッション性および足運動の制御をもたらす中敷。中敷は、基底（２２）を含む。外側縁（２６）および内側縁（２８）は、足を揃え支持するように共働する。外側縁（２２）および内側縁（２６）は、基底より堅固である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
靴に使用するための中敷であって、
踵から前足にかけて前記靴の内側に適合する形状を有し、頂側および底側を有する、芯と、
前記芯の底外側に配設された外側縁と、
前記芯の前記底側に配設され、前記踵の外側部から延びる内側縁とを備える、中敷。
【請求項２】
前記芯の頂面に配設され、前記芯の前方に延びるクッション性パッドと、
前記クッション性パッドの底部および前記芯の前方に配設された前足パッドとをさらに備える、請求項１に記載の中敷。
【請求項３】
前記クッション性パッドの頂面を覆って配設された頂部敷布をさらに備える、請求項１に記載の中敷。
【請求項４】
前記芯のくぼみに配設されたヒール・プラグをさらに備える、請求項１に記載の中敷。
【請求項５】
前記外側縁が、第５中足骨を超えて延びる、請求項２に記載の中敷。
【請求項６】
前記芯の硬度が、４９〜５３アスカーＣの範囲内である、請求項１に記載の中敷。
【請求項７】
前記外側縁および内側縁の硬度が、約６０〜７０アスカーＣの範囲内である、請求項４に記載の中敷。
【請求項８】
基底の前方に配設された前足パッドをさらに備え、前記前足パッドの硬度が、約１６〜２７アスカーＣの範囲内である、請求項５に記載の中敷。
【請求項９】
前記基底に配設されたゲル性のヒール・プラグをさらに備え、前記ヒール・プラグの硬度が、約１６〜２７アスカーＣの範囲内である、請求項５に記載の中敷。
【請求項１０】
前記外側縁および内側縁が、前記基底内のくぼみに嵌合する、請求項１に記載の中敷。
【請求項１１】
前記基底、前記外側縁、および前記内側縁の硬度が、女性のより大きなＱ角を補償するように選択される、請求項１に記載の中敷。
【請求項１２】
女性用の靴の中敷であって、
踵から中足領域全体にかけて靴の内側に適合する形状を有する基底と、
前記基底の底部の第１のくぼみに配設され、前記基底の外側部に沿って延びる第１のパッドと、
前記基底の前記底部の第２のくぼみに配設され、前記踵の後方から前記基底の内側部に沿って縦足弓を通って延びる、第２のパッドと、
前記基底の頂面に配設され、前記基底の前方に延びる、第３のパッドと、
前記第３のパッドの下方に、および前記基底の前方に配設される第４のパッドとを備える、中敷。
【請求項１３】
前記基底が、約４９〜５３アスカーＣの硬度を有する材料を含む、請求項１２に記載の中敷。
【請求項１４】
前記第１および第２のパッドが、約６０〜７０アスカーＣの硬度を有する材料を含む、請求項１３に記載の中敷。
【請求項１５】
前記第３のパッドが、約１６〜２７アスカーＣの硬度を有する材料を含む、請求項１４に記載の中敷。
【請求項１６】
前記第４のパッドが、約１６〜２７アスカーＣの硬度を有する材料を含む、請求項１５に記載の中敷。
【請求項１７】
前記踵の下方の前記基底のくぼみ内に配設された第５のパッドをさらに備える、請求項１２に記載の中敷。
【請求項１８】
前記第５のパッドが、約１７〜２８アスカーＣの硬度を有する材料を含む、請求項１７に記載の中敷。
【請求項１９】
より大きなＱ角に対応する方法であって、
靴の内側に適合する形状を有し、頂側および底側を有する芯を提供することと、
前記芯の底外側に配設され、第５中足骨を越えて延びる部分を有する、外側クレードルを提供することと、
前記芯の底内側に配設され、踵骨の後方から縦足弓を通って延びる、内側クレードルを提供することとを含み、
前記外側および内側クレードルは、前記芯より堅固である、方法。
【請求項２０】
前記芯が、約４９〜５３アスカーＣの硬度を有する材料を含み、前記外側および内側クレードルが、約６０〜７０アスカーＣの硬度を有する材料を含む、請求項１９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、改良された靴の中敷、より詳細には、改良されたクッション性（ｃｕｓｈｉｏｎｉｎｇ）、支持、および運動制御をもたらすように適合された女性用の中敷に関する。
【０００２】
本出願は、参照によりその出願の全体を本明細書に組み込む、２００５年１１月２日出願の靴の中敷に関する米国特許仮出願第６０／７３２，７９９号に対する優先権を主張する。
【背景技術】
【０００３】
人間の足は、非常に複雑な生物学的機構である。立っているとき、足には人の全体重がかかる。歩いているとき、踵接地時（ａｔ  ｈｅｅｌ  ｓｔｒｉｋｅ）に片足にかかる負荷は、通常、人の体重の約半分である。走っている、または別の重量を運んでいるとき、片足にかかる負荷は、体重の３倍を超えることがある。衝撃力を吸収し、分散するための足部の機能の多くの骨、筋肉、靱帯、および腱は、体および他の負荷の重量を支え、推進力を付与する。適切に設計された靴の中敷は、こうした機能を果たす際に足を補助し、足を損傷（ｉｎｊｕｒｙ）から保護することができる。
【０００４】
世間一般への流通を実用的にするには、中敷は、個人に合わせた調整および適合を必要とせずに利用人口に利益をもたらすことを可能にしなければならない。中敷は、利用人口の様々な部分のニーズに対処するように最適化することができる。例えば、中敷は、男性と女性の間の生体力学的相違に対応できるように設計することができる。
【０００５】
生体力学的には、男性および女性は、あらゆる点で非常に類似している。男性および女性は、基本的には、同数の骨、筋肉、靱帯、および２つの上肢と下肢を支持する腱を有する同様の人間設計を共有している。しかし、いくつかの生体力学的な相違が存在する。男性と女性の間の最も異なる解剖学的特徴は、骨盤である。出産を円滑にするため、女性の骨盤は、通常、男性のものより広くて丸い。その結果、女性の大腿骨または大腿は、男性よりも大きな角度で膝に近づいている。大腿四頭筋角度（ｑｕａｄｒｉｃｅｐｓ  ａｎｇｌｅ）、すなわちＱ角と呼ばれるこの角度の平均は、男性の約１３°に対して女性は約１８°である。この角状は、ほとんどの女性の膝関節により大きな応力をかけ、それにより女性は、膝の前十字靱帯断裂、第４および第５中足骨の骨折、腓骨腱炎、腸脛靱帯症候群などのずれ損傷（ｍｉｓａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、および他の損傷に対してより脆弱である。また、女性は通常、より狭い踵および足の３平面軸にわたってより軽い骨構造を有するので、酷使による損傷、および膝関節の内側面に沿った応力を緩和しようとする際の補償性の損傷をより負いやすくなる。
【０００６】
女性は、自身の重心を外側に横方向に移動させて脚部を足上でより直線的に位置合わせして揃えることにより、より大きなＱ角を補償する。また、女性は、男性よりも回内する傾向があり、これは、男性の足は、踵接地中、足の外側でより回外位に地面を蹴るためである。
【０００７】
上記を鑑みて、女性の生体力学に適合されたクッション性をもたらす市販の中敷を提供することは、望ましいはずである。
【０００８】
また、女性独自の生体力学に適合されたプロネーション制御（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ  ｃｏｎｔｒｏｌ）をもたらす中敷を提供することも望ましいはずである。
【発明の要約】
【０００９】
本発明の上記および他の目的および利点は、運動制御およびクッション性の両方をもたらす中敷によって提供される。中敷は、足のクッション性および運動制御の所望の組み合わせを達成するように共働する相互作用の構成要素からなるシステムを含む。構成要素は、基底（ｂａｓｅ）、外側および内側クレードル（ｌａｔｅｒａｌ  ａｎｄ  ｍｅｄｉａｌ  ｃｒａｄｌｅ）、ヒール・プラグ（ｈｅｅｌ  ｐｌｕｇ）、複数の弾性パッドを含む。こうした構成要素の特性、それらのサイズと形状、およびそれらの位置は、クッション性および制御の所望の組み合わせをもたらすように、より詳細には、所望の生体力学機能を達成するように選択される。
【００１０】
本発明の原理によれば、クッション性の基底が、足の内側面、外側面、および後部に沿ってより堅固なパッドと組み合わされて、クッション性、安定性、および制御をもたらしながら足を支持するクレードルが形成される。踵および前足の下方の追加の弾性パッドが、さらなるクッション性を付与する。パッドのサイズ、形状、および材料特性を変更することにより、足の運動に関連する問題に対処するように中敷を設計することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１〜９を参照すると、本発明の原理によって構築された中敷が開示される。図１の展開図に示すように、中敷２０は、基底２２、クッション性パッド２４、外側縁（ｌａｔｅｒａｌ  ｂｏｒｄｅｒ）２６、内側縁（ｍｅｄｉａｌ  ｂｏｒｄｅｒ）２８、ヒール・プラグ３０、前足パッド３２、および頂部敷布３４を含む複合構造である。
【００１２】
図１に示すように、基底２２は、一般に、踵の後方から前足の領域に延びる部分的な中敷の形状を有している。基底２２は、適切なクッション性および支持特性を有する発泡材料または他の耐久性のある材料から作られる。例えば、基底２２は、約３ｍｍ〜１２ｍｍ厚さの、約４９〜５３アスカー（Ａｓｋｅｒ）Ｃのデュロメータ硬さ（ｄｕｒｏｍｅｔｅｒ）を有するポリウレタン・フォームから作られることが好ましい。
【００１３】
基底２２は、踵の周りを包み、中敷が足の自然な形状に適合するように足の側部に添って部分的に延びる隆起した縁を有する。図５〜９に最適に示すように、足の内側部では、隆起した縁の高さは、一般的により高く、基底の材料はより厚く、また、外側部ではより低い。基底２２は、足の中心線にほぼ沿ったパッド状のより厚い部分を含む。基底２２はさらに、以下に論じる様々なパッドおよびプラグを受け入れるように設計された凹凸のある領域または区域を含む。
【００１４】
クッション性パッド２４は、基底２２の頂面に配設され、一般に足全体の下方で踵から爪先まで延びる。クッション性パッドは、踵接地の初期の衝撃を制御し、分散するために基底２２よりもより軟質のクッション性材料から作られる。例えば、クッション性パッド２４は、約２〜３ｍｍ厚さおよび約２１アスカーＣのデュロメータ硬さを有するネオプレン・フォ−ム層が好ましい。
【００１５】
クッション性パッド２４の頂面は、頂部敷布３４で覆われ、この敷布は水膨れの可能性を最小限に抑えるために低い摩擦係数を有する不織布層であることが好ましい。不織布は、抗菌剤で処理され、この抗菌剤は、防湿層と組み合わさって、細菌および真菌を生じさせる臭気を低減する。中敷２０を貫通して延びる一連の空気口により、中敷２０の上方および下方において空気の循環が可能になる。
【００１６】
外側縁２６および内側縁２８は、一般に、踵から足の横足根関節を通って延びるクレードルを形成するように共働する。外側縁２６は、足の外側部に沿って踵骨の近傍から前足に延びる。内側縁２８は、踵骨の一部の後方の周りを包み、足の内側に沿って足弓を通って延びて足の内側を支持し、衝撃を和らげる。外側クレードル２６および内側クレードル２８は、基底２２よりも堅固な材料から作られる。例えば、外側クレードル２６および内側クレードル２８は、約６０〜７０のアスカーＣの範囲のデュロメータ硬さを有するポリウレタン材料から作られることが好ましい。異なる密度または硬さの材料から作られたパッドまたはクッションを、パッドの形状および配置と連動させて使用すると、クッション性および女性の増大したＱ角を補償するのを助けるための制御がもたらされる。こうしたパッドのサイズ、形状、および配置は、足の様々な解剖学的ランドマークの位置および足運動の生体力学に基づいている。
【００１７】
図５〜９に示すように、外側縁２６および内側縁２８は、基底２２の側部および／または後部を包んで足に対する支持をもたらす。安定性の内側縁２８の側部は、負荷がより大きいため、外側縁よりも高いことが好ましい。例えば、内側クレードル２８は、縦足弓の支持をもたらすように内側縦足弓の下方を上向きに延びる。
【００１８】
腱および靱帯などの生物学的組織は、それらにかけられる負荷の速度の影響を受けやすく、負荷の突然の変化が損傷またはダメージを引き起こし得る。基底２２、外側縁２６および内側縁２８は共に、女性の足を脚部とより良好な生体力学的な一直線になるように揃え、また、代償性の損傷を低減するためにその解剖学的構造を均衡にするように働く。基底２２および内側縁２８によってもたらされた内側足弓の支持により、プロネーションの速度が低下し、足のバランスが改善される。内側縁２８はまた、外側縁２６の後部分と共働してさらなる後足の安定性をもたらす。外側縁２６は、立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）において横足根を固定するように働く立方骨支持を有する第５中足骨を超えて延びる。
【００１９】
前足パッド３２は、爪先離れ期（ｔｏｅ  ｏｆｆ）に爪先のクッション性をもたらすように足の爪先の下方に配置される。例えば、パッド３２は、約２１アスカーＣのデュロメータ硬さを有するネオプレンの１．５ｍｍ層を含むことができる。
【００２０】
ジェル状のヒール・プラグ３０は、基底２２のくぼみに嵌合し、踵接地時にさらなるクッション性をもたらす。ヒール・プラグ３０は、約２２のアスカーＣのデュロメータ硬さを有することが好ましい。
【００２１】
クッション性パッド２４の頂面は、頂部敷布３４で覆われ、この頂部敷布は、水膨れの可能性を最小限に抑えるために低い摩擦係数を有する不織布層であることが好ましい。不織布は、抗菌剤で処理され、この抗菌剤は、防湿層と組み合わさって、細菌および真菌を生じさせる臭気を低減する。一連の空気口が、頂部敷布３４、クッション性パッド２４、および前足パッド３２を貫通して延びて中敷２０の上方および下方において空気の循環を可能にする。
【００２２】
本発明を、好ましい実施形態に関連して説明してきたが、詳細な説明は、本発明を限定するものではなく、また、他の改変形態が当業者には明らかであろう。例えば、上記で開示した本発明の例示的実施形態では、外側縁および内側縁は、同じ硬度を有する。しかし、異なる硬度の材料を使用してオーバー・プロネーション（ｏｖｅｒ−ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）またはアンダー・プロネーション（ｕｎｄｅｒ−ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）に対処することもできる。
【００２３】
本発明は、世間一般への流通を可能にする市販の中敷を提供する文脈で開示してきた。しかし、同じ原理が、特定の患者のニーズに対処する中敷を設計または創出するために足治療医または他の医療専門家によって使用されてよい。
【００２４】
このようにして、改良された中敷を開示してきた。このように開示された中敷の例示的実施形態が、足の衝撃を和らげ、プロネーションを制御するのに有用であり得ることは容易に明白であろう。しかし、他の目的を達成するために、中敷システムの構成要素を改変できることを理解されよう。したがって、中敷構成要素の特定の厚さ、材料、および特性の提示を含む、本明細書で提供された説明は、限定ではなく例示のためだけに提供され、本発明は、添付の特許請求の範囲にのみ限定される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
本発明の上記および他の目的および利点は、以下の詳細な説明を添付の図面と併用して考慮することにより、理解されるであろう。図中、同様の参照番号は同様の部分を示す。
【図１】本発明の原理による中敷の例示的な実施形態の展開斜視図である。
【図２】図１の中敷の足底（底部）の図である。
【図３】図１の中敷の内側部（内側）の図である。
【図４】図１の中敷の外側部の図である。
【図５】図２の中敷の５−５線に沿う横方向の断面図である。
【図６】図２の中敷の６−６線に沿う横方向の断面図である。
【図７】図２の中敷の７−７線に沿う横方向の断面図である。
【図８】図２の中敷の８−８線に沿う横方向の断面図である。
【図９】図２の中敷の長手方向の断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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