(57)【要約】【課題】３次元アルミニウムパッケージモジュールを提供する。【解決手段】アルミニウム基板、前記アルミニウム基板上に形成されて側面が前記アルミニウム基板の上部表面に対して垂直であって少なくとも１つの第１開口を有するアルミニウム酸化物層、前記第１開口内に接着物質を介して装着された半導体装置、前記アルミニウム酸化物層と前記半導体装置を覆う有機物層及び、前記有機物層及びアルミニウム酸化物層上に形成された第１配線及び受動素子回路を含む。【選択図】図１
2009522767.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム基板、
前記アルミニウム基板上に形成されて側面が前記アルミニウム基板の上部表面に対して垂直であって少なくとも１つの第１開口を有するアルミニウム酸化物層、
前記第１開口内に接着物質を介して装着された半導体装置、
前記アルミニウム酸化物層と前記半導体装置を覆う有機物層、及び
前記有機物層及びアルミニウム酸化物層上に形成された第１配線及び受動素子回路を含むことを特徴とする３次元アルミニウムパッケージモジュール。
【請求項２】
前記３次元アルミニウムパッケージモジュールは前記アルミニウム酸化物層に形成された第２開口の側面と底面に沿って形成されて埋込まれた第２配線をさらに含み、前記第２配線は前記第１配線及び/または前記半導体装置の端子と電気的に連結されることを特徴とする、請求項１に記載の３次元アルミニウムパッケージモジュール。
【請求項３】
前記アルミニウム酸化物層はＡｌ２Ｏ３であり、１００μｍ程度の厚さを有することを特徴とする、請求項１に記載の３次元アルミニウムパッケージモジュール。
【請求項４】
前記有機物層はＢＣＢまたはポリイミドであることを特徴とする、請求項１に記載の３次元アルミニウムパッケージモジュール。
【請求項５】
上部表面と下部表面を有するアルミニウム基板を準備する段階;
前記アルミニウム基板の上部表面の所定部分及び下部表面全面に陽極酸化阻止マスキングパターンを形成する段階;
前記アルミニウム基板を上部表面から所定の深さまで酸化する為に前記陽極酸化阻止マスキングパターンを有する前記アルミニウム基板を陽極酸化する段階;
前記陽極酸化阻止マスキングパターンを除去する段階;
前記陽極酸化されたアルミニウム基板の上部表面にマスキングパターンを形成し、化学的エッチングを加えて、その側面が前記アルミニウム基板の上部表面に垂直な開口を有するアルミニウム酸化物層を形成する段階;
前記マスキングパターンを除去する段階;
前記開口内に接着物質を介して素子を装着する段階;
前記素子と前記陽極酸化されたアルミニウム基板の上部表面上に有機絶縁膜を形成する段階;及び
前記有機絶縁膜及びアルミニウム酸化物層の上に回路を形成する段階を含むことを特徴とする３次元アルミニウムパッケージモジュールを製造するための方法。
【請求項６】
前記アルミニウム酸化物層はＡｌ２Ｏ３であり、１００μｍ程度の厚さを有することを特徴とする、請求項５に記載の３次元アルミニウムパッケージモジュールを製造するための方法。
【請求項７】
前記有機物層はＢＣＢまたはポリイミドであることを特徴とする、請求項５に記載の３次元アルミニウムパッケージモジュールを製造するための方法。
【請求項８】
アルミニウム基板に形成された第１信号線、
前記第１信号線との間に形成された絶縁層によって前記第１信号線と絶縁され、前記第１信号線と同一平面上に位置した接地部、
前記第１信号線の上部表面と下部表面及び前記接地部の上部表面と下部表面上に形成されたアルミナ層、
前記アルミナ層の上部表面上に形成された電子回路、
前記第１信号線上のアルミナ層に形成されて前記第１信号線を前記アルミナ層の上部表面上に形成された素子と電気的に連結するクロックビア及び前記接地部上の前記アルミナ層に形成されて前記接地部を前記素子の接地端子に電気的に連結する接地ビアを含むことを特徴とする３次元アルミニウム多層パッケージモジュール。
【請求項９】
前記第１信号線は内部エンベデッドコプレーナ導波管であることを特徴とする、請求項８に記載の３次元アルミニウム多層パッケージモジュール。
【請求項１０】
前記第１信号線はクロック信号ラインまたはバイアスラインとして利用されることを特徴とする、請求項８に記載の３次元アルミニウム多層パッケージモジュール。
【請求項１１】
３次元金属多層パッケージモジュールの製造方法において、
アルミニウム基板の下部表面にメッキによって厚い銅膜を形成する段階;
アルミニウム基板の上部表面に所定厚さの陽極酸化層を形成する段階;
形成された陽極酸化層にマスキングと化学的エッチングを利用して銅膜の上部表面が露出された開口を形成する段階;
前記開口内に素子を装着することを特徴とする３次元金属多層パッケージモジュールの製造方法。
【請求項１２】
厚い銅膜とアルミニウム基板の下部表面との間に金属膜を形成することを特徴とする、請求項１１に記載の３次元金属多層パッケージモジュールの製造方法。
【請求項１３】
アルミニウム基板、前記アルミニウム基板上に形成されて側面が前記アルミニウム基板の上部表面に対して垂直であって少なくとも１つの第１開口を有するアルミニウム酸化物層、前記第１開口内に接着物質を介して装着された半導体装置、前記アルミニウム酸化物層と前記半導体装置を覆う有機物層及び、前記有機物層及びアルミニウム酸化物層上に形成された第１配線及び受動素子回路を含む第１パッケージモジュール;
前記第１パッケージモジュール上に積層されて前記第１パッケージモジュールと電気的に連結されるエンベデッドコプレーナ導波管;及び
前記エンベデッドコプレーナ導波管上に積層されて前記エンベデッドコプレーナ導波管と電気的に連結される第２パッケージモジュールを含むことを特徴とする３次元アルミニウムパッケージモジュール。
【請求項１４】
前記第１パッケージモジュール、前記エンベデッドコプレーナ導波管及び前記第２パッケージモジュールは同軸ビアを通じて電気的に連結されることを特徴とする、請求項１３に記載の３次元アルミニウムパッケージモジュール。
【請求項１５】
前記第２パッケージモジュールは、
アルミナ基板、
前記アルミナ基板内に埋込まれて形成された配線、
前記配線と電気的に連結する受動素子、
前記配線と電気的に連結されるインダクタを含むことを特徴とする、請求項１３に記載の３次元アルミニウムパッケージモジュール。
【請求項１６】
前記インダクタはエアー上に浮かんでいるエアーギャップインダクタであることを特徴とする、請求項１５に記載の３次元アルミニウムパッケージモジュール。
【請求項１７】
前記エンベデッドコプレーナ導波管と前記第２パッケージモジュールの間に介されて前記エンベデッドコプレーナ導波管と前記第２パッケージモジュールの部品の電気的な連結を容易にするための再分布層をさらに含むことを特徴とする、請求項１３に記載の３次元アルミニウムパッケージモジュール。
【請求項１８】
前記第１パッケージモジュール、エンベデッドコプレーナ導波管、第２パッケージモジュール、再分布層は必要に応じて選択的にかつ独立して使用され、その位置は移動されることを特徴とする、請求項１７に記載の３次元アルミニウム多層パッケージモジュール。
【請求項１９】
３次元アルミニウム多層パッケージモジュールに適用される受動素子製造方法において、
アルミニウム基板の下部表面全面に陽極酸化阻止マスキングパターンを形成する段階;
前記アルミニウム基板の露出された上部表面を陽極酸化して前記アルミニウム基板の所定部分をアルミナ層に変換する段階;
前記アルミナ層の上部表面の所定部分にエッチング阻止マスキングパターンを形成し、アルミナ層の露出された部分を選択的にエッチングして開口を形成する段階;
前記開口を金、ニッケル、銅からなる群から選択された金属で埋め込んでインダクタパターンを形成し、前記エッチング阻止マスキングパターンを除去する段階;
アルミナ層に変換されずに残っている前記アルミニウム基板を２次陽極酸化してアルミナ層に変換する段階;
前記インダクタパターンの上部に前記インダクタパターンと連結される導線を含む受動素子を形成する段階を含むことを特徴とする３次元アルミニウム多層パッケージモジュールに適用される受動素子の製造方法。
【請求項２０】
前記アルミニウム基板を２次陽極酸化した後、変換されたアルミナ層の下部表面に第２のエッチング阻止マスキングパターンを形成し、変換されたアルミナ層の露出した部分を異方性エッチングして前記インダクタパターンの間及び下部のアルミナ層を除去する段階を含むことを特徴とする、請求項１９に記載の３次元アルミニウム多層パッケージモジュールに適用される受動素子の製造方法。
【請求項２１】
３次元アルミニウム多層パッケージモジュールに適用される受動素子の製造方法において、
アルミニウム基板の上部表面の所定部分と下部表面の全面に陽極酸化阻止マスクパターンを形成する段階;
前記アルミニウム基板の露出された部分を所定深さまで陽極酸化して、アルミニウム基板の露出された部分をアルミナ層に変換する段階;
変換されたアルミナ層を選択的エッチングによって除去してアルミナ層が位置していた場所に複数の開口を形成する段階;
前記複数の開口に銅、金、ニッケルからなる群から選択された金属のメッキ膜をシード蒸着なく形成される段階;
陽極酸化阻止マスクパターンを除去し、アルミナ層に変換されていないアルミニウム基板を２次陽極酸化して、残っているアルミニウム基板をアルミナ層に変換する段階;
インダクタ電極を前記メッキ膜に連結してインダクタを完成する段階を含むことを特徴とする３次元アルミニウム多層パッケージモジュールに適用される受動素子の製造方法。
【請求項２２】
前記アルミニウム基板を２次陽極酸化した後、変換されたアルミナ層の下部表面に第２のエッチング阻止マスキングパターンを形成し、変換されたアルミナ層の露出された部分を異方性エッチングして前記インダクタパターンの間及び下部のアルミナ層を除去する段階を含むことを特徴とする、請求項２１に記載の３次元アルミニウム多層パッケージモジュールに適用される受動素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体装置のパッケージングに関し、より詳しくは多様な半導体装置をそのパッケージモジュールの内部に形成された垂直ホール内に装着可能にする３次元アルミニウムパッケージモジュール及びその３次元パッケージモジュールに適用される受動素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子の製造工程でパッケージング（ｐａｃｋａｇｉｎｇ）工程は、半導体チップを外部環境から保護し、半導体チップを使用容易な形状にさせ、半導体チップに付加された動作機能を保護することによって半導体素子の信頼性を向上させる作業である。
【０００３】
最近、半導体素子の集積度が向上し、半導体素子の機能が多様化することに従ってパッケージング工程の傾向は次第にパッケージピンの少ない工程から多い工程である多ピン化工程に移り、印刷回路基板（ＰＣＢ）にパッケージを挿入する構造からＰＣＢの表面にパッケージを装着する方式の表面装着型形態（ＳｕｒｆａｃｅＭｏｕｎｔｉｎｇ Ｄｅｖｉｃｅ）に変換されている。このような表面装着型形態のパッケージはＳＯＰ（Ｓｍａｌｌ Ｏｕｔｌｉｎｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＰＬＣＣ（ＰｌａｓｔｉｃＬｅａｄｅｄ Ｃｈｉｐ Ｃａｒｒｉｅｒ）、ＱＦＰ（Ｑｕａｄ Ｆｌａｔ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＢＧＡ（Ｂａｌｌ Ｇｒｉｄ Ａｒｒａｙ）及びＣＳＰ（Ｃｈｉｐ・Ｓｃａｌｅ・Ｐａｃｋａｇｅ）など、多くの種類が紹介されている。  
【０００４】
このような半導体パッケージまたは印刷回路基板（ＰＣＢ）に使用される基材（ｂａｓｅ）基板に関するチップキャリアは熱的、電気的及び機械的に安定しなければならない。チップキャリアまたはＰＣＢ用基材基板として従来は高価なセラミック基板が使用されたり、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂またはシリコン系樹脂などを素材とする樹脂基板が使用されてきた。
【０００５】
セラミック基板や樹脂基板はその素材が絶縁性であるためにスルーホール（ｔｈｒｏｕｇｈｈｏｌｅ）工程を行った後に絶縁物質を塗布する必要がない。しかし、樹脂基板の場合には材料自体が高価であるだけでなく、耐湿性及び耐熱性などが不良でチップキャリア用基板としては使用が困難であるという問題がある。また、セラミック基板は樹脂基板に比べて耐熱性が多少優れていることは事実であるが、セラミック基板は樹脂基板と同様に高価で加工上の難しさと共に加工費が多く所要される短所がある。
【０００６】
このようなセラミック基板または樹脂基板の短所を克服するために金属素材基板の使用が提案された。金属素材基板は低価であるだけでなく、加工が容易で熱的信頼性が良好であるという長所を有する。しかし、このような金属素材基板は前述したセラミック基板または樹脂基板では不要な絶縁処理を別途に行わなければならず、熱放出をより効果的にするために完成された基板の上部表面または下部表面にヒートシンク（ｈｅａｔｓｉｎｋ）またはヒートスプレッド（ｈｅａｔ ｓｐｒｅａｄ）の役割をするメタルコアを付着しなければならない。
【０００７】
一方、チップキャリアまたは印刷回路基板（ＰＣＢ）は最近の軽薄短小化傾向に合わせて厚さが薄くて表面が扁平なものが好まれている。このような薄形化及び扁平化を実現するために基板上にキャビティを形成し、ここにチップまたは部品を装着する方法が使用されている。
【０００８】
樹脂基板の場合、このようなキャビティは樹脂基板をドリリングすることで形成される。しかし、ドリリングの方法はキャビティ加工時間及び加工費が多くかかる。また、加工されたキャビティの偏差が大きくて部品を装着する時に部品が傾きやすいため基板の扁平度を維持することが難しかった。さらに、基板の素材である樹脂は熱的、機械的特性が不良であるため基板に部品を装着する場合に応力による激しい変形が発生するという短所もあった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、本発明の目的は、部品を装着するためのキャビティを垂直に形成することによって熱的及び機械的に安定で金属素材基板の扁平度維持が容易な３次元パッケージモジュール及びその製造方法、そして３次元パッケージモジュールに適用される受動素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記目的を達成するために本発明の実施例による３次元アルミニウムパッケージモジュールは、アルミニウム基板、前記アルミニウム基板上に形成されて側面が前記アルミニウム基板の上部表面に対して垂直であって少なくとも１つの第１開口を有するアルミニウム酸化物層、前記第１開口内に接着物質を介して装着された半導体装置、前記アルミニウム酸化物層と前記半導体装置を覆う有機物層及び、前記有機物層及びアルミニウム酸化物層上に形成された第１配線及び受動素子回路を含む。
【００１１】
本発明の実施例において、前記３次元アルミニウムパッケージモジュールは、前記アルミニウム酸化物層に形成された第２開口の側面と底面に沿って形成されて埋め込まれた第２配線をさらに含み、前記第２配線は前記第１配線及び/または前記半導体装置の端子と電気的に連結される。
【００１２】
前記アルミニウム酸化物層はＡｌ２Ｏ３であり、１００μｍ程度の厚さを有する。
【００１３】
前記有機物層はＢＣＢまたはポリイミドである。
【００１４】
本発明の他の側面において３次元アルミニウムパッケージモジュールの製造方法は、上部表面と下部表面を有するアルミニウム基板を準備する段階;前記アルミニウム基板の上部表面の所定部分及び下部表面全面に陽極酸化阻止マスキングパターンを形成する段階;前記陽極酸化阻止マスキングパターンを有する前記アルミニウム基板を陽極酸化して上部表面から所定深さまで前記アルミニウム基板を酸化する段階;前記陽極酸化阻止マスキングパターンを除去する段階;前記アルミニウム基板の陽極酸化された上部表面にマスキングパターンを形成し、アルミニウム基板に化学的エッチングを加えて、そのアルミニウム基板の上部表面に対して垂直な開口を有するアルミニウム酸化物層を形成する段階;前記マスキングパターンを除去する段階;前記開口に接着物質を介して素子を装着する段階;前記素子と前記アルミニウム基板の陽極酸化された上部表面上に有機絶縁膜を形成する段階;及び前記有機絶縁膜及びアルミニウム酸化物層上に回路を形成する段階を含む。
【００１５】
本発明の他の側面において、３次元アルミニウム多層パッケージモジュールは、アルミニウム基板に形成された第１信号線、前記第１信号線との間に形成された絶縁層によって前記第１信号線と絶縁され、前記第１信号線と同一平面上に位置した接地部、前記第１信号線の上部表面と下部表面及び前記接地部の上部表面と下部表面上に形成されたアルミナ層、前記アルミナ層の上部表面上に形成された電子回路、前記第１信号線上のアルミナ層に形成されて前記第１信号線を前記アルミナ層の上部表面上に形成された素子と電気的に連結するクロックビア及び前記接地部上の前記アルミナ層に形成されて前記接地部を前記素子の接地端子に連結する接地ビアを含む。
【００１６】
前記第１信号線は内部エンベデッドコプレーナ導波管である。
【００１７】
前記第１信号線はクロック信号ラインまたはバイアスラインとして利用される。
【００１８】
本発明の他の側面において３次元金属多層パッケージモジュールの製造方法は、アルミニウム基板の下部表面にメッキによって厚い銅膜を形成する段階;アルミニウム基板の上部表面に所定厚さの陽極酸化層を形成する段階;形成された陽極酸化層にマスキングと化学的エッチングを利用して所定の部分に銅膜の上部表面が露出された開口を形成する段階;前記開口に素子を装着する段階を含む。
【００１９】
前記方法は厚い銅膜とアルミニウム基板の下部表面との間に金属膜を形成することをさらに含む。
【００２０】
本発明の他の側面において３次元アルミニウムパッケージモジュールは、アルミニウム基板、前記アルミニウム基板上に形成されて側面が前記アルミニウム基板の上部表面に対して垂直であって少なくとも１つの第１開口を有するアルミニウム酸化物層、前記第１開口内に接着物質を介して装着された半導体装置、前記アルミニウム酸化物層と前記半導体装置を覆う有機物層及び、前記有機物層及びアルミニウム酸化物層上に形成された第１配線及び受動素子回路を含む第１パッケージモジュール;前記第１パッケージモジュール上に積層されて前記第１パッケージモジュールと電気的に連結されるエンベデッドコプレーナ導波管;及び、前記エンベデッドコプレーナ導波管上に積層されて前記エンベデッドコプレーナ導波管と電気的に連結される第２パッケージモジュールを含む。
【００２１】
前記第１パッケージモジュール、前記エンベデッドコプレーナ導波管及び前記第２パッケージモジュールは同軸ビアを通じて電気的に連結される。
【００２２】
前記第２パッケージモジュールは、アルミナ基板、前記アルミナ基板内に埋め込まれて形成された配線、前記配線と電気的に連結される受動素子、前記配線と電気的に連結されるインダクタを含む。
【００２３】
前記インダクタはエアー上に浮かんでいるエアーギャップインダクタである。
【００２４】
前記３次元アルミニウムパッケージモジュールは、エンベデッドコプレーナ導波管と前記第２パッケージモジュールの間に介されて前記エンベデッドコプレーナ導波管と前記第２パッケージモジュールの部品との間の電気的な連結を容易にするための再分布層をさらに含む。
【００２５】
本発明の他の側面において３次元アルミニウム多層パッケージモジュールに適用される受動素子の製造方法は、アルミニウム基板の下部表面の全面に陽極酸化阻止マスキングパターンを形成する段階;前記アルミニウム基板の露出した上部面を陽極酸化して前記アルミニウム基板の上部所定厚さをアルミナ層で変換する段階;前記アルミナ層の上部所定の部分にエッチング阻止マスキングパターンを形成し、アルミナ層の露出した部分を選択的にエッチングして開口を形成する段階;前記開口を金、ニッケル、銅からなる群から選択される金属で埋め込んでインダクタパターンを形成し、前記エッチング阻止マスキングパターンを除去する段階;アルミナ層に変換されずに残っている前記アルミニウム基板を２次陽極酸化してアルミニウム基板をアルミナ層に変換する段階;前記インダクタパターンの上部に前記インダクタパターンと連結される導線を含む受動素子を形成する段階を含む。
【００２６】
前記方法において、アルミニウム基板を２次陽極酸化した後、変換されたアルミナ層の下部表面に第２のエッチング阻止マスキングパターンを形成し、変換されたアルミナ層の露出した部分を異方性エッチングして前記インダクタパターンの間及び下部のアルミナ層を除去する段階を含む。
【００２７】
本発明の他の側面において３次元アルミニウム多層パッケージモジュールに適用される受動素子の製造方法は、アルミニウム基板の上部表面の所定部分と下部表面の全面に陽極酸化阻止マスクパターンを形成する段階;前記アルミニウム基板の露出された部分を所定深さまで陽極酸化して、アルミニウム基板の露出した部分をアルミナ層に変換する段階;変換されたアルミナ層を選択的エッチングによって除去してアルミナ層が位置していた場所に複数の開口を形成する段階;前記複数の開口に銅、金、ニッケルからなる群から選択された金属のメッキ膜をシード蒸着なく形成される段階;陽極酸化阻止マスクパターンを除去し、アルミナ層に変換されていないアルミニウム基板を２次陽極酸化して、残っているアルミニウム基板をアルミナ層に変換する段階;インダクタ電極を前記メッキ膜に連結してインダクタを完成する段階を含む。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の３次元アルミニウムパッケージモジュール及びその製造方法によると、パッケージモジュールの厚さが画期的に減少し、熱放出性能が大きく向上する。また、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）層が絶縁体であるので、ボトムグラウンドと電極との間での短絡危険性が実質的に減少する。
【００２９】
また、コプレーナ導波管と配線が基板の内部に形成されるので、パッケージモジュールの集積度を向上させることができる。
【００３０】
また、従来方式と異なる容易な工程で選択的陽極酸化を使用して、厚いメタルライン（ｍｅｔａｌ ｌｉｎｅ）を有し、空中に浮かんでいる構造の非常に高い品質のインダクタを完成することができる。
【００３１】
さらに、熱放出特性に優れたＲＦ回路のバックエンドプロセス（Ｂａｃｋ ｅｎｄ ｐｒｏｃｅｓｓ）を完成することができる。また、ＰＡＭ（ＰａｗｅｒＡｍｐｌｉｆｉｅｒ Ｍｏｄｕｌｅ）を構成する時にさらに向上した特性が期待できる。
【００３２】
さらに、通常のＬＴＣＣより高い熱放出特性と、通常のＰＣＢより高集積度を有する優れたパッケージモジュール技術を完成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明の好ましい実施例が示された図面を参照して本発明を説明する。しかし、本発明の実施例は多様な形態に変更することができ、本発明の範囲が下記に記述する実施例によって限定されると解釈してはならない。これらの実施例は、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されたものである。図面において、明確な説明のため層や範囲の厚さは誇張されている。図面で同一符号で表示された要素は同一要素を意味し、それらの説明は省略する。
【００３４】
図１は本発明の実施例による３次元多層アルミニウムパッケージモジュールの概略的な断面図である。
【００３５】
図１を参照すると、３次元多層アルミニウムパッケージモジュールは、図３に示されたベースパッケージモジュール３００と、前記ベースパッケージモジュール３００上に積層されたエンベデッドコプレーナ導波管（ｅｍｂｅｄｄｅｄｃｏｐｌａｎａｒ ｗａｖｅ ｇｕｉｄｅ）４００と、前記エンベデッドコプレーナ導波管４００上に積層された受動素子パッケージモジュール６００を含む。選択的に、前記３次元多層アルミニウムパッケージモジュールは、エンベデッドコプレーナ導波管４００と受動素子パッケージモジュール６００との間に介される再分配層（ｒｅｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎｌａｙｅｒ）５００をさらに含むことができる。
【００３６】
図２は本発明の実施例によるベースパッケージモジュールの概略的断面図である。
【００３７】
図２を参照すると、金属素材基板、例えば、アルミニウム基板１０上にアルミニウム酸化物層、例えば、Ａｌ２Ｏ３層１２が陽極酸化によって形成される。その後、アルミナ層１２をパターニングし、化学エッチングをして、側壁がアルミニウム基板１０の上部表面に対して垂直な開口１４を設ける。前記開口１４において、ＰＡ、ＬＮＡ、フェースシフタ（ｐｈａｓｅｓｈｉｆｔｅｒ）、ミキサー、オシレータ、ＶＣＯなどのような第１素子１６が配置されて、接着物質１７を介してアルミニウム基板１０に付着される。前記第１素子１６は、銅（Ｃｕ）または金（Ａｕ）で形成された電極１８を有する。前記Ａｌ２Ｏ３層１２は１００μｍ程度の厚さを有する。
【００３８】
前記電極１８を含む第１素子１６と前記アルミニウム基板１０の上部には有機絶縁膜２０、例えば、ＢＣＢまたはポリイミド層が配置される。前記有機絶縁膜２０は、後続工程で形成される第２素子と前記第１素子との間の電気的連結のためのコンタクトホール２２を有する。
【００３９】
前記有機絶縁膜２０とＡｌ２Ｏ３層１２上には第２素子２４、例えば、受動素子あるいはパッドが配置され、前記第２素子２４と前記第１素子１６は配線２６を通じて電気的に連結される。
【００４０】
図３は図２に示されたベースパッケージモジュールの変形例で、Ａｌ２Ｏ３層１２が複数の開口を有し、したがって複数の第１素子が前記複数の開口内に装着された例を示す。この変形例では、複数の第１素子１６の間にマッチング回路やその他に必要な受動回路２８が形成される。
【００４１】
図２と図３の例によると、大きな体積を占める第１素子が開口内に配置されるので、第１素子が占める面積に相当する装着面積を確保することができる。また、第２素子が有機絶縁膜の表面から突出していないので、パッケージモジュールのスリム化を実現することができる。また、アルミニウム基板１０は自然に共通接地（ｃｏｍｍｏｎｇｒｏｕｎｄ）になる。Ａｌ２Ｏ３層１２は絶縁体であるから、ボトム接地と電極との間の短絡の危険性が無くなる。また、基板は金属製であるから、第１素子で発生する熱を速やかに外部に放出させることができる。
【００４２】
図４乃至図７は本発明の他の実施例によって図２のベースパッケージモジュールを製作するための方法を説明するための図面である。
【００４３】
まず、図４を参照すると、アルミニウム基板１０が準備される。準備されたアルミニウム基板１０の下部表面の全面には陽極酸化阻止膜４４が形成され、前記アルミニウム基板１０は１００μｍ程度の厚さで陽極酸化される。陽極酸化されたアルミニウム基板１０をフォトレジストパターン４２を用いて所望の部分を除いてパターニングした後、化学的エッチングによって図５に示すように開口１４を形成する。
【００４４】
図５を参照すると、第１素子１６が装着される場所に開口１４が形成される。その開口１４はアルミニウム基板１０の上部表面に対して垂直である。
図６を参照すると、前記開口１４には接着物質１７を介して第１素子１６、例えば、ＰＡ、ＬＮＡ、フェースシフタなどが装着される。前記第１素子１６はその上部表面に複数の電極端子１８を有する。
図７を参照すると、前記第１素子１６とＡｌ２Ｏ３層１２上に有機絶縁膜２０、例えば、ＢＣＢまたはポリイミド層が所定の厚さで形成される。
【００４５】
その後、前記有機絶縁膜２０の所定部分にフォトリソグラフィ工程を利用してコンタクトホールが形成される。
【００４６】
その後、図２に示されたように前記有機絶縁膜２０とＡｌ２Ｏ３層１２上にパッドまたは受動素子を含む第２素子２４が形成される。
【００４７】
その後、配線２６を形成して前記第２素子２４と第１素子１６が電気的に連結される。
【００４８】
一方、図３に示されたように、第１素子１６が複数である場合、前記第２素子を形成すると同時にフィルター、デュプレックス、ＩＰＤなどのような回路を形成することも可能である。
【００４９】
図８乃至図１１は本発明の他の実施例によるパッケージモジュールの製造方法を説明するための工程の流れ図である。
【００５０】
まず、図８を参照すると、１５０〜２００μｍ程度の厚さを有する薄いアルミニウム基板５２が提供される。
【００５１】
次に図９を参照すると、アルミニウム基板５２の一面（図９の例では後面）に銅膜がメッキによって厚く（例:３５０〜５００μｍ）形成される。この時、必要な場合には銅膜を形成する前に接合強度を高めるために薄い金属膜を先にアルミニウム基板５２に形成することもできる。
【００５２】
その後、図９のアルミニウム基板５２は、１００〜１５０μｍの厚さで部分的に酸化されて、アルミニウム基板の上部はアルミナ層５４に変換される。
【００５３】
次に図１１を参照すると、マスキングと化学的エッチングを利用したフォトリソグラフィ工程によって、アルミナ層５４及び下部のアルミナ層５２の所定の部分は下部の銅膜５８が露出するまでエッチングされて開口５６が形成される。
【００５４】
図面に示していないが、前述の通り、前記開口５６には接着物質を介してＰＡ、ＬＮＡ、フェースシフタなどのような能動素子が装着される。後続工程は前記実施例と同一であるためにこれ以上の説明は省略する。
【００５５】
前記例のように、銅を基板として使用する場合、さらに良い熱放出特性とより高い電気伝導性を有するので、性能の更なる向上を期待することができる。
【００５６】
次に、エンベデッドコプレーナ導波管４００の構成を図１２の図面を参照して説明する。
【００５７】
図１２を参照すると、アルミニウム基板の内部に第１信号線（Ｓ）７１、つまり、内部エンベデッドコプレーナ導波管が形成され、前記第１信号線７１を含むアルミニウム基板の上部表面と下部表面は陽極酸化されて第１Ａｌ２Ｏ３層６８と第２Ａｌ２Ｏ３層６９で覆われる。第１Ａｌ２Ｏ３層６８上には電子回路が形成される。第１信号線７１と、前記第１信号線と同一平面上に位置した基板の接地部分（Ｇ）はそれぞれクロックビア７２とグラウンドビア７４を通じて第１Ａｌ２Ｏ３層６８上の電子回路と電気的に連結される。第１信号線７１、つまり、内部エンベデッドコプレーナ導波管はスキュー（ｓｋｅｗ）が問題になるクロック信号の伝送のために使用することができる。このような用途の他にも第１信号線７１は、信号線、バイアスラインなどとして応用することができる。
【００５８】
前記で第１Ａｌ２Ｏ３層６８上に電子回路が形成されることを表現したが、第２Ａｌ２Ｏ３層６９にも電子回路が形成されてもよい。
【００５９】
図１３乃至図１５は図１２のエンベデッドコプレーナ導波管を形成するための方法を示す断面図である。
【００６０】
図１３を参照すると、エンベデッドコプレーナ導波管を形成するためにマスキング６２及び選択的エッチングを利用してビア６１がアルミニウム基板６０に形成される。
【００６１】
次に、図１４を参照すると、図１３のビア６１を有するアルミニウム基板６０が陽極酸化されてアルミニウム基板６０の表面全体にＡｌ２Ｏ３層６３が形成される。また、ビア６１は絶縁体６４で充填される。
【００６２】
図１５を参照すると、陽極酸化されたアルミニウム基板６０及び絶縁体６４の上下表面は平坦化と厚さの調節のために研磨されて図１５の構造が得られる。
【００６３】
その後、研磨されたアルミニウム基板６０の上部表面上に電気回路が形成される。
【００６４】
前記エンベデッドコプレーナ導波管は抵抗とキャパシター成分が小さくてＲＣ時間遅延が非常に少なく、したがって、広い面積に遅延の少ない信号を伝送することができる。
【００６５】
図１６は図１に示されたように、ベースパッケージモジュールが多層パッケージモジュールに適用される場合、信号伝送のためのビアに適用される同軸ビアの概略的な図面である。
【００６６】
図１と図１６を参照すると、本発明の同軸ビアはアルミニウム基板３０にドーナッツ形状のＡｌ２Ｏ３パターン３２が形成され、そのドーナッツ形状のＡｌ２Ｏ３パターン３２の内部に銅メッキ層３４が形成され、銅メッキ層３４の両面には金属層３６が形成される。この金属層３６は、下部ベースパッケージモジュール及び上部受動回路パッケージモジュールとの電気的な連結のために形成されている。
【００６７】
このような同軸ビアは、従来のビア構造に比べて信号損失と遅延を減少することができる。また、同軸ビアは、基板にアンテナを形成する時、給電方式で使用可能である。
【００６８】
図１７乃至図２０は図１の多層パッケージモジュールで再分配層５００を形成するための方法を示す断面図である。図１のエンベデッドコプレーナ導波管４００の上に受動素子パッケージモジュールを直接積層し難い場合、前記再分配層５００は電気的な連結を容易にするために選択的に受動素子パッケージモジュールとエンベデッドコプレーナ導波管４００との間に挿入される。
【００６９】
図１７を参照すると、アルミニウム基板を用意して、このアルミニウム基板の上部表面にマスキングパターン１０１を形成する。マスキングパターン１０１がなくて露出されたアルミニウム基板の上部表面を選択的に陽極酸化して、アルミニウム基板の露出した部分をアルミナ層９９に変換する。
【００７０】
次に図１８を参照すると、アルミニウム基板の下部表面にマスキングパターン１１１を形成し、マスキングパターン１１１がなくアルミニウム基板の露出された部分をエッチングした後、マスキングパターン１０１、１１１を除去して図１８に示されたように両表面上に上下部電極９７が露出された構造を形成する。
【００７１】
その後、図２０に示されたように上下部電極９７の両面にバンパー１２１を形成する。
【００７２】
再び図１を参照すると、多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュール６００はアルミナ基板の内部に形成された配線と抵抗、キャパシタ、インダクタを含む受動素子を含む。
【００７３】
受動素子パッケージモジュール６００において、配線を基板の内部に形成することによって基板の上部表面上にはさらに広い素子装着面積を確保することができる。
【００７４】
図２１乃至図２２は図１の受動素子パッケージモジュール６００で配線を基板内部に形成する方法を示す。
【００７５】
まず、図２１を参照するとアルミニウム基板が用意される。その後、配線を形成しようとするアルミニウム基板の第１部分と第２部分に第１陽極酸化阻止パターン８４を形成し、アルミニウム基板の全面を陽極酸化する。陽極酸化の結果、第１陽極酸化阻止パターン８４の下部を除いたアルミニウム基板の全面が酸化されてＡｌ２Ｏ３層に変換された。
【００７６】
次に、図２２を参照すると第１陽極酸化阻止パターン８４を除去し、配線を形成しようとするアルミニウム基板の第１部分に第２陽極酸化阻止パターン８８を形成し、その後、その基板を２次陽極酸化する。前記２次陽極酸化の結果、第１部分を除いた第２部分は酸化されてＡｌ２Ｏ３層９１に変換され、結果的に配線パターン９０がアルミニウム基板の内部に形成される。
【００７７】
図２３は図１０に示されたアルミニウム基板の内部に形成された配線の応用例を示す。
【００７８】
図２３を参照すると、本発明の実施例による半導体パッケージモジュールは、図２１及び図２２を参照して説明された方法によってアルミナ基板８６の内部に形成された配線９０を含む。配線９０を形成する前や後または同時に能動素子を装着するための開口をさらに形成する。この形成された開口内にはＰＡ、ＬＮＡ、フェースシフタ、ミキサー、オシレータ、ＶＣＯなどのような能動素子９２が接着物質を介して装着される。前記能動素子９２はその上部に複数の電極端子１８を有する。アルミナ基板８６の上部表面には集積受動素子（ＩＰＤ）９４とマッチング回路９６が形成される。マッチング回路９６は、アルミナ基板８６の上部表面に形成された上部配線９８やワイヤーボンディングを通じて能動素子の電極端子に電気的に連結される。
【００７９】
このように、アルミナ基板８６の内部に配線を形成することによって、アルミナ基板８６の上部表面にさらに多くの装着面積を確保することができる。
【００８０】
再び図１を参照すると、受動素子パッケージモジュールに形成されるインダクタは自らの性能を向上させるために空気中に配置される。
【００８１】
図２４乃至図４５は図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用されるインダクタの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【００８２】
まず、図２４を参照するとアルミニウム基板１０２の上に約１００μｍ厚さのアルミナ層１０４が形成される。アルミナ層１０４の上には金、銅、ニッケルのような金属のメッキパターンが形成されてインダクタパターンの一部１０６を構成し、これらインダクタパターンの一部をエアーブリッジ１０８で連結してインダクタを構成する。
【００８３】
図２５を参照すると、図２４で作られたインダクタの下部に配置されたアルミナ層を全体的又は部分的に湿式エッチングしてそのパターンの下部のアルミナ層を残すと、開口１１０が形成され、図２５に示されたような空中に浮かんだインダクタが完成する。
【００８４】
図２６乃至図２９はアルミニウム基板の厚さが３００μｍ以上に厚い場合のエアーギャップインダクタを製造する方法を示す概略的断面図である。
【００８５】
まず、図２６を参照するとアルミニウム基板１１０の下部表面に湿式エッチング阻止マスキングパターン１１２が形成される。湿式エッチング阻止マスキングパターン１１２はＳｉＯ２、ＳｉＮ、フォトレジスト膜などからなる。その後、そのアルミニウム基板１１０に湿式エッチングをすると、アルミニウム基板１１０の露出した部分は図２６に示されたように等方性（ｉｓｏｔｒｏｐｉｃ）エッチングされる。
【００８６】
その後、湿式エッチング阻止マスキングパターン１１２を除去し、アルミニウム基板１１０の上部表面にインダクタパターン形成のためのマスキングパターン１１８を形成する。マスキングパターン１１８はまたＳｉＯ２、ＳｉＮ、フォトレジスト膜などで形成される。続いて、アルミニウム基板１１０の露出された両面を陽極酸化して図２７に示された構造が得られる。
【００８７】
次に、マスキングパターン１１８を除去し、インダクタ電極及びエアーブリッジ１２０を形成して図２８のようにインダクタを完成する。
【００８８】
選択的に、インダクタパターンの間及び下のアルミナ層１１４を除去して空中に浮かんでいる形態のインダクタを形成される。
【００８９】
図３０乃至図３３はアルミニウム基板の厚さが３００μｍ以下に薄い場合のエアーギャップインダクタを製造する方法を示す概略的断面図である。
【００９０】
まず、図３０を参照するとアルミニウム基板１２２の上部表面に陽極酸化阻止マスキングパターン１２４が形成される。陽極酸化阻止マスキングパターン１２４はＳｉＯ２、ＳｉＮ、フォトレジスト膜などで形成される。
【００９１】
図３１を参照すると、陽極酸化阻止マスキングパターン１２４の下部の所定深さに相当する部分を除いたアルミニウム基板の両面は陽極酸化されてアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）層１２３に変換される。その後、陽極酸化阻止マスキングパターン１２４を除去し、インダクタ電極１２６とエアーブリッジ１２８がアルミナ層１２３と残っているアルミニウムパターン上に形成されて図３２に示すようなインダクタを完成する。
【００９２】
選択的に、図３３に示されたように変換されたアルミナ層１２３の下部表面にエッチング阻止マスキングパターン１２９を形成し、その基板を異方性エッチングしてインダクタパターンの間及び下部のアルミナ層を除去することによって、空中に浮かんでいるインダクタを形成することもできる。
【００９３】
図３４乃至図３７はアルミニウム基板の厚さが３００μｍ以下に薄い場合のエアーギャップインダクタを製造する方法を示す概略的断面図である。
【００９４】
まず、図３４を参照するとアルミニウム基板１３２の上部表面の所定部分と下部表面の全面に陽極酸化阻止マスキングパターン（１３４、１３５）が形成される。陽極酸化阻止マスキングパターン（１３４、１３５）はＳｉＯ２、ＳｉＮ、フォトレジスト膜などで形成される。陽極酸化阻止マスキングパターン（１３４、１３５）なく露出されたアルミニウム基板１３２はその上部表面から所定の深さまで陽極酸化されてアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）層１３６に変換される。
【００９５】
その後、変換されたアルミナ層１３６は選択的エッチングによって除去され、アルミナ層１３６が形成された場所に複数の開口が形成される。
【００９６】
図３５を参照すると、前記複数の開口には金、銅、ニッケルのような金属のメッキ膜１３８がシード蒸着なく形成され、その後、陽極酸化阻止マスキングパターン１３５が除去される。
【００９７】
図３６を参照すると、金属のメッキ膜１３８を除く図３５のアルミニウム基板はその両面が陽極酸化されてアルミナ基板１３３に変換される。その後、変換されたアルミナ層と金属のメッキ膜１３８上にインダクタ電極とエアーブリッジパターンが形成されてインダクタが完成する。
【００９８】
選択的に、図３７に示されたように、変換されたアルミナ層１３３の下部表面にエッチング阻止マスキングパターンを形成し、その基板を異方性エッチングしてインダクタパターンの間及び下部のアルミナ層を除去することによって空中に浮いたインダクタを形成することもできる。
【００９９】
図３８乃至図４２はアルミニウム基板の厚さが３００μｍ以下に薄い場合のエアーギャップインダクタを製造する方法を示す概略的断面図である。
【０１００】
まず、図３８を参照するとアルミニウム基板１４２の下部表面の全面に陽極酸化阻止マスキングパターン１４６が形成される。陽極酸化阻止マスキングパターン１４６はＳｉＯ２、ＳｉＮ、フォトレジスト膜などで形成される。陽極酸化阻止マスキングパターン１４６なく露出されたアルミニウム基板１４２はその上部表面から所定の深さまで陽極酸化されてアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）層１４４に変換される。
【０１０１】
図３９を参照すると、陽極酸化阻止マスキングパターン１４６が除去され、変換されたアルミナ層１４４の上部表面にインダクタパターン形成のためのマスキングパターン１４８が形成され、マスキングパターン１４８なく露出されたアルミナ層は所定深さまで異方性エッチングされて除去されて複数の開口１５０が形成される。
【０１０２】
その後、複数の開口には図４０に示されたように金、銅、ニッケルのような金属のメッキ膜１５２が形成される。
【０１０３】
図４１を参照すると、アルミニウム基板の下部表面は陽極酸化されてアルミナ層１４４に変換される。その後、変換されたアルミナ層と金属のメッキ膜１５２上にインダクタ電極とエアーブリッジパターン１５４が形成されてインダクタが完成する。
【０１０４】
選択的に、図４２に示されたように、変換されたアルミナ層１４４の下部表面にエッチング阻止マスキングパターンを形成し、その基板を異方性エッチングしてインダクタパターンの間及び下部のアルミナ層を除去することによって空中に浮かんでいるインダクタを形成することもできる。
【０１０５】
図４５乃至図４５は前記実施例とは異なって、インダクタがエアーブリッジ工程を使わずに基板内部に形成された電極によって連結された例を示す。
【０１０６】
まず、図４３を参照するとアルミニウム基板１６２の上部表面の所定部分に第１陽極酸化阻止マスキングパターン１６６が形成される。第１陽極酸化阻止マスキングパターン１６６はＳｉＯ２、ＳｉＮ、フォトレジスト膜などで形成される。第１陽極酸化阻止マスキングパターン１６６なく露出されたアルミニウム基板１６２の両面は１次陽極酸化されてアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）層１６４に変換される。
【０１０７】
図４４を参照すると、第１陽極酸化阻止マスキングパターン１６６が除去され、残っているアルミナ層１６２の上部表面に第２陽極酸化阻止マスキングパターン１６８が形成される。第２陽極酸化阻止マスキングパターン１６８なく露出されたアルミナ層１６２は所定の深さまで２次陽極酸化されて、変換されたアルミナ層１６４の内部にインダクタブリッジパターン１６３が形成される。このとき、露出されたアルミニウム層を完全には陽極酸化させずに所定の厚さだけ変換させずに部分的に残すために、２次陽極酸化のための時間は１次陽極酸化のための時間より短くしなければならない。
【０１０８】
図４５を参照すると、インダクタパターニングとメッキが行われてインダクタパターン１７０とブリッジパターン１６３が電気的に連結することによってインダクタが完成される。
【０１０９】
本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば本発明において多様な変形及び均等な他の実施例が可能であるという点が理解できる。このように、添付された請求の範囲及びこれと同等なものの範囲内であれば、この発明の変形例も本発明に包含されると解釈されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】本発明の一実施例による３次元多層アルミニウムパッケージモジュールの概略的断面図である。
【図２】本発明の他の実施例によるベースパッケージモジュールの概略的断面図である。
【図３】図２の変形例で、Ａｌ２Ｏ３層が複数の開口を有し、複数の素子が前記複数の開口内に装着され、受動素子と連結された例を示す断面図である。
【図４】本発明の他の実施例による図２のベースパッケージモジュールを製造するための方法を説明するための工程の流れ図である。
【図５】本発明の他の実施例による図２のベースパッケージモジュールを製造するための方法を説明するための工程の流れ図である。
【図６】本発明の他の実施例による図２のベースパッケージモジュールを製造するための方法を説明するための工程の流れ図である。
【図７】本発明の他の実施例による図２のベースパッケージモジュールを製造するための方法を説明するための工程の流れ図である。
【図８】本発明の他の実施例によるパッケージモジュール製作方法を説明するための工程の流れ図である。
【図９】本発明の他の実施例によるパッケージモジュール製作方法を説明するための工程の流れ図である。
【図１０】本発明の他の実施例によるパッケージモジュール製作方法を説明するための工程の流れ図である。
【図１１】本発明の他の実施例によるパッケージモジュール製作方法を説明するための工程の流れ図である。
【図１２】図１の多層パッケージモジュールでエンベデッドコプレーナ導波管の構成を示す図面である。
【図１３】図１２のエンベデッドコプレーナ導波管を形成するための方法を示す断面図である。
【図１４】図１２のエンベデッドコプレーナ導波管を形成するための方法を示す断面図である。
【図１５】図１２のエンベデッドコプレーナ導波管を形成するための方法を示す断面図である。
【図１６】図１の多層パッケージモジュールで信号伝送のためのビアに適用される同軸（ｃｏａｘｉａｌ）ビアの概略的な図面である。
【図１７】図１の多層パッケージモジュールで再分配層５００を形成するための方法を示す断面図である。
【図１８】図１の多層パッケージモジュールで再分配層５００を形成するための方法を示す断面図である。
【図１９】図１の多層パッケージモジュールで再分配層５００を形成するための方法を示す断面図である。
【図２０】図１の多層パッケージモジュールで再分配層５００を形成するための方法を示す断面図である。
【図２１】本発明の他の実施例によって配線を基板の内部に形成するための方法を示す工程断面図である。
【図２２】本発明の他の実施例によって配線を基板の内部に形成するための方法を示す工程断面図である。
【図２３】本発明の他の実施例によって能動素子をアルミナ層の開口に装着しながら配線を基板内部に形成する一例を示す。
【図２４】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図２５】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図２６】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図２７】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図２８】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図２９】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図３０】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図３１】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図３２】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図３３】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図３４】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図３５】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図３６】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図３７】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図３８】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図３９】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図４０】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図４１】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図４２】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図４３】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図４４】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【図４５】図１に示された多層アルミニウムパッケージモジュールの最上部層に適用される受動素子パッケージモジュールの構造及びその製造方法を説明する図面である。
【符号の説明】
【０１１１】
１０、５２、６０、１０２、１２２、１３２、１４２、１６２    アルミニウム基板
１２、６３、９１    Ａｌ２Ｏ３層
１４、５６、１１０    開口
１６    第１素子
１７    接着物質
１８    電極
２０    有機絶縁膜
２２    コンタクトホール
２４    第２素子
２６、９０    配線
３２     Ａｌ２Ｏ３パターン
３４    銅メッキ層
３６    金属層
４２    フォトレジストパターン
４４    陽極酸化阻止膜
６１    ビア
６８    第１Ａｌ２Ｏ３
６９   第１Ａｌ２Ｏ３
７１    第１信号線
７２    クロックビア
８４    第１陽極酸化阻止パターン
９２    能動素子
９４    集積受動素子
９６    マッチング回路
９８    上部配線
９９、１３６、１４４    アルミナ層
１０１、１１１    マスキングパターン
１０４、１１４、１２３    アルミナ層
１０６    金属のメッキパターン
１０８    エアーブリッジ
１１２     湿式エッチング阻止マスキングパターン
１１８    マスキングパターン
１２６    インダクタ電極
１２４、１３４、１３５、１４６、１６６     陽極酸化阻止マスキングパターン
１２８    エアーブリッジ
１２９    エッチング阻止マスキングパターン
１５４    エアーブリッジパターン
１６３    インダクタブリッジパターン
１６８    第２陽極酸化阻止マスキングパターン
１７０    インダクタパターン
３００    ベースパッケージモジュール
４００  エンベデッドコプレーナ導波管 
５００    再分配層
６００    受動素子パッケージモジュール
【図１】
2009522767.tif 000003
【図２】
2009522767.tif 000004
【図３】
2009522767.tif 000005
【図４】
2009522767.tif 000006
【図５】
2009522767.tif 000007
【図６】
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【図７】
2009522767.tif 000009
【図８】
2009522767.tif 000010
【図９】
2009522767.tif 000011
【図１０】
2009522767.tif 000012
【図１１】
2009522767.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
2009522767.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2009522767.tif 000018
【図１７】
2009522767.tif 000019
【図１８】
2009522767.tif 000020
【図１９】
2009522767.tif 000021
【図２０】
2009522767.tif 000022
【図２１】
2009522767.tif 000023
【図２２】
2009522767.tif 000024
【図２３】
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【図２４】
2009522767.tif 000026
【図２５】
2009522767.tif 000027
【図２６】
2009522767.tif 000028
【図２７】
2009522767.tif 000029
【図２８】
2009522767.tif 000030
【図２９】
2009522767.tif 000031
【図３０】
2009522767.tif 000032
【図３１】
2009522767.tif 000033
【図３２】
2009522767.tif 000034
【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【国際調査報告】
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