(57)【要約】  フルオロケミカルケトン化合物は、２つの末端にあり、分枝状であり、独立にフルオロアルキルカルボニル又はペルフルオロアルキルカルボニルである基、及び介在する線状ペルフルオロポリエーテルセグメントから成り、前記末端基の各々は任意に少なくとも１つの鎖状に連結されたヘテロ原子を含み、及び前記ペルフルオロポリエーテルセグメントは少なくとも１つのテトラフルオロエチレンオキシ部分及び、任意に、少なくとも１つのジフルオロメチレンオキシ部分から本質的に成り、これらの部分は前記ペルフルオロポリエーテルセグメント内にランダムに又は非ランダムに分布している。【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの末端にあり、分枝状であり、独立にフルオロアルキルカルボニル又はペルフルオロアルキルカルボニルである基、及び介在する線状ペルフルオロポリエーテルセグメントから成るフルオロケミカルケトン化合物であって、前記末端基の各々は任意で少なくとも１つの鎖状に連結されたヘテロ原子を含み、及び前記ペルフルオロポリエーテルセグメントは、少なくとも１つのテトラフルオロエチレンオキシ部分、及び任意に少なくとも１つのジフルオロメチレンオキシ部分から本質的に成り、前記部分は前記ペルフルオロポリエーテルセグメント内にランダムに又は非ランダムに分布しているフルオロケミカルケトン化合物。
【請求項２】
前記分枝状末端基は独立に、少なくとも１つの鎖状に連結されたヘテロ原子を場合により含有してよい、分枝状ペルフルオロアルキルカルボニル基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記分枝状末端基は独立に、分枝状ペルフルオロアルキルカルボニル基である、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
前記ペルフルオロポリエーテルセグメントは少なくとも１つのテトラフルオロエチレンオキシ部分及び少なくとも１つのジフルオロメチレンオキシ部分から本質的に成る、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
前記化合物は次の一般式（Ｉ）：
Ｒｆ’−Ｃ（＝Ｏ）−［ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−（ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２］−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｆ”    （Ｉ）
により表される部類の１つであって、式中、Ｒｆ’及びＲｆ”はそれぞれ独立に、少なくとも１つの鎖状に連結されたヘテロ原子を場合により含有してよく、また、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨＣＦ３、及び−ＣＦ２ＯＣＨ３から選択される末端部分を場合により含有してよい分枝状ペルフルオロアルキル基であり；ｍは１〜１００の整数であり；ｎは０〜１００の整数であり；及び前記テトラフルオロエチレンオキシ（−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−）及びジフルオロメチレンオキシ（−ＣＦ２Ｏ−）部分はランダムに又は非ランダムに分布している、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
前記Ｒｆ’及びＲｆ”はそれぞれ独立に、少なくとも１つの鎖状に連結されたヘテロ原子を場合により含有してよい分枝状ペルフルオロアルキル基であり；前記ｍは１〜２５の整数であり；及び前記ｎは０〜２５の整数である、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
前記Ｒｆ’及びＲｆ”はそれぞれ独立に３〜６個の炭素原子を有する分枝状ペルフルオロアルキル基であり；前記ｍは１〜１５の整数であり；及び前記ｎは０〜１５の整数である、請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
前記化合物は、
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２、式中、ｍは１〜１００の整数、及びｎは０〜１００の整数
Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
Ｃ４Ｆ９Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ４Ｆ９
Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３
Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
Ｈ（ＣＦ２）４Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）４ＣＦ２Ｈ
ＨＣ２Ｆ４Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ２Ｆ４ＣＦ２Ｈ
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
Ｃ４Ｆ９Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ４Ｆ９
Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３、式中、ｍは１〜１００の整数、及びｎは０〜１００の整数、
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）２ＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３
及びこれらの混合物から選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項９】
２つの、末端ペルフルオロアルキルカルボニル基及び介在する線状ペルフルオロポリエーテルセグメントから成るペルフルオロケトン化合物であって、前記末端基の各々は任意に少なくとも１つの鎖状に連結された酸素原子を場合により含んでよく、及び前記ペルフルオロポリエーテルセグメントは少なくとも１つのテトラフルオロエチレンオキシ部分及び少なくとも１つのジフルオロメチレンオキシ部分から本質的に成り、前記部分は前記ペルフルオロポリエーテルセグメント内にランダムに又は非ランダムに分布している、ペルフルオロケトン化合物。
【請求項１０】
少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む組成物と物品を接触させることを含む、前記物品から汚染物を除去する方法。
【請求項１１】
少なくとも１つの発泡性ポリマー又は少なくとも１つの発泡性ポリマーの前駆体の存在下で発泡剤混合物を気化させることを含む、発泡プラスチックの調製方法であって、前記発泡剤混合物は少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む方法。
【請求項１２】
はんだを含む少なくとも１つの部品を、少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含むフルオロケミカル液体蒸気体に入れることによって、前記はんだを融解させることを含む、蒸気相はんだ付けの方法。
【請求項１３】
少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む熱伝達剤の使用を介して、熱源とヒート・シンクとの間で熱を伝達させることを含む、熱伝達の方法。
【請求項１４】
基材上にコーティングを付着させる方法であって、（ａ）少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む溶媒組成物；及び（ｂ）前記溶媒組成物中に溶解可能又は分散可能である少なくとも１つのコーティング材料、を含む組成物を、前記基材の少なくとも１つの表面の少なくとも一部分に適用することを含む方法。
【請求項１５】
金属、サーメット、又は複合材の加工部品及び工具に作動流体を適用することを含む、切削又は研磨加工の方法であって、前記作動流体は少なくとも１つの請求項１に記載の化合物及び少なくとも１つの潤滑添加剤を含む方法。
【請求項１６】
少なくとも１つの重合開始剤及び少なくとも１つの請求項１に記載の化合物の存在下で少なくとも１つのモノマーを重合することを含む、重合方法。
【請求項１７】
（ａ）少なくとも１つの請求項１に記載のフルオロケミカルケトン化合物を少なくとも１つのフッ化物源と反応させて少なくとも１つのフルオロケミカルアルコキシドを形成すること；及び（ｂ）前記フルオロケミカルアルコキシドを少なくとも１つのアルキル化剤と反応させて少なくとも１つのハイドロフルオロエーテル化合物を形成すること、によって生成されるハイドロフルオロエーテル化合物。
【請求項１８】
前記化合物は、２つの末端アルコキシ置換フルオロアルキル又はペルフルオロアルキル基及び前記フルオロケミカルケトン化合物の前記介在する線状ペルフルオロポリエーテルセグメントから成る、請求項１７に記載の化合物。
【請求項１９】
各前記末端基のアルキル部分は、１〜１０個の炭素原子を有する線状アルキル基、分枝状アルキル基、環状アルキル基、及びこれらの組み合わせから独立に選択される、請求項１８に記載の化合物。
【請求項２０】
少なくとも１つの請求項１に記載のフルオロケミカルケトン化合物を少なくとも１つの還元剤と反応させることにより生成される、ペルフルオロポリエーテルジオール。
【請求項２１】
少なくとも１つの請求項２に記載のフルオロケミカルケトン化合物を少なくとも１つの還元剤と反応させることによって生成される、ペルフルオロポリエーテルジオール。
【請求項２２】
前記ジオールは、２つの末端ヒドロキシル置換フルオロアルキル又はペルフルオロアルキル基及び前記フルオロケミカルケトン化合物の前記介在する線状ペルフルオロポリエーテルセグメントから成る、請求項２０に記載のジオール。
【請求項２３】
少なくとも１つの請求項１に記載のフルオロケミカルケトン化合物を含む組成物。
【請求項２４】
前記部分は前記ペルフルオロポリエーテルセグメント内にランダムに分布している、請求項２３に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（優先権の主張）
本出願は、米国特許仮出願第６０／７５３，８８５号（２００５年１２月２３日出願）及び米国特許出願第１１／５６７，３９８号（２００６年１２月６日出願）の優先権を主張し、それらの内容を本明細書に参考として組み込む。
【０００２】
（発明の分野）
本発明は、フッ素化ケトン化合物及び全フッ素化ケトン化合物に関し、並びに他の態様では、それらの使用方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
フルオロケミカルケトン化合物は、広範囲の特性を示す商業的に価値のある化学化合物の部類を含む。この部類の化合物は、中性であり、及び幾つかの場合には、驚くべきことに不活性であり、熱的に安定であり、及び加水分解に対し安定である。このような特性により、それらは熱伝達剤として、潤滑剤として、及び更には消化剤として有用となされてきた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従って我々は、種々の異なる用途での性能要求を満足することのできるフルオロケミカルケトン化合物に対する継続した需要が存在することを認識する。例えば、種々の異なる沸点範囲、熱に対する及び／又は加水分解に対する安定性、粘度特性、並びに分子量を有する、フルオロケミカルケトン類が引き続き必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
簡潔にいえば、１つの態様では、本発明は、２つの末端にあり、分枝状であり、独立にフルオロアルキルカルボニル又はペルフルオロアルキルカルボニル（好ましくはペルフルオロアルキルカルボニル）である基及び介在する線状ペルフルオロポリエーテルセグメントから成るフルオロケミカルケトン化合物を提供し、前記末端基の各々は任意に、少なくとも１つの鎖状に連結された（すなわち鎖中の）へテロ原子を含み、及び前記ペルフルオロポリエーテルセグメントは少なくとも１つのテトラフルオロエチレンオキシ部分、及び任意に、少なくとも１つのジフルオロメチレンオキシ部分から本質的に成り（好ましくはそれらから成り）、前記部分は前記ペルフルオロポリエーテルセグメント内にランダムに又は非ランダムに分布している。末端フルオロアルキルカルボニル又はペルフルオロアルキルカルボニルである基の分枝は好ましくは、その基のカルボニル部分と隣接する、その基のフルオロアルキル又はペルフルオロアルキル部分の炭素原子においてなされている。好ましくは、ペルフルオロポリエーテルセグメントは、少なくとも１つのテトラフルオロエチレンオキシ部分及び少なくとも１つのジフルオロメチレンオキシ部分から本質的に成る（より好ましくは、それらから成る）。
【０００６】
例えば、ペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド類をヘキサフルオロプロペン（ＨＦＰ）のようなペルフルオロオレフィン類と反応させることにより、通常は液体の、ペルフルオロポリエーテルジケトン化合物の、多用途に使える新規な部類を生成することができるということが見出された。得られたジケトン類は、アルキル化によるハイドロフルオロエーテル類（ＨＦＥ類）の調製、又は還元によるジオール類の調製における中間体として使用することができる。
【０００７】
加えて、本発明のジケトン類は、例えば、コーティング付着における溶媒として、洗浄流体又は乾燥流体として、重合媒体として、生物試料又は書類の保存媒体として、熱伝達剤として（例えば、電子部品のための試験流体として）、発泡において使用するための気泡サイズ調整剤として、蒸気相はんだ付けにおいて使用するための熱伝達剤として、金属の切削又は形成における金属加工剤として、及び潤滑用のオイル又は潤滑剤グリースの調製におけるオイルとして（例えば、フルオロケミカルポリマーと混ぜ合わせることによる）、の使用を包含する、多くの異なる用途に使用することができる。これらのジケトン類のうちの少なくとも幾つかは、低温において予想外に低い粘度（例えば、−５０℃において約７５×１０−６ｍ２／ｓの粘度）を示し、それらを熱伝達流体として特に有用にし、及びこれらのジケトン類のうちの少なくとも幾つかは、加水分解に対する驚くべき耐性を示し、この場合もまたそれらを熱伝達用途において特に有用にする。こうして、本発明の少なくとも幾つかの実施形態は、種々の異なる用途の性能要求を満たすことができるフルオロケミカルケトン類に対する上述の継続的な需要を満たす。
【０００８】
他の態様では、本発明は、本発明のフルオロケミカルケトン化合物を使用するための以下の方法を提供する。
【０００９】
物品を少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を含む組成物と接触させることを含む、前記物品から汚染物（例えば、オイル若しくはグリース、粒子状物質、又は水）を除去する方法。
【００１０】
少なくとも１つの発泡性ポリマー又は少なくとも１つの発泡性ポリマーの前駆体の存在下で発泡剤混合物を気化させることを含む、発泡プラスチックの調製方法であって、前記発泡剤混合物は少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を含む方法。
【００１１】
少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を含むフルオロケミカル液体蒸気体の中に、はんだを含む少なくとも１つの部品を浸漬することによってはんだを融解させることを含む、蒸気相はんだ付けの方法。
【００１２】
少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を含む熱伝達剤の使用を通して、熱源とヒート・シンクとの間で熱を伝達させることを含む、熱伝達の方法。
【００１３】
基材上にコーティングを付着させる方法であって、（ａ）少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を含む溶媒組成物と、（ｂ）前記溶媒組成物に溶解可能又は分散可能である少なくとも１つのコーティング材料（例えば、フルオロケミカルポリエーテル又は書類又は試料保存材料）とを含む組成物を、前記基材の少なくとも１つの表面の少なくとも一部分に適用することを含む方法。
【００１４】
金属、サーメット、又は複合材の加工部品及び工具に作動流体を適用することを含む、金属、サーメット、複合材の加工方法であって、前記作動流体は少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物及び少なくとも１つの潤滑添加剤を含む方法。
【００１５】
少なくとも１つの重合開始剤及び少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物の存在下で、少なくとも１つのモノマー（好ましくは、フッ素含有モノマー）を重合させることを含む、重合方法。
【００１６】
なお他の態様では、本発明はまた、以下を提供する。
【００１７】
（ａ）少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を少なくとも１つのフッ素化物源と反応させて少なくとも１つのフルオロケミカルアルコキシドを形成すること、及び（ｂ）前記フルオロケミカルアルコキシドを少なくとも１つのアルキル化剤と反応させて少なくとも１つのハイドロフルオロエーテル化合物を形成すること、によって生成されるハイドロフルオロエーテル化合物。
【００１８】
少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を少なくとも１つの還元剤と反応させることにより生成される、ペルフルオロポリエーテルジオール。
【００１９】
少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物（好ましくは、ランダムに分布したジフルオロメチレンオキシ及びテトラフルオロエチレンオキシ部分を有する）を含む組成物。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
定義
本特許出願で使用される場合：
「鎖状に連結されたへテロ原子」とは、炭素−へテロ原子−炭素鎖を形成するように、炭素鎖中の炭素原子に結合した炭素以外の原子（例えば、酸素、窒素、又はイオウ）を意味し、
「フルオロ−」（例えば、「フルオロアルキレン」若しくは「フルオロアルキル」若しくは「フルオロカーボン」の場合のような基若しくは部分に関して）又は「フッ素化された」とは、炭素に結合した水素原子が少なくとも１つはあるように、部分的にのみフッ素化されていることを意味し、
「フルオロケミカル」とはフッ素化又は全フッ素化を意味し、
「通常は液体」とは、温度及び圧力の周囲条件（例えば、約２０℃及び約１気圧）下で液体ということを意味し、及び
「ペルフルオロ−」（例えば、「ペルフルオロアルキレン」又は「ペルフルオロアルキル」又は「ペルフルオロカーボン」の場合のような基又は部分に関して）又は「全フッ素化された」とは、別段に指定される場合を除いて、フッ素で取り換え可能な、炭素に結合した水素原子が無いように完全にフッ素化されていることを意味する。
【００２１】
フルオロケミカルケトン化合物
本発明の新規なジケトン化合物は、２つの末端にあり、分枝状であり、独立にフルオロアルキル又はペルフルオロアルキルカルボニル（好ましくは、ペルフルオロアルキルカルボニル）である基及び介在する線状ペルフルオロポリエーテルセグメントから成り、前記末端基の各々は任意で少なくとも１つの鎖状に連結された（すなわち鎖中の）ヘテロ原子を含み、及び前記ペルフルオロポリエーテルセグメントは、少なくとも１つのテトラフルオロエチレンオキシ部分（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−）及び任意に少なくとも１つのジフルオロメチレンオキシ部分（−ＣＦ２Ｏ−）から本質的に成り（好ましくは、それらから成り）、それらの部分は前記ペルフルオロポリエーテルセグメント内にランダムに又は非ランダムに分布している。線状ペルフルオロポリエーテルセグメントは、以下の点で前述のペルフルオロアルキレンオキシ部分「から本質的に成り」、すなわち線状若しくは分枝状ヘキサフルオロプロピレンオキシ（−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、若しくは−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−）及び／又は線状オクタフルオロブチレンオキシ（−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−）及び／又は分枝状テトラフルオロエチレンオキシ（−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ−）部分が任意に、セグメントの唯一の他の可能な構成部分として（必須の末端ジフルオロメチレン部分のほかに）、少量（例えば、そのセグメント中のペルフルオロアルキレンオキシ単位の総数の約５％まで）で存在することもできる。末端フルオロアルキルカルボニル又はペルフルオロアルキルカルボニル基の分枝は好ましくは、その基のカルボニル部分に隣接しているその基のフルオロアルキル又はペルフルオロアルキル部分の炭素原子においてなされている。好ましくは、ペルフルオロポリエーテルセグメントは、少なくとも１つのテトラフルオロエチレンオキシ部分及び少なくとも１つのジフルオロメチレンオキシ部分から本質的に成る（より好ましくは、それらから成る）。
【００２２】
本発明の化合物の１つの部類は以下の一般式（Ｉ）
Ｒｆ’−Ｃ（＝Ｏ）−［ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−（ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２］−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｆ”    （Ｉ）
により表すことができ、式中、Ｒｆ’及びＲｆ”はそれぞれ独立に、少なくとも１つの鎖状に連結されたヘテロ原子を場合により含有してよく、また
−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨＣＦ３、及び−ＣＦ２ＯＣＨ３から選択される末端部分を場合により含有してよい、分枝状ペルフルオロアルキル基であり；ｍは１〜約１００の整数であり；ｎは０〜約１００の整数であり；及びテトラフルオロエチレンオキシ（−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−）及びジフルオロメチレンオキシ（−ＣＦ２Ｏ−）部分はランダムに又は非ランダムに分布している。好ましくは、Ｒｆ’及びＲｆ”はそれぞれ独立して、少なくとも１つの鎖状に連結されたヘテロ原子を場合により含有してよい分枝状ペルフルオロアルキル基（より好ましくは、約３〜約６個の炭素原子を有する分枝状ペルフルオロアルキル基）であり；ｍは１〜約２５（より好ましくは、１〜約１５）の整数であり；及びｎは０〜約２５（より好ましくは、０〜約１５）の整数である。
【００２３】
本発明のフルオロケミカルケトン化合物の代表的な例としては、
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）２、式中、ｍは１〜１００の整数、及びｎは０〜１００の整数
Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
Ｃ４Ｆ９Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ４Ｆ９
Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３
Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
Ｈ（ＣＦ２）４Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）４ＣＦ２Ｈ
ＨＣ２Ｆ４Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ２Ｆ４ＣＦ２Ｈ
（ＣＦ３）２ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
Ｃ４Ｆ９Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ４Ｆ９
Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ３）ＣＦＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ７
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３、式中、ｍは１〜１００の整数、及びｎは０〜１００の整数、
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）２ＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３
及び同様のもの、並びにこれらの混合物が挙げられる。このような化合物（並びに全般にその他のもの）のうち、好ましい化合物は末端基に水素を有さず（すなわち、末端基は全フッ素化されており）、及びより好ましい化合物は末端基に水素も鎖状に連結されたヘテロ原子（１つまたは複数）も有さない。
【００２４】
本発明のフルオロケミカルケトン化合物は疎水性及び疎油性であり、比較的化学反応性に乏しく、比較的加水分解に対し安定であり、熱的に安定であり、非水溶性であり、及び通常は（例えば２０℃で）液体であり、及びそれらは高収率で、高官能基（すなわちケトン基）純度で、及び広範囲の分子量を有して製造されることができる。幾つかの用途では、当該化合物は化合物の混合物の形態において有用であることができ、これらの化合物は様々な数のテトラフルオロエチレンオキシ及びジフルオロメチレンオキシ部分を有し、並びに、その混合物中の化合物が蒸留によって本質的に分離不可能であり及び類似の物理特性（例えば類似の粘度）を有するような狭い範囲の沸点を有する。
【００２５】
フルオロケミカルケトン化合物の調製
本発明のペルフルオロポリエーテルジケトン化合物は、対応するペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド類から、少なくとも１つのペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライドを、少なくとも１つのペルフルオロオレフィン（例えば、ヘキサフルオロプロペン）、ペルフルオロビニルエーテル、又はフルオロビニルエーテル（好ましくは、少なくともコストの視点からペルフルオロオレフィン）と、少なくとも１つの無水のフッ化物源（例えば、無水のフッ化カリウム）及び少なくとも１つの無水の極性非プロトン性溶媒（例えば、ジグリム（すなわち、ジエチレングリコールジメチルエーテル又はビス（２−メトキシ）エチルエーテル））の存在下で、組み合わせることにより調製することができる。所望ならば、相間移動触媒を使用できる。
【００２６】
例えば、ペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド、無水のフッ化物源（一般には触媒量）、溶媒、及び任意に、相間移動触媒（一般には触媒量）をいずれかの順番でいずれかの好適な反応器（例えば金属反応器、好ましくは圧力反応器）中にて組み合わせることができ、これを次に密閉し、及び自生圧力下で所望の反応温度（例えば約７５℃）まで加熱することができる。次いで少なくとも化学量論量（１００％以上の化学量論的過剰量まで）のペルフルオロオレフィン、ペルフルオロビニルエーテル、又はフルオロビニルエーテルを、一般には反応器の内容物を撹拌しながら又はかき混ぜながら、及び好ましくは温度を制御しながら、反応器に添加することができる（又は連続的に若しくは部分に分けて添加することができる）。
【００２７】
ペルフルオロオレフィン、ペルフルオロビニルエーテル、又はフルオロビニルエーテルの添加が完了した後、又は反応が完了するまで進行した後、反応器を冷却及び圧抜きしそして内容物をいずれかの好適な分離法によって精製することができる。例えば、得られた反応混合物を、ろ過し（例えば、フッ化物源を除去するために）、相分離し（例えば、溶媒及び触媒を除去するために）、洗浄溶媒により洗浄し（例えば、残留溶媒及び残留触媒を除去するためにアセトンで洗浄し）、相分離し（例えば、洗浄溶媒を除去するために）、そして回転蒸発及び／又は蒸留を行う（例えばいずれかの残留揮発性物質を除去するため及び得られるジケトン生成物を精製するために）ことができる。
【００２８】
ペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド類は、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）を光酸化重合し、その結果ペルフルオロポリエーテルポリペルオキシド類を形成させることにより調製することができる。ペルフルオロポリエーテルポリペルオキシド類は、物理的手法（例えば、熱的又は光化学処理）により、又は化学的手法（例えば、白金又はパラジウムなどの貴金属触媒の存在下で水素で還元することにより）還元することができる。この還元は、過酸化性のペルフルオロポリエーテル結合を破断し、及び−ＣＯＦ末端基とランダムに分布したジフルオロメチレンオキシ及びテトラフルオロエチレンオキシ部分とを有する低分子量のペルフルオロポリエーテル類を与えることができる。この合成法は、例えば、米国特許出願公開第２００３／００１３９２３Ａ１号（マルチーニ（Marchionni）ら）及び米国特許第５，３５４，９２２号（マルチーニら）に更に詳細に記載されている。
【００２９】
或いは、ペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド類はまた、アンチモンペンタフルオライドを用いた、α、ω−ジヒドロペルフルオロポリエーテル類の分解によって（例えば、本質的に米国特許第６，０４６，３６８号（ラマナ（Lamanna）ら）の実施例７に記載されているとおりに）；α、ω−ペルフルオロポリエーテルジメチルエステル類のフッ素ガスを用いたフッ素化、及びそれに続く、例えば触媒量のピリジンを用いた処理によって（例えば、本質的にそれぞれ米国特許第５，３９９，７１８号（コステロ（Costello）ら）及び同第５，４６６，８７７号（ムーア（Moore））に記載されているとおりに）；又は炭化水素ポリエーテルジエステル類のフッ素ガスを用いたフッ素化、及びそれに続く、例えば触媒量のピリジンを用いた処理によって（例えば、本質的にそれぞれ米国特許第５，３９９，７１８号（コステロら）及び５，４６６，８７７号（ムーア）に記載されているとおりに）、調製することもできる。これらの方法は、出発ペルフルオロポリエーテルの性質に応じて、ランダムに又は非ランダムに分布したジフルオロメチレンオキシ及びテトラフルオロエチレンオキシ部分を有する物質を提供できる。
【００３０】
本調製プロセスの実施において有用なペルフルオロオレフィン類としては、オレフィン二重結合の炭素原子の１つに結合した炭素原子を少なくとも１つ含有するものが挙げられる。このようなペルフルオロオレフィン類は、一般に末端分枝状ペルフルオロアルキルカルボニル基の存在によって特徴付けられる生成物フルオロケミカルケトン化合物を提供する。
【００３１】
ペルフルオロオレフィン類は、当該技術分野において周知である種々の標準的な合成手順のいずれかによって調製できる。幾つかのペルフルオロオレフィン（例えば、ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ５Ｆ１１ＣＦ＝ＣＦ２、及びＣ２Ｆ５ＣＦ＝ＣＦ２）は、市販もされている（例えば、シンクエスト（Synquest）から又はアポロ・サイエンティフィック社（Apollo Scientific, Ltd.）から）。
【００３２】
フルオロケミカルケトン化合物を調製するのに有用なペルフルオロオレフィン類の代表的な例としては、ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ３Ｆ７ＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ５Ｆ１１ＣＦ＝ＣＦ２、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２、及び同様のもの、並びにこれらの混合物が挙げられる。（所望ならば混合物を使用できるが、精製が必要となる可能性のある生成物の混合物が結果として生成されることから、混合物は一般にあまり好ましくない。）好ましいペルフルオロオレフィンとしては、ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ２Ｆ５ＣＦ＝ＣＦ２、及びこれらの混合物が挙げられる。ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２がより好ましい。
【００３３】
調製プロセスの実施において有用なフルオロ−及びペルフルオロビニルエーテル類としては、末端ペルフルオロビニル基を有するものが挙げられる。このようなフルオロ−及びペルフルオロビニルエーテル出発化合物は、１以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を場合により更に含有することもでき（当該フルオロ−及びペルフルオロビニルエーテル類のエーテル酸素に加えて）、フルオロケミカル酸フッ化物又はフルオロケミカルケトンをヘキサフルオロプロピレンオキシド（ＨＦＰＯ）と反応させて中間体である分枝状酸フルオライド付加物を形成させることにより調製されることができる。次に、この付加化合物を塩基と反応させて、中間体であるカルボン酸塩を形成することができ、次に高温にて（任意に、不活性溶媒の存在下で）脱カルボキシル化することができる。幾つかのペルフルオロビニルエーテル（例えば、Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ＝ＣＦ２、及びＣＦ３ＯＣＦ＝ＣＦ２のようなペルフルオロビニルエーテル類）はまた市販もされている（例えば、シンクエスト（Synquest）から又はアポロ・サイエンティフィック社（Apollo Scientific, Ltd.）から）。
【００３４】
本発明のフルオロケミカルケトン化合物の調製において有用なフルオロ−及びペルフルオロビニルエーテル類の代表的な例としては、Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ＝ＣＦ２、ＣＦ３ＯＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ４Ｆ９ＯＣＦ＝ＣＦ２、ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ＝ＣＦ２、
Ｃ２Ｆ５ＯＣＦ＝ＣＦ２、（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＯＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ５Ｆ１１ＯＣＦ＝ＣＦ２、
ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ＝ＣＦ２、ＣＨ３ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ＝ＣＦ２、ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ＝ＣＦ２、
【００３５】
【化１】
2009521457.tif 000002
【００３６】
及び同様のもの、並びにこれらの混合物が挙げられる。好ましいビニルエーテルとしては、Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ４Ｆ９ＯＣＦ＝ＣＦ２、ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ＝ＣＦ２、及びこれらの混合物が挙げられる。Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ４Ｆ９ＯＣＦ＝ＣＦ２、及びこれらの混合物が、より好ましい。（所望される場合、出発化合物の混合物を使用することができるが、精製が必要となる可能性のある生成物の混合物が結果として生成されるために、混合物は一般にあまり好ましくない。）
好適な無水のフッ化物源としては、解離して無水のフッ化物イオン源を提供できる無水のフッ素含有化合物が挙げられる。このような化合物としては、金属フッ化物（例えば、フッ化カリウム、フッ化ルビジウム、フッ化セシウム、及び同様のもの、並びにこれらの混合物）、金属ビフルオライド、第四級アンモニウムフルオライド類、第四級ホスホニウムフルオライド類、及び同様のもの、並びにこれらの混合物が挙げられる。好ましい無水フッ化物源としては、フッ化カリウム、フッ化セシウム、及びこれらの混合物が挙げられ、フッ化カリウムがより好ましい。
【００３７】
本調製プロセスの実施において使用するのに好適な溶媒としては、無水の極性非プロトン性溶媒、例えばグリコールエーテル溶媒（例えば、グリム、ジクリム、トリグリム、テトラグリム、及び同様のもの、並びにこれらの混合物）、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、アセトニトリル、及び同様のもの、並びにこれらの混合物が挙げられる。好ましい溶媒としては、グリム、ジグリム、トリグリム、テトラグリム、ジメチルホルムアミド、及びこれらの混合物が挙げられ；グリム、ジグリム、ジメチルホルムアミド、及びこれらの混合物がより好ましく、そしてジグリムが最も好ましい。
【００３８】
好適な相間移動触媒としては、第四級アンモニウム塩、第四級ホスホニウム塩、クラウンエーテル類、クリプタンド類及び同様のもの、並びにこれらの混合物が挙げられる。好ましい塩の対イオンとしては、市販されているもの（例えば、クロライド）、並びにモノアルキルサルフェート類、モノアルキルスルホネート類、及び同様のもの、並びにこれらの混合物のようなものが挙げられる。有用なクラウンエーテルとしては、４’−アミノベンジル−１５−クラウン−５、１−アザ−１２−クラウン−５、１−アザ−１５−クラウン−５、１−アザ−１８−クラウン−５、ビス［（ベンゾ−１５−クラウン−５）−１５−イルメチル］ピメレート、ジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６、４’−ホルミルベンゾ−１５−クラウン−５、２−（ヒドロキシメチル）−１５−クラウン−５、４’−ニトロベンゾ−１５−クラウン−５、ポリ［（ジベンゾ−１８−クラウン−６）−コホルムアルデヒド］、及び同様のもの、並びにこれらの混合物が挙げられる。有用な市販のクリプタンドとしては、クリプトフィックス（KRYPTOFIX）２１、２１１、２２２、及び２２２ｂ（シグマ・アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Sigma-Aldrich Chemical Company）（ウィスコンシン州、ミルウォーキー（Milwaukee））から入手可能）が挙げられる。好ましい触媒は、比較的豊富に存在し及びコスト効率が良いことから、第四級アンモニウム塩である。有用な市販の第四級アンモニウム塩としては、アドゲン（ADOGEN）４６４（シグマ・アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Sigma-Aldrich Chemical Company）から入手可能なメチルトリアルキル（Ｃ８〜Ｃ１０）アンモニウムクロライド）が挙げられる。別の好ましい相関移動触媒は、トリオクチルアミンのジメチルサルフェートとの反応によって調製することができる、（Ｃ８Ｈ１７）３Ｎ＋ＣＨ３−ＯＳＯ３ＣＨ３である。使用される場合、相間移動触媒は典型的に、反応混合物の約０．００１モル％〜約５．０モル％を構成する濃度で添加される。
【００３９】
フルオロケミカルケトン化合物の使用
本発明のフルオロケミカルケトン化合物（又はそれらを含む、それらから成る、若しくはそれらから本質的に成る通常液体の組成物）は種々の用途に使用することができる。例えば、本化合物は、ディスク又は回路基板のような電子製品の精密洗浄又は金属洗浄用の溶媒として、熱伝達剤として、発泡断熱材（例えば、ポリウレタン発泡体、フェノール性発泡体、及び熱可塑性発泡体）を作製する際の気泡サイズ調整剤として、書類又は試料保存材料用及び潤滑剤用のキャリア流体又は溶媒として、ヒートポンプ用のような動力サイクル作動流体として、重合反応用の不活性媒体として、金属などの研磨された表面からバフ研磨化合物を除去するためのバフ研磨剤として、宝石又は金属部品などから水を除去するための置換乾燥剤として、塩素型の展開剤を含む従来の回路製造技術におけるレジスト展開剤として、及び例えば、１，１，１−トリクロロエタン又はトリクロロエチレンなどの塩化炭化水素と共に使用した場合のフォトレジスト用剥離剤として、使用できる。
【００４０】
フルオロケミカルケトン化合物は典型的に、高い絶縁耐力（例えば、約１０８オーム−ｃｍより大きい）を示し、それによりそれらは半導体産業での用途に非常に好適となされる可能性がある。低温において予想外に低い粘度（例えば−５０℃で約７５×１０−６ｍ２／ｓ）を示すフルオロケミカルケトン化合物（例えば、以下の実施例２のもの）は、半導体における熱伝達用途、化学加工、及び医薬品産業のような、低温の用途において特に有用である可能性がある。
【００４１】
フルオロケミカルケトン化合物は、単独で、又はお互いの混合物として、又はその他の通常使用される溶媒類（例えば、エーテル類、アルカン類、アルケン類、ペルフルオロカーボン類、全フッ素化第三級アミン類、ペルフルオロエーテル類、シクロアルカン類、エステル類、ケトン類、芳香族化合物、シロキサン類、ヒドロクロロカーボン類、ヒドロクロロフルオロカーボン類、ヒドロフルオロカーボン類、及び同様のもの、並びにこれらの混合物）との混合物として使用できる。こうした共溶媒は好ましくは、少なくとも部分的にフッ素化されており、特定の用途のための組成物の特性を改良し又は高めるために選択されることができ、及び結果として得られる組成物が好ましくは引火点を有さないような比率（共溶媒（１種又は複数）とフルオロケミカルケトン（１種又は複数）との）で使用されることができる。所望される場合、フルオロケミカルケトン化合物は、本発明のフルオロケミカルケトン化合物から「本質的に成る」組成物を形成するように、特定の用途に関する特性において非常に類似している他の化合物（例えば、他のフルオロケミカルケトン化合物）と組み合わせて使用することができる。
【００４２】
特定用途のために特別に所望される特性を付与するために、本化合物に微量の任意構成成分を添加することができる。有用な組成物は、従来の添加剤、例えば、界面活性剤、着色剤、安定剤、酸化防止剤、難燃剤、及び同様のもの、並びにこれらの混合物を含むことができる。
【００４３】
フルオロケミカルケトン化合物は洗浄及び乾燥の用途のための溶媒として有用であり、例えば、米国特許第５，１２５，０８９号（フリン（Flynn）ら）、同第３，９０３，０１２号（ブランドレス（Brandreth））、同第４，１６９，８０７号（ズベー（Zuber））、及び同第５，９２５，６１１号（フリン（Flynn）ら）に記載されているものがある。有機及び無機の両方の基材を、少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトンを含む組成物と接触させることにより洗浄できる。炭化水素汚染物、フルオロカーボン汚染物、微粒子、及び水を包む大抵の汚染物を除去できる。
【００４４】
物品（回路基板のような）の表面の乾燥に又は水分置換に本化合物を使用するときには、例えば、米国特許第５，１２５，９７８号（フリン（Flynn）ら）に記載される乾燥又は水分置換の方法を使用できる。概して言うと、そのような方法は、少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を、好ましくは非イオン性のフルオロ脂肪族界面活性剤と混合して、含む液体組成物を、物品の表面と接触させることを含む。湿った物品を液体組成物に浸漬し及びその中でかき混ぜ、置換された水を液体組成物から分離し、そして得られた水が取り除かれた物品を液体組成物から取り出す。その方法及び処理できる物品についての更なる説明は前記の米国特許第５，１２５，９７８号（フリン（Flynn）ら）に見出すことができる。
【００４５】
本発明の化合物を蒸気相はんだ付けに使用するときには、例えば、米国特許第５，１０４，０３４号（ハンセン（Hansen））に記載された方法が使用できる。概して言うと、そのような方法は、はんだ付けされるべき部品を少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を含む蒸気体の中に浸漬してはんだを融解させることを含む。そのような方法を実施するときには、フルオロケミカルケトン組成物の液溜をタンクの中で沸騰するまで加熱して沸騰液体と凝縮手段との間にある空間に飽和蒸気を形成させ、はんだ付けすべき加工部品を蒸気の中に浸漬し、それよってその蒸気が加工部品の表面で凝縮してはんだを融解しリフローするようにし、その後はんだ付けされた加工部品を蒸気を含有する空間から取り出す。
【００４６】
本発明の化合物をプラスチック発泡体（例えば、発泡ポリウレタン）作製における気泡サイズ調整剤として使用するときには、例えば、米国特許第５，２１０，１０６号（ダムズ（Dams）ら）及び同第５，５３９，００８号（ダムズ（Dams）ら）に記載されるプロセス反応剤及び反応条件を使用できる。そのような方法は少なくとも１つの発泡性ポリマー又は少なくとも１つの発泡性ポリマーの前駆体の存在下で発泡剤混合物を気化させることを含み、この発泡剤混合物は少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を含む。
【００４７】
本発明の化合物を熱伝達剤として使用するときには、例えば米国特許再発行番号３７，１１９Ｅ（U.S. Reissue Patent No. 37,119 E）（シャーウッド（Sherwood））及び米国特許番号６，３７４，９０７Ｂ１（U.S. Patent No. 6,374,907 B1）（トゥシグナント（Tousignant）ら）に記載の方法が使用できる。そのような方法の実施においては、少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を含む熱伝達剤の使用を介して、熱源（例えば、シリコンウエファー、又はフラットパネルディスプレイの構成部品）とヒート・シンクとの間で熱が伝達される。本発明のフルオロケミカルケトンは一般的に、広い液体範囲、その範囲にわたる有用な粘度、及び最終使用温度での比較的高い熱安定性を示し、それによりそれらが熱伝達流体としての用途に非常に好適となされる。
【００４８】
本発明のフルオロケミカルケトン化合物の、コーティング用途における又は書類若しくは生物試料の保存用途における付着溶媒としての使用においては、例えば、米国特許第５，９２５，６１１号（フリン（Flynn）ら）及び同第６，０８０，４４８号（ライナー（Leiner）ら）に記載されている方法が使用できる。基材（例えば、磁気記録媒体又はセルロース系材料）上にコーティングを付着させるためのそのような方法は、基材の少なくとも１つの表面の少なくとも一部分に、（ａ）少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物を含む溶媒組成物、及び（ｂ）その溶媒組成物中に溶解可能又は分散可能な少なくとも１つのコーティング材料、を含む組成物を適用することを含む。その方法によって付着されることのできるコーティング材料には、顔料、潤滑剤、安定剤、接着剤、酸化防止剤、染料、ポリマー、医薬品、離型剤、無機酸化物、書類保存材料（例えば、紙の脱酸に使用されるアルカリ性材料）及び同様のもの、並びにこれらの組合せが挙げられる。好ましい材料としては、ペルフルオロポリエーテル、炭化水素、及びシリコーン潤滑剤；テトラフルオロエチレンの非晶質コポリマー類；ポリテトラフルオロエチレン；書類保存材料類；試料保存材料類；及びこれらの組合せが挙げられる。最も好ましくは、材料はペルフルオロポリエーテル又は書類若しくは試料保存材料である。
【００４９】
切削又は研磨加工作業に本発明のフルオロケミカルケトン化合物を使用するときには、例えば、米国特許第６，７５９，３７４号（ミルブラス（Milbrath）ら）に記載される方法が使用できる。このような金属、サーメット、又は複合材の加工方法は、金属、サーメット、又は複合材の加工部品及び工具に作動流体を適用することを含み、前記作動流体は少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物及び少なくとも１つの潤滑添加剤を含む。作動流体は、１以上の従来の添加剤（例えば、腐食防止剤、酸化防止剤、消泡剤、染料、殺菌剤、凝固点降下剤、金属不活性化剤、共溶媒、及び同様のもの、並びにこれらの混合物）を更に含むことができる。
【００５０】
本発明のフルオロケミカルケトン化合物を重合媒体又は連鎖移動剤として使用するときには、例えば、「研究開示（Research Disclosures）」４０５７６号の８１頁（１９９８年１月）及び米国特許第５，１８２，３４２号（フェイリン（Feiring）ら）及び同第６，３９９，７２９号（ファーナム（Farnham）ら）に記載される方法を使用できる。こうした方法は、少なくとも１つの重合開始剤及び少なくとも１つの本発明のフルオロケミカルケトン化合物の存在下で、少なくとも１つのモノマー（好ましくは、少なくとも１つのフッ素含有モノマー）を重合させることを含む。
【００５１】
本発明のフルオロケミカルケトン化合物はまた、前記フルオロケミカルケトンを無水のアルカリ金属フッ化物（例えば、フッ化カリウム若しくはフッ化セシウム）又は無水のフッ化銀と、好ましくは無水の極性非プロトン性溶媒中で反応させることによって調製されるフルオロケミカルアルコキシド類をアルキル化することより、ハイドロフルオロエーテル化合物（ＨＦＥ類）を調製するために使用することもできる。例えば、フランス特許公開番号２，２８７，４３２号（French Patent Publication No. 2,287,432）及びドイツ特許公開番号１，２９４，９４９号（German Patent Publication No. 1,294,949）に記載されている調製法、並びに米国特許第５，７５０，７９７号（ビッカーク（Vitcak）ら）に記載されている方法を参照のこと。
【００５２】
ＨＦＥ類の調製において使用するための好適なアルキル化剤としては、硫酸ジアルキル類（例えば、硫酸ジメチル）、アルキルハライド類（例えば、ヨウ化メチル）、アルキルｐ−トルエンスルホネート類（例えば、ｐ−トルエンスルホン酸メチル）、アルキルペルフルオロアルカンスルホネート類（例えば、ペルフルオロメタンスルホン酸メチル）、及び同様のもの、並びにこれらの混合物が挙げられる。好適な極性非プロトン性溶媒としては、アクリル性エーテル類、例えばジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、及びジエチレングリコールジメチルエーテル；カルボン酸エステル類、例えば、ギ酸メチル、ギ酸エチル、及び酢酸メチル；炭酸エステル類、例えば、ジエチルカーボネート、プロピレンカーボネート、及びエチレンカーボネート；アルキルニトリル類、例えば、アセトニトリル；アルキルアミド類、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎジエチルホルムアミド、及びＮ−メチルピロリドン；アルキルスルホキシド類、例えば、ジメチルスルホキシド；アルキルスルホン類、例えば、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホン、及び他のスルホラン類；オキサゾリドン類、例えば、Ｎ−メチル−２−オキサゾリドン；及び同様のもの；並びにこれらの混合物が挙げられる。
【００５３】
本発明のフルオロケミカルケトン化合物のこのような反応は、対応するハイドロフルオロエーテル化合物（すなわち２つの末端アルコキシ置換フルオロアルキル又はペルフルオロアルキル基及び前記フルオロケミカルケトン化合物の介在する線状ペルフルオロポリエーテルセグメントから成る化合物）を与える。好ましくは、前記ＨＦＥの各末端基のアルキル部分（これは、線状、分枝状、環状、又はこれらの組み合わせであることができる）は独立に、１〜約１０個の炭素原子（より好ましくは、１〜約３個の炭素原子）を有する。
【００５４】
本発明のフルオロケミカルケトン化合物はまた、水素化ホウ素ナトリウムのような還元剤との、好ましくは極性非プロトン性溶媒（例えば、ジグリム）中における反応によって、対応するペルフルオロポリエーテルジオール類（すなわち、２つの末端のヒドロキシ置換フルオロアルキル又はペルフルオロアルキル基及び前記フルオロケミカルケトン化合物の介在する線状ペルフルオロポリエーテルセグメントから成る化合物）を調製するために使用することもできる。この反応は本質的に米国特許第６，６４９，７１９号（ムーア（Moore）ら）の１１及び１２段に記載されているとおりに行うことができる。所望される場合、前記ジオール類は更に、対応するジアクリレート類に更に変換でき（本質的に同参考文献の１２段に記載されているとおりに）、又はイソシアネート類と反応してウレタン類を形成できる。
【実施例】
【００５５】
本発明の目的及び利点は、以下の実施例によって更に例示されるが、これらの実施例において列挙された特定の材料及びその量は、他の諸条件及び詳細と同様に本発明を不当に制限するものと解釈すべきではない。これらの実施例は単に、あくまで例示を目的としたものであり、添付の請求項の範囲を制限することを意味するものではない。
【００５６】
試験方法
核磁気共鳴（ＮＭＲ）
１Ｈ＆１９Ｆ−ＮＭＲスペクトルは、バリアン（Varian）ユニティプラス４００（UNITYplus 400）フーリエ変換ＮＭＲスペクトロメーター（バリアンＮＭＲインストルメンツ社（Varian NMR Instruments）（カルフォルニア州、パロアルト（Palo Alto））から入手可能）にて測定した。
【００５７】
ガスクロマトグラフィー／質量分析（ＧＣＭＳ）
ＧＣＭＳサンプルは、例えば、フィニガン（Finnigan）ＴＳＱ７０００質量分析計（サーモ・エレクトロン社（Thermo Electron Corporation）（マサチューセッツ州、ウォルサム（Waltham））から入手可能）にて測定した。
【００５８】
赤外線（ＩＲ）分光法
ＩＲスペクトルは、サーモ・ニコレット（THERMO-NICOLET）、アベーター（Avatar）３７０フーリエ変換赤外線（ＦＴＩＲ）スペクトロメーター（サーモ・エレクトロン社（Thermo Electron Corporation）（マサチューセッツ州、ウォルサム（Waltham））から入手可能）にて測定した。
【００５９】
粘度測定
運動粘度は、ウベローデ（Ubbelohde）ガラスキャピラリー粘度計（キャノン・インストルメンツ社（Cannon Instrument Co.）（ペンシルベニア州、ステートカレッジ（State College））から入手可能）及びショット（SCHOTT）ＡＶＳ３５０粘度計タイマー（ショット・ノース・アメリカ（SCHOTT North America）（ニューヨーク州、エルムスフォード（Elmsford））から入手可能）を使用して測定した。温度は、ノヴェック（NOVEC）−７５００（ハイドロフルオロエーテル；３Ｍ社（3M Company）（ミネソタ州、セントポール（St. Paul））から入手可能）を充填したローラー（Lawler）恒温槽（ローラー・マニュファクチャリング社（Lawler Manufacturing Company, Inc.）（インディアナ州、インディアナポリス（Indianapolis））から入手可能）を使用して制御した。前記ローラー（Lawler）恒温槽は、ユラボ（JULABO）Ｆ−８３超低温サーキュレータ（refrigerated circulator）（ユラボＵＳＡ（Julabo USA）（ペンシルベニア州、アレンタウン（Allentown））から入手可能）によって冷却した。
【００６０】
（実施例１）
（ＣＦ３）２ＣＦＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２の調製
最初に、ペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド混合物を、本質的に米国特許第６，０４６，３６８号（ラマナ（Lamanna）ら）の実施例７に記載されているとおりに調製した。７６ｇのＨ−ガルデンＺＴ１８０（H-GALDEN ZT 180）熱伝達流体を１．８ｇのＳｂＦ５（シグマ・アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Sigma-Aldrich Chemical Company）（ウィスコンシン州、ミルウォーキー（Milwaukee））から得られるアンチモンペンタフルオライド）を含有するフラスコに約１時間かけて滴加した。ソルベイ・ソレキシスＳｐＡ（Solvay-Solexis SpA）（イタリア、ボレート（Bollate））（ソルベイ・ソレキシス社（Solvay-Solexis, Inc.）（ニュージャージー州、トロフェア（Thorofare）））から商標名Ｈ−ガルデンＺＴ１８０（（H-GALDEN ZT 180）で市販されているこの熱伝達流体は、一般式、ＨＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２Ｈ（ｍ及びｎは独立して変化する）を有し、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）で測定した場合の数平均分子量は約５９０であった。この熱伝達流体はガスクロマトグラフィー（ＧＣ）で測定した場合に少なくとも７つの分離性の構成成分を含有していた（ＧＣ）。続いて、２回の追加のＳｂＦ５（各１．８ｇ）をフラスコに加えた。ガスの放出、おそらくＣＦ３Ｈ、が認められた。最後のＳｂＦ５を加えた後、得られた混合物を室温で２時間撹拌し、及び３８ｇの生成物ジアシルフルオライド類を混合物から直接、９５℃のヘッド温度まで蒸留した。得られた物質の赤外線（ＩＲ）スペクトルは、１８８８．６ｃｍ−１にＣＯＦ基に関するカルボニル吸収帯の存在を示した。この物質は多数のペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド類の混合物であった。
【００６１】
ペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド混合物（３８ｇ）を２６０．４ｇの無水ジエチレングリコールジメチルエーテル（「ジグリム」；シグマ・アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Sigma-Aldrich Chemical Company）（ウィスコンシン州、ミルウォーキー（Milwaukee））から入手）、５ｇの噴霧乾燥されたフッ化カリウム（シグマ・アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（ウィスコンシン州、ミルウォーキー）から入手し、及び更にエアオーブン中で１２０℃にて乾燥）、及び４．９ｇのアドゲン（ADOGEN）４６４相間移動触媒（シグマ・アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（ウィスコンシン州、ミルウォーキー）から入手したメチルトリアルキル（Ｃ８〜Ｃ１０）アンモニウムクロライド；無水ジグリム中４９重量％溶液）を、６００ｍＬの反応器（圧力容器又はパール・インストルメント・カンパニー（Parr Instrument Company）（イリノイ州、モリーン（Moline））から入手したパール（Parr）反応器）中で組み合わせた。反応器を密閉し及び７５℃に加熱した。過剰（９０ｇ）のヘキサフルオロプロペン（ＨＦＰ；ダイネオン（Dyneon）（ミネソタ州、セントポール（St. Paul）から入手）を１０ｇずつ２時間かけて反応器に加えた。ＨＥＰ各１０ｇの添加後に、反応器内の圧力は約３１０ｋＰａ（３．０６気圧（４５ｐｓｉｇ））まで上昇し、約１０分以内に６８．９ｋＰａ（０．６８気圧（１０ｐｓｉｇ））未満まで下降した。ＨＦＰの添加が終了した後、反応器を７５℃で一晩撹拌した。 反応器を周囲温度まで冷却した後、反応器を開け、及び内容物をろ過して固体フッ化カリウム触媒を除去した。得られた下方のフルオロケミカル相（１１０ｇ）をろ過された反応混合物から分液漏斗を用いて除去した。得られた混合物を濃縮管蒸留カラムを用いて蒸留し、及び２４℃〜１０８℃で蒸留される留分（ＨＦＰの二量体類を含有していた）を廃棄した。１０８℃〜１２６℃及び１２６℃〜１７４℃で蒸留される中間の留分（有意な量のＨＦＰの三量体類を含有していた）もまた廃棄した。１７４℃〜１９９℃で蒸留される留分をＩＲ分光法により及びガスクロマトグラフィー質量分析法（ＧＣＭＳ）により分析した。この留分のＩＲスペクトルはペルフルオロポリエーテルジケトン構造と一致した（１７９５ｃｍ−１におけるＣＯ吸収帯が観測され、明白なＣＨ吸収帯は観測されなかった）。ＧＣＭＳデータは所望のペルフルオロポリエーテルジケトン構造体と一致する分子量の幾つかの化合物の存在を示した。ジケトン構造体の更なる証拠がＦ１９ＮＭＲによって得られ、これによってこの留分の主要な構成成分が数平均分子量が７３４の所望のジケトン類であることが示された。１７４℃〜１９９℃で蒸留される留分（すなわちジケトン含有留分）の運動粘度は、ウベローデ（Ubbelohde）５４５−２０粘度計及びショット（SCHOTT）ＡＳ３５０粘度計タイマーを用いて測定され、０℃において４．８８×１０−６ｍ２／ｓ（４．８８センチストークス）及び−５０℃において７７．２９×１０−６ｍ２／ｓ（７７．２９センチストークス）であることがわかった。
【００６２】
（実施例２）
（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ（ＯＣ２Ｈ５）ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＦ（ＯＣ２Ｈ５）ＣＦ（ＣＦ３）２の調製
２１．６ｇの実施例１のジケトン（１７４℃よりも高い温度で沸騰する留分）、１５２ｇのジグリム（４Ａモレキュラーシーブで乾燥されたもの）、７．９ｇの無水フッ化カリウム、４．１ｇのアドゲン（ADOGEN）４６４相間移動触媒（無水ジグリム中４９重量％溶液）、及び１９．０ｇの硫酸ジエチル（シグマ・アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Sigma-Aldrich Chemical Company）（ウィスコンシン州、ミルウォーキー（Milwaukee））から入手可能）をオーバーヘッド撹拌器及び熱電対を備えた２５０ｍＬの丸底フラスコに配置した。得られた混合物を５２℃に加熱した。約７２℃までの短い発熱があり、その後温度を５２℃で６０時間保った。６０時間の終わりに、１８ｇの４５重量％水性水酸化カリウム（シグマ・アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Sigma-Aldrich Chemical Company）（ウィスコンシン州、ミルウォーキー（Milwaukee））から入手）を混合物に加え、得られた混合物を更に６５℃に２時間加熱して残りの硫酸ジエチルを加水分解した。得られた混合物を幾らかの水を加えて更に大きなフラスコに移し、ディーン・スターク・トラップ（Dean Stark trap）を用いて蒸留して上方の水相をフラスコに戻した。トラップ中の下方のフルオロケミカル相を分離し（１２．８ｇ）、水で一度洗浄し、ガス液体クロマトグラフィー（ＧＬＣ）、ＩＲ分光法、及びガスクロマトグラフィー・質量分析法（ＧＣＭＳ）によって分析した。ＩＲスペクトルはカルボニルの吸収を示さず、及び２９００〜３０００ｃｍ−１領域にエチル基に起因する混合隆起帯を有していた。ＧＬＣの結果は、２組の生成物の形成に伴う、出発ジケトン類の完全な消費を示した。主生成物（生成混合物の約８６重量％を構成する）は所望のビス（エチルエーテル）生成物シリーズであり、ＧＣＭＳ分析（７２２〜９５４の質量範囲を有する一連のビス（エチルエーテル類）を示した）と一致した。
【００６３】
（実施例３）
（ＣＦ３）２ＣＦＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２の調製
１１１ｇの（ＦＣ（Ｏ）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２）２Ｏ、２．２ｇの無水フッ化カリウム、０．２３ｇのアドゲン（ADOGEN）４６４相間移動触媒、及び５２ｇの無水ジグリムを、撹拌器、加熱器、及び熱電対を備えた６００ｍＬの清浄で乾いた反応器に加えた。（このＦＣ（Ｏ）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２）２Ｏは、本質的に米国特許第５，３９９，７１８号（コステロ（Costello）ら）に記載されるとおりに、（ＣＨ３ＣＯ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２）２Ｏを直接フッ素化して、全フッ素化ジエステルを形成し、これを、本質的に米国特許第５，４６６，８７７号（ムーア（Moore））に記載されているとおりに、触媒量のピリジンと反応させることによって対応するジアシルフルオライド、（ＦＣ（Ｏ）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２）２Ｏに変換することにより、調製した。反応器を密閉し、ドライアイス中で約−５０℃に冷却し、９０ｇのＨＦＰを加えた。反応器をドライアイスから取り出し、１２５℃の温度に２．５時間にわたって加熱した。反応器内の圧力は最大１１３７ｋＰａ（１０．８９気圧（１６５ｐｓｉｇ））に達し、及びその後２．５時間後に２７６ｋＰａ（２．７２気圧（４０ｐｓｉｇ））まで下降した。反応器の内容物を放冷し、過剰の圧力を抜いた。反応器の内容物を分液漏斗に加え、内容物の下相（２０２．９ｇ）を単離した。残った上相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、得られた下相（１５．８ｇ）を前述の下相と合わせた。この相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム（シグマ・アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Sigma-Aldrich Chemical Company）（ウィスコンシン州、ミルウォーキー（Milwaukee））から入手）で乾燥し、減圧下で分留して、０．０５気圧（１３ｍｍＨｇ）で７８〜８８℃で沸騰する６２．０ｇの分留カットを得た。ＮＭＲ分析はこの分留カットの構造を９６モル％の純粋な、１，１，３，４，４，４−ヘキサフルオロ−１−｛１，１，２，２−テトラフルオロ−２−［１，１，２，２−テトラフルオロ−２−（１，１，３，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−オキソ−３−トリフルオロメチル−ブトキシ）−エトキシ］−エトキシ｝−３−トリフルオロメチル−ブタン−２−オンであると確認した。この分留カットの粘度は、ウベローデ（Ubbelohde）５４５−２０粘度計及びショット（SCHOTT）ＡＳ３５０粘度計タイマーを用いて測定したとき、０℃で５．８×１０−６ｍ２／ｓ（５．８センチストークス）及び−５０℃で１３５．６×１０−６ｍ２／ｓ（１３５．６センチストークス）であることが分かった。
【００６４】
４．４３ｇの前記分留カットを４．４６ｇの蒸留水とともに密閉された金属（モネル（MONEL））チューブ内で１８０℃で１７時間加熱し、及びその後冷却した。得られたフルオロケミカル相のＮＭＲによる分析により、その相が９３．４モル％の不変の分留カットを含有していたことが示され、比較的厳しい条件下での驚くべき安定性を示した。
【００６５】
（実施例４）
（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ（ＯＣＨ３）ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２）２ＣＦ２ＣＦ（ＯＣＨ３）ＣＦ（ＣＦ３）２の調製
４０．０ｇの上記の実施例３で調製された（ＣＦ３）２ＣＦＣ（Ｏ）ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２）２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２、８．０ｇの無水フッ化カリウム、２．９ｇのアドゲン（ADOGEN）４６４相間移動触媒、１９．０ｇの硫酸ジメチル、及び１００ｇの無水ジグリムを撹拌器、加熱器、熱電対、及び水冷コンデンサを備えた清浄な乾いた２５０ｍＬの丸底フラスコに加えた。フラスコ及びその内容物を３２℃に加熱し及びその温度で６５時間保持した。次にフラスコに２２ｇの水を加え、及び内容物を更に６０℃に加熱し、及びその温度で２４時間保持した。追加の２０ｇの水をフラスコに加え、得られた混合物を蒸気蒸留して３７．４ｇの８５．４重量％の純粋な化合物を得た。構造をＧＣＭＳにより確認した。
【００６６】
（実施例５）
（ＣＦ３）２ＣＦＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２の調製
ＦＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｃ（Ｏ）Ｆを、本質的に米国特許第５，３９９，７１８号（コステロ（Costello）ら）に記載されているとおりにフォンブリンＺ−ＤＥＡＬ（FOMBLIN Z-DEAL）ペルフルオロポリエーテルジ（メチルエステル）（ソルベイ・ソレキシスＳｐＡ（Solvay-Solexis SpA）（イタリア、ボレート（Bollate））（ソルベイ・ソレキシス社（Solvay-Solexis, Inc.）（ニュージャージー州、トロフェア（Thorofare）））から市販）をフッ素と反応させ、全フッ素化ジエステルを形成し、これを、本質的に米国特許第５，４６６，８７７号（ムーア（Moore））に記載されているとおりに、触媒量のピリジンと反応させることによって対応するジアシルフルオライドへと変換することにより調製した。２００ｇの、６６．０モル％の純粋なＦＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｃ（Ｏ）Ｆ及び１８１ｇの無水ジグリムを撹拌器、加熱器、及び熱電対を備えた清浄な乾いた６００ｍＬのパール（Parr）反応器に加えた。反応器を密閉し、及び０．６７気圧（２０インチの水銀）減圧まで排気した。反応器を７５℃に加熱し、４２．１ｇ（０．２８モル）のＨＦＰを１時間かけて反応器に加えた。反応器の内容物を７５℃にて更に１６時間撹拌した。反応器を室温に冷却し、過剰の圧力を抜いた。反応器の内容物をろ過し、次いで分液漏斗に加え得られた下相を単離した。ＮＭＲ分析により４２モル％の所望のジケトンが示された。
【００６７】
（実施例６）
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３の調製
５ｇ（０．０８６モル）のフッ化カリウム、２６４ｇの無水ジグリム、７．４ｇ（無水ジグリム中４９％溶液）アドゲン（ADOGEN）４６４相間移動触媒、４９ｇの実施例１に記載のペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド混合物、及び９０．５ｇ（０．２７モル）のＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ＝ＣＦ２を６００ｍＬのパール（Parr）反応器に配置した。反応器を密閉し、及び７５℃に約４８時間加熱した。次いで反応器を冷却し、圧抜きし、その内容物を焼結ガラス漏斗を通してろ過し、得られたろ液を分離して１１５ｇのフルオロケミカル相を得た。次にこの相を蒸留し、３４℃〜約１２０℃の範囲の温度で沸騰する多数の留分に分離した。２つの留分をＧＣＭＳで分析し、ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ５；
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ３；
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ３；ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）２ＣＦ２ＯＣＦ３；ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）３ＣＦ３；ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３；及びＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）２ＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３、の構造と一致する質量を有する、種々のペルフルオロポリエーテルケトン類を含有することがわかった。この２つの留分のＩＲスペクトルは約１７９４ｃｍ−１にカルボニルバンドを含有しており、全フッ素化ケトン構造に一致した。
【００６８】
（実施例７）
ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３の調製
５ｇ（０．０８６モル）のフッ化カリウム、２７２ｇの無水ジグリム、８．９ｇ（無水ジグリム中４９％溶液）のアドゲン（ADOGEN）４６４相間移動触媒、７６ｇの実施例５に記載のペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド混合物、及び７６ｇ（０．２３モル）のＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ＝ＣＦ２を、６００ｍＬのパール（Parr）反応器に配置した。反応器を密閉し、７５℃に約４８時間加熱した。次に反応器を冷却し、圧抜きし、その内容物を焼結ガラス漏斗を通してろ過し、得られたろ液を分離し、２−ブタノンで１回洗浄して、１０５ｇのフルオロケミカル相を得た（揮発性物質を回転蒸発させた後）。次にこの相を真空下で蒸留し３４ｋＰａ（０．００７気圧（５ｍｍＨｇ））でヘッド温度４４℃までの最低沸点物質を除去した。ポット中に残った蒸留残留物は重さ６７ｇであった。残留物のＩＲ分析は、１８９０ｃｍ−１（未反応ペルフルオロポリエーテルジアシルフルオライド）、１７９５ｃｍ−１、及び１８１３ｃｍ−１に３つのカルボニルピークを示した。ＮＭＲ分析により、この残留物がペルフルオロポリエーテル鎖上に、約５７モル％のＯＣＦ２ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３である末端基、及び１６モル％のＯＣＦ２ＣＯＦである末端基を含有することが示された。他の末端基もまた存在していた。
【国際調査報告】
2009521457.tif 000003
2009521457.tif 000004