(57)【要約】  本発明は、３,５−置換ピペリジン化合物、温血動物の診断的および治療的処置に使用するための、とりわけレニンの活性に依存する疾患(＝障害)の処置のためのこれらの化合物；レニンの活性に依存する疾患の処置用医薬製剤の製造のためのこのクラスの化合物の使用；レニンの活性に依存する疾患の処置におけるこのクラスの化合物の使用；３,５−置換ピペリジン化合物を含む医薬製剤、および／または３,５−置換ピペリジン化合物を投与することを含む方法、３,５−置換ピペリジン化合物の製造法、およびその合成のための新規中間体および部分的工程に関する。好ましい化合物(塩としても存在できる)は、式Ｉ'【化１】2009522226.tif 001373〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｔ、Ｒ３およびＲ４は明細書で定義の通りである。〕を有する。
2009522226.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ'
【化１】
2009522226.tif 001235
〔式中、
Ｒ１は水素、非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリルまたは非置換もしくは置換シクロアルキルであり；
Ｒ２は非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換シクロアルキル、またはアシルであり；
Ｒ３は水素、非置換もしくは置換アリールまたは非置換もしくは置換アルキルであり；
Ｒ４は非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換シクロアルキル、またはアシルであるか；
またはＲ３およびＲ４は、一緒になって、置換されていなくても置換されていてもよい３〜７員窒素含有飽和炭化水素環を形成でき；
Ｒ６は水素、ハロ、非置換アルキルまたは非置換アルコキシであり；
Ｒ７およびＲ８は、互いに独立して水素またはハロであり；そして
Ｔはメチレンまたはカルボニルである。〕
の化合物、またはその塩。
【請求項２】
式Ｉ
【化２】
2009522226.tif 001236
〔式中、
Ｒ１は水素、非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリルまたは非置換もしくは置換シクロアルキルであり；
Ｒ２は非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換シクロアルキル、またはアシルであり；
Ｒ３は水素、非置換もしくは置換アリールまたは非置換もしくは置換アルキルであり；
Ｒ４は非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換シクロアルキル、またはアシルであるか；
またはＲ３およびＲ４は、一緒になって、置換されていなくても置換されていてもよい３〜７員窒素含有飽和炭化水素環を形成でき；そして
Ｔはメチレンまたはカルボニルである。〕
の構造を有する、請求項１に記載の化合物またはその塩。
【請求項３】
Ｒ１が水素、非置換もしくは置換アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキルであり；
Ｒ２が非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリールまたは非置換もしくは置換ヘテロシクリルであり；
Ｒ３が水素または非置換もしくは置換アルキルであり、
Ｒ４が非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換シクロアルキルまたはアシルであるか；
またはＲ３およびＲ４が、一緒になって、置換されていなくても置換されていてもよい３〜７員窒素含有飽和炭化水素環を形成でき；そして
Ｔがカルボニル(Ｃ(＝Ｏ))である；
化合物、またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩である、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項４】
包括的用語が以下に記載する意味を有する、請求項１から３のいずれかに記載の化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩：
“Ｃ１−Ｃ７−”は、最大７個まで(７個を含む)、とりわけ最大４個まで(４個を含む)の炭素原子を有する部分を意味し、該部分は分枝しているか(１個所以上)または直鎖であり、そして末端または非末端炭素を介して結合しており；
ハロまたはハロゲンはフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨード、最も好ましくはフルオロ、クロロまたはブロモであり；
非置換もしくは置換アルキルはＣ１−Ｃ２０−アルキル、より好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキルであり、これは、直鎖であるか、または、１個所もしくは適当であればそれ以上分枝しており、それは非置換であるか、または後記の通りの非置換もしくは置換ヘテロシクリル、とりわけピロリル、フラニル、チエニル、チアゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキセチジニル、３−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−オキセチジニル、ピリジル、ピリミジニル、モルホリノ、チオモルホリノ、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラノニル、テトラヒドロ−ピラニル、１Ｈ−インダザニル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、イソキノリニル、キノリニルまたはインドリル(この各々は非置換であるか、または非置換もしくは置換ヘテロシクリルについて下記の通り、例えばヒドロキシ、ハロ、例えばクロロ、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、シアノおよびＣ１−Ｃ７−アルカノイル、例えばアセチルから独立して選択される１〜３個の置換基で置換されている)；後記の通りの非置換もしくは置換シクロアルキル、とりわけシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシル(この各々は非置換であるか、または、非置換もしくは置換シクロアルキルについて下記の通り、とりわけ４個までのＣ１−Ｃ７−アルキル部分置換されている)；後記の通りの非置換もしくは置換アリール、とりわけ後記の通りの非置換もしくは置換フェニル、ナフチル、インデニルまたはインダニル；およびＣ２−Ｃ７−アルケニル、Ｃ２−Ｃ７−アルキニル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェニル−またはナフチルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニルおよび／またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルオキシ、ベンゾイル−またはナフトイルオキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコチオ、例えばトリフルオロメチルチオ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、フェニル−またはナフチルチオ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、ニトロ、アミノ、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキルおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、ベンゾイル−またはナフトイルアミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ、フェニル−またはナフチルスルホニルアミノ)、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニルアミノ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル−カルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−カルボニル、フェニル���またはナフチルオキシカルボニル、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(ナフチル−またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキルおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、シアノ、スルフェニル(−Ｓ−ＯＨ)、スルホニル(−Ｓ(＝Ｏ)−ＯＨ)、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルフィニル(Ｃ１−Ｃ７−アルキル−Ｓ(＝Ｏ)−)、フェニル−またはナフチルスルフィニル、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルフィニル、スルホニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、フェニル−またはナフチルスルホニル、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、スルファモイル、Ｎ−モノまたはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル−、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキルおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニル、Ｎ−モノ−、Ｎ'−モノ−、Ｎ,Ｎ−ジ−またはＮ,Ｎ,Ｎ'−トリ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニルおよび／またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルアミノまたは−アミノカルボニルオキシおよびＮ−モノ−、Ｎ'−モノ−、Ｎ,Ｎ−ジ−またはＮ,Ｎ,Ｎ'−トリ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキル,Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニルおよび／またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニルアミノから成る群から選択される１個以上、例えば３個までの部分で置換されており；
前段落で記載の置換アルキルの置換基としてまたは置換基の一部としての全てのフェニル、ナフチル、インデニル、インダニル、ピリジルまたはインドリニルは、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルケニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキニル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばトリフルオロメチル、ハロ、とりわけフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨード(以下の−オキシ置換基は好ましくは環窒素に結合していない)ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、アミノ、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルおよび／またはフェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル)−アミノ、カルボキシ(好ましくは環窒素に結合していない)、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル(cabonyl)、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、シアノ、スルホニル、スルファモイル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニルおよびニトロから成る群から独立して選択される１個以上、好ましくは３個までの部分で、または好ましくは、好ましい置換基が記載されているとき、これらの記載の置換基の１個以上で置換されており；非常に好ましくは、非置換もしくは置換アルキルはフェニルメチル、２−シクロヘキシル−２−フェニル−エチル、２,２−ジフェニルエチル、２,２−ジフェニル−ｎ−ブチル、２,３−ジフェニル−ｎ−プロピル、ナフチルメチル、２−フェニル−２−ピリジルエチル、インドリルメチル、２−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル−２,２−ジフェニル−エチル、４−メチル−２−フェニル−ｎ−ペンチルまたは５−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−２−ジフェニルメチルペンチルであり、ここで、置換アルキルの置換基として記載の全てのフェニル、ナフチル、ピリジルまたはインドリルは、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ω−ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、オキソ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ−アルカノイル、フェニル、ハロ、とりわけクロロまたはブロモ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェノキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカンスルホニルおよびシアノから成る群から選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されており；
非置換もしくは置換アルケニルは、直鎖または分枝鎖である、１個または可能であればそれ以上の二重結合を有するＣ２−Ｃ２０−アルケニル、より好ましくはＣ２−Ｃ７−アルケニルであり、それは非置換であるか、または、置換アルキルの置換基として記載のものおよび非置換もしくは置換アリール(各々好ましくは上記および下記の通り)から選択される１個以上、例えば３個までの部分で置換されており；
非置換もしくは置換アルキニルは、直鎖または分枝鎖である、１個または可能であればそれ以上の三重結合を有するＣ２−Ｃ２０−アルキニル、より好ましくはＣ２−Ｃ７−アルキニルであり、それは非置換であるか、または、置換アルキルの置換基として記載のものおよび非置換もしくは置換アリール(各々好ましくは上記および下記の通り)から選択される１個以上、例えば３個までの部分で置換されており；
非置換もしくは置換アリールは、６〜２２個の炭素原子の単または二環式アリール、とりわけフェニル、インデニル、インダニルまたはナフチルであり、そして非置換であるか、または、好ましくは以下から成る群から独立して選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されており：
式−(Ｃ０−Ｃ７−アルキレン)−(Ｘ)ｒ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキレン)−(Ｙ)ｓ−(Ｃ０−Ｃ７−アルキレン)−Ｈ(ここで、Ｃ０−アルキレンは結合したアルキレンの代わりに結合が存在することを意味し、いずれの場合もアルキレンは直鎖または分枝鎖でよく、そして非置換であるか、例えば置換アルキルについて定義の部分、とりわけハロ、とりわけフルオロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキシ、アミノ、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、カルボキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニルまたはシアノで１個以上置換されており、ｒおよびｓは、互いに独立して、０または１であり、そしてＸおよびＹの各々は、存在するならば、互いに独立して−Ｏ−、−ＮＶ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＶ−ＣＯ−；−ＣＯ−ＮＶ−；−ＮＶ−ＳＯ２−、−ＳＯ２−ＮＶ；−ＮＶ−ＣＯ−ＮＶ−、−ＮＶ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＶ−、−ＮＶ−ＳＯ２−ＮＶ−であり、ここで、Ｖは水素または上記で定義の非置換もしくは置換アルキル、とりわけＣ１−Ｃ７−アルキルであるか、またはフェニル、ナフチル、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたはハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルである)の置換基であり；ここで、該置換基−(Ｃ０−Ｃ７−アルキレン)−(Ｘ)ｒ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキレン)−(Ｙ)ｓ−(Ｃ０−Ｃ７−アルキレン)−Ｈは、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルまたはｔｅｒｔ−ブチル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばトリフルオロメチル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えば３−メトキシプロピルまたは２−メトキシエチル、ω−ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニルオキシ−またはナフチルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばアミノメチル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、ナフチル−、フェニル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７アルコキシ、Ｃ１−Ｃ��−アルカノイルオキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニルオキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、例えばトリフルオロメチルチオ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−および／またはＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−)アミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニルアミノ、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−カルボニル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、(Ｎ−)モノ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、Ｎ−モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルバモイルまたはＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニルであり；
Ｃ２−Ｃ７−アルケニル、Ｃ２−Ｃ７−アルキニル、フェニル、ナフチル、とりわけヘテロシクリルについて後記の通りの、好ましくはピロリル、フラニル、チエニル、ピリミジン−２,４−ジオン−１−、−３−または−５−イルおよびテトラヒドロフラニルから選択されるヘテロシクリル、[フェニル−またはナフチル−またはＣ３−Ｃ８−シクロアルキルまたはヘテロシクリルまたはトリハロ(とりわけトリフルオロ)メトキシ]−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシであり、ここで、フェニルまたはナフチルは、好ましくは非置換であるか、または、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルコキシおよび／またはハロで置換されており、ここで、ヘテロシクリルは以下で定義の通りであり、好ましくはピロリル、フラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルおよびチエニルから選択され；例えばベンジルまたはナフチルメチル、テトラヒドロフラニル−またはテトラヒドロピラニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ベンゾイル−またはナフトイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、(フェニル−またはナフチル−または(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル)−スルホニルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル(ここで、フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリルは、非置換であるか、好ましくは１個以上、とりわけ１〜３個の、Ｃ１−Ｃ７−アルキル部分で置換されている)、(フェニルまたはナフチルまたは(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、ヒドロキシ、ヘテロシクリルまたはフェニルまたはナフチル)−オキシ、ベンゾイルまたはナフトイルまたはヘテロシクリルカルボニル)−オキシ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−アミノカルボニルオキシ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−チオ、(ベンゾイルまたはナフトイルまたはヘテロシクリル)−チオ、ニトロ、アミノ、ジ−((ナフチルまたはフェニルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、(ベンゾイルまたはナフトイルまたはヘテロシクリル)−アミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−カルボニルアミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−スルホニルアミノ(ここで、フェニルまたはナフチルは、非置換であるか、または１個以上、とりわけ１〜３個のＣ１−Ｃ７−アルキル部分で置換されている)、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−アミノカルボニルアミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アミノカルボニルアミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−オキシカルボニルアミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニルアミノ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル−カルボニル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、(Ｎ−)モノ−または(Ｎ,Ｎ−)ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボ��ル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、(フェニルまたはナフチルまたは(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル)−オキシカルボニル、(フェニルまたはナフチルまたは(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、(Ｎ,Ｎ−)ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−モノまたはＮ,Ｎ−ジ−(ナフチルまたはフェニルまたは(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル)−アミノカルボニル、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルキレン(これは非置換であるか、または、４個までのＣ１−Ｃ７−アルキル置換基で置換されており、アリール部分の２個の隣接環原子に結合している)、スルフェニル、スルフィニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルフィニル、(フェニルまたはナフチルまたは(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル)−スルフィニル(ここで、フェニルまたはナフチルは、非置換であるか、好ましくは１個以上、とりわけ１〜３個のＣ１−Ｃ７−アルキル部分で置換されている)、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルフィニル、スルホニル、(フェニルまたはナフチルまたは(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル)−スルホニル(ここで、フェニルまたはナフチルは、非置換であるか、好ましくは１個以上、とりわけ１〜３個のＣ１−Ｃ７−アルキル部分で置換されている)、(フェニルまたはナフチルまたは(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、スルファモイルおよびＮ−モノまたはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル−、ナフチル、(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／または(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニルであり；
ここで、置換アリール(“式−(Ｃ０−Ｃ７−アルキレン)−(Ｘ)ｒ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキレン)−(Ｙ)ｓ−(Ｃ０−Ｃ７−アルキレン)−Ｈ”で始まり“アミノスルホニルであり”で終わる２個前の段落)の置換基または置換基の一部として記載の全てのフェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル(このヘテロシクリルは、好ましくはヘテロシクリルについて定義の通りであり、より好ましくはピロリル、フラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルおよびチエニルから選択される)は、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルケニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキニル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばトリフルオロメチル、ハロ、とりわけフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨード、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、アミノ、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルおよび／またはフェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル)−アミノ、カルボキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル(cabonyl)、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、シアノ、スルホニル、スルファモイル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニルおよびニトロから成る群から独立して選択される１個以上、好ましくは３個までの部分で、または好ましくは、好ましい置換基が記載されているとき、これらの記載の置換基の１個以上で置換されており；
非置換もしくは置換ヘテロシクリルは、好ましくは３〜２２個、より好ましくは３〜１４個の環原子および１個以上、好ましくは１〜４個の、窒素、酸素および硫黄から独立して選択されるヘテロ原子を有し、不飽和の、部分的飽和のまたは飽和の環系の単または二環式ヘテロ環式部分であり、それは非置換であるか、または、好ましくはアリールについて上記の置換基およびオキソおよびチオキソから選択される１個以上、例えば３個までの置換基で置換されており；好ましくは、非置換もしくは置換ヘテロシクリルは、以下の部分から選択される：
【化３】
2009522226.tif 001237
【化４】
2009522226.tif 001238
【化５】
2009522226.tif 001239
【化６】
2009522226.tif 001240
【化７】
2009522226.tif 001241
【化８】
2009522226.tif 001242
【化９】
2009522226.tif 001243
ここで、各場合、環原子に結合したＨと各ヘテロシクリル部分を分子の残りに接続するアスタリスクで示す結合が存在するとき、Ｈは該結合で置換でき、そして、存在するならば、環原子に結合した１個以上のさらなるＨ原子を、直前に記載の通り１個以上の置換基で置換してよく；非置換もしくは置換ヘテロシクリルとして非常に好ましいのはテトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、ピペリジニル、ピリジル、チオフェニル、チアゾリル、ピラゾリル、インドリル、キノリニルまたは２Ｈ−１,４−ベンズオキサジン−３(４Ｈ)−オニルであり、この各々は非置換であるか、または、置換アリールについて上記の置換基から独立して選択される１個以上、とりわけ３個までの置換基で、とりわけＣ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、オキソ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、フェニル、ハロ、とりわけクロロまたはブロモ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェノキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカンスルホニルおよびシアノから成る群から独立して選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されており；
非置換もしくは置換シクロアルキルは、好ましくは単または二環式、より好ましくは単環式、Ｃ３−Ｃ１０−シクロアルキルであり、それは１個以上の二重および／または三重結合を含んでよく、そして非置換であるか、または、好ましくはアリールについて上記のもの、とりわけＣ３−Ｃ８−シクロアルキル(非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキルから選択される４個までの置換基で置換されている)、フェニル(それは非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、オキソ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、フェニル、ハロ、例えばクロロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７アルコキシ、フェノキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、カルバモイル、Ｃ１−Ｃ７−アルカンスルホニルおよびシアノから成る群から独立して選択される１個以上、とりわけ３個までの置換基で置換されている)、カルバモイルおよびシアノから独立して選択される１個以上、例えば１〜４個の置換基で置換されており；好ましいのは、非置換であるか、または、ヒドロキシル、ヒドロキシル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルバモイルおよびシアノから選択される４個までの部分で置換されているシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルまたはシクロオクチルであり；
アシルは、好ましくは非置換もしくは置換アリール−カルボニルまたは−スルホニル、非置換もしくは置換ヘテロシクリルカルボニルまたは−スルホニル、非置換もしくは置換シクロアルキルカルボニルまたは−スルホニル、ホルミルまたは(非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−カルボニルまたは−スルホニル、または(とりわけＮ、ＳまたはＯに結合しているならば)非置換もしくは置換アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換アリール−オキシカルボニル、非置換もしくは置換ヘテロシクリルオキシカルボニル、非置換もしくは置換シクロアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−オキシカルボニル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−オキシカルボニル、非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−オキシカルボニルまたはＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換シクロアルキル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは非置換もしくは置換アルキル)−アミノカルボニルまたは−アミノスルホニルである。ただし、オキシカルボニル結合部分は、好ましくは分子の残りの窒素に結合しており；好ましいアシル部分は、非置換であるか、または、ヒドロキシ、アミノ、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノおよびＣ１−Ｃ７−アルカノイルアミノから成る群から独立して選択される１個以上、とりわけ３個まで、例えば１個または２個の部分で置換されているＣ１−Ｃ７−アルカノイル(例えばアセチル、２−メチル−プロピオニル、２−エチル−ブチリル、３−メチル−ブチリル、３,３−ジメチル−ブチリル、２,２−ジメチル−プロピオニル、３,３−ジメチル−ブチリル、３−ヒドロキシ−２,２−ジメチル−プロピオニル、Ｎ,Ｎ−ジメチル−アミノ−アセチルまたは２−(Ｎ−アセチルアミノ)−４−メチル−ブチリル)、非置換またはモノ−、ジ−またはトリ−(ハロ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルキル)−置換ベンゾイルまたはナフトイル(例えば４−メチル−ベンゾイル、または３,４−ジメトキシベンゾイル、フェニル−またはナフチル−Ｃ２−Ｃ７−アルカノイルであり、ここで、フェニルまたはナフチルは、非置換であるか、または、１個以上、とりわけ３個までのＣ１−Ｃ７−アルコキシ置換基で置換されており、例えば３−フェニル−プロピオニル、２,２,−ジメチル−２−フェニルアセチルまたは３−エトキシフェニルアセチルである)、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルバモイルおよびシアノから成る群から独立して選択される１個以上、例えば４個までの置換基で置換されているＣ３−Ｃ８−シクロアルキルカルボニル、例えばシクロプロピルカルボニル、２,２,３,３−テトラメチル−シクロプロピルカルボニル、１−カルバモイル−シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニルまたは１−シアノ−シクロプロピルカルボニル、ベンゾ[ｂ]チオフェニルカルボニル、例えばベンゾ[ｂ]チオフェン−２−カルボニル、テトラヒドロフラニルカルボニル、例えばテトラヒドロフラン−２−カルボニル、ピペリジニルカルボニル(それは非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルで置換されており、例えば１−アセチル−ピペリジン−４−カルボニルである)、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、例えばメチルスルホニル、(フェニル−またはナフチル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、例えばフェニルメタンスルホニル、[Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、フェニル−、ハロ−低級アルキル−、ハロ、オキソ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−、フェノキシ−、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、シアノおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルキルスルホニル−]−(モノ−、ジ−またはトリ−)置換)(フェニル−またはナフチル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルまたは(非置換または[Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、フェニル−、ハロ−低級アルキル−、ハロ、オキソ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−、フェノキシ−、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、シアノおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルキルスルホニル−]−(モノ−、ジ−またはトリ−)置換)(フェニル−またはナフチル)−スルホニルであり、１個以上の置換基が存在するとき、これらの置換基は記載のものから、例えばメタンスルホニル、フェニルメタンスルホニル、フェニルスルホニル、ナフタレン−１−スルホニル、ナフタレン−２−スルホニル、トルエン−４−スルホニル、４−イソプロピル−ベンゼンスルホニル、ビフェニル−４−スルホニル、２−トリフルオロメチル−ベンゼンスルホニル、３−トリフルオロメチル−ベンゼンスルホニル、４−トリフルオロメチルスルホニル、４−クロロ−ベンゼンスルホニル、３−クロロ−ベンゼンスルホニル、２−クロロ−ベンゼンスルホニル、２,４−ジフルオロ−ベンゼンスルホニル、２,６−ジフルオロ−ベンゼンスルホニル、２,５−ジクロロ−ベンゼンスルホニル、２,４−ジクロロベンゼンスルホニル、３,４−ジクロロ−ベンゼンスルホニル、３,５−ジクロロ−ベンゼンスルホニル、２,３−ジクロロ−ベンゼンスルホニル、３−メトキシ−ベンゼンスルホニル、４−メトキシ−ベンゼンスルホニル、２,５−ジメトキシ−ベンゼンスルホニル、２,４−ジメトキシベンゼンスルホニル、４−トリフルオロメトキシ−ベンゼンスルホニル、２−ベンジルオキシ−ベンゼンスルホニル、４−フェノキシ−ベンゼンスルホニル、４−(２−オキソ−プロピル)−ベンゼンスルホニル、３−アセチル−ベンゼンスルホニル、４−アセチルアミノ−ベンゼンスルホニル、４−シアノ−ベンゼンスルホニル、３−シアノ−ベンゼンスルホニル、２−シアノ−ベンゼンスルホニルまたは４−メタンスルホニル−ベンゼンスルホニル；ハロ−チオフェン−２−スルホニル、例えば５−クロロ−チオフェン−２−スルホニル、キノリン−スル��ニル、例えばキノリン−８−スルホニル、(Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルキル)−置換チアゾール−スルホニル、例えば２−アセチルアミノ−４−メチル−チアゾール−５−スルホニル、(ハロおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルキル)−置換ピラゾールスルホニル、例えば５−クロロ−１,３−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−スルホニル、ピリジン−スルホニル、例えばピリジン−３−スルホニル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、(非置換またはＣ１−Ｃ７−アルキル−および／またはハロ−置換)フェニルまたはナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたはＣ３−Ｃ８−シクロアルキル)−アミノカルボニル、例えばＣ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニル、とりわけＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−アミノカルボニル、Ｎ−フェニル−アミノカルボニル、Ｎ−(３−クロロ−フェニル)−アミノカルボニルまたはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニル、とりわけＮ−ベンジル−アミノカルボニル、または(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル(napthyl)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−オキシカルボニル、例えばＣ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、例えばメトキシエチルカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニルまたは２−(メトキシ)−エトキシカルボニル、またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニル、例えばベンジルオキシカルボニルから独立して選択される)であり；
置換されていなくても置換されていてもよい３〜７員窒素含有飽和炭化水素環は、好ましくは非置換であるか、または、好ましくはアリールの置換基として上記のものから、独立して選択される１個以上、例えば１〜４個の置換基で置換されており、とりわけ非置換であるか、または、ヒドロキシ、ハロ、例えばクロロ、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、シアノ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、例えばアセチル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシから選択される４個までの置換基、例えば１個の置換基で置換されている４−７員環であり；好ましくは、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシル、ハロ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよびシアノから選択される４個までの部分で置換されているピロリジンまたはピペリジン環がＲ３およびＲ４から形成され；
そしてＴはメチレン(ＣＨ２)または好ましくはカルボニル(Ｃ(＝Ｏ))である。
【請求項５】
部分Ｔ−ＮＲ１Ｒ２およびＮＲ３Ｒ４が、中心ピペリジンに対してｃｉｓ配置で結合している、請求項１から４のいずれかに記載の化合物、またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩。
【請求項６】
部分Ｔ−ＮＲ１Ｒ２およびＮＲ３Ｒ４が、中心ピペリジン環に対してｔｒａｎｓ配置で結合している、請求項１から４のいずれかに記載の化合物、またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩。
【請求項７】
式ＩＡまたはＩ'Ａ
【化１０】
2009522226.tif 001244
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｔ、Ｒ３およびＲ４は請求項１から４または１１から１７のいずれかに定義の通りである。〕
で示される立体配置を有する請求項５に記載の化合物、またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩。
【請求項８】
式ＩＢまたはＩ'Ｂ
【化１１】
2009522226.tif 001245
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｔ、Ｒ３およびＲ４は請求項１から４または１１から１７のいずれかに定義の通りである。〕
で示される立体配置を有する請求項５に記載の化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩。
【請求項９】
式ＩＣまたはＩ'Ｃ
【化１２】
2009522226.tif 001246
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｔ、Ｒ３およびＲ４は請求項１から４または１１から１７のいずれかに定義の通りである。〕
で示される立体配置を有する請求項６に記載の化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩。
【請求項１０】
式ＩＤまたはＩ'Ｄ
【化１３】
2009522226.tif 001247
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｔ、Ｒ３およびＲ４は請求項１から４または１１から１７のいずれかに定義の通りである。〕
で示される立体配置を有する請求項６に記載の化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩。
【請求項１１】
Ｒ１が水素、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキルまたはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばエチルまたはイソプロピル、またはＣ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロプロピルであり；
Ｒ２がピリミジル、ピリジル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ピリジル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、インドリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、１Ｈ−ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、キノリニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、１Ｈ−ピリジン−２−オニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、チオフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、クロマニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、２,３−ジヒドロベンゾフラニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニル、３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニルであるか、またはアシル、例えばフェニルカルボニルまたはインドリルカルボニルであり、ここで、Ｒ２について記載の各フェニル、ナフチル、ピリジル、ピリミジル、インドリル、ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル、キノリニル１Ｈ−ピリジン−２−オニル、チオフェニル、クロマニル、２,３−ジヒドロベンゾフラニル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニル、３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジルまたは４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニルは、置換基または置換基の一部である限り、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｎ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシから成る群から選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されており；
Ｒ３が水素、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチルであり；
Ｒ４が以下から成る群から選択され：
−分枝鎖Ｃ４−Ｃ１０−アルキル(これは非置換であるか、または：
非置換または置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、とりわけピロリル、フラニル、チエニル、チアゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、またはピリミジニル(この各々はここで記載のように非置換であるかまたは置換されている)、非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、とりわけここに記載の非置換もしくは置換フェニル；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、とりわけトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル；Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、アミノカルボニル、またはシアノ；とりわけＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、アミノカルボニル、シアノ、非置換または置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル；非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、とりわけここに記載の非置換もしくは置換フェニル；ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばメトキシまたはエトキシ、またはＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、例えばＣＯＮ(Ｍｅ)２から成る群の１個以上、例えば１個または２個で置換されていてよい)；
−  直鎖Ｃ１−Ｃ７−アルキル(これは、末端または非末端炭素に結合してよく、そして非置換であるか、または：
非置換または置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、とりわけピラジル、イソオキサゾリル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニル(この各々はここで記載のように非置換であるかまたは置換されている)；非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、とりわけここに記載の非置換もしくは置換フェニル；非置換または置換、好ましくは非置換、Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘプチル、シクロヘキシルまたはシクロペンチル(それはここで記載のように非置換であるかまたは置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル；とりわけ非置換または置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、とりわけピラジル、イソオキサゾリル、モルホリニル、ピペリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニル(この各々はここで記載のように非置換であるかまたは置換されている)；非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、とりわけここに記載の非置換もしくは置換フェニル；非置換または置換、好ましくは非置換、Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘプチルまたはシクロヘキシル(それはここで記載のように非置換であるかまたは置換されている)；ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノおよび、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルから成る群の１個以上、例えば１個または２個で置換されていてよい)；
−  非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロプロピル(それはここで記載のように非置換であるかまたは置換されている)、
−  非置換もしくは置換アリール、例えばフェニルおよびインダニル(それはここで記載のように非置換であるかまたは置換されている)、
−  非置換もしくは置換ヘテロシクリル、例えばアゼパン−２−オニル、テトラヒドロピラニル、１Ｈ−ピリジン−２−オニル、ピリジル、ピペリジニル、ピペラジニルまたはピロリジニル(それはここで記載のように非置換であるかまたは置換されている)、または
−  アシル、例えば(非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−スルホニル、とりわけフェニルメタンスルホニル；
またはＲ３およびＲ４が一緒になって非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシル、ハロ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよびシアノから選択される４個までの部分で置換されているピロリジンまたはピペリジン環を形成し；そして
Ｔがカルボニルまたはメチレンである；
請求項１から１０のいずれかに記載の化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩。
【請求項１２】
Ｒ６がＯＨ、Ｆ、Ｃ１−Ｃ４−アルキルまたはＣ１−Ｃ４−アルコキシである、請求項１から１１のいずれかに記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒ７およびＲ８が、互いに独立してＦである、請求項１から１２のいずれかに記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒ７およびＲ８の一方が水素であり、そして他方がＦである、請求項１から１３のいずれかに記載の化合物。
【請求項１５】
以下の式と表に示される通りの化合物から選択される、請求項１から４、５、６、７、８、９、１０、または１１のいずれかに記載の式Ｉの化合物、または各々それらの(好ましくは薬学的に許容される)塩：
【化１４】
2009522226.tif 001248
【表１】
2009522226.tif 001249
【表２】
2009522226.tif 001250
【表３】
2009522226.tif 001251
【表４】
2009522226.tif 001252
【表５】
2009522226.tif 001253
【表６】
2009522226.tif 001254
【表７】
2009522226.tif 001255
【表８】
2009522226.tif 001256
【表９】
2009522226.tif 001257
【表１０】
2009522226.tif 001258
【表１１】
2009522226.tif 001259
【表１２】
2009522226.tif 001260
【表１３】
2009522226.tif 001261
【表１４】
2009522226.tif 001262
【表１５】
2009522226.tif 001263
【表１６】
2009522226.tif 001264
【表１７】
2009522226.tif 001265
【表１８】
2009522226.tif 001266
【表１９】
2009522226.tif 001267
【表２０】
2009522226.tif 001268
【表２１】
2009522226.tif 001269
【表２２】
2009522226.tif 001270
【表２３】
2009522226.tif 001271
【表２４】
2009522226.tif 001272
【表２５】
2009522226.tif 001273
【表２６】
2009522226.tif 001274
【表２７】
2009522226.tif 001275
【表２８】
2009522226.tif 001276
【表２９】
2009522226.tif 001277
【表３０】
2009522226.tif 001278
【表３１】
2009522226.tif 001279
【表３２】
2009522226.tif 001280
【表３３】
2009522226.tif 001281
【表３４】
2009522226.tif 001282
【表３５】
2009522226.tif 001283
【表３６】
2009522226.tif 001284
【表３７】
2009522226.tif 001285
【表３８】
2009522226.tif 001286
【表３９】
2009522226.tif 001287
【表４０】
2009522226.tif 001288
【表４１】
2009522226.tif 001289
【表４２】
2009522226.tif 001290
【表４３】
2009522226.tif 001291
【表４４】
2009522226.tif 001292
【表４５】
2009522226.tif 001293
【表４６】
2009522226.tif 001294
【表４７】
2009522226.tif 001295
【表４８】
2009522226.tif 001296
【表４９】
2009522226.tif 001297
【表５０】
2009522226.tif 001298
【表５１】
2009522226.tif 001299
【表５２】
2009522226.tif 001300
【表５３】
2009522226.tif 001301
【表５４】
2009522226.tif 001302
【表５５】
2009522226.tif 001303
【表５６】
2009522226.tif 001304
【表５７】
2009522226.tif 001305
【表５８】
2009522226.tif 001306
【表５９】
2009522226.tif 001307
【表６０】
2009522226.tif 001308
【表６１】
2009522226.tif 001309
【表６２】
2009522226.tif 001310
【表６３】
2009522226.tif 001311
【表６４】
2009522226.tif 001312
【表６５】
2009522226.tif 001313
【表６６】
2009522226.tif 001314
【表６７】
2009522226.tif 001315
【表６８】
2009522226.tif 001316
【表６９】
2009522226.tif 001317
【表７０】
2009522226.tif 001318
【表７１】
2009522226.tif 001319
【表７２】
2009522226.tif 001320
【表７３】
2009522226.tif 001321
【表７４】
2009522226.tif 001322
【表７５】
2009522226.tif 001323
【表７６】
2009522226.tif 001324
【表７７】
2009522226.tif 001325
【表７８】
2009522226.tif 001326
【表７９】
2009522226.tif 001327
【表８０】
2009522226.tif 001328
【表８１】
2009522226.tif 001329
【表８２】
2009522226.tif 001330
【化１５】
2009522226.tif 001331
【表８３】
2009522226.tif 001332
【化１６】
2009522226.tif 001333
【表８４】
2009522226.tif 001334
【化１７】
2009522226.tif 001335
【表８５】
2009522226.tif 001336
【化１８】
2009522226.tif 001337
【表８６】
2009522226.tif 001338
【表８７】
2009522226.tif 001339
【化１９】
2009522226.tif 001340
【表８８】
2009522226.tif 001341
【化２０】
2009522226.tif 001342
【表８９】
2009522226.tif 001343
【化２１】
2009522226.tif 001344
【表９０】
2009522226.tif 001345
【化２２】
2009522226.tif 001346
【表９１】
2009522226.tif 001347
【表９２】
2009522226.tif 001348
【請求項１６】
以下の表に示す通りの、式：
【化２３】
2009522226.tif 001349
【表９３】
2009522226.tif 001350
の化合物から選択される、請求項１、１３または１４に記載の化合物、または各々それらの(好ましくは薬学的に許容される)塩。
【請求項１７】
以下の表に示す通りの、式：
【化２４】
2009522226.tif 001351
【表９４】
2009522226.tif 001352
の化合物から選択される、請求項１、１３または１４に記載の化合物、または各々それらの(好ましくは薬学的に許容される)塩。
【請求項１８】
温血動物の診断的または治療的処置に使用するための、請求項１から１７のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項１９】
レニンの活性に依存する疾患、とりわけ高血圧の処置において請求項１８に従い使用するための、請求項１から１７のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項２０】
レニンの活性に依存する疾患、とりわけ高血圧の処置用医薬組成物の製造のための、請求項１から１７、１８または１９のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項２１】
レニンの活性に依存する疾患、とりわけ高血圧の処置のための、請求項１から１７、１８または１９のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩の使用。
【請求項２２】
請求項１から１９のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩と、少なくとも１個の薬学的に許容される担体物質を含む、医薬製剤。
【請求項２３】
レニンの活性に依存する疾患の処置方法であって、そのような処置を必要とする温血動物、とりわけヒトに、薬学的に有効量の請求項１から１９のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を投与することを含む、方法。
【請求項２４】
請求項１から１９のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩の製造方法であって、
ａ)式II
【化２５】
2009522226.tif 001353
〔式中、Ｔはメチレンまたは好ましくはカルボニルであり、ＰＧは保護基であり、そしてＲ３およびＲ４は、請求項１から１９のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物、または(好ましくは)その活性誘導体と、式III
Ｒ１−ＮＨ−Ｒ２          (III)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１から１３のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物を反応させるか；または
ｂ)式IV
【化２６】
2009522226.tif 001354
〔式中、ＰＧは保護基であり、そしてＲ１およびＲ２は、請求項１から１９のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物、または(好ましくは)その活性誘導体と、式Ｖ
Ｒ３−ＮＨ−Ｒ４      (Ｖ)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は式IVの化合物について定義の通りである。〕
の化合物を反応させ；
そして、望むならば、上記工程のいずれか１個の後に得られる式Ｉの化合物またはその保護された形を異なる式Ｉの化合物に変換し、得られる式Ｉの化合物の塩を遊離化合物または異なる塩に変換し、得られる遊離の式Ｉの化合物をその塩に変換し、および／または得られる式Ｉの化合物の異性体混合物を個々の異性体に分離する工程を含み；
ここで、出発物質の全てにおいて、記載の特定の保護基に加えて、さらなる保護基が存在してよく、そして全ての保護基または結合している樹脂を、対応する式Ｉの化合物、またはその塩を得るために適当な段階で除去する、方法。
【請求項２５】
式VIIａまたはVIIｂ：
【化２７】
2009522226.tif 001355
〔式中、ＰＧは保護基であり、アルコールＲ５ＯＨを含み、ここで、Ｒ５は非置換もしくは置換アルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキルである。〕
の化合物、またはそれらの薬学的に許容される塩の製造方法であって、
式VI
【化２８】
2009522226.tif 001356
〔式中、ＰＧは式VIIａまたはVIIｂにおいて定義の通りである。〕
を、キラルアミン触媒の存在下で反応させることを含む、方法。
【請求項２６】
請求項１から１９のいずれかに記載の式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を製造するための、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
請求項１から１９のいずれかに記載の式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩の製造方法であって、
式(VIIａ)
【化２９】
2009522226.tif 001357
〔式中、ＰＧは保護基であり、そしてＲ５は非置換もしくは置換アルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキルである。〕
の化合物、または(好ましくは)その活性誘導体と、式III
Ｒ１−ＮＨ−Ｒ２          (III)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１から１９のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物を反応させ；所望の式VIII
【化３０】
2009522226.tif 001358
のアミドを得て、それをエステル部分の加水分解に付して、式IX
【化３１】
2009522226.tif 001359
の化合物を得て、その化合物または(好ましくは)その活性誘導体を、次いで、式Ｖ
Ｒ３−ＮＨ−Ｒ４          (Ｖ)
〔式中、Ｒ３およびＲ４は、請求項１から１９のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させて；式Ｘ
【化３２】
2009522226.tif 001360
の化合物を得ることができ、そして、望むならば、上記工程のいずれか１個の後に得られる式Ｉの化合物またはその保護された形を異なる式Ｉの化合物に変換し、得られる式Ｉの化合物の塩を遊離化合物または異なる塩に変換し、得られる遊離の式Ｉの化合物をその塩に変換し、および／または得られる式Ｉの化合物の異性体混合物を個々の異性体に分離することを含み；
ここで、出発物質の全てにおいて、記載の特定の保護基に加えて、さらなる保護基が存在してよく、そして全ての保護基または結合している樹脂を、対応する式Ｉの化合物、またはその塩を得るために適当な段階で除去する、方法。
【請求項２８】
請求項１から１９のいずれかに記載の式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩の製造方法であって、
式(VIIａ)
【化３３】
2009522226.tif 001361
〔式中、ＰＧは保護基であり、そしてＲ５は非置換もしくは置換アルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキルである。〕
の化合物を得て、その化合物または(好ましくは)その活性誘導体と、式Ｖ
Ｒ３−ＮＨ−Ｒ４          (Ｖ)
〔式中、Ｒ３およびＲ４は、請求項１から１９のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物を反応させ；所望の式XI
【化３４】
2009522226.tif 001362
のアミドを得て、それをエステル部分の加水分解に付して式XII
【化３５】
2009522226.tif 001363
の化合物を得て、その化合物または(好ましくは)その活性誘導体を、次いで式III
Ｒ１−ＮＨ−Ｒ２          (III)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１から１９のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させて；式XIII
【化３６】
2009522226.tif 001364
の化合物を得ることができ、そして、望むならば、上記工程のいずれか１個の後に得られる式Ｉの化合物またはその保護された形を異なる式Ｉの化合物に変換し、得られる式Ｉの化合物の塩を遊離化合物または異なる塩に変換し、得られる遊離の式Ｉの化合物をその塩に変換し、および／または得られる式Ｉの化合物の異性体混合物を個々の異性体に分離することを含み；
ここで、出発物質の全てにおいて、記載の特定の保護基に加えて、さらなる保護基が存在してよく、そして全ての保護基または結合している樹脂を、対応する式Ｉの化合物、またはその塩を得るために適当な段階で除去する、方法。
【請求項２９】
請求項１から１９のいずれかに記載の式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩の製造方法であって、
式(VIIｂ)
【化３７】
2009522226.tif 001365
〔式中、ＰＧは保護基であり、そしてＲ５は非置換もしくは置換アルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキルである。〕
の化合物または(好ましくは)その活性誘導体を、式III
Ｒ１−ＮＨ−Ｒ２          (III)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１から１９のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させ；所望の式XIV
【化３８】
2009522226.tif 001366
のアミドを得て、それをエステル部分の加水分解に付して式XV
【化３９】
2009522226.tif 001367
の化合物を得て、その化合物または(好ましくは)その活性誘導体を、次に式Ｖ
Ｒ３−ＮＨ−Ｒ４          (Ｖ)
〔式中、Ｒ３およびＲ４は、請求項１から１９のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させて；式XIII
【化４０】
2009522226.tif 001368
の化合物を得ることができ、そして、望むならば、上記工程のいずれか１個の後に得られる式Ｉの化合物またはその保護された形を異なる式Ｉの化合物に変換し、得られる式Ｉの化合物の塩を遊離化合物または異なる塩に変換し、得られる遊離の式Ｉの化合物をその塩に変換し、および／または得られる式Ｉの化合物の異性体混合物を個々の異性体に分離することを含み；
ここで、出発物質の全てにおいて、記載の特定の保護基に加えて、さらなる保護基が存在してよく、そして全ての保護基または結合している樹脂を、対応する式Ｉの化合物、またはその塩を得るために適当な段階で除去する、方法。
【請求項３０】
請求項１から１９のいずれかに記載の式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩の製造方法であって、
式(VIIｂ)
【化４１】
2009522226.tif 001369
〔ここで、ＰＧは保護基であり、そしてＲ５は非置換またはハロで置換されたアルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキルである。〕
の化合物、または(好ましくは)その活性誘導体と、式Ｖ
Ｒ３−ＮＨ−Ｒ４                (Ｖ)
〔式中、Ｒ３およびＲ４は、請求項１から１９のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物を反応させて；所望の式XVI
【化４２】
2009522226.tif 001370
のアミドを得て、それをエステル部分の加水分解に付して式XVII
【化４３】
2009522226.tif 001371
の化合物を得て、その化合物または(好ましくは)その活性誘導体を、次に、式III
Ｒ１−ＮＨ−Ｒ２              (III)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１から１９のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させて；式Ｘ
【化４４】
2009522226.tif 001372
の化合物を得ることができ、そして、望むならば、上記工程のいずれか１個の後に得られる式Ｉの化合物またはその保護された形を異なる式Ｉの化合物に変換し、得られる式Ｉの化合物の塩を遊離化合物または異なる塩に変換し、得られる遊離の式Ｉの化合物をその塩に変換し、および／または得られる式Ｉの化合物の異性体混合物を個々の異性体に分離することを含み；
ここで、出発物質の全てにおいて、記載の特定の保護基に加えて、さらなる保護基が存在してよく、そして全ての保護基または結合している樹脂を、対応する式Ｉの化合物、またはその塩を得るために適当な段階で除去する、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、３,５−置換ピペリジン化合物、温血動物の診断的および治療的処置、とりわけレニンの活性に依存する疾患(＝障害)の処置に使用するためのこのような化合物；レニンの活性に依存する疾患の処置用医薬製剤の製造のための、このクラスの化合物の使用；レニンの活性に依存する疾患の処置のためのこのクラスの化合物の使用；３,５−置換ピペリジン化合物を含む医薬製剤、および／または３,５−置換ピペリジン化合物を投与することを含む、処置方法、３,５−置換ピペリジン化合物の製造方法、およびその合成のための新規中間体およびその合成の部分工程に関する。
【発明の開示】
【０００２】
本発明は、式Ｉ'
【化１】
2009522226.tif 000003
〔式中、
Ｒ１は水素、非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリルまたは非置換もしくは置換シクロアルキルであり；
Ｒ２は非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換シクロアルキル、またはアシルであり；
Ｒ３は水素、非置換もしくは置換アリールまたは非置換もしくは置換アルキルであり；
Ｒ４は非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換シクロアルキル、またはアシルであるか；
またはＲ３およびＲ４は、一緒になって、置換されていなくても置換されていてもよい３〜７員窒素含有飽和炭化水素環を形成でき；
Ｒ６は水素、ハロ、非置換アルキルまたは非置換アルコキシであり；
Ｒ７およびＲ８は、互いに独立して水素またはハロであり；そして
Ｔはメチレンまたはカルボニル。〕
の化合物またはその塩に関する。
【０００３】
本発明はまた式Ｉ
【化２】
2009522226.tif 000004
〔式中、
Ｒ１は水素、非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリルまたは非置換もしくは置換シクロアルキルであり；
Ｒ２は非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換シクロアルキル、またはアシルであり；
Ｒ３は水素、非置換もしくは置換アリールまたは非置換もしくは置換アルキルであり；
Ｒ４は非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アルケニル、非置換もしくは置換アルキニル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換シクロアルキル、またはアシルであるか；
またはＲ３およびＲ４は、一緒になって、置換されていなくても置換されていてもよい３〜７員窒素含有飽和炭化水素環を形成でき；そして
Ｔはメチレンまたはカルボニルである。〕
の化合物またはその塩に関する。
【０００４】
式Ｉの化合物は、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８の各々が水素である式Ｉ'の好ましい態様である。
【０００５】
本発明の化合物は、天然酵素レニンの活性を阻害する。故に、式Ｉ'またはＩの化合物は、特に、レニン阻害により調節される(より有利な影響を受ける)疾患である限り、特に以下に詳述する疾患から選択される、１種以上の障害または疾患の処置(本用語は予防も含む)に用い得る。
【０００６】
以下に、本発明の化合物ならびにそれらの使用および合成、出発物質および中間体などの記載に使用する種々の用語の定義を記載する。これらの定義は、本明細書で使用する１個、１個以上または全ての包括的用語または記号を置き換え、故に本発明の好ましい態様をもたらすために、好ましくは、それらが明細書を通じて使用されている限り、個々にまたは大きな群の一部として具体的例において他に限定されていない限り、これらの用語に適用される。
【０００７】
用語“低級”または“Ｃ１−Ｃ７−”は、最大７個まで(７個を含む)、とりわけ最大４個まで(４個を含む)の炭素原子を有する部分を意味し、該部分は分枝しているか(１個所以上)または直鎖であり、そして末端または非末端炭素を介して結合している。低級またはＣ１−Ｃ７−アルキルは、例えば、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシルまたはｎ−ヘプチルまたは好ましくはＣ１−Ｃ４−アルキル、とりわけメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｓｅｃ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルまたはｔｅｒｔ−ブチルである。
【０００８】
ハロまたはハロゲンは、好ましくはフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨード、最も好ましくはフルオロ、クロロまたはブロモである。他のことが明確にまたは暗に記載されていない限り、ハロはまたアルキル、アルカノイルなどのような部分において１個以上のハロゲン置換基を意味する(例えばトリフルオロメチル、トリフルオロアセチルにおける)。
【０００９】
非置換もしくは置換アルキルは、好ましくは直鎖または分枝鎖(１個所または適当であればそれ以上)Ｃ１−Ｃ２０−アルキル、より好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキルであり、それは非置換であるか、または、後記の通りの非置換もしくは置換ヘテロシクリル、とりわけピロリル、フラニル、チエニル(＝チオフェニル)、チアゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキセチジニル、３−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−オキセチジニル、ピリジル、ピリミジニル、モルホリノ、チオモルホリノ、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラノニル、テトラヒドロ−ピラニル、１Ｈ−インダザニル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、(より好ましくは)イソキノリニル、キノリニルまたは特にインドリル(この各々は非置換であるか、または非置換もしくは置換ヘテロシクリルについて下記の通り、例えばヒドロキシ、ハロ、例えばクロロ、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、シアノおよびＣ１−Ｃ７−アルカノイル、例えばアセチルから独立して選択される１〜３個の置換基で置換されている)；後記の通りの非置換もしくは置換シクロアルキル、とりわけシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシル(この各々は非置換であるか、または、非置換もしくは置換シクロアルキルについて下記の通り、とりわけ４個までのＣ１−Ｃ７−アルキル部分置換されている)；後記の通りの非置換もしくは置換アリール、とりわけ後記の通りの非置換もしくは置換フェニル、ナフチル、インデニルまたはインダニル；およびＣ２−Ｃ７−アルケニル、Ｃ２−Ｃ７−アルキニル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェニル−またはナフチルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキル(ヒドロキシは１位にない)、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニルおよび／またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルオキシ、ベンゾイル−またはナフトイルオキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコチオ、例えばトリフルオロメチルチオ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、フェニル−またはナフチルチオ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、ニトロ、アミノ、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキル(ヒドロキシは１位にない)および／またはＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、ベンゾイル−またはナフトイルアミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ、フェニル−またはナフチルスルホニルアミノ)、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニルアミノ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル−カルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−カルボニル、フェニル−またはナフチルオキシカルボニル、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(ナフチル−またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキル(ヒドロキシは１位にない)および／またはＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、シアノ、スルフェニル(−Ｓ−ＯＨ)、スルホニル(−Ｓ(＝Ｏ)−ＯＨ)、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルフィニル(Ｃ１−Ｃ７−アルキル−Ｓ(＝Ｏ)−)、フェニル−またはナフチルスルフィニル、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルフィニル、スルホニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、フェニル−またはナフチルスルホニル、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、スルファモイル、Ｎ−モノまたはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル−、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキルおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニル、Ｎ−モノ−、Ｎ'−モノ−、Ｎ,Ｎ−ジ−またはＮ,Ｎ,Ｎ'−トリ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキル(ヒドロキシは１位にない)、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニルおよび／またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルアミノまたは−アミノカルボニルオキシおよびＮ−モノ−、Ｎ'−モノ−、Ｎ,Ｎ−ジ−またはＮ,Ｎ,Ｎ'−トリ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニルおよび／またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニルアミノから成る群から選択される１個以上、例えば３個までの部分で置換されており；
【００１０】
ここで、置換アルキル(前段落で記載)の置換基としてまたは置換基の一部としての全てのフェニル、ナフチル、インデニル、インダニル、ピリジルまたはインドリニルは、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルケニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキニル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばトリフルオロメチル、ハロ、とりわけフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨード、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、アミノ、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルおよび／またはフェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル)−アミノ、カルボキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル(cabonyl)、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、シアノ、スルホニル、スルファモイル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニルおよびニトロ、から成る群から独立して選択される１個以上、好ましくは３個までの部分で、または好ましくは、好ましい置換基が記載されているとき、これらの記載した置換基の１個以上で置換されている。非常に好ましくは、非置換もしくは置換アルキル(とりわけＲ２またはアシルＲ４の一部として)は、フェニルメチル、２−シクロヘキシル−２−フェニル−エチル、２,２−ジフェニルエチル、２,２−ジフェニル−ｎ−ブチル、２,３−ジフェニル−ｎ−プロピル、ナフチルメチル、２−フェニル−２−ピリジルエチル、インドリルメチル、２−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル−２,２−ジフェニル−エチル、４−メチル−２−フェニル−ｎ−ペンチルまたは５−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−２−ジフェニルメチルペンチルであり、ここで、置換アルキルの置換基として記載した全てのフェニル、ナフチル、ピリジルまたはインドリル非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ω−ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、オキソ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ−アルカノイル、フェニル、ハロ、とりわけクロロまたはブロモ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェノキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカンスルホニルおよびシアノ(ここで、好ましくはＯ、ハロまたはＳを含む前記の全ての部分は、それを介して環窒素に結合していない)から成る群から選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されている。
【００１１】
非置換もしくは置換アルケニルは、好ましくは直鎖または分枝鎖(１個所または適当であればそれ以上)である、１個または可能であればそれ以上の二重結合を有するＣ２−Ｃ２０−アルケニル、より好ましくはＣ２−Ｃ７−アルケニルであり、それは非置換であるか、または、置換アルキルの置換基として記載したものおよび非置換もしくは置換アリール(各々好ましくは上記および下記の通り)から選択される１個以上、例えば３個までの部分で置換されている。活性な水素を有する置換基(例えばヒドロキシまたはアミノ)は、好ましくは、三重結合を有する炭素に直接結合しているならば平衡状態にある互変異性体の形で、活性な水素を有する置換基を回避するような位置に存在する。
【００１２】
非置換もしくは置換アルキニルは、好ましくは直鎖または分枝鎖(１個所または適当であればそれ以上)である、１個または可能であればそれ以上の三重結合を有する好ましくはＣ２−Ｃ２０−アルキニル、より好ましくはＣ２−Ｃ７−アルキニルであり、それは非置換であるか、または、置換アルキルの置換基として記載したものおよび非置換もしくは置換アリール(各々好ましくは上記および下記の通り)から選択される１個以上、例えば３個までの部分で置換されており。活性水素を伴う置換基(例えばヒドロキシまたはアミノ)は、好ましくは、三重結合を有する炭素に直接結合しているならば平衡な互変異性体の形で存在し、好ましくはこのような位置で活性水素を伴う置換基は避ける。
【００１３】
非置換もしくは置換アリールは、好ましくは６〜２２個の炭素原子の単または二環式アリール、とりわけフェニル、インデニル、インダニルまたはナフチルであり、そして非置換であるか、または、好ましくは以下から成る群から独立して選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されている：
式−(Ｃ０−Ｃ７−アルキレン)−(Ｘ)ｒ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキレン)−(Ｙ)ｓ−(Ｃ０−Ｃ７−アルキレン)−Ｈ(ここで、Ｃ０−アルキレンは結合したアルキレンの代わりに結合が存在することを意味し、いずれの場合もアルキレンは直鎖または分枝鎖でよく、そして非置換であるか、例えば置換アルキルについて定義の部分、とりわけハロ、とりわけフルオロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキシ、アミノ、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、カルボキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニルまたはシアノで１個以上置換されており、ｒおよびｓは、互いに独立して、０または１であり、そしてＸおよびＹの各々は、存在するならば、互いに独立して−Ｏ−、−ＮＶ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＶ−ＣＯ−；−ＣＯ−ＮＶ−；−ＮＶ−ＳＯ２−、−ＳＯ２−ＮＶ；−ＮＶ−ＣＯ−ＮＶ−、−ＮＶ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＶ−、−ＮＶ−ＳＯ２−ＮＶ−であり、ここで、Ｖは水素または上記で定義の非置換もしくは置換アルキル、とりわけＣ１−Ｃ７−アルキルであるか、またはフェニル、ナフチル、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたはハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)の置換基であり；ここで、該置換基−(Ｃ０−Ｃ７−アルキレン)−(Ｘ)ｒ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキレン)−(Ｙ)ｓ−(Ｃ０−Ｃ７−アルキレン)−Ｈは、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルまたはｔｅｒｔ−ブチル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばトリフルオロメチル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えば３−メトキシプロピルまたは２−メトキシエチル、ω−ヒドロキシ−Ｃ２−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニルオキシ−またはナフチルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばアミノメチル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、ナフチル−、フェニル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−ア��カノイルオキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニルオキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、例えばトリフルオロメチルチオ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルチオ、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−および／またはＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−)アミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニルアミノ、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−カルボニル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、(Ｎ−)モノ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、Ｎ−モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルバモイルまたはＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニルであり；
【００１４】
Ｃ２−Ｃ７−アルケニル、Ｃ２−Ｃ７−アルキニル、フェニル、ナフチル、ヘテロシクリル、とりわけヘテロシクリルについて後記の通りの、好ましくはピロリル、フラニル、チエニル、ピリミジン−２,４−ジオン−１−、−３−または−５−イルおよびテトラヒドロフラニルから選択されるヘテロシクリル、[フェニル−またはナフチル−またはヘテロシクリルまたはトリハロ(とりわけトリフルオロ)メトキシ]−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシであり、ここで、フェニルまたはナフチルは、好ましくは非置換であるか、または、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルコキシおよび／またはハロで置換されており、ここで、ヘテロシクリルは以下で定義の通りであり、好ましくはピロリル、フラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルおよびチエニルから選択され；例えばベンジルまたはナフチルメチル、テトラヒドロフラニル−またはテトラヒドロピラニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ベンゾイル−またはナフトイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、(フェニル−またはナフチル−またはヘテロシクリル)−スルホニルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル(ここで、フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリルは、非置換であるか、好ましくは１個以上、とりわけ１〜３個の、Ｃ１−Ｃ７−アルキル部分で置換されている)、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、ヒドロキシ、(ヘテロシクリルまたはフェニルまたはナフチル)−オキシ、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ、ベンゾイルまたはナフトイルまたはヘテロシクリルカルボニル)−オキシ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−アミノカルボニルオキシ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−チオ、(ベンゾイルまたはナフトイルまたはヘテロシクリル)−チオ、ニトロ、アミノ、ジ−((ナフチルまたはフェニルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、(ベンゾイルまたはナフトイルまたはヘテロシクリル)−アミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−カルボニルアミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−スルホニルアミノ(ここで、フェニルまたはナフチルは、非置換であるか、好ましくは１個以上、とりわけ１〜３個のＣ１−Ｃ７−アルキル部分で置換されている)、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−アミノカルボニルアミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アミノカルボニルアミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−オキシカルボニルアミノ、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニルアミノ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル−カルボニル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、(Ｎ−)モノ−または(Ｎ,Ｎ−)ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−ア��カノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルボニル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、(フェニルまたはナフチルまたは(とりわけ単または二環式)ヘテロシクリル)−オキシカルボニル、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、(Ｎ,Ｎ−)ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−モノまたはＮ,Ｎ−ジ−(ナフチルまたはフェニルまたはヘテロシクリル)−アミノカルボニル、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルキレン(これは非置換であるか、または、４個までのＣ１−Ｃ７−アルキル置換基で置換されており、アリール部分の２個の隣接環原子に結合している)、スルフェニル、スルフィニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルフィニル、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−スルフィニル(ここで、フェニルまたはナフチルは、非置換であるか、好ましくは１個以上、とりわけ１〜３個のＣ１−Ｃ７−アルキル部分で置換されている)、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルフィニル、スルホニル、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−スルホニル(ここで、フェニルまたはナフチルは、非置換であるか、好ましくは１個以上、とりわけ１〜３個のＣ１−Ｃ７−アルキル部分で置換されている)、(フェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、スルファモイルおよびＮ−モノまたはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル−、ナフチル、ヘテロシクリル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニルであり；
【００１５】
ここで、２個前の段落に記載した置換アリールの置換基または置換基の一部としてのフェニルまたはナフチルまたはヘテロシクリル(このヘテロシクリルは、好ましくはヘテロシクリルについて定義の通りであり、より好ましくはピロリル、フラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルおよびチエニルから選択される)は、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルケニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキニル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばトリフルオロメチル、ハロ、とりわけフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨード、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ、アミノ、モノ−またはジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルおよび／またはフェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル)−アミノ、カルボキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル(cabonyl)、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、シアノ、スルホニル、スルファモイル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノスルホニルおよびニトロから成る群から独立して選択される１個以上、好ましくは３個までの部分で、または好ましくは、好ましい置換基が記載されているとき、これらの記載した置換基の１個以上で置換されている。
【００１６】
非置換もしくは置換ヘテロシクリルは、好ましくは３〜２２(より好ましくは３〜１４)個の環原子および窒素(＝Ｎ−、−ＮＨ−または置換−ＮＨ−)、酸素および硫黄(−Ｓ−、Ｓ(＝Ｏ)−またはＳ−(＝Ｏ)２−)から独立して選択される１個以上、好ましくは１〜４個のヘテロ原子を有し、好ましくは不飽和の、部分的飽和のまたは飽和の環系を有する単または二環式ヘテロ環式部分であり、それは非置換であるか、または、好ましくはアリールについて上記の置換基(ここで、好ましくはヘテロシクリルに結合するＳ、Ｏまたはハロを含むこのような置換基は、環窒素を介して結合していない)およびオキソ(＝Ｏ)およびチオキソ(＝Ｓ)から選択される１個以上、例えば３個までの置換基で置換されている。好ましくは、非置換もしくは置換ヘテロシクリルは、以下の部分から選択される：
【００１７】
【化３】
2009522226.tif 000005
【化４】
2009522226.tif 000006
【化５】
2009522226.tif 000007
【化６】
2009522226.tif 000008
【化７】
2009522226.tif 000009
【化８】
2009522226.tif 000010
【化９】
2009522226.tif 000011
【００１８】
ここで、各場合、環原子に結合したＨと各ヘテロシクリル部分を分子の残りに接続するアスタリスクで示す結合が存在するとき、Ｈは該結合で置換でき、そして、存在するならば、環原子に結合した１個以上のさらなるＨ原子を、直前に記載した通り１個以上の置換基で置換してよい。非置換もしくは置換ヘテロシクリルとして非常に好ましいのは、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、ピペリジニル、ピリジル、チオフェニル、チアゾリル、ピラゾリル、インドリル、キノリニルまたは２Ｈ−１,４−ベンズオキサジン−３(４Ｈ)−オニルであり、この各々は非置換であるか、または、置換アリールについて上記の置換基から独立して選択される１個以上、とりわけ３個までの置換基で、とりわけＣ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、オキソ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、フェニル、ハロ、とりわけクロロまたはブロモ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、フェノキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカンスルホニルおよびシアノから成る群から独立して選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されている。
【００１９】
非置換もしくは置換シクロアルキルは、好ましくは単または二環式、より好ましくは単環式、Ｃ３−Ｃ１０−シクロアルキルであり、それは１個以上の二重および／または三重結合を含んでよく、そして非置換であるか、または、好ましくはアリールについて上記のもの、とりわけＣ３−Ｃ８−シクロアルキル(非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキルから選択される４個までの置換基で置換されている)、フェニル(それは非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、オキソ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、フェニル、ハロ、例えばクロロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７アルコキシ、フェノキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、カルバモイル、Ｃ１−Ｃ７−アルカンスルホニルおよびシアノから成る群から独立して選択される１個以上、とりわけ３個までの置換基で置換されている)、カルバモイルおよびシアノから独立して選択される１個以上、例えば１〜４個の置換基で置換されており；好ましいのは非置換であるか、または、ヒドロキシル、ヒドロキシル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルバモイルおよびシアノから選択される４個までの部分で置換されているシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルまたはシクロオクチルである。
【００２０】
アシルは、好ましくは非置換もしくは置換アリール−カルボニルまたは−スルホニル、非置換もしくは置換ヘテロシクリルカルボニルまたは−スルホニル、非置換もしくは置換シクロアルキルカルボニルまたは−スルホニル、ホルミルまたは(非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−カルボニルまたは−スルホニル、または(とりわけＮ、ＳまたはＯに結合しているとき)非置換もしくは置換アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換アリール−オキシカルボニル、非置換もしくは置換ヘテロシクリルオキシカルボニル、非置換もしくは置換シクロアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−オキシカルボニル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−オキシカルボニル、非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−オキシカルボニルまたはＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換シクロアルキル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは非置換もしくは置換アルキル)−アミノカルボニルまたは−アミノスルホニルである。ただし、オキシカルボニル結合部分は、好ましくは分子の残りの窒素に結合しており；好ましいアシル部分は、非置換であるか、または、ヒドロキシ、アミノ、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノおよびＣ１−Ｃ７−アルカノイルアミノから成る群から独立して選択される１個以上、とりわけ３個まで、例えば１個または２個の部分で置換されているＣ１−Ｃ７−アルカノイル、例えばアセチル、２−メチル−プロピオニル、２−エチル−ブチリル、３−メチル−ブチリル、３,３−ジメチル−ブチリル、２,２−ジメチル−プロピオニル、３,３−ジメチル−ブチリル、３−ヒドロキシ−２,２−ジメチル−プロピオニル、Ｎ,Ｎ−ジメチル−アミノ−アセチルまたは２−(Ｎ−アセチルアミノ)−４−メチル−ブチリル、非置換またはモノ−、ジ−またはトリ−(ハロ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルキル)−置換ベンゾイルまたはナフトイル(例えば４−メチル−ベンゾイル、または３,４−ジメトキシベンゾイル、フェニル−またはナフチル−Ｃ２−Ｃ７−アルカノイルであり、ここで、フェニルまたはナフチルは非置換であるか、または、１個以上、とりわけ３個までのＣ１−Ｃ７−アルコキシ置換基で置換されており、例えば３−フェニル−プロピオニル、２,２,−ジメチル−２−フェニルアセチルまたは３−エトキシフェニルアセチルである)、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルバモイルおよびシアノから成る群から独立して選択される１個以上、例えば４個までの置換基で置換されているＣ３−Ｃ８−シクロアルキルカルボニル、例えばシクロプロピルカルボニル、２,２,３,３−テトラメチル−シクロプロピルカルボニル、１−カルバモイル−シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカル��ニルまたは１−シアノ−シクロプロピルカルボニル、ベンゾ[ｂ]チオフェニルカルボニル、例えばベンゾ[ｂ]チオフェン−２−カルボニル、テトラヒドロフラニルカルボニル、例えばテトラヒドロフラン−２−カルボニル、ピペリジニルカルボニル(それは非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルで置換されており、例えば１−アセチル−ピペリジン−４−カルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、例えばメチルスルホニル、(フェニル−またはナフチル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、例えばフェニルメタンスルホニル、[Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、フェニル−、ハロ−低級アルキル−、ハロ、オキソ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−、フェノキシ−、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、シアノおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルキルスルホニル−]−(モノ−、ジ−またはトリ−)置換)(フェニル−またはナフチル)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルまたは(非置換または[Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、フェニル−、ハロ−低級アルキル−、ハロ、オキソ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−、フェノキシ−、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、シアノおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルキルスルホニル−]−(モノ−、ジ−またはトリ−)置換)(フェニル−またはナフチル)−スルホニルであり、１個以上の置換基が存在するとき、これらの置換基は記載したものから、例えばメタンスルホニル、フェニルメタンスルホニル、フェニルスルホニル、ナフタレン−１−スルホニル、ナフタレン−２−スルホニル、トルエン−４−スルホニル、４−イソプロピル−ベンゼンスルホニル、ビフェニル−４−スルホニル、２−トリフルオロメチル−ベンゼンスルホニル、３−トリフルオロメチル−ベンゼンスルホニル、４−トリフルオロメチルスルホニル、４−クロロ−ベンゼンスルホニル、３−クロロ−ベンゼンスルホニル、２−クロロ−ベンゼンスルホニル、２,４−ジフルオロ−ベンゼンスルホニル、２,６−ジフルオロ−ベンゼンスルホニル、２,５−ジクロロ−ベンゼンスルホニル、２,４−ジクロロベンゼンスルホニル、３,４−ジクロロ−ベンゼンスルホニル、３,５−ジクロロ−ベンゼンスルホニル、２,３−ジクロロ−ベンゼンスルホニル、３−メトキシ−ベンゼンスルホニル、４−メトキシ−ベンゼンスルホニル、２,５−ジメトキシ−ベンゼンスルホニル、２,４−ジメトキシベンゼンスルホニル、４−トリフルオロメトキシ−ベンゼンスルホニル、２−ベンジルオキシ−ベンゼンスルホニル、４−フェノキシ−ベンゼンスルホニル、４−(２−オキソ−プロピル)−ベンゼンスルホニル、３−アセチル−ベンゼンスルホニル、４−アセチルアミノ−ベンゼンスルホニル、４−シアノ−ベンゼンスルホニル、３−シアノ−ベンゼンスルホニル、２−シアノ−ベンゼンスルホニルまたは４−メタンスルホニル−ベンゼンスルホニル；ハロ−チオフェン−２−スルホニル、例えば５−クロロ−チオフェン−２−スルホニル、キノリン−スルホニル、��えばキノリン−８−スルホニル、(Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルキル)−置換チアゾール−スルホニル、例えば２−アセチルアミノ−４−メチル−チアゾール−５−スルホニル、(ハロおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルキル)−置換ピラゾールスルホニル、例えば５−クロロ−１,３−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−スルホニル、ピリジン−スルホニル、例えばピリジン−３−スルホニル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、(非置換またはＣ１−Ｃ７−アルキル−および／またはハロ−置換)フェニルまたはナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたはＣ３−Ｃ８−シクロアルキル)−アミノカルボニル、例えばＣ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニル、とりわけＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−アミノカルボニル、Ｎ−フェニル−アミノカルボニル、Ｎ−(３−クロロ−フェニル)−アミノカルボニルまたはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニル、とりわけＮ−ベンジル−アミノカルボニル、または(Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ナフチル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル(napthyl)−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよび／またはＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−オキシカルボニル、例えばＣ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、例えばメトキシエチルカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニルまたは２−(メトキシ)−エトキシカルボニル、またはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニル、例えばベンジルオキシカルボニルから独立して選択される)である。
【００２１】
Ｒ３およびＲ４によって形成される置換されていなくても置換されていてもよい３〜７員窒素含有飽和炭化水素環は、好ましくは非置換であるか、または、好ましくはアリールの置換基として上記のものから、独立して選択される１個以上、例えば１〜４個の置換基で置換されており、とりわけ非置換であるか、またはヒドロキシ、ハロ、例えばクロロ、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、シアノ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、例えばアセチル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシから選択される４個までの置換基、例えば１個の置換基で置換されている４−７員環であり；好ましくは、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシル、ハロ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよびシアノから選択される４個までの部分で置換されているピロリジンまたはピペリジン環がＲ３およびＲ４から形成される。
【００２２】
Ｔはメチレン(ＣＨ２)または好ましくはカルボニル(Ｃ(＝Ｏ))である。
【００２３】
上記の全ての定義において、当業者は過度の実験または考察をすることなく、どれが適切か(例えば、存在するならば３０秒より長い、好ましくは１週間より長い半減期を有し、例えば薬剤の製造のために十分であるものを提供するもの)、故に、本願の特許請求の範囲により好ましく包含されるか、および化学的に可能な結合および置換のみ(例えば２重または３重結合において、水素を持つアミノまたはヒドロキシ基などは、互変異性性のために避け得る)が包含されることが認識できるであろう。例えば、好ましくは、安定性または化学的実行可能性の理由のために、鎖に置ける直接隣接原子は、十分に安定である環系が存在する場合を除き、同時にオキシとオキシ、チオとオキシ、オキシとチオまたはチオとチオではない。置換基の一部であるＯ(例えばＣ１−Ｃ７−アルコキシにおける)またはＳを介して結合する置換基は、好ましくは例えば環中の窒素に結合しない。
【００２４】
塩は、とりわけ式Ｉ'またはＩの化合物の薬学的に許容される塩である。それらは、塩形成基、例えば塩基性または酸性基が存在するとき形成でき、それは例えば水性溶液中４から１０のｐＨ範囲で、少なくとも一部解離した形で存在でき、またはとりわけ固体形態で単離できる。
【００２５】
このような塩は、例えば、酸付加塩として、好ましくは有機または無機酸と、塩基性窒素原子(例えばイミノまたはアミノ)を有する式Ｉの化合物から形成され、とりわけ薬学的に許容される塩である。適当な無機酸は、例えば、ハロゲン酸、例えば塩酸、硫酸、またはリン酸である。適当な有機酸は、例えば、カルボン酸、ホスホン酸、スルホン酸またはスルファミン酸、例えば酢酸、プロピオン酸、乳酸、フマル酸、コハク酸、クエン酸、アミノ酸、例えばグルタミン酸またはアスパラギン酸、マレイン酸、ヒドロキシマレイン酸、メチルマレイン酸、安息香酸、メタン−またはエタン−スルホン酸、エタン−１,２−ジスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、２−ナフタレンスルホン酸、１,５−ナフタレン−ジスルホン酸、Ｎ−シクロヘキシルスルファミン酸、Ｎ−メチル−、Ｎ−エチル−またはＮ−プロピル−スルファミン酸、または他の有機プロトン酸、例えばアスコルビン酸である。
【００２６】
負に荷電したラジカル、例えばカルボキシまたはスルホニルの存在下で、塩はまた塩基と、例えば金属またはアンモニウム塩、例えばアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウムまたはカルシウム塩、またはアンモニアまたは適当な有機アミン、例えば３級モノアミン、例えばトリエチルアミンまたはトリ(２−ヒドロキシエチル)アミンとのアンモニウム塩を、またはヘテロ環式塩基、例えばＮ−エチル−ピペリジンまたはＮ,Ｎ'−ジメチルピペラジンと形成できる。
【００２７】
塩基性基および酸性基が同じ分子内に存在するとき、式Ｉ'またはＩの化合物はまた分子内塩を形成できる。
【００２８】
単離または精製目的で、薬学的に許容されない塩、例えばピクリン酸塩または過塩素酸塩を使用することも可能である。治療使用のために、薬学的に許容される塩または遊離化合物が使用され(適用するときには医薬製剤中に包含されて)、故にこれらが好ましい。
【００２９】
遊離形の化合物とその塩(中間体として使用され得るものを含めて)との、例えばそれらの精製もしくは同定における密接な関係から見て、本明細書における“化合物”および“中間体”、特に式Ｉ'またはＩの化合物またはその前駆体についての記載は、そう解することが適当でありかつ好都合である限り、そしてそう解することを排除していない限り、１個以上のその塩または遊離化合物と１個以上のその塩の混合物ついても記載しているものであり、さらに式Ｉ'またはＩの化合物の何れかの溶媒和物またはエステルもしくはアミドのような代謝前駆体、あるいはこれらの１個以上の塩も含まれることが意図されていると理解されるべきである。異なる結晶形も得ることができ、これらもまた含まれる。
【００３０】
化合物、塩、医薬製剤、疾患、障害などについて複数表現が使用されているとき、これは１個(好ましい)またはそれ以上の化合物、塩、医薬製剤、疾患、障害などを意味することを意図し、単数表現が使用されているとき、これは複数または好ましくは単数を含むことを意図する。
【００３１】
本発明の化合物は、置換基の選択によっては２個以上の不斉中心を有する。好ましい絶対配置は、ここで特定して示されている通りである。しかしながら、単離されたまたは純粋なジアステレオ異性体、エナンチオマーおよび幾何エナンチオマー、およびこれらの混合物、例えば、ラセミ体は、それらの全てが本発明に包含される。
【００３２】
上記の通り、本発明の化合物はレニン活性の阻害剤であり、故に、とりわけ(とりわけ不適切な)レニン活性の阻害が必要であるとき、高血圧、アテローム性動脈硬化症、不安定型冠血管症候群、鬱血性心不全、心肥大、心線維症、梗塞後心筋症、不安定型冠血管症候群、拡張期機能不全、慢性腎臓疾患、肝臓線維症、糖尿病の合併症、例えば腎症、脈管障害およびニューロパシー、冠血管の疾患、血管形成術後再狭窄、上昇した眼圧、緑内障、異常血管増殖および／または高アルドステロン症、および／またはさらなる認知障害、アルツハイマー病、認知症、不安状態および認知障害などの処置に使用できる。
【００３３】
“不適切な”レニン活性は、好ましくは、レニンがその状況では高すぎるレニン活性を示す(例えば遺伝子増幅もしくは染色体再配列が原因の例えば誤制御、過剰発現、または異常な遺伝子を発現するウイルスのような微生物感染、例えば誤った基質特異性もしくは例えば正常量で産生される機能亢進性レニンに至る異常な活性、レニン活性産物除去経路の低すぎる活性、高い基質濃度および／またはその他が原因)および／または、例えば高すぎるレニン活性により上記および下記のレニン依存性疾患または障害に至るまたはそれを支持する温血動物、とりわけヒトの状態に関する。このような不適切なレニン活性は、例えば、正常より高い活性、またはさらに正常かまたは正常範囲より低くさえあるが、しかしながら、先立つ、並行したおよびまたは後続の工程、例えばシグナリング、他の工程に対する制御効果、高い基質または産物濃度などのために、疾患または障害の直接的または間接的な支持または持続をもたらす活性、および／または何らかの他の方法で疾患または障害の発生および／または存在を支持する活性であり得る。レニンの不適切な活性は、障害または疾患を支持する他の機構に同時に依存していてもいなくてもよく、および／または予防的または治療的効果は、レニン阻害以外の他の機構を含んでも含まなくてもよい。故に“依存”は“とりわけ依存”(とりわけ疾患または障害が実際に排他的にレニンにのみ依存するとき)、好ましくは“主に依存”、より好ましくは“本質的にのみ依存”と読むべきである。レニンの(とりわけ不適切な)活性に依存する疾患は、レニン活性の調節に単純に応答するもの、とりわけレニン阻害の場合有利な方法(例えば血圧の低下)で応答するものであり得る。
【００３４】
(とりわけ不適切な)レニンの不適切な活性に依存する(＝“依存”、“依存した”)疾患または障害が記載されているとき(下記段落の“使用”の定義および、とりわけ式Ｉ'またはＩの化合物の好ましくは不適切なレニン活性に依存する疾患または障害の処置である診断的または治療的処置への使用について記載されているときのような)、これは、好ましくは天然レニンおよび／または１種以上のその改変されたまたは変異された形態の不適切な活性に依存する疾患または障害に関する。
【００３５】
下記または上記で用語“使用”が記載されているとき(動詞または名詞として)(式Ｉ'またはＩの化合物または薬学的に許容されるその塩の使用、またはその使用法に関して)、これは(異なった指示がない限りまたは文脈から異なって解釈すべきでない限り)、各々１個以上の何らかの下記の本発明の態様を含む(特記しない限り)：適当であり好都合である限り、特記しない限り；レニンの(とりわけ不適切な)活性に依存する疾患または障害の処置における使用、レニンの(とりわけ不適切な)活性に依存する疾患または障害の処置用医薬組成物の製造における使用；レニンの(とりわけ不適切な)活性に依存する疾患または障害の処置における１個以上の式Ｉ'またはＩの化合物の使用法；レニンの(とりわけ不適切な)活性に依存する疾患または障害の処置用の１個以上の式Ｉ'またはＩの化合物を含む医薬製剤；および温血動物、とりわけヒトにおける、好ましくはレニンの(とりわけ不適切な)活性に依存する疾患である疾患または障害の処置において使用するための１個以上の式Ｉ'またはＩの化合物。
【００３６】
用語“処置”、“処置する”または“治療”は、該疾患(複数もある)または障害(複数もある)、とりわけ上記または下記の疾患または障害の１個以上の予防的(例えば疾患または障害の発症の遅延または阻止)または好ましくは治療的(予防、発症および／または進行遅延、軽減、治癒、症状緩和、症状軽減、患者の状態の緩和、レニン調節および／またはレニン阻害を含むがこれらに限定されない)処置に関する。
【００３７】
本発明の好ましい態様
下記の本発明の好ましい態様のグループは、排他的と見なしてはならず、むしろ、例えば、包括的用語または記号をより具体的な定義に置き換えるものであり、これらの化合物のグループの構成要素は、上記の定義を使用して相互交換または置き換え、または適当であれば削除することができ、より具体的な定義の各々は、互いに独立して、他のより一般的な表現または記号についての１個以上のより具体的な定義と独立してまたはそれらと共に挿入できる。
【００３８】
本発明は、好ましくは、中央ピペリジン環に関して部分Ｔ−ＮＲ１Ｒ２およびＮＲ３Ｒ４がｃｉｓ配置で結合している(純粋異性体またはｃｉｓ異性体混合物として)または代替的にこれらの部分がｔｒａｎｓ配置で結合している(純粋異性体またはｔｒａｎｓ異性体混合物として)式Ｉ'またはＩの化合物に関する。
【００３９】
それ故に、本発明はより好ましくは、式ＩＡまたはＩ'Ａ
【化１０】
2009522226.tif 000012
に示す配置を有し、本明細書で定義する式Ｉ'またはＩの化合物または(好ましくはその薬学的に許容される塩、
【００４０】
あるいは、式ＩＢまたはＩ'Ｂ
【化１１】
2009522226.tif 000013
に示す配置を有する化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩に関し、ここで、式ＩＡ、Ｉ'Ａ、ＩＢおよび式Ｉ'Ｂにおいて、Ｒ１、Ｒ２、Ｔ、Ｒ３およびＲ４は、式ＩまたはＩ'の化合物について本明細書で定義する通りである。
【００４１】
あるいはまた、より好ましくは、本発明は、式ＩＣまたはＩ'Ｃ
【化１２】
2009522226.tif 000014
に示す配置を有し、本明細書で定義する式Ｉ'またはＩの化合物またはその薬学的に許容される塩、
【００４２】
あるいは、式ＩＤまたはＩ'Ｄ
【化１３】
2009522226.tif 000015
に示す配置を有する化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩に関し、ここで、式ＩＣ、Ｉ'Ｃ、ＩＤおよび式Ｉ'Ｄにおいて、Ｒ１、Ｒ２、Ｔ、Ｒ３およびＲ４は式Ｉの化合物について本明細書で定義する通りである。
【００４３】
Ｒ６が水素以外であるとき、好ましい化合物は、式Ｉ'Ｅ
【化１４】
2009522226.tif 000016
に示す配置を有する。
【００４４】
第一の好ましい態様において、本発明は、とりわけ、
Ｒ１が水素、非置換もしくは置換アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキルであり；
Ｒ２が非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリルまたは非置換もしくは置換シクロアルキルであり；
Ｒ３が水素または非置換もしくは置換アルキルであり、
Ｒ４が非置換もしくは置換アルキルまたはアシルであり；そして
Ｔがカルボニル(Ｃ(＝Ｏ))である；
式Ｉ'またはＩ、好ましくはＩの化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩に関し；
ここで、好ましくは非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換シクロアルキル、非置換もしくは置換アリールおよび／またはアシルは、好ましい定義として上記で定義の通りである。
【００４５】
他の好ましい態様において、本発明は、とりわけ、
Ｒ１が水素、非置換もしくは置換アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキルであり；
Ｒ２が非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリルまたは非置換もしくは置換シクロアルキルであり；
Ｒ３が水素または非置換もしくは置換アルキルであり、
Ｒ４が非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、またはアシルであり；そして
Ｔがカルボニル(Ｃ(＝Ｏ))である；
式Ｉ'またはＩ、好ましくはＩの化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩に関し；
ここで、好ましくは非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換シクロアルキル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換ヘテロシクリルおよび／またはアシルは、好ましい定義として上記で定義の通りである。
【００４６】
非常に好ましいのは、
Ｒ１が水素、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキルまたはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばエチルまたはイソプロピル、またはＣ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロプロピルであり；
Ｒ２がフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ピリジル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、インドリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、１Ｈ−ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、キノリニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、１Ｈ−ピリジン−２−オニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、チオフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、クロマニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、２,３−ジヒドロベンゾフラニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニルであるか、またはアシル、例えばフェニルカルボニルまたはインドリルカルボニルであり、ここで、Ｒ２について記載した各フェニル、ナフチル、ピリジル、インドリル、ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル、キノリニル１Ｈ−ピリジン−２−オニル、チオフェニル、クロマニル、２,３−ジヒドロベンゾフラニル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニルまたは４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニルは、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｎ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルおよびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシから成る群から選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されており；
Ｒ３が水素、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチルであり；
Ｒ４が：
−分枝鎖Ｃ４−Ｃ１０−アルキル(これは非置換であるか、または：
非置換もしくは置換ヘテロシクリル、とりわけピロリル、フラニル、チエニル、チアゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、またはピリミジニル(この各々はここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、好ましくは非置換；非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルから成る群の１個以上、例えば１個または２個で置換されていてよい)；
−  直鎖Ｃ１−Ｃ７−アルキル(これは、末端または非末端炭素に結合してよく、そして非置換であるか、または：
非置換もしくは置換ヘテロシクリル、とりわけモルホリノ、チオモルホリノ、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニル(この各々はここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、好ましくは非置換；非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘプチル、シクロヘキシルまたはシクロペンチル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルから成る群の１個以上、例えば１個または２個で置換されていてよい)；
−  非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘキシルまたはシクロプロピル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、
−  非置換もしくは置換アリール、例えばフェニル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、
−  非置換もしくは置換ヘテロシクリル、例えばピリジル、ピロリニニルまたはピペリジニル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、または
−  アシル、例えば(非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−スルホニル、とりわけフェニルメタンスルホニル；
またはＲ３およびＲ４が一緒になって非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシル、ハロ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよびシアノから選択される４個までの部分で置換されているピロリジンまたはピペリジン環を形成し；そして
Ｔがカルボニルまたはメチレンである；
式Ｉ'またはＩ、好ましくはＩの化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩である。
【００４７】
または非常に好ましいのは、
Ｒ１が水素、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキルまたはフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばエチルまたはイソプロピル、またはＣ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロプロピルであり；
Ｒ２がフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ピリジル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、インドリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、１Ｈ−ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、キノリニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、１Ｈ−ピリジン−２−オニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニルであり、ここで、Ｒ２について記載した各フェニル、ナフチル、ピリジル、インドリル、ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル、キノリニル１Ｈ−ピリジン−２−オニル３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニルまたは４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニルは、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｎ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−アミノカルボニル、およびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシから成る群から選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されており；
Ｒ３が水素、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチルであり；
Ｒ４が以下から成る群から選択され：
−分枝鎖Ｃ４−Ｃ１０−アルキル((これは非置換であるか、または：
非置換もしくは置換ヘテロシクリル、とりわけピロリル、フラニル、チエニル、チアゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、またはピリミジニル(この各々はここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、好ましくは非置換；非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルから成る群の１個以上、例えば１個または２個で置換されていてよい)；
−  直鎖Ｃ１−Ｃ７−アルキル(これは、末端または非末端炭素に結合してよく、そして非置換であるか、または：
非置換もしくは置換ヘテロシクリル、とりわけモルホリノ、チオモルホリノ、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルまたはテトラヒドロチオフェニル(この各々はここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、好ましくは非置換；非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘキシル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルから成る群の１個以上、例えば１個または２個で置換されていてよい)；
−  非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘキシル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、または
−  アシル、例えば(非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−スルホニル、とりわけフェニルメタンスルホニル；
またはＲ３およびＲ４が一緒になって非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシル、ハロ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよびシアノから選択される４個までの部分で置換されているピロリジンまたはピペリジン環を形成し；そして
Ｔがカルボニルである；
式Ｉ'またはＩ、好ましくはＩの化合物またはその(好ましくは薬学的に許容される)塩である。
【００４８】
Ｒ１の好ましい定義
Ｒ１として、水素、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、またはＣ３−Ｃ８−シクロアルキルが好ましい。Ｒ１は、より好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、エチル、イソプロピルまたはｎ−ブチル、好ましくはエチル、イソプロピルまたはｎ−ブチルまたはＣ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばＣ３−、Ｃ４−、Ｃ５−またはＣ６−シクロアルキルであり、最も好ましくはＲ１はシクロプロピルである。
【００４９】
Ｒ２の好ましい定義
Ｒ２として、これらまたは好ましくはＲ２の定義に入るとしてここに記載した他に記載した部分が好ましい。
【００５０】
第一の好ましい態様において、Ｒ２は非置換または置換、好ましくは置換、アルキルである。
アルキルの好ましい例は、置換されていても置換されていなくてもよい分枝鎖または直鎖Ｃ１−Ｃ７−アルキルである。好ましい例は、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチルまたはｔｅｒｔ−ブチル、より好ましくはメチル、エチルまたはイソプロピル、最も好ましくはメチルを含む。アルキル部分は、好ましくはモノ−、ジ−またはトリ−置換、より好ましくはモノ−置換である。アルキル部分の適当な置換基はここに定義の通り、好ましくはＣ１−Ｃ４−アルコキシ、ハロ、ヒドロキシ、非置換または置換、好ましくは置換、フェニル、非置換または置換、好ましくは置換、ナフチル、非置換または置換、好ましくは置換、フェニル−またはナフチルオキシ、非置換または置換、好ましくは置換、フェニル−またはナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ、非置換または置換、好ましくは置換、ヘテロシクリル、非置換または置換、好ましくは非置換、シクロアルキル、ニトロ、アミノ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−置換アミノカルボニル、カルボキシル、およびシアノ、より好ましくは非置換または置換、好ましくは置換、フェニル、非置換または置換、好ましくは置換、ナフチル、非置換または置換、好ましくは置換、フェニル−またはナフチルオキシ、または非置換または置換、好ましくは置換、ヘテロシクリル、最も好ましくは非置換または置換、好ましくは置換、フェニルまたは非置換または置換、好ましくは置換、ヘテロシクリルである。ヘテロシクリル部分は、これに関連して、好ましくは単または二環式である。好ましいのは、芳香環系、または特に二環式部分を意図するとき、部分的に飽和された環系であり、特にそこで環の一個以上が芳香族性であり、そして他方が飽和または部分的に飽和されており、最も好ましいのは芳香族性である。ヘテロシクリル部分はオキソ部分を含んでよい。ヘテロシクリル部分は、好ましくはＯ、ＮまたはＳ、より好ましくはＯまたはＮから選択される、１個、２個または３個、より好ましくは１個または２個、最も好ましくは１個のヘテロ原子を有する。特に好ましい例は、好ましくは窒素または硫黄原子を含む、５または６員環、特にピリジルまたは１Ｈ−ピリジン−２−オニルまたはチオフェニル；または好ましくはＮまたはＯ原子を含む二環式環系、特にインドリル、１Ｈ−インダゾリル、キノリル、イソキノリル、１,２,３,４−テトラヒドロ−１,４−ベンゾオキサジニル、２Ｈ−１,４−ベンズオキサジン−３(４Ｈ)−オニル、ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル、クロマニル、または２,３−ジヒドロベンゾフラニルを含む。
【００５１】
置換されているとして上記の部分、特にフェニルまたはヘテロシクリルは、１個以上、例えば３個までの置換基で置換され得る。一つの態様においてフェニルは好ましくはジ置換されている。他の態様において、フェニルは好ましくはトリ置換されている。ヘテロシクリル部分は、好ましくはモノまたはトリ置換されている。これらの部分の適当な置換基は、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、カルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルバモイル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、およびＮ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−アミノカルボニル；より好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｎ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルおよびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシから成る群から独立して選択される。ヘテロシクリル部分は、存在するならば、好ましくはＮを置換されている。
【００５２】
第二の態様において、Ｒ２は好ましくは非置換もしくは置換アリールである。
アリールの好ましい例は、フェニルまたはナフチル、より好ましくはフェニルを含む。アリール部分が置換されているとき、それは好ましくはモノ−またはジ−置換されている。一つの態様において、アリール部分はトリ置換されている。最も好ましくはアリールはジ置換されている。適当な置換基はここで定義の通り、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、カルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルバモイル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、およびＮ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−アミノカルボニル；
より好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｎ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルおよびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、さらに好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、ハロ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、最も好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、ハロ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシである。
【００５３】
第三の態様において、Ｒ２は好ましくは非置換もしくは置換ヘテロシクリルである。
ヘテロシクリル部分は、好ましくは単または二環式、より好ましくは二環式である。一つの態様において、ヘテロシクリル部分は、好ましくは単環式である。好ましいのは、芳香環系、または部分的に飽和された環系であり、特に環の一方が芳香族性であり、他方が飽和または部分的に飽和され、最も好ましいのは部分的に飽和されている。ヘテロシクリル部分は、Ｏ、ＮまたはＳ、より好ましくはＯまたはＮから選択される、好ましくは１個、２個または３個、より好ましくは１個または２個、最も好ましくは２個のヘテロ原子を有する。本環系は、好ましくはオキソ部分を含む。好ましい例は、好ましくは窒素原子を含む、二環式１０員環、特に、キノリル、イソキノリル、１,２,３,４−テトラヒドロ−１,４−ベンゾオキサジニル、４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニル、３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニル、または４Ｈ−ベンゾ[１,４]チアジン−３−オニル；より好ましくはキノリル、イソキノリル、１,２,３,４−テトラヒドロ−１,４−ベンゾオキサジニル、４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニル、または４Ｈ−ベンゾ[１,４]チアジン−３−オニル；または好ましくはＮ原子を含む二環式９員環系、特にインドリル、１Ｈ−インダゾリル、ベンゾチオフェニル、イミダゾ[１,２−ａ]ピリジルまたは３Ｈ−ベンゾオキサゾール−２−オニル、より好ましくは４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニルを含む。他の態様において、ヘテロシクリル部分は、好ましくはＮ原子を含む、好ましくは単環式６員環、特にピリミジルおよびピリジルである。各ヘテロシクリルは、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｎ−モノまたはＮ,Ｎ−ジ(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、カルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルバモイル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキ��、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、およびＮ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−アミノカルボニル；より好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、カルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルバモイル−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルカルバモイル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、およびＮ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−アミノカルボニル；さらにより好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｎ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルおよびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−モノまたはＮ,Ｎ−ジ(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル；なおさらに好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、シアノ、Ｃ１−���７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｎ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルおよびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ；なおよりさらに好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−モノまたはＮ,Ｎ−ジ(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、フェニル、またはフェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)、最も好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、またはフェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)から成る群から独立して選択される１個以上、例えば３個までの置換基で置換されている。ヘテロシクリル部分は、存在するならば、好ましくはＮ上を置換されている。
【００５４】
第四の態様において、Ｒ２は、好ましくはアシル(ここで、アシルはここで定義の通り)である。
アシルは、好ましくは非置換もしくは置換アリール−カルボニルまたは−スルホニル、非置換もしくは置換ヘテロシクリルカルボニルまたは−スルホニルである。好ましくはフェニル、およびヘテロシクリルであるアリールは、置換アルキルの置換基として開示のフェニルおよびヘテロシクリルについてのものと同じ好ましい定義を有する(第一の態様参照)。Ｒ２がアシルであるとき、Ｔは好ましくはメチレンである。Ｒ２は、より好ましくはアシル以外のここで定義の意味の一つを有する。
【００５５】
故に、好ましくはＲ２はピリミジル、ピリジル、フェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ピリジル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、インドリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、１Ｈ−ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、キノリニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、１Ｈ−ピリジン−２−オニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、チオフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、クロマニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、２,３−ジヒドロベンゾフラニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニル、３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニル、またはアシル、例えばフェニルカルボニルまたはインドリルカルボニルであり、ここで、置換基または置換基の一部としてＲ２について記載したフェニル、ナフチル、ピリジル、ピリミジル、インドリル、ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル、キノリニル１Ｈ−ピリジン−２−オニル、チオフェニル、クロマニル、２,３−ジヒドロベンゾフラニル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニル、３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジルまたは４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニは、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｎ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシから成る群から選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されている。
【００５６】
故に、好ましくはＲ２はフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ピリジル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、インドリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、１Ｈ−ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、キノリニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、１Ｈ−ピリジン−２−オニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、チオフェニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、クロマニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、２,３−ジヒドロベンゾフラニル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニルであり得、またはアシル、例えばフェニルカルボニルまたはインドリルカルボニルであり、ここで、Ｒ２について置換基または置換基の一部として記載したフェニル、ナフチル、ピリジル、インドリル、ピロロ[２,３−ｂ]ピリジル、キノリニル１Ｈ−ピリジン−２−オニル、チオフェニル、クロマニル、２,３−ジヒドロベンゾフラニル、３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オニルまたは４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オニルは、非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、フェニル、フェニル(それはハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、および／またはＣ１−Ｃ７−アルキルでモノ−、ジ−またはトリ−置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、シアノ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、Ｎ−モノ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルアミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルおよびＣ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシから成る群から選択される１個以上、とりわけ３個までの部分で置換されている。
【００５７】
Ｒ２の特に好ましい例は、
【化１５】
2009522226.tif 000017
【化１６】
2009522226.tif 000018
【化１７】
2009522226.tif 000019
【化１８】
2009522226.tif 000020
である。
【００５８】
特に、Ｒ２のより好ましい例は、
【化１９】
2009522226.tif 000021
【化２０】
2009522226.tif 000022
【化２１】
2009522226.tif 000023
である。
【００５９】
Ｔの好ましい定義
Ｔは、好ましくはカルボニルまたはメチレン、より好ましくはカルボニルである。Ｔがメチレンであるとき、Ｒ２は好ましくはアシルである。
【００６０】
Ｒ３の好ましい定義
Ｒ３は、好ましくは水素またはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、より好ましくは水素である。Ｒ３がＣ１−Ｃ７−アルキル、好ましくはＣ１−Ｃ４−アルキル、例えばメチルであるならば、Ｒ４は好ましくは置換または非置換Ｃ１−Ｃ７−アルキル、好ましくはＣ１−Ｃ４−アルキル、例えばフェニルで置換されたアルキルであり、最も好ましくはそれはイソブチルまたはベンジルである。
【００６１】
Ｒ４の好ましい定義
Ｒ４について、これらまたは好ましくはＲ４の定義に入るとしてここに記載した他に記載した部分が好ましい。
【００６２】
第一の好ましい態様において、Ｒ４は非置換もしくは置換分枝鎖アルキルである。
分枝鎖アルキルは、好ましくは３〜１５個の、より好ましくは４〜１０個の炭素原子の部分、例えば、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、１−メチル−ブチル、２−メチル−ブチル、３−メチル−ブチル、１−メチル−ペンチル、２−メチル−ペンチル、３−メチル−ペンチル、４−メチル−ペンチル、１−メチル−ヘキシル、２−メチル−ヘキシル、３−メチル−ヘキシル、４−メチル−ヘキシル、５−メチル−ヘキシル、１−エチル−プロピル、１−エチル−ブチル、１−エチル−ペンチル、１−エチル−ヘキシル、２−エチル−ブチル、２−エチル−ペンチル、２−エチル−ヘキシル、３−エチル−ペンチル、３−エチル−ヘキシル、４−エチル−ヘキシル、１−プロピル−ブチル、１−プロピル−ペンチル、１−プロピル−ヘキシル、２−プロピル−ペンチル、２−プロピル−ヘキシル、３−プロピル−ヘキシル、１,２−ジメチル−プロピル、１,２−ジメチル−ブチル、１,２−ジメチル−ペンチル、１,２−ジメチル−ヘキシル、１,３−ジメチル−ブチル、１,３−ジメチル−ペンチル、１,３−ジメチル−ヘキシル、１,４−ジメチル−ペンチル、１,４−ジメチル−ヘキシル、１,５−ジメチル(dimethy)−ヘキシル、２,２−ジメチル−プロピル、２,２−ジメチル−ブチル、２,２−ジメチル−ペンチル、２,２−ジメチル−ヘキシル、２,３−ジメチル−ブチル、２,３−ジメチル−ペンチル、２,３−ジメチル−ヘキシル、２,４−ジメチル−ペンチル、２,４−ジメチル−ヘキシル、２,５−ジメチル−ヘキシル、３,３−ジメチル−ブチル、３,３−ジメチル−ペンチル、３,３−ジメチル−ヘキシル、３,４−ジメチル−ペンチル、３,４−ジメチル−ヘキシル、３,５−ジメチル−ヘキシル、４,４−ジメチル−ペンチル、４,４−ジメチル−ヘキシル、４,５−ジメチル−ヘキシル、１−プロピル−３−メチル−プロピル、１−プロピル−３−メチル−ブチル、１−プロピル−３−メチル−ペンチル、１−プロピル−２−メチル−ヘキシル、１,２,２−トリメチル−プロピル、１,２,２−トリメチル−ブチル、１,２,２−トリメチル−ペンチル、１,２,２−トリメチル−ヘキシル、１,３,３−トリメチル−ブチル、１,３,３−トリメチル−ペンチル、１,３,３−トリメチルヘキシル、１,４,４−トリメチルペンチル、１,４,４−トリメチル−ヘキシル、１,５,５−トリメチルヘキシル、１−エチル−２−メチル−ブチル、１−エチル−２−メチル−ペンチル、１−エチル−２−メチル−ヘキシル、１−エチル−３−メチル−ペンチル、１−エチル−３−メチル−ヘキシル、２−エチル−４−メチル−ペンチル、３−エチル−４−メチル−ヘキシル、１−イソブチル−３−メチル−ブチル、より好ましくはイソブチル、１,２−ジメチル−プロピル、１−メチル−ブチル、３−メチル−ブチル、２−エチル−ブチル、１,３−ジメチル−ブチル、２,２−ジメチル−プロピル、２,２−ジメチル−ブチル、１−プロピル−３−メチル−ブチル、１,３,３−トリメチル−ブチル、１−エチル−３−メチル−ヘキシル、および１−イソブチル−３−メチル−ブチルである。分枝鎖アルキルは置換されていても置換されていなくてもよい。アルキル部分が置換されているとき、それは好ましくはモノ−、ジ−またはトリ−置換、より好ま��くはモノ−置換されている。アルキル部分のための適当な置換基はここで定義の通り、好ましくはＣ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばメトキシまたはエトキシ、ハロ、ヒドロキシ、非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、例えばフェニルまたはナフチル、非置換または置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、ニトロ、アミノ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、例えば−ＮＨＣＯＭｅ、アミノカルボニル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、例えばＣＯＮ(Ｍｅ)２、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニル、およびシアノであり、ここで、適当なフェニルまたはヘテロシクリル(heterocylclyl)置換基は、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、−Ｏ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、ヒドロキシルおよびアミノを含み；より好ましくはＣ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばメトキシまたはエトキシ、ハロ、ヒドロキシ、非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、例えばフェニルまたはナフチル、非置換または置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、ニトロ、アミノ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、例えば−ＮＨＣＯＭｅ、アミノカルボニル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、例えばＣＯＮ(Ｍｅ)２、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニル、およびシアノであり、ここで、適当なフェニルまたはヘテロシクリル置換基はＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、−Ｏ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、ヒドロキシルおよびアミノを含み；さらに好ましくはＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、アミノカルボニル、シアノ、非置換もしくは置換、好ましくは非置換ヘテロシクリル；非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばメトキシまたはエトキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルを含み；なおさらに好ましい置換基は非置換もしくは置換ヘテロシクリル、好ましくは非置換；非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばメトキシまたはエトキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルを含み；
さらにより好ましくはＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、アミノカルボニル、シアノ、非置換もしくは置換ヘテロシクリル、好ましくは非置換；非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばメトキシまたはエトキシ、またはＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、例えばＣＯＮ(Ｍｅ)２；とりわけヒドロキシルまたはＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、例えばＣＯＮ(Ｍｅ)２を含む。置換基がヘテロシクリルであるとき、ヘテロシクリル部分の好ましい例は、単または二環式環である。好ましいのは３〜１４、より好ましくは５〜１１員環系である。ヘテロシクリル部分は飽和、部分的飽和または芳香族性であり、特に単環式部分を意図するならば、芳香族性または飽和、より好ましくは飽和環であるか、または、特に二環式部分を意図するならば、芳香族性または部分的に飽和された環系であり、特にここで、環の一方は芳香族性であり、他方は飽和または部分的に飽和されている。ヘテロシクリル部分は、Ｏ、ＮまたはＳ、より好ましくはＯまたはＮから選択される、好ましくは１個、２個または３個、より好ましくは１個または２個のヘテロ原子を含む。特に好ましい例は、好ましくは窒素または酸素原子を含む５または６員環、とりわけピロリル、フラニル、チエニル、チアゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、テトラヒドピラニル(tetrahydopyrayl)、ピリジル、またはピリミジニル、特にテトラヒドピラニルを含む。
【００６３】
第二の好ましい態様において、Ｒ４は非置換もしくは置換直鎖アルキルである。
直鎖アルキルは、好ましくは１〜７個、より好ましくは１〜４個の炭素原子の部分、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチルまたはｎ−ペンチル、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピルまたはｎ−ペンチル、最も好ましくはメチルである。アルキルは、好ましくは置換されている。アルキル部分が置換されているとき、それは好ましくはモノ−、ジ−またはトリ−置換、より好ましくはモノ−またはジ−置換されている。アルキル部分の適当な置換基は、ここで定義の通り、好ましくはＣ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばメトキシ、イソプロポキシまたはエトキシ、とりわけ、イソプロポキシまたはエトキシ、ハロ、ヒドロキシ、非置換または置換、好ましくは非置換アリール、例えばフェニルまたはナフチル、非置換または置換、好ましくは非置換ヘテロシクリル、非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘプチル、シクロヘキシルまたはシクロペンチル、ニトロ、アミノ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、例えば−ＮＨＣＯＭｅ、アミノカルボニル、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、例えばＮ(Ｍｅ)２またはＮ(Ｅｔ)２、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、例えばＣＯＮ(Ｍｅ)２、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルオキシカルボニル、およびシアノであり、ここで、適当なシクロアルキル、フェニルまたはヘテロシクリル置換基は、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、ヒドロキシルおよびアミノを含む。より好ましくは、アルキルの置換基は、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばイソプロポキシまたはエトキシ、非置換もしくは置換ヘテロシクリル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、好ましくは非置換；非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘプチル、シクロヘキシルまたはシクロペンチル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルを含む。さらに好ましくは、アルキルの置換基は、置換または非置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、とりわけピラジル、イソオキサゾリル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニル、非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘプチル、シクロヘキシルまたはシクロペンチル(それはここで記���したように非置換であるかまたは置換されている)；ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノを含む。置換基がヘテロシクリル(heterocylyl)であるとき、ヘテロシクリル部分の好ましい例は、単または二環式環；最も好ましくは置換または非置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、とりわけモルホリニル、チオモルホリニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニル、非置換もしくは置換フェニル、非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘプチル、シクロヘキシルまたはシクロペンチル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)；ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばメトキシ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノである。置換基がヘテロシクリルであるとき、ヘテロシクリル部分の好ましい例は単または二環式環である。好ましいのは３〜１４、より好ましくは５〜１１員環系である。ヘテロシクリル部分は飽和、部分的飽和または芳香族性であってよく、特に単環式部分を意図するとき、芳香族性または飽和、より好ましくは飽和環であるか、または、特に二環式部分を意図するとき、芳香族性または部分的に飽和された環系であり、特にここで、一方の環が芳香族性であり、他方が飽和または部分的に飽和されている。ヘテロシクリル部分は、好ましくはＯ、ＮまたはＳ、より好ましくはＯまたはＮから選択される、１個、２個または３個、より好ましくは１個または２個のヘテロ原子を含む。特に好ましい例は、好ましくは窒素または酸素原子を含む５または６員環、より好ましくはピラジル、イソオキサゾリル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニル；最も好ましくはモルホリニル、チオモルホリニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニルである。ヘテロシクリル部分が置換されているとき、それは好ましくはここで定義した置換基、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチルでモノ−置換されている。
【００６４】
第三の好ましい態様において、Ｒ４は非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキルである。
シクロアルキル部分の好ましい例は、単環式環、好ましくはＣ３−Ｃ８−シクロアルキル、より好ましくはＣ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、およびＣ７−シクロアルキル、さらに好ましくはＣ３、Ｃ５およびＣ６−シクロアルキルである。シクロアルキル部分は置換されていても置換されていなくてもよく、好ましくは置換されている。シクロアルキル部分が置換されているとき、それは好ましくはモノ−置換されている。
【００６５】
シクロアルキル部分の適当な置換基は、ここで定義の通り、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチルおよびイソブチル、アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ８−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ８−アルキル、例えばメトキシメチル、エトキシメチルおよびイソプロポキシメチル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばＯＭｅ、ＯＥｔ、好ましくはＯＭｅ、ハロ、ヒドロキシル、ヒドロキシル−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、例えばＣＨ２−ＯＨ、非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、例えばフェニル、置換または非置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、ニトロ、アミノ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、カルボキシル、およびシアノである。より好ましくは、置換基はＣ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばＯＭｅ、ＯＥｔ、好ましくはＯＭｅ、ハロ、ヒドロキシル−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、例えばＣＨ２−ＯＨ、非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、例えばフェニル、置換または非置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、ニトロ、アミノ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミノ、カルボキシル、およびシアノを含む。さらに好ましくは、置換基はＣ１−Ｃ８−アルキル、例えばメチルおよびイソブチル、アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ８−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ８−アルキル、例えばメトキシメチル、エトキシメチルおよびイソプロポキシメチル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばＯＭｅ、ＯＥｔ、好ましくはＯＭｅ、ヒドロキシル、ヒドロキシル−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、フェニルまたはヘテロシクリル、例えばピリジルまたはテトラヒドロピラニルを含む。最も好ましくは、置換基はヒドロキシル、ヒドロキシル−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、フェニルまたはヘテロシクリル、例えばピリジルまたはテトラヒドロピラニルを含む。
【００６６】
置換基がヘテロシクリルであるとき、ヘテロシクリル部分の好ましい例は単または二環式環である。好ましいのは３〜１４、より好ましくは５〜１１員環系である。ヘテロシクリル部分は飽和、部分的飽和または芳香族性であってよく、特に単環式部分を意図するとき、芳香族性または飽和、より好ましくは飽和環であるか、または、特に二環式部分を意図するとき、芳香族性または部分的に飽和された環系であり、特にここで、環の一方が芳香族性であり、他方が飽和または部分的に飽和されている。ヘテロシクリル部分は、好ましくはＯ、ＮまたはＳ、より好ましくはＯまたはＮから選択される１個、２個または３個、より好ましくは１個または２個のヘテロ原子を有する。特に好ましい例は、好ましくは窒素または酸素原子を含む５または６員環、とりわけモルホリノ、チオモルホリノ、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニルを含む。アリールまたはヘテロシクリル部分は置換されていても置換されていなくてもよい。アリールまたはヘテロシクリル部分が置換されているとき、それは好ましくはモノ−置換されている。一つの態様において、アリールおよびヘテロシクリル部分のための適当な置換基は、ハロ、例えばフルオロである。
【００６７】
第四の好ましい態様において、Ｒ４は非置換もしくは置換アリールである。
アリール部分の好ましい例は、６〜２２個の炭素原子の単または二環式アリール、とりわけフェニル、インダニル、インデニル、またはナフチル、より好ましくはフェニルを含む。一つの態様において、アリール部分はインダニルである。アリール部分が置換されているとき、それは好ましくはモノ−、ジ−またはトリ−置換、特にジ−置換されている。適当な置換基はここで定義の通り、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばＭｅ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばＯＭｅおよびＯＥｔ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、例えばＦ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばＯ−Ｃ３Ｈ６ＯＣＨ３、ヒドロキシ、ニトロ、アミノ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルボキシル、およびシアノ；より好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばＭｅ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばＯＭｅおよびＯＥｔ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、またはハロ、例えばＦ；さらに好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばＭｅ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばＯＭｅ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、例えばＦ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばＯ−Ｃ３Ｈ６ＯＣＨ３、ヒドロキシ、ニトロ、アミノ、アミノ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、カルボキシル、およびシアノ；最も好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばＭｅ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばＯＭｅ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、またはハロ、例えばＦである。
【００６８】
第五の好ましい態様において、Ｒ４は非置換もしくは置換ヘテロシクリルである。
ヘテロシクリル部分の好ましい例は、単または二環式環である。好ましいのは３〜１４、より好ましくは５〜１１員環系である。ヘテロシクリル部分は飽和、部分的飽和または芳香族性であってよく、特に単環式部分を意図するとき、芳香族性または飽和、より好ましくは飽和環であるか、または、特に二環式部分を意図するとき、芳香族性または部分的に飽和された環系であり、特にここで、環の一方が芳香族性であり、他方が飽和または部分的に飽和されている。ヘテロシクリル部分は、好ましくはＯ、ＮまたはＳ、より好ましくはＯまたはＮから選択された１個、２個または３個、より好ましくは１個または２個のヘテロ原子を含む。ヘテロシクリル部分はオキソ部分を有し得る。好ましい例は、好ましくは窒素または酸素原子を含む５、６または７員環、とりわけアゼパン−２−オニル、テトラヒドロピラニル、１Ｈ−ピリジン−２−オニル、ピリジル、ピペリジニル、ピペラジニルまたはピロリジニルを含む。特に好ましい例は、好ましくは窒素または酸素原子を含む５または６員環、とりわけ１Ｈ−ピリジン−２−オニル、ピペリジニル、ピペラジニルまたはピロリジニルを含む。ヘテロシクリル部分は置換されていても置換されていなくてもよい。ヘテロシクリル部分が置換されているとき、それは好ましくはモノ−置換またはジ−置換されている。ヘテロシクリル部分の適当な置換基は、ここで定義の通り、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、ｎ−プロピル、イソプロピルまたはイソブチル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、例えばＣＯＭｅ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、例えばＳＯ２Ｍｅ、アリール、置換または非置換、好ましくは非置換、例えばフェニル、およびシアノである。より好ましくは、置換基は、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、例えばメチル、ｎ−プロピル、イソプロピルまたはイソブチル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、例えばＣＯＭｅ、カルボキシルおよびシアノを含む。さらに好ましくは、置換基はＣ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシル、Ｃ１−Ｃ７−アルカノイル、Ｃ１−Ｃ７−アルキルスルホニル、例えばＳＯ２Ｍｅ、アリール、置換または非置換、好ましくは非置換、例えばフェニル、およびシアノを含む。最も好ましくは置換基はＣ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシルまたはＣ１−Ｃ７−アルカノイルを含む。
【００６９】
第六の好ましい態様において、Ｒ４はアシルである。
アシルの好ましい例はここで定義の通り、例えば(非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−カルボニルまたはスルホニル、好ましくはスルホニル、より好ましくは非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル−カルボニルまたはスルホニル、より好ましくは、−スルホニル、とりわけフェニルメタンスルホニルである。
【００７０】
故に、Ｒ４は、好ましくは以下から成る群から選択される：
−分枝鎖Ｃ４−Ｃ１０−アルキル(これは非置換であるか、または：
非置換または置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、とりわけピロリル、フラニル、チエニル、チアゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、またはピリミジニル(この各々はここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、とりわけトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル；Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、アミノカルボニル、またはシアノ；とりわけＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、アミノカルボニル、シアノ、非置換または置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル；非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、例えばメトキシまたはエトキシ、またはＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル、例えばＣＯＮ(Ｍｅ)２から成る群の１個以上、例えば１個または２個で置換されていてよい)；
−  直鎖Ｃ１−Ｃ７−アルキル(これは、末端または非末端炭素に結合してよく、そして非置換であるか、または：
非置換または置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、とりわけピラジル、イソオキサゾリル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニル(この各々はここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)；非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；非置換または置換、好ましくは非置換、Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘプチル、シクロヘキシルまたはシクロペンチル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニル；とりわけ非置換または置換、好ましくは非置換、ヘテロシクリル、とりわけピラジル、イソオキサゾリル、モルホリニル、ピペリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニル(この各々はここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)；非置換または置換、好ましくは非置換、アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；非置換または置換、好ましくは非置換、Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘプチルまたはシクロヘキシル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)；ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノおよび、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルから成る群の１個以上、例えば１個または２個で置換されていてよい)；
−  非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロプロピル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、
−  非置換もしくは置換アリール、例えばフェニルおよびインダニル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、
−  非置換もしくは置換ヘテロシクリル、例えばアゼパン−２−オニル、テトラヒドロピラニル、１Ｈ−ピリジン−２−オニル、ピリジル、ピペリジニル、ピペラジニルまたはピロリジニル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、または
−  アシル、例えば(非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−スルホニル、とりわけフェニルメタンスルホニル。
【００７１】
故に、Ｒ４は、以下から成る群から選択できる：
−分枝鎖Ｃ４−Ｃ１０−アルキル(これは非置換であるか、または：
非置換もしくは置換ヘテロシクリル、とりわけピロリル、フラニル、チエニル、チアゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、またはピリミジニル(この各々はここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、好ましくは非置換；非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルから成る群の１個以上、例えば１個または２個で置換されていてよい)；
−  直鎖Ｃ１−Ｃ７−アルキル(これは、末端または非末端炭素に結合してよく、そして非置換であるか、または：
非置換もしくは置換ヘテロシクリル、とりわけモルホリノ、チオモルホリノ、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピリジル、またはピロリジン−２−オニル(この各々はここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、好ましくは非置換；非置換もしくは置換アリール、とりわけここに記載した非置換もしくは置換フェニル；非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘプチル、シクロヘキシルまたはシクロペンチル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)；ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｎ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノ、およびＮ−モノ−またはＮ,Ｎ−ジ−(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−アミノカルボニルから成る群の１個以上、例えば１個または２個で置換されていてよい)；
−  非置換もしくは置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、例えばシクロヘキシルまたはシクロプロピル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、
−  非置換もしくは置換アリール、例えばフェニル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、
−  非置換もしくは置換ヘテロシクリル、例えばピリジル、ピロリニニルまたはピペリジニル(それはここで記載したように非置換であるかまたは置換されている)、または
−  アシル、例えば(非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、非置換もしくは置換ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ７−アルキルまたは非置換もしくは置換シクロアルキル−Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−スルホニル、とりわけフェニルメタンスルホニル。
【００７２】
Ｒ４の特に好ましい定義は、以下を含む：
【化２２】
2009522226.tif 000024
【化２３】
2009522226.tif 000025
【化２４】
2009522226.tif 000026
【化２５】
2009522226.tif 000027
【化２６】
2009522226.tif 000028
【化２７】
2009522226.tif 000029
【化２８】
2009522226.tif 000030
【化２９】
2009522226.tif 000031
【化３０】
2009522226.tif 000032
【００７３】
特に、Ｒ４のより好ましい定義は、以下を含む：
【化３１】
2009522226.tif 000033
【化３２】
2009522226.tif 000034
【化３３】
2009522226.tif 000035
【化３４】
2009522226.tif 000036
【００７４】
あるいは、Ｒ３およびＲ４は、ここで記載した通り窒素含有環を形成でき、好ましくは、Ｒ３およびＲ４は、一緒になって、ピロリジンまたはピペリジン環を形成し、それは非置換であるか、または、好ましくはＣ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシル、ハロ、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキルおよびシアノから選択される４個までの部分で置換されている。故に、Ｒ３およびＲ４によって形成される特に好ましい環の例は、
【化３５】
2009522226.tif 000037
である。
【００７５】
Ｒ６の好ましい定義
Ｒ６として、これらまたは好ましくはＲ６の定義に入るとしてここに記載した他の部分が好ましい。
好ましくは、Ｒ６は水素、ＯＨ、Ｆ、Ｃ１−Ｃ４−アルキルまたはＣ１−Ｃ４−アルコキシ、最も好ましくは水素である。一つの態様において、Ｒ６はＯＨ、Ｆ、Ｃ１−Ｃ４−アルキルまたはＣ１−Ｃ４−アルコキシ、好ましくはＯＨである。
【００７６】
Ｒ７およびＲ８の好ましい定義
Ｒ７およびＲ８、これらまたは好ましくはＲ７およびＲ８の定義に入るとしてここに記載した他の部分が好ましい。
好ましくはＲ７およびＲ８の両方とも水素である。
【００７７】
一つの態様において、Ｒ７およびＲ８は、互いに独立してハロ、例えばＦである。Ｒ７およびＲ８の一方が水素であり、他方がＦであるのがこの態様において好ましい。
とりわけ式Ｉ'またはＩの化合物および／またはそれらの塩の特定の本発明の態様は、実施例に提供する  −  故に、本発明は、非常に好ましい態様において、実施例に記載した化合物から選択される式Ｉ'またはＩの化合物、またはそれらの塩、ならびに本発明に従うそれらの使用に関する。
【００７８】
製造方法
式Ｉの化合物、またはその塩は、式Ｉの新規化合物については類似方法よりも少なくとも新規である、他の化合物に関しては原則として当分野で既知である方法に準じて製造、とりわけ説明的実施例に記載した通りまたはその方法に準じて、またはそれらの変法により、好ましくは一般的に
ａ)
【化３６】
2009522226.tif 000038
〔式中、Ｔはメチレンまたは好ましくはカルボニルであり、ＰＧは保護基であり、そしてＲ３およびＲ４は、Ｒ３およびＲ４は、上記の式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物、または(好ましくは)その活性誘導体と、式III
Ｒ１−ＮＨ−Ｒ２        (III)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１から１３のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義した通りである。〕
の化合物を反応させるか；または
【００７９】
ｂ)式IV
【化３７】
2009522226.tif 000039
〔式中、ＰＧは保護基であり、そしてＲ１およびＲ２は、上記の式Ｉの化合物について定義した通りである、または(好ましくは)その活性誘導体。〕
の化合物、または(好ましくは)その活性誘導体と、式Ｖ
Ｒ３−ＮＨ−Ｒ４      (Ｖ)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は式IVの化合物について定義の通りである。〕
の化合物を反応させ；
そして、望むならば、上記工程のいずれか１個の後に得られる式Ｉの化合物またはその保護された形を異なる式Ｉの化合物に変換し、得られる式Ｉの化合物の塩を遊離化合物または異なる塩に変換し、得られる遊離の式Ｉの化合物をその塩に変換し、および／または得られる式Ｉの化合物の異性体混合物を個々の異性体に分離することを含み；
ここで、出発物質の全てにおいて、記載した特定の保護基に加えて、さらなる保護基が存在してよく、そして全ての保護基または結合している樹脂を、対応する式Ｉの化合物、またはその塩を得るために適当な段階で除去する工程を含む、方法により製造する。
【００８０】
キラル骨格の製造のために、以下の方法を続けてもよい。
式VI
【化３８】
2009522226.tif 000040
〔式中、ＰＧは保護基である。〕
の化合物を、アルコールＲ５ＯＨ(ここで、Ｒ５は非置換もしくは置換アルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキルである)を、キラルアミン触媒に反応させて、式VIIａまたはVIIｂ：
【化３９】
2009522226.tif 000041
〔式中、ＰＧおよびＲ５は式VIの化合物において定義の通りである。〕
の化合物のいずれかを得る。式VIの化合物を当分野で既知のまたはここに記載した方法に従い製造できる。
【００８１】
キラルアミン触媒を使用するこの反応によって、モノエステルを高選択性で製造できることが、驚くべきことに判明した。これは、今日まで知られていたこのようなモノエステルの製造法の大きな改善である。特に、ここに引用により包含させる、無水物を酵素的に加水分解するPark, J.-S.;Yeom, C.-E.;Choi, S.H.;Ahn, Y.S.;Ro, S.;Jeom, Y.H.;Shin, D.-K.;Kim, B.M. Tetrahedron Lett. 2003, 44, 1611-1614を参照のこと。所望のキラル化合物を得ることができるが、この反応はむしろ遅く、非常に低い選択性、すなわち、２０−３０％範囲のｅｅで進行する。このような結果は、高い立体選択性が達成される本変換より非常に劣っている。この変換が、式Ｉの化合物の製造のための全製造工程の非常に初期段階であり、式Ｉの化合物の全体的製造をより効率的にそして経済的にする望まない副産物の製造を避け、そして出発物質の量を劇的に減らすために良い立体選択性を得ることが重要であることは容易に明白である。
【００８２】
本発明のこの方法の好ましい態様は以下に記載する。
位置選択性は、キラルアミン触媒の性質に依存する。キラルアミン触媒の好ましい例は、キラル３級アミン、より好ましくはシンコナアルカロイド、例えばキニジンおよびキニン、最も好ましくは修飾シンコナアルカロイドである。このような修飾シンコナアルカロイドの例は以下に示す。詳細な記載について、引用により本明細書に包含させるTian, S.-K.;Chen, Y.;Hang, J.;Tang, L.;McDiad, P.;Deng, L. Acc. Chem. Res. 2004, 37, 621-631およびその中の引用文献を参照し得る。
【００８３】
【化４０】
2009522226.tif 000042
【表１】
2009522226.tif 000043
【００８４】
上記に示す例において、修飾はＤＨＱＤについてのみしか示していないが、しかしながら、(ＤＨＱ)２ＡＱＮのようなＤＨＱの対応する誘導体も使用できることは容易に明白であろう。アミンの性質がエステル形成の位置を、すなわち、立体選択性を制御する。例えばキニジン、ＤＨＱＤまたはその誘導体を使用するとき、式VIIｂの化合物を製造できる。逆に、キニン、ＤＨＱまたはその誘導体を使用したとき、式VIIａの化合物を製造できる。本発明の好ましい化合物を、適当な次の一連の反応およびそのための各アミン試薬を選択することにより、VIIａおよびVIIｂのいずれの前駆体からも製造できるため、どのステレオマーを選択的に製造するかについての特定の優先性はない。それにも係わらず、好ましくは、式VIIｂの化合物を得る。選択するアミン触媒は、それ故、キニジン、ＤＨＱＤまたはその誘導体、特に(ＤＨＱＤ)２ＡＱＮである。式VIIａの化合物を製造するとき、選択するアミン触媒は、それ故にキニン、ＤＨＱまたはその誘導体、特に(ＤＨＱ)２ＡＱＮである。
【００８５】
反応条件について、またTian, S.-K. et al.を参照する。具体的に、キラルアミン触媒を等モル量未満で、好ましくは５０mol％未満、例えば５〜４０mol％、より好ましくは１０〜３５mol％、最も好ましくは３０mol％で使用する。
【００８６】
アルコールＲ５ＯＨは、式VIの化合物のエステル化のための適当なアルコールであり、非置換もしくは置換アルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキル(ここで、置換アルキルは好ましくはハロまたはアリール置換アルキル、特にフルオロまたはフェニルから選択される)のように式VIIIの化合物において存在する通りにアミドの存在下で加水分解される。置換アルキルの例は、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロエチル、フルオロメチル、フルオロエチルまたはベンジルを含む。最も好ましくは、Ｒ５はメチルである。
【００８７】
反応溶媒は、以下に記載した通り選択でき、特に好ましいのはエーテル系溶媒、例えばジエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン(ＴＨＦ)またはこれらの混合物、例えばジエチルエーテル：ＴＨＦ(４：１)または(３：１)である。反応温度は、反応を効率的な方法で完了させるが、同時に望まない副産物の形成を最大限抑制するように選択できる。典型的反応温度は、−１００から２０℃、例えば−８０から１０℃、好ましくは−４０から０℃である。
【００８８】
変換は高い立体選択性で、好ましくは６０％を超えるｅｅ、より好ましくは７０％を超えるｅｅ、さらに好ましくは８０％を超えるｅｅ、最も好ましくは９０％を超えるｅｅ、例えば９５％を超えるｅｅで進行する。特に約１００％ｅｅ、例えば９８％ｅｅを達成できる。
【００８９】
所望の生成物の分離は、当分野で既知の適当な再結晶技術により達成できる。例えば、引用により本明細書に包含させるPark, J.-S.;Yeom, C.-E.;Choi, S.H.;Ahn, Y.S.;Ro, S.;Jeom, Y.H.;Shin, D.-K.;Kim, B.M. Tetrahedron Lett. 2003, 44, 1611-1614およびその中の引用文献において用いられている再結晶法を参照できる。故に、キラルアミン、例えばα−フェニルエチルアミンを、動的分割により分離するために用いることができる。
【００９０】
次のまたは独立した工程として、式(VIIａ)
【化４１】
2009522226.tif 000044
〔式中、ＰＧは保護基であり、そしてＲ５は非置換もしくは置換アルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキルである。〕
の化合物、または(好ましくは)その活性誘導体を、式III
Ｒ１−ＮＨ−Ｒ２          (III)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１から１３のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させ；所望の式VIII
【化４２】
2009522226.tif 000045
のアミドを得て、それをエステル部分の加水分解に付して、式IX
【化４３】
2009522226.tif 000046
の化合物を得て、その化合物または(好ましくは)その活性誘導体を、次いで、式Ｖ
Ｒ３−ＮＨ−Ｒ４          (Ｖ)
〔式中、Ｒ３およびＲ４は、請求項１から１３のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させて；式Ｘ
【化４４】
2009522226.tif 000047
の化合物を得ることができ、そして、望むならば、上記工程のいずれか１個の後に上記工程のいずれか１個の後に得られる式Ｉの化合物またはその保護された形を異なる式Ｉの化合物に変換し、得られる式Ｉの化合物の塩を遊離化合物または異なる塩に変換し、得られる遊離の式Ｉの化合物をその塩に変換し、および／または得られる式Ｉの化合物の異性体混合物を個々の異性体に分離することを含み；
ここで、出発物質の全てにおいて、記載した特定の保護基に加えて、さらなる保護基が存在してよく、そして全ての保護基または結合している樹脂を、対応する式Ｉの化合物、またはその塩を得るために適当な段階で除去する。
【００９１】
あるいは、式(VIIａ)
【化４５】
2009522226.tif 000048
〔式中、ＰＧは保護基であり、そしてＲ５は非置換もしくは置換アルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキルである。〕
の化合物を得て、その化合物または(好ましくは)その活性誘導体と、式Ｖ
Ｒ３−ＮＨ−Ｒ４          (Ｖ)
〔式中、Ｒ３およびＲ４は、請求項１から１３のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物を反応させ；所望の式XI
【化４６】
2009522226.tif 000049
のアミドを得て、それをエステル部分の加水分解に付して式XII
【化４７】
2009522226.tif 000050
の化合物を得て、その化合物または(好ましくは)その活性誘導体を、次いで式III
Ｒ１−ＮＨ−Ｒ２          (III)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１から１３のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させて；式XIII
【化４８】
2009522226.tif 000051
の化合物を得ることができ、そして、望むならば、上記工程のいずれか１個の後に得られる式Ｉの化合物またはその保護された形を異なる式Ｉの化合物に変換し、得られる式Ｉの化合物の塩を遊離化合物または異なる塩に変換し、得られる遊離の式Ｉの化合物をその塩に変換し、および／または得られる式Ｉの化合物の異性体混合物を個々の異性体に分離することを含み；
ここで、出発物質の全てにおいて、記載した特定の保護基に加えて、さらなる保護基が存在してよく、そして全ての保護基または結合している樹脂を、対応する式Ｉの化合物、またはその塩を得るために適当な段階で除去する。
【００９２】
あるいは、次のまたは独立した工程として、式(VIIｂ)
【化４９】
2009522226.tif 000052
〔式中、ＰＧは保護基であり、そしてＲ５は非置換もしくは置換アルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキルである。〕
の化合物または(好ましくは)その活性誘導体を、式III
Ｒ１−ＮＨ−Ｒ２          (III)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１から１３のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させ；所望の式XIV
【化５０】
2009522226.tif 000053
のアミドを得て、それをエステル部分の加水分解に付して式XV
【化５１】
2009522226.tif 000054
の化合物を得て、その化合物または(好ましくは)その活性誘導体を、次に式Ｖ
Ｒ３−ＮＨ−Ｒ４          (Ｖ)
〔式中、Ｒ３およびＲ４は、請求項１から１３のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させて；式XIII
【化５２】
2009522226.tif 000055
の化合物を得ることができ、そして、望むならば、上記工程のいずれか１個の後に得られる式Ｉの化合物またはその保護された形を異なる式Ｉの化合物に変換し、得られる式Ｉの化合物の塩を遊離化合物または異なる塩に変換し、得られる遊離の式Ｉの化合物をその塩に変換し、および／または得られる式Ｉの化合物の異性体混合物を個々の異性体に分離することを含み；
ここで、出発物質の全てにおいて、記載した特定の保護基に加えて、さらなる保護基が存在してよく、そして全ての保護基または結合している樹脂を、対応する式Ｉの化合物、またはその塩を得るために適当な段階で除去する。
【００９３】
あるいは、式(VIIｂ)
【化５３】
2009522226.tif 000056
〔ここで、ＰＧは保護基であり、そしてＲ５は非置換またはハロで置換されたアルキルまたはアルケニル、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキルである。〕
の化合物、または(好ましくは)その活性誘導体と、式Ｖ
Ｒ３−ＮＨ−Ｒ４                (Ｖ)
〔式中、Ｒ３およびＲ４は、請求項１から１３のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物を反応させて；所望の式XVI
【化５４】
2009522226.tif 000057
のアミドを得て、それをエステル部分の加水分解に付して式XVII
【化５５】
2009522226.tif 000058
の化合物を得て、その化合物または(好ましくは)その活性誘導体を、次に、式III
Ｒ１−ＮＨ−Ｒ２              (III)
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１から１３のいずれかにおいて式Ｉの化合物について定義の通りである。〕
の化合物と反応させて；式Ｘ
【化５６】
2009522226.tif 000059
の化合物を得ることができ、そして、望むならば、上記工程のいずれか１個の後に得られる式Ｉの化合物またはその保護された形を異なる式Ｉの化合物に変換し、得られる式Ｉの化合物の塩を遊離化合物または異なる塩に変換し、得られる遊離の式Ｉの化合物をその塩に変換し、および／または得られる式Ｉの化合物の異性体混合物を個々の異性体に分離することを含み；
ここで、出発物質の全てにおいて、記載した特定の保護基に加えて、さらなる保護基が存在してよく、そして全ての保護基または結合している樹脂を、対応する式Ｉの化合物、またはその塩を得るために適当な段階で除去する。
【００９４】
好ましくはキラルｃｉｓ骨格を製造する方法は、式Ｘの化合物を製造する。
好ましい方法の２個を一連のものとしてスキーム３ａおよび３ｂとして示す。各変換についての各矢印上の短い記載は説明の目的のためにのみに付加されており、この一連のまたは各個々の工程を限定するものと見なしてはならないことは留意すべきである
【００９５】
スキーム３ａ
【化５７】
2009522226.tif 000060
スキーム３ｂ
【化５８】
2009522226.tif 000061
ＥＤＣＩ      １−エチル−３−(３−ジメチルアミノプロピル)−カルボジイミド
ＨＯＡｔ      １−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール
【００９６】
エステル加水分解および脱保護を、当分野で既知の方法に従い行うことができ、また、保護および脱保護法に関する以下の記載を参照のこと。
【００９７】
好ましい反応条件
上記の反応、ならびに変換および転換のための好ましい反応条件は以下の通りである(または実施例において使用されている方法に準じたものまたはそこに記載した通り)：
ａ)およびｂ)の下の反応または式VIII、Ｘ、XI、およびXIIIの化合物の製造のための反応は、好ましくは慣用の縮合または置換条件下に行う。
【００９８】
Ｔがカルボニルである式IIの化合物(すなわち、式IVの化合物が炭酸である)の場合、式IVの化合物の場合、または式VIIIの化合物、Ｘ、XI、およびXIIIの製造の場合、反応好ましくは式II、IV、VIIａ、VIIｂ、IX、またはXIIの化合物の活性化誘導体と共に行う。式II、IV、VIIａ、VIIｂ、IX、またはXIIの酸の活性化誘導体として、反応性エステル(例えばヒドロキシベンゾトリアゾール(ＨＯＢＴ)、ペンタフルオロフェニル、４−ニトロフェニルまたはＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステル)、酸ハロゲニド(例えば酸クロライドまたはブロマイド)または反応性無水物(例えば低級アルカノン酸の混合無水物または対称性無水物)が好ましい。反応性炭酸誘導体はまた、好ましくはインサイチュで形成できる。反応は、式II、IV、VIIａ、VIIｂ、IX、またはXIIおよびIIIまたはＶの化合物を適当な溶媒、例えばハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、塩化メチレン、アセトニトリルまたはこのような溶媒の２種以上の混合物に溶解し、適当な塩基、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン(ＤＩＰＥＡ)またはＮ−メチルモルホリンを添加し、式IVの酸の反応性誘導体をインサイチュで形成させるならば、式II、IV、VIIａ、VIIｂ、IX、またはXIIの炭酸の好ましい反応性誘導体をインサイチュで形成する適当なカップリング剤、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド／１−ヒドロキシベンゾトリアゾール(ＤＣＣ／ＨＯＢＴ)；ビス(２−オキソ−３−オキサゾリジニル)ホスフィニッククロライド(ＢＯＰＣｌ)；Ｏ−(１,２−ジヒドロ−２−オキソ−１−ピリジル)−Ｎ,Ｎ,Ｎ‘,Ｎ‘−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート(ＴＰＴＵ)；Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル)−Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート(ＴＢＴＵ)；(ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ)−トリピロリジノホスホニウム−ヘキサフルオロホスフェート(ＰｙＢＯＰ)、１−(３−ジメチルアミノプロピル)−３−エチルカルボジイミドヒドロクロライド／ヒドロキシベンゾトリアゾールまたは／１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール(ＥＤＣ／ＨＯＢＴまたはＥＤＣ／ＨＯＡｔ)、ＨＯＡｔのみ、４−(４,６−ジメトキシ−１,３,５−トリアジン−２−イル)−４−メチルモルホリニウムクロライド(ＤＭＴ−ＭＭ)、Ｏ−(１Ｈ−６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル)−１,１,３,３−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート(ＨＣＴＵ)、プロピルホスホニック無水物または１−クロロ−２−メチル−プロペニル)−ジメチルアミン(＝１−クロロ−Ｎ,Ｎ,２−トリメチル−１−プロペニルアミン)と共に添加することにより行う。いくつかの他の可能なカップリング剤のレビューのために、例えばKlauser; Bodansky, Synthesis 1972, 453-463参照。本反応混合物を好ましくは約−２０から５０℃、とりわけ０℃から３０℃の温度、例えば０℃から室温で撹拌する。本反応は好ましくは不活性ガス下、例えば窒素またはアルゴン下に行う。
【００９９】
Ｔがメチレンである式IIの化合物の場合、活性化誘導体中、ＯＨ基を好ましくは脱離基、例えばハロ、例えばクロロ、ブロモまたはヨード、または有機スルホニルオキシ、例えばトシルオキシまたはメタンスルホニルオキシ(methanesiulfonyloxy)に置き換える。次いで、式IIIの化合物との反応を、好ましくは求核性置換のための標準条件下で行う。
保護基ＰＧおよび／または他の保護基の除去を、いずれの場合も工程ａ)または一般的方法条件の下に記載した通りに行う。
【０１００】
所望により行う反応および変換
上記の方法のいずれか１個に従い直接、または特記されていなくても出発物質として同様にその後挿入される保護基を改めて挿入後に得られた式Ｉの化合物、またはその保護された形は、必要であれば保護基の除去後、既知の方法に従い異なる式Ｉの化合物に変換できる。
【０１０１】
式Ｉの化合物においてＲ１が水素であるとき、これは、Ｒ１が式Ｉの化合物について与えられた水素以外の意味を有する対応する化合物に、式XVIII
Ｒ１＊−Ｑ          (XVIII)
〔式中、Ｒ１＊は、水素以外の式Ｉの化合物におけるＲ１であり、そしてＱは脱離基(例えば好ましくはハロ、例えばクロロ、非置換もしくは置換アリール−スルホニルオキシ、例えばトルオールスルホニルオキシ、非置換もしくは置換アルキルスルホニルオキシ、例えばメチルスルホニルオキシまたはトリフルオロメチルスルホニルオキシから選択される。〕
の化合物と反応させることにより変換でき、反応は、例えば塩基、例えば弱い酸のアルカリ金属塩、例えばアルカリ金属カーボネートおよび／またはアルカリ金属水素カーボネート、例えばナトリウムまたは炭酸カリウムおよび／またはナトリウムまたはカリウム水素カーボネート(ＮａＨＣＯ３またはＫＨＣＯ３)の存在下、適当な溶媒、例えばジメチルアセトアミド、ジオキサンおよび／またはＨ２Ｏ中、−２０から５０℃の好ましい温度、例えば−５から３０℃で行うか、またはここで、Ｑが−ＣＨＯであるならば(それ故に式IVの化合物はアルデヒドである)、Ｒ１＊が、メチレン基を含む部分Ｒ１の相補的部分であり(式Ｒ１＊−ＣＨ２−の基Ｒ１をもたらす)、例えば以下の通りの還元的アミノ化条件下で行う：反応は、好ましくは還元的アミノ化のための一般的反応条件下、例えば適当な水素化試薬、例えば触媒の存在下の水素または複合ハイドライド、例えばナトリウムトリアセトキシボロハイドライドまたはナトリウムシアノボロハイドライドの存在下、適当な溶媒、例えばハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレンまたは１,２,−ジクロロエタン、および所望により炭酸、例えば酢酸中、−１０℃から５０℃、例えば０℃から室温の好ましい温度で行う。
【０１０２】
Ｒ３が水素、非置換もしくは置換アルキルである式Ｉの化合物において、Ｒ３を、Ｒ３が水素であり、そしてＲ１、Ｒ２、Ｒ４およびＴが式Ｉの化合物について定義の通りである式Ｉの化合物と、式XIX
Ｒ３−Ｑ          XIX
〔式中、Ｒ３は非置換もしくは置換アルキルであり、そしてＱは式XVIIIの化合物について定義の通りである。〕
の化合物の反応により導入できる。反応条件は、好ましくは前段落で式XVIIIの化合物の反応について記載した通りである。反応は、好ましくは中心ピペリジン環の窒素の保護基の存在下、すなわち、保護された形のＲ３がその後除去される水素である式Ｉの化合物の存在下で行う。
【０１０３】
ある場合、本変換は、好ましくは保護された形の式Ｉ'またはＩの化合物；で行う；その後の保護基の除去は、後記および下記“一般方法条件”の下の通りに達成でき、対応する式Ｉ'またはＩの化合物を得る。このような保護基の除去は、例えば直前に引用した標準参考書に基シアのような一般的条件下で行うことができる。例えば、保護基９Ｈ−フルオレン−９−イルメチルオキシカルボニルを、適当な２級窒素塩基、例えばピペリジンと、適当な溶媒、例えばＮ,Ｎ−ジ(Ｃ１−Ｃ７−アルキル)−Ｃ１−Ｃ７−アルカノイルアミド、例えばジメチルアセトアミド中、一般的な温度、例えば０から５０℃で、例えば室温で反応させることにより除去でき、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシカルボニル、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルを、酸、例えば塩酸と、適当な溶媒、例えばジオキサンまたは塩化メチレン中、０〜５０℃の範囲のような一般的な温度、例えば室温で反応させて、またはＣＦ３ＳＯ３Ｓｉ(ＣＨ３)３など、を適当な溶媒、例えば塩化メチレン中、２,６−ルチジンを使用して(ここで、温度は直前に記載したものと同じ範囲であり得る)除去できる。
【０１０４】
少なくとも１個の塩形成基を有する式Ｉの化合物の塩は、それ自体既知の方法で製造できる。例えば、酸基を有する式Ｉ'またはＩの化合物の塩は、例えば、本化合物を金属化合物、例えば適当な有機カルボン酸のアルカリ金属塩、例えば２−エチルヘキサン酸のナトリウム塩で、有機アルカリ金属またはアルカリ土類金属化合物、例えば対応する水酸化物、炭酸塩または炭酸水素塩、例えばナトリウムもしくはカリウムの水酸化物、炭酸塩または炭酸水素塩で、対応するカルシウム化合物でまたはアンモニアもしくは適当な有機アミンで処理することにより製造でき、化学量論量またはわずかに過剰な塩形成剤を好ましくは使用する。式Ｉ'またはＩの化合物の酸付加塩は慣用の方法で、例えば本化合物を酸または適当なアニオン交換試薬で処理することにより得る。酸性および塩基性の塩形成基、例えば遊離カルボキシ基および遊離アミノ基を含む式Ｉ'またはＩの化合物の分子内塩は、例えば塩、例えば酸付加塩の、例えば弱塩基での等電点までの中和により、またはイオン交換体での処理により形成できる。
【０１０５】
式Ｉ'またはＩの化合物の塩を慣用法で遊離化合物に変換できる；金属およびアンモニウム塩は、例えば、適当な酸での処理により、および酸付加塩は、例えば、適当な塩基性試薬での処理により変換できる。両方の場合、適当なイオン交換体を使用できる。
【０１０６】
立体異性混合物、例えばジアステレオマーの混合物は、それらの対応する異性体に、適当な分離法の手段によりそれ自体既知の方法で分離できる。ジアステレオマー混合物は、例えばそれらの個々のジアステレオマーに、分別結晶、クロマトグラフィー、溶媒分布、および類似法の手段により分離できる。この分離は、出発化合物のいずれか１個または式Ｉの化合物それ自体のレベルのいずれかで行い得る。エナンチオマーは、例えばエナンチオマー−純粋なキラル酸との塩形成によるジアステレオマー塩の形成を介して、またはキラルリガンドを含むクロマトグラフ支持体を使用したクロマトグラフィーの手段により、例えばＨＰＬＣにより分離できる。
【０１０７】
中間体および最終生成物は、例えばクロマトグラフィー法、分配法、(再)結晶化などを使用し、標準法に従い後処理および／または精製できる。
【０１０８】
出発物質
出発物質(この用語はまた中間体を含む)およびそれらの合成についての以下の記載中、Ｒ１、Ｒ１＊、Ｒ２、Ｔ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ＰＧおよびＱは、直接、または文脈から他のことが指示されない限り、各出発物質または中間体について上記または実施例に記載した意味を有する。保護基は、特記しない限り、その反応が対応する１つのまたは複数の反応工程において望まれない官能基を保護するために適当な段階で挿入および除去でき、用いる保護基、それらの挿入および除去は上記または、下記の例えば“一般方法条件”下に記載した引用文献に記載した通りである。当業者は、保護基が有用であるか否かまたは必要であるか否か、およびどの保護基が有用であるかまたは必要であるかを容易に決定できる。
【０１０９】
出発物質のいずれかについて異性体(例えばジアステレオマー、エナンチオマー)が存在するとき、それらは適当な段階で標準法に従い分離できる。
式III、Ｖ、VI、VIIａ、VIIｂ、XVIIIの化合物またはそれらの合成法またはそれらの合成のための類似の方法のための他の出発物質は、当分野で既知であるか、市販されているか、またはそれらは実施例に記載されているか、実施例の記載に準じて製造される。
【０１１０】
一般方法条件
下記は一般に前記および後記の全ての方法に適用されるが、上記および下記に具体的に記載した反応条件が好ましい：
前記および後記の全ての反応において、保護基を、具体的に記載されていなくても、所定の反応に参加することを意図しない官能基を保護するために適当であるか望むならば使用でき、それらは適当なまたは望む段階で挿入および／または除去できる。保護基の使用を含む反応は、故に保護および／または脱保護の具体的な記載がない反応が本明細書に記載されている全ての場所で、可能である限り挿入される。
【０１１１】
本明細書の範囲内で、式Ｉ'またはＩの特定の所望の最終生成物の構成成分ではない容易に除去可能な基のみを、文脈から他の解釈が必要でない限り、“保護基”またはＰＧと呼ぶ。このような保護基による官能基の保護、保護基それ自体、ならびにそれらの挿入および除去に適当な反応は、例えば標準的参考文献、例えばJ. F. W. McOmie, “Protective Groups in Organic Chemistry”, Plenum Press, London and New York 1973, in T. W. Greene and P. G. M. Wuts, “Protective Groups in Organic Synthesis”, Third edition, Wiley, New York 1999, in “The Peptides”;Volume 3(編集者:E. Gross and J. Meienhofer), Academic Press, London and New York 1981, in “Methoden der organischen Chemie”(Methods of Organic Chemistry), Houben Weyl, 4th edition, Volume 15/I, Georg Thieme Verlag, Stuttgart 1974, in H.-D. Jakubke and H. Jeschkeit, “Aminosaeuren, Peptide, Proteine”(Amino acids, Peptides, Proteins), Verlag Chemie, Weinheim, Deerfield Beach, and Basel 1982, およびJochen Lehmann, “Chemie der Kohlenhydrate:Monosaccharide und Derivate”(Chemistry of Carbohydrates:Monosaccharides and Derivatives), Georg Thieme Verlag, Stuttgart 1974に記載されている。保護基の特徴は、容易に(すなわち望まない二次反応なしに)、例えば加溶媒分解、還元、光分解により、あるいは生理学的条件下(例えば酵素的開裂により)除去できることである。
【０１１２】
保護基またはＰＧ、特に式Ｉ'またはＩの化合物のピペリジン窒素のような窒素のための保護基またはＰＧの例は、アルコキシカルボニル、スルホニルおよびアシル基である。好ましい保護基は、例えば、(ｉ)フェニルでモノ、ジまたはトリ置換されたＣ１−Ｃ２−アルキル、例えばベンジル、(または)ベンズヒドリルまたはトリチル(ここで、該フェニル環は非置換であるか、または、Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ７−アルコキシ、Ｃ２−Ｃ８−アルカノイル−オキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、およびＣＦ３から成る群から選択される１個以上、例えば２個または３個の残基で置換されている)；フェニル−Ｃ１−Ｃ２−アルコキシカルボニル；およびアリルまたはシンナミルである。とりわけ好ましいのは低級(例えばＣ１−Ｃ７)アルコキシカルボニル、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニル；ベンジルオキシカルボニル(Ｃｂｚ)、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル(Ｆｍｏｃ)、ベンジルオキシメチル(ＢＯＭ)、ピバロイル−オキシ−メチル(ＰＯＭ)、トリクロロエトキシ(ethxoy)カルボニル(Ｔｒｏｃ)、１−アダマンチルオキシカルボキシル(carbonxyl)(Ａｄｏｃ)であるが、ベンジル、クミル、ベンズヒドリル、トリチル、アリル、alloc(アリルオキシカルボニル)でもあり得る。保護基またはシリル、例えばトリアルキル(alkly)シリル、とりわけトリメチルシリル、ｔｅｒｔ.−ブチル−ジメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、トリメチルシリル(sily)エトキシメチル(ＳＥＭ)であり得、また置換スルホニルまたは置換スルフェニルでもあり得る。最も好ましいのは低級(例えばＣ１−Ｃ７)アルコキシカルボニル、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルである。保護基はまたスルホニル基、好ましくはアリールスルホニル基、例えば置換または非置換フェニルスルホニル基であり得る。この場合、フェニルは、置換されているならば、モノ−、ジ−またはトリ−置換されていてよく、好ましくは適当な置換基、例えばＣ１−Ｃ７−アルキル、−Ｏ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、−Ｏ−ハロ−Ｃ１−Ｃ７−アルキル、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、より好ましくはニトロまたはメチルでモノ−またはジ−置換されている。スルホニル保護基の特に好ましい例は、２,４−ジニトロフェニルスルホニル、４−ニトロフェニルスルホニル、２−ニトロフェニルスルホニルおよび４−メチルフェニルスルホニルである。
【０１１３】
全ての上記の工程は、それ自体既知の、好ましくは具体的に記載した反応条件下で、溶媒または希釈剤、好ましくは使用する試薬に対して不活性であり、そしてそれらを溶解する溶媒または希釈剤の非存在下または習慣的に存在下、触媒、縮合剤または中和剤、例えばイオン交換体、例えばＨ＋形の、例えばカチオン交換体の非存在下または存在下、反応および／または反応体の性質に依存して、低温、常温または高温で、例えば約−１００℃から約１９０℃、好ましくは約−８０℃から約１５０℃、例えば−８０から−６０℃の温度範囲で、室温で、−２０から４０℃または還流温度で、大気圧下または密閉容器中、適当であれば加圧下、および／または不活性雰囲気下、例えばアルゴンまたは窒素雰囲気下、行い得る。
【０１１４】
特定の反応のために適当な溶媒をそこから選択し得る溶媒は、方法の記載において他の指示がない限り、具体的に記載したもの、または、例えば、水、エステル、例えば低級アルキル−低級アルカノエート、例えば酢酸エチル、エーテル、例えば脂肪族エーテル、例えばジエチルエーテル、または環状エーテル、例えばテトラヒドロフランまたはジオキサン、液体芳香族性炭化水素、例えばベンゼンまたはトルエン、アルコール、例えばメタノール、エタノールまたは１−または２−プロパノール、ニトリル、例えばアセトニトリル、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレンまたはクロロホルム、酸アミド、例えばジメチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミド、塩基、例えばヘテロ環式窒素塩基、例えばピリジンまたはＮ−メチルピロリジン−２−オン、カルボン酸無水物、例えば低級アルカン酸無水物、例えば酢酸無水物、環状、直鎖または分枝鎖炭化水素、例えばシクロヘキサン、ヘキサンまたはイソペンタン、またはこれらの混合物、例えば水性溶液を含む。このような溶媒混合物はまた、例えばクロマトグラフィーまたは分配による後処理にも使用できる。
【０１１５】
本発明は、方法の任意の段階で中間体として得られる化合物を出発物質として使用して残りの工程を行うか、または、出発物質を反応条件下で製造するか、または誘導体、例えば保護された形もしくは塩の形で使用するか、本発明の方法により得られる化合物を本方法条件下で製造し、そしてさらにインサイチュで処理する方法の形態にも関する。本発明の方法において、好ましいとして記載した式Ｉ’またはＩの化合物をもたらす出発物質を好ましくは使用する。実施例に記載したものと同一のまたはそれに準じた反応条件が特に優先する。本発明はまたここに記載した新規出発化合物および中間体、新規な式Ｉ’またはＩの化合物またはとりわけここで好ましいとして記載した式Ｉ’またはＩの化合物をもたらす出発化合物および中間体にも関する。
【０１１６】
医薬使用、医薬製剤および方法
上記の通り、式Ｉ'またはＩの化合物はレニン活性の阻害剤であり、それ故に、高血圧、アテローム性動脈硬化症、不安定型冠血管症候群、鬱血性心不全、心肥大、心線維症、梗塞後心筋症、不安定型冠血管症候群、拡張期機能不全、慢性腎臓疾患、肝臓線維症、糖尿病の合併症、例えば腎症、脈管障害およびニューロパシー、冠血管の疾患、血管形成術後再狭窄、上昇した眼圧、緑内障、異常血管増殖および／または高アルドステロン症、および／またはさらなる認知障害、アルツハイマー、認知症、不安状態および認知障害などの処置に使用できる。少なくとも処置すべき疾患の一つの構成要素としての高血圧が、とりわけ好ましく、高血圧単独または１種以上の(とりわけ記載したものの)他の疾患を処置(予防的および／または治療的)できることを意味する。
【０１１７】
本発明は、さらに、治療的有効量の薬理学的に活性な式Ｉ'またはＩの化合物を単独で、または１種以上の薬学的に許容される担体と共に含む、医薬組成物を提供する。
【０１１８】
本発明の医薬組成物は、レニン活性を阻害するため、および(とりわけ不適切な)レニン活性の処置のために、ヒトを含む哺乳動物への経腸、例えば経口または経腸、経皮および非経腸投与に適するものである。このような状態は高血圧、アテローム性動脈硬化症、不安定型冠血管症候群、鬱血性心不全、心肥大、心線維症、梗塞後心筋症、不安定型冠血管症候群、拡張期機能不全、慢性腎臓疾患、肝臓線維症、糖尿病の合併症、例えば腎症、脈管障害およびニューロパシー、冠血管の疾患、血管形成術後再狭窄、上昇した眼圧、緑内障、異常血管増殖および／または高アルドステロン症、および／またはさらなる認知障害、アルツハイマー、認知症、不安状態および認知障害などを含む。とりわけ好ましいのは高血圧を含む疾患、とりわけ高血圧自体であり、ここで、本医薬組成物またはその合成のための式Ｉ'またはＩの化合物の使用が予防的および／または(好ましくは)治療的に好ましい。
【０１１９】
故に、薬理学的に活性な式Ｉ'またはＩの化合物は、有効量のそれを、経腸または非経腸投与に適した賦形剤または担体と共にまたは混合して含む医薬組成物の製造に用い得る。好ましいのは、活性成分を：
ａ)希釈剤、例えば、ラクトース、デキストロース、スクロース、マンニトール、ソルビトール、セルロースおよび／またはグリシン；
ｂ)平滑剤、例えば、シリカ、タルク、ステアリン酸、そのマグネシウムまたはカルシウム塩および／またはポリエチレングリコール；錠剤についてはまた
ｃ)結合剤、例えば、ケイ酸アルミニウム・マグネシウム、デンプンペースト、ゼラチン、トラガカント、メチルセルロース、ナトリウムカルボキシメチルセルロースおよび／またはポリビニルピロリドン；望むならば
ｄ)崩壊剤、例えば、デンプン、寒天、アルギン酸またはそのナトリウム塩、または起沸性混合物；および／または
ｅ)吸収剤、着色剤、香味剤および甘味剤
と共に含む、錠剤およびゼラチンカプセルである。
【０１２０】
注射用組成物は好ましくは水性等張性溶液または懸濁液であり、坐薬は有利には脂肪エマルジョンまたは懸濁液から製造する。
該組成物は滅菌してよくおよび／またはアジュバント、例えば防腐剤、安定化剤、湿潤剤または乳化剤、溶解促進剤、浸透圧調整用塩および／または緩衝剤を含んでよい。加えて、それらは他の治療的に価値のある物質を含み得る。該組成物は慣用の混合、造粒またはコーティング法により各々製造でき、約０.１−７５％、好ましくは約１−５０％の活性成分を含む。
【０１２１】
経皮投与用の適当な製剤は、治療的有効量の本発明の化合物と担体を含む。有利には、担体は、宿主の皮膚を介した通過を助けるための吸収性の薬理学的に許容される溶媒を含む。特徴的に、経皮デバイスは、裏打ち部材、化合物を所望により担体と共に含む貯蔵部、所望により化合物を宿主の皮膚へ制御され、予め決定された速度で長期間にわたり送達するための速度制御バリア、およびデバイスを皮膚に固定するための手段を含む、バンデージの形である。
【０１２２】
従って、本発明は、レニン活性が仲介する状態、好ましくは、高血圧、アテローム性動脈硬化症、不安定型冠血管症候群、鬱血性心不全、心肥大、心線維症、梗塞後心筋症、不安定型冠血管症候群、拡張期機能不全、慢性腎臓疾患、肝臓線維症、糖尿病の合併症、例えば腎症、脈管障害およびニューロパシー、冠血管の疾患、血管形成術後再狭窄、上昇した眼圧、緑内障、異常血管増殖および／または高アルドステロン症、および／またはさらなる認知障害、アルツハイマー、認知症、不安状態および認知障害の処置のための、上記の医薬組成物、ならびにそれらの使用法を提供する。
【０１２３】
本医薬組成物は、治療的有効量のここで定義の式Ｉの化合物を、単独でまたは他の治療剤と、例えば、各々当分野で報告されている通りの治療的用量で組み合わせて含み得る。このような治療剤は下記を含む：
ａ)抗糖尿病剤、例えばインスリン、インスリン誘導体および模倣剤；インスリン分泌促進物質、例えばスルホニルウレア、例えば、グリピジド、グリブリドおよびアマリール；インスリン分泌性スルホニルウレア受容体リガンド、例えばメグリチナイド、例えば、ナテグリニドおよびレパグリニド；ペルオキシソーム増殖剤活性化受容体(ＰＰＡＲ)リガンド；タンパク質チロシンホスファターゼ−１Ｂ(ＰＴＰ−１Ｂ)阻害剤、例えばＰＴＰ−１１２；ＧＳＫ３(グリコーゲンシンターゼキナーゼ−３)阻害剤、例えばＳＢ−５１７９５５、ＳＢ−４１９５０５２、ＳＢ−２１６７６３、ＮＮ−５７−０５４４１およびＮＮ−５７−０５４４５；ＲＸＲリガンド、例えばＧＷ−０７９１およびＡＧＮ−１９４２０４；ナトリウム依存性グルコースコトランスポーター阻害剤、例えばＴ−１０９５；グリコーゲンホスホリラーゼＡ阻害剤、例えばＢＡＹ  Ｒ３４０１；ビグアナイド、例えばメトホルミン；アルファ−グルコシダーゼ阻害剤、例えばアカルボース；ＧＬＰ−１(グルカゴン様ペプチド−１)、ＧＬＰ−１類似体、例えばＥｘｅｎｄｉｎ−４およびＧＬＰ−１模倣剤；およびＤＰＰIV(ジペプチジルペプチダーゼIV)阻害剤、例えばＬＡＦ２３７；
ｂ)脂質低下剤、例えば３−ヒドロキシ−３−メチル−グルタリルコエンザイムＡ(ＨＭＧ−ＣｏＡ)レダクターゼ阻害剤、例えば、ロバスタチン、ピタバスタチン、シンバスタチン、プラバスタチン、セリバスタチン、メバスタチン、ベロスタチン(velostatin)、フルバスタチン、ダルバスタチン(dalvastatin)、アトルバスタチン、ロスバスタチンおよびリバスタチン(rivastatin)；スクアレンシンターゼ阻害剤；ＦＸＲ(ファルネソイドＸ受容体)およびＬＸＲ(肝臓Ｘ受容体)リガンド；コレスチラミン；フィブラート；ニコチン酸およびアスピリン；
ｃ)抗肥満剤、例えばオーリスタット；および
ｄ)抗高血圧剤、例えば、ループ利尿剤、例えばエタクリン酸、フロセミドおよびトルセミド；アンギオテンシン変換酵素(ＡＣＥ)阻害剤、例えばベナゼプリル、カプトプリル、エナラプリル、フォシノプリル、リシノプリル、モエキシプリル、ペリノドプリル(perinodopril)、キナプリル、ラミプリルおよびトランドラプリル；Ｎａ−Ｋ−ＡＴＰａｓｅ膜ポンプ阻害剤、例えばジゴキシン；中性エンドペプチダーゼ(ＮＥＰ)阻害剤；ＡＣＥ／ＮＥＰ阻害剤、例えばオマパトリラート、サムパトリラート(sampatrilat)およびファシドトリル；アンギオテンシンIIアンタゴニスト、例えばカンデサルタン、エプロサルタン、イルベサルタン、ロサルタン、テルミサルタンおよびバルサルタン、特にバルサルタン；β−アドレナリン受容体ブロッカー、例えばアセブトロール、アテノロール、ベタキソロール、ビソプロロール、メトプロロール、ナドロール、プロプラノロール、ソタロールおよびチモロール；変力剤、例えばジゴキシン、ドブタミンおよびミルリノン；カルシウムチャネルブロッカー、例えばアムロジピン、ベプリジル、ジルチアゼム、フェロジピン、ニカルジピン、ニモジピン、ニフェジピン、ニソルジピンおよびベラパミル；アルドステロン受容体アンタゴニスト；およびアルドステロンシンターゼ阻害剤を含む。
【０１２４】
他の具体的抗糖尿病化合物は、Patel Mona in Expert Opin Investig Drugs, 2003, 12(4), 623-633の図１から７に記載され、これは引用により本明細書に包含する。本発明の化合物は、他の活性成分と同時に、その前にまたは後に、別々に同じもしくは異なる投与経路により、または同じ医薬製剤として一緒に投与できる。
【０１２５】
コード番号、一般名または商品名により同定した治療剤の構造は、標準的概論“The Merck Index”の現版またはデータベース、例えば、Patents International(例えばIMS World Publications)から取り得る。それらの対応する内容は、引用により本明細書に包含する。
【０１２６】
従って、本発明は、治療的有効量の式Ｉ'またはＩの化合物を単独で、または、好ましくは抗糖尿病剤、脂質低下剤、抗肥満剤および抗高血圧剤、最も好ましくは上記の抗糖尿病剤、抗高血圧剤および脂質低下剤から選択される、治療的有効量の他の治療剤と組み合わせて含む、医薬製品または組成物を提供する。
本発明は、さらに、医薬として使用するための上記の通りの医薬組成物に関する。
【０１２７】
本発明は、さらに、(とりわけ不適切な)レニン活性が仲介する状態、好ましくは、高血圧、アテローム性動脈硬化症、不安定型冠血管症候群、鬱血性心不全、心肥大、心線維症、梗塞後心筋症、不安定型冠血管症候群、拡張期機能不全、慢性腎臓疾患、肝臓線維症、糖尿病の合併症、例えば腎症、脈管障害およびニューロパシー、冠血管の疾患、血管形成術後再狭窄、上昇した眼圧、緑内障、異常血管増殖および／または高アルドステロン症、および／またはさらなる認知障害、アルツハイマー、認知症、不安状態および認知障害などの処置用医薬の製造のための、上記の医薬組成物または組合せの使用に関する。
【０１２８】
故に、本発明はまた、医薬として使用するための式Ｉ'またはＩの化合物、(とりわけ不適切な)レニン活性が介在する状態の予防および／または処置用医薬組成物の製造のための式Ｉ'またはＩの化合物の使用、および式Ｉ'またはＩの化合物、または薬学的に許容されるその塩を薬学的に許容される希釈剤または担体物質と共に含む、(とりわけ不適切な)レニン活性が介在する状態に使用するための医薬組成物に関する。
【０１２９】
本発明はまた(とりわけ不適切な)レニン活性が介在する状態の予防および／または処置法であって、そのような処置を必要とする温血動物、とりわけヒトに治療的有効量の式Ｉ'またはＩの化合物を投与することを含む、方法を提供する。
【０１３０】
約５０−７０kgの哺乳動物のための単位投与量は、約１mgから１０００mg、有利には約５−６００mgの活性成分を含み得る。活性化合物の治療的有効量は、温血動物種(とりわけ哺乳動物、よりとりわけヒト)、体重、年齢および個々の状態、投与形態、および含まれる化合物に依存する。
【０１３１】
前記によって、本発明はまた、例えば、ここで定義の何れかの方法において使用するための、好ましくは抗糖尿病剤、抗高脂血症剤、抗肥満剤または抗高血圧剤から選択される、少なくとも１個の他の治療剤を含む少なくとも１個の医薬組成物と同時にまたは連続的に使用すべき、式Ｉ'またはＩの化合物、または薬学的に許容されるその塩を含む、治療的組合せ、例えば、キット、複数パーツのキットも提供する。本キットはその投与のための指示を含み得る。
【０１３２】
同様に、本発明は：(ｉ)本発明の式Ｉ'またはＩの化合物を含む医薬組成物；および(ii)抗糖尿病剤、抗高脂質血症剤、抗肥満剤、抗高血圧剤、または薬学的に許容されるその塩から選択される化合物を含む医薬組成物を、成分(ｉ)から(ii)の別々の単位の形で含む、複数パーツのキットを提供する。
【０１３３】
同様に、本発明は、治療的有効量の式Ｉ'またはＩの化合物、または薬学的に許容されるその塩、および少なくとも１個の第二医薬物質の、例えば、同時または連続した併用投与を含む、上記で定義の通りの方法を提供し、該第二医薬物質は、好ましくは、例えば上記の通りの抗糖尿病剤、抗高脂質血症剤、抗肥満剤または抗高血圧剤である。
【０１３４】
好ましくは、本発明の化合物は、それを必要とする哺乳動物に投与する。
好ましくは、本発明の化合物は(とりわけ不適切な)レニン活性の調節に応答する疾患の処置のために使用する。
【０１３５】
最後に、本発明は、式Ｉ'またはＩの化合物を、治療的有効量の抗糖尿病剤、抗高脂質血症剤、抗肥満剤または抗高血圧剤と組み合わせて投与することを含む、方法または使用を提供する。
最終的に、本発明は、式Ｉ'またはＩの化合物を、ここに記載した通りの医薬組成物の形で投与することを含む、方法または使用を提供する。
【０１３６】
上記特性は、有利には哺乳動物、例えば、マウス、ラット、ウサギ、イヌ、サルまたは単離された臓器、組織およびそれらの調製物を使用したインビトロおよびインビボ試験により証明できる。該化合物は、インビトロで溶液、例えば、好ましくは水性溶液の形で、およびインビボで、例えば懸濁液または水性溶液のいずれかとして、経腸的、非経腸的のいずれかで、有利には静脈内投与により適用できる。インビトロの濃度レベルは約１０−３モルから１０−１０モル濃度の範囲である。インビボの治療的有効量は、投与経路に依存して、約０.００１から５００mg／kg、好ましくは約０.１から１００mg／kgの範囲であり得る。
【０１３７】
上記の通り、本発明の化合物は酵素阻害特性を有し得る。特に、それらは天然酵素レニンの作用を阻害する。レニンは腎臓から血液に移り、その場所でアンギオテンシノーゲンを開裂し、デカペプチドアンギオテンシンＩを放出し、それは次いで肺、腎臓および他の臓器で開裂され、オクタペプチドアンギオテンシンIIを形成する。本オクタペプチドは、動脈血管収縮により直接的に、および副腎からナトリウム−イオン−保持ホルモンアルドステロンを放出することにより間接的に血圧を上げ、同時に細胞外液体の用量を増加させ、その増加はアンギオテンシンIIの作用に関与し得る。レニンの酵素活性の阻害剤は、アンギオテンシンＩの形成を減少させ、結果的により少ない量のアンギオテンシンIIが産生される。この活性ペプチドホルモンの減少した濃度が、レニン阻害剤の血圧低下効果の直接の原因である。
【０１３８】
レニン阻害剤の作用は、とりわけ、アンギオテンシンＩの形成の減少を種々の系(ヒト血漿、精製ヒトレニンと合成または天然レニン基質を含む)で測定し、インビトロ試験の手段により実験的に証明できる。
【０１３９】
とりわけ下記インビトロ試験を使用できる：
７.５nM濃度の組み換えヒトレニン(標準的な方法を使用してチャイニーズハムスター卵巣細胞で発現させ、精製した)を、種々の濃度の試験化合物と、１時間、ＲＴで０.０５Ｍ  ＮａＣｌ、０.５mM  ＥＤＴＡおよび０.０５％ＣＨＡＰＳを含む０.１Ｍ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ緩衝液、ｐＨ７.４中でインキュベートする。合成ペプチド基質Ａｒｇ−Ｇｌｕ(ＥＤＡＮＳ)−Ｉｌｅ−Ｈｉｓ−Ｐｒｏ−Ｐｈｅ−Ｈｉｓ−Ｌｅｕ−Ｖａｌ−Ｉｌｅ＿Ｈｉｓ＿Ｔｈｒ−Ｌｙｓ(ＤＡＢＣＹＬ)−Ａｒｇ９を２μMの最終濃度まで添加し、蛍光の増加を３５０nmの励起波長および５００nmの発光波長で、マイクロプレート分光蛍光光度計で記録する。ＩＣ５０値を、試験化合物濃度の関数としてレニン活性の阻害パーセントから計算する(蛍光共鳴エネルギー移動、ＦＲＥＴ、アッセイ)。本アッセイで、式Ｉ'またはＩの化合物は、好ましくは１nMから２０μMの範囲のＩＣ５０値を示し得る。
【０１４０】
あるいは、０.５nM濃度の組み換えヒトレニン(標準的な方法を使用してチャイニーズハムスター卵巣細胞で発現させ、精製した)を、種々の濃度の試験化合物と、２時間、３７℃で０.０５Ｍ  ＮａＣｌ、０.５mM  ＥＤＴＡおよび０.０５％ＣＨＡＰＳを含む０.１Ｍ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ緩衝液、ｐＨ７.４中でインキュベートする。合成ペプチド基質Ａｒｇ−Ｇｌｕ(ＥＤＡＮＳ)−Ｉｌｅ−Ｈｉｓ−Ｐｒｏ−Ｐｈｅ−Ｈｉｓ−Ｌｅｕ−Ｖａｌ−Ｉｌｅ＿Ｈｉｓ＿Ｔｈｒ−Ｌｙｓ(ＤＡＢＣＹＬ)−Ａｒｇ９を４μMの最終濃度まで添加し、蛍光の増加を３４０nmの励起波長および４８５nmの発光波長で、マイクロプレート分光蛍光光度計で記録する。ＩＣ５０値を、試験化合物濃度の関数としてレニン活性の阻害パーセントから計算する(蛍光共鳴エネルギー移動、ＦＲＥＴ、アッセイ)。本アッセイで、式Ｉ'またはＩの化合物は、好ましくは１nMから２０μMの範囲のＩＣ５０値を示し得る。
【０１４１】
他のアッセイにおいて、０.８nM濃度で組み換えヒトレニン(標準的な方法を使用してチャイニーズハムスター卵巣細胞で発現させ、精製した)を添加したヒト血漿を、種々の濃度の試験化合物と、２時間、３７℃で０.０５Ｍ  ＮａＣｌ、０.５mM  ＥＤＴＡおよび０.０２５％(ｗ／ｖ)ＣＨＡＰＳを含む０.１Ｍ  Ｔｒｉｓ／ＨＣｌ  ｐＨ７.４中、インキュベートする。合成ペプチド基質Ａｃ−Ｉｌｅ−Ｈｉｓ−Ｐｒｏ−Ｐｈｅ−Ｈｉｓ−Ｌｅｕ−Ｖａｌ−Ｉｌｅ−Ｈｉｓ−Ａｓｎ−Ｌｙｓ−[ＤＹ−５０５−Ｘ５]を２.５μMの最終濃度まで添加する。本酵素反応を、過剰の遮断阻害剤を添加することにより停止させる。本反応の生成物をキャピラリー電気泳動により分離し、５０５nM波長での分光学的測定により定量する。ＩＣ５０値を、試験化合物濃度の関数としてレニン活性の阻害パーセントから計算する。本アッセイで、式Ｉ'またはＩの化合物は、好ましくは１nMから２０μMの範囲のＩＣ５０値を示し得る。
【０１４２】
他のアッセイにおいて、０.８nM濃度の組み換えヒトレニン(標準的な方法を使用してチャイニーズハムスター卵巣細胞で発現させ、精製した)を、種々の濃度の試験化合物と、２時間、３７℃で０.０５Ｍ  ＮａＣｌ、０.５mM  ＥＤＴＡおよび０.０２５％(ｗ／ｖ)ＣＨＡＰＳを含む０.１Ｍ  Ｔｒｉｓ／ＨＣｌ  ｐＨ７.４中、インキュベートする。合成ペプチド基質Ａｃ−Ｉｌｅ−Ｈｉｓ−Ｐｒｏ−Ｐｈｅ−Ｈｉｓ−Ｌｅｕ−Ｖａｌ−Ｉｌｅ−Ｈｉｓ−Ａｓｎ−Ｌｙｓ−[ＤＹ−５０５−Ｘ５]を２.５μMの最終濃度まで添加する。本酵素反応を反応過剰の遮断阻害剤を添加することにより停止させる。本反応の生成物をキャピラリー電気泳動により分離し、５０５nM波長での分光学的測定により定量する。ＩＣ５０値を、試験化合物濃度の関数としてレニン活性の阻害パーセントから計算する。本アッセイで、式Ｉ'またはＩの化合物は、好ましくは１nMから２０μMの範囲のＩＣ５０値を示し得る。
【０１４３】
塩が欠乏している動物において、レニン阻害剤は血圧低下をもたらす。ヒトレニンは他の種のレニンと異なり得る。ヒトレニンの阻害剤を試験するために、ヒトレニンおよび霊長類レニンが、酵素活性領域において実質的に相同であるため、霊長類、例えばマーモセット(Callithrix jacchus)を使用できる。とりわけ下記インビボ試験を使用できる：
化合物を、文献に記載した通り霊長類で、インビボで試験できる(例えばSchnell CR et al. Measurement of blood pressure and heart rate by telemetry in conscious, unrestrained marmosets. Am J Physiol 264 (Heart Circ Physiol 33). 1993: 1509-1516;またはSchnell CR et al. Measurement of blood pressure, heart rate, body temperature, ECG and activity by telemetry in conscious, unrestrained marmosets. Proceedings of the fifth FELASA symposium: Welfare and Science. Eds BRIGHTON. 1993参照)。
【実施例】
【０１４４】
下記実施例は、その範囲を限定することなく本発明を説明するために提供する：
以下の実施例において、中央ピペリジン環を特定の配置で示す。しかしながら、これはまた、この中央ピペリジン環での置換基に関して鏡像である化合物も含むことを意図する。他の観点で、他に記載していない限り、式Ｉ'またはＩの化合物またはそれらの前駆体は、実際、中央ピペリジン環に結合する置換基に関して記載した化合物および鏡像の混合物として存在する(他のキラルが存在しないとき、故に、実施例はエナンチオマー混合物、とりわけラセミ体である)。例えば、中央トリ置換ピペリジンを以下の配置
【化５９】
2009522226.tif 000062
で示すとき、これはまた式
【化６０】
2009522226.tif 000063
などの鏡像を含むことを意図する。他の観点で、他のキラル基が存在しないとき、式Ｉ'またはＩの化合物またはそれらの前駆体はラセミ体である。さらにキラル基が存在するとき、ジアステレオマーまたはエナンチオマー混合物が存在し得る。
【０１４５】
同様のことが、特記しない限りまたは文脈から他の解釈が示されない限り、中間体および出発物質にも当てはまる。
いずれにしても、しかしながら、本質的に純粋な式Ｉ'またはＩの化合物であって、該本質的に純粋な化合物がここに示す配置であるのが、とりわけ好ましい本発明の態様である。それらは、例えばエナンチオマーの分離のための標準法に従い、得ることができる。
【０１４６】
以下の式および表に示す通りまたは各々その(好ましくは薬学的に許容される)塩：
【化６１】
2009522226.tif 000064
【表２】
2009522226.tif 000065
【表３】
2009522226.tif 000066
【０１４７】
【表４】
2009522226.tif 000067
【表５】
2009522226.tif 000068
【０１４８】
【表６】
2009522226.tif 000069
【表７】
2009522226.tif 000070
【０１４９】
【表８】
2009522226.tif 000071
【表９】
2009522226.tif 000072
【０１５０】
【表１０】
2009522226.tif 000073
【表１１】
2009522226.tif 000074
【０１５１】
【表１２】
2009522226.tif 000075
【表１３】
2009522226.tif 000076
【０１５２】
【表１４】
2009522226.tif 000077
【表１５】
2009522226.tif 000078
【０１５３】
【表１６】
2009522226.tif 000079
【表１７】
2009522226.tif 000080
【０１５４】
【表１８】
2009522226.tif 000081
【表１９】
2009522226.tif 000082
【０１５５】
【表２０】
2009522226.tif 000083
【表２１】
2009522226.tif 000084
【０１５６】
【表２２】
2009522226.tif 000085
【表２３】
2009522226.tif 000086
【０１５７】
【表２４】
2009522226.tif 000087
【表２５】
2009522226.tif 000088
【０１５８】
【表２６】
2009522226.tif 000089
【表２７】
2009522226.tif 000090
【０１５９】
【表２８】
2009522226.tif 000091
【表２９】
2009522226.tif 000092
【０１６０】
【表３０】
2009522226.tif 000093
【表３１】
2009522226.tif 000094
【０１６１】
【表３２】
2009522226.tif 000095
【表３３】
2009522226.tif 000096
【０１６２】
【表３４】
2009522226.tif 000097
【表３５】
2009522226.tif 000098
【０１６３】
【表３６】
2009522226.tif 000099
【表３７】
2009522226.tif 000100
【０１６４】
【表３８】
2009522226.tif 000101
【表３９】
2009522226.tif 000102
【０１６５】
【表４０】
2009522226.tif 000103
【表４１】
2009522226.tif 000104
【０１６６】
【表４２】
2009522226.tif 000105
【表４３】
2009522226.tif 000106
【０１６７】
【表４４】
2009522226.tif 000107
【表４５】
2009522226.tif 000108
【０１６８】
【表４６】
2009522226.tif 000109
【表４７】
2009522226.tif 000110
【０１６９】
【表４８】
2009522226.tif 000111
【表４９】
2009522226.tif 000112
【０１７０】
【表５０】
2009522226.tif 000113
【表５１】
2009522226.tif 000114
【０１７１】
【表５２】
2009522226.tif 000115
【表５３】
2009522226.tif 000116
【０１７２】
【表５４】
2009522226.tif 000117
【表５５】
2009522226.tif 000118
【０１７３】
【表５６】
2009522226.tif 000119
【表５７】
2009522226.tif 000120
【０１７４】
【表５８】
2009522226.tif 000121
【表５９】
2009522226.tif 000122
【０１７５】
【表６０】
2009522226.tif 000123
【表６１】
2009522226.tif 000124
【０１７６】
【表６２】
2009522226.tif 000125
【表６３】
2009522226.tif 000126
【０１７７】
【表６４】
2009522226.tif 000127
【表６５】
2009522226.tif 000128
【０１７８】
【表６６】
2009522226.tif 000129
【表６７】
2009522226.tif 000130
【０１７９】
【表６８】
2009522226.tif 000131
【表６９】
2009522226.tif 000132
【０１８０】
【表７０】
2009522226.tif 000133
【表７１】
2009522226.tif 000134
【０１８１】
【表７２】
2009522226.tif 000135
【表７３】
2009522226.tif 000136
【０１８２】
【表７４】
2009522226.tif 000137
【表７５】
2009522226.tif 000138
【０１８３】
【表７６】
2009522226.tif 000139
【表７７】
2009522226.tif 000140
【０１８４】
【表７８】
2009522226.tif 000141
【表７９】
2009522226.tif 000142
【０１８５】
【表８０】
2009522226.tif 000143
【表８１】
2009522226.tif 000144
【０１８６】
【表８２】
2009522226.tif 000145
【表８３】
2009522226.tif 000146
【０１８７】
【表８４】
2009522226.tif 000147
【表８５】
2009522226.tif 000148
【０１８８】
【表８６】
2009522226.tif 000149
【表８７】
2009522226.tif 000150
【０１８９】
【表８８】
2009522226.tif 000151
【表８９】
2009522226.tif 000152
【０１９０】
【表９０】
2009522226.tif 000153
【表９１】
2009522226.tif 000154
【０１９１】
【表９２】
2009522226.tif 000155
【表９３】
2009522226.tif 000156
【０１９２】
【表９４】
2009522226.tif 000157
【表９５】
2009522226.tif 000158
【０１９３】
【表９６】
2009522226.tif 000159
【表９７】
2009522226.tif 000160
【０１９４】
【表９８】
2009522226.tif 000161
【表９９】
2009522226.tif 000162
【０１９５】
【化６２】
2009522226.tif 000163
【表１００】
2009522226.tif 000164
【０１９６】
【化６３】
2009522226.tif 000165
【表１０１】
2009522226.tif 000166
【０１９７】
【化６４】
2009522226.tif 000167
【表１０２】
2009522226.tif 000168
【０１９８】
【化６５】
2009522226.tif 000169
【表１０３】
2009522226.tif 000170
【０１９９】
【化６６】
2009522226.tif 000171
【表１０４】
2009522226.tif 000172
【化６７】
2009522226.tif 000173
【表１０５】
2009522226.tif 000174
【０２００】
【化６８】
2009522226.tif 000175
【表１０６】
2009522226.tif 000176
【０２０１】
【化６９】
2009522226.tif 000177
【表１０７】
2009522226.tif 000178
【表１０８】
2009522226.tif 000179
【０２０２】
略語
【表１０９】
2009522226.tif 000180
【表１１０】
2009522226.tif 000181
【０２０３】
温度は摂氏度で測定する。特記しない限り、反応をＲＴで行う。特記しない限り、Ｈ２存在下の水素化反応を大気圧で行う。マイクロ波照射を、“Biotage Initiator 60”機械を使用して行う。
【０２０４】
ＨＰＬＣ条件−Ａ：
カラム：CombiScreen ODS-AM、５０×４.６mm。
流速：２.０mL／分
移動相：Ａ)ＴＦＡ／水(０.１／１００、ｖ／ｖ)、Ｂ)ＴＦＡ／アセトニトリル(０.１／１００。ｖ／ｖ)
勾配：５％Ｂから１００％Ｂに５分で直線勾配、次いで２分１００％Ｂ
検出：２１５nmのＵＶ
【０２０５】
ＨＰＬＣ条件−Ｂ：
カラム：ACQUITY UPLCTM BEH C18 1.7μm、５０×２.１mm。
流速：０.５mL／分
移動相：Ａ)ＴＦＡ／水(０.１／１００、ｖ／ｖ)、Ｂ)ＴＦＡ／アセトニトリル(０.１／１００、ｖ／ｖ)
勾配：５％Ｂから１００％Ｂに２分で直線勾配、次いで１分１００％Ｂ
検出：２１５nmのＵＶ
【０２０６】
ＨＰＬＣ条件−Ｃ：
カラム：ACQUITY UPLCTM BEH C18 １.７μm、５０×２.１mm。
流速：０.５mL／分
移動相：Ａ)ＴＦＡ／水(０.１／１００、ｖ／ｖ)、Ｂ)ＴＦＡ／アセトニトリル(０.１／１００,ｖ／ｖ)
勾配：５％Ｂで０.５分、次いで５％Ｂから１００％Ｂに５.０分で直線勾配、次いで１.５分１００％Ｂ
検出：２１５nmのＵＶ
【０２０７】
ＴＬＣ条件ｓ：ＴＬＣについてのＲｆ値は、５×１０cm  ＴＬＣプレート、シリカゲルF254, Merck, Darmstadt, Germanyで測定する。
【０２０８】
式Ｉの化合物の製造法を以下に詳述する。各変換についての各矢印上の短い記載は説明の目的のためにのみに付加されており、この一連のまたは各個々の工程を限定するものと見なしてはならないことは留意すべきである
【０２０９】
スキーム１(ラセミ−ｃｉｓ−骨格について)
【化７０】
2009522226.tif 000182
【０２１０】
スキーム２(ラセミ−ｃｉｓ−骨格について)
【化７１】
2009522226.tif 000183
【０２１１】
スキーム３(キラル−ｃｉｓ−骨格について)
【化７２】
2009522226.tif 000184
【０２１２】
スキーム４(ｃｉｓ−３−メチレン類似体について)
【化７３】
2009522226.tif 000185
【０２１３】
スキーム５(ラセミ−ｔｒａｎｓ−骨格について)
【化７４】
2009522226.tif 000186
【０２１４】
スキーム６(ｔｒａｎｓ−３−メチレン類似体について)
【化７５】
2009522226.tif 000187
【０２１５】
スキーム７(５−フルオロ類似体について)
【化７６】
2009522226.tif 000188
【０２１６】
スキーム８(４−ヒドロキシ類似体について)
【化７７】
2009522226.tif 000189
【０２１７】
出発物質を以下の通り製造する：
スキーム１、２、３で中間体として示す環状無水物およびスキーム４におけるｔｒａｎｓ−骨格のためのピペリジン−３,５−ジカルボン酸ジメチルエステル出発物質の製造：
スキーム９
【化７８】
2009522226.tif 000190
【０２１８】
Ａ：ピリジン−３,５−ジカルボン酸ジメチルエステル
【化７９】
2009522226.tif 000191
３,５−ピリジンジカルボン酸(１.５ｇ、６３mmol)および濃Ｈ２ＳＯ４(０.９mL)のＭｅＯＨ(１５mL)溶液を、電子レンジ中、１２０℃で２時間加熱する。溶媒を蒸発させて、残渣を得て、それを酢酸エチルおよび飽和水性ＮａＨＣＯ３に分配する。有機相を塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、蒸発させて、明黄色固体を得る。
ＭＳ(ＬＣ−ＭＳ)：１９６  [Ｍ＋Ｈ]＋。ＴＬＣ、Ｒｆ(酢酸エチル／ヘキサン１：１)＝０.５６。
【０２１９】
Ｂ：ピペリジン−３,５−ジカルボン酸ジメチルエステル
【化８０】
2009522226.tif 000192
ピリジン−３,５−ジカルボン酸ジメチルエステル(５.３ｇ、２７mmol)およびＲｈ／ＰｔＯ２(０.５ｇ)のＭｅＯＨ(２００mL)を、水素下で一晩撹拌する。得られた混合物を濾過し、溶媒を蒸発させて、褐色油状物を残す。ＭＳ(ＬＣ−ＭＳ)：２０２  [Ｍ＋Ｈ]＋
【０２２０】
Ｃ：ピペリジン−１,３,５−トリカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル３,５−ジメチルエステル
【化８１】
2009522226.tif 000193
ピペリジン−３,５−ジカルボン酸ジメチルエステル(５.４ｇ、２６.８mmol)のＣＨ２Ｃｌ２(５５mL)溶液をＢｏｃ２Ｏ(６.４ｇ、２９.５mmol)で処理し、反応を、ｒｔで一晩撹拌する。反応を０.１Ｎ水性ＨＣｌでクエンチし、有機相を０.１Ｎ水性ＨＣｌで洗浄する。合わせた水性相を２回ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ(９／１)で抽出し、その後合わせた有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、蒸発させる。得られた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー(溶離剤：ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ  ９５：５)で精製して、表題化合物を黄色固体として得る。ＭＳ(ＬＣ−ＭＳ)：３０２  [Ｍ＋Ｈ]＋。ＴＬＣ、Ｒｆ(ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ  ９５：５)＝０.５。
【０２２１】
Ｄ：ピペリジン−１,３,５−トリカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル
【化８２】
2009522226.tif 000194
ピペリジン−１,３,５−トリカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル３,５−ジメチルエステル(６.８ｇ、２２.５mmol)のＭｅＯＨ／水(４：１、１２０mL)溶液に、Ｋ２ＣＯ３(９.４ｇ、６８mmol)を添加する。反応を還流で一晩撹拌する。ＭｅＯＨを蒸発させ、残渣をジクロロメタンおよび１Ｎ水性ＨＣｌで抽出する。有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、蒸発させて、明黄色固体を得る。ＭＳ(ＬＣ−ＭＳ)：２７４  [Ｍ＋Ｈ]＋。
【０２２２】
Ｅ：２,４−ジオキソ−３−オキサ−７−アザ−ビシクロ[３.３.１]ノナン−７−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル
ピペリジン−１,３,５−トリカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル(１ｇ、３.６mmol)の酢酸無水物(２０mL)懸濁液を２時間加熱還流する。反応混合物を３回トルエンと蒸発させ、その後それを高真空下でｒｔで一晩乾燥させて、黄色固体を得る。ＭＳ(ＬＣ−ＭＳ)：２７８  [Ｍ＋Ｎａ]＋。
【０２２３】
(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ
【化８３】
2009522226.tif 000195
Ｅｔ２Ｏ(６０mL)およびＴＨＦ(２０mL)に溶解した出発物質−Ｅ(４０１.５mg、１.５７mmol、XXIII)および市販の(ＤＨＱＤ)２ＡＱＮ(４２３.６mg、０.４７mmol、９５％純度)ａの溶液に、Ｎ２下、ＭｅＯＨ(０.６４mL、１５.６７mmol)を−４０℃で添加する。その温度で２４時間撹拌後、飽和水性クエン酸を添加する。反応混合物をＥＡで抽出する。有機相を塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、シリカクロマトグラフィーに付して、(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆを９８％ｅｅで得る。白色非晶性物質ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ−ｔＢｕ＝２３２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.７３分。キラルＨＰＬＣ(カラム：キラルＰＡＨ  ＡＤ−Ｈ(ｏ.４６cm×２５cm)、溶離剤：ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９５／５、流速：０.５mL／分、検出：ＵＶ  ２１０nm、温度：ｒｔ)ｔＲ＝(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆについて３３.２５分、(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆについて３５.５６分。
ａ  Chen, Y.;Tian, S-K.;Deng, Li. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122,9542-9543。
【０２２４】
(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ
【化８４】
2009522226.tif 000196
(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(７２％ｅｅ)(４.２ｇ、１４.６mmol)の熱ＥｔＯＨ(２０mL)溶液に(Ｒ)−１−フェニルエチルアミン(１.７９ｇ、１４.７６mmol)を７０℃で添加する。溶液をｒｔに冷却し、１時間静置し、それにより塩の沈殿がもたらされる。塩を濾過により集める。同じ再結晶工程を３回繰り返した後、得られた塩を水に溶解し、１Ｍ水性ＨＣｌで酸性化し、５回エーテルで抽出した。合わせた有機相を塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮により、(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆを得る：無色結晶；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２８８：ＢｔＲｅｔ＝２.６７分。キラルＨＰＬＣ：ＡＤ−Ｈ、５％ｉ−ＰｒＯＨ／ヘキサン、流速０.５mL／分、２１０nm、ｔＲｅｔ＝３３(主)、３６(副)。
【０２２５】
(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(７２％ｅｅ)
【化８５】
2009522226.tif 000197
出発物質−Ｅ(２００mg、０.７８mmol)のＴＨＦ(１０mL)およびエーテル(３０mL)の溶液に、(ＤＨＱ)２ＡＱＮ(６７mg、０.０８mmol)およびＭｅＯＨ(０.３２mL)を０℃でＮ２下添加する。得られた混合物を５時間、０℃で撹拌する。１Ｍ水性ＨＣｌ添加後、混合物をＥｔＯＡｃで抽出し、有機相を塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆを得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２８８：ＣｔＲｅｔ＝２.６７分。キラルＨＰＬＣ：７２％ｅｅ、ＡＤ−Ｈ、５％ｉ−ＰｒＯＨ／ヘキサン、流速０.５mL／分、２１０nm、ｔＲｅｔ＝３３(主)、３６(副)。
【０２２６】
実施例１
【化８６】
2009522226.tif 000198
中間体１.１(１当量)のＤＣＭ溶液に、２,６−ルチジン(３当量)およびＴＭＳＯＴｆ(３当量)をｒｔで添加し、３０分撹拌する。１滴のＭｅＯＨおよびＡｃＯＨを添加後、反応混合物を減圧下濃縮し、ＲＰ−ＨＰＬＣで精製して、実施例１を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４６９：ＣｔＲｅｔ＝２.７５分。
【０２２７】
中間体１.１
【化８７】
2009522226.tif 000199
中間体１.２(５０mg、０.１０mmol)のＤＭＦ(１mL)溶液に、ＥＤＣＩ  ＨＣｌ(２９mg、０.１５mmol)、ＨＯＡｔ(４mg、０.０３mmｏ)およびイソブチルアミン(７.８mg、０.１１mmol)を室温で添加する。７時間撹拌後、室温、反応混合物をＨ２Ｏ(１０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃ／Ｅｔ２Ｏで１回抽出する(約１：１、４０mL)。有機層を５％水性ＫＨＳＯ４(２回)、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で連続的に洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮して、中間体１.１を白色非晶性物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＝５６９；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.９５分。
【０２２８】
中間体１.２
【化８８】
2009522226.tif 000200
出発物質−Ｅ(５１１mg、２mmol)のＴＨＦ溶液に、Ｅｔ３Ｎおよび中間体１.３(５１６mg、２mmolを０℃で添加し、１時間、６０℃で撹拌後、反応混合物を飽和水性ＮａＨＣＯ３(１０mL)および水(３０mL)でクエンチし、Ｅｔ２Ｏ(２回)で洗浄する。水性層に、次いで、５％水性ＫＨＳＯ４(１０mL)を添加し、ＥｔＯＡｃ(２回)で抽出する。合わせた有機層をＨ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮して、中間体１.２を白色非晶性物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＝５１４；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.６５分。
【０２２９】
中間体１.３
【化８９】
2009522226.tif 000201
中間体１.４(７８０mg、３.６mmol)、シクロプロピルアミン(４１０mg、７.２mmol)、ＡｃＯＨ(０.５mL)およびＮａＢＨ(ＯＡｃ)３(１.１ｇ、５.４mmol)のＤＣＭ(３mL)およびＭｅＯＨ(１mL)の混合物をＮ２下、０℃で撹拌する。ＲＴで１時間撹拌後、反応混合物を飽和水性ＮａＨＣＯ３でクエンチし、ＤＣＭで抽出する。合わせた有機相をＨ２Ｏ、塩水で洗浄し、乾燥させる(Ｎａ２ＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体１.３を黄色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２０２；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝２.６７分
【０２３０】
中間体１.４
【化９０】
2009522226.tif 000202
インドール−３−カルボキシアルデヒド(１.０ｇ、６.９mmol)、トルエン−４−スルホン酸３−メトキシ−プロピルエステル(２.１ｇ、９.０mmol)およびＫＩ(１.１ｇ、７.０mmol)のＤＭＦ(１５mL)中の混合物に、ＮａＨ(３２０mg、７.５mmol)をＮ２下、０℃で添加する。５０℃で４時間撹拌後、反応混合物にＨ２Ｏを添加し、ＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機相をＨ２Ｏ、塩水で洗浄し、乾燥させる(Ｎａ２ＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体１.４を無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２１８、ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.１８分。
【０２３１】
実施例２−１２、１６−１８、２１−２４、２８−３１、３５−３６、４９−５１、および３４４−３４７は、中間体１.２からの縮合および脱保護により実施例１の製造法に準じて合成する。
【０２３２】
実施例１３
【化９１】
2009522226.tif 000203
実施例１３を、中間体１３.１の脱保護により実施例１に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１３：ＡｔＲｅｔ＝２.８３分。
【０２３３】
中間体１３.１
【化９２】
2009522226.tif 000204
中間体１３.２(２４０mg、０.６４mmol)のＤＭＦ(１.５mL)溶液に、ＥＤＣＩ  ＨＣｌ(１８４mg、０.９６mmol)、ＨＯＡｔ(２６mg、０.２mmｏ)および中間体１.３(２４８mg、０.９６mmol)を室温で添加する。２.５時間、室温で撹拌後、反応混合物をＨ２Ｏ(１０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃ／Ｅｔ２Ｏで１回抽出する(約１：１、４０mL)。有機層を５％水性ＫＨＳＯ４(２回)、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で連続的に洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮して、中間体１３.１を白色非晶性物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６１３；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.７６分。
【０２３４】
中間体１３.２
【化９３】
2009522226.tif 000205
中間体１３.３(２５０mg、０.６５mmol)のＴＨＦ(５mL)溶液に、Ｈ２Ｏ(２.５mL)およびＬｉＯＨ.Ｈ２Ｏ(５５mg、１.３mmol)を０℃で添加する。３時間、０℃で撹拌後、反応混合物を５％水性ＫＨＳＯ４(５mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する(２０mL)。有機層を連続的にＨ２Ｏおよび塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮して、中間体１３.２を白色非晶性物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝３７２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.５０分。
【０２３５】
中間体１３.３
【化９４】
2009522226.tif 000206
(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ(２００mg、０.７０mmol)のＤＭＦ(１mL)溶液に、ＥＤＣＩ  ＨＣｌ(２００mg、１.０４mmol)、ＨＯＡｔ(２９mg、０.２１mmol)およびＳ−(＋)−ロイシノール(１２２mg、１.０４mmol)を室温で添加する。３時間、室温で撹拌後、反応混合物をＨ２Ｏ(１０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃ／Ｅｔ２Ｏで１回抽出する(約１：１、２０mL)。有機層を５％水性ＫＨＳＯ４(２回)、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で連続的に洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮して、中間体１３.３を白色非晶性物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝３８７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.９３分。
【０２３６】
実施例１４
【化９５】
2009522226.tif 000207
実施例１４を、中間体１４.１の脱保護により実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１３：ＡｔＲｅｔ＝２.６９分。
【０２３７】
中間体１４.１
【化９６】
2009522226.tif 000208
中間体１４.１を、中間体１４.２(２４０mg、０.６４mmol)と中間体１.３(２４８mg、０.９６mmol)の縮合により中間体１３.１の製造に準じて製造する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６１３；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.７６分。
【０２３８】
中間体１４.２
【化９７】
2009522226.tif 000209
中間体１４.２を、中間体１４.３(２５０mg、０.６５mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝３７３；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.６８分。
【０２３９】
中間体１４.３
【化９８】
2009522226.tif 000210
中間体１４.３を、(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ(２００mg、０.７０mmol)とＲ(−)−ロイシノール(１２２mg、１.０４mmol)の縮合により、中間体１３.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝３８７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.００分。
【０２４０】
実施例１５
【化９９】
2009522226.tif 000211
実施例１５を、中間体１５.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４８３：ＡｔＲｅｔ＝３.０２分。
【０２４１】
中間体１５.１
【化１００】
2009522226.tif 000212
中間体１５.１を、中間体１５.２(２２０mg、０.６４mmol)と中間体１.３(１９９mg、０.７７mmol)の縮合により、中間体１３.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝５８３；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝４.１４分。
【０２４２】
中間体１５.２
【化１０１】
2009522226.tif 000213
中間体１５.２を、中間体１５.３(２４０mg、０.６７mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝３４２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.０２分。
【０２４３】
中間体１５.３
【化１０２】
2009522226.tif 000214
中間体１５.３を、(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ(２００mg、０.７０mmol)とイソアミルアミン(９１mg、１.０４mmol)の縮合により、中間体１３.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝３５６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.４３分。
【０２４４】
実施例９６−９７を、中間体１５.２からの縮合および脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。
【０２４５】
実施例１９
【化１０３】
2009522226.tif 000215
実施例１９を、中間体１９.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。あるいは、中間体１９.１の脱保護を４Ｎ  ＨＣｌでの処理、続く濃縮により行う：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５００：ＣｔＲｅｔ＝２.６０分。
【０２４６】
中間体１９.１
【化１０４】
2009522226.tif 000216
中間体１９.２(９０mg、０.２６mmol)のＴＨＦ(２mL)溶液に、Ｅｔ３Ｎ(２９mg、０.２９mmol)およびイソブチルクロロホルメート(４３mg、０.３１mmol)を０℃で添加する。１時間、０℃で撹拌後、白色沈殿をセライトパッドを通して濾取し、濾液を減圧下濃縮する。残渣のＴＨＦ(２mL)溶液に、中間体１９.３(１０８mg、０.３９mmol)およびＭｇＢｒ２  ＯＥｔ２(１００mg、０.３９mmol)を室温で添加する。３日間室温で撹拌後、反応混合物をＨ２Ｏ(１０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃ／Ｅｔ２Ｏで１回抽出する(約１：１、４０mL)。有機層を５％水性ＫＨＳＯ４(２回)、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で連続的に洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。ＲＰ−ＨＰＬＣ精製により、中間体１９.１を白色非晶性物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６０１；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.６０分。
【０２４７】
中間体１９.２
【化１０５】
2009522226.tif 000217
中間体１９.２を、出発物質−Ｅ(７０mg、０.２７mmol)のイソアミルアミン(３６mg、０.４１mmol)での開環により、中間体１.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝３４２；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.０２分。
【０２４８】
中間体１９.３
【化１０６】
2009522226.tif 000218
中間体１９.４(５ｇ、２４.５mmol)、トルエン−４−スルホン酸３−メトキシ−プロピルエステル(７.１８ｇ、２９.４mmol)およびＫＩ(８１６mg、４.９mmol)のＤＭＦ(１２５mL)懸濁液に、ＮａＨ(油中６０％、１.１８ｇ、２９.４mmol)を０℃で添加する。反応混合物を６０℃で３時間撹拌する。水添加後、反応混合物をＥｔＯＡｃで抽出し、有機層を水、塩水で洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体１９.３を得る：黄色結晶；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２７７：ＡｔＲｅｔ＝２.６０分。
【０２４９】
中間体１９.４
【化１０７】
2009522226.tif 000219
Ｆｅ(５.２４ｇ、９３.９mmol)の６Ｍ水性ＨＣｌ(１５.６５mL)懸濁液に、中間体１９.５(５ｇ、１８.８mmol)のＥｔＯＨ(１００mL)をｒｔで添加する。反応混合物を６０℃で３時間撹拌する。１Ｍ水性ＮａＯＨ(９４mL)添加後、反応混合物をセライトパッドで濾過する。セライトケーキをＥｔＯＨで洗浄する。減圧下の濃縮により、中間体１９.４を得る：白色粉末；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２０５：ＡｔＲｅｔ＝１.９５分。
【０２５０】
中間体１９.５
【化１０８】
2009522226.tif 000220
ＮａＢＨ４(７.４７ｇ、１９７mmol)のＴＨＦ(２９０mL)懸濁液に、ＢＦ３−Ｅｔ２Ｏ(２８ｇ、１９７mmol)を０℃で添加する。得られた混合物を３０分撹拌する。中間体１９.６(３９ｇ、１３１.６mmol)のＴＨＦ(２９０mL)溶液を反応混合物に添加する。反応混合物を０℃で２時間撹拌する。混合物を氷水に注ぎ、ＥｔＯＡｃで抽出し、塩水で洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体１９.５を得る：黄色結晶；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６７：ＡｔＲｅｔ＝３.５２分。
【０２５１】
中間体１９.６
【化１０９】
2009522226.tif 000221
中間体１９.７(１１ｇ、４９.１mmol)およびメチルブロモアセテート(１１.３ｇ、７３.７mmol)のアセトニトリル(１３２mL)溶液に、炭酸カリウム(１１.５ｇ、８３.５mmol)をｒｔで添加する。反応混合物を一晩撹拌する。水添加後、反応混合物をＥｔＯＡｃで抽出し、塩水で洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体１９.６を得る：オレンジ色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２９７：ＡｔＲｅｔ＝３.３７分。
【０２５２】
中間体１９.７
【化１１０】
2009522226.tif 000222
４−アミノ−２−ニトロフェノール(２０ｇ、１１６mmol)のＭｅＯＨ(１６０mL)溶液に、ＡｃＯＨ(４０mL)および[(１−エトキシシクロプロピル)−オキシ]トリメチルシラン(２２.１ｇ、１２７mmol)をｒｔで添加する。反応混合物を還流下に４時間撹拌する。反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、２％水性Ｋ２ＣＯ３、塩水で洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮により、中間体１９.７を得る：赤色結晶；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２２５：ＡｔＲｅｔ＝３.３８分。
【０２５３】
中間体１９.３合成の別法
中間体１９.３を、以下の別法で合成する。
０℃で、２−アミノ−４−ニトロフェノール(６.２４ｇ、４０.５mmol)のＤＭＦ(６２mL)溶液をＫ２ＣＯ３(８.４４ｇ、６１.１mmol)およびクロロアセチルクロライド(X. Huang, C. Chan, Synthesis 1984, 31, 851.)(３.５mL、４４.０mmol)で処理し、同じ温度で４０分撹拌し、６０℃に温め、２３時間撹拌し、０℃に冷却し、ＫＩ(１.３２ｇ、７.９５mmol)および１−メトキシ−３−(ｐ−トルエンスルホニルオキシ)プロパン(１２.１ｇ、４９.５mmol)のＤＭＦ(２４mL)溶液で処理する。６０％のＮａＨ(２.００ｇ、５０.０mmol)を１０分にわたり添加後、混合物を０℃で１時間撹拌し、６０℃に温め、２４時間撹拌し、Ｈ２Ｏ(６５０mL)で処理する。混合物をＥｔＯＡｃ(３×８０mL)およびＥｔ２Ｏ(３×８０mL)で抽出後、合わせた有機層をＨ２Ｏ(２×５０mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(３００ｇ、ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ５：４)により、４−(３−メトキシプロピル)−６−ニトロ−４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オンを黄色固体として得る。
【０２５４】
室温で、４−(３−メトキシプロピル)−６−ニトロ−４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オン(９１.０ｇ、０.３４mol)のエタノール性溶液(１１００mL)を６Ｎ  ＨＣｌ(１７０mL、１.０２molのＨＣｌ)および粉砕したＦｅ(５７.０ｇ、１.０２mol)で処理し、７０℃に加熱し、１５時間撹拌し、０℃に冷却し、６Ｎ  ＮａＯＨ(２５０mL)で処理し、セライトパッドで濾過する。濾液をＣＨ２Ｃｌ２(１０００mL)で希釈し、水性層を分離する。有機層を塩水(２×３００mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させて、６−アミノ−４−(３−メトキシプロピル)−４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オンを、明褐色固体として得る。
【０２５５】
室温で、６−アミノ−４−(３−メトキシプロピル)−４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オン(２.４９ｇ、１０.５mmol)のメタノール性溶液(２０mL)をＡｃＯＨ(５.０mL)および[(１−エトキシシクロ(cyco)プロピル)−オキシ]トリメチルシラン(２.１mL、１０.５mmol)で処理し、７０℃で還流下１.５時間撹拌する。同じ温度で、この混合物に、ＮａＢＨ３ＣＮ(０.７３ｇ、１１.６mmol)のメタノール性溶液(３.７mL)を５分にわたり滴下し、得られた混合物を７０℃で還流下２時間撹拌して、蒸発させる。ＡｃＯＨの匂いが無くなるまで数回ＰｈＭｅと共に蒸発させた後、残渣をＥｔＯＡｃ(２００mL)に溶解し、溶液をＮａＨＣＯ３の飽和水性溶液(４０mL)および塩水(４０mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(１００ｇ、ＣＨ２Ｃｌ２／ＥｔＯＡｃ  １：１)により、中間体１９.３を白色固体として得る。
【０２５６】
実施例２０
【化１１１】
2009522226.tif 000223
実施例２０を、中間体２０.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３４：ＣｔＲｅｔ＝２.６１分。
【０２５７】
中間体２０.１
【化１１２】
2009522226.tif 000224
中間体２０.１を、中間体２０.２(９０mg、０.２４mmol)と中間体１９.３(１０８mg、０.３９mmol)の縮合により、中間体１９.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６３５；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.５９分。
【０２５８】
中間体２０.２
【化１１３】
2009522226.tif 000225
中間体２０.２を、出発物質−Ｅ(７０mg、０.２７mmol)の２−フェネチルアミン(５０mg、０.４１mmol)での開環により、中間体１.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝３７６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.０１分。
【０２５９】
実施例２５
【化１１４】
2009522226.tif 000226
実施例２５を、中間体２５.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１４：ＣｔＲｅｔ＝２.０２、２.１７分。
【０２６０】
中間体２５.１
【化１１５】
2009522226.tif 000227
中間体２５.１を、中間体３３.２(５０mg、０.１３mmol)と中間体２５.２(４９mg、０.１９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ−ｔＢｕ＋Ｈ]＋＝５５７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.８６、２.９６分。
【０２６１】
中間体２５.２
【化１１６】
2009522226.tif 000228
中間体２５.２(１８４mg、０.８４３mmol)およびシクロプロピルアミン(１１４mg、２mmol)をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、溶液を１５分室温で撹拌し、続いてナトリウムシアノボロハイドライド(５３０mg、２.５mmol)を添加する。反応混合物を４０時間、室温で撹拌する。反応混合物をＡｃＯＥｔ(１００mL)および１Ｍ  ＮａＨＣＯ３に分配する。有機層を１Ｍ  水性ＮａＨＣＯ３(２×２０mL)、塩水(１×５mL)で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濾過し、減圧下濃縮して、中間体２５.３を黄色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝２５９；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝１.５５分。
【０２６２】
中間体２５.３
【化１１７】
2009522226.tif 000229
７−アザインドールをＤＭＦ(４mL)に懸濁し、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド(１３５mg、１.２mmol)を添加し、反応混合物を２０分、８０℃で撹拌する。ＤＭＦ(２mL)に溶解した３−トシルオキシ−１−メトキシプロパン(４１５mg、１.７mmol)を添加し、撹拌を２１時間続ける。反応混合物をＡｃＯＥｔおよび１Ｍ  ＮａＨＣＯ３(１０mL)に分配する。有機層を１Ｍ  ＮａＨＣＯ３(２×２０mL)、塩水(１×５mL)で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濾過し、減圧下濃縮する。
残渣をＤＭＦ(３mL)に溶解し、次いでＰＯＣｌ３(１７５mg、１.１mmol)のＤＭＦ(１.５mL)溶液(１５分前活性化)で処理する。溶液を１時間、室温およびさらに１６時間、６０℃で撹拌する。反応混合物を水に注ぎ、それを１Ｍ  ＮａＨＣＯ３で塩基性にし、ＡｃＯＥｔ(３×５０mL)で抽出する。合わせた有機層を塩水(１×１０mL)で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濾過し、減圧下濃縮して、中間体２５.３を黄色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝２５９；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝１.５５分。
【０２６３】
実施例２６
【化１１８】
2009522226.tif 000230
実施例２６を、中間体２６.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１１：ＣｔＲｅｔ＝２.７８、２.９８分。
【０２６４】
中間体２６.１
【化１１９】
2009522226.tif 000231
中間体２６.１を、中間体３３.２(５０mg、０.１３mmol)と中間体２６.２(４８mg、０.１９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ−ｔＢｕ＋Ｈ]＋＝６１１；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.８６分。
【０２６５】
中間体２６.２
【化１２０】
2009522226.tif 000232
ＮａＨ(９７mg、鉱油中６０％分散、２.４mmol)および１−プロパノール(３０３μL、４.１mmol)のＮＭＰ(３mL)懸濁液に、中間体２６.３(２００mg、０.８１mmol)を添加する。３時間、７０℃で撹拌後、混合物をＡｃＯＥｔ(５０mL)および１Ｍ  ＮａＨＣＯ３(１０mL)に分配する。有機層を１Ｍ  水性ＮａＨＣＯ３(２×１０mL)、塩水(１×５mL)で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濾過し、減圧下濃縮する。残渣およびＢＨ３溶液(ＴＨＦ中１Ｍ、５mmol)の混合物を室温で撹拌する。３６時間、ｒｔで撹拌後、ＭｅＯＨを反応混合物に添加し、混合物を３.５時間、５０℃で撹拌する。反応混合物をＡｃＯＥｔ(５０mL)および１Ｍ  ＮａＨＣＯ３に分配する。有機層を１Ｍ  水性ＮａＨＣＯ３(２×１０mL)、塩水(１×５mL)で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濾過し、減圧下濃縮して、中間体２６.２を無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２５７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.４７分。
【０２６６】
中間体２６.３
【化１２１】
2009522226.tif 000233
２−クロロキノリン４−カルボン酸(１ｇ、４.８mmol)、塩化オキサリル(４mL)およびＤＭＦ(２０μL)のＣＨ２Ｃｌ２(２０mL)中の混合物を室温で撹拌する。２.５時間、室温で撹拌後、反応混合物を減圧下濃縮する。
残渣のＣＨ２Ｃｌ２(１０mL)懸濁液に、エチルジイソプロピルアミン(１.６５mL、９.６mmol)およびシクロプロピルアミン(６６８μL、９.６mmol)を室温で添加する。１時間、室温で撹拌後、反応混合物をＡｃＯＥｔ(３００mL)および１Ｍ  ＮａＨＣＯ３(５０mL)に分配する。有機層を１Ｍ  ＮａＨＣＯ３(２×３０mL)、塩水(１×１０mL)で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濾過し、減圧下濃縮して、中間体２６.３を、白色粉末として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝２４６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.５０分。
【０２６７】
実施例２７
【化１２２】
2009522226.tif 000234
実施例２７を、中間体２７.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２７：ＣｔＲｅｔ＝２.５３、２.７１分。
【０２６８】
中間体２７.１
【化１２３】
2009522226.tif 000235
中間体２７.１を、中間体３３.２(５０mg、０.１３mmol)と中間体２７.２(５１.２mg、０.１９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ−ｔＢｕ＋Ｈ]＋＝６２７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.５６分。
【０２６９】
中間体２７.２
【化１２４】
2009522226.tif 000236
中間体２７.２を、中間体２６.３(２００mg、０.８１mmol)のエーテル化、続く還元により、中間体２７.２の製造法に準じて合成する。白色無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２７３；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.０５分。
【０２７０】
実施例３２
【化１２５】
2009522226.tif 000237
実施例３２を、中間体３２.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１８：ＣｔＲｅｔ＝２.７０、２.８４分。
【０２７１】
中間体３２.１
【化１２６】
2009522226.tif 000238
中間体３２.１を、中間体３３.２(５０mg、０.１３４mmol)と中間体３２.２(５５mg、０.２１mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６１８；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.９３分。
【０２７２】
中間体３２.２
【化１２７】
2009522226.tif 000239
中間体３２.３(１９０mg、０.６８mmol)およびＢＨ３(ＴＨＦ中１Ｍ、４mL、４mmol)の混合物を５０℃で撹拌する。８０時間、５０℃で撹拌後、反応混合物を０℃に冷却し、１mLのＭｅＯＨを添加する。２時間、５０℃で撹拌後、反応混合物を室温に冷却し、次いで１Ｎ水性ＮａＯＨで希釈し、ＣＨ２Ｃｌ２で抽出する。有機層を１Ｍ  水性ＨＣｌで抽出し、次いでＨＣｌ層を１Ｎ水性ＮａＯＨで酸性化する(ｐＨ＞１２)。水性層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出する。合わせた有機抽出物をＨ２Ｏおよび塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮して、中間体３２.２を無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２６４；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.３７分。
【０２７３】
中間体３２.３
【化１２８】
2009522226.tif 000240
中間体３２.４(４００mg、２.４mmol)およびシクロプロピルアミン(２００μL、２.９mmol)のＤＭＦ(５mL)溶液に、ＥＤＣＩ.ＨＣｌ(６９０mg、３.６mmol)およびＨＯＡｔ(９８mg、０.７２mmol)を添加する。２時間撹拌後、反応をＨ２Ｏ(１０mL)および５％水性ＫＨＳＯ４(１０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで２回(３０mL)抽出する。合わせた有機層をＨ２Ｏおよび塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、所望のアミドを得る。
アミドおよびトルエン−４−スルホン酸３−メトキシプロピルエステル(１.２ｇ、４.８mmol)のＤＭＦ(１０mL)溶液に、Ｋ２ＣＯ３(６６３mg、４.８mmol)およびＫＩ(１００mg、０.６mmol)を添加する。２時間、８０℃で撹拌後、反応をＨ２Ｏ(５mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する(２０mL)。有機層を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体３２.３を、無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２７８；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.７８分。
【０２７４】
中間体３２.４
【化１２９】
2009522226.tif 000241
中間体３２.５(１.２ｇ、７.３mmol)およびＨ２ＳＯ４(４６４μL、８.７mmol)のＨ２Ｏ(２５mL)溶液に、水性ＮａＮＯ２(１０mL中６０１mg、８.７mmol)を添加する。２時間、８０℃で撹拌後、反応混合物を室温に冷却し、氷／５％水性ＮａＨＣＯ３(１００ｇ／５０mL)に注ぐ。１０分撹拌後、反応混合物を５％水性ＫＨＳＯ４(ｐＨ＜３)で酸性化し、次いでＥｔＯＡｃで２回抽出する。合わせた有機層をＨ２Ｏおよび塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮して、中間体３２.４を、明黄色非晶性物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝１６６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.０６分。
【０２７５】
中間体３２.５
【化１３０】
2009522226.tif 000242
中間体３２.６(１.５ｇ、７.７mmol)のＭｅＯＨ(６０mL)溶液に、Ｐｄ(ｅｎ)ｃａｔ(６０mg)を添加し、次いで混合物をＨ２雰囲気下撹拌する。２時間撹拌後、触媒をセライトパッドを通した濾過により除去し、セライトケーキをＭｅＯＨで洗浄する。濾液の濃縮により、中間体３２.５を、褐色固体として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝１６５；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝１.２５分。
【０２７６】
中間体３２.６
【化１３１】
2009522226.tif 000243
２,３−ジメチル安息香酸(３ｇ、２０mmol)の濃Ｈ２ＳＯ４(４０mL)溶液に、ＫＮＯ３(２.０２ｇ、２２mmol)を０℃で添加する。５時間、０℃で撹拌後、反応混合物を氷に注ぎ、次いで白色沈殿を濾過により集める。回収した沈殿をＣＨ３ＣＮ(１０mL)およびＨ２Ｏ(２０mL)でトリチュレートし、固体を濾過により回収して、中間体３２.６を、白色固体物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝１９５；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.７３分。
【０２７７】
実施例３３
【化１３２】
2009522226.tif 000244
実施例３３を、中間体３３.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３１：ＣｔＲｅｔ＝２.３０、２.４７分。
【０２７８】
中間体３３.１
【化１３３】
2009522226.tif 000245
中間体３３.１を、中間体３３.２(９０mg、０.２４mmol)と中間体１９.３(１０８mg、０.３９mmol)の縮合により、中間体１９.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６３１；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.２２、３.２９分。
【０２７９】
中間体３３.２
【化１３４】
2009522226.tif 000246
中間体３３.２を、出発物質−Ｅ(７０mg、０.２７mmol)のＤＬ−ロイシノール(４９mg、０.４１mmol)での開環により、中間体１.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝３７２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.５０、２.７４分。
【０２８０】
実施例３４
【化１３５】
2009522226.tif 000247
実施例３４を、中間体３４.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６７：ＣｔＲｅｔ＝３.０１分。
【０２８１】
中間体３４.１
【化１３６】
2009522226.tif 000248
中間体１.２(５０mg、０.１mmol)およびフェニルメタンスルホンアミド(２６mg、０.１５mmol)のＤＭＦ溶液に、ＥＤＣＩ.ＨＣｌ(２９mg、０.１５mmol)およびＤＭＡＰ(６mg、０.０５mmol)を室温で添加した。６４時間撹拌後、反応混合物をＨ２Ｏ(１０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する(２０mL)。有機層を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮して、中間体３４.１を黄色固体として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６６７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝４.０６分。
【０２８２】
実施例３７
【化１３７】
2009522226.tif 000249
実施例３７を、中間体３７.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２０：ＣｔＲｅｔ＝２.６２、２.７６分。
【０２８３】
中間体３７.１
【化１３８】
2009522226.tif 000250
中間体３７.１を、中間体３７.２(５０mg、０.１３mmol)と中間体３３.２(４１mg、０.１６mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６２０；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.６５分。
【０２８４】
中間体３７.２
【化１３９】
2009522226.tif 000251
中間体３７.２を、中間体３７.３(２.５０ｇ、１１.１mmol)およびシクロプロピルアミン(８５５mg、１５.０mmol)の縮合により、中間体１.３の製造法に準じて合成する。黄色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６６；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝２.４８分。
【０２８５】
中間体３７.３
【化１４０】
2009522226.tif 000252
中間体３７.３を、中間体３７.４(４.２０ｇ、１８.６mmol)のトルエン溶液のＲＴで１２時間のＭｎＯ２酸化により合成する。黄色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２２５；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.５９分。
【０２８６】
中間体３７.４
【化１４１】
2009522226.tif 000253
中間体３７.５(５ｇ、１９.７mmol)およびＬＡＨ(５２８mg、２０mmol)のＴＨＦ(１１０mL)中の混合物をＮ２下、０℃で３時間撹拌する。Ｈ２Ｏ添加後、反応混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機相をＨ２Ｏ、塩水で洗浄し、乾燥させる(Ｎａ２ＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体３７.４を無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２２７；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝２.８５分。
【０２８７】
中間体３７.５
【化１４２】
2009522226.tif 000254
３−メトキシ−５−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル(２３.２ｇ、１２７mmol)、トルエン−４−スルホン酸３−メトキシ−プロピルエステル(４０.７ｇ、１６７mmol)およびＫＩ(２.２３ｇ、１３.４mmol)のＤＭＦ(３５０mL)中の混合物に、Ｋ２ＣＯ３(５３.１ｇ、３８４mmol)をＮ２下添加する。６０℃で１７時間撹拌後、反応混合物をＨ２Ｏで補い、Ｅｔ２Ｏで抽出する。合わせた有機相をＨ２Ｏで洗浄し、乾燥させる(Ｎａ２ＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体３７.５を無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２５５、ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.８０分。
【０２８８】
実施例３８
【化１４３】
2009522226.tif 000255
実施例３８を、中間体３８.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２０：ＣｔＲｅｔ＝２.５６分。
【０２８９】
中間体３８.１
【化１４４】
2009522226.tif 000256
中間体３８.１を、中間体３８.２(５０mg、０.１３mmol)と中間体３３.２(４１mg、０.１６mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６２０；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.４３、３.４９分。
【０２９０】
中間体３８.２
【化１４５】
2009522226.tif 000257
中間体３８.２を、中間体３８.３(８２４mg、３.３mmol)の還元により、中間体３７.４の製造法に準じて合成する。白色粉末として得る；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝２.５２分；Ｒｆ＝０.２１(ＥｔＯＡｃ：ｎ−Ｈｅｘ＝１：１)
【０２９１】
中間体３８.３
【化１４６】
2009522226.tif 000258
中間体３８.３を、３−(ヒドロキシメチル)−５−メトキシ−安息香酸メチルエステル(１.８５ｇ、９.４mmol)(例えばSynthetic Communications, 2001, 31, 1921-1926参照)のアルキル化により、中間体３７.５の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２５５；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.４４分
【０２９２】
実施例３９
【化１４７】
2009522226.tif 000259
実施例３９を、中間体３９.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４３０：ＣｔＲｅｔ＝２.６８、２.８７分。
【０２９３】
中間体３９.１
【化１４８】
2009522226.tif 000260
中間体３３.２(５０mg、０.１３mmol)のＤＭＦ(１mL)溶液に、ＥＤＣＩ  ＨＣｌ(４０mg、０.２０mmol)、ＨＯＡｔ(５.５mg、０.０４mmol)およびシクロプロピル−(２,３−ジメチルベンジル)アミン(３４mg、０.１６mmol)およびＥｔ３Ｎ(１６mg、０.１６mmol)を室温で添加する。４８時間、室温で撹拌後、反応混合物をＨ２Ｏ(１０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する。有機層を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮して、中間体３９.１を白色非晶性物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝５３０；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.８５分。
【０２９４】
実施例４０
【化１４９】
2009522226.tif 000261
実施例４０を、中間体４０.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４６２：ＣｔＲｅｔ＝２.４７、２.６３分。
【０２９５】
中間体４０.１
【化１５０】
2009522226.tif 000262
中間体４０.１を、シクロプロピル−(３,５−ジメトキシベンジル)アミン(５０mg、０.１３mmol)と中間体３３.２(３９mg、０.１６mmol)の縮合により、中間体４０.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝５６２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.５３分。
【０２９６】
実施例４１
【化１５１】
2009522226.tif 000263
実施例４１を、中間体４１.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１９：ＣｔＲｅｔ＝１.９６、２.０６分。
【０２９７】
中間体４１.１
【化１５２】
2009522226.tif 000264
中間体４１.１を、中間体３３.２(５０mg、０.１３mmol)と中間体４１.２(５８mg、０.１６mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝７１９；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.９５分。
【０２９８】
中間体４１.２
【化１５３】
2009522226.tif 000265
中間体４１.２を、中間体４１.３(７７０mg、１.９８mmol)およびシクロプロピルアミン(１.４mL、１９.８mmol)のアミノ化により、中間体４２.２の製造法に準じて合成する。無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３６５；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.５６分。
【０２９９】
中間体４１.３
【化１５４】
2009522226.tif 000266
中間体４１.３を、中間体４１.４(８００mg、２.４６mmol)の臭素化により、中間体４２.３の製造法に準じて合成する。無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３８９、３９１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝２.１分。
【０３００】
中間体４１.４
【化１５５】
2009522226.tif 000267
中間体４１.５(２ｇ、７.５mmol)およびＬＡＨ(１.４ｇ、３７.４mmol)のＴＨＦ(７０mL)中の混合物をＮ２下、０℃で撹拌する。６時間、７０℃で撹拌後、反応混合物を０℃に冷却し、硫酸ナトリウム十水和物を混合物に添加する。得られた灰色物質をセライトパッドを通した濾過により除去し、次いで濾液を減圧下濃縮して、粗製物を得る。
粗製物のＣＨ２Ｃｌ２溶液にＥｔ３ＮおよびＢｏｃ２Ｏを室温で添加する。１８時間、室温で撹拌後、反応混合物を１Ｎ  ＫＨＳＯ４溶液で酸性化し、ＣＨ２Ｃｌ２で抽出する。有機層を塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、濃縮させる。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体４１.４を、白色非晶性物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２４０；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝１.７２分。
【０３０１】
中間体４１.５
【化１５６】
2009522226.tif 000268
５−メトキシイソフタル酸モノメチルエステル(２ｇ、９.５mmol)のＤＭＦ(２０mL)の溶液に、ＥＤＣＩ  ＨＣｌ(２.７ｇ、１４.３mmol)、ＨＯＡｔ(０.９７ｇ、７.１mmｏ)および２−メトキシエチルアミン(７８６mg、１０.５mmol)を室温で添加する。４時間、室温で撹拌後、反応混合物をＨ２Ｏ(１０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する。有機層を連続的にＨ２Ｏで２回および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮により、中間体４１.５を、白色固体物質として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６８；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝２.３８分。
【０３０２】
実施例４２の合成
【化１５７】
2009522226.tif 000269
中間体４２.１(１当量)のＤＣＭ溶液に、２,６−ルチジン(３当量)およびＴＭＳＯＴｆ(３当量)をｒｔで添加し、３０分撹拌する。１滴のＭｅＯＨおよびＡｃＯＨを添加後、反応混合物を減圧下濃縮し、ＲＰ−ＨＰＬＣで精製して、実施例４２を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３１：ＣｔＲｅｔ＝２.５８、２.８６分。
【０３０３】
中間体４２.１
【化１５８】
2009522226.tif 000270
中間体４２.１を、中間体３３.２(８１mg、０.２２mmol)および中間体４２.２(６０mg、０.２２mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.８９分。
【０３０４】
中間体４２.２
【化１５９】
2009522226.tif 000271
シクロプロピルアミン(１.１mL)のＤＭＦ(５mL)溶液にＫ２ＣＯ３(６６３mg、４.８mmol)および中間体４２.３(４８０mg、１.６mmol)のＤＭＦ溶液を６０℃で添加する。３０分撹拌後、反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、水、塩水で洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体４２.２を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２７７：ＢｔＲｅｔ＝１.４２分。
【０３０５】
中間体４２.３
【化１６０】
2009522226.tif 000272
中間体４２.４(３２４mg、１.３７mmol)のＣＨ２Ｃｌ２(１５mL)溶液に、ＰＰｈ３(４３０mg、１.６４mmol)およびＮＢＳ(２９２mg、１.６４mmol)をｒｔで添加する。３時間撹拌後、混合物を減圧下濃縮し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体４２.３を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３００、３０２：ＢｔＲｅｔ＝１.８９分。
【０３０６】
中間体４２.４
【化１６１】
2009522226.tif 000273
中間体４２.５(４００mg、１.５８mmol)の４Ｍ  ＨＣｌ／ジオキサン(５mL)溶液をｒｔで１時間撹拌する。混合物を減圧下濃縮する。蒸発残渣のＣＨ２Ｃｌ２(１０mL)溶液に、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン(０.９５mL)およびｎ−バレロイルクロライド(０.４mL)をｒｔで添加する。２時間撹拌後、反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、有機層を１Ｍ水性ＨＣｌ、飽和水性ＮａＨＣＯ３および塩水で洗浄する。減圧下の濃縮により、蒸発残渣をＭｅＯＨに溶解する。ナトリウムメトキシドを添加し、溶液を、ｒｔで一晩撹拌する。ＮＨ４Ｃｌ添加後、溶液を真空下で濃縮し、シリカゲルカラムで精製して、中間体４２.４を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２３８：ＢｔＲｅｔ＝１.５３分
【０３０７】
中間体４２.５
【化１６２】
2009522226.tif 000274
中間体４２.６(１.９ｇ、６.７５mmol)のＴＨＦ(１００mL)溶液に、ＬＡＨ(５１３mg、１３.５mmol)を０℃で添加する。反応混合物をｒｔに温める。１時間撹拌後、混合物を５ｇのＮａ２ＳＯ４−１０Ｈ２Ｏでクエンチし、セライトパッドで濾過する。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体４２.５を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２５３：ＢｔＲｅｔ＝１.６５分。
【０３０８】
中間体４２.６
【化１６３】
2009522226.tif 000275
５−メトキシイソフタル酸モノメチルエステル(５ｇ、２３.８mmol)のｔ−ＢｕＯＨ(２０mL)およびジオキサン(２０mL)の溶液に、トリエチルアミン(３.８mL、２８.６mmol)およびＤＰＰＡ(６.１５mL、２８.６mmol)を０℃で添加する。反応混合物を８０℃に温める。４時間撹拌後、混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、有機層を１Ｍ水性ＨＣｌ、水、飽和水性ＮａＨＣＯ３および塩水で洗浄する。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体４２.６を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ(−ｔ−Ｂｕ)＝２５５：ＢｔＲｅｔ＝１.９４分。
【０３０９】
実施例４３の合成
【化１６４】
2009522226.tif 000276
実施例４３を、中間体４３.１の脱保護により、実施例４２の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３３：ＣｔＲｅｔ＝２.１５、２.２８分。
【０３１０】
中間体４３.１
【化１６５】
2009522226.tif 000277
中間体４３.１を、中間体３３.２(６７mg、０.１８mmol)および中間体４３.２(５０mg、０.１８mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３３；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.７３分。
【０３１１】
中間体４３.２
【化１６６】
2009522226.tif 000278
中間体４３.２を、中間体４３.３(３２０mg、１.０６mmol)およびシクロプロピルアミン(１.１mL、１５.９mmol)のアミノ化により、中間体４２.２の製造法に準じて合成する。無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２７９；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.２２分。
【０３１２】
中間体４３.３
【化１６７】
2009522226.tif 000279
中間体４３.３を、３−ヒドロキシメチル−５−メトキシ−Ｎ−(２−メトキシエチル)−ベンズアミド(２５０mg、１.０５mmol)の臭素化により、中間体４２.３の製造法に準じて合成する。無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３０１、３０３；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.６１分。
【０３１３】
実施例４４
【化１６８】
2009522226.tif 000280
実施例４４を、中間体４４.１の脱保護により、４２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５８；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.９３、３.０８分。
【０３１４】
中間体４４.１
【化１６９】
2009522226.tif 000281
中間体４４.１を、中間体３３.２(６７mg、０.１８mmol)および中間体４４.２(５０mg、０.１８mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５８；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝２.０６分。
【０３１５】
中間体４４.２
【化１７０】
2009522226.tif 000282
３−フルオロ−５−(トリフルオロメチル)ベンジルブロマイド(１.００ｇ、３.９mmol)、炭酸カリウム(１.６２ｇ、１１.７mmol)、シクロプロピルアミン(２２３mg、３９mmol)のＤＭＦ(１５mL)中の混合物を６０℃で１時間撹拌する。混合物を濾過し、濾液を６０％ＮａＨ(３１２mg、７.８mmol)および３−メトキシ−１−プロパノール(４１７mg、４.６８mmol)のＤＭＦ(３０mL)懸濁液に０℃で１０分にわたり添加する。反応混合物を５時間、６０℃で撹拌する。Ｈ２Ｏ添加後、反応混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機相を水および塩水で洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体４４.２を得る：黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３０４：ＡｔＲｅｔ＝２.４７分。
【０３１６】
実施例４５
【化１７１】
2009522226.tif 000283
実施例４５を、中間体４５.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４７：ＣｔＲｅｔ＝２.７５分。
【０３１７】
中間体４５.１
【化１７２】
2009522226.tif 000284
中間体４５.１を、中間体４５.２(１９５mg、０.４８mmol)と中間体１.３(１９０mg、０.７２mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６４７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.７９分。
【０３１８】
中間体４５.２
【化１７３】
2009522226.tif 000285
中間体４５.２を、中間体４５.３(２１０mg、０.５mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４０７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.７４分。
【０３１９】
中間体４５.３
【化１７４】
2009522226.tif 000286
中間体４５.３を、(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ(１５０mg、０.７０mmol)とＤ−(＋)−フェニルアラニノール(１１８mg、０.７８３mmol)の縮合により、中間体１３.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４２１；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.０３分。
【０３２０】
実施例４６
【化１７５】
2009522226.tif 000287
実施例４６を、中間体４６.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４７：ＣｔＲｅｔ＝２.８３分。
【０３２１】
中間体４６.１
【化１７６】
2009522226.tif 000288
中間体４６.１を、中間体４６.２(１９５mg、０.４８mmol)と中間体１.３(１９０mg、０.７２mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６４７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.７３分。
【０３２２】
中間体４６.２
【化１７７】
2009522226.tif 000289
中間体４６.２を、中間体４６.３(２０５mg、０.４９mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４０７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.５４分。
【０３２３】
中間体４６.３
【化１７８】
2009522226.tif 000290
中間体４６.３を、(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ(１５０mg、０.７０mmol)とＬ−(−)−フェニルアラニノール(１１８mg、０.７８３mmol)の縮合により、中間体１３.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４２１；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.９７分。
【０３２４】
実施例４７
【化１７９】
2009522226.tif 000291
実施例４７を、中間体４７.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４７：ＣｔＲｅｔ＝２.８３分。
【０３２５】
中間体４７.１
【化１８０】
2009522226.tif 000292
中間体４７.１を、中間体４７.２(１９５mg、０.４８mmol)と中間体１.３(１９０mg、０.７２mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６４７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.７４分。
【０３２６】
中間体４７.２
【化１８１】
2009522226.tif 000293
中間体４７.２を、中間体４７.３(２０５mg、０.４９mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４０７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.５２分。
【０３２７】
中間体４７.３
【化１８２】
2009522226.tif 000294
中間体４７.３を、(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ(１５０mg、０.７０mmol)と(Ｒ)−３−アミノ−フェニルアラニン−１−オール(１１８mg、０.７８３mmol)の縮合により、中間体１３.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４２１；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.９５分。
【０３２８】
実施例４８
【化１８３】
2009522226.tif 000295
実施例４８を、中間体４８.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４７：ＣｔＲｅｔ＝２.６８分。
【０３２９】
中間体４８.１
【化１８４】
2009522226.tif 000296
中間体４８.１を、中間体４８.２(１９５mg、０.４８mmol)と中間体１.３(１９０mg、０.７２mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６４７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.７７分。
【０３３０】
中間体４８.２
【化１８５】
2009522226.tif 000297
中間体４８.２を、中間体４８.３(２００mg、０.４８mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４０７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.７２分。
【０３３１】
中間体４８.３
【化１８６】
2009522226.tif 000298
中間体４８.３を、(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ(１５０mg、０.７０mmol)とＳ−３−アミノ−フェニルアラニン−１−オール(１１８mg、０.７８３mmol)の縮合により、中間体１３.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４２１；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.０１分。
【０３３２】
実施例５２
【化１８７】
2009522226.tif 000299
実施例５２を、中間体５２.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１５：ＣｔＲｅｔ＝２.８２、２.９８分。
【０３３３】
中間体５２.１
【化１８８】
2009522226.tif 000300
中間体５２.１を、中間体３３.２(７６mg、０.２０mmol)と中間体５２.２(８０mg、０.３１mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６１５；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.９０分。
【０３３４】
中間体５２.２
【化１８９】
2009522226.tif 000301
１−(３−メトキシプロピル)−１Ｈ−インドール−３−カルボアルデヒド(３５０mg、１.６１mmol)のＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ溶液に、イソプロピルアミン(１１５mg、１.９３mmol)、ＡｃＯＨ(１９２mg、３.２mmol)およびナトリウムシアノボロハイドライド(１.０２ｇ、４.８３mmol)を室温で添加する。２０時間、室温で撹拌後、反応混合物を５％水性ＮａＨＣＯ３(１０mL)および水(４０mL)でクエンチし、ＣＨ２Ｃｌ２で抽出する(２回)。合わせた有機層をＨ２Ｏおよび塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。ＳｉＯ２  クロマトグラフィー精製により、中間体５２.２を、褐色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２６１；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.２５分。
【０３３５】
実施例５３
【化１９０】
2009522226.tif 000302
実施例５３を、中間体５３.１の脱保護により、実施例４２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１８；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.６３分。
【０３３６】
中間体５３.１
【化１９１】
2009522226.tif 000303
中間体５３.１を、中間体３３.２(１００mg、０.２７mmol)および中間体５３.２(１０６mg、０.４０mmol)の縮合により、中間体４２.１の製造法に準じて合成する；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６１８；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝２.０４分。
【０３３７】
中間体５３.２
【化１９２】
2009522226.tif 000304
中間体５３.３(５３７mg、２.１３mmol)のＭｅＯＨ(４mL)溶液を５Ｎ  水性ＮａＯＨで処理する。７５℃で２時間撹拌後、反応混合物をｒｔに冷却し、１Ｎ  ＨＣｌで酸性化する。混合物をＡｃＯＥｔで希釈し、塩水で洗浄し、乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮させる。残渣をＤＭＦ(２mL)に溶解し、シクロプロピルアミン(０.３０mL、４.２９mmol)、ＥＤＣＩ(６１５mg、３.２１mmol)およびＨＯＡｔ(２９１mg、２.１３mmol)で処理する。２時間撹拌後、反応混合物をＡｃＯＥｔで希釈し、塩水で洗浄し、乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮させる。残渣のＴＨＦ(３mL)溶液に、ＢＨ３・ＴＨＦ複合体(１.０Ｍ、２.７mL)を添加する。６０℃で２時間撹拌後、混合物をｒｔに冷却し、Ｈ２ＯおよびＭｅＯＨを添加する。混合物をＡｃＯＥｔで抽出し、塩水で洗浄し、乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮させる。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体５３.２を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６４；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.５０分。
【０３３８】
中間体５３.３
【化１９３】
2009522226.tif 000305
中間体５３.４(４８２mg、２.６７mmol)のＤＭＦ溶液に、ＮａＨ(１２８mg、３.２mmol)をｒｔで添加する。トルエン−４−スルホン酸３−メトキシプロピルエステル(７８４mg、３.２mmol)およびＫＩ(４４mg、０.２７mmol)を添加し、混合物を６５℃に加熱する。３時間撹拌後、Ｈ２Ｏを添加する。混合物をＡｃＯＥｔで抽出し、塩水で洗浄し、乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮させる。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体５３.３を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２２１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝２.０３分。
【０３３９】
中間体５３.４
【化１９４】
2009522226.tif 000306
中間体５３.５(１.８９ｇ、７.１０mmol)のＥｔＯＨ(７５mL)溶液に１０％Ｐｄ／Ｃ(０.１９ｇ、０.０７mmol)を添加する。反応混合物をＨ２下、ｒｔで２０時間、次いで４０℃で２時間撹拌する。ｒｔに冷却後、混合物を濾過し、濾液を真空で濃縮して、中間体５３.４を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１８１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝２.０８分。
【０３４０】
中間体５３.５
【化１９５】
2009522226.tif 000307
中間体５３.６(８.５ｇ、２１.８mmol)、トリメチルシリルアセチレン(９.２３mL、４３.６mmol)、Ｐｄ(ＰＰｈ３)４(１.２ｇ、１.０４mmol)、ＣｕＩ(０.２１ｇ、１.０４mmol)およびジイソプロピルエチルアミン(１１mL、４３.６mmol)のジクロロメタン(１００mL)溶液をｒｔで１２時間処理する。Ｈ２Ｏ添加後、有機層を分離する濃縮させる。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する。生成物をＴＨＦ(２０mL)に溶解し、ＴＢＡＦのＴＨＦ溶液(１.０Ｍ、２２.１mL)で−７８℃で処理する。０.５時間撹拌後、Ｈ２Ｏを添加し、混合物をＡｃＯＥｔで抽出し、塩水で洗浄し、乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮させる。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体５３.５を得る；Ｒｆ＝０.５(２０％ＡｃＯＥｔのｎ−ヘキサン溶液)1H-NMR(CDCl3)7.77(1H, s), 7.64(1H, s), 7.4(5H, m), 7.27(1H, s), 5.10(2H, s), 3.91(3H, s), 3.09(1H, s)。
【０３４１】
中間体５３.６
【化１９６】
2009522226.tif 000308
中間体５３.７(２.４７ｇ、９.５６mmol)およびジイソプロピルエチルアミン(４.１２mL、２３.９mmol)のジクロロメタン(３０mL)溶液にＴｆ２Ｏ(１.９３mL、１１.５mmol)を−７８℃で添加する。４時間撹拌後、反応をＨ２Ｏでクエンチし、ｒｔに温める。有機層を分離し、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体５３.６を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋＝３９０；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝２.２３分。
【０３４２】
中間体５３.７
【化１９７】
2009522226.tif 000309
３,５−ジヒドロキシ安息香酸メチルエステル(５.２２ｇ、３１.０mmol)およびＫ２ＣＯ３(６.４ｇ、４６.３mmol)のアセトン(７５mL)溶液に、臭化ベンジル(４.０６mL、３４.１mmol)を添加する。５５℃で１５時間撹拌後、混合物をｒｔに冷却し、得られた沈殿を濾過により除去する。濾液を濃縮し、Ｅｔ２Ｏで希釈し、塩水で洗浄する。有機層を乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体５３.７を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２５９；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.８４分。
【０３４３】
実施例５４
【化１９８】
2009522226.tif 000310
実施例５４を、中間体５４.１の脱保護により、実施例４２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.５２分。
【０３４４】
中間体５４.１
【化１９９】
2009522226.tif 000311
中間体５４.１を、中間体３３.２(１００mg、０.２７mmol)および中間体５４.２(２３０mg、０.８６mmol)の縮合により、中間体４２.１の製造法に準じて合成する；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６２１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.９３分。
【０３４５】
中間体５４.２
【化２００】
2009522226.tif 000312
中間体５４.３(１９９mg、０.８８mmol)およびＥｔ３Ｎ(０.０８１mL、１.０４mmol)のジクロロメタン(３mL)溶液に、ＭｓＣｌ(０.０８１mL、１.０５mmol)を添加する。ｒｔで１時間撹拌後、Ｈ２Ｏを添加し、混合物をジクロロメタンで抽出する。有機層を濃縮する。残渣をＤＭＦ(３mL)に溶解し、Ｋ２ＣＯ３(２４２mg、１.７５mmol)およびシクロプロピルアミン(０.１２mL、１.７５mmol)で処理する。ｒｔで５時間撹拌後、混合物をＡｃＯＥｔで希釈し、Ｈ２Ｏおよび塩水で洗浄する。有機層を乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体５４.２を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６７；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.３７分。
【０３４６】
中間体５４.３
【化２０１】
2009522226.tif 000313
中間体５４.４(２９０mg、１.２１mmol)およびＥｔ３Ｎ(１.５７mmol)のＴＨＦ(４mL)溶液に、クロロエチルフォルメート(０.１５mL、１.５６mmol)を０℃で添加する。０.５時間撹拌後、得られた沈殿を濾過により除去し、濾液を真空濃縮する。残渣をＥｔＯＨ(３mL)に溶解し、ＮａＢＨ４(５９mg、１.５６mmol)でｒｔで処理する。反応をＨ２Ｏでクエンチし、混合物をＡｃＯＥｔで抽出する。有機層を塩水で洗浄し、乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体５４.３を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２２８；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.５０分。
【０３４７】
中間体５４.４
【化２０２】
2009522226.tif 000314
１−メトキシプロパノール(３mL)をＮａＨ(０.４２ｇ、１０.４mmol)でｒｔで処理する。１５分撹拌後、２,６−ジクロロイソニコチン酸(１ｇ、５.２mmol)のＤＭＦ(７mL)溶液を添加する。反応混合物を８０℃に加熱し、７時間撹拌する。ｒｔに冷却後、Ｈ２Ｏおよび０.５Ｎ  ＨＣｌを添加し、混合物をＡｃＯＥｔで抽出する。有機層を乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、真空濃縮する。残渣をＤＭＦ(５mL)に溶解し、ＮａＯＭｅ(２.２５ｇ、２５ｗｔ％のＭｅＯＨ溶液)で処理する。１００℃で５時間撹拌後、０.５Ｎ  ＨＣｌを添加し、反応混合物をＡｃＯＥｔで抽出し、乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮させる。残渣をＲＰ−ＨＰＬＣで精製して、中間体５４.４を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２４２；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.６３分。
【０３４８】
実施例５５
【化２０３】
2009522226.tif 000315
実施例５５を、中間体５５.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５４：ＣｔＲｅｔ＝２.８１分。
【０３４９】
中間体５５.１
【化２０４】
2009522226.tif 000316
中間体５５.１を、中間体５５.２(１００mg、０.２０mmol)と２−(Ｒ)−アミノ−４−メチルペンタン酸ジメチルアミド塩酸塩(５６mg、０.２９mmol)の縮合により、中間体３９.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６５４；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.９３分。
【０３５０】
中間体５５.２
【化２０５】
2009522226.tif 000317
中間体５５.２を、中間体５５.３(９００mg、１.７１mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝５１４；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.６７分。
【０３５１】
中間体５５.３
【化２０６】
2009522226.tif 000318
中間体５５.３を、(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(５００mg、１.７４mmol)と中間体１.３(６７５mg、２.６１mmol)の縮合により、中間体１３.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ]＋＝５２８；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝４.０９分。
【０３５２】
実施例５６
【化２０７】
2009522226.tif 000319
実施例５６を、中間体５６.１の脱保護により、実施例４２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４９１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.５７分。
【０３５３】
中間体５６.１
【化２０８】
2009522226.tif 000320
中間体５６.１を、中間体３３.２(１００mg、０.２７mmol)および中間体５６.２(１１０mg、０.４７mmol)の縮合により、中間体４２.１の製造法に準じて合成する；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５９１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.６４分。
【０３５４】
中間体５６.２
【化２０９】
2009522226.tif 000321
中間体５６.２を、中間体５６.３(２３５mg、１.９１mmol)の反応により、中間体５４.２の製造法に準じて合成する；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２３７；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.０８分。
【０３５５】
中間体５６.３
【化２１０】
2009522226.tif 000322
中間体５６.３を、中間体５６.４(２３５mg、１.９１mmol)の反応により、中間体５４.３の製造法に準じて合成する；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１９８；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.０９分。
【０３５６】
中間体５６.４
【化２１１】
2009522226.tif 000323
２−ピペリドン−３−カルボン酸(２.１４ｇ、１５.４mmol)のＤＭＦ(２０mL)溶液に、ＮａＨ(１.５４ｇ、３８.５mmol)を添加する。１時間撹拌後、トルエン−４−スルホン酸３−メトキシプロピルエステル(９.４ｇ、３８.５mmol)およびＫＩ(０.２６ｇ、１.５４mmol)を添加する。１１０℃に加熱後、混合物をＨ２Ｏで処理し、ＡｃＯＥｔで抽出する。有機層を乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する。得られたエステルを５Ｎ  水性ＮａＯＨ(５mL)のＥｔＯＨ(５mL)溶液で処理し、７０℃で２時間撹拌する。混合物をｒｔに冷却し、１Ｎ  ＨＣｌで酸性化し、ＡｃＯＥｔで抽出する。有機層を乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮して、中間体５６.４を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２１２；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.１８分。
【０３５７】
実施例５７
【化２１２】
2009522226.tif 000324
実施例５７を、中間体５７.１の脱保護により、実施例４２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１９；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.５６分。
【０３５８】
中間体５７.１
【化２１３】
2009522226.tif 000325
中間体５７.１を、中間体３３.２(８５mg、０.２３mmol)および中間体５７.２(６０mg、０.２３mmol)の縮合により、中間体４２.１の製造法に準じて合成する；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６１９；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.７７分。
【０３５９】
中間体５７.２
【化２１４】
2009522226.tif 000326
中間体５７.２を、中間体５７.３(１７８mg、０.７９mmol)の反応により、中間体５４.２の製造法に準じて合成する；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６５；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.３６分。
【０３６０】
中間体５７.３
【化２１５】
2009522226.tif 000327
中間体５７.３を、中間体５７.４(１９０mg、０.７９mmol)の反応により、中間体５４.３の製造法に準じて合成する；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２２６；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.４８分。
【０３６１】
中間体５７.４
【化２１６】
2009522226.tif 000328
１−メトキシプロパノール(１.５mL)を、ＮａＨ(０.１７ｇ、４.３mmol)でｒｔで処理する。１５分撹拌後、中間体５７.５(４００mg、２.１６mmol)のＤＭＦ(３mL)溶液を添加する。反応混合物を１００℃に加熱し、３時間撹拌する。ｒｔに冷却後、Ｈ２Ｏおよび０.５Ｎ  ＨＣｌを添加し、混合物をＡｃＯＥｔで抽出する。有機層を乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、および真空で濃縮して、中間体５７.４を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２４０；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.６０分。
【０３６２】
中間体５７.５
【化２１７】
2009522226.tif 000329
６−エチル−２−オキソ−１,２−ジヒドロ−ピリジン−４−カルボン酸(５９０mg、３.５３mmol)をＰＯＣｌ３(５mL)で処理し、１００℃で１時間加熱する。ｒｔに冷却後、混合物を濃縮し、残渣を氷水に注ぐ。混合物をジクロロメタンで抽出し、有機層を濃縮して、中間体５７.５を得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋＝１８５；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.５９分。
【０３６３】
実施例５８
【化２１８】
2009522226.tif 000330
実施例５８を、中間体５８.１の脱保護により、実施例４２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５０８；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝２.２５、２.３８分。
【０３６４】
中間体５８.１
【化２１９】
2009522226.tif 000331
中間体５８.１を、中間体３３.２(５４mg、０.１４５mmol)および中間体５８.２(５４mg、０.２２mmol)の縮合により、中間体４２.１の製造法に準じて合成する；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０８；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝３.３５分。
【０３６５】
中間体５８.２
【化２２０】
2009522226.tif 000332
中間体５８.２を、中間体５８.３(１０２mg、０.３８mmol)の還元により、中間体７８.２の製造法に準じて合成する。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２５４；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝１.８０分。
【０３６６】
中間体５８.３
【化２２１】
2009522226.tif 000333
中間体５８.３を、中間体５８.４(２００mg、０.８３mmol)とエチルアミンの縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２６７；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝３.８８分。
【０３６７】
中間体５８.４
【化２２２】
2009522226.tif 000334
４−メトキシ−３−(３−メトキシ−プロポキシ)−安息香酸メチルエステル(１４０ｇ、０.５５mol)およびＮａＯＨ(１Ｎ、８２５mL、０.８２５mol)のＭｅＯＨ(８４０mL)溶液をｒｔで１８時間撹拌する。完了後、溶媒を減圧下で除去し、残渣を水(２００mL)で希釈し、２回ＥｔＯＡｃ(２５０mL)で抽出する。水性層を水性ＨＣｌ(２Ｎ、４７０mL)の添加により酸性化し、３回ＥｔＯＡｃ(１Ｌ)で抽出する。合わせた有機抽出物を塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、濃縮する。粗物質をＥｔＯＡｃ中の結晶化により精製して、表題化合物を得る。
ＭＳ(ＬＣ−ＭＳ)：２３９.１  [Ｍ−Ｈ]−
ｔＲ(ＨＰＬＣ、CC 70/4 nucleosil 3 C18HDカラム、２０から１００％ＣＨ３ＣＮのＨ２Ｏ溶液、２分、次いで４分１００％ＣＨ３ＣＮ、ＣＨ３ＣＮおよび０.１％ＴＦＡ含有Ｈ２Ｏ、流速：１.５mL／分)：２.４３分。
【０３６８】
中間体５８.５
【化２２３】
2009522226.tif 000335
メチル−３−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾエート(８９.３ｇ、０.４９mol)、Ｋ２ＣＯ３(１００.５ｇ、０.７２７mol)および１−ブロモ−３−メトキシ−プロパン(８０ｇ、０.５２３mol)のＣＨ３ＣＮ(１１００mL)を６時間還流する。反応完了後、混合物をｒｔに冷却し、減圧下濃縮する。残渣をＥｔＯＡｃ(５００mL)に取り込み、水で洗浄する。水性層を２回ＥｔＯＡｃで逆抽出し、合わせた有機抽出物をＭｇＳＯ４で乾燥させ、濾過し、濃縮して、表題化合物を得て、それをさらに精製することなく次工程に使用する。
ｔＲ(ＨＰＬＣ、CC 70/4 nucleosil 3 C18HDカラム、２０から１００％ＣＨ３ＣＮのＨ２Ｏ溶液２分、次いで４分で１００％ＣＨ３ＣＮ、ＣＨ３ＣＮおよび０.１％ＴＦＡ含有Ｈ２Ｏ、流速：１.５mL／分)：３.０７分。
【０３６９】
実施例５９
【化２２４】
2009522226.tif 000336
実施例５９を、中間体５９.１の脱保護により、実施例４２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２９；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.６６、２.８２分。
【０３７０】
中間体５９.１
【化２２５】
2009522226.tif 000337
中間体３３.２(８０mg、０.２２mmol)のＴＨＦ(３mL)溶液に、Ｅｔ３Ｎ(０.１１４mL、０.８６mmol)およびイソブチルクロロホルメート(０.１１３mL、０.８６mmol)を０℃で添加する。０.５時間、同じ温度で撹拌後、得られた沈殿を濾取し、濾液を濃縮する。残渣をＴＨＦ(３mL)に溶解し、中間体５９.２(５９mg、０.２２mmol)およびＭｇＢｒ２−ＯＥｔ２(５１mg、０.２mmol)を室温で添加する。１２時間撹拌後、反応をＨ２Ｏでクエンチし、得られた混合物をＡｃＯＥｔで抽出し、１Ｎ  ＨＣｌ溶液および塩水で洗浄し、有機層を乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体５９.１を得る。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６２９；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.１６、３.２３分。
【０３７１】
中間体５９.２
【化２２６】
2009522226.tif 000338
中間体５９.２を、中間体５９.３(８５mg、０.４２mmol)およびトルエン−４−スルホン酸３−メトキシ−プロピルエステル(１００μL、０.４６mmol)のアルキル化により、既知方法に準じて合成する(例えばEuropean Journal of Medicinal Chemistry 1998, 33, 957-967またはＥＰ４３２８９３参照)。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２７５；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝２.５２分。
【０３７２】
中間体５９.３
【化２２７】
2009522226.tif 000339
(Ｅ)−３−(４−シクロプロピルアミノ−２−ニトロフェニル)−アクリル酸メチルエステル(１３０mg、０.５０mmol)およびＮｉＣｌ２−６Ｈ２Ｏ(１２０mg、０.５０mmol)のＭｅＯＨ(５mL)中の混合物を０℃に冷却し、ＮａＢＨ４(１１３mg、３.０mmol)を滴下する。得られた溶液を０℃で２時間、次いで６０℃で２１時間撹拌する。反応混合物をＨ２Ｏで希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機相をＨ２Ｏで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体５９.３を、褐色粉末として得る；Rf=0.2(EtOAc:n-Hex=1:1);1H NMR(CDCl3), δ:0.48-0.52(2H, m), 0.71-0.75(2H, m), 2.37-2.42(1H, m), 2.60(1H, t), 2.86(2H, t), 4.15(1H, s), 6.18(1H, d), 6.38-6.41(1H, m), 6.95(1H, d), 7.31(1H, s)。
【０３７３】
実施例６０
【化２２８】
2009522226.tif 000340
実施例６０を、中間体６０.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２５：ＣｔＲｅｔ＝２.７６分。
【０３７４】
中間体６０.１
【化２２９】
2009522226.tif 000341
実施例６０.１を、中間体６０.２と対応するアミンの縮合により、実施例１.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６２５：ＣｔＲｅｔ＝３.７３分。
【０３７５】
中間体６０.２
【化２３０】
2009522226.tif 000342
中間体６０.２を、中間体６０.３の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝５１４；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.７５分。
【０３７６】
中間体６０.３
【化２３１】
2009522226.tif 000343
実施例６０.３を、(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆと中間体１.３の縮合により、実施例１.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２８：ＡｔＲｅｔ＝４.１４分。
【０３７７】
実施例６６−７６、８０−８１、８５−８６、９１を、中間体６０.２と対応するアミンの縮合、続いて脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。
【０３７８】
実施例６１
【化２３２】
2009522226.tif 000344
実施例６１を、中間体６１.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５０６：ＣｔＲｅｔ＝２.４１、２.５７分。
【０３７９】
中間体６１.１
【化２３３】
2009522226.tif 000345
中間体６１.１を、中間体６１.２(４０mg、０.１６mmol)と中間体３３.２(５９mg、０.１６mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６０６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.４４、３.５０分。
【０３８０】
中間体６１.２
【化２３４】
2009522226.tif 000346
中間体６１.２を、中間体６１.３(４２６mg、１.６１mmol)の還元により、中間体７８.２の製造法に準じて合成する。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２５２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝１.８６分。
【０３８１】
中間体６１.３
【化２３５】
2009522226.tif 000347
中間体６１.３を、中間体６１.４(５６５.９mg、２.５mmol)とシクロプロピルアミン(０.１７mL、２.５mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６７；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝２.４２分。
【０３８２】
中間体６１.４
【化２３６】
2009522226.tif 000348
中間体６１.４を、中間体６１.５(８５７.８mg、３.７９mmol)の加水分解により、中間体５８.４の製造法に準じて合成する。白色物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２２７；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝２.３４分。
【０３８３】
中間体６１.５
【化２３７】
2009522226.tif 000349
中間体６１.５を、３−メトキシ−５−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル(１ｇ、５.４８mmol)のブロモ−２−メトキシ−エタン(０.５１４mL、５.４８mmol)でのアルキル化により、中間体３７.５の製造法に準じて合成する。白色物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２４１  ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝２.９３分。
【０３８４】
実施例６２
【化２３８】
2009522226.tif 000350
実施例６２を、中間体６２.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３３：ＣｔＲｅｔ＝２.６６、２.８２分。
【０３８５】
中間体６２.１
【化２３９】
2009522226.tif 000351
中間体６２.１を、中間体６２.２(１０９mg、０.２６９mmol)と中間体３３.２(１００mg、０.２６９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６０６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.４４、３.５０分。
【０３８６】
中間体６２.２
【化２４０】
2009522226.tif 000352
中間体６２.２を、中間体６２.３(８２５ｇ、２.８１mmol)の還元により、中間体７８.２の製造法に準じて合成する。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２８０；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.２７分。
【０３８７】
中間体６２.３
【化２４１】
2009522226.tif 000353
中間体６２.３を、中間体６２.４(９６５.８mg、３.７８mmol)とシクロプロピルアミン(０.２６mL、３.７８mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２９４；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝２.８２分。
【０３８８】
中間体６２.４
【化２４２】
2009522226.tif 000354
中間体６２.４を、中間体６２.５(１.２０ｇ、４.４７mmol)の加水分解により、中間体５８.４の製造法に準じて合成する。白色物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２５５；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝２.８４分。
【０３８９】
中間体６２.５
【化２４３】
2009522226.tif 000355
３−メトキシ−５−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル(１ｇ、５.４８mmol)のＴＨＦ(１０mL)Ｎ２下溶液に、ｒｔでＰＰｈ３(１.４３ｇ、５.４５mmol)、ＤＥＡＤ(２.４８mLの４０％トルエン溶液、５.４８mmol)、４−メトキシ−ブタン−１−オール(７７０mg、７.３９mmol)を添加する。ｒｔで７時間撹拌後、反応混合物を減圧下濃縮し、クロマトグラフィーに付して、中間体６２.５を得る。白色物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６９  ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.６５分。
【０３９０】
実施例６３
【化２４４】
2009522226.tif 000356
実施例６３を、中間体６３.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２７：ＣｔＲｅｔ＝２.７３、２.８７分。
【０３９１】
中間体６３.１
【化２４５】
2009522226.tif 000357
実施例６３.１を、中間体６０.２(１０３mg、０.２mmol)と３−アミノ−５−メチルヘキサン−２−オール(Angewandte Chemie 1987, 99, 1186.)(２６mg、０.２mmol)の縮合により、実施例１.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６２７：ＣｔＲｅｔ＝３.７９、３.８６分。
【０３９２】
実施例６４
【化２４６】
2009522226.tif 000358
実施例６４を、中間体６４.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４９０：ＣｔＲｅｔ＝２.７３、２.８３分。
【０３９３】
中間体６４.１
【化２４７】
2009522226.tif 000359
中間体６４.１を、中間体３３.２(８０mg、０.２２mmol)および中間体６４.２(５１mg、０.２２mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４９０：ＣｔＲｅｔ＝２.６６、２.８３分。
【０３９４】
中間体６４.２
【化２４８】
2009522226.tif 000360
中間体６４.２を、中間体６４.３(８００mg、４.１mmol)のシクロプロパン化により、中間体１９.５、１９.６の製造法に準じて合成する。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２３６；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝２.９８分。
【０３９５】
中間体６４.３
【化２４９】
2009522226.tif 000361
中間体６４.３を、中間体６４.４(２６６mg、１.００mmol)の還元により、中間体８７.３の製造法に準じて合成する。褐色固体；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１９７；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝２.１９分。
【０３９６】
中間体６４.４
【化２５０】
2009522226.tif 000362
中間体６４.４を、５−メチル−２−ニトロ−フェノール(５.０ｇ、３２.６mmol)のアルキル化により、中間体３７.５の製造法に準じて合成する。赤色固体；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２２６；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝４.０６分。
【０３９７】
実施例６５
【化２５１】
2009522226.tif 000363
実施例６５を、中間体６５.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１７：ＣｔＲｅｔ＝２.１３、２.１８分。
【０３９８】
中間体６５.１
【化２５２】
2009522226.tif 000364
中間体６５.１を、中間体３３.２(８１mg、０.２２mmol)および中間体６５.２(５６mg、０.２２mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１７：ＣｔＲｅｔ＝２.１３、２.１８分。
【０３９９】
中間体６５.２
【化２５３】
2009522226.tif 000365
中間体６５.２を、中間体１９.４(２０４mg、１mmol)のアルキル化により、中間体１９.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６３；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.４４分。
【０４００】
実施例７７
【化２５４】
2009522226.tif 000366
実施例７７を、中間体７７.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３９：ＣｔＲｅｔ＝３.５７分。
【０４０１】
中間体７７.１
【化２５５】
2009522226.tif 000367
実施例７７.１を、中間体６０.２と１−イソブチル−３−メチルブチルアミン(J. Am. Chem. Soc. 1944, 66, 1516.)の縮合により、実施例１.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３９：ＣｔＲｅｔ＝４.７２分。
【０４０２】
実施例７８
【化２５６】
2009522226.tif 000368
実施例７８を、中間体７８.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２０：ＣｔＲｅｔ＝２.４３分。
【０４０３】
中間体７８.１
【化２５７】
2009522226.tif 000369
中間体７８.１を、中間体７８.２(４６mg、０.１７２mmol)と中間体３３.２(５４mg、０.１４５mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６２０；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.４８分。
【０４０４】
中間体７８.２
【化２５８】
2009522226.tif 000370
中間体７８.３(３００mg、１.０７mmol)およびＢＨ３(ＴＨＦ中１Ｍ、９mL、９mmol)の混合物を５０℃で１６時間撹拌する。反応をＭｅＯＨ(２mL)および２Ｎ水性ＮａＯＨでクエンチし、次いで１００℃で撹拌する。１５時間撹拌後、反応をＨ２Ｏ(５mL)でクエンチし、ＣＨ２Ｃｌ２で２回(３０mL)抽出する。合わせた有機層を連続的に５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。ＲＰ−ＨＰＬＣ精製により、中間体７８.２を得る。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２６６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝１.８５分。
【０４０５】
中間体７８.３
【化２５９】
2009522226.tif 000371
中間体７８.４(３００mg、１.２５mmol)およびシクロプロピルアミン(１３０μL、１.８７mmol)のＣＨ２Ｃｌ２(１０mL)溶液に、ＥＤＣＩ  ＨＣｌ(３５８mg、１.８７mmol)およびＨＯＡｔ(２５５mg、１.８７mmol)を添加し、次いで混合物を室温で１時間撹拌する。反応をＨ２Ｏ(５mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する(５０mL、２回)。合わせた有機層を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。ＳｉＯ２カラムクロマトグラフィーにより、中間体７８.３を得る。白色非晶性物質：ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２８０：ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.２７分。
【０４０６】
中間体７８.４
【化２６０】
2009522226.tif 000372
中間体７８.４を、４−ヒドロキシ−３−メトキシ安息香酸(２ｇ、１１.９mmol)のトルエン−４−スルホン酸３−メトキシプロピルエステル(４.４ｇ、１７.８mmol)でのアルキル化により、中間体１.４の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２４１；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.２７分。
【０４０７】
実施例７９
【化２６１】
2009522226.tif 000373
実施例７９を、中間体７９.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５５：ＣｔＲｅｔ＝３.０２、３.０９、３.１６分。
【０４０８】
中間体７９.１
【化２６２】
2009522226.tif 000374
実施例７９.１を、中間体６０.２(９８mg、０.１９mmol)と４−アミノ−２,６−ジメチル−ヘプタン−３−オール(４７mg、０.１８mmol)の縮合により、実施例１.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５５：ＣｔＲｅｔ＝４.１７、４.２２分。
【０４０９】
実施例８２
【化２６３】
2009522226.tif 000375
実施例８２を、中間体８２.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４５：ＣｔＲｅｔ＝２.２４、２.３０分。
【０４１０】
中間体８２.１
【化２６４】
2009522226.tif 000376
中間体８２.１を、中間体３３.２(８１mg、０.２２mmol)および中間体８２.２(６２mg、０.２２mmol)の縮合により、中間体１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４５：ＣｔＲｅｔ＝２.２４、２.３０分。
【０４１１】
中間体８２.２
【化２６５】
2009522226.tif 000377
中間体８２.２を、中間体１９.４(２００mg、１mmol)のアルキル化により、中間体１９.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２９１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.５６分。
【０４１２】
実施例８３
【化２６６】
2009522226.tif 000378
実施例８３を、中間体８３.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６８：ＡｔＲｅｔ＝２.８９分。
【０４１３】
実施例８４
【化２６７】
2009522226.tif 000379
実施例８４を、中間体８４.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６８：ＡｔＲｅｔ＝２.８７分。
【０４１４】
中間体８３.１および８４.１
【化２６８】
2009522226.tif 000380
中間体６０.２と中間体８３.２の縮合を、実施例１.１の製造法に準じて合成する。得られたジアステレオ混合物を分取ＨＰＬＣ(Chiralpak AD-H、流速；１０mL／分、１５％ｉＰｒＯＨのｎ−ヘキサン溶液)で分離して、中間体８３.１および８４.１を得る(４級中心の立体化学は決定していない)：
中間体８３.１：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６８：ＣｔＲｅｔ＝３.８９分。
中間体８４.１：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６８：ＣｔＲｅｔ＝３.８９分。
【０４１５】
中間体８３.２
【化２６９】
2009522226.tif 000381
中間体８３.３(４２０mg、１.５４mmol)とＨＣｌのジオキサン溶液(４Ｎ、５mL)混合物を、室温で２時間撹拌する。減圧下の濃縮により、中間体８３.２を得る。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝１７３；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝１.３５分。
【０４１６】
中間体８３.３
【化２７０】
2009522226.tif 000382
２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２,４−ジメチルペンタン酸(４００mg、１.６３mmol)およびジメチルアミン塩酸塩(２００mg、２.５mmol)のＣＨ２Ｃｌ２(８mL)溶液にＥＤＣＩ  ＨＣｌ(４８０mg、２.５mmol)、ＨＯＡｔ(３４０mg、２.５mmol)およびＥｔ３Ｎ(３４９μL、２.５mmol)を室温で添加する。２０時間撹拌後、反応をＨ２Ｏ(２０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する(５０mL)。有機層を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮により、中間体８３.３。白色非晶性物質を得る：ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２７３：ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.９６分。
【０４１７】
実施例８７
【化２７１】
2009522226.tif 000383
実施例８７を、中間体８７.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５９：ＣｔＲｅｔ＝２.５７、２.７３分。
【０４１８】
中間体８７.１
【化２７２】
2009522226.tif 000384
中間体８７.１を、中間体３３.２(４１mg、０.１１mmol)および中間体８７.２(２８mg、０.０９mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５９：ＣｔＲｅｔ＝２.５７、２.７３分。
【０４１９】
中間体８７.２
【化２７３】
2009522226.tif 000385
室温で、中間体８７.３(４００mg、１.５mmol)メタノール性溶液(３.２mL)をＡｃＯＨ(０.８mL)および[(１−エトキシシクロ(cyco)プロピル)−オキシ]トリメチルシラン(０.５８mL、２.６６mmol)で処理し、７０℃で還流下１.５時間撹拌する。同じ温度で、この混合物に、ＮａＢＨ３ＣＮ(０.１７ｇ、２.７mmol)のメタノール性溶液(３mL)を５分にわたり滴下し、得られた混合物を７０℃で還流下２時間撹拌して、蒸発させる。ＡｃＯＨの匂いが無くなるまで数回ＰｈＭｅと共に蒸発させた後、残渣をＥｔＯＡｃに溶解し、溶液をＮａＨＣＯ３の飽和水性溶液および塩水で洗浄し、乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、反応混合物を減圧下濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体８７.２を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３０５：ＢｔＲｅｔ＝１.６６分。
【０４２０】
中間体８７.３
【化２７４】
2009522226.tif 000386
中間体８７.４(５００mg、１.７mmol)のＥｔＯＨ(２mL)溶液にＮＨ４Ｃｌ(１８２mg、３.４mmol)、水(２mL)およびＺｎ(５５５mg、８.５mmol)を添加する。混合物を８０℃で１時間撹拌する。セライトパッドで濾過後、溶液をＥｔＯＡｃで希釈し、飽和水性ＮａＨＣＯ３、塩水で洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮により、中間体８７.３を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６５：ＢｔＲｅｔ＝１.３２分。
【０４２１】
中間体８７.４
【化２７５】
2009522226.tif 000387
中間体８７.４を、２,２−ジメチル−６−ニトロ−４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オン(８３５mg、３.７６mmol、Bioorganic & Medicinal Chemistry 2002, 10, 2663-2669.)のアルキル化により、中間体１９.３の製造法に準じて合成する。黄色結晶；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２９５；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.８９分。
【０４２２】
実施例８８
【化２７６】
2009522226.tif 000388
実施例８８を、中間体８８.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２７：ＣｔＲｅｔ＝２.８３分。
【０４２３】
中間体８８.１
【化２７７】
2009522226.tif 000389
実施例８８.１を、中間体６０.２と(Ｓ)−３−アミノ−５−メチルヘキサン−１−オールの縮合により、実施例１.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６２７：ＣｔＲｅｔ＝３.８３分。
【０４２４】
実施例８９
【化２７８】
2009522226.tif 000390
実施例８９を、中間体８９.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４８：ＣｔＲｅｔ＝２.４３、２.５５分。
【０４２５】
中間体８９.１
【化２７９】
2009522226.tif 000391
中間体８９.１を、中間体８９.２(９４mg、０.３２mmol)と中間体３３.２(１００mg、０.２７mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６４８；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.４３分。
【０４２６】
中間体８９.２
【化２８０】
2009522226.tif 000392
中間体８９.２を、中間体８９.３(９４mg、０.３２mmol)の還元により、中間体７８.２の製造法に準じて合成する。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２９４；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝１.９２分。
【０４２７】
中間体８９.３
【化２８１】
2009522226.tif 000393
中間体８９.４(４００mg、１.３mmol)のＴＨＦ(２０mL)溶液に、ＭｅＭｇＢｒのＴＨＦ溶液(ＴＨＦ中３Ｍ、１.７mL、５.２mmol)を−７８℃で添加する。−７８℃で２時間撹拌後、さらにＭｅＭｇＢｒ(ＴＨＦ中３Ｍ、１.７mL、５.２mmol)を混合物に添加し、次いで混合物を０℃で４時間撹拌する。反応を飽和水性ＮＨ４Ｃｌ(１００mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する。有機層を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮により、中間体８９.３を得る。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝３０８；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.３６分。
【０４２８】
中間体８９.４
【化２８２】
2009522226.tif 000394
中間体８９.４を、中間体８９.５とシクロプロピルアミンの縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝３０８；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.７１分。
【０４２９】
中間体８９.５
【化２８３】
2009522226.tif 000395
中間体８９.６(５ｇ、１８mmol)のＴＨＦ(１００mL)溶液に、ＬｉＯＨ(９５７mg、２２.８mmol)のＨ２Ｏ(５０mL)溶液を０℃で添加する。０℃で３時間撹拌後、反応混合物を５％水性ＫＨＳＯ４で酸性化し、ＥｔＯＡｃで２回抽出する。合わせた有機層を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。ＳｉＯ２カラムクロマトグラフィーにより、中間体８９.５を得る。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２６９；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝２.７０分。
【０４３０】
中間体８９.６
【化２８４】
2009522226.tif 000396
中間体８９.６を、５−ヒドロキシイソフタル酸ジメチルエステル(４ｇ、１９mmol)とトルエン−４−スルホン酸３−メトキシプロピルエステル(９.３ｇ、３８mmol)の縮合により、中間体１.４の製造法に準じて合成する。白色固体物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２８３；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.３５分。
【０４３１】
実施例９０
【化２８５】
2009522226.tif 000397
実施例９０を、中間体９０.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３２：ＣｔＲｅｔ＝３.０２、３.１７分。
【０４３２】
中間体９０.１
【化２８６】
2009522226.tif 000398
中間体９０.１を、中間体９０.２(５０mg、０.３２２mmol)と中間体３３.２(１００mg、０.２７mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６３２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝４.１４分。
【０４３３】
中間体９０.２
【化２８７】
2009522226.tif 000399
中間体９０.２を、中間体９０.３(３６０mg、１.２４mmol)の還元により、中間体７８.２の製造法に準じて合成する。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２７８；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.６３分。
【０４３４】
中間体９０.３
【化２８８】
2009522226.tif 000400
中間体８９.４(４００mg、１.３mmol)のＣＨ２Ｃｌ２(１８mL)溶液に、Ｅｔ３ＳｉＨ(１.０４mL、６.５mmol)およびＴＦＡ(２mL)を室温で添加する。２５時間撹拌後、反応をＨ２Ｏ(５０mL)でクエンチし、ＣＨ２Ｃｌ２で抽出する。有機層を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。ＳｉＯ２カラムクロマトグラフィーにより、中間体９０.３を得る。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２９２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.２８分。
【０４３５】
実施例９２
【化２８９】
2009522226.tif 000401
実施例９２を、中間体９２.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３２：ＣｔＲｅｔ＝２.６５、２.８０分。
【０４３６】
中間体９２.１
【化２９０】
2009522226.tif 000402
中間体９２.１を、中間体９２.２(３４mg、０.１２mmol)と中間体３３.２(４８mg、０.０７６mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６３２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.７０分。
【０４３７】
中間体９２.２
【化２９１】
2009522226.tif 000403
中間体９２.２を、中間体９２.３(７２.９mg、０.２５mmol)の還元により、中間体７８.２の製造法に準じて合成する。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２７８；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝２.１６分。
【０４３８】
中間体９２.３
【化２９２】
2009522226.tif 000404
中間体９２.３を、中間体９２.４(７５.６mg、０.３mmol)とシクロプロピルアミン(０.０４１mL、０.６mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２９２；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝２.６５分。
【０４３９】
中間体９２.４
【化２９３】
2009522226.tif 000405
中間体９２.４を、中間体９２.５(８４.３mg、０.３mmol)の加水分解により、中間体５８.４の製造法に準じて合成する。白色物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２５３；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝２.６６分。
【０４４０】
中間体９２.５
【化２９４】
2009522226.tif 000406
中間体９２.５を、４−ヒドロキシ−２,３−ジヒドロ−ベンゾフラン−６−カルボン酸エチルエステル(J. Org. Chem. 1994, 59, 2043.)(８９.８mg、０.４３mmol)の３−メトキシ−プロパン−１−オール(０.０５mL、０.５２mmol)でのアルキル化により、中間体６２.５の製造法に準じて合成する。白色物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２８１、ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.６０分。
【０４４１】
実施例９３
【化２９５】
2009522226.tif 000407
実施例９３を、中間体９３.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４１：ＡｔＲｅｔ＝２.３５、２.５４分。
【０４４２】
中間体９３.１
【化２９６】
2009522226.tif 000408
中間体９３.１を、中間体３３.２(３３mg、０.１１５mmol)と中間体９３.２(６８mg、０.１８mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６４１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.８３、１.８８分。
【０４４３】
中間体９３.２
【化２９７】
2009522226.tif 000409
中間体９３.２を、中間体２６.３(１１９mg、０.４８mmol)のエーテル化、続く還元により、中間体２７.２の製造法に準じて合成する。白色無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２８７；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.４３分。
【０４４４】
実施例９４
【化２９８】
2009522226.tif 000410
実施例９４を、中間体９４.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５０７；ＣｔＲｅｔ＝２.９９、３.１５分。
【０４４５】
中間体９４.１
【化２９９】
2009522226.tif 000411
中間体９４.１を、中間体３３.２(７９mg、０.２１mmol)と中間体９４.２(６０mg、０.２４mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝４.１２分。
【０４４６】
中間体９４.２
【化３００】
2009522226.tif 000412
中間体９４.２を、中間体９４.３(２８９mg、１.３６mmol)とシクロプロピルアミン(０.１４mL、２.０２mmol)の還元的アルキル化により、中間体１.３の製造法に準じて合成する。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２５３；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.５２分。
【０４４７】
中間体９４.３
【化３０１】
2009522226.tif 000413
−７８℃に冷却した中間体９４.４(４０５mg、１.５４mmol)のＥｔ２Ｏ(４mL)溶液に、ｔｅｒｔ−ＢｕＬｉ(１.４７Ｍ、２.３mL、３.３８mmol)を滴下する。添加完了後、反応を−７８℃でさらに１０分撹拌する。ＤＭＦ(０.２４mL、３.１２mmol)のＥｔ２Ｏ(２mL)溶液を、シリンジを介して反応混合物に添加する。反応をゆっくり室温に温め、次いで水でクエンチする。混合物を分液漏斗に移し、水性層をＥｔＯＡｃ／ｎ−ヘキサン(１：１)で抽出する。合わせた有機層を水および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。溶液を濾過し、溶媒を真空で蒸発させる。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体９４.３を得る。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２１２；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.９０分。
【０４４８】
中間体９４.４
【化３０２】
2009522226.tif 000414
０℃に冷却した中間体９４.５(１.８８ｇ、６.５２mmol)のＴＨＦ(２０mL)溶液にＮａＨ(６０％、３９２mg、９.８mmol)を添加する。１０分後、ＭｅＩ(０.６１mL、９.８mmol)を反応混合物に添加する。反応を、１時間室温に温める。ＮａＨ(６０％、１００mg、２.５mmol)およびＭｅＩ(０.２mL、３.２mmol)を添加し、混合物を４０分撹拌する。反応を水性ＫＨＳＯ４でクエンチし、得られた混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機抽出物を水および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。溶液を濾過し、溶媒を真空で蒸発させる。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体９４.４を得る。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２６２；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝２.３０分。
【０４４９】
中間体９４.５
【化３０３】
2009522226.tif 000415
０℃で中間体９４.６(１.８８ｇ、６.８５mmol)のＴＨＦ−ＭｅＯＨ(８−２０mL)溶液に、ＮｉＣｌ２(９０mg、０.６９mmol)を添加する。この懸濁液に、ＮａＢＨ４(２８０mg、７.４mmol)を少しずつ添加する。添加完了後、混合物を０℃で３０分撹拌する。反応を水性ＫＨＳＯ４でクエンチし、得られた混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機抽出物を水および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。溶液を濾過し、溶媒を真空で蒸発させる。残渣をさらに精製することなく直接次反応に使用する。
残渣のＣＨ２Ｃｌ２溶液にＤＩＢＡＬ(１.０Ｍ、１４.３mL、１４.３mmol)を−７８℃で添加する。−７８℃で３０分撹拌後、反応を水性ＫＨＳＯ４でクエンチし、得られた混合物をＣＨ２Ｃｌ２で抽出する。合わせた有機抽出物を水、飽和水性ＮａＨＣＯ３、水および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。溶液を濾過し、溶媒を真空で蒸発させる。残渣をさらに精製することなく直接次反応に使用する。
残渣のＭｅＯＨ(２０mL)溶液に、ＮａＢＨ４(２４０mg、６.３４mmol)を０℃で添加する。室温で１時間撹拌後、反応を水性ＫＨＳＯ４でクエンチし、得られた混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機抽出物を水および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。溶液を濾過し、溶媒を真空で蒸発させる。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体９４.５を得る。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２４８；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.９４分。
【０４５０】
中間体９４.６
【化３０４】
2009522226.tif 000416
４−ブロモ−５−エチルチオフェン−２−カルボアルデヒド(４.１３ｇ、１８.８mmol)のトルエン(３０mL)溶液に、Ｐｈ３Ｐ＝ＣＨＣＯ２Ｍｅ(９.４ｇ、２８.１mmol)を添加する。反応混合物を８０℃で４０分撹拌し、次いでｎ−ヘキサン／Ｅｔ２Ｏで希釈する。得られた沈殿をシリカのパッドを通して濾過し、濾液を真空で蒸発させる。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体９４.６を得る。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２７４；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝２.２１分。
【０４５１】
実施例９５
【化３０５】
2009522226.tif 000417
実施例９５を、中間体９５.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４６：ＣｔＲｅｔ＝３.００、３.１４分。
【０４５２】
中間体９５.１
【化３０６】
2009522226.tif 000418
中間体９５.１を、中間体９５.２(１１５mg、０.３１mmol)と中間体３３.２(１１４mg、０.３１mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６４６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝４.０２分。
【０４５３】
中間体９５.２
【化３０７】
2009522226.tif 000419
中間体９５.２を、中間体９５.３(４６８.４mg、１.４８６mmol)のシクロプロピルアミン(０.１２mL、１.７８mmol)でのアルキル化により、中間体９８.２の製造法に準じて合成する。白色物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２９２；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.５５分。
【０４５４】
中間体９５.３
【化３０８】
2009522226.tif 000420
中間体９５.３を、中間体９５.４(４６５.５mg、１.８４mmol)の臭素化により、中間体９８.３の製造法に準じて合成する。白色物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝３１６；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝２.１２分。
【０４５５】
中間体９５.４
【化３０９】
2009522226.tif 000421
中間体９５.４を、中間体９５.５(４４０.８mg、１.５０mmol)の還元により、中間体３７.４の製造法に準じて合成する。白色物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２５３；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.６７分。
【０４５６】
中間体９５.５
【化３１０】
2009522226.tif 000422
中間体９５.５を、５−ヒドロキシ−クロマン−７−カルボン酸エチルエステル(J. Org. Chem. 1994, 59, 2043.)(１.４ｇ、６.３mmol)と３−メトキシ−プロパン−１−オール(０.９１mL、９.５mmol)のアルキル化により、中間体６２.５の製造法に準じて合成する。白色物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２９５、ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝３.９６分。
【０４５７】
実施例９８
【化３１１】
2009522226.tif 000423
実施例９８を、中間体９８.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３６：ＣｔＲｅｔ＝２.７９、２.９４分。
【０４５８】
中間体９８.１
【化３１２】
2009522226.tif 000424
中間体９８.１を、中間体９８.２(１２６mg、０.４４９mmol)と中間体３３.２(１１０mg、０.２９９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６３６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.８５分。
【０４５９】
中間体９８.２
【化３１３】
2009522226.tif 000425
中間体９８.３(１５０mg、０.５２mmol)のＤＭＦ(１mL)溶液に、Ｋ２ＣＯ３(３５０mg、２.６mmol)および(Ｒ)−イソブチルアミン(１９０mg、２.６mmol)を室温で添加し、次いで混合物を８０℃で撹拌する。８０℃で２時間撹拌後、反応をＨ２Ｏ(５０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する／Ｅｔ２Ｏ(約１／１、５０mL)。有機層を連続的に５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮により、中間体９８.２を得る。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２８２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.３２分。
【０４６０】
中間体９８.３
【化３１４】
2009522226.tif 000426
中間体３７.４(１１.１ｇ、４９.０mmol)、ＰＰｈ３(２１.９ｇ、８３.５mmol)およびＮＢＳ(１３.２ｇ、７４.２mmol)のＤＣＭ(１７０mL)中の混合物をＮ２下ｒｔで撹拌する。１４時間撹拌後、反応混合物を減圧下濃縮し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより精製して、中間体９８.３を無色油状物として得る；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋＝２９１；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝４.０９分。
【０４６１】
実施例９９
【化３１５】
2009522226.tif 000427
実施例９９を、中間体９９.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３６：ＣｔＲｅｔ＝２.７９、２.９４分。
【０４６２】
中間体９９.１
【化３１６】
2009522226.tif 000428
中間体９９.１を、中間体９９.２(１２６mg、０.４４９mmol)と中間体３３.２(１１０mg、０.２９９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６３６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.８５分。
【０４６３】
中間体９９.２
【化３１７】
2009522226.tif 000429
中間体９９.２を、(Ｓ)−イソブチルアミン(１９０mg、２.６mmol)の中間体９８.３(１５０mg、０.５２mmol)でのアルキル化により、中間体９８.２の製造法に準じて合成する。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２８２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.３１分。
【０４６４】
実施例１００
【化３１８】
2009522226.tif 000430
実施例１００を、中間体１００.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４６：ＣｔＲｅｔ＝３.１２、３.２２分。
【０４６５】
中間体１００.１
【化３１９】
2009522226.tif 000431
中間体１００.１を、中間体１００.２(５０mg、０.１７２mmol)と中間体３３.２(５４mg、０.１４５mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６４６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝４.５２分。
【０４６６】
中間体１００.２
【化３２０】
2009522226.tif 000432
中間体１００.２を、中間体１００.３(１２５mg、０.４１mmol)の還元により、中間体７８.２の製造法に準じて合成する。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２９２；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.９２分。
【０４６７】
中間体１００.３
【化３２１】
2009522226.tif 000433
中間体１００.３を、４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−(３−メトキシ−プロポキシ)−安息香酸(１１２mg、０.４２mmol)とシクロプロピルアミン(４４μL、０.６３mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝３０６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.８８分。
【０４６８】
実施例１０１
【化３２２】
2009522226.tif 000434
実施例１０１を、中間体１０１.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２０：ＣｔＲｅｔ＝２.３２、２.４３分。
【０４６９】
中間体１０１.１
【化３２３】
2009522226.tif 000435
中間体１０１.１を、中間体１０１.２(４６mg、０.１７２mmol)と中間体３３.２(５４mg、０.１４５mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６２０；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.４３分。
【０４７０】
中間体１０１.２
【化３２４】
2009522226.tif 000436
中間体１０１.２を、中間体１０１.３(１１５mg、０.４２mmol)の還元により、中間体７８.２の製造法に準じて合成する。無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２６６；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝１.８７分。
【０４７１】
中間体１０１.３
【化３２５】
2009522226.tif 000437
中間体１０１.３を、中間体７８.４(１００mg、０.４２mmol)とシクロプロピルアミン(４４μL、０.６３mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２８０；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝２.８２分。
【０４７２】
実施例１０２
【化３２６】
2009522226.tif 000438
実施例１０２を、中間体３３.２(１１２mg、０.３mmol)および中間体１０２.１(７９mg、０.３mmol)の縮合、続く脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１７：ＣｔＲｅｔ＝２.４９、２.６６分。
【０４７３】
中間体１０２.１
【化３２７】
2009522226.tif 000439
中間体１０２.２(５４０mg、１.８８mmol)、シクロプロピルアミン(３２２mg、５.６４mmol)、Ｐｄ２(ｄｂａ)３(１９１mg、０.２mmol)、ｒａｃ−ＢＩＮＡＰ(３９２mg、０.６２mmol)およびナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド(３０３mg、３.２mmol)のトルエン(１０mL)溶液を８０℃で１.５時間撹拌する。水添加後、反応混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。有機相を飽和水性ＮａＨＣＯ３、塩水で洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルカラムクロマトグラフィーでの精製により、中間体１０２.１を得る：無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３９７：ＢｔＲｅｔ＝１.９７分。
【０４７４】
中間体１０２.２
【化３２８】
2009522226.tif 000440
４−ブロモ−２−ヒドロキシアセトフェノン(２.３ｇ、１０.７mmol)のＤＭＦ溶液にＫ２ＣＯ３(４.４ｇ、３２mmol)、トルエン−４−スルホン酸３−メトキシ−プロピルエステル(３.１ｇ、１２.８４mmol)およびＫＩ(３５５mg、２.１４mmol)を添加する。反応混合物を６０℃で５時間撹拌する。水添加後、混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機相を水および塩水で洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルカラムクロマトグラフィーでの精製により、中間体１０２.２を得る：薄黄色結晶、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２８８：ＡｔＲｅｔ＝３.６５分。
【０４７５】
実施例１０３
【化３２９】
2009522226.tif 000441
実施例１０３を、中間体１０３.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５７：ＣｔＲｅｔ＝３.３５分。
【０４７６】
中間体１０３.１
【化３３０】
2009522226.tif 000442
中間体１０３.１を、中間体５５.２(１００mg、０.１９５mmol)および中間体１０３.２(５８mg、０.２９３mmol)の縮合により、中間体３９.１の製造法に準じて合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５７：ＣｔＲｅｔ＝４.４５分。
【０４７７】
中間体１０３.２
【化３３１】
2009522226.tif 000443
中間体１０３.２を、中間体１０３.３(４９０mg、１.９mmol)の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ＝１６７：ＣｔＲｅｔ＝１.８６分。
【０４７８】
中間体１０３.３
【化３３２】
2009522226.tif 000444
中間体１０３.４(１ｇ、５.３mmol)および[ビス(トリフルオロアセトキシ)ヨード]ベンゼン(３.４ｇ、８mmol)のｔＢｕＯＨ(１２mL)中の混合物を９０℃で撹拌する。２時間後、ピリジンを混合物に添加し、混合物を同じ温度で撹拌する。さらに６時間後、反応混合物を室温に冷却し、Ｈ２Ｏ(５０mL)で希釈し、ＥｔＯＡｃ(１００mL)で抽出する。有機相を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空濃縮する。ＳｉＯ２カラムクロマトグラフィーでの精製により、中間体１０３.３を得る：白色固体物質：ＥＳ−ＭＳ＝２６２：ＣｔＲｅｔ＝４.１０分。
【０４７９】
中間体１０３.４
【化３３３】
2009522226.tif 000445
１−フェニルシクロペンタンカルボニトリル(CAS 77-57-6、３ｇ、１８mmol)および水性ＫＯＨ(Ｈ２Ｏ中８Ｍ、２０mL)のＥｔＯＨ(２０mL)中の混合物を還流下撹拌する。８時間後、反応混合物を室温に冷却し、氷／５％水性ＫＨＳＯ４(約１：１  ｖ／ｖ)に注ぎ、Ｅｔ２Ｏ(２００mL)で抽出する。有機相を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空濃縮する。残渣をヘキサン／Ｅｔ２Ｏに懸濁させ、得られた固体物質を濾過により集めて、中間体１０３.４を得る：白色固体物質：ＥＳ−ＭＳ＝２６２：ＣｔＲｅｔ＝１９０分。
【０４８０】
実施例１０４
【化３３４】
2009522226.tif 000446
実施例１０４を、中間体１０４.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４６：ＣｔＲｅｔ＝３.５３分。
【０４８１】
中間体１０４.１
【化３３５】
2009522226.tif 000447
中間体１０４.１を、中間体１０４.２(８０mg、２０mmol)および中間体６２.２(８０mg、３０mmol)の縮合により、中間体３９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４６：ＣｔＲｅｔ＝４.６７分。
【０４８２】
中間体１０４.２
【化３３６】
2009522226.tif 000448
ＬｉＯＨ.Ｈ２Ｏ(１０１mg、２.４mmol)のＨ２Ｏ(５mL)溶液に、中間体１０４.３(４７０mg、１.１４mmol)のＴＨＦ(５mL)溶液を０℃で添加し、次いで混合物を０℃で撹拌する。１.５時間後、反応混合物を５％水性ＫＨＳＯ４(３０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する。有機相を５％水性ＫＨＳＯ４、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。溶液を濾過し、濾液を真空で蒸発させて、中間体１０４.２を得る。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝３.８６；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝３９９分。
【０４８３】
中間体１０４.３
【化３３７】
2009522226.tif 000449
(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ(４００mg、１.４mmol)および１−イソブチル−３−メチルブチルアミン塩酸塩(CAS No. 65530-92-9, JACS 1944, 66, 1516-1520.)のＣＨ２Ｃｌ２(５mL)溶液に、ＥＤＣＩ.ＨＣｌ(４００mg、２.１mmol)、ＨＯＡｔ(２８６mg、２.１mmol)およびＥｔ３Ｎ(２５３uL、１.８mmol)を添加し、次いで混合物を室温で撹拌する。１時間後、反応混合物をＨ２Ｏ(５０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃ(１００mL)で抽出する。合わせた有機相を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体１０４.３を得る。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４１３；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝４.２９分。
【０４８４】
実施例１０５
【化３３８】
2009522226.tif 000450
実施例１０５を、中間体１０５.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８５：ＣｔＲｅｔ＝３.４６分。
【０４８５】
中間体１０５.１
【化３３９】
2009522226.tif 000451
中間体１０５.１を、中間体１０５.２(８０mg、０.２mmol)および中間体８７.２(６１mg、０.２mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８５：ＣｔＲｅｔ＝２.２８分。
【０４８６】
実施例１０６
【化３４０】
2009522226.tif 000452
実施例１０６を、中間体１０６.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７２：ＣｔＲｅｔ＝３.６０分。
【０４８７】
中間体１０６.１
【化３４１】
2009522226.tif 000453
中間体１０６.１を、中間体１０６.２(１０３.０mg、０.２６mmol)および中間体９５.２(９７.６mg、０.３３mmol)の縮合により、中間体３９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７２：ＢｔＲｅｔ＝２.３６分。
【０４８８】
実施例１０７
【化３４２】
2009522226.tif 000454
実施例１０７を、中間体１０７.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３２：ＣｔＲｅｔ＝２.６５、２.８０分。
【０４８９】
中間体１０７.１
【化３４３】
2009522226.tif 000455
中間体１０７.１を、中間体３３.２(１４５.４mg、０.３９mmol)および中間体１０７.２(４２.２mg、０.３９mmol)の縮合により、中間体３９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３２：ＢｔＲｅｔ＝１.９４分。
【０４９０】
中間体１０７.２
【化３４４】
2009522226.tif 000456
中間体１０７.２を、中間体１０７.３(１１７.８mg、０.３９mmol)のシクロプロピルアミン(０.０５mL、０.７２mmol)でのアルキル化により、中間体４２.２の製造法に準じて合成する：白色物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝２７８；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.４３分。
【０４９１】
中間体１０７.３
【化３４５】
2009522226.tif 000457
中間体１０７.３を、中間体１０７.４(１２８.６mg、０.５４mmol)の臭素化により、中間体４２.３の製造法に準じて合成する：白色物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝３０１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.９８分。
【０４９２】
中間体１０７.４
【化３４６】
2009522226.tif 000458
中間体１０７.４を、中間体１０７.５(４７３.３mg、１.６８mmol)の還元により、中間体４２.５の製造法に準じて合成する：白色物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ−Ｈ２Ｏ]＋＝２２１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.４７分。
【０４９３】
中間体１０７.５
【化３４７】
2009522226.tif 000459
中間体１０７.５を、５−ヒドロキシ−クロマン−７−カルボン酸エチルエステル(６１２.１mg、２.７５mmol)の２−メトキシ−エタノール(０.２６mL、３.３mmol)でのアルキル化により、中間体６２.５の製造法に準じて合成する：白色物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２８１、ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.９７分。
【０４９４】
実施例１０８
【化３４８】
2009522226.tif 000460
実施例１０８を、中間体１０８.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７９：ＣｔＲｅｔ＝２.８５分。
【０４９５】
中間体１０８.１
【化３４９】
2009522226.tif 000461
中間体１０８.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７９mmol)および２−メトキシ−５−メチルアニリン(２４.５mg、０.１７９mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７９：ＢｔＲｅｔ＝２.０１分。
【０４９６】
中間体１０８.２
【化３５０】
2009522226.tif 000462
中間体１０８.２を、実施例１９.１の製造に準じた中間体８７.２(６０９mg、２mmol)および(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(２４.５mg、０.１７９mmol)の縮合、その後１Ｎ水性ＮａＯＨでの加水分解により合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６０：ＢｔＲｅｔ＝１.８７分。
【０４９７】
実施例１０９
【化３５１】
2009522226.tif 000463
実施例１０９を、中間体１０９.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１６：ＣｔＲｅｔ＝３.７０分。
【０４９８】
中間体１０９.１
【化３５２】
2009522226.tif 000464
中間体１０９.１を、中間体１０４.２(７２mg、０.１８１mmol)および中間体６４.２(７２mg、０.３mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６１６：ＣｔＲｅｔ＝２.３６分。
【０４９９】
実施例１１０
【化３５３】
2009522226.tif 000465
実施例１１０を、中間体１１０.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０１：ＣｔＲｅｔ＝２.９６、３.０６分。
【０５００】
中間体１１０.１
【化３５４】
2009522226.tif 000466
中間体１１０.１を、中間体１０８.２(１５６.６mg、０.２８mmol)および中間体１１０.２(５６.４mg、０.２８８mmol)の縮合により、実施例３９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７０１：ＣｔＲｅｔ＝４.０１、４.０６分。
【０５０１】
中間体１１０.２
【化３５５】
2009522226.tif 000467
中間体１１０.２を、中間体１１０.３の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：主異性体ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１６０：ＣｔＲｅｔ＝１.８１分。副異性体ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１６０：ＣｔＲｅｔ＝１.８７分。
【０５０２】
中間体１１０.３
【化３５６】
2009522226.tif 000468
(Ｒ)−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−４−メチル−ペンタン酸メチルエステル(１.７６２ｇ、７.２mmol、Ｃを、１３３４６７−０１−３)のトルエン(３０mL)溶液に、Ｎ２下、−７８℃で、ＤＩＢＡＬ(１６.８mLの０.９４Ｍのヘキサン溶液、１５.８mmol)を、１時間にわたりゆっくり添加する。反応混合物をその温度で３０分撹拌する。ＭｅＯＨ(２.０mL)を、反応溶液に−７８℃で添加する。得られた溶液をｒｔに温める。Roschelle塩(７.４ｇ、２６.３mmol)のＨ２Ｏ(３０mL)溶液を添加する。反応混合物をｒｔで１５分撹拌し、セライトを通して濾過し、Ｅｔ２Ｏで抽出する。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させる。減圧下で濃縮して、粗アルデヒドを得る(cCAS 116662-96-5)。
粗アルデヒドのトルエン(３０mL)溶液に、Ｎ２下、−７８℃で、ｉ−ＰｒＬｉ(３３mLの０.７Ｍのペンタン溶液、２３.１mmol)を添加する。温度をｒｔに上げる。反応混合物をｒｔで数分撹拌する。次いで飽和ＮＨ４Ｃｌ水性を溶液に添加し、ＥｔＯＡｃで抽出する。有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮して、粗生成物を得る。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して、所望のアルコール(ジアステレオマー比＝１.２５／１)を得る。２個のジアステレオマーを、シリカゲルクロマトグラフィーで分離できる。
主異性体ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ−ｔＢｕ＝２０４：ＣｔＲｅｔ＝３.６６分。副異性体ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ−ｔＢｕ＝２０４：ＣｔＲｅｔ＝３.８１分。
【０５０３】
実施例１１１
【化３５７】
2009522226.tif 000469
実施例１１１を、中間体１１１.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４０：ＣｔＲｅｔ＝２.９０分。
【０５０４】
中間体１１１.１
【化３５８】
2009522226.tif 000470
中間体１１１.１を、中間体１１１.２(６０mg、０.１５mmol)および中間体６２.２(６１mg、０.２３mmol)の縮合により、中間体３９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４０：ＣｔＲｅｔ＝３.９４分。
【０５０５】
中間体１１１.２
【化３５９】
2009522226.tif 000471
中間体１１１.２を、中間体１１１.３の鹸化により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝３９３；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝２.９３分。
【０５０６】
中間体１１１.３
【化３６０】
2009522226.tif 000472
中間体１１１.３を、(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆおよび２−メトキシ−５−メチルアニリンの縮合により、中間体１３.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４０７；ＨＰＬＣ：ｃｔＲｅｔ＝３.３４分。
【０５０７】
実施例１１２
【化３６１】
2009522226.tif 000473
実施例１１２を、中間体１１２.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８２：ＣｔＲｅｔ＝４.０４分。
【０５０８】
中間体１１２.１
【化３６２】
2009522226.tif 000474
中間体１１２.１を、中間体１０５.１(２２mg、０.０５５mmol)および中間体１１２.２(２２mg、０.０５５mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７８２：ＢｔＲｅｔ＝２.４０分。
【０５０９】
中間体１１２.２
【化３６３】
2009522226.tif 000475
６−ブロモ−２−(３,５−ジフルオロフェニル)−４−(３−メトキシプロピル)−２−メチル−４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オン(１４４mg、０.３３８mmol)、シクロプロピルアミン(３８mg、０.６６６mmol)、Ｐｄ２(ｄｂａ)３(１５mg、０.０１６mmol)、ＮａＯｔＢｕ(３９mg、０.４０６mmol)、およびビフェニル−２−イル−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスファン(１５mg、０.０５０３mmol)のトルエン(１.６mL)中の混合物を、Ｎ２下、８０℃で３.５時間加熱する。セライトパッドで濾過後、濾液を濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体１１２.２を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４０２：ＢｔＲｅｔ＝２.０８分。
【０５１０】
実施例１１３
【化３６４】
2009522226.tif 000476
実施例１１３を、中間体１１３.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３２：ＣｔＲｅｔ＝３.１１、３.１９分。
【０５１１】
中間体１１３.１
【化３６５】
2009522226.tif 000477
中間体１１３.１を、中間体１１３.２(１１７mg、０.２３７mmol)および中間体１１０.２(１１６mg、０.５９４mmol)の縮合により、実施例３９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３２：ＢｔＲｅｔ＝２.１４分。
【０５１２】
中間体１１３.２
【化３６６】
2009522226.tif 000478
中間体１１３.２を、中間体１１３.３の鹸化により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝４９１；ＨＰＬＣ：ＢｔＲｅｔ＝１.９５分。
【０５１３】
中間体１１３.３
【化３６７】
2009522226.tif 000479
中間体１１３.３を、中間体６４.２(２３４mg、０.９９３mmol)および(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(２００mg、０.６９６mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５０５：ＢｔＲｅｔ＝２.１３分。
【０５１４】
実施例１１４
【化３６８】
2009522226.tif 000480
実施例１１４を、中間体１１４.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６６：ＣｔＲｅｔ＝３.０８分。
【０５１５】
中間体１１４.１
【化３６９】
2009522226.tif 000481
中間体１１４.１を、中間体１１４.２(１５０mg、０.３８mmol)および中間体９５.２(１６０mg、０.５５mmol)の縮合により、中間体３９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０６：ＣｔＲｅｔ＝４.１６分。
【０５１６】
実施例１１５
【化３７０】
2009522226.tif 000482
実施例１１５を、中間体１１５.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５２：ＣｔＲｅｔ＝２.９４分。
【０５１７】
中間体１１５.１
【化３７１】
2009522226.tif 000483
中間体１１５.１を、中間体１１１.２(８５mg、０.２２mmol)および中間体９２.２(６３mg、０.２２６mmol)の縮合により、中間体３９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５２：ＣｔＲｅｔ＝３.９７分。
【０５１８】
実施例１１６
【化３７２】
2009522226.tif 000484
実施例１１６を、中間体１１６.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１０：ＣｔＲｅｔ＝２.９７分。
【０５１９】
中間体１１６.１
【化３７３】
2009522226.tif 000485
中間体１１６.１を、中間体１１１.２(７８mg、０.１９７mmol)および中間体６４.２(１１８mg、０.５０mmol)の縮合により、中間体１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６１０：ＣｔＲｅｔ＝４.１１分。
【０５２０】
実施例１１７
【化３７４】
2009522226.tif 000486
実施例１１７を、中間体１１７.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５７：ＣｔＲｅｔ＝２.４７分。
【０５２１】
中間体１１７.１
【化３７５】
2009522226.tif 000487
中間体１１７.１を、中間体１０８.２(５０mg、０.０９mmol)と４−アミノメチルテトラヒドロピラン(２１mg、０.１８mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５７：ＣｔＲｅｔ＝３.４３分。
【０５２２】
実施例１１８
【化３７６】
2009522226.tif 000488
中間体１０８.２(５０mg、０.０９mmol)を、４−アミノメチルテトラヒドロピラン(２１mg、０.１８mmol)と、中間体３２.３の製造法に準じてカップリングする。得られたカップリング生成物を４Ｎ  ＨＣｌ−１,４−ジオキサンで処理し、続いて濃縮して、表題化合物を得る。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４３：ＣｔＲｅｔ＝２.５１分。
【０５２３】
実施例１１９
【化３７７】
2009522226.tif 000489
実施例１１９を、中間体１１９.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８６：ＣｔＲｅｔ＝２.７０分。
【０５２４】
中間体１１９.１
【化３７８】
2009522226.tif 000490
中間体１１９.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７８mmol)と中間体１１９.２(３２mg、０.１７８mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８７：ＣｔＲｅｔ＝３.７９分。
【０５２５】
中間体１１９.２
【化３７９】
2009522226.tif 000491
中間体１１９.２を、中間体１１９.３の鹸化により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１４６：ＢｔＲｅｔ＝１.２０分。
【０５２６】
中間体１１９.３
【化３８０】
2009522226.tif 000492
(Ｒ)−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−４−メチル−ペンタン酸メチルエステル(１.７６２ｇ、７.２mmol、CAS 133467-01-3)のＴＨＦ(２０mL)溶液に、Ｎ２下、−７８℃で、ＭｅＬｉ(４.３mLの３.０Ｍのジエトキシエタン溶液、１３.０４mmol)を添加する。ｒｔで３０分撹拌後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水性を添加する。反応混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮して、粗生成物を得る。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して、中間体１１９.３(６９９.６mg)を得る。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１７２：ＢｔＲｅｔ＝１.５５分。
【０５２７】
実施例１２０
【化３８１】
2009522226.tif 000493
実施例１２０を、中間体１２０.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８７：ＣｔＲｅｔ＝２.８７分。
【０５２８】
中間体１２０.１
【化３８２】
2009522226.tif 000494
中間体１２０.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７８mmol)と中間体１２０.２(４６mg、０.２５３mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８７：ＣｔＲｅｔ＝３.７４分。
【０５２９】
中間体１２０.２
【化３８３】
2009522226.tif 000495
中間体１２０.２を、中間体１２０.３の鹸化により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１４６：ＢｔＲｅｔ＝１.２３分。
【０５３０】
中間体１２０.３
【化３８４】
2009522226.tif 000496
(Ｓ)−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−４−メチル−ペンタン酸メチルエステル(５４３.０mg、２.２１３mmol、CAS 63096-02-6)のＴＨＦ(１５mL)溶液に、Ｎ２下、−７８℃で、ＭｅＬｉ(４.３mLの３.０Ｍのジエトキシエタン溶液、１３.０４mmol)を添加する。ｒｔで一晩撹拌後、飽和ＮＨ４Ｃｌ水性を添加する。反応混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮して、粗生成物を得る。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して、中間体１２０.３(２４３.６mg)。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１７２：ＢｔＲｅｔ＝１.５５分。
【０５３１】
実施例１２１
【化３８５】
2009522226.tif 000497
実施例１２１を、中間体１２１.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５７：ＣｔＲｅｔ＝２.６０、２.７６分。
【０５３２】
中間体１２１.１
【化３８６】
2009522226.tif 000498
中間体１２１.１を、中間体３３.２(１１２mg、０.３mmol)および中間体１２１.２(９１mg、０.３mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５７：ＢｔＲｅｔ＝１.９０分
【０５３３】
中間体１２１.２
【化３８７】
2009522226.tif 000499
０℃で、中間体１２１.３(２.６２ｇ、１１.４mmol)および１−メトキシ−３−(ｐ−トルエンスルホニルオキシ)プロパン(３.３１ｇ、１３.５mmol)のＤＭＦ(４０mL)溶液をＫＩ(０.５７ｇ、３.４３mmol)で処理する。６０％のＮａＨ(０.５５ｇ、１３.５mmol)を５分にわたり添加後、混合物を０℃で３０分撹拌し、６０℃に温め、１３時間撹拌し、Ｈ２Ｏ(２００mL)で処理する。混合物をＥｔＯＡｃ(２×３０mL)およびＥｔ２Ｏ(２×３０mL)で抽出後、合わせた有機層をＨ２Ｏ(２×２５mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(１２０ｇ、ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ３：２)により、中間体１２１.２を、明黄色固体として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ３：２)０.４７。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)0.49 - 0.53(m, 2 H), 0.70 - 0.76(m, 2 H), 1.12(s), 1.86 - 1.95(m, 2 H), 2.38 - 2.44(m, 1 H), 2.61(s), 3.32(s), 3.44(t, J=6.0), 3.93(t, J=9.0), 4.17(br. s), 6.45(dd, J=9.0, 0.4), 6.52(d, J=0.4), 6.92(d, J=9.0). 13C-NMR(100 MHz, CDCl3)175.6(s), 148.2(s), 140.0(s), 128.9(d), 114.4(s), 107.1(d), 100.0(d), 70.5(t), 58.6(q), 40.3(t), 39.5(t), 37.5(s), 27.7(t), 25.4(d), 24.5(2q), 7.4(2t)。
【０５３４】
中間体１２１.３
【化３８８】
2009522226.tif 000500
室温で、３,３,７−トリアミノ−３,４−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−２−オン(Y. Matsumoto, R. Tsuzuki, A. Matsuhisa, T. Yoden, Y. Yamagiwa, I. Yanagisawa, T. Shibanuma, H. Nohira, Bioorg. Med. Chem. 2000, 8, 393.)(２.８５ｇ、１５.０mmol)のメタノール性懸濁液(２３mL)をＡｃＯＨ(６.０mL)および[(１−エトキシシクロ(cyco)プロピル)−オキシ]トリメチルシラン(３.０mL、１５.０mmol)で処理し、７０℃に温め、２時間還流下で撹拌する(混合物の懸濁液から均質溶液への変化が観察される)。同じ温度で、この溶液に、ＮａＢＨ３ＣＮ(１.０２ｇ、１６.２mmol)のメタノール性溶液(５.０mL)を５分にわたり滴下し、得られた混合物を７０℃で還流下２時間撹拌して、ＣＨ２Ｃｌ２(１００mL)および５Ｎ  ＮａＯＨ(５０mL)で処理する。両方の層の分離後、水性層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出する(３×３０mL)。合わせた有機層を塩水で洗浄し(４０mL)、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(１３０ｇ、ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  １：１)により、中間体１２１.３を、明黄色固体として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  １：１)０.４８。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)0.47 - 0.52(m, 2 H), 0.69 - 0.75(m, 2 H), 1.20(s), 2.38 - 2.43(m, 1 H), 2.66(s), 4.14(br. s), 6.19(d, J=0.4), 6.40(dd, J=9.0, 0.4), 6.91(d, J=9.0), 7.71(br. s). 13C-NMR(100 MHz, CDCl3)176.9(s), 148.3(s), 137.6(s), 129.0(d), 112.4(s), 107.9(d), 99.4(d), 39.6(t), 37.7(s), 25.3(d), 24.5(2q), 7.4(2t)。
【０５３５】
実施例１２２
【化３８９】
2009522226.tif 000501
実施例１２２を、中間体１２２.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０４：ＣｔＲｅｔ＝２.４５分。
【０５３６】
中間体１２２.１
【化３９０】
2009522226.tif 000502
中間体１２２.１を、中間体１０８.２(５０mg、０.０８９mmol)と中間体１２２.２(３２mg、０.１４mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７０４：ＣｔＲｅｔ＝３.２１分。
【０５３７】
中間体１２２.２
【化３９１】
2009522226.tif 000503
中間体１２２.２を、中間体１２２.３(５８０mg、２.２１mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１６３：ＣｔＲｅｔ＝０.４３分。
【０５３８】
中間体１２２.３
【化３９２】
2009522226.tif 000504
中間体１２２.３を、中間体１２２.４(６００mg、３.１５mmol)の再配置により、中間体１０３.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６３：ＣｔＲｅｔ＝２.１４分。
【０５３９】
中間体１２２.４
【化３９３】
2009522226.tif 000505
中間体１２２.５(９００mg、５.２３mmol)およびカリウムトリメチルシラノレート(１.５ｇ、１０.４mmol)のトルエン(５０mL)溶液を１００℃で撹拌する。１６時間後、反応混合物を室温に冷却し、Ｈ２Ｏ(１００mL)で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出する(２００mL)。有機相を連続的にＨ２Ｏおよび塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。溶液を濾過し、溶媒を真空で蒸発させて、中間体１２２.４を得る：白色固体物質：ＥＳ−ＭＳ＝１９１：ＣｔＲｅｔ＝１.１５分。
【０５４０】
中間体１２２.５
【化３９４】
2009522226.tif 000506
シクロペンタンカルボニトリル(８００mg、８.４mmol)、４−クロロピリジン塩酸塩(１.９ｇ、１２.６mmol)およびＫＨＭＤＳ(５ｇ、２５mmol)のＴＨＦ(２０mL)中の混合物を７０℃で撹拌する。１６時間後、反応混合物を室温に冷却し、Ｈ２Ｏに注ぎ、Ｅｔ２Ｏで抽出する(５００mL)。有機抽出物を連続的に５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空濃縮する。残渣をＳｉＯ２カラムクロマトグラフィーで精製して、中間体１２２.５を得る：無色油状物：ＥＳ−ＭＳ＝１７３：ＣｔＲｅｔ＝１.４５分。
【０５４１】
実施例１２３
【化３９５】
2009522226.tif 000507
中間体１２３.１(４０mg、０.０５８mmol)の４Ｎ  ＨＣｌ−１,４−ジオキサン(１mL)中の混合物を室温で１時間撹拌し、濃縮して、実施例１２３を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５９６：ＣｔＲｅｔ＝２.９１分。
【０５４２】
中間体１２３.１
【化３９６】
2009522226.tif 000508
中間体１２３.１を、中間体１０８.２(３５mg、０.０６３mmol)および中間体１２３.２(１３mg、０.０６８mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６９６：ＣｔＲｅｔ＝３.９５分。
【０５４３】
中間体１２３.２
【化３９７】
2009522226.tif 000509
(２−(Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ)−４−フルオロ−３−メチルアニソール(１.４４２ｇ、ＥＰ０４０９４８４Ａ２)の４Ｎ  ＨＣｌ−１,４−ジオキサン中の混合物を室温で１時間撹拌し、濾過して、中間体１２３.２を白色固体として得る。
【０５４４】
実施例１２４
【化３９８】
2009522226.tif 000510
中間体１２４.１(７２mg、０.１３２mmol)および(Ｒ)−(−)−ロイシノール(１７mg、０.１４５mmol)のＤＭＦ(１mL)中の混合物にＥＤＣＩ.ＨＣｌ(２８mg、０.１４６mmol)およびＨＯＡｔ(２０mg、０.１４６mmol)を添加する。室温で１.５時間撹拌後、混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、水性ＫＨＳＯ４、水、飽和水性ＮａＨＣＯ３、水、および塩水で洗浄する。混合物をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、濃縮させる。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、Ｂｏｃ保護された表題化合物(１０７mg、０.１６７mmol)を得て、それを実施例１の製造法に準じてＢｏｃ脱保護のためにＴＭＳＯＴｆおよび２,６−ルチジンで処理する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４２：ＣｔＲｅｔ＝３.１２分。
【０５４５】
中間体１２４.１
【化３９９】
2009522226.tif 000511
中間体１２４.１を、実施例１９.１の製造法に準じた中間体１２４.２(８５mg、０.２９５mmol)および(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(８５mg、０.２９５mmol)の縮合、続く実施例１３.２の製造法に準じた加水分解により合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝−−−：ＣｔＲｅｔ＝−−−分。
【０５４６】
中間体１２４.２
【化４００】
2009522226.tif 000512
室温で、中間体１２１.２(４１２.０mg、１.３６mmol)のＴＨＦ(４.１mL)溶液を１Ｍ  ＢＨ３−ＴＨＦ溶液(１３.６mL、１３.６mmol)で処理し、６０℃に加熱し、還流下６時間撹拌する。室温に冷却後、混合物をＭｅＯＨ(１６mL)で処理し、３０分同じ温度で撹拌し、蒸発させる。残渣をＨ２Ｏ(５０mL)に注いだ後、水性相を５Ｎ  ＮａＯＨで処理して、そのｐＨを９〜１０に調節し、ＥｔＯＡｃ(４×１５mL)で抽出する。合わせた有機層を塩水(１０mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(２５ｇ、ＣＨ２Ｃｌ２／ＥｔＯＡｃ  １５：１)により、中間体１２４.２を、明黄色油状物として得る。Ｒｆ(ＣＨ２Ｃｌ２／ＥｔＯＡｃ  １５：１)０.６７。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)0.47 - 0.51(m, 2 H), 0.63 - 0.69(m, 2 H), 0.96(s), 1.81 - 1.89(m, 2 H), 2.38 - 2.44(m, 1 H), 2.39(s), 2.85(s), 3.35(t, J=6.0), 3.37(s), 3.46(t, J=9.0), 4.00(br. s), 6.07 - 6.10(m, 2 H), 6.74(d, J=9.0). 13C-NMR(100 MHz, CDCl3)148.1(s), 144.7(s), 130.1(d), 111.4(s), 101.1(d), 95.3(d), 70.4(t), 61.3(t), 58.6(q), 48.3(t), 41.3(t), 28.4(s), 27.1(t), 26.6(2q), 25.5(d),7.3(2t)。
【０５４７】
実施例１２５
【化４０１】
2009522226.tif 000513
中間体１２５.３(５０mg、０.１２５mmol)のＴＨＦ(１.０mL)溶液に、Ｅｔ３Ｎ(０.０２mL、０.１３８mmol)および２,２,２−トリクロロ−１,１−ジメチルエチルクロロホルメート(３３mg、０.１３８mmol)を０℃で添加する。同じ温度で１時間撹拌後、得られた沈殿を濾取し、濾液を濃縮する。残渣をＴＨＦ(１mL)に溶解し、中間体１２５.１(３１mg、０.１２５mmol)およびＭｇＢｒ２(３６mg、０.１３８mmol)を室温で添加する。１６時間撹拌後、反応をＨ２Ｏでクエンチし、得られた混合物をＡｃＯＥｔで抽出し、で洗浄し飽和水性ＫＨＳＯ４および塩水で洗浄し、有機層を乾燥させ(ＭｇＳＯ４)、濃縮し、ＲＰ−ＨＰＬＣで精製し、続いてＢｏｃ基の４Ｎ  ＨＣｌのジオキサン溶液での脱保護により、実施例１２５を得る：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２７；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.４４分。
【０５４８】
中間体１２５.１
【化４０２】
2009522226.tif 000514
中間体１２５.２(４.２０ｇ、１５.５mmol)、シクロプロピルアミン(６３９mg、１１.１mmol)、Ｐｄ２(ｄｂａ)３(９１mg、０.１０mmol)、ＮａＯｔＢｕ(５２８mg、５.５mmol)およびラセミＢＩＮＡＰ(１８６mg、０.３０mmol)のトルエン(３mL)中の混合物を、Ｎ２下、９０℃で６時間加熱する。ＲＴでＨ２Ｏ添加後、反応混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機相をＨ２Ｏで洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体１５２.１を得る：白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２４７；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.５７分。
【０５４９】
中間体１２５.２
【化４０３】
2009522226.tif 000515
４−ブロモ−２−フルオロベンゾニトリル(５.００ｇ、２５.０mmol)、３−メトキシプロパン−１−オール(３.３０ｇ、３８.０mmol)およびＫ２ＣＯ３(３.５０ｇ、３８mmol)のＤＭＦ(３０mL)中の混合物を８０℃で２４時間加熱する。ｒｔでＨ２Ｏ添加後、反応混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機相を２回Ｈ２Ｏで洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体１２５.２を得る。白色固体；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２７０；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝２.４０分。
【０５５０】
中間体１２５.３
【化４０４】
2009522226.tif 000516
１−イソブチル−３−メチル−ブチルアミン塩酸塩(１.０８ｇ、６mmol)およびトリエチルアミン(１.７３mL、１２mmol)のＴＨＦ(５０mL)溶液に、２,４−ジオキソ−３−オキサ−７−アザ−ビシクロ[３.３.１]ノナン−７−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル(１.０２ｇ、４mmol)を０℃で添加し、混合物を１.５時間撹拌する。混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、１Ｎ水性ＨＣｌ、水および塩水で洗浄する。有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、真空下で濃縮して、中間体１２５.３を得る：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３９９：ＢｔＲｅｔ＝２.０１分。
【０５５１】
実施例１２６
【化４０５】
2009522226.tif 000517
実施例１２６を、中間体１１１.２(６４mg、０.１６３mmol)および中間体１２５.１(４０mg、０.１６３mmol)の縮合により、実施例１２５の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２１：ＣｔＲｅｔ＝２.７６分。
【０５５２】
実施例１２７
【化４０６】
2009522226.tif 000518
中間体１２７.１(８１mg、０.０５８mmol)の４Ｎ  ＨＣｌ−１,４−ジオキサン(１mL)中の混合物を室温で１時間撹拌し、濃縮して、実施例１２７を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６６：ＣｔＲｅｔ＝２.８０分。
【０５５３】
中間体１２７.１
【化４０７】
2009522226.tif 000519
中間体１２７.１を、中間体１１１.２(５８mg、０.１４８mmol)および中間体１２７.２(４４mg、０.１５mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６６：ＣｔＲｅｔ＝３.８９分。
【０５５４】
中間体１２７.２
【化４０８】
2009522226.tif 000520
室温で、中間体１２７.３(０.９５ｇ、２.２３mmol)のメタノール性溶液(２０mL)を１０％Ｐｄ／Ｃ(０.１０ｇ)で処理し、２時間Ｈ２下で撹拌し、Ｎ２流で処理し、セライトパッドで濾過する。ケーキをＭｅＯＨで数回洗浄後、合わせた濾液を蒸発させて、中間体１２７.２を、褐色固体として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  １：１)０.５６。1H-NMR(270 MHz, CDCl3)1.26(t, J=9.0), 1.45(s), 1.88 - 1.95(m, 2 H), 3.13(q, J=9.0), 3.34(s), 3.45(t, J=6.0), 3.94(t, J=6.0), 6.24(dd, J=9.0, 0.4), 6.35(d, J=0.4), 6.78(d, J=9.0). 13C-NMR(67.5 MHz, CDCl3)169.0(s), 144.0(s), 135.0(s), 129.6(s), 118.0(d), 107.5(d), 99.7(d), 77.5(s), 69.9(t), 58.7(q), 39.2(t), 39.1(t), 27.7(t), 23.6(2q), 15.0(q)。
【０５５５】
中間体１２７.３
【化４０９】
2009522226.tif 000521
０℃で、中間体１２７.４(１.０６ｇ、２.６７mmol)およびヨードエタン(１.１mL、１３.８mmol)のＤＭＦ(１５mL)溶液を６０％のＮａＨ(０.１３ｇ、３.２５mmol)で５分にわたり処理する。混合物を０℃で２０分撹拌し、室温に温め、１４時間撹拌し、Ｈ２Ｏ(１００mL)に注ぐ。混合物のＥｔＯＡｃ(２×１５mL)およびＥｔ２Ｏ(２×１５mL)での抽出後、合わせた有機層をＨ２Ｏ(２０mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(３０ｇ、ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ４：３)により、中間体１２７.３を黄色油状物として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ３：２)０.３８。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)1.17(t, J=9.0), 1.48(s), 1.82 - 1.90(m, 2 H), 3.27(s), 3.38(t, J=3.5), 3.69(q, J=9.0), 3.94(t, J=3.5), 5.15(s), 6.76 - 6.90(m, 3 H), 7.16 - 7.35(m, 5 H)。
【０５５６】
中間体１２７.４
【化４１０】
2009522226.tif 000522
室温で、溶２,２−ジメチル−６−ニトロ−４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オン(Bioorcanic & Medicinal Chemistry 2002, 10, 2663-2669.)(２.０１ｇ、６.８３mmol)のＥｔＯＡｃ(２０mL)溶液を、塩化錫(II)二水和物(５.４８ｇ、２４.３mmol)で処理し、８０℃に加熱し、６時間還流下に撹拌し、室温に冷却し、５Ｎ  ＮａＯＨ(１２mL)で処理する。濾過して得られた沈殿を濾取した後、ケーキを少量のＥｔＯＡｃで洗浄する。環境温度で、合わせた濾液をベンジルオキシカルボニルクロライド(１.５mL、１０.５mmol)で処理し、６０℃に加熱し、１４時間、同じ温度で撹拌し、室温に冷却する。両方の層の分離後、水性層をＥｔＯＡｃ(２×５mL)で抽出し、合わせた有機層を飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液(２×５mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。残渣を１５mLのＥｔ２Ｏに懸濁し、得られた沈殿を濾過により集め、数回Ｅｔ２Ｏで洗浄して、中間体１２７.４を白色固体として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ３：２)０.３８。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)1.46(s), 1.88 - 1.96(m, 2 H), 3.30(s), 3.40(t, J=6.0), 3.96(t, J=6.0), 5.19(s), 6.64(br. s), 6.83 - 6.89(m, 2 H), 7.20 - 7.26(m, 1 H), 7.31 - 7.42(m, 5 H)。
【０５５７】
実施例１２８
【化４１１】
2009522226.tif 000523
実施例１２８を、中間体１２８.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４５：ＣｔＲｅｔ＝２.６４分。
【０５５８】
中間体１２８.１
【化４１２】
2009522226.tif 000524
中間体１２８.１を、中間体１０８.２(１２８mg、０.２３mmol)と２−イソプロポキシ−エチルアミン(３１μL、０.２５mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４５：ＣｔＲｅｔ＝３.６７分。
【０５５９】
実施例１２９
【化４１３】
2009522226.tif 000525
実施例１２９を、中間体１２９.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８４：ＣｔＲｅｔ＝２.３７分。
【０５６０】
中間体１２９.１
【化４１４】
2009522226.tif 000526
中間体１２９.１を、中間体１０８.２(１０４mg、０.１９mmol)と１−(３−アミノ−プロピル)−ピロリジン−２−オン(２９μL、０.２０mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８４：ＣｔＲｅｔ＝３.２６分。
【０５６１】
実施例１３０
【化４１５】
2009522226.tif 000527
実施例１３０を、中間体１３０.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７１：ＣｔＲｅｔ＝２.６８分。
【０５６２】
中間体１３０.１
【化４１６】
2009522226.tif 000528
中間体１３０.１を、中間体１０８.２(１０４mg、０.１８mmol)と１−アミノメチル−シクロヘキサノール(３４mg、０.２０mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７１：ＣｔＲｅｔ＝３.６１分。
【０５６３】
実施例１３１
【化４１７】
2009522226.tif 000529
実施例１３１を、中間体１３１.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３８：ＣｔＲｅｔ＝２.７２分。
【０５６４】
中間体１３１.１
【化４１８】
2009522226.tif 000530
中間体１３１.１を、中間体１１１.２(６４mg、０.１６３mmol)および中間体１０２.１(６４mg、０.１６３mmol)の縮合により、実施例１２５の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３８：ＣｔＲｅｔ＝３.７４分。
【０５６５】
実施例１３２
【化４１９】
2009522226.tif 000531
実施例１３２を、中間体１３２.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４９：ＣｔＲｅｔ＝２.８４分。
【０５６６】
中間体１３２.１
【化４２０】
2009522226.tif 000532
中間体１３２.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)とｏ−トリルアミン(３２mg、０.２７mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４９：ＣｔＲｅｔ＝３.９３分。
【０５６７】
実施例１３３
【化４２１】
2009522226.tif 000533
実施例１３３を、中間体１３３.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６５：ＣｔＲｅｔ＝２.８８分。
【０５６８】
中間体１３３.１
【化４２２】
2009522226.tif 000534
中間体１３３.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)と２−メトキシ−フェニルアミン(３３mg、０.２７mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６５：ＣｔＲｅｔ＝４.００分。
【０５６９】
実施例１３４
【化４２３】
2009522226.tif 000535
実施例１３４を、中間体１３４.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７９：ＣｔＲｅｔ＝３.０５分。
【０５７０】
中間体１３４.１
【化４２４】
2009522226.tif 000536
中間体１３４.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)と２−メトキシ−５−メチル−フェニルアミン(３７mg、０.２７mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７９：ＣｔＲｅｔ＝４.１６分。
【０５７１】
実施例１３５
【化４２５】
2009522226.tif 000537
実施例１３５を、中間体１３５.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７９：ＣｔＲｅｔ＝２.９１分。
【０５７２】
中間体１３５.１
【化４２６】
2009522226.tif 000538
中間体１３５.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)と５−メトキシ−２−メチル−フェニルアミン(３７mg、０.２７mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７９：ＣｔＲｅｔ＝３.９５分。
【０５７３】
実施例１３６
【化４２７】
2009522226.tif 000539
実施例１３６を、中間体１３６.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８０：ＣｔＲｅｔ＝２.６０分。
【０５７４】
中間体１３６.１
【化４２８】
2009522226.tif 000540
中間体１３６.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)と２−メトキシ−４−メチルピリジン−３−イルアミン(４８mg、０.２０mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８０：ＣｔＲｅｔ＝３.６２分。
【０５７５】
実施例１３７
【化４２９】
2009522226.tif 000541
実施例１３７を、中間体１３７.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５９８：ＣｔＲｅｔ＝２.５２、２.６７分。
【０５７６】
中間体１３７.１
【化４３０】
2009522226.tif 000542
中間体１３７.１を、中間体１０８.２(８０mg、０.１４mmol)と中間体１３７.２(３９mg、０.１７２mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６９８：ＣｔＲｅｔ＝３.２０、３.３３分。
【０５７７】
中間体１３７.２
【化４３１】
2009522226.tif 000543
中間体１３７.３(２００mg、０.８３mmol)およびＬｉＡｌＨ４(９６mg、２.４８mmol)のＴＨＦ(８mL)中の混合物を６０℃で撹拌する。２時間後、反応混合物を０℃に冷却し、次いでＮａ２ＳＯ４・１０Ｈ２Ｏを反応混合物に添加し、０.５時間撹拌する。懸濁液を濾過し、ＨＣｌのＭｅＯＨ溶液を溶液に添加し、次いで溶媒を真空で蒸発させて、中間体１３７.２を得る：無色油状物：ＥＳ−ＭＳ＝１５７：ＣｔＲｅｔ＝０.６２分。
【０５７８】
中間体１３７.３
【化４３２】
2009522226.tif 000544
中間体１３７.４(１.３ｇ、３.３６mmol)およびＴＢＡＦ(ＴＨＦ中１Ｍ、６.７mmol)のＴＨＦ(６mL)中の混合物を６０℃で撹拌する。４時間後、反応混合物を室温に冷却し、Ｈ２Ｏ(１００mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで２回抽出する(１００mL)。合わせた有機相を連続的に５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。ＳｉＯ２カラムクロマトグラフィーでの精製により、中間体１３７.３を得る：無色油状物：ＥＳ−ＭＳ＝２４３：ＣｔＲｅｔ＝２.２９分。
【０５７９】
中間体１３７.４
【化４３３】
2009522226.tif 000545
中間体１３７.５(１ｇ、３.７mmol)および[ビス(トリフルオロアセトキシ)ヨード]ベンゼン(２.４ｇ、５.６mmol)の２−トリメチルシリルエタノール(１０mL)中の混合物を９０℃で撹拌する。０.５時間後、ピリジン(１mL)を混合物に添加し、混合物を同じ温度で撹拌する。さらに１.５時間後、反応混合物を室温に冷却し、Ｈ２Ｏ(５０mL)で希釈し、ＥｔＯＡｃ(１００mL)で抽出する。有機相を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空濃縮する。ＳｉＯ２カラムクロマトグラフィーでの精製により、中間体１３７.４を得る：無色油状物：ＥＳ−ＭＳ＝３８７：ＣｔＲｅｔ＝４.７９分。
【０５８０】
中間体１３７.５
【化４３４】
2009522226.tif 000546
中間体１３７.５を、中間体１３７.６とＫＯＨの反応により、中間体１０３.４の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２７１：ＣｔＲｅｔ＝２.９１分。
【０５８１】
中間体１３７.６
【化４３５】
2009522226.tif 000547
３−シアノピロリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル(１ｇ、５.１mmol)のＴＨＦ(２５mL)溶液に、ＬＤＡ溶液(ＴＨＦ中２Ｍ、３.８mmol)を−７８℃で添加する。１時間、−７８℃で撹拌後、溶液にヨウ化イソブチル(１.８ｇ、１０mmol)を−７８℃で添加する、次いで混合物を同じ温度で撹拌する。２時間後、反応混合物を５％水性ＫＨＳＯ４(５０mL)でクエンチし、Ｅｔ２Ｏで抽出する(１００mL)。有機相を連続的に５％水性ＫＨＳＯ４、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。ＳｉＯ２カラムクロマトグラフィーでの精製により、中間体１３７.６：無色油状物を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２５３：ＣｔＲｅｔ＝３.７５分。
【０５８２】
実施例１３８
【化４３６】
2009522226.tif 000548
実施例１３８を、中間体１３８.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４４：ＢｔＲｅｔ＝１.３９分。
【０５８３】
中間体１３８.１
【化４３７】
2009522226.tif 000549
中間体１３８.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７９mmol)とＮ＊１＊,Ｎ＊１＊−ジメチル−プロパン−１,３−ジアミン(２２mg、０.２１４mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４４：ＢｔＲｅｔ＝１.６５分。
【０５８４】
実施例１３９
【化４３８】
2009522226.tif 000550
実施例１３９を、中間体１３９.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８６：ＢｔＲｅｔ＝１.４１分。
【０５８５】
中間体１３９.１
【化４３９】
2009522226.tif 000551
中間体１３９.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７９mmol)と３−モルホリン−４−イル−プロピルアミン(３１mg、０.２１４mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８６：ＢｔＲｅｔ＝１.８６分。
【０５８６】
実施例１４０
【化４４０】
2009522226.tif 000552
実施例１４０を、中間体１４０.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５８：ＢｔＲｅｔ＝１.４０分。
【０５８７】
中間体１４０.１
【化４４１】
2009522226.tif 000553
中間体１４０.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７９mmol)とＮ＊１＊,Ｎ＊１＊−ジエチル−エタン−１,２−ジアミン(２５mg、０.２１４mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５８：ＢｔＲｅｔ＝１.６８分。
【０５８８】
実施例１４１
【化４４２】
2009522226.tif 000554
実施例１４１を、中間体１４１.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７２：ＢｔＲｅｔ＝１.３９分。
【０５８９】
中間体１４１.１
【化４４３】
2009522226.tif 000555
中間体１４１.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７９mmol)と２−モルホリン−４−イル−エチルアミン(２８mg、０.２１４mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７２：ＢｔＲｅｔ＝１.６６分。
【０５９０】
実施例１４２
【化４４４】
2009522226.tif 000556
実施例１４２を、中間体１４２.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８４：ＣｔＲｅｔ＝２.３４分。
【０５９１】
中間体１４２.１
【化４４５】
2009522226.tif 000557
中間体１４２.１を、中間体１０８.２(７８mg、０.１４mmol)と中間体１４２.２(２７mg、０.１５mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８４：ＣｔＲｅｔ＝３.２３分。
【０５９２】
中間体１４２.２
【化４４６】
2009522226.tif 000558
中間体１４２.２を、中間体１４２.３の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。
【０５９３】
中間体１４２.３
【化４４７】
2009522226.tif 000559
４−(Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ)−ピペリジン(５２４.４mg、２.６２mmol)のピリジン(３mL)溶液に、Ｎ２下、ｒｔで、アセチルクロライド(chloeide)(２７９μL、３.９３mmol)を０℃で添加する。反応混合物を室温で１時間撹拌する。１Ｎ  ＨＣｌを０℃で添加後、混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機相を１Ｎ  ＨＣｌおよび塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下濃縮して、中間体１４２.３を得る：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２４３：ＢｔＲｅｔ＝１.４６分。
【０５９４】
実施例１４３
【化４４８】
2009522226.tif 000560
実施例１４３を、中間体１４３.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７１：ＣｔＲｅｔ＝２.５７分。
【０５９５】
中間体１４３.１
【化４４９】
2009522226.tif 000561
中間体１４３.１を、中間体１０８.２(１２３mg、０.２２mmol)と２−(テトラヒドロ−ピラン−４−イル)−エチルアミン(３１mg、０.２４mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７１：ＣｔＲｅｔ＝３.５３分。
【０５９６】
実施例１４４
【化４５０】
2009522226.tif 000562
実施例１４４を、中間体１４４.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０２：ＣｔＲｅｔ＝２.４８分。
【０５９７】
中間体１４４.１
【化４５１】
2009522226.tif 000563
中間体１４４.１を、中間体１４４.２(１００mg、０.１７mmol)と中間体１２２.２(６３mg、０.２７mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７０２：ＣｔＲｅｔ＝３.１９分。
【０５９８】
中間体１４４.２
【化４５２】
2009522226.tif 000564
中間体１４４.２を、実施例１９.１の製造法に準じた中間体１３８.２(１ｇ、３.３mmol)および(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(８６２mg、３mmol)の縮合、続く１Ｎ水性ＬｉＯＨでの加水分解により、合成する；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５８：ＣｔＲｅｔ＝３.４４分。
【０５９９】
実施例１４５
【化４５３】
2009522226.tif 000565
実施例１４５を、中間体１４５.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４６：ＣｔＲｅｔ＝２.３８分。
【０６００】
中間体１４５.１
【化４５４】
2009522226.tif 000566
中間体１４５.１を、中間体１４５.２(７５mg、０.１５mmol)と中間体１２２.２(５４mg、０.２３mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する。無色油状物：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４６：ＢｔＲｅｔ＝１.７０分。
【０６０１】
中間体１４５.２
【化４５５】
2009522226.tif 000567
中間体１４５.２を、中間体１４５.３の鹸化により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５０２：ＢｔＲｅｔ＝１.８１分。
【０６０２】
中間体１４５.３
【化４５６】
2009522226.tif 000568
中間体１４５.３を、中間体１２５.１(５００mg、２.０３mmol)および(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(６１２mg、２.１３mmol)の縮合により、実施例１２５の製造法に準じて合成する：黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４６：ＢｔＲｅｔ＝１.９６分。
【０６０３】
実施例１４６
【化４５７】
2009522226.tif 000569
実施例１４６を、中間体１４６.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５５：ＣｔＲｅｔ＝２.４６分。
【０６０４】
中間体１４６.１
【化４５８】
2009522226.tif 000570
中間体１４６.１を、中間体１４４.２(７５mg、０.１５mmol)と４−アミノメチルテトラヒドロピラン(２６mg、０.２３mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５５：ＢｔＲｅｔ＝１.８４分。
【０６０５】
実施例１４７
【化４５９】
2009522226.tif 000571
実施例１４７を、中間体１４７.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７３：ＣｔＲｅｔ＝２.９１分。
【０６０６】
中間体１４７.１
【化４６０】
2009522226.tif 000572
中間体１４７.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７８mmol)と(Ｒ)−１−メトキシメチル−３−メチルブチルアミン塩酸塩(Org. Lett. 2001, 3, 1241.)(１３９.６mg、０.８３mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７３：ＣｔＲｅｔ＝４.０１分。
【０６０７】
実施例１４８
【化４６１】
2009522226.tif 000573
実施例１４８を、中間体１４８.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８７：ＣｔＲｅｔ＝３.０５分。
【０６０８】
中間体１４８.１
【化４６２】
2009522226.tif 000574
中間体１４８.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７８mmol)と中間体１４８.２塩酸塩(４４mg、０.２４mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８７：ＣｔＲｅｔ＝４.２２分。
【０６０９】
中間体１４８.２
【化４６３】
2009522226.tif 000575
中間体１４８.２を、中間体１４８.３の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１４６：ＢｔＲｅｔ＝１.３２分。
【０６１０】
中間体１４８.３
【化４６４】
2009522226.tif 000576
Ｂｏｃ−Ｄ−ロイシノール(２７７.９mg、１.２７８mmol)のＴＨＦ(５mL)溶液に、Ｎ２下、０℃で、ＮａＨ(８０.３mｇの鉱油中６０ｗｔ％、２.００mmol)を添加する。同じ温度で数分撹拌後、ＥｔＩ(０.１２２mL、１.５３mmol)を添加する。得られた溶液をｒｔで２時間撹拌する。反応をＨ２Ｏでクエンチし、混合物をＥｔＯＡｃで抽出し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮により、粗生成物を得る。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して、中間体１４８.３(５５.３mg)を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ−Ｂｏｃ＝１４６：ＢｔＲｅｔ＝２.１１分。
【０６１１】
実施例１４９
【化４６５】
2009522226.tif 000577
実施例１４９を、中間体１４９.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８６：ＣｔＲｅｔ＝２.５６分。
【０６１２】
中間体１４９.１
【化４６６】
2009522226.tif 000578
中間体１４９.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７８mmol)と(Ｒ)−４,Ｎ＊１＊,Ｎ＊１＊−トリメチルペンタン−１,２−ジアミン塩酸塩(ＷＯ２００６００９８６９)(６３.１mg、０.２９mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８６：ＣｔＲｅｔ＝３.３６分。
【０６１３】
実施例１５０
【化４６７】
2009522226.tif 000579
実施例１５０を、中間体１５０.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８５：ＢｔＲｅｔ＝１.９１分。
【０６１４】
中間体１５０.１
【化４６８】
2009522226.tif 000580
中間体１５０.１を、中間体１０４.２(２００mg、０.５０２mmol)および中間体１５０.２(１６８mg、０.５５２mmol)の縮合により、実施例１９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８５：ＣｔＲｅｔ＝４.６８分。
【０６１５】
中間体１５０.２
【化４６９】
2009522226.tif 000581
水素化ナトリウム(５６.８mg、２.３７mmol)のＤＭＦ(１０.０mL)懸濁液に、６−シクロプロピルアミノ−２,２−ジメチル−４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オン(５００mg、２.１５mmol)のＤＭＦ(５.０mL)を０℃で添加する。１５分、同じ温度で撹拌後、２−ブロモエチルエチルエーテル(３６２mg、２.３７mmol)およびヨウ化カリウム(５.０mg、０.０３mmol)を添加する。混合物を２時間、５０℃で撹拌し、Ｈ２Ｏを添加する。得られた混合物をＥｔＯＡｃで抽出し、有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体１５０.２を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３０５：ＢｔＲｅｔ＝１.７４分。
【０６１６】
実施例１５１
【化４７０】
2009522226.tif 000582
実施例１５１を、中間体１５１.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５９９：ＣｔＲｅｔ＝３.１７分。
【０６１７】
中間体１５１.１
【化４７１】
2009522226.tif 000583
中間体１５１.１を、中間体１０８.２(５６mg、０.１０mmol)と中間体１５１.２の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６９９：ＣｔＲｅｔ＝４.２７分。
【０６１８】
中間体１５１.２
【化４７２】
2009522226.tif 000584
中間体１５１.２を、中間体１５１.３の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。得られたアミン塩酸塩を次反応に直接使用する。
【０６１９】
中間体１５１.３
【化４７３】
2009522226.tif 000585
中間体１５１.４(２０２.６mg、０.８８mmol)のＤＭＦ(２mL)溶液に、Ｎ２下、ｒｔでＮａＨ(４２.４mg、１.０６mmol)を加え、そしてＥｔＩ(７６.９μL、０.９７mmol)を０℃で添加する。反応混合物を、ｒｔで一晩撹拌する。次いで、Ｈ２Ｏを得られた溶液に添加する。水性相をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機相を塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮およびシリカゲルカラムクロマトグラフィーでの精製により、中間体１５１.３を得る：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２５８：ＢｔＲｅｔ＝２.１５分。
【０６２０】
中間体１５１.４
【化４７４】
2009522226.tif 000586
１−アミノメチル−１−シクロヘキサノール塩酸塩(７０９.０mg、４.２８mmol)のジオキサン(８.６mL)およびＨ２Ｏ(４.３mL)の溶液に、Ｎ２下、ＲＴで１Ｎ  ＮａＯＨ(８.６mL、８.５６mmol)を、そして(Ｂｏｃ)２Ｏ(１.０３mg、４.７１mmol)を０℃で添加する。反応混合物を、ｒｔで一晩撹拌する。大量の溶媒を減圧下濃縮後、飽和水性クエン酸を得られた溶液に添加する。水性相をＥｔ２Ｏで抽出する。合わせた有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下濃縮して、中間体１５１.４：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２３０：ＢｔＲｅｔ＝１.７２。
【０６２１】
実施例１５２
【化４７５】
2009522226.tif 000587
実施例１５２を、中間体１５２.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８３：ＣｔＲｅｔ＝２.５８分。
【０６２２】
中間体１５２.１
【化４７６】
2009522226.tif 000588
中間体１５２.１を、中間体１０８.２(５０mg、０.０９mmol)と中間体１５２.２(２３mg、０.１mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８３：ＣｔＲｅｔ＝３.５７分。
【０６２３】
中間体１５２.２
【化４７７】
2009522226.tif 000589
ＥｔＭｇＢｒ(９.１mL、９.１mmol、ＴＨＦ中１Ｍ)を、アルゴン下、−７８℃で、４−シアノテトラヒドロ−４Ｈ−ピラン(４.１mmol)およびＴｉ(ＯｉＰｒ)４(１.３３mL、４.５６mmol)のＥｔ２Ｏ(４２mL)溶液に添加する。溶液を１時間の間ゆっくり室温に温め、次いでそれをｒｔで３０分撹拌する。この段階で、ＢＦ３・ＯＥｔ２(１.１６mL、８.３mmol)を添加し、撹拌を２時間続ける。水(１０mL)、続いて１０％水性ＨＣｌ(１０mL)およびＥｔ２Ｏ(２０mL)を添加する。１０％水性ＮａＯＨ溶液を、ｐＨが塩基性になるまで得られた透明混合物に添加する。生成物をＥｔ２Ｏ(２×３０mL)で抽出する。合わせた有機抽出物をＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。溶媒濃発後、生成物を精製せずに次反応に使用する：黄色油状物。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１４２：ＢｔＲｅｔ＝０.７３分
【０６２４】
実施例１５３
【化４７８】
2009522226.tif 000590
実施例１５３を、中間体１５３.１(７４mg、０.１２mmol)の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４４：ＣｔＲｅｔ＝２.４０分。
【０６２５】
中間体１５３.１
【化４７９】
2009522226.tif 000591
中間体１５３.１を、中間体１５３.２(５６mg、０.２０９mmol)および中間体１１１.２(７５mg、０.１９mmol)の縮合により、実施例１２５の製造法に準じて合成する：無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４４：ＣｔＲｅｔ＝３.３７分。
【０６２６】
中間体１５３.２
【化４８０】
2009522226.tif 000592
中間体１５３.２を、中間体１５３.３(５５０mg、２.６mmol)と２−メトキシエチルアミン(２３３mg、３.１mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する。白色固体；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２８２；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝２.９５分。
【０６２７】
中間体１５３.３
【化４８１】
2009522226.tif 000593
中間体１５３.３を、中間体１５３.４(１.５ｇ、６.６mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色固体；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２１１；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.０５分。
【０６２８】
中間体１５３.４
【化４８２】
2009522226.tif 000594
中間体１５３.４を、５−アミノ−２−クロロ安息香酸メチルエステル(２ｇ、１０.８mmol)のシクロプロパン化により、中間体１９.５および１９.６の製造法に準じて合成する。白色固体；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２２５；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝３.８４分。
【０６２９】
実施例１５４
【化４８３】
2009522226.tif 000595
実施例１５４を、中間体１５４.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０７：ＣｔＲｅｔ＝２.７６分。
【０６３０】
中間体１５４.１
【化４８４】
2009522226.tif 000596
中間体１５４.１を、中間体１０８.２(１２０mg、０.２１mmol)と(Ｒ)−１−アミノ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オール塩酸塩(CAS 110480-87-0)(７５.８mg、０.３７６mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７０７：ＣｔＲｅｔ＝３.７５分。
【０６３１】
実施例１５５
【化４８５】
2009522226.tif 000597
実施例１５５を、中間体１５５.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８５：ＣｔＲｅｔ＝２.７１分。
【０６３２】
中間体１５５.１
【化４８６】
2009522226.tif 000598
中間体１５５.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１７８mmol)と１−メチル−１−(テトラヒドロピラン−４−イル)−エチルアミン塩酸塩(J. Med. Chem. 1996, 39, 2795.)(４８mg、０.２６６mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８５：ＣｔＲｅｔ＝３.７１分。
【０６３３】
実施例１５６
【化４８７】
2009522226.tif 000599
実施例１５６を、中間体１５６.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７７：ＣｔＲｅｔ＝３.０７分。
【０６３４】
中間体１５６.１
【化４８８】
2009522226.tif 000600
中間体１５６.１を、中間体１０８.２(１２０mg、０.２１mmol)と１−メチル−１−フェニル−エチルアミン(０.０４５mL、０.３１５mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７７：ＣｔＲｅｔ＝４.０９分。
【０６３５】
実施例１５７
【化４８９】
2009522226.tif 000601
実施例１５７を、中間体３９.１の製造法に準じた中間体１５７.１(１３０mg、０.２５mmol)および中間体１２２.２(７７mg、０.３３mmol)の縮合、続いて実施例１９の製造法に準じた脱保護により合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６３：ＣｔＲｅｔ＝２.３０分。
【０６３６】
中間体１５７.１
【化４９０】
2009522226.tif 000602
中間体１５７.１を、中間体１５７.２の鹸化により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１９：ＣｔＲｅｔ＝３.３１分。
【０６３７】
中間体１５７.２
【化４９１】
2009522226.tif 000603
中間体１５７.２を、中間体１０２.１(１００mg、０.３８mmol)および(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(１２０mg、０.４２mmol)の縮合により、実施例１２５の製造法に準じて合成する：黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３３：ＢｔＲｅｔ＝１.９６分。
【０６３８】
実施例１５８
【化４９２】
2009522226.tif 000604
実施例１５８を、中間体１５８.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０７：ＣｔＲｅｔ＝２.８７分。
【０６３９】
中間体１５８.１
【化４９３】
2009522226.tif 000605
中間体１５８.１を、中間体１０８.２(１５０mg、０.２６８mmol)と(Ｓ)−１−アミノ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オール塩酸塩(Synthesis 2004, 909.)(１００mg、０.４７mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７０７：ＣｔＲｅｔ＝３.７３分。
【０６４０】
実施例１５９
【化４９４】
2009522226.tif 000606
実施例１５９を、中間体１５９.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７０：ＣｔＲｅｔ＝２.２２分。
【０６４１】
中間体１５９.１
【化４９５】
2009522226.tif 000607
中間体１５９.１を、中間体１０８.２(８０mg、０.１４mmol)とＣ−(１−メチルピペリジン−４−イル)−メチルアミン(２２mg、０.１７mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７０：ＣｔＲｅｔ＝３.０１分。
【０６４２】
実施例１６０
【化４９６】
2009522226.tif 000608
実施例１６０を、中間体１６０.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６６：ＣｔＲｅｔ＝２.３７分。
【０６４３】
中間体１６０.１
【化４９７】
2009522226.tif 000609
中間体１６０.１を、中間体１０８.２(８０mg、０.１４３mmol)と３−アミノ−４−メチル−１Ｈ−ピリジン−２−オン(ＷＯ２００４０６３１５５)(２８mg、０.１７２mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６６：ＣｔＲｅｔ＝３.１７分。
【０６４４】
実施例１６１
【化４９８】
2009522226.tif 000610
実施例１６１を、中間体１６１.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６１２：ＣｔＲｅｔ＝２.５７分。
【０６４５】
中間体１６１.１
【化４９９】
2009522226.tif 000611
中間体１６１.１を、中間体１０８.２(８０mg、０.１４３mmol)と中間体１６１.２(２９mg、０.１７２mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７１２：ＣｔＲｅｔ＝３.２２分。
【０６４６】
中間体１６１.２
【化５００】
2009522226.tif 000612
中間体１６１.２を、中間体１６１.３(１００mg、０.３９mmol)の還元により、中間体１３７.２の製造法に準じて合成する：無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１７１：ＣｔＲｅｔ＝０.６７分。
【０６４７】
中間体１６１.３
【化５０１】
2009522226.tif 000613
中間体１６１.３を、中間体１６１.４(３００mg、０.７５mmol)の脱保護により、中間体１３７.３の製造法に準じて合成する：無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２５７：ＣｔＲｅｔ＝２.４７分。
【０６４８】
中間体１６１.４
【化５０２】
2009522226.tif 000614
中間体１６１.５(７００mg、２.４５mmol)のトルエン(２０mL)溶液に、Ｅｔ３Ｎ(３mL、９.８mmol)、２−(トリメチルシリル)エタノール(５８０mg、４.９mmol)およびＤＰＰＡ(１.０６mL、４.９mmol)を添加し、次いで混合物を１００℃で撹拌する。２時間後、ＣｕＣｌ２(１００mg、０.７４mmol)を混合物に添加し、次いで混合物を１００℃で撹拌する。４時間後、反応混合物を室温に冷却し、Ｈ２Ｏ(５０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出する(２００mL)。有機相を連続的に５％水性ＮＨ４Ｃｌで２回、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏおよび塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空濃縮する。残渣をＳｉＯ２カラムクロマトグラフィーで精製して、中間体１６１.４を得る：無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４０１：ＣｔＲｅｔ＝４.９９分。
【０６４９】
中間体１６１.５
【化５０３】
2009522226.tif 000615
中間体１６１.６(２.３ｇ、７.７mmol)および水性ＫＯＨ(Ｈ２Ｏ中８Ｍ、２０mL)のエチレングリコール(６０mL)溶液を１２０℃で撹拌する。１５時間後、反応混合物を室温に冷却し、５％水性ＫＨＳＯ４でｐＨ＜４までクエンチし、次いでＥｔ２Ｏで２回抽出する(３００mL×２)。合わせた有機相を連続的にＨ２Ｏで２回、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。混合物を濾過し、濾液を真空で蒸発させて、中間体１６１.５を得る：白色固体物質：ＥＳ−ＭＳ＝２８６：ＣｔＲｅｔ＝３.６３分。
【０６５０】
中間体１６１.６
【化５０４】
2009522226.tif 000616
ピペリジン−１,４−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル４−メチルエステル(２ｇ、８.２mmol)のＴＨＦ(８０mL)溶液に、ＬＤＡ(２Ｍ溶液、６mmol)を−７８℃で添加する。０.５時間撹拌後、溶液に、ヨウ化イソブチル(１.３mL、１６mmol)を−７８℃で添加する。次いで混合物を室温まで温める。２時間撹拌後、反応混合物を５％水性ＫＨＳＯ４(２００mL)でクエンチし、Ｅｔ２Ｏ(５００mL)で抽出する。有機相を連続的にＨ２Ｏで２回、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空濃縮する。残渣をＳｉＯ２カラムクロマトグラフィーで精製して、中間体１６１.６を得る：無色油状物：ＥＳ−ＭＳ＝２９９：ＣｔＲｅｔ＝４.３７分。
【０６５１】
実施例１６２
【化５０５】
2009522226.tif 000617
実施例１６２を、中間体１６２.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４３：ＣｔＲｅｔ＝２.３７分。
【０６５２】
中間体１６２.１
【化５０６】
2009522226.tif 000618
中間体１６２.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)と４−アミノテトラヒドロピラン(２７mg、０.２７mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４３、ＢｔＲｅｔ＝１.８３分。
【０６５３】
実施例１６３
【化５０７】
2009522226.tif 000619
実施例１６３を、中間体１６３.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５７：ＡｔＲｅｔ＝２.２５分。
【０６５４】
中間体１６３.１
【化５０８】
2009522226.tif 000620
中間体１６３.１を、中間体１０８.２(９９.６mg、０.１８mmol)と(ｒａｃ)−ｔｒａｎｓ−４−アミノシクロヘキサノール(２２.５mg、０.２０mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５７：ＢｔＲｅｔ＝１.７８分。
【０６５５】
実施例１６４
【化５０９】
2009522226.tif 000621
実施例１６４を、中間体１６４.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６４：ＡｔＲｅｔ＝２.９５分。
【０６５６】
中間体１６４.１
【化５１０】
2009522226.tif 000622
中間体１６４.１を、中間体１６４.２(４０mg、０.１６３mmol)と中間体１１１.２(６４mg、０.１６３mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６４、ＣｔＲｅｔ＝４.２４分。
【０６５７】
中間体１６４.２
【化５１１】
2009522226.tif 000623
中間体１６４.２を、中間体１６４.３(６２６mg、２.００mmol)およびシクロプロピルアミン(３４３mg、６.００mmol)の縮合により、中間体１１２.２の製造法に準じて合成する。黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２９０；ＨＰＬＣ：ＡｔＲｅｔ＝４.１２分。
【０６５８】
中間体１６４.３
【化５１２】
2009522226.tif 000624
３−フルオロ−４−(トリフルオロメチル)ブロモベンゼン(３.００ｇ、１２.３５mmol)、６０％ＮａＨ(１.４８ｇ、３７.０５mmol)および３−メトキシ−１−プロパノール(１.６７ｇ、１８.５mmol)のＤＭＦ(８０mL)中の混合物を０℃で３０分撹拌する。反応混合物を６０℃で３０分撹拌する。Ｈ２Ｏ添加後、反応混合物をＥｔＯＡｃで抽出する。合わせた有機相を塩水で洗浄し、乾燥させる(ＭｇＳＯ４)。減圧下の濃縮およびシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより、中間体１６４.３を得る：黄色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２９２：ＡｔＲｅｔ＝４.３９分。
【０６５９】
実施例１６５
【化５１３】
2009522226.tif 000625
実施例１６５を、中間体１６５.１(９５mg、０.１３mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３２：ＣｔＲｅｔ＝２.２５分。
【０６６０】
中間体１６５.１
【化５１４】
2009522226.tif 000626
中間体１６５.２を、１−メチル−４−フェニルピペリジン−４−イルアミン(CAS No, 100316-65-2、４５mg、０.１７mmol)と中間体１０８.２(８０mg、０.１４mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７３２：ＣｔＲｅｔ＝３.００分。
【０６６１】
実施例１６６
【化５１５】
2009522226.tif 000627
実施例１６６を、中間体１.１の製造に準じて中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)および中間体１６６.１(５５mg、０.２３mmol)を縮合し、続いて４Ｎ  ＨＣｌ／ジオキサンでのＢｏｃ基の脱保護により合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０４：ＡｔＲｅｔ＝２.１４分。
【０６６２】
中間体１６６.１
【化５１６】
2009522226.tif 000628
中間体１６６.２(３００mg、１.５８mmol)およびビス(トリフルオロアセトキシ)ヨードベンゼン(１ｇ、２.３７mmol)をｔ−ＢｕＯＨ(３mL)に溶解し、７０℃で５時間撹拌する。混合物をＡｃＯＥｔで希釈し、飽和水性ＮａＨＣＯ３で洗浄する。有機層を２Ｎ水性ＨＣｌで抽出する。水性層をＡｃＯＥｔで洗浄し、次いで５Ｎ水性ＮａＯＨで塩基性化する。水性層を再びＡｃＯＥｔで抽出し、抽出物を塩水で洗浄する。真空下の蒸発および４Ｎ  ＨＣｌのジオキサン溶液およびＥｔＯＨでのＢｏｃ基の脱保護により、中間体１６６.１を、白色結晶として得る。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６３、ＡｔＲｅｔ＝１.９７分。
【０６６３】
中間体１６６.２
【化５１７】
2009522226.tif 000629
中間体１６６.２を、１−ピリジン−３−イル−シクロペンタンカルボニトリル(６３０mg、３.６６mmol)とＫＯＴＭＳ(９３９mg、７.３２mmol)のトルエン溶液での１００℃で８時間の加水分解により合成する。中間体１６６.２を得る：白色結晶；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１９１：ＢｔＲｅｔ＝１.０５分。
【０６６４】
実施例１６７
【化５１８】
2009522226.tif 000630
実施例１６７を、中間体１.１の製造に準じた中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)およびベンジルアミン(３８mg、０.３５８mmol)の縮合、続いて４Ｎ  ＨＣｌ／ジオキサンでのＢｏｃ基の脱保護により合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４９：ＡｔＲｅｔ＝２.６２分。
【０６６５】
実施例１６８
【化５１９】
2009522226.tif 000631
実施例１６８を、中間体１６８.１(８０mg、０.１２mmol)の脱保護により、実施例１２３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７５：ＡｔＲｅｔ＝２.７５分。
【０６６６】
中間体１６８.１
【化５２０】
2009522226.tif 000632
中間体１６８.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)および２−アミノインダン(３１mg、０.２３mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７５：ＡｔＲｅｔ＝３.９５分。
【０６６７】
実施例１６９
【化５２１】
2009522226.tif 000633
実施例１６９を、中間体１６９.１(７５mg、０.１２mmol)の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６２２：ＣｔＲｅｔ＝２.４５分。
【０６６８】
中間体１６９.１
【化５２２】
2009522226.tif 000634
中間体１６９.１を、中間体１６９.２(５０mg、０.１２０mmol)と中間体９４.２(３７mg、０.１４４mmol)の縮合により、中間体１３.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５２：ＣｔＲｅｔ＝４.６４分。
【０６６９】
中間体１６９.２
【化５２３】
2009522226.tif 000635
中間体１６９.２を、中間体１６９.３(７００mg、１.６３mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４１７：ＣｔＲｅｔ＝３.３５分。
【０６７０】
中間体１６９.３
【化５２４】
2009522226.tif 000636
中間体１６９.３を、中間体１０３.２(４００mg、２mmol)と(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ(５７５mg、２mmol)の縮合により、中間体１３.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４３１：ＣｔＲｅｔ＝３.８０分。
【０６７１】
実施例１７０
【化５２５】
2009522226.tif 000637
実施例１７０を、中間体１７０.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６３：ＣｔＲｅｔ＝２.９９分。
【０６７２】
中間体１７０.１
【化５２６】
2009522226.tif 000638
中間体１７０.１を、中間体１０８.２(１０３mg、０.１８mmol)と(Ｒ)−(＋)−フェニルエチルアミン(２６μL、０.２０mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６３：ｃｔＲｅｔ＝３.８７分。
【０６７３】
実施例１７１
【化５２７】
2009522226.tif 000639
実施例１７１を、中間体１７１.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６３：ＣｔＲｅｔ＝２.９６分。
【０６７４】
中間体１７１.１
【化５２８】
2009522226.tif 000640
中間体１７１.１を、中間体１０８.２(１０９mg、０.１９mmol)と(Ｓ)−(−)−フェニルエチルアミン(２７μL、０.２１mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６３：ｃｔＲｅｔ＝４.０１分。
【０６７５】
実施例１７２
【化５２９】
2009522226.tif 000641
実施例１７２を、中間体１７２.１(９５mg、０.１２mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６２２：ＣｔＲｅｔ＝２.４５分。
【０６７６】
中間体１７２.１
【化５３０】
2009522226.tif 000642
中間体１７２.１を、中間体１７２.２(４４mg、０.１７２mmol)と中間体１０８.２(８０mg、０.１４３mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７２２：ＣｔＲｅｔ＝３.３８分。
【０６７７】
中間体１７２.２
【化５３１】
2009522226.tif 000643
中間体１７２.２を、中間体１７２.３(２００mg、０.７１mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１８１：ＣｔＲｅｔ＝１.４２分。
【０６７８】
中間体１７２.３
【化５３２】
2009522226.tif 000644
中間体１７２.３を、中間体１７２.４(３００mg、１.４４mmol)の再配置反応により、中間体１０３.３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２８１：ＣｔＲｅｔ＝２.６３分。
【０６７９】
中間体１７２.４
【化５３３】
2009522226.tif 000645
中間体１７２.４を、中間体１７２.５(４００mg、２.１mmol)とカリウムトリメチルシラノレート(６００mg、９０％純度、４.２mmol)の反応により、中間体１２２.４の製造法に準じて合成する：白色固体、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２０９：ＣｔＲｅｔ＝１.６０分。
【０６８０】
中間体１７２.５
【化５３４】
2009522226.tif 000646
中間体１７２.５を、３,５−ジフルオロピリジン(１.９ｇ、１２.６mmol)とシクロペンタンカルボニトリル(１ｇ、１０.５mmol)の反応により、中間体１２２.５の製造法に準じて合成する。無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２７９：ＣｔＲｅｔ＝３.０５分。
【０６８１】
実施例１７３
【化５３５】
2009522226.tif 000647
実施例１７３を、中間体１７３.１(１５３mg、０.２３mmol)の脱保護により、実施例１２３の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６５：ＡｔＲｅｔ＝２.８２分。
【０６８２】
中間体１７３.１
【化５３６】
2009522226.tif 000648
中間体１７３.１を、中間体１７３.２(１５０mg、０.３８mmol)および中間体１２７.２(１１７mg、０.４mmol)の縮合により、中間体１９.１の製造法に準じて合成する。無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６５：ＡｔＲｅｔ＝４.０３分。
【０６８３】
中間体１７３.２
【化５３７】
2009522226.tif 000649
中間体１７３.２を、中間体１７３.３(４７４mg、１.１７mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。無色結晶、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３９１：ＡｔＲｅｔ＝３.１０分。
【０６８４】
中間体１７３.３
【化５３８】
2009522226.tif 000650
中間体１７３.２を、(３Ｓ,５Ｒ)−出発物質−Ｆ(４３１mg、１.５mmol)とクミルアミン(２６４mg、１.９５mmol)の縮合により、中間体１３.３の製造法に準じて合成する。無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝４０５：ＡｔＲｅｔ＝３.５４分。
【０６８５】
実施例１７４
【化５３９】
2009522226.tif 000651
実施例１７４を、中間体１７４.１(１５７mg、０.２４mmol)の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５１：ＡｔＲｅｔ＝２.６８分。
【０６８６】
中間体１７４.１
【化５４０】
2009522226.tif 000652
中間体１７４.１を、中間体１７３.２(１５０mg、０.３８mmol)および中間体１７４.２(１１２mg、０.４mmol)の縮合により、中間体１９.１の製造法に準じて合成する。無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５１：ＡｔＲｅｔ＝３.８５分。
【０６８７】
中間体１７４.２
【化５４１】
2009522226.tif 000653
室温で、中間体１７４.３(１.８４ｇ、４.４６mmol)のメタノール性溶液(３７mL)を１０％Ｐｄ／Ｃ(０.１８ｇ)で処理し、Ｈ２の連続流によるバブリングした２時間撹拌し、Ｎ２流で処理し、セライトパッドで濾過する。ケーキをＭｅＯＨで数回洗浄後、合わせた濾液を蒸発させて、所望の化合物を、明黄色結晶性物質として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  １：１)０.３３。1H-NMR(270 MHz, CDCl3)1.45(s), 1.90 - 1.95(m, 2 H), 2.82(s), 3.34(s), 3.43(br. s), 3.45(t, J=6.0), 3.96(t, J=6.0), 6.25(dd, J=9.0, 0.4), 6.36(d, J=0.4), 6.80(d, J=9.0). 13C-NMR(67.5 MHz, CDCl3)169.1(s), 144.9(s), 135.0(s), 129.6(s), 118.0(d), 107.0(d), 99.3(d), 77.5(s), 69.9(t), 58.7(q), 39.2(t), 31.3(q), 27.7(t), 23.6(2q)。
【０６８８】
中間体１７４.３
【化５４２】
2009522226.tif 000654
０℃で、中間体１２７.４(１.８１１ｇ、４.５４mmol)およびヨードメタン(１.４mL、２２.５mmol)のＤＭＦ(１８mL)溶液を６０％のＮａＨ(０.２２８ｇ、５.７０mmol)で５分にわたり処理し、混合物を０℃で４０分撹拌し、室温に温め、１４時間撹拌し、Ｈ２Ｏ(１２０mL)に注ぐ。混合物をＥｔＯＡｃ(２×１５mL)およびＥｔ２Ｏ(２×１５mL)で抽出後、合わせた有機層をＨ２Ｏ(２５mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(７０ｇ、ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ４：３)により、所望の化合物を無色油状物として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ３：２)０.４２。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)1.50(s), 1.81 - 1.90(m, 2 H), 3.29(s), 3.30(s), 3.38(t, J=3.5), 3.92(t, J=3.5), 5.16(s), 6.80 - 6.96(m, 3 H), 7.20 - 7.33(m, 5 H)。
【０６８９】
実施例１７５
【化５４３】
2009522226.tif 000655
実施例１７５を、中間体１７５.１(７５mg、０.１１mmol)の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６５：ＡｔＲｅｔ＝２.２０分。
【０６９０】
中間体１７５.１
【化５４４】
2009522226.tif 000656
中間体１７５.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)およびＣ−(５−メチルピラジン−２−イル)メチルアミン(２９mg、０.２４mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６５：ＢｔＲｅｔ＝１.８１分。
【０６９１】
実施例１７６
【化５４５】
2009522226.tif 000657
実施例１７６を、中間体１７６.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５９０：ＣｔＲｅｔ＝３.１３分。
【０６９２】
中間体１７６.１
【化５４６】
2009522226.tif 000658
中間体１７６.１を、中間体１６９.２(７９.９mg、０.１９mmol)および中間体１０７.２(５５.９mg、０.１９mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６９０：ＣｔＲｅｔ＝４.５０分。
【０６９３】
実施例１７７
【化５４７】
2009522226.tif 000659
実施例１７７を、中間体１７７.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８５：ＡｔＲｅｔ＝２.４３分。
【０６９４】
中間体１７７.１
【化５４８】
2009522226.tif 000660
中間体１７７.１を、中間体１６９.２(１０７.３mg、０.２６mmol)および中間体１７７.２(７９.２１mg、０.２８mmol)の縮合により、中間体３９.１の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８５：ＡｔＲｅｔ＝２.４３分。
【０６９５】
中間体１７７.２
【化５４９】
2009522226.tif 000661
シクロプロピルアミン(２.５mL、３５.５２mmol)のＤＭＦ(１mL)溶液に、Ｎ２下、０℃で、ＤＭＦ(３mL)に溶解した中間体１７７.３塩酸塩(３９６.５mg、１.３１mmol)をゆっくり添加する。得られた混合物をｒｔで１時間撹拌する。反応をＨ２Ｏでクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出し、Ｈ２Ｏで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮により、中間体１７７.２(３３６.８mg)を得る：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５８５：ＡｔＲｅｔ＝２.４３分。
【０６９６】
中間体１７７.３
【化５５０】
2009522226.tif 000662
中間体１７７.４(２９３mg、１.１８４mmol)のＣＨ２Ｃｌ２(５mL)Ｎ２下、０℃で、ＳＯＣｌ２(０.４３mL、５.９２mmol)を添加する。反応溶液を、ｒｔで一晩撹拌する。減圧下の濃縮により、中間体１７７.３塩酸塩を得る。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２６５.９６：ＡｔＲｅｔ＝２.０５分。
【０６９７】
中間体１７７.４
【化５５１】
2009522226.tif 000663
中間体１７７.５(６２４mg、２.２６mmol)のＭｅＯＨ(５０mL)溶液に、Ｎ２下、０℃で、ＮａＢＨ４(１１２mg、２.９６mmol)を添加する。反応混合物を、ｒｔで一晩撹拌する。次いで、過剰のＮａＢＨ４(６２４.５mg、１６.５４mmol)を反応溶液に添加する。得られた溶液をｒｔで２時間撹拌する。減圧下濃縮後、ＮａＨＣＯ３水性を添加し、得られた混合物をＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮により、粗生成物を得る。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して、所望の中間体１７７.４を得る。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２４８、ＡｔＲｅｔ＝１.８２分。
【０６９８】
中間体１７７.５
【化５５２】
2009522226.tif 000664
中間体１７７.５を、メチル４−オキソ−１,４−ジヒドロ−２−キノリンカルボキシレート(Bioorcanic & Medicinal Chemistry 20, 5453-5463, 2004)(７８.４mg、０.３８mmol)の３−メトキシ−プロパン−１−オール(０.０３７mL、０.３９mmol)でのアルキル化により、中間体６２.５の製造法に準じて合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２７６、ＡｔＲｅｔ＝２.１７分。
【０６９９】
実施例１７８
【化５５３】
2009522226.tif 000665
実施例１７８を、中間体１.１の製造に準じて中間体１１３.２(１２０mg、０.２４mmol)および(Ｓ)−１−アミノ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オール(６５mg、０.３２mmol)を縮合し、続いてＴＭＳＯＴｆおよび２,６−ルチジンでのＢｏｃ基の脱保護により合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３８：ＣｔＲｅｔ＝３.０分。
【０７００】
実施例１７９
【化５５４】
2009522226.tif 000666
実施例１７９を、中間体１７９.１(９３mg、０.１５mmol)の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５１６：ＣｔＲｅｔ＝２.７９分。
【０７０１】
中間体１７９.１
【化５５５】
2009522226.tif 000667
中間体１７９.１を、中間体１１３.２(１２０mg、０.２５mmol)および１−メチル−１−(テトラヒドロピラン−４−イル)−エチルアミン塩酸塩(J. Med. Chem. 1996, 39, 2795.)(８８mg、０.４９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する。無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６１６：ＢｔＲｅｔ＝２.０４分。
【０７０２】
実施例１８０
【化５５６】
2009522226.tif 000668
実施例１８０を、中間体１.１の製造に準じた中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)およびＣ−(５−メチルイソキサゾール−３−イル)メチルアミン(４０mg、０.３６mmol)の縮合、続いて４Ｎ  ＨＣｌ／ジオキサンでのＢｏｃ基の脱保護により合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５４：ＣｔＲｅｔ＝２.５６分。
【０７０３】
実施例１８１
【化５５７】
2009522226.tif 000669
実施例１８１を、中間体１８１.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。ジアステレオマーを逆相分取ＨＰＬＣにより分離できる：Ｍ＋Ｈ＝５４３、ｃｔＲｅｔ＝２.３３分。
【０７０４】
中間体１８１.１
【化５５８】
2009522226.tif 000670
中間体１８１.１を、中間体１０８.２(１５０mg、０.２６８mmol)およびラセミｔｒａｎｓ−２−アミノシクロペンタノール(３６.８mg、０.２６８mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４３：ｃｔＲｅｔ＝３.３５分。
【０７０５】
実施例１８２
【化５５９】
2009522226.tif 000671
実施例１８２を、中間体１８２.１の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。Ｍ＋Ｈ＝５４３、ｃｔＲｅｔ＝２.５１分。
【０７０６】
中間体１８２.１
【化５６０】
2009522226.tif 000672
中間体１８２.１を、中間体１０８.２(１５０mg、０.２６８mmol)および(１Ｓ,２Ｓ)−ｔｒａｎｓ−２−アミノシクロペンタノール(３６.８mg、０.２６８mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４３：ｃｔＲｅｔ＝３.４３分。
【０７０７】
実施例１８３
【化５６１】
2009522226.tif 000673
実施例１８３を、中間体１８３.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。Ｍ＋Ｈ＝６１９、ｃｔＲｅｔ＝２.６２分。
【０７０８】
中間体１８３.１
【化５６２】
2009522226.tif 000674
中間体１８３.１を、中間体１８３.２(６２.３mg、０.１１４mmol)および中間体１０３.２(３０mg、０.１１３mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７１９：ｃｔＲｅｔ＝３.５１分。
【０７０９】
中間体１８３.２
【化５６３】
2009522226.tif 000675
中間体１８３.２を、中間体１８３.３の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４６：ＢｔＲｅｔ＝１.９７分。
【０７１０】
中間体１８３.３
【化５６４】
2009522226.tif 000676
中間体１８３.３を、(３Ｒ、５Ｒ)−出発物質Ｆ(１５０mg、０.５２mmol)と中間体９５.２(１５２mg、０.５２mmol)の縮合により、中間体１.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６１：ＢｔＲｅｔ＝２.１４分。
【０７１１】
実施例１８４
【化５６５】
2009522226.tif 000677
実施例１８４を、中間体１８４.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７５：ＣｔＲｅｔ＝２.９４分。
【０７１２】
中間体１８４.１
【化５６６】
2009522226.tif 000678
中間体１８４.１を、中間体１０８.２(１１２mg、０.２mmol)および１−フェニル−シクロプロピルアミン(３２mg、０.２４mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する。ＥＳ−ＭＳ：[Ｍ＋Ｈ]＋＝６７５；ＨＰＬＣ：ＣｔＲｅｔ＝３.９５分。
【０７１３】
実施例１８５
【化５６７】
2009522226.tif 000679
実施例１８５を、中間体１８５.１(３８mg、０.０６mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０３：ＣｔＲｅｔ＝２.８７分。
【０７１４】
中間体１８５.１
【化５６８】
2009522226.tif 000680
中間体１８５.１を、中間体１０３.２(２１mg、０.１１mmol)と中間体１０８.２(５０mg、０.０９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７０３：ＣｔＲｅｔ＝４.２８分。
【０７１５】
実施例１８６
【化５６９】
2009522226.tif 000681
実施例１８６を、中間体１８６.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。白色物質：Ｍ＋Ｈ＝５７２、ＡｔＲｅｔ＝２.５７分。
【０７１６】
中間体１８６.１
【化５７０】
2009522226.tif 000682
中間体１８６.１を、中間体１８１.２(４６.７mg、０.０８５mmol)および１−メチル−１−(テトラヒドロピラン−４−イル)−エチルアミン塩酸塩(J. Med. Chem. 1996, 39, 2795.)(２３mg、０.１２８mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７２：ＡｔＲｅｔ＝３.７９分。
【０７１７】
実施例１８７
【化５７１】
2009522226.tif 000683
実施例１８７を、中間体１８７.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：Ｍ＋Ｈ＝６１３、ｃｔＲｅｔ＝３.０１分。
【０７１８】
中間体１８７.１
【化５７２】
2009522226.tif 000684
中間体１８７.１を、中間体１０８.２(１５０mg、０.２６８mmol)および中間体１８７.２塩酸塩(１０５mg、０.５１mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７１３：ｃｔＲｅｔ＝４.０５分。
【０７１９】
中間体１８７.２
【化５７３】
2009522226.tif 000685
中間体１８７.２を、中間体１８７.３の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：Ｍ＋Ｈ＝１７２、ＡｔＲｅｔ＝１.２０分。
【０７２０】
中間体１８７.３
【化５７４】
2009522226.tif 000686
中間体１８７.４(１.１５６５ｇ、４.６６mmol)のＥｔＯＨ(１０mL)／ＡｃＯＨ(２mL)溶液に、Ｎ２下で、ｒｔ、チオウレア(４２６mg、５.６mmol)を添加する。反応混合物を８０℃で９時間撹拌する。減圧下の濃縮により、所望のアミンを得る。
粗生成物のＣＨ２Ｃｌ２(２０mL)溶液に、Ｎ２下、ＲＴで、トリエチルアミン(２.２５mL、２３.３mmol)およびＢｏｃ２Ｏ(２.５ｇ、１１.６５mmol)を添加する。反応混合物をｒｔで１.５時間撹拌する。減圧下の濃縮により、粗生成物を得る。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して、所望の中間体１８７.３を得る。Ｍ＋Ｈ−Ｂｏｃ＝１７２、ＡｔＲｅｔ＝３.５５分。
【０７２１】
中間体１８７.４
【化５７５】
2009522226.tif 000687
３−(テトラヒドロ−ピラン−４−イル)−ペンタノール(Collection of Czechoslovak Chemical Communications(1938), 10 399-410.)(９９１.１mg、５.７５mmol)およびクロロアセトニトリル(０.４４mL)のＡｃＯＨ(０.８８mL)溶液に、Ｎ２下、０℃で、濃Ｈ２ＳＯ４(０.８８mL)をゆっくり添加する。次いで、反応溶液をｒｔに温め、ｒｔで、一晩撹拌する。反応を飽和水性ＮａＨＣＯ３でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＭｇＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮により、中間体１８７.４(１.１６ｇ)を得る。Ｍ＋Ｈ＝２４８、ＡｔＲｅｔ＝２.５７分。
【０７２２】
実施例１８８
【化５７６】
2009522226.tif 000688
実施例１８８を、中間体１８８.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。白色物質：Ｍ＋Ｈ＝５０４、ｃｔＲｅｔ＝３.０６分。
【０７２３】
中間体１８８.１
【化５７７】
2009522226.tif 000689
中間体１８８.１を、中間体１１３.２(７２.８mg、０.１４８mmol)および(Ｒ)−１−メトキシメチル−３−メチルブチルアミン塩酸塩(Org. Lett. 2001, 3, 1241)(１０５mg、０.５１mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：白色物質。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０４：ｃｔＲｅｔ＝４.３０分。
【０７２４】
実施例１８９
【化５７８】
2009522226.tif 000690
実施例１８９を、中間体１８９.１(１７５mg、０.２６mmol)の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７７：ＣｔＲｅｔ＝２.９９分。
【０７２５】
中間体１８９.１
【化５７９】
2009522226.tif 000691
中間体１８９.１を、中間体１７３.２(１６０mg、０.４１mmol)および中間体１８９.２(１２５mg、０.４１mmol)の縮合により、中間体１９.１の製造法に準じて合成する。無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７７：ＢｔＲｅｔ＝２.１分。
【０７２６】
中間体１８９.２
【化５８０】
2009522226.tif 000692
室温で、中間体１８９.３(９４１mg、３.５６mmol)のメタノール性溶液(７.５mLをＡｃＯＨ(１.９mL)および[(１−エトキシシクロ(cyco)プロピル)−オキシ]トリメチルシラン(０.７１mL、３.５６mmol)で処理し、６０℃に温め、１時間還流下撹拌する。同じ温度で、この混合物に、ＮａＢＨ３ＣＮ(０.２５５ｇ、４.０６mmol)のメタノール性溶液(１.３mL)を５分にわたり滴下し、得られた混合物を６０℃で還流下２時間撹拌しＣＨ２Ｃｌ２(５０mL)および５Ｎ  ＮａＯＨ(１０mL)で処理する。両方の層を分離後、水性層をＣＨ２Ｃｌ２(３×１０mL)で抽出する。合わせた有機層を塩水(１５mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(３０ｇ、ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  １：１)により、所望の化合物を黄色固体として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  １：１)０.４８。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)0.48 - 0.53(m, 2 H), 0.68 - 0.73(m, 2 H), 1.30(s), 2.34 - 2.41(m, 1 H), 2.95(br. s), 3.32(s), 3.74(br. s), 3.76(t, J=6.0), 3.96(br. s), 6. 54(dd, J=9.0, 0.4), 6.60 - 6.81(m, 1 H), 6.68(d, J=9.0)。
【０７２７】
中間体１８９.３
【化５８１】
2009522226.tif 000693
室温で、中間体１８９.４(１.１７８ｇ、４.００mmol)のＥｔＯＡｃ(１８mL)溶液を塩化錫(II)二水和物(３.１５ｇ、１４.０mmol)で処理し、８０℃に加熱し、６時間還流下に撹拌し、０℃に冷却し、５Ｎ  ＮａＯＨ(２０mL)で処理する。得られた沈殿を濾過により除去し、ＥｔＯＡｃで数回洗浄する。合わせた濾液の両方の層を分離後、有機層を塩水(２０mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させて、所望の化合物を、褐色油状物として得る。Ｒｆ(ＣＨ２Ｃｌ２／ＥｔＯＡｃ  １：１)０.３０。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)1.32(s), 2.91(br. s), 3.34(s), 3.42(br. s), 3.71(br. s), 3.78(t, J=6.0), 6.46(dd, J=9.0, 0.4), 6.46 - 6.68(m, 1H), 6.68(d, J=9.0)。
【０７２８】
中間体１８９.４
【化５８２】
2009522226.tif 000694
０℃で、中間体１８９.５(１.０９０ｇ、５.２３mmol)のＤＭＦ(１１mL)溶液をＫ２ＣＯ３(２.３９ｇ、１７.３mmol)および３−メトキシプロピオニッククロライド(０.８５mL、７.８３mmol)で処理し、同じ温度で３０分撹拌し、室温に温め、２０時間撹拌し、さらに酸クロライド(０.８５mL、７.８３mmol)で処理する。３時間撹拌後、混合物をさらに酸クロライド(４.０mL、３６.９mmol)で処理し、環境温度で１時間撹拌し、１Ｎ  ＮａＯＨ(３０mL)で処理し、ＥｔＯＡｃ(３×２０mL)およびＥｔ２Ｏ(３×２０mL)で抽出する。合わせた有機層を１Ｎ  ＮａＯＨ(１５mL)、５Ｎ  ＮａＯＨ(１５mL)、およびＨ２Ｏ(２×２０mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(６０ｇ、ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ３：４)により、所望の化合物を、黄色結晶として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  １：１)０.４０。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)1.37(s), 2.84 - 2.93(m, 2 H), 3.38(s), 3.72 - 3.84(m, 2 H), 3.81(t, J=6.0), 6.95(d, J=9.0), 7.94(dd, J=9.0, 0.4), 7.94 - 8.93(m, 1H). 13C-NMR(100 MHz, CDCl3)170.1(s), 140.4(s), 121.7(s), 120.3(d), 117.8(sおよび2d), 77.2(s), 68.7(t), 59.0(q), 34.4(t), 24.6(2q)。
【０７２９】
中間体１８９.５
【化５８３】
2009522226.tif 000695
０℃で、固体状態の２,２−ジメチル−６−ニトロ−４Ｈ−ベンゾ[１,４]オキサジン−３−オン(５.７６３ｇ、２５.９mmol)を１.０Ｍ  ＢＨ３−ＴＨＦ溶液(６５mL、６５.０mmol)に添加する。混合物を同じ温度で１５分撹拌し、８０℃に温め、３時間還流下撹拌し、０℃に冷却し、ＭｅＯＨ(８mL)でゆっくり処理する。８０℃で１時間還流下撹拌後、溶液を再び０℃に冷却し、１２Ｎ  ＨＣｌ(８mL)で処理し、８０℃に温め、１時間還流下撹拌し、蒸発させる。残渣をＥｔ２Ｏで数回洗浄後、固体を２８０mLの０.２Ｎ  ＮａＯＨで処理する。得られた沈殿を濾過により集め、Ｈ２Ｏで数回洗浄して、所望の化合物を黄色固体として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ２：１)０.５０。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)1.38(s), 3.12(s), 4.11(br. s), 6.78(d, J=9.0), 7.49(d, J=0.4), 7.58(dd, J=9.0, 0.4)。
【０７３０】
実施例１９０
【化５８４】
2009522226.tif 000696
実施例１９０を、中間体１９０.１(７０mg、０.１１mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３１：ＣｔＲｅｔ＝３.００分。
【０７３１】
中間体１９０.１
【化５８５】
2009522226.tif 000697
中間体１９０.１を、中間体１６９.２(５０mg、０.１２mmol)と中間体１９０.２(４５mg、０.１８mmol)の縮合により、中間体１９.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３１：ＣｔＲｅｔ＝３.９５分。
【０７３２】
中間体１９０.２
【化５８６】
2009522226.tif 000698
室温で、中間体１９０.３(２８.２ｇ、０.１４７mol)のメタノール性溶液(２４０mL)をＡｃＯＨ(６０mL)および[(１−エトキシシクロ(cyco)プロピル)−オキシ]トリメチルシラン(２９mL、０.１４７mol、Aldrich)で処理し、７０℃に温め、２時間還流下に撹拌する。同じ温度で、この混合物に、ＮａＢＨ３ＣＮ(１０.１ｇ、０.１６１mol)のメタノール性溶液(５０mLを５分にわたり滴下し、得られた混合物を７０℃で還流下２時間撹拌して、ＣＨ２Ｃｌ２(８００mL)および５Ｎ  ＮａＯＨ(４００mL)で処理する。両方の層の分離後、水性層をＣＨ２Ｃｌ２(３×２００mL)で抽出する。合わせた有機層を塩水で洗浄し(３００mL)、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(１０００ｇ、ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ５：４)により、所望の生成物を白色固体として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ５：４)０.４８。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)0.46 - 0.53(m, 2 H), 0.64 - 0.73(m, 2 H), 1.50(s), 2.36 - 2.43(m, 1 H), 4.06(br. s), 6.25(d, J=0.4), 6.39(dd, J=9.0, 0.4), 6.79(d, J=9.0). 13C-NMR(100 MHz, CDCl3)170.7(s), 144.3(s), 134.5(s), 127.2(s), 118.0(d), 108.6(d), 99.9(d), 77.8(s), 25.7(d), 23.4(2q), 7.3(2t)。
【０７３３】
中間体１９０.４
【化５８７】
2009522226.tif 000699
室温で、２−アミノ−４−ニトロフェノール(８２.５ｇ、０.５４mol、Tokyo Chemical Industry)のＤＭＦ(６６０mL)溶液をエチル２−ブロモイソブチラート(１６０mL、１.０７mol)およびＫＦ(１２４.７ｇ、２.１５mol)で処理し、同じ温度で１時間撹拌し、６０℃に温め、４８時間撹拌する。混合物をＨ２Ｏ(３５００mL)に注いだ後、得られた沈殿を濾過により集め、Ｈ２ＯおよびＥｔ２Ｏで数回洗浄して、所望の生成物を黄色固体として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ２：１)０.４２。1H-NMR(400 MHz, DMSO-d6)1.48(s), 7.16(d, J=9.0), 6.42(d, J=0.4), 8.00(dd, J=9.0, 0.4). 13C-NMR(100 MHz, DMSO-d6)167.7(s), 147.5(s), 142.0(s), 128.0(s), 119.2(d), 117.3(d), 110.3(d), 78.9(s), 23.7(2q)。
【０７３４】
実施例１９１
【化５８８】
2009522226.tif 000700
実施例１９１を、中間体１９１.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４２：ＣｔＲｅｔ＝２.５３、２.５７分。
【０７３５】
中間体１９１.１
【化５８９】
2009522226.tif 000701
中間体１９１.１を、中間体１０８.２(７０mg、０.１２５mmol)とテトラヒドロピラン３−イル−アミン(２５mg、０.１８２mmol、CAS-675112-58-0)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４２：ＢｔＲｅｔ＝１.９３分。
【０７３６】
実施例１９２
【化５９０】
2009522226.tif 000702
実施例１９２を、中間体１９２.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。白色物質：Ｍ＋Ｈ＝６２１  ｃｔＲｅｔ＝３.２０分。
【０７３７】
中間体１９２.１
【化５９１】
2009522226.tif 000703
中間体１９２.１を、中間体１０８.２(３２.９mg、０.０５８mmol)および中間体１９２.２塩酸塩(１２.７mg、０.０５８mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７２１：ｃｔＲｅｔ＝４.２４分。
【０７３８】
中間体１９２.２
【化５９２】
2009522226.tif 000704
中間体１９２.２を、中間体１９２.３の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。白色物質(塩酸塩について)：Ｍ＋Ｈ＝１８０  ｃｔＲｅｔ＝１.９０分。
【０７３９】
中間体１９２.３
【化５９３】
2009522226.tif 000705
((Ｓ)−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロピル)−カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル(eter)(Synthesis, 2004, 909)(１１２.１mg、０.４２２mmol)のＤＭＦ(３mL)溶液に、Ｎ２下、０℃で、ＮａＨ(７１mｇの鉱油中６０ｗｔ％、１.７８mmol)を添加する。ｒｔで１０分撹拌後、溶液を０℃に冷却した。次いで、ヨウ化メチル(２６.２７μL、０.４２２mmol)を反応混合物に添加する。反応溶液をｒｔで１.２５時間撹拌する。反応を飽和水性ＫＨＳＯ４でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出し、Ｈ２Ｏで洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させる。減圧下の濃縮により、粗生成物を得る。粗生成物をシリカゲルで精製して、所望の中間体１９２.３を得る。Ｍ＋Ｈ  −ｔＢｕ＝２２４  ｃｔＲｅｔ＝３.９７分。
【０７４０】
実施例１９３
【化５９４】
2009522226.tif 000706
実施例１９３を、中間体１９３.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。白色物質：Ｍ＋Ｈ＝５７３  ｃｔＲｅｔ＝２.６７分。
【０７４１】
中間体１９３.１
【化５９５】
2009522226.tif 000707
中間体１９３.１を、中間体１８３.２(３８.２mg、０.０６９８mmol)および(Ｒ)−４,Ｎ＊１＊,Ｎ＊１＊−トリメチルペンタン−１,２−ジアミン塩酸塩(ＷＯ２００６００９８６９)(１５.１５mg、０.０６９８mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７３：ｃｔＲｅｔ＝３.６５分。
【０７４２】
実施例１９４
【化５９６】
2009522226.tif 000708
実施例１９４を、中間体１９４.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。白色物質：Ｍ＋Ｈ＝６２１  ｃｔＲｅｔ＝３.１８分。
【０７４３】
中間体１９４.１
【化５９７】
2009522226.tif 000709
中間体１９４.１を、中間体１０８.２(２１.２６mg、０.０３８mmol)および中間体１９４.２塩酸塩(１３.７mg、０.０６３mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７２１：ｃｔＲｅｔ＝４.２５分。
【０７４４】
中間体１９４.２
【化５９８】
2009522226.tif 000710
中間体１９４.２を、中間体１９４.３の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。白色物質(塩酸塩について)：Ｍ＋Ｈ＝１８０  ｃｔＲｅｔ＝１.８９分。
【０７４５】
中間体１９４.３
【化５９９】
2009522226.tif 000711
中間体１９４.３を、((Ｒ)−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロピル)−カルバミン(carbamiv)酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル(eter)(Journal of Chemical Society, Perkin Transactions 1:Organic and Bio-Organic Chemistry(1999), (4), 387-398.)のアルキル化により、中間体１９２.３の製造法に準じて合成する：Ｍ＋Ｈ−Ｂｕ＝２２４  ｃｔＲｅｔ＝３.９６分。
【０７４６】
実施例１９５
【化６００】
2009522226.tif 000712
実施例１９５を、中間体１９５.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５０９：ＣｔＲｅｔ＝２.８６分。
【０７４７】
中間体１９５.１
【化６０１】
2009522226.tif 000713
中間体１９５.１を、中間体１９５.２(３４mg、０.１４３mmol)および中間体１７３.２(４６mg、０.１１８mmol)の縮合により、実施例１２５の製造法に準じて合成する：無色油状物；ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０９：ＣｔＲｅｔ＝３.８３分。
【０７４８】
中間体１９５.２
【化６０２】
2009522226.tif 000714
中間体１９５.３(２６０mg、１.２mmol)およびシクロプロピルアミン(２１０mg、３.７mmol)のＴＨＦ(４mL)中の混合物を、密閉チューブ中、１００℃で１０時間撹拌し、次いでそれを１８０℃で３０分マイクロ波照射する。ＥｔＯＡｃで希釈後、混合物を水および塩水で洗浄し、Ｍｇ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、真空濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体１９５.２を得る：薄黄色油状物；1H-NMR(CDCl3, 400 MHz):δ 0.51(2H, m), 0.78(2H, m), 1.98(3H, s), 2.03(2H, quint.), 2.71(1H, m), 3.35(3H, s), 3.52(2H, t), 4.37(2H, t), 5.03(1H, br), 7.87(1H, s)。
【０７４９】
中間体１９５.３
【化６０３】
2009522226.tif 000715
３−メトキシ−プロパン−１−オール(１.４ｇ、１５.５mmol)のＴＨＦ(２０mL)溶液に、ＮａＨ(６０％、４４０mg、１１mmol)を０℃で添加する。３０分撹拌後、得られた溶液を２,４−ジクロロ−５−メチルピリミジン(２ｇ、１２.３mmol)の溶液に−８℃で移す。混合物を５０分撹拌し、次いで反応を水性ＫＨＳＯ４の添加によりクエンチする。混合物をエーテルで抽出し、抽出物を水および塩水で洗浄する。有機層をＭｇ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、真空濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、中間体１９５.３：無色油状物として得る；1H-NMR(CDCl3, 400 MHz):δ 2.05(2H, quint.), 2.13(3H, s), 3.37(3H, s), 3.53(2H, t), 4.48(2H, t), 8.81(1H, s)。
【０７５０】
実施例１９６
【化６０４】
2009522226.tif 000716
実施例１９６を、中間体１９６.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２９：ＣｔＲｅｔ＝２.８９分。
【０７５１】
中間体１９６.１
【化６０５】
2009522226.tif 000717
中間体１９６.１を、中間体１０８.２(１０２mg、０.１８mmol)と(Ｒ)−(−)−２−アミノ−３−メチル(methy)ブタン(２３μL、０.２０mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６２９：ＣｔＲｅｔ＝３.９３分。
【０７５２】
実施例１９７
【化６０６】
2009522226.tif 000718
実施例１９７を、中間体１９７.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５９３：ＣｔＲｅｔ＝２.９６分。
【０７５３】
中間体１９７.１
【化６０７】
2009522226.tif 000719
中間体１９７.１を、中間体１０８.２(１０１mg、０.１８mmol)と(Ｒ)−(＋)−４−メトキシ−α−メチルベンジルアミン(２９μL、０.２０mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６９３：ＣｔＲｅｔ＝３.９７分。
【０７５４】
実施例１９８
【化６０８】
2009522226.tif 000720
実施例１９８を、中間体１９８.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５２９：ＣｔＲｅｔ＝２.８７分。
【０７５５】
中間体１９８.１
【化６０９】
2009522226.tif 000721
中間体１９８.１を、中間体１０８.２(１１０mg、０.２０mmol)と(Ｓ)−(＋)−２−アミノ−３−メチル(methy)ブタン(２５μL、０.２２mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６２９：ＣｔＲｅｔ＝３.９６分。
【０７５６】
実施例１９９
【化６１０】
2009522226.tif 000722
実施例１９９を、中間体１９９.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５９３：ＣｔＲｅｔ＝２.９７分。
【０７５７】
中間体１９９.１
【化６１１】
2009522226.tif 000723
中間体１９９.１を、中間体１０８.２(１０３mg、０.１８mmol)と(Ｓ)−(−)−４−メトキシ−α−メチルベンジルアミン(３０μL、０.２０mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６９３：ＣｔＲｅｔ＝３.９８分。
【０７５８】
実施例２００
【化６１２】
2009522226.tif 000724
実施例２００を、中間体２００.１(１００mg、０.１５mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７０：ＣｔＲｅｔ＝２.５４分。
【０７５９】
中間体２００.１
【化６１３】
2009522226.tif 000725
中間体２００.１を、１−アミノシクロペンタンカルボニトリル塩酸塩(３２mg、０.２１６mmol)と中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５２：ＣｔＲｅｔ＝３.８１分。
【０７６０】
実施例２０１
【化６１４】
2009522226.tif 000726
実施例２０１を、中間体２０１.１(７０mg、０.１１mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５５：ＣｔＲｅｔ＝２.４０分。
【０７６１】
中間体２０１.１
【化６１５】
2009522226.tif 000727
中間体２０１.１を、中間体２０１.２(１００mg、０.１９mmol)と１−メチル−１−(テトラヒドロ−ピラン−４−イル)エチルアミン(２８mg、０.２２mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５５：ＣｔＲｅｔ＝３.３２分。
【０７６２】
中間体２０１.２
【化６１６】
2009522226.tif 000728
中間体２０１.２を、中間体２０１.３(４００mg、０.７４mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３０：ＣｔＲｅｔ＝３.０５分。
【０７６３】
中間体２０１.３
【化６１７】
2009522226.tif 000729
中間体２０１.３を、中間体１９.３(３０３mg、１.０４mmol)と(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(２５０mg、０.８７mmol)の縮合により、中間体１９.１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４４：ＣｔＲｅｔ＝３.４２分。
【０７６４】
実施例２０２
【化６１８】
2009522226.tif 000730
実施例２０２を、中間体２０２.１(８０mg、０.１３mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３３：ＣｔＲｅｔ＝２.６６分。
【０７６５】
中間体２０２.１
【化６１９】
2009522226.tif 000731
中間体２０２.１を、中間体２０１.２(１００mg、０.１９mmol)と(Ｒ)−１−フェネチルアミン(２８mg、０.２２mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３３：ＣｔＲｅｔ＝３.５７分。
【０７６６】
実施例２０３
【化６２０】
2009522226.tif 000732
実施例２０３を、中間体２０３.１(３０mg、０.０４mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７８：ＣｔＲｅｔ＝３.６０分。
【０７６７】
中間体２０３.１
【化６２１】
2009522226.tif 000733
中間体２０３.１を、中間体２０３.２(５０mg、０.０９mmol)と中間体１０３.２(２２mg、０.１１mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７８：ＣｔＲｅｔ＝４.６２分。
【０７６８】
中間体２０３.２
【化６２２】
2009522226.tif 000734
中間体２０３.２を、中間体２０３.３(２５０mg、０.４６mmol)の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３５：ＣｔＲｅｔ＝３.８８分。
【０７６９】
中間体２０３.３
【化６２３】
2009522226.tif 000735
中間体２０３.３を、中間体２０３.４(１６０mg、５７３mmol)と(３Ｒ,５Ｓ)−出発物質−Ｆ(１３７mg、０.４８mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５４９：ＣｔＲｅｔ＝４.３１分。
【０７７０】
中間体２０３.４
【化６２４】
2009522226.tif 000736
中間体２０３.４を、中間体２０３.５(３５０mg、１.２mmol)とシクロプロピルアミン(６８５mg、１２mmol)の反応により、中間体４１.２の製造法に準じて合成する：黄色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２８０：ＣｔＲｅｔ＝２.５２分。
【０７７１】
中間体２０３.５
【化６２５】
2009522226.tif 000737
中間体２０３.５を、中間体２０３.６(６５０mg、２.７mmol)とＮ−ブロモスクシンイミド(７３０mg、４.１mmol)の反応により、中間体４２.３の製造法に準じて合成する：黄色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３０３、３０５：ＣｔＲｅｔ＝４.０６分。
【０７７２】
中間体２０３.６
【化６２６】
2009522226.tif 000738
中間体２０３.６を、３−ヒドロキシ−５−メトキシ−４−メチル安息香酸(CAS No. 72922-62-4、１ｇ、５.５mmol)と３−メトキシプロパノールの光延還元、続く中間体４２.５および中間体６２.５の製造法に準じた還元により、合成する：黄色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２４１：ＣｔＲｅｔ＝２.８７分。
【０７７３】
実施例２０４
【化６２７】
2009522226.tif 000739
実施例２０４を、中間体２０４.１(４０mg、０.０６mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３８：ＣｔＲｅｔ＝３.２８分。
【０７７４】
中間体２０４.１
【化６２８】
2009522226.tif 000740
中間体２０４.１を、中間体２０３.２(５０mg、０.０９mmol)と(Ｒ)−１−フェネチルアミン(１４mg、０.１１mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３８：ＣｔＲｅｔ＝４.３１分。
【０７７５】
実施例２０５
【化６２９】
2009522226.tif 000741
実施例２０５を、中間体２０５.１(６０mg、０.０８mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６０：ＣｔＲｅｔ＝２.７５分。
【０７７６】
中間体２０５.１
【化６３０】
2009522226.tif 000742
中間体２０５.２(１５０mg、０.２１mmol)の水性ＣＨ２Ｃｌ２溶液に、５％水性ＮａＨＣＯ３(１mL)および酢酸無水物(１０３mg、１mmol)を室温で添加する。３０時間、室温で撹拌後、反応混合物をＣＨ２Ｃｌ２(２０mL)で希釈し、５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空濃縮する。
ＲＰ−ＨＰＬＣ精製により、中間体２０５.１を得る：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７６０：ＣｔＲｅｔ＝３.６５分。
【０７７７】
中間体２０５.２
【化６３１】
2009522226.tif 000743
中間体２０５.３(６５５mg、０.７７mmol)のＣＨ２Ｃｌ２(１０mL)溶液に、トリエチルシラン(６００mg、５.２mmol)、トリエチルアミン(１５５mg、１.５４mmol)およびＰｄＣｌ２(８９mg、０.５mmol)を室温で添加する。４時間、室温で撹拌後、反応混合物をＨ２Ｏ(５０mL)でクエンチし、ＥｔＯＡｃ(１００mL)で抽出する。有機相を連続的に５％水性ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏ、および塩水で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空濃縮する。ＳｉＯ２カラムクロマトグラフィー精製により、中間体２０５.２を得る：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７１８：ＣｔＲｅｔ＝３.２９分。
【０７７８】
中間体２０５.３
【化６３２】
2009522226.tif 000744
中間体２０５.３を、４−アミノ−４−フェニル−ピペリジン−１−カルボン酸ベンジルエステル(CAS No, 619295-93-1、３１０mg、１mmol)と中間体１０８.２(４６７mg、０.８３mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝８５２：ＣｔＲｅｔ＝４.４３分。
【０７７９】
実施例２０６
【化６３３】
2009522226.tif 000745
実施例２０６を、中間体２０６.１(５５mg、０.０７mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６９６：ＣｔＲｅｔ＝２.９９分。
【０７８０】
中間体２０６.１
【化６３４】
2009522226.tif 000746
中間体２０６.１を、中間体２０５.２(１５０mg、０.２１mmol)とメタンスルホニルクロライド(１１４mg、１mmol)のスルホニル化により、中間体２０５.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝７９６：ＣｔＲｅｔ＝３.８８分。
【０７８１】
実施例２０７
【化６３５】
2009522226.tif 000747
実施例２０７を、中間体２０７.１(５７mg、０.０８mmol)の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７９：ＣｔＲｅｔ＝３.２０分。
【０７８２】
中間体２０７.１
【化６３６】
2009522226.tif 000748
中間体２０７.１を、中間体１７３.２(５０mg、０.１２８mmol)および中間体２０７.２(３９mg、０.１２８mmol)の縮合により、中間体１９.１の製造法に準じて合成する。無色油状物、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７９：ＢｔＲｅｔ＝２.２１分。
【０７８３】
中間体２０７.２
【化６３７】
2009522226.tif 000749
室温で、中間体８７.４(１.５３０ｇ、５.２０mmol)のＥｔＯＡｃ(１５mL)溶液を塩化錫(II)二水和物(４.１７ｇ、１８.５mmol)で処理し、８０℃に加熱し、６時間還流下に撹拌し、室温に冷却し、５Ｎ  ＮａＯＨ(１０mL)で処理する。濾過して得られた沈殿を濾取した後、ケーキを少量のＥｔＯＡｃで洗浄する。環境温度で、合わせた濾液を２−ヨードプロパン(３.１mL、３１.０mmol)で処理し、７０℃に加熱し、１８時間、同じ温度で還流下撹拌し、室温に冷却する。両方の層の分離後、水性層をＥｔＯＡｃ(３×６mL)で抽出し、合わせた有機層を塩水(１０mL)で洗浄し、乾燥させ(Ｎａ２ＳＯ４)、蒸発させる。ＳｉＯ２フラッシュクロマトグラフィー(７０ｇ、ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  １１：８)により、所望の生成物を、明黄色固体として得る。Ｒｆ(ヘキサン／ＥｔＯＡｃ  ３：２)０.４５。1H-NMR(400 MHz, CDCl3)1.21(d, J=6.2), 1.45(s), 1.90 - 1.95(m, 2 H), 3.34(s), 3.40(br. s), 3.43(t, J=6.0), 3.55(sep., J=6.2), 3.94(t, J=6.0), 6.24(dd, J=9.0, 0.4), 6.32(d, J=0.4), 6.77(d, J=9.0)。
【０７８４】
実施例２０８
【化６３８】
2009522226.tif 000750
実施例２０８を、中間体２０８.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。白色物質：Ｍ＋Ｈ＝５８６  ＡｔＲｅｔ＝２.２５分。
【０７８５】
中間体２０８.１
【化６３９】
2009522226.tif 000751
中間体２０８.１を、中間体２０８.２(１２１.８mg、０.２２mmol)および(Ｒ)−４,Ｎ＊１＊,Ｎ＊１＊−トリメチルペンタン−１,２−ジアミン塩酸塩(ＷＯ２００６００９８６９)(４７.２mg、０.２２mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６８６：ＡｔＲｅｔ＝３.１５分。
【０７８６】
中間体２０８.２
【化６４０】
2009522226.tif 000752
中間体２０８.２を、中間体２０８.３の加水分解により、中間体１３.２の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６０：ＣｔＲｅｔ＝３.３８分。
【０７８７】
中間体２０８.３
【化６４１】
2009522226.tif 000753
中間体２０８.３を、(３Ｒ、５Ｒ)−出発物質Ｆ(１３９.６mg、０.４８６mmol)および中間体１５０.２(１４８mg、０.４８６mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７４：ＡｔＲｅｔ＝３.８０分。
【０７８８】
実施例２０９
【化６４２】
2009522226.tif 000754
実施例２０９を、中間体２０９.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６９：ＣｔＲｅｔ＝３.２７分。
【０７８９】
中間体２０９.１
【化６４３】
2009522226.tif 000755
中間体２０９.１を、中間体１０８.２(９９mg、０.１８mmol)と(Ｒ)−(−)−１−シクロヘキシルエチルアミン(２８μL、０.１９mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６９：ＣｔＲｅｔ＝４.２０分。
【０７９０】
実施例２１０
【化６４４】
2009522226.tif 000756
実施例２１０を、中間体２１０.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２.５３：ＣｔＲｅｔ＝４９９分。
【０７９１】
中間体２１０.１
【化６４５】
2009522226.tif 000757
中間体２１０.１を、中間体１０８.２(５６mg、０.１mmol)およびシクロプロピルアミン(８μL、０.１２mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５９９：ＣｔＲｅｔ＝３.５３分。
【０７９２】
実施例２１１
【化６４６】
2009522226.tif 000758
実施例２１１を、中間体２１１.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝３.０８：ＣｔＲｅｔ＝５７５分。
【０７９３】
中間体２１１.１
【化６４７】
2009522226.tif 000759
中間体２１１.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)およびｔｒａｎｓ−２−フェニルシクロプロピルアミン塩酸塩(３７mg、０.２２mmol)の縮合により、Ｅｔ３Ｎ(３３μL、０.２３mmol)の存在下、中間体３２.３の製造法に準じて合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７５：ＣｔＲｅｔ＝４.０７分。
【０７９４】
実施例２１２
【化６４８】
2009522226.tif 000760
実施例２１２を、中間体２１２.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２.７１：ＣｔＲｅｔ＝５１３分。
【０７９５】
中間体２１２.１
【化６４９】
2009522226.tif 000761
中間体２１２.１を、中間体１０８.２(５６mg、０.１mmol)およびシクロブチルアミン(１０μL、０.１２mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６１３：ＣｔＲｅｔ＝３.７４分。
【０７９６】
実施例２１３
【化６５０】
2009522226.tif 000762
実施例２１３を、中間体２１３.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝２.５４：ＣｔＲｅｔ＝５４３分。
【０７９７】
中間体２１３.１
【化６５１】
2009522226.tif 000763
中間体２１３.１を、中間体１０８.２(１００mg、０.１８mmol)および中間体２１３.２(３０mg、０.２２mmol)の縮合により、Ｅｔ３Ｎ(３３μL、０.２２mmol)の存在下、中間体３２.３の製造法に準じて合成する。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６４３：ＣｔＲｅｔ＝３.５３分。
【０７９８】
中間体２１３.２
【化６５２】
2009522226.tif 000764
中間体２１３.２を、中間体２１３.３の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。物質をさらに精製することなく次工程に使用する。
【０７９９】
中間体２１３.３
【化６５３】
2009522226.tif 000765
中間体２１３.３を、１−(ヒドロキシメチル)シクロプロピルカルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル(J. Med. Chem. 1988, 31, 2004-2008)のメチル化により、中間体１５１.３の製造法に準じて合成する:1H NMR(CDCl3)δ 0.73-0.90(m, 4 H), 1.44(s, 9 H), 3.37(s, 3 H), 3.39(s, 3 H), 5.00(br s, 1 H)：Ｒｆ＝０.３８(ＡｃＯＥｔ：ｎ−ヘキサン＝１：１)。
【０８００】
実施例２１４
【化６５４】
2009522226.tif 000766
実施例２１４を、中間体２１４.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。白色物質：Ｍ＋Ｈ＝５５７  Ｃｔ  Ｒｅｔ＝２.６９分。
【０８０１】
中間体２１４.１
【化６５５】
2009522226.tif 000767
中間体２１４.１を、中間体１０８.２(１５０mg、０.２６８mmol)および中間体２１４.２塩酸塩(４０.６mg、０.２６８mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６５７：ｃｔＲｅｔ＝３.６９分。
【０８０２】
中間体２１４.２
【化６５６】
2009522226.tif 000768
中間体２１４.２を、中間体２１４.３の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。塩酸塩は白色物質：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝１１６  ＢｔＲｅｔ＝０.７１分。
【０８０３】
中間体２１４.３
【化６５７】
2009522226.tif 000769
((１Ｓ,２Ｓ)−２−ヒドロキシ−シクロペンチル)−カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル(Journal of Organic Chemistry(2004), 69(17), 5725-5734.)(２６１.０mg、１.２９mmol)のＴＨＦ(１０mL)溶液に、Ｎ２下、０℃で、ＮａＨ(１１４mｇの鉱油中６０ｗｔ％、２.８５mmol)を添加する。その温度で５分撹拌後、ヨウ化メチル(８０.３μL、１.２９mmol)を添加する。得られた溶液をｒｔで４５分撹拌する。反応をＨ２Ｏでクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させる。減圧下での濃縮により、粗生成物を得る。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して、所望の中間体２１４.３を得る。ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ−ｔＢｕ＝１６０：ＡｔＲｅｔ＝２.９０分。
【０８０４】
実施例２１５
【化６５８】
2009522226.tif 000770
実施例２１５を、中間体２１５.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５７０：ＣｔＲｅｔ＝２.５９、２.６５分。
【０８０５】
中間体２１５.１
【化６５９】
2009522226.tif 000771
中間体２１５.１を、中間体１０８.２(９８mg、０.１７５mmol)と１−(テトラヒドロピラン−４−イル)−エチルアミン(２８mg、０.２１７mmol、CAS-854697-78-2)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７１：ＣｔＲｅｔ＝３.４５分。
【０８０６】
実施例２１６
【化６６０】
2009522226.tif 000772
実施例２１６を、中間体２１６.１(６５mg、０.１mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５６４：ＣｔＲｅｔ＝３.２９分。
【０８０７】
中間体２１６.１
【化６６１】
2009522226.tif 000773
中間体２１６.１を、中間体３７.２(４８mg、０.１８mmol)と中間体１６９.２(５０mg、０.１２mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６６４：ＣｔＲｅｔ＝４.３７分。
【０８０８】
実施例２１７
【化６６２】
2009522226.tif 000774
実施例２１７を、中間体２１７.１(１００mg、０.１５mmol)の脱保護により、実施例１の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５５２：ＣｔＲｅｔ＝２.７９分。
【０８０９】
実施例２１８
【化６６３】
2009522226.tif 000775
実施例２１８を、中間体２１８.１(４５mg、０.０８mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５０１：ＣｔＲｅｔ＝２.６３分。
【０８１０】
中間体２１８.１
【化６６４】
2009522226.tif 000776
中間体２１８.１を、イソプロピルアミン(８.３mg、０.１３５mmol)と中間体１０８.２(５０mg、０.０９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０１：ＣｔＲｅｔ＝３.６６分。
【０８１１】
実施例２１９
【化６６５】
2009522226.tif 000777
実施例２１９を、中間体２１９.１(１０mg、０.０２mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５０３：ＣｔＲｅｔ＝２.３０分。
【０８１２】
中間体２１９.１
【化６６６】
2009522226.tif 000778
中間体２１９.１を、２−アミノプロパノール(８.３mg、０.１３５mmol)と中間体１０８.２(５０mg、０.０９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６０３：ＣｔＲｅｔ＝３.１８分。
【０８１３】
実施例２２０
【化６６７】
2009522226.tif 000779
実施例２２０を、中間体２２０.１(５０mg、０.０８mmol)の脱保護により、中間体１０３.２の製造法に準じて合成する。白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝５３１：ＣｔＲｅｔ＝２.５８分。
【０８１４】
中間体２２０.１
【化６６８】
2009522226.tif 000780
中間体２２０.１を、２−エトキシエチルアミン(１２mg、０.１３５mmol)と中間体１０８.２(５０mg、０.０９mmol)の縮合により、中間体１.１の製造法に準じて合成する：白色非晶性物質、ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６３１：ＣｔＲｅｔ＝３.５８分。
【０８１５】
実施例２２１
【化６６９】
2009522226.tif 000781
実施例２２１を、中間体２２１.１の脱保護により、実施例１９の製造法に準じて合成する。白色物質：Ｍ＋Ｈ＝５７１  ＣｔＲｅｔ＝２.８１分。
【０８１６】
中間体２２１.１
【化６７０】
2009522226.tif 000782
中間体２２１.１を、中間体１０８.２(１４８.１mg、０.２６５mmol)および中間体２２１.２塩酸塩(６０.５mg、０.３６５mmol)の縮合により、中間体３２.３の製造法に準じて合成する：ＥＳ−ＭＳ：Ｍ＋Ｈ＝６７１：ｃｔＲｅｔ＝３.８４分。
【０８１７】
中間体２２１.２
【化６７１】
2009522226.ti쉦゠〰㠷㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯銼볯⺑볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨⢪ꇥ뢅ꇥꮁ臣蒁臣⦦볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯醼볯邼†猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺑볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥隼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㐸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯醼鎼苣膀⠨볯뎼銼볯⦳裢銼裢銃菣궃苣랂裢랂苣궃菣뎃菣ꮃ銈苣ꮃ菣龃菣뢅뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣릂菣ꮃ䨨畯湲污漠⁦牏慧楮⁣桃浥獩牴⡹〲㐰Ⱙ㘠⠹㜱Ⱙ㔠㈷ⴵ㜵㐳⤮臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤銼볯钼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꆄ觨릲諧ꦉ볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ裢钽볯閽볯醼볯钼†猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯銼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥隼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㔸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯銼苣膀룤鎖뷤銼볯銼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯鞼†猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺒볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥隼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㘸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯銼醼苣膀룤鎖뷤醼볯钼銼醼볯馼銼杭胣邼銼볯涑潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯钼볯⺘볯ꦡ藩ꦡ隼볯涘膀볯⺐볯鞼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯銼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥隼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㜸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯鎼苣膀룤鎖뷤銼볯鎼醼鎼볯涕膀볯⺐볯閼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺓볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥隼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㠸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鎼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣袂臣銼閼裢뢂菣��菣랂苣궃菣궂苣ꮃ苣龃菣⢳볯邼杭꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯馼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯銼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥隼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㤸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯钼苣膀룤鎖뷤銼볯钼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯鞼†猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥આ䐼噉邀볯颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯钼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤷㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺔볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯閼볯涐膀볯⺐볯隼볯涘潭⥬臣袂臣⢳볯⦲裢ꢂ菣ꮃ菣뎃苣ꮃ苣龃菣⢳볯⺐볯鎼볯閼䱭胣邼銼볯颼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯閼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯銼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥隼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰ㄹ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯閼苣膀룤鎖뷤銼볯閼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯鞼†猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯銼裥આ䐼噉邀볯颼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯閼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤷㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺕볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯閼볯涐膀볯⺐볯隼볯涘潭⥬臣袂臣⢳볯⦳裢ꢂ菣ꮃ菣뎃苣ꮃ苣龃菣⢳볯⺐볯鎼볯閼䱭胣邼銼볯颼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯钼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯銼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲖牢ਾ䐼噉邀賥隼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㌹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯隼苣膀룤鎖뷤銼볯隼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼邼볯蚈㰊䥄㹖胣��邼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺖볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥隼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㐹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯隼醼苣膀룤鎖뷤醼볯钼銼醼볯閼隼杭胣邼銼볯颼浭汯誁苣뎁늼銈볯銈菣袃苣랂菣膃菣銈볯銈菣膃菣隃菣ꮃ苣龃菣ꦡ藩ꦡ伨杲‮敌瑴‮〲㄰‬ⰳㄠ㐲⤱閼볯涖膀볯⺐볯鎼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯钼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯銼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲗牢ਾ䐼噉邀賥隼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㔹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯鞼苣膀룤鎖뷤銼볯鞼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺗볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥隼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㘹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼醼苣膀룤鎖뷤銼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣궸雩鎽볯閼볯⺒볯⢒볯隼杭胣邼钼볯涐潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯醼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯颼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤷㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯銼볯銂胣궸雩鎽볯銼볯⺘볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯颼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤷㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯閼볯涐膀볯⺐볯鞼浭汯ꢁ뎼銈볯銈苣袃苣랂菣膃菣銈볯銈菣膃菣隃菣ꮃ苣龃菣ꦡ藩ꦡ랼볯馼볯醼볯邼볯鞼胣閼볯涔膀볯⺐볯邼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲙牢��䐼噉邀賥隼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㜰㤹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯馼苣膀룤鎖뷤銼볯馼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯钼裥આ䐼噉邀볯颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰〸㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯馼銼銼볯⺙볯涔膀볯⺐볯邼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯钼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺙볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥隼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㄰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†볯钽볯螽볯銽醼볯⺓볯涒膀볯鎼銼浭汯胣뒼볯ꚼ룤醼볯⦭苣膀苣ꮃ苣뎃룤膀裢鞼볯莄臣钼裢랂苣躃菣袃菣銃菣궃裢钼볯銈菣ꦃ菣⢳볯邼볯涐膀볯⺖볯醼浭汯誁苣뎁볯覽꾼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰覽⼼畳㹰볯銽㰩畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵⠾볯⺑볯钼䱭胣隼隼볯涐潭⥬臣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼隼볯涐⥌뫦늶臣뮷諥馁苣芀뫦늶苣醼駦鎖臣鎖苣ꎁ臣誂껥ꦸ臣ꦸ苣膀臣貂苣ꆬ臣ꞁ뷯钽臣鎼볯蚈鋦貋臣讂胣鎁臣떮髩ꞁ胣ꊼ볯㲦畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵뮃볯ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯⺑볯馼䱭胣醼볯⺒볯銼浭汯銂럦ꂊ臣膀鋦貋苣銼駦鎖뛧醁苣芀냦⢴볯邼䱭膀뛧蒁臣醼볯薼냦Ꞁ볯ꎼ뷯⢌볯邼䱭誁苣뎁볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯⢯볯邼䱭銂럦ꂊ臣讂胣醼볯薼볯膽볯ꢼ냦Ꞁ뫦늶苣膀뷯ꢼ臣ꦡ鿥Ꞁ臣ꪁ苣뺁臣鞾苣貂臣辀飦랷郥ꦉ臣뮷諥馁苣芀铧邈觧銂볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯⢯볯쎒鎼볯涐⥌臣붊蟥馁苣芀郥辂臣龁鳦龩諦몇觧銂볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣讂胣뚺ꫥ莿駧貾胣龔裦ꦉ苣뺲ꏨ鮁臣ꮁ곦趏뿥ꮁ뷤ꢔ臣讂볯蒻觨릲諧ꦉ臣鞁臣鞾苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯鶼⼼畳㹢볯⺑볯閼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鎼볯㲐牢ਾ䐼噉邀賥隼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵��㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㈰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯邼苣膀룤鎖뷤銼볯邼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼隼볯蚈㰊䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺐볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥隼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㌰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯邼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯颼볯涖潭⥬臣袂臣醼裢ꆃ菣궂苣ꆃ菣ꮃ裢랂苣궃菣뎃菣ꮃ苣龃菣ꦡ藩ꦡ䨨畯湲污漠⁦敍楤楣慮⁬桃浥獩牴⡹〲㘰Ⱙ㐠⠹ㄱⰩ㌠㘰ⴸ〳㘷⤮钼볯⺐볯涕膀볯⺐볯颼볯涗潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰〸㰴愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鎼볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺑볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺑볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥隼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㔰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯醼醼苣膀룤鎖뷤銼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯颼볯涖潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯馼볯⺒볯ꦡ藩ꦡ钼볯⺐볯涕膀볯⺐볯颼볯涗潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯邼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰〸㰶愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鎼볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺒볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯銼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰〸㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涒膀볯⺐볯颼浭汯ꢁ醼볯Ⲳ볯늼銈볯銈苣龃菣銈苣꾂菣颃苣떂菣벃菣ꦡ藩ꦡ鎼볯涑膀볯⺐볯��浭汯胣䎁十ㄭ㌳㐷㌭ⴱ⤷臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰〸㰸愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鎼볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺓볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鎼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰〸㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺓볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涕膀볯⺐볯馼浭汯ꢁ볯銈菣袃苣랂裢랂苣궃菣궂苣뎃菣뾂菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩볯醼杭胣邼銼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰ㄸ㰰愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鎼볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯钼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰ㄸ㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺔볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯醼볯涘膀볯⺐볯醼浭汯ꢁ뎼銈讼銈볯銈苣꾂菣颃苣랂菣ꢂ菣ꮃ苣龃菣⢳볯钼볎膀볯⺐볯鎼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯隼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鎼볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㈱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯閼苣膀룤鎖뷤銼볯閼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯馼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯��볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺕볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㌱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯閼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯鎼杭胣邼銼볯涔潭⥬臣钽뷯膽뷯鎽裢銼裢ꢂ菣궂苣銈苣꾂菣颃苣떂菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩볯鞼杭胣邼銼볯涖潭膀䅃ⵓ㘵㔲ⴱ㐹㘭꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鎼볯㲖牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㐱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯隼苣膀룤鎖뷤銼볯隼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯⺓볯钼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯閼볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺖볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㔱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯隼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣袂臣醼裢⢒볯銈菣ꮃ苣궃菣Ꞃ菣ꮃ랂苣궃菣궃菣ꮃ苣龃菣⢳⹊传杲‮桃浥‮〲㌰‬㠶‬ㄷ㌳㜭㌱膀볯醼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯邼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯鞼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰ㄸ㰶愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鎼볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺗볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鞼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰ㄸ㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺗볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯銼볯涓膀볯⺐볯涒潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯鎼볯⺗볯⢒볯邼杭胣邼鎼볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵꺼钼볯캖䲼胣邼鎼볯涓潭⥬臣颭鳥许胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ��鎖뷤銼볯鞼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰ㄸ㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺗볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺗볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꦉ돨銂臣覂臣뺲ꏨ馁苣鎁臣ꪁ臣ꆬ럥讨臣뾽铧馁苣芀㰊䥄㹖胣邼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺗볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㤱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼鎼苣膀볯銈銃菣궃苣랂菣膃菣⦫苣꾂菣鞃菣钃菣ꮂ菣邃菣뎃藩钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫⹊䴠摥‮桃浥‮㤱㠸‬ㄳ‬〲㐰㈭〰⤸臣ꢂ菣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯銼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯閼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鎼볯㲘牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰〲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯颼苣膀룤鎖뷤銼볯颼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯⺒볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯閼볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺘볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰ㄲ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯颼醼苣膀룤鎖뷤銼볯颼銼馼볯涔膀볯⺐볯鞼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯鎼銼銼볯涓膀볯⺐볯鞼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢볯⢮볯隼볎膀볯⺐볯颼浭汯꺁귥ꢜ룤膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯醼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯閼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鎼볯㲙牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㈲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯馼苣膀룤鎖뷤銼볯馼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯⺒볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯閼볯閼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺙볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㌲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯馼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼馼볯涔膀볯⺐볯鞼浭汯誁苣뎁뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣龃菣⢳볯鎼杭胣邼醼볯涗潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼��鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯邼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㈸㰴愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯钼볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺐볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯邼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㈸㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯ꢁ뎼銈볯銈菣袃苣랂菣膃菣銈볯銈菣膃菣隃菣ꮃ苣龃菣ꦡ藩ꦡ䨨‮牏⹧䌠敨⹭ㄠ㜹ⰸ㐠ⰳ㠠㈹胣鎼볯⺖볯涔膀볯⺐볯邼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯銼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯隼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯钼볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㘲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯醼苣膀룤鎖뷤銼볯醼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯馼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺑볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㜲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯醼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣⢨볯⦳裢醼裢ꢂ菣궂苣ꆃ菣ꮃ裢鎼裢ꆃ菣ꮃ菣膃菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩볯꾼볯鎼볯閼볯钼볯膀볯隼钼杭胣邼銼볯涐潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㈸㰸愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯钼볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺒볯⢑볯銼볯涐膀볯⺐볯邼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯閼��㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯銼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㈸㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯⢒볯馼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣궸雩鎽볯钼볯⺒볯⢒볯醼볯涐膀볯⺐볯鎼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯銼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㌸㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺒볯⢓볯銼볯涐膀볯⺐볯钼浭汯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ臣隺臣龁볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯钼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯銼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㌸㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺐볯⢒볯醼볯涑膀볯⺑볯閼浭汯ꢁ鎼볯Ⲳ볯뎼銈蟥몙觧ꪳ裢ꚼ鎼볯邼杭胣醼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯颼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯隼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯钼볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㈳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯鎼苣膀룤鎖뷤銼볯鎼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯隼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺓볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㌳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鎼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣랂苣궃菣鞃菣ꮃ苣龃菣⢳볯醼邼杭胣邼鎼볯涖潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼馼볯蚈胣ં䐼噉邀��颼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㌸㰴愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯钼볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺔볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㔳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯钼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯銼钼杭胣邼醼볯鎼浭汯誁苣뎁볯銈苣袃苣랂菣膃菣銈苣꾂菣骃菣膃菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩潊牵慮⁬景䴠摥捩湩污䌠敨業瑳祲㈨〰⤶‬㤴ㄨ⤱‬〳㠶㌭㜰⸶⠩볯銼颼杭胣邼醼볯鎼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鞼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯钼볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㘳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯閼苣膀룤鎖뷤銼볯閼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯⺒볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯閼볯閼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺕볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㜳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯閼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣袂臣銼裢ꆃ菣궂苣銈볯ⲑ볯銈苣ꆃ菣ꮃ裢ꢂ菣ꮃ苣龃菣⢳볯閼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯馼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㌸㰸愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯钼볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺙볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯隼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㌸㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺖볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯��邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯隼銼銼볯涘膀볯⺐볯颼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺖볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰〴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯隼銼苣膀룤鎖뷤銼볯隼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀觧ꪳ苣閁苣ꮁ닧붣臣讂臣ꢁ臣辁곦ꖷ꣧ꮁ뷤ꢔ臣讂胣ં䐼噉邀볯颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯隼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐸㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺖볯銂胣⢁볯銈菣覃菣궂苣銈볯ⲑ볯銈苣ꆃ菣ꮃ裢ꢂ菣ꮃꮂ菣邃菣뎃藩钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫⹊传杲‮桃浥‮〲㌰‬㠶‬㐷ⴳ㐷⤶臣ꢂ菣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ㄾ⼼畳㹰⁈䵎⡒䑃汃猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㌾⼼畳㹢츩₴⸱㤱琨‬″⥈‬⸱㤲猨‬‶⥈‬⸱㌴猨‬‹⥈‬⸳㌳猨‬′⥈‬⸳ㄵ焨‬′⥈‬⸴㠷戨⁲ⱳㄠ䠠芀㰊䥄㹖胣邼볯鞼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯钼볯㲗牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㈴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯鞼苣膀룤鎖뷤銼볯鞼醼钼볯涕膀볯⺐볯鞼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鞼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐸㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺗볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯⢒볯颼杭胣邼醼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯鞼銼钼볯涓膀볯⺐볯颼볯涕潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯颼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺗볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㐴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼銼苣膀룤鎖뷤銼볯鞼鎼钼볯涕膀볯⺐볯颼볯涗潭⥬臣ꂊ냦蚈꟨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰��⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鞼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐸㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺒볯⢓볯邼杭胣邼醼浭汯꺁볯궼볯뚺뛦ꮁ胣ꮼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢醼볯涗膀볯⺐볯銼浭汯誁苣뎁菣Ꚃ賥ꆃ菣ꮃ銼볯涐膀볯⺐볯涒潭⥬苣뮷諥馁苣芀迥鲿럦袐觧銂껥ꦸ臣鎼볯芙雩릒详馁苣芀볯薼냦Ꞁ볯ꢼ볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢럦ꂊ뻥膀럦袐觧銂볯钽볯ꆼ뷯ꞁ諦몇臣讂胣袐苣鮁臣覜ꧦ뢛苣뒰臣袂臣ꦡ냦ꞁ듦蒵臣膀매ꖇ臣鮁苣⢋볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢芀룦Ꞝ룤꺁뿦꺸臣袂臣늼볯銈볯낼볯ꎼ臣꺁닧붣臣袂苣膀룤鎖뷤銼볯鞼鎼苣鞾苣骼駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯隼胣ં䐼噉邀볯颼볯邼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯颼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐸㰶愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯钼볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯⢑볯邼杭胣邼醼볯涓潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯钼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯颼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐸㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯⢔볯鎼杭胣邼銼볯涒潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯钼볯⺘볯⢒볯隼杭胣邼銼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣龮雦设볯銼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯颼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺘볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㠴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯颼銼苣膀룤鎖뷤銼볯颼鎼閼볯邼杭胣醼鞼볯涙潭⥬臣袂臣랂苣궃菣궃菣ꮃ苣龃菣⢳볯邼볯涕膀볯⺕볯邼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯銼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯隼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺��睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺘볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㤴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯颼鎼苣膀볯銈菣궃菣銈볯銈苣궃菣閃苣躃菣ꮃ醼閼볯螽胣鞼銼볯涐潭⥬臣袂臣袃菣ꢂ菣銈볯銈苣ꮃ菣뎃藩鎼裢ꆃ菣궂苣鞃菣钃菣ꢂ苣蚃菣⢫볯⺑볯閼뷯膀볯⺘볯邼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺗볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧鮼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯颼钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔸㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯⢕볯銼볯涐膀볯⺒볯隼浭汯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯鞼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯颼閼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔸㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺘볯銂胣⢁볯뎼閼볯⦲裢몇駧ꦉ돨銈볯⢦볯隼볯涕膀볯⺒볯隼浭汯ꢁ늼銈볯銈菣Ꞃ菣ꮃ裢ꢂ菣ꮃ苣龃菣⢳볯⺐볯颼䱭胣銼馼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯隼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯馼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔸㰲愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯钼볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺙볯⢑볯邼杭胣邼醼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯颼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺙볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㌵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯馼醼苣膀룤鎖뷤銼볯颼钼颼볯涓膀볯⺐볯銼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯馼銼閼볯涖膀볯⺐볯銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀껥붖뻤醼볯閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ��ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔸㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺙볯⢓볯钼볯涐膀볯⺑볯涖潭⥬臣꺁苣꾂菣鞃菣钃菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤颼볯⺗볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鯥鎽胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯钼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔸㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺙볯⢔볯閼볯涕膀볯⺒볯颼浭汯꺁볯钽볯ꢼ鎼䱭뚺뛦ꮁ胣ꦡ賥ꊂ菣ꊃ菣Ꚃ菣⢠볯钼볯涔膀볯⺔볯隼浭汯膀냦⢴볯涓⥌臣袂臣몼뷯⢎볯钼볯涖膀볯醼钼浭汯銂럦ꂊ臣讂胣랷郥ꦉ苣颼볯莄臣鎼볯蚈鋦貋臣膀곦蒁臣뮂菣ꒂ菣ꞁ뿦躁臣讂胣뺿뛦銂鳧목룤ꞁ뿦꺸臣膀苣ꪃ苣늂菣ꮂ菣ꂃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣ꞁ닧붣臣ꚁ胣궸雩鎽볯钼볯⺙볯銂蓧늉닦뚊觧ꢁ臣ꚁ뻥讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯钼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔸㰶愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺙볯銂胣钼裢閃菣ꪂ菣銈볯銈菣膃菣銈볯銈菣袃菣閃苣躃菣ꮃ醼볯醼杭胣醼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鞼閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯钼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯醼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯邼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔸㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺐볯⢑볯閼杭胣邼邼볯涕潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯邼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔸㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁볯銈��龃菣銈볯銈菣膃菣랂苣궃菣궂苣뎃臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯馼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯閼볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㤵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯醼苣膀룤鎖뷤銼볯醼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯醼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㘸㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺔볯⢒볯醼볯⺘볯涒膀볯⺐볯醼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯醼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯隼馼杭胣邼銼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㘸㰱愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺒볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯銼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺒볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㈶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯銼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯颼볯涖潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯閼볯⺒볯ꦡ藩ꦡ鎼볯涔膀볯⺐볯邼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯钼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺒볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㌶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯銼銼苣膀룤鎖뷤銼볯銼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼��醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺒볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㐶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯銼鎼苣膀볯辽뷯銈볯銈菣ꪃ菣벃菣⢫潊牵慮⁬景传杲湡捩䌠敨業瑳祲㈨〰⤰‬㔶ㄨ⤶‬〵㜳㔭㐰⸲꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯銈볯辽뷯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鎼裥આ䐼噉邀볯颼볯馼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㘸㰵愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺓볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺓볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㘶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鎼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯颼浭汯誁苣뎁늼銈볯銈菣袃苣랂菣膃菣銈볯銈菣膃菣銈菣궃菣ꮃ苣龃菣⢳볯꾼볯閼볯鞼볯閼볯⦗銼볯⺗볯涓膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯醼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㘸㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯颼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺔볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㠶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯钼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯颼浭汯誁苣뎁뎼銈볯銈苣袃苣랂裢醼裢閃苣讃菣銈苣膃菣ꊂ菣뎃랼볯銼볯邼볯邼볯邼볯鞼볯⦓鎼볯⺕볯涙膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼邼볯芀裥芀㰊䥄㹖胣邼볯邼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯閼볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡��晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㤶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯閼苣膀룤鎖뷤銼볯閼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺕볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰〷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯閼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣궸雩鎽볯閼볯⺕볯⢒볯隼銼杭胣邼銼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯閼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㜸㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺕볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺕볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯醼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯閼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㜸㰲愯㰾䐯噉ਾ ⠠醼볯Ⲳ볯뎼銈볯銈菣覃菣궂苣銈苣뎃菣뎃裢醼裢ꒂ菣⦫裢ꮂ菣邃菣뎃藩钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫볯邼볯涐膀볯⺑볯邼浭汯꺁볯궼볯⢦볯涓⥌뫦늶臣膀볯㲮畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵许胣邼蓢ꞁ胣꺼뷯ꢼ醼볯钼螽臣놉닦궸볯邼뷯钽볯膀볯⺒볯邼浭汯銂럦ꂊ臣讂胣貐臣ꦸ뫥ꞁ闦蚈鋦貋뻥膀볯钽볯⢩볯⺐볯邼䱭胣醼銼볯涐潭⥬苣뮷諥馁苣芀뻥覂苣龁뫦늶苣銽뷯ꞁ볯芙雩릒详馁苣芀迥鲿苣ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯ꞁ苣ꢂ菣膃臣膀럦袐觧銂볯钽볯ꆼ뷯ꞁ諦몇臣膀볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣讂胣鮸鳥许臣莿룧ꮁ苣誂胣鞲铧邈觧銂뻥讂胣鞲铧邈觧銂苣ꪃ苣늂菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣袂苣뺲ꏨ鞁臣膀룤鎖뷤銼볯閼鎼苣鞾苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯銈猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钽⼼畳㹰볯閽볯銼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯隼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴��㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㜸㰳愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺖볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯隼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㜸㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺖볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯閼볯涐膀볯⺐볯鞼浭汯ꢁ볯銈菣膃菣銈볯銈菣Ꞃ菣ꮃ裢ꢂ菣ꮃ苣龃菣⢳볯钼邼杭胣邼钼볯涐潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯馼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯鞼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㜸㰵愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺗볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺗볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㘷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯鎼볯涖潭⥬臣袂臣⢳볯⦳裢銼裢ꆃ菣궂苣銈볯銈菣Ꞃ菣ꮃ裢ꢂ菣ꮃ苣龃菣⢳敔牴桡摥潲㩮獁浹敭牴⡹〲㌰Ⱙㄠ⠴⤵‬㈵ⴵ㈵⸸⠩볯邼邼볯涘膀볯⺐볯醼볯隼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯閼볯㲘牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㜷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯颼苣膀룤鎖뷤銼볯颼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺘볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㠷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯颼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣궸雩鎽볯閼볯⺘볯⢒볯隼銼杭胣邼銼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ��誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯颼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㜸㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺘볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯醼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯颼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㠸㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺘볯銂胣⢁醼볯ⲳ볯늼銈볯銈菣覃菣궂苣銈苣뎃菣뎃裢醼裢ꒂ菣⦫裢ꮂ菣邃菣뎃藩钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫볯邼볯涐膀볯⺑볯邼浭汯ꢁ볯膽볯⢨볯邼볯涔뷯꺁觩릲룤隼볯鞽뷯薼胣銼隼볯涐潭⥬臣袂臣ꖼ뷯ꦼ邼醼볯涐膀볯⺑볯邼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯銈猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钽⼼畳㹰볯閽볯銼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯㲃猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯馼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㠸㰱愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺙볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㠸㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁볯銈苣龃菣銈볯銈菣膃菣鞃菣钃苣讃菣ꪃ菣⢫볯鎼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯邼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㠸㰳愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺐볯⢑볯銼杭胣邼醼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣��誂胣龮雦设볯銼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯馼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺐볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㐸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯邼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣袂臣⢳볯⦲裢銼銼裢뢂菣膃菣랂苣궃菣궂苣ꮃ苣龃菣⢳볯钼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯隼볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㔸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯醼苣膀룤鎖뷤銼볯醼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯醼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㠸㰶愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯隼볯⺑볯ꦡ藩ꦡ钼볯⺒볯涘膀볯⺐볯隼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯醼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺑볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㜸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯醼銼苣膀룤鎖뷤銼볯醼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯醼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯醼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㠸㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺑볯銂胣ꊼ뷯莽裢겼裢邃菣躃菣ꮃ䨨畯湲污漠⁦流牥捩湡䌠敨業慣⁬潓楣瑥⡹〲㐰Ⱙㄠ㘲㌨⤷‬ㄱ㐴ⴰㄱ㐴⸱꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯讼볯銈볯辽뷯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪��瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯銼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯隼볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㤸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯銼苣膀룤鎖뷤銼볯銼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯銼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤸㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣袂臣캳銈苣袃苣랂菣膃菣銈菣뎃苣뎃菣뾂菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩볯낼볯馼볯鎼볯隼⠩볯鞼鎼杭胣邼銼볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤸㰱愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺓볯⢑볯钼杭胣邼邼볯涗潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鎼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤸㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺓볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁뎼銈볯Ⲓ볯銈苣ꆃ菣ꮃ苣꾂菣颃苣랂菣ꊂ菣뎃钼볯涔膀볯⺐볯鞼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤸㰳愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯钼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴��㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤸㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺔볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯钼銼钼볯⺗볯涐膀볯⺐볯銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯閼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺔볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㔹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯钼銼苣膀룤鎖뷤銼볯钼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯銼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺔볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㠰㘹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯钼鎼苣膀⠨볯뎼銼볯⦳裢銼裢銃菣궃苣랂裢ꒂ菣肃菣銈볯銈苣ꮃ銈苣ꮃ菣龃菣뢅뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣릂菣ꮃ醼볯邼杭胣邼閼볯涖潭⥬臣꺼뷯ꢼ钼볯⺙볯涓뷯꺁觩릲룤隼볯鞽뷯薼胣醼銼볯涓潭⥬臣袂臣ꖼ뷯ꦼ邼邼볯涕膀볯⺐볯鞼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯銈猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钽⼼畳㹰볯閽볯銼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯醼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯閼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤸㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺕볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯閼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤸㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺕볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁볯銈菣袃苣랂裢醼裢ꆃ菣궂苣ꆃ菣ꮃ裢醼裢ꆃ菣ꮃ裢ꢂ菣ꮃ苣龃菣⢳볯鞼杭胣邼銼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯��胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯閼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤸㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺕볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺕볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꦉ돨銂臣覂臣뺲ꏨ馁苣鎁臣ꪁ臣ꆬ럥讨臣뾽铧馁苣芀㰊䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺕볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰〰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯閼鎼苣膀룥ꦲ臣銼裢钽뷯銽뷯銈菣袃苣랂苣ꮃ菣讃菣ꊂ菣躃裢銼裢ꆃ菣ꮃ裢醼鎼裢鞃菣醃菣뢂苣벃菣꺁菣膃菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯醼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯钼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯隼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰〹㰱愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺖볯⢑볯銼볯涐膀볯⺐볯馼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯邼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺖볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㈰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯隼醼苣膀늼銈볯銈菣袃苣랂裢醼裢ꆃ菣ꮃ苣膃菣ꊂ菣뎃䌨十丠Ɐ㘠㘲㈲ⴰ㘷㘭胣钼볯涐膀볯⺐볯銼볯涒潭⥬臣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯銼볯涐膀볯⺐볯醼볯涔潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯隼볯㲗牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㌰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯鞼苣膀룤鎖뷤銼볯鞼醼醼볯閼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鞼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰〹㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺗볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺗볯⢒볯閼杭胣邼鎼볯銼浭汯��룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鞼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰〹㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺗볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺗볯⢓볯钼볯涑膀볯⺒볯鞼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯邼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ㄾ⼼畳㹰ⵈ䵎⡒䵄体搭ⰶ㐠〰䴠穈㨩듎ㄠㄮ⠵䠳‬⥴‬⸱㜱㌨ⱈ搠Ⱙ㌠㌮ⴷ⸳㤵㔨ⱈ洠Ⱙ㠠〮⠰䠳‬牢芀㰊䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺗볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㘰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼鎼苣膀⠨볯⦲裢銼裢銃菣궃苣랂裢醼裢ꆃ菣ꮃ苣膃菣⦫苣ꮃ菣龃菣뢅뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣릂菣ꮃ颼볯颼杭胣閼醼볯涓潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯颼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣㲁畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰱猯灵䠾中前䌨䍄㱬畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰳猯扵ⰾ㐠〰䴠穈㨩듎ㄠㄮ⠷䠳‬⥴‬⸱㤱㌨ⱈ搠Ⱙㄠ㐮⠵䠹‬⥳‬⸳㌳㌭㌮⠹䠲‬⥭‬⸳㌴㌭㔮⠲䠲‬⥭‬⸳〸ㄨⱈ戠⥲‬⸴㤶ㄨⱈ戠⥲胣ં䐼噉邀볯馼볯醼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯颼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰〹㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺘볯⢑볯醼볯涐膀볯⺐볯鞼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯邼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯颼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺘볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㠰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯颼醼苣膀룤鎖뷤銼볯颼銼钼볯涕膀볯⺐볯銼볯涒潭⥬臣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯銼볯涐膀볯⺐볯醼볯涔潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯钼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺘볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㤰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯颼銼苣膀룤鎖뷤銼볯颼鎼銼볯醼杭胣醼邼볯涖潭��臣놄뿤랭臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯㲚畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰱猯灵䠾中前䌨䍄㱬畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰳猯扵ⰾ㐠〰䴠穈㨩듎ㄠ㈮⠴䠳‬⥴‬⸱㐴㌨ⱈ搠Ⱙ㌠㔮ⴲ⸳㜶㔨ⱈ洠Ⱙ㠠㌮⠹䠳‬牢芀㰊䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺘볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥鞼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰〱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯颼鎼苣膀⠨볯⦳裢銼裢銃菣궃苣랂裢醼裢ꆃ菣ꮃ苣膃菣⦫苣ꮃ菣龃菣뢅뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣릂菣ꮃ馼볯隼杭胣閼鎼볯涔潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯颼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯㲚畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰱猯灵䠾中前䌨䍄㱬畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰳猯扵ⰾ㐠〰䴠穈㨩듎ㄠㄮ⠷䠳‬⥴‬⸱㤱㌨ⱈ搠Ⱙㄠ㐮⠵䠹‬⥳‬⸳㌳㌭㌮⠹䠲‬⥭‬⸳㌴㌭㔮⠲䠲‬⥭‬⸳〸ㄨⱈ戠⥲‬⸴㤶ㄨⱈ戠⥲胣ં䐼噉邀볯馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯馼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰ㄹ㰱愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺙볯⢑볯邼杭胣邼邼볯涖潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰ㄹ㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺙볯⢒볯隼杭胣邼銼浭汯ꢁ룤鎖뷤醼볯馼銼鞼볯涐膀볯⺐볯鞼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀껥붖뻤醼볯閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰ㄹ㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺙볯⢓볯邼볯涐膀볯⺑볯涕潭⥬臣놄냦ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯邼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨몛뷤膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯馼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺙볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㐱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯馼鎼苣膀룤鎖뷤銼볯馼钼閼볯邼杭胣醼閼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩��볯馼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰ㄹ㰵愯㰾䐯噉ਾ ꆃ菣ꮃ볯Ⲓ볯銈苣꾂菣궃菣뎂菣趃菣袃颼뷯膀볯馼浭汯膀볯銈菣袃苣랂菣궃菣躃菣ꮃ醼볯螽胣醼볯閼浭汯膀臣袂臣ꮼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢醼볯螽胣醼볯隼浭汯꺁볯궼볯⢦볯邼䱭궸臣랷郥ꦉ苣颼볯莄臣릒详馁苣芀볯颼駦鎖鋦貋뻥膀迥鲿럦袐觧銂껥ꦸ臣랆跥鞁胣랰볯ꖼ뷯꾼볯莽閼볯邼볯閼볯邼†뷯込뷯⦖臣ꢳ臣膀裥ꊛ臣讂胣覜ꧦ뢛苣ꎀ뛧蒚臣ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯ꞁ볯麛胣誁苣뎁ꇥ뒰臣鞴뗦鞁胣ꆬ臣ꞁ볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀鳧목뿦꺸臣讂胣鞲觧ꪳ苣閁苣ꮁ닧붣臣讂臣ꢁ臣辁곦趏뿥ꮁ뷤ꢔ臣讂胣㲂牢ਾ†닧龔裦ꦉ胣랂苣궃菣궃菣ꮃ苣龃菣膀臣袂臣ꮼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢臣꺼볯낼룤꺁럦袐觧銂볯邼蓢ꞁ鋦貋臣讂胣銼볯芙雩릒详貾胣趏뿥랷郥ꦉ苣꒮룦ꮁ蛥뒍臣膀냦込볯钽볯ꆼ뷯⢃볯邼볯込볯邼볯ₐ隽볯隽ꮁ돦躁胣붊蟥馁苣覜ꧦ뢛苣ꎀ뛧蒚臣ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯ꞁ볯麛胣誁苣뎁ꇥ뒰臣鞴뗦鞁胣꺼뷯㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁胣龜ꧧ莿룧馁苣芀볯覽볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꮂ菣ꂃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣뺲ꏨꮁ苣誂胣궸雩鎽볯隼볯⺙볯銂뻥讂볯붙觨몛뷤膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯馼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯閼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鞼볯㲐牢ਾ䐼噉邀賥颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㘱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯邼苣膀룤鎖뷤銼볯邼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯邼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴��゠〰ㄹ㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣袂臣⢳볯⦲裢⢒裢⦒裢醼裢ꊂ菣躃裢醼裢閃苣讃菣銈볯銈菣袃苣랂苣뾂菣ꦡ藩ꦡ伨杲湡捩匠湹桴獥獥ㄨ㤹⤸‬㔷ㄠⴹ〳⤮볯鎼銼杭胣邼醼볯颼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯閼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鞼볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㠱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯醼苣膀룤鎖뷤銼볯醼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺑볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㤱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯醼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣궸雩鎽볯鞼볯⺑볯⢒볯鞼邼杭胣邼銼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯醼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㈹㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺑볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯醼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯醼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㈹㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺑볯銂胣⢁醼볯Ⲳ볯늼銈볯銈菣覃菣궂苣銈苣뎃菣뎃裢醼裢ꒂ菣⦫裢ꮂ菣邃菣뎃藩钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫摁⹶匠湹桴‮慃慴⹬㈠〰ⰵ㌠㜴‬㔲⸵胣銼볯邼杭胣醼邼볯涐潭⥬臣꺼뷯ꢼ颼볯涘뷯꺁觩릲룤隼볯鞽뷯薼胣銼銼볯涐潭⥬臣袂臣ꖼ뷯ꦼ邼邼볯涙膀볯⺑볯涑潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯颼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ裢㲒畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯㲔猯灵ꊼ뷯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮��朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯閼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鞼볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㈲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯銼苣膀룤鎖뷤銼볯銼醼醼볯邼杭胣邼醼볯涙潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯銼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㈹㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺒볯銂胣⢁볯⦳裢銼裢ꆃ菣궂苣銈볯銈菣膃菣ꢂ菣ꮃ苣龃菣⢳볯邼杭胣邼鎼볯銼浭汯ꢁ룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㈹㰴愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鞼볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺓볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯邼裥આ䐼噉邀볯馼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鎼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㈹㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺓볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣袂臣⢳볯⦳裢醼裢ꆃ菣궂苣ꆃ菣ꮃ裢銼裢ꆃ菣ꮃ裢鞃菣钃菣ꊂ菣뎃䨨畯湲污漠⁦牏慧楮⁣桃浥獩牴⡹㤱㠸Ⱙ㔠⠳㌱Ⱙ㈠㤹ⴱ⸹⠩볯鞼鎼杭胣邼醼볯颼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯閼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯隼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鞼볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㘲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯钼醼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯涓⥌뫦늶臣膀볯궼볯꾼볯蚽馼볯캘䲼胣邼閼볯涔潭⥬胣銼隼裢ꮃ菣뢂菣⢳볯钼볎膀볯⺐볯钼浭汯銂뷯钽臣뮷諥馁苣芀곦蒁臣랷郥ꦉ苣꒮룦ꞁ鋦貋臣讂胣閼駦鎖뻥膀��鲿럦袐觧銂볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼臣꾂苣뎃菣鞁胣ꖼ뷯꾼볯莽臣붊蟥馁苣芀郥辂臣龁鳦龩鯧銂胩骶髧ꮁ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼臣鞴뗦鞁胣誁苣뎁룦Ꞝ룤莿룧馁苣芀껦ꎸ苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣뺲ꏨ鞁臣膀껥붖뻤銼볯钼苣鞾苣芀駧늉닧ꮜ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯定볯讼볯嶨猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰讼⼼畳㹰볯閼볯隼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯鶼⼼畳㹢볯⺒볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯隼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鞼볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㜲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯閼醼醼볯邼馼杭胣邼醼볯涙潭⥬臣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵ꎼ볯⢮볯涒⥌볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯⢯볯涒⥌뫦늶臣膀뷯钽臣꺼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢룤膀볯ꚼ볯⢡볯涒⥌苣뮷諥馁苣芀迥鲿럦袐觧銂뷯钽臣閼駦鎖鋦貋臣讂胣鮸鳥许臣莿룧ꮁ苣誂胣鞲铧邈觧銂뻥讂胣鞲铧邈觧銂胩뢛볯낼볯ꎼ臣袂苣뺲ꏨ鞁臣膀触鮜臣龮雦设볯鞼볯銂뻥讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼馼볯蚈㰊䥄㹖胣邼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺕볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㠲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯閼醼苣膀룤鎖뷤銼볯閼銼醼볯醼颼杭胣邼醼볯閼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤醼볯颼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯隼杭胣邼醼볯颼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯鎼胣钼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯閼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㈹㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺕볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺕볯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯颼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺕볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥颼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰〳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯閼鎼苣膀鎼볯膀볯늼銈蟥몙觧ꪳ볯⢦볯閼볯涐膀볯⺐볯銼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯閼鎼醼볯銼馼杭��邼閼볯閼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀껥붖뻤醼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺕볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥颼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰ㄳ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯閼钼苣膀볯銈苣꾂菣鞃菣钃菣ꊂ菣躃裢銼銼裢뢂菣膃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂醼钼ꪂ苣떂苣뎃裢鎼裢ꪂ菣⢳볯鞼볯⺖볯涘膀볯⺓볯钼浭汯誁苣뎁볯銈銼裢隃菣ꊃ苣袃苣랂銈菣袃菣銃菣궃裢銼볯銈菣ꦃ菣⢳볯⺐볯醼䱭胣钼邼볯涑潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯邼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ裢뒼볯낼볯銼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯隼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯隼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㌹㰲愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鞼볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺖볯⢑볯邼杭胣邼邼볯涘潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵銼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯隼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㌹㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺖볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺙볯⢒볯隼杭胣邼銼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯銼鎼隼볯涗膀볯⺐볯鞼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀껥붖뻤醼볯閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯鞼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㌹㰴愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鞼볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺗볯⢑볯邼杭胣邼邼볯涙潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鞼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㌹㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺗볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯鎼볯涒潭⥬臣袂臣��ꢼ볯貽臣궼뷯꾼볯⢨볯薽볯ꢼ룤邼閼볯膀볯邼䱭궸臣랷郥ꦉ苣꒮룦ꞁ鋦貋臣讂胣醼駦鎖鋦貋뻥膀迥鲿럦袐觧銂볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼閼볯涐⥌臣貸蟩鞁胣ꖼ뷯꾼볯莽醼볯邼䱭ꞁ諦몇臣讂胣覜ꧦ뢛苣ꎀ뛧蒚臣閼볯뒰胦ꮼ볯뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵膀볯薼냦Ꞁ볯膽볯ꎼ볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵膀볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼胣誁苣뎁ꇥ뒰臣鞴뗦鞁胣ꆬ臣ꞁ볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀鳧목뿦꺸臣讂胣뎼뷯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃닧붣臣袂苣膀룤鎖뷤銼볯鞼醼苣鞾苣骼믩늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯隼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺗볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㘳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼銼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼钼볯涕膀볯⺐볯閼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯鞼鎼醼볯邼杭胣邼銼볯涑潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺗볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㜳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼鎼苣膀룤鎖뷤銼볯鞼钼隼볯邼杭胣邼馼볯涕潭⥬臣ꂊ냦蚈꟨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣蒻觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鞼钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㌹㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺗볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺗볯⢕볯邼볯涐膀볯⺑볯钼浭汯ꢁ鎼볯Ⲳ볯뎼銈蟥몙觧ꪳ裢ꚼ鎼볯邼杭胣醼銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯銼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺗볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥颼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰��㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㤳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼閼苣膀볯銈苣꾂菣鞃菣钃菣ꊂ菣躃裢銼銼裢뢂菣膃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂醼钼ꪂ苣떂苣뎃裢鎼裢ꪂ菣⢳볯邼볯涐膀볯⺒볯閼浭汯ꢁ볯銈鎼裢隃菣ꊃ菣궃菣궂苣⦷菣袃菣銃菣궃菣ꦃ菣⢳볯颼볯涐膀볯⺒볯涖潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯邼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣蒻觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯钼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯颼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐹㰰愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鞼볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺘볯⢑볯邼杭胣邼邼볯涘潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯颼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐹㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺙볯⢒볯颼杭胣邼醼볯涕潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯馼볯⺒볯⢓볯邼杭胣邼醼볯涕潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯隼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鞼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鞼볯㲙牢ਾ䐼噉邀賥颼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㈴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯馼苣膀룤鎖뷤銼볯馼醼銼볯涐膀볯⺐볯鎼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯銼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯馼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺙볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㌴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯馼醼苣膀룤鎖뷤銼볯馼銼鎼볯涘膀볯⺐볯閼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯馼銼閼볯涔膀볯⺐볯閼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼銼戼㹲㰊䥄��胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐹㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺙볯⢓볯邼杭胣邼醼볯涖潭⥬臣뢹賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐹㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯醼볯⺓볯⢒볯钼杭胣邼钼浭汯誁苣뎁鎼볯ⲳ볯늼銈蟥몙觧ꪳ裢ꚼ醼볯閼杭胣邼钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯邼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯邼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐹㰶愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯颼볯銂胣궸雩鎽볯颼볯⺐볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯颼볯⺐볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㜴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯邼醼苣膀룤鎖뷤醼볯钼銼醼볯鞼銼杭胣邼銼볯鎼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯醼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯钼馼杭胣邼銼볯颼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯醼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯颼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯颼볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㠴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯醼苣膀룤鎖뷤銼볯醼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯醼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㐹㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯颼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯銼볯涐膀볯⺐볯醼볯涔潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯颼볯⺑볯ꦡ藩ꦡ鞼볯⺐볯涘膀볯⺐볯钼浭汯꺁룧袐臣袂��膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯隼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯颼볯⺑볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰〵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯醼銼苣膀룤鎖뷤銼볯醼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯醼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯醼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔹㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯颼볯⺑볯銂胣芸단꺁볯辽뷯銈볯銈苣꾂菣颃苣랂菣꺂苣躃菣ꮃ木捹湩汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯讼볯銈볯辽뷯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯ₔ㰠畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯颼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯颼볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㈵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯銼苣膀룤鎖뷤銼볯銼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯銼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔹㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯颼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯銼볯涐膀볯⺐볯醼볯涔潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯颼볯⺑볯ꦡ藩ꦡ閼볯涐膀볯⺐볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯颼볯⺒볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㐵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯銼銼苣膀룤鎖뷤銼볯銼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯閼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯颼볯⺒볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥颼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰��⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룥ꦲ臣꺼裢ꊼ뷯莽裢겼裢랂苣궃菣궂苣ꮃ苣ꪃ苣躃菣ꮃ钼볯馼杭胣銼邼볯涕潭⥬臣꒼볯ꚼ颼䱭뚺뛦ꮁ胣꺼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢룤膀볯뒼臣꺼뷯ꢼ醼볯钼杭胣钼醼볯涐潭⥬苣ꂊ臣膀볯钽볯⢩볯鞼볯캙䲼胣銼銼볯涖潭⥬苣邼蓢ꞁ럦ꂊ臣讂胣趏뿥랷郥ꦉ苣늼볯ꞁ볯芙雩릒详馁苣芀곦蒁臣膀볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼苣鞾苣貂臣뚺뛦ꮁ럦ꂊ臣讂胣뒰胦뢛苣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꞁ諦몇臣讂胣袐苣鮁臣覜ꧦ뢛苣꺼뷯㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁苣芀룦Ꞝ룤꺁뿦꺸臣袂臣랂菣ꮂ苣ꮃ苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣꺁닧붣臣袂苣膀룤鎖뷤銼볯銼鎼苣鞾苣骼駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯隼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯颼볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㘵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯鎼苣膀룤鎖뷤銼볯鎼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯馼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯颼볯⺓볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㜵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鎼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣袂臣⢳볯⦳裢⢒볯⦋裢鎽뷯莽裢隃菣ꮃ苣龃菣⢳볯銼볎膀볯⺐볯銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯颼볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥颼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㠵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯钼苣膀룤鎖뷤銼볯钼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯钼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㔹㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯颼볯⺔볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯��膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁늼銈銈銈뷯薽뷯銈菣膃菣ꊂ菣뎃銼볯캒䲼胣邼銼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯钼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯閼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㘹㰰愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯颼볯銂胣궸雩鎽볯颼볯⺕볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯閼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㘹㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯颼볯⺕볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯閼볯涐膀볯⺐볯鞼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯鞼銼钼볯涑膀볯⺐볯邼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯醼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯颼볯㲖牢ਾ䐼噉邀賥颼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㈶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯隼苣膀룤鎖뷤銼볯隼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯颼볯⺖볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㌶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯隼醼苣膀룤鎖뷤銼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣袂臣⢳볯⦲裢醼裢ꆃ菣궂苣ꆃ菣ꮃ裢銼裢ꆃ菣ꮃ裢鞃菣钃菣ꊂ菣뎃钼볯涖膀볯⺐볯邼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯閼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯颼볯㲗牢ਾ䐼噉邀賥颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㐶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯鞼苣膀룤鎖뷤銼볯鞼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮��朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯邼裥芀㰊䥄㹖胣邼볯馼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯颼볯⺗볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㔶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣⢨볯⦳裢醼裢ꆃ菣궂苣ꆃ菣ꮃ裢鎼裢ꆃ菣ꮃ菣膃菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩⹊传杲‮桃浥‮㤱㠷‬㌴‬㤸膀볯颼鞼杭胣邼钼볯涑潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯邼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯颼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㘹㰶愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯颼볯銂胣궸雩鎽볯颼볯⺘볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯颼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㘹㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯颼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯閼볯涐膀볯⺐볯鞼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯銼銼隼볯⺐볯涐膀볯⺐볯閼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯颼볯㲙牢ਾ䐼噉邀賥颼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㠶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯馼苣膀룤鎖뷤銼볯馼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㘹㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯颼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯銼볯涐膀볯⺐볯醼볯涔潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯颼볯⺙볯ꦡ藩ꦡ볯醼鎼杭胣邼銼볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯颼볯⺙볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥��颼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰〷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯馼銼苣膀룤鎖뷤銼볯馼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯醼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㜹㰱愯㰾䐯噉ਾ 芸단꺁볯銈볯辽뷯銈볯銈苣꾂菣颃苣랂菣낂菣랂菣벃菣⢫볯邼볯涐膀볯⺒볯閼浭汯꺁볯ꢼ볯⢦볯邼䱭뚺뛦ꮁ胣꺼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢룤膀볯莄臣膀볯膽볯⢨볯邼볯⺒볯涖뷯꺁觩릲룤隼볯鞽뷯薼胣銼閼볯閼浭汯銂럦ꂊ臣讂胣趏뿥랷郥ꦉ苣鶁臣ꦸ뫥ꞁ闦蚈鋦貋臣讂胣ꢃ苣隌菣膃菣銂럦ꂊ臣讂胣銽뷯ꞁ볯邼裥릒详貾胣趏뿥銂ꏩ貒냦Ꞁ볯ꢼ볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣꾂苣뎃菣鞁胣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼臣붊蟥鞁胣궼뷯뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁苣芀룦Ꞝ룤꺁뿦꺸臣袂苣膀닧龔裦ꦉ苣鞾苣芀닧龔裦ꦉ苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣ꞁ닧붣臣ꚁ胣肉鳦꺁룤鎖뷤銼볯馼鎼苣鞾苣芀볯讼볯銈볯辽뷯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯馼볯㲐牢ਾ䐼噉邀賥颼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㈷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯邼苣膀룤鎖뷤銼볯邼醼醼볯邼杭胣邼醼볯涖潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯邼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㜹㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯馼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯⢒볯閼杭胣邼銼볯涕潭⥬臣궸雩鎽볯馼볯⺐볯⢒볯醼볯涐膀볯⺐볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯銼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺐볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㐷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯��邼銼苣膀룤鎖뷤銼볯邼鎼鎼볯邼杭胣邼隼浭汯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺐볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥颼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㔷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯邼鎼苣膀룤鎖뷤銼볯鞼銼隼볯邼杭胣銼醼浭汯ꢁ鎼볯Ⲳ볯뎼銈蟥몙觧ꪳ裢ꚼ閼볯邼杭胣醼鞼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯馼볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㘷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯醼苣膀룤鎖뷤銼볯醼醼銼볯涐膀볯⺐볯鎼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯邼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺑볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㜷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯醼醼苣膀룤鎖뷤銼볯醼銼鎼볯涕膀볯⺐볯閼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯銼鎼閼볯涔膀볯⺐볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀껥붖뻤醼볯閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯醼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㜹㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯馼볯⺑볯⢓볯邼볯涐膀볯⺐볯涔潭⥬臣袂臣뎼볯ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯涔⥌臣랷郥ꦉ苣邼蓢ꞁ鋦貋臣讂胣鎼駦鎖鋦貋뻥膀럦袐觧銂鳧목뿦꺸臣讂胣议룦銂臣覂臣뺲ꏨ馁苣鎁臣ꪁ臣ꆬ迥鲿臣뾽铧馁苣芀戼㹲 议룦誁苣뎁볯膽볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢醼볯邼杭胣銼隼볯涔潭⥬臣꒼볯뎼볯⢯볯涔⥌룤꺁럦袐觧銂껥ꦸ臣릒详馁苣芀볯芙雩릒详貾胣趏뿥랷郥ꦉ苣ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯ꞁ룥袇臣膀볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯ꞁ諦몇臣讂胣��ꧦ뢛苣ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯膀臣袂臣ꦡ냦ꞁ듦蒵臣膀곦蒁臣꺼뷯㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁胣龜ꧧ莿룧馁苣芀볯낼裢ꢼ볯겼볯뺲ꏨꮁ苣誂胣궸雩鎽볯馼볯⺑볯銂뻥讂볯붙觨몛뷤膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺑볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥颼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㤷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯醼鎼苣膀룤鎖뷤銼볯馼钼鞼볯邼杭胣銼醼浭汯꺁苩莅臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺗볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯馼볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰〸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯銼苣膀룤鎖뷤銼볯銼醼銼볯涐膀볯⺐볯鎼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯邼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯銼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺒볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰ㄸ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯銼醼苣膀룤鎖뷤銼볯銼銼隼볯涐膀볯⺐볯閼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯銼鎼颼볯涕膀볯⺐볯醼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺒볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㈸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯銼銼苣膀볯銈苣꾂菣鞃菣钃菣ꊂ菣躃裢銼銼裢뢂菣膃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂醼钼ꪂ苣떂苣뎃裢鎼裢ꪂ菣⢳볯邼볯涐膀볯⺒볯閼浭汯꺁볯銈菣궃菣銈볯銈菣袃苣랂苣뾂菣⢳볯鞼볯涖膀볯⺒볯涖潭⥬臣꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺐볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼믩늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯銼裥芀㰊䥄㹖��醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺒볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥颼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㌸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯銼鎼苣膀룤鎖뷤銼볯銼钼钼볯邼杭胣醼醼浭汯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺒볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㐸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯銼钼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼銼볯颼杭胣醼銼浭汯ꢁ鎼볯ⲳ볯늼銈蟥몙觧ꪳ裢ꚼ鎼볯邼杭胣醼醼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯钼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯馼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㠹㰵愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯馼볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺓볯⢑볯銼杭胣邼邼볯颼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯銼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺓볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㘸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鎼醼苣膀룤鎖뷤銼볯鎼銼鞼볯涐膀볯⺐볯钼浭汯誁苣뎁늼銈볯銈苣袃苣랂菣膃菣鞃菣钃菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩볯醼杭胣邼醼볯涕潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯銼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺓볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㜸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鎼銼苣膀룤鎖뷤銼볯馼銼銼볯邼杭胣醼醼浭汯誁苣뎁鎼볯ⲳ볯늼銈蟥몙觧ꪳ裢ꚼ鎼볯閼杭胣醼銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀껥붖뻤醼볯閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ껥��붖뻤銼볯钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㠹㰸愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯馼볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺔볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㤸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯钼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯钼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯钼銼ꇥ뢅ꇥ钼볯涔膀볯⺐볯钼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯钼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤹㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯馼볯⺔볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺔볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥颼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰ㄹ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯钼鎼苣膀⠨볯⦳裢醼裢銃菣궃苣랂菣膃菣銈볯Ⲓ볯銈苣ꆃ菣ꮃ裢鞃菣钃菣⦫裢ꮂ菣邃菣뎃藩钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫桃浥捩污☠浡㭰倠慨浲捡略楴慣⁬畂汬瑥湩㈨〰⤴‬㈵ㄨⰩㄠㄱㄭ㤱⠩볯邼볯涐膀볯⺑볯颼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ†裢ꊼ뷯莽볯醼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯閼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤹㰲愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯馼볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺕볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺕볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㌹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯閼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯颼浭��誁苣뎁뎼銈볯銈菣袃苣랂菣膃菣銈볯Ⲓ볯銈苣ꆃ菣ꮃ裢鞃菣钃菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩敔牴桡摥潲⁮敌瑴牥⡳㤱㈸Ⱙ㈠⠳㘳Ⱙ㌠ㄷⴱ㐱⤮鎼볯⺗볯涒膀볯⺐볯銼볯涑潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯隼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤹㰴愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯馼볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺖볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨몛뷤鮼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺖볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㔹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯隼醼苣膀룤鎖뷤銼볯隼銼鎼볯涖膀볯⺐볯钼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯銼鎼钼볯涒膀볯⺐볯醼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀껥붖뻤醼볯閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣蒖믩늉닦뚊觧鮼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺖볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㘹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯隼鎼醼邼뷯膀볯⺓볯涖潭⥬臣뒼볯ꚼ뫦늶臣膀볯薽볯覽醼볯涔膀볯钼浭汯胣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼룤醼邼볯⦭苣銈볯颼蓢ꞁ믦许臣讂胣趏뿥랷郥ꦉ苣邼蓢ꮁ룦膂苣芀볯莄臣銼駦鎖鋦貋뻥膀迥鲿苣뒰胦꺼볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꎼ뷯ꞁ苣ꢂ菣膃臣膀볯钽볯ꆼ뷯ꞁ諦몇臣讂胣袐苣鮁臣覜ꧦ붊蟥ꦉ苣뒰臣袂臣ꦡ냦ꞁ듦蒵臣膀볯螽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀뿦躁臣膀鳧목뿦꺸臣讂胣鞾苣貂臣议룦誁苣뎁菣ꪃ苣膃菣랂菣뎃銼颼䱭胣醼볯涘潭膀䅃㩓ㄶⴷ㘸㜭꺁볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢뫦늶臣膀볯ꚼ볯⢡볯⺑볯涔膀볯颼浭汯銂볯莄臣뮷諥馁苣芀껥ꦸ臣钼駦鎖鋦貋뻥膀뫦銪苣龜ꧧꞁ駩뮎臣讂胣议룦꺁볯钽볯ꆼ뷯뚺뛦銂ꏩ貒냦Ꞁ볯膽볯ꎼ볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵誁苣뎁냦ꞁ듦蒵臣膀볯螽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼��砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀뿦躁臣膀鳧목뿦꺸臣讂胣议룦銂苣ꪃ苣늂菣ꮂ菣ꂃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣ꞁ닧붣臣ꚁ胣궸雩鎽볯馼볯⺖볯⢒볯馼볯涗膀볯⺓볯涔潭⥬苣鞾苣骼蓧늉닦뚊觧鮼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯銼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺖볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥颼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㤰㜹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯隼钼銼邼뷯膀볯⺗볯涗潭⥬臣袂臣랂苣궃菣궃菣ꮃ苣龃菣⢳볯⺒볯涗膀볯颼閼浭汯꺁볯銈菣膃菣钃菣ꪃ菣뎃꺼볯낼胣醼볯涐⥌룤꺁럦袐觧銂胣뎂菣螃菣떂菣ꢁ藥ꮁ볯邼蓢ꞁ볯芙雩릒详馁苣芀껥ꦸ臣랆跥鞁胣ꖼ뷯꾼볯莽臣貸蟩貾胣랷郥ꦉ苣뒰臣袂臣ꦡ냦ꞁ듦蒵臣膀볯螽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀뿦躁臣膀鳧목뿦꺸臣讂胣议룦銂苣ꪃ苣늂菣ꮂ菣ꂃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣ꞁ닧붣臣ꚁ胣궸雩鎽볯馼볯⺖볯⢓볯⺑볯涔膀볯⺕볯涐潭⥬苣鞾苣骼雨蒻觨릲諧ꦉ볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯隼钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤹㰸愯㰾䐯噉ਾ 銼隼裢뢂苣궃菣讃苣膃菣뢅醼볯螽胣閼볯涒潭芀䅃㩓㠳㤴ⴶ㠱㌭꺁볯銈菣袃苣랂裢醼裢鞃菣醃菣벃菣⢫볯隼䱭胣馼볯涐潭膀䅃㩓㔱㤸㐭ⴹ⤷뫦늶臣膀볯膽볯⢨볯⺖볯螽胣醼볯邼浭汯銂볯莄臣뒻룤馁苣芀迥鲿럦袐觧銂볯邼蓢ꮁ룦膂苣芀볯邼蓢ꞁ볯芙雩릒详貾胣趏뿥銂껥ꦸ臣랆跥鞁胣ꖼ뷯꾼볯莽臣貸蟩馁苣芀郥辂臣龁鳦龩諦몇觧銂냦Ꞁ苣ꢂ菣뢅臣袂臣뒰臣鞴뗦鞁胣궼뷯㲇畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁胣뺿臩鞁胣龜ꧧ莿룧馁苣芀뻥覂苣龁껦ꎸ胣궼뷯ꦼ馼鞼䱭胣醼볯隼浭汯誁苣뎁볯㲫畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵⠾볯銼뷯膀볯閼볯涖潭⥬臣꒼볯ꚼ銼볯涐⥌룤꺁럦袐觧銂껥ꦸ臣肸駦릒详馁苣芀냦꺁럦ꂊ뻥膀럦袐觧銂볯钽볯ꆼ뷯ꞁ諦몇臣讂胣袐苣鮁臣覜ꧦ붊蟥ꦉ苣鎼鯥뒰臣鞴뗦鞁胣궼뷯㲇畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁胣뺿臩鞁胣龜ꧧ莿룧鞁臣膀룤鎖뷤銼볯隼钼醼볯螽胣閼��涐潭⥬苣鞾苣骼雨蒻觨릲諧ꦉ볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯鞼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠〰㤹㰹愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯馼볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺗볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺗볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥颼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱〰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯钼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯鞼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯颼颼杭胣邼銼볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯醼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺗볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㄰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼銼苣膀룤鎖뷤銼볯鞼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯醼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯鞼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〰㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯馼볯⺗볯銂胣⢁늼銈볯銈菣覃菣궂苣ꆃ菣ꮃ裢銼銼裢뢂菣膃菣銈菣궃菣ꮃ銈苣ꮃ菣龃菣뢅뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣릂菣ꮃ鎼볯邼杭胣醼鎼볯涘潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯醼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯₨銈볯辽뷯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯馼볯㲘牢ਾ䐼噉邀賥颼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㌰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤銼볯颼苣膀룤鎖뷤銼볯颼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯⺒볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯閼볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯馼볯⺘볯��牢ਾ䐼噉邀賥颼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㐰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯颼醼苣膀룤鎖뷤銼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯鎼볯⺗볯⢒볯鎼杭胣邼銼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵꺼鎼볯캐䲼胣邼銼볯涒潭⥬臣颭鳥许胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯馼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤銼볯馼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〰㰵愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯馼볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺙볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〰㰶愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯馼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺙볯⢒볯钼볯涐膀볯⺐볯閼浭汯誁苣뎁늼銈볯銈菣袃苣랂菣膃菣銈볯銈菣膃菣隃菣ꮃ苣龃菣ꦡ藩ꦡ伨杲‮敌瑴‮〲㄰‬ⰳㄠ㐲⸱⠩볯隼杭胣邼銼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵꺼钼볯캒䲼胣邼鎼볯涐潭⥬臣颭鳥许胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〰㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯馼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺙볯⢓볯⺑볯螽胣鎼鎼浭汯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯隼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤銼볯馼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〰㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯馼볯⺙볯銂胣⢁볯늼閼볯⦳裢몇駧ꦉ돨⢪볯鎼볯涐膀볯⺒볯涒潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯邼볯⺗볯⢒볯鞼볯涐膀볯⺒볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯馼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣��扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯邼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〰㰹愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯邼볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺐볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯邼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㄰㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯閼볯涑膀볯⺐볯鞼浭汯ꢁ룤鎖뷤鎼볯邼銼閼볯涗膀볯⺐볯邼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯邼볯⺐볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥颼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱ㄱ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯邼銼苣膀룤鎖뷤鎼볯邼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯邼볯⺐볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥馼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㈱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†볯銈볯辽뷯銈볯銈苣꾂菣颃苣랂菣낂菣랂菣벃菣⢫볯邼볯涕膀볯⺒볯鞼浭汯꺁볯ꢼ볯⢦볯邼䱭뚺뛦ꮁ胣꺼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢룤膀뷯钽臣꺼뷯ꢼ馼볯涑膀볯⺒볯颼浭汯銂諥袁胣궼뷯ꦼ醼볯銼볎膀볯⺒볯颼浭汯銂볯莄臣뮷諥馁苣芀迥鲿럦袐觧銂뷯钽臣閼駦鎖鋦貋臣讂胣ꆬ臣ꞁ胣ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯銂뻥覂苣龁뫦늶臣뮷諥馁苣芀냦Ꞁ鯧銂볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢臣붊蟥馁苣芀郥辂臣龁鳦龩鯧銂볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣讂胣鮸鳥许臣莿룧誁苣뎁苣ꪃ苣늂菣ꮂ菣ꂃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣ꞁ臣뺲ꏨꮁ苣誂胣궸雩鎽볯邼볯⺐볯銂뻥讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯鞼胣㲑��噉ਾ껥붖뻤鎼볯醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㄰㰳愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯邼볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺑볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯醼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㄰㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯閼볯涐膀볯⺐볯鞼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯鞼銼钼볯⺔볯涐膀볯⺐볯閼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯邼볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㔱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯銼苣膀룤鎖뷤鎼볯銼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯邼볯⺒볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㘱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯銼醼苣膀룤鎖뷤銼볯馼銼醼볯邼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣궸雩鎽볯閼볯⺒볯⢒볯閼邼杭胣邼鎼볯涕潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㄰㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯邼볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺓볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鎼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㄰㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺓볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺙볯⢒볯閼볯涐膀볯⺐볯鞼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯鞼銼钼볯⺕볯涐膀볯⺐볯銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨ��돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯邼볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㤱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯钼苣膀룤鎖뷤鎼볯钼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯醼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯邼볯⺔볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱〲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯钼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣궸雩鎽볯邼볯⺔볯⢒볯醼閼杭胣邼鎼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯钼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈰㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺔볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯醼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯钼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈰㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺔볯銂胣꺼裢ꊼ뷯莽裢⢒볯⦳裢銼裢ꊂ菣躃裢鎼裢랂苣궃菣궂苣ꮃ裢鞃菣醃菣銈볯銈苣벃菣⢫볯⺑볯螽胣鎼颼볯涘潭⥬臣꺼뷯ꢼ鎼볯隼螽臣놉닦궸볯邼뷯钽볯膀볯⺘볯隼浭汯誁苣뎁볯钽볯⢩볯⺐볯醼䱭胣鎼颼볯涘潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯颼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼钼볯蚈볯늼뷯鶼볯⺐볯閼ꆼ뷯꾼볯钽볯躽裢颃苣떂菣鶼볯骼볯⦒胣ં䐼噉邀볯邼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯閼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈰㰳愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯邼볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺕볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯��볯ꢼ볯隼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯閼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈰㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺕볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯閼볯涐膀볯⺐볯鞼浭汯ꢁ룤鎖뷤鎼볯閼銼隼볯⺗볯涐膀볯⺐볯鎼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯邼볯⺕볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㔲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯閼銼苣膀룤鎖뷤鎼볯閼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯邼볯⺕볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥馼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㘲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯閼鎼苣膀볯銈볯辽뷯銈뎼銈볯銈苣龃菣銈볯銈苣꾂菣颃苣랂菣銈菣궃菣뎃裢醼裢ꪂ菣ꮃ醼邼뷯膀볯⺓볯颼浭汯ꢁ볯膽볯⢨볯钼볯涖뷯꺁觩릲룤隼볯鞽뷯薼胣颼閼볯涖潭⥬臣袂臣궼뷯ꦼ邼銼볯涔膀볯⺓볯颼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯邼볯㲖牢ਾ䐼噉邀賥馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㜲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯隼苣膀룤鎖뷤鎼볯隼醼醼볯邼杭胣邼醼볯涖潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯隼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈰㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺖볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁늼銈볯銈苣龃菣ꒂ菣肃菣⢳볯醼杭胣邼銼볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧��늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯邼볯㲗牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㤲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯鞼苣膀룤鎖뷤鎼볯鞼醼醼볯邼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鞼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌰㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺗볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁뎼銈볯銈苣龃菣ꒂ菣肃菣⢳볯醼杭胣邼銼볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯邼볯㲘牢ਾ䐼噉邀賥馼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱ㄳ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯颼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼醼隼볯涐膀볯⺐볯涑潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌰㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯馼浭汯誁苣뎁늼銈볯銈苣袃苣랂菣膃菣鞃菣钃菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩볯馼杭胣邼銼볯涑潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯邼볯⺘볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥馼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㌳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯颼銼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼鎼閼볯閼杭胣銼浭汯誁苣뎁鎼볯Ⲳ볯뎼銈蟥몙觧ꪳ裢ꚼ閼볯閼杭胣銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀껥붖뻤醼볯閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯��閼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌰㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢔볯⺒볯螽胣醼볯⺒볯涘潭⥬臣꺁苣꾂菣鞃菣钃菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤颼볯⺗볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯邼볯⺘볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㔳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯颼钼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼閼鎼鎼뷯膀볯銼颼浭汯꺁냦ꂴ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼閼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌰㰶愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺘볯銂胣銼裢ꢂ菣ꮃ裢钼裢閃菣ꪂ菣銈볯銈菣袃菣閃苣躃菣ꮃ閼鞼뷯膀볯邼鞼볯涘潭⥬臣꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鞼閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣蒖믩늉닦뚊觧膀猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯隼裥膀볯겼볯骼볯蚽볯邼閼颃苣떂菣骼볯莽볯ꖼ뷯鶼볯骼볯⦑胣ં䐼噉邀볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯馼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌰㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯邼볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺙볯⢑볯銼杭胣邼醼볯涓潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯馼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌰㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯馼浭汯誁苣뎁볯銈菣膃菣랂苣궃菣궂苣ꮃ苣龃菣ꦡ藩ꦡ鎼볯涘膀볯⺐볯醼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽��扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯邼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌰㰹愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯醼볯銂胣궸雩鎽볯醼볯⺐볯⢑볯銼杭胣邼邼볯涘潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯邼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐰㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯醼볯⺐볯⢒볯邼볯涒膀볯⺐볯馼浭汯誁苣뎁늼銈볯銈苣袃苣랂菣膃菣鞃菣钃菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩볯馼杭胣邼銼볯涑潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯醼볯⺐볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥馼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱ㄴ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯邼銼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼鎼閼볯鎼杭胣醼馼볯涖潭⥬臣袂臣⢳볯늼閼볯⦳裢몇駧ꦉ돨銈볯⢦볯隼볯涔膀볯⺑볯隼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀껥붖뻤醼볯閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯邼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐰㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯醼볯⺐볯⢔볯⺑볯钼뷯膀볯⺗볯鎼浭汯ꞁ臣랂苣궃菣궃菣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鞼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯邼钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐰㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯醼볯⺐볯⢕볯⺒볯螽胣鞼鞼볯涔潭⥬臣뒰듧隌臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰莽⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯鞼裥芀��䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯醼볯⺐볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥馼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㐴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯邼閼苣膀볯銈苣붂菣궃菣ꮃ裢钼裢閃菣ꪂ菣銈볯銈菣袃菣閃苣躃菣ꮃ銼颼볯螽胣醼볯⺔볯涒潭⥬臣꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鞼閼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣蒖믩늉닦뚊觧膀猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ㄾ⼼畳㹰ⵈ䵎⡒䑃汃猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㌾⼼畳㹢‬〴‰䡍⥺츺₴⸱㔲㘨ⱈ搠Ⱙ㈠ㄮ⠰䠲‬畱湩⹴Ⱙ㌠㌮⠴䠱‬⥭‬⸳㘳㌨ⱈ猠Ⱙ㌠㔮⠷䠲‬⥴‬⸴㌱㈨ⱈ琠Ⱙ㜠〮⠸䠱‬⥤‬⸷ㄵㄨⱈ搠芀㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯醼볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㔴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯醼苣膀룤鎖뷤鎼볯醼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽†猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯醼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐰㰶愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯銼볯涐膀볯⺐볯醼볯涔潭⥬臣袂臣⢳볯⦲裢醼裢ꆃ菣궂苣ꆃ菣ꮃ裢銼銼裢뢂菣膃菣銈菣궃菣ꮃ苣龃菣ꦡ藩ꦡ吨瑥慲敨牤湯䰠瑥整獲ㄨ㠹⤲‬㌲㌨⤶‬㜳ㄱㄭ⸴⠩볯銼鞼杭胣邼銼볯涕潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐰㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯醼볯銂胣궸雩鎽볯醼볯⺒볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯銼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐰㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺙볯⢒볯钼볯涐膀볯⺐볯閼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯醼銼钼볯涖膀볯⺐볯颼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢볯⢮볯銼볎膀볯⺐볯邼浭汯꺁귥ꢜ룤膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨��⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯醼볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㤴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯鎼苣膀룤鎖뷤鎼볯鎼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯醼볯⺓볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱〵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鎼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣궸雩鎽볯醼볯⺓볯⢒볯钼邼杭胣邼鎼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鎼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㔰㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺓볯⢓菣뾂菣벃菣궸볯⺐볯궼銂胣醃菣뢂苣ꂃ볯궂閼潭薼ꮁ럦ꂊ臣讂胣뒰듧꺁苣ꎁ臣誂臣龁뗦銂곦蒁臣膀臣꺁뫦늶臣醼韦骀臣龁胣ꢁ臣ꦁ臣膀ꇥ뢅볯薽볯ꢼ뫦늶苣뮷諥鞁臣뚺뛦銂藩Ꞁ賥鞁臣芀苣ꦃ苣袃臣鞃菣낂苣骀臣龁뿦躁뻥膀뿦늶苣膀鳧목뿦꺸臣龁胣龔裦ꦉ苣뺲ꏨ鮁臣ꮁ곦趏뿥ꮁ뷤ꢔ臣讂볯蒻觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯醼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鎼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㔰㰲愯㰾䐯噉ਾ ꖼ뷯궼뷯ꊼ뷯⢒볯⺘볯閼䱭胣颼颼볯涕潭膀볯ꢼ볯궸볯궼銂胣ꊂ菣뒂菣许胣邼蓢ꞁ룤鎖뷤鎼볯鎼钼鞼볯邼杭胣銼鎼볯涖潭⥬臣袂臣뒼뷯⢉볯㲯畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯㲉猯灵낼뷯⦒猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢醼醼볯涔膀볯⺓볯馼浭汯꺁볯ꢼ볯⢦볯邼䱭뚺뛦ꮁ럦ꂊ臣讂胣뚺뛦銂苣ꎁ臣誂껥ꦸ臣ꦸ苣膀臣貂苣ꆬ臣ꞁ뷯钽臣鎼볯蚈鋦貋臣讂胣뒰醼볯涐⥌胣骶臣ꚁ볯邼볯뒰胦ꢼ볯貽醼볯涐⥌臣袂臣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼銼볯涐⥌苣뮷諥馁苣芀볯邼볯뒰胦꺼뷯꾼볯뚺뛦銂胣邽볯貁ꇥ몟胦ꮁ臣讂臣ꞁ뻥覂苣龁胩躘럦袐觧ꮁ럦ꂊ臣讂胣龔裦ꦉ苣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼銼韃볯邼䱭ꞁ諦��몇臣讂胣袐苣鮁臣覜ꧦ붊蟥ꦉ苣꺼뷯㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁苣芀뫦銪뿦몙뻥膀铧邈觧銂닧붣臣骁臣ꆬ迥鲿臣뾽铧馁苣骼믩늉닦뚊觧芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯醼볯⺓볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥馼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㌵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†볯銈苣붂菣궃菣궂苣ꊅ藩⢸볯⺑볯螽胣颼钼볯涗潭⥬苣膀껥ꦸ臣ꦡ賥ꪂ苣떂菣ꮃ邼颼볯涗膀볯醼邼浭汯꺁볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢銼볯涐⥌뫦늶臣ꚇ郧鞁胣랷郥ꦉ苣醼駦鎖胣鎁臣ꦸ뫥ꞁ鋦貋臣讂胣躁觥꺁ꇥ隌苣궂苣ꪃ菣銂胣ꆬ臣ꞁ鳧목臣뢒駧閁臣讂胣议룦銂볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢鎼볯涐⥌臣뚺꟨鞁胣ꆬ臣ꞁ볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢볯⢮볯⺓볯颼뷯膀볯閼钼浭汯誁苣뎁苣馃菣뢂菣ꊂ菣뎃銼閼볯螽胣醼볯⺒볯涗潭⥬苣뮷諥馁苣芀볯芙雩膀껥ꦸ臣릒详貾胣趏뿥랷郥ꦉ苣醼볯₮ꦡ藩⢸볯邼䱭膀ꏩ貒볯膽볯ꎼ볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵뚺뛦⢲볯邼볯涐⥌胣誁苣뎁ꇥ뒰醼볯邼䱭ꞁ듦蒵臣膀볯膽볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣讂胣鮸鳥许臣莿룧ꮁ苣誂胣鞲铧邈觧銂뻥讂胣鞲铧邈觧銂苣ꪃ苣늂菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣袂苣뺲ꏨ鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯鎼钼醼鞼볯螽銂뻥讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯銼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㔰㰴愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯醼볯銂胣궸雩鎽볯醼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯醼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯醼볯⺔볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㔵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯钼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯钼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤鎼볯钼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯隼醼杭胣邼銼볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐��馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯醼볯⺔볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥馼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㘵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯钼銼苣膀룤鎖뷤鎼볯钼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯醼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯钼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㔰㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺔볯銂胣꺼裢ꊼ뷯莽裢⢒볯⦲裢閃苣讃菣銈苣ꦃ菣ꪂ菣ꮃ吨瑥慲敨牤湯䰠瑥整獲㈨〰⤴‬㔴ㄨ⤱‬㐲㜶㈭㜴⸱⠩볯邼볯涐膀볯⺐볯馼볯涕潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯醼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯₨銈볯辽뷯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯醼볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥馼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㠵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯閼苣膀룤鎖뷤鎼볯閼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯閼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㔰㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺕볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯銼볯涐膀볯⺐볯醼볯涔潭⥬臣袂臣⢳볯⦳裢醼裢ꆃ菣궂苣ꆃ菣ꮃ裢銼裢閃苣讃菣銈苣膃菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩潊牵慮⁬景传杲湡捩䌠敨業瑳祲ㄨ㠹⤸‬㌵ㄨ⤳‬㤲ㄹ㤭⤮钼볯⺓볯隼杭胣邼銼볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯醼볯㲖牢ਾ䐼噉邀賥馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱〶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯隼苣膀룤鎖뷤鎼볯隼醼醼볯钼杭胣邼醼볯涖潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺��栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯隼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㘰㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺖볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯馼浭汯誁苣뎁늼銈볯銈苣袃苣랂菣膃菣銈볯銈菣膃菣隃菣ꮃ苣龃菣ꦡ藩ꦡ銼볯涙膀볯⺐볯醼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯鞼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㘰㰲愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯醼볯銂胣궸雩鎽볯醼볯⺗볯⢑볯醼볯涔膀볯⺐볯鞼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯銼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯醼볯⺗볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㌶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鞼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯邼銼醼볯銼杭胣邼醼볯涙潭⥬臣袂臣⢳볯⦲裢醼裢ꢂ菣궂苣ꆃ菣ꮃ裢鎼裢ꆃ菣ꮃ菣膃菣ꊂ菣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩볯颼杭胣邼銼볯涑潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯隼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯醼볯㲘牢ਾ䐼噉邀賥馼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㐶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯颼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯邼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㘰㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯銼볯涐膀볯⺐볯醼볯涔潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯醼볯⺘볯ꦡ藩ꦡ钼볯⺖볯涑膀볯⺐볯醼볯涔潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢��钼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㘰㰶愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯醼볯⺘볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯醼볯⺘볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㜶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯颼鎼苣膀볯銈볯辽뷯銈뎼銈菣Ꞃ菣ꮃ裢ꊂ菣讃苣벃菣⢫潊牵慮⁬景传杲湡捩䌠敨業瑳祲㈨〰⤰‬㔶ㄨ⤶‬〵㜳㔭㐰⸲⠩볯邼볯涐膀볯⺐볯馼볯涕潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯醼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯銈볯辽뷯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯醼볯㲙牢ਾ䐼噉邀賥馼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㠶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯馼苣膀룤鎖뷤鎼볯馼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯醼볯⺙볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㤶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯馼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣궸雩鎽볯醼볯⺙볯⢒볯鞼邼杭胣邼鎼볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯馼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜰㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯醼볯⺙볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯醼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯馼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜰㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯醼볯⺙볯銂胣꺼裢ꊼ뷯莽裢⢒볯⦲裢銼裢ꊂ菣躃裢鎼裢랂苣궃菣��궂苣ꮃ裢鞃菣醃菣銈볯銈苣벃菣⢫볯鞼볯涑膀볯⺑볯鎼浭汯ꢁ볯膽볯⢨볯隼볯涑뷯꺁觩릲룤隼볯鞽뷯薼胣钼邼볯涐潭⥬臣袂臣ꖼ뷯ꦼ邼醼볯涕膀볯⺑볯鎼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲐牢ਾ䐼噉邀賥馼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㈷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯邼苣膀룤鎖뷤鎼볯邼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺐볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㌷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯邼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣궸雩鎽볯銼볯⺐볯⢒볯颼閼杭胣邼鎼볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯邼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜰㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯銼볯⺐볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯醼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯邼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜰㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺐볯銂胣꺼裢ꊼ뷯莽裢⢒볯⦲裢銼裢ꊂ菣躃裢鎼裢랂苣궃菣궂苣ꮃ裢鞃菣醃菣銈볯銈苣벃菣⢫볯钼볯涐膀볯⺑볯醼浭汯ꢁ볯膽볯⢨볯閼볯涑뷯꺁觩릲룤隼볯鞽뷯薼胣鎼鞼볯涖潭⥬臣袂臣궼뷯ꦼ邼醼볯涑膀볯⺑볯醼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩��〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㘷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯醼苣膀룤鎖뷤鎼볯醼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯隼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺑볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㜷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯醼醼苣膀룤鎖뷤銼볯銼鎼醼볯邼杭胣邼鎼볯涘潭⥬臣궸雩鎽볯銼볯⺑볯⢒볯鎼볯涐膀볯⺐볯醼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯銼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺑볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥馼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㠷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯醼銼苣膀룤鎖뷤醼볯邼銼胣隼裢랂苣궃菣궃菣ꮃ苣龃菣銈볯Ⲓ볯銈苣ꆃ菣ꮃ裢钼볯銈菣뎃苣宾볯ⲑ볯嶔苣궂苣뢂菣銈볯銈苣뎃隼볯邼杭胣銼閼볯涙潭⥬臣꺼뷯ꢼ醼볯鎼螽臣놉닦궸볯邼뷯钽볯膀볯⺒볯钼浭汯膀볯ꦼ钼볯醼杭胣銼颼볯涔潭⥬臣袂臣銼裢ꒂ苣鞃菣鶃苣랂苣膃菣邽裢袃菣ꢂ菣릂菣鮃菣벃菣⢈볯鎼볯涕膀볯⺒볯钼浭汯胣䶁捡潲潭敬畣敬⁳㤱㘹‬㤲‬㔷㐴㜭㔵⤲臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯邼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜰㰹愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯銼볯銂胣궸雩鎽볯銼볯⺒볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺒볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱〸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯銼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯钼浭汯誁苣뎁늼銈볯銈菣袃苣랂菣膃菣銈볯銈菣Ꞃ菣ꮃ裢ꢂ菣ꮃ苣龃菣ꦡ藩ꦡ吨瑥慲敨牤湯䰠瑥整獲ㄨ㤹⤹‬〴㜨Ⱙㄠ㐲ⴱ㈱㐴⤮钼볯⺓볯隼杭胣邼銼볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯��邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥馼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱ㄸ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯鎼苣膀룤鎖뷤鎼볯鎼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鎼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㠰㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺓볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯銼볯⺓볯ꦡ藩ꦡ鎼볯⺕볯涙膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鎼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㠰㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺓볯銂胣궸雩鎽볯銼볯⺓볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺓볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥馼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㐸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鎼鎼苣膀⠨볯⦲裢鎼裢銃菣궃苣랂裢醼裢閃苣讃菣銈菣궃菣ꮃ銈苣ꮃ菣龃菣뢅뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣릂菣ꮃ랼볯銼볯邼볯邼볯馼볯閼볯⦙銼볯邼杭胣邼鞼볯閼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯颼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ裢ꊼ뷯莽볯醼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯馼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㠰㰵愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯銼볯銂胣궸雩鎽볯銼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺔볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽��㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㘸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯钼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯颼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤鎼볯钼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯颼鎼杭胣邼醼볯颼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺔볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㜸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯钼銼苣膀룤鎖뷤鎼볯钼鎼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯醼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯钼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㠰㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺔볯銂胣⢁늼銈볯銈菣覃菣궂苣銈볯銈菣Ꞃ菣ꮃ裢鞃菣钃菣⦫裢ꮂ菣邃菣뎃藩钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫볯꾼볯邼볯閼볯邼볯馼볯馼⠩볯邼볯涐膀볯⺐볯馼볯涕潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯醼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯銈볯辽뷯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㤸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯閼苣膀룤鎖뷤鎼볯閼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺕볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱〹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯閼醼苣膀룤鎖뷤銼볯銼鎼醼볯邼杭胣邼銼볯涕潭⥬臣궸雩鎽볯銼볯⺕볯⢒볯鎼杭胣邼銼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯馼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯閼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㤰㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺕볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺐볯膀볯銈��꾂菣鞃菣钃菣ꊂ菣躃裢銼銼裢뢂菣膃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂醼钼ꪂ苣떂苣뎃裢鎼裢ꪂ菣⢳볯邼볯涐膀볯⺒볯馼浭汯ꢁ볯膽볯⢨볯醼볯涓뷯꺁觩릲룤隼볯鞽뷯薼胣銼颼볯涔潭⥬臣袂臣醼裢ꢃ菣覃菣뎃苣뎃邼鎼볯涗膀볯⺒볯钼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺐볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯醼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲖牢ਾ䐼噉邀賥馼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㈹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯隼苣膀룤鎖뷤鎼볯隼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽†猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯隼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㤰㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺖볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯銼볯⺖볯ꦡ藩ꦡ鎼볯⺘볯涓膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯隼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㤰㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺖볯銂胣궸雩鎽볯銼볯⺖볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯隼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺖볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㔹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯隼鎼苣膀⠨볯⦳裢鎼裢銃菣궃苣랂裢醼裢閃苣讃菣銈菣궃菣ꮃ銈苣ꮃ菣龃菣뢅뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣릂菣ꮃ吨瑥慲敨牤湯䰠瑥整獲ㄨ㤹⤴‬㔳ㄨ⤰‬㔱㤸㤭⸲⠩볯钼볯涖膀볯⺐볯颼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯銼볯邼胣㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯邼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯鞼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴��㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㤰㰶愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯銼볯銂胣궸雩鎽볯銼볯⺗볯⢑볯閼杭胣邼邼볯涔潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鞼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㤰㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺗볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯馼浭汯誁苣뎁醼볯Ⲳ볯늼銈볯銈苣龃菣랂苣궃菣궂苣躃菣ꮃꇥ뢅ꇥ⢩볯銼杭胣邼銼볯涑潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯銼볯㲘牢ਾ䐼噉邀賥馼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰〱㠹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯颼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㤰㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯銼볯⺘볯ꦡ藩ꦡ鎼볯⺕볯涙膀볯⺐볯鞼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〱㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯銼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯銼볯⺘볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯醼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺘볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥馼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㄰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯颼鎼苣膀⠨볯⦳裢鎼裢銃菣궃苣랂裢醼裢閃苣讃菣銈菣궃菣ꮃ銈苣ꮃ菣龃菣뢅뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣릂菣ꮃ吨瑥慲敨牤湯䰠瑥整獲ㄨ㤹��‬㔳ㄨ⤰‬㔱㤸㤭⸲⠩볯鎼볯涗膀볯⺐볯馼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯颼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯銼볯隼胣鎼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯隼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯馼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〱㰲愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯銼볯銂胣궸雩鎽볯銼볯⺙볯⢑볯邼杭胣邼邼볯涙潭⥬臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼馼볯膀볯⺓볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯銼볯⺙볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㌰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯馼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼銼閼볯涐膀볯⺐볯涑潭⥬臣袂臣ꊂ菣閃苣銈苣龃菣銈苣鞃苣궃菣銈苣鞃菣ꦃ苣뾂菣⢠볯閼杭胣邼醼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鎼볯㲐牢ਾ䐼噉邀賥馼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㐰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯邼苣膀룤鎖뷤鎼볯邼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽†猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺐볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㔰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯邼醼苣膀룤鎖뷤銼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯颼浭汯誁苣뎁늼銈銈銈볯銈苣龃菣銈볯銈菣Ꞃ菣ꮃ裢銼裢ꆃ菣궂苣ꢂ苣뎃ꇥ뢅ꇥ⢩牏慧楮⁣祓瑮敨敳⡳㤱㠹Ⱙ㜠‵㤱㌭⸰⠩볯隼醼杭胣邼醼볯涙潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯邼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〱㰶愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鎼볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺑볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢��湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯銼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺑볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥馼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㜰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯醼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼隼볯⺒볯颼杭胣邼醼볯銼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤鎼볯醼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯钼閼杭胣邼醼볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯醼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〱㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺑볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯醼裥આ䐼噉邀볯醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯醼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〱㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺑볯銂胣宁뎼銈볯銈銼裢銃菣궃苣랂裢ꢂ菣ꮃ銈볯銈菣膃菣銈菣膃菣嶫裢ꮂ菣邃菣뎃藩钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫볯뎼볯馼볯閼볯閼볯⦘隼볯⺑볯涒膀볯⺐볯隼볯涔潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤銼볯馼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯銈볯辽뷯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鎼볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥馼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ〱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯銼苣膀룤鎖뷤鎼볯銼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯銼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰ㄱ㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯隼颼杭胣邼邼볯钼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤鎼볯銼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯隼钼杭胣邼邼볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯��鎼볯⺒볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰ㄱ㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺒볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺒볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰ㄱ㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺒볯銂胣宁뎼銈볯銈銼裢銃菣궃苣랂裢ꢂ菣ꮃ銈볯銈菣膃菣銈菣膃菣嶫裢ꮂ菣邃菣뎃藩钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫볯뎼볯馼볯閼볯閼볯⦘鞼볯⺑볯涔膀볯⺐볯邼볯隼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ裢ꊼ뷯莽볯醼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㐱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯鎼苣膀룤鎖뷤鎼볯鎼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺓볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰ㄱ㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺓볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯ꢁ룤鎖뷤銼볯颼銼钼볯⺖볯涒膀볯⺐볯銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鎼볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥醼볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰ㄱ㰶愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鎼볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯钼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㜱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯钼醼苣膀룤鎖뷤銼볯颼銼醼볯邼杭胣邼銼볯涗潭⥬臣��雩鎽볯醼볯⺓볯⢒볯钼邼杭胣邼鎼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯銼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯閼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㠱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯閼苣膀룤鎖뷤鎼볯閼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣궼볯ꢼ볯閼볯銼胣㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯㲃猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯閼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㤱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯閼銼銼볯銼杭胣邼銼볯閼浭汯꺁볯薽볯ꢼ醼볯涐⥌臣袂臣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯涕⥌臣뚺뛦ꮁ胣銃菣ꦃ苣뎃냦貒觧⢩볯隼杭胣醼鎼볯涒潭⥬苣꒮룦ꞁ럦ꂊ臣讂胣鎼볯芙雩膀껥ꦸ臣릒详貾胣趏뿥랷郥ꦉ苣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯邼䱭ꞁ룥袇臣膀볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼閼볯涐⥌臣鞴뗦馁苣芀鳦龩뇥銂볯螽볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣龜ꧧ莿룧馁苣芀닧议룦銂볯낼裢ꢼ볯겼볯ꞁ닧붣臣ꚁ胣궸雩鎽볯鎼볯⺕볯銂뻥讂볯ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯閼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ〲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯閼銼苣膀룤鎖뷤銼볯銼鎼銼볯邼杭胣邼钼볯馼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤鎼볯閼鎼銼볯邼杭胣邼閼볯馼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺕볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈱㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺕볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺐볯膀볯銈苣꾂菣鞃菣钃菣ꊂ菣躃裢銼銼裢뢂菣膃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂醼钼ꪂ苣떂苣뎃裢鎼裢ꪂ菣⢳볯邼볯涐膀볯⺐볯隼볯涑潭⥬臣��袂臣銼裢⢒볯銈菣궃菣銈菣궃菣ꮃ銈苣붂苣뎃菣벃菣銈볯ⲑ볯銈苣ꪂ菣⢳볯閼볯涔膀볯⺐볯钼볯涗潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯邼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣궼볯ꢼ볯钼볯邼胣㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯隼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯隼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㈲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯隼苣膀룤鎖뷤鎼볯隼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣궼볯ꢼ볯隼볯醼胣㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯㲃猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯隼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㌲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯隼醼苣膀룤鎖뷤銼볯銼鎼醼볯邼杭胣邼鎼볯閼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤鎼볯隼銼醼볯馼杭胣邼閼볯銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯⺗볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺖볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈱㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯馼볯⺐볯膀볯銈苣꾂菣鞃菣钃菣ꊂ菣躃裢銼銼裢뢂菣膃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂醼钼ꪂ苣떂苣뎃裢鎼裢ꪂ菣⢳볯邼볯涐膀볯⺐볯隼볯涑潭⥬臣꒼볯ꚼ醼볯涐⥌뫦늶臣膀觩릲룤隼볯薼볯膽볯⢨볯颼杭胣邼馼볯涕潭⥬苣邼蓢ꞁ럦ꂊ臣讂胣趏뿥랷郥ꦉ苣꒮룦ꞁ볯邼裥릒详馁苣芀볯銈苣궃菣銈볯銈菣袃苣랂裢隃苣뎃醼볯隼杭胣邼馼볯鞼浭汯誁苣뎁볯膽볯⢩볯鎼杭胣邼邼볯隼볯涑汯銂껥ꦸ臣뮷諥貾胣랷郥ꦉ苣꒮룦ꞁ볯芙雩릒详馁苣芀迥鲿럦袐觧ꮁ냦⢴볯邼䱭銂럦ꂊ臣膀볯钽볯ꆼ뷯ꞁ諦몇臣讂胣袐苣鮁臣覜ꧦ붊蟥ꦉ苣뺹蟧閁臣⢛볯螽볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢膀룦Ꞝ룤莿룧馁苣芀껦ꎸ苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣뺲ꏨ鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯隼銼苣鞾苣骼믩늉鷩뚙胦膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯鞼胣ં䐼噉邀볯醼볯馼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯鞼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㔲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯鞼苣膀룤鎖뷤鎼볯鞼醼臣놄뿤랭��袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鞼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㘲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鞼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼隼볯⺒볯涖膀볯⺐볯醼볯涘潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯鎼볯⺗볯ꦡ藩ꦡ銼볯⺑볯涙膀볯⺐볯醼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鞼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㜲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鞼鎼钼볯涗膀볯⺐볯钼浭汯꺁볯薽볯ꢼ胣銼볯薼볯蒽꾼볯⦨猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯ꎼ苣뮷諥鞁胣趏뿥랷郥ꦉ苣膀볯뒼臣肸駦뒰듧隌臣讂钼杫볯掏㱭畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯灵⤾胣貮藥ꪁꓥ鮏뻥膀꟨銪苣뺿迥馁苣芀룦Ꞝ룤꺁뿦꺸臣袂苣膀닧붣觧銂뻥龁胣ꆬ臣ꞁ胣钼볯₮ꢼ볯貽臣뢂苣궂苣뎃뫦늶醼䱭銂럦ꂊ臣膀뫦銪苣뢒駧閁臣ꚁ胣ꦡ苣鞾苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯醼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鞼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㠲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鞼鎼苣膀룤鎖뷤鎼볯鞼钼醼볯銼钼杭胣邼閼볯涖潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤銼볯馼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥આ䐼噉邀볯醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鞼钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㤲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†늼銈볯銈苣馃菣뢂菣ꊂ菣躃裢钼裢ꆃ菣ꮃ裢骃菣뾂菣뢅菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫潊牵慮⁬景传杲湡捩䌠敨業瑳祲ㄨ㤹⤷‬㈶㜨Ⱙ㈠㤲ⴲ㈲㜹⤮鞼볯鞼鞼杭胣銼鎼볯颼浭汯꺁볯ꢼ볯⢦볯涕⥌볯㲮畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵许胣邼蓢ꞁ胣궼뷯궼뷯ꊼ뷯⢒볯⺗볯涖꺁볯⺐볯뒼볯ꚼ룤鎼볯芀볯⺗볯鞼浭汯銂럦ꂊ臣讂胣趏뿥랷郥ꦉ苣銽뷯ꞁ볯芙雩릒详馁苣芀迥鲿苣붣鋥뒰胦ꮼ볯뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ苣ꢂ菣��膃臣膀볯钽볯ꆼ뷯ꞁ諦몇臣膀ꇥ뒰臣鞴뗦鞁胣궼뷯뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁苣芀룦Ꞝ룤꺁뿦꺸臣袂苣膀닧붣觧銂뻥讂胣鞲铧邈觧銂苣ꪃ苣늂菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣뺲ꏨ鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯鞼钼胣궼볯ꢼ볯鎼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯钼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯颼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ〳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯颼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱㄳ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯颼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯颼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤鎼볯颼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯隼鎼杭胣邼醼볯閼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺘볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌱㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺘볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯隼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺘볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌱㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺘볯⢔볯邼볯⺑볯涕膀볯⺐볯鞼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ裢ꊼ뷯莽볯醼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽†猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㐳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†늼銈볯銈뷯薽뷯钽裢隃菣궂苣ꮂ菣鲃菣ꮃ苣龃菣銈볯銈菣膃菣銈菣궂苣뎃藩⢸볯鞼볯涑膀볯⺑볯銼浭汯⠩郥邈胣醼볯馼볯膀볯醼볯钼꺁볯ꢼ볯⢦볯涑⥌뫦늶臣��볯㲮畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵许胣邼蓢ꞁ胣袃菣ꢂ菣ꮃ苣龃菣⢳볯⺐볯涔膀볯⺒볯颼浭汯誁苣뎁苣붂菣膃菣꾂菣궃菣ꮃ菣벃菣⢈볯⺐볯閼䱭胣醼馼볯涒潭⥬苣뮷諥馁苣芀迥鲿럦袐觧銂臣꺁룦ꚺ臣낕裥릒详馁苣芀苣ꦃ苣袃臣꺁뿦躁臣袂臣鮸鳥许臣莿룧ꮁ苣誂胣ꆄ냦ꦉ苣鞾苣芀戼㹲 궼뷯꾼볯궸臣ꆄ냦ꦉ臣膀볯㲮畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵许胣邼蓢ꞁ胣꺼뷯ꊼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵⠾볯銼볯涖膀볯馼銼浭汯銂럦ꂊ臣讂胣趏뿥랷郥ꦉ苣鶁臣ꦸ뫥ꞁ볯芙雩릒详馁苣芀뫦銪궼뷯꾼볯⦨駩뮎臣龁苣꺁룦Ꞝ룤꺁뿦꺸臣袂苣몛뷤銂뻥讂胣ꆬ臣ꞁ胣ꮼ볯뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵뒰胦銂럦袐觧ꮁ럦ꂊ臣膀臣貂苣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꞁ諦몇臣膀볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣讂胣鮸鳥许臣莿룧ꮁ苣誂胣鞲铧邈觧銂뻥讂胣鞲ꏨꦉ苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣ꞁ닧붣臣ꚁ胣궸雩鎽볯鎼볯⺘볯銂뻥讂胣ં䐼噉邀볯醼볯馼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯馼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㔳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯馼苣膀룤鎖뷤鎼볯馼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ볯閼볯鞼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯馼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㘳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯馼醼苣膀룤鎖뷤醼볯颼銼馼볯⺙볯涔膀볯⺐볯鞼볯涗潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯鎼볯⺙볯ꦡ藩ꦡ钼볯⺘볯涕膀볯⺐볯鞼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺙볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌱㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺙볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯隼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鎼볯⺙볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼��銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌱㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鎼볯⺙볯銂胣궸雩鎽볯鎼볯⺘볯⢔볯邼볯⺐볯涔膀볯⺐볯鞼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯颼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉觧ꪳ볯궼볯ꢼ裢ꊼ뷯莽볯醼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯邼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㤳⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯邼苣膀룤鎖뷤鎼볯邼醼鎼볯涕膀볯⺐볯閼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯邼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺐볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐱㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺐볯⢒볯邼杭胣邼銼볯涕潭⥬臣궸雩鎽볯馼볯⺒볯⢓볯閼杭胣邼銼볯涑潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯馼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯邼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱㄴ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯邼銼苣膀룤鎖뷤醼볯邼銼胣隼裢랂苣궃菣궃菣ꮃ苣龃菣銈볯Ⲓ볯銈苣ꆃ菣ꮃ裢钼볯銈菣뎃苣宾볯ⲑ볯嶔苣궂苣뢂菣銈볯銈苣뎃钼볯閼杭胣銼浭汯ꢁ볯銈菣ꮃ苣궃裢醼裢袃苣ꮃ苣궂苣鞃菣醃菣⢳볯閼볯涗膀볯⺒볯钼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯馼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣邤觨몛뷤膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯钼볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐱㰲愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯钼볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺑볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺑볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢��㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐱㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺒볯⢓볯邼볯涘膀볯⺐볯鞼浭汯ꢁ룤鎖뷤鎼볯醼銼馼볯涘膀볯⺐볯颼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺑볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐱㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯馼볯⺐볯膀볯銈苣꾂菣鞃菣钃菣ꊂ菣躃裢銼銼裢뢂菣膃菣銈볯ꢼ裢馃菣뺂醼钼ꪂ苣떂苣뎃裢鎼裢ꪂ菣⢳볯邼볯涐膀볯⺒볯閼浭汯ꢁ볯膽볯⢨볯邼볯涔뷯꺁觩릲룤隼볯鞽뷯薼胣銼閼볯涘潭⥬臣袂臣캳銈菣궃菣궂苣ꢂ菣ꮃ苣ꒂ苣肃苣覃閼볯閼杭胣銼鎼볯涗潭膀볯낼볯邼볯醼볯醼볯邼볯銼꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺐볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯醼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯钼볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐱㰵愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯钼볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺒볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺒볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐱㰶愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯钼볯涐膀볯⺐볯閼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤鎼볯銼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯钼杭胣邼銼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼銼볯蚈㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺒볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㐱㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺒볯⢓볯馼볯涐膀볯⺑볯钼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鎼볯⺗볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯��볯颼裥આ䐼噉邀볯醼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯銼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㠴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯銼鎼苣膀룤鎖뷤鎼볯銼钼醼볯銼钼杭胣邼閼볯涖潭⥬臣ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤銼볯馼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯馼裥આ䐼噉邀볯醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯銼钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㤴⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯銼钼苣膀뎼銈볯銈苣馃菣뢂菣ꊂ菣躃裢钼裢ꆃ菣ꮃ裢骃菣뾂菣뢅菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫곦麷觧놨蟥颡醼볯馼볯⦗胣䖁㝐㜶㘱‸㉁ㄠ㤹〷〴⤹銼钼뷯膀볯⺗볯閼浭汯꺁苣ꮃ苣ꮃ賥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鎼볯⺗볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀蓧늉닦뚊觧骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯钼볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㔱㰰愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯钼볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺓볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺓볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㔱㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺓볯⢒볯邼杭胣邼邼볯涘潭⥬臣꒼볯ꚼ鎼䱭뚺뛦ꮁ胣뒼볯ꚼ룤銼볯₭뢂菣膃菣ꊂ菣뎃뫦늶鎼䱭銂껥ꦸ臣뮷諥馁苣芀볯芙雩膀볯邼蓢ꞁ鋦貋뻥膀迥鲿럦袐觧銂볯莽볯ꖼ뷯⢔볯邼䱭ꞁ룥袇臣膀볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼臣鞴뗦鞁胣ꆬ臣ꞁ볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀鳧목뿦꺸臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鎼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㈵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤銼볯鞼醼醼볯钼杭胣邼醼볯涖潭⥬臣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯涓⥌뫦늶臣膀볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷��灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢볯⢮볯鞼볎膀볯⺐볯馼浭汯誁苣뎁菣뾂菣릂菣鮃菣ꮃ苣궃菣ꒂ菣⢉볯鎼볎膀볯⺐볯鞼浭汯銂껥ꦸ臣뮷諥馁苣芀볯閼駦鎖鋦貋뻥膀껥ꦸ胣趏뿥랷郥ꦉ苣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯邼䱭ꞁ룥袇臣膀볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼臣鞴뗦鞁胣ꆬ臣ꞁ볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀뿦꺸臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯颼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㌵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯颼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯钼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㐵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯颼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼銼鞼볯涒膀볯⺐볯钼浭汯ꢁ苣붂苣龃菣ꊂ菣뎃醼볯涘膀볯⺐볯醼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯定볯讼볯嶨猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰讼볯㲝猯灵閼볯鎼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺘볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㔱㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺘볯⢓볯邼杭胣邼醼볯涕潭⥬臣ꂊ냦蚈꟨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯定볯讼볯嶨猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰讼⼼畳㹰볯閼볯钼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯鶼⼼畳㹢볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯钼볯⺘볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㔱㰶愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯钼볯⺘볯銂胣⢁볯뎼閼볯⦲裢몇駧ꦉ돨銈볯⢦볯邼杭胣邼醼볯涗潭⥬臣궸雩鎽볯⺑볯⢓볯钼杭胣邼銼볯涑潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩��뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼궼㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯銼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵钼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯醼胣㲑䐯噉ਾ†껥붖뻤鎼볯馼裢鎼볯邼臣膀껥붖뻤鎼볯颼臣붣胩閳臣隺臣龁胣⢁볯뎼閼볯⦲裢몇駧ꦉ돨銈볯讁苣꺁룧袐臣袂臣놄뿤랭臣袂苣袐裦馁苣芀㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯钼볯㲙牢ਾ䐼噉邀賥醼볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㔱㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯钼볯銂胣궸雩鎽볯钼볯⺙볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯钼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯馼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㠵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯馼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯馼銼醼볯銼閼杭胣邼鎼볯涓潭⥬臣궸雩鎽볯鞼銼醼볯邼杭胣邼閼볯涗潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯馼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯馼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㤵⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯馼銼苣膀룤鎖뷤鎼볯馼鎼銼볯颼閼杭胣邼隼볯鞼浭汯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯钼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯醼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯馼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ〶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯馼鎼苣膀鎼볯Ⲳ볯뎼銈蟥몙觧ꪳ裢ꚼ銼볯邼杭胣邼隼볯隼浭汯ꢁ苣붂苣龃菣ꊂ菣뎃銼볯涔膀볯⺐볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯定볯嶭猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰讼⼼畳㹰볯鎼볯鞼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼��㹖龮雦设볯閼볯㲐牢ਾ䐼噉邀賥醼볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㘱㰱愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺐볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯邼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㈶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯邼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯馼銼醼볯銼閼杭胣邼鎼볯涖潭⥬臣궸雩鎽볯鞼銼馼볯⺙볯涔膀볯⺐볯隼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯邼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㌶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯醼苣膀룤鎖뷤鎼볯醼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯钼볯銼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯醼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯醼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㐶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯醼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯醼銼醼볯醼杭胣邼鎼볯涓潭⥬臣궸雩鎽볯閼볯⺑볯⢖볯邼볯涐膀볯⺐볯鞼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺑볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㘱㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺑볯⢓볯钼볯涑膀볯⺐볯鎼浭汯꺁볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢閼䱭뚺뛦ꮁ胣꺼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢룤膀뷯钽臣膀볯莽볯ꢼ邼邼볯醼䱭胣醼閼볯隼浭汯膀苣꾂菣鞃菣钃菣ꊂ菣뎃邼醼볯涑膀볯⺑볯鞼浭汯誁苣뎁菣袃菣Ꚃ菣袃菣ꊂ苣袃苣랂菣궃菣ꒂ菣ꦃ苣覃鎼볯颼杭胣醼閼볯隼浭汯銂럦ꂊ臣讂胣趏뿥랷郥ꦉ苣膀뷯钽臣肸駦릒详馁苣芀곦蒁臣膀ꏩ��냦Ꞁ볯膽볯ꎼ볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵銂뻥覂苣龁뫦늶臣뮷諥馁苣芀냦Ꞁ鯧銂볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢臣붊蟥馁苣芀郥辂臣龁鳦龩鯧銂볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀룦Ꞝ룤莿룧鞁臣膀ꇨ財賥袐觧銂뻥讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯醼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㘶⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯醼钼钼볯隼杭胣醼鎼볯涓潭⥬臣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯涕⥌뫦늶臣膀볯㲮畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵许胣銽뷯ꞁ胣䒁獥⵳慍瑲湩菣ꮃ菣벃苣誃菣⢳볯鞼볯涐膀볯⺑볯颼浭汯銂럦ꂊ臣讂胣趏뿥랷郥ꦉ苣鶁臣ꦸ뫥ꞁ볯芙雩릒详鞁胣鮸鳥许뿦꺸臣ꚁ胣鞲铧邈觧銂뻥讂胣鞲铧邈觧銂苣ꪃ苣늂菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣袂苣뺲ꏨ鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯醼鎼苣鞾苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺑볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥醼볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㘱㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺑볯⢕볯⺑볯銼뷯膀볯⺔볯閼浭汯꺁볯ꢼ볯⢦볯邼䱭뚺뛦ꮁ胣꺼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢룤膀볯莄臣膀菣ꪃ苣膃菣ꊂ菣뎃邼鞼볯涘膀볯⺕볯涖潭⥬臣袂臣ꒂ苣隃菣ꮃ苣궃菣鮃菣ꆃ菣袃邼隼볯涑膀볯⺔볯颼浭汯銂럦ꂊ臣讂胣貐臣ꦸ뫥ꞁ볯蚈鋦貋뻥膀迥鲿뫦늶苣뮂菣ꒂ菣銂胩鞁臣뺿臩鞁胣鮸鳥许뿦꺸臣ꚁ胣뺯뿥馁苣랷郥ꆄ냦ꦉ苣鞾苣芀戼㹲 뒼볯ꚼ볯궼뷯꾼볯⢨볯邼䱭볯醼볯涐⥌룤꺁蓧뒰觧ꮁ胣꺼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢룤膀볯莄臣膀볯膽볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢鎼볯钼杭胣颼閼볯涘潭⥬苣뮷諥馁苣芀迥鲿럦袐觧銂뷯钽臣銼駦鎖鋦貋臣讂胣趏뿥銂ꏩ貒냦Ꞁ볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢볯貽臣꾂苣뎃菣鞁胣ꖼ뷯꾼볯莽臣붊蟥馁苣芀郥辂臣龁鳦龩鯧銂볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀룦Ꞝ룤莿룧鞁臣膀닧龔裦ꦉ苣鞾苣芀닧龔裦ꦉ苣랂菣ꮂ苣ꮃ臣뺲��鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯醼钼苣鞾苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯銼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺑볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥醼볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㘱㰸愯㰾䐯噉ਾ 袃菣ꢂ菣ꮃ苣龃菣⢳볯⺗볯涑膀볯⺐볯閼볯涑汯誁苣뎁볯銈菣膃菣銈菣膃菣ꊂ菣뎃鎼䱭胣邼邼볯閼潭⥬臣뒼볯ꚼ钼볯涙⥌뫦늶臣膀볯㲮畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵许胣邼蓢ꞁ蟥몙觧ꪳ裢ꖼ醼뷯膀볯⺐볯鎼볯涙汯銂럦ꂊ臣讂胣銽뷯ꞁ볯邼裥릒详貾胣붣鋥ꮼ볯뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵뒰胦銂럦ꂊ臣讂胣뒰胦뢛苣ꖼ뷯꾼볯莽臣붊蟥鞁胣袐苣鮁臣覜ꧦ뢛苣꺼뷯㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁苣芀룦Ꞝ룤꺁뿦꺸臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯醼閼苣鞾苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯邼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺑볯㲖牢ਾ䐼噉邀賥醼볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㘱㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯⺑볯⢔볯⺑볯醼볯鞼뷯膀볯⺐볯隼볯涙汯꺁猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钽⼼畳㹰볯閽볯ꢼ鎼볯涐⥌臣袂臣ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯⢯볯閼䱭꺁뫦늶臣膀볯㲮畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵许胣銽뷯ꞁ胣銼裢ꆃ菣ꮃ裢銼裢隃菣뎃醼볯⺕볯涖膀볯⺐볯閼潭⥬胣꺼뷯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢钼邼뷯膀볯⺐볯鎼볯涓汯誁苣뎁볯膽볯貽볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯⺒볯颼뷯꺁볯邼볯膀볯⺐볯銼볯涕潭⥬苣뮷諥馁苣芀臣꺁룦ꚺ臣肸駦릒详貾胣ꦡ냦銂럦ꂊ臣讂胣뒰胦뢛苣ꖼ뷯꾼볯莽臣붊蟥鞁胣꺼뷯㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁胣鮸鳥许뿦꺸臣ꚁ胣鞲铧邈觧銂뻥讂胣鞲铧邈觧銂苣ꪃ苣늂菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣뺲ꏨ鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯醼隼苣鞾苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯醼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖⠊뷯膽뷯⦃裢钽뷯膽뷯鎽裢몇駧ꦉ돨銈볯㲧牢ਾ䐼噉邀賥醼볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜱㰰愯㰾䐯噉ਾ 몇駧ꦉ돨銈볯⢢볯⺔볯鞼뷯膀볯閼浭��꺁볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢鞼볯涐⥌뫦늶臣膀볯㲮畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵许胣袃菣ꢂ菣ꮃ苣龃菣⢳볯⺕볯涒膀볯鞼閼浭汯膀볯辽뷯㲃畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼閼鞼뷯膀볯隼醼浭汯誁苣뎁볯궼볯낼醼볯隼隼杭胣邼馼볯涕潭⥬苣邼蓢ꞁ럦ꂊ臣讂胣鞾苣貂臣뚺뛦銂胣銽뷯ꞁ룤ꦙ鋦貋臣讂胣ꆬ臣ꞁ胣붣鋥꺼볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꎼ뷯뒰胦銂럦ꂊ臣讂胣趏뿥랷郥ꦉ苣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꞁ諦몇臣膀볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀룦Ꞝ룤莿룧鞁胣랂菣ꮂ苣ꮃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣ꮁ믤鞁臣膀銽뷯莽銈뷯銽뷯躽뷯銈蟥몙觧ꪳ裢Ꞽ苣膀駧늉苣궃菣鞃諧ꦉ돨ꢁ臣ꚁ뻥讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ裢钽볯閽볯銼볯隼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼뷯銽뷯躽뷯낕胦鎽臣ꒁ臣ꚁ볯⺓볯鞼裥膀뷯覽뷯낕胦鎽臣ꒁ臣ꚁ볯⺓볯邼裥芀戼㹲吊瑥慲敨牤湯䄺祳浭瑥祲㈠〰ⰳㄠⰴㄠ㐵ⴱ㔱㔴迥ꞅ胣ં䐼噉邀볯銼볯隼胣㲑䐯噉ਾ銽뷯莽銈뷯銽뷯躽뷯銈蟥몙觧ꪳ裢ꢼ戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱㄷ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†銽뷯莽銈뷯銽뷯躽뷯銈蟥몙觧ꪳ裢Ꞽ鞼볯銼鎼杭胣銼鎼볯涓潭⥬臣궼뷯꾼볯⢨볯⺔볯涘⥌裢ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯⢯볯⺑볯涒⥌臣뚺뛦ꮁ胣꺼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢룤膀볯膽꾼볯⦨猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢颼볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼鎼볯鞼杭胣醼醼볯涖潭⥬苣銽뷯ꞁ럦ꂊ臣讂胣鶁臣ꦸ뫥ꞁ볯邼裥릒详貾胣ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯誁苣뎁ꏩ貒냦Ꞁ볯ꢼ볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢苣뮷諥馁苣芀迥鲿럦袐觧銂볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢臣붊蟥鞁胣꺼뷯㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁胣鮸鳥许뿦꺸臣膀苣ꪃ苣늂菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣颻臣ꚁ胣⢁뷯膽뷯⦃裢钽뷯膽뷯鎽裢몇駧ꦉ돨銈볯銂胣붙觨랂菣莃菣뚊觧ꪳ臣鞁臣鞾苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯銈뷯ꊼ뷯鶼볯鎼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯��뷯膽뷯鎽闧Ꞁ뷤ꮁ臣蒁臣銼閼볯蚈胣㲂牢ਾ畁瑳⸬䨠‮桃浥‮㤱㘸‬㤳‬〲ㄶ迥ꞅ㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯閼볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜱㰲愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺒볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯銼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㌷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯銼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯銼銼醼볯鞼钼杭胣邼鎼볯涔潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯鞼銼馼볯⺐볯涒膀볯⺐볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯邼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺒볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜱㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺒볯⢓볯邼볯⺕볯涐膀볯⺑볯銼浭汯꺁볯ꢼ볯⢦볯⺘볯涕⥌뫦늶臣膀볯꺼냦Ꞁ볯膽볯ꢼ苣銽뷯ꞁ럦ꂊ臣讂胣鶁臣ꦸ뫥ꞁ볯芙雩릒详貾胣꾂苣뎃藩銂볯莄臣뮷諥馁苣芀鳦龩鯧銂볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯ꞁ諦몇臣膀볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀룦Ꞝ룤莿룧鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯銼銼苣鞾苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨銂뻥讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼볯銼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼뷯銽뷯躽뷯낕胦鎽臣ꒁ臣ꚁ볯⺓볯邼裥膀뷯覽뷯낕胦鎽臣ꒁ臣ꚁ볯⺓볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺒볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜱㰵愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺓볯銂胣⢁뷯膽뷯⦃裢钽뷯膽뷯鎽裢몇駧ꦉ돨銈볯⢨볯⺒볯螽胣颼鞼浭汯誁苣뎁볯銈菣膃菣銈菣膃菣ꊂ菣뎃醼銼䱭胣醼볯⺐볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼볯隼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯鶼⼼畳㹢볯⺑볯銼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯��볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜱㰶愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺓볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鎼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㜷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鎼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯鎼銼鞼볯⺑볯涓膀볯⺐볯醼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤醼鎼閼볯⺓볯涗膀볯⺐볯醼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯鎼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯閼볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥醼볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜱㰸愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺔볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯钼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯钼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㤷⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯钼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯銼銼馼볯⺖볯涕膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁볯銈苣膃菣ꊂ菣躃裢钼裢⢒볯銈菣袃苣랂菣궃菣ꮃ銈볯ꢼ裢馃菣뺂醼钼ꪂ苣떂苣뎃裢鎼裢ꪂ菣⢳볯钼杭胣邼銼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯馼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯馼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯閼볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥醼볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㠱㰰愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺕볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵銼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯隼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯閼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡��晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱㄸ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯閼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯銼銼閼볯⺙볯涒膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤醼볯⺙볯⢓볯馼醼杭胣邼醼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯馼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯醼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯閼볯㲖牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㠱㰲愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯閼볯銂胣궸雩鎽볯閼볯⺖볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉蓧늉닦뚊觧鮼볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯馼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵銼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯颼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯隼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㌸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯隼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯銼銼隼볯涐膀볯⺐볯銼볯涖潭⥬臣궸雩鎽볯邼볯⺑볯⢒볯颼钼杭胣邼銼볯涐潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯馼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵钼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯馼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯鞼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㐸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯鞼苣膀룤鎖뷤鎼볯鞼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꆄ觨릲諧ꦉ볯ꖼ볯銈볯뎼볯定볯讼볯嶨猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰讼⼼畳㹰볯钼鞼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵銼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鞼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㔸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鞼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯銼銼鎼볯⺖볯涖膀볯⺐볯钼볯涔潭⥬臣궸雩鎽볯颼銼钼볯⺙볯鞼杭胣邼醼볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯定볯讼볯嶨볯鶼볯鞼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵鎼颼볯蚈胣ં䐼噉��邀볯銼볯醼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯颼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㘸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯颼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯馼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵銼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯銼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㜸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤閼볯⺘볯⢔볯馼杭胣邼銼볯涒潭⥬臣袂臣뎼볯ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯⺑볯涐⥌臣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯⺑볯涐⥌룤꺁럦袐觧銂볯邼蓢ꞁ볯芙雩릒详馁苣芀럦袐觧銂鳧목뿦꺸뻥膀뻥覂苣龁藩꾂菣ꦃ苣覃苣궸雩鎽볯閼볯⺘볯⢒볯鎼杭胣邼醼볯涔潭⥬臣袂臣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵꺼邼邼볯邼䱭胣邼銼볯涒潭⥬臣ꎼ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵⠾볯⺒볯涐⥌뫦늶臣邼蓢ꞁ볯芙雩ꚇ郧馁苣芀럦袐觧銂鳧목뿦꺸뻥膀껦ꎸ苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣뺲ꏨ鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯颼醼苣鞾苣骼駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯馼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲢猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵醼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯颼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㠸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯颼銼苣膀苣꾂菣鞃菣钃菣ꊂ菣뎃邼閼䱭胣鞼醼볯涕潭⥬臣궸雩鎽볯閼볯⺘볯⢓볯鞼볯涘膀볯⺒볯颼浭汯꺁苩莅髧ꊂ菣궂菣隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ볯ꖼ볯銈볯뎼볯定볯讼볯嶨猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰讼⼼畳㹰볯鎼볯颼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯鶼⼼畳㹢볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺘볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㠱㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯閼볯⺘볯⢔볯銼볯涖膀볯⺒볯銼浭汯꺁볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢醼볯⺔볯涑⥌臣뚺뛦ꮁ胣꺼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯��樮≰銼⼼畳㹢룤膀뷯钽臣膀敄獳䴭牡楴骃菣ꢃ菣뢂菣뎃醼钼볯涓膀볯⺓볯颼浭汯銂럦ꂊ臣讂胣趏뿥랷郥ꦉ苣貐臣ꦸ뫥ꞁ볯芙雩릒详馁苣芀迥鲿苣붣鋥뒰胦꺼뷯ꢼ볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢臣袂臣閼볯뒰胦꺼뷯㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵ꞁ胣랰뗦랆跥许苣ꢂ菣膃뻥膀럦袐觧銂볯钽볯ꆼ뷯ꞁ諦몇臣讂胣袐苣鮁臣覜ꧦ뢛苣뒰臣袂臣ꦡ냦ꞁ듦蒵臣膀볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀룦Ꞝ룤莿룧鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯颼鎼苣鞾苣骼駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯鶼⼼畳㹢볯⺓볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯銼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯閼볯⺘볯㲔牢ਾ䐼噉邀賥醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㤱㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯邼볯⺙볯⢓볯⺑볯隼뷯膀볯⺒볯颼浭汯꺁볯ꢼ볯⢦볯钼䱭뚺뛦ꮁ胣꺼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢룤膀뷯钽臣膀볯覽볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢醼볯馼颼杭胣閼馼볯涖潭⥬苣뮷諥馁苣芀迥鲿럦袐觧銂郥颁룦ꚺ臣銼駦鎖鋦貋臣讂胣趏뿥銂볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼臣뮷諥ꮁ苣讂苣ꢂ菣膃뻥膀럦袐觧銂볯ꢼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢臣붊蟥鞁胣꺼뷯㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁胣뺿臩鞁胣鮸鳥许뿦꺸臣ꚁ胣궸雩鎽볯閼볯⺘볯銂뻥讂볯붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鎼볯馼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵銼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯隼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯馼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱㄹ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯馼苣膀룤鎖뷤鎼볯馼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯馼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵銼馼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯馼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㈹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯馼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼銼閼볯涖膀볯⺐볯閼浭汯ꢁ볯銈菣袃苣랂裢��閼裢⢒볯銈菣袃苣랂菣궃菣궂苣⦷裢覮臦馦藩⢸룤鎖뷤鎼볯⺗볯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣붣胩⦠臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯閼볯⺘볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯馼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵钼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯邼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㌹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯邼苣膀룤鎖뷤鎼볯邼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯馼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㐹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯醼苣膀룤鎖뷤鎼볯醼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼邼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯醼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㔹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯醼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯醼銼醼볯醼鞼杭胣邼銼볯馼浭汯ꢁ볯銈菣膃菣銈菣膃菣ꊂ菣뎃邼邼볯鞼䱭胣邼銼볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯醼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼鞼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯醼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰ㄱ㘹⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯醼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯醼銼醼볯邼颼杭胣邼鎼볯涔潭⥬臣鎼裢ꆃ菣ꮃ裢隃菣ꮃ苣龃菣⢳볯⺐볯鎼볯涙膀볯⺐볯钼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯⺒볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺐볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㤱㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺐볯꺁맩隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦��ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺑볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㤱㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺑볯꺁맩隌臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺐볯誁苣뎁볯隼볯⺑볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㤱㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺐볯誁苣뎁볯隼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺐볯⢔볯隼볯⺖볯涘膀볯⺐볯鞼浭汯ꢁ룤鎖뷤醼鎼銼볯鞼䱭胣邼颼볯涘潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯銼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣뺯뿥馁苣莽뷯鎽裢钽뷯膽뷯鎽럦袐苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣ꞁ裥ꊛ臣讂胣莽뷯鎽裢鎼閼裢钃菣ꪃ苣뎃胣궸雩鎽볯隼볯⺐볯骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯鞼裥芀뷯銽뷯躽뷯銈볯ⲓ볯銈菣骃菣뢂菣膀룤鎖뷤鎼볯醼鎼볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼銼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯閼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯邼钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯颼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱〰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†銽뷯莽銈菣骃菣뢂菣銈볯ⲑ볯ⲓ볯銈菣ꪃ苣ꮃ菣뎃藩醼裢钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣鎼裢ꆃ菣ꮃ苣릂菣ꮃ銼볯钼銼杭胣邼鞼볯涔潭⥬臣뒼볯ꚼ銼볯涐⥌뫦늶臣膀볯㲮畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵许胣銈볯颼蓢ꞁ볯꒼볯⢡볯⺐볯馼䱭臣뒼볯ꚼ룤銼볯込菣鞃苣뎃볯銼裢ꢂ菣ꮃ菣뎃苣뎃胣醼鞼볯涘潭⥬苣蚂臣辁苣뮷諥馁苣芀郥颁룦ꚺ臣鎼볯蚈鋦貋뻥膀迥鲿룦ꚺ苣邼蓢ꮁ룤銁苣芀뫦늶苣邼蓢ꞁ볯閼裥릒详鞁胣ꆬ臣ꞁ迥鲿럦袐觧銂裢鞼볯莄臣랆跥馁苣芀볯銈菣ꮃ苣궃菣뎃苣뎃苣ꮃ菣뎃苣龃菣⢉볯颼볯⺒볯涘膀볯⺒볯隼浭汯銂뫦늶臣뮷諥馁苣芀뻥覂苣龁뫦늶苣膀뷯钽臣肸駦릒详馁苣芀迥鲿苣붣鋥꺼볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꎼ뷯뒰胦誁苣뎁ꏩ貒냦Ꞁ볯ꢼ볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣��苣뎃菣鞁胣뒰胦뢛苣ꖼ뷯꾼볯莽臣붊蟥鞁胣覜ꧦ뢛苣꺼뷯㲁畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵뎼볯㲯畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲔猯扵ꞁ매ꖇ臣鮁胣뺿臩鞁胣鮸鳥许뿦꺸臣ꚁ胣鞲铧邈觧銂뻥讂胣鞲铧邈觧銂苣ꪃ苣늂菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣袂苣뺲ꏨ鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯邼钼苣膀뷯覽뷯銈뷯銽뷯躽뷯鎼閼裢钃菣ꪃ苣뎃럦袐觧ꢁ臣ꚁ뻥讂胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ裢㲒畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢뷯㲔猯灵ꊼ뷯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯钼胣銼鞼볯蚈㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯隼볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〲㰱愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺒볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺒볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〲㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺒볯⢒볯邼볯涘膀볯⺐볯邼볯涔潭⥬臣ꒂ苣ꊂ菣ꮃ苣龃菣⢳볯馼隼杭胣邼銼볯閼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯隼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺒볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〲㰳愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺒볯⢓볯鎼볯涖膀볯⺐볯閼浭汯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鎼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺑볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯鎼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺒볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〲㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺒볯銂胣鎼볯Ⲳ볯늼閼볯⦳裢钼裢銃菣궃苣랂菣骃菣뢂菣銈볯ⲑ볯ⲓ볯銈菣ꪃ苣ꮃ菣뎃藩醼裢钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣鎼裢ꆃ菣ꮃ苣릂菣ꮃ堨‮楌湡Ⱨ䄠‮潌獨ⱥ䴠‮潂獬䨠‮牏⹧䌠敨⹭㈠〰ⰰ㘠ⰵ㜠㌴⸲⠩볯邼볯涐膀볯⺐볯鎼浭汯ꢁ룤鎖뷤醼鎼馼볯涔膀볯⺐볯隼볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣⢁룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼��钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꊼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯隼볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〲㰵愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺓볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯颼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鎼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱㘰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鎼銼醼볯邼杭胣邼鎼浭汯誁苣뎁볯銈苣붂菣膃菣銈볯銈菣膃菣隃菣ꮃ苣龃菣⢳볯閼杭胣邼鎼볯涖潭⥬臣꒼볯ꚼ銼䱭뚺뛦ꮁ胣ꖼ볯ꎼ볯⺩볯ꎼ뷯⢌볯隼杭胣邼钼볯涕潭⥬胣ꢼ볯ꆼ뷯⢔볯醼杭胣邼钼볯涕潭⥬苣邼蓢ꞁ럦ꂊ臣膀곦蒁臣랷郥ꦉ苣꒮룦ꞁ鋦貋臣讂胣鎼駦鎖뻥膀迥鲿럦袐觧銂볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼臣꾂苣뎃菣鞁胣ꖼ뷯꾼볯莽臣붊蟥馁苣芀郥辂臣龁鳦龩鯧銂胩骶髧ꮁ볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵꾼臣鞴뗦鞁胣ꆬ臣ꞁ볯膽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰銼⼼畳㹢볯꾼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰钼⼼畳㹢臣뺹蟧閁臣膀룦Ꞝ룤莿룧馁苣芀껦ꎸ苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃臣뺲ꏨ鞁臣膀룤鎖뷤鎼볯鎼醼胣ꖼ볯銈볯뎼볯定볯讼볯嶨猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰讼⼼畳㹰볯隼볯颼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯鶼⼼畳㹢볯⺕볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺓볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰〲㰷愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺓볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺓볯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯⺓볯閼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯鶼⼼畳㹢볯隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鎼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱㠰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鎼鎼苣膀鎼볯Ⲳ볯늼閼볯⦳裢钼裢銃菣궃苣랂菣骃菣뢂菣銈볯ⲑ볯ⲓ볯銈菣ꪃ苣ꮃ菣뎃藩醼裢钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣鎼裢ꆃ菣ꮃ苣릂菣ꮃ堨‮楌湡Ⱨ䄠‮潌獨ⱥ䴠‮潂獬䨠‮牏⹧䌠敨⹭㈠〰ⰰ㘠ⰵ㜠㌴⸲⠩볯醼杭胣邼��鎼浭汯誁苣뎁苣꾂菣鞃菣钃菣銈閼裢⢒볯銈菣袃苣랂裢鞃菣鶃苣랂꾂菣麃菣銈볯銈苣ꮃ菣膃菣嶫苣龃菣⢳볯隼杭胣邼鎼볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯隼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨鮼볯뎼裢궼볯骼궼볯ꢼ㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲋猯灵鶼볯鞼볯鮼볯낼볯ꎼ볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽볯㲝猯扵钼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯钼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯钼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯邼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱㤰⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯钼苣膀룤鎖뷤鎼볯钼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯颼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯馼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺔볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰ㄲ㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺔볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺓볯⢒볯颼杭胣邼銼볯涑潭⥬臣袂臣醼裢ꆃ菣ꮃ裢醼裢⢒菣袃菣銃菣궃菣ꦃ菣銈볯銈苣ꮃ銈苣膃菣ꊂ菣뎃鎼볯涘膀볯⺐볯醼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤鎼볯鎼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯定볯讼볯嶨猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰讼⼼畳㹰볯隼볯颼볯ꢼ볯겼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯鶼⼼畳㹢볯⺔볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯隼볯㲕牢ਾ䐼噉邀賥醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰ㄲ㰱愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺕볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼鎼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯閼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱㈱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯閼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯鎼銼醼볯邼杭胣邼銼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤醼볯颼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯鞼杭胣邼銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢볯⢮볯醼볎膀볯⺐볯銼浭汯꺁귥ꢜ룤膀룤鎖뷤鎼볯鎼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼隼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯颼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯隼戼㹲㰊��㹖胣隌볯醼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱㌱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯隼苣膀룤鎖뷤鎼볯隼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯钼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺖볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰ㄲ㰴愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺖볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺖볯⢒볯銼볯涐膀볯⺐볯涒潭⥬臣袂臣궸雩鎽볯钼볯⺘볯ꦡ藩ꦡ銼볯涕膀볯⺐볯鎼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢볯⢮볯邼볎膀볯⺐볯鎼浭汯꺁귥ꢜ룤膀룤鎖뷤鎼볯鎼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯鞼볯鎼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼钼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯邼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯隼銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱㔱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯隼銼苣膀룤鎖뷤鎼볯隼鎼臣ꂊ냦蚈꟨ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯鎼銼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯隼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼閼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯醼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯隼鎼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱㘱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯隼鎼苣膀鎼볯Ⲳ볯늼閼볯⦳裢钼裢銃菣궃苣랂菣骃菣뢂菣銈볯ⲑ볯ⲓ볯銈菣ꪃ苣ꮃ菣뎃藩醼裢钽뷯銽뷯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣鎼裢ꆃ菣ꮃ苣릂菣ꮃ堨‮楌湡Ⱨ䄠‮潌獨ⱥ䴠‮潂獬䨠‮牏⹧䌠敨⹭㈠〰ⰰ㘠ⰵ㜠㌴⸲誁苣뎁룤鎖뷤颼볯⺗볯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯隼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯隼볯㲗牢ਾ䐼噉邀賥醼볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰ㄲ㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺗볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯銼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯鞼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯隼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲��琮晩ꃂ〰㈱㠱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯鞼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯隼銼隼볯涐膀볯⺐볯涑潭⥬臣袂臣⢳볯⦳裢⢒볯⦋裢銼裢ꊂ菣躃裢鎼裢ꆃ菣ꮃ菣뾂菣⢳볯钼볎膀볯⺐볯銼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀볯钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢볯⢮볯邼볎膀볯⺐볯鎼浭汯꺁귥ꢜ룤膀룤鎖뷤鎼볯鎼鎼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂볯ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯閼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯钼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯钼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯颼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯鞼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱㤱⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯颼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯銼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺘볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈲㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤醼볯颼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯閼杭胣邼醼볯涙潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵꺼鎼볯캐䲼胣邼銼볯涒潭⥬臣颭鳥许胣궸雩鎽볯隼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯邼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯隼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺘볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯邼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈲㰱愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺘볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺘볯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯隼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯隼볯⺘볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈲㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯隼볯⺘볯銂胣⢁볯늼钼볯Ⲳ볯뎼銈볯銈菣覃菣궂苣钃菣ꪃ苣뎃裢醼鎼閼裢袃菣ꮂ菣鲃菣뢅볯銈뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣릂菣ꮃ볯銈菣膃菣ꢂ苣蚃菣⢫⹘䰠慩杮‬⹁䰠桯敳‬⹍䈠汯⁳⹊传杲‮桃浥‮〲〰‬㔶‬㐷㈳⤮臣袂臣궸雩鎽볯閼볯⺐볯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺙볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯馼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯��薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯閼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯隼볯㲙牢ਾ䐼噉邀賥醼볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈲㰳愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯隼볯銂胣궸雩鎽볯隼볯⺙볯⢑볯邼杭胣邼醼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯銼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀껥붖뻤鎼볯馼胣붙觨麝駦Ꞁ觧ꪳ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯閼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲣猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼醼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯馼胣㲑䐯噉ਾ룤鎖뷤鎼볯馼醼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱㐲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†룤鎖뷤鎼볯馼醼苣膀룤鎖뷤鎼볯颼銼醼볯邼杭胣邼醼볯涙潭⥬臣袂臣钼裢ꆃ菣ꮃ菣袃菣銃菣궃菣ꦃ菣銈볯銈苣ꮃ苣龃菣⢳볯鎼杭胣邼銼볯涑潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯⺑볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀룤鎖뷤鎼볯馼醼볯ꆄ觨릲諧ꦉ胣ꖼ볯銈볯뎼볯궼볯ꢼ볯隼볯邼볯㲚畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲡猯扵钽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰늼뷯钽⼼畳㹢볯鎼颼볯蚈胣ં䐼噉邀볯銼볯邼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯邼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱㔲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯邼苣膀룤鎖뷤鎼볯邼醼隼볯涒膀볯⺐볯馼浭汯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯銼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀駧늉鷩뚙胦ꦉ돨膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺒볯鞼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺐볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈲㰶愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺐볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺘볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁볯銈菣膃菣蚃菣ꦃ菣覃菣钃菣뎃裢钼裢ꒂ菣ꊂ菣뎃钼볯涓膀볯⺐볯鎼浭汯꺁룧袐臣袂苣膀룤鎖뷤醼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣궸雩鎽볯鞼볯⺐볯骼蓧늉닦뚊觧膀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯閼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯銼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖龮雦设볯鞼볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈲㰷愯㰾䐯噉ਾ 龮雦设볯鞼볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺑볯꺁蓨鶿귨ꮁ苣誂胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣붙觨ꦉ돨骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯鎼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼��醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺑볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈲㰸愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺑볯⢒볯邼볯涐膀볯⺐볯颼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤醼볯颼銼ꇥ뢅ꇥ⢩볯邼杭胣邼銼볯涒潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵꺼鎼볯캑䲼胣邼銼볯涒潭⥬臣颭鳥许胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣궸雩鎽볯鞼볯⺑볯骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯鞼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯醼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺑볯㲒牢ਾ䐼噉邀賥醼볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㈲㰹愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺑볯銂胣궸雩鎽볯鞼볯⺑볯꺁諥뒰裥ꎧ臣袂苣膀룤鎖뷤醼볯⺓볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯钼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯閼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺑볯㲓牢ਾ䐼噉邀賥醼볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌲㰰愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺑볯銂胣⢁볯늼閼볯⦳裢몇駧ꦉ돨誁苣뎁룤鎖뷤醼볯鞼銼臣꺸郥ꮁ苣誂胣궸雩鎽볯馼醼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣궸雩鎽볯鞼볯⺑볯骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꆼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯隼裥આ䐼噉邀볯銼볯隼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯銼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯醼볯馼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㈱ㄳ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ†껥붖뻤鎼볯銼苣膀룤鎖뷤鎼볯銼醼臣놄뿤랭臣袂苣膀껥붖뻤醼볯꺁ꏨꂀ돦ꮁ뫦颁臣袐裦馁苣芀볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺓볯颼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖궸雩鎽볯鞼볯⺒볯㲑牢ਾ䐼噉邀賥醼볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌲㰲愯㰾䐯噉ਾ 궸雩鎽볯鞼볯⺒볯銂胣궸雩鎽볯邼볯⺗볯⢒볯钼볯涐膀볯⺐볯閼浭汯誁苣뎁룤鎖뷤銼볯隼銼钼볯涖膀볯⺐볯涓潭⥬臣꺸郥ꮁ苣誂胣ꖼ뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵꺼钼볯캒䲼胣邼鎼볯涐潭⥬臣颭鳥许胣龮雦设볯馼臣붣胩閳臣隺臣ꚁ郥邈臣讂胣궸雩鎽볯鞼볯⺒볯骼볯뎼裢궼볯骼볯讼볯鶼볯隼볯骼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ꎼ⼼畳㹢뷯㲔畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯薽뷯㲔猯扵鶼볯⺔볯钼裥芀㰊䥄㹖胣醼볯隼볯醀⼼䥄㹖��龮雦设볯鞼볯骼믨ꮂ菣뮂菣㲫牢ਾ†郥薀胣誸꣨꺁껥붖뻤꺁臣骁苣讁볯ꒁ臣風볨꺁볥ꦼ臣隌郥ꦉ臣肸臣銂듦Ꞁ裦蚈臣鞁臣邼邼볯螽郥肂胣閼볯邼볯讀臣龻苣ꦃ菣뎃苣鞃苣ꮃ苣膀믤许臣骀苣붣胩馁苣骼戼㹲㰊䥄㹖胣ꢡ볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌲㰳愯㰾䐯噉ਾ붣胩閳볯覲ꃧ鞁臣뮴胦邈裥銂慌牵杯祬潫⡬駧늌闥馨⠩菣궃菣것菣낂菣뎂菣ꮃ菣Ꚃ菣벃菣膀慇瑴晥獯敳匠䄮Ⱞ匠楡瑮倠楲獥ⱴ䘠慲据⥥臣뢇뿦鞁胣뾹볥覲ꃧ龩臣붌臣ꚁ듧醼胣鎼볎꺁닧邭뻥ꢁ臣讂胣ꆬ臣ꞁ럦袐觧꺁볯⺐볯醼볯螽臣ꒁ苣膀믨벂菣膃菣ꮂ菣뮂菣ꮁ苣鞃苣ꮃ藥ꮡꧦ銂뷤ꢔ臣ꚁ賦ꖅ臣讂胣ં䐼噉邀볯銼볯馼胣㲑䐯噉ਾ껥붖뻤鎼볯閼볯込볯꺁賥袐觧ꮐ鳦ꂌ觥㲤牢ਾ†듦Ꞁ裦蚈臣鞁臣膀룤風臣龮雦设臣蒁臣貂臣肸臣ꮁ꣨覼臣込볯꺁賥袐觧銂볯邼볯涐뷯ꮐ苣ꂌ觥銂胣ꖻ룤꺁뗧邈臣膀꣦隺돦ꮁ뻥蒁胣붣胩馁苣骼戼㹲㰊䥄㹖胣ꢡ볯醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㌲㰴愯㰾䐯噉ਾ붣胩骼듦Ꞁ裦蚈苣薋뷤ꦉ돨ꢁ럦袐臣膀触ꂌꧦ⢟潋獲档䔠佋胣릂苣뎃菣뒛뻥醼볯涐⥭臣讉껦ꮁ苣誂鳥꺸臣讂胣㲂牢ਾ†癁捩汥뮙賩蚕꣦⦙臣꺾뗧뚙胦뮂菣궃菣릂䘨䍍‬桐汩摡汥桰慩‬单⥁臣芁苣芀噐偐䱘臣뚞ꧦ鶃菣鎃菣ꮃ菣ꪃ菣궃菣覃菣⢳䅂䙓‬敇浲湡⥹臣芁苣芀敁潲楳⡬駧늌闥馨꾁뫤뢅賥놂苣ꂴ䐨来獵慳‬敇浲湡⥹臣芁苣芀㰊䐯噉ਾ䐼噉邀鯥鮚ꫨ뮟ꃥ誑胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㌱㐷⼼㹡⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜳㰵愯㰾䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㤰㈵㈲㘲琮晩㸢〲㤰㈵㈲㘲琮晩ꃂ〰㌱㘷⼼㹡⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔹㈲㈲⸶楴≦㈾〰㔹㈲㈲⸶楴쉦゠㄰㜳㰷愯㰾䐯噉ਾ⼼潢祤ਾ⼼瑨汭ਾ