(57)【要約】  流動的な材料のための少なくとも一つの流路（４）が内部に構成されたランナー板（３）と、流動的な材料を流路内に押し通して分離可能な成形型に供給することが可能な少なくとも一つのニードル弁ノズルと、長手方向にスライドする形で流路の一部に差し込まれた、駆動部を用いて、開放位置と閉鎖位置に動かすことが可能な少なくとも一つのシャットオフニードル（２０）と、シャットオフニードル（２０）を通過、密閉するための案内ブッシュ（３０）とを備えた射出成形装置（１）である。案内ブッシュは、小さい遊びでシャットオフニードルを取り囲むとともに、少なくとも一部が流路内に置かれた領域を有する。そのため、この領域は、少なくとも一部が流路内に置かれた、流動的な材料のための接触面を有する。流動的な材料が、この領域と接触面（４４）の周りを全面に渡って流れ回る。
2009504433.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流動的な材料のための少なくとも一つの流路（４）が内部に構成されたランナー板（３）と、流動的な材料を流路（４）内に押し通して分離可能な成形型に供給することが可能な少なくとも一つのニードル弁ノズルと、長手方向にスライドする形で流路（４）の一部に差し込まれた、駆動部を用いて、開放位置と閉鎖位置に動かすことが可能な少なくとも一つのシャットオフニードル（２０）と、シャットオフニードル（２０）を通過、密閉するための案内ブッシュ（３０）とを備えた射出成形装置（１）において、
案内ブッシュ（３０）は、小さい遊びでシャットオフニードル（２０）を取り囲むとともに、少なくとも一部が流路（４）内に置かれた、少なくとも一つの領域（３３）を有することを特徴とする射出成形装置。
【請求項２】
領域（３３）は、少なくとも一部が流路（４）内に置かれた、流動的な材料のための少なくとも一つの接触面（４４）を有するか、或いは構成することを特徴とする請求項１に記載の射出成形装置。
【請求項３】
領域（３３）は、半径方向又は軸方向に向かって流路（４）内に突き出ていることを特徴とする請求項１又は２に記載の射出成形装置。
【請求項４】
領域（３３）は、シャットオフニードル（２０）と同軸の方向を向いた、円筒形の内周（４３）を有することを特徴とする請求項１から３までのいずれか一つに記載の射出成形装置。
【請求項５】
円筒形の内周（４３）と接触面（４４）は、軸方向に対してほぼ同じ高さに置かれていることを特徴とする請求項４に記載の射出成形装置。
【請求項６】
領域（３３）は、案内ブッシュ（３０）の終端領域を構成することを特徴とする請求項１から５までのいずれか一つに記載の射出成形装置。
【請求項７】
接触面（４４）は、領域（３３）の外周によって構成されることを特徴とする請求項１から６までのいずれか一つに記載の射出成形装置。
【請求項８】
外周（４４）が傾斜面、有利には、錐面であることを特徴とする請求項７に記載の射出成形装置。
【請求項９】
錐面（４４）が凹面又は凸面で構成されることを特徴とする請求項８に記載の射出成形装置。
【請求項１０】
案内ブッシュ（３０）は、流路（４）内に突き出た領域（３３）に対して軸方向に間隔を空けて、シャットオフニードル（２０）と同軸の方向を向いた円筒形の内周（４２）を備えた少なくとも一つの別の領域（３２）を有することを特徴とする請求項１から９までのいずれか一つに記載の射出成形装置。
【請求項１１】
終端領域（３２，３３）は、出来る限り小さい遊びでシャットオフニードル（２０）を収容することを特徴とする請求項１０に記載の射出成形装置。
【請求項１２】
終端領域（３２，３３）の間に、内径がシャットオフニードル（２０）の外径よりも僅かに大きい隙間（３４）が構成されていることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の射出成形装置。
【請求項１３】
終端領域（３２，３３）と隙間（３４）の中心に、貫通孔（３１）が構成されていることを特徴とする請求項１０から１２までのいずれか一つに記載の射出成形装置。
【請求項１４】
案内ブッシュ（３０）は、ランナー板（３）内に配置されていることを特徴とする請求項１から１３までのいずれか一つに記載の射出成形装置。
【請求項１５】
案内ブッシュ（３０）は、ニードル弁ノズル内に配置されていることを特徴とする請求項１から１３までのいずれか一つに記載の射出成形装置。
【請求項１６】
案内ブッシュ（３０）は、ランナー板（３）及び／又はニードル弁ノズルの穴（３６）の中に置かれていることを特徴とする請求項１から１５までのいずれか一つに記載の射出成形装置。
【請求項１７】
案内ブッシュ（３０）は、穴（３６）の中で固定することが可能であることを特徴とする請求項１６に記載の射出成形装置。
【請求項１８】
案内ブッシュ（３０）は、穴（３６）の中で、縦軸（Ｌ）に対して垂直な少なくとも一つの面（４１）に渡って密閉されていることを特徴とする請求項１６又は１７に記載の射出成形装置。
【請求項１９】
面（４１）が穴（３６）の底であることを特徴とする請求項１８に記載の射出成形装置。
【請求項２０】
案内ブッシュ（３０）は、穴（３６）の中で中心を合わせて置かれたフランジ（３５）を有することを特徴とする請求項１６から１９までのいずれか一つに記載の射出成形装置。
【請求項２１】
案内ブッシュ（３０）は、終端側に領域（３３）を保持又は構成するネック部分（３９）を有することを特徴とする請求項１６から２０までのいずれか一つに記載の射出成形装置。
【請求項２２】
終端領域（３３）の壁厚（Ｗ）が、ネック部分（３９）の壁厚（Ｕ）よりも薄いことを特徴とする請求項２１に記載の射出成形装置。
【請求項２３】
フランジ（３５）とネック部分（３９）が一体的に構成されていることを特徴とする請求項２１又は２２に記載の射出成形装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の上位概念にもとづく、ニードル弁ノズルを備えた射出成形装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ニードル弁ノズルは、射出成形装置において、予め設定可能な温度の流動的な物質を高い圧力の下で分離可能な成形型に供給するために用いられている。このノズルは、大抵空気圧又は油圧で駆動される、成形型のスプルー孔を周期的に開閉するためのシャットオフニードルを有する。それによって、特に、射出サイクルが速い場合、非常に正確な材料の計量が可能となる。しかし、例えば、連続成形時には、流動的な物質を分割して注入することもできる。
【０００３】
各シャットオフニードルは、射出成形装置の装置側の領域では、軸方向にスライド可能な形で軸止されており、ノズル側の領域では、有利には、処理すべき物質のための流路の真中を貫通している（例えば、特許文献１又は２を参照）。この流路は、終端側がノズル排出口を構成するノズル合流区画内で終止している。閉鎖位置では、シャットオフニードルの下端は、ノズル合流区画又は成形型内に構成されたシールシートに嵌まり込む。
【０００４】
シャットオフニードルを密閉した形で案内するために、射出成形装置のランナー板内には、通常シャットオフニードルの円筒形のシャフトを収容する案内ブッシュ又はグロメットが用いられている（これに関しては、例えば、特許文献３又は４を参照）。シャットオフニードルとブッシュの間には、射出成形装置が動作している間、流動的な材料が流入する円筒形の隙間が残されており、その結果ニードルは、流路に対して密閉されると同時に、シャットオフニードルとブッシュの間の摩擦を軽減する潤滑効果が得られる。
【０００５】
そのような密閉システムの最適な構成にも関わらず、装置内での比較的高い圧力とニードルの往復運動のために、処理すべき物質が、案内又は密閉ブッシュを通って外に流出することを防止することはできない。その結果材料を損失することとなる。その上、材料の残留物が、シャットオフニードルと装置の両方を汚してしまい、そのことは、密閉作用を損なうだけでなく、常にシャットオフニードルの開閉運動を妨げる可能性が有る。負担がかかる清掃又は保守作業は避けられない。
【特許文献１】ドイツ特許第３２４９４８６号明細書
【特許文献２】ドイツ特許公開第３４０３６０３号明細書
【特許文献３】ドイツ特許公開第３９２６３５７号明細書
【特許文献４】欧州特許第１２２３０２０号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、従来技術の前記及び別の欠点を防止して、射出成形装置におけるシャットオフニードルの案内及び密閉を更に改善することである。特に、簡単な手段で安価に構成するとともに、容易に取り扱うことができる密閉構造を目指すものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の主要な特徴は、請求項１に提示されている。実施形態は、請求項２〜２３の対象となっている。
【０００８】
本発明は、流動的な材料のための少なくとも一つの流路が内部に構成されたランナー板と、流動的な材料を流路内に押し通して分離可能な成形型に供給することが可能な少なくとも一つのニードル弁ノズルと、長手方向にスライドする形で流路の一部に差し込まれた、駆動部を用いて、開放位置と閉鎖位置に動かすことが可能な少なくとも一つのシャットオフニードルと、シャットオフニードルを通過、密閉するための案内ブッシュとを備えた射出成形装置において、案内ブッシュは、小さい遊びでシャットオフニードルを取り囲むとともに、少なくとも一部が流路内に置かれた、少なくとも一つの領域を有するものと規定する。
【０００９】
そうすることによって、この案内ブッシュの一つの領域が、射出プロセス毎に案内ブッシュに圧力を加える流動的な材料と常に直に接触することとなる。そのことは、この接触領域が、小さい遊びを克服して、シャットオフニードルに対して密閉する形で押し付けられ、その結果高圧フェーズの間、もはや材料が、案内ブッシュを通って射出成形装置から外に流出することができなくなる。同時に、シャットオフニードルが、案内ブッシュによって、その中心位置に固定され、そのため射出圧力フェーズの間、ニードルの変位運動が起こる可能性がなくなる。射出圧力が低下した場合、案内ブッシュは、再びニードルを解放して、ニードルは、直ちに、その閉鎖位置に動かすことができる。
【００１０】
有利には、そのような領域は、同じく少なくとも一部が流路内に置かれている、流動的な材料のための少なくとも一つの接触面を有するか、或いは構成する。従って、処理すべき材料は、直に接触面に作用して、この領域内において、案内ブッシュを逆止め弁のように作動させることができる。
【００１１】
構造的には、そのような接触面を備えた領域が、半径方向又は軸方向に向かって流路内に突き出ているのが有利である。そうすることによって、案内ブッシュの構造だけでなく、その組み立ても簡単となり、それは、全体として製造及び組立コストに有利に作用する。
【００１２】
そのような領域及び／又は接触面の周りを全面に渡って流動的な材料が流れ回るようにするのが、特に有利である。そうすることによって、流動的な材料が、案内ブッシュ又は接触面に対して均一に作用し、そのため流れの領域に突き出た領域が、シャットオフニードルの全周に渡って均一に押圧される。このニードルは、全面に渡って密閉されるとともに、その中心位置を真中にして置かれることとなる。そのためには、そのような領域が、シャットオフニードルと同軸の方向を向いた円筒形の内周を有することも有用である。従って、この内周は、ニードルと案内ブッシュの間の密閉面だけでなく、ニードルに対する心出し部材をも構成する。
【００１３】
圧力が密閉面又は心出し部材に直に作用することができるように、円筒形の内周と接触面が、軸方向に対して、ほぼ同じ高さに置かれる、即ち、円筒形の内周は、同じく直に流路内に置かれる。
【００１４】
有利な改善構成は、流路内に突き出た領域が、案内ブッシュの終端領域を構成し、接触領域が、その領域の外周によって構成されるものと規定する。こうすることによっても、案内ブッシュは、簡単で安価に構成することが可能となり、有利には、回転部品として製作することができる。
【００１５】
案内ブッシュの均一な押圧を保証するために、終端領域の外周は、有利には、傾斜面、特に、錐面とする。そうすることによって、流動的な材料との接触が改善されるだけでなく、同時に終端領域の壁厚を薄くして、常に確実に半径方向に押圧することが可能となる。この場合、錐面を凹面又は凸面に構成するのが有利なことも有る。
【００１６】
本発明の別の特徴では、案内ブッシュは、流路内に突き出た領域に対して軸方向に間隔を空けて、シャットオフニードルと同軸の方向を向いた円筒形の内周を備えた少なくとも一つの別の領域を有し、この有利には上下に置かれた終端領域が、出来る限り小さい遊びでシャットオフニードルを収容するものである。そうすることによって、シャットオフニードルは、常に正確に中心位置に保持、案内され、その結果少なくとも案内領域において、中心位置からの変位が効果的に防止される。
【００１７】
終端領域の間に構成された、内径がシャットオフニードルの外径よりも僅かに大きい隙間は、案内ブッシュ内を滑動するシャットオフニードルを処理すべき材料の中に滑らかに通して、案内ブッシュ内の摩擦力を軽減させる役割を果たす。
【００１８】
有利には、これらの終端領域と隙間の中心に、貫通孔が構成される。
【００１９】
本発明の別の重要な実施構成は、案内ブッシュがランナー板内に配置されるものと規定する。しかし、それに代わって、或いはそれを補完して、案内ブッシュをニードル弁ノズル内に配置することもできる。何れの場合においても、案内ブッシュは、有利には、ランナー板及び／又はニードル弁ノズルの穴の中に置かれて、その穴の中で案内ブッシュを固定することが可能である。
【００２０】
そのような穴を通して、材料が装置から流出することができないように、案内ブッシュは、穴の中において、縦軸に対して垂直な少なくとも一つの面に渡って密閉され、この面は、有利には、穴の底を構成する。
【００２１】
案内ブッシュの取扱及び固定のために、案内ブッシュが、穴の中で中心を合わせて置かれたフランジを有するのが有利である。このフランジには、終端側が流路内に突き出た領域を保持又は形成するネック部分が構成されている。
【００２２】
終端領域の壁厚が、全体としてネック部分の壁厚よりも薄く選定される場合、終端領域は、射出プロセス毎に半径方向に向かって極端に均一に押し付けられる。終端領域の内周は、シャットオフニードルの外周と形状を合わせた形で一つの弁のように置かれており、その結果もはや材料が、流路からブッシュ内に流入せず、そのため外に流出することができなくなる。
【００２３】
フランジとネック部分は、有利には、一体的となっている。しかし、これらを別々に、異なる材料から構成することもできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明の更なる特徴、詳細及び利点は、請求項の文言及び以下における図面による実施例の説明から明らかとなる。
【００２５】
図１で全体的に符号１で表示された射出成形装置は、流動的な物質、例えば、プラスチックの溶融物から成形部品を製造する役割を果たす。この装置は、固定板２とそれに平行なランナー板３とを有し、ランナー板の中には、流路４のシステムが構成されている。これらの流路は、それぞれランナー板３の下側５に取り付けられた（図示されていない）ニードル弁ノズルに合流する。
【００２６】
各ニードル弁ノズルは、有利には、外側を加熱された（同じく図示されていない）ノズル本体部を有し、その本体部の中では、流路４内を押し進む材料の筒状体が、縦軸Ｌと同心に構成される。流路は、終端側がノズル流出口を構成するノズルの口部分内で終止しており、ノズル流出口を介して、処理すべき材料が、スプルー孔を通して分離可能な（同じく図示されていない）成形型に供給される。
【００２７】
有利には、成形型内に構成されたスプルー孔を開閉するために、シャットオフニードル２０が配備されており、このニードルは、長手方向にスライドする形でニードル弁ノズル内の流路及びランナー板３内の流路４の一部に差し込まれており、（図示されていない）機械、電気、空気圧又は油圧式駆動部によって、閉鎖位置及び開放位置に動かすことが可能である。閉鎖位置では、シャットオフニードル２０の終端側に構成された（図示されていない）閉鎖部分が、ノズル流出口を貫通して、密閉する形でスプルー孔内に嵌まり込む。
【００２８】
装置側の領域では、シャットオフニードル２０は、ランナー板３と固定板２を貫通して、駆動部と接続されており、ニードル２０の終端側は、終端部分２３の断面が角張ったアダプター２２を保持している。このアダプターは、（図示されていない）装置を据え付ける役割を果たし、ニードル２０を取り付けて、長さを調整することが可能である。（図示されていない）ロックナットを用いて、ニードル２０を回転しない形で固定することができる。
【００２９】
シャットオフニードル２０を通すために、固定板２には、貫通孔６が設けられており、その内径は、シャットオフニードル２０の外径よりも大きい。
【００３０】
固定板２内には、更に、シャットオフニードル２０のための清掃機器１０が構成されている。この機器の筐体１１は、ほぼ円筒形の壁面と、終端側に構成された半径方向に対して内側に突き出たフランジ周縁部１３とを有する。この周縁部は、軸方向に対して複数の円盤状の清掃部材４０を保持しており、これらの部材の周縁側は、リング形状のスペーサー１４によって均一な間隔を保っている。有利には、軸方向に筐体１１にねじ込まれた止め輪１５は、清掃機器１０内において、平坦な物体として構成された清掃部材４０とそれらの間に有るスペーサー１４とを固定する役割を果たす。
【００３１】
各清掃部材４０の中心には、シャットオフニードル２０を通すための（図示されていない）穴が設けられている。この場合、穴の内径は、穴によって構成される縁が、シャットオフニードル２０の外周２４と形状を合わせた形で擦れ合って接触するように選定される。こうすることによって、例えば、案内ブッシュ３０から流出して、シャットオフニードル２０の外周２４上に付着した材料の残留物は、清掃部材４０の形状を合わせた縁によって、常に確実に捕捉され、ニードル２０から取り除かれる、即ち、清掃機器１０又は清掃部材４０を貫通するシャットオフニードル２０は、射出成形装置１が動作している間、往復運動毎に清潔に保たれることとなる。
【００３２】
ランナー板３内には、ニードル密閉材として、中心に貫通孔３１を有する案内ブッシュ３０が置かれており、ブッシュ３０の終端領域３２，３３における貫通孔の内径は、小さい遊びを除いてシャットオフニードル２０の外径と一致する。そのため、シャットオフニードルは、ブッシュ３０内の中心で案内、支持される。
【００３３】
終端又は案内領域３２，３３の間では、内径がシャットオフニードル２０の外径よりも僅かに大きい円筒形の隙間３４が軸方向に渡って構成されている。この隙間は、射出成形装置が動作している間、所定通り少量の流動的な材料を流路４から収容し、そのことは、流路４と装置の周囲に対してシャットオフニードル２０を密閉することとなる。同時に、隙間３４内の流動的な材料が、潤滑剤として作用し、その結果シャットオフニードル２０と案内ブッシュ３０の間の摩擦が軽減される。案内ブッシュは、固定板２内の貫通孔６と同様に、シャットオフニードル２０又は縦軸Ｌと同軸に置かれている。
【００３４】
案内ブッシュ３０は、ランナー板３の穴３６の中で中心を合わせて置かれた、拡幅されたフランジ３５を有する。ブッシュ３０は、フランジ３５の上に（固定板２の方向に）、終端側が（上方の）案内領域３２を構成する、より小さい外径の本体部３８を有する。この案内領域の円筒形の内周４２は、小さい遊びでシャットオフニードル２０を取り囲んでいる。それは、同時に円筒形の隙間３４の上方を画定して、隙間内に有る材料が外に流出することができないようにしている。
【００３５】
本体部３８は、ねじブッシュ３７によって同軸に取り囲まれている。このねじブッシュは、穴３６の対応する雌ねじ５６と係合する雄ねじ４７を有する。ねじブッシュ３７が穴３６とそのためランナー板３にねじ込まれると、ブッシュ３０は装置内で固定されることとなる。その場合、穴３６の底４１とフランジ３５の（詳しく図示されていない）下側は、互いに形状が合って、その結果案内ブッシュ３０は、ランナー板３内で固定されるだけでなく、同時に縦軸Ｌに対して垂直な面に渡って密閉されることともなる。
【００３６】
ブッシュ３０は、フランジ３５の下に（ニードル弁ノズルの方向に）、外径が同じくフランジ３５の外径よりも小さいネック部分３９を有する。ネック部分３９の下端は、その円筒形の内周４３でシャットオフニードル２０を小さい遊びで取り囲むとともに、円筒形の隙間３４の下方を相応に画定する（下方の）案内ブッシュ３０を構成している。この場合、終端又は案内領域３３の壁厚Ｗは、図２に詳しく図示されている通り、有利には、ネック部分３９の壁厚Ｕよりも薄く構成される。更に、この領域３３の外周４４は、内周４３の高さに傾斜面４４、有利には、錐面を構成しており、その結果壁厚Ｗは、ニードル弁ノズルの方に向かって徐々に薄くなっている。
【００３７】
ランナー板３内にネック部分３９を収容するために、内径がネック部分３９の外径とほぼ一致する貫通孔４６が、穴３６と流路４の間に設けられている。ネック部分は、流路４にまで達し、その終端領域３３のシャットオフニードル２０を取り囲む内周４３と錐面４４が、半径方向に縦軸Ｌと同心に流路４内に突き出ている。そのため、シャットオフニードル２０のための案内領域３３は、完全に物質の流れの中に置かれて、傾斜面又は錐面４４は、材料との接触面を構成し、シャットオフニードル２０と同様に、流路４内において、その面の周りを全面に渡って、処理すべき材料が流れ回ることとなる。
【００３８】
ニードル密閉材又は案内ブッシュ３０の作用形態は、基本的に、流路４内に置かれた終端領域３３の壁面が弾性変形することをベースとする。シャットオフニードル２０を開放する場合、このニードルは、先ず案内ブッシュ３０内を妨げられること無く閉鎖位置から開放位置に滑走して、終端領域３２，３３が、小さい遊びでニードル２０の外周２４に沿って滑走する。ニードルが、その終端又は開放位置に達すると、射出圧力が増大される、即ち、処理すべき溶融物が、高い圧力で溶融物の通路４を通って型キャビティ内に圧入される。その際、流動的な物質は、シャットオフニードル２０と終端領域３３の接触面４４の周りを全面に渡って均一に流れ回り、終端領域３３は、その相対的に薄い壁厚のために半径方向に押し込まれる。円筒形の内周４３は、閉鎖又は弁部材のように、シャットオフニードル２０の外周２４に対して形状を合わせて密閉する形に置かれ、その結果射出プロセスの間、もはや材料は、流路４から案内ブッシュ３０の隙間３４に流出することができなくなる。従って、流路４内の圧力負荷が高くなった時点において、もはや材料が、案内ブッシュ３０を通って装置から外に流出することができないので、シャットオフニードル２０の密閉は、従来の構造と比べて明らかに改善されることとなる。同時に、ニードル２０の位置は、縦軸Ｌと同心に固定される。ニードルは、もはや流れる材料によって、その中心位置から変位することもできず、そのことは、流路４内における流れの状況に有利に作用する。
【００３９】
射出サイクルが終了すると、流路４内の圧力が再び低下する。終端領域３３は、その弾力性のために、再び当初の形状に戻って、終端領域３３の内周４３は、シャットオフニードル２０の外周２４から離れる。ニードルは、妨げられること無く閉鎖位置に動くことができる。
【００４０】
有利には、鋼鉄材料から製作された終端領域３３の壁厚Ｗは、終端領域が材料の弾力性の有る範囲内で変形することが可能であるとともに、その際シャットオフニードル２０と内径４３の間の小さい遊びが材料の圧力によって克服され、そのため装置の高圧フェーズの間、ニードル２０が中心にロックされて、材料が外に流出することができないように選定することが分かっている。それにも関わらず、ニードル２０は、個々の圧力サイクルの合間に、互いに間隔を空けた終端領域３２，３３内を正確に案内される。
【００４１】
本発明は、前述した実施構成の中の一つに限定されるものではなく、多様な手法で変更することが可能である。即ち、例えば、案内ブッシュ３０は、必ずしもランナー板３内に配置する必要はない。むしろ、ブッシュは、ニードル弁ノズル内に、例えば、ランナー板３の下側５に取り付けられたノズル本体部内に配備することもできる。そのために、ランナー板は、摩擦を加えること無くシャットオフニードル２０を駆動部に通すための簡単な貫通孔を有する一方、ノズルヘッドの正面側は、案内ブッシュ３０とねじブッシュ３７を収容するための窪み３６を備える。ブッシュ３０のネック部分３９は、軸方向に向かって材料の筒状体内に突き出る一方、流路４は、その直ぐ下で側方から材料の筒状体に合流する。そうすることによって、有利には、ネック部分３９と比べて外径を小さくした終端領域３３が、流れの領域内において軸方向に置かれる。シャットオフニードル２０と同様に、処理すべき材料が、この接触面４４の周りを全面に渡って流れ回り、その結果流路４内に生じる圧力が、逆止め弁の形式で作用する終端領域３３を弾力的に押圧して、シャットオフニードル２０の外周２４に対して密閉する形で押し付けることが可能となる。そうすることによって、流路４は、射出プロセスの間、外に向かって完全に密閉されることとなる。ニードル２０は、その中心位置で固定される。
【００４２】
終端又は案内領域３３の壁厚Ｗは、必ずしもネック部分３９の壁厚Ｕよりも薄くする必要はない。両方の壁厚をほぼ同じにすることもできる。高圧フェーズの間、内周４３がシャットオフニードル２０の外周２４の周りを密閉した形となるように、流動的な材料が周囲を流れ回る終端領域３３が弾性変形することが重要である。
【００４３】
場合によっては、終端領域３３の端部に構成された接触面４４は、凹面又は凸面として構成することもでき、そのような面は、同じく容易かつ正確に製作することが可能である。そのような面の推移は、圧力を分散させるのに有利に作用する。
【００４４】
装置１内に案内ブッシュ３０を固定するために、ねじブッシュ３７の代わりに、ねじを用いて、ランナー板３又はニードル弁ノズル上に固定する（図示されていない）フランジリングを使用することもできる。この場合、案内ブッシュ３０が、穴３６の中で縦軸Ｌに対して垂直な少なくとも一つの面４１に渡って密閉されることが重要である。
【００４５】
フランジ３５、本体部３８及びネック部分３９は、有利には、一体的に構成される。しかし、本体部３８及び／又はネック部分３９は、別個に構成して、例えば、ねじ止めにより、フランジ３５と連結することもできる。そうすることによって、終端領域３３を備えたネック部分３９と案内ブッシュ３０の残りの部分を異なる材料から製作することができる。さもなければ、研磨材の処理の場合、必要に応じて案内ブッシュ３０全体を交換すること無く、ネック部分３９を何時でも新しい部材と置き換えることができる。
【００４６】
構造的な細部、空間的な配置及び動作方法を含めて、請求項、明細書及び図面から得られる全ての特徴及び利点は、それ自体でも、様々に組み合わせても本発明を構成することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】シャットオフニードルのための密閉構造を備えた射出成形装置の一部断面による模式的な部分図
【図２】図１の密閉構造の別の断面図
【符号の説明】
【００４８】
Ｌ    縦軸
Ｕ    壁厚
Ｗ    壁厚
１    射出成形装置
２    固定板
３    ランナー板
４    流路
５    下側
６    貫通孔
１０    清掃機器
１１    筐体
１４    スペーサー
１５    止め輪
２０    シャットオフニードル
２２    アダプター
２３    終端部分
２４    外周
３０    案内ブッシュ
３１    貫通孔
３２    終端／案内領域
３３    終端／案内領域
３４    隙間
３５    フランジ
３６    穴
３７    ねじブッシュ
３８    本体部
３９    ネック部分
４０    清掃部材
４１    底
４２    内周
４３    内周
４４    接触面／外周／傾斜面
４６    貫通孔
４７    雄ねじ
５６    雌ねじ
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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