(57)【要約】一実施例によれば、線形平行移動ステージが提供される。前記線形平行移動ステージは、互いに対する相対平行移動のために構成された第１の部分（例えば、基盤部分）および第２の部分（例えば、ステージ部分）を含む。前記第１の部分または前記第２の部分のうちの一方は、それに関連するコイルを有し、前記第１の部分または前記第２の部分のうちのもう一方はそれに関連する磁気源を有する。前記磁気源は、電流が前記コイルを介して前記コイルに与える力を発生させ、それによって前記第２の部分に関連して前記第１の部分を平行移動させるように、一般的に前記コイルを包含する磁場を生成するために１つ以上の磁石を含んでもよい。【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の部分と、
第２の部分であって、前記第２の部分は前記第１の部分とスライド可能に係合し、前記第１の部分および前記第２の部分のうちの一方がステージを含む、第２の部分と、
前記第１の部分に関連するコイルと、
前記第２の部分に関連し、閉ループ磁気回路を形成する少なくとも１つの磁気源であって、前記コイルの付近に磁場を提供するための前記少なくも１つの磁気源により、前記コイルを介して電流を変化することで前記第２の部分に関連して前記第１の部分を平行移動させる、磁気源と
を含む、ステージ移動装置。
【請求項２】
前記コイルおよび前記少なくとも１つの磁気源は、音声コイルアクチュエータを形成する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの磁気源は、少なくとも２つの永久磁石を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第２の部分に対して空間的に固定された中心コアをさらに含み、前記コイルは前記中心コア周囲に配置される、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記中心コアは強磁性体を含む、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記中心コアは、前記第２の部分に固定された２つのエンドプレートの間に配置される、請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記磁気回路は、少なくとも部分的に前記中心コアおよびエンドプレートを介して形成される、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記コイルは、前記第１の部分と固定された空間的関係にある、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記第１の部分および前記第２の部分の相対運動を感知するように位置決めされたセンサをさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の平行移動ステージを含む、光学系。
【請求項１１】
基盤部材と、
ステージ部材であって、前記基盤部材および前記ステージ部材は互いにスライド可能に取り付けられる、ステージ部材と、
前記基盤部材に関連して前記ステージ部材を移動させるように適合された統合音声コイルアクチュエータと
を含む、線形平行移動ステージ。
【請求項１２】
前記統合音声コイルアクチュエータは、閉ループ磁気回路を形成する少なくとも１つの磁気源を備える、請求項１１に記載の線形平行移動ステージ。
【請求項１３】
前記統合音声コイルアクチュエータは、前記基盤部材および前記ステージ部材のうちの一方に対して空間的に固定された中心コアと、前記中心コア周囲に配置され、前記基盤部材および前記ステージ部材のうちのもう一方に対して空間的に固定されたコイルとを備える、請求項１１に記載の線形平行移動ステージ。
【請求項１４】
前記中心コアは強磁性体を含む、請求項１３に記載の線形平行移動ステージ。
【請求項１５】
前記中心コアは、前記ステージ部材に固定された２つのエンドプレートの間に配置される、請求項１３に記載の線形平行移動ステージ。
【請求項１６】
前記磁気回路は、少なくとも部分的に前記中心コアおよびエンドプレートを介して形成される、請求項１５に記載の線形平行移動ステージ。
【請求項１７】
前記ステージ部材への前記基盤部材の相対運動を感知するよう位置決めされたセンサをさらに含む、請求項１１に記載の線形平行移動ステージ。
【請求項１８】
スライド可能な係合において第１の部分および第２の部分を配置するステップであって、前記第１の部分または第２の部分のうちの一方がステージを含む、ステップと、
前記第１の部分を伴うコイルを配置するステップであって、前記コイルは前記第１の部分に対して空間的に固定される、ステップと、
閉ループ磁気回路を形成するために前記第２の部分を伴う磁気源を配置するステップと
を含み、電流が前記コイルに印加されると、前記第１の部分が前記第２の部分に関連して平行移動する作用を含む、線形ステージの形成方法。
【請求項１９】
前記コイルおよび前記少なくとも１つの磁気源は、音声コイルアクチュエータを形成する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記第２の部分に対して空間的に固定された中心コアを配置するステップをさらに含み、前記コイルは前記中心コア周囲に配置される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記第２の部分に固定され、および前記中心コアの反対の端にある配置された２つのエンドプレートをさらに含む、請求項２０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して、平行移動ステージに関し、より具体的には、統合アクチュエータおよび関連する製造方法を含む平行移動線形ステージに関する。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバ、ミラー、ビームスプリッタ、レンズ、回折格子等の光学部品を支持するための調節可能な取り付け装置の使用は公知である。例えば、光ファイバまたは導波管等の第１の光学素子を、別の光ファイバまたは導波管等の第２光学素子、顕微鏡対物レンズ等に対して位置決めする必要が頻繁にある。しばしば、そのような光学部品の相対位置決めは、望ましくは高精度であり、正確な光波長次元順序が時として必要である。さらに、そのような光学部品の相対位位置決めは、例えばほんの一瞬の間に、望ましくは早急に実現されることが多い。
【０００３】
光学系内の位置決め変更を提供するための一般的な装置は、平行移動線形ステージを含む。概して、平行移動線形ステージは、ステージを平行移動させるように、ステッピングモータ、ＤＣ電流モータ、圧電アクチュエータ、手動操作マイクロメータ等のアクチュエータに隣接して置かれる。例えば、平行移動線形ステージは、基盤に対して直線運動可能な基盤および板またはステージを含んでもよい。基盤は、より大きなシステム内に接続および固定されてよく、および光学部品等はより大きなシステム内での平行移動のためにステージに取り付けられてもよい。アクチュエータは、選択可能に制御されてよく、所望されるステージの平衡移動をもたらす。例えば、ステージまたは基盤等の平行移動線形ステージ装置の可動部間の摩擦は、ころ軸受または流体軸受等によって減少されてもよい。
【０００４】
従来の線形ステージ装置と共に使用されるステッピングモータ、ＤＣモータ等の従来のアクチュエータは、概して、低および高速用途にわたって速度の均一性（または動作の線形性）を有さない。さらに、線形ステージを平行移動させるための従来のアクチュエータは、後者に隣接する空間をとり、アクチュエータの移動部等間の潤滑油の監視または交換などの定期保守を必要とする場合がある。さらに、接触しているアクチュエータの部分は、性能劣化または装置の故障に繋がるさらなる損傷の場合がある。
【０００５】
説明したような関連アクチュエータを含む従来の線形ステージの製造工程は、一般的にアクチュエータに関連する多くの処理ステップを必要とする。例えば、表面硬化ステップは、回転または軸受け要素等の接触しているアクチュエータ要素の寿命および信頼性を延ばすために必要とされ得る。さらに、線形ステージおよびアクチュエータの製造上の公差は、最終ステージ装置における公差の累積を防ぐために非常に小さくある必要があり得る。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
したがって、あまり空間を取らず、種々の速度にわたる増大された均一性、高効率、および高い繰り返し率で操作する統合アクチュエータを有する線形平行移動ステージが所望される。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本明細書の一側面によれば、線形平行移動ステージが提供される。一実施例において、前記線形ステージは、互いに対する相対平行移動のために構成された第１の部分（例えば、基盤部分）および第２の部分（例えば、ステージ部分）を含む。前記第１の部分または前記第２の部分のうちの一方は、それに関連するコイルを有し、前記第１の部分または前記第２の部分のうちのもう一方はそれに関連する磁気源を有する。前記磁気源は、電流が前記コイルを介して前記コイルに与える力を発生させ、それによって前記第２の部分に関連して前記第１の部分を平行移動させるように、前記コイルを一般的に包含する磁場を生成するために１つ以上の磁石を含んでもよい。一実施例において、（前記第１の部分または第２の部分に関連し、前記磁石によって生じた磁場内にある）前記コイルは、音声コイルと同様の方法で操作してよく、例えば、前記コイルを介して電流を印加すると、前記コイルに与える力を生じさせて前記ステージを平行移動させる。
【０００８】
さらに、細長い中心コアは、前記コイルが前記中心コアと前記磁石との間の空隙に配置されるように、前記コイル内に配置されてもよい。前記中心コアは、前記第２の部分に関連する反対方向のエンドプレート／磁石間に位置決めされてもよく、磁気回路は、少なくとも部分的に前記空隙をわたって前記磁石から前記エンドプレートへ、および前記磁石に戻って形成されてもよい。
【０００９】
前記第１の部分は、前記ステージ装置の基盤部分を含んでもよく、前記第２の部分は前記装置の平行移動ステージ部分を含んでもよい。１つ以上のセンサは、前記ステージ部分および基盤部分の相対運動の位置情報を提供するように含まれてもよい。そのような位置情報は、前記ステージ部分の正確性を増加させるようにシステムにより使用されてもよい。さらに、機械軸受けまたは流体軸受けなどの軸受けは、摩擦等を減少させるように線形ステージの相対可動部分間に配置されてもよい。
【００１０】
一実施例において、本明細書で説明するような線形ステージは、例えば、光学部品を支持するためのより大きな装置内に統合されてもよい。例示的な一装置は、本明細書で説明するような線形ステージ装置を内蔵するキャビティレーザ装置を含む。前記線形ステージの部分、例えば、前記基盤部分または定常部分は、前記装置の一部として統合またはモノシリックに形成されてもよく、例えば、前記システムの基盤またはパッケージと共に形成されてもよい。前記第２の部分、例えば、前記ステージは前記システムの部品を支持および平行移動してもよい。
【００１１】
別の側面によれば、統合アクチュエータを有する線形ステージの例示的な製造方法が提供される。
【００１２】
本発明は、添付の図面および特許請求の範囲とともに下記の詳述を熟考の上よりよく理解される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下の記述は、当業者が本発明の種々の側面および実施例の作製および使用することを可能にするために提示される。特定の材料、技術および応用分野の記述は例としてのみ提供される。実施例に対する種々の修正が、当業者には容易に明らかになり、本明細書において規定される一般的な原理は、本発明の精神および範囲から逸脱せずに、他の実施例および応用分野に適用されてもよい。したがって、本発明は、記述および示される実施例に限定されないが、添付の特許請求の範囲と一貫した範囲に一致されるものとする。
【００１４】
一側面によれば、例示的な線形ステージが本明細書において提供される。概して、線形ステージは、基盤部分およびステージを含む装置であり、基盤部分およびステージは相対平行移動のために適合される。アクチュエータは、基盤に関連してステージを移動させるために使用される。本明細書に記載される一実施例において、線形ステージは、基盤に関連してステージを平行移動させるための統合アクチュエータを含む。例示的な線形ステージは、システムのその他の構成部品に関連して光学素子、光ファイバ、導波管等の種々の構成部品の平衡移動を達成するように光学系等の種々の用途において使用されてもよい。
【００１５】
線形ステージは種々の公知の方法および技術で製造されてもよい。基盤またはステージ等の線形ステージの構成部品は、従来の機械加工、放電加工（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ  Ｍａｃｈｉｎｉｎｇ：ＥＤＭ）、半導体プロセス等の任意の適切な材料除去技術を用いて単一の一体構造から材料を除去することにより得られてもよい。他の実施例において、線形ステージの特性は、鋳造、成形、ラピッドプロトタイピング等の材料添加技術によって得られてもよい。線形ステージは、例えば、金属、強磁性金属、ポリマー、単結晶等を含む種々の材料で作られてもよい。磁石は、希土類、ネオジム、セラミック磁性材料等の種々の磁性材料を含んでよい。さらに、一部の実施例において、線形ステージは、例えば、より大きな装置またはシステム内の基盤部分またはステージ部分の統合または形成など、本来の位置で有利に製造されてもよい。
【００１６】
統合アクチュエータを含む線形ステージは、例えば、ステッピングモータ、ＤＣモータ等によって駆動する従来の線形ステージ設計に対し、減少された電力消費を伴う線形ステージ装置を提供してもよい。さらに、統合アクチュエータを有する線形ステージは、高い空間要求を減少できる。
【００１７】
図１および２は、例示的な線形ステージ１００の斜視図および分解図をそれぞれ示す。この実施例において、線形ステージ１００は、基盤１０２および基盤１０２に対して空間的に固定されたコイル１１２を含む。線形ステージ１００は、エンドプレート１１８とそこに接続された磁石１１６の間に保持された細長い中心コア１１４を有するステージ１１０をさらに含む。特に、中心コア１１４は、ステージ１１０に固定され、磁石１１６が中心コア１１４に隣接および実質的に中心コア１１４と平行に走行して保持される反対側のエンドプレート１１８間に保持される。
【００１８】
従来の音声コイルアクチュエータにおいて公知のように、相対平行運動は、磁場内に配置されたコイルを介して電流を印加することにより実現されてもよい。この実施例において、磁場は磁石１１６により生じ、コイル１１２を介して電流に比例する力を生成するように電流がコイル１１２に印加される。コイル１１２への電流は、コントローラ等（図示せず）を介して供給および制御されてもよい。概して、コイル１１２の垂直スパンは、コイル１１２を介して印加された電流がコイル１１２の軸に沿って力をもたらすように、磁石１１６によって生じた磁場に対して直角に配置される。一実施例において、コイル１１２は、示されるようにループまたはコイルに複数回巻かれた単線を含む。他の実施例において、線形ステージ１００内に配置された多数の単独コイルが可能である。
【００１９】
磁石１１６は、反対方向においてコイル１１２の反対部分に作用する磁場を作製するために配置および配向される。例えば、磁場は、中心コア１１４に向かって磁石１１６から内側へ、または磁石に向かって中心コア１１４から外側へ方向付けされてもよい。図３は、一実施例によれば、線形ステージ１００の断面概略図をさらに詳細に示し、および磁石１１６によって生じた磁力線を含む。示されるように、北「Ｎ」および南「Ｓ」で示される柱が対立するように整列され、両側から中心コア１１４に方向付けされた磁場を生成する。コイル１１２は、電流１５０がコイル１１２に印加された時に、コイル１１２の垂直断面への力１６０が同方向（この実施例において、ページの中に向けて）にあるように、磁石１１６と中心コア１１４との間の隙間に配置される。
【００２０】
磁場を発生させるための磁気回路の他の構成が可能である。例えば、１つ以上の磁石が、適切な磁場を生成してコイル１１２を置くために種々の方法で構成されてもよい。さらに、磁場は、一連のコイルを介して電流を通過させることによって作製されてよく、１つ以上の一連のコイルの適切な位置決めは、コイル１１２付近において適切な磁場を生成するために使用されてもよい。
【００２１】
図３は、基盤１０２とステージ１１０との間に形成された隙間をさらに示す。この隙間の少なくとも一部分内において、機械軸受けまたは流体軸受けなどの軸受け１４０は、操作時の摩擦を減少および基盤１０２およびステージ１１０間の平行移動を容易にするために含まれてもよい。
【００２２】
図４は、線形ステージ装置１００により形成された磁気回路の別の図を図式的に示す。特に、コイル１１２が配置される磁石１１６および中心コア１１４間の隙間領域を通過し、中心コア１１４、エンドプレート１１８およびステージ１１０の下位部を循環することによって磁気回路が完成する磁石１１６によって生じた磁力線が示される。中心コア１１４、エンドプレート１１８およびステージ１１０の下位部（通過する磁力線が示される）の追加は、コイル１１２が配置される隙間領域においてより効率的な磁気回路およびより強い磁場を作製する。したがって、この実施例において、中心コア１１４およびエンドプレート１１８は、示される磁気回路を形成するための最適な材料を含む。
【００２３】
この図において、コイル１１２は基盤１０２に接続され、定常である（または、コイル１１２は基盤１０２に対して少なくとも定常である）。ステージ１１０の平行移動範囲は、「Ｌ」で示され、図４に図示されるようにＬは、コイル１１２の一方の端とエンドプレート１１８との間の距離である。平行移動の範囲を増加させるために距離Ｌを増加させることは磁気回路の磁気抵抗を増大させ、コイル１１２に対する利用可能な力はより小さくなる。したがって、距離Ｌおよび平行移動の範囲は、線形ステージ１００の種々の用途および所望される仕様のために調節されてもよい。
【００２４】
説明したように、永久磁石１１６によって生成された磁場内でコイル１１２に印加された電流は、ステージ１１０および基盤１０２の相対運動を発生させる。コイル１１２を介す電流の大きさおよび方向を変更することで、基盤１０２に関連してステージ１１０の所望される方向、加速および減速がもたらされる。コイル１１２に作用する力は、概して、磁石１１６によって生成された磁場強度、コイル１１２を介す電流、およびコイル１１２の巻数（または巻線）の数などのコイル１１２の特性に比例する。さらに、空隙における磁場強度は、概して、磁石１１６などの永久磁石の「エネルギー」または「強度」の関数、空隙の大きさまたは距離、および磁気回路の全磁気抵抗である。
【００２５】
一実施例において、磁石１１６は、増加した磁場を介しコイル１１２への力を増加させるために希土類、ネオジム、セラミック磁石等の高エネルギー磁石を含んでよい。別の実施例において、磁気回路（概して、空隙を渡って磁石１１６から中心コア１１４まで、およびエンドプレート１１８およびステージ１１０を介して逆行）は、全磁気抵抗を最小化させ、コイル１１２への磁場の力を増加させるように設計されてもよい。さらに、縮小された空隙は、空隙およびコイル１１２付近においてより強い磁場をもたらすことができる。縮小された空隙は、コイル１１２に対して縮小空間を残すことができ、したがって、空隙およびコイル１１２の厚さ（例えば、巻数）は、応用範囲および所望される仕様に応じて異なってもよい。
【００２６】
コイル１１２を介す電流は、コイル１１２で生成される力および力の方向を変化させるために様々であってよく、例えば、コイル１１２に対してより力を生じさせるようにコイル１１２を介す電流を増加させる。概して、電流の一部分は、オーム加熱として放散され、故に、例えば基盤１０２などの装置の能力にしたがって電流の量を制限して、熱をコイル１１２から隣接面、ヒートシンク等へ移動させ、所望水準より低い温度を保つことができる。例えば、永久磁石（例えば、磁石１１６）の消磁またはコイル１１２のワイヤーの絶縁体被覆の再流動などの検討は、最大温度限界を決定してもよい。さらに、電流は、駆動回路の検討および本明細書で特に明記されない他の検討によって制限されてもよい。
【００２７】
概して、磁石１１６間でステージ１１０の長さにわたって磁石１１６によって生成された磁場強度は均一でない。磁場強度が均一でないため、電流から力の比率は均一でない。線形ステージ装置は、コンピュータベースのシミュレーション、構築および試験法等の種々の適切な最適化過程を介して、電流から力の比率の均一性を増加させるように設計されてもよい。より均一な電流から力の比率は、概して、より簡易な駆動回路および線形ステージ装置の制御に役立つ。
【００２８】
さらに、一部の実施例において、操作時にステージ１１０の位置の位置情報を取得することが所望されてもよい。そのような情報は、任意の適切なセンサを利用することによって得られてもよく、より正確な動作に繋がり得るコントローラまたはプロセッサへのフィードバック信号を提供してもよい。適切なセンサは、例えば、容量センサ、磁気センサ、光学エンコーダ等を含む。一実施例において、光学エンコーダは、５ナノメートル以下の解像度を有して使用されてもよい。したがって、適切なフィードバック回路と共に、線形ステージ１００は、５ナノメートル以下の精度でステージ１１０の移動をもたらすことができる。センサは、線形ステージ１００外部または内部に置かれてもよい。例えば、センサ１３２（例えば、光学センサ等）は、基盤１０２に関連してステージ１１０の平行移動の距離を感知するために基盤１０２の一部分上に置かれてもよい。しるしは、平行移動の程度を示すようにステージ１１０の一部分上に含まれてもよい。当業者は、種々の他のセンサおよび１つ以上のセンサの構成が可能であることを理解されたい。
【００２９】
図５Ａ、５Ｂ、５Ｃおよび５Ｄは、伸張位置における線形平行移動ステージ１００の種々の図を示す。特に、図５Ａおよび５Ｂは、平行移動ステージ１００の上面および下面透視図を示し、図５Ｃは、平行移動ステージ１００の側面図を示し、図５Ｄは、平行移動ステージ１００の断面図を示す。磁石１１６が存在する場合に、コイル１１２に印加された電流で、ステージ１１０が基盤１０２に関連して移動するように力はコイル１１２上に作製される。図５Ｄに明確に示されるように、ステージ１１０は、基盤１０２に対して空間的に固定されたコイル１１２の位置によって制限される距離を伸張してもよい。さらに、エンドプレート１１８は、スクリュー１２０を介してステージ１１０に固定され、基盤１０２に関連してステージ１１０で平行移動することが示される。
【００３０】
当業者は、本明細書に記述される構成部品の他の構成が可能であることを認識されたい。例えば、コイルは、基盤部材に関連するステージおよび磁気素子に関連することが可能である。さらに、種々の他のステージおよび基盤構造は、それらの間のスライド可能な係合を提供し、統合アクチュエータにしたがって相対平行移動を支持するために可能である。
【００３１】
記述されるような統合アクチュエータを有する例示的な線形ステージは、概して、従来の線形ステージに対し、比較的高効率（機械力から電力の比率）で比較的高速なステージ動作を供給するのに適している。動作の変更または走査に所望される応用分野において、例示的な線形ステージは、１，０００Ｈｚ以上の繰り返し率を供給してもよい。さらに、例示的な線形ステージは、ステージの高速走査および高解像度のステップおよび保持ステージのために設計されてもよい。概して、負荷、つまり平行移動ステージによって移動される物体の慣性、および要求される加速度は、アクチュエータが供給する必要のある力を規定する。同様に、この力は必要なコイル形状および磁力の組み合わせを規定する。磁力およびパッケージ要件は、磁気回路の形状を決定する。
【００３２】
当業者は、本明細書に記述される種々の側面および実施例が回転式ステージを生成するためにも適合でき、走査またはステップおよび保持モードのいずれか一方において線形運動の代わりに角運動が生じることを理解されたい。
【００３３】
基盤１０２およびステージ１１０に関して本明細書で用いられる用語「定常」および「平行移動」は、例証の目的のみに用いられ、他の実施例において、ステージ１１０は、基盤１０２に関して定常で保持されてもよく、システム内でステージ１１０に対して平行移動するように適合されてもよいことを理解されたい。さらに、他の実施例において、基盤１０２およびステージ１１０は、互いに関連した移動が可能である。
【００３４】
さらに、本明細書における上記の記述および実施例の図面は、本発明の種々の原理の単に例証のためのものであり、本発明の範囲および精神から逸脱することなく当業者によって種々の修正ができることを理解されたい。例えば、本明細書に記述される種々の実施例は、他の装置および方法と組み合わされてもよく、変更されてもよい。さらに、本明細書に明確に記述される多くの他の装置および工程は、当業者によって認識されるように、記述される例示的な線形平行移動ステージ軸受けを活用してもよい。さらに、記述内において、特定の実施例が検討されており、これらの実施例がどのように関連技術における特定の不利点に対応すると考えられるか検討されている。しかし、この検討は、実際に不利点に対応および解決する方法および／またはシステムに対する種々の実施例を制限するものではない。したがって、本発明は、添付の特許請求の範囲によって規定され、本明細書における記述によって制限されるべきではない。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】図１は、例示的な線形ステージの斜視図を示す。
【図２】図２は、例示的な線形ステージの分解図を示す。
【図３】図３は、線形ステージ内の電流、磁場およびその結果生じる力を示すとともに、例示的な線形ステージの断面図を示す。
【図４】図４は、線形ステージ内の磁場を示すとともに、例示的な線形ステージの断面図を示す。
【図５Ａ】図５Ａおよび５Ｂは、伸張部分における例示的な線形ステージの斜視図を示す。
【図５Ｂ】図５Ａおよび５Ｂは、伸張部分における例示的な線形ステージの斜視図を示す。
【図５Ｃ】図５Ｃおよび５Ｄは、伸張部分における例示的な線形ステージの側面図および断面図を示す。
【図５Ｄ】図５Ｃおよび５Ｄは、伸張部分における例示的な線形ステージの側面図および断面図を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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