(57)【要約】  本発明は、第１の支持体１８上に薄膜を転写する方法に関し、少なくとも一部が第１の材料の固体基板からもたらされるフィルム３を含む構造を供給するステップであって、フィルム３が、第１の材料の熱膨張率とは異なり、第１の支持体に近い熱膨張係数を有する第２の支持体６、１０に強固に接続され、方法がさらに、転写される薄膜を画定するフィルム３内部に脆化領域１４を形成するステップと、第２の支持体６、１０に強固に接続されたフィルム３を、第１の支持体１８に取り付けるステップと、脆化領域１４においてフィルム３を破断するステップとを含む。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の材料の薄層（２２）を、第２の材料から形成される第１の支持体（１８、２４）上に転写する薄膜転写方法であって、
少なくとも一部が第１の材料のバルク基板からもたらされる層（３）を含む構造を提供するステップを含み、層（３）が、第１の材料の熱膨張率とは異なり、かつ第２の材料の熱膨張率に近い熱膨張率を有する第３の材料から形成される第２の支持体（６、１０）に取り付けられ、前記薄膜転写方法がさらに、
第１の材料の薄層（２２）が転写される構造に境界を定める所定の深さで、層（３）内に埋設され弱められた領域（１４）を形成するステップと、
第２の支持体（６、１０）に取り付けられた層（３）を、第１の支持体（１８、２４）に接合するステップと、
少なくとも１つの熱処理ステップを含む、弱められた領域（１４）において層（３）を破断するステップとを含むことを特徴とする、方法。
【請求項２】
層（３）の厚みが、接合後に得られる構造の温度に応じる機械的挙動が、第２の支持体（６、１０）および第１の支持体によって付与されるようなものである、請求項１に記載の薄層転写方法。
【請求項３】
破断ステップが、さらに、機械的負荷を加えるステップを含む、請求項１または２に記載の薄層転写方法。
【請求項４】
埋設され弱められた領域を形成するステップが、少なくとも１つのガス種を注入することにより行なわれる、請求項１から３のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項５】
第１の材料の熱膨張率が、第２の材料および第３の材料の各熱膨張率と少なくとも１０％だけ異なる、請求項１から４のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項６】
第２の材料の熱膨張率が、第３の材料の熱膨張率と１０％未満だけ異なる、請求項１から５のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項７】
第２の材料が、第３の材料と同一である、請求項６に記載の薄層転写方法。
【請求項８】
第２の支持体（６、１０）に取り付けられた層（３）の厚みが、第２の支持体（６、１０）の厚みの１５％未満である、請求項１から７のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項９】
第２の材料が、シリコンである、請求項１から８のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項１０】
第１の材料が、ゲルマニウムである、請求項１から９のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項１１】
層の厚みが、１μｍ〜５０μｍである、請求項１から１０のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項１２】
第１の材料のバルクプレート（２）を第２の支持体（６、８）に接合する予備ステップを含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項１３】
接合する予備ステップが、１００℃〜２００℃の温度で行なわれる、請求項１２に記載の薄層転写方法。
【請求項１４】
第２の支持体（６、１０）に取り付けられた層（３）を得るために、前記第１の材料のバルクプレート（２）を薄くするステップを含む、請求項１２または１３に記載の薄層転写方法。
【請求項１５】
破断後に第２の支持体（６）に取り付けられた残存する層（３）の部分（２０）上に第１の材料をエピタキシャル堆積するステップを含む、請求項１から１４のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項１６】
エピタキシャル層内に埋設され弱められた領域を形成するステップと、
エピタキシャル層を第３の支持体に接合するステップと、
弱められた領域においてエピタキシャル層を破断するステップとを含む、請求項１５に記載の薄層転写方法。
【請求項１７】
第２の支持体に取り付けられた層が、完全にバルク基板から得られる、請求項１から１６のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項１８】
第２の支持体に取り付けられた層が、第１の材料のエピタキシャル層を含む、請求項１から１７のいずれか一項に記載の薄層転写方法。
【請求項１９】
第２の支持体に取り付けられた層が、第４の材料のエピタキシャル層の結晶構造が第１の材料によって付与されるような厚みの第４の材料のエピタキシャル層を含む、請求項１８に記載の薄層転写方法。
【請求項２０】
停止層として第４の材料のエピタキシャル層を使用して、破断後の第１の材料のエピタキシャル層を取り除くステップを含む、請求項１８に記載の薄層転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持体上に薄膜を転写する方法に関する。薄膜によって、典型的には、１μｍ未満の厚みを有する層が意味される。
【背景技術】
【０００２】
支持体（例えば、基板）によって支持された特に薄層に形成される積層構造の製造の状況では、次の主なステップを含む方法によって、基板上に薄層を転写することが既に提案されている。すなわち、
例えば、所定の深さにガスを注入することによって、薄層を形成する材料からなる基板内に所定の深さで弱められた領域を形成するステップと、
例えば、分子接合によって、支持体上に注入された基板（ドナー基板と称する）を接合するステップと、
予め弱められた領域での破断（一般に、通常、２００℃〜６００℃の熱処理ステップの間）によって、薄層（弱められた領域とドナー基板の初期表面との間に配置された）から切断されたドナー基板と、薄層を支持する支持体とを分離するステップとである。
【０００３】
この種の解決法は、例えば、仏国特許出願公開第２６８１４７２号に記載されており、それは、ＳＯＩ（シリコンオンインシュレータ）タイプの構造を得るために、絶縁シリコン酸化物（ＳｉＯ２）の薄層で被覆されたシリコン基板からなる支持体上に、シリコンの薄層を堆積するために使用される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
簡潔に上記された方法は、言及された状況において適用されることができるが、例えば、ドナー基板および支持体が、全く異なる機械特性を有するなら、様々な状況においてこの方法の従来の適用において、ある問題が生じる場合がある。
【０００５】
これは、特に、シリコンの薄層を、ある電子特性が有利なゲルマニウム（Ｇｅ）の薄層で置換することが必要とされる場合である（電気キャリアの移動度など、ゲルマニウム上に生成された回路の性能を向上する）。
【０００６】
予め言及された方法による構造（ＧｅＯＩと称せられ、ゲルマニウムオンインシュレータを表わす）のこの種の製造は、例えば、ＭＲＳ  ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ、８０９Ｂ４．４（２００４年）で、Ｆ．Ｌｅｔｅｒｔｒｅらによる論文「Ｇｅｒｍａｎｉｕｍ−Ｏｎ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ（ＧｅＯＩ）  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  Ｒｅａｌｉｚｅｄ  ｂｙ  ｔｈｅ  Ｓｍａｒｔ  Ｃｕｔ（商標）  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」の主題である。
【０００７】
この例では、上記で言及された薄層転写方法の従来の適用は、熱処理による注入によって、弱められた領域においてそれらを分離することを目的として、ゲルマニウムが注入された基板上にシリコン基板を接合することをもたらす。しかし、この解決法は、使用される２つの材料の熱膨張率（シリコンについて２．６×１０−６／℃、およびゲルマニウムについて５．８×１０−６／℃）の大きな差のために問題である。破断の瞬間に、構造中に蓄積された応力が突然解放されると、一方どころか両方の基板の破損をもたらす可能性がある。
【０００８】
上で言及される論文は、また、ゲルマニウムの層中に注入を実行することを提案し、その厚みは、１ミクロンから数ミクロンまで変化することができ、標準シリコン基板（７５０μｍの厚み）の表面上にエピタキシャルで形成される。したがって、分離熱処理を受けた構造は、２つのシリコン基板の厚みと比較して、ゲルマニウムの小さな厚みのためにホモ構造として作用する。
【０００９】
しかし、この後者の解決法は、エピタキシャルゲルマニウム内の多くの転位およびより大きな粗さのために、電子的視点からそれほど有利ではない。
【００１０】
第２の材料の基板上に第１の材料の層を含む構造を生成するための他の知られている解決法は、第２の材料の基板と第１の材料の基板とのアセンブリ後に、第１の材料内で基板の化学機械的薄化を実行することである。しかし、この技術は、良好な均質の厚みで、約１ミクロンの厚みを有する層を得るために使用されることができない。この技術を使用すると、より薄くなると、残存層の厚みがより均質とならない。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
これらの様々な問題を解決し、かつ特に、単純な実施、破断熱処理中の高い機械的強度、および得られた構造の良好な電気的結晶特性を兼ね備えた解決法を提案するために、本発明は、第１の材料の薄層を、第２の材料から形成される第１の支持体上に転写する薄膜転写方法を提供し、その方法は、次のステップを特徴とする。すなわち、
少なくとも一部が第１の材料のバルク基板からもたらされる層を含む構造を提供するステップであり、その層は、第１の材料の熱膨張率とは異なり、かつ第２の材料の熱膨張率に近い熱膨張率を有する第３の材料から形成される第２の支持体に取り付けられるステップと、
第１の材料の薄層が転写される構造に境界を定める所定の深さで、層内に埋設され弱められた領域を形成するステップと、
第２の支持体に取り付けられた層を、第１の支持体に接合するステップと、
少なくとも１つの熱処理ステップを含む、弱められた領域において層を破断するステップとである。
【００１２】
この種の方法では、第２の支持体は、転写される薄層の材料（第１の材料）とは無関係に、第１の支持体（第２の材料および第３の材料に対する同様の温度に関連する変化）との良好な機械的協働を提供する。
【００１３】
接合後に得られる構造の温度に応じる機械的挙動が、第２の支持体および第１の支持体によって課されるような層の厚みが、好ましい。層は、したがって、接合後に得られる構造の機械的温度挙動に関与しないほど十分に薄い。したがって、破断ステップは、この材料の性質が何でも良好な条件下で行なわれ、その結果、材料は、例えば、その電気特性に関して自由に選択されることができる。
【００１４】
本発明によれば、破断の瞬間に構造内に蓄積された応力の解放が、破断後に得られる構造のいずれも破損を引き起こさないように、使用される材料および厚み、特に、第１の材料の層の厚みが選択される。
【００１５】
破断ステップはまた、機械的負荷、機械力（ブレードの挿入、静止摩擦および／または曲げ、および／またはせん断力）、および／または超音波またはマイクロ波を適用するステップを含むことができ、弱められた領域を形成するステップは、１つまたは複数のガス種の注入によって行われることができる。
【００１６】
第１の材料の熱膨張率は、例えば、少なくとも１０％だけ各第２の材料および第３の材料の熱膨張率と異なる。
【００１７】
第２の材料の熱膨張率は、第３の材料の熱膨張率とは１０％未満だけ異なるように選択されることができる。接合後に得られた構造は、したがって、ホモ構造を構成すると考えられることができる。第２の材料は、例えば、第３の材料と同一である。
【００１８】
第２の支持体に取り付けられた層の厚みは、例えば、第２の支持体の厚みの１５％未満であり、接合ステップに起因する構造へのこの層のいかなる重大な機械的衝撃をも防ぎ、特に、熱処理中にこの構造に蓄積される弾性エネルギーを制限する。この厚みは、もちろん、構造内に存在する熱膨張率と、構造が耐えることができなければならない温度との差に応じて選択されなければならない。この温度が低いほど、第２の支持体に取り付けられた層はより厚くなることができる。同様に、熱膨張率差がより小さければ、この厚みはより大きくなることができる。
【００１９】
第２の材料は、例えば、シリコンである。第１の材料は、ゲルマニウムとすることができる。
【００２０】
第１の材料（破断前）の層の厚みは、例えば、１μｍ〜５０μｍである。
【００２１】
以下に記載された実施形態では、本方法は、例えば、高温（典型的には、１００℃〜２００℃）で、第２の支持体に第１の材料の固体プレートを接合する予備ステップを含むことが可能である。この場合、プレートから得られ、かつ第２の支持体に取り付けられた層は、例えば、化学機械的薄化（研削、その後の研磨として知られている方法によって達成されることができる）によって、第１の材料のプレートを薄くするステップによって得られることができる。
【００２２】
本方法は、さらに、破断後に、第２の支持体に取り付けられた残存する層（残存層）の一部上に第１の材料をエピタキシャル堆積するステップを含むことができる。残存層の結晶品質は、良好であり、エピタキシャル堆積された層の結晶品質も良好である。
【００２３】
したがって、エピタキシャル堆積された層は、例えば、次のステップによって、さらなる薄膜転写に使用されることができる。すなわち、
エピタキシャル層中に埋設され弱められた領域を形成するステップと、
エピタキシャル層を第３の支持体に接合するステップと、
弱められた領域においてエピタキシャル層を破断するステップとである。
【００２４】
本方法の１つの可能な実行では、第２の支持体に取り付けられた層は、完全にバルク基板から得られる。これは、層全体が、非常に良好な結晶品質であることを確実にする。
【００２５】
他の可能な実行では、第２の支持体に取り付けられた層は、第１の材料のエピタキシャル層を含む。既に示されているように、これは、バルク基板から得られた部分による良好な結晶品質を保持することと同時に、残存層に基づいて薄層の連続転写を可能にする。
【００２６】
この場合、第２の支持体に取り付けられた層は、さらに、その結晶構造が第１の材料によって付与されるような厚みの第４の材料のエピタキシャル層を含むことができる。この層は、次いで、第１の材料の層の結晶品質を問題にすることなく、他の機能に使用され得る。
【００２７】
例えば、本方法は、停止層として第４の材料のエピタキシャル層を使用して、破断後、第１の材料のエピタキシャル層を取り除くステップを含むことができる。
【００２８】
本発明の他の特徴および利点は、図１から図６が、本発明の教示に従う方法の１つの例の様々なステップを表す添付の図面を参照して、次の記載に照らして明らかとなるであろう。
【００２９】
これらの図では、様々な層は、それらの記載を明確にするために、現実に直接比例せずに概略の厚みで示される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
本発明による方法の１つの例の様々なステップは、これらの図を参照して次に記載される。
【００３１】
この例は、図１に表わされるように、３８０℃でＳｉＨ４化学物質を使用して、例えば、ＰＥＣＶＤ（プラズマ化学気相成長法）によって、本明細書において、シリコン酸化物（ＳｉＯ２）の表面層４が堆積された２００ｍｍの典型的な直径および７５０μｍの厚みを有するバルクゲルマニウム（したがって、良好な結晶電気特性を有する）のプレート２を使用する。
【００３２】
表面層がない、または様々な種類の１つまたは複数の表面層を有するゲルマニウムプレート２が、代わりに使用され得る。
【００３３】
シリコン酸化物層４は、緻密化（例えば、窒素中で６００℃で１時間）によって調製され得る。ゲルマニウムプレート２−シリコン酸化物層４の構造は、次いで、例えば、化学洗浄および／または親水性接合のための化学機械的研磨によって、以下に記載される接合に関して準備される。
【００３４】
図１において表されたこの構造は、次いで、熱膨張率がゲルマニウムと異なる材料、例えば、シリコン（Ｓｉ）からなる基板６に接合され、支持体を形成する。シリコン（Ｓｉ）からなる基板６上には、層、例えば、熱酸化によって形成されたシリコン酸化物（ＳｉＯ２）の層８が形成され、以降の接合を促進する（酸化物／酸化物接合は、よく実証された技術である）。
【００３５】
シリコン基板６（ここで、介在するシリコン酸化物層４、８とともに適用可能）上のゲルマニウムプレート２のアセンブリは、図２において接合する間を表される。
【００３６】
この接合は、例えば、２００℃で２時間のオーブンで強固にされ得る。
【００３７】
この接合は、有利には、例えば、１００℃〜２００℃の高温で実行されることができ、以降の熱処理および特に破断熱処理によって生成される応力の一部を補償することができる応力を、構造内生成し、それによって、破損の危険を低減する。
【００３８】
ゲルマニウムプレート２は、次いで、研削、その後の化学機械的研磨、および適切な場合には化学エッチング（研磨は、良好な最終粗さを生成し、化学エッチングは、研削によって生成された欠陥を取り除く）の組み合わせによって薄くされることが好ましい。構造の完全性を保証すれば（特に、構造のあまりにも高い温度上昇を必要としなければ）、他の薄化技術が使用されることができる。
【００３９】
ゲルマニウムの最終厚みは、ゲルマニウム／シリコンアセンブリの機械的挙動が、本質的にシリコン６によって影響されるようになっていなければならず、その結果、温度に応じたアセンブリの機械的挙動は、ホモ構造の機械的挙動に類似し、以降の熱処理の間、および特に破断熱処理の間（さらに特に構造の破断の瞬間に）に、構造内に蓄積された弾性エネルギーが、構造破損をもたらさないようにより正確になる。１μｍ〜５０μｍ、例えば、２０μｍの厚みは、このゲルマニウム層のために典型的に選択される。
【００４０】
図３に表わされた構造が、次いで得られ、この構造は、したがって本質的に、支持体を形成する基板６（ここでは、２００ｍｍの直径の基板のための７５０μｍの典型的な厚みを有するシリコン）、シリコン酸化物の中間層１０（上記で言及された２つのシリコン酸化物層４、８のアセンブリに相当する）、厚みが低減された、例えば数ミクロンから数十ミクロンの厚み、例えば２０μｍの厚みの薄くされたゲルマニウム層３からなる。
【００４１】
それを生成するために使用される工程のために、薄くされたゲルマニウム層３の粗さおよび結晶構造は、バルクゲルマニウム基板に近く、したがって、ゲルマニウムの薄くされた層３から、以下に記載されるように形成された薄層の結晶および電気的特性は、特に良好である。
【００４２】
以下に説明されるように、薄くされたゲルマニウム層３の低減された厚み、および支持体を形成するシリコン基板６へのその接合は、それにもかかわらず、バルクゲルマニウム基板とは異なる機械的挙動を有する構造を生成し、以下に記載される分離ステップで使用される場合、有利となるであろう。
【００４３】
さらに、ゲルマニウムよりシリコンの熱伝導率が高いために、この（ゲルマニウム／シリコン）構造は、ゲルマニウム基板を使用する解決法より以降の技術ステップの間に、より良好な熱の排出を示す。
【００４４】
したがって、記載された図３において表された構造は、次に記載されるように、薄層、ここでは、ゲルマニウムの転写を可能にする特に有利なドナー構造を構成する。
【００４５】
薄層（本質的に、本明細書で記載された例におけるシリコン基板）を受ける支持体に接合する前に、予め生成されかつ、図３に表わされた構造は、次のステップを行うことにより準備されることができる。すなわち、
従来どおり、例えば、ＰＥＣＶＤによって二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の層を堆積するステップと、
４００℃〜６００℃で１時間、窒素中でシリコン酸化物層を任意に緻密化するステップと、
洗浄および／または化学機械研磨ステップ（親水性接合との適合性を向上するために）とである。
【００４６】
あるいは、もちろん、いかなる酸化物でも必ずしも堆積することはできず、薄層を受ける支持体にそれを直接接合するために、ゲルマニウム表面を調製する。
【００４７】
弱められた領域１４は、転写される薄膜の厚みに相当する深さ（一般に、約数百ナノメータ程度、例えば、数十ナノメータ〜１０００ｎｍ）で、例えば、ガス種、ここでは、水素イオン（Ｈ＋）を数ｋｅＶ〜２５０ｋｅＶのエネルギーで、３×１０１６〜７×１０１６Ｈ＋／ｃｍ２のドーズレートで、典型的には、１００ｋｅＶの注入エネルギーおよび５×１０１６Ｈ＋／ｃｍ２のドーズレートでの注入によって、薄くされたゲルマニウム層３内に生成され、約７００ｎｍの注入深さが得られる。
【００４８】
注入ステップは、シリコン酸化物層（ＳｉＯ２）層の形成後、および、例えば、表面を洗浄する前に行なわれる。
【００４９】
この注入ステップ後に、および適用可能なこれらの準備ステップの場合に、ドナー構造は、したがって、図４に示される。
【００５０】
その構造は、次いで、（薄くされたゲルマニウム層３、つまり、注入を受けた表面に堆積されたシリコン酸化物層１２によって）、例えば、薄層が転写される支持体に対する親水性接合によって接合され、ここで、支持体は、主として、シリコン基板１８（一般には、２００ｍｍの厚みの基板に関して厚み約７５０μｍの）からなり、シリコン酸化物（ＳｉＯ２）層１６によって被覆される。
【００５１】
したがって、図５に表わされたアセンブリが得られ、そのアセンブリは、弱められた領域１４に破断を形成するために、一般的には、２００℃〜５００℃（ここでは、例えば、３３０℃で）で熱処理ステップを受ける。
【００５２】
これは、シリコン酸化物層１６によって被覆されたシリコン基板１８によって形成された支持体を分離し、シリコン基板は、これ以降、ゲルマニウム（薄くされた層３からもたらされる）の薄層２２を支持し、図６に表わされるように、この転写された薄層からドナー構造が剥離される。
【００５３】
薄くされたゲルマニウム層３は、シリコン基板６、１８（少なくとも約１〜１０程度の比率で図中に実際に図示される）比較して薄いため、また２つの基板６、１８（ここでは、同じ材料から作られる）の機械的適合性（ここでは、熱膨張の観点から）のため、上記に言及される（および図５に表わされる）アセンブリは、ホモ構造として本質的に作用し、したがって、多大な破損の危険なしに、破断熱処理ステップの間に良好な機械的挙動を示す。
【００５４】
破断の瞬間に構造内に蓄積された弾性エネルギーの解放は制御され、破断後に得られる構造の破損をもたらさない。
【００５５】
この薄膜２２が、薄くされたゲルマニウム層３に由来し、その電気的特性は、既に述べられたように、初期のゲルマニウムプレートの電気的特性に近いので、弱められた領域の破断（したがって、図５のアセンブリの分離）ステップ後、したがって、シリコン酸化物層２４で被覆されたシリコン基板１８は、良好な電気的特性を有するゲルマニウムの薄膜２２を支持する。
【００５６】
したがって、研磨や熱アニールタイプの仕上げ処理を終了した後に適用可能な場合に、特に有益なゲルマニウム層の電気的特性を有するＧｅＯＩ（つまり、絶縁体上のゲルマニウムの）のプレートが得られる。
【００５７】
主としてシリコン基板６および残存するゲルマニウム層２０（薄層２２から剥離された薄くされたゲルマニウム層３）からなるドナー構造は、次いで、この場合に残存層２０から得られたゲルマニウムの新しい薄層の転写のために、ドナー構造として再び使用されるために、（例えば、研削および／または研磨技術によって）再利用され得る（これは、薄層２２から剥離された場合でさえ、ドナー構造は、図３において予め表されるように本質的に構成されるからである）。
【００５８】
１つの有利な実行可能性によれば、薄くされた層３またはドナー構造のゲルマニウムの残存層２０は、その構造上にゲルマニウムのエピタキシャル成長のための種として役立つことができる。薄くされた（または残存）層の結晶品質のために、このエピタキシャル層の結晶品質は、バルクゲルマニウム基板の結晶品質に近いであろう。したがって、薄層転写工程は、エピタキシャル層を使用して繰り返され得る。
【００５９】
あるいは、（薄くされた層３または残存層２０上に）エピタキシャルで連続的に反復してゲルマニウム（数ミクロン、例えば２μｍの厚みに）およびシリコン（典型的には、数ナノメータの厚みに）が生成されて、これら２つの材料の交互スタック、Ｓｉ／Ｇｅ／Ｓｉ／Ｇｅなどを生成することができる。
【００６０】
エピタキシャルシリコン層は、非常に薄いので、ゲルマニウムは、良好な結晶品質が、エピタキシャルゲルマニウム層内で維持されるように、その格子定数を付与する。
【００６１】
他方、エピタキシャル層および初期のゲルマニウム層３、２０の組み合わされた厚みは、シリコン基板によって付与されるように得られる構造の温度に応じて、機械的挙動には十分に小さいままでなければならない。
【００６２】
この変形例は、連続転写中に停止層として薄いシリコン層を使用することができる。
【００６３】
下記の工程も使用され得る。すなわち、
注入は、その層において、転写される薄膜を画定するために、スタック（外部層）の頂部に配置されたゲルマニウムのエピタキシャル層で達成され、
上記されるように、薄膜は、転写され、
外部ゲルマニウム層の残りは、選択エッチング（例えば、Ｈ２Ｏ２エッチング）によって取り除かれ、
シリコン停止層は、次いで、選択エッチング（例えば、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウム水酸化物）を使用すること）によって取り除かれ、
工程は、次のゲルマニウム層で繰り返される。
【００６４】
本方法は、破断後の研磨の使用、したがって、通常生じる不均質な厚みを回避する。
【００６５】
記載された例は、本発明の可能な実施形態のみを構成し、本発明は、それら実施形態に限定されない。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の教示に従う方法の１つの例のステップを表す図である。
【図２】本発明の教示に従う方法の１つの例のステップを表す図である。
【図３】本発明の教示に従う方法の１つの例のステップを表す図である。
【図４】本発明の教示に従う方法の１つの例のステップを表す図である。
【図５】本発明の教示に従う方法の１つの例のステップを表す図である。
【図６】本発明の教示に従う方法の１つの例のステップを表す図である。
【図１】
2009504392.tif 000003
【図２】
2009504392.tif 000004
【図３】
2009504392.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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2009504392.tif 000010
2009504392.tif 000011
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