(57)【要約】  本発明は、互いに接触する２つのシール面（８）を備えた高圧接続部およびこのような高圧接続部を製造する方法に関する。このような形式の高圧接続部のシールを改善するために、２つのうちの少なくとも１つのシール面（８）が、部分的な被覆（２３，２４，２６，２７）を有している。部分的な被覆（２３，２４，２６，２７）は、電着成形によって形成される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに接触する２つのシール面（８）を備えた高圧接続部において、
２つのうちの少なくとも１つのシール面（８）が、部分的な被覆（２３，２４，２６，２７）を有していることを特徴とする、高圧接続部。
【請求項２】
部分的な被覆（２３，２４，２６，２７）が、異なる複数の材料を含有している、請求項１記載の高圧接続部。
【請求項３】
異なる材料が、上下に、かつ／または相並んで取り付けられている、請求項２記載の高圧接続部。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１項記載の、互いに接触する２つのシール面（８）を備えた高圧接続部を製造する方法において、
部分的な被覆（２３，２４，２６，２７）を、電気化学式の金属析出によって形成することを特徴とする、高圧接続部を製造する方法。
【請求項５】
部分的な被覆（２３，２４，２６，２７）の側方の寸法を、フォトリソグラフィによってフォトマスクを用いて形成する、請求項４記載の方法。
【請求項６】
部分的な被覆（２３，２４，２６，２７）の側方の寸法を、レーザ放射によって規定する、請求項４記載の方法。
【請求項７】
目標ジオメトリを形成するために、フォトレジストを前成形する、請求項４から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前成形されたフォトレジストをシール面に取り付ける、請求項７記載の方法。
【請求項９】
シール面に取り付けられたフォトレジストをフォト構造化して、部分的な被覆（２３，２４，２６，２７）の側方の寸法を規定する、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
部分的な被覆によって形成されたシールの機能を、部分的な被覆の材料および形状によって調節する、請求項４から９までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、互いに接触する２つのシール面を備えた高圧接続部に関する。また本発明は、このような高圧接続部を製作する方法に関する。
【０００２】
従来技術
高圧接続部のシールは、シールに関連しない領域が局所的な面圧を高めるためにフライス加工によって凹設されることによって改善される。さらに被覆された金属の材料から形成されたＯリングを用いることが公知である。
【０００３】
本発明の課題は、高圧接続部のシールを改善することである。
【０００４】
発明の利点
この課題は、互いに接触する２つのシール面を備えた高圧接続部において、２つのうちの少なくとも１つのシール面が、部分的な被覆を有していることによって解決される。部分的な被覆によって、高圧に適した成分特有のシールが形成される。部分的とは、本発明に関して述べると、完全なシール面が被覆されるのではなく、シール面の一部だけが被覆されることを意味する。これによってシール面にシール構造が形成される。
【０００５】
高圧接続部の有利な実施形態によれば、部分的な被覆が、異なる複数の材料を含有している。異なる材料は、上下に、かつ／または相並んで配置することができる。
【０００６】
前述の課題は、互いに接触する２つのシール面を備えた前述の高圧接続部を製作する方法において、部分的な被覆を、電気化学式の金属析出によって形成することによって解決される。電着成形の有利な使用によれば、電気化学式の金属析出は、部分的にシール面の規定の領域でしか行われない。析出しようとする材料は、シール機能およびシール面のベース材料に調和されている。
【０００７】
有利な方法によれば、部分的な被覆の側方の寸法は、フォトリソグラフィによってフォトマスクを用いて形成される。フォトリソグラフィによって、電着成形を用いて電気化学式の金属析出の行われる領域が規定される。いわゆるポジレジストといわゆるネガレジストとの間で区別される。ネガレジストでは、レジストは、有利にはＵＶ光線の負荷される箇所で湿される。これによってレジストは、その個所で、後続の現像プロセスにおいて溶解しない。ポジレジストでは、レジストは、有利にはＵＶ光線の負荷される箇所で「破壊」される。後続の現像プロセスにおいて、レジストは、その箇所で洗い落とされる。本発明の範囲内で、有利には、フィルムレジストの構成をしたネガレジストが用いられる。
【０００８】
本発明の別の有利な方法では、部分的な被覆の側方の寸法は、レーザ放射によって規定される。レーザ放射は、簡単な形式でシール面の部分的な被覆を実現する。この場合レーザ放射は、フォトレジストを露光するのに用いることができる。レーザ放射は、マスキング材料を所望の形式で剥離するために用いることもできる。
【０００９】
本発明の有利な別の方法によれば、目標ジオメトリを形成するために、フォトレジストが前成形される。前成形に際して、目標ジオメトリは、打ち抜き成形、カッティングまたはレーザ加工によってフォトレジストに形成される。この場合フォトレジストは、たとえばプリント基板製作で使用されるように、フィルム（シート）として用いられる。フィルムとしてのフォトレジストは、たとえば３０ｃｍの幅で１００ｍを超える長さを有している。前成形とは、本発明の範囲内では、レジストのサイズを処理しようとする面に適合させることを意味する。
【００１０】
本発明の別の有利な方法によれば、前成形されたフォトレジストがシール面に取り付けられる。有利には、支持シートを備えたフィルムレジストが用いられる。液体レジストを用いることもできる。
【００１１】
本発明の別の有利な方法によれば、部分的な被覆の側方の寸法を規定するために、シール面に取り付けられたフォトレジストがフォト構造化される。フォト構造化は、有利には、マスクと露光機とによって行われる。フォト構造化は、レーザ放射の所望の作用によって行うこともできる。
【００１２】
有利な方法によれば、部分的な被覆によって形成されたシールの機能は、部分的な被覆の材料および形状によって調節される。ここではたとえば比較的軟質の材料は、シール面の設定された粗さに適合させるため、または受け面の凹凸を補償するために用いられる。比較的硬質の材料は、受け面に押圧される噛合面の機能を形成するために用いることができる。異なる材料組み合わせの多層の方法によって、シールの特性および機能は、ほぼ任意に展開することができる。
【００１３】
本発明の別の利点、特徴および詳細は、図面に基づいて様々な実施例を詳しく説明した以下の説明から明らかである。
【００１４】
実施例の説明
図１には、ほぼ円筒形をした燃料インジェクタ本体１を平面図で示した。燃料噴射弁インジェクタ本体１は、中央の低圧孔３ならびに高圧孔５および別の低圧孔６を備えており、別の低圧孔６は、中央の低圧孔３の半径方向外側に配置されている。孔３，５，６は、共通のシール面８に通じている。燃料噴射弁インジェクタ本体１のシール面８は、組付状態で、燃料インジェクタの別の部分（図示していない）の別のシール面に接触する。組立状態で、両方のシール面は、互いに堅固に緊締され、これによって孔３，５，６と別の燃料インジェクタ部分における別の孔との間の密な結合が形成され、結合部は、孔３，５，６に対して整合して延びている。
【００１５】
図１には、ハッチングした領域１０によって、孔３，５，６の間に存在するシールに関連しない領域が凹んでいることを示唆している。シールに関連しない領域１０の凹みによって、局所的な面圧が高められる。シールに関連しない領域１０の凹みは、フライス加工によって形成することができる。しかしフライス加工は、比較的面倒で高価である。さらにフライス加工によって形成可能な構造は、フライス工具によって限定されている。
【００１６】
図２には、図１に示した燃料インジェクタ本体と同等の燃料インジェクタ本体２１を示した。燃料インジェクタ本体２１は、中央の低圧孔３と高圧孔５と別の低圧孔６とを備えている。孔３，５，６は、シール面８に通じており、シール面８は、円形面の形状を有している。
【００１７】
図１に示した燃料インジェクタ本体１との相違点によれば、図２に示した燃料インジェクタ本体２１では、シールに関連する領域２３，２４，２６，２７が隆起している。シールに関連する領域２３は、円形リングディスクの形状を有しており、シールに関連する領域２３は、シール面８への低圧孔３の開口部を包囲している。シールに関連する領域２４は、円形リングディスクの形状を有しており、シールに関連する領域２４は、高圧孔３およびシールに関連する領域２３に対して同心的にシール面８の外周縁の近くに配置されている。シールに関連する領域２６，２７は、円形リングディスクの形状を有しており、シールに関連する領域２６，２７は、シール面８への高圧孔５，６の所属の開口を包囲している。
【００１８】
本発明の主要な見解によれば、シールに関連する領域２３，２４，２６，２７は、シール面８に対して隆起して形成されている。シールに関連する領域２３，２４，２６，２７の隆起は、電着成形（Galvanoformen）を用いて部分的に被覆することによって行われる。本発明による電着成形は、フォトリソグラフィと電子化学的な金属析出との組み合わせである。析出しようとする材料は、シール機能および燃料インジェクタ本体２１のベース材料に調和されている。材料スペクトルは、軟質たとえばインジウムから、硬質、たとえばニッケル−タングステン−合金までによって調節することができる。
【００１９】
異なる複数の材料を並べて、または重ねて組み合わせることもできる。これによって実現されるシールジオメトリに関して高い自由度が得られる。さらにリソグラフィプロセスは、極めて高い精度を実現する。これによってシールは、最適な形式で、シールを装着しようとする構成部材に適合させることができる。シールのジオメトリは、横方向でフォトマスクによって、または所望のレーザダイレクト構造化によって規定される。シールの高さは、電着成形によって、自由に規定することができる。この場合０．５μｍ〜数百μｍのシール高さが実現される。使用されるレジスト高さおよび電着高さは、互いに調和させることができる。高い電流密度に関連する高い析出速度によって、比較的厚い層も迅速に製作することができる。
【００２０】
本発明の見解によれば、後続のフォト構造化と共に、前成形（vorkonfektioniert）されたフォトレジストが用いられる。この場合有利には、フィルムレジストが用いられ、ここでは目標ジオメトリは、前成形に際して、打ち抜きまたはカッティングまたはレーザ加工によって形成される。レジストは、支持シート上に残存するか、または製作のあとで再び支持シートに取り付けられる。本発明の範囲内では、たとえばプリント基板製造に使用されるような、フィルムの構成をしたフォトレジストが有利である。そのようなフォトレジストは、有利には３０ｃｍ幅で、１００ｍを超える長さを有している。これに関連して、前成形とは、レジストのサイズが加工しようとする面に適合されることである。前成形されたレジストは、丸い「ステッカー（ラベル）」の役割に類似する。ステッカーは、正確に、図２に示したシール面全体に適合する。「ステッカー」を取り付けたあとで、レジストのフォト構造化が行われる。
【００２１】
特有のシール構造（図２における２３，２４，２６，２７）は、電着成形によって直に構成部材のシール面に形成される。本発明によるシールを製造する方法は、以下のように進行する。先ずシール面（図２における８）は前処理され、特に油除去される。次いで前成形された、構成部材ジオメトリに適合したフィルムレジストがシール面に取り付けられる。フィルムレジストの取付は、設定された圧力下で、かつ所定の温度で行われる。フィルムレジストの代わりに、液体レジストを取り付けることもできる。
【００２２】
別の方法ステップで、レジストのフォト構造化が行われる。有利には、フォト構造化は、露光装置を用いて適当なマスクによって行われる。またフォト構造化は、直にレーザ装置を用いて行うこともできる。次いで非露光領域が現像され、つまりレジストが部分的に除去される。したがって先行のステップで露出された領域が被覆される。最終的に残りのレジストが除去される。シール材料として、たとえばインジウムが用いられる。２つの構造群をねじ止めする際に、シール材料が流れ、この場合粗さおよび最小の変形は排除される。この場合望ましくは孔および外縁に対する規定の間隔は維持される。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】従来慣用の高圧接続部のシール面を示す図である。
【図２】本発明の高圧接続部のシール面を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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