(57)【要約】  液処理装置は、被処理体Ｗを保持するとともに、中空になった保持プレート１と、保持プレート１に固定連結され、中空になった外方回転軸２と、被処理体Ｗを支持するリフトピン２１を有するリフトピンプレート２０と、リフトピンプレート２０に固定連結された内方回転軸２２と、リフトピンプレート２０を昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材１６と、を備えている。内方回転軸２２の内部には、被処理体Ｗに洗浄液を供給する洗浄液供給部３０が配置されている。外方回転軸２には、当該外方回転軸２を回転駆動する外方回転駆動部４０が連結されている。内方回転軸２２には、当該内方回転軸２２を回転駆動する内方回転駆動部１０が連結されている。
2009101853.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を保持するとともに、中空になった保持プレートと、
前記保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、
前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、前記被処理体を支持するリフトピンを有するリフトピンプレートと、
前記外方回転軸の中空内で延在し、前記リフトピンプレートに固定連結された内方回転軸と、
前記内方回転軸の内部に配置され、前記保持プレートに保持された前記被処理体に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、
前記外方回転軸に連結され、当該外方回転軸を回転駆動する外方回転駆動部と、
前記内方回転軸に連結され、当該内方回転軸を回転駆動する内方回転駆動部と、
を備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記外方回転駆動部による前記外方回転軸の回転方向は、前記内方回転駆動部による前記内方回転軸の回転方向と同一方向であり、
前記外方回転駆動部による前記外方回転軸の回転速度は、前記内方回転駆動部による前記内方回転軸の回転速度と同一であり、
前記リフトピンプレートと前記保持プレートとの間にシール部材が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに、前記リフトピンプレートの前記リフトピンの先端と、前記保持プレートに保持された前記被処理体の下端との距離が５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記リフトピンプレートの前記リフトピンは、前記保持プレートの周縁近傍に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の液処理装置。
【請求項５】
前記外方回転駆動部によって回転駆動される前記保持プレートの回転速度と、前記内方回転駆動部によって回転駆動される前記リフトピンプレートの回転速度とは、異なることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項６】
中空になった保持プレートと、当該保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、リフトピンを有するリフトピンプレートと、前記外方回転軸の中空内で延在し、前記リフトピンプレートに固定連結された内方回転軸と、前記内方回転軸の内部に配置された洗浄液供給部と、前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、前記外方回転軸に連結された外方回転駆動部と、前記内方回転軸に連結された内方回転駆動部と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを上方位置に位置づけることと、
前記リフトピンプレートの前記リフトピンによって、前記被処理体を支持することと、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを下方位置に位置づけることと、
前記保持プレートによって、前記被処理体を保持することと、
前記外方回転駆動部で前記外方回転軸を回転駆動することによって、前記保持プレートで保持された前記被処理体を回転させることと、
前記内方回転駆動部で前記内方回転軸を回転駆動することによって、前記リフトピンプレートを回転させることと、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体に薬液を供給することと、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体にリンス液を供給することと、
を備えたことを特徴とする液処理方法。
【請求項７】
前記保持プレートで保持された前記被処理体の回転速度と、前記リフトピンプレートの回転速度とは、異なっていることを特徴とする請求項６に記載の液処理方法。
【請求項８】
コンピュータに液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
当該液処理方法は、
中空になった保持プレートと、当該保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、リフトピンを有するリフトピンプレートと、前記外方回転軸の中空内で延在し、前記リフトピンプレートに固定連結された内方回転軸と、前記内方回転軸の内部に配置された洗浄液供給部と、前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、前記外方回転軸に連結された外方回転駆動部と、前記内方回転軸に連結された内方回転駆動部と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを上方位置に位置づけることと、
前記リフトピンプレートの前記リフトピンによって、前記被処理体を支持することと、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを下方位置に位置づけることと、
前記保持プレートによって、前記被処理体を保持することと、
前記外方回転駆動部で前記外方回転軸を回転駆動することによって、前記保持プレートで保持された前記被処理体を回転させることと、
前記内方回転駆動部で前記内方回転軸を回転駆動することによって、前記リフトピンプレートを回転させることと、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体に薬液を供給することと、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体にリンス液を供給することと、
を備えた方法であることを特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【関連する出願の相互参照】
【０００１】
本願は、２００８年２月１４日に出願された特願２００８−３３５０９号に対して優先権を主張し、当該特願２００８−３３５０９号のすべての内容が参照されてここに組み込まれるものとする。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、回転駆動されている被処理体に洗浄液を供給して、当該被処理体を洗浄する液処理装置および液処理方法、並びに、当該液処理方法を実施させるための記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００３】
特開平９−２９０１９７号公報に示すように、従来から、被処理体である半導体ウエハ（以下、ウエハとも呼ぶ）を保持するとともに、中空になった底板と、底板に固定連結され、スピンモータにより回転駆動される回転軸と、回転軸内で延在し、底板に保持されたウエハに洗浄液を供給する供給管路と、上昇することによって下方からウエハを支持することができる基板押し上げピンと、を備えた液処理装置は知られている。【０００４】
従来の液処理装置においては、ウエハを洗浄するために用いられた薬液やリンス液などの洗浄液が、貫通穴を介して基板押し上げピンに付着する可能性があった。このため、ウエハの乾燥工程の後に、基板押し上げピンによってウエハを持ち上げて搬送ロボットに受け渡すときに、基板押し上げピンに付着した洗浄液の液滴がウエハの裏面に付着することがあった。【０００５】
このようにウエハに洗浄液が付着すると、液滴が付着したウエハ自体にウオーターマークが形成されるだけでなく、ウエハが運び込まれたキャリア内の湿度が上昇してしまい、キャリア内に収容された他のウエハにもウオーターマークが形成されることがある。
【発明の開示】
【０００６】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、被処理体を持ち上げる部材に洗浄液が残ることを防止することによって、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止し、ひいては、被処理体にウオーターマークが形成されることを防止する液処理装置および液処理方法、並びに、当該液処理方法を実施させるための記憶媒体を提供する。
【０００７】
本発明による液処理装置は、
被処理体を保持するとともに、中空になった保持プレートと、
前記保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、
前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、前記被処理体を支持するリフトピンを有するリフトピンプレートと、
前記外方回転軸の中空内で延在し、前記リフトピンプレートに固定連結された内方回転軸と、
前記内方回転軸の内部に配置され、前記保持プレートに保持された前記被処理体に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、
前記外方回転軸に連結され、当該外方回転軸を回転駆動する外方回転駆動部と、
前記内方回転軸に連結され、当該内方回転軸を回転駆動する内方回転駆動部と、
を備えている。
【０００８】
このような構成によって、リフトピンプレートに洗浄液が溜まったり、リフトピンに洗浄液が残ったりすることを防止することができ、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止することができる。
【０００９】
本発明による液処理装置において、前記外方回転駆動部による前記外方回転軸の回転方向を、前記内方回転駆動部による前記内方回転軸の回転方向と同一方向とし、前記外方回転駆動部による前記外方回転軸の回転速度を、前記内方回転駆動部による前記内方回転軸の回転速度と同一とし、前記リフトピンプレートと前記保持プレートとの間にシール部材を設けることができる。
【００１０】
このような構成によって、リフトピンプレートと保持プレートとの間から、洗浄液などが外方回転軸の中空内に入り込むことを防止することができる。
【００１１】
本発明による液処理装置において、前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに、前記リフトピンプレートの前記リフトピンの先端と、前記保持プレートに保持された前記被処理体の下端との距離が５ｍｍ以下とすることができる。
【００１２】
このような構成によって、被処理体の下面を伝って流れる洗浄液によって、リフトピンの先端を洗浄することができ、リフトピンの先端が被処理体の裏面に当接するときに、リフトピンの先端に付着した汚れが被処理体の裏面に移ることを防止することができる。
【００１３】
本発明による液処理装置において、前記リフトピンプレートの前記リフトピンを、前記保持プレートの周縁近傍に配置することができる。
【００１４】
このような構成によって、被処理体の裏面を洗浄した後にリフトピンの先端を洗浄することができ、リフトピンの先端が被処理体の裏面に当接するときに、リフトピンの先端に付着した汚れが被処理体の裏面に移ることをより確実に防止することができる。
【００１５】
本発明による液処理装置において、前記外方回転駆動部によって回転駆動される前記保持プレートの回転速度と、前記内方回転駆動部によって回転駆動される前記リフトピンプレートの回転速度とは、異なるようにしてもよい。
【００１６】
このような構成により、例えば、リフトピンプレートの回転速度を保持プレートの回転速度よりも高速にすることができ、リフトピンプレート上の洗浄液をより確実に取り除くことができる。
【００１７】
本発明による液処理方法は、
中空になった保持プレートと、当該保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、リフトピンを有するリフトピンプレートと、前記外方回転軸の中空内で延在し、前記リフトピンプレートに固定連結された内方回転軸と、前記内方回転軸の内部に配置された洗浄液供給部と、前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、前記外方回転軸に連結された外方回転駆動部と、前記内方回転軸に連結された内方回転駆動部と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを上方位置に位置づけることと、
前記リフトピンプレートの前記リフトピンによって、前記被処理体を支持することと、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを下方位置に位置づけることと、
前記保持プレートによって、前記被処理体を保持することと、
前記外方回転駆動部で前記外方回転軸を回転駆動することによって、前記保持プレートで保持された前記被処理体を回転させることと、
前記内方回転駆動部で前記内方回転軸を回転駆動することによって、前記リフトピンプレートを回転させることと、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体に薬液を供給することと、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体にリンス液を供給することと、
を備えている。
【００１８】
このような方法によって、リフトピンプレートに洗浄液が溜まったり、リフトピンに洗浄液が残ったりすることを防止することができ、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止することができる。
【００１９】
このような方法において、前記保持プレートで保持された前記被処理体の回転速度と、前記リフトピンプレートの回転速度とは、異なるようにしてもよい。
【００２０】
このような方法により、例えば、リフトピンプレートの回転速度を保持プレートで保持された被処理体の回転速度よりも高速にすることができ、リフトピンプレート上の洗浄液をより確実に取り除くことができる。
【００２１】
本発明による記憶媒体は、
コンピュータに液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
当該液処理方法は、
中空になった保持プレートと、当該保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、リフトピンを有するリフトピンプレートと、前記外方回転軸の中空内で延在し、前記リフトピンプレートに固定連結された内方回転軸と、前記内方回転軸の内部に配置された洗浄液供給部と、前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、前記外方回転軸に連結された外方回転駆動部と、前記内方回転軸に連結された内方回転駆動部と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを上方位置に位置づけることと、
前記リフトピンプレートの前記リフトピンによって、前記被処理体を支持することと、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを下方位置に位置づけることと、
前記保持プレートによって、前記被処理体を保持することと、
前記外方回転駆動部で前記外方回転軸を回転駆動することによって、前記保持プレートで保持された前記被処理体を回転させることと、
前記内方回転駆動部で前記内方回転軸を回転駆動することによって、前記リフトピンプレートを回転させることと、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体に薬液を供給することと、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体にリンス液を供給することと、
を備えた方法からなっている。
【００２２】
このような構成によって、リフトピンプレートに洗浄液が溜まったり、リフトピンに洗浄液が残ったりすることを防止することができ、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止することができる。
【００２３】
本発明によれば、内方回転駆動部によって内方回転軸が回転駆動されてリフトピンプレートが回転駆動されるので、リフトピンプレートに洗浄液が溜まったり、リフトピンに洗浄液が残ったりすることを防止することができる。このため、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止することができ、ひいては、被処理体にウオーターマークが形成されることを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、本発明の実施の形態による液処理装置の駆動態様を示す側方断面図である。
【図２】図２は、本発明の実施の形態による液処理装置を示す側方断面図である。
【図３】図３は、本発明の実施の形態による液処理装置による液処理方法の流れを示したフロー図である。
【図４】図４は、本発明の実施の形態の別の形態による液処理装置を示す側方断面図である。
【図５】図５は、本発明の実施の形態のさらに別の形態による液処理装置を示す側方断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
実施の形態
以下、本発明に係る液処理装置および液処理方法の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１（ａ）（ｂ）乃至図５は本発明の実施の形態を示す図である。
【００２６】
図１（ａ）（ｂ）および図２に示すように、液処理装置７０は、被処理体である半導体ウエハＷ（以下、ウエハＷとも呼ぶ）を保持するとともに、中空になった保持プレート１と、保持プレート１に固定連結され、中空になった外方回転軸２と、保持プレート１の中空内に配置されるとともに、ウエハＷを支持するリフトピン２１を有するリフトピンプレート２０と、外方回転軸２の中空内で上下方向に延在し、リフトピンプレート２０に固定連結された内方回転軸２２と、を備えている。なお、図２に示すように、保持プレート１は、保持部材６０によってウエハＷを保持する。
【００２７】
また、図１（ａ）（ｂ）に示すように、外方回転軸２には、当該外方回転軸２を回転駆動する外方回転駆動部４０が連結され、内方回転軸２２には、当該内方回転軸２２を回転駆動する内方回転駆動部１０が連結されている。また、図１（ａ）（ｂ）に示すように、外方回転軸２の周縁外方にはベアリング４７が配置されており、内方回転軸２２の周縁外方にはベアリング１７が配置されている。
【００２８】
また、図１（ａ）（ｂ）に示すように、外方回転駆動部４０は、外方回転軸２の周縁外方に配置されたプーリ４２と、このプーリ４２に駆動ベルト４３を介して駆動力を付与するモータ４１とを有している。
【００２９】
また、図１（ａ）（ｂ）に示すように、内方回転駆動部１０は、内方回転軸２２の周縁外方に配置されたプーリ１２と、このプーリ１２に駆動ベルト１３を介して駆動力を付与するモータ１１とを有している。
【００３０】
また、図１（ａ）（ｂ）に示すように、内方回転軸２２とリフトピンプレート２０とは中空形状になっており、これら内方回転軸２２とリフトピンプレート２０の内部（中空空間内）には、保持プレート１に保持されたウエハＷの裏面側に洗浄液を供給する裏面側洗浄液供給部（洗浄液供給部）３０が上下方向に延在している。
【００３１】
また、図１（ａ）（ｂ）に示すように、内方回転軸２２には、リフトピンプレート２０および内方回転軸２２を昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材１６が設けられている（図１（ｂ）の矢印参照）。なお、昇降部材１６は、内方回転軸２２を昇降させることによって、リフトピンプレート２０を昇降させる。
【００３２】
また、図２に示すように、保持プレート１の上方には、保持プレート１によって保持されたウエハＷの表面側に洗浄液を供給する表面側洗浄液供給部６５が配置されている。
【００３３】
ところで、洗浄液とは、薬液やリンス液のことを意味している。そして、薬液としては、例えば、希フッ酸、アンモニア過水(ＳＣ１)、塩酸過水(ＳＣ２)などを用いることができる。他方、リンス液としては、例えば、純水（ＤＩＷ）などを用いることができる。
【００３４】
また、裏面側洗浄液供給部３０からはＮ２などからなる乾燥気体も供給され、表面側洗浄液供給部６５からはＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などからなる乾燥液も供給されるようになっている。
【００３５】
なお、図２に示すように、リフトピンプレート２０が下方位置にある場合でも、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間には間隙Ｇが設けられている。そして、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間の間隙Ｇから、Ｎ２などの気体が間隙Ｇから上方に向かって吹きつけられるようになっている（パージされるようになっている）。
【００３６】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
【００３７】
まず、昇降部材１６によって、リフトピンプレート２０が上方位置（ウエハ搬送ロボットがウエハＷを受け渡す位置）に位置づけられる（上方位置づけ工程８１）（図１（ｂ）および図３参照）。より具体的には、昇降部材１６によって内方回転軸２２が上方位置に位置づけられ、このことによって、内方回転軸２２に固定連結されたリフトピンプレート２０が上方位置に位置づけられる。
【００３８】
次に、リフトピンプレート２０のリフトピン２１によって、ウエハ搬送ロボット（図示せず）からウエハＷが受け取られ、当該リフトピン２１によってウエハＷが支持される（支持工程８２）（図１（ｂ）および図３参照）。
【００３９】
次に、昇降部材１６によって、リフトピンプレート２０が下方位置（ウエハＷを洗浄液によって処理する位置）に位置づけられる（下方位置づけ工程８３）（図１（ａ）および図３参照）。より具体的には、昇降部材１６によって内方回転軸２２が下方位置に位置づけられ、このことによって、内方回転軸２２に固定連結されたリフトピンプレート２０が下方位置に位置づけられる。
【００４０】
このようにリフトピンプレート２０が下方位置に位置づけられる際に、保持プレート１の保持部材６０によって、ウエハＷが保持される（保持工程）（図２参照）。
【００４１】
次に、外方回転駆動部４０により外方回転軸２が回転駆動されることによって、保持プレート１で保持されたウエハＷが回転される（外方回転工程）（図１（ａ）参照）。このように保持プレート１が回転駆動され始めた後（または同時）に、内方回転駆動部１０により内方回転軸２２が回転駆動されることによって、リフトピンプレート２０が回転される（内方回転工程）（図１（ａ）参照）。
【００４２】
このとき、モータ４１から駆動ベルト４３を介してプーリ４２に駆動力が付与されることによって、外方回転軸２が回転駆動され、また、モータ１１から駆動ベルト１３を介してプーリ１２に駆動力が付与されることによって、内方回転軸２２が回転駆動される。
【００４３】
このように、保持プレート１に保持されたウエハＷと、リフトピンプレート２０とが回転している間に、以下の工程が行われる。
【００４４】
まず、表面側洗浄液供給部６５と裏面側洗浄液供給部３０とによって、ウエハＷに薬液が供給される（薬液供給工程９１）（図２および図３参照）。すなわち、表面側洗浄液供給部６５によってウエハＷの表面に薬液が供給されるとともに、裏面側洗浄液供給部３０によってウエハＷの裏面に薬液が供給される。
【００４５】
このとき、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間の間隙Ｇから外方回転軸２の中空内に、薬液が入り込まないように、Ｎ２などの気体が間隙Ｇから上方に向かって吹きつけられている（パージされている）（図２参照）。なお、後述するリンス工程９２や乾燥工程９３においても同様に、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間の間隙ＧからＮ２などの気体が間隙Ｇから上方に向かって吹きつけられており、外方回転軸２の中空内にリンス液や乾燥液などが入り込むことを防止している。
【００４６】
次に、表面側洗浄液供給部６５と裏面側洗浄液供給部３０とによって、ウエハＷにリンス液が供給される（リンス工程９２）（図２および図３参照）。すなわち、表面側洗浄液供給部６５によってウエハＷの表面にリンス液が供給されるとともに、裏面側洗浄液供給部３０によってウエハＷの裏面にリンス液が供給される。
【００４７】
このような薬液供給工程９１とリンス工程９２とを行っている間、外方回転駆動部４０によって外方回転軸２が回転駆動されてウエハＷが回転されるだけではなく、内方回転駆動部１０によって内方回転軸２２が回転駆動されて、リフトピンプレート２０が回転される。このため、ウエハＷを洗浄するために用いられた薬液やリンス液などの洗浄液が、リフトピンプレート２０に溜まること、および、リフトピン２１に洗浄液が残ることを防止することができる。
【００４８】
すなわち、リフトピンプレート２０で受けられた薬液やリンス液などの洗浄液は、リフトピンプレート２０が回転されていることで生じる遠心力によって、リフトピンプレート２０の周縁外方に移動させられることとなる。このため、ウエハＷを洗浄するために用いられた洗浄液は、随時、リフトピンプレート２０およびリフトピン２１から除去されることとなるので、リフトピンプレート２０に洗浄液が溜まること、および、リフトピン２１に洗浄液が残ることを防止することができる。
【００４９】
なお、本実施の形態においては、リフトピンプレート２０のリフトピン２１の先端と、保持プレート１に保持されたウエハＷの下面との距離は、リフトピンプレート２０が下方位置にあるときに５ｍｍ以下となっている（図１（ａ）および図２参照）。このため、ウエハＷの下面を伝って流れる薬液やリンス液によって、リフトピン２１の先端を洗浄することができる。
【００５０】
この結果、上述の支持工程８２や後述する搬出工程９６のように、リフトピン２１の先端がウエハＷの裏面に当接するときに、リフトピン２１の先端に付着した汚れがウエハＷの裏面に移ることを防止することができる。
【００５１】
上述のようにリンス工程９２が終了すると、乾燥工程９３が行われる。
【００５２】
すなわち、表面側洗浄液供給部６５からＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などからなる乾燥液が供給され、裏面側洗浄液供給部３０からＮ２などからなる乾燥気体が供給される。そして、このときにもやはり、外方回転駆動部４０から加えられる駆動力によって、リフトピンプレート２０が回転されている。
【００５３】
このため、リフトピンプレート２０およびリフトピン２１に残っている洗浄液（特にリンス液）は、リフトピンプレート２０が回転されていることで生じる遠心力によって、リフトピンプレート２０の周縁外方に移動させられる。このため、リフトピンプレート２０およびリフトピン２１に洗浄液（特にリンス液）が残ることを確実に防止することができる。
【００５４】
このような乾燥工程９３が終了すると、リフトピンプレート２０のリフトピン２１によってウエハＷが持ち上げられ、ウエハ搬送ロボットに移動させられる（搬出工程９６）（図１（ｂ）および図３参照）。ここで、上述のように、薬液供給工程９１、リンス工程９２および乾燥工程９３の間、リフトピンプレート２０が回転されているので、リフトピンプレート２０およびリフトピン２１には洗浄液が残っていない。
【００５５】
このため、リフトピンプレート２０のリフトピン２１によってウエハＷを持ち上げる際に、ウエハＷの裏面にリフトピンプレート２０に溜まった洗浄液の液滴およびリフトピン２１に残った洗浄液の液滴が付着することはない。
【００５６】
この結果、液滴の付着したウエハＷ自体にウオーターマークが形成されることを防止することができ、かつ、ウエハＷが運び込まれたキャリア（図示せず）内に収容された他のウエハＷにウオーターマークが形成されてしまうことも防止することができる。
【００５７】
なお、本実施の形態によれば、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間に間隙Ｇが設けられているので、外方回転駆動部４０による外方回転軸２の回転速度と、内方回転駆動部１０による内方回転軸２２の回転速度とを異なる速度にすることができる。このため、リフトピンプレート２０上の洗浄液をより確実に取り除くために、リフトピンプレート２０の回転速度を保持プレート１の回転速度よりも高速にすることができる。つまり、ウエハＷ表面の洗浄を低速回転で行いたい場合であっても、保持プレート１だけを低速回転（例えば、１００ｒｐｍで回転）させ、他方、リフトピンプレート２０を高速回転（例えば、１０００ｒｐｍで回転）させることができる。このため、リフトピンプレート２０に洗浄液が溜まること、および、リフトピン２１に洗浄液が残ることをさらに確実に防止することができる。
【００５８】
ところで、上記では、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間に間隙Ｇが設けられた態様を用いて説明した。しかしながら、これに限られることなく、図４に示すように、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間に、間隙Ｇを設けずにＯリングなどからなるシール部材３５を設けてもよい。
【００５９】
なお、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間にこのようなシール部材３５を設ける場合には、外方回転駆動部４０による外方回転軸２の回転方向と内方回転駆動部１０による内方回転軸２２の回転方向とは同一方向である必要があり、かつ、外方回転駆動部４０による外方回転軸２の回転速度と内方回転駆動部１０による内方回転軸２２の回転速度とは同一になる必要がある。
【００６０】
このようにリフトピンプレート２０と保持プレート１との間にシール部材３５を設けることによって、上述した薬液供給工程９１、リンス工程９２および乾燥工程９３において、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間から、薬液、リンス液、乾燥液などが外方回転軸２の中空内に入り込むことを防止することができる。
【００６１】
また、上記では、リフトピンプレート２０のリフトピン２１が、保持プレート１の中心近傍に配置されている態様を用いて説明したが、これに限られることなく、図５に示すように、リフトピンプレート２０が保持プレート１の周縁近傍まで延びた円形形状からなり、リフトピンプレート２０のリフトピン２１が、保持プレート１の周縁近傍に配置されるようにしてもよい。
【００６２】
このようにリフトピン２１が保持プレート１の周縁近傍に配置されることによって、ウエハＷの裏面を洗浄した後の洗浄液を用いてリフトピン２１の先端を洗浄することができる。このため、リフトピン２１の先端がウエハＷの裏面に当接するときに、リフトピン２１の先端に付着した汚れがウエハＷの裏面に移ることをより確実に防止することができるだけではなく、ウエハＷの裏面の洗浄液の流れの乱れを少なく抑えつつ、リフトピン２１の先端を洗浄することもできる。
【００６３】
ところで、本実施の形態においては、上述した液処理方法の各工程に関する情報が記憶媒体５２に記憶されている（図１（ａ）（ｂ）参照）。そして、液処理装置７０は、記憶媒体５２を受け付けるコンピュータ５５と、当該コンピュータ５５からの信号を受けて液処理装置７０を制御する制御部５０とを備えている。このため、この記憶媒体５２をコンピュータ５５に挿入することで、制御部５０によって、上述した一連の液処理方法を当該液処理装置７０に実行させることができる（図１（ａ）（ｂ）参照）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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