(57)【要約】本発明は、デバイスが形成される半導体ウエハの表面側と接触しないウエハ収納容器を提供する。本発明のウエハ収納容器は、収納容器本体、蓋体、収納容器本体、シール、収納容器本体の内部に形成されウエハを整列し支持するウエハサポートを有し、ウエハサポートは、シェルフを支持する支持板部、複数のウエハを所定間隔で軸方向に整列し支持する複数のシェルフ、支持板取付部、当該シェルフの上面にウエハの裏面を支持して載置する載置突起、複数のウエハを径方向に規制する規制部を有し、シェルフ内側に１つまたは複数の穴が空いている構造となっている。シェルフは、ウエハ中心軸上方側に傾斜し、シェルフ補強リブが付いている。
2009107254.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの開口を有する収納容器本体と、前記開口を塞ぐ蓋体と、前記収納容器本体を前記蓋体で閉じたときに前記収納容器本体の内部を外部環境から気密に隔離するシールと、前記収納容器本体の内部に形成されウエハを整列して支持するウエハサポートとを有するウエハ収納容器において、
前記ウエハサポートは、
複数のウエハを所定の間隔で軸方向に整列して支持する複数のシェルフと、
前記シェルフを支持する支持板部と、
前記支持板部を前記収納容器本体の内部に取り付けるための支持板取付部と、
前記支持板部に形成された前記複数のウエハを径方向に規制する規制部と、
を有するとともに、
前記シェルフ内側に１つまたは複数の穴が空いていることを特徴とするウエハ収納容器。
【請求項２】
上記シェルフは、前記シェルフの上面（ウエハを載置するときに上になる側）に上記ウエハの裏面を支持して載置する１つまたは複数の載置突起を有していることを特徴とする、請求項１に記載のウエハ収納容器。
【請求項３】
上記載置突起の形状は半球状またはかまぼこ状であることを特徴とする、請求項２に記載のウエハ収納容器。
【請求項４】
上記載置突起は、ウエハ中心を中心として、上記収納容器本体のフェイシャル基準面から前記開口側および開口と対向する背面側（ボトム側）方向へそれぞれ角度０度〜δ度の範囲に配置されていて、δは３０〜７０の範囲の値であることを特徴とする、請求項２または３に記載のウエハ収納容器。
【請求項５】
上記載置突起は、ウエハ中心からウエハ直径の０．３〜０．５倍の距離の所に配置されていることを特徴とする、請求項２〜４のいずれかの項に記載のウエハ収納容器。
【請求項６】
上記シェルフは、上記支持板部との付け根部から先端に向かってウエハ中心軸側上方に傾斜して形成されていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかの項に記載のウエハ収納容器。
【請求項７】
上記傾斜したシェルフにおいて、前記シェルフと当該シェルフが支持するウエハ裏面とのなす角度は０．１〜３．５度であることを特徴とする、請求項６に記載のウエハ収納容器。
【請求項８】
上記シェルフにおける当該シェルフが支持するウエハに対向する側の面と上記支持板部との間にシェルフ補強リブが形成されていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかの項に記載のウエハ収納容器。
【請求項９】
上記シェルフ補強リブは、上記支持板部とのシェルフ付け根からシェルフ中途まで付設され、上記シェルフ補強リブのウエハ軸方向の寸法は、付け根部で大きく、シェルフ中途になるに従い徐々に小さくなっていることを特徴とする、請求項８に記載のウエハ収納容器。
【請求項１０】
上記収納容器本体の開口に対向する背面内部にリアシェルフを有していることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかの項に記載のウエハ収納容器。
【請求項１１】
上記シェルフおよびリアシェルフは金属材料を高分子材料で被覆したもので構成されていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかの項に記載のウエハ収納容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体ウエハを搬送あるいは保管するために用いられるウエハ収納容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハのサイズは、現在最大４５０ｍｍウエハの規格が検討されはじめており、益々大口径化しつつあるが、半導体ウエハの厚みはそれほど厚くなっていないため半導体デバイスの作製プロセス中における半導体ウエハの取り扱い、特に半導体ウエハを保管するウエハ収納容器内においては細心の配慮が必要である。また、半導体デバイスの最小パターンも５０ｎｍ以下となってきている。このように微細化が進んで100ｎｍ以下のデザインルールのデバイスを搭載した半導体ウエハにおいては、プロセス中に発生したパーティクルの存在はウエハ上のパターンに致命的な欠陥を引き起こす。従って、半導体ウエハが保持される雰囲気内における非常に微小でわずかなパーティクルも完全に防止する必要がある。特にウエハ収納容器内においては、半導体ウエハとウエハ収納容器内の接触を極力少なくし、その接触により発生するパーティクルをなくす必要がある。従来提案されまたは用いられているウエハ収納容器においては、半導体ウエハの周縁部をＶ溝またはＵ溝で押さえるというものが用いられている。（特許文献１）あるいは、半導体ウエハのエッジ側面部と半導体ウエハ裏面周縁部を押さえるというものが提案されている。（特許文献２）
【特許文献１】特開２００２−３５３３０１
【特許文献２】実登−３０２０２８７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
特許文献１に示されているように、ウエハ収納容器のウエハ支持部がＶ溝になっている場合は、Ｖ溝でウエハ周辺を押さえ、しかもウエハ支持部はデバイスが形成される半導体ウエハの表面のウエハ周縁部と接触する。この結果、ウエハ周縁部における半導体ウエハの表面に形成される薄膜（酸化膜、窒化膜、あるいは金属膜など）がわずかにはがれたりして舞い上がり、パーティクルとしてウエハ周縁部より内側に存在するデバイスが形成された（または、形成される）表面に付着したりする。或いは、ウエハ周縁部と接触したウエハ支持部（材質は高分子材料）のわずかなはがれなどによっても前記問題を発生させる。さらに、ウエハ表面側はウエハ周縁部だけで支持することは当然であるが、ウエハ裏面もウエハ周縁部のみで支持しているため、（特にウエハが大口径化してきた場合には、）ウエハの自重でウエハがたわんだりして、ウエハの安定度が悪くなる。特にウエハを収納容器から出し入れするときにウエハが傾いたりしてウエハを破損する可能性が大きい。また、収納容器に保管されたウエハが繰り返しのウエハたわみ振動によりウエハが破壊するおそれもある。さらには、ウエハ同士がウエハ収納容器内で接触してデバイスを損傷したり、接触によるパーティクル等が発生したりする可能性もある。【０００４】
特許文献２に示されている半導体ウエハの支持方法においては、半導体裏面周縁部が収納容器と接触しているため、この接触により発生したパーティクル等が、半導体表面に回りこんで半導体表面に付着する。或いは、それらが、下に載置された別の半導体ウエハの表面に付着する。この結果、パターン欠陥が発生し半導体デバイスの歩留まりや特性を劣化させる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、搬送中の衝撃等による半導体ウエハの破損を防止することができるだけでな
く、半導体ウエハを取り出す際には半導体ウエハを破損することなく安全かつ容易に取り出すことができるウエハ収納容器を提供することを目的とする。また、ウエハ収納容器内で発生するパーティクル等を最小限にすることが可能なウエハ収納容器を提供することを目的とする。【０００６】
上記の目的を達成するため、本発明のウエハ収納容器は、少なくとも１つの開口を有する収納容器本体と、前記開口を塞ぐ蓋体と、前記収納容器本体を前記蓋体で閉じたときに前記収納容器本体の内部を外部環境から気密に隔離するシールと、前記収納容器本体の内部に形成されウエハを整列して支持するウエハサポートとを有していて、ウエハサポートは、複数のウエハを所定の間隔で軸方向に整列して支持する複数のシェルフと、前記シェルフを支持する支持板部と、前記支持板部を前記収納容器本体の内部に取り付けるための支持板取付部と、前記支持板部に形成された前記複数のウエハを径方向に規制する規制部とを有し、さらにシェルフ内側に１つまたは複数の穴が空いていることを特徴とする。また、シェルフは、シェルフの上面（ウエハを載置するときに上になる側で、ウエハ裏面と接触する側）に形成され上記ウエハの裏面を支持して載置する１つまたは複数の載置突起を有している。【０００７】
また、上記規制部は半導体ウエハの側端頂部だけ、または半導体ウエハの側端頂部と半導体ウエハのベベル部とだけで半導体ウエハと接触している。さらに、規制部はシェルフとの境界が傾斜して形成（半導体ウエハ裏面のベベル下部と接触する部分が傾斜して形成）されていることを特徴としている。ウエハサポートはウエハ収納容器内でバイラテラル基準面を対称面とした対向する一対の鏡像体構造で形成されている。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のウエハサポートを用いることにより、ウエハ裏面のウエハ周縁部分に接触させずに、ウエハ裏面のウエハ周縁部分より内側の微小部分で半導体ウエハを支持できる。従って、半導体ウエハ裏面側から半導体ウエハ表面側に回りこむパーティクル等を非常に少なくすることができる。さらに、ウエハ裏面においてその周縁部よりさらに内側を載置突起で支えていることにより、ウエハのたわみ量を最小限におさえることができる。特に大口径ウエハの場合にはウエハのたわみ量が大きくなるので、本発明のウエハサポートの効果は大きい。しかもたわみ量を小さくできるということは、ウエハ収納容器に積層するウエハピッチを小さくすることにつながり、その結果、ウエハ収納容器に保管できるウエハの数量を増やすことも可能となる。さらにまた、半導体ウエハを出し入れするときに、半導体ウエハは複数の載置突起の上に載置される（されている）ので、半導体ウエハを水平に安定して設置することが可能となる。この結果、半導体ウエハを破損することもない。【０００９】
さらに、規制部の構造をウエハ側端頂部のみまたはウエハ側端頂部とウエハのべベル部とのみでウエハと接触するように構成することにより、半導体デバイスが形成された半導体ウエハの表面には、半導体ウエハの周縁部を含めて一切接触せずに、半導体ウエハを半導体ウエハ収納容器に収納し保管できる。半導体ウエハの裏面は、収納容器本体の内部に形成されウエハを整列して支持するウエハサポートにおいて、取り付け部に連なり複数のウエハを所定の間隔で軸方向に整列して支持する複数のシェルフ上に形成された複数の載置突起に載り、半導体ウエハのウエハ側端頂部またはウエハ側端頂部およびベベル部が規制部に押さえられ、半導体ウエハが固定される。規制部から半導体ウエハを押さえる力は半導体ウエハの周辺から中心へ向かう方向、すなわち半導体ウエハの平面と平行方向へ強く作用しているので、半導体ウエハが破損することはなく、しかも半導体ウエハの固定も確実に行われる。【００１０】
シェルフは収納容器の中心に向かい張り出していて中心側からは固定されていない状態になっているが、シェルフの内側（内部）に１つまたは複数の穴を有して（穴空き状態の
環状構造になって）いることと、少なくとも両側のアーム（レバー）で支持されていることにより、シェルフ自体の重さを軽減できると同時に支持強度の減少を抑えることができるために、シェルフ自体が自重でたわむことを最小に抑えることができている。尚、このシェルフは、ウエハ収納容器を縦置き（開口を上にする）にするときに、半導体ウエハをまっすぐに立てるためのガイド的役割も果たす。【００１１】
半導体ウエハはシェルフとシェルフの間に入るが、半導体ウエハの側端頂部だけ、または半導体ウエハの側端頂部および半導体ウエハの裏面側（特にベベル下部）だけが規制部と接触するようになっていて、半導体ウエハの表面における半導体ウエハ周縁部の内側は接触しないので、接触すれば発生する可能性のあるパーティクルなどは発生しない。その結果、半導体ウエハ表面のデバイス上（あるいは、将来形成される領域）に欠陥を生じることはない。従って、半導体ウエハの周縁部やベベル上部において、熱酸化、ＣＶＤ（化学的気相成長）法、ＰＶＤ（物理的気相成長）法等による絶縁膜、導電体膜や半導体膜の成長を完全に防止することは困難なので、従来はウエハ周縁部に付着したこれらの薄膜を除去する工程を付加する必要があったが、本発明のウエハ収納容器を用いる場合には、このような薄膜除去工程を入れることは必ずしも必要はない。さらに、フォトレジストを半導体表面に塗布する場合にも半導体ウエハの表面側におけるウエハ周縁部のフォトレジストを除去する工程（いわゆるエッジリンス）も省略することができる。【００１２】
さらに、半導体ウエハを可能な限り薄くしたいという要求或いは厚みが余り厚くはない大口径化したウエハに対して、裏面を支持するシェルフがない場合は、半導体ウエハの側端頂部だけ、または半導体ウエハの側端頂部と半導体ウエハの裏面側（特にベベル下部）だけが規制部と接触した状態で半導体ウエハを固定することが非常に困難となるが、本発明のウエハ収納容器では、半導体ウエハ裏面もシェルフによって支持されているので、半導体ウエハを固定することが可能となる。【００１３】
さらに、半導体ウエハの裏面周縁部にもウエハ収納容器の一部でも接触させたくないという要求がある。この理由は、半導体ウエハ裏面における半導体ウエハとウエハ収納容器（たとえば、支持部）の接触部で生じるパーティクルなどが裏面から回り込んで、半導体ウエハ表面へ付着することを極力防止したいためである。従来半導体ウエハ裏面を支持する場合は、半導体ウエハ裏面の周縁部を支持していたために、上記の問題点を克服することができなかった。本発明のウエハ収納容器のシェルフは、シェルフの内側に１つまたは複数の穴を有しているため（または、穴空き状態の環状構造であるため）、シェルフの重さを少なくすることができウエハ収納容器の中心部側に伸ばすことが可能となる。たとえば、シェルフの内側が穴空き状態になっているため、シェルフと支持板部との付け根にかかる加重を分散させて小さくすることができ、付け根から離れた所までシェルフの先端部を伸ばすことができる。この結果、ウエハ周縁部からある程度離間した場所にある載置突起にウエハを載せることにより、ウエハ周縁部に接触させずにウエハを固定できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の実施形態に係るウエハ収納容器本体の内部を断面状態で示す斜視図である。
【図２】図２は、本発明の実施形態に係るウエハ収納容器を示す斜視図である。
【図３】図３は、本発明の実施形態に係るウエハサポートを示す斜視図である。
【図４】図４は、本発明の実施形態に係るウエハサポートと半導体ウエハがセットされたウエハ収納容器の片側半分を示す平面図である。
【図５】図５は、本発明の別の実施形態に係るウエハサポートと半導体ウエハがセットされたウエハ収納容器の片側半分を示す平面図である。
【図６】図６は、本発明の別の実施形態に係るウエハサポートと半導体ウエハがセットされたウエハ収納容器の片側半分を示す平面図である。
【図７】図７は、本発明の別の実施形態に係るウエハサポートと半導体ウエハがセットされたウエハ収納容器の片側半分を示す平面図である。
【図８】図８は、本発明の別の実施形態に係るウエハサポートと半導体ウエハがセットされたウエハ収納容器の片側半分を示す平面図である。
【図９】図９は、本発明のウエハサポートにおける規制部およびシェルフを示す図である。
【図１０】図１０は、ウエハ押さえ部材を示す斜視図である。
【図１１】図１１は、ウエハ押さえ部材を示す平面図である。
【図１２】図１２は、半導体ウエハのエッジ周辺部の拡大平面図である。
【図１３】図１３は、本発明の実施形態に係る別のウエハサポートを示す斜視図である。
【図１４】図１４は、傾斜したシェルフを有するウエハ収納容器を示す図である。
【図１５】図１５は、本発明の他の形状をしたシェルフを示す図である。
【図１６】図１６は、シェルフ補強リブを備えたシェルフを有するウエハ収納容器を示す図である。
【図１７】図１７は、シェルフ補強リブを備えたシェルフを有するウエハ収納容器を示す図である。
【図１８】図１８は、リアシェルフを有するウエハ収納容器を示す図である。
【図１９】図１９は、傾斜したシェルフの状態を説明する図である。
【図２０】図２０は、シェルフ補強リブを備えたシェルフの状態を示す斜視図である。
【図２１】図２１は、ウエハサポートのインサート成形の状態を説明する図である。
【図２２】図２２は、ウエハサポートの別の実施形態を示す図である。
【符号の説明】
【００１５】
１  ウエハ収納容器、２  ウエハ収納容器本体、３  ウエハサポート、４  蓋体、
５  トップフランジ、６  持ち運び用ハンドル、５０  シェルフ、
５１  （ウエハサポート）支持板部、５２  載置突起、５４  取っ手、５５  上部嵌合部、
５６  下部嵌合部、５８  上部被嵌合片、６２  支持板片、６３  板材、
６５  位置決め手段、６６  位置決め手段、６７  前後方向位置決め手段、
６９  下部板部、７１  切り欠き、７３  前後方向支持板片、７５  ストッパー、
７６  係止片、７６Ａ  弾性板片、７６Ｂ  係止用爪、３１１  収納容器本体、
３１２  （ウエハサポート）支持板部、３１３  シェルフ、３１４  規制部、
３１９  載置突起、３３１  収納容器本体、３３２  （ウエハサポート）支持板部、
３３３  （ウエハサポート）支持板部、３３４  シェルフ、３３５  シェルフ、
３３６  載置突起、３３７  載置突起、３３８  ウエハサポート前方取付部、
３３９  収納容器本体、３４０  ウエハサポート後方取付部、３４１  収納容器本体、
３４２  （ウエハサポート）支持板部、３４３  シェルフ、３４４  規制部、
３４５  上部取付部、３４６  中央取付部、３４７  下部取付部、３４９  載置突起、
３６１  （ウエハサポート）支持板部、３６４  （ウエハサポート）支持板部、
３７１  シェルフ補強リブ、３７２  シェルフ補強リブ、３７３  シェルフ補強リブ、
３７４  シェルフ補強リブ、３８１  （ウエハサポート）支持板部、
３８４  （ウエハサポート）支持板部、
３９１（３９１−１、３９１−２）  シェルフ補強リブ、
３９２（３９２−１、３９２−２）  シェルフ補強リブ、
３９３（３９３−１、３９３−２）  シェルフ補強リブ、
３９４（３９４−１、３９４−２）  シェルフ補強リブ、
３９５  リア（ウエハサポート）支持板部、３９６  リアシェルフ、３９７  載置突起、３９８  リアウエハサポート取付部、
３９９（３９９−１、３９９−２）  シェルフ補強リブ、
５１１  （ウエハサポート）支持板部、５１２  規制部、５１３  シェルフ、
５１４  載置突起、５１５  シェルフ補強リブ、５２１  （ウエハサポート）支持板部、５２２  シェルフ、５２３  載置突起、５２４  シェルフ補強リブ、５２５  規制部、
６０１  収納容器本体、６０２  （ウエハサポート）支持板部、６０３  シェルフ、
６０４  載置突起、６１０  ウエハサポート、６１１  支持板部、６１２  規制部、
６１３  シェルフ、６１４  載置突起、６１５  アーム部、６１６  帯状部分、
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明は、半導体デバイスが形成された半導体ウエハの表面側には、全く接触せずに、半導体ウエハの側端頂部だけまたは、半導体ウエハの側端頂部および半導体ウエハのベベル部だけに接触し、半導体裏面周縁部にも接触しない構造を有する、半導体ウエハを複数枚収納するウエハ収納容器を提供する。【００１７】
半導体ウエハのサイズは、現在最大４５０ｍｍ規格が検討されはじめており、益々大口径化しつつある。また、半導体デバイスの最小パターンも５０ｎｍ以下となってきている。このような超微小なパターンにおいては、半導体ウエハが保持される雰囲気内における非常に微小でわずかなパーティクルやアウトガスも完全に防止する必要がある。特に半導体ウエハが常時保管されるウエハ収納容器内においては、半導体ウエハとウエハ収納容器内の接触を極力少なくし、その接触により発生するパーティクルをなくす必要がある。【００１８】
図１２は、半導体ウエハのエッジ（端）周辺部を拡大して模式的に描写した図である。半導体ウエハ１０１の表面１０５側は、平坦領域Ｘおよびエッジ領域Ｙからなる。平坦領域Xには半導体デバイスが形成される。ただし、一般にはトランジスタ等の能動素子や抵抗等の受動素子を含む半導体デバイスはＸとＹの境界から一定距離Ｗより内側（１０７で示されるデバイス形成領域）に形成される。これは薄膜形成、エッチングプロセスやフォトリソ等のプロセス条件などからの制約の他に前述したパーティクル等による欠陥を防止することによる。通常Ｗは３〜７ｍｍであるが、近年プロセス技術の進歩や半導体装置の高性能化によってＷはさらに小さくなってきている。エッジ領域Ｙは傾斜部１０３とウエハエッジの最外部であるウエハ側端頂部１０２とからなる。一方、半導体ウエハ１０１の裏面１０６側は、やはり平坦領域Ｘ’およびエッジ領域Ｙ’からなる。エッジ領域Ｙ’は傾斜部１０４とウエハエッジの最外部であるウエハ側端頂部１０２とからなる。傾斜部はベベルと呼んでいるので、本出願においては、半導体表面側の傾斜部１０３をベベル上部、半導体裏面側の傾斜部１０４をベベル下部と呼ぶ。上述したように、近年の超微細プロセスにおいては、ウエハ収納容器内において、半導体ウエハ表面側、すなわち、Ｘ部またはベベル上部１０３にはいかなるものも接触してはならないことが求められている。【００１９】
半導体ウエハを収納容器に支持固定するためには、どこかで半導体ウエハとウエハ収納容器は接触しなければならないが、ウエハエッジＹの最外部である側端頂部１０２においては最低限接触させざるを得ない。さらに側端頂部１０２につながる半導体裏面側のベベル下部１０４においてもある程度接触させざるを得ない。（ベベル上部１０３には接触できない場合は、ベベル下部１０４への接触となる。）半導体ウエハが小径で厚みがかなり厚いもので強度が充分あれば、側端頂部およびベベル下部のみの接触により、半導体ウエハをエッジ側より強く押さえつければ、ウエハ収納容器に支持固定できるが、半導体ウエハが大口径になっても半導体ウエハの厚みがそれほど厚くはなっていない現在の状況（および将来もこの傾向は続くと思われる）や、半導体ウエハを研磨して薄くした後はさらに半導体ウエハの強度が小さくなる状況において、半導体ウエハの側端頂部１０２およびベベル下部１０４のみとウエハ収納容器の接触によってだけでは、収納容器内における半導体ウエハの支持固定は充分ではなく、ウエハをウエハ収納容器へ出し入れするとき、ウエハの搬送中および収納容器の移送中において半導体ウエハが破損してしまう可能性がある。そこで、半導体ウエハの裏面１０６側への接触を許容せざるを得ないが、前述したように半導体ウエハの裏面周縁部とウエハ収納容器の接触部において発生したパーティクル等が半導体ウエハの表面側に回りこむ現象が発生する。そこで、半導体ウエハ裏面周縁部Ｚ（たとえば、半導体ウエハの側端頂部１０２およびベベル下部１０４を除くウエハ側端頂部から２〜１０ｍｍ）にはウエハ収納容器のいかなる部分も接触しないようにしなければならなくなってきている。（尚、エッジ領域Ｙのサイズは、ウエハ厚みが0.8〜1.0ｍｍの４５０ｍｍウエハの場合、約0.4〜1.0ｍｍである。）【００２０】
本発明のウエハ収納容器はこのような要求に的確に答えるために、少なくとも１つの開口を有する収納容器本体と、前記開口を塞ぐ蓋体と、前記収納容器本体を前記蓋体で閉じたときに前記収納容器本体の内部を外部環境から気密に隔離するシールと、前記収納容器本体の内部に形成されウエハを整列して支持するウエハサポートとを有するウエハ収納容器において、前記ウエハサポートは、複数のウエハを所定の間隔で軸方向に整列して支持する複数のシェルフと、前記シェルフを支持する支持板部と、前記支持板部を前記収納容器本体の内部に取り付けるための支持板取付部と、前記支持板部に形成された前記複数のウエハを径方向に規制する規制部とを有し、さらにシェルフ内側に１つまたは複数の穴が空いていることを特徴とする。本出願において記載する「シェルフ内側に穴が空いた構造」、或いは「穴空き状態の環状構造」には、シェルフ内側の穴がシェルフおよび支持板に完全に囲まれた構造、たとえばシェルフおよび支持板部が環状または枠状になっていて完全に周囲がつながっている構造だけではなく、シェルフ内側の穴がシェルフおよび支持板に不完全に囲まれた構造、たとえば、環状または枠状の一部が切れている構造、たとえば、環状または枠状を構成している支持板部の一部または全部がない構造も含まれる。前者の例として、後述するＢ字型やＤ字型のシェルフ、或いは略二等辺三角形のシェルフが挙げられる。後者の例として、後述する図２２に示すようなＥ字形状、或いはＤ字形状やＢ字形状の縦棒がない形状のシェルフが挙げられる。また、シェルフは、シェルフの上面（ウエハを載置するときに上になる側で、ウエハ裏面と接触する側）に形成され上記ウエハの裏面を支持して載置する１つまたは複数の載置突起を有している【００２１】
本発明のウエハ収納容器の例を図１および図２に示す。図２は、容器本体２に蓋体４を合わせた状態のウエハ収納容器１の斜視図である。図１は、本発明を良く把握できるように図２に示すウエハ収納容器１を半分に割って内部が分かるように示した斜視図である。半導体ウエハＳを複数枚収納する容器本体２内の対抗する側壁にそれぞれ設けられ、内部に収納された半導体ウエハＳを片側（半導体ウエハＳの裏面）のみ支持するウエハサポート３と、容器本体２の開口２Ｆを塞ぐ蓋体４とから構成されている。また、搬送装置（図示せず）の腕部で把持されるトップフランジ５および作業者が手でウエハ支持容器１を持ち運ぶときに掴む持ち運び用ハンドル６を備えている。【００２２】
図１および図２において、容器本体２は全体をほぼ立方体状に形成されている。この容器本体２は縦置き状態（底板部２Ｅを下にした状態）で通常持ち運びされるが、半導体ウエハＳを出し入れする場合には、半導体ウエハの表面が上になるように横置きされる。また、この容器本体２は周囲の壁となる４枚の側壁部２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄと底板部２Ｅとから構成され、その上部に開口２Ｆが設けられている。各側壁部２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄには、補強用リブ９等が設けられている。この容器本体２は、半導体ウエハＳの製造ライン等においてウエハ搬送用ロボット（図示せず）に対向して据え付けられるときには、載置台上に正確に位置決めされて横置き（図２の状態）にされる。横置き状態で天井部となる側壁部２Ｂの外側にはトップフランジ５が着脱機構１２によって着脱自在に取り付けられている。横置き状態で横壁部となる側壁部２Ｃ，２Ｄの外側には持ち運び用ハンドル６が着脱機構１２によって着脱自在に取り付けられている。【００２３】
容器本体２の上端部には、図１に示すように、蓋体４が嵌合するための蓋体受け段部４７が設けられている。この蓋体受け段部４７は容器本体２の上端部を、蓋体４の寸法まで広げて形成されている。これにより、蓋体４は、蓋体受け段部４７の垂直板部４７Ａの内側に嵌合し、水平板部４７Ｂに当接することで、蓋体受け段部４７に取り付けられるようになっている。さらに、水平板部４７Ｂには、蓋体４の下側面に取り付けられるシール（図示せず）が当接してウエハ支持容器１の内部を密封するようになっている。蓋体受け段部４７の垂直板部４７Ａの内側には、半導体製造工程内で用いられる専用の蓋体（図示せず）を容器本体２側に固定するための嵌合穴４８が設けられている。この嵌合穴４８は、蓋体受け段部４７の四隅に設けられている。なお、嵌合穴４８の位置及び形状は、半導体製造工程内で用いられる専用の蓋体に応じて、適宜設定される。【００２４】
ウエハサポート３は、図１および図３に示すように、容器本体２内の対向する側壁部２Ｃ，２Ｄにそれぞれ設けられて内部に収納された半導体ウエハＳを両側から支持するための部材である。ウエハサポート３は、容器本体２内の内側に着脱自在に取り付けられていて、ウエハ収納容器内でバイラテラル基準面を対称面とした対向する一対の鏡像体構造で形成されている。（バイラテラル基準面とは、ＳＥＭＩ規格で定められたウエハ中心を通りウエハ収納容器の開口を左右に二分する基準面のことである。）ウエハサポート３は主に、並列に一定間隔をおいて多数枚配設されて各半導体ウエハＳを１枚ずつ隔てて支持するシェルフ５０と、各シェルフ５０が並列に一定間隔をおいて配設された状態でこれらを一体的に支持する（ウエハサポート）支持板部５１とから構成されている。また、支持板部５１は半導体ウエハＳをウエハの径方向に規制する規制部２０１（図４〜図９に示す）を有している。【００２５】
図３に示すように、シェルフ５０は、内側に１つの大きな穴を有している。すなわち、内側が穴空き状態の環状構造で少なくとも２か所（MおよびN）で支持板部５１に支持されたブリッジ型になっている。これをD字型のシェルフと呼ぶこともできる。シェルフ５０は支持板部５１に支持され、支持板部５１から伸びた２つのアーム部３４およびそれらのアーム部を結ぶ帯状部分３３からなり、これらに囲まれた部分３６は内側が穴空き状態の環状構造となっている。すなわち、支持板部５１、２つのアーム部３４、および帯状部分３３によって取り囲まれていて、シェルフ内側が穴空き状態の環状構造（以下、「環状」または「環状構造」と称する。）を形成している。図３においては支持板部５１を一体物（１枚の湾曲した板状物）として示しているが、図１３に示すように、支持板部を分割して、シェルフ５０を支える支持板３５とその支持板３５を支える（縦方向の）支持板３７（図３においては２枚）からなるものとすることも可能である。このような分割した支持板は、支持板の重量を少なくすることができるという利点がある。また、２枚の支持板３７の幅調整が可能であるから２枚の支持板３７の間に充分な空間を作ることができるので、外側から、（ウエハ収納容器が透明である場合は、ウエハ収納容器の外側から）ウエハのセット状況を観察可能であるという利点がある。図１３においては、支持板３７は支持板３５の上で支えているが、支持板３５同士の間に挟んでも良いし、それらを一体物として成形しても良い。【００２６】
シェルフ５０には所定位置に半導体ウエハの裏面を支持して載置する載置突起５２が設けられている。図４〜図８は、種々の形状を有する本発明のシェルフ５０と支持板部５１および半導体ウエハの状態を説明するための図である。容器本体２内の対向する側壁部２Ｃまたは２Ｄにウエハサポート３がセットされた状態をウエハサポート３の横側から見ている。ウエハサポート３はウエハ収納容器内でバイラテラル基準面を対称面とした対向する一対の鏡像体構造で形成されているので、図４〜図８においては、その片側だけを示している。（バイラテラル基準面は図中のウエハ中心を通る縦方向の中心線（一点鎖線で示す）と一致する。図４において記号Ｈで示す。）図４は、半円弧状の環状シェルフの例を示す図である。（図４におけるシェルフも内側に１つの大きな穴を有していて、D字型シェルフの１種と考えることもできる。）ウエハサポート３の支持板部５１にシェルフ５０が付いていて、シェルフ５０は支持板部５１の２か所（図のＭとＮ）で支持されている。シェルフ５０は、ＭおよびＮから円弧状に帯状の形状になっていて、シェルフ５０の内側(内部)３６は環状構造になっている。シェルフ５０は環状構造になっているため、シェルフ５０の重さを軽くでき、シェルフ５０の自重による撓みを小さくできる。【００２７】
また、シェルフ５０はＭおよびＮの２か所で支持板部５１によって支持されているので、より強固にシェルフ５０が支えられている。従って、シェルフ５０を半導体ウエハの径方向へ張り出すことができるため、半導体ウエハ裏面を支持する位置を調整できる自由度も増大する。シェルフ５０には半導体ウエハが載置されるので、シェルフ５０が歪まない状態を作るには、MおよびNにおける支持板部による支持強度を大きくすることやシェルフ自体の強度を大きくすることなどの外に、シェルフ自体の重量を小さくすることも効果的であるから、環状構造とすること以外に、支持部M、Nから離れるに従いシェルフ５０を薄く細くしていくことも有効である。また、環状構造にすることによって、ウエハ中心の方にシェルフを伸ばすことができ、より広い領域のウエハ裏面を支持することが可能で、ウエハ裏面の指示位置（すなわち、載置突起５２の位置）の自由度を増大させることができる。【００２８】
シェルフ５０には３か所（（図のＰ、Ｑ、Ｒ）に載置突起５２が設置されていて、半導体ウエハの裏面の所定部分と接触して半導体ウエハを裏面側から支持している。半導体ウエハは、ウエハサポート３の（支持板部５１に備わっている）規制部２０１において、半導体ウエハの周縁部がウエハサポート３に接触して、径方向に規制されている。すなわち、半導体ウエハをウエハ収納容器に出し入れするときは、半導体ウエハの裏面が下になるような向きにウエハ収納容器１を配置する（シェルフ５０の載置突起５２が上を向くようにする）。蓋体４をあけて、ウエハをウエハ収納容器本体２に（たとえばウエハ裏面をホークへ載せて）挿入し、シェルフ５０の載置突起５２の上に置く。シェルフ５０はウエハ収納容器本体２内では１対存在（すなわち、２か所）する（載置突起５２もシェルフ５０に複数存在する）ので、半導体ウエハを載置突起５２の上に置いた後で、ホークを外しても半導体ウエハが移動することはない。（半導体ウエハが水平になるように載置突起５２の高さをそろえて置く必要があることは当然である。）所望の枚数の半導体ウエハをウエハ収納容器に入れた後で、蓋体４を閉じる。蓋体４にもウエハ周縁部と接触し、ウエハを径方向に規制する規制部を備えているウエハ押さえ部材９４（図１０に示す）が取り付けられている。これによって、半導体ウエハは、ウエハ収納容器本体に設置された１対のウエハサポート３の規制部２０１および蓋体４に取り付けられたウエハ押さえ部材９４から半導体ウエハの径方向への力によって押さえられ固定される。【００２９】
ここで、本発明のウエハサポート３の規制部２０１を図９に基づいて説明する。図９は半導体ウエハがウエハサポートに設置されている状態をウエハの厚み方向から見た図である。Ｓは半導体ウエハ、５０はシェルフ、５２は載置突起、２０１は規制部である。規制部２０１はウエハエッジ部がウエハサポート３の支持板部５１に接触する領域であり、ウエハを径方向に規制している。図においては、規制部とシェルフは同位置にあるように示されているが、ウエハエッジが規制部で接触する位置はシェルフの位置とは異なる位置になる時もある。また、図４〜図７からも分かるように、規制部２０１は必ずしもシェルフ５０と連続しているわけでもない。（連続している場合もある。すなわち、L、M、N部に規制部を設けることもできる。）規制部２０１は半導体ウエハを固定するのに最適な位置に設置することが望ましい。半導体ウエハと接触する部分を極力少なくしたい場合には、ウエハと接触する部分をできるだけ少なくすれば良い。しかし、接触によりパーティクル等の発生が非常に少ない場合や、接触によるパーティクル等の発生が問題にならない場合は、規制部２０１でウエハと接触する領域を増やした方がウエハをより強く固定できる。【００３０】
図９（ａ）は規制部２０１がＶ溝（またはＵ溝）を有している場合を示す。半導体ウエハＳのエッジが規制部２０１のＶ溝２０２に挟まれ、かつ半導体ウエハＳの裏面がシェルフ５０の載置突起５２に支持されて固定される。このようなＶ溝やＵ溝を規制部２０１に用いた場合には、半導体ウエハエッジ部Ｙのベベル上部１０３も規制部２０１に接触しているので、接触部から生じるパーティクル等が半導体ウエハ表面のデバイス領域に付着しやすいという問題点がある。【００３１】
図９（ｂ）は規制部２０１が略直角の壁状になった側壁を有する規制部２０１を示す図である。半導体ウエハＳのエッジの先端、すなわち半導体ウエハＳの側端頂部１０２が規制部２０１の側壁２０３に接触しているのみで、半導体ウエハＳのベベル上部１０３にもベベル下部１０４にも接触していない。半導体ウエハＳの裏面は載置突起５２に支持されている。この場合には、半導体ウエハエッジ部のベベル上部は規制部２０１に接触していないので、図９（ａ）におけるような、接触部から生じるパーティクル等が半導体ウエハ表面のデバイス領域に付着しやすいという問題点は起こらない。
図９（ｃ）は規制部２０１の下部２０４（半導体ウエハＳの裏面側に接触する部分）が傾斜している場合を示す図である。半導体ウエハＳのエッジのうちベベル下部１０４がこの傾斜面２０４に接触する。また、載置突起５２の高さを調整することにより規制部２０１の傾斜面２０４が半導体ウエハＳのベベル下部１０４に接触しかつ半導体ウエハＳの側端頂部１０２が規制部２０１の垂直な側壁２０３に接触するようにできる。図９（ｂ）における場合よりも半導体ウエハＳと規制部２０１の接触面積が大きいので、ウエハ収納容器内における半導体ウエハの安定度が増大する。この場合にも、半導体ウエハエッジ部のベベル上部１０３は規制部２０１に接触していないので、図９（ａ）におけるような、接触部から生じるパーティクル等が半導体ウエハ表面のデバイス領域に付着するという問題点は起こらない。【００３２】
載置突起（５２（Ｐ）、５２（Ｑ）、５２（Ｒ））は、本発明においては、ウエハ中心を中心として、上記収納容器本体のフェイシャル基準面から前記開口側およびボトム側（開口側に対して奥側、すなわち、開口側を上にして収納容器を置いたときの収納容器の下側あるいは開口と対向する背面側）方向へ０度〜δ度（δは３０〜７０の範囲の値）に配置されていることを特徴とする。フェイシャル基準面とは、収納容器本体へ収納されるウエハを二等分し、収納容器の前面（ウエハの出し入れが行われる所で、すなわち開口面）に平行する垂直面である。図４において、フェイシャル基準面は、ウエハ中心を通る中心線Ｇを含み、紙面に対して垂直な面である。図４において、載置突起５２（Ｐ）は、ウエハ中心Ｏを中心として、フェイシャル基準面Ｇから開口側（図４において上側）方向へ角ｒ１を持ち、載置突起５２（Ｒ）は、ウエハ中心Ｏを中心として、フェイシャル基準面Ｇからボトム側（図４において下側）方向へ角ｒ２を持つ。ｒ１およびｒ２は０度〜δ度の範囲にあり、δは３０〜７０の値を有することによりウエハを安定に載置することができる。さらに、ｒ１とｒ２がほぼ等しい場合ウエハの安定性がより良い。また、上記の範囲を超える場合、特にｒ１が７０度を超える場合は、シェルフや載置突起が障害となり、エンドエフェクタが入らない場合もある。特に、載置するウエハ間のピッチを小さくすると、その障害が大きくなる。５２（Ｑ）は５２（Ｐ）と５２（Ｑ）の間にあるので、その角度はｒ１やｒ２より小さい。載置突起が１つである場合や載置突起が多数ある場合にも、その載置突起の位置は、０度〜δ度（δは３０〜７０の値）の範囲にあることが好適である。【００３３】
図４においては、載置突起の位置がフェイシャル基準面を境としてその上下および基準面近傍上にそれぞれ１個ずつある場合を示しているが、他のウエハサポートに付設したシェルフ上の載置突起との関係を考慮してウエハを安定してシェルフ上に載置できれば、載置突起がどちらか一方に偏って配置されても良い。載置突起が１つや２つの場合にも同様にフェイシャル基準面を境としてその上下或いは基準面近傍上に偏って配置されても良い。さらに４つ以上の載置突起の場合でも、載置突起は、フェイシャル基準面を境としてその上下或いは基準面近傍上に偏って配置されても良いし、或いは、それらの領域に分散して配置されても良い。尚、上述のように載置突起は０度〜δ度（δは３０〜７０の値）の範囲にあることが好適ではあるが、ウエハの出し入れに問題がない場合やウエハの安定性が問題ない場合にはこの角度からはずれた位置に載置突起を設けても良い。特にボトム側は、後述する図８にも示すように一方のウエハサポートのシェルフが他方のウエハサポートのシェルフと連結する場合には、その連結部分などに載置突起を設けることもできる。【００３４】
収納容器に収納されるウエハの中心からほぼ一定距離にあるウエハ裏面が接触可能領域（すなわち、載置突起の位置）と考えることができるが、ウエハの収納容器からの出し入れの容易さやウエハのたわみなどから検討すると、この距離はウエハ直径の０．３倍〜０．５倍となる。さらに、ウエハ収納容器１には上述したようなウエハを出し入れするためのホークやアームが入るので、ウエハ収納容器１の中心部からある範囲内にはシェルフ５０を配置できない場合がある。すなわち、ウエハのハンドリングゾーンを回避してシェルフ５０の配置や大きさを設計する必要がある。シェルフ５０内における載置突起５２には半導体ウエハが載るので、半導体ウエハが回転したり移動したりしないように、全体のバランスを計算してシェルフ５０内における載置突起５２の位置を計算する必要がある。たとえば、図４に示すように、ｒ１とｒ２はほぼ等しくし、その中間（すなわち、フェイシャル面近傍）に５２（Ｑ）が来るようにした３か所に載置突起５２を設置すると安定した状態になる。尚、載置突起５２は微小形状とすることにより半導体ウエハ裏面との接触面積を少なくして接触部から生じる影響を低くすることもできるし、あるいは、余り微小にすると単位面積あたりの加重が大きくなるので、摩耗度も加味して最適な形状を計算することもできる。また、載置突起５２の数も上述の３か所に限らず、もっと多くすることもできる。或いは、（ウエハサポートは１対になっているし、さらに後述するリアシェルフを取り付ける場合もあるので）ウエハが安定すれば載置突起５２が１つまたは２つでも良い。以上から、載置突起５２は上記角を０度〜δ度（δは３０〜７０の範囲の値）内に１か所以上に設けることが可能である。【００３５】
さらに、シェルフ５０は、半導体工業における規格を満足するためには、半導体ウエハの裏面位置において、ウエハ中心を中心として６０〜１４０度の見込み角ｒを有した位置に形成されていることが好適である（図７に示す）。ここで述べる見込み角とは、図７からも分かるように、ウエハ中心からシェルフを見た時に、ウエハの円周方向におけるシェルフの占める範囲に相当する中心角である。従って仮に、全円周を占めるシェルフの場合は見込み角が３６０度であり、円周の半分を占めるシェルフの場合は見込み角が１８０度となる。バイラテラル面からほぼ一定距離にあるウエハ裏面が接触可能領域と考えることができるが、ウエハの収納容器からの出し入れの容易さやウエハのたわみなどから検討すると、この距離はウエハ直径の０．３倍〜０．５倍となり、接触可能領域の見込み角ｒの最大が約１４０度となる。また、ウエハを安定して載置するには好適には見込み角ｒに関して６０度程度は必要である（シェルフがウエハサポートに対してシェルフが1個の場合）。【００３６】
さらに、ウエハ収納容器１には上述したようなウエハを出し入れするためのホークやアームが入るので、ウエハ収納容器１の中心部からある範囲内にはシェルフ５０を配置できない場合がある。すなわち、ウエハのハンドリングゾーンを回避してシェルフ５０の配置や大きさを設計する必要がある。シェルフ５０内における載置突起５２には半導体ウエハが載るので、半導体ウエハが回転したり移動したりしないように、全体のバランスを計算してシェルフ５０内における載置突起５２の位置を計算する必要がある。たとえば、上記見込角ｒに形成されたシェルフ５０の帯状部分３３に見込み角を略二等分した位置である３か所に載置突起５２を設置すると安定した状態になる。尚、載置突起５２は微小形状とすることにより半導体ウエハ裏面との接触面積を少なくして接触部から生じる影響を低くすることもできるし、あるいは、余り微小にすると単位面積あたりの加重が大きくなるので、摩耗度も加味して最適な形状を計算することもできる。また、載置突起５２の数も上述の３か所に限らず、もっと多くすることもできる。或いは、ウエハが安定すれば載置突起５２が１つまたは２つでも良い。以上から、載置突起５２は上記見込角ｒに形成されたシェルフ５０の帯状部分３３に見込み角を略二等分した位置を中心として１か所以上に設けることが可能である。【００３７】
半導体ウエハの裏面周縁部においてウエハ収納容器が接触することを禁止する場合にも本発明のシェルフ５０を用いることができる。すなわち、シェルフ５０のアーム部３４や帯状部３３（図４のシェルフは円弧状になっているので、アーム部と帯状部は一致している）の中で、ウエハ周縁部にあたる部分（通常は、アーム部３４の場所になる）に載置突起５２を設けないようにすることが容易に実現できる。【００３８】
図５は、別のシェルフ５０の例を示す図である。ウエハサポート３の支持板部５１にシェルフ５０が付いていて、シェルフ５０は支持板部５１の２か所（図のＭとＮ）で支持されている。シェルフ５０は、ＭおよびＮから伸びて中途で曲がり、半導体ウエハの円周方向に帯状に伸びてつながっている。シェルフ５０の内側はもちろん環状構造になっている。図５においては、載置突起５２が円周方向の帯状部分３３に３か所（Ｐ、Ｑ、Ｒ）設けられている。この状態も半導体ウエハのモーメント力のバランスが取れる（ウエハ載置の位置がウエハ中心からほぼ等位置にある）ので、半導体ウエハのすわりが良い。規制部２０１も示されている。尚、図５におけるシェルフもシェルフ内側の１つの大きな穴をアーム部および帯状部が囲んでいるという意味において、D字型シェルフと考えることもできる。【００３９】
図６は、別のシェルフ５０の例を示す図である。ウエハサポート３の支持板部５１にシェルフ５０が付いていて、シェルフ５０は支持板部５１の２か所（図のＭとＮ）で支持されている。シェルフ５０は、内側が環状構造になった長方形形状をした帯状になっている。図６においては、載置突起５２が長手方向の帯状部分３３に３か所（Ｐ、Ｑ、Ｒ）設けられている。載置突起５２は、１か所ではウエハを載せたときに安定しない場合には、このように２か所以上、すなわち複数設ける。（図５、図６の場合も同様）尚、図６のシェルフもD字型シェルフの１種である。【００４０】
図７は、シェルフ５０が支持板部５１の３か所（図のＬ、ＭとＮ）で支持されている場合で、形状が図４と同じく内側が環状構造になった円弧状のシェルフ５０を示す図である。支持部５１と真中でも支持されていて帯状部分３３が補強されている。図７においては、載置突起５２が円周方向の帯状部分３３に３か所（Ｐ、Ｑ、Ｒ）設けられている。図５および図６の形状のシェルフ５０についても同様に真中付近において支持板部５１で支持し、帯状部分３３を補強することができる。図７に示すシェルフは、内側に２つの穴を有していて、B字型シェルフと呼ぶことができる。【００４１】
本発明のシェルフは、図７に示すB字型シェルフのような内側に２つの穴を有するシェルフよりもさらに多くの穴を有することもできる。たとえば、網目状にアーム部や帯状部をフレームとして形成する。その網目状のフレーム部分の１つまたは複数個所に載置突起を設けて、その上にウエハを載置できるようにする。このような構造とすることにより、載置突起に載置されたウエハの重量を多数のフレームに分散させることができる。以上のように、本発明のシェルフは、その内側に１つまたは複数の穴を有することにより、シェルフの重量を少なくして、シェルフと支持板部との付け根に及ぼす力を少なくでき、ウエハをシェルフの載置突起に載せてもシェルフを余り撓ませないようにすることができる。【００４２】
図８は、シェルフ５０が容器本体２内の対向する側壁部２Ｃおよび２Ｄに1対に設けられた２つのウエハサポート３のシェルフがつながっている状態を示す図である。図８で示すウエハサポート３の形状は、図５に示したものと類似するが、シェルフ５０の帯状部分３３が円周方向（下方）に伸びて、他方のウエハサポート３におけるシェルフ５０の帯状部分とつながっている。このような連続したウエハサポート３も本発明においては使用可能である。【００４３】
これまで説明したようにシェルフ５０は複数のウエハを所定の間隔で軸方向（半導体ウエハの）に整列して支持する役割を果たしている。半導体ウエハの厚みは、ウエハサイズにも寄るが裏面研削前は、約0.4ｍｍ〜約1.2ｍｍである。（直径100ｍｍ〜600ｍｍウエハにおいて）また、シェルフの厚みは約0.2mm〜約2.0mmである。載置突起の高さ、シェルフとウエハとの隙間を考慮すると、収納容器におけるシェルフ間のピッチは約５ｍｍ〜２５ｍｍとなる。【００４４】
図３に示すように、ウエハサポート３の上部には、取っ手５４が２つ設けられている。この取っ手５４は、ウエハサポート３を持ち上げるときに掴む部分である。指または機械により２つの取っ手５４を摘んで持ち上げる。上記支持板部５１は、各シェルフおよび規制部を一体的に支持している。ウエハサポート３は、上部嵌合部５５と、下部嵌合部５６とで、容器本体２内の対向する各側壁部２Ｃ，２Ｄに着脱可能に固定されている。この上部嵌合部５５および下部嵌合部５６は、ウエハサポート３の取り付け部を構成する。【００４５】
図１はウエハサポート３がウエハ収納容器本体の側壁部２Ｄに取り付けた状態を示して
いる。ウエハサポート３をウエハ収納容器に固定する方法については、たとえば、特開２００４−２１４２６９に詳細に記載されている。収納容器本体２の開口２Ｆを塞ぐ蓋体４を収納容器本体に合わせて閉じたときに、収納容器本体側および／または蓋体側に設けたシールによって、収納容器本体２の内部は外部環境から気密に隔離される。【００４６】
図１０は、蓋体に合わせてウエハを押さえるウエハ押さえ部材を示す斜視図で、図１１は、その平面図である。ウエハ押さえ部材９４は図１０および図１１に示すように、ほぼ長方形状に形成されている。このウエハ押さえ部材９４の長手方向両端部と中央部が蓋体４の裏面に固定され、その間が押さえ部９５となっている。押さえ部９５は、半導体ウエハＳをその上部から弾性的に押さえて支持するための部材で、並列に多数配設された押さえ帯９６によって構成されている。押さえ帯９６は、弾性を有する部材で、下方へ湾曲させて形成されている。さらに、押さえ帯９６は、その平面形状（図１１の状態の形状）を半導体ウエハＳの周縁に沿って波形に湾曲させて形成され、半導体ウエハＳが押さえ帯９６の隙間に入り込まないようになっている。【００４７】
押さえ帯９６の側面形状は、下側に向いた山形に形成されている。この山形部分のうち２つの頂点位置には、半導体ウエハＳを１枚ずつ嵌合させて一定間隔を空けて支持する嵌合溝９７が設けられている。嵌合溝９７は、半導体ウエハＳの周縁を挟み込むように鋭角に形成されている。【００４８】
ウエハ押さえ部材９４は、収納容器本体にウエハをセットした後に、収納容器本体に合わせこんで、その後に蓋体４を収納容器本体２に合わせて閉じても良い。或いは、ウエハ押さえ部材９４を蓋体４にあらかじめセットして蓋体４を収納容器本体２に合わせたときに収納容器本体２にセットされたウエハに適合するようにしても良い。後者の方が自動化には向いている。ウエハ押さえ部材９４の嵌合溝９７に嵌合する半導体ウエハＳは、鋭角に形成された嵌合溝９７に挟み込まれて支持される。嵌合溝９７はこのように鋭角に形成することができるが、一般には、ウエハの取り出しと保持が適切に行われるように嵌合溝９７の角度が最適化されて作られている。言い換えれば、嵌合溝９７は必ずしも鋭角である必要はなく、鈍角あるいは略垂直面で支持できるようＵ字形状をしていても良い。これにより、ウエハ支持容器１に強い衝撃が加わった場合でも、嵌合溝９７が半導体ウエハＳの周縁を挟み込んで回転やズレを抑え、確実に支持することができる。また、押さえ帯９６を、半導体ウエハＳの周縁に沿って波形に形成しているので、半導体ウエハＳが嵌合溝９７から外れても、各押さえ帯９６の間に入り込むことがなくなる。【００４９】
嵌合溝９７は、図９（ａ）に示したような、Ｖ溝（またはＵ溝）に形成しても良い。このときは嵌合溝９７を鋭角にした場合と同様の効果がある。或いは、図９（ｂ）または図９（ｃ）に示したような、半導体ウエハの側端頂部のみ、または半導体ウエハの側端頂部とウエハのベベル下部とのみでウエハと接触するような構造にしても良い。このときは、ウエハを挟持する効果はないが、半導体ウエハの側端頂部から半導体ウエハの径方向に押す力によって、半導体ウエハがウエハサポート３の規制部（１対の）とウエハ押さえ部材９４によって固定される。【００５０】
ウエハ押さえ部材９４は、図９に示したものと同様のシェルフおよび載置突起を有して、半導体ウエハ裏面を支持しても良い。このようなシェルフ等を備えることにより、半導体ウエハをより安定して固定できるようになる。【００５１】
ウエハが３００ｍｍ以上になり大口径化するとウエハの厚みをそのままに保持すると撓み量が大きくなるので、撓み量を抑えるためにウエハ厚みを増大させる必要があり、ウエハの体積の増大に比例してウエハ重量も大きくなる。従って本発明のシェルフが水平な場合には、ウエハが大口径化すると、ウエハを載せたときにシェルフの強度によっては、そのシェルフが下に撓むようになる。この撓みが大きくなると、載置突起にてウエハ裏面を支持してきたものが、ウエハ周縁部がシェルフに接触するようになり、その接触によりパーティクルが発生する。これを防止することを目的として、本発明ではさらに、シェルフを（ウエハサポート）支持板部との付け根からシェルフの先端、すなわち載置されるウエハの径方向のウエハ中心に向かって、ウエハ中心軸側上方、すなわち載置されるウエハの裏面側から表面側方向に傾斜させる。そして、シェルフの最上部がそのシェルフに形成された載置突起の最上部になるようにする。【００５２】
図１４は、このような傾斜したシェルフを模式的に示した図で、ウエハ収納容器の蓋をはずして、ウエハを載置する方向、すなわちウエハ径方向から見た図（図１において側壁部２Ａを下にした状態）である。図の下がウエハ裏面側に、図の上がウエハ表面側となる。収納容器本体３１１の両側壁部（左右の側壁部、図１および図２における２Ｃ、２Ｄ）に（ウエハサポート）支持板部３１２が取り付けられている。図１４に示すように（ウエハサポート）支持板部３１２は、３か所の取り付け部（上部３１５、中央３１６、下部３１７）で収納容器本体３１１の側壁部（２Ｃ、２Ｄ）に対してほぼ垂直に取り付けられている。また、（ウエハサポート）支持板部３１２は収納容器本体３１１の両側壁部（２Ｃ、２Ｄ）に略対称的に取り付けられる。シェルフ３１３は（ウエハサポート）支持板部３１２に対して上方に傾斜して（ウエハサポート）支持板部３１２に取り付いている。ウエハの軸方向に配置されるシェルフ３１３の数はウエハ収納容器に収納されるウエハ数と同じで、傾斜角は一定（θ）でシェルフ３１３のピッチも一定である。傾斜角は、傾斜したシェルフの中心軸とウエハ裏面とのなす角と考えても良いし、傾斜したシェルフが支持するウエハ裏面とそのシェルフの当該ウエハ裏面に対向する側の面とのなす角度と考えても良い。シェルフ３１３の先端部には載置突起３１９が付いていて、この載置突起３１９の最上部がシェルフ３１３の中では最も高くなっている。図１４に示すように、ウエハＳの裏面がこのシェルフの上に載置されて、ウエハ収納容器に収納される。前述したように、ウエハＳ周縁部はウエハＳを径方向に規制する規制部３１４と接触するが、この接触状態も図９において説明したことと同様である。【００５３】
ウエハＳの裏面はシェルフ３１３の最も高い部分すなわち載置突起３１９と接触している。ウエハＳが周縁部だけで支持されてウエハＳの裏面が自由である（支持されていない）と、その重量のためウエハＳが撓むが、前述したようにウエハＳが大口径化するとその撓み量も大きくなる。本発明のシェルフの上にウエハＳを載置すれば、ウエハＳは裏面からも支持されているので、ウエハの撓みも抑制される。しかし、水平なシェルフであれば、ウエハＳの重さによりシェルフが下方に沈む可能性がある。特に厚さの薄いシェルフであったり、強度の小さい材料からなるシェルフであったりした場合には、下方への変型量が大きくなるため、ウエハＳ同士が接触したりシェルフがウエハ表面と接触したりするおそれがある。またこれらの接触を防止するためにシェルフのピッチを十分取る必要性から収納容器が大きくなったりする。さらに、シェルフの下方への変形によってウエハ裏面がシェルフの根元付近に接触する可能性もある。【００５４】
そこで、図１４に示すような上方に傾斜したシェルフ３１９を用いることにより下方への傾斜を抑えられるため、シェルフのピッチを小さくすることができウエハ収納容器を小型化できるし、或いはより多数のウエハをウエハ収納容器へ収納できるようになる。その上、ウエハＳの裏面が載置突起３１９以外のシェルフ３１３の部分に接触することがなくなるので、ウエハ裏面周縁部にウエハ表面から回り込んだ薄膜がはがれてパーティクルとなってウエハを汚染することもなく、ウエハ収納容器内を極めて清浄な状態に保つことができる。さらにシェルフを薄くしたり或いは幅を狭くしたりすることもできるのでシェルフを軽量化することも可能である。【００５５】
図１４においては、載置突起３１９は１つしか示されていないが、載置突起３１９の高さをそろえることができれば複数の載置突起３１９でも良い。複数の載置突起３１９の場合は、シェルフが傾斜しているので、それらの載置突起３１９の最上部における高さを合わせて、ウエハ裏面に等しく接触させる必要がある。ウエハ裏面がそれらの載置突起３１９の上に載るので、載置突起３１９の最上部の高さがばらつくと、ウエハが傾いたり、或いはウエハ裏面と接触しない載置突起３１９が存在したりするので、好ましくない。シェルフ３１９の高さが等しい複数の場所に載置突起３１９を設ける場合には、同じ大きさの（単体の載置突起の高さが等しい）載置突起３１９で良い。シェルフ３１９の高さが異なる複数の場所に載置突起３１９を設ける場合には、完成時の（またはウエハ収納容器へ取り付け時の）シェルフの最上部の高さが同じくなるように載置突起３１９の大きさ（単体の載置突起の高さ）を調整する必要がある。【００５６】
シェルフを傾斜させた場合にも、ウエハの中心軸上方すなわちウエハ面の上方から見た図は、たとえば、図４〜図８に示した図と同様である。シェルフの形状が、図４に示すような円弧状の場合には、円弧状のシェルフの中央付近がシェルフの中で最も高くなる。この部分だけに１個の載置突起（図４における５２（Ｑ））を設けるときは、この載置突起の高さだけを考慮すれば良いが、他の部分にも載置突起（図４における５２（Ｐ）や５２（Ｒ））を設けるときは、５２（Ｐ）や５２（Ｒ）の（単体の）載置突起の高さを高くして、５２（Ｑ）の高さと等しくする必要がある。【００５７】
図５におけるような形状の場合には、少し複雑になる。シェルフのアーム部３４が上方に傾斜していることは当然であるが、シェルフの帯状部分３３全体の高さを等しくもできるし、この帯状部分３３をさらに上方または下方に傾斜させることもできる。帯状部分３３を等しくする場合には、同じ高さの載置突起５２（Ｐ）や５２（Ｑ）や５２（Ｒ）を設ければ良い。傾斜させる場合には、単体の載置突起５２（Ｐ）や５２（Ｑ）や５２（Ｒ）の高さを調整して、すべてが同じ高さになるように調整する必要がある。【００５８】
図６におけるような形状の場合にも、少し複雑になる。シェルフのアーム部３４が上方に傾斜していることは当然であるが、シェルフの帯状部分３３全体の高さを等しくもできるし、この帯状部分３３をさらに上方または下方に傾斜させることもできる。帯状部分３３を等しくする場合には、同じ高さの載置突起５２（Ｐ）や５２（Ｑ）や５２（Ｒ）を設ければ良い。傾斜させる場合には、単体の載置突起５２（Ｐ）や５２（Ｑ）や５２（Ｒ）の高さを調整して、すべてが同じ高さになるように調整する必要がある。【００５９】
図７におけるような形状の場合には、図４に示す場合と類似している。円弧状部分３４や３３を上方に傾斜させるが、補強部分も上方に傾斜させる。円弧状のシェルフの中央付近がシェルフの中で最も高くなる。この部分だけに１個の載置突起（図７における５２（Ｑ））を設けるときは、この載置突起の高さだけを考慮すれば良いが、他の部分にも載置突起（図７における５２（Ｐ）や５２（Ｒ））を設けるときは、５２（Ｐ）や５２（Ｒ）の（単体の）載置突起の高さを高くして、５２（Ｑ）の高さと等しくする必要がある。【００６０】
図８におけるような形状の場合には、もう少し複雑になる。シェルフのアーム部３４が上方に傾斜していることは当然であるが、シェルフの帯状部分３３全体の高さを等しくもできるし、この帯状部分３３をさらに上方または下方に傾斜させることもできる。帯状部分３３を等しくする場合には、同じ高さの載置突起５２（Ｐ）や５２（Ｑ）や５２（Ｒ）を設ければ良い。傾斜させる場合には、単体の載置突起５２（Ｐ）や５２（Ｑ）や５２（Ｒ）の高さを調整して、すべてが同じ高さになるように調整する必要がある。さらに他の側にあるシェルフとつながっている部分は、高さを等しくもできるし、さらに上方または下方に傾斜させることもできる。この連結部分に載置突起を設ける場合には他の載置突起（（Ｐ）や５２（Ｑ）や５２（Ｒ））と高さをそろえる必要がある。【００６１】
図１５は、図４〜図８とは異なる他の形状を有するシェルフの例を示す図で、ウエハ収納容器本体３３１を通常設置する状態、すなわち、ウエハ収納容器本体３３１の底部（図１における２Ｅ）を下方にして、ウエハを出し入れする側（開口側）（図１における２Ｆ）を上方にして示した図で、ウエハ面が正面に見える方向の断面図である。（ウエハ面は示していない。）図１５に示すウエハサポートは、図４〜図８に示したものと同様に、容器本体３３１内の対向する側壁部２Ｃおよび２Ｄにそれぞれ対称的に取り付けられる。ウエハサポートに形成されたシェルフはやはり環状構造になっているが、片側の（ウエハサポート）支持板部３３２または３３３に対して複数のシェルフが隣接して形成されている。これによりシェルフの軽量化と強度向上をはかることができる。【００６２】
図１５に示すシェルフは、底辺が収納容器本体側（側壁部２Ｃ側または２Ｄ側）に位置した略二等辺三角形の形状（あるいは、底辺側がウエハ外周に沿った略円弧であり、二つのサブシェルフ（これまで述べた収納容器に収納されるウエハの軸方向に配置されるシェルフと区別する意味で、このシェルフを「サブシェルフ」と称する。）ウエハが等辺で先端部で交わっている形状）をした環状構造となっていて、同程度の大きさで同程度の形状をした略二等辺三角形のサブシェルフ３３４が２つ（第１サブシェルフ３３４−１、第２サブシェルフ３３４−２）一方のウエハサポートに形成されている。また、対向する側壁部に取り付けられるウエハサポートにもほぼ対称的に同様のサブシェルフ３３５が２つ（３３５−１、３３５−２）形成されている。１組のサブシェルフにおける２つの等辺サブシェルフが交わる先端部（頂点（部）とも呼ぶ）の方向はほぼウエハ中心を向いている。このようなカンチレバータイプのサブシェルフの場合、二等辺三角形形状は、同一材料および同一重さで比較したときに、最も強度的に強い形状の一つであるから、本発明のウエハサポートには最適形状である。しかも複数の同様な二等辺三角形形状を有しているので、大口径ウエハを支持しても撓みが小さく捩れも最小になる。図１５においてはウエハサポートが２つあるので、ウエハは４つの二等辺三角形形状のサブシェルフによって支持される。一般的には１つの略二等辺三角形の先端部が交わる角度（頂角）と等辺長および（ウエハサポート）支持板部サイズによって、サブシェルフの個数の最大数が決定される。【００６３】
図１５に示す載置突起３３６（３３６−１、３３６−２）および３３７（３３７−１、３３７−２）は、二等辺三角形形状のサブシェルフにおける底辺に対向する頂点近傍に形成されている。すなわち、第１サブシェルフ３３４−１の頂点近傍には第１載置突起３３６−１、第２サブシェルフ３３４−２の頂点近傍には第２載置突起３３６−２が設けられている。また、対称の位置にあるサブシェルフ３３５−１の頂点近傍には第1載置突起３３７−１、サブシェルフ３３５−２の頂点近傍には第２載置突起３３７−２が設けられている。図１５に示す４つの二等辺三角形は同程度の大きさであるから、各頂点に形成された載置突起の位置はこれらの上に載置されるウエハの周縁部から略等距離に位置する裏面を支持する。従って、ウエハの重さは同程度に載置突起に分配されるので、ウエハの自重による撓みはより均一となる。シェルフ（サブシェルフも同様である）が水平の場合、前述したように、シェルフの強度やウエハの重量によってはシェルフも下方に変形するが、図に示す二等辺三角形形状が最も変形を少なくする形状の１つである。この変形量をさらに小さくするために、図１４に示すようにシェルフをウエハ面に対して上方に傾斜させる構造とする。すなわち、シェルフと（ウエハサポート）支持板部との付け根部からシェルフの先端部に向かってウエハ中心（軸）側上方に傾斜してシェルフが形成されている。このようにシェルフを複数の略二等辺三角形形状としかつシェルフを傾斜させることにより、シェルフの変形を抑え確実に載置突起だけでウエハを支持できる。この結果、ウエハ自体の撓みも非常に少なくすることが可能となる。【００６４】
シェルフおよび載置突起は通常樹脂成形されるので、それらの形状に合わせた金型を作製し、その金型に樹脂を流し込んで（たとえば、射出成形し）シェルフおよび載置突起を作製する。【００６５】
図１９は、図１４に示すウエハサポート（支持板部およびシェルフ）を拡大して模式的に示した図である。シェルフ５１３は（ウエハサポート）支持板部５１１に対して前述の角度θで傾斜している。前述したように（ウエハサポート）支持板部５１１は収納容器にセットされた状態でウエハを載置するときには水平面（或いはウエハ面）に対して垂直な状態にあるので、このときはこの角度θは水平面に対する鉛直方向となす角度である。シェルフ５１３の先端部には載置突起５１４が付いていて、この上にウエハＳの裏面が接触しウエハＳが載置する。角度θはシェルフ５１３が支持するウエハの裏面とシェルフ５１３のウエハ裏面に対向する側の面とがなす角度である。シェルフ５１３の水平とのなす角度をαとするとα＝９０°−θとなる。また、前述したように、ウエハＳのエッジ部は（ウエハサポート）支持板部５１１の規制部５１２に接触している。角度αは０．１度以上であれば良いが、ウエハＳを載せたときにウエハ重量によりシェルフ５１３が下方に変形しシェルフが水平位置よりも下になるような場合には、０．１度より大きくする。この角度αを大きくすれば当然にシェルフ５１３の間隔（ピッチ）は大きくなる。また、シェルフ５１３の長さによってもピッチは変化する。ウエハ収納容器には多数のウエハを収納したいが、ウエハ収納容器の大きさにも制限があるので、角度αは好適には０．１〜３．５度である。尚、（ウエハサポート）支持板部は湾曲している場合もあるため、角度θはウエハをシェルフに載置したときにウエハ面（或いは水平面）に対する鉛直方向とシェルフとのなす角度と考えた方が良い場合がある。【００６６】
シェルフ５１３のピッチをａ、（ウエハサポート）支持板部５１１の規制部５１２から載置突起５１４の最上部であるウエハの接触位置までの距離、すなわち（ウエハサポート）支持板部５１１との付け根からシェルフ５１３に形成されている載置突起５１４の最上部とを結んだ線分長のウエハ径方向成分をｂ、シェルフ５１３の付け根の厚さをｃ、シェルフ５１３付け根上端から載置突起５１４の最上端部までの距離をｄ、載置突起５１４の最上端部からシェルフ５１３付け根下端までの距離をｅとすると、ａ＝ｃ＋ｄ＋ｅとなる。また、シェルフ５１３の長さ（シェルフ５１３の付け根から載置突起５１４の最上端部が付いているシェルフの位置までの距離）をｍとすると、ｂ＝ｍｓｉｎθとなる。【００６７】
ｂは、ウエハ周縁部（ウエハエッジ端から１〜５ｍｍの所）より内側になるようにすれば良いが、ウエハが大口径化した場合は、ウエハの重量によりウエハ自体が撓むので、余り短いのは好ましくはない。（ｂよりウエハ内側になった部分が撓む。）ウエハ径が３００ｍｍ〜５００ｍｍの場合、ｂは好適には４０〜１００ｍｍである。このようなｂおよびαを有するシェルフであれば、ウエハの出し入れに支障がなく、ウエハの重量によるウエハのたわみを極力小さくしてウエハ裏面支持が可能となる。たとえば、４５０ｍｍウエハを載置する場合において発生するウエハたわみを最小にしてウエハの裏面支持が可能となると同時に、シェルフ等の成形時にシェルフ等上で発生する樹脂バリ等にウエハが触れることなくウエハ支持が可能となった。【００６８】
ｃ＝約２．５ｍｍ、ｅ＝約２ｍｍとしたときに、ｂ＝約９０ｍｍ、α＝約３．５度としたときは、シェルフ間のピッチａは約１０ｍｍとなる。尚、ｃやαはシェルフの材料強度によってさらに小さくすることも可能であり、ｅはウエハ厚みやウエハの収納容器への出し入れの余裕度によって増減する。また、ｂに関しては、シェルフ自体の重量による変形程度やウエハ出し入れ時の困難さの程度によっても変動する。たとえば、シェルフ自体の重量による変形程度は全く問題なくウエハ出し入れ時の困難さも小さい場合であれば、大口径ウエハの場合には９０ｍｍよりさらに内側、すなわちウエハの中心側まで伸ばしても良いし、さらにその間に１つ以上の載置突起を設けるなどして、ウエハ自体のたわみをさらに少なくすることもできる。【００６９】
図１５に示すようなサブシェルフが略二等辺三角形においては、その頂角を１５〜１４０度とする。好適には４５〜７５度、最適にはほぼ６０度である。たとえば、３００ｍｍ収納容器において、１つのウエハサポート（ウエハ中心からのウエハサポート部領域の見込み角を約７５度として）に付けられるサブシェルフは次のようになる。ｂ＝４０ｍｍ、頂角１５度の場合、略二等辺三角形の底辺の長さは約１１ｍｍ、等辺長さは約４１ｍｍとなるので、約１８個までの略二等辺三角形サブシェルフを付けられる。ｂ＝４０ｍｍ、頂角４５度の場合、略二等辺三角形の底辺の長さは約３４ｍｍ、等辺長さは約４４ｍｍとなるので、約６個までの略二等辺三角形サブシェルフを付けられる。ｂ＝４０ｍｍ、頂角６０度では約４個まで、ｂ＝４０ｍｍ、頂角７５度では約３個まで、ｂ＝４０ｍｍ、頂角１４０度では１個の略二等辺三角形サブシェルフを付けられる。【００７０】
３００ｍｍ収納容器において、１つのウエハサポート（ウエハ中心からのウエハサポート部領域の見込み角を約７５度として）に付けられるサブシェルフは、ｂ＝９０ｍｍにおいては次のようになる。頂角１５度では約８個までの略二等辺三角形サブシェルフを付けられる。頂角４５度では２個までの略二等辺三角形サブシェルフを付けられる。頂角６０度では約２個の略二等辺三角形サブシェルフを付けられる。頂角７５度では１個の略二等辺三角形シェルフを付けられる【００７１】
４５０ｍｍ収納容器において、１つのウエハサポート（ウエハ中心からのウエハサポート部領域の見込み角を約７５度として）に付けられるサブシェルフは、ｂ＝９０ｍｍにおいては次のようになる。頂角１５度では約１２個までの略二等辺三角形サブシェルフを付けられる。頂角４５度では約４個までの略二等辺三角形サブシェルフを付けられる。頂角６０度では２個の略二等辺三角形サブシェルフを付けられる。頂角７５度の場合約２個の略二等辺三角形サブシェルフを付けられる。【００７２】
図１６は、本発明の傾斜したシェルフを有する他の実施例である。図１６に示したシェルフ３４３は、図１４に示すシェルフと同様に（ウエハサポート）支持板部に対して傾斜、すなわち、前述したようにウエハを載置したときに水平面（またはウエハ面）に対して傾斜しているが、さらにシェルフ補強リブ３５０を備える。シェルフ補強リブは、シェルフが支持するウエハに対向する側のシェルフの面と（ウエハサポート）支持板部との間に形成され、シェルフの付け根からシェルフの中途まで伸びていて、シェルフを補強している。このシェルフ補強リブ３５０によって、ウエハを載置したときにこのシェルフのウエハ重量による撓みを最小にすることが可能となり、これらシェルフのピッチが大きくならないようにすることができ、その結果容器へのウエハ収納枚数を増加させることが可能となる。【００７３】
図１９においてもシェルフ補強リブ５１５を示す。シェルフ補強リブ５１５は（ウエハサポート）支持板部５１１とシェルフ５１３の付け根では厚く水平にウエハ径方向へ伸びてシェルフ５１３を補強している。この付け根部に最も力がかかる。すなわち、シェルフ全体の重さがかかるほかに、ウエハをシェルフに載せたときはウエハの重さもかかってくる。従って、付け根部分のリブ高さを高さ方向に厚くしている。シェルフ側のシェルフ補強リブの重量も付け根部にかかってくるので、付け根部から離れるに従いだんだん（徐々に）高さ方向に薄くし、応力集中部分がないようにしている。言い換えれば、シェルフ補強リブは、支持板部とのシェルフ付け根からシェルフ中途まで付設され、シェルフ補強リブのウエハ軸方向の寸法は、付け根部で大きく、シェルフ中途になるに従い徐々に小さくなっている。また、このようなシェルフ補強リブのかわりに、シェルフの肉厚を付け根部で厚くしてシェルフの先端にいくに従い薄くなるようにシェルフを形成して、シェルフを強化する方法も有効である。尚、上記のようなシェルフの補強は、傾斜したシェルフだけでなく、傾斜していない水平なシェルフにも適用できる。たとえば、ウエハを載置突起へ載せてセットしたときにウエハの表面および裏面がシェルフに接触しない程度にシェルフを部分的に厚くしたり、異種材料を合わせて使用したりするなどしてシェルフを補強すれ
ば良い。【００７４】
図１７は、図１５と同様な略二等辺三角形形状をした複数のサブシェルフにおけるシェルフ補強リブを示し、ウエハ面側から見た断面図である。略二等辺三角形形状の各サブシェルフ３６２、３６３、３６５、３６６における２つの等辺（３６２−１と３６２−２、３６３−１と３６３−２、３６５−１と３６５−２、３６６−１と３６６−２）の内側において、サブシェルフと（ウエハサポート）支持板部（３６１、３６４）の付け根から各等辺の中途までシェルフ補強リブ３７１（３７１−１、３７１−２）、３７２（３７２−１、３７２−２）、３７３（３７３−１、３７３−２）、３７４（３７４−１、３７４−２）が付設している。尚、サブシェルフ３６２、３６３、３６５、３６６の頂角部にはそれぞれ載置突起３６７、３６８、３６９、３７０が付いていて、これら４つの載置突起３６７、３６８、３６９、３７０の最上部の高さは等しく、ウエハＳを載せたときにこれらの４つの載置突起に等しくウエハＳの裏面に接触するので、ウエハＳが傾くことはない。【００７５】
図２０は、図１７に示すと同様のシェルフ（サブシェルフ）にウエハを載置した状態を示す斜視図である。シェルフ５２２は、（ウエハサポート）支持板部５２１に対して傾斜して付いていて、（ウエハサポート）支持板部５２１側を底辺とする略二等辺三角形形状の２つの等辺（５２２−１および５２２−２）である。２つの等辺の交わった部分の頂角付近には載置突起５２３が付いていて、ウエハＳの裏面がこの載置突起５２３上に接触し載置される。シェルフ５２２の付け根から２つの等辺の中央付近にはシェルフ補強リブ５２４（５２４−１、５２４−２）が付設している。シェルフ５２２にはウエハＳが載っているので、シェルフ５２２はウエハＳの重量による下方への力を受ける。シェルフ５２２は片持ち梁的になっていて、（ウエハサポート）支持板部５２１とシェルフ５２２の付け根にウエハＳの重量およびシェルフ５２２自体の重量がかかる。従って付け根部分の強度が十分でないとシェルフ５２２が付け根部付近で変形する可能性がある。シェルフ補強リブ５２４は（ウエハサポート）支持板部５２１にも付設しているので、シェルフ補強リブ５２４は付け根部でシェルフ５２２を補強し、付け根部の変形が抑えられる。また、シェルフ５２２自体も下方に変形する可能性があるが、シェルフ補強リブ５２４によってその変形も極力抑えられる。特にシェルフ補強リブ５２４は付け根部分が厚く先端部へ段々薄くなっているので、この補強程度がさらに強化される。【００７６】
尚、シェルフ５２２の２つの等辺（５２２−１および５２２２−２）はほぼ等しく、載置突起５２３も頂角部に存在するので、下方への力がそれぞれの等辺に等分にかかり、一方だけが余分な力を受けないようになっている。このこともシェルフの変形を極力小さくしている。尚、前述したように、ウエハＳは（ウエハサポート）支持板部の規制部５２５に接触するが、シェルフ５２２の付け根部の（ウエハサポート）支持板部部分５２１は必ずしもウエハＳと接触しているわけではない。すなわち、ウエハＳは円形状をしているが、（ウエハサポート）支持板部は必ずしも円形状をしているわけではない。ただし、シェルフ底辺側の（ウエハサポート）支持板部の一部（または全部）とウエハエッジは接触していて、この接触部分がウエハを径方向へ規制する規制部となる。シェルフ底辺側の（ウエハサポート）支持板部の全部とウエハエッジが接触している場合は、規制部（すなわち、（ウエハサポート）支持板部のウエハエッジと接触する部分）はウエハ径とほぼ等しい円弧形状となる。【００７７】
図１８は、図１７に示すシェルフ補強リブを有する略二等辺三角形状のサブシェルフを有するウエハサポートに加えて、収納容器本体の開口に対向する背面部（図１に示す底板部２Ｅ）内側にリアシェルフ（背面に設けたシェルフという意味で「リアシェルフ」と称する）を有するウエハサポートを設けた本発明の別の実施形態を示す。このリアシェルフ３９６（２つの等辺３９６−１、３９６−２）は底辺部に相当するリア（ウエハサポート）支持板部３９５と略二等辺三角形の環状構造となっている。収納容器本体の開口に対向
する背面部内側にリアウエハサポート取付部３９８によりリアウエハサポートが取り付けられる。リアシェルフ３９６はリア（ウエハサポート）支持板部３９５に付設し、収納容器側壁部に取り付けられた上述のシェルフ（サブシェルフ）と同様に、その頂角部がウエハ中心側に向いている。略二等辺三角形状のリアシェルフ３９６の頂角部には載置突起３９７が設けられている。収納容器を横置きにしたときに、この載置突起３９７の高さは収納容器側壁部に取り付けられた他のサブシェルフ（３８２、３８３、３８５、３８６）における載置突起（３８７、３８８、３８９、３９０）と同じ高さにあり、ウエハＳを載置したときに他の載置突起と同様にウエハ裏面がこの載置突起３９７に接触する。【００７８】
従って、リアシェルフ３９６は他のシェルフと同程度にθの角度で傾斜している。（或いは、載置突起３９７の高さで合わせても良い。）尚、他のサブシェルフが傾斜していないときは、リアシェルフ３９６も同様に傾斜していない。このようにして、リアシェルフを設けることによって、対面する２か所の収納容器側壁部に設けられたサブシェルフだけでなく、これらのほぼ中間位置にある場所においてもウエハ裏面が支持されるので、ウエハのたわみをさらに小さくすることができ、より狭ピッチを実現することが可能となり、収納容器へのウエハ収納枚数をさらに増加させることができる。【００７９】
他のシェルフ（サブシェルフ）と同様に、リアシェルフ３９６の補強用にシェルフ補強リブ３９９（３９９−１、３９９−２）が付いていても良い。尚、（リア）（ウエハサポート）支持板部３９５は必ずしも略二等辺三角形状の底辺部として直線状になっていなくても良く曲線状になっていても良い。また、リア（ウエハサポート）支持板部３９５には必ずしも規制部が存在せず、ウエハエッジがリア（ウエハサポート）支持板部に接触していなくても良い。（他のウエハサポートの規制部でウエハエッジが接触している。）ただし、リア（ウエハサポート）支持板部３９５に規制部を設けてウエハエッジで押さえた方がウエハをさらにしっかりと固定できる。【００８０】
尚、載置突起を収納容器に収納されるウエハ中心から一定距離にすることによっても、ウエハを安定して収納容器に固定できる。収納容器の開口からのウエハの出し入れを容易に行えるようにするとともに、ウエハのたわみをできるだけ少なくするために、この距離を収納されるウエハ直径の０．３倍から０．５倍の範囲内に形成することが望ましい。【００８１】
これまで主にウエハサポートは収納容器と分割あるいは分離できる部材として説明してきた。ウエハサポートは上述のように複雑な構造を有するものであるから、成形型等の作製や定期的洗浄のことを考慮すれば上述のように分割または分離できた方が良いが、そのウエハサポートの構造から収納容器と一体物として作製（たとえば、インサート成形）することも可能である。一体物の場合は、ウエハサポートの取り付けや組み立ての手間が不要、１回の成形で収納容器本体とウエハサポートを作製できるなどのメリットもある。また洗浄に関しても、洗浄装置や洗浄液の改良などで、別々に洗浄する場合と同程度の作業に済ませることもできる。たとえば、ウエハサポートの構成要素である取り付け部を収納容器本体と一体物としても良い。また、シェルフ（サブシェルフも含む）も収納容器本体と一体物として形成しても良い。さらに、規制部も収納容器本体と一体物として形成することもできる。これらはたとえばインサート成形で成形時に収納容器本体と一緒に形成できる。【００８２】
図２１はウエハサポート（（ウエハサポート）支持板部とシェルフ）をインサート成形で形成したときの形状を示す模式図である。インサート成形では、前もってウエハサポートの成形体を形成しておき、その成形体を収納容器本体の成形型に挿入して、その後で樹脂を流し込んで一体物として形成する。（ウエハサポート）支持板部６０２は収納容器本体６０１に形成された嵌合部に配してインサート成形されている。嵌合部とはウエハサポートが収納容器本体に融着して一体に接合されている部分をいう。接合部分（収納容器本
体６０１と（ウエハサポート）支持板部６０２の境界部分）の表面は多少溶けて融着している方が接合も強くなるので、インサートするウエハサポート（特に（ウエハサポート）支持板部６０２）は後から樹脂を流す収納容器本体６０１よりも融点が低い材料を用いた方が良い。しかし、ウエハサポートのインサート部の周りを包み込むように形成すれば、必ずしもこの条件を満たす必要はない。たとえば、図２１に示すように包み込み部６０６を持つようにウエハサポートと収納容器本体６０１の金型を用いたり、アンダーカット６０７を形成するようにウエハサポートと収納容器本体６０１の金型を用いたりする。この結果、シェルフ６０３を伴ったウエハサポートは収納容器本体６０１から抜けたりせず、（ウエハサポート）支持板部６０２と収納容器本体６０１は強固に結合する。もちろん、融着性と組み合わせることにより、その結合はさらに強化される。【００８３】
また、ウエハサポートにおけるインサート部の角部を極力滑らかに形成することによって、後から流す収納容器本体の樹脂に応力集中をかけずに済むため、加工精度の高い加工が可能となる。尚、熱膨張係数が極端に異なる樹脂は避けた方が良い場合がある。そのような場合、成形品に温度がかかると、樹脂が伸び縮みを起こし、接合部がはがれたり、クラックが発生したりする原因となる可能性がある。このような熱収縮による剥離発生を防ぐためにも、図２１に示すようなアンダーカット６０７を部分的に形成することが望ましい。さらに、インサート時に（ウエハサポート）支持板部６０２を取り囲む側である収納容器本体６０１の樹脂の肉厚は、インサートによって発生する内部応力に充分耐えるだけの厚さであることも必要である。たとえば、アンダーカット６０７の外側にあたる廂部分や包み込み部６０６の肉厚の設計は重要である。【００８４】
尚、シェルフに関しては（ウエハサポート）支持板部と一体とせずに、複雑なシェルフだけは分割・分離しておき、必要なときにシェルフを収納容器に取り付けるようにしても良い。【００８５】
図２２は、本発明のウエハサポートにおける他の実施例を示す。本実施例におけるウエハサポート６１０の特徴は（ウエハサポート）支持板部６１１の内側が中空（穴空き状態）になっている。このような中空の支持板部を有するウエハサポートは、穴空きのシェルフに加えてさらに軽量化を実現できる。図２２において真中の支持板部６１１は規制部６１２となっていて、この部分にウエハエッジが接触する。シェルフ６１６はその内側が穴空きでＥ字形状をしている。（支持板部側が空いている。）Ｅ字形状のシェルフにはその直線部分の交点（アーム部６１５と帯状部分６１３との交点）近傍に載置突起６１４が配置されている。図２２においては１つのシェルフに３つの載置突起があるが、これまで述べたように３つに限定されている分ではなく、１つや２つでも良いし、３つより多くても良い。ただし、図２２に示すような位置に配置した場合にウエハを載置したときに、ウエハの重さとシェルフの重さの合計加重が等分に３つのアーム部６１５に分散してかかるので、ウエハの安定性が良くシェルフの寿命も長くできる。シェルフがＤ字形状やＢ字形状の縦棒がない場合も図２２に示すウエハサポートと同様な中空の支持板を使用できる。尚、このようなＥ字形状の場合およびＢ字形状やＤ字形状の縦棒がない場合のようなシェルフも、水平なものばかりではなく、上述したように当然に傾斜させて用いることも可能である。また、上述したようにこれらのウエハサポートをインサート成形で形成することもできる。【００８６】
これまで、シェルフの所定位置に１つまたは複数の載置突起を配置することを述べているが、これらの実施例で述べている場合よりも多数の載置突起を配置することもできる。尚、載置突起とは突（凸）状や突起状に形成されたウエハを載置可能な部分である。載置突起の先端は微小で細くウエハ裏面に接触する部分が小さくても良い。或いは、載置突起は先端部（ウエハが載置する所）が平坦状または曲面状の載置突起であっても良い。或いは、載置突起がシェルフの上面（ウエハを載置するときに上になる側で、ウエハ裏面と接触する側）における所定の位置に離間して形成されウエハの裏面を支持しても良い。ウエハが載置する所は、ウエハと平面的に重なるシェルフ全体または一部がウエハ裏面に接触する載置突起であっても良い。この場合は、シェルフ自体がウエハ裏面を支持することになる。この場合でもウエハ裏面で支持したくない場所に相当するシェルフの部分を凹状にしてウエハ裏面と接触しないようにできる。たとえば、ウエハ裏面の周縁部をシェルフと接触させたくなければ、ウエハ裏面の周縁部を受けるシェルフのその部分を窪ませたり、なくしたりすれば良い。或いは、載置突起の形状が半球状やかまぼこ状であっても良い。半球状の載置突起の場合、ウエハを載置したときにウエハとの接触は理論的には点接触になるが、実際には接触部がウエハの重さで少し沈むので（略円形の）面接触となる。また、かまぼこ状の載置突起の場合、ウエハを載置したときにウエハとの接触は理論的には線接触になるが、実際には接触部がウエハの重さで少し沈むので（略矩形の）面接触となる。【００８７】
収納容器本体や蓋体を構成する材料としては、不純物ガス発生が少ない高純度なポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルイミド、シクロオレフィン重合体およびフッ素樹脂などの高分子材料が用いられる。特に、ウエハ工程内容器では前記高分子材料にカーボンファイバーやカーボンパウダーあるいはカーボンナノチューブなどの導電性フィラーを混合して非帯電性または導電性を付与したものを用いるのが一般的である。また、ウエハサポート（（ウエハサポート）支持板部やシェルフ）に用いる材料として、ポリプロピレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリテトラフルオロエチレン、ポリブチレンナフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、ポリエチレン、ポリエチレンエラストマー、ポリオレフィンエラストマーなどの高分子材料がある。これらにさらにカーボンファイバーやカーボンパウダーあるいはカーボンナノチューブなどの導電性フィラーを混合して非帯電性または導電性を付与したものを用いるのが望ましく、静電気等による収納容器、ウエハサポート（（ウエハサポート）支持板部、シェルフや載置突起）に付着するパーティクル等を抑えることができる。【００８８】
上述したインサート材料としてさらに、上述したように収納容器本体よりも低い融点を持つ熱可塑性樹脂や金属材料を用いることができる。収納容器本体がポリカーボネートの場合は、ウエハサポート（（ウエハサポート）支持板部、シェルフや載置突起）材料としてたとえば、ポリブチレンテレフタレート、ポリテトラフルオロエチレン、ポリカーボネートとポリテトラフルオロエチレンとのアロイなどを用いることができる。また、収納容器本体が環状オレフィン系樹脂や環状オレフィン系コポリマーの場合は、ウエハサポート（（ウエハサポート）支持板部、シェルフや載置突起）材料としてたとえば、これらとポリテトラフルオロエチレンとのアロイなどを用いることができる。金属材料としては、ステンレス系、チタン系、アルミニウム系などがある。これらの金属材料は、高分子材料より強度がありより薄く形成できる。また、アウトガスが非常に少ないという利点もある。さらに、これらの金属材料を上述の高分子材料で被覆したものも用いることができる。このような金属材料を高分子材料で被覆したもので構成されたウエハサポート（（ウエハサポート）支持板部、シェルフや載置突起）は強度がありかつ表面がなめらかでもあるので、シェルフを薄くでき変形量も小さくできる。その結果シェルフピッチを小さくすることができる。【００８９】
本発明のウエハ収納容器は、工程内容器として半導体前工程および後工程のプロセス内で使用できるだけでなく、出荷容器としても当然使用できる。また、主に半導体ウエハを収納するウエハ収納容器として説明してきたが、本発明のウエハ収納容器は、半導体ウエハに限らず、一般的な薄板にも適用できることは言うまでもない。たとえば、フォトマスクやレチクル等の収納容器、液晶等の表示素子形成用基板などの収納容器などにも本発明を適用できる。また、上述の説明において、ある実施例において記載した内容で他の実施例において記載しなかった内容であっても、お互いに矛盾なく適用できるものに関しても、当該実施例において適用できることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明は、半導体ウエハを搬送あるいは保管するために用いられるウエハ収納容器を使用する半導体産業に適用できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【手続補正書】
【提出日】平成21年12月21日(2009.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの開口を有する収納容器本体と、前記開口を塞ぐ蓋体と、前記収納容器本体を前記蓋体で閉じたときに前記収納容器本体の内部を外部環境から気密に隔離するシールと、前記収納容器本体の内部に形成されウエハを整列して支持するウエハサポートとを有するウエハ収納容器において、
前記ウエハサポートは、
複数のウエハを所定の間隔で軸方向に整列して支持する複数のシェルフと、
前記シェルフを支持する支持板部と、
前記支持板部を前記収納容器本体の内部に取り付けるための支持板取付部と、
前記支持板部に形成された前記複数のウエハを径方向に規制する規制部と、
を有し、
前記シェルフ内側に１つまたは複数の穴が空いていて、かつ前記シェルフの上面（ウエハを載置するときに上になる側）に前記ウエハの裏面を支持して載置する１つまたは複数の載置突起を有していることを特徴とし、
さらに、前記蓋体が取り外され、前記ウエハ収納容器が横置きになりウエハが前記ウエハ収納容器内に載置されているときは、前記ウエハは前記載置突起および前記規制部によって規制され、かつ前記ウエハは前記載置突起以外のシェルフには接触しないことを特徴とするとともに、
前記蓋体が前記収納容器の開口を塞いで前記収納容器内にウエハを収納しているときは、前記ウエハは前記蓋体に取り付けられたウエハ押さえ部材と前記載置突起および前記規制部によって固定されており、かつ前記ウエハは載置突起以外のシェルフには接触しないことを特徴とする、
ウエハ収納容器。
【請求項２】
上記ウエハサポートはウエハ収納容器の２つの対向する側面にそれぞれ取り付けられ、上記シェルフは、アーム部および帯状部からなり、前記アーム部は前記支持板部からウエハ収納容器内側へ伸びて前記帯状部と連結し帯状部を支持する部分であり、
前記帯状部はウエハの円周方向に環状形状となっていることを特徴とする、請求項１に記載のウエハ収納容器。
【請求項３】
上記ウエハサポートはウエハ収納容器の２つの対向する側面にそれぞれ取り付けられ、上記シェルフは、アーム部および帯状部からなり、前記アーム部は前記支持板部からウエハ収納容器内側へ伸びて前記帯状部と連結し帯状部を支持する部分であり、
前記アーム部が３個存在し、外側の２個のアーム部は中間のアーム部に対して対称の位置に存在することを特徴とする、請求項１または２に記載のウエハ収納容器。
【請求項４】
前記載置突起は前記帯状部だけに３個配置されており、外側の２個の載置突起は中間の載置突起に対して対称位置に配置されていることを特徴とする、請求項２または３に記載のウエハ収納容器。
【請求項５】
対向するウエハ収納容器の側面に取り付けられた２つのウエハサポートにおいて、各ウエハサポートの帯状部がウエハ収納容器の底面側に伸びて連結していることを特徴とする、請求項２〜４のいずれかの項に記載のウエハ収納容器。
【請求項６】
前記規制部に対してウエハの側端頂部だけが接触していることを特徴とする請求項１〜５のいずれかの項に記載のウエハ収納容器。
【請求項７】
前記収納容器の対向する２つの側壁部各々において、環状構造を有した略二等辺三角形形状の２つのサブシェルフからなる、シェルフを有していることを特徴とする、請求項１に記載のウエハ収納容器。
【請求項８】
載置突起は、ウエハを載置したときにウエハの同心円周上に配置されるように形成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかの項に記載のウエハ収納容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
していて、ウエハサポートは、複数のウエハを所定の間隔で軸方向に整列して支持する複数のシェルフと、前記シェルフを支持する支持板部と、前記支持板部を前記収納容器本体の内部に取り付けるための支持板取付部と、前記支持板部に形成された前記複数のウエハを径方向に規制する規制部とを有し、さらにシェルフ内側に１つまたは複数の穴が空いていることを特徴とする。また、シェルフは、シェルフの上面（ウエハを載置するときに上になる側で、ウエハ裏面と接触する側）に形成され上記ウエハの裏面を支持して載置する１つまたは複数の載置突起を有している。
［０００７］
また、上記規制部は半導体ウエハの側端頂部だけ、または半導体ウエハの側端頂部と半導体ウエハのベベル部とだけで導体ウエハと接触している。さらに、規制部はシェルフとの境界が傾斜して形成（半導体ウエハ裏面のベベル下部と接触する部分が傾斜して形成）されていることを特徴としている。ウエハサポートはウエハ収納容器内でバイラテラル基準面を対称面とした対向する一対の鏡像体構造で形成されている。
従って、蓋体が取り外され、ウエハ収納容器が横置きになりウエハが前記ウエハ収納容器内に載置されているときは、前記ウエハは前記載置突起および前記規制部によって規制され、かつ前記ウエハは前記載置突起以外のシェルフには接触しない。前記蓋体が前記収納容器の開口を塞いで前記収納容器内にウエハを収納しているときは、前記ウエハは前記蓋体に取り付けられたウエハ押さえ部材と前記載置突起および前記規制部によって固定されており、かつ前記ウエハは載置突起以外のシェルフには接触しない。
発明の効果
［０００８］
本発明のウエハサポートを用いることにより、ウエハ裏面のウエハ周縁部分に接触させずに、ウエハ裏面のウエハ周縁部分より内側の微小部分で半導体ウエハを支持できる。従って、半導体ウエハ裏面側から半導体ウエハ表面側に回りこむパーティクル等を非常に少なくすることができる。さらに、ウエハ裏面においてその周縁部よりさらに内側を載置突起で支えていることにより、ウエハのたわみ量を最小限におさえることができる。特に大口径ウエハの場合にはウエハのたわみ量が大きくなるので、本発明のウエハサポートの効果は大きい。しかもたわみ量を小さくできるということは、ウエハ収納容器に積層するウエハピッチを小さくすることにつながり、その結果、ウエハ収納容器に保管できるウエハの数量を増やすことも可能となる。さらにまた、半導体ウエハを出し入れするときに、半導体ウエハは複数の載置突起の上に載置される（されている）ので、半導体ウエハを水平に安定して設置することが可能となる。この結果、半導体ウエハを破損することもない。
［０００９］
さらに、規制部の構造をウエハ側端頂部のみまたはウエハ側端頂部とウエハのベベル部とのみでウエハと接触するように構成することにより、半導体デバイスが形成さ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
等辺三角形形状を有しているので、大口径ウエハを支持しても撓みが小さく捩れも最小になる。図１５においてはウエハサポートが２つあるので、ウエハは４つの二等辺三角形形状のサブシェルフによって支持される。一般的には１つの略二等辺三角形の先端部が交わる角度（頂角）と等辺長および（ウエハサポート）支持板部サイズによって、サブシェルフの個数の最大数が決定される。
［００６３］
図１５に示す載置突起３３６（３３６−１、３３６−２）および３３７（３３７−１、３３７−２）は、二等辺三角形形状のサブシェルフにおける底辺に対向する頂点近傍に形成されている。すなわち、第１サブシェルフ３３４−１の頂点近傍には第１載置突起３３６−１、第２サブシェルフ３３４−２の頂点近傍には第２載置突起３３６−２が設けられている。また、対称の位置にあるサブシェルフ３３５−１の頂点近傍には第１載置突起３３７−１、サブシェルフ３３５−２の頂点近傍には第２載置突起３３７−２が設けられている。図１５に示す４つの二等辺三角形は同程度の大きさであるから、各頂点に形成された載置突起の位置はこれらの上に載置されるウエハの周縁部から略等距離に位置する裏面を支持する。すなわち、載置突起は、環状領域にあり、言いかえればウエハを載置したときにウエハのほぼ同心円周上に配置されるように形成されている。従って、ウエハの重さは同程度に載置突起に分配されるので、ウエハの自重による撓みはより均一となる。シェルフ（サブシェルフも同様である）が水平の場合、前述したように、シェルフの強度やウエハの重量によってはシェルフも下方に変形するが、図に示す二等辺三角形形状が最も変形を少なくする形状の１つである。この変形量をさらに小さくするために、図１４に示すようにシェルフをウエハ面に対して上方に傾斜させる構造とする。すなわち、シェルフと（ウエハサポート）支持板部との付け根部からシェルフの先端部に向かってウエハ中心（軸）側上方に傾斜してシェルフが形成されている。このようにシェルフを複数の略二等辺三角形形状としかつシェルフを傾斜させることにより、シェルフの変形を抑え確実に載置突起だけでウエハを支持できる。この結果、ウエハ自体の撓みも非常に少なくすることが可能となる。
［００６４］
シェルフおよび載置突起は通常樹脂成形されるので、それらの形状に合わせた金型を作製し、その金型に樹脂を流し込んで（たとえば、射出成形し）シェルフおよび載置突起を作製する。
［００６５］
図１９は、図１４に示すウエハサポート（支持板部およびシェルフ）を拡大して模式的に示した図である。シェルフ５１３は（ウエハサポート）支持板部５１１に対して前述の角
【国際調査報告】
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