(57)【要約】  基材の上に第一の紫外線硬化性樹脂層を形成する第１の工程と、第一のモールドの所定のパターンが形成されたパターン形成面を前記第一の紫外線硬化性樹脂層に対向させ、前記基材と第一のモールドとを圧着する第２の工程と、前記紫外線硬化性樹脂層と紫外光源との間に紫外光を拡散させる部材を介在させて、前記圧着により前記第一のモールドのパターンが転写された第一の紫外線硬化性樹脂層に拡散された紫外光を照射する第３の工程とを有するパターン形成方法。
2009139448.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の上に第一の紫外線硬化性樹脂層を形成する第１の工程と、
第一のモールドの所定のパターンが形成されたパターン形成面を前記第一の紫外線硬化性樹脂層に対向させ、前記基材と第一のモールドとを圧着する第２の工程と、
前記紫外線硬化性樹脂層と紫外光源との間に紫外光を拡散させる部材を介在させて、前記圧着により前記第一のモールドのパターンが転写された第一の紫外線硬化性樹脂層に拡散された紫外光を照射する第３の工程とを有するパターン形成方法。
【請求項２】
前記第３の工程を前記第２の工程と同時に行うことを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項３】
前記第３の工程を前記第２の工程の後に行うことを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項４】
厚さが１０μｍ以上１ｍｍ以下である樹脂製シートの上に第二の紫外線硬化性樹脂層を形成し、
第一のモールドの所定のパターンとは凹凸が反対のパターンを有する第二のモールドを前記第二の紫外線硬化性樹脂層の表面に前記凹凸が反対のパターンが接するように圧着させることにより、前記凹凸が反対のパターンを第二の紫外線硬化性樹脂層に転写させて、
前記所定のパターンが形成された前記第一のモールドを用意する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項５】
前記第一のモールドの紫外光の透過率が２０％以上であることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項６】
前記基材の上に液状の紫外線硬化性樹脂を塗布することにより、前記第一の紫外線硬化性樹脂層を形成することを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項７】
前記樹脂製シートの表面に液状の紫外線硬化性樹脂を塗布することにより、前記第二の紫外線硬化性樹脂層を形成することを特徴とする請求項４に記載のパターン形成方法。
【請求項８】
前記紫外光を拡散させる部材として、拡散板又はフライアイレンズを用いることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項９】
前記基材が磁気記録媒体であることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項１０】
請求項１に記載のパターン形成方法を用いたディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の製造方法により製造されたディスクリートトラック式磁気記録媒体を搭載した磁気記録再生装置。
【請求項１２】
前記基材が、非磁性基板の少なくとも一つの面に、磁性層及び保護層がこの順で形成された基材であることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項１３】
前記紫外光を拡散させる部材が、石英、ガラス、及び樹脂から選択される板又はシートであって、かつ（ｉ）表面に微細な凹凸を形成されている、（ｉｉ）マトリックス中にマトリックスとは異なる屈折率の微粒子を分散させている、および（ｉｉｉ）表面に光を散乱させることのできる塗膜を形成している、から選択される部材であることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項１４】
前記紫外光を拡散させる部材が、微細な凹凸を形成したまたは光を散乱させる塗膜を形成した第一のモールド７であることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン形成方法、このパターン形成方法を用いたディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造方法、並びにこの製造方法により製造された磁気記録媒体を搭載したディスクリートトラック式磁気記録再生装置に関する。本願は、２００８年５月１６日に、日本に出願された特願２００８−１２９７００号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置では、トラック密度が増大するに伴って、例えば、隣接するトラック間の磁気記録情報が互いに干渉し合い、その結果、その境界領域の磁化遷移領域がノイズ源となってしまい信号対雑音比（ＳＮＲ）が損なわれるなどの問題が生じやすくなっている。【０００３】
このような問題を回避するために、磁気記録媒体の表面に凹凸を形成し（例えば凸はピーク部、及び凹は谷部（land and groove）と記載しても良い。）、記録トラック同士を物理的に分離することによって、トラック密度を上げようとする試みがなされている。このような技術は、その凹凸の形状によって、ディスクリートトラック法又はパターンドメディア法と呼ばれている。【０００４】
これらの方法により微細な凹凸をスループット良く形成するための技術として、ナノインプリントリソグラフィが注目されている（例えば、特許文献１を参照）。特に、微細なパターンを形成する場合は、ナノインプリントリソグラフィによる様々な技術の中でも、パターンが転写される側の層に紫外線硬化性樹脂を用いた、ＵＶナノインプリント法が有効とされている（例えば、特許文献２を参照。）。【０００５】
ところで、紫外光源から照射される紫外光には、照射される部位によって紫外光の照度にバラつきが生じることが多い。ＵＶナノインプリント法を用いる際に、このような紫外光の照度のバラつきが紫外線硬化性樹脂層を有する基材（ワーク）上で生じると、例えば、基材上の紫外線硬化性樹脂に硬化ムラが生じたり、また、それに伴いモールドからの離型不良を起こしたりする。その結果、基材上に形成した微細パターンを利用する、その後の微細加工も均一に行うことができない、等の問題が生じるおそれがある。【０００６】
特に、ＵＶナノインプリント法を用いて磁気記録媒体の加工を行う場合は、媒体のごく一部に欠陥があっても媒体全体が不良品となることもある。このため、このような紫外線硬化性樹脂に生じる硬化ムラ等の問題は深刻である。
【特許文献１】特開２００４−１７８７９３号公報
【特許文献２】特開２０００−１９４１４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記のような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、基材に照射される紫外光の照度のバラつきを防ぎ、基材上の紫外線硬化性樹脂を均一に硬化することを可能としたパターン形成方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、このパターン形成方法を用いたディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造方法、並びにこの製造方法により製造された磁気記録媒体を搭載したディスクリートトラック式磁気記録再生装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の方法や装置を提供する。
（１）  基材の上に第一の紫外線硬化性樹脂層を形成する第１の工程と、
第一のモールドの所定のパターンが形成されたパターン形成面を前記第一の紫外線硬化性樹脂層に対向させ、前記基材と第一のモールドとを圧着する第２の工程と、
前記紫外線硬化性樹脂層と紫外光源との間に紫外光を拡散させる部材を介在させて、前記圧着により前記第一のモールドのパターンが転写された第一の紫外線硬化性樹脂層に拡散された紫外光を照射する第３の工程とを有するパターン形成方法。
（２）  前記第３の工程を前記第２の工程と同時に行うことを特徴とする前項（１）に記載のパターン形成方法。
（３）  前記第３の工程を前記第２の工程の後に行うことを特徴とする前項（１）に記載のパターン形成方法。
（４）  厚さが１０μｍ以上１ｍｍ以下である樹脂製シートの上に第二の紫外線硬化性樹脂層を形成し、
第一のモールドの所定のパターンとは凹凸が反対のパターンを有する第二のモールドを前記第二の紫外線硬化性樹脂層の表面に前記凹凸が反対のパターンが接するように圧着させることにより、前記凹凸が反対のパターンを第二の紫外線硬化性樹脂層に転写させて、
前記所定のパターンが形成された前記第一のモールドを用意する工程を含むことを特徴とする前項（１）乃至（３）の何れか一項に記載のパターン形成方法。
（５）  前記第一のモールドの紫外光の透過率が２０％以上であることを特徴とする前項（１）乃至（４）の何れか一項に記載のパターン形成方法。
（６）  前記基材の上に液状の紫外線硬化性樹脂を塗布することにより、前記第一の紫外線硬化性樹脂層を形成することを特徴とする前項（１）乃至（５）の何れか一項に記載のパターン形成方法。
（７）  前記樹脂製シートの表面に液状の紫外線硬化性樹脂を塗布することにより、前記第二の紫外線硬化性樹脂層を形成することを特徴とする前項（４）乃至（６）の何れか一項に記載のパターン形成方法。
（８）  前記紫外光を拡散させる部材として、拡散板又はフライアイレンズを用いることを特徴とする前項（１）乃至（７）の何れか一項に記載のパターン形成方法。
（９）  前記基材が磁気記録媒体であることを特徴とする前項（１）乃至（８）の何れか一項に記載のパターン形成方法。
（１０）  前項（１）乃至（９）の何れか一項に記載のパターン形成方法を用いたディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造方法。
（１１）  前項（１０）に記載の製造方法により製造されたディスクリートトラック式磁気記録媒体を搭載した磁気記録再生装置。
なお上記（２）〜（９）は、必須の特徴ではなく、本発明の好ましい例を表わしている。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、基材に照射される紫外光の照度のバラつきを防ぎ、基材上の紫外線硬化性樹脂を均一に硬化することを可能としたパターン形成方法を提供することが可能である。
また、本発明によれば、このようなパターン形成方法を用いたディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造方法、並びにこのような製造方法により製造された磁気記録媒体を搭載したディスクリートトラック式磁気記録再生装置を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のパターン形成方法を用いた、ＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、基材として用いられる磁気記録媒体を示す断面図である。
【図２】本発明のパターン形成方法を用いた、ＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、磁気記録媒体の上に第一の紫外線硬化性樹脂層が形成された（第１の工程）状態示す断面図である。
【図３】本発明のパターン形成方法を用いた、ＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、第一のモールドが前記第一の紫外線硬化性樹脂層に圧着された（第２の工程）状態を示す断面図である。
【図４】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、ステージの変形例を示す断面図である。
【図５】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、ステージの変形例を示す断面図である。
【図６】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、ステージの変形例を示す断面図である。
【図７】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、第２の工程の変形例を示す断面図である。
【図８】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、第２の工程の変形例を示す断面図である。
【図９】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、第２の工程の変形例を示す断面図である。
【図１０】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、第２の工程の変形例を示す断面図である。
【図１１】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、光拡散部材を介在させて紫外光を照射し、第一の紫外線硬化性樹脂層を硬化させる（第３の工程）状態を示す断面図である。
【図１２】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、紫外光の照度を測定する工程を示す断面図である。
【図１３】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において得られた、パターン被膜付き磁気記録媒体を示す断面図である。
【図１４】本発明のパターン形成方法を用いた、ＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例における、磁気記録媒体の片面のみにパターン被膜を形成した、別の例を示す断面図である。
【図１５】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、第３の工程での照射の変形例を示す断面図である。
【図１６】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、第３の工程での照射の変形例を示す断面図である。
【図１７】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、第３の工程での照射の変形例を示す断面図である。
【図１８】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、第２及び第３の工程を同時に行う例を示す断面図である。
【図１９】本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントによるパターン被膜付き磁気記録媒体の製造工程の例において、第２及び第３の工程を同時に行う別の例を示す断面図である。
【図２０】本発明を適用したディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程の一部を示す断面図である。
【図２１】本発明を適用したディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程の一部を示す断面図である。
【図２２】本発明を適用したディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程の一部を示す断面図である。
【図２３】本発明を適用したディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程の一部を示す断面図である。
【図２４】本発明を適用したディスクリートトラック式磁気記録再生装置の一例を示す斜視図である。
【図２５】図２４に示す磁気記録再生装置が備えるヘッドジンバルアセンブリを示す斜視図である。
【図２６】実施例におけるディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程で用意された積層フィルムを示す斜視図である。
【図２７Ａ】実施例におけるディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程に使用される、マザースタンパを示す斜視図である。
【図２７Ｂ】前記マザースタンパのパターンを示す部分拡大図である。
【図２８】実施例におけるディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程の一部である、レプリカモールドを得るための加圧工程を示す断面図である。
【図２９】実施例におけるディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程の、レプリカモールドを得るための紫外線照射工程を示す断面図である。
【図３０】実施例におけるディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程の、レプリカモールドの断面図である。
【図３１】実施例におけるディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程の、レプリカモールドが紫外線硬化性樹脂層に圧着された状態を示す断面図である。
【図３２】実施例におけるディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造工程の、光拡散部材を介在させて紫外光を照射して紫外線硬化性樹脂層を硬化させた状態を示す断面図である。
【符号の説明】
【００１１】
１    磁気記録媒体
２    非磁性基板
３    磁性層
４    保護層
５    紫外線硬化性樹脂層
５ａ    パターン被膜
６    ワーク
７    第一のモールド
７Ａ    パターン
８    ステージ
８ａ    紫外光拡散ステージ
９    つかみ治具
１０    ガイドピン
１１    チャック溝
１２    オモリ
１２ａ    紫外光拡散オモリ
１３    溝
１４    ガイドレール
１５    押し板
１５ａ    紫外光拡散押し板
１６    ローラー
１７    紫外光源
１８    紫外光拡散部材
１９    紫外線照度計センサー部
２０    ライトガイド
２１    非磁性基板
２２    磁性層
２３    保護層
２４    パターン被膜
２５    磁気記録媒体
２６    非磁性材料
２７    保護層
２８    ディスクリートトラック式磁気記録媒体
２９    媒体駆動部
３０    ヘッドジンバルアセンブリ
３１    磁気ヘッド
３２    ヘッド駆動部
３３    記録再生信号系（記録再生信号処理手段）
４１    サスペンションアーム
４２    ヘッドスライダ
４３    信号線
５０    フィルム
５１    紫外線硬化性樹脂層
５２    積層フィルム
５３    円板
５４    パターン
５５    マザースタンパ
５６    合成石英板
５７    ステンレス板
５８    拡散板
５９    紫外線照射機
６０    パターン部
６１    レプリカモールド
６２    磁気記録媒体
６３    塗膜
６４    合成石英板
６５    拡散板
６６    紫外線照射機
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明は、紫外線硬化性樹脂にインプリント法を用いて所定のパターンを形成するパターン形成方法、このパターン形成方法を用いたディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造方法、並びにこの製造方法により製造された磁気記録媒体を搭載したディスクリートトラック式磁気記録再生装置に関する。以下、本発明を適用したパターン形成方法、ディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造方法、及びディスクリートトラック式磁気記録再生装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。また本発明はこれら例のみに限定されることはなく、例えば、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更（数、位置、サイズなど）が可能である。【００１３】
（パターン形成方法）
先ず、本発明を適用したパターン形成方法の一例について説明する。
本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントの方法は、例えばパターン被膜付き磁気記録媒体の製造に適用することができる。【００１４】
前記パターン被膜付き磁気記録媒体の製造に適用するには、具体的には、先ず、図１に示すように、基材としての磁気記録媒体１を用意する。ここで用いる磁気記録媒体１は特に制限はなく必要に応じて選択できる。例えば、中心に中心孔２ａを有する非磁性基板２の両面に、磁性層３や保護層４が形成されているものを挙げることができる。磁性層３の数や種類は必要に応じて選択できる。磁性層３は、面内磁気記録層や垂直磁気記録層であってもよい。保護層も必要に応じて選択してよい。磁気記録媒体１は、非磁性基板２の両面に磁性層３及び保護層４が形成されているものに限らず、非磁性基板２の片面のみに磁性層３及び保護層４が形成されているものであってもよい。非磁性基板の厚みは磁気記録媒体(ディスク)の大きさによっても異なり必要に応じて選択できるが、０．２〜１．６ｍｍであることが好ましく、０．２〜１．４ｍｍであることがより好ましい。
面内磁気記録媒体用の磁気記録層としては、例えば、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層からなる積層構造が利用できる。垂直磁気記録媒体用の磁気記録層としては、例えば、軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、及びＦｅＣｏＺｒＢＣｕなど）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ，及びＦｅＴａＣなど）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ，ＣｏＺｒＮＢ，及びＣｏＢなど）等からなる裏打ち層と、Ｐｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、及びＮｉＦｅＣｒなどの配向制御膜と、必要によりＲｕ等の中間膜、及び７０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や、９０（８０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ）／１０ＳｉＯ２合金からなる磁性層を積層した物を利用することができる。
磁気記録層の厚さは必要に応じて選択されるが、一般的には３〜２０ｎｍ、好ましくは５〜１５ｎｍ以下である。磁気記録層は使用する磁性合金の種類と積層構造に合わせて、十分なヘッド出入力が得られるように形成すれば良い。磁性層の膜厚は再生の際に一定以上の出力を得るにはある程度以上の磁性層膜厚が必要であり、一方で記録再生特性を表す諸パラメーターは出力の上昇とともに劣化するのが通例である。このため、最適な膜厚に設定する必要がある。通常、磁気記録層はスパッタ法により薄膜として形成されるが、例えばこの時、磁気記録層に凹凸形状が形成される。
磁気記録層の表面には保護膜層が形成されている。保護膜層としては、炭素（Ｃ）、水素化炭素（ＨｘＣ）、窒素化炭素（ＣＮ）、アモルファスカーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）等の炭素質層や、ＳｉＯ２，ＺｒＯ２，Ｔｉ３Ｎ４など、通常用いられる保護膜層材料を用いる事ができる。また、保護膜が２層以上の層から構成されても良い。
保護膜３の膜厚は必要に応じて選択されるが、好ましくは１０ｎｍ未満である。保護膜の膜厚が１０ｎｍを超えると、ヘッドと磁性層との距離が大きくなり、十分な出入力信号の強さが得られなくなる場合がある。
通常、保護膜層はスパッタ法により形成されるが、この時、前述の凹凸に倣って凹凸を有する保護膜が形成される。また凹部の保護膜の厚さは凸部の保護層の厚さよりも大きくなる傾向がある。【００１５】
次に、図２に示すように、磁気記録媒体１の上に、第一の紫外線硬化性樹脂層５を形成し、ワーク６を作製する（以下、第１の工程という。）。ここで用いる紫外線硬化性樹脂５には、特に制限はなく必要に応じて選択できる。適用可能な紫外線硬化性樹脂の具体例としては、（メタ）アクリロイル基、ビニルエーテル基、Ｎ−ビニルアミド基、ビニルエステル基、スチリル基（芳香族ビニル基）、オキセタニル基、グリシジル基、および／またはシクロヘキセンオキサイド基などの、硬化性基を持つ化合物を含む樹脂組成物が挙げられる。中でも、（メタ）アクリロイル基、オキセタニル基、および／またはシクロヘキセンオキサイド基など硬化の速い硬化性基を持つ化合物を含む樹脂組成物などを好ましく用いることができる。
【００１６】
（メタ）アクリロイル基を持つ化合物の例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸−ｎ−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸−ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸−ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシブチルなどの脂肪族モノ（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシフェニルエチルなどの芳香族モノ（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリンなどの（メタ）アクリルアミド、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどの脂肪族多官能（メタ）アクリレート；エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡ（メタ）アクリレートなどの芳香族多官能（メタ）アクリレート；２−トリフルオロメチルプロペン酸トリフルオロエチルエステル、２−トリフルオロメチルプロペン酸ｔ−ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２，２，２−トリフルオロエチル、（メタ）アクリル酸２，２，３，３−テトラフルオロプロピル、（メタ）アクリル酸１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチルなどの含フッ素（メタ）アクリレートなどのモノマーを挙げることができる。さらに、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、Ｎ−グリシジル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡのノボラック型エポキシ樹脂、キレート型エポキシ樹脂、グリオキザール型エポキシ樹脂、アミノ基含有エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノリック型エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、ε−カプロラクトン変性エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂に、(メタ)アクリル酸を付加させたいわゆるエポキシ（メタ）アクリレート、各種のウレタン（メタ）アクリレートなどを例として挙げることができる。【００１７】
一方、ビニルエーテル基を持つ化合物の例としては、２−エチルヘキシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、９−ヒドロキシノニルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテルなどの脂肪族モノビニルエーテル；シクロヘキシルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、トリシクロデカニルビニルエーテルなどの脂環式モノビニルエーテル；１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテルなどの脂肪族ジビニルエーテル；シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリシクロデカンジメタノールジビニルエーテル、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジビニルエーテルなどの脂環式ジビニルエーテル；トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテルなどを挙げることができる。【００１８】
一方、Ｎ−ビニルアミド基を持つ化合物の例としては、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルピロリドンなどが挙げられる。【００１９】
一方、シクロヘキセンオキサイド基を持つ化合物の例としては、シクロヘキセンオキサイド及びその誘導体である、３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボン酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、リモネンダイオキサイド、ビニルシクロヘキセンオキサイド、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアジペート）、エポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス−（３−シクロヘキセニルメチル）修飾ε−カプロラクトン、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロへキサン付加物、３，４−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルエステル、３，４−エポキシシクロヘキサン−１−メチル−１−カルボン酸アリルエステル等が挙げられる。グリシジル基を有する化合物の例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、Ｎ−グリシジル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡのノボラック型エポキシ樹脂、キレート型エポキシ樹脂、グリオキザール型エポキシ樹脂、アミノ基含有エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノリック型エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、ε−カプロラクトン変性エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂が挙げられる。オキセタニル基を有する化合物の例としては、東亞合成（株）社製商品名アロンオキセタンシリーズ、宇部興産（株）製商品名ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ  ＯＸＥＴＡＮシリーズなどのオキセタン樹脂などを挙げることができる。【００２０】
この他にも、ＰＡＫ−０１（東洋合成工業（株）製）、ＮＩＦ−Ａ−１（旭硝子（株）製）など市販のナノインプリント用ＵＶ硬化性樹脂を用いてもよい。また、これらの紫外線硬化性樹脂を、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。さらに、これらの紫外線硬化性樹脂を基材に塗布する際には、必要に応じて一つ以上の材料を加えても良く、例えば、光重合開始剤および増感剤のほか、表面調整剤、粘度調整剤、及び溶媒などを加えてもよい。【００２１】
また、紫外線硬化性樹脂５は、後述するパターンの転写性の観点から、溶媒乾燥後の室温での粘度が１００００ｍＰａ・ｓ以下であるものが好ましい。また紫外線硬化性樹脂層の厚さは、３０〜３００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍである事がより好ましい。【００２２】
紫外線硬化性樹脂層５の形成方法としては、特に制限はない。例えば、スピンコート、ディップコート、スプレーコート、インクジェット印刷などの方法を用いることができ、用いる紫外線硬化性樹脂５の粘度などの条件に応じて適宜選択される。【００２３】
次に、パターン形成面を有する、第一のモールド７を一つ以上用意する。モールドの数や形状などは必要に応じて選択できる。前記パターン形成面には、後述するディスクリートトラック式磁気記録媒体の非磁性部に相当する凸部分及び磁性部に相当する凹部分を有する、パターン７Ａが形成されている。そして、図３に示すように、ワーク６の両面に、第一の紫外線硬化性樹脂層５にパターン７Ａを対向させた第一のモールド７を上下に配する。これをステージ８の上に載置し、ワーク６と第一のモールド７とを圧着させる（以下、第２の工程という。）。圧着方法や条件は必要に応じて選択される。【００２４】
ステージ８は、ワーク６及び第一のモールド７を安定に保持することができるものであれば、材質及び形状などについて特に制限されない。例えば、ステージ８は、図４に示すようなモールド７をチャックするためのつかみ冶具９を有するステージや、図５に示すようなワーク６及び第一のモールド７に設けられた中心孔６ａ，７ａにガイドピン１０を通してワーク６及び第一のモールド７を固定するステージ、及び／又は、図６に示すようなステージ８にワーク６を真空チャックするためのチャック溝１１が設けられたステージであってもよい。【００２５】
第一のモールド７には、ＵＶナノインプリントの際に照射する紫外光を２０％以上透過する材料を用いることが好ましい。例えば、石英、ガラス、シクロオレフィンポリマー（日本ゼオン製商品名ゼオノアなど）、シクロオレフィンコポリマー（三井化学製商品名アペル、ポリプラスチックス製商品名ＴＯＰＡＳなど）、ポリエチレンテレフタレート、及びポリ（４−メチル−ペンテン−１）、ポリカーボネート等の材料から形成されるモールドを用いることができる。また、これらの材料は、モールドの形成のために、単独で用いることもできるし、複数を混合したり、あるいは、これらを２層以上に積層して、用いることもできる。第一のモールド７の好ましい厚さは１０〜１０００μｍであり、より好ましくは２５〜５００μｍである。【００２６】
また、第一のモールド７は、樹脂製シートの上に第二の紫外線硬化性樹脂層を形成し、この第二の紫外線硬化性樹脂層の表面に上記パターン７Ａを形成する事により得る事ができる。例えば、上記パターン７Ａとは逆のパターンを有する第二のモールドを、第二の紫外線硬化性樹脂層の表面に逆のパターンが接するように圧着させることにより、当該パターンを転写させたものを、パターン７Ａとして用いることができる。なお逆のパターンとは凹凸が反対であることを意味している。よって、パターン７Ａの形状に対応していること、すなわち同じ形状を有しかつ逆のパターンとパターン７Ａと重ね合わせた時にぴったり一致する鋳型の関係であることを意味する。なおモールドのパターンは、必要に応じて選択できるが、一例を挙げると、パターンの凸や凹部の幅は２０〜２００ｎｍであることが好ましく、３０〜１５０ｎｍがより好ましい。凸凹の高さ差は４０〜１５０ｎｍであることがより好ましく、６０〜１００ｎｍであることがより好ましい。【００２７】
具体例としては、ワーク６の表面のうねりに追従しやすく、モールドパターンの精度が高いことなどから、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー、ポリエチレンテレフタレート、ポリ（４−メチル−ペンテン−１）、及びポリカーボネートなどの樹脂製シートの上に、第二の紫外線硬化性樹脂を塗布し、ＵＶナノインプリント法でマザースタンパ（第二のモールド）を圧着させ、そのパターンを前記樹脂に転写したものを、第一のモールド７として用いることが好ましい。このマザースタンパのパターンは、第一のモールド７のパターン７Ａと凹凸が逆のパターンを有している。【００２８】
また、樹脂製シートの厚みは必要に応じて選択できるが、１０μｍ以上１ｍｍ以下とすることが、ハンドリングや、ワーク６の表面への追従性の観点から好ましい。第二の紫外線硬化性樹脂の厚みも必要に応じて選択できるが、１μｍ以上１００μｍ以下とすることが、マザースタンパのパターンを転写する際の精度などの観点から好ましい。【００２９】
第二の紫外線硬化性樹脂としては、上述した第一の紫外線硬化性樹脂５と同様のものを使用することができる。また、樹脂製シートの上に第二の紫外線硬化性樹脂を塗布した後、長期に保管しておくような場合には、固体、もしくは室温での粘度が１０００００ｍＰａ・ｓ以上、好ましくは５０００００ｍＰａ・ｓ以上、の樹脂を質量比で５０％以上、好ましくは７０〜１００％、含むことが、第二の紫外線硬化性樹脂にとって好ましい。また、製造した樹脂製レプリカモールドのパターンの精度が特に重視されるような場合には、室温での粘度が５００００ｍｍＰａ・ｓ以下、好ましくは３０００〜３００００ｍＰａ・ｓ、の液状の樹脂を用いることが好ましい。なお、液状の樹脂の粘度は、例えば回転粘度計を用いて測定することができる。【００３０】
ワーク６と第一のモールド７を圧着させる部材としては特に制限はない。例えば、手で押さえる方法や、図７に示すようなオモリ１２を載せる方法、図８に示すようなステージ８に圧縮空気を吹きつける溝１３を設けて圧縮空気により圧着させる方法、図９に示すようなガイドレール１４に沿って上下することのできる押し板１５を備えたプレス装置で押さえ付ける方法、及び図１０に示すようなローラー１６で押さえ付ける方法などを用いることができる。【００３１】
ここで、第一のモールド７をワーク６に押し当てる際の圧力は、第一のモールド７の素材や形状、ワーク６側の基材の素材や形状、第一の紫外線硬化性樹脂５の種類などの条件によって異なる。０Ｐａより大きく、５０Ｍｐａ以下とすることが好ましい。より好ましくは、０．００１〜３Ｍｐａである。全く圧力をかけないとワーク６の表面と第一のモールド７が平行にならず、第一の紫外線硬化性樹脂５と第一のモールド７が接触しない部分ができたり、パターン７Ａの形成面がワーク６の基材表面と平行にならず、斜めになったりするおそれがあり、また、圧力が大きすぎると第一のモールド７が変形し、転写の精度が落ちるおそれがある。【００３２】
次に、図１１に示すように、ステージ８の上に紫外光（ＵＶ）を照射する紫外光源１７を配置する。
この紫外光源１７と第一のワーク６との間には、紫外光（ＵＶ）を拡散させる光拡散部材１８を介在させる。光拡散部材１８により拡散された紫外光（ＵＶ）を第一のモールド７を介して第一の紫外線硬化性樹脂層５に照射する。そして、上側の第一の紫外線硬化性樹脂層５を硬化させる。この後、ワーク６と第一のモールド７を圧着させた状態のまま上下を反転させる。そして同様に、拡散された紫外光を照射することにより、反転により上側に来た第一の紫外線硬化性樹脂層５を硬化させる。以上の方法によって、第一のモールド７のパターン７Ａを、第一の紫外線硬化性樹脂層５に転写する（以下、第３の工程という。）。【００３３】
光拡散部材１８は、必要に応じて選択できる。例えば、市販の拡散板やフライアイレンズなどを用いることができる。拡散板には大別して、（ｉ）石英、ガラス、及び樹脂などの板又はシートの表面に微細な凹凸を形成して光を拡散させるタイプと、（ｉｉ）前記のような板又はシートのマトリックス中にマトリックスとは異なる屈折率の微粒子を分散させることにより光を拡散させるタイプと、（ｉｉｉ）前記のような板又はシートの表面に光を散乱させることのできる塗膜を形成することにより、光を散乱させるタイプとがあるが、何れを用いても構わない。光拡散部材１８の厚さは、０．５〜５ｍｍが好ましく、１〜３ｍｍであることがより好ましい。またサイズはワークサイズよりも大きいことが好ましい。光拡散部材１８のその他の特性としては、波長が２５０ｎｍから４００ｎｍの全ての領域で紫外光の透過率が高い事が好ましい。樹脂の場合は３５０ｎｍ以下の光線透過率が概して小さいので、例えば３８０ｎｍにおける光拡散部材１８の光線透過率では、１０〜９５％であることが好ましく、より好ましくは４０〜９５％である。また熱線である８００ｎｍ以上の赤外光は、ワーク６や第一モールド７の温度上昇に伴う変形をまねかないように、その透過率は低い事が好ましい。【００３４】
また、これらの光拡散部材１８は、１つを用いてもあるいは複数個を用いてもよい。第一のモールド７に、紫外光（ＵＶ）を拡散させる機能を持たせて用いてもよい。紫外光（ＵＶ）を拡散することのできる第一のモールド７としては、パターン７Ａが形成されたパターン形成面とは反対側の面に、微細な凹凸や、光を散乱させることができる塗膜等を形成したものなどを挙げることができる。【００３５】
紫外光源１７の例としては、第一の紫外線硬化性樹脂層５を硬化させることのできる光源であれば特に制限はなく使用できる。紫外光（ＵＶ）とともにワーク６に照射される熱線の影響を小さくする観点から、発光ダイオード式又は連続パルス発光式のものを用いることが好ましい。前者は紫外光（ＵＶ）と同時に熱線を放射せず、後者は熱線が間欠的にしか放射されない。このため、紫外光（ＵＶ）の照射中に、ワーク６や第一のモールド７が温度による変形を起こしにくいという特徴がある。なお照度は必要に応じて選択できるが、好ましくは５０〜３０００ｍｊ／ｃｍ２程度、より好ましくは１００〜１０００ｍｊ／ｃｍ２である。【００３６】
また、紫外光源１７の形状は必要に応じて選択できる。市販のスポット光源やランプユニットなどでもよい。発光ダイオード式のものを用いる場合にはワーク６の形状などに合わせて発光ダイオード素子を配置した専用光源を作製して用いてもよい。さらに、これらの紫外光源１７は単独で又は複数用いてもよい。異なる種類の光源を組み合わせて用いてもよい。ただし、ワーク６が受ける紫外光（ＵＶ）の照度がなるべく均一になるように配置する事が好ましい。【００３７】
また、紫外光源１７の温度が上がりすぎると、寿命が著しく短くなり、経済的でない。
なお、ワーク６が受ける紫外光（ＵＶ）の照度は、例えば図１２に示すように測定することができる。ＵＶナノインプリント時にワーク６を配置する位置に、ワーク６の代わりに、紫外線照度計のセンサー部１９を配置する。そして、紫外光源１７を点灯させることにより、前記センサーにて測定することができる。紫外線照度計の位置は必要に応じて移動できる。【００３８】
本発明において、ワーク６と紫外光源１７、あるいは第一のモールド７と紫外光源１７との距離には特に制限はない。しかしながら、発光ダイオード素子や周辺の配線からの発熱が伝わらないよう、１ｍｍ以上間隔をあけることが好ましい。第一のモールド７やワーク６に熱が伝わると、パターン７Ａが変形し、精度良く転写できない可能性がある。
また紫外光源１７から光拡散部材１８の距離も必要に応じて選択できるが、５〜３００ｍｍが好ましく、１０〜１００ｍｍがより好ましい。また光拡散部材１８から第一の紫外線硬化性樹脂層５までの距離も必要に応じて選択できるが、光拡散部材１８を別途設ける場合、１００〜５００ｍｍが好ましく、１００〜３００ｍｍであることがより好ましい。【００３９】
本発明において、紫外線照射を行う雰囲気には特に制限はない。しかしながら、磁気記録媒体１上に塗布した紫外線硬化性樹脂５が、ラジカル硬化性のものである場合には、窒素などの不活性ガスで置換することが好ましい。一方、カチオン硬化性のものである場合には、乾燥空気などで置換することが好ましい。前述のような場合には、硬化速度を上げることができる。また、真空雰囲気（減圧雰囲気）下で紫外線照射を行うことも、ボイドを無くし、硬化速度を上げる効果がある。【００４０】
次に、図１３に示すように、ワーク６からモールド７を離型して、パターン被膜５ａ付き磁気記録媒体１を得る。なお本例では、このパターン被膜５ａは、ディスクリートトラック式磁気記録媒体を製造した際には非磁性部に相当する部分が凹、磁性部に相当する部分が凸となっている。【００４１】
以上のように、本発明のパターン形成方法を用いることで、磁気記録媒体１上に、硬化収縮度の違いによるパターンの歪みや、離型不良などの欠陥が少なく、各種プロセスに対する耐性がどの部位をとっても均一な、パターン被膜５ａを形成することができ、その結果、歩留まり、加工精度とも良好なパターン被膜付き磁気記録媒体を製造することができる。【００４２】
なお、本発明のパターン形成方法は、上記実施形態のものに必ずしも限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施形態では、図３に示されるように、ステージ８上に、磁気記録媒体１の両面に第一の紫外線硬化性樹脂層５を形成した１つのワーク６と、それを挟む２つの第一のモールド７と、を配置している。また図１１に示すように、これら第一のモールド７をワーク６に圧着させた後、紫外光源１７から紫外光を照射している。しかしながら、本発明のＵＶナノインプリントの方法はこれらのみに限定されるものではない。【００４３】
他の実施形態としては、図１４に示す例が挙げられる。図１４では、磁気記録媒体１の片面のみに第一の紫外線硬化性樹脂層５を形成したものをワーク６Ａとして用いる。第一の紫外線硬化性樹脂層５を形成した側のみに第一のモールド７を配置して、ＵＶナノインプリントを行ってもよい。これにより、磁気記録媒体１の片面のみに、パターン被膜５ａを形成した磁気記録媒体１を得ることができる。すなわち、本発明では、磁気記録媒体１の両面にパターン被膜５ａを形成したものに限られず、磁気記録媒体１の片面にパターン被膜５ａを形成したものであってもよい。【００４４】
紫外光（ＵＶ）の照射方法としては、例えば、図１５〜１８に示す例が挙げられる。図１５に示すように、ワーク６の側方に、上記紫外光源１７及び上記光拡散部材１８を配置し、横方向から拡散された紫外光（ＵＶ）をワーク６に照射してもよい。図１６に示すように、紫外光（ＵＶ）を拡散するステージ８ａを用い、ステージ８ａの下方に配置された紫外光源１７によって照射を行い、下方から拡散された紫外光（ＵＶ）をワーク６に照射してもよい。図１７に示すように、紫外光源１７から出射された紫外光（ＵＶ）をライトガイド２０により光照射部材１８へと導くと共に、この光照射部材１８を介する事によりワーク６に拡散された紫外光（ＵＶ）を照射してもよい。これらを組み合わせても良い。【００４５】
上記実施形態では、ワーク６と第一のモールド７とを圧着させる第２の工程の後に、拡散された紫外光（ＵＶ）をワーク６に照射する第３の工程を行っている。しかしながら、このような第３の工程を第２の工程と同時に行ってもよい。例えば、図１８に示すように、表面に微小な凹凸を有し、紫外光（ＵＶ）を拡散する石英板等のオモリ１２ａを、第一のモールド７とワーク６に載せたまま、ワーク６に拡散された紫外光（ＵＶ）を照射してもよい。また図１９に示すように、ガイドレール１４に沿って上下すると共に紫外光（ＵＶ）を拡散する押し板１５ａを備えたプレス装置を用い、押し板１５ａを介して拡散された紫外光（ＵＶ）をワーク６に照射してもよい。【００４６】
（ディスクリートトラック式磁気記録媒体の製造方法）
次に、ディスクリートトラック式磁気記録媒体を製造する手順の一例について説明する。
ディスクリートトラック式磁気記録媒体を製造する際は、先ず、図２０に示すような、パターン被膜２４付き磁気記録媒体２５を用意する。この磁気記録媒体２５には、非磁性基板２１の上に磁性層２２及び保護層２３を形成した磁気記録媒体２５上に紫外線硬化性樹脂を塗布し、この塗布膜に、本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントを行う事により、所定のパターンが転写されている。
次に、図２１に示すように、パターン被膜２４をマスクとして、ドライエッチングなどの方法で保護層２３及び磁性層２２を部分的に除去する。
次に、図２２に示すように、アッシングなどの方法で、パターン被膜２４及び保護層２３を剥離する。
次に、図２３に示すように、磁性層２２に形成された凹部２２ａを非磁性材料２６で埋め表面全体を平坦にし、磁性層２２上に新たな保護層２７を積層する。
以上の工程を経ることにより、本発明のディスクリートトラック式磁気記録媒体２８を得ることができる。【００４７】
以上のように、本発明のパターン形成方法を用いたＵＶナノインプリントを行って、本発明のディスクリートトラック式磁気記録媒体を作製する手順の一例について説明した。しかしながら、本発明は、このような手順に必ずしも限定されない。【００４８】
例えば、非磁性基板の上に磁性層及び保護層を形成した磁気記録媒体２５を用意する。この上に金属などのマスク層を形成し、更にこの上に紫外線硬化性樹脂を塗布する。その後、本発明のＵＶナノインプリントの方法を用いて紫外線硬化性樹脂によるパターン被膜２４を形成し、形成したパターン被膜２４をマスクとしてマスク層をパターニングする。そしてパターニングされたマスク層を利用して、磁性層２２のパターニングを行ってもよい。【００４９】
また本発明では、磁性層２２を部分的に除去することによりトラック領域同士を分離する方法以外を用いても良い。例えば、磁気記録媒体２５の上に本発明のＵＶナノインプリントの方法で形成したパターン被膜２４をマスクとして、例えば特開２００７−２７３０６７号公報に開示されているように磁性層２２の一部にイオンビーム法などによりケイ素、ホウ素、フッ素、リン、タングステン、炭素、インジウム、ゲルマニウム、ビスマス、クリプトン、アルゴンなどの原子を注入し、磁性部が非晶質化された領域を作って、トラック領域間を分離してもよい。【００５０】
（磁気記録再生装置）
次に、本発明を適用した磁気記録再生装置（ＨＤＤ）について説明する。
例えば図２４に示す本発明を適用した磁気記録再生装置は、上記図２３に示すディスクリート型磁気記録媒体２８と、これを記録方向に駆動する媒体駆動部２９と、ヘッドジンバルアセンブリ３０に取り付けられた磁気ヘッド３１と、磁気ヘッド３１をディスクリート型磁気記録媒体２８に対して相対運動させるヘッド駆動部３２と、磁気ヘッド３１への信号入力と磁気ヘッド３１からの出力信号再生とを行うための記録再生信号系３３（記録再生信号処理手段）とを具備したものである。【００５１】
ヘッドジンバルアセンブリ３０は、図２５に示すように、金属製の薄板からなるサスペンションアーム４１と、サスペンションアーム４１の先端側に設けられたヘッドスライダ４２と、ヘッドスライダ４２上に設けられた上記磁気ヘッド３１と、信号線４３によって導電接続された制御部材（図示せず。）とを有する。【００５２】
磁気ヘッド３１は、ヘッドスライダ４２の斜面が形成されているリーディング側とは反対側のトレーディング側にあるディスクリート型磁気記録媒体２８に近い部分に配置されている。
磁気ヘッド３１は、記録部と再生部とからなる。磁気ヘッド３１は必要に応じて選択して良い。例えば、再生素子として巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ；Ｇｉａｎｔ  Ｍａｇｎｅｔｏ  Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）を利用したＭＲ（ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）素子などを有するヘッドだけでなく、トンネル磁気抵抗効果（ＴＭＲ；Ｔｕｎｎｅｌ−ｔｙｐｅ  Ｍａｇｎｅｔｏ  Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）を利用したＴＭＲ素子などを有する、高記録密度に適したヘッドも用いることができる。また、ＴＭＲ素子を用いることによって、さらなる高密度記録化が可能となる。【００５３】
以上のように構成される磁気記録再生装置は、本発明を適用したディスクリート型磁気記録媒体２８を備えたものであるので、磁気ヘッド３１の浮上量を低減させることができ、安定性が高く、記録密度の高いものとなる。【００５４】
例えば、磁気ヘッド３１の浮上量を従来よりも低い０．００５μｍ〜０．０２０μｍの高さで浮上させると、出力が向上して高い装置ＳＮＲが得られ、大容量で信頼性の高い磁気記録装置を提供できる。【００５５】
また、この磁気記録再生装置は、磁性層からなる凸部と凹状の分離領域とからなるパターンが設けられたディスクリート型磁気記録媒体２８を備える。よって、隣接トラックからの影響を受けにくく、記録を幅広く実行して再生を記録時よりも狭く実行しなくても、再生ヘッド幅と記録ヘッド幅とをほぼ同じ幅にして動作させることができる。したがって、この磁気記録再生装置では、再生ヘッド幅を記録ヘッド幅よりも狭くした場合と比較して、高い再生出力と高い信号対雑音比（ＳＮＲ）とが得られる。【００５６】
また、この磁気記録再生装置において、磁気ヘッド３１の再生部をＧＭＲヘッドあるいはＴＭＲヘッドで構成することにより、高記録密度においても十分な信号強度が得られ、高記録密度を持った磁気記録再生装置となる。【００５７】
また、この磁気記録再生装置に、最尤復号法による信号処理回路を組み合わせた場合には、更に記録密度を向上でき、例えば、トラック密度１００ｋトラック／インチ以上、線記録密度１０００ｋビット／インチ以上、及び１平方インチ当たり１００Ｇビット以上の記録密度で記録・再生する場合にも、十分なＳＮＲが得られる。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかにする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。【００５９】
＜樹脂製レプリカモールドの作製＞
本実施例では、先ず、図２６に示すように、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製、商品名：コスモシャインＡ４１００、１００μｍ厚）を切り抜いて作製した直径７０ｍｍ、孔径１２ｍｍの中心孔５０ａを有する円板状フィルム５０の易接着面に、ＵＶナノインプリント用液状樹脂（旭硝子製、商品名：ＮＩＦ−Ａ−１）をバーコーターで塗布して厚み約１０μｍ紫外線硬化性樹脂層５１を形成して、積層フィルム５２を得た。【００６０】
次に直径６５ｍｍ、厚さ０．３ｍｍ、孔径１２ｍｍの中心孔５３ａを有するＮｉ製の円板５３を用意し、その上に図２７Ａに示すようにパターン５４を形成した、マザースタンパ５５を用意する。パターン５４は、円板５３の表面上であって、外径４４ｍｍ及び内径１８ｍｍの、２つの同心円から形成される範囲５３ｂとして形成される。パターン５４は、図２７Ｂで示されるような、幅１２０ｎｍの凸部５４ａ、幅８０ｎｍの凹部５４ｂ、及び凹凸高さの差８０ｎｍ、を有する同心円状のパターンである。【００６１】
そして、図２８に示すように、このマザースタンパ５５のパターン５４が形成された面を上にし、先に作製した積層フィルム５２の紫外線硬化性樹脂層５１を下にして、互いの中心孔５３ａ，５０ａを一致させた状態で、対向させた。またこれを、更に２枚の合成石英板（信越化学工業製、商品名：ＶＩＯＳＩＬ）５６で挟み込んだ。そしてこれをそのまま、幅及び奥行８０ｍｍ、厚み５ｍｍのステンレス板５７の上に載せて保持し、合成石英板の自重で加圧した。【００６２】
次に、図２９に示すように、合成石英板５６、積層フィルム５２、マザースタンパ５５、及び合成石英板５６を上からこの順で重ねたまま、これを、紫外線照射窓の下に拡散板（Ｌｕｍｉｎｉｔ，ＬＬＣ（ＵＳＡ）製、商品名：石英ゾルゲルＬＳＤ(ＵＶＳＰ））５８を取り付けた、紫外線照射機（松下電工製、商品名：ＬＥＤ−Ａｉｃｕｒｅ）５９の拡散板５８の下に置き、照度３５ｍＷ／ｃｍ２の紫外光を３０秒間照射した。【００６３】
次に、積層フィルム５２をマザースタンパ５５から分離し、図３０に示すように、マザースタンパ５５のパターン５４を反転した形状のパターン部６０を有するレプリカモールド６１を得た。【００６４】
＜磁気記録媒体に塗布する紫外線硬化性樹脂溶液の調製＞
次に、オキセタニル基含有シルセスキオキサン樹脂（東亞合成製、商品名：ＯＸ−ＳＱ−Ｈ）６．５ｇに光カチオン重合開始剤（サンアプロ製、商品名：ＣＰＩ−１００Ｐ）を０．２０ｇ、増感剤として９，１０−ジブトキシアントラセンを０．１０ｇ、及び溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを９３．２ｇ加え、暗室中でミックスローターを用いて６０ｒｐｍで１２時間かけて分散し、紫外線硬化性樹脂溶液Ａを調製した。【００６５】
＜磁気記録媒体上でのＵＶナノインプリント＞
次に、直径４８ｍｍ、厚み０．６ｍｍ、孔径１２ｍｍの中心孔を有する円板状のガラス基板の片面に、垂直記録型磁性層及び保護層を成膜した磁気記録媒体６２を用意する。そして、この磁気記録媒体６２の片面に、先に調製した紫外線硬化性樹脂溶液Ａを厚み約６０ｎｍになるようにスピンコートにより塗布する。塗布後に、図３１に示すように、この紫外線硬化性樹脂溶液Ａの塗膜６３の上に、先に作製したレプリカモールド６１をパターン部６０を下にして対向させて配置したものを、２枚の合成石英板（信越化学工業製、商品名：ＶＩＯＳＩＬ）６４で挟んで保持し、合成石英板の自重で加圧されるようにした。【００６６】
次に、図３２に示すように、合成石英板６４、レプリカモールド６１、磁気記録媒体６２、及び合成石英板６４をこの順で重ねたまま、紫外線照射窓の下に拡散板（Ｌｕｍｉｎｉｔ，ＬＬＣ（ＵＳＡ）製、商品名：石英ゾルゲルＬＳＤ（ＵＶＳＰ））６５を取り付けた紫外線照射機６６の下に置き、３０秒間紫外線を照射した。【００６７】
照射後、磁気記録媒体６２からレプリカモールド６１を離型し、磁気記録媒体６２上に形成されたパターン被膜を目視で確認したところ、転写不良、離型不良などの欠陥は確認されなかった。【００６８】
（比較例）
本比較例では、磁気記録媒体上でのＵＶナノインプリント工程において上記拡散板６５を紫外線照射機６６に取り付けず、紫外光を照射した以外は、実施例と同様に行った。その結果、パターン被膜が離型時に磁気記録媒体６２から剥がれてレプリカモールド６１に付いてしまう欠陥が５箇所確認された。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
基材に照射される紫外光の照度のバラつきを防ぎ、基材上の紫外線硬化性樹脂を均一に硬化することを可能としたパターン形成方法を提供できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７Ａ】
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【図２７Ｂ】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【国際調査報告】
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