(57)【要約】  本発明は、選択された領域に不純物ドープダイヤモンド半導体を埋め込んだダイヤモンド半導体装置及びその製造方法を提供することを課題とする。  ダイヤモンド基板に選択的に形成した凹所内に埋設された不純物ドープダイヤモンド領域を有するダイヤモンド半導体装置及び｛１００｝面ダイヤモンド半導体基板に、底面が｛１００｝面、側面が｛１１０｝面で囲まれた凹所を選択的に形成する工程と、不純物をドープしながらダイヤモンドを＜１１１＞方向へエピタキシャル成長させ該凹所を埋めることにより不純物ドープダイヤモンド領域を形成する工程とを含むダイヤモンド半導体装置の製造方法である。
2009128301.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイヤモンド基板に選択的に形成した凹所内に埋設された不純物ドープダイヤモンド領域を有するダイヤモンド半導体装置。
【請求項２】
前記ダイヤモンド基板は、不純物ドープダイヤモンド基板であることを特徴とする請求項１に記載のダイヤモンド半導体装置。
【請求項３】
前記ダイヤモンド基板は、基板上にダイヤモンド膜が形成されたダイヤモンド基板であることを特徴とする請求項１に記載のダイヤモンド半導体装置。
【請求項４】
前記ダイヤモンド基板の主表面は、｛１００｝面であり、前記凹所の側面は、｛１１０｝面であり、底面は｛１００｝面であることを特徴とする請求項１、２又は３に記載のダイヤモンド半導体装置。
【請求項５】
｛１００｝面ダイヤモンド半導体基板に、底面が｛１００｝面、側面が｛１１０｝面で囲まれた凹所を選択的に形成する工程と、不純物をドープしながらダイヤモンドを＜１１１＞方向へエピタキシャル成長させ該凹所を埋めることにより不純物ドープダイヤモンド領域を形成する工程とを含むダイヤモンド半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記不純物は、リンであることを特徴とする請求項５に記載のダイヤモンド半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ダイヤモンド半導体装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ダイヤモンドは、ワイドバンドギャップであり、熱伝導度が物質の中で最高、化学的安定性も高く、半導体装置への応用研究が遂行されている。ダイヤモンドを用いた半導体デバイスは、高温環境下、宇宙環境下でも安定に動作し、高速、高出力な動作にも耐え得るため、その必要性は高い。また、ダイヤモンドの特異な特徴を生かした深紫外線発光素子、電子放出源など、他の材料で成し得ない高性能な電子デバイスの作製が可能となる。【０００３】
ダイヤモンドを半導体装置の材料として利用するには、ｐ型又はｎ型の電気伝導制御が必要となる。ｐ型ダイヤモンド半導体は天然にも存在し、人工合成が比較的容易である。例えば、ダイヤモンドの化学気相成長（ＣＶＤ）の際に、チャンバー内にホウ素を含む化合物を不純物源として導入するとｐ型ダイヤモンド半導体が得られる。【０００４】
一方で、ｎ型ダイヤモンド半導体は、天然に存在せず、これまで人工合成が不可能であると考えられてきた。１９９７年に、｛１１１｝面ダイヤモンド単結晶基板にｎ型不純物としてリンをドープしながらダイヤモンドをエピタキシャル成長させることで得られるようになった（特許文献１）。しかしながら、当時、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板上へ特許文献１のような合成条件でｎ型不純物をドープしながらダイヤモンドをエピタキシャル成長させると、ドーピング効率が非常に低く、ｎ型不純物がほとんど取り込まれず導電性が得られないという問題点があった。【０００５】
｛１１１｝面ダイヤモンド単結晶基板は、高温高圧法や化学気相成長法において大面積で良質なものが得られず、低コスト化が望めないという問題点があった。一方で、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板は、大面積化が比較的容易であり、高品質なものが得られている。このため、電子デバイスの開発において、｛１００｝面でのｎ型ダイヤモンド半導体を成長する技術は必須となっていた。【０００６】
近年、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板へｎ型ダイヤモンド半導体を成長させる技術は大きく２つ提案されている。
（１）｛１００｝面を加工し、ダイヤモンド成長時のαパラメータ制御により｛１１１｝面を成長させ、｛１００｝面上に形成した｛１１１｝面へｎ型ダイヤモンド半導体を成長させる手法（特許文献２）。
（２） 特許文献１とは異なる合成条件で｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板上へ直接ｎ型不純物をドープしながらダイヤモンドをエピタキシャル成長させる手法（特許文献３）。【０００７】
これらの手法により基本的には、基板の面方位の制約無くｐ型、及びｎ型ダイヤモンド半導体を成長させることが可能となっている。現在これらの技術を基に、ｐｎ接合型、ｐｉｎ接合型などの半導体装置に関する研究開発が進展してきている。【０００８】
一般の半導体合成技術において、特定の場所に半導体を埋め込む技術や選択成長技術は非常に重要となる。シリコンを代表とする他の半導体材料は、イオン注入法によるｐ型、ｎ型半導体の合成が可能であり、イオン注入法により、選択的に埋め込み半導体領域の形成が可能となっている。一方で、ダイヤモンド半導体においては、イオン注入した際に発生する欠陥を熱処理により回復させることが困難なこと、注入した不純物が置換位置に取り込まれないことなどから、上記のような埋め込み半導体領域の作製は、事実上、不可能とされてきた。
【特許文献１】特開平１０−８１５８７号公報
【特許文献２】国際公開第２００３／１０６７４３号
【特許文献３】特開２００６−２４０９８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、選択された領域に不純物ドープダイヤモンド半導体を埋め込んだダイヤモンド半導体装置及びその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題は次のような手段により解決される。
（１）ダイヤモンド基板に選択的に形成した凹所内に埋設された不純物ドープダイヤモンド領域を有するダイヤモンド半導体装置。
（２）前記ダイヤモンド基板は、不純物ドープダイヤモンド基板であることを特徴とする（１）に記載のダイヤモンド半導体装置。
（３）前記ダイヤモンド基板は、基板上にダイヤモンド膜が形成されたダイヤモンド基板であることを特徴とする（１）に記載のダイヤモンド半導体装置。
（４）前記ダイヤモンド基板の主表面は、｛１００｝面であり、前記凹所の側面は、｛１１０｝面であり、底面は｛１００｝面であることを特徴とする（１）、（２）又は（３）に記載のダイヤモンド半導体装置。
（５）｛１００｝面ダイヤモンド半導体基板に、底面が｛１００｝面、側面が｛１１０｝面で囲まれた凹所を選択的に形成する工程と、不純物をドープしながらダイヤモンドを＜１１１＞方向へエピタキシャル成長させ該凹所を埋めることにより不純物ドープダイヤモンド領域を形成する工程とを含むダイヤモンド半導体装置の製造方法。
（６）前記不純物は、リンであることを特徴とする（５）に記載のダイヤモンド半導体装置の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
埋め込み半導体領域の形成技術及び選択成長技術は、半導体装置を作製する際に必須であり、その有無によって、半導体装置応用の幅が大きく異なってくる。
本発明のダイヤモンド半導体装置及びその製造方法によれば、選択された領域に不純物ドープダイヤモンド半導体を埋め込むことができる。【００１２】
例えば、デバイス開発において、金属と半導体を接合させた際の接触抵抗は、デバイスの性能に直接影響を及ぼすため、その低抵抗化が要求されている。
特に、｛１００｝面でのｎ型ダイヤモンド半導体において、従来技術では高濃度ドーピング（リン濃度１０２０ｃｍ−３以上）が行えないため、接触抵抗の低減が不可能であったが、本発明のダイヤモンド半導体装置及びその製造方法はこれを可能にする。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の説明図
【図２】本発明の凹所
【図３】実施例１の工程説明図
【図４】実施例１の工程説明図
【図５】実施例１の工程説明図
【図６】実施例１の工程説明図
【図７】実施例２の工程説明図
【図８】実施例２の工程説明図
【図９】実施例２の工程説明図
【図１０】実施例２の工程説明図
【図１１】実施例３の工程説明図
【図１２】実施例３の工程説明図
【図１３】実施例３の工程説明図
【図１４】実施例３の工程説明図
【図１５】実施例４の工程説明図
【図１６】実施例４の工程説明図
【図１７】実施例４の工程説明図
【図１８】実施例４の工程説明図
【図１９】実施例５の工程説明図
【図２０】実施例５の工程説明図
【図２１】実施例５の工程説明図
【図２２】実施例５の工程説明図
【図２３】実施例５の工程説明図
【図２４】実施例６の工程説明図
【図２５】実施例６の工程説明図
【図２６】実施例６の工程説明図
【図２７】実施例６の工程説明図
【図２８】実施例６の工程説明図
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の説明図を図１に示す。
本発明は、ダイヤモンド基板（１０）に選択的に形成した凹所内に埋設された不純物ドープダイヤモンド領域（２０）を有するダイヤモンド半導体装置及びその製造方法である。
本発明の好ましい実施例では、ダイヤモンド｛１００｝面単結晶基板（１０）を加工し、加工した凹所の底角からダイヤモンド半導体を＜１１１＞方向へ成長させ、かつ不純物ドーピングを同時に行うことで、埋め込み不純物ドープダイヤモンド領域（２０）を形成する。
ダイヤモンド基板（１０）は、ノンドープ、ボロンドープ、リンドープ、窒素ドープ、ｐ型、ｎ型のいずれかの｛１００｝面基板、又は｛１００｝面成長膜である。埋め込み不純物ドープダイヤモンド領域（２０）は、リンを代表とするＶ族元素、及びその他ｎ型ダイヤモンド半導体ができる不純物元素、又はボロンを代表とするIII属元素、及びその他ｐ型ダイヤモンド半導体ができる不純物元素を有する。【００１５】
本発明のダイヤモンド半導体装置製造方法は、｛１００｝面ダイヤモンド半導体上の埋め込み領域を形成したい領域に、底面が｛１００｝面、側面が｛１１０｝面で囲まれた凹所を形成する工程と、不純物をドープしながらダイヤモンドを＜１１１＞方向へエピタキシャル成長させ、加工した凹所を埋めることにより不純物ドープダイヤモンド領域を形成する工程を有する。ここで、｛１００｝面基板上で＜１１１＞方向へ成長させる際に、｛１００｝面と｛１１０｝面で交わる角が成長の起点となる。【００１６】
ドープ不純物として、ここではリン元素を例に挙げるが、この取り込み効率は、基板の面方位に強く依存する。｛１１１｝面基板を用いた｛１１１｝面成長の際（＜１１１＞方向への成長）、リンの取り込み効率は０．０２％程度であるのに対して、｛１００｝面基板を用いた｛１００｝面成長の際は（＜１００＞方向への成長）、リンの取り込み効率は０．００００１％未満となる。この成長方向に対する取り込み効率の圧倒的な差を利用することで、選択的に｛１００｝面上に埋め込みｎ型半導体領域を形成可能にした。
なおリンの取り込み効率は、次の数式により算出される。
リンの取り込み効率＝ダイヤモンド中の炭素原子に対するリン原子濃度（［Ｐ］／［Ｃ］）／気相中のメタンに対するホスフィン濃度（［ＰＨ３］／［ＣＨ４］）【００１７】
本発明の好ましい実施例では、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板を加工することにより、側面が｛１１０｝底面が｛１００｝の凹所を形成する。凹所の深さＤ、幅Ｗ、長さＬの関係は０．７Ｗ＜Ｄ＜１．４Ｗ、Ｗ＜Ｌ＜∞（基板の大きさ）が好ましい（図２参照）。底面の｛１００｝面、側面の｛１１０｝面は、理想面から０〜１０°程度のズレであればよく、周期的に凹所を作る必要性はない。また、周期的な矩形隆起構造による凹所でもよい。これらの凹所は、埋め込みｎ型ダイヤモンド領域が必要な領域にのみ形成することが好ましい。
なお、凹所を全て埋める必要がなければ、上記の条件から外れてもよい。【００１８】
本発明の不純物ドープダイヤモンド半導体は、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板上に形成された凹所にのみ、選択的に埋め込まれることを特徴とする。リンドーピングの場合、＜１１１＞方向へエピタキシャル成長させているため、リンの取り込み効率が比較的高く、リン濃度を１０１６ｃｍ−３〜１０２０ｃｍ−３レベルの広い範囲で制御可能となる。また、デバイス開発で必須とされている｛１００｝面方位基板での埋め込み不純物ドープダイヤモンド半導体基板であるため、実用性が高い。
加工する｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板は、高温高圧法により形成された｛１００｝面基板、化学気相成長（ＣＶＤ）法で形成された基板及び成長膜のいずれでもよく、また不純物がドープされた導電性基板上の成長膜でもよい。【００１９】
なお、上記の埋め込み不純物ドープダイヤモンド領域の識別は、適当な領域を劈開し、ＳＩＭＳ測定又はカソードルミネセンス測定などを用いた面内分布測定により容易に確認することができる。形成時の凹所構造が特徴となるため、その識別は容易である。【００２０】
以下図３乃至図２８を引用して、本発明の実施例１乃至６を詳細に説明する。
図３乃至図２８において、それぞれ左図はダイヤモンド半導体装置の平面図、右図はその断面図である。【００２１】
＜実施例１＞
図３に示すような表面が｛１００｝面を有するダイヤモンド単結晶基板（１０）を用意する。図４に示すように、フォトリソグラフィ法によって、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板の表面の一部に＜１１０＞方向に線幅１μｍ、間隔１μｍのライン＆スペースのＡｕ／Ｔｉ薄膜マスク（Ａｕ３００ｎｍ／Ｔｉ１０ｎｍ）（１１）を形成した。【００２２】
図４に示すＡｕ／Ｔｉ薄膜マスクをパターニングした｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板を誘導結合プラズマエッチング装置によりエッチングした。エッチングガスの条件は、Ｏ２：９５ｓｃｃｍ、ＣＦ４：２ｓｃｃｍ、ＲＦパワー：３００Ｗ、バイアス：５０Ｗ、圧力：２Ｐａであり、エッチング深さは１μｍである。この時の｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板とＡｕのエッチングの選択比は１：８程度である。その後、熱王水処理（ＨＮＯ３：ＨＣｌ＝１：３、８０℃）、硫酸加水（Ｈ２ＳＯ４：Ｈ２Ｏ２：Ｈ２０＝３：１：１、１２０℃）、熱混酸（ＨＮＯ３：Ｈ２ＳＯ４＝１：３、２４０℃）処理を施し、Ａｕ／Ｔｉマスクを除去した。これにより図５の断面図に示すように、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板の表層に断面が矩形状で一方向に延びる溝である凹所（１２）が形成された。凹所（１２）の側面は｛１１０｝、底面は｛１００｝面で覆われている。【００２３】
マイクロ波プラズマＣＶＤ装置を使用して、Ｈ２：３９８ｓｃｃｍ、ＣＨ４：０．２ｓｃｃｍ、ＰＨ３：０．１ｓｃｃｍ、圧力：９．７５×１０３Ｐａ、マイクロ波パワー：７５０Ｗ、基板ヒータ温度：８００℃、成長時間２時間の条件で、リンドープダイヤモンドの合成を行った。これにより、凹所（１２）に埋設される形で、リンドープダイヤモンド領域（２０）が形成された。この時、リンドープダイヤモンドは凹所の底端（｛１１０｝面と｛１００｝面の交わる角）を起点に＜１１１＞方向へ成長している。【００２４】
図６に示す選択的に埋め込まれた領域（２０）を含む｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板において、ＳＩＭＳ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を用いてリン濃度を調べた。その結果、凹所領域にのみ選択的にリン原子が取り込まれており、そのリン原子濃度は１×１０２０ｃｍ−３であった。【００２５】
この凹所に埋め込まれたｎ型ダイヤモンド領域（２０）の電気伝導特性を測るために、Ｔｉ（３０ｎｍ）／Ｐｔ（３０ｎｍ）／（Ａｕ１００ｎｍ）の電極を１０μｍの間隔で蒸着した。その２電極間の電流―電圧特性から明瞭な電気伝導性が得られ、その比抵抗値は２×１０３Ωｃｍ程度であった。【００２６】
＜実施例２＞
図７に示すような表面が｛１００｝面を有するダイヤモンド単結晶基板（１０）を用意する。図８に示すように、フォトリソグラフィ法によって、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板の表面の一部に＜１１０＞方向に線幅１μｍ、間隔１μｍのライン＆スペースのＡｕ／Ｔｉ薄膜マスク（Ａｕ３００ｎｍ／Ｔｉ１０ｎｍ）（１１）を形成した。【００２７】
図８に示すＡｕ／Ｔｉ薄膜マスクをパターニングした｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板を誘導結合プラズマエッチング装置によりエッチングした。エッチングガスの条件は、Ｏ２：９５ｓｃｃｍ、ＣＦ４：２ｓｃｃｍ、ＲＦパワー：３００Ｗ、バイアス：５０Ｗ、圧力：２Ｐａであり、エッチング深さは１μｍである。この時の｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板とＡｕのエッチングの選択比は１：８程度である。その後、熱王水処理（ＨＮＯ３：ＨＣｌ＝１：３、８０℃）、硫酸加水（Ｈ２ＳＯ４：Ｈ２Ｏ２：Ｈ２０＝３：１：１、１２０℃）、熱混酸（ＨＮＯ３：Ｈ２ＳＯ４＝１：３、２４０℃）処理を施し、Ａｕ／Ｔｉマスクを除去した。これにより図９の断面図に示すように、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板の表層に断面が矩形状で一方向に延びる矩形隆起に挟まれた凹所（１２）が形成された。凹所（１２）の側面は｛１１０｝、底面は｛１００｝面で覆われている。【００２８】
マイクロ波プラズマＣＶＤ装置を使用して、Ｈ２：３９８ｓｃｃｍ、ＣＨ４：０．２ｓｃｃｍ、ＰＨ３：０．１ｓｃｃｍ、圧力：９．７５×１０３Ｐａ、マイクロ波パワー：７５０Ｗ、基板ヒータ温度：８００℃、成長時間２時間の条件で、リンドープダイヤモンドの合成を行った。これにより、凹所（１２）に埋設される形で、リンドープダイヤモンド領域（２０）が形成された。この時、リンドープダイヤモンドは凹所（１２）の底端（｛１１０｝面と｛１００｝面の交わる角）を起点に＜１１１＞方向へ成長している。【００２９】
図１０に示す選択的に埋め込まれた領域（２０）を含む｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板において、ＳＩＭＳ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を用いてリン濃度を調べた。その結果、凹所領域にのみ選択的にリン原子が取り込まれており、そのリン原子濃度は１×１０２０ｃｍ−３であった。【００３０】
この凹所に埋め込まれたｎ型ダイヤモンド領域（２０）の電気伝導特性を測るために、Ｔｉ（３０ｎｍ）／Ｐｔ（３０ｎｍ）／（Ａｕ１００ｎｍ）の電極を１０μｍの間隔で蒸着した。その２電極間の電流―電圧特性から明瞭な電気伝導性が得られ、その比抵抗値は２×１０３Ωｃｍ程度であった。【００３１】
＜実施例３＞
図１１に示すような表面が｛１００｝面を有するダイヤモンド単結晶基板（１０）を用意する。図１２に示すように、フォトリソグラフィ法によって、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板の表面の一部に＜１００＞方向に線幅１μｍ、間隔１μｍのライン＆スペースのＡｕ／Ｔｉ薄膜マスク（Ａｕ３００ｎｍ／Ｔｉ１０ｎｍ）（１１）を形成した。【００３２】
図１２に示すＡｕ／Ｔｉ薄膜マスクをパターニングした｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板を誘導結合プラズマエッチング装置によりエッチングした。エッチングガスの条件は、Ｏ２：９５ｓｃｃｍ、ＣＦ４：２ｓｃｃｍ、ＲＦパワー：３００Ｗ、バイアス：５０Ｗ、圧力：２Ｐａであり、エッチング深さは１μｍである。この時の｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板とＡｕのエッチングの選択比は１：８程度である。その後、熱王水処理（ＨＮＯ３：ＨＣｌ＝１：３、８０℃）、硫酸加水（Ｈ２ＳＯ４：Ｈ２Ｏ２：Ｈ２０＝３：１：１、１２０℃）、熱混酸（ＨＮＯ３：Ｈ２ＳＯ４＝１：３、２４０℃）処理を施し、Ａｕ／Ｔｉマスクを除去した。これにより図１３の断面図に示すように、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板の表層に断面が矩形状で一方向に延びる溝である凹所（１２）が形成された。凹所（１２）の側面は｛１００｝、底面も｛１００｝面で覆われている。【００３３】
マイクロ波プラズマＣＶＤ装置を使用して、Ｈ２：３９８ｓｃｃｍ、ＣＨ４：０．２ｓｃｃｍ、ＰＨ３：０．１ｓｃｃｍ、圧力：９．７５×１０３Ｐａ、マイクロ波パワー：７５０Ｗ、基板ヒータ温度：８００℃、成長時間２時間の条件で、リンドープダイヤモンドの合成を行った。これにより、凹所（１２）に埋設される形で、リンドープダイヤモンド領域（３０）が形成された。この時、リンドープダイヤモンドは凹所（１２）の底端（｛１００｝面と｛１００｝面の交わる角）を起点に＜１１０＞方向へ成長している。【００３４】
図１４に示す選択的に埋め込まれた領域（３０）を含む｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板において、ＳＩＭＳ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を用いてリン濃度を調べた。その結果、凹所（１２）の領域にのみ選択的にリン原子が取り込まれており、そのリン原子濃度は５×１０１７ｃｍ−３程度であった。【００３５】
＜実施例４＞
図１５に示すような表面が｛１００｝面を有するダイヤモンド単結晶基板（１０）を用意する。図１６に示すように、フォトリソグラフィ法によって、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板の表面の一部に＜１００＞方向に線幅１μｍ、間隔１μｍのライン＆スペースのＡｕ／Ｔｉ薄膜マスク（Ａｕ３００ｎｍ／Ｔｉ１０ｎｍ）（１１）を形成した。【００３６】
図１６に示すＡｕ／Ｔｉ薄膜マスクをパターニングした｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板を誘導結合プラズマエッチング装置によりエッチングした。エッチングガスの条件は、Ｏ２：９５ｓｃｃｍ、ＣＦ４：２ｓｃｃｍ、ＲＦパワー：３００Ｗ、バイアス：５０Ｗ、圧力：２Ｐａであり、エッチング深さは１μｍである。この時の｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板とＡｕのエッチングの選択比は１：８程度である。その後、熱王水処理（ＨＮＯ３：ＨＣｌ＝１：３、８０℃）、硫酸加水（Ｈ２ＳＯ４：Ｈ２Ｏ２：Ｈ２０＝３：１：１、１２０℃）、熱混酸（ＨＮＯ３：Ｈ２ＳＯ４＝１：３、２４０℃）処理を施し、Ａｕ／Ｔｉマスクを除去した。これにより図１７の断面図に示すように、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板の表層に断面が矩形状で一方向に延びる矩形隆起に挟まれた凹所（１２）が形成された。凹所（１２）の側面は｛１００｝、底面も｛１００｝面で覆われている。【００３７】
マイクロ波プラズマＣＶＤ装置を使用して、Ｈ２：３９８ｓｃｃｍ、ＣＨ４：０．２ｓｃｃｍ、ＰＨ３：０．１ｓｃｃｍ、圧力：９．７５×１０３Ｐａ、マイクロ波パワー：７５０Ｗ、基板ヒータ温度：８００℃、成長時間２時間の条件で、リンドープダイヤモンドの合成を行った。これにより、凹所（１２）に埋設される形で、リンドープダイヤモンド領域（３０）が形成された。この時、リンドープダイヤモンドは凹所（１２）の底端（｛１００｝面と｛１００｝面の交わる角）を起点に＜１１０＞方向へ成長している。【００３８】
図１８に示す選択的に埋め込まれた領域（３０）を含む｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板において、ＳＩＭＳ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を用いてリン濃度を調べた。その結果、凹所の領域にのみ選択的にリン原子が取り込まれており、そのリン原子濃度は５×１０１７ｃｍ−３程度であった。【００３９】
＜実施例５＞
図１９に示すような表面が｛１００｝面を有するダイヤモンド単結晶基板（１０）を用意する。マイクロ波プラズマＣＶＤ装置を使用して、Ｈ２：３９７ｓｃｃｍ、ＣＨ４：１．６ｓｃｃｍ、ＰＨ３：０．１６ｓｃｃｍ、圧力：３．２５×１０３Ｐａ、マイクロ波パワー：７５０Ｗ、基板ヒータ温度：９００℃、成長時間６時間の条件で、リンドープダイヤモンドの合成を行った。
図２０のように、約２μｍ程度の膜厚のリンドープｎ型ダイヤモンド半導体（１３）を形成した。ホール効果測定から、室温から７００℃付近まで安定してｎ型判定が得られ、温度依存性の傾きからリンドナーの５７０ｍｅＶの活性化エネルギーが見積もられ、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板上にリンドープｎ型ダイヤモンド半導体が形成されたことを確認した。【００４０】
図２１に示すように、フォトリソグラフィ法によって、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板状に形成したリンドープｎ型ダイヤモンド半導体膜（１３）の表面の一部に＜１００＞方向に線幅１μｍ、間隔１μｍのライン＆スペースのＡｕ／Ｔｉ薄膜マスク（Ａｕ３００ｎｍ／Ｔｉ１０ｎｍ）（１１）を形成した。【００４１】
図２１に示すＡｕ／Ｔｉ薄膜マスクをパターニングしたリンドープｎ型ダイヤモンド半導体膜を誘導結合プラズマエッチング装置によりエッチングした。エッチングガスの条件は、Ｏ２：９５ｓｃｃｍ、ＣＦ４：２ｓｃｃｍ、ＲＦパワー：３００Ｗ、バイアス：５０Ｗ、圧力：２Ｐａであり、エッチング深さは１μｍである。この時の｛１００｝面リンドープｎ型ダイヤモンド半導体膜とＡｕのエッチングの選択比は１：８程度である。その後、熱王水処理（ＨＮＯ３：ＨＣｌ＝１：３、８０℃）、硫酸加水（Ｈ２ＳＯ４：Ｈ２Ｏ２：Ｈ２０＝３：１：１、１２０℃）、熱混酸（ＨＮＯ３：Ｈ２ＳＯ４＝１：３、２４０℃）処理を施し、Ａｕ／Ｔｉマスクを除去した。これにより図２２の断面図に示すように、｛１００｝面リンドープｎ型ダイヤモンド半導体膜の表層に断面が矩形状で一方向に延びる溝である凹所（１２）が形成された。凹所（１２）の側面は｛１１０｝、底面は｛１００｝面で覆われている。【００４２】
マイクロ波プラズマＣＶＤ装置を使用して、Ｈ２：３９８ｓｃｃｍ、ＣＨ４：０．２ｓｃｃｍ、ＰＨ３：０．１ｓｃｃｍ、圧力：９．７５×１０３Ｐａ、マイクロ波パワー：７５０Ｗ、基板ヒータ温度：８００℃、成長時間２時間の条件で、リンドープダイヤモンドの合成を行った。これにより、凹所（１２）に埋設される形で、リンドープダイヤモンド領域（２０）が形成された。この時、リンドープダイヤモンドは凹所（１２）の底端（｛１１０｝面と｛１００｝面の交わる角）を起点に＜１１１＞方向へ成長している。【００４３】
図２３に示す選択的に埋め込まれた領域（２０）を含む｛１００｝面リンドープｎ型ダイヤモンド半導体膜において、ＳＩＭＳ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を用いてリン濃度を調べた。その結果、矩形溝の領域にのみ選択的にリン原子が取り込まれており、そのリン原子濃度は７×１０１９ｃｍ−３であった。凹所より深い領域のリン濃度は２×１０１８ｃｍ−３であった。【００４４】
この矩形溝に埋め込まれたｎ型ダイヤモンド領域（２０）の電気伝導特性を測るために、Ｔｉ（３０ｎｍ）／Ｐｔ（３０ｎｍ）／（Ａｕ１００ｎｍ）の電極を１０μｍの間隔で蒸着した。その２電極間の電流―電圧特性から明瞭な電気伝導性が得られ、その比抵抗値は２×１０３Ωｃｍ程度であった。因みに、埋め込みｎ型ダイヤモンド半導体領域が無い場合、すなわち｛１００｝面リンドープｎ型ダイヤモンド半導体膜単体（１３）の場合の比抵抗値は、〜１０６Ωｃｍ程度であった。｛１００｝面リンドープｎ型ダイヤモンド半導体膜の表層に低抵抗な埋め込み高濃度リンドープダイヤモンド領域（２０）が得られた。【００４５】
また、線形ＴＬＭ（Transfer Length Method）法を用いて、矩形溝に埋め込まれたｎ型ダイヤモンド領域（２０）の接触抵抗を評価したところ、Ｔｉを蒸着した時の接触抵抗が１×１０−２Ωｃｍ２が得られた。因みに、埋め込みｎ型ダイヤモンド半導体領域が無い場合、すなわち｛１００｝面リンドープｎ型ダイヤモンド半導体膜単体（１３）の場合の接触抵抗は、１０５Ωｃｍ２以上となり、｛１００｝面リンドープｎ型ダイヤモンド半導体膜の接触抵抗低減に極めて有効であることが確認できた。【００４６】
＜実施例６＞
図２４に示すような表面が｛１００｝面を有するダイヤモンド単結晶基板（１０）を用意する。マイクロ波プラズマＣＶＤ装置を使用して、Ｈ２：３９７ｓｃｃｍ、ＣＨ４：１．２ｓｃｃｍ、Ｂ２Ｈ６／Ｈ２ガス＝１００ｐｐｍ：０．６ｓｃｃｍ、圧力：３．２５×１０３Ｐａ、マイクロ波パワー：７５０Ｗ、基板ヒータ温度：８００℃、成長時間６時間の条件で、ボロンドープダイヤモンドの合成を行った。図２５のように、約２μｍ程度の膜厚のボロンドープｐ型ダイヤモンド半導体（１４）を形成した。ホール効果測定から、室温から７００℃付近まで安定してｐ型判定が得られ、温度依存性の傾きからボロンアクセプターの３７０ｍｅＶの活性化エネルギーが見積もられ、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板上にボロンドープｐ型ダイヤモンド半導体が形成されたことを確認した。【００４７】
図２６に示すように、フォトリソグラフィ法によって、｛１００｝面ダイヤモンド単結晶基板状に形成したボロンドープｐ型ダイヤモンド半導体膜（１４）の表面の一部に＜１００＞方向に線幅１μｍ、間隔１μｍのライン＆スペースのＡｕ／Ｔｉ薄膜マスク（Ａｕ３００ｎｍ／Ｔｉ１０ｎｍ）（１１）を形成した。【００４８】
Ａｕ／Ｔｉ薄膜マスクをパターニングしたボロンドープｐ型ダイヤモンド半導体膜を誘導結合プラズマエッチング装置によりエッチングした。エッチングガスの条件は、Ｏ２：９５ｓｃｃｍ、ＣＦ４：２ｓｃｃｍ、ＲＦパワー：３００Ｗ、バイアス：５０Ｗ、圧力：２Ｐａであり、エッチング深さは１μｍである。この時の｛１００｝面ボロンドープｐ型ダイヤモンド半導体膜とＡｕのエッチングの選択比は１：８程度である。その後、熱王水処理（ＨＮＯ３：ＨＣｌ＝１：３、８０℃）、硫酸加水（Ｈ２ＳＯ４：Ｈ２Ｏ２：Ｈ２０＝３：１：１、１２０℃）、熱混酸（ＨＮＯ３：Ｈ２ＳＯ４＝１：３、２４０℃）処理を施し、Ａｕ／Ｔｉマスクを除去した。これにより図２７の断面図に示すように、｛１００｝面ボロンドープｐ型ダイヤモンド半導体膜の表層に断面が矩形状で一方向に延びる矩形隆起に挟まれた凹所（１２）が形成された。凹所（１２）の側面は｛１１０｝、底面は｛１００｝面で覆われている。【００４９】
マイクロ波プラズマＣＶＤ装置を使用して、Ｈ２：３９８ｓｃｃｍ、ＣＨ４：０．２ｓｃｃｍ、ＰＨ３：０．１ｓｃｃｍ、圧力：９．７５×１０３Ｐａ、マイクロ波パワー：７５０Ｗ、基板ヒータ温度：８００℃、成長時間２時間の条件で、リンドープダイヤモンドの合成を行った。これにより、凹所（１２）に埋設される形で、リンドープダイヤモンド領域（２０）が形成された。この時、リンドープダイヤモンドは凹所（１２）の底端（｛１１０｝面と｛１００｝面の交わる角）を起点に＜１１１＞方向へ成長している。【００５０】
図２８に示す選択的に埋め込まれた領域（２０）を含む｛１００｝面リンドープｎ型ダイヤモンド半導体膜において、ＳＩＭＳ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を用いてリン濃度を調べた。その結果、矩形溝の領域にのみ選択的にリン原子が取り込まれており、そのリン原子濃度は７×１０１９ｃｍ−３であった。｛１００｝面ボロンドープｐ型ダイヤモンド半導体膜の表層に低抵抗な埋め込み高濃度リンドープダイヤモンド領域（２０）が得られた。【００５１】
以上好ましい実施例を説明したが、本発明はこれに限定されないことはいうまでもない。
例えば本発明に係るダイヤモンド半導体基板には、セラミック等の基板上、あるいはダイヤモンド基板上にダイヤモンド膜が形成された基板も含まれる。
また例えば｛１００｝面等の面方位には、近傍のオフ面もこれに含まれる。【００５２】
本発明のダイヤモンド半導体装置は、パワー半導体素子、高周波半導体素子などの半導体装置のみならず、紫外発光デバイス、電子放出源、Ｘ線・粒子線センサー、Ｘ線・粒子位置センサーなど、各種電子デバイスに応用することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【国際調査報告】
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