(57)【要約】  外部回路への光電流の取り出し効率を従来に比して落とさずに、光電変換効率を従来に比して改善することができる光起電力装置を得ること。  Ｐ型シリコン基板１０１と、光の入射面側に形成されるＮ型の不純物が第１の濃度で拡散された低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ上に形成されるグリッド電極１１１と、裏面に形成されるＰ＋層１１０と、Ｐ＋層１１０上に形成される裏面電極と、を備え、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌの上面からシリコン基板１０１に到達するように、所定の間隔で設けられた凹部１０６を有し、隣接する凹部１０６間の領域の上面は、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを含み、凹部１０６の形成面から所定の深さの範囲には、第１の濃度よりも低い第２の濃度でＮ型の不純物が拡散された高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈが形成される。
2009118861.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の光の入射面側に形成される第２の導電型の不純物が第１の濃度で拡散された第１の拡散層と、
前記第１の拡散層上に形成される櫛状のグリッド電極と前記グリッド電極間を結ぶバス電極と、
前記半導体基板の光の入射面に対向する裏面に形成される第１の導電型からなる第２の拡散層と、
前記第２の拡散層上に形成される裏面電極と、
を備える光起電力装置において、
前記第１の拡散層の上面から前記半導体基板に到達するように、所定の間隔で設けられた凹部を有し、
隣接する前記凹部間の領域の上面は、前記第１の拡散層を含み、
前記凹部の形成面から所定の深さの範囲には、第２の導電型の不純物が前記第１の濃度よりも低い第２の濃度で拡散された第３の拡散層が形成されていることを特徴とする光起電力装置。
【請求項２】
前記凹部は、三角格子点上または四角格子点上に形成されることを特徴とする請求項１に記載の光起電力装置。
【請求項３】
前記第１の拡散層のシート抵抗は、３０Ω／□以上６０Ω／□未満であり、
前記第３の拡散層のシート抵抗は、６０Ω／□以上１５０Ω／□未満であることを特徴とする請求項１に記載の光起電力装置。
【請求項４】
前記凹部の直径は、隣接する前記凹部同士の中心間の距離よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の光起電力装置。
【請求項５】
第１の導電型の半導体基板の光の入射面側に第２の導電型の不純物を拡散して、第１の濃度の第１の拡散層を形成する第１の拡散層形成工程と、
前記第１の拡散層上に耐エッチング性を有する耐エッチング膜を形成する耐エッチング膜形成工程と、
前記耐エッチング膜上の所定の位置に微細孔を形成し、前記第１の拡散層を露出させる微細孔形成工程と、
前記第１の拡散層の露出位置を中心に、前記第１の拡散層と前記半導体基板とをエッチングして凹部を形成する凹部形成工程と、
前記凹部を形成する面に、前記第１の濃度よりも低い第２の濃度の第２の導電型の不純物を拡散して、第２の拡散層を形成する第２の拡散層形成工程と、
を含むことを特徴とする光起電力装置の製造方法。
【請求項６】
前記凹部形成工程では、隣接する前記微細孔間の前記第１の拡散層が残存する条件でエッチングを行うことを特徴とする請求項５に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項７】
前記微細孔形成工程では、前記耐エッチング膜が吸収する波長のレーザ光を用いて微細孔の形成処理を行うことを特徴とする請求項５に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項８】
前記耐エッチング膜形成工程で、前記耐エッチング膜としてＳｉＮ膜を形成し、
前記微細孔形成工程では、波長が７００ｎｍ以下のレーザ光を用いることを特徴とする請求項７に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項９】
前記微細孔形成工程では、前記レーザ光の一部をマスクにより遮光して、前記耐エッチング膜に同時に複数の前記微細孔を開けることを特徴とする請求項７に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項１０】
前記微細孔形成工程では、ガルバノミラーを用いて前記レーザ光を前記耐エッチング膜上で走査させて、複数の前記微細孔を開けることを特徴とする請求項７に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項１１】
前記微細孔形成工程では、ホログラフィック光学素子を用いて前記レーザ光を前記耐エッチング膜上で走査させて、複数の前記微細孔を開けることを特徴とする請求項７に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項１２】
前記微細孔形成工程では、前記耐エッチング膜の三角格子点上または四角格子点上に前記微細孔を形成することを特徴とする請求項７に記載の光起電力装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光起電力装置およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池などの光起電力装置の性能向上には、太陽光を如何に効率よく光起電力装置内部に取り込むことができるかが重要な要素となる。そのため、従来では、光入射側の表面に意図的に数十ｎｍ〜数十μｍの寸法の微細な凹凸を形成したテクスチャ構造を作製している。このテクスチャ構造では、表面で一度反射した光を再度表面に入射させるようにして、より多くの太陽光を光起電力装置内部に取り込むことで発生電流を増大させ、光電変換効率の向上を図っている。【０００３】
太陽電池用基板にテクスチャ構造を形成する方法としては、基板が単結晶シリコン（Ｓｉ）基板の場合には、エッチング速度に結晶方位依存性を持つ水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ水溶液による結晶方位を利用した異方性エッチング処理が広く用いられる（たとえば、特許文献１参照）。たとえば表面が（１００）面方位を有する基板表面にこの異方性エッチング処理を行うと、（１１１）面が露出したピラミッド状のテクスチャが形成される。【０００４】
しかし、多結晶シリコン基板の場合には、アルカリ水溶液を用いて異方性エッチング処理を行う方法では、基板表面を構成する各結晶粒子の結晶面方位が揃っておらず、またアルカリ水溶液を用いる異方性エッチング処理自体が結晶面によってエッチングレートが大きく異なることから、部分的にしかテクスチャ構造を作製することができない。このような事情によって、多結晶シリコン基板の場合には、反射率の低減に限界があるという問題がある。たとえば、波長６２８ｎｍにおける反射率を見ると、表面が鏡面研磨されたシリコンでは約３６％であり、（１００）面の単結晶シリコン基板をウェットエッチングした場合では約１５％となるのに対し、多結晶シリコン基板をウェットエッチングした場合では２７〜３０％程度である。【０００５】
そこで、結晶面方位によらず全面にテクスチャ構造を形成する方法として、エッチングマスクを用いた混酸エッチングが提案されている（たとえば、特許文献２参照）。エッチングマスクの作製方法は半導体プロセスで用いられるリソグラフィによる方法や、耐エッチング性材料の溶液中にエッチング耐性の低い微粒子を混合し、基板面に塗布する方法などを用いることができる。【０００６】
そして、このようにテクスチャ構造が形成されたＰ型のシリコン基板の表面にＮ型の拡散源を含むドーパント液を塗布し、熱処理して拡散させることで、テクスチャ構造の表面にリン濃度の高い高濃度Ｎ型拡散層を形成し、シリコン基板のテクスチャ構造上の所定の位置に櫛状に配置した銀などの金属からなるグリッド電極と、グリッド電極からの電流を集める銀などの金属からなるバス電極を形成し、裏面にアルミニウムや銀などの金属からなる裏面電極を形成して、太陽電池を形成している（たとえば、特許文献３参照）。【０００７】
【特許文献１】特開平１０−７０２９６号公報
【特許文献２】特開２００３−３０９２７６号公報
【特許文献３】特開２００５−１１６５５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、シリコン基板のテクスチャ構造側は、金属からなるグリッド電極との電気的接触を良好なものとし、光起電力装置内で発生した光電流を外部回路に効率よく取り出すために、高濃度に不純物が拡散されている必要がある。しかしながら、良好な光起電力を得るためには、テクスチャ構造側のシリコン基板内に拡散される不純物濃度は、所定のレベル以下の低さに制御されていることが望ましい。そのため、上記従来の技術を用いた構造の光起電力装置では、光電変換効率を犠牲にして光起電力装置内で発生した光電流を外部回路に効率よく取り出すものであり、外部回路への光電流の取り出し効率を落とさずに、光電変換効率を従来の技術のものよりもさらに改善する技術が望まれていた。【０００９】
この発明は上記に鑑みてなされたもので、外部回路への光電流の取り出し効率を従来に比して落とさずに、光電変換効率を従来に比して改善することができる光起電力装置とその製造方法を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、この発明にかかる光起電力装置は、第１の導電型の半導体基板と、前記半導体基板の光の入射面側に形成される第２の導電型の不純物が第１の濃度で拡散された第１の拡散層と、前記第１の拡散層上に形成される櫛状のグリッド電極と前記グリッド電極間を結ぶバス電極と、前記半導体基板の光の入射面に対向する裏面に形成される第１の導電型からなる第２の拡散層と、前記第２の拡散層上に形成される裏面電極と、を備える光起電力装置において、前記第１の拡散層の上面から前記半導体基板に到達するように、所定の間隔で設けられた凹部を有し、隣接する前記凹部間の領域の上面は、前記第１の拡散層を含み、前記凹部の形成面から所定の深さの範囲には、第２の導電型の不純物が前記第１の濃度よりも低い第２の濃度で拡散された第３の拡散層が形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によれば、シリコン基板の受光面側に低抵抗の第１の拡散層を形成し、すべての第１の拡散層が除去されないように、所定の間隔の凹部を設け、さらに凹部の表面から所定の深さの範囲に第１の拡散層の不純物濃度よりも低い第３の拡散層を設けるようにしたので、入射する太陽光の反射率を低減させて、凹部内の第３の拡散層で効率的に光電変換を行うとともに、光電変換によって生じた光電流を抵抗の低いシリコン基板表面の第１の拡散層を介して表面電極に到達させることができる。光電流が低抵抗な第１の拡散層を通って表面電極に集電されることで、抵抗ロスを抑制するとともに、表面電極の間隔を広げて、表面電極の形成面積を減少することができ、シリコン基板内により多くの太陽光を入射させることが可能になる。その結果、外部回路への光電流の取り出し効率を従来に比して落とさずに、光電変換効率を従来に比して改善することができるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１−１】図１−１は、光起電力装置の上面図である。
【図１−２】図１−２は、光起電力装置の裏面図である。
【図１−３】図１−３は、図１−２のＡ−Ａ断面図である。
【図２】図２は、図１−１〜図１−３に示される光起電力装置のグリッド電極周辺の一部を拡大して示す斜視図である。
【図３】図３は、図２のＢ−Ｂ断面図である。
【図４−１】図４−１は、この実施の形態１による光起電力装置のグリッド電極周辺の構造の一例を示す断面図である。
【図４−２】図４−２は、従来の光起電力装置のグリッド電極周辺の構造の一例を示す図である。
【図５−１】図５−１は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その１）。
【図５−２】図５−２は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その２）。
【図５−３】図５−３は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その３）。
【図５−４】図５−４は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その４）。
【図５−５】図５−５は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その５）。
【図５−６】図５−６は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その６）。
【図５−７】図５−７は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その７）。
【図５−８】図５−８は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その８）。
【図５−９】図５−９は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その９）。
【図６−１】図６−１は、図５−１のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−２】図６−２は、図５−２のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−３】図６−３は、図５−３のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−４】図６−４は、図５−４のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−５】図６−５は、図５−５のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−６】図６−６は、図５−６のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−７】図６−７は、図５−７のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−８】図６−８は、図５−８のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−９】図６−９は、図５−９のＢ−Ｂ断面図である。
【図７】図７は、開口を形成するレーザ加工装置の構成の一例を模式的に示す図である。
【図８−１】図８−１は、三角格子点上に開口を設けた場合のテクスチャ・エッチング後の表面形状を模式的に示す図である。
【図８−２】図８−２は、四角格子点上に開口を設けた場合のテクスチャ・エッチング後の表面形状を模式的に示す図である。
【図９】図９は、実施の形態３で開口の形成に使用されるレーザ加工装置の構成の一例を示す図である。
【図１０】図１０は、実施の形態４で開口の形成に使用されるレーザ加工装置の構成の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００１３】
１００  光起電力装置
１０１  シリコン基板
１０２  Ｎ型拡散層
１０２Ｌ  低抵抗Ｎ型拡散層
１０２Ｈ  高抵抗Ｎ型拡散層
１０３  耐エッチング膜
１０４  開口
１０５ａ  テクスチャ構造形成領域
１０５ｂ  電極形成領域
１０６  凹部
１０９  反射防止膜
１１０  Ｐ＋層
１１１  グリッド電極
１１２  接合部分
１１３  バス電極
１２１  裏側電極
１２２  裏側集電電極
２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ  レーザ加工装置
２０１  ステージ
２０３  レーザ発振部
２０４  レーザ光
２０５  反射鏡
２０６  ビームスプリッタ
２０７  アパーチャ
２０８  縮小光学系
２１１，２１３  ガルバノミラー
２１２  Ｘ軸方向
２１４  Ｙ軸方向
２２１  ホログラフィック光学素子
２２２  集光レンズ
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に添付図面を参照して、この発明にかかる光起電力装置とその製造方法の好適な実施の形態を詳細に説明する。なお、これらの実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、以下の実施の形態で用いられる光電変換装置の断面図は模式的なものであり、層の厚みと幅との関係や各層の厚みの比率などは現実のものとは異なる。【００１５】
実施の形態１．
最初に、この発明による実施の形態１の光起電力装置の構成を説明する前に、一般的な光起電力装置の全体構成の概要について説明する。図１−１〜図１−３は、一般的な光起電力装置の全体構成の一例を模式的に示す図であり、図１−１は光起電力装置の上面図であり、図１−２は光起電力装置の裏面図であり、図１−３は図１−２のＡ−Ａ断面図である。光起電力装置１００は、半導体基板としてのＰ型シリコン基板１０１と、このＰ型シリコン基板１０１の一方の主面（受光面）側の表面に形成されるＮ型の不純物を拡散させたＮ型拡散層１０２と、他方の主面（裏面）側の表面に形成されるシリコン基板１０１よりも高濃度にＰ型の不純物を含んだＰ＋層１１０と、を含む光電変換層を備える。また、光起電力装置１００は、光電変換層の受光面への入射光の反射を防止する反射防止膜１０９と、光電変換層で発電された電気を局所的に集電するために受光面に設けられる銀などからなるグリッド電極１１１と、グリッド電極１１１で集電された電気を取り出すためにグリッド電極１１１にほぼ直交して設けられる銀などからなるバス電極１１３と、光電変換層で発電された電気の取り出しと入射光の反射を目的としてＰ型シリコン基板１０１の裏面のほぼ全面に設けられたアルミニウムなどからなる裏側電極１２１と、この裏側電極１２１に生じた電気を集電する銀などからなる裏側集電電極１２２と、を備える。【００１６】
つぎに、この実施の形態１の特徴となる部分について説明する。図２は、図１−１〜図１−３に示される光起電力装置のグリッド電極周辺の一部を拡大して示す斜視図であり、図３は、図２のＢ−Ｂ断面図である。なお、これらの図２と図３は、この図１−１〜図１−３のグリッド電極１１１周辺を切出した状態を示す図である。【００１７】
これらの図２と図３に示されるように、光起電力装置１００の受光面側は、所定の間隔の凹部１０６を有するテクスチャ構造が形成されたテクスチャ構造形成領域１０５ａと、光起電力装置１００のグリッド電極１１１などの光入射側電極が形成される電極形成領域１０５ｂと、を有する。【００１８】
テクスチャ構造形成領域１０５ａは、Ｎ型の不純物が高濃度に拡散された低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌよりも抵抗が高くなるようにＮ型の不純物が低濃度に拡散された高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈと、を有する。より具体的には、テクスチャ構造形成領域１０５ａは、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ中に、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌの上面からシリコン基板１０１に到達するように所定の間隔で形成された凹部１０６を有し、凹部１０６が形成されないシリコン基板１０１の表面部分に相当する部分には、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが概網目状に残され、凹部１０６の内面から所定の深さには、高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈが形成される。この凹部１０６の直径は、隣接する凹部１０６同士の中心間の距離よりも小さいものとする。また、電極形成領域１０５ｂでは、グリッド電極１１１などの光入射側電極は低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ上に接合部分１１２を介して形成されている。これによって、テクスチャ構造形成領域１０５ａ内の低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが概網目状に残存した部分と電極形成領域１０５ｂは連続的につながっている。なお、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈの面抵抗（シート抵抗）については、後述する。また、シリコン基板１０１の受光面と裏面の構造は、図１−１〜図１−３で説明したものと同様であるので、その説明を省略する。【００１９】
ここで、この実施の形態１の光起電力装置１００と従来の光起電力装置との違いについて説明する。図４−１は、この実施の形態１による光起電力装置のグリッド電極周辺の構造の一例を示す断面図であり、図４−２は、従来の光起電力装置のグリッド電極周辺の構造の一例を示す図である。なお、従来の光起電力装置において、この実施の形態１と同一の構成要素に対しては、同一の符号を付している。【００２０】
図４−２に示されるように、従来の光起電力装置１００Ａでは、受光面側の電極形成領域１０５ｂのシリコン基板１０１の表面にのみ、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが形成されており、テクスチャ構造形成領域１０５ａの表面にはすべて高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈが形成されている。また、このテクスチャ構造形成領域１０５ａにおけるシリコン基板１０１の表面（上面）の位置は、凹部１０６を形成したことによって電極形成領域１０５ｂのシリコン基板１０１の表面（上面）の位置に比べて後退している。このような構造としているのは、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ、すなわち高濃度に不純物が拡散された領域は、光電変換特性が著しく悪く、その部分で入射した太陽光を有効に利用できないために、太陽光が入射する領域には光電変換特性の良好な不純物濃度が低い高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを形成した方がよいからである。しかし、高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈは、光電変換特性は良好であるが、その高い抵抗によって発生した光電流が熱になってしまう抵抗ロスが大きくなるために、隣接するグリッド電極１１１の間隔を狭くしなければならなかった。このグリッド電極１１１の間隔を狭く配置することは、グリッド電極１１１の設置面積の増加を意味し、シリコン基板１０１内部へ入射する入射光に対して影となってしまい、光電変換効率を低下させてしまっていた。【００２１】
これに対して、この実施の形態１の光起電力装置１００では、図２、図３および図４−１に示されるように、シリコン基板１０１の受光面側に低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを残すように所定の間隔の凹部１０６を設け、また、この凹部１０６の表面から所定の深さの範囲に高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを設ける構造とした。凹部１０６によって、入射する太陽光の反射率を低減させ、凹部１０６内の高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈで入射した太陽光を効率的に光電流に変換することができる。さらに、太陽光の入射によって生成された光電流は、シリコン基板１０１の表面に残された概網目状の低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを通って、グリッド電極１１１に流れるので、光電流の抵抗による損失を低減することができる。また、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを介してグリッド電極１１１まで光電流を運ぶようにしたので、グリッド電極１１１の間隔を図４−２の従来例に比して長く取ることができる。これに伴って、グリッド電極１１１のシリコン基板１０１内部へ入射する光に対する影の面積を従来例に比して減少することができ光電変換効率を上昇させることができる。【００２２】
つぎに、このような構造の光起電力装置１００の製造方法について説明する。図５−１〜図５−９は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図であり、図６−１〜図６−９は、それぞれ図５−１〜図５−９のＢ−Ｂ断面図である。なお、以下に示すサイズは一例である。【００２３】
まず、シリコン基板１０１を用意する（図５−１、図６−１）。ここでは、民生用光起電力装置向けとして最も多く使用されているＰ型多結晶シリコン基板を使用するものとする。このシリコン基板１０１は、多結晶シリコンインゴットからマルチワイヤソーでスライスし、酸またはアルカリ溶液を用いたウェットエッチングでスライス時のダメージを除去して製造する。ダメージ除去後のシリコン基板１０１厚みは２５０μｍであり、寸法は１５０ｍｍ×１５０ｍｍである。【００２４】
ついで、ダメージ除去後のシリコン基板１０１を熱酸化炉へ投入し、Ｎ型の不純物としてのリン（Ｐ）の雰囲気下で加熱し、シリコン基板１０１表面にリンを高濃度に拡散させ、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを形成する（図５−２、図６−２）。ここではリン雰囲気の形成にオキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3）を用いて、８４０℃で拡散させる。【００２５】
その後、一方の主面上に形成した低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ上に、耐エッチング性を有する膜（以下、耐エッチング膜という）１０３を形成する（図５−３、図６−３）。この耐エッチング膜１０３として、窒化シリコン膜（以下、ＳｉＮ膜という）、酸化シリコン（ＳｉＯ2、ＳｉＯ）膜、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜、アモルファスシリコン（а−Ｓｉ）膜、ダイアモンドライクカーボン膜、樹脂膜などを用いることができる。ここでは、耐エッチング膜１０３として、プラズマＣＶＤ（Chemical  Vapor  Deposition）法によって形成した膜厚２４０ｎｍのＳｉＮ膜を用いる。なお、膜厚は２４０ｎｍとしたが、テクスチャ・エッチング時のエッチング条件と、後工程でのＳｉＮ膜の除去性から適切な膜厚を選択することができる。【００２６】
ついで、耐エッチング膜１０３上のテクスチャ構造形成領域１０５ａに、開口１０４を形成する（図５−３、図６−３）。テクスチャ構造を形成せず、光起電力装置１００の光入射側電極を形成しようとする電極形成領域１０５ｂには、開口１０４は形成しない。開口１０４の形成は、半導体プロセスで用いられるフォトリソグラフィによる方法やレーザ照射による方法などを用いることができる。なお、レーザ照射による方法は、フォトリソグラフィ技術によって形成する場合に必要となるレジスト塗布、露光・現像、エッチング、レジスト除去という複雑な工程が不要で、レーザを照射するのみで開口１０４を形成でき工程を簡略化できるメリットがある。【００２７】
図７は、開口を形成するレーザ加工装置の構成の一例を模式的に示す図である。このレーザ加工装置２００Ａは、シリコン基板１０１などの加工対象を載置するステージ２０１と、レーザ光２０４を出力するレーザ発振部２０３と、レーザ光２０４を反射させながら光路に導く反射鏡２０５と、レーザ光２０４を複数のレーザ光に分離するビームスプリッタ２０６と、ビーム形状を所定の形状にするアパーチャ２０７と、アパーチャ２０７を通過したレーザ光２０４を縮小して加工対象に照射する縮小光学系２０８と、を備える。【００２８】
このようなレーザ加工装置２００Ａにおいて、レーザ発振部２０３から出力されるレーザ光２０４は、反射鏡２０５で光路が変更された後、ビームスプリッタ２０６で拡大されてアパーチャ２０７に入射され、アパーチャ２０７を通過後、縮小光学系２０８で耐エッチング膜１０３上の所定の位置に照射される。この結果、シリコン基板１０１上に形成された耐エッチング膜１０３に複数の微細孔である開口１０４が開けられ、下地のシリコン基板１０１（低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ）の表面が露出する。【００２９】
ここで、レーザ発振部２０３として、Ｎｄ：ＹＡＧ（Yttrium  Aluminum  Garnet）レーザと３倍高調波発生器を組み合わせたものを使用する。これによって、レーザ光の波長が３５５ｎｍとなり、ＳｉＮ膜が吸収可能な波長となる。また、光学系の焦点深度は、１０μｍ以上に設定している。またＳｉＮ膜を除去した上でさらに下地のシリコン基板１０１に窪みを施すことができるレーザの強度を選ぶことで、より窪み深さと窪み径の比を大きくでき、光の閉じ込め効果を大きくすることができる。実験によって、０．４Ｊ／ｃｍ2以上でＳｉＮ膜に開口が可能で、２Ｊ／ｃｍ2以上で下地のシリコン基板１０１に窪みを施せることが明らかとなった。したがって、ここでは３Ｊ／ｃｍ2のレーザ光強度を使用している。なお、レーザ光源としてＮｄ：ＹＡＧレーザの３倍高調波を用いたが、レーザ光によるシリコン基板１０１へのダメージをテクスチャ・エッチング深さ以内となる４μｍ以内に抑えることのできる７００ｎｍより短い波長のレーザ光を出力することができるレーザ光源であれば、他のレーザ光源を用いることもできる。【００３０】
また、上記のレーザ加工装置２００Ａでのアパーチャ２０７としては、金属板に開口を施したものを使用している。アパーチャ２０７を通過したレーザ光２０４は縮小されて加工対象に照射されるため、アパーチャ２０７の開口パターンは比較的大きくてもよい。したがって、アパーチャ２０７として、金属板にウェットエッチングまたはサンドブラストを用いて開口したものを使用してもよい。また、ガラス板にクロム膜等の薄膜金属パターンを形成したガラスマスクもアパーチャ２０７として使用可能である。ただし、この場合にはガラスの透過率と金属薄膜の耐性に留意する必要がある。【００３１】
ついで、耐エッチング膜１０３に開けた開口１０４を通して、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを含むシリコン基板１０１の表面付近をエッチングして、凹部１０６を形成する（図５−５、図６−５）。このエッチングは、微細な開口１０４を通してシリコン基板１０１をエッチングするため、シリコン基板１０１の表面には微細な開口１０４を中心として、その同心位置に凹部１０６が形成される。混酸系のエッチング液によってエッチングを行うと、シリコン基板１０１表面の結晶面方位に影響されずに均一なテクスチャが形成され、表面反射損失の少ない光起電力装置１００を製造できる。ここでは、エッチング液としてフッ酸と硝酸の混合液を用いる。混合比はフッ酸１：硝酸２０：水１０である。なお、エッチング液の混合比は所望のエッチング速度、エッチング形状により適切な混合比に変更可能である。また、このエッチングによって形成される凹部１０６の表面のうち、基板表面側では、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが形成されているが、それよりも深い領域では、不純物が導入されていない。【００３２】
さらに、このエッチングによって凹部１０６を形成する際に、従来は図４−２に示されるように、光入射面側の低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌをほぼ全て除去してしまっていたが、ここでは図５−５と図６−５に示されるように隣接する凹部１０６間の低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを意図的に残すことで、光入射面で発生した光電流を低抵抗な電流パスである低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを通して光入射側電極（グリッド電極１１１）に導くようにしている。【００３３】
ついで、フッ酸などを用いて耐エッチング膜１０３を除去した後（図５−６、図６−６）、シリコン基板１０１を熱酸化炉へ再度投入し、オキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3）蒸気の存在下で加熱して、凹部１０６の表面にリンを低濃度に拡散させた高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを形成する（図５−７、図６−７）。このときの拡散温度は８４０℃とする。ここで、電極形成領域１０５ｂは、エッチング時に低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが残っていた部分であるため、その上から再度低濃度な拡散を行っても抵抗は低いままである。また、テクスチャ構造形成領域１０５ａの凹部１０６の内面は、エッチング時に低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが除去された状態になっているが、この拡散処理によって、高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈが形成される。【００３４】
なお、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌのシート抵抗は低ければ低いほど電極とのコンタクト性は良好となり、また、グリッド電極１１１の配置間隔を広く取ることができ、グリッド電極１１１の配置によるシリコン基板１０１への影の影響を抑制することができる。しかし、低抵抗化するには拡散時の加熱時間を長くするか、あるいは加熱温度を高くする必要があり、これらの処理は多結晶シリコン（シリコン基板１０１）の品質の低下を引き起こす原因となる。このように、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌの低抵抗化とシリコン基板１０１の品質とはトレードオフの関係にあるので、製造される光起電力装置１００に求められる特性に応じた低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌのシート抵抗値となるような条件でシリコン基板１０１の加熱処理を行う必要がある。一般的には、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌの表面シート抵抗は３０Ω／□以上６０Ω／□未満であることが望ましいが、量産性も考慮した場合には、好ましくは４５Ω／□以上５５Ω／□未満となる。また、一般的には、高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈの表面シート抵抗は６０Ω／□以上１５０Ω／□未満であることが望ましいが、量産時の特性の安定性を考慮すると、好ましくは７０Ω／□以上１００Ω／□未満となる。【００３５】
ついで、オキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3）蒸気の存在下で加熱してできたリンガラス層をフッ酸溶液中で除去する。その後、プラズマＣＶＤ法によりセル表面にＳｉＮ膜などからなる反射防止膜１０９を形成する（図５−８、図６−８）。この反射防止膜１０９の膜厚および屈折率は、光反射を最も抑制する値に設定される。なお、屈折率の異なる２層以上の膜を積層してもよい。またスパッタ法など異なる成膜方法により形成してもよい。【００３６】
その後、シリコン基板１０１の表面と裏面にそれぞれ表面電極（グリッド電極１１１、バス電極１１３）と、裏面電極（裏側電極１２１、裏側集電電極１２２）を形成する（図５−９、図６−９）。ここではまず、裏側電極１２１としてアルミニウムを混入したペーストを全面にスクリーン印刷にて形成する。つぎに、グリッド電極１１１（バス電極１１３）として銀を混入したペーストを櫛形にスクリーン印刷にて形成する。そして、焼成処理を実施する。なお、グリッド電極１１１の基となるペーストは、電極形成領域１０５ｂ上に形成される。また、焼成処理は、大気雰囲気中、７６０℃で実施する。このとき、グリッド電極１１１は、接合部分１１２において、反射防止膜１０９を突き抜け低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌとコンタクトする。これによって、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌは上部電極（グリッド電極１１１、バス電極１１３）と良好な抵抗性接合を得ることができる。また、焼成によって裏側電極１２１のアルミニウムがシリコン基板１０１へと拡散し、シリコン基板１０１の裏面から所定の範囲にＰ＋層１１０が形成される。以上のようにして、光起電力装置１００が作製される。【００３７】
なお、上述した図５−４と図６−４で、テクスチャ構造形成領域１０５ａの耐エッチング膜１０３に開口１０４を形成する際に、三角格子点上に設けてもよいし、四角格子点上に設けてもよい。図８−１は、三角格子点上に開口を設けた場合のテクスチャ・エッチング後の表面形状を模式的に示す図であり、図８−２は、四角格子点上に開口を設けた場合のテクスチャ・エッチング後の表面形状を模式的に示す図である。【００３８】
図８−１に示されるように、三角格子点上に開口１０４を設け、テクスチャ・エッチングを行った場合には、凹部１０６を形成しない概平坦な部分（平坦部）１３０の割合は約９％程度となり、光起電力装置１００の光入射面に入射する太陽光の９０％以上はエッチングで形成された窪み（凹部１０６）に入射することになるので、光を有効利用することができる。【００３９】
一方、図８−２に示されるように、四角格子点上に開口１０４を設け、テクスチャ・エッチングを行った場合には、凹部１０６を形成しない平坦部１３０の割合は２１％を越えてしまう。そのため、光の有効利用の観点からは、三角格子点上に凹部１０６を形成する場合に比して劣る。しかし、三角格子点を形成する場合よりも少ない開口点数で済むため、量産化の観点からは優れている。以上より、三角格子点上に開口を設けるか、四角格子点上に開口を設けるかは、製造する光起電力装置に求められる性能／コスト比で判断することになる。【００４０】
この実施の形態１によれば、太陽光の受光面側の表面から所定の深さの範囲に抵抗の低い低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを設け、テクスチャ構造形成領域１０５ａに所定の間隔で凹部１０６を設け、この凹部１０６の内面に抵抗の高い高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを形成したので、受光面側に櫛型のグリッド電極１１１を形成する際に、効率的に光起電力装置１００内に入射した光を光電流に変換するとともに、生成した光電流が抵抗の低い低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを介してグリッド電極１１１まで運ばれる。つまり、高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを通る場合に比して、抵抗ロスが抑制されるので、受光面側に形成するグリッド電極１１１の間隔を従来の構造の光起電力装置１００に比して広げることができるという効果を有する。また、従来と同じ寸法（面積）の光起電力装置と比較した場合に、光電変換効率が優れているので、エネルギ効率がよく、省エネルギ効果を有する。【００４１】
実施の形態２．
実施の形態１の説明では、図５−７と図６−７で高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを凹部１０６内に形成した後、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈ上のリンガラス層をフッ酸溶液で除去したが、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈの極最表面をたとえばフッ酸と硝酸の混合液によってエッチングしてもよい。なお、その他の処理工程は、実施の形態１で説明したものと同様であるので、その説明を省略する。【００４２】
この実施の形態２によれば、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈの上のリンガラス層エッチング後に、これら拡散層１０２Ｌ，１０２Ｈの最表面をフッ酸と硝酸の混合液などの混酸でエッチングするようにしたので、Ｎ型拡散層におけるキャリア再結合速度を抑えることができるという効果を有する。【００４３】
実施の形態３．
この実施の形態３では、実施の形態１とは異なる方法で開口を形成する場合について説明する。図９は、実施の形態３で開口の形成に使用されるレーザ加工装置の構成の一例を示す図である。このレーザ加工装置２００Ｂは、シリコン基板１０１などの加工対象を載置するステージ２０１と、レーザ光２０４を出力するレーザ発振部２０３と、ステージ２０１とレーザ発振部２０３との間に配置され、レーザ光２０４をＸ軸方向２１２に走査しながら光路に導く第１のガルバノミラー２１１と、第１のガルバノミラー２１１で反射したレーザ光２０４をＹ軸方向２１４に走査しながら光路に導く第２のガルバノミラー２１３と、を備える。【００４４】
このような構成のレーザ加工装置２００Ｂでは、第１と第２のガルバノミラー２１１，２１３を走査することによって、スポット状に集光したレーザ光２０４をシリコン基板１０１上の耐エッチング膜１０３の所定の位置に照射して開口１０４を形成する。このように、第１のガルバノミラー２１１を回動させてＸ軸方向２１２にレーザ光２０４を走査し、第２のガルバノミラー２１３を回動させてＹ軸方向２１４にレーザ光２０４を走査することによって、シリコン基板１０１の全域にわたり、高速で開口１０４を開けることができる。具体的には、繰り返し周波数５００ｋＨｚのレーザ光を用いて、１５μｍピッチで１走査線あたり１０，０００個の開口１０４を開ける場合には、第１のガルバノミラー２１１のＸ軸方向２１２の走査周波数を５０Ｈｚに設定すればよい。一方、三角格子上の最密配置に開口するためには走査線のＹ軸方向２１４の間隔は１３μｍに設定する必要があるため、シリコン基板１０１面上でのＹ軸方向２１４の走査速度を０．６５ｍｍ／秒とする。このようにして、耐エッチング膜１０３に１５μｍピッチの最密配置で直径５μｍの開口１０４を開けることができる。【００４５】
この実施の形態３によれば、レーザ光２０４を第１と第２のガルバノミラー２１１，２１３を用いて加工対象である耐エッチング膜１０３上の表面を走査して照射することができるので、多点照射でなくても、高速に開口１０４を設けることができるという効果を有する。【００４６】
実施の形態４．
この実施の形態４では、実施の形態１とは異なる方法で開口を形成する場合について説明する。図１０は、実施の形態４で開口の形成に使用されるレーザ加工装置の構成の一例を示す図である。このレーザ加工装置２００Ｃは、シリコン基板１０１などの加工対象を載置するステージ２０１と、レーザ光２０４を出力するレーザ発振部２０３と、レーザ光２０４を反射して光路に導く反射鏡２０５と、ホログラフィック光学素子２２１と、集光レンズ２２２と、を備える。【００４７】
このレーザ加工装置２００Ｃでは、レーザ発振部２０３から出力され、反射鏡２０５で導かれてホログラフィック光学素子２２１に入射した１本のレーザ光２０４を、光の干渉効果と集光レンズ２２２によって、所望の間隔で数１００点同時に加工対象上に照射することができる。そして、この同時照射できるレーザ光２０４をシリコン基板１０１の耐エッチング膜１０３上に走査しながら照射することで、図７や図９のレーザ加工装置２００Ａ，２００Ｂを用いる場合に比して開口１０４を形成する加工時間を大幅に短縮することができる。【００４８】
このように、ホログラフィック光学素子２２１を用いたレーザ加工装置２００Ｃを用いることによって、シリコン基板１０１の全域にわたり、極めて高速に開口１０４を形成することができる。具体的には、繰り返し周波数２０ｋＨｚのレーザ光を用いることで、１５０ｍｍ角のシリコン基板１０１全面の加工には数１０秒で十分であり、このようにして耐エッチング膜１０３に約１５μｍピッチの最密配置で直径約５μｍの開口１０４を開けることができる。【００４９】
この実施の形態４によれば、ホログラフィック光学素子２２１を用いて１ショットのレーザパルスで複数個の開口１０４を耐エッチング膜１０３に開けることができるので、加工のスループットが飛躍的に向上するという効果を有する。【００５０】
なお、実施の形態１〜４では、シリコン基板１０１としてＰ型のシリコン基板１０１を用いる場合を説明したが、Ｎ型のシリコン基板１０１を用いてＰ型拡散層を形成する逆の導電型の光起電力装置１００においても同様の効果を奏する。また基板として多結晶シリコンを用いたが、単結晶シリコン基板を用いても同様の効果を有する。さらに、ここでは基板厚を２５０μｍとしたが、自己保持できる、たとえば５０μｍ程度まで薄型化した基板を用いることもできる。また、寸法も１５０ｍｍ×１５０ｍｍと記述したが、これは一例であり、それより大きくてもまたは小さくても同様の効果が得られる。さらに、基板としてシリコン基板を例に挙げて説明したが、シリコン基板に限らず、半導体基板全般に上記した実施の形態１〜４を適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
以上のように、この発明にかかる光起電力装置は、太陽光を用いて発電を行う太陽電池に有用である。
【図１−１】
2009118861.tif 000003
【図１−２】
2009118861.tif 000004
【図１−３】
2009118861.tif 000005
【図２】
2009118861.tif 000006
【図３】
2009118861.tif 000007
【図４−１】
2009118861.tif 000008
【図４−２】
2009118861.tif 000009
【図５−１】
2009118861.tif 000010
【図５−２】
2009118861.tif 000011
【図５−３】
2009118861.tif 000012
【図５−４】
2009118861.tif 000013
【図５−５】
2009118861.tif 000014
【図５−６】
2009118861.tif 000015
【図５−７】
2009118861.tif 000016
【図５−８】
2009118861.tif 000017
【図５−９】
2009118861.tif 000018
【図６−１】
2009118861.tif 000019
【図６−２】
2009118861.tif 000020
【図６−３】
2009118861.tif 000021
【図６−４】
2009118861.tif 000022
【図６−５】
2009118861.tif 000023
【図６−６】
2009118861.tif 000024
【図６−７】
2009118861.tif 000025
【図６−８】
2009118861.tif 000026
【図６−９】
2009118861.tif 000027
【図７】
2009118861.tif 000028
【図８−１】
2009118861.tif 000029
【図８−２】
2009118861.tif 000030
【図９】
2009118861.tif 000031
【図１０】
2009118861.tif 000032
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月5日(2010.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導電型の多結晶シリコン基板と、
前記多結晶シリコン基板の光の入射面側に形成される第２の導電型の不純物が第１の濃度で拡散された第１の拡散層と、
前記第１の拡散層上に形成される櫛状のグリッド電極と前記グリッド電極間を結ぶバス電極と、
前記多結晶シリコン基板の光の入射面に対向する裏面に形成される第１の導電型からなる第２の拡散層と、
前記第２の拡散層上に形成される裏面電極と、
を備える光起電力装置において、
前記グリッド電極と前記バス電極とが形成されていない領域に、前記第１の拡散層の上面から前記多結晶シリコン基板に到達する深さを有する凹部であり、隣接する前記凹部同士の中心間の距離よりも小さい直径の凹部を有し、
隣接する前記凹部間の領域の上面は、前記第１の拡散層を含み、
前記凹部の形成面から所定の深さの範囲には、第２の導電型の不純物が前記第１の濃度よりも低い第２の濃度で拡散された第３の拡散層が形成されていることを特徴とする光起電力装置。
【請求項２】
隣接する前記凹部間の領域の上面は、前記グリッド電極と前記バス電極が形成される位置での前記多結晶シリコン基板の表面と同じ高さを有し、平坦であることを特徴とする請求項１に記載の光起電力装置。
【請求項３】
前記多結晶シリコン基板と前記第１の拡散層に形成される前記凹部の形成面は、曲面であることを特徴とする請求項１に記載の光起電力装置。
【請求項４】
前記凹部は、三角格子点上または四角格子点上に形成されることを特徴とする請求項１に記載の光起電力装置。
【請求項５】
前記第１の拡散層のシート抵抗は、３０Ω／□以上６０Ω／□未満であり、
前記第３の拡散層のシート抵抗は、６０Ω／□以上１５０Ω／□未満であることを特徴とする請求項１に記載の光起電力装置。
【請求項６】
第１の導電型の多結晶シリコン基板の光の入射面側に第２の導電型の不純物を拡散して、第１の濃度の第１の拡散層を形成する第１の拡散層形成工程と、
前記第１の拡散層上に耐エッチング性を有する耐エッチング膜を形成する耐エッチング膜形成工程と、
前記耐エッチング膜上の所定の位置に微細孔を形成し、前記第１の拡散層を露出させる微細孔形成工程と、
前記第１の拡散層の露出位置を中心に、前記第１の拡散層と前記多結晶シリコン基板とをエッチングし、隣接する凹部間の前記第１の拡散層の上面が平坦となるように、凹部を形成する凹部形成工程と、
前記凹部を形成する面に、前記第１の濃度よりも低い第２の濃度の第２の導電型の不純物を拡散して、第２の拡散層を形成する第２の拡散層形成工程と、
を含むことを特徴とする光起電力装置の製造方法。
【請求項７】
前記微細孔形成工程では、前記耐エッチング膜が吸収する波長のレーザ光を用いて微細孔の形成処理を行うことを特徴とする請求項６に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項８】
前記耐エッチング膜形成工程で、前記耐エッチング膜としてＳｉＮ膜を形成し、
前記微細孔形成工程では、波長が７００ｎｍ以下のレーザ光を用いることを特徴とする請求項７に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項９】
前記微細孔形成工程では、前記レーザ光の一部をマスクにより遮光して、前記耐エッチング膜に同時に複数の前記微細孔を開けることを特徴とする請求項７に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項１０】
前記微細孔形成工程では、ガルバノミラーを用いて前記レーザ光を前記耐エッチング膜上で走査させて、複数の前記微細孔を開けることを特徴とする請求項７に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項１１】
前記微細孔形成工程では、ホログラフィック光学素子を用いて前記レーザ光を前記耐エッチング膜上で走査させて、複数の前記微細孔を開けることを特徴とする請求項７に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項１２】
前記微細孔形成工程では、前記耐エッチング膜の三角格子点上または四角格子点上に前記微細孔を形成することを特徴とする請求項７に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項１３】
前記凹部形成工程で形成された平坦な上面を有する前記第１の拡散層上に、グリッド電極と、前記グリッド電極間を結ぶバス電極とを形成する表面電極形成工程をさらに含むことを特徴とする請求項６に記載の光起電力装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第１および第２の拡散層形成工程では、オキシ塩化リン蒸気の存在下で加熱して、前記第１および第２の拡散層を形成し、
前記第２の拡散層形成工程の後に、前記第１および第２の拡散層上のリンガラス層をフッ酸溶液またはフッ酸と硝酸の混合液でエッチングするエッチング工程をさらに含むことを特徴とする請求項６に記載の光起電力装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光起電力装置およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池などの光起電力装置の性能向上には、太陽光を如何に効率よく光起電力装置内部に取り込むことができるかが重要な要素となる。そのため、従来では、光入射側の表面に意図的に数十ｎｍ〜数十μｍの寸法の微細な凹凸を形成したテクスチャ構造を作製している。このテクスチャ構造では、表面で一度反射した光を再度表面に入射させるようにして、より多くの太陽光を光起電力装置内部に取り込むことで発生電流を増大させ、光電変換効率の向上を図っている。
【０００３】
太陽電池用基板にテクスチャ構造を形成する方法としては、基板が単結晶シリコン（Ｓｉ）基板の場合には、エッチング速度に結晶方位依存性を持つ水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ水溶液による結晶方位を利用した異方性エッチング処理が広く用いられる（たとえば、特許文献１参照）。たとえば表面が（１００）面方位を有する基板表面にこの異方性エッチング処理を行うと、（１１１）面が露出したピラミッド状のテクスチャが形成される。
【０００４】
しかし、多結晶シリコン基板の場合には、アルカリ水溶液を用いて異方性エッチング処理を行う方法では、基板表面を構成する各結晶粒子の結晶面方位が揃っておらず、またアルカリ水溶液を用いる異方性エッチング処理自体が結晶面によってエッチングレートが大きく異なることから、部分的にしかテクスチャ構造を作製することができない。このような事情によって、多結晶シリコン基板の場合には、反射率の低減に限界があるという問題がある。たとえば、波長６２８ｎｍにおける反射率を見ると、表面が鏡面研磨されたシリコンでは約３６％であり、（１００）面の単結晶シリコン基板をウェットエッチングした場合では約１５％となるのに対し、多結晶シリコン基板をウェットエッチングした場合では２７〜３０％程度である。
【０００５】
そこで、結晶面方位によらず全面にテクスチャ構造を形成する方法として、エッチングマスクを用いた混酸エッチングが提案されている（たとえば、特許文献２参照）。エッチングマスクの作製方法は半導体プロセスで用いられるリソグラフィによる方法や、耐エッチング性材料の溶液中にエッチング耐性の低い微粒子を混合し、基板面に塗布する方法などを用いることができる。
【０００６】
そして、このようにテクスチャ構造が形成されたＰ型のシリコン基板の表面にＮ型の拡散源を含むドーパント液を塗布し、熱処理して拡散させることで、テクスチャ構造の表面にリン濃度の高い高濃度Ｎ型拡散層を形成し、シリコン基板のテクスチャ構造上の所定の位置に櫛状に配置した銀などの金属からなるグリッド電極と、グリッド電極からの電流を集める銀などの金属からなるバス電極を形成し、裏面にアルミニウムや銀などの金属からなる裏面電極を形成して、太陽電池を形成している（たとえば、特許文献３参照）。
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−７０２９６号公報
【特許文献２】特開２００３−３０９２７６号公報
【特許文献３】特開２００５−１１６５５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、シリコン基板のテクスチャ構造側は、金属からなるグリッド電極との電気的接触を良好なものとし、光起電力装置内で発生した光電流を外部回路に効率よく取り出すために、高濃度に不純物が拡散されている必要がある。しかしながら、良好な光起電力を得るためには、テクスチャ構造側のシリコン基板内に拡散される不純物濃度は、所定のレベル以下の低さに制御されていることが望ましい。そのため、上記従来の技術を用いた構造の光起電力装置では、光電変換効率を犠牲にして光起電力装置内で発生した光電流を外部回路に効率よく取り出すものであり、外部回路への光電流の取り出し効率を落とさずに、光電変換効率を従来の技術のものよりもさらに改善する技術が望まれていた。
【０００９】
この発明は上記に鑑みてなされたもので、外部回路への光電流の取り出し効率を従来に比して落とさずに、光電変換効率を従来に比して改善することができる光起電力装置とその製造方法を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、この発明にかかる光起電力装置は、
第１の導電型の多結晶シリコン基板と、前記多結晶シリコン基板の光の入射面側に形成される第２の導電型の不純物が第１の濃度で拡散された第１の拡散層と、前記第１の拡散層上に形成される櫛状のグリッド電極と前記グリッド電極間を結ぶバス電極と、前記多結晶シリコン基板の光の入射面に対向する裏面に形成される第１の導電型からなる第２の拡散層と、前記第２の拡散層上に形成される裏面電極と、を備える光起電力装置において、前記グリッド電極と前記バス電極とが形成されていない領域に、前記第１の拡散層の上面から前記多結晶シリコン基板に到達する深さを有する凹部であり、隣接する前記凹部同士の中心間の距離よりも小さい直径の凹部を有し、隣接する前記凹部間の領域の上面は、前記第１の拡散層を含み、前記凹部の形成面から所定の深さの範囲には、第２の導電型の不純物が前記第１の濃度よりも低い第２の濃度で拡散された第３の拡散層が形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によれば、シリコン基板の受光面側に低抵抗の第１の拡散層を形成し、すべての第１の拡散層が除去されないように、所定の間隔の凹部を設け、さらに凹部の表面から所定の深さの範囲に第１の拡散層の不純物濃度よりも低い第３の拡散層を設けるようにしたので、入射する太陽光の反射率を低減させて、凹部内の第３の拡散層で効率的に光電変換を行うとともに、光電変換によって生じた光電流を抵抗の低いシリコン基板表面の第１の拡散層を介して表面電極に到達させることができる。光電流が低抵抗な第１の拡散層を通って表面電極に集電されることで、抵抗ロスを抑制するとともに、表面電極の間隔を広げて、表面電極の形成面積を減少することができ、シリコン基板内により多くの太陽光を入射させることが可能になる。その結果、外部回路への光電流の取り出し効率を従来に比して落とさずに、光電変換効率を従来に比して改善することができるという効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に添付図面を参照して、この発明にかかる光起電力装置とその製造方法の好適な実施の形態を詳細に説明する。なお、これらの実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、以下の実施の形態で用いられる光電変換装置の断面図は模式的なものであり、層の厚みと幅との関係や各層の厚みの比率などは現実のものとは異なる。
【００１３】
実施の形態１．
最初に、この発明による実施の形態１の光起電力装置の構成を説明する前に、一般的な光起電力装置の全体構成の概要について説明する。図１−１〜図１−３は、一般的な光起電力装置の全体構成の一例を模式的に示す図であり、図１−１は光起電力装置の上面図であり、図１−２は光起電力装置の裏面図であり、図１−３は図１−２のＡ−Ａ断面図である。光起電力装置１００は、半導体基板としてのＰ型シリコン基板１０１と、このＰ型シリコン基板１０１の一方の主面（受光面）側の表面に形成されるＮ型の不純物を拡散させたＮ型拡散層１０２と、他方の主面（裏面）側の表面に形成されるシリコン基板１０１よりも高濃度にＰ型の不純物を含んだＰ＋層１１０と、を含む光電変換層を備える。また、光起電力装置１００は、光電変換層の受光面への入射光の反射を防止する反射防止膜１０９と、光電変換層で発電された電気を局所的に集電するために受光面に設けられる銀などからなるグリッド電極１１１と、グリッド電極１１１で集電された電気を取り出すためにグリッド電極１１１にほぼ直交して設けられる銀などからなるバス電極１１３と、光電変換層で発電された電気の取り出しと入射光の反射を目的としてＰ型シリコン基板１０１の裏面のほぼ全面に設けられたアルミニウムなどからなる裏側電極１２１と、この裏側電極１２１に生じた電気を集電する銀などからなる裏側集電電極１２２と、を備える。
【００１４】
つぎに、この実施の形態１の特徴となる部分について説明する。図２は、図１−１〜図１−３に示される光起電力装置のグリッド電極周辺の一部を拡大して示す斜視図であり、図３は、図２のＢ−Ｂ断面図である。なお、これらの図２と図３は、この図１−１〜図１−３のグリッド電極１１１周辺を切出した状態を示す図である。
【００１５】
これらの図２と図３に示されるように、光起電力装置１００の受光面側は、所定の間隔の凹部１０６を有するテクスチャ構造が形成されたテクスチャ構造形成領域１０５ａと、光起電力装置１００のグリッド電極１１１などの光入射側電極が形成される電極形成領域１０５ｂと、を有する。
【００１６】
テクスチャ構造形成領域１０５ａは、Ｎ型の不純物が高濃度に拡散された低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌよりも抵抗が高くなるようにＮ型の不純物が低濃度に拡散された高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈと、を有する。より具体的には、テクスチャ構造形成領域１０５ａは、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ中に、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌの上面からシリコン基板１０１に到達するように所定の間隔で形成された凹部１０６を有し、凹部１０６が形成されないシリコン基板１０１の表面部分に相当する部分には、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが概網目状に残され、凹部１０６の内面から所定の深さには、高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈが形成される。この凹部１０６の直径は、隣接する凹部１０６同士の中心間の距離よりも小さいものとする。また、電極形成領域１０５ｂでは、グリッド電極１１１などの光入射側電極は低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ上に接合部分１１２を介して形成されている。これによって、テクスチャ構造形成領域１０５ａ内の低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが概網目状に残存した部分と電極形成領域１０５ｂは連続的につながっている。なお、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈの面抵抗（シート抵抗）については、後述する。また、シリコン基板１０１の受光面と裏面の構造は、図１−１〜図１−３で説明したものと同様であるので、その説明を省略する。
【００１７】
ここで、この実施の形態１の光起電力装置１００と従来の光起電力装置との違いについて説明する。図４−１は、この実施の形態１による光起電力装置のグリッド電極周辺の構造の一例を示す断面図であり、図４−２は、従来の光起電力装置のグリッド電極周辺の構造の一例を示す図である。なお、従来の光起電力装置において、この実施の形態１と同一の構成要素に対しては、同一の符号を付している。
【００１８】
図４−２に示されるように、従来の光起電力装置１００Ａでは、受光面側の電極形成領域１０５ｂのシリコン基板１０１の表面にのみ、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが形成されており、テクスチャ構造形成領域１０５ａの表面にはすべて高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈが形成されている。また、このテクスチャ構造形成領域１０５ａにおけるシリコン基板１０１の表面（上面）の位置は、凹部１０６を形成したことによって電極形成領域１０５ｂのシリコン基板１０１の表面（上面）の位置に比べて後退している。このような構造としているのは、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ、すなわち高濃度に不純物が拡散された領域は、光電変換特性が著しく悪く、その部分で入射した太陽光を有効に利用できないために、太陽光が入射する領域には光電変換特性の良好な不純物濃度が低い高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを形成した方がよいからである。しかし、高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈは、光電変換特性は良好であるが、その高い抵抗によって発生した光電流が熱になってしまう抵抗ロスが大きくなるために、隣接するグリッド電極１１１の間隔を狭くしなければならなかった。このグリッド電極１１１の間隔を狭く配置することは、グリッド電極１１１の設置面積の増加を意味し、シリコン基板１０１内部へ入射する入射光に対して影となってしまい、光電変換効率を低下させてしまっていた。
【００１９】
これに対して、この実施の形態１の光起電力装置１００では、図２、図３および図４−１に示されるように、シリコン基板１０１の受光面側に低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを残すように所定の間隔の凹部１０６を設け、また、この凹部１０６の表面から所定の深さの範囲に高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを設ける構造とした。凹部１０６によって、入射する太陽光の反射率を低減させ、凹部１０６内の高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈで入射した太陽光を効率的に光電流に変換することができる。さらに、太陽光の入射によって生成された光電流は、シリコン基板１０１の表面に残された概網目状の低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを通って、グリッド電極１１１に流れるので、光電流の抵抗による損失を低減することができる。また、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを介してグリッド電極１１１まで光電流を運ぶようにしたので、グリッド電極１１１の間隔を図４−２の従来例に比して長く取ることができる。これに伴って、グリッド電極１１１のシリコン基板１０１内部へ入射する光に対する影の面積を従来例に比して減少することができ光電変換効率を上昇させることができる。
【００２０】
つぎに、このような構造の光起電力装置１００の製造方法について説明する。図５−１〜図５−９は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図であり、図６−１〜図６−９は、それぞれ図５−１〜図５−９のＢ−Ｂ断面図である。なお、以下に示すサイズは一例である。
【００２１】
まず、シリコン基板１０１を用意する（図５−１、図６−１）。ここでは、民生用光起電力装置向けとして最も多く使用されているＰ型多結晶シリコン基板を使用するものとする。このシリコン基板１０１は、多結晶シリコンインゴットからマルチワイヤソーでスライスし、酸またはアルカリ溶液を用いたウェットエッチングでスライス時のダメージを除去して製造する。ダメージ除去後のシリコン基板１０１厚みは２５０μｍであり、寸法は１５０ｍｍ×１５０ｍｍである。
【００２２】
ついで、ダメージ除去後のシリコン基板１０１を熱酸化炉へ投入し、Ｎ型の不純物としてのリン（Ｐ）の雰囲気下で加熱し、シリコン基板１０１表面にリンを高濃度に拡散させ、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを形成する（図５−２、図６−２）。ここではリン雰囲気の形成にオキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3）を用いて、８４０℃で拡散させる。
【００２３】
その後、一方の主面上に形成した低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ上に、耐エッチング性を有する膜（以下、耐エッチング膜という）１０３を形成する（図５−３、図６−３）。この耐エッチング膜１０３として、窒化シリコン膜（以下、ＳｉＮ膜という）、酸化シリコン（ＳｉＯ2、ＳｉＯ）膜、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜、アモルファスシリコン（а−Ｓｉ）膜、ダイアモンドライクカーボン膜、樹脂膜などを用いることができる。ここでは、耐エッチング膜１０３として、プラズマＣＶＤ（Chemical  Vapor  Deposition）法によって形成した膜厚２４０ｎｍのＳｉＮ膜を用いる。なお、膜厚は２４０ｎｍとしたが、テクスチャ・エッチング時のエッチング条件と、後工程でのＳｉＮ膜の除去性から適切な膜厚を選択することができる。
【００２４】
ついで、耐エッチング膜１０３上のテクスチャ構造形成領域１０５ａに、開口１０４を形成する（図５−３、図６−３）。テクスチャ構造を形成せず、光起電力装置１００の光入射側電極を形成しようとする電極形成領域１０５ｂには、開口１０４は形成しない。開口１０４の形成は、半導体プロセスで用いられるフォトリソグラフィによる方法やレーザ照射による方法などを用いることができる。なお、レーザ照射による方法は、フォトリソグラフィ技術によって形成する場合に必要となるレジスト塗布、露光・現像、エッチング、レジスト除去という複雑な工程が不要で、レーザを照射するのみで開口１０４を形成でき工程を簡略化できるメリットがある。
【００２５】
図７は、開口を形成するレーザ加工装置の構成の一例を模式的に示す図である。このレーザ加工装置２００Ａは、シリコン基板１０１などの加工対象を載置するステージ２０１と、レーザ光２０４を出力するレーザ発振部２０３と、レーザ光２０４を反射させながら光路に導く反射鏡２０５と、レーザ光２０４を複数のレーザ光に分離するビームスプリッタ２０６と、ビーム形状を所定の形状にするアパーチャ２０７と、アパーチャ２０７を通過したレーザ光２０４を縮小して加工対象に照射する縮小光学系２０８と、を備える。
【００２６】
このようなレーザ加工装置２００Ａにおいて、レーザ発振部２０３から出力されるレーザ光２０４は、反射鏡２０５で光路が変更された後、ビームスプリッタ２０６で拡大されてアパーチャ２０７に入射され、アパーチャ２０７を通過後、縮小光学系２０８で耐エッチング膜１０３上の所定の位置に照射される。この結果、シリコン基板１０１上に形成された耐エッチング膜１０３に複数の微細孔である開口１０４が開けられ、下地のシリコン基板１０１（低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌ）の表面が露出する。
【００２７】
ここで、レーザ発振部２０３として、Ｎｄ：ＹＡＧ（Yttrium  Aluminum  Garnet）レーザと３倍高調波発生器を組み合わせたものを使用する。これによって、レーザ光の波長が３５５ｎｍとなり、ＳｉＮ膜が吸収可能な波長となる。また、光学系の焦点深度は、１０μｍ以上に設定している。またＳｉＮ膜を除去した上でさらに下地のシリコン基板１０１に窪みを施すことができるレーザの強度を選ぶことで、より窪み深さと窪み径の比を大きくでき、光の閉じ込め効果を大きくすることができる。実験によって、０．４Ｊ／ｃｍ2以上でＳｉＮ膜に開口が可能で、２Ｊ／ｃｍ2以上で下地のシリコン基板１０１に窪みを施せることが明らかとなった。したがって、ここでは３Ｊ／ｃｍ2のレーザ光強度を使用している。なお、レーザ光源としてＮｄ：ＹＡＧレーザの３倍高調波を用いたが、レーザ光によるシリコン基板１０１へのダメージをテクスチャ・エッチング深さ以内となる４μｍ以内に抑えることのできる７００ｎｍより短い波長のレーザ光を出力することができるレーザ光源であれば、他のレーザ光源を用いることもできる。
【００２８】
また、上記のレーザ加工装置２００Ａでのアパーチャ２０７としては、金属板に開口を施したものを使用している。アパーチャ２０７を通過したレーザ光２０４は縮小されて加工対象に照射されるため、アパーチャ２０７の開口パターンは比較的大きくてもよい。したがって、アパーチャ２０７として、金属板にウェットエッチングまたはサンドブラストを用いて開口したものを使用してもよい。また、ガラス板にクロム膜等の薄膜金属パターンを形成したガラスマスクもアパーチャ２０７として使用可能である。ただし、この場合にはガラスの透過率と金属薄膜の耐性に留意する必要がある。
【００２９】
ついで、耐エッチング膜１０３に開けた開口１０４を通して、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを含むシリコン基板１０１の表面付近をエッチングして、凹部１０６を形成する（図５−５、図６−５）。このエッチングは、微細な開口１０４を通してシリコン基板１０１をエッチングするため、シリコン基板１０１の表面には微細な開口１０４を中心として、その同心位置に凹部１０６が形成される。混酸系のエッチング液によってエッチングを行うと、シリコン基板１０１表面の結晶面方位に影響されずに均一なテクスチャが形成され、表面反射損失の少ない光起電力装置１００を製造できる。ここでは、エッチング液としてフッ酸と硝酸の混合液を用いる。混合比はフッ酸１：硝酸２０：水１０である。なお、エッチング液の混合比は所望のエッチング速度、エッチング形状により適切な混合比に変更可能である。また、このエッチングによって形成される凹部１０６の表面のうち、基板表面側では、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが形成されているが、それよりも深い領域では、不純物が導入されていない。
【００３０】
さらに、このエッチングによって凹部１０６を形成する際に、従来は図４−２に示されるように、光入射面側の低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌをほぼ全て除去してしまっていたが、ここでは図５−５と図６−５に示されるように隣接する凹部１０６間の低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを意図的に残すことで、光入射面で発生した光電流を低抵抗な電流パスである低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを通して光入射側電極（グリッド電極１１１）に導くようにしている。
【００３１】
ついで、フッ酸などを用いて耐エッチング膜１０３を除去した後（図５−６、図６−６）、シリコン基板１０１を熱酸化炉へ再度投入し、オキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3）蒸気の存在下で加熱して、凹部１０６の表面にリンを低濃度に拡散させた高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを形成する（図５−７、図６−７）。このときの拡散温度は８４０℃とする。ここで、電極形成領域１０５ｂは、エッチング時に低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが残っていた部分であるため、その上から再度低濃度な拡散を行っても抵抗は低いままである。また、テクスチャ構造形成領域１０５ａの凹部１０６の内面は、エッチング時に低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌが除去された状態になっているが、この拡散処理によって、高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈが形成される。
【００３２】
なお、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌのシート抵抗は低ければ低いほど電極とのコンタクト性は良好となり、また、グリッド電極１１１の配置間隔を広く取ることができ、グリッド電極１１１の配置によるシリコン基板１０１への影の影響を抑制することができる。しかし、低抵抗化するには拡散時の加熱時間を長くするか、あるいは加熱温度を高くする必要があり、これらの処理は多結晶シリコン（シリコン基板１０１）の品質の低下を引き起こす原因となる。このように、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌの低抵抗化とシリコン基板１０１の品質とはトレードオフの関係にあるので、製造される光起電力装置１００に求められる特性に応じた低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌのシート抵抗値となるような条件でシリコン基板１０１の加熱処理を行う必要がある。一般的には、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌの表面シート抵抗は３０Ω／□以上６０Ω／□未満であることが望ましいが、量産性も考慮した場合には、好ましくは４５Ω／□以上５５Ω／□未満となる。また、一般的には、高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈの表面シート抵抗は６０Ω／□以上１５０Ω／□未満であることが望ましいが、量産時の特性の安定性を考慮すると、好ましくは７０Ω／□以上１００Ω／□未満となる。
【００３３】
ついで、オキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3）蒸気の存在下で加熱してできたリンガラス層をフッ酸溶液中で除去する。その後、プラズマＣＶＤ法によりセル表面にＳｉＮ膜などからなる反射防止膜１０９を形成する（図５−８、図６−８）。この反射防止膜１０９の膜厚および屈折率は、光反射を最も抑制する値に設定される。なお、屈折率の異なる２層以上の膜を積層してもよい。またスパッタ法など異なる成膜方法により形成してもよい。
【００３４】
その後、シリコン基板１０１の表面と裏面にそれぞれ表面電極（グリッド電極１１１、バス電極１１３）と、裏面電極（裏側電極１２１、裏側集電電極１２２）を形成する（図５−９、図６−９）。ここではまず、裏側電極１２１としてアルミニウムを混入したペーストを全面にスクリーン印刷にて形成する。つぎに、グリッド電極１１１（バス電極１１３）として銀を混入したペーストを櫛形にスクリーン印刷にて形成する。そして、焼成処理を実施する。なお、グリッド電極１１１の基となるペーストは、電極形成領域１０５ｂ上に形成される。また、焼成処理は、大気雰囲気中、７６０℃で実施する。このとき、グリッド電極１１１は、接合部分１１２において、反射防止膜１０９を突き抜け低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌとコンタクトする。これによって、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌは上部電極（グリッド電極１１１、バス電極１１３）と良好な抵抗性接合を得ることができる。また、焼成によって裏側電極１２１のアルミニウムがシリコン基板１０１へと拡散し、シリコン基板１０１の裏面から所定の範囲にＰ＋層１１０が形成される。以上のようにして、光起電力装置１００が作製される。
【００３５】
なお、上述した図５−４と図６−４で、テクスチャ構造形成領域１０５ａの耐エッチング膜１０３に開口１０４を形成する際に、三角格子点上に設けてもよいし、四角格子点上に設けてもよい。図８−１は、三角格子点上に開口を設けた場合のテクスチャ・エッチング後の表面形状を模式的に示す図であり、図８−２は、四角格子点上に開口を設けた場合のテクスチャ・エッチング後の表面形状を模式的に示す図である。
【００３６】
図８−１に示されるように、三角格子点上に開口１０４を設け、テクスチャ・エッチングを行った場合には、凹部１０６を形成しない概平坦な部分（平坦部）１３０の割合は約９％程度となり、光起電力装置１００の光入射面に入射する太陽光の９０％以上はエッチングで形成された窪み（凹部１０６）に入射することになるので、光を有効利用することができる。
【００３７】
一方、図８−２に示されるように、四角格子点上に開口１０４を設け、テクスチャ・エッチングを行った場合には、凹部１０６を形成しない平坦部１３０の割合は２１％を越えてしまう。そのため、光の有効利用の観点からは、三角格子点上に凹部１０６を形成する場合に比して劣る。しかし、三角格子点を形成する場合よりも少ない開口点数で済むため、量産化の観点からは優れている。以上より、三角格子点上に開口を設けるか、四角格子点上に開口を設けるかは、製造する光起電力装置に求められる性能／コスト比で判断することになる。
【００３８】
この実施の形態１によれば、太陽光の受光面側の表面から所定の深さの範囲に抵抗の低い低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを設け、テクスチャ構造形成領域１０５ａに所定の間隔で凹部１０６を設け、この凹部１０６の内面に抵抗の高い高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを形成したので、受光面側に櫛型のグリッド電極１１１を形成する際に、効率的に光起電力装置１００内に入射した光を光電流に変換するとともに、生成した光電流が抵抗の低い低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌを介してグリッド電極１１１まで運ばれる。つまり、高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを通る場合に比して、抵抗ロスが抑制されるので、受光面側に形成するグリッド電極１１１の間隔を従来の構造の光起電力装置１００に比して広げることができるという効果を有する。また、従来と同じ寸法（面積）の光起電力装置と比較した場合に、光電変換効率が優れているので、エネルギ効率がよく、省エネルギ効果を有する。
【００３９】
実施の形態２．
実施の形態１の説明では、図５−７と図６−７で高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈを凹部１０６内に形成した後、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈ上のリンガラス層をフッ酸溶液で除去したが、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈの極最表面をたとえばフッ酸と硝酸の混合液によってエッチングしてもよい。なお、その他の処理工程は、実施の形態１で説明したものと同様であるので、その説明を省略する。
【００４０】
この実施の形態２によれば、低抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｌと高抵抗Ｎ型拡散層１０２Ｈの上のリンガラス層エッチング後に、これら拡散層１０２Ｌ，１０２Ｈの最表面をフッ酸と硝酸の混合液などの混酸でエッチングするようにしたので、Ｎ型拡散層におけるキャリア再結合速度を抑えることができるという効果を有する。
【００４１】
実施の形態３．
この実施の形態３では、実施の形態１とは異なる方法で開口を形成する場合について説明する。図９は、実施の形態３で開口の形成に使用されるレーザ加工装置の構成の一例を示す図である。このレーザ加工装置２００Ｂは、シリコン基板１０１などの加工対象を載置するステージ２０１と、レーザ光２０４を出力するレーザ発振部２０３と、ステージ２０１とレーザ発振部２０３との間に配置され、レーザ光２０４をＸ軸方向２１２に走査しながら光路に導く第１のガルバノミラー２１１と、第１のガルバノミラー２１１で反射したレーザ光２０４をＹ軸方向２１４に走査しながら光路に導く第２のガルバノミラー２１３と、を備える。
【００４２】
このような構成のレーザ加工装置２００Ｂでは、第１と第２のガルバノミラー２１１，２１３を走査することによって、スポット状に集光したレーザ光２０４をシリコン基板１０１上の耐エッチング膜１０３の所定の位置に照射して開口１０４を形成する。このように、第１のガルバノミラー２１１を回動させてＸ軸方向２１２にレーザ光２０４を走査し、第２のガルバノミラー２１３を回動させてＹ軸方向２１４にレーザ光２０４を走査することによって、シリコン基板１０１の全域にわたり、高速で開口１０４を開けることができる。具体的には、繰り返し周波数５００ｋＨｚのレーザ光を用いて、１５μｍピッチで１走査線あたり１０，０００個の開口１０４を開ける場合には、第１のガルバノミラー２１１のＸ軸方向２１２の走査周波数を５０Ｈｚに設定すればよい。一方、三角格子上の最密配置に開口するためには走査線のＹ軸方向２１４の間隔は１３μｍに設定する必要があるため、シリコン基板１０１面上でのＹ軸方向２１４の走査速度を０．６５ｍｍ／秒とする。このようにして、耐エッチング膜１０３に１５μｍピッチの最密配置で直径５μｍの開口１０４を開けることができる。
【００４３】
この実施の形態３によれば、レーザ光２０４を第１と第２のガルバノミラー２１１，２１３を用いて加工対象である耐エッチング膜１０３上の表面を走査して照射することができるので、多点照射でなくても、高速に開口１０４を設けることができるという効果を有する。
【００４４】
実施の形態４．
この実施の形態４では、実施の形態１とは異なる方法で開口を形成する場合について説明する。図１０は、実施の形態４で開口の形成に使用されるレーザ加工装置の構成の一例を示す図である。このレーザ加工装置２００Ｃは、シリコン基板１０１などの加工対象を載置するステージ２０１と、レーザ光２０４を出力するレーザ発振部２０３と、レーザ光２０４を反射して光路に導く反射鏡２０５と、ホログラフィック光学素子２２１と、集光レンズ２２２と、を備える。
【００４５】
このレーザ加工装置２００Ｃでは、レーザ発振部２０３から出力され、反射鏡２０５で導かれてホログラフィック光学素子２２１に入射した１本のレーザ光２０４を、光の干渉効果と集光レンズ２２２によって、所望の間隔で数１００点同時に加工対象上に照射することができる。そして、この同時照射できるレーザ光２０４をシリコン基板１０１の耐エッチング膜１０３上に走査しながら照射することで、図７や図９のレーザ加工装置２００Ａ，２００Ｂを用いる場合に比して開口１０４を形成する加工時間を大幅に短縮することができる。
【００４６】
このように、ホログラフィック光学素子２２１を用いたレーザ加工装置２００Ｃを用いることによって、シリコン基板１０１の全域にわたり、極めて高速に開口１０４を形成することができる。具体的には、繰り返し周波数２０ｋＨｚのレーザ光を用いることで、１５０ｍｍ角のシリコン基板１０１全面の加工には数１０秒で十分であり、このようにして耐エッチング膜１０３に約１５μｍピッチの最密配置で直径約５μｍの開口１０４を開けることができる。
【００４７】
この実施の形態４によれば、ホログラフィック光学素子２２１を用いて１ショットのレーザパルスで複数個の開口１０４を耐エッチング膜１０３に開けることができるので、加工のスループットが飛躍的に向上するという効果を有する。
【００４８】
なお、実施の形態１〜４では、シリコン基板１０１としてＰ型のシリコン基板１０１を用いる場合を説明したが、Ｎ型のシリコン基板１０１を用いてＰ型拡散層を形成する逆の導電型の光起電力装置１００においても同様の効果を奏する。また基板として多結晶シリコンを用いたが、単結晶シリコン基板を用いても同様の効果を有する。さらに、ここでは基板厚を２５０μｍとしたが、自己保持できる、たとえば５０μｍ程度まで薄型化した基板を用いることもできる。また、寸法も１５０ｍｍ×１５０ｍｍと記述したが、これは一例であり、それより大きくてもまたは小さくても同様の効果が得られる。さらに、基板としてシリコン基板を例に挙げて説明したが、シリコン基板に限らず、半導体基板全般に上記した実施の形態１〜４を適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
以上のように、この発明にかかる光起電力装置は、太陽光を用いて発電を行う太陽電池に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１−１】図１−１は、光起電力装置の上面図である。
【図１−２】図１−２は、光起電力装置の裏面図である。
【図１−３】図１−３は、図１−２のＡ−Ａ断面図である。
【図２】図２は、図１−１〜図１−３に示される光起電力装置のグリッド電極周辺の一部を拡大して示す斜視図である。
【図３】図３は、図２のＢ−Ｂ断面図である。
【図４−１】図４−１は、この実施の形態１による光起電力装置のグリッド電極周辺の構造の一例を示す断面図である。
【図４−２】図４−２は、従来の光起電力装置のグリッド電極周辺の構造の一例を示す図である。
【図５−１】図５−１は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その１）。
【図５−２】図５−２は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その２）。
【図５−３】図５−３は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その３）。
【図５−４】図５−４は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その４）。
【図５−５】図５−５は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その５）。
【図５−６】図５−６は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その６）。
【図５−７】図５−７は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その７）。
【図５−８】図５−８は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その８）。
【図５−９】図５−９は、この実施の形態１による光起電力装置の製造方法の処理手順の一例を模式的に示す斜視図である（その９）。
【図６−１】図６−１は、図５−１のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−２】図６−２は、図５−２のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−３】図６−３は、図５−３のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−４】図６−４は、図５−４のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−５】図６−５は、図５−５のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−６】図６−６は、図５−６のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−７】図６−７は、図５−７のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−８】図６−８は、図５−８のＢ−Ｂ断面図である。
【図６−９】図６−９は、図５−９のＢ−Ｂ断面図である。
【図７】図７は、開口を形成するレーザ加工装置の構成の一例を模式的に示す図である。
【図８−１】図８−１は、三角格子点上に開口を設けた場合のテクスチャ・エッチング後の表面形状を模式的に示す図である。
【図８−２】図８−２は、四角格子点上に開口を設けた場合のテクスチャ・エッチング後の表面形状を模式的に示す図である。
【図９】図９は、実施の形態３で開口の形成に使用されるレーザ加工装置の構成の一例を示す図である。
【図１０】図１０は、実施の形態４で開口の形成に使用されるレーザ加工装置の構成の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００５１】
１００  光起電力装置
１０１  シリコン基板
１０２  Ｎ型拡散層
１０２Ｌ  低抵抗Ｎ型拡散層
１０２Ｈ  高抵抗Ｎ型拡散層
１０３  耐エッチング膜
１０４  開口
１０５ａ  テクスチャ構造形成領域
１０５ｂ  電極形成領域
１０６  凹部
１０９  反射防止膜
１１０  Ｐ＋層
１１１  グリッド電極
１１２  接合部分
１１３  バス電極
１２１  裏側電極
１２２  裏側集電電極
２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ  レーザ加工装置
２０１  ステージ
２０３  レーザ発振部
２０４  レーザ光
２０５  反射鏡
２０６  ビームスプリッタ
２０７  アパーチャ
２０８  縮小光学系
２１１，２１３  ガルバノミラー
２１２  Ｘ軸方向
２１４  Ｙ軸方向
２２１  ホログラフィック光学素子
２２２  集光レンズ
【国際調査報告】
2009118861.tif 000033
2009118861.tif 000034
2009118861.tif 000035
2009118861.tif 000036