(57)【要約】  透過、反射バンドが広く、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光線透過性、可視光線反射防止性、近赤外線遮蔽性および耐湿性に優れた導電性積層体、これを使用したプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽体などを提供する。  基体２１と、基体２１上に形成された導電膜２２とを有する導電性積層体２０であって、導電膜２２は、基体２１側から、高屈折率層（２３ａ〜２３ｅ）と金属層（２４ａ〜２４ｄ）とがこの順で交互に計２ｎ＋１層［ただし、ｎは１〜１２の整数である。］積層され、基体２１から最も離れた位置に、さらに水素化炭素層２５を有する多層構造体であり、高屈折率層（２３ａ〜２３ｅ）の屈折率は、１．５〜２．７であり、水素化炭素層２５は、炭素原子と水素原子とを含み水素原子含有量が９〜５０原子％であることを特徴とする導電性積層体。
2009038143.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、基体上に形成された導電膜とを有する導電性積層体であって、
前記導電膜は、前記基体側から、高屈折率層と金属層とがこの順で交互に計２ｎ層、または計２ｎ＋１層［ただし、ｎは１〜１２の整数である。］積層され、基体から最も離れた位置に、さらに水素化炭素層を有する多層構造体であり、
前記高屈折率層の屈折率は１．５〜２．７であり、
前記水素化炭素層は、炭素原子と水素原子とを含み前記水素化炭素層中の水素原子含有量が９〜５０原子％であることを特徴とする導電性積層体。
【請求項２】
水素化炭素層の基体側表面に直接接して密着層が配設された請求項１に記載の導電性積層体。
【請求項３】
導電膜が、基体側から高屈折率層と金属層とがこの順で交互に計２ｎ＋１層［ただし、ｎは１〜１２の整数である。］積層され、基体から最も離れた位置に、さらに水素化炭素層を有する多層構造体であり、
高屈折率層が酸化亜鉛を主成分とする層であり、
密着層がＳｎの酸化物を含む膜である請求項２に記載の導電性積層体。
【請求項４】
金属層が、銀を含有する層である請求項１、２または３に記載の導電性積層体。
【請求項５】
水素化炭素層の厚さが１〜６０ｎｍである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の導電性積層体。
【請求項６】
視感透過率が６０％以上である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の導電性積層体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の導電性積層体を有するプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽体。
【請求項８】
請求項７に記載のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽体を有するプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項９】
基体の一方の表面に、高屈折率層と金属層とをこの順で交互に計２ｎ層、または計２ｎ＋１層［ただしｎは１〜１２の整数である。］積層する工程、基体から最も離れた位置にさらに水素化炭素層を形成する工程を含む導電性積層体の製造方法であって、前記水素化炭素層を形成する工程はグラファイトターゲットを用いてスパッタリングする工程であることを特徴とする導電性積層体の製造方法。
【請求項１０】
前記グラファイトターゲットを用いてスパッタリングする工程が、水素ガスを含むガスを供給しながらスパッタリングを行い、前記ガス中の水素ガスの含有量が５〜６０体積％である、請求項９に記載の導電性積層体の製造方法。
【請求項１１】
基体の一方の表面に、高屈折率層と金属層とをこの順で交互に計２ｎ層、または計２ｎ＋１層［ただしｎは１〜１２の整数である。］積層する工程、基体から最も離れた位置にさらに水素化炭素層を形成する工程を含む導電性積層体の製造方法であって、前記水素化炭素層を形成する工程はＣＨ４、Ｃ２Ｈ２及びＣ２Ｈ４から選ばれる１種以上の原料ガスを用いる化学的気相成長法により形成する工程であることを特徴とする導電性積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性積層体、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略す。）の観察者側に設置され、ＰＤＰから発生する電磁ノイズを遮蔽する電磁波遮蔽能を有するＰＤＰ用電磁波遮蔽体およびＰＤＰ用フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
透明性を有する導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラス等として用いられている。また、導電性積層体は、ＰＤＰ用電磁波遮蔽フィルムとしても用いられている。ＰＤＰの前面からは電磁波が放出されているため、その電磁波を遮蔽することを目的として、ＰＤＰの観察者側には、プラスチックフィルム等の基体上に導電膜が形成された電磁波遮蔽フィルムが配置されている。【０００３】
たとえば、特許文献１には、導電膜として、酸化物層と金属層とが交互に積層された積層体を有するＰＤＰ用電磁波遮蔽体が記載されている。しかし、従来のＰＤＰ用電磁波遮蔽体は、耐湿性や、耐指紋ふき取り性等の問題があるため、導電性積層体の最表面に粘着剤を介してポリエチレンテレフタレートなどのプラスチックフィルムを貼着する必要があった。したがって、ＰＤＰ用電磁波遮蔽体の製造において、導電性積層体表面にさらにプラスチックフィルムを積層する手間がかかるため、工程数が多くなり製造が煩雑となり、さらにコストが高くなる問題があった。【０００４】
また、誘電体層と金属層を積層し最表層に厚さ７０ｎｍの水素化炭素層を積層した低熱放射率の透明熱反射膜と基板よりなる積層体が知られている（特許文献２）。しかし、前記積層体は、水素化炭素層が厚く可視光透過率が低下するという問題点がある。【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１８６３０９号公報
【特許文献２】特開２００５−２７１４９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前記の問題点を解決するために、本発明は透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光線透過性、可視光線反射防止性、近赤外線遮蔽性および耐湿性に優れた導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基体と、基体上に形成された導電膜とを有する導電性積層体であって、導電膜は、基体側から、高屈折率層と金属層とがこの順で交互に計２ｎ層、または計２ｎ＋１層［ただし、ｎは１〜１２の整数である。］積層され、基体から最も離れた位置に、さらに水素化炭素層を有する多層構造体であり、水素化炭素層は、炭素原子と水素原子とを含み水素原子含有量が９〜５０原子％であることを特徴とする導電性積層体を提供する。【０００８】
また本発明は、基体の一方の表面に、高屈折率層と金属層とをこの順で交互に計２ｎ層、または計２ｎ＋１層［ただしｎは１〜１２の整数である。］積層する工程、基体から最も離れた位置にさらに水素化炭素層を形成する工程を含む導電性積層体の製造方法であって、前記水素化炭素層を形成する工程はグラファイトターゲットを用いてスパッタリング法により形成する工程、またはＣＨ４、Ｃ２Ｈ２及びＣ２Ｈ４から選ばれる１種以上の原料ガスを用いる化学的気相成長法により形成する工程であることを特徴とする導電性積層体の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光線透過性、可視光線反射防止性および近赤外線遮蔽性に優れている。また、本発明の導電性積層体は、耐湿性、耐指紋付着性に優れるため、導電性積層体の最表面にプラスチックフィルムなどで保護する必要がない。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。
【図３】本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。
【図４】本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。
【図５】本発明における実施例での接触抵抗を測定するサンプルの平面図
【図６】図５のサンプルの抵抗値モデル
【図７】本発明のプラズマディスプレイ用フィルタの一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００１１】
１０、２０、３０、４０、１００：導電性積層体
１１、２１、３１、４１：基体
１２、２２、３２、４２：導電膜
１３ａ〜１３ｄ、２３ａ〜２３ｅ、３３ａ〜３３ｅ、４３ａ〜４３ｅ：高屈折率層
４７ａ〜４７ｅ：第１の高屈折率層
４８ａ〜４８ｅ：第２の高屈折率層
１４ａ〜１４ｄ、２４ａ〜２４ｄ、３４ａ〜３４ｄ、４４ａ〜４４ｄ：金属層
１５、２５、３５、４５：水素化炭素層
３６、４６：密着層
１００：導電性積層体
１０１：電極ａ
１０２：電極ｂ
１０３：電極ｃ
１０４：電極ｄ
２００：プラズマディスプレイ用フィルタ
２１０：導電性積層体
２１１：基体
２１２：導電膜
２２０：ガラス基板
２３０：粘着剤層
２４０：近赤外線吸収粘着剤層
２５０：反射防止フィルム
２６０：樹脂フィルム
２７０：反射防止層
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（基体）
本発明における基体としては、透明基体が好ましい。本発明における「透明」とは、可視光領域の波長の光を透過することを意味し、その透過率は５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。【００１３】
透明基体の材質としては、ガラス（風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む。）；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のプラスチック等が挙げられる。【００１４】
基体の厚さとしては、０．０１ｍｍ〜１０ｍｍであることが好ましく、０．０８〜５ｍｍであることがより好ましい。基体の材質がガラスである場合には、好ましい厚さは０．５〜１０ｍｍであり、より好ましい厚さは１〜５ｍｍである。基体の材質がプラスチックである場合には、好ましい厚さは０．０１〜３ｍｍであり、より好ましい厚さは０．０５〜１ｍｍである。【００１５】
（導電膜）
本発明における導電膜は、基体側から高屈折率層と金属層とが交互に計２ｎ層、または計２ｎ＋１層［ｎは１〜１２の整数］積層され、基体から最も離れた位置に、さらに水素化炭素層が積層された多層構造体である。この構造の導電膜である場合、基体から最も離れた金属層の基体と反対側表面に高屈折率層を積層する代わりに、水素化炭素層の厚さを厚くするだけでよいので積層数を少なくできるため、製造の簡便性の観点で好ましい。【００１６】
導電膜において、金属層が２〜８層設けられていることが好ましく、２〜６層設けられていることがより好ましい。すなわち、導電膜において、ｎ＝２〜８であることが好ましく、ｎ＝２〜６であることがより好ましい。金属層が２層以上であれば、抵抗値を充分に低くすることができ、１２層以下であれば、導電性積層体の内部応力増加をより抑制でき、８層以下であればより顕著に内部応力増加を抑制できる。【００１７】
本発明の導電性積層体においては、前記基体側から２ｎ層目の金属層表面にさらに高屈折率層が積層されて計２ｎ＋１層［ただしｎは１〜１２の整数である］積層され、そして、基体から最も離れた位置に、さらに水素化炭素層が積層された導電膜であることが好ましい。この構造の導電膜は、水素化炭素層の厚さを薄くできることから、導電性積層体の可視光線透過率を向上させることができるため好ましい。【００１８】
（金属層）
金属層としては、銀を含有する層であることが好ましい。金属層が銀を含有する層であることにより導電膜全体のシート抵抗値を低くできる。金属層中の銀の含有量は、９０質量％以上であることが好ましく、９４質量％以上であることがより好ましい。銀の含有量が９０質量％以上であると、導電膜のシート抵抗値を低くできるため好ましい。【００１９】
金属層は、導電膜の抵抗値を低くする観点からは、純銀からなる層であることが好ましい。本発明における「純銀」は、金属層（１００質量％）中に銀を９９．９質量％以上含有することを意味する。【００２０】
金属層は、銀の拡散を抑制し、結果として耐湿性を高くできる観点からは、金、ビスマス、パラジウムから選ばれる１種以上をさらに含有する銀合金からなる層であることが好ましい。特に、金、ビスマス及びパラジウムから選ばれる１種以上の金属を含有する銀合金からなる層が好ましい。金、ビスマス及びパラジウムから選ばれる１種以上の金属の合計は、金属層の比抵抗を６．０μΩｃｍ以下にするために、金属層（１００質量％）中、０．２〜１．５質量％が好ましい。【００２１】
導電膜中の全金属層の合計膜厚は、２５〜１００ｎｍであるのが好ましい。前記合計膜厚は、２５〜８０ｎｍであることがより好ましく、２５〜７０ｎｍであることがさらに好ましく、３０〜６０ｎｍであることが特に好ましい。なお、金属層の数が多くなると、各金属層の厚さが薄くなるため比抵抗が高くなる。したがって、比抵抗を低減させるために合計膜厚は大きくなる傾向にある。【００２２】
導電膜中の各金属層の膜厚は、それぞれ５〜２５ｎｍであることが好ましく、５〜２０ｎｍであることがより好ましく、５〜１７ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜１７ｎｍであることが最も好ましい。導電膜の各金属層の膜厚は、全て同じ膜厚であってもよく、それぞれ異なる膜厚であってもよい。【００２３】
（高屈折率層）
導電膜における高屈折率層は、無機化合物を含む。前記無機化合物の屈折率は、１．５〜２．７であることが好ましく、１．７〜２．５であることがより好ましく、２．０〜２．５であることがさらに好ましい。本発明において「屈折率」とは、波長５５０ｎｍにおける屈折率をいう。高屈折率層中の前記無機化合物の含有割合は、９０質量％以上であることが好ましく、９５質量％以上であることがより好ましく、９９質量％以上であることが特に好ましい。導電膜における高屈折率層の屈折率は、１．５〜２．７であるが、１．７〜２．５であることが好ましく、１.９〜２.４であることがより好ましい。【００２４】
本発明における無機化合物としては、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物等が好ましく挙げられる。【００２５】
金属酸化物としては、亜鉛、チタン、ニオブ、タンタル、インジウム、スズ、クロム、ハフニウム、ジルコニウム、ガリウムおよびマグネシウム等のそれぞれ単独の金属酸化物、ならびに前記金属の２種以上の複合酸化物からなる群から選ばれる１種以上が挙げられる。【００２６】
金属窒化物としては、ケイ素およびアルミニウム等のそれぞれ単独の金属窒化物、ならびに前記金属の２種以上の複合窒化物からなる群から選ばれる１種以上が挙げられる。
金属硫化物としては、亜鉛、鉛およびカドミウム等のそれぞれ単独の金属硫化物、ならびに前記金属の２種以上の複合硫化物からなる群から選ばれる１種以上が挙げられる。
本発明における高屈折率層に含まれる無機化合物としては、金属酸化物が好ましい。金属酸化物であると、可視光線の透過率を高くできるため好ましい。【００２７】
高屈折率層は、金属酸化物として酸化亜鉛を主成分とする層が好ましく、特に２．３以上の高屈折率金属酸化物と酸化亜鉛とを主成分として含有する層（以下、酸化亜鉛含有層ともいう。）であることが好ましい。酸化亜鉛含有層は、屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物と、酸化亜鉛とを合計で９０質量％以上含有することが好ましく、９５質量％以上含有することがより好ましく、９９質量％以上含有することが特に好ましい。高屈折率層は、酸化亜鉛を、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０〜９０質量％含有する。
屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物の中でも、反射バンドをより広くできることから、酸化チタン（屈折率２．５）および酸化ニオブ（屈折率２．４）から選ばれる１種以上が好ましい。【００２８】
高屈折率金属酸化物の存在により酸化亜鉛含有層の屈折率を高くすることができ、導電膜の透過・反射バンドを広くすることができる。酸化亜鉛含有層において、高屈折率金属酸化物の金属原子の含有割合は、該金属原子と亜鉛原子の合計に対して、１〜５０原子％であることが好ましく、５〜２０原子％であることが特に好ましい。この範囲内にすることで、透過・反射バンドを広く保つことができると同時に、耐湿性が良好な導電膜を得ることができる。この理由は必ずしも明確にはなっていないが、この範囲にすることにより、酸化亜鉛の良好な物性を保ったまま、高屈折率層と金属層との応力を緩和することができるためと考えられる。【００２９】
高屈折率層には、物性を損なわない範囲で、酸化亜鉛、酸化チタンおよび酸化ニオブ以外の金属酸化物が含まれていても構わない。例えば、導電性を付与する目的で、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどを混合しても構わない。【００３０】
高屈折率層の物理的膜厚（以下、単に膜厚という）は、最も基体に近い高屈折率層及び最も基体から遠い高屈折率層は２０〜６０ｎｍ（特に３０〜５０ｎｍ）、それ以外の高屈折率層は４０〜１２０ｎｍ（特に４０〜１００ｎｍ）とすることが好ましい。高屈折率層は、それぞれ１つの均一な層からなっていてもよく、２以上の層が積層された多層からなる層でもよい。【００３１】
多層からなる高屈折率層として、例えば、基体側から第１の高屈折率層／第２の高屈折率層がこの順で積層された２層からなる場合、第１の高屈折率層としては、酸化ニオブ、酸化チタン等の金属酸化物を含み第１の高屈折率層全体の屈折率として２．３以上とすることが好ましい。金属層が銀を含有する層である場合、第２の高屈折率層としては、酸化亜鉛を主成分として含む層であることが好ましく、前記の酸化亜鉛含有層であることがより好ましい。この場合、第２の高屈折率層における基体と反対側の面に、金属層が直接接するように積層されることが好ましい。酸化亜鉛を主成分とする物質は、その結晶構造が、金属層を構成する銀の結晶構造と近い。従って、酸化亜鉛を主成分とする材料からなる第２の高屈折率層の上に直接銀を積層すると結晶性の高い銀からなる金属層が得られる。結晶性の良い銀は、比抵抗が小さくなるため金属層の比抵抗を小さくできることから、所望のシート抵抗値を得るための金属層の厚さを薄くできる。金属層の厚さを薄くできると導電性積層体の可視光線透過率を高くできるため好ましい。また、金属層における銀の結晶性がよくなると、マイグレーションの発生が低減できると考えられる。第２の高屈折率層を酸化亜鉛を主成分とする材料にすることにより、銀のマイグレーションが抑制され、第２の高屈折率層と金属層との密着性を維持することができる。密着性を維持できることにより、界面への水分の侵入を抑えることができ、銀の耐湿性が良好になるため好ましい。【００３２】
第１の高屈折率層の厚さは、最も基体に近い第１の高屈折率層は２０〜６０ｎｍ（特に３０〜５０ｎｍ）、それ以外の第１の高屈折率層は４０〜１２０ｎｍ（特に４０〜１００ｎｍ）とすることが好ましい。第２の高屈折率層の厚さは、１〜２０ｎｍであることが好ましく、２〜１０ｎｍであることがより好ましく、３〜６ｎｍであることがさらに好ましい。【００３３】
本発明における高屈折率層は、それぞれ全て同じ構成、材料であってもよく、異なる構成、材料であってもよい。また、膜厚についても、本発明における高屈折率層は、それぞれ同じであってもよく、それぞれが異なっていてもよい。【００３４】
（水素化炭素層）
水素化炭素層は、炭素原子と水素原子とを含み水素原子含有量が水素化炭素層中に９〜５０原子％である。水素原子含有量は、１５〜５０原子％であることが好ましく、２０〜４８原子％であることがより好ましく、２５〜４５原子％であることがさらに好ましい。【００３５】
水素原子含有量が５０原子％を超えると、ポリマーＤＬＣが生成され、機械的耐久性が大幅に低下する恐れがある。水素原子含有量が９原子％以上であると、可視光線透過率を高くできるため好ましい。本発明における水素化炭素層中の水素原子の含有量が少なくなると、ｓｐ２結合が増加し光学エネルギーギャップが狭くなるため可視光領域での光の吸収が増加する。その結果、本発明の導電性積層体の視感透過率が低くなる。そして、水素原子の含有量が９原子％未満では、本発明の導電性積層体の視感透過率が６０％を下回る恐れがある。本発明の導電性積層体の視感透過率が６０％を下回ると、本発明の導電性積層体をディスプレイ用フィルタ、特にプラズマディスプレイ用フィルタの用途に用いる場合には、フィルタ全体の色調補正などの設計をするにあたっての自由度が少なくなり好ましくない。【００３６】
水素化炭素層の厚さは、１〜６０ｎｍであることが好ましい。
本発明における導電膜が、基体側から、高屈折率層と金属層とがこの順で交互に計２ｎ層［ただし、ｎは１〜１２の整数である。］積層されている場合、水素化炭素層の厚さは２０〜６０ｎｍであることが好ましく、３０〜５０ｎｍであることがより好ましい。この場合、水素化炭素層は、高屈折率層と同様の機能を有し、導電性積層体の光学特性の向上（視感透過率の向上、可視光反射率の低減）に寄与する。【００３７】
また、本発明における導電膜が、基体側から、高屈折率層と金属層とがこの順で交互に計２ｎ＋１層［ただし、ｎは１〜１２の整数である。］積層されている場合、水素化炭素層の厚さは２〜１５ｎｍであることが好ましく、３〜１０ｎｍであることがより好ましい。この場合、水素化炭素層の厚さを薄くできる。したがって、導電性積層体の可視光線透過率を高くできるため好ましい。【００３８】
（密着層）
本発明の導電性積層体の機械的な耐久性を向上させる目的で、水素化炭素層の基体側の面に直接接するように密着層がさらに積層されることが好ましい。密着層とは、水素化炭素層、高屈折率層及び金属層と直接接して積層された場合に、密着性に優れ剥離しにくい材質からなる層のことである。密着層の材質としては、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｇａなどの金属の酸化物や窒化物を含む膜等が好ましく挙げられる。本発明における導電膜が、基体側から高屈折率層と金属層とがこの順で交互に計２ｎ＋１層積層され、基体から最も離れた位置に、さらに水素化炭素層を有する多層構造体である場合で、かつ高屈折率層が酸化亜鉛を主成分として含む層である場合、密着層はＳｎの酸化物を含む膜がより好ましい。特に、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）膜、ガリウム−インジウム−スズ酸化物（ＧＩＴ）膜が好ましい。【００３９】
密着層を水素化炭素層の基体側に設けることで、密着層と水素化炭素層との密着性に優れることから、水素化炭素層が剥がれることがなく、得られる導電性積層体の機械的耐久性が優れたものとなる。また、密着層を設けることで、本発明の導電性積層体の耐薬品性が向上する効果も得られる。また、密着層が水分を通しにくいことから、導電性積層体の高屈折率層や金属層への水分の拡散、浸透を防ぐことができるため導電性積層体の耐湿性が向上するので好ましい。すなわち、密着層を設けることで導電性積層体の水分拡散の時定数が増加するので好ましい。【００４０】
密着層の膜厚は２〜３０ｎｍであることが好ましく、３〜２０ｎｍであることがより好ましい。【００４１】
（その他の層）
本発明における導電膜において、導電膜の機能を損なわない範囲でその他の層が挿入されていてもよい。その他の層に用いられる材料としては、有機化合物や、屈折率１．５未満または２．５超の無機化合物等が挙げられる。【００４２】
（導電性積層体の製造方法）
導電膜の形成方法としては、たとえば、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学的気相成長法等が挙げられ、品質、特性の安定性が良好である点から、スパッタ法が特に好ましい。スパッタ法としては、パルススパッタ法、ＡＣスパッタ法等が挙げられる。【００４３】
特に、水素化炭素層の形成方法としては、ＡＣスパッタ法、化学的気相成長法が好ましく挙げられる。ＡＣスパッタ法は、電流の方向が周期的に変化することから、被処理物に電荷が溜まりにくく、成膜時のアーキングによる膜の欠陥の発生を防ぐことができる。また、ＡＣスパッタ法では、被処理物近傍に存在するプラズマ流により緻密な膜が形成されるので好ましい。【００４４】
化学的気相成長法としては、マグネトロンプラズマＣＶＤ法、ＬＩＳ（Ｌｉｎｅａｒ  Ｉｏｎ  Ｓｏｕｒｃｅ）−ＣＶＤ法等が挙げられる。
マグネトロンプラズマＣＶＤ法は、チャンバー中にカソード（カーボンターゲットなど）と、被処理物とを配置し、カソードに高周波（１３．５６ＭＨｚまたは２７．１２ＭＨｚ）を印加することでカソードが負にバイアスされ、プラズマが発生する。そして原料ガス（ＣＨ４、Ｃ２Ｈ２及びＣ２Ｈ４から選ばれる１種以上のガス）を同時に流すことでプラズマにより前記ガスが分解されて、被処理物表面に水素化炭素層が成膜される。このとき、カソードに磁気回路などの磁石を組み込むことで、磁力線が発生し、その磁力線が被処理物表面に到達する。磁束に捕捉された電子により、被処理物表面近傍でマグネトロン放電が起こり、成膜速度が速くなる。前記磁力線は、１００Ｇ〜１０００Ｇであることが好ましく、３００Ｇ〜５００Ｇであることがより好ましい。磁力線が１００Ｇ以上であると、成膜速度を十分速くできるので好ましい。また、１０００Ｇ以下であることで、プラズマを強くし過ぎることがなく、熱による被処理物の損傷が起こりにくいことから好ましい。【００４５】
ＬＩＳ−ＣＶＤ法は、ＬＩＳに原料ガス（ＣＨ４、Ｃ２Ｈ２及びＣ２Ｈ４から選ばれる１種以上のガス）を導入することで水素化炭素層を形成する方法である。ＬＩＳとは、Ｌｉｎｅａｒ  Ｉｏｎ  Ｓｏｕｒｃｅの略であり、アノードとカソードとが配置され、アノードとカソードの間にＤＣバイアスを印加することでプラズマを発生させる。そこに原料ガスを導入することで、原料ガスが分解され、水素化炭素層が高屈折率層表面に水素化炭素層が成膜される。ＬＩＳ−ＣＶＤ法では、イオンビームを用いていることから緻密な水素化炭素層とすることができ、機械的強度に優れた膜とすることができるため好ましい。【００４６】
スパッタ法による導電膜の形成は、たとえば、以下のようにして行う。以下に挙げる製造方法は、本発明の導電性積層体の製造方法の一例であり、本発明はこれに限定されない。
（ｉ）酸素ガスとアルゴンガスを混合したガスを導入しながら、基体表面に、金属酸化物を含むターゲットを用いてパルススパッタを行い、高屈折率層を形成する。
（ｉｉ）アルゴンガスを導入しながら、銀ターゲットまたは銀合金ターゲットを用いてパルススパッタを行い、金属層を形成する。
（ｉｉｉ）前記（ｉ）、（ｉｉ）の操作を合計ｎ回繰り返し、最後に（ｉ）と同様の操作で高屈折率層を形成する。
（ｉｖ）水素ガスとアルゴンガスを混合したガスを導入しながら、最後に形成した高屈折率層の表面に、グラファイトターゲットを用いてパルススパッタを行い、水素化炭素層を形成する。【００４７】
前記の（ｉｖ）において、水素ガスとアルゴンガスを混合したガス中の水素ガス含有量は、５〜６０体積％であることが好ましく、１５〜４０体積％であることがより好ましい。前記の範囲とすることで、得られる水素化炭素層中の水素原子含有量を所望の量とすることができるため好ましい。【００４８】
前記の高屈折率層を形成するためのターゲットの材質としては、亜鉛、チタン、ニオブ、タンタル、インジウム、スズ、クロム、ハフニウム、ジルコニウム、ガリウムおよびマグネシウム等のそれぞれ単独の金属酸化物、ならびに前記金属の２種以上の複合酸化物からなる群から選ばれる１種以上が挙げられる。特に２．３以上の高屈折率金属酸化物と酸化亜鉛とを主成分として含有するターゲット（以下、酸化亜鉛含有ターゲットという。）であることが好ましい。酸化亜鉛含有ターゲットは、屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物と酸化亜鉛とを合計で９０質量％以上含有することが好ましく、９５質量％以上含有することがより好ましく、９９質量％以上含有することが特に好ましい。
屈折率２．３以上の高屈折率金属酸化物の中でも、反射バンドをより広くできることから、酸化チタン（屈折率２．５）および酸化ニオブ（屈折率２．４）から選ばれる１種以上が好ましい。【００４９】
また、ターゲットとして、ケイ素、アルミニウム、亜鉛、鉛およびカドミウムから選ばれる１種以上の金属からなるターゲットも用いうる。この場合は、アルゴンガスに加えて酸素ガスを導入しながら反応性スパッタリングを行うことにより高屈折率層を形成できる。【００５０】
前記製造方法のうち、（ｉｖ）の水素化炭素層の形成工程については、以下に示す（ｉｖ）−２、（ｉｖ）−３の方法も挙げられる。
（ｉｖ）−２
マグネトロンプラズマＣＶＤ法により水素化炭素層を形成する。具体的には、たとえば以下のようにして行う。カソードに高周波（１３．５６ＭＨｚまたは２７．１２ＭＨｚ）を印加することでカソードが負にバイアスされ、プラズマが発生する。そして原料ガス（ＣＨ４、Ｃ２Ｈ２及びＣ２Ｈ４から選ばれる１種以上のガス）を同時に流すことでプラズマにより前記ガスが分解されて、高屈折率層表面に水素化炭素層が形成される。このとき、カソードに磁気回路などの磁石を組み込んで、磁力線を発生させる。【００５１】
（ｉｖ）−３
ＬＩＳ−ＣＶＤ法により水素化炭素層を形成する。具体的には、たとえば以下のようにして行う。直流電圧１ｋＶ（ＤＣ）をアノードに印加し、ＬＩＳ内部に５０ｓｃｃｍの原料ガス（ＣＨ４、Ｃ２Ｈ２及びＣ２Ｈ４から選ばれる１種以上のガス）を同時に流すことでプラズマにより前記ガスが分解されて、高屈折率層表面に水素化炭素層が形成される。【００５２】
（導電性積層体）
本発明の導電性積層体について、図を参照しながら説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００５３】
図１は、基体側から高屈折率層と金属層とがこの順で交互に計２ｎ層積層された導電膜である場合の本発明の導電性積層体の一例を示す概略断面図である。導電性積層体１０は、基体１１と、該基体１１上に設けられた導電膜１２とを有して概略構成される。導電膜１２は、基体１１側から順に、高屈折率層１３ａ／金属層１４ａ／高屈折率層１３ｂ／金属層１４ｂ／高屈折率層１３ｃ／金属層１４ｃ／高屈折率層１３ｄ／金属層１４ｄ／水素化炭素層１５の構成の積層体である。図１では、ｎ＝４の場合の構成であるが、ｎ＝４以外の場合でも、高屈折率層と金属層の積層回数を適宜変更することにより、ｎの異なる導電性積層体を製造できる。【００５４】
図２は、基体側から高屈折率層と金属層とがこの順で交互に計２ｎ＋１層積層された導電膜である場合の本発明の導電性積層体の一例を示す概略断面図である。導電性積層体２０は、基体２１と、該基体２１上に設けられた導電膜２２とを有して概略構成される。導電膜２２は、基体２１側から順に、高屈折率層２３ａ／金属層２４ａ／高屈折率層２３ｂ／金属層２４ｂ／高屈折率層２３ｃ／金属層２４ｃ／高屈折率層２３ｄ／金属層２４ｄ／高屈折率層２３ｅ／水素化炭素層２５の構成の積層体である。この場合、基体から最も近い高屈折率層２３ａと最も離れた高屈折率層２３ｅの厚さは、２０〜６０ｎｍ（特に３０〜５０ｎｍ）であることが好ましい。この構成とすることにより、耐湿性が優れると同時に、光学特性も優れた導電性積層体が得られる。ここでの光学特性とは、可視光線透過率を高くでき、可視光線反射率を低くまた、広い波長領域において可視光線の反射を低く抑えることができることである。【００５５】
図３は、基体側から高屈折率層と金属層とがこの順で交互に計２ｎ＋１層積層された導電膜であり、密着層をさらに有する場合の本発明の導電性積層体の一例を示す概略断面図である。導電性積層体３０は、基体３１と、該基体３１上に設けられた導電膜３２とを有して概略構成される。導電膜３２は、基体３１側から順に、高屈折率層３３ａ／金属層３４ａ／高屈折率層３３ｂ／金属層３４ｂ／高屈折率層３３ｃ／金属層３４ｃ／高屈折率層３３ｄ／金属層３４ｄ／高屈折率層３３ｅ／密着層３６／水素化炭素層３５の構成の積層体である。本構成では、図２の構成と比べて密着層３６がさらに加わっている。密着層３６を設けることにより導電性積層体３０は、機械的耐久性、耐湿性、耐薬品性がより優れたものとすることができる。【００５６】
図４は、基体側から高屈折率層と金属層とがこの順で交互に計２ｎ＋１層積層された導電膜であり、基体から１〜ｎ番目の高屈折率層が２層からなり基体からｎ＋１番目の高屈折率層が１層からなり、さらに密着層を有する本発明の導電性積層体の一例を示す概略断面図である。導電性積層体４０は、基体４１と、該基体４１上に設けられた導電膜４２とを有して概略構成される。導電膜４２は、基体４１側から順に、第１の高屈折率層４７ａ／第２の高屈折率層４８ａ／金属層４４ａ／第１の高屈折率層４７ｂ／第２の高屈折率層４８ｂ／金属層４４ｂ／第１の高屈折率層４７ｃ／第２の高屈折率層４８ｃ／金属層４４ｃ／第１の高屈折率層４７ｄ／第２の高屈折率層４８ｄ／金属層４４ｄ／第１の高屈折率層４７ｅ／密着層４６／水素化炭素層４５の構成の積層体である。【００５７】
本発明の導電性積層体は、視感透過率が６０％以上のものが好ましく、６５％以上のものがより好ましい。ＰＤＰ用フィルタに本発明の導電性積層体を用いる場合、ＰＤＰフィルタ全体の色調設計のために、さらに可視光領域を吸収する色素などを用いて色調補正をする必要がある。色調補正をするにあたっては、色調補正前のＰＤＰ用フィルタの視感透過率を十分高くする必要がある。そうすれば、色調補正用色素の添加によりＰＤＰ用フィルタの視感透過率が低下しすぎることがない。ＰＤＰ用フィルタの色調補正の自由度を広げるためには、本発明の導電性積層体の視感透過率は高ければ高いほどよい。そして本発明の導電性積層体の視感透過率を６０％以上とすることで、ＰＤＰ用フィルタの色調補正のための自由度を十分確保できるため好ましい。視感透過率を６５％以上とすることで、フィルタ全体の色調設計の自由度がさらに大きくなることから好ましい。
また、本発明の導電性積層体は、波長８５０ｎｍでの透過率が５％以下のものが好ましく、２％以下のものが特に好ましい。【００５８】
本発明の導電性積層体の抵抗値は、０.４〜３.５Ω／□が好ましく、０.６〜２.５Ω／□がより好ましく、０.７〜１.５Ω／□がさらに好ましい。抵抗値が前記範囲であることで、電磁波遮蔽性と可視光透過性を十分に確保できる。
また、本発明の導電性積層体における導電膜の表面での接触抵抗は、０.２５〜０.６Ωであることが好ましく、０.３〜０.５Ωであることがより好ましい。該接触抵抗が０.６Ω以下であることで、接触抵抗による本発明の導電性積層体の電磁波シールド性能の低下を４ｄＢ以下とすることができるため好ましい。接触抵抗は低ければ低いほどよいが、技術的な限界から下限値は０.２５Ωであることが好ましい。【００５９】
（用途）
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、しかもガラス等の支持基体に積層した場合、透過・反射バンドが広くなることから、ＰＤＰ用電磁波遮蔽体として有用である。
また、本発明のＰＤＰ用フィルタは、前記ＰＤＰ用電磁波遮蔽体を有し、さらに他の機能を有する層が含まれていてもよい。他の機能とは、例えば、可視光線の反射防止層、色調補正層、近赤外線吸収層、ハードコート層などが挙げられる。
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽体は、最表面に水素化炭素層が積層されているため、耐湿性、耐指紋付着性に優れる。したがって、ＰＤＰ用電磁波遮蔽体を有するＰＤＰ用フィルタにおいては、導電膜表面に湿気などから導電性積層体を保護するためのＰＥＴフィルムなどのプラスチックフィルムを貼着する必要がないため、フィルムの貼合数を減らすことができる。このことにより、ＰＤＰ用フィルタの製造時の手間を削減でき、コスト低減が可能となる。【００６０】
本発明のＰＤＰ用フィルタの一例を、以下に図を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
図７は、ガラス基板２２０の一方の表面に、粘着剤層２３０を介して導電性積層体２１０が配置されている。導電性積層体２１０は、基体２１１とガラス基板２２０とが対向するように配置されている。ガラス基板２１０のもう一方の表面には、近赤外線吸収色素を含有した粘着剤からなる近赤外線吸収粘着剤層２４０を介して、樹脂フィルム２６０と反射防止層２７０とからなる反射防止フィルム２５０が配置されている。反射防止フィルム２５０は、樹脂フィルム２６０とガラス基板２２０とが対向するように配置されている。樹脂フィルム２６０としては、基体２１１と同様の材質、厚さのものが用いられる。反射防止層２７０は、高屈折率材料の薄膜と低屈折率材料の薄膜とを交互に積層した積層体や、低屈折率材料からなる層などが挙げられる。低屈折率材料からなる層としては、含フッ素アクリル樹脂などの含フッ素樹脂からなる層や、ケイ素原子を含有する化合物の層などが挙げられる。このＰＤＰ用フィルタは、ＰＤＰの観察者側に、導電性積層体２１０とＰＤＰとが対向するように配置されている。【００６１】
本発明の導電性積層体２１０は、基体２１１から最も離れた位置、すなわち最表面に水素化炭素層が配置されているため、導電膜２１２の表面にさらに樹脂フィルムなどの保護フィルムを貼着しなくても、湿気などによる導電性積層体中の銀の劣化などを防ぐことができる。【００６２】
本発明の導電性積層体は、導電膜表面と電極やガスケットなどのアース用部品との間で導通を取ることができる。したがって、図７のように、導電膜２１２が最表面に配置されたＰＤＰ用フィルタとすることで、簡便にＰＤＰ装置本体とアースのための導通をとることができる。【００６３】
また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極として用いることができる。該透明電極は、表面抵抗が低いため応答性がよく、反射率が抑えられるため視認性がよい。
また、本発明の導電性積層体は、自動車風防ガラスとして用いることができる。該自動車風防ガラスは、導電膜に通電することにより、防曇または融氷の機能を発揮でき、かつ低抵抗であるので通電に要する電圧が低く済み、また、反射率が抑えられるためドライバーの視認性を損なうことがない。
また、本発明の導電性積層体は、赤外線領域での反射率が非常に高いため、建物の窓等に設けられるヒートミラーとして用いることができる。
また、本発明の導電性積層体は、電磁波遮蔽効果が高いため、電気・電子機器から放射される電磁波が室外に漏れることを防止し、かつ電気・電子機器に影響する電磁波が室外から室内へ侵入することを防止する電磁波遮蔽窓ガラスに用いることができる。
【実施例】
【００６４】
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
例１、例３〜８は実施例、例２は比較例である。【００６５】
（水素化炭素層中の水素原子含有量の測定）
走査型オージェ電子分光装置（Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ社製  装置名：ＰＨＩ４３００改）と、静電半球型検出器（Ｏｍｉｃｒｏｎ社製  ＥＡ１２５）を用いて、水素化炭素層中の水素濃度を測定した。【００６６】
（耐湿熱性試験）
導電性積層体を１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズに切断し、形状の安定性を目的として粘着剤層を介して基体側を１００ｍｍ×１００ｍｍで厚さ１．８ｍｍのソーダライムガラス板に貼り付けた。この導電性積層体を貼りつけたガラス板を温度６０℃湿度９０％ＲＨの恒温恒湿槽（ヤマト科学社製、装置名：ＩＧ４２０）に５００時間保持し、取り出した後に導電性積層体１０表面の欠点数を数えた。【００６７】
（視感透過率の測定）
導電性積層体について、カラーアナライザー（東京電色社製、装置名：ＴＣ１８００）により視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）を測定した。【００６８】
（機械的耐久性試験）
導電性積層体を１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズに切断し、形状の安定性を目的として粘着剤層を介して基体側を１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ１．８ｍｍのソーダライムガラス板に貼り付けた。このガラス板の導電性積層体側表面を平面摩擦試験機（コーティングテスター工業社製、装置名：Ｎｏ．８２１）により、５００ｇ荷重をかけながら白ネル生地にて１分間で１７往復する速度で表面上１方向に２００回摩擦させた。このガラス板に貼り付けた導電性積層体についたキズの太さを測定した。【００６９】
（接触抵抗試験）
導電性積層体を１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズに切断し、形状の安定性を目的として粘着剤層を介して基体１１側を１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ１．８ｍｍのソーダライムガラス板に貼り付けた。このガラス板に貼り付けた導電性積層体表面に、銀ペースト（太陽インキ製造社製、商品名：ＡＦ４８１０）を図５の形状にスクリーン印刷し、熱風循環炉で８５℃、３５分間乾燥させて電極ａ１０１、電極ｂ１０２、電極ｃ１０３、電極ｄ１０４を形成した。【００７０】
ついで、図５の電極ａ１０１と電極ｂとの間の電気抵抗Ｒ（ａ−ｂ）を測定した。また、電極ｂと電極ｃとの間の電気抵抗Ｒ（ｂ−ｃ）を測定した。図５において電極（銀ペースト）と積層体間の接触抵抗をＲ１、また電極ａ−ｂ間の導電性積層体の抵抗をＲ２、また電極ｂ−ｃ間の導電性積層体の抵抗をＲ３とすると、電極間距離からＲ３＝５Ｒ２という関係が成り立つ。以上のことから、Ｒ１＝｛５Ｒ（ａ−ｂ）−Ｒ（ｂ−ｃ）｝／８と計算できる。この関係式を用いて導電性積層体と銀ペーストの接触抵抗を計算した。【００７１】
［例１］
図３に示す導電性積層体３０を以下のように作製した。
まず、基体３１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。【００７２】
ついで、乾式洗浄処理が施された基体表面に、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ３５ｎｍ、屈折率２.１の高屈折率層３３ａを形成した。ラザフォード後方散乱法により測定したところ、この高屈折率層３３ａにおいて、亜鉛とチタンとの合計（１００原子％）中、亜鉛は８０原子％、チタンは２０原子％であった。また、高屈折率層３３ａにおいて、全原子合計（１００原子％）中、亜鉛は３４．３原子％、チタンは８．０原子％、酸素は５７．７原子％であった。これをＺｎＯとＴｉＯ２に換算すると、酸化物の合計は９６．７質量％であった。【００７３】
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ９ｎｍの金属層３４ａを形成した。【００７４】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ７０ｎｍの酸化亜鉛、酸化チタン混合膜（屈折率２.１）を形成した。このようにして得た酸化亜鉛、酸化チタン混合膜からなる高屈折率層３３ｂを形成した。【００７５】
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ１１ｎｍの金属層３４ｂを形成した。【００７６】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ７０ｎｍの酸化亜鉛、酸化チタン混合膜（屈折率２.１）を形成した。このようにして得た酸化亜鉛、酸化チタン混合膜からなる高屈折率層３３ｃを形成した。【００７７】
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層３４ｃを形成した。【００７８】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ７０ｎｍの酸化亜鉛、酸化チタン混合膜（屈折率２.１）を形成した。このようにして得た酸化亜鉛、酸化チタン混合膜からなる高屈折率層３３ｄを形成した。【００７９】
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ１４ｎｍの金属層３４ｄを形成した。【００８０】
ついで、酸化亜鉛および酸化チタン混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８０：２０（質量比）］を用いてアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度４．５Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ３０ｎｍの酸化亜鉛、酸化チタン混合膜（屈折率２.１）を形成した。このようにして得た酸化亜鉛、酸化チタン混合膜からなる高屈折率層３３ｅを形成した。【００８１】
ついで、酸化ガリウム、酸化インジウム及び酸化スズ混合ターゲット（旭硝子セラミックス社製、ＧＩＴターゲット）を用いてアルゴンガスに８体積％の酸素ガスを混合したガスを導入し、０．５３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度１．５Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ５ｎｍの密着層３６を形成した。【００８２】
ついで、グラファイトターゲット［東洋炭素社製  商品名：ＩＧ−５１０Ｕ］を用いて、アルゴンガスと水素ガスとの混合ガスを導入し、０．２０Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度２．５Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅４．５μｓｅｃのパルススパッタを行い、厚さ５ｎｍの水素化炭素層３５を形成した。ガス中、水素ガスの含有量は３０体積％であった。【００８３】
このようにして、基体３１上に、酸化チタンと酸化亜鉛とを主成分として含有する高屈折率層３３ａ〜３３ｅと、金−銀合金からなる金属層３４ａ〜３４ｄとが交互に積層され、さらに高屈折率層３３ｅ表面に、密着層３６および水素化炭素層３５がこの順で積層された導電性積層体３０を得た。
得られた導電性積層体について、水素化炭素層中の水素原子含有量測定、耐湿熱性試験、視感透過率の測定、機械的耐久性の測定、接触抵抗の測定を行った。結果を表１に示す。【００８４】
［例２］
水素化炭素層３５を設けないこと、基体から最も離れた高屈折率層３３ｅの厚さを３５ｎｍに変更したこと以外は、例１と同様にして導電性積層体を作製した。
得られた導電性積層体について、水素化炭素層中の水素原子含有量測定、耐湿熱性試験、視感透過率の測定、機械的耐久性の測定、接触抵抗の測定を行った。結果を表１に示す。【００８５】
［例３］
水素化炭素層３５の成膜時、導入するガスを、水素ガス含有量が１０体積％の、アルゴンガスと水素ガスとの混合ガスに変更した以外は、例１と同様にして導電性積層体３０を形成した。
得られた導電性積層体について、水素化炭素層中の水素原子含有量測定、耐湿熱性試験、視感透過率の測定、機械的耐久性の測定、接触抵抗の測定を行った。結果を表１に示す。【００８６】
［例４］
密着層３６を設けなかったこと以外は、例１と同様にして導電性積層体を形成した。【００８７】
得られた導電性積層体について、水素化炭素層中の水素原子含有量測定、耐湿熱性試験、視感透過率の測定、機械的耐久性の測定、接触抵抗の測定を行った。結果を表１に示す。【００８８】
［例５］
水素化炭素層３５の成膜方法を、パルススパッタに代えてＡＣスパッタに変更した以外は、例１と同様にして導電性積層体３０を形成した。ＡＣスパッタは、アルゴンと水素の混合ガスを導入し、０．２Ｐａの圧力で周波数２５．０ｋＨｚ、１カソードあたりの電力密度を３．９４Ｗ／ｃｍ２の条件で行い、厚さ５ｎｍの水素化炭素層３５を形成した。前記混合ガス中の水素ガスの含有量は、２０体積％であった。
得られた導電性積層体について、水素化炭素層中の水素原子含有量測定、耐湿熱性試験、視感透過率の測定、機械的耐久性の測定、接触抵抗の測定を行った。結果を表１に示す。【００８９】
［例６］
水素化炭素層３５の成膜方法を、パルススパッタに代えてＡＣスパッタに変更した以外は、例１と同様にして導電性積層体３０を形成した。水素ＡＣスパッタは、アルゴンと水素の混合ガスを導入し、０．２Ｐａの圧力で周波数２５．０ｋＨｚ、１カソードあたりの電力密度を３．９４Ｗ／ｃｍ２の条件で行い、厚さ５ｎｍの水素化炭素層３５を形成した。前記混合ガス中の水素ガスの含有量は、３０体積％であった。
得られた導電性積層体について、水素化炭素層中の水素原子含有量測定、耐湿熱性試験、視感透過率の測定、機械的耐久性の測定、接触抵抗の測定を行った。結果を表１に示す。【００９０】
［例７］
水素化炭素層３５の成膜方法を、パルススパッタに代えてマグネトロンプラズマＣＶＤ法に変更した以外は、例１と同様にして導電性積層体３０を形成した。マグネトロンプラズマＣＶＤ法は、カソードとしてグラファイトターゲット［東洋炭素社製  商品名：ＩＧ−１５］を用い、カソードには磁気回路を組み込んで４００Ｇの磁力線を発生させた。原料ガスＣ２Ｈ４ガスを用い、圧力を２Ｐａ、電力を４５０Ｗ、周波数を１３．５６ＭＨｚの条件で行った。
得られた導電性積層体について、水素化炭素層中の水素原子含有量測定、耐湿熱性試験、視感透過率の測定、機械的耐久性の測定、接触抵抗の測定を行った。結果を表２に示す。【００９１】
［例８］
水素化炭素層３５の成膜方法を、パルススパッタに代えてＬＩＳ−ＣＶＤ法（原料ガス：Ｃ２Ｈ４、圧力：０．０８Ｐａ、電力：１２０Ｗ）とし、また厚さを３ｎｍに変更した以外は、例１と同様にして導電性積層体３０を形成した。
得られた導電性積層体について、水素化炭素層中の水素原子含有量測定、耐湿熱性試験、視感透過率の測定、機械的耐久性の測定、接触抵抗の測定を行った。結果を表２に示す。【００９２】
例１、例５、例６、例７、例８の導電性積層体は、視感透過率、耐湿熱性、機械的耐久性、接触抵抗ともに優れていた。例３の導電性積層体は、水素化炭素層中の水素量が１０．１原子％であったため、視感透過率が若干劣るが、耐湿熱性、機械的耐久性及び接触抵抗は優れるものであった。例３においては、水素化炭素層中の水素原子含有量が、１０．１原子％と少ないため、視感透過率が６２．５％と若干低い値であったが、視感透過率が６０％以上であったためプラズマディスプレイ用フィルタに適用するにあたっては、色調補正の自由度は確保できる。例１及び４〜８の導電性積層体は、視感透過率が６５％を超えていることから、色調補正の自由度がさらに十分確保できる。水素原子含有量が、９％未満となると、導電性積層体の視感透過率が６０％を下回るおそれがあるため、この導電性積層体をプラズマディスプレイ用フィルタへ適用しようとすると、色調設計の自由度がほとんどなくなる。
例４の導電性積層体は、密着層を有さないため、高屈折率層と水素化炭素層との界面での剥離が発生しやすいことから機械的耐久性が若干劣るが、視感透過率、耐湿熱性及び接触抵抗は優れるものであった。例２の導電性積層体は、水素化炭素層を有さないため、耐湿熱性と機械的耐久性に劣る結果であった。【００９３】
【表１】
2009038143.tif 000003
【００９４】
【表２】
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【００９５】
表中の用語は、それぞれ、以下の意味を表す。
「Ｈ２濃度」：スパッタ法による水素化炭素層成膜時のガス中の水素ガス含有量、
「膜中水素量」：水素化炭素層中の水素原子の含有量、
「密着層」：耐湿熱性試験における欠点の個数、
「Ｔｖ」：視感透過率、
「キズ太さ」：機械的耐久性試験において測定したキズの太さ、
「接触抵抗」：接触抵抗試験において測定された接触抵抗、
「Ｃ２Ｈ４濃度」：ＣＶＤ法による水素化炭素層成膜時の原料ガス中のエチレンガス含有量。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、しかも支持基体に積層した場合、透過・反射バンドが広くなることから、ＰＤＰ用電磁波遮蔽フィルム、ＰＤＰ用フィルタとして有用である。また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラスとして用いることができる。
なお、２００７年９月１９日に出願された日本特許出願２００７−２４２７９５号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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