(57)【要約】  式（１）で表されるホスフィン酸エステル化合物、式（２）で表されるホスホン酸エステル化合物、式（３）で表されるホスフィン酸アミド化合物、式（４）で表されるホスホン酸アミド化合物、および、式（５）で表されるホスホン酸ジアミド化合物から選ばれる少なくとも１種の有機リン系化合物またはそれらの塩と、界面活性剤とを含有する水性分散液は、繊維、特に、ＣＤＰ及びポリエステル繊維に耐久性のある優れた防炎性能を付与することができる。2009119789.tif 0000802009119789.tif 0000812009119789.tif 0000822009119789.tif 0000832009119789.tif 000084（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３Ｒ５４およびＲ５５は、フェニル基等を示す。）。
2009119789.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
【化１】
2009119789.tif 000073
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し、ここで、置換基群Ａは、水酸基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基および（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基を意味する。）で表されるホスフィン酸エステル化合物；
下記式（２）
【化２】
2009119789.tif 000074
（式中、Ｒ２１は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ２２は、置換基群Ａによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ２３は、置換基群Ａによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基（該アルキル基は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基によって置換されていてもよい）を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスホン酸エステル化合物；
下記式（３）
【化３】
2009119789.tif 000075
（式中、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３は、それぞれ独立に、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ３４は、水素原子、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスフィン酸アミド化合物；
下記式（４）
【化４】
2009119789.tif 000076
（式中、Ｒ４１は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ４２は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基（該アルキル基は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基によって置換されていてもよい）を示し；Ｒ４３は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ４４は、水素原子、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスホン酸アミド化合物；および、
下記式（５）
【化５】
2009119789.tif 000077
（式中、Ｒ５１、Ｒ５２及びＲ５３は、それぞれ独立に、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ５４及びＲ５５は、それぞれ独立に、水素原子、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスホン酸ジアミドから選ばれる少なくとも１種の有機リン系化合物またはそれらの塩と、界面活性剤とを含有する水性分散液。
【請求項２】
置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基が（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルフェニル基、ビフェニル基または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシフェニル基である請求項１に記載の水性分散液。
【請求項３】
式（１）から式（５）で表される有機リン系化合物を水性分散液中に総量で１から９０重量％含有する請求項１または２に記載の水性分散液。
【請求項４】
界面活性剤が非イオン型界面活性剤またはアニオン型界面活性剤、あるいはその両者である請求項１から３のいずれか一項に記載の水性分散液。
【請求項５】
更に、紫外線吸収剤を含有する請求項１から４のいずれか一項に記載の水性分散液。
【請求項６】
繊維用の防炎剤として使用するための請求項１から５のいずれか一項に記載の水性分散液。
【請求項７】
繊維がポリエステル繊維である請求項６に記載の水性分散液。
【請求項８】
ポリエステル繊維がカチオン可染型ポリエステル繊維またはカチオン可染型ポリエステル繊維を含有する混紡繊維である請求項７に記載の水性分散液。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の水性分散液を用いることを特徴とする繊維の防炎加工方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法により防炎加工された繊維。
【請求項１１】
下記式（２）
【化６】
2009119789.tif 000078
（式中、Ｒ２１は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基を示し；Ｒ２２は、置換基群Ａによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ２３は、置換基群Ａによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基（該アルキル基は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基によって置換されていてもよい）を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスホン酸エステル化合物、または
式（４）
【化７】
2009119789.tif 000079
（式中、Ｒ４１は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基を示し；Ｒ４２は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基（該アルキル基は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基によって置換されていてもよい）を示し；Ｒ４３は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ４４は、水素原子、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスホン酸アミド化合物、あるいはそれらの塩。
【請求項１２】
Ｒ２１が水酸基、ニトロ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基；水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、ニトロ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ２２がニトロ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ２３が水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキルオキシ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基、水酸基、アミノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、カルボキシ基若しくはウレイド基によって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基である請求項１１記載のホスホン酸エステル化合物あるいはその塩。
【請求項１３】
Ｒ２１がフェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ニトロベンジル基、またはビフェニル基；Ｒ２２が（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、ニトロ基、またはフェニル基で置換されていてもよいフェニル基；Ｒ２３がフェノキシ基で置換されている（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、ベンジル基またはフェネチル基である請求項１１または１２に記載のホスホン酸エステル化合物あるいはその塩。
【請求項１４】
Ｒ４１が水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基；水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、ニトロ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ４２が水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基、またはフェノキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基であり；Ｒ４３が水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ４４が（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基または水素原子である請求項１１記載のホスホン酸アミド化合物あるいはその塩。
【請求項１５】
Ｒ４１がフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、またはベンジル基であり；Ｒ４２が（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基若しくはフェニルプロピル基によって置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基；水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基または２−フェノキシエチル基であり；Ｒ４３がフェニル基、ベンジル基またはフェネチル基であり；Ｒ４４がメチル基、エチル基または水素原子である請求項１１または１４に記載のホスホン酸アミド化合物あるいはその塩。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機リン系化合物の水性分散液とそれを用いる防炎加工方法に関する。更に詳細には、合成繊維構造物に有機リン系化合物にて、耐久性にすぐれる防炎性能を付与することができる防炎加工用の水性分散液と防炎加工方法及びそれにより防炎加工された繊維、並びに新規な有機リン系化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、繊維に後加工処理によって防炎性能を付与する方法としては、ハロゲン系化合物を水に分散させて防炎加工剤とし、これを用いて繊維を防炎加工する方法が知られている。上記のハロゲン系化合物の代表例としては、１，２，５，６，９，１０−ヘキサブロモシクロドデカンのような臭素化シクロアルカンが挙げられる。ハロゲン系化合物の防炎性能は一般に高いことが知られているが、防炎加工された繊維が燃焼すると有害なハロゲン化ガスが発生し、これが人体ならびに自然環境に有害な影響を及ぼす等の問題がある。従って、近年、防炎剤としてハロゲン系化合物を用いることが規制されるに至っている。【０００３】
そこで、ハロゲン系化合物に代わる防炎剤として有機リン酸エステルのようなリン系化合物を用いた防炎剤及びそれを用いる繊維の防炎加工方法等が提案されている（特許文献１から４）。
しかし、これらのリン系化合物を用いた場合には、繊維、特にＣＤＰ（カチオン可染型ポリエステル）繊維とポリエステル繊維との混紡繊維や、抗菌加工、消臭加工、表面加工等の種々の機能性を付与された繊維には十分な防炎性能を付与することができなかった。
また、特許文献５には防炎用リン系化合物としてホスホン酸ナフチルエステル化合物が記載されているが耐光性が低い等の問題点があった。
また、非特許文献１から２にはホスホン酸化合物が記載されているが、防炎性能についての記載はない。【０００４】
【特許文献１】特開２００１−２５４２６８号公報
【特許文献２】特開２０００−３２８４４５号公報
【特許文献３】特開２００４−２２５１７６号公報
【特許文献４】特開２００６−７０４１７号公報
【特許文献５】特開２００７−２３９１０８号公報
【非特許文献１】Phosphorus and Sulfur and the Related Elements,29(2-4),169-178(1987)
【非特許文献２】J.Org.Chem.,23,1889-1893(1958)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、繊維、特にＣＤＰ繊維とポリエステル繊維との混紡繊維や、機能性を付与した繊維に、耐久性のある優れた防炎性能を付与することができる防炎加工用の水性分散液と防炎加工方法及びそれにより防炎加工された繊維、並びに新規な有機リン系化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は上記課題を解決する為に鋭意研究した結果、特定の有機リン系化合物を用いることによって、耐久性にすぐれる防炎性能を繊維に付与することができることを見出して、本発明に至ったものである。【０００７】
即ち、本発明は以下の［１］から［１５］に関する。
［１］．  下記式（１）
【化１】
2009119789.tif 000003
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し、ここで、置換基群Ａは、水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基および（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基を意味する。）で表されるホスフィン酸エステル化合物；
下記式（２）
【化２】
2009119789.tif 000004
（式中、Ｒ２１は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ２２は、置換基群Ａによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ２３は、置換基群Ａによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基（該アルキル基は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基によって置換されていてもよい）を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスホン酸エステル化合物；
下記式（３）
【化３】
2009119789.tif 000005
（式中、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３は、それぞれ独立に、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ３４は、水素原子、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスフィン酸アミド化合物；
下記式（４）
【化４】
2009119789.tif 000006
（式中、Ｒ４１は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ４２は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基（該アルキル基は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基によって置換されていてもよい）を示し；Ｒ４３は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ４４は、水素原子、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスホン酸アミド化合物；および、
下記式（５）
【化５】
2009119789.tif 000007
（式中、Ｒ５１、Ｒ５２及びＲ５３は、それぞれ独立に、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ５４及びＲ５５は、それぞれ独立に、水素原子、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスホン酸ジアミドから選ばれる少なくとも１種の有機リン系化合物またはそれらの塩と、界面活性剤とを含有する水性分散液；
［２］．  置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基が（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルフェニル基、ビフェニル基または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシフェニル基である上記［１］に記載の水性分散液；
［３］．  式（１）から式（５）で表される有機リン系化合物を水性分散液中に総量で１から９０重量％含有する上記［１］または［２］に記載の水性分散液；
［４］．  界面活性剤が非イオン型界面活性剤またはアニオン型界面活性剤、あるいはその両者である上記［１］から［３］のいずれか一項に記載の水性分散液；
［５］．  更に、紫外線吸収剤を含有する上記［１］から［４］のいずれか一項に記載の水性分散液；
［６］．  繊維用の防炎剤として使用するための上記［１］から［５］のいずれか一項に記載の水性分散液；
［７］．  繊維がポリエステル繊維である上記［６］に記載の水性分散液；
［８］．  ポリエステル繊維がカチオン可染型ポリエステル繊維またはカチオン可染型ポリエステル繊維を含有する混紡繊維である上記［７］に記載の水性分散液；【０００８】
［９］．  上記［１］から［８］のいずれかに記載の水性分散液を用いることを特徴とする繊維の防炎加工方法；【０００９】
［１０］．  上記［９］に記載の方法により防炎加工された繊維；【００１０】
［１１］．  下記式（２）
【化６】
2009119789.tif 000008
（式中、Ｒ２１は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基を示し；Ｒ２２は、置換基群Ａによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ２３は、置換基群Ａによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基（該アルキル基は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基によって置換されていてもよい）を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスホン酸エステル化合物、または
下記式（４）
【化７】
2009119789.tif 000009
（式中、Ｒ４１は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基を示し；Ｒ４２は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基（該アルキル基は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基によって置換されていてもよい）を示し；Ｒ４３は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ４４は、水素原子、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し、ここで、置換基群Ａは、上記定義と同じである。）で表されるホスホン酸アミド化合物、あるいはそれらの塩；
［１２］．  Ｒ２１が水酸基、ニトロ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、ニトロ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ２２がニトロ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ２３が水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキルオキシ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基、水酸基、アミノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、カルボキシ基若しくはウレイド基によって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基である上記［１１］記載のホスホン酸エステル化合物あるいはその塩；
［１３］．  Ｒ２１がフェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ニトロベンジル基、またはビフェニル基；Ｒ２２が（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、ニトロ基、またはフェニル基で置換されていてもよいフェニル基；Ｒ２３がフェノキシ基で置換されている（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、ベンジル基またはフェネチル基である上記［１１］または［１２］に記載のホスホン酸エステル化合物あるいはその塩；
［１４］．  Ｒ４１が水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、ニトロ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ４２が水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基、またはフェノキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基であり；Ｒ４３が水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ４４が（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基または水素原子である上記［１１］のホスホン酸アミド化合物あるいはその塩；および
［１５］．  Ｒ４１がフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、またはベンジル基であり；Ｒ４２が（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基若しくはフェニルプロピル基によって置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基；水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基または２−フェノキシエチル基であり；Ｒ４３がフェニル基、ベンジル基またはフェネチル基であり；Ｒ４４がメチル基、エチル基または水素原子である上記［１１］または［１４］に記載のホスホン酸アミド化合物あるいはその塩。
【発明の効果】
【００１１】
本発明で提供される前記式（１）から（５）で表される有機リン系化合物と界面活性剤とを含有する水性分散液は、防炎剤として優れており、これを用いて繊維に防炎加工を施すことによって、耐光性、耐久性を有する優れた防炎性能を付与することができる。また、前記式（２）および（４）で表される有機リン系化合物の中の大部分のホスホン酸エステル化合物およびホスホン酸アミド化合物は、新規化合物である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明する。【００１３】
本発明において（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基としては、炭素数１から１０の直鎖、分岐鎖、環状のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基としては、炭素数１から６の直鎖、分岐鎖、環状のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。【００１４】
本発明において（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基とは、上記の（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基が酸素原子に結合した基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基とは、上記の（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基が酸素原子に結合した基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。【００１５】
本発明において（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルアミノ基とは、上記の（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基１個が窒素原子に結合した基であり、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等が挙げられる。（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基とは、上記の（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基１個が窒素原子に結合した基であり、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等が挙げられる。【００１６】
本発明においてジ（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルアミノ基とは、上記の（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基２個が窒素原子に結合した基であり、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ（ｎ−プロピル）アミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ（ｎ−ブチル）アミノ基、ジ（ｔ−ブチル）アミノ基、ジ（ｎ−ペンチル）アミノ基、ジ（ｎ−ヘキシル）アミノ基、ジ（ｎ−オクチル）アミノ基、ジ（ｎ−デシル）アミノ基、ジシクロプロピルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基等が挙げられる。ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基とは、上記の（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基２個が窒素原子に結合した基であり、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ（ｎ−プロピル）アミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ（ｎ−ブチル）アミノ基、ジ（ｔ−ブチル）アミノ基、ジ（ｎ−ペンチル）アミノ基、ジ（ｎ−ヘキシル）アミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基等が挙げられる。【００１７】
本発明においてアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。【００１８】
本発明において（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基とは、フェニル基、ナフチル基等にアルキル基が結合した基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキシル基、フェニルオクチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基、ナフチルプロピル基等が挙げられる。（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基とは、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。【００１９】
本発明においてアリールオキシ基としては、フェニルオキシ基あるいはナフチルオキシ基等が挙げられる。【００２０】
本発明において（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基とは、上記した（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基に酸素原子が結合した基であり、例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、フェニルプロピルオキシ基、フェニルブチルオキシ基、フェニルペンチルオキシ基、フェニルヘキシルオキシ基、フェニルオクチルオキシ基、ナフチルメトキシ基、ナフチルエトキシ基、ナフチルプロピルオキシ基等が挙げられる。（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキルオキシ基とは、上記した（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基に酸素原子が結合した基であり、例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、フェニルプロピルオキシ基、フェニルブチルオキシ基、フェニルペンチルオキシ基、ナフチルメトキシ基、ナフチルエトキシ基等が挙げられる。【００２１】
本発明において置換基群Ａとは、水酸基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基および（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基を意味する。これらの置換基群Ａから選ばれる置換基は、各官能基に、通常１個から３個置換される。【００２２】
特に、本発明において置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基としては、（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルフェニル基、ビフェニル基または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基等が好ましい。【００２３】
本発明の防炎加工に用いる水性分散液に含有される前記式（１）から（５）で表される有機リン系化合物におけるＲ１１乃至Ｒ１３、Ｒ３１乃至Ｒ３３、Ｒ４１乃至Ｒ４３、Ｒ５１乃至Ｒ５３として好ましい基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ビフェニル基、メトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ベンジル基が挙げられ、中でもフェニル基、ビフェニル基、メトキシフェニル基が特に好ましい。Ｒ３４、Ｒ４４、Ｒ５４、Ｒ５５としては水素原子が好ましい。Ｒ２１乃至Ｒ２３としては、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ニトロフェニル基、フェノキシフェニル基、ベンジル基、ビフェニル基、ニトロベンジル基が好ましく挙げられ、フェニル基、ビフェニル基、メトキシフェニル基が特に好ましい。【００２４】
次に、本発明に含まれる前記式（２）で表される化合物のうち、新規リン系化合物について説明する。
即ち、式（２）において、Ｒ２１は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基を示し；Ｒ２２は、置換基群Ａによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ２３は、置換基群Ａによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基（該アルキル基は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基によって置換されていてもよい）である、ホスホン酸エステル化合物は新規化合物である。
ここで、Ｒ２１が水酸基、シアノ基、ニトロ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基；水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、ニトロ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ２２がニトロ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ２３が水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキルオキシ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基、水酸基、アミノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、カルボキシ基若しくはウレイド基によって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であるホスホン酸エステル化合物が好ましい。特に、Ｒ２１がフェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ニトロベンジル基、またはビフェニル基；Ｒ２２がニトロ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基またはフェニル基で置換されていてもよいフェニル基；Ｒ２３がフェニル基、フェノキシ基で置換されている（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、ベンジル基またはフェネチル基であるホスホン酸エステル化合物が好ましい。【００２５】
中でも、特に、式（２）におけるＲ２１としては、フェニル基、メチルフェニル基、ビフェニル基、メトキシフェニル基、ニトロフェニル基、ベンジル基、ニトロベンジル基、フェネチル基が好ましく、中でもフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジル基が特に好ましく、フェニル基が殊更好ましい。Ｒ２２としては、フェニル基、メチルフェニル基、ビフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジル基、フェネチル基が特に好ましく、中でもフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジル基が殊更好ましい。Ｒ２３としては、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、フェノキシエチル基が好ましい。【００２６】
本発明に含まれる前記式（４）で表される化合物のうち、新規リン系化合物について説明する。
即ち、式（４）において、Ｒ４１は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基を示し；Ｒ４２は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基（該アルキル基は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキルオキシ基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルコキシ基によって置換されていてもよい）を示し；Ｒ４３は、置換基群Ａによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基を示し；Ｒ４４は、水素原子、置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１５）アラルキル基、または置換基群Ａによって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ１０）アルキル基である、ホスホン酸アミド化合物は新規化合物である。
ここで、Ｒ４１が水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基；水酸基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、ニトロ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ４２が水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基、またはフェノキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基であり；Ｒ４３が水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基であり；Ｒ４４が（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基または水素原子である、ホスホン酸アミド化合物が好ましい。
特に、Ｒ４１がフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、またはベンジル基；Ｒ４２が（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基若しくはフェニルプロピル基によって置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基、水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基によって置換されていてもよい（Ｃ７−Ｃ１２）アラルキル基または２−フェノキシエチル基であり；Ｒ４３がフェニル基、ベンジル基またはフェネチル基であり；Ｒ４４がメチル基、エチル基または水素原子である、ホスホン酸アミド化合物が好ましい。【００２７】
中でも、特に、式（４）におけるＲ４１としては、フェニル基、メチルフェニル基、ビフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジル基、フェネチル基が好ましく、中でもフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジル基が特に好ましく、フェニル基が殊更好ましい。Ｒ４２としては、特に好ましくはフェニル基、ベンジル基、フェネチル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。Ｒ４３としては、フェニル基、メチルフェニル基、ビフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジル基、フェネチル基が特に好ましく、中でもフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジル基、フェネチル基が特に好ましく、フェニル基、ベンジル基またはフェネチル基が殊更好ましい。Ｒ４４としては、メチル基、エチル基、水素原子が特に好ましい。【００２８】
式（１）から式（５）の有機リン系化合物は、それらの塩であってもよい。塩としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、アンモニウム等との塩が挙げられ、ナトリウム塩及びアンモニウム塩が好ましい。【００２９】
式（１）、式（３）および式（５）の有機リン系化合物は、公知の方法あるいは公知の方法を応用して製造することができる。また、式（２）および式（４）の有機リン系化合物の一部の公知化合物は、公知の方法によって製造することができる。式（２）および式（４）の有機リン系化合物の中の上記した新規化合物は、公知の方法を応用して製造することができる。具体的には、例えば、非特許文献２等の文献に記載の類縁化合物の製造法を参考にして製造することができる。例えば、目的化合物に応じたハロゲン化リン系化合物とアルコール類、フェノール類またはアミン類とを無溶媒または有機溶媒中、必要に応じて塩基存在下で反応させる方法により製造することができる。実施例に使用している化合物についてはその製造法を後記しているが、本発明の式（２）の新規ホスホン酸エステル化合物および式（４）の新規ホスホン酸アミド化合物の製造法はこれらに限定されない。【００３０】
本発明の水性分散液は、式（１）から（５）の有機リン系化合物から選らばれる少なくとも１種の化合物またはそれらの塩と界面活性剤を用いることを特徴とする。また、より耐光堅牢度を向上させる目的で紫外線吸収剤を含有してもよい。【００３１】
界面活性剤はカチオン型、非イオン型及びアニオン型が知られており、本発明の水性分散液に含有される界面活性剤としては、いずれの種類でも使用することが可能である。本発明の水性分散液を調製する場合には、非イオン型またはアニオン型、または非イオン型とアニオン型とを混合して用いる。【００３２】
該アニオン界面活性剤としては、高級アルコール硫酸エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩、硫酸化脂肪酸エステル等のアルキルスルフェート塩やアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩等のアルキルスルホネート塩、更には、高級アルコールリン酸エステル塩、高級アルコールのアルキレンオキシド付加物、リン酸エステル塩等のアルキルホスフェート塩が挙げられる。また、アルキルアリールスルホネート塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルスルフェート塩、ポリオキシアルキレンアルキルエステルホスフェート塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルカルボキシレート塩、ポリカルボン酸塩、ロート油、石油スルホネート、アルキルジフェニルエーテルスルホネート塩が挙げられる。好ましくは、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル硫酸エステル塩、若しくはポリオキシエチレントリスチレン化フェニルエーテル硫酸エステル塩である。【００３３】
上記のうち特に好ましいアニオン界面活性剤は、下記式（１０７）
【化８】
2009119789.tif 000010
（式中、Ｒは、水素原子、（Ｃ１−Ｃ１８）アルキル基、スチリル基またはベンジル基を示し、ｎは１〜１５の整数を示す。）で表されるポリオキシエチレンフェニルエーテルの硫酸エステル、あるいは下記式（３１）
【化９】
2009119789.tif 000011
（式中Ｒ’は（Ｃ８−Ｃ３０）アルキル基または（Ｃ８−Ｃ３０）アルキルアリール基を、ｎは１〜３０の整数を、Ｒ’’は水素原子またはＲ’Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ基を示す。）で表されるポリオキシエチレンアルキルアリルエーテルのリン酸エステルが挙げられる。【００３４】
式（３１）で表される化合物としては、例えば、プライサーフＡＬ（商品名、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。【００３５】
式（１０７）、式（３１）では便宜上、遊離酸として記載したが、対カチオンとしてアルカリ金属、アンモニウム等である塩として使用してもよく、該対カチオンとしては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、アンモニウム等が挙げられ、ナトリウム塩及びアンモニウム塩としての使用が好ましい。【００３６】
好ましい式（１０７）の化合物としては、Ｒが（Ｃ６−Ｃ１２）直鎖アルキル基、ｎが４から１２である化合物が挙げられ、Ｒがノニル基、ｎが７の化合物が特に好ましい。【００３７】
非イオン型界面活性剤として、例えば、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルまたはポリオキシエチレントリスチレン化フェニルエーテル等を好ましく用いることができる。【００３８】
ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルとしては、例えば、下記式（１０８）
【化１０】
2009119789.tif 000012
で表される化合物または式（１０８）で表される化合物の混合物が挙げられる。式（１０８）において、ｍ’は１から３、ｎ’は８から３０の化合物が好ましい。【００３９】
式（１０８）で表される化合物の混合物としては、例えば、第一工業製薬（株）製、商品名ノイゲンＥＡ−８７等が挙げられる。【００４０】
界面活性剤は単独で用いてもよいし混合して用いてもよい。即ち、アニオン型または非イオン型をそれぞれ複数種類混合して用いてもよいし、それぞれ複数種類のアニオン型及び非イオン型を混合してもよい。【００４１】
本発明の水性分散液に含有されていてもよい紫外線吸収剤としては、紫外線を吸収する化合物であれば特に制限無く使用することが可能である。また、該紫外線吸収剤は耐光堅牢度をより向上させるために使用される。
紫外線吸収剤としては、例えば、サリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、トリアジン系化合物、桂皮酸系化合物、スチルベン系化合物；または、ベンズオキサゾール系化合物に代表される紫外線を吸収して蛍光を発する化合物（所謂、蛍光増白剤）も用いることができる。【００４２】
好ましい紫外線吸収剤の構造式を下記に示す。
【化１１】
2009119789.tif 000013
【００４３】
ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤である式（１０６）中、Ｒ１５としては（Ｃ１−Ｃ１２）直鎖または分岐鎖アルキル基またはクミル基が挙げられ、より好ましくは（Ｃ３−Ｃ６）直鎖または分岐鎖アルキル基が挙げられ、更に好ましくは（Ｃ３−Ｃ５）分岐鎖アルキル基が挙げられ、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルプロピル基等が挙げられる。【００４４】
上記式（１０６）中、Ｒ１６としては水酸基、（Ｃ１−Ｃ１２）直鎖または分岐鎖アルキル基、（Ｃ１−Ｃ１２）直鎖または分岐鎖アルコキシ基またはベンジルオキシ基が挙げられ、（Ｃ１−Ｃ１２）直鎖または分岐鎖アルキル基が好ましい。より好ましくは（Ｃ１−Ｃ６）直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、更に好ましくは（Ｃ１−Ｃ３）直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。【００４５】
式（１０６）中、Ｒ１７としては水素原子、水酸基、（Ｃ１−Ｃ１２）直鎖または分岐鎖アルキル基または（Ｃ１−Ｃ１２）直鎖または分岐鎖アルコキシ基が挙げられ、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基またはイソプロピル基が好ましく、水素原子がより好ましい。【００４６】
式（１０６）中、Ｒ１８としては水素原子または水酸基が挙げられ、水酸基が好ましく、Ｘとしては水素原子または塩素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。【００４７】
特に好ましいＲ１５からＲ１８及びＸの組合せとしては、Ｒ１５がｔ−ブチル基、Ｒ１６がメチル基、Ｒ１７が水素原子、Ｒ１８が水酸基、Ｘが塩素原子である。【００４８】
また、式（１０６）で示されるベンゾトリアゾール系化合物以外の紫外線吸収剤として好ましい化合物としては、式（１０１）、式（１０２）及び式（１０３）で表されるベンゾフェノン系化合物、式（１０４）で表されるトリアジン系化合物（式中、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基または（Ｃ１−Ｃ５）アルキル基を示す。）、式（１０５）で表されるベンゾトリアゾール系とベンゾフェノン系の複合系化合物（式中、Ｒ１は（Ｃ１−Ｃ２）アルキル基またはクミル基を、Ｒ２は水酸基、（Ｃ１−Ｃ２）アルコキシ基またはベンジルオキシ基を、Ｒ３は水素原子、水酸基または（Ｃ１−Ｃ２）アルコキシ基を、Ｒ４は水素原子または水酸基を、Ｘは水素原子または塩素原子を示す。）が挙げられる。【００４９】
上記の紫外線吸収剤の内、特に好ましい化合物は式（１０６）で表されるベンゾトリアゾール系化合物である。【００５０】
本発明の防炎剤の水性分散液における好ましい態様としては以下のものが挙げられる。
即ち、式（１）、式（２）、式（３）、式（４）または式（５）の化合物は水性分散液中、通常、それらの化合物の総量が１−９０重量％、好ましくは５−５０重量％、特に好ましくは５−３０重量％の範囲で含有される。【００５１】
紫外線吸収剤を含有する場合、その含有量は水性分散液中、通常０．１−１０重量％、好ましくは０．５−１０重量％、特に好ましくは１−５重量％の範囲で含有される。【００５２】
界面活性剤は有機リン系化合物及び任意成分である紫外線吸収剤の総量に対して、通常５−８０重量％、好ましくは１０−５０重量％、特に好ましくは１５−３５重量％の範囲で含有される。【００５３】
本発明の効果を損なわない範囲内において、必要に応じて、本発明の水性分散液には上記以外の界面活性剤や分散剤等の添加剤を含んでいてもよい。更に必要に応じて、貯蔵安定性を高めるために、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、デンプン糊等の保護コロイド剤、リン酸エステルやリン酸アミド等の防炎効果を高めるための防炎助剤、酸化防止剤等を含んでいてもよい。更に、必要に応じて、アルカリ剤、酸類、油脂、高級アルコール類、高級脂肪酸、低級アルコール類、有機溶剤、浸透促進剤、多価アルコール、防腐剤、キレート剤、ｐＨ調整剤、色素、及び顔料等を添加してもよい。【００５４】
上記の各成分を水に加えることにより、本発明の水性分散液が調製される。【００５５】
本発明の分散液により防炎加工し得る繊維としては特に限定されないが、ポリエステル繊維、特にＣＤＰ繊維及びＣＤＰ繊維とポリエステル繊維の混紡繊維が挙げられる。【００５６】
ＣＤＰ繊維やポリエステル繊維としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリオキシエトキシベンゾエート、ポリエチレンナフタレート、シクロヘキサンジメチレンテレフタレート等のポリエステルの繊維、及び上記のポリエステルに、付加的成分として、イソフタル酸、アジピン酸、スルホイソフタル酸のようなジカルボン酸成分や、プロピレングリコール、ブチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコールのようなジオール成分を共重合させた材質の繊維等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
また、繊維構造物としては糸、織物、編物、不織布等のいずれの形態のものであってもよい。【００５７】
本発明の水性分散液によって繊維を防炎加工するには、浸染同浴法やパディング法等公知の方法を用いることができる。【００５８】
浸染同浴法を用いる場合には、繊維用の分散染料や、分散型カチオン染料等と水性分散液とを併用し、１１０−１５０℃、好ましくは１２０−１４０℃の範囲の温度で１０−６０分間程度加工処理を行う。必要に応じて蛍光染料等の染料を更に加えることもできる。
パディング法を用いる場合には、繊維構造物をパッド後、乾熱処理、または、飽和常圧スチーム処理、過熱スチーム処理若しくは高圧スチーム処理等の蒸熱処理によって熱処理する。乾熱処理、蒸熱処理のいずれにおいても、熱処理温度は、通常１１０−２１０℃の範囲であり、好ましくは１７０−２１０℃の範囲である。熱処理温度が２１０℃を超えるとポリエステル系合成繊維の黄変や脆化のおそれがある。【００５９】
必要に応じて、浸染同浴法とパディング法を併用してもよい。この場合には浸染同浴法で繊維に防炎加工を行った後、パディング法により再加工するのがよい。この方法により、更に高い防炎性能を付与することもできる。
【実施例】
【００６０】
以下に実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明がこれらの実施例のみに限定されるものではない。実施例中「部」及び「％」と表記した場合には特に断りのない限り、それぞれ「重量部」及び「重量％」を示す。
以下の実施例１−１２及び比較例１−３で使用した有機リン系化合物の構造式を、下記にまとめて記載する。Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ表す。各化合物は文献公知の製造法により、または該製造法を応用して製造できる。
【化１２】
2009119789.tif 000014
【００６１】
式（２０１）の化合物は、Ｒ１１からＲ１３の全てがフェニル基である前記式（１）の化合物である。この化合物はジフェニルホスホン酸クロリドとフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
式（２０２）の化合物は、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３がフェニル基である前記式（２）の化合物である。この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリドとフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
式（２０３）の化合物は、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３がフェニル基、Ｒ３４が水素原子である前記式（３）の化合物である。この化合物はジフェニルホスホン酸クロリドとアニリン及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。【００６２】
式（２０４）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリドとフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させた後、アニリンと１時間加熱反応させ合成することができる。
式（２０５）の化合物は、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３がフェニル基、Ｒ５４、Ｒ５５が水素原子である前記式（５）の化合物である。この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリドとアニリン及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
式（２０６）の化合物はＲ１１、Ｒ１２がフェニル基、Ｒ１３が３−メチルフェニル基である前記式（１）の化合物である。この化合物はジフェニルホスホン酸クロリドとｍ−クレゾール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。【００６３】
式（２０７）の化合物は、Ｒ２１がフェニル基、Ｒ２２、Ｒ２３が３−メチルフェニル基である前記式（２）の化合物である。この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリドとｍ−クレゾール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
式（２０８）の化合物は、Ｒ１１、Ｒ１２がフェニル基、Ｒ１３が４−メチルフェニル基である前記式（１）の化合物である。この化合物はジフェニルホスホン酸クロリドとｐ−クレゾール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
式（２０９）の化合物は、Ｒ２１がフェニル基、Ｒ２２、Ｒ２３が４−メチルフェニル基である前記式（２）の化合物である。この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリドとｐ−クレゾール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。【００６４】
式（２１０）の化合物はＲ１１、Ｒ１２がフェニル基、Ｒ１３が４−メトキシフェニル基である前記式（１）の化合物である。この化合物はジフェニルホスホン酸クロリドとｐ−メトキシフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
式（２１１）の化合物は、Ｒ２１がフェニル基、Ｒ２２、Ｒ２３が４−メトキシフェニル基である前記式（２）の化合物である。この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリドとｐ−メトキシフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
式（２１２）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４２がｐ−メトキシフェニル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリドとｐ−メトキシフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させた後、アニリンと１時間加熱反応させ合成することができる。【００６５】
式（３０１）の化合物は大八化学（株）製、商品名ＮＤＰＰとして市販されている。
式（３０２）の化合物は北興化学（株）製、商品名ＴＰＰＯとして市販されている。
式（３０３）の化合物は、大八化学（株）製、商品名ＴＰＰとして市販されている。【００６６】
以下の実施例１−１２および比較例１−３において、表１−１５に示す各有機リン系化合物を、必要に応じてサンドグラインダーにて粉砕し、各成分を水に加えて水性分散液を得た。【００６７】
実施例１
【表１】
2009119789.tif 000015
【００６８】
実施例２
【表２】
2009119789.tif 000016
【００６９】
実施例３
【表３】
2009119789.tif 000017
【００７０】
実施例４
【表４】
2009119789.tif 000018
【００７１】
実施例５
【表５】
2009119789.tif 000019
【００７２】
実施例６
【表６】
2009119789.tif 000020
【００７３】
実施例７
【表７】
2009119789.tif 000021
【００７４】
実施例８
【表８】
2009119789.tif 000022
【００７５】
実施例９
【表９】
2009119789.tif 000023
【００７６】
実施例１０
【表１０】
2009119789.tif 000024
【００７７】
実施例１１
【表１１】
2009119789.tif 000025
【００７８】
実施例１２
【表１２】
2009119789.tif 000026
【００７９】
比較例１
【表１３】
2009119789.tif 000027
【００８０】
比較例２
【表１４】
2009119789.tif 000028
【００８１】
比較例３
【表１５】
2009119789.tif 000029
【００８２】
試験例１
上記の実施例１−１２または比較例１−３で調製した防炎剤の水性分散液を用い、浸染同浴処理法にて、ポリエステルを３０％及びＣＤＰを７０％含有する混紡繊維の布帛４０センチ四方をそれぞれ染色すると同時に防炎加工した。
即ち、染浴として分散染料０．７２％ｏ．ｗ．ｆ．（ｏｎ  ｗｅｉｇｈｔ  ｏｆ  ｆｉｂｅｒ）とカチオン染料０．９２％ｏ．ｗ．ｆ．と実施例１〜１２または比較例１〜３で調整した防炎加工剤をそれぞれ浴比１：２０、１３０℃×６０分間処理した。【００８３】
使用した染料は、分散染料としてカヤロンマイクロエステルイエローＡＱ−ＬＥ０．２４％、カヤロンマイクロエステルレッドＡＱ−ＬＥ０．２４％、カヤロンマイクロエステルブルーＡＱ−ＬＥ０．２４％、カチオン染料としてカヤクリルイエロー３ＲＬ−ＥＤ０．４６％（いずれも日本化薬（株）製）、カヤクリルレッドＧＬ−ＥＤ０．２４％、カヤクリルブルーＧＳＬ−ＥＤ０．２２％（いずれも日本化薬（株）製）である。【００８４】
その後、各布帛に対して還元洗浄を行い、次いで、１７０℃で６０秒間熱処理を実施した。更に、ＪＩＳ  Ｋ３３７１に従って、弱アルカリ性第１種洗剤を１ｇ／Ｌの割合で用い、浴比１：４０として、６０℃±２℃で１５分間、各布帛を水洗濯した後、４０℃±２℃で５分間のすすぎを３回、遠心脱水を２分間行ない、その後、６０℃±５℃で熱風乾燥する１サイクルを５サイクル行なった。
上記の操作で得た１５種類の混紡繊維布帛を試験片とし、これらについて燃焼性試験を行った。【００８５】
なお上記の還元洗浄とは以下の操作をいう。即ちハイドロサルファイト２ｇ／Ｌ、苛性ソーダ２ｇ／Ｌ、界面活性剤１ｇ／Ｌの水溶液を調製し、これを８０℃に加温した後、防炎加工済の上記の布帛を加えて２０分間処理する操作である。【００８６】
燃焼性試験の試験方法
消防法ＪＩＳ  Ｌ１０９１Ａ−１法（４５度ミクロバーナー法）にて試験を行い、以下の評価を行った。その結果を下記表１６に示す。【００８７】
評価Ａ：合格率
残炎時間が３秒以下の場合を合格とし、測定回数でその測定中における合格回数を除した数値を合格率として記載した。小数点以下を四捨五入し、単位は％である。合格率の高いほうが防炎性能が高い。
合格率の後ろの括弧書きは、合格率の算出に使用した合格回数と測定回数であり、「（合格回数／測定回数）」で表示した。【００８８】
評価Ｂ：平均残炎時間
試験Ａにて測定した残炎時間の総合計を、測定回数で除することにより、平均残炎時間を算出した。単位は秒である。平均残炎時間の短いほうが防炎性能が高い。【００８９】
評価Ｃ：平均燃焼面積
試験片の燃焼面積を計測し、その総和を測定回数で除することにより、平均燃焼面積を算出した。単位はｃｍ２である。平均燃焼面積の小さいほうが防炎性能が高い。
【表１６】
2009119789.tif 000030
【００９０】
表１６の結果から明らかなように、評価Ａの合格率は本発明の実施例１−１２が９５から１００％であるのに対して、各比較例が５７から６５％であり、本発明の実施例の方が合格率が高い。また、評価Ｂの平均残炎時間については実施例１−１２が０．５−０．９であるのに対して、各比較例は２．５−３．８であり、後者は約３から７倍も平均残炎時間が長い。更に、評価Ｃの平均燃焼面積については実施例１−１２が３．６−４．１であるのに対して、各比較例は５．６−７．１であり、後者は１．４−２．０倍も平均燃焼面積が大きい。【００９１】
以上のように本発明の水性分散液を用いた試験片は、優れた防炎性能を示すことが判明した。また、本発明の水性分散液を用いた試験片は水洗濯等を５サイクルも繰り返して行ったにもかかわらず、上記の性能を保持していることから、耐久性においても極めて優れたものであることが明白である。【００９２】
実施例１３
本発明により提供される前記式（２）および式（４）で表される新規化合物として、下記式（２１３）から（２３８）で表される化合物を製造した。また、比較化合物として、下記式（３０４）および（３０５）の化合物を用いた。
【化１３−１】
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【化１３−２】
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【化１３−３】
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【００９３】
１．式（２１３）の化合物は、Ｒ２１、Ｒ２２がフェニル基、Ｒ２３がベンジル基である前記式（２）の化合物である。
テトラヒドロフラン２００部中でジフェニルホスホン酸クロリド５０部、フェノール２４部及びトリエチルアミン５７部を１０℃以下で１時間反応させた後、次いでベンジルアルコールと室温で１時間反応させた。水１００部を添加し、更に希塩酸にてｐＨ７以下として静置した。上層を分液し、飽和食塩水にて洗浄後、下層を分液して廃棄し、上層部からエバポレーターにてテトラヒドロフラン等を留去してホスホン酸化合物を得た。得られた化合物は淡黄色の液体で、ＬＣ−ＭＳ（高速液体クロマトグラフィー−質量分析計）の測定から式（２１３）の化合物と同定した。
ＭＳ：３２４．０９    （理論値  ３２４．０９）【００９４】
２．式（２１４）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４２がフェニル基、Ｒ４３がベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリド、フェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３２３．１１    （理論値  ３２３．１１）【００９５】
３．式（２１５）の化合物は、Ｒ２１がフェニル基、Ｒ２２が４−メチルフェニル基、Ｒ２３がベンジル基である前記式（２）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとｐ−クレゾール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアルコールと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：  ３３８．１１    （理論値  ３３８．１１）【００９６】
４．式（２１６）の化合物は、Ｒ４１がフェニル基、Ｒ４２が３−メチルフェニル基、Ｒ４３がベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとｍ−クレゾール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３３７．１２    （理論値  ３３７．１２）【００９７】
５．式（２１７）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４２が３−メチルフェニル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとｍ−クレゾール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでアニリンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３２３．１１    （理論値  ３２３．１１）【００９８】
６．式（２１８）の化合物は、Ｒ２１がフェニル基、Ｒ２２が４−フェニルフェニル基、Ｒ２３がベンジル基である前記式（２）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとｐ−フェニルフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアルコールと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：４００．１２    （理論値  ４００．１２）【００９９】
７．式（２１９）の化合物は、Ｒ４１がフェニル基、Ｒ４２が４−メチルフェニル基、Ｒ４３がベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとｐ−クレゾール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：  ３３７．１２    （理論値  ３３７．１２）【０１００】
８．式（２２０）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４２が４−メチルフェニル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリド、ｐ−クレゾール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでアニリンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３２３．１１    （理論値  ３２３．１１）【０１０１】
９．式（２２１）の化合物は、Ｒ２１がフェニル基、Ｒ２２が４−ｔ−ブチルフェニル基、Ｒ２３がベンジル基である前記式（２）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドと４−ｔ−ブチルフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアルコールと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３８０．１５    （理論値  ３８０．１５）【０１０２】
１０．式（２２２）の化合物は、Ｒ４１がフェニル基、Ｒ４２が４−ｔ−ブチルフェニル基、Ｒ４３がベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリド、４−ｔ−ブチルフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３７９．１７    （理論値  ３７９．１７）【０１０３】
１１．式（２２３）の化合物は、Ｒ４１がフェニル基、Ｒ４２が４−フェニルフェニル基、Ｒ４３がベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとｐ−フェニルフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：  ３９９．１４    （理論値  ３９９．１４）【０１０４】
１２．式（２２４）の化合物は、Ｒ４１がフェニル基、Ｒ４２がｐ−クミルフェニル基、Ｒ４３がベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとｐ−クミルフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：４４１．１９    （理論値  ４４１．１９）【０１０５】
１３．式（２２５）の化合物は、Ｒ４１がフェニル基、Ｒ４２が２−ナフチル基、Ｒ４３がベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドと２−ナフトール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３７３．１２    （理論値  ３７３．１２）【０１０６】
１４．式（２２６）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４２が２−ナフチル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドと２−ナフトール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでアニリンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３５９．１１    （理論値  ３５９．１１）【０１０７】
１５．式（２２７）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４２がフェニル基、Ｒ４３が２−メチルベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いで２−メチルベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３３７．１２    （理論値  ３３７．１２）【０１０８】
１６．式（２２８）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４２がフェニル基、Ｒ４３がベンジル基、Ｒ４４がメチル基である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、Ｎ−メチルベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３３７．１２    （理論値  ３３７．１２）【０１０９】
１７．式（２２９）の化合物は、Ｒ４１がフェニル基、Ｒ４２が４−ｔ−ブチルフェニル基、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドと４−ｔ−ブチルフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでアニリンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３６５．１５    （理論値  ３６５．１５）【０１１０】
１８．式（２３０）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４４がＮ−メチルフェニル基である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでＮ−メチルアニリンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３２３．１１    （理論値  ３２３．１１）【０１１１】
１９．式（２３１）の化合物は、Ｒ４１がフェニル基、Ｒ４２が２−フェニルフェニル基、Ｒ４３がベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドと２−フェニルフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３９９．１４    （理論値  ３９９．１４）【０１１２】
２０．式（２３２）の化合物は、Ｒ４１がフェニル基、Ｒ４２が２−フェニルフェニル基、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドと２−フェニルフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでアニリンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３８５．１２    （理論値  ３８５．１２）【０１１３】
２１．式（２３３）の化合物は、Ｒ２１、Ｒ２３がフェニル基、Ｒ２２が２−フェノキシエチル基である前記式（２）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いで２−フェノキシエタノールと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３５４．１０    （理論値  ３５４．１０）【０１１４】
２２．式（２３４）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４２が２−フェノキシエチル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドと２−フェノキシエタノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでアニリンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３５３．１２    （理論値  ３５３．１２）【０１１５】
２３．式（２３５）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４２がｐ−クミルフェニル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとｐ−クミルフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでアニリンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：４２７．１７    （理論値  ４２７．１７）【０１１６】
２４．式（２３６）の化合物は、Ｒ４１がフェニル基、Ｒ４２、Ｒ４３がベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとベンジルアルコール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでベンジルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３３７．１２    （理論値  ３３７．１２）【０１１７】
２５．式（２３７）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４２がベンジル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとベンジルアルコール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでアニリンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３２３．１１    （理論値  ３２３．１１）【０１１８】
２６．式（２３８）の化合物は、Ｒ４１、Ｒ４２がフェニル基、Ｒ４３がシクロヘキシル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。
式（２１３）の化合物の製造法と同様に、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いでシクロヘキシルアミンと１時間反応させ合成した。
ＭＳ：３１５．１４    （理論値  ３１５．１４）【０１１９】
式（３０４）の化合物は、テトラヒドロフラン中でジフェニルホスフィン酸クロリドとフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、次いで、アニリンと１時間反応させ合成した。【０１２０】
式（３０５）は、Ｒ２１、Ｒ２３がフェニル基、Ｒ２２が２−ナフチル基である特許文献５記載のホスホン酸エステル化合物である。
テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロリドとフェノール及びトリエチルアミンを１時間反応させた後、２−ナフトールと１時間反応させ合成した。【０１２１】
以下の実施例１４−３９および比較例４−５において、表１７−４４に示す各有機リン系化合物を、必要に応じてサンドグラインダーにて粉砕し、各成分を水に加えて水性分散液を得た。【０１２２】
実施例１４
【表１７】
2009119789.tif 000034
【０１２３】
実施例１５
【表１８】
2009119789.tif 000035
【０１２４】
実施例１６
【表１９】
2009119789.tif 000036
【０１２５】
実施例１７
【表２０】
2009119789.tif 000037
【０１２６】
実施例１８
【表２１】
2009119789.tif 000038
【０１２７】
実施例１９
【表２２】
2009119789.tif 000039
【０１２８】
実施例２０
【表２３】
2009119789.tif 000040
【０１２９】
実施例２１
【表２４】
2009119789.tif 000041
【０１３０】
実施例２２
【表２５】
2009119789.tif 000042
【０１３１】
実施例２３
【表２６】
2009119789.tif 000043
【０１３２】
実施例２４
【表２７】
2009119789.tif 000044
【０１３３】
実施例２５
【表２８】
2009119789.tif 000045
【０１３４】
実施例２６
【表２９】
2009119789.tif 000046
【０１３５】
実施例２７
【表３０】
2009119789.tif 000047
【０１３６】
実施例２８
【表３１】
2009119789.tif 000048
【０１３７】
実施例２９
【表３２】
2009119789.tif 000049
【０１３８】
実施例３０
【表３３】
2009119789.tif 000050
【０１３９】
実施例３１
【表３４】
2009119789.tif 000051
【０１４０】
実施例３２
【表３５】
2009119789.tif 000052
【０１４１】
実施例３３
【表３６】
2009119789.tif 000053
【０１４２】
実施例３４
【表３７】
2009119789.tif 000054
【０１４３】
実施例３５
【表３８】
2009119789.tif 000055
【０１４４】
実施例３６
【表３９】
2009119789.tif 000056
【０１４５】
実施例３７
【表４０】
2009119789.tif 000057
【０１４６】
実施例３８
【表４１】
2009119789.tif 000058
【０１４７】
実施例３９
【表４２】
2009119789.tif 000059
【０１４８】
比較例４
【表４３】
2009119789.tif 000060
【０１４９】
比較例５
【表４４】
2009119789.tif 000061
【０１５０】
試験例２
上記の実施例１４−３９または比較例４−５で調製した防炎剤の水性分散液を用い、試験例１と同様にして、浸染同浴処理法にて、ポリエステル３０％及びＣＤＰを７０％含有する混紡繊維の布帛２０センチ四方をそれぞれ染色すると同時に防炎加工した。
その後、試験例１と同様にして、燃焼試験（評価Ａ、評価Ｂ）を実施した。更には、試験例１の評価Ｃ（平均燃焼面積）に代えて、以下の評価Ｄ（耐光堅牢度）の試験を行った。結果は下記表４５に示した。【０１５１】
評価Ｄ：耐光堅牢度
耐光堅牢度を１〜５級で表した。【０１５２】
【表４５】
2009119789.tif 000062
【０１５３】
表４５の結果から、評価Ａの合格率は本発明の実施例１４−３９が８６％から１００％であるのに対して、比較例４が５７％であり、本発明の実施例の方が、合格率が高い。比較例５の場合、評価Ａの合格率は８６％と高いが、耐光堅牢度が低く耐光性が悪い。また、評価Ｂの平均残炎時間については実施例１４−３９が０．５から４．５であるのに対して、比較例４−５は４．９から７．８であり、後者は平均残炎時間が長い。
即ち、本発明の防炎剤は評価Ａと評価Ｂと評価Ｄでバランスのよい性能を示し、防炎剤として有用であることは明らかである。【０１５４】
実施例４０
本発明により提供される前記式（２）および式（４）で表される新規化合物として、下記式（２３９）から（２４６）で表される化合物を製造した。
【化１４】
2009119789.tif 000063
【０１５５】
１．式（２３９）の化合物は、Ｒ２１がベンジル基、Ｒ２２、Ｒ２３がフェニル基である前記式（２）の化合物である。この化合物はベンジルホスフィン酸ジクロリドとフェノールをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
ＭＳ：３２４．０９  （理論値  ３２４．０９）【０１５６】
２．式（２４０）の化合物は、Ｒ２１がフェニル基、Ｒ２２がｐ−ニトロフェニル基、Ｒ２３がフェニル基である前記式（２）の化合物である。この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリドとｐ−ニトロフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させた後、フェノールと１時間加熱反応させ合成することができる。
ＭＳ：３５５．０６  （理論値  ３５５．０６）【０１５７】
３．式（２４１）の化合物は、Ｒ２１がｐ−クレジル基、Ｒ２２、Ｒ２３がフェニル基である前記式（２）の化合物である。この化合物はクレジルホスフィン酸ジクロリドとフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
ＭＳ：３２４．０９  （理論値  ３２４．０９）【０１５８】
４．式（２４２）の化合物は、Ｒ２１がｍ−ニトロフェニル基、Ｒ２２、Ｒ２３がフェニル基である前記式（２）の化合物である。この化合物はｍ−ニトロフェニルホスフィン酸ジクロリドとフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
ＭＳ：３５５．０６  （理論値  ３５５．０６）【０１５９】
５．式（２４３）の化合物は、Ｒ２１がｐ−ニトロベンジル基、Ｒ２２、Ｒ２３がフェニル基である前記式（２）の化合物である。この化合物はｐ−ニトロベンジルホスフィン酸ジクロリドとフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
ＭＳ：３６９．０８  （理論値  ３６９．０８）【０１６０】
６．式（２４４）の化合物は、Ｒ２１が４−フェニルフェニル基、Ｒ２２、Ｒ２３がフェニル基である前記式（２）の化合物である。この化合物は４−フェニルフェニルホスフィン酸ジクロリドとフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させ合成することができる。
ＭＳ：３８６．１１  （理論値  ３８６．１１）【０１６１】
７．式（２４５）の化合物は、Ｒ４１がベンジル基、Ｒ４２、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。この化合物はベンジルホスフィン酸ジクロリドとフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させた後、アニリンと１時間加熱反応させ合成することができる。
ＭＳ：３２３．１１  （理論値  ３２３．１１）【０１６２】
８．式（２４６）の化合物は、Ｒ４１がメトキシフェニル基、Ｒ４２、Ｒ４３がフェニル基、Ｒ４４が水素原子である前記式（４）の化合物である。この化合物はメトキシフェニルホスフィン酸ジクロリドとフェノール及びトリエチルアミンをテトラヒドロフラン中、１時間加熱反応させた後、アニリンと１時間加熱反応させ合成することができる。
ＭＳ：３２３．１１  （理論値  ３３９．１０）【０１６３】
以下の実施例４１−４８において、表４６−５３に示す各有機リン系化合物を、必要に応じてサンドグラインダーにて粉砕し、各成分を水に加えて水性分散液を得た。【０１６４】
実施例４１
【表４６】
2009119789.tif 000064
【０１６５】
実施例４２
【表４７】
2009119789.tif 000065
【０１６６】
実施例４３
【表４８】
2009119789.tif 000066
【０１６７】
実施例４４
【表４９】
2009119789.tif 000067
【０１６８】
実施例４５
【表５０】
2009119789.tif 000068
【０１６９】
実施例４６
【表５１】
2009119789.tif 000069
【０１７０】
実施例４７
【表５２】
2009119789.tif 000070
【０１７１】
実施例４８
【表５３】
2009119789.tif 000071
【０１７２】
試験例３
上記の実施例４１−４８で調製した防炎剤の水性分散液を用い、試験例１と同様にして、浸染同浴処理法にて、ポリエステル３０％及びＣＤＰを７０％含有する混紡繊維の布帛２０センチ四方をそれぞれ染色すると同時に防炎加工した。
その後、試験例１と同様にして、燃焼試験（評価Ａ、評価Ｂ）および平均燃焼面積（評価Ｃ）を実施した。結果は下記表５４に示した。【０１７３】
【表５４】
2009119789.tif 000072
【０１７４】
表５４の結果から明らかなように、評価Ａの合格率は本発明の実施例４１−４８の全てが１００％であり、評価Ｂの平均残炎時間は０．５−０．８、評価Ｃの平均燃焼面積は３．１−３．９であり、本発明の水性分散液を用いた試験片は、優れた防炎性能を示すことが判明した。【０１７５】
以上のように本発明の水性分散液を用いた試験片は、優れた防炎性能を示すことが判明した。また、本発明の水性分散液を用いた試験片は水洗濯等を５サイクルも繰り返して行ったにもかかわらず、上記の性能を保持していることから、耐久性においても極めて優れたものであることが明白である。
【産業上の利用可能性】
【０１７６】
本発明により、繊維、特にＣＤＰとポリエステルの混紡繊維に耐久性のある優れた防炎性能を付与することができる有機リン系化合物の水性分散液を提供することができる。
【国際調査報告】
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