(57)【要約】【課題】屈曲耐久性及び透明性に優れたフィルム状光導波路を提供する。【解決手段】フィルム状光導波路１は、下部クラッド層１５、コア部分２２、中間クラッド層３６、及び上部クラッド層３３からなる。下部クラッド層１５及び上部クラッド層３３は、光硬化性樹脂組成物の固形分を１００質量％として、（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー３０〜８０質量％、（Ｂ）反応性希釈モノマー１５〜６９質量％、及び（Ｃ）光重合開始剤０．１〜１０質量％を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。中間クラッド層３６は、光硬化性樹脂組成物の固形分を１００質量％として、（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー５〜８０質量％、（ｂ）反応性希釈モノマー１〜４０質量％、（ｃ）光重合開始剤０．１〜１０質量％、及び（ｄ）エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体１５〜７５質量％を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層と、コア部分と、中間クラッド層と、上部クラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記下部クラッド層及び上部クラッド層が、下記成分（Ａ）〜（Ｃ）を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー  ３０〜８０質量％（Ｂ）反応性希釈モノマー  １５〜６９質量％              （Ｃ）光重合開始剤  ０．１〜１０質量％（ただし、光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％とする。）  前記中間クラッド層が、下記成分（ａ）〜（ｄ）を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー  ５〜８０質量％（ｂ）反応性希釈モノマー  １〜４０質量％（ｃ）光重合開始剤  ０．１〜１０質量％（ｄ）エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体  １５〜７５質量％（ただし、光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％とする。）
【請求項２】
成分（Ａ）が、（Ａ−１）ポリオール化合物、（Ａ−２）ポリイソシアネート化合物、及び（Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレートの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含む請求項１に記載のフィルム状光導波路。
【請求項３】
（Ａ−１）ポリオール化合物が、脂肪族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオールからなる群より選ばれる１種以上である請求項２に記載のフィルム状光導波路。
【請求項４】
下部クラッド層及び上部クラッド層を形成する光硬化性樹脂組成物が、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体を含まないか、または、光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％とした場合に１０質量％以下の配合量で含む請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルム状光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム状光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化及び高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。従来の光導波路としては、石英系光導波路が代表的であった。しかし、石英系光導波路は、製造時に石英膜の堆積のために高温での長時間の処理が必要であるなど、製造時間が長いこと、光導波路のパターン形成には、光レジストを用いる工程と、危険性の高いガスを用いてエッチングする工程が含まれ、かつ、それらの工程に特殊な装置を必要とするなど、多数の複雑な工程及び特殊な装置を要すること、及び、歩留まりが低いこと等の問題がある。  これらの問題を改善するため、光導波路の工程数の削減、製造時間の短縮化、歩留まりの増大等の生産性の向上を目的に、コア部分とクラッド層の材料として液状の硬化性組成物を用いるポリマー系光導波路が、近年提案されている。  一例として、テトラカルボン酸二無水物とジアミンから得られるポリイミドを構成要素とするポリイミド系光導波路において、該ポリイミドが特定の構造式で表されるフッ素化ジアミン若しくはそれを含むジアミンからのポリイミド、又はその混合物であることを特徴とするポリイミド系光導波路が提案されている（特許文献１）。  このポリイミド系光導波路は、良好な伝送特性（低導波路損失）を有し、優れた耐熱性を有するものである。  また他の例として、（Ａ）ウレタン結合を介在させて結合された、ラジカル重合性反応基を含む側鎖部分を有する構成単位と、重合性を有しない側鎖を有する構成単位とを含む共重合体、（Ｂ）分子内に１個以上のエチレン性不飽和基を有し、分子量が１，０００未満であり、０．１ＭＰａにおける沸点が１３０℃以上である化合物、及び（Ｃ）光ラジカル重合開始剤を含有する光導波路用感光性樹脂組成物が提案されている（特許文献２）。  この感光性樹脂組成物によると、形状の精度が高くかつ高温高湿下における伝送特性の低下を抑えた光導波路を形成することができる。    
【特許文献１】特開平４−９８０７号公報
【特許文献２】特開２００６−１４６１６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来の光導波路では、フィルム状の硬化物（フィルム状光導波路）の状態で、繰り返し屈曲させると、破断やクラックを生じ、良好な伝送特性を維持できないという問題がある。  一方、フィルム状光導波路の下面に、発光素子等の他の部材を固着させる際に、フィルム状光導波路を上方から透視して位置合わせをすることから、フィルム状光導波路は、高い透明性を有することが望まれている。  そこで、本発明は、屈曲耐久性及び透明性に優れたフィルム状光導波路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、下部クラッド層と、コア部分と、中間クラッド層と、上部クラッド層とを含み、前記下部クラッド層、中間クラッド層、及び上部クラッド層が、特定の成分組成を有する光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるフィルム状光導波路によれば、本発明の上記目的を達成することができることを見出し、本発明を完成した。  【０００５】
すなわち、本発明は以下の［１］〜［４］を提供するものである。［１］  下部クラッド層と、コア部分と、中間クラッド層と、上部クラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記下部クラッド層及び上部クラッド層が、下記成分（Ａ）〜（Ｃ）を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー  ３０〜８０質量％（Ｂ）反応性希釈モノマー  １５〜６９質量％（Ｃ）光重合開始剤  ０．１〜１０質量％（ただし、光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％とする。）  前記中間クラッド層が、下記成分（ａ）〜（ｄ）を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー  ５〜８０質量％（ｂ）反応性希釈モノマー  １〜４０質量％（ｃ）光重合開始剤  ０．１〜１０質量％（ｄ）エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体  １５〜７５質量％（ただし、光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％とする。）［２］  成分（Ａ）が、（Ａ−１）ポリオール化合物、（Ａ−２）ポリイソシアネート化合物、及び（Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレートの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含む上記［１］に記載のフィルム状光導波路。［３］  （Ａ−１）ポリオール化合物が、脂肪族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオールからなる群より選ばれる１種以上である上記［２］に記載のフィルム状光導波路。［４］  下部クラッド層及び上部クラッド層を形成する光硬化性樹脂組成物が、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体を含まないか、または、光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％とした場合に１０質量％以下の配合量で含む上記［１］〜［３］のいずれか１つに記載のフィルム状光導波路。
【発明の効果】
【０００６】
本発明のフィルム状光導波路は、特定の成分組成を有する光硬化性樹脂組成物からなる下部クラッド層、中間クラッド層及び上部クラッド層を備えているため、繰り返しの屈曲に対しても破断やクラックを生じることがなく、良好な伝送特性を維持することができる。  また、本発明のフィルム状光導波路は、特定の成分組成を有する光硬化性樹脂組成物からなるクラッド層が高い透明性を有するため、フィルム状光導波路と発光素子等の他の部材とを固着させる際に、フィルム状光導波路を透視して、容易かつ正確に位置合わせを行なうことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明のフィルム状光導波路は、下部クラッド層と、コア部分と、中間クラッド層と、上部クラッド層とを含み、前記下部クラッド層及び上部クラッド層が、特定の成分組成を有する光硬化性樹脂組成物（クラッド層用光硬化性樹脂組成物ともいう。）の硬化物からなり、かつ、前記中間クラッド層が、前記クラッド層用光硬化性樹脂組成物とは異なる、特定の成分組成を有する光硬化性樹脂組成物（中間層用光硬化性樹脂組成物ともいう。）の硬化物からなるものである。  まず、クラッド層用光硬化性樹脂組成物について説明する。  【０００８】
クラッド層用光硬化性樹脂組成物は、成分（Ａ）〜（Ｃ）、及び必要に応じて配合される他の成分を含む。以下、各成分ごとに詳述する。［成分（Ａ）］  成分（Ａ）は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。  成分（Ａ）として用いられるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば、（Ａ−１）ポリオール化合物、（Ａ−２）ポリイソシアネート化合物、及び（Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させることにより製造される。具体的には、以下の製法１〜製法４のいずれかの方法で製造される。製法１：ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを一括して仕込んで反応させる方法。製法２：ポリオール化合物及びポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。製法３：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させる方法。製法４：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させ、最後にまた水酸基含有（メタ）アクリレート化合物を反応させる方法。  【０００９】
以下、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの製造に用いられる（Ａ−１）ポリオール化合物、（Ａ−２）ポリイソシアネート化合物、（Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレートについて詳しく説明する。［（Ａ−１）ポリオール化合物］  （Ａ−１）ポリオール化合物としては、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられる。  脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、オキセタン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン及びオキセバンから選ばれる少なくとも１種の化合物を開環（共）重合することにより得られるもの等が挙げられる。これらの具体例としては、ポリエチレングリコール、１，２−ポリプロピレングリコール、１，３−ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、ポリイソブチレングリコール、プロピレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合体ポリオール、テトラヒドロフランと３−メチルテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドと１，２−ブチレンオキサイドの共重合体ポリオール等が挙げられる。  脂環族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのブチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのブチレンオキサイド付加ジオール、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。  【００１０】
脂肪族ポリエーテルポリオール及び脂環族ポリエーテルポリオールの市販品としては、ユニセーフＤＣ１１００、ユニセーフＤＣ１８００、ユニセーフＤＣＢ１１００、ユニセーフＤＣＢ１８００（以上、日本油脂社製）；ＰＰＴＧ４０００、ＰＰＴＧ２０００、ＰＰＴＧ１０００、ＰＴＧ２０００、ＰＴＧ３０
００、ＰＴＧ６５０、ＰＴＧＬ２０００、ＰＴＧＬ１０００（以上、保土谷化学社製）；ＥＸＥＮＯＬ４０２０、ＥＸＥＮＯＬ３０２０、ＥＸＥＮＯＬ２０２０、ＥＸＥＮＯＬ１０２０（以上、旭硝子社製）；ＰＢＧ３０００、ＰＢＧ２０００、ＰＢＧ１０００、Ｚ３００１（以上、第一工業製薬社製）；ＡＣＣＬＡＩＭ  ２２００、３２０１、４２００、６３００、８２００（以上、住化バイエルウレタン社製）；ＮＰＭＬ−２００２、３００２、４００２、８００２（以上、旭硝子社製）等が挙げられる。  【００１１】
芳香族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＡのブチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのブチレンオキサイド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、ナフトキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール等が挙げられる。芳香族ポリエーテルポリオールの市販品としては、ユニオールＤＡ４００、ＤＡ７００、ＤＡ１０００（以上、日本油脂社製）等が挙げられる。  ポリエステルポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール等の多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸等の多塩基酸を反応して得られるポリエステルポリオール等が挙げられる。市販品としては、クラポールＰ−２０３０、Ｐ−１０３０、Ｐ−２０１０、Ｐ−５０１０、Ｐ−２０５０、Ｆ−２０１０、Ｐ−２０１１、ＰＭＩＰＡ、ＰＫＡ−Ａ、ＰＫＡ−Ａ２、ＰＮＡ−２０００（以上、クラレ社製）等が挙げられる。  【００１２】
ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオールポリカーボネート、１，６−ヘキサンジオールと１，５−ペンタンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール、１，３−プロパンジオールと１，４−ブタンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール等が挙げられる。市販品としてはＰＣＤＬ  Ｔ５６５２、Ｇ３４５２、Ｇ３４５０Ｊ（旭化成社製）；ＤＮ−９８０、９８１、９８２、９８３（以上、日本ポリウレタン社製）；クラレポリオールＣ−５９０、Ｃ１０５０、Ｃ−１０９０、Ｃ−２０５０、Ｃ−２０９０、Ｃ−３０９０、Ｃ−５０９０、Ｃ−１０６５Ｎ、Ｃ−２０６５Ｎ、Ｃ−１０１５Ｎ、Ｃ−２０１５Ｎ（以上、クラレ社製）；ＰＬＡＣＣＥＬ−ＣＤ２０５、ＣＤ−９８３、ＣＤ２２０（以上、ダイセル化学工業社製）；ＰＣ−８０００（米国ＰＰＧ社製）等が挙げられる。  ポリカプロラクトンポリオールとしては、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオール等のジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。市販品としては、ＰＬＡＣＣＣＥＬ２０５、２０５ＡＬ、２１２、２１２ＡＬ、２２０、２２０ＡＬ（以上、ダイセル化学工業社製）等が挙げられる。  本発明で使用しうる他のポリオール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ポリβ−メチル−δ−バレロラクトン、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、ひまし油変性ポリオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ポリオール等が挙げられる。  中でも、脂肪族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオールが好ましく、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオールがより好ましい。  （Ａ−１）ポリオール化合物は、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。  （Ａ−１）ポリオール化合物は、脂肪族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオールからなる群より選ばれる１種以上であることが好ましく、ポリエステルポリオール及び／又はポリカーボネートポリオールであることがより好ましい。  【００１３】
（Ａ−１）ポリオール化合物の数平均分子量は、好ましくは１００〜１５，０００、さらに好ましくは１，０００〜１４，０００、最も好ましくは１，５００〜１２，０００である。（Ａ−１）ポリオール化合物の数平均分子量が１００未満であると、組成物を硬化させてなるクラッド層（下部クラッド層及び上部クラッド層）の常温及び低温におけるヤング率が上昇して、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を得ることができない。一方、数平均分子量が１５，０００を超えると、組成物の粘度が上昇し、塗布性が悪化することがある。  【００１４】
［（Ａ−２）ポリイソシアネート化合物］  （Ａ−２）ポリイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，４−ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、４−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のポリイソシアネート化合物が挙げられる。中でも、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が好ましい。（Ａ−２）ポリイソシアネート化合物は、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。  【００１５】
［（Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレート］  （Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルホスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。中でも、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等は、好ましく用いられる。  （Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレートは、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。  【００１６】
（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを構成する各原料の配合割合は、例えば、（Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレート１モルに対して、（Ａ−１）ポリオール化合物０．５〜２モル、（Ａ−２）ポリイソシアネート化合物１〜２．５モルである。  【００１７】
また、成分（Ａ）として、ポリイソシアネート化合物と水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを用いることもできる。この場合、ポリイソシアネート化合物、水酸基含有（メタ）アクリレートの例としては、それぞれ、上記（Ａ−２）ポリイソシアネート化合物、（Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレートと同様のものが挙げられる。  【００１８】
成分（Ａ）としては、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。  成分（Ａ）は、屈曲耐久性の観点から、（Ａ−１）ポリオール化合物と（Ａ−２）ポリイソシアネート化合物と（Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含むことが好ましい。  成分（Ａ）中の、（Ａ−１）ポリオール化合物と（Ａ−２）ポリイソシアネート化合物と（Ａ−３）水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの割合は、成分（Ａ）を１００質量％としたときに、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６０質量％以上である。  成分（Ａ）の数平均分子量は、好ましくは１００〜１５，０００、より好ましくは３００〜１２，０００である。該値が１００未満では、組成物の粘度が小さくなり過ぎて、塗布性が劣ることがある。一方、該値が１５，０００を超えると、粘度が高くなり、取り扱いが難しくなる。  クラッド層用光硬化性樹脂組成物中、成分（Ａ）の配合割合は、クラッド層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％として、好ましくは３０〜８０質量％、より好ましくは３５〜７５質量％、特に好ましくは４０〜７０質量％である。上記配合割合が３０質量％未満では、組成物を硬化させてなるクラッド層（下部クラッド層及び上部クラッド層）のヤング率が上昇し、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を形成することが困難となる。一方、上記配合割合が８０質量％を超えると、組成物の粘度が大きくなり、均一な厚みを有するクラッド層を形成することが困難となる。  【００１９】
［成分（Ｂ）］  成分（Ｂ）は、反応性希釈モノマーである。本明細書において、反応性希釈モノマーとは、光重合可能な他の反応性の成分に対して希釈剤として（粘度を低下させる）作用するモノマーをいう。  反応性希釈モノマーとしては、分子内にエチレン性不飽和基を１つ有するモノマー（以下、単官能モノマーともいう。）、及び分子内にエチレン性不飽和基を２つ以上有するモノマー（以下、多官能モノマーともいう。）が挙げられる。上記エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等が挙げられるが、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。  上記単官能モノマーとしては、例えば、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジイソプロピルアクリルアミド、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチ
ル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジアセトンアクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、３−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルシクロヘキシルコハク酸、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェノールエトキシ（メタ）アクリレート、フェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等を挙げることができる。  これらの中でも、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン及びＮ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニル化合物、及び炭素数１０以上の脂肪族炭化水素基を有する単官能性（メタ）アクリレートが好ましい。ここで炭素数１０以上の脂肪族炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖および脂環式のいずれも含まれる。炭素数１０以上の脂肪族炭化水素基を有する単官能性（メタ）アクリレートの好適な例としては、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレートが挙げられる。  単官能モノマーの市販品としてはＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ（以上、興人社製）；ニューフロンティアＩＢＡ（第一工業製薬社製）；ＩＢＸＡ、ＩＢＸＭＡ、ＡＤＭＡ（大阪有機化学社製）；ＦＡ５１１Ａ、ＦＡ５１２Ａ、ＦＡ５１３Ａ（以上、日立化成社製）；ライトエステルＭ、Ｅ、ＢＨ、ＩＢ−Ｘ、ＨＯ−ＭＳ、ＨＯ−ＨＨ、Ｌ、ＰＯ、Ｓ、ＴＤ、ライトアクリレートＬ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、１３０Ａ、ＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、ＮＰ−４ＥＡ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ−ＭＳ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、（以上、共栄社化学社製）；アロニックス  Ｍ１５０、Ｍ１５６、Ｍ５３００、ＴＯ１３１５、ＴＯ１３１６（以上、東亞合成社製）；ＦＡ５４４Ａ、５１２Ｍ、５１２ＭＴ、５１３Ｍ（以上、日立化成社製）、ＮＫエステル  Ａ−ＣＭＰ−１Ｅ、Ａ−ＬＥＮ−１０、Ｍ−４５０Ｇ、Ｓ、Ｓ−１８００Ｍ、Ｓ−１８００Ａ、ＰＨＥ−１Ｇ、ＮＰＡ−８Ｅ、ＮＰＡ−５Ｐ、ＮＰＡ−１０Ｇ、Ｍ−９０Ｇ、ＬＭＡ、ＬＡ、ＩＢ、ＣＢ−２６、ＣＢ−２３、ＣＢ−１、ＡＭＰ−６０Ｇ、ＡＭ−３０Ｇ、Ａ−ＳＡ、Ａ−ＩＢ、７０２Ａ（新中村化学工業社製）等が挙げられる。  【００２０】
上記多官能モノマーのうち、分子内にエチレン性不飽和基を２つ有するモノマー（２官能性モノマー）としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス−４（２−ヒドロキシ−３−アクリロキシプロピルフェニル）プロパン、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、９，９−ビス［４−（２−アクリロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。  中でも、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス−４（２−ヒドロキシ−３−アクリロキシプロピルフェニル）プロパン、９，９−ビス［４−（２−アクリロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート等は特に好ましく用いられる。  【００２１】
２官能モノマーの市販品としては、例えば、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業社製）；アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成社製）；ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４、Ａ−ＢＰＥＦ（以上、新中村化学社製）；ライトアクリレート１，６−ＨＸ−Ａ、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学社製）；ＫＡＹＡＲＡＤＲ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬社製）；ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬社製）；リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子社製）；ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ社製）等が挙げられる。  【００２２】
また、上記多官能モノマーのうち、エチレン性不飽和基を３個以上有するモノマー（３官能以上のモノマー）としては、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（以下「ＥＯ」という。）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド（以下「ＰＯ」という。）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、２，２，２−トリス（メタ）アクリロイロキシメチルエチルフタル酸、２，２，２−トリス（メタ）アクリロイロキシメチルエチルコハク酸、ＥＯ変性トリス（アクリロキシ）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（アクリロキシ）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリアクリロイルオキシエチルホスフェート等が挙げられる。  中でも、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシ）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが好ましい。  【００２３】
３官能モノマーの市販品としては、例えば、アロニックスＭ−３１５、Ｍ−３２５、Ｍ−３２７、ＴＯ−７５６、ＴＯ−１３８２（東亞合成社製）、ＮＫエステルＴＭ−４ＥＬ、ＣＢＸ−Ｏ、ＣＢＸ−１Ｎ、Ａ−ＤＰＨ−６Ｈ、Ａ−９３００、Ａ−ＤＰＨ、Ａ−９３００−１ＣＬ、ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ−９ＥＯ、ＡＴＭ−４Ｐ、ＡＴＭ−４Ｅ、ＡＴＭ−３５Ｅ、ＡＤ−ＴＭＰ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＰＯ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭＮ（新中村化学工業社製）、ライトエステルＴＭＰ、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ、ＢＡ−１３４、ＴＭＰ−３ＥＯ−Ａ（共栄社化学製）、ビスコート２９５、３６０、３ＰＡ、４００（大阪有機化学工業社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、ＤＰＨＡ（日本化薬社製）等が挙げられる。  【００２４】
成分（Ｂ）としては、上記単官能モノマー及び上記多官能モノマーのいずれかを単独で使用してもよいし、併用して用いることもできる。好ましくは、成分（Ｂ）は多官能モノマーを含む。  クラッド層用光硬化性樹脂組成物中、成分（Ｂ）の配合割合は、クラッド層用光硬化性組成物の固形分の全量を１００質量％として、１５〜６９質量％、好ましくは２０〜６６質量％、より好ましくは２５〜６０質量％である。上記配合割合が１５質量％未満では、硬化物の耐湿熱性が低下し、フィルム状光導波路を高温高湿雰囲気中で使用した場合に、伝送特性、屈曲耐久性を良好に維持することが困難となる。一方、上記配合割合が、６９質量％を超えると、組成物の光硬化性が低下し、十分な機械的特性を有する硬化物（下部クラッド層、上部クラッド層）を形成することが困難となる。  【００２５】
［成分（Ｃ）］  成分（Ｃ）は、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を重合しうる活性種（ラジカル）を光によって発生することのできる光重合開始剤である。  ここで光とは、例えば赤外線、可視光線、紫外線、及びＸ線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線を意味する。  光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。中でも１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等は、重合速度、溶液安定性の観点から好ましく用いられる。  【００２６】
成分（Ｃ）の市販品としては、例えば、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、３７９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ−１７００、−１７５０、−１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒ  １１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャリ
テイ・ケミカルズ社製）；Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ、ＬＲ８８９３、ＬＲ８９７０（以上、ＢＡＳＦ社製）；ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤は、１種を単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いられる。  本発明においては、光重合開始剤と共に光増感剤を用いることができる。光増感剤としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。光増感剤の市販品としては、例えば、ユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。  【００２７】
クラッド層用光硬化性組成物中、成分（Ｃ）の配合割合は、クラッド層用光硬化性組成物の固形分の全量を１００質量％として、０．１〜１０質量％、好ましくは０．２〜７質量％、より好ましくは０．５〜５質量％である。上記配合割合が０．１質量％未満では、硬化が十分に進行せず、十分な機械的特性を有する硬化物（下部クラッド層、上部クラッド層）を形成することが困難となることがある。また、上記配合割合が１０質量％を超えると、光重合開始剤が、フィルム状光導波路の長期の特性に悪影響を及ぼす可能性がある。  【００２８】
［任意成分］  クラッド層用光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて有機溶媒（成分（Ｄ））を配合することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与して、均一な厚さを有するクラッド層を形成することができる。  有機溶媒の種類は、本発明の目的、効果を損なわない範囲で適宜選択することができるが、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有し、かつ、各構成成分を均一に溶解させるものが好ましい。  有機溶媒の好ましい例としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、及びケトン類が挙げられる。有機溶媒の好ましい化合物名としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、トルエン、キシレン、及びメタノールからなる群より選択される少なくとも１つの溶剤が挙げられる。  有機溶媒の配合量は、クラッド層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量１００質量部に対し、好ましくは５〜５００質量部、より好ましくは１０〜３００質量部、特に好ましくは２０〜２００質量部である。上記配合量が５質量部未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。上記配合量が５００質量部を超えると、十分な厚さを有する硬化物（下部クラッド層、上部クラッド層）を形成することが困難なことがある。  【００２９】
また、クラッド層用光硬化性樹脂組成物は、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体（成分（Ｅ））を実質的に含まないことが好ましい。  なお、成分（Ｅ）は、高重合体（ポリマー）であり、低重合体（オリゴマー）ではない。  クラッド層用光硬化性樹脂組成物中、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体の配合割合は、クラッド層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％として、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下、さらに好ましくは２質量％以下であり、特に好ましくは０質量％である。上記配合割合が１０質量％を超えると、屈曲耐久性が低下する場合がある。  なお、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体とは、ビニル基含有単量体及び／又は（メタ）アクリロイル基含有単量体に由来する構造単位を含み、かつ、分子内にエチレン性不飽和基を１つ以上有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられるが、好ましくは（メタ）アクリロイル基である。  このようなビニル系重合体の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートと、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン等とを、溶媒中でラジカル重合用の触媒存在下でラジカル重合した後、得られた共重合体の側鎖の水酸基に対して、２−メタクリロキシエチルイソシアネートを付加させて得られたものが挙げられる。  【００３０】
また、クラッド層用光硬化性樹脂組成物には、前記成分以外に、必要に応じて本発明の樹脂組成物の特性を損なわない範囲で、例えば、成分（Ａ）〜（Ｄ）以外の重合性反応基を有する化合物や、高分子樹脂（例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー）等を配合することができる。  【００３１】
さらにまた、クラッド層用光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を配合することができる。  クラッド層用光硬化性樹脂組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。  【００３２】
次に、中間層用光硬化性樹脂組成物について説明する。  中間層用光硬化性樹脂組成物は、（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、（ｂ）反応性希釈モノマー、（ｃ）光重合開始剤、（ｅ）エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体、及び必要に応じて配合される他の任意成分を含む。  以下、各成分ごとに説明する。  【００３３】
［成分（ａ）］  成分（ａ）は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。  上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分（Ａ）と同様のものが挙げられる。なお、成分（ａ）のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、経済上及び製造管理上、成分（Ａ）と同一のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを用いることが好ましい。  中間層用光硬化性樹脂組成物中、成分（ａ）の配合割合は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％として、好ましくは５〜８０質量％、より好ましくは１０〜７５質量％、特に好ましくは１０〜７０質量％である。上記配合割合が５質量％未満では、組成物を硬化させてなる中間クラッド層のヤング率が上昇し、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を形成することが困難となる。一方、該配合割合が８０質量部を超えると、組成物の粘度が小さくなり、均一な厚みを有する硬化物（中間クラッド層）を形成することが困難となる。  【００３４】
［成分（ｂ）］  成分（ｂ）は、反応性希釈モノマーである。  上記反応性希釈モノマーとしては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分（Ｂ）と同様のものが挙げられる。なお、成分（ｂ）の反応性希釈モノマーとしては、経済上及び製造管理上、成分（Ｂ）と同一の反応性希釈モノマーを用いることが好ましい。  中間層用光硬化性樹脂組成物中、成分（ｂ）の配合割合は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％として、好ましくは１〜４０質量％、より好ましくは３〜３０質量％、特に好ましくは５〜２５質量％である。成分（ｂ）の配合割合を上記範囲内とすることにより、屈曲耐久性等をより優れたものとすることができる。成分（ｂ）の配合割合が４０質量％を超えると、組成物の粘度が小さくなり、均一な厚みを有する硬化物（中間クラッド層）を形成することが困難となる。  【００３５】
［成分（ｃ）］  成分（ｃ）は、光重合開始剤である。  上記光重合開始剤としては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分（Ｃ）と同様のものが挙げられる。  中間層用光硬化性樹脂組成物中、成分（ｃ）の配合割合は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を１００質量％として、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．２〜５質量％である。上記配合割合が０．１質量％未満では、硬化が十分に進行せず、光導波路の伝送特性に問題が生じることがある。一方、上記配合割合が１０質量％を超えると、光重合開始剤が長期の伝送特性に悪影響を及ぼす可能性がある。  【００３６】
［成分（ｅ）］  成分（ｅ）は、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体である。成分（ｅ）（エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体）は、上記成分（ａ）、成分（ｂ）と重合可能なものであり、該成分（ｅ）を配合することにより、中間層用光硬化性樹脂組成物に適度な粘度を付与して塗布性を良好にすることができる。  なお、成分（ｅ）は、高重合体（ポリマー）であり、低重合体（オリゴマー）ではない。  上記エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体（以下、単にビニル系重合体ともいう。）は、ビニル基含有単量体及び／又は（メタ）アクリロイル基含有単量体に由来する構造単位を含み、かつ、分子内にエチレン性不飽和基を１つ以上有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられるが、好ましくは（メタ）アクリロイル基である。  【００３７】
上記ビニル系重合体の具体例としては、下記一般式（１）で表される繰り返し単位と、下記一般式（２）で表される繰り返し単位とを含む重合体（例えば、ランダム共重合体）が挙げられる。    
【化１】
2009069548.tif 000003
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素原子またはメチル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイル基であり、Ｘは２価の有機基であり、Ｙは重合性を有しない有機基である。）  【００３８】
一般式（１）で表される繰り返し単位の好適な例としては、下記の一般式（３）で表される繰り返し単位が挙げられる。    
【化２】
2009069548.tif 000004
（式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイル基であり、Ｗ及びＺは各々独立して単結合または２価の有機基である。）  【００３９】
ここで、一般式（３）中のＷ（２価の有機基）の例としては、下記一般式（４）で表される構造や、フェニレン基等が挙げられる。    
【化３】
2009069548.tif 000005
（式中、Ｒ４はメチレンまたは炭素数２〜８のアルキレン基である。）  一般式（３）中のＺ（２価の有機基）の例としては、−（ＣＨ2）n−Ｏ−（式中、ｎは１〜８の整数である。）等が挙げられる。  【００４０】
一般式（２）中のＹの例としては、下記一般式（５）で表される構造、フェニル基、環状アミド基、ピリジル基等が挙げられる。    
【化４】
2009069548.tif 000006
（式中、Ｒ５は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状または環状の炭素鎖を有する基である。）  【００４１】
上記ビニル系重合体のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは５，０００〜１００，０００、より好ましくは８，０００〜７０，０００、特に好ましくは１０，０００〜５０，０００である。該値が５，０００未満では、組成物の粘度が小さくなり、所望の膜厚が得られなくなる等の欠点があり、該値が１００，０００を超えると、組成物の粘度が大きくなり、塗工性が悪くなる等の欠点がある。  上記ビニル系重合体の製造方法としては、例えば、（ｅ−１）水酸基を有するラジカル重合性化合物、及び（ｅ−２）成分（一般式（２）に対応するラジカル重合性化合物）を、溶媒中でラジカル重合した後、得られた共重合体の側鎖の水酸基に対して、（ｅ−３）（メタ）アクリロイル基を有するイソシアネートを付加させる方法が挙げられる。  この方法で用いられる化合物（ｅ−１）〜（ｅ−３）について説明する。  【００４２】
化合物（ｅ−１）（水酸基を有するラジカル重合性化合物）は、該化合物中の水酸基と化合物（ｅ−３）中のイソシアネート基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）とを反応させて、ウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯＯ−）及び化合物（ｅ−３）に由来する（メタ）アクリロイル基を含む側鎖部分を有する構成単位を、成分（ｅ）中に導入するために用いられる。  化合物（ｅ−１）の例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。  化合物（ｅ−１）は、１種を単独でもしくは２種以上を組み合わせて用いられる。  ビニル系重合体中の化合物（ｅ−１）に由来する構造単位の含有率は、好ましくは３〜８０質量％、より好ましくは７〜６０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。  該含有率が３質量％未満であると、硬化が不十分となりやすい。該含有率が８０質量％を超えると、屈折率の調整が困難となる場合がある。  【００４３】
化合物（ｅ−２）（一般式（２）の構造に対応する化合物）は、主として、不飽和基含有（メタ）アクリルポリマーの機械的特性や屈折率を適度にコントロールするために用いられる。  化合物（ｅ−２）の例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸と環状炭化水素化合物とのエステル類；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノキシエチルアクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アリールエステル類；トリブロモフェノールエトキシ（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート等のハロゲン化（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン等の芳香族ビニル類；１，３−ブタジエン、イソプレン、１，４−ジメチルブタジエン等の共役ジオレフィン類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有重合性化合物；アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド結合含有重合性化合物；酢酸ビニル等の脂肪酸ビニル類等が挙げられる。  中でも、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、スチレン、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノキシエチルアクリレート、α−メチルスチレン等が好ましく用いられる。  化合物（ｅ−２）は、１種を単独でもしくは２種以上を組み合わせて用いられる。  不飽和基含有（メタ）アクリルポリマー中の化合物（ｅ−２）に由来する構造単位の含有率は、好ましくは１５〜９２質量％、より好ましくは２５〜８４質量％、特に好ましくは３５〜７８質量％である。  該含有率が１５質量％未満であると、屈折率の調整が困難となる場合がある。該含有率が９２質量％を超えると、硬化が不十分となりやすい。  【００４４】
化合物（ｅ−３）（（メタ）アクリロイル基を有するイソシアネート）の例としては、２−メタクリロキシエチルイソシアネート、Ｎ−メタクリロイルイソシアネート、メタクリロキシメチルイソシアネート、２−アクリロキシエチルイソシアネート、Ｎ−アクリロイルイソシアネート、アクリロキシメチルイソシアネート等が挙げられる。  ビニル系重合体中の化合物（ｅ−３）に由来する構造単位の含有率は、好ましくは５〜８０質量％、より好ましくは９〜６０質量％、特に好ましくは１２〜４５質量％である。  該含有率が５質量％未満であると、硬化が不十分となりやすい。該含有率が８０質量％を超えると、屈折率の調整が困難となる場合がある。  【００４５】
ビニル系重合体には、一般式（１）、（２）で表される構成単位以外の構成単位を含めることもできる。このような構成単位を導入するための化合物（以下、化合物（ｅ−４）という。）の例としては、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル類；塩化ビニル、塩化ビニリデン等の塩素含有重合性化合物等が挙げられる。ビニル系重合体中の化合物（ｅ−４）に由来する構造単位の含有率は、好ましくは０〜２０質量％、より好ましくは０〜１０質量％である。  ビニル系重合体の製造過程において、化合物（ｅ−３）の付加反応の際に、熱重合禁止剤、保存安定剤、硬化触媒等の各種添加剤を添加することができる。  熱重合禁止剤は、熱による重合反応を抑えるために配合される。熱重合禁止剤の例としては、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メトキシフェノール、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、ｎ−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル等が挙げられる。  保存安定剤の例としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ベンゾキノン、ｐ−トルキノン、ｐ−キシロキノン、フェニル−α−ナフチルアミン等が挙げられる。  硬化触媒の例としては、ジラウリル酸ジブチル錫、ジラウリル酸ジオクチル錫、ジオレイン酸ジブチル錫、二酢酸ジブチル錫、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン等が挙げられる。  これらの各種添加剤の合計の配合量は、化合物（ｅ−１）〜（ｅ−３）の合計量１００質量部に対して通常、１０質量部以下、好ましくは５質量部以下である。  【００４６】
ビニル系重合体の製造における、化合物（ｅ−１）、及び、必要に応じて使用される化合物（ｅ−２）、化合物（ｅ−４）のラジカル重合に使用できる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコールのアルキルエーテル類；エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、ジアセトンアルコール等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル等のエステル類が挙げられる。  中でも、環状エーテル類、多価アルコールのアルキルエーテル類、多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、エステル類等が好ましい。  【００４７】
ビニル系重合体のガラス転移温度は、２０℃以上１５０℃以下であることが好ましい。この際、ガラス転移温度は、通常行われている示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いた測定による値として定義される。該温度が２０℃未満であると、硬化物（中間クラッド層）を形成することが困難となったり、あるいは、べたつきが生じてドライフィルムを積層する際の作業性が悪くなる等の不都合がある。逆に該温度が１５０℃を超えると、硬化物（中間クラッド層）が硬くなったり、脆さが生じたりして、屈曲耐久性が低下することがある。  【００４８】
中間層用光硬化性樹脂組成物中、成分（ｅ）の配合割合は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分を１００質量％として、１５〜７５質量％、好ましくは２０〜７０質量％、特に好ましくは３０〜７０質量％である。上記配合割合が１５質量％未満では、組成物の粘度が小さくなり、塗布性が劣ることがある。一方、上記配合割合が７５質量％を超えると、硬化物（中間クラッド層）が硬くなったり、脆さが生じたりして、屈曲耐久性が低下することがある。  【００４９】
［任意成分］  中間層用光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて有機溶媒（成分（ｄ））を配合することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与して、均一な厚さを有する中間クラッド層を形成することができる。有機溶媒としては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分（Ｄ）と同様のものが挙げられる。  有機溶媒の配合量は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分１００質量部に対し、好ましくは５〜５００質量部、より好ましくは１０〜３００質量部、特に好ましくは２０〜２００質量部である。上記配合量が５質量部未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。上記配合量が５００質量部を超えると、十分な厚さを有する中間クラッド層を形成することが困難なことがある。  【００５０】
また、中間層用光硬化性樹脂組成物には、上記成分（ｄ）（有機溶媒）以外にも、必要に応じて、上記成分（ａ）、（ｂ）、（ｄ）以外の重合性反応基を有する化合物、高分子樹脂、各種添加剤等を配合することができる。上記高分子樹脂、添加剤の具体例としては、上述のクラッド層用光硬化性樹脂組成物の任意成分として例示されたものと同様のものが挙げられる。  中間層用光硬化性樹脂組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。  【００５１】
次に、本発明のフィルム状光導波路のコア部分の形成に用いられる光硬化性樹脂組成物（以下、コア用光硬化性樹脂組成物ともいう。）について説明する。  コア用光硬化性樹脂組成物の好適な例としては、（イ）エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体、（ロ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、（ハ）反応性希釈モノマー、及び（ニ）光重合開始剤を含む光硬化性組成物が挙げられる。  【００５２】
［成分（イ）］  成分（
イ）は、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体である。  上記エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体としては、上述の中間層用光硬化性樹脂組成物の成分（ｅ）と同様のものが挙げられる。  【００５３】
［成分（ロ）］  （ロ）成分は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。  上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、上述のクラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分（Ａ）と同様のものが挙げられる。  コア用光硬化性樹脂組成物中、成分（ロ）の配合量は、成分（イ）１００質量部に対して、好ましくは１０〜１００質量部、より好ましくは２０〜８０質量部、特に好ましくは３５〜７０質量部である。上記配合量が１０質量部未満であると、光硬化性組成物層の硬化物（コア部分）について十分な屈曲抵抗性が得られないことがある。一方、上記配合量が１００質量部を超えると、成分（イ）との相溶性が悪くなり、コア部分の表面に膜荒れを生じたり、十分な透明性が得られないことがある。  【００５４】
［成分（ハ）］  成分（ハ）は、反応性希釈モノマーである。  上記反応性希釈モノマーとしては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分（Ｂ）と同様のものが挙げられる。  コア用光硬化性樹脂組成物中、成分（ハ）の配合量は、成分（イ）１００質量部に対して、好ましくは５〜１００質量部、より好ましくは１０〜７０質量部、特に好ましくは２０〜５０質量部である。上記配合量が５質量部未満であると、フィルム状光導波路を形成する際、目的とする導波路の形状の精度が劣ることがある。一方、上記配合量が１００質量部を超えると、成分（イ）との相溶性が悪くなり、光硬化性樹脂組成物の硬化物（コア部分）の表面に膜荒れを生じることがある。  【００５５】
［成分（ニ）］  成分（ニ）は、光重合開始剤である。  上記光重合開始剤としては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分（Ｃ）と同様のものが挙げられる。  コア用光硬化性樹脂組成物中、成分（ニ）の配合割合は、コア用光硬化性樹脂組成物の全量を１００質量％として、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．２〜５質量％である。上記配合割合が０．１質量％未満では、硬化が十分に進行せず、フィルム状光導波路の伝送特性に問題が生じることがある。一方、上記配合割合が１０質量％を超えると、光重合開始剤が長期の伝送特性に悪影響を及ぼす可能性がある。  【００５６】
［任意成分］  コア用光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて有機溶媒（成分（ホ））を含有することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与することができる。有機溶媒としては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分（Ｄ）と同様のものが挙げられる。  コア用光硬化性樹脂組成物中、成分（ホ）（有機溶媒）の配合割合は、コア用光硬化性樹脂組成物の全量を１００質量％として、好ましくは５〜８０質量％、より好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１５〜５５質量％である。上記配合割合が５質量％未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。一方、上記配合割合が８０質量％を超えると、十分な厚さを有するフィルム状光導波路等を形成することが困難なことがある。  【００５７】
また、コア用光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を含むことができる。  コア用光硬化性樹脂組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。  【００５８】
次に、図面を参照しつつ、本発明のフィルム状光導波路及びその製造方法の一例を説明する。  図１は、本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。  図４は、本発明のフィルム状光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。  【００５９】
［フィルム状光導波路の構造］  図１中、フィルム状光導波路１は、下部クラッド層１５と、下部クラッド層１５の上に形成されたコア部分２２と、下部クラッド層１５の上であってかつコア部分２２の側方に、コア部分２２と概同じ厚さを有するように形成された中間クラッド層３６と、コア部分２２及び中間クラッド層３６の上に形成された上部クラッド層３３とからなる光導波路本体と、該光導波路本体の上下面に設けられた支持フィルム２，３とを含む。  光導波路本体は、下部クラッド層１５からなる下層と、コア部分２２及び中間クラッド層３６からなる中間層と、上部クラッド層３３からなる上層の３層構造を有する。  下部クラッド層１５は、支持フィルム２の上面に積層して形成されており、この下部クラッド層１５の上面には、特定の幅を有するコア部分２２と、中間クラッド層３６とが形成されている。コア部分２２及び中間クラッド層３６の上面には、上部クラッド層３３が積層して形成されており、上部クラッド層３３の上面には、支持フィルム３が設けられている。なお、コア部分２２は、光導波路本体の外形を形成する下部クラッド層１５、中間クラッド層３６、及び上部クラッド層３３の中に埋設されている。中間クラッド層３６は、下部クラッド層１５の上面（ただし、コア部分２２が形成された領域を除く）に積層して形成されており、コア部分２２と概同じ高さを有するものである。  フィルム状光導波路における下部クラッド層１５、コア部２２、中間クラッド層３６、及び上部クラッド層３３の厚さは、特に限定されないが、例えば、下部クラッド層１５の厚さが１〜２００μｍ、コア部分２２の厚さが３〜２００μｍ、中間クラッド層の厚さが３〜２００μｍ、上部クラッド層３３の厚さが１〜２００μｍとなるように定められる。コア部の幅は、特に限定されないが、例えば、１〜２００μｍである。  下部クラッド層１５及び上部クラッド層３３は、上述のクラッド層用光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。中間クラッド層３６は、上述の中間層用光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。コア部分２２は、上述のコア用光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることが好ましい。  また、下部クラッド層１５、コア部分２２、中間クラッド層３６、及び上部クラッド層３３のうち少なくとも１つは、後述するドライフィルムを用いて形成される。すなわち、これら各部の少なくとも１つは、ドライフィルム中の未硬化の光硬化性樹脂組成物からなる層を硬化させることにより形成される。特に好ましくは、少なくとも中間クラッド層３６は、ドライフィルムを用いて形成される。  【００６０】
コア部分２２の屈折率は、下部クラッド層１５、中間クラッド層３６、及び上部クラッド層３３のいずれの屈折率よりも大きいものであることが必要である。例えば、波長４００〜１，６００ｎｍの光に対して、コア部分２２の屈折率が１．４２０〜１．６５０、下部クラッド層１５、中間クラッド層３６、及び上部クラッド層３３の屈折率が１．４００〜１．６４８であり、かつ、コア部分２２の屈折率が、３つのクラッド層１４，３３，３６のいずれの屈折率よりも少なくとも０．１％大きな値であることが好ましい。  下部クラッド層１５、中間クラッド層３６、上部クラッド層３３の各部とコア部分２２との比屈折率差Δは、１％以上であることが好適である。比屈折率差Δは、下記式で表される。    Δ＝（ｎ１−ｎ２）／ｎ１      ここで、ｎ１はコア部分２２の屈折率、ｎ２はクラッド層（下部クラッド層１５、中間クラッド層３６、上部クラッド層３３）の屈折率である。  このようにすることによって、コア部２２内に光を閉じ込めることができるために、良好な光導波路を作成することが可能となる。  【００６１】
クラッド層（下部クラッド層１５、中間クラッド層３６、及び上部クラッド層３３）は、高い透明性を有する。具体的には、クラッド層は、１０μｍの厚みを有する場合に、４０５ｎｍの波長の光に対して、８０％以上、好ましくは９０％以上の透過率を有する。  クラッド層が高い透明性を有することによって、フィルム状光導波路の下面に、面発光レーザ等の発光素子や、フォトダイオード等の受光素子を接合して、電気／光信号を変換するインターフェースを形成するときに、フィルム状光導波路を上方から透視して、発光素子や受光素子の位置と、フィルム状光導波路中のコア部分の位置とを正確に合わせることができる。  また、クラッド層が高い透明性を有することによって、光信号に使用される波長領域の光に対して高い透過率を発現することができ、発光素子からの光信号がクラッド層を通過してコア部分に到達する際の、光の損失、及び、コア部分からの光信号がクラッド層を通過して受光素子に到達する際の、光の損失を極めて小さくすることができる。  【００６２】
［ドライフィルム］  次に、本発明のフィルム状光導波路の製造に用いるドライフィルムについて説明する。  本明細書中、「ドライフィルム」は、少なくとも、未硬化の光硬化性樹脂組成物からなる層（液状ではないもの；例えば、乾燥物等）と、該光硬化性樹脂組成物からなる層を支持するためのベースフィルムとを備えたものとして定義される。すなわち、上記ドライフィルムは、未硬化の光硬化性樹脂組成物からなる層と、該層を支持するためのベースフィルムとを備えていればよく、（ｉ）ベースフィルムと、光硬化性樹脂組成物からなる層（未硬化層）との積層体であってもよいし、あるいは、（ｉｉ）ベースフィルムと、光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層（硬化物層）と、光硬化性樹脂組成物からなる層（未硬化層）との積層体であってもよい。  上記ドライフィルムの具体例を以下に示す。  上記（ｉ）のドライフィルムの例としては、（ａ）ベースフィルムと、下部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物からなる層（未硬化層）との積層体、（ｂ）ベースフィルムと、コア部用の光硬化性樹脂組成物からなる層（未硬化層）との積層体、（ｃ）ベースフィルムと、中間クラッド層用の光硬化性樹脂組成物からなる層（未硬化層）との積層体、（ｄ）ベースフィルムと、上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物からなる層（未硬化層）との積層体、が挙げられる。上記（ｉｉ）のドライフィルムの例としては、例えば、（ｅ）ベースフィルムと、下部クラッド層（下部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層）と、中間クラッド層用の光硬化性樹脂組成物からなる層（未硬化層）との積層体、（ｆ）ベースフィルムと、下部クラッド層（下部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層）と、コア部用の光硬化性樹脂組成物からなる層（未硬化層）との積層体、（ｇ）ベースフィルムと、上部クラッド層（上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層）と、中間クラッド層用の光硬化性樹脂組成物からなる層（未硬化層）との積層体、が挙げられる。また、ドライフィルムとしては、（ｈ）前記（ａ）〜（ｇ）のいずれかの積層体において、未硬化の光硬化性樹脂組成物からなる層上に、カバーフィルムを積層させてなる積層体も用いることができる。  本発明のフィルム状光導波路の製造方法においては、上述のとおり、少なくとも中間クラッド層３６が、ドライフィルムを用いて形成されることが好ましい。中間クラッド層は、上記（ｃ）の積層体を用いて形成することもできるが、好ましくは上記（ｇ）の積層体を用いて形成される。  【００６３】
［フィルム状光導波路の製造方法］  フィルム状光導波路１の製造方法は、中間クラッド層３６及び上部クラッド層３３形成用のドライフィルム３０を用意する工程と、下部クラッド層１５を形成する工程と、コア部分２２を形成する工程と、ドライフィルム３０を用いて中間クラッド層３６及び上部クラッド層３３を形成する工程と、を含む。  なお、フィルム状光導波路を構成する下部クラッド層１５、コア部分２２、中間クラッド層３６、及び上部クラッド層３３の各部を形成するための組成物は、各々、便宜上、下層用組成物、コア用組成物、中間層用組成物、及び上層用組成物と称する。  【００６４】
（１）材料の調製  下層用組成物、コア用組成物、中間層用組成物、及び上層用組成物
の各々の成分組成は、下部クラッド層１５、コア部分２２、中間クラッド層３６、及び上部クラッド層３３の各部の屈折率の関係が、フィルム状光導波路に要求される条件を満足するように定められる。具体的には、屈折率の差が適宜の大きさとなるような三種または四種の光硬化性組成物を調製し、このうち、最も高い屈折率の硬化膜を与える光硬化性組成物をコア用組成物とし、他の光硬化性組成物を下層用組成物、中間層用組成物、及び上層用組成物として用いる。なお、下層用組成物と上層用組成物は、同一の光硬化性組成物（上述のクラッド層用光硬化性樹脂組成物）であることが、経済上および製造管理上、好ましい。  【００６５】
（２）中間クラッド層及び上部クラッド層形成用のドライフィルムを用意する工程  ベースフィルム３１と、上部クラッド層３３（上層用組成物の硬化物からなる層）と、未硬化の中層用組成物からなる層３４との積層体であるドライフィルム３０を用意する工程である。  ベースフィルム３１としては、可撓性を有しており、また光硬化性樹脂組成物の硬化に用いる光に対して高い透過性を有するものが好ましい。このようなベースフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。ベースフィルムの厚さは、特に限定されないが、例えば、１０〜２００μｍである。このようなこのようなベースフィルムを用いることによって、後述する工程（５）において、ベースフィルム３１の側から光を照射して未硬化の中層用組成物からなる層３４の硬化を行うことができ、また、ベースフィルム３１を、そのまま、フィルム状光導波路の支持フィルム３とすることができる。  なお、ドライフィルム３０においては、必要に応じて、中層用組成物からなる層３４の上面にカバーフィルム３５を設けることができる。カバーフィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等が挙げられる。カバーフィルムの厚さは、特に限定されないが、例えば、５〜１００μｍである。  【００６６】
ドライフィルム３０は、例えば、以下のようにして得られる。  まず、ベースフィルム３１の上面に上層用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥またはプリベークして、上層用薄膜３２を形成する（図３中の（ａ））。次いで、この上層用薄膜３２に光を照射して硬化させ、硬化体である上部クラッド層３３を形成する（図３中の（ｂ））。次に、上部クラッド層３３の上面に、中層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークして溶剤を飛散させることにより、未硬化の中層用組成物からなる層３４を形成させる（図３中の（ｃ））。必要に応じて、未硬化の中層用組成物からなる層３４の上面にカバーフィルム３５を設けることにより、ドライフィルム３０を得る（図３中の（ｄ））。  光硬化性樹脂組成物（上層用組成物、中層用組成物）を塗布する方法としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、又はインクジェット法等が挙げられる。  【００６７】
上層用組成物を乾燥又はプリベークする際の温度は、例えば、５０〜２００℃である。  上部クラッド層を形成する際の光の照射量については、特に制限されるものでは無いが、波長２００〜４５０ｎｍ、照度１〜５００ｍＷ／ｃｍ２の光を、照射量が１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射して、露光することが好ましい。  照射する光の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線を用いることができるが、特に紫外線が好ましい。光の照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等を用いることが好ましい。なお、上部クラッド層の形成においては、上層用薄膜３２の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。  また、露光後に、上部クラッド層３３の全面が十分硬化するように、さらに加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。この加熱条件は、光硬化性樹脂組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通常、加熱温度が、３０〜３００℃、好ましくは５０〜２００℃で、加熱時間が５分間〜７２時間である。  【００６８】
中層用組成物は、有機溶剤の飛散を目的として、乾燥又はプリベークされる。この際の温度条件は、好ましくは３０〜１５０℃、より好ましくは５０〜１４０℃である。  中層用組成物からなる層３４において、乾燥後に残留する有機溶剤の量は、有機溶剤を飛散させた後の光硬化性樹脂組成物を１００質量％として、２０質量％以下であることが好ましい。  未硬化の中層用組成物からなる層３４の厚さは、通常、１〜２００μｍである。なお、未硬化の中層用組成物からなる層３４の厚さは、コア部分２２の高さに対して、１〜１．２倍であることが好ましい。未硬化の中層用組成物からなる層３４の厚さをコア部分２２の高さの１〜１．２倍とすることにより、後述する工程（５）において、ドライフィルム３０を用いて中間クラッド層３６を形成する際の作業性を向上させることができ、また、最終的に得られるフィルム状光導波路の形状精度、伝送特性等を向上させることができる。  【００６９】
（３）下部クラッド層の形成工程  支持フィルム２の上面に下部クラッド層１５を形成する工程である。  具体的には、支持フィルム２の表面に下層用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥またはプリベークして、下層用薄膜１４を形成する（図４中の（ａ））。次いで、この下層用薄膜１４に光を照射して硬化させ、硬化体である下部クラッド層１５を形成する（図４中の（ｂ））。なお、下部クラッド層１５の形成においては、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。また、露光後に、塗膜全面が十分硬化するように、さらに加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。  支持フィルム２としては、可撓性を有しており、また光硬化性樹脂組成物の硬化に用いる光に対して高い透過性を有するものが好ましい。このような支持フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。支持フィルムの厚さは、特に限定されないが、例えば、１０〜２００μｍである。  下部クラッド層の形成工程における、組成物の塗布方法、光の照射量、種類、および光（紫外線）の照射装置、プリベークやポストベークの条件等は、上述の工程（２）における上部クラッド層の形成の条件と同様である。  なお、下部クラッド層１５は、ドライフィルムを用いて形成することもできる。この場合、予め準備したドライフィルム１０（ベースフィルム１１と、未硬化の下層用組成物からなる層１３との積層体であるドライフィルム；図２の（ｂ）参照）を用い、未硬化の下層用組成物からなる層１３に光を照射して硬化させることによって、下部クラッド層１５を形成する。ベースフィルム１１は、そのままフィルム状光導波路の支持フィルム２とすることができる。  ドライフィルム１０は、例えば、ベースフィルム１１の上面に下層用組成物１２を塗布し（図２中の（ａ））、乾燥又はプリベークすることにより有機溶剤を飛散させ、未硬化の下層用組成物からなる層１３を形成することにより得られる（図２中の（ｂ））。ドライフィルム１０においては、必要に応じて、未硬化の下層用組成物からなる層１３の上面にカバーフィルムを設けることができる（図示しない。）  ベースフィルム、カバーフィルムとしては、上述の工程（２）のドライフィルム３０におけるベースフィルム、カバーフィルムと同様のものが挙げられる。下層用組成物の塗布方法、乾燥又はプリベークの条件等は、上述の工程（２）における中間層用組成物についての条件と同様である。  未硬化の下層用組成物からなる層１３は、下層用薄膜１４と同様に、必要に応じて、乾燥又はプリベーク、露光後のポストベーク等を行うことができる。  【００７０】
（４）コア部分の形成工程  下部クラッド層１５の表面に、コア部分２２を形成する工程である。  具体的には、図４中の（ｃ）に示すように、下部クラッド層１５の表面にコア用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥又はプリベークさせてコア用薄膜２１を形成する。その後、図４中の（ｄ）に示すように、コア用薄膜２１の上面に対して、所定のパターンに従って、例えば所定のラインパターンを有するフォトマスク４を介して光５の照射（露光）を行う。これにより、コア用薄膜２１のうち、光が照射された箇所のみが硬化するので、それ以外の未硬化の部分を現像処理して除去することにより、図４中の（ｅ）に示すように、下部クラッド層１５上に、パターニングされた硬化膜からなるコア部分２２が形成される。  【００７１】
本工程において、所定のパターンに従って光の照射を行う方法としては、光の透過部と非透過部とからなるフォトマスク４を用いる方法に限られず、例えば、以下に示すａ〜ｃの方法のいずれかを採用してもよい。ａ．液晶表示装置と同様の原理を利用して、所定のパターンに従って光透過領域と光不透過領域とからなるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方法。ｂ．多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光を照射する方法。ｃ．レーザ光、あるいはレンズ、ミラー等の集光性光学系により得られる収束性の光を、走査させながら感光性樹脂組成物に照射する方法。  【００７２】
本工程における現像処理の詳細は、次のとおりである。  現像処理は、所定のパターンに従ってパターン露光し、選択的に硬化させた薄膜に対して、硬化部分と未硬化部分との溶解性の差異を利用して、現像液を用いて未硬化部分のみの除去を行なうものである。つまり、パターン露光後、未硬化部分を除去し、かつ、硬化部分を残存させて、結果的にコア部分を形成させるものである。  現像液としては、現像処理に用いる通常の有機溶媒、あるいは希アルカリ水溶液を用いることができる。コア用組成物として上述のコア形成用光硬化性樹脂組成物を用いると、環境安全面に優れた希アルカリ水溶液により現像処理することが可能となる。希アルカリ水溶液を調製するためのアルカリ化合物の例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノナンなどを挙げることができる。  中でも、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、水酸化カリウム等は、好ましく用いられる。  アルカリ水溶液中のアルカリ化合物の濃度は、使用するアルカリ化合物の種類によっても異なるが、有機アルカリの場合は、好ましくは、０．０５〜１０質量％、より好ましくは０．１〜７質量％である。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）を用いる場合、該濃度は、好ましくは０．５〜２．５質量％である。  なお、このような希アルカリ水溶液に、メタノール、エタノールなどの水溶性有機溶媒や界面活性剤などを適当量添加して、現像液として使用することも好ましい。  【００７３】
また、現像時間は、通常３０〜６００秒間であり、また現像方法としては液盛り法、ディッピング法、シャワー現像法などの公知の方法を採用することができる。その後、流水洗浄を、例えば３０〜９０秒間行い、圧縮空気や圧縮窒素等で風乾させることによって表面上の水分を除去することにより、パターン状の硬化体が形成される。次いで、ホットプレートやオーブンなどの加熱装置により、例えば３０〜３００℃の温度で５〜６００分間ポストベーク処理することにより、十分に硬化したコア部２２を形成することができる。  コア部分の形成工程における組成物の塗布方法、光の照射量、種類、および光（紫外線
）の照射装置等の条件は、上述の工程（２）における上部クラッド層の形成の条件と同様である。  【００７４】
なお、コア部分２２は、ドライフィルムを用いて形成することができる。この場合、予め準備したドライフィルム（ベースフィルムと、未硬化のコア用組成物からなる層と、必要に応じてカバーフィルムとを含むドライフィルム）を用い、下部クラッド層１５の上面に、カバーフィルムを剥離したドライフィルムを、未硬化のコア用組成物からなる層が対峙するように積層する。次いで、前記コア用組成物からなる層に対して、所定のパターンに従って光の照射を行い、未硬化の部分を現像処理して除去することにより、下部クラッド層１５上に、パターニングされた硬化膜からなるコア部分２２を形成する。  ベースフィルム、カバーフィルムとしては、上述の工程（２）のドライフィルム３０におけるベースフィルム、カバーフィルムと同様のものが挙げられる。  未硬化のコア用組成物からなる層は、コア用薄膜２１と同様に、必要に応じて、乾燥又はプリベーク、露光後のポストベーク等を行うことができる。  【００７５】
（５）中間クラッド層及び上部クラッド層の形成工程  上述の工程（２）で用意したドライフィルム３０（ベースフィルム３１と、上部クラッド層３３と、未硬化の中間層用組成物からなる層３４との積層体）を用いて、中間クラッド層３６及び上部クラッド層３３を形成する工程である。  具体的には、下部クラッド層１５及びコア部分２２の上面に、ドライフィルム３０を、未硬化の中間層用組成物からなる層３４が対峙するように積層し（図４中の（ｆ））、コア部分２２と上部クラッド層３３とが接触するように貼りあわせる（図４中の（ｇ））。次いで、中間層用組成物からなる層３４に光を照射することにより硬化させて中間クラッド層３６とし（図４中の（ｈ））、フィルム状光導波路１を得る。  ドライフィルム３０がカバーフィルム３５を有する場合には、カバーフィルム３５を剥離してから、下部クラッド層１５及びコア部分２２の上面に、ドライフィルム３０を積層する。また、ベースフィルム３１は、そのまま剥離せずに、フィルム状光導波路１の支持フィルム３とすることができる。  【００７６】
ドライフィルム３０を、下部クラッド層１５及びコア部分２２の上面に積層、貼合をする際、未硬化の中間層用組成物からなる層３４は、下部クラッド層１５上からはみ出る可能性があるが、このはみ出た部分は除去する。  中間クラッド層３６の形成における、光の照射量、種類、および光（紫外線）の照射装置、プリベークやポストベークの条件等は、上述の工程（２）における上部クラッド層の形成の条件と同様である。  上述のようにしてドライフィルム３０を積層、貼合することにより、未硬化の中間層用組成物からなる層３４は、硬化体であるコア部分２２をスペーサーとして、下部クラッド層１５及び上部クラッド層３３の間に挟まれることとなる。この状態で中間層用組成物からなる層３４を光照射して硬化させることにより、均一な厚みを有する中間クラッド層３６を形成することができる。これにより、コア部分２２の周囲のクラッド層（下部クラッド層１５、中間クラッド層３６、上部クラッド層３３）の厚みを均一にすることができるため、コア部２２を伝播する光の光学特性を良化することが可能となる。  なお、フィルム状光導波路は、支持フィルム２，３を剥離して用いることもできる。
【実施例】
【００７７】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。［１．光硬化性樹脂組成物の各成分の用意］  ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、反応性希釈モノマー、光重合開始剤、有機溶媒、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体、他の添加材として、以下の材料を用意した。［ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー；クラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分（Ａ）、中間層用光硬化性樹脂組成物の成分（ａ）、コア用光硬化性樹脂組成物の成分（ロ）］  攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート１６．６質量部、数平均分子量が２，０００のポリプロピレングリコール７４．７質量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０１質量部を仕込み、５〜１０℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．０５質量部を加え、温度が３０℃以下に保たれるように調整しながら２時間撹拌した後、５０℃まで昇温しさらに２時間撹拌した。続いて、２−ヒドロキシエチルアクリレート８．７質量部（以上の合計量１００質量部）を滴下し、滴下終了後、５０℃で１時間反応させ、さらに６５℃まで昇温し２時間反応させた。残留イソシアネートが０．１質量％以下になった時を反応終了とし、Ａ−１を得た。  同様の方法にてＡ−２〜Ａ−９を得た。  Ａ−１〜Ａ−９の製造に用いた原料名及び配合量を、表１に示す。  【００７８】
【表１】
2009069548.tif 000007
【００７９】
［反応性希釈モノマー；クラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分（Ｂ）、中間層用光硬化性樹脂組成物の成分（ｂ）、コア用光硬化性樹脂組成物の成分（ハ）］（１）Ｎ−ビニル−２−ピロリドン；ＩＳＰ社製、Ｖ−ＰＹＲＯＬ（２）Ｎ−ビニルカプロラクタム；ＩＳＰ社製、Ｖ−ＣＡＰ（３）イソボルニルアクリレート；大阪有機化学工業社製、ＩＢＸＡ（４）ビスフェノールＡ  ＥＯ付加物ジアクリレート；大阪有機化学工業社製、ビスコート７００（５）２，２−ビス‐４（２‐ヒドロキシ‐３‐アクリロキシプロピルフェニル）プロパン；昭和高分子社製、ＶＲ−７７（６）１，９−ノナンジオールジアクリレート；大阪有機化学工業社製、ビスコート２６０（７）９，９−ビス［４−（２−アクリロキシエトキシ）フェニル］フルオレン；新中村化学工業社製、ＮＫエステル  Ａ−ＢＰＥＦ（８）１，６−ヘキサンジオールジアクリレート；共栄社化学社製、ライトアクリレート１，６−ＨＸ−Ａ（９）ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート；大阪有機化学工業社製、ビスコート３６０（１０）トリス（アクリロキシ）イソシアヌレート；東亞合成社製、アロニックスＭ−３１５（１１）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート；日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ［重合開始剤；クラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分（Ｃ）、中間層用光硬化性樹脂組成物の成分（ｃ）、コア用光硬化性樹脂組成物の成分（ニ）］（１）Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製（２）Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製［有機溶媒；クラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分（Ｄ）、中間層用光硬化性樹脂組成物の成分（ｄ）、コア用光硬化性樹脂組成物の成分（ホ）］（１）メトキシプロピルアセテート  【００８０】
［エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体；クラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分（Ｅ）、中間層用光硬化性樹脂組成物の成分（ｅ）、コア用光硬化性樹脂組成物の成分（イ）］調製例１  ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１．５ｇ、有機溶剤としてメチルイソブチルケトン９０ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇ、ジシクロペンタニルアクリレート２５ｇ、メチルメタクリレート４０ｇ、及びｎ−ブチルアクリレート１５ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．１２ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０５ｇを仕込み、攪拌しながら２−メタクリロキシエチルイソシアネート２３．７ｇを温度が６０℃以下に保たれるように滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共重合体Ｅ−１を得た。  【００８１】
調製例２  ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル３ｇ、有機溶剤としてメチルイソブチルケトン１００ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇ、メタクリル酸１０ｇ、ジシクロペンタニルアクリレート１０ｇ、スチレン２５ｇ、及びｎ−ブチルアクリレート３５ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．１３ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０５ｇを仕込み、攪拌しながら２−メタクリロキシエチルイソシアネート２３．７ｇを温度が６０℃以下に保たれるように滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共重合体Ｅ−２を得た。  【００８２】
調製例３  ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル３ｇ、有機溶剤としてメチルイソブチルケトン１００ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇ、メタクリル酸１０ｇ、スチレン２０ｇ、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノキシエチルアクリレート４０ｇ、及びｎ−ブチルアクリレート１０ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．１３ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０５ｇを仕込み、攪拌しながら２−メタクリロキシエチルイソシアネート２３．７ｇを温度が６０℃以下に保たれるように滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共重合体Ｅ−３を得た。  共重合体Ｅ−１〜Ｅ−３の製造に用いた前記の原料名及び配合量を、表２に示す。  【００８３】
【表２】
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【００８４】
表３に示す配合割合で、上述の成分を均一に混合して、下部クラッド層、上部クラッド層、中間クラッド層用の光硬化性樹脂組成物Ｊ−１〜Ｊ−１３、コア用の光硬化性樹脂組成物Ｋ−１〜Ｋ−２を得た。  【００８５】
【表３】
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【００８６】
［２．フィルム状光導波路の形成］［実施例１］（１）中間クラッド層及び上部クラッド層形成用のドライフィルムの用意  まず、光硬化性樹脂組成物Ｊ−１をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のベースフィルムの上面に、スピンコータで塗布し、光硬化性樹脂組成物Ｊ−１からなる塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１００秒間照射して、光硬化させ、厚さ１０μｍの上部クラッド層を形成した。続いて、上部クラッド層の上面に、光硬化性樹脂組成物Ｊ−１１をスピンコータで塗布した後、ホットプレートを用いて１００℃、１０分間の条件でプリベークして未硬化の光硬化性樹脂組成物Ｊ−１１からなる層を形成することにより、ベースフィルムと、上部クラッド層（光硬化性樹脂組成物Ｊ−１の硬化物）と、未硬化の光硬化性樹脂組成物Ｊ−１１からなる層とが積層してなるドライフィルムを得た。（２）下部クラッド層の形成  まず、光硬化性樹脂組成物Ｊ−１を、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製の支持フィルム（厚さ１００μｍ）の上面にスピンコータで塗布し、光硬化性樹脂組成物Ｊ−１からなる塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を１００秒間照射して、光硬化させ、厚さ１０μｍの下部クラッド層を形成した。（３）コア部分の形成  次に、コア用の光硬化性樹脂組成物Ｋ−２を、下部クラッド層上にスピンコータで塗布し、１００℃、１０分間の条件でプリベークして、塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、幅５０μｍのライン状パターンを有するフォトマスクを介して、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を７５秒間照射して、光硬化させた。そして、硬化させた塗膜を有する基板をアセトンからなる現像液中に浸漬して、塗膜の未露光部を溶解させた。その後、１５０℃、１時間の条件で、ポストベークをすることにより、幅５０μｍのライン状パターンを有するコア部分（厚さ５０μｍ）を形成した。（４）中間クラッド層及び上部クラッド層の形成  続いて、下部クラッド層及びコア部分の上面に、上記ドライフィルムを、未硬化の光硬化性樹脂組成物Ｊ−１１からなる層が対峙するよう積層し、コア部分とドライフィルム中の上部クラッド層とが接触するよう貼り合せた。その後、未硬化の光硬化性樹脂組成物Ｊ−１１からなる層に対し、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を１００秒間照射して硬化させ、厚さ５０μｍの中間クラッド層を形成し、支持フィルム、下部クラッド層、コア部分、中間クラッド層、上部クラッド層、及び支持フィルムからなる積層体を得た。（５）基板の剥離  上記（１）〜（４）の工程で形成した硬化物を、支持フィルムから剥離し、下部クラッド層、コア部、及び中間クラッド、上部クラッド層をこの順に積層してなるフィルム状光導波路を得た。  【００８７】
［実施例２〜８、比較例１〜４］  クラッド層（下部クラッド層、上部クラッド層、中間クラッド層）を形成するための光硬化性樹脂組成物、及び、コア部分を形成するための光硬化性樹脂組成物を表４のように変えたこと以外は、実施例１と同様にしてフィルム状光導波路を形成した。  【００８８】
［フィルム状光導波路の評価］  フィルム状光導波路（実施例１〜８、比較例１〜４）を次のようにして評価した。［１．屈曲耐久性］  作製したフィルム状光導波路（幅５ｍｍ、長さ１０ｃｍ、厚み７０μｍ）に対して、温度２３℃、湿度５０％の環境下で屈曲試験を行った。試験条件は、温度２３℃、湿度５０％の環境下で屈曲試験を行った。試験条件は、屈曲角度±１３５°、屈曲速度１００回／分、荷重１００ｇで、屈曲半径を１ｍｍとした。なお、屈曲回数は、はじめの０度の位置（フィルム状光導波路が水平の状態）から、＋１３５度の位置へ屈曲し、さらに再度０度の位置を経由して−１３５度の位置へ屈曲した後、０度の位置へ戻ってくる動作を１回とする。フィルム状光導波路に破断が生じるまでの回数を測定し、屈曲回数が１０万回を超えても破断やクラックが発生しない場合を「○」、屈曲回数が１０万回以内で破断やクラックが発生する場合を「×」とした。［２．導波路損失］  作製したフィルム状光導波路について、波長８５０ｎｍの光を一端から入射させた。そして、他端から出射する光量を測定することにより、単位長さ当たりの導波路損失をカットバック法により求めた。導波路損失が０．５ｄＢ／ｃｍ以下の場合を「○」とし、０．５ｄＢ／ｃｍを超える場合を「×」とした。以上の結果を表４に示す。  【００８９】
【表４】
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【００９０】
表４から、本発明のフィルム状光導波路（実施例１〜８）は、屈曲耐久性に優れることがわかる。一方、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含まない光硬化性樹脂組成物を下部クラッド層、上部クラッド層、及び中間クラッド層の材料として用いた比較例１では、屈曲耐久性が劣ることがわかる。また、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと反応性希釈モノマーのいずれか１つまたは両方の配合量が本発明の範囲外である光硬化性樹脂組成物を下部クラッド層、上部クラッド層、及び中間クラッド層の材料として用いた比較例２〜４では、屈曲耐久性が劣ることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。
【図２】下部クラッド層形成用のドライフィルムの製造方法の一例を示すフロー図である。
【図３】中間クラッド層及び上部クラッド層形成用のドライフィルムの製造方法の一例を示すフロー図である。
【図４】本発明のフィルム状光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。
【符号の説明】
【００９２】
１    フィルム状光導波路  ２    支持フィルム  ３    支持フィルム  ４    フォトマスク  ５    光  １０    下部クラッド層形成用のドライフィルム  １１    ベースフィルム  １２    下層用組成物  １３    未硬化の下層用組成物からなる層  １４    下層用薄膜  １５    下部クラッド層  ２１    コア用薄膜  ２２    コア部分  ３０    中間クラッド層及び上部クラッド層形成用のドライフィルム  ３１    ベースフィルム  ３２    上層用薄膜  ３３    上部クラッド層  ３４    未硬化の中間層用組成物からなる層  ３５    カバーフィルム  ３６    中間クラッド層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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