(57)【要約】  明室コントラストを向上させることができるＰＤＰを提供する。  本発明のＰＤＰは、前面側基板構体と背面側基板構体の間に放電空間が形成され、前記前面側基板構体に画面の行を画定する複数の表示電極を有し、前記背面側基板構体に放電空間を列方向に仕切る複数の隔壁と前記隔壁間に形成される溝の側面及び底面に塗布された蛍光体層とを備えたプラズマディスプレイパネルであって、前記行を画定する表示電極は、行方向に画面の全長にわたって延びる帯状の基部と、前記基部から隣接する他の表示電極に向かって張り出した複数の突出部とからなり、前記突出部の幅は、前記蛍光体層の底部での幅と同じか又はこれよりも狭く、前記突出部は、可視光透過率が０％以上８０％以下であることを特徴とする。
2009044445.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面側基板構体と背面側基板構体の間に放電空間が形成され、前記前面側基板構体に画面の行を画定する複数の表示電極を有し、前記背面側基板構体に放電空間を列方向に仕切る複数の隔壁と前記隔壁間に形成される溝の側面及び底面に塗布された蛍光体層とを備えたプラズマディスプレイパネルであって、
前記行を画定する表示電極は、行方向に画面の全長にわたって延びる帯状の基部と、前記基部から隣接する他の表示電極に向かって張り出した複数の突出部とからなり、
前記突出部の幅は、前記蛍光体層の底部での幅と同じか又はこれよりも狭く、
前記突出部は、可視光透過率が０％以上８０％以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記表示電極は、前記突出部を構成する可視光透過率が１０％以上８０％以下である透光性電極と、前記基部を構成する金属電極とを有してなる請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記透光性電極は、パターニングされた透明導電材料層を還元処理することによって形成される請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記透光性電極は、不純物が含有された透明導電材料からなり、前記不純物は、前記透光性電極の可視光透過率が１０％以上８０％以下となるように含有される請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記透光性電極は、透明導電材料層と、前記透明導電材料層に積層された金属層とを備え、前記金属層は、前記透光性電極の可視光透過率が１０％以上８０％以下となる厚さで形成されている請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記前面側基板構体は、前面側に可視光透過率が３０〜７０％の光学フィルタをさらに備える請求項１〜５の何れか１つに記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示デバイス等に用いるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、一般に商品化されているＡＣ駆動方式のＰＤＰは面放電型である。面放電型ＰＤＰでは、背面基板に形成された蛍光体が発光し、前面基板上に配置された光学フィルタを通して表示している。光学フィルタは反射光を弱める目的として備えているが、蛍光体の発光も同時に弱めてしまう。【０００３】
ところで、特許文献１には、前面基板又はフィルタの少なくとも一部を着色させ、前面基板上の電極を覆う誘電体層の変色により現れる色と減算混合させて黒色とすることで、外光反射光を低減させ、明室コントラストを向上させるＰＤＰが開示されている。
【特許文献１】特開２００６−３３９１４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１の方法を実施するには、特殊な基板や複雑な製造工程が必要とされる。従って、簡易な方法でＰＤＰの明室コントラストを向上させることができる技術が望まれている。【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、明室コントラストを向上させることができるＰＤＰを提供するものである。
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
【０００６】
本発明のＰＤＰは、前面側基板構体と背面側基板構体の間に放電空間が形成され、前記前面側基板構体に画面の行を画定する複数の表示電極を有し、前記背面側基板構体に放電空間を列方向に仕切る複数の隔壁と前記隔壁間に形成される溝の側面及び底面に塗布された蛍光体層とを備えたプラズマディスプレイパネルであって、前記行を画定する表示電極は、行方向に画面の全長にわたって延びる帯状の基部と、前記基部から隣接する他の表示電極に向かって張り出した複数の突出部とからなり、前記突出部の幅は、前記蛍光体層の底部での幅と同じか又はこれよりも狭く、前記突出部は、可視光透過率が０％以上８０％以下であることを特徴とする。
【０００７】
本発明者らは、鋭意研究を行った結果、表示電極の突出部の幅を蛍光体層の底部での幅と同じか又はこれよりも狭く且つ突出部の可視光透過率を０％以上８０％以下にすることによって明室コントラストを向上させることができることを見出し、本発明の完成に到った。その作用は、以下のように説明される。
【０００８】
放電セルの行方向（横方向）の発光プロファイルでは、発光強度は、列方向の隔壁近傍で強く、放電セルの中央部で弱い。ＰＤＰの反射の主なものは、蛍光体層の外光反射光である。外光反射光は、外部から入射した光が放電セル内で乱反射した後、表示面側に出るため、外光反射光のプロファイルでは、反射光強度は、放電セル内でほぼ均一である。そこで、表示電極の突出部の幅を、放電セルの底部での幅と同じか又はこれよりも狭くし、前記突出部の可視光透過率を従来よりも低い値、具体的には０％以上８０％以下にすることによって、外光反射光強度を発光強度よりも大きく低下させることができ、従って、明室コントラストを向上させることができる。また、前面基板の前面側に配置される光学フィルタの可視光透過率を上げることにより、外光反射光の強度を従来と同じ程度にしつつ発光強度を高めることができる。
また、本発明によれば、特許文献１に記載されている方法に比べて簡易に明室コントラストを向上させることができる。
【０００９】
以下、本発明の種々の実施形態を例示する。
前記表示電極は、前記突出部を構成する可視光透過率が１０％以上８０％以下である透光性電極と、前記基部を構成する金属電極とを有してなってもよい。
前記透光性電極は、パターニングされた透明導電材料層を還元処理することによって形成されてもよい。
前記透光性電極は、不純物が含有された透明導電材料からなり、前記不純物は、前記透光性電極の可視光透過率が１０％以上８０％以下となるように含有されてもよい。
前記透光性電極は、透明導電材料層と、前記透明導電材料層に積層された金属層とを備え、前記金属層は、前記透光性電極の可視光透過率が１０％以上８０％以下となる厚さで形成されていてもよい。
前記前面側基板構体は、前面側に可視光透過率が３０〜７０％の光学フィルタをさらに備えてもよい。
ここで例示した種々の実施形態は、互いに組み合わせることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態のＰＤＰの構造を示す斜視図である。
【図２】図２（ａ）は、本発明の一実施形態のＰＤＰの構造を示す平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）中のＩ−Ｉ断面図である。
【図３】本発明での、「蛍光体層の底部での幅」を説明するための、図２（ｂ）に対応した断面図である。
【図４】図４（ａ）は、本発明の別の実施形態のＰＤＰの構造を示す平面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）中のＩ−Ｉ断面図である。
【図５】図５（ａ）は、本発明の別の実施形態のＰＤＰの構造を示す平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）中のＩ−Ｉ断面図である。
【図６】図６（ａ）は、本発明の別の実施形態のＰＤＰの構造を示す平面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）中のＩ−Ｉ断面図である。
【図７】図７（ａ），（ｂ）は、本発明により明室コントラストが向上する作用を説明するための図であり、図７（ａ）は、図２（ｂ）に対応した断面図であり、図７（ｂ）は、放電セルの発光強度プロファイルである。
【図８】従来の発光強度プロファイル及び、本発明を適用することによって得られると想定される発光強度プロファイルである。
【図９】プラズマディスプレイ装置の一例の全体構成を概略的に示すブロック図である
【図１０】プラズマディスプレイ装置における階調駆動シーケンスの一例を示す図である
【図１１】プラズマディスプレイ装置における駆動波形の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００１１】
１：光学フィルタ  ２：前面基板  ３：透光性電極  ３ａ：透光性電極の基部  ３ｂ：透光性電極の突出部  ４：前面側基板構体の誘電体層  ５：保護層  ６：隔壁  ７：蛍光体  ７Ｒ：蛍光体Ｒ  ７Ｇ：蛍光体Ｇ  ７Ｂ：蛍光体Ｂ  ８：背面側基板構体の誘電体層  ９：アドレス電極  １０：背面基板  １１：金属電極  １１ａ：金属電極の基部  １１ｂ：金属電極の突出部  １２：表示電極  ５１：前面側基板構体  ５３：背面側基板構体
１３：アドレス駆動回路  １４：スキャンドライバ  １５：Ｙ駆動回路  １６：Ｘ駆動回路  １７：制御回路：  １８：１フィールド  １９：サブフィールド  ２０：リセット期間  ２１：アドレス期間  ２２：維持放電期間  ２３：Ｘ電圧  ２４：Ｘ補償電圧  ２５：Ｘ電圧  ２６：第１のサステインパルス  ２７：繰り返しサステインパルス  ２８：繰り返しサステインパルス  ２９：繰り返しサステインパルス  ３０：Ｙ書き込み鈍波  ３１：Ｙ補償鈍波  ３２：走査パルス  ３３：第１のサステインパルス  ３４：繰り返しサステインパルス  ３５：繰り返しサステインパルス  ３６：繰り返しサステインパルス  ３７：走査パルス  ３８：Ｙ書き込み鈍波  ３９：Ｙ補償鈍波  ４０：サステインパルス  ４１：第１のサステインパルス  ４２：繰り返しサステインパルス  ４３：繰り返しサステインパルス  ４４：放電回数の合わせパルス  ４５：アドレスパルス  ４６：アドレスパルス
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。図面や以下の記述中で示す内容は、例示であって、本発明の範囲は、図面や以下の記述中で示すものに限定されない。以下の実施形態では、カラー表示用のＡＣ駆動型の３電極面放電型ＰＤＰを例にとって説明を進める。【００１３】
１．ＰＤＰ
図１及び図２（ａ）、（ｂ）を用いて本発明の一実施形態のＰＤＰについて説明する。図１は、本実施形態のＰＤＰの構造を示す斜視図である。図２（ａ）は、本実施形態のＰＤＰの構造を示す平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）中のＩ−Ｉ断面図である。図２（ａ）では、図示の便宜上、一部の構成を省略している。【００１４】
本実施形態のＰＤＰは、放電ガスを封入して形成された放電空間を介して対向する前面側基板構体５１と背面側基板構体５３を備える。【００１５】
前記前面側基板構体５１は、前面基板２上に画面の行を画定する複数の表示電極（維持電極とも呼ばれる。）１２Ｘ、１２Ｙと、表示電極１２Ｘ、１２Ｙを覆う誘電体層４と、誘電体層４上に形成された保護層５とを備える。また、前面側基板構体５１は、前面基板２の前面側に光学フィルタ１を備える。【００１６】
背面側基板構体５３は、背面基板１０上に前記表示電極と交差する方向で配置された複数のアドレス電極（データ電極とも呼ばれる。）９と、アドレス電極９を覆う誘電体層８と、誘電体層８上でアドレス電極９の両側に配置された隔壁６と、隔壁６の側面及び誘電体層８上に形成された蛍光体層７を備える。【００１７】
表示電極１２Ｘ、１２Ｙは、行方向に画面の全長にわたって延びる帯状の基部と、前記基部から隣接する他の表示電極に向かって張り出した複数の突出部とを備える。表示電極の突出部は、アドレス電極との間で画面の列を画定するものであり、単位セルの発光部を形成する。この突出部の幅は、蛍光体層７の底部での幅と同じか又はこれよりも狭い。また、表示電極の突出部は、可視光透過率が０％以上８０％以下に設定されている。
以下、各構成要素について詳細に説明する。【００１８】
１−１．前面基板、表示電極、誘電体層、保護膜、光学フィルタ（前面側基板構体）
前面基板２の種類は、特に限定されず、前面基板２は、例えば、ガラス基板等の透明基板からなる。【００１９】
前面基板２の内側面には、水平方向に延びる複数の表示電極１２Ｘと表示電極１２Ｙとが平行に配置されている。隣接する表示電極１２Ｘと表示電極１２Ｙとの間がすべて表示ライン（画面の行）になる。なお、このＰＤＰは、表示電極１２Ｘと表示電極１２Ｙとが等間隔に配置され、隣接する表示電極１２Ｘと表示電極１２Ｙとの間がすべて表示ラインになる、いわゆるＡＬＩＳ構造のＰＤＰであるが、対になる表示電極１２Ｘと表示電極１２Ｙとが放電の発生しない間隔（非放電ギャップ）を隔てて配置された構造のＰＤＰであっても、本発明を適用することができる。表示電極１２Ｘ，１２Ｙの詳細は、後述する。【００２０】
表示電極１２Ｘ，１２Ｙの上には、表示電極１２Ｘ，１２Ｙを覆うように誘電体層４が形成されている。誘電体層４は、低融点ガラス粉末を主成分とするフリットペーストを、前面ガラス基板２上にスクリーン印刷法で塗布し、焼成することにより形成している。また、シート状の誘電体層を貼り付けて焼成する方法もある。さらに誘電体層４は、プラズマＣＶＤ法でＳｉＯ2膜を成膜することにより形成してもよい。【００２１】
誘電体層４の上には、表示の際の放電により生じるイオンの衝突による衝撃から誘電体層４を保護するための保護膜５が形成されている。この保護膜５はイオンが衝突した際の電子放出係数の高い材料で形成されており、主にＭｇＯが使用されている。保護膜５は、電子ビーム蒸着法やスパッタ法のような、当前記分野で公知の薄膜形成プロセスによって形成することができる。【００２２】
前面基板２の前面側に可視光透過率が３０〜７０％の光学フィルタ１が配置されている。放電空間で発生した光は、光学フィルタ１を一度通過して観測されるのに対し、外光が蛍光体層７で反射した反射光は、光学フィルタ１を二度通過した後に観測される。従って、光学フィルタ１を設置すると、発光強度よりも反射光強度が大きく減衰し、明室コントラストが向上する。光学フィルタは前面基板２に貼り付けてもよく、別の基板に貼って前面基板２の前面側に配置してもよい。光学フィルタ１の可視光透過率は、具体的には、例えば、３０，３１，３２，３３，３４，３５，３６，３７，３８，３９，４０，４１，４２，４３，４４，４５，４６，４７，４８，４９，５０，５１，５２，５３，５４，５５，５６，５７，５８，５９，６０，６１，６２，６３，６４，６５，６６，６７，６８，６９，又は７０％である。光学フィルタ１の可視光透過率は、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。なお、本発明において、「可視光透過率」は、５００〜６００ｎｍの光の透過率の平均値を意味する。【００２３】
１−２．背面基板、アドレス電極、誘電体層、隔壁、蛍光体層（背面側基板構体）
背面基板１０の種類は、特に限定されず、背面基板１０は、例えば、ガラス基板等の透明基板からなる。【００２４】
背面基板１０の内側面には、平面的に見て表示電極１２Ｘ、１２Ｙと交差する方向に複数のアドレス電極９が形成され、そのアドレス電極９を覆って誘電体層８が形成されている。アドレス電極９は、表示電極１２Ｙの突出部との間で発光セルを選択するためのアドレス放電を発生させるものであり、例えばＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層構造で形成されている。【００２５】
アドレス電極９は、この他に、例えばＡｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒなどで形成することもできる。アドレス電極９は、Ａｇ、Ａｕについてはスクリーン印刷のような厚膜形成技術を用い、その他の金属については蒸着法やスパッタ法などの薄膜形成技術とエッチング技術を用いることにより、所定の本数、厚さ、幅および間隔で形成することができる。【００２６】
背面側基板構体５３の誘電体層８は、前面側基板構体５１の誘電体層４と同じ材料、同じ方法を用いて形成することができる。【００２７】
隣接する２つのアドレス電極９間の誘電体層８の上には、放電空間を画面の列ごとに仕切る複数の隔壁６が形成されている。本実施形態の隔壁６の形状はストライプ状である。隔壁６の形状は、ミアンダ形やセル毎に放電空間を仕切る格子形又は梯子形であってもよい。【００２８】
隔壁６は、サンドブラスト法、フォトエッチング法などにより形成することができる。例えば、サンドブラスト法では、低融点ガラスフリット、バインダー樹脂、溶媒などからなるフリットペーストを誘電体層８上に塗布して乾燥させた後、そのフリットペースト層上に隔壁パターンの開口を有する切削マスクを設けた状態で切削粒子を吹き付けて、マスクの開口部に露出したフリットペースト層を切削し、さらに焼成することにより形成する。また、フォトエッチング法では、切削粒子で切削することに代えて、バインダー樹脂に感光性の樹脂を使用し、マスクを用いた露光および現像の後、焼成することにより形成する。【００２９】
隣接する隔壁６の間に形成された溝の側面および底面には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体層７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが形成されている。蛍光体層７Ｒ、７Ｇ、７Ｂは、蛍光体粉末とバインダー樹脂と溶媒とを含む蛍光体ペーストを隔壁間の溝内にスクリーン印刷またはディスペンサを用いた方法などで塗布し、これを各色ごとに繰り返した後、焼成することにより形成している。【００３０】
蛍光体層７Ｒ、７Ｇ、７Ｂは、蛍光体粉末と感光性材料とバインダー樹脂とを含むシート状の蛍光体層材料（いわゆるグリーンシート）を使用し、フォトリソグラフィー技術で形成することもできる。この場合、所定の色のシートを基板上の表示領域全面に貼り付けて、露光、現像を行い、これを各色ごとに繰り返すことで、対応する隔壁６間の溝内に各色の蛍光体層７を形成することができる。【００３１】
蛍光体層７の底部での幅は、図２（ｂ）ではｄ2で示している。本発明において、蛍光体層７の底部での幅ｄ2は、図３の点Ｄ１とＤ２の間の距離を意味する。点Ｄ１とＤ２は、以下の方法で求めることができる。まず、図３の断面図において、隔壁６の頂部の端に対応する点Ａ１，Ａ２と、隔壁６の高さ方向の中央での蛍光体層７の表面に対応する点Ｂ１，Ｂ２を通る直線Ｖ１，Ｖ２を引く。次に、隣接する隔壁６の中央での蛍光体層７の表面に対応する点Ｃを通り且つ裏面基板１０表面に平行な直線Ｗを引く。直線Ｖ１，Ｖ２と直線Ｗの交点が点Ｄ１，Ｄ２である。【００３２】
以上に述べてきた前面側基板構体５１と背面側基板構体５３とを、表示電極１２Ｘ、１２Ｙとアドレス電極９とが交差するように対向配置し、周囲を封止した後、隔壁６で囲まれた放電空間にＮｅを主成分としＸｅを含む放電ガスを充填することによりＰＤＰが完成する。このＰＤＰでは、表示電極１２Ｘ、１２Ｙとアドレス電極９との交差部の放電空間が、表示の最小単位である１つの放電セル（単位発光領域）となる。１画素はＲ、Ｇ、Ｂの３つのセルで構成される。【００３３】
２．表示電極の詳細
次に、表示電極１２Ｘ、１２Ｙについて詳細に説明する。
各表示電極１２Ｘ，１２Ｙは、透光性電極３と、金属電極１１とを備える。透光性電極３は、画面の行方向に延びる帯状の基部３ａと、基部３ａから隣接する他の表示電極に向かって張り出した突出部３ｂとが一体化されたパターンで形成されている。基部３ａは、帯状の金属電極１１と重なっており、金属電極１１に電気的に接続されている。隣接する２つの透光性電極３のそれぞれの基部３ａから張り出した突出部３ｂが対向する部位で放電が起こり、対向する２つの突出部３ｂの間が放電ギャップとなる。
上記構成の場合、透光性電極３の基部３ａと金属電極１１とが「表示電極の基部」に相当し、透光性電極３の突出部３ｂが「表示電極の突出部」に相当する。本発明において「表示電極の突出部の幅」とは、突出部の最も幅広の部分での幅を意味する。表示電極の突出部の幅は、図２（ｂ）等において、ｄ1で示している。図２（ａ）のような構成では、突出部３ｂの幅が「表示電極の突出部の幅」となる。【００３４】
図２（ａ）では、突出部３ｂは、短冊状であるが、突出部３ｂの形状は、図４（ａ）に示すようにＴ字状であってもよく、その他の形状であってもよい。従って、図４（ａ）のような構成では、突出部３ｂの先端部分での幅が、「表示電極の突出部の幅」となる。
また、図５（ａ）に示すように、透光性電極３の基部３ａを省略し、個別の突出部３ｂを帯状の金属電極１１に直接接続させてもよい。このような構成の場合、金属電極１１が「表示電極の基部」に相当し、透光性電極３の突出部３ｂが「表示電極の突出部」に相当する。
また、図６（ａ），（ｂ）に示すように、透光性電極３を省略し、金属電極１１のみで帯状の基部１１ａと、基部１１ａから貼り出した複数の突出部１１ｂとを構成してもよい。このような構成の場合、金属電極１１の基部１１ａが「表示電極の基部」に相当し、金属電極１１の突出部１１ｂが「表示電極の突出部」に相当する。
図５（ａ），図６（ａ）の場合において、突出部３ｂ，１１ｂをＴ字状又はその他の形状にしてもよい。また、図２（ａ），図４（ａ）及び図５（ａ）では、金属電極１１は、ストレート状であるが、金属電極１１の構成は、特に限定されず、例えば、基部１１ａと、基部１１ａから延びる突出部１１ｂとで構成してもよい。突出部１１ｂは、短冊状、Ｔ字状又はその他の形状であってもよい。【００３５】
このように、表示電極１２Ｘ，１２Ｙの構成は、様々であるが、以下の説明は、表示電極１２Ｘ，１２Ｙの構成が上記の何れの場合にも基本的に当てはまる。【００３６】
表示電極の突出部の幅ｄ1は、蛍光体層７の底部での幅ｄ2と同じか又はこれよりも狭い。表示電極の突出部の幅ｄ1と蛍光体層７の底部での幅ｄ2の比ｄ1／ｄ2は、０．１〜１が好ましく、０．５〜１がさらに好ましい。比ｄ1／ｄ2は、具体的には、０．１，０．２，０．３，０．４，０．５，０．６，０．７，０．８，０．９又は１である。この比ｄ1／ｄ2は、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。
また、表示電極の突出部は、可視光透過率が０％以上８０％以下である。表示電極の突出部の可視光透過率は、具体的には、例えば、０，１，５，１０，２０，３０，４０，５０，６０，７０又は８０％である。表示電極の突出部の可視光透過率は、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。【００３７】
次に、金属電極１１と透光性電極３の形成方法について説明する。
金属電極１１は、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒおよびそれらの積層体（例えばＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒの積層構造）などからなる。金属電極１１は、Ａｇ、Ａｕについてはスクリーン印刷のような厚膜形成技術を用い、その他の金属については蒸着法やスパッタ法などの薄膜形成技術とエッチング技術とを用いることにより、所定の本数、厚さ、幅および間隔で形成することができる。【００３８】
可視光透過率が１０％以上８０％以下である透光性電極３は、一例では、ＩＴＯ、ＳｎＯ2などの透明導電材料からなる透明導電材料層を前面基板２上に形成した後、この透明導電材料層を還元処理することによって形成することができる。透光性電極３は、蒸着法やスパッタ法などの薄膜形成技術とエッチング技術とを用いることにより、所定の本数、厚さ、幅および間隔で形成することができる。ＩＴＯなどの透明導電材料は、酸素欠損が起これば可視光透過率が低下することが分かっている。従って、還元雰囲気下（例えば、水素雰囲気下）で加熱するか、又は液体還元剤（例えば、過酸化水素）に透明導電材料層をさらすことにより、透明導電材料層表面に酸素欠損が起こり、可視光透過率が１０％以上８０％以下である透光性電極３が得られる。透光性電極３の可視光透過率は、具体的には、１０，１５，２０，２５，３０，３５，４０，４５，５０，５５，６０，６５，７０，７５又は８０％である。透光性電極３の可視光透過率は、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。透明導電材料層の可視光透過率は、８０％より大きく１００％以下である。透明導電材料層の可視光透過率は、具体的には、例えば、８１，８２，８３，８４，８５，８６，８７，８８，８９，９０，９１，９２，９３，９４，９５，９６，９７，９８，９９又は１００％である。透明導電材料層の可視光透過率は、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。【００３９】
また、透光性電極３は、不純物（例：Ｃｒ等の金属）が含有された透明導電材料からなる。不純物は、透光性電極３の可視光透過率が１０％以上８０％以下となるように含有させる。不純物は、好ましくは、粒子状である。不純物の含有量を変化させることによって透光性電極３の可視光透過率を変化させることができる。【００４０】
また、透光性電極３は、透明導電材料層と、前記透明導電材料層と積層された金属層とを備える。透明導電材料層は、透明導電材料からなり、金属層は、Ｃｒ等の金属からなる。金属層は、透光性電極３の可視光透過率が１０％以上８０％以下となる厚さで形成する。金属層は、厚さが非常に薄い場合、若干の光を透過させるので、金属層の厚さを変化させることによって透光性電極３の可視光透過率を変化させることができる。金属層は、透明導電材料層と前面基板２の間に形成してもよく、透明導電材料層と誘電体層４の間に形成してもよい。透光性電極３は、薄い金属層を透明導電材料層の上部又は下部に形成し、金属層と透明導電材料層を同一のレジストマスクを用いてエッチングすることによって形成することができる。金属がＣｒの場合、可視光が金属層を透過するようにするには、金属層の厚さを３５ｎｍ以下にすればよい。【００４１】
３．明室コントラストが向上する作用
ここで、本実施形態のＰＤＰによれば、明室コントラストが向上する作用について説明する。
図７に示すように、放電セルの行方向（横方向）の発光プロファイルは隔壁近傍が強く、放電セルの中央部は弱い。ＰＤＰの反射光の主なものは、蛍光体層での外光反射光である。外光反射光は、外部から入射した光が放電セル内で乱反射した後、表示面側に出るため、外光反射光のプロファイルでは、反射光強度は、放電セル内でほぼ均一である。そこで、可視光透過率を低下させた表示電極の突出部の幅ｄ1を、蛍光体層７の底部での幅ｄ2と同等あるいはそれより小さくすることで、輝度に関与する部分の小さいところの可視光透過率を下げ、セル中央の蛍光体層の外光反射を抑制する。具体的には、表示電極の突出部の可視光透過率を従来より低い０％以上８０％以下にすることによって外光反射光強度を発光強度よりも大きく低下させることができ、従って、明室コントラストを向上させることができる。なお、従来のＩＴＯからなる表示電極の突出部の可視光透過率は、８９％程度である。【００４２】
また、前面基板２の前面側に配置される光学フィルタ１の可視光透過率を上げることにより、外光反射光の強度を従来と同じ程度にしつつ発光強度を高めることができる。【００４３】
表示電極の突出部の可視光透過率を従来（８９％）よりも低くし、且つ反射光強度が従来と同じになるように光学フィルタ１の可視光透過率を高めた場合の発光強度上昇率を表１にまとめた。また、表示電極の突出部の可視光透過率が従来（８９％）、８０％、７０％、６０％である場合の発光強度のプロファイルを図８に示す。なお、光学フィルタ１の可視光透過率は、透光性電極３が放電セル内で示す面積が４６．８％である条件を想定して決定した。発光強度上昇率は、従来の条件での発光強度からの上昇率を示す。【００４４】
【表１】
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【００４５】
表１を参照すると、表示電極の突出部の可視光透過率が０〜８０％の何れの場合であっても従来よりも発光強度が上昇していることが分かる。また、反射光強度が従来と同じなるように光学フィルタ１の可視光透過率を設定しているので、表１の全ての条件において、反射光強度は、一定である。以上より、本実施形態によれば、反射光強度を変化させることなく発光強度を上昇させることができるので、明室コントラストを向上させることができる。なお、ここでは、反射光強度が変化しないように光学フィルタの可視光透過率を設定したが、例えば、発光強度が変化しないように光学フィルタの可視光透過率を設定してもよい。この場合、反射光強度が従来よりも低下する。従って、この場合でも明室コントラストを向上させることができる。また、例えば、発光強度を上昇させ且つ反射光強度を低下させるように光学フィルタの可視光透過率を設定してもよい。
また、表１は、表示電極の突出部の可視光透過率が０％の場合でも本発明によれば明室コントラストを向上させることができることを示している。従って、本発明は、表示電極が金属電極のみからなる場合にも適用することができる。【００４６】
４．プラズマディスプレイモジュールの構成、ＰＤＰの階調駆動シーケンス
図９はプラズマディスプレイモジュールの一例の全体構成を示している。ＰＤＰは、サステイン放電（維持放電）を行う表示電極（Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３，…）と走査電極（Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３，…）とが交互に配置されて表示ラインを構成し、表示電極および走査電極とこれらの電極に垂直に交差するアドレス電極（Ａ１，Ａ２，Ａ３，…）によりマトリクス状の表示セルが構成されている。また、それぞれの電極に電圧を印加するために、アドレス駆動回路１３、スキャンドライバ１４、Ｙ駆動回路１５、Ｘ駆動回路１６が接続されている。また、それらを制御するための制御回路１７を備えている。【００４７】
スキャンドライバ１４は、アドレス過程において、走査電極に順次走査パルスを印加して走査電極（表示ライン）を選択し、アドレス駆動回路１３に繋がれたアドレス電極と各走査電極との間で、セルの点灯／非点灯を選択するアドレス放電を生じさせる。また、Ｙ駆動回路１５およびＸ駆動回路１６は、表示過程において、アドレス放電により選択されたセルに対して各サブフィールドの重みに応じた数のサステイン放電を生じさせる。制御回路１７は、ＴＶチューナやコンピュータ等の外部装置から入力された画像データと信号から、それぞれの駆動回路に適した制御信号を出力して所定の画像表示を行う役割を果たしている。【００４８】
図１０は、図１のＰＤＰにおける階調駆動シーケンスの一例を示す図である。
図１０に示されるように、プラズマディスプレイ装置における階調駆動シーケンスは、１フィールド（フレーム）１８をそれぞれ所定の輝度の重みを有する複数のサブフィールド１９（サブフレーム）ＳＦ１〜ＳＦｎで構成し、各サブフィールドの組み合わせにより所定の階調表示を行うようになっている。具体的に、複数のサブフィールドとしては、例えば、２のべき乗の輝度重みを有する８つのサブフィールドＳＦ１〜ＳＦ８（維持放電の回数の比が１：２：４：８：１６：３２：６４：１２８）により２５６階調の表示を行うようになっている。なお、サブフィールドの数および各サブフィールドの重みは様々な組み合わせが可能なのはいうまでもない。【００４９】
また、各サブフィールドは、それぞれ表示領域における全てのセルの壁電荷を均一にする初期化過程（リセット期間２０）、点灯セルを選択するアドレス過程（アドレス期間２１）および、選択されたセルを輝度（各サブフィールドの重み）に応じた回数だけ放電（点灯）させる表示過程（維持放電期間２２）で構成され、各サブフィールドの表示毎に輝度に応じてセルを点灯させ、例えば、８つのサブフィールド（ＳＦ１〜ＳＦ８）を表示することで１フィールドの表示を行うようになっている。【００５０】
次に、図１１（ａ）〜（ｅ）に駆動波形の一例を示す。図１１（ａ）〜（ｅ）はそれぞれリセット期間２０から維持放電期間２２にＸ１、Ｙ１、Ｙ３、Ｙ２、アドレスの各電極に印加する駆動波形を示している。尚、Ｘ，Ｙに付された数字は行数を示し、本波形は同じ数字を付した２電極間で放電する場合を示す。なお、Ｙ１、Ｙ３、Ｙ２はＹの奇数行、偶数行を代表する１例である
まず、図１１（ａ）（ｂ）のＸ１，Ｙ１電極に全セルに壁電荷を形成するＹ書き込み鈍波３０とＸ電圧２３が印加される。続いてセル内に形成された壁電荷を必要量残して消去するＹ補償鈍波３１とＸ補償電圧２４が印加される。【００５１】
次のアドレス期間２１において印加される電圧波形は行方向の表示するセルを決める放電を行なう奇数行の走査パルス３２と本放電により、電荷を形成するためのＸ電圧２５である。この走査パルス３２は行毎にタイミングをずらして印加される。その後の維持放電期間２２には第１のサステインパルス２６、３３、繰り返しサステインパルス２７、２８、２９、３４、３５、３６が印加される。【００５２】
図１１（ｃ）は、Ｙ３電極に印加される電圧波形で走査パルス３７のタイミングを除いて図１１（ｂ）に示したＹ１電極に印加される電圧波形と同じである。今、Ｙ３電極のラインのセルが１つも点灯しないとすると、走査パルス３７は不要であり、間引くことができる。これにより、駆動時間を短縮できる。この時、全てのアドレス電極に電圧は印加されておらず、同様に間引くことができる。表示電極に印加されている電圧も一定値であるため、同様な時間短縮は容易である。【００５３】
図１１（ｄ）のＹ２電極にリセット期間２０においては全セルに電荷を形成するＹ書き込み鈍波３８が印加される。さらに続いてセル内に形成された電荷を必要量残して消去するＹ補償鈍波３９が印加される。【００５４】
次のアドレス期間２１において印加される電圧波形は行方向の表示するセルを決める放電を行なう偶数行のスキャンパルス４０である。このスキャンパルス４０も行毎にタイミングをずらして印加される。その後の表示期間２２には第１のサステインパルス４２、繰り返しサステインパルス４２、４３、放電回数の合わせパルス４４が印加される。【００５５】
図１１（ｅ）のアドレス電極９にアドレス期間において印加される電圧波形は列方向の表示するセルを決める放電を行なうアドレスパルス４５、４６である。尚、アドレスパルスは行毎に印加されるスキャンパルスに合わせ、走査電極とアドレス電極９の交点に位置する表示させたいセルに放電を起こすタイミングで印加される。【００５６】
以上の駆動波形に加え、表示期間２２の最後に壁電荷消去のための電圧波形を加えることもある。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明のＰＤＰは、様々な形式のプラズマディスプレイ装置に適用することができ、例えば、パーソナルコンピュータやワークステーション等のディスプレイ装置、平面型の壁掛けテレビジョン、或いは、広告や情報等を表示するための装置として利用されるプラズマディスプレイ装置に対して幅広く適用することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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