(57)【要約】  本発明は、平面型の光導波路の量産性に優れた光導波路製造方法に関する。集合工程において、ロッド(21)またはパイプ(22)の形状をそれぞれ有する複数本の部材(20)は、それらの長手方向に垂直な断面において所望の導波路パターンの少なくとも一部の略相似形を形成するよう配列された状態で束ねられる。集合工程において束ねられた複数本の部材(20)は、延伸工程において加熱により軟化された状態でそれらの長手方向に延伸されることにより延伸体が形成される。延伸工程において形成された延伸体は、切断工程において延伸体の長手方向に垂直な面で切断される。以上の工程を経て、微細構造に基づく導波路パターンが形成された平面型の光導波路が製造される。
2009128480.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の部材により形成され、前記複数の部材の長手方向に垂直な断面に屈折率分布の導波路パターンを有する平面型光導波路用の母材を製造する方法であって、
複数本の第１の部材と複数本の第２の部材を含む前記複数の部材を、前記導波路パターンを形成するように配列し、集合体を形成する集合工程と、
前記集合体を加熱し、軟化させ、前記集合体を長手方向に延伸して延伸体として、前記光導波路用母材を形成する延伸工程と
を備えた光導波路用母材の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記集合工程は、前記第１部材と前記第２部材を配列した後に、配列された複数の部材を集合用パイプに収納する。
【請求項３】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記複数の部材は、ガラス製であり、ロッド形状またはパイプ形状を有する。
【請求項４】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記第１部材は、高屈折領域を有し、前記第２部材は低屈折領域を有する。
【請求項５】
請求項1記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記集合工程において束ねられた前記複数本の部材それぞれの外形の形状は一致している。
【請求項６】
請求項２記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記集合工程において束ねられた前記複数本の部材は、その断面が最密構造を構成するよう配列されている。
【請求項７】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記延伸体は、前記延伸工程において、前記延伸体の長手方向に垂直な方向の縮小率が１％以下となるように延伸される。
【請求項８】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法において、
複数の前記第２部材は、空孔を有する略同一の外径形状の固体材料であり、前記第１部材で形成される領域の周囲に配置されている。
【請求項９】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記第１部材は、高屈折率の固体材料であり、前記第２部材は低屈折率の固体材料であり、前記第１部材に対する前記第２部材の比屈折率差の絶対値は１％以上である。
【請求項１０】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法は、
複数の前記第２部材は、空孔を有する略同一の外径形状であり、フォトニックバンドギャップを形成するように前記第１部材で形成される領域の周囲に配置されている。
【請求項１１】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記複数の部材の一つとして、請求項１記載の光導波路用母材の製造方法で製造された母材を使用することを特徴とした光導波路用母材の製造方法。
【請求項１２】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記複数の部材の一つとして、第３部材を有し、
前記集合工程では、前記第１部材と前記第２部材の境界部に前記第３部材を配列し、
前記第３部材の製造工程において、
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法と同様の、集合工程、延伸工程を有し、
前記第１部材と前記第２部材の境界部周辺の導波路パターンが、前記第３部材の導波路パターンである。
【請求項１３】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記第１部材は、前記導波路パターンの光導波方向における領域の一部を構成する部材として第１１部材を有し、
前記第１１部材の製造工程において、
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法と同様の、集合工程、延伸工程を有し、
前記導波路パターンの光導波方向における領域の一部を構成する導波路パターンが、前記第１１部材の導波路パターンである。
【請求項１４】
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記第１部材は、前記導波路パターンの光導波方向における隣接する領域を構成する部材として第１１部材、第１２部材を有し、
前記第１１部材および前記第１２部材それぞれの製造工程において、
請求項１記載の光導波路用母材の製造方法と同様の、集合工程、延伸工程を有し、
前記導波路パターンの光導波方向における隣接する領域を構成する導波路パターンが、前記第１１部材および前記第１２部材それぞれの導波路パターンである。
【請求項１５】
請求項１および１１〜１４のいずれか１項記載の光導波路用母材の製造方法において、
前記集合工程において、光が導波する領域に中空のパイプを配置する。
【請求項１６】
請求項１および１１〜１４のいずれか１項記載の光導波路用母材の製造方法で製造された母材を、その長手方向に対して垂直な面で切断することにより、前記光導波路を製造する切断工程を有する
光導波路製造方法。
【請求項１７】
請求項１６記載の光導波路製造方法において、
前記切断工程において切断されたときの当該切断面を光学研磨する研磨工程を更に備える。
【請求項１８】
それぞれが請求項１６記載の光導波路製造方法により製造された第１光導波路と第２光導波路を準備し、
前記第１光導波路の出射端と前記第２光導波路入射端とを同一面上で光学的に結合するように配置された光導波路を製造する光導波路製造方法。
【請求項１９】
所定面上に導波路パターンを有する平面型の光導波路を備えたセンサであって、
前記導波路パターンの光が導波する領域内に、前記所定面に対して垂直方向に沿って貫通する空孔が設けられたセンサ。
【請求項２０】
請求項１９記載のセンサにおいて、
前記導波路パターンによりマッハツェンダ干渉計が構成されており、前記空孔内に挿入される被測定対象物により干渉光の強度が変化し、それにより前記導波光の位相が変化するように、前記空孔は前記マッハツェンダ干渉計またはその近傍に配置されている。
【請求項２１】
請求項１９記載のセンサにおいて、
前記導波路パターンによりリング共振器が構成されており、前記空孔内に挿入される被測定対象物により共振光の強度または共振波長変化し、それにより前記導波光を位相が変化するように、前記空孔は前記リング共振器またはその近傍に配置されている。
【請求項２２】
請求項１９記載のセンサを用いて、被測定対象物を前記空孔内に存在させ、前記光導波路を導波する導波光を測定し、前記被測定対象物を検知する検知方法。
【請求項２３】
請求項２２記載の検知方法において、
前記導波光の損失の変化または損失の波長依存性の変化に基づいて、前記被測定対象物に関し存在の有無、種類および濃度の何れかを検知する。
【請求項２４】
請求項２２記載の検知方法において、
前記導波光の位相の変化に基づいて、前記被測定対象物に関し存在の有無、種類および濃度の何れかを検知する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の部材により形成され、複数の部材の長手方向に垂直な断面に光導波領域の導波路パターンを有する平面型の光導波路およびを製造する方法および光導波路用母材の製造方法に関するものである。なお、本明細書において、「光導波路」とは、「光導波領域が形成されたチップ」をいう。
【背景技術】
【０００２】
導波路パターンが形成された平面型の光導波路は例えば非特許文献１に記載されている。しかしながら、この非特許文献１には、光導波路を製造する方法については記載されていない。一方、特許文献１には、上述のような平面型の光導波路を製造する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２００５／０８５９２１号パンフレット
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Yasuhide Tsuji, et al, “Design of Optical Circuit Devices Based on Topology Optimization”, IEEE PHOTONICSTECHNOLOGY LETTERS, Vol.18, No.7, pp.850-852 (2006).
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
発明者らは、従来の光導波路について検討した結果、以下のような課題を発見した。すなわち、特許文献１に開示された光導波路製造方法では、平面型の光導波路の製造効率が低く、量産性が悪いという課題があった。【０００６】
本発明は上述のような課題を解決するためになされたものであり、平面型の光導波路の量産性に優れた光導波路製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る光導波路用母材の製造方法は、複数の部材により形成され、前記複数の部材の長手方向に垂直な断面に屈折率分布の導波路パターンを有する平面型光導波路用の母材を製造する方法である。当該製造方法は、集合工程と、延伸工程を備える。集合工程は、複数本の第１の部材と複数本の第２の部材を含む複数の部材を、導波路パターンを形成するように配列し、集合体を形成する。延伸工程は、集合体を加熱し、軟化させ、集合体を長手方向に延伸して延伸体として、光導波路用母材を形成する。【０００８】
本発明に係る光導波路用母材の製造方法において、集合工程は、第１部材と第２部材を配列した後に、配列された複数の部材を集合用パイプに収納するのが好ましい。また、複数の部材は、ガラス製であり、ロッド形状またはパイプ形状を有するのが好ましい。第１部材は、高屈折領域を有し、前記第２部材は低屈折領域を有してもよい。【０００９】
ここで、集合工程において束ねられた前記複数本の部材それぞれの外形の形状は一致している。また、集合工程において束ねられた前記複数本の部材は、その断面が最密構造を構成するよう配列されるのが好ましい。延伸体は、延伸工程において、当該延伸体の長手方向に垂直な方向の縮小率が１％以下となるように延伸されるのが好ましい。複数の第２部材は、空孔を有する略同一の外径形状の固体材料であり、第１部材で形成される領域の周囲に配置されてもよい。さらに、第１部材は、高屈折率の固体材料であり、第２部材は低屈折率の固体材料であり、第１部材に対する前記第２部材の比屈折率差の絶対値は１％以上であるのが好ましい。また、複数の第２部材は、空孔を有する略同一の外径形状であり、フォトニックバンドギャップを形成するように第１部材で形成される領域の周囲に配置されてもよい。【００１０】
なお、本発明に係る光導波路用母材の製造方法は、複数の部材の一つとして、上述の光導波路用母材の製造方法で製造された母材を使用してもよい。【００１１】
さらに、本発明に係る光導波路用母材の製造方法において、複数の部材の一つとして、第３部材が用意されてもよく、集合工程では、第１部材と第２部材の境界部に第３部材が配列される。この場合、第３部材の製造工程において、上述の光導波路用母材の製造方法と同様の集合工程および延伸工程が行われる。これにより、第１部材と第２部材の境界部周辺の導波路パターンが、第３部材の導波路パターンとなる。【００１２】
本発明に係る光導波路用母材の製造方法において、第１部材は、前記導波路パターンの光導波方向における領域の一部を構成する部材として第１１部材を有してもよい。この場合、第１１部材の製造工程において、上述の光導波路用母材の製造方法と同様の集合工程および延伸工程が実行される。このとき、導波路パターンの光導波方向における領域の一部を構成する導波路パターンが、第１１部材の導波路パターンとなる。【００１３】
本発明に係る光導波路用母材の製造方法において、第１部材は、導波路パターンの光導波方向における隣接する領域を構成する部材として第１１部材、第１２部材を有してもよい。この場合、第１１部材および前記第１２部材それぞれの製造工程において、上述の光導波路用母材の製造方法と同様の集合工程および延伸工程が実行される。これにより、導波路パターンの光導波方向における隣接する領域を構成する導波路パターンが、第１１部材および第１２部材それぞれの導波路パターンとなる。【００１４】
なお、上述のような本願発明に係る光導波路用母材の製造方法は、集合工程は、光が導波する領域に中空のパイプを配置してもよい。【００１５】
本発明に係る光導波路製造方法は、上述の光導波路用母材の製造方法（本願発明に係る光導波路用母材の製造方法）で製造された母材を、その長手方向に対して垂直な面で切断することにより、光導波路を製造する切断工程を有する。また、本発明に係る光導波路製造方法は、切断工程において切断されたときの当該切断面を光学研磨する研磨工程を更に備えてもよい。【００１６】
本発明に係る光導波路製造方法によりそれぞれ製造された複数の光導波路を利用して新たな光導波路の製造も可能である。具体的に当該光導波路製造方法は、第１光導波路と第２光導波路を準備し、第１光導波路の出射端と第２光導波路入射端とを同一面上で光学的に結合するように配置された光導波路を製造する。【００１７】
本発明に係るセンサは、所定面上に導波路パターンを有する平面型の光導波路を備える。具体的には、当該センサにおいて、導波路パターンの光が導波する領域内に、所定面に対して垂直方向に沿って貫通する空孔が設けられている。【００１８】
本願発明に係るセンサでは、導波路パターンによりマッハツェンダ干渉計が構成されてもよい。この場合、空孔内に挿入される被測定対象物により干渉光の強度が変化し、それにより導波光の位相が変化するように、空孔は前記マッハツェンダ干渉計またはその近傍に配置される。また、当該センサでは、導波路パターンによりリング共振器が構成されてもよい。この場合、空孔内に挿入される被測定対象物により共振光の強度または共振波長変化し、それにより導波光を位相が変化するように、空孔はリング共振器またはその近傍に配置される。【００１９】
本発明に係る検知方法は、上述のセンサ（本発明に係るセンサ）センサを用いて、被測定対象物を空孔内に存在させ、光導波路を導波する導波光を測定し、被測定対象物を検知する。この構成により、当該検知方法は、導波光の損失の変化または損失の波長依存性の変化に基づいて、被測定対象物に関し存在の有無、種類および濃度の何れかを検知する。また、当該検知方法は、導波光の位相の変化に基づいて、前記被測定対象物に関し存在の有無、種類および濃度の何れかを検知可能である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係る光導波路製造方法は、平面型の光導波路の量産性を向上させる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】は、第１実施形態に係る光導波路製造方法により製造されるべき光導波路の一構成例を示す平面図である。
【図２】は、第１実施形態に係る光導波路製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図３】は、第１実施形態に係る光導波路製造方法における集合工程Ｓ１を説明するための図である。
【図４】は、第１実施形態に係る光導波路製造方法における集合工程Ｓ１を説明するための図である。
【図５】は、第１実施形態に係る光導波路製造方法における延伸工程Ｓ２を説明するための図である。
【図６】は、第１実施形態に係る光導波路製造方法における切断工程Ｓ３を説明するための図である。
【図７】は、第１実施形態に係る光導波路製造方法により製造された光導波路１を収納構造の一例を示す図である。
【図８】は、第２実施形態に係る光導波路製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図９】は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第１構成例を説明するための図である。
【図１０】は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第２構成例を説明するための図である。
【図１１】は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第３構成例を説明するための図である（その１）。
【図１２】は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第３構成例を説明するための図である（その２）。
【図１３】は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第３構成例を説明するための図である（その３）。
【図１４】は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第４構成例を説明するための図である（その１）。
【図１５】は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第４構成例を説明するための図である（その２）。
【図１６】は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第４構成例を説明するための図である（その３）。
【図１７】は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第５構成例を説明するための図である。
【図１８】は、第３実施形態に係る光導波路製造方法により製造される平面型の光導波路によるセンサの第１構成例を説明するための図である。
【図１９】は、第３実施形態に係る光導波路製造方法により製造される平面型の光導波路によるセンサの第２構成例を説明するための図である。
【図２０】は、第３実施形態に係る光導波路製造方法により製造される平面型の光導波路によるセンサの第３構成例を説明するための図である。
【図２１】は、第３実施形態に係る光導波路製造方法により製造される平面型の光導波路によるセンサの第４構成例を説明するための図である。
【図２２】は、第３実施形態に係る光導波路製造方法により製造される平面型の光導波路によるセンサの第５構成例を説明するための図である。
【図２３】は、第３実施形態に係る光導波路製造方法により製造される平面型の光導波路によるセンサの第６構成例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明に係る光導波路製造方法の各実施形態を、図１〜図２３を参照しながら詳細に説明する。なお、図面の説明において同一部位、同一要素には同一符号を付して重複した説明を省略する。
【００２３】
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係る光導波路製造方法により製造されるべき光導波路の一構成例を示す平面図である。図１に示された光導波路１は、互いに平行な２つの主面を有し、その２つの主面の間の厚みが一定である。光導波路１は、主面に対して垂直な方向には一様な屈折率を有し、主面に平行な面において高屈折率領域１１（コア領域）と低屈折率領域１２（クラッド領域）とを有する。図中で高屈折率領域１１はハッチングで示されている。
【００２４】
高屈折率領域１１のうち端面に対して垂直に延びている領域１１ａ、１１ｂは、外部との間で光の入出力を行うための領域であって、互いに９０度の角度をなしている。この光導波路１１において、外部から領域１１ａに入力された光は、領域１１ａにより導波された後に領域１１ｂにより導波され、領域１１ｂから外部へ出力される。これにより、光導波路１において光の進行方向は低損失で９０度だけ曲げられる。
【００２５】
この光導波路１において、領域１１ａ、１１ｂを含む高屈折率領域１１の屈折率を低屈折率領域１２の屈折率より高くするには、例えば、高屈折率領域１１を中実の石英ガラスとし、低屈折率領域１２を背景材料としての石英ガラスに対して一定間隔で配置された複数の空孔により微細構造が形成された領域とする。
【００２６】
あるいは、低屈折率領域１２の材料としての純石英ガラスに対して、高屈折率材料からなる複数の固体材料を一定間隔で配置することにより微細構造が形成された領域とすることでも、高屈折率領域１１と低屈折率領域１２との間で屈折率差を設けることができる。低屈折率領域１２の材料に対する固体材料の比屈折率差の絶対値は１％以上であるのが好適である。なお、逆に、高屈折率領域１１の固体材料を純石英ガラスとして、低屈折率領域１２を石英ガラスより低屈折率の材料を用いてもよい。屈折率差を設けるには、石英ガラスに屈折率上昇剤（例えばＧｅＯ２）または屈折率低下剤（例えばＦ元素）が添加されればよい。
【００２７】
また、この第1実施形態に係る光導波路製造方法により製造されるべき光導波路１は、上述のような高屈折率領域１１と低屈折率領域１２との屈折率差を利用して光を高屈折率領域１１に閉じ込めて導波させる構造であってもよいし、微細構造により形成されるフォトニックバンドギャップにより光を閉じ込めて導波させる構造であってもよい。後者の場合、コアおよびクラッドそれぞれに使用される材料の屈折率、ならびに、複数の空孔の径やピッチが、適切に設定される。
【００２８】
次に、背景材料に対して一定間隔で配置された複数の空孔により微細構造が形成された低屈折率領域１２を有する光導波路１を製造する方法について説明する。この光導波路製造方法は、微細構造に基づく導波路パターンが形成された平面型の光導波路１を製造する方法である。図２は、第１実施形態に係る光導波路製造方法を説明するためのフローチャートである。この第1実施形態に係る光導波路製造方法は、集合工程Ｓ１、延伸工程Ｓ２、切断工程Ｓ３および研磨工程Ｓ４を備え、これらの工程Ｓ１〜Ｓ４を順に経て光導波路１が製造される。また、図３〜図７は、第１実施形態に係る光導波路製造方法における各工程を説明するための図である。
【００２９】
図３および図４は、第１実施形態に係る光導波路製造方法における集合工程Ｓ１を説明するための図であり、集合工程Ｓ１により形成される集合体３０の長手方向に垂直な断面の図を示す。図４は、図３の一部（図１の領域１１ａおよびその近傍の領域を含む範囲）を拡大した図である。集合工程Ｓ１では、ロッド２１またはパイプ２２からなる複数本の部材２０が束ねられる。このとき、複数本の部材２０の長手方向に垂直な断面において光導波路１の導波路パターンが形成されるよう複数本の部材２０が配置されることにより、集合体３０が形成される。すなわち、図１における高屈折率領域１１と同じパターンとなるように複数のロッド２１が配置され、低屈折率領域１２と同じパターンとなるように複数のパイプ２２が配置される。複数のパイプ２２それぞれの中空領域は、製造後の光導波路１において微細構造を形成する複数の空孔となる。
【００３０】
集合体３０において、束ねられた複数本の部材２０は、低屈折率の集合用パイプ２３の内部に収納されるのが好ましい。複数本の部材２０それぞれの外径が同一であるのが好適であり、また、最密構造を構成するように複数本の部材２０を配列するのが好適である。これら複数本の部材２０は、透明材料からなり、例えば石英ガラスからなる。複数本の部材２０それぞれの外径は例えば１ｍｍである。なお、集合用パイプ２３は、設計によっては、低屈折率だけでなく、高屈折率でもよいし、後で除去してもよい。
【００３１】
なお、図４において、高屈折率領域１１の領域１１ａとなるべき部分の幅は３本のロッド２１で構成されているが、単位面積当りの部材２０の本数を多くする（すなわち、部材２０の直径を小さくする）ことにより、より忠実な導波路パターンを実現することが可能になる。
【００３２】
図５は、第１実施形態に係る光導波路製造方法における延伸工程Ｓ２を説明するための図であり、延伸工程Ｓ２により形成される延伸体４０の斜視図を示す。延伸工程Ｓ２では、集合工程Ｓ１において複数本の部材２０が束ねられた集合体３０を加熱により軟化させた状態で、それらの長手方向に沿って一体的に集合体３０を延伸することにより延伸体４０が形成される。この延伸工程Ｓ２において、延伸体４０は、その長手方向に垂直な方向の縮小率（集合体３０の外径の外径に対する延伸体４０の外径の割合）が１％以下となるように延伸されるのが好適である。このとき、導波路パターンの形状が維持されたまま集合体３０が延伸されて延伸体４０となる。すなわち、延伸体４０の断面を構成するロッド２１Ａ、パイプ２２Ａおよび集合用パイプ２３Ａが、集合体３０の断面を構成しているロッド２１、パイプ２２および集合用パイプ２３に、それぞれ対応している。また、当初の複数のパイプ２２それぞれの中空部分は、延伸体４０においても中空のまま維持される。この延伸により、例えば、断面の寸法は４×１０３分の１に縮小し、長さは１６×１０６倍となる。
【００３３】
図６は、第１実施形態に係る光導波路製造方法における切断工程Ｓ３を説明するための図であり、切断工程Ｓ３において延伸体４０を切断している様子を示す図である。切断工程Ｓ３では、延伸工程Ｓ２において形成された延伸体４０を長手方向に垂直な面で切断して光導波路１を製造する。このとき、後の研磨工程Ｓ４の際の厚さ減少分を考慮して、研磨後に所望の厚さとなるように切断することで光導波路１が製造される。この切断に際しては、ダイヤモンドブレードを使用することができる他、シリコンインゴットをスライスしてウェハを製造する技術を応用することができる。
【００３４】
切断工程Ｓ３で得られた光導波路１の切断面の粗さは、光導波路１の高屈折率領域１１に閉じ込められて導波する光の損失に影響を与える。その光損失が問題とならない程度であれば、その切断面のままでもよい。しかしながら、光損失が問題となるような切断面の粗さである場合には、その切断面の光学研磨が有効である。そこで、研磨工程Ｓ４では、切断工程Ｓ３において切断されたときの当該切断面が光学研磨される。これにより、光導波路１における光損失が低減される。また、この研磨により光導波路１の厚みが所望値になる。
【００３５】
また、光導波路１の領域１１ａ、１１ｂそれぞれの端面には光ファイバが光学的に接続されてもよく、また、当該結合部を含めた光導波路１がパッケージに収納されてもよい。なお、収納の際に、光導波路１は、図７に示されたように、双方の主面に透明板２、３が貼り付けられるのが好適である。ここで、図７は、第１実施形態に係る光導波路製造方法により製造された光導波路１の収納構造の一例を示す図である。これらの透明板２、３は、光導波路１の高屈折率領域１１の屈折率より小さい屈折率を有し、クラッドとして作用する。透明板２、３は例えば石英ガラスからなる。このような構造が採用されることにより、光導波路１の扱いが容易となる。また、光導波路１の双方の主面が保護されるので、主面での光散乱損失が低減される。導波可能なモードや導波光の偏波特性制御も可能になる。なお、光導波路１の双方の主面に何も貼り付けることなく、クラッドとして空気を用いてもよい。
【００３６】
また、光導波路１の領域１１ａ、１１ｂそれぞれは、幅が一様であってもよく、また、屈折率が一様であってもよいが、端面に近くなるに従い幅が広くなるようにテーパ状であってもよいし、また、端面に近くなるに従い比屈折率差が逓減されてもよい。このような構造が採用されることにより、光導波路１の領域１１ａ、１１ｂそれぞれの端面と標準的な光ファイバとの光結合効率が改善され得る。
【００３７】
以上のように、第１実施形態に係る光導波路製造方法は、平面型の光導波路の製造効率が高く、量産性に優れる。例えば、集合工程Ｓ１において用いられる複数本の部材２０の長さを１００ｍｍとし、延伸工程Ｓ２において集合体３０から延伸形成される延伸体４０の長さを集合体３０の１６×１０６倍とし、切断工程Ｓ３において延伸体４０を切断することにより得られる光導波路１の厚さを１０μｍとする。この場合、切断工程Ｓ３において延伸体４０を切断することにより得られる光導波路１の個数は約１６００億となる。
【００３８】
また、第１実施形態に係る光導波路製造方法は、集合工程Ｓ１において、ロッド２１またはパイプ２２からなる複数本の部材２０が束ねられる。複数本の部材２０は、高屈折領域１１を構成する部材（例えば図４のロッド２１）と低屈折率領域１２を構成する部材（例えば図４のパイプ２２）を含んでおり、これら複数の部材２０が束ねられた状態で、それらの長手方向に垂直な断面において光導波路１の導波路パターンの略相似形となるよう配置された集合体３０が形成される。そのため、当該光導波路製造方法は、導波路パターンの形成の柔軟性に優れる。
【００３９】
（第２実施形態）
図８は、第２実施形態に係る光導波路製造方法を説明するためのフローチャートである。本実施形態に係る光導波路製造方法は、第１集合工程Ｓ１１、第１延伸工程Ｓ１２、第２集合工程Ｓ１３、第２延伸工程Ｓ１４、切断工程Ｓ１５および研磨工程Ｓ１６を備え、これらの工程Ｓ１１〜Ｓ１６を順に経て、微細構造に基づく導波路パターンが形成された平面型の光導波路が製造される。
【００４０】
第２実施形態における第１集合工程Ｓ１１および第２集合工程Ｓ１３それぞれは、第１実施形態における集合工程Ｓ１と同様である。第２実施形態における第１延伸工程Ｓ１２および第２延伸工程Ｓ１４それぞれは、第１実施形態における延伸工程Ｓ２と同様である。第２実施形態における切断工程Ｓ１５は、第１実施形態における切断工程Ｓ３と同様である。また、第２実施形態における研磨工程Ｓ１６は、第１実施形態における研磨工程Ｓ４と同様である。
【００４１】
第１集合工程Ｓ１１は、ロッドまたはパイプの形状をそれぞれ有する複数本の部材を、所定の導波路パターンにおける各部の略相似形を形成するよう配列した状態で束ねる。第１延伸工程Ｓ１２は、第１集合工程Ｓ１１において束ねられた複数本の部材（第１部材）を加熱により軟化させた状態でこれらの長手方向に沿って一体的に延伸することにより第１延伸体を形成する。第２集合工程Ｓ１３は、第１延伸工程Ｓ１２において形成された第１延伸体とともにロッドまたはパイプの形状をそれぞれ有する複数本の部材（第１部材とは異なる第２部材）を、所望の導波路パターンの少なくとも一部の略相似形を形成するよう配列した状態で更に束ねる。第２延伸工程Ｓ１４は、第２集合工程Ｓ１３においてさらに束ねられた複数本の部材を加熱により軟化させた状態でそれらの長手方向に沿って一体的に延伸することにより、第２延伸体を形成する。このように、集合工程および延伸工程が複数回繰り返される。切断工程Ｓ１５は、第２延伸工程Ｓ１４において形成された第２延伸体をその長手方向に垂直な面で切断することにより光導波路を製造する。また、研磨工程Ｓ１６は、切断工程Ｓ１５において切断されたときの当該切断面を光学研磨する。
【００４２】
図９は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第１構成例を説明するための図である。なお、図９の領域（ａ）は、第１集合工程Ｓ１１により形成される集合体３１の長手方向に垂直な断面の図を示す。また、図９の領域（ｂ）は、第２集合工程Ｓ１３により形成される集合体３２の長手方向に垂直な断面の図を示す。
【００４３】
図９の領域（ａ）に示されたように、第１集合工程Ｓ１１では、ハッチングで示された複数本の高屈折率ロッド２０ａと複数本の低屈折率ロッド２０ｂとが束ねられ、これら部材が集合用パイプ２３の内部に収納される。これにより集合体３１が得られる。この集合体３１は、第１延伸工程Ｓ１２において加熱により軟化された状態でその長手方向に沿って延伸され、これにより、第１延伸体４１が形成される。
【００４４】
図９の領域（ｂ）に示されたように、第２集合工程Ｓ１３では、第１延伸工程Ｓ１２で形成された複数本の第１延伸体４１、複数本の高屈折率ロッド２０ａおよび複数本の低屈折率ロッド２０ｂを束ねられ、これら部材が集合用パイプの内部に収納される。これにより、集合体３２が得られる。この集合体３２は、第２延伸工程Ｓ１４において加熱により軟化された状態でその長手方向に沿って延伸される。その結果、第２延伸体が形成される。そして、この第２延伸体は、切断工程Ｓ１５で切断され、その切断面が研磨工程Ｓ１６で研磨される。
【００４５】
以上の工程を経て、図９の領域（ｂ）に示されたようなコアが直線状に延びる平面光導波路が製造される。この光導波路において、コアとクラッドとの界面には、第１延伸工程Ｓ１２で形成された第１延伸体４１が用いられている。なお、この第１延伸体４１は、高屈折率領域（ハッチング領域）と低屈折率領域とに２分されている。
【００４６】
したがって、仮に第２集合工程において第１延伸体４１を用いることなく高屈折率ロッド２０ａおよび低屈折率ロッド２０ｂを束ね、更にこれらロッド２０ａ、２０ｂを第２延伸工程で延伸した場合と比較すると、上述のように第２集合工程Ｓ１３において第１延伸体４１をも用いた場合には、製造された光導波路においてコアとクラッドとの界面の平滑性を大幅に改善することができる。このようにコアとクラッドとの界面の平滑性を改善することにより、光伝搬の損失を低減することができる。
【００４７】
図１０は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第２構成例を説明するための図である。なお、図１０の領域（ａ）および（ｂ）は、第１集合工程Ｓ１１により形成される集合体３３、３４の長手方向に垂直な断面の図を示す。また、図１０の領域（ｃ）は、第２集合工程Ｓ１３により形成される集合体３５の長手方向に垂直な断面の図を示す。
【００４８】
図１０の領域（ａ）および（ｂ）に示されたように、第１集合工程Ｓ１１では、ハッチングで示される複数本の高屈折率ロッド２０ａと複数本の低屈折率ロッド２０ｂが束ねられ、これら部材が集合用パイプ２３の内部に収納される。これにより、集合体３３、３４が得られる。この集合体３３、３４は、第１延伸工程Ｓ１２において加熱により軟化された状態でそれらの長手方向に沿って延伸される。その結果、第１延伸体４３、４４が得られる。ここで、集合体３３と集合体３４とでは、高屈折率ロッド２０ａが占める領域と低屈折率ロッド２０ｂが占める領域との割合が相違する。
【００４９】
図１０の領域（ｃ）に示されたように、第２集合工程Ｓ１３では、第１延伸工程Ｓ１２で形成された複数本の第１延伸体４３、４４、複数本の高屈折率ロッド２０ａおよび複数本の低屈折率ロッド２０ｂが束ねられ、これら部材が集合用パイプの内部に収納される。これにより、集合体３５が得られる。この集合体３５は、第２延伸工程Ｓ１４において加熱により軟化された状態で延伸される。その結果、第２延伸体が形成される。そして、第２延伸体が切断工程Ｓ１５で切断された後、その切断面が研磨工程Ｓ１６で研磨される。
【００５０】
以上の工程を経て、図１０の領域（ｃ）に示されるようなコアが直線状に延びる平面光導波路を製造することができる。この光導波路において、コアとクラッドとの界面には、第１延伸工程Ｓ１２で形成された第１延伸体４３、４４が用いられている。なお、第１延伸体４３、４４は、高屈折率領域（ハッチング領域）と低屈折率領域とに２分されている。
【００５１】
したがって、仮に第２集合工程において第１延伸体４３、４４を用いることなく高屈折率ロッド２０ａおよび低屈折率ロッド２０ｂを束ねた後、第２延伸工程で束ねられた部材をその長手方向に沿って延伸した場合と比較すると、上述のように第２集合工程Ｓ１３において第１延伸体４３、４４をも用いた場合には、製造された光導波路においてコアとクラッドとの界面の平滑性を大幅に改善することができる。また、この例の場合には、コアとクラッドとの界面において、高屈折率ロッド２０ａおよび低屈折率ロッド２０ｂを用いることなく、第１延伸体４３、４４を用いるので、コアとクラッドとの界面の平滑性を更に改善することができる。
【００５２】
図１１〜図１３は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第３構成例を説明するための図である。これら図１１〜図１３において、太い黒線は断面における高屈折率領域を表す。この第３構成例では、第１延伸工程Ｓ１２において、図１１に示されたような３種類の延伸体４５ａ、４５ｂ、４５ｃが形成される。図１１の領域（ａ）に示された延伸体４５ａは、６０度曲げの高屈折率領域を有する。図１１の領域（ｂ）に示された延伸体４５ｂは、Ｙ分岐状の高屈折率領域を有する。図１１の領域（ｃ）に示された延伸体４５ｃは、直線状の高屈折率領域を有する。
【００５３】
図１２および図１３に示されたように、第２集合工程Ｓ１３では、延伸体４５ａ、４５ｂ、４５ｃと低屈折率ロッド２０ｂが束ねられることにより、集合体が構成される。第２延伸工程Ｓ１４では、この集合体が延伸される。図１２に示されたように、延伸体４５ａ、４５ｃを適切に配置することにより、入力端と出力端とが同一方向に配置された光導波路の製造が可能になる。さらに、図１３に示されたように、延伸体４５ａ、４５ｂ、４５ｃを適切に配置することにより、入力端と２つの出力端とが同一方向に配置された１×２スプリッタ機能を有する光導波路が製造可能になる。
【００５４】
なお、第１〜第３構成例では、第２集合工程Ｓ１３で束ねられる第１延伸体およびロッドの断面形状が円形であることから、この第２集合工程の際には第１延伸体の方位を正確に設定することが重要である。そのためには、例えば、第１延伸体の一部にロッド把持用の穴を設け、この部分を把持してロッドを吊り下げると、ロッドが自重で一定方位を向くことになるので、このことを利用して第１延伸体の方位を制御する方法が考えられる。
【００５５】
図１４〜図１６は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第４構成例を説明するための図である。これら図１４〜図１６において、太い黒線は断面における高屈折率領域を表す。この第４構成例では、第１延伸工程Ｓ１２において、図１４に示されたような３種類の延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃが形成される。なお。図１４の領域（ａ）に示された延伸体４６ａは、６０度曲げの高屈折率領域を有する。図１４の領域（ｂ）に示された延伸体４６ｂは、Ｙ分岐状の高屈折率領域を有する。図１４の領域（ｃ）に示された延伸体４６ｃは、直線状の高屈折率領域を有する。
【００５６】
図１５および図１６に示されたように、第２集合工程Ｓ１３では、延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃと低屈折率ロッド２０ｂが束ねられることにより、集合体が構成される。第２延伸工程Ｓ１４では、この集合体が延伸される。図１５に示されたように、延伸体４６ａ、４６ｃを適切に配置することにより、入力端と出力端とが同一方向に配置された光導波路が製造可能になる。さらに、図１６に示されたように、延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃを適切に配置することにより、入力端と２つの出力端とが同一方向に配置された１×２スプリッタ機能を有する光導波路が製造可能になる。
【００５７】
なお、第３構成例では延伸体４５ａ、４５ｂ、４５ｃの断面形状が円形であったが、第４構成例では延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃの断面形状が正六角形となっている。このような断面形状が正六角形である延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃは、断面形状が円形である延伸体４５ａ、４５ｂ、４５ｃの外周を研磨することにより得られる。第４構成例では、延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃおよびロッド２０ｂそれぞれの断面形状が正六角形となっていることにより、第２集合工程Ｓ１３の際に、これらの方位を正確に設定することができる。断面形状が六角形である延伸体を得る別法としては、集合用パイプを使用することなく、あるいは、六角形の集合用パイプを使用して、ロッド／パイプを六角形状に集合して延伸を行うことも考えられます。外周の研磨は、集合体が、集合工程後一体化されている場合は、延伸前に行ってもよい。
【００５８】
また、第３構成例として図１１に示された延伸体４５ａ、４５ｂ、４５ｃ、および、第４構成例として図１４に示された延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃそれぞれは、第２構成例（図１０）により形成された第２延伸体と同様の部材であってもよい。この場合、第３構成例および第４構成例では、集合工程および延伸工程が３回繰り返される。すなわち、第１回目の集合工程および延伸工程では、コアとクラッドとの界面に対応するパターンを有する延伸体が形成される。第２回目の集合工程および延伸工程では、第１回目の集合工程および延伸工程で形成された延伸体を用いて、延伸体４５ａ、４５ｂ、４５ｃ、および、延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃが形成される。そして、第３回目の集合工程および延伸工程では、第２回の集合工程および延伸工程で形成された延伸体４５ａ、４５ｂ、４５ｃ、および、延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃを用いて、図１２、図１３、図１５または図１６に示されたようなパターンを有する延伸体が形成される。このようにして、低損失な光導波路が製造される。なお、図１２、図１３、図１５では、複数の延伸体が組み合わさった事例を例示したが、延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃのうちのいずれか一種類の延伸体を組み合わせたものであってもよい。
【００５９】
図１７は、第２実施形態に係る光導波路製造方法の第５構成例を説明するための図である。この第５構成例では、図１７の領域（ｂ）に示されたように、第１集合工程Ｓ１１において、低屈折率ロッド２０ｃと低屈折率パイプ２０ｄとの間に複数本の高屈折率ロッド２０ｅが挟まれるよう配置されている。これらロッド２０ｃ、パイプ２０ｄおよびロッド２０ｅが束ねられることにより集合体３７が構成される。そして、この集合体３７が第１延伸工程Ｓ１２で延伸されることにより第１延伸体４７が形成される。この第１延伸体４７の断面では、高屈折率ロッド２０ｅに由来する高屈折率領域はリング形状を有する。
【００６０】
図１７の領域（ａ）に示されたように、第２集合工程Ｓ１３では、複数本の第１延伸体４７が一列に配列され、これら複数本の第１延伸体４７の両側に低屈折率ロッド２０ｂが配列され、これら部材が集合用パイプ２３の内部に収納される。このように形成された集合体が第２延伸工程Ｓ１４で延伸される。このようにして製造される光導波路は、複数のリング形状の高屈折率領域が一列に配置された導波路パターンを有する。
【００６１】
上述のような構造を有する光導波路において、高屈折率ロッド２０ｅにＥｒ元素等の希土類元素を添加しておくことで、リング状の光導波路が適切な波長で共振するリング共振器となるように設計することができる。このような光導波路は、利得波長を制御した光増幅器、または、所望波長で発振する光導波路型レーザ光源として利用することができる。
【００６２】
（第３実施形態）
第３実施形態に係る光導波路製造方法は、既に説明した第１または第２の実施形態に係る光導波路製造方法と同様であるが、特に、第３実施形態に係る光導波路製造方法によれば、集合工程において少なくとも光導波路の一部となるべき箇所に中空のパイプが配置され、切断工程の後において光導波路のパイプ配置箇所に切断面に垂直な方向に貫通する空孔が残留する。ここで、「光導波路の一部」とは、コアであってもよいし、コアとクラッドとの界面の近傍であってもよいし、また、クラッドのうちでも導波光のエバネセント成分が存在する箇所であってもよい。
【００６３】
以下では、図１８〜図２３を用いて、第３実施形態に係る光導波路製造方法により製造される平面型の光導波路によるセンサの例を説明する。以下に説明する光導波路製造方法では、第２実施形態に係る光導波路製造方法と同様に集合工程および延伸工程が２回行われる。
【００６４】
図１８〜図２０それぞれは、第３実施形態に係る光導波路製造方法により製造される平面型の光導波路によるセンサの第１〜第３構成例を説明するための図である。これら図１８〜図２０は、第２集合工程Ｓ１３により形成される集合体の長手方向に垂直な断面の図を示す。第２集合工程Ｓ１３では、第１延伸工程Ｓ１２で形成された複数本の第１延伸体４１、複数本の高屈折率ロッド２１ａ、複数本の低屈折率ロッド２１ｂ、および、１本または複数本のパイプ２２が束ねられ、これら部材が集合用パイプの内部に収納される。これにより集合体が得られる。第１延伸体４１は、図９を用いて説明された延伸体と同様の構造を有する。
【００６５】
この集合体を第２延伸工程Ｓ１４において加熱により軟化された状態でその長手方向に沿って延伸することにより、第２延伸体が形成される。第２延伸体は切断工程Ｓ１５で切断され、その切断面が研磨工程Ｓ１６で研磨される。このようにしてセンサが製造される。図１８〜図２０それぞれにおいて、高屈折率領域はハッチングで示されている。
【００６６】
図１８に示された第１構成例のセンサでは、１個のパイプ２２がコア領域に配置されている。図１９に示された第２構成例のセンサでは、２個のパイプ２２がコア領域を挟むとともにそれらがコア領域に接した状態で配置されている。また、図２０に示された第３構成例のセンサでは、複数対のパイプ２２がコア領域を挟むとともにそれらがコア領域に接した状態で配置されている。なお、図示はしていないが、コア領域とクラッド領域にまたがる領域（例えば、部材４１の領域）であってもよい。
【００６７】
このように第２集合工程Ｓ１３において少なくとも光導波路の一部となるべき箇所に中空のパイプ２２が配置され、切断工程Ｓ１５の後において光導波路の当該箇所に切断面に垂直な方向に貫通する空孔が残留する。このように製造された平面型の光導波路によるセンサは、コアまたはクラッドにおいて垂直方向に貫通する空孔（パイプ２２に由来する空孔）が設けられた構造を有する。このセンサは、コアを導波する導波光の変化に基づいて、空孔に挿入される被測定物の有無、種類および濃度の何れかを評価する。
【００６８】
これらのセンサは、導波光の損失の変化または損失の波長依存性の変化に基づいて、空孔に挿入される被測定物の有無、種類および濃度の何れかを評価するのが好適である。この場合、コアの一方の端部に光を入射させ、コアの他方の端部から光を出射させて、入射光パワーと出射光パワーとの比を測定することで、導波光の損失の変化または損失の波長依存性の変化が測定可能になる。
【００６９】
空孔に被測定物が存在する場合は、被測定物によりコアを伝搬する導波光（一部はクラッドにも染み出す）が被測定物による吸収・散乱等により減衰する。それ故、被測定物の有無を導波光量の変化から評価することが可能となる。さらに、導波光量の変化量を定量的に評価することにより、被測定物の有無のみでなく、被測定物の種類・濃度等も評価することも可能である。
【００７０】
なお、被測定物による導波光の減衰量が小さい場合には図１８に示されたようにコアに空孔を配置したタイプが好適であり、減衰量が大きい場合には図１９または図２０に示されたようにクラッドに空孔を配置したタイプが好適である。
【００７１】
図２１〜図２３それぞれは、第３実施形態に係る光導波路製造方法により製造される平面型の光導波路によるセンサの第４〜第６構成例を説明するための図である。これら図２１〜２３は、第２集合工程Ｓ１３により形成される集合体の長手方向に垂直な断面の図を示す。第２集合工程Ｓ１３では、第１延伸工程Ｓ１２で形成された複数本の第１延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃ等が束ねられ、これら部材が集合用パイプの内部に収納される。これにより、集合体が得られる。
【００７２】
第１延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃは、図１４を用いて説明された延伸体と同様の構造を有する。図２３中に示される第１延伸体４６ｄ、４６ｅ、４６ｆも、第１延伸体４６ａ、４６ｂ、４６ｃと同様にして用意される。特に第１延伸体４６ｄは、直線状の高屈折率領域を有する点で第１延伸体４６ｃと同様であるが、領域Ａが図１８〜図２０の何れかに示されたような空孔を有する構成となっている。
【００７３】
この集合体が第２延伸工程Ｓ１４において加熱により軟化された状態でその長手方向に沿って延伸されることにより、第２延伸体が形成される。第２延伸体は切断工程Ｓ１５で切断され、その切断面が研磨工程Ｓ１６で研磨される。このようにしてセンサが製造される。これら図２１〜図２３において、太い黒線は断面における高屈折率領域を表す。
【００７４】
図２１に示された第４構成例のセンサは、Ｙ分岐光導波路の構成を有しており、図２１中の下端からコアに光を入射させ、分岐後の２つのコアの上端から光を出射させ、そして、その出射光のパワーを測定する。分岐後の左側のコアの内部または隣接するクラッド（図中の領域Ａ）には、図１８〜図２０に示されたような直線光導波路と同様に空孔が配置されている。それ故、被測定物の有無・種類・濃度等を左側のコアから出射される光の減衰量を元に評価することが可能である。ただし、この評価の際に空孔が存在しない右側のコアから出射される光のパワーとの差分を求めることにより、下側の端のコアに入射する光のパワー変動の影響を排除することが可能になり、より正確な評価が実現される。また、特定波長における左側コアと右側コアとの光パワー差分のみでなく、両コア間での損失スペクトル差（減衰量の波長依存性差）を評価すれば、被測定物の種類・濃度等をより精度よく評価することが可能になる。
【００７５】
図２２に示された第５構成例のセンサは、マッハツェンダ干渉計の構成を有しており、図２２中の下端にコアに光を入射させ、上側のコアから光を出射させて、その出射光のパワーを測定する。マッハツェンダ干渉計の左側アームのコアの内部または隣接するクラッド（図中の領域Ａ）には、図１８〜図２０に示されたような直線光導波路と同様に空孔が配置されている。それ故、空孔に被測定物が入ると屈折率変化により干渉計アーム間の位相差が変化し干渉光パワーが変動する。これを元に被測定物の屈折率を評価することが可能になる。
【００７６】
図２３に示された第６構成例のセンサは、リング型共振器の構成を有しており、図２３中の下端にコアに光を入射させ、上側のコアから光を出射させて、そして、その出射光のパワーまたはリング共振器の共振周波数（共振波長）を測定する。リング型共振器のコアの内部または隣接するクラッド（図中の領域Ａ）には、図１８〜図２０に示された直線光導波路と同様に空孔が配置されている。空孔に被測定物が入ると屈折率変化によりリング共振器の共振周波数（共振波長）が変化する。それ故、特定波長の光を入射させて、その波長での損失変化を測定したり、或いは、入射光の波長をスキャンしながら損失変化を測定して共振波長そのものを測定することで、被測定物の屈折率を評価することが可能になる。
【００７７】
なお、図２３に示された第６構成例のセンサにおいてはリング共振器のリング部分を複数の基本パーツを組合せて構成しているが、図１７の領域（ｂ）に示されたようにリング部分を一つの基本パーツとして構成することも考えられる。さらに、図１７の領域（ａ）に示された構成と同様に複数のリング共振器を連接させることにより、屈折率変化に対する感度を高めることも可能である。
【００７８】
図１８〜図２３の何れに示されたセンサの構成例においても、光導波路をパッケージングする際に、空孔部分のみが被測定物が存在する外界と直接接触するようにすることで、光導波路中の空孔部分以外に被測定物が触れることを防止し、測定の対する外界の影響を排除することが可能になる。
【００７９】
なお、各種光導波路の製造方法として、各種光導波路用母材を切断する製造方法の説明を行ってきたが、切断して得られた光導波路を複数個用意し、それぞれの光導波路の光導波路パターンを任意に接合するように、複数個の光導波路を配置することにより、新たな導波路パターンを構成した複合型の光導波路を構成してもよい。使用される複数個の光導波路は、異種でも同種の構造でもよく、お互いの導波路パターンが接合するのに適した構造を有していればよい。使用される複数個の光導波路は、センサ機能を有するものが含むものであってもよい。また、それをパッケージに収納する際には、図７に示すように、複合型の光導波路を２枚の透明板に貼り付けた状態としてもよい。
【符号の説明】
【００８０】
１…光導波路、１１…高屈折率領域、１２…低屈折率領域、２０…部材、２１、２１Ａ…ロッド、２２、２２Ａ…パイプ、２３、２３Ａ…集合用パイプ、３０…集合体、４０…延伸体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【国際調査報告】
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