(57)【要約】  本発明は、像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズに関し、少なくとも１つの光学要素（１００）は、所与の動作波長において１．６より大きい屈折率ｎを有する立方結晶材料を含み、像投影システムの像側開口数ＮＡは、屈折率ｎより小さく、屈折率ｎと像投影システムの開口数ＮＡとの差（ｎ−ＮＡ）は、大きくても０．２である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
特定の動作波長において１．６より大きい屈折率ｎを有する立方結晶材料を含む少なくとも１つの光学要素（１００）と、
前記屈折率ｎより小さい像側開口数ＮＡとを有し、
前記屈折率ｎと前記像投影システムの前記開口数ＮＡとの差（ｎ−ＮＡ）が、大きくても０．２である像投影システム。
【請求項２】
像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
特定の動作波長において屈折率ｎを有する立方結晶材料を含む少なくとも１つの光学要素（１００）と、
少なくとも１．５の像側開口数ＮＡとを有し、
前記屈折率ｎと前記像投影システムの前記開口数ＮＡとの差（ｎ−ＮＡ）が、大きくても０．２である像投影システム。
【請求項３】
像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
特定の動作波長において屈折率ｎを有する立方結晶材料を含み、かつ、平坦光射出表面を有する少なくとも１つの光学要素（１００）と、
前記屈折率ｎより小さい像側開口数ＮＡとを有し、
前記屈折率ｎと前記像投影システムの前記開口数ＮＡとの差（ｎ−ＮＡ）が、大きくても０．２である像投影システム。
【請求項４】
前記屈折率ｎと前記開口数ＮＡとの差（ｎ−ＮＡ）が、０．０５〜０．２０の範囲に、好ましくは、０．０５〜０．１５の範囲に、特別な選好によっては、０．０５〜０．１０の範囲にあることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項５】
前記立方結晶材料が酸化物を含むことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項６】
前記立方結晶材料が、サファイア（Ａｌ2Ｏ3）を含み、かつ酸化カリウム又は酸化カルシウムを含むことを特徴とする請求項５に記載の像投影システム。
【請求項７】
前記立方結晶材料が、７Ａｌ2Ｏ3・１２ＣａＯ、Ａｌ2Ｏ3・Ｋ2Ｏ、Ａｌ2Ｏ3・３ＣａＯ、Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2ＫＯ、Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2２Ｋ、Ａｌ2Ｏ3・３ＣａＯ６Ｈ2Ｏを含有するグループから選択される少なくとも１つの材料を含むことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項８】
前記立方結晶材料が、酸化カルシウム、酸化ナトリウム、酸化シリコンを含むことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項９】
前記立方結晶材料が、ＣａＮａ2ＳｉＯ4及びＣａＮａ4Ｓｉ3Ｏ9を含有するグループから選択される少なくとも１つの材料を含むことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項１０】
前記立方結晶材料が、Ｓｒ（ＮＯ3）2、ＭｇＯＮａ2Ｏ・ＳｉＯ2、Ｃａ（ＮＯ3）2を含有するグループから選択される少なくとも１つの材料を含むことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項１１】
前記光学要素（１００）が、前記像投影システムの像側に対して最後の位置に配置される屈折力を有するレンズであることを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項１２】
前記光学要素（１００）が、屈折力を有する第１部分要素（１０）と実質的に全く屈折力を持たない第２部分要素（２０）からなることを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項１３】
前記第１部分要素（１０）が、実質的に平凸状のレンズであることを特徴とする請求項１２に記載の像投影システム。
【請求項１４】
前記第２部分要素（２０）が、平行平面板であることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の像投影システム。
【請求項１５】
前記立方結晶材料が、前記第１部分要素（１０）内に存在し、一方、実質的に屈折力の無い状態の前記第２部分要素（２０）が、前記第１部分要素（１０）内の材料より大きな屈折率を有する第２材料を含むことを特徴とする請求項１２から１４のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項１６】
前記第２材料が、マグネシウム・スピネル（ＭｇＡｌ2Ｏ4）、イットリウム・アルミニウム・ガーネット（Ｙ3Ａｌ5Ｏ12）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、スカンジウム・アルミニウム・ガーネット（Ｓｃ3Ａｌ5Ｏ12）を含有するグループから選択されることを特徴とする請求項１５に記載の像投影システム。
【請求項１７】
前記第２部分要素（２０）が、１つの要素軸を有し、かつ、同じ結晶学的カットであり、かつ、その向きが前記要素軸の周りで互いに対して回転した状態で配列される少なくとも２つのコンポーネント部を有することを特徴とする請求項１２から１６のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項１８】
前記第１コンポーネント部（２１）と前記第２コンポーネント部（２２）が、それぞれ、結晶学的（１１１）カットであり、かつ、その向きが前記要素軸の周りで互いに対して６０°＋ｋ×１２０°（ｋ＝０，１，２，…）だけ回転した状態で配列されることを特徴とする請求項１７に記載の像投影システム。
【請求項１９】
前記第１コンポーネント部と前記第２コンポーネント部が、それぞれ、結晶学的（１００）カットであり、かつ、その向きが前記要素軸の周りで互いに対して４５°＋ｌ×９０°（ｌ＝０，１，２，…）だけ回転した状態で配列されることを特徴とする請求項１７に記載の像投影システム。
【請求項２０】
前記第２部分要素が、１つの要素軸と少なくとも４つのコンポーネント部（２１〜２４）を有し、第１コンポーネント部（２１）と第２コンポーネント部（２２）が、それぞれ、結晶学的（１１１）カットであり、かつ、その向きが前記要素軸の周りで互いに対して６０°＋ｋ×１２０°（ｋ＝０，１，２，…）だけ回転した状態で配列され、第３コンポーネント部（２３）と第４コンポーネント部（２４）が、それぞれ、結晶学的（１００）カットであり、かつ、その向きが前記要素軸の周りで互いに対して４５°＋ｌ×９０°（ｌ＝０，１，２，…）だけ回転した状態で配列されることを特徴とする請求項１２から１９のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項２１】
前記動作波長が、２５０ｎｍより短い、好ましくは、２００ｎｍより短い、特別な選好によっては、１６０ｎｍより短いことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
【請求項２２】
前記請求項のいずれか一項に記載の、像投影システムである投影対物レンズを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項２３】
微細構造コンポーネントをマイクロリソグラフィにより製造する方法であって、
光感応性材料のコーティングが、少なくとも一部の上に堆積される基板（２０６）を設けるステップと、
その像が形成される構造を保持するマスク（２０４）を設けるステップと、
請求項２２に記載の投影露光装置（２００）を用意するステップと、
前記投影露光装置（２００）によって、前記コーティング・エリア上に前記マスク（２０４）の少なくとも一部を投影するステップとを有する方法。
【請求項２４】
請求項２３に記載の方法によって生産される微細構造コンポーネント。
【請求項２５】
マイクロリソグラフィ投影露光装置（２００）の投影対物レンズ内の光学要素（１００）を製造するための原料としての材料であって、７Ａｌ2Ｏ3・１２ＣａＯ、Ａｌ2Ｏ3・Ｋ2Ｏ、Ａｌ2Ｏ3・３ＣａＯ、Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2ＫＯ、Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2２Ｋ、Ａｌ2Ｏ3・３ＣａＯ６Ｈ2Ｏ、ＣａＮａ2ＳｉＯ4、ＣａＮａ4Ｓｉ3Ｏ9、Ｓｒ（ＮＯ3）2、ＭｇＯＮａ2Ｏ・ＳｉＯ2、Ｃａ（ＮＯ3）2を含有するグループから選択される、材料の使用法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズに関する。特に、本発明は、屈折率の高い結晶材料を使用し、同時に、像投影特性に及ぼす固有の複屈折の悪い影響を制限する可能性を提供する投影対物レンズに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在知られているマイクロリソグラフィ対物レンズ、特に、１．０より大きい開口数（ＮＡ）の値を有する液浸対物レンズの中で、屈折率の高い材料を使用する必要性が増加している。本文脈における屈折率は、所与の波長についての屈折率の値が、１９３ｎｍの波長で約１．５６である石英の屈折率を超える場合に、高いと言われる。ＤＵＶ波長とＶＵＶ波長（＜２５０ｎｍ）における屈折率が、１．６より大きい多くの材料、たとえば、波長１９３ｎｍで約１．８７の屈折率を有するマグネシウム・スピネル、１９３ｎｍにおいてその屈折率が約２．０である酸化マグネシウムが知られている。
【０００３】
これらの材料は、レンズ要素に使用されるときに、立方結晶構造のため、波長が短くなるに伴って増加する固有の複屈折を示すという問題を呈し、たとえば、マグネシウム・スピネルでは、１９３ｎｍの波長における固有の複屈折によるリターディションは、５２ｎｍ／ｃｍとして測定され、酸化マグネシウムでは、１９３ｎｍの波長における固有の複屈折によるリターディションは、７２ｎｍ／ｃｍとして推定された。設計パラメータに応じて、この大きさのリターディションは、その像が投影される構造の幅の３〜５倍大きい、像フィールド内の光線の横方向変位をもたらす。
【０００４】
蛍石結晶レンズの固有の複屈折が、光学像の形成に及ぼす有害な影響を低減する手段として、ＵＳ  ２００４／０１０５１７０  Ａ１とＷＯ  ０２／０９３２０９  Ａ２は、「クロッキング（ｃｌｏｃｋｉｎｇ）」、すなわち、互いに回転した向きを有する同じ結晶学的カットの蛍石結晶レンズを配列すること、さらに、異なる結晶学的カットを有する機構のいくつかのグループ（たとえば、１００−レンズのグループと１１１−レンズのグループ）を互いに組み合わせることとして知られる概念を開示する。
【０００５】
この方法を用いると、上述した屈折率の高い立方結晶材料においても固有の複屈折の有害な影響の、ある程度の補償を達成することが可能である。しかし、たとえば、像側の最後の位置（通常、屈折率の高い材料が使用される場所である）に配列される平凸状のレンズ内の外軸光線束が特にその事例であるが、それぞれの「補償経路長(compensation path length)」（たとえば、互いに干渉状態に入る光線が、同じ結晶学的カットの互いに回転した部分内で進むそれぞれの経路長）が、互いに異なる場合、上述した「クロッキング」を用いて達成される補償が、不完全であるというさらなる問題が残ったままである。この問題は、固有の複屈折の影響が強ければ強いほど益々強く現れ、上述した屈折率の高い材料を、特に、リソグラフィ対物レンズの像面の近くで、たとえば、最終レンズ要素として使用することをより難しくさせ、その時、そのエリアで生じ、また、結晶学的（１００）カットと（１１１）カットにおける特に強い固有の複屈折にも関連する大きな光線角度を伴う。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズを提供するという目的を有し、屈折率の高い結晶材料を使用し、同時に、固有の複屈折のネガティブな影響を制限する可能性を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様によれば、本発明による像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズは、所与の動作波長において１．６より大きい屈折率ｎを有する立方結晶材料を含む少なくとも１つの光学要素を含み、この時、像投影システムは、ある像側開口数ＮＡを有し、屈折率ｎと像投影システムの開口数ＮＡとの差（ｎ−ＮＡ）は、大きくても０．２である。
【０００８】
この概念を提案するときに、本発明は、まず第１に、固有の複屈折の影響が、波長が短くなるに伴って直線レートで増加せず、最初は徐々に、その後、波長が短くなり続けるにつれて劇的に増加するという観察に基づく。この非線形性は、所与の場合の動作波長がそれぞれの材料についての（ＵＶ範囲内の）吸収端に近づけば近づくほど益々顕著である。
【０００９】
本発明によれば、可能性のある最も高い屈折率を有する材料についての利用可能な可能性は、限界まで使用されない。むしろ、投影光が、投影対物レンズを通して依然として透過され、かつ、最も広い光線角度が生じる場合でも像形成に使用されるような幾何学的条件に合うために、屈折率は、まさに十分に高く、かつ、必要以上に高くないように選択される。同時に、本発明によれば、屈折率の大きさに課されるより適度の要件が、その吸収端が、ＵＶ範囲内のより深くにある結晶材料を選択するために使用され、その結果、動作波長の範囲内の固有の複屈折は、その範囲内のより高い点に吸収端を有する材料においてそうであるよりも小さい、又は、より少ない増加を示す。
【００１０】
たとえば、ＮＡ＝１．５の開口数の場合、１９３ｎｍの典型的な動作波長で透明であり、かつ、たとえば、１．８７（マグネシウム・スピネル）以上の高い屈折率を有する材料が利用可能であるが、可能性のある最も高い屈折率の結晶材料は、本発明によれば、選択するときに意識して回避される。代わりに、本発明によれば、屈折率ｎが像投影システムの像側開口数を超える差は小さいが、投影光が、像投影システムを通過し、最も広い光線角度が生じる場合でも、像形成に寄与するのに依然としてちょうどよい材料が、求められ、見出される。
【００１１】
さらなる態様によれば、像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズは、所与の動作波長において屈折率ｎを有する立方結晶材料を含む少なくとも１つの光学要素を含み、この時、像投影システムは、少なくとも１．５０の像側開口数ＮＡを有し、屈折率ｎと像投影システムの開口数ＮＡとの差（ｎ−ＮＡ）は、大きくても０．２である。
【００１２】
さらなる態様によれば、像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズは、所与の動作波長において屈折率ｎを有する立方結晶材料を含み、かつ、平坦光射出表面を有する少なくとも１つの光学要素を含み、この時、像投影システムは、屈折率ｎより小さい像側開口数ＮＡを有し、屈折率ｎと像投影システムの開口数ＮＡとの差（ｎ−ＮＡ）が、大きくても０．２である。
【００１３】
好ましくは、光学要素の屈折率ｎと像投影システムの開口数ＮＡとの差（ｎ−ＮＡ）は、０．０５〜０．２０の範囲に、好ましくは、０．０５〜０．１５の範囲に、特別な選好によっては、０．０５〜０．１０の範囲にある。これらの範囲を用いると、先の説明によれば、固有の複屈折の制限が、屈折率の上限によって得られ、一方、投影対物レンズの総レンズ容積の制限が、屈折率の下限によって得られる。
【００１４】
本発明に従って使用される材料によって、好ましくは、満たされるべきであるさらなる基準は、湿気とＵＶ光に耐える適切な安定性、高い硬度と良好な光学機械加工性、及び、できる限りは、非毒性のコンポーネントを含むことである。
【００１５】
好ましい実施態様では、立方結晶材料は、比較的高い屈折率に対して適切な透過性を提供する酸化物を含む。
【００１６】
好ましい実施態様では、立方結晶材料は、サファイア（Ａｌ2Ｏ3）を含み、かつ酸化カリウム又は酸化カルシウムを含む。
【００１７】
特に、立方結晶材料は、好ましくは、７Ａｌ2Ｏ3・１２ＣａＯ、Ａｌ2Ｏ3・Ｋ2Ｏ、Ａｌ2Ｏ3・３ＣａＯ、Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2ＫＯ、Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2２Ｋ、及びＡｌ2Ｏ3・３ＣａＯ６Ｈ2Ｏを含むグループから選択される少なくとも１つの材料を含む。
【００１８】
これらの材料内のサファイア部分（Ａｌ2Ｏ3）は、バンドギャップの幅広化、又は、ＵＶ範囲内への吸収端の変位と同時に屈折率の増加をもたらし、さらに、屈折率低下コンポーネントが混合された結晶を完全なものにし、上述した固有の複屈折の減少をもたらす。
【００１９】
さらなる好ましい実施態様では、立方結晶材料は、酸化カルシウム、酸化ナトリウム、酸化シリコンを含む。立方結晶材料は、好ましくは、ＣａＮａ2ＳｉＯ4及びＣａＮａ4Ｓｉ3Ｏ9を含むグループから選択される少なくとも１つの材料を含む。
【００２０】
さらなる好ましい実施態様では、立方結晶材料は、好ましくは、Ｓｒ（ＮＯ3）2、ＭｇＯＮａ2Ｏ・ＳｉＯ2、Ｃａ（ＮＯ3）2を含むグループから選択される少なくとも１つの材料を含む。
【００２１】
光学要素は、好ましくは、像投影システムの像側の最後の屈折レンズである。
【００２２】
好ましい実施態様によれば、光学要素は、屈折力を有する第１部分要素と本質的に全く屈折力を持たない第２部分要素からなる。この機構における第１部分要素は、実質的に平凸状のレンズであり、第２部分要素は、平行平面板である。
【００２３】
光学要素についてのこの種の設計は、開口値が大きい場合に、対処される必要がある像投影誤差に対する最大の寄与を通常示す球面収差の本質的に有効な補正を提供するという利点を有する。光学要素のエリアにおける光線幾何形状が、テレセントリックである場合、特に平行平面部分要素は、像フィールドにわたって均一である球面収差の補正を達成する有利な方法を提供する。
【００２４】
屈折力を有する第１部分要素（すなわち、特に、平凸状のレンズ）と対照的に、実質的に屈折力を持たず、かつ、同じ結晶学的カットの互いに回転した部分から構成される第２部分要素内の補償経路は、実質的に等しく、それにより、少なくともこの観点から、クロッキング方式によって固有の複屈折の有効な補正を達成することが可能である。それに応じて、第１部分要素内と比べて、実質的に屈折力を持たない第２部分要素内で、高い屈折率の材料が使用される場合が、有利であり、この高い屈折率は、特に、上述した差と比べて開口数からさらに離れる可能性がある。
【００２５】
好ましい実施態様では、第２材料は、したがって、マグネシウム・スピネル（ＭｇＡｌ2Ｏ4）、イットリウム・アルミニウム・ガーネット（Ｙ3Ａｌ5Ｏ12）、ＭｇＯ、スカンジウム・アルミニウム・ガーネット（Ｓｃ3Ａｌ5Ｏ12）を含むグループから選択される。
【００２６】
固有の複屈折が、クロッキング概念によって補償されることを可能にするために、第２部分要素は、１つの要素軸を有し、かつ、同じ結晶学的カットを有するとともに向きが要素軸の周りで互いに対して回転した状態で配列される少なくとも２つのコンポーネント部を有する。
【００２７】
一実施態様では、２つのコンポーネント部の第１と第２は、それぞれ、結晶学的（１１１）カットであり、かつ、要素軸の周りで互いに対して６０°＋ｋ×１２０°（ｋ＝０，１，２，…）だけ回転している。
【００２８】
さらなる実施態様では、２つのコンポーネント部の第１と第２は、それぞれ、結晶学的（１００）カットであり、かつ、要素軸の周りで互いに対して４５°＋ｌ×９０°（ｌ＝０，１，２，…）だけ回転している。
【００２９】
さらなる実施態様では、第２部分要素は、要素軸と少なくとも４つのコンポーネント部を有し、４つのコンポーネント部の第１と第２のコンポーネント部は、それぞれ、結晶学的（１１１）カットであり、かつ、要素軸の周りで互いに対して６０°＋ｋ×１２０°（ｋ＝０，１，２，…）だけ回転し、４つのコンポーネント部のさらなる第３と第４のコンポーネント部は、それぞれ、結晶学的（１００）カットであり、かつ、要素軸の周りで互いに対して４５°＋ｌ×９０°（ｌ＝０，１，２，…）だけ回転する。
【００３０】
本発明は、さらに、マイクロリソグラフィ投影露光装置、微細構造コンポーネントの製造方法、微細構造コンポーネントに関する。
【００３１】
本発明は、さらに、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ内の光学要素を製造するための原料としての材料であって、７Ａｌ2Ｏ3・１２ＣａＯ、Ａｌ2Ｏ3・Ｋ2Ｏ、Ａｌ2Ｏ3・３ＣａＯ、Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2ＫＯ、Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2２Ｋ、Ａｌ2Ｏ3・３ＣａＯ６Ｈ2Ｏ、ＣａＮａ2ＳｉＯ4、ＣａＮａ4Ｓｉ3Ｏ9、Ｓｒ（ＮＯ3）2、ＭｇＯＮａ2Ｏ・ＳｉＯ2、Ｃａ（ＮＯ3）2を含むグループから選択される、材料の使用に関する。
【００３２】
本発明のさらなる実施態様は、本説明においてならびに従属請求項において見出されることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
本発明は、以降で、添付図面を参照してより詳細に説明される。
【００３４】
単に略図として、図１は、本発明による像投影システム内の光学要素１００の構造を示す。好ましくは、光学要素１００は、特に、以降で図２において、その主要な設計構造が説明されることになるマイクロリソグラフィ投影対物レンズ内の像側の最終のレンズである。
【００３５】
図１に示す光学要素１００は、平凸状のレンズの形態の第１部分要素１０と平行平面板の形態の第２部分要素２０からなり、第２部分要素２０の光入射表面は、第１部分要素１０の光出射表面のすぐ近くに配列され、好ましくは、密着によって第１部分要素１０に結合される。
【００３６】
図１には、平行平面コンポーネント板２１、２２、２３、２４の形態の全部で４つのコンポーネント部を有する第２部分要素２０の構造的構成も概略的に示される。第１コンポーネント板２１と第２コンポーネント板２２は、この機構では、それぞれ、結晶学的（１１１）カットであり、かつ、その向きが要素軸（図１では、光学軸ＯＡに一致する）の周りで互いに対して６０°だけ（又は、一般に、６０°＋ｋ×１２０°（ｋ＝０，１，２，…）だけ）回転する。第３コンポーネント板２３と第４コンポーネント板２４は、それぞれ、結晶学的（１００）カットであり、かつ、その向きが要素軸の周りで互いに対して４５°だけ（又は、一般に、４５°＋ｌ×１２０°（ｌ＝０，１，２，…）だけ）回転する。
【００３７】
第２部分要素２０は、さらなる実施形態では、同じ結晶学的カットであり、かつ、要素軸の周りで互いに対する回転を持って配列される全部で２つのコンポーネント部を有する。たとえば、これらのコンポーネント部は、それぞれ、結晶学的（１００）カットであり、かつ、要素軸の周りで、互いに対して４５°＋ｌ×９０°（ｌ＝０，１，２，…）の回転を持って配列されることができ、又は、コンポーネント部は、それぞれ、結晶学的（１１１）カットであり、かつ、要素軸の周りで互いに対して６０°＋ｋ×１２０°（ｋ＝０，１，２，…）の回転を持って配列される。
【００３８】
第１部分要素１０は、屈折率ｎと像投影システムの開口数ＮＡとの差（ｎ−ＮＡ）が、大きくても０．２であるように、像投影システムの開口数ＮＡに応じて選択される屈折率の立方結晶材料でできている。
【００３９】
例として、ＮＡ＝１．５の投影対物レンズの開口数を仮定する場合、第１部分要素の立方結晶材料の屈折率ｎは、それに応じて大きくても１．７である。
【００４０】
本発明に従って特に好適である材料の一覧は、以下の表１に提示される。第２列に挙げる数値は、λ＝５８９ｎｍにおける各結晶材料についてのそれぞれの屈折率ｎdを示すが、λ＝１９３ｎｍの通例の波長における屈折率が、通常、約０．１だけ大きいことがここで留意されるべきである。
【００４１】
【表１】
2009505124.tif 000003
【００４２】
図２に示すように、投影露光装置２００は、照明装置２０１と投影対物レンズ２０２を含む。投影対物レンズ２０２は、開口絞りＡＰを有するレンズ機構２０３を収容し、光学軸ＯＡは、レンズ機構２０３によって規定される（光学軸ＯＡは、概略輪郭線でだけ示される）。照明装置２０１と投影対物レンズ２０２との間には、マスク保持器２０５によって光線経路内に保持されるマスク２０４が配列される。マイクロリソグラフィの分野で使用されるこの種のマスク２０４は、像面ＩＰ上で、たとえば４倍又は５倍減少する、投影対物レンズ２０２によって投影されるマイクロメートル〜ナノメートル範囲の構造を保持する。光感応性基板２０６具体的にはウェハは、基板保持器２０７によって位置決めされた像面ＩＰ内の所定場所に保持される。解像される構造の最小寸法は、照明に使用される光の波長λ、及び、投影対物レンズ２０２の像側開口数に依存し、投影露光装置２００の達成可能な最高解像度は、照明装置２０１の波長λが短くなるにつれ、また、投影対物レンズ２０２の像側開口数値が大きくなるにつれて増加する。
【００４３】
投影対物レンズ２０２は、本発明による像投影システムとして構成される。本発明による光学要素１００の考えられるおおよその位置は、図２にて破線で概略的に示され、図２では、光学要素は、投影対物レンズ２０２の像側の最終光学要素として、そのため、比較的広い開口角のエリア内で、好ましい実施形態に従って配列される。光学要素は、図１において説明した設計に適応し、それに応じて、特に、上述した実施形態に従って、平凸状のレンズの形態の第１部分要素１０と平行平面板の形態の第２部分要素２０からなる。
【００４４】
本発明が、たとえ特定の実施形態の提示を通して述べられても、当業者は、たとえば、個々の実施形態の特徴を組合せ、かつ／又は、交換することによって、変形実施形態及び代替実施形態についての多数の可能性を認識するであろう。それに応じて、こうした変形実施形態及び代替実施形態が本発明に含まれるものと考えられること、及び、本発明の範囲が、添付特許請求の範囲及びその等価物によってだけ制限されることが理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明による、像投影システムの好ましい実施形態における、光学要素の設計を説明するのに役立つ略図である。
【図２】本発明による、投影対物レンズを含むことができるマイクロリソグラフィ投影露光装置の主要な機構の略図である。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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