(57)【要約】  エッチング処理／クリーニング処理において、原料ガス及び活性化ガスによる内部部材の腐食を確実に防止することができ、長寿命で信頼性の高い誘電体バリア放電装置を提供する。このため、平板状の接地電極と高圧電極との間に誘電体を配置するとともに、この誘電体と接地電極との間に、四方がガスシールドされた放電空間部を形成するスペーサを配置する。そして、放電セルを覆う発生器カバーの内部空間に対してガスシールドされるように、原料ガス供給部と活性化ガス排出部とを設置する。また、上記内部空間に、原料ガスとは異なるパージガスを供給する。
2009069204.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板状の第１電極と、
一面が前記第１電極の一面に対して対向位置に配置された平板状の第２電極と、
前記第１電極及び前記第２電極の間に設けられ、その一面が、前記第１電極の前記一面に対して所定の僅かな間隙を有して対向する誘電体と、
前記第１電極及び前記誘電体の間に設けられ、前記第１電極の前記一面及び前記誘電体の前記一面に挟まれた前記間隙内に、四方がガスシールドされた放電空間部を形成する放電空間形成部と、
前記第１電極、前記放電空間形成部、前記誘電体及び前記第２電極を覆う発生器カバーと、
前記発生器カバーの内部空間に対してガスシールドされ、前記発生器カバーの外部から前記放電空間部に至る原料ガスの供給経路を形成する原料ガス供給部と、
前記発生器カバーの内部空間に対してガスシールドされ、前記放電空間部から前記発生器カバーの外部に至る活性化ガスの排出経路を形成する活性化ガス排出部と、
前記発生器カバーの内部空間に、前記原料ガスとは異なるパージガスを供給するパージガス供給部と、
前記第１電極の前記一面を冷却する冷却部と、
前記第１電極及び前記第２電極に交流電圧を印加して、前記放電空間部に誘電体バリア放電を発生させる交流電源と、
を備えたことを特徴とする誘電体バリア放電装置。
【請求項２】
放電空間形成部は、ロ字状を呈する板状部材からなり、第１電極及び誘電体の間に配置されることにより、前記第１電極の一面及び前記誘電体の一面に挟まれた間隙内に、前記板状部材の厚みを有する長方形状の放電空間部を形成することを特徴とする請求項１に記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項３】
活性化ガス排出部は、
第１電極内に形成された活性化ガス通路と、
前記活性化ガス通路の出口に一端が接続された活性化ガス配管と、
を備え、
前記活性化ガス通路は、放電空間部で生成された活性化ガスがその内部を通過して前記活性化ガス配管に進入するように、その入口が、前記放電空間部に面する前記第１電極の一面に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項４】
平板状の第１電極と、
一面が前記第１電極の一面に対して対向位置に配置された平板状の第２電極と、
前記第１電極及び前記第２電極の間に設けられ、その一面が、前記第１電極の前記一面に対して所定の僅かな間隙を有して対向する誘電体と、
前記第１電極及び前記誘電体の間に設けられ、前記第１電極の前記一面及び前記誘電体の前記一面に挟まれた前記間隙内に、三方がガスシールドされて残りの一方の一部又は全部が前記第１電極及び前記誘電体の各一端面側に開口する放電空間部を形成する放電空間形成部と、
一側壁に開口部が形成され、前記放電空間部の上記開口から放出される活性化ガスが前記開口部を介してその外部に直接排出されるように、前記第１電極、前記放電空間形成部、前記誘電体及び前記第２電極の少なくとも各一部を覆う発生器カバーと、
前記発生器カバーの内部空間に対してガスシールドされ、前記発生器カバーの外部から前記放電空間部に至る原料ガスの供給経路を形成する原料ガス供給部と、
前記発生器カバーの内部空間に、前記原料ガスとは異なるパージガスを供給するパージガス供給部と、
前記第１電極の前記一面を冷却する冷却部と、
前記第１電極及び前記第２電極に交流電圧を印加して、前記放電空間部に誘電体バリア放電を発生させる交流電源と、
を備えたことを特徴とする誘電体バリア放電装置。
【請求項５】
放電空間形成部は、コ字状を呈する板状部材からなり、第１電極及び誘電体の間に配置されることにより、前記第１電極の一面及び前記誘電体の一面に挟まれた間隙内に、前記板状部材の厚みを有する長方形状の放電空間部を形成することを特徴とする請求項４に記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項６】
放電空間部が開口する第１電極及び誘電体の各一端面側は、発生器カバーの一側壁に形成された開口部を通って、前記一側壁から前記発生器カバーの外部側に突出することを特徴とする請求項４に記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項７】
パージガス供給部によって発生器カバーの内部空間に供給されたパージガスは、前記発生器カバーの一側壁に形成された開口部から、前記発生器カバーの外部に排出されることを特徴とする請求項４に記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項８】
第１電極は、誘電体の一面に対向するその一面のみ、耐腐食性処理が施されたことを特徴とする請求項１又は請求項４に記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項９】
原料ガス供給部は、
第１電極内に形成された原料ガス通路と、
前記原料ガス通路の入口に一端が接続された原料ガス配管と、
を備え、
前記原料ガス通路は、前記入口から進入してその内部を通過した原料ガスが放電空間部に供給されるように、その出口が、前記放電空間部に面する前記第１電極の一面に形成されたことを特徴とする請求項１又は請求項４に記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項１０】
原料ガス供給部は、異なる種類の原料ガスを、種類毎に且つ同時に放電空間部に供給するため、複数組の原料ガス通路と原料ガス配管とを備えたことを特徴とする請求項９に記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項１１】
発生器カバーの内部空間のガス圧力を検出する圧力計と、
前記圧力計によって検出されたガス圧力に基づいて、前記発生器カバーの内部空間から前記発生器カバーの外部に排出するガス流量を制御して、前記発生器カバーの内部空間のガス圧力を一定に保持する排出ガス制御器と、
を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項４に記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項１２】
放電空間部における第１電極の一面及び誘電体の一面間の距離を、０．１ｍｍ〜２．０ｍｍの範囲とし、前記放電空間部におけるガス圧力を１．０ｋ〜０．１ＭＰａの範囲としたことを特徴とする請求項１から請求項１１の何れかに記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項１３】
原料ガス供給部は、フッ化化合物ガス、水素化合物ガスの何れかを原料ガスとして放電空間部に供給することを特徴とする請求項１から請求項１２の何れかに記載の誘電体バリア放電装置。
【請求項１４】
第１電極、放電空間形成部、誘電体、第２電極を含む放電セルが複数設けられ、前記放電セルは、前記第１電極及び前記誘電体の各一面に直交する方向に、多段に積層されたことを特徴とする請求項１から請求項１３の何れかに記載の誘電体バリア放電装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体製造工程におけるエッチング処理において被処理物にドライエッチングを実施するため、或いは、成膜装置であるＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：化学蒸着装置）の内部クリーニング処理においてＣＶＤ装置内壁のクリーニングを実施するために、誘電体バリア放電（無声放電）によってエッチングガス／クリーニングガスを生成する誘電体バリア放電装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体の製造工程では、ウェハー面のエッチング処理のため、例えば、ドライエッチング装置が使用される。このドライエッチング装置では、先ず、プラズマを用いて反応性ガスを励起及び分解することにより、反応性ガスを活性化ガス化する。そして、この活性化ガスをエッチング被処理物であるウェハー面に投射することにより、ウェハー面のエッチングを行う。【０００３】
エッチングガスとしては、例えば、四フッ化炭素（ＣＦ４）等のハロゲン系ガスが用いられ、プラズマ場においてフッ素ラジカル等の励起種が生成される。そして、生成されたフッ素ラジカル等を被処理面に投射してシリコンと反応させることにより、反応生成物である揮発性の高いガスを蒸発させる。即ち、エッチング処理が実施される。【０００４】
一方、ＣＶＤ等の反応処理チャンバー内では、反応過程において発生する残滓物が、チャンバーの内壁に徐々に蓄積されていく。このため、内壁に蓄積された残滓物をそのまま放置しておくと、残滓物がチャンバー内壁から落下して被処理物に付着してしまい、製品の性能劣化を引き起こす原因となり得る。このような問題を防止するためには、定期的にチャンバー内の残滓物を除去（クリーニング）する必要がある。【０００５】
チャンバー内のクリーニングは、例えば、エッチング処理と同様の処理によって実施される。即ち、チャンバー内に活性化ガスを投入することにより、この活性化ガスと残滓物とを反応させ、揮発性の高いガスとして蒸発させる。クリーニングガスとしては、例えば、四フッ化炭素（ＣＦ４）等のＰＣＦ（Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｃａｒｂｏｎ）ガスや、六フッ化硫黄（ＳＦ６）、三フッ化窒素（ＮＦ３）等が使用されている。なお、近年では、これらのような地球温暖化係数の高いガスに関しては、使用規制や代替ガスの模索が進んでいるところではあるが、何れにしても、フッ素系ガスがエッチング処理／クリーニング処理において有望であることに変わりはない。【０００６】
このように、エッチング処理／クリーニング処理の何れにおいても、プラズマを発生させることによって高活性状態のガスを生成し、その処理に使用している。例えば、ＣＦ４を用いた場合、ＣＦ４は、プラズマ中においてフッ素（Ｆ）及び二フッ化炭素（ＣＦ２）のガスに分離される。そして、それらの分離されたガスが、二酸化シリコン（ＳｉＯ２）と次式のように反応することによって、エッチング処理が行われる。
ＳｉＯ２  ＋  ４Ｆ  →  ＳｉＦ４  ＋  Ｏ２
ＳｉＯ２  ＋  ２ＣＦ２  →  ＳｉＦ４  ＋  ２ＣＯ【０００７】
ここで、図１１は従来の誘電体バリア放電装置の電極構成を示す斜視図、図１２は従来の誘電体バリア放電装置の全体構成を示す斜視図である。この誘電体バリア放電装置は、下記特許文献１乃至３に記載のものを簡略化して示したものである。従来、エッチングガス／クリーニングガスにおけるプラズマ処理は、図１１及び図１２に示す誘電体バリア放電装置に原料ガスを投入して誘電体バリア放電を実施し、活性化ガスを生成していた。【０００８】
即ち、図１１において、５９は２枚のＳＵＳ板５９ａ及び５９ｂが接合された接地電極、６０は高圧電極である。ＳＵＳ板５９ａ及び高圧電極６０の間には、放電空間部を形成するスペーサ（図示せず）を介して誘電体６１が設けられている。上記はＳＵＳ板５９ａ側の構成であるが、ＳＵＳ板５９ｂ側も同様の構成を有しており、ＳＵＳ板５９ｂ、スペーサ（図示せず）、誘電体６２、高圧電極（図示せず）がこの順に配置されて、放電空間部を形成している。【０００９】
接地電極５９と各高圧電極との間には高周波の交流電源６３によって電圧が印加され、接地電極５９と誘電体６１及び６２との間に形成された各放電空間部の全面に、均一な誘電体バリア放電が形成される。このように構成された放電セル６４は、図１２に示すように、発生器カバー６５によって全体が覆われている。【００１０】
原料ガス６６は、原料ガス入口６７から発生器カバー６５内に投入され、先ず、発生器カバー６５内に充満する。また、原料ガス６６は、放電セル６４の周囲から放電空間部の内部に進入し、放電空間部においてプラズマで活性化される。そして、生成された活性化ガス６８は、接地電極５９内に形成された活性化ガス通路６９と、接地電極５９及び活性化ガス出口７０間に接続された活性化ガス配管７１とを経由して、発生器カバー６５の外部へと取り出される。なお、７２は接地電極５９の電極面に形成された活性化ガス通路６９の入口、７３は活性化ガス通路６９の出口を示している。【００１１】
【特許文献１】日本特許第３５１３１３４号公報
【特許文献２】日本特許第３６０７８９０号公報
【特許文献３】日本特許第３６４１６０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
特許文献１乃至３に示す従来の誘電体バリア放電装置では、原料ガスが、放電セルが収納されている発生器カバー内に充満されてから、放電空間部に進入するように構成されている。そして、この発生器カバーの内部には、電極の放電空間部を構成する部分以外の部分（例えば、高圧電極の他面側、接地電極のうち誘電体や高圧電極で覆われていない部分等。以下、「電極外部」という）や給電部等も収納されている。このため、例えば、エッチング処理／クリーニング処理において、フッ酸（ＨＦ）のように非常に腐食性の高いガスをプラズマで生成して用いる場合、或いは、意図せずしてそのような高腐食性ガスが副産物として生成されてしまう場合には、このような高腐食性ガスが、電極外部や給電部に接触してしまう恐れがあった。【００１３】
なお、日本特開２００５−３１１１２０号公報には、プラズマに対する耐腐食性向上の観点から、放電空間部に面する電極面に、例えば、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）や酸化イットリウム（Ｙｒ２Ｏ３）を溶射して、耐腐食性を向上させるための処理を行うことが記載されている。しかし、電極のうち放電空間部に面する部分は平面であるのに対し、電極外部や給電部は複雑な形状をしている。このため、電極外部や給電部に上記耐腐食性処理を実施しようとすると、非常にコストが掛かるといった問題があった。また、同様の理由から、電極外部や給電部への完全な耐腐食性処理は困難であるといった課題もあった。【００１４】
なお、電極外部や給電部に上記耐腐食性処理を実施せずに腐食性ガスを使用した場合には、電極外部や給電部といった、発生器カバーの内部に設けられた部材（以下、「内部部材」ともいう）の腐食による劣化が原因となり、装置の寿命が著しく低下してしまう。【００１５】
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は、エッチング処理／クリーニング処理において、原料ガス及び活性化された原料ガスによる内部部材の腐食を確実に防止することができ、長寿命で信頼性の高い誘電体バリア放電装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
この発明に係る誘電体バリア放電装置は、平板状の第１電極と、一面が第１電極の一面に対して対向位置に配置された平板状の第２電極と、第１電極及び第２電極の間に設けられ、その一面が、第１電極の一面に対して所定の僅かな間隙を有して対向する誘電体と、第１電極及び誘電体の間に設けられ、第１電極の一面及び誘電体の一面に挟まれた間隙内に、四方がガスシールドされた放電空間部を形成する放電空間形成部と、第１電極、放電空間形成部、誘電体及び第２電極を覆う発生器カバーと、発生器カバーの内部空間に対してガスシールドされ、発生器カバーの外部から放電空間部に至る原料ガスの供給経路を形成する原料ガス供給部と、発生器カバーの内部空間に対してガスシールドされ、放電空間部から発生器カバーの外部に至る活性化ガスの排出経路を形成する活性化ガス排出部と、発生器カバーの内部空間に、原料ガスとは異なるパージガスを供給するパージガス供給部と、第１電極の一面を冷却する冷却部と、第１電極及び第２電極に交流電圧を印加して、放電空間部に誘電体バリア放電を発生させる交流電源と、を備えたものである。【００１７】
また、この発明に係る誘電体バリア放電装置は、平板状の第１電極と、一面が第１電極の一面に対して対向位置に配置された平板状の第２電極と、第１電極及び第２電極の間に設けられ、その一面が、第１電極の一面に対して所定の僅かな間隙を有して対向する誘電体と、第１電極及び誘電体の間に設けられ、第１電極の一面及び誘電体の一面に挟まれた間隙内に、三方がガスシールドされて残りの一方の一部又は全部が第１電極及び誘電体の各一端面側に開口する放電空間部を形成する放電空間形成部と、一側壁に開口部が形成され、放電空間部の上記開口から放出される活性化ガスが開口部を介してその外部に直接排出されるように、第１電極、放電空間形成部、誘電体及び第２電極の少なくとも各一部を覆う発生器カバーと、発生器カバーの内部空間に対してガスシールドされ、発生器カバーの外部から放電空間部に至る原料ガスの供給経路を形成する原料ガス供給部と、発生器カバーの内部空間に、原料ガスとは異なるパージガスを供給するパージガス供給部と、第１電極の一面を冷却する冷却部と、第１電極及び第２電極に交流電圧を印加して、放電空間部に誘電体バリア放電を発生させる交流電源と、を備えたものである。
【発明の効果】
【００１８】
この発明によれば、エッチング処理／クリーニング処理において、原料ガス及び活性化された原料ガスによる内部部材の腐食を確実に防止することができ、長寿命で信頼性の高い誘電体バリア放電装置を提供することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】この発明の実施の形態１における誘電体バリア放電装置の電極構成を示す斜視図である。
【図２】この発明の実施の形態１における誘電体バリア放電装置の全体構成を示す斜視図である。
【図３】所定の電極面に対する耐腐食性処理を説明するための図である。
【図４】図１に示す誘電体バリア放電装置を用いたガス経路の構成図である。
【図５】この発明の実施の形態２における誘電体バリア放電装置の電極構成を示す斜視図である。
【図６】この発明の実施の形態２における誘電体バリア放電装置の全体構成を示す斜視図である。
【図７】この発明の実施の形態３における誘電体バリア放電装置の電極構成を示す斜視図である。
【図８】この発明の実施の形態４における誘電体バリア放電装置の全体構成を示す斜視図である。
【図９】この発明の実施の形態５における誘電体バリア放電装置の全体構成を示す斜視図である。
【図１０】この発明の実施の形態５における誘電体バリア放電装置の他の構成を示す斜視図である。
【図１１】従来の誘電体バリア放電装置の電極構成を示す斜視図である。
【図１２】従来の誘電体バリア放電装置の全体構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００２０】
１  接地電極、  １ａ  ＳＵＳ板、  １ｂ  ＳＵＳ板、  ２  高圧電極、
３  誘電体、  ４  スペーサ、  ５  原料ガス、  ６  活性化ガス、  ７  スペーサ、
８  誘電体、  ９  高圧電極、  １０  放電セル、  １１  発生器カバー、
１２  原料ガス入口、  １３  活性化ガス出口、  １４  原料ガス配管、
１５  原料ガス通路、  １６  入口、  １７  出口、  １８  活性化ガス通路、
１９  活性化ガス配管、  ２０  入口、  ２１  出口、  ２２  冷却水通路、
２３  冷却水、  ２４  入口、  ２５  出口、  ２６  パージガス、
２７  パージガス入口、  ２８  パージガス出口、  ２９  圧力計、
３０  排出ガス制御器、  ３１  交流電源、  ３２  原料ガスボンベ、
３３  パージガスボンベ、  ３４  減圧弁、  ３５  減圧弁、  ３６  空気弁、
３７  空気弁、  ３８  マスフローコントローラ、  ３９  マスフローコントローラ、
４０  圧力計、  ４１  排出ガス制御器、  ４２  スペーサ、  ４３  発生器カバー、
４４  一側壁、  ４５  開口部、  ４６  反応チャンバー、  ４７  第１原料ガス、
４８  第２原料ガス、  ４９  第１原料ガス通路、  ５０  入口、  ５１  出口、
５２  第２原料ガス通路、  ５３  入口、  ５４  出口、  ５５  原料ガス配管、
５６  原料ガス配管、  ５７  活性化ガス配管、  ５８  活性化ガス配管、
５９  接地電極、  ５９ａ  ＳＵＳ板、  ５９ｂ  ＳＵＳ板、  ６０  高圧電極、
６１  誘電体、  ６２  誘電体、  ６３  交流電源、  ６４  放電セル、
６５  発生器カバー、  ６６  原料ガス、  ６７  原料ガス入口、  ６８  活性化ガス
６９  活性化ガス通路、  ７０  活性化ガス出口  ７１  活性化ガス配管、
７２  入口、  ７３  出口
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
この発明をより詳細に説明するため、添付の図面に従ってこれを説明する。なお、各図中、同一又は相当する部分には同一の符号を付しており、その重複説明は適宜に簡略化ないし省略する。【００２２】
実施の形態１．
図１はこの発明の実施の形態１における誘電体バリア放電装置の電極構成を示す斜視図、図２はこの発明の実施の形態１における誘電体バリア放電装置の全体構成を示す斜視図、図３は所定の電極面に対する耐腐食性処理を説明するための図である。先ず、図１乃至図３に基づいて、エッチングガス／クリーニングガスを生成するための誘電体バリア放電装置の全体構成と、その要部である電極構成とについて説明する。【００２３】
図１乃至図３において、１は長方形状を呈する平板状の接地電極（第１電極）である。この接地電極１は、平板状の２枚のＳＵＳ板１ａ及び１ｂを重ね合わせて接合することによって形成されている。２はその一面がＳＵＳ板１ａの一面に対して対向位置に配置された平板状の高圧電極（第２電極）、３は接地電極１と高圧電極２との間に設けられた、セラミックス板やガラス板等からなる誘電体である。【００２４】
４は接地電極１と誘電体３との間に設けられたスペーサ（放電空間形成部）である。図１では説明を容易にするため、誘電体３とスペーサ４とが離れた位置に描かれているが、実際には、図２に示すように、接地電極１、スペーサ４、誘電体３、高圧電極２がこの順に重ね合わされ、層状に構成されている。即ち、誘電体３は、スペーサ４が接地電極１との間に配置されることにより、その一面が、ＳＵＳ板１ａの上記一面に対して所定の僅かな間隙を有して対向する。【００２５】
上記スペーサ４は、接地電極１と誘電体３との間に配置されることにより、上述のように、ＳＵＳ板１ａの一面と誘電体３の一面との間に上記間隙を形成する。また、スペーサ４は、ＳＵＳ板１ａの一面と誘電体３の一面とに挟まれたこの間隙内に、四方がガスシールドされた放電空間部を形成する。例えば、スペーサ４は、図１に示すようなロ字状を呈する板状部材からなり、ＳＵＳ板１ａと誘電体３とに上下から挟まれることにより、その中央に形成された中空部によって、上記間隙内に、上記板状部材の厚みを有する長方形状の放電空間部を形成する。即ち、実施の形態１においては、接地電極１の一面と、誘電体３の一面と、上記中空部を形成するスペーサ４の内側面とによって囲まれた空間が放電空間部となる。【００２６】
上述のようにして形成された放電空間部は、図２に示すように接地電極１、スペーサ４、誘電体３が積層状に固定されると、接地電極１及びスペーサ４間、及びスペーサ４及び誘電体３間が完全にガスシールドされた状態となる。即ち、接地電極１及びスペーサ４間、及びスペーサ４及び誘電体３間を介して放電空間部の内外にガスが進入することはない。【００２７】
また、このエッチングガス／クリーニングガス生成用の誘電体バリア放電装置には、上記放電空間部に原料ガス５を供給するための原料ガス供給部、上記放電空間部から活性化された原料ガス５（以下、「活性化ガス６」という）を排出するための活性化ガス排出部、ＳＵＳ板１ａの一面を冷却するための冷却部が備えられている。なお、原料ガス供給部、活性化ガス排出部、冷却部の各具体的構成については後述する。【００２８】
上記は接地電極１のＳＵＳ板１ａ側の構成である。図１及び図２には、ＳＵＳ板１ｂ側とＳＵＳ板１ａ側とが同様の構成を有するものが示されている。即ち、接合面とは反対側のＳＵＳ板１ｂの一面側に、スペーサ７、誘電体８、高圧電極９が重ね合わされ、ＳＵＳ板１ｂと誘電体８との間に形成された間隙内に、スペーサ７によって四方がガスシールドされた放電空間部が形成される。以上により、接地電極１の両側に放電空間部が形成された放電セル１０が構成される。【００２９】
上記放電セル１０は、図２に示すように、発生器カバー１１によって全体が覆われている。この発生器カバー１１には、原料ガス入口１２と活性化ガス出口１３とが設けられている。即ち、原料ガス５は、原料ガス入口１２から原料ガス供給部を介して放電空間部に供給され、放電空間部で生成された活性化ガス６は、活性化ガス排出部を介して活性化ガス出口１３から排出される。
以下に、原料ガス供給部及び活性化ガス排出部の構成、並びに冷却部の構成について具体的に説明する。【００３０】
原料ガス供給部は、発生器カバー１１の外部から放電空間部に至る原料ガス５の供給経路を形成する。この原料ガス供給部は、原料ガス５の供給経路を、電極外部や給電部が配置された発生器カバー１１の内部空間から完全に分離するように構成されている。即ち、原料ガス供給部は、発生器カバー１１の内部空間に対してガスシールドされており、上記供給経路内の原料ガス５が発生器カバー１１の内部空間に進入するようなことはない。【００３１】
具体的に、原料ガス供給部は、原料ガス入口１２及び接地電極１間に接続された原料ガス配管１４と、接地電極１内に形成された原料ガス通路１５とにより構成される。接地電極１を構成する２枚のＳＵＳ板１ａ及び１ｂは、予めその接合面がハーフエッチング等によって不要な部分が除去されている。そして、ＳＵＳ板１ａ及び１ｂが重ね合わされることにより、上記除去された部分によって、接地電極１の内部に原料ガス通路１５が形成される（ハーフエッチング等によって接地電極１内に通路を形成することに関しては、例えば、日本特許第３６０７９０５号公報を参照）。【００３２】
１６はＳＵＳ板１ｂに形成された原料ガス通路１５の入口、１７はＳＵＳ板１ａ及び１ｂに形成された原料ガス通路１５の出口である。一端部が原料ガス入口１２に接続された原料ガス配管１４の他端部は、上記入口１６に接続される。また、上記出口１７は、入口１６から進入して原料ガス通路１５を通過してきた原料ガス５が放電空間部に供給されるように、放電空間部に面するＳＵＳ板１ａの上面（一面）に形成される。即ち、出口１７は、スペーサ４の中空部内に配置される（ＳＵＳ板１ａ側の放電空間部用）。同様に、ＳＵＳ板１ｂ側の放電空間部用として、出口１７が、放電空間部に面するＳＵＳ板１ｂの下面（一面）に形成される。【００３３】
原料ガス入口１２から送り込まれた原料ガス５は、原料ガス配管１４を通って入口１６から接地電極１内に進入する。そして、接地電極１内に形成された原料ガス通路１５を通過して、出口１７から放電空間部に供給される。【００３４】
活性化ガス排出部は、放電空間部から発生器カバー１１の外部に至る活性化ガス６の排出経路を形成する。この活性化ガス排出部は、活性化ガス６の排出経路を発生器カバー１１の内部空間から完全に分離するように構成されている。即ち、活性化ガス排出部は、発生器カバー１１の内部空間に対してガスシールドされており、上記排出経路内の活性化ガス６が発生器カバー１１の内部空間に進入するようなことはない。【００３５】
具体的に、活性化ガス排出部は、接地電極１内に形成された活性化ガス通路１８と、接地電極１及び活性化ガス出口１３間に接続された活性化ガス配管１９とにより構成される。活性化ガス通路１８は、原料ガス通路１５と同様に、例えば、ＳＵＳ板１ａ及び１ｂの接合面がハーフエッチングされること等によって形成される。【００３６】
２０はＳＵＳ板１ａ及び１ｂに形成された活性化ガス通路１８の入口、２１はＳＵＳ板１ｂに形成された活性化ガス通路１８の出口である。一端部が活性化ガス出口１３に接続された活性化ガス配管１９の他端部は、上記出口２１に接続される。また、上記入口２０は、放電空間部で生成された活性化ガス６が活性化ガス通路１８を通過して活性化ガス配管１９に進入することができるように、放電空間部に面するＳＵＳ板１ａの上面（一面）に形成される。即ち、入口２０は、スペーサ４の中空部内に配置される（ＳＵＳ板１ａ側の放電空間部用）。同様に、ＳＵＳ板１ｂ側の放電空間部用として、入口２０が、放電空間部に面するＳＵＳ板１ｂの下面（一面）に形成される。【００３７】
放電空間部で生成された活性化ガス６は、入口２０から接地電極１内に進入し、接地電極１内の活性化ガス通路１８を通過する。そして、出口２１から活性化ガス配管１９に進入し、活性化ガス出口１３から発生器カバー１１の外部に放出される。【００３８】
冷却部は、例えば、接地電極１内に形成された冷却水通路２２と、冷却水供給配管及び冷却水排出配管（共に図示せず）とによって構成される。冷却水供給配管は、発生器カバー１１の外部から冷却水通路２２に冷却水２３を供給するため、冷却水排出配管は、冷却水通路２２から発生器カバー１１の外部に冷却水２３を排出するために設けられるものである。また、冷却水通路２２は、原料ガス通路１５等と同様に、ＳＵＳ板１ａ及び１ｂの接合面がハーフエッチングされること等によって形成され、冷却効果を高めるため、放電空間部の範囲全体に渡るように形成される（概略に関しては、例えば、日本特許第３６０７９０５号公報を参照）。なお、２４はＳＵＳ板１ｂに形成された冷却水通路２２の入口、２５はＳＵＳ板１ｂに形成された冷却水通路２２の出口である。【００３９】
図２では、簡略化のため上記冷却部の記載が省略されている。また、冷却水２３による冷却機能に加えて更なる冷却機能が必要な場合には、例えば、高圧電極２及び９の接地電極１とは反対側に、放電ではなく冷却を目的とする接地電極が追加配置される。【００４０】
なお、上記原料ガス供給部、活性化ガス排出部、冷却部の具体的構成は、単に一例を示したものであり、所望の目的を達成することができれば、その構成は如何なるものでも構わない。なお、放電セル１０の積層化や装置の小型化には、図１及び図２に示す構成が好適である。即ち、上記記載の構成に加え、接地電極１の長手両端部を、スペーサ４及び７や誘電体３及び８の側方に突出させ、突出させた接地電極１の一方の端部に入口１６及び２４と出口２５とを、他方の端部に出口２１を形成する。そして、原料ガス通路１５と活性化ガス通路１８とを一直線状に配置し、放電空間部に開口する出口１７と入口２０とをなるべく離れた位置に配置する。また、図１及び図２に示すように、スペーサ４の短手方向の幅を接地電極１の短手方向の幅に合わせることにより、放電空間部をより広く確保することができるようにもなる。【００４１】
また、この誘電体バリア放電装置には、発生器カバー１１の内部空間の圧力を所定の設定値に保持する機能が備えられている。具体的に、発生器カバー１１の内部空間には、後述のパージガス供給部によって原料ガス５や活性化ガス６とは異なるパージガス２６が供給され、このパージガス２６が上記内部空間に充満した状態に保持されている。【００４２】
２７は発生器カバー１１に設けられたパージガス入口、２８は発生器カバー１１に設けられたパージガス出口である。パージガス入口２７は、発生器カバー１１の外部からその内部空間にパージガス２６を供給するため、パージガス出口２８は、発生器カバー１１の内部空間からその外部にパージガス２６を排出するために設けられたものである。２９は発生器カバー１１の内部空間のガス圧力を検出するための圧力計である。この圧力計２９は、パージガス入口２７に接続された配管部や、発生器カバー１１内等に設けられる。【００４３】
排出ガス制御器３０（ＡＰＣ：オートプレッシャコントローラ）は、圧力計２９によって検出されたガス圧力に基づいて、発生器カバー１１（パージガス出口２８）から排出するパージガス２６の流量を制御する。なお、発生器カバー１１の内部空間の圧力を一定に保持することができれば、上記圧力計２９や排出ガス制御器３０を特に設ける必要はない。例えば、排出ガス制御器３０の位置に手動バルブ等を設置しても、発生器カバー１１の内部空間に不活性ガス、即ちパージガス２６を充満させることは可能である。【００４４】
また、３１は高周波の交流電源を示している。交流電源３１は、図示されていないが、主として、コンバータ部、インバータ部、トランス部で構成される。そして、交流電源３１は、接地電極１と高圧電極２（及び９）との間に、誘電体３（及び８）を介して交流高電圧（例えば、３ｋＶ、１０ｋＨｚ）を印加し、放電空間部の全面に、均一な高電界の誘電体バリア放電（無声放電）を発生させる。【００４５】
接地電極１のうち放電空間部を形成する電極面（ＳＵＳ板１ａの一面、及びＳＵＳ板１ｂの一面）、即ち、高腐食性ガスが接触する恐れのある電極面には、図３に示すように、原料ガス５及び活性化ガス６に対する耐腐食性処理が施されている（図３の接地電極１の斜線部）。この耐腐食性処理は、例えば、接地電極１の上記電極面に、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）や酸化イットリウム（Ｙｒ２Ｏ３）等が溶射されることによって行われる。なお、図３では、上記説明を容易にするため、便宜上スペーサ４及び冷却部が省略されている。【００４６】
なお、上記構成の放電セル１０においては、低圧プラズマＣＶＤ等でガス圧力として用いられる０．０００５ＭＰａといった低気圧や、オゾナイザでガス圧力として用いられる０．１ＭＰａ以上といった圧力ではなく、それらの中間値である１ｋＰａ〜０．１ＭＰａのガス圧力を使用してプラズマを発生させる。また、プラズマを発生させるための放電ギャップ長は、短ギャップである０．２ｍｍ以下（好ましくは、０．１ｍｍ〜２．０ｍｍ）で設定される。このような設定により、効率的な誘電体バリア放電の形成と、放電空間部全体に渡る均一な放電とが可能となり、活性化ガス６の生成効率を向上させることができる。【００４７】
次に、上記構成を有する誘電体バリア放電装置を用いて構成したガス経路の一例について、図４に基づいて説明する。図４は図１に示す誘電体バリア放電装置を用いたガス経路の構成図である。【００４８】
図４において、３２はエッチング／クリーニング用の原料ガスボンベ、３３はパージガス用のパージガスボンベである。即ち、図４に示すガス経路は、原料ガス５（及び活性化ガス６）のための第１系統と、パージガス２６のための第２系統との２種類に分離されている。なお、半導体製造工程におけるエッチング処理や成膜装置チャンバー内のクリーニング処理に適用するためには、原料ガス５として、例えば、フッ素ガスやフッ化化合物ガス、或いは水素ガスや水素化合物ガスが、パージガス２６としては、例えば、アルゴン等の希ガス、或いは窒素が用いられる。【００４９】
３４及び３５は減圧弁、３６及び３７は各ガスを投入及び停止させるための空気弁、３８及び３９は各系統のガス流量を制御するためのマスフローコントローラ（ＭＦＣ）である。４０は放電空間部の圧力を検出するための圧力計、４１は圧力計４０によって検出されたガス圧力に基づいて、放電空間部から排出する活性化ガス６の流量を制御する排出ガス制御器（ＡＰＣ：オートプレッシャコントローラ）である。【００５０】
この発明の実施の形態１によれば、エッチング処理／クリーニング処理時に、原料ガス５や活性化ガス６によって、発生器カバー１１の内部空間に設けられた内部部材が腐食するようなことを確実に防止でき、誘電体バリア放電装置を長寿命で信頼性の高いものにすることができる。【００５１】
即ち、上記構成の誘電体バリア放電装置においては、原料ガスボンベ３２から放電空間部を通って反応チャンバーに至る第１系統と、パージガスボンベ３３から発生器カバー１１の内部空間を通って排気される第２系統とが、完全に分離されている。このため、原料ガス５や活性化ガス６が第２系統に進入したり、パージガス２６が第１系統に進入したりすることはなく、電極外部や給電部といった上記内部部材の、原料ガス５や活性化ガス６による腐食を確実に防止できる。その結果、耐腐食性処理をＳＵＳ板１ａ（及び１ｂ）の一面のみに施すように構成しても上記効果を奏することが可能となる。即ち、上記内部部材に対する耐腐食性処理が不要となり、製造工程の簡略化及び製造時間の短縮と、耐腐食性処理面積の低減とによって、装置の大幅なコストダウンが可能となる。【００５２】
更に、上記構成の誘電体バリア放電装置によれば、放電ギャップ長が短く、且つ冷却部によって放電空間部内のガスが低温に保たれるため、非平衡プラズマによる原料ガス５の効率的な活性化が可能となる。特に、スペーサ４（及び７）をロ字状を呈する板状部材によって構成することにより、放電空間部の形成や放電ギャップ長の短縮化を容易にすることが可能となる。【００５３】
なお、上記実施の形態１においては、接地電極１、スペーサ４（及び７）、誘電体３（及び８）によってシート状の放電空間部を形成した場合について説明した。これに対し、放電空間部を筒状に形成しても上記と同様の効果を得ることは可能である。但し、放電空間部を筒状に形成した場合には、放電空間部の中央部のガス温度が比較的高くなってしまい、エッチング処理用の強力な活性種が得られ難いといった問題がある。一方、実施の形態１で説明したように放電空間部をシート状に形成した場合には、放電空間部のガス温度が全体に均一化されるため、より強力な活性種を得ることができるといった利点がある。【００５４】
実施の形態２．
図５はこの発明の実施の形態２における誘電体バリア放電装置の電極構成を示す斜視図、図６はこの発明の実施の形態２における誘電体バリア放電装置の全体構成を示す斜視図である。図５及び図６に示す誘電体バリア放電装置は、実施の形態１で説明したものと比較して、放電空間部で生成された活性化ガス６の排出方法が異なる。なお、実施の形態１の場合と同様に、放電セル１０のＳＵＳ板１ａ側の構成とＳＵＳ板１ｂ側の構成とは上下対称であるため、以下においてはＳＵＳ１ａ側の構成についてのみ説明し、ＳＵＳ板１ｂ側の構成についてはその説明を省略する。【００５５】
４２は放電空間形成部からなるスペーサである。このスペーサ４２は、接地電極１と誘電体３との間に配置されることにより、ＳＵＳ板１ａの一面と誘電体３の一面との間に所定の僅かな間隙を形成する。また、スペーサ４２は、ＳＵＳ板１ａの一面と誘電体３の一面とに挟まされたこの間隙内に、三方がガスシールドされて残りの一方の一部又は全部が開口する放電空間部を形成する。例えば、スペーサ４２は、図５に示すようなコ字状を呈する板状部材からなり、ＳＵＳ板１ａと誘電体３とに上下から挟まれることにより、上記間隙内に、上記板状部材の厚みを有する長方形状の放電空間部を形成する。なお、実施の形態２においては、平板状を呈する接地電極１及び誘電体３の各一端面がほぼ面一に配置され、放電空間部がこの一端面側に開口するように、上記スペーサ４２が配置される。【００５６】
そして、放電空間部が開口する接地電極１及び誘電体３の各一端面側、即ち放電セル１０の一端面側は、発生器カバー４３から突出するように構成されている。具体的に、発生器カバー４３には、その一側壁４４に所定の大きさを有する開口部４５が形成されており、放電セル１０の一端面側は、図６に示すように、この開口部４５を通って一側壁４４から発生器カバー４３の外部側に突出するように配置されている。このため、放電空間部で生成された活性化ガス６は、上記開口部４５を介して、放電空間部の開口から発生器カバー４３の外部に直接排出される。【００５７】
なお、活性化ガス６の排出方法が上記記載の通りであるため、図１及び図２に示す構成では必要となる活性化ガス通路１８や活性化ガス配管１９は備えられていない。また、発生器カバー４３は、発生器カバー１１とは異なり、必ずしも放電セル１０の全体を覆うようには構成されていない。即ち、発生器カバー４３は、放電セル１０の一端面側を除く他の部分を覆うように設けられている。【００５８】
４６は被処理物が設置された反応チャンバーである。上述のように、放電空間部の開口から放出される活性化ガス６は、開口部４５を介して発生器カバー４３の外部に直接排出される。このため、図６に示すように、反応チャンバー４６を発生器カバー４３の一側壁４４側に隣接して配置することにより、活性化ガス６が放電空間部から反応チャンバー４６内に直接放出されるように構成することができる。【００５９】
また、実施の形態１では、活性化ガス出口１３及び反応チャンバー間の配管等に設置された排出ガス制御器４１によって放電空間部のガス圧力を制御する構成について示した。一方、図５及び図６に示す構成では上記排出ガス制御器４１を設置することができないため、例えば、放電空間部に直結された反応チャンバー４６内の圧力を何らかの方法で別途制御することにより、放電空間部のガス圧力の制御を行う。
その他の構成は、実施の形態１と同様である。【００６０】
この発明の実施の形態２によれば、放電空間部で生成される活性化ガス６が、放電空間部から発生器カバー４３の外部に直接排出されるため、活性化ガス６が生成されてから被処理物に当てられるまでの距離を短くすることができ、活性化ガス６の効率的な使用が可能となる。
その他は、実施の形態１と同様の効果を奏する。【００６１】
なお、実施の形態２においては、放電セル１０の一端面側を発生器カバー４３の外部に突出させる配置について説明したが、必ずしもこのような配置にする必要はない。例えば、放電セル１０の一端面側を発生器カバー４３の一側壁４４と面一に配置したり、一側壁４４よりも僅かに発生器カバー４３の内部側に配置したりしても良い。また、活性化ガス６が発生器カバー４３の内部空間に進入することを確実に防止するため、発生器カバー４３の一側壁４４と放電セル１０との間に形成された環状の隙間を塞ぎ、発生器カバー４３の内部空間と反応チャンバー４６内（放電空間部）とを完全にガスシールドするように構成しても良い。【００６２】
実施の形態３．
図７はこの発明の実施の形態３における誘電体バリア放電装置の電極構成を示す斜視図である。図７に示す誘電体バリア放電装置は、実施の形態１で説明したものと比較して、原料ガスを放電空間部に供給する構成が異なる。即ち、実施の形態３における原料ガス供給部は、異なる種類の原料ガスを、種類毎に且つ同時に放電空間部に供給するための構成が示されている。【００６３】
図７において、原料ガス供給部は、第１原料ガス４７を放電空間部に供給するための第１原料ガス供給部と、第２原料ガス４８を上記と同じ放電空間部に供給するための第２原料ガス供給部とにより構成される。なお、第１及び第２原料ガス供給部のそれぞれの構成は、実施の形態１における原料ガス供給部と同様の構成を有する。【００６４】
即ち、上記第１原料ガス供給部は、発生器カバー１１の外部から接地電極１までの第１原料ガス４７の供給経路を形成する第１原料ガス配管（図示せず）と、接地電極１内に形成された第１原料ガス通路４９とにより構成される。５０はＳＵＳ板１ｂに形成された第１原料ガス通路４９の入口、５１はＳＵＳ板１ａ及び１ｂに形成された第１原料ガス通路４９の出口である。また、上記第２原料ガス供給部は、発生器カバー１１の外部から接地電極１までの第２原料ガス４８の供給経路を形成する第２原料ガス配管（図示せず）と、接地電極１内に第１原料ガス通路４９とは別途形成された第２原料ガス通路５２とにより構成される。５３はＳＵＳ板１ｂに形成された第２原料ガス通路５２の入口、５４はＳＵＳ板１ａ及び１ｂに形成された第２原料ガス通路５２の出口である。【００６５】
第１原料ガス４７は、第１原料ガス配管を通って入口５０から第１原料ガス通路４９内に進入し、出口５１から放電空間部に供給される。同様に、第２原料ガス４８は、第２原料ガス配管を通って入口５３から第２原料ガス通路５２内に進入し、出口５４から放電空間部に供給される。そして、放電空間部内において、供給された２つの原料ガス（第１及び第２原料ガス４７及び４８）は互いに反応及び混合され、活性化エッチングガス／活性化クリーニングガスが生成される。【００６６】
この発明の実施の形態３によれば、複数の原料ガスを放電空間部に供給することができるため、同時に複数の化学反応からなる活性化が可能となり、エッチング処理／クリーニング処理の効率を向上させることができるようになる。
その他は、実施の形態１と同様の構成及び効果を有する。なお、実施の形態２に示す構成の誘電体バリア放電装置に対しても、この実施の形態における原料ガス供給部が適用できることは言うまでもない。【００６７】
実施の形態４．
図８はこの発明の実施の形態４における誘電体バリア放電装置の全体構成を示す斜視図である。図８に示す誘電体バリア放電装置は、実施の形態２で説明したものと比較して、パージガス２６を発生器カバー４３の内部空間から排出するための構成が異なる。【００６８】
図８において、発生器カバー４３には、パージガス入口２７のみが設けられており、実施の形態２で説明したパージガス出口２８は設けられていない。このような構成の誘電体バリア放電装置では、パージガス入口２７から発生器カバー４３の内部空間に供給されたパージガス２６は、活性化ガス６と同様に、発生器カバー４３の一側壁４４に形成された開口部４５から反応チャンバー４６内に排出される。即ち、発生器カバー４３の一側壁４４と放電セル１０との間には、パージガス２６が通過するための環状の隙間が形成されている。【００６９】
なお、実施の形態２では、パージガス出口２８からの配管等に設置された排気ガス制御器３０によって発生器カバー４３の内部空間のガス圧力を制御する構成について示した。一方、図８に示す構成では上記排気ガス制御器３０を設けることができないため、例えば、反応チャンバー４６内のガス圧力と発生器カバー４３の内部空間のガス圧力との差分を考慮して、パージガス２６の供給量制御を実施する。
その他の構成は、実施の形態２と同様である。【００７０】
この発明の実施の形態４によれば、パージガス出口２８を発生器カバー４３に設けたり、パージガス出口２８から先の配管を接続したりする必要がないため、誘電体バリア放電装置の構成をより簡素化することが可能となる。なお、パージガス２６が発生器カバー４３の内部空間から反応チャンバー４６に移動するように各ガス圧力が制御されるため、放電空間部で生成された活性化ガス６が開口部４５を介して発生器カバー４３の内部空間に逆流するようなことはなく、活性化ガス６が発生器カバー４３の内部空間に進入することを確実に防止することができる。
その他は、実施の形態２と同様の効果を奏する。【００７１】
実施の形態５．
図９はこの発明の実施の形態５における誘電体バリア放電装置の全体構成を示す斜視図である。図９に示す誘電体バリア放電装置は、実施の形態１に示す放電セル１０を、発生器カバー１１内に複数配置したものを示している。放電セル１０は、各放電空間部が上下に配置されるように、即ち、ＳＵＳ板１ａの一面及び誘電体３の一面に直交する方向に、多段に積層されている。【００７２】
また、各放電セル１０の放電空間部に原料ガス５を供給するため、上下に隣接する接地電極１間に原料ガス配管５５及び５６が接続されている。同様に、各放電セル１０の放電空間部で生成された活性化ガス６を発生器カバー１１の外部に排出するため、上下に隣接する接地電極１間に活性化ガス配管５７及び５８が接続されている。【００７３】
１つの原料ガス入口１２から送り込まれた原料ガス５は、原料ガス配管１４を通過した後、その一部が最下段の放電セル１０の接地電極１内に、残りが原料ガス配管５５に進入する。また、原料ガス配管５５を通過した原料ガス５は、その一部が中段の放電セル１０の接地電極１内に、残りが原料ガス配管５６から最上段の放電セル１０の接地電極１内に進入する。【００７４】
一方、最上段の放電セル１０の放電空間部で生成された活性化ガス６は、活性化ガス配管５７、５８、１９の順に通過して、活性化ガス出口１３から発生器カバー１１の外部に排出される。同様に、中段の放電セル１０の放電空間部で生成された活性化ガス６は、活性化ガス配管５８及び１９を通過して、最下段の放電セル１０の放電空間部で生成された活性化ガス６は、活性化ガス配管１９を通過して、同じ活性化ガス出口１３から発生器カバー１１の外部に排出される。【００７５】
なお、冷却部は図示が省略されているが、上記原料ガス供給部及び活性化ガス排出部と同様に、上下に隣接する接地電極１間に冷却水配管が接続され、各放電セル１０の放電空間部全体が冷却されるように構成される。【００７６】
この発明の実施の形態５によれば、複数の放電セル１０を積層化することにより、装置の省スペース化を考慮しつつ、活性化ガス６の生成量を大幅に増大させることが可能となる。なお、実施の形態５では、説明の簡略化のために放電セル１０を３段に積層した場合について説明したが、同様の構成によって４段以上の積層化が可能であることは言うまでもない。
その他は、実施の形態１と同様の構成及び効果を奏する。【００７７】
図１０は、この発明の実施の形態５における誘電体バリア放電装置の他の構成を示す斜視図であり、実施の形態２に示す放電セル１０を複数段に積層した場合の構成を示している。即ち、発生器カバー４３の一側壁４４には、各放電セル１０の放電空間部に対向した部分に、それぞれ開口部４５が形成されている。かかる構成によれば、活性化ガス６を広い範囲に渡って噴射させることができるようになり、被処理物の面積が大きい場合でも、均一な処理を施すことが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
以上のように、この発明にかかる誘電体バリア放電装置は、半導体の製造工程におけるエッチング処理や、ＣＶＤの内部クリーニング処理で用いられるエッチングガス／クリーニングガスの生成装置として好適である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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