(57)【要約】  本発明の目的は、硬度が十分であり耐傷性、特に湿熱保存後の耐傷性や寸法安定性に優れる防眩性フィルムを提供することにある。  また、アルカリ鹸化処理後に通常の室内での長期の使用をシミュレートしたオゾン曝露下耐久試験後における硬度低下が抑制され湿熱耐久試験後の寸法安定性に優れ、反射防止層としての機能も有する防眩性フィルム、または導電性を有する防眩性フィルムを提供することにある。  更に、該防眩性フィルムを用いた耐傷性に優れた取り扱い易い偏光板、液晶表示装置を提供することにある。  本発明の防眩性フィルムは、粒子を含有する支持体上に機能層が設けられており、前記支持体の内部ヘーズが５以上であることを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子を含有する支持体上に、機能層を有する防眩性フィルムにおいて、前記機能層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ〜０．５μｍの範囲であり、前記支持体の内部ヘーズが５以上であることを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項２】
前記機能層が粒子を含有することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の防眩性フィルム。
【請求項３】
前記機能層が活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化樹脂を含有することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の防眩性フィルム。
【請求項４】
前記防眩性フィルムの総ヘーズが１０〜７０であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第３項の何れか１項に記載の防眩性フィルム。
【請求項５】
前記機能層の内部ヘーズを、前記支持体の内部ヘーズで割った値が４以下であることを特徴とする請求の範囲第４項に記載の防眩性フィルム。
【請求項６】
粒子を含有する支持体上に、機能層を有する防眩性フィルムにおいて、前記機能層が導電層であることを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項７】
前記導電層がπ共役系導電性ポリマーまたは金属酸化物微粒子を少なくとも１種含有することを特徴とする請求の範囲第６項に記載の防眩性フィルム。
【請求項８】
前記導電層が、金属酸化物微粒子を含有し、前記金属酸化物微粒子がアンチモン化合物であることを特徴とする請求の範囲第６項に記載の防眩性フィルム。
【請求項９】
前記導電層が、π共役系導電性ポリマーを含有し、前記π共役系導電性ポリマーが、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリアセチレン誘導体のうちの、少なくとも１種であることを特徴とする請求の範囲第６項に記載の防眩性フィルム。
【請求項１０】
粒子を含有する支持体上に、機能層を有する防眩性フィルムにおいて、前記機能層が支持体の屈折率よりも屈折率が低い低屈折率層であることを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項１１】
前記低屈折率層が、フッ化マグネシウム粒子または外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ系粒子を含有することを特徴とする請求の範囲第１０項に記載の防眩性フィルム。
【請求項１２】
前記低屈折率層が、中空シリカ系粒子を含有し、前記中空シリカ系粒子が導電性金属酸化物被覆層を有することを特徴とする請求の範囲第１１項に記載の防眩性フィルム。
【請求項１３】
前記導電性金属酸化物被覆層が酸化アンチモン化合物からなることを特徴とする請求の範囲第１２項に記載の防眩性フィルム。
【請求項１４】
前記支持体がセルロースエステル系フィルムであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第１３項のいずれか１項に記載の防眩性フィルム。
【請求項１５】
請求の範囲第１項〜第１４項のいずれか１項に記載の防眩性フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
【請求項１６】
請求の範囲第１５項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の側に有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防眩性フィルム、偏光板及び液晶表示装置に関し、より詳しくは湿熱保存後の耐傷性、オゾン曝露化耐久試験後の硬度や湿熱保存後の寸法安定性に優れる防眩性フィルム、及びその防眩性フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ノートパソコン、携帯電話等のフルカラー化或いはディスプレイの高精細化等に伴って防眩機能、反射防止機能、帯電防止機能等の付与された高機能の光学フィルムが求められている。例えば、写り込みを防いだり、ギラツキの少ない表示性能を得るために光学フィルムの表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与したり、視認性向上のために反射防止層を設けた液晶表示装置（液晶ディスプレイともいう）が多く使用されるようになってきた。【０００３】
防眩層を有する光学フィルム（防眩性フィルムともいう）は、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置などの使用時に反射像の写り込みが気にならないようにするものである。また、ディスプレイの表面は手で触れる機会も多く、傷が付かないことも求められている。【０００４】
近年、表示装置の薄型化のため、使用するフィルムの膜厚もますます薄いものが求められており、或いは、大画面化のため、防眩性フィルムの幅も広いものが求められている。従来の防眩性フィルムでは特に広幅、薄膜では耐傷性について広い面積では十分なものが得られず、特に表示装置の長期にわたる使用を想定した湿熱保存後の耐傷性は十分でなかった。【０００５】
一般に防眩性フィルムは、粒子を含有する防眩層組成物をプラスチックフィルム上に直接、或いは０．１〜１μｍ程度の下層を介して３〜１０μｍ程度の膜厚の層として塗工する。しかしながら、従来の防眩性フィルムは、必要な防眩効果を得ようとして粒子の含有量を多くすると、防眩層の硬度が不十分になり易かった。【０００６】
また、更に反射防止効果を持たせるためには、防眩性層をフィルム上に塗工することで形成し、更に防眩層上に直接又は他の層を介して低屈折率層が設けられ、形成されている。しかしながら、従来の構成では、必要な防眩効果や低反射率を得ようとすると防眩層や低屈折率層の粒子の含有量が多くなり、フィルムの機械的強度が不十分になり易かった。【０００７】
例えば、特許文献１には、防眩性フィルムを得るのに、無機または有機の比較的大きい粒子と小さい粒子を防眩層に添加し、表面に凹凸を設ける方法が知られているが、比較的大きい粒子によるギラツキの問題や製造時の異物故障の問題があった。【０００８】
例えば、特許文献２には防眩層の表面（支持体側ではない面）のヘーズ値が７〜３０、防眩層内部のヘーズ値が１〜１５である防眩層により、面ギラツキを解消し、黒色濃度が高い表示装置を提供できる技術が開示されている。更に、特許文献３には、防眩性フィルムの内部ヘーズが３５〜７５、トータルヘーズが４５〜８５である防眩性フィルムにより高精細のディスプレイの画像の眩しさを低減する技術が開示されている。【０００９】
また、特許文献４には、防眩性フィルムとして、透明フィルム基材上に防眩層が積層された構造を有し、その防眩層は透光性樹脂中に２種類以上の透光性粒子を含み、透光性樹脂との屈折率差が０．０３〜０．２０であり、異なる透光性粒子での屈折率の差が０．０２〜０．１０であるものが記載されている。【００１０】
更に、特許文献５、６には、防眩層が樹脂と屈折率差のある粒子を含み表面の凹凸形状の中心線平均粗さ（Ｒａ）、及び十点平均粗さ（Ｒｚ）を規定し、明室での反射像の映り込み低減効果と面ギラツキの防止の両立を図ったものが開示されている。【００１１】
しかしながら、これらの文献に開示されている技術は、粒子を含有する防眩層組成物を透明フィルム基材上に塗設して防眩層を設ける為、必要な防眩効果や光散乱効果を得ようとすると該防眩層への粒子の含有量が多くなり、防眩層の硬度が不十分になり、特に湿熱保存後の耐傷性、寸法安定性に劣ることが分かった。更に反射防止効果も得る為に、防眩性の低屈折率層を設けた場合にも、防眩性反射防止フィルムの機械的強度が不十分となり、特にオゾン曝露下の耐久試験後の硬度といった機械的強度、また湿熱耐久試験後の寸法安定性も劣ることが分かった。【００１２】
また、ディスプレイ装置の保護膜、防眩フィルムが用いられる場合には、汚れや塵埃の付着を防止すること、付着しても容易に拭き取れることを目的として、帯電防止機能も求められる場合がある。そのために、汚れや塵埃付着を防止するために、帯電防止機能を有する防眩性フィルムも種々提案されている。【００１３】
例えば、特許文献７には重合性多官能モノマーと、微粒子と、リチウム塩化合物とを含有する帯電防止防眩ハードコート剤、特許文献８には（メタ）アクリロイル基を分子中に有する化合物と、４級アンモニウム塩基及び（メタ）アクリロイル基を分子中に有する化合物と、トリシクロデカン骨格及び（メタ）アクリロイル基を分子中に有する化合物と、屈折率が１．５１〜１．５５である平均粒径１〜２０μｍの球状粒子とを含有し、前記化合物の配合比を最適化した防眩性帯電防止ハードコート樹脂組成物、特許文献９には液晶表示装置用バックライトの光拡散シートの光拡散層の間に、帯電防止層を備える光拡散シートが開示されている。【００１４】
特許文献７は硬度、擦傷性、払拭性、リコート性の改良に関する技術、特許文献８には帯電防止性と防眩性の両立に関する技術、特許文献９は帯電防止性と加工適正の改良に関する技術である。【００１５】
しかしながら、これら文献で開示されている技術によっても、十分な防眩効果を持たせた場合には、アルカリ鹸化処理後に通常室内での長期使用をシミュレートしたオゾン曝露下の耐久試験後に、硬度低下する傾向があることが判った。【００１６】
フィルム基材に高いヘーズを持たせる技術については、特許文献１０及び１１に開示されている。特許文献１０は平面性及びカール、特許文献１１は擦傷性及び視認性の改良に関した技術である。【００１７】
しかしながら、いずれの技術を用いても、ディスプレイ装置の防眩フィルムとして求められる上述の課題を満足するものではなかった。
【特許文献１】特開２００４−４７７７号公報
【特許文献２】特開平１１−３０５０１０号公報
【特許文献３】特開２００３−３０２５０６号公報
【特許文献４】特開２０００−１８０６１１号公報
【特許文献５】特開２０００−３３８３１０号公報
【特許文献６】ＷＯ９５／３１７３７号パンフレット
【特許文献７】特開２００７−７０４５５号公報
【特許文献８】特開２００７−９２０７３号公報
【特許文献９】特開２００６−９８８９９号公報
【特許文献１０】特開２００１−１７２４０３号公報
【特許文献１１】特開２００３−２５５０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
従って本発明の目的は、硬度が十分であり耐傷性、特に湿熱保存後の耐傷性や寸法安定性に優れる防眩性フィルムを提供することにある。【００１９】
また、アルカリ鹸化処理後に通常の室内での長期の使用をシミュレートしたオゾン曝露下耐久試験後における硬度低下の抑制や湿熱耐久試験後の寸法安定性に優れ、反射防止機能又は帯電防止機能も兼ね備えた防眩性フィルムを提供することにある。【００２０】
更に、該防眩性フィルムを用いた視認性に優れた偏光板、画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明の上記課題は以下の態様により達成される。【００２２】
まず、本発明の第１の態様は、粒子を含有する支持体上に、機能層を有する防眩性フィルムにおいて、前記機能層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ〜０．５μｍの範囲であり、前記支持体の内部ヘーズが５以上であることを特徴とする防眩性フィルムである。【００２３】
前記第１の態様においては、前記機能層が粒子を含有することが好ましい。【００２４】
また、前記機能層が、活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化樹脂を含有することでディスプレイ装置のハードコート層としての機能を兼ねることができる為好ましい。【００２５】
また、前記第１の態様においては、前記防眩性フィルムの総ヘーズが１０〜７０であることが好ましい。特に前記機能層の内部ヘーズを、前記支持体の内部ヘーズで割った値が４以下であることが特に好ましい。【００２６】
本発明の第２の形態は、粒子を含有する支持体上に、機能層を有する防眩性フィルムにおいて、前記機能層が導電層であることを特徴とする防眩性フィルムである。【００２７】
前記第２の形態においては、前記導電層がπ共役系導電性ポリマーまたは金属酸化物微粒子を少なくとも１種含有することが好ましい。【００２８】
特に、前記導電層が、金属酸化物微粒子を含有する場合には、前記金属酸化物微粒子がアンチモン化合物であることが更に好ましく、前記導電層が、π共役系導電性ポリマーを含有する場合には、前記π共役系導電性ポリマーが、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリアセチレン誘導体のうちの、少なくとも１種であることが更に好ましい。【００２９】
本発明の第３の形態としては、粒子を含有する支持体上に、機能層を有する防眩性フィルムにおいて、前記機能層が支持体の屈折率よりも屈折率が低い低屈折率層であることを特徴とする防眩性フィルムである。【００３０】
前記第２の形態においては、前記低屈折率層が、フッ化マグネシウム粒子または外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ系粒子を含有することが好ましい。【００３１】
前記低屈折率層が、中空シリカ系粒子を含有し、前記中空シリカ系粒子が導電性金属酸化物被覆層を有することが、低屈折率層が導電性層としての機能も兼ねることができる為、好ましい。特に前記導電性金属酸化物被覆層が酸化アンチモン化合物からなることが好ましい。【００３２】
前記第１〜第３の本発明の形態において、支持体は、等方性の樹脂フィルムであることが好ましく、特にセルロースエステル系フィルムであることが好ましい。【００３３】
本発明の第４の形態としては、前記第１〜第３の形態である防眩フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有する偏光板である。【００３４】
本発明の第５の形態としては、前記第４の形態である偏光板を液晶セルの少なくとも一方の側に有する液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００３５】
本発明によれば、製造時の異物故障がなく、硬度が十分であり耐傷性、特に湿熱保存後の耐傷性に優れる防眩性フィルムを提供することができる。【００３６】
また、アルカリ鹸化処理後に通常の室内での長期の使用をシミュレートしたオゾン曝露下耐久試験後における硬度低下の抑制や湿熱耐久試験後の寸法安定性に優れ、帯電防止フィルム又は反射防止フィルムとしての機能も兼ねる防眩性フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００３８】
本発明の防眩性フィルムは、粒子を含有する支持体上に機能層を有する防眩性フィルムである。【００３９】
即ち従来の高精細でヘーズを高くした防眩性フィルムは、透明フィルム基材上に樹脂に粒子を添加して防眩層を形成する為、樹脂と粒子の比率において所望の防眩性を得る為には粒子を多く添加する必要があり、耐傷性、特に湿熱保存後の耐傷性や寸法安定性が悪かった。特にオゾン曝露下の耐久試験後の硬度の劣化と湿熱耐久試験後の寸法安定性が悪かった。【００４０】
本発明者は上記課題に対し鋭意検討した結果、支持体に粒子を添加して支持体自身の内部ヘーズを特定の範囲に高めることで、防眩層に添加する粒子を減らしても所望の防眩性効果を得ることが可能であり、更に、特定の機能層を当該支持体上に設けることで、湿熱保存後の耐傷性、寸法安定性、オゾン曝露下の耐久試験後の硬度の劣化と湿熱耐久試験後の寸法安定性等の特性が向上することを見出し本発明を成すに至ったものである。【００４１】
以下、本発明の第１の実施形態である防眩フィルムについて説明する。【００４２】
第１の実施形態の防眩性フィルムは、粒子を含有する支持体上に、機能層を有する防眩性フィルムであって、前記機能層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ〜０．５μｍの範囲であり、前記支持体の内部ヘーズが５以上であることを特徴とする。【００４３】
尚、本発明における硬度とは鉛筆硬度を言い、本発明の防眩性フィルムの鉛筆硬度は、３Ｈ〜８Ｈであると液晶表示装置（ＬＣＤ）等の表示装置の表面における使用や偏光板加工工程において傷が付きにくいことから好ましい。【００４４】
鉛筆硬度は、作製したフィルム試料を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。【００４５】
本実施の形態の防眩性フィルムは、支持体上に機能層を有する防眩性フィルムにおいて、該防眩性フィルムのヘーズを総ヘーズ（Ｔ）、該防眩性ハードコート層の内部ヘーズをＡ（内）、支持体の内部ヘーズをＢ（内）としたとき、下記の式（式１）〜（式３）を満たすことが好ましい。【００４６】
５≦Ｂ（内）≦７０              ・・・（式１）
１０≦総ヘーズ（Ｔ）≦７０      ・・・（式２）
０≦Ａ（内）／Ｂ（内）≦４．０  ・・・（式３）
本実施の形態では、前記総ヘーズ（Ｔ）とは、機能層の内部ヘーズＡ（内）、支持体の内部ヘーズＢ（内）に、更に機能層の表面ヘーズＡ（外）を加えたヘーズをいう。表面ヘーズＡ（外）とは表面の凹凸によって生じるヘーズをいう。【００４７】
機能層の内部ヘーズＡ（内）は、ヘーズのうち、表面凸凹の影響を除いたものであり、具体的には、表面の凹凸が無くなるように、粒子を含有した溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の上に、粒子を含有しない溶液（樹脂は同じもの）を塗布、紫外線硬化して表面凸凹の無い塗膜を作成し、ヘーズを測定する方法で測定できる。【００４８】
総ヘーズ（Ｔ）、及び支持体の内部ヘーズＢ（内）の測定方法は、ＪＩＳ−Ｋ７１３６ヘーズ（曇度）に準じ、例えばヘーズメーターＨＲ１００（村上色彩技術研究所社製、商品名）を用いて行うことができる。【００４９】
機能層の表面ヘーズＡ（外）は、総ヘーズ（Ｔ）から、機能層の内部ヘーズＡ（内）と支持体の内部ヘーズＢ（内）の和を差し引くことにより求めることができる。
（式１）の範囲は好ましくは、８≦Ｂ（内）≦５５である。    
（式２）の範囲は好ましくは２０≦総ヘーズ（Ｔ）≦７０、更に好ましくは３０≦総ヘーズ（Ｔ）≦６０である。【００５０】
本実施形態に係る機能層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は０．０５μｍ〜０．５μｍの範囲である。【００５１】
中心線平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１に準じて、光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を使用して、機能層表面の任意の箇所１．２ｍｍ×０．９ｍｍの面積に対して求めた値を用いることができる。複数箇所を測定した場合は、その平均値とする。【００５２】
機能層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、前記機能層が後述する粒子を含有することで形成されることが好ましいが、以下の方法で防眩性を付与させてもよい。
（１）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、エンボスにて形状を付与する方法。
（２）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、熱硬化性樹脂をネガ型に充填し、加熱硬化後ネガ型から剥離する方法。
（３）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、紫外線または電子線硬化樹脂を塗布し凹部に充填後、樹脂液を介して凹版上に透明フィルム基材を被覆したまま紫外線または電子線を照射し、硬化させた樹脂とそれが接着した透明フィルム基材とをネガ型から剥離する方法。
（４）目的とする形状のネガ型を流延ベルトに形成しておき、キャスティング時に目的とする形状を付与する溶剤キャスト法。
（５）光または加熱により硬化する樹脂を透明基板に凸版印刷し、光または加熱により硬化して凹凸を形成する方法。
（６）透明フィルム基材表面に光または加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光または加熱により硬化して透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
（７）透明フィルム基材表面に光または加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光または加熱により硬化して凹凸形状を形成し、更に透明樹脂層にて被覆する方法。
（８）表面を工作機械等で切削加工する方法。
（９）球、多角体等各種形状の粒子を、透明フィルム基材表面に半ば埋没する程度に押し込んで一体化し、透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
（１０）球、多角体等各種形状の粒子を少量のバインダーに分散したものを透明フィルム基材表面に塗布し、透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
（１１）透明フィルム基材表面に、バインダーを塗布し、その上に球、多角体等各種形状の粒子を散布し、透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
（１２）透明フィルム基材表面に鋳型を押し当てて凹凸を形成する方法。具体的には特開２００５−１５６６１５号公報記載の方法。【００５３】
《粒子》
本実施の形態の支持体及び機能層の内部ヘーズは、支持体や機能層に用いられる樹脂と屈折率の異なる粒子を添加し、添加量や粒子の粒径等をコントロールすることで、内部散乱によるヘーズを発生させ、これを調整することが好ましい。【００５４】
用いられる粒子は、無機粒子と有機粒子に区別される。無機粒子としては特に限定されず、例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等が挙げられる。また、有機粒子としては特に限定されず、例えば、フッ素化アクリル樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、シリコーン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、更にポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エチレン樹脂粉末等が挙げられる。これらの無機粒子及び有機粒子は、種類、平均粒子径が異なる２種以上を併用してもよく、粒子の表面を有機物により表面処理したものも好ましく用いられる。【００５５】
特に好ましい無機粒子は、これらの中でも二酸化珪素が特に好ましく用いられる。二酸化珪素の具体例としては、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥＰ−１０、シーホスターＫＥＰ−３０、シーホスターＫＥＰ−５０（以上、株式会社日本触媒製）、サイロホービック１００（富士シリシア製）、ニップシールＥ２２０Ａ（日本シリカ工業製）、アドマファインＳＯ（アドマテックス製）等の商品名を有する市販品などが好ましく使用できる。粒子の形状としては、不定形、針状、扁平、球状等特に制限なく使用できるが、特に球状の粒子を用いるとヘーズを調整するのが容易であり好ましい。【００５６】
有機粒子としては、フッ素化アクリル樹脂粒子が特に好適である。【００５７】
フッ素含有アクリル樹脂粒子としては、例えばフッ素含有のアクリル酸エステル或いはメタクリル酸エステルのモノマーまたはポリマーから形成された粒子である。フッ素含有のアクリル酸エステル或いはメタクリル酸エステルの具体例としては、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル−α−フルオロアクリレートが挙げられる。また、フッ素含有アクリル樹脂粒子の中でも、２−（パーフルオロブチル）エチル−α−フルオロアクリレートからなる粒子、フッ素含有ポリメチルメタクリレート粒子、フッ素含有メタアクリル酸を架橋剤の存在下にビニル単量体と共重合させた粒子が好ましく、更に好ましくはフッ素含有ポリメチルメタクリレート粒子である。【００５８】
フッ素含有（メタ）アクリル酸と共重合可能なビニル単量体としては、ビニル基を有するものであればよく、具体的にはメタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸アルキルエステル、及びスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類等が挙げられ、これらは単独でまたは混合して用いることができる。重合反応の際に用いられる架橋剤としては、特に限定されないが、２個以上の不飽和基を有するものを用いることが好ましく、例えばエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等の２官能性ジメタクリレートや、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジビニルベンゼン等が挙げられる。【００５９】
尚、フッ素含有ポリメチルメタクリレート粒子を製造するための重合反応は、ランダム共重合およびブロック共重合のいずれでもよい。具体的には、例えば特開２０００−１６９６５８号公報に記載の方法なども挙げることができる。【００６０】
市販品としては、根上工業製：ＭＦ−００４３等の市販品が挙げられる。尚、これらのフッ素含有アクリル樹脂粒子は、単独で用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、これらのフッ素含有アクリル樹脂粒子の状態は、粉体或いはエマルジョン等、どのような状態で加えられても良い。【００６１】
また、特開２００４−８３７０７号公報の段落００２８〜００５５に記載のフッ素含有架橋粒子を用いても良い。【００６２】
ポリスチレン粒子としては、例えば綜研化学製；ＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）、積水化成品工業製、ＳＢＸシリーズ（ＳＢＸ−６、ＳＢＸ−８）等の市販品を挙げられる。【００６３】
メラミン系粒子としては、例えば、日本触媒製：ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｍ３０、商品名：エポスターＧＰ、グレード；Ｈ４０〜Ｈ１１０）、日本触媒製：メラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｓ１２、Ｓ６、Ｓ、ＳＣ４）等の市販品を挙げられる。また、コアがメラミン系樹脂からなり、シェルがシリカで充填されたコア−シェル型の球状複合硬化メラミン樹脂粒子等も挙げられる。具体的には特開２００６−１７１０３３号公報に記載の方法で作製することができ、日産化学工業製：メラミン樹脂・シリカ複合粒子（商品名；オプトビーズ）等の市販品を挙げられる。【００６４】
ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子としては、例えば、綜研化学製；ＭＸ１５０、ＭＸ３００、日本触媒製；エポスターＭＡ、グレード；ＭＡ１００２、ＭＡ１００４、ＭＡ１００６、ＭＡ１０１０、エポスターＭＸ（エマルジョン）、グレード；ＭＸ０２０Ｗ、ＭＸ０３０Ｗ、ＭＸ０５０Ｗ、ＭＸ１００Ｗ、積水化成品工業製：ＭＢＸシリーズ（ＭＢＸ−８、ＭＢＸ１２）等の市販品を挙げられる。【００６５】
架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子の具体例としては、例えば日本ペイント製：ＦＳ−２０１、ＭＧ−３５１等の市販品が挙げられる。ベンゾグアナミン系粒子としては、例えば日本触媒製：ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｌ１５、Ｍ０５、ＭＳ、ＳＣ２５）等が挙げられる。【００６６】
支持体に添加する粒子の平均粒子径としては０．３〜１μｍが好ましく、０．４〜０．７μｍが更に好ましい。【００６７】
機能層に添加する粒子としては０．３〜５μｍが好ましく、０．５〜３．５μｍが更に好ましい。【００６８】
上記平均粒子径は、５００個の粒子を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視やイメージ写真を画像処理することにより、または動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる。ここでいう平均粒子径は、個数平均粒子径をさす。尚、平均粒子径は、粒子が１次粒子の凝集体の場合は凝集体の平均粒子径を意味する。また、粒子が球状でない場合は、その投影面積に相当する円の直径を意味する。【００６９】
また、粒子の屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましく、より好ましくは１．４５〜１．６５である。尚、粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定できる。【００７０】
また、支持体に用いる樹脂と、該粒子の屈折率差が０．０２以上０．２０以下であることが、光散乱効果を利用して内部ヘーズを高める上で好ましい。屈折率差のより好ましい範囲は、０．０５以上０．１５以下である。【００７１】
上記無機または有機粒子の含有量は、支持体には支持体作製用の樹脂１００質量部に対して、１質量部〜３０質量部が好ましく、本実施の形態の内部ヘーズを得る上でより好ましくは５質量部〜２５質量部である。また機能層に防眩性を付与するためには、上記無機または有機粒子の含有量は、機能層作製用の樹脂１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部が好ましく、更に好ましくは、０．１質量部〜２０質量部となるように配合することである。より好ましい防眩効果を付与するには、平均粒径０．５μｍ〜３．５μｍの粒子を機能層作製用の樹脂１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部を用いるのが好ましい。又、異なる平均粒径の粒子を２種以上用いることも好ましい。【００７２】
上記粒子の支持体／機能層への含有量は、（式１）、（式２）、（式３）で示される各々のヘーズ値の範囲を満足するように調整される。【００７３】
《機能層》
本実施形態に係る機能層について説明する。【００７４】
本実施形態に係る機能層は、少なくとも粒子を含有し、前記内部ヘーズが５以上である支持体の一方の面に設けられる。機能層は表面に微細な凹凸形状を有するが、該微細凹凸形状は、好ましくは樹脂材料に前記粒子を含有させることにより形成し、最表面の表面粗さとして、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ〜０．５μｍの範囲に調整されるが、更に好ましい中心線平均粗さ（Ｒａ）は０．１μｍ〜０．３μｍの範囲である。【００７５】
（機能層の微細な凹凸）
機能層表面の微細な凹凸は、前記粒子の添加量、粒径、膜厚等を調整することにより、より好ましい凹凸を有する機能層を得ることができる。また、機能層表面の微細な凹凸は、隣接する凹部底を基準とした高さが０．５μｍ〜２μｍである凸部を１００μｍ2当たり５〜２０個有する微細構造として形成されていることが好ましい。【００７６】
機能層表面の微細な凹凸は市販の触針式表面粗さ測定機或いは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することができる。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、約４０００μｍ2の範囲（５５μｍ×７５μｍ）について凹凸を２次元的に測定し、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けして表示する。【００７７】
ここで隣接する底部を基準とした高さが０．５μｍ〜２μｍである凸部の数をカウントし、１００μｍ2の面積当たりの数で示した。測定は防眩性フィルム１ｍ2当たり任意の１０点を測定してその平均値として求めた。【００７８】
また、機能層の表面は、表面の平均水準を基準とした高さが０．２μｍ以上の凸部を１００μｍ2当たり８０個以上有する微細構造を有することが好ましいが、この微細構造についても、上記と同様に光学干渉式表面粗さ測定機によって、約４０００μｍ2の範囲（５５μｍ×７５μｍ）について凹凸を２次元的に測定し、平均水準未満の部分、平均水準以上〜高さが０．２μｍ未満の部分、高さが０．２μｍ以上の部分の少なくとも３つ以上の領域に色分けして表示し、高さが０．２μｍ以上の部分で凸となっている部分の数をカウントし、１００μｍ2の面積当たりの数で示すことができる。【００７９】
（機能層表面の微細な凹凸の平均山谷間隔）
機能層は、表面の微細な凹凸の平均山谷間隔が１μｍ〜８０μｍであることが好ましく、更に好ましくは、１０μｍ〜４０μｍである。【００８０】
ここで、微細凹凸構造の形状は、触針式表面粗さ測定機などにより測定でき、例えばダイヤモンドからなる先端部を頂角５５度の円錐形とした直径１ｍｍの測定針を介して微細凹凸構造面上を一定方向に３ｍｍの長さで走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線として知見を得ることが出きる。或いは前述のごとく光学干渉式表面粗さ測定機によっても測定することができる。【００８１】
ここで、平均山谷間隔とは、前記の表面粗さ曲線における凹凸変化が微小な部分（平坦に近い部分）に基づいて表面粗さ曲線の凹凸変化が凸部として評価できる基準線を想定し、その基準線からの当該凸部の高さの平均を中心線として、表面粗さ曲線がその中心線を下から上（又は上から下）に通過する際の交点に基づきその交点間の距離の平均として定義することができる。【００８２】
（機能層の屈折率）
本実施形態に係る機能層の屈折率は、低反射性フィルムを得るための光学設計上から屈折率が１．５〜２．０、特に１．６〜１．７であることが好ましい。機能層の屈折率は添加する粒子または樹脂の屈折率や含有量によって調整することができる。【００８３】
（機能層の膜厚）
十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、機能層の膜厚は０．５μｍ〜１５μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、耐傷性の点から４μｍ〜１５μｍである。【００８４】
（機能層のヘーズ）
本発明に記載の効果を得る為に、機能層の内部ヘーズは、機能層の内部ヘーズをＡ（内）、支持体の内部ヘーズをＢ（内）としたとき、
０≦Ａ（内）／Ｂ（内）≦４    ・・・（式３）
の関係を満たすように、前記粒子の添加により調整されることが好ましい。より好ましくは０．２〜３．５の範囲であり、特に好ましくは０．２〜１．５の範囲であると湿熱後の耐傷性が大幅に優れる結果となる。【００８５】
機能層の表面ヘーズＡ（外）は、前記粒子の添加により調整され、２〜３０であることが好ましく、更に好ましくは、５〜２０である。【００８６】
（機能層を構成する樹脂材料）
本実施の形態に係る機能層を構成する樹脂材料は、紫外線等活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化樹脂を含有することが好ましい。【００８７】
活性エネルギー線硬化樹脂とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性エネルギー線照射によって硬化する樹脂でもよい。【００８８】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。【００８９】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。【００９０】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。【００９１】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。【００９２】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。【００９３】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を示す。【００９４】
（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる）
（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び／またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
（ｄ）ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。【００９５】
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０００以下である。【００９６】
上記のエポキシ化合物を活性エネルギー線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、（ｈ）または（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。【００９７】
エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。【００９８】
活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。【００９９】
本実施の形態に有用な活性エネルギー線反応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。【０１００】
かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で表される化合物である。【０１０１】
一般式（ａ）
〔（Ｒ1）a（Ｒ2）b（Ｒ3）c（Ｒ4）dＺ〕w+〔ＭｅＸv〕w-
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。【０１０２】
上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸv〕w-の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ4-）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ4-）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ4-）、テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ4-）、テトラクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ4-）等を挙げることができる。【０１０３】
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ4-）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ3ＳＯ3-）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ3-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。【０１０４】
このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載のＶＩＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。【０１０５】
また、エポキシアクリレート基を有する活性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性エネルギー線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは１質量部〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。【０１０６】
本実施の形態に有用な活性エネルギー線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネルギー線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、１質量部〜１０質量部の範囲の添加が好ましい。【０１０７】
また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性エネルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。【０１０８】
また、機能層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素または硫黄を含む３員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。尚、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。【０１０９】
機能層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを上記記載の活性エネルギー線硬化樹脂に混合して使用することができる。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ2、−ＮＲ3Ｘ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＰＯ3Ｍ2、−ＯＰＯ3Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す）等を挙げることができる。【０１１０】
（活性エネルギー線の種類、照射方法について）
機能層が活性エネルギー線硬化型樹脂を含む場合、活性エネルギー線の照射方法としては、支持体上に、機能層塗設時に活性エネルギー線を照射することが好ましいが、機能層上に更に、導電層や反射防止層（中〜高屈折率層及び低屈折率層）等の別の層を塗設する場合は、全層一括で塗設後に活性エネルギー線を照射してもよい。【０１１１】
本実施の形態に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜１００００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。【０１１２】
電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。【０１１３】
本実施の形態に使用する上記活性エネルギー線反応性化合物を光重合または光架橋反応を開始させるには、上記活性エネルギー線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。【０１１４】
（光反応開始剤、光増感剤）
機能層が活性エネルギー線硬化樹脂を含有する場合、活性エネルギー線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。【０１１５】
具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤及び／または光増感剤の使用量は、組成物の１質量％〜１０質量％が好ましく、特に好ましくは２．５質量％〜６質量％である。【０１１６】
また、活性エネルギー線硬化樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。【０１１７】
（酸化防止剤）
機能層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。【０１１８】
紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、旭電化工業（株）製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド  Ｈ−６０１（三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。【０１１９】
活性エネルギー線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は１０質量％〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。【０１２０】
（界面活性剤）
機能層は、塗布時に界面活性剤を用いることが好ましく、シリコン系またはフッ素系界面活性剤が好ましい。【０１２１】
シリコン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。【０１２２】
非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン）等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン鎖）が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。【０１２３】
疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、防眩性ハードコート層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。【０１２４】
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤  ＳＩＬＷＥＴ  Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＦＺ−２１０１、ＦＺ−２１０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１１８、ＦＺ−２１２０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１２３、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１５４、ＦＺ−２１６１、ＦＺ−２１６２、ＦＺ−２１６３、ＦＺ−２１６４、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１等が挙げられる。【０１２５】
また、ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ  ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５等が挙げられる。【０１２６】
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ粒子の表面を１つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。【０１２７】
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤  ＡＢＮ  ＳＩＬＷＥＴ  ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−２２０８等が挙げられる。【０１２８】
フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることができる。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−（フルオロアルキルオキシ）−１−アルキルスルホン酸ナトリウム、３−（ω−フルオロアルカノイル−Ｎ−エチルアミノ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−（３−パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノエチル）等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。【０１２９】
これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フロラード、ゾニール等の商品名で市販されている。【０１３０】
好ましい添加量は防眩性ハードコート層の塗布液に含まれる固形分当たり０．０１〜３．０％であり、より好ましくは０．０２〜１．０％である。【０１３１】
他の界面活性剤を併用して用いることもでき、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。【０１３２】
（機能層の作製方法）
本実施の形態に係る機能層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルまたはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、更に好ましくは５質量％〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。【０１３３】
機能層組成物の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で５μｍ〜３０μｍが適当で、好ましくは１０μｍ〜２０μｍである。塗布速度は１０ｍ／分〜６０ｍ／分が好ましい。【０１３４】
機能層組成物は塗布乾燥された後、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射され硬化処理されることが好ましいが、前記活性エネルギー線の照射時間は０．５秒〜５分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、３秒〜２分である。【０１３５】
《支持体》
本実施の形態の防眩性フィルムに用いられる支持体は、支持体の内部ヘーズをＢ（内）としたとき５以上であることが特徴であるが、前記粒子を適量含有させることにより、
５≦Ｂ（内）≦７０            ・・・（式１）
を満足することが好ましい。その他製造が容易であること、機能層等が接着しやすいこと、光学的に等方性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらの内、セルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＴ、ＫＣ５ＵＮ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４（以上、コニカミノルタオプト（株）製））、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、本発明においては、特にセルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム等のセルロースエステル系フィルムが、製造上、コスト面、等方性、接着性等の面から好ましい。【０１３６】
（セルロースエステル系フィルム）
セルロースエステルは、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平１０−４５８０４号、同０８−２３１７６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることができる。【０１３７】
セルロースエステルの分子量が小さ過ぎると引裂強度が低下するが、分子量を上げ過ぎるとセルロースエステルの溶解液の粘度が高くなり過ぎるため生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で７００００〜２０００００のものが好ましく、１０００００〜２０００００のものが更に好ましい。【０１３８】
セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートである。平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。【０１３９】
セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。【０１４０】
式（Ｉ）  ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）  ０≦Ｘ≦２．５
この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。【０１４１】
セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で６００００〜３０００００のものが好ましく、７００００〜２０００００のものが更に好ましい。本発明で用いられるセルロースエステルは重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比が４．０以下であることが好ましく、更に好ましくは１．４〜２．３である。【０１４２】
セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、その比を計算することができる。【０１４３】
測定条件は以下の通りである。【０１４４】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１，０００，０００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。【０１４５】
セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることができる。特に綿花リンター（以下、単にリンターとすることがある）から合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。【０１４６】
本実施の形態で好ましいセルロースエステルフィルムは、溶液流延法で製造されたものでも、溶融流延法で製造されたものでもよいが、少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残溶量が３〜４０質量％である時に幅手方向に１．０１〜１．５倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に２軸延伸することであり、剥離残溶量が３〜４０質量％である時に幅手方向及び長手方向に、各々１．０１〜１．５倍に延伸されることが望ましい。こうすることによって、添加した粒子の分布が均一となり、内部ヘーズに優れた防眩性フィルムを得ることができる。【０１４７】
このときの延伸倍率としては１．０１〜１．５倍が好ましく、特に好ましくは、１．０３〜１．４５倍である。【０１４８】
本実施の形態においては、長尺フィルムを用いることが好ましく、具体的には、１００ｍ〜５０００ｍ程度のものを示す。また、フィルム基材の幅は１．４ｍ以上が好ましく、１．４〜４ｍであることがより好ましい。【０１４９】
本実施の形態で用いられるセルロースエステルフィルムは、光透過率が９０％以上、より好ましくは９３％以上の透明支持体であることが好ましい。【０１５０】
（可塑剤）
セルロースエステルフィルムには、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。【０１５１】
リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。【０１５２】
ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。【０１５３】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、等を上げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトール、であることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを上げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを上げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を上げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を上げることができる。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。【０１５４】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基はカルボン酸で全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。【０１５５】
これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。【０１５６】
これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３〜１３質量％である。【０１５７】
（紫外線吸収剤）
本実施の形態に用いる支持体に係る紫外線吸収剤について説明する。低反射積層体の支持体には、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。【０１５８】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。【０１５９】
本実施の形態に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。【０１６０】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては以下の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。【０１６１】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、チバ・ジャパン製）
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては以下の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。【０１６２】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本実施の形態で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。【０１６３】
また、特願平１１−２９５２０９号に記載されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤は、支持体に用いた時、支持体の面品質に優れ、塗布性にも優れ好ましい。特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。【０１６４】
また、特開平６−１４８４３０号の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５６０３９号の一般式（３）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。【０１６５】
（粒子）
本実施の形態において、前記支持体の内部ヘーズ（Ｂ）を調整する粒子は、前記各種無機粒子、及び有機粒子が好ましく用いられるが、ドープ調製時、セルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散してもよいし、セルロースエステル溶液とは、別に粒子分散液のような十分に分散させた状態でドープを調製してもよい。粒子を分散させるために、前もって有機溶媒に浸してから高剪断力を有する分散機（高圧分散装置）で細分散させておくのが好ましい。その後により多量の有機溶媒に分散して、セルロースエステル溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープとすることが好ましい。この場合、粒子分散液に紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。【０１６６】
上記の劣化防止剤、紫外線吸収剤及び／または粒子は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。【０１６７】
（有機溶媒）
ドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。【０１６８】
ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。【０１６９】
ドープ中のセルロースエステルの濃度は１５〜４０質量％、ドープ粘度は１００〜５００ポアズ（Ｐ）の範囲に調整されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。【０１７０】
（溶液流延法）
セルロースエステルフィルムの溶液流延法による製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。【０１７１】
ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。【０１７２】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。【０１７３】
セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。【０１７４】
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。【０１７５】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
尚、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。【０１７６】
また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。【０１７７】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。【０１７８】
（溶融製膜法）
本実施の形態に用いられるセルロースエステルフィルムは、溶融製膜法によって製膜されることも好ましい。溶融製膜法は、セルロースエステル及び可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。【０１７９】
加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるセルロースエステルフィルムを得るためには、溶融押出し法が優れている。【０１８０】
溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。【０１８１】
ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることでできる。【０１８２】
添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。【０１８３】
押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。【０１８４】
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。【０１８５】
上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて、押し出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロール上で固化させる。【０１８６】
供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。【０１８７】
押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。【０１８８】
ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。【０１８９】
可塑剤や粒子などの添加剤は、あらかじめ樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。【０１９０】
冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。【０１９１】
冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。【０１９２】
上記のようにして得られたフィルムは冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが、本発明の効果を得る上で好ましい。【０１９３】
延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。【０１９４】
延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。【０１９５】
巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。尚、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。【０１９６】
（別の機能層の形成）
本発明の防眩性フィルムは、前述の機能層以外に、種々の機能層を設けることが可能である。バックコート層、導電層、反射防止層、易滑性層、易接着層、バリアー層、光学補償層等の機能性層を塗設してもよい。特に、バックコート層、導電層、反射防止層、易接着層から選ばれる少なくとも１層を設けることが好ましい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。【０１９７】
本発明の第２の実施形態について説明する。【０１９８】
第２の実施形態に係る防眩フィルムは、粒子を含有する支持体上に、機能層を有する防眩性フィルムにおいて、前記機能層が導電層であることを特徴とする。【０１９９】
《導電層》
本実施の形態において好ましい導電層について説明する。【０２００】
導電層は、導電性化合物から構成される。導電層の屈折率としては、波長５５０ｎｍ測定で、１．４５〜１．６０の範囲であることが好ましい。また、本実施の形態における導電層は、表面比抵抗が１０13Ω／ｃｍ2（２５℃、５５％ＲＨ）以下に調整された層である。好ましくは、１０10Ω／ｃｍ2（２５℃、５５％ＲＨ）以下であり、特に好ましくは、１０9Ω／ｃｍ2（２５℃、５５％ＲＨ）以下である。【０２０１】
ここで、表面比抵抗の測定は、試料を２５℃、５５％ＲＨの条件にて２４時間調湿後に抵抗率計を用いて測定した値である。また、抵抗率計装置としては、例えば三菱化学株式会社製ハイレスタＵＰ  ＭＣＰ−ＨＴ４５０を用いることができる。【０２０２】
また、導電層上に、オーバーコート層を設けた場合の表面比抵抗値の測定は、導電層が設けられている側の最表面層における表面比抵抗値を実質的に導電層の表面比抵抗値として定義する。導電層には導電性化合物が用いられ、金属酸化物微粒子又はπ共役系導電性ポリマーが本発明の目的効果がより良く発揮される点から好ましい化合物である。【０２０３】
次に金属酸化物微粒子について説明する。金属酸化物微粒子は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はＡｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａ等の微量の原子をドープしてあってもよい。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが好ましく、本発明の目的効果の点から、特に好ましくはアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、アンチモン酸亜鉛といったアンチモン化合物である。【０２０４】
これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒径は１０〜２００ｎｍが好ましく、１０〜１５０ｎｍがより好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集し易くなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘーズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。【０２０５】
次にπ共役系導電性ポリマーについて説明する。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性、及び本発明の目的効果の点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。【０２０６】
π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性が得られるが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。【０２０７】
このようなπ共役系導電性ポリマーの具体例としては、ポリチオフェン、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−エチルチオフェン）、ポリ（３−プロピルチオフェン）、ポリ（３−ブチルチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）、ポリ（３−オクチルチオフェン）、ポリ（３−デシルチオフェン）、ポリ（３−ドデシルチオフェン）、ポリ（３−ブロモチオフェン）、ポリ（３−クロロチオフェン）、ポリ（３−シアノチオフェン）、ポリ（３−フェニルチオフェン）、ポリ（３，４−ジメチルチオフェン）、ポリ（３，４−ジブチルチオフェン）、ポリ（３−ヒドロキシチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３−エトキシチオフェン）、ポリ（３−ブトキシチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクチルオキシチオフェン）、ポリ（３−デシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヒドロキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジメトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジエトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジプロポキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジブトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジオクチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−プロピレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ブテンジオキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−メトキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−エトキシチオフェン）、ポリ（３−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルチオフェン）、ポリピロール、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルピロール）、ポリ（３−エチルピロール）、ポリ（３−Ｎ−プロピルピロール）、ポリ（３−ブチルピロール）、ポリ（３−オクチルピロール）、ポリ（３−デシルピロール）、ポリ（３−ドデシルピロール）、ポリ（３，４−ジメチルピロール）、ポリ（３，４−ジブチルピロール）、ポリ（３−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルピロール）、ポリ（３−ヒドロキシピロール）、ポリ（３−メトキシピロール）、ポリ（３−エトキシピロール）、ポリ（３−ブトキシピロール）、ポリ（３−ヘキシルオキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）、ポリアニリン、ポリ（２−メチルアニリン）、ポリ（３−イソブチルアニリン）、ポリ（２−アニリンスルホン酸）、ポリ（３−アニリンスルホン酸）、ポリフェニルアセチレン等が挙げられる。これらはそれぞれ単独でも良いし、２種からなる共重合体でも好適に用いることができる。【０２０８】
これらのπ共役系導電性ポリマーには、ドーパント成分が添加されていても良い。ドーパント成分としては、例えば、ハロゲン類、ルイス酸、プロトン酸、遷移金属ハライドなどの低分子量ドーパントや、ポリアニオンのようなポリマー等が挙げられる。【０２０９】
ポリアニオンとは、π共役系導電性ポリマーに対するドーパントとして機能するアニオン基を有する高分子であり、置換もしくは未置換のポリアルキレン、置換もしくは未置換のポリアルケニレン、置換もしくは未置換のポリイミド、置換もしくは未置換のポリアミド、置換もしくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位からなるものである。【０２１０】
ポリアルキレンとは主鎖がメチレンの繰り返しで構成されているポリマーであり、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリヘキセン、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリアクリロニトリル、ポリアクリレート、ポリスチレン等が挙げられる。【０２１１】
ポリアルケニレンとは主鎖に不飽和結合が１個以上含まれる構成単位からなるポリマーであり、例えば、プロペニレン、１−メチルプロペニレン、１−ブチルプロペニレン、１−デシルプロペニレン、１−シアノプロペニレン、１−フェニルプロペニレン、１−ヒドロキシプロペニレン、１−ブテニレン、１−メチル−１−ブテニレン、１−エチル−１−ブテニレン、１−オクチル−１−ブテニレン、２−メチル−１−ブテニレン、２−エチル−１−ブテニレン、２−ブチル−１−ブテニレン、２−ヘキシル−１−ブテニレン、２−オクチル−１−ブテニレン、２−デシル−１−ブテニレン、２−フェニル−１−ブテニレン、２−ブテニレン、１−メチル−２−ブテニレン、１−エチル−２−ブテニレン、１−オクチル−２−ブテニレン、２−メチル−２−ブテニレン、２−エチル−２−ブテニレン、２−ブチル−２−ブテニレン、２−ヘキシル−２−ブテニレン、２−オクチル−２−ブテニレン、２−デシル−２−ブテニレン、２−フェニル−２−ブテニレン、２−プロピレンフェニル−２−ブテニレン、２−ペンテニレン、４−エチル−２−ペンテニレン、４−プロピル−２−ペンテニレン、４−ブチル−２−ペンテニレン、４−ヘキシル−２−ペンテニレン、４−シアノ−２−ペンテニレン、３−メチル−２−ペンテニレン、３−フェニル−２−ペンテニレン、４−ヒドロキシ−２−ペンテニレン、ヘキセニレン等から選ばれる１種以上の構成単位を含む重合体が挙げられる。【０２１２】
ポリイミドとしてはピロメリット酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物、２，２’−［４，４’−ジ（ジカルボキシフェニルオキシ）フェニル］プロパン二無水物等の無水物と、オキシジアミン、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンゾフェノンジアミン等のジアミンとからなるポリイミドが挙げられる。【０２１３】
ポリアミドとしてはポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド６，１０等が挙げられる。【０２１４】
ポリエステルとしてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。【０２１５】
ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性ポリマーへの化学酸化ドープが起こりうる官能基であれば良いが、製造の容易さや安定性の観点から、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。更に、官能基のπ共役系導電性ポリマーへのドープ効果の観点から、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。【０２１６】
ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ（２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸）、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ（２−アクリルアミド−２−メチルプロパンカルボン酸）、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。【０２１７】
これらの単独重合体でも良く、２種以上の共重合体でも良い。これらのうち、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンは、バインダー樹脂との相溶性が高く、得られる導電層の導電性をより高めることができる。【０２１８】
ポリアニオンの他にも、π共役系導電性ポリマーを酸化還元することができれば、以下のようなドナー性或いはアクセプタ性のドーパントを用いることができる。【０２１９】
ドナー性ドーパントとしては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、メチルトリエチルアンモニウム、ジメチルジエチルアンモニウム等の４級アミン化合物等が挙げられる。【０２２０】
アクセプタ性ドーパントとしては、Ｃｌ2、Ｂｒ2、Ｉ2、ＩＣｌ、ＩＢｒ、ＩＦ等のハロゲン化合物、ＰＦ5、ＡｓＦ5、ＳｂＦ5、ＢＦ5、ＢＣｌ5、ＢＢｒ5、ＳＯ3等のルイス酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノエチレンオキサイド、テトラシアノベンゼン、ジクロロジシアノベンゾキノン、テトラシアノキノジメタン、テトラシアノアザナフタレン等の有機シアノ化合物、プロトン酸、有機金属化合物、フラーレン、水素化フラーレン、水酸化フラーレン、カルボン酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレン等を使用できる。【０２２１】
プロトン酸としては無機酸、有機酸が挙げられる。無機酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、フッ化水素酸、過塩素酸等が挙げられる。また、有機酸としては、有機カルボン酸、有機スルホン酸等が挙げられる。【０２２２】
有機カルボン酸としては、脂肪族、芳香族、環状脂肪族等にカルボキシ基を１つまたは２つ以上を含むものを使用できる。例えば、ギ酸、酢酸、シュウ酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、酒石酸、クエン酸、乳酸、コハク酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ニトロ酢酸、トリフェニル酢酸等が挙げられる。【０２２３】
有機スルホン酸としては、脂肪族、芳香族、環状脂肪族等にスルホ基を１つまたは２つ以上含むもの、またはスルホ基を含む高分子を使用できる。【０２２４】
スルホ基を１つ含むものとしては、例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、１−プロパンスルホン酸、１−ブタンスルホン酸、１−ヘキサンスルホン酸、１−ヘプタンスルホン酸、１−オクタンスルホン酸、１−ノナンスルホン酸、１−デカンスルホン酸、１−ペンタデカンスルホン酸、２−ブロモエタンスルホン酸、３−クロロ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロエタンスルホン酸、コリスチンメタンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、アミノメタンスルホン酸、１−アミノ−２−ナフトール−４−スルホン酸、２−アミノ−５−ナフトール−７−スルホン酸、３−アミノプロパンスルホン酸、Ｎ−シクロヘキシル−３−アミノプロパンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、プロピルベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、ペンチルベンゼンスルホン酸、ヘキシルベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ノニルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸、２，４−ジメチルベンゼンスルホン酸、ジプロピルベンゼンスルホン酸、４−アミノベンゼンスルホン酸、ｏ−アミノベンゼンスルホン酸、ｍ−アミノベンゼンスルホン酸、４−アミノ−２−クロロトルエン−５−スルホン酸、４−アミノ−３−メチルベンゼン−１−スルホン酸、４−アミノ−５−メトキシ−２−メチルベンゼンスルホン酸、２−アミノ−５−メチルベンゼン−１−スルホン酸、４−アミノ−２−メチルベンゼン−１−スルホン酸、５−アミノ−２−メチルベンゼン−１−スルホン酸、４−アミノ−３−メチルベンゼン−１−スルホン酸、４−アセトアミド−３−クロロベンゼンスルホン酸、４−クロロ−３−ニトロベンゼンスルホン酸、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メチルナフタレンスルホン酸、プロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ペンチルナフタレンスルホン酸、４−アミノ−１−ナフタレンスルホン酸、８−クロロナフタレン−１−スルホン酸、ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物、メラミンスルホン酸ホルマリン重縮合物、アントラキノンスルホン酸、ピレンスルホン酸等が挙げられる。また、これらの金属塩も使用できる。【０２２５】
スルホ基を２つ以上含むものとしては、例えば、エタンジスルホン酸、ブタンジスルホン酸、ペンタンジスルホン酸、デカンジスルホン酸、ｏ−ベンゼンジスルホン酸、ｍ−ベンゼンジスルホン酸、ｐ−ベンゼンジスルホン酸、トルエンジスルホン酸、キシレンジスルホン酸、クロロベンゼンジスルホン酸、フルオロベンゼンジスルホン酸、ジメチルベンゼンジスルホン酸、ジエチルベンゼンジスルホン酸、アニリン−２，４−ジスルホン酸、アニリン−２，５−ジスルホン酸、３，４−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼンジスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸、メチルナフタレンジスルホン酸、エチルナフタレンジスルホン酸、ペンタデシルナフタレンジスルホン酸、３−アミノ−５−ヒドロキシ−２，７−ナフタレンジスルホン酸、１−アセトアミド−８−ヒドロキシ−３，６−ナフタレンジスルホン酸、２−アミノ−１，４−ベンゼンジスルホン酸、１−アミノ−３，８−ナフタレンジスルホン酸、３−アミノ−１，５−ナフタレンジスルホン酸、８−アミノ−１−ナフトール−３，６−ジスルホン酸、４−アミノ−５−ナフトール−２，７−ジスルホン酸、４−アセトアミド−４’−イソチオシアノトスチルベン−２，２’−ジスルホン酸、４−アセトアミド−４’−マレイミジルスチルベン−２，２’−ジスルホン酸、ナフタレントリスルホン酸、ジナフチルメタンジスルホン酸、アントラキノンジスルホン酸、アントラセンスルホン酸等が挙げられる。また、これらの金属塩も使用できる。【０２２６】
また、導電性化合物として、イオン性化合物を含有しても良い。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンとＢＦ4-、ＰＦ6-等の無機イオン系、ＣＦ3ＳＯ2-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、ＣＦ3ＣＯ2-等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。【０２２７】
導電性化合物は後述する導電層バインダーとして用いられる樹脂１００質量部に対して、０．０１質量部〜３００質量部が好ましく、更に好ましくは０．１質量部〜１００質量部である。前記範囲にて用いることで、導電層中で安定して存在する。【０２２８】
次に樹脂について説明する。導電層の樹脂バインダーとしては硬化性樹脂が好ましく、中でも塗膜の製膜性や物理的特性、及び積層膜との密着性に優れる点から、活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂は、上述の第１の実施形態に記載したものと同様のものが用いられる。【０２２９】
また、硬化性樹脂には熱硬化性樹脂も含まれる。熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることができる。【０２３０】
不飽和ポリエステル樹脂としては、例えばオルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは被膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂（ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど）を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Ｂｒ2でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはＩＰＮ化した強靭性（高強度、高弾性率、高伸び率）の強靭性樹脂等がある。【０２３１】
エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールＡ型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールＦ型、臭素化ビスフェノールＡ型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることができる。【０２３２】
ビニルエステル樹脂としては、例えば普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーを、スチレン等のモノマーに溶解した物がある。また分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。【０２３３】
グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えばビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としては、ビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。フェノール樹脂は、フェノール類とホルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。【０２３４】
熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えばマレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・Ｏ，Ｏ′−ジアリルビスフェノール−Ａ樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。【０２３５】
導電層には、前記無機粒子や有機粒子を含有しても良い。これら粒子の平均粒径としては、０．０１〜５μｍが好ましく０．１〜５．０μｍ、更に、０．１〜４．０μｍであることが特に好ましい。また、粒径の異なる２種以上の粒子を含有しても良い。粒子は硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜３０質量部となるように配合することが望ましい。また、導電層には硬化助剤としてポリウレタン樹脂の側鎖にビニル基とカルボキシル基を有し、重量平均分子量が１００００以上３００００以下であり、且つ、二重結合当量が５００以上２０００以下であるポリマーやポリマーの側鎖にビニル基を有し、重量平均分子量（Ｍｗ）が１００００以上１０００００以下であり、二重結合当量が１０００以下、ポリマーＴｇが−５０℃以上１２０℃以下であるアクリルポリマー、他官能チオール化合物等を含有させてもよい。他官能チオール化合物としては例えば１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，３，５−トリス（３−メルカブトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン等が挙げられる。市販品としては昭和電工社製、商品名カレンズＭＴシリーズ等が挙げられる。【０２３６】
また、フッ素−アクリル共重合体樹脂を含有しても良い。フッ素−アクリル共重合体樹脂とは、フッ素単量体とアクリル単量体とからなる共重合体樹脂で、特にフッ素単量体セグメントとアクリル単量体セグメントとから成るブロック共重合体が好ましい。フッ素−アクリル共重合体樹脂の分子量は、数平均分子量で５０００〜１００００００が良く、好ましくは１００００〜３０００００、更に好ましくは１００００〜１０００００である。フッ素−アクリル共重合体樹脂の製造は、ポリメリックペルオキシドを重合開始剤とした。公知の製造プロセス（例えば特公平５−４１６６８号公報、特公平５−５９９４２号公報）により製造できる。【０２３７】
ポリメリックペルオキシドとは１分子中に２個以上のペルオキシ結合を持つ化合物である。ポリメリックペルオキシドとしては、特公平５−５９９４２号公報に記載されている各種ポリメリックペルオキシドの一種または二種以上を使用することができる。【０２３８】
フッ素−アクリル共重合体樹脂の市販品としては、日本油脂株式会社の商品名、モディパーＦ−２００、モディパーＦ−６００、モディパーＦ−２０２０等が挙げられる。【０２３９】
更に導電層には、低屈折率層で記載のシリコーン系界面活性剤、フッ素系化合物、及びポリオキシエーテル化合物等を含有させることが、面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高められる点で好ましい。【０２４０】
フッ素系化合物の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体が挙げられ、具体的には特開２００７−４５１４２号公報の段落００５３〜００８２に記載の化合物である。その他、特開２０００−１１９３５４号公報の段落０００８〜００３１に記載の化合物も用いることができる。これら成分は、導電層組成物中の固形成分に対し、０．０１〜５質量％の範囲で添加することが、塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良できる点で、好ましい。【０２４１】
また、フッ素系化合物としては、フッ素樹脂に、シロキサン（ポリシロキサンを含む）及び／またはオルガノシロキサン（オルガノポリシロキサンを含む）をグラフト化等により共重合させて得られるポリマーを好ましく用いることができる。具体的には、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等を挙げることができる。これら化合物は混合して用いても良い。【０２４２】
ポリオキシエーテル化合物としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル化合物、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等のポリオキシアルキルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル等が挙げられる。ポリオキシエチレンアルキルエーテルの市販品としては、エマルゲン１１０８、エマルゲン１１１８Ｓ−７０（以上、花王社製）、ポリオキシエチレンラウリルエーテルの市販品としては、エマルゲン１０３、エマルゲン１０４Ｐ、エマルゲン１０５、エマルゲン１０６、エマルゲン１０８、エマルゲン１０９Ｐ、エマルゲン１２０、エマルゲン１２３Ｐ、エマルゲン１４７、エマルゲン１５０、エマルゲン１３０Ｋ（以上、花王社製）、ポリオキシエチレンセチルエーテルの市販品としては、エマルゲン２１０Ｐ、エマルゲン２２０（以上、花王社製）、ポリオキシエチレンステアリルエーテルの市販品としては、エマルゲン２２０、エマルゲン３０６Ｐ（以上、花王社製）、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの市販品としては、エマルゲンＬＳ−１０６、エマルゲンＬＳ−１１０、エマルゲンＬＳ−１１４、エマルゲンＭＳ−１１０（以上、花王社製）ポリオキシエチレン高級アルコールエーテルの市販品としては、エマルゲン７０５，エマルゲン７０７、エマルゲン７０９等が挙げられる。【０２４３】
これらのポリオキシエーテル化合物の中でも好ましくは、ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物であり、下記の一般式（ｂ）で表される化合物である。【０２４４】
Ｃ18Ｈ35−Ｏ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）ｎＨ        ・・・（ｂ）
式中、ｎは２〜４０を表す。【０２４５】
オレイル部分に対するエチレンオキシドの平均付加個数（ｎ）は、２〜４０であり、好ましくは２〜１０である。また、上記一般式（ｂ）の化合物はエチレンオキシドとオレイルアルコールとを反応させて得られる。具体的商品としては、エマルゲン４０４〔ポリオキシエチレン（４）オレイルエーテル〕、エマルゲン４０８〔ポリオキシエチレン（８）オレイルエーテル〕、エマルゲン４０９Ｐ〔ポリオキシエチレン（９）オレイルエーテル〕、エマルゲン４２０〔ポリオキシエチレン（１３）オレイルエーテル〕、エマルゲン４３０〔ポリオキシエチレン（３０）オレイルエーテル〕（以上、花王社製）、日本油脂製、ＮＯＦＡＢＬＥＥＡＯ−９９０５（ポリオキシエチレン（５）オレイルエーテル）等が挙げられる。尚、（  ）がｎの数字を表す。ポリオキシエーテル化合物は単独或いは２種以上を併用しても良い。【０２４６】
また、アセチレングリコール系化合物または非イオン性界面活性剤、ラジカル重合性の非イオン性界面活性剤等を併用しても良い。【０２４７】
非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンモノラウレート、ポリオキシエチレンモノステアレート、ポリオキシエチレンモノオレート等のポリオキシアルキルエステル化合物、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレート等のソルビタンエステル化合物、等が挙げられる。アセチレングリコール系化合物としてはサーフィノール１０４Ｅ、サーフィノール１０４ＰＡ、サーフィノール４２０、サーフィノール４４０、ダイノール６０４（以上、日信化学工業株式会社製）などが挙げられる。ラジカル重合性の非イオン性界面活性剤としては、例えば、「ＲＭＡ−５６４」、「ＲＭＡ−５６８」、「ＲＭＡ−１１１４」［以上、商品名、日本乳化剤株式会社製］等のポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル（メタ）アクリレート系重合性界面活性剤などを挙げることができる。【０２４８】
導電層は、種々の表示素子に対する色補正用フィルターとして色調調整機能を有する色調調整剤（染料もしくは顔料等）、電磁波遮断剤、または赤外線吸収剤等を含有してもよい。【０２４９】
導電層を形成する際には、導電層組成物に有機溶媒が用いられることが好ましい。有機溶媒としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等）、多価アルコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等）、アミン類（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等）、アミド類（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、複素環類（例えば、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。有機溶媒は導電層組成物中に５質量部以上、より好ましくは５〜８０質量部以上、含有して用いるのが好ましい。【０２５０】
導電層は、層を形成する際、導電層組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いてフィルム基材の一方の面にウェット膜厚０．１〜１００μｍで塗布し、塗布後、加熱乾燥し、必要に応じて硬化して形成される。硬化工程は、加熱処理或いはＵＶ硬化処理によって行われる。ドライ膜厚としては平均膜厚０．０５〜３０μｍ、好ましくは０．１〜１０μｍである。【０２５１】
ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは５〜２
００ｍＪ／ｃｍ2である。また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜５００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性優れたフィルムを得ることができる。導電層は１層或いは２層以上の多層構造でも良い。【０２５２】
また、導電層には以下の方法により表面に凹凸形状を設けてもよい。
（１）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、エンボスにて形状を付与する方法。
（２）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、熱硬化性樹脂をネガ型に充填し、加熱硬化後ネガ型から剥離する方法。
（３）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、紫外線または電子線硬化樹脂を塗布し凹部に充填後、樹脂液を介して凹版上に透明フィルム基材を被覆したまま紫外線または電子線を照射し、硬化させた樹脂とそれが接着した透明フィルム基材とをネガ型から剥離する方法。
（４）目的とする形状のネガ型を流延ベルトに形成しておき、キャスティング時に目的とする形状を付与する溶剤キャスト法。
（５）光または加熱により硬化する樹脂を透明基板に凸版印刷し、光または加熱により硬化して凹凸を形成する方法。
（６）透明フィルム基材表面に光または加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光または加熱により硬化して透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
（７）透明フィルム基材表面に光または加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光または加熱により硬化して凹凸形状を形成し、更に透明樹脂層にて被覆する方法。
（８）表面を工作機械等で切削加工する方法。
（９）球、多角体等各種形状の粒子を、透明フィルム基材表面に半ば埋没する程度に押し込んで一体化し、透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
（１０）球、多角体等各種形状の粒子を少量のバインダーに分散したものを透明フィルム基材表面に塗布し、透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
（１１）透明フィルム基材表面に、バインダーを塗布し、その上に球、多角体等各種形状の粒子を散布し、透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
（１２）透明フィルム基材表面に鋳型を押し当てて凹凸を形成する方法。具体的には特開２００５−１５６６１５号公報記載の方法。【０２５３】
上記のフィルム基材表面に凹凸形状を形成する方法の中でも、ネガ型を形成する方法やインクジェット法との併用が効果的である。【０２５４】
本発明の第３の実施形態について説明する。【０２５５】
本発明の第３の実施形態に係る防眩性フィルムは、粒子を含有する支持体上に、機能層を有する防眩性フィルムにおいて、前記機能層が支持体の屈折率よりも屈折率が低い低屈折率層であることを特徴とする。【０２５６】
《低屈折率層》
次に、低屈折率層について説明する。【０２５７】
本実施の形態における低屈折率層とは、支持体の屈折率よりも低い層をいう。具体的な屈折率としては、２３℃、波長５５０ｎｍで１．２０〜１．４５の範囲のものが好ましい。また、低屈折率層の膜厚は、光学干渉層としての特性から、５ｎｍ〜０．５μｍが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍがより好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが更に好ましい。【０２５８】
低屈折率層は、有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂、フルオロアクリレート、含フッ素ポリマー等から形成されることが好ましい。フッ素ポリマーとしては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。これらの中で好ましくは、炭素数が１〜４の有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物であり、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン等もしくはこれらの加水分解物或いは重縮合物が挙げられる。【０２５９】
低屈折率層には、フッ化マグネシウム、または外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ系粒子よりなる群の中から選ばれた少なくとも１種の無機粒子を含有することが、本発明の目的効果が好適に発揮される点から好ましい。【０２６０】
フッ化マグネシウムとしては、例えば日産化学工業社のイソプロパノール分散フッ化マグネシウムゾルや、シーアイ化成社のナノテックシリーズ等が挙げられる。【０２６１】
外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ系粒子の具体例としては、（１）多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層からなる複合粒子、または（２）内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。【０２６２】
空洞粒子は、内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空シリカ系粒子の平均粒径は５〜２００ｎｍ、好ましくは１０〜７０ｎｍが望ましい。中空シリカ系粒子の粒径は変動係数が１〜４０％の単分散であることが好ましい。【０２６３】
本実施の形態で用いられる中空シリカ系粒子の平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。【０２６４】
中空シリカ系粒子の平均粒径は、形成される低屈折率層の透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、透明被膜の膜厚の３／２〜１／１０、好ましくは２／３〜１／１０が望ましい。これらの中空シリカ系粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。【０２６５】
分散媒としては、水、アルコール（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）、及びケトン（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、ケトンアルコール（例えばジアセトンアルコール）、プロピレンモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好ましい。【０２６６】
複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、１〜４０ｎｍ、好ましくは１〜２０ｎｍ、更に好ましくは２〜１５ｎｍが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが１ｎｍ未満の場合は、粒子を完全に被覆することができないことがあり、塗布液成分が容易に複合粒子の内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率化の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが２０ｎｍを越えると、塗布液成分が内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性（細孔容積）が低下し低屈折率化の効果が十分得られなくなることがある。【０２６７】
また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが１ｎｍ未満の場合は、粒子形状を維持できないことがあり、また厚さが２０ｎｍを越えても、低屈折率化の効果が十分に現れないことがある。【０２６８】
複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。【０２６９】
また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的にはＡｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｐ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｂＯ2、ＭｏＯ3、ＺｎＯ2、ＷＯ3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、ＣａＦ2、ＮａＦ、ＮａＡｌＦ6、ＭｇＦ等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。【０２７０】
シリカ以外の無機化合物としては、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｐ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｂＯ2、ＭｏＯ3、ＺｎＯ2、ＷＯ3との１種または２種以上を挙げることができる。このような多孔質粒子では、シリカをＳｉＯ２で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算（ＭＯｘ）で表したときのモル比：ＭＯｘ／ＳｉＯ2が、０．０００１〜１．０、好ましくは０．００１〜０．３の範囲にあることが望ましい。【０２７１】
多孔質粒子のモル比：ＭＯｘ／ＳｉＯ2が、０．０００１未満のものは、得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また多孔質粒子のモル比：ＭＯｘ／ＳｉＯ2が１．０を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、更に屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。【０２７２】
このような多孔質粒子の細孔容積は、０．１〜１．５ｍｌ／ｇ、好ましくは０．２〜１．５ｍｌ／ｇの範囲であることが望ましい。細孔容積が０．１ｍｌ／ｇ未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、１．５ｍｌ／ｇを越えると粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。【０２７３】
尚、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることができる。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。【０２７４】
また多孔質物質としては、多孔質粒子で例示した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。【０２７５】
このような中空粒子の製造方法としては、例えば特開平７−１３３１０５号公報の段落番号［００１０］〜［００３３］に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第１工程〜第３工程を実施するこれによって中空粒子を製造することができる。（第１工程：多孔質粒子前駆体の調製）
第１工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、ｐＨ１０以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。【０２７６】
シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム（水ガラス）やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることができる。尚、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第４級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。【０２７７】
また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Ａｌ、Ｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｐ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｚｎ、Ｗ等から選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第４級アンモニウム塩を挙げることができる。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。【０２７８】
これら水溶液の添加と同時に混合水溶液のｐＨ値は変化するが、このｐＨ値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類、及びその混合割合によって定まるｐＨ値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。【０２７９】
当該シード粒子としては、特に制限はないが、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、またはＺｒＯ2等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることができる。更に上記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。【０２８０】
シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のｐＨを１０以上に調整した後、該シード粒子分散液中に上記化合物の水溶液を、アルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のｐＨ制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることができる。【０２８１】
上記したシリカ原料、及び無機化合物原料は、アルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいｐＨ領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン、及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して粒子に成長したり、またはシード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、粒子の析出、成長に際して、従来法のようなｐＨ制御は必ずしも行う必要がない。【０２８２】
第１工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物（ＭＯｘ）に換算し、ＭＯｘ／ＳｉＯ2のモル比が、０．０５〜２．０、好ましくは０．２〜２．０の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が２．０を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が０．０５未満の場合は、細孔容積が小さくなる。【０２８３】
空洞粒子を調製する場合、ＭＯｘ／ＳｉＯ2のモル比は、０．２５〜２．０の範囲内にあることが望ましい。【０２８４】
（第２工程：多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去）
第２工程では、第１工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物（珪素と酸素以外の元素）の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、または、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。【０２８５】
尚、第１工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物（珪素と酸素以外の元素）を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物（珪素と酸素以外の元素）を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することができる。【０２８６】
また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第１工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液または加水分解性の有機珪素化合物を添加して、シリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは０．５〜４０ｎｍ、好ましくは０．５〜１５ｎｍの厚さであればよい。尚、シリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり、厚さが薄いので、上記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。【０２８７】
このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、上記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することができる。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく、後述するシリカ被覆層を形成することができる。尚、除去する無機化合物の量が少ない場合は、粒子が壊れることがないので、必ずしも保護膜を形成する必要はない。【０２８８】
また、空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。【０２８９】
上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持できる範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。【０２９０】
シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、下記の一般式（ｃ）で表されるアルコキシシランを用いることができる。【０２９１】
Ｒ”mＳｉ（ＯＲ’）4-m        ・・・（ｃ）
（式中、Ｒ”とＲ’は、アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、ｍは０、１、２または３を表す。）
特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。【０２９２】
添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。【０２９３】
このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。【０２９４】
多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。尚、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。【０２９５】
（第３工程：シリカ被覆層の形成）
第３工程では、第２工程で調製した多孔質粒子分散液（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液）に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。【０２９６】
尚、ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。【０２９７】
被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆できる程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが１〜４０ｎｍ、好ましくは１〜２０ｎｍとなるように量で、多孔質粒子（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体）分散液中で添加される。またシリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが１〜４０ｎｍ、好ましくは１〜２０ｎｍの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。【０２９８】
次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。【０２９９】
このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞できる程度であれば特に制限はなく、８０〜３００℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が８０℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化できないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が３００℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率化の効果が得られないことがある。【０３００】
このようにして得られた中空シリカ系粒子の屈折率は、１．４２未満と低い。このような中空シリカ系粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。【０３０１】
また、塗布組成物時の安定性から、中空シリカ系粒子としては、表面に炭化水素主鎖を有するポリマーが共有結合しているものが好ましい。【０３０２】
次に、炭化水素主鎖を有するポリマーが共有結合している中空シリカ系粒子について説明する。【０３０３】
炭化水素主鎖を有するポリマーとは、直接共有結合、または中空シリカ系粒子の表面のシリカと炭化水素主鎖を有するポリマーとの間に結合剤を介在させ、シリカと結合剤とを共有結合し、結合剤とポリマーとが共有結合しているものも言う。結合剤としては、カップリング剤が好ましく用いられる。【０３０４】
炭化水素主鎖を有するポリマーが共有結合している中空粒子は、（１）中空シリカ系粒子表面を未処理、もしくはカップリング剤などで処理した状態で、中空シリカ系粒子表面と共有結合を形成可能な官能基を有するポリマーを反応させ、中空シリカ系粒子表面にポリマーをグラフトさせる方法、或いは（２）中空シリカ系粒子表面を未処理、もしくはカップリング剤などで処理した状態で、中空シリカ系粒子表面から単量体を重合することでポリマー鎖を生長させ、表面グラフトさせる方法等により製造することができる。具体的な製造方法としては、特開２００６−２５７３０８号公報に記載の方法を用いることができる。【０３０５】
上記製造方法では、表面修飾率向上の観点から、中空シリカ系粒子表面から単量体を重合することでポリマー鎖を生長させ、表面グラフトさせる方法が好ましい。重合開始能、もしくは連鎖移動能を有する官能基を含むカップリング剤で中空シリカ系粒子を表面処理し、そこから単量体を重合し、ポリマー鎖を生長させて表面グラフトさせる方法が更に好ましい。重合開始能もしくは連鎖移動能を有する官能基を、中空シリカ系粒子に導入するための表面処理剤（カップリング剤）としては、アルコキシ金属化合物（例えばチタンカップリング剤、アルコキシシラン化合物（シランカップリング剤））が好ましく用いられる。【０３０６】
中空シリカ系粒子は平均粒径の異なる２種以上の中空シリカ系粒子を含有していてもよい。【０３０７】
更に中空シリカ系粒子の中では、導電性金属酸化物被覆層を有する中空シリカ系粒子が本発明の目的効果がより良く発揮される点で好ましい。導電性金属酸化物被覆層を形成する金属酸化物としては特に制限はないが、例えば、酸化スズ、アンチモンスズ酸化物、インジウムスズ酸化物、酸化アンチモン、アルミニウム亜鉛酸化物、ガリウム亜鉛酸化物及びこれらの混合物から選ばれるものが挙げられる。この中でも、酸化アンチモンにより被覆されている中空シリカ系粒子が特に好ましい。【０３０８】
導電性金属酸化物被覆層の平均厚さとしては、１〜４０ｎｍ、より好ましくは１〜２０ｎｍの範囲であり、中空シリカ系粒子を十分に被覆でき、得られる導電性金属酸化物被覆中空シリカ系粒子の導電性が十分となる点で、被覆層の厚さは１ｎｍ以上が好ましい。導電性の向上効果が十分で、導電性金属酸化物被覆中空シリカ系粒子の平均粒子径が小さい場合にも屈折率が十分である点で、被覆層の厚さは４０ｎｍ以下が好ましい。【０３０９】
導電性金属酸化物被覆層を有する中空シリカ系粒子の中でも特に好ましくは、酸化アンチモン被覆層を有する中空シリカ系粒子である。次に酸化アンチモン被覆層を有する中空シリカ系粒子について説明する。【０３１０】
酸化アンチモンは、Ｓｂ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｂＯ2等いずれでも良く、酸化アンチモン被覆層中には酸化スズなどを含有していても良い。酸化アンチモン被覆層中のこれらの酸化アンチモンの合計含有率は１０％以上が好ましい。また、酸化アンチモン被覆層は、更にシリカ等で被覆されていても良い。【０３１１】
酸化アンチモン被覆中空シリカ粒子の体積抵抗値は、１０〜５０００Ω／ｃｍが好ましく、１０〜２０００Ω／ｃｍの範囲にあることがより好ましい。体積抵抗値をこの範囲にすることで、粒子の屈折率を低く保ちつつ、低屈折率塗膜の表面抵抗を低下せしめることが可能となる。体積抵抗値は、核粒子の粒子サイズ、表面被覆金属酸化物層の膜厚、組成を調整することにより制御できる。【０３１２】
体積抵抗値については、以下の方法で測定できる。【０３１３】
内部に円柱状のくりぬき（断面積０．５ｃｍ2）を有するセラミック製セルを用い、架台電極上にセルを置き、内部に試料粉体０．６ｇを充填し、円柱状突起を有する上部電極の突起を挿入し、油圧機にて上下電極を加圧し、１００ｋｇ／ｃｍ2加圧時の抵抗値（Ω）と試料の高さ（ｃｍ）を測定し、抵抗値に高さを乗することによって求めた。【０３１４】
酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子の製造方法について説明する。【０３１５】
まず、多孔質シリカ系粒子、または内部に空洞を有するシリカ系粒子の分散液を前述の方法等により調製する。分散液の固形分濃度として０．１〜４０質量％、更に０．５〜２０質量％の範囲にあることが好ましい。固形分濃度が０．１質量％未満の場合は、生産効率が低く、固形分濃度が４０質量％を超えると、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子が凝集することがあり、被膜の透明性が低下したり、ヘーズが悪化することがある。【０３１６】
また、アンチモン酸の分散液（水溶液）を調製する。アンチモン酸の調製方法としては、多孔質シリカ系粒子または内部に空洞を有するシリカ系粒子の細孔や空洞を埋めることなく、粒子表面に酸化アンチモンの被覆層を形成することができれば特に制限はないが、以下に示す方法は均一で薄い酸化アンチモン被覆層を形成することができるので好ましい。【０３１７】
具体的には、アンチモン酸アルカリ水溶液を陽イオン交換樹脂で処理してアンチモン酸（ゲル）分散液を調製し、次いで陰イオン交換樹脂で処理する。アンチモン酸アルカリ水溶液としては、例えば特開平２−１８０７１７号公報に記載されている、酸化アンチモンゾルの製造方法に用いるアンチモン酸アルカリ水溶液は好適である。【０３１８】
アンチモン酸アルカリ水溶液は、三酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）、アルカリ物質及び過酸化水素を反応させて得たものであることが好ましく、酸化アンチモンとアルカリ物質と過酸化水素のモル比を１：２．０〜２．５：０．８〜１．５、好ましくは１：２．１〜２．３：０．９〜１．２とし、三酸化アンチモンとアルカリ物質を含む系に、過酸化水素を三酸化アンチモン１モル当たり、０．２モル／ｈｒ以下の速度で添加して得られる。【０３１９】
この時使用される三酸化アンチモンは、粉末、特に平均粒子径が１０μｍ以下の微粉末のものが好ましく、また、アルカリ物質としては、ＬｉＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、Ｍｇ（ＯＨ）2、Ｃａ（ＯＨ）2等を挙げることができ、中でもＫＯＨ、ＮａＯＨなどのアルカリ金属水酸化物が好ましい。これらのアルカリ物質は、得られるアンチモン酸溶液を安定化させる効果を有する。【０３２０】
まず、水に所定量のアルカリ物質と三酸化アンチモンを加えて三酸化アンチモン懸濁液を調製する。この三酸化アンチモン懸濁液の三酸化アンチモン濃度は、Ｓｂ2Ｏ3として３〜１５質量％の範囲とすることが望ましい。次いで、この懸濁液を５０℃以上、好ましくは８０℃以上に加温し、これに濃度が５〜３５質量％の過酸化水素水を三酸化アンチモン、１モル当たり０．２モル／ｈｒ以下の速度で添加する。過酸化水素水の添加速度が０．２モル／ｈｒより速い場合は、得られる酸化アンチモン粒子の粒子径が大きくなり、粒子径分布が広がるので好ましくない。また、過酸化水素水の添加速度が非常に遅い場合は生産性が悪いので、好ましい添加速度範囲としては、０．０４〜０．２モル／ｈｒの範囲である。【０３２１】
上記反応で得られたアンチモン酸アルカリ（ＭＨＳｂＯ3：Ｍがアルカリ金属の場合）水溶液を、必要に応じて未溶解の残渣を分離した後、更に必要に応じて希釈し、陽イオン交換樹脂で処理し、アルカリイオンを除去することによってアンチモン酸ゲル（ＨＳｂＯ3-）ｎ分散液を調製する。【０３２２】
また、アンチモン酸アルカリ水溶液には、スズ酸アルカリ水溶液、リン酸ナトリウム水溶液等のドーピング剤を含む水溶液が含まれていても良い。このようなドーピング剤が含まれていると更に導電性の高い酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子が得られる。【０３２３】
ここで、アンチモン酸は、（ＨＳｂＯ3-）ｎ（ｎ＝２以上の重合体）で表すことができ、粒子径が１〜５ｎｍ程度のアンチモン酸（ＨＳｂＯ3-）の重合物からなり、微粒子が凝集し、ゲル状態を呈している。【０３２４】
陽イオン交換樹脂で処理する際のアンチモン酸アルカリ水溶液の濃度は、固形分Ｓｂ2Ｏ5として０．０１〜５質量％、更に０．１〜３質量％の範囲にあることが好ましい。固形分として０．０１質量％未満の場合は生産効率が低く、５質量％を超えるとアンチモン酸の大きな凝集体が生成することがあり、アンチモン酸による中空シリカ系粒子の被覆ができにくく、できたとしても不均一になることがある。【０３２５】
陽イオン交換樹脂の使用量は、得られるアンチモン酸分散液のｐＨが１〜４、更に１．５〜３．５の範囲とすることが好ましい。ｐＨ１未満の場合は鎖状粒子にならず凝集粒子が生成する傾向にあり、ｐＨ４を超えると単分散粒子が生成する傾向がある。また、ｐＨ１未満の場合は、酸化アンチモンの溶解度が高いために所定量の酸化アンチモンの被覆が困難になり、ｐＨ４を超えると、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子が凝集体となることがあり、被膜中での分散性が低下したり、帯電防止効果が不十分となることがある。【０３２６】
次いで、アンチモン酸分散液と多孔質シリカ系粒子、または内部に空洞を有するシリカ系粒子の分散液とを混合し、５０〜２５０℃、好ましくは７０〜１２０℃で、通常１〜２４時間熟成を行うことによって酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子分散液を得ることができる。【０３２７】
アンチモン酸分散液とシリカ系粒子分散液との混合比率は、シリカ系粒子を固形分として１００質量部に、アンチモン酸をＳｂ2Ｏ5として１〜２００質量部、好ましくは５〜１００質量部となるように添加する。アンチモン酸の混合比率が１質量部未満の場合は、被覆が不均一であったり被覆層の厚さが不十分となり、酸化アンチモンで被覆する効果、砂割、導電性を付与、向上する効果が十分に得られないことがある。アンチモン酸の混合比率が２００質量部を超えても、被覆に寄与しない酸化アンチモンが増加したり、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子の導電性が更に向上することも無く、屈折率が１．６０を超えて高くなることがある。【０３２８】
混合した分散液の濃度は固形分として１〜４０質量％、更に２〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。混合分散液の濃度が１質量％未満の場合は、酸化アンチモンの被覆効率が不十分であったり、生産効率が低下する。一方４０質量％を超えるとアンチモン酸の使用量が多い場合に、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子が凝集することがある。【０３２９】
その他、低屈折率層には以下のコロイダルシリカを含有しても良い。【０３３０】
コロイダルシリカとは、二酸化ケイ素をコロイド状に水または有機溶媒に分散させたものであり、特に限定はされないが球状、針状または数珠状である。【０３３１】
コロイダルシリカの平均粒径は５０〜３００ｎｍの範囲が好ましく、変動係数が１〜４０％の単分散であることが好ましい。平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。【０３３２】
コロイダルシリカは、市販されており、例えば日産化学工業社のスノーテックスシリーズ、触媒化成工業社のカタロイド−Ｓシリーズ、バイエル社のレバシルシリーズ等が挙げられる。また、アルミナゾルや水酸化アルミニウムでカチオン変性したコロイダルシリカやシリカの一次粒子を２価以上の金属イオンで粒子間を結合し、数珠状に連結した数珠状コロイダルシリカも好ましく用いられる。数珠状コロイダルシリカは日産化学工業社のスノーテックス−ＡＫシリーズ、スノーテックス−ＰＳシリーズ、スノーテックス−ＵＰシリーズ等があり、具体的にはＩＰＳ−ＳＴ−Ｌ（イソプロパノール分散、粒子径４０〜５０ｎｍ、固形分３０％）、ＭＥＫ−ＳＴ−ＭＳ（メチルエチルケトン分散、粒子径１７〜２３ｎｍ、固形分３５）等が挙げられる。【０３３３】
低屈折率層には、触媒を含有することが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸等の有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類、後述する金属キレート化合物等が挙げられるが、中でも酸触媒及び金属キレート化合物が好ましく用いられる。【０３３４】
酸触媒では塩酸、硫酸、シュウ酸、酢酸、フタル酸等が好ましく用いられる。金属キレート化合物としては、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするキレート化合物が、特に制限なく好適に用いることができる。【０３３５】
具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物、ジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナートビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。【０３３６】
これらの金属キレート化合物のうち、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムが特に好ましく用いられる。また、これらの金属キレート化合物は、単独でも併用でも使用することができる。【０３３７】
また、低屈折率層には、下記一般式（ｄ）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物を含有することが好ましい。【０３３８】
Ｒ２mＳｉＸ２4-m        （ｄ）
式中、Ｒ２は置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基、Ｘ２は水酸基または加水分解可能な置換基であり、ｍは０〜３の整数である。【０３３９】
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。【０３４０】
Ｘ２の加水分解可能な置換基としては、アルコキシ基、ハロゲン基、カルボキシル基等が挙げられる。【０３４１】
具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−アミノエチル−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−１，３−ジメチルブチリデンプロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ジエチルシラン等が挙げられ、これらを単独または２種以上を混合して用いられる。【０３４２】
低屈折率層を形成する塗布組成物には、有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エタノール、イソプロパノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテルが特に好ましい。【０３４３】
低屈折率層を形成する塗布組成物中の固形分濃度は、１〜４質量％であることが好ましく、固形分濃度を４質量％以下とすることによって、塗布ムラが生じにくくなり、１質量％以上とすることによって、乾燥負荷が軽減される。【０３４４】
低屈折率層を形成する塗布組成物には、フッ素系化合物またはシリコーン系界面活性剤を含有することが好ましい。上記界面活性剤を含有させることで、塗布ムラを低減したり膜表面の防汚性を向上させるのに有効である。【０３４５】
フッ素系化合物としては、パーフルオロアルキル基を含有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを母核としたもので、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン等の誘導体等が挙げられる。市販品としては、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（何れも旭硝子株式会社製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（何れもフロロケミカル−住友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（何れも新秋田化成株式会社製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」（何れもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−４７０」（いずれも大日本インキ化学工業株式会社製）、等を挙げることができる。【０３４６】
フッ素系化合物の含有割合は、塗布組成物中０．０５〜５質量％、好ましくは０．１〜２質量％である。フッ素系化合物は、１種または２種以上を併用することができる。【０３４７】
低屈折率層には、シリコーン界面活性剤を含有することも好ましい。【０３４８】
シリコーン界面活性剤は、ケイ素原子に結合した有機基の種類により、ストレートシリコーンオイルと変性シリコーンオイルに大別できる。【０３４９】
ここで、ストレートシリコーンオイルとは、メチル基、フェニル基、水素原子を置換基として結合したものをいう。変性シリコーンオイルとは、ストレートシリコーンオイルから二次的に誘導された構成部分をもつものである。一方、シリコーンオイルの反応性からも分類することができる。これらをまとめると、以下のようになる。【０３５０】
（シリコーンオイル）
１．ストレートシリコーンオイル
１−１．非反応性シリコーンオイル：ジメチル、メチルフェニル置換等。【０３５１】
１−２．反応性シリコーンオイル：メチル水素置換等。
２．変性シリコーンオイル
ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが変性シリコーンオイルである。【０３５２】
２−１．非反応性変性シリコーンオイル：アルキル、アルキル／アラルキル、アルキル／ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等。【０３５３】
アルキル／アラルキル変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基或いはフェニルアルキル基が置換したシリコーンオイルである。【０３５４】
ポリエーテル変性シリコーンオイルは、親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンを導入した界面活性剤である。【０３５５】
高級脂肪酸変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイルである。【０３５６】
アミノ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。【０３５７】
エポキシ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。【０３５８】
カルボキシル変性或いはアルコール変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基或いは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。【０３５９】
これらのうち、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば１，０００〜１００，０００、好ましくは２，０００〜５０，０００が適当であり、数平均分子量が１，０００未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が１００，０００を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる。【０３６０】
具体的な商品としては、東レダウコーニング社のＬ−４５、Ｌ−９３００、ＦＺ−３７０４、ＦＺ−３７０３、ＦＺ−３７２０、ＦＺ−３７８６、ＦＺ−３５０１、ＦＺ−３５０４、ＦＺ−３５０８、ＦＺ−３７０５、ＦＺ−３７０７、ＦＺ−３７１０、ＦＺ−３７５０、ＦＺ−３７６０、ＦＺ−３７８５、ＦＺ−３７８５、Ｙ−７４９９、信越化学社のＫＦ９６Ｌ、ＫＦ９６、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ９９、ＫＦ５４、ＫＦ９６５、ＫＦ９６８、ＫＦ５６、ＫＦ９９５、ＫＦ３５１、ＫＦ３５１Ａ、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４、ＫＦ３５５、ＫＦ６１５、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５、ＫＦ６００４、ＦＬ１００、ビックケミージャパン社製の界面活性剤ＢＹＫシリーズ、ＢＹＫ−３００／３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４０、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５／３５６、ＢＹＫ−３５８Ｎ／３６１Ｎ、ＢＹＫ−３５７、ＢＹＫ−３９０、ＢＹＫ−３９２、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０、ＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００、ＧＥ東芝シリコーン社製のジメチルシリコーンシリーズ、ＸＣ９６−７２３、ＹＦ３８００、ＸＦ３９０５、ＹＦ３０５７、ＹＦ３８０７、ＹＦ３８０２、ＹＦ３８９７等が挙げられる。【０３６１】
また、シリコーン界面活性剤は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換した界面活性剤である。置換の位置は、シリコーンオイルの側鎖、両末端、片末端、両末端側鎖等がある。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、４級塩等がある。【０３６２】
シリコーン界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。【０３６３】
非イオン界面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない界面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン）等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン鎖）が長くなるに従って強くなる。疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。【０３６４】
非イオン界面活性剤の具体例としては、例えば東レダウコーニング社のシリコーン界面活性剤ＳＩＬＷＥＴ  Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＦＺ−２１０１、ＦＺ−２１０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１１８、ＦＺ−２１２０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１２３、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１５４、ＦＺ−２１６１、ＦＺ−２１６２、ＦＺ−２１６３、ＦＺ−２１６４、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１、ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ  ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５等が挙げられる。【０３６５】
これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。低屈折率層を形成する塗布組成物を塗布した際のムラ抑制やレベリング性から好ましい。これらの具体例としては、例えば東レダウコーニング社のシリコーン界面活性剤ＡＢＮ  ＳＩＬＷＥＴ  ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−２２０８、ＦＺ−２２２２等が挙げられる。【０３６６】
低屈折率層を形成する塗布組成物には、より過酷な条件下での耐久試験後に本発明の目的効果を発揮しやすい点から、以下に説明する反応性変性シリコーン樹脂（反応性変性シリコーンオイルともいう）を含有することが好ましい。【０３６７】
２−２．反応性変性シリコーンオイル：アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等。【０３６８】
反応性変性シリコーン樹脂としては、ポリシロキサンの側鎖、片末端または両末端にアミノ、エポキシ、カルボキシル、水酸基、メタクリル、メルカプト、フェノール等で置換された反応性タイプの変性シリコーン樹脂である。アミノ変性シリコーン樹脂として、具体的にはＫＦ−８６０，ＫＦ−８６１，Ｘ−２２−１６１Ａ、Ｘ−２２−１６１Ｂ（以上、信越化学工業株式会社製）、ＦＭ−３３１１，ＦＭ−３３２５（以上、チッソ株式会社製）、エポキシ変性シリコーン樹脂としては、ＫＦ−１０５、Ｘ−２２−１６３Ａ、Ｘ−２２−１６３Ｂ、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１００１（以上、信越化学工業株式会社製）、ポリエーテル変性シリコーン樹脂としてはＸ−２２−４２７２、Ｘ−２２−４９５２、カルボキシル変性シリコーン樹脂としてはＸ−２２−３７０１Ｅ、Ｘ−２２−３７１０（以上、信越化学工業株式会社製）、カルビノール変性シリコーン樹脂としてはＫＦ−６００１、ＫＦ−６００３（以上、信越化学工業株式会社製）、メタクリル変性シリコーン樹脂としてはＸ−２２−１６４Ｃ（以上、信越化学工業株式会社製）、メルカプト変性シリコーン樹脂としてはＫＦ−２００１（以上、信越化学工業株式会社製）、フェノール変性シリコーン樹脂としてはＸ−２２−１８２１（以上、信越化学工業株式会社製）等が挙げられる。水酸基変性シリコーン樹脂としては、ＦＭ−４４１１、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−ＤＡ２１，ＦＭ−ＤＡ２６（以上、チッソ株式会社製）等が挙げられる。その他、片末端反応性シリコーン樹脂のＸ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１７６Ｆ（信越化学工業株式会社製）等も含まれる。【０３６９】
上記した界面活性剤は他の界面活性剤と併用して用いてもよく、また、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、リオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等と併用しても良い。上記した界面活性剤の添加量は、低屈折率層塗布組成物中、０．０５〜５．０質量％であることが、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する点から好ましい。【０３７０】
低屈折率層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、低屈折率層を形成する上記塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、必要に応じてＵＶ等で硬化処理することで形成される。【０３７１】
塗布量は、ウェット膜厚として０．０５〜１００μｍが適当で、好ましくは、０．１〜５０μｍである。また、ドライ膜厚が上記膜厚となるように塗布組成物の固形分濃度は調整される。【０３７２】
硬化方法としては、加熱することによって熱硬化させる方法、紫外線等の光照射によって硬化させる方法などが挙げられる。熱硬化させる場合は、加熱温度は５０〜３００℃が好ましく、好ましくは６０〜２５０℃、更に好ましくは８０〜１５０℃である。光照射によって硬化させる場合は、照射光の露光量は１０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。【０３７３】
ここで、照射される光の波長域としては特に限定されないが、紫外線領域の波長を有する光が好ましく用いられる。具体的には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは５〜１５０ｍＪ／ｃｍ2であるが、特に好ましくは２０〜１００ｍＪ／ｃｍ2である。【０３７４】
また、低屈折率層を形成後、温度５０〜１６０℃で加熱処理を行う工程を含んでも良い。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば５０℃であれば、好ましくは３日間以上３０日未満の期間、１６０℃であれば１０分以上１日以下の範囲が好ましい。【０３７５】
本実施の形態に係る防眩性フィルムにおいては、支持体と低屈折率層との間に外光反射防止機能がより向上することから、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層を設けることが好ましい。【０３７６】
《高屈折率層》
高屈折率層は、屈折率調整の点から、高屈折率層には金属酸化物微粒子が含有されることが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はＡｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。【０３７７】
これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であり、１０〜１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘーズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。【０３７８】
高屈折率層の屈折率は、具体的には、フィルム基材の屈折率より高く、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．５〜２．２の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０〜２．６０であることが好ましく、１．８５〜２．５０であることが更に好ましい。【０３７９】
金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して０．１質量％〜５質量％、より好ましくは０．５質量％〜３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。【０３８０】
高屈折率層の屈折率は、具体的には、フィルム基材の屈折率より高く、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．５〜２．２の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０〜２．６０であることが好ましく、１．８５〜２．５０であることが更に好ましい。【０３８１】
使用する金属酸化物微粒子と後述する活性光線硬化性樹脂等のバインダーとの比は、金属酸化物微粒子の種類、粒子サイズなどにより異なるが体積比で前者１に対して後者２から前者２に対して後者１程度が好ましい。【０３８２】
金属酸化物微粒子の使用量は高屈折率層中に５質量％〜８５質量％が好ましく、１０質量％〜８０質量％であることがより好ましく、２０〜７５質量％が最も好ましい。使用量が少ないと所望の屈折率や本発明の効果が得られず、多過ぎると膜強度の劣化などが発生する。【０３８３】
上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、ケトンアルコール（例、ジアセトンアルコール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。【０３８４】
また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。分散剤を含有させることも好ましい。【０３８５】
更にコア／シェル構造を有する金属酸化物微粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに１層形成させてもよいし、耐光性を更に向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。【０３８６】
コアは酸化チタン（ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等）、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることができるが、ルチル型の酸化チタンを主成分としてもよい。【０３８７】
シェルは酸化チタン以外の無機化合物を主成分とし、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。例えば、二酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化鉄、硫化亜鉛等を主成分とした無機化合物が用いられる。この内アルミナ、シリカ、ジルコニア（酸化ジルコニウム）であることが好ましい。また、これらの混合物でもよい。【０３８８】
コアに対するシェルの被覆量は、平均の被覆量で２〜５０質量％である。好ましくは３〜４０質量％、更に好ましくは４〜２５質量％である。シェルの被覆量が多いと微粒子の屈折率が低下し、被覆量が少な過ぎると耐光性が劣化する。二種以上の無機微粒子を併用してもよい。【０３８９】
コアとなる酸化チタンは、液相法または気相法で作製されたものを使用できる。また、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第３，４１０，７０８号、特公昭５８−４７０６１号、米国特許第２，８８５，３６６号、同第３，４３７，５０２号、英国特許第１，１３４，２４９号、米国特許第３，３８３，２３１号、英国特許第２，６２９，９５３号、同第１，３６５，９９９号に記載されている方法等を用いることができる。【０３９０】
高屈折率層もしくは前述の低屈折率層には、下記一般式（ＣＬ１）で表される化合物またはそのキレート化合物を含有することができ、硬度などの物性を改善させることができる。【０３９１】
一般式（ＣＬ１）  ＡnＭＢx-n
式中、Ｍは金属原子、Ａは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Ｂは金属原子Ｍに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。ｘは金属原子Ｍの原子価、ｎは２以上でｘ以下の整数を表す。【０３９２】
加水分解可能な官能基Ａとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記一般式（ＣＬ１）に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を２個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることができる。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化性樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることができる。【０３９３】
チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン等が挙げられる。【０３９４】
ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。【０３９５】
遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量１万以下のものを挙げることができる。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成できる。【０３９６】
金属化合物の添加量は、高屈折率層に含まれる該金属化合物由来の金属酸化物の含有量が０．３〜５質量％であるように調整することが好ましい。０．３質量％未満では耐擦傷性が不足し、５質量％を超えると耐光性が劣化する傾向がある。【０３９７】
高屈折率層には、活性光線硬化性樹脂を、金属酸化物微粒子のバインダーとして、塗膜の製膜性や物理的特性の向上のために含有させることが好ましい。活性光線硬化性樹脂としては、紫外線や電子線のような活性光線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を２個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。ポリオールアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートもしくはそれらの混合物が好ましく、例えば前記ハードコート層で説明した多官能アクリレート系化合物が好ましい。【０３９８】
活性光線硬化性樹脂の添加量は、高屈折率組成物では固形分中の１５質量％以上５０質量％未満であることが好ましい。【０３９９】
活性光線硬化性樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤と分子中に重合可能な不飽和結合を２個以上有するアクリル系化合物とを質量比で３：７〜１：９含有することが好ましい。【０４００】
光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。【０４０１】
高屈折率層を塗布する際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等）、多価アルコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等）、アミン類（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等）、アミド類（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、複素環類（例えば、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。【０４０２】
高屈折率層の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、高屈折率層を形成する上記塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、必要に応じて硬化処理することで形成される。塗布量は、ウェット膜厚として０．０５〜１００μｍが適当で、好ましくは、０．１〜５０μｍである。また、ドライ膜厚が上記膜厚となるように塗布組成物の固形分濃度は調整される。高屈折率層は２層以上であっても良く、同じ屈折率を有していても、異なる屈折率を有する層でもよい。【０４０３】
《バックコート層》
本発明の防眩性フィルムは、反射防止層を設けた側と反対側の面にバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、ハードコート層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。砂割、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることができる。尚、バックコート層はブロッキング防止層を兼ねて塗設されることが好ましいが、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。【０４０４】
バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。【０４０５】
これらの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。【０４０６】
これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明のハードコートフィルムは、活性光線硬化性樹脂層の裏面側の動摩擦係数が０．９以下、特に０．１〜０．９であることが好ましい。【０４０７】
バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％含有されることが好ましく、０．１〜１０質量％であることがより好ましい。バックコート層を設けた場合のヘーズ（雲価）の増加は１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、特に０．０〜０．１％であることが好ましい。【０４０８】
バックコート層の塗布に用いられる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルム、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、または炭化水素類（トルエン、キシレン）等があげられ、適宜組み合わされて用いられる。【０４０９】
これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いてハードコートフィルムの表面にウェット膜厚１〜１００μｍで塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍであることが好ましい。【０４１０】
バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体または共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（好ましくはアセチル基置換度１．８〜２．３、プロピオニル基置換度０．１〜１．０）、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン（株）製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８等（三菱レーヨン（株）製）のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマー等が市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することもできる。例えば、バインダーとして用いられる樹脂としてはセルロースジアセテート、セルロースアセテートプロヒオネートなどのアセチル化セルロースとアクリル樹脂のブレンド物を用いることが好ましく、アクリル樹脂からなる微粒子を用いて、微粒子とバインダーとの屈折率差を０〜０．０２未満とすることで透明性の高いバックコート層とすることができる。【０４１１】
（反射率）
防眩性フィルムの反射率（反射防止層の反射率）は、分光光度計、分光測色計により測定を行うことができる。その際、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色スプレー、黒色アクリル板の貼り付け等して光吸収処理を行ってから、可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の反射光を測定する。【０４１２】
反射率は低いほど好ましいが、可視光領域の波長における平均値が１．５％以下であることが、ＬＣＤ等の画像表示装置の最表面に用いた場合の外光反射防止機能が好適に得られる点から好ましい。また、最低反射率は０．８％以下であることが好ましい。【０４１３】
また、可視光の波長領域において平坦な形状の反射スペクトルを有することが好ましい。また、反射防止処理を施した表示装置表面の反射色相は、反射防止膜の設計上可視光領域において短波長域や長波長域の反射率が高くなることから赤や青に色づくことが多いが、反射光の色味は用途によって要望が異なり、薄型テレビ等の最表面に使用する場合にはニュートラルな色調が好まれる。この場合、一般に好まれる反射色相範囲は、ＸＹＺ表色系（ＣＩＥ１９３１表色系）上で０．１７≦ｘ≦０．２７、０．０７≦ｙ≦０．１７である。【０４１４】
また、ｘｙ平面上の（ｘ、ｙ）＝（０．３１、０．３１）の距離Δｘｙが、０．０５以下となる範囲がより色味がないニュートラルに近いため好ましく、０．０３以下が更に好ましい。【０４１５】
色調は、各層の屈折率より、反射率、反射光の色味を考慮して膜厚を常法に従って計算して調整する事で達成できる。【０４１６】
（表面処理及び塗設）
各層を塗布する前に表面処理することが好ましい。表面処理方法としては、洗浄法、アルカリ処理法、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられる。【０４１７】
《偏光板》
本発明の第４の実施形態に係る偏光板は一般的な方法で作製することができる。上述の防眩性フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、以上コニカミノルタオプト（株）製）が好ましく用いられる。本発明の防眩性フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションＲｏが５９０ｎｍで、２０〜７０ｎｍ、Ｒｔが１００〜４００ｎｍの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開２００２−７１９５７号、特願２００２−１５５３９５号記載の方法で作製することができる。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８号記載の方法で光学異方性層を形成することができる。本発明の防眩性フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。【０４１８】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜（偏光子という場合もある）とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。【０４１９】
（液晶表示装置）
本発明の第５の実施形態として、上述の偏光板を液晶表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた液晶表示装置を作製することができる。上述の防眩性フィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。特に画面が３０型以上、特に３０型〜５４型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなく、その効果が長期間維持され、特にＭＶＡ型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。また、色むら、ギラツキや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【実施例】
【０４２０】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０４２１】
実施例１（本発明の第１の実施形態に関する）
〈支持体の作製〉
（ＴＡＣフィルム−１〜１１：トリアセチルセルロースフィルムの作製）
以下のようにドープ液を調製した。【０４２２】
トリアセチルセルロース（アセチル基置換度２．９５、屈折率１．４８）
１００質量部
２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                                  ５質量部
メチレンクロライド                                            ４７５質量部
エタノール                                                      ５０質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解した。ドープを濾過した後、フッ素化アクリル樹脂粒子（日本ペイントＦ１９１：平均粒子径０．５μｍ）を１０質量部添加した。ベルト流延装置を用い、ドープ温度３３℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体上に流延した。ステンレスバンド支持体で剥離可能となるまで溶媒を蒸発させた後、ステンレスバンド支持体上から剥離した。【０４２３】
剥離したセルロースエステルフィルムを搬送方向に１．０５倍、幅手方向に１．１０倍延伸した後、１．８ｍ幅にスリットし、その後、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．６ｍ幅にスリットし、膜厚８０μｍのＴＡＣフィルム−１を得た。【０４２４】
同様にして、表１記載の種類の粒子、添加量、膜厚を変化させたＴＡＣフィルム−２〜１１を作製した。【０４２５】
表１記載の粒子の種類は以下の略称で示した。【０４２６】
Ｆ０．５：フッ素化アクリル樹脂粒子（日本ペイントＦ１９１：平均粒子径０．５μｍ、屈折率１．４２）
Ｆ３．５：フッ素化アクリル樹脂粒子（根上工業製：平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．４２）
ＰＳ：ポリスチレン樹脂粒子（積水化学工業社製：平均粒子径０．５μｍ、屈折率１．５９）
Ｓ：ＳｉＯ2粒子（日本アエロジル社製：平均粒径０．２μｍ、屈折率１．４６）
平均粒子径は、５００個の粒子を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等により撮影し、得られたイメージ写真を画像処理することにより求めた。【０４２７】
（ＣＡＰフィルム−１：溶融製膜によるセルロースアセテートプロピオネートフィルムの作製）
下記のセルロースエステルを１２０℃で１時間乾燥空気中で熱処理し、乾燥空気中で室温まで放冷した。乾燥したセルロース樹脂９０質量部に対して、セルロースエステル以外の可塑剤、紫外線吸収剤を下記質量部添加し、ヘンシェルミキサーで混合後、押出し機を用い加熱してペレットを作製し放冷した。【０４２８】
セルロースエステル：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．９０、プロピオニル基置換度０．７０、総アシル基置換度２．６０、数平均分子量７５０００、屈折率１．４８）                                              ９０質量部
可塑剤：トリフェニルホスフェート                                １０質量部
ＵＶ−１：チヌビン１０９（チバ・ジャパン社製、重量平均分子量：４８６、３８０ｎｍにおけるモル吸光係数＝６７８０）                                  ２質量部
得られたペレットは空気を流通させた熱風乾燥器を用いて１０５℃で２時間乾燥させて水分を除去した。次いで、前記ペレットを用いて、リップ幅１．８ｍのコートハンガータイプのＴダイを有する単軸押出し機（三菱重工業株式会社製：スクリュー径９０ｍｍ、Ｔダイリップ部材質は炭化タングステン）を用いて、押出し機中間部に設けた添加剤ホッパーの開口部から、フッ素化アクリル樹脂粒子（日本ペイントＦ１９１：平均粒子径０．５μｍ）の添加量が１６質量部となるように連続式フィーダーにより添加し、溶融押出し成形してセルロースエステルフィルムを製造した。押出し成形はクラス１００００以下のクリーンルーム内で、溶融温度２３０℃、Ｔダイ温度２４０℃の成形条件にて行った。長さ３０００ｍ、膜厚８０μｍ、幅１．６ｍの溶融製膜法によるＣＡＰフィルム−１（表１中ＣＡＰ−１と記載）を得た。フィルム両端部には幅１ｃｍ、平均高さ８μｍのナーリング加工を施して巻き取った。【０４２９】
（ＣＡＰフィルム−２：溶液流延によるセルロースアセテートプロピオネートフィルムの作製）
トリアセチルセルロース（アセチル基置換度２．９５、屈折率１．４８）をセルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．９０、プロピオニル基置換度０．７０、総アシル基置換度２．６０、数平均分子量７５０００、屈折率１．４８）に替えた以外は、前記ＴＡＣフィルム−１の作製と同様にして、溶液流延法によりフッ素化アクリル樹脂粒子（日本ペイントＦ１９１：平均粒子径０．５μｍ）１８質量部を含有するＣＡＰフィルム−２（表１中ＣＡＰ−２と記載）を得た。【０４３０】
（ＰＣフィルム１〜３：ポリカーボネートフィルムの作製）
温度計、撹拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水１５２４００部、２５％水酸化ナトリウム水溶液８４３２０部を入れ、ＨＰＬＣ分析で純度９９．８％の９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（以下“ビスクレゾールフルオレン”と略称することがある）３４８４８部、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン９００８部（以下“ビスフェノールＡ”と略称することがある）及びハイドロサルファイト８８部を溶解した後、塩化メチレン１７８４００部を加えた後撹拌下１５〜２５℃でホスゲン１８２４８部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１７７．８部を塩化メチレン２６４０部に溶解した溶液及び２５％水酸化ナトリウム水溶液１０５６０部を加え、乳化後、トリエチルアミン３２部を加えて２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで、塩化メチレン相を濃縮、脱水してポリカーボネート濃度が２０％の溶液を得た。この溶液から溶媒を除去して得たポリカーボネート（屈折率１．５９）はビスクレゾールフルオレンとビスフェノールＡとの構成単位の比がモル比で７０：３０であった（ポリマー収率９７％）。また、このポリマーの極限粘度は０．６７４、Ｔｇは２２６℃であった。【０４３１】
エタノールを１６質量部含む、メチレンクロライドとエタノール混合溶媒３００質量部に対して、前記ポリカーボネート１００質量部、及びフッ素化アクリル樹脂粒子（根上工業製：平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．４２）１５質量部を加え、２５℃で攪拌しながら溶解して、透明で粘ちょうなドープを得た。このドープを乾燥空気を送風して露点を１２℃以下に制御した１００ｍステンレスベルト上に流涎し、剥離した。その時の残留溶媒濃度は３５％だった。剥離性は良好であり帯電も少ないことより目視観察ではフィルム表面に剥離段や剥離筋等は見られなかった。その後、残留溶媒濃度が２％のとき、幅保持をして乾燥させた。その後、残留溶媒濃度が１％以下になるまで乾燥しＰＣフィルム−１を得た。膜厚は８０μｍであった。【０４３２】
同様にして、表１記載の種類の粒子、添加量を変化させたＰＣフィルム２、３を作製した。【０４３３】
（ＣＯＰフィルム：シクロオレフィンポリマーフィルムの作製）
窒素雰囲気下、脱水したシクロヘキサン５００部に、１−ヘキセン１．２部、ジブチルエーテル０．１５部、トリイソブチルアルミニウム０．３０部を室温で反応器に入れ混合した後、４５℃に保ちながら、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３，７−ジエン（ジシクロペンタジエン、以下、ＤＣＰと略記）２０部、１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン（以下、ＭＴＦと略記）１４０部、及び８−メチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−ドデカ−３−エン（以下、ＭＴＤと略記）４０部からなるノルボルネン系モノマー混合物と、六塩化タングステン（０．７％トルエン溶液）４０部とを、２時間かけて連続的に添加し重合した。重合溶液にブチルグリシジルエーテル１．０６部とイソプロピルアルコール０．５２部を加えて重合触媒を不活性化し重合反応を停止させた。【０４３４】
次いで、得られた開環重合体（屈折率１．５３）を含有する反応溶液１００部に対して、シクロヘキサン２７０部を加え、更に水素化触媒としてニッケル−アルミナ触媒（日揮化学社製）５部を加え、水素により５ＭＰａに加圧して撹拌しながら温度２００℃まで加温した後、４時間反応させ、ＤＣＰ／ＭＴＦ／ＭＴＤ開環重合体水素化ポリマーを２０％含有する反応溶液を得た。濾過により水素化触媒を除去した後、軟質重合体（クラレ社製；セプトン２００２）、及び酸化防止剤（チバ・ジャパン社製；イルガノックス１０１０）を、得られた溶液にそれぞれ添加して溶解させた（いずれも重合体１００部当たり０．１部）。次いで、溶液から、溶媒であるシクロヘキサン及びその他の揮発成分を、円筒型濃縮乾燥器（日立製作所製）を用いて除去し、水素化ポリマーを溶融状態で押出し機からストランド状に押出し、冷却後ペレット化して回収した。重合体中の各ノルボルネン系モノマーの共重合比率を、重合後の溶液中の残留ノルボルネン類組成（ガスクロマトグラフィー法による）から計算したところ、ＤＣＰ／ＭＴＦ／ＭＴＤ＝１０／７０／２０でほぼ仕込組成に等しかった。この開環重合体水素添加物の、重量平均分子量（Ｍｗ）は３１，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５、水素添加率は９９．９％、Ｔｇは１３４℃であった。【０４３５】
得られた開環重合体水素添加物のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて７０℃で２時間乾燥して水分を除去した。次いで、前記ペレットを、リップ幅１．６ｍのコートハンガータイプのＴダイを有する短軸押出し機（三菱重工業株式会社製：スクリュー径９０ｍｍ、Ｔダイリップ部材質は炭化タングステン、溶融樹脂との剥離強度４４Ｎ）を用いて、開環重合体１００部当たりフッ素化アクリル樹脂粒子（根上工業製：平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．４２）２０質量部を混練するように加えながら、溶融押出成形して厚み８０μｍのＣＯＰフィルムを製造した。押出成形は、クラス１００００以下のクリーンルーム内で、溶融樹脂温度２４０℃、Ｔダイ温度２４０℃の成形条件にて行った。得られたＣＯＰフィルムは両耳をスリットし、幅１．５ｍに加工した。【０４３６】
（ＰＥフィルム：ポリエステルフィルムの作製）
テレフタル酸ジメチルの１００質量部、エチレングリコールの６５質量部に、エステル交換触媒として酢酸マグネシウム水和物の０．０５質量部を添加し、常法に従ってエステル交換を行った。得られた生成物に、三酸化アンチモンの０．０５質量部、リン酸トリメチルエステルの０．０３質量部を添加した。次いで、徐々に昇温、減圧し、２８０℃、６７Ｐａで重合を行い、０．６０の固有粘度のポリエチレンテレフタレート樹脂を得た。【０４３７】
上記ポリエチレンテレフタレート樹脂（屈折率１．６６）を１５０℃で４時間乾燥した後、メイン押出し機上の設置したホッパーから樹脂を押出し機へ供給し、更に樹脂１００質量部に対し、ポリスチレン樹脂粒子（積水化学工業社製：平均粒子径０．５μｍ）７質量部を加え、Ｔダイにより押出し、３０℃の冷却ドラム上に静電印加しながら密着させて冷却固化し、未延伸シートを得た。この未延伸シートをロール式縦延伸機へ導き、９０℃で縦方向に３．５倍延伸した。得られた１軸延伸フィルムをテンター式横延伸機を用いて、第１延伸ゾーン１００℃で総横延伸倍率の５０％延伸し、更に第２延伸ゾーン１２０℃で総横延伸倍率３．６倍となるように延伸した。次いで、１００℃で２秒間熱処理し、更に、第１熱固定ゾーン１７０℃で５秒間熱固定し、第２熱固定ゾーン２１０℃で１５秒間熱固定した。次いで横方向に５％弛緩処理しながら室温まで３０秒かけて徐冷して膜厚８０μｍのＰＥフィルムを得た。【０４３８】
〈防眩性フィルム１の作製〉
表１記載のＴＡＣフィルム−１を用いて、以下の紫外線硬化樹脂層を形成し防眩性フィルム１を作製した。【０４３９】
〈紫外線硬化樹脂層の形成〉
（紫外線硬化樹脂層塗布組成物１）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体                  ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体                  ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分        ２０質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）                          ２質量部
イソプロピルアルコール                                          ５０質量部
酢酸エチル                                                      ５０質量部
メチルエチルケトン                                              ５０質量部
フッ素化アクリル樹脂粒子（日本ペイントＦ１９１：平均粒子径０．５μｍ）
２３質量部
上記作製した表１記載のＴＡＣフィルム−１のＢ面（流延ベルト面側）に、上記紫外線硬化樹脂層塗布組成物１を押し出しコートし、次いで８０℃に設定された乾燥部で乾燥した後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ2で、照射量を０．１Ｊ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、膜厚１０μｍの紫外線硬化樹脂層を有する防眩性フィルム１を得た。【０４４０】
〈防眩性フィルム２〜２０の作製〉
上記作製した、ＴＡＣフィルム２〜１１、ＣＡＰフィルム−１、ＣＡＰフィルム−２、ＰＣフィルム１〜３、ＣＯＰフィルム、ＰＥフィルムと、紫外線硬化樹脂層塗布組成物１中の粒子の種類と添加量を表１のように変化させて調製した紫外線硬化樹脂層塗布組成物とを組み合わせた以外は防眩性フィルム１の作製と同様にして、表１記載の防眩性フィルム２〜２０を作製した。【０４４１】
《防眩性フィルムの評価》
〈中心線平均粗さ（Ｒａ）の測定〉
ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１に準じて、光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を使用して、各防眩性ハードコート層表面の任意の１０ケ所の１．２ｍｍ×０．９ｍｍの面積に対して、中心線平均粗さ（Ｒａ）値を求め平均した。【０４４２】
〈ヘーズの評価〉
（総ヘーズ（Ｔ））
ヘーズメーター（Ｔ−２６００ＤＡ、東京電色製）を用いて測定を行った。【０４４３】
（内部ヘーズ（Ａ）、内部ヘーズ（Ｂ））
防眩性フィルムの防眩層表面に、片側にアクリル系粘着剤が塗布された粘着剤付きポリエチレンテレフタレートフィルムを貼り付け、防眩性フィルムのヘーズをヘーズメーター（Ｔ−２６００ＤＡ、東京電色製）を用いて測定した。その値からアクリル系粘着剤が塗布された粘着剤つきポリエチレンテレフタレートフィルムのヘーズを引いたものを内部ヘーズとした。【０４４４】
（表面ヘーズＡ（外））
表面ヘーズＡ（外）＝（総ヘーズ（Ｔ））−（内部ヘーズ（Ａ）＋内部ヘーズ（Ｂ））の計算式より算出した。【０４４５】
〈湿熱後耐傷性評価〉
８０度９０％の温湿度下で５００時間フィルムを入れ、その後フィルムに２３℃、５５％ＲＨの環境下で２４時間おいた後、＃００００のスチールウール（ＳＷ）に１ｋｇ／ｃｍ2の荷重を紫外線硬化樹脂層側を上面にしてかけ、１０往復したときの１ｃｍ幅当たりの傷の本数を測定した。尚、傷の本数は荷重をかけた部分の中で最も傷の本数の多い所で測定する。【０４４６】
◎：傷なし
○：数本の傷がつく
△：１０〜４９本の傷がつく
×：５０本以上の傷がつく
〈湿熱後寸法変化〉
防眩性フィルムの表面２ケ所に十文字型の印を付し、工業用顕微鏡で、熱処理（８０℃、９０％ＲＨ環境下で５００時間）を施す前後での２つの印間の距離を測定し、下記式により寸法変化率（％）を測定した。【０４４７】
寸法変化率（％）＝（１−処理後距離／処理前距離）×１００
◎：寸法変化率０％〜０．０３％未満
○：寸法変化率０．０３％〜０．１％未満
△：寸法変化率０．１％〜０．３％未満
×：寸法変化率０．３％以上
以上の評価結果を表１に示す。【０４４８】
【表１】
2009075201.tif 000002
【０４４９】
本発明の構成である防眩性フィルム１〜１６は、参考例の防眩性フィルム１７〜２０に対し、湿熱後耐傷性に優れることが明らかである。【０４５０】
また、本発明の構成である防眩性フィルム１〜１６は、粒子を添加することにより、湿熱後寸法変化が改善されることが分かった。【０４５１】
実施例２
〈偏光板および液晶表示装置の作製〉
（偏光板の作製）
上記作製した防眩性フィルム１〜２０の原反試料を使って、下記に記載するアルカリケン化処理、偏光板の作製を行った。【０４５２】
〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程    ２Ｍ−ＮａＯＨ    ５０℃    ９０秒
水洗工程      水                ３０℃    ４５秒
中和工        １０質量％ＨＣｌ  ３０℃    ４５秒
水洗工程      水                ３０℃    ４５秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥を行った。【０４５３】
〈偏光子の作製〉
厚さ１２０μｍの長尺ロールポリビニルアルコールフィルムを沃素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で６倍に搬送方向に延伸して偏光子を作った。【０４５４】
上記偏光子の片面に同様にケン化処理したコニカミノルタオプト（株）製ＫＣ４ＦＲ、その反対面側に前記アルカリケン化処理した本発明のセルロースエステルフィルムを完全ケン化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として、偏光子の透過軸とフィルムの面内遅相軸が平行になるように各々貼り合わせ、乾燥して偏光板１〜２０を作製した。尚、参考例の偏光板１７〜２０は加工の際に傷が付き易かった。【０４５５】
（液晶表示装置の作製）
得られた偏光板は、ＶＡ型液晶表示装置である富士通製１５型液晶ディスプレイＶＬ−１５３０Ｓにあらかじめ貼合されていた偏光板を注意深く剥がし、もともと貼ってあった偏光板の透過軸にあわせて、粘着剤を介して作製した偏光板を貼り付け液晶表示装置を作製した。その後、４０℃、７０％ＲＨの環境下において、バックライトを５００時間連続点灯し、視認性（黒のしまりやコントラスト、色むら）を確認したところ、本発明の防眩性フィルム１〜１６を用いた偏光板、液晶表示装置は、連続点灯後でも視認性は良好であったが、参考例の防眩性フィルム１７〜２０を用いた偏光板、液晶表示装置は、黒のしまりやコントラストが低下し、フィルムの寸法変化による色むらも発生して視認性が劣る結果であった。【０４５６】
実施例３（本発明の第２の実施形態に関する）
〈支持体の作製〉
（ＴＡＣフィルム２１〜３３：トリアセチルセルロースフィルムの作製）
以下のようにドープ液を調製した。【０４５７】
トリアセチルセルロース（アセチル基置換度２．９５、屈折率１．４８）
１００質量部
２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                                  ５質量部
メチレンクロライド                                            ４７５質量部
エタノール                                                      ５０質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解した。ドープを濾過した後、ポリスチレン樹脂粒子（積水化学工業社製：平均粒子径０．５μｍ、屈折率１．５９）を１０質量部添加した。ベルト流延装置を用い、ドープ温度３３℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体上に流延した。ステンレスバンド支持体で剥離可能となるまで溶媒を蒸発させた後、ステンレスバンド支持体上から剥離した。【０４５８】
剥離したセルロースエステルフィルムを搬送方向に１．０５倍、幅手方向に１．１０倍延伸した後、１．８ｍ幅にスリットし、その後、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．６ｍ幅にスリットし、膜厚８０μｍのＴＡＣフィルム−１（表２中ＴＡＣ−２１と記載）を得た。フィルム両端部には幅１ｃｍ、平均高さ１０μｍのナーリング加工を施して巻き取った。同様にして、表２記載の種類の粒子、添加量、膜厚を変化させてＴＡＣフィルム−２２〜ＴＡＣフィルム−３３（表２中ＴＡＣ−２２〜ＴＡＣ−３３と記載）を作製した。尚、表２記載の粒子の種類は以下の略称で示した。【０４５９】
Ｆ０．５：フッ素化アクリル樹脂粒子（日本ペイントＦ１９１：平均粒子径０．５μｍ、屈折率１．４２）
Ｆ３．５：フッ素化アクリル樹脂粒子（根上工業製：平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．４２）
ＰＳ：ポリスチレン樹脂粒子（積水化学工業社製：平均粒子径０．５μｍ、屈折率１．５９）
Ｓ：ＳｉＯ2粒子（日本アエロジル社製：平均粒径０．２μｍ、屈折率１．４６）
平均粒子径は、５００個の粒子を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等により撮影し、得られたイメージ写真を画像処理することにより求めた。【０４６０】
（ＣＡＰフィルム２１〜２４：溶融製膜によるセルロースアセテートプロピオネートフィルムの作製）
下記のセルロースエステルを１２０℃で、１時間乾燥空気中で熱処理し、乾燥空気中で室温まで放冷した。乾燥したセルロース樹脂９０質量部に対して、セルロースエステル以外の可塑剤、紫外線吸収剤を下記質量部添加し、ヘンシェルミキサーで混合後、押出し機を用い加熱してペレットを作製し放冷した。【０４６１】
セルロースエステル：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．９０、プロピオニル基置換度０．７０、総アシル基置換度２．６０、数平均分子量７５０００、屈折率１．４８）                                              ９０質量部
可塑剤：トリフェニルホスフェート                                １０質量部
ＵＶ−１：チヌビン１０９（チバ・ジャパン社製、重量平均分子量：４８６、３８０ｎｍにおけるモル吸光係数＝６７８０）                                  ２質量部
得られたペレットは空気を流通させた熱風乾燥器を用いて１０５℃で２時間乾燥させて水分を除去した。次いで、前記ペレットを用いて、リップ幅１．８ｍのコートハンガータイプのＴダイを有する単軸押出し機（三菱重工業株式会社製：スクリュー径９０ｍｍ、Ｔダイリップ部材質は炭化タングステン）を用いて、押出し機中間部に設けた添加剤ホッパーの開口部から、フッ素化アクリル樹脂粒子（日本ペイントＦ１９１：平均粒子径０．５μｍ）の添加量が２２質量部となるように連続式フィーダーにより添加し、溶融押出し成形してセルロースエステルフィルムを製造した。押出し成形はクラス１００００以下のクリーンルーム内で、溶融温度２３０℃、Ｔダイ温度２４０℃の成形条件にて行った。長さ３０００ｍ、膜厚８０μｍ、幅１．６ｍの溶融製膜法によるＣＡＰフィルム−２１（表２中ＣＡＰ−２１と記載）を得た。フィルム両端部には幅１ｃｍ、平均高さ１０μｍのナーリング加工を施して巻き取った。【０４６２】
同様にして、表２記載の種類の粒子、添加量を変化させてＣＡＰフィルム−２２〜ＣＡＰフィルム−２４（表２中ＣＡＰ−２２〜ＣＡＰ−２４と記載）を作製した。【０４６３】
（ＣＡＰフィルム２５：溶液流延によるセルロースアセテートプロピオネートフィルムの作製）
トリアセチルセルロース（アセチル基置換度２．９５、屈折率１．４８）をセルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．９０、プロピオニル基置換度０．７０、総アシル基置換度２．６０、数平均分子量７５０００、屈折率１．４８）に替えた以外は、前記ＴＡＣフィルム−２１の作製と同様にして、溶液流延法によりフッ素化アクリル樹脂粒子（日本ペイントＦ１９１：平均粒子径０．５μｍ）２２質量部を含有するＣＡＰフィルム−２５（表２中ＣＡＰ−２５と記載）を得た。フィルム両端部には幅１ｃｍ、平均高さ１０μｍのナーリング加工を施して巻き取った。【０４６４】
（ＰＣフィルム２１〜２４：ポリカーボネートフィルムの作製）
温度計、撹拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水１５２４００部、２５％水酸化ナトリウム水溶液８４３２０部を入れ、ＨＰＬＣ分析で純度９９．８％の９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（以下“ビスクレゾールフルオレン”と略称することがある）３４８４８部、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン９００８部（以下“ビスフェノールＡ”と略称することがある）及びハイドロサルファイト８８部を溶解した後、塩化メチレン１７８４００部を加えた後撹拌下１５〜２５℃でホスゲン１８２４８部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１７７．８部を塩化メチレン２６４０部に溶解した溶液及び２５％水酸化ナトリウム水溶液１０５６０部を加え、乳化後、トリエチルアミン３２部を加えて２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで、塩化メチレン相を濃縮、脱水してポリカーボネート濃度が２０％の溶液を得た。この溶液から溶媒を除去して得たポリカーボネート（屈折率１．５９）はビスクレゾールフルオレンとビスフェノールＡとの構成単位の比がモル比で７０：３０であった（ポリマー収率９７％）。また、このポリマーの極限粘度は０．６７４、Ｔｇは２２６℃であった。【０４６５】
エタノールを１６質量部含む、メチレンクロライドとエタノール混合溶媒３００質量部に対して、前記ポリカーボネート１００質量部、及びフッ素化アクリル樹脂粒子（根上工業製：平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．４２）１５質量部を加え、２５℃で攪拌しながら溶解して、透明で粘ちょうなドープを得た。このドープを乾燥空気を送風して露点を１２℃以下に制御した１００ｍステンレスベルト上に流涎し、剥離した。その時の残留溶媒濃度は３５％だった。剥離性は良好であり帯電も少ないことより目視観察ではフィルム表面に剥離段や剥離筋等は見られなかった。その後、残留溶媒濃度が２％のとき、幅保持をして乾燥させた。その後、残留溶媒濃度が１％以下になるまで乾燥しＰＣフィルム−２１（表２中ＰＣ−２１と記載）を得た。膜厚は８０μｍであった。フィルム両端部には幅１ｃｍ、平均高さ１０μｍのナーリング加工を施して巻き取った。同様にして、表２記載の種類の粒子、添加量を変化させたＰＣフィルム−２２〜ＰＣフィルム−２４（表２中ＰＣ−２２〜ＰＣ−２４と記載）を作製した。【０４６６】
（ＣＯＰフィルム：シクロオレフィンポリマーフィルムの作製）
窒素雰囲気下、脱水したシクロヘキサン５００部に、１−ヘキセン１．２部、ジブチルエーテル０．１５部、トリイソブチルアルミニウム０．３０部を室温で反応器に入れ混合した後、４５℃に保ちながら、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３，７−ジエン（ジシクロペンタジエン、以下、ＤＣＰと略記）２０部、１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン（以下、ＭＴＦと略記）１４０部、及び８−メチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−ドデカ−３−エン（以下、ＭＴＤと略記）４０部からなるノルボルネン系モノマー混合物と、六塩化タングステン（０．７％トルエン溶液）４０部とを、２時間かけて連続的に添加し重合した。重合溶液にブチルグリシジルエーテル１．０６部とイソプロピルアルコール０．５２部を加えて重合触媒を不活性化し重合反応を停止させた。【０４６７】
次いで、得られた開環重合体（屈折率１．５３）を含有する反応溶液１００部に対して、シクロヘキサン２７０部を加え、更に水素化触媒としてニッケル−アルミナ触媒（日揮化学社製）５部を加え、水素により５ＭＰａに加圧して撹拌しながら温度２００℃まで加温した後、４時間反応させ、ＤＣＰ／ＭＴＦ／ＭＴＤ開環重合体水素化ポリマーを２０％含有する反応溶液を得た。濾過により水素化触媒を除去した後、軟質重合体（クラレ社製；セプトン２００２）、及び酸化防止剤（チバ・ジャパン社製；イルガノックス１０１０）を、得られた溶液にそれぞれ添加して溶解させた（いずれも重合体１００部当たり０．１部）。次いで、溶液から、溶媒であるシクロヘキサン及びその他の揮発成分を、円筒型濃縮乾燥器（日立製作所製）を用いて除去し、水素化ポリマーを溶融状態で押出し機からストランド状に押出し、冷却後ペレット化して回収した。重合体中の各ノルボルネン系モノマーの共重合比率を、重合後の溶液中の残留ノルボルネン類組成（ガスクロマトグラフィー法による）から計算したところ、ＤＣＰ／ＭＴＦ／ＭＴＤ＝１０／７０／２０でほぼ仕込み組成に等しかった。この開環重合体水素添加物の、重量平均分子量（Ｍｗ）は３１，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５、水素添加率は９９．９％、Ｔｇは１３４℃であった。【０４６８】
得られた開環重合体水素添加物のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて７０℃で２時間乾燥して水分を除去した。次いで、前記ペレットを、リップ幅１．６ｍのコートハンガータイプのＴダイを有する短軸押出し機（三菱重工業株式会社製：スクリュー径９０ｍｍ、Ｔダイリップ部材質は炭化タングステン、溶融樹脂との剥離強度４４Ｎ）を用いて、開環重合体１００部当たりフッ素化アクリル樹脂粒子（根上工業製：平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．４２）２０質量部を混練するように加えながら、溶融押出成形して厚み８０μｍのＣＯＰフィルムを製造した。押出成形は、クラス１００００以下のクリーンルーム内で、溶融樹脂温度２４０℃、Ｔダイ温度２４０℃の成形条件にて行った。得られたＣＯＰフィルムは両耳をスリットし、幅１．５ｍに加工した。フィルム両端部には幅１ｃｍ、平均高さ１０μｍのナーリング加工を施して巻き取った。尚、表２中ではＣＯＰフィルムをＣＯＰと記載した。【０４６９】
（ＰＥフィルム：ポリエステルフィルムの作製）
テレフタル酸ジメチルの１００質量部、エチレングリコールの６５質量部に、エステル交換触媒として酢酸マグネシウム水和物の０．０５質量部を添加し、常法に従ってエステル交換を行った。得られた生成物に、三酸化アンチモンの０．０５質量部、リン酸トリメチルエステルの０．０３質量部を添加した。次いで、徐々に昇温、減圧し、２８０℃、６７Ｐａで重合を行い、０．６０の固有粘度のポリエチレンテレフタレート樹脂を得た。【０４７０】
上記ポリエチレンテレフタレート樹脂（屈折率１．６６）を１５０℃で４時間乾燥した後、メイン押出し機上の設置したホッパーから樹脂を押出し機へ供給し、更に樹脂１００質量部に対し、ポリスチレン樹脂粒子（積水化学工業社製：平均粒子径０．５μｍ）７質量部を加え、Ｔダイにより押出し、３０℃の冷却ドラム上に静電印加しながら密着させて冷却固化し、未延伸シートを得た。この未延伸シートをロール式縦延伸機へ導き、９０℃で縦方向に３．５倍延伸した。得られた１軸延伸フィルムをテンター式横延伸機を用いて、第１延伸ゾーン１００℃で総横延伸倍率の５０％延伸し、更に第２延伸ゾーン１２０℃で総横延伸倍率３．６倍となるように延伸した。次いで、１００℃で２秒間熱処理し、更に、第１熱固定ゾーン１７０℃で５秒間熱固定し、第２熱固定ゾーン２１０℃で１５秒間熱固定した。次いで横方向に５％弛緩処理しながら室温まで
３０秒かけて徐冷して膜厚８０μｍのＰＥフィルムを得た。フィルム両端部には幅１ｃｍ、平均高さ１０μｍのナーリング加工を施して巻き取った。尚、表２ではＰＥフィルムをＰＥと記載した。【０４７１】
次に、以下の測定により、上記作製した各フィルム基材の内部ヘーズを求めた。【０４７２】
尚、各フィルム基材の内部ヘーズの値については、表２に示した。【０４７３】
〈内部ヘーズの測定〉
フィルム基材の両面にアクリル系粘着剤が塗布された粘着剤付きポリエチレンテレフタレートフィルムを貼り付け、フィルム基材のヘーズをＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、ヘーズメーター（ＮＤＨ２０００；日本電色工業株式会社製）を用いて測定した。【０４７４】
次にアクリル系粘着剤が塗布された粘着剤つきポリエチレンテレフタレートフィルムのヘーズをヘーズメーターを用いて測定した。【０４７５】
前記測定したフィルム基材のヘーズから、アクリル系粘着剤が塗布された粘着剤つきポリエチレンテレフタレートフィルムのヘーズを引き、内部ヘーズを求めた。【０４７６】
〈防眩性フィルム２１の作製〉
上記作製したＴＡＣフィルム−２１のＢ面（流延ベルト面側）に、下記導電層塗布組成物１を超音波ホモジナイザーで５分間処理した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過後、押し出しコーターで塗布し、８０℃で乾燥後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い、照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量を０．２Ｊ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚５．５μｍの導電層を形成し、防眩性フィルム２１を作製した。【０４７７】
（導電層用塗布組成物１）
ポリアニリン含有塗剤（ポリアニリン２質量％含有メチルエチルケトン分散液）
６０質量部
（ＯＲＭＥＣＯＮ  ＮＷ−Ｆ１０１ＭＥＫ、ＯＲＭＥＣＯＮ  ＣＨＥＭＩＥ  Ｇｍｂｈ
＆  Ｃｏ．ＫＧ社製）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  １２０質量部
（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                              １０質量部
（イルガキュア９０７、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                    １８０質量部
ＺＸ−０４９（４５質量％フッ素−シロキサングラフトポリマー、５５質量％酢酸ブチル混合溶液、富士化成工業社製）                                  ０．８質量部
〈防眩性フィルム２２〜４４の作製〉
上記作製した、ＴＡＣフィルム−２２〜３３、ＣＡＰフィルム−２１〜２５、ＰＣフィルム−２１〜２４、ＣＯＰフィルム、ＰＥフィルムのＢ面（流延ベルト面側）に、前記導電層塗布組成物１を防眩性フィルム１の作製と同様に塗布して導電層を形成し、表２記載の防眩性フィルム２２〜４４を作製した。【０４７８】
〈防眩性フィルム４５の作製〉
上記作製した、ＴＡＣフィルム−２２のＢ面（流延ベルト面側）に、下記導電層塗布組成物２を防眩性フィルム２１の作製と同様に塗布して導電層を形成し、表２記載の防眩性フィルム４５を作製した。【０４７９】
（導電層用塗布組成物２）
（粒子分散液Ａの調製）
メタノール分散アンチモン複酸化物コロイド（固形分６０％、日産化学工業株式会社製、アンチモン酸亜鉛ゾル、商品名：セルナックスＣＸ−Ｚ６１０Ｍ−Ｆ２）６．０ｋｇに、イソプロピルアルコール１２．０ｋｇを攪拌しながら徐々に添加し、粒子分散液Ａを調製した。【０４８０】
粒子分散液Ａ                                                    ４０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                        ８０質量部
（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                ３質量部
（イルガキュア９０７、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
イソプロパノール                                                ４５質量部
メチルエチルケトン                                              ４５質量部
ＺＸ−０４９（４５質量％フッ素−シロキサングラフトポリマー、５５質量％酢酸ブチル混合溶液、富士化成工業社製）                                  ０．８質量部
〈防眩性フィルム４６の作製〉
上記作製した、ＴＡＣフィルム−２２のＢ面（流延ベルト面側）に、下記ハードコート層塗布組成物１を防眩性フィルム２１の作製と同様に塗布してハードコート層を形成し、表２記載の防眩性フィルム４６を作製した。【０４８１】
（ハードコート層用塗布組成物１）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                      １２０質量部
（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                              １０質量部
（イルガキュア９０７、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                    １８０質量部
メチルエチルケトン                                              ６０質量部
ＺＸ−０４９（４５質量％フッ素−シロキサングラフトポリマー、５５質量％酢酸ブチル混合溶液、富士化成工業社製）                                  ０．８質量部
〈防眩性フィルム４７の作製〉
上記作製した、ＣＡＰフィルム−２４のＢ面（流延ベルト面側）に、前記ハードコート層用塗布組成物１を防眩性フィルム２１の作製と同様に塗布してハードコート層を形成し、表２記載の防眩性フィルム４７を作製した。【０４８２】
〈防眩性フィルム４８の作製〉
上記作製した、ＴＡＣフィルム−２２のＢ面（流延ベルト面側）に、下記ハードコート層用塗布組成物２を防眩性フィルム２１の作製と同様に塗布してハードコート層を形成し、表２記載の防眩性フィルム４８を作製した。【０４８３】
（ハードコート層用塗布組成物２）
（粒子分散液Ｂの調製）
シクロヘキサノン８０質量部、及びメチルエチルケトン１００質量部と平均粒径１．８μｍシリカ粒子、５０質量部を混ぜた後、エアーディスパーにて１０分間攪拌し、粒子分散液を調製した。この粒子分散液に以下の材料を混合、攪拌し、ハードコート層塗布組成物２を得た。【０４８４】
粒子分散液Ｂ                                                    ８０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                      １２０質量部
（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                              １０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン社製）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                    １８０質量部
ＺＸ−０４９（４５質量％フッ素−シロキサングラフトポリマー、５５質量％酢酸ブチル混合溶液、富士化成工業社製）                                  ０．８質量部
次に、上記作製した防眩性フィルムについて以下の項目について評価した。【０４８５】
（１）硬度評価
（オゾン曝露下耐久試験サンプルの作製）
上記作製した防眩性フィルム２１〜４８をＡ４サイズでカットし、２ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム溶液に４０℃で２分間浸漬し、次いで水洗、乾燥させ、アルカリ鹸化処理済みの防眩性フィルムを作製した。次に、この鹸化済み防眩性フィルムをオゾン１０ｐｐｍ、３０℃、６０％ＲＨの環境下に７００時間保管し、オゾン曝露下耐久試験サンプルを作製した。【０４８６】
（硬度測定）
上記作製したオゾン曝露下耐久試験サンプルについて、下記試験方法で鉛筆硬度を評価した。得られた結果を表２に示した。【０４８７】
（鉛筆硬度）
ＪＩＳ−Ｓ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価法に従い、５００ｇのおもりを用いて各硬度の鉛筆で導電層表面を５回繰り返し引っ掻き、傷が１本までの硬度を測定した。数字か高いほど、高硬度を示し、硬度が３Ｈ以上で、実用上好ましい。【０４８８】
（２）寸法変化評価
上記作製した防眩性フィルムの表面２ケ所に十文字型の印を付し、工業用顕微鏡で、湿熱処理（８０℃、９０％ＲＨ環境下で７００時間）を施す前後での２つの印間の距離を測定し、下記式により寸法変化率（％）を測定した。【０４８９】
寸法変化率（％）＝（１−処理後距離／処理前距離）×１００
◎：寸法変化率０％〜０．０３％未満
○：寸法変化０．０３％〜０．１％未満
△：寸法変化０．１％〜０．３％未満
×：寸法変化率０．３％以上
得られた結果を表２に示した。【０４９０】
（３）表面比抵抗測定
上記作製した防眩性フィルムの表面比抵抗について以下の方法で測定した。測定結果を表２に示した。【０４９１】
（表面比抵抗測定）
ＪＩＳ  Ｋ  ６９１１−５−１３（１９９５年版）に基づき、三菱化学株式会社製ハイレスターＵＰ  ＭＣＰ−ＨＴ４５０、プローブ；ＵＲＳプローブ  ＭＣＰ−ＨＴＰ１４を用いて、試料を２５℃、５５％ＲＨの条件にて２４時間調湿した後、印加電圧５００Ｖ，保持時間３０秒の測定条件で測定した。【０４９２】
【表２】
2009075201.tif 000003
【０４９３】
表２の結果より内部ヘーズが５以上のフィルム基材上に導電層を設けた本発明の防眩性フィルムは、オゾン曝露下耐久試験後の鉛筆硬度、及び湿熱処理後の寸法安定性に優れていることが判る。また、本発明の防眩性フィルムの中でもフィルム基材がＴＡＣフィルム（トリアセチルセルロースフィルム）やＣＡＰフィルム（セルロースアセテートプロピオネートフィルム）のようなセルロースエステル系フィルムでは、特に優れた湿熱処理後の寸法安定性を有していることが判る。【０４９４】
一方、内部ヘーズが５以上のフィルム基材上にハードコート層を設けた防眩性フィルム、及び内部ヘーズが５以下のフィルム基材上に導電層を設けた参考例の防眩性フィルムはオゾン曝露下耐久試験後の鉛筆硬度、及び湿熱処理後の寸法安定性のいずれも劣っていることが判る。【０４９５】
実施例４
実施例３で作製した防眩性フィルム２１、２２、２５、２６、２９、３２及び３３について、オゾン曝露下耐久試験の時間を１０００時間に変更し、また湿熱処理の時間を１０００時間に変更した以外は、実施例３と同様に評価を行った、得られた結果を表３に示す。【０４９６】
【表３】
2009075201.tif 000004
【０４９７】
表３の結果から判るように内部ヘーズが８以上、５５以下のフィルム基材を用いた本発明の防眩性フィルムは、より過酷な耐久試験の条件でも優れた硬度及び寸法安定性を有していることが判る。【０４９８】
実施例５
〈防眩性フィルム４９の作製〉
実施例３で作製した防眩性フィルム２２の導電層用塗布組成物を下記の組成物に変更した以外は、同様にして防眩性フィルム４９を作製した。【０４９９】
（導電層用塗布組成物３）
テトラシアノテトラアザナフタレンドープポリピロール溶液          １８質量部
（ＳＳＰＹ、ティーエーケミカル株式会社製）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                        ３０質量部
（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                ４質量部
（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン社製）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                      ７０質量部
〈防眩性フィルム５０の作製〉
実施例１で作製した防眩性フィルム２２の導電層用塗布組成物を下記の組成物に変更した以外は、同様にして防眩性フィルム５０を作製した。【０５００】
（導電層用塗布組成物４）
ポリスチレンスルホン酸ドープポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）溶液
１８質量部
（ＢＡＹＴＲＯＮ  Ｐ  ＥＴ  Ｖ２、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｋ社製）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                        ３０質量部
（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                ３質量部
（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン社製）
エタノール                                                    ３００質量部
〈防眩性フィルム５１の作製〉
実施例１で作製した防眩性フィルム２２の導電層用塗布組成物を下記の組成物に変更した以外は、同様にして防眩性フィルム５１を作製した。【０５０１】
（導電層用塗布組成物５）
ポリフェニルアセチレン                                          １０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                        ３０質量部
（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                ３質量部
（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン社製）
酢酸エチル                                                      ４０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ６０質量部
〈防眩性フィルム５２の作製〉
実施例１で作製した防眩性フィルム２２の導電層塗布組成物を下記の組成物に変更した以外は、同様にして防眩性フィルム５２を作製した。【０５０２】
（導電層用塗布組成物６）
イソプロパノール分散アンチモンドープ酸化スズゾル                ３０質量部
（ＥＬＣＯＭ  Ｐ−３０、触媒化成工業株式会社製）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                        ８０質量部
（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                ４質量部
（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン社製）
イソプロパノール                                                ５０質量部
メチルエチルケトン                                              ５０質量部
〈防眩性フィルム５３の作製〉
実施例１で作製した防眩性フィルム２２の導電層塗布組成物を下記の組成物に変更した以外は、同様にして防眩性フィルム５３を作製した。【０５０３】
（導電層用塗布組成物７）
固形分１５％酸化チタン微粒子分散物（ＲＴＳＤＮＢ１５ＷＴ％−Ｇ０：シーアイ化成工業社製）                                                        ８０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                      １２０質量部
（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                ５質量部
（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン社製）
イソプロパノール                                                ４５質量部
メチルエチルケトン                                              ４５質量部
実施例３で作製した防眩性フィルム２２及び４５、上記作製した防眩性フィルム４９〜５３について、Ａ４サイズでカットし、２ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム溶液に５０℃で２分間浸漬し、次いで水洗、乾燥させ、アルカリ鹸化処理済みの防眩性フィルムを作製した。【０５０４】
次に、この鹸化済み防眩性フィルムについて実施例３と同様の条件でオゾン曝露下耐久試験及び湿熱処理を実施し、実施例３と同様にして評価を行った。また、表面比抵抗についても実施例３と同様にして測定した。得られた結果を表４に示した。尚、表４記載の導電性化合物について以下の略称で示した。【０５０５】
ポリピロール：テトラシアノテトラアザナフタレンドープポリピロール
チオフェン：ポリスチレンスルホン酸ドープポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）【０５０６】
【表４】
2009075201.tif 000005
【０５０７】
表４の結果より、導電性化合物にアンチモン化合物、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、又はポリアセチレン誘導体の化合物を用いることでより過酷な耐久性試験条件においても特に優れた硬度を有していることが判る。【０５０８】
実施例６
実施例３で作製した防眩性フィルム２１〜４８とセルロースエステル系光学補償フィルムであるＫＣ４ＦＲ−１（コニカミノルタオプト株式会社製）の各々１枚を、偏光板用保護フィルムとして用いて、偏光板２１〜４８を作製した。【０５０９】
（偏光フィルムの作製）
けん化度９９．９５モル％、重合度２４００のポリビニルアルコール（以下ＰＶＡと略す）１００質量部に、グリセリン１０質量部及び水１７０質量部を含浸させたものを溶融混錬し、脱泡後、Ｔダイから金属ロール上に溶融押し出しし、製膜した。その後、乾燥、熱処理してＰＶＡフィルムを得た。得られたＰＶＡフィルムは平均厚みが４０μｍ、水分率が４．４％、フィルム幅が３ｍであった。【０５１０】
このＰＶＡフィルムを予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で連続的に処理して偏光フィルムを作製した。【０５１１】
即ち、上記のＰＶＡフィルムを、３０℃の水中に３０秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度０．４ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／Ｌの３５℃の水溶液中に３分間浸した。次いで、ホウ酸濃度４％の５０℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が７００Ｎ／ｍの条件下で６倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／Ｌ、ホウ酸濃度４０ｇ／Ｌ、塩化亜鉛濃度１０ｇ／Ｌの３０℃の水溶液中に５分間浸して固定処理を行った。その後、ＰＶＡフィルムを取り出し、４０℃で熱風乾燥し、更に１００℃で５分間熱処理を行った。得られた偏光フィルムの平均厚みは、１５μｍであった。【０５１２】
（偏光板の作製）
次いで、下記の工程１〜工程５に従って、偏光フィルムと偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて、偏光板２１〜４８を作製した。【０５１３】
工程１：光学補償フィルムと防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムを１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に、温度５０℃で、９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。尚、防眩性反射防止フィルムは低屈折率層を設けた面には、予め剥離性の保護フィルム（ＰＥＴ製）を貼り付けて保護した。【０５１４】
工程２：ついで、偏光フィルムを、固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。【０５１５】
工程３：工程２で偏光フィルムに付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程１でアルカリ処理した光学補償フィルムと防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムとを挟み込んで、積層配置した。【０５１６】
工程４：２つの回転するローラにて２０〜３０Ｎ／ｃｍ2の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で貼り合わせた。【０５１７】
工程５：８０℃の乾燥機中にて、工程４で作製した試料を２分間乾燥処理し、偏光板を作製した。【０５１８】
（試験用液晶表示パネルの作製）
次いで、市販の液晶表示パネル（ＶＡ型）の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに上記作製した防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板２１〜４８を貼り付けた。【０５１９】
上記のようにして得られた液晶パネル２１〜４８を床から８０ｃｍの高さの机上に配置し、床から３ｍの高さの天井部に昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−Ｘ松下電器産業株式会社製）４０Ｗ×２本を１セットとして１．５ｍ間隔で１０セット配置した。【０５２０】
ここで、評価者が液晶パネル表示面正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に前記蛍光灯がくるように配置した。液晶パネルは机に対する垂直方向から２５°傾けて蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さ（視認性）を下記のようにランク評価した。【０５２１】
Ａ：最も近い蛍光灯の写り込みから気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もはっきりと読める
Ｂ：近くの蛍光灯の写り込みはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もなんとかと読める
Ｃ：遠くの蛍光灯の写り込みも気になり、フォントの大きさ８以下の文字を読むのは困難である
Ｄ：蛍光灯の写り込みがかなり気になり、写り込みの部分はフォントの大きさ８以下の文字を読むことはできない
評価の結果、参考例の防眩性フィルムを用いた偏光板を装着した液晶パネルはＣ以下であるのに対して、本発明の防眩性フィルムを用いた偏光板を装着した液晶パネルはいずれもＢ以上の評価結果であり視認性が良好であった。【０５２２】
実施例７（本発明の第３の実施形態に関する）
実施例３で作製した、フィルム基材  ＴＡＣフィルム−２１〜３３、ＣＡＰフィルム−２１〜２４、ＰＣフィルム２１〜２４、ＣＯＰフィルム、ＰＥフィルムを用いて下記手順にて導電性層、低屈折率層を塗設した。【０５２３】
〈防眩性反射防止フィルム１の作製〉
上記作製したＴＡＣフィルム−２１のＢ面（流延ベルト面側）に、下記のように導電層、低屈折率層１をこの順で塗布し、防眩性反射防止フィルム１を作製した。【０５２４】
（導電層の形成）
上記作製したＴＡＣフィルム−２１のＢ面（流延ベルト面側）に、下記導電層用塗布組成物３を超音波ホモジナイザーで５分間処理した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過後、押し出しコーターで塗布し、８０℃で乾燥後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量を０．２Ｊ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚５．５μｍの導電層を形成した。尚、導電層の屈折率は１．５１であった。【０５２５】
（導電層用塗布組成物３）
ポリアニリン含有塗剤（ポリアニリン２質量％含有メチルエチルケトン分散液）
６０質量部
（ＯＲＭＥＣＯＮ  ＮＷ−Ｆ１０１ＭＥＫ、ＯＲＭＥＣＯＮ  ＣＨＥＭＩＥ  Ｇｍｂｈ  ＆  Ｃｏ．ＫＧ社製）
ペンタエリスリトールテトラアクリレート                          １００質量部
（ＮＫエステルＡ−ＴＭＭＴ、新中村化学工業株式会社製）
ウレタン（メタ）アクリレート
（Ｕ−４ＨＡ、新中村化学工業株式会社製）                            ２０質量部
３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン                          ４質量部
（ＫＢＭ−５１０３，信越化学工業社製）
２−メチルー１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                １０質量部
（イルガキュア９０７、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                      １８０質量部
ＫＦ−３５４Ｌ（ポリエーテル変性シリコーン、信越化学工業社製）  ０．５質量部
更に、下記バックコート層用塗布組成物を、フィルム基材１の導電層を設けていない面にウェット膜厚１４μｍとなるようにダイコートし、８０℃にて乾燥した後、巻き取り、バックコート層を設けた。【０５２６】
（バックコート層用塗布組成物）
ジアセチルセルロース                                            ０．６質量部
アセトン                                                          ３５質量部
メチルエチルケトン                                                ３５質量部
メタノール                                                        ３５質量部
シリカ微粒子の２％メタノール分散液                                １６質量部
（ＫＥ−Ｐ３０、日本触媒株式会社製）
（低屈折率層１の形成）
次に上記導電層の表面に、下記低屈折率層用塗布組成物１を乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布流量を調整してダイコートし、８０℃で１分間乾燥させ、次いで紫外線を０．３Ｊ／ｃｍ2照射し、硬化させて、低屈折率層１を設け、防眩性反射防止フィルム１を作製した。尚、この低屈折率層１の屈折率は１．３５であった。【０５２７】
（低屈折率層用塗布組成物１）
トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物                                    ３０質量部
（ＬＩＮＣ−３Ａ、共栄社化学株式会社製）
中空シリカ系粒子分散液１                                        １００質量部
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                  ５質量部
（イルガキュア９０７、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
メチルイソブチルケトン                                            ３００質量部
メチルエチルケトン                                                ３００質量部
（中空シリカ系粒子分散液１の調製）
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと、純水１９００ｇとの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として０．９８質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として１．０２質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。（工程ａ）。【０５２８】
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５質量％）３０００ｇを添加して、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。（工程ｂ）。【０５２９】
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、更に濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。【０５３０】
次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら、限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3多孔質粒子の分散液を調製した。（工程ｃ）。【０５３１】
上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１７５０ｇ、及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ2２８質量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ系粒子分散液１を調製した。【０５３２】
この中空シリカ系粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４５ｎｍ、ＭＯＸ／ＳｉＯ2（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。【０５３３】
〈防眩性反射防止フィルム２〜２４の作製〉
上記作製した、ＴＡＣフィルム−２２〜−３３、ＣＡＰフィルム−２１〜−２５、ＰＣフィルム−２１〜−２４、ＣＯＰフィルム、ＰＥフィルムのＢ面（流延ベルト面側）に、防眩性反射防止フィルム１の作製と同様にして、導電層塗布組成物、バックコート組成物、及び低屈折率層用塗布組成物１を塗布して各層を形成し、表５記載の防眩性反射防止フィルム２〜２４を作製した。【０５３４】
〈防眩性フ反射防止フィルム２５の作製〉
防眩性反射防止フィルム２の作製において、低屈折率層用塗布組成物１を下記の組成物に変更し、低屈折率層２を形成した以外は、同様にして防眩性反射防止フィルム２５を作製した。尚、この低屈折率層２の屈折率は１．３８であった。【０５３５】
（低屈折率層用塗布組成物２）
トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物                                    ３０質量部
（ＬＩＮＣ−３Ａ、共栄社化学株式会社製）
フッ化マグネシウム粒子分散液１                                  １５０質量部
（ＭＦＡＮＢ１５ＷＴ％−Ｆ１６、シーアイ化成株式会社製）
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                  ５質量部
（イルガキュア９０７、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
メチルイソブチルケトン                                          ３００質量部
メチルエチルケトン                                              ３００質量部
〈防眩性反射防止フィルム２６の作製〉
防眩性反射防止フィルム１７の作製において、低屈折率層塗布組成物１を低屈折率層塗布組成物２に変更し、低屈折率層２を形成した以外は、同様にして防眩性反射防止フィルム２６を作製した。【０５３６】
《評価》
次に、上記作製した防眩性反射防止フィルムについて以下の項目について評価した。
（１）硬度評価
（オゾン曝露下耐久試験サンプルの作製）
上記作製した防眩性反射防止フィルム１〜２６をＡ４サイズでカットし、オゾン１０ｐｐｍ、３０℃、６０％ＲＨの環境下に７５０時間保管し、オゾン曝露下耐久試験サンプルを作製した。【０５３７】
（硬度測定）
上記作製したオゾン曝露下耐久試験サンプルについて、下記試験方法で鉛筆硬度を評価した。得られた結果を表５に示した。【０５３８】
（鉛筆硬度）
ＪＩＳ−Ｓ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価法に従い、５００ｇのおもりを用いて各硬度の鉛筆で低屈折率層表面を５回繰り返し引っ掻き、傷が１本までの硬度を測定した。数字か高いほど、高硬度を示し、硬度が３Ｈ以上で、実用上好ましい。【０５３９】
（２）寸法変化評価
上記作製した防眩性反射防止フィルム１〜２６の表面２ケ所に十文字型の印を付し、工業用顕微鏡で、湿熱処理（８０℃、９０％ＲＨ環境下で７００時間）を施す前後での２つの印間の距離を測定し、下記式により寸法変化率（％）を測定した。【０５４０】
寸法変化率（％）＝（１−処理後距離／処理前距離）×１００
◎：寸法変化率０％〜０．０３％未満
○：寸法変化０．０３％〜０．１％未満
△：寸法変化０．１％〜０．３％未満
×：寸法変化率０．３％以上
得られた結果を表５に示した。【０５４１】
【表５】
2009075201.tif 000006
【０５４２】
表５の結果より、内部ヘーズが５以上のフィルム基材上に低屈折率層を設けた本発明の防眩性反射防止フィルムは、オゾン曝露下耐久試験後の鉛筆硬度、及び湿熱処理後の寸法安定性に優れていることが判る。また、本発明の防眩性反射防止フィルムの中でもフィルム基材がＴＡＣフィルム（トリアセチルセルロースフィルム）やＣＡＰフィルム（セルロースアセテートプロピオネートフィルム）のようなセルロースエステル系フィルムでは、特に優れた湿熱処理後の寸法安定性を有していることが判る。【０５４３】
また、各防眩性反射防止フィルムについて、バックコート面に粘着剤付きの黒色アクリル板を貼り付け、光吸収処理を行い、低屈折率層面から、ＣＭ−３７００ｄ（コニカミノルタセンシング株式会社製）を用いて反射率を測定した。結果、本発明の防眩性反射防止フィルムの平均反射率は全て１．２％以下であり、良好な外光反射防止機能を有していた。【０５４４】
実施例８
実施例１で作製した防眩性反射防止フィルム１、２、５、６、９、１２及び１３について、オゾン曝露下耐久試験の時間を１０００時間に変更し、また湿熱処理の時間を１０００時間に変更した以外は、実施例７と同様に評価を行った。得られた結果を表６に示す。【０５４５】
【表６】
2009075201.tif 000007
【０５４６】
表６の結果から判るように内部ヘーズが８以上、５５以下のフィルム基材を用いた本発明の防眩性反射防止フィルムは、より過酷な耐久試験の条件でも優れた硬度及び寸法安定性を有していることが判る。【０５４７】
実施例９
〈防眩性反射防止フィルム２７の作製〉
実施例７で作製した防眩性反射防止フィルム２の低屈折率層用塗布組成物を下記の低屈折率層用塗布組成物３に変更し、硬化後の厚さが１００ｎｍとなるように低屈折率層３を設けた以外は、同様にして防眩性反射防止フィルム２７を作製した。尚、この低屈折率層３の屈折率は１．３９であった。【０５４８】
（低屈折率層用塗布組成物３）
トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物                                    ３０質量部
（ＬＩＮＣ−３Ａ、共栄社化学株式会社製）
酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子分散液１                      １００質量部
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                  ５質量部
（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン社製）
メチルイソブチルケトン                                          ３００質量部
メチルエチルケトン                                              ３００質量部
（酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子分散液１の調製）
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと、純水１９００ｇとの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として１．１７質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として０．８３質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。（工程ｄ）。【０５４９】
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、濃度０．５質量％の硫酸アンモニウム５３２００ｇを添加し、ついでＳｉＯ2として濃度１．１７質量％のケイ酸ナトリウム水溶液３０００ｇとＡｌ2Ｏ3として濃度０．５質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇを添加して複合酸化物粒子１の分散液を得た。（工程ｅ）。【０５５０】
これを限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった複合酸化物粒子１の分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、更に濃塩酸（濃度３５．５質量％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離して固形分濃度２０質量％のシリカ系粒子分散液を得た。（工程ｆ）。【０５５１】
純水１８００ｇに苛性カリ（旭硝子（株）製：純度８５質量％）５７ｇを溶解した溶液中に三酸化アンチモン（住友金属鉱山（株）製：ＫＮ  純度９８．５質量％）１１１ｇを懸濁させた。この懸濁液を９５℃に加熱し、次いで、過酸化水素水（林純薬（株）製：特級、純度３５質量％）３２．８ｇを純水１１０．７ｇで希釈した水溶液を９時間で添加（０．１ｍｏｌ／ｈｒ）し、三酸化アンチモンを溶解し、その後１１時間熟成した。冷却後、得られた溶液から１０００ｇを取り、この溶液を純水６０００ｇで希釈した後、陽イオン交換樹脂に通して脱イオン処理を行った。このときのｐＨは２．１、電導度は２．４ｍＳ／ｃｍであった。（工程ｇ）。【０５５２】
上記で調製したシリカ系粒子分散液を、固形分濃度１質量％に希釈した分散液４００ｇに、固形分濃度１質量％のアンチモン酸４０ｇを加え、７０℃で１０時間攪拌し、限外濾過膜で濃縮し、固形分濃度２０質量％の酸化アンチモン被覆シリカ系粒子（ｉ）分散液を調製した。（工程ｈ）。【０５５３】
この酸化アンチモン被覆シリカ系粒子（ｉ）分散液１００ｇに、純水３００ｇとメタノール４００ｇを加え、これに正ケイ酸エチル（ＳｉＯ2濃度２８質量％）３．５７ｇを混合し、５０℃で１５時間加熱攪拌してシリカ被覆層を形成した酸化アンチモン被覆シリカ系粒子（ｉｉ）分散液を調製した。この分散液を限外濾過膜を用いてメタノールに溶媒置換するとともに、固形分濃度２０質量％になるまで濃縮した。次いで、ロータリーエバポレーターにてイソプロピルアルコールに溶媒置換して濃度２０質量％のシリカ系粒子（ｉｉ）のイソプロピルアルコール分散液とした。（工程ｉ）。【０５５４】
次いで、このシリカ被覆層を形成した酸化アンチモン被覆シリカ系粒子（ｉｉ）のイソプロピルアルコール分散液１００ｇにメタクリル系シランカップリング剤（信越化学工業（株）製：ＫＢＭ−５０３）０．７３ｇを加え、５０℃で１５時間加熱攪拌し、シランカップリング剤により表面処理されたシリカ被覆層を形成した酸化アンチモン被覆シリカ系粒子分散液１を調製した。この粒子の屈折率は１．３９、体積抵抗値は１５００Ω／ｃｍ、平均粒子径は６１ｎｍ、酸化アンチモン被覆層の厚さは１ｎｍであった。【０５５５】
〈防眩性反射防止フィルム２８の作製〉
実施例７で作製した防眩性反射防止フィルム２の低屈折率層用塗布組成物を下記の低屈折率層用塗布組成物４に変更し、硬化後の厚さが１００ｎｍとなるように低屈折率層４を設けた以外は、同様にして防眩性反射防止フィルム２８を作製した。尚、この低屈折率層４の屈折率は１．４３であった。【０５５６】
（低屈折率層用塗布組成物４）
トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物                                    ３０質量部
（ＬＩＮＣ−３Ａ、共栄社化学株式会社製）
イソプロピルアルコール分散球状コロイダルシリカ（固形分２０％、平均粒径４５ｎｍ、粒径の変動係数３０％、市販品）                                  １００質量部
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                                  ５質量部
（イルガキュア９０７、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
メチルイソブチルケトン                                            ３００質量部
メチルエチルケトン                                                ３００質量部
《評価》
上記作製した防眩性反射防止フィルム２７及び２８、及び実施例７で作製した防眩性反射防止フィルム２及び２５について、オゾン曝露下耐久試験の時間を１５００時間に変更し、また湿熱処理の時間を１５００時間に変更した以外は、実施例１と同様に評価を行った。また、湿熱処理後の防眩性反射防止フィルム２、２５、２７及び２８について、以下の項目についても評価を行った。得られた結果を表７に示した。【０５５７】
尚、表７記載中には、酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子を、酸化アンチモン中空シリカ系粒子、イソプロピルアルコール分散球状コロイダルシリカをコロイダルシリカと記載した。【０５５８】
（防塵性）
湿熱処理後の防眩性反射防止フィルム２，２５，２７，及び２８のバックコート面をＣＲＴ表面に貼り付け、０．５μｍ以上のホコリ及びティッシュペーパー屑を１ｆｔ3当たり１００〜２００万個有する部屋で２４時間放置した。その後、表面１００ｃｍ2当たり、付着したホコリとティッシュペーパー屑の数を測定し、１０個未満を◎、２０個未満を○、２０〜４９個を△、５０以上を×として評価した。２０個未満であれば実用上問題ないが、１０個未満がより好ましい。【０５５９】
（耐傷性）
湿熱処理後の防眩性反射防止フィルム２，２５，２７，及び２８について、２３℃、５５％ＲＨの環境下で２４時間調室後、＃００００のスチールウールの上に荷重１ｋｇ／ｃｍ2をかけて、低屈折率層側を表面にして、１０往復させ、１ｃｍ幅当たりの傷の本数を測定した。傷の本数は荷重をかけた部分の中で最も傷の本数の多い所を測定した。尚、傷の本数が、５本以下であれば実用上問題ない。【０５６０】
◎：傷なし
○：１〜５本の傷がつく
△：６〜１５本の傷がつく
×：１６本以上の傷がつく【０５６１】
【表７】
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【０５６２】
表７の結果から判るように、より過酷な耐久試験においては、低屈折率層がフッ化マグネシウム粒子、中空シリカ系粒子、又は導電性金属酸化物である酸化アンチモンが被覆された中空シリカ系粒子を含有することで、特に優れた本発明の目的効果を発揮することが判る。また、酸化アンチモンが被覆された中空シリカ系粒子を含有した低屈折率層は、本発明の目的効果に加えて、湿熱処理後の耐傷性及び防塵性に優れており、特に好ましい構成である。【０５６３】
実施例１０
実施例７で作製した防眩性反射防止フィルム１〜２６とセルロースエステル系光学補償フィルムであるＫＣ４ＦＲ−１（コニカミノルタオプト株式会社製）の各々１枚を、偏光板用保護フィルムとして用いて、偏光板５１〜７６を作製した。【０５６４】
（偏光フィルムの作製）
けん化度９９．９５モル％、重合度２４００のポリビニルアルコール（以下ＰＶＡと略す）１００質量部に、グリセリン１０質量部及び水１７０質量部を含浸させたものを溶融混錬し、脱泡後、Ｔダイから金属ロール上に溶融押し出しし、製膜した。その後、乾燥、熱処理してＰＶＡフィルムを得た。得られたＰＶＡフィルムは平均厚みが４０μｍ、水分率が４．４％、フィルム幅が３ｍであった。【０５６５】
このＰＶＡフィルムを予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で連続的に処理して偏光フィルムを作製した。【０５６６】
砂割、上記のＰＶＡフィルムを、３０℃の水中に３０秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度０．４ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／Ｌの３５℃の水溶液中に３分間浸した。次いで、ホウ酸濃度４％の５０℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が７００Ｎ／ｍの条件下で６倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／Ｌ、ホウ酸濃度４０ｇ／Ｌ、塩化亜鉛濃度１０ｇ／Ｌの３０℃の水溶液中に５分間浸して固定処理を行った。その後、ＰＶＡフィルムを取り出し、４０℃で熱風乾燥し、更に１００℃で５分間熱処理を行った。得られた偏光フィルムの平均厚みは、１５μｍであった。【０５６７】
（偏光板の作製）
次いで、下記の工程１〜工程５に従って、偏光フィルムと偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて、偏光板５１〜７６を作製した。【０５６８】
工程１：光学補償フィルムと防眩性反射防止フィルムを１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に、温度５０℃で、９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。尚、防眩性反射防止フィルムは低屈折率層を設けた面には、予め剥離性の保護フィルム（ＰＥＴ製）を貼り付けて保護した。【０５６９】
工程２：ついで、偏光フィルムを、固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。【０５７０】
工程３：工程２で偏光フィルムに付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程１でアルカリ処理した光学補償フィルムと防眩性反射防止フィルムとを挟み込んで、積層配置した。【０５７１】
工程４：２つの回転するローラにて２０〜３０Ｎ／ｃｍ2の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で貼り合わせた。【０５７２】
工程５：８０℃の乾燥機中にて、工程４で作製した試料を２分間乾燥処理し、偏光板を作製した。【０５７３】
（試験用液晶表示パネルの作製）
次いで、市販の液晶表示パネル（ＶＡ型）の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに上記作製した防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板５１〜７６を貼り付けた。【０５７４】
上記のようにして得られた液晶パネル５１〜７６を床から８０ｃｍの高さの机上に配置し、床から３ｍの高さの天井部に昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−Ｘ松下電器産業株式会社製）４０Ｗ×２本を１セットとして１．５ｍ間隔で１０セット配置した。【０５７５】
ここで、評価者が液晶パネル表示面正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に前記蛍光灯がくるように配置した。液晶パネルは机に対する垂直方向から２５°傾けて蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さ（視認性）を下記のようにランク評価した。【０５７６】
Ａ：最も近い蛍光灯の写り込みから気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もはっきりと読める
Ｂ：近くの蛍光灯の写り込みはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もなんとかと読める
Ｃ：遠くの蛍光灯の写り込みも気になり、フォントの大きさ８以下の文字を読むのは困難である
Ｄ：蛍光灯の写り込みがかなり気になり、写り込みの部分はフォントの大きさ８以下の文字を読むことはできない
評価の結果、参考例の液晶パネルはＣ以下の評価結果だったのに対し、本発明の防眩性反射防止フィルム及び偏光板を用いた液晶パネルはいずれもＢ以上の評価結果であり、参考例の液晶パネルより視認性が良好であった。
【国際調査報告】
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