(57)【要約】  液浸領域（１４）が形成される投影光学系（ＰＬ）の下方の領域に、一方のウエハステージ（ＷＳＴ１）が位置する状態から他方のウエハステージ（ＷＳＴ２）が位置する状態に移行させる際に、両ウエハステージ（ＷＳＴ２，ＷＳＴ１）を、それぞれに設けられた庇部（２３ａ’）と段部（２３ｂ）とを係合させて、Ｘ軸方向に関してずれた状態で、Ｙ軸方向に近接又は接触させ、その状態を維持してＹ軸方向に同時に駆動する。これにより、液浸領域が、庇部を介して２つのウエハステージ間で受け渡し、液浸領域を形成する液体の漏れを抑制する。
2009060585.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学系と液体とを介してエネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、
前記物体を載置可能で、前記液体が供給される前記光学系直下の液浸領域を含む第１領域と該第１領域の第１方向の一側に位置する前記物体の位置情報を取得する第２領域とを含む所定範囲の領域内で所定平面に実質的に沿って移動可能な第１移動体と；
前記物体を載置可能で、前記第１領域と前記第２領域とを含む領域内で前記所定平面に実質的に沿って前記第１移動体とは独立して移動可な能第２移動体と；
前記第１、第２移動体を前記所定平面に実質的に沿って駆動するとともに、一方の移動体が前記第１領域に位置する第１の状態から他方の移動体が前記第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、前記第１移動体と前記第２移動体とが前記所定平面内で前記第１方向と垂直な第２方向に関してずれ、かつ前記第１方向に関して互いの対向面の一部同士を介して近接又は接触したスクラム状態を維持して前記第１、第２移動体を同時に前記第１方向に駆動する移動体駆動系と；を備える露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置において、
前記第１移動体には、前記第２方向の少なくとも一側に前記所定平面に対して傾斜した反射面が設けられ、
前記第２移動体には、前記第２方向の少なくとも一側に前記所定平面に対して傾斜した反射面が設けられている露光装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の露光装置において、
前記移動体駆動系は、前記第１移動体と前記第２移動体との端部同士が前記第２方向に関して少なくとも前記光学系直下の液浸領域よりも広い幅だけ互いに対向する前記スクラム状態を維持して前記第１、第２移動体を同時に前記第１方向に駆動する露光装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体駆動系は、前記第１移動体と前記第２移動体との端部同士が前記第２方向に関して１００ｍｍ程度の幅だけ互いに対向する前記スクラム状態を維持して前記第１、第２移動体を同時に前記第１方向に駆動する露光装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１移動体は、前記第２方向に関して、前記液浸領域から一側に所定距離離れた第１位置と前記液浸領域の近傍の第２位置との間の所定範囲の領域内でのみ移動し、
前記第２移動体は、第２方向に関して、前記液浸領域から他側に所定距離離れた第３位置と前記液浸領域の近傍の第４位置との間の所定範囲の領域内でのみ、移動する露光装置。
【請求項６】
請求項５に記載の露光装置において、
前記スクラム状態では、前記第１移動体は、前記第１方向のいずれかの端部かつ前記第２方向の他側の端部を、前記第２移動体に近接又は接触させる露光装置。
【請求項７】
請求項５又は６に記載の露光装置において、
前記スクラム状態では、前記第２移動体は、前記第１方向のいずれかの端部かつ前記第２方向の一側の端部を、前記第１移動体に近接又は接触させる露光装置。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２の移動体の少なくとも一方の、少なくとも前記第１方向の一側には、その上面が前記第１、第２移動体の上面と略同一面となる状態で、前記第２方向の幅が前記液浸領域より広い受け渡し部が突設され、
前記第１の状態と第２の状態との間の状態遷移時に、前記移動体駆動系により、前記第１移動体と前記第２移動体とは、前記受け渡し部を介して前記スクラム状態が維持される露光装置。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置において、
前記第１移動体の前記第１方向の一側の前記第２方向の他側の一部に前記受け渡し部が突設され、
前記第２移動体の前記第１方向の一側の前記第２方向の一側の一部に前記受け渡し部が突設されている露光装置。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の露光装置において、
前記受け渡し部は、前記第１、第２移動体それぞれの前記第１方向の両側に、前記スクラム状態で相互に対向し得る状態でそれぞれ突設されている露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置において、
前記相互に対向し得る２つの前記受け渡し部のそれぞれの先端には、互いに係合するとともに、係合状態では見かけ上フルフラットな面を形成可能な係合部が形成されている露光装置。
【請求項１２】
請求項８〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２の移動体が前記スクラム状態にあるとき、前記第１移動体と前記第２移動体とが前記受け渡し部を介して前記第１方向に関して近接しており、
前記第１移動体と前記第２移動体との少なくとも一方には、前記スクラム状態で、両移動体間の間隙に位置することで該間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材が設けられている露光装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、シール部材及び撥水コートの少なくとも一方を含む露光装置。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１移動体には、前記第２方向の一側から配線・配管用のケーブルが接続され、
前記第２移動体には、前記第２方向の他側から配線・配管用のケーブルが接続されている露光装置。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２領域に配置され、前記第１及び第２移動体のうち、その直下に位置した特定移動体上に存在するマークを検出するマーク検出系を更に備える露光装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記遷移の際には、前記光学系と前記第１領域に位置する移動体との間に、前記液体が保持され続ける露光装置。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体駆動系は、前記第１、第２の移動体を前記所定平面に沿って駆動する平面モータを含む露光装置。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記スクラム状態では、前記第１移動体と前記第２移動体とが前記第２方向に関して所定のオフセット量ずれ、かつ前記所定平面内で前記第１方向と垂直な第２方向に関して互いの対向面の一部同士を介して近接又は接触する露光装置。
【請求項１９】
請求項１８に記載の露光装置において、
前記オフセット量は、前記スクラムが最も効率の良いスクラムとなるように、定められている露光装置。
【請求項２０】
請求項１８に記載の露光装置において、
オフセット量は、前記一方の移動体と前記他方の移動体とが、前記対向面の一部を除く部分で互いに干渉することがないように、定められている露光装置。
【請求項２１】
光学系と液体とを介してエネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、
前記物体を載置可能で、前記液体が供給される前記光学系直下の液浸領域を含む第１領域と該第１領域の第１方向の一側に位置する前記物体の位置情報を取得する第２領域とを含む所定範囲の領域内で所定平面に実質的に沿ってそれぞれ独立に移動可能な第１移動体と第２移動体とを、前記所定平面内で前記第１方向と垂直な第２方向にずらした状態で、かつ前記第１方向に関して近接又は接触させるスクラム状態を維持して同時に前記第１方向に駆動することで、前記液浸領域を、一方の移動体から他方の移動体に受け渡し、一方の移動体が前記第１領域に位置する第１の状態から他方の移動体が前記第１領域に位置する第２の状態に遷移させる露光方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の露光方法において、
前記第１移動体には、前記第２方向の少なくとも一側に前記所定平面に対して傾斜した反射面が設けられ、
前記第２移動体には、前記第２方向の少なくとも一側に前記所定平面に対して傾斜した反射面が設けられ、
前記スクラム状態では、前記第１移動体と前記第２移動体とは、前記反射面が設けられていない辺同士が前記第１方向に関して少なくとも一部近接又は接触する露光方法。
【請求項２３】
請求項２１又は２２に記載の露光方法において、
前記第１移動体と前記第２移動体とは、前記近接又は接触した端部同士が前記第２方向に関して少なくとも前記光学系直下の液浸領域よりも広い幅だけ互いに対向した前記スクラム状態を維持して同時に前記第１方向に駆動される露光方法。
【請求項２４】
請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１移動体と前記第２移動体とは、前記近接又は接触した端部同士が前記第２方向に関して１００ｍｍ程度の幅だけ対向した前記スクラム状態を維持して同時に前記第１方向に駆動される露光方法。
【請求項２５】
請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１移動体は、前記所定平面内で前記第１方向に垂直な第２方向に関して、前記液浸領域から一側に所定距離離れた第１位置と前記液浸領域の近傍の第２位置との間の所定範囲の領域内でのみ移動し、
前記第２移動体は、前記第２方向に関して、前記液浸領域の他側に所定距離離れた第３位置と前記液浸領域の近傍の第４位置との間の所定範囲の領域内でのみ、移動する露光方法。
【請求項２６】
請求項２５に記載の露光方法において、
前記スクラム状態では、前記第１移動体は、前記第１方向のいずれかの端部かつ前記第２方向の他側の端部を、前記第２移動体に近接又は接触させる露光方法。
【請求項２７】
請求項２５又は２６に記載の露光方法において、
前記スクラム状態では、前記第２移動体は、前記第１方向のいずれかの端部かつ前記第２方向の一側の端部を、前記第１移動体に近接又は接触させる露光方法。
【請求項２８】
請求項２５〜２７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２の移動体の少なくとも一方の、少なくとも前記第１方向の一側には、その上面が前記第１、第２移動体の上面と略同一面となる状態で、前記第２方向の幅が前記液浸領域より広い受け渡し部が突設され、
前記第１の状態と第２の状態との間の状態遷移時に、前記第１移動体と前記第２移動体とは、前記受け渡し部を介して前記スクラム状態が維持される露光方法。
【請求項２９】
請求項２８に記載の露光方法において、
前記第１移動体の前記第１方向の一側の前記第２方向の他側の一部に前記受け渡し部が突設され、
前記第２移動体の前記第１方向の一側の前記第２方向の一側の一部に前記受け渡し部が突設されている露光方法。
【請求項３０】
請求項２８又は２９に記載の露光方法において、
前記受け渡し部は、前記第１、第２移動体それぞれの前記第１方向の両端面に、前記スクラム状態で相互に対向し得る状態でそれぞれ突設されている露光方法。
【請求項３１】
請求項３０に記載の露光方法において、
前記相互に対向し得る２つの前記受け渡し部のそれぞれの先端には、互いに係合するとともに、係合状態では見かけ上フルフラットな面を形成可能な係合部が形成されている露光方法。
【請求項３２】
請求項２６〜３１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２の移動体が前記スクラム状態にあるとき、前記第１移動体と前記第２移動体とが前記受け渡し部を介して前記第１方向に関して近接しており、
前記第１移動体と前記第２移動体との少なくとも一方には、前記スクラム状態で、両移動体間の間隙に位置することで該間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材が設けられている露光方法。
【請求項３３】
請求項３２に記載の露光方法において、
前記抑制部材は、シール部材及び撥水コートの少なくとも一方を含む露光方法。
【請求項３４】
請求項２１〜３３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１移動体には、前記第２方向の一側から配線・配管用のケーブルが接続され、
前記第２移動体には、前記第２方向の他側から配線・配管用のケーブルが接続されている露光方法。
【請求項３５】
請求項２１〜３４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２領域では、前記第１及び第２移動体のうち、所定位置の直下に位置した特定移動体上に存在するマークがマーク検出系で検出される露光方法。
【請求項３６】
請求項２１〜３５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記遷移の際には、前記光学系と前記第１領域に位置する移動体との間に、前記液体が保持され続ける露光方法。
【請求項３７】
請求項２１〜３６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２の移動体は、平面モータにより前記所定平面に沿って駆動される露光方法。
【請求項３８】
請求項２１〜３７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記スクラム状態では、一方の移動体と他方の移動体とが、前記第２方向に関して所定のオフセット量ずれ、かつ前記第１方向に関して互いの対向面の一部同士を介して近接又は接触する露光方法。
【請求項３９】
請求項３８に記載の露光方法において、
前記オフセット量は、前記スクラムが最も効率の良いスクラムとなるように、定められている露光方法。
【請求項４０】
請求項３８に記載の露光方法において、
オフセット量は、前記一方の移動体と前記他方の移動体とが、前記対向面の一部を除く部分で互いに干渉することがないように、定められている露光方法。
【請求項４１】
請求項２１〜４０のいずれか一項に記載の露光方法により前記物体を露光するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法に係り、特に、半導体素子などのマイクロデバイスを製造するリソグラフィ工程で用いられる露光装置及び露光方法、並びに該露光方法を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが、主として用いられている。【０００３】
この種の露光装置では、投影光学系の解像度を向上させるため、露光光の短波長化と、投影光学系の開口数の増大化（高ＮＡ化）が図られてきた。しかし、露光光の短波長化及び投影光学系の高ＮＡ化によって、焦点深度が狭くなってきた。そこで、実質的に露光波長を短くして、かつ空気中に比べて焦点深度を大きく（広く）する方法として、液浸法を利用した露光装置が、近年注目されるようになってきた。【０００４】
一方、露光装置には、高解像度とともに、高スループットであることも要請される。スループットを向上させる手法として、ウエハを保持するウエハステージを複数、例えば２つ設けて、その２つのウエハステージで異なる動作を同時並行的に処理する手法を採用するツインウエハステージタイプの露光装置も種々提案されている。【０００５】
さらに、最近では、液浸露光法を採用したツインウエハステージタイプの露光装置も提案されている（例えば、特許文献１参照）。【０００６】
ところで、ウエハステージのＸＹ平面に直交するＺ軸方向の位置（高さ）を計測する場合、ウエハステージの側面にＸＹ平面に対して所定角度、例えば４５°傾斜した反射面（Ｚ計測用反射面）を配置し、この反射面に対しＸＹ平面に平行な測長ビームを照射し、そのビームの戻り光を受光することで、ウエハステージの高さを計測するＺ干渉計が知られている（例えば、特許文献２参照）。【０００７】
しかるに、例えば特許文献１と同様のタイプの露光装置で上記Ｚ干渉計を採用する場合、いずれのウエハステージも、両側からＺ干渉計で高さ計測を行えるように構成することが望ましい。しかし、そのようにすると、特許文献２に開示されるように２つのウエハステージを接触又は近接させて、液浸領域（液体）を、両ウエハステージ間で受け渡す際に、Ｚ計測用反射面同士が接触して損傷するおそれがあった。また、かかる事態の発生を避けるため、２つのウエハステージが離れた状態で液浸領域の受け渡しを行なおうとすると、液体が両ウエハステージ間に漏れ出し、液浸領域の受け渡しができなくなるおそれがあった。また、漏れ出した液体により、Ｚ干渉計用反射面を濡らすおそれがあった。また、Ｚ計測用反射面を用いない場合であっても、少なくとも一方のウエハステージが他の部分より突出した機構部などを有している場合などでも、２つのウエハステージを接触又は近接させて、液浸領域（液体）を、両ウエハステージ間で受け渡す際に、上記と同様の問題が生じ得る。【０００８】
【特許文献１】米国特許第７，１６１，６５９号明細書
【特許文献２】米国特許第６，２０８，４０７号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、第１の観点からすると、光学系と液体とを介してエネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、前記物体を載置可能で、前記液体が供給される前記光学系直下の液浸領域を含む第１領域と該第１領域の第１方向の一側に位置する前記物体の位置情報を取得する第２領域とを含む所定範囲の領域内で所定平面に実質的に沿って移動可能な第１移動体と；前記物体を載置可能で、前記第１領域と前記第２領域とを含む領域内で前記所定平面に実質的に沿って前記第１移動体とは独立して移動可能な第２移動体と；前記第１、第２移動体を前記所定平面に実質的に沿って駆動するとともに、一方の移動体が前記第１領域に位置する第１の状態から他方の移動体が前記第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、前記第１移動体と前記第２移動体とが前記所定平面内で前記第１方向と垂直な第２方向に関してずれ、かつ前記第１方向に関して互いの対向面の一部同士を介して近接又は接触するスクラム状態を維持して前記第１、第２移動体を同時に前記第１方向に駆動する移動体駆動系と；を備える露光装置である。【００１０】
これによれば、第１、第２移動体のスクラム状態を維持したまま、第１、第２移動体を第１方向に移動させて、液体を両移動体の間から漏らすことなく、液浸領域を両移動体の間で受け渡すことが可能になる。これにより、液浸領域の液体の全回収及び再度の供給などの作業が不要となる。また、第１及び第２移動体を、第２方向から近接又は接触させる場合に比べて、両移動体の移動距離（移動ストローク）を短くすることができる。また、両移動体が第２方向に関してずれた状態でかつ前記第１方向に関して互いの対向面の一部同士を介して近接又は接触させるようにすることで、両移動体の移動ストロークをより一層短くすることができる。従って、スループットを向上させることが可能となる。【００１１】
本発明は、第２の観点からすると、光学系と液体とを介してエネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、前記物体を載置可能で、前記液体が供給される前記光学系直下の液浸領域を含む第１領域と該第１領域の第１方向の一側に位置する前記物体の位置情報を取得する第２領域とを含む所定範囲の領域内で所定平面に実質的に沿ってそれぞれ独立に移動可能な第１移動体と第２移動体とを、前記第２方向にずらした状態で、かつ前記第１方向に関して近接又は接触するスクラム状態を維持して同時に前記第１方向に駆動することで、前記液浸領域を、一方の移動体から他方の移動体に受け渡し、一方の移動体が前記第１領域に位置する第１の状態から他方の移動体が前記第１領域に位置する第２の状態に遷移させる露光方法である。【００１２】
これによれば、一方の移動体が前記第１領域に位置する第１の状態から他方の移動体が第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、第１移動体と第２移動体とが、第２方向に関してずれ、かつ第１方向に関して近接又は接触するスクラム状態を維持して同時に第１方向に駆動され、液浸領域が、一方の移動体から他方の移動体に受け渡される。これにより、液体を両移動体の間から漏らすことなく、液浸領域を両移動体の間で受け渡すことが可能になる。従って、液浸領域の液体の全回収及び再度の供給などの作業が不要となる。また、第１及び第２移動体を、第２方向から近接又は接触させる場合に比べて、スクラム状態に移行させる際の両移動体の移動距離（移動ストローク）を短くすることができる。また、両移動体が第２方向に関してずれた状態で第１方向に関して近接又は接触させるようにすることで、両移動体の移動ストロークをより一層短くすることができる。従って、スループットを向上させることが可能となる。【００１３】
本発明は、第３の観点からすると、本発明の露光方法により前記物体を露光するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法である。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】一実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図２（Ａ）は図１のウエハステージＷＳＴ１を示す正面図、図２（Ｂ）はウエハステージＷＳＴ１を示す平面図である。
【図３】図３（Ａ）〜図３（Ｃ）は、受け渡し部について説明するための図である。
【図４】図１の露光装置が備える干渉計システムの配置を示す平面図である。
【図５】３つの多軸干渉計を用いたウエハステージの位置計測を説明するための図である。
【図６】一実施形態の露光装置の制御系の主要な構成を示すブロック図である。
【図７】ウエハステージＷＳＴ上に載置されたウエハに対して露光が行われ、ウエハステージＷＳＴ２上ではウエハ交換が行われている状態を示す図である。
【図８】ウエハステージＷＳＴ１上に載置されたウエハに対して露光が行われ、ウエハステージＷＳＴ２上に載置されたウエハに対してウエハアライメントが行われている状態を示す図である。
【図９】ＸＺ干渉計１１６のみを用いてウエハテーブルＷＴＢ１のＸ，Ｚ，θｙ位置を、ＸＺ干渉計１２６のみを用いてウエハテーブルＷＴＢ２のＸ，Ｚ，θｙ位置を、計測している状態を示す図である。
【図１０】ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とがスクラム状態を維持して移動することにより、液浸領域が、ウエハステージＷＳＴ１上からウエハステージＷＳＴ２上に移動する様子を説明するための図である。
【図１１】ウエハステージＷＳＴ１上に載置されたウエハに対して露光が行われ、ウエハステージＷＳＴ２上ではウエハ交換が行われている状態を示す図である。
【図１２】ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２がスクラム状態を維持して移動することにより、液浸領域が、ウエハステージＷＳＴ２上からウエハステージＷＳＴ１上に移動する様子を説明するための図である。
【図１３】変形例に係る露光装置を説明するための図（その１）である。
【図１４】変形例に係る露光装置を説明するための図（その２）である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施形態について、図１〜図１２に基づいて説明する。【００１６】
図１には、一実施形態のツインステージ型の露光装置１００の構成が概略的に示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。後述するように、本実施形態では投影光学系ＰＬとアライメント系ＡＬＧが設けられており、以下においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内で投影光学系ＰＬの中心（光軸ＡＸ）とアライメント系ＡＬＧの検出中心（光軸ＡＸｐ）を結ぶ直線と平行な方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ方向、θｙ方向、及びθｚ方向として説明を行なう。【００１７】
露光装置１００は、照明系１０、レチクルステージＲＳＴ、投影ユニットＰＵ、局所液浸装置８、アライメント系ＡＬＧ、ステージ装置５０、及びこれらの制御系、等を備えている。なお、図１において、ステージ装置５０を構成する２つのウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２が、それぞれ投影ユニットＰＵの下方、アライメント系ＡＬＧの下方に位置している。また、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２上には、それぞれウエハＷ１、Ｗ２が載置されている。【００１８】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源と、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系及びレチクルブラインド等を含む照明光学系（いずれも不図示）と、を有している。照明系１０は、レチクルブラインド（マスキングシステムとも呼ばれる）で規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域ＩＡＲを照明光（露光光）ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとして、例えば、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。【００１９】
レチクルステージＲＳＴ上には、回路パターンなどがそのパターン面（図１における下面）に形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により固定されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系１１（図１では不図示、図６参照）によって、ＸＹ平面内で微小駆動可能であるとともに、走査方向（ここでは、図１における紙面内左右方向であるＹ軸方向とする）に所定の走査速度で駆動可能となっている。【００２０】
レチクルステージＲＳＴのＸＹ平面（移動面）内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、レチクルレーザ干渉計（以下、レチクル干渉計と呼ぶ）１１６によって、移動鏡１５（実際には、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡（あるいはレトロリフレクタ）とＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられている）を介して、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。レチクル干渉計１１６からの位置情報は、主制御装置２０（図１では不図示、図６参照）に送られる。主制御装置２０は、送られた位置情報に基づいて、レチクルステージ駆動系１１を介してレチクルステージＲＳＴの位置（及び速度）を制御する。【００２１】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方（−Ｚ方向）に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された投影光学系ＰＬと、を含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば、Ｚ軸方向と平行な光軸ＡＸに沿って配列される複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。このため、照明系１０からの照明光ＩＬによってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系の第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ１（又はＷ２）上の照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴ１（又はＷＳＴ２）との同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対してウエハＷ１（又はＷ２）を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、ウエハＷ１（又はＷ２）上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、レチクルＲ及び投影光学系ＰＬによってウエハＷ１（又はＷ２）上にパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ１（又はＷ２）上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ１（又はＷ２）上にそのパターンが形成される。【００２２】
本実施形態の露光装置１００には、液浸方式の露光を行うために、局所液浸装置８が設けられている。局所液浸装置８は、液体供給装置５、液体回収装置６（いずれも図１では不図示、図６参照）、液体供給管３１Ａ、液体回収管３１Ｂ、及びノズルユニット３２等を含む。ノズルユニット３２は、図１に示されるように、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウエハ側）の光学素子、ここではレンズ（以下、先端レンズとも呼ぶ）１９１を保持する鏡筒４０の下端部周囲を取り囲むように、投影ユニットＰＵを保持する不図示のメインフレームに吊り下げ支持されている。本実施形態では、ノズルユニット３２は、図１に示されるように、その下端面が先端レンズ１９１の下端面とほぼ同一面に設定されている。【００２３】
液体供給管３１Ａは液体供給装置５（図１では不図示、図６参照）に、液体回収管３１Ｂは液体回収装置６（図１では不図示、図６参照）に接続されている。ここで、液体供給装置５には、液体を貯蔵するタンク、加圧ポンプ、温度制御装置、液体の流量を制御するためのバルブ等が備えられている。液体回収装置６には、回収した液体を貯蔵するタンク、吸引ポンプ、液体の流量を制御するためのバルブ等が備えられている。【００２４】
主制御装置２０は、液体供給装置５（図６参照）を制御して、液体供給管３１Ａを介して先端レンズ１９１とウエハＷ１（又はＷ２）との間に液体Ｌｑを供給するとともに、液体回収装置６（図６参照）を制御して、液体回収管３１Ｂを介して先端レンズ１９１とウエハＷ１（又はＷ２）との間から液体Ｌｑを回収する。このとき、主制御装置２０は、供給される液体の量と回収される液体の量とが常に等しくなるように、液体供給装置５と液体回収装置６を制御する。従って、先端レンズ１９１とウエハＷ１（又はＷ２）との間には、一定量の液体Ｌｑが常に入れ替わって保持され、それにより液浸領域１４（図４等参照）が形成される。本実施形態の露光装置１００では、照明光ＩＬを、液浸領域１４を形成する液体Ｌｑを介してウエハＷ１（又はＷ２）に照射することによって、ウエハＷ１（又はＷ２）に対する露光が行われる。ここで、液浸領域１４は、液浸空間とも呼ぶべき液体Ｌｑで満たされた三次元空間であるが、空間は空隙をも意味するので、かかる誤解を避けるべく、本明細書では、液浸領域なる用語を用いている。【００２５】
上記の液体として、例えば、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する純水が用いられる。なお、ＡｒＦエキシマレーザ光に対する純水の屈折率ｎは、ほぼ１．４４であり、純水の中では、照明光ＩＬの波長は、１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。【００２６】
アライメント系ＡＬＧは、投影ユニットＰＵの中心（投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ（本実施形態では、前述の露光領域ＩＡの中心に一致））から−Ｙ側に所定距離隔てた位置に配置され、不図示のメインフレームに固定されている。ここで、アライメント系ＡＬＧとして、例えば画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系が用いられる。アライメント系ＡＬＧは、ウエハアライメントなどに際し、主制御装置２０の指示に応じ、ウエハステージＷＳＴ１又はＷＳＴ２上の基準マーク又はウエハ上のアライメントマーク（ウエハマーク）を撮像し、その撮像信号を不図示の信号処理系を介して主制御装置２０に供給する（図６参照）。【００２７】
その他、本実施形態における露光装置１００には、投影ユニットＰＵの近傍に、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書等に開示されるものと同様の構成の斜入射方式の多点焦点位置検出系（以下、多点ＡＦ系と略述する）ＡＦ（図１では不図示、図６参照）が設けられている。ここで、多点ＡＦ系ＡＦとしては、照射系からの検出ビームを、前述のノズルユニット３２に形成された不図示の光透過部及び液浸領域の液体Ｌｑを介してウエハＷ１（又はＷ２）表面の複数の検出点にそれぞれ照射し、複数の検出点それぞれにおける検出ビームの反射光をノズルユニット３２に形成された別の光透過部を介して受光系で受光する構成のものが用いられている。多点ＡＦ系ＡＦの検出信号は、不図示のＡＦ信号処理系を介して主制御装置２０に供給される（図６参照）。主制御装置２０は、多点ＡＦ系の検出信号に基づいて、各検出点におけるウエハＷ表面のＺ軸方向の位置情報を検出し、その検出結果に基づいて走査露光中のウエハＷのいわゆるフォーカス・レベリング制御を実行する。なお、アライメント検出系ＡＬＧの近傍に多点ＡＦ系を設けて、ウエハアライメント時にウエハ表面の面位置情報（凹凸情報）を事前に取得し、露光時には、その面位置情報とウエハステージ上面のＺ軸方向の位置を検出する別のセンサの計測値とを用いて、ウエハＷのいわゆるフォーカス・レベリング制御を実行することとしても良い。【００２８】
さらに、露光装置１００では、レチクルステージＲＳＴの上方に、露光波長の光を用いた一対のＴＴＲ（Through The Reticle）アライメント系から成るレチクルアライメント検出系１３（図１では不図示、図６参照）が設けられている。レチクルアライメント検出系１３の検出信号は、不図示のアライメント信号処理系を介して主制御装置２０に供給される（図６参照）。【００２９】
ステージ装置５０は、図１に示されるように、ベース盤１２の上方に配置されたウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置情報を計測する干渉計システム１１８を含む計測システム２００（図６参照）、及びウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を駆動するステージ駆動系１２４（図６参照）等を備えている。ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２は、それぞれが備える後述するエアスライダにより、数μｍ程度のクリアランスを介して、ベース盤１２の上方に浮上支持されている。そして、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２は、ステージ駆動系１２４を構成する後述する平面モータにより、それぞれベース盤１２の上面（移動ガイド面）に沿ってＸＹ平面内で駆動可能である。【００３０】
ウエハステージＷＳＴ１は、図１及び図２（Ａ）に示されるように、ステージ本体９１と、ステージ本体９１上に搭載されたウエハテーブルＷＴＢ１とを含む。ステージ本体９１は、図２（Ａ）に示されるように、ベース盤１２の内部に埋め込まれた固定子５２とともに、平面モータ５１を構成する可動子５６と、該可動子５６の下半部の周囲に一体的に設けられ、複数のエアベアリングを有するエアスライダ５４とを有している。【００３１】
可動子５６は、例えば隣り合う磁極面の極性が互いに異なるようにマトリクス状に配列された複数の平板磁石から構成された平板上発磁体を含む磁石ユニットによって構成されている。【００３２】
一方、固定子５２は、ベース盤１２の内部にマトリクス状に配列された複数の電機子コイル（駆動コイル）５７を有する電機子ユニットによって構成されている。電機子コイル５７として、本実施形態では、Ｘ駆動コイル及びＹ駆動コイルが設けられている。そして、複数のＸ駆動コイル及びＹ駆動コイルを含む電機子ユニットからなる固定子５２と、前述の磁石ユニットからなる可動子５６とによって、電磁力駆動方式（ローレンツ力駆動方式）のムービングマグネット型の平面モータ５１が構成されている。【００３３】
複数の電機子コイル５７は、ベース盤１２の上面を構成する平板状部材５８によってカバーされる。平板状部材５８の上面は、ウエハステージＷＳＴ１（及びＷＳＴ２）の移動ガイド面かつエアスライダ５４が備えるエアベアリングからの加圧空気の受圧面を構成する。【００３４】
ウエハテーブルＷＴＢ１は、ステージ本体９１の上に、ステージ駆動系１２４の一部を構成するＺ・レベリング機構（例えば、ボイスコイルモータ等を含む）を介して、設置されている。ウエハテーブルＷＴＢ１は、Ｚ・レベリング機構により、ステージ本体９１に対してＺ軸方向、θｘ方向及びθｙ方向に微小駆動される。従って、ウエハテーブルＷＴＢ１は、平面モータ５１とＺ・レベリング機構とを含むステージ駆動系１２４によって、ベース盤１２に対し、６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ）に駆動可能に構成されている。【００３５】
ウエハテーブルＷＴＢ１の上面の中央には、ウエハを真空吸着等によって保持するウエハホルダ（不図示）が設けられている。ウエハホルダ（ウエハの載置領域）の外側には、図２（Ｂ）に示されるように、ウエハホルダよりも一回り大きな円形の開口が中央に形成され、かつ矩形状の外形（輪郭）を有するプレート２８が設けられている。プレート２８の表面は、液体Ｌｑに対して撥液化処理され、撥液面を形成している。なお、プレート２８は、その表面の全部（、あるいは一部）がウエハＷの表面とほぼ同一面となるように設定されている。【００３６】
また、プレート２８の＋Ｙ側のほぼ中央には、円形開口が形成され、該円形開口内には基準マーク板ＦＭが嵌め込まれている。基準マーク板ＦＭは、その表面が、プレート２８とほぼ同一面とされている。基準マーク板ＦＭの表面には、レチクルアライメント検出系１３により検出される一対の第１基準マークと、アライメント系ＡＬＧにより検出される第２基準マークとが少なくとも形成されている。【００３７】
ウエハテーブルＷＴＢ１の−Ｙ側の＋Ｘ端部には、図２（Ｂ）に示されるように、他の部分より突出した板状の庇部２３ａが設けられている。また、ウエハテーブルＷＴＢ１の＋Ｙ側の＋Ｘ端部には、図２（Ｂ）に示されるように、庇部２３ａとＸ軸方向の幅がほぼ同一の段部（平面視矩形の切除部）２３ｂが形成されている。ウエハテーブルＷＴＢ１の上面は、ウエハＷ１及び庇部２３ａを含めて、ほぼ全面（段部２３ｂを除く）がほぼ同一面となっている。【００３８】
ウエハステージＷＳＴ２は、図１（及び図４）などに示されるように、ステージ本体９１と、ウエハテーブルＷＴＢ２とを含んで、上述のウエハステージＷＳＴ１と、左右対称ではあるが全く同様に構成されている。【００３９】
従って、ウエハテーブルＷＴＢ２には、−Ｙ側の−Ｘ端部に、庇部２３ａと同じ（若しくは左右対称の）庇部が設けられ、＋Ｙ側の−Ｘ端部に、段部２３ｂと左右対称な段部（平面視矩形の切除部）が形成されている。以下では、識別のため、ウエハテーブルＷＴＢ２が備える庇部を庇部２３ａ’と、段部を２３ｂ’と記述するものとする。【００４０】
ここで、庇部２３ａ，２３ａ’及び段部２３ｂ，２３ｂ’について、詳述する。図３（Ａ）には、ウエハテーブルＷＴＢ１に設けられた段部２３ｂと、ウエハテーブルＷＴＢ２に設けられた庇部２３ａ’とが、拡大して示されている。この図３（Ａ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢ２に設けられた庇部２３ａ’の先端とウエハテーブルＷＴＢ２に設けられた段部２３ｂとが係合することで、ウエハステージＷＳＴ１の＋Ｙ側の面とウエハステージＷＳＴ２の−Ｙ側の面とが一部対向した状態で、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とが、庇部２３ａ’及び段部２３ｂを介して、Ｙ軸方向に関して近接又は接触することができる、すなわち両ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２がスクラム状態となるようになっている（図４参照）。【００４１】
ウエハテーブルＷＴＢ２の庇部２３ａ’のＹ軸方向の長さは、段部２３ｂのＹ軸方向の長さより格段長く設定され、図３（Ａ）に示されるように、庇部２３ａ’と段部２３ｂとが係合した状態において、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とが接触する（より正確には、ウエハステージＷＳＴ１のエアスライダ５４の＋Ｙ側端と、ウエハステージＷＳＴ２のエアスライダ５４の−Ｙ側端とが接触する）のを阻止できる程度の長さに設定されている。【００４２】
ウエハテーブルＷＴＢ１の庇部２３ａと、ウエハテーブルＷＴＢ２の段部２３ｂ’とは、上記の庇部２３ａ’、段部２３ｂと同様の寸法を有し、同様に互いに係合可能である。そして、それらの係合状態では、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とが接触する（より正確には、ウエハステージＷＳＴ１のエアスライダ５４の−Ｙ側端と、ウエハステージＷＳＴ２のエアスライダ５４の＋Ｙ側端とが接触する）のを阻止できるようになっている。【００４３】
本実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、より正確には、庇部２３ａ’と段部２３ｂとが（又は庇部２３ａと段部２３ｂ’とが）近接又は接触する状態（両ウエハステージのスクラム状態）では、ウエハテーブルＷＴＢ１とウエハテーブルＷＴＢ２との上面は、庇部２３ａ（又は２３ａ’）の上面を含み、全体としてほぼ同一面（フルフラットな面）となる（図３（Ａ）参照）。ここで、庇部２３ａ’（又は２３ａ）と段部２３ｂ（又は２３ｂ’）とが近接するとは、一例として、３００μｍ程度のクリアランスを介して庇部２３ａ’（又は２３ａ）と段部２３ｂ（又は２３ｂ’）とが接近する状態を意味する。【００４４】
庇部２３ａ’（及び２３ａ）のＸ軸方向の幅は、図４に示されるように、前述の液浸領域１４の幅より十分大きく、例えば１００ｍｍ程度、正確には１００ｍｍ以下（一例として８０ｍｍ〜１００ｍｍ）に設定されている。従って、例えば、ウエハテーブルＷＴＢ１に載置されたウエハＷ１に対する露光が終了し、ウエハテーブルＷＴＢ２に載置されたウエハＷ２に対する露光を開始するためには、液浸領域１４が形成される投影光学系ＰＬ下方の領域を含む露光時移動領域ＡＥ（図７及び図８参照）に位置するウエハステージＷＳＴ１を露光時移動領域ＡＥから退避させ、所定の待機位置で待機しているウエハステージＷＳＴ２を露光時移動領域ＡＥに移動させなければならない。その際、主制御装置２０は、例えば図１０に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、それぞれが有する段部２３ｂと庇部２３ａ’とを係合させて、Ｙ軸方向に近接又は接触させる。そして、この状態（スクラム状態）を維持したまま、主制御装置２０が、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を−Ｙ方向に駆動することにより、液浸領域１４は、ウエハテーブルＷＴＢ１、庇部２３ａ’、及びウエハテーブルＷＴＢ２の上面を順次移動する。【００４５】
液浸領域１４が、庇部２３ａ’を介して、ウエハテーブルＷＴＢ１上からウエハテーブルＷＴＢ２上へ移動する際（又は、庇部２３ａを介して、ウエハテーブルＷＴＢ２上からウエハテーブルＷＴＢ１上へ移動する際）、液浸領域１４を形成する液体Ｌｑが庇部２３ａ’と段部２３ｂとの間隙（又は庇部２３ａと段部２３ｂ’との間隙）に浸入し、ウエハステージＷＳＴ１及び／又はＷＳＴ２の側面を介してウエハステージＷＳＴ１及び／又はＷＳＴ２の下方に漏れることが起こり得る。そこで、例えば、図３（Ｃ）に示されるように、段部２３ｂの庇部２３ａ’と係合する面の一部に、逆に庇部２３ａ’の段部２３ｂと係合する面の一部に、あるいは庇部２３ａ’と段部２３ｂの両方の係合する面の一部に、シール部材２４を貼付すると良い。かかる場合には、シール部材２４により、液体Ｌｑの庇部２３ａ’と段部２３ｂとの間隙への浸入、ひいてはウエハステージＷＳＴ１及び／又はＷＳＴ２の下方への漏れを防ぐことができる。なお、シール部材２４としては、例えばフッ素ゴム等から成る弾性シール部材が用いられる。また、シール部材２４を貼付する代わりに、庇部２３ａ’の段部２３ｂとの係合面、及び／又は段部２３ｂの庇部２３ａ’との係合面に、テフロン（登録商標）等により撥水コートを施しても良い。なお、段部２３ｂ’、庇部２３ａについても上記と同様である。【００４６】
本実施形態では、上述のように、液浸領域１４を、庇部２３ａ又は２３ａ’を介して、ウエハテーブルＷＴＢ１，ＷＴＢ２間で移動させることができる。このとき、庇部２３ａと段部２３ｂ’とが（又は庇部２３ａ’と段部２３ｂとが）接触又は近接した状態が維持されるので、庇部と段部との間隙から液浸領域１４の液体Ｌｑが漏れるのも防止することができる。従って、投影光学系ＰＬの下方からの液体Ｌｑの回収作業が不要となり、液体Ｌｑの回収、供給を行う場合に比べて、スループットの向上が可能となる。【００４７】
なお、上述の説明では、ウエハテーブルＷＴＢ１、ＷＴＢ２の−Ｙ側の端部に庇部を、＋Ｙ側の端部に段部をそれぞれ設けることとしたが、逆に、後述する変形例のように、ウエハテーブルＷＴＢ１、ＷＴＢ２の＋Ｙ側の端部に庇部を、−Ｙ側の端部に段部をそれぞれ設けることとしても良い。この他、図３（Ｂ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢ１の上端部の＋Ｙ側、ウエハテーブルＷＴＢ２の上端部の−Ｙ側に、互いに係合する一対の平板上の突出部２３ｃ、２３ｄを設けることとしても良い。この場合、一方の突出部２３ｃの先端部に上半部が下半部に比べて突出した凸部を形成し、他方の突出部２３ｄの先端部には、突出部２３ｃの凸部に係合し、その係合状態では、図３（Ｂ）に示されるように、全体で１つの板状部を形成する、下半部が上半部に比べて突出した凸部を形成することとしても良い。この場合も、突出部２３ｃ，２３ｄが嵌合した両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のスクラム状態において、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２との接触を回避できる長さに突出部２３ｃ，２３ｄの長さが設定されていれば良い。勿論、ウエハテーブルＷＴＢ２の上端部の＋Ｙ側、ウエハテーブルＷＴＢ１の上端部の−Ｙ側に、互いに係合する一対の平板上の突出部を設けることとしても良い。【００４８】
また、本実施形態では、互いに係合する庇部２３ａ（又は２３ａ’）と段部２３ｂ’（又は２３ｂ）（あるいは一対の突出部２３ｃ、２３ｄ）を、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２それぞれの近接又は接触時（スクラム時）に対向する±Ｙ側の±Ｘ側端部に設け、両ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２がＸ軸方向に関してずれた状態でスクラム状態となることとした。これは、主に、次のａ．〜ｃ．の理由を考慮したものである。【００４９】
ａ．ウエハの露光が行われる露光位置（液浸領域１４）とウエハのアライメントを行う位置とを結ぶ方向であるＹ軸方向に関して、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２をスクラムさせる（近接又は接触させる）ことによって、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２をＸ軸方向に関してスクラムさせる場合に比べて、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動距離（移動ストローク）を短くすることができる。これにより、スループットの向上を図ることが可能になる。
ｂ．両ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２がＸ軸方向に関してずれた状態でスクラム状態となるようにすることで、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動ストロークをより一層短くすることができ、これによってスループットを一層向上させることができる。
ｃ．ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２それぞれに接続されている後述するケーブルの長さを、短くすることができる。【００５０】
なお、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２に、例えば国際公開第２００７／０９７３７９号パンフレットに開示されているような空間像計測装置、コンフィデンシャルバー（ＣＤバー）、照度むらセンサ、空間像計測器、波面収差計測器及び照度モニタなどの各種計測装置及び計測部材を設けても良い。【００５１】
本実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１の−Ｘ側端部から、ベース盤１２（ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動ガイド面）の−Ｘ側に設置されたＹ軸方向に移動可能な第１ケーブルシャトル（不図示）に、不図示の配線・配管用のケーブルが接続されている。同様に、ウエハステージＷＳＴ２の＋Ｘ側端部から、ベース盤１２の＋Ｘ側に設置されたＹ軸方向に移動可能な第２ケーブルシャトル（不図示）に、不図示の配線・配管用のケーブルが接続されている。これらのケーブルにより、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２に設けられたＺ・レベリング機構、及び計測装置とへの電力供給、及びエアスライダに対する加圧空気の供給などが行われる。【００５２】
次に、計測システム２００の一部を構成する干渉計システム１１８について説明する。【００５３】
図２（Ｂ）に、ウエハテーブルＷＴＢ１を用いて、代表的に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢ１，ＷＴＢ２の−Ｘ側端面、＋Ｙ側端面、＋Ｘ側端面、−Ｙ側端面には、それぞれ反射面２７ａ，２７ｂ，２７ｃ，２７ｄが形成されている。さらに、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の−Ｘ側及び＋Ｘ側の面には、反射面２７ａ，２７ｃのそれぞれに対して４５度傾斜した反射面を有する反射ミラー２７ｅ，２７ｆが設けられている（図５参照）。また、図１及び図４に示されるように、長方形板状の固定鏡２５Ａ，２５Ｃ，２５Ｂ，２５Ｄが、投影ユニットＰＵの＋Ｘ側、−Ｘ側、及びアライメント系ＡＬＧの＋Ｘ側、−Ｘ側に、それぞれの長手方向をＸ軸方向に向けて、かつそれぞれの反射面を−Ｚ方向に向けて配置されている。固定鏡２５Ａ，２５Ｃ，２５Ｂ，２５Ｄの反射面は、ウエハステージＷＳＴ１又はＷＳＴ２（ウエハテーブルＷＴＢ１又はＷＳＴ２）に対向し得る。固定鏡２５Ａ〜２５Ｄは、投影ユニットＰＵ等を保持するメインフレームの下面に設置されている。【００５４】
干渉計システム１１８は、図４に示されるように、４つのＹ干渉計１６，１７，１８，１９と、４つのＸＺ干渉計１１６，１１７，１２６，１２７と、を含む。Ｙ干渉計１６，１７，１８は、ベース盤１２の＋Ｙ側に、Ｘ軸方向に関して異なる位置に配置されている。Ｙ干渉計１９は、ベース盤１２の−Ｙ側に、Ｙ干渉計１７に対向して、配置されている。ＸＺ干渉計１１６，１１７は、ベース盤１２の−Ｘ側に、Ｙ軸方向に所定間隔で配置されている。また、ＸＺ干渉計１２６，１２７はベース盤１２の＋Ｘ側に、ＸＺ干渉計１１６，１２７にそれぞれ対向して配置されている。【００５５】
詳述すると、Ｙ干渉計１７は、図５に示されるように、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸとアライメント系ＡＬＧの検出中心とを結ぶＹ軸に平行な直線（基準軸）ＬＶ0から±Ｘ方向に等しい離間距離を隔てて、Ｙ軸に平行な２つの測長ビームＢ１７1，Ｂ１７2を、ウエハステージＷＳＴ１（又はＷＳＴ２）の反射面２７ｂに照射し、測長ビームＢ１７１，Ｂ１７２の反射光を受光して、測長ビームＢ１７1，Ｂ１７2の照射点における反射面２７ｂのＹ軸方向の変位（第１、第２位置情報とする）を計測する。第１、第２位置情報は、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、第１、第２位置情報の平均値に基づいて、ウエハステージＷＳＴ１（又はＷＳＴ２）のＹ軸方向に関する位置（Ｙ位置）を算出する。すなわち、Ｙ干渉計１７のＹ軸方向に関する実質的な測長軸は、基準軸ＬＶ0に一致している。また、主制御装置２０は、第１、第２位置情報の差に基づいて、ウエハステージＷＳＴ１（又はＷＳＴ２）のθｚ方向の回転情報（ヨーイング量）を算出する。【００５６】
また、Ｙ干渉計１７は、測長ビームＢ１７1，Ｂ１７2から−Ｚ方向に所定距離隔てて、もう１つの測長ビームＢ１７3を、反射面２７ｂに照射し、測長ビームＢ１７３の反射光を受光して、測長ビームＢ１７3の照射点における反射面２７ｂのＹ軸方向の変位（第３位置情報とする）を計測し、主制御装置２０に送る。主制御装置２０は、第３位置情報と、第１、第２位置情報とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のθｘ方向の回転情報（ピッチング量）を算出する。【００５７】
Ｙ干渉計１６，１８，１９は、Ｙ干渉計１７と同様に、ウエハテーブルＷＴＢ１，ＷＴＢ２の一方又は両方ののＹ位置、ピッチング量、及びヨーイング量を計測するために用いられる。Ｙ干渉計１６，１８は、それぞれ基準軸ＬＶ０に平行な測長軸ＬＶ1，ＬＶ2を有する。また、Ｙ干渉計１９は、実質的な測長軸を、基準軸ＬＶ０をとし、３つの測長ビームをウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の反射面２７ｄに照射する。【００５８】
ＸＺ干渉計１１６，１２６は、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと基準軸ＬＶ0に直交する基準軸ＬＨをＸ軸方向に関する測長軸とする。すなわち、ＸＺ干渉計１１６は、図５に示されるように、測長軸ＬＨに沿って、測長ビームＢ１１６1を、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の反射面２７ａに照射し、反射面２７ａにおける測長ビームＢ１１６1の反射光を受光して、測長ビームＢ１１６1の照射点における反射面２７ａのＸ軸方向の変位（第４位置情報とする）を計測する。同様に、ＸＺ干渉計１２６は、測長軸ＬＨに沿って、測長ビームＢ１２６1を、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の反射面２７ｃに照射し、反射面２７ｃにおける測長ビームＢ１２６1の反射光を受光して、測長ビームＢ１２６1の照射点における反射面２７ｃのＸ軸方向の変位（第５位置情報とする）を計測する。第４、第５位置情報は、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、第４、第５位置情報に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＸ位置を算出する。【００５９】
また、ＸＺ干渉計１１６は、測長軸ＬＨと平行に、測長ビーム（Ｚ測長ビーム）Ｂ１１６2を、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）に設けられた反射ミラー２７ｅの反射面に照射する。測長ビームＢ１１６2は反射ミラー２７ｅで＋Ｚ方向に反射され、前述の固定鏡２５Ｃの反射面上に照射される。固定鏡２５Ｃの反射面からの測長ビームＢ１１６2の反射光は、元の光路を逆に辿って、ＸＺ干渉計１１６に受光される。ＸＺ干渉計１１６は、測長ビームＢ１１６２の光路長（の変化）を計測し、その計測結果を主制御装置２０に送る。同様に、ＸＺ干渉計１２６は、測長軸ＬＨと平行に、測長ビーム（Ｚ測長ビーム）Ｂ１２６2を、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）に設けられた反射ミラー２７ｆの反射面に照射する。測長ビームＢ１２６2は反射ミラー２７ｆで＋Ｚ方向に反射され、前述の固定鏡２５Ａの反射面上に照射される。固定鏡２５Ａの反射面からの測長ビームＢ１２６2の反射光は、元の光路を逆に辿って、ＸＺ干渉計１２６に受光される。ＸＺ干渉計１２６は、測長ビームＢ１２６2の光路長（の変化）を計測し、その計測結果を主制御装置２０に送る。【００６０】
主制御装置２０は、前述の第４位置情報から得られる測長ビームＢ１１６1の光路長と、測長ビームＢ１１６2の光路長との差より、測長ビームＢ１１６2の反射ミラー２７ｅの反射面上の照射点のＺ位置（Ｚｅと表記する）を算出する。【００６１】
また、主制御装置２０は、前述の第５位置情報から得られる測長ビームＢ１２６1の光路長と、測長ビームＢ１２６2の光路長との差より、測長ビームＢ１２６2の反射ミラー２７ｆの反射面上の照射点のＺ位置（Ｚｆと表記する）を算出する。さらに、主制御装置２０は、２つのＺ位置Ｚｅ，Ｚｆの平均値と差より、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＺ位置とθｙ方向の回転情報（ローリング量）を算出する。【００６２】
さらに、ＸＺ干渉計１１６，１２６は、図５に示されるように、測長軸ＬＨに平行に、ただし測長ビームＢ１１６1，Ｂ１２６1から−Ｚ方向に所定距離隔てて、それぞれ測長ビームＢ１１６3，Ｂ１２６3を反射面２７ａ，２７ｃに照射する。そして、ＸＺ干渉計１１６，１２６は、測長ビームＢ１１６3，Ｂ１２６3の反射光を受光して、測長ビームＢ１１６3，Ｂ１２６3の照射点における反射面２７ａ，２７ｃのＸ軸方向の変位（第６、第７位置情報とする）を計測する。第６、第７位置情報は、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、第４位置情報と第６位置情報とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のローリング量（θｙ１とする）を算出する。また、主制御装置２０は、第５位置情報と第７位置情報とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のローリング量（θｙ２とする）を算出する。また、主制御装置２０は、Ｚ位置（Ｚｅ）と上記のローリング量θｙ１とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＺ位置を算出する。また、主制御装置２０は、Ｚ位置（Ｚｆ）と上記のローリング量θｙ２とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＺ位置を算出する。【００６３】
ただし、測長ビームＢ１１６1，Ｂ１１６3の離間距離及び測長ビームＢ１２６1，Ｂ１２６3の離間距離は、測長ビーム（Ｚ測長ビーム）Ｂ１１６2，Ｂ１２６2の反射ミラー２７ｅ，２７ｆの反射面上の照射点のＸ軸方向の距離と比べて、はるかに短い。従って、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のローリング量の計測精度は、前述のＺ測長ビームＢ１１６2，Ｂ１２６2を用いる計測に比べ、劣る。そこで、主制御装置２０は、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のθｙ方向の位置情報（ローリング量）及びＺ位置の計測を、原則として、Ｚ測長ビームＢ１１６2，Ｂ１２６2を用いる、すなわち両ＸＺ干渉計１１６，１２６を用いて行い、例外的に代替法として、ＸＺ干渉計１１６，１２６のいずれか一方のみを用いて行うものとする。なお、代替法の使用例ついては、後述する。【００６４】
ＸＺ干渉計１１７，１２７は、ＸＺ干渉計１１６，１２６と同様に、ウエハアライメント時などにウエハテーブルＷＴ１（ＷＴ２）のＸ位置、Ｚ位置、及びθｙ方向の位置（ローリング量）を計測するために用いられる。なお、計測方法は、アライメント系ＡＬＧの検出中心において基準軸ＬＶ０と直交するＸ軸に平行な基準軸ＬＡ（図４参照）を測長軸とする点、及びＺ測長ビームが照射される固定鏡として固定鏡２５Ｄ，２５Ｂがそれぞれ用いられる点が異なる点を除けば、ＸＺ干渉計１１６，１２６を用いる計測と同様である。【００６５】
このように、Ｙ干渉計１６，１７，１８，１９及びＸＺ干渉計１１６，１１７，１２６，１２７を含む干渉計システム１１８を用いることにより、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の６自由度（Ｘ，Ｙ，Ｚ，θｘ，θｙ，θｚ）方向の位置情報を計測することができる。なお、本実施形態では、個々の干渉計の配置に基づき、主制御装置２０は、露光時移動領域ＡＥではＹ干渉計１７とＸＺ干渉計１１６，１２６とを用い、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２がウエハアライメント時に移動するアライメント系ＡＬＧ近傍のアライメント領域ＡＡ（図８参照）ではＹ干渉計１９とＸＺ干渉計１１７，１２７とを用いる。また、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１が露光時移動領域ＡＥとアライメント領域ＡＡの間を往来するための待機領域（ベース盤１２上の−Ｘ側の領域）ではＹ干渉計１６とＸＺ干渉計１１６，１２６又は１１７，１２７とを用い、ウエハステージＷＳＴ２が露光時移動領域ＡＥとアライメント領域ＡＡの間を往来するための待機領域（ベース盤１２の＋Ｘ側の領域）ではＹ干渉計１８とＸＺ干渉計１１６，１２６又は１１７，１２７とを用いる。【００６６】
本実施形態では、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＸＹ平面内の位置情報を計測するために、上述の干渉計システム１１８とは別に、エンコーダシステム１５０（図６参照）が、設けられている。そこで、主制御装置２０は、主として干渉計システム１１８を用いてウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の位置計測を行い、エンコーダシステム１５０は、ウエハステージＷＳＴが干渉計システム１１８の計測領域外に位置する際に用いる。勿論、主制御装置２０は、干渉計システム１１８とエンコーダシステム１５０とを併用して、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＸＹ平面内の位置計測を行うこととしても良い。【００６７】
図６には、露光装置１００の制御系の主要な構成が示されている。この制御系は、装置全体を統括的に制御するマイクロコンピュータ（又はワークステーション）から成る主制御装置２０を中心として構成されている。【００６８】
次に、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を用いた並行処理動作について、図７〜図１２、及び図４に基づいて、説明する。なお、以下の動作中、主制御装置２０によって、液体供給装置５と液体回収装置６が制御され、投影光学系ＰＬの先端レンズ１９１の直下に液体Ｌｑが供給・回収され、一定量の液体Ｌｑが保持されることにより、常時、液浸領域１４が形成されている。【００６９】
図７には、露光時移動領域ＡＥにおいて、ウエハステージＷＳＴ１上に載置されたウエハＷ１に対して、ステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われ、これと並行して、ローディングポジションにおいて、ウエハ搬送機構（不図示）とウエハステージＷＳＴ２との間でウエハ交換が行なわれている状態が、示されている。ここで、本実施形態では、ローディングポジションは、アライメント系ＡＬＧの直下に基準マーク板ＦＭが位置決めされるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置、と定められているものとする。【００７０】
上記のウエハ交換中、及びそのウエハ交換後、ウエハステージＷＳＴ２がローディングポジションに停止している間に、主制御装置２０は、新しいウエハＷ２に対するウエハアライメント（及びその他の前処理計測）の開始に先立って、Ｙ干渉計１９とＸＺ干渉計１１７，１２７のリセット（原点の再設定）を実行している。【００７１】
ウエハ交換（新しいウエハＷ２のローディング）と干渉計１９，１１７，１２７のリセットが終了すると、主制御装置２０は、アライメント系ＡＬＧを用いてウエハステージＷＳＴ２の基準マーク板ＦＭ上の第２基準マークを検出する。そして、主制御装置２０は、アライメント系ＡＬＧの指標中心を基準とする第２基準マークの位置を検出し、その検出結果と、検出時の干渉計１９，１１７、１２７によるウエハステージＷＳＴ２の位置計測の結果とに基づいて、基準軸ＬＡ及び基準軸ＬＶ0を座標軸とする直交座標系（アライメント座標系）における上記第２基準マークの位置座標を算出する。【００７２】
次に、主制御装置２０は、図８に示されるように、ウエハステージＷＳＴ２をアライメント領域ＡＡに移動させる。そして、主制御装置２０は、干渉計１９，１１７，１２７を用いて、ウエハステージＷＳＴ２のアライメント座標系における位置座標を計測しつつ、エンハンスト・グローバル・アライメント（ＥＧＡ）を行う。詳述すると、主制御装置２０は、干渉計１９，１１７，１２７を用いてウエハステージＷＳＴ２の位置座標を管理しつつ、アライメント系ＡＬＧを用いて、ウエハＷ２上の特定の複数のショット領域（サンプルショット領域）に付設された複数のアライメントマークを検出して、それらの位置座標を求める。求められた位置座標と設計上の位置座標とに基づいて、例えば米国特許第４，７８０，６１７号明細書などに開示されている統計演算を実行し、複数のショット領域のアライメント座標系における位置座標を算出する。さらに、算出された位置座標から、先に検出された第２基準マークの位置座標を減算して、第２基準マークの位置を原点とするウエハＷ２上の複数のショット領域の位置座標を求める。【００７３】
通常、上述のウエハ交換・ウエハアライメントシーケンスは、露光シーケンスより早く終了する。そのため、主制御装置２０は、ウエハアライメントが終了すると、ウエハステージＷＳＴ２を所定の待機位置に移動させるが、その移動の途中で、Ｙ干渉計１９からＹ干渉計１８に、ウエハテーブルＷＴＢ２のＹ軸方向、θｘ方向、及びθｚ方向の位置の計測に用いる干渉計を切り換える。そして、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１に対する露光が終了するまで、ウエハステージＷＳＴ２を、所定の待機位置に待機させる。【００７４】
ウエハテーブルＷＴＢ１上のウエハＷ１に対する露光が終了すると、主制御装置２０は、図１０に示される第１スクラムポジションへのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２それぞれの駆動を開始する。ウエハステージＷＳＴ１の第１スクラムポジションへの移動開始後、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１の位置計測に用いるＹ干渉計を、Ｙ干渉計１７からＹ干渉計１６に切り換える。また、このとき、第１スクラムポジションに向かって移動するウエハステージＷＳＴ２によって、図９に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１に照射されていたＸＺ干渉計１２６の３つの測長ビームが遮られ、ＸＺ干渉計１２６を用いたウエハステージＷＳＴ１の位置の計測ができなくなる。そこで、主制御装置２０は、ＸＺ干渉計１１６のみを用いてウエハテーブルＷＴＢ１のＸ，Ｚ，θｙ位置を計測する。ここで、主制御装置２０は、θｙ位置及びＺ位置を計測するために、前述の代替法を使用する。一方、図９からも明らかなように、上記の第１スクラムポジションに向けてのウエハステージＷＳＴ２の移動の途中で、ＸＺ干渉計１１７，１２７からの測長ビームがウエハステージＷＳＴ２に当たらなくなり、いずれのＸＺ干渉計からの測長ビームもウエハステージＷＳＴ２に当たらない状態が発生する。そこで、この状態が発生するのに先立って、主制御装置２０は、前述のエンコーダシステム１５０を用いたウエハステージＷＳＴ２のＸ位置の計測を開始する。そして、ＸＺ干渉計１２６からの３本測長ビームがウエハステージＷＳＴ２の各反射面に当たるようなった時点で、エンコーダシステム１５０の計測値に基づいて、ＸＺ干渉計１２６をプリセットする。また、図９に示される状態では、ウエハステージＷＳＴ１によってＸＺ干渉計１１６の３つの測長ビームが遮られるため、主制御装置２０は、ＸＺ干渉計１２６のみを用いてウエハテーブルＷＴＢ２のＸ，Ｚ，θｙ位置を計測する。ここでも、主制御装置２０は、θｙ位置及びＺ位置を計測するために、前述の代替法を使用する。【００７５】
なお、本実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、ともに移動している途中で、図９と同様に、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、Ｘ軸方向に関して並ぶ（少なくとも一部重なる）ときには、主制御装置２０は、上記と同様に、ＸＺ干渉計１１６のみを用いてウエハテーブルＷＴＢ１のＸ，Ｚ，θｙ位置を計測するとともに、ＸＺ干渉計１２６のみを用いてウエハテーブルＷＴＢ２のＸ，Ｚ，θｙ位置を計測する。【００７６】
そして、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が第１スクラムポジションに移動した状態では、前述のように、ウエハステージＷＳＴ２の庇部２３ａ’とウエハステージＷＳＴ１の段部２３ｂとが係合して、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が庇部２３ａ’、段部２３ｂを介して近接又は接触するスクラム状態となる。主制御装置２０は、このスクラム状態を保ったまま、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を−Ｙ方向に駆動する。【００７７】
ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、スクラム状態を保ったまま−Ｙ方向に移動するに従い、先端レンズ１９１とウエハテーブルＷＴＢ１との間に形成されていた液浸領域１４は、ウエハテーブルＷＴＢ１、庇部２３ａ’、ウエハテーブルＷＴＢ２上へと、順次移動する。図４には、この移動の途中で、液浸領域１４が庇部２３ａ上を渡り、ウエハテーブルＷＴＢ１上からウエハテーブルＷＴＢ２上へ移動しているときの両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の状態が示されている。【００７８】
液浸領域１４のウエハテーブルＷＴＢ２上への移動が完了すると、主制御装置２０は、図１１に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１をローディングポジションに移動させる。【００７９】
図１１からも明らかなように、上記のローディングポジションに向けてのウエハステージＷＳＴ１の移動の途中で、ＸＺ干渉計１１６からの測長ビームがウエハステージＷＳＴ１に当たらなくなり、いずれのＸＺ干渉計からの測長ビームもウエハステージＷＳＴ１に当たらない状態が発生する。そこで、この状態が発生するのに先立って、主制御装置２０は、前述のエンコーダシステム１５０を用いたウエハステージＷＳＴ１のＸ位置の計測を開始する。そして、ＸＺ干渉計１１７，１２７からの各３本の測長ビームがウエハステージＷＳＴ２の各反射面に当たるようなった時点で、エンコーダシステム１５０の計測値に基づいて、ＸＺ干渉計１１７、１２７をプリセットする。その後、主制御装置２０は、干渉計１６、１１７、１２７を用いて、位置を計測しつつ、ウエハステージＷＳＴ１をローディングポジションに向けてさらに駆動する。【００８０】
上記のウエハステージＷＳＴ１の移動と並行して、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を駆動し、投影光学系ＰＬの直下にウエハステージＷＳＴ２の基準マーク板ＦＭを位置決めする。そして、レチクルアライメント検出系１３（図６参照）を用いて基準マーク板ＦＭ上の一対の第１基準マークを検出し、第１基準マークと対応するレチクルＲ上のレチクルアライメントマークのウエハ面上投影像の相対位置を検出する。なお、この検出は、投影光学系ＰＬ及び液浸領域１４を形成する液体Ｌｑを介して行われる。【００８１】
主制御装置２０は、ここで検出された相対位置情報と、先に求めた第２基準マークを基準とするウエハＷ２上の各ショット領域の位置情報と、に基づいて、レチクルＲのパターンの投影位置（投影光学系ＰＬの投影中心）とウエハＷ２上の各ショット領域の相対位置関係を算出する。その算出結果に基づいて、主制御装置２０は、前述したウエハＷ１の場合と同様に、ウエハステージＷＳＴ２の位置を管理しつつ、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ２上の各ショット領域にレチクルＲのパターンを転写する。【００８２】
上記のウエハステージＷＳＴ２の露光動作と並行して、主制御装置２０は、ローディングポジションにおいて、ウエハ搬送機構（不図示）とウエハステージＷＳＴ１との間でウエハ交換を行い、ウエハテーブルＷＴＢ１の上に新しいウエハＷ１を載置する。そして、アライメント系ＡＬＧを用いてウエハステージＷＳＴ１の基準マーク板ＦＭ上の第２基準マークを検出する。なお、第２基準マークの検出に先立って、ウエハステージＷＳＴ１がローディングポジションにある状態で、主制御装置２０は、Ｙ干渉計１９とＸＺ干渉計１１７，１２７のリセット（原点の再設定）を実行している。その後、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１の位置を管理しつつ、ウエハＷ１に対して、前述と同様のアライメント系ＡＬＧを用いたウエハアライメント（ＥＧＡ）を行う。【００８３】
ウエハテーブルＷＴＢ１上のウエハＷ１に対するウエハアライメント（ＥＧＡ）が終了し、かつウエハテーブルＷＴＢ２上のウエハＷ２に対する露光も終了すると、主制御装置２０は、図１２に示される第２スクラムポジションに向けてウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の駆動を開始する。第２スクラムポジションでは、ウエハステージＷＳＴ２の＋Ｙ側に設けられた段部２３ｂ’とウエハステージＷＳＴ１の−Ｙ側に設けられた庇部２３ａとが係合して、両ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２が庇部２３ａ、段部２３ｂ’を介して近接又は接触するスクラム状態となる。主制御装置２０は、このスクラム状態を保ったまま、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を−Ｙ方向に駆動する。それに伴い、先端レンズ１９１とウエハテーブルＷＴＢ２との間に形成されていた液浸領域１４は、ウエハテーブルＷＴＢ２、庇部２３ａ、ウエハテーブルＷＴＢ１上へと、順次移動する。液浸領域１４の移動が完了すると、主制御装置２０は、前述と同様の手順でウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１に対する露光を開始する。【００８４】
以降、主制御装置２０は、上述したウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２との並行動作を、繰り返し実行する。【００８５】
以上詳細に説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とを、庇部２３ａと段部２３ｂ’とを介して（又は庇部２３ａ’と段部２３ｂとを介して）Ｙ軸方向に関して近接又は接触するスクラム状態を維持して、同時にＹ軸方向に駆動することで、投影ユニットＰＵ（投影光学系ＰＬ）直下に形成される液浸領域１４を、庇部２３ａ又は２３ａ’を介してウエハステージＷＳＴ１及びウエハステージＷＳＴ２の一方から他方に受け渡し、一方のウエハステージが露光時移動領域ＡＥに位置する第１の状態から他方のウエハステージが露光時移動領域ＡＥに位置する第２の状態に遷移させる。【００８６】
このため、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）とその直下にあるウエハテーブル（あるいはウエハテーブル上に載置されたウエハ）との間に液浸領域１４を形成したままの状態で、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の間隙から液体を漏らすことなく、前述の第１の状態から第２の状態へ、逆に第２の状態から第１の状態へ、移行させることが可能になる。これにより、両ウエハテーブルＷＴＢ１，ＷＴＢ２の間の間隙からの液体の漏れを効果的に抑制することができ、これによりウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の±Ｙ側面に設けられた反射面２７ｂ，２７ｄに対する液体の付着を効果的に抑制することができる。従って、Ｙ干渉計１６，１７，１８，１９を用いたウエハテーブルの位置計測の高い安定性が保証される。【００８７】
また、一方のウエハステージで投影光学系ＰＬと液浸領域１４とを介したウエハの露光が行われた後、他方のウエハステージで投影光学系ＰＬと液浸領域１４とを介したウエハの露光を開始するまでの間に、液浸領域１４を形成する液体Ｌｑの全回収及び再供給をする工程が不要になる。従って、一方のウエハステージでの露光の終了から他方のウエハステージでの露光の開始までの時間を、非液浸方式の露光装置と同程度にまで短縮して、スループットの向上を図ることが可能となる。また、投影光学系ＰＬの像面側には、液体が常に存在するので、投影光学系ＰＬの像面側の光学部材（例えば先端レンズ１９１）に、水染み（ウォーターマーク）が発生するのを効果的に防止することができ、長期に渡って、投影光学系ＰＬの結像性能を良好に維持することができる。【００８８】
また、本実施形態によると、スクラム状態では、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とを、反射面２７ｅ，２７ｆが設けられていない側の面同士を対向させた状態で、庇部２３ａと段部２３ｂ’とを介して（又は庇部２３ａ’と段部２３ｂとを介して）Ｙ軸方向に関して近接又は接触させる。このため、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とを、Ｘ軸方向から近接又は接触させる場合に比べて、スクラム状態に移行させる際の両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動距離（移動ストローク）を短くすることができる。また、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２がＸ軸方向に関してずれた状態で、Ｙ軸方向に関して近接又は接触させるようにすることで、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動ストロークをより一層短くすることができる。従って、この点においてもスループットの向上を図ることが可能である。また、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のＸ軸方向の両側に設けられた反射ミラー２７ｅ，２７ｆ同士の接触などのおそれがない。また、反射ミラー２７ｅ，２７ｆの反射面を、液浸領域１４の液体Ｌｑで濡らすおそれもない。従って、主制御装置２０は、反射ミラー２７ｅ，２７ｆを介して、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２のＺ位置、及びθｙ方向の回転を、長期に渡り精度良く計測することが可能になる。【００８９】
また、前述した２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の並行動作により、１つのウエハステージのみを用いて、ウエハ交換、ウエハアライメント、及び露光動作を、シーケンシャルに行う従来のシングルウエハステージを備えた露光装置に比べてスループットの向上を図ることが可能である。【００９０】
また、液浸露光により、高解像度かつ空気中と比べて大焦点深度の露光を行うことで、レチクルＲのパターンを精度良くウエハ上に転写することができ、例えばデバイスルールとして７０〜１００ｎｍ程度の微細パターンの転写を実現することができる。【００９１】
なお、上記の庇部２３ａ（又は２３ａ’）と段部２３ｂ’（又は２３ｂ）（あるいは一対の突出部２３ｃ，２３ｄ）の各ウエハステージ上の取り付け位置に対応して、図４及び図１０などに示されるスクラム時の両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動経路が定められている。従って、スクラム時の両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動経路が異なる場合には、その移動経路に応じて、庇部と段部（あるいは一対の突出部）の設置場所を、適宜設定しても良い。【００９２】
図１３及び図１４には、ウエハステージＷＳＴ１を構成するウエハテーブルＷＴＢ１の＋Ｙ側の面の＋Ｘ側端部に庇部２３ａが突設され、ウエハステージＷＳＴ２を構成するウエハテーブルＷＴＢ２の＋Ｙ側の面の−Ｘ側端部に庇部２３ａ’が突設された、変形例に係る露光装置が示されている。この変形例に係る露光装置では、図１３及び図１４に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１（ウエハテーブルＷＴＢ１）の−Ｙ側には、＋Ｘ側端部に、段部２３ｂが形成され、庇部２３ａの近傍に基準マーク板ＦＭ１が、配置されている。また、ウエハステージＷＳＴ２（ウエハテーブルＷＴＢ２）の−Ｙ側には、−Ｘ側端部に、段部２３ｂ’が形成され、また、庇部２３ａ’の近傍に基準マーク板ＦＭ２が、配置されている。その他の部分の構成などは、前述の実施形態と同様になっている。ここで、基準マーク板ＦＭ１，ＦＭ２は、前述の基準マーク板ＦＭと同様のマーク板であるが、ここでは識別のため、基準マーク板ＦＭ１，ＦＭ２としている。【００９３】
この変形例に係る露光装置では、いわゆる完全交互スキャンが採用され、ウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１に対しては、基準マーク板ＦＭ１の近傍に位置する右上（＋Ｘ側かつ＋Ｙ側の端部）のショット領域から露光を開始し、右下（＋Ｘ側かつ−Ｙ側の端部）に位置するショット領域を最後に露光し、かつウエハステージＷＳＴ２上のウエハＷ２に対しては、基準マーク板ＦＭ２の近傍に位置する左上（＋Ｘ側かつ＋Ｙ側の端部）のショット領域から露光を開始し、左下（＋Ｘ側かつ−Ｙ側の端部）に位置するショット領域を最後に露光する。図１３には、ウエハＷ１に対する露光が終了し、段部２３ｂに庇部２３ａ’が接触又は近接状態で係合した両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のスクラム状態が示されている。また、図１４には、ウエハＷ２に対する露光が終了し、段部２３ｂ’に庇部２３ａが接触又は近接状態で係合した両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のスクラム状態が示されている。【００９４】
この変形例の露光装置では、主制御装置２０は、ウエハＷ１の露光が終了すると、図１３に示される状態から、庇部２３ａ’、段部２３ｂを近接又は接触させたスクラム状態を維持して、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を＋Ｙ方向に駆動して、液浸領域１４をウエハステージＷＳＴ１上からウエハステージＷＳＴ２上へ渡す。液浸領域１４を渡した直後、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１をローディングポジションに向かって移動を開始させると同時に、ウエハステージＷＳＴ２を駆動し、投影光学系ＰＬの直下に基準マーク板ＦＭ２を位置決めし、レチクルアライメントを行った後、基準マーク板ＦＭ２の近傍に位置するショット領域からウエハＷ２に対する露光を開始する。【００９５】
一方、主制御装置２０は、ウエハＷ２の露光が終了すると、図１４に示される状態から、前述と同様に、庇部２３ａを段部２３ｂ’に近接又は接触させたスクラム状態を維持して、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を＋Ｙ方向に駆動して、液浸領域１４をウエハステージＷＳＴ２上からウエハステージＷＳＴ１上へ渡す。液浸領域１４を渡した直後、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を第２ローディングポジションに向かって移動を開始させると同時に、ウエハステージＷＳＴ１を駆動し、投影光学系ＰＬの直下に基準マーク板ＦＭ１を位置決めし、レチクルアライメントを行った後、基準マーク板ＦＭ１の近傍に位置するショット領域からウエハＷ１に対する露光を開始する。【００９６】
以上の説明からもわかるように、この変形例では、一方のウエハステージ上のウエハの露光終了後、他方のウエハステージ上に搭載されている次の露光対象であるウエハの露光の開始を、基準マーク板上の基準マークの検出をも含めて、最も効率良く行うことができるように、すなわち、その他方のウエハステージの移動経路を最も短く、かつ所要時間が最短になるように、庇部２３ａ，２３ａ’、段部２３ｂ、２３ｂ’の配置、換言すればウエハステージＷＳ１，ＷＳＴ２のスクラム時のオフセット量が定められている。また、この変形例では、ウエハアライメントが終了した一方のウエハステージのアライメント終了位置と、両ウエハステージのスクラム開始位置とを、比較的近く設定できるので、アライメント終了位置の近傍でその一方のウエハステージを待機させておくことができ、露光終了後に直ちにスクラムを開始することができる。【００９７】
ただし、変形例では、ウエハＷ１，Ｗ２上のショット領域が偶数行存在するため、完全交互スキャンにより、ウエハＷ１，Ｗ２上の複数のショット領域の露光が行われる結果、Ｘ軸方向の位置に着目すると、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２は、露光開始時と露光終了時とでほぼ同一のＸ位置にある。すなわち、＋Ｘ側のショット領域から露光が開始された場合は、＋Ｘ側のショット領域で露光が終了し、−Ｘ側のショット領域から露光が開始された場合には、−Ｘ側のショット領域で露光が終了する。【００９８】
一方、ウエハＷ１，Ｗ２上のショット領域が奇数行存在する場合には、完全交互スキャンを採用すると、＋Ｘ側のショット領域から露光が開始される場合は、−Ｘ側のショット領域で露光が終了し、−Ｘ側のショット領域から露光が開始される場合は、＋Ｘ側のショット領域で露光が終了する。このように、ウエハＷ１、Ｗ２上のショット領域が奇数行存在する場合を含め、ウエハＷ１、Ｗ２のショット領域の露光順序が上記変形例と異なる場合には、その露光順序に応じて、次の露光対象であるウエハの露光の開始を、基準マーク板上の基準マークの検出をも含めて、最も効率良く行うことができるように、庇部などの受け渡し部の配置、さらに必要な場合には、基準マーク板のウエハステージ上の配置を定めることとしても良い。なお、本明細書では、上述したような次の露光対象であるウエハの露光の開始を最も効率良く行うことを可能にするスクラムを、最も効率の良いスクラムとも呼んでいる。【００９９】
なお、上記実施形態及び変形例では、反ミラー２７ｅ，２７ｆが設けられていることを前提として、ウエハステージＷＳＴ１の反射ミラー２７ｆとウエハステージＷＳＴ２の反射ミラー２７ｅとが、互いに接触しないように、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、Ｙ軸方向に関して一部接触又は近接させるＹ方向スクラムを採用したものである。ただし、Ｙ方向スクラムを採用した場合であっても、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のＹ軸方向の側面から機構部の一部が他の部分より外側に突出するような場合も考えられる。このような場合には、それらの突出部がもう一方のウエハステージの一部と接触しない程度の長さに、庇部等の受け渡し部の寸法を設定することが望ましい。【０１００】
なお、上記実施形態及び変形例では、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２に固定の庇部などの突出部が設けられる場合について説明したが、これに限らず、突出部は、可動であっても良い。この場合、例えば、突出部は、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のスクラム時のみほぼ水平状態とし、スクラム時以外、すなわち非使用時には、折り畳んでおくこととしても良い。【０１０１】
また、上記実施形態及び変形例では、庇部のＸ軸方向の幅は液浸領域よりも僅かに大きく設定するものとしたが、これに限らず、庇部のＸ軸方向の幅は、さらに大きく設定しても良い。【０１０２】
また、上記実施形態及び変形例では、液浸領域の受け渡し等の際に、２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２がスクラム状態を維持したまま、Ｙ軸方向に駆動される場合について説明したが、これに限らず、Ｙ軸方向のみでなくＸ軸方向にも駆動されることとしても良い。このようにすると、スクラム後に液浸領域が受け渡されたウエハステージに保持された次の露光対象のウエハに対する露光開始までの時間を、２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２がスクラム状態を維持したまま、Ｘ軸方向にのみ駆動される場合に比べて少しでも短縮できる。【０１０３】
なお、これまでの説明では、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴの少なくとも一方の、Ｙ軸方向の少なくとも一側に庇部などの突出部が形成される場合について説明した。しかし、例えば前述したような、両ステージのＸ軸方向の位置ずれ（オフセット）を伴うスクラム状態を、庇部などの突出部が存在しない２つのウエハステージ同士で採用しても良い。この場合、そのスクラム時のオフセット量は、上記変形例と同様に、最も効率の良いスクラムとなるように、設定しても良い。あるいは、例えば、一方のウエハステージＷＳＴ１の＋Ｙ側の側面の＋Ｘ側端部近傍に他の部分より突出した構成部品（以下、突起物と呼ぶ）があり、他方のウエハステージＷＳＴ２の−Ｙ側の側面の−Ｘ側端部近傍に上記構成部品をその内部に収容可能な凹部が形成されているような場合には、突起物と凹部とが対向するようにスクラム時のオフセット量を定めても良い。かかる場合には、突起物がウエハステージＷＳＴ２に接触して損傷するのを防止しつつ、液浸領域をウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ上で往来させることができる。この場合、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のスクラム状態では、その接触又は近接する部分（対向部分）のＸ軸方向の幅は、例えば液浸領域１４のＸ軸方向の幅より広く、少なくても１００ｍｍ程度（一例として８０ｍｍ〜１００ｍｍ）に設定される。【０１０４】
また、上記実施形態及び変形例では、前述したウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動経路を前提に、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、平面モータによりＸＹ平面に沿って独立して駆動されるものとした。しかし、必ずしも平面モータを用いる必要はなく、移動経路によっては、リニアモータなどを用いても良い。【０１０５】
また、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の露光時及びアライメント時の位置を、干渉計システム１１８で計測する場合について説明したが、干渉計システム１１８に代えて、若しくは加えて、例えば米国特許出願公開第２００８／０００８８４３号明細書などに記載されるように、ウエハテーブル（ウエハステージ）上に格子部（Ｙスケール、Ｘスケール）を設け、これに対向してＹヘッド、Ｘヘッドをウエハステージの外部に配置する構成のエンコーダシステム、又は例えば米国特許出願公開第２００６／０２２７３０９号明細書などに開示されているように、ウエハステージにエンコーダヘッドを設け、これに対向してウエハステージの外部に格子部（例えば２次元格子又は２次元に配置された１次元の格子部）を配置する構成のエンコーダシステムを採用しても良い。【０１０６】
なお、上記実施形態ではノズルユニット３２の下面と投影光学系ＰＬの先端光学素子の下端面とがほぼ同一面であるものとしたが、これに限らず、例えばノズルユニット３２の下面を、先端光学素子の射出面よりも投影光学系ＰＬの像面（すなわちウエハ）の近くに配置しても良い。すなわち、局所液浸装置８は上述の構造に限られず、例えば、欧州特許出願公開第１４２０２９８号明細書、米国特許出願公開第２００６／０２３１２０６号明細書、米国特許出願公開第２００５／０２８０７９１号明細書、米国特許第６，９５２，２５３号明細書などに記載されているものを用いることができる。また、例えば米国特許出願公開第２００５／０２４８８５６号明細書に開示されているように、先端光学素子の像面側の光路に加えて、先端光学素子の物体面側の光路も液体で満たすようにしても良い。さらに、先端光学素子の表面の一部（少なくとも液体との接触面を含む）又は全部に、親液性及び／又は溶解防止機能を有する薄膜を形成しても良い。なお、石英は液体との親和性が高く、かつ溶解防止膜も不要であるが、蛍石は少なくとも溶解防止膜を形成することが好ましい。【０１０７】
なお、上記実施形態では、液体として純水（水）を用いるものとしたが、本発明がこれに限定されないことは勿論である。液体としては、化学的に安定で、照明光ＩＬの透過率が高く安全な液体、例えばフッ素系不活性液体を使用しても良い。このフッ素系不活性液体としては、例えばフロリナート（米国スリーエム社の商品名）が使用できる。このフッ素系不活性液体は冷却効果の点でも優れている。また、液体として、照明光ＩＬに対する屈折率が、純水（屈折率は１．４４程度）よりも高い、例えば１．５以上の液体を用いても良い。この液体としては、例えば、屈折率が約１．５０のイソプロパノール、屈折率が約１．６１のグリセロール（グリセリン）といったＣ−Ｈ結合あるいはＯ−Ｈ結合を持つ所定液体、ヘキサン、ヘプタン、デカン等の所定液体（有機溶剤）、あるいは屈折率が約１．６０のデカリン（Decalin: Decahydronaphthalene）などが挙げられる。あるいは、これら液体のうち任意の２種類以上の液体が混合されたものであっても良いし、純水にこれら液体の少なくとも１つが添加（混合）されたものであっても良い。あるいは、液体としては、純水に、Ｈ+、Ｃｓ+、Ｋ+、Ｃｌ-、ＳＯ42-、ＰＯ42-等の塩基又は酸を添加（混合）したものであっても良い。更には、純水にＡｌ酸化物等の微粒子を添加（混合）したものであっても良い。これら液体は、ＡｒＦエキシマレーザ光を透過可能である。また、液体としては、光の吸収係数が小さく、温度依存性が少なく、投影光学系（先端の光学部材）、及び／又はウエハの表面に塗布されている感光材（又は保護膜（トップコート膜）あるいは反射防止膜など）に対して安定なものであることが好ましい。また、Ｆ２レーザを光源とする場合は、フォンブリンオイルを選択すれば良い。さらに、液体としては、純水よりも照明光ＩＬに対する屈折率が高い液体、例えば屈折率が１．６〜１．８程度のものを使用しても良い。液体として、超臨界流体を用いることも可能である。また、投影光学系ＰＬの先端光学素子を、例えば石英（シリカ）、あるいは、フッ化カルシウム（蛍石）、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、フッ化リチウム、及びフッ化ナトリウム等のフッ化化合物の単結晶材料で形成しても良いし、石英や蛍石よりも屈折率が高い（例えば１．６以上）材料で形成しても良い。屈折率が１．６以上の材料としては、例えば、国際公開第２００５／０５９６１７号パンフレットに開示される、サファイア、二酸化ゲルマニウム等、あるいは、国際公開第２００５／０５９６１８号パンフレットに開示される、塩化カリウム（屈折率は約１．７５）等を用いることができる。【０１０８】
また、上記実施形態で、回収された液体を再利用するようにしても良く、この場合は回収された液体から不純物を除去するフィルタを液体回収装置、又は回収管等に設けておくことが望ましい。【０１０９】
また、上記実施形態では、ステップ・アンド・スキャン方式等の走査型露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置に本発明を適用しても良い。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置、プロキシミティー方式の露光装置、又はミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明は適用することができる。【０１１０】
また、上記実施形態の露光装置における投影光学系は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでも良いし、投影光学系ＰＬは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。また、前述の照明領域及び露光領域はその形状が矩形であるものとしたが、これに限らず、例えば円弧、台形、あるいは平行四辺形などでも良い。【０１１１】
なお、上記実施形態の露光装置の光源は、ＡｒＦエキシマレーザに限らず、ＫｒＦエキシマレーザ（出力波長２４８ｎｍ）、Ｆ2レーザ（出力波長１５７ｎｍ）、Ａｒ2レーザ（出力波長１２６ｎｍ）、Ｋｒ2レーザ（出力波長１４６ｎｍ）などのパルスレーザ光源、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などの輝線を発する超高圧水銀ランプなどを用いることも可能である。また、ＹＡＧレーザの高調波発生装置などを用いることもできる。この他、例えば米国特許７，０２３，６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。【０１１２】
また、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。【０１１３】
また、例えば干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。【０１１４】
さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも本発明を適用することができる。【０１１５】
なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものではなく、ガラスプレート、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。【０１１６】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。【０１１７】
なお、上記実施形態で引用した露光装置などに関する全ての公報、国際公開パンフレット、米国特許出願公開明細書及び米国特許明細書の開示を援用して本明細書の記載の一部とする。【０１１８】
半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置（パターン形成装置）及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１９】
以上説明したように、本発明の露光装置及び露光方法は、液浸法により物体を露光するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの生産に適している。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【国際調査報告】
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