(57)【要約】  帯状の可撓性基材の上に少なくとも第１電極と、有機化合物層と、第２電極とを有する有機エレクトリニクス素子をロールツーロール方式により作製する際、第１電極、有機化合物層、第２電極のヒビワレ、変形がなく性能が安定した有機エレクトロニクス素子の製造方法であって、複数の層形成工程を有し、複数の層形成工程のうち少なくとも１つの層形成工程において、該層形成工程の前に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径に対して、該層形成工程の後に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径が、１．０％〜５０．０％の範囲で大きいことを特徴とする。
2009066718.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の可撓性基材の上に少なくとも第１電極と、単層又は多層からなる有機化合物層と、第２電極と、封止層とを順次有する複数の層から構成される有機エレクトロニクス素子の製造方法であって、複数の層形成工程を有し、複数の層形成工程のうち少なくとも１つの層形成工程において、該層形成工程の前に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径に対して、該層形成工程の後に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径が、１．０％〜５０．０％の範囲で大きいことを特徴とする有機エレクトロニクス素子の製造方法。
【請求項２】
前記有機エレクトロニクス素子が有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。
【請求項３】
前記軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群中の各搬送ローラーの直径は、搬送ローラー群中での誤差１％未満で同一であることを特徴とする請求の範囲第１項または第２項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。
【請求項４】
前記複数の層形成工程の全ての工程において、層形成工程の前に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径に対して、層形成工程の後に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径が、１．０％〜５０．０％の範囲で大きいことを特徴とする請求の範囲第１項〜第３項の何れか１項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。
【請求項５】
前記軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の直径が、５０ｍｍ以上であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第４項の何れか１項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機エレクトロニクス素子、特に有機エレクトロルミネッセンスパネル（以下、有機ＥＬパネルとも言う）の製造方法に関するものである。詳しくは帯状の可撓性基材の上に少なくとも第１電極と、発光層を含む多層からなる有機化合物層と、第２電極と封止層とを順次有する複数の層から構成される有機ＥＬパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機エレクトロルミネッセンス（以下有機ＥＬとも呼ぶ）素子、有機光電変換素子、電子写真用有機感光体、有機トランジスタ、をはじめとした、様々な有機エレクトロニクス素子の開発が検討されている。【０００３】
有機エレクトロニクス素子は、有機物を用いて電気的な動作を行う素子であり、省エネルギー、低価格、柔軟性といった特長を発揮できると期待され、従来のシリコンを主体とした無機半導体に替わる技術として注目されている。【０００４】
これらの有機エレクトロニクス素子は、有機物の非常に薄い膜を電極を介して電流を流すことで、発光したり、発電したり、帯電したり、電流や電圧を制御したりする素子である。【０００５】
中でも、有機ＥＬ素子や、有機光電変換素子は特に注目され、有機ＥＬ素子を使用した有機ＥＬパネルや、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素子、書き込み光源アレイといった用途や、有機光電変換素子を複数接続させた安価で大面積な太陽電池アレイとしての用途などが有望視されており、活発な研究開発が進められている。【０００６】
有機ＥＬ素子は、基板上に形成された第１電極（陽極又は陰極）と、その上に積層された有機発光物質を含有する有機化合物層（単層部又は多層部）即ち発光層と、この発光層上に積層された第２電極（陰極又は陽極）とを有する薄膜型の素子である。この様な有機ＥＬ素子に電圧を印加すると、有機化合物層に陰極から電子が注入され陽極から正孔が注入される。この電子と正孔が発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際にエネルギーを光として放出することにより発光が得られることが知られている。【０００７】
一方、有機光電変換素子は、ｐ型半導体とｎ型半導体を混合した有機化合物の薄膜からなる発電層を電極で挟持した構成で、光を照射すると、発電層で発生した電子と正孔が、それぞれ対となる電極まで輸送され、電流が流れることで発電する素子である。発電層は数十ｎｍ〜数百ｎｍ程度の厚さであるため、薄膜の有機光電変換素子を太陽電池として利用すると、小型化、軽量化が容易であるうえ、既存の無機半導体系の太陽電池に比べ、低照度環境や高温環境下でも比較的安定した出力を得られる太陽電池となる特徴を有する。【０００８】
これらの中でも特に、有機ＥＬ素子は薄膜型の素子であるため、１個又は複数個の有機ＥＬ素子を基板上に形成した有機ＥＬパネルをバックライト等の面光源として利用した場合には、面光源を備えた装置を容易に薄型にすることが出来る。又、画素としての有機ＥＬ素子を基板上に所定個数形成した有機ＥＬパネルをディスプレイパネルとして用いて表示装置を構成した場合には視認性が高い、視野角依存性がないなど、液晶表示装置では得られない利点がある。【０００９】
有機ＥＬパネルの有機化合物層を形成する際には、特開平９−１０２３９３号公報、特開２００２−１７０６７６号公報に記載されている様に、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ、ＰＶＤ、溶剤を用いた塗布法等の様々な方法が使用出来るが、これらの方法の中で、製造工程の簡略化、製造コストの低減、加工性の改善、バックライトや照明光源等のフレキシブルな大面積素子への応用等の観点からは塗布法等の湿式成膜法が有利であることが知られている。例えば、特開２００２−１７０６７６号公報に枚葉のガラス基板上にスピンコート法により有機化合物層を形成する方法が記載されている。特開２００３−１４２２６０号公報に枚葉の基板上にインクジェット方式で順次有機化合物層を形成する方法が記載されている。これらの方式は何れも基板として枚葉基板を使用しているため生産効率を上げるのに限度がある。これらの状況から生産効率が挙げられる可能性が高いロール状の基材を使用し基材上に有機ＥＬパネルを構成する各種層を形成た後、巻き取りロール状とする有機ＥＬパネルの製造方法（ロールツーロール方式）が検討されている。【００１０】
例えば、帯状の可撓性基材の上に、第１電極と、正孔輸送層と、発光層と、電子注入層と、第２電極と、封止層又は封止フィルムとの形成体をこの順番で有する有機ＥＬパネルを製造する時、第１電極形成から最終の巻き取るまでの間に、一旦巻き取る際、膜面への傷つき防止しのため巻き取り補助部材を付与し巻き取る有機ＥＬパネルの製造方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。【００１１】
しかしながら、特許文献１に記載の製造方法は、確かに膜面の傷つき防止には効果があるが製造ロットで有機ＥＬパネルを構成している第１電極の変形、第２電極の変形及び正孔輸送層、発光層、電子注入層でのヒビワレが発生し、有機ＥＬパネルの性能が安定しないことが判った。【００１２】
又、ロールツーロール方式で帯状の可撓性基材上に少なくとも第１電極と、第１有機化合物層と、第２有機化合物層と、第２電極と、封止層とを順次積層した有機ＥＬパネル製造する際、工程を短くするため、各第１電極と、第１有機化合物層と、第２有機化合物層と、第２電極と、封止層とを形成する工程の何れかの工程が終了した後、帯状の可撓性基材をロール状に巻き取り回収し、不活性ガス雰囲気にて保管する有機ＥＬパネルの製造方法が知られている（例えば、特許文献２参照。）。【００１３】
しかしながら、特許文献２に記載の製造方法は、工程を長くすることなく生産効率のよいロールツーロール方式であるが、製造ロットで有機ＥＬパネルを構成している第１電極の変形、第２電極の変形及び正孔輸送層、発光層、電子注入層でのヒビワレが発生し、有機ＥＬパネルの性能が安定しないことが判った。【００１４】
この様な状況から、帯状の可撓性基材の上に少なくとも第１電極と、発光層を含む多層からなる有機化合物層と、第２電極とを有する有機ＥＬパネルをロールツーロール方式により作製する際、有機ＥＬパネルを構成している第１電極、発光層を含む多層からなる有機化合物層と、第２電極にヒビワレ、変形がなく性能が安定した有機ＥＬパネルの製造方法の開発が望まれている。
【特許文献１】特開２００６−２９４５３６号公報
【特許文献２】特開２００７−１４９５８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は帯状の可撓性基材の上に少なくとも第１電極と、単層又は多層からなる有機化合物層と、第２電極とを有する有機エレクトロニクス素子をロールツーロール方式により作製する際、有機エレクトロニクス素子を構成している第１電極、有機化合物層と、第２電極にヒビワレ、変形がなく性能が安定した有機ＥＬパネルの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の上記目的は下記の構成により達成された。【００１７】
１．帯状の可撓性基材の上に少なくとも第１電極と、単層又は多層からなる有機化合物層と、第２電極と、封止層とを順次有する複数の層から構成される有機エレクトロニクス素子の製造方法であって、複数の層形成工程を有し、複数の層形成工程のうち少なくとも１つの層形成工程において、該層形成工程の前に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径に対して、該層形成工程の後に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径が、１．０％〜５０．０％の範囲で大きいことを特徴とする有機エレクトロニクス素子の製造方法。【００１８】
２．前記有機エレクトロニクス素子が有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする前記１に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。【００１９】
３．前記軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群中の各搬送ローラーの直径は、搬送ローラー群中での誤差１％未満で同一であることを特徴とする前記１または２に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。【００２０】
４．前記複数の層形成工程の全ての工程において、層形成工程の前に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径に対して、該層形成工程の後に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径が、１．０％〜５０．０％の範囲で大きいことを特徴とする前記１〜３の何れか１項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。【００２１】
５．前記軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の直径が、５０ｍｍ以上であることを特徴とする前記１〜４の何れか１項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。【００２２】
更に好ましい対応として、下記の構成が挙げられる。【００２３】
６．前記帯状の可撓性基材がプラスチックフィルムであることを特徴とする前記１〜５の何れか１項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。【００２４】
７．前記有機化合物層の塗布手段がスリットダイコーター方式であることを特徴とする前記１〜５の何れか１項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。【００２５】
７．前記有機化合物層の塗布手段がインクジェット方式であることを特徴とする前記１〜５の何れか１項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。【００２６】
８．前記有機化合物層の塗布手段がスプレー方式であることを特徴とする前記１〜５の何れか１項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。【００２７】
９．前記有機化合物層の塗布手段がカーテン方式であることを特徴とする前記１〜５の何れか１項に記載の有機エレクトロニクス素子の製造方法。【００２８】
発明者らは、上記課題を達成するために鋭意検討を加えた結果、帯状の可撓性基材の上に少なくとも第１電極と、発光層を含む多層からなる有機化合物層と、第２電極と封止層とを有する有機ＥＬパネルをロールツーロール方式により作製する場合、有機ＥＬパネルの製造ロット間で性能バラツキが発生していることが判った。【００２９】
発生した性能のバラツキを解析した結果、有機ＥＬパネルを構成している第１電極〜封止層の全ての層に発生しているのでなく比較的剛性の高い層にヒビワレ、変形が発生していることが判り、これにより性能バラツキ生じていることが判明した。【００３０】
何故、ヒビワレ、変形が発生しているかを更に検討した結果、ロールツーロール方式では帯状の可撓性基材を搬送して層形成を行う場合、層形成工程の前および後に軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群（以下、アキュムレータの搬送ローラー群または単に搬送ローラー群とも言う）が使用されている。搬送ローラー群を通過する際、帯状の可撓性基材の上に形成された層には曲げ応力（圧縮応力、引張応力）が掛けられる。帯状の可撓性基材の上に順次発光層を含む多層からなる有機化合物層が積層されるに従って帯状の可撓性基材の剛性が高くなる。このため搬送ローラー群を通過する際、下層は上層に比べ掛けられる圧縮応力が高くなり、又、上層は下層に比べ掛けられる引張応力が高くなる。この結果、ヒビワレ、変形が発生すると推定した。これらのヒビワレ、変形の発生を防止するには、帯状の可撓性基材の上に積層される層の増加に伴い搬送ローラー群を通過する際、積層された層に掛かる曲げ応力を順次緩和することが効果的であることが判明し本発明に至った次第である。【００３１】
上述した効果は、有機ＥＬパネルに限った話ではなく、可撓性基材の上に形成された有機エレクトロニクス素子に共通の課題を解決するものであり、汎用性が高く、実用上有用な有機エレクトロニクス素子の製造方法として極めて効果的な発明である。
【発明の効果】
【００３２】
帯状の可撓性基材の上に少なくとも第１電極と、発光層を含む多層からなる有機化合物層と、第２電極とを有する有機ＥＬパネルをロールツーロール方式により作製する際、有機ＥＬパネルを構成している第１電極、発光層を含む多層からなる有機化合物層と、第２電極にヒビワレ、変形がなく性能が安定した有機ＥＬパネルの製造方法を提供することが出来た。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】照明用に使用する有機ＥＬパネルの一例を示す概略図である。
【図２】図１に示す有機ＥＬパネルの製造工程の一例を示す模式図である。
【図３】図１に示す有機ＥＬパネルの製造工程の他の一例を示す模式図である。
【図４】図２のＸで示される部分の拡大概略図である。
【符号の説明】
【００３４】
１  有機ＥＬパネル
１０１  可撓性基材
１０２  陽極（第１電極）
１０３  正孔輸送層
１０４  発光層
１０５  陰極バッファ層（電子注入層）
１０６  陰極（第２電極）
１０７  接着剤層
１０８  封止部材
２ａ、２ｂ  製造工程
２０１、２０１′  供給工程
２０２、２０２′  第１電極形成工程
２０２ａ、２０３ａ、２０５ｂ、２０６ａ、２０２′ａ、２０５′ｂ、２０６′ａ  蒸着装置
２０３、２０３′  正孔輸送層形成工程
２０４、２０４′  発光層形成工程
２０４ｂ、２０４′ａ、２０３′ｂ  塗布部
２０５、２０５′  陰極バッファ層（電子注入層）形成工程
２０６、２０６′  第２電極形成工程
２０７、２０７′  封止工程
２０８、２０８′  断裁工程
θ  角度
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
本発明の実施の形態を図１〜図４を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。【００３６】
図１は照明用に使用する有機ＥＬパネルの一例を示す概略図である。図１（ａ）は有機ＥＬパネルの一例を示す概略斜視図を示す。図１（ｂ）は図１（ａ）のＥ−Ｅ′に沿った概略断面図である。図１（ｃ）は図１（ａ）のＦ−Ｆ′に沿った概略断面図である。【００３７】
図中、１は有機ＥＬパネルを示す。有機ＥＬパネル１は、可撓性基材１０１上に順次、陽極（第１電極）１０２と、正孔輸送層１０３と、発光層１０４と、陰極バッファ層（電子注入層）１０５と、陰極（第２電極）１０６と、接着剤層１０７と、封止部材１０８とを有している。接着剤層１０７と、封止部材１０８とにより封止層を形成している。有機ＥＬパネル１は、陽極（第１電極）１０２の取り出し電極１０２ａと、陰極（第２電極）１０６の取り出し電極１０６ａの端部を除いて接着剤層１０７により封止された密着封止構造となっている。陽極（第１電極）１０２と可撓性基材１０１との間にガスバリア膜（不図示）を設けても構わない。本発明では第２電極の上を封止部材１０８で封止された状態を有機ＥＬパネルと言い、第２電極までが形成された状態を有機ＥＬ素子と言う。【００３８】
本図に示す有機ＥＬパネルの層構成は一例を示したものであるが、陽極（第１電極）と陰極（第２電極）との間の他の代表的な層構成としては次の構成が挙げられる。【００３９】
（１）陽極（第１電極）／有機層（発光層）／陰極（第２電極）
（２）陽極（第１電極）／有機層（発光層）／電子輸送層／陰極（第２電極）
（３）陽極（第１電極）／正孔輸送層／有機層（発光層）／正孔阻止層／電子輸送層／陰極（第２電極）
（４）陽極（第１電極）／正孔輸送層（正孔注入層）／有機層（発光層）／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファ層（電子注入層）／陰極（第２電極）
（５）陽極（第１電極）／陽極バッファ層（正孔注入層）／正孔輸送層／有機層（発光層）／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファ層（電子注入層）／陰極（第２電極）
有機ＥＬパネルを構成している各層については後に説明する。【００４０】
図２は図１に示す有機ＥＬパネルの製造工程の一例を示す模式図である。【００４１】
図中、２ａは有機ＥＬパネルの製造工程を示す。製造工程２ａは、帯状の可撓性基材の供給工程２０１と、第１電極形成工程２０２と、正孔輸送層形成工程２０３と、発光層形成工程２０４と、陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５と、第２電極形成工程２０６と、封止工程２０７と、断裁工程２０８とを有している。供給工程２０１からは帯状の可撓性基材３が繰り出され供給される。３０１は供給装置に準備されたロール状の帯状の可撓性基材を示す。【００４２】
供給工程２０１は、ロール状に巻き取られた帯状の可撓性基材の繰り出し装置（不図示）を用いており連続的に、次工程の第１電極形成工程２０２に帯状の可撓性基材３を搬送ローラー２０１ｂを介して繰り出す様になっている。帯状の可撓性基材３には予め第１電極を形成する位置を決めるためのアライメントマーク（不図示）を付けておくことが好ましい。【００４３】
第１電極形成工程２０２は蒸発源容器２０２ｂを有する蒸着装置２０２ａとアキュームレータ２０２ｃとを用いている。アキュームレータ２０２ｃは、下側の複数の搬送ローラー２０２ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０２ｃ２とを有し、搬送ローラーの軸間距離が移動して搬送長を調整することにより供給工程２０１との速度調整のために配設されている。【００４４】
これらのアキュームレータの下側の複数の搬送ローラーおよび上側の複数の搬送ローラーを合わせて本発明ではアキュームレータの搬送ローラー群或いは単に搬送ローラー群と呼ぶ。そして本発明は層形成工程の前後における搬送ローラー群の直径を規定した発明である。【００４５】
第１電極形成工程２０２では供給工程２０１から連続的に供給されてくる帯状の可撓性基材３に付けられているアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って蒸着装置２０２ａで決められた位置に取り出し電極を有する第１電極（不図示、図１の第１電極１０２に相当する）をマスクパターン成膜する。第１電極の厚さは、１００ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。【００４６】
正孔輸送層形成工程２０３は巻き取り部２０３ｄを有し、蒸発源容器２０３ｂを有する蒸着装置２０３ａと、アキュームレータ２０３ｃと、巻き取り装置（不図示）とを用いている。アキュームレータ２０３ｃは下側の複数の搬送ローラー２０３ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０３ｃ２とを有し、第１電極形成工程２０２との速度調整のために配設されている。正孔輸送層形成工程２０３では、第１電極形成工程２０２から連続的に送られてくる帯状の可撓性基材３の上に付けられているアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って蒸着装置２０３ａで帯状の可撓性基材３に形成された取り出し電極を有する第１電極の取り出し電極（不図示、図１の第１電極１０２の取り出し電極１０２ａに相当する）を除き第１電極の上に正孔輸送層（不図示、図１の正孔輸送層１０３に相当する）がマスクパターン成膜される。正孔輸送層の厚さは、５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。【００４７】
巻き取り部２０３ｄは巻き取り装置（不図示）とアキュームレータ２０３ｄ１とを用いている。アキュームレータ２０３ｄ１は下側の複数の搬送ローラー２０３ｄ１１と上側の複数の搬送ローラー２０３ｄ１２とを有し、蒸着装置２０３ａでの正孔輸送層の形成速度と巻き取り装置（不図示）での巻き取り速度との速度調整のために配設されている。正孔輸送層が形成された後は巻き取り装置（不図示）により搬送ローラー２０３ｄ２を介して一旦巻き取り一次保管することが好ましい。この後、発光層形成工程２０４に送られる。３ａは巻き取り装置（不図示）により巻き取られロール状となった正孔輸送層までが積層された帯状の可撓性基材を示す。【００４８】
供給工程２０１〜正孔輸送層形成工程２０３は真空環境下で連続して行うことが必要である。連続して行うとは、供給工程２０１〜正孔輸送層形成工程２０３の各工程から次の工程に移る時も真空環境下に置かれていることを言う。又、第１電極形成工程２０２と正孔輸送層形成工程２０３とは材料が異なることに伴い真空環境が異なる場合は別の真空環境に設定出来る様にしてもよいし、勿論、同じ装置の中で行っても構わない。【００４９】
尚、本図では第１電極形成工程２０２に蒸着装置を使用し第１電極をドライ方式の蒸着法で形成する場合を示してあるが、形成方法については、特に限定はなく、例えばスパッタリング法などを用いることが出来る。又、正孔輸送層形成工程２０３に蒸着装置を使用し正孔輸送層を蒸着法で形成する場合を示してあるが、形成方法については特に限定はなく、例えばインクジッットによる湿式方式で形成することも可能である。又、本図では正孔輸送層が形成された段階で一旦巻き取り保管する場合を示しているが、連続して発光層形成工程２０４に搬送することも可能である。【００５０】
発光層形成工程２０４は、繰り出し部２０４ａと、塗布部２０４ｂと、乾燥部２０４ｃと、巻き取り部２０４ｄとを有している。発光層形成工程２０４では、塗布部２０４ｂで正孔輸送層までが形成された帯状の可撓性基材３ａの取り出し電極部を除き正孔輸送層の上に発光層形成塗布液が塗布され、乾燥部２０４ｃを経て発光層が形成された状態で巻き取り部２０４ｄで搬送ローラー２０４ｄ２を介して一旦巻き取られ保管される。尚、本図の発光層形成工程２０４は大気圧環境下に配設されている。【００５１】
繰り出し部２０４ａでは、正孔輸送層までが既に形成され、巻き芯に巻き取られたロール状に巻かれた帯状の可撓性基材３ａが搬送ローラー２０４ａ１を介して供給される様になっている。繰り出し部２０４ａと塗布部２０４ｂとの間には必要に応じてアキュームレータ２０４ａ１と帯電防止手段２０４ａ２とを配設することが可能である。【００５２】
アキュームレータ２０４ａ１は下側の複数の搬送ローラー２０４ａ１１と上側の複数の搬送ローラー２０４ａ１２とを有し、塗布部２０４ｂでの速度調整のために配設されている。帯電防止手段２０４ａ２は、非接触式帯電防止装置２０４ａ２１と接触式帯電防止装置２０４ａ２２とを有している。非接触式帯電防止装置２０４ａ２１としては例えば、非接触式のイオナイザーが挙げられる。イオナイザーの種類については特に制限はなく、イオン発生方式はＡＣ方式、ＤＣ方式どちらでも構わない。ＡＣタイプ、ダブルＤＣタイプ、パルスＡＣタイプ、軟Ｘ線タイプが用いることが出来るが、特に精密除電の観点から、ＡＣタイプが好ましい。ＡＣタイプの使用の際に必要となる噴射気体については、空気かＮ2が用いられるが、十分に純度が高められたＮ2で行うことが好ましい。又、インラインで行う観点より、ブロワータイプもしくはガンタイプより選ばれる。【００５３】
接触式帯電防止装置２０４ａ２２としては、除電ロール又はアース接続した導電性ブラシを用いて行われる。除電器としての除電ロールは、接地されており、除電された表面に回転自在に接触して表面電荷を除去する。この様な除電ロールとしては、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス等の金属製ロールの他に、カーボンブラック、金属粉、金属繊維等の導電性材料を混合した弾性のあるプラスチックやゴム製のロールが使用される。特に、帯状の可撓性基材３ａとの接触をよくするため、弾性のあるものが好ましい。アース接続した導電性ブラシとは、一般には、線状に配列した導電性繊維からなるブラシ部材や線状金属製のブラシを有する除電バー又は除電糸構造のものを挙げることが出来る。除電バーについては、特に限定はないが、コロナ放電式のものが好ましく用いられ、例えば、キーエンス社製のＳＪ−Ｂが用いられる。除電糸についても、特に限定はないが、通常フレキシブルな糸状のものが好ましく用いられ、例えば、ナスロン社製の１２／３００×３をその一例として挙げることが出来る。【００５４】
非接触式帯電防止装置２０４ａ２１は帯状の可撓性基材３ａの上に形成されている正孔輸送層面側に使用し、接触式帯電防止装置２０４ａ２２は帯状の可撓性基材３ａの裏面側に使用することが好ましい。【００５５】
塗布部２０４ｂは、湿式塗布機２０４ｂ１と帯状の可撓性基材３ａを保持するバックアップロール２０４ｂ２とを用いている。湿式塗布機２０４ｂ１による発光層形成用塗布液は、帯状の可撓性基材３ａに付けられているアライメントマーク（不図示）をアライメントマーク検出機（不図示）で検出し、第１電極（陽極）の取り出し電極（不図示、図１の取り出し電極１０２ａに相当する）を除いて既に形成されている正孔輸送層（不図示、図１の正孔輸送層１０３に相当する）の上に塗布される。使用可能な湿式塗布機としては、例えば、ダイコート方式、スクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式、インクジェット方式、メイヤーバー方式、キャップコート法、スプレー塗布法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法等の塗布機の使用が可能である。これらの湿式塗布機の使用は発光層の材料に応じて適宜選択することが可能となっている。尚、本図は照明用に使用する有機ＥＬパネルを１例にしているため湿式塗布機２０４ｂ１は全面塗工タイプとなっているが、有機ＥＬパネルがフルカラー方式の場合は、パターン化されて形成されている第１電極（陽極）のパターンに合わせて第１電極（陽極）上に発光層をパターン塗布するため、例えば、インクジェット方式、フレキソ印刷方式、オフセット印刷方式、グラビア印刷方式、スクリーン印刷方式、マスクを用いたスプレー塗布方式等に使用する各種塗布装置を使用することが可能である。【００５６】
乾燥部２０４ｃは乾燥装置２０４ｃ１と加熱処理装置２０４ｃ２とを有しており、発光層（不図示、図１の発光層１０４に相当する）を帯状の可撓性基材３ａの裏面側から裏面伝熱方式で加熱する様になっている。加熱処理装置２０４ｃ２における発光層の加熱処理条件として、発光層の平滑性向上、残留溶媒の除去、発光層の硬化等を考慮し、発光層のガラス転移温度に対して−３０〜＋３０℃、且つ、発光層を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。【００５７】
発光層が多層の場合は、積層する数に合わせて塗布・乾燥部のユニットを配設する必要がある。例えば、発光層を多層にすることで白色素子の作製が可能である。本発明において、発光層とは青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を指す。発光層を積層する場合の積層順としては、特に制限はなく、又各発光層間に非発光性の中間層を有していてもよい。本発明においては、少なくとも１つの青発光層が、全発光層中最も陽極に近い位置に設けられていることが好ましい。又、発光層を４層以上設ける場合には、陽極に近い順から、例えば青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層、青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層／緑色発光層、青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層／緑色発光層／赤色発光層のように青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を順に積層することが、輝度安定性を高める上で好ましい。【００５８】
発光層の膜厚の総和は特に制限はないが、膜の均質性、発光に必要な電圧等を考慮し、通常２ｎｍ〜５μｍ、好ましくは２ｎｍ〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。更に１０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあるのが好ましい。膜厚を２０ｎｍ以下にすると電圧面のみならず、駆動電流に対する発光色の安定性が向上する効果があり好ましい。個々の発光層の膜厚は、好ましくは２ｎｍ〜１００ｎｍの範囲で選ばれ、２ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあるのが更に好ましい。青、緑、赤の各発光層の膜厚の関係については、特に制限はないが、３発光層中、青発光層（複数層ある場合はその総和）が最も厚いことが好ましい。【００５９】
乾燥部２０４ｃと、巻き取り部２０４ｄとの間に帯電防止手段２０４ｃ３を配設することが好ましい。帯電防止手段２０４ｃ３は帯電防止手段２０４ａ２と同じ種類の帯電防止装置である。【００６０】
巻き取り部２０４ｄでは、アキュームレータ２０４ｄ１を有し、巻き取り装置により発光層までが形成された帯状の可撓性基材３ａが搬送ローラー２０４ｄ２を介してロール状に巻き取られ保管される。この後、電子注入層形成工程２０５へ送られる。アキュームレータ２０４ｄ１は下側の複数の搬送ローラー２０４ｄ１１と上側の複数の搬送ローラー２０４ｄ１２とを有し、塗布部２０４ｂと巻き取り部２０４ｄでの速度調整のために配設されている。【００６１】
陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５は、ロール状に巻き取られた発光層までが形成された帯状の可撓性基材３ａの繰り出し部２０５ａを有し、蒸発源容器２０５ｃを有する蒸着装置２０５ｂと、アキュームレータ２０５ｄとを用いている。アキュームレータ２０５ｄは、下側の複数の搬送ローラー２０５ｄ１と上側の搬送ローラー２０５ｄ２とを有し、繰り出し部２０５ａと蒸着装置２０５ｂとの間に配設されており、繰り出し部２０５ａと蒸着装置２０５ｂとの速度調整のために配設されている。電子注入層形成工程２０５では繰り出し部２０５ａから搬送ローラー２０５ａ１を介して連続的に供給されてくる発光層までが形成された帯状の可撓性基材３ａに付けられているアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って蒸着装置２０５ｂで決められた位置に取り出し電極（不図示、図１の取り出し電極１０２ａに相当する）を除き、既に形成されている発光層の上に電子注入層（不図示、図１の電子注入層１０５に相当する）をマスクパターン成膜する。電子注入層の厚さは、０．１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましい。【００６２】
第２電極形成工程２０６は、蒸発源容器２０６ｂを有する蒸着装置２０６ａとアキュームレータ２０６ｃとを用いている。アキュームレータ２０６ｃは、下側の搬送ローラー２０６ｃ１と上側の搬送ローラー２０６ｃ２とを有し、電子注入層形成工程２０５と第２電極形成工程２０６との間に配設されており、陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５との速度調整のために配設されている。【００６３】
第２電極形成工程２０６では陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５から連続的に供給されてくる陰極バッファ層（電子注入層）までが既に形成された帯状の可撓性基材３ａに付けられているアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って蒸着装置２０６ａで決められた位置に、取り出し電極（不図示、図１の取り出し電極１０６ａに相当する）を有する第２電極（陰極）（不図示、図１の第２電極（陰極）１０６に相当する）を、既に形成されている陰極バッファ層（電子注入層）（不図示、図１の電子注入層１０５に相当する）の上にマスクパターン成膜する。第２電極（陰極）としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。この段階で、基材／第１電極（陽極）／正孔輸送層／発光層／陰極バッファ層（電子注入層）／第２電極（陰極）の構成を有する有機ＥＬ素子が出来上がる。【００６４】
本図では、陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５と第２電極（陰極）形成工程２０６が蒸着装置の場合を示したが、陰極バッファ層（電子注入層）及び第２電極（陰極）の形成方法については、特に限定はなく、例えばスパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法などを用いることが出来る。【００６５】
封止工程２０７は封止部材供給工程２０７ｂを有し、封止剤塗設装置２０７ａと貼合装置２０７ｃと、アキュームレータ２０７ｅとを用いている。封止部材供給工程２０７ｂからは封止部材２０７ｂ１が送られてくる。アキュームレータ２０７ｅは下側の複数の搬送ローラー２０７ｅ１と上側の複数の搬送ローラー２０７ｅ２とを有し、第２電極（陰極）形成工程２０６との速度調整のために配設されている。【００６６】
尚、封止部材２０７ｂ１にも第２電極までが既に形成された帯状の可撓性基材３ａに付けられているアライメントマーク（不図示）と同じ位置にアライメントマーク（不図示）が付けられている。【００６７】
封止工程２０７では、先ず、封止部材２０７ｂ１のアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って封止剤塗設装置２０７ａにより、封止部材２０７ｂ１の有機ＥＬ素子の上部と周囲の取り出し電極（不図示、図１の取り出し電極１０２ａ及び取り出し電極１０６ａに相当する）を除いた領域に封止剤が塗設される。【００６８】
その後、第２電極までが既に形成された帯状の可撓性基材３ａに付けられているアライメントマーク（不図示）と、封止剤が塗設された封止部材２０７ｂ１のアライメントマーク（不図示）とを合わせ、貼合装置２０７ｃにより有機ＥＬ素子を密着封止する。この段階で有機ＥＬパネルが作製される。この段階で有機ＥＬパネルが作製される。この段階で作製された有機ＥＬパネルは複数個が帯状の可撓性基材３ａに連続的に繋がっているため断裁工程２０８で個別の有機ＥＬパネルに断裁される。【００６９】
断裁工程２０８は断裁装置２０８ａとアキュームレータ２０８ｂと回収箱２０８ｃとを用いている。アキュームレータ２０８ｂは下側の複数の搬送ローラー２０８ｂ１と上側の複数の搬送ローラー２０８ｂ２とを有し、封止工程２０７との速度調整のために配設されている。断裁装置２０８ａでは複数の有機ＥＬパネルが形成されている帯状の可撓性基材３ａに付けられているアライメントマーク（不図示）又は封止部材２０７ｂ１のアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って打ち抜き断裁が行われ個別の有機ＥＬパネル４として回収箱２０８ｃに回収される。【００７０】
本図は、第１電極形成〜正孔輸送層形成と、発光層形成と、電子注入層形成〜断裁との３工程に分割した場合を示しているが、第１電極形成〜断裁までを繋げて連続して行うことも可能である。断裁された有機ＥＬパネルは図１で示した有機ＥＬパネルと同じ構成を有している。【００７１】
尚、本図では発光層形成を湿式方式で行い、他の層は蒸着方式（ドライ方式）の場合で有機ＥＬパネルを製造する方法を示したが、第１電極と第２電極を除き、陰極バッファ層（電子注入層）までを湿式方式で行うことも可能である。その場合は、第１電極を蒸着方式（ドライ方式）で形成した後、本図に示す発光層形成工程２０４と同じ工程を使用し、正孔輸送層、発光層、陰極バッファ層（電子注入層）までを順次積層し第２電極を蒸着方式（ドライ方式）で形成し有機ＥＬ素子を作製した後、本図に示す封止工程２０７と同じ工程で密着封止し、本図に示す断裁工程２０８と同じ工程で密着封止した個別の有機ＥＬパネルを製造することが可能である。【００７２】
本図では、代表的な搬送ローラーを示したが、工程の配置、搬送方法によっては勿論本図に示す限りではなく、搬送ローラーは必要に応じて工程全体に使用することが可能である。【００７３】
本発明では、図２に示される有機ＥＬパネルの製造工程の複数の層形成工程のうち少なくとも１つの工程において、層形成工程の前に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径に対して、該層形成工程の後に用いられる軸間距離が移動して搬送長を調整する搬送ローラー群の平均直径が、１．０％〜５０．０％の範囲で大きいことが特徴であり、好ましくは１０．０％〜５０．０％の範囲である。【００７４】
搬送ローラー群の直径が層が形成される前後で大きくなる割合が１．０％未満では、搬送ローラーを通過する際、帯状の可撓性基材の上に形成された層には曲げ応力（圧縮応力、引張応力）が掛けられる。帯状の可撓性基材の上に順次発光層を含む多層からなる有機化合物層が積層されるに従って帯状の可撓性基材の剛性が高くなる。このため搬送ローラーを通過する際、下層は上層に比べ掛けられる圧縮応力が高くなり、又、上層は下層に比べ掛けられる引張応力が高くなる。この結果、ヒビワレ、変形が発生するため好ましくない。ヒビワレ、変形が発生することでリーク電流（ショートが発生に伴い電流が流れる）ダークスポット（スポット状に非発光部）の故障が発生する。【００７５】
搬送ローラー群の直径が層が形成される前後で大きくなる割合が５０．０％を超えた場合、装置が大型になり高価になるとともに作業性、スペース効率が低下するので好ましくない。本図で搬送ローラー群の直径は、層が形成される前後で１．０％〜５０．０％大きくなっているとは、具体的には次のことを意味する。【００７６】
例えば、正孔輸送層形成工程２０３に用いたアキュームレータ２０３ｃの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０３ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０３ｃ２）の直径は、供給工程２０１の第１電極形成工程２０２に用いたアキュームレータ２０２ｃの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０２ｃ１、上側の複数の搬送ローラー２０２ｃ２）の直径よりも大きくなっている。【００７７】
正孔輸送層形成工程２０３の巻き取り部２０３ｄに用いたアキュームレータ２０３ｄ１の搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０３ｄ１１と上側の複数の搬送ローラー２０３ｄ１２）の直径は、正孔輸送層形成工程２０３に用いたアキュームレータ２０３ｃの下側の複数の搬送ローラー２０３ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０３ｃ２との直径よりも大きくなっている。【００７８】
発光層形成工程２０４の巻き取り部２０４ｄで使用しているアキュームレータ２０４ｄ１の搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０４ｄ１１と上側の複数の搬送ローラー２０４ｄ１２と搬送ローラー２０４ｄ２）の直径は、繰り出し部２０４ａのアキュームレータ２０４ａ１の搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０４ａ１１と上側の複数の搬送ローラー２０４ａ１２）の直径よりも大きくなっている。【００７９】
第２電極形成工程２０６で使用しているアキュームレータ２０６ｃ搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０６ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０６ｃ２）の直径は、陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５の繰り出し部２０５ａで使用しているアキュームレータ２０５ｄの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０５ｄ１と上側の複数の搬送ローラー２０５ｄ２）の直径よりも大きくなっている。【００８０】
封止工程２０７で使用しているアキュームレータ２０７ｅの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０７ｅ１と上側の複数の搬送ローラー２０７ｅ２）の直径は、第２電極形成工程２０６で使用しているアキュームレータ２０６ｃの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０６ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０６ｃ２）の直径よりも大きくなっている。【００８１】
断裁工程２０８に使用されているアキュームレータ２０８ｂの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０８ｂ１と上側の複数の搬送ローラー２０８ｂ２）の直径は封止工程２０７で使用しているアキュームレータ２０７ｅの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０７ｅ１と上側の複数の搬送ローラー２０７ｅ２）の直径よりも大きくなっている。【００８２】
なお、本発明においては、複数の層形成工程のうち少なくとも１つの工程において、層形成工程の前に用いられるアキュームレータの搬送ローラー群の平均直径に対して、該層形成工程の後に用いられるアキュームレータの搬送ローラー群の平均直径が、１．０％〜５０．０％の範囲で大きいことが特徴であるが、本発明においては全ての層形成工程においてこの条件を満たすことが最も好ましい。【００８３】
又、新たな層が形成されるまでの間に使用される、搬送ローラー群の直径は同一であることが好ましい。尚、同一とは搬送ローラー群の直径の公差が−０．５％〜＋０．５％を含む範囲とする。【００８４】
帯状の可撓性基材の供給工程２０１と、第１電極形成工程２０２と、正孔輸送層形成工程２０３と、発光層形成工程２０４と、陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５と、第２電極形成工程２０６と、封止工程２０７と、断裁工程２０８とで使用されている全ての搬送ローラーの直径は、塗布済みの前記第１電極、前記正孔輸送層、前記発光層、前記電子注入層のヒビワレ等を考慮し５０ｍｍ以上であることが好ましい。搬送ローラーの直径の上限は３００ｍｍであることが好ましい。【００８５】
図３は有機ＥＬパネルの製造工程の他の一例を示す模式図である。【００８６】
図中、２ｂは有機ＥＬパネルの製造工程を示す。製造工程２ｂは、帯状の可撓性基材の供給工程２０１′と、第１電極形成工程２０２′と、正孔輸送層形成工程２０３′と、発光層形成工程２０４′と、陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５′と、第２電極形成工程２０６′と、封止工程２０７′と、断裁工程２０８′とを有している。供給工程２０１′からは帯状の可撓性基材３′が繰り出され供給される。３０１′は供給装置に準備されたロール状の帯状の可撓性基材を示す。【００８７】
供給工程２０１′は、ロール状に巻き取られた帯状の可撓性基材の繰り出し装置（不図示）用いており連続的に、次工程の第１電極形成工程２０２′に帯状の可撓性基材３′を搬送ローラー２０１′ｂを介して繰り出す様になっている。帯状の可撓性基材３′には予め第１電極を形成する位置を決めるためのアライメントマーク（不図示）を付けておくことが好ましい。【００８８】
第１電極形成工程２０２′は巻き取り部２０２′ｄを有しており、蒸発源容器２０２′ｂを有する蒸着装置２０２′ａとアキュームレータ２０２′ｃとを用いている。アキュームレータ２０２′ｃは下側の複数の搬送ローラー２０２′ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０２′ｃ２とを有し、供給工程２０１′との速度調整のために配設されている。巻き取り部２０２′ｄは巻き取り装置（不図示）とアキュームレータ２０２′ｄ１とを用いている。アキュームレータ２０２′ｄ１は下側の複数の搬送ローラー２０２′ｄ１１と上側の複数の搬送ローラー２０２′ｄ１２とを有し、蒸着装置２０２′ａでの第１電極の形成速度と巻き取り装置（不図示）での巻き取り速度との速度調整のために配設されている。【００８９】
第１電極形成工程２０２′では供給工程２０１′から連続的に供給されてくる帯状の可撓性基材３′に付けられているアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って蒸着装置２０２′ａで決められた位置に取り出し電極を有する第１電極（不図示、図１の第１電極１０２に相当する）をマスクパターン成膜する。第１電極の厚さは、１００ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。第１電極が形成された後は巻き取り装置（不図示）により搬送ローラー２０２′ｄ２を介して一旦巻き取り一次保管することが好ましい。この後、正孔輸送層形成工程２０３′に送られる。３ａ′は巻き取り装置（不図示）により巻き取られロール状となった第１電極までが積層された帯状の可撓性基材を示す。【００９０】
供給工程２０１′と第１電極正形成工程２０２′は真空環境下で連続して行うことが必要である。連続して行うとは、供給工程２０１′と第１電極正形成工程２０２′の巻き取り部までが真空環境下に置かれていることを言う。尚、本図では第１電極形成工程を蒸着法で形成する場合を示してあるが、形成方法については、特に限定はなく、例えばスパッタリング法などを用いることが出来る。【００９１】
正孔輸送層形成工程２０３′は、繰り出し部２０３′ａと、塗布部２０３′ｂと、乾燥部２０３′ｃとを有している。正孔輸送層形成工程２０３′では、第１電極までが形成された帯状の可撓性基材３′ａの第１電極の取り出し電極部（不図示、図１の第１電極１０２の取り出し電極１０２ａに相当する）を除き第１電極の上に正孔輸送層形成用塗布液が塗布され、乾燥部２０３′ｃを経て正孔輸送層（不図示、図１の正孔輸送層１０３に相当する）が形成され引き続き発光層形成工程２０４′に搬送される様になっている。尚、必要に応じて一旦巻き取り、保管することも可能である。尚、本図の正孔輸送層形成工程２０３′は大気圧環境下に配設されている。【００９２】
繰り出し部２０３′ａでは、第１電極までが既に形成され、巻き芯に巻き取られたロール状に巻かれた帯状の可撓性基材３ａ′が搬送ローラー２０３′ａ１を介して供給される様になっている。繰り出し部２０３′ａと塗布部２０３′ｂとの間には必要に応じてアキュームレータ２０３′ａ２と帯電防止手段２０３′ａ３とを配設することが可能である。アキュームレータ２０３′ａ２は下側の複数の搬送ローラー２０３′ａ２１と上側の複数の搬送ローラー２０３′ａ２２とを有し、塗布部２０３′ｂでの速度調整のために配設されている。帯電防止手段２０３′ａ３は、非接触式帯電防止装置２０３′ａ３１と接触式帯電防止装置２０３′ａ３２とを有している。非接触式帯電防止装置２０３′ａ３１としては図２に示す非接触式帯電防止装置２０４ａ２１と同じものを使用することが可能である。接触式帯電防止装置２０３′ａ３２としては図２に示す接触式帯電防止装置２０４ａ２２と同じものを使用することが可能である。【００９３】
非接触式帯電防止装置２０３′ａ３１は帯状の可撓性基材３ａ′の上に形成されている正孔輸送層面側に使用し、接触式帯電防止装置２０３′ａ３２は帯状の可撓性基材３ａ′の裏面側に使用することが好ましい。【００９４】
塗布部２０３′ｂは、湿式塗布機２０３′ｂ１と帯状の可撓性基材３ａ′を保持するバックアップロール２０３′ｂ２とを用いている。湿式塗布機２０３′ｂ１による正孔輸送層形成用塗布液は、帯状の可撓性基材３ａ′に付けられているアライメントマーク（不図示）をアライメントマーク検出機（不図示）で検出し、第１電極（陽極）の取り出し電極を除いて第１電極（陽極）の上に塗布される。正孔輸送層の厚さは、５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。【００９５】
使用可能な湿式塗布機としては、図２に示す発光層形成工程２０４の塗布部２０４ｂに使用した湿式塗布機が挙げられ、正孔輸送層の材料に応じて適宜選択して使用することが可能である。尚、本図は照明用に使用する有機ＥＬパネルを１例にしているため湿式塗布機２０３′ｂ１は全面塗工タイプとなっているが、有機ＥＬパネルがフルカラー方式の場合は、パターン化されて形成されている第１電極（陽極）のパターンに合わせて第１電極（陽極）上に正孔輸送層をパターン塗布するため、例えば、インクジェット方式、フレキソ印刷方式、オフセット印刷方式、グラビア印刷方式、スクリーン印刷方式、マスクを用いたスプレー塗布方式等に使用する各種塗布装置を使用することが可能である。【００９６】
乾燥部２０３′ｃは乾燥装置２０３′ｃ１と加熱処理装置２０３′ｃ２とを有しており、正孔輸送層を帯状の可撓性基材３ａ′の裏面側から裏面伝熱方式で加熱する様になっている。加熱処理装置２０３′ｃ２における正孔輸送層の加熱処理条件として、正孔輸送層の平滑性向上、残留溶媒の除去、正孔輸送層の硬化等を考慮し、正孔輸送層のガラス転移温度に対して−３０〜＋３０℃、且つ、正孔輸送層を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。【００９７】
発光層形成工程２０４′は、塗布部２０４′ａと、乾燥部２０４′ｂと、巻き取り部２０４′ｃとを有している。発光層形成工程２０４′では、塗布部２０４′ａで正孔輸送層までが形成された帯状の可撓性基材３ａ′の取り出し電極部を除き正孔輸送層の上に発光層形成塗布液が塗布され、乾燥部２０４′ｂを経て発光層（不図示、図１の発光層１０４に相当する）が形成され一旦巻き取られ保管される。尚、本図の発光層形成工程２０４′は大気圧環境下に配設されている。【００９８】
塗布部２０４′ａは、正孔輸送層工程２０３′の乾燥部２０３′ｃとの間にアキュームレータ２０４′ａ１と帯電防止手段２０４′ａ２と湿式塗布機２０４′ａ３と帯状の可撓性基材３ａ′を保持するバックアップロール２０４′ａ４とを使用している。アキュームレータ２０４′ａ１は下側の複数の搬送ローラー２０４′ａ１１と上側の複数の搬送ローラー２０４′ａ１２とを有し、塗布部２０４′ａでの速度調整のために配設されている。帯電防止手段２０４′ａ２は、非接触式帯電防止装置２０４′ａ１１と接触式帯電防止装置２０４′ａ１２とを有している。帯電防止手段２０４′ａ２は帯電防止手段２０３′ａ２と同じ種類の帯電防止装置が使用されている。【００９９】
湿式塗布機２０４′ａ３による発光層形成用塗布液は、帯状の可撓性基材３ａ′に付けられているアライメントマーク（不図示）をアライメントマーク検出機（不図示）で検出し、第１電極（陽極）の取り出し電極を除いて既に形成されている正孔輸送層の上に塗布される。使用可能な湿式塗布機としては、図２に示す湿式塗布機２０４ｂ１と同じ種類の湿式塗布機が挙げられ同じ種類の湿式塗布機の使用が可能である。尚、本図は照明用に使用する有機ＥＬパネルを１例にしているため湿式塗布機２０４′ａ３は全面塗工タイプとなっているが、有機ＥＬパネルがフルカラー方式の場合は、パターン化されて形成されている第１電極（陽極）のパターンに合わせて第１電極（陽極）上に発光層をパターン塗布するため、例えば、インクジェット方式、フレキソ印刷方式、オフセット印刷方式、グラビア印刷方式、スクリーン印刷方式、マスクを用いたスプレー塗布方式等に使用する各種塗布装置を使用することが可能である。【０１００】
乾燥部２０４′ｂは乾燥装置２０４′ｂ１と加熱処理装置２０４′ｂ２とを有しており、発光層を帯状の可撓性基材３ａ′の裏面側から裏面伝熱方式で加熱する様になっている。加熱処理装置２０４′ｂ２における発光層の加熱処理条件として、発光層の平滑性向上、残留溶媒の除去、発光層の硬化等を考慮し、発光層のガラス転移温度に対して−３０〜＋３０℃、且つ、発光層を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。【０１０１】
発光層が多層の場合は、積層する数に合わせて塗布・乾燥部のユニットを配設する必要がある。尚、発光層の多層対応は図２に示した場合と同じである。発光層の膜厚の総和も図２に示した場合と同じである。【０１０２】
巻き取り部２０４′ｃは、乾燥部２０４′ｂと巻き取り装置（不図示）との間に帯電防止手段２０４′ｃ１とアキュームレータ２０４′ｃ２を配設することが好ましい。帯電防止手段２０４′ｃ１は帯電防止手段２０４′ａ２と同じ種類の帯電防止装置である。アキュームレータ２０４′ｃ２は下側の複数の搬送ローラー２０４′ｃ２１と上側の複数の搬送ローラー２０４′ｃ２２とを有し、巻き取り部２０４′ｃでの速度調整のために配設されている。巻き取り部２０４′ｃでは、巻き取り装置により発光層（不図示、図１の発光層１０４に相当する）までが形成された帯状の可撓性基材３ａ′が搬送ローラー２０４′ｃ３を介してロール状に巻き取られ保管される。この後、陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５′へ送られる。【０１０３】
陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５′は、ロール状に巻き取られた帯状の可撓性基材３ａ′の繰り出し部２０５′ａを有し、蒸発源容器２０５′ｃを有する蒸着装置２０５′ｂと、アキュームレータ２０５′ｄとを用いている。アキュームレータ２０５′ｄは、下側の複数の搬送ローラー２０５′ｄ１と上側の複数の搬送ローラー２０５′ｄ２とを有し、繰り出し部２０５′ａと蒸着装置２０５′ｂとの間に配設されており、繰り出し部２０５′ａと蒸着装置２０５′ｂとの速度調整のために配設されている。陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５′では繰り出し部２０５′ａから搬送ローラー２０５′ａ１を介して連続的に供給されてくる帯状の可撓性基材３ａ′に付けられているアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って蒸着装置２０５′ｂで決められた位置に取り出し電極（不図示、図１の取り出し電極１０２ａに相当する）を除き、既に形成されている発光層（不図示、図１の発光層１０４に相当する）の上に電子注入層（不図示、図１の電子注入層１０５に相当する）をマスクパターン成膜する。電子注入層の厚さは、０．１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましい。【０１０４】
第２電極形成工程２０６′は、蒸発源容器２０６′ｂを有する蒸着装置２０６′ａとアキュームレータ２０６′ｃとを用いている。アキュームレータ２０６′ｃは、下側の複数の搬送ローラー２０６′ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０６′ｃ２とを有し、電子注入層形成工程２０５′と第２電極形成工程２０６′との間に配設されており、電子注入層形成工程２０５′との速度調整のために配設されている。【０１０５】
第２電極形成工程２０６′では陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５′から連続的に供給されてくる帯状の可撓性基材３ａ′に付けられているアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って蒸着装置２０６′ａで決められた位置に、取り出し電極（不図示、図１の取り出し電極１０６ａに相当する）を有する第２電極（陰極）（不図示、図１の第２電極（陰極）１０６に相当する）を、既に形成されている陰極バッファ層（電子注入層）（不図示、図１の電子注入層１０５に相当する）の上にマスクパターン成膜する。第２電極（陰極）としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。この段階で、基材／第１電極（陽極）／正孔輸送層／発光層／陰極バッファ層（電子注入層）／第２電極（陰極）の構成を有する有機ＥＬ素子が出来上がる。本図では、陰極バッファ層（電子注入層）形成工程２０５′と第２電極（陰極）形成工程２０６′が蒸着装置の場合を示したが、電子注入層及び第２電極（陰極）の形成方法については、特に限定はなく、例えばスパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法などを用いることが出来る。【０１０６】
封止工程２０７′は封止部材供給工程２０７′ｂを有し、封止剤塗設装置２０７′ａと貼合装置２０７′ｃと、アキュームレータ２０７′ｅとを用いている。封止部材供給工程２０７′ｂからは封止部材２０７′ｂ１が送られてくる。アキュームレータ２０７′ｅは下側の複数の搬送ローラー２０７′ｅ１と上側の複数の搬送ローラー２０７′ｅ２とを有し、第２電極（陰極）形成工程２０６との速度調整のために配設されている。【０１０７】
尚、封止部材２０７′ｂ１にも帯状の可撓性基材３ａ′に付けられているアライメントマーク（不図示）と同じ位置にアライメントマーク（不図示）が付けられている。【０１０８】
封止工程２０７′では、先ず、封止部材２０７′ｂ１のアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って封止剤塗設装置２０７′ａにより、封止部材２０７′ｂ１の有機ＥＬ素子の上部と周囲の取り出し電極（不図示、図１の取り出し電極１０２ａ及び取り出し電極１０６ａに相当する）を除いた領域に封止剤が塗設される。【０１０９】
その後、第２電極までが既に形成された帯状の可撓性基材３ａ′に付けられているアライメントマーク（不図示）と、封止剤が塗設された封止部材２０７′ｂ１のアライメントマーク（不図示）とを貼合装置２０７′ｃにより合わせ有機ＥＬ素子を密着封止する。この段階で有機ＥＬパネルが作製される。この段階で作製された有機ＥＬパネルは連続的に繋がっているため断裁工程２０８で個別の有機ＥＬパネルに断裁される。【０１１０】
断裁工程２０８′は断裁装置２０８′ａとアキュームレータ２０８′ｂと回収箱２０８′ｃとを用いている。アキュームレータ２０８′ｂは下側の複数の搬送ローラー２０８′ｂ１と上側の複数の搬送ローラー２０８′ｂ２とを有し、封止工程２０７′との速度調整のために配設されている。断裁装置２０８′ａでは複数の有機ＥＬパネルが形成されている帯状の可撓性基材３ｂ′に付けられているアライメントマーク（不図示）又は封止部材２０７′ｂ１のアライメントマーク（不図示）を検出装置（不図示）で読み取り、検出装置（不図示）の情報に従って打ち抜き断裁が行われ個別の有機ＥＬパネル４′として回収箱２０８′ｂに回収される。【０１１１】
本図は、第１電極形成と、正孔輸送層形成〜発光層形成と、電子注入層形成〜断裁との３工程に分割した場合を示しているが、第１電極形成〜断裁までを繋げて連続して行うことも可能である。断裁された有機ＥＬパネルは図１で示した有機ＥＬパネルと同じ構成を有している。【０１１２】
尚、本図では発光層形成と正孔輸送層形成とを湿式方式で行い、他の層はドライ方式の場合で有機ＥＬパネルを製造する方法を示したが、陰極バッファー層（電子注入層）までを湿式方式で行うことも可能である。その場合は、本図に示す正孔輸送層形成工程２０３′と同じ工程を使用し、第１電極の上に、発光層、陰極バッファー層（電子注入層）までを順次積層した後、第２電極を形成し有機ＥＬ素子を作製した後、本図に示す封止工程２０７′と同じ工程で密着封止し、本図に示す断裁工程２０８′と同じ工程で密着封止した個別の有機ＥＬパネルを製造することが可能である。【０１１３】
本図では、代表的な搬送ローラーを示したが、工程の配置、搬送方法によっては勿論本図に示す限りではなく、搬送ローラーは必要に応じて工程全体に使用することが可能である。【０１１４】
本発明では、図３に示される有機ＥＬパネルの各工程で使用されている搬送ローラー群の直径は、図２に示される有機ＥＬパネルの各工程で使用されている搬送ローラー群の直径と同様に、複数の層形成工程のうち少なくとも１つの工程において、層が形成される前後で１．０％〜５０．０％大きくなっている。本図で搬送ローラーの直径は、層が形成される前後で１．０％〜５０．０％大きくなっているとは、具体的には次のことを意味する。【０１１５】
例えば、第１電極形成工程２０２′の巻き取り部２０２′ｄに用いたアキュームレータ２０２′ｄ１の搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０２′ｄ１１と上側の複数の搬送ローラー２０２′ｄ１２）の直径は、供給工程２０１′に用いたアキュームレータ２０２′ｃの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０２′ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０２′ｃ２）の直径より大きくなっている。【０１１６】
発光層形成工程２０４′で使用している、アキュームレータ２０４′ａ１の搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０４′ａ１１と上側の複数の搬送ローラー２０４′ａ１２）の直径は、正孔輸送層形成工程２０３′のアキュームレータ２０３′ａ２の搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０３′ａ２１と上側の複数の搬送ローラー２０３′ａ２２）の直径より大きくなっている。又、巻き取り部２０４′ｃに用いたアキュームレータ２０４′ｃ２の搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０４′ｃ２１と上側の複数の搬送ローラー２０４′ｃ２２）の直径は、アキュームレータ２０４′ａ１の搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０４′ａ１１と上側の複数の搬送ローラー２０４′ａ１２）の直径より大きくなっている。【０１１７】
第２電極形成工程２０６′に使用しているアキュームレータ２０６′ｃの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０６′ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０６′ｃ２）の直径は、陰極バッファー層（電子注入層）形成工程２０５′で使用しているアキュームレータ２０５′ｄの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０５′ｄ１と上側の複数の搬送ローラー２０５′ｄ２）の直径よりも大きくなっている。【０１１８】
封止工程２０７′で使用しているアキュームレータ２０７′ｅの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０７′ｅ１と上側の複数の搬送ローラー２０７′ｅ２）の直径は、第２電極形成工程２０６′に使用しているアキュームレータ２０６′ｃの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０６′ｃ１と上側の複数の搬送ローラー２０６′ｃ２）の直径よりも大きくなっている。【０１１９】
断裁工程２０８′に使用′しているアキュームレータ２０８′ｂの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０８′ｂ１と上側の複数の搬送ローラー２０８′ｂ２）の直径は、封止工程２０７′で使用しているアキュームレータ２０７′ｅの搬送ローラー群（下側の複数の搬送ローラー２０７′ｅ１と上側の複数の搬送ローラー２０７′ｅ２）の直径よりも大きくなっている。【０１２０】
なお、図３においても、本発明においては、複数の層形成工程のうち少なくとも１つの工程において、層形成工程の前に用いられるアキュームレータの搬送ローラー群の平均直径に対して、該層形成工程の後に用いられるアキュームレータの搬送ローラー群の平均直径が、１．０％〜５０．０％の範囲で大きいことが特徴であるが、本発明においては全ての層形成工程においてこの条件を満たすことが最も好ましい。【０１２１】
又、図３に示される、新たな層が形成されるまでの間に使用される搬送ローラー群の直径は同一であることが好ましい。尚、同一とは搬送ローラー群の直径の公差が−０．５％〜＋０．５％を含む範囲とする。【０１２２】
帯状の可撓性基材の供給工程２０１′と、第１電極形成工程２０２′と、正孔輸送層形成工程２０３′と、発光層形成工程２０４′と、陰極バッファー層（電子注入層）形成工程２０５′と、第２電極形成工程２０６′と、封止工程２０７′と、断裁工程２０８′とで使用されている全ての搬送ローラーの直径は、塗布済みの前記第１電極、前記正孔輸送層、前記発光層、前記電子注入層のヒビワレ等を考慮し５０ｍｍ以上であることが好ましい。搬送ローラーの直径の上限は３００ｍｍであることが好ましい。【０１２３】
図４は図２のＸで示される部分の拡大概略図である。【０１２４】
図中、２０４ｂ３は搬送ローラーを示す。Ａは正孔輸送層までが積層された帯状の可撓性基材３ａが搬送ローラー２０４ｂ３と接触する点を示し、Ｂは正孔輸送層までが積層された帯状の可撓性基材３ａが搬送ローラー２０４ｂ３と離れる点を示す。θは搬送ローラー２０４ｂ３の中心と点Ａを結ぶ線と、点Ｂを結ぶ線とで挟まれた角度を示し、本発明では角度θを抱き角度と言う。抱き角度θは、ヒビワレ、変形等を考慮し３０°〜２００°であることが好ましい。【０１２５】
図２〜図４に示す製造工程を使用し帯状の可撓性基材の上に少なくとも第１電極と、発光層を含む多層からなる有機化合物層と、第２電極と、封止層とを順次有する複数の層から構成される有機エレクトロルミネッセンスパネルを製造する時、複数の層を形成する際に使用する、搬送ローラー群の直径を、層が形成される前後で１．０％〜５０．０％大きくして製造することで次の効果が挙げられる。【０１２６】
１．ヒビワレ、変形の発生がなくなり、これに伴いリーク電流特性が優れ、ダークスポット（スポット状の非発光部）の発生数が少ない性能が安定した有機ＥＬパネルの製造が可能となった。【０１２７】
２．製造工程を余分に大きくすることなく設置面積を最小にすることが可能となった。【０１２８】
以下、本発明の有機ＥＬパネルの製造方法で製造した有機ＥＬパネルを構成している材料に付き説明する。【０１２９】
（帯状の可撓性基材）
帯状の可撓性基材としては樹脂フィルムが挙げられる。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロハン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート（ＴＡＣ）、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル或いはポリアリレート類、アートン（商品名ＪＳＲ社製）或いはアペル（商品名三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。【０１３０】
（ガスバリア膜）
樹脂フィルムを使用する場合、樹脂フィルムの表面にはガスバリア膜が必要に応じて形成されることが好ましい。ガスバリア膜としては無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜が挙げられる。ガスバリア膜の特性としては、水蒸気透過度が０．０１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが好ましい。更には、酸素透過度０．１ｍｌ／ｍ2・ｄａｙ・ＭＰａ以下、水蒸気透過度１０-5ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。【０１３１】
バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることが出来る。更に該膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。ガスバリア膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることが出来るが、特開２００４−６８１４３号に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。【０１３２】
（第１電極（陽極））
第１電極（陽極）としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。この様な電極物質の具体例としてはＡｕ等の金属、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等の導電性透明材料が挙げられる。又、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ2Ｏ3・ＺｎＯ）等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。或いは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いることも可能である。第１電極（陽極）はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、或いはパターン精度をあまり必要としない場合は（１００μｍ以上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。この第１電極（陽極）より発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましく、又第１電極（陽極）としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。【０１３３】
（正孔注入層（陽極バッファ層））
第１電極と発光層又は正孔輸送層の間、正孔注入層（陽極バッファ層）を存在させてもよい。正孔注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機ＥＬパネルとその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３−１６６頁）に詳細に記載されている。陽極バッファ層（正孔注入層）は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファ層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファ層、アモルファスカーボンバッファ層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファ層等が挙げられる。【０１３４】
（正孔輸送層）
正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層又は複数層設けることが出来る。正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性の何れかを有するものであり、有機物、無機物の何れであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、又導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。【０１３５】
正孔輸送材料としては上記のものを使用することが出来るが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）；２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン；ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン；ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン；４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン；４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン；３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン；Ｎ−フェニルカルバゾール、更には米国特許第５，０６１，５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、特開平４−３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが３つスターバースト型に連結された４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。【０１３６】
更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることも出来る。又、ｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することが出来る。【０１３７】
又、特開平１１−２５１０６７号公報、Ｊ．Ｈｕａｎｇ  ｅｔ．ａｌ．著文献（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ８０（２００２）、ｐ．１３９）に記載されているような所謂ｐ型正孔輸送材料を用いることも出来る。より高効率の発光素子が得るにはこれらの材料を用いることが好ましい。【０１３８】
正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。この正孔輸送層は上記材料の１種又は２種以上からなる一層構造であってもよい。又、不純物をドープしたｐ性の高い正孔輸送層を用いることも出来る。その例としては、特開平４−２９７０７６号、特開２０００−１９６１４０号、特開２００１−１０２１７５号、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。この様なｐ性の高い正孔輸送層を用いることが、より低消費電力の有機ＥＬパネルを作製することが出来るため好ましい。【０１３９】
（発光層）
発光層とは青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を指す。発光層を積層する場合の積層順としては、特に制限はなく、又各発光層間に非発光性の中間層を有していてもよい。本発明においては、少なくとも１つの青発光層が、全発光層中最も陽極に近い位置に設けられていることが好ましい。又、発光層を４層以上設ける場合には、陽極に近い順から、例えば青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層、青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層／緑色発光層、青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層／緑色発光層／赤色発光層のように青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を順に積層することが、輝度安定性を高める上で好ましい。発光層を多層にすることで白色素子の作製が可能である。【０１４０】
発光層は発光極大波長が各々４３０ｎｍ〜４８０ｎｍ、５１０ｎｍ〜５５０ｎｍ、６００ｎｍ〜６４０ｎｍの範囲にある発光スペクトルの異なる少なくとも３層以上の層を含む。３層以上であれば、特に制限はない。４層より多い場合には、同一の発光スペクトルを有する層が複数層あってもよい。発光極大波長が４３０ｎｍ〜４８０ｎｍにある層を青発光層、５１０ｎｍ〜５５０ｎｍにある層を緑発光層、６００ｎｍ〜６４０ｎｍの範囲にある層を赤発光層と言う。又、前記の極大波長を維持する範囲において、各発光層には複数の発光性化合物を混合してもよい。例えば、青発光層に、極大波長４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの青発光性化合物と、極大波長５１０ｎｍ〜５５０ｎｍの緑発光性化合物を混合して用いてもよい。【０１４１】
発光層の材料として使用する有機発光材料は、（ａ）電荷の注入機能、即ち、電界印加時に陽極或いは正孔注入層から正孔を注入することが出来、陰極或いは電子注入層から電子を注入することが出来る機能、（ｂ）輸送機能、即ち、注入された正孔及び電子を電界の力で移動させる機能、及び（ｃ）発光機能、即ち、電子と正孔の再結合の場を提供し、これらを発光に繋げる機能、の３つの機能を併せもつものであれば特に限定はない。例えば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤や、スチリルベンゼン系化合物を用いることが出来る。上記の蛍光増白剤の具体例としては、ベンゾオキサゾール系では、２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、４，４′−ビス［５，７−ジ−（２−メチル−２−ブチル）−２−ベンゾオキサゾオリル］スチルベン、２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）チオフェン、２，５−ビス［５−α，α−ジメチルベンジル−２−ベンゾオキサゾリル］チオフェン、２，５−ビス［５，７−ジ−（２−メチル−２−ブチル）−２−ベンゾオキサゾリル］−３，４−ジフェニルチオフェン、２，５−ビス（５−メチル−２−ベンゾオキサゾリル）チオフェン、４，４′−ビス（２−ベンゾオキサゾリル）ビフェニル、５−メチル−２−［２−［４−（５−メチル−２−ベンゾオキサゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾオキサゾール、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等が挙げられる。ベンゾチアゾール系では、２，２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスベンゾチアゾール等が挙げられ、ベンゾイミダゾール系では、２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等が挙げられる。更に、他の有用な化合物は、ケミストリー・オブ・シンセティック・ダイズ（１９７１），第６２８〜６３７頁及び第６４０頁に列挙されている。【０１４２】
又、上記のスチリルベンゼン系化合物の具体例としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等が挙げられる。【０１４３】
更に、上述した蛍光増白剤及びスチリルベンゼン系化合物以外にも、例えば、１２−フタロペリノン、１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン、ナフタルイミド誘導体、ペリレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラジリン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ピロロピロール誘導体、スチリルアミン誘導体、クマリン系化合物、国際公開公報ＷＯ９０／１３１４８やＡｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，ｖｏｌ  ５８，１８，Ｐ１９８２（１９９１）に記載されているような高分子化合物、芳香族ジメチリディン系化合物が挙げられる。芳香族ジメチリディン系化合物の具体例としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４′−フェニレンジメチリディン、２，５−キシリレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、及びこれらの誘導体が挙げられる。又、上記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（ｐ−フェニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（III）等が挙げられる。【０１４４】
その他、上述した有機発光材料をホストとし、当該ホストに青色から緑色までの強い蛍光色素、例えばクマリン系或いは前記ホストと同様の蛍光色素をドープした化合物も、有機発光材料として好適である。有機発光材料として前記の化合物を用いた場合には、青色から緑色の発光（発光色はドーパントの種類によって異なる）を高効率で得ることが出来る。前記化合物の材料であるホストの具体例としては、ジスチリルアリーレン骨格の有機発光材料（特に好ましくは、例えば、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル）が挙げられ、前記化合物の材料であるドーパントの具体例としては、ジフェニルアミノビニルアリレーン（特に好ましくは、例えば、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノビフェニルベンゼンや４，４′−ビス［２−［４−（Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリル）フェニル］ビニル］ビフェニル）が挙げられる。【０１４５】
発光層には、発光層の発光効率を高くするために公知のホスト化合物と公知のリン光性化合物（リン光発光性化合物とも言う）を含有することが好ましい。ホスト化合物とは、発光層に含有される化合物の内で、その層中での質量比が２０％以上であり、且つ室温（２５℃）においてリン光発光のリン光量子収率が、０．１未満の化合物と定義される。好ましくはリン光量子収率が０．０１未満である。ホスト化合物を複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬパネルを高効率化することが出来る。又、リン光性化合物を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることが出来る。リン光性化合物の種類、ドープ量を調整することで白色発光が可能であり、照明、バックライトへの応用も出来る。【０１４６】
これらのホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ発光の長波長化を防ぎ、尚且つ高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。公知のホスト化合物としては、例えば、特開２００１−２５７０７６号公報、同２００２−３０８８５５号公報、同２００１−３１３１７９号公報、同２００２−３１９４９１号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−３３４７８６号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−３３４７８７号公報、同２００２−１５８７１号公報、同２００２−３３４７８８号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−３３４７８９号公報、同２００２−７５６４５号公報、同２００２−３３８５７９号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３４３５６８号公報、同２００２−１４１１７３号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２０３６８３号公報、同２００２−３６３２２７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００３−３１６５号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００３−２７０４８号公報、同２００２−２５５９３４号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−２８０１８３号公報、同２００２−２９９０６０号公報、同２００２−３０２５１６号公報、同２００２−３０５０８３号公報、同２００２−３０５０８４号公報、同２００２−３０８８３７号公報等に記載の化合物が挙げられる。【０１４７】
複数の発光層を有する場合、これら各層のホスト化合物の５０質量％以上が同一の化合物であることが、有機層全体に渡って均質な膜性状を得やすいことから好ましく、更にはホスト化合物のリン光発光エネルギーが２．９ｅＶ以上であることが、ドーパントからのエネルギー移動を効率的に抑制し、高輝度を得る上で有利となることからより好ましい。リン光発光エネルギーとは、ホスト化合物を基板上に１００ｎｍの蒸着膜のフォトルミネッセンスを測定し、そのリン光発光の０−０バンドのピークエネルギーを言う。【０１４８】
ホスト化合物は、有機ＥＬパネルの経時での劣化（輝度低下、膜性状の劣化）、光源としての市場ニーズ等を考慮し、リン光発光エネルギーが２．９ｅＶ以上且つＴｇが９０℃以上のものであることが好ましい。即ち、輝度と耐久性の両方を満足するためには、リン光発光エネルギーが２．９ｅＶ以上且つＴｇが９０℃以上のものであることが好ましい。Ｔｇは、更に好ましくは１００℃以上である。【０１４９】
リン光性化合物（リン光発光性化合物）とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、２５℃において０．０１以上の化合物である。先に説明したホスト化合物と合わせ使用することで、より発光効率の高い有機ＥＬパネルとすることが出来る。【０１５０】
リン光性化合物は、リン光量子収率は好ましくは０．１以上である。上記リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定出来る。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定出来るが、本発明に用いられるリン光性化合物は、任意の溶媒の何れかにおいて上記リン光量子収率が達成されればよい。【０１５１】
リン光性化合物の発光は原理としては２種挙げられ、１つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光性化合物に移動させることでリン光性化合物からの発光を得るというエネルギー移動型、もう１つはリン光性化合物がキャリアトラップとなり、リン光性化合物上でキャリアの再結合が起こりリン光性化合物からの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、何れの場合においても、リン光性化合物の励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。【０１５２】
リン光性化合物は、有機ＥＬパネルの発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることが出来る。リン光性化合物としては、好ましくは元素の周期表で８族−１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、更に好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、又は白金化合物（白金錯体系化合物）、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。【０１５３】
リン光性化合物のリン光発光極大波長としては特に制限されるものではなく、原理的には中心金属、配位子、配位子の置換基等を選択することで得られる発光波長を変化させることが出来る。【０１５４】
発光層に使用する化合物の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」（日本色彩学会編、東京大学出版会、１９８５）の１０８頁の図４．１６において、分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）で測定した結果をＣＩＥ色度座標に当て嵌めた時の色で決定される。【０１５５】
白色素子とは、２°視野角正面輝度を上記方法により測定した際に、１０００ｃｄ／ｍ2でのＣＩＥ１９３１  表色系における色度がＸ＝０．３３±０．０７、Ｙ＝０．３３±０．０７の領域内にあることを言う。【０１５６】
（陰極バッファ層（電子注入層））
陰極バッファ層（電子注入層）とは、電子を輸送する機能を有する材料からなり広い意味で電子輸送層に含まれる。陰極バッファ層（電子注入層）とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機ＥＬパネルとその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。陰極バッファ層（電子注入層）は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファ層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファ層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファ層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファ層等が挙げられる。上記バッファ層（注入層）はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は０．１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましい。【０１５７】
他に発光層側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることが出来、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることが出来る。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることも出来る。【０１５８】
又、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることが出来る。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることが出来る。又、ジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることが出来るし、正孔注入層、正孔輸送層と同様に、ｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送材料として用いることが出来る。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。電子輸送層は上記材料の１種又は２種以上からなる一層構造であってもよい。【０１５９】
又、不純物をドープしたｎ性の高い電子輸送層を用いることも出来る。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、特開平１０−２７０１７２号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、特開２００１−１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。この様なｎ性の高い電子輸送層を用いることがより低消費電力の素子を作製することが出来るため好ましい。【０１６０】
本発明の有機ＥＬパネルの製造方法で製造した有機ＥＬパネルの発光の室温における外部取り出し効率は１％以上であることが好ましく、より好ましくは５％以上である。ここに、外部取り出し量子効率（％）＝有機ＥＬパネル外部に発光した光子数／有機ＥＬパネルに流した電子数×１００である。【０１６１】
又、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機ＥＬパネルからの発光色を蛍光体を用いて多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。色変換フィルターを用いる場合においては、有機ＥＬパネルの発光のλｍａｘは４８０ｎｍ以下が好ましい。【０１６２】
（第２電極（陰極））
第２電極としては、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属（電子注入性金属と称する）、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。この様な電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、リチウム／アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することが出来る。又、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。尚、発光した光を透過させるため、有機ＥＬパネルの第１電極（陽極）又は第２電極（陰極）の何れか一方が、透明又は半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。【０１６３】
又、第２電極に上記金属を１〜２０ｎｍの膜厚で作製した後に、第１電極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明又は半透明の第２電極（陰極）を作製することが出来、これを応用することで第１電極（陽極）と第２電極（陰極）の両方が透過性を有する素子を作製することが出来る。【０１６４】
（封止剤）
封止剤としては、液状封止剤と熱可塑性樹脂とが挙げられる。液状封止剤としては、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型封止剤、２−シアノアクリル酸エステルなどの湿気硬化型等の封止剤、エポキシ系などの熱及び化学硬化型（二液混合）等の封止剤、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂封止剤等を挙げることが出来る。液状封止剤には必要に応じてフィラーを添加することが好ましい。フィラーの添加量としては、接着力を考慮し、５〜７０体積％が好ましい。又、添加するフィラーの大きさは、接着力、貼合圧着後の封止剤厚み等を考慮し、１μｍ〜１００μｍが好ましい。添加するフィラーの種類としては特に限定はなく、例えばソーダガラス、無アルカリガラス或いはシリカ、二酸化チタン、酸化アンチモン、チタニア、アルミナ、ジルコニアや酸化タングステン等の金属酸化物等が挙げられる。【０１６５】
熱可塑性樹脂としては、ＪＩＳ  Ｋ  ７２１０規定のメルトフローレートが５〜２０ｇ／１０ｍｉｎである熱可塑性樹脂が好ましく、更に好ましくは、６〜１５ｇ／１０ｍｉｎ以下の熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。これは、メルトフローレートが５（ｇ／１０ｍｉｎ）以下の樹脂を用いると、各電極の引き出し電極の段差により生じる隙間部を完全に埋めることが出来ず、２０（ｇ／１０ｍｉｎ）以上の樹脂を用いると引っ張り強さや耐ストレスクラッキング性、加工性などが低下するためである。これらの熱可塑性樹脂をフィルム状に成形し可撓性封止部材（帯状可撓性封止部材、枚葉シート状可撓性封止部材）に貼合して使用することが好ましい。貼合方法は一般的に知られている各種の方法、例えばウェットラミネート法、ドライラミネート法、ホットメルトラミネート法、押出しラミネート法、熱ラミネート法を利用して作ることが可能である。【０１６６】
熱可塑性樹脂は、上記数値を満たすものであれば特に限定されるものではないが、例えば機能性包装材料の新展開（株式会社東レリサーチセンター）に記載の高分子フィルムである低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、ＨＤＰＥ、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、中密度ポリエチレン、未延伸ポリプロピレン（ＣＰＰ）、ＯＰＰ、ＯＮｙ、ＰＥＴ、セロファン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、延伸ビニロン（ＯＶ）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＯＨ）、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）等の使用が可能である。これらの熱可塑性樹脂の中で特にＬＤＰＥ、ＬＬＤＰＥ及びメタロセン触媒を使用して製造したＬＤＰＥ、ＬＬＤＰＥ、又、ＬＤＰＥ、ＬＬＤＰＥとＨＤＰＥフィルムの混合使用した熱可塑性樹脂を使用することが好ましい。【０１６７】
（可撓性封止部材）
可撓性封止部材としてはポリエチレンテレフタレート、ナイロンなどの可撓性樹脂フィルムからなる支持体へ蒸着法やコーティング法でバリア層を形成した材料又はバリア層として金属箔を用いた材料が挙げられる。バリア層としては例えばＩｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の金属酸化物を蒸着した材料が挙げられる。又、金属箔の材料としては、例えばアルミニウム、銅、ニッケルなどの金属材料や、ステンレス、アルミニウム合金などの合金材料を用いることが出来るが、加工性やコストの面でアルミニウムが好ましい。膜厚は、１〜１００μｍ程度、好ましくは１０μｍ〜５０μｍ程度が望ましい。又、製造時の取り扱いを容易にするために、ポリエチレンテレフタレート、ナイロンなどのフィルムを予めラミネートしておいてもよい。可撓性封止部材に樹脂フィルムを使用する場合、液状封止剤と接触する側に熱可塑性接着性樹脂層を有することが好ましい。【０１６８】
可撓性封止部材の水蒸気透過度は、０．０１ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下であることが好ましく、且つ酸素透過度は、０．１ｍｌ／ｍ2・ｄａｙ・ＭＰａ以下であることが好ましい。
水蒸気透過度はＪＩＳ  Ｋ７１２９Ｂ法（１９９２年）に準拠した方法で主としてＭＯＣＯＮ法により測定した値であり、酸素透過度はＪＩＳ  Ｋ７１２６Ｂ法（１９８７年）に準拠した方法で主としてＭＯＣＯＮ法により測定した値である。可撓性封止部材のヤング率は、可撓性封止部材と第１圧着部材、第２圧着部材との密着性や封止剤の塗れ広がり防止等を考慮し、１×１０-3ＧＰａ〜８０ＧＰａであり、厚みが１０μｍ〜５００μｍであることが好ましい。【０１６９】
本発明の有機ＥＬパネルの製造方法で製造した有機ＥＬパネルの発光の室温における外部取り出し効率は１％以上であることが好ましく、より好ましくは５％以上である。ここに、外部取り出し量子効率（％）＝有機ＥＬパネル外部に発光した光子数／有機ＥＬパネルに流した電子数×１００である。【０１７０】
又、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機ＥＬパネルからの発光色を蛍光体を用いて多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。色変換フィルターを用いる場合においては、有機ＥＬパネルの発光のλｍａｘは４８０ｎｍ以下が好ましい。【０１７１】
本発明の有機ＥＬパネルの製造方法で製造した有機ＥＬパネルは、発光層で発生した光を効率よく取り出すために以下に示す方法を併用することが好ましい。有機ＥＬパネルは、空気よりも屈折率の高い（屈折率が１．７〜２．１程度）層の内部で発光し、発光層で発生した光の内１５％から２０％程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面（透明基板と空気との界面）に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことが出来ないことや、透明電極ないし発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極ないし発光層を導波し、結果として、光が素子側面方向に逃げるためである。【０１７２】
この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法（米国特許第４，７７４，４３５）。基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法（特開昭６３−３１４７９５号公報）。素子の側面等に反射面を形成する方法（特開平１−２２０３９４号公報）。基板と発光体の間に中間の屈折率をもつ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法（特開昭６２−１７２６９１号公報）。基板と発光体の間に基板よりも低屈折率をもつ平坦層を導入する方法（特開２００１−２０２８２７号公報）。基板、透明電極層や発光層の何れかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法（特開平１１−２８３７５１号公報）等がある。【０１７３】
本発明の有機ＥＬパネルの製造方法では、これらの方法を有機ＥＬパネルと組合せて用いることが出来るが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率をもつ平坦層を導入する方法、或いは基板、透明電極層や発光層の何れかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法を好適に用いることが出来る。【０１７４】
透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚みで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど、外部への取り出し効率が高くなる。低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマー等が挙げられる。透明基板の屈折率は一般に１．５〜１．７程度であるので、低屈折率層は、屈折率がおよそ１．５以下であることが好ましい。又、更に１．３５以下であることが好ましい。低屈折率媒質の厚みは、媒質中の波長の２倍以上となるのが望ましい。これは、低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。全反射を起こす界面もしくは何れかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は、回折格子が一次の回折や、２次の回折といった所謂ブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることが出来る性質を利用して、発光層から発生した光の内、層間での全反射等により外に出ることが出来ない光を、何れかの層間もしくは、媒質中（透明基板内や透明電極内）に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率をもつていることが望ましい。これは、発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布をもつている一般的な１次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。【０１７５】
回折格子を導入する位置としては前述の通り、何れかの層間もしくは、媒質中（透明基板内や透明電極内）でもよいが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。この時、回折格子の周期は、媒質中の光の波長の約１／２〜３倍程度が好ましい。回折格子の配列は、正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状等、２次元的に配列が繰り返されることが好ましい。【０１７６】
更に、本発明の有機ＥＬパネルの製造方法で製造した有機ＥＬパネルは、発光層で発生した光を効率よく取り出すために、基板の光取り出し側に、例えばマイクロレンズアレイ上の構造を設けるように加工したり、或いは、所謂集光シートと組合せることにより、特定方向、例えば素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることが出来る。マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が３０μｍでその頂角が９０度となるような四角錐を２次元に配列する。一辺は１０μｍ〜１００μｍが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大き過ぎると厚みが厚くなり好ましくない。【０１７７】
集光シートとしては、例えば液晶表示装置のＬＥＤバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。この様なシートとして例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム（ＢＥＦ）等を用いることが出来る。プリズムシートの形状としては、例えば基板に頂角９０度、ピッチ５０μｍの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であってもよい。又、発光素子からの光放射角を制御するために光拡散板・フィルムを、集光シートと併用してもよい。例えば、（株）きもと製拡散フィルム（ライトアップ）等を用いることが出来る。
【実施例】
【０１７８】
以下、実施例を挙げて本発明の具体的な効果を示す。【０１７９】
実施例１は有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬパネルに関するものであるが、本発明の態様はこれに限定されるものではなく、有機光電変換素子を用いた太陽電池などの他の有機エレクトロニクス素子、およびその製造方法に適用できるものである。【０１８０】
実施例１
（製造工程の準備）
図２に示す製造工程を使用し、図２に示す製造工程に使用している搬送ローラー群の区分けを以下に示すようＡ区分〜Ｇ区分に区分けし、Ａ〜Ｇの区分け前後で搬送ローラー群の直径を表に記載の様に変えた製造工程を準備しＮｏ．１−１〜１−７とした。また、対象とした搬送ローラーの抱き角度は１８０°以下とし、Ａ区分〜Ｇ区分で各区分けで使用している搬送ローラーの直径は同一とした。【０１８１】
Ａ区分：供給工程２０１から第１電極形成工程２０２の蒸着装置２０２ａまでに使用しているアキュームレータ２０２ｃの搬送ローラー群
Ｂ区分：蒸着装置２０２ａから正孔輸送層形成工程２０３までのアキュームレータ２０３ｃの搬送ローラー群
Ｃ区分：正孔輸送層形成工程２０３から発光層形成工程２０４ｃまでのアキュームレータ２０３ｄ１および２０４ａ１の搬送ローラー群
Ｄ区分：発光層形成工程２０４ｃから２０４ｄと陰極バッファー層（電子注入層）形成工程２０５の蒸着装置２０５ｂまでのアキュームレータ２０４ｄ１および２０５ｄの搬送ローラー群
Ｅ区分：陰極バッファー層（電子注入層）形成工程２０５から第２電極形成工程２０６に使用しているアキュームレータ２０６ｃの搬送ローラー群
Ｆ区分：第２電極形成工程２０６から封止工程２０７までのアキュームレータ２０７ｅの搬送ローラー群
Ｇ区分：封止工程２０７から断裁工程２０８までのアキュームレータ２０８ｂの搬送ローラー群
尚、Ａ区分〜Ｇ区分に使用している搬送ローラーの直径を変えず全て同じにした製造工程を準備し比較製造工程としＮｏ．１−８とした。【０１８２】
【表１】
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【０１８３】
（有機ＥＬパネルの作製）
準備した各製造工程Ｎｏ．１−１〜１−８を使用し、以下に示す方法で第１電極、正孔輸送層、発光層、陰極バッファ層（電子注入層）、第２電極を基材上にこの順で形成した有機ＥＬ素子を封止部材で封止した図１に示す構成の照明用に使用する有機ＥＬパネルを作製し試料Ｎｏ．１０１〜１０８とした。【０１８４】
（有機ＥＬ素子の作製）
〈帯状の可撓性基材の準備〉
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人・デュポン社製フィルム、以下、ＰＥＴと略記する）を準備した。尚、帯状の可撓性基材には、予め第１電極を形成する位置を示すためにアライメントマークを第１電極が形成される面及び反対の面の同じ位置に設けた。【０１８５】
（第１電極及び正孔輸送層の形成）
図２に示す装置を使用し、準備した帯状の可撓性基材のＰＥＴの上に以下に示す方法で第１電極（陽極）と正孔輸送層とを連続して形成し、一旦巻き取り保管した。【０１８６】
（第１電極の形成）
５×１０-1Ｐａの真空環境条件でＰＥＴの上に厚さ１２０ｎｍのＩＴＯ（インジウムチンオキシド）をスパッタリング法により、マスクパターン成膜を行い、取り出し電極を有する１０ｍｍ×１０ｍｍの大きさの第１電極を一定間隔で連続的に形成した。【０１８７】
（正孔輸送層の形成）
形成された第１電極の上に取り出し電極になる部分を除き、真空環境条件５×１０-4Ｐａで正孔輸送層形成用材料としてＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ｍ−トリル４，４′−ジアミノ−１，１′−ビフェニルを蒸着法（気相堆積法）により積層し厚さ３０ｎｍの正孔輸送層を形成した。【０１８８】
（発光層の形成）
形成された正孔輸送層の上に取り出し電極になる部分を除き、以下に示す発光層形成用塗布液をエクストルージョン塗布機を使用した湿式塗布方式により乾燥後の厚みが１００ｎｍになるように全面塗布した。発光層を形成した後、帯電防止処理を行い、室温と同じ温度になるまで冷却した後、巻き芯に巻き取りロール状とした。尚、搬送速度は、２ｍ／分とした。【０１８９】
（発光層形成用塗布液の準備）
ホスト材のポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）にドーパント材Ｉｒ（ｐｐｙ）3を５質量％、１，２−ジクロロエタン中に溶解し１０質量％溶液とし発光層形成用塗布液として準備した。発光層形成用塗布液の表面張力は３２×１０-3Ｎ／ｍ（協和界面化学社製：表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ３）であった。発光層のガラス転移温度は２２５℃であった。尚、本例は緑色の発光を有する材料を用いたが、更に青色、赤色及びドーパント材を使用し積層させることで、白色の有機ＥＬ素子を作製することが可能である。【０１９０】
塗布条件
２５℃、発光層形成用塗布液の塗布時の温度は、２５℃の環境の大気環境下で行った。尚、湿式塗布工程は露点温度−２０℃以下且つ清浄度クラス５以下（ＪＩＳ  Ｂ  ９９２０）とした。【０１９１】
乾燥及び加熱処理条件
発光層形成用塗布液を塗布した後、吐出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布０．５ｍ／ｓ、温度６０℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理を温度２２０℃で行い発光層を形成した。【０１９２】
（陰極バッファー層（電子注入層）の形成）
引き続き、形成された発光層の上全面に、５×１０-4Ｐａの真空環境条件にて陰極バッファー層（電子注入層）層形成材料としてＬｉＦを使用し、第１電極の取り出し電極になる部分を除き、蒸着法にて厚さ０．５ｎｍのＬｉＦ層（電子注入層）を積層した。【０１９３】
（第２電極の形成）
引き続き、形成された電子注入層の上全面に５×１０-4Ｐａの真空下にて第２電極形成材料としてアルミニウムを使用し、取り出し電極を有するように蒸着法にてマスクパターン成膜し、厚さ１００ｎｍの第２電極を積層し有機ＥＬ素子を作製した。【０１９４】
（有機ＥＬパネルの作製）
（接着剤の塗設）
作製した有機ＥＬ素子の第１電極及び第２電極の引き出し電極の端部を除いて発光領域及び発光領域の周辺に紫外線硬化型の液状接着剤（エポキシ樹脂系）を使用し、厚さ３０μｍで塗設した。【０１９５】
（封止部材の貼合）
この後、以下に示す帯状シート封止部材を準備した有機ＥＬ素子の接着剤塗設面にロールラミネータ法により積重し、大気圧環境化にて押圧０．１ＭＰａでロール圧着した後、波長３６５ｎｍの高圧水銀ランプを、照射強度５〜２０ｍＷ／ｃｍ2、距離５〜１５ｍｍで１分間照射し固着させ貼合し、複数の有機ＥＬパネルが連続的に繋がった状態とした。【０１９６】
（封止部材の準備）
封止部材として、ＰＥＴフィルム（帝人・デュポン社製）を使用し、無機膜（ＳｉＮ）をバリア層に使用した２層構成の帯状シート封止部材を準備した。ＰＥＴの厚さ１００μｍ、バリア層の厚さ２００ｎｍとした。尚、ＰＥＴフィルムのバリア層の成膜はスパッタリング法により実施した。ＪＩＳ  Ｋ−７１２９Ｂ法（１９９２年）に準拠した方法で主としてＭＯＣＯＮ法により測定した水蒸気透過度は０．０１ｇ／ｍ2・ｄａｙであった。
ＪＩＳ  Ｋ７１２６Ｂ法（１９８７年）に準拠した方法で主としてＭＯＣＯＮ法により測定した酸素透過度は０．１ｍｌ／ｍ2・ｄａｙ・ＭＰａであった。【０１９７】
（断裁）
準備した複数の有機ＥＬパネルが連続的に繋がった状態のものを個別の有機ＥＬパネルの大きさに合わせ断裁した。【０１９８】
評価
作製した各試料Ｎｏ．１０１〜１０８に付き、ヒビワレ、変形の有無を代用特性としてリーク電流特性、ダークスポット（スポット状に非発光部）の発生数を以下に示す試験方法により試験し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表２に示す。【０１９９】
ダークスポット（スポット状の非発光部）の発生数の測定方法
定電圧電源を用いて、有機ＥＬパネルに直流５Ｖを印加し、ダークスポットの有無をルーペ（倍率８倍）を用い目視にて観察した。発光領域全てにおいて測定を行い、ダークスポットの数を目視で測定した。【０２００】
ダークスポット（スポット状の非発光部）の評価ランク
◎：ダークスポットの発生が全くない
○：ダークスポット１個以上、５個未満
△：ダークスポット５個以上、２０個未満
×：ダークスポット２０個以上。【０２０１】
リーク電流特性の試験方法
定電圧電源を用いて、逆方向の電圧（逆バイアス）を５Ｖを５秒間印加し、その時有機ＥＬ素子に流れる電流を測定した。サンプル１０枚の発光領域について測定を行い、最大電流値をリーク電流とした。【０２０２】
リーク電流特性の評価ランク
◎：最大電流値が１×１０-6Ａ未満
○：最大電流値が１×１０-6Ａ以上、１×１０-5Ａ未満
△：最大電流値が１×１０-5Ａ以上、１×１０-3Ａ未満
×：最大電流値が１×１０-3Ａ以上。【０２０３】
【表２】
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【０２０４】
有機ＥＬパネルＮｏ．１０１は搬送ローラー群の直径の変化を５％で１箇所としたが、ヒビワレ、変形が若干発生し、リーク電流特性、ダークスポット（スポット状の非発光部）の発生数が、本発明の試料Ｎｏ．１０２〜１０７の１０％以上としたもの、或いは変化した箇所を増やしたものに比べ若干劣る結果となった。有機ＥＬパネルＮｏ．１０８は、搬送ローラーの直径の変化を行わなかったためヒビワレ、変形が発生し、リーク電流特性、ダークスポット（スポット状の非発光部）の発生数が、本発明の試料Ｎｏ．１０２〜１０７に比べ劣る結果となった。本発明の有効性が確認された。【０２０５】
又、有機ＥＬ素子に限定されず、同様にして塗布で製膜される有機エレクトロニクス素子においても、本発明の有用性が示唆される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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