(57)【要約】  ポジ型の画像形成性要素は、輻射線吸収化合物と、親水性表面を有する基板上に内層と外層とを含んで成る。内層は、アルカリ性現像剤によって除去可能であり、主鎖及び下記構造Ｑ基：（式中、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3は独立して連結基を表し、Ｔ1、Ｔ2、及びＴ3は独立して末端基を表し、そしてａ、ｂ、及びｃは独立して０又は１である）によって表される結合基を含む高分子材料を含む。当該画像形成性要素は、現像剤並びに印刷機用化学薬品及び溶剤に対する改良された耐性を有する。
2009524111.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
輻射線吸収化合物と親水性表面を有する基板とを含んで成り、前記基板上に順番に：
主鎖及び前記主鎖に結合された下記構造Ｑ基：
【化１】
2009524111.tif 000011
（上記式中、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3は独立して連結基を表し、Ｔ1、Ｔ2、及びＴ3は独立して末端基を表し、そしてａ、ｂ、及びｃは独立して０又は１である）
を含む高分子材料を含む内層と、
インク受容性外層とを有するポジ型の画像形成性要素、
但し、熱画像形成時に、前記要素の画像形成された領域は、アルカリ性現像剤によって除去可能である。
【請求項２】
前記Ｑ基が、前記ポリマー主鎖内のα-炭素原子に直接的に結合されており、前記α-炭素原子はまた、当該炭素原子に結合された電子求引基も有している請求項１に記載の画像形成性要素。
【請求項３】
前記Ｑ基が、連結基を介して前記ポリマー主鎖に間接的に結合されている請求項１に記載の画像形成性要素。
【請求項４】
前記内層の高分子材料が、下記構造（Ｉ）によって表され請求項１に記載の画像形成性要素：
【化２】
2009524111.tif 000012
（上記式中、Ａは、同じか又は異なるＱ基を含む１種又は２種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された反復単位を表し、Ｂは、Ｑ基を含まない１種又は２種以上の異なるエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された反復単位を表し、総反復単位を基準として、ｘは約１〜約７０モル％であり、そしてｙは約３０〜約９９モル％である）。
【請求項５】
該Ａ反復単位が、下記（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）によって表される請求項４に記載の画像形成性要素：
【化３】
2009524111.tif 000013
（上記式中、Ｒ及びＲ2は独立して、水素又はハロ、アルキル、若しくはフェニル基であり、Ｒ1は電子求引基であり、Ｒ3及びＲ4は独立して水素又はアルキル、シクロアルキル、アリール、−Ｃ(Ｏ)Ｒ5基であり、Ｒ5はアルキル、アルケニル、シクロアルキル、又はアリール基であり、そしてＹは直接結合又は二価の連結基である）。
【請求項６】
Ｒ及びＲ2が、独立して、水素又はメチル若しくはハロ基であり、Ｒ1はシアノ、ニトロ、アリール、ヘテロアリール、−Ｃ(Ｏ)ＯＲ6、又は−Ｃ(Ｏ)Ｒ6基であり、Ｒ6は水素又はアルキル、シクロアルキル、若しくはアリール基であり、Ｒ3及びＲ4が独立して水素又はアルキル、シクロアルキル、アリール、若しくは−Ｃ(Ｏ)Ｒ5基であり、Ｒ5は、炭素原子数１〜４のアルキル基であり、そしてＹが直接結合又はオキシ、チオ、−ＮＲ7−、アルキレン、フェニレン、ヘテロシクリレン、−Ｃ(Ｏ)−、−Ｃ(Ｏ)Ｏ−、若しくはこれらの組み合わせであり、Ｒ7は水素、アルキル、シクロアルキル、又はアリール基である、
請求項５に記載の画像形成性要素。
【請求項７】
Ｒ1が、シアノ、−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3、又は−Ｃ(Ｏ)ＯＣＨ3であり、Ｙが、直接結合又はオキシ、−Ｃ(Ｏ)Ｏ−、−Ｃ(Ｏ)ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、若しくは−Ｃ(Ｏ)ＣＨ2ＣＨ2ＯＣ(Ｏ)ＣＨ2−基であり、そしてＲ3及びＲ4が、独立して水素又はアルキル、フェニル、若しくは−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基である請求項６に記載の画像形成性要素。
【請求項８】
Ｌ1が、炭素−水素単結合又はメチレン、エチレン、若しくはフェニレン基であり、そしてＬ2及びＬ3が、独立して、水素、メチル、エチル、2-ヒドロキシエチル、又は環状−(ＣＨ2)2Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2)−基である請求項１に記載の画像形成性要素。
【請求項９】
ａが０であり、そしてＴ1が水素である請求項８に記載の画像形成性要素。
【請求項１０】
総反復単位を基準として、ｘは約５〜約５０モル％であり、そしてｙは約５０〜約９５モル％である請求項４に記載の画像形成性要素。
【請求項１１】
Ｂが、Ｎ置換型マレイミド、Ｎ置換型(メタ)アクリルアミド、無置換型(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、又は酸性基を有するビニルモノマーのうちの１種又は２種以上から誘導された反復単位を表す請求項４に記載の画像形成性要素。
【請求項１２】
Ｂが、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-(4-カルボキシフェニル)マレイミド、(メタ)アクリル酸、ビニル安息香酸、(メタ)アクリルアミド、及び(メタ)アクリロニトリルのうちの１種又は２種以上から誘導された反復単位を表す請求項９に記載の画像形成性要素。
【請求項１３】
前記輻射線吸収化合物が、少なくとも１０重量％の量で専ら前記内層内に存在しており、そして約７００〜約１２００ｎｍに高い吸光率を有する顔料又はＩＲ色素である赤外線吸収化合物である請求項１に記載の画像形成性要素。
【請求項１４】
前記内層の乾燥塗膜重量が、約０．５〜約２．５ｇ／ｍ2であり、そして外層の乾燥塗膜重量が約０．２〜約２ｇ／ｍ2である請求項１に記載の画像形成性要素。
【請求項１５】
Ａ）  輻射線吸収化合物と親水性表面を有する基板とを含んで成り、前記基板上に順番に：
主鎖及び前記主鎖に結合された下記構造Ｑ基：
【化４】
2009524111.tif 000014
（上記式中、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3は独立して連結基を表し、Ｔ1、Ｔ2、及びＴ3は独立して末端基を表し、そしてａ、ｂ、及びｃは独立して０又は１である）
を含む高分子材料を含む内層と、
インク受容性外層とを有するポジ型の画像形成性要素を熱画像形成させ、
これにより画像形成された領域と非画像形成領域とを有する画像形成された要素を形成すること、
Ｂ）  該画像形成された領域だけを除去するために、前記画像形成された要素とアルカリ性現像剤とを接触させること、そして
Ｃ）  任意選択的に、現像後に前記画像形成された要素をベーキングすること
を含んで成る画像形成方法。
【請求項１６】
前記画像形成された領域が、波長約６００〜約１２００ｎｍの赤外レーザーを使用する好適な赤外線源に、前記画像形成性要素を暴露することにより形成される請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記内層の高分子材料が、下記構造（Ｉ）によって表される請求項１５に記載の方法：
【化５】
2009524111.tif 000015
（上記式中、Ａは、同じか又は異なるＱ基を含む１種又は２種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された反復単位を表し、Ｂは、Ｑ基を含まない１種又は２種以上の異なるエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された反復単位を表し、総反復単位を基準として、ｘは約１〜約７０モル％であり、そしてｙは約３０〜約９９モル％である）。
【請求項１８】
該Ａ反復単位が、下記（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）によって表される請求項１７に記載の方法：
【化６】
2009524111.tif 000016
（上記式中、Ｒ及びＲ2は独立して、水素又はメチル若しくはハロ基であり、Ｒ1はシアノ、ニトロ、アリール、ヘテロアリール、−Ｃ(Ｏ)ＯＲ6、又は−Ｃ(Ｏ)Ｒ6基であり、Ｒ6は水素又はアルキル、シクロアルキル、若しくはアリール基であり、Ｒ3及びＲ4は独立して水素又はアルキル、シクロアルキル、若しくはアリール基であり、そしてＹは直接結合又はオキシ、チオ、−ＮＲ7−、アルキレン、フェニレン、ヘテロシクリレン、−Ｃ(Ｏ)−、−Ｃ(Ｏ)Ｏ−、若しくはこれらの組み合わせであり、Ｒ7は水素又はアルキル、シクロアルキル、若しくはアリール基であり、
Ｂは、Ｎ置換型マレイミド、Ｎ置換型(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、又は酸性基を有するビニルモノマーのうちの１種又は２種以上から誘導された反復単位を表し、
総反復単位を基準として、ｘは約５〜約５０モル％であり、そしてｙは約５０〜約９５モル％である）。
【請求項１９】
Ｒ1が、シアノ、−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3、又は−Ｃ(Ｏ)ＯＣＨ3であり、Ｙが、直接結合又はオキシ、−Ｃ(Ｏ)Ｏ−、−Ｃ(Ｏ)ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、若しくは−Ｃ(Ｏ)ＣＨ2ＣＨ2ＯＣ(Ｏ)ＣＨ2−基であり、そしてＲ3及びＲ4が独立して水素又はアルキル、フェニル、若しくは−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基であり、
Ｂが、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-(4-カルボキシフェニル)マレイミド、(メタ)アクリル酸、ビニル安息香酸、(メタ)アクリルアミド、及び(メタ)アクリロニトリルのうちの１種又は２種以上から誘導された反復単位を表し、
前記外層がフェノール樹脂を含み、そして
前記輻射線吸収化合物が、少なくとも１０重量％の量で専ら前記内層内に存在しており、そして約７００〜約１２００ｎｍに高い吸光率を有する顔料又はＩＲ色素である赤外線吸収化合物である、
請求項１８に記載の画像形成性要素。
【請求項２０】
請求項１５に記載の方法から得られる画像。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、現像及び印刷において使用される化学薬品に対する耐性が改善されたポジ型の画像形成性要素に関する。本発明はまた、平版印刷版及びこれから生じる画像を得るためのこれらの要素の使用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンベンショナルな印刷又は「湿式」平版印刷の場合、画像領域として知られるインク受容領域を親水性表面上に生成させる。表面が水で湿潤され、そしてインクが着けられると、親水性領域は水を保持してインクを弾き、そしてインク受容領域はインクを受容して水を弾く。インクは画像が再現されるべき材料の表面に転写される。例えば、インクは中間ブランケットに先ず転写され、ブランケットは、画像が再現されるべき材料の表面にインクを転写するために使用される。
【０００３】
平版印刷版を調製するのに有用な画像形成性要素は、典型的には、基板の親水性表面上に適用された画像形成性層を含む。画像形成性層は、好適なバインダー中に分散することができる１種又は２種以上の輻射線感光性成分を含む。或いは、輻射線感光性成分はバインダー材料であってもよい。画像形成に続いて、画像形成性層の画像形成された領域又は非画像形成領域が、好適な現像剤によって除去され、下側に位置する親水性の基板表面を露出させる。画像形成された領域が除去される場合には、要素はポジ型と考えられる。逆に、非画像形成領域が除去される場合には、要素はネガ型と考えられる。それぞれの事例において、残される画像形成性層領域（すなわち画像領域）はインク受容性であり、そして、現像プロセスによって露出した親水性表面領域は、水及び水溶液、典型的にはファウンテン溶液を受容し、そしてインクを弾く。
【０００４】
紫外線及び／又は可視線を用いた画像形成性要素の画像形成は、典型的には、透明領域と不透明領域とを有するマスクを通して行われる。画像形成は、透明マスク領域の下側に位置する領域内で行われるが、不透明マスク領域の下側に位置する領域内では行われない。最終画像内に補正が必要となる場合には、新しいマスクを形成しなければならない。このことは、多くの時間がかかるプロセスである。加えて、マスクの寸法は、温度及び湿度の変化により僅かに変化することがある。このように、同じマスクは、異なる時に又は異なる環境で使用すると、異なる結果をもたらすことがあり、見当合わせの問題を招くおそれがある。
【０００５】
ダイレクトデジタル画像形成が、マスクを通した画像形成の必要性を取り除き、印刷産業分野においてますます重要になってきている。平版印刷版を調製するための画像形成性要素が、赤外線レーザーとともに使用するために開発されている。熱画像形成性多層要素は、例えば米国特許第６，２９４，３１１号明細書（Shimazu他）明細書、同第６，３５２，８１２号明細書（Shimazu他）、同第６，５９３，０５５号（Shimazu他）、同第６，３５２，８１１号明細書（Patel他）、同第６，３５８，６６９号明細書（Savariar-Hauck他）、及び同第６，５２８，２２８号明細書（Savariar-Hauck他）、及び米国特許出願公開第２００４／００６７４３２号明細書（Kitson他）に開示されている。
【０００６】
米国特許出願公開第２００５／００３７２８０号明細書（Loccufier他）には、耐薬品性のための改質ノボラック樹脂を含む単一の画像形成層を有する画像形成性要素が記載されている。加えて、同時係属中の同一譲受人による米国特許出願第１１／２０４，７８３号明細書（Ray、McCullough、Tao、及びBeckleyにより2005年8月16日付けで出願）には、画像形成性要素のインク受容性外層において使用するための改質ノボラック樹脂の使用が記載されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
使用中、平版印刷版は、ファウンテン溶液及びインクと接触する。加えて、この要素はしばしば、インクを除去するためのブランケット洗浄液、並びにブランケット及びプレスロールのための種々のクリーニング溶液に曝される。種々のポジ型画像形成性要素の進歩にもかかわらず、印刷機用化学薬品、例えばインク、ファウンテン溶液、及び洗浄液、例えばＵＶ洗浄液中に使用される溶剤に対する耐性を有する画像形成性要素が依然として必要である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、輻射線吸収化合物と親水性表面を有する基板とを含んで成り、前記基板上に順番に：
主鎖及び前記主鎖に結合された下記構造Ｑ基：
【０００９】
【化１】
2009524111.tif 000003
【００１０】
（上記式中、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3は独立して連結基を表し、Ｔ1、Ｔ2、及びＴ3は独立して末端基を表し、そしてａ、ｂ、及びｃは独立して０又は１である）
を含む高分子材料を含む内層と、
インク受容性外層とを有するポジ型の画像形成性要素であって、
但し、熱画像形成時に、前記要素の画像形成された領域が、アルカリ性現像剤によって除去可能である、ポジ型の画像形成性要素を提供する。
【００１１】
別の観点において、本発明は、
Ａ）  輻射線吸収化合物と親水性表面を有する基板とを含んで成り、前記基板上に順番に：
主鎖及び前記主鎖に結合された下記構造Ｑ基：
【００１２】
【化２】
2009524111.tif 000004
【００１３】
（上記式中、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3は独立して連結基を表し、Ｔ1、Ｔ2、及びＴ3は独立して末端基を表し、そしてａ、ｂ、及びｃは独立して０又は１である）
を含む高分子材料を含む内層と、
インク受容性外層とを有するポジ型の画像形成性要素を熱画像形成させ、
これにより画像形成された領域と非画像形成領域とを有する画像形成された要素を形成すること、
Ｂ）  該画像形成された領域だけを除去するために、前記画像形成された要素とアルカリ性現像剤とを接触させること、そして
Ｃ）  任意選択的に、現像後に前記画像形成された要素をベーキングすること
を含んで成る画像形成方法を提供する。
【００１４】
本発明の多層画像形成性要素は、現像及び印刷において使用される化学薬品及び溶剤から生じる種々の層の分解に対する耐性である「耐薬品性」を高めることが見いだされた。この利点は、内層内の前記構造Ｑ基を含有する上記高分子材料の存在によって達成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
定義
文脈が特に示すのでない限り、本明細書中に使用する「画像形成性要素」及び「印刷版前駆体」という用語は、本発明の態様を意味するものとする。
【００１６】
加えて、文脈が特に示すのでない限り、本明細書中に記載された種々の成分、例えば、「内層内の構造Ｑ基を有する高分子材料」、「着色剤」、「塗布用溶剤」、「輻射線吸収化合物」、「界面活性剤」、「フェノール樹脂」、「ベンゾキノンジアジド部分及び／又はナフトキノンジアジド部分を含むモノマー又はポリマー化合物」、「アルカリ性現像剤」、及び同様の用語はまた、このような成分の混合物も意味する。従って、単数を表す冠詞の使用は、単一の成分だけを必ずしも意味するものではない。
特に断りのない限り、全てのパーセンテージは乾燥重量パーセントである。
【００１７】
ポリマーに関連するあらゆる用語の定義を明らかにするために、International Union of Pure and Applied Chemistry(「IUPAC」)によって発行された「Glossary of Basic Terms in Polymer Science(ポリマー科学における基礎用語の解説)」Pure Appl. Chem. 68, 2287-2311(1996)を参照されたい。しかし、本明細書中に記述された定義が支配的なものと考えるべきである。
【００１８】
特に示されない限り、「ポリマー」という用語は、オリゴマーを含む高分子量及び低分子量ポリマーを意味し、ホモポリマー及びコポリマーを含む。
【００１９】
「コポリマー」という用語は、２種又は３種以上の異なるモノマーから誘導されたポリマーを意味する。すなわちこれらは、少なくとも２種の異なる化学構造を有する反復単位を含む。
【００２０】
「主鎖」という用語は、複数のペンダント基が結合されたポリマー中の原子鎖を意味する。このような主鎖の例は、１種又は２種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマーの重合から得られた「全炭素」主鎖である。しかしながら、他の主鎖がヘテロ原子を含むこともでき、この場合、ポリマーは、縮合反応又は何らかの他の手段によって形成される。
【００２１】
用途
本発明の画像形成性要素は多くの方法で使用することができる。好ましい用途は、下でより詳しく説明するような平版印刷版の前駆体としての使用である。しかし、これが、本発明のただ1つの用途であるわけではない。例えば、画像形成性要素は、フォトマスクリソグラフィ及びインプリントリソグラフィにおいて使用することもでき、また化学的に増幅されたレジスト、プリント基板、並びにマイクロ電子デバイス及びマイクロ光学デバイスを形成するために使用することもできる。
【００２２】
画像形成性要素
一般に、本発明の画像形成性要素は、基板と、内層（「下層」としても知られる）と、内層上に配置された外層（「トップ層」としても知られる）とを含む。熱画像形成前には、外層はアルカリ性現像剤によって除去することはできないが、しかし、熱画像形成後には、外層の画像形成された領域は、アルカリ性現像剤によって除去することができる。内層もアルカリ性現像剤によって除去することができる。輻射線吸収化合物、一般には赤外線吸収化合物（下に定義する）が画像形成性要素内に存在する。好ましくはこの化合物は、内層内に存在し、そして任意選択的に内層と外層との間の分離層内にも存在する。
【００２３】
画像形成性要素は、内層組成物を好適な基板に好適に適用することにより形成される。この基板は、未処理又は未塗布の支持体であることが可能であるが、しかし通常は、内層組成物の適用前に下記のような種々の方法で処理又は塗布される。基板は一般に、親水性表面、又は少なくとも外層組成物よりも親水性の表面を有している。基板は、画像形成性要素、例えば平版印刷版を調製するために従来より使用されている任意の材料から構成され得る支持体を含む。基板は通常、シート、フィルム、又はフォイルの形態を成しており、そして強固であり、安定であり、そして可撓性であり、また色記録がフルカラー画像を見当合わせするような使用条件下では寸法変化に対して抵抗性を有する。典型的には、支持体は、高分子フィルム（例えばポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、セルロースエステルポリマー、及びポリスチレンフィルム）、ガラス、セラミック、金属シート又はフォイル、又は剛性紙（樹脂塗布紙及び金属化紙）、又はこれらの材料のうちのいずれかのラミネーション（例えばポリエステルフィルム上へのアルミニウムフォイルのラミネーション）を含むいかなる自立型材料であってもよい。金属支持体は、アルミニウム、銅、亜鉛、チタン及びこれらの合金のシート又はフォイルを含む。
【００２４】
高分子フィルム支持体は、親水性を高めるために「下塗り」層で、一方又は両方の表面を改質することができ、或いは、平坦性を高めるために、紙支持体も同様に塗布されることができる。下塗り層材料の一例としては、アルコキシシラン、アミノ-プロピルトリエトキシシラン、グリシジオキシプロピル-トリエトキシシラン、及びエポキシ官能性ポリマー、並びに、ハロゲン化銀写真フィルム内に使用されるコンベンショナルな親水性下塗り材料（例えばゼラチン、及びその他の天然及び合成型の親水性コロイド、並びに塩化ビニリデンコポリマーを含むビニルポリマー）が挙げられる。
【００２５】
好ましい基板は、物理的グレイニング、電気化学的グレイニング、化学的グレイニング、及び陽極酸化を含む、当業者に知られた技術によって処理することができるアルミニウム支持体から構成される。好ましくは、アルミニウムシートは、電気化学的グレイニング処理にかけられ、そして陽極酸化される。
【００２６】
例えばケイ酸塩、デキストリン、フッ化カルシウムジルコニウム、ヘキサフルオロケイ酸、リン酸塩／フッ化物、ポリ(ビニルホスホン酸)（ＰＶＰＡ）、ビニルホスホン酸コポリマー、ポリ(アクリル酸)、又はアクリル酸コポリマーでアルミニウム支持体を処理することにより、中間層を形成することができる。好ましくは、グレイニング及び陽極酸化が施されたアルミニウム支持体は、表面親水性を改善するために周知の手順を用いてＰＶＰＡで処理される。
【００２７】
基板の厚さは多様であることが可能であるが、しかし、印刷から生じる摩耗に耐えるのに十分な厚さを有し、しかも印刷形態に巻くのに十分に薄くあるべきである。好ましい態様は、厚さ約１００μｍ〜約６００μｍの処理されたアルミニウムフォイルを含む。
【００２８】
基板の裏側（非画像形成側）には、画像形成性要素の取り扱い及び「感触」を改善するために、静電防止剤及び／又はスリップ層又は艶消し層を被覆することができる。
【００２９】
基板は、種々の層組成物が適用された円筒形表面であってもよく、ひいては印刷機の一体部分であってもよい。このような画像形成された胴の使用は、例えば米国特許第５，７１３，２８７号明細書（Gelbart）に記載されている。
【００３０】
内層
内層は、外層と基板との間に配置されており、そして典型的には上記基板上に直接的に配置されている。内層は、主鎖を含み、そして主鎖に下記構造Ｑ基：
【００３１】
【化３】
2009524111.tif 000005
【００３２】
（上記式中、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3は独立して連結基を表し、Ｔ1、Ｔ2、及びＴ3は独立して末端基を表し、そしてａ、ｂ、及びｃは独立して０又は１である）が結合されている高分子材料を含む。
【００３３】
より具体的には、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3のそれぞれは独立して、炭素原子数１〜４の置換型又は無置換型アルキレン（例えばメチレン、1,2-エチレン、1,1-エチレン、n-プロピレン、イソ-プロピレン、t-ブチレン、及びn-ブチレン基）、環内炭素原子数５〜７の置換型シクロアルキレン（例えばシクロペンチレン及び1,4-シクロヘキシレン）、芳香環内炭素原子数６〜１０の置換型又は無置換型アリーレン（例えば1,4-フェニレン、ナフチレン、2-メチル-1,4-フェニレン、及び4-クロロ-1,3-フェニレン基）、又は環内炭素原子数５〜１０及びヘテロ原子（窒素、酸素、又は硫黄原子）数１又は２以上の置換型又は無置換型の芳香族又は非芳香族二価複素環式基（例えばピリジレン、ピラジレン、ピリミジレン、又はチアゾリレン基）、又はこれらの二価の連結基のうちの２つ又は３つ以上の任意の組み合わせである。或いは、Ｌ2及びＬ3は一緒になって、炭素環又は複素環構造を形成するのに必要な原子を表すことができる。好ましくは、Ｌ1は、炭素−水素単結合又はメチレン、エチレン若しくはフェニレン基であり、そしてＬ2及びＬ3は独立して、水素、メチル、エチル、2-ヒドロキシエチル、又は環状−(ＣＨ2)2Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2)−基である。
【００３４】
Ｔ1、Ｔ2、及びＴ3は独立して末端基、例えば水素、又は炭素原子１〜１０の置換型又は無置換型アルキル基（例えばメチル、エチル、イソ-プロピル、t-ブチル、n-ヘキシル、メトキシメチル、フェニルメチル、ヒドロキシエチル、及びクロロエチル基）、炭素原子２〜１０の置換型又は無置換型アルケニル基（例えばエテニル及びヘキセニル基）、置換型又は無置換型アルキニル基（例えばエチニル及びオクチニル基）、環内炭素原子数５〜７の置換型又は無置換型シクロアルキル基（例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、及びシクロヘプチル基）、環内に炭素原子及び１又は２以上のヘテロ原子を有する置換型又は無置換型複素環式基（芳香族又は非芳香族の両方）（例えばピリジル、ピラジル、ピリミジル、チアゾリル、及びインドリル基）、及び環内炭素原子数６〜１０の置換型又は無置換型アリール基（例えばフェニル、ナフチル、3-メトキシフェニル、ベンジル、及び4-ブロモフェニル基）である。或いはＴ2及びＴ3は一緒になって、縮合環を含有することもできる環状構造を形成するのに必要な原子を表す。加えて、「ａ」は０であるとき、そしてＴ3は水素ではない。
【００３５】
いくつかの態様の場合、構造Ｑ基は、ポリマー主鎖内のα-炭素原子に直接的に結合されており、α-炭素原子にはまた、電子求引基が結合されていることが可能である。他の態様の場合、構造Ｑ基は、連結基を介してポリマー主鎖に間接的に結合されている。
【００３６】
これらのポリマー材料は、米国特許出願公開第２００５／００３７２８０号明細書（上記）に記載されているように、ポリマー前駆体中のα-水素と、アルデヒド基を含む第１化合物及びアミン基を含む第２化合物と反応させることにより調製することができる。
【００３７】
これらの高分子材料は、２つ以上のタイプの置換型構造Ｑ基を含有することができる。種々異なる構造Ｑ基は、ヒドロキシ含有ポリマーとの反応に際して、順次に、又は相異なる第１化合物と第２化合物との混合物として内蔵することができる。構造Ｑ基の量及びタイプは、結果として得られる改質樹脂バインダーの、アルカリ性現像剤中の溶解度によってのみ制限される。一般に、少なくとも１モル％から９９モル％までの高分子材料反復単位が、同じか又は異なる構造Ｑ基を含む。
【００３８】
より好ましくは、内層の高分子材料は、下記構造（Ｉ）によって表すことができる：
【００３９】
【化４】
2009524111.tif 000006
【００４０】
（上記式中、Ａは、同じか又は異なるＱ基を含む１種又は２種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された反復単位を表し、Ｂは、Ｑ基を含まない１種又は２種以上の異なるエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された反復単位を表す）。
【００４１】
より具体的には、Ａ反復単位は、下記（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）によって表すことができる：
【００４２】
【化５】
2009524111.tif 000007
【００４３】
上記式中、Ｒ及びＲ2は独立して、水素又はハロ（例えばフルオロ、クロロ、又はブロモ）、炭素原子数１〜７の置換型若しくは無置換型アルキル（例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソ-プロピル、又はベンジル）、又は置換型若しくは無置換型フェニル基（例えば4-メチルフェニル）である。好ましくは、Ｒ及びＲ2は独立して、水素、又はメチル若しくはハロ基であり、そしてより好ましくはこれらは独立して、水素又はメチルである。
【００４４】
Ｒ1は、一例としてシアノ、ニトロ、炭素環内炭素原子数６〜１０の置換型又は無置換型アリール基、複素環内の炭素、硫黄、酸素、又は窒素原子数５〜１０の置換型又は無置換型ヘテロアリール基、−Ｃ(Ｏ）ＯＲ6、及び−Ｃ(Ｏ）Ｒ6基であり、Ｒ6は水素、又は炭素原子数１〜４の置換型若しくは無置換型アルキル（例えばメチル、エチル、n-プロピル、t-プロピル）、置換型若しくは無置換型シクロアルキル（例えば置換型又は無置換型シクロヘキシル）、又は置換型若しくは無置換型アリール基（例えば置換型又は無置換型フェニル）を含む、上に定義した電子求引基である。シアノ、ニトロ、−Ｃ(Ｏ)ＯＲ6、及び−Ｃ(Ｏ)Ｒ6基が好ましく、そしてシアノ、−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3、及び−Ｃ(Ｏ)ＯＣＨ3が最も好ましい。
【００４５】
Ｒ3及びＲ4は独立して水素、炭素原子数１〜６の置換型若しくは無置換型アルキル（例えばメチル、エチル、n-プロピル、t-ブチル、n-ヘキシル）、炭素原子数５又は６の置換型若しくは無置換型シクロアルキル（例えばシクロヘキシル）、炭素原子数６〜１０の置換型若しくは無置換型アリール基（例えば置換型又は無置換型フェニル、4-メチルフェニル、及びナフチル）、又は−Ｃ(Ｏ)Ｒ5基であり、Ｒ5は、置換型又は無置換型アルキル基（Ｒ3及びＲ4に関して上に定義した通り）、炭素原子数２〜８の置換型又は無置換型アルケニル（例えばエテニル及び1,2-プロペニル）、置換型又は無置換型シクロアルキル（Ｒ3及びＲ4に関して上に定義した通り）、置換型又は無置換型アリール基（Ｒ3及びＲ4に関して上に定義した通り）である。好ましくは、Ｒ3及びＲ4は独立して水素又は上に定義した置換型若しくは無置換型のアルキル、シクロアルキル、アリール、若しくは−Ｃ(Ｏ)Ｒ5基であり、Ｒ5は、炭素原子数１〜４のアルキル基である。より好ましくは、Ｒ3及びＲ4は独立して水素又は炭素原子数１〜４の置換型若しくは無置換型のアルキル、フェニル、若しくは−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基である。
【００４６】
Ｙは直接結合又は二価の連結基である。有用な二価の連結基の一例としては、オキシ、チオ、−ＮＲ7−、置換型若しくは無置換型アルキレン、置換型若しくは無置換型フェニレン、置換型若しくは無置換型ヘテロシクリレン、−Ｃ(Ｏ)−、−Ｃ(Ｏ)Ｏ−、又はこれらの組み合わせが挙げられ、Ｒ7は水素、又はＲ3及びＲ4に関して上に定義した置換型若しくは無置換型アルキル、置換型若しくは無置換型シクロアルキル、又は置換型若しくは無置換型アリール基である。
【００４７】
好ましくは、Ｙは、直接結合、又はオキシ、−Ｃ(Ｏ)Ｏ−、−Ｃ(Ｏ)ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、若しくは−Ｃ(Ｏ)ＣＨ2ＣＨ2ＯＣ(Ｏ)ＣＨ2−基である。
【００４８】
構造Ｉにおいて、総反復単位を基準として、ｘは約１〜約７０モル％であり、そしてｙは約３０〜約９９モル％である。好ましくは、総反復単位を基準として、ｘは約５〜約５０モル％であり、そしてｙは約５０〜約９５モル％である。
【００４９】
また構造Ｉにおいて、Ｂは、種々様々なエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された反復単位を表すことができる。具体的に有用な反復単位は、１種又は２種以上のＮ置換型マレイミド、Ｎ置換型(メタ)アクリルアミド、無置換型(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、又は酸性基を有するビニルモノマーから誘導され、そしてより好ましくは、１種又は２種以上のN-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-(4-カルボキシフェニル)マレイミド、(メタ)アクリル酸、ビニル安息香酸、(メタ)アクリルアミド、及び(メタ)アクリロニトリルから誘導される。これらのモノマーのうちのいくつかは、複数のタイプの「Ｂ」反復単位を提供するために共重合することができる。Ｂ反復単位の特に有用な組み合わせは、メタクリル酸、メタクリルアミド、及びN-フェニルマレイミドのうちの２種又は３種以上から誘導された組み合わせを含む。
【００５０】
構造Ｑ基を有する上記高分子材料は一般に、総反復単位を基準として５０〜９９重量％であり、そして有利には７０〜９５重量％の被覆量で、内層内に存在する。
【００５１】
好ましくは、内層はさらに、６００〜１２００ｎｍ、そして好ましくは７００〜１２００ｎｍの輻射線を吸収し、３００〜６００ｎｍに最小吸収を示す輻射線吸収化合物（好ましくは赤外線吸収化合物）を専ら含む。この化合物(「光熱変換材料」として知られることがある）は輻射線を吸収し、そしてこれを熱に変換する。この化合物は色素又は顔料であってよい。有用な顔料の例は、ProJet 900、ProJet 860、及びProJet 830（全てZeneca Corporationから入手可能）である。光熱変換材料は高温体で画像形成するのに必要というわけではないが、光熱変換材料を含有する画像形成性要素を、高温体、例えばサーマルヘッド又はサーマルヘッドアレイで画像形成することもできる。
【００５２】
有用なＩＲ吸収化合物はまた、当業者によく知られているように可溶化基で表面官能化されたカーボンブラックを含むカーボンブラックを含む。親水性、非イオン性ポリマーにグラフトされるカーボンブラック、例えばFX-GE-003（Nippon Shokubai製）、又はアニオン基で表面官能化されたカーボンブラック、例えばCAB-O-JET（登録商標）200又はCAB-O-JET（登録商標）300（Cabot Corporation製）も有用である。
【００５３】
不溶性材料による現像剤のスラッジ形成を防止するために、ＩＲ色素（特にアルカリ性現像剤中に可溶性の色素）がより好ましい。好適なＩＲ色素の一例としては、アゾ色素、スクアリリウム色素、クロコネート色素、トリアリールアミン色素、チアゾリウム色素、インドリウム色素、オキソノール色素、オキサキソリウム色素、シアニン色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、インドシアニン色素、インドアニリン色素、メロスチリル色素、インドトリカルボシアニン色素、オキサトリカルボシアニン色素、チオシアニン色素、チアトリカルボシアニン色素、メロシアニン色素、クリプトシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポリアニリン色素、ポリピロール色素、ポリチオフェン色素、カルコゲノピリロアリーリデン及びビ(カルコゲノピリロ)ポリメチン色素、オキシインドリジン色素、ピリリウム色素、ピラゾリンアゾ色素、オキサジン色素、ナフトキノン色素、アントラキノン色素、キノンイミン色素、メチン色素、アリールメチン色素、スクアリン色素、オキサゾール色素、クロコニン色素、ポルフィリン色素、及び前記色素クラスの任意の置換形態又はイオン形態が挙げられる。好適な色素はまた、米国特許第６，２９４，３１１号明細書（上記）、及び同第５，２０８，１３５号明細書（Patel他）を含む数多くの刊行物、及びこれらに引用された参考文献にも記載されている。
【００５４】
有用なIR吸収化合物の例は、ADS-830A及びADS-1064（カナダ国ケベック州Baie D'Urfe在、American Dye Source）、EC2117（ドイツ国Wolfen在、FEW）、Cyasorb（登録商標）IR 99及びCyasorb（登録商標）IR 165（フロリダ州Lakeland在、GPTGlendale Inc.）、及び下記例に使用されたＩＲ吸収色素Ａを含む。
【００５５】
近赤外線吸収シアニン色素も有用であり、そして例えば米国特許第６，３０９，７９２号明細書（Hauck他）、同第６，２６４，９２０号明細書（Achilefu他）、同第６，１５３，３５６号明細書（Urano他）、同第５，４９６，９０３号明細書（Watanate他）に記載されている。好適な色素は、コンベンショナルな方法及び出発材料を用いて形成することができ、或いは、American Dye Source（カナダ国）及びFEW Chemicals（ドイツ国）を含む種々の商業的供給元から得ることができる。近赤外線ダイオードレーザービームのための他の有用な色素が、例えば米国特許第４，９７３，５７２号明細書（DeBoer）に記載されている。
【００５６】
低分子量ＩＲ吸収色素に加えて、ポリマーに結合されたＩＲ色素部分を使用することもできる。さらに、ＩＲ色素カチオンを使用することができ、すなわち、このカチオンは、カルボキシ、スルホ、ホスホル、又はホスホノ基を側鎖内に含むポリマーとイオン相互作用する色素塩のＩＲ吸収部分である。
【００５７】
輻射線吸収化合物は、内層総乾燥重量を基準として、一般に少なくとも１０％から３０％までの量で、そして好ましくは１２〜２５％の量で存在することができる。所与のＩＲ吸収化合物の具体的な所要量は、当業者によって容易に決定することができる。
【００５８】
内層は、他の成分、例えば界面活性剤、分散助剤、保湿剤、殺生物剤、粘度形成剤、乾燥剤、消泡剤、保存剤、抗酸化剤、着色剤、及びその他のポリマー、例えばノボラック、レゾール、又は活性化メチロール及び／又は活性化アルキル化メチロール基を有する樹脂を含むことができる。
【００５９】
内層の乾燥塗膜被覆量は一般に、０．５〜２．５ｇ/ｍ2、そして好ましくは１〜２ｇ/ｍ2である。
【００６０】
外層
外層は内層の上に配置されており、そして好ましい態様の場合、内層と外層との間には中間層はない。外層は、熱暴露に続いて現像剤中に可溶性又は分散性になる。外層は典型的には、ポリマーバインダーとして知られる１種又は２種以上のインク受容性高分子材料、溶解抑制剤、又は着色剤を含む。或いは、又は加えて、ポリマーバインダーは極性基を含み、そしてバインダー及び溶解抑制剤の両用として作用する。外層は好ましくは、輻射線吸収化合物を実質的には含まず、このことは、これらの化合物のいずれも外層内に意図的に内蔵されることはなく、そして他の層から外層内に拡散する量は実体のないものであることを意味する。
【００６１】
従来技術の多層熱画像形成性要素の外層内に従来使用されているのであれば、画像形成性要素内にいずれのポリマーバインダーも採用することができる。例えば、バインダー材料は、同第６，３５８，６６９号明細書（Savariar-Hauck他）、同第６，５５５，２９１号明細書（Hauck）、同第６，３５２，８１２号明細書（Shimazu他）、同第６，３５２，８１１号明細書（Patel他）、同第６，２９４，３１１号明細書（Shimazu他）、同第６，８９３，７８３号明細書（Kitson他）、同第６，６４５，６８９号明細書（Jarek）、米国特許出願公開第２００３／０１０８８１７号明細書（Patel他）、及び同第２００３／０１６２，１２６号明細書（Kitson他）、及び国際公開第２００５／０１８９３４号パンフレット（Kitson他）に記載されているもののうちの１種又は２種以上であってよい。
【００６２】
好ましくは、外層内のポリマーバインダーは、多数のフェノールヒドロキシル基を有する、非感光性、水不溶性、水性アルカリ性現像剤可溶性の皮膜形成フェノール樹脂である。フェノール樹脂は、ポリマー主鎖上又はペンダント基上に多数のフェノールヒドロキシル基を有している。ペンダントフェノール基を含有するノボラック樹脂、レゾール樹脂、ペンダントフェノール基を含有するアクリル樹脂、及びポリビニルフェノール樹脂が好ましいフェノール樹脂である。ノボラック樹脂がより好ましい。
【００６３】
ノボラック樹脂は商業的に入手可能であり、そして当業者によく知られている。ノボラック樹脂は典型的には、フェノール、例えばフェノール、m-クレゾール、o-クレゾール、p-クレゾールなどと、アルデヒド、例えばホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなど、又はケトン、例えばアセトンとを酸触媒の存在において縮合反応させることにより調製される。重量平均分子量は典型的には、約１，０００〜１５，０００である。典型的なノボラック樹脂は例えば、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール-ホルムアルデヒド樹脂、フェノール-クレゾール-ホルムアルデヒド樹脂、p-t-ブチルフェノール-ホルムアルデヒド樹脂、及びピロガロール-アセトン樹脂を含む。特に有用なノボラック樹脂は、m-クレゾール、m-クレゾール及びp-クレゾールの混合物、又はフェノールとホルムアルデヒドとを、当業者によく知られた条件を用いて反応させることにより調製される。
【００６４】
溶剤可溶性ノボラック樹脂は、外層を形成するために塗布することができる塗布用溶液を形成するのに十分に、塗布用溶剤中に可溶性である樹脂である。いくつかの例において、一般的な塗布用溶剤、例えばアセトン、テトラヒドロフラン、及び1-メトキシプロパン-2-オール中のその溶解度を維持する最高の重量平均分子量を有するノボラック樹脂を使用することが好ましい場合がある。例えばm-クレゾールだけを含むノボラック樹脂（すなわち、少なくとも９７モル%のm-クレゾールを含有する樹脂）、及び重量平均分子量が少なくとも１０，０００、好ましくは少なくとも２５，０００の、１０モル％までのp-クレゾールを有するm-クレゾール／p-クレゾールノボラック樹脂を含む、ノボラック樹脂を含む外層を使用することができる。重量平均分子量が８，０００から２５，０００までの、少なくとも１０モル％のm-クレゾールを有するm-クレゾール／p-クレゾールノボラック樹脂を含む外層を使用することもできる。いくつかの態様の場合、溶剤濃縮によって調製されるノボラック樹脂が望ましい。これらの樹脂を含む外層が、例えば米国特許第６，８５８，３５９号明細書（Kitson他）に開示されている。
【００６５】
他の有用なポリ(ビニルフェノール)樹脂は、１種又は２種以上のヒドロキシフェニル含有モノマー、例えばヒドロキシスチレン及びヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートのポリマーを含む。ヒドロキシ基を含有しない他のモノマーを、ヒドロキシ含有モノマーと共重合することができる。これらの樹脂は、周知の反応条件を用いて、ラジカル開始剤又はカチオン性重合開始剤の存在において、モノマーのうちの１種又は２種以上を重合することにより調製することができる。ノボラック樹脂に関して上述したように測定して、これらのポリマーの重量平均分子量（ＭW）は、１０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌであり、より好ましくは１，５００〜５０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【００６６】
有用なヒドロキシ含有ポリマーの例は、ALNOVOL SPN452、SPN400、HPN100（Clariant GmbH）、DURITE PD443、SD423A、SD126A（Borden Chemical, Inc.）、BAKELITE 6866LB02、AG、6866LB03（Bakelite AG）、KR 400/8（Koyo Chemicals Inc.）、HRJ 1085、及び2606（Schenectady International, Inc.）、及びLyncur CMM（Siber Hegner）を含み、これら全ては米国特許出願公開第２００５／００３７２８０号（上記）に記載されている。特に有用なポリマーは、下記例に関して記載されたPD-140Aである。
【００６７】
外層は、上記フェノール樹脂に加えて、又はこの樹脂の代わりに、皮膜形成バインダー材料として非フェノール高分子材料を含むこともできる。このような非フェノール高分子材料は、無水マレイン酸と１種又は２種以上のスチレンモノマー（すなわち、スチレン、及びベンゼン環上に種々の置換基を有するスチレン誘導体）とから形成されたポリマー、メチルメタクリレートと１種又は２種以上のカルボキシ含有モノマーとから形成されたポリマー、及びこれらの混合物を含む。これらのポリマーは、上記モノマーから誘導された反復単位、同様に、追加ではあるが任意選択ののモノマー［例えば(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、及び(メタ)アクリルアミド］から誘導された反復単位を含むことができる。
【００６８】
無水マレイン酸から誘導されたポリマーは一般に、無水マレイン酸から誘導された１〜５０モル％の反復単位と、その残余の、スチレンモノマーと任意選択の追加の重合性モノマーとから誘導された反復単位とを含む。
【００６９】
メチルメタクリレートとカルボキシ含有モノマーとから形成されたポリマーは一般に、メチルメタクリレートから誘導された８０〜９８モル％の反復単位を含む。カルボキシ含有反復単位は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、及び当業者に知られている同様のモノマーから誘導することができる。
【００７０】
外層は、エポキシ当量約１３０〜約１０００（好ましくは約１４０〜約７５０）を提供するのに十分なペンダントエポキシ基を有する１種又は２種以上のポリマーバインダーを含むこともできる。「エポキシ当量」とは、ポリマーの重量（グラム）を、ポリマー中のエポキシ基の等価数（モル数）で割り算したものを意味する。縮合ポリマー、アクリル樹脂、及びウレタン樹脂を含む、必要なペンダントエポキシ基を含有するいずれの皮膜形成ポリマーも使用することができる。ペンダントエポキシ基は、ポリマーを形成するために使用される重合性モノマー又は反応性成分の一部であってよく、或いは、ペンダントエポキシ基は既知の手順を用いて重合後に添加することもできる。好ましくは、外層は、少なくとも１つのモノマーが同時係属中の同一譲受人による米国特許出願第１１／２５７，８６４号明細書（Huang、Saraiya、Kitson、Sheriff、及びKrebsにより2005年10月25日付けで出願）に記載されているもののようなペンダントエポキシ基を含む、１種又は２種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された１種又は２種以上のアクリル樹脂を含む。
【００７１】
このタイプの特に有用なポリマーは、カルボン酸エステル基を介してポリマー主鎖に結合されたペンダントエポキシ基、例えば置換型又は無置換型の−Ｃ(Ｏ)Ｏ−アルキレン、−Ｃ(Ｏ)Ｏ−アルキレン−フェニレン、又は−Ｃ(Ｏ)Ｏ−フェニレン基を有し、アルキレンの炭素原子数は１〜４である。これらのポリマーバインダーを形成するために有用なペンダントエポキシ基を有する好ましいエチレン系不飽和型重合性モノマーは、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメタクリレート、及び3,4-エポキシシクロヘキシルアクリレートを含む。
【００７２】
エポキシ含有ポリマーは、ペンダントエポキシ基を有さない１種又は２種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマー、例えば(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルケトン、オレフィン、不飽和型イミド（例えばマレイミド）、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、(メタ)アクリロニトリル、及びスチレンモノマーから誘導された反復単位を含むこともできる。これらのうち、(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、及びスチレンモノマーが好ましく、そしてスチレンモノマーが最も好ましい。例えば、メタクリルアミド、アクリロニトリル、マレイミド、ビニルアセテート、又はN-ビニルピロリドンとの組み合わせにおいて、スチレンモノマーを使用することもできる。
【００７３】
好ましくは、外層は、ペンダントエポキシ基のための硬化剤として作用する化合物を含まないが、しかしいくつかの態様の場合、コンベンショナルな硬化剤が存在することが可能である。
【００７４】
１種又は２種以上のポリマーバインダーは、少なくとも６０重量％、好ましくは６５〜９９．５重量％の量で外層内に存在する。
【００７５】
外層は一般にそして任意選択的に、バインダーのための溶解抑制成分として機能する溶解抑制剤を含む。溶解抑制剤は一般に、例えばバインダーのヒドロキシル基との、水素結合のための受容体部位として作用すると考えられる極性官能基を有する。現像剤中に可溶性の溶解抑制剤が最も好適である。或いは又は加えて、ポリマーバインダーは、溶解抑制剤として機能する溶解抑制極性基を含んでよい。
【００７６】
有用な溶解抑制剤化合物は例えば、米国特許第５，７０５，３０８号明細書（West他）、同第６，０６０，２２２号明細書（West他）、及び同第６，１３０，０２６号明細書（Bennett他）に記載されている。
【００７７】
溶解抑制剤として有用な正電荷（すなわち四級化）窒素原子を含有する化合物は、例えばテトラアルキルアンモニウム化合物、キノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合物、ピリジニウム化合物、及びイミダゾリウム化合物を含む。代表的なテトラアルキルアンモニウム溶解抑制剤化合物は、臭化テトラプロピルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラプロピルアンモニウム、及び塩化トリメチルアルキルアンモニウム、及び臭化トリメチルアルキルアンモニウム、例えば臭化トリメチルオクチルアンモニウム、及び塩化トリメチルデシルアンモニウムを含む。代表的なキノリニウム溶解抑制剤化合物は、1-エチル-2-メチルキノリニウムヨージド、1-エチル-4-メチルキノリニウムヨージド、及びキノリニウム部分、例えばキノルジンブルーを含むシアニン色素を含む。代表的なベンゾチアゾリウム化合物は、3-エチル-2(3H)-ベンゾチアゾリリデン)-2-メチル-1-(プロペニル)ベンゾチアゾリウムカチオン性色素、及び3-エチル-2-メチルベンゾチアゾリウムヨージドを含む。
【００７８】
溶解抑制剤化合物としてジアゾニウム塩が有用であり、このジアゾニウム塩は例えば置換型及び無置換型のジフェニルアミンジアゾニウム塩、例えばメトキシ置換型ジフェニルアミンジアゾニウムヘキサフルオロボレートを含む。溶解抑制剤化合物として有用な代表的なスルホン酸エステルは、エチルベンゼンスルホネート、n-ヘキシルベンゼンスルホネート、エチルp-トルエンスルホネート、t-ブチルp-トルエンスルホネート、及びフェニルp-トルエンスルホネートを含む。代表的なリン酸エステルは、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、及びトリクレシルホスフェートを含む。有用なスルホンは、芳香族基を含むスルホン、例えばジフェニルスルホンを含む。有用なアミンは、芳香族基を含むアミン、例えばジフェニルアミン及びトリフェニルアミンを含む。
【００７９】
溶解抑制剤化合物として有用なケト含有化合物は、例えば、アルデヒド、ケトン、特に芳香族ケトン、及びカルボン酸エステルを含む。代表的な芳香族ケトンは、キサントン、フラバノン、フラボン、2,3-ジフェニル-1-インデノン、1'-(2'-アセトナフトニル)ベンゾエート、2,6-ジフェニル-4H-ピラン-4-オン、及び2,6-ジフェニル-4H-チオピラン-4-オンを含む。代表的なカルボン酸エステルはエチルベンゾエート、n-ヘプチルベンゾエート、及びフェニルベンゾエートを含む。
【００８０】
容易に入手可能な他の溶解抑制剤は、トリアリールメタン色素、例えばエチルバイオレット、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーン、ブリリアントグリーン、ビクトリアブルーＢ、ビクトリアブルーＲ、及びビクトリアピュアブルーＢＯ、BASONYL（登録商標）バイオレットである。これらの化合物は、現像された画像形成性要素内の非画像形成領域を画像形成された領域から区別するコントラスト色素として作用することもできる。
【００８１】
溶解抑制剤が外層内に存在する場合には、溶解抑制剤は外層の乾燥重量を基準として、典型的には少なくとも０．１重量％、より一般的には０．５〜３０重量％、そして好ましくは１〜１５重量％を占める。
【００８２】
或いは又は加えて、外層内のポリマーバインダーは、高分子材料中に存在するヒドロキシ基との水素結合のための受容体部位として作用し、ひいてはバインダー及び溶解抑制剤の両方として作用する極性基を含むこともできる。これらの誘導体化高分子材料は外層内で単独で使用することができ、或いは、他の高分子材料及び／又は溶解抑制成分と組み合わせることもできる。誘導体化のレベルは、高分子材料が溶解抑制剤として作用するのに十分に高くあるべきであるが、しかし、熱画像形成に続いて、高分子材料が現像剤中に可溶性ではなくなるほどには高くあるべきでない。必要となる誘導体化度は、高分子材料の性質、及び高分子材料中に導入される極性基を含有する部分の性質に依存するが、典型的には０．５モル％〜５モル％、好ましくは１モル％〜３モル％のヒドロキシル基が誘導体化されることになる。
【００８３】
極性基を含み、そして溶解抑制剤として機能する１群の高分子材料は、フェノールヒドロキシル基の一部がスルホン酸エステル、好ましくはフェニルスルホネート、又はp-トルエンスルホネートに変換されている誘導体化フェノール高分子材料である。誘導体化は、第三アミンのような塩基の存在において、高分子材料と、例えば塩化スルホニル（例えば塩化p-トルエンスルホニル）とを反応させることにより実施することができる。有用な材料は、約１〜約３モル％のヒドロキシル基がフェニルスルホン酸又はp-トルエンスルホン酸（トシル)基に変換されているノボラック樹脂である。
【００８４】
極性基を含み、そして溶解抑制剤として機能する別の高分子材料群は、ジアゾナフトキノン部分を含有する誘導体化フェノール樹脂である。高分子ジアゾナフトキノン化合物は、ジアゾナフトキノン部分を含有する反応性誘導体と、好適な反応基、例えばヒドロキシル又はアミノ基を含有する高分子材料とを反応させることにより形成された誘導体化樹脂を含む。ジアゾナフトキノン部分を含有する化合物によるフェノール樹脂の誘導体化は、当業者に知られており、そして例えば米国特許第５，７０５，３０８号明細書及び同第５，７０５，３２２号明細書(両方ともWest他)に記載されている。ジアゾナフトキノン部分を含む化合物により誘導体化された樹脂の一例は、P-3000（フランス国、PCASから入手可能）であり、ピロガロール／アセトン樹脂のナフトキノンジアジドである。
【００８５】
赤外線による画像形成中のアブレーションを低減するために、外層は輻射線吸収化合物を実質的に含まない。すなわち、外層内の輻射線吸収化合物は、もしあるならば、画像形成輻射線の１０％未満、好ましくは画像形成輻射線の３％未満を吸収し、また、外層によって吸収される画像形成輻射線の量は、もしあるとしても、外層のアブレーションを引き起こすには十分ではない。
【００８６】
外層は他の成分、例えば界面活性剤、分散助剤、保湿剤、殺生物剤、粘度形成剤、乾燥剤、消泡剤、保存剤、抗酸化剤、着色剤、及びコントラスト色素を含むこともできる。塗膜界面活性剤が特に有用である。
【００８７】
外層の乾燥塗膜被覆量は一般に、０．２〜２ｇ／ｍ2であり、そして好ましくは０．４〜１ｇ／ｍ2である。
【００８８】
好ましいものではないが、内層と外層との間に分離層が配置されていてよい。この分離層（又は中間層）は、内層から外層内への輻射線吸収化合物の移動を最小限にするためのバリヤとして作用することができる。この中間層は一般に、アルカリ性現像剤中に可溶性の高分子材料を含む。このタイプの好ましい高分子材料は、ポリ(ビニルアルコール)である。一般に、中間層は内層の５分の１未満の厚さであるべきであり、そして好ましくは外層の１０分の１未満の厚さであるべきである。
【００８９】
画像形成性要素の調製
画像形成性要素は、基板の表面（及びその上に設けられた任意の他の親水性層）上に内層配合物を順次適用し、次いでコンベンショナルな塗布法又はラミネーション法を用いて、内層上に外層配合物を適用することによって調製することができる。内層配合物と外層配合物との混和を回避することが重要である。
【００９０】
内層及び外層は、好適な塗布用溶剤中に所期成分を分散又は溶解させることにより適用することができ、そしてその結果生じた配合物は、好適な装置及び手順、例えばスピン塗布、ナイフ塗布、グラビア塗布、ダイ塗布、スロット塗布、バー塗布、ワイヤロッド塗布、ローラ塗布、又は押し出しホッパー塗布を用いて、基板に順次又は同時に適用される。配合物は、好適な支持体（例えば機上(on-press)印刷シリンダ）上に噴霧することにより適用することもできる。
【００９１】
内層及び外層の両方を塗布するために使用される溶剤は、配合物中の高分子材料及びその他の成分の性質に応じて選択される。外層配合物を適用するときに、内層配合物と外層配合物とが混ざり合うこと、又は内層が溶解することを防止するために、外層配合物は、内層の高分子材料が不溶性である溶剤から塗布されるべきである。一般に、内層配合物は、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）と、1-メトキシプロパン-2-オールと、γ-ブチロラクトンと、水との溶剤混合物、ジエチルケトン（ＤＥＫ）と、水と、乳酸メチルと、γ-ブチロラクトンとの混合物、又は乳酸メチルと、メタノールと、ジオキソランとの混合物から塗布される。外層配合物は一般に、ＤＥＫ、又はＤＥＫと1-メトキシ-2-プロピルアセテートとの混合物、1,3-ジオキソランと、1-メトキシプロパン-2-オール（又はDowanol PM又はPGME）と、γ-ブチロラクトンと、水との混合物、又はＭＥＫとDowanol PMとの混合物から塗布される。
【００９２】
或いは、それぞれの層組成物の溶融混合物からコンベンショナルな押し出し塗布法によって内層及び外層を適用することもできる。典型的には、このような溶融混合物は、揮発性有機溶剤を含有しない。
【００９３】
他の配合物の塗布前に溶剤を除去するために、種々の層配合物の適用間に、中間乾燥工程を用いることができる。乾燥工程は、種々の層の混和を防止するのを助けることもできる。
【００９４】
本発明の画像形成性要素を調製する代表的な方法を下記例において示す。
【００９５】
画像形成性要素は、例えば印刷版前駆体、印刷胴、印刷スリーブ、及び印刷テープ（可撓性印刷ウェブを含む）を含むいかなる有用な形態をも有することができる。好ましくは、画像形成性部材は、平版印刷版を提供するのに有用な印刷版前駆体である。
【００９６】
印刷版前駆体は、好適な基板上に配置された所要の内層及び外層を有する、任意の有用なサイズ及び形状（例えば正方形又は長方形）から成ることができる。印刷胴及びスリーブは、円筒形態の基板と内層及び外層とを有する回転印刷部材として知られる。印刷スリーブのための基板として、中空又は中実の金属コアを使用することができる。
【００９７】
画像形成及び現像
使用中、画像形成性要素は、波長６００〜１２００ｎｍ、好ましくは７００〜１２００ｎｍのレーザーを使用して、好適な画像形成輻射線源（例えば赤外線）に暴露される。本発明の画像形成部材に露光を施すために使用されるレーザーは、ダイオードレーザーシステムの信頼性及びメンテナンスの手間の少なさにより、好ましくはダイオードレーザーであるが、しかし他のレーザー、例えば気体又は固体レーザーを使用することもできる。レーザー画像形成のための出力、強度、及び露光時間の組み合わせは、当業者には容易に明らかである。目下、商業的に入手可能な画像セッターにおいて使用される高性能レーザー又はレーザーダイオードは、波長８００〜８５０ｎｍ又は１０４０〜１１２０ｎｍの赤外線を放射する。
【００９８】
画像形成装置は、プレートセッターとしてだけ機能することができ、或いは、平版印刷印刷機内にこれを直接的に内蔵することもできる。後者の場合、印刷は画像形成直後に開始することができ、これにより印刷機準備時間をかなり軽減することができる。画像形成装置は、画像形成性部材をドラムの内側又は外側の円筒面に装着した状態で、フラットベッド型記録器として、又はドラム型記録器として構成することができる。有用な画像形成装置の例は、波長約８３０ｎｍの近赤外線を発光するレーザーダイオードを含有する、Creo Corporation（カナダ国ブリティッシュコロンビア州Burnaby在、Eastman Kodak Companyの子会社）から入手可能なCreo Trendsetter（登録商標）画像セッターのモデルとして入手することができる。他の好適な輻射線源は、波長１０６４ｎｍで作動するGerber Crescent 42T Platesetter（イリノイ州Chicago在、Gerber Scientificから入手可能）、及びScreen PlateRite 4300シリーズ又は8600シリーズのプレートセッター（イリノイ州Chicago在、Screenから入手可能）を含む。追加の有用な輻射線源は、要素が印刷版胴に取り付けられている間に要素に画像を形成するために使用することができるダイレクト画像形成印刷機を含む。好適なダイレクト画像形成印刷機の例は、Heidelberg SM74-DI印刷機（オハイオ州Dayton在、Heidelbergから入手可能）を含む。
【００９９】
画像形成スピードは、５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ2の範囲、そしてより具体的には７５〜４００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内となることができる。
【０１００】
本発明の実施においてはレーザー画像形成が好ましいが、熱エネルギーを像様に提供する任意の他の手段によって画像形成を行うこともできる。例えば、米国特許第５，４８８，０２５号明細書（Martin他）に記載されているように、また、感熱式ファクシミリ機及び昇華式プリンターにおいて使用されているように、熱抵抗ヘッド（サーマル印刷ヘッド）を使用して画像形成を達成することができ、これは「サーマル印刷」として知られている。サーマル印刷ヘッドは商業的に利用可能である（例えばFujitsu Thermal Head FTP-040 MCS001、及びTDK Thermal Head F415 HH7-1089）。
【０１０１】
いずれの場合にも、画像形成のために、ダイレクトデジタル画像形成が一般に用いられる。画像信号は、コンピュータ上のビットマップデータファイルとして記憶される。ビットマップデータファイルは、カラーの色相、並びにスクリーンの頻度及び角度を定義するために構成される。
【０１０２】
画像形成性要素に画像を形成することにより、画像形成された（露光された）領域と非画像形成（非露光）領域とから成る潜像を含む画像形成された要素を生成する。好適なアルカリ性現像剤を用いて画像形成された要素を現像することによって、外層及び下側の層（内層を含む）の露光された領域を除去し、そして基板の親水性表面を露出させる。従って、この画像形成性要素は「ポジ型」である。親水性表面の露光された（又は画像形成された）領域はインクを弾くのに対して、外層の非露光（又は非画像形成）領域はインクを受容する。
【０１０３】
より具体的には、現像は、外層及び下側の層の画像形成された（露光された）領域を除去するのに十分な時間にわたって、しかし外層の非画像形成（非露光）領域を除去するほどには長くない時間にわたって実施される。従って、外層の画像形成された（露光された）領域は、アルカリ性現像剤中で「可溶性」又は「除去可能」と記述される。なぜならば、これらの領域は、外層の非画像形成（非露光）領域よりも容易に、アルカリ性現像剤中で除去、溶解又は分散されるからである。従って「可溶性」という用語は、「分散性」であることをも意味する。
【０１０４】
画像形成された要素は、一般に、コンベンショナルな処理条件を用いて現像される。水性アルカリ性現像剤及び溶剤系アルカリ性現像剤（これが好ましい）の両方を使用することができる。
【０１０５】
水性アルカリ性現像剤は一般に、少なくとも７のｐＨ、そして好ましくは少なくとも１１のｐＨを有する。有用なアルカリ性現像剤は、3000 Developer、9000 Developer、GoldStar Developer、GreenStar Developer、ThermalPro Developer、Protherm（登録商標） Developer、MX1813 Developer、及びMX1710 Developer（全てEastman Kodak Companyの子会社であるKodak Polychrome Graphicsから入手可能）を含む。これらの組成物はまた一般に、界面活性剤、キレート剤（例えばエチレンジアミン四酢酸の塩）、及びアルカリ成分（例えば無機メタケイ酸塩、有機メタケイ酸塩、水酸化物、及び重炭酸塩）を含む。
【０１０６】
溶剤系アルカリ性現像剤は、水と混和可能な１種又は２種以上の有機溶剤の単一相溶液である。有用な有機溶剤は、エチレンオキシド及びプロピレンオキシドとのフェノールの反応生成物［例えばエチレングリコールフェニルエーテル（フェノキシエタノール）］、ベンジルアルコール、エチレングリコール及びプロピレングリコールの炭素原子数６以下の酸とのエステル、及び炭素原子数６以下のアルキル基を有する、エチレングリコール、ジエチレングリコール、及びプロピレングリコールのエーテル、例えば2-エチルエタノール、及び2-ブトキシエタノールを含む。有機溶剤は一般に、現像剤総重量を基準として０．５〜１５％の量で存在する。アルカリ性現像剤は、１種又は２種以上のチオ硫酸塩、又は親水性基、例えばヒドロキシ基、ポリエチレンオキシド鎖、又はｐＫａが７未満（より好ましくは５未満）の酸性基、又はこれらの対応塩（例えばカルボキシ、スルホ、スルホネート、スルフェート、ホスホン酸、及びホスフェート基）で置換されたアルキル基を含むアミノ化合物を含有することが特に望ましい。このタイプの特に有用なアミノ化合物の一例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、グリシン、アラニン、アミノエチルスルホン酸及びその塩、アミノプロピルスルホン酸及びその塩、及びジェフアミン化合物（例えばアミノを末端基とするポリエチレンオキシド）が挙げられる。
【０１０７】
代表的な溶剤系アルカリ性現像剤は、ND-1 Developer、955 Developer、及び956 Developer（Eastman Kodak Companyの子会社であるKodak Polychrome Graphicsから入手可能）を含む。
【０１０８】
一般に、アルカリ性現像剤は、現像剤を含有するアプリケーターで外層を擦るか又は拭うことにより、画像形成された要素に適用される。或いは、画像形成された要素は、現像剤をブラシ塗布することもでき、又は露光された領域を除去するのに十分な力で外層に噴霧することにより、現像剤を適用することができる。この場合もやはり、現像剤中に画像形成された要素を浸漬することができる。全ての事例において、印刷室化学薬品に対して優れた耐性を有する平版印刷版において、現像された画像が生成される。
【０１０９】
現像に続いて、画像形成された要素は水で濯ぎ、そして好適な様式で乾燥させることができる。乾燥させた要素は、コンベンショナルなガミング溶液（好ましくはアラビアゴム）で処理することもできる。
【０１１０】
画像形成された・現像された要素は、結果として得られる画像形成された要素の連続運転時間を長くするために実施することができる後ベーキング作業において、ベーキングすることもできる。ベーキングは、７〜１０分間にわたって２２０℃〜２４０℃、又は３０分間にわたって１２０℃で実施することができる。
【０１１１】
画像形成された要素の印刷面に平版印刷用インク及びファウンテン溶液を適用することにより、印刷を実施することができる。インクは、外層の非画像形成（非露光又は非除去）領域によって取り込まれ、そしてファウンテン溶液は、画像形成・現像プロセスによって露出された基板の親水性表面によって取り込まれる。インクは次いで、その上に画像の所望の刷りを提供するために、好適な受容材料（例えば布地、紙、金属、ガラス、又はプラスチック）に転写される。所望の場合、画像形成された部材から受容材料へインクを転写するために、中間「ブランケット」ローラを使用することができる。画像形成された部材は、所望の場合には、コンベンショナルなクリーニング手段及び化学薬品を使用して、刷りの間にクリーニングすることができる。
【実施例】
【０１１２】
下記例は、本発明の実施を例示するために提供されるものであって、本発明を限定しようと意図するものでは決してない。
【０１１３】
例において用いられる材料及び方法：
基板Ａは、電気的グレイニング、陽極酸化、そしてポリ(ビニルホスホン酸)の溶液による処理を施された０．３ゲージのアルミニウムシートである。
【０１１４】
ＩＲ色素Ａは下記構造を有する。
【０１１５】
【化６】
2009524111.tif 000008
【０１１６】
Byk（登録商標）307は、Byk Chemie（コネチカット州Wallingford）から入手可能なポリエトキシル化ジメチルポリシロキサンコポリマーである。
956 Developerは、Eastman Kodak Companyの子会社であるKodak Polychrome Graphics（コネチカット州Norwalk）から入手可能な溶剤系現像剤(フェノキシエタノール含有)である。
【０１１７】
PD-140は、Borden Chemical（オハイオ州Columbus）から入手可能なノボラック樹脂(７５％ m-クレゾール／２５％ p-クレゾール)である。
P3000は、PCAS（フランス国Longjumeau）から入手可能な、ピロガロールアセトン凝縮物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホネートエステルである。
【０１１８】
エチルバイオレット（ベーシックバイオレット４、C.I.42600、CAS 2390-59-2、λmax = 596 nm）は、Aldrich Chemical Company（ウィスコンシン州Milwaukee）から入手可能である。
【０１１９】
コポリマー１は、コンベンショナルな重合手順を用いて、N-4-カルボキシフェニルメタクリルアミド（２０モル％）、アクリロニトリル（６７モル％）、N-フェニルマレイミド（３モル％）、及びメタクリルアミド（１０モル％）から調製した。
コポリマー２は、コンベンショナルな重合手順を用いて、2-(メタクリロイルオキシ)エチルアセトアセテート（６モル％）、アクリロニトリル（７０モル％）、N-フェニルマレイミド（１４モル％）、及びメタクリル酸（１０モル％）から調製した。
【０１２０】
コポリマー３は、コンベンショナルな重合手順を用いて、メチルビニルケトン（１６モル％）、アクリロニトリル（６３モル％）、N-フェニルマレイミド（１３モル％）、及びメタクリル酸（８モル％）から調製した。
コポリマー４は、コンベンショナルな重合手順を用いて、メチルビニルケトン（２３モル％）、メタクリルアミド（２６モル％）、N-フェニルマレイミド（３２モル％）、及びメタクリル酸（１９モル％）から調製した。
【０１２１】
ＤＭＡＣは、N,N'-ジメチルアセトアミドである。
ＢＣは、2-ブトキシエタノール(Butyl CELLOSOLVE（登録商標）)（水中８０重量％）である。
ＤＡＡは、ジアセトンアルコール（水中８０重量％）である。
【０１２２】
Dowanol PMは、1-メトキシ-2-プロパノールである。
ＭＥＫは、メチルエチルケトンである。
ＢＬＯは、γ-ブチロラクトンである。
【０１２３】
ポリマーＡの合成：
２５０ｍｌの３口フラスコ内で７０ｇのＤＭＡＣ及び５ｇの水中に、コポリマー１（１５ｇ）を室温で溶解した。撹拌下のこの溶液に、２．１５ｇのエタノールアミン（０．０３５ｍｏｌ）を１５分間にわたって添加し、次いで１．０５ｇのパラホルムアルデヒド（０．０３５ｍｏｌ）を３０分間にわたって添加した。添加中、温度は２７℃まで上昇した。続いて混合物を３時間にわたって６５℃まで加熱した。
【０１２４】
混合物を室温まで冷却し、そして撹拌しながら１．５リットルの水中に３０分間にわたって注ぎ入れた。酢酸（５０ｍｌ）を添加し、そして混合物を２時間にわたって撹拌した。その結果生じた沈殿物を濾過し、２００ｍｌの水で洗浄し、そして２４時間にわたって室温で乾燥させ、そして次いで４時間にわたって４５℃で乾燥させた。約１４ｇのポリマーＡを得た。
【０１２５】
ポリマーＢの合成：
２５０ｍｌの３口フラスコ内で３５ｇのＤＭＡＣ及び５ｇの水中に、コポリマー１（７．５ｇ）を室温で溶解した。撹拌下のこの溶液に、１．５１ｇのモルホリン（０．０１８ｍｏｌ）を１５分間にわたって添加し、次いで０．５１ｇのパラホルムアルデヒド（０．０１８ｍｏｌ）を３０分間にわたって添加した。添加中、温度は２６℃まで上昇した。続いて混合物を３時間にわたって６５℃まで加熱した。
【０１２６】
混合物を室温まで冷却し、そして撹拌しながら１．０リットルの水中に３０分間にわたって注ぎ入れた。酢酸（２５ｍｌ）を添加し、そして混合物を２時間にわたって撹拌した。その結果生じた沈殿物を濾過し、２００ｍｌの水で洗浄し、そして２４時間にわたって室温で乾燥させ、そして次いで４時間にわたって４５℃で乾燥させた。約６．８ｇのポリマーＢを得た。
【０１２７】
ポリマーＣの合成：
２５０ｍｌの３口フラスコ内で３５ｇのＤＭＡＣ及び５ｇの水中に、コポリマー１（７．５ｇ）を室温で溶解した。撹拌下のこの溶液に、１．０８ｇのエタノールアミン（０．０１８ｍｏｌ）を１５分間にわたって添加し、次いで１．０３ｇのプロピオンアルデヒド（０．０１８ｍｏｌ）を３０分間にわたって添加した。添加中、温度は２８℃まで上昇した。続いて混合物を３時間にわたって６５℃まで加熱した。
【０１２８】
混合物を室温まで冷却し、そして撹拌しながら１．０リットルの水中に３０分間にわたって注ぎ入れた。酢酸（２５ｍｌ）を添加し、そして混合物を２時間にわたって撹拌した。その結果生じた沈殿物を濾過し、２００ｍｌの水で洗浄し、そして２４時間にわたって室温で乾燥させ、そして次いで４時間にわたって４５℃で乾燥させた。約８．１ｇのポリマーＣを得た。
【０１２９】
ポリマーＤの合成：
２５０ｍｌの３口フラスコ内で４０ｇのＤＭＡＣ及び５ｇの水中に、コポリマー２（８ｇ）を室温で溶解した。撹拌下のこの溶液に、２．１５ｇのエタノールアミン（０．０３５ｍｏｌ）を１５分間にわたって添加し、次いで１．０５ｇのパラホルムアルデヒド（０．０３５ｍｏｌ）を３０分間にわたって添加した。添加中、温度は２７℃まで上昇した。続いて混合物を３時間にわたって６５℃まで加熱した。
【０１３０】
混合物を室温まで冷却し、そして撹拌しながら１．０リットルの水中に３０分間にわたって注ぎ入れた。酢酸（５０ｍｌ）を添加し、そして混合物を２時間にわたって撹拌した。その結果生じた沈殿物を濾過し、２００ｍｌの水で洗浄し、そして２４時間にわたって室温で乾燥させ、そして次いで４時間にわたって４５℃で乾燥させた。約８．５ｇのポリマーＤを得た。
【０１３１】
ポリマーＥの合成：
２５０ｍｌの３口フラスコ内で４０ｇのＤＭＡＣ及び５ｇの水中に、コポリマー３（８ｇ）を室温で溶解した。撹拌下のこの溶液に、２．１５ｇのエタノールアミン（０．０３５ｍｏｌ）を１５分間にわたって添加し、次いで１．０５ｇのパラホルムアルデヒド（０．０３５ｍｏｌ）を３０分間にわたって添加した。添加中、温度は２６℃まで上昇した。続いて混合物を３時間にわたって６５℃まで加熱した。
【０１３２】
混合物を室温まで冷却し、そして撹拌しながら１．０リットルの水中に３０分間にわたって注ぎ入れた。酢酸（５０ｍｌ）を添加し、そして混合物を２時間にわたって撹拌した。その結果生じた沈殿物を濾過し、２００ｍｌの水で洗浄し、そして２４時間にわたって室温で乾燥させ、そして次いで４時間にわたって４５℃で乾燥させた。約８．８ｇのポリマーＥを得た。
【０１３３】
ポリマーＦの合成：
２５０ｍｌの３口フラスコ内で４０ｇのＤＭＡＣ及び５ｇの水中に、コポリマー４（８ｇ）を室温で溶解した。撹拌下のこの溶液に、２．１５ｇのエタノールアミン（０．０３５ｍｏｌ）を１５分間にわたって添加し、次いで１．０５ｇのパラホルムアルデヒド（０．０３５ｍｏｌ）を３０分間にわたって添加した。添加中、温度は２６℃まで上昇した。続いて混合物を３時間にわたって６５℃まで加熱した。
【０１３４】
混合物を室温まで冷却し、そして撹拌しながら１．０リットルの水中に３０分間にわたって注ぎ入れた。酢酸（５０ｍｌ）を添加し、そして混合物を２時間にわたって撹拌した。その結果生じた沈殿物を濾過し、２００ｍｌの水で洗浄し、そして２４時間にわたって室温で乾燥させ、そして次いで４時間にわたって４５℃で乾燥させた。約８．８ｇのポリマーＦを得た。
【０１３５】
耐溶剤性試験：
コポリマー１〜３及びポリマーＡ〜Ｅから個々に調製された塗布された内層の耐溶剤性を、下記の方法を用いて測定し、その結果を下記Ｉ及びＩＩに示す。
【０１３６】
それぞれの塗布された内層を下記のように調製した：
０．９ｇのＢＬＯと、１．４ｇのDowanol PMと、６．０ｇのＭＥＫと、０．９ｇの水との溶剤混合物中に所与のポリマー０．６ｇを溶解することにより、内層塗布用配合物を調製した。この溶液にＩＲ色素Ａ（０．１ｇ）を添加し、続いて０．０２ｇのByk（登録商標）307を添加した。それぞれ結果として生じた溶液を、１．５ｇ／ｍ2の乾燥塗布重量を達成するように基板Ａ上に塗布した。
【０１３７】
２種の耐薬品性試験は以下の通りであった：
ＢＣ滴下試験：Butyl CELLULOSE（登録商標）溶液を、２分間のインターバルを置いて１２分まで、塗布された層上に滴下した。十分な量の水で液滴を濯いだ後、滴下領域上の光学濃度を、濃度計を使用して測定した。
【０１３８】
ＤＡＡ滴下試験：ジアセトンアルコール溶液を、２分間のインターバルを置いて１２分まで、塗布された層上に滴下した。十分な量の水で液滴を濯いだ後、滴下領域上の光学濃度を、濃度計を使用して測定した。
【０１３９】
下記表Ｉ及びＩＩに示された結果は、本発明の範囲におけるポリマー（すなわちポリマーＡ、Ｂ、Ｄ、及びＥ）が、特にＤＡＡに対して、これらの対応する前駆体材料（コポリマー１〜３）よりも改善された耐薬品性を塗布された内層において提供したことを示す。ポリマーＣは、「ＢＣ」試験において耐薬品性の改善を僅かにだけ提供した。
【０１４０】
【表１】
2009524111.tif 000009
【０１４１】
【表２】
2009524111.tif 000010
【０１４２】
例１：多層画像形成性要素
本発明の画像形成性要素を下記のように調製した：
９．２７ｇのＢＬＯと、１３．９ｇのDowanol PMと、６０．２６ｇのＭＥＫと、９．２７ｇの水との溶剤混合物中に６．０１ｇのポリマーＡを溶解することにより、内層塗布用配合物を調製した。この溶液にＩＲ色素Ａ（１．０６ｇ）を添加し、続いて０．２１１ｇのByk（登録商標）307を添加した。その結果生じた溶液をアルミニウム・平版印刷用基板上に塗布することにより、１．５ｇ／ｍ2乾燥内層重量を提供した。
【０１４３】
０．１５ｇのP-3000と、０．３５ｇのPD-140と、０．００１４ｇのエチルバイオレットと、０．０１５ｇの10% Byk（登録商標）307とを、６．２ｇのDowanol PM及び３．３ｇのＭＥＫ中で混合することにより、外層配合物を調製した。この配合物を上記の内層配合物上に塗布することにより、乾燥外層重量０．５ｇ／ｍ2を提供した。
【０１４４】
種々の露光エネルギー８０〜１４０ｍＪ／ｃｍ2を用いて８３０ｎｍで発光するレーザーダイオードアレイを有する、商業的に入手可能なCREO Trendsetter 3244（カナダ国ブリティッシュコロンビア州Burnaby在、Eastman Kodak Companyの子会社であるCreo）上で、乾燥された画像形成性要素に熱画像形成を施した。結果として生じた画像形成された要素を、956 Developerで現像した。所望の画像を達成するための最小エネルギーは、約１２０ｍＪ／ｃｍ2であった。
【０１４５】
調製された画像形成性要素を、周囲条件下で５日間にわたって、また３８℃及び８０％相対湿度で５日間にわたって保存した後、同じ試験を繰り返した。露光エネルギーの著しい変化は、「老化(aged)」要素によっては観察されなかった。
【国際調査報告】
2009524111.tif 000017
2009524111.tif 000018
2009524111.tif 000019