(57)【要約】【課題】クリーンルームの上層作業空間域の底部のグレーチングを開放する際にも安全及び品質上の問題が生じないようにしつつ、連続して作業を行える装置を提供する。【解決手段】クリーンルームの上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングであって、ダミーグレーチングは、上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを開放することで形成される開口部を閉塞する。ダミーグレーチングは、その側面部にホールが形成されており、当該ホールを開閉するホール蓋体をさらに有している。
2009050808.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クリーンルームの上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングであって、
前記ダミーグレーチングは、前記上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを開放することで形成される開口部を閉塞し、
前記ダミーグレーチングは、その側面部にホールが形成されており、前記ホールを開閉するホール蓋体を有することを特徴とするダミーグレーチング。
【請求項２】
前記ダミーグレーチングは、上面部を含む上部と、この上部の下端に一体で形成される下部とからなり、
前記上面部は正四角形状であり、
前記上部と下部との境界部位には段差が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のダミーグレーチング。
【請求項３】
前記ホールは、前記ダミーグレーチングの側面部の中心に位置する半円形の形状を有していることを特徴とする請求項２に記載のダミーグレーチング。
【請求項４】
前記ダミーグレーチングの上面部には、前記ホール蓋体を収納することができる収納部が形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のダミーグレーチング。
【請求項５】
前記収納部は、ホール蓋体と同じ形状と深さを有するくぼみ部からなることを特徴とする請求項４に記載のダミーグレーチング。
【請求項６】
前記ダミーグレーチングの上面部には、取っ手が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のダミーグレーチング。
【請求項７】
前記ダミーグレーチングは、ポリカーボネートを含む合成樹脂からなることを特徴とする請求項１に記載のダミーグレーチング。
【請求項８】
前記ダミーグレーチングの上面部は、隣接するグレーチングの上面部と同一高さであることを特徴とする請求項１に記載のダミーグレーチング。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クリーンルームのダミーグレーチングに係り、より詳しくは、クリーンルームにおける上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングに関する。
【背景技術】
【０００２】
クリーンルームは、汚染物質が所定値以下に抑えられた空間であって、この空間内において作業を進めることで作業対象体が汚染物質に露出しないようにし、または汚染物質に露出してもその被害を最小化できるようにする設備である。一方、例えば半導体は、多くの工程を経て製造され、工程中に周辺環境に存在する浮遊粉塵、有害ガス、パーティクル、微生物などの汚染物質によって半導体素子の品質及び歩留まりが低下することがあるため、一般に、半導体の製造工程はクリーンルーム内で行われる。【０００３】
半導体の高集積化及び歩留まりの向上のために、クリーンルームの清浄度を高める必要があることはもとより、クリーンルーム内で行われる装備の修理などの作業にも多くの制限が求められてきている。一方、クリーンルームは、上記の半導体製造工程のほかにも、医薬、精密機械、バイオ産業、新素材産業などの多くの分野で汚染物質による問題を解決することができる必須施設となりつつある。【０００４】
従来より利用される半導体製造用クリーンルームの構成について、図１を参照して説明する。図１は、半導体製造用クリーンルームの概路図であって、同図における図面符号１０は、クリーンルームを示す。【０００５】
クリーンルーム１０は、上層の作業空間域２０と、下層のユーティリティー部３０、及び循環ダクト４０とで構成される。一般に、クリーンルーム１０内の気流はダウンストリームをなし、したがって、作業空間域の天井に配設された空調部７０から供給される空気は、作業空間域２０とユーティリティー部３０を流れてから、循環ダクト４０を通って再び空調部７０に流れ込む。【０００６】
空調部７０は、一般に循環ファン及びフィルターで構成され、この空調部７０により空気が強制循環される。作業空間域２０内には、成膜装備、エッチング装備、プラズマ処理装備などの半導体製造用主装備２１が配設され、ユーティリティー部３０には、電源装置、ポンプ、ガス供給装置、チラー（ｃｈｉｌｌｅｒ）などの補助装備３１が配設される。【０００７】
作業空間域２０の底部５０は鉄骨構造からなり、その上に複数枚のグレーチングが取り付けられて底部５０全体を覆っている。グレーチングは、半導体製造用主装備２１を支持できる強度を有する金属からなる。一方、底部５０の下方には補助底部６０を設けることにより、底部５０と補助底部６０との間に電気、ガスなどの配管ラインが通り得る空間部を形成し、必要に応じて作業者がこの空間部内で配管作業または修理作業を行う。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、このように構成された従来のクリーンルームにおいて配管及び修理作業を行う際、次のような問題があった。すなわち、配管作業及び修理作業の際、作業者は一部のグレーチングを治具などを利用して開放した後、底部５０と補助底部６０との間で作業を行うが、このとき、グレーチングを開放することで形成される開口部から他の作業者が墜落したり、または作業道具などを落としたりするなどの事故が生じることがあり、また、これは、安全事故や設備の破損にもつながることがある。このような事故を予防するために作業が行われる開口部の周辺に安全柵を設置するなどの対策が講じられたが、根本的な解決策にはなりえなかった。また、グレーチングを開放することによって作業空間域２０とユーティリティー部３０との間の空気流に変化が生じ、この結果、作業空間域２０内の清浄度が低下したり、または高精度を要する半導体工程に悪影響を及ぼすという問題を生じさせたりした。【０００９】
また、例えば電線あるいはガス配管等を上層の作業空間域２０に接続して作業を行う場合、連続して作業を行うためには、底部５０の開口部を閉塞するグレーチングが障害となる。その結果、底部５０の一部を開口せざるをえないという問題が生じた。【００１０】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、クリーンルームの上層作業空間域の底部のグレーチングを開放する際にも安全及び品質上の問題が生じないようにしつつ、連続して作業を行える装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記目的を達成するため、本発明は、クリーンルームの上層作業空間域の底部に取り付けるためのダミーグレーチングであって、前記ダミーグレーチングは、前記上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを開放することで形成される開口部を閉塞し、前記ダミーグレーチングは、その側面部にホールが形成されており、前記ホールを開閉するホール蓋体を有することを特徴としている。【００１２】
本発明によれば、クリーンルームの上層作業空間域の底部を構成するグレーチングを一時的な理由から開放する際、底部に形成される開口部を本発明によるダミーグレーチングで閉塞することにより、安全事故や作業道具の落下などを未然に抑え、かつ空気流の乱れを防止することができる。また、ダミーグレーチングの側面部にホールが形成されているので、電線、ガス配管などをダミーグレーチングのホールを通じて接続することができ、グレーチングを開放することなく必要な作業を連続して行うことができる。さらに、ダミーグレーチングはホールを開閉するホール蓋体を有しているので、ホールの開放が不要である場合は、ホール蓋体でホールを閉塞することにより、ホールから作業道具などがユーティリティー部に落ちるなどの事故を防止することができる。【００１３】
前記ダミーグレーチングは、上面部を含む上部と、この上部の下端に一体で形成される下部とからなり、前記上面部は正四角形状であり、前記上部と下部との境界部位には段差が設けられていてもよい。これによって、ダミーグレーチングは、作業空間域の底部を構成する鉄骨構造上に容易に取り付けることができる。【００１４】
前記ホールは、前記ダミーグレーチングの側面部の中心に位置する半円形の形状を有していてもよい。【００１５】
前記ダミーグレーチングの上面部には、前記ホール蓋体を収納することができる収納部が形成されていてもよい。また、前記収納部は、ホール蓋体と同じ形状と深さを有するくぼみ部（ｒｅｃｅｓｓ）であってもよい。これによって、ホール蓋体を容易に収納することができる。【００１６】
前記ダミーグレーチングの上面部には、取っ手が設けられていてもよい。これによって、ダミーグレーチングの取り外しがより容易になる。【００１７】
前記ダミーグレーチングは、ポリカーボネートを含む合成樹脂からなっていてもよい。これによって、十分な強度を有する軽量のダミーグレーチングを得ることができる。【００１８】
前記ダミーグレーチングの上面部は、隣接するグレーチングの上面部と同一高さであってもよい。これによって、作業者の通行がダミーグレーチングの取付けにより邪魔されることがない。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、クリーンルームの上層作業空間域の底部のグレーチングを開放する際にも、ダミーグレーチングで開口部を閉塞して安全上の問題が生じないようにしつつ、連続して作業を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】クリーンルームの構成を示す概略図である。
【図２】本実施の形態にかかるダミーグレーチングの斜視図である。
【図３】ダミーグレーチングが上層作業空間域の底部に設置された様子を示す説明図である。
【図４】ダミーグレーチングが上層作業空間域の底部に設置された様子を示す縦断面図である。
【図５】ホール蓋体がホールを閉塞した際のダミーグレーチングの様子を示す説明図である。
【符号の説明】
【００２１】
１０    クリーンルーム
２０    作業空間域
３０    ユーティリティー部
５０    底部
１００  ダミーグレーチング
１０１  上面部
１０３  側面部
１０７  収納部
１１０  上部
１２０  下部
１２１  段差
１３０  ホール
１３２  ホール蓋体
Ｇ      グレーチング
Ｓ      鉄骨構造
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。図２は、本実施の形態にかかるダミーグレーチング１００の斜視図を示している。なお、本実施の形態にかかるダミーグレーチング１００は、図１に示したクリーンルーム１０における上層の作業空間２０の底部５０の一部を開口する場合に、図３に示すように当該底部５０の開口部に臨時的に設置するものである。【００２３】
ダミーグレーチング１００は、図２に示すように正四角形状の上面部１０１を含む上部１１０と、この上部１１０の下端に一体で形成される下部１２０とから構成されている。上部１１０の上面部１０１は、作業空間２０の底部５０の開口前に設けられていたグレーチングの上面部とほぼ同一の面積かつ同一の形状である。上面部１０１は、図４に示すように底部５０のグレーチングＧを係止するために格子状に設けられた鉄骨構造Ｓ、Ｓ間の長さよりも長い幅を有している。ダミーグレーチング１００の上部１１０の厚みは、上面部１０１が隣接するグレーチングＧの上面部と同じ高さになる厚みとなっている。【００２４】
下部１２０の断面は、図４に示すように正四角形状で上部１１０の断面よりも小さい断面積を有し、この断面積の差により上部１１０と下部１２０との境界部位には段差１２１が形成されている。この段差１２１を底部５０の開口部に露出した鉄骨構造Ｓ、Ｓに掛止することにより、ダミーグレーチング１００を底部５０に取り付けることができる。なお、ダミーグレーチング１００の上部１１０と下部１２０は、例えばポリカーボネート、あるいはそれと同種の合成樹脂からなる。【００２５】
ダミーグレーチング１００の上面部１０１には、図２に示すように複数個の通気孔１０５が設けられている。通気孔１０５は、底部５０の開口前に設けられていたグレーチングに形成されていた通気孔と同じ径であって、かつ同じパターンを有することが好ましく、例えば中空の円筒形状である。この通気孔１０５によって、ダミーグレーチング１００の上下方向に空気が流れる。なお、通気孔１０５は、空気の流れに特に問題を生じさせない範囲で、任意の個数、形状、径、及び分布を有することができる。【００２６】
ダミーグレーチング１００の側面部１０３には、図２に示すように上部１１０と下部１２０を貫通するホール１３０が形成されている。ホール１３０は、ダミーグレーチング１００の側面部１０３の中心又はほぼ中心に位置し、その横断面形状は半円形状である。ホール１３０には、後述するホール１３０を開閉するためのホール蓋体が収められるように、ホール１３０の内周に沿って突出した段差１３１がホール１３０の内周に形成されている。段差１３１は、ダミーグレーチング１００の上部１１０と下部１２０との境界部位に形成される。なお、ホール１３０は、一の側面部１０３に複数形成されていてもよく、また複数の側面部１０３に形成されていてもよい。【００２７】
ダミーグレーチング１００は、図５に示すようにホール１３０を開閉するためのホール蓋体１３２をさらに有している。ホール蓋体１３２は板状であり、その上面部はホール１３０と実質的に同じ面積であって、かつ同じ形状である。ホール蓋体１３２の上面部には、当該ホール蓋体１３２を貫通する通気孔１３３が形成されていてもよい。ホール蓋体１３２は、ホール１３０の開放を要しない場合に、段差１３１に係止されてホール１３０を閉塞する。なお、ホール蓋体１３２は、ダミーグレーチング１００と同じ材料、例えばポリカーボネートやそれと同種の合成樹脂からなることが好ましい。【００２８】
ダミーグレーチング１００の上面部１０１には、図２に示すようにホール蓋体１３２を一時的に収納することができる収納部１０７が形成されている。この収納部１０７は、ホール蓋体１３２と同じ面積であって、かつ同じ形状である。ホール蓋体１３２は、収納部１０７に収められる際に、当該収められたホール蓋体１３２とダミーグレーチング１００の上面部１０１とが同一の高さになるようにする厚みを有している。すなわち、収納部１０７は、ホール蓋体１３２と同じ形状を有する浅いくぼみ部として形成される。収納部１０７は、ホール１３０が設けられた側面部１０３に接して上面部１０１の一方側に設けられる（図２では左側）。【００２９】
また、ダミーグレーチング１００の上面部１０１には、取っ手部（図示せず）が設けられているのが好ましい。【００３０】
本実施の形態にかかるダミーグレーチング１００は以上のように構成されており、例えば作業のために上層作業空間域２０の底部５０のグレーチングＧの一部を開放する際に、その底部５０の開口部にダミーグレーチング１００が臨時的に設置される。そして、この作業が例えば上層作業空間域２０に電線やガス配管を接続して作業をする必要がある場合、図３に示すようにホール蓋体１３２を収納部１０７に収納し、当該電線やガス配管Ｐをホール１３０から延出させる。また、作業がこのような電線やガス配管Ｐを設けることを必要としない場合、図５に示すようにホール蓋体１３２でホール１３２を閉塞して作業を行う。【００３１】
以上の実施の形態によれば、クリーンルーム１０の上層作業空間２０の底部５０を構成するグレーチングＧを開放する際、底部５０に形成される開口部をダミーグレーチング１００で閉塞することにより、安全事故や作業道具の落下などを未然に抑え、かつ開口に伴う空気流の乱れを防止することができる。【００３２】
ダミーグレーチング１００の側面部１０３にホール１３０が形成されているので、電線やガス配管Ｐをダミーグレーチング１００のホール１３０を介して上層作業空間域２０に接続することができる。これによって、グレーチングＧを開放することなく必要な作業を連続して行うことができる。【００３３】
ダミーグレーチング１００はホール１３０を開閉するホール蓋体１３２を有しているので、ホール１３０の開放が不要である場合は、ホール蓋体１３２でホール１３０を閉鎖することにより、ホール１３０から作業道具などが下層ユーティリティー部３０側に落ちるなどの事故を防止することができる。さらに、ホール１３０の開放による空気流の乱れも防止することができる。【００３４】
ダミーグレーチング１００の上面部１１０には、収納部１０７が形成されているので、ダミーグレーチング１００が取り付けられ、ホール１３０を開放する場合には、不要になったホール蓋体１３２を収納部１０７に収納することができる。【００３５】
ダミーグレーチング１００には、複数の通気孔１０５が形成されているので、ダミーグレーチング１００を介して上層作業空間域２０と下層ユーティリティー部３０間の上下方向の空気流の循環をより円滑に行おこなうことができる。【００３６】
ダミーグレーチング１００の上面部１１０は、隣接するグレーチングＧの上面部と同一高さでるので、作業者の通行がダミーグレーチングの取付けにより邪魔されることがない。【００３７】
ダミーグレーチング１００の上部１１０と下部１２０との境界部位には段差１２１が形成されているので、底部５０の開口部に露出した鉄骨構造Ｓ上にダミーグレーチング１００を容易に取り付けることができる。【００３８】
ダミーグレーチング１００は、ポリカーボネートやそれと同種の合成樹脂からなるので、十分な強度を有し、作業者がダミーグレーチング１００上を往来し続けても破損しない。また、ポリカーボネートやそれと同種の合成樹脂は軽量であるので、ダミーグレーチング１００による底部５０の開口部の開閉を容易に行うことができる。【００３９】
ダミーグレーチング１００の上面部１０１に取っ手が設けられているので、ダミーグレーチング１００の取り外しがより容易になる。【００４０】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば本実施の形態のクリーンルームは、半導体製造用クリーンルームであったが、医薬、精密機械、バイオ産業、新素材産業などの多くの分野で用いられるクリーンルームにも用いることができる。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明は、クリーンルームにおける上層作業空間域の底部を構成するグレーチングの一部を開放した際に、当該グレーチングの開放による安全事故、例えば作業者の墜落や作業道具の落下事故を防止するのに特に有用である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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