(57)【要約】本発明の接着剤組成物は、回路部材同士を接着するとともにそれぞれの回路部材が有する回路電極同士を電気的に接続するために用いられるものであって、エポキシ樹脂と、エポキシ樹脂硬化剤と、一次粒子の平均粒径が３００ｎｍ以下のシリコーン微粒子とを含有する。
2009051067.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路部材同士を接着するとともにそれぞれの回路部材が有する回路電極同士を電気的に接続するために用いられる接着剤組成物であって、
エポキシ樹脂と、
エポキシ樹脂硬化剤と、
平均粒径３００ｎｍ以下のシリコーン微粒子と、
を含有する接着剤組成物。
【請求項２】
導電粒子を更に含有する、請求項１に記載の接着剤組成物。
【請求項３】
前記シリコーン微粒子を、当該接着剤組成物の全質量を基準として１０〜４０質量％含有する、請求項１又は２に記載の接着剤組成物。
【請求項４】
前記シリコーン微粒子からなるコア粒子と、アクリル樹脂を含有する材料からなり且つ前記コア粒子を被覆するように設けられた被覆層とを有するコアシェル型シリコーン微粒子を配合して調製されたものである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の接着剤組成物。
【請求項５】
前記コアシェル型シリコーン微粒子は、当該コアシェル型シリコーン微粒子の全質量を基準として、シリコーンの含有率が４０〜９０質量％である、請求項４に記載の接着剤組成物。
【請求項６】
温度２００℃で１時間加熱して得られる硬化物は、４０℃における貯蔵弾性率が１〜２ＧＰａである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の接着剤組成物。
【請求項７】
フィルム状の基材と、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の接着剤組成物からなり、前記基材の一方面上に設けられた接着剤層と、
を備える回路接続材料。
【請求項８】
対向配置された一対の回路部材と、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の接着剤組成物の硬化物からなり、前記一対の回路部材の間に介在しそれぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように当該回路部材同士を接着する接続部と、
を備える回路接続体。
【請求項９】
前記一対の回路部材の少なくとも一方が、ＩＣチップである、請求項８に記載の回路接続体。
【請求項１０】
前記一対の回路部材がそれぞれ有する回路電極の少なくとも一方の表面が、金、銀、錫、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及びインジウム錫酸化物から選ばれる少なくとも１種で構成されている、請求項８又は９に記載の回路接続体。
【請求項１１】
前記接続部に当接している前記一対の回路部材の当接面の少なくとも一方が、窒化シリコン、シリコーン化合物及び感光性もしくは非感光性ポリイミド樹脂から選ばれる少なくとも１種以上の素材によって構成される部分を有するものである、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の回路接続体。
【請求項１２】
対向配置された一対の回路部材の間に請求項１〜６のいずれか一項に記載の接着剤組成物を介在させ、全体を加熱及び加圧して、前記接着剤組成物の硬化物からなり、前記一対の回路部材の間に介在しそれぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように前記回路部材同士を接着する接続部を形成することにより、前記一対の回路部材及び前記接続部を備える回路接続体を得る、回路部材の接続方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、接着剤組成物及びこれを用いた回路接続材料、並びに、回路部材の接続方法及びこれによって得られる回路接続体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示ディスプレイ用のガラスパネルに液晶駆動用ＩＣを実装する方法として、ＣＨＩＰ−ＯＮ−ＧＬＡＳＳ実装（以下、「ＣＯＧ実装」という。）が広く用いられている。ＣＯＧ実装は、液晶駆動用ＩＣを直接ガラスパネル上に接合する方法である。【０００３】
上記ＣＯＧ実装においては、一般に、回路接続材料として、異方導電性を有する接着剤組成物が用いられる。この接着剤組成物は、接着剤成分と、必要に応じて配合される導電粒子とを含有する。かかる接着剤組成物からなる回路接続材料をガラスパネル上の電極が形成された部分に配置し、その上にＩＣ、ＬＳＩ等の半導体素子やパッケージなどを圧着することで、相対する電極同士の導通状態を保ち、隣接する電極同士の絶縁を保つように電気的接続と機械的固着を行う。【０００４】
ところで、接着剤組成物の接着剤成分として、以前よりエポキシ樹脂及びイミダゾール系硬化剤の組み合わせが利用されている。これらの成分が配合された接着剤組成物にあっては、通常、温度２００℃を５秒程度維持することで、エポキシ樹脂を硬化させ、ＩＣチップのＣＯＧ実装を行う。【０００５】
しかし、近年、液晶パネルの大型化及び薄厚化が進展するに伴い、従来の接着剤組成物を用いて上記温度条件でＣＯＧ実装を行うと、加熱時の温度差による熱膨張及び収縮差によって内部応力が生じ、ＩＣチップやガラスパネルに反りが発生するという問題がある。反りが生じた回路接続体に対して温度サイクル試験を行うと、内部応力が増大して回路接続体の接続部で剥離が発生する場合もある。【０００６】
回路部材に生じる反りを低減する手段として、特許文献１には、エポキシ樹脂の硬化剤としてスルホニウム塩からなる潜在性硬化剤を含有する回路接続用接着フィルムが記載されている。この接着フィルムを使用することで、実装時の加熱温度を１６０℃以下にまで低温化でき、回路部材の回路接続体に生じる内部応力を低減できる旨が記載されている（特許文献１の段落［００１９］を参照）。
【特許文献１】特開２００４−２２１３１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の接着フィルムは、加熱温度の低温化の点においては優れた効果を発揮するものの、特殊な潜在性硬化剤を使用しているため、ポットライフが比較的短いという課題があった。そのため、この接着フィルムは、従来のイミダゾール系硬化剤が配合されたものと比較し、その用途が限られているのが現状である。【０００８】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、従来のイミダゾール系のエポキシ樹脂硬化剤を使用した場合であっても回路接続体に生じる内部応力を十分に低減できる接着剤組成物及びこれを用いた回路接続材料を提供することを目的とする。【０００９】
また、本発明は、上記回路接続材料によって低い接続抵抗で回路部材が接続された回路接続体、並びにこれを得るための回路部材の接続方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の接着剤組成物は、回路部材同士を接着するとともにそれぞれの回路部材が有する回路電極同士を電気的に接続するために用いられるものであって、エポキシ樹脂と、エポキシ樹脂硬化剤と、平均粒径３００ｎｍ以下のシリコーン微粒子と、を含有する。【００１１】
本発明の接着剤組成物においては、上記シリコーン微粒子が応力緩和剤の役割を果たす。そのため、十分に長いポットライフを得るためにエポキシ樹脂の硬化剤としてイミダゾール系硬化剤を使用し、２００℃程度で硬化処理を行った場合であっても、内部応力を効果的に緩和することができる。したがって、回路接続体の反りや実装体の部材界面における剥離現象の発生を十分に抑制できる。【００１２】
本発明の接着剤組成物は、導電粒子を更に含有することが好ましい。接着剤成分中に導電粒子が分散した接着剤組成物によれば、優れた接続信頼性を有する回路接続体を製造できる。【００１３】
また、本発明の接着剤組成物は、シリコーン微粒子を、当該接着剤組成物の全質量を基準として１０〜４０質量％含有することが好ましい。接着剤組成物にシリコーン微粒子を１０〜４０質量％含有せしめることで、回路接続体における内部応力が一層十分に緩和される。【００１４】
本発明の接着剤組成物は、シリコーン微粒子からなるコア粒子と、アクリル樹脂を含有する材料からなり且つ上記コア粒子を被覆するように設けられた被覆層とを有するコアシェル型シリコーン微粒子を配合して調製されたものであることが好ましい。アクリル樹脂を含有する被覆層（シェル）はエポキシ樹脂との親和性が高いため、シリコーン微粒子の凝集が抑制され、シリコーン微粒子が接着剤成分中に高度に分散した状態を十分に維持できる。その結果、回路接続体に対する応力緩和効果が安定的に奏される。コアシェル型シリコーン微粒子は、当該コアシェル型シリコーン微粒子の全質量を基準として、シリコーンの含有率が４０〜９０質量％であることが好ましい。【００１５】
本発明に係る接着剤組成物にあっては、温度２００℃で１時間加熱して得られる硬化物は、４０℃における貯蔵弾性率が１〜２ＧＰａであることが好ましい。硬化物の貯蔵弾性率に係る上記条件を満たす接着剤組成物を回路部材同士の接続に用いると優れた接続信頼性を有する回路接続体を製造できる。【００１６】
本発明の回路接続材料は、フィルム状の基材と、本発明に係る上記接着剤組成物からなり、基材の一方面上に設けられた接着剤層とを有する。かかる構成の回路接続材料によれば、回路部材上に接着剤層を容易に配置でき、作業効率を向上できる。なお、回路接続材料を使用するに際しては、フィルム状の基材は適宜剥離される。【００１７】
本発明の回路接続体は、対向配置された一対の回路部材と、本発明に係る上記接着剤組成物の硬化物からなり、一対の回路部材の間に介在しそれぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように当該回路部材同士を接着する接続部とを備える。【００１８】
本発明の回路接続体においては、一対の回路部材の少なくとも一方がＩＣチップであってもよい。また、当該回路接続体においては、一対の回路部材がそれぞれ有する回路電極の少なくとも一方の表面が、金、銀、錫、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及びインジウム錫酸化物から選ばれる少なくとも１種で構成されていてもよい。【００１９】
また、本発明の回路接続体においては、接続部に当接している一対の回路部材の当接面の少なくとも一方が、窒化シリコン、シリコーン化合物及びポリイミド樹脂から選ばれる少なくとも１種以上の素材によって構成される部分を有していてもよい。【００２０】
本発明の回路部材の接続方法は、対向配置された一対の回路部材の間に本発明に係る上記接着剤組成物を介在させ、全体を加熱及び加圧して、接着剤組成物の硬化物からなり、一対の回路部材の間に介在しそれぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように回路部材同士を接着する接続部を形成することにより、一対の回路部材及び接続部を備える回路接続体を得るものである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、回路接続体に生じる内部応力を十分に低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に係る回路接続材料の一実施形態を示す断面図である。
【図２】コアシェル型シリコーン微粒子を示す断面図である。
【図３】本発明に係る回路接続材料が回路電極間で使用され、回路電極同士が接続された状態を示す断面図である。
【図４】本発明に係る回路部材の接続方法の一実施形態を概略断面図により示す工程図である
【図５】導電粒子の他の形態を示す断面図である。
【図６】本発明に係る回路接続材料の他の実施形態を示す断面図である。
【符号の説明】
【００２３】
５，１５…回路接続材料、６，６ａ，６ｂ…基材、７，８…接着剤層、７ａ…導電粒子含有層、７ｂ…導電粒子非含有層、９…接着剤成分、１０…コアシェル型シリコーン微粒子、１０ａ…シリコーン微粒子、１０ｂ…被覆層、２０Ａ，２０Ｂ…導電粒子、３０…第１の回路部材、４０…第２の回路部材、５０ａ…接続部、１００…回路接続体。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の便宜上、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致しない。【００２５】
＜回路接続材料＞
まず、本実施形態に係る回路接続材料について説明する。図１は、本実施形態に係る回路接続材料５を示す断面図である。回路接続材料５は、フィルム状の基材６と、基材６の一方面上に設けられた接着剤層８とを備える。接着剤層８は、（ａ）エポキシ樹脂及び（ｂ）エポキシ樹脂硬化剤を含有する接着剤成分９と、接着剤成分９中に分散したシリコーン微粒子１０ａ及び導電粒子２０Ａとを含有する接着剤組成物からなる。【００２６】
回路接続材料５は、フィルム状の基材６上に塗工装置を用いて接着剤組成物の溶液を塗布し、所定時間熱風乾燥して接着剤層８を形成することにより作製される。接着剤組成物からなる接着剤層８を形成することで、例えば、接着剤組成物をペースト状のまま使用する場合と比較し、ＩＣチップなどのＣＯＧ実装もしくはＣＯＦ実装（ＣＨＩＰ−ＯＮ−ＦＬＥＸ実装）に使用する場合に作業効率が向上するという利点がある。【００２７】
基材６としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリオレフィン、ポリアセテート、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド、ポリアミド、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、合成ゴム系、液晶ポリマー等からなる各種テープを使用することが可能である。もっとも、基材６を構成する材質はこれらに限定されるものではない。また、基材６として、接着剤層８との当接面等にコロナ放電処理、アンカーコート処理、帯電防止処理などが施されたものを使用してもよい。【００２８】
また、回路接続材料５を使用するに際し、接着剤層８から基材６を容易に剥離できるように、基材６の表面に剥離処理剤をコーティングして使用してもよい。剥離処理剤として、シリコーン樹脂、シリコーンと有機系樹脂との共重合体、アルキッド樹脂、アミノアルキッド樹脂、長鎖アルキル基を有する樹脂、フルオロアルキル基を有する樹脂、セラック樹脂などの各種剥離処理剤を用いることができる。【００２９】
基材６の厚さは、特に制限されるものではないが、回路接続材料５の保管、使用時の利便性等を考慮して、４〜２００μｍとすることが好ましく、さらに材料コストや生産性を考慮して、１５〜７５μｍとすることがより好ましい。【００３０】
接着剤層８の厚さは、接続する回路部材の形状等に応じて適宜調整すればよいが、５〜５０μｍであることが好ましい。接着剤層８の厚さが５μｍ未満であると、回路部材間に充填される接着剤組成物の量が不十分となる傾向がある。他方、５０μｍを超えると、接続すべき回路電極間の導通の確保が困難となる傾向がある。【００３１】
接着剤層８を形成する接着剤組成物は、温度２００℃で１時間加熱すると以下の条件を満たす硬化物となるものであることが好ましい。すなわち、接着剤組成物の硬化物は、接続信頼性の観点から、動的粘弾性測定装置で測定される４０℃における貯蔵弾性率が１〜２ＧＰａであることが好ましい。【００３２】
本実施形態に係る接着剤組成物の硬化物が貯蔵弾性率に係る優れた特性を達成できる主因は、接着剤成分９中に高度に分散した一次粒子の平均粒径３００ｎｍ以下のシリコーン微粒子１０ａを含有し、このシリコーン微粒子１０ａが応力緩和剤として機能するためと推察される。【００３３】
（シリコーン微粒子）
図２は、接着剤成分９に配合する前のシリコーン微粒子１０ａの態様であるコアシェル型シリコーン微粒子を示す断面図である。図２に示すコアシェル型シリコーン微粒子１０は、コア粒子をなすシリコーン微粒子１０ａと、このシリコーン微粒子１０ａを被覆してシェルをなす被覆層１０ｂとを有する。接着剤成分９とコアシェル型シリコーン微粒子１０とを混合することで、接着剤成分９中にシリコーン微粒子１０ａが分散する。【００３４】
シリコーン微粒子１０ａの平均粒径は、３００ｎｍ以下である。当該平均粒径が３００ｎｍを超えると、接着剤成分９中におけるシリコーン微粒子１０ａの分散が不均一となり、これを含有する接着剤組成物は流動性が不十分となるとともに、シリコーン微粒子１０ａの二次凝集体が生じやすくなる。シリコーン微粒子１０ａの一次粒子の平均粒径は、５０〜２５０ｎｍであることが好ましく、７０〜１７０ｎｍであることがより好ましい。平均粒径が５０ｎｍ未満であると、シリコーン微粒子１０ａによる応力緩和効果が不十分となる傾向がある。【００３５】
シリコーン微粒子１０ａは、オルガノシロキサン骨格を有し、常温において固形のシリコーン重合物である。好適なシリコーン重合物としては、［ＲＲ’ＳｉＯ２／２］、［ＲＳｉＯ３／２］及び［ＳｉＯ４／２］で示されるシロキシ基から選択される１つ又は２つ以上で構成されるポリオルガノシロキサンが挙げられる。ここで、Ｒは炭素数６以下のアルキル基、アリール基、又は末端に炭素二重結合を有する置換基であり、Ｒ’は炭素数６以下のアルキル基又はアリール基を示す。【００３６】
シリコーン微粒子１０ａを形成する上記単位のうち、架橋構造をなす［ＲＳｉＯ３／２］及び［ＳｉＯ４／２］の割合が多くなるとシリコーン重合体の硬度、弾性率が高くなる傾向がある。その結果、回路接続体に対するシリコーン微粒子１０ａによる応力緩和効果が不十分となる傾向がある。適度な硬度及び弾性率を有するシリコーン微粒子１０ａを得るためには、［ＲＳｉＯ３／２］及び／又は［ＳｉＯ４／２］の割合を適宜調整すればよい。【００３７】
コアシェル型シリコーン微粒子１０の被覆層１０ｂの厚さは、５〜１００ｎｍであることが好ましく、1０〜５０ｎｍであることがより好ましい。被覆層１０ｂの厚さが５ｎｍ未満であると、接着剤成分９中におけるシリコーン微粒子１０ａの分散が不均一となる傾向がある。他方、被覆層１０ｂの厚さが１００ｎｍを超えると、シリコーン微粒子１０ａによる応力緩和効果が不十分となる傾向がある。【００３８】
被覆層１０ｂは、アクリル樹脂又はその共重合体で形成されたものが好ましい。アクリル樹脂としては特に限定することなく公知のアクリロニトリル、アクリルアミド、アクリル酸及びそのエステル類、メタクリル酸及びそのエステル類の重合物が挙げられる。さらに、アクリル樹脂の共重合物としても特に制限することなく、一般的に使用される公知のモノマー類が挙げられる。接着剤成分として配合されるエポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化剤及びフィルム形成性高分子との相溶性が優れる点から、被覆層１０ｂはメタクリル酸メチル及び／又はその共重合体で形成されたものが特に好ましい。【００３９】
コアシェル型シリコーン微粒子１０は、当該コアシェル型シリコーン微粒子１０の全質量を基準として、シリコーンの含有率が４０〜９０質量％であることが好ましく、５０〜８０質量部であることがより好ましい。シリコーンの含有率が４０質量％未満であると、シリコーン微粒子１０ａによる応力緩和効果が不十分となる傾向がある。他方、シリコーンの含有率が９０質量％を超えると、被覆層１０ｂによるシリコーン微粒子１０ａの被覆が不均一となり、接着剤成分９中におけるシリコーン微粒子１０ａの分散性が不十分となる傾向がある。【００４０】
コアシェル型シリコーン微粒子１０を製造する方法としては、１段目の重合として乳化重合によりコアとなるシリコーン微粒子１０ａを合成し、次に２段目の重合として、シリコーン微粒子１０ａとアクリルモノマと開始剤とを混合して重合を行い、シリコーン微粒子１０ａの表面に被覆層１０ｂを形成する方法が例示できる。【００４１】
なお、コアシェル型シリコーン微粒子１０は上記のような方法によって合成してもよく、あるいは、市販のものを入手してもよい。入手可能なコアシェル型シリコーン微粒子としては、例えば、ＧＥＮＩＯＰＥＲＬ  Ｐシリーズ（商品名、旭化成ワッカーシリコーン社製）が挙げられる。【００４２】
接着剤組成物を調製するに際してコアシェル型シリコーン微粒子１０を使用すると、被覆層１０ｂで覆われていないシリコーン微粒子を使用する場合と比較し、回路接続体に対する応力緩和効果をより安定的に得られる接着剤組成物を作製できるという利点がある。この主因は、以下のように推察される。すなわち、アクリル樹脂を含有する被覆層１０ｂはエポキシ樹脂との親和性が高いため、接着剤組成物の調製過程においてコアシェル型シリコーン微粒子１０の凝集が十分に抑制される。その結果、コア粒子をなすシリコーン微粒子１０ａの接着剤成分９中における凝集が抑制され、シリコーン微粒子１０ａが接着剤成分９中に高度に分散した状態が十分に維持されるためと考えられる。【００４３】
回路接続材料５の接着剤組成物（接着剤層８）中に含まれるシリコーン微粒子１０ａの含有量は、接着剤組成物１００質量部に対して１０〜４０質量部であることが好ましく、２０〜３５質量部であることがより好ましい。シリコーン微粒子１０ａの含有量が１０質量部未満であると、応力緩和の発現が不十分となり、反りの低減が不十分となる傾向がある。他方、シリコーン微粒子１０ａの含有量が４０質量部を越えると、接着剤成分９中にシリコーン微粒子１０ａを均一に分散させることが困難となる傾向があり、回路部材の接続部分でシリコーン微粒子１０ａが凝集すると、導電性が妨げられて接続抵抗値が高くなる傾向がある。これに加え、接着剤組成物の流動性が低下したり、接着剤層８表面の粘着性が低下する傾向がある。【００４４】
次に、接着剤成分９に含まれる（ａ）エポキシ樹脂及び（ｂ）エポキシ樹脂硬化剤について説明する。【００４５】
（ａ）エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、ハロゲン化されていてもよく、水素添加されていてもよい。これらのエポキシ樹脂は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。【００４６】
（ｂ）エポキシ樹脂硬化剤としては、アミン系、フェノール系、酸無水物系、イミダゾール系、ヒドラジド系、ジシアンジアミド、三フッ化ホウ素−アミン錯体、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、アミンイミド等が挙げられる。これらのなかでも、硬化性及びポットライフの観点から、イミダゾール系硬化剤を使用することが好ましい。イミダゾール系硬化剤としては、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール等が挙げられる。これらは、単独または２種以上を混合して使用することができ、分解促進剤、抑制剤等を混合して用いてもよい。なお、長いポットライフ及び速硬化性の両方を高水準に達成するためには、潜在性硬化促進剤を使用することが好ましく、具体的にはイミダゾールとエポキシ樹脂との付加化合物（マイクロカプセル型やアダクト型潜在性硬化剤等）を使用することが好ましい。【００４７】
（ａ）エポキシ樹脂の含有量は、接着剤成分９の全質量を基準として、３〜５０質量％であると好ましく、１０〜３０質量％であるとより好ましい。（ａ）エポキシ樹脂の含有量が３質量％未満であると、硬化反応の進行が不十分となり、良好な接着強度や接続抵抗値を得ることが困難となる傾向がある。他方、５０質量％を越えると、接着剤成分９の流動性が低下したり、ポットライフが短くなったりする傾向がある。また、回路接続体の接続部の接続抵抗値が高くなる傾向がある。【００４８】
（ｂ）エポキシ樹脂硬化剤の含有量は、接着剤成分９の全質量を基準として、０．１〜６０質量％であると好ましく、１．０〜２０質量％であるとより好ましい。（ｂ）エポキシ樹脂硬化剤の含有量が０．１質量％未満であると、硬化反応の進行が不十分となり、良好な接着強度や接続抵抗値を得ることが困難となる傾向がある。他方、６０質量％を越えると、接着剤成分９の流動性が低下したり、ポットライフが短くなったりする傾向がある。また、回路接続体の接続部の接続抵抗値が高くなる傾向がある。【００４９】
接着剤成分９はフィルム形成性高分子を更に含有してもよい。接着剤成分９の全質量を基準として、フィルム形成性高分子の含有量は、２〜８０質量％であることが好ましく、５〜７０質量％であることがより好ましく、１０〜６０質量％であることが更に好ましい。フィルム形成性高分子としては、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリフェニレンオキサイド、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂、ポリイソシアネート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステルウレタン樹脂などが用いられる。【００５０】
（導電粒子）
導電粒子２０Ａは、接着剤成分９中に分散している。導電粒子２０Ａとしては、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｗ、Ｓｂ、Ｓｎ、はんだ等の金属やカーボンの粒子が挙げられる。導電粒子２０Ａの平均粒径は分散性、導電性の観点から１〜１８μｍであることが好ましい。【００５１】
導電粒子２０Ａの配合割合は、接着剤層８に含まれる接着剤成分１００体積部に対して、０．１〜３０体積部であることが好ましく、０．１〜１０体積部であることがより好ましい。この配合割合は、接着剤組成物の用途によって適宜調整する。導電粒子２０Ａの配合割合が０．１体積部未満であると対向する電極間の接続抵抗が高くなる傾向にあり、３０体積部を超えると隣接する電極間の短絡が生じやすくなる傾向がある。【００５２】
更に、接着剤層８を形成する接着剤組成物は、充填材、軟化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤、カップリング剤、メラミン樹脂、イソシアネート類等を含有することもできる。充填材を含有した場合、接続信頼性等の向上が得られるので好ましい。充填材としては、その最大径が導電粒子の粒径未満のものが好適である。また、充填材の含有量は、接着剤組成物の全体積基準で５〜６０体積％の範囲であることが好ましい。６０体積％を超えると、接続信頼性と密着性の低下が発生する傾向がある。なお、カップリング剤としては、ビニル基、アクリル基、アミノ基、エポキシ基及びイソシアネート基からなる群より選ばれる１種以上の基を含有する化合物が、接着性の向上の点から好ましい。【００５３】
＜回路接続体＞
次に、回路接続材料５を用いて製造された回路接続体について説明する。図３は、回路電極同士が接続された回路接続体を示す概略断面図である。図３に示す回路接続体１００は、相互に対向する第１の回路部材３０及び第２の回路部材４０を備えており、第１の回路部材３０と第２の回路部材４０との間には、これらを接続する接続部５０ａが設けられている。【００５４】
第１の回路部材３０は、回路基板３１と、回路基板３１の主面３１ａ上に形成された回路電極３２とを備えている。第２の回路部材４０は、回路基板４１と、回路基板４１の主面４１ａ上に形成された回路電極４２とを備えている。【００５５】
回路部材の具体例としては、半導体チップ（ＩＣチップ）、抵抗体チップ、コンデンサチップ等のチップ部品などが挙げられる。これらの回路部材は、回路電極を備えており、多数の回路電極を備えているものが一般的である。上記回路部材が接続される、もう一方の回路部材の具体例としては、金属配線を有するフレキシブルテープ、フレキシブルプリント配線板、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が蒸着されたガラス基板などの配線基板が挙げられる。【００５６】
主面３１ａ及び／又は主面４１ａは、窒化シリコン、シリコーン化合物及びシリコーン樹脂、並びに、感光性もしくは非感光性のポリイミド樹脂等の有機絶縁物質でコーティングされていてもよい。また、主面３１ａ及び／又は主面４１ａが、上記材質からなる領域を部分的に有するものであってもよい。更に、回路基板３１及び／又は回路基板４１自体が上記材質からなるものであってもよい。主面３１ａ，４１ａは、上記材質１種で構成されていてもよく、２種以上で構成されていてもよい。接着剤成分９の組成を適宜選択することによって、上記の材質からなる部分を有する回路基板同士も好適に接続することができる。【００５７】
各回路電極３２，４２の表面は、金、銀、錫、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及びインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）から選ばれる１種で構成されてもよく、２種以上で構成されていてもよい。また、回路電極３２，４２の表面の材質は、すべての回路電極において同一であってもよく、異なっていてもよい。【００５８】
接続部５０ａは接着剤層８に含まれる接着剤成分９の硬化物９Ａと、これに分散している導電粒子２０Ａとを備えている。そして、回路接続体１００においては、対向する回路電極３２と回路電極４２とが、導電粒子２０Ａを介して電気的に接続されている。すなわち、導電粒子２０Ａが、回路電極３２，４２の双方に直接接触している。このため、回路電極３２，４２間の接続抵抗が十分に低減され、回路電極３２，４２間の良好な電気的接続が可能となる。他方、硬化物９Ａは電気絶縁性を有するものであり、隣接する回路電極同士は絶縁性が確保される。従って、回路電極３２，４２間の電流の流れを円滑にすることができ、回路の持つ機能を十分に発揮することができる。【００５９】
＜回路接続体の製造方法＞
次に、回路接続体１００の製造方法について説明する。図４は、本発明に係る回路接続体の製造方法の一実施形態を概略断面図により示す工程図である。本実施形態では、回路接続材料５の接着剤層８を熱硬化させ、最終的に回路接続体１００を製造する。【００６０】
まず、回路接続材料５を所定の長さに切断すると共に、接着剤層８が下方に向くようにして第１の回路部材３０の回路電極３２が形成されている面上に載せる（図４（ａ））。このとき、接着剤層８から基材６を剥離する。【００６１】
次に、図４（ｂ）の矢印Ａ及びＢ方向に加圧し、接着剤層８を第１の回路部材３０に仮接続する（図４（ｃ））。このときの圧力は回路部材に損傷を与えない範囲であれば特に制限されないが、一般的には０．１〜３．０ＭＰａとすることが好ましい。また、加熱しながら加圧してもよく、加熱温度は接着剤層８が実質的に硬化しない温度とする。加熱温度は一般的には５０〜１００℃にするのが好ましい。これらの加熱及び加圧は０．１〜１０秒間の範囲で行うことが好ましい。【００６２】
次いで、図４（ｄ）に示すように、第２の回路部材４０を、第２の回路電極４２を第１の回路部材３０の側に向けるようにして接着剤層８上に載せる。そして、接着剤層８を加熱しながら、図４（ｄ）の矢印Ａ及びＢ方向に全体を加圧する。このときの加熱温度は、接着剤層８の接着剤成分９が硬化可能な温度とする。加熱温度は、１２０〜２３０℃が好ましく、１４０〜２１０℃がより好ましく、１６０〜２００℃が更に好ましい。加熱温度が１２０℃未満であると硬化速度が遅くなる傾向があり、２３０℃を超えると望まない副反応が進行し易い傾向がある。加熱時間は、０．１〜３０秒が好ましく、１〜２５秒がより好ましく、２〜２０秒が更に好ましい。【００６３】
接着剤成分９の硬化により接続部５０ａが形成されて、図３に示すような回路接続体１００が得られる。接続の条件は、使用する用途、接着剤組成物、回路部材によって適宜選択される。なお、接着剤層８の接着剤成分として、光によって硬化するものを配合した場合には、接着剤層８に対して活性光線やエネルギー線を適宜照射すればよい。活性光線としては、紫外線、可視光、赤外線等が挙げられる。エネルギー線としては、電子線、エックス線、γ線、マイクロ波等が挙げられる。【００６４】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。【００６５】
例えば、上記実施形態においては、導電粒子２０Ａを含有する接着剤組成物を例示したが、実装する回路部材の形状などによっては、接着剤組成物は導電粒子２０Ａを含有しないものであってもよい。また、導電粒子２０Ａの代わりに、導電性を有する核粒子と、この核粒子の表面上に設けられた複数の絶縁性粒子とによって構成された導電粒子を用いてもよい。【００６６】
図５に示す導電粒子２０Ｂは、導電性を有する核粒子１及びこの核粒子１の表面上に設けられた複数の絶縁性粒子２を備える。そして、核粒子１は、中心部分を構成する基材粒子１ａ及びこの基材粒子１ａの表面上に設けられた導電層１ｂによって構成されている。以下、導電粒子２０Ｂについて説明する。【００６７】
基材粒子１ａの材質としては、ガラス、セラミックス、有機高分子化合物などが挙げられる。これらの材質のうち、加熱及び／又は加圧によって変形するもの（例えば、ガラス、有機高分子化合物）が好ましい。基材粒子１ａが変形するものであると、導電粒子２０Ｂが回路電極３２，４２によって押圧された場合、回路電極との接触面積が増加する。また、回路電極３２，４２の表面の凹凸を吸収することができる。したがって、回路電極間の接続信頼性が向上する。【００６８】
上記のような観点から、基材粒子１ａを構成する材質として好適なものは、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シリコーン樹脂、ポリブタジエン樹脂又はこれらの共重合体、及び、これらを架橋したものである。基材粒子１ａは粒子間で同一又は異なる種類の材質であってもよく、同一粒子に１種の材質を単独で、又は２種以上の材質を混合して用いてもよい。【００６９】
基材粒子１ａの平均粒径は、用途などに応じて適宜設計可能であるが、０．５〜２０μｍであることが好ましく、１〜１０μｍであることがより好ましく、２〜５μｍであることが更に好ましい。平均粒径が０．５μｍ未満の基材粒子を用いて導電粒子を作製すると、粒子の二次凝集が生じ、隣接する回路電極間の絶縁性が不十分となる傾向があり、２０μｍを越える基材粒子を用いて導電粒子を作製すると、その大きさに起因して隣接する回路電極間の絶縁性が不十分となる傾向がある。【００７０】
導電層１ｂは、基材粒子１ａの表面を覆うように設けられた導電性を有する材質からなる層である。導電性を十分確保する観点から、導電層１ｂは、基材粒子１ａの全表面を被覆していることが好ましい。【００７１】
導電層１ｂの材質としては、例えば、金、銀、白金、ニッケル、銅及びこれらの合金、錫を含有するはんだなどの合金、並びに、カーボンなどの導電性を有する非金属が挙げられる。基材粒子１ａに対し、無電解めっきによる被覆が可能であることから、導電層１ｂの材質は金属であることが好ましい。また、十分なポットライフを得るためには、金、銀、白金又はこれらの合金がより好ましく、金が更に好ましい。なお、これらは１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。【００７２】
導電層１ｂの厚さは、これに使用する材質や用途などに応じて適宜設計可能であるが、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、８０〜１５０ｎｍであることがより好ましい。厚さが５０ｎｍ未満であると、接続部の十分に低い抵抗値が得られなくなる傾向がある。他方、２００ｎｍを越える厚さの導電層１ｂは、製造効率が低下する傾向がある。【００７３】
導電層１ｂは、一層又は二層以上で構成することができる。いずれの場合においても、これを用いて作製される接着剤組成物の保存性の観点から、核粒子１の表面層は、金、銀、白金又はこれらの合金で構成することが好ましく、金で構成することがより好ましい。導電層１ｂが、金、銀、白金又はこれらの合金（以下、「金などの金属」という。）からなる一層で構成される場合、接続部分の十分に低い抵抗値を得るためには、その厚さは１０〜２００ｎｍであることが好ましい。【００７４】
他方、導電層１ｂが二層以上で構成される場合、導電層１ｂの最外層は金などの金属で構成することが好ましいが、最外層と基材粒子１ａと間の層は、例えば、ニッケル、銅、錫又はこれらの合金を含有する金属層で構成してもよい。この場合、導電層１ｂの最外層を構成する金などの金属からなる金属層の厚さは、接着剤組成物の保存性の観点から、３０〜２００ｎｍであることが好ましい。ニッケル、銅、錫又はこれらの合金は、酸化還元作用で遊離ラジカルを発生することがある。このため、金などの金属からなる最外層の厚さが３０ｎｍ未満であると、ラジカル重合性を有する接着剤成分と併用した場合、遊離ラジカルの影響を十分に防止することが困難となる傾向がある。【００７５】
導電層１ｂを基材粒子１ａ表面上に形成する方法としては、無電解めっき処理や物理的なコーティング処理が挙げられる。導電層１ｂの形成の容易性の観点から、金属からなる導電層１ｂを無電解めっき処理によって基材粒子１ａの表面上に形成することが好ましい。【００７６】
絶縁性粒子２は、有機高分子化合物によって構成されている。有機高分子化合物としては、熱軟化性を有するものが好ましい。絶縁性粒子の好適な素材は、例えば、ポリエチレン、エチレン−酢酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスチレン、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、スチレン−イソブチレン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−（メタ）アクリル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、（メタ）アクリル酸エステル系ゴム、スチレン−エチレン−ブチレン共重合体、フェノキシ樹脂、固形エポキシ樹脂等である。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、粒度分布の分散度、耐溶剤性及び耐熱性の観点から、スチレン−（メタ）アクリル共重合体が特に好適である。絶縁性粒子２の製造方法としては、シード重合法などが挙げられる。【００７７】
ここで、（メタ）アクリル重合体は、アクリル重合体及びそれに対応するメタクリル重合体を意味し、例えば、上記の「エチレン−（メタ）アクリル共重合体」とは「エチレン−アクリル共重合体」及びそれに対応する「エチレン−メタクリル共重合体」を意味する。また、「（メタ）アクリル酸」とは「アクリル酸」及びそれに対応する「メタクリル酸」を意味する。【００７８】
絶縁性粒子２を構成する有機高分子化合物の軟化点は、回路部材同士の接続時の加熱温度以上であることが好ましい。軟化点が接続時の加熱温度未満であると、接続時に絶縁性粒子２が過度に変形することに起因して、良好な電気的接続が得られなくなる傾向がある。【００７９】
絶縁性粒子２の平均粒径は、用途などに応じて適宜設計可能であるが、５０〜５００ｎｍであることが好ましく、５０〜４００ｎｍであることがより好ましく、１００〜３００ｎｍであることが更に好ましい。平均粒径が５０ｎｍ未満であると、隣接する回路間の絶縁性が不十分となる傾向があり、他方、５００ｎｍを越えると、接続部分の十分に低い初期抵抗値及び抵抗値の経時的な上昇の抑制の両方を達成することが困難となる傾向がある。【００８０】
また、本発明に係る回路接続材料は、上記実施形態における回路接続材料５のように、基材６上に単層の接着剤層８が形成された単層構造に限定されず、基材６上に複数の接着剤層が積層された多層構造であってもよい。多層構造の回路接続材料は、接着剤成分及び導電粒子の種類あるいはこれらの含有量が異なる層を複数積層することによって製造することができる。例えば、回路接続材料は、導電粒子を含有する導電粒子含有層と、この導電粒子含有層の少なくとも一方の面上に設けられた、導電粒子を含有しない導電粒子非含有層とを備えるものであってもよい。【００８１】
図６に示す回路接続材料１５は、二層構造の接着剤層７と、この接着剤層７の両最外面をそれぞれ覆う基材６ａ，６ｂとを備える。回路接続材料１５の接着剤層７は、導電粒子を含有する導電粒子含有層７ａ及び導電粒子を含有しない導電粒子非含有層７ｂから構成されている。回路接続材料１５は、基材６ａの表面上に導電粒子含有層７ａを形成し、他方、基材６ｂの表面上に導電粒子非含有層７ｂを形成し、これらの層を従来公知のラミネータなどを使用して貼り合わせることで作製することができる。回路接続材料１５を使用するに際には、適宜基材６ａ，６ｂは剥離される。【００８２】
回路接続材料１５によれば、回路部材同士の接合時に、接着剤成分の流動に起因する回路電極上における導電粒子の個数の減少を十分に抑制することができる。このため、例えば、ＩＣチップをＣＯＧ実装もしくはＣＯＦ実装によって基板上に接続する場合、ＩＣチップの金属バンプ上の導電粒子の個数を十分に確保することができる。この場合、ＩＣチップの金属バンプを備える面と導電粒子非含有層７ｂとが、他方、ＩＣチップを実装すべき基板と導電粒子含有層７ａとが、それぞれ当接するように接着剤層７を配置することが好ましい。
【実施例】
【００８３】
（実施例１）
導電性を有する核粒子を以下のようにして製造した。すなわち、基材粒子として架橋ポリスチレン粒子（総研化学製、商品名：ＳＸシリーズ、平均粒径：４μｍ）を準備し、この粒子の表面上に、無電解めっき処理によってＮｉ層（厚さ０．０８μｍ）を設けた。更に、このＮｉ層の外側に無電解めっき処理によってＡｕ層（厚さ０．０３μｍ）を設け、Ｎｉ層及びＡｕ層からなる導電層を有する核粒子を得た。【００８４】
核粒子の表面を被覆するための有機高分子化合物（絶縁被覆）として、架橋アクリル樹脂（総研化学製、商品名：ＭＰシリーズ）を準備した。この架橋アクリル樹脂４ｇと核粒子２０ｇとをハイブリダイザー（株式会社奈良機械製作所製、商品名：ＮＨＳシリーズ）に導入し、導電粒子を作製した。なお、ハイブリダイザーにおける処理条件は、回転速度１６０００／分、反応槽温度６０℃とした。【００８５】
次に、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂と９、９’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンとを用いて、ガラス転移温度が８０℃のフェノキシ樹脂を合成した。このフェノキシ樹脂５０ｇを溶剤に溶解し、固形分４０質量％の溶液を調製した。なお、溶剤としては、トルエンと酢酸エチルの混合溶剤（両者の混合質量比＝１：１）を使用した。【００８６】
他方、表１の実施例１の欄に示す物性を有するコアシェル型シリコーン微粒子（旭化成ワッカーシリコーン社製、商品名：ＧＥＮＩＯＰＥＲＬ  Ｐ２２）を準備した（以下、当該コアシェル型シリコーン微粒子を「コアシェル型シリコーン微粒子Ａ」という。）。なお、コアシェル型シリコーン微粒子のコア粒子（シリコーン微粒子）の平均粒径は、以下のようにして測定した。すなわち、コアシェル型シリコーン微粒子１００ｇとビスフェノールＦ型エポキシ樹脂３００ｇとをホモミキサーを用いて混合し、両者の混合物を得た。この混合物を１質量％含むテトラヒドロフラン溶液のレーザー粒径解析を行うことによってコア粒子の平均粒径を求めた。【００８７】
コアシェル型シリコーン微粒子Ａ２５質量部と、フェノキシ樹脂３０質量部（固形分）と、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂３０質量部（固形分）と、マイクロカプセル型潜在性硬化剤（イミダゾール系硬化剤）を含有する液状エポキシ樹脂４０質量部（固形分）とを混合して混合液を得た。この混合液１００体積部に対して上記導電粒子５体積部を配合し、温度２３℃において撹拌することにより、接着剤組成物の溶液を得た。【００８８】
剥離処理剤（シリコーン樹脂）による表面処理が施されたＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：ピューレックス、厚さ：５０μｍ）の面上に、接着剤組成物の溶液を塗工して塗布した。その後、これを熱風乾燥（８０℃にて５分間）することにより、ＰＥＴフィルムに支持された厚さ１０μｍの導電粒子含有層を得た。【００８９】
また、コアシェル型シリコーン微粒子Ａ３０質量部と、フェノキシ樹脂２０質量部（固形分）と、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂４０質量部（固形分）と、マイクロカプセル型潜在性硬化剤（イミダゾール系硬化剤）を含有する液状エポキシ樹脂４０質量部（固形分）とを混合し、導電粒子を含有しない接着剤組成物の溶液を得た。この接着剤組成物の溶液を、剥離処理剤（シリコーン樹脂）による表面処理が施されたＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：ピューレックス、厚さ：５０μｍ）の面上に、塗工して塗布した。その後、これを熱風乾燥（８０℃にて５分間）することにより、ＰＥＴフィルムに支持された厚さ１５μｍの導電粒子非含有層を得た。【００９０】
これらの接着フィルム同士を、従来公知のラミネータを用いて貼り合わせた。これにより、図６に示す二層構成の回路接続材料を得た。【００９１】
（回路接続体の作製）
上記のようにして製造した回路接続材料を用いてＩＴＯ基板（厚さ０．７ｍｍ、表面抵抗＜２０Ω／□）とＩＣチップ（厚さ０．５５ｍｍ）とを接続し、回路接続体を形成した。ＩＣチップは、バンプ面積２５００μｍ２（５０μｍ×５０μｍ）、ピッチ１００μｍ、高さ２０μｍの金バンプを備えるものを使用した。ＩＴＯ基板は、厚さ１．１ｍｍのガラス板の表面上にＩＴＯを蒸着により形成したものを使用した。【００９２】
ＩＣチップとＩＴＯ基板との間に、回路接続材料を介在させ、圧着装置（東レエンジニアリング株式会社製、商品名：ＦＣ−１２００）を用いて接続を行った。具体的には、まず、導電粒子含有層側のＰＥＴフィルムを剥離し、導電粒子含有層がＩＴＯ基板と当接するように回路接続材料をＩＴＯ基板上に配置した。そして、圧着装置を用いて仮圧着（温度７５℃、圧力１．０ＭＰａにて２秒間）を行った。導電粒子非含有層側のＰＥＴフィルムを剥離した後、金バンプが導電粒子非含有層と当接するようにＩＣチップを載置した。土台に石英ガラスを使用し、温度２００℃、圧力８０ＭＰａにて５秒間加熱加圧することによって接続部を備える回路接続体を得た。【００９３】
（貯蔵弾性率の測定）
本実施例で作製した二層構成の回路接続材料を２００℃で１時間加熱して硬化させた。回路接続材料の硬化物から被測定試料（幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍ、膜厚２５μｍ）を切り取り、次のようにして貯蔵弾性率を測定した。すなわち、被測定試料の動的粘弾性について、動的粘弾性測定装置ＲＡＳＩＩ（ＴＡインスツルメント製）を用いて、昇温速度５℃／分、周波数１０Ｈｚ、振幅３μｍ、引張モードの条件で測定した。そして、得られた結果から、４０℃における貯蔵弾性率を求めた。【００９４】
（反り量の測定）
ＩＣチップを実装した後のＩＴＯ基板の反り量について、非接触式レーザー型３次元形状測定装置（キーエンス製、商品名：ＬＴ−９０００）を用いて測定した。ＩＣチップ側を下方に向け、ＩＴＯ基板の裏面を上方に向けて回路接続体を平坦な台の上に置いた。そして、ＩＴＯ基板の裏面の中心部と、このＩＴＯ基板の裏面におけるＩＣチップの両端から５ｍｍ離れた箇所との高さの差を測定した。この高さの差をガラス基板の反り量とした。【００９５】
（初期接続抵抗の測定）
上記のようにして作製した回路接続体の接続部の初期抵抗を抵抗測定機（株式会社アドバンテスト製、商品名：デジタルマルチメータ）を用いて測定した。なお、測定は電極間に１ｍＡの電流を流して行った。【００９６】
（隣接電極間の絶縁性の評価）
隣接する電極間の絶縁抵抗を抵抗測定機（株式会社アドバンテスト製、商品名：デジタルマルチメータ）を用い、以下の手順で測定した。まず、回路接続体の接続部に直流（ＤＣ）５０Ｖの電圧を１分間印加した。そして、絶縁抵抗の測定は、電圧印加後の接続部に対し、２端子測定法によって行った。なお、上記の電圧の印加には、電圧計（株式会社アドバンテスト製、商品名：ＵＬＴＲＡ  ＨＩＧＨ  ＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥ  ＭＥＴＥＲ）を用いた。【００９７】
（接続信頼性の評価）
回路接続体の接続部の接続信頼性について、温度サイクル試験を行うことによって評価した。温度サイクル試験は、回路接続体を温度サイクル槽（ＥＴＡＣ製、商品名：ＮＴ１０２０）内に収容し、室温から−４０℃への降温、−４０℃から１００℃への昇温及び１００℃から室温への降温の温度サイクルを２５０回繰り返すことによって行った。−４０℃及び１００℃における保持時間は、いずれも３０分とした。温度サイクル試験後の接続部分の抵抗の測定は、初期抵抗の測定と同様に行った。【００９８】
（界面剥離発生の有無についての評価）
温度サイクル試験後の回路接続体をデジタル顕微鏡（キーエンス製、商品名：ＶＨ−８０００）によって観察し、界面剥離発生の有無を評価した。具体的には、回路接続体のガラス基板側から回路接続体の接続部を観察してガラス基板上の界面剥離の有無を確認した。【００９９】
表３に被測定試料（回路接続材料の硬化物）の−５０℃及び１００℃における貯蔵弾性率、−５０〜１００℃の範囲における被測定試料の貯蔵弾性率の最大値及び最小値、並びに、ガラス転移温度を示した。また、表４にＩＴＯ基板の反り量、接続抵抗値、絶縁抵抗値の測定結果を示した。【０１００】
（実施例２）
導電粒子含有層を形成する際に、コアシェル型シリコーン微粒子Ａを２５質量部配合する代わりに、表１に示すコアシェル型シリコーン微粒子Ｂを２５質量部配合したこと、及び、導電粒子非含有層を形成する際に、コアシェル型シリコーン微粒子Ａを３０質量部配合する代わりに、コアシェル型シリコーン微粒子Ｂを３０質量部配合したことの他は、実施例１と同様にして二層構成の回路接続材料及び回路接続体を作製した。なお、コアシェル型シリコーン微粒子Ｂは、旭化成ワッカーシリコーン社製のＧＥＮＩＯＰＥＲＬ  Ｐ５２（商品名）である。【０１０１】
（実施例３）
導電粒子含有層を形成する際に、コアシェル型シリコーン微粒子Ａを４０質量部配合したことの他は、実施例１と同様にして二層構成の回路接続材料及び回路接続体を作製した。【０１０２】
（実施例４）
導電粒子含有層を形成する際に、コアシェル型シリコーン微粒子Ｂを４０質量部配合したことの他は、実施例２と同様にして二層構成の回路接続材料及び回路接続体を作製した。【０１０３】
（比較例１）
二層構成の回路接続材料を作製する際に、各溶液に架橋構造を有するコアシェル型シリコーン微粒子を配合せず、表２に示す配合比率で導電粒子含有層及び導電粒子非含有層を形成したことの他は、実施例１と同様にして二層構成の回路接続材料及び回路接続材料を作製した。【０１０４】
【表１】
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【０１０５】
【表２】
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【０１０６】
【表３】
2009051067.tif 000005
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
本発明によれば、回路接続体に生じる内部応力を十分に低減できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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