(57)【要約】  液処理装置１０は、被処理体Ｗを保持するとともに、中空になった保持プレート１と、保持プレート１に固定連結され、中空になった外方回転軸２と、外方回転軸２を回転駆動する回転駆動部３と、保持プレート１の中空内に配置されるとともに、被処理体Ｗを支持するリフトピン２１を有するリフトピンプレート２０と、を備えている。リフトピンプレート２０の内部には、洗浄液を供給する洗浄液供給部２５が延在している。リフトピンプレート２０には、リフトピンプレート２０を上方位置および下方位置に配置させる昇降部材１６が連結されている。リフトピンプレート２０は、下方位置にあるときに、回転駆動部３が外方回転軸２を回転駆動する力を受けて回転駆動される。
2009084406.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を保持するとともに、中空になった保持プレートと、
前記保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、
前記外方回転軸を所定の回転方向に回転駆動する回転駆動部と、
前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、前記被処理体を支持するリフトピンを有するリフトピンプレートと、
前記保持プレートの内部に配置され、当該保持プレートに保持された前記被処理体に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、を備え、
前記リフトピンプレートは、下方位置にあるときに、前記回転駆動部が前記外方回転軸を回転駆動する力を受けて、回転駆動されることを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記外方回転軸の中空内で延在し、前記リフトピンプレートに固定連結された内方回転軸をさらに備え、
当該内方回転軸は、前記昇降部材によって上方位置および下方位置に配置されるとともに、下方位置にあるときに、前記外方回転軸の回転方向において当該外方回転軸に当接可能であることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記内方回転軸は、周縁外方に突出した内部突出部を有し、
前記外方回転軸は、前記内部突出部を収容する外部凹部を有し、
前記内部突出部は、前記外部凹部内で、前記外方回転軸の回転方向において当該外方回転軸に当接可能であることを特徴とする請求項２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記外方回転軸は、周縁内方に突出した外部突出部を有し、
前記内方回転軸は、前記外部突出部を収容する内部凹部を有し、
前記外部突出部は、前記内部凹部内で、前記外方回転軸の回転方向において前記内方回転軸に当接可能であることを特徴とする請求項２に記載の液処理装置。
【請求項５】
前記リフトピンプレートは、下方位置にあるときに前記保持プレートに対して固定可能であることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記リフトピンプレート内に第一磁石が設けられ、
前記保持プレート内に第二磁石が設けられ、
前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに前記第一磁石が前記第二磁石に対して固定されることによって、前記リフトピンプレートは前記保持プレートに対して固定可能となっていることを特徴とする請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記内方回転軸内に第一磁石が設けられ、
前記外方回転軸のうち前記第一磁石に対向する位置に第二磁石が設けられ、
前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに前記第一磁石が前記第二磁石に対して非接触で固定されることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項８】
前記内方回転軸の少なくとも一部は金属からなる金属部を有し、
前記金属部に磁力を付与して、前記内方回転軸を下方に引きつける磁石が設けられ、
前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに、該リフトピンプレートの自重と前記金属部に付与される磁力によって、該リフトピンプレートが前記外方回転軸の回転方向において前記保持プレートに対して固定可能となっていることを特徴とする請求項５に記載の液処理装置。
【請求項９】
前記磁石は電磁石からなることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１０】
中空になった保持プレートと、当該保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、当該外方回転軸を所定の回転方向に回転駆動する回転駆動部と、前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、リフトピンを有するリフトピンプレートと、前記保持プレートの内部に配置された洗浄液供給部と、前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを上方位置に位置づける上方位置づけ工程と、
前記リフトピンプレートの前記リフトピンによって、前記被処理体を支持する支持工程と、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを下方位置に位置づける下方位置づけ工程と、
前記保持プレートによって、前記被処理体を保持する保持工程と、
前記回転駆動部で前記外方回転軸を回転駆動することによって、前記保持プレートで保持された前記被処理体を回転させる回転工程と、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体に薬液を供給する薬液供給工程と、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体にリンス液を供給するリンス工程と、を備え、
下方位置にある前記リフトピンプレートを、前記回転駆動部が前記外方回転軸を回転駆動する力によって回転させることを特徴とする液処理方法。
【請求項１１】
コンピュータに液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
当該液処理方法は、
中空になった保持プレートと、当該保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、当該外方回転軸を所定の回転方向に回転駆動する回転駆動部と、前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、リフトピンを有するリフトピンプレートと、前記保持プレートの内部に配置された洗浄液供給部と、前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを上方位置に位置づける上方位置づけ工程と、
前記リフトピンプレートの前記リフトピンによって、前記被処理体を支持する支持工程と、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを下方位置に位置づける下方位置づけ工程と、
前記保持プレートによって、前記被処理体を保持する保持工程と、
前記回転駆動部で前記外方回転軸を回転駆動することによって、前記保持プレートで保持された前記被処理体を回転させる回転工程と、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体に薬液を供給する薬液供給工程と、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体にリンス液を供給するリンス工程と、を備え、
下方位置にある前記リフトピンプレートを、前記回転駆動部が前記外方回転軸を回転駆動する力によって回転させる方法であることを特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【関連する出願の相互参照】
【０００１】
本願は、２００７年１２月２７日に出願された特願２００７−３３７０５３号および２００８年８月６日に出願された特願２００８−２０３３９１号に対して優先権を主張し、当該特願２００７−３３７０５３および当該特願２００８−２０３３９１号のすべての内容が参照されてここに組み込まれるものとする。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、回転駆動されている被処理体に洗浄液を供給して、当該被処理体を洗浄する液処理装置および液処理方法、並びに、当該液処理方法を実施させるための記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００３】
特開平９−２９０１９７号公報に示すように、従来から、被処理体である半導体ウエハ（以下、ウエハとも呼ぶ）を保持するとともに、中空になった底板と、底板に固定連結され、スピンモータにより回転駆動される回転軸と、回転軸内で延在し、底板に保持されたウエハに洗浄液を供給する供給管路と、上昇することによって下方からウエハを支持することができる基板押し上げピンと、を備えた液処理装置は知られている。【０００４】
従来の液処理装置においては、ウエハを洗浄するために用いられた薬液やリンス液などの洗浄液が、貫通穴を介して基板押し上げピンに付着する可能性があった。このため、ウエハの乾燥工程の後に、基板押し上げピンによってウエハを持ち上げて搬送ロボットに受け渡すときに、基板押し上げピンに付着した洗浄液の液滴がウエハの裏面に付着することがあった。【０００５】
このようにウエハに洗浄液が付着すると、液滴が付着したウエハ自体にウオーターマークが形成されるだけでなく、ウエハが運び込まれたキャリア内の湿度が上昇してしまい、キャリア内に収容された他のウエハにもウオーターマークが形成されることがある。
【発明の開示】
【０００６】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基板を持ち上げる部材に洗浄液が残ることを防止することによって、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止し、ひいては、被処理体にウオーターマークが形成されることを防止する液処理装置および液処理方法、並びに、当該液処理方法を実施させるための記憶媒体を提供することを目的とする。
【０００７】
本発明による液処理装置は、
被処理体を保持するとともに、中空になった保持プレートと、
前記保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、
前記外方回転軸を所定の回転方向に回転駆動する回転駆動部と、
前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、前記被処理体を支持するリフトピンを有するリフトピンプレートと、
前記保持プレートの内部に配置され、当該保持プレートに保持された前記被処理体に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、を備え、
前記リフトピンプレートは、下方位置にあるときに、前記回転駆動部が前記外方回転軸を回転駆動する力を受けて、回転駆動される。
【０００８】
このような構成によって、リフトピンプレートに洗浄液が溜まったり、リフトピンに洗浄液が残ったりすることを防止することができ、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止することができる。
【０００９】
本発明による液処理装置において、前記外方回転軸の中空内で延在し、前記リフトピンプレートに固定連結された内方回転軸をさらに備え、当該内方回転軸は、前記昇降部材によって上方位置および下方位置に配置されるとともに、下方位置にあるときに、前記外方回転軸の回転方向において当該外方回転軸に当接可能であることが好ましい。
【００１０】
本発明による液処理装置において、前記内方回転軸は、周縁外方に突出した内部突出部を有し、前記外方回転軸は、前記内部突出部を収容する外部凹部を有し、前記内部突出部は、前記外部凹部内で、前記外方回転軸の回転方向において当該外方回転軸に当接可能であることが好ましい。
【００１１】
本発明による液処理装置において、前記外方回転軸は、周縁内方に突出した外部突出部を有し、前記内方回転軸は、前記外部突出部を収容する内部凹部を有し、前記外部突出部は、前記内部凹部内で、前記外方回転軸の回転方向において前記内方回転軸に当接可能であることが好ましい。
【００１２】
本発明による液処理装置において、前記リフトピンプレートは、下方位置にあるときに前記保持プレートに対して固定可能であることが好ましい。
【００１３】
本発明による液処理装置において、前記リフトピンプレート内に第一磁石が設けられ、前記保持プレート内に第二磁石が設けられ、前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに前記第一磁石が前記第二磁石に対して固定されることによって、前記リフトピンプレートは前記保持プレートに対して固定可能となっていることが好ましい。
【００１４】
本発明による液処理装置において、前記内方回転軸内に第一磁石が設けられ、前記外方回転軸のうち前記第一磁石に対向する位置に第二磁石が設けられ、前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに前記第一磁石が前記第二磁石に対して非接触で固定されることが好ましい。
【００１５】
本発明による液処理装置において、前記内方回転軸の少なくとも一部は金属からなる金属部を有し、前記金属部に磁力を付与して、前記内方回転軸を下方に引きつける磁石が設けられ、前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに、該リフトピンプレートの自重と前記金属部に付与される磁力によって、該リフトピンプレートが前記外方回転軸の回転方向において前記保持プレートに対して固定可能となっていることが好ましい。
【００１６】
上述のような液処理装置において、前記磁石は電磁石からなることが好ましい。
【００１７】
このような構成によって、リフトピンプレートが保持プレートから離れる際に、当該リフトピンプレートが突発的に移動することを防止することができる。
【００１８】
本発明による液処理装置において、前記リフトピンプレートと前記保持プレートとの間にシール部材が設けられていることが好ましい。
【００１９】
このような構成によって、リフトピンプレートと保持プレートとの間から、洗浄液などが外方回転軸の中空内に入り込むことを防止することができる。
【００２０】
本発明による液処理装置において、前記リフトピンプレートが下方位置にあるときに、前記リフトピンプレートの前記リフトピンの先端と、前記保持プレートに保持された前記被処理体の下端との距離が５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００２１】
このような構成によって、被処理体の下面を伝って流れる洗浄液によって、リフトピンの先端を洗浄することができ、リフトピンの先端が被処理体の裏面に当接するときに、リフトピンの先端に付着した汚れが被処理体の裏面に移ることを防止することができる。
【００２２】
本発明による液処理装置において、前記リフトピンプレートの前記リフトピンは、前記保持プレートの周縁近傍に配置されていることが好ましい。
【００２３】
このような構成によって、被処理体の裏面を洗浄した後にリフトピンの先端を洗浄することができ、リフトピンの先端が被処理体の裏面に当接するときに、リフトピンの先端に付着した汚れが被処理体の裏面に移ることをより確実に防止することができる。
【００２４】
本発明による液処理方法は、
中空になった保持プレートと、当該保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、当該外方回転軸を所定の回転方向に回転駆動する回転駆動部と、前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、リフトピンを有するリフトピンプレートと、前記保持プレートの内部に配置された洗浄液供給部と、前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを上方位置に位置づける上方位置づけ工程と、
前記リフトピンプレートの前記リフトピンによって、前記被処理体を支持する支持工程と、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを下方位置に位置づける下方位置づけ工程と、
前記保持プレートによって、前記被処理体を保持する保持工程と、
前記回転駆動部で前記外方回転軸を回転駆動することによって、前記保持プレートで保持された前記被処理体を回転させる回転工程と、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体に薬液を供給する薬液供給工程と、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体にリンス液を供給するリンス工程と、を備え、
下方位置にある前記リフトピンプレートを、前記回転駆動部が前記外方回転軸を回転駆動する力によって回転させる。
【００２５】
このような方法によって、リフトピンプレートに洗浄液が溜まったり、リフトピンに洗浄液が残ったりすることを防止することができ、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止することができる。
【００２６】
本発明による記憶媒体は、
コンピュータに液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
当該液処理方法が、
中空になった保持プレートと、当該保持プレートに固定連結され、中空になった外方回転軸と、当該外方回転軸を所定の回転方向に回転駆動する回転駆動部と、前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、リフトピンを有するリフトピンプレートと、前記保持プレートの内部に配置された洗浄液供給部と、前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを上方位置に位置づける上方位置づけ工程と、
前記リフトピンプレートの前記リフトピンによって、前記被処理体を支持する支持工程と、
前記昇降部材によって、前記リフトピンプレートを下方位置に位置づける下方位置づけ工程と、
前記保持プレートによって、前記被処理体を保持する保持工程と、
前記回転駆動部で前記外方回転軸を回転駆動することによって、前記保持プレートで保持された前記被処理体を回転させる回転工程と、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体に薬液を供給する薬液供給工程と、
前記洗浄液供給部によって前記被処理体にリンス液を供給するリンス工程と、を備え、
下方位置にある前記リフトピンプレートを、前記回転駆動部が前記外方回転軸を回転駆動する力によって回転させる方法からなっている。
【００２７】
このような構成によって、リフトピンプレートに洗浄液が溜まったり、リフトピンに洗浄液が残ったりすることを防止することができ、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止することができる。
【００２８】
本発明によれば、回転駆動部によって外方回転軸が回転駆動される力を受けて、リフトピンプレートが回転駆動されるので、リフトピンプレートに洗浄液が溜まったり、リフトピンに洗浄液が残ったりすることを防止することができる。このため、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止することができ、ひいては、被処理体にウオーターマークが形成されることを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】図１は、本発明の第１の実施の形態による液処理装置の駆動態様を示す側方断面図である。
【図２】図２は、本発明の第１の実施の形態による液処理装置を示す側方断面図と横断面図である。
【図３】図３は、本発明の第１の実施の形態による液処理装置による液処理方法の流れを示したフロー図である。
【図４】図４は、本発明の第１の実施の形態の別の形態による液処理装置を示す側方断面図である。
【図５】図５は、本発明の第１の実施の形態の別の形態による液処理装置に用いられる内方回転軸を示す斜視図である。
【図６】図６は、本発明の第１の実施の形態のさらに別の形態による液処理装置を示す側方断面図である。
【図７】図７は、本発明の第２の実施の形態による液処理装置の駆動態様を示す側方断面図である。
【図８】図８は、本発明の第３の実施の形態による液処理装置を示す側方断面図と横断面図である。
【図９】図９は、本発明の第４の実施の形態による液処理装置を示す側方断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
第１の実施の形態
以下、本発明に係る液処理装置および液処理方法の第１の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１（ａ）（ｂ）乃至図６は本発明の第１の実施の形態を示す図である。
【００３１】
図１（ａ）（ｂ）および図２（ａ）に示すように、液処理装置１０は、被処理体である半導体ウエハＷ（以下、ウエハＷとも呼ぶ）を保持するとともに、中空になった保持プレート１と、保持プレート１に固定連結され、中空になった外方回転軸２（図２（ｂ）参照）と、外方回転軸２を所定の回転方向に回転駆動する回転駆動部３と、を備えている。なお、図２（ａ）に示すように、保持プレート１は、保持部材６０によってウエハＷを保持する。ところで、図２（ｂ）は図２（ａ）をＢ−Ｂ直線で切断した横断面図である。
【００３２】
また、図１（ａ）（ｂ）に示すように、外方回転軸２の周縁外方にはベアリング３１が配置されている。また、回転駆動部３は、外方回転軸２の周縁外方に配置されたプーリ６２と、このプーリ６２に駆動ベルト６３を介して駆動力を付与するモータ６１とを有している。
【００３３】
また、図１（ａ）（ｂ）および図２（ａ）に示すように、保持プレート１の中空内には、リフトピン２１を有するリフトピンプレート２０が配置されている。また、外方回転軸２の中空内には、リフトピンプレート２０に固定連結された内方回転軸２２が上下方向に延在している。
【００３４】
また、図１（ａ）（ｂ）および図２（ａ）（ｂ）に示すように、内方回転軸２２とリフトピンプレート２０とは中空形状になっており、これら内方回転軸２２とリフトピンプレート２０の内部（中空空間内）には、保持プレート１に保持されたウエハＷの裏面側に洗浄液を供給する裏面側洗浄液供給部（洗浄液供給部）３０が上下方向に延在している。また、図１（ａ）（ｂ）に示すように、内方回転軸２２には、リフトピンプレート２０および内方回転軸２２を昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材１６が設けられている。
【００３５】
なお、昇降部材１６は、内方回転軸２２を昇降させることによって、リフトピンプレート２０を昇降させる。そして、内方回転軸２２の周縁外方にはベアリング３２が設けられており、後述するように内方回転軸２２は回転可能となっている。
【００３６】
また、図２（ａ）に示すように、保持プレート１の上方には、保持プレート１によって保持されたウエハＷの表面側に洗浄液を供給する表面側洗浄液供給部６５が配置されている。
【００３７】
ところで、洗浄液とは、薬液やリンス液のことを意味している。そして、薬液としては、例えば、希フッ酸、アンモニア過水(ＳＣ１)、塩酸過水(ＳＣ２)などを用いることができる。他方、リンス液としては、例えば、純水（ＤＩＷ）などを用いることができる。
【００３８】
また、裏面側洗浄液供給部３０からはＮ２などからなる乾燥気体も供給され、表面側洗浄液供給部６５からはＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などからなる乾燥液も供給されるようになっている。
【００３９】
また、内方回転軸２２は、下方位置にあるときに（図１（ａ）参照）、外方回転軸２の回転方向において外方回転軸２に当接可能となっている。より具体的には、内方回転軸２２は周縁外方に突出した内部突出部１１を有し、外方回転軸２は内部突出部１１を収容する外部凹部２ａを有している（図２（ｂ）参照）。そして、内部突出部１１は、外部凹部２ａ内で、外方回転軸２の回転方向において外方回転軸２に当接可能となっている。
【００４０】
このため、内方回転軸２２に固定連結されたリフトピンプレート２０を、回転駆動部３が外方回転軸２を回転駆動する力によって、回転させることができる。
【００４１】
なお、昇降部材１６によって内方回転軸２２を昇降させるときには、内部突出部１１は外部凹部２ａ内を案内される（図１（ｂ）参照）。
【００４２】
ところで、図２（ｂ）においては、内部突出部１１と当該内部突出部１１に対応する外部凹部２ａが一つだけ設けられている態様を示しているが、これに限られることなく、内部突出部１１と外部凹部２ａは、複数個設けられてもよい。
【００４３】
また、図１（ａ）（ｂ）および図２（ａ）に示すように、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間には、Ｏリングなどからなるシール部材３５が設けられている。
【００４４】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
【００４５】
まず、昇降部材１６によって、リフトピンプレート２０が上方位置（ウエハ搬送ロボットがウエハＷを受け渡す位置）に位置づけられる（上方位置づけ工程８１）（図１（ｂ）および図３参照）。より具体的には、昇降部材１６によって内方回転軸２２が上方位置に位置づけられ、このことによって、内方回転軸２２に固定連結されたリフトピンプレート２０が上方位置に位置づけられる。
【００４６】
次に、リフトピンプレート２０のリフトピン２１によって、ウエハ搬送ロボット（図示せず）からウエハＷが受け取られ、当該リフトピン２１によってウエハＷが支持される（支持工程８２）（図１（ｂ）および図３参照）。
【００４７】
次に、昇降部材１６によって、リフトピンプレート２０が下方位置（ウエハＷを洗浄液によって処理する位置）に位置づけられる（下方位置づけ工程８３）（図１（ａ）および図３参照）。より具体的には、昇降部材１６によって内方回転軸２２が下方位置に位置づけられ、このことによって、内方回転軸２２に固定連結されたリフトピンプレート２０が下方位置に位置づけられる。このとき、内方回転軸２２の内部突出部１１が、外方回転軸２の外部凹部２ａ内に収容される。
【００４８】
このようにリフトピンプレート２０が下方位置に位置づけられる際に、保持プレート１の保持部材６０によって、ウエハＷが保持される（保持工程８４）（図２（ａ）および図３参照）。
【００４９】
次に、回転駆動部３によって外方回転軸２が回転駆動されることによって、保持プレート１で保持されたウエハＷが回転される（回転工程）（図３参照）。ここで、内部突出部１１が、外部凹部２ａ内で、外方回転軸２の回転方向において外方回転軸２に当接可能となっているので、回転駆動部３によって外方回転軸２が回転駆動されることによって、内方回転軸２２が回転される（図２（ｂ）参照）。このため、内方回転軸２２に固定連結されたリフトピンプレート２０も回転される。
【００５０】
このように、保持プレート１に保持されたウエハＷと、リフトピンプレート２０とが回転している間に、以下の工程が行われる。
【００５１】
まず、表面側洗浄液供給部６５と裏面側洗浄液供給部３０とによって、ウエハＷに薬液が供給される（薬液供給工程９１）（図２（ａ）および図３参照）。すなわち、表面側洗浄液供給部６５によってウエハＷの表面に薬液が供給されるとともに、裏面側洗浄液供給部３０によってウエハＷの裏面に薬液が供給される。
【００５２】
次に、表面側洗浄液供給部６５と裏面側洗浄液供給部３０とによって、ウエハＷにリンス液が供給される（リンス工程９２）（図３参照）。すなわち、表面側洗浄液供給部６５によってウエハＷの表面にリンス液が供給されるとともに、裏面側洗浄液供給部３０によってウエハＷの裏面にリンス液が供給される。
【００５３】
このような薬液供給工程９１とリンス工程９２とを行っている間、回転駆動部３により外方回転軸２が回転駆動されることによって、内方回転軸２２が回転駆動されて、リフトピンプレート２０が回転される。このため、ウエハＷを洗浄するために用いられた薬液やリンス液などの洗浄液が、リフトピンプレート２０に溜まること、および、リフトピン２１に洗浄液が残ることを防止することができる。
【００５４】
すなわち、リフトピンプレート２０で受けられた薬液やリンス液などの洗浄液は、リフトピンプレート２０が回転されていることで生じる遠心力によって、リフトピンプレート２０の周縁外方に移動させられることとなる。このため、ウエハＷを洗浄するために用いられた洗浄液は、随時、リフトピンプレート２０およびリフトピン２１から除去されることとなるので、リフトピンプレート２０に洗浄液が溜まること、および、リフトピン２１に洗浄液が残ることを防止することができる。
【００５５】
なお、本実施の形態においては、リフトピンプレート２０のリフトピン２１の先端と、保持プレート１に保持されたウエハＷの下面との距離は、リフトピンプレート２０が下方位置にあるときに５ｍｍ以下となっている（図１（ａ）および図２（ａ）参照）。このため、ウエハＷの下面を伝って流れる薬液やリンス液によって、リフトピン２１の先端を洗浄することができる。
【００５６】
この結果、上述の支持工程８２や後述する搬出工程９６のように、リフトピン２１の先端がウエハＷの裏面に当接するときに、リフトピン２１の先端に付着した汚れがウエハＷの裏面に移ることを防止することができる。
【００５７】
上述のようにリンス工程９２が終了すると、乾燥工程９３が行われる。
【００５８】
すなわち、表面側洗浄液供給部６５からＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などからなる乾燥液が供給され、裏面側洗浄液供給部３０からＮ２などからなる乾燥気体が供給される。そして、このときにもやはり、回転駆動部３から加えられる駆動力によって、リフトピンプレート２０が回転されている。
【００５９】
このため、リフトピンプレート２０およびリフトピン２１に残っている洗浄液（特にリンス液）は、リフトピンプレート２０が回転されていることで生じる遠心力によって、リフトピンプレート２０の周縁外方に移動させられる。このため、リフトピンプレート２０およびリフトピン２１に洗浄液（特にリンス液）が残ることを確実に防止することができる。
【００６０】
このような乾燥工程９３が終了すると、リフトピンプレート２０のリフトピン２１によってウエハＷが持ち上げられ、ウエハ搬送ロボットに移動させられる（搬出工程９６）（図１（ｂ）および図３参照）。ここで、上述のように、薬液供給工程９１、リンス工程９２および乾燥工程９３の間、リフトピンプレート２０が回転されているので、リフトピンプレート２０およびリフトピン２１には洗浄液が残っていない。
【００６１】
このため、リフトピンプレート２０のリフトピン２１によってウエハＷを持ち上げる際に、ウエハＷの裏面にリフトピンプレート２０に溜まった洗浄液の液滴およびリフトピン２１に残った洗浄液の液滴が付着することはない。
【００６２】
この結果、液滴の付着したウエハＷ自体にウオーターマークが形成されることを防止することができ、かつ、ウエハＷが運び込まれたキャリア内に収容された他のウエハＷにウオーターマークが形成されてしまうことも防止することができる。
【００６３】
ところで、本実施の形態においては、図１（ａ）（ｂ）および図２（ａ）に示すように、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間には、Ｏリングなどからなるシール部材３５が設けられている。このため、上述した薬液供給工程９１、リンス工程９２および乾燥工程９３において、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間から、薬液、リンス液、乾燥液などが外方回転軸２の中空内に入り込むことを防止することができる。
【００６４】
すなわち、従来であれば、保持プレート１が回転するのに対してリフトピンプレート２０は固定されていので、保持プレート１とリフトピンプレート２０との間には間隙が設けられていた。このため、この間隙から外方回転軸２の中空内に、薬液、リンス液、乾燥液などが入り込まないように、Ｎ２などの気体を間隙から上方に向かって吹きつける必要があった（パージする必要があった）。
【００６５】
これに対して、本実施の形態によれば、リフトピンプレート２０は保持プレート１とともに回転するので、保持プレート１とリフトピンプレート２０との間を密着させることができる。このため、保持プレート１とリフトピンプレート２０との間にシール部材３５を設けるだけで、薬液、リンス液、乾燥液などが外方回転軸２の中空内に入り込むことを防止することができる。
【００６６】
ところで、上記では、内方回転軸２２が周縁外方に突出した内部突出部１１を有し、外方回転軸２が内部突出部１１を収容する外部凹部２ａを有し、内部突出部１１が、外部凹部２ａ内で、外方回転軸２の回転方向において外方回転軸２に当接可能となっている態様を用いて説明したが、これに限られることなく、図４および図５に示すように、外方回転軸２が周縁内方に突出した外部突出部１２を有し、内方回転軸２３が外部突出部１２を収容する内部凹部２３ａを有し、外部突出部１２が、内部凹部２３ａ内で、外方回転軸２の回転方向において内方回転軸２３に当接可能となるようにしてもよい。
【００６７】
なお、外方回転軸２に、ボールスプラインのスプラインナットを設け、このスプラインナット内に設けられたボールが外部突出部１２を構成するようにしてもよい。このときには、内部凹部２３ａがボールを案内するように構成されることとなる（図５参照）。このように外方回転軸２にボールスプラインのスプラインナットを設けて、外部突出部１２をボールから構成することによって、昇降部材１６によって内方回転軸２３を容易に昇降させることができる。
【００６８】
また、上記では、リフトピンプレート２０のリフトピン２１が、保持プレート１の中心近傍に配置されている態様を用いて説明したが、これに限られることなく、図６に示すように、リフトピンプレート２０が保持プレート１の周縁近傍まで延びた円形形状からなり、リフトピンプレート２０のリフトピン２１が、保持プレート１の周縁近傍に配置されるようにしてもよい。
【００６９】
このようにリフトピン２１が保持プレート１の周縁近傍に配置されることによって、ウエハＷの裏面を洗浄した後の薬液やリンス液によって、ウエハＷの裏面の洗浄液の流れの乱れを少なく抑えつつ、リフトピン２１の先端を洗浄することができる。
【００７０】
ところで、本実施の形態においては、上述した液処理方法の各工程に関する情報が記憶媒体５２に記憶されている（図１（ａ）（ｂ）参照）。そして、液処理装置１０は、記憶媒体５２を受け付けるコンピュータ５５と、当該コンピュータ５５からの信号を受けて液処理装置１０を制御する制御部５０とを備えている。このため、この記憶媒体５２をコンピュータ５５に挿入することで、制御部５０によって、上述した一連の液処理方法を当該液処理装置１０に実行させることができる（図１（ａ）（ｂ）参照）。
【００７１】
第２の実施の形態
次に、図７（ａ）（ｂ）により、本発明の第２の実施の形態について説明する。図７（ａ）（ｂ）に示す第２の実施の形態は、内方回転軸２２が下方位置にあるときに外方回転軸２の回転方向において外方回転軸２に当接可能となる代わりに、リフトピンプレート２０が下方位置にあるときに保持プレート１に対して固定可能となっているものであり、その他の構成は図１乃至図６に示す第１の実施の形態と略同一である。なお、本実施の形態において、後述する内方軸２２’は、第１の実施の形態の内方回転軸２２に相当する部材ではあるが、第１の実施の形態と異なり回転駆動されないので、内方軸２２’として表現している。
【００７２】
図７（ａ）（ｂ）に示す第２の実施の形態において、図１乃至図６に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００７３】
図７（ａ）（ｂ）に示すように、リフトピンプレート２０内には第一磁石７１が設けられ、保持プレート１内には第二磁石７２が設けられている。そして、リフトピンプレート２０が下方位置にあるときに第一磁石７１が第二磁石７２に対して固定されることによって、リフトピンプレート２０が保持プレート１に対して固定されるようになっている。
【００７４】
また、図７（ａ）（ｂ）に示すように、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間には、リフトピンプレート２０を昇降させるときに、当該リフトピンプレート２０を下方から支持する支持部材４０が設けられている。なお、図７（ａ）（ｂ）においては、図面を簡略化するため、裏面側洗浄液供給部３０を図示していない。
【００７５】
ところで、支持部材４０は、内方軸２２’に連結されており、保持プレート１の回転時には、保持プレート１にもリフトピンプレート２０にも接触していない。このため、回転駆動部３によって外方回転軸２が回転駆動されているときでも、内方軸２２’は回転駆動されない。
【００７６】
本実施の形態によっても、第１の実施の形態と同様の効果を奏することができ、主要な点でいえば、以下の効果を奏することができる。
【００７７】
すなわち、薬液供給工程９１とリンス工程９２とを行っている間に、回転駆動部３によって外方回転軸２が回転駆動されることによって保持プレート１が回転される。そして、このように保持プレート１が回転されることによって、第一磁石７１と第二磁石７２との間に生じる磁力により保持プレート１に対して固定されたリフトピンプレート２０が回転される。このため、ウエハＷを洗浄するために用いられた薬液やリンス液などの洗浄液を、随時、リフトピンプレート２０から除去することができ、このような洗浄液がリフトピンプレート２０に溜まること、および、リフトピン２１に洗浄液が残ることを防止することができる。
【００７８】
また、乾燥工程９３においても、回転駆動部３から加えられる駆動力によって、リフトピンプレート２０が回転される。このため、リフトピンプレート２０に残っている洗浄液（特にリンス液）を、リフトピンプレート２０が回転されていることで生じる遠心力によって、リフトピンプレート２０から除去することができる。この結果、リフトピンプレート２０に洗浄液（特にリンス液）が溜まること、および、リフトピン２１に洗浄液が残ることを確実に防止することができる。
【００７９】
これらのことから、リフトピンプレート２０のリフトピン２１によってウエハＷを持ち上げる際に、ウエハＷの裏面にリフトピンプレート２０に溜まった洗浄液の液滴およびリフトピン２１に残った洗浄液の液滴が付着することを防止することができる。この結果、液滴の付着したウエハＷ自体にウオーターマークが形成されることを防止することができ、かつ、ウエハＷが運び込まれたキャリア内に収容された他のウエハＷにウオーターマークが形成されてしまうことも防止することができる。
【００８０】
ところで、本実施の形態において、第一磁石７１および第二磁石７２の各々またはいずれか一方を電磁石から構成してもよい。このように第一磁石７１および第二磁石７２の各々またはいずれか一方を電磁石から構成することによって、保持プレート１に対するリフトピンプレート２０の固定状態と自由状態とを適宜切り替えることができる。
【００８１】
すなわち、第一磁石７１および第二磁石７２を構成する電磁石に電流を流すことによって、保持プレート１に対してリフトピンプレート２０を固定することができ、他方、第一磁石７１および第二磁石７２を構成する電磁石に流れている電流を止めることによって、保持プレート１に対してリフトピンプレート２０を自由に移動させることができる。
【００８２】
より具体的には（第一磁石７１および第二磁石７２の各々が電磁石からなる場合を考えると）、回転駆動部３から加えられる駆動力によって、リフトピンプレート２０を回転させる場合には、第一磁石７１および第二磁石７２を構成する電磁石に電流を流して保持プレート１に対してリフトピンプレート２０を固定し、他方、昇降部材１６によって、リフトピンプレート２０を保持プレート１に対して上昇させるときには、第一磁石７１および第二磁石７２を構成する電磁石に流れている電流を止めることによって、リフトピンプレート２０を保持プレート１に対して自由に移動できるようにすることができる。
【００８３】
そして、このように、昇降部材１６によりリフトピンプレート２０を保持プレート１に対して上昇させるときに、リフトピンプレート２０を保持プレート１に対して自由に移動できるようにすることによって、リフトピンプレート２０が保持プレート１から離れる際に、突発的に移動することを防止することができる。
【００８４】
第３の実施の形態
次に、図８（ａ）（ｂ）により、本発明の第３の実施の形態について説明する。図８（ａ）（ｂ）に示す第３の実施の形態は、内方回転軸２２が下方位置にあるときに外方回転軸２の回転方向において外方回転軸２に当接可能となる代わりに、リフトピンプレート２０が下方位置にあるときに、当該リフトピンプレート２０が外方回転軸２の回転方向において保持プレート１に対して非接触で固定可能となっているものである。その他の構成は図１乃至図６に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００８５】
図８（ａ）（ｂ）に示す第３の実施の形態において、図１乃至図６に示す第１の実施の形態、および、図７（ａ）（ｂ）に示す第２の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。なお、図８（ｂ）は、図８（ａ）を直線Ｂ’−Ｂ’で切断した断面図を示している。
【００８６】
図８（ａ）（ｂ）に示すように、内方回転軸２２に第一磁石７１ａが設けられ、外方回転軸２のうち第一磁石７１ａに対向する位置に第二磁石７２ａが設けられている。このため、リフトピンプレート２０が下方位置にあるときに、外方回転軸２を外方回転軸２の回転方向において内方回転軸２２に対して固定することができる。この結果、回転駆動部３によって外方回転軸２を回転させることにより、内方回転軸２２とリフトピンプレート２０を回転させることができる。
【００８７】
なお、本実施の形態では、図８（ｂ）に示すように、第一磁石７１ａおよび第二磁石７２ａの各々において、Ｎ極とＳ極が二つずつあるように構成されている。そして、第一磁石７１ａのＮ極が第二磁石７２ａのＳ極に対向し、第一磁石７１ａのＳ極が第二磁石７２ａのＮ極に対向するように構成されている。
【００８８】
上述のような構成からなる本実施の形態によっても、第１の実施の形態と同様の効果を奏することができる。
【００８９】
第４の実施の形態
次に、図９により、本発明の第４の実施の形態について説明する。図９に示す第４の実施の形態は、内方回転軸２２が下方位置にあるときに外方回転軸２の回転方向において外方回転軸２に当接可能となる代わりに、リフトピンプレート２０が下方位置にあるときに、当該リフトピンプレート２０が外方回転軸２の回転方向において保持プレート１に対して固定可能となっているものである。その他の構成は図１乃至図６に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００９０】
図９に示す第４の実施の形態において、図１乃至図６に示す第１の実施の形態、図７（ａ）（ｂ）に示す第２の実施の形態、および、図８（ａ）（ｂ）に示す第３の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００９１】
図９に示すように、内方回転軸２２は、その下端に、水平方向に延びて金属製材料からなる水平延在部（金属部）２２ａを有している。
【００９２】
また、図９に示すように、水平延在部２２ａの下方には、金属製材料からなる水平延在部２２ａに磁力を付与して、内方回転軸２２を下方に引きつける磁石７３が設けられている。このため、本実施の形態によれば、リフトピンプレート２０の自重と水平延在部２２ａに付与される磁力とによって、リフトピンプレート２０と保持プレート１の間に大きな摩擦力を生じさせることができる。この結果、リフトピンプレート２０が下方位置にあるときに、このリフトピンプレート２０を外方回転軸２の回転方向において保持プレート１に対して固定することができ、外方回転軸２を回転駆動部３によって回転させることにより、リフトピンプレート２０も回転させることができる。
【００９３】
上述のような構成からなる本実施の形態によっても、第１の実施の形態と同様の効果を奏することができる。
【００９４】
ところで、本実施の形態において、磁石７３を電磁石から構成してもよい。このように磁石７３を電磁石から構成することによって、保持プレート１に対するリフトピンプレート２０の固定状態と自由状態とを適宜切り替えることができる。
【図１】
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【図２】
2009084406.tif 000004
【図３】
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【図４】
2009084406.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2009084406.tif 000009
【図８】
2009084406.tif 000010
【図９】
2009084406.tif 000011
【国際調査報告】
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