(57)【要約】  表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰａで表示領域側から平行に延び、その一辺に角度θａで交差する方向に平行に延び、その直交する方向に平行に延び、その一辺に角度θｂで交差する方向に平行に延び、その直交する方向にピッチＰｂで実装領域に平行に延びる複数の第２信号線（１９ｂ）に設けられた複数の第２接続部（６ｂ）のピッチＰｄが、その直交する方向にピッチＰａで表示領域側から平行に延び、その一辺に角度θａで交差する方向に平行に延び、その直交する方向にピッチＰｂで実装領域に平行に延びる複数の第１信号線（１９ａ）に設けられた複数の第１接続部（６ａ）のピッチＰｃよりも広い。
2013011678.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示を行う矩形状の表示領域と、
上記表示領域の周りに規定された非表示領域と、
上記非表示領域において、上記表示領域の一辺に沿うように規定された実装領域と、
上記非表示領域において、上記表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰａで上記表示領域側から互いに平行に延びた後に、上記表示領域の一辺に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、さらに上記表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰｂで上記実装領域に互いに平行に延びるように設けられた複数の第１信号線と、
上記非表示領域において、上記複数の第１信号線に上記角度θａの角の中心方向側で隣り合い、上記表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰａで上記表示領域側から互いに平行に延びた後に、上記表示領域の一辺に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、続いて上記表示領域の一辺に直交する方向に互いに平行に延び、さらに上記表示領域の一辺に角度θｂで交差する方向に互いに平行に延び、最後に上記表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰｂで上記実装領域に互いに平行に延びるように設けられた複数の第２信号線と、
上記各第１信号線及び各第２信号線の上記表示領域側を構成する第１配線層と、
上記各第１信号線及び各第２信号線の上記実装領域側を構成し、上記第１配線層と異なる層に異なる材料により形成された第２配線層と、
上記非表示領域において、上記複数の第１信号線にピッチＰｃで互いに隣り合うようにそれぞれ設けられ、上記表示領域の一辺に直交する方向に沿って上記第１配線層と上記第２配線層とを接続するための複数の第１接続部と、
上記非表示領域において、上記複数の第１接続部に隣り合い、上記複数の第２信号線に上記ピッチＰｃよりも広いピッチＰｄで互いに隣り合うようにそれぞれ設けられ、上記表示領域の一辺に直交する方向に沿って上記第１配線層と上記第２配線層とを接続するための複数の第２接続部とを備えている、アクティブマトリクス基板。
【請求項２】
上記ピッチＰａは、上記ピッチＰｄに等しく、上記ピッチＰｂは、上記ピッチＰｃに等しい、請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項３】
上記複数の第１接続部と上記複数の第２接続部との境界では、該第１接続部及び第２接続部がピッチＰｅで設けられ、
上記ピッチＰｅは、上記ピッチＰｃよりも広く、上記ピッチＰｄよりも狭い、請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項４】
上記複数の第１接続部及び複数の第２接続部は、上記表示領域の一辺に沿って設けられている、請求項１乃至３の何れか１つに記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項５】
上記表示領域には、上記表示領域の一辺に直交する方向に互いに平行に延びるように複数のソース信号線が設けられ、
上記複数の第１信号線及び複数の第２信号線は、上記複数のソース信号線に画素を構成する色数毎にスイッチ回路を介して接続された複数のビデオ信号線である、請求項１乃至４の何れか１つに記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項６】
上記表示領域には、上記表示領域の一辺に直交する方向に互いに平行に延びるように複数の表示用信号線が設けられ、
上記複数の第１信号線及び複数の第２信号線は、上記複数の表示用信号線にそれぞれ接続されている、請求項１乃至４の何れか１つに記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項７】
上記各表示用信号線は、ソース信号線である、請求項６に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項８】
上記実装領域は、上記表示領域の一辺の中央部に対応する部分に規定され、
上記複数の第１信号線は、上記表示領域の一辺の中央部に直交する軸に対して対称に設けられ、
上記複数の第２信号線は、上記複数の第１信号線の両外側にそれぞれ設けられている、請求項１乃至７の何れか１つに記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れか１つに記載されたアクティブマトリクス基板と、
上記アクティブマトリクス基板に対向するように設けられた対向基板と、
上記アクティブマトリクス基板及び対向基板の間に設けられた表示媒体層とを備えている、表示パネル。
【請求項１０】
上記表示媒体層は、液晶層である、請求項９に記載の表示パネル。
【請求項１１】
上記アクティブマトリクス基板及び対向基板の間には、上記液晶層を封入するための枠状のシール材が設けられ、
上記複数の第１接続部及び複数の第２接続部は、上記シール材の一辺に重なるように設けられている、請求項１０に記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクティブマトリクス基板及びそれを備えた表示パネルに関し、特に、信号線が非表示領域で第１配線層から第２配線層に切り替わるアクティブマトリクス基板及びそれを備えた表示パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは、例えば、互いに対向するように設けられたアクティブマトリクス基板及び対向基板と、アクティブマトリクス基板及び対向基板の間に設けられた液晶層とを備えている。そして、液晶表示パネルでは、画像表示を行う表示領域、及び表示領域の外側に非表示領域がそれぞれ規定されている。【０００３】
アクティブマトリクス基板は、表示領域において、互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート信号線と、各ゲート信号線と交差する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース信号線とを備えている。【０００４】
ゲート信号線やソース信号線などの複数の信号線は、上記のように表示領域において互いに平行に延びた後に、非表示領域において互いに並行に延び、さらに、駆動回路に接続するために、非表示領域の基板端部、すなわち、対向基板から突出するアクティブマトリクス基板の端子領域に引き出されている。【０００５】
また、各信号線では、端子領域における腐食を抑制するために、例えば、表示領域において、アルミニウムなどの電気的に低抵抗の配線材料により形成された第１配線層を備え、非表示領域において、タンタルやタングステンなどの高融点の配線材料により形成された第２配線層と、第１配線層から第２配線層に切り替える接続部とを備えた配線構造、すなわち、互いに異なる配線材料により形成された第１配線層及び第２配線層が連結された配線構造が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。【０００６】
具体的に特許文献１には、第１電極と、第１電極に交差するように配置された第２電極と、第１電極に接続された第１引き回し配線と、第２電極に接続された第２引き回し配線とを備え、第２引き回し配線に第１引き回し配線よりも低い電圧が印加され、第２引き回し配線が金属膜を含み、第１引き回し配線が金属膜を含まない電子機器が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−４６１８８号公報
【特許文献２】特開平１０−３３９８８０号公報
【特許文献３】国際公開第０２／０６５４３４号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、アクティブマトリクス基板では、複数の信号線が、上記のように、駆動回路が配置する端子領域の一部に集まるように引き出されているので、非表示領域では、複数の信号線の配線群の輪郭形状が略扇状に絞られた形状になっている。しかしながら、非表示領域において、各信号線の途中に、上記のような第１配線層から第２配線層に切り替える接続部が存在すると、複数の信号線の絞りが物理的に緩くなってしまうので、複数の信号線の引き回しが広がってしまう。【０００９】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、非表示領域において、各信号線の途中に第１配線層から第２配線層に切り替える接続部が存在しても、複数の信号線の引き回しにおける広がりを抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明は、非表示領域において、複数の第２信号線にそれぞれ設けられた複数の第２接続部のピッチが、複数の第１信号線にそれぞれ設けられた複数の第１接続部のピッチよりも広くなるようにしたものである。【００１１】
具体的に本発明に係るアクティブマトリクス基板は、画像表示を行う矩形状の表示領域と、上記表示領域の周りに規定された非表示領域と、上記非表示領域において、上記表示領域の一辺に沿うように規定された実装領域と、上記非表示領域において、上記表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰａで上記表示領域側から互いに平行に延びた後に、上記表示領域の一辺に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、さらに上記表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰｂで上記実装領域に互いに平行に延びるように設けられた複数の第１信号線と、上記非表示領域において、上記複数の第１信号線に上記角度θａの角の中心方向側で隣り合い、上記表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰａで上記表示領域側から互いに平行に延びた後に、上記表示領域の一辺に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、続いて上記表示領域の一辺に直交する方向に互いに平行に延び、さらに上記表示領域の一辺に角度θｂで交差する方向に互いに平行に延び、最後に上記表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰｂで上記実装領域に互いに平行に延びるように設けられた複数の第２信号線と、上記各第１信号線及び各第２信号線の上記表示領域側を構成する第１配線層と、上記各第１信号線及び各第２信号線の上記実装領域側を構成し、上記第１配線層と異なる層に異なる材料により形成された第２配線層と、上記非表示領域において、上記複数の第１信号線にピッチＰｃで互いに隣り合うようにそれぞれ設けられ、上記表示領域の一辺に直交する方向に沿って上記第１配線層と上記第２配線層とを接続するための複数の第１接続部と、上記非表示領域において、上記複数の第１接続部に隣り合い、上記複数の第２信号線に上記ピッチＰｃよりも広いピッチＰｄで互いに隣り合うようにそれぞれ設けられ、上記表示領域の一辺に直交する方向に沿って上記第１配線層と上記第２配線層とを接続するための複数の第２接続部とを備えている。【００１２】
上記の構成によれば、非表示領域において、複数の第１信号線が、表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰａで表示領域側から互いに平行に延びた後に、表示領域の一辺に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰｂで実装領域に互いに平行に延びるように設けられている。また、非表示領域において、複数の第１信号線に角度θａの角の中心方向側で隣り合う複数の第２信号線が、表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰａで表示領域側から互いに平行に延びた後に、表示領域の一辺に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、続いて表示領域の一辺に直交する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域の一辺に角度θｂで交差する方向に互いに平行に延び、最後に表示領域の一辺に直交する方向にピッチＰｂで実装領域に互いに平行に延びるように設けられている。そして、複数の第２信号線にそれぞれ設けられ、表示領域の一辺に直交する方向に沿って第１配線層と第２配線層とを接続するための複数の第２接続部のピッチＰｄが、複数の第１信号線にそれぞれ設けられ、表示領域の一辺に直交する方向に沿って第１配線層と第２配線層とを接続するための複数の第１接続部のピッチＰｃよりも広くなっている。ここで、互いに並行に延びる複数の第２信号線のうち、表示領域の一辺に角度θｂで交差する方向に互いに平行に延びる部分のピッチをＰｇ（図５参照）とすると、ｓｉｎθｂ＝Ｐｇ／Ｐｄという関係式に基づいて、ピッチＰｄを広くすることにより、角度θｂを小さくすることが可能になる。そして、複数の第２接続部のピッチＰｄが複数の第１接続部のピッチＰｃよりも広くなっているので、複数の第２信号線の絞りをきつく（大きく）することが可能になる。したがって、複数の第１信号線及び複数の第２信号線からなる配線群において、信号線の引き回しにおける広がりが抑制されるので、非表示領域において、各信号線の途中に第１配線層から第２配線層に切り替える接続部が存在しても、複数の信号線の引き回しにおける広がりが抑制される。【００１３】
ここで、ピッチは、図４〜図１１に示すように、隣り合う各構造単位における中心線間の距離である。なお、ピッチは、基本的に隣り合う各構造単位における中心線間の距離であるが、隣り合う各構造単位において所定の位置（例えば、各構造単位の一方端）を設定して、その設定された所定の位置の間の距離であってもよい。【００１４】
上記ピッチＰａは、上記ピッチＰｄに等しく、上記ピッチＰｂは、上記ピッチＰｃに等しくてもよい。【００１５】
上記の構成によれば、複数の第１信号線及び複数の第２信号線の表示領域側のピッチＰａが複数の第２接続部のピッチＰｄに等しく、複数の第１信号線及び複数の第２信号線の実装領域側のピッチＰｂが複数の第１接続部のピッチＰｃに等しいので、各第２信号線の延びる方向の角度θａ及び角度θｂが互いに等しくなって、各第２信号線がほぼ一直線状に延びることにより、複数の第２信号線の引き回しにおける広がりが効果的に抑制される。【００１６】
上記複数の第１接続部と上記複数の第２接続部との境界では、該第１接続部及び第２接続部がピッチＰｅで設けられ、上記ピッチＰｅは、上記ピッチＰｃよりも広く、上記ピッチＰｄよりも狭くてもよい。【００１７】
上記の構成によれば、複数の第１接続部と複数の第２接続部との境界において、隣り合う第１接続部及び第２接続部がピッチＰｅで設けられ、ピッチＰｅがピッチＰｃよりも広く、ピッチＰｄよりも狭くなっているので、ピッチＰｃで配置された複数の第１接続部とピッチＰｄで配置された複数の第２接続部との間に、ピッチの大きさの差に起因するレイアウト上の不都合を解消するための緩衝領域が配置される。【００１８】
上記複数の第１接続部及び複数の第２接続部は、上記表示領域の一辺に沿って設けられていてもよい。【００１９】
上記の構成によれば、複数の第１接続部及び複数の第２接続部が表示領域の一辺に沿って設けられているので、複数の第１接続部及び複数の第２接続部が単純な形状の部材によって保護される。【００２０】
上記表示領域には、上記表示領域の一辺に直交する方向に互いに平行に延びるように複数のソース信号線が設けられ、上記複数の第１信号線及び複数の第２信号線は、上記複数のソース信号線に画素を構成する色数毎にスイッチ回路を介して接続された複数のビデオ信号線であってもよい。【００２１】
上記の構成によれば、複数の第１信号線及び複数の第２信号線が、表示領域に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース信号線に画素を構成する色数毎にスイッチ回路を介して接続された複数のビデオ信号線であるので、ビデオ信号線の本数がソース信号線の本数よりも少なく済む。これにより、複数のビデオ信号線の絞りをきつく（大きく）することが可能になるので、複数のビデオ信号線の引き回しにおける広がりが抑制される。【００２２】
上記表示領域には、上記表示領域の一辺に直交する方向に互いに平行に延びるように複数の表示用信号線が設けられ、上記複数の第１信号線及び複数の第２信号線は、上記複数の表示用信号線にそれぞれ接続されていてもよい。【００２３】
上記の構成によれば、複数の第１信号線及び複数の第２信号線が、表示領域に互いに平行に延びるように設けられた複数の表示用信号線にそれぞれ接続されているので、例えば、実装領域に実装される駆動回路に各表示用信号線が接続されたアクティブマトリクス基板が具体的に構成される。【００２４】
上記各表示用信号線は、ソース信号線であってもよい。【００２５】
上記の構成によれば、各表示用信号線がソース信号線であるので、例えば、実装領域に実装される駆動回路に各ソース信号線が接続されたアクティブマトリクス基板が具体的に構成される。【００２６】
上記実装領域は、上記表示領域の一辺の中央部に対応する部分に規定され、上記複数の第１信号線は、上記表示領域の一辺の中央部に直交する軸に対して対称に設けられ、上記複数の第２信号線は、上記複数の第１信号線の両外側にそれぞれ設けられていてもよい。【００２７】
上記の構成によれば、複数の第１信号線及び複数の第２信号線が表示領域の一辺の中央部に直交する軸に対して対称に設けられているので、複数の第１信号線及び複数の第２信号線の配線長を短くして、複数の第１信号線及び複数の第２信号線の引き回しにおける広がりが抑制される。【００２８】
また、本発明に係る表示パネルは、上記アクティブマトリクス基板と、上記アクティブマトリクス基板に対向するように設けられた対向基板と、上記アクティブマトリクス基板及び対向基板の間に設けられた表示媒体層とを備えている。【００２９】
上記の構成によれば、互いに対向するように設けられたアクティブマトリクス基板及び対向基板と、それらの両基板の間に設けられた表示媒体層とを備えているので、アクティブマトリクス基板を備えた表示パネルにおいて、非表示領域において、各信号線の途中に第１配線層から第２配線層に切り替える接続部が存在しても、複数の信号線の引き回しにおける広がりが抑制される。【００３０】
上記表示媒体層は、液晶層であってもよい。【００３１】
上記の構成によれば、表示媒体層が液晶層であるので、表示パネルとして液晶表示パネルが具体的に構成される。【００３２】
上記アクティブマトリクス基板及び対向基板の間には、上記液晶層を封入するための枠状のシール材が設けられ、上記複数の第１接続部及び複数の第２接続部は、上記シール材の一辺に重なるように設けられていてもよい。【００３３】
上記の構成によれば、複数の第１接続部及び複数の第２接続部がアクティブマトリクス基板及び対向基板の間のシール材の一辺に重なるように設けられているので、複数の第１接続部及び複数の第２接続部がシール材の一辺によって保護される。
【発明の効果】
【００３４】
本発明によれば、非表示領域において、複数の第２信号線にそれぞれ設けられた複数の第２接続部のピッチが、複数の第１信号線にそれぞれ設けられた複数の第１接続部のピッチよりも広くなっているので、非表示領域において、各信号線の途中に第１配線層から第２配線層に切り替える接続部が存在しても、複数の信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】図１は、実施形態１に係る液晶表示パネルの斜視図である。
【図２】図２は、図１中のII−II線に沿った液晶表示パネルの断面図である。
【図３】図３は、実施形態１に係る液晶表示パネルを構成するアクティブマトリクス基板の平面図である。
【図４】図４は、図３中の領域Ｒａを拡大した平面図である。
【図５】図５は、図３中の領域Ｒｂを拡大した平面図である。
【図６】図６は、図３中の領域Ｒｃを拡大した平面図である。
【図７】図７は、図３中の領域Ｒｄを拡大した平面図である。
【図８】図８は、図３中の領域Ｒｅを拡大した平面図である。
【図９】図９は、図３中の領域Ｒｆを拡大した平面図である。
【図１０】図１０は、図３中の領域Ｒｇを拡大した平面図である。
【図１１】図１１は、実施形態２に係るアクティブマトリクス基板の平面図である。
【図１２】図１２は、実施形態３に係るアクティブマトリクス基板の平面図である。
【図１３】図１３は、実施形態４に係るアクティブマトリクス基板の平面図である。
【図１４】図１４は、実施形態５に係るアクティブマトリクス基板の平面図である。
【図１５】図１５は、比較例のアクティブマトリクス基板の平面図である。
【図１６】図１６は、図１５中の領域Ｒｘを拡大した平面図である。
【図１７】図１７は、図１５中の領域Ｒｙを拡大した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
【００３７】
《発明の実施形態１》
図１〜図１０は、本発明に係るアクティブマトリクス基板及びそれを備えた表示パネルの実施形態１を示している。具体的に、図１は、本実施形態の液晶表示パネル５０の斜視図であり、図２は、図１中のII−II線に沿った液晶表示パネル５０の断面図である。また、図３は、液晶表示パネル５０を構成するアクティブマトリクス基板２０ａの平面図である。さらに、図４〜図１０は、図３中の領域Ｒａ〜領域Ｒｇをそれぞれ拡大した平面図である。
【００３８】
液晶表示パネル５０は、図１及び図２に示すように、互いに対向するように設けられたアクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０と、アクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０の間に表示媒体層として設けられた液晶層４０と、アクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０を互いに接着すると共に、アクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０の間に液晶層４０を封入するために枠状に設けられたシール材４５とを備えている。
【００３９】
アクティブマトリクス基板２０ａ、対向基板３０及び液晶表示パネル５０では、図１に示すように、シール材４５（図２参照）の内側に画像表示を行う表示領域Ｄが矩形状に規定され、表示領域Ｄの周囲に非表示領域Ｎが枠状に規定されている。また、アクティブマトリクス基板２０ａでは、図１及び図３に示すように、対向基板３０から突出する非表示領域Ｎ（端子領域）において、表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）の中央部に対応するように、例えば、駆動回路としてＩＣ（Integrated Circuit）チップを実装するための実装領域Ｍが規定されている。
【００４０】
アクティブマトリクス基板２０ａは、図２及び図３に示すように、ガラス基板などの透明基板１０と、表示領域Ｄにおいて、透明基板１０に下地膜１１及びゲート絶縁膜１３を介して図３中の横方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート信号線１４ｃと、各ゲート信号線１４ｃを覆うように設けられた層間絶縁膜１５と、表示領域Ｄにおいて、層間絶縁膜１５上に各ゲート信号線１４ｃと直交する方向（図３中の縦方向）に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース信号線１６ａと、各ゲート信号線１４ｃ及び各ソース信号線１６ａの交差部分毎、すなわち、画像の最小単位である各副画素毎にそれぞれ設けられた複数のＴＦＴ（Thin Film Transistor、不図示）と、各ＴＦＴを覆うように設けられた保護絶縁膜１７と、表示領域Ｄにおいて、保護絶縁膜１７上にマトリクス状に設けられ、各ＴＦＴにそれぞれ接続された複数の画素電極１８ａと、各画素電極１８ａを覆うように設けられた配向膜（不図示）とを備えている。
【００４１】
上記各副画素毎に設けられたＴＦＴは、例えば、下地膜１１上に島状に設けられた半導体層と、その半導体層を覆うように設けられたゲート絶縁膜１３と、ゲート絶縁膜１３上にその半導体層の一部と重なるように設けられたゲート電極と、そのゲート電極を覆うように設けられた層間絶縁膜１５と、層間絶縁膜１５上に設けられ、互いに離間するように配置されたソース電極及びドレイン電極とを備え、後述するスイッチ回路のＴＦＴ５ａと同じ構成になっている。ここで、上記ゲート電極は、ゲート信号線１４ｃの各副画素毎の一部又は側方への突出部である。また、上記ソース電極は、ソース信号線１６ａの各副画素毎の一部又は側方への突出部である。さらに、上記ドレイン電極は、保護絶縁膜１７に形成されたコンタクトホールを介して画素電極１８ａに接続されている。
【００４２】
ゲート信号線１４ｃは、図３に示すように、その両端が行制御回路５ｂｇに接続されている。ここで、行制御回路５ｂｇは、図３に示すように、表示領域Ｄの図中左辺及び右辺に沿って、モノリシックに形成されている。また、行制御回路５ｂｇの近傍には、図３に示すように、レベルシフタ回路、バッファ回路、保護回路などの付属回路５ｃが設けられている。なお、このゲート信号線１４ｃの両端から駆動させる構成により、画素アレイの高解像度化に伴って懸念されるクロストーク（シャドウイング）を抑制することができる。
【００４３】
ソース信号線１６ａは、図３に示すように、その一方端が列制御回路５ａｇに接続されている。ここで、列制御回路５ａｇは、図３に示すように、表示領域Ｄの図中下辺に沿って、モノリシックに形成されている。また、列制御回路５ａｇの近傍には、図３に示すように、レベルシフタ回路、バッファ回路、保護回路などの付属回路５ｃが設けられている。
【００４４】
列制御回路５ａｇを構成する各単位回路領域５ａｕ（図４参照）に配置されるＴＦＴ５ａは、図２に示すように、下地膜１１上に島状に設けられた半導体層１２ａと、半導体層１２ａを覆うように設けられたゲート絶縁膜１３と、ゲート絶縁膜１３上に半導体層１２ａの一部と重なるように設けられたゲート電極１４ａと、ゲート電極１４ａを覆うように設けられた層間絶縁膜１５と、層間絶縁膜１５上に設けられ、互いに離間するように配置されたソース電極（１６ａ）及びドレイン電極（１６ｂ）とを備え、後述する１本のビデオ信号線１９を、画素の構成する色数（例えば、ＲＧＢの３色）毎に、例えば、３本のソース信号線１６ａに振り分けるスイッチ回路（ＲＧＢスイッチ回路）である。
【００４５】
半導体層１２ａは、ゲート電極１４ａに重なるように設けられたチャネル領域（不図示）と、チャネル領域を挟んで互いに離間するように設けられたソース領域及びドレイン領域（不図示）とを備えている。なお、半導体層１２ａのチャネル領域とソース領域及びドレイン領域との間には、ＬＤＤ（Lightly Doped Drain）領域が設けられていてもよい。
【００４６】
ＴＦＴ５ａのソース電極（１６ａ）は、図２に示すように、ゲート絶縁膜１３及び層間絶縁膜１５の積層膜に形成されたコンタクトホール１５ａを介して半導体層１２ａのソース領域に接続されていると共に、ソース信号線１６ａの一部になっている。
【００４７】
ＴＦＴ５ａのドレイン電極（１６ｂ）は、図２に示すように、ゲート絶縁膜１３及び層間絶縁膜１５の積層膜に形成されたコンタクトホール１５ｂを介して半導体層１２ａのドレイン領域に接続されていると共に、後述するビデオ信号線１９の第１配線層１６ｂの一部になっている。
【００４８】
アクティブマトリクス基板２０ａでは、非表示領域Ｎにおいて、図２に示すように、表示領域Ｄ側の第１配線層１６ｂと、ゲート絶縁膜１３及び層間絶縁膜１５の積層膜に形成されたコンタクトホール１５ｃからなる接続部６を介して第１配線層１６ｂに接続された実装領域Ｍ側の第２配線層１４ｂとをそれぞれ備える複数のビデオ信号線１９が設けられている。ここで、実装領域Ｍにおいて、第２配線層１４ｂの端部には、図１及び図２に示すように、ソース導電層１６ｃ及び透明導電層１８ｂが積層されることにより、端子部７が設けられている。
【００４９】
複数のビデオ信号線１９は、図３に示すように、内側に設けられた複数の第１信号線１９ａと、複数の第１信号線１９ａの両外側に設けられた複数の第２信号線１９ｂとを備えている。ここで、図３中の左側に配置する複数の第２信号線１９ｂは、図７に示すように、複数の第１信号線１９ａに角度θａの角の中心方向Ｃａ側で隣り合っている。また、図３中の右側に配置する複数の第２信号線１９ｂは、複数の第１信号線１９ａに角度θａの角の中心方向Ｃｂ（図８参照）側で隣り合っている。
【００５０】
複数の第１信号線１９ａは、図３、図７〜図１０に示すように、表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰｂで実装領域Ｍに互いに平行に延びるように、好適には表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）の中央部に直交する軸Ａに対して対称に設けられている。
【００５１】
複数の第１信号線１９ａには、図７及び図９に示すように、ピッチＰｃで互いに隣り合うように、表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に直交する方向に沿って第１配線層１６ｂと第２配線層１４ｂとを接続するための複数の第１接続部６ａがそれぞれ設けられている。ここで、第１接続部６ａのピッチＰｃは、第１信号線１９ａ及び第２信号線１９ｂの実装領域ＭでのピッチＰｂに等しくなっている。
【００５２】
複数の第２信号線１９ｂは、図３〜図７に示すように、表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、続いて表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に直交する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に角度θｂで交差する方向に互いに平行に延び、最後に表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰｂで実装領域Ｍに互いに平行に延びるように設けられている。
【００５３】
複数の第２信号線１９ｂには、図５及び図７に示すように、ピッチＰｃよりも広いピッチＰｄで互いに隣り合うように、表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に直交する方向に沿って第１配線層１６ｂと第２配線層１４ｂとを接続するための複数の第２接続部６ｂがそれぞれ設けられている。ここで、第２接続部６ｂのピッチＰｄは、第１信号線１９ａ及び第２信号線１９ｂの表示領域Ｄ側のピッチＰａに等しくなっている。
【００５４】
複数の第１接続部６ａと複数の第２接続部６ｂとの境界では、図７に示すように、第１接続部６ａ及び第２接続部６ｂがピッチＰｅで設けられている。ここで、ピッチＰｅは、ピッチＰｃよりも広く、ピッチＰｄよりも狭くなっている。
【００５５】
すなわち、本実施形態においては、上記のように、ビデオ信号線１９としてそれぞれ機能する第１信号線１９ａ及び第２信号線１９ｂが同じ機能を有する配線でありながら、それらに対応する第１信号線１９ａに設けられた第１接続部６ａのピッチＰｃ、第２信号線１９ｂに設けられた第２接続部６ｂのピッチＰｄ、及び第１接続部６ａと第２接続部６ｂとの境界におけるピッチＰｅが意図的に異なるように設計されていることを特徴としている。
【００５６】
複数の第１接続部６ａ及び複数の第２接続部６ｂは、図２、図３、図５、図７及び図９に示すように、表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）に沿って、シール材４５の一辺に重なるように設けられている。
【００５７】
なお、本実施形態では、複数のビデオ信号線１９が軸Ａに対して対称に設けられた配線構造を例示したが、複数のビデオ信号線１９は、軸Ａに対して非対称であってもよい。具体的には、例えば、実装領域Ｍを表示領域Ｄの一辺（図３中の下辺Ｓｕ）の中央部からずらして配置させた場合、複数のビデオ信号線１９の配線群の輪郭形状は、軸Ａに対して非対称になる。また、複数のビデオ信号線１９におけるピッチＰｂで実装領域Ｍに互いに平行に延びる配線構造については、単純に直線からなる平行線でなくてもよい。例えば、配線長を揃える目的で小さな蛇行を繰り返しながら実装領域Ｍに向かって互いに平行（並行）に延伸していく配線構造であってもよい。すなわち、本明細書では、「平行線」と「平行に延びる」とは、異なる概念であり、「平行に延びる」は、「平行線」を含むより広い範囲の概念とする。
【００５８】
対向基板３０は、例えば、ガラス基板などの透明基板（不図示）と、透明基板上に格子状に設けられたブラックマトリクス（不図示）と、ブラックマトリクスの各格子間にそれぞれ設けられた赤色層、緑色層及び青色層などの複数の着色層（不図示）と、ブラックマトリクス及び各着色層を覆うように設けられた共通電極（不図示）と、共通電極上に柱状に設けられた複数のフォトスペーサ（不図示）と、共通電極及び各フォトスペーサを覆うように設けられた配向膜（不図示）とを備えている。
【００５９】
液晶層４０は、例えば、電気光学特性を有するネマチックの液晶材料などにより構成されている。
【００６０】
上記構成の液晶表示パネル５０では、各副画素において、行制御回路５ｂｇからのゲート信号がゲート信号線１４ｃを介してゲート電極に送られて、ＴＦＴがオン状態になったときに、実装領域Ｍに実装されたＩＣチップからのソース信号がビデオ信号線１９、列制御回路５ａｇ及びソース信号線１６ａを介してソース電極に送られて、半導体層及びドレイン電極を介して、画素電極１８ａに所定の電荷が書き込まれる。このとき、液晶表示パネル５０では、アクティブマトリクス基板２０ａの各画素電極１８ａと対向基板３０の共通電極との間に電位差が生じ、液晶層４０に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示パネル５０では、各副画素において、液晶層４０に印加する電圧の大きさによって液晶層４０の配向状態を変えることにより、液晶層４０の光透過率を調整して、表示領域Ｄで画像表示が行われる。
【００６１】
次に、本実施形態の液晶表示パネル５０を製造する方法について、説明する。ここで、本実施形態の液晶表示パネル５０の製造方法は、アクティブマトリクス基板製造工程、対向基板製造工程及び液晶注入工程を備える。
【００６２】
＜アクティブマトリクス基板製造工程＞
まず、ガラス基板などの透明基板１０上に、例えば、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜又はそれらの積層膜などを厚さ５０ｎｍ程度で成膜して、下地膜１１を形成する。
【００６３】
続いて、下地膜１１が形成された基板全体に、例えば、ＣＶＤ法により、真性アモルファスシリコン膜を厚さ５０ｎｍ程度で成膜した後に、レーザー光の照射などのアニール処理により多結晶化してポリシリコン膜を形成し、そのポリシリコン膜に対して、フォトリソグラフィ処理、エッチング処理及びレジストの剥離処理を行うことにより、半導体層１２ａなどを形成する。
【００６４】
その後、半導体層１２ａなどが形成された基板全体に、例えば、ＣＶＤ法により、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜又はそれらの積層膜などを厚さ１００ｎｍ程度で成膜して、ゲート絶縁膜１３を形成する。
【００６５】
さらに、ゲート絶縁膜１３が形成された基板全体に、例えば、スパッタリング法により、タングステン膜などの金属膜を厚さ３００ｎｍ程度で成膜した後に、その金属膜に対して、フォトリソグラフィ処理、エッチング処理及びレジストの剥離処理を行うことにより、ゲート信号線１４ｃ、ゲート電極１４ａ及び第２配線層１４ｂなどを形成する。
【００６６】
続いて、ゲート信号線１４ｃなどが形成された基板上の半導体層１２ａなどに対して、ゲート電極１４ａをマスクとしてリンなどの不純物を注入することにより、半導体層１２ａなどにチャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を形成する。
【００６７】
さらに、半導体層１２ａのチャネル領域、ソース領域及びドレイン領域が形成された基板全体に、例えば、ＣＶＤ法により、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜又はそれらの積層膜などの無機絶縁膜を厚さ７００ｎｍ程度で成膜した後に、その無機絶縁膜及びその下層のゲート絶縁膜１３に対して、フォトリソグラフィ処理、エッチング処理及びレジストの剥離処理を行うことにより、コンタクトホール１５ａ、１５ｂ及び１５ｃを有する層間絶縁膜１５を形成する。
【００６８】
そして、層間絶縁膜１５が形成された基板全体に、例えば、スパッタリング法により、アルミニウム膜などの金属膜を厚さ３５０ｎｍ程度で成膜した後に、その金属膜に対して、フォトリソグラフィ処理、エッチング処理及びレジストの剥離処理を行うことにより、ソース信号線（ソース電極）１６ａ、第１配線層（ドレイン電極）１６ｂ及びソース導電層１６ｃなどを形成して、ＴＦＴ５ａ及びそれを備えた列制御回路５ａｇを形成する。このとき、各画素毎に配置するＴＦＴ、及び行制御回路５ｂｇも同時に形成される。
【００６９】
さらに、ソース信号線１６ａなどが形成された基板全体に、例えば、スピンコート法やスリットコート法により、アクリル系の感光性樹脂膜を厚さ２μｍ程度で塗布した後に、その塗布膜に対して、プリベーク、露光、現像及びポストベークを行うことにより、コンタクトホールを有する保護絶縁膜１７を形成する。
【００７０】
そして、保護絶縁膜１７が形成された基板全体に、例えば、スパッタリング法により、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜などの透明導電膜を厚さ１００ｎｍ程度で成膜した後に、その透明導電膜に対して、フォトリソグラフィ処理、エッチング処理及びレジストの剥離処理を行うことにより、画素電極１８ａ及び透明導電層１８ｂを形成する。
【００７１】
最後に、画素電極１８ａなどが形成された基板全体に、例えば、スピンコート法、スリットコート法又は印刷法により、ポリイミド系の樹脂膜を塗布した後に、その塗布膜に対して、焼成及びラビング処理を行うことにより、配向膜を形成する。
【００７２】
以上のようにして、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ａを製造することができる。
【００７３】
＜対向基板製造工程＞
まず、ガラス基板などの透明基板の基板全体に、例えば、スピンコート法又はスリットコート法により、黒色に着色された感光性樹脂を塗布した後に、その塗布膜を露光及び現像することにより、ブラックマトリクスを厚さ１μｍ程度に形成する。
【００７４】
続いて、上記ブラックマトリクスが形成された基板全体に、例えば、スピンコート法又はスリットコート法により、赤色、緑色又は青色に着色された感光性樹脂を塗布した後に、その塗布膜を露光及び現像することにより、選択した色の着色層（例えば、赤色層）を厚さ１μｍ〜３μｍ程度に形成する。そして、他の２色についても同様な工程を繰り返して、他の２色の着色層（例えば、緑色層及び青色層）を厚さ１μｍ〜３μｍ程度に形成する。
【００７５】
さらに、上記各着色層が形成された基板全体に、例えば、スパッタリング法により、ＩＴＯ膜などの透明導電膜をマスクを用いて厚さ１００ｎｍ程度で成膜することにより、共通電極を形成する。
【００７６】
そして、上記共通電極が形成された基板全体に、例えば、スピンコート法やスリットコート法により、アクリル系の感光性樹脂膜を厚さ４μｍ程度で塗布した後に、その塗布膜に対して、プリベーク、露光、現像及びポストベークを行うことにより、フォトスペーサを形成する。
【００７７】
最後に、上記フォトスペーサが形成された基板全体に、例えば、スピンコート法、スリットコート法又は印刷法により、ポリイミド系の樹脂膜を塗布した後に、その塗布膜に対して、焼成及びラビング処理を行うことにより、配向膜を形成する。
【００７８】
以上のようにして、本実施形態の対向基板３０を製造することができる。
【００７９】
＜液晶注入工程＞
まず、例えば、上記対向基板製造工程で製造された対向基板３０の表面に、ＵＶ（ultraviolet）硬化及び熱硬化の併用型樹脂などからなるシール材４５を枠状に印刷した後に、シール材４５の内側に液晶材料（４０）を滴下する。
【００８０】
続いて、液晶材料（４０）が滴下された対向基板３０と、上記アクティブマトリクス基板製造工程で製造されたアクティブマトリクス基板２０ａとを、減圧下で貼り合わせた後に、その貼り合わせた貼合体を大気圧に開放することにより、その貼合体の表面及び裏面を加圧する。
【００８１】
さらに、上記貼合体に挟持されたシール材４５にＵＶ光を照射した後に、その貼合体を加熱することによりシール材４５を硬化させる。
【００８２】
最後に、シール材４５を硬化させた貼合体を、例えば、ダイシングにより分断することにより、その不要な部分を除去する。
【００８３】
以上のようにして、本実施形態の液晶表示パネル５０を製造することができる。
【００８４】
次に、本実施形態の実施例における複数の第２信号線１９ｂの具体的な構造について、説明する。なお、本明細書で用いる角度又は方向を示すθａ、θｂ、θｘ及びθｙは、配線構造により明らかであるが、いずれも０°よりも大きく且つ９０°よりも小さい角度、と定義される。
【００８５】
複数の第２信号線１９ｂの第１配線層１６ｂの各線幅を４μｍとし、各間隔を４μｍとすると、θａ方向に延びる複数の第２信号線１９ｂ（第１配線層１６ｂ）のピッチＰｆ（図４参照）は、８μｍとなる。そのため、ピッチＰａを７５μｍとすると、ｓｉｎθａ＝Ｐｆ／Ｐａという関係式により、θａは、約６．１°となる。そして、第１配線層１６ｂ及び第２配線層１４ｂが同程度の解像度を有する露光装置を用いてフォトリソグラフィにより形成されるとすると、θｂ方向に延びる複数の第２信号線１９ｂ（第２配線層１４ｂ）のピッチＰｇ（図５参照）は、ピッチＰｆと同じ８μｍとなる。また、ピッチＰａは、ピッチＰｄと等しいので、ｓｉｎθｂ＝Ｐg／Ｐｄという関係式により、θｂも、約６．１°となる。これにより、実施例のアクティブマトリクス基板２０ａでは、θa及びθbが互いに等しくなるので、各第２信号線１９ｂをほぼ一直線の配線としてみなすことができ、最も外側の第２信号線１９ｂの終点が相対的に内側に配置される。
【００８６】
なお、表示領域Ｄと実装領域Ｍとの位置の制約が緩く、第２信号線１９ｂの終点を相対的に内側に寄せる必要性に迫られない場合には、本実施形態の配線構造を有するビデオ信号線とした上で、θｂ＞θａとすることが好ましい。この場合には、Ｐg＞Ｐｆとして、第２配線層の線幅を第１配線層の線幅よりも太くすることができる。このように、第２配線層の線幅を拡幅することにより、第２配線層の配線抵抗の増加を抑えることができるので、耐食性が優れているものの、シート抵抗が大きい配線材料を第２配線層として用いることができ、その結果、配線設計の自由度を高めることができる。
【００８７】
次に、本実施形態の比較例における複数のビデオ信号線１１９の具体的な構造について、説明する。ここで、図１５は、比較例のアクティブマトリクス基板１２０の平面図である。また、図１６及び図１７は、図１５中の領域Ｒｘ及びＲｙをそれぞれ拡大した平面図である。
【００８８】
アクティブマトリクス基板１２０は、図１５に示すように、表示領域Ｄの外側の非表示領域Ｎにおいて、複数のビデオ信号線１１９を備えている。
【００８９】
複数のビデオ信号線１１９は、図１５〜図１７に示すように、表示領域Ｄの一辺（図１５中の下辺）に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺（図１５中の下辺Ｓｕ）に角度θｘで交差する方向に互いに平行に延び、続いて表示領域Ｄの一辺（図１５中の下辺Ｓｕ）に直交する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺（図１５中の下辺Ｓｕ）に角度θｙで交差する方向に互いに平行に延び、最後に表示領域Ｄの一辺（図１５中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰｂ（不図示）で実装領域Ｍに互いに平行に延びるように表示領域Ｄの一辺（図１５中の下辺Ｓｕ）の中央部に直交する軸Ａに対して対称に設けられている。
【００９０】
複数のビデオ信号線１１９には、図１７に示すように、ピッチＰｚで互いに隣り合うように、表示領域Ｄの一辺（図１５中の下辺Ｓｕ）に直交する方向に沿って第１配線層１１６と第２配線層１１４とを接続するための複数の接続部１０６がそれぞれ設けられている。ここで、接続部１０６のピッチＰｚは、ビデオ信号線１１９の実装領域ＭでのピッチＰｂよりも広く、ビデオ信号線１１９の表示領域Ｄ側のピッチＰａよりも狭くなっている。
【００９１】
ここで、複数のビデオ信号線１１９の第１配線層１１６の各線幅を４μｍとし、各間隔を４μｍとすると、θｘ方向に延びる複数のビデオ信号線１１９（第１配線層１１６）のピッチＰｘは、８μｍとなる。そのため、ピッチＰａを７５μｍとすると、ｓｉｎθｘ＝Ｐｘ／Ｐａという関係式により、θｘは、約６．１°となる。そして、第１配線層１１６及び第２配線層１１４が互いに同じ程度の解像度を有する露光装置を用いてフォトリソグラフィにより形成されるとすると、θｙ方向に延びる複数のビデオ信号線１１９（第２配線層１１４）のピッチＰｙは、ピッチＰｘと同じ８μｍとなる。また、ピッチＰｚを、６０μｍとすると、ｓｉｎθｙ＝Ｐｙ／Ｐｚという関係式により、θｙは、約７．７°となる。これにより、比較例のアクティブマトリクス基板１２０では、各ビデオ信号線１１９が一直線にならないので、最も外側のビデオ信号線１１９の終点が相対的に外側に配置されてしまう。
【００９２】
以上説明したように、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ａ及びそれを備えた液晶表示パネル５０によれば、非表示領域Ｎにおいて、複数の第１信号線１９ａが、表示領域Ｄの一辺に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺に直交する方向にピッチＰｂで実装領域Ｍに互いに平行に延びるように、表示領域Ｄの一辺の中央部に直交する軸Ａに対して左右対称に設けられている。また、非表示領域Ｎにおいて、複数の第１信号線１９ａに角度θａの角の中心方向Ｃａ又はＣｂ側で隣り合う複数の第２信号線１９ｂが、表示領域Ｄの一辺に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、続いて表示領域Ｄの一辺に直交する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺に角度θｂで交差する方向に互いに平行に延び、最後に表示領域Ｄの一辺に直交する方向にピッチＰｂで実装領域Ｍに互いに平行に延びるように設けられている。そして、複数の第２信号線１９ｂにそれぞれ設けられ、表示領域Ｄの一辺に直交する方向に沿って第１配線層１６ｂと第２配線層１４ｂとを接続するための複数の第２接続部６ｂのピッチＰｄが、複数の第１信号線１９ａにそれぞれ設けられ、表示領域Ｄの一辺に直交する方向に沿って第１配線層１６ｂと第２配線層１４ｂとを接続するための複数の第１接続部６ａのピッチＰｃよりも広くなっている。ここで、互いに並行に延びる複数の第２信号線１９ｂのうち、表示領域Ｄの一辺に角度θｂで交差する方向に互いに平行に延びる部分のピッチをＰｇとすると、ｓｉｎθｂ＝Ｐｇ／Ｐｄという関係式に基づいて、ピッチＰｄを広くすることにより、角度θｂを小さくすることができる。そして、外側に配置された複数の第２接続部６ｂのピッチＰｄが内側に配置された複数の第１接続部６ａのピッチＰｃよりも広くなっているので、角度θｂを小さくすることができ、複数の第２信号線１９ｂの絞りをきつく（大きく）することができる。したがって、複数の第１信号線１９ａ及び複数の第２信号線１９ｂからなる配線群において、信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができるので、非表示領域Ｎにおいて、各信号線の途中に第１配線層１６ｂから第２配線層１４ｂに切り替える接続部６（第１接続部６ａ及び第２接続部６ｂ）が存在しても、複数の信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができる。さらに、複数の第１信号線１９ａ及び複数の第２信号線１９ｂの引き回しにおける広がりを抑制することできるので、実装領域Ｍに安価な小型のＩＣチップを実装することができると共に、実装領域Ｍが配置する非表示領域Ｎを小さくして、狭額縁化を図ることができる。
【００９３】
また、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ａ及びそれを備えた液晶表示パネル５０によれば、複数の第１信号線１９ａ及び複数の第２信号線１９ｂの表示領域Ｄ側のピッチＰａが複数の第２接続部６ｂのピッチＰｄに等しく、複数の第１信号線１９ａ及び複数の第２信号線１９ｂの実装領域Ｍ側のピッチＰｂが複数の第１接続部６ａのピッチＰｃに等しいので、各第２信号線１９ｂの延びる方向の角度θａ及び角度θｂが互いに等しくなって、各第２信号線１９ｂがほぼ一直線状に延びることにより、複数の第２信号線１９ｂの引き回しにおける広がりを効果的に抑制することができる。
【００９４】
また、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ａ及びそれを備えた液晶表示パネル５０によれば、複数の第１接続部６ａと複数の第２接続部６ｂとの境界において、隣り合う第１接続部６ａ及び第２接続部６ｂがピッチＰｅで設けられ、ピッチＰｅがピッチＰｃよりも広く、ピッチＰｄよりも狭くなっているので、ピッチＰｃで配置された複数の第１接続部６ａとピッチＰｄで配置された複数の第２接続部６ｂとの間に、ピッチの大きさの差に起因するレイアウト上の不都合を解消するための緩衝領域を配置することができる。
【００９５】
また、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ａ及びそれを備えた液晶表示パネル５０によれば、複数の第１接続部６ａ及び複数の第２接続部６ｂが、表示領域Ｄの一辺に沿って、シール材４５の一辺に重なるように設けられているので、複数の第１接続部６ａ及び複数の第２接続部６ｂをシール材４５の一辺によって保護することができる。さらに、アクティブマトリクス基板２０ａでは、シール材４５に接触する保護絶縁膜１７の下層に第１配線層１６ｂ及び第２配線層１４ｂの双方が配置するので、第１配線層１６ｂ及び第２配線層１４ｂの膜厚の差が大きくても、シール材４５に接触する保護絶縁膜１７の表面高さが均一になり、液晶層４０の厚さのムラ、所謂、セル厚ムラを抑制することができる。
【００９６】
また、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ａ及びそれを備えた液晶表示パネル５０によれば、複数の第１信号線１９ａ及び複数の第２信号線１９ｂが表示領域Ｄの一辺の中央部に直交する軸Ａに対して対称に設けられているので、複数の第１信号線１９ａ及び複数の第２信号線１９ｂの配線長を短くして、複数の第１信号線１９ａ及び複数の第２信号線１９ｂの引き回しにおける広がりが抑制される。
【００９７】
《発明の実施形態２》
図１１は、上記実施形態１で説明した図７に対応する本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｂの平面図である。ここで、以下の各実施形態において、図１〜図１０と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００９８】
上記実施形態１では、隣り合う各第２接続部６ｂの間に電極パターンが配置しないアクティブマトリクス基板２０ａを例示したが、本実施形態では、隣り合う各第２接続部６ｂの間にダミーの電極パターン６ｃが配置するアクティブマトリクス基板２０ｂを例示する。
【００９９】
アクティブマトリクス基板２０ｂは、図１１に示すように、上記実施形態１のアクティブマトリクス基板２０ａの領域Ｒｄにおいて、隣り合う各第２接続部６ｂの間に、表示領域Ｄの一辺に直交する方向に沿って、複数の電極パターン６ｃが島状に設けられているだけで、その他の構成がアクティブマトリクス基板２０ａと同じになっている。ここで、電極パターン６ｃは、第１配線層１６ｂを構成する金属膜、又は第２配線層１４ｂを構成する金属膜、又はそれらの金属膜の積層膜により形成される。なお、本実施形態では、長方形状の電極パターン６ｃを例示したが、電極パターン６ｃは、例えば、信号線の番号を示す英数字のような文字、１０本などの所定本数毎に形成された幾何学的パターンなどであってもよい。
【０１００】
以上説明したように、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｂによれば、上記実施形態１と同様に、複数の第１信号線１９ａ及び複数の第２信号線１９ｂからなる配線群において、信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができるので、非表示領域Ｎにおいて、各信号線の途中に第１配線層１６ｂから第２配線層１４ｂに切り替える接続部６が存在しても、複数の信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができる。
【０１０１】
本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｂによれば、隣り合う各第２接続部６ｂの間に電極パターン６ｃが設けられているので、シール材４５に接触する保護絶縁膜１７の表面高さをいっそう均一にすることができる。
【０１０２】
《発明の実施形態３》
図１２は、上記実施形態１で説明した図３に対応する本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｃの平面図である。
【０１０３】
上記実施形態１及び２では、複数の第１信号線１９ａ及び複数の第２信号線１９ｂが実装領域Ｍで１つの端子群を有するアクティブマトリクス基板２０ａ及び２０ｂを例示したが、本実施形態では、複数の第１信号線１９ａｃ及び複数の第２信号線１９ｂが実装領域Ｍで２つの端子群を有するアクティブマトリクス基板２０ｃを例示する。
【０１０４】
アクティブマトリクス基板２０ｃは、図１２に示すように、非表示領域Ｎにおいて、複数の第１信号線１９ａｃが設けられているだけで、その他の構成が上記実施形態１のアクティブマトリクス基板２０ａと同じになっている。
【０１０５】
複数の第１信号線１９ａｃは、図１２に示すように、表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に角度θａで交差する方向（図中の軸Ａから離れる方向）に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰｂで実装領域Ｍに互いに平行に延びるように、好適には表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）の中央部に直交する軸Ａに対して対称に設けられた第１の配線群と、第１の配線群の両外側において、表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に角度θａで交差する方向（図中の軸Ａに近づく方向）に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰｂで実装領域Ｍに互いに平行に延びるように表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）の中央部に直交する軸Ａに対して対称に設けられた第２の配線群とを備えている。
【０１０６】
実装領域Ｍでは、図１２に示すように、図中左側の複数の第１信号線１９ａｃの各端子と図中左側の複数の第２信号線１９ｂの各端子とにより、第１の端子群が形成され、図中右側の複数の第１信号線１９ａｃの各端子と図中右側の複数の第２信号線１９ｂの各端子とにより、第２の端子群が形成されている。ここで、実装領域Ｍに実装するＩＣチップは、上記第１の端子群及び第２の端子群の各端子群毎に設けられていてもよい。
【０１０７】
本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｃは、上記実施形態１で説明した製造方法において、第１配線層１６ｂ及び第２配線層１４ｂのパターン形状を変更することにより、製造することができる。
【０１０８】
以上説明したように、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｃによれば、上記実施形態１及び２と同様に、複数の第１信号線１９ａ及び複数の第２信号線１９ｂからなる配線群において、信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができるので、非表示領域Ｎにおいて、各信号線の途中に第１配線層１６ｂから第２配線層１４ｂに切り替える接続部６が存在しても、複数の信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができる。
【０１０９】
《発明の実施形態４》
図１３は、上記実施形態１で説明した図３に対応する本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｄの平面図である。
【０１１０】
上記各実施形態では、各ソース信号線１６ａとＩＣチップを実装する実装領域Ｍとの間に列制御回路５ａｇが設けられたアクティブマトリクス基板２０ａ〜２０ｃを例示したが、本実施形態では、各ソース信号線１６ｄと実装領域Ｍａとの間に列制御回路が設けられていないアクティブマトリクス基板２０ｄを例示する。
【０１１１】
アクティブマトリクス基板２０ｄは、図１３に示すように、表示領域Ｄにおいて、図中縦方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース信号線１６ｄと、非表示領域Ｎにおいて、互いに接続された表示領域Ｄ側の第１配線層１６ｄ及び実装領域Ｍａ側の第２配線層１４ｂをそれぞれ有する複数のビデオ信号線１９ｃとを備えているだけで、その他の構成が上記実施形態１のアクティブマトリクス基板２０ａと同じになっている。ここで、各ビデオ信号線１９ｃの第１配線層１６ｄは、各ソース信号線１６ｄの延長部分になっている。なお、本実施形態では、第１配線層１６ｄが各ソース信号線１６ｄの延長部分になっている構成を例示したが、各ビデオ信号線１９ｃの第１配線層は、各ソース信号線１６ｄと異なる層に異なる材料により形成されていてもよい。
【０１１２】
複数のビデオ信号線１９ｃは、図１３に示すように、内側に設けられた複数の第１信号線１９ａａと、複数の第１信号線１９ａａの両外側に設けられた複数の第２信号線１９ｂａとを備えている。
【０１１３】
複数の第１信号線１９ａａは、図１３に示すように、表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰｂで実装領域Ｍａに互いに平行に延びるように、好適には表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）の中央部に直交する軸Ａに対して対称に設けられている。
【０１１４】
複数の第１信号線１９ａａには、ピッチＰｃで互いに隣り合うように、表示領域Ｄの一辺（図１３中の下辺Ｓｕ）に直交する方向に沿って第１配線層１６ｄと第２配線層１４ｂとを接続するための複数の第１接続部（不図示）がそれぞれ設けられている。ここで、上記第１接続部のピッチＰｃは、第１信号線１９ａａ及び第２信号線１９ｂａの実装領域ＭａでのピッチＰｂに等しくなっている。
【０１１５】
複数の第２信号線１９ｂａは、図１３に示すように、表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、続いて表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に直交する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に角度θｂで交差する方向に互いに平行に延び、最後に表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に直交する方向にピッチＰｂで実装領域Ｍａに互いに平行に延びるように設けられている。
【０１１６】
複数の第２信号線１９ｂａには、ピッチＰｃよりも広いピッチＰｄで互いに隣り合うように、表示領域Ｄの一辺（図１３中の下辺Ｓｕ）に直交する方向に沿って第１配線層１６ｄと第２配線層１４ｂとを接続するための複数の第２接続部（不図示）がそれぞれ設けられている。ここで、上記第２接続部のピッチＰｄは、第１信号線１９ａａ及び第２信号線１９ｂａの表示領域Ｄ側のピッチＰａに等しくなっている。
【０１１７】
本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｄは、上記実施形態１で説明した製造方法において、ソース信号線１６ａ及び第１配線層１６ｂのパターン形状を変更することにより、製造することができる。
【０１１８】
以上説明したように、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｄによれば、上記各実施形態と同様に、複数の第１信号線１９ａａ及び複数の第２信号線１９ｂａからなる配線群において、信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができるので、非表示領域Ｎにおいて、各信号線の途中に第１配線層１６ｄから第２配線層１４ｂに切り替える接続部が存在しても、複数の信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができる。
【０１１９】
《発明の実施形態５》
図１４は、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｅの平面図である。
【０１２０】
上記各実施形態では、ソース信号線の端部側だけに信号線の引き回し構造が設けられたアクティブマトリクス基板２０ａ〜２０ｄを例示したが、本実施形態では、ゲート信号線の端部側にも信号線の引き回し構造が設けられたアクティブマトリクス基板２０ｅを例示する。
【０１２１】
アクティブマトリクス基板２０ｅは、図１４に示すように、非表示領域Ｎにおいて、表示領域Ｄの一辺（図中の下辺Ｓｕ）に沿ってその一辺の中央部に対応するように、ソース信号線１６ｄを駆動するＩＣチップを実装するための実装領域Ｍａが設けられていると共に、表示領域Ｄの他の一辺（図中の右辺Ｓｒ）に沿ってその他の一辺の中央部に対応するように、ゲート信号線１４ｄを駆動するＩＣチップを実装するための実装領域Ｍｂが設けられている。
【０１２２】
アクティブマトリクス基板２０ｅは、図１４に示すように、表示領域Ｄにおいて、図中横方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート信号線１４ｄと、非表示領域Ｎにおいて、互いに接続された表示領域Ｄ側の第１配線層１４ｄ及び実装領域Ｍｂ側の第２配線層１６ｅをそれぞれ有する複数の走査信号線１９ｄとを備えているだけで、その他の構成が上記実施形態４のアクティブマトリクス基板２０ｄと同じになっている。ここで、各走査信号線１９ｄの第１配線層１４ｄは、各ゲート信号線１４ｄの延長部分になっている。なお、本実施形態では、第１配線層１４ｄが各ゲート信号線１４ｄの延長部分になっている構成を例示したが、各走査信号線１９ｄの第１配線層は、各ゲート信号線１４ｄと異なる層に異なる材料により形成されていてもよい。
【０１２３】
複数の走査信号線１９ｄは、図１４に示すように、内側に設けられた複数の第１信号線１９ａｂと、複数の第１信号線１９ａｂの両外側に設けられた複数の第２信号線１９ｂｂとを備えている。
【０１２４】
複数の第１信号線１９ａｂは、図１４に示すように、表示領域Ｄの一辺（図中の右辺Ｓｒ）に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺（図中の右辺Ｓｒ）に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺（図中の右辺Ｓｒ）に直交する方向にピッチＰｂで実装領域Ｍｂに互いに平行に延びるように、好適には表示領域Ｄの一辺（図中の右辺Ｓｒ）の中央部に直交する軸Ｂに対して対称に設けられている。
【０１２５】
複数の第１信号線１９ａｂには、ピッチＰｃで互いに隣り合うように、表示領域Ｄの一辺（図１４中の右辺Ｓｒ）に直交する方向に沿って第１配線層１４ｄと第２配線層１６ｅとを接続するための複数の第１接続部（不図示）がそれぞれ設けられている。ここで、上記第１接続部のピッチＰｃは、第１信号線１９ａｂ及び第２信号線１９ｂｂの実装領域ＭｂでのピッチＰｂに等しくなっている。
【０１２６】
複数の第２信号線１９ｂｂは、図１４に示すように、表示領域Ｄの一辺（図中の右辺Ｓｒ）に直交する方向にピッチＰａで表示領域Ｄ側から互いに平行に延びた後に、表示領域Ｄの一辺（図中の右辺Ｓｒ）に角度θａで交差する方向に互いに平行に延び、続いて表示領域Ｄの一辺（図中の右辺Ｓｒ）に直交する方向に互いに平行に延び、さらに表示領域Ｄの一辺（図中の右辺Ｓｒ）に角度θｂで交差する方向に互いに平行に延び、最後に表示領域Ｄの一辺（図中の右辺Ｓｒ）に直交する方向にピッチＰｂで実装領域Ｍｂに互いに平行に延びるように設けられている。
【０１２７】
複数の第２信号線１９ｂｂには、ピッチＰｃよりも広いピッチＰｄで互いに隣り合うように、表示領域Ｄの一辺（図１４中の右辺Ｓｒ）に直交する方向に沿って第１配線層１４ｄと第２配線層１６ｅとを接続するための複数の第２接続部（不図示）がそれぞれ設けられている。ここで、上記第２接続部のピッチＰｄは、第１信号線１９ａｂ及び第２信号線１９ｂｂの表示領域Ｄ側のピッチＰａに等しくなっている。
【０１２８】
本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｅは、上記実施形態１で説明した製造方法において、ゲート信号線１４ｃ、ソース信号線１６ａ及び第１配線層１６ｂのパターン形状を変更することにより、製造することができる。
【０１２９】
以上説明したように、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｅによれば、上記各実施形態と同様に、複数の第１信号線１９ａａ及び複数の第２信号線１９ｂａからなるソース側の配線群において、並びに複数の第１信号線１９ａｂ及び複数の第２信号線１９ｂｂからなるゲート側の配線群において、信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができるので、非表示領域Ｎにおいて、各信号線の途中に第１配線層１６ｄから第２配線層１４ｂに切り替える接続部、又は第１配線層１４ｄから第２配線層１６ｅに切り替える接続部が存在しても、複数の信号線の引き回しにおける広がりを抑制することができる。
【０１３０】
なお、上記各実施形態では、表示パネルとして、液晶表示パネルを例示したが、本発明は、有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示パネル、無機ＥＬ表示パネル、プラズマ表示パネル、電子ペーパーなどの他の表示パネルにも適用することができ、また、パネルの小型化が要望されるモバイル用途の表示パネルだけでなく、テレビジョンや電子看板などのモニター用途の大型の表示パネルなどにも適用することができる。
【０１３１】
また、上記各実施形態では、画素電極に接続されたＴＦＴの電極をドレイン電極としたアクティブマトリクス基板を例示したが、本発明は、画素電極に接続されたＴＦＴの電極をソース電極と呼ぶアクティブマトリクス基板にも適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１３２】
以上説明したように、本発明は、各信号線の途中に第１配線層から第２配線層に切り替える接続部が存在しても、複数の信号線の引き回しにおける広がりが抑制されるので、複数の信号線の配線群の輪郭形状が扇状に絞られた配線構造を有する配線基板全般について有用である。
【符号の説明】
【０１３３】
Ａ，Ｂ    軸
Ｄ        表示領域
Ｍ，Ｍａ，Ｍｂ    実装領域
Ｎ        非表示領域
５ａ      ＴＦＴ（スイッチ回路）
６ａ      第１接続部
６ｂ      第２接続部
１４ｂ    第２配線層
１４ｄ    第１配線層
１６ａ，１６ｄ    ソース信号線（表示用信号線）
１６ｂ，１６ｄ    第１配線層
１６ｅ    第２配線層
１９，１９ｃ      ビデオ信号線
１９ａ，１９ａａ，１９ａｂ，１９ａｃ    第１信号線
１９ｂ，１９ｂａ，１９ｂｂ    第２信号線
１９ｄ    走査信号線
２０ａ〜２０ｅ    アクティブマトリクス基板
３０      対向基板
４０      液晶層（表示媒体層）
４５      シール材
５０      液晶表示パネル
【図１】
2013011678.tif 000003
【図２】
2013011678.tif 000004
【図３】
2013011678.tif 000005
【図４】
2013011678.tif 000006
【図５】
2013011678.tif 000007
【図６】
2013011678.tif 000008
【図７】
2013011678.tif 000009
【図８】
2013011678.tif 000010
【図９】
2013011678.tif 000011
【図１０】
2013011678.tif 000012
【図１１】
2013011678.tif 000013
【図１２】
2013011678.tif 000014
【図１３】
2013011678.tif 000015
【図１４】
2013011678.tif 000016
【図１５】
2013011678.tif 000017
【図１６】
2013011678.tif 000018
【図１７】
2013011678.tif 000019
【国際調査報告】
2013011678.tif 000020
2013011678.tif 000021
2013011678.tif 000022
2013011678.tif 000023