(57)【要約】  新規アゾール誘導体を提供するため、本発明に係るアゾール誘導体は、一般式（Ｖ’）で示されるアゾール誘導体である。【化１】2012169559.tif 000058（式中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基もしくはハロアルコキシ基、フェニル基、シアノ基またはニトロ基を表し、ｍは０〜５の整数を表し、Ａは窒素原子またはメチン基を表している。）
2012169559.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｖ’）で示されるアゾール誘導体。
【化１】
2012169559.tif 000046
（式（Ｖ’）中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表しており、該フェニル基の１以上の水素原子および該ベンジル基のフェニル部における１以上の水素原子は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｘは、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のハロアルコキシ基、フェニル基、シアノ基またはニトロ基を表しており、ｍは０〜５の整数を表しており、ｍが２以上である場合には、複数あるＸは互いに異なっていてもよく、Ａは、窒素原子またはメチン基を表している。）
【請求項２】
請求項１に記載のアゾール誘導体を製造する方法であって、
下記一般式（ＶＩＩＩ’）で示される化合物をオキシラン化して得られる下記一般式（ＶＩＩ’）で示される化合物と、下記一般式（ＶＩ）で示される化合物とを反応させることにより、上記一般式（Ｖ’）で示されるアゾール誘導体を得る工程を含む、アゾール誘導体の製造方法。
【化２】
2012169559.tif 000047
（式（ＶＩＩＩ’）中、Ｒ６、Ｒ７、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６、Ｒ７、Ｘおよびｍと同一である。）
【化３】
2012169559.tif 000048
（式（ＶＩＩ’）中、Ｒ６、Ｒ７、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６、Ｒ７、Ｘおよびｍと同一である。）
【化４】
2012169559.tif 000049
（式（ＶＩ）中、Ｍは、水素原子またはアルカリ金属を表しており、Ａは、式（Ｖ’）におけるＡと同一である。）
【請求項３】
下記一般式（ＩＸ’）で示される化合物を塩基存在下で反応させることにより、上記一般式（ＶＩＩＩ’）で示される化合物を得る工程を含む、請求項２に記載のアゾール誘導体の製造方法。
【化５】
2012169559.tif 000050
（式（ＩＸ’）中、Ｒ６、Ｒ７、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６、Ｒ７、Ｘおよびｍと同一であり、Ｒ４は、炭素数１〜４のアルキル基を表している。）
【請求項４】
下記一般式（Ｘ’）で示される化合物を酸存在下で、下記一般式（ＸＩＶ）で示されるアセタールまたは下記一般式（ＸＶ）で示されるケトンと反応させることにより上記一般式（ＩＸ’）で示される化合物を得る工程を含む、請求項３に記載のアゾール誘導体の製造方法。
【化６】
2012169559.tif 000051
（式（Ｘ’）中、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＸおよびｍと同一であり、Ｒ４は、式（ＩＸ’）におけるＲ４と同一である。）
【化７】
2012169559.tif 000052
（式（ＸＩＶ）中、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６およびＲ７と同一であり、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基を表している。）
【化８】
2012169559.tif 000053
（式（ＸＶ）中、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６およびＲ７と同一である。）
【請求項５】
下記一般式（ＩＶ’）で示されるアゾール誘導体の製造方法であって、
請求項１に記載のアゾール誘導体を酸存在下で反応させることにより、下記一般式（ＩＶ’）で示されるアゾール誘導体を得る工程を含む、アゾール誘導体の製造方法。
【化９】
2012169559.tif 000054
（式（ＩＶ’）中、Ｘ、ｍおよびＡは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＸ、ｍおよびＡと同一である。）
【請求項６】
請求項２〜４の何れか１項に記載の製造方法を含む、請求項５に記載のアゾール誘導体の製造方法。
【請求項７】
Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基である、請求項２〜６の何れか１項に記載のアゾール誘導体の製造方法。
【請求項８】
請求項１に記載のアゾール誘導体を製造するために用いられる中間体化合物であって、下記一般式（ＶＩＩＩ’）で示される、中間体化合物。
【化１０】
2012169559.tif 000055
（式（ＶＩＩＩ’）中、Ｒ６、Ｒ７、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６、Ｒ７、Ｘおよびｍと同一である。）
【請求項９】
請求項１に記載のアゾール誘導体を製造するために用いられる中間体化合物であって、下記一般式（ＩＸ’）で示される、中間体化合物。
【化１１】
2012169559.tif 000056
（式（ＩＸ’）中、Ｒ６、Ｒ７、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６、Ｒ７、Ｘおよびｍと同一であり、Ｒ４は、炭素数１〜４のアルキル基を表している。）
【請求項１０】
請求項２〜４の何れか１項に記載のアゾール誘導体の製造方法を経て製造される、下記一般式（Ｉａ’）で示されるアゾール誘導体。
【化１２】
2012169559.tif 000057
（式（Ｉａ’）中、Ｒ１０は、炭素数１〜３のアルキル基を表わし、Ｌはハロゲン原子を表わし、Ｘ、ｍおよびＡは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＸ、ｍおよびＡと同一である。）
【請求項１１】
請求項１に記載のアゾール誘導体を有効成分として含有しており、種子処理にて用いられることを特徴とする農園芸用薬剤。
【請求項１２】
請求項１１に記載の農園芸用薬剤により処理された種子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規のアゾール誘導体、その製造方法および利用方法、ならびにその中間体化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の２−置換−５−ベンジル−１−アゾリルメチルシクロペンタノール誘導体には、殺菌活性を示すものが知られている（例えば、特許文献１および２参照）。【０００３】
また、２−（ハロゲン化炭化水素置換）−５−ベンジル−１−アゾリルメチルシクロペンタノール誘導体に包含される一部の化合物が、抗痙攣性および抗不安緩解性活性などを示すことが報告されている（特許文献３参照）。なお、特許文献３には、農園芸用薬剤および工業用材料保護剤に関する記載はなく、本発明に包含される化合物は具体的に開示されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】日本国特許公報「特開平０１−９３５７４号公報」
【特許文献２】日本国特許公報「特開平０１−１８６８７１号公報」
【特許文献３】独国特許出願公開「第３９０２０３１号明細書」
【特許文献４】日本国特許公報「特開平０５−２７１１９７号公報」
【特許文献５】日本国特許公報「特開平０１−３０１６６４号公報」
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来、人畜に対する毒性が低く取扱い安全性に優れ、かつ広範な植物病害に対して高い防除効果を示す農園芸用病害防除剤が求められている。加えて、種々の農作物および園芸植物の成長を調節して収量を増加させてその品質を高める効果を示す植物生長調節剤、または工業用材料を侵す広範な有害微生物から材料を保護する効果を示す工業用材料保護剤も求められている。【０００６】
本発明は、上記の要望に応える農園芸用薬剤および工業用材料保護剤の製造に利用できる化合物およびその製造方法を提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るアゾール誘導体は、上記課題を解決するために、下記一般式（Ｖ’）で示されるアゾール誘導体である。【０００８】
【化１】
2012169559.tif 000003
【０００９】
（式（Ｖ’）中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表しており、該フェニル基の１以上の水素原子および該ベンジル基のフェニル部における１以上の水素原子は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｘは、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のハロアルコキシ基、フェニル基、シアノ基またはニトロ基を表しており、ｍは０〜５の整数を表しており、ｍが２以上である場合には、複数あるＸは互いに異なっていてもよく、Ａは、窒素原子またはメチン基を表している。）
また、本発明に係るアゾール誘導体の製造方法の第一の態様は、上記課題を解決するために、上述のアゾール誘導体の製造方法であって、下記一般式（ＶＩＩＩ’）で示される化合物をオキシラン化して得られる下記一般式（ＶＩＩ’）で示される化合物と、下記一般式（ＶＩ）で示される化合物とを反応させることにより、上記一般式（Ｖ’）で示されるアゾール誘導体を得る工程を含んでいる構成である。【００１０】
【化２】
2012169559.tif 000004
【００１１】
（式（ＶＩＩＩ’）中、Ｒ６、Ｒ７、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６、Ｒ７、Ｘおよびｍと同一である。）【００１２】
【化３】
2012169559.tif 000005
【００１３】
（式（ＶＩＩ’）中、Ｒ６、Ｒ７、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６、Ｒ７、Ｘおよびｍと同一である。）【００１４】
【化４】
2012169559.tif 000006
【００１５】
（式（ＶＩ）中、Ｍは、水素原子またはアルカリ金属を表しており、Ａは、式（Ｖ’）におけるＡと同一である。）
また、本発明に係るアゾール誘導体の製造方法の第二の態様は、上記課題を解決するために、下記一般式（ＩＶ’）で示されるアゾール誘導体の製造方法であって、上述のアゾール誘導体（Ｖ’）を酸存在下で反応させることにより、下記一般式（ＩＶ’）で示されるアゾール誘導体を得る工程を含む構成である。【００１６】
【化５】
2012169559.tif 000007
【００１７】
（式（ＩＶ’）中、Ｘ、ｍおよびＡは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＸ、ｍおよびＡと同一である。）
また、本発明に係る中間体化合物の第一の態様は、上述のアゾール誘導体（Ｖ’）を製造するために用いられる中間体化合物であって、下記一般式（ＶＩＩＩ’）で示される、中間体化合物である。【００１８】
【化６】
2012169559.tif 000008
【００１９】
（式（ＶＩＩＩ’）中、Ｒ６、Ｒ７、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６、Ｒ７、Ｘおよびｍと同一である。）
また、本発明に係る中間体化合物の第二の態様は、上述のアゾール誘導体（Ｖ’）を製造するために用いられる中間体化合物であって、下記一般式（ＩＸ’）で示される、中間体化合物である。【００２０】
【化７】
2012169559.tif 000009
【００２１】
（式（ＩＸ’）中、Ｒ６、Ｒ７、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＲ６、Ｒ７、Ｘおよびｍと同一であり、Ｒ４は、炭素数１〜４のアルキル基を表している。）
また、上述のアゾール誘導体の製造方法を経て製造される、下記一般式（Ｉａ’）で示されるアゾール誘導体もまた本発明の範疇に含まれる。【００２２】
【化８】
2012169559.tif 000010
【００２３】
（式（Ｉａ’）中、Ｒ１０は、炭素数１〜３のアルキル基を表わし、Ｌはハロゲン原子を表わし、Ｘ、ｍおよびＡは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＸ、ｍおよびＡと同一である。）
なお、本発明に係るアゾール誘導体を有効成分として含有する農園芸用薬剤または工業用材料保護剤も本発明の範疇に含まれる。【００２４】
また、本明細書等において、各一般式において同一の官能基（または原子）には同一の符号を付して、その詳細な説明については適宜省略している。例えば、一般式（Ｉ）において示されるＲ１と、異なる一般式において示されているＲ１とは、同一のものを示している。もちろん、Ｒ１に限らず、他の官能基（または原子）も同様である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明に係るアゾール誘導体およびアゾール誘導体の製造方法によれば、殺菌活性を有する化合物の中間体化合物を収率よく得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明を実施するための好適な形態について説明する。なお、以下に説明する実施形態は、本発明の代表的な実施形態の一例を示したものであり、これにより本発明の範囲が狭く解釈されることはない。
【００２７】
〔１．アゾール誘導体〕
本発明者らは、多くのアゾール誘導体の化学構造と生理活性を詳細に検討した。そして、その結果、下記一般式（Ｉ）で示されるアゾール誘導体（具体的には、２−置換アルキル−２−ハロアルキル−５−ベンジル−１−アゾリルメチルシクロペンタノール）が優れた活性を有することを見出した。そこでまず、本発明に係る下記一般式（Ｉ）で示されるアゾール誘導体（以下、化合物（Ｉ）と称する）について説明する。化合物（Ｉ）は、シクロペンタン環上の２位に、１以上の水素原子がハロゲン原子で置換された炭化水素置換基を有する。化合物（Ｉ）は、文献未記載の新規化合物である。
【００２８】
【化９】
2012169559.tif 000011
【００２９】
以下、化合物（Ｉ）中の各記号（Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ｍ、Ａ、Ｙおよびｎ１）の具体例について説明する。
【００３０】
（１）Ｒ１−Ｙ−（ＣＨ２）ｎ１
まず、化合物（Ｉ）において下記に説明するＲ２と同一の炭素原子に結合するＲ１−Ｙ−（ＣＨ２）ｎ１を一つの官能基とみなして説明する。
【００３１】
（１−１）Ｒ１
Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ１が炭素数１〜３のアルキル基である場合、Ｒ１としては、具体的には、メチル基、エチル基、（１−メチル）エチル基、およびｎ−プロピル基を挙げることができる。このうち、メチル基およびエチル基が好ましい。
【００３２】
（１−２）Ｙおよびｎ１
Ｙは、酸素原子、硫黄原子またはＮＲ３である。また、ｎ１は、１または２を示す。なお、Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基である。
【００３３】
Ｙが酸素原子の場合、Ｒ１−Ｙ−（ＣＨ２）ｎ１としては、具体的には、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、およびプロポキシエチル基を挙げることができる。
【００３４】
Ｙが硫黄原子の場合、Ｒ１−Ｙ−（ＣＨ２）ｎ１としては、具体的には、メチルスルファニルメチル基、エチルスルファニルメチル基、プロピルスルファニルメチル基、メチルスルファニルエチル基、プロピルスルファニルエチル基、およびプロピルスルファニルプロピル基を挙げることができる。
【００３５】
ＹがＮＲ３の場合、Ｒ１−Ｙ−（ＣＨ２）ｎ１としては、具体的には、メチルアミノメチル基、エチルアミノメチル基、プロピルアミノメチル基、メチルアミノエチル基、エチルアミノエチル基、プロピルアミノエチル基、（ジメチルアミノ）メチル基、（エチルメチルアミノ）メチル基、（メチルプロピルアミノ）メチル基、（ジエチルアミノ）メチル基、（エチルメチルアミノ）メチル基、（エチルプロピルアミノ）メチル基、（ジプロピルアミノ）メチル基、（ジメチルアミノ）エチル基、（エチルメチルアミノ）エチル基、（メチルプロピルアミノ）エチル基、（ジエチルアミノ）エチル基、（エチルメチルアミノ）エチル基、（エチルプロピルアミノ）エチル基、および（ジプロピルアミノ）エチル基を挙げることができる。
【００３６】
なかでも、Ｙは酸素原子であることが好ましく、ｎ１は１であることが好ましい。すなわち、Ｒ１−Ｙ−（ＣＨ２）ｎ１としては、メトキシメチル基またはエトキシメチル基であることが好ましい。
【００３７】
（２）Ｒ２
続いて、Ｒ２の詳細について説明する。Ｒ２としては、ハロアルキル基を挙げることができる。本明細書等における「ハロアルキル基」とは、アルキル基における水素原子のうちの少なくとも１つがハロゲン原子で置換されている官能基を意味している。
【００３８】
Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル鎖を有するハロアルキル基であることが好ましい。アルキル鎖は、直鎖状であってもよいし、分岐鎖であってもよい。また、Ｒ２は、アルキル鎖における末端の炭素原子に結合する水素原子がハロゲン原子で置換されているハロアルキル基であることが好ましい。すなわち、Ｒ２は一般式で（ＣＨ２）ｎ３ＣＨ３−ｑＺｑで示されるハロアルキル基であることが好ましい。この一般式中、ｎ３は０〜３を示し、ｑは１〜３を示す。Ｚは、ハロゲン原子を示す。Ｚとしては、具体的には、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を挙げることができる。
【００３９】
Ｒ２としては、より具体的には、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、２−クロロエチル基、１−クロロエチル基、２，２−ジクロロエチル基、１，２−ジクロロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、３−クロロプロピル基、２，３−ジクロロプロピル基、１−クロロ−１−メチルエチル基、２−クロロ−１−メチルエチル基、２−クロロプロピル基、４−クロロブチル基、５−クロロペンチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、１−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、１，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３−ジフルオロプロピル基、１−フルオロ−１−メチルエチル基、２−フルオロ−１−メチルエチル基、２−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、２−ブロモエチル基、１−ブロモエチル基、２，２−ジブロモエチル基、１，２−ジブロモエチル基、２，２，２−トリブロモエチル基、３−ブロモプロピル基、２，３−ジブロモプロピル基、１−ブロモ−１−メチルエチル基、２−ブロモ−１−メチルエチル基、２−ブロモプロピル基、４−ブロモブチル基、５−ブロモペンチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、２−ヨードエチル基、１−ヨードエチル基、２，２−ジヨードエチル基、１，２−ジヨードエチル基、２，２，２−トリヨードエチル基、３−ヨードプロピル基、２，３−ジヨードプロピル基、１−ヨード−１−メチルエチル基、２−ヨード−１−メチルエチル基、２−ヨードプロピル基、および４−ヨードブチル基等を挙げることができる。これらの中でも、クロロメチル基であることが好ましい。
【００４０】
（３）Ｘおよびｍ
Ｘとしては、次の置換基を挙げることができる。
【００４１】
ハロゲン原子：具体的には、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。
【００４２】
炭素数１〜４のアルキル基：具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、１−メチルエチル基、２−メチルプロピル基、ｎ−ブチル基、および１，１−ジメチルエチル基等を挙げることができる。
【００４３】
炭素数１〜４のハロアルキル基：具体的には、トリフルオロメチル基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル基、およびブロモメチル基等を挙げることができる。
【００４４】
炭素数１〜４のアルコキシ基：具体的には、メトキシ基、エトキシ基、およびｎ−プロポキシ基等を挙げることができる。
【００４５】
炭素数１〜４のハロアルコキシ基：具体的には、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエトキシ基、および２，２，２−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
【００４６】
なお、Ｘは、フェニル基、シアノ基、あるいはニトロ基であってもよい。
【００４７】
Ｘは、好ましくはハロゲン原子、炭素数１〜３のハロアルキル基、炭素数１〜３のハロアルコキシ基、炭素数１〜３のアルキル基、または炭素数１〜３のアルコキシ基であり、特に好ましくはハロゲン原子、炭素数１〜２のハロアルキル基、または炭素数１〜２のハロアルコキシ基である。
【００４８】
ｍは、０〜５の整数である。ｍが２以上である場合、複数あるＸはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ここで、ｍは０〜３の整数であることが好ましく、０〜２の整数であることがより好ましい。
【００４９】
（４）Ａ
Ａは、窒素原子またはメチン基である。好ましくは、Ａは窒素原子である。
【００５０】
（５）立体異性体
化合物（Ｉ）には、下記一般式（ＣＣ）、（ＴＴ）、（ＣＴ）および（ＴＣ）で示す立体異性体（Ｃ型およびＴ型）が存在する。化合物（Ｉ）は、いずれかの異性体単体でもよく、混合物でもよい。なお、下記一般式では、１位のヒドロキシ基と２位のハロアルキル基（Ｒ２）とがシス型であって、１位のヒドロキシ基と５位のベンジル基とがシス型であるものの相対立体配置を（ＣＣ）としている。また、１位のヒドロキシ基と２位のハロアルキル基（Ｒ２）とがトランス型であって、１位のヒドロキシ基と５位のベンジル基とがトランス型であるものの相対立体配置を（ＴＴ）としている。また、１位のヒドロキシ基と２位のハロアルキル基（Ｒ２）とがシス型であって１位のヒドロキシ基と５位のベンジル基とがトランス型であるものの相対立体配置を（ＣＴ）としている。さらに、１位のヒドロキシ基と２位のハロアルキル基（Ｒ２）とがトランス型であって、１位のヒドロキシ基と５位のベンジル基とがシス型であるものの相対立体配置を（ＴＣ）としている。なお、本文中ではヒドロキシ基が結合した炭素をシクロペンタン環の１位とする。
【００５１】
【化１０】
2012169559.tif 000012
【００５２】
本発明に係るアゾール誘導体は、植物に病害を引き起こす多くの菌に対して優れた殺菌作用を有する。従って、本発明に係るアゾール誘導体を有効成分として含有する農園芸用薬剤は、広汎な植物病害に対して高い防除効果を発揮することができる効果を奏する。
【００５３】
また、本発明に係るアゾール誘導体を有効成分として含有する農園芸用薬剤は、種々の農作物や園芸植物の成長を調節して収量を増加させると共に、その品質を高める効果も併せて奏する。
【００５４】
さらに、本発明に係るアゾール誘導体を有効成分として含有する工業用材料保護剤は、工業用材料を侵す広範な有害微生物からより一層効果的に工業用材料を保護することができる効果を奏する。
【００５５】
２．アゾール誘導体の製造方法
次に、化合物（Ｉ）として示したアゾール誘導体の製造方法について説明する。以下に説明する本発明に係る製造方法の各工程において使用される溶媒、塩基、および酸等は、特に言及しない限り、次のようなものを用いることができる。
【００５６】
（１）溶媒
使用される溶媒としては、反応に関与しなければ特に限定されないが、通常、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記すこともある）およびジオキサン等のエーテル類；メタノール、エタノールおよびイソプロパノール等のアルコール類；ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素類；石油エーテル、ヘキサンおよびメチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ならびにＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと記すこともある）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類等を挙げることができる。この他、溶媒としては、水、アセトニトリル、酢酸エチル、無水酢酸、酢酸、ピリジン、およびジメチルスルホキシド等も使用可能である。これらの溶媒は、２種類以上を混合して使用してもよい。
【００５７】
また、溶媒としては、互いに均一な層を形成することのない溶媒からなる溶媒組成物も挙げられる。この場合には、反応系に相間移動触媒、例えば、慣用の第４アンモニウム塩またはクラウンエーテルを添加してもよい。
【００５８】
（２）塩基および酸
上述の溶媒には、塩基または酸を添加してもよい。
【００５９】
用いられる塩基は、特に限定されない。塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩；炭酸カルシウムおよび炭酸バリウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩；水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物；リチウム、ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド；水素化ナトリウム、水素化カリウムおよび水素化リチウム等のアルカリ金属水素化合物；ｎ−ブチルリチウム等のアルカリ金属の有機金属化合物；リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類；ならびにトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンおよび１，８−ジアザビシクロ−７−［５．４．０］ウンデセン等の有機アミン類等を挙げることができる。
【００６０】
また、用いられる酸は、特に限定されない。酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸および硫酸等の無機酸；ギ酸、酢酸、酪酸、トリフルオロ酢酸およびｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸；ならびに塩化リチウム、臭化リチウム、塩化ロジウム、塩化アルミニウムおよび三フッ化ホウ素等のルイス酸を挙げることができる。
【００６１】
（３）化合物（Ｉ）の第一製造方法
（３−１）工程１Ａ
次いで、本発明に係るアゾール誘導体の第一製造方法について説明する。
【００６２】
工程１Ａでは、本発明に係るアゾール誘導体のうち、以下に示す化合物（Ｉａ）の製造方法について説明する。
【００６３】
【化１１】
2012169559.tif 000013
【００６４】
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ｍ、Ａ、およびｎ１は、上述した通りである。
【００６５】
この製造方法の１つの実施形態では、下記一般式（ＩＩＩａ）で示される化合物におけるヒドロキシ基をアルキル化することにより化合物（ＩＩａ）を得る工程と、化合物（ＩＩａ）における酸素原子を含むヘテロ環を任意のハロゲン酸を用いて開環することにより、化合物（Ｉａ）を得る工程と、を含む。
【００６６】
ここで、本実施形態では、シクロペンタン環の２位にヒドロキシアルキル基を有する化合物である下記一般式（ＩＩＩａ）で示される化合物のヒドロキシアルキル基をアルキル化し、得られた化合物を開環する工程を例に挙げて説明する（工程１Ａ；反応式（１）参照）。
【００６７】
なお、一般式（Ｉａ）で示される化合物は、シクロペンタン環の２位にハロアルキル基を有する化合物である。以下、一般式αで示される化合物を「化合物α」と称する。例えば、一般式（Ｉａ）で示される化合物は「化合物（Ｉａ）」と称する。
反応式（１）
【００６８】
【化１２】
2012169559.tif 000014
【００６９】
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ｍ、Ａ、およびｎ１は、上述した通りである。ｎ２は、Ｒ２におけるアルキル基の炭素数を示す。
【００７０】
（３−１−１）工程１Ａ１（アルキル化工程）
ここでは、まず、本工程１Ａにおいて、化合物（ＩＩＩａ）をアルキル化して化合物（ＩＩａ）を得る工程（工程１Ａ１）についてより詳細に説明する。
【００７１】
化合物（ＩＩａ）を得るためのアルキル化の方法としては特に限定されないが、溶媒中において、化合物（ＩＩＩａ）のヒドロキシ基とアルカリ金属塩基とから調製される金属アルコキシドを、脱離基を有するアルキルと室温にて反応させる方法を挙げることができる。
【００７２】
溶媒としては、ＴＨＦなどのエーテル系の溶媒、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）およびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類の溶媒、ベンゼンおよびトルエン等の芳香族系の溶媒、ならびに塩化メチレン等のハロゲン化物の溶媒を好適に用いることができる。このうち、ＴＨＦをより好適に用いることができる。
【００７３】
脱離基を有するアルキルとしては、ヨウ化物および臭化物等のハロゲン化アルキル、ならびにトシルオキシアルキルおよびメシルオキシアルキル等のスルホン酸エステルを挙げることができる。このうち、ヨウ化アルキルを好適に用いることができる。さらに、ヨウ化アルキルの中では、ヨウ化メチルを用いることがより好ましい。
【００７４】
アルカリ金属塩基としては、ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、および水酸化カリウムを挙げることができる。このうち、水素化ナトリウムを用いることが好ましい。
【００７５】
なお、化合物（Ｉａ）におけるＲ１が水素原子である場合、本工程は不要である。
（３−１−２）工程１Ａ２（開環工程）
次に、本工程１Ａにおいて、化合物（ＩＩａ）を開環して化合物（Ｉａ）を得る工程（工程１Ａ２）についてより詳細に説明する。
【００７６】
化合物（Ｉａ）は、化合物（ＩＩａ）とハロゲン酸とを溶媒中で混合し、酸素原子を含むヘテロ環の開環反応を行うことにより、ハロゲン化アルキル基と３級ヒドロキシ基とを生成することで好適に製造することができる。
【００７７】
ハロゲン酸としては、フッ化水素、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素を挙げることができる。なかでも塩化水素および臭化水素が好適に用いられる。ハロゲン酸は、気体として導入してもよいし、溶媒に溶解させて添加してもよい。なお、ハロゲン化物塩と別種の酸（例えばトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、および硫酸等）とを添加することにより系内においてハロゲン酸を生成させて、化合物（ＩＩａ）から化合物（Ｉａ）を得るようにしてもよい。ハロゲン化物塩としては、塩化リチウム、臭化リチウム、フッ化リチウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、フッ化ナトリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、およびフッ化カリウムを挙げることができる。
【００７８】
溶媒は、特に限定されないが、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、メタノールおよびエタノール等のアルコール類、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類、ならびに水等を挙げることができる。この中でも、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いることが好ましい。
【００７９】
反応温度は、用いられる溶媒、および塩基等によって適宜設定することができるが、好適には−２０℃〜２５０℃であり、より好適には−１０℃〜１５０℃である。反応時間は、用いられる溶媒、および塩基等によって適宜設定することができるが、好適には０．１時間〜数日であり、より好適には０．５時間〜２日である。
【００８０】
なお、化合物（Ｉａ）におけるＲ１が水素原子である場合、化合物（ＩＩａ）の代わりに化合物（ＩＩＩａ）を用いて本工程を行う。
【００８１】
（３−２）工程１Ｂ
次いで、工程１Ａにおいて使用される化合物（ＩＩＩａ）の製造方法について説明する。
【００８２】
工程１Ａにおいて使用される化合物（ＩＩＩａ）は、次のような合成方法を用いることで好適に製造することができる。
【００８３】
工程１Ｂでは、下記一般式（ＩＶ）で示されるヒドロキシアルキル化合物を閉環することにより、化合物（ＩＩＩａ）を得る工程を含む（工程１Ｂ；下記反応式（２）参照）。
反応式（２）
【００８４】
【化１３】
2012169559.tif 000015
【００８５】
ここで、Ｘ、ｍ、Ａ、ｎ１、およびｎ２は、上述した通りである。
【００８６】
化合物（ＩＩＩａ）の好適な合成方法としては、化合物（ＩＶ）をスルホニルクロライド類と過剰量塩基の存在下、溶媒中で反応させる方法を挙げることができる。
【００８７】
スルホニルクロライド類としては、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびメタンスルホニルクロライド等を用いることができる。これらの中でも、ｐ−トルエンスルホニルクロライドを用いることが好ましい。
【００８８】
また、塩基は特に限定されるものではない。塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等の金属水素化合物、ならびにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド等を好適に用いることができる。この中でも、水素化ナトリウムをより好適に用いることができる。
【００８９】
スルホニルクロライド類の量は、化合物（ＩＶ）に対して１〜２倍モルであることが好ましい。塩基の量としては化合物（ＩＶ）に対して２．５〜１０倍モルであることが好ましく、２．８〜６倍モルであることがより好ましい。
【００９０】
溶媒は、特に限定されるものではない。溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類、ジメチルスルホキシドならびにこれらの混合溶媒を用いることができる。この中でも、テトラヒドロフランを好適に用いることができる。
【００９１】
反応温度は、用いられる溶媒、化合物（ＩＶ）、スルホニルクロライド類および塩基等の種類によって適宜設定することができ、好適には−１００℃〜２００℃であり、より好適には−５０℃〜１５０℃である。反応時間は、用いられる溶媒、化合物（ＩＶ）、スルホニルクロライド類および塩基等の種類によって適宜設定することができ、好適には０．１時間〜数日であり、より好適には０．５時間〜２日である。
【００９２】
（３−３）工程１Ｃ
工程１Ｂにおいて使用される化合物（ＩＶ）は、次のような合成方法を用いることで、好適に製造することができる。
【００９３】
まず、下記一般式（ＶＩＩＩ）で示されるカルボニル化合物をオキシラン化して、下記一般式（ＶＩＩ）で示されるオキシラン誘導体を得る。次に、得られた化合物（ＶＩＩ）と、下記一般式（ＶＩ）で示される１，２，４−トリアゾールもしくはイミダゾール化合物（「化合物（ＶＩ）」）とを反応させることにより、下記一般式（Ｖ）で示される化合物を得る。そして、化合物（Ｖ）中、Ｇで示されるヒドロキシ基の保護基を脱保護することにより、化合物（ＩＶ）を合成する。一連の反応工程（工程１Ｃ）を、下記反応式（３）に示す。
反応式（３）
【００９４】
【化１４】
2012169559.tif 000016
【００９５】
ここで、Ｘ、ｍ、Ａ、ｎ１、およびｎ２は、上述した通りである。Ｍは、水素原子またはアルカリ金属を示す。Ｇは、保護基を表し、化合物（Ｖ）を化合物（ＶＩＩ）から製造できれば特に限定されない。また、２つあるＧは互いに同じであっても異なっていてもよい。保護基としては、メトキシメチル基およびエトキシメチル基等のアルコキシメチル基、ｔ−ブチル基およびメチル基等の低級アルキル基、ならびに置換または無置換ベンジル基等を挙げることができる。また、２つのＧが環を形成していてもよく、この場合は保護基としてメチレンアセタールまたはイソプロピリデンケタール等を用いることができる。２つのＧが環を形成している場合の具体例については後述する。
【００９６】
（３−３−１）工程１Ｃ１（オキシラン化工程）
ここでは、まず、本工程１Ｃにおいて、化合物（ＶＩＩＩ）をオキシラン化して、化合物（ＶＩＩ）を得る工程（工程１Ｃ１）についてより詳細に説明する。
【００９７】
化合物（ＶＩＩ）の第１の合成方法としては、化合物（ＶＩＩＩ）と硫黄イリドとを溶媒中で反応させる方法を挙げることができる。硫黄イリドとしては、ジメチルスルホニウムメチリド等のスルホニウムメチリド類およびジメチルスルホキソニウムメチリド等のスルホキソニウムメチリド類を挙げることができる。
【００９８】
用いられるスルホニウムメチリド類またはスルホキソニウムメチリド類は、溶媒中、スルホニウム塩（例えば、トリメチルスルホニウムヨージドおよびトリメチルスルホニウムブロミド等のスルホニウムハライド）またはスルホキソニウム塩（例えばトリメチルスルホキソニウムヨージドおよびトリメチルスルホキソニウムブロミド等のスルホキソニウムハライド）と、塩基とを反応させることにより生成させることができる。
【００９９】
この際、用いられるスルホニウムメチリド類またはスルホキソニウムメチリド類の量は、化合物（ＶＩＩＩ）に対して０．５〜５倍モルであることが好ましく、０．８〜２倍モルであることがより好ましい。
【０１００】
用いられる溶媒は特に限定されるものではないが、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類またはジメチルスルホキシドならびにこれらの混合溶媒を挙げることができる。
【０１０１】
スルホニウムメチリド類またはスルホキソニウムメチリド類の生成に用いられる塩基は、特に限定されるものではない。塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等の金属水素化合物、または、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド等を用いることが好ましい。
【０１０２】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒、化合物（ＶＩＩＩ）、スルホニウム塩もしくはスルホキソニウム塩、および塩基等の種類によって適宜設定される。反応温度は、−１００℃〜２００℃であることが好ましく、−５０℃〜１５０℃であることがより好ましい。また、反応時間は、０．１時間〜数日であることが好ましく、０．５時間〜２日であることがより好ましい。
【０１０３】
次に、化合物（ＶＩＩ）の別の合成方法（第２の合成方法）について説明する。具体的には、化合物（ＶＩＩ）は、化合物（ＶＩＩＩ）をヨウ化サマリウムおよびジヨードメタンと溶媒中で反応させた後、塩基で処理することにより製造することができる。
【０１０４】
塩基は、特に限定されるものではなく、例えば水酸化ナトリウム等を用いることができる。用いられるヨウ化サマリウムは、無水溶媒中で、金属サマリウムと、１，２−ジヨードエタンもしくはジヨードメタンとを反応させることにより生成させることができる。用いられる溶媒は、特に限定されるものではない。溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン等のエーテル類を挙げることができる。
【０１０５】
化合物（ＶＩＩＩ）に対する塩基の量は、特に限定されないが、０．５〜１０倍モルであることが好ましく、０．８〜６倍モルであることがより好ましい。また、塩基で処理する場合は無水系である必要はないため、例えば、水酸化ナトリウム水溶液等を使用してもよい。
【０１０６】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒、化合物（ＶＩＩＩ）および塩基等の種類によって適宜設定することができる。反応温度は、−１００℃〜１５０℃であることが好ましく、−５０℃〜１００℃であることがより好ましい。また、反応時間は、０．１時間〜数日であることが好ましく、０．５時間〜２日であることがより好ましい。
【０１０７】
（３−３−２）工程１Ｃ２（アゾール化工程）
次に、本工程１Ｃにおいて、化合物（ＶＩＩ）と化合物（ＶＩ）とを反応させ、化合物（Ｖ）を得る工程（工程１Ｃ２）についてより詳細に説明する。
【０１０８】
化合物（Ｖ）は、化合物（ＶＩＩ）と化合物（ＶＩ）とを溶媒中で混合することにより、オキシラン誘導体（化合物（ＶＩＩ））におけるオキシラン環を構成する炭素原子と１，２，４−トリアゾールもしくはイミダゾール（化合物（ＶＩ））の窒素原子との間に炭素−窒素結合が生成することで製造される。
【０１０９】
溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類を挙げることができる。
【０１１０】
化合物（ＶＩＩ）に対する化合物（ＶＩ）の使用量は、０．５〜１０倍モルであることが好ましく、０．８〜５倍モルであることがより好ましい。また、所望により塩基を添加してもよい。塩基を添加する場合、化合物（ＶＩ）に対する塩基の使用量は、０〜５倍モル（０は含まない）であることが好ましく、より好ましくは０．５〜２倍モルである。
【０１１１】
反応温度は、用いられる溶媒および塩基等の種類によって適宜設定することができ、０℃〜２５０℃であることが好ましく、１０℃〜１５０℃であることがより好ましい。また、反応時間は、用いられる溶媒および塩基等の種類によって適宜設定することができ、０．１時間〜数日であることが好ましく、０．５時間〜２日であることがより好ましい。
【０１１２】
化合物（Ｖ）は、化合物（ＶＩＩ）を生成させた後、段階的に化合物（ＶＩ）と反応させて製造することができる。しかし、上述した第１の合成方法においてオキシラン化反応のみを単独で行った場合には、副生成物（例えばオキセタン誘導体）が生成して、収率低下を招くことがある。この収率低下を回避するためには、化合物（ＶＩＩ）を生成させながら、アゾール化を行えばよい（下記反応式（４）参照）。
反応式（４）
【０１１３】
【化１５】
2012169559.tif 000017
【０１１４】
ここで、Ｘ、ｍ、Ａ、Ｇ、Ｍ、ｎ１、およびｎ２は、上述した通りである。
【０１１５】
この場合、まず、化合物（ＶＩＩＩ）と化合物（ＶＩ）とを、（ｉ）アミド結合を持つ極性溶媒、（ｉｉ）ジメチルスルホキシド、または（ｉｉｉ）極性溶媒とアルコールとの混合溶媒に溶解する。そして、これにトリメチルスルホニウム塩等のスルホニウム塩またはトリメチルスルホキソニウム塩等のスルホキソニウム塩、および塩基を加え、反応系内でジメチルスルホニウムメチリド等のスルホニウムメチリド類またはジメチルスルホキソニウムメチリド等のスルホキソニウムメチリド類等を発生させることにより、化合物（ＶＩＩ）を生成させながらアゾール化を行う。ここで、トリメチルスルホニウム塩等のスルホニウム塩またはトリメチルスルホキソニウム塩等のスルホキソニウム塩および塩基の少なくとも何れか一方を間欠的に加えた方が好ましい場合には、両者もしくは一方を間欠的に加えることが好ましい。
【０１１６】
用いられる溶媒は、特に限定されるものではない。溶媒としては、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド結合を持つ極性溶媒、ならびにジメチルスルホキシド等を挙げることができる。また、混合溶媒におけるアルコールとしては、ｔ−ブタノール等を挙げることができる。
【０１１７】
スルホニウムメチリド類またはスルホキソニウムメチリド類の生成に用いられる塩基は、特に限定されるものではない。塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等の金属水素化合物、またはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド等を用いることができる。また、１，２，４−トリアゾールまたはイミダゾールのアルカリ金属塩を使用してもよい。
【０１１８】
反応温度は、用いられる溶媒、化合物（ＶＩＩＩ）、スルホニウム塩もしくはスルホキソニウム塩、および塩基等の種類によって適宜設定することができる。反応温度としては、−１００℃〜２５０℃であることが好ましく、−５０℃〜２００℃であることがより好ましい。また、反応時間は、用いられる溶媒、化合物（ＶＩＩＩ）、スルホニウム塩もしくはスルホキソニウム塩、および塩基等の種類によって適宜設定することができる。反応時間としては、０．１時間〜数日であることが好ましく、０．５時間〜２日であることがより好ましい。
【０１１９】
また、スルホニウム塩（例えば、トリメチルスルホニウムハライド）またはスルホキソニウム塩（例えば、トリメチルスルホキソニウムハライド）および塩基の少なくとも一方を間欠的に加える場合の回数については、所定の目的を達成することができる回数であれば、特に限定されるものではない。回数としては、例えば、それぞれ２〜２０回であることが好ましく、３〜１５回であることがより好ましい。スルホニウム塩またはスルホキソニウム塩の合計の使用量は、化合物（ＶＩＩＩ）に対して０．５〜５倍モルであることが好ましく、０．８〜２倍モルであることがより好ましい。
【０１２０】
化合物（ＶＩＩＩ）に対する化合物（ＶＩ）の使用量は、０．５〜１０倍モルであることが好ましく、０．８〜５倍モルであることがより好ましい。化合物（ＶＩ）は、Ｍがアルカリ金属であるものを使用することが好ましい。
【０１２１】
なお、オキシラン誘導体を生成させながらアゾール化を行う方法については公知技術を参考にして行えばよい。
【０１２２】
（３−３−３）工程１Ｃ３（脱保護工程）
続いて、本工程１Ｃにおいて、化合物（Ｖ）の保護基を脱保護することにより、化合物（ＩＶ）を得る工程（工程１Ｃ３）についてより詳細に説明する。
【０１２３】
脱保護の好適な条件は、保護基の種類により異なる。ただし、メトキシメチル基およびエトキシメチル基等のアルコキシメチル基、ｔ−ブチル基およびメチル基等の低級アルキル基、またはメチレンアセタールおよびイソプロピリデンケタール等の環状アセタール、ケタール保護基を使用する場合には、溶媒中、塩化水素および硫酸等の酸性条件下における脱保護を好ましく使用できる。
【０１２４】
脱保護に使用される好適な酸としては、塩化水素等のハロゲン化水素および硫酸等の無機酸を挙げることができる。使用量は特に限定されるものではないが、化合物（Ｖ）に対する酸の使用量は、例えば０．５倍モル〜１００倍モルであり、好ましくは０．８倍モル〜２０倍モルである。
【０１２５】
反応温度は、０℃〜２００℃であることが好ましく、室温〜１００℃であることがより好ましい。反応時間は、０．１時間〜数日であることが好ましく、０．５時間〜２日であることがより好ましい。
【０１２６】
なお、２つあるＧが互いに異なる場合には、化合物（ＩＶ）を得る際に、−（ＣＨ２）ｎ１−ＯＨを保護する保護基Ｇを残すようにしてもよい。この場合、−（ＣＨ２）ｎ１−ＯＨを保護する保護基Ｇは本工程において脱保護されない保護基を適宜選択すればよい。
【０１２７】
また、ここで残した保護基は、工程１Ｂにて閉環反応を行った後、工程１Ｃ３と同様の方法を用いて脱保護すればよい。この方法により閉環反応における副反応を抑えることができる場合がある。
【０１２８】
（３−４）工程１Ｄ
工程１Ｃで使用される化合物（ＶＩＩＩ）は、以下の方法により好適に合成可能である。
【０１２９】
すなわち、まず、下記一般式（ＸＩＩＩ）で示される化合物をベンジル化して得られた下記一般式（ＸＩＩ）で示されるケトエステル化合物をヒドロキシアルキル化することによって、下記一般式（ＸＩ）で示される化合物を得る。さらに、化合物（ＸＩ）をヒドロキシアルキル化することによって、下記一般式（Ｘ）で示される化合物を得る。次に、化合物（Ｘ）のヒドロキシ基に、例えばメトキシメチル基またはｔ−ブチル基等の保護基を導入し、下記一般式（ＩＸ）で示される化合物に誘導する。そして、化合物（ＩＸ）を、加水分解・脱炭酸することにより、下記一般式（ＶＩＩＩ）で示されるカルボニル化合物を得る。一連の反応工程（工程１Ｄ）を、下記反応式（５）に示す。
【０１３０】
【化１６】
2012169559.tif 000018
【０１３１】
反応式（５）
【０１３２】
【化１７】
2012169559.tif 000019
【０１３３】
ここで、Ｘ、ｍ、Ｇ、ｎ１、およびｎ２は、上述した通りである。Ｒ４は、炭素数１〜４のアルキル基を示す。
【０１３４】
（３−４−１）工程１Ｄ１（ヒドロキシアルキル化工程）
ここでは、まず、本工程１Ｄにおいて、化合物（ＸＩＩ）をヒドロキシアルキル化して化合物（Ｘ）を得る工程（工程１Ｄ１）について説明する。工程１Ｄ１は、化合物（ＸＩＩ）をヒドロキシアルキル化して化合物（ＸＩ）を得る工程（工程１Ｄ１ａ）と、化合物（ＸＩ）をさらにヒドロキシアルキル化して化合物（Ｘ）を得る工程（工程１Ｄ１ｂ）とを含む。以下、工程１Ｄ１ａおよび工程１Ｄ１ｂについてより詳細に説明する。
（工程１Ｄ１ａ：第１のヒドロキシアルキル化工程）
工程１Ｄ１ａにおいて、化合物（ＸＩ）は、溶媒中、塩基存在下、化合物（ＸＩＩ）とヒドロキシアルキルハライドとを反応させることにより製造することができる。使用するヒドロキシアルキルハライドのヒドロキシ基は保護基Ｇで予め保護されていてもよい。
【０１３５】
化合物（ＸＩＩ）に対するヒドロキシアルキルハライドの使用量は、０．５倍モル〜２０倍モルであることが好ましく、０．８倍モル〜１０倍モルであることがより好ましい。
【０１３６】
塩基としては、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、ならびにトリエチルアミン等の有機塩基等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。化合物（ＸＩＩ）に対する塩基の使用量は、０．１倍モル〜１０倍モルであることが好ましく、０．２倍モル〜５倍モルであることがより好ましい。
【０１３７】
反応温度は、０℃〜２５０℃であることが好ましく、０〜１００℃であることがより好ましい。反応時間は、０．１時間〜数日であることが好ましく、０．５時間〜２日であることがより好ましい。
【０１３８】
溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類、ならびにベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素類、ならびに水等が用いられ、これらは必要に応じて混合して使用してもよい。なお、反応系が二相を形成する場合は相間移動触媒、例えば、慣用の第４アンモニウム塩（例えば、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム）を使用することが好ましい。
【０１３９】
導入するヒドロキシアルキル基がヒドロキシメチル基である場合は、溶媒中、塩基存在下で、化合物（ＸＩＩ）をホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒド誘導体（以下、ホルムアルデヒド等という）と反応させればよい。
【０１４０】
ホルムアルデヒド誘導体としては、パラホルムアルデヒド、１，３，５−トリオキサンおよびホルムアルデヒドジアルキルアセタールなどが挙げられる。
【０１４１】
なお、化合物（ＸＩＩ）は、公知の方法（例えば、特許文献１に記載の方法）によって製造される化合物を使用すればよい。
【０１４２】
（工程１Ｄ１ｂ：第２のヒドロキシアルキル化工程）
工程１Ｄ１ｂにおいてヒドロキシアルキル基を導入する方法は、工程１Ｄ１ａと同様の方法を用いることができる。
【０１４３】
なお、導入する２つのヒドロキシアルキル基が同じである場合（ｎ１＝ｎ２の場合）は、工程１Ｄ１ｂを省略することもできる。この場合、工程１Ｄ１ａにおいて、化合物（ＸＩＩ）に対するヒドロキシアルキルハライドの使用量を２倍モル以上とすることで、一度にヒドロキシアルキル化を行うことができる。例えば、ビスヒドロキシメチル化（ｎ１＝ｎ２＝１）を行う場合、ホルムアルデヒド等を化合物（ＸＩ）に対して２倍モル以上用いればよい。
【０１４４】
（３−４−２）工程１Ｄ２（保護基導入工程）
次に、本工程１Ｄにおいて、化合物（Ｘ）のヒドロキシ基に保護基を導入し、化合物（ＩＸ）を得る工程（工程１Ｄ２）についてより詳細に説明する。
【０１４５】
ヒドロキシ基を保護する保護基は、特に限定されるものではない。保護基としては、メトキシメチル基およびエトキシメチル基等のアルコキシメチル基、または、t−ブチル基等の低級アルキル基であることが好ましい。これらの保護基の導入は酸性触媒条件下で行う。ただし、（ａ）アルコキシメチル基の導入の場合は、ホルムアルデヒドジアルキルアセタールを使用し、化合物（Ｘ）中のヒドロキシ基をアセタール交換する方法が好適である。また（ｂ）t−ブチル基の導入の場合は、イソブテンを使用し、化合物（Ｘ）中のヒドロキシ基に保護基を導入する方法が好適である。さらに（ｃ）２つのヒドロキシ基をアセタールおよびケタールで同時に保護する場合には、適当なアルデヒドもしくはケトンまたは対応するアセタールもしくはケタールを酸触媒下で用いて行う方法が好適である。
【０１４６】
まず、保護基がアルコキシメチル基の場合（（ａ）の場合）について説明する。
【０１４７】
酸としては、塩酸、りん酸（５酸化２リンのようにアルコールまたは水の添加により酸基が生成する化合物を含む）および硫酸等の無機酸、ならびにｐ−トルエンスルホン酸およびメタンスルホン酸等の有機酸を用いることができる。ホルムアルデヒドジアルキルアセタールは、酸の存在下、溶媒中もしくは無溶媒中で使用することが好ましい。また、生成するアルコールを除去できる化合物（例えば、５酸化２リン）を添加することがより好ましい。
【０１４８】
化合物（Ｘ）に対するホルムアルデヒドジアルキルアセタールの使用量は、０．５倍モル〜５０倍モルであることが好ましく、０．８倍モル〜１０倍モルであることがより好ましい。化合物（Ｘ）に対する酸の使用量は、０．００１倍モル〜１０倍モルであることが好ましく、０．００２倍モル〜５倍モルであることがより好ましい。
【０１４９】
反応温度は、０℃〜２５０℃であることが好ましく、０℃〜１５０℃であることがより好ましい。反応時間は、０．１時間〜数日であることが好ましく、０．５時間〜２日であることがより好ましい。
【０１５０】
保護基がｔ−ブチル基である場合（（ｂ）の場合）には、塩酸、りん酸および硫酸等の無機酸、またはｐ−トルエンスルホン酸およびトリフルオロ酢酸等の有機酸存在下、溶媒中で化合物（Ｘ）とイソブテンとを反応させることが好ましい。
【０１５１】
化合物（Ｘ）に対するイソブテンの使用量は、０．５倍モル〜１００倍モルであることが好ましく、０．８倍モル〜２０倍モルであることがより好ましい。化合物（Ｘ）に対する酸の使用量は、０．００１倍モル〜１０倍モルであることが好ましく、０．００２倍モル〜５倍モルであることがより好ましい。
【０１５２】
反応温度は、０℃〜２００℃であることが好ましく、０℃〜１００℃であることがより好ましい。反応時間は、０．１時間〜数日あることが好ましく、０．５時間〜２日であることがより好ましい。
【０１５３】
保護基がイソプロピリデンケタールである場合（（ｃ）の場合）には、塩酸、りん酸および硫酸等の無機酸、またはｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸およびトリフルオロ酢酸等の有機酸存在下、溶媒中で化合物（Ｘ）とアセトンもしくはアセトンジメチルアセタールとを反応させることが好ましい。
【０１５４】
化合物（Ｘ）に対するアセトンまたはアセトンジメチルアセタールの使用量は、０．５倍モル〜１００倍モルであることが好ましく、０．８倍モル〜２０倍モルであることがより好ましい。化合物（Ｘ）に対する酸の使用量は、０．００１倍モル〜１０倍モルであることが好ましく、０．００２倍モル〜５倍モルであることがより好ましい。
【０１５５】
反応温度は、０℃〜２００℃であることが好ましく、０℃〜１００℃であることがより好ましい。反応時間は、０．１時間〜数日であることが好ましく、０．５時間〜２日であることがより好ましい。
【０１５６】
また、工程１Ｄ１ａ、１Ｄ１ｂにおいて、ヒドロキシ基が予め保護されたヒドロキシアルキルハライドを用いた場合は工程１Ｄ２を行わなくてよい。
【０１５７】
（３−４−３）工程１Ｄ３（加水分解・脱炭酸工程）
続いて、本工程１Ｄにおいて、化合物（ＩＸ）を加水分解／脱炭酸して化合物（ＶＩＩＩ）を得る工程（工程１Ｄ３）ついて説明する。
【０１５８】
工程１Ｄ３は、塩基存在下、溶媒中で好適に行うことができる。塩基としては、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属塩基を使用することができる。化合物（ＩＸ）に対する塩基の使用量は、０．１倍モル〜５０倍モルであることが好ましく、０．２倍モル〜２０倍モルであることがより好ましい。
【０１５９】
溶媒としては、例えば、水の他、アルコール類などを加えた水、互いに均一な層を形成することのない溶媒（水−トルエン等）からなる溶媒組成物を用いることができる。互いに均一な層を形成することのない溶媒を用いる場合には、反応系に相間移動触媒（例えば、慣用の第４アンモニウム塩）を使用してもよい。
【０１６０】
反応温度は、０℃〜還流点であることが好ましく、室温〜還流点であることがより好ましい。反応時間は、０．１時間〜数日であることが好ましく、０．５時間〜２４時間であることがより好ましい。
【０１６１】
以上、本発明に係るアゾール誘導体のうち、化合物（Ｉａ）の製造方法について説明してきた。上述した工程１Ａ〜１Ｄは、以下の反応式（６）に示すような流れにまとめることができる。
反応式（６）
【０１６２】
【化１８】
2012169559.tif 000020
【０１６３】
（３−５）工程１Ｃおよび工程１Ｄの例
２つのＧが環を形成している場合の化合物（Ｖ）として、下記一般式（Ｖ’）で示されるアゾール誘導体（以下、アゾール誘導体（Ｖ’）と称する）が挙げられる。
【０１６４】
【化１９】
2012169559.tif 000021
【０１６５】
一般式（Ｖ’）中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表している。
【０１６６】
炭素数１〜４のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、１−メチルエチル基、１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、ｎ−ブチル基、および１，１−ジメチルエチル基等が挙げられる。
【０１６７】
Ｒ６およびＲ７におけるフェニル基の１以上の水素原子、およびＲ６またはＲ７におけるベンジル基のフェニル部における１以上の水素原子は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。置換基としての炭素数１〜４のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、１−メチルエチル基、１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、ｎ−ブチル基、および１，１−ジメチルエチル基等が挙げられる。置換基としての炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、およびｎ−プロポキシ基等を挙げることができる。置換基としてのハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、および臭素原子等を挙げることができる。
【０１６８】
これらの中でも、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、または炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜２のアルキル基であることがさらに好ましく、Ｒ６およびＲ７がともにメチル基であることが特に好ましい。
【０１６９】
Ｘは、上述のＸと同じであり、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のハロアルコキシ基、フェニル基、シアノ基またはニトロ基を表している。
【０１７０】
ハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を挙げることができる。
【０１７１】
炭素数１〜４のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、１−メチルエチル基、２−メチルプロピル基、ｎ−ブチル基、および１，１−ジメチルエチル基等を挙げることができる。
【０１７２】
炭素数１〜４のハロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル基、およびブロモメチル基等を挙げることができる。
【０１７３】
炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、およびｎ−プロポキシ基等を挙げることができる。
【０１７４】
炭素数１〜４のハロアルコキシ基としては、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエトキシ基、および２，２，２−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
【０１７５】
Ｘは、好ましくはハロゲン原子、炭素数１〜３のハロアルキル基、炭素数１〜３のハロアルコキシ基、炭素数１〜３のアルキル基、および炭素数１〜３のアルコキシ基であり、より好ましくはハロゲン原子、炭素数１〜２のハロアルキル基、および炭素数１〜２のハロアルコキシ基であり、さらに好ましくはハロゲン原子であり、特に好ましくは、フッ素原子および塩素原子である。
【０１７６】
ｍは、上述のｍと同じであり、０〜５の整数を表している。ｍが２以上である場合には、複数あるＸは互いに異なっていてもよい。なかでも、ｍは０〜３の整数であることが好ましく、０〜２の整数であることがより好ましい。
【０１７７】
Ｘの結合位置に特に制限はないが、ｍが１である場合には、４−置換ベンジルとなる位置が好ましい。
【０１７８】
Ａは、窒素原子またはメチン基を表している。好ましくは、Ａは窒素原子である。
【０１７９】
アゾール誘導体（Ｖ’）の好適な例として、例えば下記一般式（Ｖ’−１）で示されるアゾール誘導体を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
【０１８０】
【化２０】
2012169559.tif 000022
【０１８１】
（式（Ｖ’−１）中、Ｘ１は、水素原子、フッ素原子または塩素原子を表している。）
アゾール誘導体（Ｖ’）は、下記一般式（ＩＶ’）で示されるアゾール誘導体（以下、アゾール誘導体（ＩＶ’）と称する）の製造に好適に使用される。
【０１８２】
【化２１】
2012169559.tif 000023
【０１８３】
（式（ＩＶ’）中、Ｘ、ｍおよびＡは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＸ、ｍおよびＡと同一である。）
アゾール誘導体（ＩＶ’）は、化合物（ＩＶ）の一態様であり、植物に病害を引き起こす多くの菌に対して優れた殺菌作用を有するアゾール誘導体の中間体化合物として好適に使用されるものである。
【０１８４】
なお、アゾール誘導体（Ｖ’）自体も、植物に病害を引き起こす菌に対して優れた殺菌作用を有している。
【０１８５】
アゾール誘導体（Ｖ’）は化合物（Ｖ）の一態様であり、上述の工程１Ｄおよび工程１Ｃを経て、化合物（ＸＩＩ）から製造することができる。すなわち、アゾール誘導体（Ｖ’）は、下記スキーム１に従って、公知の技術により得られる化合物（ＸＩＩ）から、製造することができる。なお、スキーム１では、アゾール誘導体（Ｖ’）からアゾール誘導体（ＩＶ’）を製造する工程も含めて示している。
【０１８６】
【化２２】
2012169559.tif 000024
【０１８７】
以下各工程について説明する。
【０１８８】
（工程１Ｄ１’：ヒドロキシメチル化工程）
工程１Ｄ１の一態様である工程１Ｄ１’では、上記化合物（ＸＩＩ）をヒドロキシメチル化して、一般式（Ｘ’）で示される化合物（ｎ１＝１、ｎ２＝１である化合物（Ｘ）；以下、化合物（Ｘ’）と称する）を得る。
【０１８９】
化合物（ＸＩＩ）をヒドロキシメチル化する方法としては、化合物（ＸＩＩ）を、溶媒中、塩基の存在下でホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒド誘導体と反応させる方法が挙げられる。
【０１９０】
塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、ならびにトリエチルアミン等の有機塩基等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。化合物（ＸＩＩ）に対する塩基の使用量は、例えば０．０１〜１０倍モルであり、好適には０．１〜５倍モルである。
【０１９１】
反応温度は、例えば０℃〜２５０℃であり、好適には０〜１００℃である。反応時間は、例えば０．１時間〜数日であり、好適には０．５時間〜２日である。
【０１９２】
溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタンおよびジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素類、ならびにメタノールおよびエタノール等のアルコール類、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、ならびに水等が用いられ、これらは必要に応じて混合して使用してもよい。なお、反応系が二相を形成する場合は相間移動触媒、例えば、慣用の第４アンモニウム塩（例えば、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム）を使用することが好ましい。
【０１９３】
ホルムアルデヒド誘導体としては、パラホルムアルデヒド、１，３，５−トリオキサンおよびホルムアルデヒドジアルキルアセタールなどが挙げられる。
【０１９４】
化合物（ＸＩＩ）に対するホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒド誘導体の使用量は、例えば１〜４０倍モルであり、好適には１．６〜２０倍モルである。
【０１９５】
（工程１Ｄ２’：保護基導入工程）
工程１Ｄ２の一態様である工程１Ｄ２’では、化合物（Ｘ’）の２つのヒドロキシメチル基におけるそれぞれのヒドロキシ基を１つの化合物で同時に保護する保護基を導入して、一般式（ＩＸ’）で示される化合物（以下、化合物（ＩＸ’）と称する）を得る。
【０１９６】
化合物（Ｘ’）のヒドロキシ基に保護基を導入する方法としては、化合物（Ｘ’）を、酸存在下で、アセタールまたはケトンと反応させる方法が挙げられる。
【０１９７】
アセタールとしては、下記一般式（ＸＩＶ）で示される化合物を挙げることができる。
【０１９８】
【化２３】
2012169559.tif 000025
【０１９９】
式（ＸＩＶ）中、Ｒ６およびＲ７は、アゾール誘導体（Ｖ’）におけるＲ６およびＲ７で示される官能基と同一である。Ｒ８およびＲ９はそれぞれ独立に、メチル基およびエチル基等の炭素数１〜４のアルキル基を表している。
【０２００】
また、ケトンとしては、下記一般式（ＸＶ）で示される化合物を挙げることができる。
【０２０１】
【化２４】
2012169559.tif 000026
【０２０２】
式（ＸＶ）中、Ｒ６およびＲ７は、アゾール誘導体（Ｖ’）におけるＲ６およびＲ７で示される官能基と同一である。
【０２０３】
化合物（Ｘ’）に対するアセタールまたはケトンの使用量は、例えば０．５〜２０倍モルであり、好適には０．８〜１０倍モルである。
【０２０４】
酸としては、塩酸、りん酸および硫酸等の無機酸、ならびにｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸およびトリフルオロ酢酸等の有機酸を挙げることができる。化合物（Ｘ’）に対する酸の使用量は、例えば、例えば０．００１〜１０倍モルであり、好適には０．００２〜２倍モルである。
【０２０５】
反応温度は、例えば０℃〜２００℃であり、好適には０〜１００℃である。反応時間は、例えば０．１時間〜数日であり、好適には０．５時間〜２日である。
【０２０６】
（工程１Ｄ３’：加水分解・脱炭酸工程）
工程１Ｄ３の一態様である工程１Ｄ３’では、化合物（ＩＸ’）を加水分解・脱炭酸して一般式（ＶＩＩＩ’）で示される化合物（以下、化合物（ＶＩＩＩ’）と称する）を得る。
【０２０７】
化合物（ＩＸ’）を加水分解・脱炭酸する方法としては、化合物（ＩＸ’）を、溶媒中、塩基存在下で反応させる方法が挙げられる。
【０２０８】
塩基としては、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属塩基を好適に使用することができる。化合物（ＩＸ’）に対する塩基の使用量は、例えば０．１〜５０倍モルであり、好適には０．２〜２０倍モルである。
【０２０９】
溶媒としては、水、アルコール類を加えた水、および互いに均一な層を形成することのない溶媒（水−トルエン等）からなる溶媒組成物を用いることができる。互いに均一な層を形成することのない溶媒を用いる場合には、反応系に相間移動触媒（例えば、慣用の第４アンモニウム塩）を使用してもよい。
【０２１０】
反応温度は、例えば０℃〜還流点であり、好適には室温〜還流点である。反応時間は、例えば０．１時間〜数日であり、好適には０．５〜２４時間である。
【０２１１】
（工程１Ｃ１’：オキシラン化工程）
工程１Ｃ１の一態様である工程１Ｃ１’では、化合物（ＶＩＩＩ’）をオキシラン化して、一般式（ＶＩＩ’）で示されるオキシラン誘導体（以下、オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）と称する）を得る。
【０２１２】
化合物（ＶＩＩＩ’）をオキシラン化する方法としては、化合物（ＶＩＩＩ’）と硫黄イリドとを溶媒中で反応させる方法を挙げることができる。
【０２１３】
硫黄イリドとしては、ジメチルスルホニウムメチリド等のスルホニウムメチリド類およびジメチルスルホキソニウムメチリド等のスルホキソニウムメチリド類を挙げることができる。用いられるスルホニウムメチリド類またはスルホキソニウムメチリド類は、溶媒中、スルホニウム塩（例えば、トリメチルスルホニウムヨージドおよびトリメチルスルホニウムブロミド等のスルホニウムハライド）またはスルホキソニウム塩（例えばトリメチルスルホキソニウムヨージドおよびトリメチルスルホキソニウムブロミド（ＴＭＳＯＢ）等のスルホキソニウムハライド）と、塩基とを反応させることにより生成させることができる。この際に用いられるスルホニウムメチリド類またはスルホキソニウムメチリド類の量は、化合物（ＶＩＩＩ’）に対して０．５〜５倍モルであることが好ましく、０．８〜２倍モルであることがより好ましい。
【０２１４】
溶媒は特に限定されるものではなく、例えば、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド類、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類またはジメチルスルホキシドならびにこれらの混合溶媒を挙げることができる。
【０２１５】
スルホニウムメチリド類またはスルホキソニウムメチリド類の生成に用いられる塩基は、特に限定されるものではない。塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等の金属水素化合物、または、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド等を用いることが好ましい。
【０２１６】
反応温度および反応時間は、溶媒、化合物（ＶＩＩＩ’）、スルホニウム塩もしくはスルホキソニウム塩および塩基の種類によって適宜設定される。反応温度は、例えば−１００℃〜２００℃であり、好適には−５０℃〜１５０℃である。また、反応時間は、例えば０．１時間〜数日であり、好適には０．５時間〜２日である。
【０２１７】
（工程１Ｃ２’：アゾール化工程）
工程１Ｃ２の一態様である工程１Ｃ２’では、オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）をアゾール化してアゾール誘導体（Ｖ’）を得る。
【０２１８】
オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）をアゾール化する方法としては、オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）を、溶媒中、上記化合物（ＶＩ）と反応させる方法を挙げることができる。より詳細には、オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）と化合物（ＶＩ）とを溶媒中で混合することにより、オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）におけるオキシラン環を構成する炭素原子と１，２，４−トリアゾールまたはイミダゾールの窒素原子との間に炭素−窒素結合が生成することで、アゾール誘導体（Ｖ’）が製造される。
【０２１９】
溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類を挙げることができる。
【０２２０】
オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）に対する化合物（ＶＩ）の使用量は、例えば０．５〜１０倍モルであり、好適には０．８〜５倍モルである。また、所望により塩基を添加してもよい。塩基を添加する場合、オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）に対する塩基の使用量は、例えば０〜５倍モル（ただし、０は含まない）であり、好適には０．５〜２倍モルである。
【０２２１】
反応温度は、溶媒または塩基によって適宜設定することができ、例えば０℃〜２５０℃であり、好適には１０℃〜１５０℃である。また、反応時間は、溶媒または塩基等によって適宜設定することができ、例えば０．１時間〜数日であり、好適には０．５時間〜２日である。
【０２２２】
上述のように、アゾール誘導体（Ｖ’）は、オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）を生成させた後、段階的に化合物（ＶＩ）と反応させて製造することができる。しかし、化合物（ＶＩＩＩ’）のオキシラン化反応のみを単独で行った場合には、副生成物（例えばオキセタン誘導体）が生成して、収率低下を招くことがある。これを低減するためには、オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）を生成させながら、アゾール化を行えばよい（下記反応式（４’）参照）。
【０２２３】
【化２５】
2012169559.tif 000027
【０２２４】
この場合、まず、化合物（ＶＩＩＩ’）と化合物（ＶＩ）とを、アミド結合を持つ極性溶媒もしくはジメチルスルホキシド、または極性溶媒とアルコールとの混合溶媒に溶解する。そして、これにトリメチルスルホニウム塩等のスルホニウム塩またはトリメチルスルホキソニウム塩等のスルホキソニウム塩と塩基とを加え、反応系内でジメチルスルホニウムメチリド等のスルホニウムメチリド類またはジメチルスルホキソニウムメチリド等のスルホキソニウムメチリド類等を発生させることにより、オキシラン誘導体（ＶＩＩ’）を生成させながらアゾール化を行う。ここで、トリメチルスルホニウム塩等のスルホニウム塩またはトリメチルスルホキソニウム塩等のスルホキソニウム塩および塩基の少なくとも一方を間欠的に加えた方が好ましい場合には、両者もしくは一方を間欠的に加えることが好ましい。
【０２２５】
溶媒としては、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド結合を持つ極性溶媒、またはジメチルスルホキシド等を挙げることができる。また、混合溶媒におけるアルコールとしては、ｔ−ブタノール等を挙げることができる。
【０２２６】
スルホニウムメチリド類またはスルホキソニウムメチリド類の生成に用いられる塩基は、特に限定されるものではない。塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等の金属水素化合物、またはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド等を用いることができる。また、１，２，４−トリアゾールまたはイミダゾールのアルカリ金属塩を使用してもよい。
【０２２７】
反応温度は、溶媒、化合物（ＶＩＩＩ’）、スルホニウム塩もしくはスルホキソニウム塩、および塩基の種類によって適宜設定することができる。反応温度としては、例えば−１００℃〜２５０℃であり、好適には−５０℃〜２００℃である。また、反応時間は、溶媒、化合物（ＶＩＩＩ’）、スルホニウム塩もしくはスルホキソニウム塩、および塩基の種類によって適宜設定することができる。反応時間としては、例えば０．１時間〜数日であり、好適には０．５時間〜２日である。
【０２２８】
また、トリメチルスルホニウム塩等のスルホニウム塩またはトリメチルスルホキソニウム塩等のスルホキソニウム塩および塩基の少なくとも一方を間欠的に加える場合の回数については、所定の目的を達成することができる回数であれば、特に限定されるものではない。回数としては、例えば、それぞれ２〜２０回であることが好ましく、３〜１５回であることがより好ましい。スルホニウム塩またはスルホキソニウム塩の合計の使用量は、化合物（ＶＩＩＩ’）に対して０．５〜５倍モルであることが好ましく、０．８〜２倍モルであることがより好ましい。
【０２２９】
化合物（ＶＩＩＩ’）に対する化合物（ＶＩ）の使用量は、例えば０．５〜１０倍モルであり、好適には０．８〜５倍モルである。化合物（ＶＩ）は、Ｍがアルカリ金属であるものを使用することが好ましい。
【０２３０】
（工程１Ｃ３’：脱保護工程）
さらに、工程１Ｃ３の一態様である工程１Ｃ３’では、アゾール誘導体（Ｖ’）の保護基を脱保護することにより、アゾール誘導体（Ｖ’）からアゾール誘導体（ＩＶ’）を得る。
【０２３１】
アゾール誘導体（Ｖ’）の保護基を脱保護する方法としては、アゾール誘導体（Ｖ’）を、溶媒中、酸存在下で反応させる方法が挙げられる。
【０２３２】
使用される溶媒は、脱保護反応が進行すれば特に限定されない。溶媒としては、例えば、メタノールおよびエタノール等のアルコール類等の水と均一の相を形成する溶媒、ならびにトルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素類等の水と均一の相を形成しない溶媒、何れも好適に使用することが可能である。
【０２３３】
酸としては、無機酸を好適に用いることができ、例えば、塩化水素等のハロゲン化水素、および硫酸等を挙げることができる。酸の使用量は特に限定されるものではないが、アゾール誘導体（Ｖ’）に対して、例えば０．５〜１００倍モルであり、好適には０．８〜２０倍モルである。
【０２３４】
反応温度は、例えば０℃〜２００℃であり、好適には室温〜１００℃である。また、反応時間は、例えば０．１時間〜数日であり、好適には０．５時間〜２日である。
【０２３５】
以上、工程１Ｄ１’から工程１Ｄ３’までの各反応および工程１Ｃ１’から工程１Ｃ２’の各反応により、本発明に係るアゾール誘導体（Ｖ’）を好適に製造することができる。さらに工程１Ｃ３’の反応により、アゾール誘導体（Ｖ’）からアゾール誘導体（ＩＶ’）を製造することができる。
【０２３６】
アゾール誘導体（ＩＶ’）は、下記一般式（Ｉａ’）で示されるアゾール誘導体（以下、アゾール誘導体（Ｉａ’）と称する）の製造中間体として好適に利用できる。
【０２３７】
【化２６】
2012169559.tif 000028
【０２３８】
（式（Ｉａ’）中、Ａ、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＡ、Ｘおよびｍと同一であり、Ｌは、ハロゲン原子を表しており、Ｒ１０は炭素数１〜３のアルキル基を表している。）
アゾール誘導体（Ｉａ’）は、化合物（Ｉａ）の一態様であり、植物に病害を引き起こす多くの菌に対して優れた殺菌作用を有する新規アゾール誘導体である。アゾール誘導体（Ｉａ’）は、化合物（Ｉａ）の一態様であるところ、上述の工程１Ｂおよび１Ａを経て、アゾール誘導体（Ｖ’）から製造することができる。以下、スキーム２に従ってアゾール誘導体（ＩＶ’）からアゾール誘導体（Ｉａ’）を製造する方法について説明する。
【０２３９】
【化２７】
2012169559.tif 000029
【０２４０】
（工程１Ｂ’：閉環工程）
工程１Ｂの一態様である工程１Ｂ’では、アゾール誘導体（ＩＶ’）を閉環することにより、一般式（ＩＩＩａ’）で示されるアゾール誘導体（以下、アゾール誘導体（ＩＩＩａ’）と称する）を得る。
【０２４１】
アゾール誘導体（ＩＩＩａ’）の好適な合成方法としては、アゾール誘導体（ＩＶ’）を、溶媒中、スルホニルクロライド類と塩基存在下で反応させる方法を挙げることができる。
【０２４２】
スルホニルクロライド類としては、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、メタンスルホニルクロライド等を用いることができる。
【０２４３】
また、塩基は特に限定されるものではない。塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等の金属水素化合物やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、およびカリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド等を好適に用いることができる。
【０２４４】
スルホニルクロライド類の使用量は、アゾール誘導体（ＩＶ’）に対して１〜２倍モルであることが好ましい。塩基の使用量は、アゾール誘導体（ＩＶ’）に対して２．５〜１０倍モルであることが好ましく、２．８〜６倍モルであることがより好ましい。
【０２４５】
溶媒は特に限定されるものではなく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類、ジメチルスルホキシドならびにこれらの混合溶媒を用いることができる。
【０２４６】
反応温度は、溶媒、アゾール誘導体（ＩＶ’）、スルホニルクロライド類および塩基等の種類によって適宜設定することができ、例えば−１００℃〜２００℃であり、好適には−５０℃〜１５０℃である。反応時間は、溶媒、アゾール誘導体（ＩＶ’）、スルホニルクロライド類および塩基等の種類によって適宜設定することができ、例えば０．１時間〜数日であり、好適には０．５時間〜２日である。
【０２４７】
（工程１Ａ１’：アルキル化工程）
工程１Ａ１の一態様である工程１Ａ１’では、アゾール誘導体（ＩＩＩａ’）をアルキル化して、一般式（ＩＩａ’）で示されるアゾール誘導体（以下、アゾール誘導体（ＩＩａ’）と称する）を得る。
【０２４８】
一般式（ＩＩａ’）中、Ｒ１０は、炭素数１〜３のアルキル基を表している。具体的には、メチル基、エチル基、１−メチルエチル基、およびｎ−プロピル基を挙げることができる。
【０２４９】
アゾール誘導体（ＩＩＩａ’）をアルキル化する方法としては、例えば、溶媒中において、アゾール誘導体（ＩＩＩａ’）のヒドロキシ基とアルカリ金属塩基とから調製される金属アルコキシドを、脱離基を有する炭素数１〜３のアルキルと室温にて反応させる方法を挙げることができる。
【０２５０】
溶媒としては、ＴＨＦなどのエーテル系の溶媒、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類の溶媒、ベンゼンおよびトルエン等の芳香族系の溶媒、ならびに塩化メチレン等のハロゲン化物の溶媒を好適に用いることができる。
【０２５１】
脱離基を有するアルキルとしては、ヨウ化物および臭化物等のハロゲン化アルキル、ならびにトシルオキシアルキルおよびメシルオキシアルキル等のスルホン酸エステルを挙げることができる。
【０２５２】
アルカリ金属塩基としては、ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムを挙げることができる。
【０２５３】
（工程１Ａ２’：開環工程）
工程１Ａ２の一態様である工程１Ａ２’では、アゾール誘導体（ＩＩａ’）を開環して、アゾール誘導体（Ｉａ’）を得る。例えば、アゾール誘導体（ＩＩａ’）とハロゲン酸とを溶媒中で混合し、開環反応を行うことにより、ハロゲン化アルキル基と３級ヒドロキシ基とを生成することでアゾール誘導体（Ｉａ’）を好適に製造することができる。
【０２５４】
ハロゲン酸としては、フッ化水素、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素を挙げることができる。なかでも塩化水素および臭化水素が好適に用いられる。ハロゲン酸は、気体として導入してもよいし、溶媒に溶解させて添加してもよい。なお、ハロゲン化物塩と別種の酸（例えばトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸および硫酸等）とを添加することにより系内においてハロゲン酸を生成させて、アゾール誘導体（ＩＩａ’）からアゾール誘導体（Ｉａ’）を得るようにしてもよい。ハロゲン化物塩としては、塩化リチウム、臭化リチウム、フッ化リチウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、フッ化ナトリウム、塩化カリウム、臭化カリウムおよびフッ化カリウムを挙げることができる。
【０２５５】
溶媒は、特に限定されないが、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、メタノールおよびエタノール等のアルコール類、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類、ならびに水等を挙げることができる。
【０２５６】
反応温度は、溶媒および塩基等によって適宜設定することができ、例えば−２０℃〜２５０℃であり、好適には−１０℃〜１５０℃である。反応時間は、溶媒および塩基等によって適宜設定することができ、例えば０．１時間〜数日であり、好適には０．５時間〜２日である。
【０２５７】
以上のように、アゾール誘導体（ＩＶ’）はアゾール誘導体（Ｉａ’）の製造に好適に使用することができる。しかしながらアゾール誘導体（ＩＶ’）は、アゾール誘導体（Ｉａ’）の中間体化合物としての使用に限定されるものではない。例えば、アゾール誘導体（ＩＶ’）は、下記一般式（ＸＶＩ）で示されるアゾール誘導体の中間体としても好適に使用できる。アゾール誘導体（ＸＶＩ）もまた、植物に病害を引き起こす多くの菌に対して優れた殺菌作用を有する新規アゾール誘導体である。
【０２５８】
【化２８】
2012169559.tif 000030
【０２５９】
（式（ＸＶＩ）中、Ａ、Ｘおよびｍは、それぞれ式（Ｖ’）におけるＡ、Ｘおよびｍと同一であり、Ｌは、ハロゲン原子を表している。）
上述のとおり、アゾール誘導体（Ｖ’）も植物に病害を引き起こす菌に対して優れた殺菌活性を有する。したがって、アゾール誘導体（Ｖ’）を農園芸用薬剤の有効成分として使用することができる。アゾール誘導体（Ｖ’）を含む農園芸用薬剤は種子処理によるコムギの茎葉病害および種子病害防除に特に有用である。アゾール誘導体（Ｖ’）を農園芸用薬剤の有効成分として適用するには、他の何らかの成分も加えずそのままでもよいが、通常は固体担体または液体担体、界面活性剤およびその他の製剤補助剤等と混合して粉剤、水和剤、粒剤および乳剤などの種々の形態に製剤して使用する。担体および助剤は、特に限定されず、農園芸用薬剤に従来用いられている担体および助剤を適宜選択して用いることができ、例えば後述する担体および助剤を用いることができる。また、その混合比も広い範囲で選択でき、後述の実施例における比に限定されるものではない。また、アゾール誘導体（Ｖ’）を含む農園芸用薬剤により種子処理された種子についても本発明に包含される。
【０２６０】
（４）化合物（Ｉ）の第二製造方法
（４−１）工程２Ａ
次いで、本発明に係るアゾール誘導体の第二製造方法について説明する。
【０２６１】
工程２Ａでは、本発明に係るアゾール誘導体のうち、下記一般式（Ｉｂ）で示される化合物（以下、「化合物（Ｉｂ）」）が製造される。以下、工程２Ａによる化合物（Ｉｂ）の製造方法について説明する。
【０２６２】
【化２９】
2012169559.tif 000031
【０２６３】
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ｍ、Ａ、およびｎ１は、上述した通りである。
【０２６４】
化合物（Ｉｂ）の製造方法は、化合物（ＩＩＩａ）を縮合剤でチオエーテル化する工程と、得られた下記一般式（ＩＩｂ）で示される化合物を任意のハロゲン酸と反応させ、酸素原子を含むヘテロ環を開環することにより、化合物（Ｉｂ）を得る工程と、を含む（工程２Ａ：下記反応式（７）参照）。
反応式（７）
【０２６５】
【化３０】
2012169559.tif 000032
【０２６６】
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ｍ、Ａ、ｎ１、およびｎ２は、上述した通りである。
【０２６７】
（４−１−１）工程２Ａ１（チオエーテル化工程）
本工程２Ａにおいて、化合物（ＩＩＩａ）を縮合して、チオエーテル化することにより化合物（ＩＩｂ）を得る工程（工程２Ａ１）についてより詳細に説明する。なお、化合物（ＩＩＩａ）を得る方法については、上述した化合物（Ｉ）の第一製造方法において説明した方法と同様の方法を採用することができる。
【０２６８】
縮合の方法としては特に限定されないが、酸触媒または縮合剤を用い、アルキルチオール（Ｒ１ＳＨ）で化合物（ＩＩＩａ）におけるヒドロキシ基をチオエーテルする方法を好適に用いることができる。
【０２６９】
酸触媒としては、硫酸および塩酸等の酸水溶液、ならびに蟻酸および酢酸等の有機酸を好適に用いることができる。また、縮合剤としては、ＤＣＣを好適に用いることができる。
【０２７０】
（４−１−２）工程２Ａ２（開環工程）
本工程２Ａで用いられる化合物（ＩＩｂ）を開環して化合物（Ｉｂ）を得る工程（工程２Ａ２）については、上述した工程１Ａ２において、化合物（ＩＩａ）の代わりに化合物（ＩＩｂ）を用い、化合物（ＩＩｂ）を開環して化合物（Ｉｂ）を得るという点以外は、化合物（Ｉａ）を得る工程と同様にして行うことができる。
【０２７１】
また、化合物（ＩＩＩａ）は、上述した工程１Ｂ、工程１Ｃ、および工程１Ｄにより得ることができる。
【０２７２】
（５）化合物（Ｉ）の第三製造方法
（５−１）工程３Ａ
次に、本発明に係るアゾール誘導体の第三製造方法について説明する。
【０２７３】
工程３Ａでは、上述した工程２Ａと同様に、本発明に係るアゾール誘導体のうち、化合物（Ｉｂ）が製造される。以下、工程３Ａによる化合物（１ｂ）の製造方法について説明する。
【０２７４】
化合物（Ｉｂ）の製造方法は、化合物（ＩＩＩａ）をハロゲン化する工程と、得られたハロゲン化化合物（ＩＩＩｂ）をチオエーテル化する工程と、チオエーテル化により得られた化合物（ＩＩｂ）の酸素原子を含むヘテロ環を、任意のハロゲン酸を用いて開環することにより、化合物（Ｉｂ）を得る工程と、を含む（工程３Ａ：下記反応式（８）参照）。
反応式（８）
【０２７５】
【化３１】
2012169559.tif 000033
【０２７６】
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ｍ、Ａ、ｎ１、およびｎ２は、上述した通りである。
【０２７７】
（５−１−１）工程３Ａ１（ハロゲン化工程）
本工程３Ａにおいて、化合物（ＩＩＩａ）をハロゲン化することにより化合物（ＩＩＩｂ）を得る工程（工程３Ａ１）についてより詳細に説明する。なお、化合物（ＩＩＩａ）を得る方法については、上述した化合物（Ｉ）の第一製造方法において説明した方法と同様の方法を採用することができる。
【０２７８】
ハロゲン化の方法としては特に限定されないが、塩酸、塩化チオニル、および臭化水素水等を用いる方法を挙げることができる。
【０２７９】
（５−１−２）工程３Ａ２（チオエーテル化工程）
本工程３Ａにおいて、化合物（ＩＩＩｂ）をチオエーテル化反応することにより化合物（ＩＩｂ）を得る工程（工程３Ａ２）について説明する。
【０２８０】
チオエーテル化反応の方法としては特に限定されないが、塩基触媒存在下、アルキルチオール（Ｒ１ＳＨ）で化合物（ＩＩＩａ）におけるヒドロキシ基をチオエーテル化する方法を好適に用いることができる。
【０２８１】
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび炭酸カリウム等の無機塩基、ならびにトリエチルアミンおよびピリジン等の有機塩基を用いることができる。
【０２８２】
（５−１−３）工程３Ａ３（開環工程）
化合物（ＩＩｂ）を開環して化合物（Ｉｂ）を得る工程（工程３Ａ３）については、工程１Ａ２において、化合物（ＩＩａ）の代わりに化合物（ＩＩｂ）を用い、化合物（ＩＩｂ）を開環して化合物（Ｉｂ）を得るという点以外は、上述した工程１Ａ２において化合物（ＩＩａ）を開環して化合物（Ｉａ）を得る工程と同様にして行うことができる。
【０２８３】
また、化合物（ＩＩＩａ）は、上述した工程１Ｂ、工程１Ｃ、および工程１Ｄにより得ることができる。
【０２８４】
（６）化合物（Ｉ）の第四製造方法
（６−１）工程４Ａ
次に、本発明に係るアゾール誘導体の第四製造方法について説明する。
【０２８５】
工程４Ａでは、本発明に係るアゾール誘導体のうち、下記一般式（Ｉｃ）で示される化合物（以下「化合物（Ｉｃ）」）が製造される。以下、工程４Ａによる化合物（Ｉｃ）の製造方法について説明する。
【０２８６】
【化３２】
2012169559.tif 000034
【０２８７】
化合物（Ｉｃ）の製造方法は、化合物（ＩＩＩａ）を置換スルホニルクロライドと反応させてスルホニル化する工程と、スルホニル化により得られた下記一般式（ＩＩＩｃ）で示される化合物をアミノ化する工程と、アミノ化により得られた下記一般式（ＩＩｃ）で示される化合物の酸素原子を含むヘテロ環を任意のハロゲン酸を用いて開環することにより、化合物（Ｉｃ）を得る工程と、を含む（工程４Ａ：下記反応式（９）参照）。
反応式（９）
【０２８８】
【化３３】
2012169559.tif 000035
【０２８９】
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、ｍ、Ａ、ｎ１、およびｎ２は、上述した通りである。
【０２９０】
Ｒ５は低級アルキル基、フェニル基またはナフチル基を示す。低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、およびトリフルオロメチル基を挙げることができる。フェニル基およびナフチル基は、１以上の水素原子が置換されていてもよい。置換されているフェニル基あるいはナフチル基としては、例えば４−メチルフェニル基、２−ニトロフェニル基、および５−ジメチルアミノナフチル基を挙げることができる。Ｒ５としては、これらの中でも、メチル基、または４−メチルフェニル基であることが好ましい。
【０２９１】
（６−１−１）工程４Ａ１（スルホニル化工程）
まず、本工程４Ａにおいて、化合物（ＩＩＩａ）と置換スルホニルクロリドとを反応させることにより、スルホニル化した化合物（ＩＩＩｃ）を得る工程（工程４Ａ１）について説明する。なお、化合物（ＩＩＩａ）を得る方法については、上述した化合物（Ｉ）の第一製造方法において説明した方法と同様の方法を採用することができる。
【０２９２】
スルホニル化の方法としては特に限定されないが、化合物（ＩＩＩａ）におけるヒドロキシ基を置換スルホニルクロリドと塩基存在下反応させて置換スルホン酸エステルとする方法を挙げることができる。置換スルホニルクロリドとしては、ｐ−トルエンスルホニルクロライドおよびメタンスルホニルクロライド等をあげることができる。
【０２９３】
（６−１−２）工程４Ａ２（アミノ化工程）
次に、工程４Ａ１において得られた化合物（ＩＩＩｃ）をアミノ化することにより化合物（ＩＩｃ）を得る工程（工程４Ａ２）について説明する。
【０２９４】
アミノ化の方法としては、特に限定されるものではないが、アルキルアミンと反応させる方法を挙げることができる
また、化合物（ＩＩｃ）については、化合物（ＩＩＩａ）をハロゲン化する工程と、得られた化合物（ＩＩＩｂ）をアミノ化する工程とを含む方法により得ることもできる（下記反応式（１０）参照）。
反応式（１０）
【０２９５】
【化３４】
2012169559.tif 000036
【０２９６】
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、ｍ、Ａ、ｎ１、およびｎ２は、上述した通りである。
【０２９７】
この方法において、化合物（ＩＩＩｂ）は、上述した工程３Ａ１と同様の方法により化合物（ＩＩＩａ）から得ることができる。また、化合物（ＩＩｃ）は、化合物（ＩＩＩｂ）のハロアルキル基をアルキルアミン（Ｒ１Ｒ３ＮＨ）と反応させる方法で製造することができる。
【０２９８】
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび炭酸カリウム等の無機塩基、ならびにトリエチルアミンおよびピリジン等の有機塩基を用いることができる。
【０２９９】
（６−１−３）工程４Ａ３（開環工程）
本工程４Ａで用いられる化合物（ＩＩｃ）を開環して化合物（Ｉｃ）を得る工程（工程４Ａ３）については、上述した工程１Ａ２において、化合物（ＩＩａ）の代わりに化合物（ＩＩｃ）を用い、化合物（ＩＩｃ）を開環して化合物（Ｉｃ）を得るという点以外は、上述した工程１Ａ２において化合物（ＩＩａ）を開環して化合物（Ｉａ）を得る工程と同様にして行うことができる。
【０３００】
また、化合物（ＩＩＩａ）は、上述した工程１Ｂ、工程１Ｃ、および工程１Ｄにより得ることができる。
【０３０１】
３．農園芸用薬剤・工業用材料保護剤
本発明に係るアゾール誘導体（化合物（Ｉ）参照）を有効成分として含む農園芸用薬剤および工業用材料保護剤（以下、「農園芸用薬剤等」ともいう）の有用性について以下に説明する。
【０３０２】
（１）植物病害防除効果
化合物（Ｉ）を有効成分として含む農園芸用薬剤は、広汎な植物病害に対して防除効果を呈する。適用病害の例としては、以下に示す病害を挙げることができる。
【０３０３】
ダイズさび病（Phakopsora pachyrhizi、Phakopsora meibomiae）、イネいもち病 (Pyricularia grisea)、イネごま葉枯病 (Cochliobolus miyabeanus)、イネ白葉枯病 (Xanthomonas oryzae)、イネ紋枯病 (Rhizoctonia solani)、イネ小黒菌核病(Helminthosporium sigmoideun)、イネばか苗病 (Gibberella fujikuroi)、イネ苗立枯病 (Pythium aphanidermatum)、リンゴうどんこ病 (Podosphaera leucotricha)、リンゴ黒星病 (Venturia inaequalis)、リンゴモリニア病 (Monilinia mali)、リンゴ斑点落葉病 (Alternaria alternata)、リンゴ腐乱病 (Valsa mali)、ナシ黒斑病 (Alternaria kikuchiana)、ナシうどんこ病(Phyllactinia pyri)、ナシ赤星病 (Gymnosporangium asiaticum)、ナシ黒星病 (Venturia nashicola)、ブドウうどんこ病 (Uncinula necator)、ブドウべと病 (Plasmopara viticola)、ブドウ晩腐病 (Glomerella cingulata)、オオムギうどんこ病 (Erysiphe graminis f. sp hordei)、オオムギ黒さび病 (Puccinia graminis)、オオムギ黄さび病 (Puccinia striiformis)、オオムギ斑葉病 (Pyrenophora graminea)、オオムギ雲形病 (Rhynchosporium secalis)、コムギうどんこ病 (Erysiphe graminis f. sp tritici)、コムギ赤さび病(Puccinia recondita)、コムギ黄さび病 (Puccinia striiformis)、コムギ眼紋病 (Pseudocercosporella herpotrichoides)、コムギ赤かび病 (Fusarium graminearum、Microdochium nivale)、コムギふ枯病 (Phaeosphaeria nodorum)、コムギ葉枯病(Septoria tritici)、ウリ類うどんこ病 (Sphaerotheca fuliginea)、ウリ類の炭疸病 (Colletotrichum lagenarium)、キュウリべと病(Pseudoperonospora cubensis)、キュウリ灰色疫病 (Phytophthora capsici)、トマトうどんこ病 (Erysiphe cichoracearum)、トマト輪紋病 (Alternaria solani)、ナスうどんこ病 (Erysiphe cichoracearum)、イチゴうどんこ病 (Sphaerotheca humuli)、タバコうどんこ病 (Erysiphe cichoracearum)、テンサイ褐斑病(Cercospora beticola)、トウモロコシ黒穂病 (Ustillaga maydis)、核果類果樹の灰星病 (Monilinia fructicola)、種々の作物をおかす灰色かび病(Botrytis cinerea)、菌核病 (Sclerotinia sclerotiorum) 等。このうち、特にコムギの重要病害であるコムギ葉枯病 (Septoria tritici)。
【０３０４】
また、適用植物の例としては、野生植物、植物栽培品種、異種交配もしくは原形質融合などの従来の生物育種によって得られる植物および植物栽培品種、遺伝子操作によって得られる遺伝子組み換え植物および植物栽培品種を挙げることができる。遺伝子組み換え植物および植物栽培品種としては、例えば、除草剤耐性作物、殺虫性タンパク産生遺伝子を組み込んだ害虫耐性作物、病害に対する抵抗性誘導物質産生遺伝子を組み込んだ病害耐性作物、食味向上作物、収量向上作物、保存性向上作物、および収量向上作物等を挙げることができる。遺伝子組み換え植物栽培品種としては、具体的に、ROUNDUP READY、LIBERTY LINK、CLEARFIELD、YIELDGARD、HERCULEX、BOLLGARD等の登録商標を含むものを挙げることができる。
【０３０５】
（２）植物生長作用
また、化合物（Ｉ）を有効成分として含む農園芸用薬剤は、広汎な作物および園芸植物に対して、その成長を調節して収量を増加させる効果およびその品質を高める効果を示す。かかる作物の例としては、以下に示す作物を挙げることができる。
【０３０６】
コムギ・大麦・燕麦などの麦類、稲、ナタネ、サトウキビ、トウモロコシ、メイズ、大豆、エンドウ、落花生、シュガービート、キャベツ、ニンニク、ダイコン、ニンジン、リンゴ、ナシ、みかん、オレンジ、レモンなどの柑橘類、モモ、桜桃、アボガド、マンゴー、パパイヤ、トウガラシ、キュウリ、メロン、イチゴ、タバコ、トマト、ナス、芝、菊、ツツジ、その他の観賞用植物。
【０３０７】
（３）工業材料保護効果
さらに、化合物（Ｉ）を有効成分として含む工業用材料保護剤は、工業材料を侵す広汎な有害微生物から材料を保護する優れた効果を示す。かかる微生物の例としては、以下に示す微生物を挙げることができる。
【０３０８】
紙・パルプ劣化微生物（スライム形成菌を含む）であるアスペルギルス（Aspergillus sp.）、トリコデルマ（Trichoderma sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、ジェオトリカム（Geotrichum sp.）、ケトミウム（Chaetomium sp.）、カドホーラ（Cadophora sp.）、セラトストメラ（Ceratostomella sp.）、クラドスボリウム（Cladosporium sp.）、コーティシウム（Corticium sp.）、レンティヌス（Lentinus sp.）、レンズィテス（Lenzites sp.）、フォーマ（Phoma sp.）、ポリスティクス（Polysticus sp.）、プルラリア（Pullularia sp.）、ステレウム（Stereum sp.）、トリコスポリウム（Trichosporium sp.）、アエロバクタ−（Aerobacter sp.）、バシルス（Bacillus sp.）、デスルホビブリオ（Desulfovibrio sp.）、シュードモナス（Pseudomonas sp.）、フラボバクテリウム（Flavobacterium sp.）、ミクロコツカス（Micrococcus sp.）など、繊維劣化微生物であるアスペルギルスAspergillus sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、ケトミウム（Chaetomium sp.）、ミロテシウム（Myrothecium sp.）、クルブラリア（Curvularia sp.）、グリオマスティックス、（Gliomastix sp.）、メンノニエラ（Memnoniella sp.）、サルコポディウム（Sarcopodium sp.）、スタキボトリス（Stschybotrys sp.）、ステムフィリウム（Stemphylium sp.）、ジゴリンクス（Zygorhynchus sp.）、バシルス（bacillus sp.）、スタフィロコッカス（Staphylococcus sp.）など、木材変質菌であるオオウズラタゲ（Tyromyces palustris）、カワラタケ（Coriolus versicolor）、アスペルギルス（Aspergillus sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、リゾプス（Rhizopus sp.）、オーレオバシディウム（Aureobasidium sp.）、グリオクラデイウム（Gliocladum sp.）、クラドスポリウム（Cladosporium sp.）、ケトミウム（Chaetomium sp.）、トリコデルマ（Trichoderma sp.）など、皮革劣化微生物であるアスペルギルス（Aspergillus sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、ケトミウム（Chaetomium sp.）、クラドスポリウム(Cladosporium sp.）、ムコール（Mucor sp.）、パエシロミセス（Paecilomyces sp.）、ピロブス（Pilobus sp.）、プルラリア（Pullularia sp.）、トリコスポロン（Trichosporon sp.）、トリコテシウム（Tricothecium sp.）など、ゴム・プラスチック劣化微生物であるアスペルギルス（Aspergillus sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、リゾプス（Rhizopus sp.）、トリコデルマ（Trichoderma sp.）、ケトミウム（Chaetomium sp.）、ミロテシウム（Myrothecium sp.）、ストレプトマイセス（Streptomyces sp.）、シュードモナス（Pseudomonas sp.）、バシルス（Bacillus sp.）、ミクロコツカス（Micrococcus sp.）、セラチア（Serratia sp.）、マルガリノマイセス（Margarinomyces sp.）、モナスクス（Monascus sp.）など、塗料劣化微生物であるアスペルギルス（Aspergillus sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、クラドスポリウム（Cladosporium sp.）、オーレオバシディウム（Aureobasidium sp.）、グリオクラディウム（Gliocladium sp.）、ボトリオディプロディア（Botryodiplodia sp.）、マクロスポリウム（Macrosporium sp.）、モニリア（Monilia sp.）、フォーマ（Phoma sp.）、プルラリア（（Pullularia sp.）、スポロトリカム（Sporotrichum sp.）、トリコデルマ（Trichoderma sp.）、バシルス（（bacillus sp.）、プロテウス（Proteus sp.）、シュードモナス（Pseudomonas sp.）、セラチア（Serratia sp.）。
【０３０９】
（４）製剤
（農園芸用薬剤）
化合物（Ｉ）を有効成分として含む農園芸用製剤は、化合物（Ｉ）以外にも種々の成分を含んでいてもよい。例えば、化合物（Ｉ）を有効成分として含む農園芸用製剤は、固体担体、液体担体、界面活性剤、およびその他の製剤補助剤をさらに含んでいてもよい。化合物（Ｉ）を有効成分として含む農園芸用製剤の剤型としては、粉剤、水和剤、粒剤、および乳剤などの種々の形態を挙げることができる。
【０３１０】
農園芸用製剤には、有効成分としての化合物（Ｉ）が、製剤全量に対して、０．１〜９５重量％含まれていればよい。有効成分としての化合物（Ｉ）は、０．５〜９０重量％含まれていることが好ましく、２〜８０重量％含まれていることがより好ましい。
【０３１１】
製剤補助剤として使用する坦体、希釈剤、および界面活性剤としては、以下のものを用いることができる。まず、固体坦体としては、タルク、カオリン、ベントナイト、珪藻土、ホワイトカーボン、およびクレーなどを挙げることができる。液体希釈剤としては、水、キシレン、トルエン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、およびアルコールなどを挙げることができる。界面活性剤は、その効果により使い分ければよい。例えば、乳化剤の場合には、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、またはポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートなどを用いればよく、分散剤の場合には、リグニンスルホン酸塩、またはジブチルナフタリンスルホン酸塩などを用いればよく、湿潤剤の場合には、アルキルスルホン酸塩、またはアルキルフェニルスルホン酸塩などを用いればよい。
【０３１２】
製剤は、そのまま使用してもよいし、水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用してもよい。希釈して使用するときには、散布液中において、化合物（Ｉ）の濃度が０．００１〜１．０％の範囲となることが望ましい。
【０３１３】
また、化合物（Ｉ）を含む農園芸用薬剤の使用量は、畑、田、果樹園および温室などの農園芸地１ｈａあたり、２０〜５０００ｇであり、より好ましくは５０〜２０００ｇである。これらの使用濃度および使用量は剤形、使用時期、使用方法、使用場所、および対象作物等によっても異なるため、上記の範囲にこだわることなく増減することが可能である。
【０３１４】
さらに、本発明に係る農園芸用薬剤は、化合物（Ｉ）以外の有効成分、例えば以下に例示するような殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、および除草剤と組み合わせ、農園芸用薬剤としての性能を高めて使用することもできる。
【０３１５】
＜抗菌性物質＞
アシベンゾラーＳメチル、２−フェニルフェノール（ＯＰＰ）、アザコナゾール、アゾキシストロビン、アミスルブロム、ビキサフェン、ベナラキシル、ベノミル、ベンチアバリカルブ−イソプロピル、ビカルボネイト、ビフェニル、ビテルタノール、ブラスチシジン−Ｓ、ボラックス、ボルドー液、ボスカリド、ブロムコナゾール、ブロノポール、ブピリメート、セックブチラミン、カルシウムポリスルフィド、カプタフォル、キャプタン、カルベンダジム、カルボキシン、カルプロパミド、キノメチオネート、クロロネブ、クロロピクリン、クロロタロニル、クロゾリネート、シアゾファミド、シフルフェナミド、シモキサニル、シプロコナゾール、シプロジニル、ダゾメット、デバカルブ、ジクロフルアニド、ジクロシメット、ジクロメジン、ジクロラン、ジエトフェンカルブ、ジフェノコナゾール、ジフルメトリン、ジメトモルフ、ジメトキシストロビン、ジニコナゾール、ジノカップ、ジフェニルアミン、ジチアノン、ドデモルフ、ドジン、エディフェンフォス、エポキシコナゾール、エタポキサム、エトキシキン、エトリジアゾール、エネストロブリン、ファモキサドン、フェナミドン、フェナリモル、フェンブコナゾール、フェンフラム、フェンヘキサミド、フェノキサニル、フェンピクロニル、フェンプロピジン、フェンプロピモルフ、フェンチン、フェルバム、フェリムゾン、フルアジナム、フルジオキソニル、フルモルフ、フルオロミド、フルオキサストロビン、フルキンコナゾール、フルシラゾール、フルスルファミド、フルトラニル、フルトリアフォル、フォルペット、フォセチル−アルミニウム、フベリダゾール、フララキシル、フラメトピル、フルオピコリド、フルオピラム、グアザチン、ヘキサクロロベンゼン、ヘキサコナゾール、ヒメキサゾール、イマザリル、イミベンコナゾール、イミノクタジン、イプコナゾール、イプロベンフォス、イプロジオン、イプロバリカルブ、イソプロチオラン、イソピラザム、イソチアニル、カスガマイシン、銅調製物例えば水酸化銅、ナフテン酸銅、オキシ塩化銅、硫酸銅、酸化銅、オキシン−銅、クレゾキシムメチル、マンコカッパー、マンコゼブ、マネブ、マンジプロパミド、メパニピリム、メプロニル、メタラキシル、メトコナゾール、メチラム、メトミノスウトロビン、ミルジオマイシン、ミクロブタニル、ニトロタル−イソプロピル、ヌアリモル、オフレース、オキサジキシル、オキソリニック酸、オキスポコナゾール、オキシカルボキシン、オキシテトラサイクリン、ペフラゾエート、オリサストロビン、ペンコナゾール、ペンシクロン、ペンチオピラド、ピリベンカルブ、フサライド、ピコキシストロビン、ピペラリン、ポリオキシン、プロベナゾール、プロクロラズ、プロシミドン、プロパモカルブ、プロピコナゾール、プロピネブ、プロキナジド、プロチオコナゾール、ピラクロストロビン、ピラゾフォス、ピリフェノックス、ピリメタニル、ピロキロン、キノキシフェン、キントゼン、シルチオファム、シメコナゾール、スピロキサミン、硫黄および硫黄調製物、テブコナゾール、テクロフタラム、テクナゼン、テトラコナゾール、チアベンダゾール、チフルザミド、チオファネート−メチル、チラム、チアジニル、トルクロフォス−メチル、トリルフルアニド、トリアジメフォン、トリアジメノール、トリアゾキシド、トリシクラゾール、トリデモルフ、トリフロキシストロビン、トリフルミゾール、トリホリン、トリチコナゾール、バリダマイシン、ビンクロゾリン、ジネブ、ジラム、ゾキサミド、アミスルブロム、セダキサン、フルチアニル、バリフェナール、アメトクトラジン、ジモキシストロビン、メトラフェノン、ヒドロキシイソキサゾール、ならびにメタスルホカルブ等。
【０３１６】
＜殺虫剤／殺ダニ剤／殺線虫剤＞
アバメクチン、アセフェート、アクリナトリン、アラニカルブ、アルジカルブ、アレトリン、アミトラズ、アベルメクチン、アザジラクチン、アザメチフォス、アジンフォス−エチル、アジンフォス−メチル、アゾサイクロチン、バシルス・フィルムス、バシルス・ズブチルス、バシルス・ツリンジエンシス、ベンジオカルブ、ベンフラカルブ、ベンスルタップ、ベンゾキシメイト、ビフェナゼイト、ビフェントリン、ビオアレトリン、ビオレスメトリン、ビストリフルロン、ブプロフェジン、ブトカルボキシン、ブトキシカルボキシン、カズサフォス、カルバリル、カルボフラン、カルボスルファン、カータップ、ＣＧＡ ５０４３９、クロルデイン、クロレトキシフォス、クロルフェナピル、クロルフェンビンフォス、クロルフルアズロン、クロルメフォス、クロルピリフォス、クロルピリフォスメチル、クロマフェノザイド、クロフェンテジン、クロチアニジン、クロラントラリニプロール、コウンパフォス、クリオライト、シアノフォス、シクロプロトリン、シフルトリン、シハロトリン、シヘキサチン、シペルメトリン、シフェノトリン、シロマジン、シアザピル、シエノピラフェン、ＤＣＩＰ、ＤＤＴ、デルタメトリン、デメトン−Ｓ−メチル、ジアフェンチウロン、ジアジノン、ジクロロフェン、ジクロロプロペン、ジクロルボス、ジコフォル、ジクロトフォス、ジシクラニル、ジフルベンズロン、ジメトエート、ジメチルビンフォス、ジノブトン、ジノテフラン、エマメクチン、エンドスルファン、ＥＰＮ、エスフェンバレレート、エチオフェンカルブ、エチオン、エチプロール、エトフェンプロックス、エトプロフォス、エトキサゾール、ファムフル、フェナミフォス、フェナザキン、フェンブタチンオキシド、フェニトロチオン、フェノブカルブ、フェノチオカルブ、フェノキシカルブ、フェンプロパトリン、フェンピロキシメート、フェンチオン、フェンバレレート、フイプロニル、フロニカミド、フルアクロピリム、フルシクロクスロン、フルシトリネート、フルフェノクスロン、フルメトリン、フルバリネート、フルベンジアミド、フォルメタネート、フォスチアゼート、ハルフェンプロクス、フラチオカルブ、ハロヘノジド、ガンマ−ＨＣＨ、ヘプテノフォス、ヘキサフルムロン、ヘキシチアゾックス、ヒドラメチルノン、イミダクロプリド、イミプロトリン、インドキサカルブ、イソプロカルブ、イソキサチオン、ルフェヌロン、マラチオン、メカルバム、メタム、メタミドフォス、メチダチオン、メチオカルブ、メトミル、メトプレン、メトスリン、メトキシフェノジド、メトルカルブ、ミルベメクチン、モノクロトフォス、ナレド、ニコチン、ニテンピラム、ノバルロン、ノビフルムロン、オメトエート、オキサミル、オキシデメトンメチル、パラチオン、パーメトリン、フェントエート、フォレート、フォサロン、フォスメット、フォスファミドン、フォキシム、ピリミカルブ、ピリミフォスメチル、プロフェノフォス、プロポクスル、プロチオフォス、ピメトロジン、ピラクロフォス、ピレスリン、ピリダベン、ピリダリル、ピリミジフェン、ピリプロキシフェン、ピリフルキナゾン、ピリプロール、キナルフォス、シラフルオフェン、スピノサド、スピロジクロフェン、スピロメシフェン、��ピロテトラマット、スルフラミド、スルフォテップ、ＳＺＩ−１２１、テブフェノジド、テブフェンピラド、テブピリムフォス、テフルベンズロン、テフルトリン、テメフォス、テルブフォス、テトラクロルビンフォス、チアクロプリド、チアメトキサム、チオジカルブ、チオファノックス、チオメトン、トルフェンピラド、トラロメトリン、トラロピリル、トリアザメート、トリアゾフォス、トリクロルフオン、トリフルムロン、バミドチオン、バリフェナール、ＸＭＣ、キシリルカルブ、イミシアホス、およびレピメクチン等。
【０３１７】
＜植物成長調節剤＞
アンシミドール、６−ベンジルアミノプリン、パクロブトラゾール、ジクロブトラゾール、ウニコナゾール、メチルシクロプロペン、メピコートクロリド、エセフォン、クロルメコートクロライド、イナベンフィド、プロヘキサジオンおよびその塩、ならびにトリネキサパックエチル等。また、植物ホルモンとしてのジャスモン酸、ブラシノステロイドおよびジベレリン等。
【０３１８】
（工業用材料保護剤）
また、化合物（Ｉ）を有効成分として含む工業用材料保護剤は、化合物（Ｉ）以外にも種々の成分を含んでいてもよい。化合物（Ｉ）を有効成分として含む工業用材料保護剤は、適当な液体担体に溶解あるいは分散させるか、または固体担体と混合して使用することができる。化合物（Ｉ）を有効成分として含む工業用材料保護剤は、必要に応じて、さらに乳化剤、分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、および安定剤等含んでいてもよい。また、化合物（Ｉ）を有効成分として含む工業用材料保護剤の剤型としては、水和剤、粉剤、粒剤、錠剤、ペースト剤、懸濁剤、および噴霧材などを挙げることができる。化合物（Ｉ）を有効成分として含む工業用材料保護剤は、他の殺菌剤、殺虫剤、および劣化防止剤等を含んでいてもよい。
【０３１９】
液体担体としては、有効成分と反応しないものであれば特に限定されるものではない。液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、エチレングリコール、およびセロソルブ等）、ケトン類（例えば、アセトン、およびメチルエチルケトンなど）、エーテル類（例えばジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジオキサン、およびテトラヒドロフラン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、およびメチルナフタレン等）、脂肪族炭化水素類（例えばガソリン、ケロシン、灯油、機械油、および燃料油等）、酸アミド類（例えばジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチルピロリドン等）ハロゲン化炭化水素類（例えば、クロロホルム、および四塩化炭素等）、エステル類（例えば、酢酸エチルエステル、および脂肪酸のグリセリンエステル等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル等）およびジメチルスルホキシド等を挙げることができる。
【０３２０】
また、固体担体としては、カオリンクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石、尿素、および硫酸アンモニウム等の微粉末あるいは粒状物を使用できる。
【０３２１】
乳化剤および分散剤としては、石鹸類、アルキルスルホン酸、アルキルアリールスルホン酸、ジアルキルスルホコハク酸、第４級アンモニウム塩、オキシアルキルアミン、脂肪酸エステル、ならびにポリアルキレンオキサイド系およびアンヒドロソルビトール系等の界面活性剤を使用できる。
【０３２２】
化合物（Ｉ）を有効成分として製剤中に含有させる場合、その含有割合は、剤型および使用目的によっても異なるが、製剤の全量に対して、０．１〜９９．９質量％とすればよい。なお、実際の使用時においては、その処理濃度は、例えば０．００５〜５質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように適宜、溶剤、希釈剤、および増量剤などを加えて調整することが好ましい。
【０３２３】
なお、農園芸用薬剤および工業用材料保護剤は、有効成分として化合物（Ｉ）の範囲に含まれる化合物を複数種含んでいてもよい。
【０３２４】
以上説明したように、化合物（Ｉ）で示されるアゾール誘導体は、植物病害を引き起こす多くの菌に対して優れた殺菌作用を示す。すなわち、化合物（Ｉ）で示されるアゾール誘導体を有効成分として含む農園芸用病害防除剤は、人畜に対する毒性が低く取扱い安全性に優れ、かつ広範な植物病害に対して高い防除効果を示すことができる。
【０３２５】
なお、化合物（Ｉ）は、１，２，４−トリアゾリル基またはイミダゾリル基を有するので、無機酸もしくは有機酸との酸付加塩、または金属錯体を形成する。化合物（Ｉ）は、これらの酸付加塩および金属錯体の形態で用いてもよい。
【０３２６】
また、化合物（Ｉ）には、少なくとも３個の不斉炭素が存在する。そのため、組成によっては立体異性体混合物（エナンチオマーまたはジアステレオマー）か、いずれかの一方の立体異性体となる。したがって、これらの立体異性体の少なくとも１種類を農園芸用薬剤等の有効成分として使用することもできる。
（付記事項）
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【実施例】
【０３２７】
以下、製造例、製剤例および試験例を示し、本発明を具体的に説明する。なお、本発明はその要旨を越えない限り以下の製造例、製剤例および試験例に限定されるものではない。
＜製造例１＞
（１ＲＳ，２ＲＳ，５ＳＲ）−５−（４−クロロベンジル）−２−クロロメチル−２−メトキシメチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（化合物番号Ｉ−１６ａ（アゾール誘導体（Ｉａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ３、Ｌ＝Ｃｌ、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）の異性体の型ＣＣ）の合成：（第一製造方法の工程１Ａ２による製造）
（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＲＳ）−４−（４−クロロベンジル）−１−メトキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ−［３，２，０］ヘプタン（化合物（ＩＩａ）、Ｒ１＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ、ｎ１＝１、ｎ２＝１、異性体の型ＣＣ；同様に、アゾール誘導体（ＩＩａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）１．３７ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２５ｍｌに溶解し、塩化リチウム２．２５ｇおよびｐ−トルエンスルホン酸１水和物１．１２ｇを加え、８０℃で２．２時間撹拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、微黄色粘稠液体を得たのち再結晶を行い、目的物を得た。
収率：７８％
上述した製造例１と同様の方法にて、以下の化合物も合成した。【０３２８】
（１ＲＳ，２ＲＳ，５ＲＳ）−５−（４−クロロベンジル）−２−クロロメチル−２−メトキシメチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（化合物番号Ｉ−１６ｂ（アゾール誘導体（Ｉａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ３、Ｌ＝Ｃｌ、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ））の異性体の型ＣＴ）
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.31-1.40(m, 1H), 1.55-1.66(m, 1H), 1.79-1.92(m, 2H), 2.22-2.28(m, 2H), 2.80(m,1H), 3.34(s, 3H), 3.49(s, 2H), 3.69(d, J=11.0Hz, 1H), 3.74(d, J=11.0Hz, 1H), 4.29 (s, 1H), 4.49(d,J=14.2Hz, 1H), 4.59(d, J=14.2Hz, 1H), 6.96(d, J=8.3Hz, 2H), 7.21 (d, J=8.5Hz, 2H), 8.00(s, 1H),8.23(s, 1H).
（１ＲＳ，２ＲＳ，５ＳＲ）−５−（４−フルオロベンジル）−２−クロロメチル−２−メトキシメチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（化合物番号Ｉ−１７０（アゾール誘導体（Ｉａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ３、Ｌ＝Ｃｌ、Ｘｍ＝４−Ｆ、Ａ＝Ｎ））
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.35-1.42(1H,m),1.53-1.60(2H,m),1.85-1.93(1H,m),2.32-2.35(1H,m),2.43(1H,dd,J=13. 6,4.3Hz),2.57(1H,dd,J=13.6,10.3Hz),3.04(1H,d,J=10.5Hz),3.39(3H,s),3.43(1H,d,J=10.4Hz), 3.47(1H,d,J=10.4Hz), 3.55(1H,d,J=10.5Hz), 4.23(1H,d,J=13.9Hz), 4.58(1H,d, 13.9Hz), 4.76(1H,s), 6.92-6.97 (2H,m), 7.06-7.09(2H,m), 7.98(1H,s), 8.12(1H,s)
（１ＲＳ，２ＲＳ，５ＳＲ）−５−ベンジル−２−クロロメチル−２−メトキシメチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（化合物番号Ｉ−１８７（アゾール誘導体（Ｉａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ３、Ｌ＝Ｃｌ、Ｘｍ＝無置換、Ａ＝Ｎ））
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.34-1.41(1H,m),1.57-1.65(2H,m),1.85-1.93(1H,m),2.37-2.39(1H,m),2.48(1H,dd,J=13. 5,4.3Hz),2.60(1H,dd,J=13.5,10.2Hz),3.02(1H,d,J=10.4Hz),3.39(3H,s),3.43(1H,d,J=10.5Hz), 3.46(1H,d,J=10.5Hz), 3.55(1H,d,J=10.4Hz), 4.23(1H,d,J=14.0Hz), 4.58(1H,d, 14.0Hz), 4.77(1H,s), 7.12-7.14(2H,d,J=7.0Hz), 7.18-7.28 (3H,m), 7.98(1H,s), 8.12 (1H,s)
（１ＲＳ，２ＲＳ，５ＳＲ）−５−（４−クロロベンジル）−２−クロロメチル−２−エトキシメチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（化合物番号Ｉ−４８（アゾール誘導体（Ｉａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ２ＣＨ３、Ｌ＝Ｃｌ、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ））
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.27(3H,t,J=7.0Hz),1.34-1.42(1H,m),1.48-1.66(2H,m),1.89(1H,ddd,J=13.4,10.9,6.1Hz),2.29-2.39(1H,m),2.45(1H,dd,J=13.6,3.6Hz),2.58(1H,dd,J=13.6,10.2Hz),3.06(1H,d,J=10.4Hz),3.44-3.59(4H,m),3.45(1H,d,J=10.4Hz),4.23(1H,d,J=13.9Hz),4.65(1H,d,J=13. 9Hz),4.76(1H,s),7.06(2H,d,J=8.4Hz),7.22(2H,d,J=8.4Hz),7.98(1H,s),8.18(1H,s).
（１ＲＳ，２ＲＳ，５ＳＲ）−５−（４−フルオロベンジル）−２−クロロメチル−２−エトキシメチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（化合物番号Ｉ−２２６（アゾール誘導体（Ｉａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ２ＣＨ３、Ｌ＝Ｃｌ、Ｘｍ＝４−Ｆ、Ａ＝Ｎ））
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.28(3H,t,J=7.0Hz),1.37-1.41(1H,m),1.53-1.62(2H,m),1.86-1.94(1H,m), 2.34-2.37(1H,m), 2.46(1H,dd,J=13.6,4.4Hz),2.58(1H,dd,J=13.6,10.3Hz),3.05(1H,d,J=10.4Hz),3.46 (1H,d,J=10.4Hz),3.50(1H,d,J=10.4Hz),3.53-3.58(3H,m),4.23(1H,d,J=13.9Hz),4.66(1H, d,J=13.9Hz),4.78(1H,s),6.93-6.97 (2H,m),7.07-7.10(2H,m),7.98(1H,s),8.19(1H,s).
（１ＲＳ，２ＲＳ，５ＳＲ）−５−ベンジル−２−クロロメチル−２−エトキシメチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（化合物番号Ｉ−２３４（アゾール誘導体（Ｉａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ２ＣＨ３、Ｌ＝Ｃｌ、Ｘｍ＝無置換、Ａ＝Ｎ））
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.28(3H,t,J=7.0Hz),1.34-1.41(1H,m),1.51-1.69(2H,m),1.86-1.94(1H,m),2.35-2.43(1H, m),2.52(1H,dd,J=13.4,4.3Hz),2.62(1H,dd,J=13.4,10.1Hz),3.04(1H,d,J=10.4Hz),3.45-3.66(5H,m),4.24(1H,d,J=13.9Hz),4.65(1H,d,J=13.9Hz),4.80(1H,s),7.13-7.20(3H,m),7.25-7.28(2H,m),7.98(1H,s),8.19(1H,s)
＜製造例２＞
同様の方法にて、以下の化合物も合成した。【０３２９】
（１ＲＳ，２ＲＳ，５ＳＲ）−５−（４−フルオロベンジル）−２−ブロモメチル−２−メトキシメチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（化合物番号Ｉ−１９８（アゾール誘導体（Ｉａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ３、Ｌ＝Ｂｒ、Ｘｍ＝４−Ｆ、Ａ＝Ｎ））
1H-NMR(CDCl3) δ＝
1.33-1.40(1H,m),1.50-1.60(2H,m),1.86-1.94(1H,m),2.36-2.38(1H,m),2.49(1H,dd,J=13. 6,4.5Hz),2.60(1H,dd,J=13.6,10.1Hz),2.86(1H,d,J=9.6Hz),3.40(3H,s),3.45-3.47(3H,m),4.22(1H,d,J=13.9Hz),4.58(1H,d,J=13.9Hz),4.86(1H,s),6.93-6.97(2H,m),7.07-7.11(2H,m),7.98(1H,s),8.11(1H,s).
（１ＲＳ，２ＲＳ，５ＳＲ）−５−ベンジル−２−ブロモメチル−２−メトキシメチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（化合物番号Ｉ−２０３（アゾール誘導体（Ｉａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ３、Ｌ＝Ｂｒ、Ｘｍ＝無置換、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.33-1.40(1H,m),1.54-1.65(2H,m),1.86-1.94(1H,m),2.39-2.42(1H,m),2.54(1H,dd,J=13. 5,4.5Hz),2.63(1H,dd,J=13.5,10.0Hz),2.84(1H,d,J=9.6Hz),3.39(3H,s),3.46-3.48(3H,m),4.23(1H,d,J=14.0Hz),4.57(1H,d,J=14.0Hz),4.88(1H,s),7.14-7.20(3H,m),7.25-7.29(2H,m),7.98(1H,s),8.11(1H,s).
＜製造例３＞
アゾール誘導体（ＩＩａ’）（Ｒ１０＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）の合成：（第一製造方法の工程１Ａ１による製造））
（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＲＳ）−４−（４−クロロベンジル）−１−ヒドロキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］−トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ−[３，２，０]ヘプタン（アゾール誘導体（ＩＩＩａ’）、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）５０．０ｍｇをＴＨＦ１．５ｍｌに溶解し、水素化ナトリウム７．２ｍｇを加え、室温で１５分間撹拌した。ここにヨードメタン０．０１１２ｍｌを加え、室温で１時間撹拌した後、５０℃で３時間撹拌した。さらにヨードメタン０．０１１２ｍｌを加えて同温度で５時間攪拌し、ヨードメタン０．０１１２ｍｌおよび水素化ナトリウム７．２ｍｇを加えて室温で１５時間および５０℃で４時間撹拌し、ヨードメタン０．０１１２ｍｌおよび水素化ナトリウム７．２ｍｇを加えてさらに１．５時間撹拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、目的物を得た。
収率：８１．３％
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.45-1.53(1H,m),1.57-1.64(1H,m),1.68-1.76(1H,m),1.81-1.94(2H,m),2.33(1H,dd,J=13. 5,4.0Hz),2.45(1H,dd,J=13.5,9.6Hz),3.34(1H,d,J=10.1Hz),3.38(3H,s),3.39(1H,d,J=10. 1Hz),4.14(1H,d,J=6.1Hz),4.48(1H,dd,J=6.1,1.3Hz),4.53(1H,d,J=14.8Hz),4.73(1H,d,J=14.8Hz),7.05(2H,d,J=8.4Hz),7.21(2H,d,J=8.4Hz),7.96(1H,s),8.16(1H,s).
上述した製造例３と同様の方法にて、以下の化合物も合成した。【０３３０】
（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＳＲ）−４−（４−クロロベンジル）−１−メトキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ−［３，２，０］ヘプタン（アゾール誘導体（ＩＩａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ、異性体の型ＣＴ）
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.57(dd, J=12.8, 6.4Hz, 1H), 1.67(dd,J=13.4, 6.2Hz, 1H), 1.97-2.01(m, 2H),2.14(dd,J=12.6,6.2Hz, 1H), 2.17(t-like, J=13.1Hz, 1H), 3.02(dd, J=13.1, 3.6Hz, 1H), 3. 36(d,J=10.0Hz, 1H), 3.42(s, 3H), 3.54(d, J=10.0Hz, 1H), 4.08(d, J=6.0Hz, 1H), 4. 49(d, J=6.0Hz, 1H),4.64(d, J=14.8Hz, 1H), 4.89(d, J=14.8Hz, 1H), 6.96(d, J=8.3Hz, 2H), 7.22(d, J=8.3Hz, 2H), 7.96(s,1H), 8.30(s, 1H).
（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＲＳ）−４−（４−フルオロベンジル）−１−メトキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ−［３，２，０］ヘプタン（アゾール誘導体（ＩＩａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｆ、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.48-1.53(1H,m), 1.61(1H,dd,J=13.4,5.6Hz), 1.71-1.74(1H,m), 1.81-1.90(2H,m), 2.36(1H,dd,J=13.5,3.7Hz), 2.46(1H,dd,J=13.5,9.5Hz), 3.35(1H,d,J=10.1Hz), 3.38(3H,s), 3.39(1H,d,J=10.1Hz), 4.15(1H,d,J=6.1Hz), 4.48(1H, dd,6.1,1.3Hz), 4.53(1H,d,14. 8Hz), 4.73(1H,d,J=14.8Hz), 6.91-6.96(2H,m), 7.06-7.10(2H,m), 7.96(1H,s), 8.15 (1H,s)
（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＲＳ）−４−ベンジル−１−メトキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ−［３，２，０］ヘプタン（アゾール誘導体（ＩＩａ’）、Ｒ１＝ＣＨ３、Ｘｍ＝無置換、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.45-1.51(1H,m), 1.61(1H,dd,J=13.1,5.6Hz), 1.75-1.79(1H,m), 1.88-1.94(2H,m), 2.45(1H,dd,J=13.4,4.4Hz), 2.52(1H,dd,J=13.4,8.8Hz), 3.35(1H,d,J=10. 0Hz), 3.37(3H,s), 3.42(1H,d,J=10.0Hz), 4.15(1H,d,J=6.1Hz), 4.47(1H,d,6.1Hz), 4.48(1H,d,14.8Hz), 4.70(1H,d,J=14.8Hz), 7.12-7.19(3H,m), 7.24-7.27(2H,m), 7.95(1H,s), 8.05(1H,s)
＜製造例４＞
同様の方法にて、以下の化合物も合成した。【０３３１】
（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＲＳ）−４−（４−フルオロベンジル）−１−エトキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ−［３，２，０］ヘプタン（アゾール誘導体（ＩＩａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ２ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｆ、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.23(3H,t,J=7.0Hz), 1.47-1.52(1H,m), 1.60(1H,dd,J=13.3,5.5Hz), 1.69-1.74(1H,m), 1.81-1.88(2H,m), 2.32(1H,dd,J=13.6,3.4Hz), 2.44(1H,dd,J=13.5,9.6Hz), 3.41(1H,d,J=10.2Hz), 3.44(1H,d,J=10.2Hz), 3.51(2H,qd, J=7.0,2.0Hz), 4.15(1H,d,J=6.0Hz), 4.53(1H,dd,J=6.0,1.2Hz), 4.54(1H,d,J=14.8Hz), 4.78(1H,d,J=14.8Hz), 6.91-6.96(2H,m), 7.06-7.10(2H,m), 7.96(1H,s), 8.17(1H,s).
（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＲＳ）−４−（４−クロロベンジル）−１−エトキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ−［３，２，０］ヘプタン（アゾール誘導体（ＩＩａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ２ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.23(3H,t,J=7.0Hz),1.44-1.52(1H,m),1.56-1.63(1H,m),1.67-1.76(1H,m),1.81-1.94(2H, m),2.30(1H,dd,J=13.4,3.9Hz),2.44(1H,dd,J=13.4,9.7Hz),3.42(1H,d,J=10.3Hz),3.43(1H,d,J=10.3Hz),3.50(2H,qd,J=7.0,2.0Hz),4.14(1H,d,J=6.0Hz),4.52(1H,dd,J=6.0,1.2Hz), 4.55(1H,d,J=14.8Hz),4.78(1H,d,J=14.8Hz),7.06(2H,d,J=8.4Hz),7.21(2H,d,J=8.4Hz),7. 95(1H,s),8.18(1H,s)
（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＲＳ）−４−ベンジル−１−エトキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ−［３，２，０］ヘプタン（アゾール誘導体（ＩＩａ’）、Ｒ１０＝ＣＨ２ＣＨ３、Ｘｍ＝無置換、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.22(3H,t,J=7.0Hz), 1.44-1.52(1H,m), 1.61(1H,dd,J=13.2,5.5Hz), 1.74-1.78(1H,m), 1.84-1.93(2H,m), 2.42(1H,dd,J=13.6,3.8Hz), 2.50(1H,dd,J=13.6,9.5Hz), 3.40(1H,d,J=10.1Hz), 3.47(1H,d,J=10.1Hz), 3.49-3.51(2H,m), 4.15(1H,d,J=6.0Hz), 4.50(1H,d,J=14.8Hz), 4.51(1H,d,J=6.0Hz), 4.76(1H,d,J=14.8Hz), 7.12-7.19(3H,m), 7.24-7.26(2H, m), 7.94(1H,s), 8.07(1H,s).
＜製造例５＞
アゾール誘導体（ＩＩＩａ’）（Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）の合成：（第一製造方法の工程１Ｃ２および工程１Ｂによる製造）
［第一製造方法の工程１Ｃ２による製造］
(ｃｉｓ，ｔｒａｎｓ混合)−２−（４−クロロベンジル）−８，８−ジメチル−１−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オール（アゾール誘導体（Ｖ’）、Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）３５９ｍｇを１０％塩化水素メタノール溶液に溶解し、室温で２３時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し残渣に水を加えた。この懸濁液に２ｍｏｌ/Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で１５分間撹拌した。結晶を濾取し、真空乾燥することで（１ＳＲ，５ＲＳ）−５−（４−クロロベンジル）−２，２−ビスヒドロキシメチル−１−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（アゾール誘導体（ＩＶ’）、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）２７１．１ｍｇを得た。収率８４．１％。
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.20-1.25(1H,m),1.43-1.61(5H,m),2.05-2.15(2H,m),2.40-2.48(1H,m),3.63(1H,d,J=11.2Hz),3.75(1H,d,J=14.0Hz),3.77(1H,d,J=14.0Hz),3.86(1H,d,J=11.2Hz),4.45(1H,d,J=14.3Hz),4.75(1H,d,J=14.3Hz),4.84(1H,brs),6.97(2H,d,J=8.4Hz),7.20(2H,d,J=8.4Hz),8.00(1H,s),8.24(1H,s).
［第一製造方法の工程１Ｂによる製造］
アゾール誘導体（ＩＶ’）（Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）３０．０ｍｇをテトラヒドロフラン０．９ｍｌに溶解し、氷浴で０℃に冷却した。この溶液に水素化ナトリウム８．２ｍｇを加え、０℃で１０分間撹拌した。さらにｐ−トルエンスルホニルクロライド１６．２ｍｇを加え、室温まで戻しながら２．５時間撹拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、目的物を得た。
収率：７１．６％
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.46-1.58(2H,m),1.79-1.96(3H,m),2.61(1H,dd,J=13.7,8.3Hz),2.67(1H,dd,J=13.7,6.4Hz),3.45(1H,dd,J=12.9,9.6Hz),3.94(1H,dd,J=12.9,3.1Hz),4.14(1H,d,J=6.3Hz),4.19(1H,d,J=6.3Hz),4.22(1H,d,J=15.0Hz),4.57(1H,dd,J=9.6,3.1Hz),4.68(1H,d,J=15.0Hz),7.01(2H,d,J=8.4Hz),7.25(2H,d,J=8.4Hz),7.70(1H,s),7.97(1H,s).
＜製造例６＞
同様の方法にて、以下の化合物も合成した。【０３３２】
（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＳＲ）−４−（４−クロロベンジル）−１−ヒドロキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ［３，２，０］ヘプタン（アゾール誘導体（ＩＩＩａ’）、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ、異性体の型ＣＴ）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.58-1.67(m, 2H), 2.09-2.19(m, 3H), 2.28(dd-like, J=13.3, 12.3Hz, 1H), 2.42(bs,1H), 2.97(dd-like, J=13.3, 4.1Hz, 1H), 3.60(d, J=4.4Hz, 2H), 4.06(d, J=6.2Hz, 1H), 4.26(d, J=6.2Hz,1H), 4.61(d, J=14.8Hz, 1H), 4.91(d, J=14.8Hz, 1H), 7.01(d, J=8.5Hz, 2H), 7.24(d, J=8.5Hz, 2H),7.99(s, 1H), 8.35(s, 1H).
１）（１ＳＲ，５ＲＳ）−５−（４−フルオロベンジル）−２，２−ビスヒドロキシメチル−１−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（アゾール誘導体（ＩＶ’）、Ｘｍ＝４−Ｆ、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.19-1.28(1H,m),1.47-1.60(3H,m),2.05-2.14(2H,m),2.44(1H,dd,J=13.8,10.9Hz),2.91(1H,t-like,J=5.7Hz),3.28(1H,dd,J=6.3,4.8Hz),3.63(1H,dd,J=11.2,5.6Hz),3.74-3.84(2H, m),3.87(1H,dd,J=11.2,5.6Hz),4.45(1H,d,J=14.3Hz),4.75(1H,d,J=14.3Hz),4.83(1H,s),6.90-7.01(4H,m),8.00(1H,s), 8.24(1H,s)
２）（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＲＳ）−４−（４−フルオロベンジル）−１−ヒドロキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ［３，２，０］ヘプタン（アゾール誘導体（ＩＩＩａ’）、Ｘｍ＝４−Ｆ、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.47-1.56(2H,m), 1.84-1.97(3H,m), 2.62(1H,dd,J=13.7,8.2Hz), 2.69(1H,dd,J=13.7,6. 4Hz), 3.45(1H,dd,J=12.9,9.9Hz), 3.97(1H,dd,J=12.9,3.5Hz), 4.15(1H,d,J=6.3Hz), 4.19(1H,d,J=6.3Hz), 4.22(1H,d,J=15.0Hz), 4.67(1H,d,J=15.0Hz), 4.69(1H,dd,J=9.9,3.5Hz), 6.95-7.00(2H,m), 7.01-7.05(2H,m), 7.64(1H,s), 7.97(1H,s)
１）（１ＳＲ，５ＲＳ）−５−ベンジル−２，２−ビスヒドロキシメチル−１−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチルシクロペンタノール（アゾール誘導体（ＩＶ’）、Ｘｍ＝無置換、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.20-1.28(1H,m), 1.47-1.61(3H,m),2.11-2.16(1H,m),2.20(1H,dd,J=13.4,5.3Hz), 2.48(1H,dd,J=13.4,10.5Hz),2.98(1H,t-like,J=5.8Hz),3.40(1H,dd,J=6.5,4.7Hz),3.63(1H,dd, J=11.3,5.7Hz),3.72-3.81(2H,m),3.87(1H,dd,J=11.3,5.7Hz),4.44(1H,d,J=14.3Hz),4.75(1H,d,J=14.3Hz),4.81(1H,s),7.04-7.06(2H,m),7.14-7.18(1H,m),7.23-7.24 (1H,m),8.00(1H,s), 8.23(1H,s)
２）（１ＳＲ，４ＳＲ，５ＲＳ）−４−ベンジル−１−ヒドロキシメチル−５−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサビシクロ［３，２，０］ヘプタン（アゾール誘導体（ＩＩＩａ’）、Ｘｍ＝無置換、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.50-1.53(2H,m), 1.91-1.99(3H,m), 2.66(1H,dd,J=13.6,7.1Hz), 2.76(1H,dd,J=13.6,7. 2Hz), 3.44(1H,dd,J=13.0,10.2Hz), 4.03(1H,dd,J=13.0,3.4Hz), 4.16(1H,d,J=6.3Hz), 4.16(1H,d,J=15.0Hz), 4.19(1H,d,J=6.3Hz), 4.63(1H,d,J=15.0Hz), 4.94(1H,dd,J=10.2,3.4Hz), 7.08-7.10(2H,m), 7.22-7.30(3H,m), 7.23(1H,s), 7.93(1H,s)
＜製造例７＞
２−（４−クロロベンジル）−８，８−ジメチル−１−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オール（化合物Ｖ’−ａ：アゾール誘導体（Ｖ’）、Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）の合成１：（第一製造方法の工程１Ｃ１による製造）
［１，２，４］−トリアゾールナトリウム塩１．１４ｇをＮ−メチルピロリジノン６．４ｍｌに溶解し、内温１１５℃まで昇温した。ここに２−（４−クロロベンジル）−８，８−ジメチル−７，９−ジオキサスピロ−［４，５］デカン−１−オン（アゾール誘導体（ＶＩＩＩ’）、Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎ）２．５９ｇを加え、Ｎ−メチルピロリジノン２．０ｍｌで洗い込みを行った。内温が１１５℃に戻った後に、ナトリウムｔ−ブトキシド７２５ｍｇおよびＴＭＳＯＢ２．７７ｇを１２．５時間かけて分割添加した後、５時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、目的物を７％のトランス体を含む混合物として得た。ここで、「シス体」および「トランス体」は、アゾール誘導体（Ｖ’）におけるシクロペンタン環に結合しているヒドロキシ基とベンジル基との立体配置に基づくものである。また、後述の製造例における「シス体」および「トランス体」に関しても、それぞれの化合物における、このヒドロキシ基に対応する基とこのベンジル基に対応する基との立体配置に基づくものである。
収率：５５．０％
シス体
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.22-1.32(1H,m),1.32-1.41(1H,m),1.39(3H,s),1.46(3H,s),1.46-1.62(3H,m),2.13-2.20(1H,m),2.25-2.33(1H,m),3.68(1H,d,J=12.0Hz),3.76(1H,d,J=12.6Hz),3.87(1H,dd,J=12.6,2.1Hz),4.20(1H,dd,J=12.0,2.1Hz),4.26(1H,s),4.60(1H,d,J=14.4Hz),4.79(1H,d,J=14.4Hz),6.90(2H,d,J=8.3Hz),7.16(2H,d,J=8.3Hz),8.02(1H,s).8.29(1H,s).
トランス体
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.22-1.60(3H,m),1.38(3H,s),1.47(3H,s),1.65-1.80(1H,m),2.10-2.21(2H,m),2.72-2.86(1H,m),3.67(1H,d,J=12.0Hz),3.75(1H,d,J=12.5Hz),3.97(1H,dd,J=12.5,2.5Hz),4.25(1H,dd,J=12.0,2.5Hz), 4.65-4.75(3H,m),6.90(2H,d,J=8.3Hz),7.13-7.23(2H,m),8.00(1H,s).8.39(1H,s).
上述した製造例７と同様の方法にて、以下の化合物も合成した。【０３３３】
２−（４−フルオロベンジル）−８，８−ジメチル−１−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オール（アゾール誘導体（Ｖ’）、Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｆ、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.24-1.29(1H,m),1.39(3H,s),1.35-1.42(1H,m),1.46(3H,s),1.46-1.61(3H,m),2.16(1H,dd,J=13.2,11.3Hz),2.26-2.34(1H,m),3.68(1H,d,J=12.0Hz),3.76(1H,d,J=12.6Hz),3.88(1H, dd,J=12.6,2.2Hz),4.20(1H,dd,J=12.0,2.2Hz),4.28(1H,s),4.62(1H,d,J=14.4Hz),4.80(1H,d,J=14.4Hz),6.86-6.94(4H,m),8.02(1H,s),8.30(1H,s)
２−ベンジル−８，８−ジメチル−１−［１，２，４］トリアゾール−１−イルメチル−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オール（アゾール誘導体（Ｖ’）、Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝無置換、Ａ＝Ｎ）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.26-1.31(1H,m), 1.28(3H,s), 1.40-1.44(1H,m), 1.46(3H,s), 1.52-1.61(3H,m), 2.19(1H,dd,J=13.2,11.3Hz),2.29-2.37(1H,m),3.67(1H,d,J=12.0Hz),3.75(1H,d,J=12.5Hz), 3. 89(1H,dd,J=12.5,2.2Hz), 4.19(1H,dd,J=12.0,2.2Hz), 4.26(1H,s), 4.62(1H,d,J=14.5Hz), 4.79(1H,d,J=14.5Hz), 6.97-6.98(2H,m), 7.11-7.15(H,m), 7.19-7.22(2H,m), 8.02(1H,s), 8.30(1H,s)
＜製造例８＞
２−（４−クロロベンジル）−８，８−ジメチル−７，９−ジオキサスピロ−［４，５］デカン−１−オン（化合物（ＶＩＩＩ’）、Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ）の合成１：（第一製造方法の工程１Ｄによる製造）
１−（４−クロロベンジル）−２−オキソシクロペンタンカルボン酸メチル（化合物（ＸＩＩ）、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ｒ４＝ＣＨ３）１３．３４ｇに、炭酸カリウム３．５ｇ、ホルマリン（３７％）１２ｍｌを加え、室温で７時間激しく攪拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、１−（４−クロロベンジル）−３，３−ビス（ヒドロキシルメチル）−２−オキソシクロペンタンカルボン酸メチル（化合物（Ｘ’）、Ｒ４＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ）の粗生成物を得た。これをアセトン２６ｍｌに溶解し、アセトンジメチルアセタール（化合物（ＸＩＶ）、Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｒ８＝ＣＨ３、Ｒ９＝ＣＨ３）３３ｍｌおよびｐ−トルエンスルホン酸一水和物１．５ｇを添加し、室温で２．７時間攪拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えると白色固体が析出した。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、２−（４−クロロベンジル）−８,８−ジメチル−１−オキソ−７,９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−２−カルボン酸メチル（化合物（ＩＸ’）、Ｘ６＝ＣＨ３、Ｘ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ｒ４＝ＣＨ３）の粗生成物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.33(s, 3H), 1.45(s, 3H), 1.97-2.13(m, 4H), 2.33-2.38(m, 1H), 2.78(dd, J=11.6, 2.4Hz, 1H), 3.04(d, J=14.6Hz, 1H), 3.20(d, J=14.6Hz, 1H), 3.55(dd, J=11.2, 2.6Hz, 1H), 3.71(s, 3H), 4.06(d, J=11.2Hz, 1H), 7.00(d, J=8.4Hz, 2H), 7.22(d, J=8.4Hz, 2H).
化合物（ＩＸ’）（Ｘ６＝ＣＨ３、Ｘ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ｒ４＝ＣＨ３）の粗生成物にトルエン１．１ｍｌを加え、さらに２５％水酸化ナトリウム水溶液３６ｍｌを加え、９８℃で３時間加熱攪拌した。反応終了後、水と少量の２ＮＨＣｌ水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、目的物を得た。
収率：５８％
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.37(s, 3H), 1.49(s, 3H), 1.53-1.57(m, 1H), 1.83-1.88(m, 1H), 2.04-2.10(m, 1H), 2.39-2.50(m, 2H), 2.60(dd, J=14.0, 8.4Hz, 1H), 3.00(dd, J=14.0, 4.4Hz, 1H), 3.24 (dd, J=11.4, 2.6Hz,1H), 3.47(dd, J=11.4, 2.6Hz, 1H), 3.78(dd, J=11.4, 2.0Hz, 1H), 4.14(d, J=11.4Hz, 1H), 7.05(d, J=8.4Hz, 2H), 7.23(d, J=8.4Hz, 2H).
＜製造例９＞
同様の方法にて、以下の化合物も合成した。【０３３４】
２−（４−フルオロベンジル）−８，８−ジメチル−７，９−ジオキサスピロ−［４，５］デカン−１−オン（化合物（ＶＩＩＩ’）、Ｘ６＝ＣＨ３、Ｘ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｆ）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.37(3H,s),1.49(3H,s),1.52-1.60(1H,m),1.80-1.88(1H,m),2.04-2.12(1H,m),2.39-2.50(2H,m),2.62(1H,dd,J=13.9,8.3Hz),3.00(1H,dd,J=13.9,4.6Hz),3.22(1H,dd,J=11.4,2.6Hz),3.47(1H,dd,J=11.4,2.6Hz),3.77(1H,dd,J=11.4,1.6Hz),4.15(1H,d,J=11.4Hz),6.93-6.97 (2H,m), 7.06-7.09(2H,m)
＜製造例１０＞
同様の方法にて、以下の化合物も合成した。【０３３５】
２−ベンジル−８，８−ジメチル−７，９−ジオキサスピロ−［４，５］デカン−１−オン（化合物（ＶＩＩＩ’）、Ｘ６＝ＣＨ３、Ｘ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝無置換）
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.37(3H,s),1.49(3H,s),1.52-1.63(1H,m),1.82-1.87(1H,m),2.06-2.11(1H,m),2.37-2.43(1H,m),2.45-2.53(1H,m),2.61(1H,dd,J=13.7,8.6Hz),3.04(1H,dd,J=13.7,4.3Hz),3.24(1H, dd,J=11.4,2.6Hz),3.47(1H,dd,J=11.4,2.6Hz),3.79(1H,dd,J=11.4,1.6Hz),4.15(1H,d,J=11.4Hz),7.12(2H,d,J=6.8Hz),7.20(1H,t,J=7.3Hz),7.25-7.29(2H,m).
＜製造例１１＞
化合物（ＶＩＩＩ’）（Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌ）の合成２
（１）化合物Ｘ’−ａ；Ｒ４＝ＣＨ３，Ｘｍ＝４−Ｃｌである化合物（Ｘ’）の合成
化合物（ＸＩＩ）（Ｒ４＝ＣＨ３，Ｘｍ＝４−Ｃｌ）７９．９８ｇをテトラヒドロフラン２５０ｍｌに加え、ここに炭酸カリウム１０．３８ｇおよび３７％ホルマリン水溶液６５ｍｌを加え、室温下で、２３時間攪拌した。反応液に、水２５０ｍｌおよび濃塩酸５１ｍｌを加え、さらに７時間撹拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、化合物Ｘ’−ａの粗抽出物を得た。
（２）化合物ＩＸ’−ａ；Ｒ４＝ＣＨ３、Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌである化合物（ＩＸ’）の合成
上記（１）で得られた化合物Ｘ’−ａの粗抽出物全量に、アセトンジメチルアセタール（化合物（ＸＩＶ）、Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｒ８＝ＣＨ３、Ｒ９＝ＣＨ３）９０ｍｌ、トルエン１８０ｍｌおよびｐ−トルエンスルホン酸一水和物１．４３ｇを添加し、１時間、５５℃で撹拌した後、室温下でさらに１５時間攪拌した。反応液に重曹水およびトルエンを加え、分配した。水層をトルエンで抽出した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、化合物ＩＸ’−ａの粗抽出物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.33(3H,s),1.45(3H,s),1.97-2.13(4H,m),2.33-2.38(1H,m),2.78(1H,dd,J=11.6,2.4Hz),3.04(1H,d,J=14.6Hz),3.20(1H,d,J=14.6Hz),3.55(1H,dd,J=11.2,2.6Hz), 3.71(3H,s),4.06(1H,d,J=11.2 Hz),7.00(2H,d,J=8.4Hz),7.22(2H,d,J=8.4Hz).
（３）化合物ＶＩＩＩ’−ａ；Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｃｌである化合物（ＶＩＩＩ’）の合成
上記（２）で得られた化合物ＩＸ’−ａの粗抽出物にトルエン８ｍｌを加え、１００℃に昇温し、溶解させた。ここに、２５重量％水酸化ナトリウム水溶液８０．０ｇを加え、２時間、還流下で反応させた後、放冷した。反応液に水を加え、トルエンで抽出した。有機層を、塩化アンモニウム水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去して化合物ＶＩＩＩ’−ａを得た。
収率：６９．０％（化合物（ＸＩＩ）からの３工程での収率）
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.37(3H,s),1.49(3H,s),1.53-1.57(1H,m),1.83-1.88(1H,m),2.04-2.10(1H,m),2.39-2.50(2H,m),2.60(1H,dd,J=14.0,8.4Hz),3.00(1H,dd,J=14.0,4.4Hz),3.24(1H,dd,J=11.4,2.6Hz),3.47(1H,dd,J=11.4,2.6Hz),3.78(1H,dd,J=11.4,2.0Hz),4.14(1H,d,J=11.4Hz),7.02-7.10(2H,m),7.21-7.27(2H,m).
＜製造例１２＞
化合物Ｖ’−ａの合成２
水素化ナトリウム０．９１ｇをＮＭＰ８ｍｌに懸濁させた後、１，２，４−トリアゾール１．６７ｇを加え、０．５時間撹拌して、１，２，４−トリアゾールのナトリウム塩を生成した。ここに、化合物ＶＩＩＩ’−ａ  ５．００ｇ加え、９０℃（バス温）に昇温した後、ＴＭＳＯＢ４．２０ｇとｔ−ＢｕＯＮａ  ０．７７ｇとを間欠的に１．５時間かけて添加し、その後、１．５時間反応させた。反応液を１２５℃（バス温）に昇温し、１時間反応させた。反応液に、塩化アンモニウム水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し、粗生成物をシリカゲルカラムで精製して、化合物Ｖ’−ａを異性体混合物（シス体：トランス体＝９３：７）として得た。
収率：７４．３％
＜製造例１３＞
化合物Ｖ’−ａの合成３
化合物ＶＩＩＩ’−ａ  １．００ｇ、１，２，４−トリアゾールナトリウム塩０．４４２ｇおよびＴＭＳＯＢ０．７８５ｇの混合物にＮＭＰ２ｍｌを加え、アルゴン雰囲気下、８５℃に昇温した。ここに、ｔ−ＢｕＯＮａ  ０．１５７ｇを間欠的に５０分かけて添加し、その後、５０分間反応させた。【０３３６】
反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。粗生成物をシリカゲルカラムで精製して、化合物Ｖ’−ａを異性体混合物（シス体：トランス体＝９４：６）として得た。
収率：８０％
＜製造例１４＞
化合物Ｖ’−ａの合成４
化合物ＶＩＩＩ’−ａ  ５．００ｇ、１，２，４−トリアゾールナトリウム塩１．９２ｇおよびＴＭＳＯＢ３．３６ｇの混合物にＮＭＰ８ｍｌを加え、アルゴン雰囲気下、８５℃に昇温した。ここに、ｔ−ＢｕＯＮａ  ０．９４ｇを添加し、その後、３時間反応させた後、１１５℃で１５分間撹拌した。【０３３７】
反応液に水を加え、トルエンで抽出した。有機層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。粗生成物をシリカゲルカラムで精製して、化合物Ｖ’−ａを異性体混合物（シス体：トランス体＝９２：８）として得た。
収率：７０％
＜製造例１５＞
５−（４−クロロベンジル）−２，２−ビス（ヒドロキシルメチル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）シクロペンタノール（化合物ＩＶ’−ａ；Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎであるアゾール誘導体（ＩＶ’））の合成＞
化合物Ｖ’−ａ  ８．９８ｇを、メタノール３０ｍｌと６Ｎ塩酸水溶液４０ｍｌとの混合液に溶解し、室温下で４時間撹拌した。反応液に水を加えた後、炭酸ナトリウムおよび重曹で中和した。酢酸エチルで抽出した後、有機層を飽和食塩水１００ｍｌで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し、化合物ＩＶ’−ａを異性体混合物として得た。
収率：９８．７％
なお、１Ｈ−ＮＭＲ値はシス体のみ記載する。
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.20-1.25(1H,m),1.43-1.61(5H,m),2.05-2.15(2H,m),2.40-2.48(1H,m),3.63(1H,d,J=11.2Hz),3.75(1H,d,J=14.0Hz),3.77(1H,d,J=14.0Hz),3.86(1H,d,J=11.2Hz),4.45(1H,d,J=14.3Hz),4.75(1H,d,J=14.3Hz),4.84(1H,brs),6.97(2H,d,J=8.4Hz),7.20(2H,d,J=8.4Hz),8.00(1H,s),8.24(1H,s).
＜製造例１６＞
２−ベンジル−８，８−ジメチル−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オン（化合物ＶＩＩＩ’−ｂ；Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝無置換である化合物（ＶＩＩＩ’））の合成２
化合物（ＸＩＩ）（Ｒ４＝ＣＨ３，Ｘｍ＝４−Ｃｌ）の代わりに１−ベンジル−２−オキソシクロペンタンカルボン酸メチル（化合物（ＸＩＩ）、Ｒ４＝ＣＨ３，Ｘｍ＝無置換）を用いた以外は製造例１１と同様にして合成を行い、化合物ＶＩＩＩ’−ｂを得た。得られた化合物の１Ｈ−ＮＭＲ値を以下に示す。
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.37(3H,s),1.49(3H,s), 1.52-1.63(1H,m), 1.82-1.87(1H,m), 2.06-2.11(1H,m), 2.37-2.43(1H,m), 2.45-2.53(1H,m), 2.61(1H,dd,J=13.7,8.6Hz), 3.04(1H,dd,J= 13.7,4.3Hz),3.24(1H,dd,J=11.4,2.6Hz), 3.47(1H,dd,J=11.4,2.6Hz), 3.79(1H, dd,J=11.4,1.6Hz), 4.15(1H,d,J=11.4Hz),7.12(2H,d,J=6.8Hz),7.20(1H,t,J=7.3 Hz), 7.25-7.29(2H,m).
＜製造例１７＞
２−ベンジル−８，８−ジメチル−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オール（化合物Ｖ’−ｂ；Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝無置換、Ａ＝Ｎであるアゾール誘導体（Ｖ’））の合成
１，２，４−トリアゾールナトリウム塩０．９７３ｇをＮＭＰ４ｍｌに溶解し、１１５℃（内温）に昇温した。ここに、ＮＭＰ３ｍｌに溶解した化合物ＶＩＩＩ’−ｂ  １．９６ｇを加えた。同温度で、ＴＭＳＯＢ１．５５ｇとｔ−ＢｕＯＮａ  ０．３６３ｇとを間欠的に２時間かけて添加した後、０．５時間反応させた。反応液を１２５℃（バス温）に昇温し、１時間反応させた。反応終了後、反応液に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、粗生成物をシリカゲルカラム化合物Ｖ’−ｂを異性体混合物（シス体：トランス＝９４：６）として得た。
収率：７８．９％
なお、１Ｈ−ＮＭＲ値はシス体のみ記載する。
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.26-1.31(1H,m), 1.28(3H,s), 1.40-1.44(1H,m), 1.46(3H,s), 1.52-1.61(3H,m), 2.19(1H,dd,J=13.2,11.3Hz),2.29-2.37(1H,m),3.67(1H,d,J=12.0Hz),3.75(1H,d,J=12.5Hz), 3.89(1H,dd,J=12.5,2.2Hz), 4.19(1H,dd,J=12.0,2.2Hz), 4.26(1H,s), 4.62(1H,d,J=14.5Hz), 4.79(1H,d,J=14.5Hz), 6.97-6.98(2H,m), 7.11-7.15(1H,m), 7.19-7.22(2H,m), 8.02(1H,s), 8.30(1H,s)
＜製造例１８＞
５−ベンジル−２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）シクロペンタノール（化合物ＩＶ’−ｂ；Ｘｍ＝無置換、Ａ＝Ｎであるアゾール誘導体（ＩＶ’））の合成＞
化合物Ｖ’−ａの代わりに化合物Ｖ’−ｂを用いた以外は製造例１５と同様にして合成を行い、５−ベンジル−２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）シクロペンタノール（化合物ＩＶ’−ｂ）を得た。得られた化合物の１Ｈ−ＮＭＲ値を以下に示す。
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.20-1.28(1H,m), 1.47-1.61(3H,m),2.11-2.16(1H,m),2.20(1H,dd,J=13.4,5.3Hz), 2.48(1H,dd,J=13.4,10.5Hz),2.98(1H,t-like,J=5.8Hz),3.40(1H,dd,J=6.5,4.7Hz),3.63(1H,dd,J=11.3,5.7Hz),3.72-3.81(2H,m),3.87(1H,dd,J=11.3,5.7Hz),4.44(1H,d,J=14.3Hz),4.75(1H,d,J=14.3Hz),4.81(1H,s),7.04-7.06(2H,m),7.14-7.18(1H,m),7.23-7.24 (2H,m),8.00(1H,s),8.23(1H,s).
＜製造例１９＞
２−（４−フルオロベンジル）−８，８−ジメチル−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オン（化合物ＶＩＩＩ’−ｃ；Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｆである化合物（ＶＩＩＩ’））の合成
化合物（ＸＩＩ）（Ｒ４＝ＣＨ３，Ｘｍ＝４−Ｃｌ）の代わりに１−（４−フルオロベンジル）−２−オキソ−シクロペンタンカルボン酸メチル（化合物（ＸＩＩ）、Ｒ４＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｆ）を用いた以外は製造例１１と同様にして合成を行い、化合物ＶＩＩＩ’−ｃを得た。得られた化合物の１Ｈ−ＮＭＲ値を以下に示す。
1H-NMR(CDCl3)δ＝
1.37(3H,s),1.49(3H,s), 1.52-1.60(1H,m), 1.80-1.88(1H,m), 2.04-2.12(1H,m),  2.39-2.50(2H,m),2.62(1H,dd,J=13.9,8.3Hz),3.00(1H,dd,J=13.9,4.6Hz),3.22 (1H,dd,J=11.4,2.6Hz),3.47(1H,dd,J=11.4,2.6Hz), 3.77(1H,dd,J=11.4,1.6Hz), 4.15(1H,d,J=11.4Hz),6.93-6.97(2H,m), 7.06-7.09(2H,m).
＜製造例２０＞
２−（４−フルオロベンジル）−８，８−ジメチル−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オール（化合物Ｖ’−ｃ；Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝ＣＨ３、Ｘｍ＝４−Ｆ、Ａ＝Ｎであるアゾール誘導体（Ｖ’））の合成＞
化合物ＶＩＩＩ’−ｂの代わりに化合物ＶＩＩＩ’−ｃを用いた以外は製造例１７と同様にして合成を行い、化合物Ｖ’−ｃを異性体混合物として得た。
なお、１Ｈ−ＮＭＲ値はシス体のみ記載する。
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.24-1.29(1H,m),1.39(3H,s),1.35-1.42(1H,m),1.46(3H,s),1.46-1.61(3H,m),2.16(1H,dd,J=13.2,11.3Hz),2.26-2.34(1H,m),3.68(1H,d,J=12.0Hz),3.76(1H,d,J=12.6Hz),3.88(1H,dd,J=12.6,2.2Hz),4.20(1H,dd,J=12.0,2.2Hz),4.28(1H,s),4.62(1H,d,J=14.4Hz),4.80(1H,d,J=14.4Hz),6.86-6.94(4H,m),8.02(1H,s),8.30(1H,s).
＜製造例２１＞
５−（４−フルオロベンジル）−２，２−ビス（ヒドロキシルメチル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）シクロペンタノール（化合物ＩＶ’−ｃ；Ｘｍ＝４−Ｆ、Ａ＝Ｎであるアゾール誘導体（ＩＶ’））の合成＞
化合物Ｖ’−ａの代わりに化合物Ｖ’−ｃを用いた以外は製造例１５と同様にして合成を行い、化合物ＩＶ’−ｃを異性体混合物として得た。なお、１Ｈ−ＮＭＲ値はシス体のみ記載する。
1H-NMR(CDCl3)δ=
1.19-1.28(1H,m),1.47-1.60(3H,m),2.05-2.14(2H,m),2.44(1H,dd,J=13.8,10.9Hz),2.91(1H,t-like,J=5.7Hz),3.28(1H,dd,J=6.3,4.8Hz),3.63(1H,dd,J=11.2,5.6Hz),3.74-3.84(2H,m),3.87(1H,dd,J=11.2,5.6Hz),4.45(1H,d,J=14.3Hz),4.75(1H,d,J=14.3Hz),4.83(1H,s),6.90-7.01(4H,m),8.00(1H,s), 8.24(1H,s).
＜製造例２２＞
２−（４−クロロベンジル）−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オン（化合物ＶＩＩＩ’−ｄ；Ｒ６＝Ｈ、Ｒ７＝Ｈ、Ｘｍ＝４−Ｃｌである化合物（ＶＩＩＩ’））の合成
（１）２−（４−クロロベンジル）−１−オキソ−７、９−ジオキサスピロ[４，５]デカン−２−カルボン酸メチル（化合物ＩＸ’−ｄ；Ｒ４＝ＣＨ３、Ｒ６＝Ｈ、Ｒ７＝Ｈ、Ｘｍ＝４−Ｃｌである化合物（ＩＸ’））の合成
製造例１１−（１）で調製された化合物Ｘ’−ａ  １．００ｇをクロロホルム４ｍｌおよびジメトキシメタン４ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム1水和物５８．２ｍｇおよびリチウムクロライド５３．２ｍｇを加えて室温で１．５時間撹拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を濃縮、真空乾燥することにより中間体粗製物（１．２８ｇ）を得た。このうちの１００ｍｇをトルエン３ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物２．７ｍｇを加え、１００℃で９時間撹拌した。反応終了後、溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、トルエンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物ＩＸ’−ｄを得た（収率７４．９％）。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)：δ=
1.90-2.03(2H,m),2.10-2.20(1H,m),2.32-2.39(1H,m),3.00(1H,dd,J=11.1,1.9Hz),3.05(1H,d,J=13.8Hz),3.20(1H,d,J=13.8Hz),3.42(1H,dd,J=11.1,1.1Hz),3.72(3H,s),3.77(1H,dd,J=11.1,2.1Hz),3.82(1H,d,J=11.1Hz),4.61(1H,d,J=6.1Hz),4.91(1H,d,J=6.1Hz),7.01(2H,d,J=8.5Hz),7.23(2H,d,J=8.5Hz).
（２）化合物ＶＩＩＩ’−ｄの合成
化合物ＩＸ’−ｄ  ６４０ｍｇにトルエン０．０６５ｍｌおよび１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液１．８８ｍｌを加えて２．５時間還流した。１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液０．９４ｍｌを加え、さらに４時間還流を続けた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物ＶＩＩＩ’−ｄを得た（収率７２．７％）。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)：δ=
1.51-1.59(1H,m),1.83-1.93(1H,m),2.03-2.14(1H,m),2.37-2.46(1H,m),2.46-2.52(1H,m),2.60(1H,dd,J=13.8,8.3Hz),3.00(1H,dd,J=13.8,4.4Hz),3.47(1H,dd,J=11.1,2.3Hz),3.54(1H,dd,J=11.1,1.5Hz),3.70(1H,dd,J=11.1,2.3Hz),3.88(1H,d,J=11.1Hz),4.67(1H,d,J=6.1Hz),4.97(1H,d,J=6.1Hz),7.05(2H,d,J=8.4Hz),7.23(1H,d,J=8.4Hz).
＜製造例２３＞
２−（４−クロロベンジル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オール（化合物Ｖ’−ｄ；Ｒ６＝Ｈ、Ｒ７＝Ｈ、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎであるアゾール誘導体（Ｖ’））の合成＞
化合物ＶＩＩＩ’−ｂの代わりに化合物ＶＩＩＩ’−ｄを用いた以外は製造例１７と同様にして合成を行い、化合物Ｖ’−ｄを異性体混合物として得た。
なお、１Ｈ−ＮＭＲ値はシス体のみ記載する。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)：δ=
1.10-1.14(1H,m),1.36-1.45(1H,m),1.45-1.57(2H,m),1.93(1H,dd,J=12.7,2.9Hz),2.27-2.35(1H,m),2.38(1H,dd,J=12.7,10.9Hz),3.35(1H,d,J=11.1Hz),3.54(1H,d,J=12.3Hz),4.07(1H,dd,J=12.3,2.3Hz),4.29(1H,d,J=11.1,1.9Hz),4.50(1H,d,J=14.3Hz),4.59(1H,J=6.0Hz),4.74(1H,d,J=14.3Hz),4.83(1H,s),4.87(1H,d,J=6.0Hz),6.98(2H,d,J=8.4Hz),7.19(2H,d,J=8.4Hz),8.00(1H,s),8.23(1H,s).
＜製造例２４＞
２−（４−クロロベンジル）−８−メチル−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オン（化合物ＶＩＩＩ’−ｅ；Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝Ｈ、Ｘｍ＝４−Ｃｌである化合物（ＶＩＩＩ’））の合成
（１）２−（４−クロロベンジル）−８−メチル−１−オキソ−７、９−ジオキサスピロ[４，５]デカン−２−カルボン酸メチル（化合物ＩＸ’−ｅ；Ｒ４＝ＣＨ３、Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝Ｈ、Ｘｍ＝４−Ｃｌである化合物（ＩＸ’））の合成
製造例１１−（１）で調製された化合物Ｘ’−ａ  ２．５０ｇをトルエン１２．５ｍｌに溶解し、アセトアルデヒドジエチルアセタール２．７２ｍｌおよびｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム1水和物７２．８ｍｇを加えて室温で３．５時間撹拌した。さらに６０℃で２時間、８０℃で２時間撹拌した。反応終了後、溶液量が半量になるまで濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてトルエンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を濃縮、真空乾燥することにより化合物ＩＸ’−ｅを得た（収率８９．２％）。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)：δ=
1.27(3H,d,J=5.1Hz),1.95-2.04(2H,m),2.09-2.18(1H,m),2.32-2.41(1H,m),2.96(1H,dd,J=11.1,2.7Hz),3.04(1H,d,J=13.7Hz),3.20(1H,d,J=13.7Hz),3.47(1H,dd,J=11.1,1.3Hz),3.72(3H,s),3.78(1H,dd,J=11.1,2.7Hz),3.84(1H,d,J=11.1Hz),4.60(1H,q,J=5.1Hz), 7.00(2H,d,J=8.5Hz),7.23(2H,d,J=8.5Hz).
（２）化合物ＶＩＩＩ’−ｅの合成
化合物ＩＸ’−ｅ  ２．３４ｇにトルエン０．２３４ｍｌおよび０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液２１．８ｍｌを１時間ごとに３分割して加えながら４時間還流した。６．２５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液０．５７ｍｌを加え、さらに２時間還流を続けた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去することにより化合物ＶＩＩＩ’−ｅを得た（収率７２．０％）。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)：δ=
1.31(3H,d,J=5.1Hz),1.49-1.61(1H,m),1.84-1.93(1H,m),2.05-2.14(1H,m),2.40-2.51(2H,m),2.59(1H,dd,J=13.8,8.3Hz),2.99(1H,dd,J=13.8,4.4Hz),3.46(1H,dd,J=11.1,2.8Hz),3.57(1H,dd,J=11.1,1.8Hz),3.70(1H,dd,J=11.1,2.8Hz),3.94(1H,d,J=11.1Hz),4.66(1H,q,J=5.1Hz),7.05(2H,d,J=8.4Hz),7.23(1H,d,J=8.4Hz).
＜製造例２５＞
２−（４−クロロベンジル）−８−メチル−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）−７，９−ジオキサスピロ［４，５］デカン−１−オール（化合物Ｖ’−ｅ；Ｒ６＝ＣＨ３、Ｒ７＝Ｈ、Ｘｍ＝４−Ｃｌ、Ａ＝Ｎであるアゾール誘導体（Ｖ’））の合成＞
化合物ＶＩＩＩ’−ｂの代わりに化合物ＶＩＩＩ’−ｅを用いた以外は製造例１７と同様にして合成を行い、化合物Ｖ’−ｅを異性体混合物として得た。
なお、１Ｈ−ＮＭＲ値はシス体のみ記載する。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)：δ=
1.03-1.10(1H,m),1.31(3H,d,J=5.1Hz),1.35-1.41(1H,m),1.41.42-1.55(3H,m),2.17(1H,dd,J=13.3,11.4Hz),2.30-2.39(1H,m),3.44(1H,d,J=11.7Hz),3.58(1H,d,J=12.5Hz),4.09(1H,dd,J=12.5,2.9Hz),4.51(1H,s),4.56(1H,dd,J=11.7,2.9Hz),4.59(1H,d,J=14.5Hz),4.67(1H,q,J=5.1Hz),4.83(1H,d,J=14.5Hz),6.91(2H,d,J=8.4Hz),7.17(2H,d,J=8.4Hz),8.02(1H,s),8.28(1H,s).
＜製造例２６＞
化合物ＩＸ’−ａの合成
製造例８における反応温度を９５℃（バス温度）とした以外は製造例８と同様にして化合物ＩＸ’−ａを得た。
収率：９５．５％
以下に示す試験例１〜５では、本発明に係る化合物として、上述の製造例において製造した化合物番号Ｉ−１６、Ｉ−１７０、Ｉ−１８７、Ｉ−２２６、Ｉ−２３４、Ｉ−１９８、Ｉ−２０３の化合物を用いた。また、Ｉ−１６については、異性体の型がＣＣのものをＩ−１６ａとし、異性体の型がＣＴのものをＩ−１６ｂとして以下に記載する。一方、試験例６〜８では、本発明に係る化合物として、上述の製造例において製造した化合物Ｖ’−ａを用いた。
＜製剤例１＞
（水和剤）
化合物（Ｉ−１６）      ５０部
リグニンスルホン酸塩      ５部
アルキルスルホン酸塩      ３部
珪藻土                  ４２部
を粉砕混合して水和剤とし、水で希釈して使用する。【０３３８】
（粉剤）
化合物（Ｉ−１６）  ３部
クレー            ４０部
タルク            ５７部
を粉砕混合し、散粉として使用する。
（粒剤）
化合物（Ｉ−１６）        ５部
ベントナイト            ４３部
クレー                  ４５部
リグニンスルホン酸塩      ７部
を均一に混合しさらに水を加えて練り合わせ、押し出し式造粒機で粒状に加工乾燥して粒剤とする。
（乳剤）
化合物（Ｉ−１６）                            ２０部
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル    １０部
ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート      ３部
キシレン                                      ６７部
を均一に混合溶解して乳剤とする。【０３３９】
＜製剤例２＞
合成した化合物Ｖ’−ａのシス体およびトランス体を用いて水和剤、粉剤、粒剤および乳剤を製剤した。以下、化合物Ｖ’−ａのシス体を化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓと表記し、化合物Ｖ’−ａのトランス体を化合物Ｖ’−ａ−ｔｒａｎｓと表記する。説明の便宜上、ここでは化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓを用いた配合についてのみ示すが、化合物Ｖ’−ａ−ｔｒａｎｓについても同様の配合で製剤した。なお、各製剤例の「部」は重量部を表している。
（水和剤）
化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓ  ５０部
リグニンスルホン酸塩      ５部
アルキルスルホン酸塩      ３部
珪藻土                  ４２部
を粉砕混合して水和剤とし、水で希釈した。
（粉剤）
化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓ    ３部
クレー                  ４０部
タルク                  ５７部
を粉砕混合し、散粉とした。
（粒剤）
化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓ    ５部
ベントナイト            ４３部
クレー                  ４５部
リグニンスルホン酸塩      ７部
を均一に混合しさらに水を加えて練り合わせ、押し出し式造粒機で粒状に加工乾燥して粒剤とした。
（乳剤）
化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓ                      ２０部
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル  １０部
ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート    ３部
キシレン                                    ６７部
を均一に混合溶解して乳剤とした。
＜試験例１：コムギ葉枯病菌に対する抗菌性試験＞
本試験例においては、本発明に係る化合物のコムギ葉枯病菌に対する抗菌性を試験し、比較化合物（１）と抗菌性を比較した。【０３４０】
比較化合物（１）：（１ＲＳ，５ＳＲ）−５−（４−クロロベンジル）−２−メチル−２−メチルエトキシメチル−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）シクロペンタノール【０３４１】
【化３５】
2012169559.tif 000037
【０３４２】
本発明に係る化合物を含むジメチルスルホキシド溶液０．６ｍｌを６０℃前後のＰＤＡ培地（ポテト−デキストロース−アガー培地）６０ｍｌに加え、１００ｍｌ 三角フラスコ内でよく混合し、シャーレ内に流し固化させた。そして、濃度１．２５ｍｇ／Ｌになるように本発明に係る化合物を含む平板培地を作製した。【０３４３】
一方、予め平板培地上で培養した供試菌を直径４ｍｍのコルクボーラーで打ち抜き、上記の薬剤含有平板培地上にコムギ葉枯病菌を接種した。接種後、25℃にて１４日間培養し、菌そう直径で測定した。下記式により菌糸伸長抑制率を求めた。【０３４４】
Ｒ＝１００（ｄｃ−ｄｔ）／ｄｃ
（式中，Ｒ＝菌糸伸長抑制率（％），ｄｃ＝無処理平板上菌そう直径，ｄｔ＝薬剤処理平板上菌そう直径をそれぞれ示す。）
上記により得られた結果を、次の基準にしたがって５段階評価した．
＜生育阻害度＞
５：菌糸伸長抑制率が８０％以上のもの
４：菌糸伸長抑制率が８０未満〜６０％以上のもの
３：菌糸伸長抑制率が６０未満〜４０％以上のもの
２：菌糸伸長抑制率が４０未満〜２０％以上のもの
１：菌糸伸長抑制率が２０％未満のもの【０３４５】
【表１】
2012169559.tif 000038
【０３４６】
＜試験例２：コムギ赤さび病に対する防除効果試験＞
角型プラスチックポット（６ｃｍ×６ｃｍ）を用いて栽培した第２葉期のコムギ（品種：農林６１号）に、製剤例１のような水和剤形態のものを、水で濃度１ｍｇ/Ｌに希釈懸濁し、１，０００Ｌ／ｈａの割合で散布した。散布葉を風乾した後、コムギ赤さび病菌の胞子（２００個／視野に調整、６０ｐｐｍとなるようにグラミンＳを添加）を噴霧接種し、２５℃高湿度条件下に４８時間保った。その後は温室内で管理した。接種後、９〜１４日目にコムギ赤さび病の罹病度を調査して、防除価を下記式により算出した。
防除価（％）=（１−散布区の平均罹病度／ 無散布区の平均罹病度) × １００【０３４７】
【表２】
2012169559.tif 000039
【０３４８】
【表３】
2012169559.tif 000040
【０３４９】
【表４】
2012169559.tif 000041
【０３５０】
＜試験例３：各種病原菌、有害微生物に対する抗菌性試験＞
本試験例においては，試験例１で説明した方法により，濃度が５ｍｇ／Ｌ、または１．２５ｍｇ／Ｌになるように本発明に係る化合物を含む平板培地を作製し、本発明に係る化合物の各種植物病原性糸状菌および工業用材料有害微生物に対する抗菌性を試験した。【０３５１】
上記により得られた結果を、次の基準にしたがって５段階評価した。【０３５２】
＜生育阻害度＞
５：菌糸伸長抑制率が８０％以上のもの
４：菌糸伸長抑制率が８０未満〜６０％以上のもの
３：菌糸伸長抑制率が６０未満〜４０％以上のもの
２：菌糸伸長抑制率が４０未満〜２０％以上のもの
１：菌糸伸長抑制率が２０％未満のもの【０３５３】
【表５】
2012169559.tif 000042
【０３５４】
＜試験例４：種子処理によるコムギ赤さび病に対する防除効果試験＞
ポット試験によりコムギ赤さび病に対する防除効果を評価した。本発明の化合物および比較化合物を各２ｍｇ秤量し、ＤＭＳＯ（１８μｌ）に溶解した。コムギ種子１ｇに、調製した薬剤をバイアル内で塗沫した後、８０ｃｍ２ポットに８粒のコムギ種子を播種した。温室内で下部給水管理し、播種２１日後にコムギ赤さび病菌を接種し、湿箱に２日間保管した。再び温室内で下部給水管理し、接種１４日後に罹病度を調査し防除価を算出した。【０３５５】
下記式により防除価を算出し、コムギ赤さび病防除価とした。【０３５６】
防除価＝（１−処理区罹病度／無処理区罹病度）×１００  （％）
結果、化合物Ｉ−１６ａ、化合物Ｖ’−ｄ、および化合物Ｖ’−ｅは防除価１００であり、化合物（１）は防除価９５であった。
＜試験例５：種子処理によるコムギに対する生育抑制試験＞
ポット試験によりコムギに対する薬害（生育抑制）を評価した。本発明の化合物および比較化合物を各０．２ｍｇ秤量し、ＤＭＳＯ（１８μｌ）に溶解した。コムギ種子１ｇに、調製した薬剤をバイアル内で塗沫した後、８０ｃｍ２ポットに８粒のコムギ種子を播種した。温室内で下部給水管理し、播種３６日後に薬害（生育抑制）を調査した。【０３５７】
結果、化合物（１）を処理した場合は薬害指数が２であったのに対し、化合物Ｉ−１６ａ、化合物Ｖ’−ｄ、化合物Ｖ’−ｅ、化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓ、または化合物Ｖ’−ａ−ｔｒａｎｓを処理した場合は薬害指数４であった。【０３５８】
薬害指数（生育抑制）は下表に示す基準から算出した。生育抑制指数が大きいほど、薬剤処理による生育抑制の薬害が小さいことを示している。【０３５９】
【表６】
2012169559.tif 000043
【０３６０】
＜試験例６：コムギ種子に対する種子処理によるネクロシスの薬害＞
ポット試験によりコムギに対する薬害（生育抑制）を評価した。本発明の化合物および比較化合物を各２ｍｇ秤量し、ＤＭＳＯ（１８μｌ）に溶解した。コムギ種子１ｇに、調製した薬剤をバイアル内で塗沫した後、８０ｃｍ２ポットに８粒のコムギ種子を播種した。温室内で下部給水管理し、播種３１日後にコムギのネクロシスの度合い（ネクロシス面積率）を調査した。表７に示す基準を用いて、ネクロシス面積率からネクロシス指数を算出した。【０３６１】
結果、化合物（１）を処理した場合はネクロシス指数が１であったのに対し、化合物Ｖ’−ｄ、Ｖ’−ｅ、Ｖ’−ａ−ｃｉｓまたは化合物Ｖ’−ａ−ｔｒａｎｓを処理した場合はネクロシス指数が０であった。なお、ネクロシス指数が小さいほど、薬剤処理によるネクロシスの薬害が小さいことを示している。【０３６２】
【表７】
2012169559.tif 000044
【０３６３】
＜試験例７：コムギ赤さび病防除効果試験＞
角型プラスチックポット（６ｃｍ×６ｃｍ）を用いて栽培した第２葉期のコムギ（品種：農林６１号）に、上記製剤例２に示す水和剤形態の化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓまたは化合物Ｖ’−ｅを、水で所定濃度（１００ｍｇ／Ｌ）に希釈懸濁し、１，０００Ｌ／ｈａの割合で散布した。散布葉を風乾した後、コムギ赤さび病菌の胞子（２００個／視野に調整、６０ｐｐｍとなるようにグラミンＳを添加）を噴霧接種し、２５℃高湿度条件下に４８時間保った。その後は温室内で管理した。接種後、９〜１４日目に、試験例２と同様にして、コムギ赤さび病の罹病度を調査して、防除価を算出した。【０３６４】
試験の結果、化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓ、および化合物Ｖ’−ｅは防除価９０％以上を示した。
＜試験例８：各種病原菌、有害微生物に対する抗菌性試験＞
本試験例では、化合物Ｖ’−ｄ、化合物Ｖ’−ｅ、化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓおよび化合物Ｖ’−ａ−ｔｒａｎｓの各種植物病原性菌に対する抗菌性を試験した。【０３６５】
化合物Ｖ’−ｄ、化合物Ｖ’−ｅ、化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓまたは化合物Ｖ’−ａ−ｔｒａｎｓをジメチルスルホキシド２ｍｌに溶解した。この溶液０.６ｍｌを６０℃前後のＰＤＡ培地（ポテト−デキストロース−アガー培地）６０ｍｌに加え、１００ｍｌ三角フラスコ内でよく混合し、シャーレ内に流し固化させ、濃度５ｍｇ／Ｌになるように化合物Ｖ’−ｄ、化合物Ｖ’−ｅ、化合物Ｖ’−ａ−ｃｉｓまたは化合物Ｖ’−ａ−ｔｒａｎｓを含む平板培地を作製した。【０３６６】
一方、予め平板培地上で培養した供試菌を直径４ｍｍのコルクボーラーで打ち抜き、上記の薬剤含有平板培地上に接種した。接種後、各菌の生育適温（この生育適温については、例えば、文献 LIST OF CULTURES 1996 microorganisms 10th edition  財団法人  発酵研究所 を参照することができる）にて１〜１４日間培養し、菌の生育を菌そう直径で測定した。このようにして薬剤含有平板培地上で得られた菌の生育程度を、薬剤無添加区における菌の生育程度と比較して、試験例１と同様にして、菌糸伸長抑制率を求めた。得られた結果を、試験例１と同様にして５段階評価した。結果を表８に示す。【０３６７】
【表８】
2012169559.tif 000045
【産業上の利用可能性】
【０３６８】
本発明は、農園芸用の殺菌剤の有効成分として利用することができる化合物の製造に好適に利用することができる。
【国際調査報告】
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