(57)【要約】  効率良く放電を行うことができるプラズマディスプレイパネルを提供する。  バス電極が誘電体層で被覆され、この誘電体層の表面に、誘電体層内に形成される静電容量を介してバス電極と接合されるように、島状の電極が形成され、この島状の電極を覆って絶縁性の被覆材が形成され、隣り合う２つの島状の電極の間に、被覆材のない開口部が形成され、島状の電極の側面が、開口部に臨んでいるプラズマディスプレイパネルを構成する。
2009063653.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バス電極が誘電体層で被覆され、
前記誘電体層の表面に、前記誘電体層内に形成される静電容量を介して前記バス電極と接合されるように、島状の電極が形成され、
前記島状の電極を覆って、絶縁性の被覆材が形成され、
隣り合う２つの前記島状の電極の間に、前記被覆材のない開口部が形成され、
前記島状の電極の側面が、前記開口部に臨んでいる
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記被覆材に覆われた前記島状の電極が、画素毎に分離されたパターンに形成されていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記島状の電極が前面側基板に配置され、背面側基板に蛍光体が形成されており、前記開口部においては、前記誘電体層が形成されていないことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
バス電極を被覆した誘電体層上に、電極材料をストライプ状に形成する工程と、
前記電極材料上を絶縁性の被覆材で被覆する工程と、
前記電極材料の一部及びその上の前記被覆材を除去して、前記電極材料から成る島状の電極と、前記島状の電極の側面が露出した開口部とを形成する工程とを有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記開口部を形成する工程において、前記被覆材の下の前記誘電体層をも除去することを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス放電を応用した表示装置、所謂プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）は、その電極構造の特徴から、ＡＣ型ＰＤＰとＤＣ型ＰＤＰとに大別される。【０００３】
ＡＣ型ＰＤＰは、図１３Ａに斜視図を示し、図１３Ｂに断面図を示すように、サステイン電極５２及びスキャン電極５３の表面を誘電体層５４で被覆して、この誘電体層５４に静電容量を形成し、更にその表面を酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等の二次電子放射性の高い誘電体材料５５で被覆した構造になっている。
これに対して、ＤＣ型ＰＤＰでは、図示は省略するが、電極表面が誘電体層に被覆されずに放電空間に露出しており、電極表面から二次電子が直接放射される構造を持つことが特徴である。【０００４】
ＡＣ型ＰＤＰとＤＣ型ＰＤＰの動作には、それぞれ次のような特徴がある。
ＡＣ型ＰＤＰは、電極を被覆する誘電体層５４及び酸化マグネシウム層５５の表面に、放電により発生する荷電粒子を蓄積して、所謂壁電荷を形成し、この壁電圧を利用して、一対の電極間にＡＣ型パルス電圧を印加して放電を持続させる。これにより、画素全体にメモリー機能を持たせることができるという特徴がある。
一方、ＤＣ型ＰＤＰは、画素表面が導電性であることから、上述のメモリー機能は持たないが、一定の放電電圧を印加している時間内に直流の放電電流が持続的に流れて、放電発光が行われるという特徴がある。【０００５】
ＡＣ型ＰＤＰでは、電極表面に電荷を蓄積することが特徴であるが、電荷を蓄積させる目的で形成する誘電体層５４の材料（一般的には低融点ガラス等が用いられる）は二次電子放射率が低く、またイオン衝撃に対する耐久性にも欠けている。
そのため、通常のＡＣ型ＰＤＰでは、誘電体層５４の表面を、さらに酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等の、二次電子放射率が高くかつイオン衝撃にも強い物質を、カソードと誘電体層の保護層５５として被覆している。
この場合、上記構造の電極５２，５３をＡＣ型電極として動作させるには、このカソード層兼保護層５５の表面に壁電荷を蓄積させるために、この保護層５５も誘電性の材料を用いなければならない。【０００６】
上述したように、従来のＡＣ型ＰＤＰでは、誘電体層５４の表面をカソード層兼保護層５５となる別の誘電体層で被覆する必要があった。そして、このカソード層兼保護層５５の材料の選択は極めて狭い範囲しかなく、実質的には酸化マグネシウムのみが実用に供されていた。
しかしながら、このような酸化物は、その性質上、非常に不安定であるため、形成方法が難しい。一般的には、真空蒸着法又はスパッタリング法により形成することが行われているが、いずれの方法でも、基板全体を高度な真空装置の中に入れて加熱処理するために長い処理時間がかかる。【０００７】
さらに、製造工程上の大きな問題点として、酸化マグネシウムは吸湿性が高く、容易に水酸化マグネシウムに変化して、カソード材としての機能を消失してしまうという点がある。そのため、ＭｇＯ層の形成工程が、ＰＤＰの製造工程中最も難しい工程とされてきた。【０００８】
上述の問題点に対して、本願の発明者は、先に、誘電体層上に、放電空間に露出させた島状の電極（島電極）を設けて、この島電極から放電させる構成のＡＣ型ＰＤＰを提案している（特許文献１参照）。
この構成は、図１１Ａに斜視図を示し、図１１Ｂに断面図を示すように、サステインバス電極３２及びスキャンバス電極３３を覆っている誘電体層３４上にＭｇＯ層を設けないで、この誘電体層３４の表面に、導電性のカソード材料として、島電極３５が形成されていることが特徴である。【０００９】
従来の図１３Ａ及び図１３Ｂに示した構成では、静電容量が電極５２，５３の近傍の誘電体層５４の表面に分布する形となる。
また、この誘電体層５４に積層されたカソード兼保護層５５もＭｇＯ等の誘電体であるから、カソード兼保護層５５に蓄積される壁電荷も電極５２，５３上に分布する。【００１０】
これに対して、図１１Ａ及び図１１Ｂに示す構成のＡＣ型ＰＤＰでは、静電容量は電極３２，３３と島電極３５に挟まれた誘電体層３４に生じる。そして、導電体である島電極３５の表面電位は一様であるから、静電容量は電極面上に分布しない、いわば集中容量となる。【００１１】
また、図１１Ａ及び図１１Ｂに示す構成のＡＣ型ＰＤＰでは、誘電体層３４が静電容量を形成するためだけに必要であり、２次電子放射機能即ちカソードとしての機能は必要ない。このため、ＭｇＯ等の保護層を設ける必要がなく、誘電体層３４の材料を既にカソード材として実績のある広範囲な金属材料の中から選択することができる。
また、製造面においても、誘電体層３４やその他の層を、スクリーン印刷等の厚膜工程で形成することができ、製造設備が安価で工程時間も大幅に短縮できるため、製造コストの低減効果が大きい。【００１２】
［特許文献１］国際公開０４／０４９３７４号パンフレット
【発明の開示】
【００１３】
従来提案されているＰＤＰは、カソード材兼保護層であるＭｇＯ層５５の主面が、放電空間に露出しており、所謂面放電型となっている。
そのため、図１４Ａに示すように、対向する基板６１の影響を受けて電界が弱まるので、放電電圧を高くする必要がある。
また、放電後、即ち負グローを形成した後において、図１４Ｂに示すように、負グロー６２が、対向する基板６１の影響を受けることにより、放電の損失が増えてしまう。そのため、放電の効率が悪くなってしまう。
【００１４】
上記特許文献１の構成も、同様に、平面状の島電極３５の主面が放電空間に露出した、面放電型となっている。
そのため、図１２Ａに示すように、やはり、対向する基板４１の影響を受けて電界が弱まるので、放電電圧を高くする必要がある。
また、放電後、即ち負グローを形成した後において、図１２Ｂに示すように、島電極３５が導電性のため、負グロー４２が互いに近接する場所に偏在する傾向がある。しかし、この場合もやはり、負グロー４２が対向する基板４１の影響を受けることにより、放電の損失が増えてしまう。そのため、放電の効率が悪くなってしまう。
【００１５】
上述した問題の解決のために、本発明においては、効率良く放電を行うことができるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供するものである。
【００１６】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、バス電極が誘電体層で被覆され、この誘電体層の表面に、誘電体層内に形成される静電容量を介してバス電極と接合されるように、島状の電極が形成され、この島状の電極を覆って絶縁性の被覆材が形成され、隣り合う２つの島状の電極の間に、被覆材のない開口部が形成され、島状の電極の側面が、開口部に臨んでいるものである。
【００１７】
上記本発明のプラズマディスプレイパネルにおいて、被覆材に覆われた島状の電極が、画素毎に分離されたパターンに形成された構成とすることも可能である。
【００１８】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、バス電極を被覆した誘電体層上に、電極材料をストライプ状に形成する工程と、この電極材料上を絶縁性の被覆材で被覆する工程と、電極材料の一部及びその上の被覆材を除去して、電極材料から成る島状の電極と、島状の電極の側面が露出した開口部とを形成する工程とを有するものである。
【００１９】
上記本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、開口部を形成する工程で、被覆材の下の誘電体層をも除去することも可能である。
【００２０】
上述の本発明のプラズマディスプレイパネルの構成によれば、誘電体層の表面に、バス電極と静電容量を介して接合された、島状の電極を形成しているので、この島状の電極を放電電極として用いることができる。これにより、酸化マグネシウムが不要になる。
【００２１】
また、島状の電極の上を絶縁性の被覆材で覆い、隣り合う２つの島状の電極の間に被覆材のない開口部を形成し、この開口部に島状の電極の側面が臨んでいるので、開口部を放電空間として利用することができ、開口部に臨む電極の側面から電界を発生させて、放電させることができる。
開口部を広く取ることができるので、放電空間を広く確保して、輝度を高くすることができる。
【００２２】
そして、開口部に側面が臨む２つの島状の電極の間で主放電が生じることから、負グロー及び陽光柱が、これら２つの島状の電極の間で直線的に並び、放電維持に必要となる負グローを効率良く形成することができる。さらに、負グロー及び陽光柱が、蛍光体を効率良く発光させることができる。
また、島状の電極とバス電極との間の誘電体層に形成される静電容量に蓄積された電荷が、開口部に望む島状の電極の側面という限定された面積から、放電電流として放電空間に放出されるため、放電を安定して発生させることができる。
【００２３】
さらに、開口部の間の被覆材で覆われた部分によって、隣接する画素と放電空間が分離されるので、放電動作が隣接する画素と干渉せず、また紫外線によるクロストークが発生しないようにして、クロストークによる解像度の低下を防止することができる。
【００２４】
上述の本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、電極材料をストライプ状に形成する工程と、この電極材料上を絶縁性の被覆材で被覆する工程と、電極材料の一部及びその上の被覆材を除去して、電極材料から成る島状の電極と、島状の電極の側面が露出した開口部とを形成する工程とを有することにより、開口部に島状の電極の側面が臨んでいる、上述した本発明のプラズマディスプレイパネルの構造を、製造することができる。
そして、電極材料の一部とその上の被覆材を除去して、残った電極材料で島状の電極を形成するので、島状の電極とバス電極とを、位置合わせ精度良く形成することが可能になる。
【００２５】
上記本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、特に、開口部を形成する工程で、被覆材の下の誘電体層をも除去したときには、放電空間となる開口部の誘電体層が除去される。これにより、反射型構造のプラズマディスプレイパネルに適用した場合において、放電により発光した光に対する、誘電体層の透過率の影響をなくすことができるので、誘電体層の透過率を考慮する必要がなくなり、誘電体層の材料の選択の幅を広げることができる。
【００２６】
上述の本発明のプラズマディスプレイパネルの構成によれば、放電空間を広く確保して、輝度を高くすることができる。
また、負グローを効率良く形成することができ、負グロー及び陽光柱が、蛍光体を効率良く発光させることができる。
さらに、電荷が放出される面積が限定されているので、安定した放電を行うことができる。
そして、従来のＰＤＰで用いていた、材料コストや製造コストのかかる酸化マグネシウム層の形成が不要である。
従って、本発明により、放電効率の良好なプラズマディスプレイパネルを実現することができる。
【００２７】
また、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、島状の電極とバス電極とを位置合わせ精度良く形成することが可能になるので、本発明のプラズマディスプレイを、容易に、精度良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明のＰＤＰの一実施の形態の概略構成図（分解斜視図）である。
【図２】図１のＰＤＰの断面図である。
【図３】Ａ  図１のＰＤＰの要部の斜視図である。  Ｂ  図１のＰＤＰの前面側基板の断面図である。
【図４】Ａ、Ｂ  図３Ｂの構造における、放電前の電界と放電後の負グローの状態とをそれぞれ示す図である。
【図５】Ａ、Ｂ  図１のＰＤＰの島電極を通る断面における断面図である。
【図６】Ａ  図１のＰＤＰの平面図である。  Ｂ  図１のＰＤＰのバス電極に平行な断面における断面図である。
【図７】Ａ〜Ｃ  図１のＰＤＰの製造工程を示す工程図である。
【図８】Ｄ，Ｅ  図１のＰＤＰの製造工程を示す工程図である。
【図９】図１のＰＤＰの駆動方法の一形態を説明する図である。
【図１０】本発明のＰＤＰの他の実施の形態の概略構成図（断面図）である。
【図１１】Ａ、Ｂ  誘電体層上に島電極を形成した構造のＡＣ型ＰＤＰの概略構成図である。
【図１２】Ａ、Ｂ  図１１Ｂの構造における、放電前の電界と放電後の負グローの状態とをそれぞれ示す図である。
【図１３】Ａ、Ｂ  ＡＣ型ＰＤＰの概略構成図である。
【図１４】Ａ、Ｂ  図１３Ｂの構造における、放電前の電界と放電後の負グローの状態とをそれぞれ示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、図面を参照して、本発明のＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）の具体的な実施の形態を説明する。
本発明のＰＤＰの一実施の形態の概略構成図を、図１及び図２に示す。図１は、ＰＤＰの分解斜視図を示している。図２は、ＰＤＰの断面図を示している。【００３０】
図１及び図２に示すように、このＰＤＰは、前面側基板と背面側基板１０とが対向して配置され、これらの基板の間に放電空間が形成されている。【００３１】
背面側基板１０は、基板１１上にストライプ状のアドレス電極１２が形成され、このアドレス電極１２を被覆して、誘電体層１３が形成されている。そして、誘電体層１３の上には、２つのアドレス電極１２の間の部分において、ストライプ状のアドレス電極１２と平行に、リブ（隔壁）１４が形成されている。また、リブ（隔壁）１４の側面及び２つのリブ１４の間の空間の底面に、蛍光体１５が形成されており、この蛍光体１５によって蛍光面を構成している。
前面側基板は、ガラス基板１と、ストライプ状に形成された、サステインバス電極２及びスキャンバス電極３と、これらの電極２，３を被覆する誘電体層４とを有している。また、図１１Ａ及び図１１Ｂに示した構成と同様に、誘電体層４の表面に、島状の電極（島電極）５が形成されている。【００３２】
ここで、図１及び図２に示した本実施の形態のＰＤＰの要部の斜視図を図３Ａに示し、前面側基板の断面図を図３Ｂに示す。
本実施の形態のＰＤＰにおいては、図２に示したように、前面側基板の島電極５を覆って、カバーガラス６が設けられている。
さらに、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、ストライプ状のサステインバス電極２及びスキャンバス電極３と直交する方向に並ぶ、２つの島電極５の間において、カバーガラス６に誘電体層４に達する開口部８が形成されており、この開口部８の側壁７に島電極５の側面が臨んでいる構成となっている。【００３３】
本実施の形態のＰＤＰは、このように構成されていることにより、開口部８を挟んで対向し、側面が開口部８に露出している２つの島電極５の間で、図２に太い矢印で示す主放電を生じる。即ち、面放電型構造ではなく、対向放電型構造となっている。この主放電は、サステインバス電極２及びスキャンバス電極３の間に、図２に示すようなパルス電圧を印加することにより、発生させることができる。
また、背面側基板１０のアドレス電極１２と、スキャンバス電極３側にある島電極５との間で、アドレス放電を生じる。【００３４】
そして、本実施の形態のＰＤＰにおいては、図４Ａに示すように、放電前の電界は、側面が開口部８に露出している２つの島電極５の間で生じるので、対向する基板１０の影響を受けない、これにより、強い電界強度が得られるので、放電電圧を低くすることが可能になる。
また、放電後、即ち負グローを形成した後において、図４Ｂに示すように、負グロー２０、陽光柱が直線状に並び、電流の流れが阻害されないので、放電の効率が良くなる。【００３５】
本実施の形態のＰＤＰにおいて、前面側基板の各層の材料としては、それぞれ、以下に挙げる材料を使用することができる。
サステインバス電極２及びスキャンバス電極３には、Ａｇ，Ｎｉ，Ｃｕ等の導電性金属材料を用いることができる。
誘電体層４には、低融点ガラス等を用いることができる。
島電極５には、導電性であって、二次電子放出能力が高く、イオン衝撃に強い材料を用いる。島電極５には、ＬａＢ６，Ｎｉ，Ａｌ，Ｂａ等の導電性材料を用いることができる。
カバーガラス６には、低融点ガラス等を用いることができる。なお、カバーガラス６は誘電体層４と同じ低融点ガラスでなくても構わない。【００３６】
背面側基板１０のガラス基板１１、アドレス電極１２、誘電体層１３、リブ１４、蛍光体１５には、従来のＰＤＰに用いられている材料と、同様の材料を用いることができる。
なお、図１及び図２では、リブ１４が誘電体層１３とは別に形成されているが、リブ１４を誘電体層１３と同じ材料により、誘電体層１３と一体化して形成しても構わない。例えば、板状の低融点ガラスに対して、エッチング等によってストライプ状の溝を形成することにより、リブ１４及び誘電体層１３を一体化して形成することが可能である。【００３７】
次に、本実施の形態のＰＤＰにおける、画素の配列の一形態を、図５Ａ及び図５Ｂの断面図を参照して説明する。図５Ａ及び図５Ｂは、いずれも島電極５を通る断面における断面図であり、図５Ａはアドレス電極１２に平行な断面における断面図を示し、図５Ｂは図５ＡのＸ−Ｘ(バス電極２，３に平行な断面)における断面図を示している。
この図５Ａ及び図５Ｂに示す画素の配列では、隣接する画素とバス電極２，３を共通に形成している。
そのため、この画素の配列の場合には、ＰＤＰがインターレース駆動によって駆動される。即ち、画素が一つ飛びに駆動される。【００３８】
この画素の配列の場合の、ＰＤＰの平面図を、図６Ａに示す。また、図６Ａの平面図に対応した、図５Ｂと同様のバス電極２，３に平行な断面における断面図を、図６Ｂに示す。
図１及び図３Ａでは、島電極５及びカバーガラス６の開口部８を、いずれも、アドレス電極１２と平行な方向に長い矩形状のパターンとしていた。
この図６Ａに示す配列の場合には、島電極５が正方形に近いパターンとなっており、カバーガラス６の開口部８がバス電極２，３に平行な方向に長い矩形状のパターンとなっている。その他の位置関係は、図１及び図３Ａと同様である。【００３９】
続いて、本実施の形態のＰＤＰの製造方法について説明する。
本実施の形態のＰＤＰは、例えば以下のようにして、製造することができる。【００４０】
まず、図７Ａに示すように、ガラス基板上に、サステインバス電極２及びスキャンバス電極３を、ストライプ状のパターンに形成する。例えば、スクリーン印刷により、Ａｇ，Ｎ１，Ｃｕ等の導電性材料を形成する。【００４１】
次に、図７Ｂに示すように、サステインバス電極２及びスキャンバス電極３を覆って、誘電体層４を形成する。例えば、スクリーン印刷により、低融点ガラスを形成する。【００４２】
次に、図７Ｃに示すように、誘電体層４上に、島電極５となる導電性材料２１を、バス電極２，３と直交する方向のストライプ状に形成する。例えば、スクリーン印刷により、ＬａＢ６，Ｎｉ等の導電性材料を形成する。【００４３】
次に、図８Ｄに示すように、導電性材料２１を覆って、カバーガラス６を形成する。例えば、スクリーン印刷やコーティングにより、低融点ガラスを形成する。【００４４】
次に、図８Ｅに示すように、サンドブラストやエッチング等により、カバーガラス６及びその下の導電性材料２１を除去する加工を行って、誘電体層４に達する開口部８を形成する。これにより、ストライプ状であった導電性材料２１が島状に分離されて、この導電性材料２１から成る島電極５が形成されると共に、島電極５の側面が開口部８の側壁に露出する。【００４５】
そして、図示しないが、従来のＰＤＰの製造工程と同様にして、背面側基板１０を作製し、その後、前面側基板と背面側基板とを組み立てる。
このようにして、本実施の形態のＰＤＰを製造することができる。【００４６】
次に、図５〜図６に示した配列とした場合の、駆動方法の一形態を説明する。
図５〜図６に示した配列では、隣接する画素とバス電極２，３を共用しているので、前述したように、インターレース駆動を行う。【００４７】
図９の断面図に示すように、サステインバス電極２のうち、第１のサステインバス電極ＳＵＳ１、第３のサステインバス電極ＳＵＳ３、・・・というように、奇数番目のサステインバス電極２が、奇数のサステイン配線（ＳＵＳ  Ｏｄｄ）に共通に接続されている。また、サステインバス電極２のうち、第２のサステインバス電極ＳＵＳ２、図示しない第４のサステインバス電極ＳＵＳ４、・・・というように、偶数番目のサステインバス電極２が、偶数のサステイン配線（ＳＵＳ  Ｅｖｅｎ）に共通に接続されている。
一方、スキャンバス電極３（ＳＣＡＮ１，ＳＣＡＮ２，・・・）は、それぞれ独立している。
それぞれのサステインバス電極ＳＵＳ１，ＳＵＳ２，ＳＵＳ３，・・・及びスキャンバス電極ＳＣＡＮ１，ＳＣＡＮ２，・・・と、その下の島電極５との間には、静電容量Ｃが形成される。【００４８】
第１のサステインバス電極ＳＵＳ１と、第１のスキャンバス電極ＳＣＡＮ１との間にある、第１の画素Ｐ１では、背面側基板１０のアドレス電極１２と第１のスキャンバス電極ＳＣＡＮ１との間でアドレス放電を生じ、第１のサステインバス電極ＳＵＳ１の下の島電極５と第１のスキャンバス電極ＳＣＡＮ１の下の島電極５との間で主放電を生じる。
奇数番目のサステインバス電極２（ＳＵＳ１，ＳＵＳ３，・・・）が共通のサステイン配線ＳＵＳ  Ｏｄｄに接続されているので、この第１の画素Ｐ１の第１のサステインバス電極ＳＵＳ１に電圧が供給されているときに、第３のサステインバス電極ＳＵＳ３にも電圧が供給されているので、第３のサステインバス電極ＳＵＳ３の両側の第４の画素Ｐ４と第５の画素Ｐ５（図示せず）についても、スキャンバス電極３への電圧供給を行って、放電による画像表示を行うことができる。
一方、偶数番目のサステインバス電極２（ＳＵＳ２，・・・）の共通のサステイン配線ＳＵＳ  Ｅｖｅｎに電圧が供給されているときには、偶数番目のサステインバス電極２の両側の第２の画素Ｐ２及び第３の画素Ｐ３について、スキャンバス電極３への電圧供給を行って、放電による画像表示を行うことができる。【００４９】
上述の本実施の形態によれば、前面側基板の島電極５を覆って、カバーガラス６が設けられ、ストライプ状のサステインバス電極２及びスキャンバス電極３と直交する方向に並ぶ、２つの島電極５の間において、カバーガラス６に誘電体層４に達する開口部８が形成されており、この開口部８の側壁７に島電極５の側面が臨んでいる構成となっている。
これにより、開口部８を広く取れるので、放電空間を広く確保して、輝度を高くすることができる。
また、開口部８に側面が臨む２つの島電極５の間で主放電を生じるので、負グロー２０及び陽光柱が、これら２つの島電極５の間で直線的に並び、放電維持に必要な負グロー２０が効率良く形成させる。さらに、負グロー２０及び陽光柱が、共に背面側基板１０の蛍光体１５を効率良く発光させることができる。【００５０】
そして、島電極５とバス電極２，３との間の誘電体層４に形成される静電容量Ｃに蓄積された電荷が、開口部８に望む側面という限定された面積から、放電電流として放電空間に放出されるため、放電を安定して発生させることができる。
さらに、開口部８の間のカバーガラス６で覆われた部分によって、隣接する画素と放電空間が分離され、電界が２つの島電極５の間で直線的に発生し、電界が上下方向に広がらない。これにより、放電動作が隣接する画素と干渉せず、また紫外線によるクロストークが発生しないようにして、クロストークによる解像度の低下を防止することができる。【００５１】
さらにまた、図７Ａ〜図８Ｅで説明した本実施の形態の製造工程によれば、ストライプ状に形成した導電性材料２１及びその上のカバーガラス６を加工して、開口部８を形成することにより、バス電極２，３と導電性材料２１から成る島電極５とを、位置合わせ精度良く形成することができる。【００５２】
上述の実施の形態では、隣接する画素で島電極５を共用しているが、本発明のＰＤＰにおいて、隣接する画素で島電極をそれぞれ独立して形成することも可能である。
その場合の実施の形態を、次に示す。【００５３】
本発明のＰＤＰの他の実施の形態の概略構成図（断面図）を、図１０に示す。
本実施の形態においては、特に、島電極５を画素毎に独立させている点で、先の実施の形態とは構成が異なっている。
島電極５を画素毎に独立させたので、図示の開口部８の左右にある、カバーガラス６に覆われている部分のそれぞれに、２つの島電極５と、１つのサステインバス電極２と、１つのスキャンバス電極３が設けられている。【００５４】
この図１０の場合、開口部８の左のカバーガラス６内のサステインバス電極２と、開口部８の右のカバーガラス６内のスキャンバス電極３とに、それぞれ電圧を供給することにより、各電極２，３の下にあって開口部８に臨んで対向する２つの島電極５の間で、主放電を生じることになる。
このようにして各画素で独立して駆動させることができるため、インターレース駆動が不要になる。【００５５】
その他の構成は、先に示した実施の形態と同様であるので、重複説明を省略する。【００５６】
本実施の形態のＰＤＰを製造する場合には、図７Ａ〜図８Ｅに示した先の実施の形態の製造工程を一部変更する必要がある。
図７Ａに示したバス電極２，３を形成する工程において、ストライプ状の導電性材料が２つずつ近接して並行するように形成する。
図７Ｃに示した工程において、ストライプ状の導電性材料２１が、近接して並行するバス電極２，３の間で分離されたパターンに形成する。そのようなパターンでスクリーン印刷する方法や、繋がったパターンに形成してから分離する方法を、採用することが可能である。
このように製造工程を一部変更するので、やや製造工程が難しくなる。【００５７】
なお、上述の各実施の形態では、島電極５を前面側基板に配置して、蛍光体１５を背面側基板１０に形成した所謂反射型構造としているが、本発明は、蛍光体を前面側に配置し、島電極を背面側に配置した透過型構造のＰＤＰにも適用することができる。【００５８】
また、上述の各実施の形態では、開口部８を誘電体層４に達するように形成していたが、さらに誘電体層４をも除去して、ガラス基板１に達するように開口部８を形成することも可能である。
ただし、この場合、バス電極２，３の周囲が誘電体層４に覆われた状態で残るように、誘電体層４を除去する。
なお、島電極５を前面側基板に配置した反射型構造においては、このように誘電体層４を除去した構成とすると、放電空間となる開口部８において誘電体層４が除去されていることにより、放電により発光した光に対する、誘電体層４の透過率の影響をなくすことができる。これにより、誘電体層４の透過率を考慮する必要がなくなり、誘電体層４の材料の選択の幅を広げることができる。【００５９】
また、島電極５の形状は、上述の各実施の形態のような矩形状に限定されるものではなく、他の形状も可能である。
島電極５を矩形状とすると、図７Ｃ〜図８Ｅに示した各工程で、容易に島電極５を形成することができる、という利点を有する。【００６０】
また、上述の各実施の形態では、島電極５を覆ってカバーガラス６を形成していたが、本発明において島状の電極を覆う被覆材は、絶縁性の被覆材であれば、その他の材料を使用することも可能である。
特に、放電空間となる開口部には被覆材が形成されていないので、被覆材の透過率の影響がないため、透過率の低い絶縁性材料を被覆材に使用することも可能である。【００６１】
また、上述の各実施の形態では、リブ（隔壁）１４をストライプ状に形成していたが、本発明においては、隔壁を、放電空間を画素毎に分離するように、ボックス状や格子状に形成しても構わない。【００６２】
本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【引用符号の説明】
【００６３】
１…ガラス基板、２…サステインバス電極、３…スキャンバス電極、４，１３…誘電体層、５…島電極、６…カバーガラス、８…開口部、１０…背面側基板、１２…アドレス電極、１４…リブ（隔壁)、１５…蛍光体、２０…負グロー、Ｃ…静電容量
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年7月1日(2008.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バス電極が誘電体層で被覆され、
前記誘電体層の表面に、前記誘電体層内に形成される静電容量を介して前記バス電極と接合されるように、島状の電極が形成され、
前記島状の電極を覆って、絶縁性の被覆材が形成され、
隣り合う２つの前記島状の電極の間に、前記被覆材のない開口部が形成され、
前記島状の電極のうち側面のみが、前記開口部に臨んでいる
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記被覆材に覆われた前記島状の電極が、画素毎に分離されたパターンに形成されていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記島状の電極が前面側基板に配置され、背面側基板に蛍光体が形成されており、前記開口部においては、前記誘電体層が形成されていないことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
バス電極を被覆した誘電体層上に、電極材料をストライプ状に形成する工程と、
前記電極材料上を絶縁性の被覆材で被覆する工程と、
前記電極材料の一部及びその上の前記被覆材を除去して、前記電極材料から成る島状の電極と、前記島状の電極の側面が露出した開口部とを形成する工程とを有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記開口部を形成する工程において、前記被覆材の下の前記誘電体層をも除去することを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【国際調査報告】
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