(57)【要約】  光電変換効率の高い光起電力素子を提供するために、（ａ）ベンゾチアジアゾール骨格とオリゴチオフェン骨格とを含み、（ｂ）バンドギャップ（Ｅｇ）が１．８ｅＶ以下であり、（ｃ）最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位が−４．８ｅＶ以下であるベンゾチアジアゾール化合物を含む電子供与性有機材料であって、前記ベンゾチアジアゾール化合物が、ベンゾチアジアゾール骨格とオリゴチオフェン骨格が交互に共有結合したものであり、ベンゾチアジアゾール骨格：オリゴチオフェン骨格の比が１：１〜１：２の範囲（ただし、１：１は除く）であり、１つのオリゴチオフェン骨格に含まれるチオフェン環の数が３個以上１２個以下である電子供与性有機材料とする。
2009125647.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ベンゾチアジアゾール骨格とオリゴチオフェン骨格とを含み、（ｂ）バンドギャップ（Ｅｇ）が１．８ｅＶ以下であり、（ｃ）最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位が−４．８ｅＶ以下であるベンゾチアジアゾール化合物を含む電子供与性有機材料であって、前記ベンゾチアジアゾール化合物が、ベンゾチアジアゾール骨格とオリゴチオフェン骨格が交互に共有結合したものであり、ベンゾチアジアゾール骨格：オリゴチオフェン骨格の比が１：１〜１：２の範囲（ただし、１：１は除く）であり、１つのオリゴチオフェン骨格に含まれるチオフェン環の数が３個以上１２個以下である電子供与性有機材料。
【請求項２】
前記ベンゾチアジアゾール化合物のベンゾチアジアゾール骨格が２，１，３−ベンゾチアジアゾール−４，７−ジイルであり、オリゴチオフェン骨格がオリゴ（チオフェン−２，５−ジイル）である請求項１記載の電子供与性有機材料。
【請求項３】
前記ベンゾチアジアゾール化合物が一般式（１）で表される構造を有する請求項２記載の電子供与性有機材料。
【化１】
2009125647.tif 000027
（Ｒ１〜Ｒ１８は同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲンの中から選ばれる。Ａは６員環構造を有する２価のアリーレン基または６員環構造を有する２価のヘテロアリーレン基である。ｍは０または１である。ｎは１以上１０００以下の範囲を表す。）
【請求項４】
電子受容性有機材料および請求項１〜３いずれかに記載の電子供与性有機材料を含む光起電力素子用材料。
【請求項５】
電子受容性有機材料がフラーレン化合物である請求項４記載の光起電力素子用材料。
【請求項６】
少なくとも正極と負極を有する光起電力素子であって、負極と正極の間に請求項４または５記載の光起電力素子用材料を含む光起電力素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子供与性有機材料、光起電力素子用材料およびこれを用いた光起電力素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池は環境に優しい電気エネルギー源として注目されている。現在、太陽電池の光起電力素子の半導体素材としては、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコン、化合物半導体などの無機物が使用されている。しかし、無機半導体を用いて製造される太陽電池は、火力発電や原子力発電などの発電方式と比べてコストが高いために、一般家庭に広く普及するには至っていない。コスト高の要因は主として、真空かつ高温下で半導体薄膜を製造するプロセスにある。そこで、製造プロセスを簡略化するため、共役系重合体や有機結晶などの有機半導体や有機色素を半導体素材として用いた有機太陽電池が検討されている。【０００３】
しかし、共役系重合体などの有機半導体を用いた有機太陽電池は、従来の無機半導体を用いた太陽電池と比べて光電変換効率が低いことが最大の課題であり、まだ実用化には至っていない。従来の共役系重合体を用いた有機太陽電池の光電変換効率が低い理由として、主に次の３点が挙げられる。第１に、太陽光の吸収効率が低いことである。第２に、太陽光によって生成された電子と正孔が分離しにくいエキシトンという束縛状態が形成されることである。第３に、キャリア（電子、正孔）を捕獲するトラップが形成されやすいため、生成したキャリアがトラップに捕獲されやすく、キャリアの移動度が低いことである。すなわち、半導体素材には一般にその素材が有するキャリアに高い移動度μが要求されるが、共役系重合体では従来の無機結晶半導体やアモルファスシリコンと比べて移動度μが低いという課題がある。【０００４】
このため、生成した電子と正孔をエキシトンからうまく分離する手段と、共役系重合体の非晶領域や共役系重合体鎖間でのキャリアの散乱やトラップによるキャリアの捕捉を抑制して移動度を向上できる手段を見出すことが、有機半導体による太陽電池を実用化するための鍵となる。【０００５】
これまでに知られている有機半導体による光電変換素子は、現在のところ一般的に次のような素子構成に分類することができる。電子供与性有機材料（ｐ型有機半導体）と仕事関数の小さい金属を接合させるショットキー型、電子受容性有機材料（ｎ型有機半導体）と電子供与性有機材料（ｐ型有機半導体）を接合させるヘテロ接合型などである。これらの素子は、接合部の有機層（数分子層程度）のみが光電流生成に寄与するため光電変換効率が低く、その向上が課題となっている。【０００６】
光電変換効率向上の一つの方法として、電子受容性有機材料（ｎ型有機半導体）と電子供与性有機材料（ｐ型有機半導体）を混合し、光電変換に寄与する接合面を増加させたバルクヘテロ接合型（例えば、非特許文献１参照）がある。なかでも、電子供与性有機材料（ｐ型有機半導体）として共役系重合体を用い、電子受容性有機材料としてｎ型の半導体特性をもつ導電性高分子、Ｃ６０などのフラーレンやカーボンナノチューブを用いた光電変換材料が報告されている（例えば、非特許文献２〜３、特許文献１〜２参照）。【０００７】
また、太陽光スペクトルの広い範囲にわたる放射エネルギーを効率よく吸収させるために、主鎖に電子供与性基と電子吸引性基を導入し、バンドギャップを小さくした有機半導体による光電変換材料が報告されている（例えば、非特許文献４参照）。この電子供与性基としてはチオフェン骨格が、電子吸引性基としてはベンゾチアジアゾール骨格が精力的に研究されている（例えば、非特許文献５〜６、特許文献３〜６参照）。しかしながら、十分な光電変換効率は得られていなかった。
【非特許文献１】Ｊ．Ｊ．Ｍ．Ｈａｌｌｓ、Ｃ．Ａ．Ｗａｌｓｈ、Ｎ．Ｃ．Ｇｒｅｅｎｈａｍ、Ｅ．Ａ．Ｍａｒｓｅｇｌｌａ、Ｒ．Ｈ．Ｆｒｉｒｎｄ、Ｓ．Ｃ．Ｍｏｒａｔｔｉ、Ａ．Ｂ．Ｈｏｍｅｓ著、「ネイチャー（Ｎａｔｕｒｅ）」、１９９５年、３７６号、４９８頁
【非特許文献２】Ｅ．Ｋｙｍａｋｉｓ、Ｇ．Ａ．Ｊ．Ａｍａｒａｔｕｎｇａ著、「アプライド  フィジクス  レターズ（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ）」（米国）、２００２年、８０巻、１１２頁
【非特許文献３】Ｇ．Ｙｕ、Ｊ．Ｇａｏ、Ｊ．Ｃ．Ｈｕｍｍｅｌｅｎ、Ｆ．Ｗｕｄｌ、Ａ．Ｊ．Ｈｅｅｇｅｒ著、「サイエンス（Ｓｃｉｅｎｃｅ）」、１９９５年、２７０巻、１７８９頁
【非特許文献４】Ｅ．Ｂｕｎｄｇａａｒｄ、Ｆ．Ｃ．Ｋｒｅｂｓ著、「ソーラー  エナジー  マテリアルズ  アンド  ソーラー  セル（Ｓｏｌａｒ  Ｅｎｅｒｇｙ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ＆  Ｓｏｌａｒ  Ｃｅｌｌｓ）」、２００７年、９１巻、９５４頁
【非特許文献５】Ｘ．Ｌｉ、Ｗ．Ｚｅｎｇ、Ｙ．Ｚｈａｎｇ、Ｑ．Ｈｏｕ、Ｗ．Ｙａｎｇ、Ｙ．Ｃａｏ著、「ヨーロピアン  ポリマー  ジャーナル（Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｊｏｕｒｎａｌ）」、２００５年、４１巻、２９２３頁
【非特許文献６】Ｅ．Ｂｕｎｄｇａａｒｄ、Ｆ．Ｃ．Ｋｒｅｂｓ著、「マクロモレキュルズ（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）」、２００６年、３９巻、２８２３頁
【特許文献１】特開２００３−３４７５６５号公報
【特許文献２】特開２００４−１６５４７４号公報
【特許文献３】米国特許出願公開第２００６−５２６１２号明細書
【特許文献４】特開２００３−１０４９７６号公報
【特許文献５】米国特許出願公開第２００６−１７４９３７号明細書
【特許文献６】米国特許出願公開第２００４−１１５４７３号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述のように、従来の有機太陽電池はいずれも光電変換効率が低いことが課題であった。本発明は光電変換効率の高い光起電力素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
すなわち本発明は、（ａ）ベンゾチアジアゾール骨格とオリゴチオフェン骨格とを含み、（ｂ）バンドギャップ（Ｅｇ）が１．８ｅＶ以下であり、（ｃ）最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位が−４．８ｅＶ以下であるベンゾチアジアゾール化合物を含む電子供与性有機材料であって、前記ベンゾチアジアゾール化合物が、ベンゾチアジアゾール骨格とオリゴチオフェン骨格が交互に共有結合したものであり、ベンゾチアジアゾール骨格：オリゴチオフェン骨格の比が１：１〜１：２の範囲（ただし、１：１は除く）であり、１つのオリゴチオフェン骨格に含まれるチオフェン環の数が３個以上１２個以下である電子供与性有機材料、これを用いた光起電力素子用材料および光起電力素子である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、高い短絡電流密度（Ｉｓｃ）と高い開放電圧（Ｖｏｃ）を両立した、光電変換効率の高い光起電力素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の光起電力素子の一態様を示した模式図。
【図２】本発明の光起電力素子の別の態様を示した模式図。
【符号の説明】
【００１２】
１  基板
２  正極
３  有機半導体層
４  負極
５  一般式（１）で表される構造を有するベンゾチアジアゾール化合物を有する層
６  電子受容性有機材料を有する層
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の電子供与性有機材料は、（ａ）ベンゾチアジアゾール骨格とオリゴチオフェン骨格とを含み、（ｂ）バンドギャップ（Ｅｇ）が１．８ｅＶ以下であり、（ｃ）最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位が−４．８ｅＶ以下であるベンゾチアジアゾール化合物を含む。本発明の電子供与性有機材料は、光起電力素子用材料、有機電界発光素子用材料、有機トランジスタ用材料、波長変換素子用材料、有機レーザー用材料などに用いることができ、中でも光起電力素子用材料として好ましく用いることができる。以下、本発明の電子供与性有機材料に用いられるベンゾチアジアゾール化合物について説明する。【００１４】
本発明に用いられるベンゾチアジアゾール化合物は、（ａ）ベンゾチアジアゾール骨格とオリゴチオフェン骨格とを含む。ここで、オリゴチオフェン骨格とは、３個以上１２個以下のチオフェン環同士が共役結合で連結された骨格を指す。ベンゾチアジアゾール骨格とオリゴチオフェン骨格の両者を有することにより、（１）深い最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位、（２）広い吸収波長領域、（３）高いキャリア移動度を、高いレベルで両立することが可能となる。さらに、１つのオリゴチオフェン骨格に含まれるチオフェン環の数を３個以上とすることにより、ベンゾチアジアゾール化合物の光吸収波長領域をより広くすることができる。このため、光起電力素子において高い短絡電流（Ｉｓｃ）を得ることができる。４個以上がさらに好ましい。一方、１つのオリゴチオフェン骨格に含まれるチオフェン環の数を１２個以下とすることにより、ベンゾチアジアゾール化合物の最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位をより深くすることができる。このため、光起電力素子において高い開放電圧（Ｖｏｃ）を得ることができる。８個以下がさらに好ましい。【００１５】
また、本発明に用いられるベンゾチアジアゾール化合物は、（ｂ）バンドギャップ（Ｅｇ）が１．８ｅＶ以下である。バンドギャップとは最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位と最低空分子軌道（ＬＵＭＯ）準位とのエネルギー差を示す。これを１．８ｅＶ以下とすることにより、光の吸収効率を高くすることができる。特に、光起電力素子用材料として用いる場合、バンドギャップが１．８ｅＶを超えると、太陽光の吸収効率が低下するため、光電変換効率が低下する。一方、バンドギャップが小さすぎると開放電圧（Ｖｏｃ）の低下をもたらす場合がある。この観点から、バンドギャップは１．８ｅＶ以下０．８ｅＶ以上であることが好ましく、１．８ｅＶ以下１．２ｅＶ以上であることがより好ましく、１．８ｅＶ以下１．４ｅＶ以上であることがより好ましく、１．８ｅＶ以下１．６ｅＶ以上であることがさらに好ましい。ここで、ベンゾチアジアゾール化合物のバンドギャップは、ベンゾチアジアゾール化合物から薄膜を形成し、その光吸収端から下記式を用いて求められる。【００１６】
Ｅｇ（ｅＶ）＝１２４０／薄膜の光吸収端波長（ｎｍ）
ここで用いる薄膜の形成方法は特に限定されるものではないが、通常、クロロホルム、テトラヒドロフラン、クロロベンゼンなどの有機溶媒に溶解させて、スピンコートなどのウェットコーティング法によりガラス基板上に薄膜を形成する。薄膜の厚さは、薄すぎると吸光度が低すぎ、厚すぎると吸光度が高すぎて測定に支障を来たす場合があるため、通常、５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。【００１７】
ベンゾチアジアゾール化合物のバンドギャップを１．８ｅＶ以下にするためには、分子内チャージトランスファー（ＣＴ）を起こしやすくすることが有効である。すなわち、電子吸引性基であるベンゾチアジアゾール骨格と電子供与性基であるオリゴチオフェン骨格を交互に共有結合させることが有効である。また、オリゴチオフェンを構成するチオフェン環同士のねじれを最小限に留めることも、バンドギャップを１．８ｅＶ以下にするために有効である。このためには、隣り合う２つのチオフェン環の２つの隣接置換基のうち、少なくとも１つを立体障害の小さい水素原子とすることが有効である。【００１８】
また、本発明に用いられるベンゾチアジアゾール化合物は、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位を深くすること、具体的には（ｃ）で記述したように−４．８ｅＶ以下とすることが重要である。最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位が−４．８ｅＶを超えると、光起電力素子の開放電圧（Ｖｏｃ）が低下するため、光電変換効率が低下する。一方、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位が低すぎると、励起子が電荷分離して生成する電子と正孔が電子受容性有機材料側で再結合して消滅する場合がある。この観点から、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−４．８ｅＶ以下−６．５ｅＶ以上であることが好ましく、−４．８ｅＶ以下−６．１ｅＶ以上であることがより好ましく、−４．８ｅＶ以下−５．５ｅＶ以上であることがより好ましく、−４．８ｅＶ以下−５．３ｅＶ以上であることがさらに好ましい。ここで、ベンゾチアジアゾール化合物の最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は、ベンゾチアジアゾール化合物から薄膜を形成し、その光電子分光測定により求められる。ここで用いる薄膜の形成方法は特に限定されるものではないが、通常、上述の方法を用いることができる。薄膜の厚さは、薄すぎると下地の基板の影響を受け、厚すぎると膜厚にムラができて測定に支障を来たす場合があるため、通常、５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。なお、−４．８ｅＶ以下とは、−４．９ｅＶ、−５．０ｅＶのように、その絶対値が４．８以上であることを示す。【００１９】
ＨＯＭＯを−４．８ｅＶ以下にするには、電子供与性基であるオリゴチオフェン骨格の数と、このオリゴチオフェン骨格に含まれるチオフェン環の数の両者が多すぎないことが重要である。具体的には、電子吸引性基であるベンゾチアジアゾール骨格：電子供与性基であるオリゴチオフェン骨格の比が、１：１〜１：２（ただし、１：１は除く）であることが好ましく、また、１つのオリゴチオフェン骨格に含まれるチオフェン環の数を１２個以下にすることが好ましい。【００２０】
また、光吸収波長領域をより広くし、キャリア移動度をより高くし、化学的安定性や熱的安定性を確保する観点から、前記ベンゾチアジアゾール化合物のベンゾチアジアゾール骨格の連結位置は、４，７位が好ましい。具体的には、２，１，３−ベンゾチアジアゾール−４，７−ジイルが好ましい。また、同様の観点から、チオフェン環の連結位置は、２，５位（チオフェン環に含まれる硫黄原子の隣接炭素）が好ましい。具体的には、オリゴチオフェン骨格はオリゴ（チオフェン−２，５−ジイル）が好ましい。【００２１】
上述のような特徴を有するベンゾチアジアゾール化合物として、下記一般式（１）で表される構造を有する化合物が好ましい。ベンゾチアジアゾール骨格とオリゴチオフェン骨格をランダムに配置する場合に比べ、一般式（１）のように、オリゴチオフェン骨格−ベンゾチアジアゾール骨格−オリゴチオフェン骨格と、規則的に配置することにより、長波長領域の光吸収効率が向上する。【００２２】
【化１】
2009125647.tif 000003
【００２３】
上記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ１８は同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲンの中から選ばれる。Ａは６員環構造を有する２価のアリーレン基または６員環構造を有する２価のヘテロアリーレン基を表す。ｍは０または１である。ｎは１以上１０００以下の範囲を表す。【００２４】
ここで、アルキル基とは、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基のような飽和脂肪族炭化水素基を示す。アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよく、無置換でも置換されていてもかまわない。置換される場合の置換基の例としては、後述するアルコキシ基やアリール基、ヘテロアリール基、ハロゲンが挙げられる。アルキル基の炭素数は、加工性の観点から２個以上が好ましく、光吸収効率をより高くするために２０個以下が好ましい。【００２５】
また、アルコキシ基とは、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのエーテル結合を介した脂肪族炭化水素基を示す。脂肪族炭化水素基は無置換でも置換されていてもかまわない。アルコキシ基の炭素数は、加工性の観点から２個以上が好ましく、光吸収効率をより高くするために２０個以下が好ましい。置換される場合の置換基の例としては、後述するアリール基やヘテロアリール基、ハロゲンが挙げられる。【００２６】
また、アリール基とは、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、アントリル基、ターフェニル基、ピレニル基、フルオレニル基、ペリレニル基などの芳香族炭化水素基を示す。アリール基は無置換でも置換されていてもかまわない。アリール基の炭素数は、加工性の観点から６個以上が好ましく、３０個以下が好ましい。置換される場合の置換基の例としては、アルキル基や、後述するヘテロアリール基、ハロゲンが挙げられる。【００２７】
また、ヘテロアリール基とは、例えば、チエニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、キノリニル基、イソキノリル基、キノキサリル基、アクリジニル基、インドリル基、カルバゾリル基、ベンゾフラン基、ジベンゾフラン基、ベンゾチオフェン基、ジベンゾチオフェン基、ベンゾジチオフェン基、シロール基、ベンゾシロール基、ジベンゾシロール基などの炭素以外の原子を有する複素芳香環基を示す。ヘテロアリール基は無置換でも置換されていてもかまわない。置換される場合の置換基の例としては、アルキル基、アリール基や、後述するハロゲンが挙げられる。【００２８】
また、ハロゲンはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素である。【００２９】
また、６員環構造を有する２価のアリーレン基とは、２価（結合部位が２箇所）の芳香族炭化水素基を示す。アリーレン基は無置換でも置換されていてもかまわない。置換される場合の置換基の例としては、アルキル基や、ヘテロアリール基、ハロゲンが挙げられる。６員環構造を有する２価のアリーレン基の好ましい具体例としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フェナントリレン基、アントリレン基、ターフェニレン基、ピレニレン基、フルオレニレン基、ペリレニレン基などが挙げられる。【００３０】
また、６員環構造を有する２価のヘテロアリーレン基とは、２価の複素芳香環基のうち、６員環構造を有するものを示す。ヘテロアリーレン基は無置換でも置換されていてもかまわない。置換される場合の置換基の例としては、アルキル基や、アリール基、ハロゲンが挙げられる。６員環構造を有する２価のヘテロアリーレン基の好ましい具体例しては、ピリジレン基、ピラジレン基、キノリニレン基、イソキノリレン基、キノキサリレン基、アクリジニレン基、インドリレン基、カルバゾリレン基、ベンゾフラン基、ジベンゾフラン基、ベンゾチオフェン基、ジベンゾチオフェン基、ベンゾジチオフェン基、ベンゾシロール基、ジベンゾシロール基などが挙げられる。【００３１】
上記一般式（１）で表される化合物におけるＲ１〜Ｒ１８は、合成の容易さと溶解性を確保する観点から、水素、アルキル基またはアルコキシ基が好ましい。【００３２】
一般式（１）のｎはベンゾチアジアゾール化合物の重合度を示し、１以上１０００以下の範囲である。膜形成の容易さから、ベンゾチアジアゾール化合物は溶媒に可溶であることが好ましい。この観点から、ｎは１以上５００以下が好ましい。重合度は重量平均分子量から求めることができる。重量平均分子量はＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）を用いて測定し、ポリスチレンの標準試料に換算して求めることができる。また、上述のように溶媒に可溶とするために、Ｒ１〜Ｒ１８の少なくとも一つがアルキル基またはアルコキシ基であることが好ましい。ベンゾチアジアゾール化合物の分子量が小さい場合は、アルキル基またはアルコキシ基の数が多すぎると、ガラス転移温度や融点が低下して薄膜の耐熱性が低下する。このため、一般式（１）のｎが１以上１０未満の場合は、Ｒ１〜Ｒ１８のうちアルキル基またはアルコキシ基が１個以上８個以下であることがより好ましい。逆に、ベンゾチアジアゾール化合物の分子量が大きい場合は、アルキル基またはアルコキシ基の数が少なすぎると、溶解性が低下して薄膜の形成が困難となる。このため、一般式（１）のｎが１０以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ１８のうちアルキル基またはアルコキシ基が４個以上であることがより好ましい。【００３３】
一般式（１）のｍは０または１であるが、上記ｎが２以上である場合はｍ＝１であることが好ましい。一般式（１）のＡが６員環構造を有しているために、その立体障害により主鎖がねじれて共役が拡張されにくいことから、高分子量体においても最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位を深く保つことができる。【００３４】
上記一般式（１）のＡの骨格として、特に限定されるものではないが、具体的にはｍ−フェニル、ｐ−フェニル、ビフェニル、ターフェニル、クォーターフェニル、ナフチル、アントラン、ピレン、ベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、インドール、カルバゾール、フルオレン、ジベンゾシロールなどが挙げられる。これらの中でも、フルオレンとジベンゾシロールは、アルキル基などの溶解性置換基を２個容易に導入することができるため、溶解性を確保する観点から好ましい。また、上述のフルオレンとジベンゾシロールは、他の骨格に比べて良好な光電変換効率を得ることができる。これは、上述の溶解性に加えて、ナノレベルの相分離によるキャリアパス形成など、光起電力素子として好ましいモルフォロジーを形成しやすいことにも起因していると推測される。【００３５】
上記一般式（１）で表される構造を有するベンゾチアジアゾール化合物として、下記のような構造が挙げられる。なお、下記構造において、ｎは１以上１０００以下の範囲である。【００３６】
【化２】
2009125647.tif 000004
【００３７】
【化３】
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【００３８】
【化４】
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【００３９】
【化５】
2009125647.tif 000007
【００４０】
【化６】
2009125647.tif 000008
【００４１】
【化７】
2009125647.tif 000009
【００４２】
【化８】
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【００４３】
【化９】
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【００４４】
【化１０】
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【００４５】
【化１１】
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【００４６】
なお、一般式（１）で表される構造を有するベンゾチアジアゾール化合物は、例えば、マクロモレキュルズ（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）２０００年、３３巻、９２７７−９２８８頁に記載されている方法に類似した手法により合成することができる。例えば５，５’−ジブロモ−２，２’−ビチオフェンと、３−アルキルチオフェン−２−ボロン酸誘導体とをパラジウム触媒を用いた鈴木カップリング法で反応させ、得られたクウォーターチオフェン化合物をリチオ化、ボロン酸エステル化し、得られた生成物とジブロモベンゾチアジアゾールとをさらにパラジウム触媒を用いた鈴木カップリング法で反応させる方法が挙げられる。【００４７】
本発明の電子供与性有機材料は、前記ベンゾチアジアゾール化合物のみからなるものでもよいし、他の化合物を含んでもよい。電子供与性有機材料に含まれる前記ベンゾチアジアゾール化合物の含有量は、１〜１００重量％の範囲であることが好ましく、１０〜１００重量％の範囲であることがさらに好ましい。他の化合物としては、例えばポリチオフェン系重合体、ポリ−ｐ−フェニレンビニレン系重合体、ポリ−ｐ−フェニレン系重合体、ポリフルオレン系重合体、ポリピロール系重合体、ポリアニリン系重合体、ポリアセチレン系重合体、ポリチエニレンビニレン系重合体などの共役系重合体や、Ｈ２フタロシアニン（Ｈ２Ｐｃ）、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、亜鉛フタロシアニン（ＺｎＰｃ）等のフタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（３−メチルフェニル）−４，４’−ジフェニル−１，１’−ジアミン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ジナフチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−４，４’−ジフェニル−１，１’−ジアミン（ＮＰＤ）等のトリアリールアミン誘導体、４，４’−ジ（カルバゾール−９−イル）ビフェニル（ＣＢＰ）等のカルバゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体（ターチオフェン、クウォーターチオフェン、セキシチオフェン、オクチチオフェンなど）等の低分子有機化合物が挙げられる。【００４８】
上記ベンゾチアジアゾール化合物は電子供与性（ｐ型半導体特性）を示す。しがたって、光起電力素子に用いる場合により高い光電変換効率を得るためには、電子受容性有機材料（ｎ型有機半導体）と組み合わせることが好ましい。本発明の光起電力素子用材料は、上記ベンゾチアジアゾール化合物を含む電子供与性有機材料と、電子受容性有機材料を含む。【００４９】
本発明で用いる電子受容性有機材料とは、ｎ型半導体特性を示す有機材料であり、例えば１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボキシリックジアンハイドライド（ＮＴＣＤＡ）、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボキシリックジアンハイドライド（ＰＴＣＤＡ）、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボキシリックビスベンズイミダゾール（ＰＴＣＢＩ）、Ｎ，Ｎ'−ジオクチル−３，４，９，１０−ナフチルテトラカルボキシジイミド（ＰＴＣＤＩ−Ｃ８Ｈ）、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、２，５−ジ（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）等のオキサゾール誘導体、３−（４−ビフェニリル）−４−フェニル−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）等のトリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体、ホスフィンオキサイド誘導体、フラーレン化合物（Ｃ６０、Ｃ７０、Ｃ７６、Ｃ７８、Ｃ８２、Ｃ８４、Ｃ９０、Ｃ９４を始めとする無置換のものと、［６，６］−フェニル Ｃ６１ ブチリックアシッドメチルエステル（［６，６］−ＰＣＢＭ）、［５，６］−フェニル Ｃ６１ ブチリックアシッドメチルエステル（［５，６］−ＰＣＢＭ）、［６，６］−フェニル Ｃ６１ ブチリックアシッドヘキシルエステル（［６，６］−ＰＣＢＨ）、［６，６］−フェニル Ｃ６１ ブチリックアシッドドデシルエステル（［６，６］−ＰＣＢＤ）、フェニル Ｃ７１ ブチリックアシッドメチルエステル（ＰＣ７０ＢＭ）、フェニル Ｃ８５ ブチリックアシッドメチルエステル（ＰＣ８４ＢＭ）など）、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、ポリ−ｐ−フェニレンビニレン系重合体にシアノ基を導入した誘導体（ＣＮ−ＰＰＶ）などが挙げられる。中でも、フラーレン化合物は電荷分離速度と電子移動速度が速いため、好ましく用いられる。フラーレン化合物の中でも、Ｃ７０誘導体（上記ＰＣ７０ＢＭなど）は光吸収特性に優れ、より高い光電変換効率を得られるため、より好ましい。【００５０】
本発明の光起電力素子用材料において、本発明の電子供与性有機材料と電子受容性有機材料の含有比率（重量分率）は特に限定されないが、電子供与性有機材料：電子受容性有機材料の重量分率が、１〜９９：９９〜１の範囲であることが好ましく、より好ましくは１０〜９０：９０〜１０の範囲であり、さらに好ましくは２０〜６０：８０〜４０の範囲である。本発明の電子供与性有機材料と電子受容性有機材料は混合して用いることが好ましい。混合方法としては特に限定されるものではないが、所望の比率で溶媒に添加した後、加熱、撹拌、超音波照射などの方法を１種または複数種組み合わせて溶媒中に溶解させる方法が挙げられる。なお、後述するように、光起電力素子用材料が一層の有機半導体層を形成する場合は、上述の含有比率はその一層に含まれる本発明の電子供与性有機材料と電子受容性有機材料の含有比率となり、有機半導体層が二層以上の積層構造である場合は、有機半導体層全体における本発明の電子供与性有機材料と電子受容性有機材料の含有比率を意味する。【００５１】
光電変換効率をより向上させるためには、キャリアのトラップとなるような不純物は極力除去することが好ましい。本発明では、前述のベンゾチアジアゾール化合物やこれを含む電子供与性有機材料、および電子受容性有機材料の不純物を除去する方法は特に限定されないが、カラムクロマトグラフィー法、再結晶法、昇華法、再沈殿法、ソクスレー抽出法、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）による分子量分画法、濾過法、イオン交換法、キレート法等を用いることができる。一般的に、低分子有機材料の精製にはカラムクロマトグラフィー法、再結晶法、昇華法が好ましく用いられる。他方、高分子量体の精製には、低分子量成分を除去する場合には再沈殿法やソクスレー抽出法、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）による分子量分画法が好ましく用いられる。金属成分を除去する場合には再沈殿法やキレート法、イオン交換法が好ましく用いられる。これらの方法のうち、複数を組み合わせてもよい。【００５２】
次に、本発明の光起電力素子について説明する。本発明の光起電力素子は、少なくとも正極と負極を有し、これらの間に本発明の光起電力素子用材料を含む。図１は本発明の光起電力素子の一例を示す模式図である。図１において符号１は基板、符号２は正極、符号３は本発明の光起電力素子用材料を含む有機半導体層、符号４は負極である。【００５３】
有機半導体層３は本発明の光起電力素子用材料を含む。すなわち、本発明の電子供与性有機材料および電子受容性有機材料を含む。これらの材料は混合されていても積層されていてもよい。混合されている場合は、本発明の電子供与性有機材料と電子受容性有機材料は分子レベルで相溶しているか、相分離している。この相分離構造のドメインサイズは特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のサイズである。積層されている場合は、ｐ型半導体特性を示す電子供与性有機材料を有する層が正極側、ｎ型半導体特性を示す電子受容性有機材料を有する層が負極側であることが好ましい。有機半導体層３が積層されている場合の光起電力素子の一例を図２に示す。符号５は一般式（１）で表される構造を有するベンゾチアジアゾール化合物を有する層、符号６は電子受容性有機材料を有する層である。有機半導体層は５ｎｍから５００ｎｍの厚さが好ましく、より好ましくは３０ｎｍから３００ｎｍである。積層されている場合は、本発明の電子供与性有機材料を有する層は上記厚さのうち１ｎｍから４００ｎｍの厚さを有していることが好ましく、より好ましくは１５ｎｍから１５０ｎｍである。【００５４】
また、有機半導体層３には本発明のベンゾチアジアゾール化合物、および電子受容性有機材料以外の電子供与性有機材料（ｐ型有機半導体）を含んでいてもよい。ここで用いる電子供与性有機材料（ｐ型有機半導体）としては、先に電子供与性有機材料の他の化合物として例示したものが挙げられる。【００５５】
本発明の光起電力素子においては、正極２もしくは負極４のいずれかに光透過性を有することが好ましい。電極の光透過性は、有機半導体層３に入射光が到達して起電力が発生する程度であれば、特に限定されるものではない。ここで、本発明における光透過性は、［透過光強度（Ｗ／ｍ２）／入射光強度（Ｗ／ｍ２）］×１００（％）で求められる値である。電極の厚さは光透過性と導電性とを有する範囲であればよく、電極素材によって異なるが２０ｎｍから３００ｎｍが好ましい。なお、もう一方の電極は導電性があれば必ずしも光透過性は必要ではなく、厚さも特に限定されない。【００５６】
電極材料としては、一方の電極には仕事関数の大きな導電性素材、もう一方の電極には仕事関数の小さな導電性素材を使用することが好ましい。仕事関数の大きな導電性素材を用いた電極は正極となる。この仕事関数の大きな導電性素材としては金、白金、クロム、ニッケルなどの金属のほか、透明性を有するインジウム、スズなどの金属酸化物、複合金属酸化物（インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）など）が好ましく用いられる。ここで、正極２に用いられる導電性素材は、有機半導体層３とオーミック接合するものであることが好ましい。さらに、後述する正孔輸送層を用いた場合においては、正極２に用いられる導電性素材は正孔輸送層とオーミック接合するものであることが好ましい。【００５７】
仕事関数の小さな導電性素材を用いた電極は負極となるが、この仕事関数の小さな導電性素材としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属、具体的にはリチウム、マグネシウム、カルシウムが使用される。また、錫や銀、アルミニウムも好ましく用いられる。さらに、上記の金属からなる合金や上記の金属の積層体からなる電極も好ましく用いられる。また、負極４と電子輸送層の界面にフッ化リチウムやフッ化セシウムなどの金属フッ化物を導入することで、取り出し電流を向上させることも可能である。ここで、負極４に用いられる導電性素材は、有機半導体層３とオーミック接合するものであることが好ましい。さらに、後述する電子輸送層を用いた場合においては、負極４に用いられる導電性素材は電子輸送層とオーミック接合するものであることが好ましい。【００５８】
基板１は、光電変換材料の種類や用途に応じて、電極材料や有機半導体層が積層できる基板、例えば、無アルカリガラス、石英ガラス等の無機材料、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリパラキシレン、エポキシ樹脂やフッ素系樹脂等の有機材料から任意の方法によって作製されたフィルムや板が使用可能である。また基板側から光を入射して用いる場合は、上記に示した各基板に８０％程度の光透過性を持たせておくことが好ましい。【００５９】
本発明では、正極２と有機半導体層３の間に正孔輸送層を設けてもよい。正孔輸送層を形成する材料としては、ポリチオフェン系重合体、ポリ−ｐ−フェニレンビニレン系重合体、ポリフルオレン系重合体などの導電性高分子や、フタロシアニン誘導体（Ｈ２Ｐｃ、ＣｕＰｃ、ＺｎＰｃなど）、ポルフィリン誘導体などのｐ型半導体特性を示す低分子有機化合物が好ましく用いられる。特に、ポリチオフェン系重合体であるポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）やＰＥＤＯＴにポリスチレンスルホネート（ＰＳＳ）が添加されたものが好ましく用いられる。正孔輸送層は５ｎｍから６００ｎｍの厚さが好ましく、より好ましくは３０ｎｍから２００ｎｍである。【００６０】
また本発明の光起電力素子は、有機半導体層３と負極４の間に電子輸送層を設けてもよい。電子輸送層を形成する材料として、特に限定されるものではないが、上述の電子受容性有機材料（ＮＴＣＤＡ、ＰＴＣＤＡ、ＰＴＣＤＩ−Ｃ８Ｈ、オキサゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体、ホスフィンオキサイド誘導体、フラーレン化合物、ＣＮＴ、ＣＮ−ＰＰＶなど）のようにｎ型半導体特性を示す有機材料が好ましく用いられる。電子輸送層は５ｎｍから６００ｎｍの厚さが好ましく、より好ましくは３０ｎｍから２００ｎｍである。【００６１】
また本発明の光起電力素子は、１つ以上の中間電極を介して２層以上の有機半導体層を積層（タンデム化）して直列接合を形成してもよい。例えば、基板／正極／第１の有機半導体層／中間電極／第２の有機半導体層／負極という積層構成を挙げることができる。このように積層することにより、開放電圧を向上させることができる。なお、正極と第１の有機半導体層の間、および、中間電極と第２の有機半導体層の間に上述の正孔輸送層を設けてもよい。また、第１の有機半導体層と中間電極の間、および、第２の有機半導体層と負極の間に上述の正孔輸送層を設けてもよい。【００６２】
このような積層構成の場合、有機半導体層の少なくとも１層が本発明の光起電力素子用材料を含み、他の層には、短絡電流を低下させないために、本発明の電子供与性有機材料とはバンドギャップの異なる電子供与性有機材料を含むことが好ましい。このような電子供与性有機材料としては、例えば上述のポリチオフェン系重合体、ポリ−ｐ−フェニレンビニレン系重合体、ポリ−ｐ−フェニレン系重合体、ポリフルオレン系重合体、ポリピロール系重合体、ポリアニリン系重合体、ポリアセチレン系重合体、ポリチエニレンビニレン系重合体などの共役系重合体や、Ｈ２フタロシアニン（Ｈ２Ｐｃ）、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、亜鉛フタロシアニン（ＺｎＰｃ）等のフタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（３−メチルフェニル）−４，４’−ジフェニル−１，１’−ジアミン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ジナフチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−４，４’−ジフェニル−１，１’−ジアミン（ＮＰＤ）等のトリアリールアミン誘導体、４，４’−ジ（カルバゾール−９−イル）ビフェニル（ＣＢＰ）等のカルバゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体（ターチオフェン、クウォーターチオフェン、セキシチオフェン、オクチチオフェンなど）等の低分子有機化合物が挙げられる。また、ここで用いられる中間電極用の素材としては高い導電性を有するものが好ましく、例えば上述の金、白金、クロム、ニッケル、リチウム、マグネシウム、カルシウム、錫、銀、アルミニウムなどの金属や、透明性を有するインジウム、スズなどの金属酸化物、複合金属酸化物（インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）など）、上記の金属からなる合金や上記の金属の積層体、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）やＰＥＤＯＴにポリスチレンスルホネート（ＰＳＳ）が添加されたものなどが挙げられる。中間電極は光透過性を有することが好ましいが、光透過性が低い金属のような素材でも膜厚を薄くすることで充分な光透過性を確保できる場合が多い。【００６３】
次に本発明の光起電力素子の製造方法について説明する。基板上にＩＴＯなどの透明電極（この場合正極に相当）をスパッタリング法などにより形成する。次に、本発明のベンゾチアジアゾール化合物、および電子受容性有機材料を含む光起電力素子用材料を溶媒に溶解させて溶液を作り、透明電極上に塗布し有機半導体層を形成する。このとき用いられる溶媒は有機溶媒が好ましく、例えば、メタノール、エタノール、ブタノール、トルエン、キシレン、ｏ−クロロフェノール、アセトン、酢酸エチル、エチレングリコール、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、クロロナフタレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。また、フルオラス溶媒（分子中にフッ素原子を１個以上有する有機溶媒）を含有することで光電変換効率をより向上させることができる。フルオラス溶媒として、例えば、ベンゾトリフルオリド、ヘキサフルオロベンゼン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、ペルフルオロトルエン、ペルフルオロデカリン、２−フルオロベンゾトリフルオリド、３−フルオロベンゾトリフルオリド、４−フルオロベンゾトリフルオリド、フルオロベンゼン、ペンタフルオロベンゼン、１，２，４-トリフルオロベンゼン、１，２，５-トリフルオロベンゼン、１，２−ジフルオロベンゼン、１，３−ジフルオロベンゼン、１，４−ジフルオロベンゼン、２Ｈ，３Ｈ−デカフルオロペンタン、ペルフルオロノナン、ペルフルオロオクタン、ペルフルオロヘプタン、ペルフルオロヘキサン、テトラデカフルオロ−２−メチルペンタン、ペルフルオロ（１，３−ジメチルシクロヘキサン）、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、ペルフルオロトリアリルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン、ペルフルオロトリエチルアミンなどが挙げられる。これらの中でも、ベンゾトリフルオリドが好ましく用いられる。フルオラス溶媒の含有量は、全有機溶媒量に対して０．０１〜２０体積％が好ましく、より好ましくは０．１〜５体積％である。また、全有機溶媒量に対して０．０１〜３０重量％が好ましく、より好ましくは０．４〜４重量％である。【００６４】
本発明の電子供与性有機材料および電子受容性有機材料を混合して有機半導体層を形成する場合は、本発明の電子供与性有機材料と電子受容性有機材料を所望の比率で溶媒に添加し、加熱、撹拌、超音波照射などの方法を用いて溶解させ溶液を作り、透明電極上に塗布する。この場合、２種以上の溶媒を混合して用いることで光起電力素子の光電変換効率を向上させることもできる。これは、電子供与性有機材料と電子受容性有機材料がナノレベルで相分離を起こし、電子と正孔の通り道となるキャリアパスが形成されるためと推測される。組み合わせる溶媒は、用いる電子供与性有機材料と電子受容性有機材料の種類によって最適な組み合わせを選択することができる。本発明の電子供与性有機材料を用いる場合、組み合わせる好ましい溶媒として上述の中でもクロロホルムとクロロベンゼンが挙げられる。この場合、各溶媒の混合体積比率はクロロホルム：クロロベンゼン＝５：９５〜９５：５、重量比率はクロロホルム：クロロベンゼン＝６．６５：９３．３５〜９６．２６：３．７４の範囲であることが好ましい。さらに好ましくは体積比率がクロロホルム：クロロベンゼン＝１０：９０〜９０：１０、重量比率がクロロホルム：クロロベンゼン＝１２．２１：８７．７９〜９２．４１：７．５９の範囲である。また、本発明の電子供与性有機材料および電子受容性有機材料を積層して有機半導体層を形成する場合は、例えば本発明電子供与性有機材料の溶液を塗布して電子供与性有機材料を有する層を形成した後に、電子受容性有機材料の溶液を塗布して層を形成する。ここで、本発明の電子供与性有機材料および電子受容性有機材料は、分子量が１０００以下程度の低分子量体である場合には、蒸着法を用いて層を形成することも可能である。【００６５】
有機半導体層の形成には、スピンコート塗布、ブレードコート塗布、スリットダイコート塗布、スクリーン印刷塗布、バーコーター塗布、鋳型塗布、印刷転写法、浸漬引き上げ法、インクジェット法、スプレー法、真空蒸着法など何れの方法を用いてもよく、膜厚制御や配向制御など、得ようとする有機半導体層特性に応じて形成方法を選択すればよい。例えばスピンコート塗布を行う場合には、本発明の電子供与性有機材料、および電子受容性有機材料が１〜２０ｇ／ｌの濃度（本発明の電子供与性有機材料と電子受容性有機材料と溶媒を含む溶液の体積に対する、本発明の電子供与性有機材料と電子受容性有機材料の重量）であることが好ましく、この濃度にすることで厚さ５〜２００ｎｍの均質な有機半導体層を得ることができる。形成した有機半導体層に対して、溶媒を除去するために、減圧下または不活性雰囲気下（窒素やアルゴン雰囲気下）などでアニーリング処理を行ってもよい。アニーリング処理の好ましい温度は４０℃〜３００℃、より好ましくは５０℃〜２００℃である。また、アニーリング処理を行うことで、積層した層が界面で互いに浸透して接触する実行面積が増加し、短絡電流を増大させることができる。このアニーリング処理は、負極の形成後に行ってもよい。【００６６】
次に、有機半導体層上にＡｌなどの金属電極（この場合負極に相当）を真空蒸着法やスパッタ法により形成する。金属電極は、電子輸送層に低分子有機材料を用いて真空蒸着した場合は、引き続き、真空を保持したまま続けて形成することが好ましい。【００６７】
正極と有機半導体層の間に正孔輸送層を設ける場合には、所望のｐ型有機半導体材料（ＰＥＤＯＴなど）を正極上にスピンコート法、バーコーティング法、ブレードによるキャスト法等で塗布した後、真空恒温槽やホットプレートなどを用いて溶媒を除去し、正孔輸送層を形成する。フタロシアニン誘導体やポルフィリン誘導体などの低分子有機材料を使用する場合には、真空蒸着機を用いた真空蒸着法を適用することも可能である。【００６８】
有機半導体層と負極の間に電子輸送層を設ける場合には、所望のｎ型有機半導体材料（フラーレン誘導体など）を有機半導体層上にスピンコート法、バーコーティング法、ブレードによるキャスト法、スプレー法等で塗布した後、真空恒温槽やホットプレートなどを用いて溶媒を除去し、電子輸送層を形成する。フェナントロリン誘導体やＣ６０などの低分子有機材料を使用する場合には、真空蒸着機を用いた真空蒸着法を適用することも可能である。【００６９】
有機半導体層形成前に、正極または負極を前述のフルオラス溶媒により前処理してもよく、光電変換効率をより向上させることができる。また、正極または負極と有機半導体層との間に正孔輸送層または電子輸送層を設ける場合、正孔輸送層または電子輸送層をフルオラス溶媒により前処理してもよい。前処理方法としては、電極がフルオラス溶媒と直接接触する方法であれば特に限定されないが、例えば、電極の上にフルオラス溶媒を塗布する方法や、電極をフルオラス化合物の蒸気にさらす方法などが挙げられる。フルオラス溶媒の塗布方法としては、スピンコート塗布、ブレードコート塗布、スリットダイコート塗布、スクリーン印刷塗布、バーコーター塗布、浸漬引き上げ法、インクジェット法、スプレー法などの方法を挙げることができる。
【実施例】
【００７０】
以下、本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。また実施例等で用いた化合物のうち、略語を使用しているものについて、以下に示す。
ＩＴＯ：インジウム錫酸化物
ＰＥＤＯＴ：ポリエチレンジオキシチオフェン
ＰＳＳ：ポリスチレンスルホネート
ＰＣ７０ＢＭ：フェニル Ｃ７１ ブチリックアシッドメチルエステル
ＬｉＦ：フッ化リチウム
Ｅｇ：バンドギャップ
ＨＯＭＯ：最高被占分子軌道
Ｉｓｃ：短絡電流密度
Ｖｏｃ：開放電圧
ＦＦ：フィルファクター
η：光電変換効率
なお、１Ｈ−ＮＭＲ測定にはＦＴ−ＮＭＲ装置（（株）日本電子製ＪＥＯＬ  ＪＮＭ−ＥＸ２７０）を用いた。また、平均分子量（数平均分子量、重量平均分子量）はＧＰＣ装置（クロロホルムを送液したＴＯＳＯＨ社製、高速ＧＰＣ装置ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ）を用い、絶対検量線法によって算出した。重合度ｎは以下の式で算出した。
重合度ｎ＝［（重量平均分子量）／（モノマー１ユニットの分子量）］
また、光吸収端波長は、ガラス上に約６０ｎｍの厚さに形成した薄膜について、日立製作所（株）製のＵ−３０１０型分光光度計を用いて測定した薄膜の紫外可視吸収スペクトル（測定波長範囲：３００〜９００ｎｍ）から得た。バンドギャップ（Ｅｇ）は上述した式により、光吸収端波長から算出した。なお、薄膜はクロロホルムを溶媒に用いてスピンコート法により形成した。【００７１】
また、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は、ＩＴＯガラス上に約６０ｎｍの厚さに形成した薄膜について、表面分析装置（大気中紫外線光電子分光装置ＡＣ−１型、理研機器（株）製）を用いて測定した。なお、薄膜はクロロホルムを溶媒に用いてスピンコート法により形成した。【００７２】
合成例１
化合物Ａ−１を式１に示す方法で合成した。【００７３】
【化１２】
2009125647.tif 000014
【００７４】
化合物（１−ａ）（（株）東京化成工業製）４．３ｇと臭素（（株）和光純薬工業製）１０ｇを４８％臭化水素酸（（株）和光純薬工業製）１５０ｍｌに加え、１２０℃で３時間撹拌した。室温に冷却し、析出した固体をグラスフィルターで濾過し、水１０００ｍｌとアセトン１００ｍｌで洗浄した。得られた固体を６０℃で真空乾燥し、化合物（１−ｂ）６．７２ｇを得た。【００７５】
化合物（１−ｃ）（（株）東京化成工業製）１０．２ｇをジメチルホルムアミド（（株）キシダ化学製）１００ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）９．２４ｇを加え、窒素雰囲気下、室温で３時間撹拌した。得られた溶液に水２００ｍｌ、ｎ−ヘキサン２００ｍｌ、ジクロロメタン２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水２００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン）で精製し化合物（１−ｄ）１４．４ｇを得た。【００７６】
上記の化合物（１−ｄ）１４．２ｇをテトラヒドロフラン（（株）和光純薬工業製）２００ｍｌに溶解し、−８０℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム１．６Ｍヘキサン溶液（（株）和光純薬工業製）３５ｍｌを加えた後、−５０℃まで昇温し、再度−８０℃に冷却した。２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（（株）和光純薬工業製）１３．６ｍｌを加え、室温まで昇温し、窒素雰囲気下で４時間撹拌した。得られた溶液に１Ｎ塩化アンモニウム水溶液２００ｍｌと酢酸エチル２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水２００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン／ジクロロメタン）で精製し化合物（１−ｅ）１４．８３ｇを得た。【００７７】
上記の化合物（１−ｅ）１４．８３ｇと、５，５’−ジブロモ−２，２’−ビチオフェン（（株）東京化成工業製）６．７８ｇをジメチルホルムアミド（（株）和光純薬工業製）２００ｍｌに加え、窒素雰囲気下でリン酸カリウム（（株）和光純薬工業製）２６．６ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）１．７ｇを加え、１００℃で４時間撹拌した。得られた溶液に水５００ｍｌと酢酸エチル３００ｍｌを加え、有機層を分取し、水５００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン）で精製し、化合物（１−ｆ）を４．５３ｇ得た。【００７８】
上記の化合物（１−ｆ）４．５３ｇをテトラヒドロフラン（（株）和光純薬工業製）４０ｍｌに溶解し、−８０℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム１．６Ｍヘキサン溶液（（株）和光純薬工業製）６．１ｍｌを加えた後、−５℃まで昇温し、−８０℃に冷却した。２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（（株）和光純薬工業製）２．３ｍｌを加え、室温まで昇温し、窒素雰囲気下で２時間撹拌した。得られた溶液に１Ｎ塩化アンモニウム水溶液１５０ｍｌと酢酸エチル２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水２００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（１−ｇ）２．３１ｇを得た。【００７９】
上記の化合物（１−ｂ）０．４９８ｇと、上記の化合物（１−ｇ）２．３１ｇをジメチルホルムアミド（（株）和光純薬工業製）１７ｍｌに加え、窒素雰囲気下でリン酸カリウム（（株）和光純薬工業製）２．１７ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）０．１４ｇを加え、９０℃で７時間撹拌した。得られた溶液に水２００ｍｌとクロロホルム１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水２００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物Ａ−１を１．２９ｇ得た。化合物Ａ−１の１Ｈ−ＮＭＲ測定結果を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：８．００（ｓ，２Ｈ）、７．８４（ｓ，２Ｈ）、７．２０−７．１５（ｍ，８Ｈ）、７．０４（ｄ，２Ｈ）、６．９５（ｄ，２Ｈ）、２．８８（ｔ，４Ｈ）、２．７９（ｔ，４Ｈ）、１．７７−１．２９（ｍ，４８Ｈ）、０．８８（ｍ，１２Ｈ）
化合物Ａ−１の光吸収端波長は７２７ｎｍ、バンドギャップ（Ｅｇ）は１．７１ｅＶ、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−４．９０ｅＶであった。【００８０】
合成例２
化合物Ａ−２を式２に示す方法で合成した。【００８１】
【化１３】
2009125647.tif 000015
【００８２】
上記の化合物Ａ−１  ０．７３４ｇをクロロホルム（（株）ナカライテスク製）１５ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）東京化成工業製）０．２３ｇ／ジメチルホルムアミド（（株）和光純薬工業製）１０ｍｌを加え、窒素雰囲気下、室温で９時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌとクロロホルム１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水２００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（２−ａ）０．５８ｇを得た。【００８３】
化合物（２−ｂ）（（株）東京化成工業製）０．５ｇ、ビス（ピナコラト）ジボロン（ＢＡＳＦ製）０．８５ｇ、酢酸カリウム（（株）和光純薬工業製）０．８６ｇを１，４−ジオキサン（（株）和光純薬工業製）７ｍｌに加え、窒素雰囲気下で [ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）０．２１ｇを加え、８０℃で７時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌと酢酸エチル１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水１００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン）で精製し、化合物（２−ｃ）を５７ｍｇ得た。【００８４】
上記の化合物（２−ａ）９３ｍｇと、上記の化合物（２−ｃ）１９．３ｍｇをトルエン６ｍｌに溶解した。ここに水２ｍｌ、炭酸カリウム０．１８ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（（株）東京化成工業製）７．７ｍｇ、Aliquat336（アルドリッチ社製）１滴を加え、窒素雰囲気下、１００℃にて２５時間撹拌した。次いで、フェニルボロン酸（（株）東京化成工業製）４０ｍｇを加え、１００℃にて７時間撹拌した。得られた溶液にメタノール５０ｍｌを加え、生成した固体をろ取し、メタノール、水、メタノール、アセトンの順に洗浄した。得られた固体をクロロホルムに溶解させ、シリカゲルショートカラム（溶離液：クロロホルム）を通した後に濃縮乾固し、化合物Ａ−２を３０ｍｇ得た。重量平均分子量は４３６７、数平均分子量は３４７５、重合度ｎは３．１であった。また、光吸収端波長は７２０ｎｍ、バンドギャップ（Ｅｇ）は１．７２ｅＶ、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−５．００ｅＶであった。【００８５】
合成例３
化合物Ａ−３を式３に示す方法で合成した。【００８６】
【化１４】
2009125647.tif 000016
【００８７】
化合物（３−ａ）（（株）東京化成工業製）０．３４ｇ、ビス（ピナコラト）ジボロン（ＢＡＳＦ製）０．８５ｇ、酢酸カリウム（（株）和光純薬工業製）０．８６ｇを１，４−ジオキサン（（株）和光純薬工業製）７ｍｌに加え、窒素雰囲気下で [ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）０．２１ｇを加え、８０℃で９時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌと酢酸エチル１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水１００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン）で精製し、化合物（３−ｂ）を１６７ｍｇ得た。【００８８】
上記の化合物（２−ａ）１１０ｍｇと、上記の化合物（３−ｂ）１７ｍｇをトルエン６ｍｌに溶解した。ここに水２ｍｌ、炭酸カリウム０．２２ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（（株）東京化成工業製）９ｍｇ、Aliquat336（アルドリッチ社製）１滴を加え、窒素雰囲気下、１００℃にて４５時間撹拌した。次いで、フェニルボロン酸（（株）東京化成工業製）４０ｍｇを加え、１００℃にて４時間撹拌した。得られた溶液にメタノール５０ｍｌを加え、生成した固体をろ取し、メタノール、水、メタノール、アセトンの順に洗浄した。得られた固体をクロロホルムに溶解させ、シリカゲルショートカラム（溶離液：クロロホルム）を通した後に濃縮乾固し、化合物Ａ−３を７５ｍｇ得た。重量平均分子量は８６９１、数平均分子量は５６７６、重合度ｎは６．７であった。また、光吸収端波長は７２０ｎｍ、バンドギャップ（Ｅｇ）は１．７２ｅＶ、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−５．０３ｅＶであった。【００８９】
合成例４
化合物Ａ−４を式４に示す方法で合成した。【００９０】
【化１５】
2009125647.tif 000017
【００９１】
上記の化合物（２−ａ）５７ｍｇと、化合物（４−ａ）（アルドリッチ社製）１８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解した。ここに水２ｍｌ、炭酸カリウム０．１１ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（（株）東京化成工業製）４．７ｍｇ、Aliquat336（アルドリッチ社製）１滴を加え、窒素雰囲気下、１００℃にて７５時間撹拌した。次いで、フェニルボロン酸（（株）東京化成工業製）４０ｍｇを加え、１００℃にて５時間撹拌した。得られた溶液にメタノール５０ｍｌを加え、生成した固体をろ取し、メタノール、水、メタノール、アセトンの順に洗浄した。得られた固体をクロロホルムに溶解させ、シリカゲルショートカラム（溶離液：クロロホルム）を通した後に濃縮乾固し、化合物Ａ−４を５５ｍｇ得た。重量平均分子量は４３２３０、数平均分子量は１４４１９、重合度ｎは２６．５であった。また、光吸収端波長は７２１ｎｍ、バンドギャップ（Ｅｇ）は１．７２ｅＶ、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−５．１４ｅＶであった。【００９２】
合成例５
化合物Ａ−５を式５に示す方法で合成した。【００９３】
【化１６】
2009125647.tif 000018
【００９４】
化合物（５−ａ）（（株）東京化成工業製）６．３３ｇ、１−ヨードオクタン（（株）和光純薬工業製）１０ｇ、ＮａＯＨ２．２７ｇをアセトン２００ｍｌに加え、窒素雰囲気下、１０時間加熱還流した。得られた溶液に水とヘキサンを加え、有機層を分取し、水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（５−ｂ）を４．８２ｇ得た。【００９５】
上記化合物（５−ｂ）４．８２ｇをジメチルホルムアミド（（株）キシダ化学製）１２０ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）６．４７ｇを加え、窒素雰囲気下、５０℃で１０時間撹拌した。得られた溶液に水とジクロロメタンを加え、有機層を分取し、水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（５−ｃ）を６．５３ｇ得た。【００９６】
上記化合物（５−ｃ）１．６ｇ、ビス（ピナコラト）ジボロン（ＢＡＳＦ製）２．３２ｇ、酢酸カリウム（（株）和光純薬工業製）２．２ｇを１，４−ジオキサン（（株）和光純薬工業製）１８ｍｌに加え、窒素雰囲気下で [ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）０．５４ｇを加え、８０℃で９時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌと酢酸エチル１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水１００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（５−ｄ）を１．０３ｇ得た。【００９７】
上記の化合物（２−ａ）９９ｍｇと、上記の化合物（５−ｄ）３０ｍｇをトルエン８ｍｌに溶解した。ここに水３ｍｌ、炭酸カリウム０．１９５ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（（株）東京化成工業製）８．１ｍｇ、Aliquat336（アルドリッチ社製）１滴を加え、窒素雰囲気下、１００℃にて９２時間撹拌した。次いで、フェニルボロン酸（（株）東京化成工業製）３４ｍｇを加え、１００℃にて６時間撹拌した。得られた溶液にメタノール５０ｍｌを加え、生成した固体をろ取し、メタノール、水、メタノール、アセトンの順に洗浄した。得られた固体をクロロホルムに溶解させ、シリカゲルショートカラム（溶離液：クロロホルム）を通した後に濃縮乾固し、化合物Ａ−５を８５ｍｇ得た。重量平均分子量は９３８０、数平均分子量は５４１０、重合度ｎは６．２であった。また、光吸収端波長は７３３ｎｍ、バンドギャップ（Ｅｇ）は１．６９ｅＶ、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−４．９１ｅＶであった。【００９８】
合成例６
化合物Ａ−６を式６に示す方法で合成した。【００９９】
【化１７】
2009125647.tif 000019
【０１００】
化合物（６−ａ）（（株）東京化成工業製）３ｇをテトラヒドロフラン（（株）和光純薬工業製）４０ｍｌに溶解し、−８０℃まで冷却した。ｎ−ブチルリチウム１．６Ｍヘキサン溶液（（株）和光純薬工業製）１２ｍｌを加えて２時間撹拌し、−６０℃に昇温して２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（（株）和光純薬工業製）５．５ｇを加えた。室温まで昇温し、窒素雰囲気下４時間撹拌した。得られた溶液にジクロロメタン１００ｍｌと飽和食塩水１００ｍｌを加えて有機層を分取した。有機層を水１００ｍｌで３回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液からロータリーエバポレーターを用いて溶媒を減圧留去し、化合物（６−ｂ）４．６ｇを得た。【０１０１】
上記の化合物（６−ｂ）４．６ｇと合成例１の化合物（１−ｂ）２．１ｇをトルエン１００ｍｌに溶解した。ここにエタノール３０ｍｌ、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液３０ｍｌ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（（株）東京化成工業製）０．１５ｇを加え、窒素雰囲気下、１１０℃にて１３時間撹拌した。得られた溶液に酢酸エチル１００ｍｌ、水１００ｍｌを加え、有機層を分取した。得られた溶液からロータリーエバポレーターを用いて溶媒を減圧留去し、５．８ｇの化合物（６−ｃ）を得た。【０１０２】
上記の化合物（６−ｃ）５．８ｇをジメチルホルムアミド（（株）和光純薬工業製）３ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）３．５ｇを加え、窒素雰囲気下、室温で２時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌ、酢酸エチル１００ｍｌを加え、有機層を分取した。有機層を水１００ｍｌで３回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（６−ｄ）を１．６ｇ得た。【０１０３】
上記の化合物（６−ｄ）５５７ｍｇと、上記の化合物（６−ｂ）５２０ｍｇをジメチルホルムアミド１０ｍｌに加え、窒素雰囲気下でリン酸カリウム（（株）和光純薬工業製）１．１３ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）７３ｍｇを加え、１００℃で９時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌとクロロホルム１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水１００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（６−ｅ）を７２４ｍｇ得た。【０１０４】
上記の化合物（６−ｅ）７２４ｍｇをジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）３４０ｍｇを加え、窒素雰囲気下、室温で３時間撹拌した。得られた溶液に水１５０ｍｌとクロロホルム１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水３００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（６−ｆ）を８００ｍｇ得た。【０１０５】
上記の化合物（６−ｆ）８００ｍｇと、上記の化合物（６−ｂ）４９０ｍｇをジメチルホルムアミド１０ｍｌに加え、窒素雰囲気下でリン酸カリウム（（株）和光純薬工業製）１．０６ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）６８ｍｇを加え、１００℃で５時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌとクロロホルム１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水３００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（６−ｇ）を６７２ｍｇ得た。【０１０６】
上記の化合物（６−ｇ）６７０ｍｇをクロロホルム６ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）２２０ｍｇのジメチルホルムアミド（１ｍｌ）溶液を加え、窒素雰囲気下、室温で７時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌとクロロホルム１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水３００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（６−ｈ）を７９７ｍｇ得た。【０１０７】
上記の化合物（６−ｈ）７９０ｍｇと、上記の化合物（６−ｂ）３９０ｍｇをジメチルホルムアミド１５ｍｌに加え、窒素雰囲気下でリン酸カリウム（（株）和光純薬工業製）７６０ｍｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）４９ｍｇを加え、１００℃で７時間撹拌した。得られた溶液に水５０ｍｌとクロロホルム５０ｍｌを加え、有機層を分取し、水３００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（６−ｉ）を２４０ｍｇ得た。【０１０８】
上記の化合物（６−ｉ）２４０ｍｇをクロロホルム５ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）６１０ｍｇのジメチルホルムアミド（２ｍｌ）溶液を加え、窒素雰囲気下、室温で１０時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌとクロロホルム５０ｍｌを加え、有機層を分取し、水３００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（６−ｊ）を１８０ｍｇ得た。【０１０９】
上記の化合物（６−ｊ）８９ｍｇと、合成例４の化合物（４−ａ）３０．５ｍｇをトルエン７ｍｌに溶解した。ここに水３ｍｌ、炭酸カリウム１５０ｍｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（（株）東京化成工業製）６．４ｍｇ、Aliquat336（アルドリッチ社製）１滴を加え、窒素雰囲気下、１００℃にて１７時間撹拌した。次いで、ブロモベンゼン（（株）東京化成工業製）５滴を加え、１００℃にて１２時間撹拌した。得られた溶液にメタノール５０ｍｌを加え、生成した固体をろ取し、メタノール、アセトンの順に洗浄した。得られた固体をクロロホルム１００ｍｌに溶解させ、シリカゲルショートカラム（溶離液：クロロホルム）を通した後に濃縮乾固した後、メタノール、アセトンの順に洗浄し、化合物Ａ−６を２０ｍｇ得た。重量平均分子量は１６８０１７、数平均分子量は１９０８５、重合度ｎは９０であった。また、光吸収端波長は７１６ｎｍ、バンドギャップ（Ｅｇ）は１．７３ｅＶ、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−５．２１ｅＶであった。【０１１０】
合成例７
化合物Ｂ−２を式７に示す方法で合成した。【０１１１】
【化１８】
2009125647.tif 000020
【０１１２】
化合物（６−ａ）３１．４ｇをジメチルホルムアミド１５０ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）３３．２ｇのジメチルホルムアミド（１５０ｍｌ）溶液を加え、室温で４時間撹拌した。得られた溶液に水５００ｍｌとヘキサン３００ｍｌを加え、有機層を分取し、水５００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン）で精製し、化合物（７−ａ）を４４．９３ｇ得た。【０１１３】
上記の化合物（７−ａ）１６．５５ｇをテトラヒドロフラン（（株）和光純薬工業製）１４０ｍｌに溶解し、−９０℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム１．６Ｍヘキサン溶液（（株）和光純薬工業製）４４ｍｌを加えた後、−７０℃まで昇温し、再度−９０℃に冷却した。２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（（株）和光純薬工業製）１６．４ｍｌを加え、室温まで昇温し、窒素雰囲気下で１３時間撹拌した。得られた溶液に１Ｎ塩化アンモニウム水溶液５００ｍｌとヘキサン３００ｍｌを加え、有機層を分取し、水８００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（７−ｂ）を１８．７３ｇ得た。【０１１４】
上記の化合物（７−ａ）２．５２ｇと、上記の化合物（７−ｂ）３．０ｇをジメチルホルムアミド１００ｍｌに加え、窒素雰囲気下でリン酸カリウム（（株）和光純薬工業製）１３ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）４２０ｍｇを加え、９０℃で５時間撹拌した。得られた溶液に水２００ｍｌとヘキサン１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水４００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン）で精製し、化合物（７−ｃ）を２．７１ｇ得た。【０１１５】
上記の化合物（７−ｃ）２．７１ｇをジメチルホルムアミド８ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）２．８８ｇのジメチルホルムアミド（１６ｍｌ）溶液を加え、５℃〜１０℃で９時間撹拌した。得られた溶液に水１５０ｍｌとヘキサン１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水３００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン）で精製し、化合物（７−ｄ）を３．７６ｇ得た。【０１１６】
上記の化合物（７−ｄ）３．７６ｇと、上記の化合物（７−ｂ）４．７１ｇをジメチルホルムアミド７０ｍｌに加え、窒素雰囲気下でリン酸カリウム（（株）和光純薬工業製）１９．４ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）３１０ｍｇを加え、９０℃で９時間撹拌した。得られた溶液に水５００ｍｌとヘキサン２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水３００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン）で精製し、化合物（７−ｅ）を４．２４ｇ得た。【０１１７】
上記の化合物（７−ｅ）３．６５ｇをテトラヒドロフラン（（株）和光純薬工業製）２７ｍｌに溶解し、−８０℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム１．６Ｍヘキサン溶液（（株）和光純薬工業製）４．１ｍｌを加えた後、５℃まで昇温し、再度−８０℃に冷却した。２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（（株）和光純薬工業製）１．６ｍｌを加え、室温まで昇温し、窒素雰囲気下で２時間撹拌した。得られた溶液に１Ｎ塩化アンモニウム水溶液２００ｍｌとヘキサン２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水４００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（７−ｆ）を２．１７ｇ得た。【０１１８】
上記の化合物（７−ｆ）２．１７ｇと、合成例１の化合物（１−ｂ）４００ｍｇをジメチルホルムアミド５０ｍｌに加え、窒素雰囲気下でリン酸カリウム（（株）和光純薬工業製）３．４８ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）２２０ｍｇを加え、１００℃で６時間撹拌した。得られた溶液に水２００ｍｌとジクロロメタン２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水４００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（７−ｇ）を１．０２ｇ得た。【０１１９】
上記の化合物（７−ｇ）１．０２ｇをクロロホルム２０ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）２４９ｍｇのジメチルホルムアミド（５ｍｌ）溶液を加え、５℃〜１０℃で６時間撹拌した。得られた溶液に水１５０ｍｌとジクロロメタン１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水３００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン）で精製し、化合物（７−ｈ）を１．０４ｇ得た。【０１２０】
上記の化合物（７−ｈ）３４１ｍｇと、合成例４の化合物（４−ａ）１１０ｍｇをトルエン２０ｍｌに溶解した。ここに水７ｍｌ、炭酸カリウム５８０ｍｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（（株）東京化成工業製）２３ｍｇ、Aliquat336（アルドリッチ社製）１滴を加え、窒素雰囲気下、１００℃にて８時間撹拌した。得られた溶液にメタノール５０ｍｌを加え、生成した固体をろ取し、メタノール、アセトンの順に洗浄した。得られた固体をクロロホルム３００ｍｌに溶解させ、シリカゲルショートカラム（溶離液：クロロホルム）を通した後に濃縮乾固した後、メタノール、ヘキサンの順に洗浄し、化合物Ｂ−２を３２０ｍｇ得た。重量平均分子量は５９３２３３、数平均分子量は５４２５１、重合度ｎは３１７．７であった。また、光吸収端波長は６６１ｎｍ、バンドギャップ（Ｅｇ）は１．８７ｅＶ、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−５．３７ｅＶであった。【０１２１】
合成例８
化合物Ｂ−３を式８に示す方法で合成した。【０１２２】
【化１９】
2009125647.tif 000021
【０１２３】
合成例１の化合物（１−ｂ）２．０ｇと、ビス（ピナコラト）ジボロン（ＢＡＳＦ社製）４．３ｇを１，４−ジオキサン４０ｍｌに加え、窒素雰囲気下で酢酸カリウム（（株）和光純薬工業製）４．０ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）１．０ｇを加え、８０℃で８時間撹拌した。得られた溶液に水２００ｍｌと酢酸エチル２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水４００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／酢酸エチル）で精製し、化合物（８−ａ）を１．３ｇ得た。【０１２４】
合成例７の化合物（７−ｅ）５２０ｍｇをクロロホルム２０ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）２８０ｍｇのジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）溶液を加え、５℃〜１０℃で５時間撹拌した。得られた溶液に水１５０ｍｌとジクロロメタン１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水２００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン）で精製し、化合物（８−ｂ）を６１０ｍｇ得た。【０１２５】
上記の化合物（８−ａ）２８０ｍｇと化合物（８−ｂ）５９６ｍｇをトルエン３０ｍｌに溶解した。ここに水１０ｍｌ、炭酸カリウム１．９９ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（（株）東京化成工業製）８３ｍｇ、Aliquat336（アルドリッチ社製）１滴を加え、窒素雰囲気下、１００℃にて２０時間撹拌した。得られた溶液にメタノール１００ｍｌを加え、生成した固体をろ取し、メタノール、水、アセトン、ヘキサンの順に洗浄した。得られた固体をクロロホルム２００ｍｌに溶解させ、シリカゲルショートカラム（溶離液：クロロホルム）を通した後に濃縮乾固した後、メタノール、アセトン、メタノールの順に洗浄し、化合物Ｂ−３を４８０ｍｇ得た。重量平均分子量は２９３９８、数平均分子量は１０９１６、重合度ｎは３６．８であった。また、光吸収端波長は６８４ｎｍ、バンドギャップ（Ｅｇ）は１．８１ｅＶ、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−５．２７ｅＶであった。【０１２６】
合成例９
化合物Ａ−７を式９に示す方法で合成した。【０１２７】
【化２０】
2009125647.tif 000022
【０１２８】
２−ブトキシエタノール（（株）和光純薬工業製）２０ｍｌとピリジン２９ｍｌをジクロロメタン３００ｍｌに溶解し、５℃で塩化トシル４０ｇを加え、室温で７時間撹拌した。得られた溶液に水５００ｍｌとジクロロメタン２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水２０００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン）で精製し、化合物（９−ａ）を２１．７ｇ得た。【０１２９】
化合物（９−ｂ）（（株）和光純薬工業製）８．５４ｇに１０℃で水素化ナトリウム（８７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液を加え、窒素雰囲気下１０℃で１時間撹拌した。次いで上記化合物（９−ａ）２１．７ｇを加え、８０℃で１２時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌとヘキサン２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水４００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、化合物（９−ｃ）を１０．７４ｇ得た。【０１３０】
上記の化合物（９−ｃ）１０．７４ｇをジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）８．３７ｇのジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）溶液を加え、室温で１２時間撹拌した。得られた溶液に水３００ｍｌとヘキサン２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水４００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、化合物（９−ｄ）を１３．１ｇ得た。【０１３１】
上記の化合物（９−ｄ）１３．１ｇをテトラヒドロフラン（（株）和光純薬工業製）１５０ｍｌに溶解し、−７０℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム１．６Ｍヘキサン溶液（（株）和光純薬工業製）２９ｍｌを加えた後、−５０℃まで昇温し、−８０℃に冷却した。２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（（株）和光純薬工業製）１１．３ｍｌを加え、室温まで昇温し、窒素雰囲気下で２日間撹拌した。得られた溶液に１Ｎ塩化アンモニウム水溶液２００ｍｌとヘキサン２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水４００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／ヘキサン）で精製し、化合物（９−ｅ）を１３．３ｇ得た。【０１３２】
上記の化合物（９−ｅ）１３．３ｇと、５，５’−ジブロモ−２，２’−ビチオフェン（（株）和光純薬工業製）５．５ｇをジメチルホルムアミド１７０ｍｌに加え、窒素雰囲気下でリン酸カリウム（（株）和光純薬工業製）４３．３ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）６９０ｍｇを加え、１００℃で８時間撹拌した。得られた溶液に水５００ｍｌとヘキサン４００ｍｌを加え、有機層を分取し、水５００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、化合物（９−ｆ）を３．９１ｇ得た。【０１３３】
上記の化合物（９−ｆ）３．９１ｇをテトラヒドロフラン（（株）和光純薬工業製）４０ｍｌに溶解し、−８０℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム１．６Ｍヘキサン溶液（（株）和光純薬工業製）４．７ｍｌを加えた後、室温まで昇温し、再度−８０℃に冷却した。２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（（株）和光純薬工業製）１．８ｍｌを加え、室温まで昇温し、窒素雰囲気下で１２時間撹拌した。得られた溶液に１Ｎ塩化アンモニウム水溶液２００ｍｌと酢酸エチル２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水３００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、化合物（９−ｇ）を１．５２ｇ得た。【０１３４】
上記の化合物（９−ｇ）１．５２ｇと、合成例１の化合物（１−ｂ）３００ｍｇをジメチルホルムアミド３０ｍｌに加え、窒素雰囲気下でリン酸カリウム（（株）和光純薬工業製）２．５ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）４１ｍｇを加え、１００℃で７時間撹拌した。得られた溶液に水１００ｍｌを加え、得られた固体をろ取し、水、メタノールの順に洗浄した。得られた固体をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／酢酸エチル）で精製し、化合物（９−ｈ）を８１３ｍｇ得た。【０１３５】
上記の化合物（９−ｈ）８１３ｍｇをクロロホルム２０ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（（株）和光純薬工業製）２１１ｍｇのジメチルホルムアミド（５ｍｌ）溶液を加え、５℃で７時間撹拌した。得られた溶液に水２００ｍｌとジクロロメタン１００ｍｌを加え、有機層を分取し、水２００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ジクロロメタン／酢酸エチル）で精製し、化合物（９−ｉ）を７３０ｍｇ得た。化合物（９−ｉ）の１Ｈ−ＮＭＲ測定結果を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：８．０４（ｓ，２Ｈ）、７．８４（ｓ，２Ｈ）、７．２１−７．０１（ｍ，１０Ｈ）、３．８５（ｔ，４Ｈ）、３．７４−３．６０（ｍ，２０Ｈ）、３．４７（ｔ，８Ｈ）、３．１９（ｔ，４Ｈ）、３．０３（ｔ，４Ｈ）、１．６１−１．５１（ｍ，８Ｈ）、１．４４−１．２６（ｍ，８Ｈ）、０．９１（ｍ，１２Ｈ）  。【０１３６】
上記の化合物（９−ｉ）１０１ｍｇと、合成例４の化合物（４−ａ）２９ｍｇをトルエン１０ｍｌに溶解した。ここに水３ｍｌ、炭酸カリウム１８０ｍｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（（株）東京化成工業製）７．６ｍｇ、Aliquat336（アルドリッチ社製）１滴を加え、窒素雰囲気下、１００℃にて１６時間撹拌した。得られた溶液を濃塩酸／メタノール（１０ｍｌ／２００ｍｌ）に加え、生成した固体をろ取し、メタノール、アセトン、水、アセトンの順に洗浄した。得られた固体をアセトンで３時間ソックスレー洗浄した後にクロロホルムに溶解させた。濃縮乾固した後、メタノールで洗浄し、化合物Ａ−８を１０４ｍｇ得た。重量平均分子量は６５０６０、数平均分子量は１５９６１、重合度ｎは３７．３であった。また、光吸収端波長は７２０ｎｍ、バンドギャップ（Ｅｇ）は１．７２ｅＶ、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−５．００ｅＶであった。【０１３７】
合成例１０
化合物Ａ−８を式１０に示す方法で合成した。【０１３８】
【化２１】
2009125647.tif 000023
【０１３９】
化合物（１０−ａ）（（株）和光純薬工業製）５０．２５ｇ、銅粉末（（株）和光純薬工業製）２５ｇをジメチルホルムアミド２３０ｍｌに加え、窒素雰囲気下、１３０℃にて７時間撹拌した。溶媒を減圧留去したのちトルエン５００ｍｌを加え、セライトでろ過し、水４００ｍｌ、炭酸水素ナトリウム水溶液２００ｍｌの順に洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液から溶媒を留去したのちイソプロパノール３００ｍｌで洗浄し、化合物（１０−ｂ）を２６ｇ得た。【０１４０】
上記の化合物（１０−ｂ）２６ｇをエタノール３２０ｍｌに加えたのち３６％塩酸１８０ｍｌ、すず粉末（（株）和光純薬工業製）３１ｇを加え、窒素雰囲気下、１００℃にて４時間撹拌した。得られた溶液を水８００ｍｌに投入し、水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨを約１０とした。生成した沈澱をろ取し、クロロホルム１０００ｍｌに溶解させ、水１０００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液から溶媒を留去し化合物（１０−ｃ）を２１．３７ｇ得た。【０１４１】
上記の化合物（１０−ｃ）２１．３ｇを３６％塩酸７５ｍｌ、水８５ｍｌに加え、５℃にてＮａＮＯ２水溶液（ＮａＮＯ２１０．７ｇ／水５５ｍｌ）を滴下した。５℃で３０分間撹拌後、ＫＩ水溶液（ＫＩ１０４ｇ／水２００ｍｌ）を滴下し、５℃で１時間、室温で１時間、６０℃で３時間撹拌した。得られた固体をろ取し、カラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン）で精製し、化合物（１０−ｄ）を４．２７ｇ得た。【０１４２】
上記の化合物（１０−ｄ）４．２７ｇをテトラヒドロフラン（（株）和光純薬工業製）８５ｍｌに溶解し、−８０℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム１．６Ｍヘキサン溶液（（株）和光純薬工業製）１９ｍｌを１時間かけて加えた後、窒素雰囲気下、−８０℃で３０分間撹拌した。ジクロロジオクチルシラン（（株）和光純薬工業製）５．２ｍｌを加え、室温まで昇温し、窒素雰囲気下で１日間撹拌した。得られた溶液に水５０ｍｌを加え、溶媒を留去した。ジエチルエーテル１５０ｍｌを加えたのち有機層を分取し、水４００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：シリカゲル、溶離液：ヘキサン）で精製し、化合物（１０−ｅ）を２．４９ｇ得た。【０１４３】
前記の化合物（１０−ｅ）２．４９ｇと、ビス（ピナコラト）ジボロン（ＢＡＳＦ社製）２．５８ｇを１，４−ジオキサン２１ｍｌに加え、窒素雰囲気下で酢酸カリウム（（株）和光純薬工業製）２．６ｇ、[ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウム（アルドリッチ社製）６４８ｍｇを加え、８０℃で５．５時間撹拌した。得られた溶液に水２００ｍｌとジエチルエーテル２００ｍｌを加え、有機層を分取し、水３００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（充填材：フロリジル、溶離液：ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、化合物（１０−ｆ）を２．６ｇ得た。【０１４４】
上記の化合物（１０−ｆ）４７ｍｇと、合成例２の化合物（２−ａ）１００ｍｇをトルエン１０ｍｌに溶解した。ここに水３ｍｌ、炭酸カリウム２００ｍｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（（株）東京化成工業製）８．２ｍｇ、Aliquat336（アルドリッチ社製）１滴を加え、窒素雰囲気下、１００℃にて７時間撹拌した。次いで、ブロモベンゼン（（株）東京化成工業製）５滴を加え、１００℃にて１時間撹拌した後、フェニルボロン酸（（株）東京化成工業製）１０ｍｇを加え、１００℃にて１時間撹拌した。得られた溶液にメタノール１００ｍｌを加え、生成した固体をろ取し、メタノール、水、アセトンの順に洗浄した。得られた固体をクロロホルム１００ｍｌに溶解させ、シリカゲルショートカラム（溶離液：クロロホルム）を通した後に濃縮乾固した後、熱アセトン、メタノールの順に洗浄し、化合物Ａ−８を１００ｍｇ得た。重量平均分子量は３８８４３、数平均分子量は２２５２６、重合度ｎは２３．６であった。また、光吸収端波長は７１８ｎｍ、バンドギャップ（Ｅｇ）は１．７３ｅＶ、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位は−５．１３ｅＶであった。【０１４５】
上記化合物Ａ−１〜Ａ−８、Ｂ−２〜Ｂ−３および後述する化合物Ｂ−１の諸物性（光吸収端波長、バンドギャップ（Ｅｇ）、最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）準位）を表１に示す。【０１４６】
【表１】
2009125647.tif 000024
【０１４７】
実施例１
上記Ａ−１の１ｍｇとＰＣ７０ＢＭ（サイエンスラボラトリーズ社製）４ｍｇをクロロベンゼン０．２５ｍｌの入ったサンプル瓶の中に加え、超音波洗浄機（（株）井内盛栄堂製ＵＳ−２（商品名）、出力１２０Ｗ）中で３０分間超音波照射することにより溶液Ａを得た。【０１４８】
スパッタリング法により正極となるＩＴＯ透明導電層を１２０ｎｍ堆積させたガラス基板を３８ｍｍ×４６ｍｍに切断した後、ＩＴＯをフォトリソグラフィー法により３８ｍｍ×１３ｍｍの長方形状にパターニングした。得られた基板をアルカリ洗浄液（フルウチ化学（株）製、“セミコクリーン”ＥＬ５６（商品名））で１０分間超音波洗浄した後、超純水で洗浄した。この基板を３０分間ＵＶ／オゾン処理した後に、基板上に正孔輸送層となるＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液（ＰＥＤＯＴ０．８重量％、ＰＰＳ０．５重量％）をスピンコート法により６０ｎｍの厚さに成膜した。ホットプレートにより２００℃で５分間加熱乾燥した後、上記の溶液ＡをＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ層上に滴下し、スピンコート法により膜厚１００ｎｍの有機半導体層を形成した。その後、有機半導体層が形成された基板と陰極用マスクを真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が１×１０−３Ｐａ以下になるまで再び排気し、抵抗加熱法によって、負極となるアルミニウム層を８０ｎｍの厚さに蒸着した。以上のように、ストライプ状のＩＴＯ層とアルミニウム層が交差する部分の面積が５ｍｍ×５ｍｍである光起電力素子を作製した。【０１４９】
このようにして作製された光起電力素子の正極と負極をヒューレット・パッカード社製ピコアンメーター／ボルテージソース４１４０Ｂに接続して、大気中でＩＴＯ層側から擬似太陽光（山下電装株式会社製  簡易型ソーラシミュレータ  ＹＳＳ−Ｅ４０、スペクトル形状：ＡＭ１．５、強度：１００ｍＷ／ｃｍ２）を照射し、印加電圧を−１Ｖから＋２Ｖまで変化させたときの電流値を測定した。この時の短絡電流密度（印加電圧が０Ｖのときの電流密度の値）は６．３７ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧（電流密度が０になるときの印加電圧の値）は０．９１４Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．３１３であり、これらの値から算出した光電変換効率は１．８２％であった。なお、フィルファクターと光電変換効率は次式により算出した。
フィルファクター＝ＪＶｍａｘ／（短絡電流密度×開放電圧）
（ここで、ＪＶｍａｘは、印加電圧が０Ｖから開放電圧値の間で電流密度と印加電圧の積が最大となる点における電流密度と印加電圧の積の値である。）
光電変換効率＝[（短絡電流密度×開放電圧×フィルファクター）／擬似太陽光強度（１００ｍＷ／ｃｍ２）]×１００（％）
以下の実施例と比較例におけるフィルファクターと光電変換効率も全て上式により算出した。【０１５０】
実施例２
Ａ−１の代わりに上記Ａ−３を用いた他は実施例１と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は６．１２ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．８１０Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．３４６であり、これらの値から算出した光電変換効率は１．７２％であった。【０１５１】
実施例３
Ａ−１の代わりに上記Ａ−４を用いた他は実施例１と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は７．７１ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．８４２Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．４１８であり、これらの値から算出した光電変換効率は２．７２％であった。【０１５２】
比較例１
Ａ−１の代わりに下記Ｂ−１（重量平均分子量：２６３０、数平均分子量：１６０４、重合度ｎ：３．８）を用いた他は実施例１と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は３．５７ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．９００Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．２８０であり、これらの値から算出した光電変換効率は０．９０％であった。【０１５３】
【化２２】
2009125647.tif 000025
【０１５４】
比較例２
Ａ−１の代わりに上記Ｂ−２を用いた他は実施例１と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は４．５２ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．９２０Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．２８２であり、これらの値から算出した光電変換効率は１．１７％であった。【０１５５】
比較例３
Ａ−１の代わりに上記Ｂ−３を用いた他は実施例１と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は４．５８ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．８２０Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．２６６であり、これらの値から算出した光電変換効率は１．００％であった。【０１５６】
実施例４
クロロベンゼン０．２５ｍｌの代わりにクロロベンゼン／ベンゾトリフルオリド（トリフルオロメチルベンゼン）混合溶液（０．２４７５ｍｌ／０．００２５ｍｌ）を用いた他は実施例３と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は７．８４ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．８７０Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．４３８であり、これらの値から算出した光電変換効率は２．９９％であった。【０１５７】
実施例５
負極となるアルミニウム層を蒸着する前にフッ化リチウムを０．１ｎｍの厚さに蒸着した他は実施例４と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は８．４４ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．８７０Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．４３０であり、これらの値から算出した光電変換効率は３．１６％であった。【０１５８】
実施例６
クロロベンゼン／ベンゾトリフルオリド（トリフルオロメチルベンゼン）混合溶液（０．２４７５ｍｌ／０．００２５ｍｌ）の代わりにクロロベンゼン／クロロホルム混合溶液（０．０８３４ｍｌ／０．３３３３ｍｌ）を用いた他は実施例５と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は８．７２ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．８６０Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．４６６であり、これらの値から算出した光電変換効率は３．４９％であった。【０１５９】
実施例７
Ａ−１の代わりに上記Ａ−６を用いた他は実施例１と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は６．１３ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．９１０Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．３６０であり、これらの値から算出した光電変換効率は２．００％であった。【０１６０】
実施例８
Ａ−１の代わりに上記Ａ−７を用いた他は実施例１と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は７．５４ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．８１０Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．４００であり、これらの値から算出した光電変換効率は２．４４％であった。【０１６１】
実施例９
Ａ−１の代わりに上記Ａ−８を用いた他は実施例１と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は６．４０ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．８５９Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．４１３であり、これらの値から算出した光電変換効率は２．２７％であった。【０１６２】
実施例１０
クロロベンゼン／クロロホルム混合溶液（０．０８３４ｍｌ／０．３３３３ｍｌ）の代わりにクロロベンゼン／クロロホルム／ベンゾトリフルオリド（トリフルオロメチルベンゼン）混合溶液（０．０８２５ｍｌ／０．３３ｍｌ／０．００４２ｍｌ）を用いた他は実施例６と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は８．５０ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．８８０Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．４９０であり、これらの値から算出した光電変換効率は３．６７％であった。【０１６３】
実施例１１
有機半導体層を形成する前に、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ層の上にベンゾトリフルオリド（トリフルオロメチルベンゼン）をスピンコートした他は実施例６と全く同様にして光起電力素子を作製し、電流−電圧特性を測定した。この時の短絡電流密度は８．３０ｍＡ／ｃｍ２、開放電圧は０．８９０Ｖ、フィルファクター（ＦＦ）は０．５００であり、これらの値から算出した光電変換効率は３．６９％であった。【０１６４】
上記実施例１〜１１、および比較例１〜３の結果を表２にまとめて示す。【０１６５】
【表２】
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【産業上の利用可能性】
【０１６６】
本発明の電子供与性有機材料を用いた光起電力素子は、光電変換機能、光整流機能などを利用した種々の光電変換素子への応用が可能である。例えば、光電池（太陽電池など）、電子素子（光センサ、光スイッチ、フォトトランジスタなど）、光記録材（光メモリなど）などに有用である。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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