(57)【要約】  反射膜（１７０）が形成される可動部（１２０）と、可動部を取り囲む支持部（１１０）と、可動部が揺動可能なように可動部と支持部とを接続するトーションバー（１３０）とを備えるアクチュエータの製造方法は、基板（２０１）上に可動部、支持部及びトーションバーを形成する第１工程（Ｓ１０６）と、可動部上に、反射膜を形成する第２工程（Ｓ１０５）と、可動部のうち反射膜が形成される側に、(i)反射膜の表面から突き出る高さを有し且つ(ii)他の構造物が反射膜に接触することを抑制する突起部（１８０）を形成する第３工程（Ｓ１０３）とを備える。
2013076845.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(i)反射膜が形成される可動部と、(ii)当該可動部を取り囲む支持部と、(iii)前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーとを備えるアクチュエータの製造方法であって、
基板上に、前記可動部、前記支持部及び前記トーションバーを形成する第１工程と、
前記可動部上に、前記反射膜を形成する第２工程と、
前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する突起部であって、且つ(ii)前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が他の構造物に対向している場合であっても、前記他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する突起部を形成する第３工程と
を備えることを特徴とするアクチュエータの製造方法。
【請求項２】
前記突起部は、前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物の表面に対して傾いた状態で対向している場合であっても、前記突起部が前記他の構造物に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触することを抑制することができる程度の高さを有することを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項３】
前記第３工程は、前記突起部を複数形成することを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項４】
前記複数の突起部の少なくとも一つは、前記反射膜の表面が湾曲した状態で前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物に対向している場合であっても、前記複数の突起部の少なくとも一つが前記他の構造物の表面に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触しなくなる程度の高さを有することを特徴とする請求項３に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項５】
前記反射膜の表面の曲率半径がｒであり、前記突起部の高さがｈであり、且つ前記複数の突起部のうちのいずれか２つの突起部の間の間隔が２×Ｌであるとすると、前記第３工程は、数式１が示す条件を満たすように前記複数の突起部を形成することを特徴とする請求項４に記載のアクチュエータの製造方法。
【数１】
2013076845.tif 000005
【請求項６】
前記突起部の高さは、前記可動部及び前記反射膜の少なくとも一方の表面粗さよりも大きいことを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項７】
前記突起部の高さは、前記反射膜に対して照射される光の波長の長さ以下であることを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項８】
前記突起部の前記反射膜の表面に沿った方向の幅は、前記反射膜に対して照射される光の波長の長さ以下であることを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項９】
前記第３工程は、前記可動部内で離散的に分布する前記複数の突起部を形成することを特徴とする請求項３に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１０】
前記第３工程は、前記反射膜の表面が湾曲した状態で前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物に対向している場合であっても、前記突起部が前記他の構造物に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触しなくなるような配置位置に前記複数の突起部を形成することを特徴とする請求項３に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１１】
前記第３工程は、３つ以上の前記突起部が同一直線上に配置される配置位置に前記３つ以上の突起部を形成する場合には、前記３つ以上の突起部が等間隔に配置されなくなる配置位置に前記３つ以上の突起部を形成することを特徴とする請求項３に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１２】
前記第３工程は、前記可動部及び前記反射膜の少なくとも一方の中心付近又は中央付近に前記突起部を形成することを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１３】
前記第３工程は、前記反射膜上において光を反射する領域に対する前記反射膜上において前記突起部の影に起因して生ずる前記光を反射しない領域の割合が、所定の割合以下となるように、前記突起部を形成することを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１４】
前記所定の割合は１％であることを特徴とする請求項１３に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１５】
前記第３工程は、前記突起部の形成と同時に又は並行して、前記アクチュエータの動作に関連する所定の回路を前記基板上に形成することを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１６】
前記突起部の表面の反射率は、前記反射膜の表面の反射率よりも低いことを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１７】
前記突起部の光吸収率は、前記反射膜の光吸収率よりも高いことを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１８】
反射膜が形成される可動部と、
当該可動部を取り囲む支持部と、
前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーと
を備え、
前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する突起部であって、且つ(ii)対向する他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する突起部を備えることを特徴とするアクチュエータ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばミラー等が設けられた可動部を駆動するＭＥＭＳスキャナ等のアクチュエータ及び当該アクチュエータの製造方法の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ディスプレイ、プリンティング装置、精密測定、精密加工、情報記録再生などの多様な技術分野において、半導体プロセス技術によって製造されるＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）デバイスについての研究が活発に進められている。このようなＭＥＭＳデバイスとして、レーザ光のスキャニングに用いられるＭＥＭＳスキャナが知られている。このようなＭＥＭＳスキャナは、可動板と、可動板を取り囲む枠状の支持枠と、可動板を支持枠に対して揺動可能に軸支するトーションバーとを備えている。【０００３】
ここで、一般的なＭＥＭＳスキャナでは、可動板の表面の中央にはミラーが形成され、当該ミラーの周囲に駆動用コイルが形成される。そして、駆動用コイルに対して静磁界を発生させるための１対の永久磁石が、支持枠に配置される。このように構成されたＭＥＭＳスキャナによれば、駆動用コイルに対して制御電流が供給されることで、駆動用コイルに電磁駆動力（ローレンツ力）が発生する。従って、駆動用コイルが形成されている可動板が遥動される。【０００４】
このようなＭＥＭＳスキャナを開示する先行技術として、特許文献１が一例としてあげられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１３３１４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、このようなＭＥＭＳスキャナを製造する過程において、可動板の表面に形成されるミラーが、製造装置のステージ（或いは、治具等のその他の構造物）に接触してしまうおそれがある。特に、一部の製造工程では、製造途中のＭＥＭＳスキャナの冷却等のために積極的にミラー（或いは、ミラーを形成した可動板）を製造装置のステージ等に接触させることがある。この場合、ミラーと製造装置のステージとの接触に起因して、ミラーに傷やへこみが生じてしまうこともある。そうすると、ミラーの本来の特性（いわゆる、光反射特性等）が損なわれてしまいかねないという技術的な問題点が生じ得る。【０００７】
尚、上述した技術的な問題点は、回転するように可動板（或いは、任意の可動部）を遥動させるＭＥＭＳスキャナのみならず、任意の態様で可動板（或いは、任意の可動部）を遥動させるＭＳＭＳアクチュエータに対しても同様に生じ得る。【０００８】
本発明は、例えば前述した従来の問題点に鑑みなされたものであり、例えば可動部上にミラー等の反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷を適切に抑制又は防止しながら製造することが可能なアクチュエータの製造方法及びアクチュエータを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
アクチュエータの製造方法は、上記課題を解決するために、(i)反射膜が形成される可動部と、(ii)当該可動部を取り囲む支持部と、(iii)前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーとを備えるアクチュエータの製造方法であって、基板上に、前記可動部、前記支持部及び前記トーションバーを形成する第１工程と、前記可動部上に、前記反射膜を形成する第２工程と、前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する突起部であって、且つ(ii)前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が他の構造物に対向している場合であっても、前記他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する突起部を形成する第３工程とを備える。【００１０】
アクチュエータは、上記課題を解決するために、反射膜が形成される可動部と、当該可動部を取り囲む支持部と、前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーとを備え、前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する突起部であって、且つ(ii)対向する他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する突起部を備える。【００１１】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１実施例のアクチュエータの構成の一例を示す平面図である。
【図２】突起部及び反射ミラーの詳細な構成を示す断面図である。
【図３】突起部の作用という側面から突起部を説明するための断面図である。
【図４】突起部によって反射ミラー上に形成される影の割合という側面から突起部を説明するための平面図及び断面図である。
【図５】第１実施例のアクチュエータを製造するための製造方法の流れを示すフローチャートである。
【図６】第１実施例のアクチュエータを製造するための製造方法の各工程が行われた場合のアクチュエータの状態を示す断面図及び平面図である。
【図７】第１実施例のアクチュエータを製造するための製造方法の各工程が行われた場合のアクチュエータの状態を示す断面図及び平面図である。
【図８】第１実施例のアクチュエータを製造するための製造方法の各工程が行われた場合のアクチュエータの状態を示す断面図及び平面図である。
【図９】第１実施例のアクチュエータを製造するための製造方法の各工程が行われた場合のアクチュエータの状態を示す断面図及び平面図である。
【図１０】第１実施例のアクチュエータを製造するための製造方法の各工程が行われた場合のアクチュエータの状態を示す断面図及び平面図である。
【図１１】第１実施例のアクチュエータを製造するための製造方法の各工程が行われた場合のアクチュエータの状態を示す断面図及び平面図である。
【図１２】突起部によって反射ミラーと他の構造物との接触が抑制される状態を示す断面図である。
【図１３】第２実施例のアクチュエータの構成の一例を示す平面図である。
【図１４】突起部の高さや２つの突起部の間の距離という観点から定められる条件を説明するためのアクチュエータの一部の断面図である。
【図１５】３つ以上の突起部を形成する場合の条件を説明するための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、アクチュエータの製造方法及びアクチュエータの実施形態について順に説明する。
【００１４】
（アクチュエータの製造方法の実施形態）
本実施形態のアクチュエータの製造方法は、(i)反射膜が形成される可動部と、(ii)当該可動部を取り囲む支持部と、(iii)前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーとを備えるアクチュエータの製造方法であって、基板上に、前記可動部、前記支持部及び前記トーションバーを形成する第１工程と、前記可動部上に、前記反射膜を形成する第２工程と、前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する突起部であって、且つ(ii)前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が他の構造物に対向している場合であっても、前記他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する突起部を形成する第３工程とを備える。
【００１５】
本実施形態のアクチュエータの製造方法によれば、可動部と支持部とトーションバーとを備えるアクチュエータが製造される。このようなアクチュエータによれば、トーションバーによって懸架された可動部が遥動する。可動部は、例えば、トーションバーが伸長する方向を中心軸として回転するように遥動してもよいし、或いは、トーションバーが伸長する方向に沿って又はトーションバーが伸長する方向と交わる方向に沿って移動するように遥動してもよい。
【００１６】
このとき、トーションバーは、可動部と支持部とを直接的に接続していてもよい。或いは、トーションバーは、可動部と支持部とを間接的に（言い換えれば、間に任意の部材を介在させた上で）接続してもよい。
【００１７】
このようなアクチュエータを製造するために、本実施形態のアクチュエータの製造方法は、第１工程と、第２工程と、第３工程とを備えている。
【００１８】
第１工程では、基板上に、可動部、支持部及びトーションバーが形成される。後に図面を用いて詳細に説明するが、第１工程では、例えば、半導体製造プロセス等を用いて基板の一部が取り除かれることで、可動部、支持部及びトーションバーが形成されてもよい。或いは、第１工程では、その他の製造プロセスを用いて、可動部、支持部及びトーションバーが形成されてもよい。
【００１９】
第２工程では、可動部上に反射膜が形成される。例えば、可動部が板状の部材である場合には、可動部の相対向する２つの表面のうちの一方の表面に反射膜が形成される。この反射膜は、主として反射膜に照射される光を反射する。その結果、可動部の遥動に合わせて反射膜から光が反射されることで、光のスキャニングが行われる。尚、反射膜としては、典型的には、例えばアルミニウム等の金属膜が用いられるが、光を反射する任意の部材が用いられてもよい。
【００２０】
尚、第１工程が先に行われた後に第２工程が行われてもよいし、第２工程が先に行われた後に第１工程が行われてもよい。第２工程が先に行われる場合には、反射膜は、後の第１工程において可動部が形成されることが予定されている基板上の所定の領域に形成される。
【００２１】
第３工程では、可動部に突起部が形成される。このとき、突起部は、可動部のうち反射膜が形成される側（例えば、可動部の相対向する２つの表面のうち反射膜が形成される側の表面）に形成される。このとき、突起部は、可動部のうち反射膜が形成されている箇所（例えば、可動部の表面のうち反射膜が形成されている領域）に形成されてもよいし、可動部のうち反射膜が形成されてない箇所（例えば、可動部の表面のうち反射膜が形成されていない領域）に形成されてもよい。
【００２２】
尚、第３工程は、第１工程及び第２工程の双方が先に行われた後に行われてもよい。或いは、第３工程は、第１工程及び第２工程のいずれか一方が行われた後であって且つ第１工程及び第２工程のいずれか他方が行われる前に行われてもよい。或いは、第３工程は、第１工程及び第２工程の双方が行われる前に行われてもよい。第１工程よりも先に第３工程が先に行われる場合には、突起部は、後の第１工程において可動部が形成されることが予定されている基板上の所定の領域に形成される。同様に、第２工程よりも先に第３工程が先に行われる場合には、突起部は、可動部（或いは、可動部が形成されることが予定されている基板上の所定の領域）のうち後の第２工程において反射膜が形成されることが予定されている側に形成される。
【００２３】
突起部は、反射膜の表面から突き出る高さを有している。従って、可動部の厚み方向（或いは、反射膜の厚み方向）に沿った高さに着目すれば、突起部の高さは、反射膜の高さ（言い換えれば、反射膜の厚み）よりも高くなる。更に、突起部は、基板（特に、基板のうち反射膜が形成される側の表面）が他の構造物に対向している状況において、当該他の構造物に接触することで反射膜が他の構造物に接触することを抑制する。言い換えれば、突起部は、基板が他の構造物に対向している状況において基板と他の構造物とが接触する状況に置かれた場合であっても、当該他の構造物に接触することで反射膜が他の構造物に接触することを抑制する。例えば、突起部は、基板が他の構造物に対向している状況において、反射膜が他の構造物に接触するよりも先に他の構造物に接触することで、反射膜が他の構造物に接触することを抑制する。つまり、突起部が形成されることで、基板が他の構造物に対向している状況において、他の構造物が反射膜に接触することを好適に抑制する（或いは、防止する）ことができる。尚、突起部は、他の構造物に常に接触している必要はなく、少なくとも反射膜が他の構造物に接触することを抑制する場合に他の構造物に接触していれば足りる。また、他の構造物としては、例えば、アクチュエータを製造するための製造装置の各種部材（例えば、ステージ等）が一例となる。もちろん、基板に対向し得る任意の部材ないしは物体を他の構造物として取り扱ってもよいことは言うまでもない。
【００２４】
尚、突起部は、突起部が形成されていない場合と比較して、他の構造物が反射膜に接触することを少しでも積極的に抑制する（言い換えれば、防止する）ことができる部材であればよい。つまり、突起部が形成されていない場合に他の構造物が反射膜に接触する程度（例えば、接触面積の大きさや、接触の衝撃の大きさや、接触の回数等）と比較して、突起部が形成されている場合に他の構造物が反射膜に接触する程度が少しでも積極的に抑制されれば（つまり、緩和されれば）足りる。但し、突起部が形成されていることで、他の構造物が反射膜に殆ど又は全く接触しなくなることが好ましい。
【００２５】
以上説明したように、本実施形態のアクチュエータの製造方法によれば、可動部、支持部及びトーションバー並びに反射膜が形成される過程において、可動部上に突起部が形成される。従って、仮にアクチュエータを製造する過程において、基板が他の構造物に対向している状況が生ずることがあったとしても、他の構造物が反射膜に接触することが好適に抑制される（言い換えれば、防止される）。従って、反射膜と他の構造物との接触に起因して、反射膜に傷やへこみが生じてしまう不都合を好適に抑制又は防止することができる。その結果、反射膜の本来の特性（いわゆる、光反射特性等）が好適に維持される。つまり、反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷を適切に抑制又は防止しながら製造することができる。
【００２６】
更に、突起部が形成されているアクチュエータであれば、製造完了後も、他の構造物が反射膜に接触することが好適に抑制される（言い換えれば、防止される）。従って、突起部が形成されているアクチュエータであれば、製造完了後も、反射膜に傷やへこみが生じてしまう不都合を好適に抑制又は防止することができ、その結果、反射膜の本来の特性（いわゆる、光反射特性等）が好適に維持される。但し、他の構造物が反射膜に接触する状況は、アクチュエータを製造している過程で多く発生する。一方で、突起部は、製造完了後のアクチュエータの本来の主たる機能には大きく寄与することはない。従って、突起部は、アクチュエータの製造完了と共に取り払われてもよい。
【００２７】
本実施形態のアクチュエータの製造方法の他の態様では、前記突起部は、前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物の表面に対して傾いた状態で対向している場合であっても、前記突起部が前記他の構造物に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触しなくなる程度の高さを有する。
【００２８】
この態様によれば、このような高さ（つまり、反射膜の表面を基準とする、反射膜の表面から突き出た高さ）を有する突起部により、基板が他の構造物に対向している（特に、基板の表面と他の構造物の表面とが非平行な状態で対向している）状況が生ずることがあったとしても、他の構造物が反射膜に接触することが好適に抑制される。従って、反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷を適切に抑制又は防止しながら製造することができる。
【００２９】
本実施形態のアクチュエータの製造方法の他の態様では、前記第３工程は、前記突起部を複数形成する。
【００３０】
この態様によれば、複数の突起部により、他の構造物が反射膜に接触することがより一層好適に抑制される（言い換えれば、防止される）。従って、反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷をより一層適切に抑制又は防止しながら製造することができる。
【００３１】
上述の如く複数の突起部を形成するアクチュエータの製造方法の態様では、前記複数の突起部の少なくとも一つは、前記反射膜の表面が湾曲した状態で前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物に対向している場合であっても、前記複数の突起部の少なくとも一つが前記他の構造物の表面に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触しなくなる程度の高さを有するように構成してもよい。
【００３２】
このように構成すれば、このような高さを有する突起部により、基板が他の構造物に対向している状況が生ずることがあったとしても、他の構造物が反射膜に接触することがより一層好適に抑制される（言い換えれば、防止される）。従って、反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷をより一層適切に抑制又は防止しながら製造することができる。
【００３３】
上述の如く複数の突起部を形成するアクチュエータの製造方法の態様では、前記反射膜の表面の曲率半径がｒであり、前記突起部の高さがｈであり、且つ前記複数の突起部のうちのいずれか２つの突起部の間の間隔が２×Ｌであるとすると、前記第３工程は、数式１が示す条件を満たすように前記複数の突起部を形成するように構成してもよい。
【００３４】
【数１】
2013076845.tif 000003
このように構成すれば、このような高さを有する突起部により、基板が他の構造物に対向している状況が生ずることがあったとしても、他の構造物が反射膜に接触することがより一層好適に抑制される（言い換えれば、防止される）。従って、反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷をより一層適切に抑制又は防止しながら製造することができる。
【００３５】
本実施形態のアクチュエータの製造方法の他の態様では、前記突起部の高さは、前記可動部及び前記反射膜の少なくとも一方の表面粗さよりも大きい。
【００３６】
この態様によれば、突起部として作用することが困難な又は不可能な可動部ないしは反射膜の表面の粗さ（つまり、表面の極微細な凹凸）ではなく、いわば反射膜と他の構造物との接触を積極的に抑制するための意図的な突起部が可動部上に形成される。従って、反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷をより一層適切に抑制又は防止しながら製造することができる。
【００３７】
本実施形態のアクチュエータの製造方法の他の態様では、前記突起部の高さは、前記反射膜に対して照射される光の波長の長さ以下である。
【００３８】
この態様によれば、反射膜に照射される光が突起部の背後（つまり、本来影になる箇所）に回り込むことになる。従って、突起部の高さが光の波長の長さを超える場合には反射膜によって有効に反射されなかった光が、反射膜によって有効に反射される。このため、突起部の高さが光の波長の長さを超える場合と比較して、反射膜に照射される光の利用効率（例えば、反射効率等）を増大させることができる。
【００３９】
本実施形態のアクチュエータの製造方法の他の態様では、前記突起部の前記反射膜の表面に沿った方向の幅は、前記反射膜に対して照射される光の波長の長さ以下である。
【００４０】
この態様によれば、反射膜に照射される光が突起部の背後（つまり、本来影になる箇所）に回り込むことになる。従って、突起部の高さが光の波長の長さを超える場合には反射膜によって有効に反射されなかった光が、反射膜によって有効に反射される。このため、突起部の高さが光の波長の長さを超える場合と比較して、反射膜に照射される光の利用効率（例えば、反射効率等）を増大させることができる。
【００４１】
上述の如く複数の突起部を形成するアクチュエータの製造方法の態様では、前記第３工程は、前記可動部内で離散的に分布する前記複数の突起部を形成するように構成してもよい。
【００４２】
このように構成すれば、このような分布態様で形成される突起部により、基板が他の構造物に対向している状況が生ずることがあったとしても、他の構造物が反射膜に接触することがより一層好適に抑制される（言い換えれば、防止される）。従って、反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷をより一層適切に抑制又は防止しながら製造することができる。
【００４３】
上述の如く複数の突起部を形成するアクチュエータの製造方法の態様では、前記第３工程は、前記反射膜の表面が湾曲した状態で前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物に対向している場合であっても、前記突起部が前記他の構造物に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触しなくなるような配置位置に前記複数の突起部を形成するように構成してもよい。
【００４４】
このように構成すれば、このような分布態様で形成される突起部により、基板が他の構造物に対向している状況が生ずることがあったとしても、他の構造物が反射膜に接触することがより一層好適に抑制される（言い換えれば、防止される）。従って、反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷をより一層適切に抑制又は防止しながら製造することができる。
【００４５】
上述の如く複数の突起部を形成するアクチュエータの製造方法の態様では、前記第３工程は、３つ以上の前記突起部が同一直線上に配置される配置位置に前記３つ以上の突起部を形成する場合には、前記３つ以上の突起部が等間隔に配置されなくなる配置位置に前記３つ以上の突起部を形成するように構成してもよい。
【００４６】
このように構成すれば、３つ以上の突起部が同一直線上において等間隔で配置されるように形成されなくなる。このため、突起部が形成されたアクチュエータの製造が完了した後に反射膜に対して光を照射した場合に、３つ以上の突起部での反射に起因した当該光の干渉が生ずることが殆ど又は全くなくなる。つまり、３つ以上の突起部での反射に起因した光の干渉によって、反射膜での光の反射に悪影響を及ぼすことが殆ど又は全くなくなる。従って、照射される光を適切に反射するという反射膜の本来の特性を損なうことなく、突起部を形成することができる。
【００４７】
本実施形態のアクチュエータの製造方法の他の態様では、前記第３工程は、前記可動部及び前記反射膜の少なくとも一方の中心付近又は中央付近に前記突起部を形成する。
【００４８】
このように構成すれば、このような分布態様で形成される突起部により、基板が他の構造物に対向している状況が生ずることがあったとしても、他の構造物が反射膜に接触することがより一層好適に抑制される（言い換えれば、防止される）。従って、反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷をより一層適切に抑制又は防止しながら製造することができる。
【００４９】
本実施形態のアクチュエータの製造方法の他の態様では、前記第３工程は、前記反射膜上において光を反射する領域に対する前記反射膜上において前記突起部の影に起因して生ずる前記光を反射しない領域の割合が、所定の割合以下となるように、前記突起部を形成することを特徴とする。
【００５０】
この態様によれば、突起部が形成されたアクチュエータの製造が完了した後に反射膜に対して光を照射した場合に、当該突起部によって生ずる影が占める割合を一定の許容範囲に収めることができる。従って、照射される光を反射するという反射膜の本来の特性を損なうことなく、突起部を形成することができる。
【００５１】
上述の如く光を反射する領域に対する光を反射しない領域の割合が所定の割合以下となるように突起部を形成するアクチュエータの製造方法の態様では、前記所定の割合は１％であるように構成してもよい。
【００５２】
このように構成すれば、突起部が形成されたアクチュエータの製造が完了した後に反射膜に対して光を照射した場合に、当該突起部によって生ずる影が占める割合を１％以下に収めることができる。従って、照射される光を反射するという反射膜の本来の特性を損なうことなく、突起部を形成することができる。
【００５３】
本実施形態のアクチュエータの製造方法の他の態様では、前記第３工程は、前記突起部の形成と同時に又は並行して、前記アクチュエータの動作に関連する所定の回路を前記基板上に形成する。
【００５４】
この態様によれば、所定の回路（例えば、既存の回路）を形成する工程を流用（言い換えれば、共用）して、突起部を形成することができる。従って、突起部を新たに形成することに起因して新たな製造工程を追加しなくともよくなる。つまり、突起部を新たに形成するためだけに用いられる新たな製造工程を追加する場合と比較して、製造工程の簡略化を図ることができる。
【００５５】
本実施形態のアクチュエータの製造方法の他の態様では、前記突起部の表面の反射率は、前記反射膜の表面の反射率よりも低い。
【００５６】
この態様によれば、反射膜と比較して、反射膜に照射された光が突起部によって反射されにくくなる。つまり、突起部が反射膜として用いられにくくなる。このため、反射膜に照射された光が突起部によって意図せぬ方向で反射することで生じ得る不都合の発生を好適に抑制することができる。
【００５７】
本実施形態のアクチュエータの製造方法の他の態様では、前記突起部の光吸収率は、前記反射膜の光吸収率よりも高い。
【００５８】
この態様によれば、反射膜と比較して、反射膜に照射された光が突起部によって反射されにくくなる。つまり、突起部が反射膜として用いられにくくなる。このため、反射膜に照射された光が突起部によって意図せぬ方向で反射することで生じ得る不都合の発生を好適に抑制することができる。
【００５９】
（アクチュエータの実施形態）
本実施形態のアクチュエータは、反射膜が形成される可動部と、当該可動部を取り囲む支持部と、前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーとを備え、前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する突起部であって、且つ(ii)対向する他の構造物に前記反射膜が接触する前に前記他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する突起部を備える。
【００６０】
本実施形態のアクチュエータによれば、上述した本実施形態のアクチュエータの製造方法が享受することができる各種効果と同様の効果を好適に享受することができる。
【００６１】
尚、上述した本実施形態のアクチュエータの製造方法が採用し得る各種態様（つまり、他の態様）に対応して、本実施形態のアクチュエータもまた各種態様を採用することができる。
【００６２】
本実施形態のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施例から明らかにされる。
【００６３】
以上説明したように、本実施形態のアクチュエータの製造方法によれば、可動部、支持部及びトーションバーを形成する第１工程と、反射膜を形成する第２工程と、突起部を形成する第３工程とを備える。本実施形態のアクチュエータによれば、可動部と、支持部と、トーションバーとを備え、可動部上には突起部が形成される。従って、可動部上にミラー等の反射膜が形成されるアクチュエータを、反射膜の損傷を適切に抑制又は防止しながら製造することができる。
【実施例】
【００６４】
以下、実施例について図を参照しつつ説明する。【００６５】
（１）第１実施例
はじめに、図１から図１２を参照して、第１実施例のアクチュエータ１０１及び当該アクチュエータ１０１の製造方法について説明する。【００６６】
（１−１）アクチュエータの構成
はじめに、図１を参照して、第１実施例のアクチュエータ１０１の構成について説明する。図１は、第１実施例のアクチュエータ１０１の構成の一例を示す平面図及び断面図である。【００６７】
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、第１実施例のアクチュエータ１０１は、例えばレーザ光のスキャニングに用いられるプレーナ型電磁駆動アクチュエータ（即ち、ＭＥＭＳスキャナ）である。アクチュエータ１０１は、支持部１１０と、可動部１２０と、一対のトーションバー１３０と、駆動コイル１４０と、電源端子１５０と、一対の永久磁石１６０と、反射ミラー１７０と、突起部１８０とを備えている。【００６８】
支持部１１０、可動部１２０及び一対のトーションバー１３０は、例えばシリコン基板等の非磁性基板から一体的に形成されている。即ち、支持部１１０、可動部１２０及び一対のトーションバー１３０は、例えばシリコン基板等の非磁性基板の一部が除去されることにより間隙が形成されることで形成されている。このときの形成プロセスとして、ＭＥＭＳプロセスが用いられることが好ましい。尚、シリコン基板に代えて、任意の弾性材料から、支持部１１０、可動部１２０及び一対のトーションバー１３０が一体的に形成されてもよい。【００６９】
支持部１１０は、可動部１２０を取り囲むような枠形状を有しており、可動部１２０の両側に位置する（言い換えれば、可動部１２０の両側から当該可動部を挟み込む）一対のトーションバー１３０によって可動部１２０と接続されている。但し、支持部１１０の一部に切り欠きないしは開口部が形成されていてもよい。【００７０】
可動部１２０は、揺動可能なように一対のトーションバー１３０によって支持部１１０に軸支されている。可動部１２０の表面には、レーザ光を反射する反射ミラー１７０が形成される。反射ミラー１７０は、照射される光を反射する板状の又は膜状の部材である。【００７１】
可動部１２０の表面には、更に、駆動コイル１４０が形成されている。但し、駆動コイル１４０は、可動部１２０の内部に形成されてもよい。駆動コイル１４０は、例えば、可動部１２０の表面に形成される反射ミラー１７０を取り囲むように伸長するコイルである。駆動コイル１４０は、例えば相対的に導電率の高い材料（例えば、金や銅等）を用いて形成されてもよい。また、駆動コイル１４０は、めっきプロセスやスパッタリング法等の半導体製造プロセスを用いて形成されてもよい。或いは、駆動コイル１４０は、支持部１１０、可動部１２０及び一対のトーションバー１３０を形成するためのシリコン基板に対してインプラント法を用いて埋め込まれてもよい。【００７２】
駆動コイル１４０には、支持部１１０上に形成されている電源端子１５０を介して、電源から制御電流が供給される。制御電流は、可動部１２０を遥動させるための制御電流であって、典型的には、可動部１２０が遥動する周波数と同期した周波数の信号成分を含む交流電流である。尚、電源は、アクチュエータ１０１自身が備えている電源であってもよいし、アクチュエータ１０１の外部に用意される電源であってもよい。【００７３】
一対のトーションバー１３０は、可動部１２０が支持部１１０に対して揺動可能なように、可動部１２０と支持部１１０とを接続する。一対のトーションバー１３０の弾性によって、可動部１２０は、一対のトーションバー１３０が伸長する方向に沿った軸を中心軸（言い換えれば、回転軸）として回転するように遥動する。つまり、可動部１２０は、図１（ａ）における左右の方向に沿った軸を中心軸として、当該中心軸の周りで回転するように遥動する。【００７４】
一対の永久磁石１６０は、支持部１１０の外部に取り付けられている。一対の永久磁石１６０は、駆動コイル１４０に対して所定の静磁界を印加することができるように、その磁極の向きが適切に設定されていることが好ましい。尚、一対の永久磁石１６０には、静磁界の強度を高めるために、ヨークが付加されていてもよい。【００７５】
このような第１実施例のアクチュエータ１０１が動作する（具体的には、可動部１２０が遥動する）場合には、まず、電源から、電源端子１５０を介して、駆動コイル１４０に対して制御電流が供給される。一方で、駆動コイル１４０には、一対の永久磁石１６０によって静磁界が印加されている。従って、駆動コイル１４０には、一対の永久磁石１６０から印加される静磁界と駆動コイル１４０に供給される制御電流との電磁相互作用に起因した力（つまり、ローレンツ力）が生ずる。その結果、駆動コイル１４０が形成されている可動部１２０は、一対の永久磁石１６０から印加される静磁界と駆動コイル１４０に供給される制御電流との電磁相互作用に起因したローレンツ力によって遥動する。つまり、可動部１２０は、図１（ａ）における左右の方向に沿った軸を中心軸として回転するように遥動する。【００７６】
第１実施例では特に、可動部１２０上には、突起部１８０が形成されている。このとき、突起部１８０は、可動部１２０の相対向する２つの面（例えば、図１（ｂ）の上側の面及び下側の面）のうち反射ミラー１７０が形成される側の面上に形成される。更に、図１（ａ）及び図１（ｂ）では、突起部１８０が、可動部１２０上であって且つ反射ミラー１７０上に形成される例を示している。しかしながら、突起部１８０は、反射ミラー１７０が形成されていない可動部１２０上の領域部分（例えば、図１（ａ）における反射ミラー１７０の周辺の領域部分）に形成されていてもよい。【００７７】
突起部１８０は、当該突起部１８０の周辺の反射ミラー１７０の表面（つまり、反射ミラー１７０の厚み方向に沿って位置する面であって且つ可動部１２０に面していない側の面）から突き出た形状を有している。つまり、突起部１８０は、当該突起部１８０の周辺の反射ミラー１７０と比較して、反射ミラー１７０の厚み方向における高さ（具体的には、図１（ｂ）における上下方向の長さであって、反射ミラー１７０の表面からの高さ）が高くなっている。【００７８】
ここで、図２を参照して、第１実施例における突起部１８０の高さの定義について説明する。図２は、突起部１８０及び反射ミラー１７０の詳細な構成を示す断面図である。【００７９】
図２に示すように、第１実施例では、反射ミラー１７０は、アルミニウムやその他相対的に反射率が高い金属等を含む金属膜２１５と、当該金属膜２１５の表面を保護するための保護膜２１４とが積層された部材であってもよい。このような構造の反射ミラー１７０においては、上述した「反射ミラー１７０の表面」は、保護膜２１４の表面（つまり、保護膜２１４の厚み方向（具体的には、図２における上下方向）に沿って位置する面であって且つ金属膜２１５に面していない側の面）に相当する。尚、反射ミラー１７０に照射された光は、金属膜２１５と保護膜２１４との間の界面で反射する。この意味において、反射ミラー１７０に照射された光が反射する面を「反射ミラー１７０のミラー面」と表現するのであれば、「反射ミラー１７０のミラー面」は、金属膜２１５と保護膜２１４との間の界面に相当する。【００８０】
図２に示すように、「突起部１８０の高さ」とは、突起部１８０の周囲の反射ミラー１７０の表面（つまり、保護膜２１４の表面）からの高さを意味している。尚、参考までに、「突起部１８０の幅」とは、反射ミラー１７０の表面に沿った方向（つまり、図２の左右方向であり、可動部１２０の表面に沿った方向と同義）における長さを意味している。【００８１】
以下、このような突起部１８０について、図３及び図４を参照しながら更に詳細に説明する。図３は、突起部１８０の作用という側面から突起部１８０を説明するための断面図である。図４は、突起部１８０によって反射ミラー１７０上に形成される影の割合という側面から突起部１８０を説明するための平面図及び断面図である。【００８２】
図３（ａ）に示すように、突起部１８０は、アクチュエータ１０１が他の構造物と対向している場合であっても反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することを抑制する又は防止するための部材である。このため、突起部１８０は、アクチュエータ１０１が他の構造物と対向している場合であっても反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することを抑制する又は防止することができる程度の高さを有している。より具体的には、突起部１８０は、アクチュエータ１０１が他の構造物と対向している状況下で、反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触するよりも先に他の構造物に接触することで、反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することを抑制する又は防止することができる程度の高さを有していることが好ましい。更には、突起部１８０は、アクチュエータ１０１が他の構造物と対向している場合であっても反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することを抑制する又は防止することができる程度の幅や形状を有していることが好ましい。【００８３】
このとき、図３（ｂ）に示すように、他の構造物の表面と反射ミラー１７０の表面とが非平行な状態で他の構造物とアクチュエータ１０１が対向している場合であっても、突起部１８０が他の構造物と接触することによって、反射ミラー１７０の表面の殆どは他の構造物と接触することはない。言い換えれば、他の構造物の表面と反射ミラー１７０の表面とが非平行な状態で他の構造物とアクチュエータ１０１が対向している場合であっても、突起部１８０が他の構造物と接触することによって、反射ミラー１７０のごく一部（例えば、反射ミラー１７０の外縁の極一部）が他の構造物と接触するに過ぎない。この観点から見れば、突起部１８０は、他の構造物の表面と反射ミラー１７０の表面とが非平行な状態でアクチュエータ１０１が他の構造物と対向している場合であっても、反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することを抑制する又は防止することができる程度の高さを有していることが好ましい。【００８４】
尚、このような突起部１８０の作用は、反射ミラー１７０が他の構造物と対向する状況下で発揮される。反射ミラー１７０が他の構造物と対向する状況は、反射ミラー１７０を含むアクチュエータ１０１を製造する過程で多く生じ得る。従って、後にも詳述するが、このような突起部１８０の作用は、反射ミラー１７０を含むアクチュエータ１０１を製造する過程でより顕著に表れる。【００８５】
加えて、突起部１８０の高さは、反射ミラー１７０の表面の粗さ（具体的には、反射ミラー１７０の表面の極微細な凹凸であり、Ｒａ、ＲｚないしはＲｍａｘ（Ｒｚｊｉｓ）という記号で示される表面粗さ）よりも大きいことが好ましい。というのも、仮に突起部１８０の高さが反射ミラー１７０の表面の粗さよりも小さければ、突起部１８０が上述した作用を実現する主たる要素となることが困難である又は不可能であるからである。従って、突起部１８０の高さは、上述した作用を実現することができる程度の高さを有しており、その結果、反射ミラー１７０の表面の粗さよりも大きいことが好ましいと言える。【００８６】
更に、図４（ａ）及び図４（ｂ）に示すように、反射ミラー１７０に照射された光の少なくとも一部は、突起部１８０に影響を受けて反射ミラー１７０によって反射されなくなり得る。つまり、反射ミラー１７０上には、照射された光を反射することができる領域部分（つまり、突起部１８０の影にならない領域部分）と、照射された光を反射することができない領域部分（つまり、突起部１８０の影になる領域部分）とが存在することになる。第１実施例では、突起部１８０は、照射された光を反射することができる領域部分に対する照射された光を反射することができない領域部分の割合が所定の割合（例えば、１％）以下になるような高さを有することが好ましい。【００８７】
尚、突起部１８０は、反射ミラー１７０の表面から突き出ているという形状を有していることに起因して、反射ミラー１７０に照射される光を、反射ミラー１７０のミラー面が反射する態様とは異なる態様で反射しかねない。つまり、突起部１８０は、反射ミラー１７０が本来意図する態様とは異なる態様で（例えば、意図せぬ方向に向かって）光を反射しかねない。このため、照射される光を好適な態様で反射するという反射ミラー１７０の本来の作用を好適に維持するという観点から見れば、突起部１８０は、照射される光をあまり反射しないことが好ましい。従って、突起部１８０の反射率は、反射ミラー１７０の反射率よりも低いことが好ましい。このような相対的に反射率の低い突起部１８０を実現するための方法として、例えば、突起部１８０に金属膜２１５よりも反射率の低い部材（例えば、カーボン材料等）を塗布又は形成する方法や、金属膜２１５よりも反射率の低い部材から突起部１８０を形成する方法があげられる。或いは、突起部１８０の光吸収率は、反射ミラー１７０の光吸収率よりも高いことが好ましい。このようなこのような突起部１８０を実現するための方法として、例えば、突起部１８０に金属膜２１５や保護膜２１４よりも光吸収率の高い部材を塗布又は形成する方法や、金属膜２１５や保護膜２１４よりも光吸収率の高い部材から突起部１８０を形成する方法があげられる。【００８８】
更に、突起部１８０は、反射ミラー１７０に照射される光の波長以下の高さを有していることが好ましい。更に、突起部１８０は、反射ミラー１７０に照射される光の波長以下の幅を有していることが好ましい。【００８９】
加えて、突起部１８０は、可動部１２０ないしは反射ミラー１７０の中心付近又は中央付近に形成されることが好ましい。例えば、図１に示すように可動部１２０の形状が四角形である場合には、突起部１８０は、可動部１２０の対角線の交点付近に形成されることが好ましい。或いは、例えば、図１に示すように反射ミラー１７０の形状が円形ないしは楕円形である場合には、突起部１８０は、反射ミラー１７０の円形形状ないしは楕円形形状の中心付近に形成されることが好ましい。【００９０】
尚、突起部１８０が可動部１２０ないしは反射ミラー１７０の中心付近又は中央付近に形成されることが好ましい理由は、アクチュエータ１０１が他の構造物と対向している場合であっても反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することを抑制する又は防止するためである。従って、突起部１８０は、可動部１２０ないしは反射ミラー１７０の中心付近又は中央付近に加えて又は代えて、アクチュエータ１０１が他の構造物と対向している場合であっても反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することを抑制する又は防止することができる位置に形成されてもよい。【００９１】
（１−２）アクチュエータの製造方法
続いて、図５から図１１を参照して、第１実施例のアクチュエータ１０１を製造するための製造方法について説明する。図５は、第１実施例のアクチュエータ１０１を製造するための製造方法の流れを示すフローチャートである。図６から図１１は、夫々、第１実施例のアクチュエータ１０１を製造するための製造方法の各工程が行われた場合のアクチュエータ１０１の状態を示す断面図及び平面図である。尚、図６から図１１では、各図（ａ）は、各図（ｂ）の平面図の一点鎖線での断面図を示す。【００９２】
図５並びに図６（ａ）の断面図及び図６（ｂ）の平面図に示すように、はじめに、アクチュエータ１０１の原材料となるシリコン基板２０１が用意される（ステップＳ１０１）。【００９３】
その後、図５並びに図７（ａ）の断面図及び図７（ｂ）の平面図に示すように、パターニングやエッチングや蒸着法やＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法やイオン注入等の半導体製造プロセスを用いて、シリコン基板２０１上に処理回路２１１を形成する（ステップＳ１０２）。処理回路２１１としては、例えば、ピエゾ抵抗層を利用した可動部１２０の遥動状態を検出する検出回路等が一例としてあげられるが、任意の回路（或いは、任意の構造物）であってもよい。尚、処理回路２１１がアクチュエータ１０１にとって必要でなければ、図５のステップＳ１０２の動作は省略されてもよい。【００９４】
更に、処理回路２１１が形成された後、シリコン基板２０１上に、ＳｉＯ２（二酸化ケイ素）等を含む絶縁膜２０２が形成される（ステップＳ１０２）。このとき、処理回路２１１の直上には、後述する工程で処理回路２１１と配線２１２とを電気的に接続するために用いられる開口が形成されている。【００９５】
その後、図５並びに図８（ａ）の断面図及び図８（ｂ）の平面図に示すように、半導体製造プロセスを用いて、絶縁膜２０２が形成されたシリコン基板２０１上に、処理回路２１１と電気的に接続される配線２１２が形成される（ステップＳ１０３）。配線２１２は、例えば銅等の導電率が相対的に高い金属をシリコン基板２０１上に蒸着することで形成される。【００９６】
更に、配線２１２の形成と同時に、絶縁膜２０２が形成されたシリコン基板２０１上に、上述した突起部１８０を形成するための基礎部材２１３が形成されることが好ましい（ステップＳ１０３）。つまり、図５のステップＳ１０３では、配線２１２及び基礎部材２１３が同時に形成されるようなパターニングやエッチングや蒸着等が行われることが好ましい。言い換えれば、図５のステップＳ１０３では、１回のパターニングやエッチングや蒸着等が行われることで、配線２１２及び基礎部材２１３が同時に形成されることが好ましい。但し、配線２１２と基礎部材２１３とは、別々に形成されてもよい。【００９７】
このとき、基礎部材２１３は、上述した突起部１８０のサイズや配置位置等を考慮した上で、適切なサイズ及び配置位置を有するようにシリコン基板２０１上に形成される。つまり、当該基礎部材２１３を起点に形成される突起部１８０が上述したサイズや配置位置等の条件を満たすように、適切なサイズを有する基礎部材２１３がシリコン基板２０１上の適切な位置に形成される。【００９８】
尚、上述したように処理回路２１１がアクチュエータ１０１にとって必要でなければ、処理回路２１１が形成されなくともよいため、必然的に処理回路２１１につながる配線２１２もまた形成されなくともよくなる。この場合は、図５のステップＳ１０３では、基礎部材２１３のみが形成されてもよい。但し、製造工程を増加させないという観点からは、基礎部材２１３は、他の何らかの構成部材（例えば、駆動コイル１４０等）と同時に形成されることが好ましい。【００９９】
その後、図５並びに図９（ａ）の断面図及び図９（ｂ）の平面図に示すように、半導体製造プロセスを用いて、配線２１２及び基礎部材２１３が形成されたシリコン基板２０１上に、ＳｉＯ２（二酸化ケイ素）等を含む絶縁膜２０３が形成される（ステップＳ１０４）。尚、基礎部材２１３が形成されている領域部分においては、基礎部材２１３が存在することに起因して、絶縁膜２０３は、周囲の絶縁膜２０３（つまり、基礎部材２１３が形成されていない領域部分の絶縁膜２０３）から見て突き出た形状を有している。【０１００】
その後、図５並びに図１０（ａ）の断面図及び図１０（ｂ）の平面図に示すように、半導体製造プロセスを用いて、絶縁膜２０３が形成されたシリコン基板２０１上に、反射ミラー１７０（つまり、金属膜２１５及び保護膜２１４）が形成される（ステップＳ１０５）。尚、基礎部材２１３が形成されている領域部分においては、基礎部材２１３が存在することに起因して、反射ミラー１７０は、周囲の反射ミラー１７０（つまり、基礎部材２１３が形成されていない領域部分の反射ミラー１７０）から見て突き出た形状を有している。この突き出た形状が、上述した突起部１７０に相当する。【０１０１】
その後、図５並びに図１１（ａ）の断面図及び図１１（ｂ）の平面図に示すように、半導体製造プロセスを用いて、反射ミラー１７０が形成されたシリコン基板２０１の一部が除去されることで、支持部１１０、可動部１２０及びトーションバー１３０が形成される（ステップＳ１０６）。その結果、上述したアクチュエータ１０１の製造が完了する。【０１０２】
尚、突起部１８０による意図せぬ光の反射を防ぐために突起部１８０の反射率を相対的に低くする場合には、上述したステップＳ１０１からステップＳ１０６のいずれかの工程又は更に別の工程において、突起部１８０の反射率を相対的に低くするための処理が行われることが好ましい。同様に、突起部１８０による意図せぬ光の反射を防ぐために突起部１８０の光吸収率を相対的に高くする場合には、上述したステップＳ１０１からステップＳ１０６のいずれかの工程又は更に別の工程において、突起部１８０の光吸収率を相対的に高くするための処理が行われることが好ましい。【０１０３】
以上説明したように、第１実施例によれば、アクチュエータ１０１を製造する過程で突起部１８０が形成される。このため、アクチュエータ１０１を製造する過程で、反射ミラー１７０が他の構造物に接触することが抑制される。この技術的効果について、図１２を参照しながら詳細に説明する。図１２は、突起部１８０によって反射ミラー１７０と他の構造物との接触が抑制される状態を示す断面図である。【０１０４】
図１２（ａ）に示すように、アクチュエータ１０１を製造する過程でアクチュエータ１０１が他の構造物（例えば、アクチュエータ１０１を製造する製造装置が備えるステージ等）と対向している場合であっても、まずは突起部１８０が他の構造物に接触するがゆえに、反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することが抑制される又は防止される。従って、反射ミラー１７０と他の構造物との接触に起因して、反射ミラー１７０の表面に傷やへこみが生じてしまう不都合を好適に抑制又は防止することができる。その結果、反射ミラー１７０の本来の特性（いわゆる、光反射特性等）が好適に維持される。つまり、第１実施例の製造方法によれば、反射ミラー１７０が形成されるアクチュエータ１０１を、反射ミラー１７０の損傷を適切に抑制又は防止しながら製造することができる。【０１０５】
更に、図１２（ｂ）に示すように、他の構造物の表面と反射ミラー１７０の表面とが非平行な状態で他の構造物とアクチュエータ１０１が対向している場合であっても、まずは突起部１８０が他の構造物と接触するがゆえに、反射ミラー１７０の表面の殆どは、他の構造物と接触することはない。言い換えれば、他の構造物の表面と反射ミラー１７０の表面とが非平行な状態で他の構造物とアクチュエータ１０１が対向している場合であっても、突起部１８０が他の構造物と接触することによって、反射ミラー１７０の外縁の一部が他の構造物と接触するに過ぎない。従って、反射ミラー１７０と他の構造物との接触に起因して、反射ミラー１７０の表面に傷やへこみが生じてしまう不都合を好適に抑制又は防止することができる。その結果、反射ミラー１７０の本来の特性（いわゆる、光反射特性等）が好適に維持される。つまり、第１実施例の製造方法によれば、反射ミラー１７０が形成されるアクチュエータ１０１を、反射ミラー１７０の損傷を適切に抑制又は防止しながら製造することができる。【０１０６】
尚、反射ミラー１７０が他の構造物と対向する状況は、反射ミラー１７０を含むアクチュエータ１０１を製造する過程で多く生じ得る。従って、このような突起部１８０によって実現される効果は、反射ミラー１７０を含むアクチュエータ１０１を製造する過程でより顕著に表れる。但し、アクチュエータ１０１の製造が完了した場合であっても、突起部１８０が存在することによって、反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することが抑制される又は防止される。従って、アクチュエータ１０１を製造している過程に限らず、アクチュエータ１０１の製造が完了した後であっても、突起部１８０によって実現される効果は相応に有効である。【０１０７】
加えて、第１実施例によれば、突起部１８０の高さを、反射ミラー１７０に対して照射される光の波長の長さ以下にすることができる。このため、反射ミラー１７０に照射される光が突起部１８０の背後（つまり、本来影になる箇所）に回り込むことになる。従って、突起部１８０の高さが光の波長の長さを超える場合と比較して、反射ミラー１７０に照射される光の利用効率を増大させることができる。【０１０８】
加えて、第１実施例によれば、突起部１８０の幅を、反射ミラー１７０に対して照射される光の波長の長さ以下にすることができる。このため、反射ミラー１７０に照射される光が突起部１８０の背後（つまり、本来影になる箇所）に回り込むことになる。従って、突起部１８０の幅が光の波長の長さを超える場合と比較して、反射ミラー１７０に照射される光の利用効率を増大させることができる。【０１０９】
加えて、第１実施例によれば、突起部１８０の高さを、照射された光を反射することができる領域部分に対する照射された光を反射することができない領域部分の割合が所定の割合（例えば、１％）以下にすることができる。このため、突起部１８０が形成されたアクチュエータ１０１の製造が完了した後に反射ミラー１７０に対して光を照射した場合に、当該突起部１８０によって生ずる影が占める割合を一定の許容範囲に収めることができる。従って、照射される光を反射するという反射ミラー１７０の本来の特性を損なうことなく、突起部１８０を形成することができる。【０１１０】
加えて、第１実施例によれば、配線２１２及び基礎部材２１３が同時に形成されるようなパターニングやエッチングや蒸着等が行われる。言い換えれば、つまり、１回のパターニングやエッチングや蒸着等が行われることで、配線２１２及び基礎部材２１３が同時に形成される。つまり、突起部１８０を形成するための専用の工程を新たに設けることなく、突起部１８０（言い換えれば、突起部１８０を形成するための基礎部材２１３を形成することができる。【０１１１】
（２）第２実施例
続いて、図１３を参照して、第２実施例のアクチュエータ１０２について説明する。図１３は、第２実施例のアクチュエータ１０２の構成の一例を示す平面図である。尚、第１実施例のアクチュエータ１０１と同様の構成要素については同一の参照符号を付することでその詳細な説明を省略する。【０１１２】
図１３に示すように、第２実施例のアクチュエータ１０２は、第１実施例のアクチュエータ１０１と比較して、複数の突起部１８０を備えているという点で異なっている。第２実施例のアクチュエータ１０２が備えるその他の構成要素については、第１実施例のアクチュエータ１０１と同一であってもよい。従って、第２実施例の製造方法についても、第１実施例の製造方法と比較して、複数の突起部１８０が形成されるという点で異なっている。第２実施例の製造方法におけるその他の工程については、第１実施例の製造方法と同一であってもよい。【０１１３】
複数の突起部１８０の夫々は、上述した第１実施例における突起部１８０と同様であることが好ましい。【０１１４】
加えて、複数の突起部１８０は、アクチュエータ１０１が他の構造物と対向している場合であっても反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することを抑制する又は防止することができるような分布態様で形成されることが好ましい。このため、例えば、複数の突起部１８０は、可動部１２０上において又は反射ミラー１７０上において、離散的に分布するように形成されてもよい。或いは、複数の突起部１８０は、他の構造物と全てが同一直線上に存在しない少なくとも３点で接触するように形成されてもよい。言い換えれば、複数の突起部１８０は、それらの全てが同一直線上に存在しないように形成されてもよい。【０１１５】
更には、複数の突起部１８０の夫々は、突起部１８０の高さや２つの突起部１８０の間の距離という観点から定められる以下の条件を満たしていることが好ましい。この条件について、図１４を参照しながら説明する。図１４は、突起部１８０の高さや２つの突起部１８０の間の距離という観点から定められる条件を説明するためのアクチュエータ１０２の一部の断面図である。【０１１６】
図１４に示すように、突起部１８０の高さや２つの突起部１８０の間の距離という観点から定められる条件は、反射ミラー１７０の表面が何らかの要因で湾曲してしまった場合であっても反射ミラー１７０の表面が他の構造物に接触することを抑制する又は防止することができる突起部１８０を形成するために定められる。具体的には、反射ミラー１７０の表面の曲率半径がｒであり、突起部１８０の高さがｈであり、反射ミラー１７０の表面が湾曲している状態での２つの突起部１８０の間の距離を２×Ｌであるとすると、上記条件は、以下の数式２で示される。つまり、複数の突起部１８０は、以下の数式２に示す条件を満たすように形成されることが好ましい。【０１１７】
【数２】
2013076845.tif 000004
加えて、３つ以上の突起部１８０が同一直線上に配置されるように形成される場合には、３つ以上の突起部１８０の夫々の間の間隔が以下の条件を満たしていることが好ましい。この条件について、図１５を参照しながら説明する。図１５は、３つ以上の突起部１８０を形成する場合の条件を説明するための平面図である。【０１１８】
図１５に示すように、例えば、３つの突起部１８０（具体的には、突起部１８０ａ、突起部１８０ｂ及び突起部１８０ｃ）が同一直線Ｌ上に配置されるように形成される場合を例にあげて説明する。この場合、互いに隣接する突起部１８０ａと突起部１８０ｂとの間の間隔ｄ１は、互いに隣接する突起部１８０ｂと突起部１８０ｃとの間の間隔ｄ２とは異なることが好ましい。つまり、３つの突起部１８０が等間隔に配置されないことが好ましい。【０１１９】
尚、４つ以上の突起部１８０が同一直線上に配置されるように形成される場合においても同様のことが言える。つまり、４つ以上の突起部１８０が等間隔に配置されないことが好ましい。或いは、４つ以上の突起部１８０のうち互いに隣接する２つの突起部１８０の間隔が、少なくとも２箇所以上で異なっていることが好ましい。【０１２０】
このように構成すれば、反射ミラー１７０に照射される光が３つ以上の突起部１８０で反射する場合に、当該反射された光が互いに干渉することで意図せぬ位置において光点を結ぶことが殆ど或いは全くなくなる。つまり、３つ以上の突起部１８０での反射に起因した光の干渉によって、反射ミラー１７０での適切な光の反射に悪影響を及ぼすことが殆ど又は全くなくなる。従って、照射される光を適切に反射するという反射ミラー１７０の本来の特性を損なうことなく、３つ以上の突起部１８０を形成することができる。【０１２１】
以上説明したように、第２実施例によれば、第１実施例が享受することができる各種効果と同様の効果を好適に享受することができる。更には、第２実施例によれば、複数の突起部１８０が形成されるため、アクチュエータ１０２を製造する過程で又はアクチュエータ１０２の製造が完了した後に、反射ミラー１７０が他の構造物に接触することがより一層好適に抑制される。【０１２２】
尚、上述の説明では、可動部１２０がトーションバー１３０の伸長する方向に沿った軸を中心軸として回転するＭＥＭＳスキャナに着目して説明を進めている。しかしながら、ＭＥＭＳスキャナに限らず、任意のアクチュエータに対して上述した各種構成が適用されてもよい。例えば、可動部１２０がトーションバー１３０の遥動に従って平行移動するように遥動するＭＥＭＳアクチュエータに対して、上述した各種構成が適用されてもよい。この場合であっても、上述した各種効果は好適に享受される。【０１２３】
本発明は、前述した実施例に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴うアクチュエータの製造方法及びアクチュエータもまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１２４】
１０１、１０２  アクチュエータ
１１０  支持部
１２０  可動部
１３０  トーションバー
１４０  駆動コイル
１５０  電源端子
１６０  永久磁石
１７０  反射ミラー
１８０  突起部
２１３  基礎部材
２１４  保護膜
２１５  金属膜
【図１】
2013076845.tif 000006
【図２】
2013076845.tif 000007
【図３】
2013076845.tif 000008
【図４】
2013076845.tif 000009
【図５】
2013076845.tif 000010
【図６】
2013076845.tif 000011
【図７】
2013076845.tif 000012
【図８】
2013076845.tif 000013
【図９】
2013076845.tif 000014
【図１０】
2013076845.tif 000015
【図１１】
2013076845.tif 000016
【図１２】
2013076845.tif 000017
【図１３】
2013076845.tif 000018
【図１４】
2013076845.tif 000019
【図１５】
2013076845.tif 000020
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月16日(2012.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(i)反射膜が形成される可動部と、(ii)当該可動部を取り囲む支持部と、(iii)前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーとを備えるアクチュエータの製造方法であって、
基板上に、前記可動部、前記支持部及び前記トーションバーを形成する第１工程と、
前記可動部上に、前記反射膜を形成する第２工程と、
前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する突起部であって、且つ(ii)前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が他の構造物に対向している場合であっても、前記他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する突起部を複数形成する第３工程と
を備え、
前記複数の突起部の少なくとも一つは、前記反射膜の表面が湾曲した状態で前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物に対向している場合であっても、前記複数の突起部の少なくとも一つが前記他の構造物の表面に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触しなくなる程度の高さを有することを特徴とするアクチュエータの製造方法。
【請求項２】
(i)反射膜が形成される可動部と、(ii)当該可動部を取り囲む支持部と、(iii)前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーとを備えるアクチュエータの製造方法であって、
基板上に、前記可動部、前記支持部及び前記トーションバーを形成する第１工程と、
前記可動部上に、前記反射膜を形成する第２工程と、
前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する突起部であって、且つ(ii)前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が他の構造物に対向している場合であっても、前記他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する突起部を複数形成する第３工程と
を備え、
前記第３工程は、前記反射膜の表面が湾曲した状態で前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物に対向している場合であっても、前記突起部が前記他の構造物に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触しなくなるような配置位置に前記複数の突起部を形成することを特徴とするアクチュエータの製造方法。
【請求項３】
前記突起部は、前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物の表面に対して傾いた状態で対向している場合であっても、前記突起部が前記他の構造物に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触することを抑制することができる程度の高さを有することを特徴とする請求項１又は２に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項４】
前記反射膜の表面の曲率半径がｒであり、前記突起部の高さがｈであり、且つ前記複数の突起部のうちのいずれか２つの突起部の間の間隔が２×Ｌであるとすると、前記第３工程は、数式１が示す条件を満たすように前記複数の突起部を形成することを特徴とする請求項１又は２に記載のアクチュエータの製造方法。
【数１】
2013076845.tif 000021
【請求項５】
前記突起部の高さは、前記可動部及び前記反射膜の少なくとも一方の表面粗さよりも大きいことを特徴とする請求項１又は２に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項６】
前記第３工程は、前記可動部内で離散的に分布する前記複数の突起部を形成することを特徴とする請求項１又は２に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項７】
前記第３工程は、前記反射膜上において光を反射する領域に対する前記反射膜上において前記突起部の影に起因して生ずる前記光を反射しない領域の割合が、所定の割合以下となるように、前記突起部を形成することを特徴とする請求項１又は２に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項８】
前記所定の割合は１％であることを特徴とする請求項７に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項９】
前記第３工程は、前記突起部の形成と同時に又は並行して、前記アクチュエータの動作に関連する所定の回路を前記基板上に形成することを特徴とする請求項１又は２に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１０】
前記突起部の表面の反射率は、前記反射膜の表面の反射率よりも低いことを特徴とする請求項１又は２に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１１】
前記突起部の光吸収率は、前記反射膜の光吸収率よりも高いことを特徴とする請求項１又は２に記載のアクチュエータの製造方法。
【請求項１２】
反射膜が形成される可動部と、
当該可動部を取り囲む支持部と、
前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーと
を備え、
前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する複数の突起部であって、且つ(ii)対向する他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する複数の突起部を備え、
前記複数の突起部の少なくとも一つは、前記反射膜の表面が湾曲した状態で前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物に対向している場合であっても、前記複数の突起部の少なくとも一つが前記他の構造物の表面に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触しなくなる程度の高さを有することを特徴とするアクチュエータ。
【請求項１３】
反射膜が形成される可動部と、
当該可動部を取り囲む支持部と、
前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーと
を備え、
前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する複数の突起部であって、且つ(ii)対向する他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する複数の突起部を備え、
前記反射膜の表面が湾曲した状態で前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が前記他の構造物に対向している場合であっても、前記突起部が前記他の構造物に接触することで前記反射膜が前記他の構造物に接触しなくなるような配置位置に前記複数の突起部が形成されていることを特徴とするアクチュエータ。
【国際調査報告】
2013076845.tif 000022
2013076845.tif 000023
2013076845.tif 000024
2013076845.tif 000025