(57)【要約】太陽光反射用フィルムミラーの樹脂フィルム状支持体及び銀反射層よりも太陽光入射側に、樹脂を有する保護層を設け、前記樹脂はベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基及び／またはトリアジン系紫外線吸収性基を有する構成とした。
2013094633.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂フィルム状支持体、銀反射層、保護層とを有する太陽光反射用フィルムミラーであって、
前記保護層は前記樹脂フィルム状支持体及び前記銀反射層よりも太陽光入射側に設けられており、
前記保護層は樹脂を有し、前記樹脂は（１）及び／または（２）の紫外線吸収性基を有していることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラー。
（１）ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基
（２）トリアジン系紫外線吸収性基
【請求項２】
前記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基は下記式（１ａ）または（１ｂ）の組成であり、前記トリアジン系紫外線吸収性基は下記式（２）の組成であることを特徴とする請求項１に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【化１】
2013094633.tif 000018
［式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表す。］
【化２】
2013094633.tif 000019
［式中、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表し、Ｒ５は水素結合を形成し得る元素を有する基を表し、Ｒ６は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ７は水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基を表す。］
【化３】
2013094633.tif 000020
［式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４およびＲ１５は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または、炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｘ２は水素原子またはメチル基を表し、Ａは、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｐ−、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2Ｏ−、−（ＣＨ2）ｐ−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ2ＯＲ１６）−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ１６）−Ｏ−、または、−ＣＨ2（ＣＨ2）ｑＣＯＯ−Ｂ−Ｏ−を表し、Ｒ１６は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｂはメチレン基、エチレン基、または、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−を表し、ｐは１〜２０の整数を表し、ｑは０または１を表す。］
【請求項３】
前記樹脂は酸化防止性基を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項４】
前記酸化防止性基はＨＡＬＳであることを特徴とする請求項３に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項５】
前記ＨＡＬＳは片側重合基修飾型ＨＡＬＳであることを特徴とする請求項４に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項６】
前記太陽光反射用フィルムミラーはアクリル層を有しており、
前記アクリル層は前記銀反射層と前記保護層との間に設けられていることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項７】
前記銀反射層と前記保護層との間には接着層が存在しないことを特徴とする請求項６に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項８】
前記太陽光反射用フィルムミラーはアクリル層を有しており、
前記保護層は前記銀反射層と前記アクリル層との間に設けられていることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項９】
前記銀反射層の太陽光入射側表面から前記太陽光反射用フィルムミラーの太陽光入射側最表面の総膜厚が５μｍ以上１２５μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラーと保持部材とを有していることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の地球温暖化は一層深刻な事態に発展し、将来の人類の生存すら脅かされる可能性がでてきている。その主原因は、２０世紀に入りエネルギー源として多量に使用されてきた化石燃料から放出された大気中の二酸化炭素（ＣＯ２）であると考えられている。したがって近い将来、化石燃料をこのまま使い続けることは許されなくなると考えられる。また、他方で、中国、インド、ブラジル等のいわゆる発展途上国の急激な経済成長に伴うエネルギー需用の増大により、かつては無尽蔵と考えられていた石油、天然ガスの枯渇が現実味を帯びてきている。【０００３】
化石燃料の代替エネルギーとして、安定しており且つ量の多い自然エネルギーの一つとして、太陽エネルギーが考えられる。特に世界のサンベルト地帯と呼ばれている赤道近くには、広大な砂漠が広がっており、ここに降りそそぐ太陽エネルギーは正に無尽蔵と言える。これに関して、米国南西部に拡がる砂漠のわずか数％を使えば、実に７，０００ＧＷものエネルギーを得ることが可能であると考えられている。また、アラビア半島、北アフリカの砂漠のわずか数％を使えば、全人類の使うエネルギーを全て賄うことができるとも考えられている。【０００４】
このように、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを社会活動の中で活用するためには、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。【０００５】
従来、当該反射装置にはガラスを基材としたミラーが用いられてきたが、ガラス製ミラーでは、質量が大きい、体積が大きい、輸送コストがかかる、設置が難しい、割れやすい等の問題がある。そこで、ガラスの代替として樹脂を用いた鏡を用いれば、軽量化することができる上、割れる等の問題も発生しないため、鏡をフィルム化した製品であるフィルムミラーが注目されている。フィルムミラーは、樹脂が用いられているフィルム状のミラーであるため、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することができるという優れた反射鏡である。【０００６】
しかし、樹脂は全般的に紫外線に弱いため、太陽光下に設置されるとフィルムミラーの樹脂層（本発明においては樹脂フィルム状支持体による層）が劣化し、変色や膜剥がれやワレ等が生じるという問題があった。そのような問題に対して特許文献１では、樹脂層を紫外線から保護するために、紫外線吸収剤や酸化防止剤などを添加した保護層を開示している。しかし、そのような保護層では、紫外線吸収剤や酸化防止剤などの低分子化合物を樹脂材料に添加しているため、樹脂に紫外線があたり樹脂が劣化すると、低分子化合物と樹脂材料との相互作用が弱まってきて、その結果低分子化合物がブリードアウトしてしまうという問題や、相溶性の観点から添加量が制限され１０年以上にわたって耐候性を保つことが難しいという問題、それに加えて、ブリードアウトに起因するフィルムミラーの反射率の低下という重大な問題が生じた。さらに、本発明者が鋭意検討した結果、紫外線が樹脂に対してあたった際に発生したラジカルが銀反射層に到達すると、ラジカルによって銀反射層の銀が凝集してしまい銀反射層に隙間ができてしまったり色変化が発生するため、正反射率が低下してしまうと言うフィルムミラーならではの課題を見出した。【０００７】
また、フィルムミラーを設置する場所に関する問題も生じた。例えば、太陽光反射用フィルムミラーが特に好適に用いられる砂漠の環境は、日中の温度や湿度の変化がそれぞれ非常に大きく、風雨、砂嵐も発生し、日照時間も長く、紫外線の照射量も非常に多いという過酷なものとなっている。【０００８】
太陽光反射用フィルムミラーは銀反射層を有しているため、太陽光に含まれる一部の紫外線も強く反射してしまう。つまり、銀反射層よりも太陽光入射側にある層においては、まず、直接太陽光が照射された後、前記太陽光が銀反射層に反射されて再びその層に当たってしまう。つまり、太陽光による紫外線の照射量が多い地域において、反射により紫外線に２度さらされてしまうため、ブリードアウトや銀の凝集の問題がより大きくなり、太陽光反射用フィルムミラーにおいては紫外線に対する対策が非常に重要となる。【０００９】
ところで、特許文献２では、太陽光反射用フィルムミラーとして用いることを目的としてはいないが、ポリエステル樹脂自体が紫外線吸収性基を有している紫外線吸収性樹脂組成物による保護層が開示されている。【００１０】
本発明者は、太陽光反射用フィルムミラーとして特許文献２に開示されている技術を援用することで、紫外線吸収能を有する物質のブリードアウトをほぼ無視できることや、相溶性を良好にでき、紫外線吸収剤を添加をした場合に比べて、保護層がより多くの紫外線吸収性基を有することができることを見出した。【００１１】
なお、特許文献２には、太陽光反射用フィルムミラーとして用いるという旨の記載がなく、また、紫外線吸収能を持つ物質がブリードアウトしてしまうという課題や、それに伴う反射率の低下や樹脂から発生するラジカルによる銀の凝集というフィルムミラーならではの課題の記載もなく、さらに、紫外線吸収能を持つ物質のブリードアウトをほぼ無視できるという効果や、相溶性が良好であるため紫外線吸収剤を添加した場合よりも多くの紫外線吸収性基を保護層の樹脂に付加できるという効果、についての言及もされてはいなかった。【００１２】
本発明者は、太陽光反射用フィルムミラーが砂漠のような紫外線照射量が非常に多い環境などで用いられること、銀反射層を有しているが故に太陽光に含まれる一部の紫外線が保護層に２度照射されるということ、ブリードアウト、相溶性、ブリードアウトに伴う反射率の低下、銀の凝集、変色、膜剥がれ、ワレなどの太陽光反射用フィルムミラーならではの課題に着目し、鋭意検討した結果、特許文献２の技術を援用できることを見出したものである。特許文献２のような、銀反射層を有しているフィルムミラーであるが故の問題点が記載されていない発明を、太陽光反射を目的とする本発明に適用するというのは本発明者独自の視点であり、全く容易ではないということを強く付言しておく。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２０１１−１５０３１６号公報
【特許文献２】特開２０１０−７０２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、砂漠のような紫外線照射量が非常に多い環境下でも好適に使用することができる太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
請求項１に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、樹脂フィルム状支持体、銀反射層、保護層とを有するフィルムミラーであって、前記保護層は前記樹脂フィルム状支持体及び前記銀反射層よりも太陽光入射側に設けられており、前記保護層は樹脂を有し、前記樹脂は（１）及び／または（２）の紫外線吸収性基を有していることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラー。
（１）ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基
（２）トリアジン系紫外線吸収性基【００１６】
当該構成においては、太陽光反射用フィルムミラーが樹脂によって構成されているため、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することができる。そして、保護層が樹脂フィルム状支持体よりも太陽光入射側に設けられているため、樹脂フィルム状支持体の劣化を防ぐことが可能となる。また、保護層が紫外線吸収能を有しているため、そのような保護層を有さないフィルムミラーと比べて、当然ながら樹脂フィルム状支持体等の変色や膜剥がれやワレが発生しにくくなる。特に、保護層の樹脂が有している基がベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基及び／またはトリアジン系紫外線吸収性基であるため、太陽光の波長特性に対して適切な耐紫外線能（紫外線吸収能や紫外線安定能）を有している。また、保護層よりも太陽光入射側と反対側の各層についての紫外線による劣化を抑えるだけでなく、保護層自体の樹脂劣化も抑えることが可能となる。さらに、フィルムミラーの保護層の樹脂が紫外線吸収性基を有するため樹脂自体が紫外線吸収性基を有する高分子化合物となる。その結果、樹脂と紫外線吸収性基の相互作用が強まるため、紫外線吸収性基のブリードアウトが圧倒的に発生しにくくなる。加えて、添加をしているのではなく、紫外線吸収性基を樹脂が有するため、より多くの紫外線吸収性基を有することができるようになり、相溶性も良好となり、耐紫外線能を向上でき非常に好ましい。さらに、当該フィルムミラーは砂漠のような紫外線照射量が非常に多い環境で用いられ、かつ銀反射層を有しているため、その保護層に対して太陽光に含まれる一部の紫外線が２度照射されてしまうため、ブリードアウトの問題や銀の凝集の問題が特に大きくなってしまうが、保護層の樹脂が紫外線吸収性基を基として有しているため、ブリードアウトも発生しにくくなり、また、紫外線吸収剤を添加する場合に比べてより大きな耐紫外線能を持たせることが可能となるため樹脂の劣化によるラジカルの発生を防止することができ、銀の凝集を招かずにすみ、高い正反射率を維持することが可能となる。また、当該構成においてはブリードアウトをほぼ無視できるため、ブリードアウトに伴う反射率の低下という太陽光反射用フィルムミラーとして重大な問題を回避でき、高い正反射率を維持できる。【００１７】
請求項２に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項１に記載の発明であって、前記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基は下記式（１ａ）または（１ｂ）の組成であり、前記トリアジン系紫外線吸収性基は下記式（２）の組成であることを特徴としている。
【化１】
2013094633.tif 000003
［式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表す。］
【化２】
2013094633.tif 000004
［式中、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表し、Ｒ５は水素結合を形成し得る元素を有する基を表し、Ｒ６は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ７は水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基を表す。］
【化３】
2013094633.tif 000005
［式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４およびＲ１５は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または、炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｘ２は水素原子またはメチル基を表し、Ａは、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｐ−、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2Ｏ−、−（ＣＨ2）ｐ−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ2ＯＲ１６）−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ１６）−Ｏ−、または、−ＣＨ2（ＣＨ2）ｑＣＯＯ−Ｂ−Ｏ−を表し、Ｒ１６は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｂはメチレン基、エチレン基、または、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−を表し、ｐは１〜２０の整数を表し、ｑは０または１を表す。］【００１８】
請求項３に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項１又は２に記載の発明であって、前記樹脂は酸化防止性基を有していることを特徴としている。当該構成においては保護層を構成する樹脂が酸化防止性基を有しているため、紫外線が保護層の樹脂に当たった際に発生するラジカル・活性酸素などを不活性化することができる。また、紫外線吸収剤または紫外線吸収性基に対して過度及び／または長期間の紫外線があたると、紫外線吸収剤または紫外線吸収性基の極性が変わり、紫外線吸収剤または紫外線吸収性基自体が分解され、ひいてはラジカルが発生してしまう。請求項３に記載の構成によれば、樹脂が酸化防止性基を有しているため、樹脂及び／または樹脂が有している基の分解により生じたラジカルによって銀反射層の銀が凝集してしまい銀反射層に隙間ができてしまったり色変化が発生し、フィルムミラーの正反射率が低下することを防ぐことができる。樹脂が紫外線吸収性基と酸化防止性基の両基を有することによって、相加的な効果ではなく相乗的な効果を得られる。酸化防止性基によって、紫外線吸収性基の劣化を防ぐことができる、つまり紫外線に対する安定能を持つため、保護層の長寿命化に貢献できる。また、保護層の樹脂が酸化防止性基を有しているため、紫外線吸収性基と酸化防止性基との距離が近く、紫外線により発生したラジカルを不活化しやすい。その結果、酸化防止剤を添加した場合と比べて、紫外線環境下においても保護層がより長寿命となる。加えて、保護層の樹脂が酸化防止性基を有しているため、酸化防止剤を添加した保護層とは異なり、紫外線吸収性基と同様の理由で酸化防止性基自体のブリードアウトがほぼ発生せず、また、相溶性も良好であるため多量に含有させることができ、さらにブリードアウトによる正反射率の低下の影響も回避できる。【００１９】
請求項４に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項３に記載の発明であって、前記酸化防止性基はＨＡＬＳであることを特徴としている。当該構成においては酸化防止性基としてＨＡＬＳが樹脂骨格に結合しているため、保護層の紫外線安定能が特に長期間持続するため好ましい。【００２０】
請求項５に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項４に記載の発明であって、前記ＨＡＬＳは片側重合基修飾型ＨＡＬＳであることを特徴としている。当該構成においては、ＨＡＬＳは片側重合基修飾型ＨＡＬＳであるため、製造時の容易さ、コストの安価さ、において好ましい。【００２１】
請求項６に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項１〜５の何れか一項に記載の発明であって、前記太陽光反射用フィルムミラーはアクリル層を有しており、前記アクリル層は前記銀反射層と前記保護層との間に設けられていることを特徴としている。当該構成においては、アクリル層がポリエチレンテレフタレートなどの樹脂に比して凹凸を生じ易いため、そのアクリル層表面の凹凸に起因し、太陽光反射用ミラーの表面粗さが粗くなるため、フィルムミラーを連続的に製膜するロールトゥロール方式を用いた場合でも、フィルムミラーをロール状に巻いた際のブロッキングなどの貼りつきを防止することができる。また、保護層の樹脂にアクリル樹脂を用いて、かつアクリル層と保護層とを隣接させた場合には、アクリル層と保護層との密着性が高く保つことができる。【００２２】
請求項７に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項６に記載の発明であって、前記銀反射層と前記保護層との間には接着層が存在しないことを特徴としている。当該構成においては、銀反射層と保護層との間に接着層が存在しないため、例えば塗布などにより銀反射層と保護層との間にあるアクリル層が銀反射層よりも太陽光入射側に形成される。また、銀反射層と保護層との間に接着層が存在しないため、保護層も塗布などによりアクリル層よりも太陽光入射側に形成される。接着層が存在しない場合には、塗布などでアクリル層や保護層を形成するが、その際には大量の塗布液を用いるため、フィルムを貼合させた場合にはほぼ無視できる銀反射層へのアクリル層や保護層の塗布液の浸透という問題が生じる。アクリル層や保護層の塗布液の樹脂に対して紫外線があたるとラジカルが発生してしまい、そのラジカルが銀反射層に到達してしまうと銀の凝集を招いてしまう、即ち、塗布によりアクリル層や保護層を設ける場合、銀の凝集の問題がより大きくなるが、樹脂が紫外線吸収性基を有することにより、紫外線吸収剤を添加した場合よりも多量に紫外線吸収性基を有することができるため、高い耐紫外線能を持つことができ、アクリル層や保護層の塗布液からのラジカルの発生を抑えることができる。さらに保護層が酸化防止性基を有する場合には、保護層やアクリル層の樹脂から発生したラジカルや、樹脂以外から発生したラジカルも不活化できるため銀反射層の凝集をより一層防止でき好ましい。また、接着層が存在しないことにより、フィルムミラーをより薄くすることが可能となる。当該構成においては、銀反射層と保護層との間に接着層が存在していないため、銀反射層と保護層との距離が近くなり、保護層の樹脂やその樹脂が有している紫外線吸収性基の紫外線による分解、それに伴い発生したラジカルが銀反射層により一層近づきやすくなってしまうが、当該構成においては樹脂が紫外線吸収性基を有しているため、高い耐紫外線能をもたせることができ、長期間にわたってラジカルの発生を抑えること可能となり、銀反射層の銀の凝集や、抜け落ち、変色を防止できる。【００２３】
請求項８に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項１〜５の何れか一項に記載の発明であって、前記太陽光反射用フィルムミラーはアクリル層を有しており、前記保護層は前記銀反射層と前記アクリル層との間に設けられていることを特徴としている。当該構成においては、アクリル層がポリエチレンテレフタレートなどの樹脂に比して凹凸を生じ易いため、そのアクリル層表面の凹凸に起因し、太陽光反射用ミラーの表面粗さが粗くなるため、フィルムミラーを連続的に製膜するロールトゥロール方式を用いた場合でも、フィルムミラーをロール状に巻いた際のブロッキングなどの貼りつきを防止することができる。また、保護層の樹脂にアクリル樹脂を用いて、かつアクリル層と保護層とを隣接させた場合には、アクリル層と保護層との密着性が高く保つことができる。【００２４】
請求項９に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項１〜８の何れか一項に記載の発明であって、前記銀反射層の太陽光入射側表面から前記太陽光反射用フィルムミラーの太陽光入射側最表面の総膜厚が５μｍ以上１２５μｍ以下であることを特徴としている。当該構成においては太陽光が銀反射層に到達するまでの膜厚が５μｍ以上１２５μｍと薄いため、太陽光が銀反射層に到達するまでに通過する層による強度の減衰が起きにくい。当然ながら、銀反射層による反射後に再びフィルムミラー表面までの層を通過するため、膜厚が薄ければその際の強度減衰も起きにくい。さらに材料のコストも安くでき、軽くなるため輸送効率も向上し、製造時の工数も減らすことができる。【００２５】
請求項１０に記載の太陽熱発電用反射装置は、請求項１〜９の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラーと保持部材とを有していることを特徴としている。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、強紫外線環境下で用いられたとしても、保護層のブリードアウト、ブリードアウトに伴う反射率の低下、銀の凝集、変色、樹脂フィルム状支持体等の膜剥がれ、ワレなどを大きく低減でき、高い相溶性を持つ太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】太陽光反射用フィルムミラーの層構成の一例を示す説明図である。
【図２】太陽熱発電用反射装置を用いたタワー型の太陽熱発電システムを示す斜視図である。
【図３】タワー型の太陽熱発電システムを側方から見た概略図である。
【図４】実施例における太陽光反射用フィルムミラーの層構成を示す説明図である。
【図５】他の実施例における太陽光反射用フィルムミラーの層構成を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明に係る太陽光反射用フィルムミラーの詳細について説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
なお、本発明は、太陽光反射用フィルムミラーが砂漠のような紫外線照射量が非常に多い環境などで用いられること、銀反射層を有しているが故に太陽光に含まれる一部の紫外線が保護層に２度照射されるということ、ブリードアウト、相溶性、ブリードアウトに伴う反射率の低下、銀の凝集による反射率の低下、変色、膜剥がれ、ワレなどの太陽光反射用フィルムミラーならではの課題を見出し、その解決策を提供するものである。
【００２９】
＜１．太陽光反射用フィルムミラー＞
太陽光反射用フィルムミラーは、樹脂フィルム状支持体と、銀反射層と、保護層とを少なくとも有するフィルム状のミラーをいう。また、保護層は樹脂フィルム状支持体及び銀反射層よりも太陽光入射側に設けられている。フィルムミラーの厚さは２０〜６００μｍであり、好ましくは８０〜３００μｍ、更に好ましくは８０〜２００μｍ、最も好ましくは８０〜１７０μｍである。フィルムミラーの厚さを２０μｍ以上にすることにより、フィルムミラーを支持する基材などに接合させた時に、ミラーが撓むことなく、良好な反射率を得やすくなるため好ましい。また、フィルムミラーの厚さを６００μｍ以下にすることにより、取り扱い性が良好になるため好ましい。フィルムミラーには平面性があるため、ロールトゥロールで製造することも可能であり、製造費用の観点から好ましく用いられる。また、フィルムミラーは、用いられる材料や、２０〜６００μｍ程度の厚さであることから、非常に軽量であるといえる。さらに、フィルムミラーは支持体が樹脂フィルムであるためガラスとは異なり割れる等の問題が発生せず、柔軟性を有する。つまり、フィルムミラーは、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することができるという特長を有している。
【００３０】
太陽光反射用フィルムミラーは樹脂フィルム状支持体と、銀反射層と、保護層以外の層を有していてもよい。好ましくは、ハードコート層、アクリル層、樹脂コート層、アンカー層、粘着層等のいずれか又はいくつか又は全ての層を有することである。なお、上述したそれぞれの層を有する際には、図１に示すように、太陽光入射側から順にハードコート層８、保護層７、アクリル層６、樹脂コート層４、銀反射層３、アンカー層２、樹脂フィルム状支持体１、粘着層９ａ、剥離層９ｂの位置関係であることが好ましい。特に、アクリル層を有する場合、アクリル層は銀反射層と保護層の間に設けられていることが好ましいが、銀反射層とアクリル層の間に保護層を設けてもよい。もちろん、上述のいずれかの層の太陽光入射側や、その反対側に他の層を介してもよいし、そういった他の層が複数あってもよい。また、当然ながら、上述したそれぞれの層が隣接していてもよい。
【００３１】
また、いずれかの層の間に接着層を設けても良い。例えば、アクリル層と樹脂コート層との間に接着層を設けてもよい。また、粘着層を覆うように剥離シートによる層（剥離層）を設けてもよい。
【００３２】
なお、フィルムミラーの表面粗さＲａは０．０１μｍ以上０．１μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．０２μｍ以上０．０７μｍ以下である。フィルムミラーの表面粗さが０．０１μｍ以上である場合、輸送時や太陽光反射用フィルムミラーの組み立て時や調整時に、誤って指でその表面を触ってしまったとしても、その表面粗さにより、指紋が付いてしまい反射率が低下してしまうことを防止できる。また、フィルムミラーの製造時に連続的に製膜することが可能なロールトゥーロール方式を用いた際に、その表面粗さによりブロッキングなどの貼り付きを防止することができる。フィルムミラーの表面粗さが０．１μｍ以下であれば、フィルムミラー表面による太陽光の散乱がそれほど大きくならない。特に、０．０２μｍ以上０．０７μｍ以下の表面粗さであれば、前述の効果がより顕著なものとなる。なお、表面粗さは三次元測定装置ＮＨ−３ＳＰ（三鷹光器）により測定する。その際の測定条件は、測定範囲を２ｍｍ、測定ピッチを２μｍ、対物レンズを１００×とし、カットオフ値を０．２５０ｍｍである。
【００３３】
以下、フィルムミラーが有していると好ましい各層の構成の詳細を記述する。
【００３４】
＜２−１．保護層＞
保護層は、樹脂フィルム状支持体及び銀反射層よりも太陽光入射側に設けられており、樹脂を有する。また、前記樹脂は（１）及び／または（２）の紫外線吸収性基を有する。
（１）ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基
（２）トリアジン系紫外線吸収性基
【００３５】
保護層は、樹脂フィルム状支持体や銀反射層などの、保護層よりも太陽光入射側の反対側にある層が紫外線などの環境により劣化することを防ぐ役割を有している。保護層を有することによりフィルムミラーの特に樹脂フィルム状支持体が紫外線により劣化することがないため、変色や膜剥がれやワレなどが発生しにくくなる。また、保護層の樹脂が有している基がベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基及び／またはトリアジン系紫外線吸収性基であるため、ベンゾフェノン系紫外線吸収性基などの他の紫外線吸収性基に比して、太陽光の波長特性に対して適切な耐紫外線能となっている。また、保護層よりも太陽光入射側と反対側にある層が紫外線等の環境により劣化することを抑えるだけでなく、保護層自体の樹脂劣化も抑えることが可能となる。さらに、保護層の樹脂が紫外線吸収性基を有しているため、樹脂が紫外線吸収性基を有する高分子化合物となりブリードアウトが圧倒的に発生しにくくなる。加えて、樹脂に紫外線吸収剤を添加しているのではなく、樹脂が紫外線吸収性基を有しているため、添加した場合に比べてより多くの紫外線吸収性基を有することができるようになり、相溶性も良好となるため、非常に好ましい。また、高い耐紫外線能を持たせることが可能であるため、紫外線による樹脂の劣化に起因したラジカルの発生を防ぐことができるため、ラジカルによる銀の凝集というフィルムミラーならではの課題を防ぐことができ、高い正反射率を維持することが可能となる。そして、当該保護層が存在することにより、他の層の紫外線吸収剤含有量を減らすことなども可能となる。また、太陽光反射用フィルムミラーが砂漠のような紫外線照射量が非常に多い環境で用いられ、かつ銀反射層を有しているため、その保護層に対して太陽光に含まれる一部の紫外線が２度照射されてしまったとしても、保護層の樹脂が紫外線吸収性基を有しているため、ブリードアウトは非常に発生しにくい。保護層ではブリードアウトをほぼ無視できるため、ブリードアウトに伴う反射率の低下という太陽光反射用フィルムミラーとして重篤な問題を回避でき、高い正反射率を維持できる。
【００３６】
保護層の樹脂がベンゾトリアゾール系紫外線吸収性を有している場合について以下に詳述する。一般に太陽光に含まれる紫外線として問題になるのは波長約４００ｎｍ以下の波長で、波長が４００ｎｍに近づくほど強度が強くなる傾向がある。それに対してベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基は波長３４５ｎｍ周辺を紫外線吸収極大波長としている。保護層の樹脂がベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基を有していることにより、太陽光に含まれる紫外線を３４５ｎｍを中心として大幅に吸収することができ、結果として保護層よりも太陽光入射側と反対にある層への紫外線照射量を大きく低減することが可能となる。また、保護層自体の樹脂劣化を抑えることもできる。また、太陽光反射用フィルムミラー独特の課題として、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基が吸収しなかった一部の紫外線が銀反射層により反射され再び保護層に対して照射されてしまうが、紫外線吸収剤を添加するのではなく、樹脂が紫外線吸収性基を有しているため、砂漠のような強紫外線環境下であっても、ブリードアウトをほぼ無視できる。加えてベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基を有する樹脂が銀反射層と隣接している場合には、銀の硫化に対する腐食防止剤としても機能する。
【００３７】
保護層の樹脂がトリアジン系紫外線吸収性を有している場合について以下に詳述する。トリアジン系紫外線吸収性基は波長２７０ｎｍ周辺を紫外線吸収極大波長としている。保護層の樹脂がトリアジン系紫外線吸収性基を有していることにより、太陽光に含まれる紫外線を２７０ｎｍを中心として大幅に吸収することができ、結果として保護層よりも太陽光入射側と反対にある層への紫外線照射量を大きく低減することが可能となる。また、太陽光反射用フィルムミラー独特の課題として、トリアジン系紫外線吸収性基が吸収しなかった一部の紫外線が銀反射層により反射され再び保護層に対して照射されてしまうが、紫外線吸収性剤を添加するのではなく、樹脂が紫外線吸収性基を有しているため、砂漠のような強紫外線環境下であっても、ブリードアウトをほぼ無視できる。トリアジン系紫外線吸収性基は波長２７０ｎｍを中心とした紫外線吸収能に加えて、紫外線に対する顕著な分解のされにくさ、つまり紫外線安定能を有するため、保護層のさらなる長寿命化に貢献でき、砂漠などの屋外での使用に特に適している。
【００３８】
保護層の樹脂が有している紫外線吸収性基がベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基とトリアジン系紫外線吸収性基のどちらかのみであってもフィルムミラーの変色や膜剥がれ、保護層におけるブリードアウト、ラジカルの発生の問題は低減できるが、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基とトリアジン系紫外線吸収性基の両基を樹脂が有することがさらに好ましい。両方の紫外線吸収性基を保護層の樹脂が有することにより、それぞれの修飾度がそれほど高くなくとも、紫外線を十分に吸収することが可能となる。また、太陽光に含まれる紫外線を長い帯域に渡って吸収することができるため、それぞれを単独で用いた場合と比して、保護層の寿命が相乗的に長くなる。
【００３９】
保護層の樹脂が酸化防止性基を有していると、紫外線が保護層の樹脂及び／または樹脂が有する紫外線吸収性基及び／またはその他の溶液に照射された際に発生するラジカル・活性酸素などを不活性化することができ、銀反射層の凝集や変色、フィルムミラーの正反射率の低下をさらに防止することが可能となる。また、紫外線吸収性基と酸化防止性基の両基を有することによって相乗的な効果を得ることができる。酸化防止性基によって、紫外線吸収性基の劣化を防ぐことができる、つまり紫外線に対して安定性を持つため、保護層の長寿命化に貢献できる。また、保護層の樹脂が酸化防止性基を有しているため、紫外線吸収性基と酸化防止性基との距離が近く、紫外線により発生したラジカルを不活化しやすいため、酸化防止剤を添加した場合と比べて、保護層が紫外線環境下においてもより長寿命となる。さらに、保護層の樹脂が酸化防止性基を有しているため、酸化防止剤を添加した保護層とは異なり、酸化防止性基自体のブリードアウトがほぼ発生せず、相溶性も高くなり、さらにブリードアウトによる正反射率の低下の影響も回避できる。
【００４０】
特に、樹脂骨格に結合している酸化防止性基がＨＡＬＳであることが好ましく、片側重合基修飾型ＨＡＬＳであると製造時の容易さやコストの安価さにおいて好ましく、両側重合基修飾型ＨＡＬＳであると樹脂のＨＡＬＳによる修飾度が高くなるため、非常に高い紫外線安定能を有する。また、紫外線吸収性基としてベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基を、酸化防止性基としてＨＡＬＳを用いると、相乗効果により保護層の寿命が更に長寿命化するため好ましいことを本発明者らは見出した。
【００４１】
太陽光反射用フィルムミラーにおいて、保護層の位置は樹脂フィルム状支持体や銀反射層よりも太陽光入射側にあれば特に制限はされない。また、保護層の樹脂がアクリル樹脂であり、アクリル層と隣接している場合には、二つの層間での密着性が非常に高く保たれ、膜剥がれが起きにくくなり好ましい。さらに、保護層の樹脂が有する基における修飾度合いを調整することで保護層に隣接する層との密着性をコントロールすることも可能である。
【００４２】
また、保護層の厚さは１〜１００μｍであり、３〜５０μｍであることが好ましい。保護層の厚さが１μｍ以上であれば高い紫外線吸収能を有することが容易となり、１００μｍ以下であれば太陽光反射用フィルムミラーの正反射率の低下をほぼ招かないため好ましい。
【００４３】
＜２−１−１．保護層に用いられる樹脂＞
保護層に用いられる樹脂の材料としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。また、保護層における樹脂の好ましい含有量は、保護層の組成物１００質量％中５〜１００質量％配合することが好ましい。この範囲であれば、プラスチック基材に対する密着性が良好となる。５質量％以上であれば、隣接する層との相互作用が高く、密着性が十分保たれ、１００質量％以内であるので、耐候性が十分となる。より好ましくは、１０〜９０質量％、さらに好ましくは１０〜５０質量％である。
【００４４】
また、保護層にはその他の樹脂が含まれていても良い。その他の樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂や、樹脂自身の作用あるいは硬化剤によって架橋硬化する熱硬化性樹脂を挙げることができる。より具体的には上述の樹脂以外の、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂などの熱可塑性樹脂；ウレタン系樹脂、アミノプラスト系樹脂、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂などの単独硬化型の熱・紫外線・電子線硬化性樹脂；ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂などの硬化剤によって硬化する熱硬化性樹脂などを挙げることができる。これらその他の樹脂の種類や使用量は、本発明の保護層の用途や要求特性などに応じて適宜決定すればよい。本発明の保護層に単独硬化型の紫外線・電子線硬化性樹脂を配合すれば、高硬度の保護層を形成することができる。
【００４５】
＜２−１−２．ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基＞
保護層の樹脂が有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基に用いられる官能基を以下に詳述する。なお、以下では化合物を官能基として扱う。
【００４６】
好ましいベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基は下記一般式（１ａ）または（１ｂ）で表わされる。
【００４７】
【化４】
2013094633.tif 000006
［式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表す。］
【００４８】
【化５】
2013094633.tif 000007
［式中、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表し、Ｒ５は水素結合を形成し得る元素を有する基を表し、Ｒ６は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ７は水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基を表す。］
【００４９】
上記式（１ａ）において、Ｒ１で表される炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などの鎖式アルキル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの脂環式アルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基などの芳香族アルキル基；などを挙げることができる。
【００５０】
上記式（１ａ）において、Ｒ２で表される炭素数１〜６のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基などの直鎖状アルキレン基；イソプロピレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔ−ブチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基などの分枝鎖状アルキレン基；などを挙げることができる。
【００５１】
上記式（１ａ）において、Ｘ１で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。Ｘ１で表される炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などの鎖式アルキル基：シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの脂環式アルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基などの芳香族アルキル基；などを挙げることができる。Ｘ１で表される炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基などを挙げることができる。
【００５２】
上記式（１ａ）で表される紫外線吸収性基としては、特に限定されるものではないが、例えば、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−３’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールなどを挙げることができる。
【００５３】
上記式（１ｂ）において、Ｒ４で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。Ｒ４で表される炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、２−エチルヘキシル基などの直鎖状または分枝状アルキル基；シクロヘキシル基などの脂環式アルキル基；などを挙げることができる。Ｒ４で表される炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などを挙げることができる。
【００５４】
上記式（１ｂ）において、Ｒ５で表される、水素結合を形成し得る元素を有する基としては、例えば、−ＮＨ−、−ＣＨ2ＮＨ−、−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ−などを挙げることができる。これらの基のうち、活性水素を有する窒素原子が含まれている点で、−ＮＨ−、−ＣＨ2ＮＨ−が好適であり、−ＣＨ2ＮＨ−が特に好適である。
【００５５】
上記式（１ｂ）において、Ｒ７で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、Ｒ５で表される炭素数１〜８のアルキル基として列挙した上記の置換基に加えて、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基などの直鎖状または分枝状アルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基などの芳香族アルキル基；などを挙げることができる。これらの置換基のうち、炭素数４〜１２の直鎖状または分岐状アルキル基が好適であり、１，１，３，３−テトラメチルブチル基などの嵩高い分岐状アルキル基（またはこれらを有している基）が特に好適である。
【００５６】
上記式（１ｂ）で表される紫外線吸収性基としては、特に限定されるものではないが、例えば、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（メタ）アクリロイルアミノフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（メタ）アクリロイルアミノメチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（メタ）アクリロイルアミノ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（メタ）アクリロイルアミノメチル−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールなどを挙げることができる。これらの紫外線吸収性基は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。なお、これらの紫外線吸収性基のうち、嵩高い置換基Ｒ７が５位に結合している、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（メタ）アクリロイルアミノ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、および、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（メタ）アクリロイルアミノメチル−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが好適である。
【００５７】
上記式（１ａ）または（１ｂ）で示されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基は、例えば、対応するベンゾトリアゾール（紫外線吸収剤として市販されている）に（メタ）アクリル酸クロライドやＮ−メチロールアクリルアミドまたはそのアルキルエーテルを反応させるなどの方法で合成することができる。例えば、２−［２’−ヒドロキシ−３’−メタクリロイルアミノ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールは、２−［２’−ヒドロキシ−３’−アミノ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸クロライドを反応させて得ることができる。また、２−［２’−ヒドロキシ−３’−メタクリロイルアミノメチル−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールは、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−ベンゾトリアゾール（例えば、ＣＹＡＳＯＲＢ（登録商標）  ＵＶ−５４１１、ＣＹＴＥＣ社製）にＮ−メチロールアクリルアミド（例えば、日東化学工業社製など）を反応させて得ることができる。また、これらの紫外線吸収性基に用いられる化合物は単独で用いても２種以上を併用してもよい。特にＴｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン）を材料としたものなどを好ましく用いることができる。
【００５８】
＜２−１−３．トリアジン系紫外線吸収性基＞
保護層の樹脂が有するトリアジン系紫外線吸収性基に用いられる官能基を以下に詳述する。なお、以下では化合物を官能基として扱う。
【００５９】
好ましいトリアジン系紫外線吸収性基は下記一般式（２）で表わされる。
【００６０】
【化６】
2013094633.tif 000008
［式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４およびＲ１５は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または、炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｘ２は水素原子またはメチル基を表し、Ａは、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｐ−、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2Ｏ−、−（ＣＨ2）ｐ−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ2ＯＲ１６）−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ１６）−Ｏ−、または、−ＣＨ2（ＣＨ2）ｑＣＯＯ−Ｂ−Ｏ−を表し、Ｒ１６は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｂはメチレン基、エチレン基、または、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−を表し、ｐは１〜２０の整数を表し、ｑは０または１を表す。］
【００６１】
上記式（２）において、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４またはＲ１５で表される炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、２−エチルヘキシル基などの直鎖状または分枝状アルキル基；シクロヘキシル基などの脂環式アルキル基；などを挙げることができる。Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４またはＲ１５で表される炭素数２〜１０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘプテニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、２，４−ジメチル−３−ペンテニル基、６−メチル−５−ヘプテニル基、２，６−ジメチル−５−ヘプテニル基などを挙げることができる。Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４またはＲ１５で表される炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基などを挙げることができる。
【００６２】
上記式（２）において、Ａの中のＲ１６で表される炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４またはＲ１５で表される炭素数１〜１０のアルキル基として列挙した上記の置換基などを挙げることができる。
【００６３】
上記式（２）で表される紫外線吸収性基としては、特に限定されるものではないが、例えば、２，４−ジフェニル−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−メチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−メトキシフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−エチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−エトキシフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−メチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−メトキシフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−エチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−エトキシフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメトキシフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジエトキシフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジエチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（１１−アクリロイルオキシ−ウンデシルオキシ）フェニル］−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（１１−メタクリロイルオキシ−ウンデシルオキシ）フェニル］−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（１１−アクリロイルオキシ−ウンデシルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（１１−メタクロイルオキシウンデシルオキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−メタクロイルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジンなどを挙げることができる。これらの紫外線吸収性基は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの紫外線吸収性基のうち、式（２ａ）
【００６４】
【化７】
2013094633.tif 000009
で示される紫外線吸収性基、式（２ｂ）
【００６５】
【化８】
2013094633.tif 000010
で示される紫外線吸収性基、式（２ｃ）
【００６６】
【化９】
2013094633.tif 000011
で示される紫外線吸収性基や、Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５（チバ・ジャパン）などを材料としたものを好ましく用いることができる。
【００６７】
保護層における（１ａ）または（１ｂ）の組成のベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基及び／または（２）の組成のトリアジン系紫外線吸収性基の好ましい含有量は、保護層の組成物１００質量％中紫外線吸収性基全体として５質量％以上、６０質量％以下が好ましく、７質量％以上、５０質量％以下がより好ましく、１０質量％以上、２０質量％以下がさらに好ましい。この範囲であれば、保護層の紫外線吸収能が充分となり、フィルムミラーに用いられている樹脂の黄変を長期に亘って抑制することができる。紫外線吸収性基の含有量が５質量％以上であれば、保護層の耐紫外線能が高くなり好ましい。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基とトリアジン系紫外線吸収性基の割合は質量％で０対１００でも１００対０でも良いが、５０対５０に近い比率であること、具体的には３０対７０〜７０対３０の割合であることが耐紫外線能の観点から好ましく、さらに好ましくは４０対６０〜６０対４０であることである。
【００６８】
＜２−１−４．酸化防止性基＞
保護層の樹脂が有する酸化防止性基に用いられる官能基を以下に詳述する。なお、以下では化合物を官能基として扱う。
【００６９】
本発明に適用可能な酸化防止性基の中で好ましいものとしては、ヒンダードアミン系酸化防止性基、ヒンダードフェノール系酸化防止性基、リン系酸化防止性基が挙げられる。
【００７０】
特にヒンダードアミン系酸化防止性基はＨＡＬＳ（hindered amine light stabilizer）と一般的に称され、また、光安定性基とも呼ばれ、好ましく用いられる。ＨＡＬＳの具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【００７１】
また、高分子タイプの酸化防止性基でもよく、具体例としては、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した酸化防止性基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７２】
これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【００７３】
上記タイプのヒンダードアミン酸化防止性基の材料は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“ＴＩＮＵＶＩＮ１４４”及び“ＴＩＮＵＶＩＮ７７０”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。
【００７４】
ヒンダードフェノール系酸化防止性基の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス−｛２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５���ウンデカン、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのフェノール酸化防止性基は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６”及び“ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０”という商品名で市販されている。
【００７５】
リン系酸化防止性基の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系酸化防止性基；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系酸化防止性基；トリフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系酸化防止性基；トリフェニルホスフィナイト、２，６−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系酸化防止性基；トリフェニルホスフィン、トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン系酸化防止性基；等が挙げられる。
【００７６】
上記タイプのリン系酸化防止性基は、例えば、住友化学株式会社から、“ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−２４Ｇ”、“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−３６”及び“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ３０１０”、チバ・ジャパン株式会社から“ＩＲＧＡＦＯＳ  Ｐ−ＥＰＱ”、堺化学工業株式会社から“ＧＳＹ−Ｐ１０１”という商品名で市販されている。
【００７７】
保護層における酸化防止性基の好ましい含有量は、組成物１００質量％中保護層の組成物１００質量％中０．１質量％以上、６０質量％以下が好ましく、０．５質量％以上、４０質量％以下がより好ましく、５質量％以上、２０質量％以下がさらに好ましい。また、酸化防止性基の割合と紫外線吸収性基全体との割合が略等しくなることが好ましい。具体的には酸化防止性基と紫外線吸収性基全体とが質量％において３０対７０〜７０対３０の割合であることが耐紫外線能の観点から好ましく、さらに好ましくは４０対６０〜６０対４０であることである。
【００７８】
＜２−１−５．その他の添加材or基＞
本発明の保護層は、ブリードアウトが発生しない程度に他の化合物を添加してもよい。また、保護層が他の基を有していても良い。
【００７９】
添加剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、インドール系などの有機系紫外線吸収剤や酸化亜鉛などの無機系紫外線吸収剤；立体障害ピペリジン化合物（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の「ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）１２３」、「ＴＩＮＵＶＩＮ１４４」、「ＴＩＮＵＶＩＮ７６５」など）などの添加型の紫外線安定剤；レベリング剤、酸化防止剤、タルクなどの充填剤、防錆剤、蛍光性増白剤、酸化防止剤、界面活性剤系やリチウム系、あるいは有機ホウ素系などの帯電防止剤、顔料、染料、増粘剤、コロイダルシリカ、アルミナゾルなどの無機微粒子やポリメチルメタクリレート系のアクリル系微粒子などの塗料分野で一般的な添加剤を挙げることができる。これらの添加剤を使用する場合は、本発明の紫外線吸収性基を有する樹脂の含有量が５０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上、となるように使用することが望ましい。
【００８０】
本発明の保護層はベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基またはトリアジン系紫外線吸収性基を有している樹脂であれば十分な効果は得られるが、さらに、その他の溶媒・添加材・樹脂などの化合物を含んで構成されていてもよいことは言うまでもない。保護層を製造するにあたっては、その用途や要求特性に応じて、それぞれの化合物を重合、添加すればよい。重合には従来公知の種々の重合方法を用いればよい。
【００８１】
＜２−２．ハードコート層＞
ハードコート層はフィルムミラーに、フィルムミラー表面の傷つきを防止する耐傷性、汚れの付着を防止する防汚性、などを付加することを目的に設けられる。フィルムミラーがハードコート層と保護層を有することにより、銀反射層や樹脂フィルム状支持体などの保護層以下にある層が紫外線、砂塵、水滴などの外部環境から守られるため、フィルムミラーの長寿命化に貢献できる。太陽光反射用フィルムミラーは主に砂漠で使用されることが多いため、紫外線や熱や風雨、砂嵐といった様々な外因に対する耐性を持っていることが好ましい。ハードコート層により、銀反射層に用いられている金属の、酸素や水蒸気や硫化水素などによる腐食、紫外線による樹脂フィルム状支持体の劣化、フィルムミラーの変色や膜剥がれなどを低減することができる。また、ハードコート層により、フィルムミラーに付着した汚れをブラシなどで洗い流すことによるフィルムミラー表面の傷つきも低減することができ、結果として反射効率の低下も防止できる。ハードコート層の位置としてはフィルムミラーの太陽光入射側の最表面層、２層目、又は３層目のいずれかに設けられることが好ましい。ハードコート層の上に更に別の薄い層（１μｍ以下の厚さが好ましい）を設けてもよい。なお、ハードコート層の厚さは、０．０５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、１μｍ以上４μｍ以下であり、更に好ましくは、１．５μｍ以上３μｍ以下である。ハードコート層の厚さが０．０５μｍ以上だと十分な耐傷性を得ることができる。また、ハードコート層の厚さが１０μｍ以下であると、応力が強くなり過ぎてハードコート層が割れることを防止できる。さらに、砂塵等の汚れの静電的な付着を防止する観点からも電気抵抗値が低いこと、つまり厚さが１０μｍ以下であることが好ましい。
【００８２】
ハードコート層の耐傷性は、鉛筆硬度がＨ以上６Ｈ未満、加重５００ｇ／ｃｍ２のスチールウール試験における傷が３０本以下であることが好ましい。鉛筆硬度は鉛筆硬度試験ＪＩＳ−Ｋ５４００に基づいて、各サンプルの４５°傾斜、１Ｋｇ荷重における鉛筆硬度を評価する。防汚性に関しては、フィルムミラーの最表面の電気抵抗値が、１．０×１０−３〜１．０×１０１２Ω・□であることが好ましい。より好ましくは、３．０×１０９〜２．０×１０１１Ω・□である。表面電気抵抗値は三菱化学社製ハイレスタを用い、ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４の規格に従って測定する。但し、試料は湿度５０％、温度５０℃の環境に２時間以上放置した後、その試料を導電性のある金属板上に置き、５００Ｖの電圧を加え、測定開始３０秒後の試料の表面電気抵抗値をプローブを用いて測定する。防汚性に関するもう一つの指標としては、ハードコート層の転落角が０°より大きく３０°以下であれば雨や結露などによってフィルムミラー表面に付着する水滴が落ちやすくなるため好ましい。なお、転落角とは、水平なミラー上に水滴を滴下し、その後、当該ミラーの傾斜角を徐々に上げていき、静止していた所定重量の水滴が転落する最小の角度を計測したものをいう。転落角が小さければ小さい程、水滴が表面から転がり落ちやすく、水滴が付着しにくい表面であると言える。
【００８３】
なお、スチールウール試験は往復摩耗試験機（新東科学（株）製ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲ）に摩耗材としてスチールウール（＃００００）を取り付け、荷重５００ｇ／ｃｍ２の条件で各撥水・防汚性物品の表面を速度１０ｍｍ／ｓｅｃで１０回往復させ、傷本数を評価する試験である。また、転落角は、接触角計ＤＭ５０１（協和界面化学）に滑落法キットＤＭ‐ＳＡ０１を取り付け、水５０μｌ滴下し、支持体を水平状態から０．５°／秒の速度で傾けていき、水滴が転がり落ちるときの角度を転落角として測定する。転落角の小さい方が水滴が落ちやすく防汚性に優れ、好ましい。
【００８４】
ハードコート層の材料としては透明性、耐候性、耐傷性、防汚性が得られるものであることが好ましい。ハードコート層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、耐傷性の観点から、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
【００８５】
活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【００８６】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
【００８７】
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【００８８】
市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、大日本インキ化学工業株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズなど）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。
【００８９】
更に具体的には、例えば、電子線や紫外線の照射により硬化する樹脂や熱硬化性の樹脂等を使用でき、特にアルコキシシラン系化合物の部分加水分解オリゴマーからなる熱硬化型シリコーン系ハードコート、熱硬化型のポリシロキサン樹脂からなるハードコート、不飽和基を有するアクリル系化合物からなる紫外線硬化型アクリル系ハードコート、熱硬化型無機材料であることが好ましい。また、ハードコート層に用いることができる材料として、水性コロイダルシリカ含有アクリル樹脂（特開２００５−６６８２４号公報）、ポリウレタン系樹脂組成物（特開２００５−１１０９１８号公報）、水性シリコーン化合物をバインダーとして用いた樹脂膜（特開２００４−１４２１６１号公報）、酸化チタン等の光触媒性酸化物含有シリカ膜もしくはアルミナ、アスペクト比の高い酸化チタンもしくは酸化ニオブなどの光触媒膜（特開２００９−６２２１６号公報）、光触媒含有フッ素樹脂コーティング（ピアレックス・テクノロジーズ社）、有機／無機ポリシラザン膜、有機／無機ポリシラザンに親水化促進剤（ＡＺエレクトロニクス社）を用いた膜、等も挙げることができる。
【００９０】
熱硬化型シリコーン系のハードコート層には公知の方法によって合成したアルコキシシラン化合物の部分加水分解オリゴマーを使用できる。その合成方法の一例は以下の通りである。まず、アルコキシシラン化合物としてテトラメトキシシラン、又はテトラエトキシシランを用い、これを塩酸、硝酸等の酸触媒の存在下に所定量の水を加えて、副生するアルコールを除去しながら室温から８０℃で反応させる。この反応によりアルコキシシランは加水分解し、更に縮合反応により一分子中にシラノール基又はアルコキシ基を２個以上有し、平均重合度４〜８のアルコキシシラン化合物の部分加水分解オリゴマーが得られる。次にこれに酢酸、マレイン酸等の硬化触媒を添加し、アルコール、グリコールエーテル系の有機溶剤に溶解させて熱硬化型シリコーン系ハードコート液が得られる。そしてこれを通常の塗料における塗装方法によりフィルムミラー等の外面に塗布し、８０〜１４０℃の温度で加熱硬化することによってハードコート層を形成させる。但しこの場合、フィルムミラーの熱変形温度以下での硬化温度の設定が前提となる。なお、テトラアルコキシシランの代わりにジ（アルキルまたはアリール）ジアルコキシシラン、並びに／あるいはモノ（アルキルまたはアリール）トリアルコキシシランを使用することにより、同様にポリシロキサン系のハードコート層を製造することが可能である。
【００９１】
紫外線硬化型アクリル系のハードコート層には、不飽和基を有するアクリル系化合物として、例えばペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールテトラ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート混合物等を使用することができ、これにベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノン等の光重合開始剤を配合して用いる。そしてこれを反射フィルム１０等の外面に塗布し、紫外線硬化することによってハードコート層が形成される。
【００９２】
また、ハードコート層に表面処理を施してもよい。例えば、コロナ処理（特開平１１−１７２０２８号公報）、プラズマ表面処理、紫外線・オゾン処理、表面突起物形成（特開２００９−２２６６１３号公報）、表面微細加工処理などを挙げることができる。
【００９３】
ハードコート層の作製方法としては、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００９４】
ハードコート層が無機物からなる場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等を、真空製膜法により製膜することで形成できる。真空製膜法としては、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。
【００９５】
また、ハードコート層が無機物からなる場合、ポリシラザンを塗布製膜し、加熱硬化した膜からなることが好ましい。ハードコートの前駆体が、ポリシラザンを含有する場合、例えば下記の一般式（３）で表されるポリシラザンを含む有機溶剤中に必要に応じて触媒を加えた溶液を塗布した後、溶剤を蒸発させて除去し、それによってフィルムミラー上に０．０５〜３．０μｍの層厚を有するポリシラザン層を残す。そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては窒素の存在下で、上記のポリシラザン層を局所的加熱することによって、フィルムミラー上にガラス様の透明なハードコートの被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
−（ＳｉＲ１７Ｒ１８−ＮＲ１９）ｎ−  ・・・（３）
【００９６】
一般式（３）中、Ｒ１７、Ｒ１８、及びＲ１９は、同一か又は異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ビニル又は３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表す。この際、ｎは整数であり、ｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【００９７】
触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン又はＮ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％、好ましくは０．５〜７モル％の範囲である。
【００９８】
なお、好ましい態様の一つでは、式（３）中のＲ１７、Ｒ１８及びＲ１９のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
【００９９】
また、別の好ましい態様の一つでは、ハードコート層が、下記の一般式（４）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含むことである。
−（ＳｉＲ２０Ｒ２１−ＮＲ２２）ｎ−（ＳｉＲ２３Ｒ２４−ＮＲ２５）ｐ−  ・・・（４）
【０１００】
一般式（４）中、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４及びＲ２５は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎ及びｐは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１０１】
特に好ましいものは、Ｒ２０、Ｒ２２及びＲ２５が水素を表し、そしてＲ２１、Ｒ２３及びＲ２４がメチルを表す化合物。またＲ２０、Ｒ２２及びＲ２５が水素を表し、そしてＲ２１、Ｒ２３がメチルを表し、そしてＲ２４がビニルを表す化合物。また、Ｒ２０、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２５が水素を表し、そしてＲ２１及びＲ２４がメチルを表す化合物である。
【０１０２】
さらに、別の好ましい態様の一つでは、ハードコート層が、下記の一般式（５）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含むことである。
−（ＳｉＲ２６Ｒ２７−ＮＲ２８）ｎ−（ＳｉＲ２９Ｒ３０−ＮＲ３１）ｐ−（ＳｉＲ３２Ｒ３３−ＮＲ３４）ｑ−  ・・・（５）
【０１０３】
一般式（５）中、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３及びＲ３４は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１０４】
特に好ましいものは、Ｒ２６、Ｒ２８及びＲ３１が水素を表し、そしてＲ２７、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３３がメチルを表し、Ｒ３４が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＲ３２がアルキル又は水素を表す化合物である。
【０１０５】
溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１〜８０質量％、好ましくは５〜５０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。
【０１０６】
溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシル基又はアミン基）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
【０１０７】
このポリシラザン溶液の追加の成分に、塗料の製造に慣用されているもののような、更に別のバインダーを用いることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート又はセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、又は合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、又はポリシロキサンである。
【０１０８】
また、このポリシラザン調合物に更に追加する別の成分として、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用又は排気性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２又はＡｌ２Ｏ３を用いることができる。
【０１０９】
このようにして形成したポリシラザンのハードコート層は、酸素・水蒸気バリア膜としても用いることができる。
【０１１０】
また、ハードコート層の特に好ましい例の一つとして、多官能アクリルモノマーとシリコーン樹脂を含有するハードコート層が挙げられる。多官能アクリルモノマーを以下「Ａ」成分とし、シリコーン樹脂を以下「Ｂ」成分とする。
【０１１１】
＜２−２−１．「Ａ」成分＞
多官能アクリルモノマー「Ａ」成分は、不飽和基、特に、活性エネルギー線反応性不飽和基を有することが好ましい。なお、本明細書で言う活性エネルギー線とは、好ましくは電子線か紫外線をいう。活性エネルギー線反応性不飽和基を有する多官能アクリルモノマーとしては、ラジカル重合系モノマーが用いられ、好ましくは、分子中にα，β−不飽和二重結合を有する２官能以上の多官能モノマーである多官能アクリレート型もしくは多官能メタクリレート型モノマー等が挙げられる。他に、ビニル型モノマー、アリル型モノマーや単官能のモノマーを有していてもよい。また、ラジカル重合系モノマーは、単独でも、または架橋密度を調整すべく２種類以上のモノマーを併用することも可能である。「Ａ」成分としては、これら比較的低分子量化合物、例えば分子量が１０００未満のいわゆる狭義のモノマーの他、ある程度分子量の大きい、例えば重量平均分子量が１０００以上１００００未満のオリゴマー、プレポリマーも用いることが可能である。
【０１１２】
単官能（メタ）アクリレートモノマーとして、具体的には、２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルフタレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、クレゾール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレ−ト、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、コハク酸（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（メタ）アクリレート、およびこれらの誘導体、変性品等が挙げられる。
【０１１３】
多官能（メタ）アクリレートモノマーとして、具体的には、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールAジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールFジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ−ト、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエートトリ（メタ）アクリレート、トリス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル化イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、およびこれらの誘導体、変性品等が挙げられる。
【０１１４】
このような重合性有機化合物である「Ａ」成分の市販品としては、例えば、東亞合成（株）製アロニックスＭ−４００、Ｍ−４０８、Ｍ−４５０、Ｍ−３０５、Ｍ−３０９、Ｍ−３１０、Ｍ−３１５、Ｍ−３２０、Ｍ−３５０、Ｍ−３６０、Ｍ−２０８、Ｍ−２１０、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２３３、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２６０、Ｍ−２７０、Ｍ−１１００、Ｍ−１２００、Ｍ−１２１０、Ｍ−１３１０、Ｍ−１６００、Ｍ−２２１、Ｍ−２０３、ＴＯ−９２４、ＴＯ−１２７０、ＴＯ−１２３１、ＴＯ−５９５、ＴＯ−７５６、ＴＯ−１３４３、ＴＯ−９０２、ＴＯ−９０４、ＴＯ−９０５、ＴＯ−１３３０、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３１０、Ｄ−３３０、ＤＰＨＡ、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０、ＤＮ−００７５、ＤＮ−２４７５、ＳＲ−２９５、ＳＲ−３５５、ＳＲ−３９９Ｅ、ＳＲ−４９４、ＳＲ−９０４１、ＳＲ−３６８、ＳＲ−４１５、ＳＲ−４４４、ＳＲ−４５４、ＳＲ−４９２、ＳＲ−４９９、ＳＲ−５０２、ＳＲ−９０２０、ＳＲ−９０３５、ＳＲ−１１１、ＳＲ−２１２、ＳＲ−２１３、ＳＲ−２３０、ＳＲ−２５９、ＳＲ−２６８、ＳＲ−２７２、ＳＲ−３４４、ＳＲ−３４９、ＳＲ−６０１、ＳＲ−６０２、ＳＲ−６１０、ＳＲ−９００３、ＰＥＴ−３０、Ｔ−１４２０、ＧＰＯ−３０３、ＴＣ−１２０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−１６７、Ｒ−５２６、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−６０４、Ｒ−６８４、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ−３３０、ＴＰＡ−３２０、ＴＰＡ−３３０、ＫＳ−ＨＤＤＡ、ＫＳ−ＴＰＧＤＡ、ＫＳ−ＴＭＰＴＡ、共栄社化学（株）製ライトアクリレート  ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ、ＤＴＭＰ−４Ａ等を挙げることができる。
【０１１５】
重合性有機化合物「Ａ」成分の含有量は、防汚性や耐光性を良好にする観点から、「Ａ」＋「Ｂ」の組成物全体を１００重量％として、１０〜９０重量％であることが好ましく、１５〜８０重量％がさらに好ましい。
【０１１６】
＜２−２−２．「Ｂ」成分＞
シリコーン樹脂「Ｂ」成分としては、活性エネルギー線反応性不飽和基を有するシリコーン樹脂であることが好ましい。シリコーン樹脂は、ポリオルガノシロキサンを含有し、好ましくは、活性エネルギー線硬化性不飽和結合を分子内に有したポリオルガノシロキサン鎖を有する化合物である。特に、ラジカル重合性二重結合およびポリオルガノシロキサン鎖を有する単量体（ａ）１〜５０重量％と、ラジカル重合性二重結合および反応性官能基を有する（ａ）以外の単量体（ｂ）１０〜９５重量％と、（ａ）および（ｂ）以外のラジカル重合性二重結合を有する単量体（ｃ）０〜８９重量％とを含む単量体を重合してなる重合体（α）に、前記した反応性官能基と反応可能な官能基、およびラジカル重合性二重結合を有する化合物（β）を反応させてなる数平均分子量５０００〜１０００００のビニル共重合体である活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
【０１１７】
ラジカル重合性二重結合およびポリオルガノシロキサン鎖を有する単量体（ａ）として、具体的には、例えばチッソ（株）製のサイラプレーンＦＭ−０７１１、ＦＭ−０７２１、ＦＭ−０７２５などの片末端（メタ）アクリロキシ基含有ポリオルガノシロキサン化合物、東亜合成（株）製のＡＣ−ＳＱ  ＳＩ−２０、Ｈｙｂｒｉｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社製ＰＯＳＳ（ＰｏｌｙｈｅｄｒａｌＯｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）シリーズのアクリレート、メタクリレート含有化合物等が挙げられる。
【０１１８】
「Ｂ」成分は、要求性能に応じて１種、または２種以上を混合して用いることができる。また、重合比率は、重合体を構成する単量体の総重量を基準として１〜５０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜３５重量％である。「Ｂ」成分の共重合比率が１重量％未満の場合には、硬化物の上部表面に防汚性、耐候性を付与することが困難となり、５０重量％を越える場合には、耐擦傷性が低下する上、放射線硬化型組成物に含まれる他の成分との相溶性、基材との密着性、強靭性等の塗膜性能、および重合体の溶媒への溶解性を得ることが困難となる。上記成分中に、ポリシロキサンを適当量含有することもでき、「Ｂ」成分の化学構造や量比によっては、ポリシロキサンを添加することによって、耐久性が向上する。
【０１１９】
このハードコート層は、屈曲性があり、反りが生じないことが好ましい。フィルムミラーの最表面層におけるハードコート層は密な架橋構造を形成する場合があり、そのためフィルムが反り曲がることや、屈曲性がないために割れが入りやすいようなことがあり、取り扱いが困難になる。このような場合、ハードコート層組成中の無機物の量を調整するなどして、柔軟性があり、平面性が得られるように設計することが好ましい。
【０１２０】
＜２−２−３．添加剤＞
ハードコート層に紫外線吸収剤や酸化防止剤などの各種の添加材を含有させてもよい。以下に各種の添加材について詳述する。
【０１２１】
＜２−２−３（ａ）．紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤としては、特に制限は無いが、有機系として、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系、ベンゾエート系等が挙げられ、また無機系として、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。なお、紫外線吸収剤を多量に含有させた際にブリードアウトしてしまうという問題を低減するためには、分子量の１０００以上の高分子の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。好ましくは、分子量１０００以上、３０００以下である。
【０１２２】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１２３】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］（分子量６５９；市販品の例としては株式会社ＡＤＥＫＡのＬＡ３１）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（分子量４４７．６；市販品の例としてはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社のＴＩＮＵＶＩＮ２３４）などが挙げられる。
【０１２４】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【０１２５】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、〔２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（ヘキシル）オキシフェノール〕（ＴＩＮＵＶＩＮ１５７７ＦＦ、商品名、チバ・スペシャルティーケミカルズ製）、〔２−［４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−（オクチルオキシ）フェノール〕（ＣＹＡＳＯＲＢＵＶ−１１６４、商品名、サイテックインダストリーズ製）等が挙げられる。
【０１２６】
また、上記ベンゾエート系紫外線吸収剤の例としては、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート（分子量４３８．７；市販品の例としては住友化学株式会社のＳｕｍｉｓｏｒｂ４００）などが挙げられる。
【０１２７】
また、紫外線吸収剤としては上記以外に、紫外線の保有するエネルギーを分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物を用いることもできる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用により効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。通常の紫外線吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【０１２８】
なお、上記紫外線吸収剤はそれぞれ、必要に応じてそれらの２種以上を用いることもできる。また、必要により、上記紫外線吸収剤以外の紫外線吸収剤、例えば、サリチル酸誘導体、置換アクリロニトリル、ニッケル錯体などを含有させることもできる。
【０１２９】
特に、多官能アクリルモノマーとシリコーン樹脂を含有するハードコート層において好ましい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である。ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤をハードコート層に含有させることにより、耐候性を更に良好にするだけでなく、転落角も更に低下できるという優れた効果を得ることができる。特に、下記一般式（６）で表される化合物をハードコート層に含有させた場合、転落角の低下という効果が著しい。
【化１０】
2013094633.tif 000012
【０１３０】
なお、ハードコート層における紫外線吸収剤の使用量は、密着性を良好に保ちつつ、耐候性を良好にするために、０．１〜２０質量％であることが好ましい。さらに好ましくは０．２５〜１５質量％、より好ましくは０．５〜１０質量％である。
【０１３１】
＜２−２−３（ｂ）．酸化防止剤＞
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤など、有機系酸化防止剤を使用することが好ましい。有機系酸化防止剤をハードコート層に含有させることでも、転落角を低下し得る。酸化防止剤と光安定剤を併用してもよい。
【０１３２】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
【０１３３】
ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２、６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
【０１３４】
特に、ヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
【０１３５】
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールーテトラキスー（β−ラウリル−チオプロピオネート）等を挙げられる。
【０１３６】
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【０１３７】
なお、上記した酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。光安定剤としては、例えば、ニッケル系紫外線安定剤も使用可能であり、ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（ＩＩ）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等が挙げられる。
【０１３８】
＜２−２−３（ｃ）．開始剤＞
ハードコート層、特に、多官能アクリルモノマーとシリコーン樹脂を含有するハードコート層は、重合を開始するための開始剤を含有することが好ましい。開始剤には紫外線などの活性エネルギー線硬化性樹脂の光重合開始剤が好ましく用いられる。例えば、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、開始剤を光増感剤と共に使用してもよい。上記開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部、より好ましくは、２〜５質量部である。２種類の開始剤を併用することもでき、特にラジカル系開始剤の場合、少なくとも２種類の開始剤、好ましくは互いに異なる波長を吸収するラジカル系開始剤を用いることである。より好ましくは、互いに紫外線吸収波長の異なる２種類の開始剤を使用することである。例えば、より短波長の波長を吸収する開始剤のみでは、開始剤によってモノマー全ての重合反応を行えない場合がある。一方、より長波長の波長を吸収する開始剤のみでは、反応性はよくなるが、長期使用時に開始剤が着色してしまう可能性がある。そこで、長期使用時においても着色することなく、耐候性を良好にし、更に、重合反応性も良好にするために、互いに異なる波長を吸収するラジカル系開始剤を用いることが好ましい。
【０１３９】
＜２−２−３（ｄ）．その他の添加材＞
ハードコート層中には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。
【０１４０】
レベリング剤は、表面の小さな凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【０１４１】
帯電防止剤は、フィルムミラーの防汚性を向上させることに有効である。帯電防止剤により、ハードコート層が導電性を持つことにより、フィルムミラー表面の電気抵抗値を小さくすることが可能となる。また、ハードコート層に隣接する層、あるいはハードコート層との間に極薄い層を介して帯電防止層を形成することによってもフィルムミラー表面の電気抵抗値を小さくし、防汚性を向上させることが可能である。
【０１４２】
＜２−３．帯電防止層＞
帯電防止層は、フィルムミラーの太陽光入射側の最表層が帯電してしまうことを防止する機能を有している。フィルムミラーはガラスミラーなどと比較して、樹脂フィルム状支持体を有しており、また、表面が樹脂で形成されていることが多いため、帯電しやすく、砂や埃などの汚れを引き寄せやすい。そのため、砂や埃などが付着し、反射効率が低下することが問題として挙げられる。フィルムミラーの最表層の近い層に帯電防止層が存在することにより、フィルムミラーの表面の帯電を抑えることができ、砂やほこりなどの塵の汚れの付着を抑えることができ、長時間にわたって、高い反射効率を維持することができるため好ましい。帯電防止層はフィルムミラーの最表層に隣接する層または最表層との間に極薄い層を介して存在していることが好ましい。また、他のいずれかの層、例えば保護層が帯電防止層を兼ねても良い。
【０１４３】
帯電防止層に帯電防止能を付与する技術として、帯電防止層に導電性をもたせて、その帯電防止層の電気抵抗値を低下させるという手法がある。
【０１４４】
例えば、その帯電防止技術として、帯電防止層に、導電性物質である導電性フィラーを分散させて含有させる方法、導電性ポリマーを用いる方法、金属化合物を分散もしくは表面にコートする方法、有機スルホン酸及び有機リン酸のような陰イオン性化合物を利用した内部添加法、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルケニルアミン、グリセリン脂肪酸エステル等の界面活性型の低分子型帯電防止剤を用いる方法、カーボンブラック等の導電性微粒子を分散させる方法などがある。特に、導電性物質である導電性フィラーを分散させて含有させる方法を用いることが好ましい。
【０１４５】
なお、帯電防止層の電気抵抗値に関し、そもそも塗膜抵抗を大きく分けると、粒子内部抵抗と接触抵抗に分けることができる。粒子内部抵抗は、異種金属のドープ量・酸素欠陥量及び結晶性に影響される。また、接触抵抗は、粒子径や形状、塗料中の微粒子の分散性、バインダー樹脂の導電性に影響される。導電性の比較的高い膜は、粒子内部抵抗よりも接触抵抗の影響が大きいと考えられるので、粒子状態の制御により導電パスを形成することが重要である。
【０１４６】
帯電防止層は、導電性フィラーを含有することで、帯電防止性を有することが好ましい。帯電防止層に含有する導電性フィラーとして、導電性無機微粒子があり、その中でも金属微粒子や導電性の無機酸化物微粒子等を用いることができる。特に、導電性の無機酸化物微粒子を好適に用いることができる。
【０１４７】
金属微粒子としては、金、銀、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、オスミウム、イリジウム、スズ、アンチモン、インジウム等の微粒子が挙げられる。
【０１４８】
無機酸化物微粒子としては、インジウム五酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）、ＡＴＯ（アンチモン錫酸化物）、リンドープ型酸化物等の微粒子が挙げられる。なかでもリンドープ型酸化物などの無機複酸化物微粒子が、導電性、耐候性が高い点から好ましい。
【０１４９】
導電性フィラーを帯電防止層中に分散させる際、帯電防止層の透明性を低下させないために、導電性フィラーの１次粒子径が１〜１００ｎｍであることが好ましく、特に１〜５０ｎｍであることが好ましい。導電性を確保するためには、粒子同士がある程度近接しなければならないため、粒子径が１ｎｍ以上であることが好ましい。粒子径が１００ｎｍを超えると光が反射し、光透過率が低下してしまうので好ましくない。
【０１５０】
導電性無機酸化物微粒子としては、市販されているものを用いることができ、具体的には、セルナックスシリーズ（日産化学工業社製）、Ｐ−３０、Ｐ−３２、Ｐ−３５、Ｐ−４５、Ｐ−１２０、Ｐ−１３０（いずれも日揮触媒化成社製）、Ｔ−１、Ｓ−１、Ｓ−２０００、ＥＰ  ＳＰ２（いずれも三菱マテリアル電子化成社製）などを用いることができる。
【０１５１】
帯電防止層には、導電性フィラーを保持するバインダーとして有機バインダー又は無機バインダーを用いることができる。有機バインダーとしては、樹脂を用いることができ、例えば、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂などが挙げられる。さらに、有機バインダーとして、ハードコートをバインダーとすることもでき、紫外線硬化性多官能アクリル樹脂、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、オキセタン系樹脂、多官能オキセタン系樹脂などが利用できる。また、無機バインダーとしては、無機酸化物系バインダー（ゾルゲル法を用いた無機酸化物系バインダーであってもよい）や、４官能無機バインダーを好ましい例として挙げることができる。無機酸化物系バインダーの好ましい例としては、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム等を挙げることができる。特に好ましいのは、二酸化ケイ素である。また４官能無機バインダーの好ましい例としては、ポリシラザン（例えば、商品名：アクアミカ（AZエレクトロニクス社製））、シロキサン系化合物（例えば、コルコートＰ（株式会社コルコート社製））、アルキルシリケート及び金属アルコラートの混合であるＦＪ８０３（ＧＲＡＮＤＥＸ社製）、アルミナゾル（川研ファインケミカル株式会社製）、などを用いることができる。また、４官能無機バインダーとして、テトラエトキシシランを主原料とし、触媒を添加したゾルゲル液を用いてもいい。さらに、有機と無機の両方の性質を併せ持つ材料としてポリオルガノシロキサン、ポリシラザンなどが挙げられ、これらの材料は有機バインダーとも言えるし、無機バインダーとも言える。帯電防止層のバインダーに無機バインダーと有機バインダーの混合物を用いてもよいが、バインダーの全量が無機バインダーであることが好ましい。バインダーが無機バインダーである場合、屋外で用いる場合であっても紫外線への耐候性を有し長期に渡って高い反射性を維持できるため望ましい。
【０１５２】
また、ハードコート層の好ましい材料の一つであるポリオルガノシロキサンでハードコート層を形成した場合、帯電防止層のバインダーが無機バインダーであると、帯電防止層とハードコート層の密着性が良好になり、層剥がれ等による反射性能の低下といった問題を防止できるため好ましい。更に、無機バインダーは有機バインダーに比して割れを生じやすいが、帯電防止層の上層としてハードコート層を設けることにより、割れ防止、欠け防止、及び欠けの飛散防止効果が得られ、割れやすい無機バインダーでも問題なく使用できるため、フィルムミラーは帯電防止層とハードコート層の二つの層を持っていることが好ましい。
【０１５３】
帯電防止層は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法によって形成できる。
【０１５４】
なお、帯電防止層の膜厚は、１００ｎｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。帯電防止層の膜厚が１μｍ以下であれば良好な光透過性を得ることができる。
【０１５５】
また、帯電防止層は、導電性フィラー（導電性無機微粒子）を７５％以上９５％以下の割合で含有していることが好ましい。導電性フィラーの含有量が７５％に満たないと導電性を確保できない。また、導電性フィラーの含有量が９５％を超えてしまうと光透過性が悪化してしまう。
【０１５６】
＜２−４．アクリル層＞
アクリル層は、紫外線吸収能を有することが好ましい。アクリル層と隣接する層の樹脂がアクリル樹脂であると、その層との密着性が高く保たれるため好ましい。また、アクリル層はポリエチレンテレフタレートなどの樹脂に比して凹凸を生じ易いため、そのアクリル層表面の凹凸に起因し、太陽光反射用フィルムミラーの表面粗さが粗くなるため、フィルムミラーを連続的に製膜するロールトゥロール方式を用いた場合でも、フィルムミラーをロール状に巻いた際のブロッキングなどの貼りつきを防止することができる。アクリル層は固いため、柔らかく破損しにくいアクリル層を得るため、可塑剤の微粒子を含有させてもよい。可塑剤の微粒子の好ましい例としては、例えば、ブチルゴムやブチルアクリレートの微粒子などが挙げられる。アクリル層の厚さは、２０〜１５０μｍであると入射光の透過率やフィルムミラーに適度な表面粗さを付与することができるため好ましい。より好ましくは、４０〜１００μｍである。また、アクリル層に紫外線吸収剤や酸化防止剤を添加してもよい。
【０１５７】
アクリル層は、メタクリル樹脂を基材樹脂として構成されていることが好ましい。メタクリル樹脂は、メタクリル酸エステルを主体とする重合体であり、メタクリル酸エステルの単独重合体であってもよいし、メタクリル酸エステル５０重量％以上とこれ以外の単量体５０重量％以下との共重合体であってもよい。ここで、メタクリル酸エステルとしては、通常、メタクリル酸のアルキルエステルが用いられる。特に好ましく用いられるメタクリル樹脂は、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）である。
【０１５８】
メタクリル樹脂の好ましい単量体組成は、全単量体を基準として、メタクリル酸エステルが５０〜１００重量％、アクリル酸エステルが０〜５０重量％、これら以外の単量体が０〜４９重量％であり、より好ましくは、メタクリル酸エステルが５０〜９９．９重量％、アクリル酸エステルが０．１〜５０重量％、これら以外の単量体が０〜４９重量％である。
【０１５９】
ここで、メタクリル酸アルキルの例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシルなどが挙げられ、そのアルキル基の炭素数は通常１〜８、好ましくは１〜４である。中でもメタクリル酸メチルが好ましく用いられる。
【０１６０】
また、アクリル酸アルキルの例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシルなどが挙げられ、そのアルキル基の炭素数は通常１〜８、好ましくは１〜４である。
【０１６１】
また、メタクリル酸アルキル及びアクリル酸アルキル以外の単量体は、単官能単量体、すなわち分子内に重合性の炭素−炭素二重結合を１個有する化合物であってもよいし、多官能単量体、すなわち分子内に重合性の炭素−炭素二重結合を少なくとも２個有する化合物であってもよいが、単官能単量体が好ましく用いられる。そして、この単官能単量体の例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの如き芳香族アルケニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリルの如きアルケニルシアン化合物などが挙げられる。また、多官能単量体の例としては、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートの如き多価アルコールのポリ不飽和カルボン酸エステル、アクリル酸アリル、メタクリル酸アリル、ケイ皮酸アリルの如き不飽和カルボン酸のアルケニルエステル、フタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートの如き多塩基酸のポリアルケニルエステル、ジビニルベンゼンの如き芳香族ポリアルケニル化合物などが挙げられる。
【０１６２】
なお、上記のメタクリル酸アルキル、アクリル酸アルキル、及びこれら以外の単量体は、それぞれ、必要に応じてそれらの２種以上を用いてもよい。
【０１６３】
メタクリル樹脂は、フィルムミラーの耐熱性の点から、そのガラス転移温度が４０℃以上であるのが好ましく、６０℃以上であるのがより好ましい。このガラス転移温度は、単量体の種類やその割合を調整することにより、適宜設定することができる。
【０１６４】
メタクリル樹脂は、その単量体成分を、懸濁重合、乳化重合、塊状重合などの方法により重合させることにより、調製することができる。その際、好適なガラス転移温度を得るため、又は好適なフィルムへの成形性を示す粘度を得るため、重合時に連鎖移動剤を使用することが好ましい。連鎖移動剤の量は、単量体の種類やその割合などに応じて、適宜決定すればよい。
【０１６５】
アクリル層に添加される紫外線吸収剤としては、＜２−２−３（ａ）．紫外線吸収剤＞に記載したものを同様に用いることができる。
【０１６６】
紫外線吸収剤のアクリル層への添加量は、０．１〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜１５質量％、さらに好ましくは３〜１０質量％である。また、紫外線吸収剤のアクリル層への添加量は、フィルム単位面積当たりの添加量が０．１７〜２．２８ｇ／ｍ２で、より好ましくは単位面積当たりの添加量が０．４〜２．２８ｇ／ｍ２以上である。添加量を上記の範囲にすることによって、耐候性能を十分発揮しつつ、紫外線吸収剤のブリードアウトによる、ロールやフィルムミラーの汚れを防止できる。
【０１６７】
アクリル層に添加される酸化防止剤としては、光安定剤についての記載も含め＜２−２−３（ｂ）．酸化防止剤＞に記載したものを同様に用いることができる。酸化防止剤を添加することにより、アクリル層の溶融製膜時の劣化を防止することができる。また、酸化防止剤がラジカルを捕捉することにより、アクリル層が劣化することも防止できる。
【０１６８】
＜２−５．接着層＞
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。接着であっても粘着であってもよい。好ましくは、保護層またはアクリル層と、アクリル層または樹脂コート層または銀反射層とを接着させる層である。接着層は、層同士を密着する密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性を有する事が好ましい。
【０１６９】
接着層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは３〜８μｍである。
【０１７０】
接着層が樹脂である場合、樹脂として、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂又はポリエステル系樹脂とウレタン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにアクリル系樹脂にイソシアネートを混合させるような、イソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【０１７１】
また、接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等、各種真空製膜法により製膜することができる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。
【０１７２】
フィルムミラーが接着層を有さない場合には、塗布等でアクリル層や保護層等を形成する場合があるが、その場合には塗布液が他層に浸透し銀反射層に近づきやすくなったり、紫外線が保護層の塗布液にあたり発生するラジカルが銀反射層の銀に到達し、凝集してしまう可能性が増える。しかし、本発明によれば、保護層の樹脂が紫外線吸収性基を有することにより、紫外線吸収剤を添加した場合よりも多量に紫外線吸収性基を有することができるため、高い耐紫外線能を持つことができ、保護層の塗布液からのラジカルの発生を抑えることができるため、先述の問題が生じにくくなる。さらに保護層が酸化防止性基を有する場合には、保護層やアクリル層の樹脂から発生したラジカルや、樹脂以外から発生したラジカルも不活化できるため、より一層銀反射層の銀の凝集を防止できるため好ましい。また、接着層が存在しないことにより、フィルムミラーをより薄くすることが可能となる。また、銀反射層と保護層との間に接着層が存在していな場合には、銀反射層とアクリル層や保護層等との距離が近くなり、アクリル層や保護層の樹脂やその樹脂が有している紫外線吸収性基の紫外線による分解、それに伴い発生したラジカルが銀反射層により一層近づきやすくなってしまうが、保護層の樹脂が紫外線吸収性基を有しているため、高い耐紫外線能をもたせることができ、長期間にわたってラジカルの発生を抑えることができる。当然、保護層が酸化防止性基を有する場合には、保護層やアクリル層の樹脂から発生したラジカルや、樹脂以外から発生したラジカルも不活化できるため、より一層ラジカルが銀反射層の銀の凝集を防止できるため好ましいことは言うまでもない。
【０１７３】
＜２−６．ガスバリア層＞
銀反射層よりも太陽光入射側にガスバリア層を設けてもよい。保護層またはアクリル層と、銀反射層の間にガスバリア層を設けることが好ましい。更には、接着層と樹脂コート層の間にガスバリア層を設けることが好ましい。ガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂フィルム状支持体及び樹脂フィルム状支持体に支持される各構成層等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、上記劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。
【０１７４】
ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、更に好ましくは０．２ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。また、ガスバリア層の酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
【０１７５】
ガスバリア層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。ガスバリア層の厚さは、１０〜５００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜２００ｎｍである。
【０１７６】
ガスバリア層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング、イオンビームアシスト、化学気相成長法等の方法により無機酸化物を形成する方法が挙げられるが、ゾル−ゲル法による無機酸化物の前駆体を塗布した後に、その塗布膜に加熱処理及び／又は紫外線照射処理を施して、無機酸化物膜を形成する方法も好ましく用いられる。
【０１７７】
＜２−６−１．無機酸化物＞
無機酸化物は、有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものである。例えば、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であり、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素である。
【０１７８】
無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法またはポリシラザン法を用いることが好ましい。ゾル−ゲル法は無機酸化物の前駆体である有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法であり、ポリシラザン法は無機酸化物の前駆体であるポリシラザンから無機酸化物を形成する方法である。
【０１７９】
＜２−６−２．無機酸化物の前駆体＞
ガスバリア層は、加熱により無機酸化物を形成する前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。この前駆体は、ゾル状の有機金属化合物又はポリシラザンが好ましい。
【０１８０】
＜２−６−３．有機金属化合物＞
有機金属化合物は、ケイ素、アルミニウム、リチウム、ジルコニウム、チタン、タンタル、亜鉛、バリウム、インジウム、スズ、ランタン、イットリウム、及びニオブのうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、有機金属化合物が、ケイ素、アルミニウム、リチウム、ジルコニウム、チタン、亜鉛、及びバリウムのうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。さらに、ケイ素、アルミニウム、及びリチウムのうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。
【０１８１】
有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、金属アルコキシドが挙げられる。この金属アルコキシドは、下記の一般式（８）で表される。
ＭＲ３５ｍ（ＯＲ３６）ｎ−ｍ  ・・・（８）
上記の一般式（８）において、Ｍは、酸化数ｎの金属を表す。Ｒ３５及びＲ３６は、各々独立にアルキル基を表す。ｍは、０〜（ｎ−１）の整数を表す。また、Ｒ３５及びＲ３６は、同一でもよく、異なっていてもよい。Ｒ３５及びＲ３６としては、炭素原子４個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基ＣＨ３（以下、Ｍｅで表すこともある）、エチル基Ｃ２Ｈ５（以下、Ｅｔで表す）、プロピル基Ｃ３Ｈ７（以下、Ｐｒで表すこともある。）、イソプロピル基ｉ−Ｃ３Ｈ７（以下、ｉ−Ｐｒで表すこともある）、ブチル基Ｃ４Ｈ９（以下、Ｂｕで表すこともある）、イソブチル基ｉ−Ｃ４Ｈ９（以下、ｉ−Ｂｕで表すこともある）等の低級アルキル基がより好ましい。
【０１８２】
また、上記の式（８）で表される金属アルコキシドとしては、例えば、リチウムエトキシドＬｉＯＥｔ、ニオブエトキシドＮｂ（ＯＥｔ）５、マグネシウムイソプロポキシドＭｇ（ＯＰｒ−ｉ）２、アルミニウムイソプロポキシドＡｌ（ＯＰｒ−ｉ）３、亜鉛プロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）２、テトラエトキシシランＳｉ（ＯＥｔ）４、チタンイソプロポキシドＴｉ（ＯＰｒ−ｉ）４、バリウムエトキシドＢａ（ＯＥｔ）２、バリウムイソプロポキシドＢａ（ＯＰｒ−ｉ）２、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３、ジルコニウムプロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）４、ランタンプロポキシドＬａ（ＯＰｒ）３、イットリウムプロポキシドＹ（ＯＰｒ）３、鉛イソプロポキシドＰｂ（ＯＰｒ−ｉ）２等が好適に挙げられる。これらの金属アルコキシドは何れも市販品があり、容易に入手することができる。また、金属アルコキシドは、部分的に加水分解して得られる低縮合物も市販されており、これを原料として使用することも可能である。
【０１８３】
＜２−６−４．ゾル−ゲル法＞
ここで、「ゾル−ゲル法」とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状（フィルム状、粒子状、繊維状等）の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。具体的には、下記の工程を有するゾル−ゲル法で、無機酸化物を製造することが好ましい。
【０１８４】
すなわち、少なくとも水及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５〜５．０に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程、及びその反応生成物を２００℃以下の温度で加熱してガラス化する工程、を有するゾル−ゲル法により製造されてなることが、高温熱処理による微細孔の発生や膜の劣化等が発生しないという観点から特に好ましい。
【０１８５】
このゾル−ゲル法において、原料として用いられる有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、上記した金属アルコキシドが挙げられる。
【０１８６】
ゾル−ゲル法において、上記した有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒などを使用することもできる。
【０１８７】
この有機金属化合物において、金属がカルシウム、マグネシウム、アルミニウム等である場合には、反応液中の水と反応して水酸化物を生成したり、炭酸イオンＣＯ３２−が存在すると炭酸塩を生成したりして沈殿を生ずるため、反応液に隠蔽剤としてトリエタノールアミンのアルコール溶液を添加することが好ましい。溶媒に混合溶解するときの有機金属化合物の濃度としては、７０質量％以下が好ましく、５〜７０質量％の範囲に希釈して使用することがより好ましい。
【０１８８】
ゾル−ゲル法において用いられる反応液は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する。有機溶媒としては、水及び酸、アルカリと均一な溶液をつくるものであればよく、通常、有機金属化合物の希釈に用いる脂肪族の低級アルコール類と同様のものが好適に挙げられる。脂肪族の低級アルコール類の中でも、メタノール、エタノールより、炭素数の多いプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノールが好ましい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜の成長が安定であるためである。この反応液において、水の割合としては、水の濃度として０．２〜５０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
【０１８９】
また、ゾル−ゲル法においては、反応液中において、ホウ素イオンの存在下にて、ハロゲンイオンを触媒として、有機金属化合物を加水分解する。ホウ素イオンＢ３＋を与える化合物としては、トリアルコキシボランＢ（ＯＲ）３が好適に挙げられる。その中でも、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３がより好ましい。また、反応液中のＢ３＋イオン濃度としては、１．０〜１０．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
【０１９０】
ハロゲンイオンとしては、フッ素イオン及び／又は塩素イオンが好適に挙げられる。即ち、フッ素イオン単独、塩素イオン単独でもよく、これらの混合物でもよい。用いる化合物としては、上記した反応液中でフッ素イオン及び／又は塩素イオンを生ずるものであればよく、例えば、フッ素イオン源として、フッ化水素アンモニウムＮＨ４ＨＦ・ＨＦ、フッ化ナトリウムＮａＦ等が好適に挙げられ、塩素イオン源として、塩化アンモニウムＮＨ４Ｃｌ等が好適に挙げられる。
【０１９１】
また、反応液中のハロゲンイオンの濃度としては、製造しようとする無機マトリックスを有する無機組成物からなるフィルムの膜厚や、その他の条件によって異なるが、一般的には、触媒を含む反応液の合計質量に対して、０．００１〜２ｍｏｌ／ｋｇ、特に０．００２〜０．３ｍｏｌ／ｋｇの範囲が好ましい。ハロゲンイオンの濃度が０．００１ｍｏｌ／ｋｇより低いと、有機金属化合物の加水分解が十分に進行し難くなり、膜の形成が困難となる。またハロゲンイオンの濃度が２ｍｏｌ／ｋｇを超えると、生成する無機マトリックス（金属酸化物ガラス）が不均一になり易いため、いずれも好ましくない。
【０１９２】
なお、反応時に使用したホウ素に関しては、得られる無機マトリックスの設計組成中にＢ２Ｏ３成分として含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホウ素化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよく、またホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒としてのメタノールの存在下、又はメタノールに浸漬して加熱すればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させて除去することができる。
【０１９３】
有機金属化合物を、加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程においては、通常所定量の有機金属化合物を、所定量の水及び有機溶媒を含有する混合溶媒に混合溶解した主剤溶液、ならびに所定量のハロゲンイオンを含有する所定量の反応液を、所定の比で混合し十分に攪拌して均一な反応溶液とした後、酸又はアルカリで反応溶液のｐＨを希望の値に調整し、数時間熟成することにより進行させて反応生成物を得る。ホウ素化合物は、主剤溶液又は反応液に予め所定量を混合溶解しておく。また、アルコキシボランを用いる場合は、他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶解するのが有利である。
【０１９４】
反応溶液のｐＨは、目的によって選択され、無機マトリックス（金属酸化物ガラス）を有する無機組成物からなる膜の形成を目的とするときは、例えば、塩酸等の酸を用いてｐＨを４．５〜５の範囲に調整して熟成するのが好ましい。この場合は、例えば、指示薬としてメチルレッドとブロモクレゾールグリーンとを混合したもの等を用いると便利である。
【０１９５】
なお、ゾル−ゲル法においては、同一成分の同一濃度の主剤溶液、及び反応液（Ｂ３＋及びハロゲンイオンを含む。）を所定のｐＨに調整しながら、逐次同一割合で追加添加することにより簡単に継続して、反応生成物を製造することもできる。なお、反応溶液の濃度は±５０質量％の範囲で、水（酸又はアルカリを含む。）の濃度は、±３０質量％の範囲で、及びハロゲンイオンの濃度は±３０質量％の範囲で変化させることができる。
【０１９６】
次に、前工程で得られた反応生成物（熟成後の反応溶液）を、２００℃以下の温度に加熱して乾燥しガラス化させる。加熱にあたって、特に５０〜７０℃の温度区間を注意して徐々に昇温して、予備乾燥（溶媒揮散）工程を経た後さらに昇温することが好ましい。この乾燥は、膜形成の場合、無孔化膜とするために重要である。予備乾燥工程後、加熱し乾燥する温度としては、７０〜１５０℃が好ましく、８０〜１３０℃がより好ましい。
【０１９７】
＜２−７．樹脂コート層＞
樹脂コート層は、アクリル層と銀反射層の間に設けられていることが好ましい。樹脂コート層が銀反射層に隣接している場合、樹脂コート層が銀反射層の腐食を防止するよう、腐食防止剤が添加されていることが好ましい。また、樹脂コート層が紫外線吸収能を有していても良い。
【０１９８】
樹脂コート層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。樹脂コート層の厚さは、０．１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜８μｍである。
【０１９９】
樹脂コート層のバインダーとしては、例えば以下の樹脂を好ましく用いることができる。セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等を挙げることができる。中でも、アクリル樹脂が好ましい。
【０２００】
＜２−７−１．腐食防止剤＞
腐食防止剤としては、銀反射層の主な構成物質である金属に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。なお、腐食防止剤の添加量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０２０１】
金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。ベンゾトリアゾール等の化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。シリコーン変性樹脂として特に限定されない。
【０２０２】
アミン類およびその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０２０３】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０２０４】
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］（分子量６５９；市販品の例としては株式会社ＡＤＥＫＡのＬＡ３１）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（分子量４４７．６；市販品の例としてはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社のＴＩＮＵＶＩＮ２３４）などが挙げられる。あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０２０５】
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０２０６】
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０２０７】
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０２０８】
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０２０９】
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０２１０】
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０２１１】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２‐エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０２１２】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【０２１３】
＜２−８．銀反射層＞
銀反射層は、太陽光を反射する機能を有する銀からなる層である。銀反射層の表面反射率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。銀反射層は太陽光入射側（表面側）にあっても、その反対側（裏面側）にあってもよいが、樹脂基材が、太陽光線の紫外線により樹脂劣化してしまうことを防止する目的から、太陽光入射側に配置することが好ましい。また、銀反射層と保護層との間にある層の膜厚が０μｍ以上５μｍ以下であると、樹脂が有している紫外線吸収性基の紫外線による分解、それに伴い発生したラジカルが銀反射層に容易に近づきやすいため、銀の凝集を招きやすくなるが、保護層の樹脂が紫外線吸収性基を有しているため、高い耐紫外線能をもたせることができ、長期間にわたってラジカルの発生を抑えることができるため、問題とならない。また、保護層と銀反射層との間にある層の膜厚が０μｍ以上５μｍ以下であるため、フィルムミラー全体の薄膜化にも貢献できる。そして、銀反射層の太陽光入射側表面から太陽光反射用フィルムミラーの太陽光入射側最表面の総膜厚が５μｍ以上１２５μｍ以下であると、太陽光が銀反射層に到達するまでの膜厚が５μｍ以上１２５μｍと薄いため、太陽光が銀反射層に到達するまでに通過する層による強度の減衰が起きにくい。当然ながら、銀反射層による反射後に再びフィルムミラー表面までの層を通過するため、膜厚が薄ければその際の強度減衰も起きにくい。さらにフィルムミラーの薄膜化につながるため、材料のコストも安くでき、軽くなるため輸送効率も向上し、製造時の工数も減らすことができる。
【０２１４】
銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。銀反射層の膜厚が１０ｎｍより大きいと、膜厚が充分であり、光を透過してしまうことがなく、フィルムミラーの可視光領域での反射率を十分確保できるため好ましい。また、２００ｎｍ程度までは膜厚に比例して反射率も大きくなるが、２００ｎｍ以上は膜厚に依存しない。銀反射層の表面粗さＲａは０．０１μｍ以上０．１μｍ以下、好ましくは０．０２μｍ以上０．０７μｍ以下である。
【０２１５】
銀反射層は、反射率、耐食性が高いためフィルムミラーに好ましいが、このような銀の層を二層以上形成するようにしてもよい。そうすることにより、フィルムミラーの赤外域から可視光領域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。赤外域から可視光領域とは、２５００〜４００ｎｍの波長領域を意味する。入射角とは、膜面に対して垂直な線（法線）に対する角度を意味する。
【０２１６】
銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。
【０２１７】
一方、乾式法とは、真空製膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロールトゥロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。例えば、太陽光反射用フィルムミラーの製造方法においては、銀反射層を蒸着によって形成する製造方法であることが好ましい。
【０２１８】
また、銀反射層の耐久性を向上させる観点から、銀以外に、アルミニウム、銀、クロム、ニッケル、チタン、マグネシウム、ロジウム、プラチナ、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、ビスマス及び金からなる元素軍から２種以上の金属を選び合金としてもよい。反射率の観点を考慮し、銀反射層を銀合金からなる膜とする場合には、銀反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、銀は９０〜９９．８原子％が好ましい。また、他の金属は、耐久性の点から０．２〜１０原子％が好ましい。この場合の他の金属としては、高温耐湿性、反射率の点から、特に金が好ましい。
【０２１９】
＜２−８−１．気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物＞
本発明における銀反射層を形成する際には、乾式法や湿式法以外に、配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成するようにしてもよい。
【０２２０】
「気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物」とは、溶液中では銀が安定に溶解するための配位子を有するが、溶媒を除去し、加熱焼成することによって、配位子が熱分解し、ＣＯ２や低分子量のアミン化合物となり、気化・脱離し、金属銀のみが残存することのできる銀錯体化合物のことをいう。
【０２２１】
このような錯体の例は、公知である特表２００９−５３５６６１号、特表２０１０−５００４７５号各公報等に記載されており、下記一般式（９）で表される銀化合物と、一般式（１０）〜（１２）で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物とを反応して得られる銀錯体化合物であることが好ましい。
【０２２２】
また、銀錯体化合物は銀コーティング液組成物に含有され、これを塗布することにより支持体上に本発明に係る錯体を含有する塗布膜が形成される。すなわち、銀錯体化合物を用いてフィルム上に塗布膜を形成した後に、塗布膜を８０〜２５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成することが好ましい。更に好ましくは１００〜２２０℃の範囲内、特に好ましくは１２０〜２００℃の範囲内である。加熱焼成手段としては、特に制限は無く、一般的に用いられる加熱手段はどんなものでも適用できる。
【０２２３】
以下、下記一般式（９）で表される銀化合物と、一般式（１０）〜（１２）で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物等について説明をする。
【０２２４】
ＡｇｎＸ３  ・・・（９）
【０２２５】
【化１１】
2013094633.tif 000013
【０２２６】
一般式（９）〜（１２）において、Ｘ３は、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフルオロボレート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選択される置換基であり、ｎは、１〜４の整数であって、Ｒ３７〜Ｒ４２は、互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ３０の脂肪族や脂環族アルキル基、アリール基又はアラルキル（ａｒａｌｋｙｌ）基、官能基が置換されたアルキル及びアリール基、ヘテロ環化合物基と高分子化合物及びその誘導体から選択される置換基である。
【０２２７】
一般式（９）の具体例としては、例えば、酸化銀、チオシアネート化銀、硫化銀、塩化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、シュウ酸銀及びその誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０２２８】
また、一般式（１０）〜（１２）において、Ｒ３７〜Ｒ４２は、具体的に例えば、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アリール、ヒドロキシ、メトキシ、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、メトキシプロピル、シアノエチル、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、カルボキシメチル、トリメトキシシリルプロピル、トリエトキシシリルプロピル、フェニル、メトキシフェニル、シアノフェニル、フェノキシ、トリル、ベンジル及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンアミンのような高分子化合物及びこれらの誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０２２９】
一般式（１０）〜（１２）の化合物例としては、例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム  エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウムイソプロピルカルバメート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカルバメート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカルバメート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカルバメート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカルバメート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウムジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム  モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム  エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  バイカーボネート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  バイカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  バイカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  バイカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム  モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム  バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム  バイカーボネート、及びその誘導体から選択される一種又は二種以上の混合物などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０２３０】
一方、上記のアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート系化合物の種類及び製造方法は、特に制限する必要はない。例えば、米国特許第４，５４２，２１４号では、第１アミン、第２アミン、第３アミン、又は少なくとも１つ以上のこれらの混合物と二酸化炭素からアンモニウムカルバメート系化合物が製造できると記述しており、前記アミン１モル当り水０．５モルをさらに添加すると、アンモニウムカーボネート系化合物が得られて、水１モル以上を添加する場合は、アンモニウムバイカーボネート系化合物を得ることができる。この際、常圧又は加圧状態で特別な溶媒を使用せずに直接製造するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒又はこれらの混合溶媒などが挙げられて、二酸化炭素は、気相状態でバブリング（ｂｕｂｂｌｉｎｇ）するか、固体相ドライアイスを使用することができて、超臨界（ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ）状態でも反応することができる。アンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート誘導体の製造には、上記の方法の他にも、最終物質の構造が同一であれば、公知のいかなる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度又は触媒などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
【０２３１】
このように製造されたアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート系化合物と銀化合物とを反応して、有機銀錯体化合物を製造することができる。例えば、一般式（９）に示したような少なくとも一つ以上の銀化合物と、一般式（１０）〜（１２）に示したような少なくとも一つ以上のアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート誘導体及びこれらの混合物を、窒素雰囲気の常圧又は加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒又はこれらの混合溶媒などを使用することができる。
【０２３２】
銀錯体化合物の製造には、上記の方法の他に、一般式（９）の銀化合物と一つ以上のアミン化合物とが混合された溶液を製造した後、二酸化炭素を反応して、銀錯体化合物を製造することもできる。上記のように、窒素雰囲気の常圧又は加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用して反応することができる。しかしながら、最終物質の構造が同一であれば、公知の如何なる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度又は触媒の使用有無などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
【０２３３】
銀錯体化合物は、特表２００８−５３０００１号公報にその製造方法が記載されており、下記一般式（１３）の構造で認識される。
【０２３４】
Ａｇ［Ｃ］ｍ  ・・・（１３）
（一般式（１３）において、Ｃは、一般式（１０）〜（１２）の化合物であり、ｍは、０．５〜１．５である。）
高反射、高光沢の反射面の形成のために使用される銀コーティング液組成物は、前記の銀錯体化合物を含有し、必要に応じて、溶媒、安定剤、レベリング剤（Ｌｅｖｅｌｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）、薄膜補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、銀コーティング組成物に含有することができる。補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明の銀コーティング組成物に含有することができる。
【０２３５】
一方、前記安定剤としては例えば、第１アミン、第２アミン又は第３アミンのようなアミン化合物や、前記アンモニウムカルバメート、アンモニウムカーボネート、アンモニウムバイカーボネート系化合物、又はホスフィン（ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、ホスファイ（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスフェート（ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）のようなリン化合物、チオール（ｔｈｉｏｌ）やスルフィド（ｓｕｌｆｉｄｅ）のような硫黄化合物と、少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられ、アミン化合物としては、具体的に例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、イソオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、ドコデシルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アリールアミン、ヒドロキシアミン、アンモニウムヒドロキシド、メトキシアミン、２−エタノールアミン、メトキシエチルアミン、２−ヒドロキシプロピルアミン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミン、メトキシプロピルアミン、シアノエチルアミン、エトキシアミン、ｎ−ブトキシアミン、２−ヘキシルオキシアミン、メトキシエトキシエチルアミン、メトキシエトキシエトキシエチルアミン、ジメチルアミン、ジプロピルアミン、ジエタノールアミン、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、２，２−（エチレンジオキシ）ビスエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、アミノアセトアルデヒドジメチルアセタル、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、アニリン、アニシジン、アミノベンゾニトリル、ベンジルアミン及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンイミンのような高分子化合物及びその誘導体などのようなアミン化合物が挙げられる。
【０２３６】
アンモニウムカルバメート、カーボネート、バイカーボネート系化合物として具体的に例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム  エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカルバメート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカルバメート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカルバメート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカルバメート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカルバメート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム  モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム  エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  バイカーボネート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  バイカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  バイカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  バイカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム  モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム  バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム  バイカーボネート、及びその誘導体などが挙げられる。
【０２３７】
また、リン化合物としては、一般式Ｒ４３３Ｐ、（ＲＯ）３Ｐ又は（ＲＯ）３ＰＯで表されるリン化合物で挙げられる。ここでＲ４３は、炭素数１〜２０のアルキル又はアリール基を示し、具体的に例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジベンジルホスフェート、トリエチルホスフェートなどが挙げられる。
【０２３８】
そして、硫黄化合物として、具体的に例えば、ブタンチオール、ｎ−ヘキサンチオール、ジエチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、アリールジスルフィド、２−メルカプトベンゾアゾール、テトラヒドロチオフェン、オクチルチオグリコレートなどが挙げられる。
【０２３９】
このような安定剤の使用量は、本発明のインク特性に符合する限り、特に制限する必要はない。しかしながら、その含量は、銀化合物に対し、モル比で０．１％〜９０％が好ましい。
【０２４０】
また、薄膜補助剤としては、有機酸及び有機酸誘導体、又は少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられる。具体的に例えば、酢酸、酪酸（Ｂｕｔｙｒｉｃ  ａｃｉｄ）、吉草酸（Ｖａｌｅｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ピバル酸（Ｐｉｖａｌｉｃ  ａｃｉｄ）、ヘキサン酸、オクタン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ネオデカン酸（Ｎｅｏｄｅｃａｎｏｉｃ  ａｃｉｄ）、ラウリン酸（Ｌａｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ステアリン酸、ナフタル酸などの有機酸が挙げられ、有機酸誘導体としては、具体的に例えば、酢酸アンモニウム塩、クエン酸アンモニウム塩、ラウリン酸アンモニウム塩、乳酸アンモニウム塩、マレイン酸アンモニウム塩、シュウ酸アンモニウム塩、モリブデン酸アンモニウム塩などの有機酸アンモニウム塩と、金、銅、亜鉛、ニッケル、コバルト、パラジウム、プラチナ、チタン、バナジウム、マンガン、鉄、クロム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、タングステン、ルテニウム、カドミウム、タンタル、レニウム、オスミウム、イリジウム、アルミニウム、ガリウム、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン、鉛、ビスマス、サマリウム、ユウロピウム、アクチニウム、トリウムなどのような金属を含有するシュウ酸マンガン、酢酸金、シュウ酸パラジウム、２−エチルヘキサン酸銀、オクタン酸銀、ネオデカン酸銀、ステアリン酸コバルト、ナフタル酸ニッケル、ナフタル酸コバルトなどの有機酸金属塩が挙げられる。前記薄膜補助剤の使用量は、特に限定されないが、銀錯体化合物に対して、モル比で０．１〜２５％が好ましい。
【０２４１】
前記還元剤としては、ルイス酸又は弱いブレンステッド酸（ｂｒｏｎｓｔｅｄ  ａｃｉｄ）が挙げられ、具体的に例えば、ヒドラジン、ヒドラジンモノハイドレート、アセトヒドラジド、水酸化ホウ素ナトリウム又は水酸化ホウ素カリウム、ジメチルアミンボラン、ブチルアミンボランのようなアミン化合物、第１塩化鉄、乳酸鉄のような金属塩、水素、ヨウ化水素、一酸化炭素、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、グリオキサールのようなアルデヒド化合物、ギ酸メチル、ギ酸ブチル、トリエチル−ｏ−ギ酸のようなギ酸化合物、グルコース、アスコルビン酸、ヒドロキノンのような還元性有機化合物を少なくとも一つ以上含有するこれらの混合物を挙げることができる。
【０２４２】
前記熱分解反応促進剤としては、具体的に例えば、エタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ヘキサノールアミン、ジメチルエタノールアミンのようなヒドロキシアルキルアミン類、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、ピペラジン、Ｎ，Ｎ′−ジメチルピペラジン、１−アミノ−４メチルピペラジン、ピロリジン、Ｎ−メチルピロリジン、モルホリンのようなアミン化合物、アセトンオキシム、ジメチルグリオキシム、２−ブタノンオキシム、２，３−ブタジオンモノオキシムのようなアルキルオキシム類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールのようなグリコール類、メトキシエチルアミン、エトキシエチルアミン、メトキシプロピルアミンのようなアルコキシアルキルアミン類、メトキシエタノール、メトキシプロパノール、エトキシエタノールのようなアルコキシアルカノール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、アセトール、ジアセトンアルコールのようなケトンアルコール類、多価フェノール化合物、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ピロール、エチレンジオキシチオフェン（ＥＤＯＴ）のような酸化重合性樹脂などが挙げられる。
【０２４３】
なお、銀コーティング液組成物の粘度調節や円滑な薄膜形成のために溶媒が必要な場合があるが、この際使用できる溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−メトキシプロパノール、ブタノール、エチルヘキシルアルコール、テルピネオールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテートのようなアセテート類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、１−メチル−２−ピロリドンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン、パラフィンオイル、ミネラルスピリットのような炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、又はこれらの混合溶媒などを使用することができる。
【０２４４】
＜２−８−２．銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物＞
銀反射層を形成する際に、配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより銀反射層を形成する場合、銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することが好ましい。当該含窒素環状化合物としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。
【０２４５】
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤において、含窒素環状化合物を用いることで、所望の腐食防止効果を得ることができる。例えば、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物としては＜２−７−１．腐食防止剤＞で記載したものを好適に用いることができる。
【０２４６】
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤としては＜２−２−３（ｂ）．酸化防止剤＞で記載したものを好適に用いることができる。なお、上記酸化防止剤と光安定剤を併用することもできる。光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤、ニッケル系紫外線安定剤を使用することが好ましい。ヒンダードアミン系光安定剤、ニッケル系紫外線安定剤としては＜２−２−３（ｂ）．酸化防止剤＞で記載したものを好適に用いることができる。
【０２４７】
＜２−９．アンカー層＞
アンカー層は、樹脂を有し、期脂フィルム状支持体と銀反射層とを密着させるために好ましく設けられる層である。従って、アンカー層は樹脂フィルム状支持体と銀反射層とを密着させる密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【０２４８】
アンカー層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂又はポリエステル系樹脂とアクリル系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【０２４９】
アンカー層の厚さは、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜２μｍである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、樹脂フィルム状支持体表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好にでき、アンカー層の硬化も十分に行えるため、結果としてフィルムミラーの反射率を高めることが可能となる。
【０２５０】
また、アンカー層には、上述の＜２−７−１．腐食防止剤＞に記載した腐食防止剤を含有させることが好ましい。
【０２５１】
なお、アンカー層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【０２５２】
＜２−１０．樹脂フィルム状支持体＞
樹脂フィルム状支持体としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０２５３】
樹脂フィルム状支持体は、銀反射層よりも太陽光入射側から遠い位置にあることが好ましいため、紫外線が樹脂フィルム状支持体に到達しにくい。特に、樹脂フィルム状支持体よりも太陽光入射側にある保護層の存在や、紫外線吸収剤を添加したハードコート層やアクリル層等を樹脂フィルム状支持体よりも太陽光入射側に配置した場合には、紫外線が、樹脂フィルム状支持体により一層到達しにくい。従って、樹脂フィルム状支持体は、紫外線に対して劣化しやすい樹脂であっても用いることが可能となる。そのような観点から、樹脂フィルム状支持体として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
【０２５４】
樹脂フィルム状支持体の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜２５０μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍである。
【０２５５】
＜２−１１．粘着層＞
フィルムミラーの粘着層は、当該粘着層によってフィルムミラーを後述の基材に接合するための層である。なお、フィルムミラーは粘着層の太陽光入射側とは逆側に、剥離シートによる層を有していてもよい。フィルムミラーが剥離シートによる層を有する場合、剥離シートを粘着層から剥離した後、粘着層を介してフィルムミラーを基材に接合させることができる。
【０２５６】
粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。粘着層と基材とを接合するためのラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。また、粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜１００μｍ程度の範囲であることが好ましい。厚さが１μｍより大きいと充分な粘着効果が得られるため好ましく、一方１００μｍ未満であると粘着剤層が厚すぎて乾燥速度が遅くなるということがなく、能率的である。しかも本来の粘着力が得られ、溶剤が残留するなどの弊害が生じることもない。
【０２５７】
＜２−１２．剥離シート（剥離層）＞
フィルムミラーは、粘着層の太陽光入射側と逆側に剥離シートによる層を有していてもよい。例えば、フィルムミラーの出荷時には剥離シートが粘着層に張り付いた状態で出荷し、剥離シートを剥がし粘着層を露出させ、基材に接合させることができる。
【０２５８】
剥離シートとしては、銀反射層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム、または酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたり、アルミニウム等の金属によって金属蒸着などを行い表面加工を施した樹脂フィルムが用いられる。
【０２５９】
剥離シートの厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。また、剥離シートによって、太陽光反射用フィルムミラーまたは銀反射層に表面粗さを付与する場合には、剥離層の表面粗さＲａは０．０１μｍ以上０．１μｍ以下であることが好ましい。剥離層の表面粗さにより、太陽光反射用フィルムミラーまたは銀反射層の表面も粗くなるため、フィルムミラーの生産段階において、連続的に製膜するロールトゥロール方式を用いた場合でも、ブロッキングなどの貼りつきを防止することができる。
【０２６０】
＜２−１３．基材＞
太陽光反射用フィルムミラーは自己支持性のある基材に接合させて用いることが好ましい。「自己支持性の基材」という場合の、「自己支持性」とは、太陽光反射用フィルムミラーの基材として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、基材を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽光反射用フィルムミラーの基材が自己支持性を有することで、太陽光反射用フィルムミラーを設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽光反射用フィルムミラーを保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、反射装置を軽量化することが可能となり、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。基材は、単層であってもよいし、複数の層を積層させた形状であってもよい。基材は、単一構造でもよいし、複数に分割されていてもよい。
【０２６１】
基材の形状としては、凹面状の形状を有する又は凹面状の形状になり得ることが好ましい。そのために、平板状から凹面状の形状に可変である基材を用いてもよいし、凹面状の形状に固定されている基材を用いてもよい。凹面状の形状に可変である基材は、基材の曲率を調整することで、接合されているフィルムミラーの曲率も任意に調整することが可能となるため、反射効率を調整し高い正反射率を得ることができるため好ましい。凹面状の形状が固定されている基材は曲率を調整する必要がなくなるため、調整費用の観点から好ましい。
【０２６２】
基材の素材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板などの金属板、ベニヤ板（好ましくは防水処理がされたもの）などの木板、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）板、樹脂板、などが挙げられる。上述の材料の中でも金属板を用いることが、熱伝導率が高いという観点から好ましい。さらに好ましくは、高い熱伝導率だけでなく耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることである。最も好ましくは、樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることである。
【０２６３】
なお、基材の大部分を樹脂により構成する場合には、中空構造を有する樹脂材料を用いて構成することが好ましい。なぜなら、基材を中空構造を有さない樹脂材料からなる層とした場合、自己支持性を持たせる程度の剛性を得るために必要な厚さが大きくなり、結果として基材の質量が重くなってしまうが、中空構造を有する樹脂材料から成る層とした場合、自己支持性を持たせながらの軽量化が可能となるからである。また、中空構造による断熱材としての機能も生じるため、光入射側とは反対側の表面の温度変化がフィルムミラーへ伝わることを抑制し、結露の防止や、熱による劣化を抑制することが可能となる。中空構造からなる樹脂材料を持つ層とする場合、表面層として平滑な面を有する樹脂フィルムを設け、中空構造を有する樹脂材料を中間層として用いることが、フィルムミラーの反射効率を高める観点で好ましい。
【０２６４】
表面層としての樹脂フィルムの材料としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。この樹脂フィルムの厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜２５０μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍである。
【０２６５】
中空構造を構成する樹脂材料としては、発泡樹脂からなる気泡構造、樹脂材料からなる壁面を有する立体構造（ハニカム構造等）や、中空微粒子を添加した樹脂材料等を用いることができる。発泡樹脂の気泡構造は、樹脂材料中にガスを細かく分散させ、発泡状又は多孔質形状に形成されたものを指し、材料としては、公知の発泡樹脂材料を使用可能であるが、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリスチレン等が好ましく用いられる。ハニカム構造とは、空間が側壁で囲まれた複数の小空間で構成される立体構造全般を表すものとする。中空構造を樹脂材料からなる壁面を有する立体構造とする場合、壁面を構成する樹脂材料としては、エチレン、プロピレン、ブテン、イソプレンペンテン、メチルペンテン等のオレフィン類の単独重合体あるいは共重合体であるポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、高密度ポリエチレン）、ポリアミド、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、エチレン−エチルアクリレート共重合体等のアクリル誘導体、ポリカーボネート、エチレン−酢酸ビニル共重合体等の酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン−プロピレン−ジエン類等のターポリマー、ＡＢＳ樹脂、ポリオレフィンオキサイド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。なお、これらは一種類を単独で用いても、二種類以上を混合して用いてもよい。特に、熱可塑性樹脂のなかでもオレフィン系樹脂又はオレフィン系樹脂を主体にした樹脂、ポリプロピレン系樹脂又はポリプロピレン系樹脂を主体にした樹脂が、機械的強度及び成形性のバランスに優れている点で好ましい。樹脂材料には、添加剤が含まれていてもよく、その添加剤としては、シリカ、マイカ、タルク、炭酸カルシウム、ガラス繊維、カーボン繊維等の無機フィラー、可塑剤、安定剤、着色剤、帯電防止剤、難燃剤、発泡剤等が挙げられる。
【０２６６】
＜３．太陽熱発電用反射装置＞
太陽熱発電用反射装置は、太陽光反射用フィルムミラーと太陽光反射用フィルムミラーを保持する保持部材を有する。この太陽熱発電用反射装置を使用する場合、内部に流体を有する筒状部材を集熱部としてフィルムミラーの近傍に設け、筒状部材に太陽光を反射させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する、一般的にトラフ型と呼ばれる形態が一形態として挙げられる。また、その他の形態として、図２、図３に示すようなタワー型と呼ばれる形態も挙げられる。タワー型の形態は、少なくとも一つの集熱部１４と、太陽光Ｌを反射して集熱部１４に照射するための少なくとも一つの集光鏡１１を有しており、集熱部１４に集められた熱を用いて液体を加熱しタービンを回して発電するものがある。なお、集熱部１４の周囲に、太陽熱発電用反射装置１５が複数配置されていることが好ましい。また、それぞれの太陽熱発電用反射装置１５が図２に示すように同心円状や、同心の扇状に複数配置されていることが好ましい。図２、３に示すタワー型の形態では支持タワー１２の周囲に設置された太陽光反射用フィルムミラー（太陽熱発電用反射装置１５）により、太陽光Ｌが集光鏡１１へと反射され、その後、集光鏡１１によりさらに反射し、集熱部１４へと送られ熱交換施設１３へ送られる。本発明はトラフ型、タワー型のどちらにも用いることができる。もちろん、それ以外の種々の太陽熱発電に用いることができる。
【０２６７】
＜３―１．保持部材＞
太陽熱発電用反射装置は、太陽光反射用フィルムミラーを保持する保持部材を有する。保持部材は、太陽光反反射用フィルムミラーを太陽を追尾可能な状態で保持する事が好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、例えば、太陽光反射用フィルムミラーが所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で太陽光反射用フィルムミラーを保持する構成を有することが好ましいが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。
【実施例１】
【０２６８】
以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。本実施例のフィルムミラーは、図４または図５に示す実施態様である。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例や比較例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。【０２６９】
［反射フィルム１０の作製］
樹脂フィルム状支持体１として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。このポリエステルフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート（和光純薬製）１０質量％となるよう調製した量を混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ６０ｎｍのアンカー層２を形成した。【０２７０】
続いてアンカー層２上に、真空蒸着によって銀反射層３を８０ｎｍになるように製膜した。【０２７１】
次に銀反射層３上に、アンカー層２のグリコールジメルカプトアセテートの代わりにＴＩＮＵＶＩＮ２３４（チバ・ジャパン社製）を用いた以外は同様にして、厚さ６０ｎｍの樹脂コート層４を形成した。【０２７２】
樹脂コート層４上に、接着剤ＴＳＢ‐７３０（大日本インキ社製）を厚さ５μｍになるようにグラビアコート法によりコーティングして接着層５を作成し、その上から紫外線吸収剤を含有したアクリル樹脂住友化学Ｓ００１（７５μｍ）をロール方式により貼り合わせて、アクリル層６を形成し、反射フィルム１０を作成した。【０２７３】
［反射フィルム２０の作製］
樹脂フィルム状支持体１として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。このポリエステルフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート（和光純薬製）１０質量％となるよう調製した量を混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ６０ｎｍのアンカー層２を形成した。【０２７４】
続いてアンカー層２上に、真空蒸着によって銀反射層３を８０ｎｍになるように製膜した。【０２７５】
次に銀反射層３上に、アンカー層２のグリコールジメルカプトアセテートの代わりにＴＩＮＵＶＩＮ２３４（チバ・ジャパン社製）を用いた以外は同様にして、厚さ６０ｎｍの樹脂コート層４を形成した。【０２７６】
そして、樹脂コート層４上に、アクリル系のＢＲ−９５（三菱レイヨン社製）をメチルエチルケトンに溶解したものを１５重量部になるように調製し、アプリケーターを用いて、膜厚７５μｍになるように塗布し、アクリル層６を形成し、反射フィルム２０を作成した。【０２７７】
上記のようにして作製した反射フィルム１０または２０を太陽光反射用フィルムミラーの実施例及び比較例の基礎とし、反射フィルム１０に保護層７とハードコート層８を積層し以下のようにして実施例７〜１３を、また、保護層７の組成を本発明外のものに変更したものを比較例１８〜２０として作製した。更に、反射フィルム２０に保護層７とハードコート層８を積層し以下のようにして実施例１〜６を、また、保護層７の組成を本発明外のものに変更したものを比較例１４〜１７として作製した。【０２７８】
［実施例Ｎｏ．１の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．１の溶液を得た。【０２７９】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．１を用い、前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．１のフィルムミラーを作製した。【０２８０】
［実施例Ｎｏ．２の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、トリアジン系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５（チバ・ジャパン社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体２を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．２の溶液を得た。【０２８１】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．２を用い、前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．２のフィルムミラーを作製した。【０２８２】
［実施例Ｎｏ．３の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を１０部、トリアジン系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５（チバ・ジャパン社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体２を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．３の溶液を得た。
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．３を用い、前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．３のフィルムミラーを作製した。【０２８３】
［実施例Ｎｏ．４の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．４の溶液を得た。【０２８４】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．４を用い、前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．４のフィルムミラーを作製した。【０２８５】
［実施例Ｎｏ．５の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、トリアジン系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５（チバ・ジャパン社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体２を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止剤として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．５の溶液を得た。【０２８６】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．５を用い、前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．５のフィルムミラーを作製した。【０２８７】
［実施例Ｎｏ．６の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を５部、トリアジン系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５（チバ・ジャパン社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体２を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を５部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．６の溶液を得た。【０２８８】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．６を用い、前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．６のフィルムミラーを作製した。【０２８９】
［実施例Ｎｏ．７の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．７の溶液を得た。【０２９０】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．７を用い、前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．７のフィルムミラーを作製した。【０２９１】
［実施例Ｎｏ．８の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．８の溶液を得た。【０２９２】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．８を用い、前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．８のフィルムミラーを作製した。【０２９３】
［実施例Ｎｏ．９の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を５部、トリアジン系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５（チバ・ジャパン社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体２を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を５部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．９の溶液を得た。【０２９４】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．９を用い、前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．９のフィルムミラーを作製した。【０２９５】
［実施例Ｎｏ．１０の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコにトリアジン系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５７７（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体２を１５部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を５部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．１０の溶液を得た。【０２９６】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．１０を用い、前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．１０のフィルムミラーを作製した。【０２９７】
［実施例Ｎｏ．１１の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２１３（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を５部、トリアジン系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５７７（チバ・ジャパン社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体２を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を５部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．１１の溶液を得た。【０２９８】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．１１を用い、前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．１１のフィルムミラーを作製した。【０２９９】
［実施例Ｎｏ．１２の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を５部、トリアジン系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５（チバ・ジャパン社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体２を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を５部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．１２の溶液を得た。【０３００】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．１２を用い、前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．１２のフィルムミラーを作製した。【０３０１】
［実施例Ｎｏ．１３の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を５部、トリアジン系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７（チバ・ジャパン社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体２を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を５部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．１３の溶液を得た。【０３０２】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．１３を用い、前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、実施例Ｎｏ．１３のフィルムミラーを作製した。【０３０３】
［比較例Ｎｏ．１４の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾフェノン系紫外線吸収性基として、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ８１（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．１４の溶液を得た。【０３０４】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．１４を用い、前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、ベンゾフェノン系紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、比較例Ｎｏ．１４のフィルムミラーを作製した。【０３０５】
［比較例Ｎｏ．１５の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾフェノン系紫外線吸収性基として、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ８１（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．１５の溶液を得た。【０３０６】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．１５を用い、前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、比較例Ｎｏ．１５のフィルムミラーを作製した。【０３０７】
［比較例Ｎｏ．１６の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を用いて溶解し、アクリル樹脂組成物として、ＭＭＡ５０部、ＢＡ１０部、ＨＥＭＡ１０部を混合攪拌し、紫外線吸収剤添加型樹脂組成物Ｎｏ．１を作製した。【０３０８】
得られた紫外線吸収剤添加型樹脂組成物Ｎｏ．１を前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性剤を添加した１０μｍの膜厚の保護層とした。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、比較例Ｎｏ．１６のフィルムミラーを作製した。【０３０９】
［比較例Ｎｏ．１７の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）１０部、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）１０部に対して、溶媒として酢酸エチル１２０部を用いて溶解し、アクリル樹脂組成物として、ＭＭＡ５０部、ＢＡ１０部、ＨＥＭＡ１０部を混合攪拌し、紫外線吸収剤添加型樹脂組成物Ｎｏ．２を作製した。【０３１０】
得られた紫外線吸収剤添加型樹脂組成物Ｎｏ．２を前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性剤を添加した１０μｍの膜厚の保護層とした。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、比較例Ｎｏ．１７のフィルムミラーを作製した。【０３１１】
［比較例Ｎｏ．１８の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を用いて溶解し、アクリル樹脂組成物として、ＭＭＡ５０部、ＢＡ１０部、ＨＥＭＡ１０部を混合攪拌し、紫外線吸収剤添加型樹脂組成物Ｎｏ．３を作製した。【０３１２】
得られた紫外線吸収剤添加型樹脂組成物Ｎｏ．３を前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性剤を添加した１０μｍの膜厚の保護層とした。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、比較例Ｎｏ．１８のフィルムミラーを作製した。【０３１３】
［比較例Ｎｏ．１９の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）１０部、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）１０部に対して、溶媒として酢酸エチル１２０部を用いて溶解し、アクリル樹脂組成物として、ＭＭＡ５０部、ＢＡ１０部、ＨＥＭＡ１０部を混合攪拌し、紫外線吸収剤添加型樹脂組成物Ｎｏ．４を作製した。【０３１４】
得られた紫外線吸収剤添加型樹脂組成物Ｎｏ．４を前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性剤を添加した１０μｍの膜厚の保護層とした。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、比較例Ｎｏ．１９のフィルムミラーを作製した。【０３１５】
［比較例Ｎｏ．２０の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）５部、Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５（チバ・ジャパン社製）１０部、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）５部に対して、溶媒として酢酸エチル１２０部を用いて溶解し、アクリル樹脂組成物として、ＭＭＡ５０部、ＢＡ１０部、ＨＥＭＡ１０部を混合攪拌し、紫外線吸収剤添加型樹脂組成物Ｎｏ．５を作製した。
得られた紫外線吸収剤添加型樹脂組成物Ｎｏ．５を前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性剤を添加した１０μｍの膜厚の保護層とした。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、比較例Ｎｏ．２０のフィルムミラーを作製した。【０３１６】
［太陽光反射用フィルムミラーの評価］
上記のように作製した太陽光反射用フィルムミラー（実施例１〜１３及び比較例１４〜２０）について、下記の方法に従って、紫外線照射試験の前後における正反射率、透過率、密着性を測定・評価した。得られた各太陽光反射用フィルムミラーの特性を表１Ａ〜１Ｄに示す。【０３１７】
［透過率・正反射率の測定］
島津製作所社製の分光光度計「Ｕ−４１００」を用いて、測定試料の透過率を２５０ｎｍから２５００ｎｍまでの平均反射率として測定する。正反射率に関して、専用の治具を用いて、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°の正反射率を測定する。評価は、同様に２５０ｎｍから２５００ｎｍまでの平均反射率として測定する。【０３１８】
［碁盤目テープ剥離試験］
膜の密着性測定する方法で、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００に準拠し、試料にカッターでクロス状に傷をつけ、１００マスの切り目を入れる。セロハンテープを切れ目部分に貼り付けた後、４５°方向に引っ張り、剥離後に塗膜が剥がれていないマス数を計測して、密着性を評価した。【０３１９】
［紫外線照射試験］
作製した各太陽光反射用フィルムミラーに対し、アイスーパーＵＶテスター（岩崎電気社製）を用いて、１５０ｍＷ／□の紫外線を６５℃の環境下で６００時間照射を行い、耐紫外線能を評価した。【０３２０】
【表１Ａ】
2013094633.tif 000014
【表１Ｂ】
2013094633.tif 000015
【表１Ｃ】
2013094633.tif 000016
【表１Ｄ】
2013094633.tif 000017
【０３２１】
表１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄに示した評価結果から明らかなように、比較例１４〜２０では紫外線吸収性基や酸化防止性基の分解やアクリル樹脂の劣化により、正反射率や密着性や透過率が低下してしまうが、本発明に係るフィルムミラーを具体的に例示した実施例１〜１３では、比較例１４〜２０に対して正反射率や密着性や透過率が高く保たれていることが分かる。【０３２２】
樹脂が紫外線吸収性基を有している実施例１〜１３および比較例１４，１５では、ブリードアウトは発生していなかったが、紫外線吸収剤を添加した比較例１６〜２０ではブリードアウトが確認された。実施例１〜１３および比較例１４，１５において、ブリードアウトが発生していないのは、樹脂が基として官能基を有していることに起因していると考えられる。それに対して、比較例１６〜２０では、紫外線吸収剤が添加されているために、ブリードアウトが発生していると考えられる。その結果、比較例１６〜２０の紫外線照射試験後の正反射率、密着性、透過率も低下していると考えられる。その中でも特にブリードアウトによる密着性の低下が著しいため、太陽光反射用フィルムミラーにおいてブリードアウトを防ぐことは非常に重要であると言える。【０３２３】
また、実施例１〜１３、比較例１６〜２０では、銀の凝集、抜け落ち、変色は発生していなかったが、十分な紫外線耐性を有さないベンゾフェノン系の紫外線吸収性基を有する樹脂を用いた比較例１４，１５では正反射率や密着性や透過率が不十分であり、また、紫外線吸収剤が添加された溶液を用いて塗布によりアクリル層を形成した比較例１６及び１７においてはブリードアウトだけでなく銀の凝集、抜け落ち、変色が発生していた。この原因は保護層及びアクリル層の塗布液の浸透による銀反射層へのラジカルの近づきやすさと、添加剤を用いていることによる耐紫外線能の低さに起因したラジカルの発生のしやすさであると考えられる。【０３２４】
本発明によれば、砂漠のような紫外線照射量が非常に多い環境且つ、銀反射層を有しているが故に太陽光に含まれる一部の紫外線が保護層に２度照射されたとしても、ブリードアウト、相溶性、ブリードアウトに伴う反射率の低下、銀の凝集による反射率の低下、変色、膜剥がれ、ワレなどの太陽光反射用フィルムミラーならではの課題を解決可能な太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置を提供することができる。
【産業上の利用可能性】
【０３２５】
本発明は、以上のように構成されていることから、太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置として利用できる。
【符号の説明】
【０３２６】
１  樹脂フィルム状支持体
２  アンカー層
３  銀反射層
４  樹脂コート層
５  接着層
６  アクリル層
７  保護層
８  ハードコート層
１１  集光鏡
１２  支持タワー
１３  熱交換施設
１４  集熱部
１５  太陽熱発電用反射装置
【図１】
2013094633.tif 000021
【図２】
2013094633.tif 000022
【図３】
2013094633.tif 000023
【図４】
2013094633.tif 000024
【図５】
2013094633.tif 000025
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月6日(2014.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項１に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、樹脂フィルム状支持体、銀反射層、保護層とを有するフィルムミラーであって、前記保護層は前記樹脂フィルム状支持体及び前記銀反射層よりも太陽光入射側に設けられており、前記保護層は樹脂を有し、前記樹脂は（２）の紫外線吸収性基を有していることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラー。
（２）トリアジン系紫外線吸収性基
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
当該構成においては、太陽光反射用フィルムミラーが樹脂によって構成されているため、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することができる。そして、保護層が樹脂フィルム状支持体よりも太陽光入射側に設けられているため、樹脂フィルム状支持体の劣化を防ぐことが可能となる。また、保護層が紫外線吸収能を有しているため、そのような保護層を有さないフィルムミラーと比べて、当然ながら樹脂フィルム状支持体等の変色や膜剥がれやワレが発生しにくくなる。特に、保護層の樹脂が有している基がトリアジン系紫外線吸収性基であるため、太陽光の波長特性に対して適切な耐紫外線能（紫外線吸収能や紫外線安定能）を有している。また、保護層よりも太陽光入射側と反対側の各層についての紫外線による劣化を抑えるだけでなく、保護層自体の樹脂劣化も抑えることが可能となる。さらに、フィルムミラーの保護層の樹脂が紫外線吸収性基を有するため樹脂自体が紫外線吸収性基を有する高分子化合物となる。その結果、樹脂と紫外線吸収性基の相互作用が強まるため、紫外線吸収性基のブリードアウトが圧倒的に発生しにくくなる。加えて、添加をしているのではなく、紫外線吸収性基を樹脂が有するため、より多くの紫外線吸収性基を有することができるようになり、相溶性も良好となり、耐紫外線能を向上でき非常に好ましい。さらに、当該フィルムミラーは砂漠のような紫外線照射量が非常に多い環境で用いられ、かつ銀反射層を有しているため、その保護層に対して太陽光に含まれる一部の紫外線が２度照射されてしまうため、ブリードアウトの問題や銀の凝集の問題が特に大きくなってしまうが、保護層の樹脂が紫外線吸収性基を基として有しているため、ブリードアウトも発生しにくくなり、また、紫外線吸収剤を添加する場合に比べてより大きな耐紫外線能を持たせることが可能となるため樹脂の劣化によるラジカルの発生を防止することができ、銀の凝集を招かずにすみ、高い正反射率を維持することが可能となる。また、当該構成においてはブリードアウトをほぼ無視できるため、ブリードアウトに伴う反射率の低下という太陽光反射用フィルムミラーとして重大な問題を回避でき、高い正反射率を維持できる。
請求項２に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項１に記載の発明であって、前記樹脂はさらに（１）ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基を有していることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項３に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項２に記載の発明であって、前記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基は下記式（１ａ）または（１ｂ）の組成であり、前記トリアジン系紫外線吸収性基は下記式（２）の組成であることを特徴としている。
【化１】
2013094633.tif 000026
［式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表す。］
【化２】
2013094633.tif 000027
［式中、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表し、Ｒ５は水素結合を形成し得る元素を有する基を表し、Ｒ６は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ７は水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基を表す。］
【化３】
2013094633.tif 000028
［式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４およびＲ１５は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または、炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｘ２は水素原子またはメチル基を表し、Ａは、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｐ−、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2Ｏ−、−（ＣＨ2）ｐ−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ2ＯＲ１６）−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ１６）−Ｏ−、または、−ＣＨ2（ＣＨ2）ｑＣＯＯ−Ｂ−Ｏ−を表し、Ｒ１６は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｂはメチレン基、エチレン基、または、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−を表し、ｐは１〜２０の整数を表し、ｑは０または１を表す。］
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項４に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項１〜３の何れか一項に記載の発明であって、前記樹脂は酸化防止性基を有していることを特徴としている。当該構成においては保護層を構成する樹脂が酸化防止性基を有しているため、紫外線が保護層の樹脂に当たった際に発生するラジカル・活性酸素などを不活性化することができる。また、紫外線吸収剤または紫外線吸収性基に対して過度及び／または長期間の紫外線があたると、紫外線吸収剤または紫外線吸収性基の極性が変わり、紫外線吸収剤または紫外線吸収性基自体が分解され、ひいてはラジカルが発生してしまう。請求項４に記載の構成によれば、樹脂が酸化防止性基を有しているため、樹脂及び／または樹脂が有している基の分解により生じたラジカルによって銀反射層の銀が凝集してしまい銀反射層に隙間ができてしまったり色変化が発生し、フィルムミラーの正反射率が低下することを防ぐことができる。樹脂が紫外線吸収性基と酸化防止性基の両基を有することによって、相加的な効果ではなく相乗的な効果を得られる。酸化防止性基によって、紫外線吸収性基の劣化を防ぐことができる、つまり紫外線に対する安定能を持つため、保護層の長寿命化に貢献できる。また、保護層の樹脂が酸化防止性基を有しているため、紫外線吸収性基と酸化防止性基との距離が近く、紫外線により発生したラジカルを不活化しやすい。その結果、酸化防止剤を添加した場合と比べて、紫外線環境下においても保護層がより長寿命となる。加えて、保護層の樹脂が酸化防止性基を有しているため、酸化防止剤を添加した保護層とは異なり、紫外線吸収性基と同様の理由で酸化防止性基自体のブリードアウトがほぼ発生せず、また、相溶性も良好であるため多量に含有させることができ、さらにブリードアウトによる正反射率の低下の影響も回避できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項５に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項４に記載の発明であって、前記酸化防止性基はＨＡＬＳであることを特徴としている。当該構成においては酸化防止性基としてＨＡＬＳが樹脂骨格に結合しているため、保護層の紫外線安定能が特に長期間持続するため好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項６に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項５に記載の発明であって、前記ＨＡＬＳは片側重合基修飾型ＨＡＬＳであることを特徴としている。当該構成においては、ＨＡＬＳは片側重合基修飾型ＨＡＬＳであるため、製造時の容易さ、コストの安価さ、において好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項７に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項１〜６の何れか一項に記載の発明であって、前記太陽光反射用フィルムミラーはアクリル層を有しており、前記アクリル層は前記銀反射層と前記保護層との間に設けられていることを特徴としている。当該構成においては、アクリル層がポリエチレンテレフタレートなどの樹脂に比して凹凸を生じ易いため、そのアクリル層表面の凹凸に起因し、太陽光反射用ミラーの表面粗さが粗くなるため、フィルムミラーを連続的に製膜するロールトゥロール方式を用いた場合でも、フィルムミラーをロール状に巻いた際のブロッキングなどの貼りつきを防止することができる。また、保護層の樹脂にアクリル樹脂を用いて、かつアクリル層と保護層とを隣接させた場合には、アクリル層と保護層との密着性が高く保つことができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項８に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項７に記載の発明であって、前記銀反射層と前記保護層との間には接着層が存在しないことを特徴としている。当該構成においては、銀反射層と保護層との間に接着層が存在しないため、例えば塗布などにより銀反射層と保護層との間にあるアクリル層が銀反射層よりも太陽光入射側に形成される。また、銀反射層と保護層との間に接着層が存在しないため、保護層も塗布などによりアクリル層よりも太陽光入射側に形成される。接着層が存在しない場合には、塗布などでアクリル層や保護層を形成するが、その際には大量の塗布液を用いるため、フィルムを貼合させた場合にはほぼ無視できる銀反射層へのアクリル層や保護層の塗布液の浸透という問題が生じる。アクリル層や保護層の塗布液の樹脂に対して紫外線があたるとラジカルが発生してしまい、そのラジカルが銀反射層に到達してしまうと銀の凝集を招いてしまう、即ち、塗布によりアクリル層や保護層を設ける場合、銀の凝集の問題がより大きくなるが、樹脂が紫外線吸収性基を有することにより、紫外線吸収剤を添加した場合よりも多量に紫外線吸収性基を有することができるため、高い耐紫外線能を持つことができ、アクリル層や保護層の塗布液からのラジカルの発生を抑えることができる。さらに保護層が酸化防止性基を有する場合には、保護層やアクリル層の樹脂から発生したラジカルや、樹脂以外から発生したラジカルも不活化できるため銀反射層の凝集をより一層防止でき好ましい。また、接着層が存在しないことにより、フィルムミラーをより薄くすることが可能となる。当該構成においては、銀反射層と保護層との間に接着層が存在していないため、銀反射層と保護層との距離が近くなり、保護層の樹脂やその樹脂が有している紫外線吸収性基の紫外線による分解、それに伴い発生したラジカルが銀反射層により一層近づきやすくなってしまうが、当該構成においては樹脂が紫外線吸収性基を有しているため、高い耐紫外線能をもたせることができ、長期間にわたってラジカルの発生を抑えること可能となり、銀反射層の銀の凝集や、抜け落ち、変色を防止できる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項９に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項１〜６の何れか一項に記載の発明であって、前記太陽光反射用フィルムミラーはアクリル層を有しており、前記保護層は前記銀反射層と前記アクリル層との間に設けられていることを特徴としている。当該構成においては、アクリル層がポリエチレンテレフタレートなどの樹脂に比して凹凸を生じ易いため、そのアクリル層表面の凹凸に起因し、太陽光反射用ミラーの表面粗さが粗くなるため、フィルムミラーを連続的に製膜するロールトゥロール方式を用いた場合でも、フィルムミラーをロール状に巻いた際のブロッキングなどの貼りつきを防止することができる。また、保護層の樹脂にアクリル樹脂を用いて、かつアクリル層と保護層とを隣接させた場合には、アクリル層と保護層との密着性が高く保つことができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項１０に記載の太陽光反射用フィルムミラーは、請求項１〜９の何れか一項に記載の発明であって、前記銀反射層の太陽光入射側表面から前記太陽光反射用フィルムミラーの太陽光入射側最表面の総膜厚が５μｍ以上１２５μｍ以下であることを特徴としている。当該構成においては太陽光が銀反射層に到達するまでの膜厚が５μｍ以上１２５μｍと薄いため、太陽光が銀反射層に到達するまでに通過する層による強度の減衰が起きにくい。当然ながら、銀反射層による反射後に再びフィルムミラー表面までの層を通過するため、膜厚が薄ければその際の強度減衰も起きにくい。さらに材料のコストも安くでき、軽くなるため輸送効率も向上し、製造時の工数も減らすことができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項１１に記載の太陽熱発電用反射装置は、請求項１〜１０の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラーと保持部材とを有していることを特徴としている。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２７７】
上記のようにして作製した反射フィルム１０または２０を太陽光反射用フィルムミラーの実施例及び比較例の基礎とし、反射フィルム１０に保護層７とハードコート層８を積層し以下のようにして実施例９〜１３及び参考例７，８を、また、保護層７の組成を本発明外のものに変更したものを比較例１８〜２０として作製した。更に、反射フィルム２０に保護層７とハードコート層８を積層し以下のようにして実施例２，３，５，６及び参考例１，４を、また、保護層７の組成を本発明外のものに変更したものを比較例１４〜１７として作製した。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２７８】
［参考例Ｎｏ．１の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．１の溶液を得た。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２７９】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．１を用い、前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、参考例Ｎｏ．１のフィルムミラーを作製した。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８３】
［参考例Ｎｏ．４の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．４の溶液を得た。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８４】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．４を用い、前記反射フィルム２０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、参考例Ｎｏ．４のフィルムミラーを作製した。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８９】
［参考例Ｎｏ．７の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．７の溶液を得た。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９０】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．７を用い、前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、参考例Ｎｏ．７のフィルムミラーを作製した。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９１】
［参考例Ｎｏ．８の太陽光反射用フィルムミラーの作製］
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えたフラスコに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基として、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）の化学構造に重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体１を１０部、ヒンダードアミン系酸化防止性基として、ＬＡ５２（ＡＤＥＫＡ社製）の化学構造に、重合性基として、メタクリロイル基をもった単量体３を１０部、他の単量体として、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５０部、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）１０部、水酸基含有単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）１０部、溶媒として酢酸エチル１２０部を仕込み、窒素ガスを流入して撹拌しながら還流温度まで昇温した。一方、滴下槽に酢酸エチル１０部と、重合開始剤として２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）１部との混合物を仕込み、２時間かけて滴下した。滴下終了後も還流反応を続け、滴下開始から６時間後に冷却し、不揮発分が４０％となるよう酢酸エチルで希釈して、紫外線吸収性重合体Ｎｏ．８の溶液を得た。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９２】
得られた紫外線吸収性基含有重合体Ｎｏ．８を用い、前記反射フィルム１０上に、ワイヤーバーによりコートし、８０℃にて３０秒間乾燥させることにより、紫外線吸収性基を樹脂が有する１０μｍの膜厚の保護層を形成した。その後、ハードコート液Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ製）をワイヤーバーによりコートし、８０℃にて６０秒間乾燥後、７０℃にて、４８時間熱処理を行うことにより、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成し、参考例Ｎｏ．８のフィルムミラーを作製した。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３１６】
［太陽光反射用フィルムミラーの評価］
上記のように作製した太陽光反射用フィルムミラー（実施例２，３，５，６，９〜１３、参考例１，４，７，８及び比較例１４〜２０）について、下記の方法に従って、紫外線照射試験の前後における正反射率、透過率、密着性を測定・評価した。得られた各太陽光反射用フィルムミラーの特性を表１Ａ〜１Ｄに示す。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３２０】
【表１Ａ】
2013094633.tif 000029
【表１Ｂ】
2013094633.tif 000030
【表１Ｃ】
2013094633.tif 000031
【表１Ｄ】
2013094633.tif 000032
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３２１】
表１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄに示した評価結果から明らかなように、比較例１４〜２０では紫外線吸収性基や酸化防止性基の分解やアクリル樹脂の劣化により、正反射率や密着性や透過率が低下してしまうが、本発明に係るフィルムミラーを具体的に例示した実施例２，３，５，６，９〜１３では、比較例１４〜２０に対して正反射率や密着性や透過率が高く保たれていることが分かる。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３２２】
樹脂が紫外線吸収性基を有している実施例２，３，５，６，９〜１３、参考例１，４，７，８および比較例１４，１５では、ブリードアウトは発生していなかったが、紫外線吸収剤を添加した比較例１６〜２０ではブリードアウトが確認された。実施例２，３，５，６，９〜１３、参考例１，４，７，８および比較例１４，１５において、ブリードアウトが発生していないのは、樹脂が基として官能基を有していることに起因していると考えられる。それに対して、比較例１６〜２０では、紫外線吸収剤が添加されているために、ブリードアウトが発生していると考えられる。その結果、比較例１６〜２０の紫外線照射試験後の正反射率、密着性、透過率も低下していると考えられる。その中でも特にブリードアウトによる密着性の低下が著しいため、太陽光反射用フィルムミラーにおいてブリードアウトを防ぐことは非常に重要であると言える。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３２３】
また、実施例２，３，５，６，９〜１３、参考例１，４，７，８、比較例１６〜２０では、銀の凝集、抜け落ち、変色は発生していなかったが、十分な紫外線耐性を有さないベンゾフェノン系の紫外線吸収性基を有する樹脂を用いた比較例１４，１５では正反射率や密着性や透過率が不十分であり、また、紫外線吸収剤が添加された溶液を用いて塗布によりアクリル層を形成した比較例１６及び１７においてはブリードアウトだけでなく銀の凝集、抜け落ち、変色が発生していた。この原因は保護層及びアクリル層の塗布液の浸透による銀反射層へのラジカルの近づきやすさと、添加剤を用いていることによる耐紫外線能の低さに起因したラジカルの発生のしやすさであると考えられる。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂フィルム状支持体、銀反射層、保護層とを有する太陽光反射用フィルムミラーであって、
前記保護層は前記樹脂フィルム状支持体及び前記銀反射層よりも太陽光入射側に設けられており、
前記保護層は樹脂を有し、前記樹脂は（２）の紫外線吸収性基を有していることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラー。
（２）トリアジン系紫外線吸収性基
【請求項２】
前記樹脂はさらに（１）ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基を有していることを特徴とする請求項１に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項３】
前記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性基は下記式（１ａ）または（１ｂ）の組成であり、前記トリアジン系紫外線吸収性基は下記式（２）の組成であることを特徴とする請求項２に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【化４】
2013094633.tif 000033
［式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表す。］
【化５】
2013094633.tif 000034
［式中、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表し、Ｒ５は水素結合を形成し得る元素を有する基を表し、Ｒ６は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ７は水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基を表す。］
【化６】
2013094633.tif 000035
［式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４およびＲ１５は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または、炭素数１〜１０のアルコキシ基を表し、Ｘ２は水素原子またはメチル基を表し、Ａは、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｐ−、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2Ｏ−、−（ＣＨ2）ｐ−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ2ＯＲ１６）−Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ（Ｒ１６）−Ｏ−、または、−ＣＨ2（ＣＨ2）ｑＣＯＯ−Ｂ−Ｏ−を表し、Ｒ１６は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｂはメチレン基、エチレン基、または、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−を表し、ｐは１〜２０の整数を表し、ｑは０または１を表す。］
【請求項４】
前記樹脂は酸化防止性基を有していることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項５】
前記酸化防止性基はＨＡＬＳであることを特徴とする請求項４に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項６】
前記ＨＡＬＳは片側重合基修飾型ＨＡＬＳであることを特徴とする請求項５に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項７】
前記太陽光反射用フィルムミラーはアクリル層を有しており、
前記アクリル層は前記銀反射層と前記保護層との間に設けられていることを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項８】
前記銀反射層と前記保護層との間には接着層が存在しないことを特徴とする請求項７に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項９】
前記太陽光反射用フィルムミラーはアクリル層を有しており、
前記保護層は前記銀反射層と前記アクリル層との間に設けられていることを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項１０】
前記銀反射層の太陽光入射側表面から前記太陽光反射用フィルムミラーの太陽光入射側最表面の総膜厚が５μｍ以上１２５μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜９の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラーと保持部材とを有していることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【国際調査報告】
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