(57)【要約】  基材の表面を充分に改質でき、基材の表面への接着性が良好である塗膜を形成できる表面改質剤、および表面が充分に改質され、該状態を長期間保持できる物品の提供。  下式（１）で表される化合物を含む表面改質剤、および該表面改質剤を用いた、表面が改質された物品。［化１］2009078313.tif 000017  式中、ＲはＲｆ−Ｘ−であり、左右のＲは同一の基であり、Ｒｆは、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基であり、Ｘは−（ＯＣ３Ｆ６）−、−（ＯＣ２Ｆ４）−、および−（ＯＣＦ２）−の単位のうちの１種以上の繰り返しであり、かつ該単位の数の合計が１以上の基であり、Ｙは、炭素数２以上の３価の有機基であり、ｎの平均は２〜１００である。
2009078313.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（１）で表される化合物を含むことを特徴とする表面改質剤。
【化１】
2009078313.tif 000014
ただし、式（１）中、Ｒは、Ｒｆ−Ｘ−であり、かつ左右のＲは同一の基であり、Ｒｆは、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基であり、Ｘは、下記の、式（ｕ１）、式（ｕ２）および（ｕ３）からなる群から選ばれる１種以上の繰り返し単位であり、かつ該繰り返し単位の数の合計が１以上である基であり、Ｙは、炭素数２以上の３価の有機基であり、ｎの平均は、２〜１００である。
−（ＯＣ３Ｆ６）−  ・・・（ｕ１）、
−（ＯＣ２Ｆ４）−  ・・・（ｕ２）、
−（ＯＣＦ２）−  ・・・（ｕ３）。
ただし、式（ｕ１）および（ｕ２）中、Ｃ３Ｆ６およびＣ２Ｆ４は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。
【請求項２】
式（１）で表される化合物が、式（１１）で表される化合物である、請求項１に記載の表面改質剤。
【化２】
2009078313.tif 000015
ただし、式（１１）中、Ｒは、Ｒｆ−Ｘ−であり、かつ左右のＲは同一の基であり、Ｒｆは、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基であり、Ｘは、下記の、式（ｕ１）、式（ｕ２）および（ｕ３）からなる群から選ばれる１種以上の繰り返し単位であり、かつ該繰り返し単位の数の合計が１以上である基であり、Ｚは、単結合または２価の有機基であり、ｎの平均は、２〜１００である。
−（ＯＣ３Ｆ６）−  ・・・（ｕ１）、
−（ＯＣ２Ｆ４）−  ・・・（ｕ２）、
−（ＯＣＦ２）−  ・・・（ｕ３）。
ただし、式（ｕ１）および（ｕ２）中、Ｃ３Ｆ６およびＣ２Ｆ４は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。
【請求項３】
Ｚが、メチレン基である請求項２に記載の表面改質剤。
【請求項４】
式（１１）で表される化合物が、下記化合物（１１−１）である請求項２又は３に記載の表面改質剤。
【化３】
2009078313.tif 000016
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の表面改質剤を含有することを特徴とする塗膜。
【請求項６】
水に対する接触角が、８０〜１４０度であり、ｎ−ヘキサデカンに対する接触角が３０〜１１０度である請求項５に記載の塗膜。
【請求項７】
請求項５または６に記載の塗膜を離型剤として表面に有することを特徴とするインプリント用モールド。
【請求項８】
離型剤の水に対する接触角が、８０〜１４０度であり、ｎ−ヘキサデカンに対する接触角が３０〜１１０度である請求項７に記載のインプリント用モールド。
【請求項９】
請求項５または６に記載の塗膜を表面に有することを特徴とする物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材の表面に離型性、防汚性、撥水性、撥油性、滑り性等を付与する表面改質剤および該表面改質剤を含む塗膜を有する物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
基材の表面に離型性、防汚性、撥水性、撥油性、滑り性等を付与するために、表面処理剤を塗布し、該表面処理剤を含む塗膜を形成することが行われている。
該表面処理剤としては、下記のものが提案されている。【０００３】
（１）下式（２−１）で表される化合物、または下式（２−２）で表される化合物等を含む防汚剤（特許文献１）。
Ｃ３Ｆ７（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａＯＣ２Ｆ４ＣＯＯＣ３Ｈ６−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（２−１）、
（Ｈ３ＣＯ）３ＳｉＣ３Ｈ６ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２)ｂ(ＯＣＦ２)ｃＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（２−２）。
ただし、式（２−２）中、ａ、ｂ、ｃは１以上の整数である。【０００４】
（２）下式（２−３）で表される化合物等を含む防汚剤（特許文献２）。
Ｃ３Ｆ７（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）２４ＯＣ２Ｆ４ＣＨ２ＯＯＣＮＨＣ３Ｈ６−Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３  ・・・（２−３）。
（３）ポリフルオロポリエーテル鎖および自己架橋性官能基（ビニル基、エポキシ基等。）を有する含フッ素ポリマーを含む表面改質剤（特許文献３）。【０００５】
（４）下式（２−４）で表される化合物等を含む、インプリント用モールドの離型剤（特許文献４）。
Ｃ３Ｆ７（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｐＯＣ２Ｆ４Ｃ２Ｈ４−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（２−４）。
ただし、式（２−４）中、ｐは１以上の整数である。【０００６】
しかし、（１）の防汚剤を含む塗膜は、該防汚剤が式（２−１）で表される化合物等を含む場合、基材への接着性が不充分であり、基材の表面から剥離しやすい。一方、該防汚剤が式（２−２）で表される化合物等を含む場合、基材への接着性が比較的良好であるものの、防汚性が不充分である。
また、（２）の防汚剤を含む塗膜は、基材への接着性が不充分であり、基材の表面から剥離しやすい。
さらに、（３）の表面改質剤を含む塗膜は、基材と結合し得る基を有さないため、基材への接着性が不充分であり、基材の表面から剥離しやすい。【０００７】
また、（４）の離型剤を含む塗膜（被覆層）は、基材（モールド本体）への接着性が不充分であり、基材の表面から剥離しやすい。
【特許文献１】国際公開第９８／４９２１８号パンフレット
【特許文献２】特開２０００−１４４０９７号公報
【特許文献３】国際公開第２００４／１０８７７２号パンフレット
【特許文献４】特開２００２−２８３３５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、基材の表面を充分に改質でき、かつ基材の表面への接着性が良好である塗膜を形成できる表面改質剤、および表面が充分に改質され、かつ該状態を長期間保持できる物品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
すなわち、本発明は以下の要旨を有するものである。
（１）下式（１）で表される化合物を含むことを特徴とする表面改質剤。【００１０】
【化１】
2009078313.tif 000003
ただし、式（１）中、Ｒは、Ｒｆ−Ｘ−であり、かつ左右のＲは同一の基であり、Ｒｆは、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基であり、Ｘは、下記の、式（ｕ１）、式（ｕ２）および（ｕ３）からなる群から選ばれる１種以上の繰り返し単位であり、かつ該繰り返し単位の数の合計が１以上である基であり、Ｙは、炭素数２以上の３価の有機基であり、ｎの平均は、２〜１００である。
−（ＯＣ３Ｆ６）−  ・・・（ｕ１）、
−（ＯＣ２Ｆ４）−  ・・・（ｕ２）、
−（ＯＣＦ２）−  ・・・（ｕ３）。
ただし、式（ｕ１）および（ｕ２）中、Ｃ３Ｆ６およびＣ２Ｆ４は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。
（２）式（１）で表される化合物が、式（１１）で表される化合物である、上記（１）に記載の表面改質剤。【００１１】
【化２】
2009078313.tif 000004
ただし、式（１１）中、Ｒは、Ｒｆ−Ｘ−であり、かつ左右のＲは同一の基であり、Ｒｆは、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基であり、Ｘは、下記の、式（ｕ１）、式（ｕ２）および（ｕ３）からなる群から選ばれる１種以上の繰り返し単位であり、かつ該繰り返し単位の数の合計が１以上である基であり、Ｚは、単結合または２価の有機基であり、ｎの平均は、２〜１００である。
−（ＯＣ３Ｆ６）−  ・・・（ｕ１）、
−（ＯＣ２Ｆ４）−  ・・・（ｕ２）、
−（ＯＣＦ２）−  ・・・（ｕ３）。
ただし、式（ｕ１）および（ｕ２）中、Ｃ３Ｆ６およびＣ２Ｆ４は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。
（３）Ｚが、メチレン基である上記（２）に記載の表面改質剤。
（４）式（１１）で表される化合物が、下記化合物（１１−１）である上記（２）または（３）に記載の表面改質剤。【００１２】
【化３】
2009078313.tif 000005
（５）上記（１）〜（４）のいずれかに記載の表面改質剤を含有することを特徴とする塗膜。
（６）水に対する接触角が、８０〜１４０度であり、ｎ−ヘキサデカンに対する接触角が３０〜１１０度である上記（５）に記載の塗膜。
（７）上記（５）または（６）に記載の塗膜を離型剤として表面に有することを特徴とするインプリント用モールド。
（８）離型剤の水に対する接触角が、８０〜１４０度であり、ｎ−ヘキサデカンに対する接触角が３０〜１１０度である上記（７）に記載のインプリント用モールド。
（９）上記（５）または（６）に記載の塗膜を表面に有することを特徴とする物品。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の表面改質剤は、基材の表面を充分に改質でき、かつ基材の表面への接着性が良好である塗膜を形成できる。
本発明の物品は、表面が充分に改質され、かつ該状態を長期間保持できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の物品であるインプリント用モールドの一例を示す断面図である。
【図２】インプリント法による、微細構造を有する部材の製造工程の１つを示す断面図である。
【符号の説明】
【００１５】
１０  モールド（物品）
１２  モールド本体（基材）
１４  被覆層（塗膜）
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本明細書においては、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。また、式（ｕ１）で表される繰り返し単位を単位（ｕ１）と記す。他の式で表される繰り返し単位も同様に記す。また、式（ｇ１）で表される基を基（ｇ１）と記す。他の式で表される基も同様に記す。【００１７】
（表面改質剤）
本発明の表面改質剤は、化合物（１）を含むものである。【００１８】
【化４】
2009078313.tif 000006
【００１９】
Ｒは、Ｒｆ−Ｘ−である。
Ｒｆは、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基であり、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基が好ましい。パーフルオロアルキル基を有することにより、基材の表面を充分に改質できる。パーフルオロアルキル基の炭素数が２０以下であれば、表面改質剤の希釈溶媒に対する溶解性が向上するため、基材へ塗布しやすくなる。パーフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。【００２０】
Ｒｆとしては、下記の基が好ましい。
ＣＦ３ＣＦ２−、
ＣＦ３（ＣＦ２）２−、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−、
ＣＦ３（ＣＦ２）４−、
ＣＦ３（ＣＦ２）５−、
ＣＦ３（ＣＦ２）６−、
ＣＦ３（ＣＦ２）７−、
ＣＦ３（ＣＦ２）８−、
ＣＦ３（ＣＦ２）９−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１０−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１１−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１２−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１３−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１４−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１５−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１６−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１７−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１８−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１９−。【００２１】
Ｘは、下記の、式（ｕ１）、式（ｕ２）および（ｕ３）からなる群から選ばれる１種以上の繰り返し単位である。
−（ＯＣ３Ｆ６）−  ・・・（ｕ１）、
−（ＯＣ２Ｆ４）−  ・・・（ｕ２）、
−（ＯＣＦ２）  −  ・・・（ｕ３）。
ただし、Ｃ３Ｆ６およびＣ２Ｆ４は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。
単位（ｕ１）の数と単位（ｕ２）の数と単位（ｕ３）の数との合計は、１以上であり、２〜２０が好ましい。単位（ｕ１）〜（ｕ３）の数の合計が１以上であれば、基材の表面を充分に改質できる。単位（ｕ１）〜（ｕ３）の数の合計が２０以下であれば、表面改質剤の希釈溶媒に対する溶解性が向上するため、基材へ塗布しやすくなる。
Ｘにおける単位（ｕ１）〜（ｕ３）の存在順序は、任意である。【００２２】
左右のＲは、同一の基である。同一の基とは、Ｒｆが同一であり、かつＸを構成する単位（ｕ１）〜（ｕ３）の種類、数および存在順序が同一であることを意味する。たとえば、左側のＲが、Ｃ３Ｆ７−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−（ＯＣＦ（ＣＦ３）−の場合、右側のＲは、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−Ｃ３Ｆ７となる。【００２３】
Ｒとしては、下記の基が好ましい。
Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ（ＣＦ３）−
Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝３ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝４ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝５ＯＣＦ（ＣＦ３）−、【００２４】
Ｃ４Ｆ９ＯＣＦ（ＣＦ３）−
Ｃ４Ｆ９ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ４Ｆ９｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ４Ｆ９｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝３ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ４Ｆ９｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝４ＯＣＦ（ＣＦ３）−、【００２５】
Ｃ６Ｆ１３ＯＣＦ（ＣＦ３）−
Ｃ６Ｆ１３ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ６Ｆ１３｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ６Ｆ１３｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝３ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ６Ｆ１３｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝４ＯＣＦ（ＣＦ３）−、【００２６】
Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２｝２−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２｝３−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２｝４−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２｝５−、【００２７】
Ｃ２Ｆ５ＯＣＦ２ＣＦ２−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝２−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝３−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝４−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝５−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝６−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝７−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝８−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝９−、【００２８】
Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ２ＣＦ２−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝２−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝３−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝４−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝５−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝６−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝７−。【００２９】
Ｙは、炭素数２以上の３価の有機基である。Ｙの炭素数は総計で５００以下が好ましい。総炭素数５００超であると、分子量が大きくなりすぎ、希釈溶媒への溶解性が低下するおそれがあるほか、分子内でのフッ素部分の分子内に占める割合が低下し、基材の表面を充分に改質できないおそれがある。【００３０】
Ｙ−ＮＨ２としては、基（ｇ１）〜基（ｇ２０）が好ましく、化合物（１）の製造が容易な点から、基（ｇ３）がより好ましい。【００３１】
【化５】
2009078313.tif 000007
【００３２】
ただし、基（ｇ１４）〜（ｇ１５）のｐの平均は、０〜５であり、ｑの平均は０〜２０である。また、基（ｇ１６）〜（ｇ１８）のＡｒは、芳香族環または複素環である。【００３３】
ｎの平均は、２〜１００であり、３〜１００が好ましい。
ｎの平均が２以上であれば、基材の表面と結合しうるＮＨ２の数が多くなり、基材の表面への接着性が良好となる。ｎの平均が１００以下であれば、基材の表面を充分に改質できる。【００３４】
化合物（１）は、通常、ｎの数が異なる複数種の化合物（１）の混合物である。よって、化合物（１）が、ｎの数が異なる２種以上の化合物（１）の混合物である場合、ｎは平均として表される。２種以上の化合物（１）の混合物は、ｎの平均が２〜１００となる範囲で、ｎが１の化合物（１）を含んでいてもよく、ｎが１００を超える化合物（１）を含んでいてもよい。
一方、化合物（１）が、ｎの数が同じ１種の化合物（１）のみからなる場合、該ｎの数がそのままｎの平均となる。【００３５】
ｎの平均は、下記方法にて求める。
（ｉ）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって化合物（１）の数平均分子量（ポリスチレン換算）を求める。
（ii）該数平均分子量からＲｆ−Ｘの分子量を減じ、（Ｙ−ＮＨ２）ｎの分子量を求める。
（iii）（Ｙ−ＮＨ２）ｎの分子量をＹ−ＮＨ２の分子量で除し、ｎの平均を算出する。【００３６】
化合物（１）としては、化合物（１１）が好ましい。【００３７】
【化６】
2009078313.tif 000008
【００３８】
Ｚは、単結合または２価の有機基である。２価の有機基としては、アルキレン基（炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよい。）、カルボニル基（−Ｃ（Ｏ）−）、オキシアルキレン基、フェニレン基、カルボニルオキシ基（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−）、アラルキレン基、２価のエポキシ基等が挙げられる。
Ｚとしては、化合物（１）の製造が容易な点から、メチレン基が好ましい。
化合物（１１）としては、特に以下の化合物（１１−１）が好ましい。【００３９】
【化７】
2009078313.tif 000009
【００４０】
化合物（１１）は、たとえば、窒素雰囲気下、溶媒中にて化合物（３）と化合物（４）とを反応させることにより製造できる。【００４１】
【化８】
2009078313.tif 000010
【００４２】
溶媒としては、ハロゲン化脂肪族溶媒、ハロゲン化芳香族溶媒が好ましい。
ハロゲン化脂肪族溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、２−クロロ−１，２−ジブロモ−１，１，２−トリフルオロエタン、１，２−ジブロモヘキサフルオロプロパン、１，２−ジブロモテトラフルオロエタン、１，１−ジフルオロテトラクロロエタン、１，２−ジフルオロテトラクロロエタン、フルオロトリクロロメタン、ヘプタフルオロ−２，３，３−トリクロロブタン、１，１，１，３−テトラクロロテトラフルオロプロパン、１，１，２，３−テトラフルオロ−１，２，３−トリクロロプロパン、１，１，１−トリクロロペンタフルオロプロパン、１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン、１，１，１，２，２−ペンタフルオロ−３，３−ジクロロプロパン、１，１，２，２，３−ペンタフルオロ−１，３−ジクロロプロパン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタン、ノナフルオロブチルメチルエーテル、ノナフルオロブチルエチルエーテル、ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル、パーフルオロトリブチルアミン、（１−トリフルオロメチル）パーフルオロデカリン等が挙げられる。【００４３】
ハロゲン化芳香族溶媒としては、ベンゾトリフルオリド、ヘキサフルオロキシレン、ペンタフルオロベンゼン等が挙げられる。
溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。【００４４】
溶媒としては、化合物（３）および化合物（４）の溶解性が高い点、入手が容易である点、および得られる化合物（１１）との反応性が低い点から、化合物（５−１）〜（５−７）が好ましい。
１，１，２，２，３−ペンタフルオロ−１，３−ジクロロプロパン・・・（５−１）、  １，１，２−トリクロロトリフルオロエタン・・・（５−２）、
１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサン・・・（５−３）、
１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル・・・（５−４）、
パーフルオロトリブチルアミン・・・（５−５）、
（１−トリフルオロメチル）パーフルオロデカリン・・・（５−６）、
１，１，２，３−テトラフルオロ−１，２，３−トリクロロプロパン・・・（５−７）。【００４５】
反応温度は、５〜８０℃が好ましい。
反応時間は、０．１〜１０時間が好ましい。
ｎの平均を調整するためには、化合物（３）と化合物（４）とのモル比を調整すればよい。【００４６】
本発明の表面改質剤は、例えば、表面改質剤の全量(１００質量％)に対して、化合物(１)を好ましくは０．００１〜１０質量％、溶媒を好ましくは９０〜９９．９９９質量％含むものである。
本発明の表面改質剤は、必要に応じて、公知の添加剤を含んでいてもよい。該添加剤としては、レベリング剤、粘度調整剤、光安定剤、顔料、染料、帯電防止剤等が挙げられる。上記の各添加剤の表面改質剤中の含有量は、化合物（１）（１００質量％）に対して好ましくは０．００１〜１０質量％、より好ましくは０．０１〜１０質量％である。【００４７】
以上説明した本発明の表面改質剤は、化合物（１）を含むため、基材の表面を充分に改質できる塗膜を形成できる。すなわち、化合物（１）がＲｆ−Ｘ−基を有するため、従来の表面改質剤である化合物（２−２）に比べ、塗膜が充分に離型性、防汚性、撥水性、撥油性、滑り性等を発揮できる。【００４８】
また、以上説明した本発明の表面改質剤は、化合物（１）を含むため、基材の表面への接着性が良好である塗膜を形成できる。すなわち、化合物（１）のｎの平均が２以上であるため、基材の表面と結合し得る官能基の数が、従来の表面改質剤である化合物（２−１）または化合物（２−３）に比べ多くなり、塗膜に含まれる化合物（１）は、化合物（２−１）または化合物（２−３）に比べ、基材の表面に化学的に強固に結合できる。【００４９】
（物品）
本発明の物品は、基材の表面に本発明の表面改質剤を含む塗膜を有するものである。
基材としては、化合物（１）のＮＨ２と化学的に結合し得る表面を有するものが挙げられる。【００５０】
基材としては、下記のものが挙げられる。
金属（鉄、アルミニウム、銅、ニッケル等。）を加工した製品、
セラミックス製品（ガラス、コンクリート、タイル等。）、石材、
合成樹脂（ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリスチレン等。）、アクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート等。）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート等。）、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース等。）、ゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、フェノール樹脂、キシレン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ポリアミド、ポリイミド、アルキド樹脂、ポリウレタン、ビニルエステル樹脂、ポリスルホン、アイオノマー樹脂等。）を加工した製品、
木、紙、印刷物、印画紙、絵画等、
ディスプレイ装置、または該表面に保護膜、反射防止膜、光吸収膜等を形成したディスプレイ装置、
ディスプレイ用部材（ディスプレイ装置の構成部材、ディスプレイ装置用フィルタ等。
）、または該表面に保護膜、反射防止膜、光吸収膜等を形成した部材、
光学部品、または該表面に保護膜、帯電防止機能膜、反射防止膜等を形成した部材、
記録媒体（光記録媒体、磁気記録媒体等。）、または該表面に保護膜、反射防止膜、光吸収膜等を形成した記録媒体等。【００５１】
金属を加工した製品としては、インプリント用モールド（ナノインプリント用モールド）、樹脂成形用モールド等が挙げられる。
セラミックス製品としては、ショーウインド、ショーケース、広告用カバー、フォトスタンド用カバー、自動車フロントガラス等が挙げられる。
合成樹脂を加工した製品としては、各種成形品、プラスチック製建材等が挙げられる。
ディスプレイ装置としては、ＣＲＴ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、有機ＥＬ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投射型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等が挙げられる。
ディスプレイ装置の構成部材としては、液晶ディスプレイ構成部材（フロントライト、拡散シート等。）が挙げられる。
ディスプレイ装置用フィルタとしては、防眩フィルタ、ＰＤＰ用フィルタ、ＰＤＰ用保護板、タッチパネル（タッチセンサー、タッチスクリーン等。）等が挙げられる。
光学部品としては、眼鏡レンズ、プリズム、レンズシート、ペリクル膜、偏光板、光学フィルタ、レンチキュラーレンズ、フレネルレンズ、背面投射型ディスプレイのスクリーン、光ファイバ、光カプラ等が挙げられる。
光記録媒体としては、光磁気ディスク、光ディスク（ＣＤ、ＬＤ、ＤＶＤ等。）、相転移型光ディスク（ＰＤ等。）、ホログラム記録媒体等が挙げられる。
磁気記録媒体としては、磁気テープ、磁気ディスク、磁気ドラム、磁気フレキシブルディスク等が挙げられる。【００５２】
塗膜の水に対する接触角は、８０〜１４０度が好ましく、９０〜１３０度がより好ましい。該塗膜の水に対する接触角が８０度以上であれば、基材の表面を充分に改質でき、特に基材の表面に離型性、防汚性、撥水性を充分に付与できる。
塗膜のｎ−ヘキサデカンに対する接触角は、３０〜１１０度が好ましく、３５〜９０度がより好ましい。該塗膜のｎ−ヘキサデカンに対する接触角が３０度以上であれば、基材の表面を充分に改質でき、特に基材の表面に離型性、防汚性、撥油性を充分に付与できる。
接触角は、ＪＩＳ  Ｒ３２５７に準拠して測定する。【００５３】
本発明の物品は、下記の工程（ａ）〜（ｄ）を経て製造される。
（ａ）必要に応じて、基材を洗浄する工程。
（ｂ）該基材の表面に表面改質剤の膜を形成する工程。
（ｃ）表面改質剤の膜を加熱して塗膜とし、本発明の物品を得る工程。
（ｄ）必要に応じて、物品を洗浄する工程。【００５４】
工程（ａ）：
基材を洗浄する方法としては、下記方法が挙げられる。
（ａ−１）有機溶媒中にて基材を超音波洗浄する方法。
（ａ−２）酸または過酸化物の溶液中にて基材を煮沸洗浄する方法。【００５５】
有機溶媒としては、アセトン、エタノール、化合物（５−７）等が挙げられる。
酸としては、硫酸、塩酸、スルファミン酸、ギ酸、クエン酸、グリコール酸等が挙げられる。
過酸化物としては、過酸化水素、過酸化ナトリウム、過酸化カリウム、過酸化バリウム、過炭酸ナトリウム、過炭酸カリウム、過炭酸バリウム等の水溶液が挙げられる。
該洗浄の後、精製水でさらに洗浄し、乾燥した後、オゾン照射を行い、基材の表面を清浄化してもよい。【００５６】
工程（ｂ）：
基材の表面に表面改質剤の膜を形成する方法としては、下記方法が挙げられる。
（ｂ−１）表面改質剤溶液を基材の表面に塗布する方法。
（ｂ−２）表面改質剤溶液に基材を浸漬する方法。【００５７】
表面改質剤溶液は、たとえば、化合物（１）および溶媒を含む溶液を、必要に応じて希釈溶媒で希釈し、必要に応じて添加剤を添加することによって調製できる。表面改質剤溶液は、適宜必要に応じて、濃度を調節して使用することが好ましい。表面改質剤溶液中の表面改質剤の濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましい。
また、希釈溶媒としては、１−ブタノール、イソプロパノール、エタノール、１−プロパノール、ｔ−ブタノール、化合物（５−７）等が挙げられる。
塗布方法としては、スピンコート法、キャスト法、スプレーコート法、ディップコート法等が挙げられる。【００５８】
工程（ｃ）：
加熱温度は、５０〜１８０℃が好ましい。
加熱時間は、０．１〜２４時間が好ましい。
加熱の際の雰囲気としては、大気下が好ましい。【００５９】
工程（ｄ）：
物品を洗浄する方法としては、フッ素系溶媒にて物品を超音波洗浄する方法が挙げられる。
フッ素系溶媒としては、化合物（５−１）〜（５−７）が挙げられる。【００６０】
以上説明した本発明の物品にあっては、塗膜を構成する表面改質剤が化合物（１）を含むため、表面が充分に改質される。すなわち、化合物（１）がＲｆ−Ｘ−基を有するため、従来の表面改質剤である化合物（２−２）に比べ、塗膜が充分に離型性、防汚性、撥水性、撥油性、滑り性等を発揮できる。【００６１】
また、以上説明した本発明の物品にあっては、塗膜を構成する表面改質剤が化合物（１）を含むため、基材から塗膜が剥離しにくい。すなわち、化合物（１）のｎの平均が２以上であるため、基材の表面と結合し得る官能基の数が、従来の表面改質剤である化合物（２−１）または化合物（２−３）に比べ多くなり、塗膜に含まれる化合物（１）は、化合物（２−１）または化合物（２−３）に比べ、基材の表面に化学的に強固に結合している。その結果、基材から塗膜が剥離しにくく、表面が充分に改質された状態を長期間保持できる。【００６２】
（インプリント用モールド）
以下、本発明の表面改質剤を、インプリント用モールド（ナノインプリント用モールド）の離型剤として用いた実施形態について説明する。【００６３】
図１は、インプリント用モールド（以下、モールドと記す。）の一例を示す断面図である。モールド１０（物品）は、モールド本体１２（基材）と、モールド本体１２の表面に設けられた被覆層１４（塗膜）とを有する。【００６４】
モールド本体１２の形状としては、シート状、板状、円筒状、円柱状等が挙げられる。
モールド本体１２の材料としては、化合物（１）のＮＨ２と化学的に結合し得る材料が挙げられる。該材料としては、石英、化学気相成長法による炭化ケイ素膜が形成されたシリコン、単結晶炭化ケイ素、タンタル、シリコン、酸化ケイ素膜が形成されたシリコン、窒化ケイ素膜が形成されたシリコン、ニッケル、銅、ステンレス、チタン等が挙げられ、電鋳めっきを行うことができる、すなわち低コストでモールド本体を作製できる点から、ニッケルまたは銅が好ましい。【００６５】
モールド本体１２は、表面に微細構造を有する。該微細構造は、インプリント法（ナノインプリント法）によって製造される部材（光学素子等。）の微細構造に対応した反転構造である。【００６６】
微細構造とは、微細な凸部および／または凹部を意味する。
凸部としては、モールド本体１２の表面に延在する長尺の凸条、表面に点在する突起等が挙げられる。
凹部としては、モールド本体１２の表面に延在する長尺の溝、表面に点在する孔等が挙げられる。【００６７】
凸条または溝の形状としては、直線、曲線、折れ曲がり形状等が挙げられる。凸条または溝は、複数が平行に存在して縞状をなしていてもよい。
凸条または溝の、長手方向に直交する方向の断面形状としては、長方形、台形、三角形、半円形等が挙げられる。
突起または孔の形状としては、三角柱、四角柱、六角柱、円柱、三角錐、四角錐、六角錐、円錐半球、多面体等が挙げられる。【００６８】
凸条または溝の幅は、平均で１〜４００ｎｍが好ましく、３０〜２００ｎｍが特に好ましい。凸条の幅とは、長手方向に直交する方向の断面における底辺の長さを意味する。溝の幅とは、長手方向に直交する方向の断面における上辺の長さを意味する。
突起または孔の幅は、平均で１〜４００ｎｍが好ましく、３０〜２００ｎｍが特に好ましい。突起の幅とは、底面が細長い場合、長手方向に直交する方向の断面における底辺の長さを意味し、そうでない場合、突起の底面における最大長さを意味する。孔の幅とは、開口部が細長い場合、長手方向に直交する方向の断面における上辺の長さを意味し、そうでない場合、孔の開口部における最大長さを意味する。【００６９】
凸部の高さは、平均で１ｎｍ〜４μｍが好ましく、１ｎｍ〜１μｍがより好ましく、１〜４００ｎｍがさらに好ましく、１０〜４００ｎｍがさらに好ましく、３０〜２００ｎｍが特に好ましい。
凹部の深さは、平均で１ｎｍ〜４μｍが好ましく、１ｎｍ〜１μｍがより好ましく、１〜４００ｎｍがさらに好ましく、１０〜４００ｎｍがさらに好ましく、３０〜２００ｎｍが特に好ましい。【００７０】
微細構造が密集している領域において、隣接する凸部（または凹部）間の間隔は、平均で１ｎｍ〜１０μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍがより好ましく、３０〜２００ｎｍが特に好ましい。隣接する凸部間の間隔とは、凸部の断面の底辺の終端から、隣接する凸部の断面の底辺の始端までの距離を意味する。隣接する凹部間の間隔とは、凹部の断面の上辺の終端から、隣接する凹部の断面の上辺の始端までの距離を意味する。【００７１】
凸部の最小寸法は、１〜４００ｎｍが好ましく、３０〜２００ｎｍがより好ましい。最小寸法とは、凸部の幅、長さおよび高さのうち最小の寸法を意味する。
凹部の最小寸法は、１〜４００ｎｍが好ましく、３０〜２００ｎｍがより好ましい。最小寸法とは、凹部の幅、長さおよび深さのうち最小の寸法を意味する。【００７２】
微細構造の形成方法としては、機械的切削法、リソグラフィー法、電鋳めっき法等が挙げられ、低コストでナノサイズの微細構造を形成できる点から、電鋳めっき法が好ましい。【００７３】
モールド１０の被覆層１４は、化合物（１）を含む表面改質剤を離型剤として用いた層である。【００７４】
被覆層１４の水に対する接触角は、８０〜１４０度が好ましく、９０〜１３０度がより好ましい。被覆層１４の水に対する接触角が８０度以上であれば、樹脂材料からの離型性が良好となる。
被覆層１４のｎ−ヘキサデカンに対する接触角は、３０〜１１０度が好ましく、３５〜９０度がより好ましい。被覆層１４のｎ−ヘキサデカンに対する接触角が３０度以上であれば、樹脂材料からの離型性が良好となる。
接触角は、ＪＩＳ  Ｒ３２５７に準拠し測定する。【００７５】
モールド１０は、下記の工程（ａ’）〜（ｄ’）を経て製造される。
（ａ’）モールド本体１２を洗浄する工程。
（ｂ’）該モールド本体１２の表面に離型剤の膜を形成する工程。
（ｃ’）離型剤の膜を加熱して被覆層１４とし、モールド１０を得る工程。
（ｄ’）必要に応じて、モールド１０を洗浄する工程。【００７６】
工程（ａ’）〜（ｄ’）は、上述の工程（ａ）〜（ｄ）と同様に行う。【００７７】
モールド１０を用いた、微細構造を有する部材の製造方法としては、たとえば、下記の方法が挙げられる。
（Ｉ）図２に示すように、基板２０上に形成された液状の光硬化性樹脂を含む樹脂材料層２２に、モールド１０を押しあて、ついで、モールド１０を樹脂材料層２２に押しあてた状態で、またはモールド１０を樹脂材料層２２から分離した後に、樹脂材料層２２に光を照射し、光硬化性樹脂を硬化させ、樹脂材料層２２の表面に所望の微細構造を有する部材を得る方法。【００７８】
（II）図２に示すように、基板２０上に形成された熱可塑性樹脂を含む樹脂材料層２２に、樹脂材料層２２を熱可塑性樹脂のガラス転移温度以上に加熱した状態で、モールド１０を押しあて、ついで、モールド１０を樹脂材料層２２に押しあてた状態で、またはモールド１０を樹脂材料層２２から分離した後に、樹脂材料層２２を冷却し、熱可塑性樹脂を固体状にして、樹脂材料層２２の表面に所望の微細構造を有する部材を得る方法。【００７９】
基板の形状としては、フィルムまたはシート状、板状、円筒状、円柱状等が挙げられる。
基板の材料としては、樹脂、ガラス、金属、セルロース素材等が挙げられる。
光硬化性樹脂としては、可視光線または紫外線によって硬化可能な、公知の光硬化性樹脂が挙げられる。【００８０】
微細構造を有する部材としては、下記の部材が挙げられる。
光学素子：マイクロレンズアレイ、光導波路、光スイッチング、フレネルゾーンプレート、ワイヤーグリッド、波長フィルタ、偏光板、バイナリー素子、ブレーズ素子、フォトニクス結晶、反射防止フィルム、反射防止構造を具備する部材等。
チップ類：バイオチップ、μ−ＴＡＳ（Ｍｉｃｒｏ−Ｔｏｔａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）用のチップ、マイクロリアクターチップ等。
記録メディア：光ディスク等。
ディスプレイ材料：リブ等。
エネルギー関連：燃料電池、三次元電池、キャパシタ、ペルチェ素子、太陽電池等。
半導体関連：ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ−Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ−Ｓｙｓｔｅｍ）、半導体装置等。
その他：触媒の担持体、フィルタ、センサ部材、超撥水材料等。【００８１】
以上説明したモールド１０にあっては、被覆層１４を構成する離型剤が化合物（１）を含むため、離型性に優れる。すなわち、化合物（１）がＲｆ−Ｘ−基を有するため、従来の表面改質剤である化合物（２−２）に比べ、被覆層１４が充分に離型性を発揮できる。【００８２】
また、以上説明したモールド１０にあっては、被覆層１４を構成する離型剤が化合物（１）を含むため、モールド本体１２から被覆層１４が剥離しにくい。すなわち、化合物（１）のｎの平均が２以上であるため、モールド本体１２の材料と結合し得る官能基の数が、従来の離型剤に比べ多くなり、被覆層１４に含まれる化合物（１）は、化合物（２−１）、化合物（２−３）または化合物（２−４）に比べ、モールド本体１２の表面に化学的に強固に結合している。その結果、モールド本体１２から被覆層１４が剥離しにくい。よって、モールド１０は、寿命が長く、モールド１０を用いた場合には、微細構造を有する部材を生産性よく製造できる。
【実施例】
【００８３】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定して解釈されるものではない。
例１は、実施例であり、例２は、比較例である。【００８４】
（接触角）
被覆層の水に対する接触角は、ＪＩＳ  Ｒ３２５７に準拠し、接触角計（ＣＡ−Ｘ１５０型、協和界面科学社製）を用い、４μＬの水を被覆層の表面に着滴させて測定した。【００８５】
（耐久性）
０．５ｋｇの荷重をかけながら、ＪＫワイパー（クレシア社製、１５０−Ｓ）を被覆層の表面にて１００往復させる拭き取り試験を行った。該試験後の、被覆層の水に対する接触角を測定し、該試験前後の接触角の変化から被覆層の耐久性を評価した。【００８６】
〔例１〕
冷却管を備えた１００ｍＬ丸底フラスコに、化合物（４−１）の０．３０ｇ（５．２ｍｍｏｌ）を入れ、さらに該フラスコに、化合物（５−７）中に化合物（３−１）の４．９７ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を含む溶液の５３．１４ｇを入れ、窒素雰囲気下、５０℃にて２時間反応を行った。【００８７】
【化９】
2009078313.tif 000011
【００８８】
反応終了後、反応粗液をフィルタでろ過し、化合物（５−７）中に化合物（１１−１）を含む溶液の５７．０ｇを得た。【００８９】
【化１０】
2009078313.tif 000012
【００９０】
該溶液中の化合物（１１−１）の濃度は、３．４質量％であった。ＧＰＣにより化合物（１１−１）の数平均分子量（ポリスチレン換算）を測定したところ７８７５であった。また、ｎの平均を算出したところ、ｎの平均は４７であった。
該溶液の１．０２ｇを、化合物（５−７）の２．４１ｇに加え、離型剤溶液を調製した。【００９１】
モールド本体として、表面に微細構造を有するニッケル基板を用意し、該ニッケル基板をアセトン中にて超音波洗浄した。
次いで、該ニッケル基板の表面に、離型剤溶液を、回転数７００ｒｐｍで２０秒間スピンコートし、離型剤の膜を形成した。
離型剤の膜を、ニッケル基板ごと１５０℃で１時間加熱し、ニッケル基板の表面に被覆層を形成し、モールドを得た。【００９２】
該モールドを化合物（５−７）中にて超音波洗浄した後、被覆層の水に対する接触角を測定した。また、拭き取り試験後の、被覆層の水に対する接触角を測定した。結果を表１に示す。被覆層の剥離は見られなかった。【００９３】
〔例２〕
パーフルオロヘキサン中に化合物（２−４）の１質量％を含む溶液（ダイキン工業社製、オプツールＤＳＸ）を用意し、該溶液を離型剤溶液とした。【００９４】
モールド本体として、表面に微細構造を有するニッケル基板を用意し、該ニッケル基板をアセトン中にて超音波洗浄した。
次いで、該ニッケル基板の表面に、離型剤溶液を、回転数５００ｒｐｍで１０秒間スピンコートし、離型剤の膜を形成した。
離型剤の膜を、ニッケル基板ごと１５０℃で１時間加熱し、ニッケル基板の表面に被覆層を形成し、モールドを得た。【００９５】
該モールドを化合物（５−１）中にて超音波洗浄した後、被覆層の水に対する接触角を測定した。また、拭き取り試験後の、被覆層の水に対する接触角を測定した。結果を表１に示す。試験後の接触角が、ニッケル基板の水に対する接触角（７６度）に近くなっており、被覆層の剥離が確認された。【００９６】
【表１】
2009078313.tif 000013
【産業上の利用可能性】
【００９７】
本発明の表面改質剤は、離型剤、防汚剤、撥水剤、撥油剤等として有用であり、特に、インプリント用モールド（ナノインプリント用モールド）の離型剤として有用である。
なお、２００７年１２月１８日に出願された日本特許出願２００７−３２５９５４号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【図１】
2009078313.tif 000018
【図２】
2009078313.tif 000019
【国際調査報告】
2009078313.tif 000020
2009078313.tif 000021
2009078313.tif 000022
2009078313.tif 000023
2009078313.tif 000024