(57)【要約】  高い表面硬度と透視解像性を維持しつつ干渉縞が目立たない光学用フィルムを提供する。  光学用フィルム１は、透明基材層１２を有する。透明基材層１２の少なくとも一方の面には、下引き層１４が積層してある。下引き層１４の上には、透明ハードコート層１６が積層してある。透明ハードコート層１６の上には、反射防止層１８が積層してある。反射防止層１８は、透明ハードコート層１６の屈折率より低い低屈折率の層である。透明基材層１２の屈折率をｎ０、下引き層１４の屈折率をｎ１、透明ハードコート層１６の屈折率をｎ２、反射防止層１８の屈折率をｎ３とした場合に、ｎ３＜ｎ２≦ｎ１≦ｎ０で、かつ（ｎ０−ｎ３）≦０．５の関係を満足するように設計されている。
2009116363.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材層と、前記透明基材層の少なくとも一方の面に積層された下引き層と、少なくとも何れかの前記下引き層の表面に積層された透明ハードコート層と、前記透明ハードコート層の表面に積層された反射防止層とを、有する光学用フィルムであって、
前記透明基材層の屈折率をｎ０、前記下引き層の屈折率をｎ１、前記透明ハードコート層の屈折率をｎ２、前記反射防止層の屈折率をｎ３としたときに、ｎ３＜ｎ２≦ｎ１≦ｎ０で、かつ（ｎ０−ｎ３）≦０．５の関係を満足することを特徴とする光学用フィルム。
【請求項２】
請求項１記載の光学用フィルムであって、
（ｎ０−ｎ１）≦０．２、（ｎ１−ｎ２）≦０．１５、（ｎ２−ｎ３）≧０．０８であることを特徴とする光学用フィルム。
【請求項３】
請求項１又は２記載の光学用フィルムであって、
前記ｎ０が１．４５〜１．７５、前記ｎ１が１．４０〜１．７０、前記ｎ２が１．３５〜１．７０、前記ｎ３が１．２０〜１．４７であることを特徴とする光学用フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項記載の光学用フィルムであって、
前記反射防止層の厚みが２μｍ以下であることを特徴とする光学用フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項記載の光学用フィルムであって、
前記下引き層のＪＩＳ−Ｋ６７６８（１９９９）に準拠して測定したぬれ張力の値が４０ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする光学用フィルム。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項記載の光学用フィルムであって、
ＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００）に準拠して測定したヘーズの値が５％以下であることを特徴とする光学用フィルム。
【請求項７】
透明基板の少なくとも一方の面に透明導電膜を有する積層体であって、
前記透明基板が、請求項１〜６の何れか一項記載の光学用フィルムで構成されていることを特徴とする積層体。
【請求項８】
第１の透明導電膜が第１の透明基板に形成された第１の電極基板と、第２の透明導電膜が前記第１の透明導電膜と所定の間隙を空けて対向するように第２の透明基板に形成された第２の電極基板とを、有するタッチパネルであって、
前記第１の透明基板及び前記第２の透明基板の少なくとも何れかが、請求項１〜６の何れか一項記載の光学用フィルムで構成されていることを特徴とするタッチパネル。
【請求項９】
請求項８記載の透明タッチパネルであって、
前記第１の電極基板及び前記第２の電極基板のうち何れか一方が可動側電極基板であり、何れか他方が固定側電極基盤であるとともに、前記可動側電極基板が、請求項１〜６の何れか一項記載の光学用フィルムで構成されている透明基板を含むことを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光学用フィルム、積層体及びタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
表面硬度が高く、傷が付き難い透明な樹脂膜（以下、「透明ハードコート膜」とする。）を透明基材フィルムの表面に形成した光学用フィルムは知られている（特許文献１）。【０００３】
【特許文献１】特開２００３−３３４８９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の光学用フィルムでは、干渉縞が目立つ傾向にある。こうした干渉縞は、透明ハードコート膜の厚みムラを完全に無くすことにより理論上は解消することができる。しかしながら、現在の製膜精度で透明ハードコート膜の厚みムラを完全に無くすことは困難である。【０００５】
厚みムラに起因する干渉縞を解消する方策として、透明基材フィルムと透明ハードコート膜の屈折率を同一に設計することが考えられる。しかしながら、このように屈折率を制御すると、透明ハードコート膜の表面硬度が低下することは避けられない。【０００６】
また、厚みムラに起因する干渉縞を解消する別の方策として、透明ハードコート膜にマット剤を多量に含有させ、透明ハードコート膜の表面に凹凸を付与することも考えられる。しかしながら、透明ハードコート膜の表面に凹凸を付与すると、光学用フィルムを介して観察される像の解像性（透視解像性）が低下する。【０００７】
発明が解決しようとする課題は、高い表面硬度と透視解像性を維持しつつ干渉縞が目立たない光学用フィルムを提供することである。また、この光学用フィルムを含む積層体と、この積層体を含むタッチパネルを提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明は、透明基材層、下引き層、透明ハードコート層及び反射防止層に向けて各層の屈折率が小さくなり、かつ透明基材層と反射防止層の屈折率差が所定値以下になるよう設計することによって、上記課題を解決する。
【発明の効果】
【０００９】
上記発明によれば、光学用フィルムを構成する各層の屈折率を所定の関係に設計するので、高い表面硬度と透視解像性を維持しながら、光学用フィルムの干渉縞を目立たなくすることができる。また、各層の屈折率を所定の関係に設計するので、最表面に薄厚の反射防止層を形成しても厚みムラに起因する干渉縞の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１はこの発明の一例に係る光学用フィルムを示す断面図である。
【図２】図２は図１の光学用フィルムを有する積層体を示す断面図である。
【図３】図３は図２の積層体を有するタッチパネルを示す断面図である。
【符号の説明】
【００１１】
１…光学用フィルム、１２…基材層、１４…下引き層、１６…樹脂層、１８…反射防止層、３…積層体、３２…透明基板、３４…透明導電膜、５…タッチパネル、５２…上電極基板（第１の電極基板）、５２２…上透明基板（第１の透明基板）、５２４…上透明導電膜（第１の透明導電膜）、５４…下電極基板（第２の電極基板）、５４２…下透明基板（第２の透明基板）、５４４…下透明導電膜（第２の透明導電膜）、５６，５８…スペーサ、７…接着層、９…表示素子。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、上記発明の実施形態を図面に基づいて説明する。【００１３】
なお、この実施形態では、厚みムラに起因する干渉縞及びこの干渉縞による色ムラを「干渉ムラ」とする。【００１４】
《光学用フィルム》
図１に示す光学用フィルム１は、透明基材層１２を有する。透明基材層１２の少なくとも一方の面には、下引き層１４が積層してある。下引き層１４の上には、透明ハードコート層１６が積層してある。透明ハードコート層１６の上には、反射防止層１８が積層してある。反射防止層１８は、透明ハードコート層１６の屈折率より低い低屈折率の層である。【００１５】
《透明基材層》
透明基材層１２としては、特に制限はなく、光学用フィルム１の基材として通常使用される樹脂基材で構成される。特に可撓性を持つ樹脂基材であることが好ましい。樹脂基材を構成する樹脂の種類は特に限定されない。例えばフィルム状やシート状で樹脂基材を形成する場合の樹脂としては、例えばポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、環状オレフィンなどが挙げられる。中でも、機械的強度や寸法安定性に優れていることから、二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートで透明基材層１２を構成することが好ましい。耐熱性が必要な用途に使用を望む場合は、耐熱性に優れるポリエチレンナフタレートで透明基材層１２を構成することが好ましい。これらの樹脂基材は、透明及び半透明のいずれであってもよいが、透明であることが好ましい。ここで「透明」とは、全光線透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上をいう。また、着色されていてもよいし、無着色のものでもよく、用途に応じて適宜選択すればよい。【００１６】
透明基材層１２の厚みは、取り扱い上で支障のない程度であれば特に限定されず、例えば１０〜５００μｍ程度、好ましくは１２〜３５０μｍである。【００１７】
《下引き層》
下引き層１４は、透明ハードコート層１６のハードコート性を低下させることなく、透明基材層１２との密着性を向上させるために設けられる。下引き層１４は、透明基材層１２の少なくとも一方の面に設けられていれば良く、透明基材層１２の両面に設けられていても良い。【００１８】
下引き層１４は、例えば、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂で構成することができる。熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂としては、例えばポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアタリレート系樹脂、ポリウレタンアタリレート系樹脂、エポキシアタリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。【００１９】
下引き層１４の厚みは、０．０３〜１μｍ程度が好ましい。下引き層１４の厚みを所定厚み以上とすることで、透明基材層１２や透明ハードコート層１６との密着性を向上させることができる。下引き層１４の厚みを所定厚み以下とすることで、透明ハードコート層１６のハードコート性の低下を防止することができるとともに、透明ハードコート層１６や反射防止層１８を積層した際に、光学用フィルム１全体に色味がつくことも防止される。【００２０】
この実施形態の下引き層１４は、ＪＩＳ−Ｋ６７６８（１９９９）に準拠して測定されたぬれ張力の値が、４０ｍＮ／ｍ以上に調整されることが好ましい。ぬれ張力の値を所定値以上とすることにより、透明ハードコート層１６がムラなく均一で平滑な塗膜で形成される。これにより、透明ハードコート層１６の厚みムラに起因する干渉ムラを低減することが可能となる。また、透明基材層１２と透明ハードコート層１６との密着性不良を抑制することもできる。また、干渉ムラを防止することにより、反射模様による透視解像性が悪くなることを防止することができる。なお、下引き層１４のぬれ張力は、樹脂の本来の性質により４０ｍＮ／ｍ以上となるものに限られない。下引き層１４の表面にコロナ放電処理等を施すことによりぬれ張力を高め、４０ｍＮ／ｍ以上にしたものであってもよい。【００２１】
《透明ハードコート層》
透明ハードコート層１６は、光学用フィルム１の表面硬度を高くし、表面に傷が発生することを防止するために設けられる。したがって、この実施形態の透明ハードコート層１６は、表面硬度が、好ましくはＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上、さらに好ましくは３Ｈ以上に調整されている。表面硬度が所定値以上に調整されていることにより、光学用フィルム１の表面に傷が付くことを効果的に防止することができる。表面硬度の値は、ＪＩＳ−Ｋ５４００（１９９０）に準拠した方法で測定した鉛筆引っかき値（鉛筆硬度）で示される。【００２２】
透明ハードコート層１６は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの樹脂で構成される。特に、電離放射線硬化性樹脂で構成した場合には、表面硬度等に代表されるハードコート性を発揮できるため好ましい。【００２３】
熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂としては、下引き層１４を構成する樹脂と同一の樹脂が挙げられる。【００２４】
電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線（紫外線または電子線）の照射によって架橋硬化する光重合性プレポリマーを用いることができる。この実施形態では、後述の光重合性プレポリマーを単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。【００２５】
光重合性プレポリマーには、カチオン重合型とラジカル重合型とがある。【００２６】
カチオン重合型光重合性プレポリマーとしては、エポキシ系樹脂やビニルエーテル系樹脂などが挙げられる。エポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。【００２７】
ラジカル重合型光重合性プレポリマーとしては、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有し、架橋硬化することにより３次元網目構造となるアクリル系プレポリマー（硬質プレポリマー）が、ハードコート性の観点から特に好ましく使用される。【００２８】
アクリル系プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、ポリフルオロアルキルアクリレート、シリコーンアクリレート等が挙げられる。【００２９】
ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えばポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、又は、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラックエポキシ樹脂のオキシラン環と、（メタ）アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。アクリル系プレポリマーは単独でも使用可能であるが、架橋硬化性の向上や、硬化収縮の調整等、種々の性能を付与するために、光重合性モノマーを加えることが好ましい。【００３０】
光重合性モノマーとしては、単官能アクリルモノマー（例えば２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート等）、２官能アクリルモノマー（例えば１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等）、３官能以上のアクリルモノマー（例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等）が挙げられる。なお、「アクリレート」には、文字通りのアクリレートの他、メタクリレートも含む。これらの光重合性モノマーは単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。【００３１】
透明ハードコート層１６を形成する際に、紫外線照射によって硬化させて使用する場合には、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの他に、光重合開始剤、光重合促進剤、紫外線増感剤等の添加剤を配合することが好ましい。【００３２】
光重合開始剤としては、ラジカル重合型光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等が挙げられる。カチオン重合型光重合性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。光重合促進剤としては、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどが挙げられる。紫外線増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンなどが挙げられる。【００３３】
これら添加剤の配合量は、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの合計１００重量部に対して、通常０．２〜１０重量部の範囲で選ばれる。【００３４】
また、上述した光重合性プレポリマーや光重合性モノマーなどに代え、電離放射線硬化性樹脂として、電離放射線硬化型有機無機ハイブリッド樹脂を用いることもできる。電離放射線硬化型有機無機ハイブリッド樹脂とは、ガラス繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）で代表される昔からの複合体と異なり、有機物と無機物の混ざり方が緊密であり、また分散状態が分子レベルかそれに近いもので、電離放射線の照射により、無機成分と有機成分が反応して、被膜を形成することができるものである。【００３５】
本実施形態で用いることのできる電離放射線硬化型有機無機ハイブリッド樹脂の無機成分としては、シリカ、チタニア等の金属酸化物が挙げられるが、中でもシリカを用いたものが好ましい。このようなシリカとしては、表面に光重合反応性を有する感光性基が導入された反応性シリカが挙げられる。【００３６】
電離放射線硬化型有機無機ハイブリッド樹脂は、無機成分の含有率が１０重量％〜５０重量％であることが好ましく、さらには２０重量％〜４０重量％であることが好ましい。【００３７】
次に、有機成分としては、前記反応性シリカと重合可能な重合性不飽和基を有する化合物、例えば、分子中に２個以上の重合性不飽和基を有する多価不飽和有機化合物、または分子中に１個の重合性不飽和基を有する単価不飽和有機化合物等を挙げることができる。【００３８】
本実施形態の透明ハードコート層１６には、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、必要に応じて、添加成分を適宜配合してもよい。添加成分としては、例えば、表面調整剤、滑剤、着色剤、顔料、染料、蛍光増白剤、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、可塑剤、レベリング剤、流動調整剤、消泡剤、分散剤、貯蔵安定剤、架橋剤、シランカップリング剤、マット剤等が挙げられる。特に、ブロッキング防止性を付与するという観点から、透視解像性を阻害しない範囲でマット剤を極少量（例えば樹脂成分１００重量部に対して０．１〜５．０重量部程度）、添加してもよい。
添加可能なマット剤の種類としては、特に限定されず、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、シリカ、カオリン、クレー、タルク等の無機粒子や、アクリル樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレタン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等の樹脂粒子が挙げられる。このようなマット剤としては、取扱い性、および表面形状の制御のしやすさという観点から、球形の微粒子を用いることが好ましく、透明性を阻害しないという観点からは樹脂粒子を用いることが好ましい。
また、樹脂成分としてハイブリッド樹脂を用いた場合には、透明ハードコート層１６内でマット剤が表面に集まる傾向があり、この現象はシリカ微粒子を用いた場合に特に顕著に生じる。こうした現象は本実施形態では好ましい。このためシリカ微粒子を用いることも好ましい。
マット剤の大きさ（平均粒子径）は、特に限定されるものではないが、好ましくは０．２μｍ〜２０μｍ、より好ましくは１．０μｍ〜１５μｍ、さらに好ましくは２．０μｍ〜１０μｍである。【００３９】
ただし、例えば光学用フィルムとしたときのＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００）に準拠した方法で測定したヘーズ値が、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましい。【００４０】
上述した下引き層１４と透明ハードコート層１６の各層を構成する樹脂は、主成分となる樹脂の溶解度係数が相互に近いものを選択することが、層間の密着性を向上させるため好ましい。特に、溶解度係数の差が１以内のものが好ましい。【００４１】
例えば、透明ハードコート層１６に電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、電離放射線硬化性樹脂を構成するプレポリマーの主たるオリゴマー成分の溶解度係数と、下引き層１４の主たる樹脂を構成するモノマー成分の溶解度係数の差が、１以内になるように樹脂を選択する。具体的には、透明ハードコート層１６を形成する電離放射線硬化性樹脂のオリゴマー成分がウレタンアクリレートの場合、その溶解度係数は１０であるから、この溶解度係数１０との差が１以内の飽和ポリエステル樹脂によって下引き層１４を形成することができる。なお、溶解度係数は、ｖｏｎ  Ｋｒｅｅｖｅｌｅｎが提唱した原子団総和法によるものであり、具体的には、下記非特許文献１に記載の方法により算出することができる。【００４２】
【非特許文献１】Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ，Ｆｏｕｒｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，ｌｎｃ．，１９９９（ＶＩＩ／６７５頁〜ＶＩＩ／６８６頁）
【００４３】
透明ハードコート層１６は、その厚みが、０．１〜３０μｍ程度であることが好ましい。より好ましくは０．５〜１５μｍ、さらに好ましくは２〜１０μｍとする。透明ハードコート層１６の厚みを０．１μｍ以上とすることで、透明ハードコート層１６に十分な表面硬度（ハードコート性）を発揮させることができる。なお、透明ハードコート層１６の厚みを３０μｍ超としても透明ハードコート層１６の表面硬度がさらに向上するわけではない。また透明ハードコート層１６の厚みが厚くなるに従って当該透明ハードコート層１６の硬化収縮によるカールが発生しやすくなるとともに、紫外線照度不足による硬化不足が生じたり、下引き層１４との密着性が低下することもある。従って、経済性、カール防止性、硬化不足の解消、下引き層１４との密着性の観点からは、透明ハードコート層１６の厚みを３０μｍ以下にすることが有効である。【００４４】
《反射防止層》
反射防止層１８は、透明ハードコート層１６の表面部分での映り込みを減少させ、光学用フィルム１全体の全光線透過率を向上させるために設けられる。表面部分での映り込みを防止するために、透明ハードコート層１６の屈折率を小さく設計することも考えられる。しかしながら、屈折率が小さくなるように透明ハードコート層１６を設計すると、透明ハードコート層１６のハードコート性が低下することがある。そこでこの実施形態では、透明ハードコート層１６のハードコート性を低下させることなく、表面部分での映り込みを防止するために、透明ハードコート層１６の屈折率より低い屈折率を持つ反射防止層１８を、透明ハードコート層１６の表面に薄い厚みで形成することにしたものである。すなわちこの実施形態の反射防止層１８は、透明ハードコート層１６よりも屈折率の低い材料で構成される。このような材料の種類に特に制限はなく、例えばケイ素系樹脂、フッ素系樹脂、金属酸化物ゾルや、これらに金属酸化物微粒子、好ましくは多孔状または中空状の金属酸化物微粒子を加えたものが挙げられる。また上述した透明ハードコート層１６の説明欄で列挙した樹脂に前記金属酸化物微粒子を加えたものも使用可能である。【００４５】
金属酸化物ゾルとしては、シリカ、アルミナゾルなどが挙げられる。これら金属酸化物ゾルの中でも、屈折率、流動性、コストの観点から、シリカゾルが好適に使用される。なお、金属酸化物ゾルとは、金属酸化物の存在によってチンダル現象を観測できない材料をいい、いわゆる均一溶液のことをいう。例えば、一般にコロイダルシリカゾルと言われる材料であっても、チンダル現象が観測されるものであれば、この実施形態では金属酸化物ゾルに含まれないものとする。【００４６】
このような金属酸化物ゾルは、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジルコニアプロポキシド、アルミニウムイソプロポキシド、チタンブトキシド、チタンイソプロポキシドなどの金属アルコキシドを加水分解して調整することができる。金属酸化物ゾルの溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、アセトン、１，４一ジオキサンなどが挙げられる。【００４７】
金属酸化物微粒子は、上述した金属酸化物を微粉末化したものであり、シリカ微粒子、アルミナ微粒子などが挙げられる。これらの中でも屈折率、流動性、コストの観点から、シリカ微粒子が好適に使用される。また、金属酸化物微粒子の形状は特に制限されることはないが、屈折率の低い多孔状又は中空状の金属酸化物微粒子が好適に使用される。【００４８】
このような金属酸化物微粒子としては、これを分散液とした際にチンダル現象が観測されるような一定の粒子径を有するものを使用する。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、前記条件を満たす限り特に制限されることはないが、４０〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。平均粒子径が４０ｎｍ以上の微粒子を用いることにより、反射防止層１８の表面に浮上する金属酸化物粒子がなくなり、表面硬度の低下を防止することができ、１００ｎｍ以下の微粒子を用いることで、反射防止層１８から金属酸化物微粒子がはみ出すことがなくなり、表面硬度の低下を防止することができる。また、透明性を良好なものとするために、金属酸化物微粒子の平均粒子径は、さらに好ましくは４０〜７０ｎｍの範囲とする。【００４９】
金属酸化物ゾルと金属酸化物微粒子の混合割合は、特に限定されるものではないが、金属酸化物ゾル中の金属酸化物成分１００重量部に対し、金属酸化物微粒子が、好ましくは５重量部以上、より好ましくは２０重量部以上であり、好ましくは２００重量部以下、より好ましくは１００重量部以下である。【００５０】
反射防止層１８の厚みは、光の反射防止理論より次式を満たすことが好ましい。【００５１】
［数１］  ｄ＝（ａ十１）λ／４ｎ３【００５２】
ここで、ｄは反射防止層１８の厚み（単位は「ｎｍ」）、ａは０又は正の偶数、λは反射を防止しようとする光の中心波長、ｎ３は反射防止層１８の屈折率である。具体的には、例えば２μｍ程度以下が好ましく、より好ましくは１μｍ以下、さらに好ましくは０．８μｍ以下、特に好ましくは０．５μｍ以下、最も好ましくは０．３μｍ以下である。【００５３】
反射防止層１８の厚みが厚くなると、厚みムラに起因する干渉ムラが発生し難くなる反面、下面に設けられる透明ハードコート層１６のハードコート性が発揮され難くなる。この実施形態では、透明ハードコート層１６のハードコート性の低下と光干渉による反射防止効果の低下を防止するために、当該透明ハードコート層１６の表面に反射防止層１８を薄く形成する。反射防止層１８を薄く形成すると、反射防止層１８に厚みムラが生じやすく、この反射防止層１８自体の厚みムラに起因して干渉ムラが発生しやすい。この実施形態では、光学用フィルム１の各層が後述のように設計されるので、反射防止層１８を薄く形成しても、反射防止層１８の厚みムラに起因する干渉ムラの発生を効果的に防止することができる。【００５４】
上述した下引き層１４、透明ハードコート層１６、反射防止層１８の形成方法としては、各々の構成成分や必要に応じて他の成分を配合して、さらに適当な溶媒に溶解又は分散させて塗布液を調製し、当該塗布液をロールコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、エアナイフコーティング法、ダイコーティング法、ブレードコーティング法、スピンコーティング法、グラビアコーティング法、フローコーティング法、スクリーン印刷法などの公知の方法により透明基材層１２に順次塗布して乾燥させ、必要であれば適宜必要な硬化方法で硬化させることにより形成することができる。【００５５】
この実施形態では、透明基材層１２の屈折率をｎ０、下引き層１４の屈折率をｎ１、透明ハードコート層１６の屈折率をｎ２、反射防止層１８の屈折率をｎ３とした場合に、少なくともこれら４層の屈折率が、所定の関係を有するように設計されている点が特徴である。本発明者らは、光学用フィルム１を構成する各層１２，１４，１６，１８の屈折率ｎ０〜ｎ３を特定の関係にすることで、厚みムラに起因する干渉ムラを目立たなくすることができることを見出した。【００５６】
具体的にはこの実施形態では、ｎ３＜ｎ２≦ｎ１≦ｎ０で、かつ（ｎ０−ｎ３）≦０．５、好ましくは（ｎ０−ｎ３）≦０．３の関係を満足するように設計されている。透明基材層１２と透明ハードコート層１６との間に下引き層１４が配置され、透明基材層１２、下引き層１４及び透明ハードコート層１６の屈折率ｎ０，ｎ１及びｎ２が上記の関係を満たす場合、これら３層の界面の屈折率差が小さくなる。またこの実施形態では、透明ハードコート層１６の上に、さらに、この透明ハードコート層１６の屈折率ｎ２よりも低い屈折率ｎ３を持つ反射防止層１８が薄い膜厚で積層される。これにより、透明ハードコート層１６の厚みムラに起因する干渉ムラの発生を抑制しつつ、光学用フィルムの透視解像性が高いレベルで保持される。その結果、干渉ムラが目立たず、かつ透視解像性の高い光学用フィルムを得ることができる。ｎ３＜ｎ２≦ｎ１≦ｎ０の関係を満たしていても、透明基材層１２と反射防止層１８の屈折率の差が０．５より大きくなると、各層の界面で起こる屈折率変化が大きくなり、干渉ムラを抑制できない。【００５７】
一般に、干渉ムラを抑制するため、透明ハードコート層１６をフッ素樹脂などから形成し、透明基材層１２と透明ハードコート層１６の屈折率を小さくすることが考えられる。しかしながらこの場合、透明ハードコート層１６が脆くなりやすいとともに、透明基材層１２との密着性も低下するため好ましくない。この実施形態では、下引き層１４を配置し、３層の屈折率差を適切に設定することにより、このような問題を生じさせることなく、干渉ムラを抑制する。また、この実施形態では、透明ハードコート層１６の上に、さらに、この透明ハードコート層１６の屈折率ｎ２よりも低い屈折率ｎ３を持つ反射防止層１８を薄い膜厚で積層することにより、表面部分での映り込みを防止しつつ、光学用フィルムの透視解像性を高いレベルで保持することができる。【００５８】
なお、透明ハードコート層１６を電離放射線硬化性樹脂で構成した場合、透明ハードコート層１６の屈折率ｎ２は１．４０〜１．５０程度となる。このため、透明基材層１２との屈折率差を小さくするとともに、反射防止性の向上に寄与させる観点からは、電離放射線硬化性樹脂の屈折率よりも高い屈折率を持つ無機微粒子を透明ハードコート層１６に含有させ、透明ハードコート層１６の屈折率を引き上げるようにしても良い。このような無機微粒子としては、具体的には屈折率が１．９以上のものが好ましく、例えば酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉛、酸化インジウム、金、銀などが挙げられる。中でも、透明性及び汎用性の観点から、酸化チタン、酸化ジルコニウムが好適に用いられる。また、紫外線遮断性を付与できる点で、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化鉛が好適に用いられる。また、帯電防止性を付与できる点で、アンチモンをドープした酸化錫や、錫をドープした酸化インジウムなどが好適に用いられる。【００５９】
このような無機微粒子の平均粒子径は０．１μｍ以下であることが好ましい。平均粒子径が０．１μｍ以下の無機微粒子を用いることで、透明ハードコート層１６の光の乱反射を防止し、透明性の低下を防止することができる。【００６０】
透明ハードコート層１６における無機微粒子の含有量は、特に限定されるものではなく、また無機微粒子の種類によっても異なってくるので一概にいえないが、バインダ成分としての樹脂と無機微粒子の体積比で、１：０．５〜１：２程度となるような含有量とすることが好ましい。このようにして透明ハードコート層１６に無機微粒子を含有させることで、透明ハードコート層１６の屈折率ｎ２を後述の範囲に調節しやすくすることができる。【００６１】
この実施形態では、隣接する各層の屈折率の差が以下の関係を満足するように設計されていることが好ましい。ｎ０とｎ１の差が０．２以下、好ましくは０．１以下である。ｎ１とｎ２の差が０．１５以下、好ましくは０．１以下である。ｎ２とｎ３の差が０．０８以上、好ましくは０．１以上である。このように隣接する各層の屈折率の差を小さくすることで、干渉ムラの抑制にさらに有利となる。なお、ｎ２とｎ３の差が大きくなるほど、表面部分での映り込みが少なくなる傾向にある。【００６２】
特に干渉ムラの防止をより向上させる観点から、透明基材層１２の屈折率ｎ０は、好ましくは１．４５〜１．７５、より好ましくは１．５０〜１．７５である。下引き層１４の屈折率ｎ１は、好ましくは１．４０〜１．７０、より好ましくは１．４５〜１．７０である。透明ハードコート層１６の屈折率ｎ２は、好ましくは１．３５〜１．７０、より好ましくは１．４５〜１．７０である。反射防止層１８の屈折率ｎ３は、好ましくは１．２０〜１．４７、より好ましくは１．２０〜１．４５である。【００６３】
なお、この実施形態では、透明基材層１２の一方の面にのみ、透明ハードコート層１６を設ける場合を例示するが、透明ハードコート層１６は、透明基材層１２の両面に設けてもよい。この場合、透明基材層１２の一方の面に、下引き層１４、透明ハードコート層１６及び反射防止層１８を順次積層するとともに、透明基材層１２の他方の面に透明ハードコート層１６とは別の透明ハードコート層（図示省略）を設けてもよい。あるいは、透明基材層１２を中心に、一方の面と他方の面のそれぞれに下引き層１４及び透明ハードコート層１６を設け、少なくとも片面で、好ましくは両面のそれぞれで、上述した屈折率条件（ｎ３＜ｎ２≦ｎ１≦ｎ０で、かつ（ｎ０−ｎ３）≦０．５）を満たすようにしてもよい。【００６４】
また、反射防止層１８についても透明基材層１２の両面に設けてもよい。この場合、透明基材層１２の一方の面に、下引き層１４、透明ハードコート層１６及び反射防止層１８を順次積層するとともに、透明基材層１２の他方の面に反射防止層１８とは別の反射防止層（図示省略）を設けることができる。【００６５】
また、透明基材層１２の一方の面に、下引き層１４、透明ハードコート層１６及び反射防止層１８を順次積層するとともに、透明基材層１２の他方の面に、粘着層（図示省略）を設けることもできる。粘着層の材質としては、例えば、天然ゴム系、再生ゴム系、クロロプレンゴム系、ニトリルゴム系、スチレン・ブタジエン系などのエラストマー粘着剤、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ウレタン系、シアノアクリレート系などの合成樹脂粘着剤のほか、エマルジョン系粘着剤などの公知の粘着剤が挙げられる。粘着層は、粘着性を発揮させるために厚み１５μｍ以上にするのが一般的である。このため、干渉ムラには殆ど影響を与えない。【００６６】
なお、各層１２，１４，１６，１８及び粘着層には、紫外線吸収性能をもたせることも可能である。特に３５０〜３８０ｎｍの範囲の光線透過率を０．１％〜７０％程度とした場合、ハードコート性を保持しながら、耐候性を付与することができる。透明ハードコート層１６に、電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、電離放射線硬化性樹脂が硬化する紫外線領域と吸収する紫外線領域を調整することにより、透明ハードコート層１６の硬化に影響を与えることなく、紫外線吸収性の付与できる。例えば、紫外線吸収剤の吸収波長域のピークと２０ｎｍ以上異なる位置に吸収波長域のピークを有する光重合開始剤を用いることが好ましい。このようにすることにより透明ハードコート層１６を十分に硬化させることができ、優れたハードコート性を付与することができる。【００６７】
画像表示素子としての液晶表示素子は、携帯用の電子手帳や情報端末などへの入力装置に応用される。この種の入力装置は、ものがはっきり見える特定波長の発光強度が強い三波長蛍光灯の下で使用されることが多い。一方、この種の入力装置に液晶表示素子を用いる場合、液晶表示素子の上に透明なタッチパネルを載せた構造が採用される。この種のタッチパネルには、透明基材フィルムの表面に透明ハードコート膜が形成された光学用フィルムが表面基板として使用される。【００６８】
この実施形態では、透明基材層１２、下引き層１４、透明ハードコート層１６及び反射防止層１８の各屈折率ｎ０〜ｎ３を特定の関係に設計している。これにより、表面硬度と透視解像性を低下させずに、特に三波長蛍光灯を照明とする環境において、現在の製膜精度では完全に無くすことが困難な厚みムラに起因する干渉ムラを目立たなくすることができる。【００６９】
この実施形態の光学用フィルム１は、干渉ムラが目立たないため、帯電防止フィルム、赤外線遮蔽フィルム、反射防止フィルム、飛散防止フィルム、タッチパネルなどに用いることができる。【００７０】
《積層体》
図２に示す積層体３は、透明基板３２と、透明基板３２の少なくとも一方の面に積層された透明導電膜３４とを有する。この実施形態では、透明基板３２を図１に示す光学用フィルム１で構成してある。【００７１】
なお説明の便宜上、光学用フィルム１の反射防止層１８が設けられている面とは反対面を「背面」、光学用フィルム１の反射防止層１８が設けられている面を「前面」とする。この実施形態では、透明導電膜３４を、透明基板３２を構成する光学用フィルム１の背面に設ける場合を例示するが、前面に設けることもできる。【００７２】
透明導電膜３４としては、例えば一般的に広く知られた透明導電性材料や有機導電性材料などで構成することができる。【００７３】
透明導電性材料としては、例えば、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫、金、銀、パラジウムなどの透明導電性物質が挙げられる。【００７４】
有機導電性材料としては、例えばポリパラフェニレン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリピロール、ポリフラン、ポリセレノフェン、ポリピリジン等の導電性高分子が挙げられる。中でも、透明性と導電性に優れ、比較的低コストに得られる酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫のいずれかを主成分とした透明導電性材料で構成されていることが好ましい。【００７５】
透明導電膜３４は、上述した導電性材料を用いて、ドライプロセス（例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法など）やウェットプロセス（例えば溶液塗布法など）により、薄膜状態で形成することができる。【００７６】
透明導電膜３４の厚みは、適用する材料によっても異なるため一概には言えないが、表面抵抗率で１０００Ω以下、好ましくは５００Ω以下になるような厚みとする。例えば、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。経済性を考慮すると、８０ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下の範囲が好適である。このような薄膜においては透明導電膜１０４の厚みムラに起因する可視光の干渉縞は発生しにくい。また、全光線透過率は通常８０％以上であることが好ましく、８５％以上がさらに好ましく、８８％以上が特に好ましい。【００７７】
この実施形態の積層体３は、干渉ムラが目立たないため、帯電防止フィルムや赤外線遮蔽フィルム、反射防止フィルム、タッチパネルなどの電極基板として使用することができる。以下の説明では、この実施形態の積層体３をタッチパネルに使用する場合を例示する。【００７８】
《タッチパネル》
図３に示すタッチパネル５は、各種電子機器（例えば携帯電話やカーナビ等）に設けられる液晶等の表示素子９の前面に装着される抵抗膜方式のタッチパネルである。このタッチパネル５を通して背面の表示素子９に表示された文字や記号、絵柄等の視認や選択を行い、指や専用ペン等で押圧操作することによって、機器の各機能の切換えを行うことができる。【００７９】
この実施形態のタッチパネル５は、上電極基板（第１の電極基板）５２と、下電極基板（第２の電極基板）５４とを有する。上電極基板５２は、上透明基板（第１の透明基板）５２２を有する。上透明基板５２２の下面には、上透明導電膜（第１の透明導電膜）５２４が形成されている。下電極基板（第２の電極基板）５４は、下透明基板（第２の透明基板）５４２を有する。下透明基板５４２の上面には、下透明導電膜（第２の透明導電膜）５４４が形成されている。【００８０】
タッチパネル５は、上電極基板５２側と下電極基板５４側の何れかが可動電極であってもよいが、この実施形態では、上電極基板５２を可動電極とし、下電極基板５４を固定（非可動）電極とする場合を例示する。【００８１】
この実施形態では、上電極基板５２の下面と下電極基板５４の上面のそれぞれの外周部分は、略額縁状のスペーサ５６を介して貼り合わされている。また、上電極基板５２の上透明導電膜５２４と、下電極基板５４の下透明導電膜５４４とが、所定の間隙を空けて対向するように配置されている。下透明導電膜５４４の上面には、必要に応じてドット状のスペーサ５８が所定間隔で複数配置される。なお、スペーサ５８は必要に応じて配置すれば良く、スペーサ５８を配置しない構成にすることも可能である。【００８２】
上下透明導電膜５２４，５４４の両端には、それぞれ一対の電極（図示省略）が形成されている。この実施形態では、上透明導電膜５２４に形成される一対の上電極（図示省略）と、下透明導電膜５４４に形成される一対の下電極（図示省略）とは、互いに交差する方向に配置されている。【００８３】
なお、この実施形態では、下電極基板５４の下面には、接着層７を介してセパレータ（図示省略）が貼付してあってもよい。【００８４】
この実施形態のタッチパネル５を、例えばカラー液晶等の表示素子９の前面に搭載するには、まずこの実施形態のタッチパネル５のセパレータ（図示省略）を剥がして接着層７を露出させ、表示素子９の前面に対向するように接触させる。これにより、タッチパネル付きカラー液晶表示素子を形成することができる。【００８５】
このタッチパネル付き液晶表示素子では、ユーザがタッチパネル５の背面に配置される表示素子９の表示を視認しながら、指やペン等で上電極基板５２の上面を押圧操作すると、上電極基板５２が撓み、押圧された箇所の上透明導電膜５２４が下透明導電膜５４４に接触する。この接触を上述した一対の上下電極を介して電気的に検出することにより、押圧された位置が検出される。【００８６】
この実施形態では、可動電極としての上電極基板５２を、図２に示す積層体３で構成してある。積層体３の透明導電膜３４が上透明導電膜５２４に相当する。すなわち、上電極基板５２の上透明基板５２２が、図１に示す光学用フィルム１で構成してあり、光学用フィルム１の背面に、上透明導電膜５２４が積層してある構成である。【００８７】
この実施形態では、固定電極としての下電極基板５４の下透明基板５４２は、例えばガラスなどで構成される。【００８８】
この実施形態のタッチパネル５は、可動電極として、図２に示す積層体３を用いているため、干渉ムラを抑制することができる。積層体３に用いられている図１に示す光学用フィルム１は、高いハードコート性及び高い透視解像性を有するため、タッチパネル５に傷がつきにくく、タッチパネル５の背面に配置される液晶等の表示素子９の表示が見やすいというという効果が得られる。【００８９】
なお、この実施形態では、可動電極に加えて、固定電極（下電極基板５４）にも、図２に示す積層体３を用いることもできる。これにより、より軽く、より薄型で、割れにくいタッチパネルとすることができる。
【実施例】
【００９０】
次に、上記発明の実施形態をより具体化した実施例を挙げ、さらに詳細に説明する。なお、「部」、「％」は、特に示さない限り重量基準である。【００９１】
《実験例１》
まず、下引き層用塗布液、透明ハードコート層用塗布液及び反射防止層用塗布液を調製した。【００９２】
＜下引き層用塗布液＞
・ポリエステル系樹脂                      １部
（エリーテルＵＥ３２００、ユニチカ社）
・希釈溶剤                              ３２部
＜透明ハードコート層用塗布液＞
・電離放射線硬化性樹脂                      １００部
（固形分３５％、ヒタロイド７９７５、日立化成社）
・光重合開始剤                                  １部
（イルガキュア１８４、チバスペシャリティケミカルズ社）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート    １２部
なお、透明ハードコート層用塗布液に含まれるヒタロイド７９７５には、プレポリマーの主たるオリゴマー成分としてアクリルアクリレートが含有されている。【００９３】
＜反射防止層用塗布液＞
・シリカゾル（シリカ成分：１０％）    ２００部
・多孔状シリカ微粒子分散液            ２５０部
（シリカ成分：５％、平均粒子径：５５ｎｍ）
・イソプロパノール                    ３５０部
・ｎ−ブタノール                      ３５０部
なお、シリカゾルの調製は次のようにして行った。テトラエトキシシランのエタノール溶液に対し、塩酸を触媒として加水分解反応を行い、シリカ成分が１０％相当のシリカゾルを得た。得られたシリカゾルはチンダル現象を観察できないものであった。【００９４】
次に、調製した下引き層用塗布液を、透明基材層１２としての厚さ１００μｍの透明高分子フィルム（ポリエチレンテレフタレート、屈折率：１．６５）の一方の面にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、厚み約０．２μｍのポリエステル系樹脂製の下引き層１４（屈折率：１．６０）を形成した。【００９５】
次に、調製した透明ハードコート層用塗布液を、下引き層１４の上にバーコーター法により塗布し、乾燥させて塗膜を形成した。次に、形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させ、厚み約１０μｍ、電離放射線硬化性樹脂製の透明ハードコート層１６（屈折率：１．５３）を形成した。この時点で、透明ハードコート層１６の密着性（以下、「密着性１」ともいう。）を次のようにして評価した。「密着性１」については、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６に準拠したクロスカット法で、まず、透明ハードコート層１６側に対して、隙間間隔１ｍｍのマス目が１００個できるように切れ目を入れる。次に、切れ目が入れられた面にＪＩＳ−Ｚ１５２２に準拠するセロハン粘着テープを貼り、剥がした後の塗膜の状態を目視によって観察する。その結果、全く剥離が起きないものを「○」、わずかに剥離してしまうものを「△」、全て剥離してしまうものを「×」として評価した。【００９６】
次に、調製した反射防止層用塗布液を、透明ハードコート層１６の上にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、波長５５０ｎｍの付近で最小反射率となるように厚み約０．１μｍの反射防止層１８（屈折率：１．３６）を形成し、フィルム試料を得た。【００９７】
得られたフィルム試料について、下記の方法で、干渉ムラ、密着性２、透視解像性、鉛筆硬度を評価し、ヘーズと絶対鏡面反射の値を測定した。結果を表１に示す。【００９８】
（１）「干渉ムラ」については、まず黒色布上にフィルム試料を反射防止層を設けた面が上側となるように載置する。次に、このフィルム試料の反射防止層１８側に、三波長ランプによる照明光を照射する。次に、反射光に生じる干渉ムラを、反射光による三波長ランプの像が観察される位置から目視で観察する。その結果、干渉ムラがまったく目立たないものを「◎」、干渉ムラが目立たないものを「○」、干渉ムラがあるが目立たないものを「△」、干渉ムラがとても目立つものを「×」として評価した。【００９９】
（２）「密着性２」については、フィルム試料の反射防止層１８側に対して、９０°に直交するように２本の直線状の切れ目を入れた後の塗膜の状態を目視によって観察する。その結果、クロスした部分に剥離が起きていないものを「○」、剥離が起きているものを「×」として評価した。【０１００】
（３）「透視解像性」については、写像性測定器（ＩＣＭ−１ＤＰ：スガ試験機社）を用い、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠した方法で、フィルム試料に対して、光学くし２．０ｍｍの像鮮明度を測定した。その結果、測定値が９０％以上であったものを「○」、８０％以上９０％未満であったものを「△」、８０％未満であったものを「×」として評価した。なお、像鮮明度の測定は反射防止層１８側から光を入射させることにより行った。【０１０１】
（４）鉛筆硬度については、ＪＩＳ−Ｋ５４００（１９９０）に準拠した方法で、フィルム試料表面の鉛筆引っかき値を測定した。そして、得られた測定値が２Ｈ以上のものを「◎」、Ｈ以上２Ｈ未満のものを「○」、Ｈ未満のものを「×」として評価した。【０１０２】
（５）「ヘーズ」については、ヘーズメータ（ＮＤＨ２０００、日本電飾社）を用い、ＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００）に準拠した方法で、フィルム試料のヘーズの値を測定した（単位は「％」）。なお、ヘーズ値の測定は反射防止層１８側から光を入射させることにより行った。その結果、５％以下であったものを「○」、５％を超えるものを「×」として評価した。【０１０３】
（６）「絶対鏡面反射」については、まずフィルム試料の反射防止層を設けた面の反対面に黒色粘着テープを貼り付ける。次に、分光光度計（ＵＶ３１０１ＰＣ、島津製作所社）を用いて、フィルム試料の反射防止層が設けられた面における入射角５°及び反射角５°での鏡面反射率（この反射率は波長５５０ｎｍ付近の最小反射率を示す。単位は％）を測定する。その結果、測定結果が、２．０％以下であったものを「◎」、２．０％を超え３．０％以下であったものを「○」、３．０％を超えるものを「×」として評価した。数値結果とともに示す。【０１０４】
なお、下引き層１４と透明ハードコート層１６のそれぞれの主成分の「溶解度係数」を算出し、両者の差が１以内であったものを「≦１」、１よりも大きかったものを「＞１」として評価した。また、透明基材層１２に下引き層１４を形成した段階で、形成された下引き層１４の「ぬれ張力」を測定した。ぬれ張力については、ＪＩＳ−Ｋ６７６８（１９９９）に準拠した方法で測定した。試験用混合液としては、ぬれ張力４０．０ｍＮ／ｍのものを用いた。その結果、ぬれ張力が４０．０ｍＮ／ｍ以上のものを「４０≦」、４０．０ｍＮ／ｍ未満のものを「＜４０」として評価した。これらの結果についても併せて表１に示す。【０１０５】
《実験例２》
以下の処方で調製した透明ハードコート層用塗布液を用いた以外は、実験例１と同様の条件で塗布液を調製し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１０６】
＜透明ハードコート層用塗布液＞
・電離放射線硬化性樹脂                  １０部
（ビームセット５７５、荒川化学工業社）
・光重合開始剤                        ０．５部
（イルガキュア１８４、チバ・ジャパン社）
・希釈溶剤                              １０部【０１０７】
なお、透明ハードコート層用塗布液に含まれるビームセット５７５には、プレポリマーの主たるオリゴマー成分としてウレタンアクリレートが含有されている。【０１０８】
本実験例では、調製した透明ハードコート層用塗布液を、下引き層１４の上にバーコーター法により塗布し、乾燥させて形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させ、厚み約１０μｍの電離放射線硬化性樹脂製の透明ハードコート層１６（屈折率：１．５０）を形成した。【０１０９】
《実験例３》
透明基材層１２としての厚さ１００μｍの透明高分子フィルム（ポリエチレンナフタレート、屈折率：１．７５）を用いた以外は、実験例１と同様の条件で塗布液を調製し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１１０】
《実験例４》
以下の処方で調製した下引き層用塗布液を準備した。【０１１１】
＜下引き層用塗布液＞
・アクリル系樹脂                          １部
（ジュリマーＦＣ６０、日本純薬社）
・希釈溶剤                                ７部【０１１２】
次に、調製した下引き層用塗布液を、透明基材層１２としての厚さ１００μｍの透明高分子フィルム（ポリカーボネート、屈折率：１．５９）の一方の面にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、厚み約０．２μｍのアクリル樹脂製の下引き層１４（屈折率：１．５０）を形成した。【０１１３】
次に、実験例２の透明ハードコート層用塗布液を、下引き層１４の上にバーコーター法により塗布し、乾燥させて塗膜を形成した。次に、形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させ、厚み約１０μｍの電離放射線硬化性樹脂製の透明ハードコート層１６（屈折率：１．５０）を形成した。この時点で、透明ハードコート層１６の密着性１を実験例１と同様に評価した。【０１１４】
次に、実験例１の反射防止層用塗布液を、透明ハードコート層１６の上にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、厚み約０．１μｍの反射防止層１８（屈折率：１．３６）を形成し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１１５】
《実験例５》
実験例１の透明高分子フィルム（屈折率：１．６５）の一方の面に実験例４の下引き層用塗布液をバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、実験例４と同様の下引き層１４（屈折率：１．５０）を形成した。【０１１６】
次に、実験例１の透明ハードコート層用塗布液を、下引き層１４の上にバーコーター法により塗布し、乾燥させて形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させ、実験例１と同様の透明ハードコート層１６（屈折率：１．５３）を形成した。【０１１７】
次に、実験例１の反射防止層用塗布液を、透明ハードコート層１６の上にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、実験例１と同様の反射防止層１８（屈折率：１．３６）を形成し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１１８】
《実験例６》
以下の処方で調製した下引き層用塗布液を準備した。【０１１９】
＜下引き層用塗布液＞
・ポリ酢酸ビニル                        １０部
（ゴーセノールＧＬ０５、日本合成化学工業社）
・希釈溶剤                              １０部【０１２０】
次に、調製した下引き層用塗布液を、実験例１の透明高分子フィルム（屈折率：１．６５）の一方の面にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、厚み約０．２μｍのポリ酢酸ビニル製の下引き層１４（屈折率：１．４５）を形成した。【０１２１】
次に、実験例１の透明ハードコート層用塗布液を、下引き層１４の上にバーコーター法により塗布し、乾燥させて形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させ、実験例１と同様の透明ハードコート層１６（屈折率：１．５３）を形成した。【０１２２】
次に、実験例１の反射防止層用塗布液を、透明ハードコート層１６の上にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、実験例１と同様の反射防止層１８（屈折率：１．３６）を形成し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１２３】
《実験例６−１》
以下の処方で調製した透明ハードコート層用塗布液を準備した。【０１２４】
＜透明ハードコート層用塗布液＞
・電離放射線硬化型有機無機ハイブリッド樹脂  １００部
（固形分５０％、無機成分３８％、デソライト７５０３、ＪＳＲ社）
・微粒子（シリカ）                          １．９部
（平均粒子径３．５μｍ）（変動係数６０％）
・メチルエチルケトン                          ４０部
・トルエン                                    １５部【０１２５】
次に、実験例１の透明高分子フィルム（屈折率：１．６５）の一方の面に実験例１の下引き層用塗布液をバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、実験例４と同様の下引き層１４（屈折率：１．６０）を形成した。【０１２６】
次に、調製した透明ハードコート層用塗布液を、下引き層１４の上にバーコーター法により塗布し、乾燥させて形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させ、透明ハードコート層１６（屈折率：１．５０）を形成した。【０１２７】
次に、実験例１の反射防止層用塗布液を、透明ハードコート層１６の上にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、実験例１と同様の反射防止層１８（屈折率：１．３６）を形成し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１２８】
《実験例６−２》
実験例１の透明高分子フィルム（屈折率：１．６５）の一方の面に実験例６の下引き層用塗布液をバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、実験例６と同様の下引き層１４（屈折率：１．４５）を形成した。【０１２９】
次に、実験例６−１の透明ハードコート層用塗布液を、下引き層１４の上にバーコーター法により塗布し、乾燥させて形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させ、透明ハードコート層１６（屈折率：１．５０）を形成した。【０１３０】
次に、実験例１の反射防止層用塗布液を、透明ハードコート層１６の上にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、実験例１と同様の反射防止層１８（屈折率：１．３６）を形成し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１３１】
《実験例７》
以下の処方で調製した反射防止層用塗布液を準備した。【０１３２】
＜反射防止層用塗布液＞
・電離放射線硬化性樹脂                  ５０部
（固形分１００％、ＣＮ−１２０Ａ６０、日本化薬社）
・多官能アクリレート                    ５０部
（トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、固形分１００％）
・光重合開始剤                            ３部
（イルガキュア１８４、チバ・ジャパン社）
・多孔状シリカ微粒子                  １００部
（平均粒子径：５５ｎｍ）
・希釈溶剤                          ６５００部【０１３３】
次に、実験例１の透明高分子フィルム（屈折率：１．６５）の一方の面に実験例１の下引き層用塗布液をバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、実験例４と同様の下引き層１４（屈折率：１．６０）を形成した。【０１３４】
次に、実験例１の透明ハードコート層用塗布液を、下引き層１４の上にバーコーター法により塗布し、乾燥させて形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させ、実験例１と同様の透明ハードコート層１６（屈折率：１．５３）を形成した。【０１３５】
次に、調製した反射防止層用塗布液を、透明ハードコート層１６の上にバーコーター法により塗布し、乾燥させて形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させ、厚み約０．１μｍの反射防止層１８（屈折率：１．３７）を形成し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１３６】
《実験例８》
反射防止層用塗布液として、多孔状シリカ微粒子分散液を含まない実験例１の反射防止層用塗布液を用いた以外は、実験例１と同様の条件で塗布液を調製し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１３７】
本実験例では、調製した反射防止層用塗布液を、透明ハードコート層１６の上にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、厚み約０．１μｍの反射防止層１８（屈折率：１．４４）を形成した。【０１３８】
《実験例９》
以下の処方で調製した反射防止層用塗布液を用いた以外は、実験例１と同様の条件で塗布液を調製し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１３９】
＜反射防止層用塗布液＞
・ポリエステル樹脂                        １部
（バイロン２００、固形分１００％、東洋紡績社）
・希釈溶剤                              １９部【０１４０】
本実験例では、調製した反射防止層用塗布液を、透明ハードコート層１６の上にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、厚み約０．１μｍの反射防止層１８（屈折率：１．５５）を形成した。【０１４１】
《実験例１０》
以下の処方で調製した反射防止層用塗布液を用いた以外は、実験例１と同様の条件で塗布液を調製し、フィルム試料を得た。そして実験例１と同様の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。【０１４２】
＜反射防止層用塗布液＞
・アクリル樹脂                            ５部
（アクリディックＡ８１４、固形分５０％、大日本インキ化学工業社）
・希釈溶剤                              ４５部【０１４３】
本実験例では、調製した反射防止層用塗布液を、透明ハードコート層１６の上にバーコーター法により塗布し、加熱硬化させて、厚み約０．１μｍの反射防止層１８（屈折率：１．５０）を形成した。【０１４４】
【表１】
2009116363.tif 000003
【０１４５】
表１の結果から以下のことが確認できた。まず、干渉ムラについては、透明ハードコート層１６の屈折率ｎ２が下引き層１４の屈折率ｎ１より大きかったり（ｎ２＞ｎ１。実験例５，６及び６−２）、反射防止層１８の屈折率ｎ３が透明ハードコート層１６の屈折率ｎ２以下（ｎ３≧ｎ２。実験例９）であって、ｎ３＜ｎ２≦ｎ１≦ｎ０の関係を満足しない場合には、少なくとも干渉ムラが存在し、目立ち易い。これに対し、ｎ３＜ｎ２≦ｎ１≦ｎ０の関係を満足する場合（実験例１〜４，６−１，７，８，１０）、干渉ムラが存在せず、良好な結果が得られている。特に実験例１〜４，６−１，７，８，１０では、反射防止層１８を薄い厚みで形成しているにもかかわらず、反射防止層１８自体の厚みムラに起因して生じやすい干渉ムラの発生が十分に抑えられている。【０１４６】
次に、鉛筆硬度については、反射防止層１８のバインダとしてポリエステル樹脂やアクリル樹脂を用いた場合（実験例９及び１０）、十分な鉛筆硬度が得られていない。これに対し、実験例１〜８については十分な鉛筆硬度が得られている。【０１４７】
なお、透視解像性やへーズについては、不透明要素となりうるマット剤を含有させていないので、いずれの実験例とも良好な結果が得られている。これに対し、実験例６−１では不透明要素となりうるシリカを含有させている。しかしながら、その含有量を極少量に抑えてみると、透視解像性に影響を与えることなくブロッキング現象を防止できるものが得られた。【０１４８】
こうした結果から、本実験例において、十分な鉛筆硬度と透視解像性を維持しつつ干渉ムラが目立たないものは実験例１〜４，６−１，７，８であり、これらの中でも特に優れているのは実験例１，２，４，７，８であることが確認できた。すなわち実験例１，２，４，７，８の試料では、高い鉛筆硬度と透視解像性を維持しながら干渉縞を目立たなくすることができることが確認できた。また、実験例１，２，４，７，８の中でも、ｎ２−ｎ３が０．１以上である実験例１，２，４，７が、映り込み防止の観点で特に優れていることが確認できた。【０１４９】
《実験例１１》
まず、図３に示す上電極基板５２としての第１積層体試料を、実験例１で得られたフィルム試料の背面（＝反射防止層１８とは反対面）に厚み約２０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成することにより作製した。【０１５０】
次に、図３に示す下電極基板５４としての第２積層体試料を、厚み１ｍｍ強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成した後、これを４型の大きさ（縦８７．３ｍｍ×横６４．０ｍｍの長方形）に切り取ることにより作製した。【０１５１】
次に、第２積層体試料のＩＴＯ膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化性樹脂（ＤｏｔＣｕｒｅＴＲ５９０３：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサ５８を１ｍｍの間隔で配列させた。【０１５２】
次に、両試料のＩＴＯ膜が所定のギャップを隔てて対向するように、第１積層体試料と、スペーサ５８を配列させた第２積層体試料とを配置し、厚み３０μｍ、幅３ｍｍ両面接着テープで縁を接着し、図３に示すタッチパネル５に相当するタッチパネル試料を作製した。なお、この実験例では、両試料の接着部分がタッチパネル試料の表示面の領域外となるようにした。【０１５３】
作製したタッチパネル試料では、干渉ムラが目立たず、その結果、良好に操作をすることができることが確認できた。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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