(57)【要約】  基体の曲面状の外周面にスラリーを用いて湿式で成形膜（塗膜）を形成する際に、当該スラリーに擬塑性を付与することで、曲面上における塗膜の良好な成形性と形状安定性とがともに達成される。この成形膜は、基体の外周面に沿った所定方向における中央部の厚さをｔｃｅｎｔｅｒ、当該方向における一端から中央部に向かって２ｔｃｅｎｔｅｒの位置における厚さをｔｅｄｇｅとすると、ｔｅｄｇｅ／ｔｃｅｎｔｅｒ≦１．２となるように形成されている。
2013038755.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
曲面状の外周面を有する、基体と、
前記基体における前記外周面に、擬塑性を有するスラリーを塗布して塗膜を形成した後に当該塗膜を固化させることによって設けられた、成形膜と、
を備えた、複合構造体であって、
前記成形膜は、
前記外周面に沿った所定方向における中央部の厚さをｔｃｅｎｔｅｒ、当該方向における一端から前記中央部に向かって２ｔｃｅｎｔｅｒの位置における厚さをｔｅｄｇｅとすると、
ｔｅｄｇｅ／ｔｃｅｎｔｅｒ≦１．２
となるように形成されたことを特徴とする、複合構造体。
【請求項２】
請求項１に記載の、複合構造体であって、
前記基体は、その断面形状が円、楕円、多角形、等となる柱状に形成されていて、
前記成形膜は、前記基体の中心軸線と直交する平面による断面視にて略弧状となるように、前記中心軸線に沿った帯状に形成され、
前記所定方向は、前記略弧状における長手方向であることを特徴とする、複合構造体。
【請求項３】
請求項２に記載の、複合構造体であって、
前記基体は、内部がハニカム構造を有していて電気抵抗率が１〜２００Ωｃｍに形成されたセラミック成形体であり、
前記成形膜は、電気抵抗率が０．１〜１００Ωｃｍに形成された電極膜であることを特徴とする、複合構造体。
【請求項４】
請求項３に記載の、複合構造体であって、
一対の前記電極膜が、前記基体の中心軸線を挟んで対称の位置に設けられたことを特徴とする、複合構造体。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のうちのいずれか１項に記載の、複合構造体であって、
前記成形膜は、せん断速度が０．５［ｓｅｃ−１］以下での粘度ｄ１とせん断速度が５０［ｓｅｃ−１］以上での粘度ｄ２との比であるｄ１／ｄ２の値が１０以上となるように調製された前記スラリーによって形成されたことを特徴とする、複合構造体。
【請求項６】
請求項５に記載の、複合構造体であって、
前記スラリーは、前記ｄ１が８００００［ｃＰ］以上且つ前記ｄ２が９５００［ｃＰ］以下となるように調製されたことを特徴とする、複合構造体。
【請求項７】
請求項５又は請求項６に記載の、複合構造体であって、
前記スラリーは、前記成形膜を形成するための主原料１００重量部と、ウレタン樹脂あるいはウレア樹脂を主成分とするレオロジー調整剤１．５〜３重量部と、を含有することを特徴とする、複合構造体。
【請求項８】
曲面状の外周面を有する基体における当該外周面に、擬塑性を有するスラリーを塗布して塗膜を形成した後に当該塗膜を固化させることによって設けられた、成形膜であって、
前記外周面に沿った所定方向における中央部の厚さをｔｃｅｎｔｅｒ、当該方向における一端から前記中央部に向かって２ｔｃｅｎｔｅｒの位置における厚さをｔｅｄｇｅとすると、
ｔｅｄｇｅ／ｔｃｅｎｔｅｒ≦１．２
となるように形成されたことを特徴とする、成形膜。
【請求項９】
請求項８に記載の、成形膜であって、
断面形状が円、楕円、多角形、等となる柱状の前記基体の中心軸線と直交する平面による断面視にて、略弧状に形成され、
前記所定方向は、前記略弧状における長手方向であることを特徴とする、成形膜。
【請求項１０】
請求項９に記載の、成形膜であって、
内部がハニカム構造を有していて電気抵抗率が１〜２００Ωｃｍのセラミック成形体である前記基体の前記外周面上に形成された、電気抵抗率が０．１〜１００Ωｃｍの電極膜であることを特徴とする、成形膜。
【請求項１１】
請求項８〜請求項１０のうちのいずれか１項に記載の、成形膜であって、
せん断速度が０．５［ｓｅｃ−１］以下での粘度ｄ１とせん断速度が５０［ｓｅｃ−１］以上での粘度ｄ２との比であるｄ１／ｄ２の値が１０以上となるように調製された前記スラリーによって形成されたことを特徴とする、成形膜。
【請求項１２】
請求項１１に記載の、成形膜であって、
前記スラリーは、前記ｄ１が８００００［ｃＰ］以上且つ前記ｄ２が９５００［ｃＰ］以下となるように調製されたことを特徴とする、成形膜。
【請求項１３】
請求項１１又は請求項１２に記載の、成形膜であって、
前記スラリーは、当該成形膜を形成するための主原料１００重量部と、ウレタン樹脂あるいはウレア樹脂を主成分とするレオロジー調整剤１．５〜３重量部と、を含有することを特徴とする、成形膜。
【請求項１４】
曲面状の外周面を有する、基体と、
前記基体における前記外周面に設けられていて、前記外周面に沿った所定方向における中央部の厚さをｔｃｅｎｔｅｒ、当該方向における一端から前記中央部に向かって２ｔｃｅｎｔｅｒの位置における厚さをｔｅｄｇｅとすると、ｔｅｄｇｅ／ｔｃｅｎｔｅｒ≦１．２となるように形成された、成形膜と、
を備えた、複合構造体の製造方法であって、
擬塑性を有するスラリーを調製する、スラリー調製工程と、
前記スラリーを前記外周面に塗布して塗膜を形成する、塗膜形成工程と、
前記塗膜を固化させることによって、前記成形膜を得る、固化工程と、
を有することを特徴とする、複合構造体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の、複合構造体の製造方法であって、
前記基体は、その断面形状が円、楕円、多角形、等となる柱状に形成されていて、
前記成形膜は、前記基体の中心軸線と直交する平面による断面視にて、略弧状に形成され、
前記所定方向は、前記略弧状における長手方向であることを特徴とする、複合構造体の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の、複合構造体の製造方法であって、
前記基体は、内部がハニカム構造を有していて電気抵抗率が１〜２００Ωｃｍに形成されたセラミック成形体であり、
前記成形膜は、電気抵抗率が０．１〜１００Ωｃｍの電極膜として形成されたことを特徴とする、複合構造体の製造方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の、複合構造体の製造方法であって、
一対の前記電極膜が、前記基体の中心軸線を挟んで対称の位置に設けられたことを特徴とする、複合構造体の製造方法。
【請求項１８】
請求項１４〜請求項１７のうちのいずれか１項に記載の、複合構造体の製造方法であって、
前記スラリーは、せん断速度が０．５［ｓｅｃ−１］以下での粘度ｄ１とせん断速度が５０［ｓｅｃ−１］以上での粘度ｄ２との比であるｄ１／ｄ２の値が１０以上となるように調製されたことを特徴とする、複合構造体の製造方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の、複合構造体の製造方法であって、
前記スラリーは、前記ｄ１が８００００［ｃＰ］以上且つ前記ｄ２が９５００［ｃＰ］以下となるように調製されたことを特徴とする、複合構造体の製造方法。
【請求項２０】
請求項１８又は請求項１９に記載の、複合構造体の製造方法であって、
前記スラリーは、前記成形膜を形成するための主原料１００重量部と、ウレタン樹脂あるいはウレア樹脂を主成分とするレオロジー調整剤１．５〜３重量部と、を含有することを特徴とする、複合構造体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、曲面状の外周面を有する基体と、当該外周面に設けられた成形膜と、を備えた、複合構造体に関する。また、本発明は、前記成形膜に関する。さらに、本発明は、前記複合構造体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特開平２−１４４８７４号公報には、ハニカム構造を有する円柱状の導電性セラミックスの側面に、電極が形成されている。この電極の形成方法として、同公報には、導電ペーストの塗布及び焼き付けが用いられ得る旨記載されている。
【発明の概要】
【０００３】
基体の曲面状の外周面に、スラリーを用いて湿式で成形膜を形成する場合、塗膜を構成する固化（乾燥）前のスラリーの自重の影響で塗膜の端部にて「液垂れ」が生じ、これにより所望の塗膜形状（特に均一な厚さ）が保持されなくなるという問題があった。
【０００４】
かかる問題の解決手段として、スラリーに高分子バインダー等の増粘剤を比較的多量に添加することでスラリーを高粘度化することが考えられる。しかしながら、かかる解決手段を用いた場合、成形膜にて表面の凹凸や内部の気泡が発生するという、別の問題が引き起こされてしまう。
【０００５】
本発明は、かかる課題を解決するためになされたものである。すなわち、本発明の目的は、基体の曲面状の外周面にスラリーを用いて湿式で成形膜を形成することで複合構造体を製造する際に、当該成形膜をより良好に形成することにある。
【０００６】
本発明の発明者は、鋭意検討の結果、基体の曲面状の外周面にスラリーを用いて湿式で成形膜（塗膜）を形成する際に、当該スラリーに擬塑性を付与することで、曲面上における塗膜の良好な成形性と形状安定性とがともに達成されることを見出し、本発明に至った。ここで、「擬塑性」とは、せん断速度が低いときには高粘度となる一方で、せん断速度が高くなると粘度が急激に低くなる性質である（例えば特開平１０−１３００７６号公報等参照）。
【０００７】
すなわち、本発明の一側面における特徴は、
曲面状の外周面を有する、基体と、
前記基体における前記外周面に、擬塑性を有するスラリーを塗布して塗膜を形成した後に当該塗膜を固化させることによって設けられた、成形膜と、
を備えた、複合構造体であって、
前記成形膜は、
前記外周面に沿った所定方向における中央部の厚さをｔｃｅｎｔｅｒ、当該方向における一端から前記中央部に向かって２ｔｃｅｎｔｅｒの位置における厚さをｔｅｄｇｅとすると、
ｔｅｄｇｅ／ｔｃｅｎｔｅｒ≦１．２
となるように形成されたことにある。
【０００８】
また、本発明の他の一側面における特徴は、
曲面状の前記外周面を有する前記基体における当該外周面に、擬塑性を有する前記スラリーを塗布して前記塗膜を形成した後に当該塗膜を固化させることによって設けられた、前記成形膜であって、
前記所定方向における前記中央部の厚さをｔｃｅｎｔｅｒ、当該方向における一端から前記中央部に向かって２ｔｃｅｎｔｅｒの位置における厚さをｔｅｄｇｅとすると、
ｔｅｄｇｅ／ｔｃｅｎｔｅｒ≦１．２
となるように形成されたことにある。
【０００９】
本発明のさらに他の一側面における特徴は、前記複合構造体の製造方法であって、
擬塑性を有する前記スラリーを調製する、スラリー調製工程と、
前記スラリーを前記外周面に塗布して前記塗膜を形成する、塗膜形成工程と、
前記塗膜を固化させることによって、前記成形膜を得る、固化工程と、
を有することにある。
【００１０】
前記基体は、その断面形状が円、楕円、多角形、等となる柱状に形成されていてもよい。すなわち、具体的には、例えば、前記基体は、楕円柱（円柱を含む）状に形成されていてもよい。この場合、前記成形膜は、前記基体の中心軸線と直交する平面による断面視にて弧状（上記の具体例では略楕円弧状）となるように、前記中心軸線に沿った帯状に形成されている。そして、前記成形膜は、前記略楕円弧状における長手方向における中央部の厚さをｔｃｅｎｔｅｒ、当該方向における一端から前記中央部に向かって２ｔｃｅｎｔｅｒの位置における厚さをｔｅｄｇｅとすると、ｔｅｄｇｅ／ｔｃｅｎｔｅｒ≦１．２となるように形成されている。
【００１１】
なお、前記基体の前記断面形状は、「歪んだ」形状、すなわち、いわゆる「線対称」あるいは「点対称」ではない形状であってもよい。
【００１２】
前記基体は、内部がハニカム構造を有していて電気抵抗率が１〜２００Ωｃｍに形成されたセラミック成形体であってもよい。この場合、前記成形膜は、電気抵抗率が０．１〜１００Ωｃｍの電極膜として形成されている。また、この場合、一対の前記電極膜が、前記基体の中心軸線を挟んで対称の位置に設けられていてもよい。
【００１３】
前記成形膜は、せん断速度が０．５［ｓｅｃ−１］以下での粘度ｄ１とせん断速度が５０［ｓｅｃ−１］以上での粘度ｄ２との比であるｄ１／ｄ２の値が１０以上となるように調製された前記スラリー（具体的には、前記ｄ１が８００００［ｃＰ］以上且つ前記ｄ２が９５００［ｃＰ］以下となるように調製された前記スラリー）によって形成され得る。かかるスラリーは、例えば、前記成形膜を形成するための主原料１００重量部と、ウレタン樹脂あるいはウレア樹脂を主成分とするレオロジー調整剤１．５〜３重量部と、を含有したものとして調製され得る。
【００１４】
本発明においては、前記スラリーに擬塑性が付与されることで、成形時（すなわち前記塗膜の形成時）においては、高いせん断速度の影響で当該スラリーが成形に適した低粘度となる。これにより、良好な成形性が確保される。一方、前記スラリーに擬塑性が付与されることで、成形後の静置時においては、せん断速度が低いために、曲面状の前記外周面上にて前記塗膜を構成する当該スラリーは高粘度となる。これにより、良好な前記塗膜の形状安定性が確保される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態である複合構造体の概略構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示されている基体の外周面上に形成された塗膜の様子を示す断面図である。
【図３】図１に示されている基体の断面形状の一変形例を示す図である。
【図４】図１に示されている基体の断面形状の他の一変形例を示す図である。
【図５】図１に示されている基体の断面形状のさらに他の一変形例を示す図である。
【図６】図１に示されている基体の断面形状のさらに他の一変形例を示す図である。
【図７】図１に示されている基体の断面形状のさらに他の一変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の好適な実施形態を、実施例及び比較例を用いつつ説明する。なお、以下の実施形態に関する記載は、法令で要求されている明細書の記載要件（記述要件・実施可能要件）を満たすために、本発明の具体化の単なる一例を、可能な範囲で具体的に記述しているものにすぎない。
【００１７】
よって、後述するように、本発明が、以下に説明する実施形態や実施例の具体的構成に何ら限定されるものではないことは、全く当然である。本実施形態や実施例に対して施され得る各種の変更の例示（変形例：modification）は、当該実施形態の説明中に挿入されると、一貫した実施形態の説明の理解が妨げられるので、主として末尾にまとめて記載されている。
【００１８】
＜複合構造体の構成の概要＞
図１は、本発明の一実施形態である複合構造体１の概略構成を示す斜視図である。この複合構造体１は、基体２と、一対の電極膜３と、を備えている。
【００１９】
基体２は、円柱面状の外周面Ｓを有する薄肉円筒状の外周壁２１と、この外周壁２１の内部に設けられた多数の平板状の隔壁２２と、を備えた、電気抵抗率が１〜２００Ωｃｍのセラミックからなるハニカム構造体であって、その内部には、中心軸線Ｏに沿った（中心軸線Ｏと平行な）流体流路であるセル２３が多数形成されている。すなわち、外周壁２１の内側の空間は、多孔質に形成された多数の隔壁２２によって、多数のセル２３に区分されている。
【００２０】
一対の電極膜３は、電気抵抗率が０．１〜１００Ωｃｍの導電性薄膜であって、基体２の外周面Ｓ上にて中心軸線Ｏに沿った（中心軸線Ｏと平行な）帯状に形成されている。すなわち、各電極膜３は、中心軸線Ｏと直交する平面による断面視にて略円弧状となるように設けられている。具体的には、一対の電極膜３間に電圧が印加された際の基体２内を流れる電流の偏りを可及的に抑制するために、一対の電極膜３は中心軸線Ｏを挟んで線対称に配置されているとともに、各電極膜３は上述の断面視にて中心角が３０〜１３０度となるように形成されている。
【００２１】
本実施形態においては、各電極膜３は、基体２の外周面Ｓ上に擬塑性を有するスラリーを塗布して塗膜を形成した後に当該塗膜を固化させることによって、ｒ＝ｔｅｄｇｅ／ｔｃｅｎｔｅｒ≦１．２となるように形成されている。ここで、ｔｃｅｎｔｅｒは、各電極膜３の、中心軸線Ｏと直交する平面による断面視略円弧状における長手方向（すなわち円周方向）の中央部の厚さである。また、ｔｅｄｇｅは、各電極膜３の、上述の方向における一端から中央部に向かって２ｔｃｅｎｔｅｒの位置における厚さである。
【００２２】
具体的には、本実施形態においては、基体２は、外径（直径）が９３ｍｍの円柱状に形成されている。また、各電極膜３は、上述のように電圧が印加された際の基体２の発熱状態が良好となるように、厚さｔ（ｔｃｅｎｔｅｒとｔｅｄｇｅとの平均）が０．０１〜５ｍｍ（典型的には０．３ｍｍ）、幅（上述の円周方向の長さ）が８０ｍｍに形成されている。
【００２３】
＜製造方法の概要＞
以下、図１に示されている構成を実現するための製造方法の概略について説明する。
【００２４】
（１）スラリー調製工程
各電極膜３を形成するための主原料と、ウレタン樹脂あるいはウレア樹脂を主成分とするレオロジー調整剤（擬塑性付与剤とも称され得る）と、分散媒と、分散助剤と、バインダーと、を含むことで、擬塑性（特に、せん断速度が０．５［ｓｅｃ−１］以下での粘度ｄ１とせん断速度が５０［ｓｅｃ−１］以上での粘度ｄ２との比であるｄ１／ｄ２の値が１０以上となるようなレオロジー特性）を有するスラリーを調製する。具体的には、主原料１００重量部に対してレオロジー調整剤を１．５〜３重量部添加することで、前記ｄ１が８００００［ｃＰ］以上且つ前記ｄ２が９５００［ｃＰ］以下となるように、スラリーが調製される。
【００２５】
本実施形態においては、主原料としては、炭化珪素粉末及び金属珪素が用いられ得る。この場合、合計重量を１００重量部としたときに、金属珪素の重量が２０〜４０重量部となるように両者を混合することが好ましい。
【００２６】
レオロジー調整剤は、周知であり且つすでに多くが市販されている。例えば、変性ポリアクリル系、変性ウレア系、ポリアマイド系、等の各種のものから、分散媒の種類等に応じて適宜選択されたものが、レオロジー調整剤として用いられ得る。具体例としては、レオロジー調整剤として、サンノプコ株式会社製「ＳＮシックナー６３０」、「ＳＮシックナー６３４」、「ＳＮシックナー６３６」、「ＳＮシックナー６４１」、及び「ＳＮシックナー４０５０」、ビックケミー社製「ＢＹＫ−４１０」、「ＢＹＫ−４２０」、「ＢＹＫ−４２５」、及び「ＢＹＫ−４３０」、等を用いることが可能である。
【００２７】
分散媒としては、レオロジー調整剤、分散助剤、及びバインダーを溶解するものであれば、特に限定はない。例えば、純水、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、等）、エーテル類（２−メトキシエタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレンエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、グルタル酸ジメチル、トリアセチン、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、等）、炭化水素類（トルエン、キシレン、シクロヘキサン、等）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、スルフォラン、等が、分散媒として用いられ得る。分散媒の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計重量を１００重量部としたときに、１５〜６０重量部であることが好ましい。
【００２８】
分散助剤としては、例えば、ポリカルボン酸系共重合体、ポリカルボン酸塩、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、リン酸エステル塩系共重合体、スルホン酸塩系共重合体、３級アミンを有するポリウレタンポリエステル系共重合体、等が用いられ得る。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。分散助剤の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計重量を１００重量部としたときに、０．１〜２．０重量部であることが好ましい。
【００２９】
バインダーとしては、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロポキシルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、グリセリン、等が用いられ得る。これらの中でも、メチルセルロースとヒドロキシプロポキシルセルロースとを併用することが好ましい。バインダーの含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計重量を１００重量部としたときに、０．１〜１０．０重量部であることが好ましい。
【００３０】
（２）塗膜形成工程（成形工程）
上述のようにして調製された、擬塑性を有するスラリーを、基体２の外周面Ｓ上に塗布して塗膜を形成する。このとき、ウレタン樹脂あるいはウレア樹脂を主成分とするレオロジー調整剤は、スラリーに対するせん断力の作用の有無に応じて、バインダー分子間に水素結合を生成及び消失させる。これにより、上述のような擬塑性が生じる。
【００３１】
ここで、スラリーにおける前記ｄ１が８００００［ｃＰ］以上となることにより、固化（乾燥）前の塗膜における「液垂れ」の発生が抑制される。また、スラリーにおける前記ｄ２が９５００［ｃＰ］以下となることにより、良好な成形性が得られる。すなわち、スクリーン印刷等の周知の成膜方法による成膜のしやすさ、及び、成形後の塗膜やこれを固化した後の成形膜における凹凸や気泡の抑制が、ともに達成される。
【００３２】
図２は、図１に示されている基体２の外周面Ｓ上に形成された塗膜Ｆの様子を示す断面図である。ここで、図中（ｉ）は塗膜の形状安定性が良好な状態、（ii）は塗膜の形状安定性が悪い状態、（iii）は塗膜の形状安定性が極めて悪い状態、をそれぞれ示す。
【００３３】
レオロジー調整剤の添加量が適切である（具体的には１．５重量部以上である）場合、（ｉ）に示されているように、固化前の塗膜Ｆの厚さが均等な状態（具体的には、端縁Ａ，Ｂから中央部Ｍに向かって２ｔｃｅｎｔｅｒの位置Ｃ，Ｄにおける厚さｔｅｄｇｅと、中央部Ｍにおける厚さｔｃｅｎｔｅｒと、の比ｒ＝ｔｅｄｇｅ／ｔｃｅｎｔｅｒ≦１．２の状態）が、固化完了まで良好に保持される。
【００３４】
これに対し、レオロジー調整剤の添加量が不足した場合、（ii）に示されているように、固化前に塗膜Ｆの自重により「液垂れ」が生じ、端部（Ａ〜Ｃ，Ｂ〜Ｄ）が厚くなる一方で中央部Ｍが薄くなる。レオロジー調整剤が添加されていない場合、（iii）に示されているように、「液垂れ」が顕著に生じる。
【００３５】
（３）固化（乾燥）工程
基体２の外周面Ｓ上に形成された塗膜から分散媒を揮発させて当該塗膜を乾燥することで、各電極膜３を形成する。
【００３６】
＜実施例＞
炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを６０：４０の重量割合で混合したもの１００重量部と、分散媒としての純水４０重量部と、分散助剤としてのポリカルボン酸系共重合体０．３重量部と、バインダーとしてのヒドロキシプロピルメチルセルロース０．５重量部と、グリセリン８重量部とを、ミキサーで４０分間混合することで、一次混合液を得た。次に、この一次混合液に対して、レオロジー調整剤（ビックケミー社製「ＢＹＫ−４２０」）を所定量（後述）添加して混合した後、真空脱泡することで、擬塑性を有するセラミックスラリーを調製した。このセラミックスラリーを用いて、スクリーン印刷法により、半径４６．５ｍｍの円柱状のセラミック構造体の外周面上に、円弧長さ８０ｍｍ、厚さ０．３ｍｍの塗膜を形成した。形成した塗膜を、乾燥機にて加熱により８０℃で１時間に亘って充分に乾燥することで、成形膜を得た。
【００３７】
レオロジー調整剤の添加量を変更したときの評価結果を、表１に示す。表中、「凹凸」は、乾燥後の成形膜の表面における凹凸の有無を示す。また、粘度測定は、ＨＡＡＫＥ社製の粘度計（Ｒｈｅｏ  Ｓｔｒｅｓｓ  ＲＳ１５０）を用いて行った。
【表１】
2013038755.tif 000003
【００３８】
表１に示されている結果から明らかなように、レオロジー調整剤の添加量が適切である（具体的には１．５〜３重量部である）場合、成形膜の形状安定性が良好となった。これに対し、レオロジー調整剤の添加量が無いあるいは不足している場合、「液垂れ」が生じて成形膜の厚さが不均一となった。一方、レオロジー調整剤の添加量が過剰である場合、「液垂れ」は良好に抑制されるものの、乾燥後の成形膜の表面に凹凸が生じてしまった。
【００３９】
＜変形例の例示列挙＞
なお、上述の実施形態や具体例は、上述した通り、出願人が取り敢えず本願の出願時点において最良であると考えた本発明の具現化の一例を単に示したものにすぎないのであって、本発明はもとより上述の実施形態や具体例によって何ら限定されるべきものではない。よって、上述の実施形態や具体例に対して、本発明の本質的部分を変更しない範囲内において、種々の変形が施され得ることは、当然である。
【００４０】
以下、変形例について幾つか例示する。以下の変形例の説明において、上述の実施形態における各構成要素と同様の構成・機能を有する構成要素については、本変形例においても同一の名称及び同一の符号が付されているものとする。そして、当該構成要素の説明については、上述の実施形態における説明が、矛盾しない範囲で適宜援用され得るものとする。
【００４１】
もっとも、変形例とて、下記のものに限定されるものではないことは、いうまでもない。本発明を、上述の実施形態や下記変形例の記載に基づいて限定解釈することは、（特に先願主義の下で出願を急ぐ）出願人の利益を不当に害する反面、模倣者を不当に利するものであって、許されない。
【００４２】
また、上述の実施形態の構成、及び下記の各変形例に記載された構成の全部又は一部が、技術的に矛盾しない範囲において、適宜複合して適用され得ることも、いうまでもない。
【００４３】
本発明は、上述の実施形態に示された具体的な構成に限定されない。すなわち、例えば、基体は、ハニカム構造体に限定されない。また、成形膜は、基体の全周にわたって形成されていてもよい。
【００４４】
さらに、基体の形状は、楕円柱に限定されない。すなわち、基体は、その断面形状が円、楕円、多角形、等となる柱状に形成されていてもよい。具体的には、図３や図４に示されているように、基体２の断面形状は、多角形状であってもよい（この多角形状には正多角形状でないものも含まれる）。あるいは、図５に示されているように、基体２の断面形状は、多角形における角の全部又は一部を丸くした形状であってもよい。基体２の断面形状が、図３〜図５に示されているような、「角」を有する形状である場合であって、かかる「角」を含む領域に成形膜が形成されるときであっても、かかる「角」及びその近傍の部分とそれ以外の部分とにおける成形膜の厚さのばらつきが、可及的に抑制され得る。
【００４５】
さらに、基体２の断面形状は、図６や図７に示されているように、「歪んだ」形状、すなわち、いわゆる「線対称」あるいは「点対称」ではない形状であってもよい。特に、図７に示されているように、外形形状に凹部が存在する場合、かかる凹部とそれ以外の部分とにおける成形膜の厚さのばらつきが、可及的に抑制され得る。
【００４６】
本発明は、上述の実施形態に示された具体的な製造方法に限定されない。すなわち、例えば、成形工程は、ドクターブレード法等の周知の方法が利用可能である。また、固化工程は、乾燥に限定されない。さらに、主原料等も、上述の具体例に示されたものに限定されない。
【００４７】
固化工程において、重合反応が用いられてもよい。すなわち、スラリー調製工程において調製されるスラリーは、粉末状の成形原料（２種以上のセラミック原料が含まれ得る）と、これを分散させるための分散媒と、前記成形原料を前記分散媒中に均一に分散させるための分散助剤と、化学反応によって合成樹脂である有機バインダーを生成させるためのバインダー前駆体と、前記化学反応を進行させるための反応進行剤と、レオロジー調整剤と、を含むスラリーを調製する工程であってもよい。この場合、固化工程は、成形工程によって得られた一次粉末成形体にて、前記化学反応を進行させて前記スラリーを固化させるとともに前記一次粉末成形体から前記分散媒を揮発除去する、乾燥固化工程であってもよい。
【００４８】
乾燥固化工程は、上述の一次粉末成形体を常温にて放置してウレタン前駆体（イソシアネート及びポリオール）の化学反応を進行させることで、有機バインダーとしてのウレタン樹脂を生成させてスラリーを固化（ゲル化）する工程であってもよい。このとき、一次粉末成形体を構成するスラリーは、ゲル化開始時点にて、静置時であるために高粘度を示す。よって、ゲル化中のセラミック原料の沈降が、良好に抑制され得る。特に、２種以上のセラミック原料が含まれている場合に、相互の比重の違いによる偏析が、良好に抑制され得る。
【００４９】
イソシアネートとしては、イソシアネート基を官能基として有する物質であれば、特に限定はない（図中に例示されているような、イソシアネート基を複数有するポリイソシアネートが、特に好適に用いられ得る。）。具体的には、例えば、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、あるいは、これらの変性体、等が「イソシアネート」として良好に用いられ得る。なお、分子内にイソシアネート基以外の反応性官能基を有するものも、「イソシアネート」として良好に用いることができる。
【００５０】
ポリオールとしては、複数のアルコール性ヒドロキシル基を官能基として有する物質であれば、特に限定はない。例えば、エチレングリコール（ＥＧ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、プロピレングリコール（ＰＧ）、ポリプロピレングリコール（ＰＰＧ）、ポリテトラメチレンエーテルグリコール（ＰＴＭＧ）、ポリヘキサメチレングリコール（ＰＨＭＧ）、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、等が「ポリオール」として良好に用いられ得る。
【００５１】
なお、ウレタン前駆体は、上述の具体例に何ら限定されない。例えば、ポリオールには、イソシアネート基と反応し得る他の官能基（カルボキシル基、アミノ基、等）が導入されていてもよい。あるいは、ポリオールに代えて、又はこれとともに、上述のカルボキシル基やアミノ基等を有する物質（これにはアルコール性ヒドロキシル基が１つ含まれていてもよい）が用いられ得る。また、成形前のウレタン反応の進行を抑制するために、スラリー中にブロック剤が添加されたり、ウレタン前駆体（例えばイソシアネート）にブロック作用が付与されたりしてもよい。
【００５２】
その他、特段に言及されていない変形例についても、本発明の本質的部分を変更しない範囲内において、本発明の技術的範囲に含まれることは当然である。
【００５３】
また、本発明の課題を解決するための手段を構成する各要素における、作用・機能的に表現されている要素は、上述の実施形態や変形例にて開示されている具体的構造の他、当該作用・機能を実現可能ないかなる構造をも含む。さらに、本明細書にて引用した先行出願や各公報の内容（明細書及び図面を含む）は、本明細書の一部を構成するものとして適宜援用され得る。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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