(57)【要約】  基板（５）上に複数の略ストライプ状のアドレス電極（７）、該アドレス電極を覆う誘電体層（６）、ならびに該誘電体層上に位置する該アドレス電極に略平行な主隔壁（８）および該主隔壁と直交する補助隔壁（９）を有するプラズマディスプレイ用部材であって、表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁とそれに隣り合う主隔壁のピッチ（Ｐｔ１）が表示領域に位置する主隔壁のピッチ（Ｐｔ２）の２以上の整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材とする。また、特定の形状を有するフォトマスクを用いて複数回露光することによって、表示品位が高く、かつ生産性の高いプラズマディスプレイを得ることができる。
2009096440.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層、ならびに該誘電体層上に位置する該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と直交する補助隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材であって、表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁とそれに隣り合う主隔壁のピッチが表示領域に位置する主隔壁のピッチの２以上の整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材。
【請求項２】
表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁とそれに隣り合う主隔壁のピッチが表示領域に位置する主隔壁のピッチの２倍、３倍または４倍である請求項１に記載のプラズマディスプレイ用部材。
【請求項３】
基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、該アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体を覆う誘電体層もしくは誘電体層の前駆体、ならびに該誘電体層もしくは誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層が形成されたディスプレイ用部材材料に対し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行およびこれに直交する格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して露光動作を複数回行い、現像し、焼成して、該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部とそれに隣り合う主隔壁形成用透光部のピッチが、横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部のピッチの２以上の整数倍であるフォトマスクを用い、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを補助隔壁の方向と平行に相対移動させ、移動距離が横方向最外部に位置する主隔壁用透光部とそれに隣り合う主隔壁用透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項４】
横方向最外部に位置する主隔壁用透光部とそれに隣り合う主隔壁用透光部のピッチが、横方向中央部に位置する主隔壁用透光部のピッチの２倍、３倍または４倍である請求項３に記載のプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項５】
基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、該アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体を覆う誘電体層もしくは誘電体層の前駆体、ならびに該誘電体層もしくは誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層が形成されたディスプレイ用部材材料に対し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行およびこれに直交する格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して露光動作を複数回行い、現像し、焼成して、該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部とそれに隣り合う主隔壁形成用透光部のピッチが、横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部のピッチの２以上の整数倍であるフォトマスクを用い、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを主隔壁の方向と平行に相対移動させ、移動距離が縦方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイ用部材及びプラズマディスプレイ用部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型・大型テレビに使用できるディスプレイとして、プラズマディスプレイが注目されている。図５は、プラズマディスプレイの１つの画素の構成の例を模式的に示した斜視図である。図５に示す例では、表示面となる前面板１８側のガラス基板１２上には、対をなす複数のサステイン電極１４とスキャン電極１３が、銀やクロム、アルミニウム、ニッケル等の材料で、表示領域の短辺の方向を縦方向、長辺の方向を横方向としたときに、横方向を長手方向とするストライプ状に形成されている。また、プラズマディスプレイの縦方向の画素と画素の間には、画像表示時のコントラストを維持するためにブラックストライプ１５が形成される場合がある。さらにサステイン電極１４およびスキャン電極１３を被覆してガラスを主成分とする誘電体層１６が２０〜５０μｍ厚みで形成され、誘電体層１６を被覆して保護層１７が形成されている。【０００３】
一方、背面板２５側のガラス基板１９には、複数のアドレス電極２０が、縦方向を長手方向とするストライプ状に形成され、アドレス電極２０を被覆してガラスを主成分とする誘電体層２１が形成されている。前記誘電体層２１上に放電セルを仕切るための主隔壁２２と補助隔壁２３が形成され、隔壁と誘電体層２１で形成された放電空間内に蛍光体層２４が形成されてなる。フルカラー表示が可能なプラズマディスプレイにおいては、蛍光体層は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色に発光するものにより構成される。前面板１８側のサステイン電極１４と背面板２５側のアドレス電極２０が互いに直交するように、前面板と背面板が封着され、それらの基板の間隙内にヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される希ガスが封入されプラズマディスプレイが形成される。スキャン電極１３とアドレス電極２０の交点を中心として画素セルが形成されるので、プラズマディスプレイは複数の画素セルを有し、画像の表示が可能になる。【０００４】
プラズマディスプレイにおいて表示を行う際、選択された画素セルにおいて、発光していない状態からスキャン電極１３とアドレス電極２０との間に放電開始電圧以上の電圧を印加すると電離によって生じた陽イオンや電子は、画素セルが容量性負荷であるために放電空間内を反対極性の電極へと向けて移動して保護層１７の内壁に帯電し、内壁の電荷は保護層１７の抵抗が高いために減衰せずに壁電荷として残留する。【０００５】
次に、スキャン電極１３とサステイン電極１４の間に放電維持電圧を印加する。壁電荷のあるところでは、放電開始電圧より低い電圧でも放電することができる。放電により放電空間内のキセノンガスが励起され、１４７ｎｍの紫外線が発生し、紫外線が蛍光体層２４を励起することにより、発光表示が可能になる。【０００６】
プラズマディスプレイパネル用背面板を構成するアドレス電極、誘電体層、隔壁、蛍光体層においては、基板上に感光性ペーストを塗布または積層し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光、その後所望の現像液を用いて現像する方法が知られている。【０００７】
例えば基板上にセラミック粉末と紫外線硬化型樹脂からなる感光性ペースト層を形成し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光・現像・焼成することにより隔壁を形成する方法（特許文献１）が提案されている。【０００８】
しかしながら、主隔壁および補助隔壁からなる格子状の隔壁を形成する際に、セラミック粉末と樹脂からなるペースト塗布層を格子状にパターン化し、焼成すると、横方向最外部の主隔壁と補助隔壁の交差部で盛り上がりが生じ、盛り上がった部分以外では前面板と隔壁が密着せず、誤放電が生じるという問題があった。【０００９】
また、フォトマスク上に異物が付着した場合、あるいはキズがあった場合、露光・現像後に得られるパターンは、その殆どが断線あるいは短絡等の欠陥が発生し、歩留まりが低下するという問題があった。【００１０】
このような問題に対し、フォトマスクの開口部の長さが、パターン層の長さより短いフォトマスクを準備し、基板またはフォトマスクを移動させながら露光する方法（特許文献２、３）が提案されている。しかしながらこの方法においては、ＰＤＰの格子状隔壁などの複雑なパターンを形成する場合、基板またはフォトマスクの移動方向端部で隔壁形状の不良が発生し、部材の生産性を落としたり、パネルの表示品位を低下させたりするという問題がある。
【特許文献１】特開平２−１６５５３８号公報
【特許文献２】特開２００４−２４００９５号公報
【特許文献３】国際公開番号ＷＯ２００６／０２５２６６Ａ１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明が解決しようとする課題は、表示品位が高く、かつ生産性の高いプラズマディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の課題は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層、ならびに該誘電体層上に位置する該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と直交する補助隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材であって、表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁とそれに隣り合う主隔壁のピッチが表示領域に位置する主隔壁のピッチの２以上の整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材によって解決することができる。【００１３】
また、本発明の課題は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、該アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体を覆う誘電体層もしくは誘電体層の前駆体、ならびに該誘電体層もしくは誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層が形成されたディスプレイ用部材材料に対し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行およびこれに直交する格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して露光動作を複数回行い、現像し、焼成して、該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部とそれに隣り合う主隔壁形成用透光部のピッチが、横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部のピッチの２以上の整数倍であるフォトマスクを用い、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを補助隔壁の方向と平行に相対移動させ、移動距離が横方向最外部に位置する主隔壁用透光部とそれに隣り合う主隔壁用透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法によって解決することができる。【００１４】
また、本発明の課題は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、該アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体を覆う誘電体層もしくは誘電体層の前駆体、ならびに該誘電体層もしくは誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層が形成されたディスプレイ用部材材料に対し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行およびこれに直交する格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して露光動作を複数回行い、現像し、焼成して、該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部とそれに隣り合う主隔壁形成用透光部のピッチが、横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部のピッチの２以上の整数倍であるフォトマスクを用い、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを主隔壁の方向と平行に相対移動させ、移動距離が縦方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法によっても解決することができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、表示品位が高く、かつ生産性の高いプラズマディスプレイを提供するこができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来のプラズマディスプレイ用背面板の横方向断面模式図である
【図２】本発明のプラズマディスプレイ用背面板の横方向断面模式図である
【図３】本発明に用いるフォトマスクパターンの模式図である
【図４】本発明で得られる隔壁パターンの模式図である
【図５】プラズマディスプレイパネルの模式図である
【符号の説明】
【００１７】
１：補助隔壁
２：表示領域の主隔壁
３：最外部の主隔壁
４：フォトマスクパターン
５：ガラス基板
６：誘電体層
７：アドレス電極
８：主隔壁
９：補助隔壁
１０：表示領域
１１：非表示領域
１２：ガラス基板
１３：スキャン電極
１４：サステイン電極
１５：ブラックストライプ
１６：誘電体層
１７：保護層
１８：前面板
１９：ガラス基板
２０：アドレス電極
２１：誘電体層
２２：主隔壁
２３：補助隔壁
２４：蛍光体層
２５：背面板
Ｐｍｔ１：フォトマスクの横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部とそれに隣り合う主隔壁形成用透光部のピッチ
Ｐｍｔ２：横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部のピッチ
Ｐｍｙ：補助隔壁形成用透光部のピッチ
Ｗｔ１：横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部の開口幅
Ｗｔ２：横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部の開口幅
Ｐｔ１：表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁とそれに隣り合う主隔壁のピッチ
Ｐｔ２：表示領域に位置する主隔壁のピッチ
Ｐｙ：補助隔壁のピッチ
Ｌｔ１：表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁の底部幅
Ｌｔ２：表示領域に位置する主隔壁の底部幅
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明のプラズマディスプレイ用部材は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層、ならびに該誘電体層上に位置する該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と直交する補助隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材であって、表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁とそれに隣り合う主隔壁のピッチが表示領域に位置する主隔壁のピッチの２以上の整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材である。【００１９】
ここで、横方向とは、上述のように表示画面の長辺の方向を言い、アドレス電極と直交する方向である。また、本願において縦方向とは、基板上で横方向と直交する方向、すなわち表示画面の短辺の方向を言い、アドレス電極と平行な方向である。【００２０】
表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁とそれに隣り合う主隔壁のピッチが表示領域に位置する主隔壁のピッチの２以上の整数倍であることで、有機成分と無機成分からなる隔壁ペーストの塗布膜を格子状にパターン加工した後に焼成することによって主隔壁および補助隔壁からなる格子状の隔壁を形成する際に、横方向最外部の主隔壁の盛り上がりを抑制する事ができる。【００２１】
なお、本発明において、２以上の整数倍とは、必ずしも厳密に整数倍とすることが必要なわけではなく、概ね整数倍の０．９０〜１．１０倍、好ましくは０．９５〜１．０５倍の範囲内であればよい。【００２２】
本発明のプラズマディスプレイ用部材は、さらに表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁とそれに隣り合う主隔壁のピッチが表示領域に位置する主隔壁のピッチの２倍、３倍または４倍であることが好ましい。特に好ましいのは２倍である。【００２３】
また、本発明のプラズマディスプレイ用部材の製造方法は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、該アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体を覆う誘電体層もしくは誘電体層の前駆体、ならびに該誘電体層もしくは誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層が形成されたディスプレイ用部材材料に対し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行およびこれに直交する格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して露光動作を複数回行い、現像し、焼成して、該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部とそれに隣り合う主隔壁形成用透光部のピッチが、横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部のピッチの２以上の整数倍であるフォトマスクを用い、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを補助隔壁の方向と平行に相対移動させ、移動距離が横方向最外部に位置する主隔壁用透光部とそれに隣り合う主隔壁用透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法である。【００２４】
格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して露光動作を複数回行い、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを補助隔壁の方向と平行に相対移動させることによって、フォトマスク上に異物が付着した場合やキズがあった場合であっても、断線や短絡等といった欠陥の発生を抑制することができる。
また、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを相対移動させることから、露光の位置精度を確保するために２回の各露光動作の前に位置合わせのためのアライメント動作を行うことが好ましい。ただし、１回目の露光動作の前には基板とフォトマスクとの位置合わせのためのアライメント動作を毎回行うが、２回目の露光動作の前は１枚目でアライメント動作を行い、２枚目以降はアライメント動作を行わずに初回アライメントの結果を基にフォトマスクと基板とを一定距離相対移動させて露光動作を行うことを１サイクルとし、これを繰り返してもよい。このようにすることで露光動作の位置精度を確保し、かつ短時間で露光動作を終えることができるので、生産性を犠牲にすることもない。【００２５】
また、フォトマスクとして、横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部とそれに隣り合う主隔壁形成用透光部のピッチが、横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部のピッチの２以上の整数倍であるフォトマスクを用い、少なくとも２回の露光動作の間に行うフォトマスクと基板の補助隔壁の方向への相対移動の移動距離を、横方向最外部に位置する主隔壁用透光部とそれに隣り合う主隔壁用透光部のピッチの整数倍とすることによって、横方向最外部の主隔壁の盛り上がりの少ないプラズマディスプレイ用部材を欠陥なく製造することができる。【００２６】
横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部とそれに隣り合う主隔壁形成用透光部のピッチは横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部のピッチの２倍、３倍または４倍であることが好ましい。特に好ましいのは２倍である。また、少なくとも２回の露光動作の間に行うフォトマスクと基板の補助隔壁の方向への相対移動の移動距離は、横方向最外部に位置する主隔壁用透光部とそれに隣り合う主隔壁用透光部のピッチの等倍であることが好ましい。【００２７】
本発明においては、格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して露光動作を複数回行い、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを、前述のように補助隔壁の方向と平行に相対移動させるだけでなく、主隔壁の方向と平行に相対移動させても良い。その場合の本発明は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、該アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体を覆う誘電体層もしくは誘電体層の前駆体、ならびに該誘電体層もしくは誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層が形成されたディスプレイ用部材材料に対し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行およびこれに直交する格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して露光動作を複数回行い、現像し、焼成して、該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部とそれに隣り合う主隔壁形成用透光部のピッチが、横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部のピッチの２以上の整数倍であるフォトマスクを用い、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを主隔壁の方向と平行に相対移動させ、移動距離が縦方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法である。【００２８】
この製造方法において用いるフォトマスクの縦方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口線幅は縦方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口線幅よりも大きいことが好ましい。【００２９】
格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して露光動作を複数回行い、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを主隔壁の方向と平行に相対移動させることによって、フォトマスク上に異物が付着した場合やキズがあった場合であっても、断線や短絡等といった欠陥の発生を抑制することができる。
また、少なくとも２回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを相対移動させることから、露光の位置精度を確保するために２回の各露光動作の前に位置合わせのためのアライメント動作を行うことが好ましい。ただし、１回目の露光動作の前には基板とフォトマスクとの位置合わせのためのアライメント動作を毎回行うが、２回目の露光動作の前は１枚目でアライメント動作を行い、２枚目以降はアライメント動作を行わずに初回アライメントの結果を基にフォトマスクと基板とを一定距離相対移動させて露光動作を行うことを１サイクルとし、これを繰り返してもよい。このようにすることで露光動作の位置精度を確保し、かつ短時間で露光動作を終えることができるので、生産性を犠牲にすることもない。【００３０】
以下、本発明のプラズマディスプレイ用部材の構成と、本発明のプラズマディスプレイ用部材の構成および製造方法について説明する。【００３１】
本発明のプラズマディスプレイ用部材に用いる基板としては、ソーダガラスなどを用いることができ、具体的にはプラズマディスプレイ用の耐熱ガラスである旭硝子（株）製のＰＤ２００や日本電気硝子（株）製のＰＰ８などが挙げられる。【００３２】
基板上には、銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によりストライプ状のアドレス電極が形成される。形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷し、４００〜６００℃に加熱・焼成して金属パターンを形成する方法や、金属粉末と感光性有機成分を含む感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを用いてパターン露光後、不要な部分を現像工程で溶解除去し、さらに４００〜６００℃に加熱、焼成して金属パターンを形成する感光性ペースト法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロムやアルミニウム等の金属をスパッタリングした後にレジストを塗布し、レジストをパターン露光、現像した後にエッチングにより不要な部分の金属を取り除くエッチング法を用いることもできる。電極厚みは１．０〜１０μｍが好ましく、１．５〜５μｍがより好ましい。電極厚みが薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、厚すぎると材料が多く必要とされ、コスト的に不利な傾向にある。アドレス電極の幅は好ましくは３５〜２４０μｍ、より好ましくは３０〜１５０μｍである。アドレス電極の幅が細すぎると抵抗値が高くなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、太すぎると隣り合う電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じやすい傾向にある。さらに、アドレス電極は表示セル（画素の各ＲＧＢを形成する領域）に応じたピッチで形成される。通常のプラズマディスプレイでは１００〜５００μｍ、高精細プラズマディスプレイにおいては１００〜４００μｍのピッチで形成するのが好ましい。【００３３】
前記アドレス電極を被覆して、誘電体層が形成される。誘電体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストを、アドレス電極を覆う形で塗布した後に、４００〜６００℃で焼成することにより形成することができる。誘電体層に用いるガラスペーストには、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも１種類以上を含有し、これらを合計で１０〜８０質量％含有する低融点ガラス粉末を好ましく用いることができる。該配合物を１０質量％以上とすることで、６００℃以下での焼成が容易になり、８０質量％以下とすることで、結晶化を防ぎ透過率の低下を防止する。【００３４】
上記低融点ガラス粉末と有機バインダーを混練してペーストを作成する。用いる有機バインダーとしては、エチルセルロース、メチルセルロース等に代表されるセルロース系化合物、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレート等のアクリル系化合物等を用いることができる。また、ガラスペースト中に、溶媒、可塑剤等の添加剤を加えても良い。溶媒としては、テルピネオール、ブチロラクトン、トルエン、メチルセルソルブ等の汎用溶媒を用いることができる。また、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジエチルフタレート等を用いることができる。低融点ガラス粉末以外に軟化温度が高く焼成時に軟化しないフィラー成分を添加することにより、反射率が高く、輝度の高いＰＤＰを得ることができる。フィラーとしては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が好ましく、体積分布曲線における５０％粒子径が０．０５〜３μｍの酸化チタンを用いることが特に好ましい。フィラーの含有量はガラス粉末：フィラーの質量比で、１：１〜１０：１が好ましい。フィラーの含有量を重量比でガラス粉末含有量の１０分の１以上とすることで、輝度向上の実効を得ることができる。また、ガラス粉末の含有量の同量以下とすることで、焼結性を保つことができる。【００３５】
また、誘電体層に用いるガラスペーストに導電性微粒子を添加することにより駆動時の信頼性の高いプラズマディスプレイを作成することができる。導電性微粒子は、ニッケル、クロムなどの金属粉末が好ましく、体積分布曲線における５０％粒子径は１〜１０μｍであることが好ましい。１μｍ以上とすることで十分な効果を発揮でき、１０μｍ以下とすることで誘電体上の凹凸を抑えることができ、誘電体層上での後述の隔壁の形成を容易にすることができる。これらの導電性微粒子が誘電体層に含まれる含有量としては、０．１〜１０質量％が好ましい。０．１質量％以上とすることで導電性を得ることができ、１０質量％以下とすることで、横方向の隣り合うアドレス電極間でのショートを防ぐことができる。誘電体層の厚みは好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホールが多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くなり、消費電力が大きくなる傾向にある。【００３６】
次に、本発明における主隔壁および補助隔壁の形成方法について説明する。主隔壁および補助隔壁は、基板上に絶縁性の無機成分と有機成分からなるペーストを用いて、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、感光性ペースト法（フォトリソグラフィー法）、金型転写法、リフトオフ法等公知の技術によりパターンを形成し、焼成することで形成される。【００３７】
以下に感光性ペースト法について、詳述する。【００３８】
感光性ペースト法で用いる隔壁形成用感光性ペーストは、無機微粒子と感光性有機成分を主成分とし、必要に応じて光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を含有する。【００３９】
隔壁形成用感光性ペーストの無機微粒子としては、ガラス、セラミック（アルミナ、コーディライトなど）などを用いることができる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物、または、アルミニウム酸化物を必須成分とするガラスやセラミックスが好ましい。【００４０】
無機微粒子の粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、体積分布曲線における５０％粒子径が、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは、１〜５μｍである。体積分布曲線における５０％粒子径を１０μｍ以下とすることで、表面凸凹が生じるのを防ぐことができる。また、１μｍ以上とすることで、ペーストの粘度調整を容易にすることができる。さらに、比表面積０．２〜３ｍ２／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン形成において特に好ましい。【００４１】
主隔壁および補助隔壁は、好ましくは熱軟化点の低いガラス基板上にパターン形成されるため、無機微粒子として、熱軟化温度が３５０〜６００℃の低融点ガラス微粒子を６０質量％以上含む無機微粒子を用いることが好ましい。また、熱軟化温度が６００℃より高い高融点ガラス微粒子やセラミック微粒子からなるフィラー成分を添加することによって、焼成時の収縮率を抑制することができるが、その量は、無機微粒子の合計量に対して４０質量％以下が好ましい。低融点ガラス微粒子としては、焼成時にガラス基板にそりを生じさせないためには線膨脹係数が５０×１０−７〜９０×１０−７Ｋ−１、さらには、６０×１０−７〜９０×１０−７Ｋ−１の低融点ガラス微粒子を用いることが好ましい。【００４２】
低融点ガラス微粒子としては、ケイ素および／またはホウ素の酸化物を含有したガラスが好ましく用いられる。【００４３】
酸化ケイ素は、３〜６０質量％の範囲で配合されていることが好ましい。３質量％以上とすることで、ガラス層の緻密性、強度や安定性が向上し、また、熱膨脹係数を所望の範囲内とし、ガラス基板との熱膨張係数の差によるそり発生の問題を防ぐことができる。また、６０質量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。【００４４】
酸化ホウ素は、５〜５０質量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０質量％以下とすることでガラスの安定性を保つことができる。【００４５】
さらに、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０質量％含有させることによって、ガラス基板上にパターン加工するのに適した温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０質量％含有するガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが長いなどの利点が得られる。ビスマス系ガラス微粒子としては、次の組成をからなるガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化ビスマス：１０〜４０質量％
酸化ケイ素：３〜５０質量％
酸化ホウ素：１０〜４０質量％
酸化バリウム：８〜２０質量％
酸化アルミニウム：１０〜３０質量％
また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０質量％含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物の添加量は、２０質量％以下、好ましくは、１５質量％以下にすることによって、ペーストの安定性を向上することができる。上記３種のアルカリ金属酸化物の内、酸化リチウムがペーストの安定性の点で、特に好ましい。リチウム系ガラス微粒子としては、例えば次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化リチウム：２〜１５質量％
酸化ケイ素：１５〜５０質量％
酸化ホウ素：１５〜４０質量％
酸化バリウム：２〜１５質量％
酸化アルミニウム：６〜２５質量％
また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ金属含有量で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールすることができる。【００４６】
また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨脹係数の点からは、その含有量は、４０質量％以下が好ましく、より好ましくは２５質量％以下である。【００４７】
感光性有機成分としては、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なくとも１種類を含有することが好ましい。【００４８】
感光性モノマーは、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、単官能および多官能性の（メタ）アクリレート類、ビニル系化合物類、アリル系化合物類などのアクリル系モノマーを用いることが好ましい。これらは１種または２種以上使用することができる。【００４９】
感光性オリゴマー、感光性ポリマーとしては、炭素−炭素２重結合を有するモノマーのうちの少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを用いることができる。好ましくは上記アクリル系モノマーのうち少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーであって、前記モノマーの含有率が、１０質量％以上、さらに好ましくは３５質量％以上になるように、他の感光性のモノマーと共重合することができる。ポリマーやオリゴマーに不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、または、これらの酸無水物などが挙げられる。こうして得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポリマー、もしくは、オリゴマーの酸価（ＡＶ）は、５０〜１８０の範囲が好ましく、７０〜１４０の範囲がより好ましい。以上に示したポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性をもつ感光性ポリマーや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。【００５０】
光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾフェノン、Ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対し、好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜５質量％の範囲で添加される。重合開始剤の量が少な過ぎると、光感度が低下する傾向にあり、光重合開始剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなり過ぎる傾向にある。【００５１】
光吸収剤を添加することも有効である。紫外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ましく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は、０．０５〜５質量％が好ましく、より好ましくは、０．０５〜１質量％である。添加量が前記範囲より少ないと、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあり、前記範囲より多いと、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向にある。【００５２】
増感剤は、感度を向上させるために好ましく添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。増感剤を感光性ペーストに添加する場合、その添加量は、感光性成分に対して通常０．０５〜１０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％である。増感剤の量が前記範囲より少ないと感度を向上させる効果が発揮されない傾向にあり、増感剤の量が前記範囲より多いと、露光部の残存率が小さくなる傾向にある。【００５３】
有機溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。【００５４】
隔壁形成用感光性ペーストは、通常、上記の無機微粒子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。次いで感光性ペーストの塗布、乾燥、露光、現像等を行う。【００５５】
隔壁形成用感光性ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどを用いることができる。【００５６】
また、塗布後の乾燥は、通風オーブン、ホットプレート、ＩＲ（赤外線）炉などを用いることができる。【００５７】
露光で使用される活性光源は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間露光を行う。【００５８】
ここで、フォトマスクと感光性ペーストの塗布膜表面との距離（以下ギャップ量という）は５０〜５００μｍ、さらには７０〜４００μｍに調整することが好ましい。ギャップ量を５０μｍ以上、さらに好ましくは７０μｍ以上とすることにより、感光性ペースト塗布膜とフォトマスクの接触を防ぎ、双方の破壊や汚染を防ぐことができる。また５００μｍ以下、さらに好ましくは４００μｍ以下とすることにより、シャープなパターニングが可能となる。【００５９】
現像は、露光部と非露光部の現像液に対する溶解度差を利用して行う。現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。【００６０】
現像液は、感光性ペースト中の溶解させたい有機成分、すなわち、ネガ型感光性ペーストの場合は露光前の感光性有機成分が、ポジ型感光性ペーストの場合は露光後の有機成分が溶解可能である溶液を用いる。溶解させたい有機成分にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像することができる。アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などの無機アルカリ水溶液を使用することもできるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されにくい傾向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥離したり、非可溶部を腐食させたりする傾向にある。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。【００６１】
次に、現像により得られた主隔壁及び補助隔壁のパターンは焼成炉にて焼成される。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８００℃で行うと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成する場合は、４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うと良い。【００６２】
次いで所定のアドレス電極と平行方向に形成された主隔壁間に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）各色に発光する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、蛍光体粉末、有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の主隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じて焼成することにより形成することができる。【００６３】
蛍光体ペーストを所定の主隔壁間に塗着させる方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、蛍光体ペーストに前述の感光性有機成分を用いた感光性ペースト法により各色の蛍光体ペーストを所定の場所に塗着させることができるが、コストの理由からスクリーン印刷法、ディスペンサー法が本発明では好ましく適用される。【００６４】
赤色蛍光体層の厚みをＴｒ（μｍ）、緑色蛍光体層の厚みをＴｇ（μｍ）、および青色蛍光体層の厚みをＴｂ（μｍ）としたとき、式（２）および（３）を満たすことが好ましい。
１０≦Ｔｒ≦Ｔｂ≦５０        （２）、
１０≦Ｔｇ≦Ｔｂ≦５０        （３）
つまり、発光輝度の低い青色について、厚みを緑色、赤色よりも厚くすることにより、より色バランスに優れた（色温度の高い）プラズマディスプレイを作製できる。蛍光体層の厚みとしては、１０μｍ以上とすることで充分な輝度を得ることができる。また、５０μｍ以下とすることで、放電空間を広くとり高い輝度を得ることができる。この場合の蛍光体層の厚みは、隣り合う主隔壁および隣り合う補助隔壁の中間点での焼成後の厚みとして測定する。つまり、放電空間（主隔壁、補助隔壁によって囲まれた画素セル内）の底部に形成された蛍光体層の厚みとして測定する。【００６５】
塗着させた蛍光体層を必要に応じて、４００〜５５０℃で焼成することにより、背面板を作製することができる。【００６６】
この背面板を用いて、前面板と封着後、前背面の基板間隔に形成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラズマディスプレイを作製できる。前面板は、基板上に所定のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護層を形成した部材である。背面板上に形成されたＲＧＢ各色蛍光体層に一致する部分にカラーフィルター層を形成しても良い。また、コントラストを向上するために、ブラックストライプを形成しても良い。【００６７】
次に、主隔壁のピッチについて説明する。主隔壁とこれに直交する補助隔壁からなる格子状の隔壁パターンである場合、表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁では補助隔壁と表示領域側の片側のみ接続している形状になっており、焼成時に補助隔壁が収縮することにより発生する応力が表示領域側への一方向にのみかかるために、図１に示すように最外部の主隔壁３が倒れ込んでしまい、その他の表示領域の主隔壁２よりも盛り上がってしまうという問題を生じる。このように局所的に隔壁高さが高くなるとパネルを点灯した際に誤放電が発生するなどし、表示品位を低下させてしまうことがあり問題である。そこで、最外部主隔壁の倒れ込みを防止するために、図２に示すように最外部主隔壁の幅Ｌｔ１を表示領域の主隔壁幅よりも太くすることが行われるが、最外部主隔壁のピッチＰｔ１が表示領域内の主隔壁ピッチＰｔ２と同じであった場合、倒れ込みを防止するほどＬｔ１を充分に太くすることができないことから、Ｐｔ１はＰｔ２よりも大きく設計される。Ｌｔ１はＬｔ２の１．２〜３倍が好ましい。１．２倍よりも小さい場合、倒れ込みを抑制する効果が充分でなく、３倍より大きい場合は最外部主隔壁自身の幅方向の収縮応力が大きくなり頂部が反り上がったりすることがあるので好ましくない。【００６８】
また、感光性ペースト法を用いて主隔壁と補助隔壁により、パターンが格子状である隔壁を有する基板は、基板上に形成された隔壁形成用感光性ペースト塗布膜に対し、所望の格子状パターンを有するフォトマスクを用いて露光を行い、現像・焼成を行うことにより得ることができる。この際フォトマスクへ異物が付着したり、キズ、気泡などがあったりした場合、パターンが形成不良となることがある。【００６９】
ここで、基板上に形成された隔壁形成用感光性ペースト塗布膜と、所望の格子状パターンを有するフォトマスクの位置を合わせ、一度露光し（露光動作１）、さらに、所望の量で基板またはフォトマスクを移動して露光（露光動作２）する方法を適用することで、パターンの形成不良などの欠陥発生を抑制することができる。この時の基板またはフォトマスクの移動方向は補助隔壁の方向と平行あるいは主隔壁の方向と平行であり、移動方向が補助隔壁の方向と平行である場合の移動量は、主隔壁ピッチＰｔ２の整数倍であることが好ましい。整数倍でない場合は露光動作１と露光動作２で主隔壁位置がずれてしまうので、欠陥発生を抑制する効果が充分でない上に隔壁幅などの形状バラツキの制御が困難になる。表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁とそれに隣り合う主隔壁のピッチＰｔ１が表示領域に位置する主隔壁のピッチＰｔ２の２以上の整数倍である必要があり、これにより最外部主隔壁の盛り上がりを抑制する事ができる。さらに前記露光動作１と露光動作２との間の基板もしくはフォトマスクの移動量をＰｔ２と同一にすることにより、パターン形成不良などの欠陥の発生を抑制することができる。ただし、Ｐｔ１がＰｔ２の５以上の整数倍であると、最外部の主隔壁３とその隣り合う主隔壁との間が開きすぎてしまうために、前面板と張り合わせてパネル化したときに、最外部の主隔壁にかかる応力が大きくなり、隔壁が欠損したりすることがある。【００７０】
また、移動方向が主隔壁の方向と平行である場合の移動量は、補助隔壁ピッチの整数倍が好ましく、より好ましくは補助隔壁ピッチと同じ距離である。整数倍でない場合は、横隔壁の形状の制御が困難になる。
【実施例】
【００７１】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。【００７２】
まず、評価方法について説明する。隔壁の形成不良については背面板で評価を実施、誤放電と最外部主隔壁欠損についてはプラズマディスプレイパネルで実施した。
＜隔壁形成不良＞
作製した背面板を透過光にて目視確認し、隔壁パターンの断線の有無を調べ、以下基準で判定した。【００７３】
○：断線なし
×：断線あり
＜誤放電＞
作製したＰＤＰのスキャン電極に１４０Ｖ、サステイン電極に２００Ｖ、アドレス電極に７０Ｖの電圧を印加してＲ、Ｇ、Ｂを単色で順に点灯させた。誤放電のために点灯させていないはずの色（Ｒ点灯時はＧとＢ、Ｇ点灯時はＢとＲ、Ｂ点灯時はＲとＧ）で点灯したセルの個数を数え、以下基準で判定した。【００７４】
○：誤点灯セル数が１パネルあたり５個以下
△：誤点灯セル数が１パネルあたり６〜１０個
×：誤点灯セル数が１パネルあたり１１個以上
＜最外部主隔壁欠損＞
作製したＰＤＰでの背面板の表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁の欠損の有無をマイクロスコープ（キーエンス社製）で観察し、以下基準で判定した。【００７５】
○：欠損なし
△：一部欠けているが隔壁の崩壊には至っていない
×：隔壁が崩壊している
次に、形成方法を順に説明する。
（実施例１〜４、比較例１、２）
ガラス基板として、５９０×９６４×１．８ｍｍの４２インチサイズのＰＤ−２００（旭硝子（株）製）を使用した。この基板上に、書き込み電極として、平均粒径２．０μｍの銀粉末を７０重量部、Ｂｉ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３＝６９／２４／４／３（質量％）からなる平均粒径２．２μｍのガラス粉末２重量部、アクリル酸、メチルメタクリレート、スチレンの共重合ポリマー８重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート７重量部、ベンゾフェノン３重量部、ブチルカルビトールアクリレート７重量部、ベンジルアルコール３重量部からなる感光性銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィー法により、ピッチ２４０μｍ、線幅１００μｍ、焼成後厚み３μｍのストライプ状電極を形成した。【００７６】
この基板に、Ｂｉ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３＝７８／１４／３／３／２（質量％）からなる体積平均粒子径２μｍの低融点ガラス微粒子を６０重量部、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量部、エチルセルロース１５重量部、テルピネオール１５重量部からなる誘電体ペーストを塗布した後、５８０℃で焼成して、厚み１０μｍの誘電体層を形成した。【００７７】
隔壁形成用の感光性ペーストは以下の成分を配合、分散して用いた。
ガラス粉末：Ｂｉ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３＝８２／６／３／６／３（質量％）からなる平均粒径２μｍのガラス粉末  ６７重量部
フィラー：平均粒径０．２μｍの酸化チタン  ３重量部
ポリマー：”サイクロマー”Ｐ（ＡＣＡ２５０、ダイセル化学工業社製）  １０重量部
有機溶剤（１）：ベンジルアルコール  ４重量部
有機溶剤（２）：ブチルカルビトールアセテート  ３重量部
モノマー：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  ８重量部
光重合開始剤：ベンゾフェノン  ３重量部
酸化防止剤：１，６−ヘキサンジオール−ビス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］  １重量部
有機染料：ベージックブルー２６  ０．０１重量部
チキソトロピー付与剤：Ｎ，Ｎ’−１２−ヒドロキシステアリン酸ブチレンジアミン：０．５重量部
界面活性剤：ポリオキシエチレンセチルエーテル：０．４９重量部。【００７８】
隔壁形成用感光性ペーストをダイコーターにより２５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い、塗布膜を形成した。その上に、隔壁形成用感光性ペーストをダイコーターにより５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、３０分の乾燥を行い、塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、所望の格子状パターンを有するフォトマスクの位置を合わせ、一度露光し（露光動作１）、さらに、表１に示す所望の移動距離Ｓ（μｍ）で基板またはフォトマスクを補助隔壁と平行な方向に移動し、再度位置合わせをして露光（露光動作２）を行った。フォトマスクは図３に示したパターンを有したものを使用した。なお、それぞれの実施例、比較例で用いたフォトマスクの横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部とそれに隣り合う主隔壁形成用透光部のピッチＰｍｔ１（μｍ）、横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部のピッチＰｍｔ２（μｍ）、補助隔壁形成用透光部のピッチＰｍｙ（μｍ）、横方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部Ｗｔ１（μｍ）、横方向中央部に位置する主隔壁形成用透光部の幅Ｗｔ２（μｍ）を表１に示す。【００７９】
また、フォトマスクとのギャップを１５０μｍとし、露光動作1と露光動作２で積算露光量の和が４００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光を実施した。【００８０】
上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。得られた基板の概略図を図４に示す。表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁とそれに隣り合う主隔壁のピッチＰｔ１（μｍ）、表示領域に位置する主隔壁のピッチＰｔ２（μｍ）、補助隔壁のピッチＰｙ（μｍ）、表示領域の横方向両側の非表示領域に位置する主隔壁のうち最外部に位置する主隔壁の底部幅Ｌｔ１（μｍ）、表示領域に位置する主隔壁の底部幅Ｌｔ２（μｍ）の測定結果を表１に示す。【００８１】
形成された隔壁間に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法により塗布、焼成（５００℃、３０分）して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成した。【００８２】
次に、前面板を以下の工程によって作製した。まず、ガラス基板として５９０×９６４×２．８ｍｍの４２インチサイズのＰＤ−２００（旭硝子（株）製）を用い、このガラス基板上にＩＴＯをスパッタ法で形成後、レジスト塗布し、露光、現像処理、エッチング処理によって厚み０．１μｍ、線幅２００μｍの透明電極を形成した。また、黒色銀粉末からなる感光性銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、焼成後厚み５μｍのスキャン電極とサステイン電極を形成した。電極はそれぞれピッチ５００μｍ、線幅８０μｍのものを作製した。【００８３】
次に、酸化鉛を７５質量％含有する低融点ガラスの粉末を７０重量部、エチルセルロース２０重量部、テルピネオール１０重量部を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われるように５０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃、１５分間の焼成を行って前面誘電体を形成した。【００８４】
誘電体を形成した基板上に、保護膜として、電子ビーム蒸着により厚み０．５μｍの酸化マグネシウム層を形成して前面板を作製した。【００８５】
作製した前面板と背面板とを封着ガラスを用いて封着して、Ｘｅ５％含有のＮｅガスを内部ガス圧６６５００Ｐａになるように封入し、駆動回路を実装することによりプラズマディスプレイパネルを作製した。【００８６】
評価結果を表１に示す。【００８７】
【表１】
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【００８８】
実施例１〜４では生産性良く、表示品位も高いプラズマディスプレイパネルを得ることができたが、比較例１〜３では生産性と表示品位とでいずれかが劣っている結果となった。
【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図３】
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【国際調査報告】
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