(57)【要約】  本発明の課題は、高コントラストで画像ムラ(コーナームラ)が少なく、カール安定性及び高温高湿環境下での耐久性に優れた薄型の偏光板とその製造方法、及びそれを用いた液晶表示装置を提供することである。本発明の偏光板は、基材と、二色性物質を吸着した親水性高分子層からなる偏光子とが積層された偏光板であって、該偏光子が、熱可塑性樹脂層上に該親水性高分子層を塗布方式で積層した後、延伸処理を施して形成され、延伸後の該親水性高分子層の厚さが０．５〜１０μｍの範囲内であり、該ハードコート層の厚さが１．０〜５．０μｍの範囲内であり、かつ該ハードコート層を有する基材が下式（１）で規定する条件を満たすことを特徴とする。    式（１）      ３＜Ｔ＜１８〔式中、Ｔ値（Ｎ／１０ｍｍ）＝引張強度×（破断点伸度）１／２〕
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布方式で形成されたハードコート層を有する基材と、二色性物質を吸着した親水性高分子層からなる偏光子とが積層された偏光板であって、該偏光子が、熱可塑性樹脂層上に該親水性高分子層を塗布方式で積層した後、延伸処理を施して形成され、延伸後の該親水性高分子層の厚さが０．５〜１０μｍの範囲内であり、該ハードコート層の厚さが１．０〜５．０μｍの範囲内であり、かつ該ハードコート層を有する基材が下式（１）で規定する条件を満たすことを特徴とする偏光板。
式（１）
３＜Ｔ＜１８
〔式中、Ｔ（Ｎ／１０ｍｍ）＝Ａ×（Ｂ）１／２である。ＡはＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に準拠した方法に従い測定した引張強度（Ｎ／１０ｍｍ）であり、ＢはＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に準拠した方法に従い測定した破断点伸度である。〕
【請求項２】
前記基材の厚さが、５．０〜２５μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記基材が、セルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の偏光板。
【請求項４】
前記熱可塑性樹脂層が、セルロースエステルフィルム又はポリエチレンテレフタレートフィルムであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項５】
前記基材が、フタル酸、アジピン酸、ベンゼンモノカルボン酸及び炭素数２〜１２のアルキレングリコールを反応させた構造を有するエステル化合物を含有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項６】
前記偏光子を形成する親水性高分子層が、ポリビニルアルコール樹脂の塗布体であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項７】
前記二色性物質が、ヨウ素含有化合物であることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれか一項に記載の偏光板を製造する偏光板の製造方法であって、親水性高分子層から構成される偏光子が、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子塗布液を塗布して該親水性高分子層を積層する塗布工程と、該熱可塑性樹脂層及び親水性高分子層の積層体を、長手方向又は幅手方向に延伸する延伸工程と、基材に貼合わせる貼合せ工程、及び該熱可塑性樹脂層を剥離する剥離工程を経て製造することを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項９】
請求項１から７までのいずれか一項に記載の偏光板を具備することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板、偏光板の製造方法及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイや有機エレクトロルミネッセンスを利用した薄型ディスプレイ市場が急速に伸長している。特に、スマートフォンやｉＰａｄと呼ばれる中小型モバイル機器市場の伸長が著しい。【０００３】
中小型モバイル機器においては、表示画像のコントラスト向上とともに、機器の薄型化や軽量化が求められている。そのため表示装置を構成する各部材の薄肉化が大きな課題となっている。【０００４】
上記問題を解決する方法の一つとして、構成部材である偏光子及び基材を薄膜化することが望まれている。この課題に対し、基材に親水性高分子を塗布し、延伸、染色して偏光板を製造する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１に記載の方法によれば、従来では厚さが２０μｍ超であった偏光子に対して、１０μｍ以下の薄膜の偏光子を得ることができるとされている。【０００５】
しかしながら、偏光板を作製する際には、該偏光子の表面を保護する目的で、他の透明基材との貼合せが必要となる。通常、偏光板に用いる基材の厚さは６０〜１００μｍの範囲内であり、上記のように偏光子のみを薄膜化しても、偏光板全体の薄膜化には効果が薄いのが現状である。【０００６】
また、単に基材を薄膜化しただけでは、偏光子との貼合工程や、作製した偏光板のパネルへ貼合するプロセスにおいて、フィルムの膜破断が多発すること、あるいは製造工程のフィルム搬送時に、膜破断や表面が傷付きやすくなるといった新たな問題が発生する。【０００７】
基材の膜破断に対する強度や傷付きを押さえる手段として、基材の表面に、耐擦性の高いハードコート層を形成する方法があるが、薄膜偏光板に適用すると、偏光板のカールやロール状に巻き取った状態での経時劣化による色ムラが発生し、好ましくないのが現状である。【０００８】
また、中小型のタッチパネル付き液晶ディスプレイや有機エレクトロルミネッセンス表示装置では、偏光板をタッチパネルやバックライト部材に直接貼り合わせることが増加している。これは偏光板表面での界面反射を抑えてコントラストを向上させること、及び薄型化、アプリケーション全体の強度向上を目的としているが、バックライトの熱や外部の熱を偏光板へ伝えやすくすることから、今まで以上に環境変動耐性の高い薄型の偏光板が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１１−１００１６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、高コントラストで画像ムラ(コーナームラともいう)が少なく、カール安定性及び高温高湿環境下での耐久性に優れた薄型の偏光板とその製造方法、及びそれを用いた液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、上記問題に鑑み鋭意検討を進めた結果、塗布方式で形成されたハードコート層を有する基材と、二色性物質を吸着した親水性高分子層からなる偏光子とが積層された偏光板であって、該偏光子が、熱可塑性樹脂層上に該親水性高分子層を塗布方式で積層した後、延伸処理を施して形成され、延伸後の該親水性高分子層の厚さ及び該ハードコート層の厚さを特定の範囲に制御し、かつ該ハードコート層を有する基材の引張強度（Ｎ／１０ｍｍ）×（破断点伸度）１／２で表されるタフネスＴが、特定の範囲内であることを特徴とすることにより、高コントラストで画像ムラ(コーナームラ)が少なく、カール安定性及び高温高湿環境下での耐久性に優れた薄型の偏光板を実現することができることを見出し、本発明に至った次第である。【００１２】
すなわち、本発明の上記問題は、下記の手段により解決される。【００１３】
１．塗布方式で形成されたハードコート層を有する基材と、二色性物質を吸着した親水性高分子層からなる偏光子とが積層された偏光板であって、該偏光子が、熱可塑性樹脂層上に該親水性高分子層を塗布方式で積層した後、延伸処理を施して形成され、延伸後の該親水性高分子層の厚さが０．５〜１０μｍの範囲内であり、該ハードコート層の厚さが１．０〜５．０μｍの範囲内であり、かつ該ハードコート層を有する基材が下式（１）で規定する条件を満たすことを特徴とする偏光板。【００１４】
式（１）
３＜Ｔ＜１８
〔式中、Ｔ（Ｎ／１０ｍｍ）＝Ａ×（Ｂ）１／２である。ＡはＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に記載の方法に従い測定した引張強度（Ｎ／１０ｍｍ）であり、ＢはＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に記載の方法に従い測定した破断点伸度である。〕
２．前記基材の厚さが、５．０〜２５μｍの範囲内であることを特徴とする第１項に記載の偏光板。【００１５】
３．前記基材が、セルロースエステルフィルムであることを特徴とする第１項又は第２項に記載の偏光板。【００１６】
４．前記熱可塑性樹脂層が、セルロースエステルフィルム又はポリエチレンテレフタレートフィルムであることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の偏光板。【００１７】
５．前記基材が、フタル酸、アジピン酸、ベンゼンモノカルボン酸及び炭素数２〜１２のアルキレングリコールを反応させた構造を有するエステル化合物を含有することを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の偏光板。【００１８】
６．前記偏光子を形成する親水性高分子層が、ポリビニルアルコール樹脂の塗布体であることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の偏光板。【００１９】
７．前記二色性物質が、ヨウ素含有化合物であることを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載の偏光板。【００２０】
８．第１項から第７項までのいずれか一項に記載の偏光板を製造する偏光板の製造方法であって、親水性高分子層から構成される偏光子が、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子塗布液を塗布して該親水性高分子層を積層する塗布工程と、該熱可塑性樹脂層及び親水性高分子層の積層体を、長手方向又は幅手方向に延伸する延伸工程、基材に貼合する貼合工程、及び該熱可塑性樹脂層を剥離する剥離工程を経て製造することを特徴とする偏光板の製造方法。【００２１】
９．第１項から第７項までのいずれか一項に記載の偏光板を具備することを特徴とする液晶表示装置。【００２２】
本発明で規定する構成により、上記問題を解決することができるのは、以下の理由によるものと推測している。【００２３】
すなわち、本発明で規定するＴ値を構成する引張強度（Ｎ／１０ｍｍ）及び破断点伸度は、ハードコート層を有する基材の外部応力に対する特性を代表する値である。【００２４】
従来の方法で作製される偏光子（親水性高分子層）は厚膜の状態にあり、その偏光子を構成する樹脂、例えば、親水性高分子は、熱や湿度に対して大きな収縮力を示す特性を有しており、基材としても、その収縮力に対して歪まない応力に耐えうるものが必要であった。その結果、従来のハードコート層を有する基材としては、上記式（１）で規定するＴ値としては、１８を超えるような高いＴ値が必要であった。【００２５】
一方、本発明に係る薄膜化された偏光子を用いた偏光板においては、偏光子を構成する樹脂自身の収縮力は小さくなっており、逆に、高いＴ値を有する厚膜の基材を用いた場合、偏光子と基材との界面で、変形差、伸縮差等による歪みを発生する。特に、薄膜構成の偏光子では、偏光作用を起こす領域は偏光子を構成する樹脂のごく表面のみであり、従来の厚膜の偏光子に対し、界面での僅かな歪みが、表示素子に適用した際の偏光度や色ムラに影響することになる。【００２６】
従って、本発明の本質は、ハードコート層を有する基材が偏光子を構成する樹脂の変形に追随し、偏光子の歪み応力を緩和することにより、偏光度の劣化、偏光度のムラを防ぐと共に、カール安定性及び高温高湿環境下での耐久性に優れた薄型の偏光板を実現したものである。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の上記手段により、高コントラストで画像ムラ(コーナームラ)が少なく、カール安定性及び高温高湿環境下での耐久性に優れた薄型の偏光板とその製造方法、及びそれを用いた液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明に係る偏光子の延伸工程で用いるテンターの模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明の偏光板は、塗布方式で形成されたハードコート層を有する基材と、二色性物質を吸着した親水性高分子層からなる偏光子とが積層された偏光板であって、該偏光子が、熱可塑性樹脂層上に該親水性高分子層を塗布方式で積層した後、延伸処理を施して形成され、延伸後の該親水性高分子層の厚さが０．５〜１０μｍの範囲内であり、該ハードコート層の厚さが１．０〜５．０μｍの範囲内であり、かつ該ハードコート層を有する基材の引張強度（Ｎ／１０ｍｍ）×（破断点伸度）１／２で表されるＴ値が、３＜Ｔ＜１８の範囲内であることを特徴とし、高コントラストで画像ムラ(コーナームラ)が少なく、カール安定性及び高温高湿環境下での耐久性に優れた薄型の偏光板を実現することができる。この特徴は、請求項１から請求項９に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００３０】
本発明の実施態様としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、前記基材の厚さが、５．０〜２５μｍの範囲内であることが好ましい。また、基材がセルロースエステルフィルムであることが好ましい。また、熱可塑性樹脂層が、セルロースエステルフィルム又はポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。また、基材がポリエステル化合物を含有することが好ましい。また、偏光子を形成する親水性高分子層がポリビニルアルコール樹脂の塗布体であることが好ましい。また、二色性物質がヨウ素含有化合物であることが好ましい態様である。
【００３１】
また、本発明の偏光板の製造方法においては、親水性高分子層から構成される偏光子が、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子塗布液を塗布して該親水性高分子層を積層する塗布工程と、該熱可塑性樹脂層及び親水性高分子層の積層体を、長手方向又は幅手方向に延伸する延伸工程、基材に貼合する貼合工程、及び該熱可塑性樹脂層を剥離する剥離工程を経て製造することを特徴とする。
【００３２】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、以下の説明において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００３３】
《偏光板》
本発明の偏光板は、塗布方式、より具体的には、湿式の塗布方式で形成されたハードコート層を有する基材と、二色性物質を吸着した親水性高分子層からなる偏光子とが積層された構成を有する。この親水性高分子層は、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子を塗布方式で積層した後、延伸処理を施して偏光子を作製する。
【００３４】
はじめに、偏光板を構成する基材と、偏光子を形成する熱可塑性樹脂層及び親水性高分子層について説明する。
【００３５】
［基材］
本発明に係る基材（以下、基材フィルムあるいは保護フィルムともいう。）は、塗布方式で形成された厚さが１．０〜５．０μｍの範囲内であるハードコート層を有すると共に、ハードコート層を有する基材の引張強度（Ｎ／１０ｍｍ）×（破断点伸度）１／２で表されるＴ値が、３＜Ｔ＜１８の範囲内であることを特徴する。
【００３６】
上述のように、本発明の偏光板の特徴の一つは、塗布方式で厚さが０．５〜１０μｍの範囲内である親水性高分子層（偏光子）を有していることである。薄膜の偏光子に対し、従来のような厚膜で、高いＴ値を有する基材を適用すると、薄膜の偏光子と基材との界面で、変形差や伸縮差等による歪みが発生する。特に、薄膜構成の偏光子では、偏光作用を起こす領域は、偏光子を構成する樹脂のごく表面のみであり、従来の厚膜の偏光子に対し、界面での僅かな歪みが、最終的には、表示素子に適用した際の偏光度や色ムラに影響ことになる。
【００３７】
本発明では、上記のような状況を踏まえ、偏光板の基材として、引張強度（Ｎ／１０ｍｍ）×（破断点伸度）１／２で表されるＴ値が、３＜Ｔ＜１８の範囲内であるハードコート層を有する基材を適用することを特徴する。
【００３８】
基材のＴ値が３を超える条件であれは、基材としての十分な機械的強度を得ることができ、１８未満であれば、薄膜の偏光子との組み合わせで、変形差や伸縮差等による歪みの発生を抑制でき、画像ムラ(コーナームラ)が少なく、カール安定性及び高温高湿環境下での耐久性に優れた偏光板を得ることができる。
【００３９】
本発明に係るハードコート層を有する基材のＴ値は、下記の方法に従って求めることができる。
【００４０】
ハードコート層を塗設した基材（基材フィルム）を、２３℃、相対湿度５５％の環境下で調湿した後、基材を幅１０ｍｍ、長さ１３０ｍｍで断裁し、フィルム搬送方向と直交する方向（ＴＤ方向）、及び搬送方向（ＭＤ方向）について、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に準拠する方法に従い、引っ張り試験機としてテンシロンＲＴＣ−１２２５（オリエンテック社製）を用い、チャック間距離５０ｍｍ、引っ張り速度１００ｍｍ／分の条件で引っ張り試験を行い、引張強度（Ｎ／１０ｍｍ）及び破断点伸度を求める。なお、ＴＤ方向とＭＤ方向の平均値を、本発明でいう基材の引張強度並びに破断点伸度とした。
【００４１】
次いで、求めた引張強度（Ｎ／１０ｍｍ）及び破断点伸度を下式に当てはめて、Ｔ値を求める。
【００４２】
Ｔ値（Ｎ／１０ｍｍ）＝引張強度×（破断点伸度）１／２
本発明に係るハードコート層を有する基材においては、Ｔ値の算出に係る引張強度としては１０〜１００Ｎ／１０ｍｍの範囲内であることが好ましく、１５〜８０Ｎ／１０ｍｍの範囲内であることがより好ましく、２０〜５０Ｎ／１０ｍｍの範囲内であることが特に好ましい。
【００４３】
また、本発明に係るハードコート層を有する基材において、Ｔ値の算出に係る破断点伸度としては、０．０１〜０．５０の範囲内であることが好ましく、０．０２〜０．２０の範囲内であることが更に好ましい。
【００４４】
本発明の偏光板において、ハードコート層を有する基材のＴ値を所望の範囲に制御する手段としては、特に制限はないが、例えば、基材の膜厚、基材を構成する樹脂材料や添加剤の種類、基材を製膜する時の延伸倍率、ハードコート層の構成材料や膜厚等を適宜調整することにより達成することができるが、本願発明の技術的な特徴を十分に発揮できる観点からは、ハードコート層を有する基材の膜厚として５．０〜２５μｍの範囲内という従来にはない薄膜条件とすること、あるいはセルロースエステル樹脂を用い、添加剤としてポリエステル化合物を添加すること等が、好ましい実施態様である。
【００４５】
〔基材の構成材料〕
本発明に係る基材を構成する樹脂材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性などに優れた特性を備えた樹脂材料が好ましく、例えば、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂、シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、（メタ）アクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、及びこれらの混合物が挙げられ、特に制限なく適用することができるが、その中でも、基材の構成材料としては、セルロース樹脂（セルロースエステル）を用いることが好ましい。
【００４６】
（セルロースエステル）
本発明に係る基材の形成に用いるセルロースエステルは、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５の範囲内であって、数平均分子量が１２５０００〜１５５０００の範囲内にあるセルローストリアセテートであることが好ましい。
【００４７】
また、基材の構成材料として、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５の範囲内であって、数平均分子量１２５０００〜１５５０００の範囲内にあるセルローストリアセテートＡと、アセチル基置換度が２．７５〜２．９０の範囲内であって、数平均分子量１５５５００〜１８００００の範囲内にあるセルローストリアセテートＢを含有することが更に好ましい。
【００４８】
なお、アセチル基の置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【００４９】
上記セルローストリアセテートＡは、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５の範囲内であることが好ましく、２．８４〜２．９４の範囲内であることがより好ましい。数平均分子量（Ｍｎ）は、１２５０００〜１５５０００の範囲内であることが好ましく、１２９０００〜１５２０００の範囲内であることがより好ましい。更に、重量平均分子量（Ｍｗ）は、２６５０００〜３１００００の範囲内であることが好ましい。Ｍｗ／Ｍｎは、１．９〜２．１の範囲内であることが好ましい。
【００５０】
上記セルローストリアセテートＢは、アセチル基置換度が２．７５〜２．９０の範囲内であることが好ましく、２．７９〜２．８９の範囲内であることがより好ましい。Ｍｎは、１５５５００〜１８００００の範囲内であることが好ましく、１５６０００〜１７５０００の範囲内であることがより好ましい。更に、Ｍｗは、２９００００〜３６００００の範囲内であることが好ましい。Ｍｗ／Ｍｎは、１．８〜２．０の範囲内が好ましい。
【００５１】
本発明において、セルローストリアセテートＡとセルローストリアセテートＢは、質量比で１００：０〜２０：８０までの範囲内であることが好ましい。
【００５２】
本発明に係る基材に用いるセルローストリアセテートの平均分子量（Ｍｎ、Ｍｗ）及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。以下に、代表的な測定条件を示す。
【００５３】
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝２，８００，０００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００５４】
本発明に係るセルロースエステルは、特開平１０−４５８０４号公報、特開２００５−２８１６４５号公報等に記載の方法を参考にして合成することができる。
【００５５】
また、セルロースエステル中の微量金属成分として、鉄（Ｆｅ）成分は、１ｐｐｍ以下であることが好ましい。カルシウム（Ｃａ）成分は６０ｐｐｍ以下、好ましくは０〜３０ｐｐｍである。マグネシウム（Ｍｇ）成分については、０〜７０ｐｐｍであることが好ましく、特に０〜２０ｐｐｍの範囲内であることが好ましい。鉄（Ｆｅ）成分の含量、カルシウム（Ｃａ）成分の含量、マグネシウム（Ｍｇ）成分の含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置（硫硝酸分解）及びアルカリ溶融で前処理を行った後、ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて分析することにより求めることができる。
【００５６】
本発明においては、セルローストリアセテートに、本発明の性能を妨げない範囲（１０質量％以下）で、第３のセルロースエステル、例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステルを混合してもよい。
【００５７】
更に、置換基をグラフト重合させたセルロースを全セルロースエステル中に２〜２０％の範囲内で混合、もしくは、全酢綿の平均置換度が２．７５〜２．８５の範囲内となるようにセルロースジアセテートを混合することは、高リターデーション化及び、延伸後のフィルムの脆性劣化を防ぐことができる観点から好ましい態様である。
【００５８】
置換基をグラフト重合させたセルロースとしては、下記一般式（１）又は（２）で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルであることが好ましい。
【００５９】
【化１】
2013114979.tif 000003
【００６０】
以下に、Ａの具体例を挙げる。
【００６１】
Ａ−１：−ＣＨ２ＣＨ２−
Ａ−２：−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−
Ａ−３：−ＣＨ＝ＣＨ−
Ａ−４：
【化２】
2013114979.tif 000004
【００６２】
Ａ−５：
【化３】
2013114979.tif 000005
【００６３】
Ａ−６：−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−
次いで、Ｂの具体例を挙げる。
【００６４】
Ｂ−１：−ＣＨ２ＣＨ２−
Ｂ−２：−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−
Ｂ−３：
【化４】
2013114979.tif 000006
【００６５】
Ｂ−４：
【化５】
2013114979.tif 000007
【００６６】
上記一般式（１）又は（２）で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルは、未置換のヒドロキシ基を有するセルロース、又はアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、フタリル基等のアシル基によってすでに一部のヒドロキシ基が置換されているセルロースエステルの存在下で、多塩基酸又はその無水物と多価アルコールとのエステル化反応、又はＬ−ラクチド、Ｄ−ラクチドの開環重合、Ｌ−乳酸、Ｄ−乳酸の自己縮合を行うことにより得ることができる。
【００６７】
エステル化反応に用いる多塩基酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水フマル酸等が挙げられるが、特に限定されない。
【００６８】
エステル化反応に用いることができる多価アルコールとしては、例えば、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコールなどが挙げられるが、特に限定されない。
【００６９】
エステル化反応は、無触媒で反応をすることもできるが、公知のルイス酸触媒などを用いることができる。使用できる触媒としては、例えば、スズ、亜鉛、チタン、ビスマス、ジルコニウム、ゲルマニウム、アンチモン、ナトリウム、カリウム、アルミニウムなどの金属及びその誘導体が挙げられ、特に誘導体については金属有機化合物、炭酸塩、酸化物、ハロゲン化物が好ましい。具体的には、オクチルスズ、塩化スズ、塩化亜鉛、塩化チタン、アルコキシチタン、酸化ゲルマニウム、酸化ジルコニウム、三酸化アンチモン、アルキルアルミニウムなどを例示することができる。また、触媒としてパラトルエンスルホン酸に代表される酸触媒を用いることもできる。また、カルボン酸とアルコールとの脱水反応を促進するためにカルボジイミド、ジメチルアミノピリジンなど公知の化合物を添加してもよい。
【００７０】
上記エステル化反応は、セルロースエステル及びその他の反応させる化合物を溶解させることが可能な有機溶媒中における反応によってもよいし、剪断力を付加しながら加熱攪拌が可能なバッチ式ニーダーを用いた反応によるものであってもよいし、一軸或いは二軸のエクストルーダーを用いた反応によるものであってもよい。
【００７１】
本発明において、繰り返し単位は、当該部分のセルロースに対して０．５〜１９０質量％の範囲で適宜含有させることができる。
【００７２】
セルロースエステルの置換度は、適宜設定することができるが、２．２〜３．０の範囲内であることが、熱可塑性及び熱加工性の点から好ましい。
【００７３】
本発明に係るセルロースエステルにおいて、セルロースのヒドロキシ基部分の水素原子が脂肪族アシル基との脂肪酸エステルであるとき、脂肪族アシル基は炭素原子数が２〜２０で具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられる。
【００７４】
当該繰り返し単位は、当該部分のセルロースに対しての数平均分子量として３００〜１００００であり、５００〜８０００の範囲内であることが、熱加工適性の点から好ましい。なお、当該セルロースエステルが有する繰り返し単位のみの数平均分子量は、エステル化反応する前のセルロースエステルと反応後のセルロースエステルをポリスチレン換算したＧＰＣデータ、又は、１Ｈ−ＮＭＲ（日本電子製ＪＮＭ−ＥＸ−２７０：溶媒：重塩化メチレン）により比較して求めた。
【００７５】
上記繰り返し単位をセルロースに導入する際、副反応として、前記一般式（１）又は（２）で表される繰り返し単位を有するオリゴマー、ポリエステルが生成することあるが、これらの化合物は、可塑剤としても作用することから、精製により必ずしも完全に除去する必要はなく、セルロースエステルに残留した状態であってもよい。
【００７６】
含有量としては、セルロースエステルに対して３０質量％以下であればセルロースエステルの性質を大きく変化を与えることはない。可塑性の点から、好ましくは０．５〜２０質量％の範囲内である。
【００７７】
これらのオリゴマー及びポリエステルの数平均分子量は、３００〜１００００の範囲内であり、可塑性の点から好ましくは５００〜８０００の範囲内である。
【００７８】
（基材の各種添加剤）
次いで、本発明に係る基材であるセルロースエステルフィルムで用いることができる各種添加剤について説明する。
【００７９】
〈エステル化合物〉
本発明に係る基材においては、フタル酸、アジピン酸、ベンゼンモノカルボン酸及び炭素数２〜１２のアルキレングリコールを反応させた構造を有するエステル化合物を含有することが好ましい。
【００８０】
本発明に係るエステル化合物は、エステル系可塑剤であり、より詳しくは芳香族末端エステル系可塑剤である。
【００８１】
本発明に係るエステル化合物におけるベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種又は２種以上の混合物として使用することができる。安息香酸であることが最も好ましい。
【００８２】
炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコール成分は、１種又は２種以上の混合物として使用される。特に１，２−プロピレングリコールが好ましい。
【００８３】
本発明に係るエステル化合物は、最終的な化合物の構造として、アジピン酸残基及びフタル酸残基を有していればよく、エステル化合物を製造する際には、ジカルボン酸の酸無水物又はエステル化物として反応させてもよい。
【００８４】
本発明で使用されるエステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲内である。また、その酸価は、１．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。
【００８５】
本発明に係るエステル化合物は、例えば、特開２００８−６９２２５号公報、特開２００８−８８２９２号公報、特開２００８−１１５２２１号公報に記載されている内容を参考にして合成することができる。本発明では、アジピン酸残基及びフタル酸残基のいずれも有するエステル化合物であることが好ましく、ジカルボン酸成分としてアジピン酸、フタル酸を同時に存在させて合成することで得ることができる。
【００８６】
本発明に係るエステル化合物は、その合成時点では分子量及び分子構造に分布を有する混合物であるが、そのなかに本発明における好ましい成分であるフタル酸残基及びアジピン酸残基を構造として有するエステル化合物を少なくとも１種類有していればよい。
【００８７】
本発明に係るエステル化合物を使用した基材は、ジカルボン酸成分としてアジピン酸単独、フタル酸単独で合成したエステル化合物の混合物よりも、よりすぐれた効果を発現させることができる。
【００８８】
上記化合物は、基材中に１〜３５質量％、特に５〜３０質量％含むことが好ましい。この範囲内であれば、ブリードアウトなどもなく好ましい。
【００８９】
〈アクリル系共重合体〉
本発明に係る基材（セルロースエステルフィルム）には、重量平均分子量が５００〜３００００の範囲内にあるアクリルポリマーを含有させることができる。中でも分子内に芳香環と親水性基とを有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量が５０００〜３００００の範囲内にあるポリマーＸ、より好ましくは、分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量が５０００〜３００００の範囲内にあるポリマーＸと、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量が５００〜３０００の範囲内にあるポリマーＹを含有することが好ましい。
【００９０】
これらのアクリル系共重合体は、セルロースエステルに対して１〜３０質量％の範囲で添加することができる。
【００９１】
〈フラノース構造もしくはピラノース構造を有する化合物〉
本発明に係る基材は、フラノース構造もしくはピラノース構造を少なくとも１個有し、該フラノース構造もしくはピラノース構造が１〜１２個結合した化合物中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物（以下、糖エステル化合物ともいう。）を含むことができる。
【００９２】
好ましい「フラノース構造もしくはピラノース構造を少なくとも１個有し、該フラノース構造もしくはピラノース構造が１〜１２個結合した化合物」は、例えば、特開昭６２−４２９９６号公報及び特開平１０−２３７０８４号公報に記載されている。市販品としては、モノペットＳＢ（第一工業製薬（株）製）が挙げられる。
【００９３】
本発明に係る基材（セルロースエステルフィルム）においては、フラノース構造もしくはピラノース構造を有する化合物を、１〜３５質量％、特に５〜３０質量％の範囲内で含むことが好ましい。
【００９４】
〈その他の可塑剤〉
本発明に係る基材には、上記説明したエステル化合物以外に、本発明の効果を得る上で必要に応じて他の可塑剤を含有することができる。好ましくは、１）多価アルコールエステル系可塑剤、２）多価カルボン酸エステル系可塑剤、３）グリコレート系可塑剤、４）フタル酸エステル系可塑剤又はクエン酸エステル系可塑剤、５）脂肪酸エステル系可塑剤、６）リン酸エステル系可塑剤等から選択される。これらの可塑剤は、セルロースエステルに対して１〜３０質量％の範囲内で使用されることが好ましい。
【００９５】
１）多価アルコールエステル系可塑剤
多価アルコールエステル系可塑剤は、下記一般式（３）で表される多価アルコールのエステル化合物である。
【００９６】
一般式（３）
Ｒ１−（ＯＨ）ｎ
上記一般式（３）において、Ｒ１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数を表す。
【００９７】
好ましい多価アルコールの例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが挙げられる。
【００９８】
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを挙げることができる。
【００９９】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１００】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１０１】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上持つ芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に、安息香酸が好ましい。
【０１０２】
多価アルコールエステルの分子量は、３００〜１５００の範囲内であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲内であることが更に好ましい。多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１０３】
この他、トリメチロールプロパントリアセテート、ペンタエリスリトールテトラアセテートなども好ましく用いられる。特開２００８−８８２９２号公報に記載の一般式（Ｉ）で表されるエステル化合物（Ａ）を使用することも好ましい。
【０１０４】
２）多価カルボン酸エステル化合物
多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上、好ましくは２〜２０価の範囲内の多価カルボン酸とアルコールのエステルより構成される。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価の範囲内であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は、２〜２０価の範囲内であることが好ましい。
【０１０５】
多価カルボン酸は、下記一般式（４）で表される。
【０１０６】
一般式（４）
Ｒ２（ＣＯＯＨ）ｍ（ＯＨ）ｎ
上記一般式（４）において、Ｒ２は（ｍ＋ｎ）価の有機基、ｍは２以上の正の整数、ｎは０以上の整数、ＣＯＯＨ基はカルボキシ基、ＯＨ基はアルコール性又はフェノール性ヒドロキシ基を表す。
【０１０７】
好ましい多価カルボン酸としては、以下のようなものを挙げることができる。フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような２価以上の芳香族多価カルボン酸又はその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。
【０１０８】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。例えば炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪族飽和アルコールを好ましく用いることができる。
【０１０９】
炭素数は１〜２０の範囲内であることが好ましく、炭素数１〜１０の範囲内であることが特に好ましい。また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコール又はその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコール又はその誘導体なども好ましく用いることができ、フェノール類としては、フェノール、パラクレゾール、ジメチルフェノール等を単独又は２種以上を併用して使用することができる。
【０１１０】
特開２００８−８８２９２号公報に記載の一般式（II）で表されるエステル化合物（Ｂ）を使用することも好ましい態様である。
【０１１１】
多価カルボン酸エステル化合物の分子量は、特に制限はないが、分子量として３００〜１０００の範囲内であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲内であることが更に好ましい。
【０１１２】
多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は一種類でも良いし、二種以上の混合物であっても良い。
【０１１３】
多価カルボン酸エステル化合物の酸価は、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。
【０１１４】
酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシ基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価は、ＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定したものである。
【０１１５】
３）グリコレート系可塑剤
グリコレート系可塑剤は、特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート等が挙げられる。
【０１１６】
４）フタル酸エステル系可塑剤又はクエン酸エステル系可塑剤
フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
【０１１７】
クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
【０１１８】
５）脂肪酸エステル系可塑剤
脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
【０１１９】
６）リン酸エステル系可塑剤
リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
【０１２０】
〈紫外線吸収剤〉
本発明に係る基材では、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が３０％以下であることが好ましく、より好ましくは２０％以下であり、特に好ましくは１０％以下である。
【０１２１】
本発明に用いることのできる紫外線吸収剤は、特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。
【０１２２】
紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、基材の乾燥膜厚が５．０〜２５μｍの範囲内である場合は、基材に対して０．５〜１０質量％の範囲内で添加することが好ましく、０．６〜４質量％の範囲内であることが更に好ましい。
【０１２３】
〈微粒子〉
本発明に係る基材では、微粒子を含有することが滑り性、保管安定性を向上する観点から好ましい。
【０１２４】
微粒子として、無機化合物の例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが、濁度（ヘイズ）が低くなる点で好ましく、特に、二酸化珪素が好ましい。
【０１２５】
二酸化珪素については、疎水化処理をされたものが、滑り性とヘイズを両立する上で好ましい。４個のシラノール基のうち、２個以上が疎水性の置換基で置換したものが好ましく、３個以上が置換したものがより好ましい。疎水性の置換基は、メチル基であることが好ましい。
【０１２６】
二酸化珪素の一次粒径は、２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
【０１２７】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１２８】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１２９】
また、微粒子としてのポリマーの例としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂から構成されている有機微粒子を挙げることができる。上記ポリマーの中でも、シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上、東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、これらを使用することができる。
【０１３０】
これらの中でも、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが、基材のヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きくすることができる観点から、特に好ましく、本発明においては、その中でも、アエロジルＲ８１２（一次粒径：約７ｎｍ、トリメチルシリル基で表面処理した二酸化珪素微粒子）が最も好ましく用いられる。本発明に係る基材においては、少なくとも一方の面側の動摩擦係数が、０．２〜１．０の範囲内であることが好ましい。
【０１３１】
〈染料〉
本発明に係る基材には、色味調整のため染料を添加することもできる。例えば、基材の黄色味を抑えるために青色染料を添加してもよい。好ましい染料としては、アンスラキノン系染料が挙げられる。
【０１３２】
（基材の製造方法）
次に、本発明に係る基材の製造方法について説明する。
【０１３３】
本発明に係る基材は、通常の溶液流延法、溶融流延法のいずれの方法でも製造することができるが、以下に、一例として溶液流延法による基材の作製方法について説明する。
【０１３４】
本発明に係る基材の溶液流延法による製造フローとしては、セルロースエステル及び前記の各種添加剤を溶媒に溶解させてドープを調製するドープ調製工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する流延工程、流延したドープをウェブとして乾燥する乾燥工程、金属支持体から乾燥したウェブを剥離する剥離工程、延伸又は幅保持する延伸工程、更に乾燥する第２乾燥工程、仕上がったフィルムの巻取り工程を経て製造される。
【０１３５】
〈ドープ調製工程〉
はじめに、ドープ調製工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％の範囲内が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％の範囲内である。
【０１３６】
ドープの調製で用いられる溶媒としては、単独で用いても２種以上を併用してもよい。セルロースエステルの良溶媒と貧溶媒とを混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶媒として、特に好ましくは、メチレンクロライド又は酢酸メチルが挙げられ、貧溶媒として、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。
【０１３７】
良溶媒と貧溶媒との混合比率の好ましい範囲は、良溶媒が７０〜９８質量％の範囲内であり、貧溶媒が２〜３０質量％の範囲内である。本発明でいう良溶媒あるいは貧溶媒とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解する能力を有する溶媒が良溶媒と定義され、単独で膨潤するか又は溶解しない溶媒が貧溶媒と定義される。そのため、セルロースエステルのアセチル基置換度によって、良溶媒あるいは貧溶媒としての分類が変化する。
【０１３８】
また、ドープ中には、水を０．０１〜２質量％の範囲内で含有していることが好ましい。また、セルロースエステルの溶解に用いた上記溶媒は、フィルム製膜工程（乾燥工程）で乾燥によりフィルムから除去された後、回収して、これを溶媒として再利用することができる。
【０１３９】
上記ドープを調製する時のセルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると、常圧における沸点以上に加熱できる。このように、加圧下で溶媒が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状の未溶解物の発生を防止することができ、好ましい。
【０１４０】
次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、絶対濾過精度が０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、絶対濾過精度が０．００１〜０．００８ｍｍの範囲内の濾材がより好ましく、絶対濾過精度が０．００３〜０．００６ｍｍの範囲内にある濾材が更に好ましい。
【０１４１】
濾材の材質としては、特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススチール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がない観点から好ましい。
【０１４２】
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶媒の常圧での沸点以上で、且つ加圧下で溶媒が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さい観点から好ましい。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃の範囲内であり、４５〜７０℃の範囲内がより好ましく、４５〜５５℃の範囲内であることが更に好ましい。
【０１４３】
濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。
【０１４４】
〈流延工程〉
次いで、ドープの流延工程について説明する。
【０１４５】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススチールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は、１〜４ｍの範囲内とすることができる。
【０１４６】
流延工程の金属支持体の表面温度は、−５０℃から溶媒の沸点未満の温度範囲内が好ましく、更に好ましくは０〜４０℃の範囲内であり、５〜３０℃の範囲内であることが特に好ましい。
【０１４７】
（乾燥工程、剥離工程）
基材（セルロースエステルフィルム）に良好な平面性を発現させるためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量としては、１０〜１５０質量％の範囲内であることが好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％の範囲内、又は６０〜１３０質量％の範囲内であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％の範囲内、又は７０〜１２０質量％の範囲内である。
【０１４８】
本発明でいう残留溶媒量は、下式により定義される。
【０１４９】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
尚、上式において、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱した後の質量である。
【０１５０】
また、基材（セルロースエステルフィルム）の乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％の範囲内である。
【０１５１】
フィルム乾燥工程では、一般にローラー乾燥方式（上下に配置した多数のローラーを、ウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０１５２】
ウェブを乾燥させる手段は、特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風により行うことが好ましい。
【０１５３】
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は、９０〜２００℃の範囲内が好ましく、より好ましくは１１０℃〜１９０℃の範囲内である。乾燥温度は段階的に高くしていくことが好ましい。
【０１５４】
好ましい乾燥時間は、乾燥温度にもよるが、概ね５〜６０分の範囲内が好ましく、１０〜３０分の範囲内がより好ましい。
【０１５５】
基材の膜厚は、特に限定はされないが、本発明の目的とする効果を十分に発現することができる観点から、５．０〜２５μｍの範囲内であることが好ましい。
【０１５６】
本発明に係る基材（セルロースエステルフィルム）は、幅１〜４ｍのものが用いられる。生産性の観点から幅１．６〜４ｍの範囲内のものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．８〜３．６ｍの範囲内である。４ｍ以下であれば、安定した搬送を行うことができる。
【０１５７】
〈延伸工程〉
本発明に係る基材（セルロースエステルフィルム）を作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶媒量の多いところで長手方向（ＭＤ方向）に延伸し、更にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅手方向（ＴＤ方向）に延伸を行うことができる。
【０１５８】
更には、延伸操作としては、フィルムの長手方向（ＭＤ方向）、及び幅手方向（ＴＤ方向）に対して、逐次又は同時に延伸することが好ましい。互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０〜２．０倍、ＴＤ方向に１．０７〜２．０倍の範囲とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０〜１．５倍、ＴＤ方向に１．０７〜２．０倍の範囲内で行うことが好ましい。
【０１５９】
例えば、複数のローラーに周速差をつけ、その間でローラー周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、あるいはＭＤ／ＴＤ方向同時に広げて、ＭＤ／ＴＤ両方向に延伸する方法などが挙げられる。
【０１６０】
製膜工程のこれらの幅保持、あるいは幅手方向の延伸は、テンターを用いて行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０１６１】
テンター内などの製膜工程でのフィルム搬送張力は温度にもよるが、１２０〜２００Ｎ／ｍの範囲内が好ましく、１４０〜２００Ｎ／ｍの範囲内が更に好ましい。１４０〜１６０Ｎ／ｍの範囲内が最も好ましい。
【０１６２】
延伸する際の温度範囲としては、本発明に係る基材のガラス転移温度をＴｇとすると、（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃の範囲内、より好ましくは（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃の範囲内、更に好ましく（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃の範囲内である。
【０１６３】
基材のＴｇは、フィルムを構成する材料種及び構成する添加材料の比率によって制御することができる。本発明の用途においては、フィルムの乾燥時のＴｇは１１０℃以上が好ましく、更に１２０℃以上が好ましい。
【０１６４】
従って、ガラス転移温度は１９０℃以下、より好ましくは１７０℃以下である。このとき、フィルムのＴｇはＪＩＳ  Ｋ  ７１２１に記載の方法などによって求めることができる。
【０１６５】
本発明では、延伸する際の温度は１５０℃以上、延伸倍率は１．１５倍以上にすると、表面が適度に粗くなる観点から好ましい。フィルム表面を粗くすることは、滑り性を向上させるのみでなく、表面加工性、特に、ハードコート層の密着性が向上するため好ましい。平均表面粗さＲａは、好ましくは２．０ｎｍ〜４．０ｎｍの範囲内であり、より好ましくは２．５ｎｍ〜３．５ｎｍの範囲内である。その際、フィルム中には先に述べた疎水化処理された二酸化珪素微粒子を含有していることが好ましく、特に、Ｒ９７２Ｖ及びＲ８１２がヘイズ安定性向上のために好ましい。
【０１６６】
基材の平均表面粗さＲａ（ｎｍ）と基材自体の溶媒に対する極性は、以下の関係にあることが好ましい。
【０１６７】
Ｒａ≧３．５×ｌｏｇＰ−２５．４
〈熱固定〉
基材を構成するセルロースエステルフィルムは、延伸後、熱固定することが好ましいが、熱固定はその最終ＴＤ方向の延伸温度より高温で、Ｔｇ−２０℃以下の温度範囲内で、０．５〜３００秒の間で熱固定をすることが好ましい。この際、２つ以上に分割された領域で温度差が１〜１００℃となる範囲で順次昇温しながら熱固定することが好ましい。
【０１６８】
熱固定されたフィルムは、通常、Ｔｇ以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上の温度範囲内で、ＴＤ方向又はＭＤ方向に、０．１〜１０％の範囲内で弛緩処理することが好ましい。
【０１６９】
また、冷却は、最終熱固定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷却速度で徐冷することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながら冷却処理を行うことがフィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。
【０１７０】
なお、冷却速度は、最終熱固定温度をＴ１、フィルムが最終熱固定温度からＴｇに達するまでの時間をｔとした時、（Ｔ１−Ｔｇ）／ｔで求めた値である。
【０１７１】
これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、基材を構成するセルロースエステルや可塑剤等の添加剤種により異なるので、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、好ましい特性を有するように適宜調整すればよい。
【０１７２】
本発明に係る基材において、遅相軸又は進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ１とするとθ１は−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下の範囲内であることがより好ましい。
【０１７３】
このθ１は配向角として定義でき、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことができる。θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制又は防止することに寄与し、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与できる。
【０１７４】
（物性、光学特性）
本発明に係る基材の透湿度は、４０℃、９０％ＲＨで、１０〜１２００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内が好ましく、更に２０〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内が好ましく、２０〜８５０ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内が特に好ましい。透湿度はＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法に従い測定することができる。
【０１７５】
本発明に係る基材は、３０℃での貯蔵弾性率が、ＭＤ方向では３．２〜４．７ＧＰａの範囲内であり、ＴＤ方向では４．７〜７．０ＧＰａの範囲内であることが、縦ツレが改良されて好ましい。貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定装置（レオメトリック社製の「ＡＲＥＳ」）により、昇温モード（昇温速度５℃／分、周波数１０Ｈｚ）で、３０℃の貯蔵弾性率を測定して求めることができる。
【０１７６】
本発明に係る基材の可視光透過率は、９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることが更に好ましい。可視光透過率の測定は、分光光度計（例えば、日立社製Ｕ３４００）を用い、可視光領域の分光透過率を波長１０ｎｍおきに測定し、その平均値により求めることができる。
【０１７７】
本発明に係る基材のヘイズ値は、１％未満であることが好ましく、０〜０．４％の範囲内であることが特に好ましい。ヘイズ値は、２３℃５５％ＲＨの雰囲気下、日本電色工業株式会社製ヘイズメーターＮＤＨ２０００を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準じて測定した値を用いることができる。
【０１７８】
本発明に係る基材は、下式で表される面内方向のリターデーション値Ｒｏが０〜１５０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔが−１００〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましく、特に好ましくは、Ｒｏが０〜１０ｎｍ、Ｒｔが０〜１００ｎｍの範囲内である。
【０１７９】
式（ｉ）
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）
Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
上記式（ｉ）、（ii）において、Ｒｏはフィルム面内リターデーション値、Ｒｔはフィルム厚さ方向リターデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚さ方向の屈折率、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。
【０１８０】
上記各リターデーションは、例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍの条件で求めることができる。
【０１８１】
本発明においては、Ｒｔ≧０．８５ｎｍ／膜厚１μｍであることが好ましい。コントラストと視野角を確保する為には薄膜で、かつ一定値以上のＲｔであることが好ましく、例えば、３０〜５０μｍであればＲｔは２６〜２００ｎｍの範囲内であり、５０〜７０μｍであればＲｔは４３〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。単位膜厚に対するＲｔは、０．９〜５．０ｎｍ／膜厚１μｍであることがより好ましく、１．０〜５．０ｎｍ／膜厚１μｍの範囲内であることが更に好ましい。
【０１８２】
（ハードコート層）
本発明に係る基材においては、少なくとも一方の面側に、厚さが１．０〜５．０μｍの範囲内にあるハードコート層を有することを特徴の一つとする。
【０１８３】
本発明に係る薄膜の基材上に、表面硬度の高いハードコート層を設けることにより、外圧に対する耐性を高めることができる。
【０１８４】
本発明に適用可能なハードコート層は、活性光線硬化型樹脂を有する構成であることが好ましい。すなわち、本発明に係るハードコート層は、紫外線や電子線のような活性光線（活性エネルギー線ともいう）の照射により、架橋反応を経て硬化する、活性光線硬化型樹脂を主たる成分とする層であることが好ましい。
【０１８５】
活性光線硬化型樹脂としては、特に制限はないが、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性光線を照射することによって硬化させて活性光線硬化樹脂層が形成される。活性光線硬化型樹脂としては紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化型樹脂が機械的膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂等のラジカル重合型樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等のカチオン重合型樹脂が好ましく用いられる。中でもラジカル重合型樹脂である紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
【０１８６】
紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレート化合物が好ましい。該多官能アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、活性光線硬化型のイソシアヌレート誘導体等が好ましく挙げられる。
【０１８７】
活性光線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に１個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、同一分子内に３個以上のエチレン性不飽和基及び１個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。
【０１８８】
これらの市販品としては、例えば、アデカオプトマーＮシリーズ（（株）ＡＤＥＫＡ製）、サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（以上、三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、アロニックスＭ−２１５、アロニックスＭ−３１５、アロニックスＭ−３１３、アロニックスＭ−３２７（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫ−エステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、ＮＫ−エステルＡＤ−ＴＭＰ、ＮＫ−エステルＡＴＭ−３５Ｅ、ＮＫ−エステルＡＴＭ−４Ｅ、ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ、ＮＫエステルＡ−ＩＢＤ−２Ｅ、Ａ−９３００、Ａ−９３００−１ＣＬ（以上、新中村化学工業（株））、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＰＥ−３Ａ（以上、共栄社化学（株）製）などが挙げられる。
【０１８９】
また、単官能アクリレートを用いても良い。単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。このような単官能アクリレートは、日本化成工業株式会社、新中村化学工業株式会社、大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。
【０１９０】
単官能アクリレートを用いる場合には、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比としては、多官能アクリレート：単官能アクリレート＝７０：３０〜９８：２の範囲内で含有することが好ましい。
【０１９１】
又、ハードコート層には活性光線硬化型樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤：活性光線硬化型樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００の範囲内で含有することが好ましい。光重合開始剤としては、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等、及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
【０１９２】
このような光重合開始剤は市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア６５１などが好ましい化合物として挙げられる。
【０１９３】
本発明に係るハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤が含まれていても良い。好ましい導電剤としては、π共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。
【０１９４】
また、本発明に係るハードコート層は、ＨＬＢ値が３〜１８の範囲内にある化合物を含有しても良い。ＨＬＢ値とは、Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ−Ｂａｌａｎｃｅ、親水性−親油性−バランスのことであり、化合物の親水性又は親油性の大きさを示す値である。ＨＬＢ値が小さいほど親油性が高く、ＨＬＢ値が大きいほど親水性が高くなる。
【０１９５】
本発明に係るハードコート層には、塗布性の観点から、アクリル共重合物、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、あるいはフッ素−シロキサングラフト化合物を含有させても良い。
【０１９６】
フッ素−シロキサングラフト化合物とは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物をいう。
【０１９７】
本発明に係るハードコート層は、ハードコート層を形成する成分を、溶媒で希釈して調製したハードコート層塗布組成物を、基材上に塗布、乾燥した後、活性光線を照射して硬化し、ハードコート層を形成する。
【０１９８】
溶媒としては、ケトン類（例えば、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、アルコール類（例えば、エタノール、メタノール、ブタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコール等）、炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン等）、グリコールエーテル類（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル等）などを好ましく用いることができる。また、これら溶媒の中でも、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類或いはアルコール類が好ましく、より好ましくはグリコールエーテル類又はアルコール類である。
【０１９９】
前述の活性光線硬化型樹脂１００質量部に対して、２０〜２００質量部の範囲で、これらの溶媒を用いて調製したハードコート層塗布組成物を基材フィルムに塗布後、ハードコート層塗布組成物の溶媒を蒸発させながら、ハードコート層を形成していく。
【０２００】
ハードコート層の厚さは、ドライ膜厚（平均膜厚）として、１．０〜５．０μｍの範囲であることを特徴とする。ハードコート層形成時の塗布量は、ウェット膜厚としては、上記ドライ膜厚の範囲を実現できる条件であり、おおむね５．０〜５０μｍの範囲内であり、好ましくは、５．０〜３０μｍの範囲内である。
【０２０１】
ハードコート層の形成には、例えば、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等の公知の湿式塗布装置を用いることができる。これらの塗布方法を用いてハードコート層を形成する際には、上記ハードコート層塗布組成物を基材上に塗布、乾燥した後、活性光線を照射し（この処理を、ＵＶ硬化処理ともいう。）、更に必要に応じて、ＵＶ硬化処理後に加熱処理することで形成できる。ＵＶ硬化処理後の加熱処理温度としては８０℃以上が好ましく、更に好ましくは１００℃以上であり、特に好ましくは１２０℃以上である。このような高温でＵＶ硬化後の加熱処理を行うことで、膜強度に優れたハードコート層を得ることができる。
【０２０２】
乾燥は、減率乾燥区間の温度を９０℃以上の高温処理で行うことが好ましい。更に好ましくは、減率乾燥区間の温度は、９０〜１６０℃の範囲内である。
【０２０３】
ＵＶ硬化処理に用いる光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【０２０４】
照射条件はそれぞれ使用するランプによって異なるが、活性光線の照射量は、通常５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内である。
【０２０５】
本発明に係るハードコート層には、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としている。
【０２０６】
本発明に用いることのできる紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、前記基材で用いることができる紫外線吸収剤と同様の化合物を用いることができる。
【０２０７】
特に、基材とハードコート層を積層した状態での波長３７０ｎｍにおける透過率が３０％以下であることが好ましく、更に好ましくは２０％以下、特に好ましくは１０％以下である。
【０２０８】
〈ハードコート層への防眩性の付与〉
また、本発明に係るハードコート層には、更に下記の方法に従って防眩性を付与させてもよい。
【０２０９】
（１）ローラーや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、エンボスにて凹凸形状を付与する方法。
【０２１０】
（２）ローラーや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、熱硬化性樹脂をネガ型に充填し、加熱硬化した後、ネガ型から剥離して形成する方法。
【０２１１】
（３）ローラーや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、紫外線又は電子線硬化型樹脂を塗布し凹部に充填後、樹脂液を介して凹版上に透明フィルム基材を被覆したまま紫外線又は電子線を照射し、硬化させた樹脂とそれが接着した透明フィルム基材とをネガ型から剥離する方法。
【０２１２】
（４）目的とする形状のネガ型を流延ベルトに形成しておき、キャスティング時に目的とする形状を付与する溶媒キャスト法。
【０２１３】
（５）光又は加熱により硬化する樹脂を透明基板に凸版印刷し、光又は加熱により硬化して凹凸を形成する方法。
【０２１４】
（６）ハードコート層表面に光又は加熱により硬化する樹脂を、インクジェット法によりドット状に出射印刷し、光又は加熱により硬化して透明フィルム基材表面に凸形状を形成する方法。
【０２１５】
（７）ハードコート層表面に光又は加熱により硬化する樹脂をインクジェット法によりドット状に印刷し、光又は加熱により硬化して凸形状を形成し、更に透明樹脂層にて被覆する方法。
【０２１６】
（８）ハードコート層表面を工作機械等で切削加工する方法。
【０２１７】
（９）球体あるいは多角体等各種形状の粒子を、ハードコート層表面に半ば埋没する程度に押し込んで一体化し、ハードコート層表面に凸形状を形成する方法。
【０２１８】
（１０）球体あるいは多角体等各種形状の粒子を少量のバインダーに分散したものをハードコート層表面に塗布し、ハードコート層表面に凹凸形状を形成する方法。
【０２１９】
（１１）ハードコート層表面に、バインダーを塗布し、その上に球体あるいは多角体等各種形状の粒子を散布し、ハードコート層表面を凸形状にする方法。
【０２２０】
（１２）ハードコート層表面に鋳型を押し当てて凹凸を形成する方法。具体的には、特開２００５−１５６６１５号公報に記載の方法。
【０２２１】
上記のハードコート層表面に凹凸形状を形成する方法の中でも、ネガ型を形成する方法やインクジェット法との併用が効果的である。
【０２２２】
また、本発明でいう防眩性とは、ハードコート層表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置等の使用時に、背面からの反射像の映り込みが気にならないようにするものである。
【０２２３】
〈透光性微粒子〉
本発明に係るハードコート層に防眩性を付与するため、ハードコート層形成時に透光性微粒子を用いることが好ましい。
【０２２４】
透光性微粒子は２種類以上の微粒子から構成されることが、内部ヘイズ及び表面ヘイズを達成しやすい点から好ましい。２種類以上の微粒子の構成としては、平均粒径が、０．０１〜１μｍの範囲内にある第一の透光性微粒子（透光性微粒子１ともいう。）と、平均粒径が２〜６μｍの範囲内にある第二の透光性微粒子（透光性微粒子２ともいう。）との組み合わせが好ましい。
【０２２５】
透光性微粒子１の平均粒径は０．０１〜１μｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは０．０５μｍ〜１μｍの範囲内である。また、透光性微粒子２の平均粒径は２〜６μｍの範囲内が好ましく、より好ましくは３〜６μｍの範囲内である。
【０２２６】
第一の透光性微粒子の平均粒径を０．０１〜１μｍの範囲内とすることで、内部ヘイズをコントロールしやすく、またオゾン曝露条件下での膜強度の低下抑制効果がより高く発揮される。第二の透光性微粒子の平均粒径を２〜６μｍの範囲内とすることで、光の散乱角度分布が良好となり、ディスプレイの文字ボケ等を引き起こす心配もない。また、防眩性のハードコート層の膜厚も厚くならないためカールが大きくならず、素材コストも抑えることができる。なお、これら透光性微粒子の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定装置、例えば、レーザー回折式粒度分布測定装置「ＨＥＬＯＳ＆ＲＯＤＯＳ」（シンパテック（ＳＹＭＰＡＴＥＣ）社製）等を用いて測定することができる。
【０２２７】
平均粒径が２〜６μｍの第二の透光性微粒子としては、アクリル系粒子、スチレン系粒子又はアクリル−スチレン系粒子、メラミン系粒子、ベンゾグアナミン系粒子、シリカを主成分とする無機粒子が挙げられ、例えば、フッ素含有アクリル樹脂微粒子、ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく挙げられる。中でも、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が好ましい。
【０２２８】
フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば、フッ素含有のアクリル酸エステルあるいはメタクリル酸エステルのモノマー又はポリマーから形成された微粒子である。フッ素含有のアクリル酸エステルあるいはメタクリル酸エステルの具体例としては、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル）（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル−α−フルオロアクリレートが挙げられる。
【０２２９】
また、フッ素含有アクリル樹脂微粒子の中でも、２−（パーフルオロブチル）エチル−α−フルオロアクリレートからなる微粒子、フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子、フッ素含有メタアクリル酸を架橋剤の存在下にビニル単量体と共重合させた微粒子が好ましく、更に好ましくはフッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子である。
【０２３０】
フッ素含有（メタ）アクリル酸と共重合可能なビニル単量体としては、ビニル基を有するものであればよく、具体的にはメタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸アルキルエステル、及びスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類等が挙げられ、これらは単独で又は混合して用いることができる。重合反応の際に用いられる架橋剤としては、特に限定されないが、２個以上の不飽和基を有するものを用いることが好ましく、例えば、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等の２官能性ジメタクリレートや、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
【０２３１】
なお、フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子を製造するための重合反応は、ランダム共重合及びブロック共重合のいずれでもよい。具体的には、例えば、特開２０００−１６９６５８号公報に記載の方法等を挙げることができる。
【０２３２】
市販品としては、根上工業社製のＭＦ−００４３等が挙げられる。なお、これらのフッ素含有アクリル樹脂微粒子は、単独で用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、これらのフッ素含有アクリル樹脂微粒子の状態は、粉体あるいはエマルジョン等、どのような状態で加えられても良い。
【０２３３】
また、特開２００４−８３７０７号公報の段落番号（００２８）〜（００５５）に記載のフッ素含有架橋微粒子を用いても良い。
【０２３４】
ポリスチレン粒子としては、例えば、綜研化学社製のＳＸシリーズ（例えば、ＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）等、積水化成品工業社製のＳＢＸシリーズ（例えば、ＳＢＸ−６、ＳＢＸ−８）等の市販品を挙げられる。
【０２３５】
メラミン系粒子としては、例えば、日本触媒社製のベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｍ３０、商品名：エポスターＧＰ、グレード；Ｈ４０〜Ｈ１１０）、日本触媒社製のメラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｓ１２、Ｓ６、Ｓ、ＳＣ４）等の市販品を挙げられる。また、コア部がメラミン系樹脂からなり、シェル部がシリカで充填されたコア−シェル型の球状複合硬化メラミン樹脂粒子等も挙げられる。具体的には、特開２００６−１７１０３３号公報に記載の方法で調製することができ、日産化学工業社製のメラミン樹脂・シリカ複合粒子（商品名；オプトビーズ）等の市販品を挙げられる。
【０２３６】
ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子としては、例えば、綜研化学社製のＭＸシリーズ（例えば、ＭＸ１５０、ＭＸ３００、日本触媒社製のエポスターＭＡ、グレード；ＭＡ１００２、ＭＡ１００４、ＭＡ１００６、ＭＡ１０１０、エポスターＭＸ（エマルジョン）、グレード；ＭＸ０２０Ｗ、ＭＸ０３０Ｗ、ＭＸ０５０Ｗ、ＭＸ１００Ｗ等）、積水化成品工業社製のＭＢＸシリーズ（例えば、ＭＢＸ−８、ＭＢＸ１２等）の市販品を挙げられる。
【０２３７】
架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子の具体例としては、例えば、日本ペイント社製のＦＳ−２０１、ＭＧ−３５１等の市販品が挙げられる。ベンゾグアナミン系粒子としては、例えば、日本触媒社製のベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｌ１５、Ｍ０５、ＭＳ、ＳＣ２５）等が挙げられる。
【０２３８】
平均粒径が２〜６μｍの範囲内にある第二の透光性微粒子は、防眩性を付与するハードコート層塗布液の安定性及び分散液の分散性の観点から、含有量としては、活性エネルギー線硬化型樹脂１００質量部に対して、０．０１〜５００質量部の範囲内が好ましく、更に好ましくは０．１〜１００質量部、特に好ましくは１〜６０質量部の範囲内である。
【０２３９】
平均粒子径が０．０１〜１μｍの第一の透光性微粒子としては、アクリル系粒子、シリカを主成分とする無機粒子が挙げられる。シリカ粒子としては、日本アエロジル社製のアエロジル２００、２００Ｖ、３００、デグサ製のアエロジルＯＸ５０、ＴＴ６００等、日本触媒社製のＫＥＰ−１０、ＫＥＰ−５０、ＫＥＰ−１００等の商品名が挙げられる。また、コロイダルシリカを用いても良い。コロイダルシリカとは、二酸化ケイ素をコロイド状に水又は有機溶媒に分散させたものであり、特に限定はされないが球状、針状又は数珠状である。このようなコロイダルシリカは市販されており、例えば、日産化学工業社製のスノーテックスシリーズ、触媒化成工業社製のカタロイド−Ｓシリーズ、バイエル社製のレバシルシリーズ等が挙げられる。また、アルミナゾルや水酸化アルミニウムでカチオン変性したコロイダルシリカやシリカの一次粒子を２価以上の金属イオンで粒子間を結合し数珠状に連結した数珠状コロイダルシリカも好ましく用いられる。数珠状コロイダルシリカは、日産化学工業社製のスノーテックス−ＡＫシリーズ、スノーテックス−ＰＳシリーズ、スノーテックス−ＵＰシリーズ等が挙げられ、具体的には、ＩＰＳ−ＳＴ−Ｌ（イソプロパノールシリカゾル、粒子径４０〜５０ｎｍ、シリカ濃度３０％）、ＭＥＫ−ＳＴ−ＭＳ（メチルエチルケトンシリカゾル、粒子径１７〜２３ｎｍ、シリカ濃度３５％）等、ＭＥＫ−ＳＴ（メチルエチルケトンシリカゾル、粒子径１０〜１５ｎｍ、シリカ濃度３０％）、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（メチルエチルケトンシリカゾル、粒子径４０〜５０ｎｍ、シリカ濃度３０％）、ＭＥＫ−ＳＴ−ＵＰ（メチルエチルケトンシリカゾル、粒子径９〜１５ｎｍ（鎖状構造）、シリカ濃度２０％）等が挙げられる。
【０２４０】
アクリル系粒子としては、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられ、例えば、日本ペイント社製のＦＳ−７０１等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば、日本ペイント社製のＳ−４０００、アクリル−スチレン粒子として、例えば、日本ペイント社製のＳ−１２００、ＭＧ−２５１等が挙げられる。
【０２４１】
これら平均粒子径が０．０１〜１μｍの第一の透光性微粒子のなかでも、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が好ましい。
【０２４２】
平均粒子径が０．０１〜１μｍの第一の透光性微粒子は、防眩性を付与するハードコート層塗布液の安定性及び分散液の分散安定性の観点から、含有量としては、ハードコート層形成用樹脂１００質量部に対して、０．０１〜５００質量部の範囲内が好ましく、更に好ましくは０．１〜１００質量部の範囲内である。
【０２４３】
また、平均粒径が０．０１〜１μｍの第一の透光性微粒子（透光性微粒子１）と平均粒径が２〜６μｍの第二の透光性微粒子（透光性微粒子２）との含有比率は、透光性微粒子１：透光性微粒子２＝１．０：１．０〜３．０：１．０の範囲内であることが好ましい。２種類の粒径が異なる微粒子を用い、かつ上記のような含有比率にすることで、オゾン曝露等の耐久試験後の膜強度の低下抑制に対し、より優れた効果を発揮する。
【０２４４】
上記各透光性微粒子は、粉体あるいはエマルジョン等どのような状態で加えられても良い。また、透光性微粒子の密度は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ２、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ２の範囲内である。
【０２４５】
防眩性を形成する際には、更にシリコーン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、又はポリ弗化エチレン系樹脂粉末等の紫外線硬化性樹脂組成物も加えることができる。また、必要に応じて、特開２０００−２４１８０７号公報に記載の微粒子を更に含んでも良い。
【０２４６】
また、透光性微粒子の屈折率は、１．４５〜１．７０の範囲内であることが好ましく、より好ましくは１．４５〜１．６５の範囲内である。なお、透光性微粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性微粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定できる。
【０２４７】
また、透光性微粒子と後述する透光性樹脂との屈折率の差（透光性微粒子の屈折率−透光性樹脂の屈折率）は、絶対値として０．００１〜０．１００の範囲内であり、好ましくは０．００１〜０．０５０の範囲内であり、より好ましくは０．００１〜０．０４０の範囲内であり、更に好ましくは０．００１〜０．０３０の範囲内であり、特に好ましくは０．００１〜０．０２０の範囲内であり、最適には０．００１〜０．０１５の範囲内である。屈折率を上記範囲とするには、透光性樹脂及び透光性微粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に決めることが好ましい。上記範囲内であれば、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じることもない。
【０２４８】
具体的には、ハードコート層形成用樹脂の硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３の硬化型アクリレート系樹脂とアクリル系透光性微粒子の組合せが好ましく、特に透光性樹脂の硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３の硬化型アクリレート系樹脂とアクリル系透光性微粒子と架橋ポリ（スチレン−アクリル）共重合体からなる透光性微粒子（屈折率が１．４８〜１．５４）との組合せ、透光性樹脂の硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３の硬化型アクリレート系樹脂とアクリル系透光性微粒子とフッ素含有アクリル樹脂微粒子（屈折率が１．４５〜１．４７）との組合せが好ましい。
【０２４９】
［偏光子］
本発明に係る偏光子は、前述のとおり、熱可塑性樹脂層上に該親水性高分子層を塗布方式で積層した後、延伸処理を施して形成され、延伸後の該親水性高分子層の厚さが０．５〜１０μｍの範囲内であることを特徴とする。
【０２５０】
〔熱可塑性樹脂層〕
本発明においては、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子層を積層、延伸して延伸積層体を形成する。
【０２５１】
本発明に係る熱可塑性樹脂層は、親水性高分子層を形成するための基材として機能する。本発明に係る熱可塑性樹脂層は、前述の偏光板を構成する基材（保護フィルム）と同様のフィルムを適用することができる。ただし、膜厚としては、５〜６０μｍの範囲内であることが好ましい。
【０２５２】
また、本発明に係る熱可塑性樹脂層の形成に用いる熱可塑性樹脂は、前記基材の形成に用いるのと同様の材料を適用することができ、例えば、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂、シクロ系あるいはノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、（メタ）アクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、及びこれらの混合物が挙げられ、特に制限なく適用することができるが、その中でも、フィルム状のセルロースエステル樹脂又はポリエチレンテレフタレート樹脂であることが好ましく、更に好ましくは、溶融流涎法で製膜したフィルム状のセルロースエステル樹脂である。
【０２５３】
〔親水性高分子層〕
本発明に係る延伸積層体は、親水性高分子層を有する。親水性高分子層とは、親水性高分子を主成分として含有する層である。そして、本発明の偏光板において、親水性高分子層は二色性物質を吸着したものである。これにより、親水性高分子層が、本発明の偏光板において、偏光子として機能することになる。
【０２５４】
親水性高分子層を構成する親水性高分子としては、特に制限はないが、ポリビニルアルコール系材料が好ましく例示される。ポリビニルアルコール系材料としては、例えば、ポリビニルアルコール及びその誘導体が挙げられる。ポリビニルアルコールの誘導体としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等が挙げられるほか、エチレン、プロピレン等のオレフィン、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸そのアルキルエステル、アクリルアミド等で変性したものが挙げられる。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜１００００程度が好ましく、１０００〜１００００の範囲内であるものがより好ましい。ケン化度は８０〜１００モル％の範囲内のものが一般に用いられる。上記のほか、親水性高分子としては、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化物、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等が挙げられる。前記親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系材料のなかでも、ポリビニルアルコールを用いるのが好ましい。
【０２５５】
親水性高分子層は、上述した親水性高分子に加えて、可塑剤、界面活性剤等の添加剤を含有してもよい。可塑剤としては、ポリオール及びその縮合物等が挙げられ、例えば、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられる。可塑剤等の使用量は、特に制限されないが、親水性高分子層の全質量に対して２０質量％以下とするのが好ましい。
【０２５６】
次いで、親水性高分子層に対し、染色処理が施される。
【０２５７】
本発明において、染色処理は、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子層を積層した積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させることにより行う。染色処理は、例えば、下記にその詳細を説明する二色性物質を含有する溶液（染色溶液）に、上記積層体を浸漬することにより行う。染色溶液としては、二色性物質を溶媒に溶解した溶液が使用される。溶媒としては、水が一般的に使用されるが、水と相溶性のある有機溶媒が更に添加されてもよい。
【０２５８】
親水性高分子層に吸着される二色性物質の具体的な化合物としては、特に制限はないが、例えば、ヨウ素や有機染料等が挙げられる。有機染料としては、例えば、レッドＢＲ、レッドＬＲ、レッドＲ、ピンクＬＢ、ルビンＢＬ、ボルドーＧＳ、スカイブルーＬＧ、レモンエロー、ブルーＢＲ、ブルー２Ｒ、ネイビーＲＹ、グリーンＬＧ、バイオレットＬＢ、バイオレットＢ、ブラックＨ、ブラックＢ、ブラックＧＳＰ、イエロー３Ｇ、エローＲ、オレンジＬＲ、オレンジ３Ｒ、スカーレットＧＬ、スカーレットＫＧＬ、コンゴーレッド、ブリリアントバイオレットＢＫ、スプラブルーＧ、スプラブルーＧＬ、スプラオレンジＧＬ、ダイレクトスカイブルー、ダイレクトファーストオレンジＳ、ファーストブラック等を用いることができる。なかでも、水溶性、工程適性という点で、二色性物質としてヨウ素を使用することが、染色効率をより一層向上できる観点から好ましく、更にヨウ化物を添加することが好ましい態様である。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。これらヨウ化物の添加割合は、前記染色溶液において、０．０１〜１０質量％の範囲内であることが好ましく、０．１〜５質量％の範囲内であることがより好ましい。なかでも、ヨウ化カリウムを添加することが好ましく、ヨウ素とヨウ化カリウムの割合（質量比）は、１：５〜１：１００の範囲内にあることが好ましく、１：６〜１：８０の範囲内にあることがより好ましく、１：７〜１：７０の範囲内にあることが特に好ましい。
【０２５９】
染色溶液への積層体の浸漬時間は、特に限定されないが、通常は、１５秒〜５分間の範囲内であることが好ましく、１〜３分の範囲内であることがより好ましい。また、染色溶液の温度は、１０〜６０℃の範囲内にあることが好ましく、２０〜４０℃の範囲内にあることがより好ましい。染色処理は、積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させて、二色性物質を配向させる。染色処理は、積層体の延伸処理の前、あるいは同時又は後に施すことができるが、親水性高分子層に吸着させた二色性物質を良好に配向させる点から、染色処理は、積層体に延伸処理を施した後に行うのが好ましい。
【０２６０】
〔偏光子の製造方法〕
本発明に係る偏光子は、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子層を塗布方式により積層したのち、ＴＤ方向あるいはＭＤ方向に延伸する工程を経て、偏光子を有する延伸積層体を形成する。以下、本発明に係る偏光子の製造方法について説明する。
【０２６１】
本発明に係る延伸積層体の製造方法については、特に制限はなく、従来公知の知見、及び後述する実施例の欄の記載を参照しつつ、適宜製造が可能である。
【０２６２】
本発明に係る延伸積層体の製造方法の一例を挙げると、本発明に係る延伸積層体は、熱可塑性樹脂層上に、親水性高分子を含有する水溶液を湿式方式で塗布した後、乾燥及び延伸することにより得ることができる。延伸積層体の形成方法としては、熱可塑性樹脂層と親水性高分子層とが、直接又は光硬化性接着剤層を介して積層することにより、熱可塑性樹脂層と親水性高分子層が一体化した状態の積層体が得られる。
【０２６３】
延伸積層体の作製に用いる熱可塑性樹脂層は、親水性高分子を含有する水溶液を塗布する前に、予め延伸処理を施されたものであってもよい。延伸処理は、一軸延伸、二軸延伸、斜め延伸などが施される。一軸延伸は、熱可塑性樹脂層の長手方向（ＭＤ方向）に対して行う縦延伸、熱可塑性樹脂層の幅方向（ＴＤ方向）に対して行う横延伸のいずれであってもよい。横延伸では、幅方向に延伸を行いながら、長手方向に収縮させることもできる。横延伸方式としては、例えば、テンターを介して一端を固定した固定端一軸延伸法や、一端を固定しない自由端一軸延伸法等が挙げられる。縦延伸方式としては、ローラー間延伸方法、圧縮延伸方法、テンターを用いた延伸法等が挙げられる。延伸処理は多段で行うこともできる。なお、熱可塑性樹脂層に対する延伸処理が一軸延伸である場合には、縦延伸（ＭＤ方向への延伸）であることが好ましい。
【０２６４】
また、熱可塑性樹脂層の延伸処理時の温度については、特に制限はないが、好ましくは１３０〜２００℃の範囲内であり、より好ましくは１５０〜１８０℃の範囲内である。また、熱可塑性樹脂層の延伸処理では、熱可塑性樹脂層の延伸前の長さに対して、すべての方向の合計延伸倍率で１．１〜１０倍の範囲内になるように行うとよい。好ましくは２〜６倍の範囲内であり、更に好ましくは３〜５倍の範囲内である。
【０２６５】
親水性高分子を含有する水溶液（親水性高分子層形成用塗布液ともいう。）は、親水性高分子（例えば、ポリビニルアルコール）の粉末又は親水性高分子フィルムの粉砕物、切断物等を、適宜、加熱した水（熱水）に溶解することにより調製することができる。該親水性高分子を含有する水溶液を熱可塑性樹脂層上へ塗布する方法としては、例えば、ワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のローラーコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などの湿式塗布方式を適宜選択して適用することができる。
【０２６６】
熱可塑性樹脂層上へ親水性高分子層形成用塗布液を塗布した後に乾燥を行うが、乾燥温度としては、通常、５０〜２００℃の範囲内であり、好ましくは８０〜１５０℃の範囲内である。乾燥時間は、通常、５〜３０分間程度である。
【０２６７】
また、本発明に係る延伸積層体の他の積層方法としては、熱可塑性樹脂層の形成材料と親水性高分子層の形成材料との共押出法により、ダイ等から供給して積層体を１工程（１パス）で形成することができる。共押出に際しては、熱可塑性樹脂層の形成材料と親水性高分子層の形成材料を、それぞれ共押出機に仕込み、熱可塑性樹脂層及び親水性高分子層の厚さが所望の範囲になるように共押出量を制御することが好ましい。
【０２６８】
続いて、上記で得られた延伸前の積層体に対し、延伸処理及び二色性物質による染色処理を施す。各処理が施された延伸積層体は、親水性高分子層の延伸処理と、二色性物質による染色処理を施すことにより、親水性高分子層には二色性物質が吸着されて偏光子として機能するようになる。
【０２６９】
本発明においては、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子層を上記方法で積層し、乾燥を行った後、延伸工程で加熱させながら、ＴＤ方向あるいはＭＤ方向に延伸して偏光子を形成する。
【０２７０】
以下、積層体の延伸方法の一例を、図を用いて説明する。
【０２７１】
本発明に係る延伸する積層体の製造工程で、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子層を積層した積層体を形成した後、積層体を加熱、延伸して、偏光子を作製する。
【０２７２】
図１は、本発明に係る積層体の延伸工程で適用可能なテンター用クリップを用いたテンター延伸装置で、幅手方向（ＴＤ向方）に延伸するテンター延伸装置の一例を示す平面図である。テンター延伸装置１０は、把持開始位置３で、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子層を積層した積層体Ｆの両側縁部をクリップ２で把持し、積層体Ｆを搬送方向Ａに搬送しながら、延伸開始位置４から積層体Ｆを幅手方向に延伸する。所定の延伸幅まで延伸した後、延伸終了位置５で延伸を終了し、把持解除位置６で、クリップ２による把持を解除し、延伸工程を終える。クリップ２は、左右一対の回転駆動装置（輪状のチェーン）１に所定の間隔で１列状態に配置されており、図中の矢印Ｂ、Ｃ方向に回動するように構成され、把持解除位置６で解除されたクリップ２は、把持開始位置３まで移動して、連続して積層体Ｆの延伸が行われる。延伸工程においては、図示していない加熱手段により、積層体は所定の温度に制御されている。
【０２７３】
把持具の走行速度は適宜選択できるが、通常、１〜１００ｍ／分の範囲内である。左右一対の把持具の走行速度の差は、走行速度の１％以下、好ましくは０．５％以下、より好ましくは０．１％以下である。これは、延伸工程出口でフィルムの左右に進行速度差があると、延伸工程出口におけるシワ、寄りが発生するため、左右の把持具の速度差は、実質的に同速度であることが求められるためである。一般的なテンター装置等では、チェーンを駆動するスプロケットの歯の周期、駆動モーターの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速度ムラがあり、しばしば数％のムラを生ずるが、これらは速度差には該当しない。
【０２７４】
本発明において、延伸工程の構成としては、例えば、
１）予熱ゾーン／延伸ゾーン／保持ゾーン／冷却ゾーン
２）予熱ゾーン／延伸ゾーン／収縮ゾーン／保持ゾーン／冷却ゾーン
３）予熱ゾーン／横延伸ゾーン／縦延伸ゾーン／保持ゾーン／冷却ゾーン
４）予熱ゾーン／横延伸ゾーン／縦延伸ゾーン／収縮ゾーン／保持ゾーン／冷却ゾーン等の組み合わせが挙げられる。
【０２７５】
予熱ゾーンとは、オーブン入口部において、積層体の両端を把持した把持具の間隔が一定の間隔を保ったまま走行する区間をさす。
【０２７６】
横延伸ゾーンとは、積層体の両端を把持した把持具の間隔が開きだし、積層体を横方向（ＴＤ方向）に延伸し、所定の間隔になるまでの区間をさす。このとき、両端の把持具が走行しているレールの開き角度は、両レールともに同じ角度で開いてもよいし、各々異なる角度で開いてもよい。
【０２７７】
縦延伸ゾーンとは、積層体の両端を把持した把持具が、把持具間隔を変化させながら、積層体を搬送方向（縦方向、ＭＤ方法）に延伸する区間をさす。
【０２７８】
収縮ゾーンとは、積層体の両端を把持した把持具の間隔が延伸軸に直行する方向に狭まり、所定の間隔になるまでの区間をさす。
【０２７９】
保持ゾーンとは、横延伸ゾーンあるいは縦延伸ゾーンより後の把持具の間隔が再び一定となる期間において、両端の把持具が互いに平行を保ったまま走行する区間をさす。
【０２８０】
冷却ゾーンとは、保持ゾーンより後の区間において、ゾーン内の温度が積層体を構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Ｔｇ℃以下に設定される区間をさす。
【０２８１】
このとき、冷却による積層体の縮みを考慮して、予め対向する把持具間隔を狭めるようなレールパターンとしてもよい。
【０２８２】
各ゾーンの温度は、熱可塑性樹脂層のガラス転移温度Ｔｇに対し、予熱ゾーンの温度はＴｇ〜Ｔｇ＋３０℃、延伸ゾーンの温度はＴｇ〜Ｔｇ＋３０℃、冷却ゾーンの温度はＴｇ−３０〜Ｔｇ℃の範囲内に設定することが好ましい。
【０２８３】
なお、幅方向の厚みムラの制御のため、延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差を付けてもよい。延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差を付与させる方法としては、例えば、温風を恒温室内に送り込むノズルの開度を幅方向で差を付けるようにして調整する方法や、ヒーターを幅方向に並べて加熱制御するなどの公知の方法を用いることができる。
【０２８４】
更に、延伸積層体におけるシワや寄りの発生を防止する方法としては、延伸時に積層体の支持性を保ち、揮発分率が５体積％以上の状態を保持させて延伸した後、収縮させながら揮発分率を低下させる方法等を挙げることができる。本発明でいう積層体の支持性を保つとは、積層体の膜性を損なうことなく両側縁を把持することを意味する。揮発分率については、延伸操作工程において常に５体積％以上の状態を維持していてもよいし、延伸操作工程の一部の区間に限って揮発分率が５体積％以上の状態を維持してもよい。後者の場合、入り口位置を起算点として全延伸区間の５０％以上の区間、揮発分率が１２体積％以上の状態となっていることが好ましい。いずれにせよ、延伸前に揮発分率が１２体積％以上の状態を存在させておくことが好ましい。ここで、揮発分率（単位；体積％）とは、フィルムの単位体積あたりに含まれる揮発成分の体積を表し、揮発成分体積をフィルム体積で除した値とする。
【０２８５】
テンターの入口に最も近いガイドローラーは、積層体の走行を案内する従動ローラーであり、軸受部を介してそれぞれ回転自在に軸支されている。ローラーの材質は、公知のものを用いることができるが、積層体の傷つきを防止するためにセラミックコートを施す方法、アルミニウム等の軽金属にクロームメッキを施す方法等、軽量化を図るのが好適である。このローラーは、積層体の走行時の軌道を安定させるために設けられるものである。
【０２８６】
また、このローラーの上流側のローラーのうちの１本は、ゴムローラーを圧接させてニップすることが好ましい。このようなニップローラーにすることで、積層体の流れ方向における繰出張力の変動を抑えることが可能だからである。
【０２８７】
本発明の偏光板の製造方法においては、上記の様に、熱可塑性樹脂層上に親水性高分子塗布液を塗布にして親水性高分子層を積層した後、熱可塑性樹脂層及び親水性高分子層から構成される積層体を、上記方法に従って長手方向又は幅手方向に延伸して偏光子を作製した後、基材と貼合し、最後に積層体を構成してしる熱可塑性樹脂層を剥離して偏光板を作製することを特徴とする。
【０２８８】
《表示装置》
本発明の偏光板は、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置などの各種の表示装置に適用することができる。
【０２８９】
例えば、本発明の偏光板を液晶表示装置に組み込むことによって、視認性に優れた液晶表示装置を作製することができる。また、本発明の偏光板はリワーク性にも優れたものであることから、表示装置の生産性も大幅に向上しうる。なお、本発明の偏光板は、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくはＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）型、及びＩＰＳ型液晶表示装置である。特に、ＩＰＳモード型液晶表示装置に組み込まれることが好ましい。
【０２９０】
ＩＰＳモード型液晶表示装置における液晶パネルの液晶層は、初期状態で基板面と平行なホモジニアス配向で、かつ基板と平行な平面で液晶層のダイレクターは電圧無印加時で電極配線方向と平行又は幾分角度を有し、電圧印加時で液晶層のダイレクターの向きが電圧の印加に伴い電極配線方向と垂直な方向に移行し、液晶層のダイレクター方向が電圧無印加時のダイレクター方向に比べて４５°電極配線方向に傾斜したとき、当該電圧印加時の液晶層は、まるで１／２波長板のように偏光の方位角を９０°回転させ、出射側偏光板の透過軸と偏光の方位角が一致して白表示となる。
【０２９１】
一般に、液晶層の厚さは一定であるが、横電界駆動であるため、液晶層の厚さに若干凹凸を設ける方がスイッチングに対する応答速度を上げることができるとも考えられるが、液晶層の厚さが一定でない場合であっても、その効果を最大限生かすことができるものであり、液晶層の厚さの変化に対して影響が少ない。液晶層の厚さは、２〜６μｍであって、好ましくは３〜５．５μｍである。本形態に係る液晶表示装置は、大型の液晶テレビに用いられるほか、タブレット型表示装置やスマートフォンなどの携帯用機器にも好ましく用いられうる。
【０２９２】
なお、ＩＰＳモード型液晶セルの詳細について特に制限はなく、従来公知の他の技術的事項、例えば、特開２０１０−３０６０号公報などの記載を参照することで、本発明を実施することができる。
【実施例】
【０２９３】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。【０２９４】
実施例１
《基材の作製》
〔基材１の作製〕
（１）ドープ組成物１の調製
下記（ａ）〜（ｆ）の各添加物を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープ組成物１を調製した。【０２９５】
（ａ）セルロースエステルＣＥ−１（下記参照）            ９０質量部
（ｂ）可塑剤：ポリエステル化合物Ａ（下記参照）          １０質量部
（ｃ）紫外線吸収剤：チヌビン９２８（チバ・ジャパン（株）製）
２．５質量部
（ｄ）微粒子分散液：二酸化ケイ素分散液（下記参照）        ４質量部
（ｅ）良溶媒：メチレンクロライド                      ４３２質量部
（ｆ）貧溶媒：エタノール                                ３８質量部
〈セルロースエステルＣＥ−１の調製〉
セルロース（綿花リンター由来）の１００質量部に、硫酸を１６質量部、無水酢酸を２６０質量部、酢酸を４２０質量部、それぞれ添加、攪拌しながら室温から６０℃まで６０分かけて昇温し、１５分間その温度を保持しながら酢化反応を行った。【０２９６】
次に、酢酸マグネシウム及び酢酸カルシウムの酢酸−水混合溶液を添加して硫酸を中和した後、反応系内に水蒸気を導入して、６０℃で１２０分間維持して鹸化熟成処理を行った。【０２９７】
その後、多量の水により洗浄を行い、更に乾燥し、セルロースエステルＣＥ−１を得た。【０２９８】
セルロースエステルＣＥ−１は、アセチル基置換度が２．９であり、重量平均分子量がＭｗ＝２７００００であった。【０２９９】
〈二酸化ケイ素分散液の調製〉
アエロジルＲ８１２（日本アエロジル（株）製；一次粒子の平均径７ｎｍ）の１０質量部と、エタノールの９０質量部とを、ディゾルバーで３０分間撹拌、混合した後、マントンゴーリン高圧ホモジナイザーで分散を行った。これにメチレンクロライドの８８質量部を、撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した。混合液を微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過し、二酸化ケイ素分散液を調製した。【０３００】
〈ポリエステル化合物Ａの合成〉
１，２−プロピレングリコールを２５１ｇ、無水フタル酸を２７８ｇ、アジピン酸を９１ｇ、安息香酸を６１０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネートを０．１９１ｇ、それぞれを温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中で２３０℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温した。【０３０１】
次いで、１５時間脱水縮合反応させ、反応終了後２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、ポリエステル化合物Ａを得た。ポリエステル化合物Ａの酸価は０．１０、数平均分子量は４５０であった。【０３０２】
（２）ドープ流延、乾燥及び剥離
上記調製したドープ組成物１を、ベルト流延装置を用い、無端のステンレスバンド支持体（温度：３５℃）に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒量が１００質量％になるまで溶媒を蒸発させた時点で、ステンレスバンド支持体上から剥離した。【０３０３】
（３）延伸、乾燥及び熱固定
剥離後、テンターでウェブの両端部を把持し、１６０℃で幅手（ＴＤ）方向の延伸倍率が１．０１倍（１％）となるように延伸し、その幅を維持したまま数秒間保持し（熱固定）、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、更に１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで３０分間搬送させて乾燥を行った。なお、延伸開始時の残留溶媒量は３０質量％であった。【０３０４】
（４）フィルム巻き取り
その後、セルロースエステルフィルムを１．５０ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１５ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、基材１を作製した。作製した基材１の残留溶媒量は０．２質量％であり、膜厚は６０μｍであり、巻長は３０００ｍであった。【０３０５】
〔基材２の作製〕
上記基材１の作製において、仕上がりの膜厚が２３μｍとなるようにドープ組成物１のステンレスバンド支持体上への流延量を調整した以外は同様にして、膜厚が２３μｍの基材２を作製した。【０３０６】
〔基材３の作製〕
上記基材１の作製において、仕上がりの膜厚が１８μｍとなるようにドープ組成物１のステンレスバンド支持体上への流延量を調整した以外は同様にして、膜厚が１８μｍの基材３を作製した。【０３０７】
〔基材４の作製〕
上記基材１の作製において、仕上がりの膜厚が１２μｍとなるようにドープ組成物１のステンレスバンド支持体上への流延量を調整した以外は同様にして、膜厚が１２μｍの基材４を作製した。【０３０８】
〔基材５の作製〕
厚さ１００μｍのホモポリプロピレン（ＰＰ）フィルムを２５０℃にて溶融押出して、延伸機にて幅手方向（ＴＤ方向）に延伸することにより、膜厚が２３μｍの基材５を得た。【０３０９】
〔基材６の作製〕
二軸延伸ポリエステルフィルムとして、市販の膜厚が２３μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（表１には、ＰＥＴと略記。）を、基材６とした。【０３１０】
《偏光板基材の作製》
下記の方法に従って、偏光板基材（ハードコート層付の基材）１〜１１を作製した。【０３１１】
〔偏光板基材１の作製〕
上記作製した基材１上に、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して調製した下記ハードコート層塗布液１を、ダイコーターにより塗布し、７０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い、照射部の照度が３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量が０．３Ｊ／ｃｍ２となる条件で活性光線を照射し、塗布したハードコート層を硬化させ、更に加熱処理ゾーンにおいて、１３０℃で５分間、搬送張力３００Ｎ／ｍで加熱処理し、ドライ膜厚が３．０μｍのハードコート層を形成し、偏光板基材１を作製し、ロール状に巻き取った。【０３１２】
（ハードコート層塗布液１の調製）
下記各構成材料を混合、攪拌、溶解して、ハードコート層塗布液１を調製した。【０３１３】
ペンタエリスリトールトリアクリレート                ２０．０質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート              ５０．０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート            ３０．０質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート            ３０．０質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）              ５．０質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマーＩ（３５質量％、下記参照）
５．０質量部
シーホスターＫＥＰ−５０（粉体のシリカ粒子、平均粒径０．４７〜０．６１μｍ、日本触媒株式会社製）                        ２４．３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  ２０質量部
酢酸メチル                                              ４０質量部
メチルエチルケトン                                      ６０質量部
以下、フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの調製に用いた素材の市販品名を示す。【０３１４】
１）ラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）
以下に、ラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）の合成方法を示す。【０３１５】
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、セフラルコートＣＦ−８０３（ヒドロキシ基価６０、数平均分子量１５，０００；セントラル硝子（株）製）の１５５４質量部、キシレンの２３３質量部、及び２−イソシアナトエチルメタクリレートの６．３質量部を入れ、乾燥窒素雰囲気下で８０℃に加熱した。８０℃で２時間反応し、サンプリング物の赤外吸収スペクトルによりイソシアネートの吸収が消失したことを確認した後、反応混合物を取り出し、ウレタン結合を介して５０質量％のラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）を得た。【０３１６】
２）片末端ラジカル重合性ポリシロキサン（Ｂ）：サイラプレーンＦＭ−０７２１（数平均分子量５，０００；チッソ（株）製）
３）ラジカル重合開始剤：パーブチルＯ（ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート；日本油脂（株）製）
〈フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの調製〉
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、上記合成したラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）（２６．１質量部）、キシレン（１９．５質量部）、酢酸ｎ−ブチル（１６．３質量部）、メチルメタクリレート（２．４質量部）、ｎ−ブチルメタクリレート（１．８質量部）、ラウリルメタクリレート（１．８質量部）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（１．８質量部）、片末端ラジカル重合性ポリシロキサン（Ｂ）：ＦＭ−０７２１（５．２質量部）、及びラジカル重合開始剤：パーブチルＯ（０．１質量部）を入れ、窒素雰囲気中で９０℃まで加熱した後、９０℃で２時間保持した。パーブチルＯ（０．１質量部）を追加し、更に９０℃で５時間保持することによって、重量平均分子量が１７１，０００である３５質量％フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの溶液を得た。重量平均分子量はＧＰＣにより求めた。また、フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの質量％はＨＰＬＣ（液体クロマトグラフィー）により求めた。【０３１７】
〔偏光板基材２〜５の作製〕
上記偏光板基材１の作製において、基材の種類及びハードコート層の膜厚を表１の記載の組み合わせ及び条件に変更した以外は同様にして、偏光板基材２〜５を作製した。【０３１８】
〔偏光板基材６の作製〕
上記偏光板基材１の作製において、基材５を用い、ハードコート層を塗布する直前に基材５上にコロナ処理を施した以外は同様にして、偏光板基材６を作製した。【０３１９】
〔偏光板基材７の作製〕
上記偏光板基材２の作製において、ハードコート層塗布液１を、下記ハードコート層塗布液２に変更し、乾燥後の膜厚が４．０μｍのハードコート層となるよう塗布した以外は同様にして、偏光板基材７を作製した。【０３２０】
（ハードコート層塗布液２の調製）
下記各構成材料を混合、攪拌、溶解して、ハードコート層塗布液２を調製した。【０３２１】
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）の混合物（質量比；ＰＥＴＡ／ＤＰＨＡ／ＰＭＭＡ＝８６／５／９）
１００質量部
高架橋ポリスチレン微粒子（屈折率１．５９、平均粒径４．０μｍ）
１２．０質量部
タルク粒子（屈折率１．５７、平均粒径Ｄ５０；０．８μｍ）
２０．０質量部
トルエンとメチルイソブチルケトンの混合物（質量比８：２）
１９０質量部
〔偏光板基材８の作製〕
上記偏光板基材２の作製において、ハードコート層塗布液１を、下記ハードコート層塗布液３に変更し、乾燥後の膜厚が４．８μｍのハードコート層となるよう塗布した以外は同様にして、偏光板基材８を作製して、巻き取った。【０３２２】
（ハードコート層塗布液３の調製）
下記各構成材料を混合、攪拌、溶解して、ハードコート層塗布液３を調製した。【０３２３】
ペンタエリスリトールトリアクリレート                ２０．０質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート              ４０．０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート            ４０．０質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート            ２０．０質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）              ５．０質量部
紫外線吸収剤：チヌビン９２８（チバ・ジャパン（株）製）７．０質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマーＩ（３５質量％、前出）
５．０質量部
シーホスターＫＥＰ−５０（粉体のシリカ粒子、平均粒径０．４７〜０．６１μｍ、日本触媒株式会社製）                        ２４．３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  ２０質量部
酢酸メチル                                              ４０質量部
メチルエチルケトン                                      ６０質量部
〔偏光板基材９の作製〕
上記偏光板基材２の作製において、基材２（セルロースエステル）に代えて、基材６（ＰＥＴ）を用いた以外は同様にして、偏光板基材９を作製した。【０３２４】
〔偏光板基材１０の作製〕
上記偏光板基材８の作製において、ハードコート層の膜厚を２．５μｍに変更した以外は同様にして、偏光板基材１０を作製した。【０３２５】
〔偏光板基材１１の作製〕
上記偏光板基材２の作製において、ハードコート層の膜厚を１．２μｍに変更した以外は同様にして、偏光板基材１１を作製した。【０３２６】
〔引張強度、破断点伸度の測定及びＴ値の算出〕
上記作製したハードコート層付基材である偏光板基材１〜１１について、下記の方法に従って、引張強度及び破断点伸度の測定と、Ｔ値（Ｎ／１０ｍｍ）の算出を行い、得られた結果を表１に示す。【０３２７】
上記作製した各偏光板基材を、試料幅を１０ｍｍ、長さ１３０ｍｍのサイズに断裁し、２３℃、相対湿度５５％の環境下で、基材の搬送方向と直交する方向（ＴＤ方向）、及び搬送方向（ＭＤ方向）について、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に記載の方法に準拠し、引っ張り試験機として、テンシロンＲＴＣ−１２２５（オリエンテック社製）を用い、チャック間距離を５０ｍｍとし、引っ張り速度１００ｍｍ／分で引っ張り試験を行い、それぞれ方向における引張強度及び破断点伸度を測定した。次いで、ＴＤ方向とＭＤ方向の平均値を各試料の引張強度及び破断点伸度として求め、下式に従ってＴ値を求めた。【０３２８】
Ｔ値（Ｎ／１０ｍｍ）＝引張強度×（破断点伸度）１／２
【表１】
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【０３２９】
《偏光板の作製》
〔偏光板１０１の作製〕
（偏光子１の作製）
厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルム（クラレ製ビニロンフィルムＶＦ−Ｐ＃７５００）を、乾式で搬送方向へ延伸倍率５．２倍で一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、水１００質量部あたりヨウ素を０．０５質量部とヨウ化カリウムを５質量部それぞれ含有する水溶液に、温度２８℃で６０秒間浸漬した。次いで、緊張状態に保ったまま、水１００質量部あたりホウ酸を７．５質量部とヨウ化カリウムを６質量部それぞれ含有するホウ酸水溶液に、温度７３℃で３００秒間浸漬した。その後、１５℃の純水で１０秒間洗浄した。水洗したポリビニルアルコールフィルムを緊張状態に保ったまま、７０℃で３００秒間乾燥し、端部を切り落とし、幅１３００ｍｍの偏光フィルムである偏光子１を得た。この偏光子１の膜厚は、３３μｍであった。【０３３０】
（偏光板の作製）
次いで、下記に示す工程１〜５に従って、上記作製した偏光子１と偏光板基材１とを貼合して、偏光板１０１を作製した。【０３３１】
工程１：前記作製した偏光板基材１を、６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗及び乾燥して、鹸化した偏光板基材１を得た。【０３３２】
工程２：上記作製した偏光子１の片面に、固形分が２質量％のポリビニルアルコール接着剤を塗布した。【０３３３】
工程３：上記工程２で偏光子１のポリビニルアルコール接着剤を塗布した面と、工程１で処理した偏光板基材１のハードコート層が形成されていない面とが向かい合うように配置した。【０３３４】
工程４：工程３で積層配置した偏光板基材１と偏光子１とを、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピードが約２ｍ／分で貼合した。【０３３５】
工程５：８０℃の乾燥機中で、工程４で貼合した試料を２分間乾燥し、ロール状の偏光板１０１を作製した。【０３３６】
〔偏光板１０２の作製〕
上記偏光板１０１の作製において、偏光板基材１を偏光板基材２に変更した以外は同様にして、偏光板１０２を作製した。【０３３７】
〔偏光板１０３の作製〕
（偏光子２を有する延伸積層体１の作製）
〈積層体１の作製〉
帯電防止処理が施された厚さ１２０μｍの非晶性ポリエチレンテレフタレートシートの表面をコロナ処理し、熱可塑性樹脂層Ａとした。【０３３８】
親水性高分子としてポリビニルアルコール粉末（日本酢ビポバール（株）製、平均重合度２５００、ケン化度９９．０モル％以上、商品名：ＪＣ−２５）を９５℃の熱水中に溶解させ濃度８質量％のポリビニルアルコール水溶液を調製した。得られたポリビニルアルコール水溶液を、積層用の熱可塑性樹脂層Ａ上に、リップコーターを用いて塗工し、８０℃で２０分間乾燥させ、熱可塑性樹脂層Ａとポリビニルアルコールから構成される親水性樹脂層（偏光子２）を積層した積層体１を作製した。なお、親水性樹脂層（偏光子２）の厚さは、１２．０μｍであった。【０３３９】
〈延伸工程〉
上記積層体１を、搬送方向（ＭＤ方向）に１６０℃で５．３倍の自由端一軸延伸処理を施し、延伸積層体１を作製した。なお、延伸積層体１における親水性樹脂層（偏光子２）の厚さは５．６μｍであった。【０３４０】
〈染色工程〉
次いで、延伸積層体１を６０℃の温浴に６０秒浸漬し、水１００質量部あたりヨウ素を０．０５質量部及びヨウ化カリウムを５質量部それぞれ含有する水溶液に、温度２８℃で６０秒間浸漬した。次いで、緊張状態に保ったまま、水１００質量部あたりホウ酸を７．５質量部及びヨウ化カリウムを６質量部それぞれ含有するホウ酸水溶液に、温度７３℃で３００秒間浸漬した。その後、１５℃の純水で１０秒間洗浄した。水洗したフィルムを緊張状態に保ったまま、７０℃で３００秒間乾燥し、熱可塑性樹脂層Ａと偏光子２からなる延伸積層体１を得た。【０３４１】
（偏光板の作製）
下記工程１〜６に従って、上記作製した延伸積層体１と、前記作製した偏光板基材１とを貼合し、次いで熱可塑性樹脂層Ａを剥離して、偏光板１０３を作製した。【０３４２】
工程１：偏光板基材１を６０℃の２モル／Ｌ水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗及び乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化した偏光板基材１を得た。【０３４３】
工程２：前記延伸積層体１の偏光子２を有する面に、固形分が２質量％のポリビニルアルコール接着剤を塗布した。【０３４４】
工程３：工程２でポリビニルアルコール接着剤を塗布した面（偏光子２形成面）と、工程１で処理した偏光板基材１のハードコート層が付与されていない面とが相対するよう配置した。【０３４５】
工程４：工程３で重ね合わせた試料を、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。【０３４６】
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した貼合試料を２分間乾燥し、偏光板基材１、偏光子２、熱可塑性樹脂層Ａからなる偏光板を得た。【０３４７】
工程６：得られた偏光板から熱可塑性樹脂層Ａを剥離した。熱可塑性樹脂層Ａは容易に剥離され、ロール状の偏光板１０３を作製した。【０３４８】
〔偏光板１０４〜１０６、１０８〜１１４の作製〕
上記偏光板１０３の作製において、表２に記載の偏光板基材を用いた以外は同様にして、偏光板１０４〜１０６、１０８〜１１４を作製した。【０３４９】
〔偏光板１０７の作製〕
上記偏光板１０６の作製において、偏光子２に代えて、下記の方法で作製した偏光子３を用いた以外は同様にして、偏光板１０７を作製した。【０３５０】
（偏光子３の作製）
〈熱可塑性樹脂層Ｂの作製〉
下記フィルムを準備し、これを熱可塑性樹脂層Ｂとした。【０３５１】
下記の各添加剤を真空ナウターミキサーで８０℃、１３３Ｐａで３時間混合し、更に乾燥し、得られた混合物を、二軸式押出機を用いて２３５℃で溶融混合し、ペレット化した。【０３５２】
アクリル樹脂（メタクリル酸メチル／アクリロイルモルホリン＝８０／２０（モル比）；Ｍｗ＝１０００００；９０℃で３時間乾燥し水分率１０００ｐｐｍ）    ７０質量部
セルロースエステル樹脂（セルロースアセテートプロピオネート：アシル基総置換度２．７、アセチル基置換度０．１、プロピオニル基置換度２．６、Ｍｗ＝２０００００、１００℃で３時間乾燥し水分率５００ｐｐｍ）
３０質量部
チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製）            １．１質量部
アデカスタブ  ＰＥＰ−３６（株式会社ＡＤＥＫＡ製）  ０．２５質量部
イルガノックス１０１０（ＢＡＳＦジャパン（株）製）    ０．５質量部
スミライザーＧＳ（住友化学（株）製）                ０．２４質量部
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）      ０．２７質量部
得られたペレットを、７０℃の除湿空気を５時間以上循環させて乾燥を行い、１００℃の温度を保ったまま、次工程の一軸式押出機に導入した。【０３５３】
上記ペレットを、一軸押出機を用いてＴダイから表面温度が９０℃の第１冷却ローラー上に溶融温度２４０℃でフィルム状に溶融押し出して、１２０μｍの熱可塑性樹脂層Ｂを得た。この際、第１冷却ローラー上でフィルムを２ｍｍ厚の金属表面を有する弾性タッチローラーで押圧した。【０３５４】
〈積層体２の作製〉
親水性高分子してポリビニルアルコール粉末（日本酢ビポバール（株）製、平均重合度２５００、ケン化度９９．０モル％以上、商品名：ＪＣ−２５）を９５℃の熱水中に溶解させ濃度８質量％のポリビニルアルコール水溶液を調製した。得られた水溶液を、上記熱可塑性樹脂層Ｂ上に、リップコーターを用いて塗工し、８０℃で２０分間乾燥させ、熱可塑性樹脂層Ｂと親水性樹脂層（偏光子３）からなる積層体２を作製した。なお、親水性樹脂層（偏光子３）の厚さは、１２．５μｍであった。【０３５５】
〈延伸工程〉
上記積層体２を、搬送方向（ＭＤ方向）に、１４５℃で５．３倍の自由端一軸延伸を実施し、延伸積層体２を得た。延伸後の親水性樹脂層（偏光子３）の厚さは５．２μｍであった。【０３５６】
〈染色工程）
次いで、上記作製した延伸積層体２を６０℃の温浴に６０秒浸漬し、水１００質量部あたりヨウ素を０．０５質量部及びヨウ化カリウムを５質量部それぞれ含有する水溶液に、温度２８℃で６０秒間浸漬した。次いで、緊張状態に保ったまま、水１００質量部あたりホウ酸を７．５質量部及びヨウ化カリウムを６質量部それぞれ含有するホウ酸水溶液に、温度７３℃で３００秒間浸漬した。その後、１５℃の純水で１０秒間洗浄した。水洗したフィルムを緊張状態に保ったまま、７０℃で３００秒間乾燥し、熱可塑性樹脂層Ｂと偏光子３からなる延伸積層体２を得た。【０３５７】
〔偏光板１１５〜１１８の作製〕
上記偏光板１０６の作製において、偏光子（水溶性高分子層）の膜厚を、表２に記載の膜厚にそれぞれ変更した以外は同様にして、偏光板１１５〜１１８を作製した。【０３５８】
《偏光板の評価》
上記作製した各偏光板について、下記の各評価を行った。【０３５９】
（カールの評価）
得られたロール状の偏光板１０１〜１１８のそれぞれを繰り出し、略中央部で幅手方向５０ｍｍ×長手方向３０ｍｍの大きさになるようサンプルを切り出し、２３℃、相対湿度８０％の環境下で、水平基盤上に２４時間放置した後、偏光板のカール形状を目視観察し、下記の基準に従ってカールの評価を行った。【０３６０】
◎：ほぼフラットな状態で、カールの発生は認められない
○：わずかに４隅の浮き上がり、弱いカールの発生が認められるが、実用上問題のない品質である
△：明らかなカールの発生が認められ、取り扱いが難しいカール特性である
×：カールの状態がきつく、取り扱いが極めて困難となる品質である
（耐久性１の評価：ロール状態での高温高湿処理後の偏光度ムラ耐性）
上記作製したロール状偏光板を、室温６０℃、相対湿度９０％の高温高湿環境下で１週間放置した後、最外周部に位置する偏光板について、端部から幅手方向に対し、全幅の２５％位置、５０％位置（中央部）、７５％位置における偏光度Ｃを測定した。次いで、長手方向に、芯側に向かって１０ｍおきに同様の測定を繰り返し、ロール状偏光板の巻外から内側にかけて５００ｍについて、計１５０点の偏光度を測定し、全測定点の偏光度バラツキを偏光度Ｃのパーセンテージの差（偏光度１）として求めた。【０３６１】
同様にして、高温高湿を行っていない製造直後のロール状偏光板についても、同様の測定を行って、全測定点の偏光度バラツキを偏光度Ｃのパーセンテージの差（偏光度２）として求めた。次いで、偏光度１−偏光度２を求め、これを高温高湿環境下における偏光度バラツキ増大幅（Δ偏光度１）とし、これをロール状態での高温高湿処理後の偏光度ムラ耐性の尺度とし、下記の基準に従って耐久性１の評価を行った。【０３６２】
なお、偏光度Ｃは、自動偏光フィルム測定装置  ＶＡＰ−７０７０（日本分光株式会社製）及び専用プログラムを用いて測定した。【０３６３】
◎：Δ偏光度１が、１．０％未満である
○：Δ偏光度１が、１．０％以上、２．０％未満である
△：Δ偏光度１が、２．０％以上、５．０％未満である
×：Δ偏光度１が、５．０％以上である
（耐久性２の評価：ガラス貼合状態で、高温高湿処理後の偏光度バラツキ耐性）
上記作製したロール状偏光板を繰り出し、巻外から５００ｍ位置の略中央部で、４２インチ液晶パネルサイズ（９３０ｍｍ×５２０ｍｍ）に裁断し、２３℃、相対湿度５５％の雰囲気下で２４時間放置した。次いで、裁断した偏光板を、２５μｍの両面接着テープ（リンテック社製  基材レステープ  ＭＯ−３００５Ｃ）を介し、表面を予めエタノールで洗浄したガラス板（厚さ１．２ｍｍ）の片面に、偏光板の偏光子形成面がガラス面と向き合うよう４辺を貼合し、各ガラス板貼合偏光板を作製した。【０３６４】
次いで、このガラス板貼合偏光板を、温度６０℃、相対湿度９０％の高温高湿環境下で３００時間放置した後、ガラス板より偏光板を剥離した後、偏光板の対角の中心点（ρ０）、対角線上の中心から７５％点（ρ７５）について偏光度バラツキを偏光度Ｃのパーセンテージの差として測定した。次いで、各偏光度バラツキの差（Δ偏光度２）を求め、これをガラス貼合状態で、高温高湿処理後の偏光度バラツキ耐性の尺度とし、下記の基準に従って耐久性２の評価を行った。【０３６５】
なお、偏光度は、自動偏光フィルム測定装置  ＶＡＰ−７０７０（日本分光株式会社製）及び専用プログラムを用いて測定した。【０３６６】
偏光度バラツキの差（Δ偏光度２）＝７５％点（ρ７５）における偏光度バラツキ（％）−偏光板の対角の中心点（ρ０）における偏光度バラツキ（％）
◎：Δ偏光度２が、１．０％未満である
○：Δ偏光度２が、１．０％以上、２．０％未満である
△：Δ偏光度２が、２．０％以上、５．０％未満である
×：Δ偏光度２が、５．０％以上である
以上により得られた結果を、表２に示す。【０３６７】
【表２】
2013114979.tif 000009
【０３６８】
表２に記載の結果より明らかなように、本発明で規定する構成からなる偏光板は、比較例に対し、偏光子を薄膜化することができ、その結果、カール特性に優れ、かつロール状態で、高温高湿環境下で保存した際の偏光度ムラ耐性、及びガラス貼合状態で、高温高湿環境下で保存した際の偏光度バラツキ耐性に優れていることが分かる。【０３６９】
実施例２
《液晶表示装置の作製》
横電界型スイッチングモード型（ＩＰＳモード型）の液晶セルを含む液晶表示装置「東芝（株）製レグザ  ４７ＺＧ２」から液晶パネル部を取り出し、液晶セルの上下に配置されていた２組の偏光板を取り除いて、該液晶セルのガラス面（表裏）を洗浄した。【０３７０】
続いて、実施例１で作製した各偏光板を、それぞれ偏光子が液晶パネル側になるよう、上側（視認側）の円偏光板は、保護フィルムの遅相軸が液晶セルの長辺と平行（０±０．２度）となるように、また下側（バックライト側）の円偏光板は、液晶セルの短辺と平行（０±０．２度）となるように液晶セルの両面にアクリル粘着剤（厚さ２０μｍ）を用いて貼着した。【０３７１】
上記の方法により、液晶表示装置２０１〜２１８を作製した。【０３７２】
《液晶表示装置の評価》
上記作製した各液晶表示装置について、下記の各評価を行った。【０３７３】
（コントラスト比の測定方法）
以下の方法に従って、液晶表示装置のコントラスト比を測定した。【０３７４】
液晶表示装置に白画像及び黒画像を表示させ、ＥＬＤＩＭ社製  製品名「ＥＺ  Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ」により、表示画面の方位角４５°方向、極角６０°方向におけるＸＹＺ表示系のＹ値を測定した。そして、白画像におけるＹ値（ＹＷ）と、黒画像におけるＹ値（ＹＢ）とから、斜め方向のコントラスト比「ＹＷ／ＹＢ」を算出した。なお、方位角４５°とは、パネルの長辺を０°としたときに反時計周りに４５°回転させた方位を表し、極角６０°とは表示画面の正面方向を０°としたときに、角度６０°に傾斜した方向を表す。測定は温度２３℃、相対湿度５５％の暗室内にて行った。この値が高いほど、コントラストが高く好ましい。【０３７５】
〔コーナームラ耐性の評価〕
上記コントラスト比の測定で用いた各液晶表示装置を６０℃、相対湿度９０％の環境下で１５００時間処理した後、２５℃、相対湿度６０％の環境下で２０時間調湿した後、バックライトを点灯させ、黒表示での画像周辺部における光漏れを観察し、下記の基準に従ってコーナームラ耐性の評価を行った。【０３７６】
◎：周辺部における光漏れは、全く認められない
○：周辺部における光漏れは、殆ど気にならない
Δ：周辺部における光漏れが、明らかに認められる
×：周辺部における光漏れが著しい
以上により得られた結果を、表３に示す。【０３７７】
【表３】
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【０３７８】
表３に記載の結果より明らかなように、本発明の偏光板を組み入れた横電界型スイッチングモード型（ＩＰＳモード型）液晶表示装置は、比較例に対し、表示する画像のコントラストが高く、高温高湿環境下で保存した後のコーナームラ耐性に優れていることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０３７９】
本発明の偏光板は、高コントラストで画像ムラ(コーナームラ)が少なく、カール安定性及び高温高湿環境下での耐久性に優れた薄型の偏光板であり、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置などの各種の表示装置に好適に利用できる。
【符号の説明】
【０３８０】
１  回転駆動装置（チェーン）
２  クリップ
３  把持開始位置
４  延伸開始位置
５  延伸終了位置
６  把持解除位置
１０  テンター延伸装置
Ｆ  フィルム
【図１】
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【国際調査報告】
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2013114979.tif 000013
2013114979.tif 000014
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