(57)【要約】  露光マスクの切り替え時間を短縮できる露光装置を提供する。露光装置（１）は、基板（１０）と、露光光（Ｌ）を透過する露光パターン（４１〜４４）が複数形成され、露光パターン（４１〜４４）を介して基板（１０）に露光光（Ｌ）を照射する露光マスク（４０）とを備える。基板（１０）は、第一の照射領域（１６）と、第一の照射領域（１６）に対し露光時に基板（１０）が移動する移動方向（ＤＲ１）の後方側に設けられた第二の照射領域（１８）とを有する。基板（１０）を移動しながら露光パターン（４１）を介して第一の照射領域（１６）を露光し、第一の照射領域（１６）の露光終了後、基板（１０）の移動を継続しながら露光マスク（４０）を移動して露光パターン（４１）から露光パターン（４２）への切り替えを行ない、基板（１０）の移動を継続しながら露光パターン（４２）を介して第二の照射領域（１８）を露光する。
2013094555.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板形状の基板と、
前記基板を搭載し、前記基板を前記基板の面方向に移動させるステージと、
前記基板に照射される露光光を発生する光源と、
前記露光光を透過する露光パターンが複数形成され、前記露光パターンを介して前記基板に前記露光光を照射する露光マスクと、
前記露光マスクを前記基板に並行に移動させるマスク駆動部と、を備え、
前記基板は、第一の照射領域と、前記第一の照射領域に対し露光時に前記基板が移動する方向の後方側に設けられた第二の照射領域とを有し、
前記露光パターンは、第一パターンと、前記第一パターンと異なる第二パターンとを含み、
前記ステージにより前記基板を移動しながら前記第一パターンを介して前記第一の照射領域を露光し、前記第一の照射領域の露光終了後、前記基板の移動を継続しながら前記露光マスクを移動して前記第一パターンから前記第二パターンへの切り替えを行ない、前記基板の移動を継続しながら前記第二パターンを介して前記第二の照射領域を露光する、露光装置。
【請求項２】
前記第一パターンから前記第二パターンへの切り替え中に前記第二の照射領域の露光を開始する、請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第一パターンから前記第二パターンへの切り替え終了後に前記第二の照射領域の露光を開始する、請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の露光装置に用いられる露光マスクであって、
前記露光パターンは、前記露光マスクの移動方向に複数並べられている、露光マスク。
【請求項５】
前記第二パターンは、前記第一パターンに対し、前記基板の露光処理中の移動方向の後方側に設けられている、請求項４に記載の露光マスク。
【請求項６】
前記露光パターンは、前記露光マスクの移動方向に直交する方向に延びるように形成されており、
前記第一パターンと前記第二パターンとの間には、前記露光光を遮蔽する遮蔽領域が、前記露光マスクの移動方向に直交する方向に延びるように形成されている、請求項４または請求項５に記載の露光マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置および露光マスクに関し、特に、露光マスクに描画されたパターンを基板に転写する露光装置、および、その露光装置に好適に用いられる露光マスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
露光マスク装置に関し、従来、各製造工程の各露光工程に必要な複数個の描画パターンを同一のマスクに搭載し、各露光工程で必要な描画パターンを選択し、かつその他のブロックのパターンは遮光して露光する装置が提案されている（たとえば、特開２００３−２１８９２号公報（特許文献１）参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２１８９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特開２００３−２１８９２号公報（特許文献１）に記載の装置では、複数個の描画パターンが一枚のマスクに形成されていることから、一枚のマスクを複数の露光工程に使用可能とし、マスクの枚数を低減している。しかし、一枚のマスクに二次元的に複数の描画パターンが形成されているため、描画パターンの切り替えに時間を要する場合がある。そのため、露光される対象の基板の移動を止めることなく描画パターンを切り替えることが困難であり、生産効率を向上できない問題があった。【０００５】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その主たる目的は、露光マスクの切り替え時間を短縮できる、露光装置を提供することである。また、本発明の他の目的は、その露光装置に好適に用いられる露光マスクを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る露光装置は、平板形状の基板と、基板を搭載し、基板を基板の面方向に移動させるステージと、基板に照射される露光光を発生する光源と、露光光を透過する露光パターンが複数形成され、露光パターンを介して基板に露光光を照射する露光マスクと、露光マスクを基板に並行に移動させるマスク駆動部と、を備える。基板は、第一の照射領域と、第一の照射領域に対し露光時に基板が移動する方向の後方側に設けられた第二の照射領域とを有する。露光パターンは、第一パターンと、第一パターンと異なる第二パターンとを含む。ステージにより基板を移動しながら第一パターンを介して第一の照射領域を露光し、第一の照射領域の露光終了後、基板の移動を継続しながら露光マスクを移動して第一パターンから第二パターンへの切り替えを行ない、基板の移動を継続しながら第二パターンを介して第二の照射領域を露光する。ここで、基板の面方向とは、平板形状の基板の表面および裏面の延びる方向であって、基板の厚さ方向に直交する方向をいう。【０００７】
上記露光装置において、第一パターンから第二パターンへの切り替え中に第二の照射領域の露光を開始してもよい。または、上記露光装置において、第一パターンから第二パターンへの切り替え終了後に第二の照射領域の露光を開始してもよい。【０００８】
本発明に係る露光マスクは、上記のいずれかの局面の露光装置に用いられる露光マスクであって、露光パターンは、露光マスクの移動方向に複数並べられている。【０００９】
上記露光マスクにおいて、第二パターンは、第一パターンに対し、基板の露光処理中の移動方向の後方側に設けられていてもよい。【００１０】
上記露光マスクにおいて、露光パターンは、露光マスクの移動方向に直交する方向に延びるように形成されており、第一パターンと第二パターンとの間には、露光光を遮蔽する遮蔽領域が、露光マスクの移動方向に直交する方向に延びるように形成されていてもよい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の露光装置によると、露光マスクの切り替え時間を短縮でき、生産効率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】露光装置の構成の概略を示す模式図である。
【図２】露光装置内で露光される基板と露光マスクとの関係を示す模式図である。
【図３】基板の露光処理に用いられる露光マスクの概略構成を示す模式図である。
【図４】実施の形態１の露光パターンの切り替え状況を示す第１の模式図である。
【図５】実施の形態１の露光パターンの切り替え状況を示す第２の模式図である。
【図６】実施の形態１の露光パターンの切り替え状況を示す第３の模式図である。
【図７】実施の形態１の露光パターンの切り替え状況を示す第４の模式図である。
【図８】実施の形態１の露光パターンの切り替え状況を示す第５の模式図である。
【図９】実施の形態１の露光パターンの切り替え状況を示す第６の模式図である。
【図１０】実施の形態２の露光パターンの切り替え状況を示す第１の模式図である。
【図１１】実施の形態２の露光パターンの切り替え状況を示す第２の模式図である。
【図１２】実施の形態２の露光パターンの切り替え状況を示す第３の模式図である。
【図１３】実施の形態２の露光パターンの切り替え状況を示す第４の模式図である。
【図１４】実施の形態２の露光パターンの切り替え状況を示す第５の模式図である。
【図１５】実施の形態２の露光パターンの切り替え状況を示す第６の模式図である。
【図１６】実施の形態３の露光パターンの切り替え状況を示す第１の模式図である。
【図１７】実施の形態３の露光パターンの切り替え状況を示す第２の模式図である。
【図１８】実施の形態３の露光パターンの切り替え状況を示す第３の模式図である。
【図１９】実施の形態３の露光パターンの切り替え状況を示す第４の模式図である。
【図２０】実施の形態３の露光パターンの切り替え状況を示す第５の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面に基づいてこの発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において、同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰返さない。
【００１４】
（実施の形態１）
図１は、露光装置１の構成の概略を示す模式図である。露光装置１は、たとえば、光配向膜材料に紫外線を照射するための装置として用いられる。図１に示すように、露光装置１は、平板形状の基板１０を搭載するステージ２０と、基板１０に照射される露光光Ｌを発生する光源３０と、基板１０に転写される所定のパターンが形成された露光マスク４０と、露光マスク４０を保持するマスク駆動部５０とを備える。露光装置１は、ステージ２０上に載置された基板１０に露光マスク４０を介して、光源３０で発生する露光光Ｌを照射する。これにより露光装置１は、基板１０の表面に設けられた第一および第二の照射領域１６，１８に所定のパターンを転写する。
【００１５】
図１に示す右向きの矢印は、ステージ２０の移動方向、すなわち、ステージ２０上に載置された基板１０の移動方向ＤＲ１を示す。ステージ２０は、基板１０の面方向に延びる一直線に沿う方向に、基板１０を移動させる。図１に示す左右方向の両矢印は、露光マスク４０の移動方向ＤＲ２を示す。マスク駆動部５０は、本体部５１と、駆動軸５２と、マスク保持部５３とを含む。本体部５１において発生した駆動力が、駆動軸５２を介してマスク保持部５３に伝達され、マスク保持部５３は図中左右方向に往復移動する。マスク保持部５３の移動に伴い、マスク保持部５３の下面に保持された露光マスク４０は、移動方向ＤＲ２に往復移動する。露光マスク４０の移動方向ＤＲ２は、基板１０の移動方向ＤＲ１に対し平行である。
【００１６】
基板１０はステージ２０に搭載され、露光マスク４０は基板１０の上方に基板１０に対向して配置されている。露光装置１はマスク保持部５３を有し、基板１０の露光処理のために用いられる露光マスク４０は、マスク保持部５３に取り付けられている。光源３０から露光マスク４０を介して基板１０に露光光Ｌを照射することにより、基板１０の露光処理が行なわれる。露光光Ｌは、たとえば紫外光であってもよく、その場合、光源３０は紫外光を発生する紫外光源である。露光光Ｌは、基板１０の表面に対し垂直に照射されてもよく、または基板１０の表面に対し傾斜して照射されてもよい。
【００１７】
露光装置１はまた、制御部８０を備える。制御部８０は、光源３０に対し制御信号Ｃ１を伝送し、光源３０からの露光光Ｌの照射または停止を制御する。制御部８０は、マスク駆動部５０に制御信号Ｃ２を伝送し、移動方向ＤＲ２に沿う露光マスク４０の移動を制御する。制御部８０は、ステージ２０に制御信号Ｃ３を伝送し、移動方向ＤＲ１に沿う基板１０の移動を制御する。
【００１８】
図２は、露光装置１内で露光される基板１０と露光マスク４０との関係を示す模式図である。図２には、平面視された一枚の基板１０が図示されており、複数の露光マスク４０により構成されるマスク群の、基板１０に対する配列が示されている。露光マスク４０は基板１０に対して小さく、複数の露光マスク４０を並べて配置することにより、基板１０全体の露光処理が実施される。なお、複数の露光マスク４０を含むマスク群に限定されるものではなく、単一の露光マスクにより基板１０全体の露光処理を実施できる構成であってもよい。各々の露光マスク４０は、図１に側面形状を示したマスク保持部５３によって保持されている。マスク保持部５３は、露光マスク４０の周縁部に係合する枠状の形状を有し、光源３０から露光マスク４０を経由して基板１０に照射される露光光Ｌの光路の妨げとならないように、設けられている。
【００１９】
図２中に示す両矢印により、露光マスク４０の移動方向ＤＲ２が示される。この両矢印はまた、基板１０に対する露光マスク４０の相対移動の方向を示す。ステージ２０上に搭載された基板１０と、マスク保持部５３に取り付けられた露光マスク４０と、の少なくともいずれか一方が図中左右方向に移動することにより、基板１０と露光マスク４０とは両矢印の方向に相対移動する。
【００２０】
複数の露光マスク４０は、基板１０と露光マスク４０との相対移動の方向に対して直交する方向に、二列に並べられている。複数の露光マスク４０は、基板１０の全面を露光できるように配置されている。基板１０と露光マスク４０との相対移動方向に対し直交する方向に隣接する二つのマスクは、異なる列に配置されている。これら二つの露光マスク４０を経由して基板１０に照射される露光光Ｌの照射領域は、照射領域同士が隙間なく丁度隣接してもよく、照射領域が一部重なってもよい。
【００２１】
図３は、基板１０の露光処理に用いられる露光マスク４０の概略構成を示す模式図である。図３に示すように、一枚の露光マスク４０には、複数の露光パターン４１，４２，４３，４４が描画されている。露光パターン４１，４２，４３，４４は、露光光Ｌを透過する性質を有する。４つの露光パターン４１，４２，４３，４４のうち、処理対象の基板１０の露光処理のために適したいずれかの露光パターンを選択し、その選択された露光パターンを経由して露光光Ｌを基板１０に照射することにより、基板１０の露光処理が行なわれる。一枚の露光マスク４０に描画される露光パターンの数は、限定されるものではなく任意の数であってもよい。
【００２２】
基板１０が液晶パネル用の基板である場合、たとえば、ある露光マスク４０において、露光パターン４１を４５型ＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）基板用のパターン、露光パターン４２を４５型ＣＦ（Color  Filter）基板用のパターン、露光パターン４３を７５型ＴＦＴ基板用のパターン、露光パターン４４を７５型ＣＦ基板用のパターンとして形成することができる。つまり、複数の露光パターン４１，４２，４３，４４には、互いに異なる描画パターンが形成されている。複数の露光パターン４１，４２，４３，４４のうち一部には、同一の描画パターンが形成されていてもよい。
【００２３】
４つの露光パターン４１，４２，４３，４４は、露光マスク４０の縁部４５により取り囲まれている。露光マスク４０の移動方向ＤＲ２に隣接するそれぞれの露光パターン４１，４２，４３，４４の間に、遮蔽領域４６，４７，４８が介在している。遮蔽領域４６，４７，４８は、たとえばクロムなどの露光光Ｌを透過しない材料により形成されており、露光光Ｌを遮蔽する。遮蔽領域４６は、露光パターン４１，４２の間に介在し、露光パターン４１と露光パターン４２とを互いに隔てる。遮蔽領域４７は、露光パターン４２，４３の間に介在し、露光パターン４２と露光パターン４３とを互いに隔てる。遮蔽領域４７は、露光パターン４３，４４の間に介在し、露光パターン４３と露光パターン４４とを互いに隔てる。
【００２４】
複数の露光パターン４１，４２，４３，４４は、図３中に両矢印で示す露光マスク４０の移動方向ＤＲ２にのみ並べられており、移動方向ＤＲ２に交差する方向には並べられていない。露光パターン４１，４２，４３，４４を切り替えるために露光マスク４０を移動させるときには、露光マスク４０は、移動方向ＤＲ２への平行移動のみを必要とする。複数の露光パターン４１，４２，４３，４４の各々は、露光マスク４０の移動方向ＤＲ２に直交する図中上下方向に延びる直線状に形成されている。そのため、露光パターン４１，４２，４３，４４を隔てる遮蔽領域４６，４７，４８もまた、露光マスク４０の移動方向ＤＲ２に直交する図中上下方向に延びる直線状に形成されている。露光パターン４１，４２，４３，４４の各々に描画された描画パターンは、図３に示すように、露光マスク４０の移動方向ＤＲ２と平行な直線状のパターンであることが望ましい。
【００２５】
図４〜図９は、実施の形態１の露光パターン４１，４２の切り替え状況を示す模式図である。以下の図では、図１に示す露光装置１の構成のうち、基板１０および露光マスク４０が図示されるが、簡単のために、基板１０を移動させるためのステージ２０、露光マスク４０を移動させるためのマスク駆動部５０、および光源３０などは、図示を省略されている。基板１０表面の異なるパターンが露光されるべき照射領域１６，１８を最適に露光するための、上述した構成を備える露光装置１を用いた露光パターン４１，４２の切り替え動作について、以下の図４〜図９を参照して説明する。
【００２６】
本実施の形態では、基板１０は異なる基板１１，１２を含み、基板１１に第一の照射領域１６が設けられ、基板１２に第二の照射領域１８が設けられている。基板１１は、基板１０の移動方向ＤＲ１の前方側に配置された基板であり、基板１２は、基板１０の移動方向ＤＲ１の後方側に配置された基板である。そのため、第二の照射領域１８は、第一の照射領域１６に対して、露光時に基板１１，１２が移動する移動方向ＤＲ１の後方側に設けられている。露光マスク４０は、第一パターンとしての露光パターン４１と、第一パターンと異なる第二パターンとしての露光パターン４２とを含む。露光パターン４２は、露光パターン４１に対し、露光処理中の基板１１，１２の移動方向ＤＲ１の後方側に設けられている。
【００２７】
まず、露光準備として、マスク保持部５３に露光マスク４０を保持させ、保持された露光マスク４０の位置を調整した後に、使用する露光パターン４１，４２が露光マスク４０のどの位置に形成されているのかを把握する。なお、後述する露光パターン４１，４２の切り替えの際に、予め取得した露光パターン４２の設定位置と実際の露光パターン４２の位置とを合わせるように露光マスク４０を移動することで、露光パターン４２の位置精度が向上されている。
【００２８】
図４では、ステージ２０により基板１１，１２を移動方向ＤＲ１に移動しながら、基板１１の表面に設けられた第一の照射領域１６に対し、露光パターン４１を介して露光光Ｌが照射されている。このとき露光マスク４０は停止している。露光マスク４０と基板１１とを、基板１１の移動速度を相対速度として相対的に移動させながら、露光マスク４０を経由して露光光Ｌを基板１１に照射する。これにより、露光マスク４０に形成された一つの露光パターン４１が基板１１の第一の照射領域１６に転写され、基板１１は走査露光される。
【００２９】
図４の状態から基板１１が移動を続けることにより、露光光Ｌが第一の照射領域１６の全てに露光された、図５に示す状態になる。基板１１の移動方向ＤＲ１における第一の照射領域１６の後端側に露光光Ｌが到達したことにより、第一の照射領域１６の露光処理が終了した状態となる。基板１０の位置を直接検出、または基板１０を移動させるステージ２０の状態を検出することにより、露光光Ｌが第一の照射領域１６の後端に到達したことを確認し、第一の照射領域１６の露光が完了したと判断される。
【００３０】
基板１１の表面の、第一の照射領域１６を外れる領域には、露光処理を行なう必要がないため、露光光Ｌを照射する必要はない。そのため、第一の照射領域１６の後端側にまで露光光Ｌが到達し第一の照射領域１６の露光処理が完了すると、光源３０は、露光光Ｌの照射を停止してもよい。
【００３１】
さらに基板１１が移動すると、光源３０で発生した光が露光パターン４１を経由して基板１０に照射され得る露光可能領域Ｌ０が第一の照射領域１６から完全に外れた、図６に示す状態になる。光源３０は、このタイミングで露光光Ｌの照射を停止してもよい。露光可能領域Ｌ０が第一の照射領域１６から抜けると、露光パターン４１から露光パターン４２への切り替えが開始される。第一の照射領域１６の露光処理が終了次第、露光マスク４０は、基板１０の移動方向ＤＲ１と同じ方向である、移動方向ＤＲ２に移動する。
【００３２】
露光パターン４１から露光パターン４２への切り替えのための露光マスク４０の移動中、基板１０も流れを止められずに移動を継続している。露光マスク４０は、露光可能領域Ｌ０が第二の照射領域１８に重なるよりも前に、露光パターン４１から露光パターン４２への切り替えを完了する。露光可能領域Ｌ０が第二の照射領域１８に重なるまで基板１２が移動したとき、露光パターン４１，４２の切り替えが既に完了しており、第二の照射領域１８の露光処理が可能な状態にあるので、基板１２を一旦停止させ露光パターン４１，４２の切り替えを待つ必要はない。したがって、生産効率が向上されている。
【００３３】
露光パターン４１，４２の切り替えのために露光マスク４０を所定座標に向かって移動方向ＤＲ２に移動させるとともに、基板１１，１２の移動を継続する。この移動により、図７に示す露光可能領域Ｌ０が露光パターン４１から露光パターン４２へ移り変わる途中の状態から、図８に示す露光可能領域Ｌ０が露光パターン４２の位置へと切り替えられた状態へと変化する。露光可能領域Ｌ０が露光パターン４２に重なると、露光マスク４０は停止する。
【００３４】
その後、基板１０がさらに移動を継続することで、露光可能領域Ｌ０が第二の照射領域１８に重なった図９に示す状態になる。この状態で、基板１２の移動を継続しながら、光源３０が露光光Ｌの照射を再開することにより、第二の照射領域１８の露光処理が開始される。第二の照射領域１８の露光処理は、露光パターン４１から露光パターン４２への切り替えが終了した後に、開始される。
【００３５】
図８に示す、露光パターン４２を介しての露光光Ｌの照射が可能になった状態で、露光可能領域Ｌ０は第二の照射領域１８にまだ到達していない。第二の照射領域１８の露光処理が可能な状態にまで基板１２を移動させるよりも早く、露光パターン４１，４２の切り替えが完了している。したがって、露光パターン４１，４２の切り替えのための時間を別に確保する必要はなく、露光処理に要する時間を短縮できるので、生産効率を向上することができる。
【００３６】
（実施の形態２）
図１０〜図１５は、実施の形態２の露光パターン４１，４２の切り替え状況を示す模式図である。実施の形態１では、基板１１に第一の照射領域１６が設けられ、基板１１と異なる別の基板１２に第二の照射領域１８が設けられていたが、実施の形態２では、一枚の基板１０に第一の照射領域１６と第二の照射領域１８との両方が設けられている。実施の形態２は、たとえば基板１０が液晶パネル用のガラス基板である場合であって、一枚のガラス基板から複数の異なる機種の液晶パネルが形成される場合に対応する例である。
【００３７】
図１０〜１４は、実施の形態１で説明した図４〜７，９に対応する図である。図１０〜１４に示すように、実施の形態１と同様に、基板１０の移動中に露光パターン４１，４２の切り替えが行なわれる。露光可能領域Ｌ０が第一の照射領域１６を抜けた後第二の照射領域１８に重なるまでの時間内に、露光パターン４１，４２の切り替えが完了しており、実施の形態１と同様に露光処理に要する時間が短縮されている。
【００３８】
図１５には、第二の照射領域１８の露光処理を終えた後の、露光パターンを元に戻すための露光マスク４０の移動が示されている。基板１０の露光処理が完了し、露光可能領域Ｌ０が第二の照射領域１８を外れると、露光マスク４０は図１５に示す移動方向ＤＲ２へ移動する。これにより、露光可能領域Ｌ０が露光パターン４２から露光パターン４１へと戻り、次の基板の露光処理の準備が行なわれる。
【００３９】
（実施の形態３）
図１６〜図２０は、実施の形態３の露光パターン４１，４２の切り替え状況を示す模式図である。実施の形態１，２では、第一の照射領域１６の露光処理の完了後に露光マスク４０を切り替え、露光パターン４１から露光パターン４２への切り替え完了後に第二の照射領域１８の露光処理が開始された。これに対し実施の形態３では、基板１０および露光マスク４０を共に移動させた状態で、第二の照射領域１８の露光処理が開始される。つまり実施の形態３では、露光パターン４１から露光パターン４２への切り替え中に、第二の照射領域１８の露光が開始されている。
【００４０】
実施の形態２と同様に、一枚の基板１０に第一の照射領域１６と第二の照射領域１８との両方が設けられている。図１６では、基板１０を移動方向ＤＲ１に移動させながら、基板１１の表面の照射領域１６に対し、露光パターン４１を介して露光光Ｌが照射されている。このとき露光マスク４０は停止している。これにより、露光マスク４０に形成された一つの露光パターン４１が基板１０の第一の照射領域１６に転写され、基板１０は走査露光される。
【００４１】
図１６の状態から基板１０が移動を続けることにより、露光光Ｌが第一の照射領域１６の全てに露光された、図１７に示す状態になる。基板１０の移動方向ＤＲ１における第一の照射領域１６の後端側に露光光Ｌが到達したことにより、第一の照射領域１６の露光処理が完了した状態となる。このタイミングで、基板１０の移動を継続しながら、露光マスク４０の移動方向ＤＲ２への移動が開始され、露光パターン４１から露光パターン４２への切り替えが開始される。
【００４２】
露光パターン４１，４２の切り替えのために露光マスク４０を移動方向ＤＲ２に移動させるとともに、基板１０の移動を継続することで、図１８に示す、露光光Ｌが露光パターン４１と露光パターン４２との両方を透過して基板１０に照射される状態となる。露光光Ｌが露光パターン４２を介して第二の照射領域１８に照射されることにより、第二の照射領域１８の露光処理が開始される。このとき、露光マスク４０を移動しながら、基板１０の第二の照射領域１８への露光処理が実施されている。
【００４３】
光源３０で発生する露光光Ｌの全てが露光パターン４２を介して基板１０に照射される位置にまで露光マスク４０が到達すると、露光マスク４０は停止する。その後、基板１０がさらに移動を継続することで、第二の照射領域１８の走査露光が継続され、図１９に示す状態になる。図１９に示す状態から、引き続き、基板１０の移動が継続され、第二の照射領域１８の走査露光が行なわれる。
【００４４】
図２０には、第二の照射領域１８の露光処理を終えた後の、露光パターンを元に戻すための露光マスク４０の移動が示されている。基板１０の露光処理が完了し、露光可能領域Ｌ０が第二の照射領域１８を外れると、露光マスク４０は図２０に示す移動方向ＤＲ２へ移動する。これにより、露光可能領域Ｌ０が露光パターン４２から露光パターン４１へと戻り、次の基板の露光処理の準備が行なわれる。
【００４５】
実施の形態３の露光装置によると、第一の照射領域１６の露光終了後、露光パターン４１，４２の切り替え完了を待つことなく、露光パターン４１，４２の切り替えの途中に次なる第二の照射領域１８の露光が開始される。そのため、露光処理に要する時間をより短縮できるので、生産効率をさらに向上することができる。加えて、露光パターン４１，４２の両方を介して露光光Ｌを基板１０に照射することを許容することにより、第一の照射領域１６と第二の照射領域１８との間隔を小さくできるので、一枚の基板１０のうち露光処理に使用されない領域を低減し、基板１０の利用効率を向上することができる。
【００４６】
以上のように本発明の実施の形態について説明を行なったが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。この発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００４７】
１  露光装置、１０，１１，１２  基板、１６  第一の照射領域、１８  第二の照射領域、２０  ステージ、３０  光源、４０  露光マスク、４１，４２，４３，４４  露光パターン、４６，４７，４８  遮蔽領域、５０  マスク駆動部、５１  本体部、５２  駆動軸、５３  マスク保持部、８０  制御部、ＤＲ１  基板の移動方向、ＤＲ２  露光マスクの移動方向、Ｌ  露光光、Ｌ０  露光可能領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【手続補正書】
【提出日】平成26年5月8日(2014.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板形状の基板と、
前記基板を搭載し、前記基板を前記基板の面方向に移動させるステージと、
前記基板に照射される露光光を発生する光源と、
前記露光光を透過する露光パターンが複数形成され、前記露光パターンを介して前記基板に前記露光光を照射する露光マスクと、
前記露光マスクを前記基板に並行に移動させるマスク駆動部と、を備え、
前記基板は、第一の照射領域と、前記第一の照射領域に対し露光時に前記基板が移動する方向の後方側に設けられた第二の照射領域とを有し、
前記露光パターンは、第一パターンと、前記第一パターンと異なる第二パターンとを含み、
前記ステージにより前記基板を移動しながら前記第一パターンを介して前記第一の照射領域を露光し、前記第一の照射領域の露光終了後、前記基板の移動を継続しながら前記露光マスクを移動して前記第一パターンから前記第二パターンへの切り替えを行ない、前記第一パターンから前記第二パターンへの切り替え中に前記第二の照射領域の露光を開始し、前記基板の移動を継続しながら前記第二パターンを介して前記第二の照射領域を露光する、露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置に用いられる露光マスクであって、
前記露光パターンは、前記露光マスクの移動方向に複数並べられている、露光マスク。
【請求項３】
前記第二パターンは、前記第一パターンに対し、前記基板の露光処理中の移動方向の後方側に設けられている、請求項２に記載の露光マスク。
【請求項４】
前記露光パターンは、前記露光マスクの移動方向に直交する方向に延びるように形成されており、
前記第一パターンと前記第二パターンとの間には、前記露光光を遮蔽する遮蔽領域が、前記露光マスクの移動方向に直交する方向に延びるように形成されている、請求項２または請求項３に記載の露光マスク。
【国際調査報告】
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