(57)【要約】  安定した動作を実現することができる抵抗変化素子の駆動方法及び不揮発性記憶装置を提供する。低抵抗化過程においては、抵抗変化素子（１０）が備える抵抗変化層（３）に対して、負極性の低抵抗化電圧パルスを１回印加する一方で、高抵抗化過程においては、同じく抵抗変化層（３）に対して、正極性の高抵抗化電圧パルスを２回以上印加する。ここで、そのうちの一の高抵抗化電圧パルスの電圧値をＶＨ１とし、それよりも後に印加される高抵抗化電圧パルスの電圧値をＶＨ２とした場合に、ＶＨ１＞ＶＨ２が成立する。
2012172773.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在し、前記第１電極および前記第２電極間に印加する電圧パルスに基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化層と、を備えた抵抗変化素子を駆動する駆動方法において、
第１の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、
前記第１の極性とは異なる第２の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを有し、
前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、
前記高抵抗化過程において、前記第１電極と前記第２電極間に、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップと、
前記第１の高抵抗化電圧パルスよりも後に与えられ、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップとを含む、
抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項２】
前記高抵抗化過程において、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップに引き続き、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップを実行する、
請求項１に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項３】
前記抵抗変化層は、
第１の金属の酸化物で構成される第１の金属酸化物層と、
第２の金属の酸化物で構成され、かつ前記第１の金属酸化物層よりも酸素不足度が小さい第２の金属酸化物層とが積層されている、
請求項１または２に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項４】
前記第２電極は、前記第２の金属酸化物層に接し、
前記第２の極性とは、前記第１電極の電位を基準としたときに前記第２電極の電圧が正となる極性である、
請求項３に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項５】
前記第１の金属は第１の遷移金属であり、前記第２の金属は第２の遷移金属である、
請求項３または４に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項６】
第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在し、前記第１電極および前記第２電極間に印加する電圧パルスに基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化層と、を備えた抵抗変化素子を駆動する駆動方法において、
第１の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、
前記第１の極性とは異なる第２の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを有し、
前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、
前記高抵抗化過程において、前記第１電極と前記第２電極間に、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップと、
前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していることを確認するステップと、
前記第１の高抵抗化電圧パルスよりも後に与えられ、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップとを含み、
前記確認するステップにおいて前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していることが確認されたときは、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップにおいて前記抵抗変化層に前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加し、
前記確認するステップにおいて前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第１の高抵抗化電圧パルスを再度印加する、
抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項７】
前記確認するステップにおいて、前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップの前に、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップを再度行うことにより、前記抵抗変化素子に前記第１の高抵抗化電圧パルスを再度印加する、
請求項６に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項８】
前記確認するステップにおいて、前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップにおいて、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加する前に前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加し、引き続き、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加する、
請求項６に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項９】
不揮発性の抵抗変化素子と、電圧パルス印加装置とを備える不揮発性記憶装置であって、
前記抵抗変化素子は、
第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在し前記第１電極および前記第２電極間に印加される電圧パルスに基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化層と、を備え、
前記電圧パルス印加装置は、
第１の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、
前記第１の極性とは異なる第２の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを実行するように構成され、
前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、
前記高抵抗化過程においては、前記第１電極と前記第２電極間に、少なくとも、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加する処理と、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加する処理の後、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加する処理とを実行する、
不揮発性記憶装置。
【請求項１０】
前記電圧パルス印加装置は、前記第１電極と前記第２電極間に、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加し、引き続き第２の高抵抗化電圧パルスを印加する、
請求項９に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１１】
前記抵抗変化層は、
第１の金属の酸化物で構成される第１の金属酸化物層と、
第２の金属の酸化物で構成され、かつ前記第１の金属酸化物層よりも酸素不足度が小さい第２の金属酸化物層とが積層されて構成された、
請求項９または１０に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１２】
前記第２の金属酸化物層の抵抗値は、前記第１の金属酸化物層の抵抗値よりも大きい、
請求項１１に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１３】
前記第１の金属と、前記第２の金属とは同一である、
請求項１２に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１４】
前記第１の金属は第１の遷移金属であり、前記第２の金属は第２の遷移金属である、
請求項１１から１３のいずれか１項に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１５】
前記抵抗変化層は、
ＴａＯｘ（但し、０．８≦ｘ≦１．９）で表される組成を有する酸素不足型の第１のタンタル酸化物層と、ＴａＯｙ（但し、２．１≦ｙ）で表される組成を有する第２のタンタル酸化物層と、を有する、
請求項９または１０に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１６】
前記第１の金属と、前記第２の金属とは互いに異なり、前記第２の金属の標準電極電位は、前記第１の金属の標準電極電位より低い、
請求項１１に記載の不揮発性記憶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抵抗変化素子の駆動方法、及びその方法を実施する不揮発性記憶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタル技術の進展に伴って、携帯情報機器や情報家電等の電子機器がより一層高機能化している。これらの電子機器の高機能化に伴い、使用される半導体素子の微細化及び高速化が急速に進んでいる。その中でも、フラッシュメモリに代表されるような大容量の不揮発性記憶装置の用途が急速に拡大している。さらに、このフラッシュメモリに置き換わる次世代の不揮発性記憶装置として、電気的信号によって抵抗値が可逆的に変化する性質を有する抵抗変化素子を備えた不揮発性記憶装置の研究開発が進んでいる（例えば、特許文献１、非特許文献１参照）。【０００３】
特許文献１に記載の抵抗変化素子は、電圧や電流パルスの大きさと方向によって抵抗が変化するデータ貯蔵物質層（可変抵抗物質層）を備え、可変抵抗物質層に印加される電圧や電流パルスの大きさによって、高抵抗状態と低抵抗状態とを可逆的に遷移する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３６３６０４号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】W.W.Zhuang et al., “Novell Colossal Magnetoresistive Thin Film Nonvolatile Resistance Random Access Memory(RRAM)”, IEDM Technical Digest, pp.193-196, December 2002
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のような従来の不揮発性記憶装置において、安定した記憶動作の実現と、抵抗値ばらつきの抑制の両立が困難であるという問題がある。【０００７】
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、抵抗値のばらつきを抑制し、安定した記憶動作を実現することができる抵抗変化素子の駆動方法及び不揮発性記憶装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決するために、本発明の一の態様の抵抗変化素子の駆動方法は、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在し、前記第１電極および前記第２電極間に印加する電圧パルスに基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化層と、を備えた抵抗変化素子を駆動する駆動方法において、第１の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、前記第１の極性とは異なる第２の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを有し、前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、前記高抵抗化過程において、前記第１電極と前記第２電極間に、電圧値がＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップと、前記第１の高抵抗化電圧パルスよりも後に与えられ、電圧値の抵抗値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップとを含む。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る抵抗変化素子の駆動方法及び不揮発性記憶装置によれば、抵抗値のばらつきを抑制し、安定した記憶動作を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子の構成の一例を示す模式図である。
【図２】図２は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子を動作させる回路の構成の一例を示す図である。
【図３】図３は、データの読み出しの際に、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子を備える回路を流れる電流の電流値と抵抗変化層の抵抗値との関係を示す図である。
【図４】図４は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子において、低抵抗化過程及び高抵抗化過程における動作例を示す図である。
【図５】図５は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子が備える抵抗変化層の抵抗値の正規期待値プロット図である。
【図６Ａ】図６Ａは、参考例１に係る抵抗変化素子の動作例を示す図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、参考例２に係る抵抗変化素子の動作例を示す図である。
【図７Ａ】図７Ａは、参考例１に係る抵抗変化素子が備える抵抗変化層の抵抗値の正規期待値プロット図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、参考例２に係る抵抗変化素子が備える抵抗変化層の抵抗値の正規期待値プロット図である。
【図７Ｃ】図７Ｃは、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子が備える抵抗変化層の抵抗値の正規期待値プロット図である。
【図８】図８は、参考例２及び実施の形態１に係る抵抗変化素子が備える高抵抗状態での抵抗変化層の抵抗値の正規期待値プロット図である。
【図９】図９は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子の抵抗−電圧特性を示すグラフである。
【図１０】図１０は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子の電流−電圧特性を示すグラフである。
【図１１】図１１は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子単体の抵抗−電圧特性を示すグラフである。
【図１２】図１２は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子単体の電流−電圧特性を示すグラフである。
【図１３】図１３は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子において、低抵抗化過程及び高抵抗化過程の他の動作例を示す図である。
【図１４】図１４は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子において、低抵抗化過程及び高抵抗化過程の他の動作例を示す図である。
【図１５】図１５は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子が備える抵抗変化層の抵抗値の正規期待値プロット図である。
【図１６】図１６は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子において、低抵抗化過程及び高抵抗化過程の他の動作例を示す図である。
【図１７】図１７は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子が備える抵抗変化層の抵抗値の正規期待値プロット図である。
【図１８】図１８は、本発明の実施の形態２に係る不揮発性記憶装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図１９】図１９は、本発明の実施の形態３に係る不揮発性記憶装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図２０Ａ】図２０Ａは、本発明の実施の形態４に係る不揮発性記憶装置の動作例を示す図である。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、本発明の実施の形態４に係る不揮発性記憶装置の他の動作例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する前に、本発明の基礎となった知見について説明する。
【００１２】
不揮発性記憶装置において、安定した記憶動作を確保するためには抵抗変化層において、抵抗値が高い高抵抗状態と抵抗値が低い低抵抗状態との抵抗値の差が十分にあることが必要である。そのために、例えば、高抵抗化させるための電圧パルスの電圧を高くすることによって、高抵抗状態の抵抗変化層の抵抗値をより高い値とし、これにより高抵抗状態と低抵抗状態との抵抗値の差を広げる等の対応が考えられる。
【００１３】
ここで、抵抗変化層に高い電圧の電圧パルスを印加すると、抵抗変化層において酸化反応が活発に生じ、抵抗変化層の高抵抗化が進む。一方で、抵抗変化層に高い電圧の電圧パルスを印加すると、絶縁破壊が生じやすくなり、低抵抗化が進みやすくなる。したがって、高い電圧の電圧パルスを印加した場合、抵抗変化層において、酸化反応による高抵抗化と絶縁破壊による低抵抗化との競合状態が発生するため、抵抗値がばらついてしまい、安定した記憶動作を実現することが困難になるという問題がある。
【００１４】
斯かる事情に鑑み、本発明者が鋭意検討をした結果、抵抗値のばらつきを抑制し、安定した記憶動作を実現することができる抵抗変化素子の駆動方法、及びその方法を実施する不揮発性記憶装置を見出した。
【００１５】
本発明の一態様に係る抵抗変化素子の駆動方法は、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在し、前記第１電極および前記第２電極間に印加する電圧パルスに基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化層と、を備えた抵抗変化素子を駆動する駆動方法において、第１の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、前記第１の極性とは異なる第２の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを有し、前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、前記高抵抗化過程において、前記第１電極と前記第２電極間に、電圧値がＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップと、前記第１の高抵抗化電圧パルスよりも後に与えられ、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップとを含むものである。
【００１６】
この構成によれば、抵抗変化層に、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加して高抵抗化した後、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加するので、第１の高抵抗化電圧パルスにより高抵抗化した抵抗変化層の抵抗値を、第２の高抵抗化電圧パルスにより安定させることができる。これにより、抵抗変化素子の記憶動作を安定化することができる。また、第２の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ２が、第１の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ１よりも小さいため、抵抗値のばらつきを抑制することができる。
【００１７】
また、前記高抵抗化過程において、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップに引き続き、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップを実行することが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、抵抗変化層を高抵抗化させるための第１の高抵抗化電圧パルスに引き続いて、抵抗変化層の抵抗値を安定させるための第２の高抵抗化電圧パルスを印加することにより、抵抗変化層の抵抗値をより安定させることができる。
【００１９】
また、前記抵抗変化層は、第１の金属の酸化物で構成される第１の金属酸化物層と、第２の金属の酸化物で構成され、かつ前記第１の金属酸化物層よりも酸素不足度が小さい第２の金属酸化物層とが積層されていることが好ましい。
【００２０】
また、前記第２電極は、前記第２の金属酸化物層に接し、前記第２の極性とは、前記第１電極の電位を基準としたときに前記第２電極の電圧が正となる極性であることが好ましい。
【００２１】
この構成によれば、バイポーラ動作をする抵抗変化層において、高抵抗化した抵抗変化層の抵抗値を安定させることができる。
【００２２】
また、前記第１の金属は第１の遷移金属であり、前記第２の金属は第２の遷移金属であることが好ましい。
【００２３】
また、本発明の一の態様に係る不揮発性記憶素子の駆動方法は、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在し、前記第１電極および前記第２電極間に印加する電圧パルスに基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化層と、を備えた抵抗変化素子を駆動する駆動方法において、第１の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、前記第１の極性とは異なる第２の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを有し、前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、前記高抵抗化過程において、前記第１電極と前記第２電極間に、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップと、前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していることを確認するステップと、前記第１の高抵抗化電圧パルスよりも後に与えられ、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップとを含み、前記確認するステップにおいて前記抵抗変化層が高抵抗化状態へ変化していることが確認されたときは、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップにおいて前記抵抗変化層に前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加し、前記確認するステップにおいて前記抵抗変化層が高抵抗化状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第１の高抵抗化電圧パルスを再度印加するものである。
【００２４】
この構成によれば、抵抗変化層に、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加して高抵抗化した後、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加するので、第１の高抵抗化電圧パルスにより高抵抗化した抵抗変化層の抵抗値を、第２の高抵抗化電圧パルスにより安定させることができる。これにより、抵抗変化素子の記憶動作を安定化することができる。また、第２の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ２が、第１の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ１よりも小さいため、抵抗値のばらつきを抑制することができる。さらに、第１の高抵抗化電圧パルスを印加した後、抵抗変化層が高抵抗化していることを確認するステップを含むので、抵抗変化層が高抵抗化しているか否かにより、引き続き印加する電圧パルスの電圧値を選択することができる。これにより、抵抗変化素子の記憶動作をより安定化することができる。
【００２５】
また、前記確認するステップにおいて、前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップの前に、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップを再度行うことにより、前記抵抗変化素子に前記第１の高抵抗化電圧パルスを再度印加することが好ましい。
【００２６】
また、前記確認するステップにおいて、前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップにおいて、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加する前に前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加し、引き続き、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加することが好ましい。
【００２７】
この構成によれば、抵抗変化層の高抵抗化と安定化とを効率よく行うことができる。
【００２８】
本発明の一の態様に係る不揮発性記憶装置は、不揮発性の抵抗変化素子と、電圧パルス印加装置とを備える不揮発性記憶装置であって、前記抵抗変化素子は、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在し、前記第１電極および前記第２電極間に印加される電圧パルスに基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化層と、を備え、前記電圧パルス印加装置は、第１の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、前記第１の極性とは異なる第２の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを実行するように構成され、前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、前記高抵抗化過程においては、前記第１電極と前記第２電極間に、少なくとも、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加する処理と、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加する処理の後、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加する処理とを実行するものである。
【００２９】
この構成によれば、抵抗変化層に、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加して高抵抗化した後、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加するので、第１の高抵抗化電圧パルスにより高抵抗化した抵抗変化層の抵抗値を、第２の高抵抗化電圧パルスにより安定させることができる。これにより、抵抗変化素子の記憶動作を安定化することができる。
【００３０】
また、前記電圧パルス印加装置は、前記第１電極と前記第２電極間に、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加し、引き続き第２の高抵抗化電圧パルスを印加することが好ましい。
【００３１】
この構成によれば、抵抗変化層の高抵抗化と安定化とを効率よく行うことができる。
【００３２】
また、前記抵抗変化層は、第１の金属の酸化物で構成される第１の金属酸化物層と、第２の金属の酸化物で構成され、かつ前記第１の金属酸化物層よりも酸素不足度が小さい第２の金属酸化物層とが積層されて構成されることが好ましい。
【００３３】
また、前記第２の金属酸化物層の抵抗値は、前記第１の金属酸化物層の抵抗値よりも大きいことが好ましい。
【００３４】
また、前記第１の金属と、前記第２の金属とは同一であることが好ましい。
【００３５】
また、前記第１の金属は第１の遷移金属であり、前記第２の金属は第２の遷移金属であることが好ましい。
【００３６】
また、前記抵抗変化層は、ＴａＯｘ（但し、０．８≦ｘ≦１．９）で表される組成を有する酸素不足型の第１のタンタル酸化物層と、ＴａＯｙ（但し、２．１≦ｙ）で表される組成を有する第２のタンタル酸化物層と、を有することが好ましい。
【００３７】
この構成によれば、抵抗変化層の抵抗値を安定して高速に変化させることができる。
【００３８】
また、前記第１の金属と、前記第２の金属とは互いに異なり、前記第２の金属の標準電極電位は、前記第１の金属の標準電極電位より低いことが好ましい。
【００３９】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、ステップ、ステップの順序などは、一例であり、本発明を限定する主旨ではない。以下の実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、より好ましい形態を構成する構成要素として説明される。なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示したものではない。
【００４０】
（実施の形態１）
［抵抗変化素子の構成］
まず、本発明の実施の形態１の抵抗変化素子の構成について説明する。
【００４１】
図１は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子の構成の一例を示す模式図である。図１に示すように、本実施の形態の抵抗変化素子１０は、基板１と、基板１の上に形成された第１電極（下部電極）２と、第１電極２の上に形成された抵抗変化層３と、抵抗変化層３の上に形成された第２電極（上部電極）４とを備えている。すなわち、第１電極２と、第２電極４との間に介在するように、抵抗変化層３が配置されている。第１電極２及び第２電極４は、抵抗変化層３と電気的に接続されている。
【００４２】
基板１は、例えばシリコン基板により構成される。また、第１電極２及び第２電極４は、例えば、Ａｕ（金）、Ｐｔ（白金）、Ｉｒ（イリジウム）、及びＣｕ（銅）のうちの１つまたは複数の材料を用いて構成される。
【００４３】
抵抗変化層３は、第１の遷移金属酸化物層３ａと第２の遷移金属酸化物層３ｂとが積層されて構成されている。本実施の形態においては、その一例として、第１タンタル酸化物層３ａと第２タンタル酸化物層３ｂとが積層されて抵抗変化層３が構成されている。ここで、第２タンタル酸化物層３ｂの酸素含有率は、第１タンタル酸化物層３ａの酸素含有率よりも高くなっている。言い換えると、第２タンタル酸化物層３ｂの酸素不足度は、第１タンタル酸化物層３ａの酸素不足度よりも少ない。
【００４４】
なお、酸素不足度とは、それぞれの遷移金属酸化物において、その化学量論的組成の酸化物を構成する酸素の量に対して、不足している酸素の割合をいう。例えば、遷移金属がタンタル（Ｔａ）の場合、化学量論的な酸化物の組成はＴａ２Ｏ５であるので、ＴａＯ２．５と表現できる。ＴａＯ２．５の酸素不足度は０％である。例えば、ＴａＯ１．５の組成の酸素不足型のタンタル酸化物の酸素不足度は、酸素不足度＝（２．５−１．５）／２．５＝４０％となる。また、Ｔａ２Ｏ５の酸素含有率は、総原子数に占める酸素原子の比率（Ｏ／（Ｔａ＋Ｏ））となり、７１．４％となる。したがって、酸素不足型のタンタル酸化物の酸素含有率は０より大きく、７１．４％より小さいことになる。
【００４５】
本実施の形態においては、例えば、第１タンタル酸化物層３ａの組成をＴａＯｘとした場合に０．８≦ｘ≦１．９であり、且つ、第２タンタル酸化物層３ｂの組成をＴａＯｙとした場合に、２．１≦ｙである。このような構成とすることにより、抵抗変化層３の抵抗値を安定して高速に変化させることができる。したがって、ｘ及びｙは上記の範囲内にあることが好ましい。
【００４６】
抵抗変化層３の厚みは、１μｍ以下であれば抵抗値の変化が認められるが、２００ｎｍ以下であることが好ましい。パターニングプロセスリソグラフィーを使用する場合に、加工し易く、しかも抵抗変化層３の抵抗値を変化させるために必要となる電圧パルスの電圧値を低くすることができるからである。他方、電圧パルス印加時のブレークダウン（絶縁破壊）をより確実に回避するという観点からは、抵抗変化層３の厚みは少なくとも５ｎｍ以上であることが好ましい。
【００４７】
また、第２タンタル酸化物層３ｂの厚みについては、大きすぎると初期抵抗値が高くなりすぎる等の不都合があり、また小さすぎると安定した抵抗変化が得られないという不都合があるため、１ｎｍ以上８ｎｍ以下程度が好ましい。
【００４８】
図１に示す抵抗変化素子１０においては、第１電極２は第１タンタル酸化物層に接して配置され、第２電極４は第２タンタル酸化物層３ｂに接して配置されている。上述したように構成される抵抗変化素子１０を動作させる場合、第１電極２及び第２電極４が、電源５の異なる端子に電気的に接続される。この電源５は、抵抗変化素子１０を駆動するための電気的パルス印加装置として機能し、第１電極２と第２電極４との間に、所定の極性、電圧及び時間幅の電気的パルス（電圧パルス）を印加することができるように構成されている。例えば、抵抗変化層３を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる電圧を第１の極性の低抵抗化電圧パルス、抵抗変化層３を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる電圧を第２の極性の高抵抗化電圧パルスとすると、第２の極性とは、第１電極の電位を基準としたときに第２電極の電圧が正となる極性である。
【００４９】
［抵抗変化素子の製造方法］
次に、抵抗変化素子１０の製造方法について説明する。
【００５０】
まず、基板１上に、スパッタリング法により、厚さ０．２μｍの第１電極２を形成する。その後、Ｔａターゲットをアルゴンガス及び酸素ガス中でスパッタリングする所謂反応性スパッタリング法によって、第１電極２の上にタンタル酸化物層を形成する。ここで、タンタル酸化物層における酸素含有率は、アルゴンガスに対する酸素ガスの流量比を変えることにより容易に調整することができる。なお、基板温度は特に加熱することなく室温とすることができる。
【００５１】
次に、上記のようにして形成されたタンタル酸化物層の最表面を酸化することによりその表面を改質する。これにより、タンタル酸化物層の表面に、当該タンタル酸化物層の酸化されなかった領域（第１領域）よりも酸素含有率の高い領域（第２領域）が形成される。これらの第１領域及び第２領域が第１タンタル酸化物層３ａ及び第２タンタル酸化物層３ｂにそれぞれ相当し、このようにして形成された第１タンタル酸化物層３ａ及び第２タンタル酸化物層３ｂによって抵抗変化層３が構成されることになる。
【００５２】
次に、上記のようにして形成された抵抗変化層３の上に、スパッタリング法により、厚さ０．２μｍの第２電極４を形成することにより、抵抗変化素子１０が得られる。
【００５３】
なお、第１電極２及び第２電極４並びに抵抗変化層３の大きさ及び形状は、マスク及びリソグラフィによって調整することができる。本実施の形態では、第１電極２及び抵抗変化層３の大きさを０．５μｍ×０．５μｍ（面積０．２５μｍ２）とし、第２電極４と抵抗変化層３とが接する部分の大きさも０．５μｍ×０．５μｍ（面積０．２５μｍ２）とした。
【００５４】
また、本実施の形態では、第１タンタル酸化物層３ａの組成をＴａＯｘ（ｘ＝１．５４）とし、第２タンタル酸化物層３ｂの組成をＴａＯｙ（ｙ＝２．４７）としている。さらに、抵抗変化層３の厚みを３０ｎｍとし、第１タンタル酸化物層３ａの厚みを２５ｎｍ、第２タンタル酸化物層３ｂの厚みを５ｎｍとしている。
【００５５】
なお、このように、本実施の形態においてはｘ＝１．５４、ｙ＝２．４７であるが、ｘ及びｙの値はこれに限られるわけではない。上述したとおり、ｘの値が０．８以上１．９以下の範囲内であり、ｙの値が２．１以上範囲内（２．１≦ｙ）であれば、本実施の形態での抵抗変化特性と同様に、安定した抵抗変化を実現できる。
【００５６】
［抵抗変化素子の基本動作］
次に、上述した製造方法により得られた抵抗変化素子１０の動作について説明する。
【００５７】
電源５を用いて、負極性の電圧パルスである低抵抗化電圧パルスを第１電極２及び第２電極４間に印加することにより、抵抗変化層３の抵抗値が減少し、抵抗変化層３が高抵抗状態から低抵抗状態へ変化する。以下では、これを低抵抗化過程という。
【００５８】
他方、電源５を用いて、正極性の電圧パルスである高抵抗化電圧パルスを第１電極２及び第２電極４間に印加することにより、抵抗変化層３の抵抗値が増加し、抵抗変化層３が低抵抗状態から高抵抗状態へ変化する。以下では、これを高抵抗化過程という。
【００５９】
この高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程である。
【００６０】
以上のように、本実施形態における抵抗変化素子１０は、第１電極２および第２電極４間に与えられる電圧パルスに基づいて、抵抗変化層３の抵抗値は、低抵抗状態と高抵抗状態との間で可逆的に変化する。なお、第１電極２を基準としたときに第２電極４に負の電圧を印加する場合を負極性とし、第１電極２を基準としたときに第２電極４に正の電圧を印加する場合を正極性と定義する。
【００６１】
なお、抵抗変化層３が低抵抗状態にある場合に、低抵抗化電圧パルスと同極性である負極性の電圧パルスが第１電極２及び第２電極４間に印加されたとしても、抵抗変化層３は低抵抗状態のまま変化しない。同様にして、抵抗変化層３が高抵抗状態にある場合に、高抵抗化電圧パルスと同極性である正極性の電圧パルスが第１電極２及び第２電極４間に印加されたとしても、抵抗変化層３は高抵抗状態のまま変化しない。
【００６２】
次に、抵抗変化素子１０をメモリとして使用して１ビットデータの書き込み／読み出し処理を行う場合について、説明する。なお、以下では、抵抗変化層３の抵抗値が低抵抗値である場合を「１」に対応させ、高抵抗値である場合を「０」に対応させる。
【００６３】
図２は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子１０を動作させる回路の構成の一例を示す図である。図２に示すように、この回路は、抵抗変化素子１０と、第１端子１１及び第２端子１２とを備えている。抵抗変化素子１０の第１電極２は第１端子１１に電気的に接続されており、第２電極４は第２端子１２に電気的に接続されている。図２に示すように、第１端子１１は設置（グランド：ＧＮＤ）され、第２端子１２に電圧パルスが供給される。この電圧パルスは、第１電極２及び接地点を基準に特定される。
【００６４】
抵抗変化素子１０が初期状態にある場合に、負極性の低抵抗化電圧パルスが第２端子１２に供給されると、抵抗変化層３の抵抗値は減少し、低抵抗状態となる（低抵抗化過程）。これにより、「１」を表す１ビットデータが書き込まれたことになる。その低抵抗状態にある場合において、正極性の高抵抗化電圧パルスが第２端子１２に供給されると、抵抗変化層３の抵抗値が増加し、低抵抗状態から高抵抗状態へと変化する（高抵抗化過程）。これにより、「０」を表す１ビットデータが書き込まれたことになる。
【００６５】
ここで、抵抗変化動作は、書き込み処理の際に印加される電圧の極性と大きさによって、ユニポーラ動作とバイポーラ動作に大別される。
【００６６】
ユニポーラ動作（ノンポーラ動作）とは、典型的には、高抵抗化電圧の極性と低抵抗化電圧の極性が同じである電圧を印加して抵抗変化させる動作のことをいう。なお、ユニポーラ動作（ノンポーラ動作）においては、正負どちらの極性においても同等の動作が可能であり、抵抗変化素子１０が高抵抗化するか低抵抗化するかは極性には依存しない。ただし、その場合、抵抗変化素子１０単体にかかる実効的な電圧において、低抵抗化電圧の絶対値が高抵抗化電圧の絶対値より大きい。
【００６７】
一方、バイポーラ動作とは、高抵抗化電圧の極性と低抵抗化電圧の極性が異なる電圧を印加して抵抗変化させる動作のことをいう。バイポーラ動作では、典型的には、抵抗変化素子１０単体にかかる実効的な電圧において、低抵抗化電圧の絶対値が高抵抗化電圧の絶対値より小さい。
【００６８】
バイポーラ動作においては、異なる極性の電圧を印加することにより、抵抗変化層中の酸素イオンが移動して抵抗変化が生じていると考えられる。図１に示される例では、第２電極４と抵抗変化層３の第２タンタル酸化物層３ｂの間での酸素イオンの移動により抵抗変化が生じていると考えられている。例えば、第２電極４に正電圧が印加されると、負の電荷を持った酸素イオンが第２電極４側に移動し、第２タンタル酸化物層３ｂの酸素濃度が高くなり（酸素欠陥濃度が低下し）、その結果、抵抗変化層３は高抵抗化する。逆に、負電圧が印加されると、酸素イオンは第２電極４から遠ざかるように移動し、第２タンタル酸化物層３ｂの酸素濃度が低くなり（酸素欠陥濃度が上昇し）、その結果、抵抗変化層３は低抵抗化する。
【００６９】
このバイポーラ動作は、第２電極４と第２タンタル酸化物層３ｂとの界面での酸素濃度（酸素欠陥濃度）の増減により起こるため、安定に動作させるためには、図１に示したように、上下構造に非対称性を持たせることが望ましい。例えば、抵抗変化層３をあらかじめ酸素濃度の高く抵抗の高いＴａ２Ｏ５層（高抵抗層）である第２タンタル酸化物層３ｂと酸素濃度の低く抵抗の低いＴａＯｘ層（低抵抗層）である第１タンタル酸化物層３ａの２層構成とする。この構成により、電圧は第２タンタル酸化物層３ｂに有効に印加され、第２タンタル酸化物層３ｂ側の電極界面付近で抵抗変化が優先的に起こる。この場合、第２タンタル酸化物層３ｂに接する第２電極４に正電圧を印加すると、酸素イオンが電極界面に移動し、高抵抗化が起こる。
【００７０】
なお、本実施の形態では、バイポーラ動作を行う抵抗変化素子を用いている。本実施の形態の駆動方法は、後述するように、酸素イオンの移動を伴うバイポーラ型の抵抗変化素子において、酸素イオンが電極側へ移動することによって生じる高抵抗化と、絶縁破壊により生じる低抵抗化とが競合する問題を解消し、抵抗変化素子の抵抗値を安定にする。具体的には、高抵抗化過程において、正極性の高抵抗化電圧パルスを２回以上供給することにより１回の高抵抗化が完了する。
【００７１】
上述したようにして書き込まれたデータは、次のようにして読み出される。図３は、データの読み出しの際に、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子１０を備える回路を流れる電流の電流値と抵抗変化層３の抵抗値との関係を示す図である。
【００７２】
第２端子１２に読み出し用の電圧パルス（例えば、＋０．５Ｖの電圧パルス）が供給されると、抵抗変化層３の抵抗値に応じた電流が回路を流れる。すなわち、図３に示すように、抵抗変化層３が低抵抗状態ＲＬにある場合は電流値Ｉａの電流が回路を流れ、高抵抗状態ＲＨにある場合は電流値Ｉｂの電流が回路を流れる。そのため、読み出し用の電圧パルスを第２端子１２に供給し、そのときに第１端子１１及び第２端子１２間に流れる電流の検出値がＩａであれば、抵抗変化層３が低抵抗状態ＲＬにあると判別することができる。この場合、抵抗変化素子１０に書き込まれたデータが「１」であることが分かる。他方、電流の検出値がＩｂであれば、抵抗変化層３が高抵抗状態ＲＨにあると判別することができる。この場合、抵抗変化素子１０に書き込まれたデータが「０」であることが分かる。ここで、抵抗変化素子１０に読み出し用の電圧パルスを印加しても、抵抗変化素子１０の抵抗状態は変化しない。
【００７３】
本実施の形態の抵抗変化素子１０は、電源を切ったとしても抵抗値が変化しない。そのため、この抵抗変化素子１０を用いることにより、不揮発性記憶装置を実現することができる。
【００７４】
［低抵抗化過程及び高抵抗化過程］
以下、上述した本発明の実施の形態１における低抵抗化過程及び高抵抗化過程の詳細について、説明する。
【００７５】
図４は、本発明の実施の形態１の抵抗変化素子１０において、低抵抗化過程及び高抵抗化過程における動作例を示す図である。図４に示すように、低抵抗化過程においては、抵抗変化素子１０に対して、電圧値ＶＬの低抵抗化電圧パルスが印加される。他方、高抵抗化過程においては、抵抗変化素子１０に対して、電圧値ＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルス及び電圧値ＶＨ２の第２の高抵抗化電圧パルスがこの順に印加される。ここで、第１の高抵抗化パルスの電圧値ＶＨ１と第２の高抵抗化パルスの電圧値ＶＨ２との関係は、ＶＨ１＞ＶＨ２が成立する。すなわち、高抵抗化過程においては、電圧値ＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルスを印加した後、第１の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ１よりも低い電圧値ＶＨ２の第２の高抵抗化電圧パルスを連続して印加する。なお、第１の高抵抗化電圧パルスとは、高抵抗化パルスを複数回印加する場合、最も電圧の絶対値が大きい高抵抗化電圧パルスを指す。
【００７６】
第１の高抵抗化電圧パルスは、低抵抗状態の抵抗変化素子１０を高抵抗状態に変化させるパルス電圧である。第１の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ１は、比較的大きい値に設定される。これにより、例えば、抵抗変化素子１０に負荷抵抗等が接続されている場合に、負荷抵抗による電圧分配により抵抗変化素子１０単体に印加される電圧値が減少したとしても、抵抗変化素子１０に対して抵抗変化動作に十分な大きさの電圧を印加することができる。
【００７７】
例えば、抵抗変化素子１０に、負荷抵抗と合わせて２．４Ｖ印加された場合（図９、１０参照）、この電圧で高抵抗化が行われて抵抗変化素子１０単体に電圧が印加されるようになっても、抵抗変化素子１０には大きな電流が流れてしまう。これにより、高抵抗化した第２タンタル酸化物層３ｂに欠陥（酸素空孔）が生じるため、抵抗変化素子１０の全領域において十分に高抵抗化が行えない場合がある。また、抵抗変化素子１０においては、高抵抗化と電流による欠陥発生による低抵抗化とが同時におこり、抵抗値が不安定になる場合もある。
【００７８】
また、第２の高抵抗化パルスは、第１の高抵抗化パルスでおおむね高抵抗化した抵抗変化素子１０（抵抗変化層３）の状態を、安定した高抵抗状態へと変化させるための電圧パルスである。第２の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ２は、第１の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ１に比べて比較的小さい値であり、抵抗変化素子１０の高抵抗化が可能な程度には大きい値に設定される。これにより、高抵抗状態を安定かさせることができる。これは、第２の高抵抗化パルスが、第１の高抵抗化パルスで生じた欠陥を回復させるためであると考えられる。
【００７９】
抵抗変化素子１０は第１の高抵抗化パルスによっておおむね高抵抗化しているので、これに対して第２の高抵抗化パルスを印加した際には、抵抗変化素子１０に有効に電圧がかかり、かつ、抵抗変化素子１０に過剰な電流が流れることはない。そのため、第２の高抵抗化パルスを印加することにより、第１の高抵抗化パルスで生じた欠陥（酸素空孔）を酸素イオンが埋めるように抵抗変化素子１０（抵抗変化層３）を変化させると考えられると考えられる。これにより、抵抗変化素子１０の高抵抗化状態を安定させることができる。
【００８０】
なお、図４における“Ｒｅａｄ”は、読み出し用の電圧パルスを意味している（例えば、＋０．５Ｖの電圧パルス）。この読み出し用の電圧パルスを供給することにより、上述したようにして、抵抗変化層３が高抵抗状態、抵抵抗状態の何れの状態にあるのかを判別し、データを読み出すことができる。
【００８１】
図５は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子１０が備える抵抗変化層３の抵抗値の正規期待値プロット図である。図５において、横軸は抵抗変化層３の抵抗値（抵抗測定電圧は＋０．４Ｖ）を、縦軸は正規分布でフィッティングした場合におけるばらつきの度合いを示す正規期待値をそれぞれ表している。
【００８２】
図５に示されるデータは、低抵抗化過程及び高抵抗化過程を１００回繰り返し実施した場合に得られたものである（これ以降に示す他の正規期待値プロット図においても同様である）。ここで、低抵抗化過程においては、−１．５Ｖの低抵抗化電圧パルスを抵抗変化層３に印加し、高抵抗化過程においては、第１の高抵抗化電圧パルスとして＋２．４Ｖの電圧パルスを、第２の高抵抗化電圧パルスとして＋１．５Ｖの電圧パルスを抵抗変化層３に印加している。−１．５Ｖの電圧パルスを印加したときのデータは白い三角印で示している。また、第１の高抵抗化電圧パルスのみを印加したときのデータをバツ印で示している。第１の高抵抗化電圧パルスの印加後、さらに、第２の高抵抗化電圧パルスを印加したときのデータを白い丸印で記載している。
【００８３】
書き込まれたデータの読み出しを正確に行うためには、高抵抗状態における抵抗値の最小値と低抵抗状態における抵抗値の最大値との差で規定されるウィンドウを大きくすることが望ましい。図５に示すように、第１の高抵抗化電圧パルス（＋２．４Ｖ）のみを印加した場合におけるウィンドウＷ１と、第１の高抵抗化電圧パルス（＋２．４Ｖ）の後に第２の高抵抗化電圧パルス（＋１．５Ｖ）を印加した場合におけるウィンドウＷ２とでは、Ｗ２の方が大きくなっている。このことから、高抵抗化過程において、電圧値ＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルス及び電圧値ＶＨ２の第２の高抵抗化電圧パルス（ＶＨ１＞ＶＨ２）をこの順に連続して印加することによって、より安定した記憶動作が実現可能であることが確認できる。
【００８４】
ここで、本実施の形態における駆動方法と他の駆動方法とを対比し、本実施の形態の優位性を説明する。対比する駆動方法を参考例１及び参考例２として以下に示す。図６Ａは、参考例１に係る抵抗変化素子の動作例を示す図、図６Ｂは、参考例２に係る抵抗変化素子の動作例を示す図である。なお、これらの参考例１及び参考例２の抵抗変化素子の構成は、本実施の形態の抵抗変化素子１０と同様である。
【００８５】
図６Ａに示すように、参考例１では、低抵抗化過程において電圧値ＶＬの低抵抗化電圧パルスが印加され、高抵抗化過程において電圧値ＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルスが印加される。また、図６Ｂに示すように、参考例２では、低抵抗化過程において電圧値ＶＬの低抵抗化電圧パルスが印加され、高抵抗化過程において電圧値ＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルスが連続して２回印加される。ここで、ＶＬ＝−１．５Ｖ、ＶＨ１＝＋２．４Ｖである。
【００８６】
図７Ａは、参考例１に係る抵抗変化素子が備える抵抗変化層の抵抗値の正規期待値プロット図、図７Ｂは参考例２に係る抵抗変化素子が備える抵抗変化層の抵抗値の正規期待値プロット図、図７Ｃは本実施の形態に係る抵抗変化素子が備える抵抗変化層の抵抗値の正規期待値プロット図である。図５の場合と同様に、図７Ａ乃至図７Ｃにおいて、横軸は抵抗変化層３の抵抗値（抵抗測定電圧は＋０．４Ｖ）を、縦軸は正規分布でフィッティングした場合におけるばらつきの度合いを示す正規期待値をそれぞれ表している。なお、図７Ｃは図５と同一のグラフを示している。図７Ａ乃至図７Ｃにおいて、−１．５Ｖの低抵抗化電圧パルスを印加したときのデータは白い三角印で示している。図７Ａでは、第１の高抵抗化電圧パルス（＋２．４Ｖ）を印加したときのデータをバツ印で示している。また、図７Ｂでは、第１の高抵抗化電圧パルス（＋２．４Ｖ）のみを印加したときのデータをバツ印で示し、第１の高抵抗化電圧パルス（＋２．４Ｖ）印加の後、さらに、第１の高抵抗化電圧パルス（＋２．４Ｖ）を印加したときのデータを白い四角印で記載している。さらに、図７Ｃでは、第１の高抵抗化電圧パルス（＋２．４Ｖ）のみを印加したときのデータをバツ印で示し、第１の高抵抗化電圧パルス（＋２．４Ｖ）印加の後、さらに、第２の高抵抗化電圧パルス（＋１．５Ｖ）を印加したときのデータを白い丸印で記載している。図７Ａ乃至図７Ｃから理解できるように、各々のウィンドウＷは、図７Ａでは約３５ｋΩ、図７Ｂでは約５０ｋΩ、図７Ｃでは約７０ｋΩである。
【００８７】
図７Ａ乃至図７Ｃを参照すると、本実施の形態１の方が参考例１及び参考例２よりも大きいウィンドウＷを確保できることが確認できる。この点をより明確に把握するために、参考例２及び実施の形態１における高抵抗状態での抵抗変化層の抵抗値の正規期待値を図８にまとめて示す。図８では、図７Ｂにおいて白い四角印で記載したデータ及び図７Ｃにおいて白い丸印で記載したデータをそれぞれ同一のグラフ上で比較した。
【００８８】
図８を参照すると、第２回目の高抵抗化電圧パルスとして第１の高抵抗化電圧パルス（＋２．４Ｖ）と同じ高抵抗化電圧パルスを印加する参考例２の場合（白い四角印のデータ）と比べて、第２回目の高抵抗化電圧パルスとして第２の高抵抗化電圧パルス（＋１．５Ｖ）を印加する本実施の形態の場合（白い丸印のデータ）の方が、高抵抗値の最小値が大きいため、より大きなウィンドウが確保可能であることが確認できる。また、抵抗値の最小値付近に着目すると、参考例２の方では抵抗値が横方向に広がってばらついているのに対し、本実施の形態の場合ではそのような横方向の広がりが少なく、所謂テイルビット（分布の端）の広がりの改善が図られていることも確認することができる。なお、第２回目の高抵抗化電圧パルスの電圧値は、参考例２が＋２．４Ｖであるのに対して本実施の形態では＋１．５Ｖであるため、本実施の形態の方が高抵抗化過程における消費電流を低減することができる。したがって、省電力化の観点からも、本実施の形態の方が参考例２よりも優れている。
【００８９】
［高抵抗化過程における印加電圧］
上述したとおり、本実施の形態では、電圧値ＶＨ１の高抵抗化電圧パルス及び電圧値ＶＨ２の高抵抗化電圧パルス（ＶＨ１＞ＶＨ２）をこの順に連続して印加する。これにより、抵抗変化層の抵抗状態が高抵抗状態、低抵抗状態の何れであるのかを正確に判別することができ、安定した動作を実現することができる。このような効果がＶＨ１＞ＶＨ２の条件を満たすことによって奏されることは上述したとおりであるが、より一層の安定動作の実現を目的とした場合、ＶＨ２には望ましい範囲があると考えられる。この望ましい範囲について考察したので、以下に説明する。
【００９０】
図９は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子１０の抵抗−電圧特性を示すグラフである。また、図１０は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子１０の電流−電圧特性を示すグラフである。なお、これらの図９及び図１０に示されるデータは、抵抗変化素子１０の単体の抵抗−電圧特性ではなく、抵抗値が１ｋΩの負荷抵抗が抵抗変化層３に電気的に直列に接続された状態で、−１．５Ｖ乃至＋２．４Ｖの範囲の電圧を抵抗変化層３に印加することによって得られたものである。
【００９１】
図９を参照すると、高抵抗状態において抵抗値が大きくばらついている箇所があることが確認できる。具体的には、印加電圧が＋１．６Ｖ以上の場合に抵抗値が大きくばらついている。これは、電圧パルスが印加された場合に、抵抗変化層３中の酸素原子がイオンとなって第２電極４側に移動することにより生じる高抵抗化と、絶縁破壊により生じる低抵抗化とが競合するために、抵抗値が安定しなくなることが原因であると考えられる。この特性を考慮すると、第２の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ２は、＋１．６Ｖより小さい値であることが望ましいといえる。上述したように、本実施の形態では、ＶＨ２＝＋１．５Ｖとしており、＋１．６Ｖより小さい値となっている。この場合、図１０に示されるように、消費電流は十分に小さいため、省電力化を図ることができる。また、抵抗変化層を高抵抗化させるための閾値電圧は概ね＋０．５乃至＋０．７Ｖ程度である（後述する図１１で説明）ため、高抵抗化過程において印加する電圧としてはそれよりも大きい値であることが望ましいと考えられる。
【００９２】
以上より、負荷抵抗を含めた場合においては、抵抗変化層３に印加する第２回目の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ２が＋０．７より大きく且つ＋１．６Ｖよりも小さいことが望ましい。
【００９３】
図１１は、本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子１０の単体の抵抗−電圧特性を示すグラフであり、図１２は、同じく抵抗変化素子１０の単体の電流−電圧特性を示すグラフである。
【００９４】
図１１に示されるように、負荷抵抗を除外した素子単体の場合では、印加電圧が＋１．３Ｖ以上の場合に高抵抗状態において抵抗値が大きくばらついていることが確認できるため、ＶＨ２は＋１．３Ｖより小さい値であることが望ましいといえる。この場合、図１２に示されるように、消費電流は十分に小さいため、省電力化を図ることができる。また、印加電圧が＋０．７Ｖを超えたところから高抵抗化が見られるため、高抵抗化過程において印加する電圧としては＋０．７Ｖより大きい値であることが望ましいといえる。
【００９５】
以上より、素子単体の場合においては、抵抗変化層３に印加する第２の高抵抗化電圧パルスの電圧値ＶＨ２が＋０．７より大きく且つ＋１．３Ｖよりも小さいことが望ましい。
【００９６】
［高抵抗化過程における印加回数］
上述したとおり、本実施の形態では、高抵抗化過程において合計２回の高抵抗化電圧パルス（第１の高抵抗化電圧パルスと、その後の第２の高抵抗化電圧パルス）を印加しているが、その印加回数は３回以上であってもよい。図１３は、低抵抗化過程及び高抵抗化過程における本発明の実施の形態１に係る抵抗変化素子１０の他の動作例を示す図である。
【００９７】
図１３に示すように、低抵抗化過程においては、抵抗変化素子１０に対して、電圧値ＶＬの低抵抗化電圧パルスが供給される。他方、高抵抗化過程においては、抵抗変化素子１０に対して、電圧値ＶＨ１（例えば、＋２．４Ｖ）の第１の高抵抗化電圧パルスを連続的に２回印加した後に、電圧値ＶＨ２（例えば、＋１．５Ｖ）の第２の高抵抗化電圧パルスを印加する。すなわち、高抵抗化過程において、合計３回の高抵抗化電圧パルスを印加し、第２の高抵抗化電圧パルスの電圧値が、その前に印加される第１の高抵抗化電圧パルスの電圧値よりも低くなっている。このように、第１の高抵抗化電圧パルスの後に印加される第２の高抵抗化電圧パルスの電圧値が、それによりも前に印加される第１の高抵抗化電圧パルスの電圧値よりも低くなっている場合、上述した場合と同様にして高抵抗状態におけるテイルビットが改善され、十分に大きなウィンドウを確保することが可能になる。
【００９８】
なお、上述した通り、高抵抗化過程において３回以上の高抵抗化電圧パルスを印加する場合においては、絶対値が最も大きい電圧値（ＶＨ１）の第１の高抵抗化電圧パルスが印加された後に第２の高抵抗化電圧パルス（電圧値ＶＨ２＜ＶＨ１）が印加されれば、一定の効果が認められると考えられるため、例えば＋２．０Ｖ及び＋２．４Ｖの高抵抗化電圧パルスをこの順に印加した後に、＋１．５Ｖの高抵抗化電圧パルスを印加するような態様も想定される。
【００９９】
以下、高抵抗化電圧パルスを３回印加する場合について、その効果を確認する。
【０１００】
図１４に示す動作例では、高抵抗化過程において、抵抗変化素子１０に対し、電圧値ＶＨ３（ＶＨ３＜ＶＨ１）の第３の高抵抗化電圧パルスを印加した後にＶＨ３よりも高い電圧値ＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルスを印加し、さらにその後、電圧値ＶＨ２（ＶＨ２＜ＶＨ１）の第２の高抵抗化電圧パルスを印加する。この動作例においては、最も高い電圧値（ＶＨ１）の第１の高抵抗化電圧パルス、及びそれ以降に印加される低い電圧値（ＶＨ２）の第２の高抵抗化電圧パルスのペアが存在している。
【０１０１】
図１５は、上記の動作例において、ＶＨ３及びＶＨ２を共に＋１．５Ｖとし、ＶＨ１を＋２．４Ｖとした場合、すなわち＋１．５Ｖ、＋２．４Ｖ、＋１．５Ｖの順に高抵抗化電圧パルスを印加する場合での抵抗変化層３の抵抗値の正規期待値プロット図である。なお、図１５において、最初の＋１．５Ｖ（ＶＨ３）の第３の高抵抗化電圧パルスのみを印加した場合を白い四角印でプロットし、第３の高抵抗化電圧パルスの後に第１の高抵抗化電圧パルス（ＶＨ１＝＋２．４Ｖ)を印加した場合をバツ印でプロットし、この第１の高抵抗化電圧パルスを印加した後さらに＋１．５Ｖ（ＶＨ２）の第２の高抵抗化電圧パルスを印加した場合を白い丸印でプロットしている。
【０１０２】
図１５に示すように、最初の＋１．５Ｖの第３の高抵抗化電圧パルスを印加した場合におけるウィンドウＷ３と、その後に＋２．４Ｖの第１の高抵抗化電圧パルスを印加した場合におけるウィンドウＷ１と、最後に＋１．５Ｖの第２の高抵抗化電圧パルスをさらに印加した場合におけるウィンドウＷ２とを比較すると、Ｗ２が最も大きくなっている。このように、第１の高抵抗化電圧パルス（電圧値ＶＨ１）の後に第２の高抵抗化電圧パルス（電圧値ＶＨ２）を印加した場合に最も大きなウィンドウを確保できることが確認できる。
【０１０３】
更なる変形例も考えられる。例えば、図１６に示す動作例では、高抵抗化過程において、抵抗変化素子１０に対し、電圧値ＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルスを印加した後にＶＨ１よりも低い電圧値ＶＨ３の第３の高抵抗化電圧パルスを印加し、さらに、その後ＶＨ１よりも低くＶＨ３よりも高い電圧値ＶＨ２の第２の高抵抗化電圧パルスを印加する。この動作例においても、最も高い電圧値（ＶＨ１）の第１の高抵抗化電圧パルス、及びそれ以降に印加される低い電圧値（ＶＨ２）の第２の高抵抗化電圧パルスのペアが存在している。
【０１０４】
図１７は、上記の図１６に示した動作例において、ＶＨ１を＋２．４Ｖとし、ＶＨ２を＋１．５Ｖとし、ＶＨ３を＋０．８Ｖとした場合、すなわち＋２．４Ｖ、＋０．８Ｖ、＋１．５Ｖの順に高抵抗化電圧パルスを印加する場合での抵抗変化層３の抵抗値の正規期待値プロット図である。なお、図１７において、最初の＋２．４Ｖ（ＶＨ１）の第１の高抵抗化電圧パルスのみを印加した場合をバツ印でプロットし、第１の高抵抗化電圧パルスの後に＋０．８Ｖ（ＶＨ３）の第３の高抵抗化電圧パルスを印加した場合を白い四角印でプロットし、第１の高抵抗化電圧パルス、及び第３の高抵抗化電圧パルスに引き続いて＋１．５Ｖ（ＶＨ２）の第２の高抵抗化電圧パルスを印加した場合は白い丸印でプロットしている。
【０１０５】
図１７に示すように、最初の＋２．４Ｖの第１の高抵抗化電圧パルスを印加した場合におけるウィンドウＷ１と、その後に＋０．８Ｖの第３の高抵抗化電圧パルスを印加した場合におけるウィンドウＷ３と、最後に＋１．５Ｖの第２の高抵抗化電圧パルスを印加した場合におけるウィンドウＷ２とを比較すると、Ｗ２が最も大きくなっている。このように、図１７を参照すると、この動作例においても、ＶＨ２の第２の高抵抗化電圧パルスを印加した場合に最も大きなウィンドウを確保できることが確認できる。
【０１０６】
（実施の形態２）
実施の形態２に係る不揮発性記憶装置は、基本単位となるメモリセルが、１つのトランジスタと１つの不揮発性記憶部とが直列に接続されて構成された１トランジスタ／１不揮発性記憶部型（１Ｔ１Ｒ型）の不揮発性記憶装置であり、実施の形態１で示した抵抗変化素子を有する。以下、この不揮発性記憶装置の構成及び動作について説明する。
【０１０７】
［不揮発性記憶装置の構成及び動作］
図１８は、本実施の形態に係る不揮発性記憶装置の構成の一例を示すブロック図である。図１８に示すように、１Ｔ１Ｒ型の不揮発性記憶装置１００は、半導体基板上にメモリ本体部１０１を備えており、このメモリ本体部１０１は、メモリアレイ１０２と、行選択回路／ドライバ１０３と、列選択回路１０４と、情報の書き込みを行うための書き込み回路１０５と、選択ビット線に流れる電流量を検出し、４値のデータのうちの何れのデータが記憶されているかの判定を行うセンスアンプ１０６と、端子ＤＱを介して入出力データの入出力処理を行うデータ入出力回路１０７とを具備している。
【０１０８】
また、不揮発性記憶装置１００は、セルプレート電源（ＶＣＰ電源）１０８と、外部から入力されるアドレス信号を受け取るアドレス入力回路１０９と、外部から入力されるコントロール信号に基づいて、メモリ本体部１０１の動作を制御する制御回路１１０とをさらに備えている。
【０１０９】
メモリアレイ３０２は、半導体基板の上に形成された、互いに交差（例えば、直交）するように配列された複数のワード線ＷＬ０，ＷＬ１，ＷＬ２，・・・およびビット線ＢＬ０，ＢＬ１，ＢＬ２，・・・と、これらのワード線ＷＬ０，ＷＬ１，ＷＬ２，・・・及びビット線ＢＬ０，ＢＬ１，ＢＬ２，・・・の交点に対応してそれぞれ設けられた複数のトランジスタＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３，Ｔ２１，Ｔ２２，Ｔ２３，Ｔ３１，Ｔ３２，Ｔ３３，・・・（以下、「トランジスタＴ１１，Ｔ１２，・・・」と表す）と、トランジスタＴ１１，Ｔ１２，・・・と１対１に設けられた複数のメモリセルＭ１１１，Ｍ１１２，Ｍ１１３，Ｍ１２１，Ｍ１２２，Ｍ１２３，Ｍ１３１，Ｍ１３２，Ｍ１３３（以下、「メモリセルＭ１１１，Ｍ１１２，・・・」と表す）とを備えている。ここで、メモリセルＭ１１１，Ｍ１１２，・・・は、実施の形態１の抵抗変化素子１０に相当する。
【０１１０】
また、メモリアレイ１０２は、ワード線ＷＬ０，ＷＬ１，ＷＬ２，・・・に平行して配列されている複数のプレート線ＰＬ０，ＰＬ１，ＰＬ２，・・・を備えている。
【０１１１】
トランジスタＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３，・・・のドレインはビット線ＢＬ０に、トランジスタＴ２１，Ｔ２２，Ｔ２３，・・・のドレインはビット線ＢＬ１に、トランジスタＴ３１，Ｔ３２，Ｔ３３，・・・のドレインはビット線ＢＬ２に、それぞれ接続されている。
【０１１２】
また、トランジスタＴ１１，Ｔ２１，Ｔ３１，…のゲートはワード線ＷＬ０に、トランジスタＴ１２，Ｔ２２，Ｔ３２，・・・のゲートはワード線ＷＬ１に、トランジスタＴ１３，Ｔ２３，Ｔ３３，・・・のゲートはワード線ＷＬ２に、それぞれ接続されている。
【０１１３】
さらに、トランジスタＴ１１，Ｔ１２，・・・のソースはそれぞれ、メモリセルＭ１１１，Ｍ１１２，・・・と接続されている。
【０１１４】
また、メモリセルＭ１１１，Ｍ１２１，Ｍ１３１，・・・はプレート線ＰＬ０に、メモリセルＭ１１２，Ｍ１２２，Ｍ１３２，・・・はプレート線ＰＬ１に、メモリセルＭ１１３，Ｍ１２３，Ｍ１３３，・・・はプレート線ＰＬ２に、それぞれ接続されている。
【０１１５】
アドレス入力回路１０９は、外部回路（図示せず）からアドレス信号を受け取り、このアドレス信号に基づいて行アドレス信号を行選択回路／ドライバ１０３へ出力するとともに、列アドレス信号を列選択回路１０４へ出力する。ここで、アドレス信号は、複数のメモリセルＭ１１１，Ｍ１１２，・・・のうちの選択される特定のメモリセルのアドレスを示す信号である。また、行アドレス信号は、アドレス信号に示されたアドレスのうちの行のアドレスを示す信号であり、列アドレス信号は、アドレス信号に示されたアドレスのうちの列のアドレスを示す信号である。
【０１１６】
制御回路１１０は、情報の書き込み工程（上記の低抵抗化過程及び高抵抗化過程に相当）においては、データ入出力回路１０７に入力された入力データＤｉｎに応じて、書き込み用電圧の印加を指示する書き込み信号を書き込み回路１０５へ出力する。他方、情報の読み出し工程において、制御回路１１０は、読み出し用電圧の印加を指示する読み出し信号を列選択回路１０４へ出力する。
【０１１７】
行選択回路／ドライバ１０３、列選択回路１０４、書き込み回路１０５にて、電圧パルス印加装置を構成しており、電圧パルス印加装置は、実施の形態１にて述べた低抵抗化過程及び高抵抗化過程を実行する。
【０１１８】
行選択回路／ドライバ１０３は、アドレス入力回路１０９から出力された行アドレス信号を受け取り、この行アドレス信号に応じて、複数のワード線ＷＬ０，ＷＬ１，ＷＬ２，…のうちの何れかを選択し、その選択されたワード線に対して、所定の電圧を印加する。
【０１１９】
また、列選択回路１０４は、アドレス入力回路１０９から出力された列アドレス信号を受け取り、この列アドレス信号に応じて、複数のビット線ＢＬ０，ＢＬ１，ＢＬ２，・・・のうちの何れかを選択し、その選択されたビット線に対して、書き込み用電圧または読み出し用電圧を印加する。
【０１２０】
書き込み回路１０５は、制御回路１１０から出力された書き込み信号を受け取った場合、列選択回路１０４に対して選択されたビット線に対して書き込み用電圧の印加を指示する信号を出力する。ここで、低抵抗状態の抵抗値に対応する値を書き込む場合（低抵抗化過程）、書き込み回路１０５は、電圧値がＶＬの低抵抗化電圧パルスの印加を指示する信号を出力する。他方、高抵抗状態の抵抗値に対応する値を書き込む場合（高抵抗化過程）、書き込み回路１０５は、電圧値がＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルス及び電圧値がＶＨ２の第２の高抵抗化電圧パルスをこの順に印加することを指示する信号を出力する。なお、ここでの電圧の正負の極性は、抵抗変化素子に対する電圧印加の極性に対応しており、実施の形態１にて説明した定義の通りである。
【０１２１】
センスアンプ１０６は、情報の読み出し工程において、読み出し対象となる選択ビット線に流れる電流量を検出し、記憶されているデータを判別する。本実施の形態の場合、各メモリセルＭ１１１，Ｍ１１２，・・・の抵抗状態を高抵抗状態、低抵抗状態の２つの状態とし、それらの各状態と各データとを対応させる。そのため、センスアンプ１０６は、選択されたメモリセルの抵抗変化層の抵抗状態が何れの状態にあるのかを判別し、それに応じて２値のデータのうち何れのデータが記憶されているのかを判定する。その結果得られた出力データＤＯは、データ入出力回路１０７を介して、外部回路へ出力される。
【０１２２】
上記のように動作することにより、不揮発性記憶装置１００は、安定した記憶動作を実現する。
【０１２３】
なお、上記の構成例では、プレート線はワード線と平行に配置されているが、ビット線と平行に配置してもよい。また、プレート線は複数のトランジスタに共通の電位を与える構成としているが、行選択回路／ドライバ１０３と同様の構成のプレート線選択回路／ドライバを有し、選択されたプレート線と非選択のプレート線を異なる電圧（極性も含む）で駆動する構成としてもよい。
【０１２４】
（実施の形態３）
実施の形態３に係る不揮発性記憶装置は、互いに交差するように配列された複数のワード線と複数のビット線との交差する位置にメモリセルが配置されたクロスポイント型の不揮発性記憶装置であり、実施の形態１で示した抵抗変化素子を有する。以下、この不揮発性記憶装置の構成及び動作について説明する。
【０１２５】
［不揮発性記憶装置の構成及び動作］
図１９は、本実施の形態に係る不揮発性記憶装置の構成の一例を示すブロック図である。図１９に示すように、本実施の形態に係る不揮発性記憶装置２００は、半導体基板上にメモリ本体部２０１を備えており、このメモリ本体部２０１は、メモリアレイ２０２と、行選択回路／ドライバ２０３と、列選択回路／ドライバ２０４と、情報の書き込みを行うための書き込み回路２０５と、選択ビット線に流れる電流量を検出し、４値のデータのうちの何れのデータが記憶されているかの判別を行うセンスアンプ２０６と、端子ＤＱを介して入出力データの入出力処理を行うデータ入出力回路２０７とを具備している。
【０１２６】
また、不揮発性記憶装置２００は、外部から入力されるアドレス信号を受け取るアドレス入力回路２０８と、外部から入力されるコントロール信号に基づいて、メモリ本体部２０１の動作を制御する制御回路２０９とをさらに備えている。
【０１２７】
メモリアレイ２０２は、図１９に示すように、半導体基板上に互い平行に形成された複数のワード線ＷＬ０，ＷＬ１，ＷＬ２，・・・と、これらのワード線ＷＬ０，ＷＬ１，ＷＬ２，…の上方にその半導体基板の主面に平行な面内において互いに平行に、しかも複数のワード線ＷＬ０，ＷＬ１，ＷＬ２，・・・に立体交差（例えば、直交）するように形成された複数のビット線ＢＬ０，ＢＬ１，ＢＬ２，・・・とを備えている。
【０１２８】
また、これらのワード線ＷＬ０，ＷＬ１，ＷＬ２，・・・及びビット線ＢＬ０，ＢＬ１，ＢＬ２，・・・の交点に対応してマトリクス状に設けられた複数のメモリセルＭ２１１，Ｍ２１２，Ｍ２１３，Ｍ２２１，Ｍ２２２，Ｍ２２３，Ｍ２３１，Ｍ２３２，Ｍ１２３，・・・（以下、「メモリセルＭ２１１，Ｍ２１２，・・・」と表す）が設けられている。ここで、メモリセルＭ２１１，Ｍ２１２，・・・は、実施の形態１の抵抗変化素子１０に相当する素子と、ＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｍｅｔａｌ）ダイオード又はＭＳＭ（Ｍｅｔａｌ−Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ−Ｍｅｔａｌ）ダイオード等で構成される電流抑制素子とが接続されて構成されている。
【０１２９】
アドレス入力回路２０８は、外部回路（図示せず）からアドレス信号を受け取り、このアドレス信号に基づいて行アドレス信号を行選択回路／ドライバ２０３へ出力するとともに、列アドレス信号を列選択回路／ドライバ２０４へ出力する。ここで、アドレス信号は、複数のメモリセルＭ２１１，Ｍ２１２，・・・のうちの選択される特定のメモリセルのアドレスを示す信号である。また、行アドレス信号はアドレス信号に示されたアドレスのうちの行のアドレスを示す信号であり、列アドレス信号は同じく列のアドレスを示す信号である。
【０１３０】
制御回路２０９は、情報の書き込み工程において、データ入出力回路２０７に入力された入力データＤｉｎに応じて、書き込み用電圧の印加を指示する書き込み信号を書き込み回路２０５へ出力する。他方、情報の読み出し工程において、制御回路２０９は、読み出し動作を指示する読み出し信号を列選択回路／ドライバ２０４へ出力する。
【０１３１】
行選択回路／ドライバ２０３は、アドレス入力回路２０８から出力された行アドレス信号を受け取り、この行アドレス信号に応じて、複数のワード線ＷＬ０，ＷＬ１，ＷＬ２，…のうちの何れかを選択し、その選択されたワード線に対して、所定の電圧を印加する。
【０１３２】
また、列選択回路／ドライバ２０４は、アドレス入力回路２０８から出力された列アドレス信号を受け取り、この列アドレス信号に応じて、複数のビット線ＢＬ０，ＢＬ１，ＢＬ２，…のうちの何れかを選択し、その選択されたビット線に対して、書き込み用電圧または読み出し用電圧を印加する。
【０１３３】
書き込み回路２０５は、制御回路２０９から出力された書き込み信号を受け取った場合、行選択回路／ドライバ２０３に対して選択されたワード線に対する電圧の印加を指示する信号を出力するとともに、列選択回路／ドライバ２０４に対して選択されたビット線に対して書き込み用電圧の印加を指示する信号を出力する。
【０１３４】
ここで、低抵抗状態の抵抗値に対応する値を書き込む場合（低抵抗化過程）、書き込み回路２０５は、電圧値がＶＬの低抵抗化電圧パルスの印加を指示する信号を出力する。他方、高抵抗状態の抵抗値に対応する値を書き込む場合（高抵抗化過程）、書き込み回路２０５は、電圧値がＶＨ１の第１の高抵抗化電圧パルス及びＶＨ２の第２の高抵抗化電圧パルスをこの順に印加することを指示する信号を出力する。なお、ここでの電圧の正負の極性は、抵抗変化素子に対する電圧印加の極性に対応しており、実施の形態１にて説明した定義の通りである。
【０１３５】
センスアンプ２０６は、情報の読み出し工程において、読み出し対象となる選択ビット線に流れる電流量を検出し、記憶されているデータを判別する。本実施の形態の場合、各メモリセルＭ２１１，Ｍ２１２，・・・の抵抗状態を高低の２つの状態とし、それらの各状態と各データとを対応させる。そのため、センスアンプ２０６は、選択されたメモリセルの抵抗変化層の抵抗状態が何れの状態にあるのかを判別し、それに応じて２値のデータのうち何れのデータが記憶されているのかを判定する。その結果得られた出力データＤＯは、データ入出力回路２０７を介して、外部回路へ出力される。
【０１３６】
上記のように動作することにより、不揮発性記憶装置２００は、安定した記憶動作を実現する。
【０１３７】
なお、図１９に示す本実施の形態に係る不揮発性記憶装置におけるメモリアレイを３次元に積み重ねる、すなわち、メモリアレイ面に垂直な方向にメモリアレイを積層することによって、多層化構造の不揮発性記憶装置を実現することも可能である。このように構成された多層化メモリアレイを設けることによって、超大容量不揮発性記憶装置を実現することが可能となる。
【０１３８】
（実施の形態４）
実施の形態４に係る不揮発性記憶装置の駆動方法は、高抵抗状態の書き込み動作においてベリファイ動作を含むものである。以下、この不揮発性記憶装置の動作について説明する。
【０１３９】
ベリファイ動作は、抵抗変化素子の抵抗状態が所望の条件を満足するかどうかを確認する動作である。ベリファイ動作が行なわれることにより、記憶されたデータの信頼性が向上する。
【０１４０】
図２０Ａ及び図２０Ｂは、本実施の形態における不揮発性記憶装置の動作例を示す図である。
【０１４１】
低抵抗状態から高抵抗状態への書き込みは、実施の形態１と同様に、電圧値ＶＨ１の第１の高抵抗化パルス及び電圧値ＶＨ２の第２の高抵抗化パルスを順に印加するものである。
【０１４２】
はじめに、図２０Ａに示すように、低抵抗状態の抵抗変化素子１０を高抵抗化するために、所望のメモリセルの抵抗変化素子１０に電圧値ＶＨ１の第１の高抵抗化パルスを印加する。第１の高抵抗化パルス印加後、第２の高抵抗化パルス印加前に、第１の高抵抗化パルスにより抵抗変化素子１０が高抵抗状態に変化しているか否かをベリファイ（確認）する。
【０１４３】
ベリファイの工程では、例えば、書き込みを行ったメモリセルからのデータ読み出しを行い、読み出されたデータと最初に入力された期待値データとの比較を行い、一致している場合は高抵抗化成功と判定する。読み出されたデータと期待値データとが一致していない場合は、高抵抗化失敗と判定する。
【０１４４】
高抵抗化成功の場合は、図２０ＡのＹｅｓに示すように、ベリファイを行ったメモリセルに、第２の高抵抗化パルスを印加する。これにより、抵抗変化素子１０は、安定した高抵抗状態となる。
【０１４５】
高抵抗化失敗の場合は、図２０ＡのＮｏに示すように、再度第１の高抵抗化パルスを印加する。そして、再度ベリファイを行い、高抵抗化成功の場合には（図２０ＡのＹｅｓ）、第２の高抵抗化パルスを印加する。また、高抵抗化失敗の場合には、第１の高抵抗化パルスを再度印加する（図２０ＡのＮｏ）。なお、高抵抗化失敗の場合については、第１の高抵抗化パルスを印加するステップが無限に繰り返されるのを抑制するために、第１の高抵抗化パルスの印加回数の上限を設定してもよい。
【０１４６】
また、図２０Ｂは、本実施の形態における不揮発性記憶装置の他の動作例を示す図である。
【０１４７】
図２０Ａに示した工程と同様に、はじめに、図２０Ｂに示すように、低抵抗状態の抵抗変化素子１０を高抵抗化するために、所望のメモリセルの抵抗変化素子１０に電圧値ＶＨ１の第１の高抵抗化パルスを印加する。第１の高抵抗化パルス印加後、第２の高抵抗化パルス印加前に、第１の高抵抗化パルスにより抵抗変化素子１０が高抵抗状態に変化しているか否かベリファイ（確認）する。
【０１４８】
ベリファイの工程では、図２０Ａに示した場合と同様、例えば、書き込みを行ったメモリセルからのデータ読み出しを行い、読み出されたデータと最初に入力された期待値データとの比較を行い、一致している場合は高抵抗化成功と判定する。読み出されたデータと期待値データとが一致していない場合は、高抵抗化失敗と判定する。
【０１４９】
高抵抗化成功の場合は、図２０ＢのＹｅｓに示すように、ベリファイを行ったメモリセルに、第２の高抵抗化パルスを印加する。これにより、抵抗変化素子１０は、安定した高抵抗状態となる。
【０１５０】
高抵抗化失敗の場合は、図２０ＢのＮｏに示すように、再度第１の高抵抗化パルスを印加し、引き続き第２の高抵抗化パルスを印加する（図２０ＢのＮｏ）。これにより、抵抗変化素子１０は、安定した高抵抗状態となる。言い換えると、図２０Ｂに示される動作例は、図２０Ａに示される動作例において、ベリファイの工程を１回のみ行なう方法である。
【０１５１】
第１の高抵抗化パルスの印加及び第２の高抵抗化パルスの印加の間にこのようなベリファイ動作を含むことにより、抵抗変化素子１０を安定して高抵抗化することができる。これにより、不揮発性記憶装置の記憶データの信頼性を向上させることができる。
【０１５２】
（その他の実施の形態）
上記の各実施の形態において、抵抗変化層はタンタル酸化物の積層構造で構成されていたが、本発明はこれに限定されるわけではない。例えば、ジルコニウム（Ｚｒ）酸化物の積層構造またはハフニウム（Ｈｆ）酸化物の積層構造などであってもよい。
【０１５３】
ジルコニウム酸化物の積層構造を採用する場合は、第１ジルコニウム酸化物の組成をＺｒＯｘとし、第２ジルコニウム酸化物の組成をＺｒＯｙとすると、第１及び第２ジルコニウム酸化物ともに化学量論組成に対して酸素不足型の組成とし、ｘが０．９以上１．４以下程度であって、ｙが１．８以上２以下程度であることが好ましい。第２ジルコニウム酸化物の膜厚は、１〜５ｎｍが好ましい。
【０１５４】
また、ハフニウム酸化物の積層構造を採用する場合は、第１ハフニウム酸化物の組成をＨｆＯｘとし、第２ハフニウム酸化物の組成をＨｆＯｙとすると、第１及び第２ハフニウム酸化物ともに化学量論組成に対して酸素不足型の組成とし、ｘが０．９以上１．６以下程度であって、ｙが１．８９以上１．９７以下程度であることが好ましい。第２ハフニウム酸化物の膜厚は、３〜４ｎｍが好ましい。
【０１５５】
上記の酸素不足型ハフニウム酸化物および酸素不足型ジルコニウム酸化物は、上述した実施の形態にて説明した酸素不足型タンタル酸化物と同様の製造方法で作成することができる。
【０１５６】
上記では、抵抗変化層が遷移金属酸化物である例について説明しているが、抵抗変化層は金属酸化物であればよい。したがって、遷移金属酸化物の他に、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等を用いてもよい。すなわち、上記説明における「第１の遷移金属」、「第２の遷移金属」、「第１の遷移金属酸化物」、「第２の遷移金属酸化物」は、「第１の金属」、「第２の金属」、「第１の金属酸化物」、「第２の金属酸化物」の一例である。
【０１５７】
さらに、上記では、抵抗変化層を構成する遷移金属をいくつか例示しているが、その他にも、チタン（Ｔｉ）、ニオブ（Ｎｂ）、タングステン（Ｗ）等を用いることができる。遷移金属は複数の酸化状態をとることができるため、異なる抵抗状態を酸化還元反応により実現することが可能である。
【０１５８】
また、上述した実施の形態においては、積層構造にて構成された抵抗変化層３は、第１の遷移金属酸化物層３ａを構成する第１の遷移金属と、第２の遷移金属酸化物層３ｂを構成する第２の遷移金属は、同一の遷移金属を用いる場合を例にして説明した。しかしながら、本発明はこれに限らず、図１において、第１の遷移金属酸化物層３ａを構成する第１の遷移金属と、第２の遷移金属酸化物層３ｂを構成する第２の遷移金属とは、異なる材料を用いてもよい。この場合、第２の遷移金属酸化物層３ｂは、第１の遷移金属酸化物層３ａよりも酸素不足度が小さい、つまり抵抗値が高い方が好ましい。このような構成とすることにより、抵抗変化時に第２電極４及び第１電極２間に印加された電圧は、第２の遷移金属酸化物層３ｂにより多くの電圧が分配され、第２の遷移金属酸化物層３ｂ中で発生する酸化還元反応をより起こしやすくすることができる。また、第１の遷移金属と第２の遷移金属とが互いに異なる材料を用いる場合、第２の遷移金属の標準電極電位は、第１の遷移金属の標準電極電位より低い方が好ましい。例えば、第１の遷移金属酸化物層３ａに、酸素不足型のタンタル酸化物を用い、第２の遷移金属酸化物層３ｂにＴｉＯ２を用いることにより、安定した抵抗変化動作が得られる。チタン（標準電極電位＝−１．６３ｅＶ）はタンタル（標準電極電位＝−０．６ｅＶ）より標準電極電位が低い材料である。標準電極電位は、その値が高い（大きい）ほど酸化しにくい特性を表す。第２の遷移金属酸化物層３ｂに第１の遷移金属酸化物層３ａより標準電極電位が小さい金属の酸化物を配置することにより、第２の遷移金属酸化物層３ｂ中で、より酸化還元反応が発生しやすくなる。
【０１５９】
上記の各材料の積層構造の抵抗変化層における抵抗変化現象は、いずれも抵抗が高い第２の遷移金属酸化物層３ｂ中に形成された微小なフィラメント中で酸化還元反応が起こってその抵抗値が変化し、発生すると考えられる。
【０１６０】
また、第２電極４は、例えば、白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、パラジウム（Ｐｄ）など、第２の遷移金属酸化物層３ｂを構成する遷移金属及び第１電極２と比べて、標準電極電位がより高い材料で構成することが好ましい。このような構成とすることにより、第２電極４と第２の遷移金属酸化物層３ｂの界面近傍の第２の遷移金属酸化物層３ｂ中において、選択的に酸化還元反応が発生し、安定した抵抗変化現象が得られる。
【０１６１】
また、抵抗変化層は遷移金属酸化物の積層構造で構成されていなくてもよく、単層の遷移金属酸化物によって構成されていてもよい。このような単層の遷移金属酸化物層で抵抗変化層を構成したとしても、同様にして安定した動作を実現することができる。
【０１６２】
なお、上記の各実施の形態を適宜組み合わせることによって新たな実施の形態を実現することも可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１６３】
本発明の抵抗変化素子の駆動方法及び不揮発性記憶装置は、パーソナルコンピュータ又は携帯型電話機などの種々の電子機器に用いられる抵抗変化素子の駆動方法及び不揮発性記憶装置などとして有用である。
【符号の説明】
【０１６４】
１    基板
２    第１電極
３    抵抗変化層
３ａ    第１タンタル酸化物層
３ｂ    第２タンタル酸化物層
４    第２電極
５    電源
１０    抵抗変化素子
１１    第１端子
１２    第２端子
１００    不揮発性記憶装置
１０１    メモリ本体部
１０２    メモリアレイ
１０３    行選択回路／ドライバ
１０４    列選択回路
１０５    書き込み回路
１０６    センスアンプ
１０７    データ入出力回路
１０８    ＶＣＰ電源
１０９    アドレス入力回路
１１０    制御回路
２００    不揮発性記憶装置
２０１    メモリ本体部
２０２    メモリアレイ
２０３    行選択回路／ドライバ
２０４    列選択回路／ドライバ
２０５    書き込み回路
２０６    センスアンプ
２０７    データ入出力回路
２０８    アドレス入力回路
２０９    制御回路
【図１】
2012172773.tif 000003
【図２】
2012172773.tif 000004
【図３】
2012172773.tif 000005
【図４】
2012172773.tif 000006
【図５】
2012172773.tif 000007
【図６Ａ】
2012172773.tif 000008
【図６Ｂ】
2012172773.tif 000009
【図７Ａ】
2012172773.tif 000010
【図７Ｂ】
2012172773.tif 000011
【図７Ｃ】
2012172773.tif 000012
【図８】
2012172773.tif 000013
【図９】
2012172773.tif 000014
【図１０】
2012172773.tif 000015
【図１１】
2012172773.tif 000016
【図１２】
2012172773.tif 000017
【図１３】
2012172773.tif 000018
【図１４】
2012172773.tif 000019
【図１５】
2012172773.tif 000020
【図１６】
2012172773.tif 000021
【図１７】
2012172773.tif 000022
【図１８】
2012172773.tif 000023
【図１９】
2012172773.tif 000024
【図２０Ａ】
2012172773.tif 000025
【図２０Ｂ】
2012172773.tif 000026
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月15日(2013.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在する抵抗変化層と、を備えた抵抗変化素子の駆動方法において、
前記抵抗変化層は、
第１の金属の酸化物で構成される第１の金属酸化物層と、
第２の金属の酸化物で構成され、かつ前記第１の金属酸化物層よりも酸素不足度が小さい第２の金属酸化物層とが積層されて構成され、
前記第１電極および前記第２電極間に印加された電圧パルスに応じて、酸素イオンが移動することにより可逆的に抵抗値が変化し、
前記抵抗変化素子の駆動方法は、
第１の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、
前記第１の極性とは異なる第２の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを有し、
前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、
前記高抵抗化過程において、前記第１電極と前記第２電極間に、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップと、
前記第１の高抵抗化電圧パルスよりも後に与えられ、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップとを含む、
抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項２】
前記高抵抗化過程において、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップに引き続き、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップを実行する、
請求項１に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項３】
前記第２電極は、前記第２の金属酸化物層に接し、
前記第２の極性とは、前記第１電極の電位を基準としたときに前記第２電極の電圧が正となる極性である、
請求項１に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項４】
前記第１の金属は第１の遷移金属であり、前記第２の金属は第２の遷移金属である、
請求項１または３に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項５】
第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在し、前記第１電極および前記第２電極間に印加する電圧パルスに基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化層と、を備えた抵抗変化素子を駆動する駆動方法において、
第１の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、
前記第１の極性とは異なる第２の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを有し、
前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、
前記高抵抗化過程において、前記第１電極と前記第２電極間に、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップと、
前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していることを確認するステップと、
前記第１の高抵抗化電圧パルスよりも後に与えられ、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップとを含み、
前記確認するステップにおいて前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していることが確認されたときは、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップにおいて前記抵抗変化層に前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加し、
前記確認するステップにおいて前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第１の高抵抗化電圧パルスを再度印加する、
抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項６】
前記確認するステップにおいて、前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップの前に、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加するステップを再度行うことにより、前記抵抗変化素子に前記第１の高抵抗化電圧パルスを再度印加する、
請求項５に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項７】
前記確認するステップにおいて、前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップにおいて、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加する前に前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加し、引き続き、前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加する、
請求項５に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【請求項８】
不揮発性の抵抗変化素子と、電圧パルス印加装置とを備える不揮発性記憶装置であって、
前記抵抗変化素子は、
第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在する抵抗変化層と、を備え、
前記抵抗変化層は、
第１の金属の酸化物で構成される第１の金属酸化物層と、
第２の金属の酸化物で構成され、かつ前記第１の金属酸化物層よりも酸素不足度が小さい第２の金属酸化物層とが積層されて構成され、
前記第１電極および前記第２電極間に印加された電圧パルスに応じて、酸素イオンが移動することにより可逆的に抵抗値が変化し、
前記電圧パルス印加装置は、
第１の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、
前記第１の極性とは異なる第２の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを実行するように構成され、
前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより１回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、
前記高抵抗化過程においては、前記第１電極と前記第２電極間に、少なくとも、電圧値がＶＨ１である第１の高抵抗化電圧パルスを印加する処理と、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加する処理の後、電圧値がＶＨ１よりも小さいＶＨ２である第２の高抵抗化電圧パルスを印加する処理とを実行する、
不揮発性記憶装置。
【請求項９】
前記電圧パルス印加装置は、前記第１電極と前記第２電極間に、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加し、引き続き第２の高抵抗化電圧パルスを印加する、
請求項８に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１０】
前記第２の金属酸化物層の抵抗値は、前記第１の金属酸化物層の抵抗値よりも大きい、
請求項８に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１１】
前記第１の金属と、前記第２の金属とは同一である、
請求項１０に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１２】
前記第１の金属は第１の遷移金属であり、前記第２の金属は第２の遷移金属である、
請求項８、１０、１１のいずれか１項に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１３】
前記抵抗変化層は、
ＴａＯｘ（但し、０．８≦ｘ≦１．９）で表される組成を有する酸素不足型の第１のタンタル酸化物層と、ＴａＯｙ（但し、２．１≦ｙ）で表される組成を有する第２のタンタル酸化物層と、を有する、
請求項８または９に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１４】
前記第１の金属と、前記第２の金属とは互いに異なり、前記第２の金属の標準電極電位は、前記第１の金属の標準電極電位より低い、
請求項８に記載の不揮発性記憶装置。
【請求項１５】
前記第２の高抵抗化電圧パルスを印加するステップにおいて、前記第１の高抵抗化電圧パルスを印加することにより前記抵抗変化層に生じた酸素空孔を、酸素イオンで埋めるように抵抗変化させる、
請求項１〜７のいずれか１項に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
【国際調査報告】
2012172773.tif 000027
2012172773.tif 000028
2012172773.tif 000029
2012172773.tif 000030
2012172773.tif 000031
2012172773.tif 000032