(57)【要約】  複雑な３次元形状のワークにもスパッタ粒子を均一に成膜することのできるスパッタリング技術を提供することを目的とする。当該技術は、ターゲットをスパッタリングすることにより、ターゲットと対向して設置され、回転するカルーセル型ワークホルダーに取り付けられた三次元形状のワークに成膜する方法であって、前記三次元形状のワークを前記ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転させ、かつ、全スパッタリング時間中の少なくとも一部の時間において、前記ターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向を、前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心させた方向とすることを特徴とする。
2009063789.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲットをスパッタリングすることにより、ターゲットと対向して設置され、回転するカルーセル型ワークホルダーに取り付けられた三次元形状のワークに成膜する方法であって、
前記三次元形状のワークを前記ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転させ、
かつ、
全スパッタリング時間中の少なくとも一部の時間において、前記ターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向を、前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心させた方向とすることを特徴とする三次元形状のワークへのスパッタリング成膜方法。
【請求項２】
更に、三次元形状のワークの上方および／または下方からスパッタリングを行う請求項１記載の三次元形状のワークへのスパッタリング成膜方法。
【請求項３】
ターゲットのスパッタリングを、マグネトロンスパッタリングで行うものである請求項１または２記載の三次元形状のワークへのスパッタリング成膜方法。
【請求項４】
真空チャンバー内に、ターゲットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲットが回転軸を有し、左右方向に回動可能に設置したことを特徴とするスパッタリング装置。
【請求項５】
真空チャンバー内に、ターゲットと、前記ターゲット用マグネットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲット用マグネットが回転軸を有し、左右方向に回動可能に設置したことを特徴とするスパッタリング装置。
【請求項６】
真空チャンバー内に、ターゲットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲットをターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向が前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心した方向となるように設置したことを特徴とするスパッタリング装置。
【請求項７】
真空チャンバー内に、ターゲットと、前記ターゲット用マグネットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲット用マグネットを、前記ターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向が前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心した方向となるように設置したことを特徴とするスパッタリング装置。
【請求項８】
更に、ターゲットを、前記カルーセル型ワークホルダーの上方および／または下方に設置したものである請求項４ないし７の何れかに記載のスパッタリング装置。
【請求項９】
ターゲットが円筒型であり、ターゲット用マグネットが前記ターゲット内部に設置されたものである請求項５、７ないし８の何れかに記載のスパッタリング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はスパッタリングにより複雑な３次元形状のワークに均一に成膜する方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまで、スパッタリングは、半導体、液晶、プラズマディスプレイ、光ディスク等の分野において、金属、プラスチック等の２次元の平滑なワーク上にスパッタ粒子を均一に成膜する技術として用いられてきた。【０００３】
しかし、近年では、上記のような２次元の平滑なワーク上だけでなく、カメラ、携帯電話等の本体、外装品等の複雑な３次元形状のワークにもスパッタ粒子を均一に成膜することが要求されてきている。【０００４】
従来からあるスパッタリング装置を用いて複雑な３次元形状のワークに成膜する場合には、ターゲットからスパッタされた粒子には直線性が強く、回り込みがあまりないため、ターゲットと対向しない側面や上下面のつきまわりが悪いという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、本発明は複雑な３次元形状のワークにもスパッタ粒子を均一に成膜することのできるスパッタリング技術を提供することを課題とした。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、カルーセル型ワークホルダーに取り付けられた三次元形状のワークを回転させながらターゲットをスパッタリングして成膜する際に、前記ターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向を、全スパッタリング時間中の少なくとも一部の時間において、前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心させた方向とすることにより、複雑な３次元形状のワークにスパッタ粒子を均一に成膜できることを見出し、本発明を完成した。【０００７】
すなわち本発明は、ターゲットをスパッタリングすることにより、ターゲットと対向して設置され、回転するカルーセル型ワークホルダーに取り付けられた三次元形状のワークに成膜する方法であって、
前記三次元形状のワークを前記ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転させ、
かつ、
全スパッタリング時間中の少なくとも一部の時間において、前記ターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向を、前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心させた方向とすることを特徴とする三次元形状のワークへのスパッタリング成膜方法である。【０００８】
また、本発明は、真空チャンバー内に、ターゲットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲットが回転軸を有し、左右方向に回動可能に設置したことを特徴とするスパッタリング装置である。【０００９】
更に、本発明は、真空チャンバー内に、ターゲットと、前記ターゲット用マグネットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲット用マグネットが回転軸を有し、左右方向に回動可能に設置したことを特徴とするスパッタリング装置である。【００１０】
また更に、本発明は、真空チャンバー内に、ターゲットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲットをターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向が前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心した方向となるように設置したことを特徴とするスパッタリング装置である。【００１１】
更にまた、本発明は、真空チャンバー内に、ターゲットと、前記ターゲット用マグネットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲット用マグネットを、前記ターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向が前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心した方向となるように設置したことを特徴とするスパッタリング装置である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、三次元形状のワークにスパッタリングをする場合であっても、ターゲットと対向しない側面や上下面のつきまわりが良好なものとなる。【００１３】
従って、カメラ、携帯電話等の本体、外装品等の複雑な三次元形状のワークにもスパッタ粒子を均一に成膜することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の一態様である、ターゲットに円筒型のものを用いたマグネトロンスパッタリング装置（以下、「同軸型マグネトロンスパッタリング装置」という）を示す図面と共に、本発明の説明を続ける。【００１５】
図１は、同軸型マグネトロンスパッタリング装置の主要部を模式的に示す図面である。図中、１は同軸型マグネトロンスパッタリング装置、２は真空チャンバー、３は円筒型ターゲット、４はマグネット収納部、５はターゲット用マグネット、６はカルーセル型ワークホルダー、７は三次元形状のワーク、８は排気口および９はガス導入口をそれぞれ示す。【００１６】
また、図２は図１のＡ−Ａ’における断面図である。図中、１〜９は上記と同様のものを示し、１０はプラズマ用高圧電源および１１は接地アースをそれぞれ示す。【００１７】
真空チャンバー２は、その内部にターゲット３およびカルーセル型ワークホルダー６を設置できるものであれば、大きさおよび形状は特に限定されない。また、真空チャンバー２には、排気口８が設けられている。この排気口８には、ロータリーポンプ、ターボ分子ポンプ等の真空用ポンプ（図示せず）が接続される。更に、真空チャンバー２にはスパッタに用いられるガスを導入するためのガス導入口９が設けられている。スパッタに用いられるガスとしては特に限定されず、例えば、アルゴン、窒素、酸素等が挙げられる。【００１８】
円筒型ターゲット３は上端および／または下端を支持部とした円筒状のパイプに、前記支持部を除いた外面にターゲット材を溶射等により所定の厚さに付着させたものである。ターゲット材としては、ケイ素、チタン、ジルコニウム、金、銀、銅、インジウム、錫、クロム、アルミニウム、炭素等の金属およびこれらの酸化物または窒化物等が挙げられる。また、パイプの材質としては、ステンレス、銅、アルミニウム等が挙げられる。この円筒型ターゲット３は真空チャンバー２の長手方向（図１の紙面直角方向）に対して十分長く配置されている。この円筒型ターゲット３は真空チャンバー２から電気的に絶縁され、高圧電源の一端に接続される。また、高圧電源の別の一端は真空チャンバー２と接地アース１１に接続される（図２参照）。【００１９】
円筒型ターゲット３の内部には、マグネット収納部４が設置され、更に、その内部には円筒型ターゲット３に対して十分な長さのターゲット用マグネット５が設置される。円筒型ターゲット３とマグネット収納部４の間には円筒型ターゲット３を冷却するための冷却水が供給される。ターゲット用マグネット５は、マグネット支持棒５ａに固定された３つのマグネット５ｂ、５ｃおよび５ｄで構成される。マグネット５ｂおよび５ｄは磁石支持棒側にＮ極、ターゲット側をＳ極とし、マグネット５ｃはその逆の磁極で設置される（図３参照）。また、このマグネット５ｂおよび５ｄはターゲット用マグネット５の上下端で接続し、ループを形成する（図４参照）。上記マグネット５に、平衡の磁場を発生させるためには、マグネット５ｃの磁力と、マグネット５ｂおよび５ｄからなるマグネットとの磁力が等価なものを用いればよく、非平衡の磁場を発生させるためには、マグネット５ｃの磁力が、マグネット５ｃおよび５ｄからなるマグネットの磁力より弱いものを用いればよい。【００２０】
上記した円筒型ターゲット３とターゲット用マグネット５を用いて、全スパッタリング時間中の少なくとも一部の時間において、前記円筒型ターゲット３から飛散するスパッタ粒子の主飛散方向を、後述するカルーセル型ワークホルダー６の回転軸から偏心させた方向（以下、「偏心方向」という）とする。ここでスパッタ粒子の主飛散方向とは、内部に設置されたターゲット用マグネット５の磁界が最も強い２つの場所の中心と、円筒型ターゲット３の中心とを結んだ方向をいう。【００２１】
スパッタ粒子の主飛散方向を偏心方向にするには、例えば、図１に示すように、円筒型ターゲット３を、後述するカルーセル型ワークホルダー６に対向して設置し、更に、前記円筒型ターゲット３の内部に設置されたターゲット用マグネット５を、円筒型ターゲット３と同軸で左右方向に回動可能に設置する。ターゲット用マグネット５の回動範囲は、三次元形状のワーク７にスパッタ粒子を均一に成膜することのできる範囲であれば特に限定されない。また、前記回動は、三次元形状のワーク７に対し、中心方向よりも偏心方向からのスパッタが長くなるように制御することが好ましい。【００２２】
また、スパッタ粒子の主飛散方向を偏心方向にする別の手段としては、例えば、図５に示すように、円筒型ターゲット３を、後述するカルーセル型ワークホルダー６に対向して設置し、更に、ターゲット用マグネット５を、円筒型ターゲット３から飛散するスパッタ粒子の主飛散方向がカルーセル型ワークホルダー６の回転軸から偏心した方向となるように設置する。この場合、ターゲット用マグネット５は回動させずに、位置を固定し、全スパッタリング時間において円筒型ターゲット３から飛散するスパッタ粒子の主飛散方向を偏心方向とすることが好ましい。また、この場合に円筒型ターゲット３は複数個、好ましくは２個設置することが好ましい。【００２３】
カルーセル型ワークホルダー６は、円筒型ターゲット３に対向して設置される。このカルーセル型のワークホルダー６は、図６に示すように、ワークホルダー支持部６ａおよび複数のワーク保持部６ｂでほぼ円筒状に構成され、ワーク保持部６ｂは、ワークを固定するための複数のフック６ｃを備える。ワーク保持部６ｂは前記ワークホルダー支持部６ａの外周部に設置され。前記カルーセル型ワークホルダー６および／またはワーク保持部６ｂは、円筒型のターゲット３の軸とカルーセル型ワークホルダー６の回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する平行な軸で回転可能に設置、好ましくは円筒型のターゲット３と軸が平行となる軸で回転可能に設置され、それぞれ独立または同調して回転（公転・自転）する。このカルーセル型のワークホルダー６は真空チャンバー２から電気的に絶縁される。【００２４】
更に、本発明においては、三次元形状のワーク７により均一に成膜するため、図７〜９に示すように、カルーセル型ワークホルダー６に対向して設置された円筒型ターゲット３とは別にカルーセル型ワークホルダー６の上方および／または下方に、円筒型ターゲット３（その内部にはマグネット収納部４およびターゲット用マグネット５が設置される）を設置することが好ましい。また、この場合には、円筒型ターゲット３の内部に設置されたターゲット用マグネット５は、前記と同様にして回動させ、三次元形状のワーク７の上下の付回りを調整可能としてもよい。【００２５】
以上説明した装置において、スパッタリングを行うには、まず、真空チャンバー２を排気した後、スパッタガスを供給する。次いで、ターゲット３と真空チャンバー２に接続された高圧電源１０から、電力を供給（直流電源の場合にはターゲット３を陰極とする）することによりグロー放電が始まり、スパッタリングを開始することができる。【００２６】
上記装置において、全スパッタリング時間中の少なくとも一部の時間において、前記ターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向を、カルーセル型ワークホルダーの回転軸から偏心させた方向とすることにより、カルーセル型ワークホルダーに取り付けられた三次元形状のワークにスパッタ粒子を均一に成膜することができた。【００２７】
また、前記三次元形状のワークの上方および／または下方からスパッタリングを行うことにより、付回りのよい膜厚が均一な成膜ができる。【００２８】
以上説明した本発明の同軸型マグネトロンスパッタリング装置を用い、以下の条件で３次元形状のワークに成膜したところ均一に成膜することができた。【００２９】
＜成膜条件＞
ワーク（形状）：ＡＢＳ樹脂（携帯電話のケース）
スパッタガス：アルゴン
ターゲット：チタン
ターゲットの配置：（１）図１の配置
（２）図５の配置
（３）図６の配置
（４）図７の配置
（５）図８の配置
磁場：アンバランス型
チャンバー内真空度：１０−３〜１０−４Ｔｏｒｒ
入力電力：１０ｋＷ
電源方式：直流
時間：２０〜３０分【００３０】
なお、上記においては、ターゲットとして円筒型のターゲットを用いた同軸型のマグネトロンスパッタリング装置について説明したが、本発明は、ターゲットとして平板型のターゲットを用いるマグネトロンスパッタリング装置、ターゲット用マグネットを使用しないスパッタリング装置等についても実施できるのはいうまでもない。【００３１】
すなわち、ターゲットとして平板型のターゲットを用いるスパッタリング装置の場合には、三次元形状のワークを、平板型のターゲットのスパッタリングを行う面内に有する軸と、カルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転させればよい。また、ターゲット用マグネットを使用しないスパッタリング装置の場合には、ターゲットを左右方向に回動可能に設置したり、ターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向が前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心した方向となるようにターゲットを設置すればよい。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明は、複雑な形状のワークに対し、種々の方向からスパッタリングすることにより均一に成膜を行うことができる。従って、２次元の平滑なワーク上だけでなく、カメラ、携帯電話等の本体、外装品等の三次元形状のワークにもスパッタ粒子を均一に成膜する際に有利に利用できるものである。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の同軸型マグネトロンスパッタリング装置の主要部を示す図面である（図中、白抜き矢印はターゲット用マグネット５の回動方向を示す）。
【図２】図１のＡ−Ａ’における断面図である。
【図３】マグネットの構造を示す図面である（図中、白抜き矢印はターゲット用マグネット５の回動方向を示す）。
【図４】図３のＢ方向からみたマグネットの構造を示す図面である。
【図５】本発明の別の態様の同軸型マグネトロンスパッタリング装置の主要部を示す図面である（図中、白抜き矢印はスパッタ粒子の主飛散方向を示す）。
【図６】カルーセル型のワークホルダーの構造を示す図面である。
【図７】本発明の別の態様の同軸型マグネトロンスパッタリング装置の主要部を示す図面である（図中、白抜き矢印はターゲット用マグネット５の回動方向を示す）。
【図８】本発明の別の態様の同軸型マグネトロンスパッタリング装置の主要部を示す図面である。
【図９】本発明の別の態様の同軸型マグネトロンスパッタリング装置の主要部を示す図面である。
【符号の説明】
【００３４】
１        同軸型マグネトロンスパッタリング装置
２        真空チャンバー
３        ターゲット
４        マグネット収納部
５        ターゲット用マグネット
５ａ        マグネット支持棒
５ｂ        マグネット
５ｃ        マグネット
５ｄ        マグネット
６        カルーセル型のワークホルダー
６ａ        ワークホルダー支持部
６ｂ        ワーク保持部
６ｃ        フック
７        ワーク
８        排気口
９        ガス導入口
１０        プラズマ用高圧電源
１１        接地アース
【図１】
2009063789.tif 000003
【図２】
2009063789.tif 000004
【図３】
2009063789.tif 000005
【図４】
2009063789.tif 000006
【図５】
2009063789.tif 000007
【図６】
2009063789.tif 000008
【図７】
2009063789.tif 000009
【図８】
2009063789.tif 000010
【図９】
2009063789.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月8日(2009.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲットをスパッタリングすることにより、ターゲットと対向して設置され、回転するカルーセル型ワークホルダーに取り付けられた三次元形状のワークに成膜する方法であって、
前記三次元形状のワークを前記ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転させ、
かつ、
全スパッタリング時間中の少なくとも一部の時間において、前記ターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向を、前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心させた方向とすることを特徴とする三次元形状のワークへのスパッタリング成膜方法。
【請求項２】
更に、三次元形状のワークの上方および／または下方からスパッタリングを行う請求項１記載の三次元形状のワークへのスパッタリング成膜方法。
【請求項３】
ターゲットのスパッタリングを、マグネトロンスパッタリングで行うものである請求項１または２記載の三次元形状のワークへのスパッタリング成膜方法。
【請求項４】
真空チャンバー内に、ターゲットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲットが回転軸を有し、左右方向に回動可能に設置したことを特徴とするスパッタリング装置。
【請求項５】
真空チャンバー内に、ターゲットと、前記ターゲット用マグネットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲット用マグネットが回転軸を有し、左右方向に回動可能に設置したことを特徴とするスパッタリング装置。
【請求項６】
真空チャンバー内に、ターゲットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、三次元形状のワークを取り付けるためのものであり、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲットをターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向が前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心した方向となるように設置したことを特徴とする三次元形状のワークへの成膜用スパッタリング装置。
【請求項７】
真空チャンバー内に、ターゲットと、前記ターゲット用マグネットと、ターゲットに対向して設置され、回転軸を有するカルーセル型ワークホルダーとを備えたスパッタリング装置であって、
前記カルーセル型ワークホルダーは、三次元形状のワークを取り付けるためのものであり、ワークホルダー支持部と複数のワーク保持部を備え、前記ワーク保持部は前記ワークホルダー支持部の外周部に設置され、前記カルーセル型ワークホルダーおよび／またはワーク保持部は、ターゲットとカルーセル型ワークホルダーの回転軸を結ぶ面に垂直な面内に有する軸で回転可能に設置されたものであり、
前記ターゲット用マグネットを、前記ターゲットから飛散するスパッタ粒子の主飛散方向が前記カルーセル型ワークホルダーの回転軸中心方向から偏心した方向となるように設置したことを特徴とする三次元形状のワークへの成膜用スパッタリング装置。
【請求項８】
更に、ターゲットを、前記カルーセル型ワークホルダーの上方および／または下方に設置したものである請求項４ないし７の何れかに記載のスパッタリング装置または三次元形状のワークへの成膜用スパッタリング装置。
【請求項９】
ターゲットが円筒型であり、ターゲット用マグネットが前記ターゲット内部に設置されたものである請求項５、７ないし８の何れかに記載のスパッタリング装置または三次元形状のワークへの成膜用スパッタリング装置。
【国際調査報告】
2009063789.tif 000012
2009063789.tif 000013
2009063789.tif 000014
2009063789.tif 000015