(57)【要約】  本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法は、タッチパネル用電極を有する基材上に、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける第１工程と、感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程と、感光層の所定部分以外を除去し、電極の一部又は全部を被覆する感光層の所定部分の硬化物からなる保護膜を形成する第３工程と、を備え、感光性樹脂組成物の水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。
2013084883.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネル用電極を有する基材上に、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける第１工程と、
前記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程と、
前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記電極の一部又は全部を被覆する前記感光層の前記所定部分の硬化物からなる保護膜を形成する第３工程と、
を備え、
前記感光性樹脂組成物の水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、タッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
【請求項２】
前記バインダーポリマーの水酸基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、請求項１に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
【請求項３】
前記光重合性化合物の水酸基価が９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、請求項１又は２に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
【請求項４】
前記バインダーポリマーの酸価が１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
【請求項５】
前記感光性樹脂組成物が、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルを更に含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
【請求項６】
前記感光層は４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
【請求項７】
前記感光性樹脂組成物が、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物及びアミノ基を有するテトラゾール化合物からなる群より選択される一種以上の化合物を更に含有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
【請求項８】
前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
【請求項９】
前記第１の工程が、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた前記感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を前記基材上に転写して前記感光層を設ける工程である、請求項１〜８のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法。
【請求項１０】
バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物の水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、タッチパネル用電極の保護膜形成に用いられる、感光性樹脂組成物。
【請求項１１】
前記バインダーポリマーの水酸基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、請求項１０に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１２】
前記光重合性化合物の水酸基価が９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、請求項１０又は１１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１３】
前記バインダーポリマーの酸価が１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１４】
光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルを更に含有する、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１５】
保護膜を形成したときの、４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上である、請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１６】
メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物及びアミノ基を有するテトラゾール化合物からなる群より選択される一種以上の化合物を更に含有する、請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１７】
前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項１０〜１６のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１８】
支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた請求項１０〜１７のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える、感光性エレメント。
【請求項１９】
前記感光層の厚みが１０μｍ以下である、請求項１８に記載の感光性エレメント。
【請求項２０】
タッチパネル用電極を有する基材上に、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法により前記電極の一部又は全部を被覆する保護膜を形成する工程、を備える、タッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用電極の保護膜の形成方法に関し、特には静電容量方式タッチパネルの電極の保護に好適な保護膜の形成方法、これに用いる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに、タッチパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
パソコンやテレビの大型電子機器からカーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器やＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器には液晶表示素子やタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これら液晶表示素子やタッチパネルには透明導電電極材からなる電極が設けられている。透明導電電極材としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジュウムや酸化スズが知られており、これらの材料は高い可視光透過率を示すことから液晶表示素子用基板等の電極材として主流になっている。【０００３】
タッチパネルはすでに各種の方式が実用化されているが、近年、静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。静電容量方式タッチパネルでは、導電体である指先がタッチ入力面に接触すると、指先と導電膜との間が静電容量結合し、コンデンサを形成する。このため、静電容量方式タッチパネルは、指先の接触位置における電荷の変化を捉えることによって、その座標を検出している。【０００４】
特に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備え、その操作性の良さから、携帯電話や携帯型音楽プレーヤなどの小型の表示装置を有する機器における表示面上の入力装置として利用が進んでいる。【０００５】
一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、当該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成しており、該電極としてはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）が用いられる。【０００６】
ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために、金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。ＩＴＯの導電性は充分に高くないので、一般的に金属配線は、銅により形成される。【０００７】
しかしながら、上述のようなタッチパネルは、指先に接触される際に水分や塩分などの腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、金属配線が腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加や、断線の恐れがあった。【０００８】
金属配線の腐食を防ぐために、金属上に絶縁層を形成した静電容量方式の投影型タッチパネルが開示されている（例えば、特許文献１）。このタッチパネルでは、二酸化ケイ素層をプラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ法）で金属上に形成し、金属の腐食を防いでいる。しかしながら、この手法はプラズマＣＶＤ法を用いるため、高温処理が必要となり基材が限定される、製造コストが高くなるなどの問題があった。【０００９】
ところで、必要な箇所にレジスト膜を設ける方法として、所定の基材上に感光性樹脂組成物からなる感光層を設けてこの感光層を露光、現像する方法が知られている（例えば、特許文献２〜４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１１−２８５９４号公報
【特許文献２】特開平７−２５３６６６号公報
【特許文献３】特開２００５−９９６４７号公報
【特許文献４】特開平１１−１３３６１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
感光性樹脂組成物による保護膜の作製は、プラズマＣＶＤ法に比べてコストの削減が期待できる。しかし、タッチパネル用電極上に保護膜を形成する場合、保護膜の厚みが大きいと、膜がある箇所と膜がない箇所とで段差が目立つことがある。そのため、保護膜はできるだけ薄くすることが好ましい。しかし、厚み１０μｍ以下のレベルにおいて、感光性樹脂組成物から形成される膜の防錆性について検討された例はなかった。【００１２】
本発明は、所定のタッチパネル用電極上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を形成することができるタッチパネル用電極の保護膜の形成方法、そのような保護膜を形成できる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びにタッチパネルの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、バインダーポリマー、光重合性化合物、及び光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物の水酸基価を調節することにより、現像性を確保しつつ、光硬化によって形成した膜が１０μｍ以下の厚みであっても充分な防錆性を示し、銅などの金属の腐食を充分に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。【００１４】
本発明は、第１の態様として、タッチパネル用電極を有する基材上に、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける第１工程と、感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程と、上記感光層の前記所定部分以外を除去し、上記電極の一部又は全部を被覆する上記感光層の上記所定部分の硬化物からなる保護膜を形成する第３工程と、を備え、上記感光性樹脂組成物の水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であるタッチパネル用電極の保護膜の形成方法を提供する。【００１５】
本発明の第１の態様に係るタッチパネル用電極の保護膜の形成方法によれば、上記特定の感光性樹脂組成物を用いることにより、現像性及び基材への密着性を確保しつつ、１０μｍ以下の厚みで充分な防錆性を有する保護膜を形成することができる。本発明によれば、感光性樹脂組成物を用いて美観と防錆性の双方が充分である保護膜を形成できることから、タッチパネルの製造における製造コストの低減を図ることが可能となる。【００１６】
上記第１の態様において、保護膜の防錆性を向上させる観点から、上記バインダーポリマーの水酸基価は５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。【００１７】
上記第１の態様において、保護膜の防錆性をより向上させる観点から、上記光重合性化合物の水酸基価が９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。【００１８】
更に、保護膜の防錆性をより向上させる観点から、上記バインダーポリマーの酸価が１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。【００１９】
また、密着性と防錆性とを両立する観点から、上記感光性樹脂組成物が、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルを更に含有することが好ましい。【００２０】
タッチパネルの視認性を充分に確保する観点から、上記感光層は４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上であることが好ましい。この場合、本発明の第１の態様に係るタッチパネル用電極の保護膜の形成方法は、センシング領域の電極を被覆する保護膜の形成に好適である。【００２１】
更に、現像性を更に向上させる観点から、上記感光性樹脂組成物が、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物及びアミノ基を有するテトラゾール化合物からなる群より選択される一種以上の化合物を更に含有することが好ましい。この場合、現像残渣を低減することができ、良好なパターンで保護膜を形成することが容易となる。【００２２】
上記第１の態様において、光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することが好ましい。光開始剤として、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有させることにより、感光層が薄い場合であっても、充分な解像度でパターンを形成することができる。【００２３】
タッチパネルの視認性や美観を考慮すると、保護膜の透明性はより高いことが好ましい。しかし、その一方で、透明性が高い薄膜の感光層をパターニングする場合、解像性が低下する傾向にあることを本発明者らは見出している。この原因について本発明者らは、感光層の厚みが小さくなると、基材からの光散乱の影響を受けやすく、ハレーションが発生するためと考えている。【００２４】
顔料や染料によって感光特性が制御されている従来の感光性樹脂組成物では、透明性を確保することが困難である。【００２５】
これに対し、本発明においては上記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することによって、充分な解像度でパターン形成が可能となる。【００２６】
なお、上記の効果が得られる理由を、オキシムエステル化合物に含まれるオキシム部位又はホスフィンオキサイド化合物に含まれるホスフィンオキサイド部位が比較的高い光分解効率を有しつつも僅かな漏れ光では分解しない適度な閾値を有するために、漏れ光による影響が抑制された結果であると、本発明者らは推察する。【００２７】
また、本発明の第１の態様においては、上記第１の工程が、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を上記基材上に転写して上記感光層を設ける工程であることが好ましい。この場合、感光性エレメントを用いることにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶媒乾燥工程が短縮できるなど、製造工程の短縮やコスト低減に大きく貢献することができる。【００２８】
本発明はまた、第２の態様として、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物であって、感光性樹脂組成物の水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であるタッチパネル用電極の保護膜形成に用いられる感光性樹脂組成物を提供する。【００２９】
本発明の第２の態様に係る感光性樹脂組成物によれば、所定のタッチパネル用電極上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を形成することができる。【００３０】
上記第２の態様において、保護膜の防錆性を向上させる観点から、上記バインダーポリマー成分の水酸基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。【００３１】
上記第２の態様において、保護膜の防錆性をより向上させる観点から、上記光重合性化合物成分の水酸基価が９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。【００３２】
更に、保護膜の防錆性をより向上させる観点から、上記バインダーポリマー成分の酸価が１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。【００３３】
また、密着性と現像性とを両立する観点から、上記本発明の第２の態様に係る感光性樹脂組成物は、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルを更に含有することが好ましい。【００３４】
タッチパネルの視認性を充分に確保する観点から、本発明の第２の態様に係る感光性樹脂組成物は、４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上であることが好ましい。【００３５】
現像性を更に向上させる観点から、本発明の第２の態様に係る感光性樹脂組成物は、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物及びアミノ基を有するテトラゾール化合物からなる群より選択される一種以上の化合物を更に含有することが好ましい。この場合、現像残渣を低減することができ、良好なパターンで保護膜を形成することが容易となる。【００３６】
また、本発明の第２の態様に係る感光性樹脂組成物において、上記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することが好ましい。この場合、充分な解像度を有するパターンで、透明性が高い薄膜の保護膜を形成することが可能となる。【００３７】
本発明はまた、第３の態様として、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記本発明の第２の態様に係る感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを提供する。【００３８】
本発明の第３の態様に係る感光性エレメントによれば、所定のタッチパネル用電極上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を形成することができる。【００３９】
上記感光層の厚みは１０μｍ以下とすることができる。【００４０】
本発明はまた、第４の態様として、タッチパネル用電極を有する基材上に、上記本発明の第１の態様に係る保護膜の形成方法により電極の一部又は全部を被覆する保護膜を形成する工程、を備えるタッチパネルの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００４１】
本発明によれば、所定のタッチパネル用電極上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を形成することができるタッチパネル用電極の保護膜の形成方法、そのような保護膜を形成できる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びにタッチパネルの製造方法を提供することができる。【００４２】
また、本発明によれば、静電容量式タッチパネルの金属電極を保護することができる。更に、本発明によれば、水分や塩分によって錆が発生しやすい銅などの金属層を形成して導電性を向上させたタッチパネルの額縁領域における電極を保護することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。
【図３】静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。
【図４】静電容量式のタッチパネルの別の例を示す模式上面図である。
【図５】（ａ）は、図３に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図であり、（ｂ）は、別の態様を示す部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００４５】
本発明の感光性樹脂組成物は、透明性及び防錆性に優れる保護膜を形成してタッチパネル（タッチセンサー）の電極形成部位を保護する目的であれば、タッチパネルの構成の変更に寄らず好適に用いることができる。具体的には、タッチパネルの構成がカバーガラス、タッチパネル、液晶パネルの３枚構成から、カバーガラス一体型、オンセル型に変更された場合において、タッチパネル（タッチセンサー）の電極形成部位を保護する目的であれば好適に用いることができる。
【００４６】
また、本明細書においてタッチパネル用電極とは、タッチパネルのセンシング領域にある電極だけでなく額縁領域の金属配線も含まれる。保護膜を設ける電極は、いずれか一方であってもよく、両方であってもよい。
【００４７】
また、本明細書において、透明性に優れるとは、４００〜７００ｎｍの可視光を９０％以上透過することを意味し、光をある程度散乱しても透明の概念に含まれる。
【００４８】
また、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味し、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。また、（ポリ）オキシエチレン鎖はオキシエチレン基又はポリオキシエチレン基を意味し、（ポリ）オキシプロピレン鎖はオキシプロピレン基又はポリオキシプロピレン基を意味する。さらに「（ＥＯ）変性」とは、（ポリ）オキシエチレン鎖を有する化合物であることを意味し、「（ＰＯ）変性」とは、（ポリ）オキシプロピレン鎖を有する化合物であることを意味し、「（ＥＯ）・（ＰＯ）変性」とは、（ポリ）オキシエチレン鎖及び（ポリ）オキシプロピレン鎖の双方を有する化合物であることを意味する。
【００４９】
また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００５０】
さらに本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
【００５１】
図１は、本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示される感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、支持フィルム１０上に設けられた本発明に係る感光性樹脂組成物からなる感光層２０と、感光層２０の支持フィルム１０とは反対側に設けられた保護フィルム３０とからなる。
【００５２】
本実施形態の感光性エレメント１は、タッチパネル用電極の保護膜の形成に好適に用いることができる。
【００５３】
支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等からなるフィルムが挙げられる。
【００５４】
支持フィルム１０の厚さは、被覆性の確保と、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜４０μｍであることがさらに好ましく、２０〜３５μｍであることが特に好ましい。
【００５５】
感光層２０を構成する本発明に係る感光性樹脂組成物は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）と、を含有し、感光性樹脂組成物の水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。水酸基価が上記範囲となるような上記感光性樹脂組成物からなる膜を保護膜として用いることで、１０μｍ以下の厚みで充分な防錆性を発揮することができる。本実施形態に係る感光性樹脂組成物によれば、美観と防錆性とを両立できる保護膜を形成することができる。
【００５６】
感光性樹脂組成物の水酸基価は、次のようにして測定することができる。
まず、水酸基価の測定対象である感光性樹脂組成物１ｇを精秤する。上記精秤した感光性樹脂組成物に、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱する。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱する。その後、自動滴定機（平沼産業（株）製「ＣＯＭ−１７００」）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定することにより測定する。
なお、水酸基価は次式により算出できる。
水酸基価＝（Ａ−Ｂ）×ｆ×２８．０５／試料（ｇ）＋酸価
式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、ｆはファクターを示す。
なお、測定対象が、感光性樹脂組成物及び溶媒を含む塗布液である場合には、感光性樹脂組成物の水酸基価は、予め、係る溶媒を除去して測定を行う。具体的には、水酸基価の測定対象である感光性樹脂組成物１ｇを精秤する前に、塗布液を上記溶媒の沸点よりも１０℃以上高い温度で１〜４時間加熱し、溶媒を除去しておく。
【００５７】
また、後述する感光性エレメント中の感光層２０の水酸基価は、次のように測定することができる。まず、感光性エレメントをガラス基板上に複数回積層し、感光性エレメントの感光層のみを重ね合わせた後、金属ヘラで水酸基価の測定対象である感光層２０を形成する感光性樹脂組成物をかきおとして、１ｇを精秤する。精秤した感光性樹脂組成物を三角フラスコに移し、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱する。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱する。その後、自動滴定機（平沼産業（株）製「ＣＯＭ−１７００」）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定することにより測定できる。
【００５８】
薄膜であっても充分な防錆性を発揮できる効果が得られる理由について本発明者らは以下のとおり推察する。感光性樹脂組成物を用いて１０μｍ以下の薄膜を形成した場合、水分や塩分などの腐食成分が膜内に含まれやすくなり、この傾向は感光性樹脂組成物に含まれるヒドロキシル基、特にはヒドロキシアルキル基によって更に大きくなるものと本発明者らは考えている。本実施形態においては、感光性樹脂組成物の保護膜を形成する成分全体の水酸基価を上記範囲内にすることで、ヒドロキシル基による防錆性の低下が充分に抑制できたと考えられる。
【００５９】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーとしては、感光性樹脂組成物の水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下となる範囲であれば特に制限なく使用できる。保護膜の防錆性に優れる点では、（Ａ）成分の水酸基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。
【００６０】
（Ａ）成分の水酸基価は、水酸基価の測定対象であるバインダーポリマー１ｇを精秤した後、このバインダーポリマーについて上記の水酸基価の測定と同様に求めることができる。なお、バインダーポリマーを合成溶媒や希釈溶媒と混合した状態で配合する場合は、予め、係る合成溶媒や希釈溶媒の沸点よりも１０℃以上高い温度で１〜４時間加熱し、上記溶媒を除去してから水酸基価を測定する。
【００６１】
（Ａ）成分としては、例えば、カルボキシル基を有するポリマーを用いることができる。
【００６２】
カルボキシル基を有するポリマーの中でも、（Ａ）成分は、（ａ）（メタ）アクリル酸及び（ｂ）（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含有する共重合体が好適である。
【００６３】
（ｂ）（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル及び（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステルが挙げられる。
【００６４】
上記（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステルのような、ヒドロキシル基を含有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルを用いる場合、（Ａ）成分の水酸基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になるように調整することが好ましく、４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になるように調整することがより好ましい、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下となるように調整することがさらに好ましい。
【００６５】
上記共重合体は、更に、上記の（ａ）成分及び／又は（ｂ）成分と共重合しうるその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。
【００６６】
上記の（ａ）成分及び／又は（ｂ）成分と共重合し得るその他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸（２−イソシアナトエチル）、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、スチレン、及びビニルトルエンが挙げられる。（Ａ）成分であるバインダーポリマーを合成する際、上記のモノマーは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６７】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの分子量は、特に制限はないが、塗布性及び塗膜強度、現像性の見地から、通常、重量平均分子量が１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、５０，０００〜１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量の測定条件は本願明細書の実施例と同一の測定条件とする。
【００６８】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの酸価は、現像工程において、公知の各種現像液により現像可能となり、且つ、電極の保護膜として機能させる際に水分や塩分などの腐食成分への耐性を向上させる観点から、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。
【００６９】
また、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、（Ａ）成分の酸価を５０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることが好ましい。現像性に優れる点では、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが更に好ましい。また、タッチパネル用電極を保護する際、水分や塩分などの腐食成分から電極を保護する観点からは、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。
【００７０】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの酸価は、次のようにして測定することができる。酸価の測定対象であるバインダーポリマー１ｇを精秤する。
上記バインダーポリマーにアセトン３０ｇを加え、これを均一に溶解する。次いで、指示薬であるフェノールフタレインを上記溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定することにより酸価を測定できる。なお、酸価は次式により算出できる。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
なお、バインダーポリマーを合成溶媒や希釈溶媒と混合した状態で配合する場合は、予め、係る合成溶媒や希釈溶媒の沸点よりも１０℃以上高い温度で１〜４時間加熱し、上記溶媒を除去してから酸価を測定する。
【００７１】
（Ｂ）成分である光重合性化合物としては、感光性樹脂組成物の水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることを満たせば、要求される特性に応じて特に制限なく使用可能である。（Ｂ）成分の水酸基価は、９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。
【００７２】
（Ｂ）成分である光重合性化合物の水酸基価は、水酸基価の測定対象である光重合性化合物１ｇを精秤し、上記の感光性樹脂組成物についての水酸基価の測定と同様にして測定を行うことで求められる。なお、光重合性化合物を合成溶媒や希釈溶媒と混合した状態で配合する場合は、予め、係る合成溶媒や希釈溶媒の沸点よりも１０℃以上高い温度で１〜４時間加熱し、上記溶媒を除去してから酸価を測定する。
【００７３】
（Ｂ）成分である光重合性化合物としては、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることができる。
【００７４】
エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。
【００７５】
上記一官能ビニルモノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分の好適な例である共重合体の合成に用いられるモノマーとして例示した（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及びそれらと共重合可能なモノマーが挙げられる。
【００７６】
上記二官能ビニルモノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリオキシエチレンジポリオキシプロピレンジ（メタ）アクリレート（２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、多価カルボン酸（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質（β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等）とのエステル化物が挙げられる。
【００７７】
上記少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多価アルコールにα，β−不飽和飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物；トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレート等のグリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物が挙げられる。
【００７８】
（Ｂ）成分は、上記の中でも、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーを含有することが好ましい。さらに、電極腐食の抑制及び現像容易性の観点から、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。
【００７９】
ここで、上記ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジペンタエリスリトールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が６であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜５の化合物が混合していてもよい。
【００８０】
また、上記トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物とは、トリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が３であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜２の化合物が混合していてもよい。
【００８１】
上記少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーの中でも、電極腐食の抑制力及び現像容易性をより向上させる観点から、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性テトラメチロールメタン（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性グリセリン（メタ）アクリレート化合物、及びアルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、から選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物及びアルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むことがより好ましい。
【００８２】
上記アルキレンオキサイド変性テトラメチロールメタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートを用いることができる。ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートは、ＲＰ−１０４０（日本化薬（株）製）として入手可能である。
【００８３】
上記の化合物は、１種を単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。
【００８４】
分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーと、一官能ビニルモノマーや二官能ビニルモノマーを組み合わせて用いる場合、使用する割合に特に制限はないが、光硬化性及び電極腐食の抑制力を得る観点から、分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーの割合が、感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、３０質量部以上であることが好ましく、５０質量部以上であることがより好ましく、７５質量部以上であることが更に好ましい。
【００８５】
本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、それぞれ（Ａ）成分が４０〜８０質量部、（Ｂ）成分が２０〜６０質量部であることが好ましく、（Ａ）成分が５０〜７０質量部、（Ｂ）成分が３０〜５０質量部であることがより好ましく、（Ａ）成分が５５〜６５質量部、（Ｂ）成分が３５〜４５質量部であることが更に好ましい。
【００８６】
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、塗布性あるいは感光性エレメントでのフィルム性を充分に確保しつつ、充分な感度が得られ、光硬化性、現像性、及び電極腐食の抑制力を充分に確保することができる。
【００８７】
（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン等のＮ−フェニルグリシン誘導体；クマリン化合物；オキサゾール化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。
【００８８】
これらの中でも、形成される保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物が好ましい。
【００８９】
タッチパネルの視認性や美観の観点から、保護膜の透明性はより高いことが好ましいが、透明性が高い薄膜の感光層をパターニングする場合、解像性が低下する傾向にあることを本発明者らは見出している。この原因については、感光層の厚みが小さくなると、基材からの光散乱の影響を受けやすく、ハレーションが発生するため、と本発明者らは考えている。これに対し、（Ｃ）成分として、上記の化合物が含まれると、透明性が高い薄膜の感光層をパターニングする場合であっても、充分な解像度でパターンを形成することができる。
【００９０】
上記の効果が得られる理由を、オキシムエステル化合物に含まれるオキシム部位又はホスフィンオキサイド化合物に含まれるホスフィンオキサイド部位が比較的高い光分解効率を有しつつも僅かな漏れ光では分解しない適度な閾値を有するために、漏れ光による影響が抑制された結果であると、本発明者らは推察する。
【００９１】
オキシムエステル化合物としては、下記一般式（Ｃ−１）及び一般式（Ｃ−２）で表される化合物が挙げられるが、速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物が好ましい。
【００９２】
【化１】
2013084883.tif 000003
【００９３】
上記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、又は炭素数３〜２０のシクロアルキル基を示す。なお、本発明の効果を阻害しない限り、上記一般式（Ｃ−１）中の芳香環上に置換基を有していてもよい。
【００９４】
上記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ１は、炭素数３〜１０のアルキル基、又は炭素数４〜１５のシクロアルキル基であることが好ましく、炭素数４〜８のアルキル基、又は炭素数４〜１０のシクロアルキル基であることがより好ましい。
【００９５】
【化２】
2013084883.tif 000004
【００９６】
上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基、又は炭素数３〜２０のシクロアルキル基を示し、Ｒ４は、炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ５は、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。ｐ１は０〜３の整数を示す。なお、ｐ１が２以上である場合、複数存在するＲ４はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。なお、カルバゾール上には本発明の効果を阻害しない範囲で置換基を有していてもよい。
【００９７】
上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ２は、炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、エチル基であることが更に好ましい。
【００９８】
上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ３は炭素数１〜８のアルキル基、又は炭素数４〜１５のシクロアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、又は炭素数４〜１０のシクロアルキル基であることがより好ましい。
【００９９】
上記一般式（Ｃ−１）で表される化合物としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］等が挙げられる。上記一般式（Ｃ−２）で表される化合物としては、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１（ＢＡＳＦ（株）製、商品名）として入手可能である。また、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０２（ＢＡＳＦ（株）製、商品名）として商業的に入手可能である。これらは単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【０１００】
上記一般式（Ｃ−１）の中でも、特に１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］が極めて好ましい。上記一般式（Ｃ−２）の中でも、特にエタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）が極めて好ましい。
【０１０１】
上記ホスフィンオキサイド化合物としては、下記一般式（Ｃ−３）及び一般式（Ｃ−４）で表される化合物が挙げられる。速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−３）で表される化合物が好ましい。
【０１０２】
【化３】
2013084883.tif 000005
【０１０３】
上記一般式（Ｃ−３）中、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。一般式（Ｃ−４）中、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。
【０１０４】
上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ６、Ｒ７又はＲ８が炭素数１〜２０のアルキル基の場合、及び、上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ９、Ｒ１０又はＲ１１が炭素数１〜２０のアルキル基の場合、該アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、また該アルキル基の炭素数は５〜１０であることがより好ましい。
【０１０５】
上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ６、Ｒ７又はＲ８がアリール基の場合、及び、上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ９、Ｒ１０又はＲ１１がアリール基の場合、該アリール基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基を挙げることができる。
【０１０６】
これらの中でも、上記一般式（Ｃ−３）は、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８がアリール基であることが好ましい。また、上記一般式（Ｃ−４）はＲ９、Ｒ１０及びＲ１１が、アリール基であることが好ましい。
【０１０７】
上記一般式（Ｃ−３）で表わされる化合物としては、形成される保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドが好ましい。２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドは、例えば、ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ（ＢＡＳＦ（株）社製、商品名）として商業的に入手可能である。
【０１０８】
（Ｃ）成分である光重合開始剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましく、２〜５質量部であることが更に好ましい。
【０１０９】
（Ｃ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、光感度が充分となるとともに、活性光線を照射する際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となることや可視光透過率が低下するなどの不具合を抑制することができる。
【０１１０】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、除去したい金属表面の現像残りの発生を抑える点から、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物及びアミノ基を有するテトラゾール化合物からなる群より選択される一種以上の化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）を更に含有することが好ましい。
【０１１１】
メルカプト基を有するトリアゾール化合物としては、例えば、３−メルカプト−トリアゾール（和光純薬（株）製、商品名：３ＭＴ）が挙げられる。メルカプト基を有するテトラゾール化合物としては、例えば、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績（株）製、商品名：ＭＭＴ）が挙げられる。また、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物としては、例えば、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール（和光純薬（株）製、商品名：ＡＴＴ）が挙げられる。
【０１１２】
上記アミノ基を有するトリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール等にアミノ基が置換した化合物、３−メルカプトトリアゾール、５−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物が挙げられる。
【０１１３】
これらの中でも、現像残渣をより低減できる観点から、メルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物を含むことが好ましい。具体的には例えば、３−アミノ−５−メルカプトトリアゾール（ＢＡＳＦ（株）社製、商品名：ＡＭＴ）が挙げられる。
【０１１４】
上記アミノ基を有するテトラゾール化合物としては、下記一般式（Ｄ−１）で表わされる化合物が挙げられる。
【０１１５】
【化４】
2013084883.tif 000006
上記一般式（Ｄ−１）中のＲ１１及びＲ１２は、各々独立に、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、アミノ基、メルカプト基又はカルボキシメチル基を示し、Ｒ１１及びＲ１２の少なくともひとつは、アミノ基を有する。
【０１１６】
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【０１１７】
上記一般式（Ｄ−１）で表されるテトラゾール化合物の中でも、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−アミノ−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−アミノ−テトラゾールが好ましい。
【０１１８】
（Ｄ）成分としては、上記一般式（Ｄ−１）で表されるテトラゾール化合物の水溶性塩を用いることができる。具体例としては、１−メチル−５−アミノ−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。
【０１１９】
これらのテトラゾール化合物及びその水溶性塩は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２０】
（Ｄ）成分としては、これらの中でも、電極腐食の抑制力、金属電極との密着性、現像容易性、透明性の観点から、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾールが特に好ましい。
【０１２１】
また、保護膜を設ける電極表面が銅、銅合金、ニッケル合金などの金属を有している場合の現像性を更に向上させる観点から、感光性樹脂組成物は、上記化合物の中でも特に、アミノ基を有するテトラゾール化合物又はメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物を更に含有することが好ましい。この場合、現像残渣を低減することができ、良好なパターンで保護膜を形成することが容易となる。この理由としては、表面の適度な密着性が発現されることが考えられる。
【０１２２】
アミノ基を有するテトラゾール化合物又はメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物を含有する場合、上記の効果が得られることから、本発明に係る感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、銅などの金属層を形成して導電性を向上させたタッチパネルの額縁領域における電極を保護するための保護膜の形成に好適である。
【０１２３】
本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５〜１０．０質量部とすることが好ましく、０．１〜２．０質量部とすることがより好ましく、０．２〜１．０質量部とすることが更に好ましい。
【０１２４】
（Ｄ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、現像性や解像度が低下するなどの不具合を抑制しつつ、電極腐食の抑制力や金属電極との密着性を向上させる効果を充分に得ることができる。
【０１２５】
ところで、タッチパネルのＩＴＯ電極上の一部に保護膜を設ける場合、例えば、センシング領域には保護膜を形成せずに、額縁領域のＩＴＯ電極及びＩＴＯ電極上に銅などの金属層を形成した部分に保護膜を設ける場合、全体に感光層を設けた後に活性光線を照射し、現像を行って不要な部分を除去することができる。この場合、感光層は、保護する電極に対する密着性は充分有しつつ、不要な部分では現像残りが生じないように良好な現像性が求められる。このような場合の密着性と現像性とを両立する観点から、本実施形態の感光性樹脂組成物は、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（以下、（Ｅ）成分ともいう）を含有することが好ましい。
【０１２６】
（Ｅ）成分である光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルとしては、形成する保護膜の防錆性を充分確保しつつ、ＩＴＯ電極に対する密着性と現像性とを高水準で両立する観点から、下記の構造を有する化合物を用いることが好ましい。当該化合物は、ＰＭ２１（日本化薬株式会社製）などの市販品が入手可能である。
【０１２７】
【化５】
2013084883.tif 000007
【０１２８】
なお、リン酸エステルの含有量は、実施形態に係る感光性樹脂組成物の水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下となるように調整されることが好ましい。
【０１２９】
本実施形態の感光性樹脂組成物には、その他、必要に応じて、シランカップリング剤等の密着性付与剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤などを、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、各々０．０１〜２０質量部程度含有させることができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【０１３０】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。
【０１３１】
ここで、感光性樹脂組成物の可視光透過率は以下のようにして求められる。まず、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を含有する塗布液を乾燥後の厚みが１０μｍ以下となるように塗布し、これを乾燥することにより、感光性樹脂組成物層を形成する。次に、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層が接するようにラミネータを用いてラミネートする。こうして、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層及び支持フィルムが積層された測定用試料を得る。次に、得られた測定用試料に紫外線を照射して感光性樹脂組成物層を光硬化した後、紫外可視分光光度計を用いて、測定波長域４００〜７００ｎｍにおける透過率を測定する。
【０１３２】
一般的な可視光波長域の光線である４００〜７００ｎｍの波長域における透過率が９０％以上であれば、例えば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合や、タッチパネル（タッチセンサー）の額縁領域の金属層（例えば、ＩＴＯ電極上に銅層を形成した層など）を保護したときにセンシング領域の端部から保護膜が見える場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。
【０１３３】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、タッチパネル用電極を有する基材上に感光層を形成するために用いることができる。たとえば、感光性樹脂組成物を溶媒に均一に溶解又は分散させて得ることのできる塗布液を調製し、基材上に塗布することで塗膜を形成し、乾燥により溶媒を除去することで感光層を形成することができる。
【０１３４】
溶媒としては、各成分の溶解性、塗膜形成のし易さ等の点から、ケトン、芳香族炭化水素、アルコール、グリコールエーテル、グリコールアルキルエーテル、グリコールアルキルエーテルアセテート、エステル、ジエチレングリコール、クロロホルム、塩化メチレンなどを用いることができる。これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶媒からなる混合溶媒として用いてもよい。
【０１３５】
上記溶媒の中でも、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等を用いることが好ましい。
【０１３６】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、感光性エレメントのように、感光性フィルムに製膜して用いることが好ましい。感光性フィルムを、タッチパネル用電極を有する基材上に積層することにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶媒乾燥工程が短縮できるなど、製造工程の短縮やコスト低減に大きく貢献することができる。
【０１３７】
感光性エレメント１の感光層２０は、本実施形態の感光性樹脂組成物を含有する塗布液を調製し、これを支持フィルム１０上に塗布、乾燥することにより形成できる。塗布液は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を構成する各成分を溶媒に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
【０１３８】
溶媒としては、特に制限はなく、公知のものが使用でき、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレンが挙げられる。これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶媒からなる混合溶媒として用いてもよい。
【０１３９】
塗布方法としては、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法が挙げられる。
【０１４０】
乾燥条件に特に制限はないが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、３０秒〜３０分とすることが好ましい。
【０１４１】
感光層２０の厚みは、電極保護に充分な効果を発揮し、かつ部分的な電極保護膜形成により生じるタッチパネル（タッチセンサー）表面の段差が極力小さくなるよう、乾燥後の厚みで１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上９μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以上８μｍ以下であることがさらに好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが更に好ましく、３μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
【０１４２】
本実施形態の感光性エレメント１においては、感光層２０が、可視光透過率の最小値が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。
【０１４３】
感光層２０の粘度は、感光性エレメントをロール状とした場合に、感光性エレメントの端面から感光性樹脂組成物がしみ出すことを１カ月以上防止する点及び感光性エレメントを切断する際に感光性樹脂組成物の破片が基板に付着して引き起こされる活性光線を照射する際の露光不良や現像残り等を防止する点から、３０℃において、１５〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２０〜９０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２５〜８０ｍＰａ・ｓであることが更に好ましい。
【０１４４】
なお、上記の粘度は、感光性樹脂組成物から形成される直径７ｍｍ、厚さ２ｍｍの円形の膜を測定用試料とし、この試料の厚さ方向に、３０℃及び８０℃で１．９６×１０−２Ｎの荷重を加えたときの厚さの変化速度を測定し、この変化速度からニュートン流体を仮定して粘度に換算した値である。
【０１４５】
保護フィルム３０（カバーフィルム）としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、及びポリエチレン−酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等からなるフィルムが挙げられる。
【０１４６】
保護フィルム３０の厚さは、５〜１００μｍ程度が好ましいが、ロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。
【０１４７】
感光性エレメント１は、ロール状に巻いて保管、使用できる。
【０１４８】
本発明においては、前述した本実施形態の感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液を、タッチパネル用電極を有する基材上に塗布し、乾燥して、感光性樹脂組成物からなる感光層を設けてもよい。この用途の場合においても、感光層は上述した感光性エレメント１の感光層２０についての、膜厚、可視光透過率の条件を満たすことが好ましい。
【０１４９】
次に、本発明に係るタッチパネル用電極の保護膜の形成方法について説明する。図２は、本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。
【０１５０】
本実施形態のタッチパネル用電極の保護膜２２の形成方法は、タッチパネル用電極１１０及び１２０を有する基材１００上に、上記の本発明の感光性樹脂組成物からなる感光層２０を設ける第１工程と、感光層２０の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程と、活性光線の照射後に感光層２０の所定部分以外を除去し、電極の一部又は全部を被覆する感光層の所定部分の硬化物からなる保護膜２２を形成する第３工程と、を備える。こうして、タッチ入力シートである保護膜付きタッチパネル（タッチセンサー）２００が得られる。
【０１５１】
本実施形態で使用される基材１００としては、一般にタッチパネル（タッチセンサー）用として用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基板が挙げられる。この基板上には、保護膜を形成する対象となるタッチパネル用電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極、ＴＦＴ等が挙げられる。また、基板上には、基板と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。
【０１５２】
図２に示されるタッチパネル用電極１１０及び１２０を有する基材１００は、例えば、以下の手順で得ることができる。ＰＥＴフィルムなどの基材上に、ＩＴＯ、Ｃｕの順にスパッタより金属膜を形成した後、金属膜上にエッチング用感光性フィルムを貼り付け、所望のレジストパターンを形成し、不要なＣｕを塩化鉄水溶液等のエッチング液で除去した後、レジストパターンをはく離除去する。
【０１５３】
本実施形態の第１工程では、本実施形態の感光性エレメント１の保護フィルム３０を除去した後、感光性エレメント１を加熱しながら、基材１００のタッチパネル用電極１１０及び１２０が設けられている表面に感光層２０を圧着することにより転写し、積層する（図２の（ａ）を参照）。
【０１５４】
圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
【０１５５】
加熱圧着する場合の加熱温度は、感光層２０と基材１００との密着性、並びに、感光層２０とタッチパネル用電極１１０及び１２０との密着性を充分確保しながら、感光層２０の構成成分が熱硬化あるいは熱分解されにくいよう、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが更に好ましい。
【０１５６】
また、加熱圧着時の圧着圧力は、感光層２０と基材１００との密着性を充分確保しながら、基材１００の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２〜５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２〜４×１０４Ｎ／ｍとすることが更に好ましい。
【０１５７】
感光性エレメント１を上記のように加熱すれば、基材１００を予熱処理することは必要ではないが、感光層２０と基材１００との密着性を更に向上させる点から、基材１００を予熱処理することが好ましい。このときの予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好ましい。
【０１５８】
本実施形態においては、感光性エレメント１を用いる代わりに、本実施形態の感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液を調製して基材１００のタッチパネル用電極１１０及び１２０が設けられている表面に塗布し、乾燥して感光層２０を形成することができる。
【０１５９】
本実施形態の第２工程では、感光層２０の所定部分に、フォトマスク１３０を介して、活性光線Ｌをパターン状に照射する（図２の（ｂ）を参照）。
【０１６０】
活性光線を照射する際、感光層２０上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。感光層２０の保護という点からは、支持フィルム１０として透明な重合体フィルムを用い、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通して活性光線を照射することが好ましい。
【０１６１】
活性光線Ｌの照射に用いられる光源としては、公知の活性光源が使用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプが挙げられ、紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。
【０１６２】
このときの、活性光線Ｌの照射量は、通常、１×１０２〜１×１０４Ｊ／ｍ２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２未満では、光硬化の効果が不充分となる傾向があり、１×１０４Ｊ／ｍ２を超えると、感光層２０が変色する傾向がある。
【０１６３】
本実施形態の第３工程では、活性光線の照射後の感光層２０を現像液で現像して活性光線が照射されていない部分（すなわち、感光層の所定部分以外）を除去し、電極の一部又は全部を被覆する本発明の感光層の所定部分の硬化物からなる保護膜２２を形成する（図２の（ｃ）を参照）。形成される保護膜２２は所定のパターンを有することができる。
【０１６４】
なお、活性光線の照射後、感光層２０に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、現像液による活性光線が照射されていない部分を除去する現像が行われる。
【０１６５】
現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶媒等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いることが好ましい。
【０１６６】
アルカリ水溶液の中でも、炭酸ナトリウムの水溶液好ましく用いられる。例えば、２０〜５０℃の炭酸ナトリウムの希薄溶液（０．５〜５質量％水溶液）が好適に用いられる。
【０１６７】
現像温度及び時間は、本実施形態の感光性樹脂組成物の現像性に合わせて調整することができる。
【０１６８】
また、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶媒等を混入させることができる。
【０１６９】
また、現像後、光硬化後の感光層２０に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処理（中和処理）することができる。
さらに、酸処理（中和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。
【０１７０】
現像後、必要に応じて、活性光線の照射（例えば、５×１０３〜２×１０４Ｊ／ｍ２）により、硬化物を更に硬化させてもよい。なお、本実施形態の感光性樹脂組成物は、現像後の加熱工程なしでも金属に対して優れた密着性を示すが、必要に応じて、現像後の活性光線の照射の代わりに、又は活性光線の照射と合わせて、加熱処理（８０〜２５０℃）を施してもよい。
【０１７１】
上述のように、本実施形態の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、タッチパネル用電極の保護膜形成のための使用に好適である。感光性樹脂組成物の上記使用については溶媒と混合した塗布液を用いて保護膜を形成することができる。
【０１７２】
また、本発明は、本発明に係る感光性樹脂組成物を含むタッチパネル用電極の保護膜の形成材料を提供することができる。このタッチパネル用電極の保護膜形成材料は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を含むことができ、更に上述した溶媒を含有する塗布液であることが好ましい。
【０１７３】
次に、図３、図４及び図５を用いて、本発明の保護膜の使用箇所の一例を説明する。図３は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、透明基板１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が透明基板１０１上に設けられている。透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。
【０１７４】
透明基板１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。本実施形態の感光性樹脂組成物は、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜１２２を形成するために好適に用いることができる。この際に、センシング領域（タッチ画面１０２）にある電極を同時に保護することもできる。図３では、保護膜１２２により、引き出し配線１０５、接続電極１０６、センシング領域の一部電極及び接続端子１０７の一部を保護しているが、保護膜を設ける箇所は適宜変更してもよい。例えば、図４に示すように、タッチ画面１０２を全て保護するように保護膜１２３を設けてもよい。
【０１７５】
図５を用いて、図３に示したタッチパネルにおいて、透明電極と引き出し配線の接続部の断面構造を説明する。図５は、図３に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図であり、透明電極１０４と引き出し配線１０５の接続部を説明するための図である。図５（ａ）に示すように、透明電極１０４と引き出し配線１０５とは、接続電極１０６を介して電気的に接続されている。図５（ａ）に示すように、透明電極１０４の一部、並びに、引き出し配線１０５及び接続電極１０６の全部が、保護膜１２２で覆われている。同様に、透明電極１０３と引き出し配線１０５とは、接続電極１０６を介して電気的に接続されている。本実施形態の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、上記の接続構造の保護膜形成のための使用に好適である。
【０１７６】
本実施形態に係るタッチパネルの製造方法について説明する。まず、基材１００上に設けられた透明電極１０１上に、透明電極（Ｘ位置座標）１０３を形成する。続いて、透明電極（Ｙ位置座標）１０４を形成する。透明電極１０３及び透明電極１０４の形成は、基材１００上に形成した透明電極層をエッチングする方法などを用いることができる。
【０１７７】
次に、透明基板１０１の表面に、外部回路と接続するための引き出し配線１０５と、この引き出し配線と透明電極１０３及び透明電極１０４を接続する接続電極１０６を形成する。引き出し配線１０５及び接続電極１０６は、透明電極１０３及び透明電極１０４の形成後に形成しても、各透明電極形成時に同時に形成してもよい。引き出し配線１０５及び接続電極１０６の形成は、金属スパッタリング後、エッチング法などを用いることができる。引き出し配線１０５は、例えば、フレーク状の銀を含有する導電ペースト材料を使って、スクリーン印刷法を用いて、接続電極１０６を形成するのと同時に形成することができる。次に、引き出し配線１０５と外部回路とを接続するための接続端子１０７を形成する。
【０１７８】
上記工程により形成された透明電極１０３及び透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６、並びに、接続端子１０７を覆うように、本実施形態に係る感光性エレメント１を圧着し、上記電極上に感光層２０を設ける。次に、転写した感光層２０に対し、所望の形状にフォトマスクを介してパターン状に活性光線Ｌを照射する。活性光線Ｌを照射した後、現像を行い、感光層２０の所定部分以外を除去することで、感光層２０の所定部分の硬化物からなる保護膜１２２を形成する。このようにして、保護膜１２２を備えるタッチパネルを製造することができる。
【実施例】
【０１７９】
以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。【０１８０】
［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が約６５，０００、水酸基価が２ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。【０１８１】
［バインダーポリマー溶液（Ａ２）〜（Ａ４）及び（Ａ６）〜（Ａ８）の作製］
表１及び表２に示す組成で、上記（Ａ１）と同様にし、バインダーポリマー溶液（Ａ２）〜（Ａ４）及び（Ａ６）〜（Ａ８）を得た。結果を表１及び表２に示す。【０１８２】
［バインダーポリマー溶液（Ａ５）の用意］
ＭＩＳ−１１５（メタクリル酸１２ｇと、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１１．１ｇと、ジシクロペンタニルメタクリレート２７．２ｇと、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル３１．１ｇとを反応させて得られた共重合体に、２−イソシアネートエチルメタクリレート１８．６ｇを反応させて得られた化合物のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／乳酸メチル溶液）を用意し、これをバインダーポリマー溶液（Ａ５）とした。重量平均分子量が約２６，０００、水酸基価が８０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価が５５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。【０１８３】
【表１】
2013084883.tif 000008
【０１８４】
【表２】
2013084883.tif 000009
【０１８５】
なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
ＧＰＣ条件
ポンプ：日立  Ｌ−６０００型（（株）日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成工業（株）製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立  Ｌ−３３００型ＲＩ（（株）日立製作所製、製品名）【０１８６】
［酸価の測定方法］
酸価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマー溶液を、１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、酸価を測定すべきポリマー１ｇを精秤した後、精秤したポリマーを三角フラスコに入れ、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。【０１８７】
［水酸基価の測定方法］
水酸基価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を、１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、水酸基価を測定すべきポリマー１ｇを精秤した後、精秤した感光性樹脂組成物を三角フラスコに入れ、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱した。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱後、自動滴定機（平沼産業（株）製「ＣＯＭ−１７００」）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定を行った。そして、次式により水酸基価を算出した。
水酸基価＝（Ａ−Ｂ）×ｆ×２８．０５／試料（ｇ）＋酸価
式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、ｆはファクターを示す。
なお、下記で使用した光重合性化合物の水酸基価も上記と同手法で測定した。【０１８８】
（実施例１）
［感光性樹脂組成物を含有する塗布液の作製］
表３に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、溶媒と実施例１の感光性樹脂組成物とを含有する塗布液を作製した。【０１８９】
【表３】
2013084883.tif 000010
【０１９０】
［感光性樹脂組成物の水酸基価の測定］
作製した塗布液を１３０℃で１時間加熱し、溶媒を除去した後、１ｇを精秤した。精秤した感光性樹脂組成物を三角フラスコに入れ、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱した。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱後、自動滴定機（平沼産業（株）製「ＣＯＭ−１７００」）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定することにより水酸基価を測定した。【０１９１】
［感光性エレメントの作製］
支持フィルムとして厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、上記で作製した感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶媒を除去し、感光性樹脂組成物からなる感光層（感光性樹脂組成物層）を形成した。得られた感光層の厚さは５μｍであった。【０１９２】
次いで、得られた感光層の上に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、保護膜を形成するための感光性エレメントを作製した。【０１９３】
［保護膜の透過率の測定］
得られた感光性エレメントのポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。【０１９４】
次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜を有する透過率測定用試料を得た。【０１９５】
次いで、得られた試料を分光光度計Ｕ−３３１０（（株）日立製作所製）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光透過率を測定した。得られた保護膜の４００〜７００ｎｍにおける透過率の最小値は９４％であり、良好な透過率を確保できていた。【０１９６】
［保護膜の塩水噴霧試験（人工汗液耐性評価試験）］
得られた感光性エレメントのポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工（株）製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。【０１９７】
次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜を有する人工汗液耐性評価用試料を得た。【０１９８】
次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ  ２３７１）を参考に、塩水噴霧試験機（スガ試験機（株）製ＳＴＰ−９０Ｖ２）を用いて、試験槽内に前述の試料を載置し、濃度５０ｇ／Ｌの塩水（ｐＨ＝６．７）を試験槽温度３５℃、噴霧量１．５ｍＬ／ｈで４８時間噴霧した。噴霧終了後、塩水を拭き取って、評価用試料の表面状態を観察し、以下の評点に従って評価した。
Ａ  ：  保護膜表面に全く変化なし。
Ｂ  ：  保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｃ  ：  保護膜表面に痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｄ  ：  保護膜表面に痕跡があり、かつ銅が変色する。
評価用試料の表面状態を観察したところ、保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なく評価はＢであった。【０１９９】
［感光層の現像残渣試験］
得られた感光性エレメントのカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工（株）製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。【０２００】
上記で得られた積層体を作製後、温度２３℃、湿度６０％の条件で２４時間保管した後、活性光線透過部と活性光線遮光部が交互にパターニングされた、ライン／スペースが３００μｍ／３００μｍのフォトマスクを用い、支持フィルム上にフォトマスクを載置し、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、フォトマスク面垂直上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を像的に照射した。【０２０１】
次いで、感光層上に積層されている支持フィルムを除去し、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で４０秒間スプレー現像して、感光層を選択的に除去し、保護膜パターンを形成した。得られた保護膜パターン付き基板の、選択的に感光層を除去した部分の基材表面状態を顕微鏡で観察し、以下の評点に従って現像残渣を評価した。
Ａ  ：  基材表面に全く変化なし。
Ｂ  ：  基材表面の銅がわずかに変色するが、現像残渣はない。
Ｃ  ：  基材表面の銅がわずかに変色し、現像残渣がわずかに発生する。
Ｄ  ：  現像残渣が発生する。
評価用試料の表面状態を観察したところ、基材表面に全く変化がなく、評価はＡであった。【０２０２】
［保護膜のクロスカット密着性試験］
得られた感光性エレメントのカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工（株）製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。【０２０３】
次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜を有するクロスカット密着性試験用試料を得た。【０２０４】
次いで、ＪＩＳ規格（Ｋ５４００）を参考に、１００マスのクロスカット試験を実施した。試験面にカッターナイフを用いて、１×１ｍｍ四方の碁盤目の切り傷を入れ、碁盤目部分にメンディングテープ＃８１０（スリーエム（株）製）を強く圧着させ、テープの端をほぼ０°の角度でゆっくりと引き剥がした後、碁盤目の状態を観察し、以下の評点に従ってクロスカット密着性を評価した。
Ａ    ：  全面積のほぼ１００％が密着している。
Ｂ    ：  全面積のうち９５以上１００％未満が密着し残っている。
Ｂ〜Ｃ：  全面積のうち８５以上９５％未満が密着し残っている。
Ｃ    ：  全面積のうち６５以上８５％未満が密着し残っている。
Ｃ〜Ｄ：  全面積のうち３５以上６５％未満が密着し残っている。
Ｄ    ：  全面積のうち０以上３５％未満が密着し残っている。
評価用試料の碁盤目の状態を観察したところ、スパッタ銅上に全面積のうち９５％以上が密着し残っている状態で、評価はＢであった。【０２０５】
（実施例２〜２０及び比較例１〜１２）
表３〜表７（表中の数値の単位は質量部）に示す感光性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様に感光性エレメントを作製し、透過率の測定、塩水噴霧試験、現像残渣試験、クロスカット密着性試験を行った。表８〜１２に示すように、実施例においては、透過率の測定、塩水噴霧耐性評価、クロスカット密着性のいずれも良好な結果であった。【０２０６】
【表４】
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【０２０７】
【表５】
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【０２０８】
【表６】
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【０２０９】
【表７】
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【０２１０】
（Ａ）成分
（Ａ１）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ２）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１７．５／５２．５／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量８０，０００、水酸基価１ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価１１５ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ３）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル／メタクリル酸２−ヒドロキシエチル＝１２／４８／３０／１０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量４５，０００、水酸基価４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ４）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル／メタクリル酸２−ヒドロキシエチル＝１２／２８／３０／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量４７，０００、水酸基価１２９ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ５）：ＭＩＳ−１１５（メタクリル酸１２ｇと、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１１．１ｇと、ジシクロペンタニルメタクリレート２７．２ｇと、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル３１．１ｇとを反応させて得られた共重合体に、２−イソシアネートエチルメタクリレート１８．６ｇを反応させて得られた化合物のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／乳酸メチル溶液）、重量平均分子量２６，０００、水酸基価８０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５５ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ６）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／メタクリル酸ブチル＝２４／４３．５／１５／１７．５（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量３５，０００、水酸基価１ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価１５６ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ７）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル＝３０／３５／３５（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量４５，０００、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価１９５ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ８）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝２４／４６／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量４５，０００、水酸基価１ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価１５５ｍｇＫＯＨ／ｇ【０２１１】
（Ｂ）成分
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）、水酸基価４０ｍｇＫＯＨ／ｇ
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート（日本化薬（株）製）、水酸基価０ｍｇＫＯＨ／ｇ
Ａ−９５５０：ジペンタエリスリトールポリアクリレート（日本化薬（株）製）、水酸基価４０ｍｇＫＯＨ／ｇ
Ａ−９５７０：ジペンタエリスリトールポリアクリレート（日本化薬（株）製）、水酸基価７０ｍｇＫＯＨ／ｇ
ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製）、水酸基価１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ
Ａ−ＴＭＭ−３：ペンタエリスリトールトリアクリレート（新中村化学工業（株）製）、水酸基価１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ
Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ：ペンタエリスリトールトリアクリレート（新中村化学工業（株）製）、水酸基価１１４ｍｇＫＯＨ／ｇ
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製）、水酸基価０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
ＲＰ−１０４０：ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（日本化薬（株）製）、水酸基価０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
ＢＰＥ−５００：エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学工業（株）製）、水酸基価０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）【０２１２】
（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１：１，２−オクタンジオン，１−［（４−フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ（株）製）
ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ（株）製）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（ＢＡＳＦ（株）製）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１：２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（ＢＡＳＦ（株）製）
Ｎ−１７１７：１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン（（株）ＡＤＥＫＡ製）
ＥＡＢ：４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（保土ヶ谷化学（株）製）【０２１３】
（Ｄ）成分
ＡＭＴ：３−アミノ−５−メルカプトトリアゾール（和光純薬（株）製）
ＨＡＴ：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績（株）製）
１ＨＴ：１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績（株）製）
ＭＭＴ：１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績（株）製）
３ＭＴ：３−メルカプト−トリアゾール（和光純薬（株）製）
ＡＴＴ：２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール（和光純薬（株）製）【０２１４】
（Ｅ）成分
ＰＭ２１：光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（日本化薬株式会社製）【０２１５】
その他の成分
Ａｎｔａｇｅ  Ｗ−５００：２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（川口化学（株）製）
ＳＨ３０：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング（株）製）
メチルエチルケトン：東燃化学（株）製【０２１６】
【表８】
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【０２１７】
【表９】
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【０２１８】
【表１０】
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【０２１９】
【表１１】
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【０２２０】
【表１２】
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【符号の説明】
【０２２１】
１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、２０…感光層、２２…保護膜、３０…保護フィルム、１００…基材、１０１…透明基板、１０２…タッチ画面、１０３…透明電極（Ｘ位置座標）、１０４…透明電極（Ｙ位置座標）、１０５…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１１０，１２０…タッチパネル用電極、１２２，１２３…保護膜、１３０…フォトマスク、２００…タッチパネル。
【図１】
2013084883.tif 000020
【図２】
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【図３】
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【図４】
2013084883.tif 000023
【図５】
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【手続補正書】
【提出日】平成25年4月24日(2013.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの酸価は、次のようにして測定することができる。酸価の測定対象であるバインダーポリマー１ｇを精秤する。
上記バインダーポリマーにアセトン３０ｇを加え、これを均一に溶解する。次いで、指示薬であるフェノールフタレインを上記溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定することにより酸価を測定できる。なお、酸価は次式により算出できる。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
なお、バインダーポリマーを合成溶媒や希釈溶媒と混合した状態で配合する場合は、予め、係る合成溶媒や希釈溶媒の沸点よりも１０℃以上高い温度で１〜４時間加熱し、上記溶媒を除去してから酸価を測定する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８６】
［酸価の測定方法］
酸価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマー溶液を、１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、酸価を測定すべきポリマー１ｇを精秤した後、精秤したポリマーを三角フラスコに入れ、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
【国際調査報告】
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