(57)【要約】基板１１上に形成された陽極層１２と、陽極層１２上に形成された第１の誘電体層１３と、第１の誘電体層１３上に形成された陰極層１４と、少なくとも陽極層１２および第１の誘電体層１３を貫通する複数の貫通部１６と、貫通部１６内における基板１１の上面および陽極層１２の側面に接して形成された第２の誘電体層１９と、貫通部１６内における陽極層１２の側面、第２の誘電体層１９の上面および陰極層１４に接して形成された発光部１７を有する有機発光素子１０。これにより、光の取り出し効率が高く、発光効率の高い有機発光素子等を提供する。
2012176335.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された第１の電極層と、
前記第１の電極層上に形成された第１の誘電体層と、
前記第１の誘電体層上に形成された第２の電極層と、
少なくとも前記第１の電極層および前記第１の誘電体層を貫通する複数の貫通部と、
前記貫通部内における前記基板の上面および前記第１の電極層の側面に接して形成された第２の誘電体層と、
前記貫通部内における前記第１の電極層の側面、前記第２の誘電体層の上面および前記第２の電極層に接して形成された発光部と、
を有する有機発光素子。
【請求項２】
前記基板上面を基準とした前記第２の誘電体層の厚さが、前記第１の電極層の厚さよりも小さい、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項３】
前記貫通部が、前記第１の誘電体層上面において、最大幅が１０μｍ以下の円形形状または多角形形状を有するか、または幅が１０μｍ以下の互いに平行な複数の帯状に形成されている、請求項１または２に記載の有機発光素子。
【請求項４】
円形形状または多角形形状の前記貫通部が、前記第１の誘電体層上の任意の１ｍｍ四方の面内において、１０３〜１０８個形成されている、請求項３に記載の有機発光素子。
【請求項５】
帯状の前記貫通部の間隔が１０μｍ以下である、請求項３に記載の有機発光素子。
【請求項６】
前記第２の誘電体層が、４００ｎｍ〜７５０ｎｍの可視光に対して透明な材料により形成されている、請求項１〜５のいずれか１つに記載の有機発光素子。
【請求項７】
前記第１の誘電体層および前記第２の誘電体層の屈折率が、いずれも前記第１の電極層の屈折率よりも小さい、請求項１〜６のいずれか１つに記載の有機発光素子。
【請求項８】
前記第１の誘電体層の屈折率が、前記発光部の屈折率よりも小さい、請求項１〜７のいずれか１つに記載の有機発光素子。
【請求項９】
前記第１の誘電体層の厚さが、前記第２の誘電体層の厚さよりも小さい、請求項１〜８のいずれか１つに記載の有機発光素子。
【請求項１０】
前記貫通部が、少なくとも前記第１の電極層および前記第１の誘電体層を貫通して形成される貫通上部と、前記基板に形成される穿孔部とからなる、請求項１〜９のいずれか１つに記載の有機発光素子。
【請求項１１】
基板上に第１の電極層を形成する第１工程と、
前記第１の電極層を貫通する複数の貫通孔を形成する第２工程と、
前記第１の電極層上に第１の誘電体層を形成するとともに、前記貫通孔内に露出した前記基板の上面および当該第１の電極層の側面に接して第２の誘電体層を形成することにより、当該貫通孔を含み、当該第１の電極層および当該第１の誘電体層を貫通する複数の貫通部を形成する第３工程と、
前記貫通部内に露出した前記第１の電極層の側面および前記第２の誘電体層の上面に接して発光部を形成する第４工程と、
前記第１の誘電体層上および前記発光部上を覆い、当該発光部に接して第２の電極層を形成する第５工程と、
を有する、有機発光素子の製造方法。
【請求項１２】
前記第３工程と前記第４工程の間に、前記第１の誘電体層の厚さを小さくする薄膜化工程をさらに有する、請求項１１に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項１３】
前記第３工程と前記第４工程の間に、前記第１の誘電体層および／または前記第２の誘電体層に覆われた前記第１の電極層の一部を露出させる工程をさらに有する、請求項１１または１２に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項１４】
前記第２工程において、前記貫通孔の底部の基板にさらに穿孔部を形成する、請求項１１〜１３のいずれか１つに記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項１５】
基板上に第１の電極層を形成する第１工程と、
前記第１の電極層上に第１の誘電体層を形成する第２工程と、
少なくとも前記第１の電極層および前記第１の誘電体層を貫通する複数の貫通部を形成する第３工程と、
前記貫通部内に、当該貫通部内に露出した前記基板の上面および前記第１の電極層の側面に接して第２の誘電体層を形成する第４工程と、
前記貫通部内に露出した前記第１の電極層の側面と前記第２の誘電体層の上面に接して発光部を形成する第５工程と、
前記第１の誘電体層上および前記発光部上を覆い、当該発光部に接して第２の電極層を形成する第６工程と、
を有する、有機発光素子の製造方法。
【請求項１６】
前記第４工程と前記第５工程の間に、前記第１の誘電体層および／または前記第２の誘電体層に覆われた前記第１の電極層の一部を露出させる工程をさらに有する、請求項１５に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項１７】
前記第２工程において、前記貫通部の底部の基板にさらに穿孔部を形成する、請求項１５または１６に記載の有機発光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、表示装置や照明装置に用いられる有機発光素子等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、表示装置や照明装置などへの応用が期待されている有機発光素子は、発光材料を層状に形成した発光層に陽極と陰極とからなる一対の電極を設けて電圧を印加することで、陽極と陰極からそれぞれ正孔と電子を注入し、注入された電子と正孔とが発光層で再結合することにより生じるエネルギーを利用して発光を行う。【０００３】
有機発光素子の一例として、例えば、特許文献１には、正孔注入電極層と電子注入電極層との間に挿入される誘電体層を備え、少なくとも誘電体層および電極層の一つを通って延び、正孔注入電極領域、電子注入電極領域および誘電体領域を備えるキャビティーの内表面に発光コーティング材料を塗布するキャビティー発光素子が提案されている。
また特許文献２には、基板の屈折率より低い屈折率を有する物質からなる低屈折率領域を発光領域内に設けた有機発光素子が開示されている。
さらに特許文献３には、正孔注入電極層、電子注入電極層、および正孔注入電極層と電子注入電極層との間に挿入される誘電体層、ならびに少なくとも誘電体層および電極層の一つを通って延び、そして正孔注入電極領域、電子注入電極領域および誘電体領域を備える内部キャビティー表面を有するキャビティー、を備え、エレクトロルミネセンスコーティング材料は、内部キャビティー表面の正孔注入電極領域および電子注入電極領域と電気的に接触している、エレクトロルミネセンスデバイスが開示されている。
さらに特許文献４には、誘電体膜が形成された透明基板の上に、透明電極である陽極と、有機層と、陰極とがこの順に積層された有機ＬＥＤ素子であって、誘電体層の膜厚は０．５μｍ以上であり、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域において、有機層の屈折率ｎ１、陽極の屈折率ｎ２および誘電体膜の屈折率ｎ３の間に、｜ｎ３−ｎ２｜≦０．２５および｜ｎ１−ｎ２｜≦０．２０の関係が成立するものが開示されている。
さらに特許文献５には、基板の表層に回折格子を有し、この上に中間層を介して、陽極と陰極の間に発光層を含む有機ＥＬ層が設けられている有機エレクトロルミネセンス素子が開示されている。
さらに特許文献６には、マイクロレンズアレイ、基材、ストラクチャー層、平坦化層、第一のガスバリア層が順次積層された光学用部品であって、第一のガスバリア層が５０ｄｙｎ／ｃｍ未満（ＪＩＳ  Ｋ  ６７６８）の濡れ指数を有する透明無機酸化物層である光学用部品が開示されている。
さらに特許文献７には、基板と、この基板上に形成された回路部とを有し、この回路部上に、各駆動用ＴＦＴに対応して、画素領域が形成され、各画素領域内には、それぞれ有機ＥＬ素子が設けられ、この有機ＥＬ素子が有する陽極バッファ層は、前駆体（モノマー）をプラズマ重合して得られたポリシロキサン誘導体の被膜に、紫外線を照射することにより、ポリシロキサン誘導体をＳｉＯ２に変化させて形成されたものであるアクティブマトリクス型表示装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２０１０−５０９７２９号公報
【特許文献２】米国特許出願公開第２００８／０２３８３１０号明細書
【特許文献３】特表２００３−５２２３７１号公報
【特許文献４】特開２００６−３３８９５４号公報
【特許文献５】特開２００４−３４９１１１号公報
【特許文献６】特開２００８−１１７７３５号公報
【特許文献７】特開２００７−１２３０５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで一般に、キャビティー発光素子では、発光コーティング材料から発した光をキャビティーを通して直接取り出すことができるため光の利用効率を向上させやすい。ところが、光の取り出し面に達する光の角度によっては、反射が生じやすくなるため、光の利用効率が減少する場合があった。
さらにキャビティー構造を形成する手段として、基板側電極と誘電体層をパターン化するためにエッチングを行うことがある。このとき誘電体層と電極のエッチング条件が一般的に異なるため工程が煩雑になりやすい。また一般に誘電体層より電極層のエッチングの方がエッチング条件が過酷であるため、マスクとして使用するレジストを厚くする必要がある。そのため、レジスト形成およびエッチング共に要する時間が長くなりやすいという欠点があった。またその結果、期待する形状を安定して作製することが困難であった。さらにエッチング可能な材料しか誘電体層として使用できないという材料選択における制限があった。
また低屈折率領域を発光領域内に設けた有機発光素子では、酸化インジウムスズ（以下、「ＩＴＯ」とも記す。）からなる電極層が、低屈折率領域の下部に位置することになる。ＩＴＯの光の透過率は低屈折率領域の光の透過率より小さいため、低屈折率領域から電極層中に侵入した光は、強度が大きく減衰する。更に、ＩＴＯは、高い屈折率を有するため、電極層中に侵入した光は、全反射により電極層内部に閉じこめられやすい。そのため光の取り出し効率が低下する。
本発明の目的は、発光部から発した光が発光素子内部に閉じ込められることを抑制し、高い発光効率を有する有機発光素子等を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため、本発明者らは、一対の電極間に誘電体層が挟持され、電極と誘電体層を貫通して形成された貫通部内に発光部を有する有機発光素子において、貫通部内にもさらに誘電体層を形成することによって発光層内部や電極層内部からより多くの光を取り出すことができることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、以下に要約される。【０００７】
本発明の有機発光素子は、基板上に形成された第１の電極層と、第１の電極層上に形成された第１の誘電体層と、第１の誘電体層上に形成された第２の電極層と、少なくとも第１の電極層および第１の誘電体層を貫通する複数の貫通部と、貫通部内における基板の上面および第１の電極層の側面に接して形成された第２の誘電体層と、貫通部内における第１の電極層の側面、第２の誘電体層の上面および第２の電極層に接して形成された発光部とを有することを特徴とする。【０００８】
ここで、基板上面を基準とした第２の誘電体層の厚さが、第１の電極層の厚さよりも小さいことが好ましい。貫通部は、第１の誘電体層上面において、最大幅が１０μｍ以下の円形形状または多角形形状を有するか、または幅が１０μｍ以下の互いに平行な複数の帯状に形成されていることが好ましい。また貫通部が円形形状または多角形形状の場合は、貫通部は、第１の誘電体層上の任意の１ｍｍ四方の面内において、１０３〜１０８個形成されていることが好ましい。貫通部が帯状の場合は、貫通部の間隔が１０μｍ以下であることが好ましい。そして第２の誘電体層が、４００ｎｍ〜７５０ｎｍの可視光に対して透明な材料により形成されていることが好ましい。
さらに第１の誘電体層および第２の誘電体層の屈折率が、いずれも第１の電極層の屈折率よりも小さいことが好ましく、第１の誘電体層の屈折率が、発光部の屈折率よりも小さいことが好ましい。そして第１の誘電体層の厚さが、第２の誘電体層の厚さよりも小さいことが好ましい。また貫通部が、少なくとも第１の電極層および第１の誘電体層を貫通して形成される貫通上部と、基板に形成される穿孔部とからなるようにすることもできる。【０００９】
また本発明の有機発光素子の製造方法は、基板上に第１の電極層を形成する第１工程と、第１の電極層を貫通する複数の貫通孔を形成する第２工程と、第１の電極層上に第１の誘電体層を形成するとともに、貫通孔内に露出した基板の上面および第１の電極層の側面に接して第２の誘電体層を形成することにより、貫通孔を含み、第１の電極層および第１の誘電体層を貫通する複数の貫通部を形成する第３工程と、貫通部内に露出した第１の電極層の側面および第２の誘電体層の上面に接して発光部を形成する第４工程と、第１の誘電体層上および発光部上を覆い、発光部に接して第２の電極層を形成する第５工程と、を有することを特徴とする。【００１０】
ここで、第３工程と第４工程の間に、第１の誘電体層の厚さを小さくする薄膜化工程をさらに有することが好ましく、第３工程と第４工程の間に、第１の誘電体層および／または第２の誘電体層に覆われた第１の電極層の一部を露出させる工程をさらに有することが好ましい。そして第２工程において、貫通孔の底部の基板にさらに穿孔部を形成することもできる。【００１１】
さらに本発明の有機発光素子の製造方法は、基板上に第１の電極層を形成する第１工程と、第１の電極層上に第１の誘電体層を形成する第２工程と、少なくとも第１の電極層および第１の誘電体層を貫通する複数の貫通部を形成する第３工程と、貫通部内に、貫通部内に露出した基板の上面および第１の電極層の側面に接して第２の誘電体層を形成する第４工程と、貫通部内に露出した第１の電極層の側面と第２の誘電体層の上面に接して発光部を形成する第５工程と、第１の誘電体層上および発光部上を覆い、発光部に接して第２の電極層を形成する第６工程と、を有することを特徴とする。【００１２】
ここで、第４工程と第５工程の間に、第１の誘電体層および／または第２の誘電体層に覆われた第１の電極層の一部を露出させる工程をさらに有することが好ましい。また第２工程において、貫通部の底部の基板にさらに穿孔部を形成することもできる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、光の取り出し効率が高く、発光効率の高い有機発光素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施の形態が適用される有機発光素子の第１の例を説明した部分断面図である。
【図２−１】発光部から発した光の進路について説明した図である。
【図２−２】発光部から発した光の進路について説明した図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は、本実施の形態が適用される有機発光素子において、発光部の他の形態を例示して説明した部分断面図である。
【図４】本実施の形態が適用される有機発光素子の第５の例を説明した部分断面図である。
【図５】本実施の形態が適用される有機発光素子の第６の例を説明した部分断面図である。
【図６】本実施の形態が適用される有機発光素子の第７の例を説明した部分断面図である。
【図７】（ａ）〜（ｇ）は、本実施の形態が適用される有機発光素子の製造方法について説明した図である。
【図８】比較例１における有機発光素子を説明した図である。
【図９】比較例３における有機発光素子を説明した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
（有機発光素子）
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態が適用される有機発光素子の第１の例を説明した部分断面図である。
図１に示した有機発光素子１０は、基板１１と、基板１１側を下側とした場合に基板１１上に形成され正孔を注入するための第１の電極層としての陽極層１２と、電子を注入するための第２の電極層としての陰極層１４と、陽極層１２と陰極層１４の間に形成される第１の誘電体層１３とが積層した構造を採る。また、陽極層１２および第１の誘電体層１３を貫通して形成される貫通部１６を有し、そして貫通部１６内における基板１１上面には、基板１１の上面および陽極層１２の側面に接して第２の誘電体層１９が形成されている。また、貫通部１６の内部に、陽極層１２に接するように第２の誘電体層１９上に形成され、電圧を印加することで発光する発光材料からなる発光部１７を有する。この発光部１７を形成する発光材料は、貫通部１６から第１の誘電体層１３の上面にも展開して延伸部１７ａを形成する。即ち、発光部１７を形成する発光材料を、貫通部１６から第１の誘電体層１３と陰極層１４の間に更に延伸して連続形成している。また、陰極層１４は、この発光材料上に更に積層する形で形成されており、発光部１７と同様に連続する膜として成膜されている。
【００１６】
基板１１は、陽極層１２、第１の誘電体層１３、陰極層１４、発光部１７、第２の誘電体層１９を形成する支持体となるものである。基板１１には、有機発光素子１０に要求される機械的強度を満たす材料が用いられる。
【００１７】
基板１１の材料としては、有機発光素子１０の基板１１側から光を取り出したい場合は、可視光に対して透明であることが必要である。具体的には、サファイアガラス、ソーダガラス、石英ガラスなどのガラス類；アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ナイロン樹脂、シリコーン樹脂などの透明樹脂；窒化アルミ、アルミナなどの透明金属酸化物などが挙げられる。なお基板１１として、上記透明樹脂からなる樹脂フィルム等を使用する場合は、水、酸素などのガスに対するガス透過性が低いことが好ましい。ガス透過性が高い樹脂フィルム等を使用する場合は、光の透過性を損なわない範囲でガスの透過を抑制するバリア性薄膜を形成することが好ましい。
有機発光素子１０の基板１１側から光を取り出す必要がない場合は、基板１１の材料としては、可視光に対して透明であるものに限られず、不透明なものも使用できる。具体的には、上記材料に加えて、ケイ素（Ｓｉ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、もしくはニオブ（Ｎｂ）の単体、またはこれらの合金、あるいはステンレス、ＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの酸化物、ｎ−Ｓｉなどの半導体などからなる材料も使用することができる。
基板１１の厚さは、要求される機械的強度にもよるが、好ましくは、０．１ｍｍ〜１０ｍｍ、より好ましくは０．２５ｍｍ〜２ｍｍである。
【００１８】
陽極層１２は、陰極層１４との間で電圧を印加し、陽極層１２より発光部１７に正孔を注入する。陽極層１２に使用される材料としては、電気伝導性を有するものであることが必要である。具体的には仕事関数が大きいものであり、仕事関数は、４．５ｅＶ以上であることが好ましい。加えて、アルカリ性水溶液に対し、電気抵抗が顕著に変化しないことが好ましい。
【００１９】
このような条件を満たす材料として、金属酸化物、金属、合金が使用できる。ここで、金属酸化物としては、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）が挙げられる。また金属としては、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、ニオブ（Ｎｂ）等が挙げられる。そしてこれらの金属を含むステンレス等の合金も使用できる。陽極層１２の厚さは、例えば、２ｎｍ〜２μｍで形成することができる。なお仕事関数は、例えば、紫外線光電子分光分析法により測定することができる。
【００２０】
第１の誘電体層１３は、発光部１７から発した光を屈折させることで基板１１に入射しやすくするためのものである。
本実施の形態では、第１の誘電体層１３の屈折率は、発光部１７の屈折率より小さい。そのため、図２−１（発光部１７から発した光の進路について説明した図）に示すように、発光部１７から発した光Ｌ１は、第１の誘電体層１３に入射する際に、より基板１１の法線方向に近い角度に屈折する。即ち、図２−１においてθ１＞θ２となる。その結果、第１の誘電体層１３を設けない場合に比較して、陽極層１２や基板１１に達した光Ｌ１は、第１の誘電体層１３と陽極層１２の界面、および陽極層１２と基板１１の界面において全反射を生じにくくなる。よって、より陽極層１２や基板１１に入射しやすくなる。さらに、第１の誘電体層１３の屈折率が陽極層１２の屈折率より小さいと、光Ｌ１は第１の誘電体層１３と陽極層１２の界面でも同様に基板１１の法線方向に近い角度に屈折し、さらに基板１１に入射しやすくなる。つまり、第１の誘電体層１３を設けることにより、発光部１７から発した光を基板１１側から、より多く取り出すことができ、光の取り出し効率が向上する。
【００２１】
陽極層１２と陰極層１４により発光部１７に電圧を印加することで発光部１７を発光させるため、第１の誘電体層１３は、陽極層１２と陰極層１４とを所定の間隔にて分離し絶縁する機能を有する。このため第１の誘電体層１３は高抵抗率材料であることが必要であり、電気抵抗率としては、１０８Ωｃｍ以上、好ましくは１０１２Ωｃｍ以上有することが要求される。具体的な材料としては、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム等の金属窒化物；酸化ケイ素（二酸化ケイ素）、酸化アルミニウム等の金属酸化物、フッ化ナトリウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウムなどの金属フッ化物が挙げられるが、他にポリイミド、ポリフッ化ビニリデン、パリレン等の高分子化合物、ポリフェニルシルセスキオキサン（Poly(phenylsilsesquioxane)）等の塗布型シリコーンも使用可能である。
ここで、短絡・電流リークを生じにくい有機発光素子１０を再現よく製造するためには、第１の誘電体層１３の厚さは厚いほど好ましい。つまり、第１の誘電体層１３の厚さは厚い方が、短絡・電流リークを引き起こす第１の誘電体層１３の欠陥の影響を除外あるいは抑制しやすくなる。このような短絡・電流リークを生じる原因としては、第１の誘電体層１３を形成する陽極層１２表面の突起や、第１の誘電体層１３の製造工程で発生する第１の誘電体層１３のピンホールなどが挙げられる。
他方、有機発光素子１０全体の厚さを抑えるために第１の誘電体層１３の厚さは、１μｍを越えないことが好ましい。また、陽極層１２と陰極層１４との間隔が狭い方が、発光のために必要な電圧が低くて済むので、この観点からも第１の誘電体層１３は薄い方がより好ましい。但し、薄すぎると有機発光素子１０を駆動するための電圧に対し、絶縁耐力が十分でなくなるおそれがある。ここで絶縁耐力は、電極間に第１の誘電体層１３を貫通部１６が形成されない連続膜として形成した場合、有機発光素子１０の駆動時の電圧よりも２Ｖ高い電圧を印加した時のこの誘電体層中を流れる電流の電流密度が、０．１ｍＡ／ｃｍ２以下であることが好ましく、０．０１ｍＡ／ｃｍ２以下であることがより好ましい。これを満たす第１の誘電体層１３の厚さは、上限としては、７５０ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることが更に好ましく、２００ｎｍ以下であることがまた更に好ましい。また下限としては１５ｎｍ以上であることが好ましく、３０ｎｍ以上であることが更に好ましく、５０ｎｍ以上であることがまた更に好ましい。
【００２２】
陰極層１４は、陽極層１２との間で電圧を印加し、発光部１７に電子を注入する。本実施の形態において陰極層１４は、貫通部１６内の発光材料を含む発光部１７と第１の誘電体層１３上に展開している発光材料の上に積層する形で連続膜として形成されている。
【００２３】
陰極層１４に使用される材料としては、陽極層１２と同様に電気伝導性を有するものであれば、特に限定されるものではないが、仕事関数が小さく、かつ化学的に安定なものが好ましい。具体的には、Ａｌ、ＭｇＡｇ合金、ＡｌＬｉやＡｌＣａなどのＡｌとアルカリ金属の合金等の材料を例示することができる。陰極層１４の厚さは１０ｎｍ〜１μｍが好ましく、５０ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましい。本実施の形態の有機発光素子１０の場合は、基板１１側から発光部１７から発した光を取り出す。そのため陰極層１４は、不透明材料により形成されていてもよい。なお本実施の形態のように陰極層１４が連続膜として、発光部１７を覆っている形態において、基板１１側からのみならず陰極層１４側からも光を取り出したい場合は、陰極層１４は、ＩＴＯ等の透明材料により形成する必要がある。
【００２４】
また、陰極層１４から発光部１７への電子の注入障壁を下げて電子の注入効率を上げる目的で、図示しない陰極バッファ層を、陰極層１４に隣接して設けてもよい。陰極バッファ層に用いられる材料の仕事関数は、陰極層１４の材料より低いことが好ましく、金属材料などが好適に用いられる。例えば、アルカリ金属（Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、アルカリ土類金属（Ｓｒ、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ）、希土類金属（Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｙｂ）、あるいはこれら金属のフッ化物、塩化物、酸化物から選ばれる単体あるいは２つ以上の混合物を使用することができる。陰極バッファ層の厚さは０.０５ｎｍ〜５０ｎｍが好ましく、０.１ｎｍ〜２０ｎｍがより好ましく、０.５ｎｍ〜１０ｎｍがより一層好ましい。
【００２５】
貫通部１６は、発光部１７をその内部に形成し、かつ発光部１７からの光を取り出すためのものであり、本実施の形態では、第１の電極層である陽極層１２および第１の誘電体層１３を貫通するように形成する。このように貫通部１６を設けることにより発光部１７から発せられた光は、貫通部１６の内部を伝搬し、基板１１側および陰極層１４の側の両方向において取り出すことができる。ここで、貫通部１６は、陽極層１２および第１の誘電体層１３を貫通して形成されているため、第１の電極層である陽極層１２および第２の電極層である陰極層１４が不透明材料により形成されるときでも、基板１１側から光を取り出すことが可能である。
【００２６】
貫通部１６の形状は、特に限定されることはないが、形状制御が行いやすいという観点から例えば円柱形状または四角柱などの多角柱形状とすることが好ましい。つまりこの場合、貫通部１６の形状は、第１の誘電体層１３上面において、円形形状または多角形形状となる。これらの形状では、第１の誘電体層１３の上面内における形状が、第１の誘電体層１３および陽極層１２の厚み方向で変化してもよく、あるいは形状の大きさが変化してもよい。即ち、例えば円錐形状、角錐形状、円錐台形状、角錐台形状などであってもよい。貫通部１６の形状を適宜選択することにより、発光部１７で発光した光を外部へ取り出す際の配光分布などを制御することができる。
本実施の形態の有機発光素子１０では、貫通部１６で強く光る場合においては貫通部１６の間隔を小さくすれば、それだけ単位面積当たりの貫通部１６の数が増加するため、発光強度を大きくすることができる。また、発光部１７は、陽極層１２と陰極層１４の近傍において発光しやすい。即ち貫通部１６の中央部は、非発光部分となりやすく、この非発光部分の面積が大きいと有機発光素子１０を高輝度で発光させにくい。よって、貫通部１６の幅を小さくすれば、貫通部１６の中央部の非発光部分が減少することになるため、発光強度を大きくしやすくなる。より具体的には、貫通部１６の幅（Ｗ）が１０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることが更に好ましい。また、製造が容易であるという観点では０．１μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましい。なお、ここで「貫通部１６の幅」とは、第１の誘電体層１３面上における貫通部１６の形状の最大幅、すなわち当該形状を内包する最小円の直径を指す。
第１の誘電体層１３上面における貫通部１６の配置は、正方格子状や六方格子状など規則的な配置であっても、不規則な配置であってもよく、貫通部１６は、第１の誘電体層１３上の任意の１ｍｍ四方の面内において１０３〜１０８個形成されていることが好ましい。この配置については、発光部１７で発光する光の波長や、有機発光素子１０から出射する光の配光分布やスペクトル制御などの観点から適宜選択される。
貫通部１６の形状は互いに平行な複数の帯状であってもよい。この場合も貫通部１６の幅は上記と同じ理由で上限は１０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることが更に好ましく、下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましい。複数の帯状である貫通部１６の間隔は、１０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることが更に好ましいが、製造が容易であるという観点では０．１μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましい。
【００２７】
発光部１７は、電圧を印加し、電流を供給することで光を発する発光材料であり、貫通部１６内における陽極層１２の側面および、陰極層１４に接して形成される。発光部１７において、陽極層１２から注入された正孔と陰極層１４から注入された電子とが再結合し、発光が生じる。
【００２８】
発光部１７の材料としては、有機材料および無機材料の何れをも使用することができる。ここで有機材料を発光材料として用いる場合は、公知の低分子化合物および高分子化合物のいずれをも使用することができる。但し、本実施の形態では、塗布性に優れた材料が好ましい。即ち本実施の形態における有機発光素子１０の構造では、発光部１７が貫通部１６内で安定に発光するためには発光部１７が貫通部１６の内面に均一にかつ膜厚が均等に成膜されること、即ちカバレッジ性が向上することが好ましい。塗布性に優れた材料を使用せずに発光部１７を形成すると、貫通部１６全体に発光部１７が一様に接していない、あるいは貫通部１６内の膜厚が均一でない成膜状態になりやすい。そのため貫通部１６から出射する光の輝度のばらつき等を生じやすくなる。
また、貫通部１６内に発光部１７を均一に形成するためには、塗布法で行うことが好ましい。即ち、塗布法では、貫通部１６に発光材料を含む発光材料溶液を埋め込むことが容易であるため、凹凸を有する面においてもカバレッジ性を高めて成膜することが可能である。塗布法においては塗布性を向上させる目的で、主に重量平均分子量で１，０００〜２，０００，０００である材料が好適に用いられる。また、塗布性を向上させるためレベリング剤、脱泡剤などの塗布性向上添加剤を添加したり、電荷トラップ能力の少ないバインダー樹脂を添加することもできる。
【００２９】
具体的に、塗布性に優れる材料としては、例えば、特開２００７−８６６３９号公報に挙げられている所定の構造を有する分子量１５００以上６０００以下のアリールアミン化合物や、特開２０００−０３４４７６号公報に挙げられている所定の高分子蛍光体などが挙げられる。
ここで、塗布性に優れた材料の中でも、有機発光素子１０の製造のプロセスが簡素化されるという点で発光性高分子化合物が好ましく、発光効率が高い点で燐光発光性化合物が好ましい。従って、特に燐光発光性高分子化合物が好ましい。なお、複数の材料同士を混合、あるいは塗布性を損なわない範囲で低分子発光材料（例えば、分子量１０００以下）を添加することも可能である。この際の低分子発光材料の添加量は３０ｗｔ％以下が好ましい。
また、発光性高分子化合物は、共役発光性高分子化合物と非共役発光性高分子化合物とに分類することもできるが、中でも非共役発光性高分子化合物が好ましい。
上記の理由から、本実施の形態で用いられる発光材料としては、燐光発光性非共役高分子化合物（燐光発光性高分子であり、かつ非共役発光性高分子化合物でもある発光材料）が特に好ましい。
【００３０】
本発明の有機発光素子１０における発光部１７は、好ましくは、燐光を発光する燐光発光性単位とキャリアを輸送するキャリア輸送性単位とを一つの分子内に備えた、燐光発光性高分子（燐光発光する有機材料）を少なくとも含む。燐光発光性高分子は、重合性置換基を有する燐光発光性化合物と、重合性置換基を有するキャリア輸送性化合物とを共重合することによって得られる。燐光発光性化合物はイリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）および金（Ａｕ）の中から一つ選ばれる金属元素を含む金属錯体であり、中でもイリジウム錯体が好ましい。
【００３１】
重合性置換基を有するキャリア輸送性化合物は、ホール輸送性および電子輸送性の内のいずれか一方または両方の機能を有する有機化合物における一つ以上の水素原子を重合性置換基で置換した化合物を挙げることができる。
【００３２】
重合性置換基を有する燐光発光性化合物と、重合性置換基を有するキャリア輸送性化合物の重合方法は、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、付加重合のいずれでもよいが、ラジカル重合が好ましい。また、重合体の分子量が重量平均分子量で１，０００〜２，０００，０００が好ましく、５，０００〜１，０００，０００がより好ましい。なお本実施の形態での分子量はＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）法を用いて測定されるポリスチレン換算分子量である。
【００３３】
燐光発光性高分子は、一つの燐光発光性化合物と一つのキャリア輸送性化合物、一つの燐光発光性化合物と二つ以上のキャリア輸送性化合物を共重合したものであってもよく、また二つ以上の燐光発光性化合物をキャリア輸送性化合物と共重合したものであってもよい。
【００３４】
燐光発光性高分子におけるモノマーの配列は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体のいずれでもよく、燐光発光性化合物構造の繰り返し単位数をｍ、キャリア輸送性化合物構造の繰り返し単位数をｎとしたとき（ｍ、ｎは１以上の整数）、全繰り返し単位数に対する燐光発光性化合物構造の繰り返し単位数の割合、すなわちｍ／（ｍ＋ｎ）の値は、０．００１〜０．５が好ましく、０．００１〜０．２がより好ましい。
【００３５】
本実施の形態における有機発光素子１０の発光部１７は、好ましくは前述した燐光発光性化合物を含むが、発光部１７のキャリア輸送性を補う目的で正孔輸送性化合物や電子輸送性化合物が含まれていてもよい。これらの目的で用いられる正孔輸送性化合物としては、例えば、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−（３−メチルフェニル）−１，１'−ビフェニル−４，４'ジアミン）、α−ＮＰＤ（４，４'−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル）、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ（４，４'，４''−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）などの低分子トリフェニルアミン誘導体が挙げられる。更に、ポリビニルカルバゾール、トリフェニルアミン誘導体に重合性官能基を導入して高分子化したもの；特開平８−１５７５７５号公報に開示されているトリフェニルアミン骨格の高分子化合物；ポリパラフェニレンビニレン、ポリジアルキルフルオレンなどが挙げられる。また、電子輸送性化合物としては、例えば、Ａｌｑ３（アルミニウムトリスキノリノレート）などのキノリノール誘導体金属錯体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリアジン誘導体、トリアリールボラン誘導体などの低分子材料が挙げられる。更に上記の低分子電子輸送性化合物に重合性官能基を導入して高分子化したもの、例えば特開平１０−１６６５号公報に開示されているポリＰＢＤなどの既知の電子輸送性化合物が挙げられる。
【００３６】
また、発光部１７に使用する発光材料として上述した発光性高分子化合物ではなく発光性低分子化合物を使用する場合でも、発光部１７の形成は可能である。そして、発光材料として上述した発光性高分子化合物を添加することも可能であり、正孔輸送性化合物、電子輸送性化合物を添加することも可能である。
この場合の正孔輸送性化合物の具体例としては、例えば、特開２００６−７６９０１号公報に記載されているＴＰＤ、α−ＮＰＤ、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ、フタロシアニン錯体、ＤＴＤＰＦＬ、ｓｐｉｒｏ−ＴＰＤ、ＴＰＡＣ、ＰＤＡ等が挙げられる。
【００３７】
電子輸送性化合物の具体例としては、例えば、特開２００６−７６９０１号公報に記載されているＢＰｈｅｎ、ＢＣＰ、ＯＸＤ−７、ＴＡＺ等が挙げられる。
【００３８】
また、例えば、特開２００６−２７３７９２号公報に記載の一分子内に正孔輸送性及び電子輸送性を有するバイポーラー型分子構造を有する化合物でも使用可能である。
発光部１７は、陽極層１２と陰極層１４の間に、発光材料により形成された１層の発光層のみからなる単層構造であってもよいが、発光層以外の層や複数の発光層を含む積層構造であってもよい。発光層以外の層を含む場合、発光層と陽極層１２の間に形成される層としては、正孔注入層や正孔輸送層、電子ブロック層などが挙げられ、発光層と陰極層１４の間に形成される層としては電子輸送層や正孔ブロック層などが挙げられる。これらの各層は、前述した公知の正孔輸送性化合物や電子輸送性化合物を、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、インクジェット法、印刷法、スプレーコーティング法、ディスペンサー法などの方法により成膜して形成することができる。
【００３９】
第２の誘電体層１９は、これを設けることでより多くの光を基板１１内に侵入させるためのものである。本実施の形態では、第２の誘電体層１９の屈折率は、発光部１７の屈折率より小さいことが好ましい。
【００４０】
また、第２の誘電体層１９が、４００ｎｍ〜７５０ｎｍの可視光に対して透明な材料により形成されていることが好ましい。特に、取り出したい光の波長範囲における光透過率が、同じ光路長で比較した発光部１７の光透過率より高いことが好ましい。
【００４１】
第２の誘電体層１９を設けると、これを設けない場合に比較して、光の取り出し効率が向上する。つまり、第２の誘電体層１９を設けず、この部分を発光材料により充填すると、発光材料の光の透過率は、第２の誘電体層１９の光の透過率より低いため、発光部１７から発した光はより減衰しやすい。これに対し、第２の誘電体層１９を設けると、図２−１に示すように、発光部１７から発し、第２の誘電体層１９を通過する光Ｌ２は、あまり減衰せずに、基板１１に達する。その結果、発光部１７から発した光を基板１１側からより多く取り出すことができ、光の取り出し効率が向上する。
【００４２】
また本実施の形態の貫通部１６の部分において、陽極層１２は存在しない。そのためこの部分においては、陽極層１２に侵入した光が、陽極層１２の小さい透過率により強度が大きく減衰するようなことが生じない。よって、この点においても光の取り出し効率の観点から見て、本実施の形態の有機発光素子１０は有利となる。
【００４３】
第２の誘電体層１９を形成しない場合、発光部１７から陽極層１２へ入射した光の一部は、陽極層１２の屈折率が基板１１や第１の誘電体層１３の屈折率よりも大きいため、陽極層１２内部に閉じ込められ、外部へ取り出すことができない。有機発光素子１０においては、陽極層１２へ入射したこのような光も、図２−２に示す光Ｌ３のように、近傍の貫通部１６内に形成された第２の誘電体層１９を通過することで進路が基板１１側に変化するため、外部へ取り出すことができ、光の取出し効率がより向上する。このためには、さらに、第２の誘電体層１９の屈折率は、陽極層１２の屈折率より小さいことが好ましい。すなわち、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９の屈折率が、いずれも陽極層１２の屈折率よりも小さければ、有機発光素子１０における光の取出し効率は特に高い。
【００４４】
第２の誘電体層１９は、貫通部１６内において陽極層１２の側面が露出するような膜厚で形成される。すなわち、第２の誘電体層１９の上面が、陽極層１２の上面よりも好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上低くなるように、第２の誘電体層１９は形成される。ただし、第２の誘電体層１９は、前記膜厚の範囲内で可能な限り、基板１１の上面を基準として、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上の厚さで形成される。
【００４５】
本実施の形態において、第２の誘電体層１９と第１の誘電体層１３とは、異なる材料により形成されてもよく、同じ材料により形成されていてもよい。ただし、同じ材料により形成した方が、後述する図７（ｅ）において説明するように、１つの製造工程で、第２の誘電体層１９と第１の誘電体層１３とを形成することができるため、有機発光素子１０の製造がより容易になる。
なお第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９は、共に絶縁性であるため、例えば、第２の誘電体層１９は、陽極層１２より厚さが小さくなるように形成し、発光部１７の側面が、陽極層１２の側面１２ａにて接触するようにする必要がある。これにより陽極層１２と発光部１７とは、電気的に導通し、陽極層１２から発光部１７へ電流を流すことが可能となる。
【００４６】
なお以上詳述した有機発光素子１０は、発光部１７が貫通部１６の内部のみならず第１の誘電体層１３の上面にも展開し、形成されていたが、これに限られるものではない。
【００４７】
図３（ａ）〜（ｃ）は、本実施の形態が適用される有機発光素子において、発光部１７の他の形態を例示して説明した部分断面図である。これらはそれぞれ本実施の形態が適用される有機発光素子の第２〜第４の例である。
図３（ａ）で示した有機発光素子１０ａは、発光部１７が貫通部１６の内部に形成されるが、第１の誘電体層１３の上面には形成せずに作製した場合を示している。
また、図３（ｂ）で示した有機発光素子１０ｂは、発光部１７を第１の誘電体層１３の上面には形成せず、そして貫通部１６を全て埋めるように形成した場合を示している。この構成を採ることより、陰極層１４を、平面状に形成することができる。
更に、図３（ｃ）で示した有機発光素子１０ｃでは、貫通部１６が陰極層１４をも貫通し、発光部１７を第２の誘電体層１９上の貫通部１６の内部に沿わせる形で形成した場合を示している。この形態では、発光部１７が貫通部１６の一部にのみ充填する形となっている。そして、貫通部１６が陰極層１４に対しても形成されることで、陰極層１４を不透明材料により形成する場合でも、基板１１側のみならず、陰極層１４側からも光の取り出しが可能となる。
このような有機発光素子１０ａ，１０ｂ，１０ｃにおいても第１の誘電体層１３、第２の誘電体層１９を設けることで、光の取り出し効率が向上する。
【００４８】
図４は、本実施の形態が適用される有機発光素子の第５の例を説明した部分断面図である。
図４に示した有機発光素子１０ｄは、基板１１、陽極層１２、第１の誘電体層１３、陰極層１４、貫通部１６、発光部１７、第２の誘電体層１９の位置関係は、図１に示した有機発光素子１０と同様である。ただし、第１の誘電体層１３は、厚さが第２の誘電体層１９の厚さより小さくなるように作製されている。このようにすることで、第１の誘電体層１３と第２の誘電体層１９との間で生じる段差をより小さくすることができる。そのため図６で後述するように発光材料を塗布して、発光部１７および延伸部１７ａを形成する際のカバレッジ性がより向上する。そのためより安定的に発光部１７および延伸部１７ａを形成することができる。
【００４９】
また図５は、本実施の形態が適用される有機発光素子の第６の例を説明した部分断面図である。
図５に示した有機発光素子１０ｅは、基板１１、陽極層１２、第１の誘電体層１３、陰極層１４、貫通部１６、発光部１７、第２の誘電体層１９の位置関係は、図１に示した有機発光素子１０と同様である。ただし、第１の誘電体層１３の断面形状が貫通部１６と接する端部においてテーパ状となっている点が異なる。このようにすることで、陽極層１２と陰極層１４の間で発光する発光部１７の容積が増大するため、発光部１７から出射する光の量が増大しやすくなる。
更に有機発光素子１０ｅは、有機発光素子１０に対し、発光部１７は、陽極層１２の上面１２ｂにて更に接触する点で異なる。このようにすることで発光部１７の容積が増大しても陽極層１２から十分な量の電流を供給することができる。
なお第１の誘電体層１３の端部が本実施の形態のようになっていても、発光部１７から発した光は、第１の誘電体層１３に入射する際に、より基板１１の法線方向に近い角度に屈折する。
【００５０】
更に図６は、本実施の形態が適用される有機発光素子の第７の例を説明した部分断面図である。
図６に示した有機発光素子１０ｆは、基板１１、陽極層１２、第１の誘電体層１３、陰極層１４、貫通部１６、発光部１７、第２の誘電体層１９の位置関係は、図１に示した有機発光素子１０と同様である。ただし、貫通部１６は、陽極層１２および第１の誘電体層１３を貫通して形成される貫通上部１６ａと基板１１に形成される穿孔部１６ｂとからなる。このように穿孔部１６ｂを形成することで、穿孔部１６ｂの深さの分、第２の誘電体層１９の厚さを大きくすることができる。つまり穿孔部１６ｂの深さを調整することで、第２の誘電体層１９の厚さを調整することができる。穿孔部１６ｂは基板１１の上面から１ｎｍ〜１０００ｎｍの深さで形成することができる。
【００５１】
なお、以上詳述した有機発光素子１０，１０ａ〜１０ｆでは、基板１１側を下側とした場合、陽極層１２を下側に形成し、第１の誘電体層１３を挟み対向する形で陰極層１４を上側に形成する場合を例示して説明を行ったが、これに限られるものではなく、陽極層１２と陰極層１４を入れ替えた構造でもよい。即ち、基板１１側を下側とした場合、陰極層１４を下側に形成し、第１の誘電体層１３を挟み込み対向する形で陽極層１２を上側に形成する形態でもよい。
【００５２】
（有機発光素子の製造方法）
次に、本実施の形態が適用される有機発光素子の製造方法について、図１で説明を行った有機発光素子１０を製造する場合を例に取り説明を行う。
図７（ａ）〜（ｇ）は、本実施の形態が適用される有機発光素子１０の製造方法について説明した図である。
まず基板１１上に、第１の電極層である陽極層１２を形成する（図７（ａ））。本実施の形態では、基板１１として、ガラス基板を使用した。また陽極層１２を形成する材料としてＩＴＯを使用した。
陽極層１２を基板１１上に形成するには、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などを用いることができる。また、塗布成膜方法、即ち、目的とする材料を溶剤に溶解させた状態で基板１１に塗布し乾燥する方法が可能な場合は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、インクジェット法、印刷法、スプレー法、ディスペンサー法などの方法を用いて成膜することも可能である。
【００５３】
次に、陽極層１２を貫通する形で貫通孔１６ｃの形成を行う。ここで貫通孔１６ｃを形成するには、例えば、リソグラフィを用いた方法が使用できる。これを行うには、まず陽極層１２の上にレジスト液を塗布し、スピンコート等により余分なレジスト液を除去して、レジスト層７１を形成する（図７（ｂ））。
【００５４】
そして、貫通孔１６ｃを形成するための所定のパターンが描画されたマスク（図示せず）をかぶせ、紫外線（ＵＶ：Ultra Violet）、電子線（ＥＢ：Electron Beam）等により露光を行うと、レジスト層７１に貫通孔１６ｃに対応した所定のパターンが露光される。そして現像液を用いてレジスト層７１の露光部分を除去すると、露光されたパターンの部分のレジスト層７１が除去される（図７（ｃ））。これにより露光されたパターンの部分に対応して、陽極層１２の表面が露出する。
【００５５】
次に、残存したレジスト層７１をマスクとして、露出した陽極層１２の部分をエッチング除去する（図７（ｄ））。エッチングとしては、ドライエッチングとウェットエッチングの何れをも使用することができる。またこの際に等方性エッチングと異方性エッチングを組合せることで、貫通孔１６ｃの形状の制御を行うことができる。ドライエッチングとしては、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ：Reactive Ion Etching）や誘導結合プラズマエッチングが利用でき、またウェットエッチングとしては、希塩酸や希硫酸への浸漬を行う方法などが利用できる。このエッチングにより上記パターンに対応して、基板１１の表面が露出する。
【００５６】
次に残存したレジスト層７１をレジスト除去液等により除去し、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９の形成を行なう（図７（ｅ））。本実施の形態では、第１の誘電体層１３を形成する材料として二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を使用した。第１の誘電体層１３の形成についても、陽極層１２の形成と同様に抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、塗布法などを用いることができる。そして、これらの方法を使用することで、第１の誘電体層１３と第２の誘電体層１９とを共に形成することができる。そして、第１の誘電体層１３が陽極層１２の上に積層して形成されることで貫通部１６が形成され、第２の誘電体層１９は、貫通部１６の底部に形成される。なお第１の誘電体層１３と第２の誘電体層１９を別々に形成することもできるが、本実施の形態のように同じ材料からなる第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を一度に形成することで、有機発光素子１０の製造がより容易になる。
なお第１の誘電体層１３と第２の誘電体層１９を別々に形成する場合は、例えば、基板１１上に陽極層１２を形成し、さらに陽極層１２上に第１の誘電体層１３を形成する。そして陽極層１２および第１の誘電体層１３を貫通する貫通部１６を形成し、その後で、貫通部１６内に第２の誘電体層１９を形成すればよい。この場合、陽極層１２、第１の誘電体層１３、貫通部１６、および第２の誘電体層１９は、上述した場合と同様の方法により形成することができる。
【００５７】
次に、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９上に発光材料を含む発光部１７を形成する（図７（ｆ））。発光部１７の形成には、発光部１７の説明において前述した塗布法が用いられる。具体的には、まず発光部１７を構成する発光材料を、有機溶媒や水等の所定の溶媒に分散させた発光材料溶液（塗布液）を塗布する。塗布を行う際にはスピンコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティング法、インクジェット法、スリットコーティング法、ディスペンサー法、印刷等の種々の方法を使用することができる。塗布を行った後は、加熱あるいは真空引きを行うことで発光材料溶液を乾燥させ、発光材料が貫通部１６の内面に固着し、発光部１７が形成される。この際、発光部１７は、第１の誘電体層１３上に展開した形で形成される。この形態によれば、塗布を行なった後、貫通部１６以外の部分に塗布された塗布液を除去する必要がなくなるため、貫通部１６の内部だけに発光部１７を形成する場合に比べ有機発光素子１０の製造がより容易になる。
【００５８】
そして、第２の電極層である陰極層１４を、発光部１７上に積層する形で形成する（図７（ｇ））。陰極層１４を形成するには、陽極層１２を形成する方法と同様の方法で行うことができる。
【００５９】
以上の工程により、有機発光素子１０を製造することができる。
本実施の形態による有機発光素子の製造方法では、陽極層１２を形成する工程の次に貫通孔１６ｃを形成する工程を設けている。そのため、陽極層１２を形成する工程の次に第１の誘電体層１３を形成し、それから陽極層１２および第１の誘電体層１３をエッチングすることで貫通部１６を形成する場合に比べ、次の利点を有する。
（１）陽極層１２および第１の誘電体層１３の２層をエッチングする場合は、工程の途中でレジスト層７１がエッチングにより消失してしまい、所期のパターン加工が達成できない場合があるが、本実施の形態の製造方法ではこのようなことが生じにくい。
（２）陽極層１２および第１の誘電体層１３の２層をエッチングする場合は、第１の誘電体層１３を形成する材料は、貫通部１６を形成する工程でパターン化可能なものに限定されるが、本実施の形態の製造方法では限定されない。
（３）陽極層１２および第１の誘電体層１３の２層をエッチングする場合は、第１の誘電体層１３は、貫通部１６を形成する工程でその物性が変化しないものに限定されるが、本実施の形態の製造方法では限定されない。
【００６０】
なお、図４に示した有機発光素子１０ｄを製造するには、上記の図７（ｅ）で示した誘電体層を形成する工程の後に、異方性エッチングを実施すればよい。異方性エッチングにより、第１の誘電体層１３の方が、第２の誘電体層１９より優先的にエッチングされるため、第１の誘電体層１３の厚さを、第２の誘電体層１９の厚さより小さくすることができる。なおこの工程は、誘電体層を形成する工程と発光部１７を形成する工程との間に、第１の誘電体層１３の厚さを小さくする薄膜化工程として捉えることができる。
【００６１】
また図５に示した有機発光素子１０ｅを製造するには、上記の図７（ｅ）で示した誘電体層を形成する工程の後に、等方性エッチングを実施すればよい。即ち、第１の誘電体層１３の端部が等方的にエッチングされることで、第１の誘電体層１３の端部はテーパ状になるように除去される。なおこの工程は、誘電体層を形成する工程と発光部１７を形成する工程との間に、陽極層１２の一部を露出させる電極層露出工程として捉えることができる。
【００６２】
第２の誘電体層１９を形成する際、貫通部１６内の陽極層１２の側面が第２の誘電体層１９を形成する材料の薄い層で必要以上に覆われる場合がある。この場合、陽極層１２から発光部１７への電荷注入が困難になることがある。これを解決するには、上記の電極層露出工程におけるエッチングと同様のエッチングを行い、このような薄い層を除去することで、陽極層１２の側面を適正に露出させればよい。
【００６３】
更に、図６に示した有機発光素子１０ｆを製造するには、上記の図７（ｄ）で示した陽極層１２を除去する工程の後に、更に基板１１の一部を穿つことで除去すればよい。これにより穿孔部１６ｂを形成することができる。基板１１の一部除去を行なうには、図７（ｅ）で説明した方法と同様のエッチングを用いる方法で可能である。
【００６４】
また、これら一連の工程後、有機発光素子１０を長期安定的に用い、有機発光素子１０を外部から保護するための保護層や保護カバー（図示せず）を装着することが好ましい。保護層としては、高分子化合物、金属酸化物、金属フッ化物、金属ホウ化物、窒化ケイ素、酸化ケイ素等のケイ素化合物などを用いることができる。そして、これらの積層体も用いることができる。また、保護カバーとしては、ガラス板、表面に低透水率処理を施したプラスチック板、金属などを用いることができる。この保護カバーは、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂で基板１１と貼り合わせて密閉する方法を採ることが好ましい。またこの際に、スペーサを用いることで所定の空間を維持することができ、有機発光素子１０が傷つくのを防止できるため好ましい。そして、この空間に窒素、アルゴン、ヘリウムのような不活性なガスを封入すれば、上側の陰極層１４の酸化を防止しやすくなる。特にヘリウムを用いた場合、熱伝導が高いため、電圧印加時に有機発光素子１０より発生する熱を効果的に保護カバーに伝えることができるため、好ましい。更に酸化バリウム等の乾燥剤をこの空間内に設置することにより上記一連の製造工程で吸着した水分が有機発光素子１０にダメージを与えるのを抑制しやすくなる。
【実施例】
【００６５】
（実施例１）
［燐光発光性高分子化合物の作製］
下記の式Ｅ−２で表される化合物（重合性置換基を有するイリジウム錯体）、式Ｅ−５４で表される化合物（正孔輸送性化合物）、および式Ｅ−６６で表される化合物（電子輸送性化合物）をＥ−２：Ｅ−５４：Ｅ−６６＝１：４：５（質量比）の割合で脱水トルエンに溶解させ、更に重合開始剤として、Ｖ−６０１（和光純薬工業株式会社製）を溶解させた。そして、凍結脱気操作を行った後に真空密閉し、７０℃で１００時間攪拌して重合反応を行なった。反応後、反応液をアセトン中に滴下して沈殿を生じさせ、更に、この脱水トルエン−アセトンでの再沈殿精製を３回繰り返して燐光発光性高分子化合物を精製した。ここで、脱水トルエンおよびアセトンとしては、和光純薬工業株式会社製の高純度グレードのものを更に蒸留したものを用いた。
３回目の再沈殿精製後の溶剤を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、溶剤中に４００ｎｍ以上での吸収を有する物質が検出されないことを確認した。即ち、このことは溶剤中に、不純物がほとんど含まれないということであり、燐光発光性高分子化合物を十分に精製できていることを意味する。そして、精製された燐光発光性高分子化合物を、室温で２日間かけて真空乾燥させた。その結果得られた燐光発光性高分子化合物（ＥＬＰ）は、純度が９９．９％を超えることを高速液体クロマトグラフィー（検出波長２５４ｎｍ）により確認した。【００６６】
【化１】
2012176335.tif 000003
【００６７】
［発光材料溶液の調製］
このように作製した発光性高分子化合物（重量平均分子量＝５２０００）３重量部を９７重量部のトルエンに溶解させ、発光材料溶液（以下、「溶液Ａ」ともいう。）を調製した。【００６８】
［有機発光素子の作製］
有機発光素子として、図１で示した有機発光素子１０を、以下の方法で作製した。
具体的には、まず石英ガラスからなるガラス基板（２５ｍｍ角、厚さ１ｍｍ）上に、スパッタ装置（キヤノンアネルバ株式会社製Ｅ−４０１ｓ）を用いて、ＩＴＯ膜を１５０ｎｍ成膜した。ここで、ガラス基板は、基板１１に対応する。またＩＴＯ膜は陽極層１２に対応する。【００６９】
次に、フォトレジスト（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製ＡＺ１５００）をスピンコート法により約１μｍ成膜した。紫外線による露光後、ＴＭＡＨ（Tetra methyl ammonium hydroxide：（ＣＨ３）４ＮＯＨ）１．２％液により現像し、レジスト層をパターン化した。そしてこの後に、１３０℃で１０分間熱を加えた（ポストベイク処理）。【００７０】
次に反応性イオンエッチング装置（サムコ株式会社製ＲＩＥ−２００ｉＰ）を用いてドライエッチングすることで、ＩＴＯ膜をエッチングした。ＩＴＯ膜のエッチング条件としては、反応ガスとしてＣｌ２とＳｉＣｌ４の混合ガスを使用し、圧力１Ｐａ、出力Ｂｉａｓ／ＩＣＰ＝２００／１００（Ｗ）で、８分間反応させた。【００７１】
このドライエッチング処理により、陽極層１２としてのＩＴＯ膜を貫通する貫通孔１６ｃが形成された。そしてレジスト除去液によりレジスト残渣を除去した。貫通孔１６ｃは、陽極層１２面内に六方格子状に配列された直径１μｍの円柱形状であり、貫通孔１６ｃのエッジ間の距離は１μｍとなった。【００７２】
そしてスパッタ装置（キヤノンアネルバ株式会社製Ｅ−４０１ｓ）を用いて、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を１２０ｎｍ形成した。この工程により、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を共に形成することができる。【００７３】
次にガラス基板に純水を吹きかけることにより洗浄を行ない、スピン乾燥装置を用いて乾燥させた。【００７４】
次に、溶液Ａをスピンコート法（回転数：３０００ｒｐｍ）により塗布し、次いで窒素雰囲気下、１２０℃で１時間放置し乾燥することで、発光部１７および延伸部１７ａを形成した。なお発光部１７の側面が、陽極層１２の側面１２ａにて接触する厚さは、３０ｎｍとなった。【００７５】
そして真空蒸着室に投入し、真空蒸着装置で発光部１７および延伸部１７ａ上に陰極バッファ層として厚さ２．０ｎｍのナトリウム（Ｎａ）膜を形成した。続いて陰極層１４として、厚さ１５０ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）膜を形成した。以上の工程により有機発光素子１０を作製することができた。【００７６】
（実施例２）
第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を形成する材料として、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の代わりにフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）を使用し、フッ化マグネシウム層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして、有機発光素子１０を作製した。なおフッ化マグネシウム層は、二酸化ケイ素層と同様にスパッタにより形成することができる。また膜厚は、１２０ｎｍとした。【００７７】
（実施例３）
第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を形成する材料として、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の代わりにフッ化ナトリウム（ＮａＦ）を使用し、フッ化ナトリウム層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして、有機発光素子１０を作製した。なおフッ化ナトリウム層は、真空蒸着を行なうことにより形成することができる。また膜厚は、１２０ｎｍとした。【００７８】
（実施例４）
有機発光素子として、図４で示した有機発光素子１０ｄを、実施例１に対し、以下の点を変更することにより作製した。
第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９としての二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を１４０ｎｍ形成した後に、反応性イオンエッチング装置（サムコ株式会社製ＲＩＥ−２００ｉＰ）を用いて、異方性エッチングを実施した。エッチング条件としては、反応ガスとしてＣＨＦ３を使用し、圧力０．２Ｐａ、出力Ｂｉａｓ／ＩＣＰ＝１２０／１００（Ｗ）で、１０分間反応させた。
これにより第２の誘電体層１９の膜厚は、１４０ｎｍでありほとんど変化がなかったが、第１の誘電体層１３は９０ｎｍとなり薄膜化された。なお本実施の形態の場合、発光部１７の側面が、陽極層１２の側面１２ａにて接触する厚さは、１０ｎｍとなる。また他は、実施例１と同様の工程を実施した。【００７９】
（実施例５）
有機発光素子として、図５で示した有機発光素子１０ｅを、実施例１に対し、以下の点を変更することにより作製した。
第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９としての二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を１４０ｎｍ形成した後に、反応性イオンエッチング装置（サムコ株式会社製ＲＩＥ−２００ｉＰ）を用いて、等方性エッチングを実施した。エッチング条件としては、反応ガスとしてＣＨＦ３を使用し、圧力０．７Ｐａ、出力Ｂｉａｓ／ＩＣＰ＝４０／１００（Ｗ）で、１５分間反応させた。
これにより第１の誘電体層１３の貫通部１６と接する端部がエッチングされテーパ状となった。またこれにより発光部１７は、陽極層１２の上面１２ｂと２０ｎｍの幅で接触する状態となった。なお他は、実施例１と同様の工程を実施した。【００８０】
（実施例６）
有機発光素子として、図５で示した有機発光素子１０ｅを、実施例１に対し、以下の点を変更することにより作製した。
第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を塗布法で形成した。
具体的には、塗布型シリコーン（東京応化工業株式会社製ＯＣＤ  Ｔｙｐｅ２  Ｓｉ−４９０００−ＳＧ)を、エタノールと酢酸エチルとを１：１で体積混合した溶媒を使用して５０ｗｔ％に希釈した。そして、スピンコーター（回転数２０００ｒｐｍで３０秒間）で塗布を行なった。その後、３００℃で１時間熱処理した。その結果、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９の基となるシリコーン層が陽極層１２上で１３０ｎｍ、貫通部１６の底部で１６０ｎｍの厚さで連続する層として形成された。そしてこの状態で、異方性エッチングを実施した。これにより第１の誘電体層１３の貫通部１６と接する端部がエッチングされテーパ状となった。またこれにより第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９が分離して形成され、それぞれの厚さは、１００ｎｍおよび１４０ｎｍであった。また発光部１７は、陽極層１２の側面１２ａにて１０ｎｍの厚さで接触する状態となった。なお他は、実施例１と同様の工程を実施した。【００８１】
（実施例７）
有機発光素子として、図６で示した有機発光素子１０ｆを、実施例１に対し、以下の点を変更することにより作製した。
陽極層１２としてのＩＴＯ膜をエッチングして貫通上部１６ａを形成した後に、反応性イオンエッチング装置（サムコ株式会社製ＲＩＥ−２００ｉＰ）を用いてドライエッチングを行なった。反応条件としては、反応性イオンエッチング装置内に酸素ガスを導入し、交流電圧を印加し放電させることで酸素プラズマを生成させ、ガラス基板に照射することで行なった。ここでプラズマ生成装置内に導入する酸素ガス流量を調整し、圧力は１Ｐａ、投入電力は１５０Ｗで３０秒間になるようにして処理を行なった。次いで、導入するガスの種類を酸素からＣＨＦ３ガスに切り替えた。ここで流量を制御することで圧力を７Ｐａとした。そしてＰＥモードで投入電力３００Ｗにて１０秒間処理を行なった。その結果、深さ１００ｎｍの穿孔部１６ｂを形成することができた。
また第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９としての二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層は２００ｎｍとした。よって実施の形態の場合、発光部１７の側面が、陽極層１２の側面１２ａにて接触する厚さは、５０ｎｍとなる。なお他は、実施例１と同様の工程を実施した。【００８２】
（実施例８）
有機発光素子として、図１で示した有機発光素子１０を作製した。このとき発光部１７を真空蒸着法で成膜した。
つまり、実施例１で、溶液Ａを塗布する代わりに、文献（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ  ２（２００１）Ｐ３７−４３）のＦｉｇ．１においてＤＥＶＩＣＥ  ＩＩとして開示されている積層構造を形成した。具体的には、洗浄を行った基板を真空蒸着装置内に設置し、ここにαＮＰＤ（株式会社同人化学研究所製）を５０ｎｍ、ＣＢＰ（株式会社同人化学研究所製）とＩｒ（ｐｐｙ）３（株式会社同人化学研究所製）とを９５：５の比率で共蒸着した層を２０ｎｍ、ＢＣＰ（株式会社同人化学研究所製）を１０ｎｍ、Ａｌｑ３（株式会社同人化学研究所製）を４０ｎｍの順序で蒸着することで、発光部１７を形成した。
なお本実施の形態では、陰極バッファ層および陰極層１４として、Ａｇ：Ｍｇ（重量比率２５：１）膜１００ｎｍを形成した。また他は、実施例１と同様の工程を実施した。【００８３】
（実施例９）
有機発光素子として、図１で示した有機発光素子１０を作製した。このとき下記の方法で作製することで、光を下面（陽極層１２側）と上面（陰極層１４側）の両方から取り出すことができるようにした。
実施例１で、石英ガラスからなるガラス基板（２５ｍｍ角、厚さ１ｍｍ）上に、陽極層１２としてＩＴＯ膜を成膜する代わりに、同スパッタ装置を用いて、銀（Ａｇ）層を１５０ｎｍ成膜した。このようにして成膜した銀層は、可視光に対して不透明であった。
また銀膜のエッチング条件としては、反応ガスとしてＣｌ２ガスを使用し、圧力１Ｐａ、出力Ｂｉａｓ／ＩＣＰ＝２００／１００（Ｗ）で、６分間反応させた。その結果、Ａｇ層のない部分から光を取り出すことができるようになった。
そしてアルミニウム層を成膜する際に、その膜厚を１０ｎｍとし、これに重ねて抵抗加熱蒸着法によりＩＴＯ膜を１００ｎｍを成膜した。このようにして成膜したアルミニウム層およびＩＴＯ膜からなる陰極層１４は、可視光に対して透明であった。また他は、実施例１と同様の工程を実施した。【００８４】
（比較例１）
図８の構造を有する有機発光素子を以下の方法により作製した。
具体的には、まず石英ガラスからなるガラス基板（２５ｍｍ角、厚さ１ｍｍ）上に、スパッタ装置（キヤノンアネルバ株式会社製Ｅ−４０１ｓ）を用いて、ＩＴＯ膜を１５０ｎｍ、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を１２０ｎｍ成膜した。ここで、ガラス基板は、基板１１に対応する。またＩＴＯ膜は陽極層１２に、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層は誘電体層１３２に対応する。【００８５】
次に、フォトレジスト（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製ＡＺ１５００）をスピンコート法により約１μｍ成膜した。紫外線による露光後、ＴＭＡＨ（Tetra methylammonium hydroxide：（ＣＨ３）４ＮＯＨ）１．２％液により現像し、レジスト層をパターン化した。そしてこの後に、１３０℃で１０分間熱を加えた（ポストベイク処理）。【００８６】
次に反応性イオンエッチング装置（サムコ株式会社製ＲＩＥ−２００ｉＰ）を用いてドライエッチングすることで、二酸化ケイ素層をエッチングした。二酸化ケイ素層のエッチング条件としては、反応ガスとしてＣＨＦ３を使用し、圧力０．３Ｐａ、出力Ｂｉａｓ／ＩＣＰ＝５０／１００（Ｗ）で、１８分間反応させた。【００８７】
このドライエッチング処理により、誘電体層１３２としての二酸化ケイ素層を貫通する貫通部１６が形成された。そしてレジスト除去液によりレジスト残渣を除去した。貫通部１６は、陽極層１２面内に六方格子状に配列された直径１μｍの円柱形状であり、貫通部１６のエッジ間の距離は１μｍとなった。なお陽極層１２としてのＩＴＯ膜は本比較例における形態では、エッチングされずにそのままベタ膜状に残存する。【００８８】
次にガラス基板に純水を吹きかけることにより洗浄を行ない、スピン乾燥装置を用いて乾燥させた。【００８９】
次に、溶液Ａをスピンコート法（回転数：３０００ｒｐｍ）により塗布し、次いで窒素雰囲気下、１２０℃で１時間放置し乾燥することで、発光部１７および延伸部１７ａを形成した。【００９０】
そして真空蒸着室に投入し、真空蒸着装置で発光部１７および延伸部１７ａ上に陰極バッファ層として厚さ２．０ｎｍのナトリウム（Ｎａ）膜を形成した。続いて陰極層１４として、厚さ１５０ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）膜を形成した。以上の工程により有機発光素子を作製することができた。【００９１】
（比較例２）
有機発光素子として、比較例１で説明した有機発光素子と同様の構造を有するものを作製した。ただし、発光部１７を実施例８で説明した真空蒸着法により成膜した。このとき使用した材料および積層構造は実施例８と同様にして実施した。また、陰極バッファ層および陰極層１４として、Ａｇ：Ｍｇ（重量比率２５：１）膜１００ｎｍを形成した。【００９２】
（比較例３）
比較例１に対し、以下の点を変更することにより、図９の構造を有する有機発光素子を作製した。このとき陽極層１２としてＩＴＯ膜を形成した後に、誘電体層１３２として二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を１２０ｎｍ形成した。そして誘電体層１３２をドライエッチングによりパターン化した。その後、続けてＩＴＯ膜をエッチングした。ＩＴＯ膜のエッチング条件としては、反応ガスとしてＣｌ２とＳｉＣｌ４の混合ガスを使用し、圧力１Ｐａ、出力Ｂｉａｓ／ＩＣＰ＝２００／１００（Ｗ）で、８分間反応させた。このドライエッチング処理により、陽極層１２としてのＩＴＯ膜を貫通する貫通部１６が形成された。そしてレジスト除去液によりレジスト残渣を除去した。形成された貫通部１６は、陽極層１２面内に六方格子状に配列された直径１μｍの円柱形状であり、貫通部１６のエッジ間の距離は１μｍとなった。【００９３】
（比較例４）
有機発光素子として、比較例３で説明した有機発光素子と同様の構造を有するものを作製した。ただし、比較例３に対し以下の点を変更した。つまり陽極層１２としてＩＴＯ膜を成膜する代わりに、同スパッタ装置を用いて、銀（Ａｇ）層を１５０ｎｍ成膜した。そして誘電体層１３２として二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を１２０ｎｍ形成した。その後誘電体層１３２をエッチングし、さらに続けて銀膜をエッチングした。銀膜のエッチング条件としては、反応ガスとしてＣｌ２ガスを使用し、圧力１Ｐａ、出力Ｂｉａｓ／ＩＣＰ＝２００／１００（Ｗ）で、６分間反応させた。その結果、Ａｇ層のない部分から光を取り出すことができるようになった。
そしてアルミニウム層を成膜する際に、その膜厚を１０ｎｍとし、これに重ねて抵抗加熱蒸着法によりＩＴＯ膜を１００ｎｍ成膜した。このようにして成膜したアルミニウム層およびＩＴＯ膜からなる陰極層１４は、可視光に対して透明であった。また他は、実施例３と同様の工程を実施した。【００９４】
実施例１〜９および比較例１〜４で作製した有機発光素子に、定電圧電源電流計（ケイスレーインスツルメンツ株式会社製ＳＭ２４００）を用いて段階的に電圧を印加し、有機発光素子の発光強度を輝度計（株式会社トプコン製ＢＭ−９）で計測した。そして、電流密度に対する発光強度の比から発光効率を決定した。ただし実施例９については、光が下面（陽極層１２側）に加えて、上面（陰極層１４側）からも放出するために、上面でも同じ測定を行い、発光効率は上面と下面での測定値の合計とした。
また第２の誘電体層１９の屈折率を波長５５０ｎｍの光の場合で測定した。
結果を以下の表１に示す。なお発光効率の結果は、比較例１を１．０として規格化した数値である。また比較例１〜４については、第２の誘電体層１９との比較で、発光部１７の屈折率を記載した。なお、ＩＴＯの屈折率は１．７５であった。【００９５】
以上の評価結果を表１にまとめて示す。【００９６】
【表１】
2012176335.tif 000004
【００９７】
まず発光部１７を塗布法により形成した実施例１〜３と比較例１、３とを比較すると、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を形成した方が、発光効率がよいことがわかる。また実施例１で示した有機発光素子の作製方法は、比較例３の作製方法と比較しエッチングは陽極層１２であるＩＴＯ膜のみとなる。そのため実施例１では、比較例３のように第２の誘電体層１９と陽極層１２を連続してドライエッチングする必要がないため、安定的に有機発光素子を作製することができるという利点がある。また実施例１〜３をそれぞれ比較すると、実施例２の方が実施例１より、さらに実施例３の方が実施例１より発光効率がよくなっている。これは、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を形成する材料の差異によるものと考えられる。即ち、実施例１で使用した二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）より、実施例２、実施例３で使用したフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）の方が、低屈折率であり、より低屈折率の材料を使用した方が、発光効率はよくなるものと考えられる。また実施例３のように、フォトリソグラフィが困難である水溶性のフッ化ナトリウム（ＮａＦ）を使用した場合でも発光効率はよくなっており、このように真空蒸着法で形成可能な材料も使用可能であると言える。【００９８】
次に実施例４〜７と比較例１、３とを比較するといずれの実施例も比較例より発光効率が向上していることがわかる。このことから、実施例４のように第１の誘電体層１３が第２の誘電体層１９より薄い場合でも発光効率が向上することがわかる。また、実施例５のように、発光部１７が陽極層１２の上面とも接触する場合でも発光効率が向上することがわかる。
また実施例６のように、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を塗布法で形成した場合でも発光効率はよくなっており、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を形成するのに塗布法も適用可能であると言える。塗布法を採用することで、（１）塗布成膜でしか形成できない材料も使用できるため、適用できる材料の幅が広がる（つまり、スパッタ等による真空成膜より安価な材料あるいは特性の良い塗布材料があった場合でも適用できる）、（２）一般に塗布法による成膜は、スパッタ等による真空成膜より安価（設備が安価）である、という利点が生じる。【００９９】
そして実施例１と実施例７を使用すると穿孔部１６ｂを形成した方が、発光効率はよく、穿孔部１６ｂを形成することにより発光効率は、より向上することがわかる。【０１００】
更に実施例９と比較例１、比較例４を比較する。実施例９、比較例４は、陽極層１２側および陰極層１４側の両側から光を取り出せるものである。実施例９の場合でも発光効率は、比較例１より大きくなっており、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を設けた効果があることがわかる。ただし、陰極層１４側からの光はＩＴＯ膜を通過するために、実施例１と比較して発光効率が低下する。実施例９は比較例１と陽極層１２および陰極層１４の材料や膜厚が異なるため、同じ様に作製した比較例４と比較すると、発光効率が向上していることがわかる。このことから実施例９のような電極材料を用い、両側から光を取り出す構造でも、第２の誘電体層１９を設ける効果があると言える。さらに実施例９は比較例４と比べて、発光部１７の貫通部１６における底面と第１の誘電体層１３および誘電体層１３２上部との段差が小さくなるため、発光部１７および延伸部１７ａを形成する際のカバレッジ性を向上させることができる。そのため、短絡やショートの少ない有機発光素子を安定して作製することができる。【０１０１】
一方、実施例８と比較例２は、発光部１７を真空蒸着法で成膜したものである。実施例８と比較例２の結果より、第１の誘電体層１３および第２の誘電体層１９を設けることで発光効率に優れた有機発光素子が作製できることがわかる。しかしながら、実施例８と実施例１を比較すると、塗布法により発光部１７を形成した方が、発光効率がよい。これは、真空蒸着法では、塗布法に比べ貫通部１６内に発光材料が均質な膜厚で充填されにくいためであると考えられる。
【符号の説明】
【０１０２】
１０…有機発光素子、１１…基板、１２…陽極層、１３…第１の誘電体層、１４…陰極層、１６…貫通部、１６ａ…貫通上部、１６ｂ…穿孔部、１７…発光部、１９…第２の誘電体層
【図１】
2012176335.tif 000005
【図２−１】
2012176335.tif 000006
【図２−２】
2012176335.tif 000007
【図３】
2012176335.tif 000008
【図４】
2012176335.tif 000009
【図５】
2012176335.tif 000010
【図６】
2012176335.tif 000011
【図７】
2012176335.tif 000012
【図８】
2012176335.tif 000013
【図９】
2012176335.tif 000014
【国際調査報告】
2012176335.tif 000015
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