(57)【要約】  本発明に係る塗布膜の乾燥方法は、乾燥箱内において塗布液の溶媒よりも沸点の低い溶媒の蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら溶媒の乾燥を行う場合において、製品表面に外観異常や性能故障が発現することを抑制することを目的とする。このため本発明に係る塗布膜の乾燥方法では、搬送される支持体上に高沸点溶媒を含む塗布液が塗布された塗布膜を乾燥点まで乾燥した後に、乾燥箱内において高沸点溶媒よりも沸点の低い溶媒蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら高沸点溶媒の乾燥を行う塗布膜の乾燥において、支持体は、乾燥箱内において、所定温度Ｔになるように加熱されて搬送されることを特徴とする。
2009063824.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送される支持体上に高沸点溶媒を含む塗布液が塗布された塗布膜を乾燥点まで乾燥した後に、乾燥箱内において前記高沸点溶媒よりも沸点の低い溶媒蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら前記高沸点溶媒の乾燥を行う塗布膜の乾燥方法であって、
前記支持体は、前記乾燥箱内において、所定温度Ｔになるように加熱されて搬送されることを特徴とする塗布膜の乾燥方法。
【請求項２】
前記乾燥箱は、内壁が加温されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項３】
前記支持体及び前記乾燥箱を加熱する加熱温度は、（前記所定温度Ｔ−５（℃））以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項４】
前記乾燥箱の前記支持体の出入口は、シールされていることを特徴とする請求項１〜３の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項５】
前記蒸気付与ノズルは保温されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項６】
前記過熱蒸気は、前記塗布膜に付与された後に、前記乾燥箱に設けられた排気系に排出されることを特徴とする請求項１〜５の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項７】
前記乾燥箱内では、前記支持体に接する加熱ロールを設けて加熱することを特徴とする請求項１〜６の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項８】
前記乾燥箱は、前記支持体の塗布膜面が垂直から下向きの範囲で通るように設けられているとともに、前記溶媒蒸気が前記塗布膜に下側から塗布膜に向かって付与される位置に前記蒸気付与ノズルが設けられていることを特徴とする請求項１〜７の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項９】
前記乾燥箱の天井内側面には、前記支持体の進行方向に対して平行な略等間隔の溝又は樋を設けていることを特徴とする請求項１〜８の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項１０】
前記溶媒蒸気は、セパレータフィルターにより含有液滴と異物を除去した過熱蒸気であることを特徴とする請求項１〜９の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項１１】
前記過熱蒸気は、熱風と混合させて前記塗布膜に付与することを特徴とする請求項１〜１０の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法を用いたことを特徴とする平版印刷版原版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法であって、特に、搬送される支持体上に高沸点溶媒を含む塗布液が塗布された塗布膜を乾燥点まで乾燥した後に、乾燥箱内において前記高沸点溶媒よりも沸点の低い溶媒蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら前記高沸点溶媒の乾燥を行う塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータを用いて画像情報を電子的に処理するディジタル化技術が普及してきており、このようなディジタル化技術に対応した新しい製版技術が実用化されている。具体的には、レーザ光のような指向性の高い光をディジタル化された画像情報に従って変調し、このレーザ光を用いて平版印刷版の原版を走査露光することにより、リスフィルムを介することなく直接印刷版を製造するコンピュータトゥプレート（ＣＴＰ）技術が実用化され、このＣＴＰ技術に適応する、所謂ディジタルダイレクト刷版の需要が増加しつつある。【０００３】
このようなディジタルダイレクト刷版の一つとして、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版がある。赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版は、通常、アルミニウム板等の支持体上に、感光層となる塗布液を塗布した後、ヒータ等で加熱する又は熱風を吹き付ける等の方法により乾燥されて製造されている。ここで、感光層中に含まれる溶媒をできるだけ乾燥除去させることが、平版印刷版原版の品質上好ましい。【０００４】
乾燥する方法として、平版印刷版原版に限らず、熱風を用いる方法が一般的であるが、近年、溶媒蒸気を含有する熱風を用いて乾燥する方法が提案されている。例えば、特許文献１には、過熱蒸気を使用して水分を含む被乾燥物を連続的に乾燥する乾燥方法について開示されており、特許文献２には、高温の過熱蒸気をシートに印刷用のインキに当てて加熱し乾燥させ、シートの含水率を調整させる印刷方法について開示されており、特許文献３には、過熱蒸気を使用した食品の乾燥方法について開示されている。
【特許文献１】特表平９−５０２２５２号公報
【特許文献２】特開２００２−１９３１０号公報
【特許文献３】特開２００２−３３３２７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１〜３の方法において、搬送される支持体上に高沸点溶媒を含む塗布液を塗布することで塗布膜を形成し、該塗布膜を乾燥点まで乾燥した後に、乾燥箱内において前記高沸点溶媒よりも沸点の低い溶媒蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら前記高沸点溶媒の乾燥を行う場合に、周辺機器や製品表面に外観や性能故障を生じさせてしまうという問題があった。【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、乾燥箱内において塗布液の溶媒よりも沸点の低い溶媒の蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら溶媒の乾燥を行う場合においても、製品表面に外観異常や性能故障が発現することを抑制することのできる塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第一の態様に係る塗布膜の乾燥方法は、前記目的を達成するために、搬送される支持体上に高沸点溶媒を含む塗布液が塗布された塗布膜を乾燥点まで乾燥した後に、乾燥箱内において前記高沸点溶媒よりも沸点の低い溶媒蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら前記高沸点溶媒の乾燥を行う塗布膜の乾燥方法であって、前記支持体は、前記乾燥箱内において、所定温度Ｔになるように加熱されて搬送されることを特徴とする。【０００８】
本願発明者は、乾燥箱内において塗布液の溶媒よりも沸点の低い溶媒の蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら溶媒の乾燥を行う場合において、以下の知見を得た。即ち、塗布膜中の溶媒を過熱水蒸気雰囲気下で迅速に除去する場合において、その過熱水蒸気濃度がより濃い方が溶媒の除去能力が高いが、蒸気濃度が高ければ高くなるほど膜表面上で結露してしまう危険性が高く、結露してしまうと塗布膜面が乱れて、製品表面に外観異常や性能故障が発現してしまう。また、乾燥箱内の雰囲気が有機溶媒の場合も、低沸点の溶媒蒸気濃度が高いほうが能力高くなるが、高すぎると逆に低沸点溶媒が膜に吸収され乾燥速度を低下させてしまう。【０００９】
従って、乾燥箱内において塗布液の溶媒よりも沸点の低い溶媒の蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら溶媒の乾燥を行う場合において、結露防止しつつ、乾燥能力を最大限に引き出す必要がある。【００１０】
そこで、乾燥箱に入る前の支持体温度を測定して、支持体温度を調整し、結露しないようにして乾燥箱に搬送することとした。尚、温度調整方法としては、乾燥箱入口において、加熱ローラで加熱する方法、熱風吹き付けを行う方法、赤外線や加熱板等を用いた輻射熱で加熱をする方法、などが考えられる。【００１１】
第一の態様によれば、支持体は、乾燥箱内において所定温度Ｔになるように加熱されて搬送されることで、塗布膜に結露することによる製品表面の外観異常や性能故障を抑制することができる。【００１２】
本発明の第二の態様は第一の態様において、前記乾燥箱は、内壁が加温されていることを特徴とする。【００１３】
第二の態様によれば、乾燥箱の内壁が加温されていることで、内壁や蒸気付与ノズルに溶媒蒸気の結露による液滴が付くことを防止することができるので、結露した液滴が落下して塗布膜に付くことによる製品表面の外観異常や性能故障、及び、周辺機器に液滴が付くことによる機器故障を抑制することができる。【００１４】
尚、内壁を加温する方法としては、乾燥の熱風で内壁を暖めるとともに、断熱材で放熱を防止する保温構造、内壁と外壁を真空にする真空断熱構造、乾燥ゾーンの内壁と外壁の間に温水や蒸気を通す二重壁構造、内壁を電熱線で積極的に加熱する構造等にして、乾燥箱の内壁に水滴が付くことを防止することが好ましい。【００１５】
本発明の第三の態様は第一又は第二の態様において、前記支持体及び前記乾燥箱を加熱する加熱温度は、（前記所定温度Ｔ−５（℃））以上であることを特徴とする。【００１６】
第三の態様によれば、支持体及び乾燥箱を加熱する加熱温度は、（前記所定温度Ｔ−５（℃））以上であることで、塗布膜に結露することや、乾燥箱内に結露した液滴が落下して塗布膜に付くことによる製品表面の外観異常や性能故障、及び、周辺機器に液滴が付くことによる機器故障を抑制することができる。【００１７】
尚、ここで、所定温度Ｔ（℃）は乾燥箱内の供給蒸気量をＸ（ｇ／ｍ3 ）としたとき、Ｔ＝１６×Ｘ0.286 とすることが好ましい。この式は、飽和蒸気圧の算出式であるＷａｇｎｅｒ−Ｐｒｕｓｓの式を変形させたものである。【００１８】
本発明の第四の態様は第一乃至第三の態様のいずれかにおいて、前記乾燥箱の前記支持体の出入口は、シールされていることを特徴とする。【００１９】
第四の態様によれば、乾燥箱内からの蒸気洩れ、及び、外気の冷たい空気が流入することによる溶媒蒸気の結露を防止することができる。蒸気洩れや外気流入防止の方法として、乾燥箱の支持体の出入口を熱風にてエアーシールする方法、ロールや遮風板で蒸気漏洩を防ぐ方法をとる事が好ましい。尚、エアーシールする場合には、露点５〜１５℃の乾燥風で、風速５ｍ／ｓ以上であることが好ましい。【００２０】
本発明の第五の態様は第一乃至第四の態様のいずれかにおいて、前記蒸気付与ノズルは保温されていることを特徴とする。【００２１】
第五の態様によれば、蒸気付与ノズルが保温されていることで、蒸気付与ノズルに液滴が付くことを防止することができるので、塗布膜に液滴が付くことによる製品表面の外観異常や性能故障、及び、周辺機器に液滴が付くことによる機器故障を抑制することができる。【００２２】
本発明の第六の態様は第一乃至第五の態様のいずれかにおいて、前記過熱蒸気は、前記塗布膜に付与された後に、前記乾燥箱に設けられた排気系に排出されることを特徴とする。【００２３】
第六の態様によれば、過熱蒸気は排気系に排出されることで、支持体に同伴されて乾燥箱外に排出されないようにすることが好ましい。同伴されて乾燥箱外に排出されると水滴となり、製品表面に外観異常や性能故障を引き起こすからである。【００２４】
本発明の第七の態様は第一乃至第六の態様のいずれかにおいて、前記乾燥箱内では、前記支持体に接する加熱ロールを設けて加熱することを特徴とする。【００２５】
第七の態様によれば、乾燥箱に搬送された支持体が乾燥箱内で加熱されるので、支持体の温度を上昇させることができ、支持体上の結露を防ぐことができる。【００２６】
本発明の第八の態様は第一乃至第七の態様のいずれかにおいて、前記乾燥箱は、前記支持体の塗布膜面が垂直から下向きの範囲で通るように設けられているとともに、前記溶媒蒸気が前記塗布膜に下側から塗布膜に向かって付与される位置に前記蒸気付与ノズルが設けられていることを特徴とする。【００２７】
第八の態様によれば、万が一、蒸気付与ノズルに液滴が付着した場合においても、支持体に水滴が付くことがないようにできるので、製品表面の外観異常等を防止することができる。【００２８】
本発明の第九の態様は第一乃至第八の態様のいずれかにおいて、前記乾燥箱の天井内側面には、前記支持体の進行方向に対して平行な略等間隔の溝又は樋を設けていることを特徴とする。【００２９】
第九の態様によれば、万が一、乾燥箱の内側面に液滴が付着した場合においても、乾燥箱の上面に略等間隔の溝又は樋を設けているので、支持体に液滴が付くことを防止することができる。【００３０】
本発明の第十の態様は第一乃至第九の態様のいずれかにおいて、前記溶媒蒸気は、セパレータフィルターにより含有液滴と異物を除去した過熱蒸気であることを特徴とする。【００３１】
第十の態様によれば、溶媒蒸気として、セパレータフィルターにより含有液滴と異物を除去した過熱蒸気に変換されたものを用いる。このように、過熱蒸気をセパレータフィルターにより含有液滴と異物を除去した後に乾燥に使用することで、塗布膜の高沸点溶媒を効果的に除去することができるとともに、製品表面に異物を原因とする性能故障、もしくは液滴の付着による外観異常や性能故障を抑制することができる。【００３２】
尚、ここで、「乾燥点」とは、布で触れて布に塗布液が付着しない状態、又は、固形分濃度が６０％以上、好ましくは７０〜８０％の状態をいう。また、ここで、含有液滴とは、ミスト状の液滴をいい、ミスト粒径が２００ｎｍ以上のものをいう。【００３３】
本発明の第十一の態様は第一乃至第十の態様のいずれかにおいて、前記過熱蒸気は、熱風と混合させて前記塗布膜に付与することを特徴とする。【００３４】
第十一の態様は、過熱蒸気を熱風と混合させて塗布膜に付与させることも好ましい。【００３５】
本発明の第十二の態様は、第一乃至第十一の態様のいずれかに係る塗布膜の乾燥方法を用いたことを特徴とする平版印刷版原版の製造方法である。【００３６】
第十二の態様に係る塗布膜の乾燥方法を平版印刷版原版の製造に用いることで、好適に平版印刷版原版を製造することができる。
【発明の効果】
【００３７】
本発明の塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原反の製造方法によれば、乾燥箱内において塗布液の溶媒よりも沸点の低い溶媒の蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら溶媒の乾燥を行う場合において、製品表面に外観異常や性能故障が発現することを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】図１は、本実施形態における平版印刷版原版の製造ラインの基本的な構成を説明する図であり；
【図２】図２は、本発明に係る乾燥装置の構成の一例を説明する図であり；
【図３】図３は、過熱水蒸気乾燥部に係る構成の一例を説明する図であり；
【図４】図４は、本発明に係る過熱水蒸気乾燥部の基本的な構成を説明する図であり；
【図５Ａ】図５Ａは、本発明に係る過熱水蒸気乾燥部の出入口のシール方法の例を説明する図であり；
【図５Ｂ】図５Ｂは、本発明に係る過熱水蒸気乾燥部の出入口のシール方法の他の例を説明する図であり；
【図５Ｃ】図５Ｃは、本発明に係る過熱水蒸気乾燥部の出入口のシール方法のさらに他の例を説明する図であり；
【図６】図６は、本発明に係る過熱水蒸気乾燥部における支持体の温度を制御する方法を説明する図であり；
【図７】図７は、本発明に係る過熱水蒸気乾燥部の好ましい構成を説明する図であり；
【図８Ａ】図８Ａは、本発明に係る過熱水蒸気乾燥部の別態様を説明する図であり；
【図８Ｂ】図８Ｂは、図８Ａの態様における好ましい蒸気付与ノズルの例を説明する図である。
【符号の説明】
【００３９】
１０…平版印刷版原版の製造装置、１４…表面処理部、１６…塗布液調製・供給部、１８…塗布部（画像記録層）、２０…乾燥部（乾燥装置）、２２…塗布部（オーバーコート層）、２４…乾燥部（乾燥装置）、２８…熱風乾燥部、２９…過熱水蒸気乾燥部、３４，３４’…ノズル、３６…排気口、３８…熱風、４０…遮風板、４２…ロール、４４…溝又は樋、４６…加熱ロール、６０…熱風供給装置、６２…軟水装置、６４…ボイラー、６６…セパレータフィルター、６８…過熱水蒸気発生装置、７０…減圧弁、７２…蒸気流量計、８０…過熱水蒸気供給装置
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
以下添付図面に従って本発明に係る塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原反の製造方法の好ましい実施の形態を説明する。図１は、本発明に係る平版印刷版用原反の製造ライン１０の一例であり、以下この製造ライン１０の例で説明する。尚、本実施形態においては、平版印刷版原版の製造ラインにおいて、画像形成層塗布膜に含まれる難揮発性の溶媒を蒸発乾燥させるための乾燥装置を例に挙げて説明するが、この技術分野に限定されることはなく、各種技術分野における塗布膜の乾燥方法に適用可能である。【００４１】
まず、本発明の平版印刷版原版の製造装置１０の基本的な構成について説明する。【００４２】
図１は、本実施形態における平版印刷版の製造装置１０の基本的な構成を示す図である。尚、図１において、矢印Ａは、支持体１６の搬送方向を示す。【００４３】
図１の平版印刷版原版の製造ライン１０は、主に、支持体１６を送り出す送り出し装置１２と、支持体１６の塗布表面を処理する表面処理部１４と、支持体１６に画像形成層塗布液を塗布する塗布部１８と、塗布した画像記録層を乾燥させる乾燥部２０と、画像形成層の上にオーバーコート層を塗布する塗布部２２と、オーバーコート層を乾燥する乾燥部２４と、支持体１６を巻き取る巻き取り装置２６と、を備えている。尚、図１に示す平版印刷版原版の製造ライン１０は一例であり、例えば、画像形成層塗布液を塗布する前に下塗り塗布液を塗布する塗布部を設けてもよく、あるいはオーバーコート層の乾燥部２４の後に、オーバーコート層の水分を調湿する調湿装置等を設けてもよい。【００４４】
送り出し装置１２から送り出された支持体１６は、ガイドローラ２７、２７…等によって、ガイドされて各工程に搬送される。【００４５】
まず、表面処理部１４では、例えば、支持体１６と画像形成層との密着性を良好にし、かつ、非画像部に保水性を与えるため、脱脂処理、支持体１６の表面を粗面化する粗面化処理（砂目立て処理等）、支持体１６の耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために表面に酸化被膜を形成させる陽極酸化処理、陽極酸化被膜の被膜強度、親水性、画像形成層との密着性を向上させるシリケート処理等の、支持体１６に必要な前処理が施される。【００４６】
塗布部１８は、画像形成層塗布液を支持体１６表面に塗布する装置である。塗布方法としては、たとえば、スライドビード塗布方法、カーテン塗布方法、バー塗布方法、回転塗布方法、スプレー塗布方法、ディップ塗布方法、エアーナイフ塗布方法、ブレード塗布方法、ロール塗布方法等が使用され、特に限定されないが、中でも、スライドビード塗布方法、カーテン塗布方法、バー塗布方法等が好ましく使用される。尚、図１ではバー塗布として図示している。【００４７】
乾燥部２０は、支持体１６に形成された画像形成層を乾燥させる装置であり、本発明に係る過熱水蒸気乾燥部２９と、該過熱水蒸気乾燥部２９の前段及び後段に熱風乾燥部２８、冷却部３０を備えている。ここで、塗布された画像形成層塗布膜には、第１の溶媒として難揮発性の高沸点溶媒が含まれており、この第１の溶媒（以下、高沸点溶媒と記す）を効果的に蒸発乾燥させることが、平版印刷版原版の品質上、重要となる。尚、この乾燥部２０（以下、乾燥装置２０と記す）の詳細な構成については、後述する。【００４８】
塗布部２２は、画像形成層への酸素遮断、及び親油性物質による画像形成層表面の汚染防止のため、画像形成層上に水溶性オーバーコート層を形成する装置である。水溶性オーバーコート層は、印刷時容易に除去できるものであり、水溶性の有機高分子化合物から選ばれた樹脂を含有している。水溶性オーバーコート層の塗布方法としては、上述した塗布部１８と同様のものが使用できる。水溶性オーバーコート層が塗布された支持体１６は、乾燥部２４で乾燥された後、最終的に巻き取り装置２６により巻き取られるようになっている。【００４９】
次に、本発明に係る乾燥装置２０の構成の一例について説明する。【００５０】
図２は、本発明に係る乾燥装置２０の構成を説明する図である。図２に示されるように、乾燥装置２０は、主に、溶媒の蒸気雰囲気下で支持体１６を乾燥させる過熱水蒸気乾燥部２９と、過熱水蒸気乾燥部２９の前段で、支持体１６に熱風をあてて熱風乾燥させる熱風乾燥部２８と、過熱水蒸気乾燥部２９の後段で、支持体１６を冷風で冷却する冷却部３０と、を備えている。熱風乾燥部２８、過熱水蒸気乾燥部２９、冷却部３０には、支持体１６が出入りする開口が形成され、支持体１６の搬送方向に沿ったボックス形状になっている。【００５１】
熱風乾燥部２８、冷却部３０には、熱風又は冷風を支持体１６に吹き付けるノズル（不図示）が設けられている。これにより、熱風乾燥部２８は、過熱水蒸気乾燥部２９に搬送される前の支持体１６に熱風をあてて乾燥できるようになっており、冷却部３０は、過熱水蒸気乾燥部２９によって乾燥させた後の支持体１６に冷風をあてて冷却できるようになっている。尚、ノズルの個数や設置場所については限定されない。【００５２】
熱風乾燥部２８では、乾燥点（布で触れて布に塗工液が付着しない状態、表面光沢度が変化しない状態、又は、固形分濃度が６０％以上、好ましくは７０％〜８０％の状態）まで熱風等で乾燥が実施される。【００５３】
そして、本発明において、支持体１６は、過熱水蒸気乾燥部２９の乾燥箱３２内において、所定温度Ｔになるように加熱されて搬送されるようにする。【００５４】
乾燥箱３２内において塗布液の溶媒よりも沸点の低い溶媒の蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら溶媒の乾燥を行う場合において、結露防止しつつ、乾燥能力を最大限に引き出す必要があるからである。そこで、乾燥箱３２に入る前の支持体温度を測定して、支持体温度を調整し、結露しないようにして乾燥箱３２に搬送することとした。ここで、温度調整方法としては、図示しないが、乾燥箱入口において、加熱ローラで加熱する方法、熱風吹き付けを行う方法、赤外線や加熱板等を用いた輻射熱で加熱をする方法、などが考えられる。【００５５】
過熱水蒸気乾燥部２９は、支持体１６に塗布された画像形成層塗布膜の近傍に、溶媒蒸気を塗布膜面に付与することにより、画像形成層塗布膜に含まれる高沸点溶媒を蒸発乾燥できるようになっている。ここで、本実施形態においては、溶媒蒸気として過熱水蒸気を用いる。【００５６】
図３は、溶媒水蒸気を過熱水蒸気乾燥部２９に供給する過熱水蒸気供給装置８０の例を示す概要図である。まず、軟水装置６２に通された水は、ボイラー６４に供給され、供給された水はボイラー６４で水蒸気とされる。この水蒸気はセパレータフィルター６６により異物を除去した後、減圧弁７０を介して過熱水蒸気発生装置６８により過熱水蒸気とされ、蒸気流量計７２で所望の流量とし、過熱水蒸気乾燥部２９に供給される。ここで、例えば、ボイラー６４としては、三浦工業社製簡易貫流蒸気ボイラーＭＥ−４０、セパレータフィルター６６としては、ＴＬＶ社製セパレートフィルタＳＦ−１、過熱水蒸気発生装置６８としては、第一高周波工業社製過熱水蒸気発生装置Ｓｕｐｅｒ−Ｈｉ７０Ｗを好適に用いることができる。このようにして製造された過熱水蒸気を過熱水蒸気乾燥部２９に供給することが好ましい。【００５７】
そして、このようにして製造された過熱水蒸気は、図２に示すように、熱風供給装置６０の熱風と混合させて過熱水蒸気乾燥部２９に供給することが好ましい。【００５８】
過熱水蒸気乾燥部２９は、図４に示すように、支持体１６を収容する乾燥箱３２から成り、乾燥箱３２内には、蒸気付与ノズル３４が設けられている。そして、乾燥箱３２内の水蒸気を乾燥箱３２外に排出させるための排気口３６が設けられていることが好ましい。尚、水蒸気を乾燥箱３２外に排出させるためには、図４に示したものに限られず、支持体１６の出入口３２ａ、３２ｂに排気手段を設けることも考えられる。また、乾燥箱３２の内壁は加温されていることが好ましい。乾燥箱３２の内壁の加温の方法としては、放熱を防止することを目的として、断熱材を用いて乾燥熱風で自身の内壁を保温する構造、内壁と外壁を真空にする真空断熱構造や、内壁と外壁の間に温水や蒸気を通す二重壁構造や、内壁を電熱線で積極的に加熱する方法等何れでも良い。このとき、内壁の温度は乾燥箱３２の露点以上の温度とする。乾燥箱３２の材質としては、例えば、ＳＵＳ（３０４、３０６、３１６等）、鉄（ＳＥＣＣ等）が好ましい。断熱材の材質としては、グラスウール、ロックウール、ＡＬＫ２４等、断熱方法としては、セラミック溶射、セラミック入り塗料による塗装等が好ましい。過熱水蒸気量は、５０以上６００ｇ／ｍ３以下、好ましくは１００以上４００ｇ／ｍ３以下である。過熱水蒸気温度は、（熱風乾燥温度）±２０℃、好ましくは乾燥温度±５℃、水蒸気の乾き度は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。【００５９】
また、支持体１６及び乾燥箱３２を加熱する加熱温度は、（所定温度Ｔ−５（℃））以上であることが好ましい。支持体及び乾燥箱を加熱する加熱温度を、（前記所定温度Ｔ−５（℃））以上にすることで、塗布膜に結露することや、乾燥箱内に結露した液滴が落下して塗布膜に付くことによる製品表面の外観異常や性能故障、及び、周辺機器に液滴が付くことによる機器故障を抑制することができる。【００６０】
尚、ここで、所定温度Ｔ（℃）は乾燥箱内の供給蒸気量をＸ（ｇ／ｍ3 ）としたとき、Ｔ＝１６×Ｘ0.286 とすることが好ましい。この供給蒸気量Ｘについて、湿度１００％を飽和絶対湿度という蒸気量で表現すると、例えば、１００℃の場合には約５９０ｇ／ｍ3 、１５０℃の場合には約２４７５ｇ/ｍ3 、２００℃の場合には約７３３０ｇ/ｍ3 となる。よって、ある蒸気（供給蒸気量Ｘ）が供給されたとき、湿度１００％にならないように支持体の温度Ｔを調整することが必要であり、例えば、５９０ｇ／ｍ3 の蒸気が供給された場合、支持体温度Ｔを１００℃以上にすることが好ましい。【００６１】
また、図５Ａ乃至図５Ｃに示すように、乾燥箱３２の出入口３２ａ、３２ｂには、過熱水蒸気の漏れと外気の流入を防止するために、シールされていることが好ましい。蒸気洩れや外気流入防止の方法として、乾燥箱の支持体の出入口を熱風にてエアーシールする方法、ロールや遮風板で蒸気漏洩を防ぐ方法をとる事が好ましい。尚、エアーシールする場合には、露点５〜１５℃の乾燥風で、風速５ｍ／ｓ以上であることが好ましい。【００６２】
図５Ａは熱風３８によってシールした場合であり、熱風３８の流れで蒸気がシール中を拡散通過することを防止することができる。図５Ｂは熱風３８及び遮風板４０でシールした場合であり、蒸気が外部に漏れ出す開口部を物理的に狭くすることができる。図５Ｃは熱風３８及びロール４２でシールした場合である。これらのシール手段は、複数を組み合わせて用いることも可能で、それによりさらに効果的に恒温の加熱蒸気を装置内にシールできる。【００６３】
更に、蒸気付与ノズル３４は、保温されていることが好ましい。その場合、蒸気付与ノズル３４は、断熱材や二重構造（熱媒体を流入させる）で保温する構造が用いられ、且つ、幅方向に均一に蒸気を付与出来る構造とする。尚、蒸気付与ノズル３４の吹き出し口形状は、スリット、直列孔、ランダム孔（パンチングメタル構造）等何れでもよいが、結露や水滴付与防止のため、二重管構造や断熱構造をとることが好ましい。また、ノズル内圧を均一化し、幅方向に吹き出し分布の無い構造を採用する。また、支持体１６に対する吹き出し角度は、支持体１６に対して垂直、並行等何れの角度も採用できるが、支持体が高速に搬送される場合（３０ｍ／ｍｉｎ以上）、垂直且つ風速を高速（５ｍ／ｓｅｃ以上）で吹きあてることが好ましい。【００６４】
支持体１６の温調は、放射、輻射、伝導伝熱等により積極的に行ってもよい。図６は、支持体１６を乾燥箱３２内の露点以上に制御する方法の例であり、乾燥箱３２内で支持体１６に接するようにジャケット型の加熱ロール４６、４６…を設けたものである。このように、乾燥箱に搬送される際の支持体が乾燥箱内の露点以上に制御されていることで、塗布膜に過熱水蒸気によって水滴が発現することを防ぐことができる。【００６５】
また、図７に示すように、乾燥箱３２の天井内側面には、支持体の進行方向に対して平行な略等間隔の溝又は樋４４を設けていることが好ましい。また、水滴が溝又は樋４４を流れやすいように天井面を傾斜させることが好ましい。ラインのスタート時で各所の加温が十分でない場合や、ラインを停止し各所の加温を中止する場合や、異なる乾燥条件や乾燥溶媒への切り替えの際等様々の要因によって、乾燥箱３２内の湿度や露点が変化する場合がるので、万が一、乾燥箱の内面に水滴が付着した場合においても、乾燥箱の天井内側面に略等間隔の溝又は樋を設けているので、支持体に水滴が付くことを防止することができるからである。水滴が溝又は樋４４を流れやすいように天井面を傾斜させることが好ましい。【００６６】
そして、図示しないが、乾燥箱３２は、支持体１６が垂直から塗布膜面が下向きになるように設けられているとともに、過熱水蒸気が塗布膜に下側から付与される位置に蒸気付与ノズルが設けられていることが好ましい。万が一、蒸気付与ノズルに水滴が付着した場合においても、支持体に水滴が付くことがないようにできるので、製品表面の外観異常等を防止することができるからである。【００６７】
加熱水蒸気は、塗布膜に含有する高沸点溶媒とともに排気口３６から乾燥箱３２外に排出されるが、回収して熱交換機にて凝集させることで水と高沸点溶媒とに分離回収し再利用することが好ましい。【００６８】
以上のように、本発明の塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原反の製造方法によれば、乾燥箱内において塗布液の溶媒よりも沸点の低い溶媒の蒸気を蒸気付与ノズルで塗布膜に付与しながら溶媒の乾燥を行う場合において、製品表面に異物を原因とする性能故障、もしくは液滴の付着による外観異常や性能故障を抑制することができる。【００６９】
また、支持体１６の搬送開始時は、乾燥箱３２を熱風で１００℃以上に温めた後に過熱水蒸気を投入するとともに、支持体１６の搬送終了時は、乾燥箱３２への過熱水蒸気の投入を停止した後に冷却することが好ましい。支持体の搬送開始時は、乾燥箱を熱風で１００℃以上に温めた後に過熱水蒸気を投入するとともに、支持体の搬送終了時は、乾燥箱への過熱水蒸気の投入を停止した後に冷却することで、更に水滴が付着しにくくなるので、周辺機器や製品表面に外観異常や性能故障が発現することを抑制することができる。【００７０】
尚、ここで、蒸気付与ノズルは図４〜図７のようなものでなく、例えば、図８Ａに示すようにノズル独立型の蒸気付与ノズル３４’を複数設けることも考えられる。その際の蒸気付与ノズル３４’は、図８Ｂに示すように二重管等の保温構造であることが好ましい。また、蒸気付与ノズルは、二流体ノズルであっても良い。ここで、二流体ノズルとは、圧搾空気などの高速気流で低沸点溶媒の液体（本発明では水）を粉砕して微粒化し、低圧で微細なミストを噴霧するスプレーノズルである。このような二流体ノズルとしては、公知の二流体ノズルを使用することができる。【００７１】
本実施形態においては、支持体１６の搬送方向に熱風乾燥部２８、過熱水蒸気乾燥部２９、冷却部３０の順に配置させた例について示したが、これに限定されることはない。【００７２】
また、本実施形態においては、過熱蒸気が過熱水蒸気の場合について説明したが、塗布液の高沸点溶媒よりも沸点の低い溶媒であれば、その溶媒を過熱した過熱蒸気の場合についても同様に成り立つ。【００７３】
次に、本実施形態に使用される各種材料について説明する。
〔支持体〕
本発明において、支持体は、帯状に限定されることはなく、帯状以外の金属、樹脂、紙、布等も含まれる。【００７４】
本実施形態の平版印刷版原版に用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。 純アルミニウム板のほか、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板や、アルミニウムまたはアルミニウム合金がラミネートされまたは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙を用いることもできる。更に、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートを用いることもできる。【００７５】
本実施形態に用いられるアルミニウム板の組成は、特に限定されないが、純アルミニウム板を用いるのが好適である。完全に純粋なアルミニウムは精練技術上、製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものを用いてもよい。例えば、アルミニウムハンドブック第４版（軽金属協会（１９９０））に記載の公知の素材のもの、具体的には、例えば、ＪＩＳ Ａ１０５０、ＪＩＳ Ａ１１００、ＪＩＳ Ａ３００３、ＪＩＳ Ａ３００４、ＪＩＳ Ａ３００５、国際登録合金３１０３Ａ等のアルミニウム合金板を適宜利用することができる。また、アルミニウム含有量が、９９．４〜９５質量％であり、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、ＣｒおよびＴｉからなる群から選ばれる３種以上を含むアルミニウム合金、スクラップアルミ材または二次地金を使用したアルミニウム板を使用することもできる。【００７６】
また、アルミニウム合金板のアルミニウム含有率は、特に限定されないが、アルミニウム含有率が９５〜９９．４質量％であってもよく、さらにこのアルミニウム板が、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、ＣｒおよびＴｉからなる群から選ばれる３種以上の異元素を以下の範囲で含有することが好ましい。そのようにすると、アルミニウムの結晶粒が微細になるためである。Ｆｅ：０．２０〜１．０質量％、Ｓｉ：０．１０〜１．０質量％、Ｃｕ：０．０３〜１．０質量％、Ｍｇ：０．１〜１．５質量％、Ｍｎ：０．１〜１．５質量％、Ｚｎ：０．０３〜０．５質量％、Ｃｒ：０．００５〜０．１質量％、Ｔｉ：０．０１〜０．５質量％。【００７７】
また、アルミニウム板は、Ｂｉ、Ｎｉ等の元素や不可避不純物を含有してもよい。【００７８】
アルミニウム板の製造方法は、連続鋳造方式およびＤＣ鋳造方式のいずれでもよく、ＤＣ鋳造方式の中間焼鈍や、均熱処理を省略したアルミニウム板も用いることができる。最終圧延においては、積層圧延や転写等により凹凸を付けたアルミニウム板を用いることもできる。本実施形態に用いられるアルミニウム板は、連続した帯状のシート材または板材である、アルミニウム支持体であってもよく、製品として出荷される平版印刷版原版に対応する大きさ等に裁断された枚葉状シートであってもよい。【００７９】
本実施形態に用いられるアルミニウム板の厚みは、通常、０．０５ｍｍ〜１ｍｍ程度であり、０.１ｍｍ〜０.５ｍｍであるのが好ましい。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさおよびユーザの希望により適宜変更することができる。【００８０】
本実施形態における平版印刷版用支持体の製造方法においては、上記アルミニウム板に、少なくとも、粗面化処理、陽極酸化処理、及び特定の封孔処理を含む表面処理を施して平版印刷版用支持体を得るが、この表面処理には、更に各種の処理が含まれていてもよい。なお、本実施形態の各種工程においては、その工程に用いられる処理液の中に使用するアルミニウム板の合金成分が溶出するので、処理液はアルミニウム板の合金成分を含有していてもよく、特に、処理前にそれらの合金成分を添加して処理液を定常状態にして用いるのが好ましい。【００８１】
上記表面処理として、電解粗面化処理の前に、アルカリエッチング処理またはデスマット処理を施すのが好ましく、また、アルカリエッチング処理とデスマット処理とをこの順に施すのも好ましい。また、電解粗面化処理の後に、アルカリエッチング処理またはデスマット処理を施すのが好ましく、また、アルカリエッチング処理とデスマット処理とをこの順に施すのも好ましい。また、電解粗面化処理後のアルカリエッチング処理は、省略することもできる。また、これらの処理の前に機械的粗面化処理を施すのも好ましい。また、電解粗面化処理を２回以上行ってもよい。その後、陽極酸化処理、封孔処理、親水化処理等を施すのも好ましい。
〔低沸点溶媒〕
本実施形態に使用される低沸点溶媒としては、沸点が３０℃以上１３０℃以下のものが好ましい。このような低沸点溶媒としては、以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。括弧内に沸点を記載する。【００８２】
メタノール（６４．５℃−６４．６５℃）、エタノール（７８．３２℃）、ｎ−プロパノール（９７．１５℃）、イソプロパノール（８２．３℃）、ｎ−ブタノール（１１７．７℃）、イソブタノール（１０７．９℃）等のアルコール類、エチルエーテル（３４．６℃）、イソプロピルエーテル  （６８．２７℃）等のエーテル類、アセトン（５６．２℃）、メチルエチルケトン（７９．５９℃）、メチル−ｎ−プロピルケトン（１０３．３℃）、メチルイソブチルケトン（１１５．９℃）、ジエチルケトン（１０２．２℃）等のケトン類、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸−ｎ−プロピル（１０１．６℃）、酢酸−ｎ−ブチル（１２６５℃）等のエステル類、ｎ−ヘキサン（６８７４２℃）、シクロヘキサン（８０．７３８℃）等の炭化水素類、水等。
〔高沸点溶媒〕
本実施形態に使用される高沸点溶媒は、沸点が１５０℃以上のものが好ましい。このような高沸点溶媒のとして、以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。括弧内に沸点を記載する。【００８３】
γ−ブチルラクトン（２０４℃）、アセトアミド（２２２℃）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（２２５．５℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、テトラメチル尿酸（１７５℃一１７７℃）、ニトロベンゼン（２１１．３℃）、ホルムアミド（２１０．５℃）、Ｎ−メチルピロリドン（２０２℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）等。
＜画像形成層＞
本発明においては、上述のようにして形成された処理層上に画像形成層を設けることで平版印刷版原版を得ることができる。【００８４】
本発明において、ここに設けられる画像形成層は既知の任意のものであってよいが、ヒートモード又はフォトンモードで記録可能であるものが好ましく、効果の観点からは、赤外線レーザなどのヒートモード露光による画像形成が可能な画像形成層であることが好ましい。【００８５】
また、画像形成層は単層構造であっても、複数の層からなる積層構造を有したものであってもよい。【００８６】
以下に、画像形成層の種類の異なる各種の平版印刷版原版について説明する。
（赤外線レーザ記録型平版印刷版原版）
本発明に好適な、赤外線レーザにより画像形成可能な平版印刷版原版について説明する。これらは、赤外線レーザ露光によりアルカリ水溶液に対する可溶性が変化する材料を用いるネガ型或いはポジ型の画像形成層、インク受容性領域を形成し得る疎水化前駆体を含有し、赤外線レーザの露光部に疎水化領域が形成される画像形成層など、公知の画像記録方式が任意に選択される。【００８７】
まず、ポジ型或いはネガ型の画像形成層について述べる。このような画像形成層は、赤外線レーザによる像様露光の後、アルカリ水溶液で現像処理され、アルカリ現像性が活性光線の照射により低下し、照射（露光）部が画像部領域となるネガ型と、逆に現像性が向上し、照射（露光）部が非画像部領域となるポジ型の２つに分けられる。【００８８】
ポジ型の画像形成層としては、相互作用解除系（感熱ポジ）画像形成層、公知の酸触媒分解系、ｏ−キノンジアジド化合物含有系等が挙げられる。これらは光照射や加熱により発生する酸や熱エネルギーそのものにより、層を形成していた高分子化合物の結合が解除されるなどの働きにより水やアルカリ水に可溶となり、現像により除去されて非画像部形成するものである。【００８９】
また、ネガ型の画像形成層としては、公知の酸触媒架橋系（カチオン重合も含む）画像形成層、重合硬化系画像形成層が挙げられる。これらは、光照射や加熱により発生する酸が触媒となり、画像形成層を構成する化合物が架橋反応を起こし硬化して画像部を形成するもの、或いは、光照射や加熱により生成するラジカルにより重合性化合物の重合反応が進行し、硬化して画像部を形成するものである。【００９０】
本発明における前記特定中間層は、上記のいずれの画像形成層を形成した場合でも優れた効果を示すが、ポジ型画像形成層に好適に用いられる。【００９１】
以下、それぞれの画像形成層について詳細に説明する。
１．ポジ型画像形成層
本発明の好ましい態様として、アルカリ可溶性樹脂と、スルホニウム化合物又はアンモニウム化合物と、を含有し、かつ、前記アルカリ可溶性樹脂中の５０質量％以上がノボラック樹脂であり、赤外線レーザにより記録可能な画像形成層を設けたポジ型画像形成層を有する平版印刷原版が挙げられる。また、このポジ型画像形成層には、感度を高めるために、後述する（Ａ）赤外線吸収剤を含有することがより好ましい態様である。ポジ型画像形成層は単層であっても、複数の画像形成層からなる積層構造を有していてもよい。
〔ノボラック型フェノール樹脂〕
まず、ノボラック型フェノール樹脂について説明する。ノボラック樹脂は、少なくとも１種のフェノール類を酸性触媒下、アルデヒド類又はケトン類の少なくとも１種と重縮合させた樹脂のことを指す。【００９２】
ここで、フェノール類としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、プロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノール、ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、１−ナフトール、２−ナフトール、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、１，２，４−ベンゼントリオール、フロログルシノール、４，４’−ビフェニルジオール、２，２−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン等が挙げられ、アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等が、ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。【００９３】
好ましくは、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、レゾルシノールから選択されるフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒドから選択されるアルデヒド類又はケトン類との重縮合体が好ましく、特に、ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール：２，５−キシレノール：３，５−キシレノール：レゾルシノールの混合割合がモル比で４０〜１００：０〜５０：０〜２０：０〜２０：０〜２０の混合フェノール類、又は、フェノール：ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾールの混合割合がモル比で０〜１００：０〜７０：０〜６０の（混合）フェノール類と、ホルムアルデヒドとの重縮合体が好ましい。【００９４】
これらのノボラック樹脂としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量（以下、単に「重量平均分子量」という）が、好ましくは５００〜２０，０００、更に好ましくは１，０００〜１５，０００、特に好ましくは３，０００〜１２，０００のものが用いられる。重量平均分子量がこの範囲内にあると、充分な皮膜形成性及び、露光部のアルカリ現像性に優れるため好ましい。【００９５】
画像形成層のバインダー樹脂として前記ノボラック樹脂を用いる場合、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、バインダー樹脂のすべてが前記ノボラック樹脂であってもよく、また、それ以外の樹脂を併用することもできる。他の樹脂を併用する場合においても、ノボラック樹脂が主バインダーであることが好ましく、画像形成層を構成するバインダー樹脂（アルカリ可溶性樹脂）中に占めるノボラック樹脂の割合は５０質量％以上であることが好ましく、６５〜９９．９質量％の範囲であることが更に好ましい。【００９６】
併用可能なバインダー樹脂としては、一般に用いられる水不溶且つアルカリ可溶性の、高分子中の主鎖及び側鎖の少なくとも一方に酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。ノボラック樹脂以外のフェノール樹脂、例えば、レゾール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、フェノール性水酸基を有するアクリル樹脂等も好ましく用いられる。併用可能な樹脂としては、具体的には、例えば、特開平１１−４４９５６号公報や、特開２００３−１６７３４３号公報などに記載のポリマーを挙げることができる。
〔光熱変換剤〕
本発明における画像形成層は、光熱変換剤を含有することが好ましい。ここで用いられる光熱変換剤としては、光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザへの適合性の観点から、波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。【００９７】
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。【００９８】
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。【００９９】
また、米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。【０１００】
また、染料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。【０１０１】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。更に、特開２００５−９９６８５号公報の２６−３８頁に記載された化合物が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に特開２００５−９９６８５号公報の一般式（ａ）で示されるシアニン色素が、本発明の感光性組成物で使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
〔分解性溶解抑止剤〕
本発明におけるポジ型画像形成層には、更に分解性溶解抑止剤を添加することができる。特に、オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質（分解性溶解抑止剤）を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で好ましい。分解性溶解抑止剤としては、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩等のオニウム塩及び、ｏ−キノンジアジド化合物が好ましく、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ジアゾニウム塩がより好ましい。【０１０２】
本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えば、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１４０１４０号、特開２００６−２９３１６２号公報、特開２００４−１１７５４６号公報の明細書に記載のアンモニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０２，１１４号、同５，０４１，３５８号、同４，４９１，６２８号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号、特開２００６−２９３１６２号公報、特開２００６−２５８９７９号公報に記載のスルホニウム塩を挙げることができる。【０１０３】
また、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）、特開平５−１５８２３０号公報、特開平５−１５８２３０号公報に記載の一般式（Ｉ）、特開平１１−１４３０６４号公報に記載の一般式（１）、特開平１１−１４３０６４号公報に記載の一般式（１）などで示されるジアゾニウム塩を挙げることができる。【０１０４】
これ以外の好ましいオニウム塩として、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第５，０４１，３５８号、同第４，４９１，６２８号、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。【０１０５】
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。【０１０６】
これらのオニウム塩は、１種類のみを用いても、複数の化合物を用いてもよい。また、画像形成層が積層構造を有する場合には、単一層のみに添加しても複数の層に添加してもよく、また、複数の種類からなる化合物を、層を分けて添加してもよい。【０１０７】
好適なキノンジアジド類としては、ｏ−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物は、少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、ｏ−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、ｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ．Ｉｎｃ．）第３３９〜３５２頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されているようなベンゾキノン（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第３，０４６，１２０号及び同第３，１８８，２１０号に記載されているベンゾキノン−（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。【０１０８】
更に、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂或いはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なｏ−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば、特開昭４７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公昭４９−１７４８１号などの各公報、米国特許第２，７９７，２１３号、同第３，４５４，４００号、同第３，５４４，３２３号、同第３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４９５号、同第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２２７，６０２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，２６７，００５号、同第１，３２９，８８８号、同第１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４，８９０号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。 【０１０９】
分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び／又は、ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは、本発明にかかる画像形成層の全固形分に対し、好ましくは０．１〜１０質量％、更に好ましくは０．１〜５質量％、特に好ましくは０．２〜２質量％の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。【０１１０】
ｏ−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは０〜５質量％、更に好ましくは０〜２質量％、特に好ましくは０．１〜１．５質量％である。本発明に用いられる添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。【０１１１】
また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平１０−２６８５１２号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平１１−１９０９０３号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開２０００−１０５４５４号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。
〔その他の添加剤〕
本発明に係る画像形成層中には、更に、画像のディスクリミネーション（疎水性／親水性の識別性）の強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開２０００−１８７３１８公報に記載されているような、分子中に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を２又は３個有する（メタ）アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することができる。このような化合物の添加量としては、本発明に係る画像形成層全固形分に対し、０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。【０１１２】
本発明に係る画像形成層中には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許６，１１７，９１３号明細書に用いられているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステル等を挙げることができる。このような化合物の添加量としては、画像形成層全固形分に対し、０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。【０１１３】
また、本発明に係る画像形成層中には、必要に応じて低分子量の酸性基を有する化合物を含んでいてもよい。酸性基としては、スルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基を挙げることができる。中でもスルホン酸基を有する化合物が好ましい。具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類や脂肪族スルホン酸類を挙げることができる。【０１１４】
その他、更に感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−Δ４−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，４’，３”，４”−テトラヒドロキシ−３，５，３’，５’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。【０１１５】
上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類を画像形成層に添加する場合、画像形成層中に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。【０１１６】
また、本発明に係る画像形成層の塗布液を調製する場合には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平１１−２８８０９３号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。【０１１７】
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名「アモーゲンＫ」：第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。【０１１８】
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、（株）チッソ社製、ＤＢＥ−２２４，ＤＢＥ−６２１，ＤＢＥ−７１２，ＤＢＰ−７３２，ＤＢＰ−５３４、独Ｔｅｇｏ社製、Ｔｅｇｏ  Ｇｌｉｄｅ１００等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。【０１１９】
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像形成層中に占める割合は、０．０５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。【０１２０】
本発明の平版印刷版原版の画像形成層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。【０１２１】
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６４４号及び同６３−５８４４０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。【０１２２】
画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、画像形成層全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で添加することができる。更に本発明に係る画像形成層塗布液中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。【０１２３】
また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には、特開平８−２７６５５８号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物、及び、特開平１１−１６０８６０号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物などを目的に応じて適宜添加することができる。【０１２４】
以上のようにして得られた本発明の画像記録材料における画像形成層は、皮膜形成性及び皮膜強度に優れ、且つ、赤外線の露光により、露光部が高いアルカリ可溶性を示す。
２．ネガ型画像形成層
２−１．重合硬化層
ネガ型画像形成層の１つとして、重合硬化層が挙げられる。この重合硬化層には、（Ａ）赤外線吸収剤と（Ｂ）ラジカル発生剤（ラジカル重合開始剤）と発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する（Ｃ）ラジカル重合性化合物とを含有し、好ましくは（Ｄ）バインダーポリマーを含有する。赤外線吸収剤が吸収した赤外線を熱に変換し、この際発生した熱により、オニウム塩等のラジカル重合開始剤が分解し、ラジカルを発生する。ラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有し、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれ、発生したラジカルにより連鎖的に重合反応が生起して硬化する。
２−２．酸架橋層
また、画像形成層の他の態様としては、酸架橋層が挙げられる。酸架橋層には、（Ｅ）光又は熱により酸を発生する化合物（以下、酸発生剤と称する）と、（Ｆ）発生した酸により架橋する化合物（以下、架橋剤と称する）とを含有し、更に、これらを含有する層を形成するための、酸の存在下で架橋剤と反応しうる（Ｇ）アルカリ可溶性ポリマーを含む。この酸架橋層においては、光照射又は加熱により、酸発生剤が分解して発生した酸が、架橋剤の働きを促進し、架橋剤同士或いは架橋剤とバインダーポリマーとの間で強固な架橋構造が形成され、これにより、アルカリ可溶性が低下して、現像剤に不溶となる。このとき、赤外線レーザのエネルギーを効率よく使用するため、画像形成層中には（Ａ）赤外線吸収剤が配合される。
〔（Ａ）赤外線吸収剤〕
赤外線レーザで画像形成可能な画像形成層には、赤外線吸収剤を含有する。赤外線吸収剤としては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザの適合性の観点からは波長８００ｎｍ〜１２００ｎｍに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。【０１２５】
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。【０１２６】
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。【０１２７】
また、米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。【０１２８】
また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特願平２００１−６３２６、特願平２００１−２３７８４０記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。【０１２９】
【化１】
2009063824.tif 000003
【０１３０】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式（Ａ）で示されるシアニン色素が挙げられる。【０１３１】
【化２】
2009063824.tif 000004
【０１３２】
一般式（Ａ）中、Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、−ＮＰｈ２、Ｘ２−Ｌ１又は以下に示す基を表す。ここで、Ｘ２は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、Ｌ１は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅを示す。Ｘａ−は後述するＺａ−と同様に定義され、Ｒａは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。【０１３３】
【化３】
2009063824.tif 000005
【０１３４】
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。画像形成層塗布液の保存安定性から、Ｒ１及びＲ２は、炭素原子数２個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、Ｒ１とＲ２とは互いに結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に好ましい。【０１３５】
Ａｒ１、Ａｒ２は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基が挙げられる。Ｙ１、Ｙ２は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚａ−は、対アニオンを示す。ただし、一般式（Ａ）で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはＺａ−は必要ない。好ましいＺａ−は、画像形成層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。【０１３６】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（Ａ）で示されるシアニン色素の具体例としては、特開２００１−１３３９６９公報の段落番号［００１７］から［００１９］に記載されたものを挙げることができる。【０１３７】
また、特に好ましい他の例として更に、前記した特願平２００１−６３２６、特願平２００１−２３７８４０明細書に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。【０１３８】
本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。【０１３９】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。【０１４０】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。【０１４１】
顔料の粒径は、分散物の画像形成層塗布液中での安定性及び画像形成層の均一性の観点から、０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることが更に好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。【０１４２】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。【０１４３】
画像形成層中における、赤外線吸収剤の含有量としては、画像形成層の全固形分質量に対し、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、０．５〜１０質量％が最も好ましい。この範囲において、高感度な記録が可能であり、非画像部における汚れの発生もなく、高画質の画像形成が可能である。
〔（Ｂ）ラジカルを発生する化合物〕
ラジカル発生剤は、光、熱、或いはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進させる化合物を指す。本発明に適用可能なラジカル発生剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを選択して使用することができ、例えば、オニウム塩、トリハロメチル基を有するｓ−トリアジン化合物、オキサゾール化合物などの有機ハロゲン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アリールアジド化合物、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、チオキサントン類等のカルボニル化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素塩化合物、ジズルホン化合物等が挙げられる。【０１４４】
本発明において、特に好適に用いられるラジカル発生剤としては、オニウム塩が挙げられ、なかでも、下記一般式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）で表されるオニウム塩が好ましく用いられる。【０１４５】
【化４】
2009063824.tif 000006
【０１４６】
式（Ｂ−１）中、Ａｒ１１とＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ１１−は、無機アニオン又は有機アニオンを表す。【０１４７】
式（Ｂ−２）中、Ａｒ２１は、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基、炭素原子数１２個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数１２個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数１２個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数１２個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Ｚ２１−はＺ１１−と同義の対イオンを表す。【０１４８】
式（Ｂ−３）中、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ３１−はＺ１１−と同義の対イオンを表す。【０１４９】
前記一般式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）中のＺ１１−、Ｚ２１−、Ｚ３１−は無機アニオン若しくは、有機アニオンを表すが、無機アニオンとしては、ハロゲンイオン（Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−）、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、過ホウ素酸イオン（ＢｒＯ４−）、テトラフルオロボレートイオン（ＢＦ４−）、ＳｂＦ６−、ＰＦ６−等が挙げられ、有機アニオンとしては、有機ボレートアニオン、スルホン酸イオン、ホスホン酸イオン、カルボン酸イオン、Ｒ４０−ＳＯ３Ｈ−、Ｒ４０−ＳＯ２−、Ｒ４０−ＳＯ２Ｓ−、Ｒ４０−ＳＯ２Ｎ−−Ｙ−Ｒ４０イオン（ここで、Ｒ４０は炭素原子数１〜２０のアルキル基、又は、炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、Ｙは単結合、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、を表す。）等が挙げられる。【０１５０】
本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開２００１−１３３６９６号公報の段落番号［００３０］〜［００３３］に記載されたものを挙げることができる。【０１５１】
本発明において用いられるオニウム塩は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、更に３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。【０１５２】
これらのオニウム塩は、１種のみを用いても良いし、２種以上を併用しても良い。【０１５３】
これらのオニウム塩は、画像形成層塗布液の全固形分に対し０．１〜５０質量％、好ましくは０．５〜３０質量％、特に好ましくは１〜２０質量％の割合で添加することができる。添加量が上記範囲において、高感度な記録が達成され、また、印刷時における非画像部の汚れ発生が抑制される。【０１５４】
これらのオニウム塩は必ずしも画像形成層に添加されなくてもよく、画像形成層に隣接して設けられる別の層へ添加してもよい。
〔（Ｃ）ラジカル重合性化合物〕
本態様における画像形成層に使用されるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、即ち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類があげられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との付加反応物、更に、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。【０１５５】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物であるアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、マレイン酸エステルの具体例は、特開２００１−１３３６９６号公報の段落番号［００３７］〜［００４２］に記載されており、これらを本発明にも適用することができる。【０１５６】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３３４、特開昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。【０１５７】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。【０１５８】
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレン構造を有すものをあげる事ができる。【０１５９】
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式（ＶＩ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。【０１６０】
一般式（ＶＩ）
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ４１）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｒ４２）ＯＨ
（ただし、Ｒ４１及びＲ４２は、Ｈ又はＣＨ３を示す。）
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。【０１６１】
更に、特開昭６３−２７７６５３，特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有するラジカル重合性化合物類を用いても良い。【０１６２】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合物等もあげることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌  ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。【０１６３】
これらのラジカル重合性化合物について、どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上がこのましい。また、画像部即ち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものが良く、更に、異なる官能数・異なる重合性基を有する化合物（例えば、アクリル酸エステル系化合物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物等）を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。また、画像形成層中の他の成分（例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、分散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上化合物の併用によって、相溶性を向上させうることがある。また、支持体、オーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。画像形成層中のラジカル重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましく無い相分離が生じたり、画像形成層の粘着性による製造工程上の問題（例えば、画像形成層成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液からの析出が生じる等の問題を生じうる。【０１６４】
これらの観点から、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組成物全成分に対して５〜８０質量％、好ましくは２０〜７５質量％である。また、これらは単独で用いても２種以上併用してもよい。そのほか、ラジカル重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
〔（Ｄ）バインダーポリマー〕
このような画像形成層においては、画像形成層の膜性向上の観点から更にバインダーポリマーを使用することが好ましく、バインダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような「線状有機ポリマー」としては、どれを使用しても構わない。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とするために、水或いは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、画像形成層を形成するための皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或いは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。【０１６５】
例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているもの、即ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。【０１６６】
特にこれらの中で、ベンジル基又はアリル基と、カルボキシル基を側鎖に有する（メタ）アクリル樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。【０１６７】
また、特公平７−１２００４号、特公平７−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特開平１１−３５２６９１号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。【０１６８】
更にこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。【０１６９】
本発明で使用されるポリマーの重量平均分子量については好ましくは５０００以上であり、更に好ましくは１万〜３０万の範囲であり、数平均分子量については好ましくは１０００以上であり、更に好ましくは２０００〜２５万の範囲である。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好ましくは１．１〜１０の範囲である。【０１７０】
これらのポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。【０１７１】
本発明で使用されるバインダーポリマーは単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマーは、画像形成層塗布液の全固形分に対し２０〜９５質量％、好ましくは３０〜９０質量％の割合で画像形成層中に添加される。添加量が２０質量％未満の場合は、画像形成した際、画像部の強度が不足する。また添加量が９５質量％を越える場合は、画像形成されない。またラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と線状有機ポリマーは、質量比で１／９〜７／３の範囲とするのが好ましい。【０１７２】
次に、酸架橋層の構成成分について説明する。ここで用いられる赤外線吸収剤は、前記重合硬化型画像形成層におけるのと同様のものを用いることができる。【０１７３】
好ましい含有量は、画像形成層の全固形分質量に対し、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、更に０．５〜１０質量％が最も好ましい。【０１７４】
前記含有量の範囲において、高感度な記録が達成でき、更に、得られる平版印刷用の非画像部における汚れの発生が抑制される。
〔（Ｅ）酸発生剤〕
本実施の形態において、熱により分解して酸を発生する酸発生剤は、２００〜５００ｎｍの波長領域の光を照射する又は１００℃以上に加熱することにより、酸を発生する化合物をいう。【０１７５】
前記酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、熱分解して酸を発生しうる、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。【０１７６】
上述の酸発生剤のうち、下記一般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）で表される化合物が好ましい。【０１７７】
【化５】
2009063824.tif 000007
【０１７８】
前記一般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、同一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。Ｒ３は、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１０以下の炭化水素基又は炭素数１０以下のアルコキシ基を表す。Ａｒ１、Ａｒ２は、同一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリール基を表す。Ｒ６は、置換基を有していてもよい炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。ｎは、０〜４の整数を表す。【０１７９】
前記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、炭素数１〜１４の炭化水素基が好ましい。【０１８０】
前記一般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）で表される酸発生剤の好ましい態様は、特開２００１−１４２２３０号公報の段落番号［０１９７］〜［０２２２］に一般式（Ｉ）〜（Ｖ）の化合物として詳細に記載されている。これらの化合物は、例えば、特開平２−１０００５４号、特開平２−１０００５５号に記載の方法により合成することができる。【０１８１】
また、（Ｅ）酸発生剤として、ハロゲン化物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げることができ、中でも、下記一般式（Ｅ−６）〜（Ｅ−８）で表されるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構造式を有するものを好適に挙げることができる。【０１８２】
【化６】
2009063824.tif 000008
【０１８３】
前記一般式（Ｅ−６）〜（Ｅ−８）中、Ｘ−は、ハロゲン化物イオン、ＣｌＯ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、ＢＦ４−又はＲ７ＳＯ３−を表し、ここで、Ｒ７は、置換基を有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。Ａｒ３、Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリール基を表す。Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０は、置換基を有していてもよい炭素数１８以下の炭化水素基を表す。【０１８４】
このようなオニウム塩は、特開平１０−３９５０９号公報段落番号［００１０］〜［００３５］に一般式（Ｉ）〜（III）の化合物として記載されている。【０１８５】
酸発生剤の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜２５質量％がより好ましく、０．５〜２０質量％が最も好ましい。【０１８６】
前記添加量が、０．０１質量％未満であると、画像が得られないことがあり、５０質量％を超えると、平版印刷用原版とした時の印刷時において非画像部に汚れが発生することがある。【０１８７】
上述の酸発生剤は単独で使用してもよいし、２種以上を組合わせて使用してもよい。
〔（Ｆ）架橋剤〕
次に、架橋剤について説明する。架橋剤としては、以下のものが挙げられる。【０１８８】
（ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物
（ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物
（iii）エポキシ化合物
以下、前記（ｉ）〜（iii）の化合物について詳述する。【０１８９】
前記（ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合物又は複素環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂として知られるフェノール類とアルデヒド類とを塩基性条件下で縮重合させた樹脂状の化合物も含まれる。 【０１９０】
ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物のうち、中でも、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を有する化合物が好ましい。【０１９１】
また、アルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物では、中でも、アルコキシメチル基が炭素数１８以下の化合物が好ましく、下記一般式（Ｆ−１）〜（Ｆ−４）で表される化合物がより好ましい。【０１９２】
【化７】
2009063824.tif 000009
【０１９３】
【化８】
2009063824.tif 000010
【０１９４】
前記一般式（Ｆ−１）〜（Ｆ−４）中、Ｌ１〜Ｌ８は、それぞれ独立に、メトキシメチル、エトキシメチル等の、炭素数１８以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を表す。【０１９５】
これらの架橋剤は、架橋効率が高く、耐刷性を向上できる点で好ましい。【０１９６】
（ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物としては、欧州特許公開（以下、「ＥＰ−Ａ」と示す。）第０，１３３，２１６号、西独特許第３，６３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号に記載の、単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ−Ａ第０，２１２，４８２号明細書に記載のアルコキシ置換化合物等が挙げられる。【０１９７】
なかでも、例えば、少なくとも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が好ましく、Ｎ−アルコキシメチル誘導体が最も好ましい。【０１９８】
（iii）  エポキシ化合物としては、１以上のエポキシ基を有する、モノマー、ダイマー、オリゴマー、ポリマー状のエポキシ化合物が挙げられ、例えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられる。【０１９９】
その他、米国特許第４，０２６，７０５号、英国特許第１，５３９，１９２号の各明細書に記載され、使用されているエポキシ樹脂を挙げることができる。【０２００】
架橋剤として、前記（ｉ）〜（iii）の化合物を用いる場合の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し５〜８０質量％が好ましく、１０〜７５質量％がより好ましく、２０〜７０質量％が最も好ましい。【０２０１】
前記添加量が、５質量％未満であると、得られる画像記録材料の画像形成層の耐久性が低下することがあり、８０質量％を超えると、保存時の安定性が低下することがある。【０２０２】
本発明においては、架橋剤として、（ｉｖ）下記一般式（Ｆ−５）で表されるフェノール誘導体も好適に使用することができる。【０２０３】
【化９】
2009063824.tif 000011
【０２０４】
前記一般式（Ｆ−５）中、Ａｒ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は水素原子又は炭素数１２個以下の炭化水素基を表す。ｍは２〜４の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表す。【０２０５】
原料の入手性の点で、前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環が好ましい。また、その置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１２以下の炭化水素基、炭素数１２以下のアルコキシ基、炭素数１２以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基等が好ましい。【０２０６】
上記のうち、高感度化が可能である点で、Ａｒ１としては、置換基を有していないベンゼン環、ナフタレン環、或いは、ハロゲン原子、炭素数６以下の炭化水素基、炭素数６以下のアルコキシ基、炭素数６以下のアルキルチオ基、炭素数１２以下のアルキルカルバモイル基、又はニトロ基等を置換基として有するベンゼン環、又はナフタレン環がより好ましい。【０２０７】
上記Ｒ１、Ｒ２で表される炭化水素基としては、合成が容易であるという理由から、メチル基が好ましい。Ｒ３で表される炭化水素基としては、感度が高いという理由から、メチル基、ベンジル基等の炭素数７以下の炭化水素基であることが好ましい。更に、合成の容易さから、ｍは、２又は３であることが好ましく、ｎは１又は２であることが好ましい。
〔（Ｇ）アルカリ水可溶性高分子化合物〕
本発明に適用可能な架橋層に使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物としては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー等が挙げられる。前記ノボラック樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂が挙げられる。【０２０８】
中でも、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｐ−クレゾールとホルムアルデ 
ヒドから得られるノボラック樹脂、ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，ｏ−又はｍ−／ｐ−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい）の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂や、フェノールとパラホルムアルデヒドとを原料とし、触媒を使用せず密閉状態で高圧下、反応させて得られるオルソ結合率の高い高分子量ノボラック樹脂等が好ましい。【０２０９】
前記ノボラック樹脂は、重量平均分子量が８００〜３００，０００で、数平均分子量が４００〜６０，０００のものの中から、目的に応じて好適なものを選択して用いればよい。【０２１０】
また、前記側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーも好ましく、該ポリマー中のヒドロキシアリール基としては、ＯＨ基が１以上結合したアリール基が挙げられる。【０２１１】
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基等が挙げられ、中でも、入手の容易性及び物性の観点から、フェニル基又はナフチル基が好ましい。【０２１２】
本実施の形態に使用可能な、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーとしては、例えば、下記一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−４）で表される構成単位のうちのいずれか１種を含むポリマーを挙げることができる。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。【０２１３】
【化１０】
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【０２１４】
一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−４）中、Ｒ１１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ１２及びＲ１３は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１０以下の炭化水素基、炭素数１０以下のアルコキシ基又は炭素数１０以下のアリールオキシ基を表す。また、Ｒ１２とＲ１３が結合、縮環してベンゼン環やシクロヘキサン環を形成していてもよい。Ｒ１４は、単結合又は炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ１５は、単結合又は炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ１６は、単結合又は炭素数１０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｘ１は、単結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合又はアミド結合を表す。ｐは、１〜４の整数を表す。ｑ及びｒは、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。【０２１５】
これらのアルカリ可溶性高分子としては、特開２００１−１４２２３０号公報の段落番号［０１３０］〜［０１６３］に詳細に記載されている。【０２１６】
本実施の形態に使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物は、１種類のみで使用してもよいし、２種類以上を組合せて使用してもよい。【０２１７】
アルカリ水可溶性高分子化合物の添加量としては、画像形成層の全固形分に対し５〜９５質量％が好ましく、１０〜９５質量％がより好ましく、２０〜９０質量％が最も好ましい。 【０２１８】
アルカリ水可溶性樹脂の添加量が、５質量％未満であると、画像形成層の耐久性が劣化することがあり、９５質量％を超えると、画像形成されないことがある。【０２１９】
また、本発明に係る画像形成層に適用できる公知の記録材料としては、特開平８−２７６５５８号公報に記載のフェノール誘導体を含有するネガ型画像記録材料、特開平７−３０６５２８号公報に記載のジアゾニウム化合物を含有するネガ型記録材料、特開平１０−２０３０３７号公報に記載されている環内に不飽和結合を有する複素環基を有するポリマーを用いた、酸触媒による架橋反応を利用したネガ型画像形成材料などが挙げられ、これらに記載の画像形成層を本発明におけるネガ型画像形成層としての酸架橋層に適用することができる。
［その他の成分］
このようなネガ型の画像形成層には、更に必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができる。【０２２０】
また、本発明においては、画像形成層が重合硬化層である場合、塗布液の調製中或いは保存中においてラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像形成層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．１質量％〜約１０質量％が好ましい。【０２２１】
また、本発明における画像形成層塗布液中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号や特開平３−２０８５１４号に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。【０２２２】
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。【０２２３】
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられる。【０２２４】
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像形成層塗布液中に占める割合は、０．０５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。【０２２５】
更に、本発明における画像形成層塗布液中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
３．疎水化前駆体含有画像形成層
本発明の平版印刷版用支持体に適用し得るさらなる画像形成層として、加熱又は輻射線の照射により疎水性領域を形成しうる化合物（以下、適宜、疎水化前駆体と称する）を含有する感熱画像形成層が挙げられる。このような画像形成層は、（ａ）熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、又は、（ｂ）熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルなどのように、加熱により、互いに融着したり、例えば、マイクロカプセルであれば、その内包物が熱により化学反応を起こしたりして、画像部領域即ち疎水性領域（親インク領域）を形成する化合物を含有し、これらは好ましくは、親水性のバインダー中に分散されているので、画像形成（露光）後は、印刷機シリンダー上に平版印刷版原版を取付け、湿し水及び／又はインキを供給することで、特段の現像処理を行なうことなく、機上現像できることが特徴である。【０２２６】
このような画像形成層は、（ａ）熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、又は、（ｂ）熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルを含有する。【０２２７】
上記（ａ）及び（ｂ）に共通の熱反応性官能基としては、例えば、重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基）、付加反応を行うイソシアネート基又はそのブロック体、その反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基）、同じく付加反応を行うエポキシ基、その反応相手であるアミノ基、カルボキシル基又はヒドロキシル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とアミノ基又はヒドロキシル基が挙げられる。本発明に用いられる熱反応性官能基は、これらに限定されず、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよい。
［（ａ）熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー］
（ａ）微粒子ポリマーに好適な熱反応性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリルロイル基、ビニル基、アリル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イソシアネート基、酸無水物基及びそれらを保護した基が挙げられる。熱反応性官能基のポリマー微粒子への導入は、ポリマーの重合時に行ってもよいし、重合後に高分子反応を利用して行ってもよい。【０２２８】
熱反応性官能基をポリマーの重合時に導入する場合は、熱反応性官能基を有するモノマーを用いて乳化重合又は懸濁重合を行うのが好ましい。【０２２９】
熱反応性官能基を有するモノマーの具体例としては、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、２−イソシアネートエチルメタクリレート、そのアルコールなどによるブロックイソシアネート、２−イソシアネートエチルアクリレート、そのアルコールなどによるブロックイソシアネート、２−アミノエチルメタクリレート、２−アミノエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、二官能アクリレート、二官能メタクリレートが挙げられる。本発明に用いられる熱反応性官能基を有するモノマーは、これらに限定されない。【０２３０】
これらのモノマーと共重合可能な、熱反応性官能基を有しないモノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニルが挙げられる。本発明に用いられる熱反応性官能基を有しないモノマーは、これらに限定されない。【０２３１】
熱反応性官能基をポリマーの重合後に導入する場合に用いられる高分子反応としては、例えば、国際公開第９６／３４３１６号パンフレットに記載されている高分子反応が挙げられる。 【０２３２】
上記（ａ）熱反応性官能基を有する微粒子ポリマーの中でも、画像形成性の観点からは、微粒子ポリマー同志が熱により容易に融着、合体するものが好ましく、また、機上現像性の観点から、その表面が親水性で、水に分散するものが、特に好ましい。また、微粒子ポリマーのみを塗布し、凝固温度よりも低い温度で乾燥して作製したときの皮膜の接触角（空中水滴）が、凝固温度よりも高い温度で乾燥して作製したときの皮膜の接触角（空中水滴）よりも低くなることが好ましい。【０２３３】
微粒子ポリマー表面の親水性をこのような好ましい状態にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性ポリマー或いはオリゴマー、又は親水性低分子化合物を微粒子ポリマー表面に吸着させてやればよいが、微粒子の表面親水化方法はこれらに限定されるものではなく、公知の種々の表面親水化方法を適用することができる。【０２３４】
（ａ）熱反応性官能基を有する微粒子ポリマーの熱融着温度は、７０℃以上であることが好ましいが、経時安定性を考えると８０℃以上が更に好ましい。ただし、あまり熱融着温度が高いと感度の観点からは好ましくないので、８０〜２５０℃の範囲が好ましく、１００〜１５０℃の範囲であることが更に好ましい。【０２３５】
（ａ）微粒子ポリマーの平均粒径は、０．０１〜２０μｍであるのが好ましいが、その中でも０．０５〜２．０μｍであるのがより好ましく、０．１〜１．０μｍであるのが好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。【０２３６】
（ａ）微粒子ポリマーの添加量は、画像形成層固形分の５０〜９８質量％が好ましく、６０〜９５質量％が更に好ましい。
［（ｂ）熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセル］
（ｂ）マイクロカプセルに好適な熱反応性官能基としては、先に（ａ）、（ｂ）に共通のものとして挙げた官能基の他、例えば、重合性不飽和基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、酸無水物基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、イソシアネートブロック体などが挙げられる。【０２３７】
重合性不飽和基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物であるのが好ましい。そのような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定されずに用いることができる。これらは、化学的形態としては、モノマー、プレポリマー、即ち、二量体、三量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物、及びそれらの共重合体である。【０２３８】
具体的には、例えば、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸）、そのエステル、不飽和カルボン酸アミドが挙げられる。中でも、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエステル及び不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミンとのアミドが好ましい。【０２３９】
また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又は不飽和カルボン酸アミドと単官能若しくは多官能のイソシアネート又はエポキシドとの付加反応物、及び、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に用いられる。【０２４０】
また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミドと、単官能若しくは多官能のアルコール、アミン又はチオールとの付加反応物、及び、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミドと、単官能若しくは多官能アルコール、アミン又はチオールとの置換反応物も好適である。【０２４１】
また、別の好適な例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸又はクロロメチルスチレンに置き換えた化合物が挙げられる。 【０２４２】
これらの具体的な化合物としては、本願出願人が先に提案した特開２００１−２７７４２号公報の段落番号〔００１４〕乃至〔００３５〕に、また、これらの化合物を内包するマイクロカプセルの詳細な製造方法については、同〔００３６〕乃至〔００３９〕に記載され、これらの記載は本発明にも適用し得る。【０２４３】
（ｂ）マイクロカプセルに好適に用いられるマイクロカプセル壁は、三次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、又はこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に熱反応性官能基を有する化合物を導入してもよい。【０２４４】
（ｂ）マイクロカプセルの平均粒径は、０．０１〜２０μｍであるのが好ましく、０．０５〜２．０μｍであるのがより好ましく、０．１０〜１．０μｍであるのが特に好ましい。上記範囲内であると、良好な解像度と経時安定性が得られる。【０２４５】
（ｂ）熱反応性官能基を有するマイクロカプセルを用いた画像形成機構では、マイクロカプセル材料、そこに内包物された化合物、更には、マイクロカプセルが分散された画像形成層中に存在する他の任意成分などが、反応し、画像部領域即ち疎水性領域（親インク領域）を形成するものであればよく、例えば、前記したようなマイクロカプセル同士が熱により融着するタイプ、マイクロカプセル内包物のうち、塗布時にカプセル表面或いはマイクロカプセル外に滲み出した化合物、或いは、マイクロカプセル壁に外部から浸入した化合物が、熱により化学反応を起こすタイプ、或いは、それらのマイクロカプセル材料や内包された化合物が添加された親水性樹脂、或いは、添加された低分子化合物と反応するタイプ、２種類以上のマイクロカプセル壁材或いはその内包物に、それぞれ異なる官能基で互いに熱反応するような官能基をもたせるものを用いることによって、マイクロカプセル同士を反応させるタイプなどが挙げられる。【０２４６】
従って、熱によってマイクロカプセル同志が、溶融合体することは画像形成上好ましいことであるが、必須ではない。【０２４７】
（ｂ）マイクロカプセルの画像形成層への添加量は、固形分換算で、１０〜６０質量％であるのが好ましく、１５〜４０質量％であるのがより好ましい。上記範囲であると、良好な機上現像性と同時に、良好な感度及び耐刷性が得られる。【０２４８】
（ｂ）マイクロカプセルを画像形成層に添加する場合、内包物が溶解し、かつ、壁材が膨潤する溶剤をマイクロカプセル分散媒中に添加することができる。このような溶剤によって、内包された熱反応性官能基を有する化合物の、マイクロカプセル外への拡散が促進される。【０２４９】
このような溶剤は、マイクロカプセル分散媒、マイクロカプセル壁の材質、壁厚及び内包物に依存するが、多くの市販されている溶剤から容易に選択することができる。例えば、架橋ポリウレア、ポリウレタン壁からなる水分散性マイクロカプセルの場合、アルコール類、エーテル類、アセタール類、エステル類、ケトン類、多価アルコール類、アミド類、アミン類、脂肪酸類等が好ましい。【０２５０】
マイクロカプセル分散液には溶解しないが、前記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用いることができる。添加量は、素材の組み合わせにより決まるものであるが、適性値より少ない場合は、画像形成が不十分となり、多い場合は分散液の安定性が劣化する。通常、塗布液の５〜９５質量％であるのが好ましく、１０〜９０質量％であるのがより好ましく、１５〜８５質量％であるのが特に好ましい。
［その他の成分］ 
本態様における感熱画像形成層には、前記画像形成性を有する（ａ）熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、又は、（ｂ）熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルのほか、目的に応じて種々の添加剤を併用することができる。
（反応開始剤、反応促進剤）
前記感熱画像形成層においては、必要に応じてこれらの反応を開始し又は促進する化合物を添加してもよい。反応を開始し又は促進する化合物としては、例えば、熱によりラジカル又はカチオンを発生するような化合物が挙げられる。具体的には、例えば、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩又はジフェニルヨードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシルホスフィン、イミドスルホナートが挙げられる。【０２５１】
これらの化合物は、画像形成層固形分の１〜２０質量％の範囲で添加するのが好ましく、３〜１０質量％の範囲であるのがより好ましい。上記範囲内であると、機上現像性を損なわず、良好な反応開始効果又は反応促進効果が得られる。
（親水性樹脂）
本発明におけるこのような感熱画像形成層には親水性樹脂を添加しても良い。親水性樹脂を添加することにより機上現像性が良好となるばかりか、感熱画像形成層自体の皮膜強度も向上する。【０２５２】
親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を有するものが好ましい。【０２５３】
親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、並びに加水分解度が少なくとも６０質量％、好ましくは少なくとも８０質量％の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー等を挙げることができる。【０２５４】
親水性樹脂の感熱画像形成層への添加量は、画像形成層固形分の５〜４０質量％が好ましく、１０〜３０質量％が更に好ましい。この範囲内で、良好な機上現像性と皮膜強度が得られる。【０２５５】
このような熱応答性の画像形成層（感熱画像形成層）を、赤外線レーザ光の走査露光等により画像形成するため、（Ａ）赤外線吸収剤を画像形成層に含有させる。好ましい添加量は、画像形成層塗布液全固形分中、１〜３０質量％が好ましく、５〜２５質量％がより好ましい。含有量が上記範囲にあると、感度、画像形成性ともに優れた画像形成層となる。【０２５６】
疎水化前駆体を含む画像形成層は、必要な上記各成分を溶剤に溶解、若しくは分散し、塗布液を調製し、前記支持体の親水性表面上に塗布される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。
（その他の平版印刷版原版）
本発明は、赤外線レーザ露光以外の平版印刷版原版にも好ましく用いることができる。以下に、赤外線レーザ露光以外の平版印刷版原版及び画像形成層の例について詳細に説明する。【０２５７】
ポジ型画像形成層の好ましい例としては、以下に示す従来公知のポジ型画像形成層［（ａ）〜（ｂ）］を挙げることができる。【０２５８】
（ａ）ナフトキノンジアジドとノボラック樹脂とを含有してなる従来から用いられているコンベンショナルポジ型画像形成層。【０２５９】
（ｂ）酸分解性基で保護されたアルカリ可溶性化合物と酸発生剤との組み合わせを含有してなる化学増幅型ポジ型画像形成層。【０２６０】
上記（ａ）及び（ｂ）は、いずれも当分野においてはよく知られたものであるが、以下に示すポジ型画像形成層（（ｃ）〜（ｆ））と組み合わせて用いることが更に好適である。【０２６１】
（ｃ）特開平１０−２８２６７２号に記載の現像処理不要な平版印刷版を作製することができる、スルホン酸エステルポリマーと赤外線吸収剤とを含有してなるレーザー感応性ポジ型画像形成層。【０２６２】
（ｄ）ＥＰ６５２４８３号、特開平６−５０２２６０号に記載の現像処理不要な平版印刷版を作製することができる、カルボン酸エステルポリマーと、酸発生剤若しくは赤外線吸収剤とを含有してなるレーザ感応性ポジ型画像形成層。【０２６３】
（ｅ）特開平１１−０９５４２１号に記載のアルカリ可溶性化合物、及び熱分解性でありかつ分解しない状態ではアルカリ可溶性化合物の溶解性を実質的に低下させる物質を含有してなるレーザ感応性ポジ型画像形成層。【０２６４】
（ｆ）アルカリ現像溶出型ポジ平版印刷版を作製することができる、赤外線吸収剤、ノボラック樹脂、及び溶解抑止剤を含有してなるアルカリ現像溶出ポジ型画像形成層。【０２６５】
本発明の平版印刷版用支持体上には、前記画像記録塗布液などの所望の層の塗布液用成分を溶媒に溶かして塗布することにより画像形成層を形成し、平版印刷版原版を製造することができる。平版印刷版原版には、画像形成層に加え、目的に応じて、保護層、樹脂中間層、下塗り層、バックコート層なども同様にして形成することができる。【０２６６】
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を、また、水溶性の画像形成層を用いる場合には、水、或いはアルコール類等の水性溶媒を挙げることができるがこれに限定されるものではなく、画像形成層の物性にあわせて適宜選択すればよい。これらの溶媒は単独或いは混合して使用される。【０２６７】
溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。【０２６８】
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ２が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。【０２６９】
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。【０２７０】
本発明の平版印刷版原版は、支持体と画像形成層との密着性に優れると共に、現像により速やかに親水性の支持体表面が露出することで、非画像部の印刷汚れ性が改善され、厳しい印刷条件においても、高画質の印刷物が多数枚得られる。【０２７１】
本発明の平版印刷版原版は、その画像形成層に応じた公知の製版方法を適用し、平版印刷版を得ることができる。【０２７２】
その後、得られた平版印刷版は、印刷機にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
〔バックコート層〕
上述したようにして得られる平版印刷版原版には、重ねても画像形成層が傷付かないように、裏面（画像形成層が設けられない側の面）に、有機高分子化合物からなる被覆層（以下「バックコート層」ともいう。）を必要に応じて設けてもよい。バックコート層の主成分としては、ガラス転移点が２０℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂および塩化ビニリデン共重合樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を用いるのが好ましい。【０２７３】
飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸ユニットとジオールユニットとからなる。ジカルボン酸ユニットとしては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロルフタル酸等の芳香族ジカルボン酸；アジピン酸、アゼライン酸、コハク酸、シュウ酸、スベリン酸、セバチン酸、マロン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等の飽和脂肪族ジカルボン酸が挙げられる。【０２７４】
バックコート層は、更に、着色のための染料や顔料、支持体との密着性を向上させるためのシランカップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ樹脂、有機ホスホン酸、有機リン酸、カチオン性ポリマー、滑り剤として通常用いられるワックス、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチルシロキサンからなるシリコーン化合物、変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末等を適宜含有することができる。【０２７５】
バックコート層の厚さは、基本的には合紙がなくても、画像形成層を傷付けにくい程度であればよく、０．０１μｍ〜８μｍであるのが好ましい。厚さが０．０１μｍ未満であると、平版印刷版原版を重ねて取り扱った場合の画像形成層の擦れ傷を防ぐことが困難である。また、厚さが８μｍを超えると、印刷中、平版印刷版周辺で用いられる薬品によってバックコート層が膨潤して厚みが変動し、印圧が変化して印刷特性を劣化させることがある。【０２７６】
バックコート層を平版印刷版原版の裏面に設ける方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、上記バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解させ溶液にして塗布し、または、乳化分散液して塗布し、乾燥する方法；あらかじめフイルム状に成形したものを接着剤や熱での平版印刷版原版に貼り合わせる方法；溶融押出機で溶融被膜を形成し、平版印刷版原版に貼り合わせる方法が挙げられる。好適な厚さを確保するうえで最も好ましいのは、バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解させ溶液にして塗布し、乾燥する方法である。【０２７７】
平版印刷版原版の製造においては、裏面のバックコート層と表面の画像形成層のどちらを先に支持体上に設けてもよく、また、両者を同時に設けてもよい。【０２７８】
このようにして得られた平版印刷版原版を、必要に応じて、適当な大きさに裁断して、露光し現像して製版することにより、平版印刷版が得られる。可視光露光型製版層（感光性製版層）を設けた平版印刷版原版の場合には、印刷画像が形成された透明フイルムを重ねて通常の可視光を照射することにより露光し、その後、現像を行うことにより製版することができる。レーザ露光型製版層を設けた平版印刷版原版の場合には、各種レーザ光を照射して印刷画像を直接書き込むことにより露光し、その後、現像することにより製版することができる。【０２７９】
以上のように、本発明に係る塗布膜の乾燥方法を採用することにより、製品表面に外観異常や性能故障が発現することを抑制することができる。【０２８０】
以上、本発明に係る塗布膜の乾燥方法の一例として平版印刷版原版の乾燥方法について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、平版印刷版原版の製造工程におけるその他の乾燥工程に本発明を適用することができる。また、平版印刷版原版の製造分野に限られず、各種技術分野、例えば、電極材料、機能性フイルム、光学フイルムの製造工程に本発明を適用することができる。
【実施例】
【０２８１】
次に、実施例により、本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。以下、図１の乾燥装置２０において、画像形成層塗布膜の乾燥試験を行った。【０２８２】
アルミニウム（Ａｌ）板は、巾３００ｍｍ、厚さ０．３ｍｍのアルミニウム支持体１６（材質ＪＩＳ  Ａ１０５０）を使用した。塗布部１８では、バーコーターを用いウエット厚み２０ｃｃ／ｍ2となるように塗布した。塗布液は、感光材料Ａ／有機溶剤Ｂとした。Ａの沸点は８０℃、Ｂの沸点は２００℃であり、塗布液の粘度１．０５ｍＰａ・ｓ、比重０．９、表面張力２２ｍＮ／ｍであった。尚、塗布部１８の温湿度は、２５℃３０％ＲＨであった。ライン速度を８０ｍ／ｍｉｎとし、支持体の張力を１０００Ｎとして、画像形成層塗布膜を形成した。【０２８３】
図３に示した過熱水蒸気供給装置８０によって生成された過熱水蒸気を過熱水蒸気乾燥部２９に供給した。ボイラー６４は、三浦工業社製簡易貫流蒸気ボイラーＭＥ−４０、セパレータフィルター６６は、ＴＬＶ社製セパレートフィルタＳＦ−１、過熱水蒸気発生装置６８は、第一高周波工業社製過熱水蒸気発生装置Ｓｕｐｅｒ−Ｈｉ７０Ｗを用いた。【０２８４】
以下の水準において、過熱水蒸気乾燥部２９の加熱水蒸気を付与するノズル３４は、スリット数が２本のもので、ピッチ６０ｍｍ、スリットクリアランス２．０ｍｍのものを用いた。スリットと支持体１６との距離は３０ｍｍ、過熱水蒸気のスリット出口風速を１０ｍ／ｓとした。乾燥箱３２の出口３２ｂでのＡｌ板の温度は８０℃であり、熱風の露点は８℃、乾燥箱出口３２ｂ温湿度は２５℃４０％ＲＨであった。出入口３２ａ、３２ｂのシール風の風速は１０ｍ／ｓとした。【０２８５】
［水準１（参考テ゛ータ）］
熱風乾燥部２８において熱風で乾燥を行った。熱風の温度は１５０℃、風量１０ｍ／ｓにおいて、１８秒間乾燥を行った。【０２８６】
［水準２（参考テ゛ータ）］
熱風乾燥部２８において熱風で乾燥を行った。熱風の温度は１５０℃、風量１０ｍ／ｓにおいて、４０秒間乾燥を行った。【０２８７】
［水準３］
水準１の条件で熱風乾燥を行うとともに、過熱水蒸気乾燥部２９において過熱水蒸気で乾燥を行った。過熱水蒸気の温度は１２０℃、蒸気量３００ｇ／ｍ3で１秒間付与した。また出入口にシールを行った。【０２８８】
［水準４］
水準１の条件で熱風乾燥を行うとともに、水準３の条件で過熱水蒸気乾燥を行った。出入口にシールを行うとともに、乾燥箱の内壁を過熱することで保温を行った。【０２８９】
［水準５］
水準１の条件で熱風乾燥を行うとともに、水準３の条件で過熱水蒸気乾燥を行った。出入口にシールを行うとともに、乾燥箱の内壁を過熱することで保温を行った。また、ノズルの保温も行った。【０２９０】
［水準６］
水準１の条件で熱風乾燥を行うとともに、水準３の条件で過熱水蒸気乾燥を行った。乾燥箱の内壁の保温、ノズルの保温、出入り口のシールは行わなかった（結露防止措置無し）。【０２９１】
〔残留高沸点溶媒量の測定方法〕
アルミニウム板上に塗布した塗布膜サンプルを、アルミニウム板ごと３０ｍｍ×１０ｍｍに切り出し、バイヤル瓶に入れて密閉した。このバイヤル瓶を専用の装置に投入して、１８０℃で５分間加熱した後、装置内に装備されているシリンジでバイヤル瓶中の気体の一部を取り出し、ガスクロマトグラフィで分析した。得られたクロマトグラムのピーク面積とあらかじめ用意しておいた検量線とから塗布膜中に残留していた溶媒（溶剤）の濃度を算出した。この結果を、表１に示す。尚、ここで、表中の「シート出口」は、過熱蒸気を付与する乾燥装置出入口のことで、シート上の結露の有無を評価している。また、「乾燥箱内」は過熱蒸気を付与する乾燥装置の内部のことで、内壁やノズル等の結露の有無を評価している。【０２９２】
【表１】
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【０２９３】
表１に示されるように、水準１と水準２との比較から、熱風乾燥を長時間行うことで塗布膜の残留溶剤の量を大幅に低減することができるが、水準６から分かるように、加熱水蒸気を付与することで、熱風乾燥を長時間行わなくても塗布膜の残留溶剤の量を同様に低減することができることが分かる。しかしながら、結露に関しては乾燥箱の出口及び乾燥箱内部に認められ、製品表面に外観異常や性能故障が発現する可能性があることが分かる。水準３〜５は水準６において乾燥箱出入口をシールし、水準４及び５は更に乾燥箱を保温したものであるが、乾燥箱出入口をシールすることで出口に結露が発現せず、更に乾燥箱を保温することで乾燥箱内も結露が発現しなかったことが分かる。【０２９４】
更に以下の水準７〜９の実験を行った。【０２９５】
［水準７］
熱風乾燥部２８において熱風で乾燥を行った。熱風の温度は１５０℃、風量１０ｍ／ｓにおいて、１２秒間乾燥を行った。そして、水準３の条件で過熱水蒸気乾燥を行った。出入口にシールを行うとともに、乾燥箱の内壁を過熱することで保温を行った。また、ノズルの保温も行った。低温で乾燥箱入口でのＡｌ板の温度が６０℃になるように加熱した。【０２９６】
［水準８］
熱風乾燥部２８において熱風で乾燥を行った。熱風の温度は１５０℃、風量１０ｍ／ｓにおいて、１８秒間乾燥を行った。そして、水準３の条件で過熱水蒸気乾燥を行った。出入口にシールを行うとともに、乾燥箱の内壁を過熱することで保温を行った。また、ノズルの保温も行った。高温で乾燥箱入口でのＡｌ板の温度が８０℃になるように加熱した。【０２９７】
［水準９］
熱風乾燥部２８において熱風で乾燥を行った。熱風の温度は１５０℃、風量１０ｍ／ｓにおいて、１２秒間乾燥を行った。そして、水準３の条件で過熱水蒸気乾燥を行った。出入口にシールを行うとともに、乾燥箱の内壁を過熱することで保温を行った。また、ノズルの保温も行った。そして、図６に示した加熱ロール４６を設けた。加熱ロールは直径１００ｍｍ、面長４００ｍｍのものを用いた。加熱ロールの温度を１００℃とし、乾燥箱入口でのＡｌ板の温度が７５℃になるように加熱した。【０２９８】
【表２】
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【０２９９】
表２に示されるように、乾燥箱に搬送される支持体が乾燥箱内の露点以上に制御されている水準８及び９は、乾燥箱内に結露が発現することは無かった。したがって、塗布膜に水滴が付着し、製品表面に外観異常や性能故障が発現することを防ぐことができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【手続補正書】
【提出日】平成21年11月12日(2009.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送される支持体上に高沸点溶媒を含む塗布液が塗布された塗布膜を乾燥点まで乾燥し、
前記塗布膜を前記乾燥点まで乾燥した後に、前記高沸点溶媒よりも沸点の低い溶媒である低沸点溶媒の溶媒蒸気が乾燥箱内において結露しない所定温度になるように前記支持体を加熱して搬送し、
前記乾燥箱内において前記低沸点溶媒の飽和していない溶媒蒸気を蒸気付与ノズルで前記塗布膜に付与しながら前記高沸点溶媒の乾燥を行うことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。
【請求項２】
前記乾燥箱は、内壁が加温されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項３】
前記支持体及び前記乾燥箱を加熱する加熱温度は、（前記所定温度Ｔ−５（°Ｃ））以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項４】
前記乾燥箱の前記支持体の出入口は、シールされていることを特徴とする請求項１〜３の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項５】
前記蒸気付与ノズルは保温されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項６】
前記溶媒蒸気は、前記塗布膜に付与された後に、前記乾燥箱に設けられた排気系に排出されることを特徴とする請求項１〜５の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項７】
前記乾燥箱内では、前記支持体に接する加熱ロールを設けて加熱することを特徴とする請求項１〜６の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項８】
前記乾燥箱は、前記支持体の塗布膜面が垂直から下向きの範囲で通るように設けられているとともに、前記溶媒蒸気が前記塗布膜に下側から塗布膜に向かって付与される位置に前記蒸気付与ノズルが設けられていることを特徴とする請求項１〜７の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項９】
前記乾燥箱の天井内側面には、前記支持体の進行方向に対して平行な略等間隔の溝又は樋を設けていることを特徴とする請求項１〜８の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項１０】
前記溶媒蒸気は、セパレータフィルターにより含有液滴と異物を除去した過熱蒸気であることを特徴とする請求項１〜９の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項１１】
前記溶媒蒸気は、熱風と混合させて前記塗布膜に付与することを特徴とする請求項１〜１０の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１の何れか１に記載の塗布膜の乾燥方法を用いたことを特徴とする平版印刷版原版の製造方法。
【国際調査報告】
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