(57)【要約】本発明に係る蒸着装置は、搬送される被蒸着体に蒸着によって薄膜を形成するために用いられる。この蒸着装置は、ホットウォールを構成している筒状体の内部に配置される分離板を備える。この分離板によって、前記筒状体の内部が、被蒸着体の搬送方向と垂直な方向に並ぶ第一の分離空間及び第二の分離空間に分離されている。前記第一の分離空間には、この第一の分離空間へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている蒸着源と、この蒸着源からの蒸着材料の放射を検出するように構成されているセンサとが設けられている。前記第二の分離空間の場合も同様である。
2013132794.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送される被蒸着体に蒸着によって薄膜を形成するために用いられ、
ホットウォールを構成している筒状体を備え、この筒状体が、前記被蒸着体の搬送方向に沿った前記被蒸着体の一面に面する開口を備える蒸着装置であって、
前記筒状体の内部に配置され、前記ホットウォールを構成している分離板を備え、この分離板によって、前記筒状体の内部が、前記開口の面に沿って前記被蒸着体の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第一の分離空間及び第二の分離空間に分離され、
前記第一の分離空間には、この第一の分離空間へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第一の蒸着源と、この第一の蒸着源からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第一のセンサとが設けられ、
前記第二の分離空間には、この第二の分離空間へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第二の蒸着源と、この第二の蒸着源からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第二のセンサとが設けられていることを特徴とする蒸着装置。
【請求項２】
前記分離板は、前記筒状体の内部を、その開口近傍では分離しないように構成され、
前記分離板が、前記第一及び第二の蒸着源の放射部と、前記第二及び第一のセンサのセンサ部とをそれぞれ結ぶ仮想的な直線を遮断するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記第一及び第二の蒸着源の各々が、複数の蒸着源からなり、前記第一及び第二のセンサの各々が、複数のセンサからなることを特徴とする請求項１又は２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記筒状体の内部に配置され、前記ホットウォールを構成している第二の分離板を備え、この第二の分離板によって、前記筒状体の内部が、前記開口の面に沿って前記被蒸着体の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、前記第二の分離空間及び第三の分離空間に分離され、
前記第三の分離空間には、この第三の分離空間へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第三の蒸着源と、この第三の蒸着源からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第三のセンサとが設けられ、
前記第一の蒸着源に保持される蒸着材料と、前記第二の蒸着源に保持される蒸着材料と、前記第三の蒸着源に保持される蒸着材料とが、同じ種類であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記筒状体の内部を前記開口の面に沿って部分的に遮蔽するように構成されている遮蔽体を備え、この遮蔽体が、前記第一のセンサ及び前記第二のセンサよりも、前記開口側寄りの位置に配置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項６】
前記遮蔽体が、前記筒状体の軸方向に並んで、複数個設けられていることを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項７】
複数の前記遮蔽体の各々が開口を備え、前記筒状体の軸方向に隣合う前記遮蔽体の前記開口が、前記軸方向に重ならないことを特徴とする請求項６に記載の蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着材料を蒸着させて薄膜を形成する蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ラインで基板を搬送し、この基板を被蒸着体として、その表面に薄膜を蒸着して積層するために用いられるインライン型の蒸着装置が知られている。インライン型の蒸着装置は、薄膜を蒸着により順次に積層することによって、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下「有機ＥＬ素子」ともいう）などの電気デバイスを効率よく製造することができる。【０００３】
インライン型の蒸着装置では、チャンバ室内に、蒸着材料を保持する蒸着源が配置されると共に、基板等の被蒸着体が一定速度で搬送される。減圧状態で蒸着源を加熱して蒸着材料を気化させ、蒸着材料を被蒸着体の表面に堆積させることで、被蒸着体の表面に薄膜が形成される。しかしながら、蒸着源から気化された蒸着材料の一部は、被蒸着体へ向かって進行せず、被蒸着体の表面に付着しないことがある。被蒸着体に付着しない蒸着材料が多くなると、材料の使用効率の低下及び蒸着速度の低下の原因となる。そこで、対向する蒸着源と被蒸着体との間の空間を筒状体で囲み、この筒状体を蒸着材料が再気化される温度で加熱し、気化された蒸着材料を筒状体内を通して被蒸着体の表面に蒸着させるようにした蒸着装置が知られている。例えば、特許文献１には、筒状体を用いた蒸着装置が開示されている。【０００４】
図１０Ａ及び図１０Ｂは、従来の蒸着装置１６，１７を示し、図１１は、複数の蒸着装置１６，１７を用いて薄膜を順次に積層する蒸着システムを示す。蒸着装置１６，１７は、薄膜を形成するための蒸着材料を放射する蒸着源２６，２７と、蒸着源２６，２７から放射された蒸着材料を被蒸着体１０１に向けて放出する筒状体３６，３７とを備えている。【０００５】
図１０Ａは１つの蒸着源２６を備える装置を示し、図１０Ｂは二つの蒸着源２７（例えばホストとドーパント）を備える装置を示している。図１１の蒸着システムでは、図１０Ａ及び図１０Ｂで示すような蒸着装置１６，１７が適宜に組み合わされて、搬送方向に複数の蒸着装置１６，１７が並んでいる。蒸着装置１６，１７の筒状体３６，３７は、蒸着材料が気化される温度に加熱されている。蒸着源２６，２７によって気化され筒状体３６，３７の開口４６，４７から放出される蒸着材料によって、搬送される被蒸着体１０１に薄膜が形成される。それにより、筒状体３６，３７から放出される蒸着材料は飛散せずに被蒸着体１０１の表面に付着して効率よく薄膜を形成することができる。【０００６】
筒状体３６，３７には、センサ８６，８７が設けられている。センサ８６，８７は、個々の蒸着源２６，２７からの蒸着材料の放射、すなわち蒸着速度や膜厚を監視（モニター）するために用いられる。蒸着にあたっては、センサ８６，８７を用いた監視に基づき、各蒸着源２６，２７からの蒸着速度を制御している。それにより、薄膜を精度よく成膜することができる。【０００７】
このような蒸着システムが用いられると、有機ＥＬ素子などを構成する積層体を効率よく作製することができる。この蒸着システムを有機ＥＬ素子の製造装置として利用することができる。【０００８】
有機ＥＬ素子の製造においては、有機層などを構成する薄膜を蒸着装置で成膜して積層体を作製するとき、被蒸着体である基板のサイズが大きくなると、蒸着源から放射される蒸着材料が基板の端部に届きにくくなるという問題が生じる。基板の端部に蒸着材料が積層されないと、厚みの一定な薄膜が得られなくなってしまう。複数の蒸着材料を用いて共蒸着を行うときには、混合比が安定しなくなるおそれもある。この問題を解決するために、例えば、筒状体に取り付ける蒸着源の数を増加させることが考えられる。しかし、蒸着源が増えた場合、各蒸着源からの蒸着材料の放射が監視される際に、個々の蒸着源における放射が監視されにくくなってしまう。【０００９】
例えば、発光層などの形成のために、ホストとドーパントの２種類の蒸着源が必要な場合がある。２種類の蒸着源２を有する蒸着装置は、例えば、図１０Ａに示すような装置である。蒸着源の個数が例えば１種類の蒸着材料につき２個に増えると、ホスト蒸着源が２つ、ドーパント蒸着源が２つとなり、合計４個の蒸着源が筒状体に設けられる。その場合、４つの蒸着源から蒸発した蒸着材料は筒状体内で均一に混ざり合う。薄膜が精度よく成膜されるには、個々の蒸着源から放射される蒸着材料が監視されることが要求され、そのためには、蒸着源と同じ個数のセンサ（例えば膜厚計など）が筒状体に接続される。４つの蒸着源が設けられる場合、４つのセンサが設けられる。しかしながら、各センサには均一に混ざった材料が到達するため、個々の蒸着源からの蒸着材料が精度よく監視されなくなってしまう。【００１０】
蒸着源が１種の場合においても、蒸着源の数が増えると、厚みの均一な薄膜が精度よく形成されるためには、その個数の分だけセンサが設けられることが要求される。しかしながら、蒸着源と同じ個数の複数のセンサ（例えば膜厚計）が筒状体に接続されると、各センサには各蒸着源からの蒸着材料が均一に混ざって到達するため、個々の蒸着源からの蒸着材料が精度よく監視されなくなってしまう。【００１１】
各蒸着源からの蒸着材料の放射が個別に監視されないと、適切な蒸着の制御がされなくなり、被蒸着体に蒸着される薄膜の膜厚及び混合濃度比の精度に悪影響が与えられ、電気デバイスの品質が低下してしまうおそれがある。特に、有機ＥＬ素子では、厚みや混合濃度の不均一な膜によって発光特性が低下してしまい、品質不良が発生してしまうおそれがある。【００１２】
特許文献２には、複数の蒸着源によって薄膜を形成する蒸着装置が開示されているが、蒸着源を搬送方向に並べて材料濃度が傾斜した有機層を形成するため、この特許文献２に記載の技術は基板サイズが大きい場合に対応できない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００３−１２９２２４号公報
【特許文献２】特開２００３−７７６６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされてものであり、大型の被蒸着体に対しても、均一に安定して薄膜を形成することができる蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の第１の態様に係る蒸着装置は、搬送される被蒸着体に蒸着によって薄膜を形成するために用いられ、
ホットウォールを構成している筒状体を備え、この筒状体が、前記被蒸着体の搬送方向に沿った前記被蒸着体の一面に面する開口を備える蒸着装置であって、
前記筒状体の内部に配置され、前記ホットウォールを構成している分離板を備え、この分離板によって、前記筒状体の内部が、前記開口の面に沿って前記被蒸着体の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第一の分離空間及び第二の分離空間に分離され、
前記第一の分離空間には、この第一の分離空間へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第一の蒸着源と、この第一の蒸着源からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第一のセンサとが設けられ、
前記第二の分離空間には、この第二の分離空間へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第二の蒸着源と、この第二の蒸着源からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第二のセンサとが設けられていることを特徴とする。【００１６】
すなわち、本発明の第２の態様に係る蒸着装置では、第１の態様において、前記分離板は、前記筒状体の内部を、その開口近傍では分離しないように構成され、
前記分離板が、前記第一及び第二の蒸着源の放射部と、前記第二及び第一のセンサのセンサ部とをそれぞれ結ぶ仮想的な直線を遮断するように構成されている。【００１７】
すなわち、本発明の第３の態様に係る蒸着装置では、第１又は第２の態様において、前記第一及び第二の蒸着源の各々が、複数の蒸着源からなり、前記第一及び第二のセンサの各々が、複数のセンサからなる。【００１８】
すなわち、本発明の第４の態様に係る蒸着装置は、第１乃至第３のいずれか一の態様において、前記筒状体の内部に配置され、前記ホットウォールを構成している第二の分離板を備え、この第二の分離板によって、前記筒状体の内部が、前記開口の面に沿って前記被蒸着体の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、前記第二の分離空間及び第三の分離空間に分離され、
前記第三の分離空間には、この第三の分離空間へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第三の蒸着源と、この第三の蒸着源からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第三のセンサとが設けられ、
前記第一の蒸着源に保持される蒸着材料と、前記第二の蒸着源に保持される蒸着材料と、前記第三の蒸着源に保持される蒸着材料とが、同じ種類である。【００１９】
本発明の第５の態様に係る蒸着装置は、第１乃至第４のいずれか一の態様において、前記筒状体の内部を前記開口の面に沿って部分的に遮蔽するように構成されている遮蔽体を備え、この遮蔽体が、前記第一のセンサ及び前記第二のセンサよりも、前記開口側の位置に配置されている。【００２０】
本発明の第６の態様に係る蒸着装置では、第５の態様において、前記遮蔽体が、前記筒状体の軸方向に並んで、複数個設けられている。【００２１】
本発明の第７の態様に係る蒸着装置では、第６の態様において、複数の前記遮蔽体の各々が開口を備え、前記筒状体の軸方向に隣合う前記遮蔽体の前記開口が、前記軸方向に重ならない。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る蒸着装置が用いられると、大型の被蒸着体に対しても、均一に安定して薄膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１Ａ】第一の実施形態に係る蒸着装置を示す概略の断面図である。
【図１Ｂ】第一の実施形態に係る蒸着装置を示す概略の平面図である。
【図２Ａ】第一の実施形態に係る蒸着装置の第一の変形例を示す概略の断面図である。
【図２Ｂ】第一の実施形態に係る蒸着装置を示す概略の断面図である。
【図２Ｃ】第一の実施形態に係る蒸着装置の第二の変形例を示す概略の断面図である。
【図３Ａ】第二の実施形態に係る蒸着装置を示す概略の断面図である。
【図３Ｂ】第二の実施形態に係る蒸着装置を示す概略の平面図である。
【図４Ａ】第三の実施形態に係る蒸着装置を示す概略の断面図である。
【図４Ｂ】第四の実施形態に係る蒸着装置を示す概略の断面図である。
【図５】第五の実施形態に係る蒸着装置を示す概略の断面図である。
【図６】前記第五の実施形態の第一の変形例を示す概略の平断面図である。
【図７】前記第五の実施形態の第二の変形例を示す概略の断面図である。
【図８】蒸着システム（有機エレクトロルミネッセンス素子製造装置）の一例を示す斜視図である。
【図９】膜厚分布を示すグラフである。
【図１０Ａ】従来の蒸着装置の一例を示す概略の断面図である。
【図１０Ｂ】従来の蒸着装置の他例を示す概略の断面図である。
【図１１】従来の蒸着システム（有機エレクトロルミネッセンス素子製造装置）の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
蒸着装置は、薄膜を形成するための蒸着材料を放射する蒸着源と、前記蒸着材料が気化される温度に加熱され、前記蒸着源から放射された前記蒸着材料を被蒸着体に向けて放出する筒状体とを備え、前記筒状体から放出する前記蒸着材料によって、搬送される前記被蒸着体に前記薄膜を形成する蒸着装置であって、前記筒状体は、搬送方向に沿って設けられ前記蒸着材料が気化される温度に加熱された分離板によって、内部が複数の分離空間に分離されており、前記分離空間には、少なくとも１つの前記蒸着源と、この蒸着源からの前記蒸着材料の放射を監視するためのセンサとが設けられている。
【００２５】
前記分離板は、前記筒状体の開口近傍を分離しないように設けられているとともに、一の前記分離空間における前記蒸着源の放射部と、他の前記分離空間における前記センサのセンサ部とを結ぶ直線を、仮想線として引いたときに、この仮想線を遮断するように設けられていることが好ましい。
【００２６】
前記分離空間には、複数の前記蒸着源と、この蒸着源からの前記蒸着材料の放射を監視するための複数の前記センサとが設けられていてもよい。
【００２７】
前記筒状体は、複数の前記分離板によって、内部が複数の前記分離空間に分離されており、複数の前記分離空間には、同じ種類の蒸着材料を放射する前記蒸着源が設けられていてもよい。
【００２８】
図１Ａ及び図１Ｂは、蒸着装置の第一の実施形態を示している。この蒸着装置１１は、搬送される被蒸着体１０に薄膜を形成するために用いられる。蒸着装置１１は、薄膜を形成するための蒸着材料を放射する蒸着源２１と、蒸着源２１から放射された蒸着材料を被蒸着体１０に向けて放出する筒状体３１とを備えている。筒状体３１は、蒸着材料が気化される温度に加熱されている。この筒状体３１は、対向し合う蒸着源２１と被蒸着体１０との間の空間を囲っている。蒸着装置１１が筒状体３１を有していないと、厚み及び混合比が均一な薄膜が形成されなくなる。図１Ａでは、被蒸着体１０の搬送方向は、紙面と垂直に手前から奥に向かう方向であり、この方向を、ｘを円で囲んだ記号で表している。また、図１Ｂでは、被蒸着体１０の搬送方向を白抜き矢印で表している。蒸着装置１１が、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を構成する薄膜層を形成することができる。蒸着装置１１における蒸着温度が比較的低温（４００℃以下など）であり、蒸着装置１１は、いわゆるホットウォールによって蒸着する装置である。
【００２９】
つまり、本実施形態に係る蒸着装置１１は、ホットウォールを構成している筒状体３１を備える。ホットウォールは、ホットウォール蒸着法で採用されている要素である。このホットウォールに付着した蒸着材料は、加熱されて再気化し、それにより蒸着効率が向上する。この筒状体３１は、被蒸着体１０の搬送方向に沿った被蒸着体１０の一面に面する開口４１を備える。筒状体３１がホットウォールを構成するためには、筒状体３１には、この筒状体３１を加熱するように構成されたヒータが設けられることが好ましい。
【００３０】
蒸着装置１１は、筒状体３１の内部に配置される分離板５１を備える。この分離板５１は、筒状体３１と共に、ホットウォールを構成する。分離壁５１がホットウォールを構成するためには、分離壁５１には、この分離壁５１を加熱するように構成されたヒータが設けられることが好ましい。この分離板５１によって、筒状体３１の内部が、筒状体３１の開口４１の面に沿って被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第一の分離空間６１１及び第二の分離空間６１２に分離されている。
【００３１】
第一の分離空間６１１には、この第一の分離空間６１１へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第一の蒸着源２１１と、この第一の蒸着源２１１からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第一のセンサ８１１とが設けられる。第二の分離空間６１２には、この第二の分離空間６１２へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第二の蒸着源２１２と、この第二の蒸着源２１２からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第二のセンサ８１２とが設けられている。
【００３２】
筒状体３１は、断面矩形状の空洞を有する縦型の筒形状に形成されている。筒状体３１の下部は蒸着源２１と接続される。筒状体３１の上部には、気化した蒸着材料を上方に放出するための開口４１が設けられている。筒状体３１によって蒸着材料が被蒸着体１０に向かって放出されれば、被蒸着体１０に薄膜が積層して形成されうる。また、筒状体３１が蒸着材料の気化温度以上の温度で加熱されていることにより、蒸着材料が筒状体３１の内部に付着せずに開口４１から放出されうる。筒状体３１は金属製であってよい。蒸着は真空蒸着であってよい。真空蒸着は、チャンバ内で行われてもよい。図１Ａでは、蒸着材料の放出方向を黒矢印で示している。なお、筒状体３１の開口４１には、幅方向（開口４１の面に沿った、被蒸着体体１０の搬送方向と垂直な方向）の膜厚分布を調整するために蒸着材料の放出量を制御するように構成された遮蔽板が設けられてもよい。
【００３３】
蒸着源２１には、筒状体３１の内部へ向けて開口する凹所が形成されている。この凹所内に蒸着材料が保持される。蒸着源２１は、この蒸着源２１に保持されている蒸着材料を加熱するように構成されているヒータを備えることが好ましい。ヒータは、例えば抵抗加熱式、電子ビーム式、高周波誘導式、レーザー式などの公知の方式で蒸着材料を加熱するように構成される。蒸着源２１で蒸着材料が気化されることで、蒸着材料が蒸着源２１から筒状体３１の内部へ向けて放出される。この蒸着材料が、筒状体３１の内部を通過し、更に開口４から被蒸着体１０へ向けて放出される。
【００３４】
図１Ａに示すように、本実施形態では、開口４１は、被蒸着体１０の搬送方向に沿って短辺が配置されるとともに、被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向（幅方向）に沿って長辺が配置された、矩形形状に形成されている。それにより、搬送される被蒸着体１０表面に、より均一な膜厚の薄膜が形成されうる。
【００３５】
図１Ａ及び図１Ｂの蒸着装置１１は、２種類の蒸着材料を筒状体３１から放出して薄膜を形成する。すなわち、薄膜は２種類の材料が混合した混合膜として形成される。筒状体３１には、２種の蒸着材料を放射するための蒸着源２１ａ及び２１ｂが、各２個設けられている。すなわち、筒状体３１には、蒸着源２１ａが二個設けられ、蒸着源２１ａとは異なる種類の蒸着材料を保持する蒸着源２１ｂも二個設けられている。したがって、蒸着源２１は全部で４個設けられている。蒸着源２１と筒状体３１の接続部分には、蒸着材料を放射するための放射部７１が形成されている。放射部７１は開口によって形成されている。この放射部７１には、例えば、開閉状態（開口の大きさ）の変化が可能な遮蔽機構などが設けられていてもよい。遮蔽機構が開閉状態を変化させることにより、蒸着材料の放射量が制御されうる。
【００３６】
蒸着装置１１は、第一の蒸着源２１１と、第二の蒸着源２１２とを備える。第一及び第二の蒸着源２１１，２１２の各々は、複数の蒸着源２１からなる。本実施形態では、第一及び第二の蒸着源２１１，２１２の各々が、蒸着源２１ａ及び蒸着源２１ｂという二つの蒸着源２１を含む。これらの蒸着源２１の放射部７１は、蒸着源２１内における、この蒸着源２１から放出される蒸着材料が最後に通過する部位である。本実施形態では、上記の通り、放出部２１は、蒸着源２１に形成されている凹所の開口である。
【００３７】
本実施形態では、蒸着源２１は、放射する材料の違いにより、蒸着源２１ａと、蒸着源２１ａとは異なる種類の蒸着材料を保持する蒸着源２１ｂとに分類される。この装置は、例えば、共蒸着のために使用されうる。蒸着源２１ａは、例えば、ドーパント材料を放出するためのドーパント蒸着源であってよい。蒸着源２１ｂは、例えば、ホスト材料を放出するためのホスト蒸着源であってよい。同じ種類の蒸着材料を放射する蒸着源の個数が複数に増加すると、蒸着材料の放出量が増加されうるため、被蒸着体が大型化した場合であっても、薄膜が効率よく形成されうる。蒸着源が１種類の材料につき１個設けられ、この蒸着源の出力を上げて大量の蒸着材料を放射しようとした場合、蒸着材料に負担がかかり蒸着材料が劣化するおそれがある。しかしながら、本実施形態では、蒸着源２１が複数設けてられており、個々の蒸着源２１の出力は通常の出力でよいので、蒸着材料の劣化が抑制されうる。図１Ａ及び図１Ｂの蒸着装置１１は、２種類の材料が混合する混合層を形成することが可能である。この蒸着装置１１は、例えば、有機ＥＬ素子の発光層を積層形成することができる。
【００３８】
本実施形態では、第一の蒸着源２１１に保持される蒸着材料と、第二の蒸着源２１２に保持される蒸着材料とは、同じ種類である。すなわち、第一の蒸着源２１１に含まれる蒸着源２１ａと、第二の蒸着源２１２に含まれる蒸着源２１ａは、同じ種類の蒸着材料（ドーパント材料）を保持するように構成される。第一の蒸着源２１１に含まれる蒸着源２１ｂと、第二の蒸着源２１２に含まれる蒸着源２１ｂも、同じ種類の蒸着材料（ホスト材料）を保持するように構成される。
【００３９】
本実施形態では、筒状体３１の内部が、被蒸着体１０の搬送方向に沿って設けられた分離板５１によって、複数の分離空間６１１，６１２に分離されている。分離板５１は、筒状体３１の幅方向（搬送方向に垂直な方向）の中央部において、搬送方向と平行に筒状体３１内に配置されている。本実施形態では、筒状体３１を略均等に２分する分離板５１が設けられることで、略同容積の二つの分離空間６１１，６１２が設けられている。分離板５１は、蒸着材料が気化される温度に加熱されている。分離板５１が蒸着材料の気化温度以上の温度で加熱されていることにより、蒸着材料が分離板５１に付着せずに開口４１から放出されうる。分離板５１の温度は筒状体３１と同じ温度であってもよいし異なっていてもよい。筒状体３１と分離板５１とが熱伝達性を有して接続され、筒状体３１が加熱されることにより分離板５１も加熱されれば、加熱機構が簡単になる。分離板５１は金属製であってよい。例えば、分離板５１は鋼板で形成されてもよい。
【００４０】
本実施形態では、分離空間６１１，６１２は筒状の空間である。すなわち、分離空間６１１，６１２は、筒状体３１及び分離板５１によって囲まれている空間である。それにより、蒸着源２１から放射された蒸着材料は上方に移動し、開口４１から放出される。分離板５１は、筒状体３１の下部空間（開口４１とは反対側の空間）が連通しないように空間を仕切って分離空間６１１，６１２を形成している。穴などによって空間が連通していると、他の分離空間６１１，６１２で放射された蒸着材料が混入するおそれがある。
【００４１】
蒸着装置１１においては、分離空間６１１，６１２の各々には、少なくとも１つの蒸着源２１と、この蒸着源２１からの蒸着材料の放射を監視するためのセンサ８１とが設けられている。本実施形態では、各分離空間６１１，６１２には、複数（２個）の蒸着源２１と、この蒸着源２１からの蒸着材料の放射を監視する複数（２個）のセンサ８１とが設けられている。それにより、蒸着装置１１は、異なる蒸着材料を放射して、材料の混合した混合層を、精度よく形成することができる。なお、蒸着源２１は３個以上であってもよい。センサ８１も、３個以上であってもよい。ただし、センサ８１の個数は蒸着源２１と同数又はそれ以上であることが好ましい。また、各分離空間６１１，６１２に設けられる蒸着源２１の数は同じであることが好ましい。つまり、第一の分離空間６１１に設けられる蒸着源２１の数と、第二の分離空間６１２に設けられる蒸着源２１の数とが、同じであることが好ましい。それにより、各分離空間６１１，６１２に蒸着源２１のセットを配置することができ、各分離空間６１から同種の蒸着材料を放出することができる。
【００４２】
つまり、本実施形態では、第一の分離空間６１１には、第一の蒸着源２１１と、第一のセンサ８１１とが設けられる。第一の蒸着源２１１は、第一の分離空間６１１へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている。第一のセンサ８１１は、第一の蒸着源２１１からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている。第一の蒸着源２１１は、複数の蒸着源２１からなり、第一のセンサ８１１は、複数のセンサ８１からなる。
【００４３】
尚、第一の蒸着源２１１は、この第一の蒸着源２１１に保持されている蒸着材料が第一の分離空間６１１へ放射されうるのであれば、いかなる位置に配置されていてもよい。例えば第一の蒸着源２１１が第一の分離空間６１１内に配置されていても、第一の分離空間６１１外に配置されていてもよい。第一のセンサ８１１も、この第一のセンサ８１１が第一の蒸着源２１１からの蒸着材料の放射を検出しうるのであれば、いかなる位置に配置されていてもよい。例えば第一のセンサ８１１が、第一の分離空間６１１内に配置されていてもよく、第一の分離空間６１１外に配置されていてもよく、第一の蒸着源２１１内に配置されていてもよい。
【００４４】
更に、本実施形態では、第二の分離空間６１２には、第二の蒸着源２１２と、第二のセンサ８１２とが設けられる。第二の蒸着源２１２は、第二の分離空間６１２へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている。第二のセンサ８１２は、第二の蒸着源２１２からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている。第二の蒸着源２１２は、複数の蒸着源２１からなり、第二のセンサ８１２が、複数のセンサ８１からなる。
【００４５】
尚、第二の蒸着源２１２は、この第二の蒸着源２１２に保持されている蒸着材料が第二の分離空間６１２へ放射されうるのであれば、いかなる位置に配置されていてもよい。例えば第二の蒸着源２１２が第二の分離空間６１２内に配置されていても、第二の分離空間６１２外に配置されていてもよい。第二のセンサ８１２も、この第二のセンサ８１２が第二の蒸着源２１２からの蒸着材料の放射を検出しうるのであれば、いかなる位置に配置されていてもよい。例えば第二のセンサ８１２が、第二の分離空間６１２内に配置されていてもよく、第二の分離空間６１２外に配置されていてもよく、第二の蒸着源２１２内に配置されていてもよい。
【００４６】
センサ８１は、個々の蒸着源２１からの蒸着材料の放射、すなわち蒸着速度や膜厚を監視（モニター）するために用いられる。蒸着にあたっては、センサ８１を利用した監視に基づき、各蒸着源２１から放射される蒸着材料の蒸着速度（単位時間あたりの蒸着材料の放射量）が制御される。それにより、蒸着装置が、薄膜を精度よく成膜することができる。センサ８１の先端にはセンサ部９１が設けられている。センサ部９１に蒸着材料が到達すると、蒸着材料の放射が監視されうる。センサ８１としては、膜厚計などを用いることができ、例えば、水晶振動子などを用いることができる。
【００４７】
尚、センサ部９１は、センサ８１における、このセンサ８１によって検出される蒸着材料が最初に到達する部位である。本実施形態では、センサ８１は、分離空間に連通する筒状の部材と、この部材内に配置された検出素子とを備える。検出素子として、例えば水晶振動子を備える水晶振動子膜厚計が挙げられる。筒状の部材における、分離空間に連通する開口が、本実施形態におけるセンサ部９１である。この場合、蒸着材料がセンサ部９１から筒状の部材内に引き込まれ、この蒸着材料が検出素子によって検出される。検出素子は、例えば蒸着材料の付着に伴う水晶振動子の振動周波数の変化から蒸着膜厚を検出して蒸着速度を計測し、この蒸着速度に関する情報を含む制御信号を生成する。検出素子は、例えば制御情報を、コントローラへ送信する。コントローラは、例えば制御信号に応じて、蒸発源２１を制御して蒸着速度を調整するように構成されている。コントローラの動作については、後に詳述する。
【００４８】
第一の実施形態では、各分離空間６１１，６１２に、蒸着源２１ａ、蒸着源２１ｂ、センサ８１ａ、及び、センサ８１ｂが設けられている。センサ８１ａ及びセンサ８１ｂは、蒸着源２１ａ及び蒸着源２１ｂからの蒸着材料の放射を監視するために用いられる。すなわち、各分離空間６１１，６１２には、同種の蒸着材料を放射する１個又は２個以上の蒸着源２１が設けられ、その蒸着源２１の個数に対応する数のセンサ８１が設けられている。
【００４９】
図１Ｂに示すように、本実施形態では、各蒸着源２１は、搬送方向と垂直な方向に並んで配置されている。それにより、蒸着装置１１は、被蒸着体１０の幅方向に均一な薄膜を安定して形成することができる。種類の異なる複数の蒸着源２１が、蒸着源２１ａ、蒸着源２１ｂ、蒸着源２１ａ、蒸着源２１ｂの順に、交互に配置されている。それにより、さらに安定な薄膜を形成することができる。
【００５０】
本実施形態の蒸着装置１１は、分離板５１が設けられて筒状体３１の内部が複数の分離空間６に仕切られることで、幅方向（開口４１の面に沿った搬送方向と垂直な方向）の長さが長い被蒸着体１０に蒸着する場合でも、簡単に蒸着材料の放射を調整し、蒸着量の分布を調整することができる。すなわち、分離板が設けられておらず筒状体の内部が全て連通した蒸着装置が用いられる場合、同種の蒸着材料を放射する蒸着源が筒状体に複数設けられると、筒状体の内部では材料が混合してしまう。すると、センサを用いて監視したとしても、どの蒸着源から放射された蒸着材料なのかが判別できなくなり、蒸着源の放射量などを適切に制御することができなくなってしまう。しかしながら、本実施形態では、分離板５１が設けられて筒状体３１内部の空間が仕切られ、それぞれの分離空間６１１，６１２で蒸着源２１とセンサ８１が設けられているので、簡単に個々の蒸着源２１からの材料の放射が監視されうる。そのため、蒸着装置１１が、精度よく薄膜を形成することができる。
【００５１】
分離板５１は筒状体３１に着脱自在に挿入されてもよい。分離板５１は高さの調整が可能なように構成されていてもよい。例えば、筒状体３１の下部から分離板５１がスライド自在に挿入されれば、分離板５１が上下にスライドされることで、その高さが簡単に調整される。その場合、分離板５１による遮蔽状態を変化させて、薄膜の形成条件をさらに好適化することが可能になる。筒状体３１の側部（前方又は後方）から分離板５１が着脱自在に挿入されてもよい。この場合、高さ（上下方向の長さ）の異なる分離板５１を入れ替えて、分離空間６１１，６１２を分離する分離板５１の高さを変化させることができる。その場合、分離板５１による遮蔽状態を変化させて、薄膜の形成条件をさらに好適化することが可能になる。
【００５２】
図２Ａ〜図２Ｃは、互いに高さ（上下方向の長さ）の異なる分離板５を備える蒸着装置１１の例を示している。図２Ｂは第一の実施形態を示し、図２Ａ及び図２Ｃの各々は第一の実施形態の変形例を示す。図２Ａの例では、分離板５１の高さは筒状体３１の内部空間の高さと略同じである。そのため、図２Ａでは、分離板５１は開口４１を分離している。図２Ｂ及び図２Ｃの例では、分離板５１の高さは、筒状体３１の内部空間の高さよりも低い。したがって、図２Ｂ及び図２Ｃでは、分離板５１は開口４１を分離していない。
【００５３】
蒸着装置１１では、図２Ｂ又は図２Ｃの例のように、分離板５１は、筒状体３１の開口４１近傍を分離しないように設けられていることが好ましい。この場合、分離板５１の上端５１ａは開口４１よりも下方に配置される。図２Ａの例のように、筒状体３１の開口４１が分離板５１によって分離されていると、筒状体３１から蒸着材料を放出する際に、分離板５１によって区切られた領域ごとに蒸着材料が放出される。すると、分離板５１の上方に放出される蒸着材料が少なくなり、均一な厚みの薄膜が得られにくくなるおそれがある。しかしながら、図２Ｂ及び図２Ｃのように、開口４１が分離板５１によって分離されていないと、開口４１付近に到達した蒸着材料はこの部分で相互に混じり合って筒状体３１から放出されることになる。そのため、分離板５１の直上付近での膜厚分布がなだらかになって、蒸着装置１１が、均一な膜厚の薄膜を形成することができる。
【００５４】
つまり、分離板５１は、図１Ａ、図２Ｂ及び図２Ｃに示されるように、筒状体３１の内部を、その開口４１近傍では分離しないように構成されることが好ましい。換言すれば、分離版５１は、筒状体３１の内部で、筒状体３１の開口４１よりもセットバックされていることが好ましい。
【００５５】
また、分離板５１は、図２Ｂ及び図２Ｃで示すように、一の分離空間における蒸着源２１の放射部７１と、他の分離空間におけるセンサ８１のセンサ部９１とを結ぶ直線を、仮想線Ｌ１として引いたときに、仮想線Ｌ１を遮断するように設けられていることが好ましい。複数の蒸着源２１と複数のセンサ８１が設けられている場合は、全ての仮想線Ｌ１が遮断されることが好ましい。放射部７１及びセンサ部９１の中心を基準にして仮想線Ｌ１を引いてもよいが、より遮蔽度を高くするためには、線の長さが長くなるように両者の縁部から縁部に仮想線Ｌ１を引くことが好ましい。分離板５１の高さが仮想線Ｌ１の通過する位置よりも高いことにより、この仮想線Ｌ１が分離板５１で遮断される。仮想線Ｌ１を遮断することにより、他の分離空間で放射された蒸着材料がセンサ８１のセンサ部９１に到達しにくくなるため、蒸着材料の監視の精度を高めることができる。
【００５６】
つまり、分離板５１が、図２Ｂ及び図２Ｃで示すように、第一の蒸着源２１１に含まれる蒸着源２１の放射部７１と第二のセンサ８１２に含まれるセンサ８１のセンサ部９１とを結ぶ仮想的な直線（仮想線Ｌ１）を遮断し、且つ、第二の蒸着源２１２に含まれる蒸着源２１の放射部７１と第一のセンサ８１１に含まれるセンサ８１のセンサ部９１とを結ぶ仮想的な直線（仮想線Ｌ１）も遮断するように、構成されていることが好ましい。換言すれば、これらの仮想線Ｌ１が、分離板５１と交わることが好ましい。この場合、各蒸着源２１からの蒸着材料の放射が、センサ８１によって、より精度よく検出される。第一の蒸着源２１１が複数の蒸着源２１からなり、且つ第二のセンサ８１２が複数のセンサ８１からなる場合には、いかなる蒸着源２１とセンサ８１との組み合わせが選択されても、分離板５１が、蒸着源２１の放射部７１とセンサ８１のセンサ部９１とを結ぶ仮想的な直線（仮想線Ｌ１）を遮断することが好ましい。第二の蒸着源２１２が複数の蒸着源２１からなり、且つ第一のセンサ８１１が複数のセンサ８１からなる場合にも、いかなる蒸着源２１とセンサ８１との組み合わせが選択されても、分離板５１が、蒸着源２１の放射部７１とセンサ８１のセンサ部９１とを結ぶ仮想的な直線（仮想線Ｌ１）を遮断することが好ましい。
【００５７】
さらに、分離板５１の高さは、図２Ｂに示すように、センサ８１のセンサ部９１の高さ位置Ｈ１よりも高いことが好ましい。センサ８１が複数設けられている場合は、分離板５１の高さが全てのセンサ部９１よりも高いことが好ましい。蒸着材料は上方に向かって放射されるが、筒状体３１の壁面や分離板５１に当たってはね返って進行方向が変わることがある。また、上方に進行する蒸着材料の進行方向が、他の蒸着材料との衝突や気圧の変化などにより、他の分離空間側に変更して曲がることがある。その際、図２Ｃのように、分離板５１の高さがセンサ部９１よりも低い位置に配置されていると、分離空間において放出された蒸着材料が他の分離空間に入り、異なる分離空間の蒸着材料がセンサ８１で計測されてしまうおそれがある。しかしながら、図２Ｂの例のように、センサ部９１の位置よりも分離板５１の上端部５１ａが上方に位置していると、他の分離空間で放射された蒸着材料がセンサ８１で検出されることがより抑制され、精度よく蒸着材料の放射が監視されうる。
【００５８】
つまり、筒状体３１の開口４１から分離板５１の端部５１ａまでの寸法が、筒状体３１の開口４１からセンサ８１のセンサ部９１までの寸法よりも短いことが好ましい。この場合、各蒸着源２１からの蒸着材料の放射が、センサ８１によって、より精度よく検出される。特に、筒状体３１の開口４１から分離板５１の端部５１ａまでの寸法が、筒状体３１の開口４１から、全センサ８１のうちいずれのセンサ８１のセンサ部９１までの寸法よりも、短いことが好ましい。尚、これらの寸法は、筒状体３１の軸方向の寸法である。
【００５９】
上記のように、筒状体３１の内部の空間が分離板５１によって複数の分離空間６１１，６１２に分離される場合、分離板５１が開口４１を仕切っていると、分離板５１の位置において蒸着材料の放出量が減少して、膜の厚みが薄くなるおそれがある。すなわち、薄膜の膜厚分布をグラフ化した際に、グラフに凹みが形成されるおそれがある。したがって、より均一な厚みの薄膜が形成されるためには、膜厚分布に凹みができないような高さまで分離板５１の高さが低められることが好ましい。一方、センサ８１を用いた監視精度を高めるためには、分離板５１の高さは高い方が好ましい。したがって、具体的には、例えば、分離板５１の高さ（上端部５１ａの位置）は、上下方向において、センサ８１のセンサ部９１の位置と開口４１の位置との間の１／５〜４／５の範囲であってよいが、これに限定されない。
【００６０】
つまり、筒状体３１の開口４１から分離板５１の端部５ａまでの寸法が、筒状体３１の開口４１からセンサ８１のセンサ部９１までの寸法の、１／５〜４／５の範囲であることが好ましい。尚、これらの寸法は、筒状体の軸方向の寸法である。この場合、被蒸着体１０に形成される薄膜の厚みが、より均一化し、且つ蒸着源２１からの蒸着材料の放射が、センサ８１によって、より精度よく検出される。
【００６１】
このように分離板５１の高さは、高すぎると、均一な膜厚が得られにくくなり、低すぎると、センサ８１によるモニタリングに悪影響が及ぶため、適宜に設定される。なお、分離板５１の厚みは、特に限定されないが、厚みが厚すぎると分離板５１の上方で蒸着材料が放出されにくくなるおそれがあるため、例えば、１〜３０ｍｍである。
【００６２】
センサ８１による蒸着材料の放射の監視は、蒸着速度や膜厚の監視であってよい。蒸着速度や膜厚が監視されると、蒸着材料の混合比及び薄膜の厚みが適切にモニターされうる。センサ８１の先端には、センサ部９１が設けられている。センサ８１が膜厚計である場合、センサ部９１に形成される膜厚の厚みが監視されることにより、蒸着材料の放射が監視されうる。センサ８１のセンサ部９１は下方に向けて設けられていることが好ましい。センサ８１が筒状体３１の壁面に取り付けられる場合は、センサ部９１が斜め下方に向くようにセンサ８１が取り付けられる。それにより、監視性能が高まる。
【００６３】
第一の実施形態では、センサ８１ａが筒状体３１の側部（側方の壁）に配置され、センサ８１ｂは、筒状体３１の前部（上流側の壁）に配置されている。センサ８１ａとセンサ８１ｂとの距離が近いと、蒸着材料の放射が適切に監視されないおそれがある。しかしながら、筒状体３１の別の壁面にセンサ８１が設けられることによって、センサ部９１間の距離が遠ざかり、蒸着材料の放射が精度よく監視されうる。
【００６４】
蒸着装置１１は、センサ８１を用いて監視した蒸着速度や膜厚に基づいて、蒸着源２１から放射される蒸着材料の蒸着速度を制御することが好ましい。それにより、蒸着装置１１が均一な膜厚の薄膜を形成することが、より容易になる。更に、蒸着装置１１が、混合比の安定した薄膜を形成することができる。例えば、蒸着装置１１には、蒸着量制御機構（コントローラ）が設けられる。すなわち、蒸着装置１１には、蒸着量を制御するように構成されたコントローラが設けられる。コントローラは、適宜の電子演算機器によって構成される。コントローラは、例えばセンサ８１を用いて監視した蒸着速度と設定蒸着速度とのずれに基づき、蒸着源２１からの蒸着材料の放射量を制御するように構成される。例えば、監視された蒸着速度と設定値との間にずれがあると、コントローラは、蒸着源２１の加熱機構（ヒータ）に供給する電力量を制御することで、蒸着源２１中の加熱容器内の温度を調節する。それにより、蒸着源２１からの蒸着材料の放射量が調整される。尚、蒸着源２１の放射部７１にバルブの開閉で遮蔽度が変化する遮蔽体が設けられてもよい。この場合、コントローラが、バルブの開度を調整することで蒸着材料の放射量を調整するように構成されてもよい。
【００６５】
本実施形態の場合、各分離空間６１１，６１２には二つの蒸着源２１と二つのセンサ８１とが設けられているため、蒸着材料と、センサ８１で得られた測定結果との関係を数式化した連立方程式を利用して、個々の蒸着材料の蒸着速度が求められうる。
【００６６】
蒸着速度の算出にあたっては、分離空間６１１，６１２ごとの蒸着速度が注目される。一つの分離空間は他の分離空間と区切られているので、他の分離空間から放射された蒸着材料は考慮されなくてよいからである。
【００６７】
まず、各分離空間６１１，６１２において、蒸着源２１ａからセンサ８１ａ及びセンサ８１ｂのそれぞれに到達する蒸着材料の単位時間当たりの到達量の比の値をＡ１とする。また、蒸着源２１ａの設定蒸着速度の値をＣ１とし、蒸着源２１ｂの蒸着速度の値をＸ２とし、センサ８１ｂによってモニターされる蒸着速度の値Ｙ２とする。すると、次の（式１）が成立する。
【００６８】
（式１）  Ｙ２  ＝  Ａ１×Ｃ１＋Ｘ２
この（式１）から、蒸着源２１ｂの蒸着速度Ｘ２を、コントローラが算出することができる。
【００６９】
同様に、蒸着源２１ｂからセンサ８１ａ及びセンサ８１ｂのそれぞれに到達する蒸着材料の単位時間当たりの到達量比の値をＡ２とする。また、蒸着源２１ｂを設定蒸着速度の値をＣ２とし、第１の蒸着源２１ａの蒸着速度の値をＸ１とし、センサ８１ａによってモニターされる蒸着速度の値をＹ１とする。すると、次の（式２）が成立する。
【００７０】
（式２）  Ｙ１  ＝  Ａ２×Ｃ２＋Ｘ１
この（式２）から、蒸着源２１ａの蒸着速度Ｘ１を、コントローラが算出することができる。
【００７１】
コントローラは、以上の計算を、複数の分離空間６１１，６１２の全てについて行う。続いて、各蒸着源２１での蒸着速度（上記の例では、Ｘ１、Ｘ２）が、設定蒸着速度（上記の例では、Ｃ１、Ｃ２）になるように、コントローラが蒸着材料の放射量を調整する。それにより、蒸着装置が、設定蒸着速度で蒸着して薄膜を形成することができ、材料の混合比が一定で、膜厚の安定した薄膜が形成されうる。
【００７２】
なお、第一の実施形態では、各分離空間６１１，６１２に２個の蒸着源２１が設けられているが、各分離空間６１１，６１２に蒸着源２１が３個以上設けられてもよい。その場合、蒸着装置１１は、２種類以上のドーパントを共蒸着してホスト材料と混合することができる。３個以上の蒸着源２１が各分離空間６１１，６１２に設けられる場合には、各分離空間６１１，６１２に、蒸着源２１の個数と少なくとも同数のセンサ８１が設けられることが好ましい。蒸着源２１とセンサ８１との個数を合わせることにより、連立方程式によって簡単に蒸着速度が算出されうる。ただし、蒸着源２１が多すぎると計算が複雑になるので、一つの分離空間に設けられる蒸着源２１の個数は、５個以下又は４個以下であるのがよい。
【００７３】
図１Ａ及び図１Ｂの蒸着装置１１は、幅方向に亘って均一に安定した薄膜を被蒸着体１０に形成することができるため、幅方向の長さが長い大型の基板に薄膜を形成するために適している。例えば、大型の有機ＥＬ素子を形成する場合には、膜厚が均一でないと発光にムラが生じやすくなるが、本実施形態に係る蒸着装置１１は、厚みがより均一で混合比のバラツキを少ない薄膜を成膜することができるため、発光ムラを抑えた有機ＥＬ素子が得られうる。被蒸着体１０（基板）の幅方向の長さは、例えば、７３０ｍｍ以上であってよい。このように基板が大型である場合、蒸着材料ごとに蒸着源が一つ配置されている従来の蒸着装置が用いられると均一な安定した薄膜を得ることが容易ではない。しかし、本実施形態の蒸着装置１１が用いられると、この蒸着装置１１には蒸着源２１が複数設けられているので、均一で安定な薄膜が簡単に得られうる。なお、被蒸着体１０（基板）の幅方向の長さは、第１０世代のガラス基板の長さである２８８０ｍｍ以下であってよいが、これに限定されない。
【００７４】
このように、第一の実施形態の蒸着装置１１は、１つの筒状体３１に２種類の材料が２セット以上混合される場合に、それぞれの蒸着源２１からの蒸着速度を個別にモニターすることができ、蒸着速度及びドープ濃度を精度よく制御することができる。したがって、蒸着装置１１は、膜厚及び濃度ばらつきの小さい薄膜を被蒸着体１０に形成することができる。つまり、本実施形態では、二種以上の蒸着材料が用いられる場合でも、各蒸着材料の蒸着速度が、精度よく計測され、このため、蒸着により形成される薄膜の厚み及び組成が、より精度よく制御されうる。
【００７５】
図３Ａ及び図３Ｂは、第二の実施形態を示している。本実施形態は、蒸着源及びセンサの数が第一の実施形態とは異なることを除き、第一の実施形態と同じ構成を備えている。本実施形態に係る蒸着装置１２は、搬送される被蒸着体１０に蒸着によって薄膜を形成するために用いられる。
【００７６】
図３Ａ及び図３Ｂの蒸着装置１２は、１種類の蒸着材料を放射する蒸着源２１を複数備える。
【００７７】
第一の実施形態と同様に、第二の実施形態の蒸着装置１２は、薄膜を形成するための蒸着材料を放射する蒸着源２２と、蒸着源２２から放射された蒸着材料を被蒸着体１０に向けて放出する筒状体３２とを備えている。筒状体３２は、蒸着材料が気化される温度に加熱されている。
【００７８】
すなわち、蒸着装置１２は、ホットウォールを構成している筒状体３２を備える。この筒状体３２は、被蒸着体１０の搬送方向に沿った被蒸着体１０の一面に面する開口４２を備える。蒸着装置１２は、筒状体３２の内部へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている蒸着源２２を、更に備える。
【００７９】
図３Ａ及び図３Ｂの蒸着装置１２では、１種類の蒸着材料が筒状体３２から放出されて薄膜が形成される。すなわち、１種類の材料からなる薄膜が形成される。筒状体３２には、蒸着材料を放射するための蒸着源２２が２個設けられている。同じ種類の材料を放射する蒸着源２２の個数が複数に増加すると、蒸着材料の放出量が増加するので、被蒸着体１０が大型化した場合であっても、効率よく薄膜が形成されうる。図３Ａ及び図３Ｂの蒸着装置１２は、例えば、有機ＥＬ素子の製造において、一つの蒸着材料で構成する層を積層形成することができる。このような層として、有機ＥＬ素子では、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層、中間層などの層が例示される。
【００８０】
本実施形態では、筒状体３２は、搬送方向に沿って設けられた分離板５２によって、内部が複数の分離空間６２１，６２２に分離されている。第二の実施形態では、筒状体５２を略均等に２分する分離板５２によって、略同容積の二つの分離空間６２１，６２２が設けられている。分離板５２は、蒸着材料が気化される温度に加熱されている。
【００８１】
つまり、蒸着装置１２は、筒状体３２の内部に配置される分離板５２を備える。この分離板５２は、筒状体３２と共に、ホットウォールを構成する。この分離板５２によって、筒状体３２の内部が、筒状体３２の開口４２の面に沿って被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第一の分離空間６２１及び第二の分離空間６２２に分離されている。
【００８２】
図３Ａ及び図３Ｂの蒸着装置１２においては、各分離空間６２１，６２２には、１つの蒸着源２２と、この蒸着源２２からの蒸着材料の放射を監視する１つのセンサ８２とが設けられている。それにより、蒸着装置１２が、被蒸着体１０の幅が大きくなった場合であっても、幅方向に亘って薄膜を形成することができる。本実施形態では、各分離空間６２１，６２２に設けられたセンサ８２は、同じ分離空間に設けられた蒸着源２２の蒸着材料の放射を監視する。したがって、蒸着装置１２は、それぞれの分離空間６２１，６２２において蒸着源２２からの蒸着材料の放射を監視することができ、精度よく蒸着することができる。また、各分離空間６２１，６２２に設けられた蒸着源２２は同種の蒸着材料を放射するので、各分離空間６２１，６２２からは同種の蒸着材料が放出されうる。
【００８３】
つまり、第一の分離空間６２１には、この第一の分離空間６２１へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第一の蒸着源２２１と、この第一の蒸着源２２１からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第一のセンサ８２１とが設けられている。第二の分離空間６２２には、この第二の分離空間６２２へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第二の蒸着源２２２と、この第二の蒸着源２２２からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第二のセンサ８２２とが設けられている。本実施形態では、第一及び第二の蒸着源２２１，２２２の各々は、一つの蒸着源２２からなり、第一及び第二のセンサ８２１，８２２の各々は、一つセンサ８２からなる。第一の蒸着源２２１と、第二の蒸着源２２２は、同種の蒸着材料を保持するように構成されている。
【００８４】
図３Ｂに示すように、蒸着源２２は、搬送方向と垂直な方向に並んで配置されている。それにより、蒸着装置１２は、被蒸着体１０の幅方向に均一な薄膜を安定して形成することができる。
【００８５】
本実施形態にあっては、分離板５２が筒状体３２の内部を複数の分離空間６２１，６２２に仕切ることで、蒸着装置１２は、幅方向の長さが長い被蒸着体１０に蒸着する場合でも、簡単に蒸着材料の放射を調整し、蒸着量の分布を調整することができる。すなわち、分離板が設けられていない筒状体の内部が全て連通した蒸着装置が用いられる場合に、同種の蒸着源が筒状体に複数設けられると、筒状体の内部では材料が混合してしまう。すると、蒸着装置は、センサで監視したとしても、どの蒸着源から放射された蒸着材料なのかが判別できなくなり、蒸着源の放射量などを適切に制御することができなくなってしまう。しかしながら、本実施形態では、分離板５２が筒状体３２内部の空間を仕切り、各分離空間６２１，６２２に蒸着源２２とセンサ８２が設けられているので、蒸着装置１２は、簡単に個々の蒸着源２２からの材料の放射を監視することができる。そのため、蒸着装置１２は、精度よく薄膜を形成することができる。
【００８６】
分離板５２の構成は、第一の実施形態における分離板５１の構成と同様であってよい。すなわち、分離板５２は、筒状体３２の開口４近傍を分離しないことが好ましい。また、分離板５２は、一の分離空間における蒸着源２２の放射部７２と、他の分離空間におけるセンサ８２のセンサ部９２とを結ぶ直線を、仮想線として引いたときに、この仮想線を遮断するように設けられていることが好ましい。さらに、分離板５２の高さは、センサ８２のセンサ部９２よりも高いことが好ましい。また、分離板５２は高さ調節可能であってよい。図２Ａ〜図２Ｃを参照して説明したように、分離板５２の高さは、高すぎると、均一な膜厚が得られにくくなり、低すぎると、センサ８２によるモニタリングに悪影響が及ぶため、適宜に設定される。
【００８７】
つまり、分離板５２は、筒状体３２の内部を、その開口４２近傍では分離しないように構成されることが好ましい。換言すれば、分離版５２は、筒状体３２の内部で、筒状体３２の開口４２よりもセットバックされていることが好ましい。分離板５２が、第一の蒸着源２２１の放射部７２と第二のセンサ８２２のセンサ部９２とを結ぶ仮想的な直線（仮想線）を遮断し、且つ、第二の蒸着源２２２の放射部７２と第一のセンサ８２２のセンサ部９２とを結ぶ仮想的な直線（仮想線）も遮断するように、構成されていることも好ましい。換言すれば、これらの仮想線が、分離板５２と交わることが好ましい。
【００８８】
センサ８２を用いた蒸着材料の放射の監視は、第一の実施形態と同様であってよい。第一の実施形態と同様に、センサ８２による監視に基づいて、蒸着速度が制御されることが好ましい。
【００８９】
第二の実施態では、各分離空間６２１，６２２には、一つの蒸着源２２と一つのセンサ８２とが設けられているため、一対一の関係での監視がされうる。すなわち、蒸着材料の放射の監視を連立方程式などによって求める必要がなく、ダイレクトに蒸着速度をモニタリングすることができる。そのため、蒸着装置１２が、膜厚の均一な薄膜を精度よく簡単に形成することができる。
【００９０】
第二の実施態に係る蒸着装置１２は、幅方向に亘って均一に安定した薄膜を被蒸着体１０に形成することができる。このため、蒸着装置１２は、幅方向の長さが長い大型の基板に薄膜を形成するために適している。例えば、大型の有機ＥＬ素子を形成する場合には、膜厚が均一でないと発光にムラが生じやすくなる。しかし、蒸着装置１２は薄膜を、その厚みをより均一にして成膜することができるため、発光ムラを抑えた有機ＥＬ素子を得ることができる。被蒸着体１０の幅方向の長さは、第一の実施形態と同様であってよい。
【００９１】
このように、第二の実施態に係る蒸着装置１２は、１つの筒状体３２に１種類の材料が２つ以上の蒸着源２２から放出される場合に、それぞれの蒸着源２２からの蒸着速度を個別にモニターすることができ、蒸着速度を精度よく制御することができる。したがって、蒸着装置１２は、膜厚のばらつきの小さい薄膜を被蒸着体１０に形成することができる。
【００９２】
図４Ａ及び図４Ｂは、それぞれ第三及び第四の実施形態を示している。図４Ａに示される第三の実施形態に係る蒸着装置１３は、複数（２種類）の蒸着材料を放射する蒸着源２３のセットを複数用いる。図４Ｂに示される第四の実施形態に係る蒸着装置１４は、１種類の蒸着材料を放射する蒸着源２４を複数用いる。
【００９３】
第一の実施形態と同様に、第三の実施形態に係る蒸着装置１３は、薄膜を形成するための蒸着材料を放射する蒸着源２３と、蒸着源２３から放射された蒸着材料を被蒸着体１０に向けて放出する筒状体３３とを備えている。筒状体３３は、蒸着材料が気化される温度に加熱されている。第四の実施形態に係る蒸着装置１４は、薄膜を形成するための蒸着材料を放射する蒸着源２４と、蒸着源２４から放射された蒸着材料を被蒸着体１０に向けて放出する筒状体３４とを備えている。筒状体３４は、蒸着材料が気化される温度に加熱されている。
【００９４】
第三の実施形態に係る蒸着装置１３では、２種類の蒸着材料が筒状体３３から放出されて薄膜が形成される。すなわち、薄膜は２種類の材料による混合膜として形成される。２種類の蒸着材料を放射する二つの蒸着源２３を１セットとすると、このセットが、筒状体３３に３セット設けられている。その結果、蒸着材料を放射するための蒸着源２３が合計６個設けられている。同じ種類の材料を放射する蒸着源２３の個数が複数に増加することにより、蒸着材料の放出量が増加するので、被蒸着体１０が大型化した場合であっても、蒸着装置１３が効率よく薄膜を形成することができる。特に、第三の実施形態に係る装置のように、蒸着源２３のセット数が増加すると、幅方向にさらに均一に蒸着材料が放出されるため、被蒸着体１０がさらに大型になった場合にも、蒸着装置１３がより均一な薄膜を形成することができる。
【００９５】
第四の実施形態に係る蒸着装置１４では、１種類の蒸着材料が筒状体３４から放出されて薄膜が形成される。すなわち、薄膜は単一の蒸着材料の薄膜として形成される。１種類の蒸着材料を放射する蒸着源２４が、筒状体３４内に合計３個設けられている。同じ種類の材料を放射する蒸着源２４の個数が複数に増加することにより、蒸着材料の放出量が増加するので、被蒸着体１０が大型化した場合であっても、蒸着装置１４が、効率よく薄膜を形成することができる。特に、第四の実施形態に係る装置のように、蒸着源２４の個数が３個以上であると、幅方向にさらに均一に蒸着材料が放出されるため、被蒸着体１０がさらに大型になった場合にも、蒸着装置１４が、より均一な薄膜を形成することができる。
【００９６】
第三及び第四の実施形態においては、筒状体は、搬送方向に沿って設けられた複数の分離板によって、内部が複数の分離空間に分離されている。具体的には、筒状体を幅方向に略均等に３等分する二つの分離板によって、略同容積の三つの分離空間が設けられている。各分離板は、蒸着材料が気化される温度に加熱されている。第三及び第四の実施形態では、３つの分離空間が設けられるが、分離空間は４つ以上であってもよい。なお、分離板は筒状体の内部空間を分離するため、分離空間の数は、分離板の数より１つ多い数となる。複数の分離空間には、同じ蒸着源のセットが設けられている。すなわち、各分離空間へは、同種の蒸着材料が放射される。
【００９７】
第三の実施形態の蒸着装置１３においては、分離空間６３１，６３２，６３３の各々には、複数（２個）の蒸着源２３と、この蒸着源２３からの蒸着材料の放射を監視するための複数（２個）のセンサ８３とが設けられている。それにより、被蒸着体１０の幅が大きくなった場合であっても、蒸着装置１３は、幅方向に亘って厚みがより均一で混合比が安定した薄膜を形成することができる。本実施形態では、各分離空間６３１，６３２，６３３に設けられたセンサ８４は、同じ分離空間６３１，６３２，６３３に設けられた蒸着源２３の蒸着材料の放射を監視するためのものである。したがって、蒸着装置１３は、各分離空間６３１，６３２，６３３において蒸着源２からの蒸着材料の放射を監視することができ、精度よく蒸着することができる。なお、分離板５３１，５３２で仕切られた中央の分離空間６３２には、その前方の壁面と後方の壁面とに、センサ８３が設けられている。それにより、センサ部９３間の距離を遠ざけることで、監視精度を高めることができる。なお、分離板５３１，５３２にセンサ８３を設けられてもよいが、装置が複雑になるため、センサ８３は、筒状体３３の壁に設けられたほうがよい。
【００９８】
また、第四の実施形態の蒸着装置１４においては、分離空間６４１，６４２，６４３の各々には、１個の蒸着源２４と、この蒸着源２４からの蒸着材料の放射を監視する１個のセンサ８４とが設けられている。それにより、被蒸着体１０の幅が大きくなった場合であっても、蒸着装置１４は、幅方向に亘って厚みがより均一な薄膜を形成することができる。本実施形態では、各分離空間６４１，６４２，６４３に設けられたセンサ８４は、同じ分離空間６４１，６４２，６４３に設けられた蒸着源２４の蒸着材料の放射を監視するためのものである。したがって、蒸着装置１４は、各分離空間６４１，６４２，６４３において蒸着源２４からの蒸着材料の放射を監視することができ、精度よく蒸着することができる。
【００９９】
第三及び第四の実施形態の蒸着装置にあっては、分離板を設けて筒状体の内部を複数の分離空間に仕切ることで、幅方向の長さが長い被蒸着体１０に蒸着する場合でも、簡単に蒸着材料の放射を調整し、蒸着量の分布を調整することができる。すなわち、分離板を設けておらず筒状体の内部が全て連通した蒸着装置を用いた場合、同種の蒸着源を筒状体に複数設けると、筒状体の内部では材料が混合してしまうことになる。すると、センサで監視したとしても、どの蒸着源から放射された蒸着材料なのかが判別できなくなり、蒸着源の放射量などを適切に制御することができなくなってしまう。しかしながら、本実施形態では、分離板を設けて筒状体内部の空間を仕切るようにし、それぞれの分離空間で蒸着源とセンサを設けているので、簡単に個々の蒸着源からの材料の放射を監視することができる。そのため、精度よく薄膜を形成することができる。
【０１００】
第三及び第四の実施形態では、分離板の構成は、第一の実施形態における分離板と同様の構成であってよい。すなわち、分離板は、筒状体の開口近傍を分離しないように設けられていることが好ましい。また、分離板は、一の分離空間における蒸着源の放射部と、他の分離空間におけるセンサのセンサ部とを結ぶ直線を、仮想線として引いたときに、この仮想線を遮断するように設けられていることが好ましい。さらに、分離板の高さは、センサのセンサ部よりも高いことが好ましい。また、分離板は高さ調節可能なものであってよい。分離板の高さは、高すぎると、均一な膜厚が得られにくくなり、低すぎると、センサによるモニタリングに悪影響を及ぼすものであるため、適宜に設定される。
【０１０１】
第三及び第四の実施形態では、センサによる蒸着材料の放射の監視は、第一の実施形態と同様であってよい。第一の実施形態と同様に、センサによる監視に基づいて、蒸着速度が制御されることが好ましい。
【０１０２】
第三及び第四の実施形態の蒸着装置１３，１４は、幅方向に亘って均一に安定した薄膜を被蒸着体１０に形成することができるため、幅方向の長さが長い大型の基板に薄膜を形成するのに適している。例えば、大型の有機ＥＬ素子を形成する場合には、膜厚が均一でないと発光にムラが生じやすくなるが、この蒸着装置１３，１４では厚みがより均一で混合比のバラツキを少なくして成膜することができるため、発光ムラを抑えた有機ＥＬ素子を得ることができる。被蒸着体１０の幅方向の長さは、第一の実施形態と同様であってよいが、本実施形態では、第一の実施形態に用いる被蒸着体１０よりも幅方向をさらに大きくすることが可能である。
【０１０３】
このように、第三の実施形態の蒸着装置１３は、１つの筒状体３３内で２種類の材料が３セット以上混合される場合に、それぞれの蒸着源２３からの蒸着材料の蒸着速度を個別にモニターすることができ、蒸着速度及びドープ濃度を精度よく制御することができる。したがって、蒸着装置１３は、膜厚及び濃度ばらつきの小さい混合薄膜を被蒸着体１０に形成することができる。また、第四の実施形態の蒸着装置１４は、１つの筒状体３４へ１種類の材料を３つ以上の蒸着源２４から放出させた場合に、それぞれの蒸着源２４からの蒸着材料の蒸着速度を個別にモニターすることができ、蒸着速度を精度よく制御することができる。したがって、蒸着装置１４は、膜厚のばらつきの小さい薄膜を被蒸着体１０に形成することができる。
【０１０４】
上記の通り、第三の実施形態に係る蒸着装置１３は、第一の実施形態と同じ構成を備え、更に第二の分離板５３２、第三の蒸着源２３及び第三のセンサ８３を備える。この蒸着装置１４は、搬送される被蒸着体１０に蒸着によって薄膜を形成するために用いられる。蒸着装置１３は、ホットウォールを構成している筒状体３３を備える。この筒状体３３は、被蒸着体１０の搬送方向に沿った被蒸着体１０の一面に面する開口４３を備える。
【０１０５】
蒸着装置１３は、筒状体３３の内部に配置される二つの分離板５３１，５３２（第一の分離板５３１及び第二の分離板５３２）を備える。これらの分離板５３１，５３２は、筒状体３３と共に、ホットウォールを構成する。第一の分離板５３１によって、筒状体３３の内部が、筒状体３３の開口４３の面に沿って被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第一の分離空間６３１及び第二の分離空間６３２に分離されている。更に、第二の分離板５３２によって、筒状体３３の内部が、筒状体３３の開口４３の面に沿って被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第二の分離空間６３２及び第三の分離空間６３３に分離されている。つまり、第一の分離板５３１及び第二の分離板５３２によって、筒状体３３の内部が、筒状体３３の開口４３の面に沿って被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第一の分離空間６３１、第二の分離空間６３２及び第三の分離空間６３３に、分離されている。
【０１０６】
第一の分離空間６３１には、この第一の分離空間６３１へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第一の蒸着源２３１と、この第一の蒸着源２３１からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第一のセンサ８３１とが設けられている。第二の分離空間６３２には、この第二の分離空間６３２へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第二の蒸着源２３２と、この第二の蒸着源２３２からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第二のセンサ８３２とが設けられている。第三の分離空間６３３には、この第三の分離空間６３３へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第三の蒸着源２３３と、この第三の蒸着源２３３からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第三のセンサ８３３とが設けられている。
【０１０７】
第一、第二及び第三の蒸着源２３１，２３２，２３３の各々は、複数の蒸着源２３からなる。本実施形態では、第一、第二及び第三の蒸着源２３１，２３２，２３３の各々が、蒸着源２３ａ及び蒸着源２３ｂという二つの蒸着源２３を含む。
【０１０８】
本実施形態では、第一の蒸着源２３１に保持される蒸着材料と、第二の蒸着源２３２に保持される蒸着材料と、第三の蒸着源２３３に保持される蒸着材料とは、同じ種類である。すなわち、第一の蒸着源２３１に含まれる蒸着源２３ａと、第二の蒸着源２３２に含まれる蒸着源２３ａと、第三の蒸着源２３３に含まれる蒸着源２３ａとは、同じ種類の蒸着材料（ドーパント材料）を保持するように構成される。第一の蒸着源２３１に含まれる蒸着源２３ｂと、第二の蒸着源２３２に含まれる蒸着源２３ｂと、第三の蒸着源２３３に含まれる蒸着源２３ｂも、同じ種類の蒸着材料（ホスト材料）を保持するように構成される。
【０１０９】
第一、第二及び第三のセンサ８３１，８３２，８３３の各々は、複数のセンサ８３からなる。本実施形態では、第一、第二及び第三のセンサ８３１，８３２，８３３の各々が、センサ８３ａ及びセンサ８３ｂという二つのセンサ８３を含む。
【０１１０】
第一の分離板５３１は、筒状体３３の内部を、その開口４３近傍では分離しないように構成されている。この第一の分離板５３１が、第一及び第二の蒸着源２３１，２３２の放射部７３と、第二及び第一のセンサ８３２，８３１のセンサ部９３とをそれぞれ結ぶ仮想的な直線を遮断するように構成されている。第二の分離板５３２も、筒状体３３の内部を、その開口４３近傍では分離しないように構成されている。この第二の分離板５３２が、第二及び第三の蒸着源２３２，２３３の放射部７３と、第三及び第二のセンサ８３３，８３２のセンサ部９３とをそれぞれ結ぶ仮想的な直線を遮断するように構成されている。
【０１１１】
上記の通り、第四の実施形態に係る蒸着装置１４は、第二の実施形態と同じ構成を備え、更に第二の分離板５４２、第三の蒸着源２４３及び第三のセンサ８４３を備える。この蒸着装置１４は、搬送される被蒸着体１０に蒸着によって薄膜を形成するために用いられる。蒸着装置１４は、ホットウォールを構成している筒状体８４を備える。この筒状体８４は、被蒸着体１０の搬送方向に沿った被蒸着体１０の一面に面する開口４４を備える。
【０１１２】
蒸着装置１４は、筒状体８４の内部に配置される二つの分離板５４１，５４２（第一の分離板５４１及び第二の分離板５４２）を備える。これらの分離板５４１，５４２は、筒状体３４と共に、ホットウォールを構成する。第一の分離板５４１によって、筒状体３４の内部が、筒状体３４の開口４４の面に沿って被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第一の分離空間６４１及び第二の分離空間６４２に分離されている。更に、第二の分離板５４２によって、筒状体３４の内部が、筒状体３４の開口４４の面に沿って被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第二の分離空間６４２及び第三の分離空間６４３に分離されている。つまり、第一の分離板５４１及び第二の分離板５４２によって、筒状体３４の内部が、筒状体３４の開口４４の面に沿って被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第一の分離空間６４１、第二の分離空間６４２及び第三の分離空間６４３に、分離されている。
【０１１３】
第一の分離空間６４１には、この第一の分離空間６４１へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第一の蒸着源２４１と、この第一の蒸着源２４１からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第一のセンサ８４１とが設けられている。第二の分離空間６４２には、この第二の分離空間６４２へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第二の蒸着源２４２と、この第二の蒸着源２４２からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第二のセンサ８４２とが設けられている。第三の分離空間６４３には、この第三の分離空間６４３へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第三の蒸着源２４３と、この第三の蒸着源２４３からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第三のセンサ８４３とが設けられている。
【０１１４】
第一、第二及び第三の蒸着源２４１，２４２，２４３の各々は、一つの蒸着源２４からなる。本実施形態では、第一の蒸着源２４１に保持される蒸着材料と、第二の蒸着源２４２に保持される蒸着材料と、第三の蒸着源２４３に保持される蒸着材料とは、同じ種類である。
【０１１５】
第一、第二及び第三のセンサ８４１，８４２，８４３の各々は、一つのセンサ８４からなる。
【０１１６】
第一の分離板５４１は、筒状体３４の内部を、その開口４４近傍では分離しないように構成されている。この第一の分離板５４１が、第一及び第二の蒸着源２４１，２４２の放射部７４と、第二及び第一のセンサ８４２，８４１のセンサ部９４とをそれぞれ結ぶ仮想的な直線を遮断するように構成されている。第二の分離板５４２も、筒状体３４の内部を、その開口４４近傍では分離しないように構成されている。この第二の分離板５４２が、第二及び第三の蒸着源２４２，２４３の放射部７４と、第三及び第二のセンサ８４３，８４２のセンサ部９４とをそれぞれ結ぶ仮想的な直線を遮断するように構成されている。
【０１１７】
尚、第一及び第二の実施形態では、筒状体の内部に一つの分離板が配置されることで、筒状体の内部の空間が二つの分離空間に分離され、第三及び第四の実施形態では、筒状体の内部に二つの分離板が配置されることで、筒状体の内部の空間が三つの分離空間に分離されているが、分離板及び分離空間の数は、これらに限られない。つまり、筒状体の内部に三つ以上の分離板が配置されることで、筒状体の内部の空間が四つ以上の分離空間に分離され、各分離空間に、蒸着源及びセンサが設けられてもよい。
【０１１８】
図５に、第五の実施形態に係る蒸着装置１５を示す。この蒸着装置１５は、第三の実施形態に係る蒸着装置１３と同じ構成を備え、更に遮蔽体３０を備える。この蒸着装置１５は、搬送される被蒸着体１０に蒸着によって薄膜を形成するために用いられる。蒸着装置１５は、ホットウォールを構成している筒状体３５を備える。この筒状体３５は、被蒸着体１０の搬送方向に沿った被蒸着体１０の一面に面する開口４５を備える。
【０１１９】
蒸着装置１５は、筒状体３５の内部に配置される二つの分離板５５１，５５２（第一の分離板５５１及び第二の分離板５５２）を備える。これらの分離板５５１，５５２は、筒状体３５と共に、ホットウォールを構成する。第一の分離板５５１によって、筒状体３５の内部が、筒状体３５の開口４５の面に沿って被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第一の分離空間６５１及び第二の分離空間６５２に分離されている。更に、第二の分離板５５２によって、筒状体３５の内部が、筒状体３５の開口４５の面に沿って被蒸着体１０の搬送方向と垂直な方向に並ぶ、第二の分離空間６５２及び第三の分離空間６５３に分離されている。
【０１２０】
第一の分離空間６５１には、この第一の分離空間６５１へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第一の蒸着源２５１と、この第一の蒸着源２５１からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第一のセンサ８５１とが設けられている。第二の分離空間６５２には、この第二の分離空間６５２へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第二の蒸着源２５２と、この第二の蒸着源２５２からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第二のセンサ８５２とが設けられている。第三の分離空間６５３には、この第三の分離空間６５３へ放射される蒸着材料を保持するように構成されている第三の蒸着源２５３と、この第三の蒸着源２５３からの蒸着材料の放射を検出するように構成されている第三のセンサ８５３とが設けられている。
【０１２１】
第一、第二及び第三の蒸着源２５１，２５２，２５３の各々は、複数の蒸着源２５からなる。本実施形態では、第一、第二及び第三の蒸着源２５１，２５２，２５３の各々が、蒸着源２５ａ及び蒸着源２５ｂという二つの蒸着源２５を含む。
【０１２２】
本実施形態では、第一の蒸着源２５１に保持される蒸着材料と、第二の蒸着源２５２に保持される蒸着材料と、第三の蒸着源２５３に保持される蒸着材料とは、同じ種類である。すなわち、第一の蒸着源２５１に含まれる蒸着源２５ａと、第二の蒸着源２５２に含まれる蒸着源２５ａと、第三の蒸着源２５３に含まれる蒸着源２５ａとは、同じ種類の蒸着材料（ドーパント材料）を保持するように構成される。第一の蒸着源２５１に含まれる蒸着源２５ｂと、第二の蒸着源２５２に含まれる蒸着源２５ｂと、第三の蒸着源２５３に含まれる蒸着源２５ｂも、同じ種類の蒸着材料（ホスト材料）を保持するように構成される。
【０１２３】
第一、第二及び第三のセンサ８５１，８５２，８５３の各々は、複数のセンサ８５からなる。本実施形態では、第一、第二及び第三のセンサ８５１，８５２，８５３の各々が、センサ８５ａ及びセンサ８５ｂという二つのセンサ８５を含む。
【０１２４】
遮蔽体３０は、筒状体３５の内部をその開口４５の面に沿って部分的に遮蔽するように構成されている。遮蔽体３０は、筒状体３５の軸方向に並んで、複数個設けられている。複数の遮蔽体３０の各々は、開口３０４を備える。筒状体３５の軸方向に隣合う遮蔽体３０の開口３０４は、この軸方向には重なっていない。
【０１２５】
複数の遮蔽体３０の各々は、複数の分離空間６５１，６５２，６５３の各々を部分的に遮蔽する部分３０１，３０２，３０３を備える。すなわち、複数の遮蔽体３０の各々は、第一の分離空間６５１を部分的に遮蔽する部分３０１と、第二の分離空間６５２を部分的に遮蔽する部分３０２と、第三の分離空間６５３を部分的に遮蔽する部分３０３とを、備える。これらの部分３０１，３０２，３０３の各々が、開口３０４を備える。
【０１２６】
これらの遮蔽体３０は、第一のセンサ８５１、第二のセンサ８５２及び第三のセンサ８５３よりも、筒状体３５の開口４５側寄りの位置に配置されている。つまり、各遮蔽体３０は、いずれのセンサ８５よりも、筒状体３５の開口４５側寄りの位置に配置される。
【０１２７】
本実施形態に係る蒸着装置１５は、第三の実施形態の場合と同様に、被蒸着体１０が大型であっても、膜厚及び組成のばらつきの小さい薄膜を被蒸着体１０に形成することができる。特に、本実施形態では、各センサ８５への外乱要因となる物質の到達が、遮蔽体３０によって遮蔽される。外乱要因となる物質とは、センサ８５の検出精度の低下を引き起こす物質であり、その例としては、一の分離空間から放出されてから別の分離空間へ侵入する蒸着物質が挙げられる。このため、各センサ８５の検出精度が向上することで、薄膜が、より精度よく成膜されうる。
【０１２８】
更に、本実施形態では、複数種の蒸着物質が遮蔽体３０を通過することで、これらの蒸着物質が良好に混合される。このため、薄膜の組成のばらつきが、より小さくなる。
【０１２９】
尚、本実施形態では、遮蔽体３０が複数設けられているが、遮蔽体３０が一つだけ設けられていてもよい。
【０１３０】
図６に、第五の実施形態の第一の変形例を示す。本変形例では、第五の実施形態において、蒸着源２５及びセンサ８５の位置が変更されている。本変形例では、複数の分離空間６５１、６５２，６５３の各々に設けられている複数の蒸着源２５が、被蒸着体１０の搬送方向に沿って並んでいる。すなわち、第一の蒸着源２５１に含まれる二つの蒸着源２５ａ，２５ｂが、被蒸着体１０の搬送方向に沿って並び、第二の蒸着源２５２に含まれる二つの蒸着源２５ａ，２５ｂが、被蒸着体１０の搬送方向に沿って並び、第三の蒸着源２５３に含まれる二つの蒸着源２５ａ，２５ｂが、被蒸着体１０の搬送方向に沿って並んでいる。更に、複数の分離空間６５１，６５２，６５３の各々に設けられている複数のセンサ８５も、被蒸着体１０の搬送方向に沿って並んでいる。すなわち、第一のセンサ８５１に含まれる二つのセンサ８５ａ，８５ｂが、被蒸着体１０の搬送方向に沿って並び、第二のセンサ８５２に含まれる二つのセンサ８５ａ，８５ｂが、被蒸着体１０の搬送方向に沿って並び、第三のセンサ８５３に含まれる二つのセンサ８５ａ，８５ｂが、被蒸着体１０の搬送方向に沿って並んでいる。本実施形態では、筒状体３５における、被蒸着体１０の搬送方向に対向し合う二つの壁面に、センサ８５ａ及びセンサ８５ｂがそれぞれ取り付けられている。これにより、各分離空間６５１，６５２，６５３における、被蒸着体１０の搬送方向に並ぶ二つのセンサ８５ａ，８５ｂの配置が、容易に達成される。
【０１３１】
本変形例では、各分離空間６５１，６５２，６５３において、複数の蒸着源２５が被蒸着物１０の搬送方向に沿って並んでいるため、各分離空間６５１，６５２，６５３内で、複数種の蒸着材料の濃度分布の傾斜が、被蒸着物１０の搬送方向に沿って生じやすくなる。このように濃度分布に傾斜が生じている状態で、蒸着材料がセンサ８５によって検出される。このため、各蒸着材料の蒸着速度が、より精度よく計測され、蒸着により形成される薄膜の厚み及び組成が、より精度よく制御されうる。
【０１３２】
図７に、第五の実施形態の第二の変形例を示す。本変形例では、第五の実施形態において、センサ８５の位置が変更されている。本変形例では、センサ８５が、複数の蒸着源２５の各々に取り付けられている。すなわち、第一の蒸着源２５１に含まれる蒸着源２５ａ及び蒸着源２５ｂに、第一のセンサ８５１に含まれるセンサ８５ａ及びセンサ８５ｂが、それぞれ取り付けられている。第二の蒸着源２５２に含まれる蒸着源２５ａ及び蒸着源２５ｂに、第二のセンサ８５２に含まれるセンサ８５ａ及びセンサ８５ｂが、それぞれ取り付けられている。第三の蒸着源２５３に含まれる蒸着源２５ａ及び蒸着源２５ｂに、第三のセンサ８５３に含まれるセンサ８５ａ及びセンサ８５ｂが、それぞれ取り付けられている。
【０１３３】
本変形例では、各蒸着源２５で気化した蒸着材料が、この蒸着源２５から放射される前に、この蒸着源２５に設けられたセンサ８５で検出される。このため、複数種の蒸着材料が各分離空間６５１，６５２，６５３に放出されるにあたり、これらの蒸着材料が混合される前に、各蒸着材料がセンサ８５で検出される。このため、各蒸着材料の蒸着速度が、より精度よく計測され、蒸着により形成される薄膜の厚み及び組成が、より精度よく制御されうる。
【０１３４】
図８は、複数の蒸着装置１を備える蒸着システムの一例である。この蒸着システムは、有機エレクトロルミネッセンス素子製造装置（有機ＥＬ製造装置）として使用されうる。この蒸着システムは、搬送される被蒸着体１０に、複数の蒸着装置１１，１２を用いて薄膜を蒸着により順次に積層して形成することができる。それにより、有機ＥＬ製造装置は、有機ＥＬ素子などの電気デバイスをインラインで効率よく製造することができる。図８には、搬送方向（白抜き矢印）の上流から下流に向けて２個の蒸着装置１１，１２が順に配置された様子が図示されている。尚、蒸着装置は３個以上であってもよい。例えば、蒸着により形成される薄膜の数と同じ数の蒸着装置が用いられてもよい。複数の蒸着装置として、第一の実施形態のような、蒸着材料が複数種の蒸着装置１１と、第二の実施形態のような、蒸着材料が１種の蒸着装置１２とが、混合して配置されうる。つまり、図５に示すように、例えば蒸着システムが、第一の実施形態に係る蒸着装置１１と、第二の実施形態に係る蒸着装置１２とを備えることができる。それにより、蒸着システムが、発光層や電荷輸送層などの適宜の層を材料に合わせて形成することが可能になる。尚、蒸着システムが、第一から第五の実施形態に係る蒸着装置１１，１２，１３，１４，１５のうち、二つ以上の蒸着装置を備えてもよい。
【０１３５】
図８の形態の蒸着システムは、被蒸着体１０を搬送する搬送手段２０を備えている。搬送手段２０は、コンベア等の適宜の搬送機構によって構成される。搬送機構によって搬送されることで、被蒸着体１０はラインに沿って搬送方向の上流側から下流側に順次に各蒸着装置１１，１２の上方を通過することができる。搬送手段２０は、例えば被蒸着体１０の幅方向の端部を支持するように構成されている支持部材を備える。この場合、搬送手段２０は、支持部材で被蒸着体１０の幅方向の端部を支持するとともに、被蒸着体１０の下部表面を外部に露出させながら、被蒸着体１０を支持部材ごと搬送するように構成される。被蒸着体１０の下部表面が露出していることにより、この表面に筒状体３１，３２から放出された蒸着材料が蒸着して薄膜が形成されうる。被蒸着体１０は、例えば少なくとも基板を含む。例えば被蒸着体１０として、透明電極が表面上に形成された基板が用いられる。被蒸着体１０として、透明電極と有機層の一部の層とが表面上に形成された基板が用いられてもよい。薄膜が形成される表面が下方になるようにして基板が適宜の支持部材にセットされる。これにより被蒸着体１０が構成されうる。なお、搬送手段２０が、幅方向の各端部に配置されるローラーやベルトなどのコンベアを備え、基板の幅方向の端部をコンベア上に載せて基板を搬送するように構成されてもよい。蒸着にあたっては、被蒸着体１０の下部表面にマスクが重ねられてもよい。それにより、蒸着システムは、被蒸着体１０の外周部が蒸着されないようにしたり、薄膜を適宜のパターンで積層したりすることができる。
【０１３６】
図８の蒸着システムが、大型の被蒸着体１０に、より均一に安定して薄膜を順次に形成することができるため、有機ＥＬ製造装置は、大型の有機ＥＬ素子を効率よく製造することができる。製造された有機ＥＬ素子を構成する各層の厚みが、その幅方向（搬送方向と垂直な方向）の全体に亘って揃っており、特に混合層（すなわち二種以上の材料を含有する層）では材料の混合比（ドープ量など）が幅方向の全体に亘って安定している。このため、有機ＥＬ素子の発光のムラが低減され、より均一な面状の発光を得ることができる。よって、この有機ＥＬ製造装置で製造された有機ＥＬ素子は、面状の照明装置として有効に利用できる。
【実施例】
【０１３７】
発明者らは、次のようにして、蒸着装置における、分離板の高さの違いによる膜厚分布の変化を調べた。蒸着装置としては、図３Ａ及び図３Ｂに示される第二の実施形態と同様に、１種類の蒸着材料を放出する蒸着装置が用いられた。すなわち、この蒸着装置では、筒状体の内部が一つの分離板によって二つの分離空間に等分に分離され、各分離空間に蒸着源が１つ設けられた。筒状体の高さは４００ｍｍ、その幅方向（搬送方向に垂直な方向）の長さは８４０ｍｍ、その搬送方向の長さは１００ｍｍであった。センサのセンサ部は、筒状体の上端から３００ｍｍ下方の位置に配置された。被蒸着体としては、幅が７３０ｍｍ、搬送方向の長さが９２０ｍｍの基板（板状の基材）が用いられた。分離板としては、厚み３ｍｍの鋼板が用いられ、この分離板が筒状体の中央に配置された。被蒸着体の幅方向の中央部と筒状体の幅方向の中央部との位置が一致するように被蒸着体が搬送された。【０１３８】
図９は、分離板の高さが互いに異なる二つの実施例（薄膜例１及び薄膜例２）で形成された薄膜の厚み分布を示すグラフである。横軸は、「基板中央からの距離」であり、これは、被蒸着体の幅方向の中央部分からの距離を、一方の端部側を正の数で、他方の端部側を負の数で示している。縦軸は、積層された薄膜の「粒子密度」であり、これは、厚み分布と等しい指標である。なお、数値を指数で表すために「Ｅ」を用いており、例えば、２Ｅ＋２０は、２×１０20のことである。薄膜例１では、分離板の上端部の位置が、筒状体の上端よりも３０ｍｍ下方であった。この分離板の上端部の位置は、センサのセンサ部よりも上方であった。薄膜例２では、分離板の高さが筒状体の高さと同じであり、分離板によって筒状体の開口が分離されていた。【０１３９】
図９の薄膜例２に示すように、分離板の高さが筒状体の高さと同じときには、分離板の直上付近（基板中央付近）の膜厚が薄くなり、膜厚分布の均一性は±５％以上（最大値及び最小値が平均値から５％の範囲を超える）になった。薄膜の膜厚分布には、幅方向の中央部に凹みができていた。これは、分離板の上方では放出される蒸着材料が少なくなるためであると考えられる。なお、凹みの中に凸部が形成され、薄膜の厚みが少し厚くなっている。この凸部は、隣り合う二つの分離空間から放出される蒸着材料が重複して堆積することによって形成された。【０１４０】
一方、図９の薄膜例１に示すように、分離板の高さが開口の位置よりも低く、分離板が筒状体の開口の近傍を分離しないときには、膜厚分布は幅方向の中央部においてほぼ一定になり、膜厚分布の均一性は±３％以下（最大値及び最小値が平均値から３％の範囲内）になった。さらに、分離板の上端部の位置が筒状体の上端よりも６０ｍｍ下方である場合には、膜厚分布の均一性は±１％以下（最大値及び最小値が平均値から１％の範囲内）であった。【０１４１】
なお、基板端部においては膜厚が小さくなっているが、基板端部には薄膜が形成されなくてもよい場合が多いため、問題はない。【０１４２】
このように、分離板の高さが筒状体の高さよりも低いと、被蒸着体の膜厚分布が調整され、被蒸着体に、膜厚ばらつきがより小さい薄膜が形成されることが確認された。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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