(57)【要約】  （Ａ）数平均分子量が５００〜３，０００のポリカーボネートジオール（ａ）と、２個の水酸基と２個のエチレン性不飽和基とを含有する２官能エポキシ（メタ）アクリレート（ｂ）と、ポリイソシアネート（ｃ）とを反応させて得られる、数平均分子量が１，０００〜１００，０００で、不飽和度が０．１〜１ｍｏｌ／ｋｇである不飽和基含有ウレタン樹脂、（Ｂ）（メタ）アクリル基とエステル結合をしているアルコール残基が、炭素数１〜２０で、かつ分子量が１，０００以下である炭化水素基（酸素原子を含有していてもよい）である、（メタ）アクリル酸エステルモノマー、および（Ｃ）光重合開始剤を含む光硬化性シール剤組成物。この組成物は、十分な硬化性能を示し、その硬化物は、低硬度で十分な柔軟性、伸びを持ち、さらに優れた物理的・機械的強度および優れた耐久性を有する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）数平均分子量が５００〜３，０００のポリカーボネートジオール（ａ）と、分子中に２個の水酸基と２個のエチレン性不飽和基とを含有する２官能エポキシアクリレートまたは２官能エポキシメタアクリレート（ｂ）と、ポリイソシアネート（ｃ）とを反応させて得られる数平均分子量が１，０００〜１００，０００で、不飽和度が０．１〜１ｍｏｌ／ｋｇである不飽和基含有ウレタン樹脂、
（Ｂ）アクリル基またはメタアクリル基とエステル結合をしているアルコール残基が、炭素数１〜２０で、かつ分子量が１，０００以下である炭化水素基（酸素原子を含有していてもよい）である、アクリル酸エステルモノマーまたはメタアクリル酸エステルモノマー、および
（Ｃ）光重合開始剤
上記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化性シール剤組成物。
【請求項２】
（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分の合計に基づき、（A）成分が１０〜９０重量％、（B）成分が１０〜９０重量％、（C）成分が０．１〜１０重量％である請求項１に記載の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物。
【請求項３】
（A）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分の合計１００重量部に対し、さらに（Ｄ）充填剤を０．１〜１０重量部含む請求項１または２に記載の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物。
【請求項４】
不飽和基含有ウレタン樹脂（Ａ）が、上記（ａ）〜（ｃ）成分の合計に基づき、（ａ）成分６０〜９０重量％、（ｂ）成分２．５〜１５重量％、（ｃ）成分５〜２５重量％を反応させて得られるものである請求項１〜３のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物。
【請求項５】
ポリカーボネートジオール（ａ）が、下記式（ａ−１）で表される化合物である請求項１〜４のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物。
2009154224.tif 000006
式（ａ−１）中のｌ、ｍ、ｎの値は、ポリカーボネートジオール（ａ）の数平均分子量が５００〜３，０００となるように選ばれる。
【請求項６】
２官能エポキシアクリレートまたは２官能エポキシメタアクリレート（ｂ）が、下記式（ｂ−１）で表される２官能エポキシアクリレート化合物、または該化合物に対応する２官能エポキシメタアクリレート化合物である請求項１〜５のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物。
2009154224.tif 000007
式（ｂ−１）中、ｐは整数である。
【請求項７】
ポリイソシアネート（ｃ）が、脂肪族系ジイソシアネート化合物、脂環族系ジイソシアネート化合物、および芳香族系ジイソシアネート化合物の中から選ばれるジイソシアネート化合物である請求項１〜６のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物。
【請求項８】
アクリル酸エステルモノマーまたはメタアクリル酸エステルモノマー（Ｂ）が、アクリル基またはメタアクリル基を一つもつ単官能のアクリル酸エステルモノマーまたはメタアクリル酸エステルモノマーである請求項１〜４のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を部材上に塗布し、活性エネルギー線を照射することによって硬化させてなるシール層付き部材。
【請求項１０】
シール層付き部材が、精密電子回路素子または精密電子部品を収納する電子部品容器のシール層付き部材である請求項９に記載のシール層付き部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性エネルギー線硬化性シール剤組成物、およびこの活性エネルギー線硬化性シール剤組成物の硬化物からなるシール層を有する部材に関する。
本発明の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物は、精密電子回路素子や精密電子部品を収納する電子部品容器を密封するのに適しており、特に電子計算機などの記憶装置として用いられる磁気ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）装置用ガスケットなどとして好適である。
【背景技術】
【０００２】
従来より、磁気ハードディスクドライブ装置をはじめとして、精密電子回路素子、精密電子部品を収納する電子部品容器においては、その収納する電子回路や電子部品を塵埃や湿気などによる障害から保護する目的で電子部品容器を密封し、塵埃や湿気の浸入を防ぐためシール剤またはガスケットが用いられている。
近年、上記シール剤またはガスケットとしては、設備投資や加工費削減を図るため、活性エネルギー線硬化性シール剤組成物をディスペンサーなどを用いて被着体に塗布し、主として紫外線により硬化させることにより製造されるガスケットが主流となっている。この活性エネルギー線硬化性シール剤組成物には、ガスケットとして充分なシール性を得るため、低硬度で柔軟性に富むウレタンアクリレートオリゴマーを主成分とするものが用いられている（例えば、特許文献１参照）。【０００３】
ウレタンアクリレートオリゴマーは、通常、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオールなどのポリオール成分と、ジイソシアネート成分と、分子内に水酸基を有するラジカル重合性不飽和基含有モノマー成分が化学結合した構造を有する。
【特許文献１】国際公開ＷＯ９６／１０５９４
【０００４】
上記のようなウレタンアクリレートオリゴマーを、磁気ハードディスクドライブ装置をはじめとする電子部品容器の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物の主成分として用いる場合、シール剤としての重要な性能である低硬度で十分な柔軟性や伸びを向上させるために、上述の繰り返し単位からなる樹脂骨格を高分子量化する必要がある。しかしながら、ウレタンアクリレートオリゴマーの樹脂骨格を高分子量化すると、樹脂骨格の末端に結合する水酸基を有するラジカル重合性不飽和基含有モノマー成分のウレタンアクリレートオリゴマー中における含有量が低下、すなわち、ウレタンアクリレートオリゴマー中の不飽和度が低下してしまう。この不飽和度の低下は、ウレタンアクリレートオリゴマーを主成分とする活性エネルギー線硬化性シール剤の硬化速度の低下や硬化不良の発生など硬化性能の低下をもたらし、また、架橋密度が不十分となる。そのため、活性エネルギー線硬化後のシール剤の物理的・機械的強度の低下や耐久性の低下など活性エネルギー線硬化後のシール剤性能の低下を起こす傾向にあった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、十分な硬化性能を与えると共に、活性エネルギー線硬化により形成されたシール剤硬化物が低硬度で十分な柔軟性、伸びを持ち、さらに優れた物理的・機械的強度および優れた耐久性を有する、活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、低硬度で十分な柔軟性、伸びを持ち、さらに優れた物理的・機械的強度および優れた耐久性を有するシール層が形成された部材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、数平均分子量が５００〜３，０００のポリカーボネートジオール（ａ）と、分子中に２個の水酸基と２個のエチレン性不飽和基とを含有する２官能エポキシ（メタ）アクリレート（ｂ）と、ポリイソシアネート（ｃ）とを反応させて得られる数平均分子量が１，０００〜１００，０００で、不飽和度が０．１〜１ｍｏｌ／ｋｇである不飽和基含有ウレタン樹脂と、（メタ）アクリル酸エステルモノマーとを主成分とする活性エネルギー線硬化性シール剤組成物により上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成するに至った。【０００７】
すなわち、本発明は、（Ａ）数平均分子量が５００〜３，０００のポリカーボネートジオール（ａ）と、分子中に２個の水酸基と２個のエチレン性不飽和基とを含有する２官能エポキシアクリレートまたは２官能エポキシメタアクリレート（ｂ）と、ポリイソシアネート（ｃ）とを反応させて得られる数平均分子量が１，０００〜１００，０００で、不飽和度が０．１〜１ｍｏｌ／ｋｇである不飽和基含有ウレタン樹脂、
（Ｂ）アクリル基またはメタアクリル基とエステル結合をしているアルコール残基が、炭素数１〜２０で、かつ分子量が１，０００以下である炭化水素基（酸素原子を含有していてもよい）である、アクリル酸エステルモノマーまたはメタアクリル酸エステルモノマー、および
（Ｃ）光重合開始剤
上記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を提供する。
さらに、本発明は、上記活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を部材上に塗布し、活性エネルギー線を照射し硬化させることにより得られるシール層付き部材を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物は、活性エネルギー線硬化により、十分な硬化性能を示し、低硬度で十分な柔軟性、伸びを持ち、かつ優れた物理的・機械的強度および優れた耐久性を有する硬化物を生成する。したがって、このシール剤組成物は、高い信頼性が要求される精密電子回路素子や精密電子部品を収納する電子部品容器を密封するのに好適である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の成形体を製造するときに使用される活性エネルギー線硬化性シール剤組成物の吐出成形装置の一例を示す概念図。
【図２】実施例９において作成した、シール層が形成された部材（防塵カバー）の平面図。
【図３】気密性試験装置の説明図。
【符号の説明】
【００１０】
１  Ｘ−Ｙ−Ｚ駆動ロボット制御部
２  硬化性組成物供給管
３  ディスペンサー
４  金属板
５  ガスケット
６  気密性試験台
７  供給管
８  水柱マノメーター
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の不飽和基含有ウレタン樹脂（Ａ）は、数平均分子量が５００〜３，０００のポリカーボネートジオール（ａ）（以下、（ａ）成分という場合がある。）と、分子中に２個の水酸基と２個のエチレン性不飽和基とを含有する２官能エポキシアクリレートまたは２官能エポキシメタアクリレート（ｂ）（以下、（ｂ）成分という場合がある。）と、ポリイソシアネート（ｃ）（以下、（ｃ）成分という場合がある。）とを反応させて得られる。【００１２】
ポリカーボネートジオール（ａ）とは、カーボネート結合を介してポリオールに由来する炭化水素基が連結した高分子鎖と、この高分子鎖の両末端に結合した水酸基とを有するものであって、例えば下記式（ａ−１）の構造のものが挙げられる。【００１３】
式（ａ−１）
【化１】
2009154224.tif 000002
【００１４】
式（ａ−１）中のｌ、ｍ、ｎの値は、ポリカーボネートジオール（ａ）の数平均分子量が５００〜３，０００となるように選ばれる。使用するポリカーボネートジオール（ａ）の数平均分子量がこの範囲未満であると、形成されるシール剤硬化物の硬度が高く、柔軟性、伸びも乏しくなる場合がある。逆に、この範囲を超えると、ポリカーボネートジオール（ａ）の結晶性が強くなり、その粘度も上昇するため、製造上取扱いが困難になる場合がある。【００１５】
式（ａ−１）中のｌ、ｍ、ｎの値は、原料として使用されるポリオールの種類によって決まる。ポリオールとしては、炭素数が２〜１０の直鎖および側鎖を持つジオールが挙げられる。具体的には、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−へキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。これらは、単独でまたは２種以上を組み合わせ用いることができる。これらのなかでは、１，５−ペンタンジオールおよび／または１，６−へキサンジオールが好ましい。
（ａ）成分は、１種の化合物を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。【００１６】
分子中に２個の水酸基と２個のエチレン性不飽和基とを含有する２官能エポキシ（メタ）アクリレート（ｂ）には、例えば、下記式（ｂ−１）で表される２官能エポキシアクリレート、およびこれらに対応する２官能エポキシメタアクリレートが含まれる。【００１７】
式（ｂ−１）
【化２】
2009154224.tif 000003
【００１８】
式（ｂ−１）中、ｐは整数であり、好ましくは２〜６である。
式（ｂ−１）で表される２官能エポキシアクリレート、およびこれらに対応する２官能エポキシメタアクリレートの具体例としては、プロピレングリコールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物（以下、アクリル酸とメタクリル酸とを総称して「（メタ）アクリル酸」といい、また、アクリレートとメタクリレートとを総称して「（メタ）アクリレート」ということがある）、１，６−へキサンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、エチレングリコールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、１，５−ペンタンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、１，７−へプタンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、１，８−オクタンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、および水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物などが挙げられる。これらのなかでは、プロピレングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、および１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物が好ましい。
（ｂ）成分は、１種の化合物を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。【００１９】
ポリイソシアネート（ｃ）としては、特に制限はないが、例えば、脂肪族系ジイソシアネート化合物、脂環族系ジイソシアネート化合物、芳香族系ジイソシアネート化合物などのジイソシアネート化合物が好ましく使用できる。
具体的には、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、メチルシクロヘキサン−２，４（または２，６）−ジイソシアネート、１，３−（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート、ジアニシジンジイソシアネート、フェニルジイソシアネート、ハロゲン化フェニルジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、ブチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、オクタデシレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート重合体、ジフェニルメタンジイソシアネートの重合体、ヘキサメチレンジイソシアネートの重合体、３−フェニル−２−エチレンジイソシアネート、クメン−２，４−ジイソシアネート、４−メトキシ−１，３−フェニレンジイソシアネート、４−エトキシ−１，３−フェニレンジイソシアネート、２，４’−ジイソシアネートジフェニルエーテル、５，６−ジメチル−１，３−フェニレンジイソシアネート、２，４’−ジイソシアネートジフェニルエーテル、ベンジジンジイソシアネート、９，１０−アンスラセンジイソシアネート、４，４’−ジイソシアネートベンジル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアネートジフェニルメタン、２，６’−ジメチル−４，４’−ジイソシアネートジフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジイソシアネートジフェニル、１，４−アンスラセンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、２，４，６−トリレントリイソシアネート、２，４，４’−トリイソシアネートジフェニルエーテル、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，１０−デカメチレンジイソシアネート、１，３−シクロヘキシレンジイソシアネート、４，４’−メチレン−ビス（シクロヘキシルイソシアネート）などを挙げることができる。【００２０】
（ｃ）成分としては、ジイソシアネート類の他に、トリフェニルメタン−４，４’、４’’−トリイソシアネート、１，３，５−トリイソシアナトベンゼン、２，４，６−トリイソシアナトトルエン、４，４’−ジメチルジフェニルメタン−２，２’，５，５’−テトライソシアネートなどの３個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、ポリアルキレングリコール、トリメチロールプロパン、ヘキサントリオールなどのポリオールの水酸基に対してイソシアネート基が過剰量となる量のポリイソシアネート化合物を反応させてなる付加物；ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）などのビューレットタイプ付加物、イソシアヌル環タイプ付加物なども使用できる。
これら（ｃ）成分は、１種の化合物を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。【００２１】
上記不飽和基含有ウレタン樹脂の製造においては、（ｃ）成分と反応させる成分として、上述のポリカーボネートジオール（ａ）と、分子中に２個の水酸基と２個のエチレン性不飽和基とを含有する２官能エポキシ（メタ）アクリレート（ｂ）とを組み合わせ用いる。その結果、（ｂ）成分に由来する十分な硬化性能および優れた物理的・機械的強度および優れた耐久性を備えるとともに、（ａ）成分に由来する低硬度で優れた柔軟性、伸びを有するシール剤硬化物を形成することができる。【００２２】
ここで（ｃ）成分と反応させる成分として、仮に（ｂ）成分のみを使用した場合には、得られる不飽和基含有ウレタン樹脂は、（ｂ）成分に由来する不飽和度が高いものとなるため、硬化性能は優れる傾向にある。しかしながら、形成されたシール剤硬化物は、硬度が高く、柔軟性や伸びが不十分となり、本来の目的のシール剤硬化物としての性能は良好ではない。また、（ｃ）成分と反応させる成分として、仮に（ａ）成分のみを使用した場合には、不飽和基含有ウレタン樹脂は（ｂ）成分に由来する不飽和基を含有しないため、活性エネルギー線硬化自体が困難となる。また、（ａ）成分の代わりにポリカーボネートジオール以外の他のジオールを使用した場合や、（ｂ）成分の代わりに、２個の水酸基を含有しない２官能エポキシ（メタ）アクリレートを使用した場合にも、本来の目的のシール剤硬化物としての性能が得られなかったり、硬化性能などが不十分となる。【００２３】
不飽和基含有ウレタン樹脂（Ａ）は、数平均分子量が１，０００〜１００，０００、好ましくは１０，０００〜５０，０００であり、不飽和度が０．１〜１ｍｏｌ／ｋｇ、好ましくは０．１〜０．５ｍｏｌ／ｋｇである。数平均分子量が上記範囲未満であると、形成されるシール剤硬化物の硬度が高く、柔軟性、伸びも乏しくなる傾向がある。逆に、上記範囲を超えると、結晶性、粘度が非常に高くなるため製造安定性の確保が難しくなる傾向がある。また、不飽和度が上記範囲未満では、硬化性能が不十分となったり、形成される硬化膜の架橋密度が小さくなり、シール剤硬化物として十分な物理的・機械的強度や耐久性を得られなかったりする傾向がある。逆に、上記範囲を超えると十分な硬化性能は得られるが、シール剤硬化物の硬度が高くなり、柔軟性、伸びに乏しくなる傾向がある。
なお、不飽和度とは、樹脂１ｋｇを製造するにあたって必要な（ｂ）成分のモル数をαｍｏｌとし、（ｂ）成分１分子中に含まれるラジカル重合性不飽和結合の数をβ個とした場合、α×βで計算される値である。【００２４】
上記不飽和基含有ウレタン樹脂は、上述した（ａ）、（ｂ）および（ｃ）成分を反応せしめることにより製造される。
反応は、溶媒の存在下または不存在下に行うことができる。溶媒としては、有機溶媒が用いられる。有機溶媒としては、例えば、炭化水素系、ケトン系、エーテル系、エステル系などの中から化学的に不活性なものを用いることができる。これらの有機溶媒は反応の終了後に減圧蒸留などで生成された不飽和基含有ウレタン樹脂から除去される。【００２５】
（Ｂ）成分である（メタ）アクリル酸エステルモノマーを溶媒として用いることもできる。（Ｂ）成分の（メタ）アクリル酸エステルモノマーの具体例としては、後に詳細に説明するが、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。ただし、（Ｂ）成分であっても、分子中に水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、上記（ａ）、（ｂ）および（ｃ）成分を反応せしめる過程で、（ｃ）成分であるポリイソシアネートと反応するため、溶媒として用いることはできない。
（Ｂ）成分の（メタ）アクリル酸エステルモノマーや有機溶媒を用いず、（ａ）、（ｂ）および（ｃ）成分のみを直接反応させて不飽和基含有ウレタン樹脂（Ａ）を製造することもできる。
反応温度は、通常２０〜２５０℃であり、５０〜１５０℃の範囲が好ましい。反応は、イソシアネート残基が無くなるまで適宜行えばよく、反応時間は通常１０分間〜４８時間である。【００２６】
上記反応は、無触媒でも行うことができるが、所望により、イソシアネート基と水酸基との反応を助長する触媒を使用できる。このような反応触媒としては、従来から公知のものが使用できるが、特に磁気ハードディスクドライブ装置の動作不良原因となる恐れのある化合物を考慮すると、アミン系または有機亜鉛系の化合物が好ましい。アミン系化合物の具体例としては、トリエチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ペンタメチルジプロピレンジアミン、テトラメチルグアニジン、トリエチレンジアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，２−ジメチルイミダゾール、ジメチルアミノエタノール、ジメチルアミノエトキシエタノール、トリメチルアミノエチルエタノールアミン、（２−ヒドロキシエチル）モルホリンエーテルアミン、Ｎ−メチルピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペラジン、Ｎ−エンドエチレンピペラジンなどが挙げられる。有機亜鉛系化合物の具体例としては、２−エチルカプロン酸亜鉛、オクテン酸亜鉛、オクチル酸亜鉛、ナフテン酸亜鉛などが使用できる。
触媒を使用する場合、その使用量は、通常、（ａ）〜（ｃ）成分の合計１００重量部に対して０．００５〜０．５重量部の範囲である。【００２７】
上記不飽和基含有ウレタン樹脂の製造方法において、（ａ）成分、（ｂ）成分、（ｃ）成分の反応過程において、不飽和基や（メタ）アクリル酸エステルモノマーの重合反応を防ぐ目的で重合禁止剤を適量添加してもよい。【００２８】
（ａ）成分、（ｂ）成分、（ｃ）成分の比率は、不飽和基含有ウレタン樹脂に要求される不飽和度、数平均分子量などに応じて決定すればよいが、（ａ）〜（ｃ）成分の合計量に基づき、（ａ）成分が６０〜９０重量％、（ｂ）成分が２．５〜１５重量％、（ｃ）成分が５〜２５重量％であることが好ましい。【００２９】
（Ｂ）成分の（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、（メタ）アクリル基とエステル結合をしているアルコール残基が、炭素数１〜２０で、かつ分子量が１，０００以下である炭化水素基（酸素原子を含有していてもよい）である、ラジカル重合可能な（メタ）アクリル酸エステルモノマーが用いられる。より低硬度で十分な柔軟性、伸びを有するシール剤硬化物を得るためには、（メタ）アクリル基を一つ持つ単官能の（メタ）アクリル酸エステルモノマーを使用することが好ましい。【００３０】
単官能の（メタ）アクリル酸エステルモノマーの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、１−エチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、１−ブチルアミル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレートなどの鎖状アルキル（メタ）アクリレート；イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、アルキルフェノキシ（メタ）アクリレート、アルキルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレートなどの環状構造を持つ（メタ）アクリレート；ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；および、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどのオリゴまたはポリオキシアルキレングリコールのモノ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。【００３１】
これらの中でも、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどが好ましい。
これらの（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、それぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて使用することができる。【００３２】
（Ｃ）成分の光重合開始剤としては、光によりラジカルを発生し、そのラジカルが不飽和基含有ウレタン樹脂および（メタ）アクリル酸エステルモノマーのラジカル重合を効率的に開始するものであれば特に制限はなく、公知の光重合開始剤を使用することができる。
例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシフォスフィンオキサイド、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、ヒドロキシベンゾフェノン、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロ）−Ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、鉄−アレン錯体、チタノセン化合物などが挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で、または２種以上を組み合わせて使用することができる。【００３３】
上述した（Ａ）〜（Ｃ）各成分の配合比は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計に基づき、（Ａ）不飽和基含有ウレタン樹脂１０〜９０重量％、（Ｂ）（メタ）アクリル酸エステルモノマー１０〜９０重量％、（Ｃ）光重合開始剤０．１〜１０重量％であることが望ましい。
（Ａ）不飽和基含有ウレタン樹脂の配合量が９０重量%より多いとシール剤組成物が高粘度になり過ぎてディスペンサーなど塗工機による部材上への塗布が困難になり作業性が大きく低下しやすい。逆に、１０重量％未満であるとシール剤硬化物の硬度が高くなり柔軟性や伸びに劣る。（Ｂ）（メタ）アクリル酸エステルモノマーの配合量が９０重量%より多いとシール剤硬化物の硬度が高くなり柔軟性や伸びに欠けやすい。逆に、１０重量％より少ないとシール剤組成物が高粘度になり過ぎてディスペンサーなど塗工機による部材上への塗布が困難になり作業性が低下しやすい。（Ｃ）光重合開始剤の配合量が１０重量％より多いとシール剤組成物の保存安定性が低下したりシール剤硬化物の物性が低下したり、または磁気ハードディスクドライブ装置などの精密電子部品に悪影響を与えるアウトガスを多く発生する場合がある。逆に、０．１重量％未満であると活性エネルギー線硬化性能が低下する。【００３４】
所望により、本発明のシール剤組成物には、（Ｄ）充填剤を含有せしめることができる。（Ｄ）成分の充填剤としては、通常の硬化性樹脂組成物に用いられる無機または有機充填剤が利用できる。充填剤は、微粒子状のものが好ましい。例えば、無機充填剤としては、シリカ、石英微粉末、炭酸カルシウム、マイカ、タルク、二酸化チタン、ケイ酸アルミニウム、メタケイ酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、亜鉛華、ガラス繊維などが使用できる。有機充填剤としては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂などの合成樹脂系微粒子が使用できる。これらの充填剤粒子の平均一次粒子径は、１ｎｍ〜２０μｍが好ましい。これらの充填剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用してもよい。【００３５】
その他、必要に応じ本発明の効果を損ねない範囲で、重合禁止剤、熱安定剤、光安定剤、老化防止剤、密着性付与剤、分散助剤、レべリング剤、顔料、染料、熱重合開始剤、可塑剤などを適宜添加することができる。【００３６】
本発明の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物の製造方法は、特に限定されず、公知の方法を適用することができる。例えば、前述した（Ａ）〜（Ｃ）成分または（Ａ）〜（Ｄ）成分および必要に応じ用いられる添加剤成分を、温度調節可能な混練機、例えば一軸押出機、二軸押出機、プラネタリーミキサー、二軸ミキサー、高せん断型ミキサーなどを用いて混練することにより製造することができる。反応溶媒として（Ｂ）成分を用いて（Ａ）成分の調製を行った場合は、その反応混合物をそのまま、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との混成物として用いることができる。【００３７】
本発明の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を硬化させる活性エネルギー線には特に制限はなく、例えば紫外線、可視光線、レーザー光、（近赤外線、可視光レーザー、紫外線レーザーなど）が挙げられ、その照射量は、通常０．２〜１５，０００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは１〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ2である。【００３８】
本発明の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物からなるシール層付き部材あるいはシール層付き磁気ハードディスクドライブ装置用部材は、前記エネルギー線硬化性シール剤組成物を部材上に塗布した後、活性エネルギー線照射することによって硬化させて形成される。塗布は任意の方法で行うことができる。硬化に使用される活性エネルギー線は前述の通り特に制限はなく、例えば紫外線、可視光線、レーザー光、（近赤外線、可視光レーザー、紫外線レーザーなど）が挙げられ、その照射量は、通常０．２〜１５，０００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは１〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【実施例】
【００３９】
以下、本発明について実施例を挙げて具体的に説明する。
硬化性シール剤組成物および硬化物の評価は、下記の方法により行い、その評価結果を表１に示した。これらの評価に用いた試験片は以下のように作製した。評価項目（２）〜（５）については、実施例または比較例の組成物を、石英ガラス板上に展延し、厚さ２ｍｍのスペーサーをあてがって石英ガラスを重ねた。これに２，０００ｍＪ／ｃｍ2の照射量の紫外線を照射して硬化シートを作製し、各種評価に用いた。評価項目（６）および（７）については、縦１０２ｍｍ、横１４６ｍｍの大きさの磁気ハードディスクドライブ装置の防塵カバー用金属板の脱脂を行い、該金属板上にガスケットを形成した。すなわち、図１に示す塗布ロボット（Ｘ−Ｙ−Ｚ駆動ロボット制御部１を有する）を用いて、供給管２を通じて供給される実施例または比較例の組成物をディスペンサー３により金属板上に塗布して、ガスケットを形成した。塗布物は、２，０００ｍＪ／ｃｍ2の照射量の紫外線を照射して硬化させ、図２の平面図のように形成されたガスケット５付き防塵カバーを作製し、評価に用いた。【００４０】
（１）硬化性：実施例または比較例の組成物を石英ガラス板上に展延し、アプリケーターにて約１００μｍの膜厚でコーティングし、２００ｍＪ／ｃｍ2の照射量の紫外線を照射した。硬化膜の表面を指で触る指触評価を実施し、次の３段階で評価した。
タックが全く認められないものを良好として「○」、明らかにタックが認められるものを不良として「×」、これらの間の感触のものを「△」として表１に示した。
（２）硬度：ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３に準じて、ショア硬度Ａを測定し、シール材料として好適なショア硬度Ａ１５〜４５を「○」、それより高い硬度を「×」として表１に示した。【００４１】
（３）伸び率：ＪＩＳ  Ｋ  ６２５１に準じて測定した。伸び率の数値が大きいほどシール時の追従性に優れている。そこでシール材料として好適な伸び率２００％以上を「○」、１００％以下を「×」、その間を「△」として表１に示した。
（４）引張り強度：ＪＩＳ  Ｋ  ６２５１に準じて測定した。数値の大きいほどシール材料として強度に優れる。測定値を表１に示した。
（５）引裂き強度：ＪＩＳ  Ｋ  ６２５２に順じて測定した。数値の大きいほどシール材料として強度に優れる。測定値を表１に示した。【００４２】
（６）気密性：２５℃の恒温室内にある、図３に示す試験装置を用いてガスケットの気密性定した。即ち、試験台６の上にガスケット５が下になるように金属板４を置いて固定冶具（図示せず）で台に固定する。次いで、給気管７を通じて空気を金属板４の下面空間部に送り、３０ｍｍの水柱の圧力になった時点で空気を封ずる。１０分後にマノメーター８を読み、３０ｍｍ水柱が維持されていれば合格、僅かでも低下していれば不合格と判定した。
（７）耐久性：ガスケット面を上にして金属板を４０℃、相対湿度９０％の雰囲気に５００時間放置した後、２５℃恒温室で１時間置いてから、上記（６）気密性試験と同じ方法により、気密性を評価し、同じ基準で合格「○」、不合格「×」を判定した。【００４３】
［実施例１］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（ａ）成分として１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとのポリカーボネートジオール（旭化成ケミカルズ社製ＰＤＣＬ  Ｔ−５６５２、数平均分子量：２，０００）３４１ｇと、（ｂ）成分として１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（昭和高分子社製リポキシＳＰ−１６ＬＤＡ）１７ｇと（ｃ）成分としてイソホロンジイソシアネート４３ｇを投入し、さらに（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７７ｇを希釈剤として投入して、７０℃において約４８時間撹拌し反応させた。反応終了は、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が消失していることにより確認した。【００４４】
この後さらに、（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて３０分間撹拌し完全に溶解した。
このようにして、数平均分子量３０，０００、不飽和度０．２３ｍｏｌ／ｋｇの（Ａ）成分：不飽和基含有ウレタン樹脂５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を得た。【００４５】
［実施例２］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（ａ）成分として１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとのポリカーボネートジオール（旭化成ケミカルズ社製ＰＤＣＬ  Ｔ−５６５２、数平均分子量：２，０００）３４８ｇと、（ｂ）成分として１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（昭和高分子社製リポキシＳＰ−１６ＬＤＡ）１１ｇと（ｃ）成分としてイソホロンジイソシアネート４２ｇを投入し、さらに（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７７ｇを希釈剤として投入して、７０℃において約４８時間撹拌し反応させた。反応終了は、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が消失していることにより確認した。【００４６】
この後さらに、（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて３０分間撹拌し完全に溶解した。
このようにして、数平均分子量３０，０００、不飽和度０．１１ｍｏｌ／ｋｇの（Ａ）成分：不飽和基含有ウレタン樹脂５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を得た。【００４７】
［実施例３］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（ａ）成分として１，６−ヘキサンジオールのポリカーボネートジオール（日本ポリウレタン社製ニッポランＮ−９８０Ｒ、数平均分子量：２，０００）３４１ｇと、（ｂ）成分として１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（昭和高分子社製リポキシＳＰ−１６ＬＤＡ）１７ｇと（ｃ）成分としてイソホロンジイソシアネート４３ｇを投入し、さらに（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート４０１ｇを希釈剤として投入して、７０℃において約48時間撹拌し反応させた。反応終了は、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が消失していることにより確認した。【００４８】
この後さらに、（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて３０分間撹拌し完全に溶解した。
このようにして、数平均分子量３０，０００、不飽和度０．２３ｍｏｌ／ｋｇの（Ａ）成分：不飽和基含有ウレタン樹脂５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を得た。【００４９】
［実施例４］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（ａ）成分として１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとのポリカーボネートジオール（旭化成ケミカルズ社製ＰＤＣＬ  Ｔ−５６５２、数平均分子量：２，０００）３４８ｇと、（ｂ）成分としてプロピレングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（共栄社化学製エポキシエステル７０ＰＡ）１１ｇと（ｃ）成分としてイソホロンジイソシアネート４２ｇを投入し、さらに（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７７ｇを希釈剤として投入し、７０℃において約４８時間撹拌し反応させた。反応終了は、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が消失していることにより確認した。【００５０】
この後、さらに、（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて３０分間撹拌し完全に溶解した。
このようにして、数平均分子量３０，０００、不飽和度０．１１ｍｏｌ／ｋｇの（Ａ）成分：不飽和基含有ウレタン樹脂５０重量%と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を得た。【００５１】
［実施例５］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（ａ）成分として１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとのポリカーボネートジオール（旭化成ケミカルズ社製ＰＤＣＬ  Ｔ−５６５０Ｊ、数平均分子量：８００）２７８ｇと、（ｂ）成分として１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（昭和高分子社製リポキシＳＰ−１６ＬＤＡ）３４ｇと（ｃ）成分としてイソホロンジイソシアネート８８ｇを投入し、さらに（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７６ｇを希釈剤として投入して、７０℃において約４８時間撹拌し反応させた。反応終了は、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が消失していることにより確認した。【００５２】
この後、さらに、（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて３０分間撹拌し完全に溶解した。
このようにして、数平均分子量１７，０００、不飽和度０．４７ｍｏｌ／ｋｇの（Ａ）成分：不飽和基含有ウレタン樹脂５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー５０重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を得た。【００５３】
［実施例６］
（Ｂ）成分を、テトラヒドロフルフリルアクリレートからフェノキシジエチレングリコールアクリレートに置き換える以外は、実施例１と全く同じ操作を行い、数平均分子量３０，０００、不飽和度０．２３ｍｏｌ／ｋｇの（Ａ）成分：不飽和基含有ウレタン樹脂５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を得た。【００５４】
［実施例７］
（Ｂ）成分を、テトラヒドロフルフリルアクリレート１８８．５ｇとフェノキシジエチレングリコールアクリレート１８８．５ｇの混合物に置き換える以外は、実施例１と全く同じ操作を行い、数平均分子量３０，０００、不飽和度０．２３ｍｏｌ／ｋｇの（Ａ）成分：不飽和基含有ウレタン樹脂５０重量%と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を得た。【００５５】
［実施例８］
内容積２Ｌのプラネタリーミキサーに、実施例１と全く同様にして製造した活性エネルギー線硬化性シール剤組成物６００ｇと（Ｄ）成分：充填剤としてシリカ粉（商品名アエロジル２００、日本アエロジル株式会社製）４８ｇを投入し、６０℃において約6時間撹拌し、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分の総計１００重量部に対し、さらに（Ｄ）充填剤を８重量部含む活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を得た。【００５６】
［比較例１］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（ａ）成分のポリカーボネートジオールに替えてポリカプロラクトンジオール（ダイセル社製ＰＣＬ−２２０Ｎ、数平均分子量：２，０００）３４１ｇと、（ｂ）成分として１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（昭和高分子社製リポキシＳＰ−１６ＬＤＡ）１７ｇと（ｃ）成分としてイソホロンジイソシアネート４３ｇを投入し、さらに（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７７ｇを希釈剤として投入して、７０℃において約４８時間撹拌し反応させた。反応終了は、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が消失していることにより確認した。【００５７】
この後さらに、（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて３０分間撹拌し完全に溶解した。
このようにして、数平均分子量３０，０００、不飽和度０．２３ｍｏｌ／ｋｇの不飽和基含有ウレタン樹脂５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる組成物を得た。【００５８】
［比較例２］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（ｂ）成分として１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（昭和高分子社製リポキシＳＰ−１６ＬＤＡ）２８０．２ｇと（ｃ）成分としてイソホロンジイソシアネート１２０ｇを投入し、（ａ）成分のポリカーボネートジオールは添加せずに、ここに（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７６．２ｇを希釈剤として投入し７０℃において約４８時間撹拌し反応させた。反応終了は、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が消失していることにより確認した。【００５９】
この後さらに、（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて３０分間撹拌し完全に溶解した。
このようにして、数平均分子量４，０００、不飽和度３．８mol／kgの不飽和基含有ウレタン樹脂５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる組成物を得た。【００６０】
［比較例３］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（ａ）成分として１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとのポリカーボネートジオール（旭化成ケミカルズ社製ＰＤＣＬ  Ｔ−５６５２、数平均分子量：２，０００）３６０ｇと、（ｃ）成分としてイソホロンジイソシアネート４０ｇを投入し、（ｂ）成分の分子中に２個の水酸基と２個のエチレン性不飽和基とを含有する２官能エポキシ（メタ）アクリレートは添加せずに、ここに（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７６ｇを希釈剤として投入して、７０℃において約４８時間撹拌し反応させた。反応終了は、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が消失していることにより確認した。【００６１】
この後さらに、（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて３０分間撹拌し完全に溶解した。
このようにして、数平均分子量３０，０００、不飽和度０ｍｏｌ／ｋｇの不飽和基を含有しないウレタン樹脂５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる組成物を得た。【００６２】
［比較例４］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（ａ）成分として１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとのポリカーボネートジオール（旭化成ケミカルズ社製ＰＤＣＬ  Ｔ−５６５２、数平均分子量：２，０００）３２５ｇと、（ｂ）成分に替えてグリシジルメタクリレートのアクリル酸付加物（新中村化学社製ＮＫエステル７０１Ａ）２５ｇと、（ｃ）成分としてイソホロンジイソシアネート５０ｇを投入し、さらに（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７６ｇを希釈剤として投入して、７０℃において約４８時間撹拌し反応させた。反応終了は、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が消失していることにより確認した。【００６３】
この後さらに、（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて３０分間撹拌し完全に溶解した。
このようにして、数平均分子量１５，０００、不飽和度０．５６ｍｏｌ／ｋｇの不飽和基含有ウレタン樹脂５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる組成物を得た。【００６４】
［比較例５］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（Ａ）成分の替わりに、ウレタンアクリレートオリゴマー（カヤラッドＵＸ−３３０１、日本化薬社製、重量平均分子量：６，２００）４００ｇと（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７６ｇと（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて６０℃において１時間撹拌し、完全に溶解し均一となるまで混合した。
このようにして、ウレタンアクリレートオリゴマー５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％の組成物を得た。【００６５】
［比較例６］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（Ａ）成分の替わりに、ウレタンアクリレートオリゴマー（カヤラッドＵＸ−３２０４、日本化薬社製、重量平均分子量：９，２００）４００ｇと（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７６ｇと（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて６０℃において１時間撹拌し、完全に溶解し均一となるまで混合した。
このようにして、ウレタンアクリレートオリゴマー５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％の組成物を得た。【００６６】
［比較例７］
温度計、冷却管、撹拌装置を備えた１Ｌの４口フラスコに、（Ａ）成分の替わりに、ウレタンアクリレートオリゴマー（ＵＡ−３４４ＰＺ−Ａ、新中村化学工業社製、重量平均分子量：１３，０００）４００ｇと（Ｂ）成分であるテトラヒドロフルフリルアクリレート３７６ｇと（Ｃ）成分の光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４を２４ｇ加えて６０℃において１時間撹拌し、完全に溶解し均一となるまで混合した。
このようにして、ウレタンアクリレートオリゴマー５０重量％と（Ｂ）成分：（メタ）アクリル酸エステルモノマー４７重量％と（Ｃ）成分：光重合開始剤３重量％からなる組成物を得た。【００６７】
［実施例９］
縦１０２ｍｍ、横１４６ｍｍの大きさの磁気ハードディスクドライブ装置の防塵カバー用金属板の脱脂を行い、図１に示す要領で塗布ロボットを用いて、金属板上に形成すべきガスケット形状に、ディスペンサーより実施例１の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物を塗布し、２，０００ｍＪ／ｃｍ2の照射量の紫外線を照射して硬化させ、図２の平面図のように形成されたガスケット付き防塵カバー（シール層付き部材）を作製した。
図２において、金属板４の周辺部に、金属板と接する部分の幅２ｍｍ、金属板面からの高さ１ｍｍのガスケット５が形成されている。活性エネルギー線硬化性シール剤組成物は、吐出された後に紫外線により硬化され、ほぼ半円形の断面を有して金属板に接着していた。【００６８】
ガスケットは成形されるとともに所定の位置にセッティングされているので、簡便且つ効率的に製造することができる。また、表１の各種評価結果より製造されたガスケット付き防塵カバー（シール層付き部材）は、磁気ハードディスク装置をはじめとして、精密電子回路素子、精密電子部品などを収納する電子部品容器のシール層付き部材として優れた性能を与えることがわかった。【００６９】
【表１】
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【００７０】
2009154224.tif 000005
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明の活性エネルギー線硬化性シール剤組成物は、活性エネルギー線硬化により、十分な硬化性能を示し、低硬度で十分な柔軟性、伸びを持ち、かつ優れた物理的・機械的強度および優れた耐久性を有する硬化物を生成する。
上記の特性を活かして、本発明のシール剤組成物は、高い信頼性が要求される精密電子回路素子や精密電子部品を収納する電子部品容器を密封するのに適しており、特に電子計算機などの記憶装置として用いられる磁気ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）装置用ガスケットなどとして好適である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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