(57)【要約】  低価格化を図るために、導電メッシュ上に樹脂層を積層した積層体で構成され、かつ十分な映り込み防止性能、透過像鮮明性、欠点防止性のあるディスプレイ用フィルターを提供する。導電メッシュ上に樹脂層が積層された積層体で構成され、かつ、樹脂層中に平均粒子径（Ｄ）１〜２０μｍの範囲にある粒子が樹脂層の全成分に対して３〜２０質量％含有され、樹脂層の中心線平均粗さＲaが４００〜１０００ｎｍの範囲であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
2009122624.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に導電メッシュが積層され、該導電メッシュ上に少なくとも０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を有する樹脂層が積層された積層体で構成され、
該０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）に平均粒子径（Ｄ）が１〜２０μｍの範囲にある粒子が、該０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の全成分に対して３〜２０質量％含有され、該樹脂層の中心線平均粗さＲaが４００〜１０００ｎｍの範囲である、ディスプレイ用フィルター。
【請求項２】
前記０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）に含有される粒子の平均粒子径（Ｄ）が０．４Ｈｒ〜１．５Ｈｒ（Ｈｒ：樹脂層の全厚み（μｍ））の範囲である、請求項１に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
導電メッシュの厚み（Ｈｍ）が１〜８μｍの範囲である、請求項１または２に記載のディスプレイ用フィルター
【請求項４】
樹脂層の全厚み（Ｈｒ）（μｍ）が１．０Ｈｍ〜４．０Ｈｍの範囲である、請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
前記０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）がハードコート層である、請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項６】
前記０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）がハードコート層であり、さらに樹脂層が反射防止層を有する積層構成であり、
導電メッシュ、ハードコート層、反射防止層がこの順に積層されたことを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項７】
更に、近赤外線遮断機能、色調補正機能、紫外線遮断機能、およびＮｅカット機能からなる群より選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能層を有することを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の画面に装着されるディスプレイ用フィルターに関し、詳しくは映り込み防止性、欠点防止性に優れたディスプレイ用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイに要求される性能は年々厳しくなっており、ディスプレイの表面に設置してディスプレイ特性を向上させる目的を有するディスプレイ用フィルターに対する要求もより高度になっている。中でも、より画質特性を向上させるため、画像の鮮明性向上（透過画像鮮明性）、高コントラスト化、蛍光灯等のディスプレイ表面への映り込みの軽減、表面品位（各種欠点）向上、などが強く求められるようになっている。この中で、映り込み低減については、一般に透明基材の上に凹凸形状を有した光拡散層を形成することにより実現される。また、この凹凸形状の形成は、微粒子を含む透明塗料を塗布して表面に微細な凹凸構造を形成することによって実現される（特許文献１、２）。【０００３】
一方、ディスプレイの低価格化に伴って、フィルターも年々低価格化しており、コストダウンの要求も厳しくなっている。例えば、プラズマディスプレイの場合、一般的なフィルター構成は、反射防止機能、色調補正機能、近赤外線遮断機能、電磁波遮蔽機能等を有する複数の光学機能性フィルムを接着層を介して積層して形成されるが、この複数のフィルムからなるフィルターに対して、プラスチックフィルム１枚のみでフィルターを形成することによる低価格化が検討されている。例えば、プラスチックフィルムの一方の面に反射防止層を有し、他方の面に導電層を有するフィルター、あるいはプラスチックフィルム上に導電層を形成し、さらにその上に反射防止層や機能性樹脂層を積層したフィルターが提案されている（特許文献３，４，５，６，７）。
【特許文献１】特開２００５−３１６４５０号公報
【特許文献２】特開２００６−１９５３０５号公報
【特許文献３】特開２００７−９６０４９号公報
【特許文献４】特開２００６−５４３７７号公報
【特許文献５】特開２００６−２１０５７２号公報
【特許文献６】特開２００７−１４０２８２号公報
【特許文献７】特開２００７−２４３１５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１，２の技術では、映り込み防止性は優れているものの、ディスプレイ用フィルターに複数のフィルムが必要であることからコスト面の優位性が不十分である。【０００５】
特許文献３，４，５の技術では、１枚のフィルムでディスプレイ用フィルターを形成しているためにコスト面では改善されているが、視認側最表面に光拡散のための凹凸が形成されていないために映り込み防止性が不十分である。【０００６】
また、特許文献６、７では、視認側最表面に凹凸構造が形成されており映り込み防止性は改良されているが、導電メッシュが透明基材（プラスチックフィルム）より視認側（鑑賞者側）に配置された構成、即ち、導電メッシュより視認側には、ハードコート層や反射防止層等の機能層のみが配置された構成のディスプレイ用フィルターであり、導電メッシュに起因すると考えられる異物欠点が目立ちやすくなるという問題、あるいは導電メッシュに外因性異物が捕捉されやすくなり、その外因性異物が目立ちやすくなるという問題があった。【０００７】
よって本発明の目的は、上記従来技術の問題点を鑑み、十分な映り込み防止性能を有し、透過画像鮮明性に優れ、更に欠点防止性に優れるディスプレイ用フィルターを低コストで提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明のディスプレイ用フィルターは以下の構成をとるものである。
１）透明基材上に導電メッシュが積層され、該導電メッシュ上に少なくとも０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を有する樹脂層が積層された積層体で構成され、
該０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）に平均粒子径（Ｄ）が１〜２０μｍの範囲にある粒子が、該０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の全成分に対して３〜２０質量％含有され、該樹脂層の中心線平均粗さＲaが４００〜１０００ｎｍの範囲である、ディスプレイ用フィルター。
２）前記０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）に含有される粒子の平均粒子径（Ｄ）が０．４Ｈｒ〜１．５Ｈｒ（Ｈｒ：樹脂層の全厚み（μｍ））の範囲である、前記１）に記載のディスプレイ用フィルター。
３）導電メッシュの厚み（Ｈｍ）が１〜８μｍの範囲である、前記１）または２）に記載のディスプレイ用フィルター
４）樹脂層の全厚み（Ｈｒ）（μｍ）が１．０Ｈｍ〜４．０Ｈｍの範囲である、前記１）〜３）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
５）前記０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）がハードコート層である、前記１）〜４）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
６）前記０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）がハードコート層であり、さらに樹脂層が反射防止層を有する積層構成であり、
導電メッシュ、ハードコート層、反射防止層がこの順に積層されたことを特徴とする、前記１）〜４）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
７）更に、近赤外線遮断機能、色調補正機能、紫外線遮断機能、およびＮｅカット機能からなる群より選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能層を有することを特徴とする、前記１）〜６）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、十分な映り込み防止性能、透過画像鮮明性に優れ、欠点防止性に優れるディスプレイ用フィルターを低コストで提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のディスプレイ用フィルター構造の一例の模式断面図。
【図２】本発明のディスプレイ用フィルターの樹脂層厚みを示す模式断面図。
【図３】本発明のディスプレイ用フィルターの樹脂層厚みを示す模式断面図。
【符号の説明】
【００１１】
１  粒子
２  樹脂層
３  基材
４  導電メッシュ
Ｈｍ：導電メッシュの厚み
Ｈｒ１：樹脂層の厚み
Ｈｒ２：樹脂層の厚み
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（樹脂層の表面構造と組成）
本発明のディスプレイ用フィルターは、透明基材上に導電メッシュが積層され、該導電メッシュ上に少なくとも０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を有する樹脂層が積層された積層体で構成され、該０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）に平均粒子径（Ｄ）が１〜２０μｍの範囲にある粒子が、該０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の全成分に対して３〜２０質量％含有され、該樹脂層の中心線平均粗さＲaが４００〜１０００ｎｍの範囲であることを特徴とする。【００１３】
導電メッシュ上に積層された樹脂層の構造を上記のようにすることによって、蛍光灯などの映り込みの抑制をして、透過像の鮮明性劣化を抑制しつつ、透明基材より視認側に導電メッシュが配置されたフィルターに特異的な現象である、導電メッシュに起因すると考えられる微小異物や外因性異物の存在が引き起こす視覚上の問題、即ち、前記異物が視認できる程度に目立ちやすくなると言う問題が解決できることを見いだした。即ち、本発明によれば、前記異物の視認性を抑制することができる（欠点の防止性に優れる）。【００１４】
本発明の、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を有する樹脂層は、ハードコート機能や反射防止機能を有する機能層であることが、ディスプレイ用フィルターの高性能化の観点から好ましい。【００１５】
本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる樹脂層は、導電メッシュ上に配置される。そして該樹脂層は、少なくとも０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を有する。後述するように樹脂層の中心線平均粗さＲaが４００〜１０００ｎｍの範囲であり、該０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）に平均粒子径（Ｄ）が１〜２０μｍである粒子が０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の全成分に対して３〜２０質量％含有されていれば、本発明のディスプレイ用フィルターの樹脂層は、その樹脂の種類や該樹脂層の特性は特に限定されない。【００１６】
なお、樹脂層が０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を含む積層構成の場合は、樹脂層の最表面層の中心線平均粗さＲaが４００〜１０００ｎｍの範囲となっていればよい。【００１７】
本発明にかかる樹脂層の中心線平均粗さＲaは、好ましくは４１０〜１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５００〜９００ｎｍの範囲であり、更に好ましくは６００〜８５０ｎｍの範囲であり、特に好ましくは６５０〜８００ｎｍの範囲である。樹脂層の中心線平均粗さＲaが４００ｎｍ未満の場合は、塵埃起因の異物欠点や導電メッシュ起因の異物欠点などの様々な欠点の防止性が悪化し、１０００ｎｍを超える場合は、透過画像が劣化する。そのため本発明のディスプレイ用フィルターでは、樹脂層の中心線平均粗さＲaが４００〜１０００ｎｍの範囲とすることが重要である。なお前述したように、樹脂層が２層以上の積層構成となっている場合、樹脂層の最表面層の中心線平均粗さＲaが４００〜１０００ｎｍの範囲となっていることが重要である。【００１８】
本発明における樹脂層の０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）に含まれる平均粒子径（Ｄ）が１〜２０μｍの範囲の粒子の含有量は、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の全成分に対して３〜２０質量％の範囲であるが、好ましくは３〜１５質量％の範囲、より好ましくは３〜１２質量％の範囲、更に好ましくは３〜１０質量％の範囲、特に好ましくは３．５〜８質量％の範囲である。０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）に含まれる、平均粒子径（Ｄ）が１〜２０μｍの範囲の粒子の含有量が０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の全成分に対して３質量％より小さい場合には欠点防止性が悪化し、２０質量％を越える場合には透過像の鮮明性が損なわれる傾向があるため好ましくない。【００１９】
本発明における樹脂層において、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の全成分に対して３〜２０質量％の範囲で含まれる粒子の平均粒子径（Ｄ）は、１〜２０μｍの範囲であるが、好ましくは１〜１５μｍの範囲、より好ましくは２〜１２μｍの範囲、更に好ましくは３〜１０μｍの範囲である。０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の全成分に対して３〜２０質量％の範囲で含まれる粒子の平均粒子径（Ｄ）が１μｍより小さい場合には欠点防止性が悪化し、２０μｍを越える場合にはフィルターの表面にざらつき感が見られる傾向があるため好ましくない。【００２０】
また、本発明における樹脂層において、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の全成分に対して３〜２０質量％含まれる、平均粒子径（Ｄ）が１〜２０μｍの粒子の平均粒子径（Ｄ）は、好ましくは、０．４×Ｈｒ〜１．５×Ｈｒ（μｍ）の範囲であり、このような粒子を用いることによって優れた欠点防止性と外観品位を両立することができる。０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）中における粒子の平均粒子径（Ｄ）は、より好ましくは０．６×Ｈｒ〜１．３×Ｈｒの範囲、更に好ましくは０．８×Ｈｒ〜１．２×Ｈｒの範囲、特に好ましくは０．９×Ｈｒ〜１．１×Ｈｒの範囲である。平均粒子径が０．４×Ｈｒより小さい場合には欠点防止性が悪化し、平均粒子径が１．５×Ｈｒを越える場合にはフィルターの表面にざらつき感が見られる傾向があるため、いずれも好ましくない。なお、Ｈｒとは樹脂層の全厚み（μｍ）を意味し、樹脂層が積層構成の場合は、複数層の合計厚みを意味するものとする。【００２１】
尚、本発明における平均粒子径は体積基準の体積平均径であり、フィルターサンプルの光学顕微鏡写真を撮影して顕微鏡写真を解析することにより測定される（詳細は評価方法の項参照）。【００２２】
本発明における樹脂層中の０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）に含まれる粒子の平均粒子径は前述のとおりであるが、通常、ある程度の粒度分布を持っている。粒度分布については特に限定されるものではないが、平均粒子径（Ｄ）と粒子径の標準偏差σの関係は、好ましくは０．１Ｄ＜  σ  ＜２．０Ｄの範囲であり、より好ましくは０．３Ｄ＜  σ  ＜１．５Ｄの範囲である。標準偏差σが０．１Ｄより小さい場合は塗布ムラが発生しやすい傾向があり、２．０Ｄを越える場合は大粒子の割合が増えてフィルター表面にざらつき感がみられることがある。【００２３】
本発明における樹脂層中の０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）に含まれる粒子としては、無機系、有機系のものが挙げられるが、有機系材料により形成されるものが好ましい。また、透明性に優れるものがよい。粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。さらに、そのプラスチックビーズの中でも、好ましくは透明性が優れているものが挙げられ、具体例としては、アクリル系（ポリメチルメタクリレート、架橋ポリメチルメタクリレート等）、スチレン系（ポリスチレン、架橋ポリスチレン等）、アクリル・スチレン系（メチルメタクリレート−スチレン共重合体等）、ウレタン系（ウレタンアクリレート等）、メラミン系、等が挙げられる。本発明では、透明性に優れるアクリル系を用いるのが好ましい。【００２４】
また、その形状は球状（真球状、楕円体状、など）のものが好ましく、より好ましくは真球状のものである。【００２５】
また、本発明における樹脂層の０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）中の粒子の屈折率は１．３５〜１．７０が好ましく、更に好ましくは１．４０〜１．６５、より好ましくは１．４５〜１．６０がよい。そして、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の粒子とこれを含む樹脂との屈折率差は０．１以下が好ましく、より好ましくは０．０７以下、更に好ましくは０．０５以下がよい。このような粒子屈折率、屈折率差とすることにより樹脂中粒子における光散乱が抑制され透過像の鮮明性をより良好にすることができる。【００２６】
本発明にかかる樹脂層が、ハードコート層を構成要素として含む場合は、ハードコート層が０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）であることが好ましく、上記した粒子を上記の含有量で含有させることができる。【００２７】
また、本発明における樹脂層の全厚みは、好ましくは１．０×Ｈｍ〜４．０×Ｈｍ（Ｈｍ：導電メッシュの厚み（μｍ））の範囲であるが、Ｈｍが１μｍ以上４μｍ以下の場合には、１．０×Ｈｍ〜３．５×Ｈｍの範囲がより好ましく、更に好ましくは１．１×Ｈｍ〜３．０×Ｈｍの範囲である。Ｈｍが４μｍより大きく６μｍ以下の場合には、１．０×Ｈｍ〜３．０×Ｈｍの範囲がより好ましく、更に好ましくは１．１×Ｈｍ〜２．５×Ｈｍの範囲である。Ｈｍが６μｍより大きく８μｍ以下の場合には、１．０×Ｈｍ〜２．５×Ｈｍの範囲がより好ましく、更に好ましくは１．１×Ｈｍ〜２．２×Ｈｍの範囲である。【００２８】
樹脂層の全厚みが１．０Ｈｍより小さい場合には異物欠点防止性が悪化する傾向があり、４．０Ｈｍを上回る場合には透過像の鮮明性が悪化する傾向があり、経済的観点からしても好ましい態様ではない。また樹脂層中の０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）としてハードコート層を用いる場合には、層厚みが厚くなるとカールが大きく加工に悪影響を及ぼす場合があり好ましくない。【００２９】
従来の映り込み防止技術として、プラスチックフィルムのような平滑な透明基材上に、平均粒子径が０．５〜１０μｍ程度の粒子を含む透明塗料を塗布して、表面に微細な凹凸を形成するものがあったが、導電メッシュに特徴的な異物欠点の防止性に着目して、導電メッシュ上に設けられた樹脂層の表面粗さ、樹脂中に含まれる粒子量、樹脂層と粒子径の相対関係について明確な検討はなされていなかった。本発明では導電メッシュ上の樹脂層に発生する各種の欠点防止性に特化して検討されたものであり、図１に示すような本発明に特徴的な表面構造を樹脂層中に粒子を添加して形成させることで、透過画像鮮明性、映り込み抑制能を低下させずに、十分な欠点防止性を実現することができる。【００３０】
ディスプレイパネルにおいて映り込み像は、ディスプレイ用フィルターからの反射光とディスプレイパネル内部からの反射光から成る。ディスプレイパネルからの反射光は、ディスプレイ用フィルターで吸収されるため、ディスプレイ用フィルターの透過率を下げることにより映り込み性能を向上させることができる。しかし、ディスプレイ用フィルターの透過率を下げ過ぎた場合には、透過画像の輝度も低下して画像が暗くなることとなり、このような場合に輝度を維持するためにはディスプレイパネルに映す画像を明るくする必要があり、結果的に消費電力が多くなるので好ましい態様とは言えない。よって本発明のディスプレイ用フィルターの全光線透過率は好ましくは２０〜６０％、より好ましくは２５〜５０％、更に好ましくは３０〜４５％であり、このような透過率とすることで、映り込みの低減と透過像輝度のバランスを好適にすることができる。【００３１】
（導電メッシュ）
ディスプレイフィルターは帯電防止性の観点から各種導電層が設置されるが、特に、プラズマディスプレイパネルでは、その構造や動作原理上パネルから強度の漏洩電磁波が発生し、これを遮蔽する目的で導電メッシュなどの導電層が用いられる。近年、電子機器からの漏洩電磁波が人体や他の機器に与える影響について取り沙汰されており、例えば日本では、VCCI（voluntary control council for interference by processing equipment electronic office machine）による基準値内におさえることが求められている。具体的には、VCCIにおいては、業務用途の規制値を示すclassＡでは放射電界強度５０ｄBμＶ／ｍ未満であり、民生用途の規制値を示すclassＢでは４０ｄBμＶ／ｍ未満であるが、プラズマディスプレイパネルの放射電界強度は２０〜９０MＨｚ帯域内で５０ｄBμＶ／ｍ（対角４０インチ型の場合）を越えるため、このままの状態では家庭用途には使用できない。このため、プラズマディスプレイパネルには電磁波シールド層（導電層）を配置したディスプレイ用フィルターが用いられる。【００３２】
前述のように電磁波シールド層が電磁波シールド性能を発揮するためには導電性が必要であり、プラズマディスプレイパネルの電磁波シールドに必要な導電性は、面抵抗で３Ω／□以下、好ましくは１Ω／□以下、更に好ましくは０．５Ω／□以下である。よって導電層を有する本発明のディスプレイ用フィルターにおいては、該導電層の導電性が、面抵抗で３Ω／□以下であることが好ましく、より好ましくは１Ω／□以下、更に好ましくは０．５Ω／□以下である。また、面抵抗は低いほど電磁波シールド性が向上するために好ましいが、現実的な下限は０．０１Ω／□程度と考えられる。【００３３】
本発明のディスプレイ用フィルターにおいては、導電メッシュを用いることで、面抵抗を十分に低くしつつ、フィルター透過率を大きくし、また導電層由来の視認者側への光の反射を抑制することができる。【００３４】
電磁波シールド性を向上させるためには導電メッシュの厚みはある程度大きくする必要があるが、逆に厚みが大きくなりすぎると、透過画像鮮明性が低下する傾向にあり、また、樹脂層の塗工性が低下し、塗布筋やムラが発生する場合がある。また、導電メッシュの厚みが大きくなると、樹脂層の塗工性を確保するために樹脂層の厚みを大きくする必要があり、特に樹脂層としてハードコート層を用いる場合は、カールの発生により、加工が困難になる場合がある。【００３５】
このような観点から、導電メッシュの厚みは、１〜８μｍの範囲が好ましく、２〜７μｍの範囲がより好ましく、特に２．５〜５μｍの範囲が好ましい。導電メッシュの厚みが１μｍ未満の場合は、十分な電磁波シールド性が得られない場合がある。また、導電メッシュの厚みが８μｍを越えると、樹脂層の塗工性が低下するので、面内に均一な表面粗さを有する樹脂層に安定的に形成することが難しくなる傾向があり、更には、コストアップにつながるために好ましくない。【００３６】
本発明における導電メッシュのピッチは、５０〜５００μｍの範囲が好ましく、７５〜４５０ｎｍの範囲がより好ましく、１００〜３５０μｍの範囲が更に好ましい。導電メッシュのピッチが５０μｍより小さくなると透過率が低下する傾向にあり、５００μｍより大きくなると導電性が低下する傾向があり好ましくない。本発明にかかる導電メッシュの線幅は、３〜３０μｍの範囲が好ましく、５〜２０μｍの範囲がより好ましい。導電メッシュの線幅が、３μｍより小さくなると電磁波シールド性が低下する傾向にあり、一方、線幅が３０μｍより大きくなるとディスプレイ用フィルターの透過率が低下する傾向にある。【００３７】
ディスプレイ用フィルターの透過率には、導電メッシュの開口率が大きく影響する。導電メッシュの開口率は、メッシュ部（細線部）の平面視上の総面積と開口部の平面視上の総面積の和に対する開口部の総面積の比率であり、導電メッシュの開口率は、線幅とピッチによって決定される。本発明において、導電メッシュの開口率は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、特に８０％以上が好ましい。開口率の上限は９５％以下が好ましく、９３％以下がより好ましい。【００３８】
導電メッシュの開口率は、例えば、以下のようにして測定することができる。（株）キーエンス製  デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率２００倍で表面観察を行い、その輝度抽出機能（ヒストグラム抽出、輝度レンジ設定０−１７０）を用いて、導電メッシュが存在しない部分（開口部）と導電メッシュが存在する部分とに２値化し、次いで、面積計測機能を用いて、全体の面積、および開口部の面積を算出し、開口部面積を全体の面積で除算することによって開口率を求める。具体的には、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の２０箇所について開口率を算出し、その平均値とすることが好ましい。【００３９】
導電メッシュのメッシュパターンの形状（開口部の形状）は、例えば、正方形、長方形、菱形等の４角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、５角形、６角形、８角形、１２角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、４角形からなる格子状メッシュパターン、６角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。【００４０】
メッシュパターンが、例えば格子状メッシュパターンの場合、縦横に並んで配置されたディスプレイの画素との相互作用でモワレを起こさないように、画素が並んだ線に対してメッシュパターンの線がある程度の角度（バイアス角）を有していることが好ましい。モワレを起こさないバイアス角は画素のピッチや、メッシュパターンのピッチ・線幅により変化するので、これらの条件に応じて適宜設定される。本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、導電メッシュからなる導電層は、透明基材上に形成される。該透明基材としては、溶液製膜法や溶融製膜法により得られる各種フィルムが好ましく用いられるが、透明基材の詳細については後述する。【００４１】
本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、導電メッシュ層を透明基材などの上に形成する方法は、公知の方法を用いることができる。例えば、１）透明基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法。２）メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法、３）導電性繊維を用いる方法、４）透明基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法、５）透明基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法、６）感光性銀塩を用いる方法、及び７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法等が挙げられるが、これらに限定されない。【００４２】
上記の導電メッシュの製造方法について詳細に説明する。
１）透明基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法は、透明基材上に導電性インキを、スクリーン印刷、グラビア印刷等の公知の印刷法によりパターン状に印刷する方法である。
２）メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法は、例えば、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いてパターン状に印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して導電メッシュパターンを形成する方法である。
３）導電性繊維を用いる方法は、導電性繊維からなる編布を接着剤または粘着材を介して貼り合わせる方法である。
４）透明基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法は、透明基材上に金属箔（銅、アルミニウム、又はニッケル等）を接着剤または粘着材を介して貼り合わせた後、この金属箔をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属箔をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属箔上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電メッシュを形成する方法である。【００４３】
５）透明基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法は、透明基材上に金属薄膜（銅、アルミニウム、銀、金、パラジウム、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金などからなる金属）を、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の気相製膜法、あるいはメッキ法によって形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電メッシュを形成する方法である。この方法では、接着剤や粘着剤を介さずに、透明基材上に金属薄膜を形成することが好ましい。【００４４】
６）感光性銀塩を用いる方法は、ハロゲン化銀などの銀塩乳剤層を透明基材上にコーティングし、フォトマスク露光あるいはレーザー露光の後、現像処理して銀のメッシュを形成する方法がある。形成された銀メッシュはさらに銅、ニッケルなどの金属でメッキするのが好ましい。この方法は、ＷＯ２００４／７８１０号公報、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００６−１２９３５号公報などに記載されており、参照することができる。【００４５】
７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法は、上記５）と同様の方法で透明基材上に形成された金属薄膜をレーザーアブレーション方式で、金属薄膜のメッシュパターンを作製する方法である。【００４６】
レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約３倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。【００４７】
かかるアブレーションに用いるレーザーは金属が吸収する波長のあらゆるレーザーを用いることが出来る。例えばガスレーザー、半導体レーザー、エキシマレーザー、または半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーを用いることが出来る。また、これら固体レーザーと非線形光学結晶を組み合わせることにより得られる第二高調波光源（ＳＨＧ）、第三高調波光源（ＴＨＧ）、第四高調波光源（ＦＨＧ）を用いることが出来る。【００４８】
かかる固体レーザーの中でも、プラスチックフィルムを加工しないという観点から、波長が２５４ｎｍから５３３ｎｍの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはＮｄ：ＹＡＧ（ネオジウム：イットリウム・アルミニウム・ガーネット） などの固体レーザーのＳＨＧ（波長５３３ｎｍ）、さらに好ましくはＮｄ：ＹＡＧ などの固体レーザーのＴＨＧ（波長３５５ｎｍ）の紫外線レーザーを用いることが好ましい。【００４９】
上記した導電メッシュの製造方法の中でも、厚みが比較的小さい導電メッシュ（例えば厚みが８μｍ以下の導電メッシュ）を容易に製造することができ、かつ高い電磁波シールド性を確保できるという観点から、上記の２）、５）、６）及び７）の製造方法が好ましく用いられる。また、樹脂層の塗工性、及び樹脂層と導電層との密着性の観点からは、上記の２）、５）及び７）の製造方法で製造された導電メッシュが好ましく用いられる。特に、上記５）の製造方法は、樹脂層の塗工性が良好であり、かつ導電メッシュの製造コストが低いことから、特に好ましく用いられる。【００５０】
上記５）の製造方法について、更に詳細に説明する。【００５１】
透明基材上に金属薄膜を形成する方法としては、気相製膜法が好ましい。上記の気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。金属薄膜を形成するための金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、１種または２種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。これらの中でも、良好な電磁波シールド性が得られ、メッシュパターン加工が容易で、かつ低価格であるなどの点から、銅が好ましく用いられる。【００５２】
また、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、透明基材と銅薄膜との間に、５〜１００ｎｍの厚みのニッケル薄膜を用いるのが好ましい。これによって、透明基材と銅薄膜の接着性が向上する。また、金属薄膜の表面に、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物等の金属化合物を、気相製膜法で積層することができる。この金属化合物の積層によって、後述する黒化処理を省略することができるので好ましい。かかる金属化合物としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、及びチタン等の金属の酸化物、窒化物、あるいは硫化物が挙げられる。上記の金属化合物の厚みは、５〜２００ｎｍの範囲が好ましく、１０〜１００ｎｍの範囲がより好ましい。この金属化合物層は、金属薄膜の一部を構成し、更に導電メッシュの一部を構成する。【００５３】
金属薄膜上にレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィーが好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、金属薄膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は金属薄膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。【００５４】
また、上記のレジスト層に、カーボンブラックやチタンブラック等の黒顔料を含有させて、黒色化することができる。この黒色レジスト層は、除去せずに、導電メッシュ上にそのまま残すことによって、後述する黒化処理を省略することができるので好ましい。エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。【００５５】
本発明にかかる導電メッシュは、黒化処理が施されていることが好ましい。黒化処理を施すことにより、導電メッシュの金属光沢による視聴者側からの反射やディスプレイ側からの反射も低減することができ、さらに画像視認性の低下を低減することができ、コントラスト・視認性に優れたディスプレイ用フィルターが得られる。【００５６】
導電メッシュはディスプレイに設置したときに透光部となる部分以外、つまりは表示部ではない部分や額縁印刷に隠れた部分は、必ずしもメッシュパターンを有している必要がなく、これら部分はパターニングされていない、例えば金属箔ベタであっても良い。加えて、パターニングされていないベタ部分が、黒色であると、そのままディスプレイ用フィルターの額縁印刷として使えて好適である。【００５７】
（樹脂層の積層）
本発明において、導電メッシュ上に樹脂層が積層されるが、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を含めた該樹脂層中の各層は導電メッシュ上に直接に樹脂層が積層されることが好ましい。樹脂層の各層の積層方法としては、樹脂層となる塗液（以降、単に塗液と言う）を塗工することが好ましい。塗工に際し、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を含めた樹脂層中の各層の塗液の粘度（２３℃）を１〜１００ｍＰａ・ｓの範囲にすることが好ましく、１〜５０ｍＰa・ｓがより好ましい。塗液の粘度を上記の範囲に制御することによって、映り込み防止、欠点防止に有効な表面構造を樹脂層に形成することができる。０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を含めた樹脂層中の各層の塗液の粘度が１００ｍＰａ・ｓを越えると、塗工性が低下し、塗工筋や塗工ムラが発生する場合がある。【００５８】
また、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を含めた樹脂層中の各層の塗液中の固形分濃度、塗液のウェット塗工量についても、以下の範囲に調整することが好ましい。０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を含めた樹脂層中の各層の塗液中における固形分濃度は、１０〜８０質量％の範囲が好ましく、２０〜７０質量％の範囲がより好ましく、特に３０〜７０質量％の範囲が好ましい。ここで、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を含めた樹脂層中の各層の塗液中の固形分としては、樹脂成分と、必要に応じてその他の固形分（例えば、重合開始剤、塗布性改良剤等）を含む。樹脂成分としては、ポリマー、モノマー、オリゴマーを含み、塗液中の全固形分に対して樹脂成分を５０質量％以上含有することが好ましく、６０質量％以上含有することがより好ましい。上限は１００質量％である。０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を含めた樹脂層中の各層の塗液のウェット塗工量は、１〜５０ｇ／ｍ２の範囲が好ましく、３〜４０ｇ／ｍ２の範囲がより好ましい。【００５９】
樹脂層用塗液の塗工方法としては、各種の塗工方法、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法またはスプレーコート法などを用いることができる。これらの中でも、グラビアコート法、ダイコート法が好ましく用いられる。【００６０】
（樹脂層の構成）
本発明の樹脂層は、ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着したときに、視聴者側（観賞側）の最表面となるように配置することが好ましい。本発明にかかる樹脂層は、少なくとも０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を有することが重要であり、該樹脂脂層は、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）からなる単層であっても、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）と他の層との積層構成であってもよい。上記の積層構成としては、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）と、該層（Ａ）より薄膜の他の層との積層構成、あるいは０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）と更に０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）との２層以上の積層構成が挙げられる。【００６１】
樹脂層が０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）からなる単層の場合は、該層（Ａ）はハードコート層であることが好ましい。樹脂層が２層以上の積層構成の場合は、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）がハードコート層であり、該ハードコート層上にさらに反射防止層を有する積層構成であることが好ましい。反射防止層は、低屈折率層のみであってもよいし、高屈折率層と低屈折率層の積層構成であってもよい。樹脂層がハードコート層と反射防止層の積層構成の場合は、反射防止層が視聴者側の最表面となることが好ましい。【００６２】
０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）は、０．５μｍ以上であれば特に限定されないが、より好ましくは０．５μｍ以上２０μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以上１５μｍ以下、特に好ましくは２μｍ以上１２μｍ以下である。０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の厚みが０．５μｍ未満の場合には本発明の導電メッシュ上に均一塗布ができない傾向がある。また、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の厚みは、カールの発生を抑制するという観点から、小さい方が好ましく、１２μｍ以下であることが特に好ましい。【００６３】
また、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を含む樹脂層の全厚みとしては、０．５μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、１μｍ以上１５μｍ以下がより好ましく、特に２μｍ以上１２μｍ以下が好ましい。樹脂層の全厚みが０．５μｍ未満の場合には本発明の導電メッシュ上に均一塗布ができない傾向がある。また、樹脂層の全厚みは、カールの発生を抑制するという観点から、小さい方が好ましく、１２μｍ以下であることが特に好ましい。【００６４】
上記したように、樹脂層がハードコート層と反射防止層の積層構成の場合は、ハードコート層の塗工によって、ハードコート層の中心線平均粗さＲａを４００〜１０００ｎｍに制御する必要がある。ハードコート層上に積層される反射防止層は、極薄膜であるために、通常、ハードコート層の表面形状を追従するからである。次に、本発明の、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）を有する樹脂層が機能層となり得るハードコート層、反射防止層について詳細に説明する。【００６５】
（ハードコート層）
ハードコート層は、傷防止のために設けられる層である。ハードコート層は硬度が高いことが好ましく、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。また、耐擦傷性を簡易的に評価するために、スチールウールによる耐擦傷性試験を用いることができる。この試験方法は、ハードコート層表面を、＃００００のスチールウールに２５０ｇの荷重をかけて、ストローク幅１０ｃｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の５段階で評価したものである。
５級：傷が全く付かない。
４級：傷が１本以上５本以下。
３級：傷が６本以上１０本以下。
２級：傷が１１本以上。
１級：全面に無数の傷。【００６６】
上記の試験方法において、本発明のハードコート層は、３級以上であることが好ましく、さらに好ましくは４級以上である。本発明におけるハードコート層を構成する樹脂成分としては、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型樹脂又は光硬化型樹脂等が挙げられるが、性能、コスト、生産性などのバランスを考慮するとアクリル系樹脂が好ましく適用される。【００６７】
アクリル樹脂で形成されるハードコート層は多官能アクリレートを主成分とする硬化組成物からなるものである。多官能アクリレートは、１分子中に３（より好ましくは４、更に好ましくは５）個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体もしくはオリゴマー、プレポリマーであって、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基（但し、本明細書において「・・・（メタ）アクリ・・・」とは、「・・・アクリ・・・又は・・・メタアクリ・・・」を略して表示したものである。）を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーとしては、１分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールの該水酸基が、３個以上の（メタ）アクリル酸のエステル化物となっている化合物などを挙げることができる。【００６８】
具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらは、１種または２種以上を混合して使用することができる。【００６９】
これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーの使用割合は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して５０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは５０〜８０質量％である。上記の化合物以外にハードコート層の剛直性を緩和させたり、硬化時の収縮を緩和させたりする目的で１〜２官能のアクリレートを併用するのが好ましい。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。【００７０】
分子内に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。
（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシド及びプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパンなど、
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、更にアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類など、および、
（ｆ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類など
また、分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−及びｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。【００７１】
これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して１０〜４０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜４０質量％である。  また本発明では、ハードコート層の改質剤として、塗布性改良剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、有機系潤滑剤、有機高分子化合物、紫外線吸収剤、光安定剤、染料、顔料あるいは安定剤などを用いることができ、これらは活性線または熱による反応を損なわない範囲内でハードコート層を構成する塗布層の組成物成分として使用され、用途に応じてハードコート層の特性を改良することができる。【００７２】
本発明において、上記のハードコート組成物を硬化させる方法としては、例えば、活性線として紫外線等を照射する方法や高温加熱法等を用いることができ、これらの方法を用いる場合には、前記ハードコート組成物に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。【００７３】
光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。【００７４】
光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して、０．０１〜１０質量％が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２００℃以上の高温で熱硬化させる場合には熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。【００７５】
本発明で用いられるハードコート層形成組成物には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテルまたは２，５−ｔ−ブチルハイドロキノンなどの熱重合防止剤を加えることが望ましい。熱重合防止剤の添加量は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して、０．００５〜０．０５質量％が好ましい。【００７６】
また、本発明のディスプレイ用フィルターの樹脂層を、ハードコート層上に更に反射防止層等の他の層を設けた積層構成とする場合には、ハードコート層の上に形成する他の層の塗布性、接着性を阻害しない必要があり、その場合にはハードコート層にアクリル系レベリング剤を用いるのが好ましい。このようなレベリング剤としては「ＡＲＵＦＯＮ−ＵＰ１０００シリーズ、ＵＨ２０００シリーズ、ＵＣ３０００シリーズ（商品名）：東亜合成化学（株）製」などを用いるのが好ましい。レベリング剤の添加量はハードコート層構成成分総量１００質量％に対して、０．０１〜５質量％含有させるのが好ましい。このようにハードコート層にレベリング剤を添加することで、例えば樹脂層としてハードコート層と反射防止層の積層膜を用いる場合に、ハードコート層上に形成する反射防止層の塗布姓、接着性が向上することとなる。【００７７】
本発明で必要に応じて用いられる活性線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯または炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また更に、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。【００７８】
本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも１４０℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて透明基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも２００℃以上に加温された空気による熱が好ましく、更に好ましくは２００℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。【００７９】
ハードコート層の硬化方法としては、ハードコート層の高い硬度を付与するという観点、生産性の観点から、活性線を照射する方法が好ましく、特に紫外線を照射する方法が好ましい。従って、本発明のハードコート層は、紫外線硬化型のハードコート層が好ましい。【００８０】
前述したように、本発明において、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）は、ハードコート層であることが好ましい。ハードコート層の厚みは、０．５μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、１μｍ以上１５μｍ以下がより好ましく、特に２μｍ以上１２μｍ以下が好ましい。ハードコート層の全厚みが０．５μｍ未満の場合には本発明の導電メッシュ上に均一塗布ができない傾向がある。また、ハードコート層は、特に、皮膜が硬化するときに重合収縮によりカールが発生しやすくなるので、ハードコート層の厚みは、カールの発生を抑制するという観点から、小さい方が好ましく、１２μｍ以下であることが特に好ましい。【００８１】
（反射防止層）
本発明における反射防止層は、単層もしくは複数の反射防止膜で構成することができる。具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば１／４波長の光学膜厚で単層構成としたもの、あるいは、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものなどがある。性能とコストのバランスのとれた構成としては、最表層から低屈折率層と高屈折率層を積層した構成が好ましい。本発明では、反射防止層としては、低屈折率層のみが積層されていても、低屈折率層と高屈折率層の両方が積層されていてもよい。この反射防止層は通常ハードコート層の上に積層される。また、本発明では、反射防止層は積層されていなくてもよい。【００８２】
反射防止層の形成方法は特に限定されないが、コストと性能のバランスを考慮すると、ウエットコーティングにより塗料を塗布する方法が好ましい。塗料の塗布方法としては、マイクログラビアコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング、カーテンフローコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、流し塗り法などを好ましく用いることができるが、塗布厚みの均一性の点からマイクログラビアコーティングが好適に用いられる。次いで塗布後に加熱、乾燥した後、熱または紫外線等の活性線で硬化させることにより各々の被膜を形成することができる。【００８３】
本発明の反射防止層は、例えば樹脂層としてハードコート層と反射防止層からなる積層体を用いた場合には、ディスプレイ用フィルターの最表面に設置される。そのため、反射防止層の表面に付着した粉塵などを布で拭き取ったりした際に傷がつくと困るため、上記したスチールウールによる耐擦傷性が３級以上であることが好ましい。さらに好ましくは４級以上である。【００８４】
本発明における反射防止層は、反射防止性能を有していれば特に限定されるものではないが、以下に本発明に好ましく用いられる反射防止層について説明する。低屈折率層の屈折率は、１．２３〜１．４２が好ましく、更に好ましくは１．３４〜１．３８である。高屈折率層の屈折率は１．５５〜１．８０であることが好ましく、更に好ましくは１．６０〜１．７５である。また、反射防止層として高屈折率層と低屈折率層の積層構成を用いる場合は、低屈折率層と高屈折率層の屈折率差が０．１５以上であることが好ましい。また、ハードコート層の屈折率も調整することが好ましい。ハードコート層の屈折率は、１．４５〜１．５５が好ましい。【００８５】
本発明における反射防止層において、高屈折率層の構成成分としては、反射防止層表面に帯電防止性を付与するために、樹脂組成物に金属化合物粒子を分散させたものであることが好ましい。樹脂成分には、（メタ）アクリレート化合物が用いられる。（メタ）アクリレート化合物は、活性光線照射によりラジカル重合し、形成される膜の耐溶剤性や硬度を向上させるため好ましく、さらに、（メタ）アクリロイル基が分子内に２個以上の多官能（メタ）アクリレート化合物は、耐溶剤性等が向上するので本発明においては特に好ましい。例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートや、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。【００８６】
樹脂成分は、金属化合物粒子の分散性を向上させるため、カルボキシル基や、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物が使用できる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する（メタ）アクリレート化合物が使用できる。【００８７】
ここで用いられる金属化合物粒子としては、導電性の各種金属酸化物粒子が好ましく用いられる。特に好ましくは錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等である。さらに好ましくは錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）が用いられる。【００８８】
導電性を有する導電性金属化合物粒子について、平均粒子径が０．００５〜０．０５μｍの粒子が好適に使用される。該平均粒子径が０．０５μｍを超えると、生成される被膜（高屈折率層）の透明性を低下させることがある。また、該平均粒子径が０．００５μｍ未満では、該金属化合物粒子が凝集し易く生成被膜（高屈折率層）のヘイズ値が増大する。いずれの場合も、所望のヘイズ値を得ることが困難になる。また樹脂層としてハードコート層と反射防止層の積層構成とした場合（ハードコート層を導電層側とする）で、かつハードコート層のＲａを制御することによって、樹脂層のＲａも制御しようとした場合に、反射防止層の高屈折率層に平均粒子径が０．０５μｍを超える粒子径の大きな粒子を添加すると、ハードコート層のＲａに樹脂層最表面のＲａが追従せず、反射防止層の粒子が樹脂層最表面のＲａに影響を与える場合がある。上記の平均粒子径が０．００５〜０．０５μｍの粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径のことである。【００８９】
高屈折率層の構成成分の配合割合は、樹脂成分と金属化合物粒子との質量割合〔(Ａ) ／(Ｂ) 〕が１０／９０〜３０／７０であることが好ましく、さらに好ましくは１５／８５〜２５／７５である。金属化合物粒子がかかる好ましい範囲であると、得られる膜は透明性十分で、導電性も良好であり、一方、得られる膜の各種物理的、化学的強度が悪くなることもない。【００９０】
高屈折率層は、好ましくは溶媒で分散させた塗布液を調整し、その塗布液をハードコート層上に塗布した後、乾燥・硬化させることによって形成することができる。また、有機溶媒の量は、塗布手段や、印刷手段に応じ作業性のよい状態の粘度に組成物がなるように任意の量を配合すればよいが、通常組成物の固形分濃度が６０質量％以下、好ましくは、５０質量％以下になる程度が適当である。本発明における好ましい反射防止層の１つの態様において、低屈折率層は、内部に空洞を有するシリカ微粒子、シロキサン化合物、硬化剤、および溶媒を含有する塗料組成物をコーティングして得られたものとすることが、屈折率をより低くし、表面反射率を低くすることができるので好ましい。【００９１】
低屈折率層の１つの好ましい態様は、表面硬度を向上させ、耐擦傷性を優れたものとするためにマトリックス材料であるシロキサン化合物とシリカ微粒子が強固に結合していることが好ましく、そのためにはコーティング前の塗料組成物の段階で予めシロキサン化合物をシリカ微粒子表面と反応させて結合させることが好ましい。そのための塗料組成物は、シリカ微粒子の存在下、シラン化合物を溶媒中、酸触媒により、加水分解することによって、シラノール化合物を形成した後、該シラノール化合物を縮合反応させることによって得ることができる。シラノール化合物を形成するためのシラン化合物としては、下記に示すようなフッ素含有シラン化合物やシラン化合物（フッ素を含まない）が挙げられる。フッ素含有シラン化合物としては、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランなどが例示される。
また、シラン化合物（フッ素含まない）としては、ビニルトリアルコキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジアルコキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどが例示される。これらシラン化合物は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いても良い。【００９２】
シロキサン化合物の含有量は、低屈折率層としての被膜を形成した際、低屈折率層の構成成分総量１００質量％に対して、好ましくは、２０質量％〜７０質量％、特に好ましくは３０質量％〜６０質量％である。この範囲でシロキサン化合物を含有することが、低屈折率層の屈折率を低く、かつ低屈折率層の被膜の硬度を高めることができるため好ましい。したがって、塗料中におけるシロキサン化合物の含有量は、溶媒を除く全成分に対して前記の範囲であることが好ましい。【００９３】
これらの中でも、低屈折率化のためにはフッ素含有シラン化合物を必須成分として用い、シラン化合物から選ばれた１種以上のシラン化合物を組み合わせて用いることが好ましい。フッ素含有シラン化合物の量は、全シラン化合物量１００質量％に対して、好ましくは、２０質量％〜８０質量％、特に好ましくは、３０質量％〜６０質量％である。フッ素含有シラン化合物の量が２０質量％を下回ると、低屈折率化が不十分になることがある。一方、フッ素含有シラン化合物の量が８０質量％を越えると、被膜の硬度が低下する場合がある。【００９４】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子は、数平均粒子径が１ｎｍ〜５０ｎｍである粒子が好適に使用される。数平均粒子径が１ｎｍを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、被膜の硬度が低下することがある。一方、数平均粒子径が５０ｎｍを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。ここで、シリカ微粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径のことである。【００９５】
また樹脂層として、ハードコート層と反射防止層の積層構成とした場合（ハードコート層を導電層側とする）で、かつハードコート層のＲａを制御することによって、樹脂層のＲａも制御しようとした場合に、反射防止層の低屈折率層に数平均粒子径が５０ｎｍを越える粒子径の大きな粒子を添加すると、ハードコート層のＲａに樹脂層最表面のＲａが追従せず、反射防止層の粒子が樹脂層最表面のＲａに影響を与える場合がある。【００９６】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子の数平均粒子径は、形成される被膜の膜厚よりも小さいことが好ましい。被膜の膜厚を上回ると、被膜表面にシリカ微粒子が露出し、反射防止性を損なうばかりでなく、被膜の表面硬度および耐汚染性が低下する。【００９７】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子としては、マトリックスのシロキサン化合物と反応しやすくするため、表面にシラノール基を有するシリカ微粒子が好ましい。また、被膜の低屈折率化のために内部に空洞を有するシリカ微粒子が好ましい。内部に空洞を有しないシリカ微粒子は、一般に粒子自体の屈折率は、１．４５〜１．５０であるため、屈折率低下効果が少ない。一方、内部に空洞を有するシリカ微粒子は、粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるため、導入による屈折率低下効果が大きい。内部に空洞を有するシリカ微粒子としては、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ微粒子等が挙げられる。【００９８】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子の含有量は、低屈折率層としての被膜を形成した際、低屈折率層の構成成分総量１００質量％に対して、好ましくは、３０質量％〜８０質量％、特に好ましくは４０質量％〜７０質量％である。したがって、塗料組成物中におけるシリカ微粒子の含有量は、溶媒を除く全成分に対して前記の範囲であることが好ましい。この範囲でシリカ微粒子を被膜中に含有させると、屈折率を低くすることができるだけでなく、被膜の硬度を高めることができる。シリカ微粒子の含有量が３０質量％を下回ると、粒子間の空隙による屈折率低下効果が少なくなる。また、シリカ微粒子の含有量が８０質量％を越えると、コーティング膜中にアイランド現象が多数発生し、被膜の硬度が低下し、また、場所によって、屈折率が不均一になるので好ましくない。【００９９】
また、前述のように低屈折率層を形成するための塗料組成物は、シリカ微粒子の存在下、シラン化合物を溶媒中、酸触媒により、加水分解することによって、シラノール化合物を形成した後、該シラノール化合物を縮合反応させることによって得ることができるが、この加水分解反応においては、溶媒中、酸触媒および水を１〜１８０分かけて添加した後、室温〜８０℃で１〜１８０分反応させることが好ましい。このような条件で加水分解反応を行うことにより、急激な反応を抑制することができる。反応温度は、より好ましくは４０〜７０℃である。また、加水分解反応によりシラノール化合物を得た後、そのまま、反応液を、５０℃以上、溶媒の沸点以下で１〜１００時間加熱し、縮合反応を行なうのが好ましい。また、シロキサン化合物の重合度を上げるために、再加熱もしくは塩基触媒の添加を行なうことも可能である。【０１００】
また、塗工された塗料組成物を硬化させ低屈折率層を形成する目的で硬化剤を含有させることができる。かかる硬化剤としては、塗料組成物の硬化を促進せしめたり、あるいは硬化を容易ならしめる各種の硬化剤、または三次元架橋剤が挙げられる。硬化剤の具体例としては、窒素含有有機物、シリコン樹脂硬化剤、各種金属アルコレート、各種金属キレート化合物、イソシアネート化合物およびその重合体、メラミン樹脂、多官能アクリル樹脂、尿素樹脂などがあり、これらを一種類、ないし２種類以上添加しても良い。なかでも、硬化剤の安定性、得られた被膜の加工性などから金属キレート化合物が好ましく用いられる。用いられる金属キレート化合物としてはチタニウムキレート化合物、ジルコニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物および、マグネシウムキレート化合物が挙げられる。これらの中から、低屈折率化の目的には、屈折率の低いアルミニウムキレート化合物および／またはマグネシウムキレート化合物が好ましい。これらの金属キレート化合物は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）が挙げられる。添加される硬化剤の量は、塗料組成物中の全シラン化合物量１００質量％に対して、好ましくは０．１質量％〜１０質量％であり、特に好ましくは、１質量％〜６質量％である。ここで、全シラン化合物量とは、シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物の全てを含んだ量のことを言う。硬化剤の含有量が、０．１質量％を下回ると、得られる被膜の硬度が低下する。一方、硬化剤の含有量が１０質量％を越えると、硬化が十分となり、得られる被膜の硬度は向上するが、屈折率も高くなり、好ましくない。  【０１０１】
塗料組成物における全溶媒の含有量は、全シラン化合物含有量１００質量％に対して、１３００質量％〜９９００質量％の範囲が好ましく、特に好ましくは、１５００質量％〜６０００質量％の範囲である。全溶媒の含有量が１３００質量％を下回るか、もしくは、９９００質量％を越えると、所定の膜厚の被膜を形成することが困難となる。ここで、全シラン化合物量とは、シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物の全てを含んだ量のことを言う。【０１０２】
本発明における好ましい低屈折率層の他の態様として、含フッ素化合物、上記した内部に空洞を有するシリカ系微粒子、および活性線硬化型の樹脂を含む低屈折率層が挙げられる。上記の含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。含フッ素モノマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類が挙げられる。【０１０３】
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。【０１０４】
上記の活性線硬化型の樹脂とは、活性線の照射によって重合し硬化する樹脂であり、かかる樹脂としては、アクリル系樹脂が好ましく用いられる。ここで、活性線とは、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などを指し、実用的には、電子線や紫外線が好ましく、特に紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また、電子線照射方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗料組成物中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。【０１０５】
上記の活性線硬化型のアクリル系樹脂としては、（メタ）アクリロイル基を分子内に２個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。更に（メタ）アクリロイル基を分子内に３個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく、特にアクリロイル基を分子内に３〜１０個有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。【０１０６】
かかる多官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジイルジメチレンジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの両末端（メタ）アクリル酸付加物、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、本発明において「・・・（メタ）アクリ・・・」とは、「・・・アクリ・・・または・・・メタアクリ・・・」を略して表示したものである。【０１０７】
上記の多官能（メタ）アクリレート化合物の中でも、（メタ）アクリロイル基を分子内に３個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく、特にアクリロイル基を分子内に３〜１０個有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。
上記の多官能（メタ）アクリレート化合物の重合、硬化を促進するために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを挙げることができる。【０１０８】
なお本発明では、反射防止層に適当な粒子径の粒子を含有させることで、樹脂層に反射防止層を含む場合の、樹脂層最表面のＲａを制御することも可能である。しかし上述したように、反射防止層に含有される粒子は、低屈折率層では、表面硬度、耐擦傷性の向上のため、高屈折率層では、帯電防止性の向上のために添加されているので、反射防止層に用いられる各種粒子はその粒子径が非常に小さいものが好ましく用いられる。このように反射防止層に非常に小さな粒子径の粒子が用いられた場合は、樹脂層としてハードコート層と反射防止層の積層構成として（ハードコート層を導電層側とする）、かつハードコート層のＲａを制御することによって樹脂層最表面のＲａも制御しようとした場合において、反射防止層に用いられる粒子は樹脂層の中心線平均粗さＲaには影響を及ぼさない。【０１０９】
（他の機能層）
本発明のディスプレイ用フィルターは、近赤外線遮断機能、色調補正機能、紫外線遮断機能、およびＮｅカット機能からなる群より選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能層を有することが好ましい。これらの機能層は、１つの層に複数の機能を有する機能層としてもよい。また機能層は、複数の層を積層してもよい。【０１１０】
以下に本発明のディスプレイ用フィルターを構成する機能層について述べる。
（色調補正層）
機能層の一種である、色調補正機能を有する色調補正層は、色調補正能を有する色素を含有する層であり、透過可視光の色調補正を行い、ディスプレイパネルの画像特性の向上、より具体的には高コントラスト化および高鮮明色化を図るものである。また、色調補正層によりディスプレイ用フィルター全体の透過率調整が可能であり、映り込み性能の調整をする役割も担っている。色調補正は、ディスプレイ用フィルターを透過する可視光のうち、特定波長の可視光を選択的に吸収することによって達成される。したがって、色調補正層に含有される色素は、特定波長の可視光を選択的に吸収するものであり、色素は染料と顔料のいずれも使用できる。「特定波長の可視光を選択的に吸収する」とは、可視光の波長領域（波長３８０〜７８０ｎｍ）の光のうち、特定波長領域の光を特異的に吸収することを指す。ここで色素によって特異的に吸収される波長領域は、単一の波長領域であってもよく、または複数の波長領域であってもよい。【０１１１】
このような特定波長を吸収する色素としては、具体的には例えば、アゾ系、縮合アゾ系、フタロシアニン系、アンスラキノン系、インジゴ系、ペリノン系、ペリレン系、ジオキサジン系、キナクリドン系、メチン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ピロール系、チオインジゴ系、金属錯体系などの周知の有機顔料および有機染料、無機顔料が挙げられる。これらの中でも、耐候性が良好であることから、フタロシアニン系、アンスラキノン系色素が特に好ましい。なお、上記した色素のうちいずれか１種類を色調補正層に含有させてもよいし、２種類以上を含有させてもよい。色調補正層は、適当なバインダー樹脂（例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等）中に上記の色素を含有させた塗工層として形成してもよいし、または、粘着剤層中に上記色素を含有させて色調補正層とすることができる。上記の塗工層及び粘着剤層の厚みは、０．５〜４０μｍの範囲が好ましく、１〜２５μｍの範囲がより好ましい。【０１１２】
（近赤外線遮断層）
続いて機能層の一種である、近赤外線遮断機能を有する近赤外線遮断層について説明する。プラズマディスプレイパネルの場合、パネルから発生する強度の近赤外線は、リモコン、コードレスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起こすため、近赤外領域の光を実用上問題ないレベルまでカットする必要がある。問題である波長領域は８００〜１０００ｎｍであり、当該波長領域における透過率を２０％以下、好ましくは１０％以下とすることが必要である。近赤外線遮断層は、近赤外線遮断のために、通常、最大吸収波長が７５０〜１１００ｎｍである近赤外線吸収能を有する色素、具体的にはポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物などが好ましく適用され、金属錯体系、アミニウム系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系が特に好ましい。なお、近赤外線吸収能を有する色素を用いる場合、いずれか１種類を含有させてもよいし、２種以上を含有させてもよい。【０１１３】
近赤外線吸収層の構造、形成方法、厚さ等については上述した色調補正層と同様である。近赤外線吸収層は、色調補正層と同一の層、すなわち、色調補正層に色調補正能を有する色素と、近赤外線吸収能を有する色素とを含有させたものであってもよいし、色調補正層と別の近赤外線遮断層を設けても良い。近赤外線吸収色素の量はバインダー樹脂に対して、０．１質量％以上含まれることが好ましく、特に２質量％以上が好ましいが、赤外線吸収剤を含有する粘着剤層または透明基材の物性を保つため、色調補正能を有する色素と近赤外線吸収剤の合計量を１０質量％以下に抑えることが好ましい。【０１１４】
（Ｎｅカット層）
続いてプラズマディスプレイに特有の機能層の一種である、Ｎeカット機能を有する機能層について説明する。近赤外線遮断層あるいは色調補正層には、プラズマディスプレイパネル内に封入された放電ガス、例えばネオンとキセノンの二成分ガス、からの余分な発光色（主に５６０〜６１０ｎｍに波長領域）を選択的に吸収・減衰させるための１種類若しくは複数種類の色調補正剤を混合して含有させることが好ましい。このような色素構成とすることによって、プラズマディスプレイパネルの表示画面から発せられる可視光のうち、放電ガスの発光に起因する余分な光が吸収・減衰され、その結果プラズマディスプレイパネルから発する可視光の表示色を表示目標の表示色に近づけることができ、自然な色調を表示し得る。【０１１５】
（紫外線遮断層）
続いて機能層の一種である、紫外線遮断機能を有する紫外線遮断層について説明する。本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、紫外線遮断層はこの層よりもパネル側に位置する色調補正層、赤外線遮断層などに含まれる色素の光劣化を防止する役割を持つ。紫外線遮断層には紫外線吸収剤を含有する透明基材、粘着剤層などが用いられる。紫外線吸収剤としては、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、およびベンゾオキサジノン系化合物、環状イミノエステル系化合物などを好ましく例示することができるが３８０ｎｍ〜３９０ｎｍにおける紫外線遮断性、色調などの点からベンゾオキサジノン系化合物が最も好ましい。これらの化合物は１種で用いても良いし、２種以上併用しても良い。またＨＡＬＳ（ヒンダードアミン系光安定剤）や酸化防止剤などの安定剤の併用はより好ましい。【０１１６】
好ましい材料であるベンゾオキサジノン系化合物の例としては、２−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（ｐ−ベイゾイルフェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−２´−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などを例示することができる。これらの化合物の添加量は基材フィルム中に０．５〜５質量％含有させるのが好ましい。また更に優れた耐光性を付与するためにシアノアクリレート系４量体化合物を併用することが好ましい。シアノアクリレート系４量体化合物は、基材フィルム中に０．０５〜２質量％含有させることが好ましい。シアノアクリレート系４量体化合物とは、シアノアクリレートの４量体を基本とする化合物であり、例えば１，３−ビス（２´シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイルオキシ）−２、２−ビス−（２´シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイルオキシメチルプロパン）がある。これと併用する場合には前述の紫外線吸収剤は基材フィルム中に０．３〜３質量％であるのが好適である。【０１１７】
紫外線遮断層では波長３８０ｎｍにおける透過率が５％以下であるのが好ましく、これにより紫外線から基材や染料色素などを保護することができる。紫外線遮断層における紫外線吸収剤の含有量は０．１〜５質量％であることが好ましく、０．２〜３質量％であることがさらに好ましい。紫外線吸収剤の含有量が０．１〜５質量％であると、ディスプレイ用フィルターの観察者側から入射する紫外線を吸収し、色調補正層に含まれる色素の光劣化を防止する効果に優れており、かつ、透明基材あるいは粘着層の強度を阻害しない。【０１１８】
紫外線遮断層、特に透明基材に紫外線吸収剤を添加する方法は特に限定されないが、熱可塑性樹脂の重合工程、フィルム製膜前の溶融工程での熱可塑性樹脂への練込み、二軸延伸フィルムへの含浸などを例示することができる。特に、熱可塑性樹脂の重合度低下を防止する意味でもフィルム製膜前の溶融工程で熱可塑性樹脂中に練込むことが好ましい。その際の紫外線吸収剤の練込みは、該剤の粉体の直接添加法、該剤を高濃度に含有するマスターポリマーを製膜用ポリマーに添加するマスターバッチ法などにより行うことができる。紫外線カット層は、厚さが５〜２５０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは５０〜２００μｍ、更に好ましくは８０〜２００μｍである。紫外線吸収層の厚さが５〜２５０μｍの範囲であると、ディスプレイ用フィルターの観察者側から入射する紫外線を吸収する効果に優れており、かつ光透過性、具体的には可視光線透過性に優れている。【０１１９】
（接着層）
本発明において、上記した様々な機能層を貼合するために、あるいはディスプレイ用フィルターをディスプレイに貼合するために、接着性を有する接着層を用いてもよい。このとき用いられる粘着剤としては、２つの物体をその粘着作用により接着させる接着剤であれば特に限定されず、ゴム系、アクリル系、シリコン系あるいはポリビニルエーテル系などからなる接着剤を用いることができる。更に、粘着剤は、溶剤型粘着剤と無溶剤型粘着剤の２つに大別される。乾燥性、生産性、加工性において優れた溶剤型粘着剤は依然として主流であるが、近年、公害、省エネルギー、省資源、安全性などの点で無溶剤型粘着剤に移り変わりつつある。中でも、活性線を照射することで秒単位で硬化し、可撓性、接着性、耐薬品性などに優れた特性を有する粘着剤である活性線硬化型粘着剤を使用することが好ましい。活性線硬化型アクリル系粘着剤の具体例は、日本接着学会編集、「接着剤データブック」、日刊工業新聞社１９９０年発行、第８３頁から第８８頁を参考とすることができるが、これらに限定されるものではない。市販品として多官能アクリル系紫外線硬化塗料として、日立化成ポリマー株式会社；（商品名  ＸＹ （登録商標）シリーズなど）、東邦化成工業株式会社；（商品名  ハイロック （登録商標）シリーズなど）、株式会社スリーボンド；（商品名  スリーボンド （登録商標）シリーズなど）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名  アロンタイト （登録商標）シリーズなど）、セメダイン株式会社；（商品名  セメロックスーパー （登録商標）シリーズなど）などの製品を利用することができるがこれらに限定されるものではない。【０１２０】
（透明基材）
本発明における透明基材は、通常、反射防止層、ハードコート層、赤外線カット層、導電層などを積層するための基材として用いられる。また、紫外線吸収成分を添加することで紫外線カット層としての役割を担うこともできる。本発明における透明基材は、溶融製膜や溶液製膜可能なフィルムである。その具体例としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、セルロースエステル、ポリカーボネート、アクリレートなどからなるフィルムを挙げることができる。これらのフィルムは本発明における各機能層の基材として好適に用いられるが、ディスプレイ用フィルター向けの材料として好ましいものとしては、透明性、機械的強度および寸法安定性などに優れた樹脂が求められ、具体的にはポリエステル、セルロースエステル、アクリル（ポリアクリレート）などが挙げられ、中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、トリアセチルセルロースが好適な材料として例示することができる。また、ポリアクリレートの中でも分子内に環状構造を有する樹脂は光学等方性に優れる好適な材料である。分子内に環状構造を有する樹脂としてはグルタル酸無水物単位を１０〜５０質量％含有するアクリル樹脂などを例示することができる。しかし、諸特性のすべてにおいてバランスされた性能を有し、本発明におけるすべての機能層用の基材に適用できるものとしてはポリエステルが特に好ましい。【０１２１】
このようなポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリプロピレンナフタレートなどが挙げられるが、ポリエチレンテレフタレートが性能・コスト面で最も好ましい。また、２種以上のポリエステルが混合されたものであってもよい。また、これらと他のジカルボン酸成分やジオール成分が共重合されたポリエステルであってもよいが、この場合は、結晶配向が完了したフィルムにおいて、その結晶化度が好ましくは２５％以上、より好ましくは３０％以上、更に好ましくは３５％以上のフィルムが好ましい。結晶化度が２５％未満の場合には、寸法安定性や機械的強度が不十分となりやすい。結晶化度は、ラマンスペクトル分析法により測定することができる。本発明で用いられる透明基材は、２層以上の積層構造の複合体フィルムであっても良い。本発明で用いられる透明基材の厚みは、機械的強度やハンドリング性などの点から、好ましくは１０〜５００μｍ、より好ましくは２０〜３００μｍである。本発明の透明基材中には、本発明の効果、特に光学特性を阻害しない範囲内で各種の添加剤や樹脂組成物、架橋剤などを含有しても良い。例えば酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、有機、無機の粒子、顔料、染料、帯電防止剤、核剤、などを挙げることができる。本発明に用いる透明基材は全光線透過率が９０％以上、ヘイズが１．５％以下であるのが好ましく、このようなものを適用することで画像の視認性や鮮明度を向上させることができる。本発明に用いられる透明基材は、導電層や前述した機能層との密着性（接着強度）を強化するためのプライマー層（易接着層、下引き層）を設けておくのが好ましい。【０１２２】
（透明基板）
本発明における透明基板はディスプレイパネル本体に機械的強度を付与するものであり、無機化合物成形物や透明な有機高分子成形物が用いられる。無機化合物成形物としては、好ましくはガラス、強化もしくは半強化ガラスなどが挙げられ、厚さは、好ましくは１〜４ｍｍである。高分子成形物は可視波長領域において透明であればよく、その種類を具体的にあげれば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド、トリアセチルセルロース等が挙げられる。これら透明な高分子成形物は、主面が平滑であれば板（シート）状であってもフィルム状であってもよい。シート状の高分子成形物を基材として用いた場合には、基材が寸法安定性と機械的強度に優れているため、寸法安定性と機械的強度に優れる透明積層体が得られ、特にそれが要求される場合には好適に使用できる。【０１２３】
（フィルターの構成について）
本発明のディスプレイ用フィルターは、上述した複数の層が積層された積層体である。その構成例を具体的に列挙する。
（１）ハードコート層＋導電メッシュ＋透明基材＋紫外線遮断層＋色調補正層＋近赤外線遮断層＋接着層＋透明基板（ハードコート層が視認側、透明基板がディスプレイパネル側）、
（２）反射防止層＋ハードコート層＋導電メッシュ＋透明基材＋紫外線遮断層＋色調補正層＋近赤外線遮断層＋接着層＋透明基板（反射防止層が視認側、透明基板がディスプレイパネル側）、
（３）ハードコート層＋導電メッシュ＋透明基材＋紫外線遮断層＋近赤外線遮断層＋色調補正層＋透明基板（ハードコート層が視認側、透明基板がディスプレイパネル側）、
（４）反射防止層＋ハードコート層＋導電メッシュ＋透明基材＋紫外線遮断層＋近赤外線遮断層＋色調補正層＋透明基板（反射防止層が視認側、透明基板がディスプレイパネル側）、
（５）ハードコート層＋導電メッシュ＋透明基材＋紫外線遮断層＋色調補正層＋近赤外線遮断層＋接着層（ハードコート層が視認側、接着層がディスプレイパネル側）、
（６）反射防止層＋ハードコート層＋導電メッシュ＋透明基材＋紫外線遮断層＋色調補正層＋近赤外線遮断層＋接着層（反射防止層が視認側、接着層がディスプレイパネル側）、
（７）ハードコート層＋導電メッシュ＋透明基材＋紫外線遮断層＋近赤外線遮断層＋色調補正層＋接着層（ハードコート層が視認側、接着層がディスプレイパネル側）、
（８）反射防止層＋ハードコート層＋導電メッシュ＋透明基材＋紫外線遮断層＋近赤外線遮断層＋色調補正層＋接着層（反射防止層が視認側、接着層がディスプレイパネル側）、などが挙げられるが本発明のディスプレイ用フィルターはこれに限定されない。
【実施例】
【０１２４】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。
（評価方法）
（１）中心線平均粗さＲa
ディスプレイ用フィルターサンプルの樹脂層側の中心線平均粗さＲaを、表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定する。
各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのフィルター１枚から任意の５箇所について計測し、その平均値をディスプレイ用フィルターサンプルの樹脂層のＲaの値とする。
・測定条件：
送り速さ；０．５ｍｍ／Ｓ
カットオフ値λｃ；Ｒaが２０ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．０８ｍｍ
Ｒaが２０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．２５ｍｍ
Ｒaが１００ｎｍより大きく２０００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．８ｍｍ
評価長さ；８ｍｍ
・Ｒａ：表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）でＲaと定義されたパラメータ。ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２の方法に基づいて測定する。【０１２５】
（２）導電メッシュの厚み（Ｈｍ）
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧１５ｋＶ、観察倍率２５００倍）にて観察し、導電メッシュの厚みを計測する。
各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の１０箇所を選び、顕微鏡視野内に導電メッシュ部が入るように設置してメッシュ厚みを計測し、その平均値を導電メッシュの厚みとする。【０１２６】
（３）樹脂層の全厚み（Ｈｒ）及び０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）の厚み
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧１５ｋＶ、観察倍率２０００倍）にて観察し、樹脂層の厚みを計測する。
各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の１０箇所を選び、図２に示すように、任意の表面凹み構造２箇所の最下点と樹脂層下部の距離の平均値（（Ｈｒ１＋Ｈｒ２）／２）を算出し、１０箇所における平均値を樹脂層の厚み（Ｈｒ）とする。また、樹脂層中の粒子濃度が低く顕微鏡視野内に凸構造が１つしか見られない場合には、図３に示すように凸部を視野の中央部に配置し、視野端部の樹脂厚み（Ｈｒ１、Ｈｒ２）を用いて、同様の方法にて樹脂層厚みを算出する。樹脂層下部とその下の層の境界が確認しにくい場合には、確認しやすい場所を選んで観測する。
０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）についても同様にして測定する。【０１２７】
（４）  導電メッシュの線幅及びピッチ
（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状導電メッシュのピッチを測長した。各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の２５箇所について計測し、その平均値を導電メッシュの線幅、ピッチとした。なお、導電メッシュのピッチとは、メッシュ構造のある開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離とする。【０１２８】
（５）粘度の測定
ブルックフィールド製デジタルレオメータ（ＤＶ―Ｅ）を用いて、スピンドルをＬＶ１、回転数を１００ｒｐｍに設定して、２３℃における粘度の測定を行った。各サンプルについて、１０回測定を行い、その平均値をハードコート層塗料の粘度とした。【０１２９】
（６）屈折率の測定
シリコンウエハー上に乾燥膜厚が０．１μｍとなるように、測定対象となる層の原料塗剤を、スピンコーターを用いて塗布する。ついでイナートオーブンＩＮＨ−２１ＣＤ（光洋サーモシステム（株）社製）を用いて、１３０℃で１分間、加熱硬化することにより（低屈折率層の硬化条件）、被膜を得る。形成した被膜について、位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍにおける屈折率を測定する。【０１３０】
（７）樹脂層の積層の厚み測定
樹脂層内における反射防止層などの比較的薄い膜厚の層の厚みは以下のようにして測定する。ディスプレイ用フィルターサンプルの断面を透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて観察する。ガラス基板を用いたフィルターの場合はガラスから剥がして評価する。試料調整は超薄切片法を用いる。１０万倍の倍率で観察し、各々の層の厚みを測定する。【０１３１】
（８）視感透過率
ディスプレイ用フィルターサンプルについて、分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、観察者側（樹脂層側）からの入射光に対する透過率を波長３００〜１３００ｎｍの範囲で測定し、可視光波長領域（３８０〜７８０ｎｍ）の視感透過率を求める。【０１３２】
（９）映り込みの評価
ディスプレイ用フィルターサンプル（２０ｃｍ×２０ｃｍ）を視認面側（樹脂層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に貼り付ける。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプルの直上２００ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を設置する。フィルターの視認面を正面３０ｃｍの距離から肉眼観察し、フィルター視認面に映り込んだ蛍光灯像の輪郭の鮮明性を評価する。
・映り込み像の輪郭が見えない      ：  ◎（極めて良）
・映り込み像の輪郭が不鮮明        ：  ○（良）
・映り込み像の輪郭が僅かに不鮮明  ：  △（可）
・映り込み像の輪郭が鮮明に見える  ：  ×（不可）
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。【０１３３】
（１０）  透過画像の評価
ディスプレイ用フィルターサンプル（２０ｃｍ×２０ｃｍ）をプラズマテレビ（TH-42PX500、松下電器産業（株）社製。但し、純正のフィルターを取り外したものを使用。）に、裏面（樹脂層側とは反対の面）がプラズマディスプレイパネルに面するようにして、直接貼り付け、プラズマディスプレイパネルに白地に黒色の格子状のパターン画像を表示する。フィルター越しにパターン画像を目視評価して、透過画像の鮮明性を判定する。観察はフィルターの視認面の正面９０ｃｍの距離から行う。
・透過像が明瞭に見える  ：  ○（良）
・透過像が僅かに不鮮明  ：  △（可）
・透過像がぼける        ：  ×（不可）
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。【０１３４】
（１１）欠点防止性の評価
ディスプレイ用フィルターサンプル（２０ｃｍ×２０ｃｍ）を視認面側（樹脂層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に貼り付ける。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプルの直上２００ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を設置する。フィルターの視認面を正面３０ｃｍの距離から肉眼観察し、フィルター視認面表面の点状欠点を評価する。評価は２０枚のサンプルについて実施する。
・点状欠点数；０個／２０枚                ：  ○（良）
・点状欠点数；１〜２個／２０枚            ：  △（可）
・点状欠点数；３〜１０個／２０枚          ：  ×（不可）
・点状欠点数；１１〜５００個／２０枚      ：  ××（不可）
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。【０１３５】
（１２）表面品位の評価
ディスプレイ用フィルターサンプル（２０ｃｍ×２０ｃｍ）を視認面側（樹脂層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に貼り付ける。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプルの直上２００ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を設置する。フィルターの視認面を正面３０ｃｍの距離から肉眼観察し、フィルター視認面表面の品位（ざらつき感）を目視評価する。
・表面形状が均一でざらつき感が見られない    ：  ○（良）
・表面形状均一だが僅かにざらつき感がある    ：  △（可）
・疎らに凸部がありざらつき感がある          ：  ×（不可）
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。【０１３６】
（１３）平均粒子径（Ｄ）
ディスプレイ用フィルターサンプルを光学顕微鏡（検査・研究顕微鏡  ＤＭＬＢ  ＨＣ  ／ライカマイクロシステムズ社製）にて観察し、顕微鏡写真を撮る（撮像条件：透過モード、倍率；５００倍、コンデンサユニット；最下位置に設定）。フィルターの任意の１０ヶ所で写真を撮像し、得られた１０枚の写真の任意の１００μｍ四方の領域内において、すべての粒子をスケールで測定して個々の粒子の粒子径（ｄｍ）（単位：μｍ）を求め、ｄｍを四捨五入したデータ群を用いて、１μｍ毎の個数分布を得る（ｄｍを四捨五入した値（ｄ）が、１μｍ毎の個数分布における各チャンネルの代表値となる）。この個数分布データを用いて下記式により体積基準の体積平均径（本発明の平均粒子径（Ｄ））を算出する。
Ｄ  ＝  Σ（ｖｎ×ｄｎ）  ／  Σ  ｖｎ
（  ｖｎ  ＝（Ｎｎ×ｄｎ３）／Σ（Ｎｎ×ｄｎ３）  ）
Ｄ：本発明の平均粒子径（μｍ）
ｖｎ：１μｍ毎の個数分布における、各チャンネルの体積基準％
Ｎｎ：各チャンネルにおける個数
ｄｎ：各チャンネルの代表値。【０１３７】
［実施例１］
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ３６、厚み１００μｍ）の片面に、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いて、格子状メッシュパターンにグラビア印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施すことによって、導電メッシュを作製した。この導電メッシュは、線幅が２０μｍ、ピッチが３００μｍ、厚みが６μｍ、開口率が８７％であった。
＜ハードコート層の作製＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３５質量部、Ｎ−ビニルピロリドンを１２質量部、メチルメタクリレートを３質量部、メチルエチルケトンを５０質量部含む塗液を作製した（ＨＣ塗剤１）。上記で得られた導電層の導電メッシュ上に、ＨＣ塗剤１に、平均粒子径６μｍのアクリル系粒子（綜研化学製  ケミスノー（登録商標）ＭＸシリーズ）を３．５質量％添加してハードコート層用の塗料を作製した。尚、上記のアクリル系粒子の濃度は、ハードコート層の有機溶媒を除く全成分１００質量％に対する濃度であり、以下の実施例も同義である。この塗料をマイクログラビアコーターでウェット塗布量１６ｇ／ｍ２となるように塗工し、８０℃で１分乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。このハードコート層が、本発明にかかる０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）となる。
＜反射防止層の作製＞
得られたハードコート層の上に、下記の低屈折率層の塗料をマイクログラビアコーターで塗布した。次いで１３０℃で１分間、乾燥および硬化させ、ハードコート層上に屈折率１．３６、厚み１００ｎｍの低屈折率層を形成することで、反射防止層を作製した。
＜低屈折率層用塗料の作製＞
メチルトリメトキシシラン９５．２質量部、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン６５．４質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル３００質量部、イソプロパノール１００質量部に溶解した。この溶液に、数平均粒子径５０ｎｍの外殻の内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（イソプロパノール分散型、固形分濃度２０．５％、触媒化成工業社製）２９７．９質量部、水５４質量部およびギ酸１．８質量部を、撹拌しながら反応温度が３０℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温４０℃で２時間加熱し、その後、溶液をバス温８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、１．５時間加熱した後、室温まで冷却し、ポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液に、アルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）（商品名  アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）社製）４．８質量部をメタノール１２５質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール  １５００質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル２５０質量部を添加して、室温にて２時間撹拌し、低屈折率塗料を作製した。
＜Ｎｅカット機能を有する近赤外線遮断層の作製＞
近赤外線吸収色素として、日本化薬（株）製  ＫＡＹＡＳＯＲＢ（登録商標）  ＩＲＧ−０５０を１４．５質量部、日本触媒（株）製  イーエクスカラー（登録商標）  ＩＲ−１０Ａを８質量部、さらに５９３ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製ＴＡＰ−２を２．９質量部、メチルエチルケトン２０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製  ハルスハイブリッド（登録商標）  ＩＲ−Ｇ２０５（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料を作製した。ハードコート層を形成した側と反対側の光学用ポリエステルフィルム面に、ダイコーターを用いて上記塗料を塗工し、１２０℃で乾燥して、厚み１０μｍの近赤外線遮断層を作製した。
＜色補正層の作製＞
アクリル系透明粘着剤中に有機系色補正色素を含有させた。各水準における色素添加量は最終的なフィルターの視感透過率が４０％になるように調整した。この粘着剤を上記の近赤外線遮断層の上に積層した。【０１３８】
［実施例２〜７］
ハードコート層に添加する粒子の平均粒子径、粒子濃度、塗布時のウェット塗布量を表１のように変える以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。【０１３９】
［比較例１、２、４〜７］
ハードコート層に添加する粒子の粒子径、粒子濃度、塗布時のウェット塗布量を表２のように変える以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
（評価）
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、樹脂層（反射防止層の表面）の中心線平均粗さＲａ、樹脂層の厚み（Ｈｒ）、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）（即ちハードコート層）の厚み、映り込み、透過鮮明性、欠点防止性、表面品位について評価した。その結果を表１、２に示す。表１から、本発明の実施例は、映り込み防止性、透過画像鮮明性、欠点防止性、表面品位すべてにおいて優れていることが分かる。これに対して表２から次のことが分かる。比較例１は、大粒子径の粒子を多く含み、樹脂層の中心線平均粗さＲａが１０００ｎｍを越えており、その結果、透過画像鮮明性が低下した。比較例２は、大粒子径の粒子を少量含んでおり、フィルター表面のざらつき感が確認された。比較例４は、樹脂層厚みに対して粒子径が小さいため樹脂層の中心線平均粗さＲａが４００ｎｍより遙かに小さく、映り込み防止性、欠点防止性が不十分であった。比較例５は、粒子濃度が極めて高く、透過鮮明性が不良であった。比較例６及び７は、樹脂層の中心線平均粗さRaが４００ｎｍより小さく、欠点防止性が不十分であった。【０１４０】
［実施例８〜１３］
導電メッシュとして下記のものを使用し、ハードコート層に添加する粒子の粒子径、粒子濃度、塗布時のウェット塗布量を表１のように変える以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４６、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により銅層（厚み３μｍ）を形成した。その後、この銅層側の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電メッシュを作製した。さらに、導電メッシュに黒化処理（酸化処理）を施した。この導電メッシュは、線幅が１３μｍ、ピッチが３００μｍ、厚みが３μｍ、開口率が８９％であった。【０１４１】
［比較例３、８〜９］
ハードコート層に添加する粒子の粒子径、粒子濃度、塗布時のウェット塗布量を表２のように変える以外は、実施例７と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
（評価）
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、樹脂層（反射防止層の表面）の中心線平均粗さＲａ、樹脂層の厚み（Ｈｒ）０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）（即ちハードコート層）の厚み、映り込み、透過鮮明性、欠点防止性、表面品位について評価した。その結果を表１、２に示す。表１から、本発明の実施例７〜１０は、映り込み防止性、透過画像鮮明性、欠点防止性、表面品位すべてにおいて優れていることが分かる。これに対して表２から次のことが分かる。比較例３は、粒子径が小さいため、樹脂層の中心線平均粗さＲａが４００ｎｍより遙かに小さく、その結果、映り込み防止性、欠点防止性が低下した。比較例８、及び、９は、樹脂層の中心線平均粗さRaが４００ｎｍより小さく、欠点防止性が不十分であった。【０１４２】
［実施例１４］
実施例２において、ハードコート層の上に反射防止層を積層しないこと以外は、実施例２と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。【０１４３】
［実施例１５］
実施例１０において、ハードコート層の上に反射防止層を積層しないこと以外は、実施例１０と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。【０１４４】
［比較例１０］
＜導電メッシュの作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４６、厚み１００μｍ）の片面に、接着剤を介して厚みが１０μｍの銅箔を貼り合わせた。その後、この銅箔の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電メッシュを作製した。さらに、導電メッシュに黒化処理（酸化処理）を施した。この導電メッシュは、線幅が１３μｍ、ピッチが３００μｍ、厚みが１０μｍ、開口率が８９％であった。
＜ハードコート層の積層＞
上記で作製した導電メッシュ上に、実施例１と同様なハードコート層を積層した。但し、ハードコート層用塗料に添加する粒子の粒子径、粒子濃度、塗布時のウェット塗布量を表２のように変更した。また、ハードコート層上に反射防止層は積層しなかった。その他は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
（評価）
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、樹脂層（ハードコート層の表面）の中心線平均粗さＲａ、樹脂層の厚み（Ｈｒ）、０．５μｍ以上の厚みの層（Ａ）（即ちハードコート層）の厚み、映り込み、透過鮮明性、欠点防止性、表面品位について評価した。その結果を表１、２に示す。表１から、本発明の実施例１４、１５は、映り込み防止性、透過画像鮮明性、欠点防止性、表面品位すべてにおいて優れていることが分かる。一方、比較例１０は、導電性メッシュの厚みが１０μｍと大きく、ハードコート層の塗工性が低下し、塗布ムラや塗布スジが発生した。【０１４５】
【表１】
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【０１４６】
【表２】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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