(57)【要約】  第１電極と発光層と第２電極と第１樹脂層とを備える発光素子であって、前記第１電極と前記発光層と前記第２電極とがこの順に積層されてなり、前記第１樹脂層は、  （ａ）前記第１電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、  （ｂ）前記第２電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、の少なくとも一方に形成されており、  示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上の樹脂と、平均粒子径が０．１μｍ〜５μｍの粒子（Ａ）とを含むことを特徴とする発光素子。
2013105626.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と発光層と第２電極と第１樹脂層とを備える発光素子であって、前記第１電極と前記発光層と前記第２電極とがこの順に積層されてなり、前記第１樹脂層は、
（ａ）前記第１電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
（ｂ）前記第２電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上の樹脂と、平均粒子径が０．１μｍ〜５μｍの粒子（Ａ）とを含むことを特徴とする発光素子。
【請求項２】
前記第１樹脂層が、さらに、平均粒子径が１ｎｍ以上１００ｎｍ未満の金属酸化物微粒子（Ｂ）を含むことを特徴とする請求項１に記載の発光素子。
【請求項３】
さらに、第２樹脂層を備える発光素子であって、前記第２樹脂層は、
（ｃ）前記第１電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
（ｄ）前記第２電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上の樹脂を含み、波長６３２．８ｎｍの光を用いて測定した屈折率が１．６０以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の発光素子。
【請求項４】
前記第２樹脂層は、
（ｃ）前記第１電極と前記第１樹脂層との間、および、
（ｄ）前記第２電極と前記第１樹脂層との間、
の少なくとも一方に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の発光素子。
【請求項５】
前記発光素子が有機エレクトロルミネッセンス素子である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の発光素子の第１樹脂層を形成するための発光素子形成用樹脂組成物。
【請求項７】
請求項３〜５のいずれか１項に記載の発光素子の第２樹脂層を形成するための発光素子形成用樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の樹脂層を有する発光素子および該樹脂層を形成するための発光素子形成用樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光素子は、透明基板の表面に、透明陽電極層、発光材料層および陰電極層がこの順に積層された基本構成を有する。例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子は、その陽電極層から正孔を、その陰電極層から電子を、有機材料からなる発光材料層の内部に注入し、発光材料層の内部で正孔と電子とを再結合させることによって、励起子（エキシトン）を生成させ、この励起子が失活する際の光の放出（蛍光、燐光）により発光する発光素子であり、この発光材料層で発生した光は、透明基板の側から発光素子の外部に取り出される。【０００３】
特許文献１には、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂などの高屈折率樹脂を用いた高屈折率層を有する発光素子が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２９６４３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の発光素子によれば、透明基板の側からある程度効率良く発光材料層で生じた光を取り出すことができる。しかしながら、発光材料層が発する光によって、ポリエーテルスルホン樹脂やポリエーテルイミド樹脂などの高屈折率樹脂が劣化してしまうという問題がある。【０００６】
そこで本発明は、光の取り出し効率に優れる発光素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のガラス転移温度を有する重合体を含み、かつ、特定の粒子径を有する粒子を含む樹脂層を備えた発光素子によれば、前記目的を達成しうることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、以下の［１］〜［７］を提供するものである。【０００８】
［１］  第１電極と発光層と第２電極と第１樹脂層とを備える発光素子であって、前記第１電極と前記発光層と前記第２電極とがこの順に積層されてなり、前記第１樹脂層は、
（ａ）前記第１電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
（ｂ）前記第２電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上の樹脂と、平均粒子径が０．１μｍ〜５μｍの粒子（Ａ）とを含むことを特徴とする発光素子。【０００９】
［２］  前記第１樹脂層が、さらに、平均粒子径が１ｎｍ以上１００ｎｍ未満の金属酸化物微粒子（Ｂ）を含むことを特徴とする［１］に記載の発光素子。【００１０】
［３］  さらに、第２樹脂層を備える発光素子であって、前記第２樹脂層は、
（ｃ）前記第１電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
（ｄ）前記第２電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上の樹脂を含み、波長６３２．８ｎｍの光を用いて測定した屈折率が１．６０以上であることを特徴とする［１］または［２］に記載の発光素子。【００１１】
［４］  前記第２樹脂層は、
（ｃ）前記第１電極と前記第１樹脂層との間、および、
（ｄ）前記第２電極と前記第１樹脂層との間、
の少なくとも一方に形成されていることを特徴とする［３］に記載の発光素子。【００１２】
［５］  前記発光素子が有機エレクトロルミネッセンス素子である、［１］〜［４］のいずれかに記載の発光素子。【００１３】
［６］  ［１］〜［５］のいずれかに記載の発光素子の第１樹脂層を形成するための発光素子形成用樹脂組成物。
［７］  ［３］〜［５］のいずれかに記載の発光素子の第２樹脂層を形成するための発光素子形成用樹脂組成物。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の発光素子は光の取り出し効率に優れる。また、本発明の発光素子は、耐久性にも優れるため、厳しい使用条件下であっても、長期に亘って性能を低下させずに用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の発光素子の実施形態例１を概念的に示す断面図である。
【図２】本発明の発光素子の実施形態例２を概念的に示す断面図である。
【図３】本発明の発光素子の実施形態例３を概念的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
≪発光素子≫
以下、図面を参照して、本発明の発光素子の種々の実施形態例を説明するが、第１電極と発光層と第２電極と第１樹脂層とを備える発光素子であって、前記第１電極と前記発光層と前記第２電極とがこの順に積層されてなり、前記第１樹脂層が、示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上の樹脂（以下「重合体（Ｉ）」ともいう。）と、平均粒子径が０．１μｍ〜５μｍの粒子（Ａ）とを含み、かつ、
（ａ）前記第１電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
（ｂ）前記第２電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されている発光素子である限り特に制限されない。
【００１７】
図１は、本発明の発光素子の実施形態例１である発光素子１０を示す。発光素子１０は、基板１１、第１電極１３、発光層１５、第２電極１７および第１樹脂層１８がこの順に積層された構造を有する。つまり、第１樹脂層１８は、第２電極１７の、発光層１５が設けられた側とは反対側の面に設けられる。
第２電極１７は透過型電極であることが好ましく、この場合、発光層１５で生じた光は、第２電極１７および第１樹脂層１８を通過して、発光素子１０の外部に取り出されうる。
【００１８】
本発明の発光素子は、第１樹脂層１８を備えているので、発光層１５で生じた光が第２電極１７を通過して空気中に進入する時に、光の屈折によって、発光素子の外部に取り出される効率を高めることができる。
【００１９】
発光素子１０は、第２電極１７の屈折率、第１樹脂層１８の屈折率、空気の屈折率（約１．０）がこの順で小さくなる発光素子が好ましい。また、第２電極１７と第１樹脂層１８との屈折率の差、第１樹脂層１８と空気との屈折率の差が小さいことが好ましい。第２電極、第１樹脂層および空気の屈折率がこのような関係にあると、発光層１５で生じた光が発光素子１０の外部に取り出される工程で、第２電極１７と第１樹脂層１８との界面および第１樹脂層１８と空気との界面で全反射しにくくなるため、光の取り出し効率が高くなると考えられる。
【００２０】
図１中、第１樹脂層１８は、第２電極１７の一面に接触して形成されたものとして図示されているが、第１樹脂層１８と第２電極１７の間には、必要によって多様な層がさらに設けられていてもよい。
また、基板１１の第１電極１３が形成された側とは反対側、基板１１と第１電極１３との間、第１電極１３と発光層１５との間、発光層１５と第２電極１７との間、第１樹脂層１８の第２電極１７が形成された側とは反対側にも、必要に応じて多様な層が設けられていてもよい。
【００２１】
このような多様な層として、光の取り出し効率がより高い発光素子を得るなどの点から、発光素子１５から第１樹脂層１８を経て発光素子１０の外部に行くに従って、屈折率が小さくなるようにするために、第２電極１７と第１樹脂層１８との間、および／または第１樹脂層１８の第２電極１７が形成された側とは反対側に、第２樹脂層や第３樹脂層などの層を設けてもよい。
【００２２】
また、図１には図示していないが、発光素子１０の密封のための公知の密封層がさらに設けられてもよく、多様な変形例が可能である。
【００２３】
図２は、本発明の発光素子の実施形態例２である発光素子２０を示す。
発光素子２０は、基板２１、第１樹脂層２８、第１電極２３、発光層２５および第２電極２７がこの順に積層された構造を有する。つまり、第１樹脂層２８は、第１電極２３の、発光層２５が設けられた面とは反対側の面に設けられる。
第１電極２３は透過型電極であることが好ましく、この場合、発光層２５で生じた光は、第１電極２３、第１樹脂層２８および基板２１を通過して、発光素子２０の外部に取り出されうる。
発光素子２０の変形例は、前述と同様である。
【００２４】
発光素子２０は、第１電極２３の屈折率、第１樹脂層２８の屈折率、基板２１の屈折率、空気の屈折率（約１．０）がこの順で小さくなる発光素子が好ましい。
なお、発光素子２０の光の取り出し効率を考慮すると前記基板２１としては、屈折率が第１樹脂層２８より小さいガラス基板または透明プラスチック基板であることが好ましい。
発光素子２０は、第１樹脂層２８を有するため、発光層２５で生じた光を光の屈折によって効果的に外部に取り出すことができ、光の取り出し効率の高い発光素子となる。
【００２５】
図３は、本発明の発光素子の実施形態例３である発光素子３０を示す。
発光素子３０は、基板３１、第１または第２樹脂層３８、第１電極３３、発光層３５、第２電極３７および第１または第２樹脂層３９がこの順に積層された構造を有する。つまり、樹脂層３８は、第１電極３３の、発光層が設けられた面とは反対側の面に設けられており、樹脂層３９は、第２電極３７の、発光層が設けられた面とは反対側の面に設けられる。但し、前記樹脂層３８および３９の少なくとも一方は第１樹脂層である。なお、前記樹脂層３８および３９は、両者とも第１樹脂層であってもよい。
【００２６】
第１電極３３および第２電極３７は透過型電極であることが好ましく、この場合、発光層３５で生じた光は、第１電極３３および第２電極３７を通過した後、それぞれ、樹脂層３８および樹脂層３９を通過して、発光素子３０の外部に取り出されうる。
発光素子３０の変形例は、前述と同様である。
【００２７】
発光素子３０は、第２電極３７の屈折率、樹脂層３９の屈折率、空気の屈折率（約１．０）がこの順で小さくなり、第１電極３３の屈折率、樹脂層３８の屈折率、基板３１の屈折率、空気の屈折率（約１．０）がこの順で小さくなる発光素子が好ましい。
なお、発光素子３０の光の取り出し効率を考慮すると前記基板３１としては、屈折率が樹脂層３８より小さいガラス基板または透明プラスチック基板であることが好ましい。
発光素子２０は、樹脂層３８および樹脂層３９を有するため、発光層３５で生じた光を光の屈折によって効果的に外部に取り出すことができ、光の取り出し効率の高い発光素子となる。
【００２８】
＜基板＞
前記基板としては、一般的な発光素子で使われる基板を使用することができるが、機械的強度、熱的安定性、透明性、表面平滑性、取扱容易性および防水性に優れるガラス基板または透明プラスチック基板が好ましい。
【００２９】
＜第１電極＞
前記第１電極は、第１電極形成用物質を用いた、蒸着法またはスパッタリング法などにより基板の上面等に製造できる。透過型電極を形成する場合には、第１電極形成用物質として、透明であって導電性に優れる酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）などを用いることができる。
また、反射型電極を形成する場合には、第１電極形成用物質として、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム−リチウム（Ａｌ−Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、マグネシウム−インジウム（Ｍｇ−Ｉｎ）、マグネシウム−銀（Ｍｇ−Ａｇ）などを用いることができる。第１電極の厚さは、所望の目的に応じて適宜選択すればよい。
【００３０】
＜発光層＞
前記発光層は、電界が印加されることにより発光現象を示す物質により成膜されたものであることが好ましい。このような物質としては、付活硫化亜鉛ＺｎＳ：Ｘ（但し、Ｘは、Ｍｎ、Ｔｂ、Ｃｕ，Ｓｍ等の付活元素である。）、ＣａＳ：Ｅｕ、ＳｒＳ：Ｃｅ、ＳｒＧａ2Ｓ4：Ｃｅ、ＣａＧａ2Ｓ4：Ｃｅ、ＣａＳ：Ｐｂ、ＢａＡｌ2Ｓ4：Ｅｕ等の無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）物質、８−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体、芳香族アミン類、アントラセン単結晶等の低分子色素系の有機ＥＬ物質、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ［２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシルオキシ）−１，４−フェニレンビニレン］、ポリ（３−アルキルチオフェン）、ポリビニルカルバゾールなどの共役高分子系の有機ＥＬ物質等、従来より使用されているＥＬ物質を用いることができる。
【００３１】
これらの中でも第１樹脂層は重合体（Ｉ）を含むため、発光層は有機ＥＬ物質を用いて形成される層であることが好ましい。このように、発光層が有機ＥＬ物質を用いて形成される層である場合、有機ＥＬ素子が得られる。発光層の厚さは、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは３０〜５００ｎｍ、さらに好ましくは５０〜２００ｎｍである。発光層は、蒸着やスパッタリング等の真空成膜プロセス、あるいはクロロホルム等を溶媒とする塗布プロセスにより形成することができる。
【００３２】
＜第２電極＞
前記第２電極は、第２電極形成用物質を用いて、蒸着法またはスパッタリング法などにより製造できる。第２電極形成用物質としては、リチウム（Ｌｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム−リチウム（Ａｌ−Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、マグネシウム−インジウム（Ｍｇ−Ｉｎ）、マグネシウム−銀（Ｍｇ−Ａｇ）などが挙げられる。
これらの物質から薄膜を形成することによって、透過型電極を得ることができる。また、ＩＴＯ、ＩＺＯを含んでなる透過型電極であってもよい。第２電極の厚さは、所望の目的に応じて適宜選択すればよい。
前記第２電極は、電子注入電極であるカソードであることが好ましい。
【００３３】
＜第１樹脂層＞
前記第１樹脂層は、少なくとも重合体（Ｉ）、平均粒子径が０．１μｍ〜５μｍの粒子（Ａ）、および、有機溶媒（以下「特定溶媒」ともいう。）を含有する発光素子形成用樹脂組成物から形成される層であることが好ましい。
本発明の発光素子は、前記第１樹脂層を含むため、光の取り出し効率に優れた発光素子となる。
【００３４】
このような第１樹脂層は、本発明の発光素子中に、２層以上含まれていてもよい。この場合、同じ組成からなる第１樹脂層が本発明の発光素子中に２層以上含まれていてもよく、異なる組成の第１樹脂層が本発明の発光素子中に２層以上含まれていてもよい。
【００３５】
［ガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上である樹脂（重合体（Ｉ））］
前記重合体（Ｉ）は、芳香族ポリエーテル系重合体（以下「重合体（ＩＩ）」ともいう。）およびポリイミド系重合体といった熱可塑性樹脂、ならびに、シリコーン系、エポキシ系、アクリル系、シアノアクリレート系、エポキシ系アクリレートといった熱硬化性樹脂を好適に用いることができる。とりわけ、熱可塑性樹脂である後述する重合体（ＩＩＩ）を用いることで、成膜性に優れる樹脂組成物が得られ、光の取り出し効率および耐熱性等にバランスよく優れる発光素子が得られる。
重合体（Ｉ）は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３６】
［重合体（Ｉ）］
前記重合体（Ｉ）としては、示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０〜３５０℃である重合体であり、好ましくは２４０〜３３０℃、より好ましくは２５０〜３００℃である。
前記重合体（Ｉ）のガラス転移温度は、例えばＲｉｇａｋｕ社製８２３０型ＤＳＣ測定装置（昇温速度２０℃／分）を用いて測定される。
【００３７】
このような重合体（Ｉ）を含む樹脂層は、耐熱性、力学的強度および電気的特性等にバランスよく優れる。
【００３８】
前記重合体（ＩＩ）は、主鎖にエーテル結合を形成する反応により得られる重合体であり、下記式（１）で表わされる構造単位（以下「構造単位（１）」ともいう。）および下記式（２）で表わされる構造単位（以下「構造単位（２）」ともいう。）からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（ｉ）を有する重合体（以下「重合体（ＩＩＩ）」ともいう。）であることが好ましい。重合体が構造単位（ｉ）を有することで、ガラス転移温度が前記範囲にある芳香族ポリエーテル系重合体となる。このような重合体（ＩＩＩ）を含む樹脂層は、耐熱性、電気的特性および透明性に優れ、高い屈折率を有する。また、樹脂層が重合体（ＩＩＩ）を含むと、光の取り出し効率および耐久性に優れる発光素子を得ることができる。
【００３９】
また、前記重合体（ＩＩ）、特に重合体（ＩＩＩ）は、ポリエーテルスルホン樹脂やポリエーテルイミド樹脂等と比べ、可視域での光の吸収が少ないため、可視光による樹脂の劣化が起こりにくい。このため、前記重合体（ＩＩ）、特に重合体（ＩＩＩ）を含む樹脂層を備える発光素子は、特に耐久性に優れるため好ましい。
【００４０】
【化１】
2013105626.tif 000003
【００４１】
前記式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示す。ａ〜ｄは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０または１である。
炭素数１〜１２の１価の有機基としては、炭素数１〜１２の１価の炭化水素基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の１価の有機基等を挙げることができる。
【００４２】
炭素数１〜１２の１価の炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００４３】
前記炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の炭化水素基としては、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜５の直鎖または分岐鎖の炭化水素基がより好ましい。
【００４４】
前記直鎖または分岐鎖の炭化水素基の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基およびｎ−ヘプチル基が挙げられる。
【００４５】
前記炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基としては、炭素数３〜８の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数３または４の脂環式炭化水素基がより好ましい。
【００４６】
炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基の好適な具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロへキシル基等のシクロアルキル基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基およびシクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基が挙げられる。当該脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上のいずれの炭素でもよい。
【００４７】
前記炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基およびナフチル基等が挙げられる。当該芳香族炭化水素基の結合部位は、芳香族環上のいずれの炭素でもよい。
【００４８】
酸素原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子、炭素原子および酸素原子からなる有機基が挙げられ、中でも、エーテル結合、カルボニル基またはエステル結合と炭化水素基とからなる総炭素数１〜１２の有機基等を好ましく挙げることができる。
【００４９】
エーテル結合を有する総炭素数１〜１２の有機基としては、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアルケニルオキシ基、炭素数２〜１２のアルキニルオキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基および炭素数１〜１２のアルコキシアルキル基などを挙げることができる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、プロペニルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基およびメトキシメチル基等が挙げられる。
【００５０】
また、カルボニル基を有する総炭素数１〜１２の有機基としては、炭素数２〜１２のアシル基等を挙げることができる。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基およびベンゾイル基等が挙げられる。
エステル結合を有する総炭素数１〜１２の有機基としては、炭素数２〜１２のアシルオキシ基等が挙げられる。具体的には、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
【００５１】
窒素原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子、炭素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、シアノ基、イミダゾール基、トリアゾール基、ベンズイミダゾール基およびベンズトリアゾール基等が挙げられる。
【００５２】
酸素原子および窒素原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子、炭素原子、酸素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、オキサゾール基、オキサジアゾール基、ベンズオキサゾール基およびベンズオキサジアゾール基等が挙げられる。
【００５３】
前記式（１）におけるＲ1〜Ｒ4としては、炭素数１〜１２の１価の炭化水素基が好ましく、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。
【００５４】
【化２】
2013105626.tif 000004
【００５５】
前記式（２）中、Ｒ1〜Ｒ4およびａ〜ｄは、それぞれ独立に前記式（１）中のＲ1〜Ｒ4およびａ〜ｄと同義であり、Ｙは、単結合、−ＳＯ2−または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ7およびＲ8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｍは、０または１を示す。但し、ｍが０の時、Ｒ7はシアノ基ではない。ｇおよびｈは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０である。
炭素数１〜１２の１価の有機基としては、前記式（１）における炭素数１〜１２の１価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。
【００５６】
前記重合体（ＩＩＩ）は、前記構造単位（１）と前記構造単位（２）とのモル比（但し、両者（構造単位（１）＋構造単位（２））の合計は１００である。）が、光学特性、耐熱性および力学的特性等に優れる重合体となるなどの点から構造単位（１）：構造単位（２）＝５０：５０〜１００：０であることが好ましく、構造単位（１）：構造単位（２）＝７０：３０〜１００：０であることがより好ましく、構造単位（１）：構造単位（２）＝８０：２０〜１００：０であることがさらに好ましい。
ここで、力学的特性とは、重合体の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
【００５７】
また、前記重合体（ＩＩＩ）は、さらに、下記式（３）で表わされる構造単位および下記式（４）で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（ｉｉ）を有してもよい。前記重合体（ＩＩＩ）がこのような構造単位（ｉｉ）を有すると、該重合体（ＩＩＩ）を有する組成物から得られる樹脂層の力学的特性が向上するため好ましい。
【００５８】
【化３】
2013105626.tif 000005
【００５９】
前記式（３）中、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、＞Ｃ＝Ｏ、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基を示し、ｎは、０または１を示す。ｅおよびｆは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０である。
炭素数１〜１２の１価の有機基としては、前記式（１）における炭素数１〜１２の１価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。
【００６０】
炭素数１〜１２の２価の有機基としては、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基、炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価の有機基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価のハロゲン化有機基等を挙げることができる。
【００６１】
炭素数１〜１２の２価の炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価の炭化水素基、炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００６２】
炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基およびヘプタメチレン基等が挙げられる。
【００６３】
炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基等のシクロアルキレン基；シクロブテニレン基、シクロペンテニレン基およびシクロヘキセニレン基等のシクロアルケニレン基などが挙げられる。
【００６４】
炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基およびビフェニレン基等が挙げられる。
【００６５】
炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価のハロゲン化炭化水素基、炭素数３〜１２の２価のハロゲン化脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の２価のハロゲン化芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００６６】
炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価のハロゲン化炭化水素基としては、ジフロオロメチレン基、ジクロロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、テトラクロロエチレン基、ヘキサフルオロトリメチレン基、ヘキサクロロトリメチレン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基およびヘキサクロロイソプロピリデン基等が挙げられる。
【００６７】
炭素数３〜１２の２価のハロゲン化脂環式炭化水素基としては、前記炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
【００６８】
炭素数６〜１２の２価のハロゲン化芳香族炭化水素基としては、前記炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
【００６９】
酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子および炭素原子と、酸素原子および／または窒素原子とからなる有機基が挙げられ、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合またはアミド結合と炭化水素基とを有する総炭素数１〜１２の２価の有機基等が挙げられる。
【００７０】
酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価のハロゲン化有機基としては、具体的には、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価の有機基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
【００７１】
前記式（３）におけるＺとしては、単結合、−Ｏ−、−ＳＯ2−、＞Ｃ＝Ｏまたは炭素数１〜１２の２価の有機基が好ましく、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基、炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基または炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基がより好ましい。
【００７２】
【化４】
2013105626.tif 000006
【００７３】
前記式（４）中、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈは、それぞれ独立に前記式（２）中のＲ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆは、それぞれ独立に前記式（３）中のＲ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。なお、ｍが０の時、Ｒ7はシアノ基ではない。
【００７４】
前記重合体（ＩＩＩ）は、前記構造単位（ｉ）と前記構造単位（ｉｉ）とのモル比（但し、両者（（ｉ）＋（ｉｉ））の合計は１００である。）が、光学特性、耐熱性および力学的特性等に優れる重合体となるなどの点から（ｉ）：（ｉｉ）＝５０：５０〜１００：０であることが好ましく、（ｉ）：（ｉｉ）＝７０：３０〜１００：０であることがより好ましく、（ｉ）：（ｉｉ）＝８０：２０〜１００：０であることがさらに好ましい。
ここで、力学的特性とは、重合体の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
【００７５】
前記重合体（ＩＩＩ）は、光学特性、耐熱性および力学的特性等に優れる重合体となるなどの点から前記構造単位（ｉ）および前記構造単位（ｉｉ）を全構造単位中７０モル％以上含むことが好ましく、全構造単位中９５モル％以上含むことがより好ましい。
【００７６】
前記重合体（ＩＩＩ）は、例えば、下記式（５）で表わされる化合物（以下「化合物（５）」ともいう。）および下記式（７）で表わされる化合物（以下「化合物（７）」ともいう。）からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物を含む成分（以下「（Ａ）成分」ともいう。）と、下記式（６）で表わされる化合物を含む成分（以下「（Ｂ）成分」ともいう。）とを、反応させることにより得ることができる。
【００７７】
【化５】
2013105626.tif 000007
【００７８】
前記式（５）中、Ｘは独立してハロゲン原子を示し、フッ素原子が好ましい。
【００７９】
【化６】
2013105626.tif 000008
【００８０】
前記式（７）中、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈは、それぞれ独立に前記式（２）中のＲ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｘは、独立に前記式（５）中のＸと同義である。但し、ｍが０の時、Ｒ7はシアノ基ではない。
【００８１】
【化７】
2013105626.tif 000009
【００８２】
前記式（６）中、Ｒaは、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、アセチル基、メタンスルホニル基またはトリフルオロメチルスルホニル基を示し、この中でも水素原子が好ましい。なお、式（６）中、Ｒ1〜Ｒ4およびａ〜ｄは、それぞれ独立に前記式（１）中のＲ1〜Ｒ4およびａ〜ｄと同義である。
【００８３】
前記化合物（５）としては、具体的には、２，６−ジフルオロベンゾニトリル（ＤＦＢＮ）、２，５−ジフルオロベンゾニトリル、２，４−ジフルオロベンゾニトリル、２，６−ジクロロベンゾニトリル、２，５−ジクロロベンゾニトリル、２，４−ジクロロベンゾニトリルおよびこれらの反応性誘導体等を挙げることができる。特に、反応性および経済性等の観点から、２，６−ジフルオロベンゾニトリルおよび２，６−ジクロロベンゾニトリルが好適に用いられる。これらの化合物は２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００８４】
前記式（６）で表わされる化合物（以下「化合物（６）」ともいう。）としては、具体的には、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＢＰＦＬ）、９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３，５−ジフェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレンおよびこれらの反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンおよび９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンが好適に用いられる。これらの化合物は２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００８５】
前記化合物（７）としては、具体的には、４，４'−ジフルオロベンゾフェノン、４，４'−ジフルオロジフェニルスルホン（ＤＦＤＳ）、２，４'−ジフルオロベンゾフェノン、２，４'−ジフルオロジフェニルスルホン、２，２'−ジフルオロベンゾフェノン、２，２'−ジフルオロジフェニルスルホン、３，３'−ジニトロ−４，４'−ジフルオロベンゾフェノン、３，３'−ジニトロ−４，４'−ジフルオロジフェニルスルホン、４，４'−ジクロロベンゾフェノン、４，４'−ジクロロジフェニルスルホン、２，４'−ジクロロベンゾフェノン、２，４'−ジクロロジフェニルスルホン、２，２'−ジクロロベンゾフェノン、２，２'−ジクロロジフェニルスルホン、３，３'−ジニトロ−４，４'−ジクロロベンゾフェノンおよび３，３'−ジニトロ−４，４'−ジクロロジフェニルスルホン等を挙げることができる。これらの中でも、４，４'−ジフルオロベンゾフェノン、４，４'−ジフルオロジフェニルスルホンが好ましい。これらの化合物は２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００８６】
化合物（５）および化合物（７）からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物は、（Ａ）成分１００モル％中に、８０モル％〜１００モル％含まれていることが好ましく、９０モル％〜１００モル％含まれていることがより好ましい。
また、（Ｂ）成分は、必要に応じて下記式（８）で表わされる化合物を含むことが好ましい。化合物（６）は、（Ｂ）成分１００モル％中に、５０モル％〜１００モル％含まれていることが好ましく、８０モル％〜１００モル％含まれていることがより好ましく、９０モル％〜１００モル％含まれていることがさらに好ましい。
【００８７】
【化８】
2013105626.tif 000010
【００８８】
前記式（８）中、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆは、それぞれ独立に前記式（３）中のＲ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義であり、Ｒaは、それぞれ独立に前記式（６）中のＲaと同義である。
【００８９】
前記式（８）で表わされる化合物としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、２−フェニルヒドロキノン、４，４'−ビフェノール、３，３'−ビフェノール、４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、３，３'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４'−ジヒドロキシベンゾフェノン、３，３'−ジヒドロキシベンゾフェノン、１，１'−ビ−２−ナフトール、１，１'−ビ−４−ナフトール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンおよびこれらの反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、レゾルシノール、４，４'−ビフェノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンが好ましく、反応性および力学的特性の観点から、４，４'−ビフェノールが好適に用いられる。これらの化合物は２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００９０】
前記重合体（ＩＩＩ）は、より具体的には、以下に示す方法（Ｉ'）で合成することができる。
方法（Ｉ'）：
（Ｂ）成分を有機溶媒中でアルカリ金属化合物と反応させて、（Ｂ）成分（化合物（６）および／または化合物（８）等）のアルカリ金属塩を得た後に、得られたアルカリ金属塩と、（Ａ）成分とを反応させる。なお、（Ｂ）成分とアルカリ金属化合物との反応を（Ａ）成分の存在下で行うことで、（Ｂ）成分のアルカリ金属塩と（Ａ）成分とを反応させることもできる。
【００９１】
反応に使用するアルカリ金属化合物としては、リチウム、カリウムおよびナトリウム等のアルカリ金属；水素化リチウム、水素化カリウムおよび水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属；水酸化リチウム、水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属；炭酸リチウム、炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウムおよび炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩などを挙げることができる。これらは、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００９２】
アルカリ金属化合物は、前記（Ｂ）成分中の全ての−Ｏ−Ｒaに対し、アルカリ金属化合物中の金属原子の量が通常１〜３倍当量、好ましくは１．１〜２倍当量、さらに好ましくは１．２〜１．５倍当量となる量で使用される。
【００９３】
また、反応に使用する有機溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、γ−ブチルラクトン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジイソプロピルスルホン、ジフェニルスルホン、ジフェニルエーテル、ベンゾフェノン、ジアルコキシベンゼン（アルコキシ基の炭素数１〜４）およびトリアルコキシベンゼン（アルコキシ基の炭素数１〜４）などを使用することができる。これらの溶媒の中でも、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、スルホラン、ジフェニルスルホンおよびジメチルスルホキシド等の誘電率の高い極性有機溶媒が特に好適に用いられる。これらは、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００９４】
さらに、前記反応の際には、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、クロロベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなどの水と共沸する溶媒をさらに用いることもできる。これらは、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００９５】
（Ａ）成分と（Ｂ）成分の使用割合は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計を１００モル％とした場合に、（Ａ）成分が好ましくは４５モル％以上５５モル％以下、より好ましくは５０モル％以上５２モル％以下、さらに好ましくは５０モル％を超えて５２モル％以下であり、（Ｂ）成分が好ましくは４５モル％以上５５モル％以下、より好ましくは４８モル％以上５０モル％以下であり、さらに好ましくは４８モル％以上５０モル％未満である。
【００９６】
また、反応温度は、好ましくは６０〜２５０℃、より好ましくは８０〜２００℃の範囲である。反応時間は、好ましくは１５分〜１００時間、より好ましくは１時間〜２４時間の範囲である。
【００９７】
前記重合体（ＩＩ）は、ＴＯＳＯＨ製ＨＬＣ−８２２０型ＧＰＣ装置（カラム：ＴＳＫｇｅｌα―Ｍ、展開溶剤：テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」ともいう。））で測定した、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が、好ましくは５，０００〜５００，０００、より好ましくは１５，０００〜４００，０００、さらに好ましくは３０，０００〜３００，０００である。
【００９８】
前記重合体（ＩＩ）は、熱重量分析法（ＴＧＡ）で測定した熱分解温度が、好ましくは４５０℃以上、より好ましくは４７５℃以上、さらに好ましくは４９０℃以上である。
【００９９】
前記発光素子形成用樹脂組成物としては、前記の方法（Ｉ'）で得られた重合体（ＩＩＩ）と有機溶媒との混合物をそのまま使用することができる。この場合、前記反応に使用された有機溶媒は特定溶媒である。
また、前記組成物は、前記の方法で得られた重合体（ＩＩＩ）と有機溶媒との混合物から、重合体（ＩＩＩ）を固体分として単離（精製）した後、特定溶媒に再溶解して調製することもできる。
【０１００】
前記重合体（ＩＩＩ）を固体分として単離（精製）する方法は、例えば、メタノール等の重合体の貧溶媒に重合体を再沈殿させ、その後ろ過し、次いでろ物を減圧乾燥すること等により行うことができる。
【０１０１】
前記重合体（ＩＩＩ）を再溶解させる特定溶媒としては、前記重合体（ＩＩＩ）を容易に溶解するものが好適に選ばれる。例えば、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびγ−ブチロラクトンが好適に用いられ、塗工性、経済性の観点から、好ましくは、塩化メチレン、シクロヘキサノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチル−２−ピロリドンが好適に使用される。これらの溶媒は、１種単独であるいは２種以上を併用することができる。
【０１０２】
また、塗工時の乾燥性や均一性、表面平滑性などの向上を狙い、その他の特定溶媒、例えば、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒から選ばれる１種、あるいは２種以上の溶媒を適宜組み合わせて使用することができる。この場合、大気圧下（１，０１３ｈＰａ）での沸点が４０〜２５０℃、さらには５０〜１５０℃の範囲内にある有機溶媒が好適であり、重合体（ＩＩＩ）を均一に溶解、分散させることのできる範囲で用いられることが好ましい。
【０１０３】
これらのその他の特定溶媒の好ましい例としては、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類；エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；乳酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなどのジエチレングリコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトンなどのケトン類が挙げられる。これらは、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【０１０４】
なお、前記特定溶媒は、重合体（ＩＩＩ）以外の重合体（Ｉ）を含む発光素子形成用樹脂組成物にも好適に用いられる。
【０１０５】
［エポキシ系樹脂］
前記エポキシ系樹脂を含む樹脂層は耐熱性、力学的強度および接着性等にバランスよく優れる。このようなエポキシ系樹脂を含む樹脂層は、エポキシ化合物、および、該エポキシ化合物を硬化させることができる化合物（以下「硬化剤」ともいう。）を含む発光素子形成用樹脂組成物を用いることで形成することができる。
【０１０６】
エポキシ化合物として具体的には、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ化合物；フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物などのノボラック型エポキシ化合物；３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシ化テトラベンジルアルコール、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ラクトン変性エポキシ化テトラヒドロベンジルアルコール、シクロヘキセンオキサイド、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテルなどの脂環式エポキシ化合物類；１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどの脂肪族エポキシ化合物；臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテルなどのハロゲン化エポキシ化合物；テトラグリシジルアミノフェニルメタンなどのグリシジルアミン型エポキシ化合物、および９，９−ビス［４−（２−グリシジルオキシプロポキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレンなどのフルオレン骨格を有するエポキシ化合物等が挙げられる。これらは、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【０１０７】
前記硬化剤としては、具体的には脂肪族アミン、芳香族アミン、変性アミンといったアミン類、ポリアミド樹脂、三級アミン、二級アミン、イミダゾール類、メルカプタン類、酸無水物類、三フッ化ホウ素アミン錯体、ジシアンアミド、および有機酸ヒドラジドなどを挙げることができる。これらは、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【０１０８】
エポキシ系樹脂のガラス転移温度は、好ましくは１７０〜３５０℃であり、さらに好ましくは１７５〜３００℃である。ガラス転移温度は、例えばＲｉｇａｋｕ社製８２３０型ＤＳＣ測定装置（昇温速度２０℃／分）を用いて測定される。
このようなガラス転移温度を有するエポキシ系樹脂としては、エポキシ化合物としてノボラック型エポキシ化合物、またはフルオレン骨格を有するエポキシ化合物、硬化剤としては酸無水物類の組み合わせからなるものを用いることが好ましい。
【０１０９】
前記発光素子形成用樹脂組成物中の重合体（Ｉ）の濃度は、該重合体の分子量にもよるが、通常、１〜４０質量％、好ましくは５〜２５質量％である。組成物中の重合体（Ｉ）の濃度が前記範囲にあると、厚膜化可能で、ピンホールが生じにくく、表面平滑性に優れる樹脂層を形成することができる。
【０１１０】
なお、前記発光素子形成用樹脂組成物の粘度は、重合体（Ｉ）の分子量や濃度にもよるが、好ましくは５０〜１００，０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは５００〜５０，０００ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは１０００〜２０，０００ｍＰａ・ｓである。組成物の粘度が前記範囲にあると、樹脂層形成中の組成物の滞留性に優れ、厚みの調整が容易であるため、樹脂層の成形が容易である。
【０１１１】
[粒子（Ａ）]
前記樹脂層は、平均粒子径が０．１μｍ〜５μｍの粒子（Ａ）を含む。このため、前記樹脂層に光拡散機能を付与することが可能となり、更に光の取り出し効率を高めることができる。
粒子（Ａ）の平均粒子径は、好ましくは０．２〜３μｍ、より好ましくは０．３〜２μｍである。
なお、該平均粒子径は動的光散乱法を測定原理とする粒子分布測定装置で測定することができる。
粒子（Ａ）は、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【０１１２】
ここで光拡散機能を付与するためには、粒子（Ａ）と前記重合体（Ｉ）との屈折率差が大きい粒子を用いることが好ましく、このような粒子としては、高屈折率を有する粒子または低屈折率を有する粒子が挙げられる。
高屈折率を有する粒子としては、下記金属酸化物粒子（Ｂ）として例示した粒子と同様の粒子等（但し、平均粒子径は前記範囲である。）を用いることができる。また、低屈折率を有する粒子は、２５℃における波長６３２．８ｎｍの光の屈折率が好ましくは１．５５以下、より好ましくは１．５０以下の粒子であり、具体的には、有機粒子を用いることが好ましい。
【０１１３】
有機粒子としてはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）粒子、ポリスチレン粒子および有機架橋粒子等が挙げられる。
前記有機架橋粒子は、架橋性モノマーから製造することができる。該架橋性モノマーとしては、ジビニルベンゼンに代表される非共役ジビニル化合物あるいはトリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートなどに代表される多価アクリレート化合物などの２個以上共重合性二重結合を有する化合物を好ましく用いることができる。より好ましくは、２個の共重合性二重結合を有する化合物である。
また、前記有機粒子としては、低屈折率化という観点から、中空粒子を用いてもよい。
【０１１４】
粒子（Ａ）の添加量は、粒子そのものの比重、また前記の重合体（Ｉ）との屈折率差を考慮して、適宜調整することが好ましく、特に制限されないが、樹脂層に物理的強度および十分な光拡散機能を付与するために、粒子（Ａ）の添加量は、具体的には、前記発光素子形成用樹脂組成物の固形分１００質量部に対して、好ましくは１〜２０００質量部、より好ましくは２〜１０００質量部、特に好ましくは１０〜１００質量部である。
【０１１５】
粒子（Ａ）の配合量が前記範囲にあると、クラック耐性等を維持したまま樹脂層の光拡散機能を適宜調整することができる。
なお、用いる粒子（Ａ）が溶媒分散ゾルである場合、前記粒子（Ａ）の配合量は、溶媒を含まない質量を意味し、該ゾルに含まれる溶媒の量は、前記特定溶媒の量としてカウントする。
【０１１６】
［金属酸化物粒子（Ｂ）］
前記樹脂層には、光の取り出し効率に優れる発光素子を得るために、平均粒子径が１ｎｍ以上１００ｎｍ未満の金属酸化物粒子（Ｂ）を配合することが好ましい。このような粒子（Ｂ）は、２５℃における波長６３２．８ｎｍの光の屈折率が、好ましくは１．７５以上、より好ましくは１．８０以上、特に好ましくは１．８５以上の微粒子である。このような屈折率を有する粒子（Ｂ）を含む樹脂層を用いることで、より光の取り出し効率に優れる発光素子が得られる。
なお、屈折率は、例えばプリズムカプラ  モデル２０１０（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製）を用いて測定される。
【０１１７】
前記粒子（Ｂ）としては、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化スズ、酸化ニオブ、チタン酸バリウムおよびこれらの複合体などの金属酸化物粒子が挙げられる。中でも、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）やチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ3）の微粒子、および、酸化チタンの微粒子の表面に、シリカ（ＳｉＯ2）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）または水酸化アルミニウム（Ａｌ(ＯＨ)3）をコーティングして酸化チタンの光触媒機能を抑制した微粒子が好ましい。
前記酸化チタンは、ＴｉＯ2構造を有するものであれば特に限定されず、例えばアナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型などが挙げられるが、前記光触媒機能の抑制と屈折率の点からルチル型が最も好ましい。
これらの粒子（Ｂ）は、１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１８】
前記粒子（Ｂ）の平均粒子径は、好ましくは３〜７０ｎｍ、より好ましくは５〜５０ｎｍである。平均粒子径が前記範囲内であると、透明性に優れた樹脂層を得ることができる。なお、平均粒子径は動的光散乱法を測定原理とする粒子分布測定装置で測定することができる。
【０１１９】
前記粒子（Ｂ）は、粉体状であってもよいし、溶媒分散ゾルであってもよい。溶媒分散ゾルに含まれる溶媒としては、例えば、２−ブタノール、メタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、プロピレングレコールモノメチルエーテル、γ−ブチロラクトンが挙げられる。
【０１２０】
前記粒子（Ｂ）の配合量は、特に制限されないが、前記発光素子形成用樹脂組成物中の重合体（Ｉ）の濃度や発光素子形成用樹脂組成物の粘度が前記範囲となるような量で用いることが好ましく、具体的には、重合体（Ｉ）１００質量部に対して好ましくは０〜２，０００質量部、より好ましくは１０〜１，５００質量部、さらに好ましくは３０〜１，０００質量部、特に好ましくは５０〜５００質量部である。粒子（Ｂ）の配合量が前記範囲にあると、透明性やクラック耐性等を維持したまま光の取り出し効率に優れる発光素子を得ることができる。
なお、用いる粒子（Ｂ）が溶媒分散ゾルである場合、前記粒子（Ｂ）の配合量は、溶媒を含まない質量を意味し、該ゾルに含まれる溶媒の量は、前記特定溶媒の量としてカウントする。
【０１２１】
［分散剤］
前記発光素子形成用樹脂組成物は、前記粒子（Ａ）および／または粒子（Ｂ）の分散性を向上させるために、各種の分散剤を含むことが好ましい。
分散剤は、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【０１２２】
前記分散剤としては、例えば、アルミニウム化合物を用いることができる。アルミニウム化合物の例としては、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムβ−ジケトナート錯体を挙げることができる。具体的には、トリエトキシアルミニウム、トリ（ｎ−プロポキシ）アルミニウム、トリ（ｉ−プロポキシ）アルミニウム、トリ（ｎ−ブトキシ）アルミニウム、トリ（ｓｅｃ−ブトキシ）アルミニウムなどのアルコキシド化合物、アルミニウムトリス（メチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、トリス（アセトアセトナト）アルミニウム、アルミニウムモノアセチルアセトナトビス（メチルアセテート）、アルミニウムモノアセチルアセトナトビス（エチルアセテート）などのβ−ジケトナート錯体などを挙げることができる。
【０１２３】
アルミニウム化合物の市販品としては、ＡＩＰＤ、ＰＡＤＭ、ＡＭＤ、ＡＳＢＤ、アルミニウムエトキサイド、ＡＬＣＨ、ＡＬＣＨ−５０Ｆ、ＡＬＣＨ−７５、ＡＬＣＨ−ＴＲ、ＡＬＣＨ−ＴＲ−２０、アルミキレートＭ、アルミキレートＤ、アルミキレートＡ（Ｗ）、表面処理剤ＯＬ−１０００、アルゴマー、アルゴマー８００ＡＦ、アルゴマー１０００ＳＦ（以上、川研ファインケミカル（株）製）などが挙げられる。
【０１２４】
前記分散剤としては、ノニオン型分散剤を用いることもできる。ノニオン型分散剤を用いることによって、金属酸化物粒子の分散性を高めることができる。前記ノニオン型分散剤としては、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、高分子量ポリカルボン酸のアミドアミン塩、エチレンジアミンＰＯ−ＥＯ縮合物、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、アルキルグルコシド、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルおよび脂肪酸アルカノールアミドが好ましい。特に好ましくはポリオキシエチレンアルキル構造を有するリン酸エステル系ノニオン型分散剤が挙げられる。ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステルの市販品としては、楠本化成（株）製ＰＬＡＡＤ  ＥＤ１５１等が挙げられる。
【０１２５】
前記分散剤の配合量は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、分散剤を含む場合には、前記発光素子形成用樹脂組成物の固形分１００質量％に対して、例えば０．１〜５質量％である。
【０１２６】
［分散助剤］
前記発光素子形成用樹脂組成物は、粒子（Ａ）および／または粒子（Ｂ）の分散性を高めるために、さらに分散助剤を含むことが好ましい。分散助剤としては、アセチルアセトンおよびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミドなどから選択される１種以上を好適に使用することができる。
【０１２７】
前記分散助剤の配合量は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、分散助剤を含む場合には、前記発光素子形成用樹脂組成物の固形分１００質量％に対して、例えば０〜５質量％である。
【０１２８】
［界面活性剤］
前記発光素子形成用樹脂組成物には、均一な厚さを有する樹脂層を得る観点から、界面活性剤を配合することが好ましい。前記界面活性剤としては、シリコーン系の界面活性剤、フッ素系の界面活性剤などが挙げられる。中でも、シリコーン系の界面活性剤が好ましい。
界面活性剤は、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【０１２９】
シリコーン系の界面活性剤の例としては、例えば、ＳＨ２８ＰＡ（東レダウコーニング（株）製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体）、ペインタッド１９、ペインタッド５４（東レダウコーニング（株）製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体）、サイラプレーンＦＭ０４１１（ＪＮＣ（株）製）、ＳＦ８４２８（東レダウコーニング（株）製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体（側鎖にＯＨ基含有））、ＢＹＫＵＶ３５１０（ビックケミー・ジャパン（株）製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体）、ＤＣ５７（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体）、ＤＣ１９０（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体）、サイラプレーンＦＭ−４４１１、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−４４２５、ＦＭ−７７１１、ＦＭ−７７２１、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−０４１１、ＦＭ−０４２１、ＦＭ−０４２５、ＦＭ−ＤＡ１１、ＦＭ−ＤＡ２１、ＦＭ−ＤＡ２６、ＦＭ０７１１、ＦＭ０７２１、ＦＭ−０７２５、ＴＭ−０７０１、ＴＭ−０７０１Ｔ（ＪＮＣ（株）製）、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５３０（ビックケミー・ジャパン（株）製）、ＢＹ１６−００４、ＳＦ８４２８（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＶＰＳ−１００１（和光純薬（株）製）が挙げられる。
【０１３０】
特に好ましい例としては、サイラプレーンＦＭ−７７１１、ＦＭ−７７２１、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−０４１１、ＦＭ−０４２１、ＦＭ−０４２５、ＦＭ０７１１、ＦＭ０７２１、ＦＭ−０７２５、ＶＰＳ−１００１が挙げられる。また、エチレン性不飽和基を有するシリコーン化合物の市販品である、ＴｅｇｏＲａｄ２３００、２２００Ｎ（テゴ・ケミー社製）なども挙げられる。
【０１３１】
フッ素系の界面活性剤の例として、例えば、メガファックＦ−１１４、Ｆ４１０、Ｆ４１１、Ｆ４５０、Ｆ４９３、Ｆ４９４、Ｆ４４３、Ｆ４４４、Ｆ４４５、Ｆ４４６、Ｆ４７０、Ｆ４７１、Ｆ４７２ＳＦ、Ｆ４７４、Ｆ４７５、Ｒ３０、Ｆ４７７、Ｆ４７８、Ｆ４７９、Ｆ４８０ＳＦ、Ｆ４８２、Ｆ４８３、Ｆ４８４、Ｆ４８６、Ｆ４８７、Ｆ５５９、Ｆ５６２、Ｆ５６３、Ｆ１７２Ｄ、Ｆ１７８Ｋ、Ｆ１７８ＲＭ、ＥＳＭ−１、ＭＣＦ３５０ＳＦ、ＢＬ２０、Ｒ０８、Ｒ６１、Ｒ９０（ＤＩＣ（株）製）が挙げられる。
特に好ましい例としては、親水性基と新油性基を有するメガファックＦ５５９、Ｆ５６２、Ｆ５６３が挙げられる。
【０１３２】
前記界面活性剤の配合割合は、前記発光素子形成用樹脂組成物の固形分１００質量％に対して、好ましくは０〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％、特に好ましくは０．５〜３質量％である。界面活性剤の配合量が前記発光素子形成用樹脂組成物の固形分１００質量％に対して１０質量％を超えると、得られる樹脂層の屈折率が低下するおそれがある。
【０１３３】
また、前記発光素子形成用樹脂組成物にはさらに老化防止剤を含有させることができ、老化防止剤を含有することで、得られる樹脂層の耐久性をより向上させることができる。
老化防止剤としては、好ましくはヒンダードフェノール系化合物を挙げることができる。
【０１３４】
本発明で使用することのできるヒンダードフェノール系化合物としては、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−３，５−トリアジン、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，３−トリス［２−メチル−４−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］ブタン、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト、および、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンなどを挙げることができる。これらは、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【０１３５】
本発明において、老化防止剤は、前記重合体（Ｉ）１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部の量で使用することが好ましい。
【０１３６】
［その他の添加剤］
前記発光素子形成用樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内で、前記以外の各種の添加剤を含むことができる。このような添加剤としては、例えば、前記成分以外の硬化性化合物、紫外線吸収剤が挙げられる。
【０１３７】
［発光素子形成用樹脂組成物の製造方法］
前記発光素子形成用樹脂組成物は、前記重合体（Ｉ）、粒子（Ａ）および必要に応じて配合される他の任意成分を混合することによって調製することができる。通常、重合体（Ｉ）、粒子（Ａ）、特定溶媒および他の任意成分を、所定の割合で混合することによって調製することができる。
【０１３８】
特に光の取り出し効率の高い発光素子を得るためには、屈折率の高い組成物（具体的には、高屈折率の膜を形成し得る組成物）に、前記粒子（Ａ）を配合することが好ましい。
前記高屈折率の膜としては、波長６３２．８ｎｍの光を用いて測定した屈折率が、好ましくは１．６０以上、より好ましくは１．６５以上、さらに好ましくは１．７５以上、より好ましくは１．７７〜２．０、特に好ましくは１．８０〜２．０である。
屈折率は、プリズムカプラ  モデル２０１０（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製）を用いて測定することができる。
このような高屈折率の膜を形成し得る組成物は、該組成物が、前記重合体（Ｉ）を含むことで、好ましくは屈折率の高い重合体（Ｉ）を含むことで、特に好ましくは重合体（Ｉ）１００質量部および粒子（Ｂ）５０〜５００質量部を含むことで得られる。
【０１３９】
［第１樹脂層の製造方法］
本発明の発光素子を形成する第１樹脂層の製造方法としては、特に制限されないが、前記発光素子形成用樹脂組成物を、前記発光素子１０を製造する際には、例えば、第２電極１７等に直接塗布して塗膜を形成し、次いで必要に応じて該塗膜から特定溶媒を除去する方法、発光素子形成用樹脂組成物をポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）等からなる支持体上に塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜を支持体から剥離し、第２電極１７上等に積層する方法などが挙げられる。
【０１４０】
前記第１樹脂層は、重合体（Ｉ）、好ましくは重合体（ＩＩ)または重合体（ＩＩＩ）を含むため、屈折率が高い傾向にある。このため、例えば、発光素子１０において、第２電極１７として、ＩＴＯからなる電極（屈折率約２．１２）を用いる場合、第２電極１７、第１樹脂層１８および空気の屈折率はこの順で小さくなると考えられる。このため、高い光の取り出し効率を有する発光素子が得られる。
【０１４１】
前記樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する方法としては、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法、スリットコート法およびドクターブレードを用いる方法等が挙げられる。
【０１４２】
前記樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する時の厚さは、特に限定されないが、例えば１〜２５０μｍであり、好ましくは２〜１５０μｍであり、より好ましくは５〜１２５μｍである。
【０１４３】
また、塗膜から前記特定溶媒を除去する方法としては、特に制限されないが、例えば、塗膜を加熱する方法が挙げられる。塗膜を加熱することにより、該塗膜中の特定溶媒を蒸発させて除去することができる。前記加熱の条件は、特定溶媒が蒸発すればよく、熱変形や熱による各種材料の変性等が発生しないよう適宜決めればよいが、例えば加熱温度は３０℃〜３００℃であることが好ましく、４０℃〜２５０℃であることがより好ましく、５０℃〜２３０℃であることがさらに好ましい。
【０１４４】
また、加熱時間としては、１０分〜５時間であることが好ましい。なお、加熱は二段階以上で行ってもよい。具体的には、３０〜１５０℃の温度で１分〜２時間乾燥後、１００℃〜２５０℃でさらに１０分〜２時間加熱するなどである。また、必要に応じて、窒素雰囲気下もしくは減圧下にて乾燥を行ってもよい。
【０１４５】
前記第１樹脂層の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択されるが、好ましくは２０ｎｍ〜１００μｍ、より好ましくは８０ｎｍ〜５０μｍである。
【０１４６】
また、前記第１樹脂層は、Ｒｉｇａｋｕ社製８２３０型ＤＳＣ測定装置（昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が、１７０〜３５０℃であることが好ましく、２４０〜３３０℃であることがより好ましく、２５０〜３００℃であることがさらに好ましい。前記第１樹脂層が、このようなガラス転移温度を有すると、該層上に電極等を形成する際の加熱や熱処理を高温で行うことができるため、このようにして得られる電極は低抵抗で高透過率となり、光の取り出し効率および耐久性等に優れた発光素子を容易に製造することができる。
【０１４７】
前記第１樹脂層は、引張強度が、５０〜２００ＭＰａであることが好ましく、８０〜１５０ＭＰａであることがより好ましい。引張強度は、引張試験機５５４３（ＩＮＳＴＲＯＮ社製）を用いて測定することができる。
【０１４８】
前記第１樹脂層は、破断伸びが、５〜１００％であることが好ましく、１５〜１００％であることがより好ましい。破断伸びは、引張試験機５５４３（ＩＮＳＴＲＯＮ社製）を用いて測定することができる。
【０１４９】
前記第１樹脂層は、引張弾性率が、２．５〜４．０ＧＰａであることが好ましく、２．７〜３．７ＧＰａであることがより好ましい。引張弾性率は、引張試験機５５４３（ＩＮＳＴＲＯＮ社製）を用いて測定することができる。
【０１５０】
前記第１樹脂層は、ＳｅｉｋｏＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＳＳＣ−５２００型ＴＭＡ測定装置を用いて測定した線膨張係数が、好ましくは８０ｐｐｍ／Ｋ以下、より好ましくは７５ｐｐｍ／Ｋ以下である。
【０１５１】
前記第１樹脂層は、湿度膨張係数が、１５ｐｐｍ／％ＲＨ以下であることが好ましく、１２ｐｐｍ／％ＲＨ以下であることがより好ましい。湿度膨張係数は、ＭＡ（ＳＩＩナノテクノロジー社製、ＴＭＡ−ＳＳ６１００）湿度制御オプションを用いて測定することができる。第１樹脂層の膨張係数が前記範囲にあると、寸法安定性（環境信頼性）が高いことを示すため、発光素子により好適に用いることができる。
【０１５２】
前記第１樹脂層は、比誘電率が２．０〜４．０であることが好ましく、２．３〜３．５であることがより好ましく、２．５〜３．２であることがさらに好ましい。比誘電率は、ＨＰ（株）製の４２８４Ａ型ＬＣＲメーターを用いて測定することができる。比誘電率が前記範囲にあると、前記第１樹脂層を含む発光素子は、安定した発光状態を示す傾向が高い。
【０１５３】
前記第１樹脂層は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５透明度試験法における全光線透過率が、５０％以上であることが好ましい。全光線透過率は、ヘイズメーターＳＣ−３Ｈ（スガ試験機（株）製）を用いて測定することができる。
【０１５４】
前記第１樹脂層は、厚みが３０μｍである場合に、ＹＩ値（イエローインデックス）が、３．０以下であることが好ましく、２．５以下であることがより好ましく、２．０以下であることがさらに好ましい。ＹＩ値は、スガ試験機（株）製ＳＭ−Ｔ型色彩測定器を用いて測定することができる。
【０１５５】
前記第１樹脂層は、厚みが３０μｍである場合に、熱風乾燥機にて大気中２３０℃で１時間の加熱を行った後のＹＩ値が３．０以下であることが好ましく、２．５以下であることがより好ましく、２．０以下であることがさらに好ましい。
【０１５６】
なお、前記第１樹脂層は、前記粒子（Ａ）を含むため、その屈折率を測定することは容易ではない。
【０１５７】
＜第２樹脂層＞
本発明の発光素子は、さらに、第２樹脂層を有していてもよい。
前記第２樹脂層は、
（ｃ）前記第１電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
（ｄ）前記第２電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方、好ましくは、
（ｃ'）前記第１電極と前記第１樹脂層との間、および、
（ｄ'）前記第２電極と前記第１樹脂層との間、
の少なくとも一方に形成されており、
示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上の樹脂を含み、波長６３２．８ｎｍの光を用いて測定した屈折率が１．６０以上である。
【０１５８】
前記第２樹脂層は、前記粒子（Ａ）を含まない層である。このため、第２樹脂層を前記（ｃ'）や（ｄ'）に形成する場合、電極表面を平坦化させることが期待できる。
なお、前記第２樹脂層は、高屈折率の層が得られるなどの点から、前記粒子（Ｂ）を含むことが好ましい。
【０１５９】
前記第２樹脂層は、本発明の発光素子中に、２層以上含まれていてもよい。この場合、同じ組成からなる第２樹脂層が本発明の発光素子中に２層以上含まれていてもよく、異なる組成の第２樹脂層が本発明の発光素子中に２層以上含まれていてもよい。
【０１６０】
このような第２樹脂層は、少なくとも重合体（Ｉ）および特定溶媒を含有する発光素子形成用樹脂組成物から形成される層であることが好ましい。
該発光素子形成用樹脂組成物に含まれる成分および含まれ得る成分については、前記粒子（Ａ）を含まない以外、第１樹脂層で説明したのと同様であればよい。
また、第２樹脂層の製造方法も第１樹脂層の製造方法と同様であればよい。
【０１６１】
第２樹脂層の波長６３２．８ｎｍの光を用いて測定した屈折率は、好ましくは１．６０以上、さらに好ましくは１．６５以上、特に好ましくは１．７５以上である。
前記第２樹脂層の屈折率が前記範囲にあると、得られる発光素子の光の取り出し効率が高くなる。
前記重合体（Ｉ）を含むため、このような屈折率を有する第２樹脂層が得られる。
屈折率は、プリズムカプラ  モデル２０１０（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製）を用いて測定することができる。
なお、第２樹脂層の屈折率以外の物性は、前記第１樹脂層の物性と同様であればよい。
【０１６２】
＜第３樹脂層＞
本発明の発光素子は、さらに、第３樹脂層を有していてもよい。該第３樹脂層は、前記粒子（Ａ）および（Ｂ）を含まない。また、実質的に樹脂のみからなる層であることが好ましい。このような第３樹脂層は、前記第１および／または第２樹脂層を基板に接して設ける場合、前記第１および／または第２樹脂層と基板との間に設けることが好ましい。
このような第３樹脂層は、接着性に優れるため、発光素子の長期信頼性が向上した発光素子を得ることができると考えられる。
【０１６３】
前記第３樹脂層は、本発明の発光素子中に、２層以上含まれていてもよい。この場合、同じ組成からなる第３樹脂層が本発明の発光素子中に２層以上含まれていてもよく、異なる組成の第３樹脂層が本発明の発光素子中に２層以上含まれていてもよい。
【０１６４】
前記第３樹脂層は、前記エポキシ系樹脂を含む発光素子形成用樹脂組成物から形成される層であることが好ましい。
該発光素子形成用樹脂組成物に含まれる成分および含まれ得る成分については、前記粒子（Ａ）および（Ｂ）を含まない以外、第１樹脂層で説明したのと同様であればよい。
また、第３樹脂層の製造方法も第１樹脂層の製造方法と同様であればよい。
さらに、前記第１樹脂層の物性と同様であればよい。
【実施例】
【０１６５】
以下、本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。【０１６６】
（１）構造分析
下記合成例で得られた重合体の構造分析は、ＩＲ（ＡＴＲ法、ＦＴ−ＩＲ，６７００（ＮＩＣＯＬＥＴ社製））およびＮＭＲ（ＡＤＶＡＮＣＥ５００型，ＢＲＵＫＡＲ社製）により行った。【０１６７】
（２）重量平均分子量（Ｍｗ）
下記合成例で得られた重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＴＯＳＯＨ製ＨＬＣ−８２２０型ＧＰＣ装置（カラム：ＴＳＫｇｅｌα―Ｍ、展開溶剤：ＴＨＦ）を用いて測定した。【０１６８】
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）
下記合成例で得られた重合体または発光素子用樹脂層のガラス転移温度は、Ｒｉｇａｋｕ社製８２３０型ＤＳＣ測定装置を用いて、昇温速度２０℃／ｍｉｎとして測定した。なお、発光素子用樹脂層のガラス転移温度は、得られた発光素子用樹脂層付基板から樹脂層を剥離したものを用いて測定した。結果を表１または２に示す。【０１６９】
（４）全光線透過率、Ｈａｚｅ値およびイエローインデックス（ＹＩ値）
下記実施例および比較例で得られた発光素子用樹脂層付基板から樹脂層を剥離し、得られた発光素子用樹脂層について、全光線透過率、Ｈａｚｅ値およびイエローインデックス（ＹＩ値）をＪＩＳ  Ｋ７１０５透明度試験法に準じて測定した。具体的には、全光線透過率を、スガ試験機（株）製ヘイズメーターＳＣ−３Ｈを用いて測定し、ＹＩ値を、スガ試験機（株）製ＳＭ−Ｔ型色彩測定器を用いて測定した（加熱前ＹＩ)。
また、下記実施例および比較例で得られた発光素子用樹脂層付基板から樹脂層を剥離し、得られた発光素子用樹脂層を熱風乾燥機にて大気中２００℃で３０分間の加熱を行った後、ＹＩ値をスガ試験機（株）製ＳＭ−Ｔ型色彩測定器を用いて測定した（加熱後ＹＩ）。なお、測定は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５条件に準じて行った。
全光線透過率、Ｈａｚｅ値およびＹＩ値の結果を表１または２に示す。【０１７０】
（５）屈折率
下記調製例で得られた樹脂組成物の屈折率は、該樹脂組成物から溶媒を除去することで膜を形成し、得られた膜をプリズムカプラ  モデル２０１０（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製）を用いて測定した。なお、屈折率は波長６３２．８ｎｍの光を用いて測定した。結果を表１または２に示す。【０１７１】
（６）素子の評価
下記実施例および比較例で得られた発光素子用樹脂層付基板または基板Ａを用いて、それぞれ有機ＥＬ素子を作成した。それぞれの樹脂層（下記実施例６の場合は樹脂層Ｂ、下記実施例７の場合は樹脂層Ｅ、下記実施例９の場合は樹脂層Ｇ）上、あるいはＵＶオゾン洗浄した面の上（比較例１のみ）に、透明性電極としてスパッタ法によりインジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）の膜を１００ｎｍの厚みで成膜した。なお、スパッタの際における基板温度は１６０℃とした。得られた透明性電極の、抵抗率計であるロレスタＧＰ  ＭＣＰ−Ｔ６１０型（（株）三菱化学アナリテック製）で測定したシート抵抗値は２０Ω／ｃｍ2であった。
得られた透明性電極の表面に、ホール輸送層として、オリゴアニリン誘導体（アニリン５量体をＤＭＦに溶解させ、そこに３倍モル当量の５−スルホサリチルアミドをドーピングしたもの）からなる７０ｎｍの厚みの層、発光層として、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビスフェニル−４，４’−ジアミン（α−ＮＰＤ）からなる５０ｎｍの厚みの層、電子輸送層として、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（Ａｌｑ3）からなる５０ｎｍの厚みの層をこの順で順次形成した。続いて、電子輸送層上に陰極としてマグネシウム−銀合金層を蒸着させた。このときの陰極の膜厚は２００ｎｍとした。
このようにして作成した有機ＥＬ素子の透明性電極および陰極に電圧を１０Ｖ印加し、基板Ａ面からの発光量を積分球を用いたフォトダイオードにて測定した。なお、この時、発光素子用樹脂層を含まない素子の測定値を１．０とした。結果を表１または２に示す。【０１７２】
［合成例１］
＜重合体の合成＞
３Ｌの４つ口フラスコに（Ａ）成分：２，６−ジフルオロベンゾニトリル（以下「ＤＦＢＮ」ともいう。）３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、（Ｂ）成分：９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（以下「ＢＰＦＬ」ともいう。）８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。
続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管および冷却管を取り付けた。【０１７３】
次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をＤｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなった後、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。
室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（重合体）を得た（収量９５．６７ｇ、収率９５％）。【０１７４】
得られた重合体の構造分析および重量平均分子量の測定を行った。結果は、赤外吸収スペクトルの特性吸収が、３０３５ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ伸縮）、２２２９ｃｍ-1（ＣＮ）、１５７４ｃｍ-1、１４９９ｃｍ-1（芳香環骨格吸収）、１２４０ｃｍ-1（−Ｏ−）にあり、重量平均分子量は１３０，０００であった。得られた重合体は構造単位（Ａ）を有していた。
また、得られた重合体のガラス転移温度は２７０℃であった。【０１７５】
【化９】
2013105626.tif 000011
【０１７６】
[調製例１]
合成例１で得られた重合体を重合体濃度が１０質量％となるようシクロヘキサノンに再溶解させた溶液（以降、「樹脂溶液１」とする。）を、密栓が可能なポリエチレン容器に加え、次いで、得られた溶液に、水酸化アルミニウムで表面処理された酸化チタン微粒子（平均粒子径：１５ｎｍ）を該重合体１００質量部に対して１６０質量部になるように加えた。さらに粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズ（（株）ニッカトー製）３００質量部を加え、ペイントシェイカー（レッドデビル社）を用いて５時間振盪して、酸化チタン微粒子を分散させた後、ジルコニアビーズを除去することで樹脂組成物１を得た。
[実施例１]
前記樹脂組成物１に、更に酸化チタン粒子であるＴＩＴＡＮＩＸ  ＪＲ−１０００（テイカ（株）製、平均粒子径：１μｍ）を、樹脂組成物１における溶剤を除く固形分とＴＩＴＡＮＩＸ  ＪＲ−１０００との質量比が９０／１０となるよう添加した後、ホモジナイザーを用いて、室温にて１０，０００ｒｐｍで５分間攪拌し、コーティング組成物１（固形分濃度：２４質量％）を得た。【０１７７】
透明基板として無アルカリガラス板（商品名：ＥＡＧＬＥ  ＸＧ、Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、厚み：０．７ｍｍ）の片面をＵＶオゾン洗浄した（以降、「基板Ａ」とする）。該基板ＡのＵＶオゾン洗浄した面に、得られたコーティング組成物１をスピンコート法（回転数：１０００ｒｐｍ、回転時間：１０秒）にて塗布した。この塗布基板を強制攪拌式の乾燥機を用いて、８０℃で３分間加熱し、ひきつづき１８０℃で３０分間加熱した後に、乾燥機から取出し、大気中で室温まで冷却して、発光素子用樹脂層１付基板を得た。【０１７８】
[調製例２]
水酸化アルミニウムで表面処理された酸化チタン微粒子（平均粒子径：１５ｎｍ）１００重量部に対して、分散剤として酸基を含む共重合物であるＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１（ビックケミー・ジャパン（株）製）１０重量部、シクロヘキサノン２７５重量部、更に粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズ（（株）ニッカトー製）２００質量部を加えて、ペイントシェイカー（レッドデビル社）を用いて５時間振盪し、酸化チタン微粒子を分散させた。次いで、得られた分散液に、フルオレン基を含有するエポキシ化合物であるオグソールＰＧ−１００（大阪ガスケミカル（株）製、硬化後のガラス転移温度：１８０℃）３６重量部および無水トリメリット酸（和光純薬工業（株）製）１２重量部を溶解させた後、ジルコニアビーズを除去することで樹脂組成物２を得た。【０１７９】
[実施例２]
前記樹脂組成物２に、更に酸化チタン粒子であるＴＩＴＡＮＩＸ  ＪＲ−１０００を、樹脂組成物２における溶剤を除く固形分とＴＩＴＡＮＩＸ  ＪＲ−１０００との質量比が８５／１５となるよう添加した後、ホモジナイザーを用いて、室温にて１０，０００ｒｐｍで５分間攪拌し、コーティング組成物２（固形分濃度：４０質量％）を得た。
コーティング組成物１の代わりにコーティング組成物２を用いた以外は実施例１と同様にして、発光素子用樹脂層２付基板を得た。【０１８０】
[調製例３]
酸化チタン微粒子（平均粒子径：１５ｎｍ）の代わりにチタン酸バリウム微粒子（平均粒子径：５０ｎｍ）を用いた以外は調製例２と同様にして、樹脂組成物３を得た。【０１８１】
[実施例３]
樹脂組成物２の代わりに得られた樹脂組成物３に用いた以外は実施例２と同様にして、コーティング組成物３（固形分濃度４０質量％）を得た。
コーティング組成物１の代わりにコーティング組成物３を用いた以外は実施例１と同様にして、発光素子用樹脂層３付基板を得た。【０１８２】
[調製例４]
前記樹脂溶液１の代わりに、市販の透明ポリイミド樹脂であるリカコートＰＮ−２０（酸ジ無水物として３，３'，４，４'−ジフェニルスルホン−テトラカルボン酸ジ無水物を使用した２成分系、ガラス転移温度：２７０℃、重合体濃度２０質量％）を、Ｎ−メチル−２−ピロリドンにて希釈した溶液（樹脂濃度：１０質量％）を用いた以外は、調製例１と同様にして樹脂組成物４を得た。【０１８３】
[実施例４]
樹脂組成物１の代わりに樹脂組成物４を用いた以外は実施例１と同様にしてコーティング組成物４（固形分濃度：２４質量％）を得た。
コーティング組成物１の代わりにコーティング組成物４を用いた以外は実施例１と同様にして、発光素子用樹脂層４付基板を得た。【０１８４】
[実施例５]
実施例２で用いたＴＩＴＡＮＩＸ  ＪＲ−１０００の代わりに、ポリマー組成として架橋スチレン−アクリルからなる中空粒子であるＳＸ８７８２（Ｐ）（ＪＳＲ（株）製、平均粒子径：１．１μｍ、内孔径：０．９μｍ）を、前記樹脂組成物２における溶剤を除く固形分と中空粒子との質量比が９７／３となるように添加した以外は、実施例２と同様にしてコーティング組成物５（固形分濃度：３８質量％）を得た。
コーティング組成物１の代わりにコーティング組成物５を用いた以外は実施例１と同様にして、発光素子用樹脂層５付基板を得た。【０１８５】
[実施例６]
基板ＡのＵＶオゾン洗浄した面に、前記コーティング組成物２をスピンコート法（回転数：１０００ｒｐｍ、回転時間：１０秒）にて塗布した。この塗布基板を強制攪拌式の乾燥機を用いて、８０℃で３分間加熱し、ひきつづき１８０℃で３０分間加熱した後に、乾燥機から取出し、大気中で室温まで冷却することで樹脂層Ａ付基板を得た。次いで、得られた樹脂層Ａ付基板の樹脂層Ａ上に、前記樹脂組成物１をスピンコート法（回転数：１０００ｒｐｍ、回転時間：１０秒）にて塗布した。得られた基板を強制攪拌式の乾燥機を用いて、８０℃で３分間加熱し、ひきつづき１８０℃で３０分間加熱した後に、乾燥機から取出し、大気中で室温まで冷却することで、基板Ａ、コーティング組成物２から形成された樹脂層Ａおよび樹脂組成物１から形成された樹脂層Ｂがこの順で積層された発光素子用樹脂層６付基板を得た。【０１８６】
[調製例５]
オグソールＰＧ−１００  ３６重量部、無水トリメリット酸（和光純薬工業（株）製）  １２重量部、および、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン  ２重量部をシクロヘキサノン  ９５０重量部に溶解させることで樹脂組成物５を得た。【０１８７】
[実施例７]
基板ＡのＵＶオゾン洗浄した面に、前記樹脂組成物５をスピンコート法（回転数：２０００ｒｐｍ、回転時間：１０秒）にて塗布した。この塗布基板を強制攪拌式の乾燥機を用いて、８０℃で３分間加熱し、ひきつづき１８０℃で１０分間加熱した後に、乾燥機から取出し、大気中で室温まで冷却することで樹脂層Ｃ付基板を得た。更に、得られた樹脂層Ｃ付基板の樹脂層Ｃ上に、前記コーティング組成物２をスピンコート法（回転数：１０００ｒｐｍ、回転時間：１０秒）にて塗布した。この塗布基板を強制攪拌式の乾燥機を用いて、８０℃で３分間加熱し、ひきつづき１８０℃で３０分間加熱した後に、乾燥機から取出し、大気中で室温まで冷却することで、基板Ａ、樹脂層Ｃおよび樹脂層Ｄがこの順で積層された基板を得た。更に、得られた基板の樹脂層Ｄ上に、前記樹脂組成物１をスピンコート法（回転数：１０００ｒｐｍ、回転時間：１０秒）にて塗布した。この塗布基板を強制攪拌式の乾燥機を用いて、８０℃で３分間加熱した後、ひきつづき１８０℃で３０分間加熱した後に、乾燥機から取出し、大気中で室温まで冷却することで、基板Ａ、樹脂組成物５から形成された樹脂層Ｃ、コーティング組成物２から形成された樹脂層Ｄ、および、樹脂組成物１から形成された樹脂層Ｅがこの順で積層された発光素子用樹脂層７付基板を得た。【０１８８】
[実施例８]
実施例１で用いたＴＩＴＡＮＩＸ  ＪＲ−１０００の代わりにシリカ粒子としてＨＰＳ−０５００（東亞合成（株）製、平均粒子径：０．５μｍ）を、前記樹脂組成物１における溶剤を除く固形分とシリカ粒子との質量比が９０／１０となるように添加した以外は実施例１と同様にしてコーティング組成物６（固形分濃度：２４質量％）を得た。  コーティング組成物１の代わりにコーティング組成物６を用いた以外は実施例１と同様にして、発光素子用樹脂層８付基板を得た。【０１８９】
[調製例６]
オグソールＰＧ−１００  ６６重量部、ＴＩＴＡＮＩＸ  ＪＲ−１０００  １８重量部、および、溶剤としてγ−ブチロラクトン  ４００重量部を加えた後、ホモジナイザーを用いて１０，０００ｒｐｍで５分間攪拌した。更に、無水トリメリット酸１６重量部を加えて、攪拌羽根を用いて、室温にて２００ｒｐｍで１０分間混合して樹脂組成物６を得た。【０１９０】
[実施例９]
基板ＡのＵＶオゾン洗浄した面に、前記樹脂組成物６をスピンコート法（回転数：１０００ｒｐｍ、回転時間：１０秒）にて塗布した。この塗布基板を強制攪拌式の乾燥機を用いて、８０℃で３分間加熱し、ひきつづき１５０℃で１０分間加熱した後に、乾燥機から取出し、大気中で室温まで冷却することで樹脂層Ｆ付基板を得た。次いで、得られた樹脂層Ｆ付基板の樹脂層Ｆ上に、前記樹脂組成物１をスピンコート法（回転数：１０００ｒｐｍ、回転時間：１０秒）にて塗布した。この塗布基板を強制攪拌式の乾燥機を用いて、８０℃で３分間加熱し、ひきつづき１８０℃で１０分間加熱した後に、乾燥機から取出し、大気中で室温まで冷却することで、基板Ａ、樹脂組成物６から形成された樹脂層Ｆおよび樹脂組成物１から形成された樹脂層Ｇがこの順で積層された発光素子用樹脂層９付基板を得た。【０１９１】
[調製例７]
合成例１で得た重合体をシクロヘキサノンに溶解させた溶液（重合体濃度：２２．４質量％）を用いた以外は、実施例１と同様にして樹脂組成物７を得た。【０１９２】
[実施例１０]
樹脂組成物１の代わりに樹脂組成物７を用いた以外は実施例１と同様にしてコーティング組成物７（固形分濃度２４質量％）を得た。
コーティング組成物１の代わりにコーティング組成物７を用いた以外は実施例１と同様にして、発光素子用樹脂層１０付基板を得た。【０１９３】
[比較例１]
前記素子の評価において、基板Ａを用いた。【０１９４】
［調製例８］
前記樹脂溶液１の代わりに、市販のＰＭＭＡ樹脂であるパラペットＨＲ−Ｓ（（株）クラレ製、ガラス転移温度１００℃）をシクロヘキサノンに溶解させた溶液（樹脂濃度：１０質量％）を用いた以外は、調製例１と同様にして樹脂組成物８を得た。【０１９５】
[比較例２]
樹脂組成物１の代わりに樹脂組成物８を用いた以外は実施例１と同様にして、コーティング組成物８（固形分濃度２４質量％）を得た。
基板ＡのＵＶオゾン洗浄した面に、得られたコーティング組成物８をスピンコート法（回転数：１０００ｒｐｍ、回転時間：１０秒）にて塗布した。得られた塗布基板を強制攪拌式の乾燥機を用いて、８０℃で３分間加熱し、ひきつづき１２０℃で３０分間加熱した後に、乾燥機から取出し、大気中で室温まで冷却して、発光素子用樹脂層１１付基板を得た。【０１９６】
[比較例３]
実施例１において、前記コーティング組成物１の代わりに、前記樹脂組成物１（固形分濃度２２質量％）を用いた以外は実施例１と同様にして、発光素子用樹脂層１２付基板を得た。【０１９７】
【表１】
2013105626.tif 000012
【０１９８】
【表２】
2013105626.tif 000013
【０１９９】
本発明による基板を用いることで従来構造の有機ＥＬ素子の面発光輝度を大幅に上昇させることを確認するに至った。
【符号の説明】
【０２００】
１０、２０、３０：      発光素子
１１、２１、３１：      基板
１３、２３、３３：      第１電極
１５、２５、３５：      発光層
１７、２７、３７：      第２電極
１８、２８、：      第１樹脂層
３８、３９：      第１樹脂層または第２樹脂層（但し、少なくとも一方は第１樹脂層である。）
【図１】
2013105626.tif 000014
【図２】
2013105626.tif 000015
【図３】
2013105626.tif 000016
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月4日(2014.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と発光層と第２電極と第１樹脂層とを備える発光素子であって、前記第１電極と前記発光層と前記第２電極とがこの順に積層されてなり、前記第１樹脂層は、
（ａ）前記第１電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
（ｂ）前記第２電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上の樹脂と、平均粒子径が０．１μｍ〜５μｍの粒子（Ａ）とを含むことを特徴とする発光素子。
【請求項２】
前記第１樹脂層が、さらに、平均粒子径が１ｎｍ以上１００ｎｍ未満の金属酸化物微粒子（Ｂ）を含むことを特徴とする請求項１に記載の発光素子。
【請求項３】
さらに、第２樹脂層を備える発光素子であって、前記第２樹脂層は、
（ｃ）前記第１電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
（ｄ）前記第２電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上の樹脂を含み、波長６３２．８ｎｍの光を用いて測定した屈折率が１．６０以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の発光素子。
【請求項４】
前記第２樹脂層は、
（ｃ'）前記第１電極と前記第１樹脂層との間、および、
（ｄ'）前記第２電極と前記第１樹脂層との間、
の少なくとも一方に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の発光素子。
【請求項５】
前記発光素子が有機エレクトロルミネッセンス素子である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の発光素子の第１樹脂層を形成するための発光素子形成用樹脂組成物。
【請求項７】
請求項３〜５のいずれか１項に記載の発光素子の第２樹脂層を形成するための発光素子形成用樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
［４］  前記第２樹脂層は、
（ｃ'）前記第１電極と前記第１樹脂層との間、および、
（ｄ'）前記第２電極と前記第１樹脂層との間、
の少なくとも一方に形成されていることを特徴とする［３］に記載の発光素子。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
このような多様な層として、光の取り出し効率がより高い発光素子を得るなどの点から、発光層１５から第１樹脂層１８を経て発光素子１０の外部に行くに従って、屈折率が小さくなるようにするために、第２電極１７と第１樹脂層１８との間、および／または第１樹脂層１８の第２電極１７が形成された側とは反対側に、第２樹脂層や第３樹脂層などの層を設けてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
発光素子３０は、第２電極３７の屈折率、樹脂層３９の屈折率、空気の屈折率（約１．０）がこの順で小さくなり、第１電極３３の屈折率、樹脂層３８の屈折率、基板３１の屈折率、空気の屈折率（約１．０）がこの順で小さくなる発光素子が好ましい。
なお、発光素子３０の光の取り出し効率を考慮すると前記基板３１としては、屈折率が樹脂層３８より小さいガラス基板または透明プラスチック基板であることが好ましい。
発光素子３０は、樹脂層３８および樹脂層３９を有するため、発光層３５で生じた光を光の屈折によって効果的に外部に取り出すことができ、光の取り出し効率の高い発光素子となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
＜第１電極＞
前記第１電極は、第１電極形成用物質を用い、蒸着法またはスパッタリング法などにより基板の上面等に製造できる。透過型電極を形成する場合には、第１電極形成用物質として、透明であって導電性に優れる酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）などを用いることができる。
また、反射型電極を形成する場合には、第１電極形成用物質として、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム−リチウム（Ａｌ−Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、マグネシウム−インジウム（Ｍｇ−Ｉｎ）、マグネシウム−銀（Ｍｇ−Ａｇ）などを用いることができる。第１電極の厚さは、所望の目的に応じて適宜選択すればよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
前記粒子（Ｂ）は、粉体状であってもよいし、溶媒分散ゾルであってもよい。溶媒分散ゾルに含まれる溶媒としては、例えば、２−ブタノール、メタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、γ−ブチロラクトンが挙げられる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３１】
フッ素系の界面活性剤の例として、例えば、メガファックＦ−１１４、Ｆ４１０、Ｆ４１１、Ｆ４５０、Ｆ４９３、Ｆ４９４、Ｆ４４３、Ｆ４４４、Ｆ４４５、Ｆ４４６、Ｆ４７０、Ｆ４７１、Ｆ４７２ＳＦ、Ｆ４７４、Ｆ４７５、Ｒ３０、Ｆ４７７、Ｆ４７８、Ｆ４７９、Ｆ４８０ＳＦ、Ｆ４８２、Ｆ４８３、Ｆ４８４、Ｆ４８６、Ｆ４８７、Ｆ５５９、Ｆ５６２、Ｆ５６３、Ｆ１７２Ｄ、Ｆ１７８Ｋ、Ｆ１７８ＲＭ、ＥＳＭ−１、ＭＣＦ３５０ＳＦ、ＢＬ２０、Ｒ０８、Ｒ６１、Ｒ９０（ＤＩＣ（株）製）が挙げられる。
特に好ましい例としては、親水性基と親油性基を有するメガファックＦ５５９、Ｆ５６２、Ｆ５６３が挙げられる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
本発明で使用することのできるヒンダードフェノール系化合物としては、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−３，５−トリアジン、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，３−トリス［２−メチル−４−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］ブタン、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト、および、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンなどを挙げることができる。これらは、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７５】
【化９】
2013105626.tif 000017
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８１】
[実施例３]
樹脂組成物２の代わりに得られた樹脂組成物３を用いた以外は実施例２と同様にして、コーティング組成物３（固形分濃度４０質量％）を得た。
コーティング組成物１の代わりにコーティング組成物３を用いた以外は実施例１と同様にして、発光素子用樹脂層３付基板を得た。
【国際調査報告】
2013105626.tif 000018
2013105626.tif 000019
2013105626.tif 000020
2013105626.tif 000021
2013105626.tif 000022