(57)【要約】  第１の樹脂基材３に反射層５が設けられたフィルムミラー１０ａにおいて、反射層５の光反射側に隣接させる腐食防止層６が、シリコーン変性樹脂とシランカップリング剤を含み、更に分子中にチオール基を有する化合物を含有する構成にした。
2013141304.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム基材に反射層が設けられたフィルムミラーであって、
前記反射層の光反射側に隣接して積層された腐食防止層を備え、
前記腐食防止層は、シリコーン変性樹脂とシランカップリング剤を含んで形成され、更に分子中にチオール基を有する化合物を含有していることを特徴とするフィルムミラー。
【請求項２】
前記化合物は、分子中にチオール基を２以上有していることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記シリコーン変性樹脂は、アクリルシリコーン樹脂であることを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記化合物は、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネートであることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記化合物は、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネートであることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
前記腐食防止層上に、塗布にて樹脂を主成分とする層を設けたことを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載のフィルムミラー。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか一項に記載のフィルムミラーを、支持基材に貼り付けて形成したことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラー及びそのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わるエネルギーとして、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー、太陽エネルギー等の利用が検討されている。なかでも、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており且つ量の多い自然エネルギーは太陽エネルギーであると考えられている。しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であること等が問題となると考えられる。【０００３】
太陽エネルギーを活用する上での上記課題における、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決する方法が提案されている。例えば、反射装置によって太陽光を集めて得られた熱を媒体として発電する、太陽熱発電が提案されている。
この反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来ガラス製ミラーが用いられてきた。但し、ガラス製ミラーは、環境に対する耐久性が高い反面、輸送時などに破損してしまう場合があることや、その重量が大きいためミラーを設置する架台を強化する必要があることなどのため、プラントの建設費がかさむといった問題があった。【０００４】
その一方で、軽量で柔軟性が高く、かつ生産コストおよび輸送コストが低い太陽熱発電用のミラーとしてフィルムミラーがある。例えば、フィルムミラーはフィルム基材に設けられた反射層上に樹脂からなる腐食防止層を積層して反射層を構成する金属の腐食を抑制している。さらに、その上層にＵＶ吸収剤を含んだ樹脂層を積層することによる劣化の抑制や、最表面にハードコート層などを設けることによる傷つき抑制などによって、耐久性の向上を図っている。
また、太陽熱発電用のミラーは屋外環境下に設置されるため、ミラー表面に付着する砂塵等に起因する反射率低下を抑制する目的で、定期的に高圧放水やブラッシングによる洗浄作業が行われている。しかしながら、長期間屋外暴露したフィルムミラーにこれらの洗浄を施した場合、洗浄時に生じる応力により反射層とその上層の腐食防止層とが剥離してしまい、反射率が低下するという問題があった。
上記の様に太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、長期間の屋外使用に耐えうるとともに、洗浄作業時に発生する応力によって反射層との剥離が生じないよう高い密着性を有する腐食防止層の構築技術が課題となっていた。【０００５】
既に報告されている太陽熱発電用フィルムミラーに関して、特許文献１の技術が挙げられる。この文献におけるフィルムミラーでは、フィルムの最表層にＵＶ吸収剤を含んだアクリル層を設けており、ＵＶ露光に起因する樹脂層の変色による反射率の低下を抑制している。しかしながら特許文献１の場合、反射層とアクリル層の間にＰＥＴ層と粘着層とが挟まれており、半年間以上の屋外暴露後にブラッシングによる洗浄を行った場合に、反射層とＰＥＴ層とに剥離が生じて、反射率が大きく低下するという問題があった。
一方、腐食防止層に、反射層との密着性を高めることのできる材料を単純に含有させるのみでは、腐食耐性が維持されない場合も考えられる。
このように、太陽熱発電に用いることができ、長期間屋外に暴露された後に洗浄作業による負荷をかけても反射層と腐食防止層との界面で剥離が生じない程度の高い密着性を有し、かつ反射層の腐食を抑制できるフィルムミラーは未だ提案されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００９−５２０１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の主な目的は、反射層と腐食防止層との密着性が高く、且つ反射層の腐食を抑制できるフィルムミラーと、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
以上の課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、
フィルム基材に反射層が設けられたフィルムミラーであって、
前記反射層の光反射側に隣接して積層された腐食防止層を備え、
前記腐食防止層は、シリコーン変性樹脂とシランカップリング剤を含んで形成され、更に分子中にチオール基を有する化合物を含有していることを特徴とする。【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のフィルムミラーにおいて、
前記化合物は、分子中にチオール基を２以上有していることを特徴とする。【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のフィルムミラーにおいて、
前記シリコーン変性樹脂は、アクリルシリコーン樹脂であることを特徴とする。【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載のフィルムミラーにおいて、
前記化合物は、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネートであることを特徴とする。【００１２】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載のフィルムミラーにおいて、
前記化合物は、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネートであることを特徴とする。【００１３】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５の何れか一項に記載のフィルムミラーにおいて、
前記腐食防止層上に、塗布にて樹脂を主成分とする層を設けたことを特徴とする。【００１４】
請求項７に記載の発明は、太陽熱発電用反射装置であって、
請求項１〜６の何れか一項に記載のフィルムミラーを、支持基材に貼り付けて形成したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、反射層と腐食防止層との密着性が高く、且つ反射層の腐食を抑制できるフィルムミラーと、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーと太陽熱発電用反射装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーと太陽熱発電用反射装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明者らが鋭意検討した結果、アクリルシリコーン樹脂を含有する腐食防止層に、分子中にチオール基を有する化合物を含有させることで、高い腐食防止性能を維持しつつ、反射層との密着性が高い腐食防止層を得ることができることを見出した。
分子中にチオール基を有する化合物は、下記一般式（３）で表される。
【００１８】
【化１】
2013141304.tif 000003
【００１９】
一般式（３）において、Ｒ６１及びＲ６２は、水素原子又は置換基を表し、Ｒ６１及びＲ６２のうちいずれか一方は水素原子を表す。ただし、Ｒ６１及びＲ６２が共に水素原子を表すことはない。一般式（３）において、Ｒ６１及びＲ６２で表される置換基の具体例については後述する。
上記一般式（３）で表される化合物において、分子中のチオール基の数は２以上が好ましく、３以上がより好ましい。
【００２０】
本発明者らは、上記のような分子中にチオール基を有する化合物を腐食防止層中に含有させることで、当該チオール基が、腐食防止層に隣接する反射層表面の金属に結合し、高い腐食耐性を維持しつつ密着性を向上させられるものと推察している。
【００２１】
以下、本発明に係る太陽熱発電用フィルムミラーについて詳細について説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
【００２２】
（１）太陽熱発電用フィルムミラーの構成概要
本発明に係るフィルムミラーの構成を、図１、図２を用いて説明する。
太陽熱発電用のフィルムミラー１０ａ、１０ｂは、例えば、図１、図２に示すように、フィルム基材としての第１の樹脂基材３上に、構成層として少なくとも反射層５と、反射層５の光反射側に隣接して積層された腐食防止層６と、光反射側の最表面に積層されたハードコート層９とを備えている。なお、腐食防止層６は少なくともシリコーン変性樹脂とシランカップリング剤を含んで形成され、更に、分子中にチオール基を有する化合物を含有している。また、ハードコート層９はＵＶ吸収剤を含有している。
また、フィルムミラーの他の構成層として、第１の樹脂基材３と反射層５の間にアンカー層４を設けてもよく（図１、図２参照）、また、腐食防止層６とハードコート層９の間に接着層７と第２の樹脂基材８を設けてもよい（図１参照）。また、第１樹脂基材３における光反射側とは反対側の面に粘着層２を設けること（図１、図２参照）も好ましい態様である。
【００２３】
（２）第１の樹脂基材（フィルム基材）
本発明に係るフィルムミラーに用いられる第１の樹脂基材３としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましく、特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましい。この第１の樹脂基材３は、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
第１の樹脂基材３の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。
【００２４】
（３）アンカー層
本発明に係るフィルムミラーに形成されるアンカー層４は、樹脂からなり、第１の樹脂基材３と反射層５とを密着させるものである。従って、アンカー層４は第１の樹脂基材３と反射層５とが密着する密着性、反射層５を真空蒸着法等で形成する際の熱にも耐え得る耐熱性、及び反射層５が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
アンカー層４に用いる樹脂は、上記の密着性、耐熱性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等を使用でき、またこれらの混合樹脂が使用できる。特に、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
アンカー層４の厚さは、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。アンカー層４の厚さが、上記の範囲であると、密着性が良好になりアンカー層４を形成した効果が大きく、また第１の樹脂基材３表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性が良好になり、結果的には反射層５の反射率が高くなる。なお、アンカー層４の厚さを３μｍより厚くしても密着性の向上は望めず、塗りムラの発生により平滑性が悪くなる場合がある。
このアンカー層４の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法を適用できる。
【００２５】
（４）反射層
本発明に係るフィルムミラーに形成される反射層５は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。
反射層５の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。この反射層５は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率、耐食性の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。本発明においては、特に銀を主成分とする銀反射層であることが好ましい。
また、反射層５上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層を設けてさらに反射率を向上させてもよい。
本発明における反射層５（例えば銀反射層）の形成法としては、例えば、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
湿式法とは、めっき法または金属錯体溶液塗布法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応や、銀錯体インクの焼成による銀層形成等がある。
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーの製造方法においては、反射層５を銀の蒸着により形成することが好ましい。
反射層５の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【００２６】
（５）腐食防止層
本発明に係るフィルムミラーに形成される腐食防止層６は、反射層５に隣接して設けられ、反射層５の材料（例えば、銀）の腐食を防止するためのものである。ここで、「腐食」とは、金属材料（銀）を取り囲む環境物質によって、当該金属材料が、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
本発明のフィルムミラーにおける腐食防止層６は、シリコーン変性樹脂、シランカップリング剤、更に、腐食防止剤として、分子中にチオール基を有する化合物を含んで形成されている。当該分子中にチオール基を有する化合物としては、チオール基を複数（２以上）含有する化合物であることが好ましい。
この腐食防止層６は、屋外環境下で長期にわたって設置しても反射層５との間で高い密着性を保つことができる。
【００２７】
（５−１）シリコーン変性樹脂
シリコーン変性樹脂とは、主鎖または側鎖または樹脂骨格の末端部にシロキサン結合部（−Ｓｉ−Ｏ−）ｎを有す樹脂である。ここで、ｎは１以上の整数である。
本発明に用いるシリコーン変性樹脂は、例えば主骨格となる樹脂にポリシロキサン構造を有する樹脂がグラフト状に結合したものでもよいし、主骨格となる樹脂にシランカップリング剤を結合させたものであってもよい。シリコーン変性樹脂のシロキサン結合以外の部位は、例えば、セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキド樹脂等の樹脂骨格を持つものである。特に、アクリル樹脂骨格、アルキド樹脂骨格を持つものが好ましく、より好ましくはアクリル樹脂骨格を持つアクリルシリコーン樹脂がよい。更に好ましくは、アクリル樹脂骨格中にアミノ基を有するものを用いるのがよい。
樹脂骨格中にポリシロキサン構造がグラフト状に結合したシリコーン変性樹脂の具体例としては、ベッコライトＭ−６６５２−６０（大日本インキ化学工業社製）、ベッコライトＭ−６６５０−６０（大日本インキ化学工業社製）、Baysilone Resin UD-460M（バイエルン社製）、ＫＰ−５４１（信越シリコーン社製）、ＫＰ−５４３（信越シリコーン社製）、ＫＰ−５４５（信越シリコーン社製）、ＫＰ−５４９（信越シリコーン社製）、ＫＰ−５５０（信越シリコーン社製）、メタトロン（大宝化学工業社製）等が挙げられる。
また、骨格中にアミノ基を有するアクリル樹脂の具体例としては、ＰＴＣ−０５（藤倉化成社製）、ＰＴＣ−０５０５（藤倉化成社製）、ＰＴＣ−０５−Ｂ２（藤倉化成社製）、ＰＴＣ−０５Ｎ（藤倉化成社製）、ＰＴＣ−０５Ｎ−Ｂ２（藤倉化成社製）、オリジツーク＃１００クリヤ（オリジン電気社製）、オリジツーク＃２００クリヤ（オリジン電気社製）、Ｔ４０−ａ０．７ｈ（オリジン電気社製）、Ｔ５０−ａ０．７ｈ（オリジン電気社製）、Ｔ４０−ｂ１．５ｈ（オリジン電気社製）等が挙げられる。
【００２８】
（５−２）シランカップリング剤
本発明に用いるシランカップリング剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−グリシドキシエトキシトリメトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。なお、主骨格となる樹脂にシランカップリング剤を結合させた場合であっても、未反応のシランカップリング剤やシランカップリング剤同士が反応した化合物等が、腐食防止層６中に残存することもある。
【００２９】
（５−３）分子中にチオール基を有する化合物
本発明に係るフィルムミラーを構成する腐食防止層６には、分子中にチオール基を有する化合物が添加されている。
【００３０】
分子中にチオール基を有する化合物は、下記の一般式（３）で表される。
【００３１】
【化２】
2013141304.tif 000004
【００３２】
一般式（３）中、Ｒ６１及びＲ６２は、水素原子または置換基を表し、Ｒ６１及びＲ６２のうちいずれか一方は水素原子を表す。ただし、Ｒ６１及びＲ６２が共に水素原子を表すことはない。
Ｒ６１及びＲ６２で表される置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（例えばジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げられる。これらの置換基は、更に他の置換基（例えばチオール基）により置換されていてもよい。
【００３３】
また、一般式（３）において、分子中のチオール基の数は２以上が好ましく、３以上がより好ましい。
【００３４】
また、分子中にチオール基を有する化合物としては、分子内に芳香族環や不飽和結合を有しない化合物であることが好ましく、これにより、腐食防止層の耐光性を更に向上させることができる。
【００３５】
分子中にチオール基を有する化合物の具体例としては、例えば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジチオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、チオナリド、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ブタンジオールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリエチレングリコールジメルカプタン、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリルチオプロピオネート）等が挙げられる。なかでも、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネートを用いることが、層密着性及び腐食耐性を向上させる観点から、好ましい。
上記分子中にチオール基を有する化合物は、例えば、淀化学株式会社から、ＢＤＴＧ、ＴＭＴＧ、ＰＥＴＧ、ＴＭＴＰ、ＰＥＴＰという商品名で市販されている。
なお、腐食防止層６に含まれる分子中にチオール基を有する化合物の濃度は、０．０１〜５ｗｔ％が好ましく、より好ましくは０．１〜３ｗｔ％である。
【００３６】
一般に、シリコーン変性樹脂を含有する腐食防止層は、薬品の侵入を有効に防ぎ、高い腐食耐性を有するが、反射層の金属面との密着性が低く、次第に剥離してしまう場合があった。これに対し、本発明では、腐食防止層中に、上記した分子中にチオール基を有する化合物を含有させることで、当該チオール基が反射層表面の金属に結合し、高い腐食耐性を維持しつつ密着性を向上させることができる。
【００３７】
なお、腐食防止層６には、分子中にチオール基を有する化合物に加えて、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物等の腐食防止剤が更に含有されていても良い。
【００３８】
（６）ハードコート層
本発明に係るフィルムミラーに形成されるハードコート層９は、フィルムミラーの最表面層として設けられている。例えば、図１に示すフィルムミラー１０ａでは、ハードコート層９は第２の樹脂基材８上に積層されて最表面に設けられており、また図２に示すフィルムミラー１０ｂでは、ハードコート層９は腐食防止層６上に積層されて最表面に設けられている。ハードコート層９は、フィルムミラーの表面に傷や汚れが付くことを防止する他、ＵＶ吸収剤を高効率かつ長期にわたり機能させるよう担持するために設けられている。
このハードコート層９は、バインダーとして、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等を用い、ＵＶ硬化または熱硬化で形成することができる。
本発明においては、ハードコート層９に有機材料または無機材料からなるＵＶ吸収剤を含有させても良い。また、必要に応じて、光増感剤、光重合開始剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有させるようにしてもよい。
【００３９】
（６−１）シリカ微粒子
充分な高硬度を有し、硬化収縮によるカールを充分に抑制し得るハードコート層９を得るために、ハードコート層９の形成に用いられる硬化性樹脂組成物中にシリカ微粒子を添加することが好ましい。
シリカ微粒子としては、例えば、粉体状シリカまたはコロイダルシリカが挙げられ、平均粒子径が０．０１〜２０μｍの範囲内のものが好適に用いられる。また、シリカ微粒子は、ハードコートフィルムの光透過性に影響を与えないものであることが好ましく、そのためには、一次粒子径が１０〜３５０ｎｍの範囲内にあることが好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。なお、上述したシリカ微粒子の平均粒子径は、例えば、透過型電子顕微鏡で観察することにより測定することができ、また、シリカ微粒子の一次粒子径は、例えば、イソプロピルアルコールなどの溶媒に微粒子を分散させ、その分散液から、コールター粒度分布測定法、レーザー回折散乱法、動的光散乱法などにより測定することができ、これらの中でもコールター粒度分布測定法が一般的である。
シリカ微粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、もしくは不定形状であってよいが、硬化性樹脂中で凝集することなく粒子を好適に分散させるためには、好ましくは球状である。また、ハードコート層９の硬度や平面性を維持する観点から、シリカ微粒子の比表面積は０．１〜３０００ｍ２／ｇの範囲内であることが好ましく、さらには１ｍ２／ｇ以上、とりわけ１０ｍ２／ｇ以上、また１５００ｍ２／ｇ以下であることがより好ましい。
このようなシリカ微粒子も市販されているものを好適に用いることができる。シリカ微粒子の市販品を例示すると、コロイダルシリカとしては、メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製）、ＩＰＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＭＥＫ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＮＢＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＸＢＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＤＭＡＣ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＯＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−２０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−４０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｃ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｎ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｏ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−５０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＯＬ（日産化学工業（株）製）などを挙げることができる。
また、粉体状シリカとしては、アエロジル１３０（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３００（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３８０（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＴＴ６００（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＯＸ５０（日本アエロジル（株）製）、シルデックスＨ３１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ３２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２２（旭硝子（株）製）、Ｅ２２０Ａ（日本シリカ工業（株）製）、Ｅ２２０（日本シリカ工業（株）製）、サイリシア４７０（富士シリシア（株）製）、ＳＧフレーク（日本板硝子（株）製）などを挙げることができる。
【００４０】
（６−２）レベリング剤
ハードコート層９の形成に用いられる硬化性樹脂組成物には、得られるハードコート層９の表面平滑性を確保するために、レベリング剤を添加することが好ましい。
レベリング剤とは、塗料に添加することでその塗料の表面張力を低下させ、塗膜の表面平滑性を向上させる効果のある薬剤である。
レベリング剤として一般的に使用される物質としては、例えば、ポリアルキルアクリレートなどのポリアクリレート系ポリマー、ポリアルキルビニルエーテルなどのポリビニルエーテル系ポリマー、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、さらにはポリエーテル、ポリエステル、アラルキルなどが導入された有機変性ポリシロキサンなどのシリコーン系ポリマーなどが例示されるが、本発明ではこれらのポリマーにフッ素原子を含有するものを用いることが最も好ましい。フッ素原子を有するレベリング剤は、例えばフッ素含有基を有するモノマーを共重合させることにより得ることができる。
具体的に市販されている商品としては、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（何れも旭硝子株式会社製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（何れもフロロケミカル−住友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（何れも新秋田化成株式会社製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」（何れもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−４７０」、「ＲＳ−７５」、「ＲＳ−７２−Ｋ」（何れも大日本インキ化学工業株式会社製）、ＢＹＫ３４０（ビックケミー・ジャパン社製）、「ＺＸ−０４９」、「ＺＸ−００１」、「ＺＸ−０１７」（何れも富士化成工業社製）等を挙げることができる。
【００４１】
（６−３）ＵＶ吸収剤
ハードコート層９の形成に用いられる硬化性樹脂組成物には、得られるハードコート層９およびハードコート層９よりも下層の樹脂層の耐候性を向上させるために、ＵＶ吸収剤を添加することが好ましい。ハードコート層９に含有されるＵＶ吸収剤としては、有機化合物からなるＵＶ吸収剤（有機ＵＶ吸収剤）であっても良いし、無機化合物からなるＵＶ吸収剤（無機ＵＶ吸収剤）であっても良く、両者を含有していても良い。有機ＵＶ吸収剤及び無機ＵＶ吸収剤としては、従来公知のＵＶ吸収剤を用いることができる。有機ＵＶ吸収剤としては、トリアジン系ＵＶ吸収剤、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤、ベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤等が挙げられ、特に、トリアジン系ＵＶ吸収剤が用いられることが好ましい。
【００４２】
（６−４）酸化防止剤
ハードコート層９の形成に用いられる硬化性樹脂組成物には、酸化防止剤を添加することが好ましい。
ハードコート層９が酸化防止剤を含有することによって、耐候性を向上することができる。
本発明に適用可能な酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物の酸化防止剤群の中から選ぶことができる。
ヒンダードフェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」及び「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」という商品名で市販されている。
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等が挙げられる。
また、高分子タイプの化合物でもよく、特に、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、「ＴＵＮＵＶＩＮ１４４」及び「ＴＵＮＵＶＩＮ７７０」、株式会社ＡＤＥＫＡから「ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−５２」という商品名で市販されている。
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト等が挙げられる。
上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ」、株式会社ＡＤＥＫＡから「ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−２４Ｇ」、「ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−３６」及び「ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ３０１０」、チバ・ジャパン株式会社から「ＩＲＧＡＦＯＳ  Ｐ−ＥＰＱ」、堺化学工業株式会社から「ＧＳＹ−Ｐ１０１」という商品名で市販されている。
【００４３】
（６−５）溶剤
本発明において、ハードコート層９の形成に用いられる塗布液は、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのいずれか１種以上を溶剤として電離放射線硬化性樹脂の固形分が３０〜７０質量％となるように希釈して得ることができる。ここで、塗布液中の電離放射線硬化性樹脂の固形分が３０質量％未満である場合には、塗布液を基材上に塗布した際に溶剤濃度が高すぎて１０〜３０μｍの厚みの塗膜を得ることが難しく、また、塗布液中の電離放射線硬化性樹脂の固形分が７０質量％を超える場合には、塗布液の粘度が高すぎて塗膜にムラが発生し、平面性を損なうためである。
【００４４】
また、図１に示すフィルムミラー１０ａのように、腐食防止層６とハードコート層９の間に、接着層７と第２の樹脂基材８を設けてもよい。
【００４５】
（７）接着層
本発明に係るフィルムミラー（１０ａ）に形成される接着層７は、腐食防止層６と第２の樹脂基材８との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。従って、接着層７は、腐食防止層６と第２の樹脂基材８とを密着する密着性や平滑性が必要である。
接着層７の厚さは、密着性、平滑性、反射層５の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
接着層７が樹脂である場合、上記の密着性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂を用いることができる。耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。この接着層７の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
また、接着層７が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等を各種真空成膜法により成膜したものを用いることができる。この接着層７の形成方法（成膜方法）は、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などが使用できる。
【００４６】
（８）第２の樹脂基材
第２の樹脂基材８は、主に反射面側に存在し、紫外線からの保護や、外部環境からの異物の侵入を抑制する層である。第２の樹脂基材８は、隣接する層上に、接着剤を介して貼り合わされることで設けられていても良いし、塗布等により直接設けられていても良い。
本発明に係るフィルムミラー（１０ａ）に用いられる第２の樹脂基材８としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
中でも、アクリルフィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。特に、アクリルフィルムを用いることが好ましい。この第２の樹脂基材８は、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
第２の樹脂基材８の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは５０〜１５０μｍである。
【００４７】
（９）太陽熱発電用反射装置
太陽熱発電用反射装置２０ａ、２０ｂは、図１、図２に示すように、少なくともフィルムミラー１０ａ、１０ｂと、支持基材としての金属基材１とから構成されている。つまり、フィルムミラー１０ａ、１０ｂの粘着層２を金属基材１に接着させて、太陽熱発電用反射装置２０ａ、２０ｂが形成されている。
【００４８】
（９−１）金属基材
本発明に係る太陽熱発電用反射装置２０ａ、２０ｂの金属基材１としては、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板などの金属材料を用いることができる。本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などを用いることが好ましい。
これらの金属基材１の厚みは、取扱性、熱伝導性、熱容量等の観点から、０．０５ｍｍ〜３ｍｍ程度が好ましい。
【００４９】
（９−２）粘着層
フィルムミラー１０ａ、１０ｂを金属基材１に接着するための粘着層２としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などを用いることができる。また、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどを用いてもよい。
第１の樹脂基材３の裏面に粘着層２を設けるラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行う方法が経済性及び生産性の点から好ましい。
粘着層２の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
粘着層２に用いる具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「ＳＫダインシリーズ」、東洋インキ社製Ｏｒｉｂａｉｎ  ＢＰＷシリーズ、ＢＰＳシリーズ、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。
【実施例１】
【００５０】
以下、具体的な実施例および比較例を挙げて本発明を説明する。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例や比較例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
なお、ここでは、図１に示すフィルムミラー１０ａタイプのものを作製した。【００５１】
［実施例１］
第１の樹脂基材３として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。
そのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、ＴＤＩ系イソシアネート、ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層４を形成した。
次いで、アンカー層４上に反射層５として、真空蒸着法によって厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。
次いで、反射層５上に、側鎖にアミノ基を有するアクリル樹脂（シリコーン変性樹脂）であるオリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２（いずれもオリジン電気社製）を質量比で４０：１０：２０とした溶液に、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）を１質量％添加した液をグラビアコート法によりコーティングして、１５０℃下５分間乾燥させることで厚さ１μｍのアクリルシリコーン樹脂からなる膜を積層して腐食防止層６を形成した。
次いで、腐食防止層６上に、アクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さに塗布・コートして、樹脂を主成分とする接着層７を形成し、その接着層７上に第２の樹脂基材８として膜厚１００μｍのテクノロイＳ００１（住友化学社製）を積層した。
次いで、第２の樹脂基材８上に、ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）にフッ素系レベリング剤としてＺＸ−０４９（富士化成工業社製）を樹脂固形分に対して０．１質量％、トリアジン系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して１．０質量％となる量を添加したものをグラビアコートによってウェット膜厚４０μｍで塗布し、８０℃で２時間加熱処理を行ってハードコート層９を設けた。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「オリジツーク＃１００クリヤ」と、チオール基を有する化合物としての「ＴＭＴＰ」を含む腐食防止層６を備えている、実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。【００５２】
［実施例２］
実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、腐食防止層６を形成する塗布液として「オリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２を質量比で４０：１０：２０とした溶液」を用いる替わりに、シリコーンアルキド樹脂（シリコーン変性樹脂）であるベッコライトＭ−６６５２−６０（大日本インキ化学工業社製）溶液と、エポキシ基を有するシランカップリング剤である２−グリシドキシエチルトリエトキシシラン（信越シリコーン社製）を質量比で４０：１とした溶液を用いて腐食防止層６を形成した。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「ベッコライトＭ−６６５２−６０」と、チオール基を有する化合物としての「ＴＭＴＰ」を含む腐食防止層６を備えている、実施例２の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。【００５３】
［実施例３］
実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）の代わりに、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート（ＰＥＴＰ）を溶液に対して５質量％添加したものを用いて腐食防止層６を形成した。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「オリジツーク＃１００クリヤ」と、チオール基を有する化合物としての「ＰＥＴＰ」を含む腐食防止層６を備えている、実施例３の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。【００５４】
［実施例４］
実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、オリジツーク＃１００クリヤの代わりに、オリジツーク＃２００クリヤ（オリジン電気社製）を用いて腐食防止層６を形成した。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「オリジツーク＃２００クリヤ」と、チオール基を有する化合物としての「ＴＭＴＰ」を含む腐食防止層６を備えている、実施例４の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。【００５５】
［実施例５］
実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、オリジツーク＃１００クリヤとトリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）の代わりに、チオナリド（２−メルカプト−Ｎ−（２−ナフチル）アセトアミド、Ｎ−（２−ナフタレニル）−２−メルカプトアセトアミド）を用いて腐食防止層６を形成した。
こうして、チオナリドを含む腐食防止層６を備えている、実施例５の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。【００５６】
［比較例１］
実施例２の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、腐食防止層を形成する溶液にシランカップリング剤を含有する硬化剤（ポリハードＧ２１）を添加しないものを用いて腐食防止層を形成した。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「ベッコライトＭ−６６５２−６０」と、チオール基を有する化合物としての「ＴＭＴＰ」を含み、シランカップリング剤（硬化剤）を含まない腐食防止層を備えている、比較例１の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。【００５７】
［比較例２］
実施例２の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、腐食防止層を形成する塗布液として「ベッコライトＭ−６６５２−６０溶液と、エポキシ基を有するシランカップリング剤である２−グリシドキシエチルトリエトキシシランを質量比で４０：１とした溶液」を用いる替わりに、分子量３００００のＰＭＭＡ（三菱レイヨン社製）の１５質量％ＭＥＫ（メチルエチルケトン）希釈溶液を用い、さらにＴＭＴＰを添加しない条件で腐食防止層を形成した。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「ＰＭＭＡ」のみを含む腐食防止層を備えている、比較例２の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。【００５８】
［比較例３］
比較例２の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、腐食防止層にトリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）を０．５質量％含有させた。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「ＰＭＭＡ」と、チオール基を有する化合物としての「ＴＭＴＰ」を含み、シランカップリング剤（硬化剤）を含まない腐食防止層を備えている、比較例３の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。【００５９】
［太陽熱発電用フィルムミラー（太陽熱発電用反射装置）の評価］
上記のように作製した太陽熱発電用フィルムミラー（実施例１〜５、比較例１〜３）について、下記の方法に従って、膜密着性及び腐食耐性の評価を行った。【００６０】
［膜密着性の評価］
各フィルムミラー試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で１５０ｍＷ、９６時間紫外線照射を行った後、ＪＩＳ  Ｋ５４００規格に基づき碁盤目１００マスクロスカットした際のテープ剥離試験を行い、下記の基準で膜密着性を評価した。
◎：膜剥離が０マス
○：膜剥離が１マス以上５マス以下
△：膜剥離が６マス以上１０マス以下
×：膜剥離が１１マス以上【００６１】
［腐食耐性の評価］
各フィルムミラー試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行った後、端面を防水テープで封止して１０％硫化アンモニウム水溶液に２４時間浸漬し、下記の「正反射率測定」方法により正反射率を測定し、下記の基準に従って、腐食耐性を評価した。
ここでの「正反射率測定」は、島津製作所社製の分光光度計ＵＶ２６５を、積分球反射付属装置を取り付けたものに改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、各試料の反射角５°での正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
◎：正反射率の平均値が、８７％以上である
○：正反射率の平均値が、８２％以上、８７％未満である
△：正反射率の平均値が、７７％以上、８２％未満である
×：正反射率の平均値が、７７％未満である【００６２】
上記膜密着性の評価及び腐食耐性の評価の結果を、表１に示す。【００６３】
【表１】
2013141304.tif 000005
【００６４】
表１に示す結果から明らかなように、シリコーン変性樹脂とシランカップリング剤を含み、更に分子中にチオール基を有する化合物を含有している腐食防止層６を、反射層５の光反射側に隣接して設けた実施例１〜５の太陽熱発電用フィルムミラーは、ＵＶ劣化処理後であっても反射層５と腐食防止層６との膜密着性を維持し、かつ反射層５の変質も起こしておらず、耐候性に優れていることがわかる。
一方で、シリコーン変性樹脂、シランカップリング剤、分子中にチオール基を有する化合物の何れかが不足している比較例１〜３の太陽熱発電用フィルムミラーは、ＵＶ劣化処理後に膜の密着性低下と反射層５の変質の両方または何れかが発生してしまい、屋外で長期にわたり使用することができないことがわかる。【００６５】
以上のように、本発明のフィルムミラー１０ａ、１０ｂ（実施例１〜５の太陽熱発電用フィルムミラー）は、反射層５と腐食防止層６との界面における密着性に優れ、腐食防止層６による反射層５の腐食耐性にも優れている。これにより、本発明に係るフィルムミラー１０ａ、１０ｂは、耐候性に優れており、長期間にわたり屋外設置された後に洗浄が行われても反射層５と腐食防止層６との界面で剥離が発生しにくく、太陽光に対して良好な正反射率を維持することができる。
また、そのようなフィルムミラー１０ａ、１０ｂを、粘着層２を介して金属基材１に貼付してなる太陽熱発電用反射装置２０ａ、２０ｂも、太陽光に対して良好な正反射率を維持することができるといえる。【００６６】
なお、本発明の適用は上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
以上のように、本発明は、反射層と腐食防止層との密着性が高く、且つ反射層の腐食を抑制できるフィルムミラーと、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することに適している。
【符号の説明】
【００６８】
１  金属基材（支持基材）
２  粘着層
３  第１の樹脂基材（フィルム基材）
４  アンカー層
５  反射層
６  腐食防止層
７  接着層
８  第２の樹脂基材
９  ハードコート層
１０ａ、１０ｂ  フィルムミラー
２０ａ、２０ｂ  太陽熱発電用反射装置
【図１】
2013141304.tif 000006
【図２】
2013141304.tif 000007
【国際調査報告】
2013141304.tif 000008
2013141304.tif 000009
2013141304.tif 000010
2013141304.tif 000011