(57)【要約】本発明は、描画性、接着性、及び、硬化物の耐湿性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供することを目的とする。本発明は、硬化性樹脂、タルク、及び、ラジカル重合開始剤若しくは熱硬化剤、又は、ラジカル重合開始剤と熱硬化剤との両方を含有する液晶滴下工法用シール剤であって、前記タルクにおけるＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量が０．１重量％以下である液晶滴下工法用シール剤である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性樹脂、タルク、及び、ラジカル重合開始剤若しくは熱硬化剤、又は、ラジカル重合開始剤と熱硬化剤との両方を含有する液晶滴下工法用シール剤であって、
前記タルクにおけるＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量が０．１重量％以下である
ことを特徴とする液晶滴下工法用シール剤。
【請求項２】
タルクは、表面処理剤によって表面処理されたものであることを特徴とする請求項１記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項３】
表面処理剤は、シランカップリング剤であることを特徴とする請求項２記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項４】
シランカップリング剤は、エポキシ基を有するシランカップリング剤であることを特徴とする請求項３記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項５】
タルクの含有量が、硬化性樹脂１００重量部に対して、０．１〜５０重量部であることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項６】
硬化性樹脂は、イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレート及び／又はジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートを含有することを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項７】
硬化性樹脂は、イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレートを含有し、
前記イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレートは、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレートである
ことを特徴とする請求項６記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項８】
硬化性樹脂は、ジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートを含有し、
前記ジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートは、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートである
ことを特徴とする請求項６又は７記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項９】
イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレート及びジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートの含有量が、硬化性樹脂全体１００重量部に対して、０．１〜３０重量部であることを特徴とする請求項６、７又は８記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項１０】
遮光剤を含有することを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項１１】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の液晶滴下工法用シール剤と、導電性微粒子とを含有することを特徴とする上下導通材料。
【請求項１２】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９若しくは１０記載の液晶滴下工法用シール剤、又は、請求項１１記載の上下導通材料を用いて製造されることを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画性、接着性、及び、硬化物の耐湿性に優れる液晶滴下工法用シール剤に関する。また、本発明は、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示セル等の液晶表示素子の製造方法は、タクトタイム短縮、使用液晶量の最適化といった観点から、従来の真空注入方式から、例えば、特許文献１、特許文献２に開示されているような光硬化性樹脂、光重合開始剤、熱硬化性樹脂、及び、熱硬化剤を含有する光、熱併用硬化型のシール剤を用いた滴下工法と呼ばれる液晶滴下方式にかわりつつある。【０００３】
滴下工法では、まず、２枚の電極付き透明基板の一方に、ディスペンスにより長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤が未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線等の光を照射して仮硬化を行う。その後、液晶アニール時に加熱して本硬化を行い、液晶表示素子を作製する。基板の貼り合わせを減圧下で行うようにすれば、極めて高い効率で液晶表示素子を製造することができ、現在この滴下工法が液晶表示素子の製造方法の主流となっている。【０００４】
液晶表示素子において、シール剤には描画性に優れることが求められており、また、製造時には工程の効率化の為にディスペンスを高速化することが求められている。しかしながら、従来のシール剤を高速に描画した場合、シール剤を安定的に描画することができず、断線不良が発生したり、描画後のシール剤のラインにうねりが生じたりするという問題があった。シール剤には通常、無機充填剤が配合されており、描画性を向上させるためには、シール剤に配合する無機充填剤の量を減らすことが考えられるが、無機充填剤の量を減らすと、シール剤が基板や配向膜に対する接着性が低下したり、シール剤の耐湿性が低下したりするといった問題があった。
特許文献３には、シール剤の接着性を向上させること等を目的として、シール剤に無機充填剤としてタルクを配合する方法が開示されているが、特に、このように無機充填剤としてタルクを配合した場合に、シール剤を安定的に描画することが困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−１３３７９４号公報
【特許文献２】国際公開第０２／０９２７１８号パンフレット
【特許文献３】特開２００８−４００１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、描画性、接着性、及び、硬化物の耐湿性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、硬化性樹脂、タルク、及び、ラジカル重合開始剤若しくは熱硬化剤、又は、ラジカル重合開始剤と熱硬化剤との両方を含有する液晶滴下工法用シール剤であって、上記タルクにおけるＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量が０．１重量％以下である液晶滴下工法用シール剤である。
以下に本発明を詳述する。【０００８】
一般的に、タルクにはドロマイト（ＣａＭｇ（ＣＯ３）２）、マグネサイト（ＭｇＣＯ３）等の不純物が混入している。本発明者らは鋭意検討した結果、驚くべきことに、このＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３がシール剤の描画性の悪化に大きく影響していることを見出した。
そこで本発明者らは、ＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の含有量を特定量以下としたタルクを液晶滴下工法用シール剤に配合することにより、描画性、接着性、及び、硬化物の耐湿性に優れる液晶滴下工法用シール剤を得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。【０００９】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、タルクを含有する。
上記タルクにおけるＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量は、０．１重量％以下である。上記タルクにおけるＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量が０．１重量％を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤が描画性に劣るものとなる。上記タルクにおけるＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量は、少ないほどよく、０．１重量％未満であることが好ましい。上記タルクにおけるＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量の実質的な下限は０．０００１重量％である。
なお、上記タルクにおけるＣａＭｇ（ＣＯ３）２の含有量は、Ｘ線回折測定においてＣａＭｇ（ＣＯ３）２由来の回折角３０．９°のピークの面積比から求めることができる（±０．２°程度の誤差は許容されるものとする）。
上記タルクにおけるＭｇＣＯ３の含有量は、Ｘ線回折測定においてＭｇＣＯ３由来の回折角３２．６°のピークの面積比から求めることができる（±０．２°程度の誤差は許容されるものとする）。
なお、本発明におけるＸ線回折測定の測定条件は次の通りである。
測定機器：Ｘ’Ｐｅｒｔ−ＰＲＯ−ＭＰＤ（スペクトリス社製）
ターゲット：Ｃｕ
走査角度：５°−６０°
走査速度：２°／分
管電圧：４０ｋＶ
管電流：３０ｍＡ
入射側スリット：０．０４°ソーラースリット、自動可変型ダイバージェンススリット、ＡＳ１°
受光側スリット：０．０４°
なお、この条件における検出限界は０．１％である。
なお、本明細書において、「タルクにおけるＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量」とは、不純物を含むタルク全体に対するタルク由来のＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量を意味する。【００１０】
ＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量が０．１重量％以下であるタルクのうち市販されているものとしては、例えば、ＦＧ−１５Ｆ、Ｄ−８００Ｆ（いずれも日本タルク社製）等が挙げられる。【００１１】
上記タルクにおけるＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量を０．１重量％以下にする方法としては、例えば、分級による分離精製等が挙げられる。
ＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量を０．１重量％以下にするための分離精製法としては、例えば、強制渦式分級機、半自由渦式分級機のような分級装置を用いて分級する方法等が挙げられる。このような分級装置のうち市販されているものとしては、例えば、ターボクラシファイア、エディクラシファイア（いずれも日清エンジニアリング社製）等が挙げられる。【００１２】
上記タルクは表面処理剤によって表面処理されたものであることが好ましい。
上記表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、脂肪酸、チタネートカップリング剤等が挙げられる。なかでも、得られるシール剤の接着性を向上させる効果に優れることから、シランカップリング剤が好ましく、更にその中でもエポキシ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。【００１３】
上記タルクの表面処理剤として用いるシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。【００１４】
上記シランカップリング剤のうち市販されているものとしては、例えば、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３（いずれも信越シリコーン社製）等が挙げられる。【００１５】
上記タルクの表面処理剤として用いる脂肪酸としては、例えば、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸等が挙げられる。【００１６】
上記タルクの表面処理剤として用いるチタネートカップリング剤としては、例えば、トリブトキシチタンステアレート、イソプロポキシチタントリイソステアレート、モノ−ｉ−プロポキシチタントリ−ｉ−ステアレート等のチタンアシレートや、チタンテトラエトキシド、チタンテトラプロポキシド、チタンテトラブトキシド、テトラシクロヘキシルチタネート、テトラベンジルチタネート等のチタンアルコキシドや、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（トリエタノールアミナト）チタン、チタンジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）、チタンテトラアセチルアセトネート、チタニウムジ−２−エチルヘキソキシビス（２−エチル−３−ヒドロキシヘキソキシド）、チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）等のチタンキレート等が挙げられる。【００１７】
上記チタネートカップリング剤のうち市販されているものとしては、例えば、ＴＡＡ、ＴＯＧ、Ａ−１、ＴＯＴ、Ｂ−１（いずれも日本曹達社製）等が挙げられる。【００１８】
上記タルクの平均粒子径の好ましい下限は０．２μｍ、好ましい上限は５μｍである。上記タルクの平均粒子径が０．２μｍ未満であると、粘度、チクソトロピーが増大してしまい、作業性に劣るものとなることがある。上記タルクの平均粒子径が５μｍを超えると、ギャップ不良から液晶表示素子に表示むらが生じることがある。上記タルクの平均粒子径のより好ましい下限は０．６μｍ、より好ましい上限は３μｍである。
なお、本明細書において上記平均粒子径は、走査型電子顕微鏡を用いて、５０００倍の倍率で観察した粒子１０個の粒子径（長径）の平均値を意味する。また、上記走査型電子顕微鏡としては、Ｓ−４３００（日立ハイテクノロジーズ社製）等を用いることができる。【００１９】
上記タルクの含有量は、硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限が０．１重量部、好ましい上限が５０重量部である。上記タルクの含有量が０．１重量部未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤が接着性に劣るものとなって剥離したり、硬化物が耐湿性に劣るものとなったりすることがある。上記タルクの含有量が５０重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の粘度、チクソトロピーが増大してしまい、作業性に劣るものとなることがある。上記タルクの含有量のより好ましい下限は１重量部、より好ましい上限は４０重量部である。【００２０】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、本発明の目的を阻害しない範囲において、上記タルク以外のその他の無機充填剤を含有してもよい。
上記その他の無機充填剤は特に限定されず、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン、炭酸カルシウム等が挙げられる。なかでも、シリカが好適である。
以下、タルク及びその他の無機充填剤を併せて単に無機充填剤ともいう。【００２１】
上記無機充填剤の平均粒子径の好ましい下限は０．０１μｍ、好ましい上限は５．０μｍである。上記無機充填剤の平均粒子径が０．０１μｍ未満であると、粘度、チクソトロピーが増大してしまい、作業性に劣るものとなることがある。上記無機充填剤の平均粒子径が５．０μｍを超えると、ギャップ不良から液晶表示素子に表示むらが生じることがある。上記無機充填剤の平均粒子径のより好ましい下限は０．１μｍ、より好ましい上限は３．０μｍである。【００２２】
上記その他の無機充填剤を含有する場合、上記無機充填剤全体の含有量の好ましい下限は１重量％、好ましい上限は６０重量％である。上記無機充填剤全体の含有量が１重量％未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤の硬化物が耐湿性に劣るものとなることがある。上記無機充填剤全体の含有量が６０重量％を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の粘度やチクソトロピーが増大してしまい、作業性が悪くなることがある。上記無機充填剤全体の含有量のより好ましい下限は１０重量％、より好ましい上限は５０重量％である。【００２３】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、硬化性樹脂を含有する。
上記硬化性樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂やエポキシ樹脂等が挙げられる。
なかでも、上記硬化性樹脂は、イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレート及び／又はジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。上記イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレート及び／又は上記ジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートを含有することにより、本発明の液晶滴下工法用シール剤は、硬化物の耐湿性に特に優れるものとなる。
なお、本明細書において、上記「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを意味し、上記「（メタ）アクリル樹脂」とは、（メタ）アクリロイル基を有する樹脂を意味し、上記「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。また、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。【００２４】
上記イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレートとしては、例えば、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリメタクリレート、カプロラクトン変性エトキシ化イソシアヌルトリアクリレート、カプロラクトン変性エトキシ化イソシアヌルトリメタクリレート等が挙げられる。なかでも、接着性が良好であるエトキシ化イソシアヌルトリアクリレートが好ましい。【００２５】
上記ジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート等が挙げられる。なかでも、接着性が良好であるトリシクロデカンジメタノールジアクリレートが好ましい。【００２６】
上記イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレート及び上記ジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートの含有量は、上記硬化性樹脂全体１００重量部に対して、好ましい下限が０．１重量部、好ましい上限が３０重量部である。上記イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレート及び上記ジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートの含有量が０．１重量部未満であると、液晶滴下工法用シール剤の硬化物の耐湿性を向上させる効果が充分に発揮されないことがある。上記イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレート及び上記ジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートの含有量が３０重量部を超えると、液晶汚染性が増大することがある。上記イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリレート及び上記ジシクロペンタジエン骨格を有する（メタ）アクリレートの含有量のより好ましい下限は１重量部、より好ましい上限は２０重量部である。【００２７】
上記硬化性樹脂は、エポキシ（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。
なお、本明細書において、上記「エポキシ（メタ）アクリレート」とは、エポキシ樹脂中の全てのエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させた化合物のことを表す。
上記エポキシ（メタ）アクリレートは特に限定されず、例えば、（メタ）アクリル酸とエポキシ樹脂とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応させることにより得られるものが挙げられる。なかでも、硬化物の耐湿性に優れることからエポキシメタクリレート樹脂が好適である。【００２８】
上記エポキシ（メタ）アクリレートを合成するための原料となるエポキシ樹脂は特に限定されず、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スルフィド型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、アルキルポリオール型エポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、グリシジルエステル化合物、ビスフェノールＡ型エピスルフィド樹脂等が挙げられる。【００２９】
上記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート８２８ＥＬ、エピコート１００４（いずれも三菱化学社製）、エピクロン８５０（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート８０６、エピコート４００４（いずれも三菱化学社製）等が挙げられる。
上記ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＥＸＡ１５１４（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）等が挙げられる。
上記水添ビスフェノール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＥＸＡ７０１５（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＰ−４０００Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
上記レゾルシノール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記ビフェニル型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコートＹＸ−４０００Ｈ（三菱化学社製）等が挙げられる。
上記スルフィド型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＹＳＬＶ−５０ＴＥ（東都化成社製）等が挙げられる。
上記ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（東都化成社製）等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＰ−４０８８Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
上記ナフタレン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＨＰ４０３２、エピクロンＥＸＡ−４７００（いずれもＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記フェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＮ−７７０（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＮ−６７０−ＥＸＰ−Ｓ（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＨＰ７２００（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）等が挙げられる。
上記ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＳＮ−１６５Ｓ（東都化成社製）等が挙げられる。
上記グリシジルアミン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート６３０（三菱化学社製）、エピクロン４３０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学社製）等が挙げられる。
上記アルキルポリオール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＺＸ−１５４２（東都化成社製）、エピクロン７２６（ＤＩＣ社製）、エポライト８０ＭＦＡ（共栄社化学社製）、デナコールＥＸ−６１１（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記ゴム変性型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＹＲ−４５０、ＹＲ−２０７（いずれも東都化成社製）、エポリードＰＢ（ダイセル化学工業社製）等が挙げられる。
上記グリシジルエステル化合物のうち市販されているものとしては、例えば、デナコールＥＸ−１４７（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記ビスフェノールＡ型エピスルフィド樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコートＹＬ−７０００（三菱化学社製）等が挙げられる。
上記エポキシ樹脂のうちその他に市販されているものとしては、例えば、ＹＤＣ−１３１２、ＹＳＬＶ−８０ＸＹ、ＹＳＬＶ−９０ＣＲ（いずれも東都化成社製）、ＸＡＣ４１５１（旭化成社製）、エピコート１０３１、エピコート１０３２（いずれも三菱化学社製）、ＥＸＡ−７１２０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）等が挙げられる。【００３０】
上記エポキシ（メタ）アクリレートのうち市販されているものとしては、例えば、エベクリル８６０、エベクリル３２００、エベクリル３２０１、エベクリル３４１２、エベクリル３６００、エベクリル３７００、エベクリル３７０１、エベクリル３７０２、エベクリル３７０３、エベクリル３８００、エベクリル６０４０、エベクリルＲＤＸ６３１８２（いずれもダイセルサイテック社製）、ＥＡ−１０１０、ＥＡ−１０２０、ＥＡ−５３２３、ＥＡ−５５２０、ＥＡ−ＣＨＤ、ＥＭＡ−１０２０（いずれも新中村化学工業社製）、エポキシエステルＭ−６００Ａ、エポキシエステル４０ＥＭ、エポキシエステル７０ＰＡ、エポキシエステル２００ＰＡ、エポキシエステル８０ＭＦＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、エポキシエステル３００２Ａ、エポキシエステル１６００Ａ、エポキシエステル３０００Ｍ、エポキシエステル３０００Ａ、エポキシエステル２００ＥＡ、エポキシエステル４００ＥＡ（いずれも共栄社化学社製）、デナコールアクリレートＤＡ−１４１、デナコールアクリレートＤＡ−３１４、デナコールアクリレートＤＡ−９１１（いずれもナガセケムテックス社製）等が挙げられる。【００３１】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、硬化性樹脂として、エポキシ樹脂を含有してもよい。
上記エポキシ樹脂としては、エポキシ基が付与した樹脂なら特に限定無く使用することができ、上記エポキシ（メタ）アクリレートを合成するための原料となるエポキシ樹脂等が使用できる。【００３２】
また、上記エポキシ樹脂として、部分（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂を含有してもよい。
なお、本明細書において上記「部分（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂」とは、１分子中にエポキシ基と（メタ）アクリロイルオキシ基とをそれぞれ１つ以上有する樹脂を意味する。また、本明細書において上記（メタ）アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を意味する。
上記部分（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂は、例えば、２つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得ることができる。【００３３】
上記硬化性樹脂全体における（メタ）アクリロイルオキシ基とエポキシ基との合計量に対するエポキシ基の比率の好ましい上限は５０モル％である。上記エポキシ基の比率が５０モル％を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の液晶に対する溶解性が高くなって液晶汚染を引き起こし、得られる液晶表示素子が表示性能に劣るものとなることがある。上記エポキシ基の比率のより好ましい上限は２０モル％である。【００３４】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、ラジカル重合開始剤若しくは熱硬化剤、又は、ラジカル重合開始剤と熱硬化剤との両方を含有する。
なお、本明細書において、上記「ラジカル重合開始剤若しくは熱硬化剤、又は、ラジカル重合開始剤と熱硬化剤との両方を含有する」とは、ラジカル重合開始剤及び熱硬化剤の少なくともいずれかを含有することを意味する。
上記ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤が挙げられる。【００３５】
上記ラジカル重合開始剤のうち、光が照射されることでラジカルを生成する光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、チオキサントン等を好適に用いることができる。
また、上記光ラジカル重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、イルガキュア１８４、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア９０７、イルガキュア２９５９、イルガキュアＯＸＥ０１、ルシリンＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ  Ｊａｐａｎ社製）、ベンソインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル（いずれも東京化成工業社製）等が挙げられる。なかでも吸収波長域が広いことから、イルガキュア６５１、イルガキュア９０７、ベンゾインイソプロピルエーテル、及び、ルシリンＴＰＯが好適である。これらの光ラジカル重合開始剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。【００３６】
上記ラジカル重合開始剤のうち、熱によりラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤は特に限定されず、過酸化物やアゾ化合物が挙げられ、市販されているものとしては、例えば、パーブチルＯ、パーヘキシルＯ、パーブチルＰＶ（いずれも日油社製）、Ｖ−３０、Ｖ−５０１、Ｖ−６０１、ＶＰＥ−０２０１（いずれも和光純薬工業社製）等が挙げられる。【００３７】
上記ラジカル重合開始剤の含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限が０．１重量部、好ましい上限が３０重量部である。上記ラジカル重合開始剤の含有量が０．１重量部未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤の重合が充分に進行しないことがある。上記ラジカル重合開始剤の含有量が３０重量部を超えると、未反応のラジカル重合開始剤が多く残り、得られる液晶滴下工法用シール剤の耐候性が悪くなることがある。上記ラジカル重合開始剤の含有量のより好ましい下限は１重量部、より好ましい上限は１０重量部である。【００３８】
上記熱硬化剤は特に限定されず、例えば、有機酸ヒドラジド、イミダゾール誘導体、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。なかでも、固形の有機酸ヒドラジドが好適に用いられる。【００３９】
上記固形の有機酸ヒドラジドは特に限定されず、例えば、１，３−ビス［ヒドラジノカルボエチル−５−イソプロピルヒダントイン］、セバシン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド等が挙げられ、市販されているものとしては、例えば、アミキュアＶＤＨ、アミキュアＵＤＨ（いずれも、味の素ファインテクノ社製）、ＳＤＨ、ＩＤＨ、ＡＤＨ（いずれも、大塚化学社製）等が挙げられる。【００４０】
上記熱硬化剤の含有量は特に限定されないが、硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限が２重量部、好ましい上限が５０重量部である。上記熱硬化剤の含有量が２重量部未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤が硬化性に劣るものとなることがある。上記熱硬化剤の含有量が５０重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の粘度が高くなり、塗布性が悪くなることがある。上記熱硬化剤の含有量のより好ましい下限は５重量部、より好ましい上限は２０重量部、更に好ましい上限は１５重量部である。【００４１】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、カチオン重合開始剤を含有してもよい。
上記カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤が挙げられる。【００４２】
上記光カチオン重合開始剤は特に限定されず、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等が挙げられる。
上記光カチオン重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、オプトマーＳＰ−１５０、オプトマーＳＰ−１５１、オプトマーＳＰ−１７０、オプトマーＳＰ−１７１（いずれもＡＤＥＫＡ社製）、ＵＶＥ−１０１４（ゼネラルエレクトロニクス社製）、イルガキュア２６１（ＢＡＳＦ  Ｊａｐａｎ社製）、サンエイドＳＩ−６０Ｌ、サンエイドＳＩ−８０Ｌ、ＵＶＩ−６９９０（いずれもユニオンカーバイド社製）、ＢＢＩ−１０３、ＭＰＩ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０３、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３（いずれもミドリ化学社製）、サンエイドＳＩ−１００Ｌ（三新化学工業社製）、ＣＩ−２０６４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２４８１（いずれも日本曹達社製）、ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ  ＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ  ２０７４（ローヌ・プーラン社製）、ＣＤ−１０１２（サートマー社製）等が挙げられる。これらの光カチオン重合開始剤は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、必要に応じてアントラセン系、チオキサントン系等の増感剤を併用しても良い。【００４３】
上記熱カチオン重合開始剤は特に限定されず、例えば、第四級アンモニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩等の各種オニウム塩類が例示される。【００４４】
上記第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラブチルアンモニウムハイドロジェンサルフェート、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラエチルアンモニウムｐ−トルエンスルホネート、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルアニリニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルアニリニウムテトラフルオロボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−ベンジルトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（４−メトキシベンジル）ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−（４−メトキシベンジル）トルイジニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。【００４５】
上記ホスホニウム塩としては、例えば、エチルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、テトラブチルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。
上記スルホニウム塩は、例えば、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルシネート、トリス（４−メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルシネート、ジフェニル（４−フェニルチオフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルシネート等が挙げられる。【００４６】
上記熱カチオン重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、アデカオプトンＣＰ−６６、アデカオプトンＣＰ−７７（いずれもＡＤＥＫＡ社製）、サンエイドＳＩ−６０Ｌ、サンエイドＳＩ−８０Ｌ、サンエイドＳＩ−１００Ｌ（いずれも三新化学工業社製）、ＣＩシリーズ（日本曹達社製）等が挙げられる。【００４７】
上記カチオン重合開始剤の含有量は特に限定されないが、硬化性樹脂全体１００重量部に対して好ましい下限が０．１重量部、好ましい上限が１０重量部である。上記カチオン重合開始剤の含有量が０．１重量部未満であると、本発明の液晶表示素子用シール剤を充分に硬化させることができないことがある。上記カチオン重合開始剤の含有量が１０重量部を超えると、貯蔵安定性が低下することがある。【００４８】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、シランカップリング剤を含有することが好ましい。上記シランカップリング剤は、主にシール剤と基板等とを良好に接着するための接着助剤としての役割を有する。【００４９】
上記シランカップリング剤は特に限定されないが、基板等との接着性を向上させる効果に優れ、硬化性樹脂と化学結合することにより液晶中への硬化性樹脂の流出を抑制することができることから、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が好適に用いられる。これらのシランカップリング剤は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。【００５０】
上記シランカップリング剤の含有量は、本発明の液晶滴下工法用シール剤１００重量部に対して、好ましい下限が０．１重量部、好ましい上限が２０重量部である。上記シランカップリング剤の含有量が０．１重量部未満であると、シランカップリング剤を配合することによる効果が充分に発揮されないことがある。上記シランカップリング剤の含有量が２０重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤が液晶汚染を引き起こすことがある。上記シランカップリング剤の含有量のより好ましい下限は０．５重量部、より好ましい上限は１０重量部である。【００５１】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、遮光剤を含有してもよい。上記遮光剤を含有することにより、本発明の液晶滴下工法用シール剤は、遮光シール剤として好適に用いることができる。【００５２】
上記遮光剤としては、例えば、酸化鉄、チタンブラック、アニリンブラック、シアニンブラック、フラーレン、カーボンブラック、樹脂被覆型カーボンブラック等が挙げられる。なかでも、チタンブラックが好ましい。【００５３】
上記チタンブラックは、波長３００〜８００ｎｍの光に対する平均透過率と比較して、紫外線領域付近、特に波長３７０〜４５０ｎｍの光に対する透過率が高くなる物質である。即ち、上記チタンブラックは、可視光領域の波長の光を充分に遮蔽することで本発明の液晶滴下工法用シール剤に遮光性を付与する一方、紫外線領域付近の波長の光は透過させる性質を有する遮光剤である。従って、上記光ラジカル重合開始剤や上記光カチオン重合開始剤として、上記チタンブラックの透過率の高くなる波長（３７０〜４５０ｎｍ）の光によって反応を開始可能なものを用いることで、本発明の液晶滴下工法用シール剤の光硬化性をより増大させることができる。また一方で、本発明の液晶滴下工法用シール剤に含有される遮光剤としては、絶縁性の高い物質が好ましく、絶縁性の高い遮光剤としてもチタンブラックが好適である。
上記チタンブラックは、１μｍあたりの光学濃度（ＯＤ値）が、０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましい。上記チタンブラックの遮光性は高ければ高いほどよく、上記チタンブラックのＯＤ値に好ましい上限は特にないが、通常は３.０以下となる。【００５４】
上記チタンブラックは、表面処理されていないものでも充分な効果を発揮するが、表面がカップリング剤等の有機成分で処理されているものや、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等の無機成分で被覆されているもの等、表面処理されたチタンブラックを用いることもできる。なかでも、有機成分で処理されているものは、より絶縁性を向上できる点で好ましい。
また、遮光剤として上記チタンブラックを含有する本発明の液晶滴下工法用シール剤を用いて製造した液晶表示素子は、充分な遮光性を有するため、光の漏れ出しがなく高いコントラストを有し、優れた画像表示品質を有する液晶表示素子を実現することができる。【００５５】
上記チタンブラックのうち市販されているものとしては、例えば、１２Ｓ、１３Ｍ、１３Ｍ−Ｃ、１３Ｒ−Ｎ（いずれも三菱マテリアル社製）、ティラックＤ（赤穂化成社製）等が挙げられる。【００５６】
上記チタンブラックの比表面積の好ましい下限は１３ｍ２／ｇ、好ましい上限は３０ｍ２／ｇであり、より好ましい下限は１５ｍ２／ｇ、より好ましい上限は２５ｍ２／ｇである。
また、上記チタンブラックの体積抵抗の好ましい下限は０．５Ω・ｃｍ、好ましい上限は３Ω・ｃｍであり、より好ましい下限は１Ω・ｃｍ、より好ましい上限は２．５Ω・ｃｍである。【００５７】
上記遮光剤の一次粒子径は、液晶表示素子の基板間の距離以下であれば特に限定されないが、好ましい下限は１ｎｍ、好ましい上限は５μｍである。上記遮光剤の一次粒子径が１ｎｍ未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤の粘度やチクソトロピーが大きく増大してしまい、作業性が悪くなることがある。上記遮光剤の一次粒子径が５μｍを超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の基板への塗布性が悪くなることがある。上記遮光剤の一次粒子径のより好ましい下限は５ｎｍ、より好ましい上限は２００ｎｍ、更に好ましい下限は１０ｎｍ、更に好ましい上限は１００ｎｍである。【００５８】
上記遮光剤の含有量は、本発明の液晶滴下工法用シール剤全体に対して、好ましい下限が５重量％、好ましい上限が８０重量％である。上記遮光剤の含有量が５重量％未満であると、充分な遮光性が得られないことがある。上記遮光剤の含有量が８０重量％を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の基板に対する密着性や硬化後の強度が低下したり、描画性が低下したりすることがある。上記遮光剤の含有量のより好ましい下限は１０重量％、より好ましい上限は７０重量％であり、更に好ましい下限は３０重量％、更に好ましい上限は６０重量％である。【００５９】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、更に、必要に応じて、粘度調整の為の反応性希釈剤、パネルギャップ調整の為のポリマービーズ等のスペーサー、３−Ｐ−クロロフェニル−１，１−ジメチル尿素等の硬化促進剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤等の添加剤を含有してもよい。【００６０】
本発明の液晶滴下工法用シール剤を製造する方法は特に限定されず、例えば、ホモディスパー、ホモミキサー、万能ミキサー、プラネタリウムミキサー、ニーダー、３本ロール等の混合機を用いて、硬化性樹脂、タルク、及び、ラジカル重合開始剤若しくは熱硬化剤、又は、ラジカル重合開始剤と熱硬化剤との両方、並びに、必要に応じて添加するシランカップリング剤等の添加剤を混合する方法等が挙げられる。【００６１】
本発明の液晶滴下工法用シール剤に導電性微粒子を配合することにより、上下導通材料を製造することができる。このような本発明の液晶滴下工法用シール剤と、導電性微粒子とを含有する上下導通材料もまた、本発明の１つである。【００６２】
上記導電性微粒子は特に限定されず、金属ボール、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したもの等を用いることができる。なかでも、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したものは、樹脂微粒子の優れた弾性により、透明基板等を損傷することなく導電接続が可能であることから好適である。【００６３】
本発明の液晶滴下工法用シール剤、又は、本発明の上下導通材料を用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の１つである。
【発明の効果】
【００６４】
本発明によれば、描画性、接着性、及び、硬化物の耐湿性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供することができる。また、本発明によれば、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００６５】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。
【００６６】
（実施例１〜１７、比較例１〜３）
表１〜３に記載された配合比に従い、各材料を、遊星式撹拌機（シンキー社製「あわとり練太郎」）を用いて混合した後、更に３本ロールを用いて混合することにより実施例１〜１７、比較例１〜３の液晶滴下工法用シール剤を調製した。
なお、表１〜３における「ＳＧ−２０００」は、上述した条件でＸ線回折装置を用いて測定したＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量が０．２重量％より大きいタルクであり、「ＦＧ−１５Ｆ」は、上述した条件でＸ線回折装置を用いて測定したＣａＭｇ（ＣＯ３）２及びＭｇＣＯ３の合計の含有量が０．１重量％以下のタルクである。
また、表１〜３において、「ステアリン酸処理ＦＧ−１５Ｆ」は、「ＦＧ−１５Ｆ」１００重量部と、ステアリン酸１０重量部とを、乾式表面処理することにより得られた表面処理タルクであり、「ＫＢＭ−４０３処理ＦＧ−１５Ｆ」は、「ＦＧ−１５Ｆ」１００重量部と、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン社製、「ＫＢＭ−４０３」）１０重量部とを、乾式表面処理することにより得られた表面処理タルクであり、「ＫＢＭ−６０３処理ＦＧ−１５Ｆ」は、「ＦＧ−１５Ｆ」１００重量部と、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン社製、「ＫＢＭ−６０３」）１０重量部とを、乾式表面処理することにより得られた表面処理タルクである。
【００６７】
＜評価＞
実施例及び比較例で得られたシール剤について以下の評価を行った。結果を表１〜３に示した。
【００６８】
（描画性）
実施例及び比較例で得られた液晶滴下工法用シール剤に、シリカスペーサー（積水化学工業社製、「ＳＩ−Ｈ０５５」）を１重量％配合し、脱泡処理をしてシール剤中の泡を取り除いた後、ディスペンス用のシリンジ（武蔵エンジニアリング社製、「ＰＳＹ−１０Ｅ」）に充填し、再び脱泡処理を行った。次いで、ディスペンサー（武蔵エンジニアリング社製、「ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００」）を用いてＩＴＯ薄膜付きの透明電極基板に長方形の枠を描く様にシール剤を塗布し、他方の透明基板を、真空張り合わせ装置にて５Ｐａの減圧下にて張り合わせた。張り合わせた後のセルをメタルハライドランプにて３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、１２０℃で６０分加熱することによってシール剤を熱硬化させ、液晶セルを各シール剤につき５枚ずつ作製した。この液晶セル内のシール剤を観察し、シール剤に断線不良も端部のうねりもなくきれいなラインが描けていた場合を「◎」、断線不良はないがシール剤の端部にわずかにうねりが生じる等していた場合を「○」、断線不良はないがシール剤の端部にはっきりとうねりが生じる等していた場合を「△」、断線不良が生じていた場合を「×」として評価した。
【００６９】
（接着性）
実施例及び比較例で得られたシール剤に、シリカスペーサー（積水化学工業社製、「ＳＩ−Ｈ０５５」）を１重量％配合し、２枚のＩＴＯ膜付きアルカリガラス試験片（３０×４０ｍｍ）のうち一方に微小滴下し、これにもう一方のガラス試験片を十字状に張り合わせたものを、メタルハライドランプにて３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、１２０℃で６０分加熱することによって接着試験片を得た。これを上下に配したチャックにて引っ張り試験（５ｍｍ／ｓｅｃ）を行った。得られた測定値（ｋｇｆ）をシール塗布断面積（ｃｍ２）で除した値が３０ｋｇｆ／ｃｍ２以上であった場合を「◎」、２０ｋｇｆ／ｃｍ２以上３０ｋｇｆ／ｃｍ２未満であった場合を「○」、１０ｋｇｆ／ｃｍ２以上２０ｋｇｆ／ｃｍ２未満であった場合を「△」、１０ｋｇｆ／ｃｍ２未満であった場合を「×」として評価した。
【００７０】
（硬化物の耐湿性）
実施例及び比較例で得られたシール剤を、平滑な離型フィルム状にコーターで厚さ２００〜３００μｍに塗行した後、メタルハライドランプにて３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、１２０℃で６０分加熱することによって透湿度測定用硬化フィルムを得た。ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８の防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）に準じた方法で透湿度試験用カップを作製し、得られた透湿度測定用硬化フィルムを取り付け、温度８０℃湿度９０％ＲＨの高温高湿オーブンに投入して透湿度を測定した。得られた透湿度の値が４０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ未満であった場合を「◎」、４０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以上６０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ未満であった場合を「○」、６０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以上８０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ未満であった場合を「△」、８０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以上であった場合を「×」として評価した。
【００７１】
【表１】
2013146748.tif 000002
【００７２】
【表２】
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【００７３】
【表３】
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【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明によれば、描画性、接着性、及び、硬化物の耐湿性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供することができる。また、本発明によれば、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。
【国際調査報告】
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