(57)【要約】【課題】マスクパターンの位置を適切に調整することができるマスク調整ユニット等の技術を提供すること。【解決手段】本技術に係るマスク調整ユニットは、ベース体と、可動部材と、調整機構とを具備する。前記可動部材は、外縁部を有するマスク本体の前記外縁部側を支持し、前記ベース体に移動可能に設けられる。前記調整機構は、前記マスク本体の前記外縁部から前記マスク本体の外側へ引く張力、及び、前記外縁部から前記マスク本体の内側へ押す押圧力の両方を、前記可動部材を介して、前記可動部材に支持された前記マスク本体に加える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース体と、
外縁部を有するマスク本体の前記外縁部側を支持し、前記ベース体に移動可能に設けられた可動部材と、
前記マスク本体の前記外縁部から前記マスク本体の外側へ引く張力、及び、前記外縁部から前記マスク本体の内側へ押す押圧力の両方を、前記可動部材を介して、前記可動部材に支持された前記マスク本体に加える調整機構と
を具備するマスク調整ユニット。
【請求項２】
請求項１に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、前記可動部材に作用する少なくとも１つのボルトを有する
マスク調整ユニット。
【請求項３】
請求項２に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、
前記マスク本体に前記張力を加える第１のボルトと、
前記マスク本体に前記押圧力を加える第２のボルトとを有する
マスク調整ユニット。
【請求項４】
請求項３に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、前記ベース体に設けられた、前記第１のボルト及び前記第２のボルトを支持する支持部を有し、
前記可動部材は、前記第１のボルトが装着されるネジ穴と、前記第２のボルトの端部が当接する当接領域とを有する
マスク調整ユニット。
【請求項５】
請求項３に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、前記第１のボルト及び前記第２のボルトのうち少なくとも一方に接続された変換部材であって、前記少なくとも一方のボルトの第１の移動方向の動力を、前記第１の移動方向とは異なる第２の移動方向の動力に変換して前記可動部材に伝達する変換部材をさらに有する
マスク調整ユニット。
【請求項６】
請求項３に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、
前記ベース体に設けられた固定体と、
前記固定体と前記可動部材との間で前記第１のボルト及び前記第２のボルトのうちいずれか一方により前記ベース体に接続され、前記第１のボルト及び前記第２のボルトのうちいずれか一方の第１の移動方向の動力を、前記第１の移動方向とは異なる２の移動方向の動力に変換して前記可動部材に伝達する伝達部材とをさらに有する
マスク調整ユニット。
【請求項７】
請求項６に記載のマスク調整ユニットであって、
前記伝達部材は、弾性変形により前記可動部材に作用する弾性体である
マスク調整ユニット。
【請求項８】
請求項６に記載のマスク調整ユニットであって、
前記可動部材は、テーパ面を有し、
前記固定体は、前記可動部材の前記テーパ面に対向するテーパ面を有し、前記マスク本体が有する、マスクパターンが形成されたパターン面に垂直方向に向かうにしたがって、前記可動部材の前記テーパ面と、前記固定体の前記テーパ面との間隔が変わるように、前記ベース体に設けられ、
前記伝達部材は、前記可動部材の前記テーパ面及び前記固定体の前記テーパ面の両方に接触するように、前記両テーパ面の間に配置されたブロック材である
マスク調整ユニット。
【請求項９】
請求項２に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、
前記ベース体に設けられた、前記ボルトを支持する支持部と、
前記支持部に対する、前記ボルトの装着及び取り外し方向に沿った前記ボルトの移動を規制する規制部とをさらに有する
マスク調整ユニット。
【請求項１０】
請求項１に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、
前記マスク本体に前記張力を加える第１のカム部材と、
前記マスク本体に前記押圧力を加える第２のカム部材とを有する
マスク調整ユニット。
【請求項１１】
請求項１に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、前記マスク本体に前記張力及び前記押圧力を加えることが可能な圧電素子を有する
マスク調整ユニット。
【請求項１２】
請求項１に記載のマスク調整ユニットであって、
調整フレームであって、前記マスク本体が有する、マスクパターンが形成されたパターン面に垂直方向において前記ベース体と対向するように、かつ、前記調整フレーム及び前記ベース体との間にギャップを形成するように、前記ベース体に接続された調整フレームと、
前記垂直方向における前記ギャップの距離を調整する調整部材とをさらに具備する
マスク調整ユニット。
【請求項１３】
外縁部を有するマスク本体と、
ベース体と、
前記マスク本体の前記外縁部側を支持し、前記ベース体に移動可能に設けられた可動部材と、
前記マスク本体の前記外縁部から前記マスク本体の外側へ引く張力、及び、前記外縁部から前記マスク本体の内側へ押す押圧力の両方を、前記可動部材を介して、前記可動部材に支持された前記マスク本体に加える調整機構と
を具備するマスク装置。
【請求項１４】
外縁部とパターン面と前記パターン面に形成されたマスクパターンとを含むマスク本体の、前記マスクパターンの位置を調整することでマスク装置を製造するマスク製造装置であって、
前記マスク本体と、ベース体と、前記マスク本体の前記外縁部側を支持し、前記ベース体に移動可能に設けられた可動部材と、前記マスク本体の前記外縁部から前記マスク本体の外側へ引く張力、及び、前記外縁部から前記マスク本体の内側へ押す押圧力の両方を、前記可動部材を介して、前記可動部材に支持された前記マスク本体に加える調整機構とを含む前記マスク装置の、前記マスク本体が、前記可動部材に支持された状態で、前記パターン面内における前記マスクパターンの位置情報である実位置情報を検出する検出部と、
前記マスク装置の前記調整機構を駆動する操作装置と、
前記マスク本体の設計情報のうち前記マスクパターンの位置情報である設計位置情報を取得し、前記取得した設計位置情報と前記検出された前記実位置情報とに基づき、前記設計位置情報からの前記実位置情報のずれ量を算出し、前記算出されたずれ量に基づき、前記操作装置を制御する制御部と
を具備するマスク製造装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載のマスク製造装置であって、
前記操作装置は、
モータと、
前記モータの駆動を減速する減速機とを有する
マスク製造装置。
【請求項１６】
請求項１４に記載のマスク製造装置であって、
前記操作装置を前記マスク本体に沿って移動可能にするガイド機構をさらに具備する
マスク製造装置。
【請求項１７】
外縁部とパターン面と前記パターン面に形成されたマスクパターンとを含むマスク本体の、前記マスクパターンの位置を調整することでマスク装置を製造するマスク製造方法であって、
前記マスク本体と、ベース体と、前記マスク本体の前記外縁部側を支持し、前記ベース体に移動可能に設けられた可動部材と、前記マスク本体の前記外縁部から前記マスク本体の外側へ引く張力、及び、前記外縁部から前記マスク本体の内側へ押す押圧力の両方を、前記可動部材を介して、前記可動部材に支持された前記マスク本体に加える調整機構とを含む前記マスク装置の前記マスク本体が、前記可動部材に支持された状態で、前記パターン面内における前記マスクパターンの位置情報である実位置情報を検出し、
前記マスク本体の設計情報のうち前記マスクパターンの位置情報である設計位置情報を取得し、
前記取得した設計位置情報と前記検出された前記実位置情報とに基づき、前記設計位置情報からの前記実位置情報のずれ量を算出し、
前記算出されたずれ量に基づき、前記マスクの前記調整機構を駆動する操作装置を制御する
マスク製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、蒸着等に用いられるマスクに加える応力を調整するマスク調整ユニット、これを搭載したマスク装置、このマスク装置の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、例えば有機ＥＬ（Electro-Luminescence）デバイスを用いた表示装置の製造工程では、蒸着マスクを用いた真空蒸着によって、赤、緑及び青（ＲＧＢ）の各画素に材料膜のパターンが、基板上に形成される。【０００３】
このような蒸着用のマスクは次のように製造される。まず、電気鋳造法あるいはフォトエッチング法等によって、箔に多数の微細な開口パターンが設けられたマスク箔が作製される。次に、このマスクに張力が付加された状態で、マスクは支持フレームに溶接などにより固定される。このようにマスクが固定されてしまうと、その固定後にマスクの張力を調整することは困難であった。【０００４】
一般に、マスクは、その開口パターンの形成密度の疎密によって、あるいは、電気鋳造や圧延の際に生じる膜厚の不均一な分布によって、応力分布が異なる。また、マスクの支持フレーム自体の変形量に個体差があるため、予め変形解析等で変形を見越すことは極めて困難である。そこで、マスクをフレームに固定後に、その開口パターンの位置を修正する手法が特許文献１で提案されている。【０００５】
特許文献１に記載の蒸着用マスクは、マスクフレームに保持されるマスク本体と、マスク本体の少なくとも１辺に接着されたガイド部材と、ガイド部材を介してマスク本体に所定の張力を付加する張力付加手段とを備える。張力付加手段は、ガイド部材の側壁に形成されたネジ孔と、そのネジ孔に挿入可能であり先端部がマスクフレームの側面に当接するネジとを含む。作業者がネジを締めたり緩めたりすることで、マスク本体に張力を加えることができる（例えば、特許文献１の明細書段落[００３１]〜[００３５]及び図４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−６２５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の張力付加手段の構造は、その締め度を大きくするほど、その張力を大きくする構造である。すなわち、これはマスク本体に単に張力を加えるだけの構造なので、マスクに形成されたマスクパターンの位置を適切に調整することは困難である。【０００８】
本技術の目的は、マスクパターンの位置を適切に調整することができるマスク調整ユニット等の技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本技術に係るマスク調整ユニットは、ベース体と、可動部材と、調整機構とを具備する。
前記可動部材は、外縁部を有するマスク本体の前記外縁部側を支持し、前記ベース体に移動可能に設けられる。
前記調整機構は、前記マスク本体の前記外縁部から前記マスク本体の外側へ引く張力、及び、前記外縁部から前記マスク本体の内側へ押す押圧力の両方を、前記可動部材を介して、前記可動部材に支持された前記マスク本体に加える。【００１０】
調整機構が、マスク本体に張力及び押圧力の両方の応力を加えることができるので、マスク本体に設けられたマスクパターンの位置を適切に微調整することができる。【００１１】
前記調整機構は、前記可動部材に作用する少なくとも１つのボルトを有してもよい。ボルトは、可動部材に直接または間接的に作用してもよい。【００１２】
前記調整機構は、前記マスク本体に前記張力を加える第１のボルトと、前記マスク本体に前記押圧力を加える第２のボルトとを有してもよい。【００１３】
前記調整機構は、前記ベース体に設けられた、前記第１のボルト及び前記第２のボルトを支持する支持部を有してもよい。また、前記可動部材は、前記第１のボルトが装着されるネジ穴と、前記第２のボルトの端部が当接する当接領域とを有してもよい。【００１４】
これら第１のボルト及び第２のボルトの２つにより、それぞれ、張力及び押圧力を発生させることができる。【００１５】
前記調整機構は、前記第１のボルト及び前記第２のボルトのうち少なくとも一方に接続された変換部材を有してもよい。前記変換部材は、前記少なくとも一方のボルトの第１の移動方向の動力を、前記第１の移動方向とは異なる第２の移動方向の動力に変換して前記可動部材に伝達する。【００１６】
このように、伝達部材が、ボルトの移動方向の動力をそれとは異なる移動方向の動力に変換して可動部材を動かしてもよい。【００１７】
前記調整機構は、固定体と、伝達部材とさらに有してもよい。前記固定体は、ベース体に設けられる。前記伝達部材は、前記固定体と前記可動部材との間で前記第１のボルト及び前記第２のボルトのうちいずれか一方により前記ベース体に接続され、前記第１のボルト及び前記第２のボルトのうちいずれか一方の第１の移動方向の動力を、前記第１の移動方向とは異なる２の移動方向の動力に変換して前記可動部材に伝達してもよい。【００１８】
前記伝達部材は、弾性変形により前記可動部材に作用する弾性体であってもよい。弾性体の弾性変形が利用されることにより、マスクパターンの位置の微調整を高精度に行うことができる。【００１９】
前記可動部材は、テーパ面を有してもよい。前記固定体は、前記可動部材の前記テーパ面に対向するテーパ面を有し、前記マスク本体が有する、マスクパターンが形成されたパターン面に垂直方向に向かうにしたがって、前記可動部材の前記テーパ面と、前記固定体の前記テーパ面との間隔が変わるように、前記ベース体に設けられてもよい。そして、前記伝達部材は、前記可動部材の前記テーパ面及び前記固定体の前記テーパ面の両方に接触するように、前記両テーパ面の間に配置されたブロック材であってもよい。【００２０】
前記調整機構は、前記ベース体に設けられた、前記ボルトを支持する支持部と、前記支持部に対する、前記ボルトの装着及び取り外し方向に沿った前記ボルトの移動を規制する規制部とをさらに有してもよい。これにより、調整機構は、調整用の１つのボルトで張力及び押圧力の両方を発生させることができる。【００２１】
前記調整機構は、前記マスク本体に前記張力を加える第１のカム部材と、前記マスク本体に前記押圧力を加える第２のカム部材とを有してもよい。これにより、調整機構は、調整用のボルトを用いずに張力及び押圧力の両方を発生させることができる。【００２２】
前記調整機構は、前記マスク本体に前記張力及び前記押圧力を加えることが可能な圧電素子を有してもよい。【００２３】
前記マスク調整ユニットは、調整フレームと、調整部材とをさらに具備してもよい。【００２４】
前記調整フレームは、前記マスク本体が有する、マスクパターンが形成されたパターン面に垂直方向において前記ベース体と対向するように、かつ、前記調整フレーム及び前記ベース体との間にギャップを形成するように、前記ベース体に接続される。【００２５】
前記調整部材は、前記垂直方向における前記ギャップの距離を調整する。これにより、調整フレームとベース体との間にギャップが形成され、そのギャップの距離が調整部材により調整されるので、マスク本体の撓みを矯正でき、あるいは、マスク本体を重力方向とは逆方向にも引き上げることができる。【００２６】
本技術に係るマスク装置は、マスク本体と、前記マスク本体を支持する上述のマスク調整ユニットとを具備する。【００２７】
本技術に係るマスク製造装置は、外縁部とパターン面と前記パターン面に形成されたマスクパターンとを含むマスク本体の、前記マスクパターンの位置を調整することでマスク装置を製造するマスク製造装置である。
前記マスク製造装置は、検出部と、操作装置と、制御部とを具備する。
前記検出部は、前記マスク装置の、前記マスク本体が前記可動部材に支持された状態で、前記パターン面内における前記マスクパターンの位置情報である実位置情報を検出する。
前記操作装置は、前記マスク装置の前記調整機構を駆動する。
前記制御部は、前記マスク本体の設計情報のうち前記マスクパターンの位置情報である設計位置情報を取得し、前記取得した設計位置情報と前記検出された前記実位置情報とに基づき、前記設計位置情報からの前記実位置情報のずれ量を算出する。そして制御部は、前記算出されたずれ量に基づき、前記操作装置を制御する。【００２８】
これにより、マスク本体が有するマスクパターンの位置を、自動で適切に調整することができる。したがって、このマスク装置により製造されるデバイスの生産性を高めることができる。【００２９】
前記操作装置は、モータと、前記モータの駆動を減速する減速機とを有してもよい。これにより、マスクパターンの位置の微調整を高精度に行うことができる。【００３０】
前記マスク製造装置は、前記操作装置を前記マスク本体に沿って移動可能にするガイド機構をさらに具備してもよい。これにより、操作装置による、調整機構を介しての応力印加の位置を変更することができる。【００３１】
本技術に係るマスク製造方法は、外縁部とパターン面と前記パターン面に形成されたマスクパターンとを含むマスク本体の、前記マスクパターンの位置を調整することでマスク装置を製造するマスク製造方法である。
前記マスク装置の前記マスク本体が、前記可動部材に支持された状態で、前記パターン面内における前記マスクパターンの位置情報である実位置情報が検出される。
前記マスク本体の設計情報のうち前記マスクパターンの位置情報である設計位置情報が取得される。
前記取得した設計位置情報と前記検出された前記実位置情報とに基づき、前記設計位置情報からの前記実位置情報のずれ量が算出される。
前記算出されたずれ量に基づき、前記マスクの前記調整機構を駆動する操作装置が制御される。
【発明の効果】
【００３２】
以上、本技術によれば、マスクパターンの位置を適切に調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】図１は、本技術の第１の実施形態に係るマスク調整ユニットを含むマスクを示す斜視図である。
【図２】図２は、図１に示したマスク調整ユニットの平面図である。
【図３】図３は、マスクパターンの例を示す拡大図である。
【図４】図４は、図２におけるＣ−Ｃ線断面における模式的な図である。
【図５】図５は、図２において一点鎖線Ｅで囲まれた部位（調整機構の一部）を拡大して示した図である。
【図６】図６Ａは、図５におけるＡ−Ａ線断面図であり、図６Ｂは、図５におけるＢ−Ｂ線断面図である。
【図７】図７は、図２におけるＤ−Ｄ線断面図である。
【図８】図８は、ベースフレームの撓みを示す図である。
【図９】図９Ａ〜Ｃは、位置保持機構の例をそれぞれ示す断面図である。
【図１０】図１０は、位置保持機構の例を示す断面図である。
【図１１】図１１は、図１０に示した調整機構によって位置調整された後に、マスク本体の位置を保持する位置保持機構を示す。
【図１２】図１２は、本技術の第３の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構のＺ軸方向で見た断面図である。
【図１３】図１３Ａは、本技術の第４の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構の平面図である。図１３Ｂは、図１３ＡにおけるＥ−Ｅ線断面図である。
【図１４】図１４は、本技術の第５の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構を示す平面図である。
【図１５】図１５Ａは、図１４におけるＦ−Ｆ線断面図である。図１５Ｂは、図１４におけるＧ−Ｇ線断面図である。
【図１６】図１６は、本技術の第６の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構のＺ軸方向で見た断面図である。
【図１７】図１７は、本技術の第７の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構のＹ軸方向で見た断面図である。
【図１８】図１８Ａは、本技術の第８の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構を示す平面図である。図１８Ｂは、図１８ＡにおけるＨ−Ｈ線断面図である。
【図１９】図１９Ａは、本技術の第９の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構を示す平面図である。図１９Ｂは、図１９ＡにおけるＩ−Ｉ線断面図である。
【図２０】図２０は、マスク製造装置を示す図である。
【図２１】図２１は、１つの操作装置を示す斜視図である。
【図２２】マスク製造装置にマスク装置がセットされた状態を示す斜視図である。
【図２３】図２３は、別の例に係るマスク製造装置を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、図面を参照しながら、本技術の実施形態を説明する。
【００３５】
[第１の実施形態]
【００３６】
（マスク調整ユニット及びマスク装置）
【００３７】
図１は、本技術の第１の実施形態に係るマスク調整ユニットを含むマスク装置を示す斜視図である。図２は、その平面図である。
【００３８】
マスク装置１００は、マスク箔として形成されたマスク本体５５と、このマスク本体５５を支持するマスク調整ユニット５０とを備える。マスク装置１００は、典型的には、有機ＥＬデバイスを用いた表示デバイスの製造過程において、蒸着マスクとして利用され得る。
【００３９】
マスク本体５５は、主に、ニッケル（Ni）、インバー（Fe/Ni合金）、銅（Cu）などの金属材料でなる。マスク本体５５の厚さは、典型的には10〜50μm程度である。マスク本体５５は、マスクパターンが形成されたパターン面５５１を有する。例えば、マスク本体５５には、３面の表示面が形成され得るように、３つのパターン領域５５２が形成されている。このパターン領域５５２内に、例えば同じマスクパターンがそれぞれ形成されている。
【００４０】
マスクパターンとしては、例えばマトリクス状、千鳥状に配置された複数の通過孔（貫通孔）であり、１つの通過孔が、表示デバイスの１つの画素領域を形成するための要素である。例えば通過孔は、スリット、スロット、丸形状等を有する。この通過孔を介して、低分子有機ＥＬ材料が図示しない基板に蒸着される。ＲＧＢの３色の場合、その色数に応じて３つのマスク装置が用いられる。マスク本体５５の通過孔の例として、例えば図３のような通過孔（黒色の部分）がある。
【００４１】
マスク本体５５は、マスク本体５５にある程度張力がかけられた状態で、マスク調整ユニット５０にスポット溶接（例えば電気抵抗またはレーザによる）によって、固定されて支持される。
【００４２】
マスク調整ユニット５０は、開口１０ａを有する矩形のベースフレーム（ベース体）１０を有する。また、マスク調整ユニット５０は、ベースフレーム１０の４辺に対応するように設けられた４つの可動部材２０とを有する。これら可動部材２０はそれぞれＸ及びＹ軸に沿って長い形状を有している。
【００４３】
４つの可動部材２０で形成される矩形部の外形のサイズは、マスク本体５５の外形のサイズと比べ概ね同じ、または多少大きく形成されている。これら可動部材２０の上面に、マスク本体５５の外縁部５５３が溶接により固定される。Ｚ軸方向で見て、ベースフレーム１０の開口１０ａ部内に、マスク本体５５の３つのパターン領域５５２が収まるように、マスク本体５５が可動部材２０に固定される。このＺ軸方向は、マスク本体５５の、マスクパターンが形成されたパターン面５５１に垂直な方向である。
【００４４】
各可動部材２０は、概ね同じ構造を有している。例えば１つの可動部材２０の両端部の上面にはネジ穴が形成され、図示しないネジにより可動部材２０はベースフレーム１０に接続されている。したがって、後でも述べるように、可動部材２０の両端部以外の領域は、Ｘ軸方向（また、Ｙ軸方向）に沿って変形するように移動可能となっている。
【００４５】
マスク調整ユニット５０は、上記可動部材２０を介して、マスク本体５５に応力を加える調整機構４０を備える。調整機構４０は、マスク本体５５に張力（引っ張り力）を加える引きボルト（第１のボルト）４１と、マスク本体５５に押圧力を加える押しボルト（第２のボルト）４２とを備える。また、調整機構４０は、これら引きボルト４１及び押しボルト４２を支持する支持部材（支持部）３０とを備える。
【００４６】
支持部材３０は、例えばベースフレーム１０の４辺にそれぞれ対応するように４つ設けられ、長い形状をそれぞれ有する。これらの支持部材３０は、概ね同じ構造を有している。これら支持部材３０は、ベースフレーム１０において可動部材２０より外側に配置されている。支持部材３０は、それらの長手方向に沿って多数のネジ穴３０ａを有しており、図示しないネジによって各支持部材３０がベースフレーム１０に固定されている。
【００４７】
なお、支持部材３０は、ベースフレーム１０の材料と一体成形により形成されていてもよい。
【００４８】
引きボルト４１及び押しボルト４２は隣合って配置されている。引きボルト４１及び押しボルト４２を１組のボルトとして、複数組のボルトが、所定ピッチでＸ及びＹ軸方向に配列されている。引きボルト４１及び押しボルト４２間の距離は、適宜設定可能である。また、１組のボルト（４１及び４２）ごとのピッチも同様に適宜設定可能である。
【００４９】
マスク調整ユニット５０において、典型的には、ベースフレーム１０、支持部材３０、可動部材２０等の材料は、処理対象となる基板（有機材料が蒸着される基板）の材料の熱膨張係数を有する材料により構成される。これは、蒸着処理時の温度変化に伴い、マスク装置１００と基板とを同期して膨張収縮させるとともに、膨張及び収縮によるサイズの変化量を同等にするためである。また、ベースフレーム１０は、十分な厚みと高い剛性を有することで、その変形量を極力小さくできることが望ましいが、搬送やハンドリングを考慮して現実的な重量に抑えることも望ましい。
【００５０】
また、少なくとも可動部材２０の材料としては、比較的柔らかい、つまりヤング率が低い材料が使用されることにより、高精度な微調整が可能になる。可動部材２０に切れ目等が設けられていることにより、さらに可動範囲を広げることも可能である。
【００５１】
図４は、図２におけるＣ−Ｃ線断面における模式的な図である。可動部材２０の両端部及びベースフレーム１０に固定ボルト２１が装着されている。これら固定ボルト２１により、可動部材２０の両端部がベースフレーム１０に固定される。可動部材２０の両端部以外の領域は、ベースフレーム１０に対して変形により水平方向（ＸまたはＹ軸方向）に移動可能となっている。
【００５２】
図５は、図２において一点鎖線Ｅで囲まれた部位（調整機構４０の一部）を拡大して示した図である。図６Ａは、図５におけるＡ−Ａ線断面図であり、図６Ｂは、図５におけるＢ−Ｂ線断面図である。
【００５３】
図６Ａ及びＢに示すように、マスク本体５５が溶接（溶接ポイントＬで示す）によって可動部材２０に接合されている。引きボルト４１及び押しボルト４２としては、基本的には同じボルトが用いられる。例えばM2（直径2mm）〜M5（直径5mm）のボルトが用いられるが、これらに限られない。
【００５４】
複数組のボルト（４１及び４２）が配置されるＸ軸方向での範囲（及びＹ軸方向での範囲）は、適宜設定可能である。
【００５５】
図６Ａに示すように、支持部材３０及び可動部材２０の間の距離ｔは、調整機構４０によって調整したい範囲を考慮して適宜設定され得る。例えば６００mm程度の１辺の長さを有するマスクの場合、それらの間の距離ｔは１００μm程度とすることができる。距離ｔは、マスクパターンとして形成された通過孔の位置調整のための距離より十分長い距離であればよい。
【００５６】
図６Ａに示すように、引きボルト４１はヘッド４１ａを有する。可動部材２０にはＸ軸方向に沿うネジ穴が設けられ、支持部材３０には、Ｘ軸方向に貫通穴３２が設けられている。貫通穴３２にはネジ山は設けられていない。引きボルト４１は、この貫通穴３２によって支持され、かつ、可動部材２０のネジ穴２２に装着される。引きボルト４１のヘッド４１ａが支持部材３０に当接した状態で、引きボルト４１が締められることにより、引きボルト４１の動力が可動部材２０に作用し、可動部材２０は支持部材３０に接近する方向に移動する。
【００５７】
これにより、マスク本体５５には、その外縁部５５３からマスク本体５５の外側へ引く張力が発生する。その結果、マスク本体５５に形成された通過孔の位置が、マスク本体５５の外側へ移動するように調整される。
【００５８】
図６Ｂに示すように、押しボルト４２はヘッド４２ａを有する。支持部材３０にはＸ軸方向に沿うネジ穴３３が設けられ、押しボルト４２はそのネジ穴３３に装着されることにより、支持部材３０により支持される。そして、押しボルト４２の先端（端部）４２ｂが可動部材２０の側面２４に当接している。すなわち、可動部材２０は、押しボルト４２の先端４２ｂの当接領域２４ａを有する。
【００５９】
押しボルト４２の先端が可動部材２０の側面２４に当接した状態で、押しボルト４２が締められることにより、押しボルト４２の動力が可動部材２０に作用し、可動部材２０は支持部材３０から離れる方向に移動する。これにより、マスク本体５５には、その外縁部５５３からマスク本体５５の内側（中心側）へ押す押圧力が発生する。その結果、マスク本体５５に形成された通過孔の位置が、マスク本体５５の内側へ移動するように調整される。
【００６０】
なお、図６Ａ及びＢにおいて、引きボルト４１及び押しボルト４２の各ヘッド４１ａ及び４２ａの代わりに、ナットがボルト（のネジ部）に螺着されていてもよい。その場合、ナットの回転動力が、そのボルトを介して可動部材２０に伝達される。
【００６１】
以上のように、調整機構４０は、マスク本体５５に張力及び押圧力の両方の応力を加えることができるので、マスク本体５５に設けられたマスクパターンの位置を適切に微調整することができる。
【００６２】
図７は、図２におけるＤ−Ｄ線断面図である。このマスク調整ユニット５０は、ベースフレーム１０のＺ軸方向での位置を調整するＺ調整機構４５を有する。Ｚ調整機構４５は、Ｘ軸に沿う２つの支持部材３０１と、これら支持部材３０１に支持された複数のＺ調整ボルト３１とを有する。この場合、支持部材３０１は、調整フレームとして機能し、Ｚ調整ボルト３１は調整部材として機能する。Ｚ調整ボルト３１としては、M2〜M5のボルトが用いられるが、これらに限られない。
【００６３】
例えば、支持部材３０１には、Ｚ軸方向において貫通した貫通穴３０１ａが設けられている。ベースフレーム１０の、それら貫通穴３０１ａに対応した位置にそれぞれネジ穴１０ｂが設けられている。支持部材３０１の貫通穴３０１ａを介して、Ｚ調整ボルト３１がネジ穴１０ｂに装着されている。また、支持部材３０１の両端部には固定ボルト３１１が装着されている。固定ボルト３１１は、支持部材３０１（の両端部）とベースフレーム１０とを固定する機能を有する。
【００６４】
支持部材３０１とベースフレーム１０との間にはギャップＧが形成されている。具体的には、支持部材３０１の下部には、その両端部から中心に向かうにしたがってそのギャップＧが大きくなるように形成されたテーパ面３０１ｂが設けられている。テーパ面に限られず、曲面（例えば円弧状）及び／または平面を含む、凹面が支持部材３０１の下部に形成されていればよい。
【００６５】
ベースフレーム１０のほぼ正方形の開口１０ａの一辺の長さが900mmである場合、テーパ面により形成されたギャップＧの最高値ｈ１は、2mm程度あるいはそれより大きい値となる（ベースフレーム１０の形状及び材料にもよる）。これは、ベースフレーム１０が2mm程度撓むことを考慮したものである。2mmより大きい値とするのは、支持部材３０１自体も撓む可能性があるからである。ギャップＧの最高値ｈ１は、高さｈ２も考慮して構造解析などにより適切に設定され得る。
【００６６】
このようなＺ調整機構４５では、Ｚ調整ボルト３１が締められることにより、ベースフレーム１０がＺ軸方向で持ち上げられる。これにより、この支持部材３０１の高さを基準として、ベースフレーム１０のＺ軸方向の位置を調整することができる。特に、ベースフレーム１０のＺ軸方向の撓みを補正することができる。また、ギャップＧが設けられていることにより、そのギャップＧにより重力方向とは逆方向にベースフレーム１０を持ち上げることにより、重力による撓みをキャンセルすることができる。その結果、ベースフレーム１０及び処理対象となる基板の水平状態を維持することができる。
【００６７】
また、引っ張り調整及び押圧調整を行うための支持部材３０が、Ｚ軸調整用のフレームを兼ねることにより、マスク調整ユニット５０を小型化することができる。
【００６８】
以上説明したように、本実施形態に係るマスク装置１００によれば、調整機構４０によって、マスク本体５５に張力及び押圧力の両方の応力を加えることができるので、マスク本体５５に設けられたマスクパターンの位置を適切に微調整することができる。
【００６９】
一般的に、有機ＥＬ表示デバイスの開口率及び精細度は、互いにトレードオフの関係にある。本実施形態に係るマスク装置１００が用いられることにより、蒸着用のマスクの開口（通過孔）の位置精度が向上し、そのトレードオフの限界ラインを超え、高開口率及び高精細の表示デバイスを実現できる。開口率がアップするということは、つまり、有機ＥＬ表示デバイスの高輝度化及び長寿命化が可能となる。
【００７０】
また、本実施形態に係るマスク装置１００は、張力及び押圧力の両方を発生するので、その２つの応力のバランスにより、調整後のマスク本体５５の位置（あるいはその応力状態）を保持することができる。したがって、調整後のマスク本体５５の位置を保持するための別途の機構を必要としない。
【００７１】
本実施形態では、引きボルト４１及び押しボルト４２について、両方とも同じ締め付け方向の締め付けによって、張力及びこれとは逆の押圧力を発生させることができる。したがって、作業者が手動で調整を行う場合、その作業が容易になる。
【００７２】
また、本実施形態では、Ｚ調整機構４５によってＺ軸方向のベースフレーム１０の撓みを抑制することができる。
【００７３】
本実施形態によれば、マスクを製造する工程において電気鋳造の際に生じる内部残留歪み、あるいはフォトエッチングの各処理毎の位置の精度劣化に応じた精度劣化も修正可能となる。
【００７４】
また、従来ではマスクを製造する工程において、マスクパターンの位置精度のスペックアウトが発生しているが、本技術はこれを克服でき、製造における歩留り改善に貢献することができる。
【００７５】
さらにマスク装置１００を後述のように蒸着処理に使用した後、洗浄工程などを経ることによりマスクパターンの位置がずれてしまったとしても、本技術によればそのずれを修正することができる。これにより、マスク装置の延命にも貢献できる。
【００７６】
本実施形態に係るマスク装置１００は、図示しない蒸着装置において蒸着用マスクとして使用される。蒸着装置は、例えばローラ搬送方式を用いたコンベアを備えるものがあり、図示しない複数の蒸着源が、その搬送方向であるＹ軸方向に沿って配置される。本技術に係るマスク装置１００には、蒸着処理の対象となる図示しない基板が装着され、マスク装置１００のＹ軸方向に沿った２辺がコンベアで支持されながら、基板に蒸着処理が行われる。
【００７７】
このような蒸着装置に、本実施形態に係るマスク装置１００が用いられる場合、何も対策をしないと、マスク装置１００が大型化している近年では、図８に示すように、ベースフレーム１０が撓む。これは蒸着装置のコンベアが、上記のようにベースフレーム１０のＹ軸方向に沿った２辺のみを支持するためである。
【００７８】
上述したように、ベースフレーム１０が所定の大型サイズを有する場合にその最大撓み量は2mm程度となる。本実施形態に係るマスク装置１００によれば、上記したように、Ｚ調整機構４５によってベースフレーム１０の撓みを真に抑制できる。
【００７９】
特許文献１に記載の蒸着用マスクでは、このようなＺ軸方向の撓みを抑制できない。また、上記したように特許文献１の技術では、マスク本体５５から外側への張力をマスク本体５５に与えるのみであり、パターンの微調整は困難である。
【００８０】
特開２００６−３１０１８３号公報では、張力を付加した金属テープを用いて重力方向の撓みを矯正する方法が提案されている。この場合、フレームを金属テープにならわせることはできるものの、重力方向のμmオーダの微調整や、本技術のように重力方向とは逆方向にフレームを変形させることは困難である。また、フレームは加工時に生じる反りや残留応力の影響により部分的に反りが生じることもあるため、撓み抑制は重要である。
【００８１】
またフレームの反りを矯正する装置として、特開２００７−２５７８３９号公報に記載されたテンション付加装置が開示されている。この装置では、金属テープの取付位置がフレーム裏面（マスク面と逆の面）に限定されるため、実際の蒸着時の支持状態を再現することが困難であり、実際の蒸着時状態に適したフレーム反り状態に調整することは困難である。
【００８２】
本実施形態に係るマスク装置１００によれば、以上のような問題を解決することができる。
【００８３】
（位置調整後の位置を保持する位置保持機構）
【００８４】
以上では、張力及び押圧力による応力のバランスによるマスクパターンの位置の調整後の、マスク本体５５の位置を保持する機構を必要ないとして説明した。しかし、次に説明するように、マスク調整ユニットは、マスクパターンの位置調整後の、マスク本体５５の位置を保持する保持機構を備えていてもよい。図９Ａ〜Ｃ及び図１０は、その位置保持機構の例をそれぞれ示す断面図である。
【００８５】
図９Ａに示す例では、例えば押しボルト４２にナット４３が締結されている。図示しないが引きボルト４１にも、同様にナットが締結される。
【００８６】
図９Ｂに示す例では、支持部材３０の上面側から止めネジ３５により押しボルト４２が固定される。図示しないが、図示しないが引きボルト４１も同様に止めネジで固定される。
【００８７】
図９Ｃに示す例では、可動部材２０の上面側から、挿入穴２０ｂに固定ボルト２５が挿入され、ベースフレームのネジ穴１０ｃに装着されることにより、ベースフレーム１０と可動部材２０とが固定される。挿入穴２０ｂのサイズは、可動部材２０が、マスクパターンの位置調整のために図中左右方向に動いたとしても、ネジ穴１０ｃが可動部材２０によって覆われないようなサイズとなっている。
【００８８】
このような位置保持機構が設けられることにより、マスクパターンの位置調整後のマスク本体５５の位置を、確実に保持することができる。
【００８９】
なお、可動部材２０の移動の際に、可動部材２０とベースフレーム１０との引っかかりを防止するために、可動部材２０のエッジにはＲ加工または段差加工が施されていてもよい。また、可動部材２０の移動の際に少なくとも移動部材とベースフレーム１０とが摺接する部分には、摩擦抵抗を低くする加工が施されていることにより、可動部材２０を容易に動かすことができる。
【００９０】
[第２の実施形態]
【００９１】
図１０は、本技術の第２の実施形態に係るマスク調整ユニットの一部であって、その調整機構を示す断面図である。これ以降の説明では、図６Ａ及びＢ等に示した実施形態に係る調整機構４０が含む部材や機能等について同様のものは説明を簡略化または省略し、異なる点を中心に説明する。
【００９２】
本実施形態に係る調整機構は、ベースフレーム１０上に設けられた支持部材８０及び可動部材７０の間に設けられた圧電素子６０を有する。１つの圧電素子６０は、可動部材７０を引っ張り及び押圧することができる。これにより、マスク本体５５に張力及び押圧力が加えられ、マスクパターンの位置が微調整される。この調整機構は、複数の圧電素子６０を有していればよく、例えば圧電素子６０は、Ｘ軸方向に複数、また、Ｙ軸方向に複数設けられる。
【００９３】
このように圧電素子６０が使用される場合でも、例えばM2〜M5ボルトと同等の駆動力を得ることができるため、可動部材７０の所望の移動距離を得ることができる。
【００９４】
図１１は、図１０に示した調整機構によって位置調整された後に、マスク本体５５の位置を保持する位置保持機構を示す。この保持機構は、図９Ｃに示した位置保持機構と同様であり、可動部材７０の上面側から固定ボルト７５が装着され、可動部材７０が固定される。図１０に示したように、圧電素子６０への電力供給が切られた後は、圧電素子６０が元の状態に戻る。したがって、その電力供給が切られる前に、例えば図１１に示したような固定ボルトによる位置保持が必要となる。
【００９５】
[第３の実施形態]
【００９６】
図１２は、本技術の第３の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構のＺ軸方向で見た断面図である。
【００９７】
本実施形態に係る調整機構は、可動部材２０と支持部材３０との間に設けられたカム部材４７を有する。カム部材４７は、押しボルト４６のネジ部が接続される接続部４７１と、可動部材２０に当接して押圧力を与える作用部４７２とを有する。作用部４７２は、楕円板形状あるいはこれに近い形状を有しているが、これら以外の形状でもよい。接続部４７１にはネジ穴が形成され、このネジ穴に押しボルト４６のネジ部が螺着されている。押しボルト４６は、支持部材３０に設けられた貫通穴３２を介してカム部材４７に接続されている。
【００９８】
引きボルト４５、支持部材３０及び可動部材２０の機械的関係は、上記第１の実施形態に係る引きボルト４５、支持部材３０及び可動部材２０のそれと同様である。
【００９９】
押しボルト４６が締められると、カム部材４７は、Ｚ軸方向を回転軸として、接続部４７１側を中心に図中時計回りに回転する。つまり、カム部材４７の接続部４７１側が押しボルト４６のヘッド側に近づくように回転し、作用部４７２側が可動部材２０を押すように回転する。
【０１００】
以上のように、調整機構は、押しボルト４６が動作する時の、その押しボルト４６のＸ軸に沿った移動方向（第１の移動方向）の動力を、その方向とは異なる移動方向（第２の移動方向）、ここでは回転方向の動力に変換して可動部材２０に伝達するカム部材４７を有する。この場合、カム部材４７は変換部材として機能する。
【０１０１】
本実施形態によっても、両ボルトの同じ締め付け方向の締め付けによって、張力及びこれとは逆の押圧力を発生させることができるため、作業者が手動で調整を行う場合、その作業が容易になる。また、両ボルト４５及び４６のヘッドが支持部材３０を押す状態になるため、例えばスプリングワッシャ等を設けることにより、振動や温度変化等の外乱が発生しても、両ボルト４５及び４６の緩みを抑えることができる。
【０１０２】
なお、引きボルト４５に変換部材が接続され、その変換部材が、可動部材２０を、マスク本体５５の外縁部５５３からマスク本体５５の外側への方向へ引っ張ってもよい。
【０１０３】
[第４の実施形態]
【０１０４】
図１３Ａは、本技術の第４の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構の平面図である。図１３Ｂは、図１３ＡにおけるＥ−Ｅ線断面図である。
【０１０５】
本実施形態に係る調整機構では、ベースフレーム１０に設けられた支持部材３０と可動部材２０との間に配置された伝達部材としての弾性体４９を有する。支持部材３０は、ベースフレーム１０に固定の固定体として機能する。弾性体４９は、たとえばパイプ状の部材である。弾性体４９及びベースフレーム１０には、Ｚ軸方向で押しボルト４８が装着されることにより、弾性体４９及びベースフレーム１０が接続される。
【０１０６】
弾性体４９は、例えばＹ軸方向に長く形成されている。弾性体４９は、このマスク調整ユニットまたはマスク本体５５の１辺の長さと同等の長さを有していてもよいし、その１辺に沿って所定ピッチで複数設けられていてもよい。
【０１０７】
引きボルト４５は、支持部材３０に設けられた貫通穴３２、弾性体４９に設けられた横貫通穴を介して、可動部材２０に螺着されている。
【０１０８】
押しボルト４８が締め付けられることにより、押しボルト４８のヘッド４８ａがベースフレーム１０に接近する。そうすると、弾性体４９が押圧されＸ軸方向に広がるように変形する。これにより可動部材２０が内側へ押圧され、マスク本体５５にはその外縁部５５３から内側へ応力が加えられる。
【０１０９】
本実施形態によれば、押しボルト４８のＺ軸方向の移動距離に対して、弾性変形による変形量が少ないので、マスクパターンの位置の微調整を高精度に行うことができる。
【０１１０】
弾性体４９としては、パイプ状、つまり中空の部材に限られず、中実の部材が用いられてもよい。図１３中、弾性体４９のＹ軸方向で見た外形が円形でなく、楕円や多角形であってもよい。
【０１１１】
Ｙ軸方向で見て、可動部材２０の内側（可動部材２０を基準にして外側の支持部材３０とは反対側）にも支持部材が設けられてもよい。そして、外側の支持部材３０及び可動部材２０の間に第１の弾性体４９が配置され、内側の支持部材及び可動部材２０の間に図示しない第２の弾性体が配置される。外側の第１の弾性体４９は押しボルト４８によりベースフレーム１０に接続される。この第２の弾性体は、図示しない引きボルトによってベースフレーム１０に接続される。このような調整機構の構成よれば、張力及び押圧力の両方を、第１の弾性体４９及び第２の弾性体を利用して発生させることができる。
【０１１２】
あるいは可動部材２０の外側には支持部材３０がなく、可動部材２０と、その内側に設けられた支持部材との間に弾性体が設けられていてもよい。その場合、弾性体がマスク本体５５に張力を発生させ、図６Ｂに示したような押しボルト４２がマスク本体５５に押圧力を発生させる。
【０１１３】
[第５の実施形態]
【０１１４】
図１４は、本技術の第５の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構を示す平面図である。図１５Ａは、図１４におけるＦ−Ｆ線断面図である。図１５Ｂは、図１４におけるＧ−Ｇ線断面図である。
【０１１５】
本実施形態に係る調整機構は、ベースフレーム１０に設けられた固定体１３０と、固定体１３０に対向する可動部材１２０と、固定体１３０及び可動部材１２０の間に配置された伝達部材としてのブロック材９０と、押しボルト６２及び引きボルト６１とを有する。
【０１１６】
固定体１３０は、可動部材１２０に対向するテーパ面１３１を有する。可動部材１２０も、その固定体１３０のテーパ面１３１に対向するテーパ面１２１を有する。これらテーパ面１２１及び１３１の間の間隔が、Ｚ軸方向に向かうにしたがって変わるように、ここでは鉛直上方向に向かうにしたがって広がるように、可動部材１２０及び固定体１３０が形成されている。ブロック材９０は、これらテーパ面１２１及び１３１の両方に接触するように、両テーパ面１２１及び１３１の間に配置される。すなわち、ブロック材９０の両側面もテーパ面となっている。
【０１１７】
図１５Ａに示すように、押しボルト６２は、ブロック材９０の例えば上面側から、ブロック材９０に設けられた縦貫通穴９２を介してベースフレーム１０に接続されている。図１５Ｂに示すように、引きボルト６１は、固定体１３０の外側面から、貫通穴１３２及びブロック材９０に設けられた横貫通穴９４を介して、可動部材１２０に接続されている。
【０１１８】
縦貫通穴９２及び横貫通穴９４の内径は、押しボルト６２及び引きボルト６１のネジ部の径よりそれぞれ十分に大きく形成されている。それらの内径は、ブロック材９０が、両ボルト６１及び６２のそれぞれの締め付け作用により、ブロック材９０が縦横に移動する範囲を考慮して設計される。
【０１１９】
例えば、押しボルト６２の締め付けにより、ブロック材９０がＺ軸方向に沿って下方向に移動することにより、可動部材１２０が固定体１３０から離間し、マスク本体５５に内側への押圧力が加わる。
【０１２０】
可動部材１２０及び固定体１３０の互いのテーパ面１２１及び１３１は、平面でなく曲面であってもよい。
【０１２１】
なお、図１５Ｂにおいて、テーパ面の角度を図示する角度より水平に近づけることにより、マスク本体５５への張力付加のための、引きボルト６１の締め付け力を小さくすることができる。
【０１２２】
本実施形態において、押しボルト６２及び引きボルト６１は、必ずしもなくてもよい。この場合、図示しない治具によりブロック材９０を上下及び左右移動させるようにすればよい。ブロック材９０を上方向へ移動させるためには、治具は、例えば図１５Ｂに示すように、ベースフレーム１０に設けられた操作開口（図示を省略）を介してブロック材を押圧すればよい。
【０１２３】
[第６の実施形態]
【０１２４】
図１６は、本技術の第６の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構のＺ軸方向で見た断面図である。
【０１２５】
本実施形態に係る調整機構は、押し引きの両方を行うためのボルト６３と、このボルト６３の装着及び取り外し方向、つまりＸ軸方向に沿った、支持部材３０に対するボルト６３の移動を規制する規制部材（規制部）１１０とを有する。規制部材１１０は、支持部材３０の側面３０ｄに他のボルト１１１等により固定されている。
【０１２６】
ヘッド６３ａが、支持部材３０の側面３０ｄに当接した状態で、ボルト６３は支持部材３０の貫通穴３２を介して可動部材２０に螺着されている。規制部材１１０は、ボルト６３のヘッド６３ａを覆う空間１１０ｂを有し、その空間１１０ｂは操作穴１１０ｃを介して規制部材１１０の外部と連通している。操作穴１１０ｃにはレンチ等の操作部材６４が挿入され、操作部材６４がボルト６３のヘッド６３ａに接続可能となっている。
【０１２７】
操作部材６４を介したボルト６３の締め付けにより、可動部材２０が支持部材３０に接近してマスク本体に張力が発生する。操作部材６４を介したボルト６３の緩めにより、可動部材２０が支持部材３０から離間してマスク本体が張力が緩められる。
【０１２８】
このように、本実施形態では、１本のボルト６３により押し引きの両方を行うことができる。
【０１２９】
[第７の実施形態]
【０１３０】
図１７は、本技術の第７の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構のＹ軸方向で見た断面図である。
【０１３１】
本実施形態に係る調整機構は、押し引きの両方を行うためのボルト６６と、支持部材３０に対するこのボルト６６のＸ軸方向の移動を規制する規制部としてカラー６７とを有する。ボルト６６は支持部材３０の貫通穴３２に挿入されている。支持部材３０の外側面にボルト６６のヘッド６６ａが当接し、カラー６７はこのボルト６６に螺着され支持部材３０の内側面に当接して固定されている。
【０１３２】
また、この調整機構は、可動部材１７０の横穴１７０ａ内に固定された２つのナット６８及び６９を有し、これらのナット６８及び６９にボルト６６が螺着されている。これら２つのナット６８及び６９により、外力によるずれ及びバックラッシを防止することができる。
【０１３３】
[第８の実施形態]
【０１３４】
図１８Ａは、本技術の第８の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構を示す平面図である。図１８Ｂは、図１８ＡにおけるＨ−Ｈ線断面図である。
【０１３５】
本実施形態に係る調整機構は、可動部材２２０の外側及び内側の両方にそれぞれ配置されたカム部材１９及び２９（第１のカム部材及び第２のカム部材）を有する。カム部材１９（２９）は、可動部材２２０の両側面にそれぞれ当接するカムヘッド１９１（２９１）と、このカムヘッド１９１（２９１）に偏心して設けられた偏心軸１９４（２９４）とを有する。偏心軸１９４（２９４）は、ベースフレーム１０に、ベアリング１９２（２９２）によって回転可能に接続されている。
【０１３６】
押し用のカム部材１９が、可動部材２２０の外側に配置され、引き用のカム部材２９が可動部材２２０の内側に配置されている。また、押し用のカム部材１９と、引き用のカム部材２９とは、例えばＹ軸方向では交互に配置されている。
【０１３７】
カムヘッド１９１（２９１）の上面にはそれぞれ操作用のハンドル１９３（２９３）が設けられている。このハンドル１９３（２９３）を介して、カム部材１９（２９）が、偏心軸１９４（２９４）を回転軸として回転する。これにより、可動部材２２０に固定されたマスク本体５５に張力及び押圧力を加えることができる。
【０１３８】
以上説明した第３〜８の実施形態に係る各マスク調整ユニットにも、上記した位置保持機構（図９Ａ〜Ｃ参照）のうちのいずれか１つが、それぞれ適用されてもよい。
【０１３９】
[第９の実施形態]
【０１４０】
図１９Ａは、本技術の第９の実施形態に係るマスク調整ユニットの調整機構を示す平面図である。図１９Ｂは、図１９ＡにおけるＩ−Ｉ線断面図である。
【０１４１】
本実施形態に係る調整機構の可動部材２７０はＹ軸方向に沿った溝２７２を有する。溝２７２によって形成された壁部２７４の内側面及び外側面の両方にそれぞれ圧電素子１６１及び１６２が接続されている。
【０１４２】
その壁部２７４の外側面を押圧する圧電素子１６２によって、マスク本体５５に内側への押圧力が加えられる。壁部２７４の内側面を押圧する圧電素子１６１によって、マスク本体５５に外側への張力が加えられる。
【０１４３】
本実施形態では、各圧電素子１６１及び１６２を保持するホルダ１６３が設けられている。ホルダ１６３は、例えばＸ軸方向に移動可能なステージ１６６に接続されている。このステージ１６６は、例えばステッピングモータ等を駆動源とした駆動機構１６７によって駆動される。このステージ１６６の駆動によって、ホルダ１６３及び可動部材２７０を介して、マスク本体５５のマスクパターンの位置の粗調整が可能となる。
【０１４４】
この粗調整用のステージ１６６及び駆動機構１６７は必ずしも設けられていなくてもよい。
【０１４５】
なお、可動部材２７０及びベースフレーム１０には、調整後のマスク本体５５の位置を保持するための機構（位置保持機構）として、固定ボルト７５が装着されるネジ穴２７３が形成されている。
【０１４６】
[マスク製造装置の実施形態]
【０１４７】
作業者が、上記各実施形態に係るマスク調整ユニットを用いて手動でマスクパターンの位置調整を行ってもよいが、以下に説明するように、マスク製造装置により自動でその位置調整が行われてもよい。
【０１４８】
（マスク製造装置の例１）
【０１４９】
図２０は、一実施形態に係るマスク製造装置を示す図である。本実施形態では、第１の実施形態に係るマスク装置１００が調整される（製造される）例について説明する。
【０１５０】
マスク製造装置４００は、支持ベース４０１と、支持ベース４０１上に設けられたベースフレーム支持部４０４と、ベースフレーム支持部４０４の外側に配置された、調整機構４０を操作する操作装置４５０とを備える。また、マスク製造装置４００は、操作装置４５０を駆動するモータドライバ４０５と、上部に配置されたカメラ４２０と、制御部４１０とを有する。
【０１５１】
操作装置４５０は、矩形の支持ベース４０１の４辺の方向に沿って複数配列されている。また、支持ベース４０１上には、操作装置４５０の位置を変更可能にするガイド機構４０３が設けられている。ガイド機構４０３はガイドレールを有し、このガイドレールにより、各辺に沿って操作装置４５０の位置がそれぞれ変更可能とされ、操作装置４５０は所望の位置でボルト等で固定できるようになっている。
【０１５２】
図２１は、１つの操作装置４５０を示す斜視図である。操作装置４５０は、減速機（例えば減速ギア）を備えたモータ４５１と、このモータ４５１の出力軸に取り付けられたレンチアダプタ４５２とを有する。レンチアダプタ４５２の端部は、例えば図２２に示すように、調整機構４０の引きボルト４１及び押しボルト４２に接続され得る。例えばレンチアダプタ４５２の端部に図示しない凹部が設けられ、引きボルト４１及び押しボルト４２の各ヘッド４１ａ及び４２ａ（図６Ａ及びＢ参照）が、そのレンチアダプタ４５２の端部の凹部に嵌合することで、操作装置４５０が調整機構４０（図１参照）と接続される。
【０１５３】
モータ４５１としては、例えばステッピングモータ、あるいはサーボモータが用いられる。一般的なステッピングモータは、減速ギアを搭載していることが多い。
【０１５４】
減速機による減速比は、例えば１／６０〜１／４０程度、典型的には１／５０に設定される。減速比１／５０を有する操作装置４５０の場合、M3ボルトが使用される場合には、１０μm/revolutionの駆動量を得ることができる。これにより、μmオーダの位置調整を容易に行うことができる。
【０１５５】
なお、モータ４５１にはハンドル４５３も備えられ、人手により手動でハンドル４５３を回すことによって、操作装置４５０が調整機構４０を駆動することもできる。
【０１５６】
カメラ４２０は、支持ベース４０１により支持されたマスク装置１００（図２２参照）のうち、特にマスク本体５５のパターン面５５１を撮影することにより、マスクパターンの位置情報（実位置情報）を検出する。カメラ４２０は、Ｘ及びＹ軸に移動してもよい。
【０１５７】
制御部４１０は、例えば予め記憶したマスク本体５５の設計情報のうち、マスクパターンの位置情報である設計位置情報を少なくとも記憶する。また、制御部４１０は、カメラ４２０で検出された上記マスクパターンの実位置情報を取得し、この実位置情報と上記設計位置情報とに基づき、後述する所定の演算を実行する。
【０１５８】
制御部４１０は、典型的にはＣＰＵ、ＲＡＭ及びＲＯＭ等のコンピュータにより構成されればよい。マスクパターンの設計位置情報は、この制御部４１０に有線または無線により接続された他の記憶デバイスに記憶されていてもよい。
【０１５９】
操作装置４５０は、例えば支持ベース４０１の１辺のみに少なくとも１つ設けられていてもよいし、少なくとも２辺に少なくとも１つずつ設けられていてもよい。操作装置４５０の数及び配置は、マスクパターンの形状に応じて、あるいはパターン面５５１内のうち補正したい位置に応じて、適宜設定され得る。
【０１６０】
マスク製造装置４００の動作を説明する。
【０１６１】
まず、図２２に示すように、作業者は、例えば図１及び２に示したようなマスク装置１００を、ベースフレーム支持部４０４上に載置して図示しない固定具等で固定する。そして、作業者は、ガイド機構４０３での各操作装置４５０の位置を設定し、これら各操作装置４５０を位置決めする。また作業者は、操作装置４５０のレンチアダプタ４５２を、調整機構４０の引きボルト４１及び押しボルト４２に接続する。
【０１６２】
マスク製造装置４００に設置されるマスク装置１００として、マスク本体５５が溶接によりマスク調整ユニット５０に接合されたものが用いられる。また、このマスク装置１００は、実際に蒸着装置により使用された後、洗浄工程等が施されたものであってもよい。
【０１６３】
制御部４１０は、カメラ４２０によりマスク本体５５のパターン面５５１全体を撮影することで、マスクパターンの実位置情報を取得する。実位置情報は、例えば、撮影されたマスクパターンの画像情報を画像処理によって２値化した情報である。
【０１６４】
制御部４１０は、マスク本体５５の設計位置情報をメモリから取得し、取得した設計位置情報と、カメラ４２０により検出されて取得した実位置情報とに基づき、設計位置情報からの実位置情報のずれ量を算出する。例えば、制御部４１０は、設計位置情報としての通過孔の座標情報と、実位置情報としての実際の通過孔の座標情報との差分を算出することにより、ずれ量を算出する。
【０１６５】
制御部４１０は、算出したずれ量を補正する、すなわち算出したずれ量をゼロに近づけるための制御信号をモータドライバ４０５に送る。モータドライバ４０５はこの制御信号にしたがって操作装置４５０を駆動する。これにより、マスクパターンの位置を設計上の位置に自動で近づけることができる。
【０１６６】
制御部４１０は、ずれ量と、モータドライバ４０５による駆動信号の値との相関をルックアップテーブルによってメモリ等に記憶しておけばよい。ルックアップテーブルは、マスクパターンごと、マスク本体５５の材料ごとに記憶されていてもよい。
【０１６７】
ルックアップテーブルの作成方法として、例えば次のような方法が挙げられる。操作装置４５０によるトルクが発生し、引きボルト４１及び押しボルト４２への前記トルクの伝達が開始される。操作装置４５０による回転のガタが無くなるまでは、可動部材２０（図１等参照）及びマスクパターンの位置は移動しない。この場合、制御部４１０または操作装置４５０は、そのトルクを検出する機能を持っていればよい。これによりトルク値によりガタが無くなったポイントを検出し、このポイントを調整時のゼロ点（基準点）に設定することができるからである。この機能により、ずれ量と出力すべき駆動信号との相関を得ることができる。
【０１６８】
あるいは、制御部４１０は、算出したずれ量に基づいて、所定のアルゴリズムを用いて出力すべき制御信号の値を算出してもよい。
【０１６９】
このマスク装置１００が、上述した位置保持機構（図９Ａ〜Ｃ等参照）を備えている場合、以上のようにマスク製造装置４００による自動の位置調整が行われた後に、作業者は、その位置保持機構により、調整後のマスクパターンの位置を保持する。
【０１７０】
本実施形態に係るマスク製造装置４００によれば、マスク本体５５が有するマスクパターンの位置を、自動で適切に調整することができる。したがって、このマスク装置１００により製造される表示デバイスの生産性を高めることができる。
【０１７１】
（マスク製造装置の例２）
【０１７２】
図２３は、別の例に係るマスク製造装置を示す斜視図である。このマスク製造装置６００と、図２０に示したマスク製造装置４００と異なる点は、マスク製造装置６００がＺ操作装置６５０を備えている点である。Ｚ操作装置６５０は、マスク装置１００のＺ調整機構４５によるＺ調整ボルト３１（図７参照）を操作する。Ｚ操作装置６５０は、上記した操作装置４５０と同様の機構（減速機付きモータ４５１）を有する。
【０１７３】
Ｚ操作装置６５０は、複数設けられている。例えば支持ベース４０１上に設けられたＸ軸方向に沿ったビーム（例えば２本）に、複数のＺ操作装置６５０が、上述のようなガイド機構４０３によってスライド可能及び固定可能に接続されている。
【０１７４】
また、ビームにはそれぞれ図示しないダイヤルゲージが取り付けられている。ダイヤルゲージは、マスク装置１００のベースフレーム１０のＸ軸方向の２辺の高さ位置を測定することにより、その撓み量を測定する。撓み量を測定するデバイスは、ダイヤルゲージに限られず、光センサ等でもよい。
【０１７５】
例えば制御部４１０は、ベースフレーム１０のＸ軸方向に沿う辺が水平状態にあるときの、ダイヤルゲージからそのベースフレーム１０の辺までの距離を予め記憶しておき、その記憶した情報と、実際に測定された距離とを比較することにより、撓み量を算出できる。
【０１７６】
なお、支持ベース４０１及び６０１上には、そのベースフレーム１０のＸ軸方向に２辺を支持する部材は設けられていない。したがって、支持ベース４０１及び６０１上にベースフレーム１０が支持された時、マスク装置１００の自重により撓みが発生する。つまり、図２０に示すように、支持ベース４０１のベースフレーム支持部４０４は、Ｙ軸方向に沿ってのみ設けられている。すなわち、これらマスク製造装置４００及び６００は、上述した蒸着装置において、ベースフレーム１０のＹ軸方向に沿った辺のみをコンベアが支持することを想定した装置である。
【０１７７】
制御部４１０（図２０参照）は、ダイヤルゲージで検出された撓み量を取得する。そして、制御部４１０は、その撓み量を補正するように（その撓み量をゼロに近づけるように）、図示しない、Ｚ操作装置６５０を駆動するモータドライバに制御信号を送る。モータドライバはこの制御信号にしたがってＺ操作装置６５０を駆動して、Ｚ調整ボルト３１を締め付ける。
【０１７８】
制御部４１０は、撓み量と出力すべき制御信号の値との対応をルックアップテーブルによってメモリ等に記憶しておけばよい。ルックアップテーブルは、マスクパターンごと、マスク本体５５の材料ごとに記憶されていてもよい。
【０１７９】
あるいは、制御部４１０は、算出した撓み量に基づいて、所定のアルゴリズムを用いて出力すべき制御信号の値を算出してもよい。
【０１８０】
マスク製造装置６００による張力及び押圧力調整の方法は、上記マスク製造装置６００による方法と同様である。
【０１８１】
本実施形態に係るマスク製造装置６００によれば、マスク本体５５のマスクパターンの位置調整のみでなく、マスク装置１００のベースフレーム１０の撓みも自動で補正することができる。
【０１８２】
マスク製造装置４００及び６００のさらに別の例として、マスク調整ユニット５０が圧電素子６０（図１０等参照）を有する場合、上述した操作装置４５０は不要であり、その圧電素子６０に接続される配線が設けられる。これによりマスク製造装置４００及び６００の小型化及び簡易化を実現できる。
【０１８３】
[その他の実施形態]
【０１８４】
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
【０１８５】
本技術に係るマスクは、有機ＥＬデバイスを用いた表示デバイスの製造過程で用いられ、有機材料の蒸着工程で用いられる例を説明した。しかし本技術に係るマスクは、有機材料に限られず、金属材料、誘電体材料等の蒸着工程に適用されてもよい。あるいは、マスクは、蒸着用に限られず、露光用マスク、印刷用のマスクとして用いられてもよい。
【０１８６】
また、表示デバイスとして、有機ＥＬデバイスに限られず、液晶表示デバイスであってもよい。マスクにより製造される対象となるデバイスは、表示デバイスに限られない。
【０１８７】
上記第１の実施形態では、１つの引きボルト４１と１つの押しボルト４２とが交互に配置された。しかし、複数の引きボルト４１が連続して配置され、また、複数の押しボルト４２が連続して配置されてもよい。
【０１８８】
上記第１の実施形態では、可動部材２０は、矩形フレーム状のベースフレーム１０の４辺にそれぞれ対応するように４つ設けられた。しかし、可動部材２０は、少なくとも１辺に対応するように少なくとも１つの可動部材２０が設けられていてもよい。例えば対向する２辺に２つの可動部材２０が設けられていてもよい。このことは、第２〜９の実施形態でも同様である。
【０１８９】
上記実施形態では、図７に示したように、調整フレームとして機能する支持部材３０１の下面にテーパ面３０１ｂが設けられていた。しかし、支持部材３０１の下面は平面であり、ベースフレーム１０の、支持部材３０１に対向する側の面、すなわちベースフレーム１０の上面に、そのような凹面が形成されていてもよい。あるいは支持部材３０及びベースフレーム１０の両方に凹面が設けられていてもよい。
【０１９０】
例えば、図１及び２に示すように、上記Ｘ軸方向に沿う支持部材３０１には引きボルト４１及び押しボルト４２が設けられていた。しかし、支持部材３０１にはこれら引きボルト４１及び押しボルト４２が設けられず、Ｚ軸調整用の器具のみが設けられていてもよい。
【０１９１】
あるいは、支持部材３０１の他、Ｚ軸調整用の調整フレームが別途、ベースフレーム１０に設けられていてもよい。また、Ｚ軸調整用の調整フレームは、ベースフレーム１０の４辺すべてに設けられていてもよい。
【０１９２】
上記実施形態では、位置保持機構の主要素としてボルト（固定ボルト）が用いられたが、そのほか、クランプ機構、圧電素子、またはその他の機構が用いられてもよい。
【０１９３】
上記各実施形態に係るマスク製造装置４００の支持ベース４０１に設けられたベースフレーム支持部４０４の配置は、マスク装置１００を用いて基板を処理する処理装置（例えば上記蒸着装置）の設計に応じて、適宜変更可能である。マスク製造装置６００についても同様である。
【０１９４】
上記のマスク製造装置が、蒸着装置に搭載される、あるいは蒸着装置にインラインで接続されてもよい。これにより、マスク製造装置によるマスク装置の製造処理及び蒸着装置による蒸着処理が自動で行われる。これにより人手を介することなく、それらの処理を行うことができる。この場合、マスク装置の製造処理は、真空下で行われるようにしてもよい。
【０１９５】
以上説明した各形態の特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。
【０１９６】
本技術は以下のような構成もとることができる。
（１）ベース体と、
外縁部を有するマスク本体の前記外縁部側を支持し、前記ベース体に移動可能に設けられた可動部材と、
前記マスク本体の前記外縁部から前記マスク本体の外側へ引く張力、及び、前記外縁部から前記マスク本体の内側へ押す押圧力の両方を、前記可動部材を介して、前記可動部材に支持された前記マスク本体に加える調整機構と
を具備するマスク調整ユニット。
（２）（１）に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、前記可動部材に作用する少なくとも１つのボルトを有する
マスク調整ユニット。
（３）（２）に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、
前記マスク本体に前記張力を加える第１のボルトと、
前記マスク本体に前記押圧力を加える第２のボルトとを有する
マスク調整ユニット。
（４）（３）に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、前記ベース体に設けられた、前記第１のボルト及び前記第２のボルトを支持する支持部を有し、
前記可動部材は、前記第１のボルトが装着されるネジ穴と、前記第２のボルトの端部が当接する当接領域とを有する
マスク調整ユニット。
（５）（３）に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、前記第１のボルト及び前記第２のボルトのうち少なくとも一方に接続された変換部材であって、前記少なくとも一方のボルトの第１の移動方向の動力を、前記第１の移動方向とは異なる第２の移動方向の動力に変換して前記可動部材に伝達する変換部材をさらに有する
マスク調整ユニット。
（６）（３）に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、
前記ベース体に設けられた固定体と、
前記固定体と前記可動部材との間で前記第１のボルト及び前記第２のボルトのうちいずれか一方により前記ベース体に接続され、前記第１のボルト及び前記第２のボルトのうちいずれか一方の第１の移動方向の動力を、前記第１の移動方向とは異なる２の移動方向の動力に変換して前記可動部材に伝達する伝達部材とをさらに有する
マスク調整ユニット。
（７）（６）に記載のマスク調整ユニットであって、
前記伝達部材は、弾性変形により前記可動部材に作用する弾性体である
マスク調整ユニット。
（８）（６）に記載のマスク調整ユニットであって、
前記可動部材は、テーパ面を有し、
前記固定体は、前記可動部材の前記テーパ面に対向するテーパ面を有し、前記マスク本体が有する、マスクパターンが形成されたパターン面に垂直方向に向かうにしたがって、前記可動部材の前記テーパ面と、前記固定体の前記テーパ面との間隔が変わるように、前記ベース体に設けられ、
前記伝達部材は、前記可動部材の前記テーパ面及び前記固定体の前記テーパ面の両方に接触するように、前記両テーパ面の間に配置されたブロック材である
マスク調整ユニット。
（９）（２）に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、
前記ベース体に設けられた、前記ボルトを支持する支持部と、
前記支持部に対する、前記ボルトの装着及び取り外し方向に沿った前記ボルトの移動を規制する規制部とをさらに有する
マスク調整ユニット。
（１０）（１）に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、
前記マスク本体に前記張力を加える第１のカム部材と、
前記マスク本体に前記押圧力を加える第２のカム部材とを有する
マスク調整ユニット。
（１１）（１）に記載のマスク調整ユニットであって、
前記調整機構は、前記マスク本体に前記張力及び前記押圧力を加えることが可能な圧電素子を有する
マスク調整ユニット。
（１２）（１）から（１１）に記載のうちいずれか１つに記載のマスク調整ユニットであって、
調整フレームであって、前記マスク本体が有する、マスクパターンが形成されたパターン面に垂直方向において前記ベース体と対向するように、かつ、前記調整フレーム及び前記ベース体との間にギャップを形成するように、前記ベース体に接続された調整フレームと、
前記垂直方向における前記ギャップの距離を調整する調整部材とをさらに具備する
マスク調整ユニット。
（１３）外縁部を有するマスク本体と、
ベース体と、
前記マスク本体の前記外縁部側を支持し、前記ベース体に移動可能に設けられた可動部材と、
前記マスク本体の前記外縁部から前記マスク本体の外側へ引く張力、及び、前記外縁部から前記マスク本体の内側へ押す押圧力の両方を、前記可動部材を介して、前記可動部材に支持された前記マスク本体に加える調整機構と
を具備するマスク装置。
（１４）外縁部とパターン面と前記パターン面に形成されたマスクパターンとを含むマスク本体の、前記マスクパターンの位置を調整することでマスク装置を製造するマスク製造装置であって、
前記マスク本体と、ベース体と、前記マスク本体の前記外縁部側を支持し、前記ベース体に移動可能に設けられた可動部材と、前記マスク本体の前記外縁部から前記マスク本体の外側へ引く張力、及び、前記外縁部から前記マスク本体の内側へ押す押圧力の両方を、前記可動部材を介して、前記可動部材に支持された前記マスク本体に加える調整機構とを含む前記マスク装置の、前記マスク本体が、前記可動部材に支持された状態で、前記パターン面内における前記マスクパターンの位置情報である実位置情報を検出する検出部と、
前記マスク装置の前記調整機構を駆動する操作装置と、
前記マスク本体の設計情報のうち前記マスクパターンの位置情報である設計位置情報を取得し、前記取得した設計位置情報と前記検出された前記実位置情報とに基づき、前記設計位置情報からの前記実位置情報のずれ量を算出し、前記算出されたずれ量に基づき、前記操作装置を制御する制御部と
を具備するマスク製造装置。
（１５）（１４）に記載のマスク製造装置であって、
前記操作装置は、
モータと、
前記モータの駆動を減速する減速機とを有する
マスク製造装置。
（１６）（１４）または（１５）に記載のマスク製造装置であって、
前記操作装置を前記マスク本体に沿って移動可能にするガイド機構をさらに具備する
マスク製造装置。
（１７）外縁部とパターン面と前記パターン面に形成されたマスクパターンとを含むマスク本体の、前記マスクパターンの位置を調整することでマスク装置を製造するマスク製造方法であって、
前記マスク本体と、ベース体と、前記マスク本体の前記外縁部側を支持し、前記ベース体に移動可能に設けられた可動部材と、前記マスク本体の前記外縁部から前記マスク本体の外側へ引く張力、及び、前記外縁部から前記マスク本体の内側へ押す押圧力の両方を、前記可動部材を介して、前記可動部材に支持された前記マスク本体に加える調整機構とを含む前記マスク装置の前記マスク本体が、前記可動部材に支持された状態で、前記パターン面内における前記マスクパターンの位置情報である実位置情報を検出し、
前記マスク本体の設計情報のうち前記マスクパターンの位置情報である設計位置情報を取得し、
前記取得した設計位置情報と前記検出された前記実位置情報とに基づき、前記設計位置情報からの前記実位置情報のずれ量を算出し、
前記算出されたずれ量に基づき、前記マスクの前記調整機構を駆動する操作装置を制御する
マスク製造方法。
【符号の説明】
【０１９７】
１０…ベースフレーム、
１９、２９…カム部材
２０、７０、１２０、１７０、２２０、２７０…可動部材
２１…固定ボルト
２４ａ…当接領域
３０、８０、３０１…支持部材
４０…調整機構
４１、６１…引きボルト
４２、６２…押しボルト
４５…Ｚ調整機構
４６、４８、６３、６６…ボルト
４９…弾性体
５０…マスク調整ユニット
５５…マスク本体
６０、１６１、１６２…圧電素子
９０…ブロック材
１００…マスク装置
１１０…規制部材
１２１、１３１…テーパ面
１３０…固定体
３０１…支持部材
４００、６００…マスク製造装置
４０３…ガイド機構
４１０…制御部
４２０…カメラ
４５０…操作装置
５５１…パターン面
５５３…外縁部
【図１】
2013150699.tif 000003
【図２】
2013150699.tif 000004
【図４】
2013150699.tif 000005
【図５】
2013150699.tif 000006
【図６】
2013150699.tif 000007
【図７】
2013150699.tif 000008
【図８】
2013150699.tif 000009
【図９】
2013150699.tif 000010
【図１０】
2013150699.tif 000011
【図１１】
2013150699.tif 000012
【図１２】
2013150699.tif 000013
【図１３】
2013150699.tif 000014
【図１４】
2013150699.tif 000015
【図１５】
2013150699.tif 000016
【図１６】
2013150699.tif 000017
【図１７】
2013150699.tif 000018
【図１８】
2013150699.tif 000019
【図１９】
2013150699.tif 000020
【図２１】
2013150699.tif 000021
【図３】
2013150699.tif 000022
【図２０】
2013150699.tif 000023
【図２２】
2013150699.tif 000024
【図２３】
2013150699.tif 000025
【国際調査報告】
2013150699.tif 000026
2013150699.tif 000027
2013150699.tif 000028