(57)【要約】  重ねられた複数枚のガラス素板の内周端面を研磨する工程に用いられる研磨用ブラシ（８０）は、複数本のブラシ毛材（８３）からなるブラシ毛束（８１）が軸心部材（８２）の外周面に螺旋状に植え付けられており、研磨用ブラシ（８０）の回転軸（８５）に対して平行な方向において、複数本のブラシ毛材（８３）は、ブラシ毛材（８３）が軸心部材（８２）に植え付けられている植え付け基部（Ｒ１）の幅（Ｗ１）に比べて、その植え付け基部（Ｒ１）から延びる複数本のブラシ毛材（８３）の各々の先端によって形成される領域（Ｒ２）の幅（Ｗ２）の方が小さくなるように、軸心部材（８２）に植え付けられている。
2013099657.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内周端面を有する複数枚のガラス素板を準備する工程と、
複数本のブラシ毛材からなるブラシ毛束が軸心部材の外周面に螺旋状に植え付けられた研磨用ブラシを準備する工程と、
複数枚の前記ガラス素板を重ねた後、重ねられた状態にある複数枚の前記ガラス素板の前記内周端面と前記ブラシ毛束の先端とが互いに対向するように前記研磨用ブラシを配置する工程と、
前記研磨用ブラシを回転させ、重ねられた状態にある複数枚の前記ガラス素板の前記内周端面に対して前記ブラシ毛束を摺動させることにより、複数枚の前記ガラス素板の前記内周端面を研磨する工程と、を備え、
前記研磨用ブラシの回転軸に対して平行な方向において、複数本の前記ブラシ毛材は、複数本の前記ブラシ毛材が前記軸心部材に植え付けられている植え付け基部の幅に比べて、その植え付け基部から延びる複数本の前記ブラシ毛材の各々の先端によって形成される領域の幅の方が小さくなるように、前記軸心部材に植え付けられている、
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記研磨用ブラシの回転軸に対して平行な方向において、複数本の前記ブラシ毛材は、複数本のうちの９５％以上の前記ブラシ毛材の先端が、前記軸心部材の表面に対して垂直な方向に延びる前記植え付け基部の幅方向の中心線を基準として±４０％以内の範囲内に位置するように、前記軸心部材に植え付けられている、
請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記研磨用ブラシの回転軸に対して平行な方向において、複数本の前記ブラシ毛材は、前記ブラシ毛束としての先端が円弧状を呈するように、前記軸心部材に植え付けられている、
請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を使用して製造された、
情報記録媒体用ガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法に関し、特に、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ：Hard  Disk  Drive）等の情報記録装置に情報記録媒体の一部として搭載される情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブ等の情報記録装置の内部には、情報記録媒体（磁気ディスク）が搭載される。情報記録媒体は、中央に孔を有する円盤状のガラス基板の主表面上に、磁気記録用の磁気記録層が成膜されることによって製造される。【０００３】
情報記録媒体の製造に用いられるガラス基板は、情報記録媒体用ガラス基板（以下、単にガラス基板ともいう）という。情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、たとえば特開２００７−０９８４８４号公報（特許文献１）および特開２００７−２４５３１９号公報（特許文献２）に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−０９８４８４号公報
【特許文献２】特開２００７−２４５３１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
コンピューター等の使用用途および使用環境の拡大に伴い、情報記録媒体（磁気ディスク）に求められる耐衝撃性や、溶出物の発生防止についての要求も年々高まる傾向にある。情報記録媒体の内周端面に微細なクラックが存在している場合、情報記録媒体の耐衝撃性が低下する。耐衝撃性を向上させるためには、情報記録媒体を構成するガラス素板の内周端面は、研磨加工によって十分に平滑に形成されている必要がある。【０００６】
一般的に、高い平滑性を得るために、ガラス基板（ガラス素板）の内周端面は、研削加工によって研削された後、研磨スラリーおよび研磨用ブラシを用いて研磨される。製造効率を向上させる等の観点から、ガラス素板の内周端面に対して研磨加工を行なう場合、ガラス素板は、複数のガラス素板同士が重ねられた状態でバッチ的に研磨処理されることがある。【０００７】
本発明は、複数のガラス素板に対してバッチ的に研磨処理する場合であっても、複数のガラス素板の内周端面がより平滑に研磨される情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、内周端面を有する複数枚のガラス素板を準備する工程と、複数本のブラシ毛材からなるブラシ毛束が軸心部材の外周面に螺旋状に植え付けられた研磨用ブラシを準備する工程と、複数枚の上記ガラス素板を重ねた後、重ねられた状態にある複数枚の上記ガラス素板の上記内周端面と上記ブラシ毛束の先端とが互いに対向するように上記研磨用ブラシを配置する工程と、上記研磨用ブラシを回転させ、重ねられた状態にある複数枚の上記ガラス素板の上記内周端面に対して上記ブラシ毛束を摺動させることにより、複数枚の上記ガラス素板の上記内周端面を研磨する工程と、を備え、上記研磨用ブラシの回転軸に対して平行な方向において、複数本の上記ブラシ毛材は、複数本の上記ブラシ毛材が上記軸心部材に植え付けられている植え付け基部の幅に比べて、その植え付け基部から延びる複数本の上記ブラシ毛材の各々の先端によって形成される領域の幅の方が小さくなるように、上記軸心部材に植え付けられている。【０００９】
好ましくは、上記研磨用ブラシの回転軸に対して平行な方向において、複数本の上記ブラシ毛材は、複数本のうちの９５％以上の上記ブラシ毛材の先端が、上記軸心部材の表面に対して垂直な方向に延びる上記植え付け基部の幅方向の中心線を基準として±４０％以内の範囲内に位置するように、上記軸心部材に植え付けられている。【００１０】
好ましくは、上記研磨用ブラシの回転軸に対して平行な方向において、複数本の上記ブラシ毛材は、上記ブラシ毛束としての先端が円弧状を呈するように、上記軸心部材に植え付けられている。【００１１】
本発明に基づく情報記録媒体用ガラス基板は、本発明に基づく上記の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を使用して製造される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、複数のガラス素板に対してバッチ的に研磨処理する場合であっても、複数のガラス素板の内周端面がより平滑に研磨される情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を使用することによって製造されたガラス基板を備える情報記録装置を示す斜視図である。
【図２】実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造されたガラス基板を示す平面図である。
【図３】図２中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った矢視断面図である。
【図４】実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造されたガラス基板を備えた情報記録媒体を示す平面図である。
【図５】図４中のＶ−Ｖ線に沿った矢視断面図である。
【図６】実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を示すフロー図である。
【図７】実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の端面研磨工程に用いられる研磨用ブラシを示す斜視図である。
【図８】実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の端面研磨工程に用いられる研磨用ブラシを示す側面図である。
【図９】実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の端面研磨工程に用いられる研磨用ブラシを拡大して模式的に示す側面図である。
【図１０】実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の端面研磨工程（内周端面研磨工程）が実施されている様子を拡大して示す側面図である。
【図１１】比較例における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の端面研磨工程に用いられる研磨用ブラシを拡大して模式的に示す側面図である。
【図１２】比較例における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の端面研磨工程（内周端面研磨工程）が実施されている様子を拡大して示す側面図である。
【図１３】実施の形態に関する実施例および比較例の条件および結果を示す図である。
【図１４】実施の形態に関する比較例１に用いられた研磨用ブラシを模式的に示す側面図である。
【図１５】実施の形態に関する比較例２に用いられた研磨用ブラシを模式的に示す側面図である。
【図１６】実施の形態に関する実施例１，２に用いられた研磨用ブラシを模式的に示す側面図である。
【図１７】実施の形態に関する実施例１，２に用いられた研磨用ブラシを拡大して模式的に示す側面図である。
【図１８】実施の形態に関する比較例３に用いられた研磨用ブラシを模式的に示す側面図である。
【図１９】実施の形態に関する実施例３に用いられた研磨用ブラシを模式的に示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明に基づいた実施の形態および各実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態および各実施例の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態および各実施例の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。
【００１５】
［実施の形態］
（情報記録装置３０）
図１を参照して、まず、情報記録装置３０について説明する。図１は、情報記録装置３０を示す斜視図である。情報記録装置３０は、実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板（以下、単にガラス基板ともいう）の製造方法によって製造されたガラス基板１を、情報記録媒体１０として備える。
【００１６】
具体的には、情報記録装置３０は、情報記録媒体１０、筐体２０、ヘッドスライダー２１、サスペンション２２、アーム２３、垂直軸２４、ボイスコイル２５、ボイスコイルモーター２６、クランプ部材２７、および固定ネジ２８を備える。筐体２０の上面上には、スピンドルモーター（図示せず）が設置される。
【００１７】
磁気ディスクなどの情報記録媒体１０は、クランプ部材２７および固定ネジ２８によって、上記のスピンドルモーターに回転可能に固定される。情報記録媒体１０は、このスピンドルモーターによって、たとえば数千ｒｐｍの回転数で回転駆動される。詳細は図４および図５を参照して後述されるが、情報記録媒体１０は、ガラス基板１に化学強化層１２（図５参照）および磁気記録層１４（図４および図５参照）が形成されることによって製造される。
【００１８】
アーム２３は、垂直軸２４回りに揺動可能に取り付けられる。アーム２３の先端には、板バネ（片持ち梁）状に形成されたサスペンション２２が取り付けられる。サスペンション２２の先端には、ヘッドスライダー２１が情報記録媒体１０を挟み込むように取り付けられる。
【００１９】
アーム２３のヘッドスライダー２１とは反対側には、ボイスコイル２５が取り付けられる。ボイスコイル２５は、筐体２０上に設けられたマグネット（図示せず）によって挟持される。ボイスコイル２５およびこのマグネットにより、ボイスコイルモーター２６が構成される。
【００２０】
ボイスコイル２５には所定の電流が供給される。アーム２３は、ボイスコイル２５に流れる電流と上記マグネットの磁場とにより発生する電磁力の作用によって、垂直軸２４回りに揺動する。アーム２３の揺動によって、サスペンション２２およびヘッドスライダー２１も矢印ＡＲ１方向に揺動する。ヘッドスライダー２１は、情報記録媒体１０の表面上および裏面上を、情報記録媒体１０の半径方向に往復移動する。ヘッドスライダー２１に設けられた磁気ヘッド（図示せず）はシーク動作を行なう。
【００２１】
当該シーク動作が行なわれる一方で、ヘッドスライダー２１は、情報記録媒体１０の回転に伴って発生する空気流により、浮揚力を受ける。当該浮揚力とサスペンション２２の弾性力（押圧力）とのバランスによって、ヘッドスライダー２１は情報記録媒体１０の表面に対して一定の浮上量で走行する。当該走行によって、ヘッドスライダー２１に設けられた磁気ヘッドは、情報記録媒体１０内の所定のトラックに対して情報（データ）の記録および再生を行なうことが可能となる。ガラス基板１が情報記録媒体１０を構成する部材の一部として搭載される情報記録装置３０は、以上のように構成される。
【００２２】
（ガラス基板１）
図２は、本実施の形態に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造されるガラス基板１を示す平面図である。図３は、図２中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った矢視断面図である。
【００２３】
図２および図３に示すように、情報記録媒体１０（図４および図５参照）にその一部として用いられるガラス基板１（情報記録媒体用ガラス基板）は、主表面２、主表面３、内周端面４、孔５、および外周端面６を有し、全体として円盤状に形成される。孔５は、一方の主表面２から他方の主表面３に向かって貫通するように設けられる。主表面２と内周端面４との間、および、主表面３と内周端面４との間には、面取部７がそれぞれ形成される。主表面２と外周端面６との間、および、主表面３と外周端面６との間には、面取部８（チャンファー部）が形成される。
【００２４】
ガラス基板１の大きさは、たとえば０．８インチ、１．０インチ、１．８インチ、２．５インチ、または３．５インチである。ガラス基板の厚さは、破損防止の観点から、たとえば０．３０ｍｍ〜２．２ｍｍである。本実施の形態におけるガラス基板の大きさは、外径が約６４ｍｍ、内径が約２０ｍｍ、厚さが約０．８ｍｍである。ガラス基板の厚さとは、ガラス基板上の点対象となる任意の複数の点で測定した値の平均によって算出される値である。
【００２５】
（情報記録媒体１０）
図４は、情報記録媒体としてガラス基板１を備えた情報記録媒体１０を示す平面図である。図５は、図４中のＶ−Ｖ線に沿った矢視断面図である。
【００２６】
図４および図５に示すように、情報記録媒体１０は、ガラス基板１と、化学強化層１２と、磁気記録層１４とを含む。化学強化層１２は、ガラス基板１の主表面２，３、内周端面４、および外周端面６を覆うように形成される。磁気記録層１４は、化学強化層１２の主表面２，３上の所定の領域を覆うように形成される。ガラス基板１の内周端面４上に化学強化層１２が形成されることによって、内周端面４の内側に孔１５が形成される。孔１５を利用して、情報記録媒体１０は筐体２０（図１参照）上に設けられたスピンドルモーターに対して固定される。
【００２７】
図５に示す情報記録媒体１０においては、主表面２上に形成された化学強化層１２と主表面３上に形成された化学強化層１２との双方（両面）の上に、磁気記録層１４が形成されている。磁気記録層１４は、主表面２上に形成された化学強化層１２の上（片面）にのみ設けられていてもよく、主表面３上に形成された化学強化層１２の上（片面）に設けられていてもよい。
【００２８】
磁気記録層１４は、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板１の主表面２，３上の化学強化層１２にスピンコートすることによって形成される（スピンコート法）。磁気記録層１４は、ガラス基板１の主表面２，３上の化学強化層１２に対して実施されるスパッタリング法または無電解めっき法等により形成されてもよい。
【００２９】
磁気記録層１４の膜厚は、スピンコート法の場合は約０．３μｍ〜１．２μｍ、スパッタリング法の場合は約０．０４μｍ〜０．０８μｍ、無電解めっき法の場合は約０．０５μｍ〜０．１μｍである。薄膜化および高密度化の観点からは、磁気記録層１４はスパッタリング法または無電解めっき法によって形成されるとよい。
【００３０】
磁気記録層１４に用いる磁性材料としては、高い保持力を得る目的で結晶異方性の高いＣｏを主成分とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉまたはＣｒを加えたＣｏ系合金などを付加的に用いることが好適である。
【００３１】
磁気ヘッドの滑りをよくするために、磁気記録層１４の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、たとえば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００３２】
磁気記録層１４には、必要に応じて下地層または保護層を設けてもよい。情報記録媒体１０における下地層は、磁性膜の種類に応じて選択される。下地層の材料としては、たとえば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、またはＮｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。
【００３３】
磁気記録層１４に設ける下地層は、単層に限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造としても構わない。たとえば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、または、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。
【００３４】
磁気記録層１４の摩耗および腐食を防止する保護層としては、たとえば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、またはシリカ層が挙げられる。これらの保護層は、下地層および磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成されることができる。これらの保護層は、単層としてもよく、または、同一若しくは異種の層からなる多層構成としてもよい。
【００３５】
上記保護層上に、あるいは上記保護層に代えて、他の保護層を形成してもよい。たとえば、上記保護層に代えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を形成してもよい。
【００３６】
（ガラス基板の製造方法）
次に、図６に示すフローチャート図を用いて、本実施の形態におけるガラス基板（情報記録媒体用ガラス基板）の製造方法（Ｓ１００）について説明する。本実施の形態におけるガラス基板の製造方法（Ｓ１００）は、ガラス素板準備工程（Ｓ１０）、アルミナ研磨工程（Ｓ２０）、コアリング加工工程（Ｓ３０）、端面研削工程（Ｓ４０）、端面研磨工程（Ｓ５０）、ラップ加工工程（Ｓ６０）、ポリッシュ加工工程（Ｓ７０）、および、化学強化工程（Ｓ８０）を備える。
【００３７】
化学強化工程（Ｓ８０）を経ることによって得られたガラス基板に対して、磁気記録層成膜工程（Ｓ２００）が実施される。磁気記録層成膜工程（Ｓ２００）を経ることによって、情報記録媒体１０（図４および図５参照）が得られる。以下、ガラス基板の製造方法（Ｓ１００）を構成する各工程Ｓ１０〜Ｓ８０の詳細について順に説明する、以下の説明において、各工程Ｓ１０〜Ｓ８０の間に適宜行なわれる簡易的な洗浄については、詳細に記載していない場合がある。
【００３８】
（Ｓ１０：ガラス素板準備工程）
まず、ガラス基板を構成する略円盤状のガラス素板が所定枚数分だけ準備される。ガラス素板は、たとえば、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いてダイレクトプレスすることによって得られる。この際、ダイレクトプレス法の代わりに、ダウンドロー法またはフロート法を使用して形成したシートガラスから、研削砥石で切り出して円板状のガラス素板を得てもよい。
【００３９】
（Ｓ２０：アルミナ研磨工程）
次いで、所定枚数のガラス素板に対してアルミナ研磨処理が実施される。このアルミナ研磨処理は、寸法精度および形状精度の向上を目的としている。アルミナ研磨処理は、ラッピング装置を用いて行なわれる。粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、荷重を１００ｋｇ程度に設定して、内転ギアと外転ギアとを回転させることによって、キャリア内に収納したガラス素板の両主表面が研磨される。
【００４０】
（Ｓ３０：コアリング加工工程）
次に、円筒状の砥石を使用して、所定枚数のガラス素板の中心部に孔がそれぞれ形成される。この孔は、図２および図３中における孔５に対応するものであり、情報記録媒体１０をスピンドルモーターに固定する際に使用されるものである。
【００４１】
（Ｓ４０：端面研削工程）
端面研削工程（Ｓ４０）においては、研削用の砥石を用いて、所定枚数のガラス素板の内周端面および外周端面がそれぞれ研削され、さらに内周端面および外周端面に対して所定の面取り加工が実施される。これらの加工によって、ガラス素板１の内周端面４は、面取部７を有する所定の形状に研削され、ガラス素板１の外周端面６は、面取部８を有する所定の形状に研削される。
【００４２】
（Ｓ５０：端面研磨工程）
次に、酸化セリウムなどの研磨スラリーを用いた端面研磨工程（Ｓ５０）が実施される。端面研磨工程（Ｓ５０）は、内周端面研磨工程（Ｓ５１）および外周端面研磨工程（Ｓ５２）を含む。
【００４３】
図７を参照して、内周端面研磨工程（Ｓ５１）の際には、研磨用ブラシ８０（研磨部材）が用いられる。研磨用ブラシ８０は、複数本のブラシ毛材からなるブラシ毛束８１が円柱状の軸心部材８２の外周面に螺旋状に植え付けられることによって構成される。研磨用ブラシ８０の更なる詳細な構成については、図９および図１０を参照して後述する。
【００４４】
図８を参照して、内周端面４および外周端面の研削処理が実施されたガラス素板１は、図８に示すように、たとえば４００枚ずつブロック状（ブロック体９）に重ね合わせられた状態で所定の固定治具（図示せず）を用いて固定される。隣接するガラス素板１同士の間には、スペーサーなどが設けられているとよい。
【００４５】
複数のガラス素板１が位置決めおよび固定された後、重ねられた状態にある複数枚のガラス素板１の内周端面４とブラシ毛束８１の先端とが互いに対向するように、研磨用ブラシ８０が内周端面４の内側に配置される。この状態で研磨用ブラシ８０を回転させ、重ねられた状態にある複数枚のガラス素板１の内周端面４に対してブラシ毛束８１を摺動させることによって、複数枚のガラス素板１の内周端面４が研磨される。
【００４６】
図９を参照して、ここで、本実施の形態における内周端面研磨工程（Ｓ５１）に用いられる研磨用ブラシ８０は、次のように構成される。上述のとおり、研磨用ブラシ８０のブラシ毛束８１は、複数本のブラシ毛材８３，８３から構成される。研磨用ブラシ８０の回転軸８５に対して平行な方向において、複数本のブラシ毛材８３，８３は、複数本のブラシ毛材８３，８３が軸心部材８２に植え付けられている植え付け基部Ｒ１の幅Ｗ１に比べて、その植え付け基部Ｒ１から延びる複数本のブラシ毛材８３，８３の各々の先端によって形成される領域Ｒ２の幅Ｗ２の方が小さくなるように、軸心部材８２に植え付けられている。
【００４７】
好ましくは、研磨用ブラシ８０の回転軸８５に対して平行な方向において、複数本のブラシ毛材８３，８３は、複数本のうちの９５％以上のブラシ毛材８３，８３の先端が、軸心部材８２の表面に対して垂直な方向に延びる植え付け基部Ｒ１の幅方向の中心線８１Ｃを基準として±４０％以内の範囲Ｑ，Ｑ（中心線８１Ｃに平行な方向で投影視した場合の範囲）内に位置するように、軸心部材８２に植え付けられているとよい。
【００４８】
図１０を参照して、重ねられた状態にある複数枚のガラス素板１の内周端面４を研磨用ブラシ８０を用いて研磨する際には、複数のブラシ毛材８３，８３の各々の毛先が、ガラス素板１の内周端面４および面取部７に当接する。複数のブラシ毛材８３，８３の各々の毛先は、ガラス素板１の内周端面４および面取部７に接触する際、狭い範囲に集中し、隣り合うガラス素板１の面取部７，７同士の間にも定期的に強い荷重をかけることが可能となる。これにより、隣り合うガラス素板１の面取部７，７同士の間に残留しているスラッジ８８（研磨屑）は効果的に除去されることとなり、面取部７に対する良好な加工レートを確保する事が可能となる。
【００４９】
図１１を参照して、これに対して、比較例における研磨用ブラシ８０Ｚにおいては、複数本のブラシ毛材８３，８３が、軸心部材８２の表面に対して垂直に起立するように植え付けられるとともに、相互に略均等な間隔を持って配置されている。
【００５０】
図１２を参照して、重ねられた状態にある複数枚のガラス素板１の内周端面４を研磨用ブラシ８０Ｚを用いて研磨する際、研磨用ブラシ８０Ｚのブラシ毛材８３は、内周端面４および面取部７に当接することによって外側に向かって広がってしまう。複数のブラシ毛材８３，８３の各々の毛先は、ガラス素板１の内周端面４および面取部７に接触する際、狭い範囲に集中することはない。隣り合うガラス素板１の面取部７，７同士の間に対しては、常に一定の弱い荷重が掛けられるのみで、本実施の形態の研磨用ブラシ８０とは異なり定期的に強い荷重をかけることはできない。結果として、隣り合うガラス素板１の面取部７，７同士の間に残留しているスラッジ８８（研磨屑）を効果的に除去することは困難となる。
【００５１】
したがって、本実施の形態におけるガラス基板の製造方法に用いられる研磨用ブラシ８０によれば、複数のブラシ毛材８３，８３の各々の毛先は、ガラス素板１の内周端面４および面取部７に接触する際、狭い範囲に集中し、隣り合うガラス素板１の面取部７，７同士の間にも定期的に強い荷重をかけることが可能となる。これにより、隣り合うガラス素板１の面取部７，７同士の間に残留しているスラッジ８８（研磨屑）は効果的に除去されることとなり、面取部７に対する良好な加工レートを確保する事が可能となる。
【００５２】
外周端面研磨工程（Ｓ５２）については、研磨用ブラシ８０と同様なものが用いられる。外周端面研磨工程（Ｓ５２）の際には、内周端面研磨工程（Ｓ５１）と同様に、複数枚のガラス素板１が重ねられた状態で外周端面６が研磨される。端面研磨工程（Ｓ５０）においては、ブロック体９（図８参照）および研磨用ブラシ８０が研磨液の中に完全に浸漬された状態で研磨処理が実施されても良いが、内周端面４または外周端面６と研磨用ブラシ８０との間に研磨スラリーが流し込まれつつ（掛け流されつつ）、研磨処理が実施されてもよい。
【００５３】
（Ｓ６０：ラップ加工工程）
図６を再び参照して、端面研磨工程（Ｓ５０）を経たガラス素板１（ガラス素板１）を洗浄した後、ラッピング加工が行なわれる。砥粒の粒度をより細かいものに変更した後、ガラス素板１の主表面２，３に対してラッピング装置を用いたラッピング加工が行なわれる。
【００５４】
（Ｓ７０：ポリッシュ加工工程）
ラップ加工工程（Ｓ６０）を経たガラス素板１を洗浄した後、ポリッシュ加工が行なわれる。研磨装置（硬質および軟質の研磨パッド）を用いて、ガラス素板１の主表面２，３に対してポリッシュ加工が行なわれる。
【００５５】
（Ｓ８０：化学強化工程）
次に、洗浄工程を終えたガラス素板１に化学強化処理を実施する。化学強化処理槽を準備し、その中に硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）とを混合した化学強化液を貯留する。化学強化液を３００℃〜４００℃に加熱するとともに、洗浄済みのガラス素板１を２００℃〜３００℃に予熱する。
【００５６】
化学強化液中に、ガラス素板１が３時間〜４時間浸漬される。浸漬の際には、ガラス素板１の表面全体が化学強化されるため、複数のガラス素板１が各々の端面で保持されるように、複数のガラス素板１がホルダー等に収納された状態で浸漬されることが好ましい。
【００５７】
ガラス素板１に含まれるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンは、これらのイオンに比べてイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換される（イオン交換法）。イオン半径の違いによって生じる歪みより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス素板の両主表面が強化される。
【００５８】
以上の各工程が終了した後、ガラス素板１に残存している付着物がなくなるように、ガラス素板１は９５０ｋＨｚの高周波を用いて超音波洗浄されたり、アルカリ洗剤を用いて洗浄されたりする。その後、ＩＰＡベーパーを用いてガラス素板１は乾燥される。以上により、本実施の形態におけるガラス基板が得られる。
【００５９】
化学強化工程を経た後にガラス基板１の主表面上に残留している付着物が除去されることによって、ガラス基板１（図２および図３参照）を用いて製造される磁気ディスクなどの情報記録媒体１０（図４および図５参照）にヘッドクラッシュが発生することが低減される。本実施の形態におけるガラス基板の製造方法（Ｓ１００）としては、以上のように構成される。
【００６０】
（Ｓ２００：磁気薄膜形成工程）
化学強化処理が完了したガラス基板の両主表面（またはいずれか一方の主表面）に対し、磁気記録層が形成される。磁気記録層は、たとえば、Ｃｒ合金からなる密着層、ＣｏＦｅＺｒ合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる配向制御下地層、ＣｏＣｒＰｔ合金からなる垂直磁気記録層、Ｃ系からなる保護層、およびＦ系からなる潤滑層が順次成膜されることによって形成される。磁気記録層の形成によって、図４および図５に示す情報記録媒体１０を得ることができる。
【００６１】
（作用・効果）
上述したように、本実施の形態におけるガラス基板の製造方法においては、研磨用ブラシ８０の複数のブラシ毛材８３，８３の各々の毛先は、ガラス素板１の内周端面４および面取部７に接触する際、狭い範囲に集中し、隣り合うガラス素板１の面取部７，７同士の間にも定期的に強い荷重をかけることが可能となる。これにより、隣り合うガラス素板１の面取部７，７同士の間に残留しているスラッジ８８（研磨屑）は効果的に除去されることとなり、面取部７に対する良好な加工レートを確保する事が可能となる。
【００６２】
［実験例］
図１３を参照して、実施例として、上記の実施の形態に基づく実施例１〜３と、これらに対する比較例１〜３とについて実験を行なった。実施例１〜３および比較例１〜３において、ガラス素板準備工程、平坦度を確保するアルミナ研磨工程、コアリング加工工程、および端面研削工程については、上述の実施の形態と同一の条件である。
【００６３】
内周端面研磨工程における内周端面の研磨条件としては、一回の加工枚数を４００枚のブロック体９とし、螺旋状のブラシ毛束８１を有する研磨用ブラシ８０の回転数は４０００ｒｐｍに設定し、ブロック体９の回転数は３０ｒｐｍに設定した。ガラス素板１の孔５の内径は２０．０１ｍｍであり、研磨加工時間は２０ｍｉｎである。研磨の際には、研磨スラリーを内周端面４と研磨用ブラシ８０との間に掛け流した。内周端面研磨工程に用いた研磨ブラシについては、後述するように、実施例１〜３および比較例１〜３においてそれぞれ異なるものを使用した。外周端面研磨においては、ブラシ研磨とし、酸化セリウムを使用した。酸化セリウムの濃度は１５ｗｔ％とした。
【００６４】
ラップ加工においては、実施例１〜３および比較例１〜３に共通して、両面研磨機およびダイヤモンドシート固定砥粒による研削を行なった。ポリッシュ加工工程においては、実施例１〜３および比較例１〜３に共通して、第１ポリッシュ加工工程（Ｐ１）として、セリア砥粒および硬質ウレタンパッドを使用し、第２ポリッシュ加工工程（Ｐ２）として、コロイダルシリカ砥粒および硬質スウェードパッドを使用した。その後、得られたガラス素板１に対して化学強化を行ない、ガラス基板を得た。
【００６５】
（比較例１）
図１３および図１４を参照して、比較例１において用いた研磨用ブラシは、ブラシ毛材８３の長さＬが４ｍｍであり、ブラシ毛材８３の植付範囲Ｒは１．５ｍｍであり、ブラシ毛材８３の毛先範囲Ｑは１．０５ｍｍである。植付範囲Ｒと毛先範囲Ｑとから算出されるＱ／Ｒ比は、７０％である。ブラシ毛束８１の毛先形状としては、放射状を呈している。
【００６６】
（比較例２）
図１３および図１５を参照して、比較例２において用いた研磨用ブラシは、ブラシ毛材８３の長さＬが４ｍｍであり、ブラシ毛材８３の植付範囲Ｒは１．５ｍｍであり、ブラシ毛材８３の毛先範囲Ｑは０．７５ｍｍである。植付範囲Ｒと毛先範囲Ｑとから算出されるＱ／Ｒ比は、５０％である。ブラシ毛束８１の毛先形状としては、平坦状を呈している。
【００６７】
（実施例１）
図１３、図１６、および図１７を参照して、実施例１において用いた研磨用ブラシは、ブラシ毛材８３の長さＬが４ｍｍであり、ブラシ毛材８３の植付範囲Ｒは１．５ｍｍであり、ブラシ毛材８３の毛先範囲Ｑは０．６０ｍｍである。植付範囲Ｒと毛先範囲Ｑとから算出されるＱ／Ｒ比は、４０％である。ブラシ毛束８１の毛先形状としては、円弧８９（図１７参照）を描くようにカール状（円弧状）を呈している。
【００６８】
（実施例２）
図１３、図１６、および図１７を参照して、実施例１と同様に、実施例２において用いた研磨用ブラシは、ブラシ毛材８３の長さＬが４ｍｍであり、ブラシ毛材８３の植付範囲Ｒは１．５ｍｍである。実施例２においては、ブラシ毛材８３の毛先範囲Ｑは０．４５ｍｍである。植付範囲Ｒと毛先範囲Ｑとから算出されるＱ／Ｒ比は、３０％である。ブラシ毛束８１の毛先形状としては、実施例１と同様に、円弧８９（図１７参照）を描くようにカール状（円弧状）を呈している。
【００６９】
（比較例３）
図１３および図１８を参照して、比較例３において用いた研磨用ブラシは、ブラシ毛材８３の長さＬが４ｍｍであり、ブラシ毛材８３の植付範囲Ｒは１．２ｍｍであり、ブラシ毛材８３の毛先範囲Ｑは０．６０ｍｍである。植付範囲Ｒと毛先範囲Ｑとから算出されるＱ／Ｒ比は、５０％である。ブラシ毛束８１の毛先形状としては、平坦状を呈している。
【００７０】
（実施例３）
図１３および図１９を参照して、実施例３において用いた研磨用ブラシは、ブラシ毛材８３の長さＬが４ｍｍであり、ブラシ毛材８３の植付範囲Ｒは１．５ｍｍであり、ブラシ毛材８３の毛先範囲Ｑは０．６０ｍｍである。植付範囲Ｒと毛先範囲Ｑとから算出されるＱ／Ｒ比は、４０％である。ブラシ毛束８１の毛先形状としては、平坦状を呈している。
【００７１】
実施例１〜３および比較例１〜３によって得られたガラス素板１に対して、内周端面４の面取部７（チャンファー面）の検査を行なった。検査方法としては、内周端面４の面取部７について、ＡＦＭ（ビーコ社製Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３１００および計測ソフトＮａｎｏＳｃｏｐｅ７．２）を使用して粗さ計測を行い、表面粗さＲａの値が１．０ｎｍ以上であるガラス素板１の割合を調査し、該当するガラス素板１の割合が１０％以上の場合をＢ評価とし、１０％未満６％以上の場合をＡ評価とし、６％未満の場合をＳ評価とした。
【００７２】
また、ガラス素板１に成膜処理を施して情報記録媒体１０としたものを、実際の情報記録装置３０（ハードディスクドライブ）に組み込み、各条件について５０台ずつのリードライト試験を行ない、良品率を確認した。
【００７３】
図１３に示すように、その結果、実施例１〜３においては面取部７の状態がいずれもＡ評価またはＳ評価であったのに対して、比較例１〜３においてはすべてＢ評価であった。また、実施例１，２においては、実施例３よりも良い評価が得られた。ブラシ毛束８１の毛先形状がカール状（円弧状）を呈していることにより、ブラシ毛材８３の先端部分が面取部７，７間の奥まで入り込む事により、面取部７をムラなく研磨する事ができたものと考えられる。
【００７４】
また、比較例１，２，３においては、ガラス素板１の内周端面４の不十分な研磨に起因し、溶出物が発生してガラス素板１の表面に付着し、成膜後の情報記録媒体１０においてディフェクトとなり、記録特性に異常が発生したものと考えられる。
【００７５】
また、実施例１と毛先範囲Ｑが等しく、毛先範囲Ｑが植付範囲Ｒと等しくした比較例３では、実施例１に比べて好ましくない結果が得られた。これは、ブラシ毛材８３の毛先がガラス素板１に当たる際に特定の方向に寝るため、研磨レートが低下した結果であると考えられる。
【００７６】
また、実施例３では、ブラシ毛束８１としての先端部分を、植付方法の工夫により平坦状とした。端面検査の結果はＡ評価であったが、記録特性試験は実施例１よりもやや低かった。原因を調査したところ、実施例３では面取部７の粗さは合格水準に達しているものの、主表面付近と内周端面４付近とで値にバラツキをもっている事が分かった。これは、先端で集中したブラシ毛材８３の毛先が、実施例１の方が実施例３の場合に比べて面取部７の隙間に上手く入っている事が原因であると考えられる。
【００７７】
したがって、本実施例の結果からも、上述の実施の形態における研磨用ブラシ８０によれば、研磨用ブラシ８０の複数のブラシ毛材８３，８３の各々の毛先は、ガラス素板１の内周端面４および面取部７に接触する際、狭い範囲に集中し、隣り合うガラス素板１の面取部７，７同士の間にも定期的に強い荷重をかけることが可能となることがわかる。これにより、隣り合うガラス素板１の面取部７，７同士の間に残留しているスラッジ（研磨屑）は効果的に除去されることとなり、面取部７に対する良好な加工レートを確保する事が可能となることがわかる。
【００７８】
以上、本発明に基づいた各実施の形態および各実施例について説明したが、今回開示された各実施の形態および各実施例はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００７９】
１  ガラス基板（ガラス素板）、２，３  主表面、４  内周端面、５，１５  孔、６  外周端面、７，８  面取部、９  ブロック体、１０  情報記録媒体、１２  化学強化層、１４  磁気記録層、２０  筐体、２１  ヘッドスライダー、２２  サスペンション、２３  アーム、２４  垂直軸、２５  ボイスコイル、２６  ボイスコイルモーター、２７  クランプ部材、２８  固定ネジ、３０  情報記録装置、８０，８０Ｚ  研磨用ブラシ、８１  ブラシ毛束、８１Ｃ  中心線、８２  軸心部材、８３  ブラシ毛材、８５  回転軸、８８  スラッジ、８９  円弧、Ｑ  毛先範囲、Ｒ  植付範囲、Ｒ１  植え付け基部、Ｒ２  領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【国際調査報告】
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