(57)【要約】  効率的かつ高収率に、液−液抽出操作で精製可能な、ホスホロアミダイト法によるオリゴヌクレオチド製造方法を達成しうる、伸長用の保護ヌクレオチドを提供すること。  特定の塩基部保護オリゴヌクレオチド及び／又は特定の３’位分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチドにより、上記課題が解決できることを見出した。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）：
【化１】
2013122236.tif 000079
（式中、ｑは、０以上の任意の整数を示し；
ｑ＋１個のＢａｓｅ２は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている核酸塩基を示し；
Ｐ１は、水素原子、または酸性条件下で除去可能な一時保護基を示し；
Ｘは、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｑ個のＸ’は、独立してそれぞれ、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｑ＋１個のＰ２は、独立してそれぞれ、塩基性条件下で除去可能な保護基を示し；
ｑ個のＲ３４は、独立してそれぞれ、酸素原子もしくは硫黄原子を示し；
Ｒｅ及びＲｆは、独立してそれぞれ、Ｃ１−６アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって形成する、５または６員の飽和環状アミノ基を示す。）
で表される、塩基部保護オリゴヌクレオチド。
【請求項２】
ｑが０である、請求項１記載の塩基部保護オリゴヌクレオチド。
【請求項３】
Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基が、
式（ｋ）：
【化２】
2013122236.tif 000080
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
Ｒ２７は、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）
で表される基、
式（ｌ）：
【化３】
2013122236.tif 000081
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
Ｑ１は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ３０−（式中、Ｒ３０は、水素原子またはＣ１−２２アルキル基を示す。）を示し；
Ｒｃ及びＲｄは、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−２２アルキル基を示し；
Ｒ２８は、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）
で表される基、
式（ｍ）：
【化４】
2013122236.tif 000082
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
ｌは、１〜５の整数を示し；
ｌ個のＱ２は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＨ２−又は−ＣＨ２−を示し；
ｌ個のＲ２９は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示し；
環Ｃは、ｌ個のＱ２Ｒ２９、および＊Ｃ＝Ｏに加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよいベンゼン環又はシクロヘキサン環を示す。）で表される基、または
式（ｓ）：
【化５】
2013122236.tif 000083
（式中、＊は、核酸塩基のアミノ基とイミノ結合を形成する位置を示し；
Ｒ３５及びＲ３６は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）で表される基
である、請求項１または２に記載の塩基部保護オリゴヌクレオチド。
【請求項４】
Ｒ２７、Ｒ２８、ｌ個のＲ２９、Ｒ３５及びＲ３６が、独立してそれぞれ、２，６，１０，１４−テトラメチルペンタデシル基、２，６，１０−トリメチルウンデシル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ウンデシル基、２，６，１０−トリメチルウンデカ−１，５，９−トリエニル基、２，６−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプタ−５−エニル基、２，６−ジメチルヘプタ−１，５−ジエニル基、９−ノナデシル基、１２−メチルトリデシル基、１１−メチルトリデシル基、１１−メチルドデシル基、１０−メチルウンデシル基、８−ヘプタデシル基、７−ペンタデシル基、７−メチルオクチル基、３−メチルオクチル基、３，７−ジメチルオクチル基、３−メチルヘプチル基、３−エチルヘプチル基、５−ウンデシル基、２−ヘプチル基、２−メチル−２−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘプチル基、４−ヘプチル基、４−メチル−ペンチル基、３−メチル−ペンチル基、及び２，４，４−トリメチルペンチル基からなる群から選択される分岐鎖アルキル基又は分岐鎖アルケニル基；あるいは、テトラデシル基、トリデシル基、ドデシル基、ウンデシル基、デシル基、ノニル基、オクチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、及びペンチル基からなる群から選択される直鎖アルキル基である、請求項３に記載の塩基部保護オリゴヌクレオチド。
【請求項５】
Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基が、Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０分岐鎖アルケニル基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の塩基部保護オリゴヌクレオチド。
【請求項６】
Ｐ１が、モノメトキシトリチル基、またはジメトキシトリチル基である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の塩基部保護オリゴヌクレオチド。
【請求項７】
（２）３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されたｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｎは、１以上の任意の整数を示す。）と、その５’位水酸基を介してホスファイトトリエステル結合により縮合させる工程を含む、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドの製造方法。
【請求項８】
ｐが１である、請求項７記載の製造方法。
【請求項９】
更に、下記工程（３）を含有する、請求項７または８に記載の製造方法。
（３）縮合工程（２）の反応液に、酸化剤または硫化剤を添加して、縮合工程で得られたｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドのホスファイトトリエステル結合を、ホスフェートトリエステル結合またはチオホスフェートトリエステル結合へと変換する工程。
【請求項１０】
更に、下記工程（１）を含有する、請求項７〜９のいずれか一項に記載の製造方法。
（１）縮合工程（２）の前に、非極性溶媒中において、３’位水酸基が保護され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチドを酸と反応させて５’位水酸基の一時保護基を除去する工程。
【請求項１１】
工程（１）が、ピロール誘導体およびインドール誘導体から選択される少なくとも一種のカチオン捕捉剤の存在下に行われ、５’位水酸基の一時保護基を除去した後、有機塩基により中和する工程をさらに含む、請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
更に、下記工程（４）を含有する、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
（４）工程（３）で得られた反応液から抽出操作のみで、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドを単離する工程。
【請求項１３】
更に、下記工程（５）を含有する、請求項１２に記載の製造方法。
（５）工程（４）で得られたｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドの保護基を全て除去する工程。
【請求項１４】
３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されたｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチドが、請求項１〜６のいずれか一項に記載の塩基部保護オリゴヌクレオチドである、請求項７〜１３のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１５】
ｎ個重合オリゴヌクレオチドの３’位水酸基が、
一般式（ＩＩＩ）：
【化６】
2013122236.tif 000084
［式中、
Ｌは、式（ａ１）：
【化７】
2013122236.tif 000085
（式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；＊＊は、ヌクレオチド３’位水酸基との結合位置を示し；
Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
Ｌ２は、単結合を示すか、または＊＊Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ３）＊＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｃ＝Ｏとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、独立してそれぞれ、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。）で示される基を示し、
Ｙは、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
Ｚは、式（ａ２）：
【化８】
2013122236.tif 000086
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
Ｒ４は、水素原子であるか、あるいはＲｂが下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
ｋ個のＱは、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
ｋは、１〜４の整数を示し；
環Ａは、Ｒ４、ｋ個のＱＲ５、および＊Ｃ（Ｒａ）（Ｒｂ）に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよく；
Ｒａは、水素原子を示し；かつ
Ｒｂは、水素原子または式（ａ３）：
【化９】
2013122236.tif 000087
（式中、＊は結合位置を示し；
ｊは、０〜４の整数を示し；
ｊ個のＱは、独立してそれぞれ、前記と同意義を示し；
ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
環Ｂは、ｊ個のＱＲ７、およびＲ６に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよい）で表される基を示す。］
で表される基により保護されている、請求項７〜１４のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１６】
ｎ個重合オリゴヌクレオチドの少なくとも１つの核酸塩基が、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている、請求項７〜１５のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１７】
Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基が、Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０分岐鎖アルケニル基である、請求項７〜１６のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１８】
一般式（ＩＩ）：
【化１０】
2013122236.tif 000088
［式中、ｍは、０以上の任意の整数を示し；
ｍ＋１個のＢａｓｅ１は、独立してそれぞれ、保護されていてもよい核酸塩基を示し；
Ｐ１は、水素原子、または酸性条件下で除去可能な一時保護基を示し；
Ｘは、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｍ個のＸ’は、独立してそれぞれ、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｍ個のＰ２は、独立してそれぞれ、塩基性条件下で除去可能な保護基を示し；
ｍ個のＲ３４は、独立してそれぞれ、酸素原子もしくは硫黄原子を示し；
Ｌは、式（ａ１）：
【化１１】
2013122236.tif 000089
（式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；＊＊は、ヌクレオチド３’位水酸基との結合位置を示し；
Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
Ｌ２は、単結合を示すか、または＊＊Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ３）＊＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｃ＝Ｏとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、独立してそれぞれ、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。）で示される基を示し、
Ｙは、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
Ｚは、式（ａ２）：
【化１２】
2013122236.tif 000090
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
Ｒ４は、水素原子であるか、あるいはＲｂが下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
ｋ個のＱは、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
ｋは、１〜４の整数を示し；
環Ａは、Ｒ４、ｋ個のＱＲ５、および＊Ｃ（Ｒａ）（Ｒｂ）に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよく；
Ｒａは、水素原子を示し；かつ
Ｒｂは、水素原子または式（ａ３）：
【化１３】
2013122236.tif 000091
（式中、＊は結合位置を示し；
ｊは、０〜４の整数を示し；
ｊ個のＱは、独立してそれぞれ、前記と同意義を示し；
ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
環Ｂは、ｊ個のＱＲ７、およびＲ６に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよい）で表される基を示す。］
で表される、分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチド。
【請求項１９】
ｍが０である、請求項１８記載の分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチド。
【請求項２０】
核酸塩基の少なくとも1つが、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている、請求項１８または１９に記載の分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチド。
【請求項２１】
（２’）３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基が保護されていてもよいｐ’個重合オリゴヌクレオチド（ｐ’は、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が、
一般式（ＩＩＩ）：
【化１４】
2013122236.tif 000092
［式中、
Ｌは、式（ａ１）：
【化１５】
2013122236.tif 000093
（式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；＊＊は、ヌクレオチド３’位水酸基との結合位置を示し；
Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
Ｌ２は、単結合を示すか、または＊＊Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ３）＊＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｃ＝Ｏとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、独立してそれぞれ、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。）で示される基を示し、
Ｙは、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。
）を示し、ならびに
Ｚは、式（ａ２）：
【化１６】
2013122236.tif 000094
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
Ｒ４は、水素原子であるか、あるいはＲｂが下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
ｋ個のＱは、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
ｋは、１〜４の整数を示し；
環Ａは、Ｒ４、ｋ個のＱＲ５、および＊Ｃ（Ｒａ）（Ｒｂ）に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよく；
Ｒａは、水素原子を示し；かつ
Ｒｂは、水素原子または式（ａ３）：
【化１７】
2013122236.tif 000095
（式中、＊は結合位置を示し；
ｊは、０〜４の整数を示し；
ｊ個のＱは、独立してそれぞれ、前記と同意義を示し；
ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
環Ｂは、ｊ個のＱＲ７、およびＲ６に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよい）で表される基を示す。］
で表される保護基で保護されたｎ’個重合オリゴヌクレオチド（ｎ’は、１以上の任意の整数を示す。）と、その５’位水酸基を介してホスファイトトリエステル結合により縮合させる工程を含む、ｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の塩基部保護オリゴヌクレオチドおよびそれを用いたオリゴヌクレオチドの製造方法に関する。また、本発明は、特定の分岐鎖含有芳香族保護基、当該保護基で３’位水酸基が保護されたオリゴヌクレオチド、並びに当該保護基で３’位水酸基が保護されたオリゴヌクレオチドを用いたオリゴヌクレオチドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
オリゴヌクレオチドの合成方法には、リン酸トリエステル法、Ｈ−ホスホネート法、ホスホロアミダイト法などがあり、現在ではホスホロアミダイト法を用いた固相合成（固相法）が最も汎用されている（非特許文献１）。固相法はプロセス最適化がなされ自動化も進んでおり、スピード面で有利であるが、設備制約上スケールアップに制限があり、試薬・原料を過剰に使用し、途中段階での反応の進行状況の確認、中間体構造解析等も困難という欠点がある。【０００３】
一方、液相法によるオリゴヌクレオチドの合成方法も検討されてきたが、通常、（１）反応液を直接濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーで単離精製、（２）塩化メチレン、クロロホルム等の溶媒で抽出、水溶液で洗浄、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製などの方法で各反応後の処理が行われており、操作が煩雑であり収率も低くなる。特に、多重合度のオリゴヌクレオチドを大量かつ迅速に合成することは困難であり、工業的製造プロセスとしては実用的でなかった。【０００４】
近年、液相法と固相法のそれぞれの欠点を解消しようとする試みとして擬似固相法的アプローチが報告されており、その一例として、モノメトキシポリエチレングリコール（ＭＰＥＧ）等の可溶性ポリマーを保護基として用いるオリゴヌクレオチド製法が開示されている（非特許文献２）。しかしながら２０量体までのＤＮＡの合成例が示されているものの、各反応での晶析単離操作が必須であることや、ＭＰＥＧ分子自身が単分子ではないために反応の進行状況等を確認することが困難であった。【０００５】
また、擬似固相法的な方法として、イオン液体を保護基として用いるオリゴヌクレオチドの製法が報告されており、５量体までのＤＮＡの合成例が示されている（非特許文献３）。しかし、各反応での晶析単離操作が必要であり操作時間を要するため、固相法と比べスピードや効率面で見劣りするものであった。【０００６】
さらに、疎水性基結合ヌクレオシドを用いたオリゴヌクレオチドの合成方法が開示されている（特許文献１）。当該方法により２１量体のオリゴヌクレオチドの合成が達成できたと報告されているが、５’−保護基の脱保護、カップリング、酸化の各工程で固化単離が毎回必要であり、著しく煩雑であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−２７５２５４号公報
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】S. L. Beaucage, D. E. Bergstorm, G. D. Glick, R. A. Jones, Current Protocols in Nucleic Acid Chemistry; John Wiley & Sons (2000)
【非特許文献２】Nucleic Acid Res., 1990, Vol.18, No.11, 3155-3159
【非特許文献３】J. Org. Chem., 2006, Vol.71, No.20, 7907-7910
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の課題は、効率的かつ高収率に、液−液抽出操作で精製可能な、ホスホロアミダイト法によるオリゴヌクレオチド製造方法を達成しうる、伸長用の保護ヌクレオチドを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは鋭意検討の結果、特定の塩基部保護オリゴヌクレオチドにより、上記課題を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は以下を含む。【００１１】
［１］一般式（Ｉ）：【００１２】
【化１】
2013122236.tif 000002
【００１３】
（式中、ｑは、０以上の任意の整数を示し；
ｑ＋１個のＢａｓｅ２は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている核酸塩基を示し；
Ｐ１は、水素原子、または酸性条件下で除去可能な一時保護基を示し；
Ｘは、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｑ個のＸ’は、独立してそれぞれ、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｑ＋１個のＰ２は、独立してそれぞれ、塩基性条件下で除去可能な保護基を示し；
ｑ個のＲ３４は、独立してそれぞれ、酸素原子もしくは硫黄原子を示し；
Ｒｅ及びＲｆは、独立してそれぞれ、Ｃ１−６アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって形成する、５または６員の飽和環状アミノ基を示す。）
で表される、塩基部保護オリゴヌクレオチド。【００１４】
［２］ｑが０である、［１］記載の塩基部保護オリゴヌクレオチド。
［３］Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基が、
式（ｋ）：【００１５】
【化２】
2013122236.tif 000003
【００１６】
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
Ｒ２７は、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）
で表される基、
式（ｌ）：【００１７】
【化３】
2013122236.tif 000004
【００１８】
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
Ｑ１は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ３０−（式中、Ｒ３０は、水素原子またはＣ１−２２アルキル基を示す。）を示し；
Ｒｃ及びＲｄは、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−２２アルキル基を示し；
Ｒ２８は、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）
で表される基、
式（ｍ）：【００１９】
【化４】
2013122236.tif 000005
【００２０】
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
ｌは、１〜５の整数を示し；
ｌ個のＱ２は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＨ２−又は−ＣＨ２−を示し；
ｌ個のＲ２９は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示し；
環Ｃは、ｌ個のＱ２Ｒ２９、および＊Ｃ＝Ｏに加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよいベンゼン環又はシクロヘキサン環を示す。）で表される基、または
式（ｓ）：【００２１】
【化５】
2013122236.tif 000006
【００２２】
（式中、＊は、核酸塩基のアミノ基とイミノ結合を形成する位置を示し；
Ｒ３５及びＲ３６は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）で表される基
である、［１］または［２］に記載の塩基部保護オリゴヌクレオチド。【００２３】
［４］Ｒ２７、Ｒ２８、ｌ個のＲ２９、Ｒ３５及びＲ３６が、独立してそれぞれ、２，６，１０，１４−テトラメチルペンタデシル基、２，６，１０−トリメチルウンデシル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ウンデシル基、２，６，１０−トリメチルウンデカ−１，５，９−トリエニル基、２，６−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプタ−５−エニル基、２，６−ジメチルヘプタ−１，５−ジエニル基、９−ノナデシル基、１２−メチルトリデシル基、１１−メチルトリデシル基、１１−メチルドデシル基、１０−メチルウンデシル基、８−ヘプタデシル基、７−ペンタデシル基、７−メチルオクチル基、３−メチルオクチル基、３，７−ジメチルオクチル基、３−メチルヘプチル基、３−エチルヘプチル基、５−ウンデシル基、２−ヘプチル基、２−メチル−２−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘプチル基、４−ヘプチル基、４−メチル−ペンチル基、３−メチル−ペンチル基、及び２，４，４−トリメチルペンチル基からなる群から選択される分岐鎖アルキル基又は分岐鎖アルケニル基；あるいは、テトラデシル基、トリデシル基、ドデシル基、ウンデシル基、デシル基、ノニル基、オクチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、及びペンチル基からなる群から選択される直鎖アルキル基である、［３］に記載の塩基部保護オリゴヌクレオチド。【００２４】
［５］Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基が、Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０分岐鎖アルケニル基である、［１］〜［４］のいずれか１つに記載の塩基部保護オリゴヌクレオチド。【００２５】
［６］Ｐ１が、モノメトキシトリチル基、またはジメトキシトリチル基である、［１］〜［５］のいずれか１つに記載の塩基部保護オリゴヌクレオチド。【００２６】
［７］［１］〜［６］のいずれか１つに記載の塩基部保護オリゴヌクレオチドを用いることを特徴とする、オリゴヌクレオチドの製造方法。
［８］（２）３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されたｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｎは、１以上の任意の整数を示す。）と、その５’位水酸基を介してホスファイトトリエステル結合により縮合させる工程を含む、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドの製造方法。【００２７】
［９］ｐが１である、［８］記載の製造方法。
［１０］更に、下記工程（３）を含有する、［８］または［９］に記載の製造方法。
（３）縮合工程（２）の反応液に、酸化剤または硫化剤を添加して、縮合工程で得られたｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドのホスファイトトリエステル結合を、ホスフェートトリエステル結合またはチオホスフェートトリエステル結合へと変換する工程。【００２８】
［１１］更に、下記工程（１）を含有する、［８］〜［１０］のいずれか１つに記載の製造方法。
（１）縮合工程（２）の前に、非極性溶媒中において、３’位水酸基が保護され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチドを酸と反応させて５’位水酸基の一時保護基を除去する工程。【００２９】
［１２］工程（１）が、ピロール誘導体およびインドール誘導体から選択される少なくとも一種のカチオン捕捉剤の存在下に行われ、５’位水酸基の一時保護基を除去した後、有機塩基により中和する工程をさらに含む、［１１］に記載の製造方法。【００３０】
［１３］更に、下記工程（４）を含有する、［１０］〜［１２］のいずれか１つに記載の製造方法。
（４）工程（３）で得られた反応液から抽出操作のみで、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドを単離する工程。【００３１】
［１４］更に、下記工程（５）を含有する、［１３］に記載の製造方法。
（５）工程（４）で得られたｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドの保護基を全て除去する工程。【００３２】
［１５］３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されたｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチドが、［１］〜［６］のいずれか１つに記載の塩基部保護オリゴヌクレオチドである、［８］〜［１４］のいずれか１つに記載の製造方法。【００３３】
［１６］ｎ個重合オリゴヌクレオチドの３’位水酸基が、
一般式（ＩＩＩ）：【００３４】
【化６】
2013122236.tif 000007
【００３５】
［式中、
Ｌは、式（ａ１）：【００３６】
【化７】
2013122236.tif 000008
【００３７】
（式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；＊＊は、ヌクレオチド３’位水酸基との結合位置を示し；
Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
Ｌ２は、単結合を示すか、または＊＊Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ３）＊＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｃ＝Ｏとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、独立してそれぞれ、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。）で示される基を示し、
Ｙは、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
Ｚは、式（ａ２）：【００３８】
【化８】
2013122236.tif 000009
【００３９】
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
Ｒ４は、水素原子であるか、あるいはＲｂが下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
ｋ個のＱは、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
ｋは、１〜４の整数を示し；
環Ａは、Ｒ４、ｋ個のＱＲ５、および＊Ｃ（Ｒａ）（Ｒｂ）に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよく；
Ｒａは、水素原子を示し；かつ
Ｒｂは、水素原子または式（ａ３）：【００４０】
【化９】
2013122236.tif 000010
【００４１】
（式中、＊は結合位置を示し；
ｊは、０〜４の整数を示し；
ｊ個のＱは、独立してそれぞれ、前記と同意義を示し；
ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
環Ｂは、ｊ個のＱＲ７、およびＲ６に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよい）で表される基を示す。］
で表される基により保護されている、［８］〜［１５］のいずれか１つに記載の製造方法。【００４２】
［１７］ｎ個重合オリゴヌクレオチドの少なくとも１つの核酸塩基が、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている、［８］〜［１６］のいずれか１つに記載の製造方法。【００４３】
［１８］Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基が、
式（ｋ）：【００４４】
【化１０】
2013122236.tif 000011
【００４５】
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
Ｒ２７は、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）
で表される基、
式（ｌ）：【００４６】
【化１１】
2013122236.tif 000012
【００４７】
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
Ｑ１は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ３０−（式中、Ｒ３０は、水素原子またはＣ１−２２アルキル基を示す。）を示し；
Ｒｃ及びＲｄは、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−２２アルキル基を示し；
Ｒ２８は、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）
で表される基、
式（ｍ）：【００４８】
【化１２】
2013122236.tif 000013
【００４９】
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
ｌは、１〜５の整数を示し；
ｌ個のＱ２は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＨ２−又は−ＣＨ２−を示し；
ｌ個のＲ２９は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示し；
環Ｃは、ｌ個のＱ２Ｒ２９、および＊Ｃ＝Ｏに加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよいベンゼン環又はシクロヘキサン環を示す。）で表される基、または
式（ｓ）：【００５０】
【化１３】
2013122236.tif 000014
【００５１】
（式中、＊は、核酸塩基のアミノ基とイミノ結合を形成する位置を示し；
Ｒ３５及びＲ３６は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）で表される基
である、［８］〜［１７］のいずれか１つに記載の製造方法。【００５２】
［１９］Ｒ２７、Ｒ２８、ｌ個のＲ２９、Ｒ３５及びＲ３６が、独立してそれぞれ、２，６，１０，１４−テトラメチルペンタデシル基、２，６，１０−トリメチルウンデシル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ウンデシル基、２，６，１０−トリメチルウンデカ−１，５，９−トリエニル基、２，６−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプタ−５−エニル基、２，６−ジメチルヘプタ−１，５−ジエニル基、９−ノナデシル基、１２−メチルトリデシル基、１１−メチルトリデシル基、１１−メチルドデシル基、１０−メチルウンデシル基、８−ヘプタデシル基、７−ペンタデシル基、７−メチルオクチル基、３−メチルオクチル基、３，７−ジメチルオクチル基、３−メチルヘプチル基、３−エチルヘプチル基、５−ウンデシル基、２−ヘプチル基、２−メチル−２−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘプチル基、４−ヘプチル基、４−メチル−ペンチル基、３−メチル−ペンチル基、及び２，４，４−トリメチルペンチル基からなる群から選択される分岐鎖アルキル基又は分岐鎖アルケニル基；あるいは、テトラデシル基、トリデシル基、ドデシル基、ウンデシル基、デシル基、ノニル基、オクチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、及びペンチル基からなる群から選択される直鎖アルキル基である、［１８］に記載の製造方法。【００５３】
［２０］Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基が、Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０分岐鎖アルケニル基である、［８］〜［１９］のいずれか１つに記載の製造方法。【００５４】
［２１］［７］〜［２０］のいずれか１つに記載の製造方法により製造されたオリゴヌクレオチドを含有することを特徴とする、医薬品。【００５５】
［２２］一般式（ＩＩ）：【００５６】
【化１４】
2013122236.tif 000015
【００５７】
［式中、ｍは、０以上の任意の整数を示し；
ｍ＋１個のＢａｓｅ１は、独立してそれぞれ、保護されていてもよい核酸塩基を示し；
Ｐ１は、水素原子、または酸性条件下で除去可能な一時保護基を示し；
Ｘは、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｍ個のＸ’は、独立してそれぞれ、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｍ個のＰ２は、独立してそれぞれ、塩基性条件下で除去可能な保護基を示し；
ｍ個のＲ３４は、独立してそれぞれ、酸素原子もしくは硫黄原子を示し；
Ｌは、式（ａ１）：【００５８】
【化１５】
2013122236.tif 000016
【００５９】
（式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；＊＊は、ヌクレオチド３’位水酸基との結合位置を示し；
Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
Ｌ２は、単結合を示すか、または＊＊Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ３）＊＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｃ＝Ｏとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、独立してそれぞれ、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。）で示される基を示し、
Ｙは、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
Ｚは、式（ａ２）：【００６０】
【化１６】
2013122236.tif 000017
【００６１】
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
Ｒ４は、水素原子であるか、あるいはＲｂが下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
ｋ個のＱは、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
ｋは、１〜４の整数を示し；
環Ａは、Ｒ４、ｋ個のＱＲ５、および＊Ｃ（Ｒａ）（Ｒｂ）に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよく；
Ｒａは、水素原子を示し；かつ
Ｒｂは、水素原子または式（ａ３）：【００６２】
【化１７】
2013122236.tif 000018
【００６３】
（式中、＊は結合位置を示し；
ｊは、０〜４の整数を示し；
ｊ個のＱは、独立してそれぞれ、前記と同意義を示し；
ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
環Ｂは、ｊ個のＱＲ７、およびＲ６に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよい）で表される基を示す。］
で表される、分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチド。【００６４】
［２３］ｍが０である、［２２］記載の分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチド。
［２４］Ｒ５およびＲ７が、独立してそれぞれ、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル基、３，７，１１−トリメチルドデシル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイル基、３，４，５−トリ（３’，７’，１１’，１５’−テトラメチルヘキサデシルオキシ）ベンジル基、または３，５−ジ（３’，７’，１１’，１５’−テトラメチルヘキサデシルオキシ）ベンジル基である、［２２］または［２３］に記載の分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチド。【００６５】
［２５］−Ｌ−Ｙ−Ｚが、２−{２，４−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；２−{１−［（２−クロロ−５−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；２−{３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{２−［３’，４’，５’−トリ（２’’，３’’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルオキシ］−４−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルスクシニル基；２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルスクシニル基；２−{４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルスクシニル基；２−｛４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{１−［２，３，４−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{１−［４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］−４’−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルスクシニル基；および２−{３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基からなる群から選択される、［２２］または［２３］に記載の分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチド。【００６６】
［２６］核酸塩基の少なくとも1つが、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている、［２２］〜［２５］のいずれか１つに記載の分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチド。
［２７］一般式（ＩＩＩ）：【００６７】
【化１８】
2013122236.tif 000019
【００６８】
［式中、
Ｌは、式（ａ１）：【００６９】
【化１９】
2013122236.tif 000020
【００７０】
（式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；＊＊は、ヌクレオチド３’位水酸基との結合位置を示し；
Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
Ｌ２は、単結合を示すか、または＊＊Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ３）＊＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｃ＝Ｏとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、独立してそれぞれ、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。）で示される基を示し、
Ｙは、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。
）を示し、ならびに
Ｚは、式（ａ２）：【００７１】
【化２０】
2013122236.tif 000021
【００７２】
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
Ｒ４は、水素原子であるか、あるいはＲｂが下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
ｋ個のＱは、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
ｋは、１〜４の整数を示し；
環Ａは、Ｒ４、ｋ個のＱＲ５、および＊Ｃ（Ｒａ）（Ｒｂ）に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよく；
Ｒａは、水素原子を示し；かつ
Ｒｂは、水素原子または式（ａ３）：【００７３】
【化２１】
2013122236.tif 000022
【００７４】
（式中、＊は結合位置を示し；
ｊは、０〜４の整数を示し；
ｊ個のＱは、独立してそれぞれ、前記と同意義を示し；
ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
環Ｂは、ｊ個のＱＲ７、およびＲ６に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよい）で表される基を示す。］
で表される、ヌクレオチド３’−水酸基の保護基。【００７５】
［２８］Ｒ５およびＲ７が、独立してそれぞれ、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル基、３，７，１１−トリメチルドデシル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイル基、３，４，５−トリ（３’，７’，１１’，１５’−テトラメチルヘキサデシルオキシ）ベンジル基、または３，５−ジ（３’，７’，１１’，１５’−テトラメチルヘキサデシルオキシ）ベンジル基である、［２７］に記載のヌクレオチド３’−水酸基の保護基。【００７６】
［２９］２−{２，４−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；２−{１−［（２−クロロ−５−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；２−{３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{２−［３’，４’，５’−トリ（２’’，３’’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルオキシ］−４−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルスクシニル基；２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルスクシニル基；
２−{４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルスクシニル基；２−｛４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{１−［２，３，４−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{１−［４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］−４’−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルスクシニル基；および２−{３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基
からなる群から選択される、［２７］に記載のヌクレオチド３’−水酸基の保護基。【００７７】
［３０］（２’）３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基が保護されていてもよいｐ’個重合オリゴヌクレオチド（ｐ’は、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が［２７］〜［２９］のいずれか１つに記載の保護基で保護されたｎ’個重合オリゴヌクレオチド（ｎ’は、１以上の任意の整数を示す。）と、その５’位水酸基を介してホスファイトトリエステル結合により縮合させる工程を含む、ｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドの製造方法。【００７８】
［３１］ｐ’が１である、［３０］記載の製造方法。
［３２］更に、下記工程（３’）を含有する、［３０］または［３１］に記載の製造方法。
（３’）縮合工程（２’）の反応液に、酸化剤または硫化剤を添加して、縮合工程で得られたｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドのホスファイトトリエステル結合を、ホスフェートトリエステル結合またはチオホスフェートトリエステル結合へと変換する工程。【００７９】
［３３］更に、下記工程（１’）を含有する、［３０］〜［３２］のいずれか１つに記載の製造方法。
（１’）縮合工程（２’）の前に、非極性溶媒中において、３’位水酸基が［２７］〜［２９］のいずれか一つに記載の保護基で保護され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ’個重合オリゴヌクレオチドを酸と反応させて５’位水酸基の一時保護基を除去する工程。【００８０】
［３４］工程（１’）が、ピロール誘導体およびインドール誘導体から選択される少なくとも一種のカチオン捕捉剤の存在下に行われ、５’位水酸基の一時保護基を除去した後、有機塩基により中和する工程をさらに含む、［３３］に記載の製造方法。【００８１】
［３５］更に、下記工程（４’）を含有する、［３２］〜［３４］のいずれか１つに記載の製造方法。
（４’）工程（３’）で得られた反応液から抽出操作のみで、ｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドを単離する工程。【００８２】
［３６］更に、下記工程（５’）を含有する、［３５］に記載の製造方法。
（５’）工程（４’）で得られたｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドの保護基を全て除去する工程。
【発明の効果】
【００８３】
本発明の特定の塩基部保護オリゴヌクレオチドにより、効率的かつ高収率に、液−液抽出操作で精製可能な、ホスホロアミダイト法によるオリゴヌクレオチドの製造方法を提供できるようになった。
本発明の塩基部保護オリゴヌクレオチド、特に分岐鎖塩基部保護オリゴヌクレオチドを用いることにより、ヌクレオチド伸長反応の各工程で得られる中間体のオリゴヌクレオチドの脂溶性及び有機溶媒（特に、非極性溶媒）に対する溶解性が格段に向上し、抽出操作のみで単離精製が可能となるため、固化単離などの煩雑で時間を要する操作を必要とせず、スピードが向上し、効率性・生産性が格段に向上する。
さらに、伸長したオリゴヌクレオチドを抽出操作のみで単離精製できるため、反応装置から生成物を取り出すことなく、次サイクルの伸長反応に繋げることができ、ワンポットでオリゴヌクレオチドの製造が連続的に行えるようになった。
また、本発明の別の態様として、特定の分岐鎖含有芳香族構造を有する保護基でヌクレオチド３’−水酸基を保護することによっても同種の溶解性向上効果が得られ、さらに塩基部保護オリゴヌクレオチドと併用することにより、相乗効果が得られることが明らかとなった。
【発明を実施するための形態】
【００８４】
本発明は、３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ、核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する保護基で保護された新規な塩基部保護オリゴヌクレオチドに関する。
また、本発明の別の態様は、核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する保護基で保護された塩基部保護オリゴヌクレオチドを用いることを特徴とする、オリゴヌクレオチドの製造方法に関するものであり、好ましくは、以下の工程（２）を含む。
（２）３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されたｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｎは、１以上の任意の整数を示す。）と、その５’位水酸基を介してホスファイトトリエステル結合により縮合させ、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドを得る工程。
【００８５】
また、本発明のもう一つの態様は、３’位水酸基が特定の分岐鎖含有芳香族保護基で保護され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護された新規分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチドに関する。
さらに、本発明のさらにもう一つの態様は、ヌクレオチド３’−水酸基の保護に用いられる特定の分岐鎖含有芳香族保護基に関する。
【００８６】
さらに、本発明のもう一つの態様は、前記分岐鎖含有芳香族保護基で３’位水酸基が保護されたオリゴヌクレオチドを用いることを特徴とする、オリゴヌクレオチドの製造方法に関するものであり、好ましくは、以下の工程（２’）を含む。
（２’）３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基が保護されていてもよいｐ’個重合オリゴヌクレオチド（ｐ’は、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が前記分岐鎖含有芳香族保護基で保護されたｎ’個重合オリゴヌクレオチド（ｎ’は、１以上の任意の整数を示す。）と、その５’位水酸基を介してホスファイトトリエステル結合により縮合させて、ｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドを得る工程。
以下、説明する。
【００８７】
１．用語の説明
文中で特に断らない限り、本明細書で用いるすべての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者に一般に理解されるのと同じ意味をもつ。本明細書に記載されたものと同様または同等の任意の方法および材料は、本発明の実施または試験において使用することができるが、好ましい方法および材料を以下に記載する。本明細書で言及したすべての刊行物および特許は、例えば、記載された発明に関連して使用されうる刊行物に記載されている、構築物および方法論を記載および開示する目的で、参照として本明細書に組み入れられる。
【００８８】
本明細書において、「ヌクレオシド」とは、核酸塩基が糖（例えば、リボース、２−デオキシリボース、２位と４位が架橋したリボースなど）の１’位にＮ−グリコシド化により結合された化合物を意味する。
２位と４位が架橋したリボースとしては、例えば、下記式の化合物が挙げられる。
【００８９】
【化２２】
2013122236.tif 000023
【００９０】
本明細書において、「核酸塩基」とは、核酸の合成に使用されるものであれば特に制限されず、例えば、シトシル基、ウラシル基、チミニル基等のピリミジン塩基、アデニル基、グアニル基等のプリン塩基を挙げることができる。
また、該「核酸塩基」には、上記した基の他に、核酸塩基が任意の置換基（例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシ基、アミノ基、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、カルボキシ、シアノ、ニトロ等）により任意の位置に１〜３個置換されている修飾核酸塩基（例えば、８−ブロモアデニル基、８−ブロモグアニル基、５−ブロモシトシル基、５−ヨードシトシル基、５−ブロモウラシル基、５−ヨードウラシル基、５−フルオロウラシル基、５−メチルシトシル基、８−オキソグアニル基、ヒポキサンチニル基等）も包含される。
【００９１】
本明細書中、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
【００９２】
本明細書中、「炭化水素基」としては、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香脂肪族炭化水素基、単環式飽和炭化水素基および芳香族炭化水素基等が挙げられ、具体的には、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基等の１価基およびそれらから誘導される２価基である。
【００９３】
本明細書中、「アルキル（基）」としては、直鎖状または分岐鎖状の炭素数１以上のアルキル基が挙げられ、特に炭素数範囲の限定がない場合には、好ましくはＣ１−１０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基である。炭素数範囲の限定がない場合の好適な具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられ、特にメチル、エチルが好ましい。
【００９４】
本明細書中、「アラルキル（基）」としては、Ｃ７−２０アラルキル基が挙げられ、好ましくはＣ７−１６アラルキル基（Ｃ６−１０アリール−Ｃ１−６アルキル基）である。好適な具体例としては、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、ナフチルメチル、１−ナフチルエチル、１−ナフチルプロピル等が挙げられ、特にベンジルが好ましい。
【００９５】
本明細書中、「アルコキシ（基）」としては、炭素数１以上のアルキコキシ基が挙げられ、特に炭素数範囲の限定がない場合には、好ましくはＣ１−１０アルコキシ基であり、より好ましくはＣ１−６アルコキシ基である。炭素数範囲の限定がない場合の好適な具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられ、特にメトキシ、エトキシが好ましい。
【００９６】
本明細書中、「アシル（基）」としては、例えば、直鎖状または分岐鎖状のＣ１−６アルカノイル基、Ｃ７−１３アロイル基等が挙げられる。具体的には、例えば、ホルミル、アセチル、ｎ−プロピオニル、イソプロピオニル、ｎ−ブチリル、イソブチリル、ピバロイル、バレリル、ヘキサノイル、ベンゾイル、ナフトイル、レブリニル等が挙げられ、これらはそれぞれ置換されていてもよい。
【００９７】
本明細書中、「アルケニル（基）」としては、直鎖状または分岐鎖状のＣ２−６アルケニル基等が好ましく、例えば、ビニル、１−プロペニル、アリル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル等が挙げられる。中でも、Ｃ２−４アルケニル基が好ましい。
【００９８】
本明細書中、「アルキニル（基）」としては、Ｃ２−６アルキニル基等が好ましく、例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニル等が挙げられる。中でも、Ｃ２−４アルキニル基が好ましい。
【００９９】
本明細書中、「シクロアルキル（基）」は、環状アルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。中でも、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のＣ３−６シクロアルキル基が好ましく、シクロヘキシルが特に好ましい。
【０１００】
本明細書中、「アリール（基）」は、芳香族性を示す単環式あるいは多環式（縮合）の炭化水素基を意味し、具体的には、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、ビフェニリル、２−アンスリル等のＣ６−１４アリール基等が挙げられる。中でもＣ６−１０アリール基がより好ましく、フェニルが特に好ましい。
【０１０１】
本明細書中、「炭化水素基を有する有機基」とは、前記「炭化水素基」を有する基を意味し、「炭化水素基を有する有機基」中の「炭化水素基」以外の部位は任意に設定することができる。例えば、リンカーとして−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、および−ＣＯＮＨ−等の部位を有していてもよい。
【０１０２】
本明細書中、「アルキレン（基）」としては、直鎖状または分岐鎖状の炭素数１以上のアルキレン基が挙げられ、特に炭素数範囲の限定がない場合には、好ましくはＣ１−１０アルキレン基であり、より好ましくはＣ１−６アルキレン基である。炭素数範囲の限定がない場合の好適な具体例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等が挙げられ、特にメチレン、エチレンが好ましい。
【０１０３】
２．塩基部保護オリゴヌクレオチド
本発明オリゴヌクレオチド合成に使用される塩基部保護オリゴヌクレオチドは、３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたヌクレオチドの核酸塩基をＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護することにより、中間体のオリゴヌクレオチドの脂溶性、有機溶媒（特に、非極性溶媒）に対する溶解性が顕著に向上し、液相合成に適したオリゴヌクレオチドの製造法を提供することができる。
有機溶媒に対する溶解性の観点から、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基としては、Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０分岐鎖アルケニル基が好ましい。
【０１０４】
本明細書の塩基部保護オリゴヌクレオチドにより、オリゴヌクレオチドの溶解性が向上される溶媒としては、非極性溶媒が好ましい。
本明細書において、「非極性溶媒」としては、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン等の脂肪族系溶媒；ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等の非極性エーテル系溶媒が挙げられる。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。中でも、芳香族系溶媒、脂肪族系溶媒、またはこれらの組合せが好ましく、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、ノナン、シクロヘキサンまたは、これらの組合せ等が好ましく、トルエン、ヘプタン、ノナンまたは、これらの組合せがより好ましく、トルエン、ヘプタンまたは、これらの組合せが特に好ましい。
【０１０５】
中でも目的とするオリゴヌクレオチド製造方法において、スピードアップ、高収率、高効率が達成できるという観点で好ましい塩基部保護オリゴヌクレオチドとしては、下記一般式（Ｉ）で表される新規化合物（以下、本発明化合物（Ｉ）と称することもある。）が挙げられる。
なお、ｑが０の場合には、式（Ｉ）で表される塩基部保護オリゴヌクレオチドは、「塩基部保護ヌクレオシド」と解される。
【０１０６】
一般式（Ｉ）：
【０１０７】
【化２３】
2013122236.tif 000024
【０１０８】
（式中、ｑは、０以上の任意の整数を示し；
ｑ＋１個のＢａｓｅ２は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている核酸塩基を示し；
Ｐ１は、水素原子、または酸性条件下で除去可能な一時保護基を示し；
Ｘは、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｑ個のＸ’は、独立してそれぞれ、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｑ＋１個のＰ２は、独立してそれぞれ、塩基性条件下で除去可能な保護基を示し；
ｑ個のＲ３４は、独立してそれぞれ、酸素原子もしくは硫黄原子を示し；
Ｒｅ及びＲｆは、独立してそれぞれ、Ｃ１−６アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって形成する、５または６員の飽和環状アミノ基を示す。）
【０１０９】
ｑは、０以上の任意の整数を示し、０が好ましい。ｑの上限は、特に限定されるものではないが、４９以下が好ましく、２９以下がより好ましく、１９以下が更に好ましく、４以下が更に一層好ましく、２以下が更に一層好ましく、１が特に好ましい。
本発明化合物（Ｉ）である塩基部保護オリゴヌクレオチドを構成するリボース残基の２位の基Ｘ及びｑ個のＸ’は、独立してそれぞれ、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基である。
かかる「保護されていてもよい水酸基」の保護基としては、特に限定されず、例えば、グリーンズ・プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ  ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ  ＧＲＯＵＰＳ  ＩＮ  ＯＲＧＡＮＩＣ  ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ）、第４版、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＬＹ＆ＳＯＮＳ）出版（２００６年）等に記載されている任意の保護基を挙げることができる。具体的には、メチル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、２−テトラヒドロピラニル基、エトキシエチル基、シアノエチル基、シアノエトキシメチル基、フェニルカルバモイル基、１，１−ジオキソチオモルホリン−４−チオカルバモイル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、［（トリイソプロピルシリル）オキシ］メチル（Ｔｏｍ）基、１−（４−クロロフェニル）−４−エトキシピペリジン−４−イル（Ｃｐｅｐ）基等を挙げることができる。これらの中でも、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、またはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基であることが好ましく、経済性及び入手の容易さの観点から、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基であることが特に好ましい。
【０１１０】
Ｘ及びＸ’で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子等が好ましく、フッ素原子がより好ましい。
Ｘ及びＸ’で示される「４位炭素原子に架橋する有機基」としては、ヌクレオシド２位と４位を架橋する限り特に限定はないが、例えば、Ｃ２−７アルキレン基が挙げられる。当該アルキレン基は、例えば、−Ｏ−、−ＮＲ３７−（Ｒ３７は水素原子またはＣ１−６アルキル基を示す）、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＲ３８−（Ｒ３８は水素原子またはＣ１−６アルキル基を示す）、−ＣＯＮＲ３９−（Ｒ３９は水素原子またはＣ１−６アルキル基を示す）等から選ばれるリンカーで１箇所以上（好ましくは、１又は２箇所）中断されていてもよい。
「４位炭素原子に架橋する有機基」として好ましくは、例えば、−ＯＲｉ（Ｒｉは４位に架橋するＣ１−６アルキレン基を示す）、−Ｏ−ＮＲ３７−Ｒｊ（Ｒｊは４位に架橋するＣ１−６アルキレン基を示し、Ｒ３７は前記と同義を示す）、−Ｏ−Ｒｋ−Ｏ−Ｒｌ（ＲｋはＣ１−６アルキレン基を示し、Ｒｌは４位に架橋するＣ１−６アルキレン基を示す）等が挙げられる。Ｒｉ、Ｒｊ、Ｒｋ及びＲｌで示されるＣ１−６アルキレン基としては、それぞれ独立して、メチレン基またはエチレン基が好ましい。
「４位炭素原子に架橋する有機基」としては、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−ＮＲ３７−ＣＨ２−（Ｒ３７は前記と同義を示す）、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−等が好ましく、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−ＮＨ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＮＭｅ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−（それぞれ、左側が２位に結合し、右側が４位に結合する。）等がより好ましい。
【０１１１】
本発明化合物（Ｉ）の５’位水酸基の保護基として用いることができる一時保護基Ｐ１としては、酸性条件下で脱保護可能であり、水酸基の保護基として用いられるものであれば、特に限定はされないが、トリチル基、９−（９−フェニル）キサンテニル基、９−フェニルチオキサンテニル基、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−１−フェニルメチル基等のジ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基、１−（４−メトキシフェニル）−１，１−ジフェニルメチル基等のモノ（Ｃ１−１８アルコキシ）トリチル基等のモノメトキシトリチル基を挙げることができる。これらの中でも、脱保護のしやすさ、入手の容易さの観点から、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基であることが好ましく、より好ましくは、ジメトキシトリチル基である。
【０１１２】
Ｒｅ及びＲｆが、隣接する窒素原子と一緒になって形成する、５または６員の飽和環状アミノ基は、窒素原子の他に環構成原子として酸素原子または硫黄原子を１個有していてもよく、例えば、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリニル基、チオモルホリニル基、Ｎ−メチルピラジニル基などが挙げられる。
Ｒｅ及びＲｆとしては、イソプロピル基が好ましい。
【０１１３】
本発明化合物（Ｉ）のホスホロアミダイトの保護基またはヌクレオチドリン酸基の保護基として用いることができるｑ＋１個の保護基Ｐ２としては、塩基条件下で脱保護可能であり、水酸基の保護基として用いられるものであれば、特に限定はされないが、−ＣＨ２ＣＨ２ＷＧ（ＷＧは、電子吸引性基を示す。）で表される基が好ましく、ＷＧとしてはシアノ基が好ましい。  ｑ個のＲ３４は、独立してそれぞれ酸素原子もしくは硫黄原子を示し、好ましくは酸素原子である。
【０１１４】
ｑ＋１個のＢａｓｅ２における「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３直鎖又は０分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている核酸塩基」の「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基」としては、その分子構造中に「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基」を１以上有する保護基であれば特に限定はないが、好ましくは、下記式（ｋ）、（ｌ）、（ｍ）または（ｓ）で表される基が挙げられる。
【０１１５】
式（ｋ）：
【０１１６】
【化２４】
2013122236.tif 000025
【０１１７】
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
Ｒ２７は、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）
で表される基、
式（ｌ）：
【０１１８】
【化２５】
2013122236.tif 000026
【０１１９】
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
Ｑ１は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ３０−（式中、Ｒ３０は、水素原子またはＣ１−２２アルキル基を示す。）を示し；
Ｒｃ及びＲｄは、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−２２アルキル基を示し；
Ｒ２８は、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）
で表される基、
式（ｍ）：
【０１２０】
【化２６】
2013122236.tif 000027
【０１２１】
（式中、＊は、核酸塩基との結合位置を示し；
ｌは、１〜５の整数を示し；
ｌ個のＱ２は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−（＝Ｏ）ＮＨＣ−、−ＮＨ−ＣＨ２−又は−ＣＨ２−を示し；
ｌ個のＲ２９は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示し；
環Ｃは、ｌ個のＱ２Ｒ２９、および＊Ｃ＝Ｏに加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよいベンゼン環又はシクロヘキサン環を示す。）で表される基、または
式（ｓ）：
【０１２２】
【化２７】
2013122236.tif 000028
【０１２３】
（式中、＊は、核酸塩基のアミノ基とイミノ結合を形成する位置を示し；
Ｒ３５及びＲ３６は、独立してそれぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を示す。）で表される基。
【０１２４】
式（ｌ）において、Ｑ１としては−Ｏ−が好ましく、Ｒｃ及びＲｄとしては水素原子が好ましい。
式（ｍ）において、ｌとしては１が好ましく、Ｑ２としては−Ｏ−が好ましく、環Ｃとしてはベンゼン環が好ましい。
【０１２５】
式（ｋ）、（ｌ）、（ｍ）および（ｓ）において、それぞれＲ２７、Ｒ２８、ｌ個のＲ２９、Ｒ３５及びＲ３６が示す「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基」の「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基」および「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基」の炭素数の下限は、５以上であり、１６以上が好ましく、１８以上がより好ましい。当該炭素数の上限は、３０以下であり、２５以下が好ましく、２０以下がより好ましい。
【０１２６】
Ｒ２７、Ｒ２８、ｌ個のＲ２９、Ｒ３５及びＲ３６で示される「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基」として特に限定されるものではないが、好ましくは、下記式（ｎ）または（ｅ’）で表される分岐鎖アルキル基が挙げられる。
【０１２７】
なお、式（ｎ）、（ｅ’）における各記号の定義中の炭素数、繰り返し単位の数（ｎ１９、ｎ２０、またはｎ２１）等は便宜上示されたものであって、総炭素数が５以上（好ましくは１６以上、より好ましくは１８以上）、３０以下（好ましくは２５以下、より好ましくは２０以下）になるよう上記した定義の範囲内で適宜変更することができる。以下、式（ｎ）および（ｅ’）について、順に説明する。
【０１２８】
式（ｎ）は、以下のとおりである。
【０１２９】
【化２８】
2013122236.tif 000029
【０１３０】
（式中、＊は、結合位置を示し；
ｎ１９は、２〜６の整数を示し；
ｎ１９個のＲ３０およびＲ３１は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示し；
ｎ１９個のＸ６は、独立してそれぞれ、単結合またはＣ１−４アルキレン基を示し；かつ
Ｒ３２は、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示し；
Ｒ３３は、Ｃ１−４アルキル基を示す。
但し、Ｒ３０およびＲ３１が共に水素原子であることはなく、かつｎ１９が２の場合には、Ｒ３２はＣ１−４アルキル基を示す。）で表される分岐鎖アルキル基。
【０１３１】
式（ｎ）の基において、
ｎ１９個のＲ３０およびＲ３１は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基またはエチル基であり；
ｎ１９個のＸ６は、独立してそれぞれ、単結合、メチレン基またはエチレン基であり；
Ｒ３２は、水素原子、メチル基またはエチル基であり；かつ
Ｒ３３は、メチル基またはエチル基である基が好ましい（但し、Ｒ３０およびＲ３１が共に水素原子であることはなく、かつｎ１９が２の場合には、Ｒ３２はメチル基またはエチル基を示す。）。
【０１３２】
より好適な式（ｎ）の基としては、２，６，１０，１４−テトラメチルペンタデシル基、２，６，１０−トリメチルウンデシル基、２，６−ジメチルヘプチル基等が挙げられる。
【０１３３】
式（ｅ’）：
【０１３４】
【化２９】
2013122236.tif 000030
【０１３５】
（式中、＊は、結合位置を示し；
ｎ２０は、１〜５の整数を示し；
ｎ２１は、１〜５の整数を示し；
ｎ２０個のＲ２０およびＲ２１は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示し；
ｎ２０個のＸ３は、独立してそれぞれ、単結合またはＣ１−４アルキレン基を示し；
ｎ２１個のＲ２２およびＲ２３は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示し；
ｎ２１個のＸ５は、独立してそれぞれ、単結合またはＣ１−４アルキレン基を示し；
Ｘ４は、単結合またはＣ１−４アルキレン基を示し；かつ
Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示す。
但し、Ｒ２０およびＲ２１、および／またはＲ２２およびＲ２３が共に水素原子であることはなく、かつｎ２０＋ｎ２１が２の場合には、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９の２個以上が独立してそれぞれ、Ｃ１−４アルキル基を示すか、またはＲ２４、Ｒ２５およびＲ２６の２個以上が独立してそれぞれ、Ｃ１−４アルキル基を示す。）で表される分岐鎖アルキル基。
【０１３６】
式（ｅ’）の基において、
ｎ２０は、１〜５の整数であり；
ｎ２１は、１〜５の整数であり；
ｎ２０個のＲ２０およびＲ２１は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基またはエチル基であり；
ｎ２０個のＸ３は、独立してそれぞれ、単結合、メチレン基またはエチレン基であり；
ｎ２１個のＲ２２およびＲ２３は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基またはエチル基であり；
ｎ２１個のＸ５は、独立してそれぞれ、単結合、メチレン基またはエチレン基であり；
Ｘ４は、単結合、メチレン基またはエチレン基であり；
Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基である基が好ましい（但し、Ｒ２０およびＲ２１、および／またはＲ２２およびＲ２３が共に水素原子であることはなく、かつｎ２０＋ｎ２１が２の場合には、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９の２個以上が独立してそれぞれ、Ｃ１−４アルキル基を示すか、またはＲ２４、Ｒ２５およびＲ２６の２個以上が独立してそれぞれ、Ｃ１−４アルキル基を示す。）。
【０１３７】
特に好適な式（ｅ’）の基としては、
ｎ２０は、１〜５の整数であり；
ｎ２１は、１〜５の整数であり；
ｎ２０個のＲ２０およびＲ２１は、独立してそれぞれ、水素原子またはメチル基であり；
ｎ２０個のＸ３は、独立してそれぞれ、単結合またはメチレン基であり；
ｎ２１個のＲ２２およびＲ２３は、独立してそれぞれ、水素原子またはメチル基であり；
ｎ２１個のＸ５は、独立してそれぞれ、単結合またはメチレン基であり；
Ｘ４は、単結合またはメチレン基であり；かつ
Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は、メチル基である基が挙げられる（但し、Ｒ２０およびＲ２１、および／またはＲ２２およびＲ２３が共に水素原子であることはない。）。
【０１３８】
より好適な式（ｅ’）の基としては、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ウンデシル基等が挙げられる。
【０１３９】
Ｒ２７、Ｒ２８、ｌ個のＲ２９、Ｒ３５及びＲ３６で示される「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基」の別の好ましい例としては、２，６，１０，１４−テトラメチルペンタデシル基、２，６，１０−トリメチルウンデシル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ウンデシル基、２，６，１０−トリメチルウンデカ−１，５，９−トリエニル基、２，６−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプタ−５−エニル基、２，６−ジメチルヘプタ−１，５−ジエニル基、９−ノナデシル基、１２−メチルトリデシル基、１１−メチルトリデシル基、１１−メチルドデシル基、１０−メチルウンデシル基、８−ヘプタデシル基、７−ペンタデシル基、７−メチルオクチル基、３−メチルオクチル基、３，７−ジメチルオクチル基、３−メチルヘプチル基、３−エチルヘプチル基、５−ウンデシル基、２−ヘプチル基、２−メチル−２−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘプチル基、４−ヘプチル基、４−メチル−ペンチル基、３−メチル−ペンチル基、及び２，４，４−トリメチルペンチル基からなる群から選択される分岐鎖アルキル基又は分岐鎖アルケニル基；あるいは、テトラデシル基、トリデシル基、ドデシル基、ウンデシル基、デシル基、ノニル基、オクチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、及びペンチル基からなる群から選択される直鎖アルキル基が挙げられる。
【０１４０】
Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている核酸塩基としては、下記式（Ａ１）〜（Ａ１２）が挙げられる。
【０１４１】
【化３０】
2013122236.tif 000031
【０１４２】
（式中、各記号は、前記と同義である。）
Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基を核酸塩基に導入する方法は、当該保護基の活性化誘導体を保護試薬として用い、グリーンズ・プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ  ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ  ＧＲＯＵＰＳ  ＩＮ  ＯＲＧＡＮＩＣ  ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ）、第４版、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＬＹ＆ＳＯＮＳ）出版（２００６年）、ＯＲＧＡＮＩＣ  ＬＥＴＴＥＲＳ，２００５，Ｖｏｌ．７，Ｎｏ．２４，５３８９−５３９２、ＪＯＵＲＮＡＬ  ＯＦ  ＡＭＥＲＩＣＡＮ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＳＯＣＩＥＴＹ，１９８２，Ｖｏｌ．１０４，１３１６−１３１９等に記載されている公知の方法に準じて行うことができる。
Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基の活性化誘導体としては、上記式（ｋ）、（ｌ）または（ｍ）で示される基の＊の部分にハロゲン原子（例、塩素原子、臭素原子等）が結合した化合物；上記式（ｋ）または（ｍ）で示される二つの基が＊の部分で酸素原子と結合した対称酸無水物；上記式（ｋ）または（ｍ）で示される基が＊の部分で他のアシル基（例、イソブチリル基）で結合した混合酸無水物、（ＭｅＯ）２ＣＨ−ＮＲ３５Ｒ３６で表される化合物などが挙げられる。
当該保護基の活性化誘導体は、市販品として入手可能であるか、あるいは、自体公知の方法またはこれらに準ずる方法に従って製造することができる。
【０１４３】
一般式（Ｉ）で表される本発明化合物の好ましい態様としては、一般式（Ｉ）中、
ｑが、０であり；
Ｂａｓｅ２が、それぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている、シトシル基、ウラシル基、チミニル基、アデニル基、またはグアニル基であり；
Ｐ１が、ジ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基、またはモノ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基であり；
Ｘが、水素原子、保護されていてもよい水酸基、フッ素原子、−ＯＲｉ（Ｒｉは前記と同義を示す）、−Ｏ−ＮＲ３７−Ｒｊ（Ｒｊ及びＲ３７は前記と同義を示す）、または−Ｏ−Ｒｋ−Ｏ−Ｒｌ（Ｒｋ及びＲｌは前記と同義を示す）であり；
Ｒｅ及びＲｆが、独立してそれぞれ、Ｃ１−６アルキル基であり；かつ
Ｐ２が、−ＣＨ２ＣＨ２ＷＧ（ＷＧは、電子吸引性基を示す。）で表される基である、
化合物（Ｉ）である。
【０１４４】
上記一般式（Ｉ）で表される本発明化合物の別の好ましい態様としては、一般式（Ｉ）中、
ｑが、０であり；
Ｂａｓｅ２が、それぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている、シトシル基、ウラシル基、チミニル基、アデニル基、またはグアニル基であり；
Ｐ１が、ジメトキシトリチル基、またはモノメトキシトリチル基であり；
Ｘが、水素原子、保護されていてもよい水酸基、フッ素原子、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、または−Ｏ−ＮＲ３７−ＣＨ２−（Ｒ３７は前記と同義を示す）、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−（それぞれ、左側が２位に結合し、右側が４位に結合する。）であり；
Ｒｅ及びＲｆが、イソプロピル基であり；かつ
Ｐ２が、−ＣＨ２ＣＨ２ＷＧ（ＷＧは、電子吸引性基を示す。）で表される基である、
化合物（Ｉ）である。
【０１４５】
上記一般式（Ｉ）で表される本発明化合物の更に別の好ましい態様としては、一般式（Ｉ）中、
ｑが、０であり；
Ｂａｓｅ２が、それぞれ、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている、シトシル基、ウラシル基、チミニル基、アデニル基、またはグアニル基であり；
Ｐ１が、ジメトキシトリチル基であり；
Ｘが、水素原子、メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ基、フッ素原子、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−ＮＨ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＮＭｅ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−（それぞれ、左側が２位に結合し、右側が４位に結合する。）であり；
Ｒｅ及びＲｆが、イソプロピル基であり；かつ
Ｐ２が、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＮで表される基である、
化合物（Ｉ）である。
【０１４６】
３．塩基部保護オリゴヌクレオチドの製造方法
下記一般式（Ｉ）で表される本発明の塩基部保護オリゴヌクレオチドのうちｑが０である一般式（Ｉ’）で表される塩基部保護ヌクレオシドは、式（Ｉａ）で表される５’位水酸基が一時保護基Ｐ１により保護され、核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されたヌクレオシドに下記一般式（ｏ）、（ｐ）で表されるホスホロアミダイト化試薬を反応させる公知の方法（Ｍ．Ｈ．Ｃａｒｕｔｈｅｒｓ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｅｔｈｏｄ  ｉｎ  Ｅｎｚｙｍｏｌｏｇｙ  １９８７，１５４，２８７−３１３；Ｓ．Ｌ．Ｂｅａｕｃａｇｅ  ａｎｄ  Ｍ．Ｈ．Ｃａｒｕｔｈｅｒｓ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  １９８１，２２，１８５９−１８６２．）に従い、製造することができる。
【０１４７】
【化３１】
2013122236.tif 000032
【０１４８】
（式中、Ｈａｌは、ハロゲン原子を示し、他の記号は、前記と同義である。）
【０１４９】
原料として用いられる式（Ｉａ）で表される化合物は、核酸塩基が保護されていない対応するヌクレオシドから、上記記載の「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基を核酸塩基に導入する方法」に従い、「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基」で核酸塩基を保護することによって製造することができる。なお、核酸塩基が保護されていない対応するヌクレオシドは、市販品として入手可能であるか、あるいは、自体公知の方法またはこれらに準ずる方法に従って製造することができる。
【０１５０】
下記一般式（Ｉ’）で表される本発明の塩基部保護ヌクレオシドは、式（Ｉｂ）で表される３’位水酸基がホスホロアミダイド化され、５’位水酸基が一時保護基Ｐ１により保護され、核酸塩基が保護されていないヌクレオシドに、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する保護化試薬を反応させる公知の方法（ＯＲＧＡＮＩＣ  ＬＥＴＴＥＲＳ，２００５，Ｖｏｌ．７，Ｎｏ．２４，５３８９−５３９２）によっても、製造することができる。
【０１５１】
【化３２】
2013122236.tif 000033
【０１５２】
（式中、Ｂａｓｅ’は、保護されていない核酸塩基を示し、他の記号は、前記と同義である。）
【０１５３】
原料として用いられる式（Ｉｂ）で表される化合物は、核酸塩基が核酸合成で常用される保護基（例、アセチル基、フェノキシアセチル基、ｐ−イソプロピルフェノキシアセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基等）で保護された対応するヌクレオシドから、ＯＲＧＡＮＩＣ  ＬＥＴＴＥＲＳ，２００５，Ｖｏｌ．７，Ｎｏ．２４，５３８９−５３９２等に記載された公知の方法で脱保護することにより製造することができる。なお、核酸塩基が核酸合成で常用される保護基で保護された対応するヌクレオシドは、市販品として入手可能であるか、あるいは、自体公知の方法またはこれらに準ずる方法に従って製造することができる。
【０１５４】
ｑが１以上である一般式（Ｉ）で示される塩基部保護オリゴヌクレオチドは、例えば、Aust.J.Chem.2010,63,227-235に記載の方法、本願明細書記載のオリゴヌクレオチドの製造方法を適宜適用して３’−水酸基が保護された対応する塩基部保護オリゴヌクレオチドを製造した後に、３’−水酸基の保護基を除去し、一般式（ｏ）、（ｐ）で表されるホスホロアミダイト化試薬を反応させる公知の方法（Ｍ．Ｈ．Ｃａｒｕｔｈｅｒｓ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｅｔｈｏｄ  ｉｎ  Ｅｎｚｙｍｏｌｏｇｙ  １９８７，１５４，２８７−３１３；Ｓ．Ｌ．Ｂｅａｕｃａｇｅ  ａｎｄ  Ｍ．Ｈ．Ｃａｒｕｔｈｅｒｓ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  １９８１，２２，１８５９−１８６２．）に従い、製造することができる。
【０１５５】
【化３３】
2013122236.tif 000034
【０１５６】
（式中、Ｐ４はヌクレオチド３’−水酸基の保護基を示し、他の記号は、前記と同義である。）
Ｐ４で示されるヌクレオチド３’−水酸基の保護基は、５’−水酸基の保護基Ｐ１、核酸塩基が保護基を有する場合の該保護基及びリン酸基の保護基Ｐ２が脱保護されない条件下で脱保護可能な保護基を用いる。例えば、ヒドラジンで脱保護できる保護基が挙げられる。ヒドラジンで脱保護可能な保護基で好ましいものとしてはレブニル基等が挙げられる（Aust.J.Chem.2010,63,227-235参照）。
【０１５７】
４．オリゴヌクレオチドの製造方法
次に、本発明にかかるオリゴヌクレオチドの製造方法（以下、「本発明の製造方法」ともいう。）について説明する。
本発明の製造方法は、前記塩基部保護オリゴヌクレオチドを用いることを特徴とする。具体的には、ｎ個重合オリゴヌクレオチドから、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドへの製造方法について説明していくが、例えば、ｎ＝１の場合には、ｎ個重合オリゴヌクレオチドは、「ヌクレオシド」と解し、ｐ＝１の場合には、ｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチドは、「塩基部保護ヌクレオシド」と解し、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドは、「ジヌクレオシド」と解すべきものである。
本発明の製造方法は、好ましくは、以下の工程（２）を含有する。
【０１５８】
（２）３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されたｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｎは、１以上の任意の整数を示す。）と、その５’位水酸基を介してホスファイトトリエステル結合により縮合させ、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドを得る工程。
【０１５９】
本発明の製造方法は、好ましくは、更に、下記工程（３）を含有し、工程（２）で得られたｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドのホスファイトトリエステル結合が、ホスフェートトリエステル結合またはチオホスフェートトリエステル結合へと変換される。
（３）縮合工程（２）の反応液に、酸化剤または硫化剤を添加して、縮合工程で得られたｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドのホスファイトトリエステル結合を、ホスフェートトリエステル結合またはチオホスフェートトリエステル結合へと変換する工程。
【０１６０】
本発明の製造方法は、好ましくは、更に、下記工程（１）を含有し、工程（２）で使用される５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチドが調製される。
（１）縮合工程（２）の前に、非極性溶媒中において、３’位水酸基が保護され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチドを酸と反応させて５’位水酸基の一時保護基を除去する工程。
工程（１）は、好ましくは、ピロール誘導体およびインドール誘導体から選択される少なくとも一種のカチオン捕捉剤の存在下に行われ、５’位水酸基の一時保護基を除去した後、有機塩基により中和する工程をさらに含む。これに工程（１）、（２）及び（３）を液中で連続的に行うことが可能になり、ヌクレオシドがｐ個伸長したオリゴヌクレオチドを抽出操作のみで単離精製できる。
【０１６１】
更に、下記工程（４）を含有させることにより、煩雑な固化単離を要せずして、簡便かつ効果的に過剰原料や副生物を除去して、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドを精製し、同一反応容器から生成物を取り出すことなく、次工程に繋げることができる。
（４）工程（３）で得られた反応液から抽出操作のみで、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドを単離する工程。
【０１６２】
原料の当量管理と反応制御することによって副生物の発生量を制御できる状況であれば、工程（１）〜工程（３）を基本単位として繰り返し、工程（４）を含有させることが好ましい。
また、副生物発生を厳格に管理・制御でき、高純度のオリゴヌクレオチドに導けるという観点で、工程（１）〜工程（４）を基本単位として繰り返すことが好ましい。
液相法においてこのようなサイクルを繰り返すことにより、反応容器を変えることなく、ワンポットで最終のオリゴヌクレオチドまで製造することができる。
【０１６３】
本発明の製造方法には、更に、工程（５）を含有させることにより、オリゴヌクレオチドを単離・製造することができる。
（５）工程（４）で得られたｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドの保護基を全て除去する工程。
ｎは１以上の任意の整数を示し、その上限は、特に限定されるものではないが、通常１００以下、好ましくは７５以下、さらに好ましくは５０以下、さらに好ましくは３０以下である。
ｐは、１以上の任意の整数を示し、１が好ましい。ｐの上限は、特に限定されるものではないが、５０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２０以下が更に好ましく、５以下が更に一層好ましく、３以下が特に好ましい。
【０１６４】
４−１．「ｎ個重合オリゴヌクレオチド」の説明
まず、工程（１）及び（２）の原料に用いられるｎ個重合オリゴヌクレオチドについて説明する。
工程（１）で使用されるｎ個重合オリゴヌクレオチドは、例えば、Ｐ１が酸性条件下で除去可能な一時保護基である下記一般式（ｉ）に示されるような、３’位水酸基が保護され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチドを示し、工程（２）で使用されるｎ個重合オリゴヌクレオチドは、例えば、下記一般式（ｉｉ）に示されるような、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチドを示す。
【０１６５】
【化３４】
2013122236.tif 000035
【０１６６】
（式中、ｍは、０以上の任意の整数を示し、ｍ＋１個のＢａｓｅは、独立してそれぞれ、保護されていてもよい核酸塩基を示し、ｍ個のＲ３４は、独立してそれぞれ、酸素原子もしくは硫黄原子を示し、ｍ個のＰ２は、独立してそれぞれ、塩基性条件下で除去可能な保護基を示し、Ｐ３はヌクレオチド３’−水酸基の保護基を示し、ｍ＋１個のＸ’は、それぞれ独立してＸと同義であり、他の記号は、前記と同義である。）  ｍの上限は、特に限定されるものではないが、通常９９以下、好ましくは７４以下、さらに好ましくは４９以下、さらに好ましくは２９以下である。
Ｐ２で示される「塩基性条件下で除去可能な保護基」は、式（Ｉ）のＰ２と同義である。
一般式（ｉ）及び（ｉｉ）中の各記号について、以下に説明する。
【０１６７】
４−２．「ヌクレオチド３’−水酸基の保護基」の説明
一般式（ｉ）及び（ｉｉ）中のＰ３で示される「ヌクレオチド３’−水酸基の保護基」とは、５’位水酸基の保護基を除去し得る酸性条件で安定な基であり、工程（１）及び（２）において反応が進行するように反応溶媒である非極性溶媒にｎ個重合オリゴヌクレオチドを溶解させうるものであれば特に限定はないが、下記一般式（ＩＩＩ’）で表される基が好ましい。
【０１６８】
【化３５】
2013122236.tif 000036
【０１６９】
［式中、
Ｌは、式（ａ１）：
【０１７０】
【化３６】
2013122236.tif 000037
【０１７１】
（式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；＊＊は、ヌクレオチド３’位水酸基との結合位置を示し；
Ｌ１は、置換されていてもよい２価のＣ１−２２炭化水素基を示し；かつ
Ｌ２は、単結合を示すか、または＊＊Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ３）＊＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｃ＝Ｏとの結合位置を示し、Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、独立してそれぞれ、水素原子もしくは置換されていてもよいＣ１−２２アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−２２アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基を示す。）で示される基を示し、
Ｙは、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し、ならびに
Ｚ’は、炭化水素基を有する有機基を示す。］。
【０１７２】
上記式（ａ１）で表されるリンカーＬの好ましい態様としては、式（ａ１）中、Ｌ１が、エチレン基、またはＣＨ２−Ｏ−１，４−フェニレン−Ｏ−ＣＨ２を示し；かつ
Ｌ２が、単結合を示すか、または＊＊Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ３）＊＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｃ＝Ｏとの結合位置を示し、Ｒ１は、Ｃ１−６アルキレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、独立してそれぞれ水素原子、もしくは置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、またはＲ２およびＲ３が一緒になって、置換されていてもよいＣ１−６アルキレン結合を形成していてもよい。）で表される基である、基である。
【０１７３】
上記式（ａ１）で表されるリンカーＬの別の好ましい態様としては、式（ａ１）中、Ｌ１が、エチレン基を示し；かつ
Ｌ２が、単結合を示す、基である。
【０１７４】
上記式（ａ１）で表されるリンカーＬの別の好ましい態様としては、式（ａ１）中、Ｌ１が、エチレン基を示し；かつ
Ｌ２中のＮ（Ｒ２）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ３）部分が、ピペラジニレン基を示す、基である。
【０１７５】
上記式（ａ１）で表されるリンカーＬの更に別の好ましい態様としては、式（ａ１）中、Ｌ１が、エチレン基を示し；かつ
Ｌ２が、＊＊Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−Ｒ１−Ｎ（Ｒ３）＊＊＊（式中、＊＊は、Ｌ１との結合位置を示し、＊＊＊は、Ｃ＝Ｏとの結合位置を示し、Ｒ１は、ペンチレン基、またはヘキシレン基を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子もしくはメチル基を示す。）で表される基である、基である。
【０１７６】
上記リンカーＬの特に好ましい例は、入手が容易で安価なスクシニル基である。
【０１７７】
上記式（ＩＩＩ’）におけるＹは、酸素原子、またはＮＲ（Ｒは、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示す。
【０１７８】
本明細書中、Ｒで示される「アルキル基」としては、Ｃ１−３０アルキル基が挙げられ、好ましくはＣ１−１０アルキル基、より好ましくはＣ１−６アルキル基である。好適な具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられ、特にメチル、エチルが好ましい。
【０１７９】
本明細書中、Ｒで示される「アラルキル基」としては、Ｃ７−３０アラルキル基が挙げられ、好ましくはＣ７−２０アラルキル基、より好ましくはＣ７−１６アラルキル基（Ｃ６−１０アリール−Ｃ１−６アルキル基）である。好適な具体例としては、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、１−（α−ナフチル）エチル、２−（α−ナフチル）エチル、１−（α−ナフチル）プロピル、β−ナフチルメチル、１−（β−ナフチル）エチル、２−（β−ナフチル）エチル、１−（β−ナフチル）プロピル等が挙げられ、特にベンジルが好ましい。
【０１８０】
Ｒとしては、水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１６アラルキル基が好ましく、水素原子、メチル、エチルまたはベンジルがより好ましく、水素原子が特に好ましい。
【０１８１】
Ｙとしては、酸素原子またはＮＨが好ましい。
【０１８２】
Ｚ’で示される「炭化水素基を有する有機基」としては、例えば、メチル、エチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜６のアルキル、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ジフェニルメチル、アリル、１，１−ジメチル−２−フェニル−エチル、２，４−ジメトキシベンジル、ビス（４−メトキシフェニル）メチル等が挙げられる。また、炭化水素基を有する有機基としては、分枝鎖を有するものが好ましい。分枝鎖を有する基を使用すれば、ｎ個重合オリゴヌクレオチドおよびｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドの脂溶性、溶媒（特に、非極性溶媒）に対する溶解性を向上させることができ、工程（１）を円滑に行うことができ、また、後述する工程（４）の抽出単離工程において、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドを非極性溶媒に移行させやすくなる。
Ｚ’における好適な「分枝鎖を有する基」としては、例えば、式（ａ２）：
【０１８３】
【化３７】
2013122236.tif 000038
【０１８４】
［式中、＊は、Ｙとの結合位置を示し；
Ｒ４は、水素原子であるか、あるいはＲｂが下記式（ａ３）で表される基である場合には、Ｒ６と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ｂと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；
ｋ個のＱは、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−を示し；
ｋ個のＲ５は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
ｋは、１〜４の整数を示し；
環Ａは、Ｒ４、ｋ個のＱＲ５、および＊Ｃ（Ｒａ）（Ｒｂ）に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよく；
Ｒａは、水素原子を示し；かつ
Ｒｂは、水素原子または式（ａ３）：
【０１８５】
【化３８】
2013122236.tif 000039
【０１８６】
（式中、＊は結合位置を示し；
ｊは、０〜４の整数を示し；
ｊ個のＱは、独立してそれぞれ、前記と同意義を示し；
ｊ個のＲ７は、独立してそれぞれ、分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基を示し；
Ｒ６は、水素原子を示すか、またはＲ４と一緒になって単結合または−Ｏ−を示して、環Ａと共にフルオレニル基またはキサンテニル基を形成していてもよく；かつ
環Ｂは、ｊ個のＱＲ７、およびＲ６に加えて、さらにハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、および１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよい）で表される基を示す。］で表される基が挙げられる。
【０１８７】
即ち、本発明におけるｎ個重合オリゴヌクレオチドの３’−水酸基の保護基の好適な一実施態様は、下記一般式（ＩＩＩ）で表される。
一般式（ＩＩＩ）：
【０１８８】
【化３９】
2013122236.tif 000040
【０１８９】
［式中、
ＬおよびＹは前記と同義であり、
Ｚは、式（ａ２）：
【０１９０】
【化４０】
2013122236.tif 000041
【０１９１】
［式中、各記号は前記と同義である。］。
【０１９２】
ヌクレオチド３’−水酸基の保護基が−Ｌ−Ｙ−Ｚ’である場合に、Ｚ’を「分岐鎖を有する基」、好ましくは式（ａ２）で表される基にすることにより、ヌクレオシドまたはオリゴヌクレオチドの溶解性が向上される溶媒としては、非極性溶媒が好ましい。
【０１９３】
上記式（ＩＩＩ）におけるＬ及びＹの好ましい態様は、上記式（ＩＩＩ’）におけるＬ及びＹと同様である。
【０１９４】
上記式（ＩＩＩ’）におけるＺ’の好ましい態様、即ち、上記式（ＩＩＩ）におけるＺの式（ａ２）で表される基は、特定のベンジル基（式（ａ２）中、ＲａとＲｂが共に水素原子であり、かつＲ４が水素原子である）；特定のジフェニルメチル基（式（ａ２）中、Ｒａが水素原子であり、Ｒ４が水素原子であり、ｋが１〜３であり、かつＲｂが式（ａ３）（式中、Ｒ６が水素原子であり、ｊが０または１である。）で表される基である）；特定のフルオレニル基（式（ａ２）中、Ｒａが水素原子であり、ｋが１であり、Ｒｂが式（ａ３）（式中、ｊが０である。）で表される基であり、かつＲ６がＲ４と一緒になって単結合を示して、環Ａと共にフルオレン環を形成する）；特定のキサンテニル基（式（ａ２）中、Ｒａが水素原子であり、ｋが１であり、Ｒｂが式（ａ３）（式中、ｊが０である。）で表される基であり、かつＲ６がＲ４と一緒になって−Ｏ−を示して、環Ａと共にキサンチン環を形成する）を包含する。
【０１９５】
式（ＩＩＩ）中、Ｒ５、Ｒ７として示される「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基」とは、その分子構造中に分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基である。
【０１９６】
「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基」における「分岐鎖」としては、直鎖または分岐状の飽和脂肪族炭化水素基であり、Ｃ１−６アルキル基が好ましく、Ｃ１−４アルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基が一層好ましい。また、該「分岐鎖」は、１個以上のハロゲン原子で置換されていてもよい。
【０１９７】
「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基」における「脂肪族炭化水素基」とは、直鎖状の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基であり、Ｃ２−Ｃ３００アルキル基（好ましくは、Ｃ３−Ｃ１００アルキル基、より好ましくは、Ｃ３−Ｃ６０アルキル基）、Ｃ２−Ｃ３００アルケニル基（好ましくは、Ｃ３−Ｃ１００アルケニル基、より好ましくは、Ｃ３−Ｃ６０アルケニル基）またはＣ２−Ｃ３００アルキニル基（好ましくは、Ｃ３−Ｃ１００アルキニル基、より好ましくは、Ｃ３−Ｃ６０アルキニル基）である。
【０１９８】
「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基」における「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基」の部位は、特に限定されず、末端に存在しても（１価基）、それ以外の部位に存在してもよい（例えば２価基）。
【０１９９】
「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基」としては、具体的には、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基（ラウリル基）、トリデシル基、ミリスチル基、セチル基、ステアリル基、アラキル基、ベヘニル基、オレイル基、リノリル基、リグノセリル基等の分岐異性体であって、１以上の分岐鎖を有する１価基およびそれらから誘導される２価基が挙げられ、好ましくは、３，７，１１−トリメチルドデシル基、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル基（以下、２，３−ジヒドロフィチル基ということもある。）、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチルウンデカン−５−イル基等である。
【０２００】
「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基」中に「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基」が複数存在する場合には、その各々は同一のものであっても異なるものであってもよい。
【０２０１】
「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基」中の「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基」以外の部位は任意に設定することができる。例えば−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、炭化水素基（１価基または２価基）等の部位を有していてもよい。「炭化水素基」としては、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香脂肪族炭化水素基、単環式飽和炭化水素基および芳香族炭化水素基等が挙げられ、具体的には、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等の１価基およびそれらから誘導される２価基が用いられる。「アルキル基」としては、例えば、Ｃ１−６アルキル基等が好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる。「アルケニル基」としては、例えば、Ｃ２−６アルケニル基等が好ましく、例えば、ビニル、１−プロペニル、アリル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル等が挙げられる。「アルキニル基」としては、例えば、Ｃ２−６アルキニル基等が好ましく、例えば、エチニル、プロパルギル、１−プロピニル等が挙げられる。「シクロアルキル基」としては、例えば、Ｃ３−６シクロアルキル基等が好ましく、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。「アリール基」は、例えば、Ｃ６−１４アリール基等が好ましく、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、ビフェニリル、２−アンスリル等が挙げられる。中でもＣ６−１０アリール基がより好ましく、フェニルが特に好ましい。「アラルキル基」としては、例えば、Ｃ７−２０アラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、ナフチルメチル、１−ナフチルエチル、１−ナフチルプロピル等が挙げられる。中でも、Ｃ７−１６アラルキル基（Ｃ６−１０アリール−Ｃ１−６アルキル基）がより好ましく、ベンジルが特に好ましい。当該「炭化水素基」は、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子）、オキソ基等から選択される置換基で置換されていてもよい。
【０２０２】
Ｚは、ｋ個のＱＲ５基を有する。ここで、Ｑは、独立してそれぞれ、単結合であるか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−または−ＮＨ−であり、好ましくはＯである。ｋ個のＱＲ５基は、それぞれ同一のものであっても異なるものであってもよい。
【０２０３】
Ｚにおいては、Ｒ５、Ｒ７として示される「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基」における、炭素数合計は、１４以上であり、１６以上が好ましく、１８以上がより好ましい。一方、Ｒ５、Ｒ７として示される「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基」における、炭素数合計は、３００以下であり、２００以下が好ましく、１６０以下がより好ましい。また、本発明化合物においては、Ｒ５、Ｒ７として示される「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基」における、総分岐鎖数は特に制限されないが、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、４以上がより好ましく、８以上がより好ましく、１０以上が更に好ましい。当該総分岐鎖数が多いほど、オリゴヌクレオチド鎖が長鎖になった場合でも３’位水酸基が当該保護基により保護されたオリゴヌクレオチドは、各種有機溶媒（特に、非極性溶媒）に対する溶解性が良好な油状物となる。
【０２０４】
Ｒ５、Ｒ７として示される「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基」としては、式（ｂ）：
【０２０５】
【化４１】
2013122236.tif 000042
【０２０６】
（式中、＊は、隣接原子との結合位置を示し；
Ｒ８およびＲ９は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示し；
Ｘ１は、単結合、Ｃ１−４アルキレン基を示す。
但し、Ｒ８およびＲ９が共に水素原子であることはない。）で表される同一または異なる２価の基を有する基が好ましく、例えば、下記式（ｃ）〜（ｅ）のいずれかで表される基が挙げられる。
【０２０７】
なお、式（ｃ）〜（ｅ）における各記号の定義中の炭素数、繰り返し単位の数（ｍ１、ｎ０〜ｎ２）等は便宜上示されたものであって、総炭素数が１４以上（好ましくは１６以上、より好ましくは１８以上）、３００以下（好ましくは２００以下、より好ましくは１６０以下）になるよう上記した定義の範囲内で適宜変更することができる。以下、式（ｃ）〜（ｅ）について、順に説明する。
【０２０８】
式（ｃ）は、以下の通りである。
【０２０９】
【化４２】
2013122236.tif 000043
【０２１０】
［式中、＊は、Ｑとの結合位置を示し；
Ｒ１０およびＲ１１は、共に水素原子を示すか、または一緒になって＝Ｏを示し；
ｎ０は、２〜４０の整数を示し；
ｎ０個のＲ１２およびＲ１３は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示し；
ｎ０個のＸ２は、独立してそれぞれ、単結合またはＣ１−４アルキレン基を示し；かつ
Ｒ１４は、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示し；
Ｒ１５は、Ｃ１−４アルキル基を示す。
但し、Ｒ１２およびＲ１３が共に水素原子であることはなく、かつｎ０が２の場合には、Ｒ１４はＣ１−４アルキル基を示す。］
【０２１１】
式（ｃ）の基において、
Ｒ１０およびＲ１１は、共に水素原子であり；
ｎ０は、２〜４０の整数であり；
ｎ０個のＲ１２およびＲ１３は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基またはエチル基であり；
ｎ０個のＸ２は、独立してそれぞれ、単結合、メチレン基またはエチレン基であり；かつ
Ｒ１４は、水素原子、メチル基またはエチル基である基が好ましい（但し、Ｒ１２およびＲ１３が共に水素原子であることはなく、かつｎ０が２の場合には、Ｒ１４はメチルまたはエチル基を示す。）。
【０２１２】
より好適な式（ｃ）の基は、ミリスチル基、セチル基、ステアリル基、アラキル基、ベヘニル基等の炭素数１４〜１６０の分岐異性体であり、中でも２，３−ジヒドロフィチル基、３，７，１１−トリメチルドデシル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイル基が特に好ましい。
【０２１３】
式（ｄ）は、以下の通りである。
【０２１４】
【化４３】
2013122236.tif 000044
【０２１５】
（式中、＊は、Ｑとの結合位置を示し；
ｍ１個のＯＲ１６は、独立してそれぞれ、式（ｃ）で表される基により置換されたヒドロキシル基を示し；
ｍ１は、１〜３の整数を示す。）
なお、式（ｃ）で表される基は、＊が、Ｑとの結合位置ではなく、Ｏとの結合位置を示すこと以外は、上記式（ｃ）で表される基と同じである。
【０２１６】
式（ｄ）の基において、Ｒ１６は、ミリスチル基、セチル基、ステアリル基、アラキル基、ベヘニル基等の炭素数１４〜３０の分岐異性体である基がより好ましく、中でも２，３−ジヒドロフィチル基、３，７，１１−トリメチルドデシル基が特に好ましい。
【０２１７】
式（ｅ）は、以下の通りである。
【０２１８】
【化４４】
2013122236.tif 000045
【０２１９】
（式中、＊は、Ｑとの結合位置を示し；
ｎ１は、１〜１０の整数を示し；
ｎ２は、１〜１０の整数を示し；
ｎ１個のＲ２０およびＲ２１は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示し；
ｎ１個のＸ３は、独立してそれぞれ、単結合またはＣ１−４アルキレン基を示し；
ｎ２個のＲ２２およびＲ２３は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示し；
ｎ２個のＸ５は、独立してそれぞれ、単結合またはＣ１−４アルキレン基を示し；
Ｘ４は、単結合またはＣ１−４アルキレン基を示し；かつ
Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基を示す。
但し、Ｒ２０およびＲ２１、および／またはＲ２２およびＲ２３が共に水素原子であることはなく、かつｎ１＋ｎ２が２の場合には、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９の２個以上が独立してそれぞれ、Ｃ１−４アルキル基を示すか、またはＲ２４、Ｒ２５およびＲ２６の２個以上が独立してそれぞれ、Ｃ１−４アルキル基を示す。）
【０２２０】
式（ｅ）の基において、
ｎ１は、１〜５の整数であり；
ｎ２は、１〜５の整数であり；
ｎ１個のＲ２０およびＲ２１は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基またはエチル基であり；
ｎ１個のＸ３は、独立してそれぞれ、単結合、メチレン基またはエチレン基であり；
ｎ２個のＲ２２およびＲ２３は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基またはエチル基であり；
ｎ２個のＸ５は、独立してそれぞれ、単結合、メチレン基またはエチレン基であり；
Ｘ４は、単結合、メチレン基またはエチレン基であり；かつ
Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は、独立してそれぞれ、水素原子またはＣ１−４アルキル基である基がより好ましい（但し、Ｒ２０およびＲ２１、および／またはＲ２２およびＲ２３が共に水素原子であることはなく、かつｎ１＋ｎ２が２の場合には、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９の２個以上が独立してそれぞれ、Ｃ１−４アルキル基を示すか、またはＲ２４、Ｒ２５およびＲ２６の２個以上が独立してそれぞれ、Ｃ１−４アルキル基を示す。）。
【０２２１】
特に好適な式（ｅ）の基としては、
ｎ１は、１〜５の整数であり；
ｎ２は、１〜５の整数であり；
ｎ１個のＲ２０およびＲ２１は、独立してそれぞれ、水素原子またはメチル基であり；
ｎ１個のＸ３は、独立してそれぞれ、単結合またはメチレン基であり；
ｎ２個のＲ２２およびＲ２３は、独立してそれぞれ、水素原子またはメチル基であり；
ｎ２個のＸ５は、独立してそれぞれ、単結合またはメチレン基であり；
Ｘ４は、単結合またはメチレン基であり；かつ
Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２５、Ｒ２５およびＲ２６は、メチル基である基が挙げられる（但し、Ｒ２０およびＲ２１、および／またはＲ２２およびＲ２３が、共に水素原子であることはない）。
【０２２２】
Ｒ５、Ｒ７として示される「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基」の具体例として、以下の基が挙げられる。各基中の＊は結合位置を示し、式中のｎ３は、３以上の整数を示し、ｎ４は、該基の総炭素数が１４以上３００以下になるように適宜設定され得る。
【０２２３】
【化４５】
2013122236.tif 000046
【０２２４】
Ｒ５、Ｒ７として示される「分岐鎖を１以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも１つ有し、かつ総炭素数１４以上３００以下である有機基」の好ましい具体例として、以下の基が挙げられる：
３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル基；
３，７，１１−トリメチルドデシル基；
２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイル基；
３，４，５−トリ（３’，７’，１１’，１５’−テトラメチルヘキサデシルオキシ）ベンジル基；および
３，５−ジ（３’，７’，１１’，１５’−テトラメチルヘキサデシルオキシ）ベンジル基。
【０２２５】
本発明の一般式（ＩＩＩ’）または式（ＩＩＩ）で表される保護基の好ましい例として、以下のベンジルスクシニル基、またはジフェニルメチルスクシニル基が挙げられるが、本発明は、これらに限定されるわけではない：
２−{２，４−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；２−{１−［（２−クロロ−５−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルスクシニル基；２−{３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{２−［３’，４’，５’−トリ（２’’，３’’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルオキシ］−４−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メトキシベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルスクシニル基；２−{４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルスクシニル基；２−{４−［２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルアミノ］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルスクシニル基；２−｛４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{３，５−ジ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{１−［２，３，４−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；２−{１−［４−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル］−４’−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基；３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルスクシニル基；および２−{３，４，５−トリス［３，４，５−トリ（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］ベンジルアミノカルボニル}エチルカルボニル基。
【０２２６】
４−３．「保護されていてもよい核酸塩基」の説明
一般式（ｉ）及び（ｉｉ）中のＢａｓｅで表される「保護されていてもよい核酸塩基」とは、例えば、アミノ基を有する核酸塩基であるアデニル基、グアニル基、またはシトシル基において、アミノ基が保護されていてもよいこと、或いは、環状イミド基を有するチミル基、ウラシル基において、イミド基が保護されていてもよいことを意味し、核酸塩基のアミノ基が５’位の脱保護条件に耐え得る保護基により保護されている核酸塩基が好ましい。かかる「アミノ基の保護基」及び「イミド基の保護基」としては、特に限定されず、例えば、グリーンズ・プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ  ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ  ＧＲＯＵＰＳ  ＩＮ  ＯＲＧＡＮＩＣ  ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ）、第４版、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＬＹ＆ＳＯＮＳ）出版（２００６年）等に記載されている保護基を挙げることができる。かかる「アミノ基の保護基」及び「イミド基の保護基」の具体例としては、例えば、ピバロイル基、ピバロイロキシメチル基、トリフルオロアセチル基、フェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基、４−tert−ブチルフェノキシアセチル基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、ジメチルホルムアミジニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基等を挙げることができる。これらの中でも、フェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、及びジメチルホルムアミジニル基が好ましい。また、核酸塩基のカルボニル基が保護されていてもよく、例えば、フェノール、２，５−ジクロロフェノール、３−クロロフェノール、３，５−ジクロロフェノール、２−ホルミルフェノール、２−ナフトール、４−メトキシフェノール、４−クロロフェノール、２−ニトロフェノール、４−ニトロフェノール、４−アセチルアミノフェノール、ペンタフルオロフェノール、４−ピバロイロキシベンジルアルコール、４−ニトロフェネチルアルコール、２−（メチルスルフォニル）エタノール、２−（フェニルスルフォニル）エタノール、２−シアノエタノール、２−（トリメチルシリル）エタノール、ジメチルカルバミン酸クロライド、ジエチルカルバミン酸クロライド、エチルフェニルカルバミン酸クロライド、１−ピロリジンカルボン酸クロライド、４−モルホリンカルボン酸クロライド、ジフェニルカルバミン酸クロライド等を反応させて、カルボニル基を保護することが出来る。ここで、カルボニル基の保護基については、特に導入しなくてもよい場合がある。
【０２２７】
また、核酸塩基の保護基の別の好ましい態様としては、「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基」が挙げられる。当該「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基」としては、上記式（Ｉ）中のＢａｓｅ２の「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている核酸塩基」の「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基」と同義である。
中でも、「Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０分岐鎖アルケニル基を有する基」が好ましく、「Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基を有する基」がより好ましい。
核酸塩基を「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基」で保護することにより、ｎ個重合オリゴヌクレオチドにさらに脂溶性、有機溶媒（特に、非極性溶媒）に対する溶解性が付与され、長鎖のオリゴヌクレオチド合成に有利である。
【０２２８】
ｎ個重合オリゴヌクレオチドの少なくとも１つの核酸塩基は、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されていることが好ましく、Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されていることがさらに好ましい。
この場合に、ｎ個重合オリゴヌクレオチドの少なくとも１つの核酸塩基が当該保護基で保護されていればよく、ｎ個すべての核酸塩基が当該保護基で保護されていてもよく、その一部が当該保護基で保護されており、その他の核酸塩基が、核酸合成分野で常用されている保護基（例えば、ピバロイル基、ピバロイロキシメチル基、トリフルオロアセチル基、フェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基、４−tert−ブチルフェノキシアセチル基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、ジメチルホルムアミジニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基等）で保護されるものであってもよい。
【０２２９】
このように、Ｂａｓｅで表される核酸塩基の全て又は一部がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されている場合、得られるｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドの脂溶性、有機溶媒（特に、非極性溶媒）に対する溶解性がさらに向上し、次工程の工程（４）の抽出操作が容易になり、より重合度が高いオリゴヌクレオチドの合成が可能になる。
ｎ個の核酸塩基のうち、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護する割合は、ｎ個重合オリゴヌクレオチドが有機溶媒（特に、非極性溶媒）に十分な溶解性を有するように適宜設定すればよい。
【０２３０】
「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基」及び「Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０分岐鎖アルケニル基を有する基」の好ましい例は、上述の式（Ｉ）で説明したとおりである。
【０２３１】
４−４．分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチド
本発明におけるｎ個重合オリゴヌクレオチドの更に好適な一実施態様は、前記式（ｉ）及び（ｉｉ）において、かつＰ３で表される３’位水酸基の保護基が前記式（ＩＩＩ）：−Ｌ−Ｙ−Ｚで表される基（本明細書において、「分岐鎖含有芳香族保護基」と称する場合がある。）である、下記一般式（ＩＩ）で表される新規オリゴヌクレオチド（本明細書において、「分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチド」と称することもある。）である。
なお、ｍが０の場合には、式（ＩＩ）で表される分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチドは、「分岐鎖含有芳香族保護ヌクレオシド」と解される。
【０２３２】
本発明の分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチドは、本発明の製造方法の反応溶媒であり、分液操作性の優れた非極性溶媒に易溶であるので、各工程の反応を円滑に行える上、各中間体を晶析単離することなく抽出分離のみを経て最終生成物へと導くオリゴヌクレオチドの製造方法（ワンポット合成方法ともいう）に使用しうる、新規化合物として極めて有用である。
【０２３３】
特に非極性溶媒の代表溶媒としてのヘプタンに対して良好な溶解性を示すという点で、特開２０１０−２７５２５４号公報に記載の直鎖構造を有する保護基とは明確に差別化されるべきものである。
一方、従来の液相法に比べても、オリゴヌクレオチドの重合度（配列および鎖長）によらず、非極性溶媒中に安定的に溶解・移行させられるため、工程上では単離・精製工程を簡便化でき、総合的には高純度・高収率を確保できるという利点を有する。
【０２３４】
２０℃におけるヘプタン中のｍが０である分岐鎖含有芳香族保護ヌクレオシドの溶解度（＝溶質／（溶媒＋溶質）×１００）（質量％）の下限値は、反応基質との結合やその後の反応が進行しさえすれば特に制限はないが、１質量％が好ましく、２質量％がより好ましく、５質量％が更に好ましく、１０質量％が更に一層好ましく、２５質量％が殊更好ましく、５０質量％が特に好ましい。
【０２３５】
２０℃におけるヘプタン中のｍが０である分岐鎖含有芳香族保護ヌクレオシドの溶解度（＝溶質／（溶媒＋溶質）×１００）（質量％）の上限値は、工業的に反応の進行度合いによらず安定的に反応を進行させられるという観点から、８０質量％が好ましく、８５質量％がより好ましく、９０質量％が更に好ましく、９５質量％が更に一層好ましく、９８質量％が殊更好ましい。
【０２３６】
本明細書において、「溶解度」とは、溶媒に溶質を飽和させた場合の、溶媒と溶質の合計質量に対する溶質の質量の百分率（質量％）を意味する。
【０２３７】
一般式（ＩＩ）：
【０２３８】
【化４６】
2013122236.tif 000047
【０２３９】
［式中、ｍは、０以上の任意の整数を示し；
ｍ＋１個のＢａｓｅ１は、独立してそれぞれ、保護されていてもよい核酸塩基を示し；
Ｐ１は、水素原子、または酸性条件下で除去可能な一時保護基を示し；
Ｘは、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｍ個のＸ’は、独立してそれぞれ、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子又は４位炭素原子に架橋する有機基を示し；
ｍ個のＰ２は、独立してそれぞれ、塩基性条件下で除去可能な保護基を示し；
ｍ個のＲ３４は、独立してそれぞれ、酸素原子もしくは硫黄原子を示し；
Ｌ、ＹおよびＺは、前記と同義である。］
【０２４０】
本発明化合物（ＩＩ）は、５’位の水酸基の酸素原子を介して、３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、かつ５’位水酸基が一時保護基で保護されたｐ個重合オリゴヌクレオチドと結合し、ｍ＋１＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドを形成する。
ｍが０である本発明化合物（ＩＩ）は、オリゴヌクレオチド合成における３’位末端の出発化合物である。また、本発明化合物には、広義には５’位水酸基が未保護（Ｐ１が水素原子）のものも包含される。
【０２４１】
Ｐ１、Ｐ２、Ｘ、Ｘ’およびＲ３４の定義、好ましい態様等は、上記化合物（Ｉ）と同様である。
ｍの定義、好ましい態様等は、上記化合物（ｉ）及び（ｉｉ）と同様である。
【０２４２】
一般式（ＩＩ）中のＬ、ＹおよびＺの好ましい態様は、前記一般式（ＩＩＩ’）または一般式（ＩＩＩ）におけるＬ、ＹおよびＺの好ましい態様と同様である。
【０２４３】
Ｂａｓｅ１で表される「保護されていてもよい核酸塩基」は、前記一般式（ｉ）及び（ｉｉ）におけるＢａｓｅと同様である。
【０２４４】
一般式（ＩＩ）で示される分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチドは、分岐鎖含有芳香族保護基で十分に脂溶性が付与されているため必ずしも必要ではないが、さらに脂溶性を向上させるために、Ｂａｓｅ１はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されていてもよく、好ましくは、Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されていてもよい。
「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基」及び「Ｃ５−３０分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０分岐鎖アルケニル基を有する基」の好ましい例は、上述のとおりである。
【０２４５】
一般式（ＩＩ）で表される本発明化合物の好ましい態様としては、一般式（ＩＩ）中、
ｍが０であり；
Ｂａｓｅ１が、それぞれ保護されていてもよい、シトシル基、ウラシル基、チミニル基、アデニル基、またはグアニル基であり；
Ｐ１が、ジ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基、またはモノ（Ｃ１−６アルコキシ）トリチル基であり；
Ｘが、水素原子、保護されていてもよい水酸基フッ素原子、−ＯＲｉ（Ｒｉは前記と同義を示す）、−Ｏ−ＮＲ３７−Ｒｊ（Ｒｊ及びＲ３７は前記と同義を示す）、または−Ｏ−Ｒｋ−Ｏ−Ｒｌ（Ｒｋ及びＲｌは前記と同義を示す）であり；かつ
Ｌ−Ｙ−Ｚが、前記一般式（ＩＩＩ’）または一般式（ＩＩＩ）において好ましい態様として示された各基の組合せと同様である、
化合物（ＩＩａ）である。
【０２４６】
上記一般式（ＩＩ）で表される本発明化合物の別の好ましい態様としては、一般式（ＩＩ）中、
ｍが０であり；
Ｂａｓｅ１が、それぞれ保護されていてもよい、シトシル基、ウラシル基、チミニル基、アデニル基、またはグアニル基であり；
Ｐ１が、ジメトキシトリチル基、またはモノメトキシトリチル基であり；
Ｘが、水素原子、保護されていてもよい水酸基、フッ素原子、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、または−Ｏ−ＮＲ３７−ＣＨ２−（Ｒ３７は前記と同義を示す）、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−（それぞれ、左側が２位に結合し、右側が４位に結合する。）であり；かつ
Ｌ−Ｙ−Ｚが、前記一般式（ＩＩＩ’）または一般式（ＩＩＩ）において好ましい態様として示された各基の組合せと同様である、
化合物（ＩＩｂ）である。
【０２４７】
上記一般式（ＩＩ）で表される本発明化合物の更に別の好ましい態様としては、一般式（ＩＩ）中、
ｍが０であり；
Ｂａｓｅ１が、それぞれ保護されていてもよい、シトシル基、ウラシル基、チミニル基、アデニル基、またはグアニル基であり；
Ｐ１が、ジメトキシトリチル基であり；
Ｘが、水素原子、メトキシ基ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ基、フッ素原子、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−ＮＨ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＮＭｅ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−（それぞれ、左側が２位に結合し、右側が４位に結合する。）であり；かつ
Ｌ−Ｙ−Ｚが、前記一般式（ＩＩＩ’）または一般式（ＩＩＩ）において好ましい態様として示された各基の組合せと同様である、
化合物（ＩＩｃ）である。
【０２４８】
４−５．分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチドの製造方法
一般式（ＩＩ）で表される分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチドのうちｍが０である一般式（ＩＩ’）で表される分岐鎖含有芳香族保護ヌクレオシドの製造方法としては、特に限定されないが、自体公知の方法またはこれらに準ずる方法（Ｒｉｃｈａｒｄ Ｔ．Ｐｏｎ ｅｔ ａｌ．，Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ２００４，３２，６２３−６３１．）に従って製造することができる。
原料化合物が反応に影響を及ぼす置換基（例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシ基）を有する場合には、原料化合物を予め公知の方法に従い、適当な保護基で保護した後に反応を行うことが一般的である。かかる保護基は、反応後に、酸処理、アルカリ処理、接触還元等の公知の方法に従い除去することができる。
上記一般式（ＩＩ’）のＬがスクシニル基である分岐鎖含有芳香族保護ヌクレオシドの一般的な製造方法を以下に示す。
【０２４９】
【化４７】
2013122236.tif 000048
【０２５０】
（式中の各記号は前記と同義である。）
５’位水酸基が保護基Ｐ１により保護されたヌクレオシド（ｑ）を、塩基存在下、コハク酸無水物と反応させることにより、３’位水酸基にコハク酸が導入された化合物（ｒ）を得る。化合物（ｒ）を縮合剤存在下、Ｚ−Ｙ−Ｈと脱水縮合させることにより、一般式（ＩＩ’）で表される分岐鎖含有芳香族保護ヌクレオシドを得ることができる。
【０２５１】
上記ヌクレオシド（ｑ）から化合物（ｒ）の変換工程は、反応に不活性な溶媒中で行うのが有利である。このような溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、またはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、またはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、あるいはそれらの混合溶媒が好ましい。中でもジクロロメタン、またはクロロホルムが特に好ましい。
【０２５２】
塩基としては、特に限定されないが、例えば、後述するような有機塩基が挙げられ、好ましくはトリエチルアミンである。
【０２５３】
上記脱水縮合工程は、反応に不活性な溶媒中で行うのが有利である。このような溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、またはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、或いはそれらの混合溶媒が好ましい。中でもジクロロメタン、クロロホルムが特に好ましい。
【０２５４】
化合物（ｒ）とＺ−Ｙ−Ｈとの縮合反応に使用する縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミドおよびその塩酸塩（ＥＤＣ・ＨＣｌ）、ヘキサフルオロリン酸（ベンゾトリアゾール-1-イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム(ＰｙＢｏｐ)、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  テトラフルオロボレート（ＴＢＴＵ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−５−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾリウム−３−オキシド  ヘキサフルオロホスフェート（ＨＣＴＵ）、Ｏ−ベンゾトリアゾール−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロボレート（ＨＢＴＵ）等が挙げられる。中でもＨＢＴＵ、ＨＣＴＵ、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミドおよびその塩酸塩（ＥＤＣ・ＨＣｌ）が好ましい。
【０２５５】
縮合剤の使用量は、化合物（ｒ）１モルに対して、１〜１０モル使用することができ、好ましくは１〜５モルである。また、Ｚ−Ｙ−Ｈの使用量は、化合物（ｒ）１モルに対して１〜１０モル使用することができ、好ましくは１〜５モルである。反応温度は、反応が進行しさえすれば特に限定されないが、−１０℃〜５０℃が好ましく、０℃〜３０℃がより好ましい。反応時間は、３０分〜７０時間である。
【０２５６】
上記一般式（ＩＩ’）中のＬがスクシニル基以外の化合物についても、上記製造方法におけるコハク酸無水物に代えて、対応する酸無水物、対応するジカルボン酸ハライド、対応するジカルボン酸の活性エステル等を用いて、同様の反応を行うことにより製造することができる。
ｍが１以上である一般式（ＩＩ）で示される化合物は、出発原料として、一般式（ＩＩ’）で示される化合物を用いて、下記の本発明の製造方法に従い、５’末端伸長プロセスを繰り返すことにより製造することができる。
【０２５７】
４−６．Ｚ−Ｙ−Ｈ（アルコールまたはアミン）の製造方法
分岐鎖含有芳香族保護オリゴヌクレオチドの製造に用いられる原料化合物である一般式：Ｚ−Ｙ−Ｈで表されるアルコール化合物またはアミン化合物の製造方法としては、特に限定されないが、例えば、以下の工程により製造することができる。
【０２５８】
【化４８】
2013122236.tif 000049
【０２５９】
［式中のＱ’は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＮＨ−を示し、Ｒｇは、水素原子、ＯＲｈ基（ここで、ＲｈはＣ１−６アルキル基等のアルキル基、ベンジル基等のアラルキル基等を示す。）または式（ａ３）：
【０２６０】
【化４９】
2013122236.tif 000050
【０２６１】
（式中の各記号は、前記と同意義である。）で表される基を示し、Ｙ１はハロゲン原子等の脱離基を示し、他の記号は、前記と同意義である。］
【０２６２】
工程（ａ）
当該工程は、式（ＩＶ）で表される化合物（以下、化合物（ＩＶ）と略称する。）のＱ’Ｈ基（ここで、Ｑ’は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＮＨ−を示す。）にＲ５基を導入することにより、式（ＩＶａ）で表される化合物（以下、化合物（ＩＶａ）と略称する。）を製造する工程である。
当該反応は、Ｑ’が、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−の場合、反応に影響を及ぼさない溶媒中、塩基の存在下または非存在下で、Ｒ５基に対応するハロゲン化物（塩化物、臭化物またはヨウ化物）、Ｒ５基に対応するカルボン酸若しくは酸ハロゲン化物またはＲ５基に対応するアルキルスルホニルオキシ化物（例えば、メタンスルホニルオキシ化物等）若しくはアリールスルホニルオキシ化物（例えば、ｐ−トルエンスルホニルオキシ化物等）を用いて行われる。また、Ｑ’が−Ｏ−の場合、化合物（ＩＶ）とＲ５基に対応する水酸化物をトリフェニルホスフィンおよびアゾジカルボン酸ジイソプロピル存在下で反応させる光延反応条件下で、当該反応を行うこともできる。さらにＱ’が−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−の場合、例えば、化合物（ＩＶ）とＲ５基に対応するアミン若しくは水酸化物を後述する縮合剤の存在下で反応させることにより化合物（ＩＶａ）を合成することができる。
【０２６３】
塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等のアミン類等が挙げられ、中でも炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等が好ましい。
【０２６４】
溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ−メチルピロリドン等あるいはそれらの混合物が挙げられ、中でも、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、トルエン、Ｎ−メチルピロリドン等が好ましい。
【０２６５】
反応温度は、５０〜１５０℃が好ましく、６０〜１３０℃がより好ましい。反応時間は、２〜３０時間が好ましく、３〜１０時間がより好ましい。
【０２６６】
工程（ｂ）
当該工程は、化合物（ＩＶａ）を還元することにより、式（Ｉ−ａ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ−ａ）と略称する。）を製造する工程である。当該還元反応は、還元剤を用いる方法により行うことができる。
【０２６７】
当該還元反応に用いる還元剤としては、例えば、金属水素化物（水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジブチルアルミニウム、水素化アルミニウム、水素化アルミニウムリチウム等）等が挙げられ、中でも、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジブチルアルミニウム等が好ましい。
【０２６８】
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；あるいはそれらの混合物が挙げられ、中でもテトラヒドロフラン、トルエン等が好ましい。
反応温度は、０〜１００℃が好ましく、３０〜７０℃がより好ましい。反応時間は、１〜２４時間が好ましく、２〜５時間がより好ましい。
【０２６９】
工程（ｃ）
当該工程は、化合物（ＩＶａ）（式（ＩＶａ）中、Ｒｇが水素原子でもＯＲｈ基でもない。）を、上記工程（ｂ）と同様の方法により還元する工程である。
【０２７０】
工程（ｄ−１）
当該工程は、化合物（ＩＶａ）（式（ＩＶａ）中、Ｒｇが水素原子である）を、オキシム化することにより、式（Ｉ’−ａ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ’−ａ）と略称する。）を製造する工程である。
【０２７１】
当該オキシム化反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、塩基存在下で化合物（ＩＶａ）とヒドロキシルアミンの酸付加塩とを反応させることにより行われる。
【０２７２】
ヒドロキシルアミンの酸付加塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等の鉱酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩等が挙げられるが、塩酸塩が特に好ましい。
【０２７３】
かかる塩基としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンなどの有機アミン類等が挙げられ、中でも、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が好ましい。
【０２７４】
溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；および／または、それらの混合物が挙げられ、中でも、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン等が好ましい。
反応温度は、１０〜１００℃が好ましく、２０〜６０℃でがより好ましい。反応時間は、０．５〜３０時間が好ましく、２〜２０時間がより好ましい。
【０２７５】
工程（ｄ−２）
当該工程は、化合物（Ｉ’−ａ）を、パラジウム−炭素、ラネーニッケル等の金属触媒存在下の接触水素添加反応、または前記工程（ｂ）と同様の金属水素化物等の還元剤により還元することにより、本発明化合物である式（Ｉ−ｂ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ−ｂ）と略称する。）を製造する工程である。
【０２７６】
化合物（Ｉ−ｂ）は、工程（ｄ−３）から工程（ｄ−４）および工程（ｄ−５）を経て製造することもできる。
【０２７７】
工程（ｄ−３）
当該工程は、化合物（Ｉ−ａ）を、例えば塩化アセチル、塩化チオニル等のクロル化剤、または、例えば臭化アセチル、三臭化リン、ジフェニルホスフィン／臭素等のブロム化剤を用いてハロゲン化することにより、式（Ｉ’−ｂ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ’−ｂ）と略称する。）を製造する工程である。
溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；それらの混合物が挙げられ、中でも、クロロホルム、テトラヒドロフラン、トルエン等が好ましい。
反応温度は、１０〜１５０℃が好ましく、３０〜８０℃がより好ましい。反応時間は、０．５〜３０時間が好ましく、２〜２０時間がより好ましい。
【０２７８】
工程（ｄ−４）
当該工程は、化合物（Ｉ’−ｂ）をアジ化ナトリウム等のアジド化剤を用いてアジド化することにより、式（Ｉ’−ｃ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ’−ｃ）と略称する。）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、化合物（Ｉ’−ｂ）をアジド化剤と反応させることにより行われる。
溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；それらの混合物が挙げられ、中でも、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が好ましい。
反応温度は、１０〜１５０℃が好ましく、２０〜１００℃がより好ましい。反応時間は、０．５〜３０時間が好ましく、２〜２０時間がより好ましい。
【０２７９】
工程（ｄ−５）
当該工程は、化合物（Ｉ’−ｃ）をアミノ化することにより、化合物（Ｉ−ｂ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、水存在下、化合物（Ｉ’−ｃ）をトリフェニルホスフィンと反応させるか、接触水素化還元により行われる。
トリフェニルホスフィンの使用量としては、化合物（Ｉ’−ｃ）１モルに対して、好ましくは１〜１０モル、特に好ましくは１〜５モルである。
水の使用量は、化合物（Ｉ’−ｃ）１モルに対して、好ましくは１〜１０モル、特に好ましくは１〜５モルである。
溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；および、それらの混合物が挙げられ、中でも、トルエン、テトラヒドロフラン等が好ましい。
反応温度は、１０〜１５０℃が好ましく、２０〜１００℃でがより好ましい。反応時間は、０．５〜３０時間が好ましく、２〜２０時間がより好ましい。
【０２８０】
工程（ｄ−６）
当該工程は、化合物（Ｉ’−ｂ）をＲＮＨ２（Ｒは前記と同義である）と反応させることにより、Ｙが−ＮＨＲ基である式（Ｉ−ｃ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ−ｃ）と略称する。）を製造する工程である。
当該工程は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、必要により、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン等の塩基の存在下、化合物（Ｉ’−ｂ）をＲ−ＮＨ２で表されるアミンと反応させることにより行われる。
溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；および、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン溶媒または、それらの混合物が挙げられ、中でも、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホルム等が好ましい。
反応温度は、１０〜１００℃が好ましく、２０〜６０℃がより好ましい。反応時間は、０．５〜３０時間が好ましく、２〜２０時間がより好ましい。
【０２８１】
工程（ｄ−７）
当該工程は、化合物（Ｉ−ｄ）を−ＣＯＮＨ２基または−ＯＣＯＮＨ２基を有する化合物と反応させた後、塩基で処理することにより、化合物（Ｉ−ｅ）を製造する工程である。
化合物（Ｉ−ｄ）と−ＣＯＮＨ２基または−ＯＣＯＮＨ２基を有する化合物との反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、酸触媒下で行われる。
酸触媒としては、例えば、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等が挙げられ、中でもメタンスルホン酸、トルエンスルホン酸が好ましい。
酸触媒の使用量は、化合物（Ｉ−ｄ）１モルに対して、好ましくは０．０５〜０．５モル、特に好ましくは０．１〜０．３モルである。
−ＣＯＮＨ２基または−ＯＣＯＮＨ２基を有する化合物としては、例えば、Ｆｍｏｃ−ＮＨ２、ＨＣＯＮＨ２、ＣＦ３ＣＯＮＨ２、ＡｃＮＨ２、ＥｔＯＣＯＮＨ２、Ｃｂｚ−ＮＨ２等が挙げられ、中でもＦｍｏｃ−ＮＨ２、ＥｔＯＣＯＮＨ２等が好ましい。
ここで、「Ｆｍｏｃ−」とは、９−フルオレニルメトキシカルボニル基（以下、Ｆｍｏｃ基ともいう。）を意味し、「Ｃｂｚ−」は、ベンジルオキシカルボニル基（以下、Ｃｂｚ基ともいう。）を意味する。
【０２８２】
なお、工程（ａ）の原料化合物として使用するＲ５化試薬［すなわち、Ｒ５基に対応する水酸化物、ハロゲン化物、アルキルスルホニルオキシ化物（例えば、メタンスルホニルオキシ化物等）またはアリールスルホニルオキシ化物（例えば、ｐ−トルエンスルホニルオキシ化物等）］は、市販品を用いることができる。また、Ｒ５化試薬は、例えば、
（１）Ｒ５基に対応する水酸化物のハロゲン化、アルキルスルホニルオキシ化またはアリールスルホニルオキシ化により、或いは
（２）Ｒ５基に対応する不飽和水酸化物の還元反応（例えば、白金−炭素（Ｐｔ／Ｃ）、パラジウム−炭素（Ｐｄ／Ｃ）、ロジウム−炭素（Ｒｈ／Ｃ）、ラネーニッケル等の金属触媒の存在下での接触水素添加反応等）、およびそれに続くハロゲン化、アルキルスルホニルオキシ化またはアリールスルホニルオキシ化により、
製造することができる。
【０２８３】
当該Ｒ５化試薬の製造において、ヒドロキシル基から脱離基への変換に用いる試薬としては、例えば、塩化チオニル、Ｎ−クロロスクシンイミド（ＮＣＳ）等のクロロ化剤、臭化水素酸、臭化アセチル、Ｎ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）、三臭化リン、ジフェニルホスフィン／臭素等のブロモ化剤等のハロゲン化剤の他、塩化メタンスルホニル、塩化トリフルオロメタンスルホニル等のアルキルスルホニル化剤、塩化ベンゼンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル等のアリールスルホニル化剤等が挙げられ、中でも、ハロゲン化剤である塩化チオニル、臭化水素酸等が好ましい。
【０２８４】
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われ、溶媒としては、例えば、水；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類が挙げられ、中でも水、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類が好ましい。
反応温度は、１０〜１２０℃が好ましく、５０〜１００℃がより好ましい。反応時間は、１〜７２時間が好ましく、３〜２４時間がより好ましい。
【０２８５】
前記Ｑが単結合であるＺ−Ｙ−Ｈで表される化合物は、例えば、以下の方法によっても製造することができる。すなわち、ベンゼン環上へのＲ５基の導入は、
（１）Ｒ５基に対応するハロゲン化物（塩化物、臭化物、またはヨウ化物）、Ｒ５基に対応するカルボン酸若しくは酸ハロゲン化物を用いるフリーデルクラフツ反応、
（２）上記化合物（ＩＩ）に対応する化合物（但し、Ｑ’Ｈ基が−ＣＨＯ基に置き換わった化合物）をＷｉｔｔｉｇ反応により増炭させた後に、接触水素添加等する方法、または
（３）金属触媒を使用したクロスカップリング等の慣用の有機合成反応
によって行うことができる。
【０２８６】
なお、上記各スキーム中、Ｒ５基で示される有機基の炭素数やハロゲン原子の種類、反応試薬等は便宜上示されたものであって、上記した定義の範囲内で適宜変更することができる。
【０２８７】
４−７．「３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護された塩基部保護オリゴヌクレオチド」の説明
工程（２）で使用される「３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されたｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｐは、１以上の任意の整数を示す。）」としては、当該構造要件を満たす限り特に限定されない。
【０２８８】
「３’位水酸基がホスホロアミダイト化され」とは、オリゴヌクレオチド３’位水酸基が、例えば、−Ｐ（ＯＰ２）（ＮＲｅＲｆ）（式中、各記号は、前記と同義である）で表されるホスホロアミダイト基で修飾されていることを意味する。
Ｐ２、Ｒｅ及びＲｆの定義、例示、好ましい態様は、上記式（Ｉ）で説明した通りである。
「酸性条件下で除去可能な一時保護基」の定義、例示、好ましい態様は、上記式（Ｉ）で説明した通りである。
「Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基」の定義、例示、好ましい態様は、上記式（Ｉ）で説明した通りである。
工程（２）で使用されるｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチドとしては、上記式（Ｉ）で表される塩基部保護オリゴヌクレオチドが好ましい。
【０２８９】
４−８．工程（１）〜（５）の説明
以下、工程（１）〜（５）を、便宜上、式（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）等を参照して説明するが、これに限定されるものではない。
【０２９０】
工程（１）（脱保護工程）
本工程は、縮合工程（２）の前に、非極性溶媒中において、３’位水酸基が保護され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｉ）の５’末端水酸基の一時保護基Ｐ１（Ｐ１は酸性条件下で除去可能な一時保護基である。）を、酸との反応により除去する工程（脱保護工程）である。
【０２９１】
【化５０】
2013122236.tif 000051
【０２９２】
（式中、各記号は、前記と同義である。）
【０２９３】
本工程は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。当該溶媒における溶解度が高い程、優れた反応性が期待できるため、本発明のｎ個重合オリゴヌクレオチドの溶解度の高い非極性溶媒を選択することが好ましい。具体的には、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン等の脂肪族系溶媒；ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等の非極性エーテル系溶媒が挙げられる。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。また、上記非極性溶媒に、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピペリドン等のアミド系溶媒等の極性溶媒を、ｎ個重合オリゴヌクレオチドが溶解し得る限り、適宜の割合で混合して用いてもよい。中でも、芳香族系溶媒、脂肪族系溶媒、またはこれらの組合せが好ましく、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、ノナン、シクロヘキサンまたは、これらの組合せ等が好ましく、トルエン、ヘプタン、ノナンまたは、これらの組合せがより好ましく、トルエン、ヘプタンまたは、これらの組合せが特に好ましい。
【０２９４】
本工程におけるｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｉ）の溶媒中の濃度は、溶解していれば特に限定されないが、好ましくは１〜３０質量％である。
【０２９５】
本脱保護工程、それに続く縮合工程、および酸化工程を液中で連続して行うためには、本工程において、ｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｉ）の５’位水酸基の一時保護基Ｐ１の除去反応中、または除去反応後に、カチオン捕捉剤を使用することが好ましい。
【０２９６】
カチオン捕捉剤としては、除去された保護基Ｐ１による再保護（原料戻り）や脱保護された官能基への副反応が進行しなければ、特に限定されないが、ピロール、２−メチルピロール、３−メチルピロール、２，３−ジメチルピロール、２，４−ジメチルピロール等のピロール誘導体；インドール、４−メチルインドール、５−メチルインドール、６−メチルインドール、７−メチルインドール、５，６−ジメチルインドール、６，７−ジメチルインドール等のインドール誘導体を使用することができる。良好なカチオン捕捉効果が得られるという観点で、ピロール、３−メチルピロール、２，４−ジメチルピロール、インドール、４−メチルインドール、５−メチルインドール、６−メチルインドール、７−メチルインドール、５，６−ジメチルインドール、６，７−ジメチルインドールが好ましく、ピロール、３−メチルピロール、インドールがより好ましく、ピロール、インドールが更に好ましく、ピロールが特に好ましい。
【０２９７】
本工程におけるカチオン捕捉剤の使用量は、ｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｉ）１モルに対し、１〜５０モル使用することができ、好ましくは５〜２０モルである。
【０２９８】
本工程に使用する酸としては、良好な脱保護が達成できさえすれば特に限定されないが、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、塩酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸等を使用することが好ましい。
良好な反応を達成できるという観点で、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリクロロ酢酸がより好ましく、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸が更に好ましく、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸が更に一層好ましく、トリフルオロ酢酸が特に好ましい。これら酸は、上記非極性溶媒で希釈しても構わない。また、前記酸を使用する際には、特定の塩基を組み合わせて、酸性度を適宜調整して使用しても構わない。
【０２９９】
本工程における酸の使用量は、ｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｉ）１モルに対し、１〜１００モル使用することができ、好ましくは１〜４０モルである。
【０３００】
本工程の反応温度は、反応が進行しさえすれば特に限定されないが、−１０℃〜５０℃が好ましく、０℃〜４０℃がより好ましい。反応時間は、使用するｎ個重合オリゴヌクレオチドの種類、酸の種類、溶媒の種類、反応温度等により異なるが、５分〜５時間である。
【０３０１】
本脱保護工程、それに続く縮合工程、および酸化工程を液中で連続して行うためには、本工程において５’位水酸基の一時保護基を除去した後、有機塩基により中和することが好ましい。
中和に使用する有機塩基としては、前出の酸を中和することができ、得られた塩が縮合剤として機能しうるものであれば特に限定されないが、反応が良好に進行するという観点で、ピリジン、ベンズイミダゾール、１，２，４−トリアゾール、Ｎ−フェニルイミダゾール、２−アミノ−４，６−ジメチルピリミジン、１，１０−フェナントロリン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、２−クロロベンズイミダゾール、２−ブロモベンズイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール、Ｎ−フェニルベンズイミダゾール、５−ニトロベンズイミダゾールが好ましく、ピリジン、ベンズイミダゾール、１，２，４−トリアゾール、Ｎ−フェニルイミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、２−アミノ−４，６−ジメチルピリミジン、１，１０−フェナントロリンがより好ましく、ピリジン、ベンズイミダゾール、１，２，４−トリアゾール、Ｎ−フェニルイミダゾールが更に好ましく、ピリジン、ベンズイミダゾール、１，２，４−トリアゾールが更に一層好ましく、ピリジンが特に好ましい。
【０３０２】
本工程における有機塩基の使用量は、酸１モルに対し、１〜１０モル使用することができ、好ましくは１〜３モルである。
【０３０３】
本工程において、特に好ましい酸と有機塩基との組合せは、トリフルオロ酢酸と、ピリジン及び／又はＮ−メチルイミダゾールである。
【０３０４】
工程（２）（縮合工程）
本工程は、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が保護されたｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｉｉ）と、３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基がＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基で保護されたｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）とを縮合させる工程である。
【０３０５】
【化５１】
2013122236.tif 000052
【０３０６】
［式中、Ｘ’は、Ｘと同義であり、他の記号は前記と同義である。］
【０３０７】
本工程においては、ｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｉｉ）としては特に限定されるものではないが、好ましくは、前記工程（１）で得られたものを使用することできる。その場合、ｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｉｉ）を単離することなく、工程（１）後の反応液に、ｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）を直接添加するだけで行うことができる。本縮合工程は、工程（１）の脱保護反応の際に添加した酸と、中和反応の際に添加した有機塩基が塩形成した有機塩基の酸塩（例えば、ピリジン・トリフルオロ酢酸塩）が縮合剤として作用することから、工程（１）および（２）を液中で連続して行うことは、単離操作の省略のみならず、反応効率を向上させるという利点も有する。
【０３０８】
本縮合反応においては、縮合剤（例えば、ピリジン・トリフルオロ酢酸塩、テトラゾール、５−ベンジルチオ−１Ｈ−テトラゾール、４，５−ジシアノイミダゾール等）を添加することにより反応効率を向上させることもできる。
【０３０９】
また、本工程においては、反応液の酸性度が高くなると、一時保護基Ｐ１が脱離する副反応が生じることがあるので、反応液の酸性化を抑える目的でＮ−メチルイミダゾールを添加することが好ましい。
【０３１０】
酸性度の調整のために添加するＮ−メチルイミダゾールの使用量は、中和の際に使用する有機塩基１モルに対し、０．１〜１モル使用することができ、好ましくは０．５モルである。
【０３１１】
本工程に使用される、ｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）としては、好ましくは、上記一般式（Ｉ）で表される塩基部保護オリゴヌクレオチドを使用することができる。
【０３１２】
本工程は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。具体的には、前記工程（１）と同様の非極性溶媒が挙げられる。また、ｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）のホスホロアミダイド基を効率的に活性化するという観点からは、上記非極性溶媒に、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、２−ブタノン等のケトン系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の極性エーテル系溶媒、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒等の極性溶媒を、５’位水酸基の一時保護基が除去されたｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｉｉ）が溶解し得る限り、適宜の割合で混合して用いることが好ましい。
この場合、極性溶媒としては、アミド系溶媒、ニトリル系溶媒、及びこれらの組合せが好ましく、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピペリドン、及びこれらの組合せがより好ましく、アセトニトリルが特に好ましい。
極性溶媒は、ｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）、縮合剤等の溶液として添加してもよい。
【０３１３】
ｐ個重合塩基部保護オリゴヌクレオチド（ｉｉｉ）の使用量は、ｎ個重合オリゴヌクレオチド（ｉｉ）１モルに対し、１〜１０モル使用することができ、好ましくは１〜５モルである。
【０３１４】
反応温度は、反応が進行しさえすれば特に限定されないが、０℃〜１００℃が好ましく、２０℃〜５０℃がより好ましい。反応時間は、縮合させるｎ個重合オリゴヌクレオチドの種類、反応温度等によって異なるが、３０分〜２４時間である。
【０３１５】
工程（３）（酸化工程、または硫化工程）
工程（２）で得られたｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチド（ｉｖ）に酸化剤または硫化剤を反応させることにより、該ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチド（ｉｖ）のホスファイトトリエステル結合を、ホスフェートトリエステル結合またはチオホスフェートトリエステル結合へと変換する工程である。
【０３１６】
【化５２】
2013122236.tif 000053
【０３１７】
（式中の記号は、前記と同義である。）
【０３１８】
本工程は、工程（２）で得られたｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチド（ｉｖ）を単離することなく、工程（２）後の反応液に、酸化剤または硫化剤を、直接添加するだけで行うことができる。
【０３１９】
本工程に使用する「酸化剤」としては、他の部位を酸化することなく、ホスファイトトリエステル結合を、ホスフェートトリエステル結合に酸化する能力がありさえすれば、特に限定されないが、ヨウ素、（１Ｓ）−（＋）−（１０−カンファニルスルフォニル）オキサジリジン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（ＴＢＨＰ）、２−ブタノンペルオキシド、１，１−ジヒドロペルオキシシクロドデカン、ビス（トリメチルシリル）ペルオキシド、ｍ−クロロ過安息香酸、過酸化水素を使用することが好ましい。良好な酸化反応が達成できるという観点で、ヨウ素、（１Ｓ）−（＋）−（１０−カンファニルスルフォニル）オキサジリジン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、２−ブタノンペルオキシド、１，１−ジヒドロペルオキシシクロドデカンがより好ましく、ヨウ素、（１Ｓ）−（＋）−（１０−カンファニルスルフォニル）オキサジリジン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、２−ブタノンペルオキシドが更に好ましく、ヨウ素、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが更に一層好ましく、ヨウ素が特に好ましい。かかる酸化剤は、０．０５〜２Ｍの濃度になるように適当な溶媒で希釈して使用することができる。かかる希釈溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが、ピリジン、ＴＨＦ、ジクロロメタン、水、ノナン、またはこれら任意の混合溶媒を挙げることができる。中でも、例えば、ヨウ素／水／ピリジン―ＴＨＦ、ヨウ素／ピリジン―酢酸や過酸化剤（ＴＢＨＰ）／ジクロロメタン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド／ノナンまたは過酸化水素／ヨウ化カリウム／リン酸バッファーを用いるのが好ましい。
【０３２０】
本工程に使用する「硫化剤」としては、ホスファイトトリエステル結合を、チオホスフェートトリエステル結合に変換しうる能力がありさえすれば、特に限定されないが、３−（（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチリデン）アミノ）−３Ｈ−１，２，４−ジチアゾール−５−チオン（ＤＤＴＴ）、３Ｈ−１，２−ベンゾジチオール−３−オン−１，１−ジオキシド（Ｂｅａｕｃａｇｅ試薬）、３Ｈ−１，２−ベンゾジチオール−３−オン、フェニルアセチルジスルフィド（ＰＡＤＳ）、テトラエチルチウラムジスルフィド（ＴＥＴＤ）、３−アミノ−１，２，４−ジチアゾール−５−チオン（ＡＤＴＴ）、硫黄を使用することが好ましい。良好な反応が進行しうるという観点で、３−（（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチリデン）アミノ）−３Ｈ−１，２，４−ジチアゾール−５−チオン（ＤＤＴＴ）、３Ｈ−１，２−ベンゾジチオール−３−オン−１，１−ジオキシド（Ｂｅａｕｃａｇｅ試薬）、３Ｈ−１，２−ベンゾジチオール−３−オン、フェニルアセチルジスルフィド（ＰＡＤＳ）がより好ましく、３−（（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチリデン）アミノ）−３Ｈ−１，２，４−ジチアゾール−５−チオン、３Ｈ−１，２−ベンゾジチオール−３−オン−１，１−ジオキシドが更に好ましく、３−（（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチリデン）アミノ）−３Ｈ−１，２，４−ジチアゾール−５−チオンが特に好ましい。かかる硫化剤は、０．０５〜２Ｍの濃度になるように適当な溶媒で希釈して使用することができる。かかる希釈溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、アセトニトリル、ピリジン又はこれら任意の混合溶媒が挙げられる。
【０３２１】
酸化剤または硫化剤の使用量は、工程（２）で得られたｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチド（ｉｖ）１モルに対し、１〜５０モル使用することができ、好ましくは１〜５モルである。
【０３２２】
反応温度は、反応が進行しさえすれば特に限定されないが、０℃〜１００℃が好ましく、２０℃〜５０℃がより好ましい。反応時間は、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチド（ｉｖ）の種類、使用する酸化剤または硫化剤の種類、反応温度等によって異なるが、１分〜３時間である。
【０３２３】
工程（４）（抽出単離工程）
本工程は、工程（３）で得られたホスフェートトリエステル結合またはチオホスフェートトリエステル結合を有するｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチド（ｖ）を含む反応液から抽出操作のみで、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチド（ｖ）を単離精製する方法である。
【０３２４】
抽出操作については、特に限定されないが、好ましくは、工程（３）で得られた反応液に必要に応じて極性溶媒及び／又は非極性溶媒を添加して、極性溶媒−非極性溶媒間で分層させ、非極性溶媒にｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドを移行させることにより行われる。工程（２）で非極性溶媒に極性溶媒を混合して反応を行った場合は、反応混合物に非極性溶媒を加えて分層させることが好ましい。
当該抽出操作により、残存した原料、試薬（例えば、酸、カチオン捕捉剤、有機塩基、３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｐ個重合オリゴヌクレオチド、酸化剤または硫化剤）等の不純物を極性溶媒中に淘汰することができる。
【０３２５】
本工程におけるｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチドを非極性溶媒中に移行させるために必要に応じて添加される非極性溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン等の脂肪族系溶媒；ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等の非極性エーテル系溶媒が挙げられる。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。中でも、芳香族系溶媒、脂肪族系溶媒、またはこれらの組合せが好ましく、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、ノナン、シクロヘキサンまたは、これらの組合せ等が好ましく、トルエン、ヘプタン、ノナンまたは、これらの組合せがより好ましく、トルエン、ヘプタンまたは、これらの組合せがさらに好ましく、ヘプタンが特に好ましい。
本工程における不純物を極性溶媒中に移行させるために必要に応じて添加される極性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、アセトン、２−ブタノン等のケトン系溶媒、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の極性エーテル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピペリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、水等、ならびにこれら２種以上の混合溶媒が挙げられる。中でも、アミド系溶媒、ニトリル系溶媒、及びこれらの組合せが好ましく、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピペリドン、及びこれらの組合せがより好適に使用される。本発明における極性溶媒としては、特に実用的観点からアセトニトリルが好ましい。
【０３２６】
極性溶媒−非極性溶媒間で分層後に、極性溶媒を除去すること・BR>ノより、不純物を淘汰することができる。
さらに、極性溶媒を除去した非極性溶媒に極性溶媒を添加、攪拌し、分層させて極性溶媒を除去することにより（本発明において、洗浄という。）、少量残存した不純物をさらに淘汰することができる。
極性溶媒による洗浄の回数は特に限定はないが、非極性溶媒を薄層シリカゲルクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィーなどで分析し、非極性溶媒層に次サイクルのヌクレオチド伸長反応が阻害されない程度に不純物が低減するまで繰り返し行ってもよい。
【０３２７】
分層及び洗浄に用いられる極性溶媒は、非極性溶媒との分層性を向上させるために水を含んでいてもよい。
この場合、極性溶媒中の水の含量は、１〜１０％（ｖ／ｖ）が好ましく、３〜８％（ｖ／ｖ）がより好ましい。水含量が低すぎる場合は、分層性が不十分になる場合があり、水含量が高すぎる場合は、除去される副生成物、残存した原料、試薬などの極性溶媒に対する溶解度が下がり、淘汰効率が低下する傾向がある。
【０３２８】
極性溶媒での洗浄後の非極性溶媒層を濃縮することにより、ｎ＋ｐ個重合オリゴヌクレオチド（ｖ）を単離することができる。その際、濃縮した反応容器に次サイクルの溶媒、試薬を添加することにより、ワンポットでヌクレオチド伸長を繰り返し行うことができる。
あるいは、洗浄後の非極性溶媒層を濃縮することなく、次サイクルのヌクレオチド伸長に付することも可能である。
【０３２９】
本発明のオリゴヌクレオチドの製造方法は、上記工程（１）〜（４）を所望の回数繰返すことで高純度かつ高収率で目的の高重合度オリゴヌクレオチドを得ることができる。
【０３３０】
工程（５）（脱保護・オリゴヌクレオチド単離工程）
本発明のオリゴヌクレオチドの製造方法においては、工程（４）の後に、保護基の種類・性質に応じて、脱保護を行い、オリゴヌクレオチドを単離することができる。脱保護の方法としては、例えば、グリーンズ・プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ  ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ  ＧＲＯＵＰＳ  ＩＮ  ＯＲＧＡＮＩＣ  ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ）、第４版、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＬＹ＆ＳＯＮＳ）出版（２００６年）等に記載されている脱保護方法に従い、オリゴヌクレオチドの全ての保護基を除去する工程を行うことができる。具体的には、本願発明におけるヌクレオチド３’−水酸基の保護基、ならびに核酸塩基の保護基であるフェノキシアセチル基、アセチル基、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を有する基等、リン酸基に結合しているシアノエチル基等は、アンモニア水／エタノール溶液、アンモニア水／メチルアミン水溶液、エチレンジアミン等で処理することにより、全て除去することができる。また、ヌクレオチド５’−水酸基の保護基は、工程（１）で使用される酸またはそれらを適宜希釈した溶液で処理することにより除去することができる。
保護基を有しない、オリゴヌクレオチドは酵素により容易に分解されやすいため、空気清浄度管理下でオリゴヌクレオチドを単離することが好ましい。
【０３３１】
上記各工程における反応の進行の確認は、いずれも一般的な液相有機合成反応と同様の方法を適用できる。すなわち、薄層シリカゲルクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等を用いて反応を追跡することができる。
【０３３２】
工程（４）、あるいは工程（５）より得られたオリゴヌクレオチドは、更に有機合成反応を施すことにより、所望のオリゴヌクレオチド誘導体へと導くこともできる。
【０３３３】
５．工程（１’）〜（５’）の説明
本発明のオリゴヌクレオチドの製造方法の別の態様として、以下の工程（２’）を含有する方法が挙げられる。
（２’）３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基が保護されていてもよいｐ’個重合オリゴヌクレオチド（ｐ’は、１以上の任意の整数を示す。）を、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が上記一般式（ＩＩＩ）で表される保護基で保護されたｎ’個重合オリゴヌクレオチド（ｎ’は、１以上の任意の整数を示す。）と、その５’位水酸基を介してホスファイトトリエステル結合により縮合させて、ｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドを得る工程。
【０３３４】
当該方法は、好ましくは、更に、下記工程（３’）を含有し、工程（２’）で得られたｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドのホスファイトトリエステル結合が、ホスフェートトリエステル結合またはチオホスフェートトリエステル結合へと変換される。
（３’）縮合工程（２’）の反応液に、酸化剤または硫化剤を添加して、縮合工程で得られたｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドのホスファイトトリエステル結合を、ホスフェートトリエステル結合またはチオホスフェートトリエステル結合へと変換する工程。
【０３３５】
当該方法は、好ましくは、更に、下記工程（１’）を含有し、工程（２’）で使用される５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が上記一般式（ＩＩＩ）で表される保護基で保護されたｎ’個重合オリゴヌクレオチドが調製される。
（１’）縮合工程（２’）の前に、非極性溶媒中において、３’位水酸基が上記一般式（ＩＩＩ）で表される保護基で保護され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ’個重合オリゴヌクレオチドを酸と反応させて５’位水酸基の一時保護基を除去する工程。
工程（１’）は、好ましくは、ピロール誘導体およびインドール誘導体から選択される少なくとも一種のカチオン捕捉剤の存在下に行われ、５’位水酸基の一時保護基を除去した後、有機塩基により中和する工程をさらに含む。これに工程（１’）、（２’）及び（３’）を液中で連続的に行うことが可能になり、ヌクレオシドがｐ’個伸長したオリゴヌクレオチドを抽出操作のみで単離精製できる。
【０３３６】
更に、下記工程（４’）を含有させることにより、煩雑な固化単離を要せずして、簡便かつ効果的に過剰原料や副生物を除去して、ｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドを精製し、同一反応容器から生成物を取り出すことなく、次工程に繋げることができる。
（４’）工程（３’）で得られた反応液から抽出操作のみで、ｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドを単離する工程。
【０３３７】
原料の当量管理と反応制御することによって副生物の発生量を制御できる状況であれば、工程（１’）〜工程（３’）を基本単位として繰り返し、工程（４’）を含有させることが好ましい。
また、副生物発生を厳格に管理・制御でき、高純度のオリゴヌクレオチドに導けるという観点で、工程（１’）〜工程（４’）を基本単位として繰り返すことが好ましい。
液相法においてこのようなサイクルを繰り返すことにより、反応容器を変えることなく、ワンポットで最終のオリゴヌクレオチドまで製造することができる。
【０３３８】
本発明の製造方法には、更に、工程（５’）を含有させることにより、オリゴヌクレオチドを単離・製造することができる。
（５’）工程（４’）で得られたｎ’＋ｐ’個重合オリゴヌクレオチドの保護基を全て除去する工程。  ｎ’は１以上の任意の整数を示し、その上限は、特に限定されるものではないが、通常１００以下、好ましくは７５以下、さらに好ましくは５０以下、さらに好ましくは３０以下である。
ｐ’は、１以上の任意の整数を示し、１が好ましい。ｐの上限は、特に限定されるものではないが、５０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２０以下が更に好ましく、５以下が更に一層好ましく、３以下が特に好ましい。
【０３３９】
工程（１’）で使用されるｎ’個重合オリゴヌクレオチドは、例えば、Ｐ１が酸性条件下で除去可能な一時保護基である下記一般式（ｉ’）に示されるような、３’位水酸基が上記一般式（ＩＩＩ）で表される保護基で保護され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護されたｎ’個重合オリゴヌクレオチドを示し、工程（２’）で使用されるｎ’個重合オリゴヌクレオチドは、例えば、下記一般式（ｉｉ’）に示されるような、５’位水酸基が保護されておらず、かつ３’位水酸基が上記一般式（ＩＩＩ）で表される保護基で保護されたｎ’個重合オリゴヌクレオチドを示す。
【０３４０】
【化５３】
2013122236.tif 000054
【０３４１】
（式中、ｍ’は、０以上の任意の整数を示し、他の各記号は、前記と同義を示す。）  ｍ’の上限は、特に限定されるものではないが、通常９９以下、好ましくは７４以下、さらに好ましくは４９以下、さらに好ましくは２９以下である。
その他の各記号の定義、例示、好ましい態様は、式（ｉ）及び（ｉｉ）における説明と同様である。
【０３４２】
工程（２’）で使用される「３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、かつ核酸塩基が保護されていてもよいｐ’個重合オリゴヌクレオチド」は、当該構造要件を満たす限り特に限定されない。
「３’位水酸基がホスホロアミダイト化され」とは、オリゴヌクレオチド３’位水酸基が、例えば、−Ｐ（ＯＰ２）（ＮＲｅＲｆ）（式中、各記号は、前記と同義である）で表されるホスホロアミダイト基で修飾されていることを意味する。
Ｐ２、Ｒｅ及びＲｆの定義、例示、好ましい態様は、上記式（Ｉ）で説明した通りである。
「酸性条件下で除去可能な一時保護基」の定義、例示、好ましい態様は、上記式（Ｉ）で説明した通りである。
「核酸塩基が保護されていてもよい」における保護基としては、上記一般式（ｉ）及び（ｉｉ）中のＢａｓｅの「保護されていてもよい核酸塩基」で例示した保護基と同義である。
当該保護基としては、Ｃ５−３０直鎖又は分岐鎖アルキル基及び／又はＣ５−３０直鎖又は分岐鎖アルケニル基を含まない基が好ましく、例えば、ピバロイル基、ピバロイロキシメチル基、トリフルオロアセチル基、フェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基、４−tert−ブチルフェノキシアセチル基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、ジメチルホルムアミジニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基等が好ましく、これらの中でも、フェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、及びジメチルホルムアミジニル基がより好ましい。
【０３４３】
３’位水酸基がホスホロアミダイト化され、かつ５’位水酸基が酸性条件下で除去可能な一時保護基で保護され、保護されていてもよい核酸塩基を有するｐ’個重合オリゴヌクレオチドとしては、例えば、下記一般式（ｉｉｉ’）で表される。
【０３４４】
【化５４】
2013122236.tif 000055
【０３４５】
（式中、Ｂａｓｅは置換されていてもよい核酸塩基を示し、ｑ’は０以上の任意の整数を示し、他の記号は、前記と同義である。）
Ｂａｓｅで示される「置換されていてもよい核酸塩基」は、一般式（ｉ）及び（ｉｉ）中のＢａｓｅの「保護されていてもよい核酸塩基」と同義である。
ｑ’は、０以上の任意の整数を示し、０が好ましい。ｑ’の上限は、特に限定されるものではないが、４９以下が好ましく、２９以下がより好ましく、１９以下が更に好ましく、４以下が更に一層好ましく、２以下が更に一層好ましく、１が特に好ましい。
【０３４６】
工程（１’）〜（５’）は、式（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）をそれぞれ式（ｉ’）、（ｉｉ’）及び（ｉｉｉ’）に読み替えて、上記工程（１）〜（５）と同様の条件で行うことができる。
６．オリゴヌクレオチドの用途
本発明によって製造されたオリゴヌクレオチドは、各種人体用または動物用の医薬品（ＲＮＡ、ＤＮＡ、オリゴ核酸医薬、等）、機能性食品、特定保健食品、食品、化成品、生体用や工業用の高分子材料、等の各種用途に使用することができる。
【実施例】
【０３４７】
以下、調製例、実施例に沿って本発明を更に詳細に説明するが、これら調製例、実施例は本発明の範囲を何ら限定するものではない。また、本発明において使用する試薬や装置、材料は特に言及されない限り、商業的に入手可能である。また、本明細書において、略号で表示する場合、各表示は、ＩＵＰＡＣ−ＩＵＢ Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ ｏｎ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｎｏｍｅｎｃｌａｔｕｒｅによる略号あるいは当該分野における慣用略号に基づくものである。【０３４８】
以下の調製例および実施例中の収率は、ｍｏｌ／ｍｏｌ％を示す。特段の定義がない限り、本明細書中における「％」は、「質量％」を表す。また、以下の調製例および実施例中の溶媒の比率は、体積比を示す。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは内部標準としてテトラメチルシランを用い、測定溶媒としてＣＤＣｌ３を使用した。ＮＭＲスペクトルは、Ｂｒｕｋｅｒ  ＡＶＡＮＣＥ  ＡＶ３００（３００ＭＨｚ）核磁気共鳴装置またはＢｒｕｋｅｒ  ＡＶＡＮＣＥ  ４００（４００ＭＨｚ）核磁気共鳴装置を用いて測定した。
エレクトロスプレーイオン化液体クロマトグラフィー／質量分析（以下、ＬＣ／ＭＳと略す。）は、６１３０  Ｑｕａｄｒｕｐｏｌｅ  ＬＣ／ＭＳ  （Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ）を用い、フローインジェクション分析（ＦＩＡ）した（溶媒：０．１ｍｏｌ／ｌＴＥＡＡバッファーｐＨ７．０、アセトニトリル、イオン化モード：ＥＳＩ、イオンモード：ネガティブ、質量分析部：四重極、フラグメンター電圧：２００Ｖ）。
四重極型質量分析は、ＺＱ２０００（日本ウォーターズ株式会社製）を用い、フローインジェクション分析（ＦＩＡ）した（溶媒：アセトニトリル、イオン化モード：ＥＳＩ、イオンモード：ポジティブ・ネガティブ、質量分析部：四重極、フラグメンター電圧：７１Ｖ）。【０３４９】
下記調製例、実施例中で使用される略号は以下の通りである。ヌクレオシドの核酸塩基が保護されている場合、保護基は各ヌクレオシドの後に上付きで表示するものとする。
ｄＴ：２’−デオキシチミジン
ｄＣ：２’−デオキシシチジン
ｄＧ：２’−デオキシグアノシン
ｄＡ：２’−デオキシアデノシン
Ｕ（Ｍ）：２’−メトキシウリジン
Ｕ（Ｆ）：２’−フルオロウリジン
（ＬＮＡ）Ｔ：２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジン
ＤＭＴｒ：４，４’−ジメトキシトリチル
ＰＡ：（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト
ｓｕｃ：スクシニル
ＴＰＢ：３，４，５−トリス（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカニルオキシ）ベンジル  
（３，４，５−トリス（２，３−フィチルオキシ）ベンジルと同義である。）
Ｐｈｙ：２，３−ジヒドロフィチル（ここで、「２，３−ジヒドロフィチル」は、「３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカニル」を意味する。）
ＰｈｙＯＭ：（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイルオキシ）メチル  
（２，３−フィチルオキシメチルと同義である。）
４−Ｃｉｔ−Ｂｚ：４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイル  
（４−（ジヒドロシトロネリルオキシ）−ベンジルと同義である。）
２Ｅｔ−Ｈｅｘ：２−エチル−１−ヘキサノイル
３，５，５−Ｍｅ３Ｈｅｘ：３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノイル
Ｍｅ６Ｄｏｄｅｃａｎｏｙｌ：２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイル
２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ：２−ヘプチル−１−ウンデカノイル
２−ＨｅｘＤｅｃａｎｏｙｌ：２−ヘキシル−１−デカノイル
Ｍｙｒ：テトラデカノイル
（ミリストイルと同義である。）
Ｍｅ６Ｄｏｄｅｃａｎｏｙｌ：２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイル
Ｎ，Ｎ−Ｃｉｔ２−ｍｅｔｈｙｌｅｎｅ：ビス（３，７−ジメチル−オクチル）アミノ−メチレン
（Ｎ．Ｎ−ビス−ジヒドロシトロネリル−メチレンと同義である。）
Ｂｚ：ベンゾイル
ｉｂｕ：イソブチリル【０３５０】
調製例１：２，３−ジヒドロフィトールの合成
フィトール（１０．００ｇ，３３．７ｍｍｏｌ）をメタノールに溶解させ、Ｐｔ／Ｃ（２％，１．００ｇ）を懸濁させて水素雰囲気下で一晩攪拌した。反応終了後、濾過してＰｔ／Ｃを除去し、濾液を濃縮して２，３−ジヒドロフィトールを得た。これは精製することなく次の反応に用いた。【０３５１】
調製例２：２，３−ジヒドロフィチルブロミドの合成
２，３−ジヒドロフィトール（３３．７ｍｍｏｌ）を４８％臭化水素酸（１００ｍｌ）に懸濁し、濃硫酸（０．１７ｍｌ）を滴下して１００℃で一晩攪拌した。反応混合液を室温に冷却後ヘキサン（２００ｍｌ）で抽出し、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（７０ｍｌ）で２回、２０％食塩水（７０ｍｌ）で１回洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ショートカラム、ヘキサンのみ）で精製し、２，３−ジヒドロフィチルブロミド（「２，３−ジヒドロフィチル基」を、以下「Ｐｈｙ」と称することもある。）（１０．４１ｇ，２８．８ｍｍｏｌ，８５％  ｖｓ．フィトール）を得た。【０３５２】
調製例３：３，７，１１−トリメチルドデカン−１−オールの合成
ファルネソール（３．００ｇ，１３．５ｍｍｏｌ）を用い、調製例１と同様の方法に従い、３，７，１１−トリメチルドデカン−１−オールを得た。これは精製することなく次の反応に用いた。【０３５３】
調製例４：１−ブロモ−３，７，１１−トリメチルドデカンの合成
調製例３で得られた３，７，１１−トリメチルドデカン−１−オールを用い、調製例２と同様の方法に従い、１−ブロモ−３，７，１１−トリメチルドデカン（２．９８ｇ，１０．２ｍｍｏｌ，７６％  ｖｓ．ファルネソール）を得た。【０３５４】
調製例５：１−［（２−クロロ−５−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）］−１−フェニルメタンアミンの合成
２，３−ジヒドロフィチルブロミド（１．０２ｇ，２．８２ｍｍｏｌ）にＤＭＦ（１５ｍｌ）、２−クロロ−５−ヒドロキシベンゾフェノン（０．９９ｇ，４．２３ｍｍｏｌ）、Ｋ２ＣＯ３（０．７８ｇ，５．６４ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で３時間攪拌した。反応液を室温に戻し、酢酸エチル（２５ｍｌ），１ｍｏｌ／ｌ塩酸（２５ｍｌ）を加えて攪拌し、分層させ水層を分離・廃棄した。有機層を精製水（２５ｍｌ）で２回洗浄し、有機層を減圧留去させ、２−クロロ−５−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンゾフェノンを得た。
前記２−クロロ−５−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンゾフェノンにクロロホルム（２０ｍｌ）、メタノール（２ｍｌ）、水素化ホウ素ナトリウム（４４０ｍｇ，１１．６ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で一晩攪拌した。反応液を室温に戻し、さらに氷浴下で１ｍｏｌ／ｌ塩酸（１５ｍｌ）を滴下して未反応の水素化ホウ素ナトリウムを分解させた後、水層を捨て、有機層を精製水（１０ｍｌ）で２回洗浄した。有機層を減圧留去し、さらにアセトニトリルで水分を共沸させ、２−クロロ−５−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドロールを得た。
２−クロロ−５−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドロールにクロロホルム（２０ｍｌ）、ＤＭＦ（４３μｌ，５５９μｍｏｌ）、塩化チオニル（１．０３ｍｌ，１４．１ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間攪拌した。反応液を室温に戻して溶媒を減圧留去し、残った塩化チオニルをトルエンで共沸させ、１−クロロ−１−［（２−クロロ−５−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）フェニルメタンを得た。
前記１−クロロ−１−［（２−クロロ−５−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）フェニルメタンにＤＭＦ（１５ｍｌ）、アジ化ナトリウム（７８６ｍｇ，１２．１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で一晩攪拌した。反応液を室温に戻して酢酸エチル（２０ｍｌ）、ヘキサン（２０ｍｌ）を加え、精製水（３０ｍｌ）で１回、精製水（１５ｍｌ）で２回分液洗浄した後、有機層を減圧留去し、１−アジド−１−［（２−クロロ−５−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）フェニルメタンを得た。
前記１−アジド−１−［（２−クロロ−５−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）フェニルメタンにＴＨＦ（２０ｍｌ）、精製水（２ｍｌ）、トリフェニルホスフィン（８１３ｍｇ，３．１０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間攪拌した。反応液を室温に戻してＴＨＦを留去し、ヘプタン（３０ｍｌ）−５０％アセトニトリル水溶液（１５ｍｌ）で３回分液させ、ヘプタン層を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１００：０→５：１）で精製し、１−［（２−クロロ−５−（２’，３’−ジヒドロフィチルオキシ）フェニル）］−１−フェニルメタンアミンの油状物（１．３５ｇ，２．６３ｍｍｏｌ，収率９３％  ｖｓ．２，３−ジヒドロフィチルブロミド）を得た。【０３５５】
調製例６：４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアルコールの合成
２，３−ジヒドロフィチルブロミド（１４．３ｇ，３９．６ｍｍｏｌ）にＤＭＦ（１２０ｍｌ）、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン（４．０４ｇ，１８．９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（７．８２ｇ，５６．６ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で５時間攪拌した。反応液を室温に戻し、酢酸エチル（３００ｍｌ），１ｍｏｌ／ｌ塩酸（１００ｍｌ）を加えて攪拌し、分層させ、水層を分離・廃棄した。有機層を精製水（１００ｍｌ）で２回洗浄し、有機層を減圧留去させ、４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンゾフェノン油状物を得た。これをクロロホルム（６０ｍｌ）とメタノール（１０ｍｌ）に溶解させて水素化ホウ素ナトリウム（４．４９ｇ，１１９ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で３時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／ｌ塩酸（８０ｍｌ）を添加し、濃縮し、酢酸エチル（１００ｍｌ）を加え、１ｍｏｌ／ｌ塩酸と水にて順次洗浄した。有機層を濃縮し、４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアルコール油状物を得た。【０３５６】
調製例７：３，４，５−トリ（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアルコールの合成
２，３−ジヒドロフィチルブロミド（４０．６ｇ，１１２ｍｍｏｌ）、没食子酸メチル（５．９０ｇ，３２．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２２．１４ｇ，１６０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（４００ｍｌ）に懸濁させ、１１０℃で一晩攪拌した。反応混合液をヘキサン（８００ｍｌ）で抽出し、１ｍｏｌ／ｌ塩酸（４００ｍｌ）、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（４００ｍｌ）、２０％食塩水（４００ｍｌ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後濾液の溶媒を留去して、３，４，５−トリ（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）安息香酸メチル（２９．３ｇ，収率９３％）を得た。
前記３，４，５−トリ（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）安息香酸メチル（２９．３ｇ，３０．０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（４００ｍｌ）に溶解させ、窒素雰囲気下、０℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）（１．０ｍｏｌ／ｌ  トルエン溶液，９６ｍｌ，９６ｍｍｏｌ）を３０分間かけて滴下した。室温で一晩攪拌した後、０℃で０．２ｍｏｌ／ｌ塩酸（５０ｍｌ）を滴下して反応を停止した。溶媒を半分程度留去したものを、酢酸エチル（６００ｍｌ）に溶解させ、１ｍｏｌ／ｌ塩酸（３００ｍｌ）で３回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍｌ）で１回、２０％食塩水（３００ｍｌ）で１回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾液の溶媒を留去して、３，４，５−トリ（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアルコール（２６．８ｇ，収率９４％）を得た。【０３５７】
調製例８：３，４，５−トリ（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミンの合成
３，４，５−トリ（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルクロリド（６．４６ｇ，６．６３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ−クロロホルム（６０＋２０ｍｌ）に溶解させ、アジ化ナトリウム（８６１ｍｇ，１３．２ｍｍｏｌ）を加えて７０℃で２時間攪拌した。反応混合液を室温に冷却後、酢酸エチル（１６０ｍｌ）を加えて、水（８０ｍｌ）で２回、２０％食塩水（５０ｍｌ）で３回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して、３，４，５−トリ（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアジド油状物を得て、そのまま次工程に移行させた。
前記３，４，５−トリ（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアジド油状物をＴＨＦ（８０ｍｌ）に溶解させ、水（１．１９ｍｌ，６６．１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１．９１ｇ，７．２８ｍｍｏｌ）を加えて７０℃で１時間攪拌した。室温まで冷却後、溶媒を留去し、残渣をヘプタン（１６０ｍｌ）に溶解させ、５０％アセトニトリル水溶液（５０ｍｌ）で３回、２０％食塩水（５０ｍｌ）で２回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１→クロロホルム：メタノール：アンモニア水＝１００：１０：１）で精製して３，４，５−トリ（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミン（５．３１ｇ，５．３２ｍｍｏｌ，収率８０％  ｖｓ．クロル体）を得た。【０３５８】
調製例９：３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアルコールの合成
２，３−ジヒドロフィチルブロミド（８９５ｍｇ，２．４８ｍｍｏｌ）、３，５−ジヒドロキシ安息香酸メチル（２０４ｍｇ，１．２１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（５１３ｍｇ，３．７１ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１０ｍｌ）に懸濁させ、１００℃で７時間攪拌した。反応混合液を酢酸エチル（３０ｍｌ）で抽出し、１ｍｏｌ／ｌ塩酸（１０ｍｌ）で３回、２０％食塩水（１０ｍｌ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾液の溶媒を留去して、３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）安息香酸メチル（０．７８ｇ，収率９２％）を得た。
前記３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）安息香酸メチル（０．７０ｇ，１．００ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に溶解させ、窒素雰囲気下０℃で水素化アルミニウムリチウム（２．０ｍｏｌ／ｌ  ＴＨＦ溶液，１．２ｍｌ，２．４ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で５時間攪拌した後、０℃で水を滴下して反応を停止した。溶液を酢酸エチル（３０ｍｌ）に溶解させ、１ｍｏｌ／ｌ塩酸（１０ｍｌ）で３回、２０％食塩水（２０ｍｌ）で１回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサンのみ→ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して、３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアルコール（０．６１ｇ，収率９０％）を得た。【０３５９】
調製例１０：４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアルコールの合成
２，３−ジヒドロフィチルブロミド（６００ｍｇ，１．６６ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシベンズアルデヒド（２２３ｍｇ，１．８３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３４４ｍｇ，２．４９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（６ｍｌ）中に懸濁し、６０℃で３日間攪拌した。反応混合液を室温に冷却後、酢酸エチル（３０ｍｌ）で抽出し、１ｍｏｌ／ｌ塩酸（６ｍｌ）で３回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（６ｍｌ）で３回、２０％食塩水（６ｍｌ）で１回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１５：１→５：１）で精製して、４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズアルデヒド（６４０ｍｇ，収率１００％  ｖｓ．２，３−ジヒドロフィチルブロミド）を得た。
前記４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズアルデヒド（６４０ｍｇ，１．６６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ−メタノール混合溶液（７＋０．３ｍｌ）に溶解させ、０℃で水素化ホウ素ナトリウム（１１０ｍｇ，９０％，２．６２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応混合液を０℃に冷却後、１ｍｏｌ／ｌ塩酸で反応を停止し、酢酸エチル（３０ｍｌ）を加えて１ｍｏｌ／ｌ塩酸（５ｍｌ）で３回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ）で３回、２０％食塩水（５ｍｌ）で１回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して、４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアルコール（６１９ｍｇ，１．５３ｍｍｏｌ，収率９２％  ｖｓ．２，３−ジヒドロフィチルブロミド）を得た。【０３６０】
調製例１１：４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミンの合成
４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアルコール（６１９ｍｇ，１．５３ｍｍｏｌ）をクロロホルム（６ｍｌ）に溶解させ、塩化チオニル（１６７μｌ，２．２９ｍｍｏｌ）を加えて５時間攪拌した。反応終了後、溶媒を留去して、４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−ベンジルクロリドの油状物を得て、そのまま次工程に移行させた。
前記４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルクロリド（１．５３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ−ＣＨＣｌ３混合溶媒（６＋３ｍｌ）に溶解させ、アジ化ナトリウム（２９８ｍｇ，４．５８ｍｍｏｌ）を加えて７０℃で一晩攪拌した。反応混合液を室温に冷却後、酢酸エチル（２０ｍｌ）を加えて、水（１０ｍｌ）で５回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して、４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアジド（６３２ｍｇ，収率９６％  ｖｓ．４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアルコール）を得た。
前記４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアジド（６３２ｍｇ，１．４７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（６ｍｌ）に溶解させ、水（２６５μｌ，１４．７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（４２４ｍｇ，１．６２ｍｍｏｌ）を加えて７０℃で一晩攪拌した。室温まで冷却後、溶媒を留去し、残渣をヘキサン（１０ｍｌ）に溶解、５０％アセトニトリル水溶液（５ｍｌ）で３回洗浄した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１→クロロホルム：メタノール：アンモニア水＝５０：５：１）で精製して、４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミン（５５５ｍｇ，１．３７ｍｍｏｌ，収率９４％）を得た。【０３６１】
調製例１２：２−メトキシ−４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミンの合成
２，３−ジヒドロフィチルブロミド（２．００ｇ，５．５３ｍｍｏｌ）、２−メトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（８８４ｍｇ，５．８１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．１５ｇ，８．３２ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（２０ｍｌ）中に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。反応混合液を室温に冷却後、酢酸エチル（５０ｍｌ）で抽出し、１Ｎ塩酸（２０ｍｌ）で３回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍｌ）で３回、２０％食塩水（２０ｍｌ）で１回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製して、２−メトキシ−４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズアルデヒド油状物を得て、次工程に移行させた。
前記２−メトキシ−４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズアルデヒド、ヒドロキシルアミン塩酸塩（１．１５ｇ，１６．５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２５ｍｌ）に懸濁し、０℃でトリエチルアミン（３．８４ｍｌ，２７．７ｍｍｏｌ）を加えて室温で３時間攪拌した。反応混合液にクロロホルム（３０ｍｌ）を加え１ｍｏｌ／ｌ塩酸（１５ｍｌ）で３回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（１５ｍｌ）で３回、２０％食塩水（１５ｍｌ）で１回洗浄し、溶媒を留去して、２−メトキシ−４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズアルドキシムを得、ＮＭＲで構造を確認後、次工程に移行させた。
前記２−メトキシ−４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズアルドキシムをメタノール−ＴＨＦ混合溶媒（２０＋１０ｍｌ）に溶解させ、１０％パラジウム−炭素（Ｋ）（２００ｍｇ）を加えて水素雰囲気下室温で一晩攪拌した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール：アンモニア水＝１００：１０：１）で精製して、２−メトキシ−４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミン（１．８７ｇ，４．３１ｍｍｏｌ，収率７８％  ｖｓ．２，３−ジヒドロフィチルブロミド）を得た。【０３６２】
調製例１３：４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアルコールの合成
０℃で、メタノール（１０ｍｌ）に塩化チオニル（１．９２ｍｌ，２６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、４−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸（２．００ｇ，１３．１ｍｍｏｌ）を加えて、６０℃で一晩攪拌した。反応終了後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル（２０ｍｌ）に溶解させて５％炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）で２回、１ｍｏｌ／ｌ塩酸（１０ｍｌ）で１回、水（１０ｍｌ）で１回洗浄し、溶媒を留去して、４−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸メチル（２．２４ｇ，収率１００％）を得た。
前記４−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸メチル（２６９ｍｇ，１．６２ｍｍｏｌ）、２，３−ジヒドロフィチルブロミド（３８９ｍｇ，１．０８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２９７ｍｇ，２．１５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（５ｍｌ）中に懸濁し、９０℃で５時間攪拌した。反応混合液を室温に冷却後、ヘキサン−酢酸エチル（１０＋１０ｍｌ）で抽出し、１ｍｏｌ／ｌ塩酸（１５ｍｌ）で１回、水（１０ｍｌ）で２回洗浄し、溶媒を留去して、４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチル安息香酸メチルを得、ＮＭＲで構造を確認後、次工程に移行させた。
前記４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチル安息香酸メチル（１．０８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（６ｍｌ）に溶解させ、ＤＩＢＡＬ（１．０Ｍ，４．９ｍｌ，４．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１００分間攪拌した。反応混合液を０℃に冷却後、１ｍｏｌ／ｌ塩酸（１５ｍｌ）で反応を停止し、ヘキサン（１０ｍｌ）、酢酸エチル（１０ｍｌ）を加えて分液し、０．５ｍｏｌ／ｌ塩酸（１０ｍｌ）で１回、水（１０ｍｌ）で１回洗浄し、溶媒を留去して、４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアルコールを得た。【０３６３】
調製例１４：４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアミンの合成
４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチル−ベンジルアルコール（１．０８ｍｍｏｌ）をクロロホルム（８ｍｌ）に溶解させ、チオニルクロリド（３９３μｌ，５．３８ｍｍｏｌ）を加えて５０℃で４．５時間攪拌した。反応終了後、溶媒を留去して、４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルクロリドを得、ＮＭＲで構造を確認後、次工程に移行させた。
前記４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルクロリド（１．０８ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（６ｍｌ）に溶解させ、アジ化ナトリウム（３５０ｍｇ，５．３８ｍｍｏｌ）を加えて７０℃で一晩攪拌した。反応混合液を室温に冷却後、ヘキサン（１０ｍｌ）、酢酸エチル（５ｍｌ）を加えて、水（１０ｍｌ）で３回洗浄した。濾液の溶媒を留去して、４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアジドを得、ＮＭＲで構造を確認後、次工程に移行させた。
前記４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアジド（１．０８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に溶解させ、水（２ｍｌ）、トリフェニルホスフィン（５６５ｍｇ，２．１５ｍｍｏｌ）を加えて６０℃で３時間攪拌した。室温まで冷却後、溶媒を留去し、残渣をヘプタン（１０ｍｌ）に溶解させ、５０％アセトニトリル水溶液（１０ｍｌ）で３回洗浄した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１→クロロホルム：メタノール：アンモニア水＝５０：５：１）で精製して、４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）−２−メチルベンジルアミン（２８１ｍｇ，０．６７ｍｍｏｌ，収率６２％  ｖｓ．２，３−ジヒドロフィチルブロミド）を得た。【０３６４】
調製例１５：２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカン酸（４−ヒドロキシメチル）フェニルアミドの合成
２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカン酸（２．８１ｇ，９．８８ｍｍｏｌ）、４−アミノベンジルアルコール（１．００ｇ，８．１２ｍｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−３−ヒドロキシ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアジン（ＨＯＯＢｔ）（１３３ｍｇ，０．８１２ｍｍｏｌ）を、クロロホルム（１０ｍｌ）に懸濁させて、０℃でＥＤＣ・ＨＣｌ（２．０５ｇ，１０．７ｍｍｏｌ）加え、室温で一晩攪拌した。溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカン酸（４−ヒドロキシメチル）フェニルアミド（２．６９ｇ，６．６７ｍｍｏｌ，収率８２％）を得た。【０３６５】
調製例１６：４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルアルコールの合成
調製例４で得られた１−ブロモ−３，７，１１−トリメチルドデカン（１．００ｇ，３．４３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（５ｍｌ）に溶解させ、４−ヒドロキシベンジルアルコール（０．８５ｇ，６．８５ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（１．４２ｇ，１０．３ｍｍｏｌ）を加えて１２０℃で一晩攪拌した。反応混合液を室温に冷却後、クロロホルム（５０ｍｌ）で抽出し、１ｍｏｌ／ｌ塩酸（３０ｍｌ）で３回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）で１回、精製水（３０ｍｌ）で１回洗浄した。有機層の溶媒を留去して、４−（３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ）ベンジルアルコール（１．０９ｇ，３．２６ｍｍｏｌ，収率９５％  ｖｓ．１−ブロモ−３，７，１１−トリメチルドデカン）を得た。【０３６６】
調製例１７：３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイックアシッドの合成
３，７，１１，１５−テトラメチル−ヘキサデカン−１−オール（８．９６ｇ，３０．０ｍｍｏｌ）をアセトン（３６０ｍｌ）と酢酸（１８０ｍｌ）の混合溶媒に溶解させ、無水クロム酸 （７．２７ｇ，７２．７ｍｍｏｌ）の水（９．０ｍｌ）溶液を滴下し、室温で１時間攪拌した。反応終了後の反応液に二亜硫酸ナトリウム（１００ｇ，５２６ｍｍｏｌ）の水（４５０ｍｌ）溶液を加え、室温で終夜撹拌し、ジエチルエーテル（１３５ｍｌ）で６回抽出し、得られた有機層の溶媒を減圧下留去した。濃縮後の油状物にジエチルエーテル（４５０ｍｌ）と水（１５０ｍｌ）を加えて分相し、水層を酢酸エチル（１５０ｍｌ）で３回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を減圧下留去した。濃縮後の油状物（１０．１ｇ）をクロマトグラフィー精製（シリカゲル；２５０ｇ、溶出液；５０：１→３：１ヘキサン−酢酸エチル）することで、表題の化合物（６．７８ｇ，７２．３％）を淡青色の油状物として得た。【０３６７】
調製例１８：３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイルクロリドの合成
調製例１７で合成した化合物（２．８１ｇ，９．０ｍｍｏｌ）を無水クロロホルム（４．５ｍｌ）に溶解させ 、塩化チオニル（１．３１ｍｌ，１８．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧下留去し、得られた油状物（３．０７ｇ）を表題の化合物としてそのまま次の反応に使用した。【０３６８】
調製例１９：クロロメチル  ３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノエートの合成
調製例１７で合成した化合物（６．５６ｇ，２１．０ｍｍｏｌ）を無水クロロホルム（１０ｍｌ）に溶解させ 、塩化チオニル（３．０６ｍｌ，４２．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧下留去して得た油状物を、９０％パラホルムアルデヒド（８４０ｍｇ，２５．２ｍｍｏｌ）と塩化亜鉛（４２．９ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）の混合固体に対して、氷浴冷却下３０分間かけて滴下した。得られた混合溶液を６０℃で５時間加熱撹拌した後、室温まで冷却させ、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）とジクロロメタン（１５ｍｌ）を加えて分層し、同量のジクロロメタンで更に２回抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水（３０ｍｌ）で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を減圧下留去した。濃縮後の油状物（７．４０ｇ）をクロマトグラフィー精製（シリカゲル；１２０ｇ、溶出液；１０：１ヘキサン−ジクロロメタン）することで、表題の化合物（５．０１ｇ，６６．１％）を無色の油状物として得た。【０３６９】
調製例２０：４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイックアシッドの合成
（１）１−ブロモ−３，７−ジメチルオクタンの合成
３，７−ジメチルオクタン−１−オール（１０．０ｇ，６３．２ｍｍｏｌ）を４８％臭化水素酸水溶液に懸濁し、濃硫酸（０．１７ｍｌ）を滴下して１００℃で１６時間攪拌した。反応液を室温に冷却後、ヘキサン（２００ｍｌ）で抽出し５％炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍｌ）で２回、２０％食塩水（１００ｍｌ）で１回洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾液の溶媒を留去することで表題の化合物（１３．３ｇ，９５．１％）を無色の油状物として得た。
（２）メチル［４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）］ベンゾエートの合成
アルゴン雰囲気下、炭酸カリウム（１２．５ｇ，９０．３ｍｍｏｌ）を脱水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００ｍｌ）に懸濁させた後、１−ブロモ−３，７−ジメチルオクタン（１３．３ｇ，６０．１ｍｍｏｌ）とメチル（４−ヒドロキシ）ベンゾエート（８．７４ｇ，５７．４ｍｍｏｌ）を加えて７０℃で１６時間攪拌した。反応液を濾過して炭酸カリウムを除去した後、水（５０ｍｌ）を加えてヘキサン（２５０ｍｌ）で抽出した。抽出液を１．０ｍｏｌ／ｌ塩酸水溶液（１００ｍｌ）、炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍｌ）、飽和食塩水（１００ｍｌ）で順次洗浄し、得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後濾過し、減圧濃縮することで表題の化合物（１６．１ｇ，９５．７％）を無色の油状物として得た。
（３）４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイックアシッドの合成
メチル［４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）］ベンゾエート（１６．１ｇ，５４．９ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（３００ｍｌ）に溶解し、５０％水酸化カリウム水溶液（２５ｍｌ）を加えて１００℃で６時間攪拌した。反応液が酸性になるまで濃塩酸を滴下した後、酢酸エチル（２００ｍｌ）で抽出し、１０％水酸化ナトリウム水溶液（１００ｍｌ）、飽和食塩水（１００ｍｌ）で洗浄し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後濾過し、減圧濃縮することで表題の化合物（１４．２ｇ，９２．８％）を白色固体として得た。【０３７０】
調製例２１：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］の合成
アルゴン雰囲気下、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−アセチル−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（３．５ｇ，４．５ｍｍｏｌ）を２．０ｍｏｌ／ｌアンモニア／メタノール溶液（４０ｍｌ）に溶解し、室温で２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して表題化合物（３．４ｇ）を定量的に得た。
【０３７１】
調製例２２：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシグアノシン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］の合成
アルゴン雰囲気下、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ２−（２−メチル−１−オキソプロピル）−２’−デオキシグアノシン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（５．０ｇ，５．９ｍｍｏｌ）を２．０ｍｏｌ／ｌアンモニア／メタノール溶液（６０ｍｌ）に溶解し、室温で終夜撹拌した。反応液を減圧濃縮して得た油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（４．６ｇ）を定量的に得た。
【０３７２】
（アミジン型保護基となる試薬の調製）
調製例２３：Ｎ，Ｎ−ジ（３，７−ジメチル−オクチル）ホルムアミドジメチルアセタールの合成
（１）３，７−ジメチル−１−オクチルブロミドの合成
３，７−ジメチル−１−オクタノール（２１．０ｇ，１５７．９ｍｍｏｌ）に４８％ＨＢｒ（２００ｍｌ）及び濃硫酸（０．４６ｍｌ）を加えて終夜加熱した。室温に戻した後、ヘキサンを加えて抽出し、有機層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、乾燥、濃縮して表題化合物（２８．７ｇ，８２．１％）を得た。
（２）ジ（３，７−ジメチル−オクチル）ベンジルアミンの合成
ベンジルアミン（７．１ｍｌ，６４．８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１７．９ｇ，１２９．６ｍｍｏｌ）および調製例２３−（１）で得られた化合物（２８．７ｇ，１２９．６ｍｍｏｌ）を乾燥アセトニトリル８０ｍｌに溶解し終夜加熱した。反応液を濃縮した後、ジクロロメタン（２００ｍｌ）を加え、水で洗浄した。有機層を濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（１３．２ｇ，５２．２％）を得た。
（３）Ｎ，Ｎ−ジ（３，７−ジメチル−オクチル）アミンの合成
調製例２３−（２）で得た化合物（１３．２ｇ，３３．８ｍｍｏｌ）をエタノール（１５０ｍｌ）に溶解し、５％パラジウム炭素（５３％含水、２．８６ｇ）を加え、水素雰囲気下終夜撹拌した。反応液をセライト濾過しパラジウム触媒を除去した後、ろ液を濃縮し、表題化合物（１０．０ｇ，９９．３％）を定量的に得た。
（４）Ｎ，Ｎ−ジ（３，７−ジメチル−オクチル）ホルムアミドジメチルアセタールの合成
調製例２３−（３）で得た化合物（７．０ｇ，２３．４ｍｍｏｌ）に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（２．８ｇ，２３．４ｍｍｏｌ）及び触媒量のピリジニウム  ｐ−トルエンスルホネートを加えて、１６０℃に加熱、終夜撹拌した。反応液を減圧蒸留し、表題化合物（１．４ｇ，１６％）を得た。
【０３７３】
調製例２４：２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアミンの合成
（１）２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンゾフェノンの合成
アルゴン雰囲気下、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン（０．９４ｇ，４．０７ｍｍｏｌ）、２，３−ジヒドロフィチルブロミド（６．０１ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．５７ｇ，１３８．２ｍｍｏｌ）を脱水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２５ｍｌ）中に加え、８０℃で終夜攪拌した。反応混合液を室温に冷却後、ヘキサン（５０ｍｌ）で抽出し、１ｍｏｌ／ｌ塩酸水（２０ｍｌ）、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍｌ）、飽和食塩水（２０ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１００：０〜９５／５（ｖ／ｖ））で精製、目的フラクションを集めて濃縮し、表題の化合物（３．９０ｇ，８８．９％）を油状物として得た。
（２）２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアルコールの合成
調製例２４−（１）で合成した２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンゾフェノン（３．９０ｇ，３．６４ｍｍｏｌ）を、クロロホルム（３５ｍｌ）とメタノール（３．５ｍｌ）の混合溶媒に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム（０．４１ｇ，１０．９ｍｍｏｌ）を添加し、４５℃で２時間攪拌した。反応終了後、０．１ｍｏｌ／ｌ塩酸水を滴下することで未反応の水素化ホウ素ナトリウムを分解させた後、１．０ｍｏｌ／ｌ塩酸水で洗浄し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後に濾過し、濾液を減圧濃縮した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９８：２〜９０／１０（ｖ／ｖ））で精製、目的フラクションを集めて濃縮し、表題の化合物（３．５６ｇ，９１．０％）を油状物として得た。
（３）Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアミンの合成
アルゴン雰囲気下、調製例２４−（２）で合成した２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアルコール（３．５６ｇ，３．３１ｍｍｏｌ）および９−フルオレニルメチルカーバメート（１．４２ｇ，５．９６ｍｍｏｌ）を脱水トルエン（４０ｍｌ）中に５０℃で溶解させた後、メタンスルホン酸（６４μｌ，９９３μｍｏｌ）を加えて１００℃で２時間攪拌した。反応混合液を室温に冷却後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍｌ）、飽和食塩水（２０ｍｌ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９８：２〜９０／１０（ｖ／ｖ））で精製、目的フラクションを集めて濃縮し、表題の化合物（４．００ｇ，９３．３％）を油状物として得た。
（４）２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアミンの合成
調製例２４−（３）で合成したＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアミン（４．００ｇ，３．０９ｍｍｏｌ）を、クロロホルム（３０ｍｌ）とアセトニトリル（１５ｍｌ）の混合溶媒に溶解させた後、２０％ピペリジン［１−メチル−２−ピロリドン溶液］（３０．５ｍｌ，６１．８ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３０分間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（６０ｍｌ）、ヘキサン（３０ｍｌ）および水（１０ｍｌ）を加え、分層した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１００：０〜８０／２０（ｖ／ｖ））で精製、目的フラクションを集めて濃縮し、表題の化合物（２．９２ｇ，８８．２％）を油状物として得た。
【０３７４】
調製例２５：４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアミンの合成
（１）Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−ビス−４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアミンの合成
調製例６に記した４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアルコール（３．８０ｇ，４．８９ｍｍｏｌ）にトルエン（５０ｍｌ）、９−フルオレニルメチルカーバメート（２．１１ｇ，８．８１ｍｍｏｌ）を加え、５０℃に加熱して溶解させた。メタンスルホン酸（９５．３μｌ，１．４７ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で２時間攪拌した。反応終了を確認した後、室温に戻し、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍｌ）を加えて攪拌した。分層して有機層を水（２０ｍｌ）、飽和食塩水（２０ｍｌ）でさらに洗浄した。有機層を減圧留去し、表題化合物（５．１０ｇ、ｑｕａｎｔ）を得た。
（２）４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアミンの合成
調製例２５−（１）で得たＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−４−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアミン（５．１０ｇ，５．２７ｍｍｏｌ）を、クロロホルム（５０ｍｌ）とアセトニトリル（２５ｍｌ）の混合溶媒に溶解させた後、２０％ピペリジン［１−メチル−２−ピロリドン溶液］（５２．１ｍｌ，１０５．４ｍｏｌ）を添加し、室温で３０分間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（１００ｍｌ）、ヘキサン（６０ｍｌ）および水（１５ｍｌ）を加え、分層した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１００：０〜３０／７０ｖ／ｖ））で精製、目的フラクションを集めて濃縮し、表題の化合物（３．５６ｇ，８６．８％）を油状物として得た。
【０３７５】
調製例２６：３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミンの合成
（１）３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルクロリドの合成
アルゴン雰囲気下、調製例９に記した３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアルコール（４．７０ｇ，６．７０ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３４ｍｌ）に溶解させ、ピリジン（数滴）、塩化チオニル（０．９７ｍｌ，１３．４ｍｍｏｌ）を加えて室温で９０分間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、表題の化合物（４．９３ｇ，ｑｕａｎｔ）を油状物として得た。
（２）３，５−  ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアジドの合成
調製例２６−（１）で得た３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルクロリド（４．９３ｇ，６．８５ｍｍｏｌ）をクロロホルム（２７ｍｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８１ｍｌ）の混合溶媒に溶解させ、アジ化ナトリウム（０．９０ｇ，１３．７ｍｍｏｌ）を加えて８０℃で２時間半攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、酢酸エチル（２５０ｍｌ）および精製水（１８０ｍｌ）を加えて分層し、有機層を精製水（１８０ｍｌ）及び飽和食塩水（１３０ｍｌ）で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後に濾過し、表題の化合物（４．７９ｇ，９６．４％）を得た。
（３）３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミンの合成
アルゴン雰囲気下、調製例２６−（２）で得た３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアジド（４．７９ｇ，６．６０ｍｍｏｌ）を脱水テトラヒドロフラン（３３ｍｌ）に溶解させ、氷冷下、水素化リチウムアルミニウム（０．５０ｇ，１３．２ｍｍｏｌ）を添加し、反応液を室温で２時間攪拌した。反応終了後の反応液に１ｍｏｌ／ｌ塩酸水（２５ｍｌ）と酢酸エチル（５０ｍｌ）を滴下して分層し、水層を酢酸エチル（５０ｍｌ）で抽出した。有機層を合わせて、水（９０ｍｌ）で２回洗浄し、更に５％炭酸水素ナトリウム水溶液（９０ｍｌ）、飽和食塩水（９０ｍｌ）で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾液を減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題の化合物（３．２９ｇ，７１．１％）を油状物として得た。
【０３７６】
調製例２７：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−２’−フルオロウリジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］の合成
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−２’−フルオロウリジンの合成
２’−デオキシ−２’−フルオロウリジン（３．００ｇ，１２．２ｍｍｏｌ）を乾燥ピリジンに溶解した後、減圧濃縮する操作を３回繰り返し、共沸脱水した。その後、アルゴン雰囲気下、乾燥ピリジン（１２０ｍｌ）に溶解し、４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（４．５５ｇ，１３．４ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３時間撹拌した。反応終了を確認後、反応液に酢酸エチル（１５０ｍｌ）と水（６０ｍｌ）を加えて分層し、有機層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍｌ）で３回、水（２０ｍｌ）、飽和食塩水（２０ｍｌ）で洗浄し、得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５０：５０〜０／１００（ｖ／ｖ），１％トリエチルアミンを含む）で精製して、目的フラクションを集めて濃縮し、表題の化合物（８．４８ｇ，ｑｕａｎｔ）を得た。
【０３７７】
（２）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−２’−フルオロウリジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］の合成
調製例２７−（１）で得た５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−２’−フルオロウリジン（３．００ｇ，５．４７ｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下、脱水ジクロロメタン（５０ｍｌ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．５５ｍｌ，３．１８ｍｍｏｌ）、１Ｈ−テトラゾール（０．４５ｇ，６．４５ｍｍｏｌ）および２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（１．９２ｇ，６．３６ｍｍｏｌ）を加えて室温で終夜撹拌した。反応終了を確認後、反応液に５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍｌ）を加えて分層し、有機層を飽和食塩水（２０ｍｌ）で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾液を濃縮して得られた粗生物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５〜３０／７０（ｖ／ｖ），３％トリエチルアミンを含む）で精製、目的フラクションを集めて濃縮し、表題の化合物（２．７６ｇ，６７．３％）を得た。
【０３７８】
実施例１：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｏ−［３，４，５−トリス（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカニルオキシ）ベンジル］スクシネート〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＴＰＢ〕の合成
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−スクシネートの合成
アルゴン雰囲気下、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン（４．９８ｇ，９．１４ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン−２，５−ジオン（１．３９ｇ，１３．９ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（１００ｍｌ）に溶解させた後、トリエチルアミン（３．８０ｍｌ，２７．３ｍｍｏｌ）を加えて室温で１６時間攪拌した。反応終了後の反応液を２．０ｍｏｌ／ｌトリエチルアンモニウムホスフェート水溶液（７０ｍｌ）で３回洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後濾過し、減圧濃縮して得られた残渣をトルエン（１０ｍｌ）で３回共沸することで、表題の化合物（７．１５ｇ）のトリエチルアミン塩を白色固体として定量的に得た。
（２）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｏ−［３，４，５−トリス（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカニルオキシ）ベンジル］スクシネート〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＴＰＢ〕の合成
実施例１−（１）で合成した化合物（６．５５ｇ，８．７８ｍｍｏｌ）、調製例７で合成した３，４，５−トリス（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカニルオキシ）ベンジルアルコール（５．１９ｇ，５．１６ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（１５ｍｌ）に溶解させた後、２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）１，１，３，３−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート［ＨＢＴＵ］（１１．８ｇ，３０．８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（５．５３ｍｌ、３１．２ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後に濾過した。濾液を減圧濃縮して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル、１％ｖ／ｖ  トリエチルアミン）で精製することで表題の化合物（３．８３ｇ，４５．３％）を粘性固体として得た。【０３７９】
実施例２：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［３，４，５−トリス（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカニルオキシ）ベンジル］スクシナメート〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ〕の合成
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−スクシネートのトリエチルアミン塩（１．４５ｇ，１．９４ｍｍｏｌ）、調製例８で合成した３，４，５−トリス（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカニルオキシ）ベンジルアミン（１．０２ｇ，１．１０ｍｍｏｌ）を用い、実施例1−（２）と同様の方法に従い、表題の化合物（１．２２ｇ，７２．４％）を粘性固体として得た。【０３８０】
実施例３：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣＰｈｙ−ＰＡ〕の合成【０３８１】
【化５５】
2013122236.tif 000056
【０３８２】
アルゴン雰囲気下、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（１．４６ｇ，２．００ｍｍｏｌ）を脱水テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）中に溶解させ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（７２０μｌ，４．００ｍｍｏｌ）、調製例１８で合成した化合物（９９０ｍｇ，３．００ｍｍｏｌ）を加えて室温で３時間攪拌した。反応終了後の反応液に酢酸エチル（６０ｍｌ）および５％炭酸水素ナトリウム水溶液（１５ｍｌ）を加えて分相し、水相を酢酸エチル（３０ｍｌ）で抽出し、合わせた有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を減圧下留去した。濃縮後の油状物（２．７０ｇ）をクロマトグラフィー精製（シリカゲル；５０ｇ、溶出液；１％トリエチルアミン含有の１０：１→１：１ヘキサン−酢酸エチル）することで、表題の化合物（１．０８ｇ，５２．６％）を無色の油状物として得た。【０３８３】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．８４（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．８６（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．００−１．４１（ｍ，３２Ｈ），１．４６−１．５６（ｍ，１Ｈ），１．９４−２．１８（ｍ，２Ｈ），２．２１−２．３３（ｍ，１Ｈ），２．３４−２．４６（ｍ，２Ｈ），２．６２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），２．６７−２．８３（ｍ，１Ｈ），３．３４−３．６７（ｍ，５Ｈ），３．６９−３．８６（ｍ，１Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），４．２０−４．２４（ｍ，１Ｈ），４．５５−４．６６（ｍ，１Ｈ），６．２２−６．２９（ｍ，１Ｈ），６．８２−６．８７（ｍ，４Ｈ），７．１０−７．１４（ｍ，１Ｈ），７．２１−７．３３（ｍ，７Ｈ），７．３６−７．４２（ｍ，２Ｈ），７．９４（ｂｒｓ，１Ｈ），８．１７−８．２９（ｍ，１Ｈ）
３１Ｐ−ＮＭＲ（１６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１５０．０，１５０．６
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ５９Ｈ８６Ｎ５Ｏ８Ｐ：１０２３．６．Ｆｏｕｎｄ  １０２２．３（Ｍ−Ｈ）−【０３８４】
実施例４：Ｎ３−［４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイル］−２’−デオキシチミジンの合成
（１）４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイルクロリドの合成
アルゴン雰囲気下、４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイックアシッドを脱水クロロホルム（２５ｍｌ）に溶解し、氷冷後、塩化チオニル（６．７２ｍｌ，９２．７ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。反応液を室温で終夜攪拌した後、減圧濃縮して表題の化合物を油状物として得た。本化合物はそのまま次工程に使用した。
（２）３’，５’−Ｏ−ビス（トリメチルシリル）−Ｎ３−［４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイル］２’−デオキシチミジンの合成
２’−デオキシチミジン（５．００ｇ，２０．６ｍｍｏｌ）を脱水ピリジン（１０ｍｌ）で３回共沸した後、アルゴン雰囲気下、脱水ピリジン（６０ｍｌ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１７．９ｍｌ，１０３ｍｍｏｌ）、トリメチルシリルクロリド（６．５０ｍｌ，５１．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間攪拌した。攪拌後、前記４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイルクロリドの油状物を２５分間かけて滴下し、その後室温で４時間攪拌した。反応終了後の反応液を氷冷し、リン酸二水素カリウム（１７ｇ）と水（８０ｍｌ）を加えて５分間攪拌した後、ジエチルエーテル（１００ｍｌ）で抽出し、飽和リン酸二水素カリウム水溶液（５０ｍｌ）、飽和食塩水（５０ｍｌ）で洗浄し、得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮して表題の化合物を得た。本化合物は、そのまま次工程に使用した。
（３）Ｎ３−［４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイル］２’−デオキシチミジンの合成
３’，５’−Ｏ−ビス−（トリメチルシリル）−Ｎ３−［４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイル］−２’−デオキシチミジンをクロロホルム（７０ｍｌ）とメタノール（７０ｍｌ）の混合溶媒に溶解させ、トリフルオロ酢酸（３５０μｌ）を加えて室温で３０分間攪拌した。反応終了後、溶媒を留去し、再度酢酸エチル（１５０ｍｌ）に溶解させた。５％炭酸水素ナトリウム水溶液（７５ｍｌ）、飽和食塩水（７５ｍｌ）で洗浄し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。濾液の溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／メタノール）で精製して表題の化合物（７．１０ｇ，６８．５％）を白色固体として得た。【０３８５】
実施例５：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ３−［４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイル］−２’−デオキシチミジンの合成
アルゴン雰囲気下、脱水ピリジン（１０ｍｌ）で３回共沸したＮ３−［４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイル］−２’−デオキシチミジン（７．１０ｇ，１４．１ｍｍｏｌ）を脱水ピリジン（１３０ｍｌ）に溶解させた後、４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（４．８３ｇ，１４．３ｍｍｏｌ）を加えて終夜攪拌した。反応終了後の反応液に水（１３０ｍｌ）を加えた後、ジエチルエーテル（２６０ｍｌ）で抽出後、水（１３０ｍｌ）で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後濾過し、濾液を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／メタノール，１％ｖ／ｖ  トリエチルアミン）で精製して表題の化合物（１０．２ｇ，９０．１％）を白色固体として得た。【０３８６】
実施例６：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ３−［４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイル］−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ（４−Ｃｉｔ−Ｂｚ）−ＰＡ〕の合成
アルゴン雰囲気下、脱水アセトニトリル（１０ｍｌ）で３回共沸した５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ３−［４−（３，７−ジメチル−１−オクチルオキシ）ベンゾイル］−２’−デオキシチミジン（６．４７ｇ，８．０３ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（４０ｍｌ）に溶解させた。氷冷下、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（５．６０ｍｌ，３２．０ｍｍｏｌ）を加えた後、クロロ−２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト（２．３６ｍｌ，１０．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（４０ｍｌ）溶液を２０分間かけて滴下した。反応液を室温で３０分間攪拌した後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル，３％ｖ／ｖ  トリエチルアミン）で精製し、表題の化合物（７．３２ｇ，９１．０％）を白色固体として得た。【０３８７】
実施例７：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−３’−Ｏ−レブリノイル−Ｎ３−（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイルオキシ）メチル−２’−デオキシチミジンの合成
アルゴン雰囲気下、炭酸カリウム（２．１０ｇ，１５．２ｍｍｏｌ）を懸濁させた脱水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）に、調製例１９で合成した化合物（３．６５ｇ，１０．１ｍｍｏｌ）と５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−３’−Ｏ−レブリノイル−２’−デオキシチミジン（３．２５ｇ，５．０６ｍｍｏｌ）を溶解させた後、４０℃で２４時間攪拌した。反応液を濾過した後に水（５０ｍｌ）を加え、ジエチルエーテル（１００ｍｌ）で２回抽出した。有機層を水（１００ｍｌ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥後濾過し、減圧濃縮することで得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン，１％ｖ／ｖ  トリエチルアミン）で精製し、表題の化合物（４．８０ｇ，９８％）を淡黄色の粘性固体として得た。【０３８８】
実施例８：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ３−（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイルオキシ）メチル−２’−デオキシチミジンの合成
実施例７で合成した化合物（４．８０ｇ，４．９６ｍｍｏｌ）をピリジン（４０ｍｌ）と酢酸（１０ｍｌ）の混合溶媒に溶解させた後、無水ヒドラジン（２４４μｌ，７．７１ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間攪拌後、アセチルアセトン（１．０７ｍｌ，１０．３ｍｍｏｌ）を加えて室温で５分間攪拌した。ジエチルエーテル（１００ｍｌ）を加え、１０％硫酸水素カリウム水溶液（５０ｍｌ）、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）、飽和食塩水（５０ｍｌ）で順次洗浄した後、有機層を濃縮することで表題の化合物（３．５８ｇ，８３．０％）を淡黄色の粘性固体として得た。【０３８９】
実施例９：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ３−（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイルオキシ）メチル−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ＰＡ〕の合成
アルゴン雰囲気下、脱水アセトニトリル（１０ｍｌ）で３回共沸した実施例８で合成した化合物（３．５８ｇ，４．１２ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（２２ｍｌ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２．４９ｍｌ，１６．５ｍｍｏｌ）を滴下して加えた後、脱水ジクロロメタン（２２ｍｌ）に溶解したクロロ−２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト（１．１５ｍｌ，５．１５ｍｍｏｌ）を２０分間かけて滴下して加えた。室温で３０分間攪拌した後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝８／２，３％ｖ／ｖ  トリエチルアミン）で精製し、表題の化合物（３．９０ｇ，８８．６％）を淡黄色の粘性固体として得た。【０３９０】
実施例１０：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ３−（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイルオキシ）メチル−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ＰＡ〕の合成
アルゴン雰囲気下、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（１．００ｇ，１．３４ｍｍｏｌ）を脱水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍｌ）に溶解させた後、炭酸カリウム（２７９ｍｇ，２．０２ｍｍｏｌ）と（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイルオキシ）メチルクロリド（９７０ｍｇ，２．６９ｍｍｏｌ）を加えて室温で１６時間攪拌した。反応液を濾過した後に水（２０ｍｌ）を加えてジエチルエーテル（５０ｍｌ）で抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン，３％ｖ／ｖ  トリエチルアミン）で精製し、表題の化合物（９２９ｍｇ，６５．０％）を薄黄色の粘性固体として得た。【０３９１】
実施例１１：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ２−（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイル）−２’−デオキシグアノシン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＧＰｈｙ−ＰＡ〕の合成
アルゴン雰囲気下、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシグアノシン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（１．５２ｇ，１．９８ｍｍｏｌ）を脱水テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（６９６μｌ，４．００ｍｍｏｌ）を加え、調製例１８で合成した３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイルクロリド（９９３ｍｇ，３．００ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。室温で１．５時間攪拌後、反応液を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／メタノール，１％ｖ／ｖ  トリエチルアミン）で精製し、表題の化合物（１．７３ｇ，８２．０％）を薄黄色の粘性固体として得た。【０３９２】
実施例１２：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ６−（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカノイル）−２’−デオキシアデノシン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＡＰｈｙ−ＰＡ〕の合成
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシアデノシン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（１．７６ｇ，２．３３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１１と同様の方法に従い、表題の化合物（１．１２ｇ，４５．８％）を薄黄色の粘性固体として得た。【０３９３】
実施例１３：デオキシチミジニル−［３’→５’］−デオキシチミジニル−［３’→５’］−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＴＴＴ］−３’）の合成
（１）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
アルゴン雰囲気下、実施例２で合成した５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（２０６ｍｇ，１２７μｍｏｌ）を脱水ヘプタン（６５０μｌ）と脱水トルエン（６５０μｌ）の混合溶媒に溶解させ、トリフルオロ酢酸（２６．０μｌ，３５０μｍｏｌ）、１Ｈ−ピロール（１７．５μｌ，２５４μｍｏｌ）を加えて５分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーにより脱保護反応の終了を確認し、ピリジン（２８．３μｌ，３５０μｍｏｌ）、Ｎ−メチルイミダゾール（１３．９μｌ，１７５μｍｏｌ）を加えて５分間撹拌した。中和後の反応液に０．２５ｍｏｌ／ｌ  ５−（ベンジルチオ）−１Ｈ−テトラゾール／アセトニトリル溶液（１．０ｍｌ）で溶解させた実施例１０で合成した化合物（２７１ｍｇ，２５４μｍｏｌ）を加えて１０分間撹拌した後、０．２ｍｏｌ／ｌ ヨウ素  ピリジン／テトラヒドロフラン／水＝４９／４９／２溶液（１．２７ｍｌ）を加えて５分間撹拌した。反応終了後の反応液にヘプタン（５．０ｍｌ）を加えて分層させて下層を抜き出した後、アセトニトリル（１．０ｍｌ）と水（８０μｌ）の混合溶液で洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮することで表題の化合物（２９１ｍｇ，９９．５％）を粘性固体として得た。
（２）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例１３−（１）で合成した化合物（２９１ｍｇ，１２６μｍｏｌ）と実施例１０で合成した化合物（２７１ｍｇ，２５４μｍｏｌ）を用い、実施例１３−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（３６９ｍｇ，９８．０％）を粘性固体として得た。
（３）デオキシチミジニル−［３’→５’］−デオキシチミジニル−［３’→５’］−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＴＴＴ］−３’）の合成
実施例１３−（２）で合成した化合物と、２８％アンモニア水溶液：４０％メチルアミン水溶液＝１：１の溶液（４．０ｍｌ）をオートクレーブにいれて６５℃で１６時間加熱した後、反応液を遠心エバポレーターで減圧濃縮した。Ｃ−１８逆相カートリッジカラムに吸着させた後、０．１ｍｏｌ／ｌ酢酸アンモニウム水溶液で洗浄し、２％トリフルオロ酢酸水溶液により、５’末端の水酸基に結合したジメトキシトリチル基を脱保護し、２０％アセトニトリル水溶液で溶出して表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ３０Ｈ４０Ｎ６Ｏ１９Ｐ２：８５０．２．Ｆｏｕｎｄ  ８４９．１（Ｍ−Ｈ）−【０３９４】
実施例１４：デオキシチミジニル−［３’→５’］−デオキシチミジニル−［３’→５’］−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＴＴＴ］−３’）の合成
（１）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ（４−Ｃｉｔ−Ｂｚ）−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例２で合成した５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（２０６ｍｇ，１２７μｍｏｌ）と実施例６で合成した化合物（２５６ｍｇ，２５４μｍｏｌ）を用い、実施例１３−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（２７３ｍｇ，９６．０％）を粘性固体として得た。
（２）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ（４−Ｃｉｔ−Ｂｚ）−ｄＴ（４−Ｃｉｔ−Ｂｚ）−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例１４−（１）で合成した化合物（２７３ｍｇ，１２２μｍｏｌ）と実施例６で合成した化合物（２５６ｍｇ，２５４μｍｏｌ）を用い、実施例１３−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（３３９ｍｇ，９７．５％）を粘性固体として得た。
（３）デオキシチミジニル−［３’→５’］−デオキシチミジニル−［３’→５’］−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＴＴＴ］−３’）の合成
実施例１４−（２）で合成した化合物を用い、実施例１３−（３）と同様の方法に従い、表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ３０Ｈ４０Ｎ６Ｏ１９Ｐ２：８５０．１８．Ｆｏｕｎｄ  ８４９．１（Ｍ−Ｈ）−【０３９５】
実施例１５：デオキシアデニリル−［３’→５’］−デオキシアデニリル−［３’→５’］−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＡＡＴ］−３’）の合成
（１）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＡＰｈｙ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
アルゴン雰囲気下、実施例２で合成した５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（２１３ｍｇ，１３１μｍｏｌ）を脱水ヘプタン（７００μｌ）と脱水トルエン（７００μｌ）の混合溶媒に溶解させ、トリフルオロ酢酸（２８．０μｌ，３７７μｍｏｌ）、１Ｈ−ピロール（１８．１μｌ，２６２μｍｏｌ）を加えて５分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーにより脱保護反応の終了を確認し、ピリジン（３０．５μｌ，３７７μｍｏｌ）、Ｎ−メチルイミダゾール（１５．０μｌ，１８９μｍｏｌ）を加えて５分間撹拌した。中和後の反応液に０．２５ｍｏｌ／ｌ  ５−（ベンジルチオ）−１Ｈ−テトラゾール／アセトニトリル溶液（１．０ｍｌ）と脱水トルエン（３００μｌ）の混合溶媒で溶解させた実施例１２で合成した化合物（２７５ｍｇ，２６２μｍｏｌ）を加えて１０分間撹拌した後、５．７８ｍｏｌ／ｌ  ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド／ノナン溶液（４５．３μｌ）を加えて５分間撹拌した。反応終了後の反応液にヘプタン（４．０ｍｌ）を加えて分層させて下層を抜き出した後、アセトニトリル（１．０ｍｌ）と水（８０μｌ）の混合溶液で洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮することで表題の化合物（３０１ｍｇ）を粘性固体として定量的に得た。
（２）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＡＰｈｙ−ｄＡＰｈｙ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例１５−（１）で合成した化合物（３０１ｍｇ，１３１μｍｏｌ）と実施例１２で合成した化合物（２７５ｍｇ，２６２μｍｏｌ）を用いて、実施例１５−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（３８７ｍｇ）を粘性固体として定量的に得た。
（３）デオキシアデニリル−［３’→５’］−デオキシアデニリル−［３’→５’］−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＡＡＴ］−３’）の合成
実施例１５−（２）で合成した化合物と、２８％アンモニア水溶液（４．０ｍｌ）をオートクレーブにいれて６５℃で１６時間加熱した後、反応液を遠心エバポレーターで減圧濃縮した。Ｃ−１８逆相カートリッジカラムに吸着させた後、０．１ｍｏｌ／ｌ酢酸アンモニウム水溶液で洗浄し、２％トリフルオロ酢酸水溶液により、５’末端の水酸基に結合したジメトキシトリチル基を脱保護し、２０％アセトニトリル水溶液で溶出して表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ３０Ｈ３８Ｎ１２Ｏ１５Ｐ２：８６８．２１．Ｆｏｕｎｄ  ８６７．１（Ｍ−Ｈ）−【０３９６】
実施例１６：デオキシグアノシニル−［３’→５’］−デオキシグアノシニル−［３’→５’］−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＧＧＴ］−３’）の合成
（１）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＧＰｈｙ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例２で合成した５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（２０１ｍｇ，１２４μｍｏｌ）と実施例１１で合成した化合物（２６６ｍｇ，２５０μｍｏｌ）を用いて、実施例１５−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（３０３ｍｇ）を粘性固体として定量的に得た。
（２）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＧＰｈｙ−ｄＧＰｈｙ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
アルゴン雰囲気下、実施例１６−（１）で合成した化合物（３０３ｍｇ，１２４μｍｏｌ）と実施例１１で合成した化合物（２６５ｍｇ，２４９μｍｏｌ）を用い、実施例１５−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（４００．０ｍｇ）を粘性固体として定量的に得た。
（３）デオキシグアノシニル−［３’→５’］−デオキシグアノシニル−［３’→５’］−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＧＧＴ］−３’）の合成
実施例１６−（２）で合成した化合物（２３．８ｍｇ，７．３７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１５−（３）と同様の方法に従い、表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ３０Ｈ３８Ｎ１２Ｏ１７Ｐ２：９００．２０．Ｆｏｕｎｄ  ９００．８（Ｍ＋Ｈ）＋【０３９７】
実施例１７：デオキシシチジニル−［３’→５’］−デオキシシチジニル−［３’→５’］−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＣＣＴ］−３’）の合成
（１）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣＰｈｙ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
アルゴン雰囲気下、実施例２で合成した５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（２０３ｍｇ，１２５μｍｏｌ）と実施例３で合成した化合物（２６０ｍｇ，２５４μｍｏｌ）を用い、実施例１５−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（３６６．９ｍｇ）を粘性固体として定量的に得た。
（２）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣＰｈｙ−ｄＣＰｈｙ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
アルゴン雰囲気下、実施例１７−（１）で合成した化合物（３６７ｍｇ，１２５μｍｏｌ）と実施例３で合成した化合物（２６２ｍｇ，２５６μｍｏｌ）を用い、実施例１５−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（３９４ｍｇ）を粘性固体として定量的に得た。
（３）デオキシシチジニル−［３’→５’］−デオキシシチジニル−［３’→５’］−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＣＣＴ］−３’）の合成
実施例１７−（２）で合成した化合物（２０．８ｍｇ，６．５９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３−（３）と同様の方法に従って、表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ２８Ｈ３８Ｎ８Ｏ１７Ｐ２：８２０．２．Ｆｏｕｎｄ  ８１９．１（Ｍ−Ｈ）−【０３９８】
実施例１８：５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴＰｈｙＯＭ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
（１）アルゴン雰囲気下、実施例２で合成した５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（２０８ｍｇ，１２８μｍｏｌ）を脱水ヘプタン（６５０μｌ）と脱水トルエン（６５０μｌ）の混合溶媒に溶解させ、トリフルオロ酢酸（２６．０μｌ，３５０μｍｏｌ）、１Ｈ−ピロール（１７．７μｌ，２５６μｍｏｌ）を加えて５分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーにより脱保護反応の終了を確認し、ピリジン（２８．３μｌ，３５０μｍｏｌ）、Ｎ−メチルイミダゾール（１３．９μｌ，１７５μｍｏｌ）を加えて５分間撹拌した。中和後の反応液に０．２５ｍｏｌ／ｌ  ５−（ベンジルチオ）−１Ｈ−テトラゾール／アセトニトリル溶液（１．０ｍｌ）で溶解させた実施例９で合成した化合物（２７３ｍｇ，２５６μｍｏｌ）を加えて１０分間撹拌した後、５．７８ｍｏｌ／ｌ  ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド／ノナン溶液（３８３μｍｏｌ，６６．３μｌ）を加えて５分間撹拌した。反応終了後の反応液にヘプタン（３．０ｍｌ）を加えて分層させて下層を抜き出した後、アセトニトリル（１．０ｍｌ）と水（８０μｌ）の混合溶液で洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮することで実施例１４−（１）で合成した化合物と同一化合物（２９１ｍｇ，９８．８％）を粘性固体として得た。
（２）同様の操作を１８回繰り返すことにより表題の化合物（１．６７ｇ，８９．６％）を橙色の固体として得た。【０３９９】
実施例１９：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−（２−エチル−１−ヘキサノイル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（２Ｅｔ−Ｈｅｘ）−ＰＡ〕の合成
アルゴン雰囲気下、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（２０．４ｇ，２８．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２００ｍｌに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（７．４ｇ，５７．０ｍｍｏｌ）、２−エチル−１−ヘキサノイックアシッド無水物（１１．４ｇ，４２．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で３日間撹拌した。反応終了後の反応液に酢酸エチルおよび水を加えて抽出した後、酢酸エチル層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を減圧下留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製（溶出液；１％トリエチルアミン含有の１０：１→１：１ヘプタン−酢酸エチル）し、表題の化合物（１５．９ｇ，６６．５％）を得た。
【０４００】
実施例２０：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−（３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノイル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（３，５，５−Ｍｅ３Ｈｅｘ）−ＰＡ〕の合成
（１）Ｎ４−（３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノイル）−２’−デオキシシチジンの合成
２’−デオキシシチジン（２．３ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）を乾燥ピリジンに懸濁し、減圧濃縮を３回繰り返して共沸脱水した後、乾燥ピリジン６０ｍｌに再懸濁し、塩化トリメチルシリル（６．４ｍｌ、５０ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下した。その反応液に３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノイルクロリド（９．５ｍｌ，５０．０ｍｍｏｌ）を５分間かけて加えた。反応終了後、氷冷下、アンモニア水を２５ｍｌ加え、２０分反応後、反応液を減圧濃縮した。濃縮液に水１５０ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで３回抽出した有機層を濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題の化合物（４．７ｇ）を得た。
（２）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−（３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノイル）−２’−デオキシシチジンの合成
実施例２０−（１）で得た化合物（４．７ｇ）を乾燥ピリジンに溶解し、減圧濃縮を３回繰り返して共沸脱水した後、乾燥ピリジン４０ｍｌに溶解し、４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（３．８ｇ、１１．０ｍｍｏｌ）を加え３０分間撹拌した。反応液に水１００ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで３回抽出した。有機層を更に水で洗浄した後、減圧濃縮して得た油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題の化合物（５．２ｇ，７７．３％）を得た。
（３）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−（３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノイル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（３，５，５−Ｍｅ３Ｈｅｘ）−ＰＡ〕の合成
実施例２０−（２）で得た化合物を乾燥アセトニトリル５ｍｌに溶解し、減圧濃縮を３回繰り返して共沸脱水した後、乾燥ジクロロメタン３０ｍｌに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（５．４ｍｌ，３０．９ｍｍｏｌ）を５分かけて滴下し、クロロ−２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト（２．２ｍｌ，９．７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３０ｍｌ）溶液を１５分かけて滴下した。室温で３０分反応した後、反応液を減圧濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／メタノール／トリエチルアミン＝９４／３／３）で精製し、目的物を含むフラクションを濃縮乾固して表題化合物（３．７ｇ，５５．３％）を白色固体として得た。
【０４０１】
実施例２１：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−（２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（Ｍｅ６Ｄｏｄｅｃａｎｏｙｌ）−ＰＡ〕の合成
実施例１９記載の方法に従い、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（２５．６ｇ，３５．１ｍｍｏｌ）から、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチル−５−ドデカノイルクロリド（１６．５ｇ，５４．５ｍｍｏｌ）をアシル化剤として用いて、表題の化合物（１６．５ｇ，４７．３％）を調製した。【０４０２】
実施例２２：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−（２−ヘプチル−１−ウンデカノイル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ）−ＰＡ〕の合成
実施例１９記載の方法に従い、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（１．８ｇ，２．５ｍｍｏｌ）に、２−ヘプチル−１−ウンデカノイックアシッド無水物（２．１ｇ，３．８ｍｍｏｌ）をアシル化剤として反応させた。反応の進行が遅いことから、改めて２−ヘプチル−１−ウンデカノイルクロリド（１．２ｇ，３．８ｍｍｏｌ）をアシル化剤として加え、３０分反応させた。反応終了後、クロロホルムで抽出し、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題の化合物（１．７ｇ，６７．５％）を調製した。
【０４０３】
実施例２３：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−（２−ヘキシル−１−デカノイル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（２−ＨｅｘＤｅｃａｎｏｙｌ）−ＰＡ〕の合成
実施例１９記載の方法に従い、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（２０．２ｇ，２８．０ｍｍｏｌ）から、２−ヘキシル−１−デカノイルクロリド（１１．４ｇ，４１．０ｍｍｏｌ）をアシル化剤として用いることで表題の化合物（１２．６ｇ，４７．０％）を調製した。
【０４０４】
実施例２４：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−ｎ−テトラデカノイル−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣＭｙｒ−ＰＡ〕の合成
実施例１９記載の方法に従い、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシシチジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（２．０ｇ，２．７ｍｍｏｌ）から、対応するテトラデカノイルクロリド（７５１ｍｇ，３．０ｍｍｏｌ）をアシル化剤として用いることで表題の化合物（１．３ｇ，４９．２％）を調製した。
【０４０５】
実施例２５：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ２−［ビス（３，７−ジメチル−オクチル）アミノ−メチレン］−２’−デオキシグアノシン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］〔５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＧ（Ｎ，Ｎ−Ｃｉｔ２−ｍｅｔｈｙｌｅｎｅ）−ＰＡ〕の合成
調製例２２で得た５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシグアノシン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］（１．０ｇ，１．３ｍｍｏｌ）を乾燥ピリジンに懸濁して減圧濃縮を２回繰り返し、更にトルエンに溶解、減圧濃縮して、共沸脱水した。その後、乾燥メタノール（２．６ｍｌ）中で、調製例２３で合成した化合物と終夜反応させ、減圧濃縮して得た油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（１８４ｍｇ、１３．１％）を得た。
【０４０６】
実施例２６：ｄＡＢｚ−ｄＣＢｚ−ｄＡＢｚ−ｄＴ−ｄＧｉｂｕ−ｄＣＢｚ−ｄＡＢｚ−ｄＴ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
（１）ｄＴ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
アルゴン雰囲気下、５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（２２５ｍｇ，１３９μｍｏｌ）を脱水シクロペンチルメチルエーテル（１．０ｍｌ）に溶解させ、１Ｈ−ピロール（９．６μｌ，１３９μｍｏｌ）を加えて、更に別途調製したトリフルオロメタンスルホン酸（２４．４μｌ，２．７８μｍｏｌ）のシクロペンチルメチルエーテル溶液（２．０ｍｌ）を２０μｌ加え、室温で１０分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーにより脱保護反応の終了を確認し、０．２ｍｏｌ／ｌＮ−メチルイミダゾールのシクロペンチルメチルエーテル溶液（１４．０μｌ，１７６μｍｏｌ）を加えて中和後、０．３ｍｏｌ／ｌ  ４，５−ジシアノイミダゾール／アセトニトリル溶液で溶解させたｄＴ−ＣＥ  ホスホロアミダイト（５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）デオキシチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）］−ホスホロアミダイト）（２０７ｍｇ，２７８μｍｏｌ）を加えて１０分間撹拌した。その後の反応液に、ｐＨ６．８のリン酸バッファー（１．０ｍｌ）、過酸化水素水（４７μｌ，４１７μｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（２３．１ｍｇ，１３９μｍｏｌ）を加えて１５分間撹拌した。反応液を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄して得た有機層に１Ｈ−ピロール（９．６μｌ，１３９μｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸（２０６μｌ，２．８ｍｍｏｌ）を加え１０分間撹拌し、有機層を１０％硫酸水素カリウム水溶液、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮することで表題の化合物（３１６ｍｇ）を粘性固体として定量的に得た。
（２）ｄＡＢｚ−ｄＴ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例２６−（１）で得られた化合物（３１６ｍｇ）をジクロロメタン（２．０ｍｌ）に溶解し、０．３ｍｏｌ／ｌ  ４，５−ジシアノイミダゾール／アセトニトリル溶液で溶解させたｄＡ−ＣＥ  ホスホロアミダイト（５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）］−ホスホロアミダイト）（２３９ｍｇ，２７８μｍｏｌ）を加えて１０分間撹拌した。その後の反応液に、ｐＨ６．８のリン酸バッファー（１．０ｍｌ）、ヨウ化カリウム（２０．０ｍｇ，９７．４μｍｏｌ）、過酸化水素水（１６．０μｌ，１３９μｍｏｌ）を加えて１５分間撹拌した。反応液を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄して得た有機層に１Ｈ−ピロール（９．６μｌ，１３９μｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸（２０６μｌ，２．８ｍｍｏｌ）を加え１０分間撹拌し、有機層を１０％硫酸水素カリウム水溶液、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮することで表題の化合物（４４２ｍｇ）を粘性固体として定量的に得た。
（３）ｄＡＢｚ−ｄＣＢｚ−ｄＡＢｚ−ｄＴ−ｄＧｉｂｕ−ｄＣＢｚ−ｄＡＢｚ−ｄＴ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例２６−（２）記載の方法を繰り返すことにより表題の化合物を合成した。
【０４０７】
実施例２７：５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（２Ｅｔ−Ｈｅｘ）−ｄＣ（２Ｅｔ−Ｈｅｘ）−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
（１）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（２Ｅｔ−Ｈｅｘ）−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（２０７ｍｇ，１２７μｍｏｌ）と実施例１９で合成したホスホロアミダイトモノマー（３３６ｍｇ，３９３μｍｏｌ）を用い、実施例１５−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（２２６ｍｇ，８４．９％）を粘性固体として得た。
（２）５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（２Ｅｔ−Ｈｅｘ）−ｄＣ（２Ｅｔ−Ｈｅｘ）−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例２７−（１）と同様の条件で、更に実施例１９で合成したホスホロアミダイトモノマーを用いてシチジン誘導体を伸長し、表題の化合物（２４９ｍｇ，９０．０％）を得た。
薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ０．１８（展開溶媒＝酢酸エチル）
【０４０８】
実施例２８：５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（３，５，５−Ｍｅ３Ｈｅｘ）−ｄＣ（３，５，５−Ｍｅ３Ｈｅｘ）−ｄＣ（３，５，５−Ｍｅ３Ｈｅｘ）−ｄＣ（３，５，５−Ｍｅ３Ｈｅｘ）−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例２７に記載の方法に基づき、５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（１９８．６ｍｇ，１２２μｍｏｌ）から実施例２０記載のホスホロアミダイトモノマーを用いてシチジン誘導体の伸長を４回繰り返し、表題化合物（３１４ｍｇ，７２．２％）を得た。
薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ０．２１（展開溶媒＝トルエン／アセトニトリル＝９／１（ｖ／ｖ））
【０４０９】
実施例２９：５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（２−ＨｅｐＵｎｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例２７に記載の方法に基づき、５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（２０３ｍｇ，１２５μｍｏｌ）から実施例２２記載のホスホロアミダイトモノマーを用いてシチジン誘導体の伸長を９回繰り返し、表題化合物（２１０ｍｇ、４９．１％）を得た。
薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ０．１３（展開溶媒＝酢酸エチル）
【０４１０】
実施例３０：５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣＭｙｒ−ｄＣＭｙｒ−ｄＣＭｙｒ−ｄＣＭｙｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例２７に記載の方法に基づき、５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（１０２ｍｇ，６３．１μｍｏｌ）から実施例２４記載のホスホロアミダイトモノマーを用いてシチジン誘導体の伸長を４回繰り返し、表題化合物（１９９ｍｇ、８２．２％）を得た。
薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ０．１４（展開溶媒＝酢酸エチル）
【０４１１】
実施例３１：５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（Ｍｅ６Ｄｏｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（Ｍｅ６Ｄｏｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（Ｍｅ６Ｄｏｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（Ｍｅ６Ｄｏｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣ（Ｍｅ６Ｄｏｄｅｃａｎｏｙｌ）−ｄＣＰｈｙ−ｄＣＰｈｙ−ｄＣＰｈｙ−ｄＣＰｈｙ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢの合成
実施例２７に記載の方法に基づき、５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢ（２１０ｍｇ，１２９μｍｏｌ）から５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣＰｈｙ−ＰＡを用いてシチジン誘導体の伸長を４回繰り返し、５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣＰｈｙ−ｄＣＰｈｙ−ｄＣＰｈｙ−ｄＣＰｈｙ−ｄＴ−ｓｕｃ−ＮＨ−ＴＰＢを得た（５３４ｍｇ，９７．９％）。更に、実施例２７に記載の方法に基づき、実施例２１に記載の５’−Ｏ−ＤＭＴｒ−ｄＣ（Ｍｅ６Ｄｏｄｅｃａｎｏｙｌ）−ＰＡを用いてシチジン誘導体を５回伸長し、表題の化合物（５９８ｍｇ，６４．６％）を得た。
【０４１２】
実施例３２：２’−デオキシシチジン−［３’→５’］ −２’−デオキシシチジン−［３’→５’］−２’−デオキシシチジン−［３’→５’］ −２’−デオキシシチジン−［３’→５’］ −２’−デオキシシチジン−［３’→５’］ −デオキシシチジン−［３’→５’］ −２’−デオキシシチジン−［３’→５’］−２’−デオキシシチジン−［３’→５’］ −２’−デオキシシチジン−［３’→５’］ −２’−デオキシチミジン〔５’−ｄ（ＣＣＣＣＣＣＣＣＣＴ）−３’〕の合成
実施例３１で合成した化合物（２０．０ｍｇ，２．８μｍｏｌ）に４０％メチルアミン水溶液（２．０ｍｌ）および２８％アンモニア水（２．０ｍｌ）を加えてオートクレーブ中、６５℃で１時間反応した。反応液を遠心エバポレーターで減圧濃縮し、Ｃ−１８逆相カートリッジカラムに吸着させた後、０．１ｍｏｌ／ｌ酢酸アンモニウム水溶液で洗浄し、２％トリフルオロ酢酸水溶液により、５’末端の水酸基に結合したジメトキシトリチル基を脱保護し、２０％アセトニトリル水溶液で溶出して表題の化合物を得た。
ＩＥＸ−ＨＰＬＣ（ＤＮＡ  Ｐａｃ  ＰＡ２００（４×２５０ｍｍ）），ｆｌｏｗ  ｒａｔｅ  １ｍｌ／ｍｉｎ，  ｅｌｕｅｎｔ  Ａ  ２０ｍＭ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ（ｐＨ７．５），ｅｌｕｅｎｔ  Ｂ  ４００ｍＭ  ＮａＣｌＯ４／２０ｍＭ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ（ｐＨ７．５），  ｇｒａｄｉｅｎｔ  ２０％  ｔｏ  ７０％  ｆｏｒ  ３０ｍｉｎ，  λ＝２６０ｎｍ：  ＲＴ＝６．６８ｍｉｎ（９４．０ａｒｅａ％）
ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ／ＭＳ：２８４３．８７［Ｍ−Ｈ］−
【０４１３】
実施例３３：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリル］スクシナメートの合成
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−スクシネートのトリエチルアミン塩（３．５２ｇ，４．６３ｍｍｏｌ）、調製例２４で得た２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアミン（２．９２ｇ，２．７３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１−（２）と同様の方法に従い、反応溶液の濾液を得た。該濾液を減圧濃縮して得たオイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５〜５０／５０（ｖ／ｖ），３％トリエチルアミンを含む）で精製し、表題の化合物（３．６０ｇ，７７．６％）を油状物として得た。
【０４１４】
実施例３４：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリル］スクシナメートの合成
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−スクシネートのトリエチルアミン塩（２．８８ｇ，３．７９ｍｍｏｌ）、調製例２５で得た４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリルアミン（１．７３ｇ，２．２３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１−（２）と同様の方法に従い、反応溶液の濾液を得た。該濾液を減圧濃縮して得たオイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１００：０〜３０／７０（ｖ／ｖ），３％トリエチルアミンを含む）で精製し、表題の化合物（１．８７ｇ，５９．８％）を油状物として得た。
【０４１５】
実施例３５：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］スクシナメートの合成
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−スクシネートのトリエチルアミン塩（２．８４ｇ，３．７４ｍｍｏｌ）、調製例２６で得た３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジルアミン（１．５４ｇ，２．２０ｍｏｌ）を用い、実施例１−（２）と同様の方法に従い、反応溶液の濾液を得た。該濾液を減圧濃縮して得たオイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０〜２０／８０（ｖ／ｖ），１％トリエチルアミンを含む）で精製し、表題の化合物（０．９７ｇ，３３％）を油状物として得た。
【０４１６】
実施例３６：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリル］スクシナメートを用いた２’−デオキシチミジニル−［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＴＴ］−３’）の合成
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリル］スクシナメートの合成
実施例３３で合成した化合物（１９９．０ｍｇ，１１７．１μｍｏｌ）とｄＴ−ＣＥ  ホスホロアミダイト試薬（５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）デオキシチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）］−ホスホロアミダイト）（２２３．８ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１８−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（２１３．８ｍｇ，８８．１％）を粘性油状物として得た。
（２）２’−デオキシチミジニル−［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＴＴ］−３’）の合成
【０４１７】
【化５６】
2013122236.tif 000057
【０４１８】
実施例３６−（１）で合成した化合物（約５０ｍｇ）に２８％アンモニア水溶液：４０％メチルアミン水溶液＝１：１（ｖ／ｖ）の混合液（５．０ｍｌ）を加え、室温にて１時間インキュベートした。反応液を遠心エバポレータで濃縮し、得られた粗生成物をＣ−１８逆相カートリッジカラムに吸着させた後、０．１ｍｏｌ／ｌ酢酸アンモニウム水溶液で洗浄し、２％トリフルオロ酢酸水溶液により５’末端の水酸基に結合したジメトキシトリチル基を脱保護し、２０％アセトニトリル水溶液で溶出して表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ２０Ｈ２７Ｎ４Ｏ１２Ｐ：５４６．１２    Ｆｏｕｎｄ  ５４５．１（Ｍ−Ｈ）−
【０４１９】
実施例３７：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリル］スクシナメートを用いた２’−メトキシウリジニル−［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−Ｕ（Ｍ）ｄＴ−３’）の合成
【０４２０】
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−メトキシウリジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［２，３，４−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリル］スクシナメートの合成
実施例３３で合成した化合物（２００．４ｍｇ，１１７．９μｍｏｌ）と２’−ＯＭｅ−Ｕ−ＣＥ  ホスホロアミダイト試薬（５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−メトキシウリジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）］−ホスホロアミダイト）（２２２．３ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１８−（１）と同様の用法に従い、表題の化合物（２１９．１ｍｇ，８９．２％）を粘性油状物として得た。【０４２１】
（２）２’−メトキシウリジニル−［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−Ｕ（Ｍ）ｄＴ−３’）の合成
【０４２２】
【化５７】
2013122236.tif 000058
【０４２３】
実施例３７−（１）で合成した化合物（約５０ｍｇ）を用い、実施例３６−（２）と同様の方法に従い、表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ２０Ｈ２７Ｎ４Ｏ１３Ｐ：５６２．１３    Ｆｏｕｎｄ  ５６１．１（Ｍ−Ｈ）−
【０４２４】
実施例３８：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリル］スクシナメートを用いた２’−デオキシチミジニル−［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＴＴ］−３’）の合成【０４２５】
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリル］スクシナメートの合成
実施例３４で合成した化合物（２００．１ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）と２’−ｄＴ−ＣＥ  ホスホロアミダイト試薬（５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）］−ホスホロアミダイト）（２６７．３ｍｇ，０．３６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１８−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（１５４．３ｍｇ，６１．０％）を粘性油状物として得た。【０４２６】
（２）２’−デオキシチミジニル−［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＴＴ］−３’）の合成
【０４２７】
【化５８】
2013122236.tif 000059
【０４２８】
実施例３８−（１）で合成した化合物（約５０ｍｇ）を用い、実施例３６−（２）と同様の方法に従い、表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ２０Ｈ２７Ｎ４Ｏ１２Ｐ：５４６．１２    Ｆｏｕｎｄ  ５４５．１（Ｍ−Ｈ）−
【０４２９】
実施例３９：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリル］スクシナメートを用いた２’−メトキシウリジニル−［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−Ｕ（Ｍ）ｄＴ−３’）の合成
【０４３０】
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−メトキシウリジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［４，４’−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンズヒドリル］スクシナメートの合成
実施例３４で合成した化合物（２０１．７ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）と２’−ＯＭｅ−Ｕ−ＣＥ  ホスホロアミダイト試薬（５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−メトキシウリジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）］−ホスホロアミダイト）（２７８．９ｍｇ，０．３７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１８−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（１３７．３ｍｇ，５３．３％）を粘性油状物として得た。【０４３１】
（２）２’−メトキシウリジニル−［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−Ｕ（Ｍ）ｄＴ−３’）の合成【０４３２】
【化５９】
2013122236.tif 000060
【０４３３】
実施例３９−（１）で合成した化合物（約５０ｍｇ）を用い、実施例３６−（２）と同様の方法に従い、表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ２０Ｈ２７Ｎ４Ｏ１３Ｐ：５６２．１３    Ｆｏｕｎｄ  ５６１．１（Ｍ−Ｈ）−
【０４３４】
実施例４０：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］スクシナメートを用いた２’−デオキシチミジニル−［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＴＴ］−３’）の合成
【０４３５】
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［３，５−ビス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］スクシナメートの合成
実施例３５で合成した化合物（１９６．７ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）と２’−ｄＴ−ＣＥ  ホスホロアミダイト試薬（５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）］−ホスホロアミダイト）（２８８．２ｍｇ，０．３９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１８−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（７６．７ｍｇ，３０．５％）を粘性油状物として得た。【０４３６】
（２）２’−デオキシチミジニル−［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−ｄ［ＴＴ］−３’）の合成【０４３７】
【化６０】
2013122236.tif 000061
【０４３８】
実施例４０−（１）で合成した化合物（約５０ｍｇ）を用い、実施例３６−（２）と同様の方法に従い、表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ２０Ｈ２７Ｎ４Ｏ１２Ｐ：５４６．１２    Ｆｏｕｎｄ  ５４５．１（Ｍ−Ｈ）−
【０４３９】
実施例４１：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［３，４，５−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］スクシナメートを用いた２’−デオキシ−２’−フルオロウリジニル［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−Ｕ（Ｆ）ｄＴ−３’）の合成
【０４４０】
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−２’−フルオロウリジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［３，４，５−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］スクシナメートの合成
実施例２で合成した化合物（２０２．４ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）と調製例２７で得た２’−Ｆ−Ｕ−ＣＥ  ホスホロアミダイト試薬（５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−２’−フルオロウリジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）］−ホスホロアミダイト）（２９１．５ｍｇ，０．３９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１８−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（１９８．９ｍｇ，７８．８％）を粘性油状物として得た。【０４４１】
（２）２’−デオキシ−２’−フルオロウリジニル［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−Ｕ（Ｆ）ｄＴ−３’）の合成
【０４４２】
【化６１】
2013122236.tif 000062
【０４４３】
実施例４１−（１）で合成した化合物（約５０ｍｇ）実施例３６−（２）と同様の方法に従い、表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ１９Ｈ２４ＦＮ４Ｏ１２Ｐ：５５０．１１  Ｆｏｕｎｄ  ５４９．１（Ｍ−Ｈ）−
【０４４４】
実施例４２：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［３，４，５−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］スクシナメートを用いた２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジニル［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−（ＬＮＡ）ＴｄＴ−３’）の合成
【０４４５】
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［３，４，５−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］スクシナメートの合成
実施例２で合成した化合物（１９７．８ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）とＬＮＡ−Ｔ−ＣＥ  ホスホロアミダイト試薬（５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）］−ホスホロアミダイト）（２５０．７ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１８−（１）と同様の方法に従い、表題の化合物（２２０．３ｍｇ，８８．３％）を粘性油状物として得た。【０４４６】
（２）２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジニル［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−（ＬＮＡ）ＴｄＴ−３’）の合成
【０４４７】
【化６２】
2013122236.tif 000063
【０４４８】
実施例４２−（１）で合成した化合物（約５０ｍｇ）に対して、２８％アンモニア水溶液に１０％（ｖ／ｖ）ｔｅｒｔ−ブチルアミンを溶解した溶液（５．０ｍｌ）を加え、オートクレーブ中で６５℃に加熱し終夜反応させた。反応液を遠心エバポレータで濃縮し、得られた粗生成物をＣ−１８逆相カートリッジカラムに吸着させた後、０．１ｍｏｌ／ｌ酢酸アンモニウム水溶液で洗浄し、２％トリフルオロ酢酸水溶液により５’末端の水酸基に結合したジメトキシトリチル基を脱保護し、２０％アセトニトリル水溶液で溶出して表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ２１Ｈ２７Ｎ４Ｏ１３Ｐ：５７４．１３  Ｆｏｕｎｄ  ５７３．１（Ｍ−Ｈ）−
【０４４９】
実施例４３：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ３−［４−（２，３-ジヒドロフィチルオキシ）ベンゾイル］−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］の合成
（１）４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンゾイックアシッドの合成
調製例２０と同様の方法に従い、調製例２に記載の２，３−ジヒドロフィチルブロミドおよびメチル（４−ヒドロキシ）ベンゾエートを用いて表題化合物を調製した。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．８３−０．９８（ｍ，１５Ｈ），１．０１−１．９２（ｍ，２４Ｈ），４．０１−４．１２（ｍ，２Ｈ），６．９１−６．９６（ｍ，２Ｈ），８．０３−８．０８（ｍ，２Ｈ）
（２）４−（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンゾイルクロリドの合成
上記実施例４３−（１）で調製したベンゾイックアシッド化合物を実施例４−（１）と同様の方法に従い、対応する酸クロリドへ変換し、油状化合物として得た。本化合物はそのまま次工程に使用した。
（３）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ３−［４−（２，３-ジヒドロフィチルオキシ）ベンゾイル］−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジン−３’−Ｏ−［（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト］の合成
市販のＬＮＡ−Ｔ−ＣＥ  ホスホロアミダイト試薬（５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）］−ホスホロアミダイト）（７０１．７ｍｇ，０．９１ｍｍｏｌ）を脱水ピリジン（５．０ｍｌ）に溶解した後減圧濃縮する操作を３回繰り返し、付着水を共沸脱水した。その後、アルゴン雰囲気下、脱水ピリジン（８．０ｍｌ）を加えて溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．１７ｍｌ，１．１２ｍｍｏｌ）および上記実施例４２-(２)で調製した酸クロリド（０．６ｇ，１．３６ｍｍｏｌ）を加えて室温にて９時間撹拌した。反応液に酢酸エチル（５０ｍｌ）および水（１０ｍl）を加えて分層し、有機層を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、２０％食塩水で１回洗浄した。得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過した濾液を濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１００：０〜３０：７０，１％トリエチルアミン含む）で精製し、目的のフラクションを集めて濃縮、濃縮残渣をトルエンを用いて共沸し、乾固することで表題化合物（０．７７ｇ，６５．５％）を得た。
【０４５０】
実施例４４：２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジニル［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−（ＬＮＡ）ＴｄＴ−３’）の合成
【０４５１】
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−［３，４，５−トリス（２，３−ジヒドロフィチルオキシ）ベンジル］スクシナメートの合成
実施例２で合成した化合物（２００ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）および実施例４３で合成したホスホロアミダイトモノマー（３６２ｍｇ，０．３１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１８−（１）と同様の方法に従い、表題化合物（２９５ｍｇ，９９．４％）を合成した。
【０４５２】
（２）２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレンチミジニル［３’→５’］−２’−デオキシチミジン（５’−（ＬＮＡ）ＴｄＴ−３’）の合成
【０４５３】
【化６３】
2013122236.tif 000064
【０４５４】
実施例４４−（１）で合成した化合物（約２０ｍｇ）を実施例３２と同様の方法に従って処理し、脱保護およびアンカーからの切出しを行って、表題の化合物を得た。
ｍ／ｚ（ＥＳＩ−ＭＳ）：Ａｎａｌ．Ｃａｌｃ．ｆｏｒ  Ｃ２１Ｈ２７Ｎ４Ｏ１３Ｐ：５７４．１３  Ｆｏｕｎｄ  ５７３．１（Ｍ−Ｈ）−
【０４５５】
比較例１  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−Ｎ２−イソブチリル−２’−デオキシグアノシン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシシチジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−２’−デオキシチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−２’−デオキシチミジン−３’−イル−［３，４，５−トリス（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカニルオキシ）ベンジル］スクシネートの合成
アルゴン雰囲気下、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−［３，４，５−トリス（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカニルオキシ）ベンジル］スクシネート（５０９ｍｇ，３１３μｍｏｌ）を脱水ヘプタン（３．６ｍｌ）と脱水トルエン（３．６ｍｌ）の混合溶媒に溶解させ、トリフルオロ酢酸（２７９μｌ，３．７６ｍｍｏｌ）、１Ｈ−ピロール（２１７μｌ，３．１３ｍｍｏｌ）を加えて１５分間撹拌した。薄層クロマトグラフィーにより脱保護反応の終了を確認し、アセトニトリル（１．２ｍｌ）、ピリジン（３０４μｌ，３．７６ｍｍｏｌ）およびＮ−メチルイミダゾール（１４９μｌ，１．８８ｍｍｏｌ）を加えて５分間撹拌した。中和後の反応液に５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−（２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）（４６６ｍｇ、６２６μｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（１．２ｍｌ）を加えて１時間撹拌した後、２，６−ルチジン（３５０μｌ）、Ｎ−メチルイミダゾール（３５０μｌ）、無水酢酸（３５０μｌ）を加えて５分間撹拌し、１．０Ｍ  ヨウ素  ピリジン／ＴＨＦ／Ｈ２Ｏ溶液（１．２５ｍｌ）を加えて室温で１０分間攪拌した。反応終了後の反応液にヘプタン（７．２ｍｌ）および水（４８０μｌ）を加えて分層させて下層を抜き出した後、更にヘプタン層を含水アセトニトリルで洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮することで、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−［Ｏ−（２−シアノエチル）］ホスホリル−デオキシチミジン−３’−イル−［３，４，５−トリス（３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデカニルオキシ）ベンジル］スクシネート（６２０ｍｇ，９９．８％）を得た。
目的物の核酸塩基配列に従って、相当する市販のホスホロアミダイトモノマーを用いて同様の操作を回繰り返すことにより表題の化合物を合成した。デオキシグアノシンを伸長したところで生成物の脂溶性が不十分となり、抽出操作後の収率が９０％に低下した。また、更にデオキシチミジンを伸長させる際にヘプタン／トルエン混合溶媒へ溶解しきらず、反応、抽出後の収率は８５％に低下した。下表に各段階で使用したホスホロアミダイトモノマーと収率を記した。【０４５６】
【表１】
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【０４５７】
比較例２：５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−（３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジル）スクシナメートの合成
（１）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−スクシネートの合成
アルゴン雰囲気下、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン（５．００ｇ，９．１８ｍｍｏｌ）、コハク酸無水物（１．３８ｇ，１３．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．８５ｍＬ，２７．５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（９５ｍＬ）に溶解して室温で８時間攪拌した。薄層クロマトグラフィーで反応の完結を確認した後、２．０Ｍ  リン酸−トリエチルアミン  バッファー（ｐＨ  ７．５０）で３回分液洗浄した後、有機層を減圧留去し、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）デオキシチミジン−３’−Ｏ−スクシネートのトリエチルアミン塩（７．０２ｇ，９８％）を無色の泡状固体として得た。
（２）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−イル−Ｎ−（３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジル）スクシナメートの合成
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン−３’−Ｏ−スクシネートのトリエチルアミン塩（１．４５ｇ，１．９４ｍｍｏｌ）、３，４，５−トリス(オクタデシルオキシ)ベンジルアミン（１．０２ｇ，１．１０ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（１５ｍＬ）に溶解させ、２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）１，１，３，３−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート［ＨＢＴＵ］（２．５３ｇ，６．６０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．１７ｍＬ、６．６０ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間撹拌した。薄層クロマトグラフィーにて原料の消失を確認した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後に濾過し、濾液を減圧濃縮した。濃縮液にメタノールを添加後、濾過して得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／メタノール，１％ｖ／ｖ  トリエチルアミン）で精製し表題の化合物（１．２２ｇ，７２．４％）を白色固体として得た。【０４５８】
以下、表２〜表１３に、調製例１〜２７、実施例１、２、４〜１２、１９〜２５、３３〜３５、４３、比較例２で製造された化合物構造式と化合物データを記載する。【０４５９】
【表２】
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【０４６０】
【表３】
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【０４６１】
【表４】
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【０４６２】
【表５】
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【０４６３】
【表６】
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【０４６４】
【表７】
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【０４６５】
【表８】
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【０４６６】
【表９】
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【０４６７】
【表１０】
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【０４６８】
【表１１】
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【０４６９】
【表１２】
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【０４７０】
【表１３】
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【０４７１】
試験例１：３’位水酸基保護ヌクレオシドの溶解度試験
本発明を代表する化合物である、５’位水酸基がジメトキシトリチル基で保護され、３’位水酸基が分岐鎖含有芳香族保護基で保護されたチミジン（実施例２）と、その比較対象としての５’位水酸基がジメトキシトリチル基で保護され、３’位水酸基が対応する直鎖構造を含有する基で保護されたチミジン（比較例２）の下記表２に示す２０℃における溶解度（＝溶質／（溶媒＋溶質）×１００）（質量％）を測定した。
［溶解度測定方法］
１）溶媒１００質量部に、溶質１００質量部を添加し、２０℃で飽和させた。
２）目視で、溶質が残存している場合には、上澄液を下記ＨＰＬＣ条件で定量分析し、濃度を決定し、溶解度（＝溶質／（溶媒＋溶質）×１００）（質量％）とした。
３）目視で、溶質が残存していない場合には、＞５０質量％とした。
［ＨＰＬＣ分析条件］
使用機器：日立高速液体クロマトグラフィーＬａＣｈｒｏｍ  Ｅｌｉｔｅ  Ｌ−２０００シリーズ
カラム：ＹＭＣ−ＰＡＣＫ  ５μｍ  １５０×４．６ｍｍ
カラム温度：４０℃
溶離液：ＴＨＦ／ＣＨ３ＣＮ／Ｈ２Ｏ
流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ【０４７２】
【表１４】
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【０４７３】
本発明の反応溶媒、抽出溶媒に好適に使用され、最も代表的な非極性溶媒であるヘプタン、並びにヘプタンに極性の異なる非極性溶媒であるトルエン、極性溶媒であるアセトニトリルを適宜混合した溶媒に対して、公知のヌクレオチド３’−水酸基の保護基（特開２０１０−２７５２５４号公報記載）に類似する直鎖構造を有する基で保護されたヌクレオシドに比較して、ヌクレオシド３’位水酸基が分岐鎖含有芳香族保護基で保護された分岐鎖含有芳香族保護ヌクレオシドは、顕著な溶解度を示すことが分かった。
【産業上の利用可能性】
【０４７４】
本発明の特定の塩基部保護オリゴヌクレオチドにより、効率的かつ高収率に、液−液抽出操作で精製可能な、ホスホロアミダイト法によるオリゴヌクレオチド製造方法を提供できるようになった。
本発明の塩基部保護オリゴヌクレオチドを用いることにより、ヌクレオチド伸長反応の各工程で得られる中間体のオリゴヌクレオチドの脂溶性及び有機溶媒（特に、非極性溶媒）に対する溶解性が格段に向上し、抽出操作のみで単離精製が可能となるため、固化単離などの煩雑で時間を要する操作を必要とせず、スピードが向上し、高重合度のオリゴヌクレオチド合成の効率性・生産性が格段に向上する。
さらに、（１）一時保護基で保護された５’末端水酸基の脱保護工程、（２）塩基部保護オリゴヌクレオチド添加による５’末端への伸長工程、および（３）ホスファイトトリエステル部位の酸化工程または硫化工程を含むヌクレオチド伸長反応に、本発明の脂溶性及び有機溶媒（特に、非極性溶媒）に対する溶解性が付与された塩基部保護（オリゴ）ヌクレオチドを用いて、一時保護基で保護された５’末端水酸基の脱保護反応中または脱保護反応後に特定のカチオン捕捉剤を添加すること、脱保護反応終了後に中和処理を施すこと、および酸化工程または硫化工程で特定の酸化剤または硫化剤を使用することにより、工程（１）、（２）及び（３）を液中で行うことが可能になり、ヌクレオチドが伸長したオリゴヌクレオチドを抽出操作のみで単離精製できるため、反応装置から生成物を取り出すことなく、次サイクルの伸長反応に繋げることができ、ワンポットでオリゴヌクレオチドの製造が連絡的に行えるようになった。【０４７５】
また、本発明のオリゴヌクレオチドの製造方法は、従来の液相法に比べても、オリゴヌクレオチドの配列および鎖長によらず、非極性溶媒中に安定的に溶解・移行させられるため、工程上では単離・精製工程を簡便化でき、総合的には高純度・高収率を確保できるという利点を有する。
本出願は、日本で出願された特願２０１２−０３３４２９及び特願２０１２−２５４７１８を基礎としており、その内容は本明細書にすべて包含されるものである。
【国際調査報告】
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