(57)【要約】【課題】表示装置のパネル表示時の色ムラの発生を抑制することができる偏光板を提供する。【解決手段】親水性高分子層と熱可塑性樹脂を含む基材層との積層体が延伸処理されてなり、前記親水性高分子層に二色性物質が吸着された延伸積層体を有する偏光板において、温度・湿度が異なる２つの環境下におけるカールの変動が所定値以下の値となるように制御する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
親水性高分子層と熱可塑性樹脂を含む基材層との積層体が延伸処理されてなり、前記親水性高分子層に二色性物質が吸着された延伸積層体を有する偏光板であって、
２３℃５５％ＲＨ環境下でのカールＣ１と、４０℃２０％ＲＨ環境下でのカールＣ２との差ΔＣ＝｜Ｃ１−Ｃ２｜が、ΔＣ≦８０［１／ｍ］を満たす、偏光板。
【請求項２】
前記基材層が、少なくとも２種の熱可塑性樹脂を含有する、請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記親水性高分子層の膜厚が０．５〜３０μｍである、請求項１または２に記載の偏光板。
【請求項４】
前記基材層に含まれる熱可塑性樹脂が、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、またはこれらの組み合わせからなる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項５】
前記基材層が、少なくとも、
第１の熱可塑性樹脂を含む第１の基材層と、
前記第１の基材層に対して前記親水性高分子層とは反対の側に配置された、第２の熱可塑性樹脂を含む第２の基材層と、
を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項６】
前記第１の基材層の弾性率Ｅａと、前記第２の基材層の弾性率Ｅｂとの差ΔＥ＝｜Ｅａ−Ｅｂ｜（ＭＰａ）が、ΔＥ≦３０００［ＭＰａ］を満たし、かつ、
２３℃５５％ＲＨ環境下での弾性率Ｅａ１およびＥｂ１と、４０℃２０％ＲＨ環境下での弾性率Ｅａ２およびＥｂ２とのそれぞれの差ΔＥａ＝｜Ｅａ１−Ｅａ２｜およびΔＥｂ＝｜Ｅｂ１−Ｅｂ２｜が、ΔＥａ，ΔＥｂ≦２０００［ＭＰａ］を満たす、請求項５に記載の偏光板。
【請求項７】
前記延伸積層体の膜厚が１０〜１００μｍである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項８】
前記親水性高分子層が、親水性高分子としてポリビニルアルコールを含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項９】
前記二色性物質がヨウ素である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の偏光板の製造方法であって、
前記基材層を溶液流延法により製膜する工程を含む、製造方法。
【請求項１１】
製膜された前記基材層の一方の表面に、親水性高分子を含有する溶液を塗布し、乾燥させて積層体を得る工程をさらに含む、請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記積層体を２〜１０倍の延伸倍率で延伸処理する工程をさらに含む、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の偏光板、または請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の製造方法によって製造された偏光板を備えた表示装置。
【請求項１４】
ＩＰＳモード型液晶表示装置である、請求項１３に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板およびこれを用いた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、表示装置の分野における技術革新は目覚ましく、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などの表示装置の開発が進められ、数多くの製品が上市されるに至っている。【０００３】
液晶表示装置の方式としては、通称ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等がよく知られている。液晶表示装置は通常、液晶層および当該液晶層を挟持する一対の基板を有する液晶セルと、当該液晶セルの両側（視認側およびバックライト側）にそれぞれ配置された偏光板と、を備えるものである。なかでもＩＰＳ（インプレーンスイッチング；In-Plane Switching）モード型液晶表示装置（以下、単に「ＩＰＳ型液晶表示装置」とも称する）は、現在、タブレット型表示装置やスマートフォンなどの携帯用機器に広く用いられている。ＩＰＳ型液晶表示装置では、黒表示時に液晶層に含まれる液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向するため、ＩＰＳ型液晶表示装置は黒表示性能に優れるという利点がある。また、ＩＰＳ型液晶表示装置では、いわゆる光学補償フィルム（視野角拡大フィルム）を用いなくともある程度の高視野角を確保できるという利点もある。一方、ＩＰＳ型液晶表示装置が備える液晶セルの光学的な特性上、斜め方向から画面を見たときに光漏れが発生し、表示画像のコントラストが低下するという問題があった。【０００４】
液晶表示装置では一般に、このようなコントラストの低下を防止することを目的として、位相差フィルムが使用されているが、さらなる性能向上のために、様々な光学設計に対応可能な位相差フィルムが求められるようになってきている。また、上述したような携帯用機器に搭載される位相差フィルムについては、よりいっそうの薄型化、軽量化の要求も強い。【０００５】
液晶表示装置の重要な構成部材の１つに、偏光板がある。偏光板は、偏光子と当該偏光子を保護するための偏光板保護フィルムとが積層されてなる構成を有する。偏光板の１つのタイプとして、いわゆる塗布型偏光板が知られているが、この塗布型偏光板は、加湿環境下においてカールが発生するという問題を抱えている。偏光板にカールが発生すると、表示装置を構成した際に局所的に表示ムラ（色ムラ）が生じてしまう。【０００６】
従来、塗布型偏光板を薄型化した場合に、特に加湿環境下においてもカールの発生を防止できる技術として、基材層と親水性高分子層との積層体を延伸処理した延伸積層体の親水性高分子層に二色性物質を吸着させたものを偏光板として用いる技術が提案されている（特許文献１を参照）。ここで、特許文献１では、基材層を構成する好ましい材料として、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂および（メタ）アクリル樹脂が例示されている。そして、特許文献１の実施例では、アクリル系樹脂フィルム（ラクトン化ポリメチルメタクリレートフィルム）やノルボルネン系樹脂フィルムを基材層として用いた例が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１０／０２０２０５１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者らは、上述した特許文献１に記載の技術について検討を行なった。その結果、特許文献１に記載の技術によって偏光板を構成した場合であっても、依然として表示装置を構成した場合に表示ムラ（色ムラ）が発生してしまう場合があることが判明した。【０００９】
そこで本発明は、表示装置のパネル表示時の色ムラの発生を抑制することができる偏光板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討を行なった。その結果、親水性高分子層と熱可塑性樹脂を含む基材層との積層体が延伸処理されてなり、前記親水性高分子層に二色性物質が吸着された延伸積層体を有する偏光板において、温度・湿度が異なる２つの環境下におけるカールの変動が所定値以下の値となるように制御することで、上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。【００１１】
すなわち、本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。【００１２】
１．親水性高分子層と熱可塑性樹脂を含む基材層との積層体が延伸処理されてなり、前記親水性高分子層に二色性物質が吸着された延伸積層体を有する偏光板であって、
２３℃５５％ＲＨ環境下でのカールＣ１と、４０℃２０％ＲＨ環境下でのカールＣ２との差ΔＣ＝｜Ｃ１−Ｃ２｜が、ΔＣ≦８０［１／ｍ］を満たす、偏光板；
２．前記基材層が、少なくとも２種の熱可塑性樹脂を含有する、上記１に記載の偏光板；
３．前記親水性高分子層の膜厚が０．５〜３０μｍである、上記１または２に記載の偏光板；
４．前記基材層に含まれる熱可塑性樹脂が、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、またはこれらの組み合わせからなる、上記１〜３のいずれか１項に記載の偏光板；
５．前記基材層が、少なくとも、
第１の熱可塑性樹脂を含む第１の基材層と、
前記第１の基材層に対して前記親水性高分子層とは反対の側に配置された、第２の熱可塑性樹脂を含む第２の基材層と、
を有する、上記１〜４のいずれか１項に記載の偏光板。【００１３】
６．前記第１の基材層の弾性率Ｅａと、前記第２の基材層の弾性率Ｅｂとの差ΔＥ＝｜Ｅａ−Ｅｂ｜（ＭＰａ）が、ΔＥ≦３０００［ＭＰａ］を満たし、かつ、
２３℃５５％ＲＨ環境下での弾性率Ｅａ１およびＥｂ１と、４０℃２０％ＲＨ環境下での弾性率Ｅａ２およびＥｂ２とのそれぞれの差ΔＥａ＝｜Ｅａ１−Ｅａ２｜およびΔＥｂ＝｜Ｅｂ１−Ｅｂ２｜が、ΔＥａ，ΔＥｂ≦２０００［ＭＰａ］を満たす、上記５に記載の偏光板；
７．前記延伸積層体の膜厚が１０〜１００μｍである、上記１〜６のいずれか１項に記載の偏光板；
８．前記親水性高分子層が、親水性高分子としてポリビニルアルコールを含む、上記１〜７のいずれか１項に記載の偏光板；
９．前記二色性物質がヨウ素である、上記１〜８のいずれか１項に記載の偏光板；
１０．上記１〜９のいずれか１項に記載の偏光板の製造方法であって、
前記基材層を溶液流延法により製膜する工程を含む、製造方法；
１１．製膜された前記基材層の一方の表面に、親水性高分子を含有する溶液を塗布し、乾燥させて積層体を得る工程をさらに含む、上記１０に記載の製造方法；
１２．前記積層体を２〜１０倍の延伸倍率で延伸処理する工程をさらに含む、上記１１に記載の製造方法；
１３．上記１〜９のいずれか１項に記載の偏光板、または上記１０〜１２のいずれか１項に記載の製造方法によって製造された偏光板を備えた表示装置；
１４．ＩＰＳモード型液晶表示装置である、上記１３に記載の表示装置。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００１５】
≪偏光板≫
本発明の一形態は、親水性高分子層と熱可塑性樹脂層との積層体が延伸処理されてなり、前記親水性高分子層に二色性物質が吸着された延伸積層体を有する偏光板に関する。そして、本形態に係る偏光板は、２３℃５５％ＲＨ環境下でのカールＣ１と、４０℃２０％ＲＨ環境下でのカールＣ２との差ΔＣ＝｜Ｃ１−Ｃ２｜が、ΔＣ≦８０［１／ｍ］を満たす点に特徴を有する。本発明によれば、表示装置のパネル表示時の色ムラの発生を抑制することができる偏光板が提供される。
【００１６】
本形態に係る偏光板は、上述したように、親水性高分子層と熱可塑性樹脂層との積層体が延伸処理されてなり、前記親水性高分子層に二色性物質が吸着された延伸積層体を有するものである。以下、当該延伸積層体の構成要素について、より詳細に説明する。
【００１７】
［親水性高分子層］
延伸積層体は、まず、親水性高分子層を備える。親水性高分子層は、親水性高分子を主成分として含有する層である。そして、本形態に係る偏光板において、親水性高分子層は二色性物質を吸着したものである。これにより、親水性高分子層は、本形態に係る偏光板において偏光子として機能することになる。
【００１８】
親水性高分子層を構成する親水性高分子について特に制限はないが、ポリビニルアルコール系材料が好ましく例示される。ポリビニルアルコール系材料としては、例えば、ポリビニルアルコールおよびその誘導体が挙げられる。ポリビニルアルコールの誘導体としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等があげられるほか、エチレン、プロピレン等のオレフィン、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸そのアルキルエステル、アクリルアミド等で変性したものが挙げられる。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜１００００程度が好ましく、１０００〜１００００がより好ましい。ケン化度は８０〜１００モル％程度のものが一般に用いられる。上記のほか、親水性高分子としては、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化物、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等が挙げられる。前記親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系材料のなかでも、ポリビニルアルコールを用いるのが好ましい。
【００１９】
親水性高分子層は、上述した親水性高分子に加えて、可塑剤、界面活性剤等の添加剤を含有してもよい。可塑剤としては、ポリオールおよびその縮合物等が挙げられ、例えばグリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられる。可塑剤等の使用量は特に制限されないが、親水性高分子層の全量１００質量％に対して２０質量％以下とするのが好ましい。
【００２０】
親水性高分子層に吸着される二色性物質の具体的な構成についても特に制限はないが、例えば、ヨウ素や有機染料等が挙げられる。有機染料としては、例えば、レッドＢＲ、レッドＬＲ、レッドＲ、ピンクＬＢ、ルビンＢＬ、ボルドーＧＳ、スカイブルーＬＧ、レモンエロー、ブルーＢＲ、ブルー２Ｒ、ネイビーＲＹ、グリーンＬＧ、バイオレットＬＢ、バイオレットＢ、ブラックＨ、ブラックＢ、ブラックＧＳＰ、エロー３Ｇ、エローＲ、オレンジＬＲ、オレンジ３Ｒ、スカーレットＧＬ、スカーレットＫＧＬ、コンゴーレッド、ブリリアントバイオレットＢＫ、スプラブルーＧ、スプラブルーＧＬ、スプラオレンジＧＬ、ダイレクトスカイブルー、ダイレクトファーストオレンジＳ、ファーストブラック、等が用いられうる。なかでも、水溶性、工程適性という観点からは、二色性物質としてヨウ素が用いられることが好ましい。これらの二色性物質は、１種のみが単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。
【００２１】
親水性高分子層における二色性物質の吸着量についても特に制限はなく、従来公知の知見を参照して適宜設定することが可能である。
【００２２】
親水性高分子層の延伸後の厚みは特に制限されないが、好ましくは０．５〜３０μｍであり、より好ましくは１〜１０μｍである。当該厚みが下限値以上の値であれば、製造時の厚みばらつきの影響が小さくなり、外観不良が起こりにくくなるという利点がある。一方、当該厚みが上限値以下の値であれば、水溶液の乾燥性が良くなり、生産性が向上するという利点がある。なお、親水性高分子層の厚みの値としては、延伸した積層体の厚みから基材フィルムのみを同条件で延伸したフィルムの厚みを引くという手法により測定した値を採用するものとする。また、厚みの測定は膜厚計などを使用して行う。
【００２３】
［基材層］
延伸積層体はまた、基材層を備える。基材層は、延伸積層体（偏光板）の作製時において、親水性高分子層を作製するための基材として機能しうる。また、基材層は、本形態に係る偏光板において、偏光子を保護するための保護層（保護フィルム）として機能する。なお、基材層と親水性高分子層との間に、必要に応じて別の層を設けてもよい。
【００２４】
基材層は熱可塑性樹脂を含む。基材層に含まれる熱可塑性樹脂について特に制限はなく、上述した偏光板のΔＣを達成できる材料であればいずれのものも用いられうる。好ましくは、基材層は延伸可能な熱可塑性樹脂から構成される。延伸可能な熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、またはこれらの組み合わせが挙げられる。この際、アクリル系樹脂としては、メチルメタクリレート由来の構成単位を主成分として含有し、これと共重合可能なモノマー成分由来の構成単位をさらに含むアクリル系樹脂が好ましく用いられる。共重合可能なモノマー成分としては、環構造を有するアクリル酸誘導体も含まれる。また、スチレン系樹脂としては、スチレン由来の構成単位を主成分として含有し、これと共重合可能なモノマー成分由来の構成単位をさらに含むスチレン系樹脂が挙げられる。さらに、シクロオレフィン系樹脂としては、シクロオレフィン子ポリマーと称される、ノルボルネン系樹脂等が挙げられる。また、ポリプロピレン系樹脂としては、ポリプロピレンのほか、一部ポリエチレンを含むポリプロピレンなどが挙げられ、ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などが挙げられる。
【００２５】
なかでも、好ましい実施形態において、基材層は、セルロース系樹脂を含有する。セルロース系樹脂の具体的な形態についても特に制限はないが、セルロースエステル、セルロースエーテル、カチオン化セルロース、各種ビニル単量体などの存在下で重合したセルロース系樹脂、各種ビニル単量体などとのグラフト重合体などが用いられる。なかでも、セルロースエステル樹脂が特に好ましく用いられる。
【００２６】
セルロースエステル樹脂の具体的な形態についても特に制限はないが、特に脆性の改善や透明性の観点から、下記数式（１）〜（３）：
【００２７】
【数１】
2013115178.tif 000002
【００２８】
式中、Ａはアセチル基の置換度を表し、Ｂは炭素数３〜７のアシル基の置換度の総和を表す、
の関係を満たすアシル基置換度を有するものであることが好ましい。
【００２９】
セルロースエステル樹脂の炭素数２〜７のアシル基の総置換度（Ａ＋Ｂ）が２．０以上であれば（すなわち、セルロースエステル分子の２，３，６位の水酸基の残度が１．０以下であれば）、基材層が偏光板保護フィルムとして機能する場合にもヘイズの上昇が防止される。また、アシル基総置換度（Ａ＋Ｂ）が２．０以上で、かつ、炭素数が３〜７のアシル基の置換度が１．０以上であれば、脆性の低下が防止される。
【００３０】
セルロースエステル樹脂のアシル基置換度は、総置換度（Ａ）が２．０〜３．０であり、アセチル基の置換度（Ａ）が０．１５〜２．０であり、炭素数が３〜７のアシル基の置換度（Ｂ）が１．２〜３．０であれば問題ないが、炭素数が３〜７以外のアシル基、すなわち、アセチル基や炭素数が８以上のアシル基の置換度の総計が１．３以下とされることが好ましい。また、セルロースエステル樹脂の炭素数２〜７のアシル基の総置換度（Ａ＋Ｂ）は、２．５〜３．０の範囲であることがさらに好ましい。
【００３１】
なお、前記アシル基は、脂肪族アシル基であっても、芳香族アシル基であってもよい。脂肪族アシル基の場合は、直鎖であっても分岐していてもよく、さらに置換基を有してもよい。本発明におけるアシル基の炭素数は、アシル基の置換基を包含するものである。
【００３２】
セルロースエステル樹脂が、芳香族アシル基を置換基として有する場合、芳香族環に置換する置換基Ｘの数は０〜５個であることが好ましい。この場合も、上述した好ましい実施形態では、置換基を含めた炭素数が３〜７であるアシル基の置換度が１．０〜２．７５となるように留意が必要である。例えば、ベンゾイル基は炭素数が７になるため、炭素を含む置換基を有する場合は、ベンゾイル基としての炭素数は８以上となり、炭素数が３〜７のアシル基には含まれないこととなる。
【００３３】
さらに、芳香族環に置換する置換基の数が２個以上のとき、これらは互いに同じでも異なっていてもよく、また、互いに連結して縮合多環化合物（例えばナフタレン、インデン、インダン、フェナントレン、キノリン、イソキノリン、クロメン、クロマン、フタラジン、アクリジン、インドール、インドリンなど）を形成してもよい。
【００３４】
セルロースエステル樹脂としては、特にセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートベンゾエート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレートから選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。これらの中で特に好ましいセルロースエステル樹脂は、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースプロピオネートである。本発明では２種以上のセルロースエステル樹脂を混合して用いることもできる。
【００３５】
なお、アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。また、アセチル基の置換度や他のアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めたものである。
【００３６】
セルロースエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に脆性の改善の観点から好ましくは７５０００以上であり、７５０００〜３０００００の範囲であることがより好ましく、１０００００〜２４００００の範囲内であることがさらに好ましく、１６００００〜２４００００のものが特に好ましい。セルロースエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が７５０００を下回る場合は、耐熱性や脆性の改善効果が十分に得られない虞がある。
【００３７】
延伸積層体を構成する基材層の厚みについて特に制限はないが、好ましくは１０〜２００μｍであり、さらに好ましくは２０〜８０μｍである。当該厚みが下限値以上であれば、偏光板としての強度が十分に確保される。一方、当該厚みが上限値以下であれば、偏光板のカールの発生がよりいっそう防止されうる。なお、基材層の厚みの値としては、基材フィルムのみを同条件で延伸したフィルムを作製し、その厚みを測定した値を採用するものとする。
【００３８】
基材層の、２３℃の水中に２４時間含浸したときの吸水率は１．０〜８．０質量％であることが好ましい。当該吸水率は、好ましくは２．０〜５．０質量％であり、より好ましくは３．０〜５．０質量％である。なお、基材層の吸水率の値としては、以下の手法により測定した値を採用するものとする。
【００３９】
（基材層の吸水率の測定方法）
延伸積層体から基材層のみを分離し、これを２３℃の水中に２４時間含浸した後、水中から引き上げて基材層の質量（Ｍ１）を測定する。続いて、基材層に対して２３℃５５％ＲＨにて２４時間静置した後、基材層の質量（Ｍ０）を測定する。これらの測定結果から、下記数式（４）に従って、吸水率を算出する。
【００４０】
【数２】
2013115178.tif 000003
【００４１】
吸水率が上述の規定を満たすような基材層を用いて親水性高分子層との延伸積層体を構成し、これを偏光板として用いることで、表示装置のパネル表示時の表示ムラの発生をより確実に抑制することができる。
【００４２】
セルロースエーテル樹脂の具体的な形態についても特に制限はないが、セルロース分子中の２，３，６位の少なくとも１つの置換基に、エーテル結合を有する。ここで言うエーテル結合とは、炭素−酸素−炭素結合のことである。セルロースエーテルとしては、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、光学フィルムとしての透明性、耐久性を確保するためには、エチルセルロースが最適である。エトキシル置換度は、１．９〜２．９の範囲であることが好ましく、溶融時の粘度の関係と耐湿熱環境の安定性のバランスから、２．２〜２．９の範囲であることが特に好ましい。また、エーテル置換度はＡＳＴＭ Ｄ４７９４−９４に記載の方法にて定量することができる。セルロースエーテルの分子量としては、単独でフィルム化することができればよく、具体的には、数平均分子量Ｍｎが、３０，０００≦Ｍｎ≦３００，０００（ポリスチレン換算）の範囲であればよく、さらに、好適には、５０，０００〜２００，０００のものが使用される。分子量が小さすぎると、フィルムが脆くなり、また、分子量が高すぎると、粘度高く、成形加工時の成形安定性が悪くなるため、製造上好ましくない。
【００４３】
本発明の好ましい実施形態において、基材層は、少なくとも２種の熱可塑性樹脂を含む。かような実施形態において、基材層に含まれる少なくとも２種の熱可塑性樹脂は、セルロースエステル系樹脂およびアクリル系樹脂を必須に含むことが好ましく、熱可塑性樹脂としてはこれら２種のみが含まれることが特に好ましい。
【００４４】
基材層が２種以上の熱可塑性樹脂を含む形態としては、（ｉ）２種以上の熱可塑性樹脂が相溶状態の混合物として均一組成の１層の基材層を構成する形態や、（ｉｉ）異なる熱可塑性樹脂を主剤として含む２層以上の基材層が積層されて基材層を構成する形態、（ｉｉｉ）これら（ｉ）および（ｉｉ）を組み合わせた形態などが例示される。
【００４５】
（ｉ）の形態としては、例えば、セルロースエステル系樹脂とアクリル系樹脂とが相溶状態で含まれる形態が例示される。かような形態については、国際公開第２０１１／１２１７２０号パンフレットや国際公開第２０１１／１２１８１７号パンフレットの開示内容などが参照されうる。
【００４６】
また、（ｉｉ）の形態についても特に制限はなく、上述したいずれかの熱可塑性樹脂を含む基材層と、当該熱可塑性樹脂とは異なる熱可塑性樹脂を含む基材層とが積層されてなる形態であればいずれのものも採用されうる。ただし、親水性高分子層との密着性を確保するという観点からは、積層された異なる組成の基材層のうち、親水性高分子層の側に位置する基材層（本明細書中、「第１の基材層」とも称する）がセルロース系樹脂（好ましくは、セルロースエステル樹脂）を含有し、親水性高分子層とは反対の側に位置する基材層（本明細書中、「第２の基材層」とも称する）がアクリル系樹脂を含有することが好ましい。
【００４７】
さらに、好ましい実施形態として、第１の基材層の弾性率Ｅａと、第２の基材層の弾性率Ｅｂとの差ΔＥ＝｜Ｅａ−Ｅｂ｜（ＭＰａ）が、ΔＥ≦３０００［ＭＰａ］を満たすことが好ましく、ΔＥ≦２５００を満たすことがより好ましく、ΔＥ≦２０００を満たすことがさらに好ましい。また、２３℃５５％ＲＨ環境下での弾性率ＥａおよびＥｂをそれぞれＥａ１およびＥｂ１とし、４０℃２０％ＲＨ環境下での弾性率ＥａおよびＥｂをそれぞれＥａ２およびＥｂ２としたときの、ＥａおよびＥｂのそれぞれの差ΔＥａ＝｜Ｅａ１−Ｅａ２｜およびΔＥｂ＝｜Ｅｂ１−Ｅｂ２｜が、ΔＥａ，ΔＥｂ≦２０００［ＭＰａ］を満たすことが好ましく、ΔＥａ，ΔＥｂ≦１５００を満たすことがより好ましく、ΔＥｂ≦１０００を満たすことがさらに好ましい。なお、上述したΔＥの好ましい規定と、ΔＥａおよびΔＥｂの好ましい規定との双方を満たすこともまた、より好ましい実施形態である。なお、第１の基材層および第２の基材層の弾性率の値としては、後述する実施例の欄に記載の手法により測定された値を採用するものとする。また、第１の基材層および第２の基材層の弾性率の値を制御するには、基材層の作製時において、延伸倍率、延伸速度、延伸時の温度、延伸時の湿度などを適宜調節すればよい。
【００４８】
基材層は、上述した熱可塑性樹脂に加えて、種々の添加剤を含みうる。
【００４９】
〈低分子量アクリルポリマー〉
基材層に添加されうる添加剤としては、まず、低分子量アクリルポリマーが挙げられる。当該低分子量アクリルポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは５００〜３００００である。低分子量アクリルポリマーのなかでも分子内に芳香環および親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａを重合して得られた重量平均分子量５００〜３００００のポリマーＸ１、または、分子内に芳香環および親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量５００〜３００００のポリマーＸ２を含有することが好ましい。ここで、分子内に芳香環および親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａとしては、後述するような（メタ）アクリル酸エステルが挙げられ、なかでもメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）が特に好ましい。また、分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとしては、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン、ヒドロキシエチルメタクリレートなどが挙げられる。Ｘ２におけるＸａ由来の構成単位とＸｂ由来の構成単位との含有比率について特に制限はないが、Ｘａ由来の構成単位：Ｘｂ由来の構成単位の質量比として、５０：５０〜９５：５が好ましく、６０：４０〜９０：１０がより好ましく、７０：３０〜８０：２０が特に好ましい。
【００５０】
なお、上述したアクリルポリマーの重量平均分子量は、好ましくは１５００〜２００００であり、より好ましくは２０００〜１００００であり、特に好ましくは２５００〜５０００である。アクリルポリマーの重量平均分子量がかような範囲内の値であれば、揮発性と相溶性のバランスがとりやすいという利点がある。
【００５１】
また、上述したアクリルポリマーの基材層における含有量は、熱可塑性樹脂１００質量％に対して、好ましくは１０〜４０質量％であり、より好ましくは２０〜３０質量％である。なお、基材層が複数の基材層の積層体からなる場合、この含有量の値は、当該添加剤が含まれる基材層を構成する熱可塑性樹脂の総量に対する質量割合である（以下同様）。
【００５２】
低分子量アクリルポリマー以外の添加剤としては、例えば、可塑剤、糖エステル化合物、リターデーション調整剤、着色剤などが挙げられる。
【００５３】
〈可塑剤〉
可塑剤の具体的な形態について特に制限はないが、例えば、ポリエステル系可塑剤が挙げられる。ポリエステル系可塑剤の具体的な構造について特に制限はなく、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するポリエステル系可塑剤が用いることができる。ポリエステル系可塑剤としては、例えば、下記一般式（４）で表されるポリエステル化合物が挙げられる。
【００５４】
【化１】
2013115178.tif 000004
【００５５】
で表されるポリエステル化合物が挙げられる。
【００５６】
一般式（４）において、Ｂは、炭素数２〜６の直鎖または分岐のアルキレン基またはシクロアルキレン基を表し、Ａは、炭素数６〜１４の芳香環、または、炭素数２〜６の直鎖もしくは分岐のアルキレン基もしくはシクロアルキレン基を表し、Ｘは、水素原子または炭素数６〜１４の芳香環を含むモノカルボン酸残基を表し、ｎは、１以上の自然数を表す。
【００５７】
一般式（４）で表されるポリエステル化合物は、芳香環（炭素数６〜１４）または直鎖もしくは分岐のアルキレン基もしくはシクロアルキレン基（ともに炭素数２〜６）を有するジカルボン酸と、炭素数２〜６の直鎖または分岐のアルキレンジオールまたはシクロアルキレンジオールとの交互共重合により得られる交互共重合体である。芳香族ジカルボン酸と、直鎖または分岐のアルキレン基またはシクロアルキレン基を有するジカルボン酸とは、それぞれ単独で用いても、混合物として用いても構わないが、偏光板保護フィルムを構成する主成分の樹脂（例えば、セルロースエステル樹脂）との相溶性の点から、少なくとも芳香族ジカルボン酸が１０％以上含まれることが好ましい。また、芳香環（炭素数６〜１４）を有するモノカルボン酸で両末端を封止してもよい。
【００５８】
芳香環（炭素数６〜１４）を有するジカルボン酸、つまり、炭素数６〜１６の芳香族ジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ナフタレンジカルボン酸、２，２’−ビフェニルジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸、等が挙げられる。そのなかでも好ましくは、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸である。
【００５９】
直鎖または分岐のアルキレン基またはシクロアルキレン基（炭素数２〜６）を有するジカルボン酸としては、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、等が挙げられる。そのなかでも好ましくは、コハク酸、アジピン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸である。
【００６０】
また、炭素数が２〜６の直鎖または分岐のアルキレンジオールまたはシクロアルキレンジオールとしては、例えば、エタンジオール（エチレングリコール）、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。そのなかでも、好ましくはエタンジオール（エチレングリコール）、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオールである。
【００６１】
なかでも、Ａが置換基を有していてもよいベンゼン環、ナフタレン環またはビフェニル環であることが、可塑性付与性能に優れるという観点から好ましい。ここで、ベンゼン環、ナフタレン環またはビフェニル環が有しうる「置換基」とは、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、または炭素数１〜６のアルコキシ基である。
【００６２】
ポリエステル化合物の両末端を封止する、芳香環（炭素数６〜１４）を有するモノカルボン酸としては、例えば、安息香酸、オルトトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、パラターシャリブチル安息香酸、ジメチル安息香酸、パラメトキシ安息香酸が挙げられる。そのなかでも好ましくは安息香酸、パラトルイル酸、パラターシャリブチル安息香酸である。
【００６３】
芳香族ポリエステル化合物は、常法により上述したジカルボン酸とアルキレンジオールまたはシクロアルキレンジオールとのポリエステル化反応またはエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によって容易に合成することができる。さらに、上述した芳香族モノカルボン酸を加えることで、両末端が封止されたポリエステル化合物を合成することができる。
【００６４】
以下に、本発明において用いられうる芳香族ポリエステル化合物を例示する。
【００６５】
【化２】
2013115178.tif 000005
【００６６】
【化３】
2013115178.tif 000006
【００６７】
【化４】
2013115178.tif 000007
【００６８】
【化５】
2013115178.tif 000008
【００６９】
【化６】
2013115178.tif 000009
【００７０】
【化７】
2013115178.tif 000010
【００７１】
基材層は、一般式（４）で表されるポリエステル化合物以外の可塑剤をさらに含有することができる。
【００７２】
一般式（４）で表されるポリエステル化合物以外の可塑剤としては特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤および多価アルコールエステル系可塑剤、エステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。
【００７３】
そのうち、可塑剤を二種以上用いる場合は、少なくとも一種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。
【００７４】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。
【００７５】
本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式（ａ）で表される。
【００７６】
【化８】
2013115178.tif 000011
【００７７】
（式中、Ｒ１１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性、および／またはフェノール性ヒドロキシ基（水酸基）を表す。
【００７８】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００７９】
アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。
【００８０】
特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【００８１】
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【００８２】
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、これに限定されるものではない。
【００８３】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースアセテートとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【００８４】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【００８５】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【００８６】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基あるいはエトキシ基などのアルコキシ基を１〜３個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
【００８７】
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースアセテートとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【００８８】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【００８９】
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
【００９０】
【化９】
2013115178.tif 000012
【００９１】
【化１０】
2013115178.tif 000013
【００９２】
【化１１】
2013115178.tif 000014
【００９３】
【化１２】
2013115178.tif 000015
【００９４】
グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。
【００９５】
アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
【００９６】
フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
【００９７】
クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
【００９８】
脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
【００９９】
リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
【０１００】
多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上、好ましくは２価〜２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は３価〜２０価であることが好ましい。
【０１０１】
多価カルボン酸は次の一般式（ｂ）で表される。
【０１０２】
【化１３】
2013115178.tif 000016
【０１０３】
式中、Ｒ１２は（ｍ１＋ｎ１）価の有機基、ｍ１は２以上の正の整数、ｎ１は０以上の整数、ＣＯＯＨ基はカルボキシ基、ＯＨ基はアルコール性またはフェノール性ヒドロキシ基を表す。
【０１０４】
好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０５】
トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。
【０１０６】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。
【０１０７】
例えば炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１０８】
また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールまたはその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコールまたはその誘導体なども好ましく用いることができる。
【０１０９】
多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性またはフェノール性のヒドロキシ基（水酸基）を、モノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１１０】
脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１１１】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。
【０１１２】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１１３】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上持つ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。
【０１１４】
多価カルボン酸エステル化合物の分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１０００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロース系樹脂との相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１１５】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。
【０１１６】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物の酸価は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによって、リターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。
【０１１７】
なお、酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシ基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定したものである。
【０１１８】
特に好ましい多価カルボン酸エステル化合物の例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１１９】
例えば、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられる。
【０１２０】
可塑剤は、基材層の全量１００質量％に対して、０．１〜３０質量％の量で含まれることが好ましく、より好ましくは２〜２０質量％である。
【０１２１】
〈糖エステル化合物〉
基材層が糖エステル化合物をさらに含むことで、セルロースエステル樹脂の加水分解が防止されることから、フィルムの耐水性が向上しうる。
【０１２２】
糖エステル化合物の一例としては、下記一般式（５）：
【０１２３】
【化１４】
2013115178.tif 000017
【０１２４】
で表される化合物が挙げられる。
【０１２５】
一般式（５）において、Ｑは、単糖類または二糖類の残基を表し、Ｒは、脂肪族基または芳香族基を表し、ｍは、単糖類または二糖類の残基に直接結合している水酸基の数の合計であり、ｌは、単糖類または二糖類の残基に直接結合している−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ）基の数の合計であり、３≦ｍ＋ｌ≦８であり、ｌ≠０である。
【０１２６】
一般式（５）で表される構造を有する化合物は、水酸基の数（ｍ）、−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ）基の数（ｌ）が固定された単一種の化合物として単離することは困難であり、式中のｍ、ｌの異なる成分が数種類混合された化合物となることが知られている。したがって、水酸基の数（ｍ）、−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ）基の数（ｌ）が各々変化した混合物としての性能が重要であり、本形態のようなセルロースアシレートフィルムの場合、ヘイズ特性に対し一般式（５）で表される構造を有し、かつｍ＝０の成分とｍ＞０の成分との混合比率が４５：５５〜０：１００である化合物が好ましい。さらに性能的、コスト的により好ましくはｍ＝０の成分とｍ＞０の成分との混合比率が１０：９０〜０．１：９９．９の範囲である。なお、上記のｍ＝０の成分とｍ＞０の成分は、常法により高速液体クロマトグラフィによって測定することが可能である。
【０１２７】
上記一般式（５）において、Ｑは単糖類または二糖類の残基を表す。単糖類の具体例としては、例えばアロース、アルトロース、グルコース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソースなどが挙げられる。
【０１２８】
以下に、一般式（５）で表される、単糖類残基を有する化合物の構造例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１２９】
【化１５】
2013115178.tif 000018
【０１３０】
二糖類の具体例としては、例えば、トレハロース、スクロース、マルトース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、イソトレハロースなどが挙げられる。
【０１３１】
以下に、一般式（５）で表される、二糖類残基を有する化合物の構造例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１３２】
【化１６】
2013115178.tif 000019
【０１３３】
一般式（５）において、Ｒは、脂肪族基または芳香族基を表す。ここで、脂肪族基および芳香族基はそれぞれ独立に置換基を有していてもよい。
【０１３４】
また、一般式（５）において、ｍは、単糖類または二糖類の残基に直接結合している水酸基の数の合計であり、ｌは、単糖類または二糖類の残基に直接結合している−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ）基の数の合計である。そして、３≦ｍ＋ｌ≦８であることが必要であり、４≦ｍ＋ｌ≦８であることが好ましい。また、ｌ≠０である。なお、ｌが２以上である場合、−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ）基は互いに同じでもよいし異なっていてもよい。
【０１３５】
Ｒの定義における脂肪族基は、直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数１〜２５のものが好ましく、１〜２０のものがより好ましく、２〜１５のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、シクロプロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、ｉｓｏ−アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ビシクロオクチル、アダマンチル、ｎ−デシル、ｔｅｒｔ−オクチル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ジデシルなどが挙げられる。
【０１３６】
また、Ｒの定義における芳香族基は、芳香族炭化水素基でもよいし、芳香族複素環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニルが特に好ましい。芳香族複素環基としては、酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。複素環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族複素環基としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが特に好ましい。
【０１３７】
次に、一般式（５）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１３８】
【化１７】
2013115178.tif 000020
【０１３９】
【化１８】
2013115178.tif 000021
【０１４０】
（合成例：一般式（５）で表される化合物の合成例）
【０１４１】
【化１９】
2013115178.tif 000022
【０１４２】
撹拌装置、還流冷却器、温度計および窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖３４．２ｇ（０．１モル）、無水安息香酸１８０．８ｇ（０．８モル）、ピリジン３７９．７ｇ（４．８モル）を仕込み、撹拌下に窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、７０℃で５時間エステル化反応を行った。次に、コルベン内を４×１０２Ｐａ以下に減圧し、６０℃で過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を１．３×１０Ｐａ以下に減圧し、１２０℃まで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエン１Ｌ、０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液３００ｇを添加し、５０℃で３０分間撹拌後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水１００ｇを添加し、常温で３０分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下（４×１０２Ｐａ以下）、６０℃でトルエンを留去させ、例示化合物１、例示化合物２、例示化合物３、例示化合物４、および例示化合物５の混合物を得た。得られた混合物をＨＰＬＣおよびＬＣ−ＭＡＳＳで解析したところ、例示化合物１が７質量％、例示化合物２が５８質量％、例示化合物３が２３質量％、例示化合物４が９質量％、例示化合物５が３質量％であった。なお、得られた混合物の一部をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、それぞれ純度１００％の例示化合物１、例示化合物２、例示化合物３、例示化合物４、および例示化合物５を得た。
【０１４３】
糖エステル化合物は、基材層の全量１００質量％に対して、０．１〜３０質量％の量で含まれることが好ましく、より好ましくは２〜２０質量％である。
【０１４４】
〈リターデーション調整剤〉
基材層は、リターデーション調整剤を含んでもよい。リターデーション調整剤とは、その添加によってフィルムのリターデーション発現性を調整できる添加剤である。その具体的な構成について特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。また、波長分散を調整する効果を同時に有するリターデーション調整剤も存在するが、これを用いてもよい。
【０１４５】
本発明において用いられうるリターデーション調整剤としては、例えば、欧州特許第９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、２つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物が挙げられる。また、２種以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環をも含む。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に不飽和ヘテロ環である。中でも１，３，５−トリアジン環を有する化合物が特に好ましい。
【０１４６】
また、リターデーション調整剤の他の例として、特開２０１０−１６３４８２号公報に一般式（Ｉ）として開示されている化合物が挙げられる。当該一般式（Ｉ）の具体例は、同公報の段落「００５２」〜「００５８」に開示されている。また、特開２０１０−１６３４８３号公報に一般式（Ｉ）として開示されている化合物もまた、同様にリターデーション調整剤として用いられうる。当該一般式（Ｉ）の具体例は、同公報の段落「００５４」〜「００６８」に開示されている。
【０１４７】
リターデーション調整剤は、基材層の全量１００質量％に対して、０．１〜３０質量％の量で含まれることが好ましく、より好ましくは２〜２０質量％である。
【０１４８】
〈ポリエステル〉
基材層は、下記のポリエステルを含有することも好ましい。
【０１４９】
（一般式（ｄ）または（ｅ）で表されるポリエステル）
基材層は、下記一般式（ｄ）または（ｅ）で表されるポリエステルを含みうる。
【０１５０】
【化２０】
2013115178.tif 000023
【０１５１】
（式中、Ｂ１はモノカルボン酸を表し、Ｇは２価のアルコールを表し、Ａは２塩基酸を表す。Ｂ１、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｍは繰り返し数を表す。）
【０１５２】
【化２１】
2013115178.tif 000024
【０１５３】
（式中、Ｂ２はモノアルコールを表し、Ｇは２価のアルコールを表し、Ａは２塩基酸を表す。Ｂ２、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｎは繰り返し数を表す。）
一般式（ｄ）、（ｅ）において、Ｂ１はモノカルボン酸成分を表し、Ｂ２はモノアルコール成分を表し、Ｇは２価のアルコール成分を表し、Ａは２塩基酸成分を表し、これらによって合成されたことを表す。Ｂ１、Ｂ２、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まないことが特徴である。ｍ、ｎは繰り返し数を表す。
【０１５４】
Ｂ１で表されるモノカルボン酸としては、特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸等を用いることができる。
【０１５５】
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のものが挙げられるが、本発明はこれに限定されない。
【０１５６】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖のまたは側鎖を有する脂肪酸が好ましく用いられうる。炭素数１〜２０であることがさらに好ましく、炭素数１〜１２であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースアシレートとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸とを混合して用いることも好ましい。
【０１５７】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が挙げられる。
【０１５８】
Ｂ２で表されるモノアルコール成分としては、特に制限はなく公知のアルコール類が用いられうる。例えば、炭素数１〜３２の直鎖のまたは側鎖を有する脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールが好ましく用いられうる。炭素数１〜２０であることがさらに好ましく、炭素数１〜１２であることが特に好ましい。
【０１５９】
Ｇで表される２価のアルコール成分としては、以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，５−ペンチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等が挙げられるが、これらのうちエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールが好ましく、さらに、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコールが好ましく用いられる。
【０１６０】
Ａで表される２塩基酸（ジカルボン酸）成分としては、脂肪族２塩基酸、脂環式２塩基酸が好ましく、脂肪族２塩基酸としては、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸等、特に、脂肪族ジカルボン酸としては炭素数４〜１２のもの、これらから選ばれる少なくとも１つのものが使用されうる。つまり、２種以上の２塩基酸を組み合わせて使用してもよい。
【０１６１】
ｍ、ｎは繰り返し数を表し、１以上で１７０以下が好ましい。
【０１６２】
（一般式（ｆ）または（ｇ）で表されるポリエステル）
基材層は、下記一般式（ｆ）または（ｇ）で表されるポリエステルを含みうる。
【０１６３】
【化２２】
2013115178.tif 000025
【０１６４】
（式中、Ｂ１は炭素数１〜１２のモノカルボン酸を表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表す。Ｂ１、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｍは繰り返し数を表す。）
【０１６５】
【化２３】
2013115178.tif 000026
【０１６６】
（式中、Ｂ２は炭素数１〜１２のモノアルコールを表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表す。Ｂ２、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｎは繰り返し数を表す。）
一般式（ｆ）、（ｇ）において、Ｂ１はモノカルボン酸成分を表し、Ｂ２はモノアルコール成分を表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコール成分を表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸成分を表し、これらによって合成されたことを表す。Ｂ１、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｍ、ｎは繰り返し数を表す。なお、Ｂ１、Ｂ２は、前述の一般式（ｄ）または（ｅ）におけるＢ１、Ｂ２と同義である。また、Ｇ、Ａは、前述の一般式（ｄ）または（ｅ）におけるＧ、Ａの中で炭素数２〜１２のアルコール成分または２塩基酸成分に相当する。
【０１６７】
ポリエステルの数平均分子量は１０００以上１００００以下である。数平均分子量が１０００未満では、高温高倍率延伸で破断が生じやすく、１００００より大きいと相分離起因の白化が増加しやすい。
【０１６８】
ポリエステルの重縮合は常法によって行われる。例えば、上記２塩基酸とグリコールとの直接反応、上記の２塩基酸またはこれらのアルキルエステル類、例えば２塩基酸のメチルエステルとグリコール類とのポリエステル化反応またはエステル交換反応により熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコールとの脱ハロゲン化水素反応のいずれかの方法により容易に合成することができるが、重量平均分子量がさほど大きくないポリエステルは直接反応により合成することが好ましい。
【０１６９】
低分子量側に分布が高くあるポリエステルはセルロースアシレートとの相溶性が非常によく、フィルム形成後、透湿度も小さく、しかも透明性に富んだセルロースアシレートフィルムを得ることができる。分子量の調節方法は、特に制限なく従来の方法を使用できる。例えば、重合条件にもよるが、１価の酸または１価のアルコールで分子末端を封鎖する方法を用いる場合には、これらの１価の原料化合物の添加量を調整することで分子量を調節することができる。この場合、１価の酸の添加量を調整することが、ポリマーの安定性の観点から好ましい。例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸等が挙げられるが、重縮合反応中には系外に留去されず、停止して反応系外に除去するときには留去し易いものを選ぶことが好ましい。なお、この目的で複数の化合物を混合使用してもよい。また、直接反応の場合には、反応中に生成する水の量により反応を停止するタイミングを計ることによっても重量平均分子量を調節できる。その他、仕込むグリコールまたは２塩基酸のモル数を偏らせることによっても分子量の調節が可能であるし、反応温度をコントロールして分子量を調節することもできる。
【０１７０】
ポリエステルは、基材層の全量１００質量％に対して、０．１〜３０質量％の量で含まれることが好ましく、２〜２０質量％の量で含まれることがより好ましい。
【０１７１】
〈紫外線吸収剤〉
基材層は、紫外線吸収剤を含有することもできる。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、さらに好ましくは２％以下である。なお、基材層が紫外線吸収剤を含む場合、当該紫外線吸収剤は２種以上含まれることが好ましい。
【０１７２】
本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。
【０１７３】
例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖および側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもＢＡＳＦジャパン株式会社製の市販品であり好ましく使用できる。
【０１７４】
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、である。このほか、１，３，５トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【０１７５】
紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。また、無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル樹脂中にディゾルバーやサンドミルを使用して分散してからドープに添加すればよい。
【０１７６】
紫外線吸収剤は、基材層の全量１００質量％に対して、０．１〜１５質量％の量で含まれることが好ましく、１〜１０質量％の量で含まれることがより好ましい。
【０１７７】
〈赤外線吸収剤〉
基材層は、赤外線吸収剤を含んでもよい。かような構成とすることにより、フィルムの逆波長分散性が調整されうる。
【０１７８】
赤外線吸収剤は、７５０〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、８００〜１０００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することがさらに好ましい。また、赤外線吸収剤は、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
【０１７９】
赤外線吸収剤としては、赤外線吸収染料または赤外線吸収顔料を用いることが好ましく、赤外線吸収染料を用いることが特に好ましい。
【０１８０】
赤外線吸収染料には、有機化合物と無機化合物が含まれる。有機化合物である赤外線吸収染料を用いることが好ましい。有機赤外線吸収染料には、シアニン化合物、金属キレート化合物、アミニウム化合物、ジイモニウム化合物、キノン化合物、スクアリリウム化合物およびメチン化合物が含まれる。赤外線吸収染料については、色材、６１〔４〕２１５−２２６（１９８８）、および化学工業、４３−５３（１９８６、５月）に記載がある。
【０１８１】
赤外線吸収機能あるいは吸収スペクトルの観点で染料の種類を検討すると、ハロゲン化銀写真感光材料の技術分野で開発された赤外線吸収染料が優れている。ハロゲン化銀写真感光材料の技術分野で開発された赤外線吸収染料には、ジヒドロペリミジンスクアリリウム染料（米国特許５３８０６３５号明細書および特願平８−１８９８１７号明細書記載）、シアニン染料（特開昭６２−１２３４５４号、同３−１３８６４０号、同３−２１１５４２号、同３−２２６７３６号、同５−３１３３０５号、同６−４３５８３号の各公報、特願平７−２６９０９７号明細書および欧州特許０４３０２４４号明細書記載）、ピリリウム染料（特開平３−１３８６４０号、同３−２１１５４２号の各公報記載）、ジイモニウム染料（特開平３−１３８６４０号、同３−２１１５４２号の各公報記載）、ピラゾロピリドン染料（特開平２−２８２２４４号記載）、インドアニリン染料（特開平５−３２３５００号、同５−３２３５０１号の各公報記載）、ポリメチン染料（特開平３−２６７６５号、同４−１９０３４３号の各公報および欧州特許３７７９６１号明細書記載）、オキソノール染料（特開平３−９３４６号明細書記載）、アントラキノン染料（特開平４−１３６５４号明細書記載）、ナフタロシアニン色素（米国特許５００９９８９号明細書記載）およびナフトラクタム染料（欧州特許５６８２６７号明細書記載）が含まれる。これらの赤外線吸収剤は、１種のみが単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。
【０１８２】
赤外線吸収剤は、基材層の全量１００質量％に対して、０．１〜３０質量％の量で含まれることが好ましく、２〜２０質量％の量で含まれることがより好ましい。
【０１８３】
〈マット剤（微粒子）〉
基材層には、取扱性を向上させるため、例えば二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などの微粒子をマット剤として含有させることが好ましい。なかでも二酸化珪素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましい。
【０１８４】
微粒子の平均一次粒子径としては、２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは５〜１２ｎｍである。
【０１８５】
これらの微粒子は０．１〜５μｍの粒径の２次粒子を形成してフィルム中に含まれることが好ましく、好ましい平均粒径は０．１〜２μｍであり、さらに好ましくは０．２〜０．６μｍである。これにより、フィルム表面に高さ０．１〜１．０μｍ程度の凹凸を形成し、これによってフィルム表面に適切な滑り性を与えることができる。
【０１８６】
本発明に用いられる微粒子の平均一次粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、粒子径を測定しその平均値をもって、平均一次粒子径とする。
【０１８７】
微粒子の見かけ比重としては、７０ｇ／リットル以上が好ましく、さらに好ましくは９０〜２００ｇ／リットルであり、特に好ましくは１００〜２００ｇ／リットルである。見かけ比重が大きいほど、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましく、また、固形分濃度の高いドープを調製する際には、特に好ましく用いられる。
【０１８８】
１次粒子の平均径が２０ｎｍ以下、見かけ比重が７０ｇ／リットル以上の二酸化珪素微粒子は、例えば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを１０００〜１２００℃にて空気中で燃焼させることで得ることができる。また例えばアエロジルＲ８１２、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、それらを使用することができる。
【０１８９】
上記記載の見かけ比重は、二酸化珪素微粒子を一定量メスシリンダーに採り、このときの重さを測定し、下記式で算出したものである。
【０１９０】
【数３】
2013115178.tif 000027
【０１９１】
マット剤（微粒子）は、基材層の全量１００質量％に対して、０．０１〜５質量％の量で含まれることが好ましく、０．１〜３質量％の量で含まれることがより好ましい。
【０１９２】
〈着色剤〉
基材層は、着色剤を含んでもよい。「着色剤」とは、染料や顔料を意味するが、本発明では、液晶画面の色調を青色調にする効果またはイエローインデックスの調整、ヘイズの低減を有するものが特に好ましい。着色剤としては各種の染料や顔料が使用可能であるが、特に、アントラキノン染料、アゾ染料、フタロシアニン顔料などが有効である。
【０１９３】
着色剤は、基材層の全量１００質量％に対して、０．０１〜５質量％の量で含まれることが好ましく、０．１〜３質量％の量で含まれることがより好ましい。
【０１９４】
以上、好ましい実施形態として基材層がセルロースエステル樹脂を含む形態について説明したが、本形態に係る偏光板において、基材層は、いわゆる「ゼロ位相差フィルム」であることが好ましい。偏光板保護フィルムとして機能する基材層がゼロ位相差フィルムであることにより、高倍率の延伸処理を行っても位相差が出ず、画像表示装置に組み込んだ際に虹ムラ等が発現しないという利点がある。なお、これを定量的に表現すれば、基材層は、下記数式（１）および下記数式（２）：
【０１９５】
【数４】
2013115178.tif 000028
【０１９６】
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を表し、ｎｚはフィルム厚み方向の屈折率を表し、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）を表す；屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）
でそれぞれ表されるＲｏおよびＲｔｈについて、
【０１９７】
【数５】
2013115178.tif 000029
【０１９８】
を満足することが好ましい。Ｒｏは、より好ましくは−４〜４であり、特に好ましくは−３〜３である。また、Ｒｔｈは、より好ましくは−４〜４であり、特に好ましくは−３〜３である。なお、これらのＲｏおよびＲｔｈを上述した範囲内の値に制御するには、基材層の製造時において、フィルムの組成や延伸条件、リターデーション調整剤の種類や添加量などを適宜調節すればよい。
【０１９９】
上述した親水性高分子層と基材層とは、接着剤を介して接着されてなることが好ましい。接着剤の具体的な構成について特に制限はなく、本発明の作用効果を損なわないものであればいずれの接着剤も用いられうる。接着剤の一例として、ポリビニルアルコール水溶液（いわゆる水糊）が挙げられる。
【０２００】
また、接着剤として光硬化性接着剤が用いられてもよい。光硬化性接着剤は、エポキシ化合物およびカチオン重合開始剤を含有するものであることが好ましい。
【０２０１】
このような光硬化性接着剤に含まれるエポキシ化合物およびカチオン重合開始剤の具体的な構成や各成分の配合量についても特に制限はないが、接着性の観点からは、エポキシ化合物は多価エポキシ化合物（分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ化合物）であることが好ましい。多価エポキシ化合物には、分子内に少なくとも２個のエポキシ基および芳香環を有する芳香族多価エポキシ化合物、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個が脂環式環に結合している脂環式多価エポキシ化合物、分子内に芳香環を有さず、エポキシ基とそれが結合する２個の炭素原子を含む環（通常はオキシラン環）の一方の炭素原子が別の脂肪族炭素原子に結合している脂肪族多価エポキシ化合物などがある。かような多価エポキシ化合物としては、例えば、下記一般式（Ａ）〜（Ｄ）のいずれかで表されるものが挙げられる。
【０２０２】
【化２４】
2013115178.tif 000030
【０２０３】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立して、アルキル基またはハロゲン原子を表し、Ｌ１、およびＬ２は、それぞれ独立して２価の脂肪族の有機基を表し、Ｍは酸素原子または窒素原子を表し、Ａはｍ価の連結基を表し、ａ、ｂおよびｃは、それぞれ独立して０〜４の整数を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して０〜２０の実数を表し、ｌは１または２を表し、ｍは２〜４の整数を表す。）
一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）において、Ｌ１、Ｌ２としては例えば、
【０２０４】
【化２５】
2013115178.tif 000031
【０２０５】
などが挙げられ、一般式（Ｃ）においてＡとしては、
【０２０６】
【化２６】
2013115178.tif 000032
【０２０７】
などが挙げられる。
【０２０８】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のアルキル基としては、炭素数１〜３が好ましく、ハロゲン原子としてはＢｒ、Ｃｌ、Ｆなどが挙げられる。
【０２０９】
以下、一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）または（Ｄ）で表される多価エポキシ化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２１０】
【化２７】
2013115178.tif 000033
【０２１１】
【化２８】
2013115178.tif 000034
【０２１２】
【化２９】
2013115178.tif 000035
【０２１３】
【化３０】
2013115178.tif 000036
【０２１４】
化合物（ＩＶ−１）において、ｎは、０〜２０の整数である。
【０２１５】
なお、構造式中にある変数ｘおよびｙは実数であり、各々０〜２０の範囲であれば何でもよい。ｘ、ｙが必ずしも整数とならないのは、数種類の整数値を有するエポキシ化合物がある比率で混合された状態であり、その平均値を示しているからである。これらの多価エポキシ化合物は単独で用いても、２種類以上組み合わせてもよい。
【０２１６】
また、多価エポキシ化合物の他の例として、例えば、下記一般式（Ｅ）〜（Ｏ）のいずれかで表されるものが挙げられる。
【０２１７】
【化３１】
2013115178.tif 000037
【０２１８】
（式中、Ｒ４〜Ｒ２５は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ４〜Ｒ２５がアルキル基の場合、脂環式環に結合する位置は１位〜６位の任意の数である。炭素数１〜６のアルキル基は、直鎖でもよく、分岐を有していてもよく、脂環式環を有していてもよい。Ｙ８は、酸素原子または炭素原子数１〜２０のアルカンジイル基を表し、Ｙ１〜Ｙ７は、それぞれ独立して、直鎖でもよく、分岐を有していてもよく、脂環式環を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルカンジイル基を表し、ｎ、ｐ、ｑおよびｒは、それぞれ独立して、０〜２０の実数を表す。）
これらのうち、一般式（Ｆ）で示される脂環式ジエポキシ化合物が、入手が容易なので好ましい。一般式（Ｆ）の脂環式ジエポキシ化合物は、３，４−エポキシシクロヘキシルメタノール（そのシクロヘキサン環に炭素数１〜６のアルキル基が結合していてもよい）と、３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸（そのシクロヘキサン環に炭素数１〜６のアルキル基が結合していてもよい）とのエステル化物である。その具体例として、次のような化合物が挙げられる。
【０２１９】
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル  ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート〔一般式（Ｆ）において、Ｒ６＝Ｒ７＝Ｈ、ｎ＝０である化合物〕、
３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル  ３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート〔一般式（Ｆ）において、Ｒ６＝６−メチル、Ｒ７＝６−メチル、ｎ＝０である化合物〕など。
【０２２０】
上述した多価エポキシ化合物や、必要に応じて添加されるオキセタン化合物（後述する）は、カチオン重合により硬化するものである。したがって、光硬化性接着剤には、光カチオン重合開始剤が配合されることが好ましいのである。この光カチオン重合開始剤は、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線等の活性エネルギー線の照射によって、カチオン種またはルイス酸を発生し、エポキシ基の重合反応を開始する。
【０２２１】
かような光カチオン重合開始剤を配合することにより、常温での硬化が可能となり、偏光子の耐熱性や膨張または収縮による歪を考慮する必要が減少し、セルロースアシレートフィルムを良好に接着することができる。また、光カチオン重合開始剤は活性エネルギー線の照射で触媒的に作用するため、エポキシ化合物や後述するオキセタン化合物等に混合しても、保存安定性や作業性に優れる。活性エネルギー線の照射によりカチオン種やルイス酸を生じる化合物として、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩のようなオニウム塩、鉄−アレン錯体等を挙げることができる。
【０２２２】
芳香族ジアゾニウム塩としては、例えば、次のような化合物が挙げられる。
【０２２３】
ベンゼンジアゾニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、
ベンゼンジアゾニウム  ヘキサフルオロホスフェート、
ベンゼンジアゾニウム  ヘキサフルオロボレート等。
【０２２４】
芳香族ヨードニウム塩としては、例えば、次のような化合物が挙げられる。
【０２２５】
ジフェニルヨードニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジフェニルヨードニウム  ヘキサフルオロホスフェート、
ジフェニルヨードニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、
ジ（４−ノニルフェニル）ヨードニウム  ヘキサフルオロホスフェート等。
【０２２６】
芳香族スルホニウム塩としては、例えば、次のような化合物が挙げられる。
【０２２７】
トリフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロホスフェート、
トリフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、
トリフェニルスルホニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジフェニル〔４−（フェニルチオ）フェニル〕スルホニウム  ヘキサフルオロホスフェート、
ジフェニル〔４−（フェニルチオ）フェニル〕スルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、
４，４’−ビス（ジフェニルスルホニオ）ジフェニルスルフィド  ビスヘキサフルオロホスフェート、
４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド  ビスヘキサフルオロアンチモネート、
４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド  ビスヘキサフルオロホスフェート、
７−〔ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ〕−２−イソプロピルチオキサントン  ヘキサフルオロアンチモネート、
７−〔ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ〕−２−イソプロピルチオキサントン  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
４−フェニルカルボニル−４’−ジフェニルスルホニオ−ジフェニルスルフィド  ヘキサフルオロホスフェート、
４−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカルボニル）−４’−ジフェニルスルホニオ−ジフェニルスルフィド  ヘキサフルオロアンチモネート、
４−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカルボニル）−４’−ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ−ジフェニルスルフィド  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等。
【０２２８】
鉄−アレン錯体としては、例えば、次のような化合物が挙げられる。
【０２２９】
キシレン−シクロペンタジエニル鉄（II）ヘキサフルオロアンチモネート、
クメン−シクロペンタジエニル鉄（II）ヘキサフルオロホスフェート、
キシレン−シクロペンタジエニル鉄（II）−トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メタナイド等。
【０２３０】
これらの光カチオン重合開始剤は、それぞれ１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。これらのなかでも特に芳香族スルホニウム塩は、３００ｎｍ以上の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械強度や接着強度を有する硬化物を与えることができるため、好ましく用いられる。
【０２３１】
光カチオン重合開始剤は、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、それぞれ商品名で、“カヤラッドＰＣＩ−２２０”、“カヤラッドＰＣＩ−６２０”（以上、日本化薬（株）製）、“ＵＶＩ−６９９２”（ダウ・ケミカル社製）、“アデカオプトマーＳＰ−１５０”、“アデカオプトマーＳＰ−１７０”（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、“ＣＩ−５１０２”、“ＣＩＴ−１３７０”、“ＣＩＴ−１６８２”、“ＣＩＰ−１８６６Ｓ”、“ＣＩＰ−２０４８Ｓ”、“ＣＩＰ−２０６４Ｓ”（以上、日本曹達（株）製）、“ＤＰＩ−１０１”、“ＤＰＩ−１０２”、“ＤＰＩ−１０３”、“ＤＰＩ−１０５”、“ＭＰＩ−１０３”、“ＭＰＩ−１０５”、“ＢＢＩ−１０１”、“ＢＢＩ−１０２”、“ＢＢＩ−１０３”、“ＢＢＩ−１０５”、“ＴＰＳ−１０１”、“ＴＰＳ−１０２”、“ＴＰＳ−１０３”、“ＴＰＳ−１０５”、“ＭＤＳ−１０３”、“ＭＤＳ−１０５”、“ＤＴＳ−１０２”、“ＤＴＳ−１０３”（以上、みどり化学（株）製）、“ＰＩ−２０７４”（ローディア社製）、“イルガキュア２５０”、“イルガキュアＰＡＧ１０３”、イルガキュアＰＡＧ１０８”、イルガキュアＰＡＧ１２１”、イルガキュアＰＡＧ２０３”（以上、チバ社製）、“ＣＰＩ−１００Ｐ”、“ＣＰＩ−１０１Ａ”、“ＣＰＩ−２００Ｋ”、“ＣＰＩ−２１０Ｓ”（以上、サンアプロ（株）製）等を挙げられ、特に、ジフェニル〔４−（フェニルチオ）フェニル〕スルホニウムをカチオン成分として含む、ダウ・ケミカル社製の“ＵＶＩ−６９９２”、サンアプロ（株）製の“ＣＰＩ−１００Ｐ”、“ＣＰＩ−１０１Ａ”、“ＣＰＩ−２００Ｋ”、“ＣＰＩ−２１０Ｓ”が好ましい。
【０２３２】
光カチオン重合開始剤の配合割合は、光硬化性接着剤全体を基準として、０．５〜２０質量％の範囲とすることが好ましい。その割合が０．５質量％以上であれば、接着剤の硬化が十分に達成され、機械強度や接着強度が確保される。一方でその割合が２０質量％以下であれば、硬化物中のイオン性物質の増加に伴う硬化物の吸湿性の上昇やそれによる耐久性能の低下が抑制される。
【０２３３】
光硬化性接着剤は、上述した成分に加えて、必要に応じて、オキセタン化合物や不飽和化合物をさらに含んでもよい。また、光硬化性接着剤が不飽和化合物を含む場合には、光ラジカル重合開始剤をさらに含むことが好ましい。さらに他の成分としては、光増感剤、熱カチオン重合開始剤、ポリオール類、シランカップリング剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、光安定剤、連鎖移動剤、増感剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、色素、有機溶剤等が挙げられる。
【０２３４】
上述したように、親水性高分子層と基材層とが積層されて延伸処理されてなる延伸積層体において、親水性高分子層は偏光子として機能し、基材層は偏光板保護フィルムとして機能する。これにより、上記延伸積層体は偏光板として用いられうるのである。ここで、偏光子として機能する親水性高分子層の、基材層とは反対側の面には、従来公知の偏光板保護フィルムがさらに貼合されていてもよい。このような偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムが用いられうる。市販のセルロースエステルフィルムとしては、例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ（以上、コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社製）等が好ましく用いられる。あるいは、さらにディスコティック液晶、棒状液晶、コレステリック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることも好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８号公報に記載の方法で光学異方性層を形成することができる。本発明に係る偏光板に組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。なお、液晶セルから遠い側に位置する偏光板保護フィルムとして、または、当該フィルム上には、表示装置の品質を向上する上で、他の機能性を有するフィルムを配置することも可能である。例えば、反射防止（アンチリフレクション（ＡＲ））、防眩（アンチグレア（ＡＧ））、耐キズ（ハードコート（ＨＣ））、低反射（ローリフレクション（ＬＲ））、ゴミ付着防止、輝度向上、帯電防止、防汚、バックコートのためにディスプレイとしての公知の機能層を構成物として含むフィルムが偏光板保護フィルムとして用いられうる。あるいは、汎用のＴＡＣフィルム等の偏光板保護フィルムの表面に、これらの機能層を含むフィルムを別途貼付してもよい。
【０２３５】
上記のような構成を有する偏光板には、さらに一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を表示パネルへ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムはパネルへ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。
【０２３６】
本発明に係る偏光板において、延伸積層体（上述した親水性高分子層と基材層との積層体であって、延伸された状態のもの）の膜厚は、好ましくは１０〜１００μｍであり、より好ましくは２０〜９５μｍであり、さらに好ましくは３０〜９０μｍである。延伸積層体の膜厚が１０μｍ以上であれば、パネル貼合時のリワーク性が充分である。一方、延伸積層体の膜厚が１００μｍ以下であれば、偏光板のカール抑制、部材の薄膜化、軽量化という利点が得られる。
【０２３７】
また、本発明に係る偏光板は、異なる環境下におけるカールの挙動における変動が小さい点に特徴がある。具体的には、本発明に係る偏光板は、２３℃５５％ＲＨ環境下でのカールＣ１と、４０℃２０％ＲＨ環境下でのカールＣ２との差ΔＣ＝｜Ｃ１−Ｃ２｜が、ΔＣ≦８０［１／ｍ］を満たす点に特徴を有しているのである。ここで、ΔＣは、好ましくはΔＣ≦６０を満たし、より好ましくはΔＣ≦５０を満たし、さらに好ましくはΔＣ≦４０を満たす。このように、本発明では、塗布型偏光板の物性に着目し、異なる環境下におけるカールの挙動における変動が小さくなるような塗布型偏光板の構成とすることで、表示装置のパネル表示時の色ムラの発生を抑制することが可能な偏光板が提供されることを見出したものである。なお、Ｃ１およびＣ２、並びにΔＣの値としては、後述する実施例の欄に記載の手法により測定された値を採用するものとする。また、これらの値を制御するには、偏光板の作製時において、第１の基材層の弾性率と前記第２の基材層の弾性率を合わせること、そのために熱可塑性樹脂の延伸条件を適宜調整すること、膜厚を適した厚みに制御すること、適した熱可塑性樹脂種を選択することなどの操作を行うことができる。
【０２３８】
≪偏光板の製造方法≫
本発明に係る偏光板（延伸積層体）の製造方法について特に制限はなく、従来公知の知見、および後述する実施例の欄の記載を参照しつつ、適宜製造が可能である。偏光板（延伸積層体）の製造方法の一例を挙げると、例えば、基材層に、親水性高分子を含有する水溶液を塗布し、乾燥させて積層体の形態として得ることができる。かかる塗布により、基材層と親水性高分子層とが基材層と親水性高分子層とが直接、または好ましくは光硬化性接着剤の層を介して積層することで基材層と親水性高分子層が一体化した状態の積層体が得られる。
【０２３９】
基材層の作製方法について特に制限はなく、セルロースエステル樹脂を含むフィルムの作製方法に関する従来公知の知見を適宜参照すればよい。予め調製したドープ液を用いた溶液流延法により基材層を製膜することが好ましいが、可能であれば溶融流延法により基材層を製膜してもよい。
【０２４０】
基材層は、親水性高分子を含有する水溶液の塗工前に、予め延伸処理を施されたものであってもよい。延伸処理は、一軸延伸、二軸延伸、斜め延伸などでありうる。一軸延伸は、基材層の長手方向に対して行う縦延伸、基材層の幅方向に対して行う横延伸のいずれであってもよい。横延伸では、幅方向に延伸を行いながら、長手方向に収縮させることもできる。横延伸方式としては、例えば、テンターを介して一端を固定した固定端一軸延伸法や、一端を固定しない自由端一軸延伸法等があげられる。縦延伸方式としては、ロール間延伸方法、圧縮延伸方法、テンターを用いた延伸法等が挙げられる。延伸処理は多段で行うこともできる。なお、基材層に対する延伸処理が一軸延伸である場合には、縦延伸（ＭＤ方向への延伸）であることが好ましい。
【０２４１】
また、基材層の延伸処理時の温度について特に制限はないが、好ましくは１３０〜２００℃であり、より好ましくは１５０〜１８０℃である。また、基材層の延伸処理では、基材層の元長に対して、すべての方向の合計延伸倍率で１．１〜１０倍の範囲になるように行うとよい。好ましくは２〜６倍、さらに好ましくは３〜５倍である。
【０２４２】
基材層が２層以上の積層体からなる場合、かような基材層は、従来公知の樹脂積層体の製造方法により作製することが可能である。例えば、後述する実施例の欄に記載のように、異なる組成を有する２種のドープ液を調製し、一方を用いて溶液流延法によりフィルムを作製し、このフィルムを乾燥させた上に他方のドープ液をさらに流延させ、乾燥させることにより基材層が２層積層されてなる基材層を作製することができる。なお、必要に応じて、１層目のフィルムを単独で、または積層構造を有する基材層に対して、延伸処理を施してもよい。
【０２４３】
親水性高分子を含有する水溶液は、親水性高分子の粉末または親水性高分子フィルムの粉砕物、切断物等を、適宜に加熱した水（熱水）に溶解することにより調製することができる。前記水溶液の基材層上への塗工は、塗工法は、ワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを適宜に選択して採用できる。基材層が光硬化性接着剤の層を有する場合には当該層に、当該層を有しない場合には基材層に直接、前記水溶液を塗工する。なお、乾燥温度は、通常、５０〜２００℃、好ましくは８０〜１５０℃であり、乾燥時間は、通常、５〜３０分間程度である。
【０２４４】
なお、本発明で用いる積層体は、基材層の形成材と親水性高分子層の形成材との共押出によっても形成することができる。かかる共押出により基材層と親水性高分子層とが一体化した状態の積層体を得てもよい。共押出にあたっては、基材層の材料および親水性高分子層の材料を、それぞれ各層の形成材として共押出機に仕込み、共押出される基材層および親水性高分子層の厚さが所望の範囲になるように制御することが好ましい。
【０２４５】
続いて、上記で得られた延伸前の積層体に、延伸処理および二色性物質による染色処理を施す。前記各処理が施された延伸積層体は、前記親水性高分子層への延伸処理と、二色性物質による染色処理により、得られる親水性高分子層には二色性物質が吸着されて偏光子として機能するようになる。
【０２４６】
延伸処理は、上記で得られた積層体に一軸延伸、二軸延伸、または斜め延伸を施すことにより行う。この延伸処理は多段で行うこともできる。なお、基材層が予め延伸処理されたものでなく、かつ、積層体の延伸処理が一軸延伸である場合には、当該一軸延伸は縦延伸（ＭＤ方向への延伸）であることが好ましい。一方、基材層が予め縦延伸（ＭＤ方向への延伸）されたものであり、かつ、積層体の延伸処理が一軸延伸である場合には、当該一軸延伸は横延伸（ＴＤ方向への延伸）であることが好ましい。
【０２４７】
また、積層体の延伸処理時の温度について特に制限はないが、好ましくは１３０〜２００℃であり、より好ましくは１５０〜１８０℃である。また、積層体の延伸処理では、積層体の元長に対して、すべての方向の合計延伸倍率で２〜１０倍の範囲になるように行うとよい。好ましくは３〜８倍、さらに好ましくは３〜７倍である。
【０２４８】
染色処理は、積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させることにより行う。二色性物質としては、上述した通りであるためここでは説明を省略する。染色処理は、例えば、二色性物質を含有する溶液（染色溶液）に積層体を浸漬することにより行う。染色溶液としては、二色性物質を溶媒に溶解した溶液が使用できる。溶媒としては、水が一般的に使用されるが、水と相溶性のある有機溶媒がさらに添加されてもよい。染色溶液中の二色性物質の濃度としては、０．０１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．０２〜７質量％の範囲にあることがより好ましく、０．０２５〜５質量％であることが特に好ましい。
【０２４９】
また、二色性物質としてヨウ素を使用する場合、染色効率をより一層向上できることから、さらにヨウ化物を添加することが好ましい。このヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。これらヨウ化物の添加割合は、前記染色溶液において、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましい。なかでも、ヨウ化カリウムを添加することが好ましく、ヨウ素とヨウ化カリウムの割合（質量比）は、１：５〜１：１００の範囲にあることが好ましく、１：６〜１：８０の範囲にあることがより好ましく、１：７〜１：７０の範囲にあることが特に好ましい。
【０２５０】
染色溶液への積層体の浸漬時間は、特に限定されないが、通常は、１５秒〜５分間の範囲であることが好ましく、１分〜３分間であることがより好ましい。また、染色溶液の温度は、１０〜６０℃の範囲にあることが好ましく、２０〜４０℃の範囲にあることがより好ましい。染色処理は、積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させて、二色性物質を配向させる。染色処理は、積層体の延伸処理の前、同時または後に施すことができるが、親水性高分子層に吸着させた二色性物質を良好に配向させる点から、染色処理は、積層体に延伸処理を施した後に行うのが好ましい。
【０２５１】
≪表示装置≫
本発明に係る偏光板は、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置などの各種の表示装置に用いられうる。
【０２５２】
例えば、本発明に係る偏光板を液晶表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた液晶表示装置を作製することができる。また、本発明に係る偏光板はリワーク性にも優れたものであることから、表示装置の生産性も大幅に向上しうる。なお、本発明の偏光板は、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくはＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）型、およびＩＰＳ型液晶表示装置である。特に、ＩＰＳモード型液晶表示装置に組み込まれることが好ましい。
【０２５３】
ＩＰＳモード型液晶表示装置における液晶パネルの液晶層は、初期状態で基板面と平行なホモジニアス配向で、かつ基板と平行な平面で液晶層のダイレクターは電圧無印加時で電極配線方向と平行または幾分角度を有し、電圧印加時で液晶層のダイレクターの向きが電圧の印加に伴い電極配線方向と垂直な方向に移行し、液晶層のダイレクター方向が電圧無印加時のダイレクター方向に比べて４５°電極配線方向に傾斜したとき、当該電圧印加時の液晶層は、まるで１／２波長板のように偏光の方位角を９０°回転させ、出射側偏光板の透過軸と偏光の方位角が一致して白表示となる。
【０２５４】
一般に、液晶層の厚みは一定であるが、横電界駆動であるため、液晶層の厚みに若干凹凸を設ける方がスイッチングに対する応答速度を上げることができるとも考えられるが、液晶層の厚みが一定でない場合であっても、その効果を最大限生かすことができるものであり、液晶層の厚みの変化に対して影響が少ない。液晶層の厚みは、２〜６μｍであって、好ましくは３〜５．５μｍである。本形態に係る液晶表示装置は、大型の液晶テレビに用いられるほか、タブレット型表示装置やスマートフォンなどの携帯用機器にも好ましく用いられうる。
【０２５５】
なお、ＩＰＳモード型液晶セルの詳細について特に制限はなく、従来公知の他の技術的事項（例えば、特開２０１０−３０６０号公報など）を参照することで、本発明を実施してももちろんよい。
【実施例】
【０２５６】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０２５７】
＜ポリビニルアルコール水溶液の調製＞
親水性高分子からなるフィルムである（株）クラレ製のポリビニルアルコールフィルム（平均重合度２４００、ケン化度９９モル％、商品名：ＶＦ−ＰＳ２４００）を、１辺が５ｍｍ以下の小片に裁断し、９５℃の熱水中に溶解して、濃度１０質量％のポリビニルアルコール水溶液を調製した。【０２５８】
＜偏光板の作製＞
（光学フィルムＦ１の作製）
（ドープ液ａの調製）
ジアセチルセルロース（Ｌ５０、ダイセル社製）  ３０質量部
メチレンクロライド  ２２７質量部
エタノール  ４３質量部
上記の材料を加圧密閉容器に投入し、８０℃に加温して容器内圧力を２気圧とし、撹拌しながら樹脂成分を完全に溶解させドープを得た。溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した後、ドープを３５℃まで下げて一晩静置して、ドープ中の脱泡を行った。【０２５９】
（ドープ液ｂの調製）
ダイヤナールＢＲ−８５（アクリル系樹脂、三菱レイヨン社製）  ７０質量部
ＣＡＰ４８２−２０（セルロースアセテートプロピオネート、イーストマンケミカル製、アセチル置換度０．１８、プロピオニル置換度２．６０）  ３０質量部
メチレンクロライド  ２５２質量部
エタノール  ４８質量部
上記の材料を加圧密閉容器に投入し、８０℃に加温して容器内圧力を２気圧とし、撹拌しながら樹脂成分を完全に溶解させドープを得た。溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した後、ドープを３５℃まで下げて一晩静置して、ドープ中の脱泡を行った。【０２６０】
（溶液流延法による基材層の作製）
上記で調製したドープ液ｂを、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。【０２６１】
剥離したウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に１．１倍に延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。【０２６２】
このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は１０％であった。テンターで延伸後１３０℃にて５分間緩和を行った後、１２０℃、１３０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ高さ５μｍのナーリング加工を施し、初期張力２２０Ｎ／ｍ、終張力１１０Ｎ／ｍで内径６インチコアに巻き取り光学フィルムを得た。【０２６３】
ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．１倍であった。また、残留溶剤量は０．１％であり、膜厚は６０μｍ、巻数は４０００ｍであった。【０２６４】
次いで、この巻き取ったフィルムを繰り出し、上記で調製したドープ液ａを繰り出しフィルム上に流延して、ドープ液ａからなる樹脂層の残留溶剤量が１００％になるまで５０℃にて乾燥させ、その後１２０℃、１３０℃と段階的に乾燥を行い、フィルム合計での残留溶剤量が０．３％となるまで乾燥を行い、その後、巻きとって光学フィルムＦ１を得た。なお、ドープ液ａからなる樹脂層の厚みは、１５μｍであった。【０２６５】
（偏光板ＰＬ１の作製）
（積層工程）
上記で得られた光学フィルムＦ１上に、上記で調製したポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃にて１０分間乾燥させて、厚み１０μｍのポリビニルアルコール塗膜からなる親水性高分子層を形成して、積層体を得た。【０２６６】
（延伸処理）
上記で得られた積層体をロールｔｏロールにて、１４５℃にて長手方向（ＭＤ方向）に延伸倍率６倍で延伸して、延伸積層体を得た。【０２６７】
（染色処理）
上記で得られた延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（質量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃にて４分間乾燥を行って、偏光板ＰＬ１を得た。なお、得られたＰＬ１における基材層（Ｆ１；延伸後）の厚みは３０μｍであった。また、偏光板ＰＬ１における親水性高分子層（延伸後）の厚みは２μｍであった。【０２６８】
（光学フィルムＦ２の作製）
〈微粒子分散液１〉
微粒子（アエロジル  Ｒ８１２  日本アエロジル（株）製）  １１質量部
エタノール  ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。【０２６９】
〈微粒子添加液１〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液１をゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液１を調製した。【０２７０】
メチレンクロライド  ９９質量部
微粒子分散液１  ５質量部
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにアセチル置換度２．３０のセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。【０２７１】
〈主ドープ液の組成〉
下記２種のドープを作製し、共流延によってスキン層／コア層／スキン層の構成である光学フィルムＦ２を作製した。【０２７２】
（コア層用セルロースアシレートドープの調製）
セルロースアセテート（アセチル置換度２．３０）  １００質量部
トリフェニルホスフェート／ビフェニルジフェニルホスフェート共重合体（共重合体比１：１）  １０質量部
ジクロロメタン  ４０６質量部
メタノール  ６１質量部
（スキン層用セルロースアシレートドープの調製）
セルロースアセテート（アセチル置換度２．８０）  １００質量部
トリフェニルホスフェート／ビフェニルジフェニルホスフェート共重合体（共重合体比１：１）  １３質量部
微粒子添加液１  ２質量部
ジクロロメタン  ４０６質量部
メタノール  ６１質量部
上記の組成物を各々ミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過し、各セルロースアシレートドープを調製した。ドープをバンド流延機にてスキン層／コア層／スキン層の３層構成になるように共流延した。ここで、各ドープの流延量を調整することによりコア層を最も厚くし、結果的に延伸後のフィルムの膜厚がコア層１５μｍ、スキン層１０μｍ、計３５μｍとなるように同時多層流延を行った。残留溶剤量が約３０質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムをテンターにより１６０℃の熱風を当てて、延伸倍率１．３２倍まで拡幅した後、延伸倍率が１．３倍となるように１４０℃で６０秒間緩和させた。その後テンター搬送からロール搬送に移行し、さらに１２０℃から１５０℃で乾燥し巻き取った。【０２７３】
（偏光板ＰＬ２の作製）
（積層工程）
得られた光学フィルムＦ２上に、上記で調製したポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃にて１０分間乾燥させて、厚み１０μｍのポリビニルアルコール塗膜からなる親水性高分子層を形成して、積層体を得た。【０２７４】
（延伸処理）
上記で得られた積層体をロールｔｏロールにて、１５０℃にて長手方向（ＭＤ方向）に延伸倍率２倍で延伸して、延伸積層体を得た。【０２７５】
（染色処理）
上記で得られた延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（質量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃にて４分間乾燥を行って、偏光板ＰＬ２を得た。なお、得られたＰＬ２における基材層（Ｆ２；延伸後）の厚みは２５μｍであった。また、偏光板ＰＬ２における親水性高分子層（延伸後）の厚みは３μｍであった。【０２７６】
（光学フィルムＦ３の作製）
特開２０１０−３０２２５号公報の実施例１に記載の手法により、光学フィルムＦ３（厚み５５μｍ）を作製した。【０２７７】
（偏光板ＰＬ３の作製）
（積層工程）
得られた光学フィルムＦ３上に、上記で調製したポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃にて１０分間乾燥させて、厚み１０μｍのポリビニルアルコール塗膜からなる親水性高分子層を形成して、積層体を得た。【０２７８】
（延伸処理）
上記で得られた積層体をロールｔｏロールにて、１５０℃にて長手方向（ＭＤ方向）に延伸倍率２倍で延伸して、延伸積層体を得た。【０２７９】
（染色処理）
上記で得られた延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（質量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃にて４分間乾燥を行って、偏光板ＰＬ３を得た。なお、得られたＰＬ３における基材層（Ｆ３；延伸後）の厚みは４０μｍであった。また、偏光板ＰＬ３における親水性高分子層（延伸後）の厚みは３μｍであった。【０２８０】
（光学フィルムＦ４の作製）
特開２０１１−７６０２６号公報の実施例１に記載の手法により、積層体光学フィルムＦ４（厚み１３５μｍ）を得た。【０２８１】
（偏光板ＰＬ４の作製）
（積層工程）
得られた光学フィルムＦ４上に、上記で調製したポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃にて１０分間乾燥させて、厚み１０μｍのポリビニルアルコール塗膜からなる親水性高分子層を形成して、積層体を得た。【０２８２】
（延伸処理）
上記で得られた積層体をロールｔｏロールにて、１５０℃にて長手方向（ＭＤ方向）に延伸倍率６倍で延伸して、延伸積層体を得た。【０２８３】
（染色処理）
上記で得られた延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（質量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃にて４分間乾燥を行って、偏光板ＰＬ４を得た。なお、得られたＰＬ４における基材層（Ｆ４；延伸後）の厚みは４５μｍであった。また、偏光板ＰＬ４における親水性高分子層（延伸後）の厚みは２μｍであった。【０２８４】
（光学フィルムＦ５の作製）
特開２００９−１９２８４４号公報の実施例１の記載に基づき、積層体フィルムＦ５（厚み１８５μｍ）を得た。【０２８５】
（偏光板ＰＬ５の作製）
（積層工程）
得られた光学フィルムＦ５上に、上記で調製したポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃にて１０分間乾燥させて、厚み１０μｍのポリビニルアルコール塗膜からなる親水性高分子層を形成して、積層体を得た。【０２８６】
（延伸処理）
上記で得られた積層体をクリップ式テンター内にて１５０℃で加熱し、フィルム幅手方向（ＴＤ方向）に２倍延伸後、搬送ロールでのロールｔｏロールにて、１５０℃にて長手方向（ＭＤ方向）に延伸倍率５倍で延伸して、延伸積層体を得た。【０２８７】
（染色処理）
上記で作製した延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（質量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃にて４分間乾燥を行って、偏光板ＰＬ５を得た。なお、得られたＰＬ５における基材層（Ｆ５；延伸後）の厚みは２５μｍであった。また、偏光板ＰＬ５における親水性高分子層（延伸後）の厚みは０.５μｍであった。【０２８８】
（光学フィルムＦ６の作製）
（ドープ液ａの調製）
ジアセチルセルロース（Ｌ５０、ダイセル社製）  ５０質量部
メチレンクロライド  ２２７質量部
エタノール  ４３質量部
上記の材料を加圧密閉容器に投入し、８０℃に加温して容器内圧力を２気圧とし、撹拌しながら樹脂成分を完全に溶解させドープを得た。溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した後、ドープを３５℃まで下げて一晩静置して、ドープ中の脱泡を行った。【０２８９】
（ドープ液ｂの調製）
ダイヤナールＢＲ−５２（アクリル系樹脂、三菱レイヨン社製）  １００質量部
メチレンクロライド  ２５２質量部
エタノール  ４８質量部
上記の材料を加圧密閉容器に投入し、８０℃に加温して容器内圧力を２気圧とし、撹拌しながら樹脂成分を完全に溶解させドープを得た。溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した後、ドープを３５℃まで下げて一晩静置して、ドープ中の脱泡を行った。【０２９０】
（溶液流延法による基材層の作製）
上記で調製したドープ液ｂを、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。【０２９１】
剥離したウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に１．１倍に延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。【０２９２】
このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は１０％であった。テンターで延伸後１３０℃にて５分間緩和を行った後、１２０℃、１３０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ高さ５μｍのナーリング加工を施し、初期張力２２０Ｎ／ｍ、終張力１１０Ｎ／ｍで内径６インチコアに巻き取り光学フィルムを得た。【０２９３】
ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．１倍であった。また、残留溶剤量は０．１％であり、膜厚は６０μｍ、巻数は４０００ｍであった。【０２９４】
次いで、この巻き取ったフィルムを繰り出し、上記で調製したドープ液ａを繰り出しフィルム上に流延して、ドープ液ａからなる樹脂層の残留溶剤量が１００％になるまで５０℃にて乾燥させ、その後１２０℃、１３０℃と段階的に乾燥を行い、フィルム合計での残留溶剤量が０．３％となるまで乾燥を行い、その後、巻きとって光学フィルムＦ６を得た。なお、ドープ液ａからなる樹脂層の厚みは、１５μｍであった。【０２９５】
（偏光板ＰＬ６の作製）
（積層工程）
得られた光学フィルムＦ６上に、上記で調製したポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃にて１０分間乾燥させて、厚み１０μｍのポリビニルアルコール塗膜からなる親水性高分子層を形成して、積層体を得た。【０２９６】
（延伸処理）
上記で得られた積層体をクリップ式テンター内にて１５０℃で加熱し、フィルム幅手方向に２倍延伸後、搬送ロールでのロールｔｏロールにて、１５０℃にて長手方向（ＭＤ方向）に延伸倍率５倍で延伸して、延伸積層体を得た。【０２９７】
（染色処理）
上記で得られた延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（質量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃にて４分間乾燥を行って、偏光板ＰＬ６を得た。なお、得られたＰＬ６における基材層（Ｆ６；延伸後）の厚みは１５μｍであった。また、偏光板ＰＬ６における親水性高分子層（延伸後）の厚みは０.５μｍであった。【０２９８】
（偏光板ＰＬ７およびＰＬ８の作製）
ＰＬ１の作製方法において、得られた光学フィルムＦ１上にポリビニルアルコール水溶液を塗工する際、仕上がりの塗布層の厚みが、２５μｍまたは３２μｍとなるようポリビニルアルコールを塗膜し、それぞれ積層体を得た。【０２９９】
その後、ＰＬ１の作製方法と同様にして、対応する偏光板ＰＬ７およびＰＬ８を作製した。【０３００】
（偏光板ＰＬ９の作製）
光学フィルムＦ１の作製方法において、調製したドープ液ｂを、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に流延する際に、光学フィルムＦ１の仕上がり膜厚が２５０μｍとなるようにダイスのギャップを調整した。その後、ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで充分に時間をかけて溶媒を蒸発させ、剥離張力１００Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。【０３０１】
剥離したウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に１．１倍に延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。【０３０２】
このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は１５％であった。テンターで延伸後１３０℃にて５分間緩和を行った後、１２０℃、１３０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ高さ５μｍのナーリング加工を施し、初期張力３００Ｎ／ｍ、終張力１８０Ｎ／ｍで内径６インチコアに巻き取り光学フィルムを得た。【０３０３】
ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．１倍であった。また、残留溶剤量は０．１％であり、膜厚は２５０μｍ、巻数は１０００ｍであった。【０３０４】
次いで、この巻き取ったフィルムを繰り出し、上記で調製したドープ液ａを繰り出しフィルム上に流延して、ドープ液ａからなる樹脂層の残留溶剤量が１００％になるまで５０℃にて乾燥させ、その後１２０℃、１３０℃と段階的に乾燥を行い、フィルム合計での残留溶剤量が０．３％となるまで乾燥を行い、その後、巻きとって光学フィルムＦ９を得た。なお、ドープ液ａからなる樹脂層の厚みは、１５μｍであった。【０３０５】
（積層工程）
得られた光学フィルムＦ９上に、上記で調製したポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃にて１０分間乾燥させて、厚み１０μｍのポリビニルアルコール塗膜からなる親水性高分子層を形成して、積層体を得た。
（延伸処理）
上記で得られた積層体をクリップ式テンター内にて１４５℃で加熱し、フィルム幅手方向に２倍延伸後、搬送ロールでのロールｔｏロールにて、１４５℃にて長手方向（ＭＤ方向）に延伸倍率６倍で延伸して、延伸積層体を得た。【０３０６】
（染色処理）
上記で得られた延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（質量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃にて４分間乾燥を行って、偏光板ＰＬ９を得た。なお、得られたＰＬ９における基材層（Ｆ９；延伸後）の厚みは９３μｍであった。また、偏光板ＰＬ９における親水性高分子層（延伸後）の厚みは２μｍであった。【０３０７】
（偏光板ＰＬ１０の作製）
光学フィルムＦ１の作製方法において、調製したドープ液ｂを、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に流延する際に、光学フィルムＦ１の仕上がり膜厚が２８０μｍとなるようにダイスのギャップを調整した。その後、ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで充分に時間をかけて溶媒を蒸発させ、剥離張力１００Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。【０３０８】
剥離したウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に１．１倍に延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。【０３０９】
このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は１５％であった。テンターで延伸後１３０℃にて５分間緩和を行った後、１２０℃、１３０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ高さ５μｍのナーリング加工を施し、初期張力３００Ｎ／ｍ、終張力１８０Ｎ／ｍで内径６インチコアに巻き取り光学フィルムを得た。【０３１０】
ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．１倍であった。また、残留溶剤量は０．１％であり、膜厚は２８０μｍ、巻数は１０００ｍであった。【０３１１】
次いで、この巻き取ったフィルムを繰り出し、上記で調製したドープ液ａを繰り出しフィルム上に流延して、ドープ液ａからなる樹脂層の残留溶剤量が１００％になるまで５０℃乾燥させ、その後１２０℃、１３０℃と段階的に乾燥を行い、フィルム合計での残留溶剤量が０．３％となるまで乾燥を行い、その後、巻きとって光学フィルムＦ１０を得た。なお、ドープ液ａからなる樹脂層の厚みは、１５μｍであった。【０３１２】
（積層工程）
得られた光学フィルムＦ１０上に、上記で調製したポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃にて１０分間乾燥させて、厚み１０μｍのポリビニルアルコール塗膜からなる親水性高分子層を形成して、積層体を得た。【０３１３】
（延伸処理）
上記で得られた積層体をクリップ式テンター内にて１４５℃で加熱し、フィルム幅手方向に２倍延伸後、搬送ロールでのロールｔｏロールにて、１４５℃にて長手方向（ＭＤ方向）に延伸倍率６倍で延伸して、延伸積層体を得た。【０３１４】
（染色処理）
上記で作製した延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（質量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃にて４分間乾燥を行って、偏光板ＰＬ１０を得た。なお、得られたＰＬ１０における基材層（Ｆ１０；延伸後）の厚みは１０３μｍであった。また、偏光板ＰＬ１０における親水性高分子層（延伸後）の厚みは２μｍであった。【０３１５】
（偏光板ＰＬ１１の作製）
特開２００９−９８６５３号公報の実施例１に記載の手法により、偏光板ＰＬ１１（厚み４１μｍ）を作製した。【０３１６】
（偏光板ＰＬ１２の作製）
厚さ１２０μｍの長尺ロールポリビニルアルコールフイルムをヨウ素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で５倍に搬送方向に延伸して偏光子を作製した。【０３１７】
上記で作製した偏光子の両面に、２.５質量％ポリビニルアルコール水溶液をワイヤーバーで塗布し、下記条件にて鹸化処理した光学フィルムＦ３を貼り合わせて乾燥させて、偏光板ＰＬ１２を得た。なお、得られたＰＬ１２の厚みは、９２μｍであった。【０３１８】
（鹸化処理）
準備した光学フィルムＦ３を、５０℃２．０ＮのＫＯＨ水溶液に６０秒間浸漬し、その後水洗処理を行った。【０３１９】
（偏光板ＰＬ１３の作製）
特開２０１０−２５００９１号公報の実施例（ａ）、（ｂ）に基づいて、光学フィルムＦ４を作製した。上記で作製した光学フィルムＦ３と、当該光学フィルムＦ４とを貼り合わせ、光学フィルムＦ３上に、上記で調製したポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃にて１０分間乾燥させて、厚み１０μｍのポリビニルアルコール塗膜からなる親水性高分子層を形成して、積層体を得た。【０３２０】
（延伸処理）
上記で得られた積層体をロールｔｏロールにて、１６０℃にて長手方向（ＭＤ方向）に延伸倍率２倍で延伸して、延伸積層体を得た。【０３２１】
（染色処理）
上記で得られた延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（質量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃にて４分間乾燥を行って、偏光板ＰＬ１３を得た。なお、得られたＰＬ１３における基材層の厚みは４０μｍであった。また、偏光板ＰＬ１３における親水性高分子層（延伸後）の厚みは３μｍであった。【０３２２】
＜偏光板の物性の評価＞
（カール評価）
カールの測定は、ＪＩＳ Ｋ−７６１９−１９８８の「写真フィルムのカールの測定法」中の、方法Ａのカール測定用型板を用いて、サンプルを２５℃湿度６０％ＲＨの環境下、１０時間調湿後に測定を行った。２３℃５５％ＲＨ環境下でのカールの値をＣ１とし、４０℃２０％ＲＨ環境下でのカールの値をＣ２として、これらの差ΔＣ＝｜Ｃ１−Ｃ２｜を算出した。その結果を下記の表１に示す。【０３２３】
（弾性率評価）
テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ−１２２５Ａ）を用いて、以下のような評価を行った。【０３２４】
各偏光板を１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、次いで基材層を各層に剥離し、チャック間１００ｍｍ（つかみ代上下１０ｍｍずつ）で上下を挟み、ＪＩＳ Ｋ７１２７に準拠して、１００ｍｍ／ｍｉｎの引張り速度にてＭＤ方向およびＴＤ方向にそれぞれ３回ずつ測定を行い、その平均値を算出した。そして、親水性高分子層の側の基材層の弾性率をＥａとし、親水性高分子層とは反対の側の基材層の弾性率をＥｂとして、これらの差ΔＥ＝｜Ｅａ−Ｅｂ｜（ＭＰａ）を算出した。また、２３℃５５％ＲＨ環境下での弾性率ＥａおよびＥｂをそれぞれＥａ１およびＥｂ１とし、４０℃２０％ＲＨ環境下での弾性率ＥａおよびＥｂをそれぞれＥａ２およびＥｂ２として、これらのそれぞれの差ΔＥａ＝｜Ｅａ１−Ｅａ２｜およびΔＥｂ＝｜Ｅｂ１−Ｅｂ２｜を算出した。これらの結果を下記の表１に示す
＜液晶表示装置の評価＞
ＩＰＳ型液晶表示装置であるＬＧ電子社製４２型テレビ ＬＥＤＲＥＧＺＡ４２ＲＥ１の予め貼合されていた偏光板を剥がして、上記で作製した偏光板ＰＬ１〜ＰＬ１２のいずれかを、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように貼合し、液晶表示装置を各々作製した。なお、コニカミノルタオプト社製コニカミノルタタックＫＣ４ＵＹの一方の面を鹸化処理し、各偏光板の親水性高分子層の基材層が形成された面とは反対側の面に当該鹸化処理面を貼り合わせた。そして、偏光板を液晶表示装置に貼り合わせる際には、コニカミノルタタックＫＣ４ＵＹが液晶パネル側に位置するように、粘着剤を用いて貼り合わせた。【０３２５】
その後、上記表示装置を２３℃５５％ＲＨの環境下に２時間放置した後、電源（バックライト）を点灯させ、１２時間後および２４時間後のそれぞれにおける表示ムラおよび光漏れを画面を黒表示にした状態で観察し、それぞれ下記のような基準で評価を行った。結果を下記の表１に示す。【０３２６】
（表示ムラ）
画像表示が均一である：◎
画像表示がほぼ均一である：○
中央部と周囲にムラがある：△
中央部と周囲にはっきりとしたムラがある：×
（光漏れ）
光漏れが全くない：◎
光漏れが僅かにある：○
光漏れが一部あり、明るいと感じる：△
光漏れがあり、眩しいと感じる：×【０３２７】
【表１】
2013115178.tif 000038
【０３２８】
表１に示す結果から明らかなように、本発明の構成で使用した液晶表示装置は、ムラ、光漏れがない均一な画質を得ることができることがわかる。
【国際調査報告】
2013115178.tif 000039
2013115178.tif 000040
2013115178.tif 000041
2013115178.tif 000042