(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準面上において搬送方向に移動する搬送部と、
前記搬送部に取り付けられ豆腐を支持するための支持部と、
前記搬送方向の上流側に前記基準面に対向するように設けられ、前記支持部を豆腐が配置されている側からガス赤外線バーナで加熱するための低温用加熱部と、
前記基準面に対して前記低温用加熱部と同じ側で前記搬送方向の下流側において前記基準面に対向するように設けられ、前記支持部をガス赤外線バーナで加熱するための高温用加熱部と、
を備え、
前記低温用加熱部による加熱で前記支持部が達する温度よりも、前記高温用加熱部による加熱で前記支持部が達する温度の方が高く設定され、
前記支持部は、ステンレス鋼で形成されるとともに、前記豆腐を支持する側の表面が鏡面仕上げされて形成されたものであることを特徴とする焼豆腐製造用焼成装置。
【請求項２】
前記低温用加熱部は、前記基準面に対向するように設けられ前記支持部を豆腐が配置されている側から加熱する低温用加熱面を有し、
前記高温用加熱部は、前記基準面に対向するように設けられ前記支持部を豆腐が配置されている側から加熱する高温用加熱面を有し、
前記高温用加熱面の単位面積当たりの発熱量は、前記低温用加熱面の単位面積当たりの発熱量より大きく設定されていることを特徴とする請求項１に記載の焼豆腐製造用焼成装置。
【請求項３】
前記低温用加熱面は、全体にわたり単位面積当たりの発熱量が等しく設定され、
前記高温用加熱面は、全体にわたり単位面積当たりの発熱量が等しく設定されていることを特徴とする請求項２に記載の焼豆腐製造用焼成装置。
【請求項４】
前記低温用加熱部および前記高温用加熱部と前記支持部との間に規定される加熱空間を、前記基準面に平行であって前記搬送方向に直交する幅方向に挟むように対向配置された一対の反射部材を備えることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の焼豆腐製造用焼成装置。
【請求項５】
前記搬送部は、前記基準面に平行であって前記搬送方向に直交する幅方向に見た時に環状に形成され、
前記搬送部における前記搬送方向の上流側から下流側に向けて移動する下流向き搬送領域の外面が前記低温用加熱部および前記高温用加熱部に対向するように配置され、
前記支持部は、
前記搬送部の環状の外面の法線に直交する方向に延びるように取り付けられた板状の基板と、
前記支持部が前記下流向き搬送領域に取り付けられているときの前記基板の前記搬送方向の下流側から外方に突出するように設けられた押え板と
を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の焼豆腐製造用焼成装置。
【請求項６】
前記搬送部における前記搬送方向の下流側から上流側に向けて移動する上流向き搬送領域に取り付けられた前記支持部を冷却するための冷却部を備えることを特徴とする請求項５に記載の焼豆腐製造用焼成装置。
【請求項７】
端部が前記搬送部の前記搬送方向の下流側に対する下方に配置され、前記端部を上流として第二の基準面上において第二の搬送方向に移動する第二の搬送部と、
前記第二の搬送部に取り付けられ前記豆腐を支持するための第二の支持部と、
前記第二の搬送方向の上流側に前記第二の基準面に対向するように設けられ、前記第二の支持部を加熱するための第二の低温用加熱部と、
前記第二の基準面に対して前記第二の低温用加熱部と同じ側で前記第二の搬送方向の下流側において前記第二の基準面に対向するように設けられ、前記第二の支持部を加熱するための第二の高温用加熱部と、
を備え、
前記第二の低温用加熱部による加熱で前記第二の支持部が達する温度よりも、前記第二の高温用加熱部による加熱で前記第二の支持部が達する温度の方が高く設定され、
前記第二の支持部は、ステンレス鋼で形成されるとともに、前記豆腐を支持する側の表面が鏡面仕上げされて形成されたものであることを特徴とする請求項５または６に記載の焼豆腐製造用焼成装置。
【請求項８】
支持部上に豆腐を支持した状態で、前記支持部を基準面上において搬送方向に移動させながら、前記搬送方向の上流側であって前記基準面に対向するように設けられた低温用加熱部で前記支持部を豆腐が配置されている側からガス赤外線バーナで加熱する低温加熱工程と、
前記支持部を前記基準面上において前記搬送方向に移動させながら、前記基準面に対して前記低温用加熱部と同じ側で前記搬送方向の下流側において前記基準面に対向するように設けられた高温用加熱部で前記支持部をガス赤外線バーナで加熱する高温加熱工程と、
を備え、
前記低温用加熱部による加熱で前記支持部が達する温度よりも、前記高温用加熱部による加熱で前記支持部が達する温度の方が高く設定され、
前記支持部は、ステンレス鋼で形成されるとともに、前記豆腐を支持する側の表面が鏡面仕上げされて形成されたものであることを特徴とする焼豆腐製造用の豆腐焼成方法。
【請求項９】
前記高温加熱工程の後で、
前記支持部上で前記豆腐を支持した向きから変更して第二の支持部上で前記豆腐を支持した状態で、前記第二の支持部を第二の基準面上において第二の搬送方向に移動させながら、前記第二の搬送方向の上流側であって前記第二の基準面に対向するように設けられた第二の低温用加熱部で前記第二の支持部を加熱する第二の低温加熱工程と、
前記第二の支持部を前記第二の基準面上において前記第二の搬送方向に移動させながら、前記第二の基準面に対して前記第二の低温用加熱部と同じ側で前記第二の搬送方向の下流側において前記第二の基準面に対向するように設けられた第二の高温用加熱部で前記第二の支持部を加熱する第二の高温加熱工程と、
を備え、
前記第二の低温用加熱部による加熱で前記第二の支持部が達する温度よりも、前記第二の高温用加熱部による加熱で前記第二の支持部が達する温度の方が高く設定され、
前記第二の支持部は、ステンレス鋼で形成されるとともに、前記豆腐を支持する側の表面が鏡面仕上げされて形成されたものであることを特徴とする請求項８に記載の焼豆腐製造用の豆腐焼成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、焼豆腐製造するための焼豆腐製造用焼成装置および焼豆腐製造用の豆腐焼成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、豆腐などの大豆加工食品（以下、「食品」とも略称する。）を焼成して、食品の風味を高めることが行われている。なお、本明細書で言う大豆加工食品とは、豆腐、厚揚げ、がんもどき、および、湯葉等のような大豆を主原料とした加工食品のことをいう。食品に焼目を付けることで大豆のタンパク質が焦げ、風味が香ばしくなる。
例えば、特許文献１に記載された焼成装置では、所定の基盤上に所定間隔を有して立設された一対の枠体間に、複数の棒体が支持されている。複数の棒体は、それぞれの枠体に対して直角状に配置されるとともに、相互に所定の小間隔を有して互いに平行に配置されている。それぞれの棒体は、チェーンおよび減速機を介してモータに接続されていて、モータの動力により複数の棒体上に配置される豆腐を搬送することができる。
【０００３】
複数の棒体により構成される搬送路の下方にはガスバーナーが設置されていて、搬送路の下面側を加熱することができる。同様に、搬送路の上方にはガスバーナーが設置されていて、搬送路の上面側を加熱することができる。
それぞれのガスバーナーに点火し、モータを作動させて各棒体を回転させる。搬送路に載置された豆腐は回転する各棒体により搬送され、ガスバーナーの間を通過する際に上下の両面が適度に焼成され焼豆腐となる。
【０００４】
また、特許文献２に記載された焼豆腐製造装置では、走行レールに沿って走行台車が移動可能となるように駆動機が備えられている。走行台車が支持するバーナ支持アームには、主バーナが配置されている。主バーナは、筒状に形成され開口面が斜下方向を向くように配置されたバーナ筒と、バーナ筒の内奥に固定されたノズルとで構成されている。主バーナの下方に配設される台上には豆腐が整列配置される。
そして、主バーナを点火した状態で、駆動機により走行台車を移動させる。主バーナから放出される炎により豆腐の頂面が焼かれ、豆腐に焦目を付けることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】実開昭５５−１２３５１号公報
【特許文献２】実開平１−１４９９７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１または２に記載されているような装置により食品を加熱すると、食品の内部にある水分が水蒸気となって食品の表皮下に入り込み、食品の表皮が水膨れするという問題が生じてしまう場合がある。食品の表皮に水膨れが生じてしまうと、食品の表皮となった部分と他の部分との間に加熱ムラが生じて味が悪くなるとともに、食品の外観が悪くなってしまう。
【０００７】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであって、大豆加工食品を焼成する際に表面が水膨れするのを抑えた大豆加工食品用焼成装置および大豆加工食品の焼成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
本発明の焼豆腐製造用焼成装置は、基準面上において搬送方向に移動する搬送部と、前記搬送部に取り付けられ豆腐を支持するための支持部と、前記搬送方向の上流側に前記基準面に対向するように設けられ、前記支持部を豆腐が配置されている側からガス赤外線バーナで加熱するための低温用加熱部と、前記基準面に対して前記低温用加熱部と同じ側で前記搬送方向の下流側において前記基準面に対向するように設けられ、前記支持部をガス赤外線バーナで加熱するための高温用加熱部と、を備え、前記低温用加熱部による加熱で前記支持部が達する温度よりも、前記高温用加熱部による加熱で前記支持部が達する温度の方が高く設定され、前記支持部は、ステンレス鋼で形成されるとともに、前記豆腐を支持する側の表面が鏡面仕上げされて形成されたものであることを特徴としている。
【０００９】
また、本発明の焼豆腐製造用の豆腐焼成方法は、支持部上に豆腐を支持した状態で、前記支持部を基準面上において搬送方向に移動させながら、前記搬送方向の上流側であって前記基準面に対向するように設けられた低温用加熱部で前記支持部を豆腐が配置されている側からガス赤外線バーナで加熱する低温加熱工程と、前記支持部を前記基準面上において前記搬送方向に移動させながら、前記基準面に対して前記低温用加熱部と同じ側で前記搬送方向の下流側において前記基準面に対向するように設けられた高温用加熱部で前記支持部をガス赤外線バーナで加熱する高温加熱工程と、を備え、前記低温用加熱部による加熱で前記支持部が達する温度よりも、前記高温用加熱部による加熱で前記支持部が達する温度の方が高く設定され、前記支持部は、ステンレス鋼で形成されるとともに、前記豆腐を支持する側の表面が鏡面仕上げされて形成されたものであることを特徴としている。
【００１０】
この発明によれば、支持部上に配置した食品を、最初に搬送方向の上流側において、低温用加熱部により比較的低い温度で加熱する。これにより、食品の低温用加熱部側の表面の水分を蒸発させる。次に、搬送方向の下流側において、基準面に対して低温用加熱部と同じ側に設けられた高温用加熱部により、食品の水分を蒸発させた側の表面を低温用加熱部で加熱したときよりも高い温度となるように加熱し、食品を焼成する。このように、食品を比較的低い温度で加熱して水分を蒸発させてから、比較的高い温度で加熱することで、食品の内部にある水分により水膨れが生じるのを抑えて焼くことができる。これにより、豆腐などの大豆加工食品に香ばしい風味を付与することができる。
また、支持部は、ステンレス鋼で形成されるとともに、食品を支持する側の表面が鏡面仕上げされて形成されたものである。このため、高温用加熱部により加熱される場合であっても食品が支持部に付着するのを抑制し、支持部上の食品に連続的に焼成することができる。
食品を搬送方向の上流側から下流側に移動させつつ食品に連続的に焼成することができるため、製造効率を高めることができる。
【００１１】
また、上記の焼豆腐製造用焼成装置において、前記低温用加熱部は、前記基準面に対向するように設けられ前記支持部を豆腐が配置されている側から加熱する低温用加熱面を有し、前記高温用加熱部は、前記基準面に対向するように設けられ前記支持部を豆腐が配置されている側から加熱する高温用加熱面を有し、前記高温用加熱面の単位面積当たりの発熱量は、前記低温用加熱面の単位面積当たりの発熱量より大きく設定されていることがより好ましい。
この発明によれば、それぞれの加熱面がある程度の広がりを有する面状に形成されているため、支持部を均一に加熱することができる。
【００１２】
また、上記の焼豆腐製造用焼成装置において、前記低温用加熱面は、全体にわたり単位面積当たりの発熱量が等しく設定され、前記高温用加熱面は、全体にわたり単位面積当たりの発熱量が等しく設定されていることがより好ましい。
この発明によれば、支持部をより均一に加熱することができる。
【００１３】
また、上記の焼豆腐製造用焼成装置において、前記低温用加熱部および前記高温用加熱部と前記支持部との間に規定される加熱空間を、前記基準面に平行であって前記搬送方向に直交する幅方向に挟むように対向配置された一対の反射部材を備えるがより好ましい。
この発明によれば、各加熱部から発せられた熱は、加熱空間から外部に伝導されようとしても反射部材により加熱空間側に反射される。これにより、低温用加熱部および高温用加熱部から発せられる熱により、支持部を効果的に加熱することができる。
【００１４】
また、上記の焼豆腐製造用焼成装置において、前記搬送部は、前記基準面に平行であって前記搬送方向に直交する幅方向に見た時に環状に形成され、前記搬送部における前記搬送方向の上流側から下流側に向けて移動する下流向き搬送領域の外面が前記低温用加熱部および前記高温用加熱部に対向するように配置され、前記支持部は、前記搬送部の環状の外面の法線に直交する方向に延びるように取り付けられた板状の基板と、前記支持部が前記下流向き搬送領域に取り付けられているときの前記基板の前記搬送方向の下流側から外方に突出するように設けられた押え板とを有することがより好ましい。
【００１５】
この発明によれば、焼豆腐製造用焼成装置は、基準面が水平面に対してほぼ平行となるとともに、下流向き搬送領域の上方に低温用加熱部および高温用加熱部が位置するように配置される。
搬送部により移動する支持部は、下流向き搬送領域に取り付けられているときには、基板が食品を支持し、食品が低温用加熱部および高温用加熱部により加熱される。支持部が下流向き搬送領域よりも先に移動して環状の搬送部により支持部が下方に折返されるように移動するときには、押え板により食品を支持する。したがって、食品を基板および押え板の両方で支持して落下させることを抑えて下流の装置などに受け渡し、食品が外力を受けて傷むのを抑制することができる。
【００１６】
また、上記の焼豆腐製造用焼成装置において、前記搬送部における前記搬送方向の下流側から上流側に向けて移動する上流向き搬送領域に取り付けられた前記支持部を冷却するための冷却部を備えることがより好ましい。
この発明によれば、下流向き搬送領域で加熱された支持部を上流向き搬送領域で冷却することで、支持部を搬送部で循環して繰り返し加熱する場合であっても、支持部の温度が高くなり過ぎるのを抑制することができる。
【００１７】
また、上記の焼豆腐製造用焼成装置において、端部が前記搬送部の前記搬送方向の下流側に対する下方に配置され、前記端部を上流として第二の基準面上において第二の搬送方向に移動する第二の搬送部と、前記第二の搬送部に取り付けられ前記豆腐を支持するための第二の支持部と、前記第二の搬送方向の上流側に前記第二の基準面に対向するように設けられ、前記第二の支持部を加熱するための第二の低温用加熱部と、前記第二の基準面に対して前記第二の低温用加熱部と同じ側で前記第二の搬送方向の下流側において前記第二の基準面に対向するように設けられ、前記第二の支持部を加熱するための第二の高温用加熱部と、を備え、前記第二の低温用加熱部による加熱で前記第二の支持部が達する温度よりも、前記第二の高温用加熱部による加熱で前記第二の支持部が達する温度の方が高く設定され、前記第二の支持部は、ステンレス鋼で形成されるとともに、前記豆腐を支持する側の表面が鏡面仕上げされて形成されたものであることがより好ましい。
【００１８】
また、上記の焼豆腐製造用の豆腐焼成方法において、前記高温加熱工程の後で、前記支持部上で前記豆腐を支持した向きから変更して第二の支持部上で前記豆腐を支持した状態で、前記第二の支持部を第二の基準面上において第二の搬送方向に移動させながら、前記第二の搬送方向の上流側であって前記第二の基準面に対向するように設けられた第二の低温用加熱部で前記第二の支持部を加熱する第二の低温加熱工程と、前記第二の支持部を前記第二の基準面上において前記第二の搬送方向に移動させながら、前記第二の基準面に対して前記第二の低温用加熱部と同じ側で前記第二の搬送方向の下流側において前記第二の基準面に対向するように設けられた第二の高温用加熱部で前記第二の支持部を加熱する第二の高温加熱工程と、を備え、前記第二の低温用加熱部による加熱で前記第二の支持部が達する温度よりも、前記第二の高温用加熱部による加熱で前記第二の支持部が達する温度の方が高く設定され、前記第二の支持部は、ステンレス鋼で形成されるとともに、前記豆腐を支持する側の表面が鏡面仕上げされて形成されたものであることがより好ましい。
【００１９】
この発明によれば、押え板により支持された食品を第二の搬送部に取り付けられた第二の支持部で受けるときに、支持部で食品を支持していたときに比べて支持する食品の向きを変えることができる。
そして、第二の支持部上に配置した食品を、第二の搬送方向の上流側において第二の低温用加熱部により比較的低い温度で加熱し、食品の第二の低温用加熱部側の表面の水分を蒸発させる。第二の搬送方向の下流側において、第二の基準面に対して第二の低温用加熱部と同じ側に設けられた第二の高温用加熱部により、食品の水分を蒸発させた側の表面を第二の低温用加熱部で加熱したときよりも高い温度となるように加熱し、食品を焼成する。このように、食品を比較的低い温度で加熱して水分を蒸発させてから、比較的高い温度で加熱することで、高温用加熱部および低温用加熱部で焼成した食品の表面とは別の表面についても、食品の内部にある水分により水膨れが生じることを抑えて焼くことができる。これにより、豆腐などの大豆加工食品に香ばしい風味を付与することができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の大豆加工食品用焼成装置および大豆加工食品の焼成方法によれば、大豆加工食品を焼成する際に表面が水膨れするのを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態の大豆加工食品用焼成装置の側面から見た全体図である。
【図２】同大豆加工食品用焼成装置の支持台の斜視図である。
【図３】同大豆加工食品用焼成装置の冷却器の斜視図である。
【図４】図１におけるＡ１方向矢視図である。
【図５】図１におけるＡ２方向矢視図である。
【図６】同大豆加工食品用焼成装置の減速機構を模式的に示す断面図である。
【図７】本発明の実施形態の大豆加工食品の焼成方法の手順を模式的に示す断面図である。
【図８】本発明の実施形態の大豆加工食品の焼成方法の手順を模式的に示す断面図である。
【図９】本発明の実施形態の大豆加工食品の焼成方法の手順を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明に係る大豆加工食品用焼成装置（以下、「焼成装置」とも略称する。）の一実施形態を食品が豆腐である場合を例にとって説明する。なお、この例において、豆腐は直方体状に形成されたものを用いている。
図１に示すように、本焼成装置１は、第一の焼成ユニット１０Ａと、第二の焼成ユニット１０Ｂとで構成されている。なお、焼成ユニット１０Ａ、１０Ｂは、基本的な構成は同一であるため、同一の構成は符号の数字の部分を共通にし、第一の焼成ユニット１０Ａの構成については数字に英字「Ａ」を付加し、第二の焼成ユニット１０Ｂの構成については同一の数字に英字「Ｂ」を付加することで示すことにする。
この例では、焼成装置１は、冷却槽１００とともに用いられている。
【００２３】
第一の焼成ユニット１０Ａは、基準面Ｓ１上において搬送方向Ｄに移動するチェーン（搬送部）２０Ａと、チェーン２０Ａに取り付けられた複数の支持台（支持部）３０と、基準面Ｓ１に対向するように設けられた低温用加熱部４０Ａおよび高温用加熱部５０Ａとを備えている。
【００２４】
チェーン２０Ａは、水平面に平行となるように設けられた設置面Ｇから立設する脚部６１Ａ上に設けられている。脚部６１Ａ同士は、水平面に平行に配置された連結部材６２Ａにより接続されている。
歯車６４Ａ、６５Ａは、脚部６１Ａに設けられた不図示のベアリングなどにより回転可能に支持されている。歯車６４Ａは搬送方向Ｄの下流側Ｄ１、歯車６５Ａは搬送方向Ｄの上流側Ｄ２にそれぞれ配置されている。歯車６４Ａは、連結部材６２Ａに固定されたモータ６６Ａに不図示の駆動ベルトなどで接続されていて、モータ６６Ａを駆動することで歯車６４Ａを回転させることができる。
【００２５】
基準面Ｓ１は、ほぼ水平面に平行に設定され、搬送方向Ｄの下流側Ｄ１が上流側Ｄ２よりわずかに上方に位置するように設定されている。
チェーン２０Ａは、基準面Ｓ１に平行であって搬送方向Ｄに直交する幅方向Ｅに平行に見た側面視において環状となるように配置されている。より詳しく説明すると、チェーン２０Ａは、側面視において、搬送方向Ｄの上流側Ｄ２から下流側Ｄ１に向けて移動する下流向き搬送領域２１Ａと、下流側Ｄ１から上流側Ｄ２に向けて移動する上流向き搬送領域２２Ａと、搬送方向Ｄの下流側Ｄ１において、下流向き搬送領域２１Ａおよび上流向き搬送領域２２Ａを互いに接続する下流側接続領域２３Ａと、搬送方向Ｄの上流側Ｄ２において、下流向き搬送領域２１Ａおよび上流向き搬送領域２２Ａを互いに接続する上流側接続領域２４Ａとで構成されている。
下流向き搬送領域２１Ａは基準面Ｓ１上で直線状に形成され、上流向き搬送領域２２Ａは下流向き搬送領域２１Ａに対して平行となる直線状に形成されている。接続領域２３、２４Ａは、円弧状に形成されている。
チェーン２０Ａの内側に前述の歯車６４Ａ、６５Ａが配置され、歯車６４Ａが下流側接続領域２３Ａに係合し、歯車６５Ａが上流側接続領域２４Ａに係合している。
【００２６】
支持台３０は、豆腐Ｔを支持するためのものである。支持台３０は、図２に示すように、板状の基板３１と、基板３１の端部から基板３１の厚さ方向に突出するように設けられた押え板３２とを有している。
支持台３０は、ステンレス鋼で形成されるとともに、豆腐Ｔを支持する側の表面である基板３１の押え板３２側の面３１ａ、および押え板３２の基板３１側の面３２ａが鏡面仕上げされて形成されたものである。なお、ここで言う鏡面仕上げされて形成されたものとは、粒度が３００番から３０００番である（３００番を越える）研磨紙、フィルム、ディスク、バフなどで研磨されて形成されたもののことを意味する。
【００２７】
支持台３０は、前述のモータ６６Ａがチェーン２０Ａを回転させることで、チェーン２０Ａの下流向き搬送領域２１Ａ、下流側接続領域２３Ａ、上流向き搬送領域２２Ａ、上流側接続領域２４Ａ、下流向き搬送領域２１Ａ、・・、の順に取り付けられるように移動する。基板３１は、側面視において、チェーン２０Ａの環状の外面の法線Ｎに直交する方向に延びるように取り付けられている。
押え板３２は、支持台３０が下流向き搬送領域２１Ａに取り付けられているときの基板３１の搬送方向Ｄの下流側Ｄ１の端部から外方に突出するように設けられている。言い換えれば、押え板３２は、基板３１における支持台３０がチェーン２０Ａに沿って移動する側の先端部からチェーン２０Ａの外方に突出するように設けられている。
支持台３０は、図１に示すように、側面視において、チェーン２０Ａの長手方向に互いに間隔を開けて複数取り付けられている。
【００２８】
図１および図３に示すように、連結部材６２Ａには、支持部材６７Ａを介して冷却器（冷却部）７０Ａが取り付けられている。冷却器７０Ａは、管状に形成された本体７１Ａと、本体７１Ａの管路と連通するチューブ７２Ａとを有している。本体７１Ａには、本体７１Ａの長手方向に複数の貫通孔７３Ａが並べて形成されている。それぞれの貫通孔７３Ａは、本体７１Ａの管路と連通している。チューブ７２Ａには、流量調節バルブ７４Ａが設けられている。冷却器７０Ａは、貫通孔７３Ａの開口が上流向き搬送領域２２Ａの外面に対向するように連結部材６２Ａに取り付けられている。
このように構成された冷却器７０Ａは、流量調節バルブ７４Ａを調節して常温の冷却水Ｗ１をチューブ７２Ａから本体７１Ａの管路に導く。後述するように上流向き搬送領域２２Ａは百度を超える温度に加熱されるため、この冷却水Ｗを貫通孔７３Ａから上流向き搬送領域２２Ａに噴出させることで、上流向き搬送領域２２Ａを冷却することができる。
【００２９】
図１に示すように、低温用加熱部４０Ａは、チェーン２０Ａの下流向き搬送領域２１Ａにおける上流側Ｄ２の外面に対向するように、下流向き搬送領域２１Ａの上方に配置されている。同様に、高温用加熱部５０Ａは、チェーン２０Ａの下流向き搬送領域２１Ａにおける下流側Ｄ１の外面に対向するように、下流向き搬送領域２１Ａの上方に配置されている。すなわち、低温用加熱部４０Ａおよび高温用加熱部５０Ａは、下流向き搬送領域２１Ａに対して同じ側に配置されている。
本実施形態では、低温用加熱部４０Ａとして、図４および図５に示すように、底面視で矩形状の加熱ユニット４１Ａ、１つを、その長手方向が幅方向Ｅに平行になるように配置したものを用いている。また、高温用加熱部５０Ａとして、低温用加熱部４０Ａで用いたものと同一の加熱ユニット４１Ａ、３つを、その長手方向が搬送方向Ｄに平行になるとともに、幅方向Ｅに並べて配置したものを用いている。この例では、加熱ユニット４１Ａとして、ガス赤外線バーナユニット、Ｒ−１６０３Ｓ３（リンナイ（株）製）を用いている。
【００３０】
加熱ユニット４１Ａは、カバー４２Ａ内に、４つのバーナノズル４３Ａが長手方向に並べた状態で配置されている。各バーナノズル４３Ａには、ガス配管４４Ａが接続されていて、ガス配管４４Ａには、開閉レバー４５Ａおよびガス量調節ツマミ４６Ａが設けられている（図４には、高温用加熱部５０Ａの加熱ユニット４１Ａに関する開閉レバー４５Ａなどを示している。）。
カバー４２Ａには、バーナノズル４３Ａの下方となる位置に、セラミックス製のプレート４７Ａが設けられている。低温用加熱部４０Ａでは、プレート４７Ａの底面が低温用加熱面４８Ａとなる。一方で、高温用加熱部５０Ａでは、３枚のプレート４７Ａの底面が全体で高温用加熱面５８Ａとなる。加熱面４８Ａ、５８Ａは、それぞれが下流向き搬送領域２１Ａに対向するように設けられている。
【００３１】
このように構成された低温用加熱部４０Ａは、開閉レバー４５Ａを操作してガス配管４４Ａ内にガスを導くとともに、ガス量調節ツマミ４６Ａよりガス配管４４Ａを通してバーナノズル４３Ａから噴出するガスの流量を調節することができる。不図示の点火装置によりバーナノズル４３Ａから噴出するガスを燃焼させると、プレート４７Ａが一様に加熱されて低温用加熱面４８Ａから下流向き搬送領域２１Ａに向けて赤外線が放射され、下流向き搬送領域２１Ａに取り付けられた支持台３０を加熱する。
このように、バーナノズル４３Ａの炎で加熱されたプレート４７Ａでさらに支持台３０を加熱することで、低温用加熱面４８Ａは、全体にわたり単位面積当たりの発熱量が等しく設定される。
【００３２】
同様に、高温用加熱面５８Ａは、全体にわたり単位面積当たりの発熱量が等しく設定されていて、下流向き搬送領域２１Ａに取り付けられた支持台３０を加熱する。
また、加熱部４０Ａ、５０Ａのガス量調節ツマミ４６Ａを調節することで、高温用加熱面５８Ａの単位面積当たりの発熱量は、低温用加熱面４８Ａの単位面積当たりの発熱量より大きく設定される。その結果、低温用加熱面４８Ａによる加熱で低温用加熱面４８Ａに対向する位置に配置された支持台３０が達する温度よりも、高温用加熱面５８Ａによる加熱で高温用加熱面５８Ａに対向する位置に配置された支持台３０が達する温度の方が高くなる。具体的には、例えば、支持台３０上に豆腐Ｔを載せていない状態で加熱部４０Ａ、５０Ａにより加熱すると、図１に示す低温用加熱面４８Ａの中央部に対向する支持台３０の位置Ｐ１における温度は、例えば２４０℃となる。この位置Ｐ１における温度は、２００〜３００℃であることが好ましく、２２０〜２６０℃であることがより好ましい。
【００３３】
高温用加熱面５８Ａの上流側Ｄ２に対向する支持台３０の位置Ｐ２における温度は、例えば３００℃、高温用加熱面５８Ａの下流側Ｄ１に対向する支持台３０の位置Ｐ３における温度は３０５℃となる。この位置Ｐ２及びＰ３における温度は、２５０〜３５０℃であることが好ましく、２８０〜３２０℃であることがより好ましい。
そして、前記位置Ｐ１における好ましい温度範囲と、前記位置Ｐ２及びＰ３における好ましい温度範囲には重なっている温度範囲が存在するが、位置Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の具体的な温度を設定する場合には、位置Ｐ１における温度よりも、位置Ｐ２及びＰ３における温度の方が、好ましくは５０〜７０℃、より好ましくは６０〜６５℃高くなるように設定をする。
それぞれの加熱面４８Ａ、５８Ａは、基準面Ｓ１に直交するように見た平面視において、加熱対象となる豆腐Ｔの面積よりも大きく設定されることが好ましい。このように構成することで、豆腐Ｔをより均一に加熱することができる。
【００３４】
低温用加熱部４０Ａおよび高温用加熱部５０Ａは、図４に示すように連結部材８１Ａに固定されている。
脚部６１Ａ上にはケーシング８３Ａが取り付けられている。ケーシング８３Ａ内の上部には図示はしないが公知の昇降機構が設けられていて、この昇降機構は連結部材８１Ａを支持している。ケーシング８３Ａの上部にはハンドル８４Ａが設けられていて、ハンドル８４Ａを操作することで連結部材８１Ａを上下させ、低温用加熱面４８Ａおよび高温用加熱面５８Ａと下流向き搬送領域２１Ａとの距離を調節することができる。
【００３５】
ケーシング８３Ａ内には、低温用加熱部４０Ａおよび高温用加熱部５０Ａと支持台３０との間に規定される加熱空間８６Ａを幅方向Ｅに挟むように、一対の反射板（反射部材）８７Ａが対向配置されている。反射板８７Ａを形成する材料としては、前述のステンレス鋼を用いることができる。
一対の反射板８７Ａは、加熱面４８Ａ、５８Ａから拡散するように伝えられる熱Ｈを支持台３０側に反射することができる。
【００３６】
第二の焼成ユニット１０Ｂは、図１に示すように、第一の焼成ユニット１０Ａに対して支持台３０に代えて、第二の支持台（第二の支持部）３５、および、減速機構９０を備えている。第二の焼成ユニット１０Ｂは、第一の焼成ユニット１０Ａのチェーン２０Ａ、低温用加熱部４０Ａ、高温用加熱部５０Ａと同一の構成の第二のチェーン（第二の搬送部）２０Ｂ、第二の低温用加熱部４０Ｂ、第二の高温用加熱部５０Ｂを備えている。
【００３７】
本実施形態では、第二のチェーン２０Ｂの下流向き搬送領域２１Ｂが第二の基準面Ｓ２上において移動する第二の搬送方向は、搬送方向Ｄと等しく設定されている。また、第二のチェーン２０Ｂの上流側Ｄ２の端部は、チェーン２０Ａの搬送方向Ｄの下流側Ｄ１に対する下方に配置されている。
第二の支持台３５は、ステンレス鋼で板状に形成されるとともに、チェーン２０Ａに基板３１が取り付けられているのと同様に、第二のチェーン２０Ｂに取り付けられている。
第二の支持台３５における豆腐Ｔを支持する側の表面３５ａは、鏡面仕上げされて形成された面となっている。
なお、第二の支持台３５上に豆腐Ｔを載せていない状態で加熱部４０Ｂ、５０Ｂにより加熱すると、図１に示す第二の低温用加熱面４８Ｂの中央部に対向する第二の支持台３５の位置Ｐ４における温度は、例えば３１０℃となる。この位置Ｐ４における温度は、２５０〜３５０℃であることが好ましく、２９０〜３３０℃であることがより好ましい。
【００３８】
第二の高温用加熱面５８Ｂの上流側Ｄ２に対向する第二の支持台３５の位置Ｐ５における温度は、例えば３４０℃、第二の高温用加熱面５８Ｂの下流側Ｄ１に対向する第二の支持台３５の位置Ｐ６における温度は３２０℃となる。この位置Ｐ５及びＰ６における温度は、３００〜３７０℃であることが好ましく、３１０〜３５０℃であることがより好ましい。
そして、前記位置Ｐ４における好ましい温度範囲と、前記位置Ｐ５及びＰ６における好ましい温度範囲には重なっている温度範囲が存在するが、位置Ｐ４、Ｐ５及びＰ６の具体的な温度を設定する場合には、位置Ｐ４における温度よりも、位置Ｐ５及びＰ６における温度の方が、好ましくは１０〜５０℃、より好ましくは１０〜３０℃高くなるように設定をする。
なお、図１のように、第一の焼成ユニット１０Ａと第二の焼成ユニット１０Ｂを組み合わせて使用する場合、低温用加熱部４０Ａおよび高温用加熱部５０Ａで焼成した豆腐Ｔの表面とは別の表面は、直接加熱されてはいないが、第一の焼成ユニット１０Ａに投入される前の豆腐Ｔの表面よりも水分が蒸発している。したがって、第二の低温用加熱部４０Ｂと第二の高温用加熱部５０Ｂとの温度差は、低温用加熱部４０Ａと高温用加熱部５０Ａとの温度差よりも小さい温度差であっても、水膨れが生じることを抑えて焼くことができる。
【００３９】
減速機構９０は、図６に示すように、幅方向Ｅに平行となるように配置された管状部材９１と、管状部材９１に挿通され管状部材９１を管状部材９１の中心軸線Ｃ周りに回転可能に支持する回転支持部９２とを有している。
回転支持部９２は脚部６１Ｂに取り付けられている。管状部材９１は、例えばステンレス鋼で形成することができる。管状部材９１は、側面視において、チェーン２０Ａの下流側接続領域２３Ａから豆腐Ｔの対角線の長さ程度離間した位置に配置されている。
【００４０】
冷却槽１００は、図１に示すように、上部に開口１０１を有していて、冷却水Ｗ２が収容されている。冷却槽１００は、第二のチェーン２０Ｂの搬送方向Ｄの下流側Ｄ１に対する下方に配置されている。
【００４１】
次に、本実施形態の大豆加工食品の焼成方法の手順について説明する。本方法は、豆腐Ｔの一方の面Ｔ１（図１参照。）を低温用加熱部４０Ａで加熱する低温加熱工程と、豆腐Ｔの一方の面Ｔ１を高温用加熱部５０Ａで加熱する高温加熱工程と、豆腐Ｔの他方の面Ｔ２を第二の低温用加熱部４０Ｂで加熱する第二の低温加熱工程と、豆腐Ｔの他方の面Ｔ２を第二の高温用加熱部５０Ｂで加熱する第二の高温加熱工程とを備えている。
【００４２】
まず、予め以下の手順を行う。
作業者は、下流向き搬送領域２１Ａ、２１Ｂの上流側Ｄ２の温度が上昇しすぎないように、冷却器７０Ａ、７０Ｂから冷却水Ｗ１を上流向き搬送領域２２Ａ、２２Ｂにそれぞれ噴出させる。第一の焼成ユニット１０Ａにおいて、ハンドル８４Ａを操作して、加熱面４８Ａ、５８Ａと下流向き搬送領域２１Ａとの距離を調節する。開閉レバー４５Ａおよびガス量調節ツマミ４６Ａを操作して、バーナノズル４３Ａからガスを噴出させるとともにこのガスを燃焼させて加熱面４８Ａ、５８Ａで支持台３０を加熱する。このとき、例えば、支持台３０の位置Ｐ１からＰ３における温度が、前述した温度となるようにガス量調節ツマミ４６Ａなどを調節する。
同様に、第二の焼成ユニット１０Ｂにおいて、加熱面４８Ｂ、５８Ｂと下流向き搬送領域２１Ｂとの距離を調節し、加熱面４８Ｂ、５８Ｂで第二の支持台３５を加熱する。このとき、例えば、第二の支持台の位置Ｐ４からＰ６における温度が、前述した温度となるように調節する。
【００４３】
モータ６６Ａ、６６Ｂを駆動して、チェーン２０Ａ、２０Ｂを回転させる。このとき、例えば、支持台３０が低温用加熱面４８Ａに対向する範囲を通過するのに要する時間が６０秒程度、高温用加熱面５８Ａに対向する範囲を通過するのに要する時間が２４０秒となるようにチェーン２０Ａの回転速度を調節する。ここで、支持台３０が低温用加熱面４８Ａに対向する範囲を通過するのに要する時間は、５５〜６５秒であることが好ましく、高温用加熱面５８Ａに対向する範囲を通過するのに要する時間は、２３０〜２５０秒であることが好ましい。
第二のチェーン２０Ｂについても同様に、例えば、第二の支持台３５が第二の低温用加熱面４８Ｂに対向する範囲を通過するのに要する時間が６０秒程度、第二の高温用加熱面５８Ｂに対向する範囲を通過するのに要する時間が２４０秒となるように回転速度を調節する。ここで、第二の支持台３５が第二の低温用加熱面４８Ｂに対向する範囲を通過するのに要する時間は、５５〜６５秒であることが好ましく、第二の高温用加熱面５８Ｂに対向する範囲を通過するのに要する時間は、２３０〜２５０秒であることが好ましい。
【００４４】
また、別の工程で製造した豆腐Ｔに適切な重量の錘を乗せて３０分程度放置し、豆腐Ｔ中の水分をある程度除去する。
【００４５】
次に、低温加熱工程において、作業者は、下流向き搬送領域２１Ａの上流側Ｄ２に取り付けられた支持台３０の基板３１上に豆腐Ｔを並べて配置し、支持台３０に豆腐Ｔを支持させる。このとき、基板３１は水平面に対して傾いているため、豆腐Ｔ中から流れ出た水分は基板３１上を上流側Ｄ２に流れ、基板３１上に水分が溜まることはない。
支持台３０を基準面Ｓ１上において搬送方向Ｄの下流側Ｄ１に移動させながら、低温用加熱面４８Ａで豆腐Ｔの一方の面Ｔ１を加熱する。このとき、豆腐Ｔの一方の面Ｔ１側の水分が蒸発する。
続いて、高温加熱工程において、支持台３０を下流側Ｄ１に移動させながら、高温用加熱面５８Ａで豆腐Ｔの一方の面Ｔ１を加熱する。このとき、豆腐Ｔの一方の面Ｔ１が焼成され、例えば厚さが３０〜５０ｍｍの豆腐Ｔにおいて、一方の面Ｔ１側は厚さ４〜６ｍｍ程度にわたって焼成され、焼成された面に、薄茶色〜こげ茶色の焦げ目が部分的に付く。
【００４６】
支持台３０がチェーン２Ａの下流向き搬送領域２１Ａから下流側接続領域２３Ａに移動すると、図６に示すように支持台３０が傾いて、豆腐Ｔは重力の作用により押え板３２に支持されるようになる。
支持台３０が上流向き搬送領域２２Ａ側に移動してさらに傾くと、図７に示すように、豆腐Ｔは角部Ｔ３を中心に回動し、豆腐Ｔが管状部材９１に係止される。このとき、豆腐Ｔの動きが一時的に止まる。
管状部材９１は回転支持部９２により管状部材９１の中心軸線Ｃ周りに回転可能に支持されているため、図８に示すように豆腐Ｔに作用する重力により管状部材９１が中心軸線Ｃ周りに矢印Ｆで示すように回転する。これにより、管状部材９１と豆腐Ｔとの係止が解除され、豆腐Ｔが他方の面Ｔ２を上方に向けるように回転しながら下方に移動し、図９に示すように第二の支持台３５上に移動する。
【００４７】
豆腐Ｔを支持していた支持台３０は、上流向き搬送領域２２Ａに取り付けられる位置に移動したときに、冷却器７０Ａにより冷却水Ｗ１で冷却される。
【００４８】
次に、第二の低温加熱工程において、第二の支持台３５を下流側Ｄ１に移動させながら、第二の低温用加熱面４８Ｂで豆腐Ｔの他方の面Ｔ２を加熱する。このとき、豆腐Ｔの他方の面Ｔ２側の水分が蒸発する。
続いて、第二の高温加熱工程において、第二の支持台３５を下流側Ｄ１に移動させながら、第二の高温用加熱面５８Ｂで豆腐Ｔの他方の面Ｔ２を加熱する。このとき、豆腐Ｔの他方の面Ｔ２が焼成され、例えば厚さが３０〜５０ｍｍの豆腐Ｔにおいて、一方の面Ｔ２側は厚さ４〜６ｍｍ程度にわたって焼成され、焼成された面に、薄茶色〜こげ茶色の焦げ目が部分的に付く。
【００４９】
各面Ｔ１、Ｔ２が焼成された豆腐Ｔは、下流向き搬送領域２１Ｂを通過すると、下流側接続領域２３Ｂに沿って下方に移動し、冷却槽１００の冷却水Ｗ２中に落ちる。
豆腐Ｔを支持していた第二の支持台３５は、上流向き搬送領域２２Ｂに取り付けられる位置に移動したときに、冷却器７０Ｂにより冷却水Ｗ１で冷却される。
冷却水Ｗ２により一定の温度まで冷却された豆腐Ｔは、不図示の包装機などにより、個別に包装される。
また、焼成された豆腐Ｔの冷却は、冷却槽の代わりに、急速冷却冷蔵庫を用いて行うこともできる。
【００５０】
以上説明したように、本実施形態の焼成装置１および大豆加工食品の焼成方法によれば、支持台３０上に配置した豆腐Ｔを、最初に搬送方向Ｄの上流側Ｄ２において、低温用加熱部４０Ａにより比較的低い温度で加熱する。これにより、豆腐Ｔの一方の面Ｔ１の水分を蒸発させる。次に、搬送方向Ｄの下流側Ｄ１において、支持台３０に対して低温用加熱部４０Ａと同じ側に設けられた高温用加熱部５０Ａにより、豆腐Ｔの一方の面Ｔ１を低温用加熱部４０Ａで加熱したときよりも高い温度となるように加熱し、豆腐Ｔの一方の面Ｔ１を焼成する。このように、豆腐Ｔを比較的低い温度で加熱して水分を蒸発させてから、比較的高い温度で加熱することで、豆腐Ｔの内部にある水分により水膨れが生じるのを抑えて焼くことができる。これにより、豆腐Ｔに香ばしい風味を付与することができる。
【００５１】
また、支持台３０は、ステンレス鋼で形成されるとともに、豆腐Ｔを支持する側の面３１ａ、３２ａが鏡面仕上げされて形成されたものである。このため、高温用加熱部５０Ａにより加熱される場合であっても焼成した豆腐Ｔが支持台３０に付着するのを抑制し、支持台３０上の豆腐Ｔに連続的に焼成することができる。
豆腐Ｔを搬送方向Ｄの上流側Ｄ２から下流側Ｄ１に移動させつつ豆腐Ｔに連続的に焼成し、製造効率を高めることができる。
例えば、各支持台３０に幅方向Ｅに４丁ずつ豆腐Ｔを配置した場合、本焼成装置１によれば、１時間当たりに２５０丁程度の豆腐Ｔを焼成し、焼き豆腐を製造することができる。
【００５２】
低温用加熱部４０Ａは低温用加熱面４８Ａを有し、高温用加熱部５０Ａは高温用加熱面５８Ａを有している。それぞれの加熱面４８Ａ、５８Ａは、ある程度の広がりを有する面状に形成されているため、支持台３０上の豆腐Ｔを均一に加熱することができる。
加熱面４８Ａ、５８Ａは、それぞれが全体にわたり単位面積当たりの発熱量が等しく設定されている。このため、支持台３０上の豆腐Ｔをより均一に加熱することができる。
【００５３】
また、焼成装置１は一対の反射板８７Ａを備えている。各加熱部４０Ａ、５０Ａから発せられた熱Ｈは、加熱空間８６Ａから外部に伝導されようとしても反射板８７Ａにより加熱空間８６Ａ側に反射される。これにより、低温用加熱部４０Ａおよび高温用加熱部５０Ａから発せられる熱Ｈにより、支持台３０を効果的に加熱することができる。
チェーン２０Ａは側面視において環状となるように配置され、支持台３０は基板３１と押え板３２とを有している。支持台３０は、下流向き搬送領域２１Ａに取り付けられているときには、基板３１が豆腐Ｔを支持し、豆腐Ｔが低温用加熱部４０Ａおよび高温用加熱部５０Ａにより加熱される。支持台３０が下流側接続領域２３Ａに取り付けられているときには、押え板３２により豆腐Ｔを支持する。したがって、第一の焼成ユニット１０Ａが、豆腐Ｔを基板３１および押え板３２の両方で支持して支持台３０から落下させることを抑えて第二の焼成ユニット１０Ｂに受け渡し、豆腐Ｔが外力を受けて傷むのを抑制することができる。
【００５４】
焼成装置１は冷却器７０Ａを備え、下流向き搬送領域２１Ａで加熱された支持台３０を上流向き搬送領域２２Ａで冷却している。これにより、支持台３０をチェーン２０Ａで循環して繰り返し加熱する場合であっても、支持台３０の温度が高くなり過ぎるのを抑制することができる。
焼成装置１は第二のチェーン２０Ｂ、第二の支持台３５、第二の低温用加熱部４０Ｂ、および第二の高温用加熱部５０Ｂを備えている。押え板３２により支持された豆腐Ｔを第二のチェーン２０Ｂに取り付けられた第二の支持台３５で受けるときに、支持台３０で豆腐Ｔを支持していたときに比べて支持する豆腐Ｔの向きを変えることができる。
第二の支持台３５上に配置した豆腐Ｔを、搬送方向Ｄの上流側Ｄ２において第二の低温用加熱部４０Ｂにより比較的低い温度で加熱し、豆腐Ｔの他方の面Ｔ２の水分を蒸発させる。搬送方向Ｄの下流側Ｄ１において、第二の支持台３５に対して第二の低温用加熱部４０Ｂと同じ側に設けられた第二の高温用加熱部５０Ｂにより、豆腐Ｔの他方の面Ｔ２を第二の低温用加熱部４０Ｂで加熱したときよりも高い温度となるように加熱する。したがって、豆腐Ｔにおいて高温用加熱部５０Ａおよび低温用加熱部４０Ａで焼成した一方の面Ｔ１とは別の他方の面Ｔ２に、水膨れを抑えて焼くことができる。これにより、豆腐Ｔに香ばしい風味を付与することができる。
【００５５】
以上、本発明の一実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の構成の変更なども含まれる。
たとえば、前記実施形態では、低温用加熱面４８Ａは全体にわたり単位面積当たりの発熱量が等しく設定されるとした。しかし、低温用加熱部４０Ａによる加熱で支持台３０が達する温度よりも、高温用加熱部５０Ａによる加熱で支持台３０が達する温度の方が高く設定されていればこの限りではない。高温用加熱面５８Ａについても、同様である。
【００５６】
加熱部４０Ａ、５０Ａが発する熱に下向きの指向性がある場合などには、焼成装置１に反射板８７Ａは備えられなくてもよい。
単位時間当たりに焼成する豆腐Ｔの数が少ない場合には、支持台３０が取り付けられる搬送部には、支持台３０を搬送方向Ｄと平行に下流側Ｄ１および上流側Ｄ２に移動するように案内するレールなどを用いることができる。
支持台３０を冷却器７０Ａで冷却するときは、支持台３０が上流向き搬送領域２２Ａに取り付けられているときに限定されず、上流側接続領域２４Ａや下流側接続領域２３Ａに取り付けられているときでもよい。また、加熱部４０Ａ、５０Ａで加熱された後の支持台３０の温度が比較的低い場合などには、冷却器７０Ａは備えられなくてもよい。
【００５７】
また、単位時間当たりに焼成する豆腐Ｔの数が少ない場合には、焼成装置１に第二の焼成ユニット１０Ｂは備えられなくてもよい。第一の焼成ユニット１０Ａで一方の面Ｔ１を焼成した豆腐Ｔを作業者がチェーン２０Ａの上流側Ｄ２に運び、他方の面Ｔ２が上を向くように支持台３０に配置すれば、豆腐Ｔの他方の面Ｔ２も焼成することができるからである。
前記実施形態では、加熱部４０Ａ、５０Ａとして、加熱ユニット４１Ａを用いたが、加熱部としてはこれ以外にも、電熱線や電磁誘導などを用いた加熱ユニットを適宜選択して用いることができる。
【００５８】
第二の焼成ユニット１０Ｂで搬送する第二の搬送方向は、第一の焼成ユニット１０Ａで搬送する搬送方向Ｄと等しいとした。しかし、搬送方向Ｄに対する第二の搬送方向は、焼成ユニット１０Ａ、１０Ｂのレイアウトなどに応じて、適宜設定することができる。
前記実施形態では、食品は豆腐であるとしたが、これに限ることなく、食品は厚揚げ、がんもどきや湯葉でもよい。
【符号の説明】
【００５９】
１    焼成装置（大豆加工食品用焼成装置）
１０Ａ  第一の焼成ユニット
１０Ｂ  第二の焼成ユニット
２０Ａ  チェーン（搬送部）
２０Ｂ  第二のチェーン（第二の搬送部）
２１Ａ  下流向き搬送領域
２２Ａ  上流向き搬送領域
３０  支持台（支持部）
３１  基板
３２  押え板
３５  第二の支持台（第二の支持部）
４０Ａ  低温用加熱部
４０Ｂ  第二の低温用加熱部
４８Ａ  低温用加熱面
５０Ａ  高温用加熱部
５０Ｂ  第二の高温用加熱部
５８Ａ  高温用加熱面
７０Ａ  冷却器（冷却部）
８６Ａ  加熱空間
８７Ａ  反射板（反射部材）
１００  冷却槽
Ｄ    搬送方向（第二の搬送方向）
Ｄ１  下流側
Ｄ２  上流側
Ｅ    幅方向
Ｓ１  基準面
Ｓ２  第二の基準面
Ｔ    豆腐（大豆加工食品）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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