(57)【要約】  本発明は、少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されてなり、前記粘着剤層が、請求項１に記載の式（Ｉ）で示されるせん断荷重の減少率αが７０％以下のものであるガスバリアフィルム積層体及び前記ガスバリアフィルム積層体を備える電子部材、並びに請求項１１に記載の式（Ｉ）で示されるせん断荷重の減少率αが７０％以下の粘着剤層を有する粘着フィルムである。本発明によれば、高い水蒸気バリア性を有し、高温及び高湿度下に長時間置かれた場合であっても、気泡などの外観不良が発生しにくいガスバリアフィルム積層体及び前記ガスバリア積層体を備える電子部材、並びに前記ガスバリアフィルム積層体を製造する際に有用な粘着フィルムが提供される。
2013133256.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されてなり、
前記粘着剤層の、下記式（Ｉ）で示されるせん断荷重の減少率α（％）が７０％以下であることを特徴とするガスバリアフィルム積層体。
【数１】
2013133256.tif 000021
〔式中、Ｘは、ポリエチレンテレフタレートフィルム／粘着剤層／無アルカリガラスの３層構造を有する、貼着面積が２２５ｍｍ２（１５ｍｍ×１５ｍｍ）の試験片を用いて、２３℃５０％ＲＨ、せん断速度０．１ｍｍ／分の条件でせん断試験を行った場合において、せん断方向の変位が０．１ｍｍのときのせん断荷重（Ｎ）を表し、Ｙは、同様の試験片を用いて、８０℃、せん断速度０．１ｍｍ／分の条件でせん断試験を行った場合において、せん断方向の変位が０．１ｍｍのときのせん断荷重（Ｎ）を表す。〕
【請求項２】
前記ガスバリアフィルムが、基材フィルムと、該基材フィルム上に設けられた少なくとも１層のガスバリア層とを有するものである、請求項１に記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項３】
隣接する２枚のガスバリアフィルムが、該ガスバリアフィルムのガスバリア層同士が対向するように積層されたものである、請求項２に記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項４】
前記ガスバリア層が、高分子ケイ素化合物からなる層にイオンが注入されて形成された層である、請求項２または３に記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項５】
前記粘着剤層が、アクリル系粘着剤またはウレタン系粘着剤からなるものである、請求項１または２に記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項６】
前記アクリル系粘着剤が、カルボキシル基を有するアクリル系単量体由来の繰り返し単位と、官能基を有しないアクリル系単量体由来の繰り返し単位の両方を有するアクリル系共重合体を主成分とするものである、請求項５に記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項７】
前記アクリル系共重合体の重量平均分子量が、１００，０００〜１，０００，０００である請求項６に記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項８】
前記アクリル系粘着剤が、架橋剤を含む、請求項５に記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項９】
前記粘着剤層の厚みは、０．５〜１００μｍである請求項１に記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項１０】
前記ガスバリアフィルムの水蒸気透過率は、４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下で、０．００００１〜１．０ｇ／ｍ２／ｄａｙである請求項１に記載のガスバリアフィルム積層体。
【請求項１１】
少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含み、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されてなるガスバリアフィルム積層体を製造するための粘着フィルムであって、少なくともガスバリアフィルムと粘着剤層とが隣接して積層されてなり、
前記粘着剤層の、下記式（Ｉ）で示されるせん断荷重の減少率α（％）が７０％以下であることを特徴とする粘着フィルム。
【数２】
2013133256.tif 000022
〔式中、Ｘは、ポリエチレンテレフタレートフィルム／粘着剤層／無アルカリガラスの３層構造を有する、貼着面積が２２５ｍｍ２（１５ｍｍ×１５ｍｍ）の試験片を用いて、２３℃５０％ＲＨ、せん断速度０．１ｍｍ／分の条件でせん断試験を行った場合において、せん断方向の変位が０．１ｍｍのときのせん断荷重（Ｎ）を表し、Ｙは、同様の試験片を用いて、８０℃、せん断速度０．１ｍｍ／分の条件でせん断試験を行った場合において、せん断方向の変位が０．１ｍｍのときのせん断荷重（Ｎ）を表す。〕
【請求項１２】
請求項１〜５のいずれかに記載のガスバリアフィルム積層体を備える電子部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れたガスバリア性を有する、少なくとも２枚のガスバリアフィルムが粘着剤層を介して積層されたガスバリアフィルム積層体、このガスバリアフィルム積層体を製造する際に有用な粘着フィルム、及びこのガスバリアフィルム積層体を備える電子部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、太陽電池や液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等の電子部材用の基板として、薄型化、軽量化、フレキシブル化や耐衝撃性等を実現するために、ガラス板に代えて透明プラスチックフィルムを用いることが検討されている。
しかし、プラスチックフィルムは、ガラス板に比べて水蒸気や酸素等を透過しやすく、電子部材内部の素子の劣化を起こしやすいという問題があった。【０００３】
この問題を解決すべく、特許文献１には、透明プラスチックフィルムに金属酸化物からなる透明ガスバリア層を積層したフレキシブルディスプレイ基板が開示されている。
特許文献２には、プラスチックフィルムと、該プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、ポリオルガノシルセスキオキサンを主成分とする樹脂層を積層してなるガスバリア性積層体が開示されている。
また、特許文献３には、第１の透明プラスチックフィルム基材の上に透明ガスバリア層が形成され、前記透明ガスバリア層の上に透明粘着剤層を介して、第２の透明プラスチックフィルム基材が配置されている透明フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−３３８９０１号公報
【特許文献２】特開２００６−１２３３０７号公報
【特許文献３】特開２００６−３２７０９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のように、これまでにもガスバリアフィルムがいくつか提案されている。
本願出願人も、先に、酸素原子、炭素原子及びケイ素原子を含む材料から形成されてなるガスバリア層を有する成形体（ガスバリアフィルム）を提案している（ＷＯ２０１０／０２１３２６号公報、ＷＯ２０１０／１０７０１８号公報など）。これらの文献に記載されたガスバリアフィルムは優れたガスバリア性を有するものである。
本発明者らは、ガスバリア性をより向上させるべくさらに検討し、少なくとも２枚のガスバリア性フィルムを粘着剤層を介して積層した積層体を案出した。
しかしながら、上記のように粘着剤層を介してガスバリアフィルム同士を貼り合せた積層体は、高温及び高湿度下に長時間置いた場合に、気泡などが原因で外観不良が発生することがあった。【０００６】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、高いガスバリア性を有し、かつ、高温および高湿度下に長時間置かれた場合であっても、気泡などの外観不良が発生しにくいガスバリアフィルム積層体、このガスバリアフィルム積層体を製造する際に有用な粘着フィルム、及びこのガスバリアフィルム積層体を備える電子部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した。
その結果、
（ｉ）ＷＯ２０１０／０２１３２６号公報、ＷＯ２０１０／１０７０１８号公報などに記載されたガスバリアフィルムは優れたガスバリア性を有するものであるが、それでも、高温および高湿度下に長時間置かれた場合に、微量の水分がガスバリアフィルムを通過し、ガスバリアフィルム積層体内部に浸入する場合があること、
（ｉｉ）このようなガスバリアフィルム積層体内部に侵入した水分は、ガスバリアフィルムが存在することで、逆に外部に逃げ難くなっていること、
（ｉｉｉ）また、高温条件下で粘着剤層の硬さが大きく低下するガスバリアフィルム積層体、すなわち、後述するαが７０％を超える粘着剤層を有するガスバリアフィルム積層体は、高温および高湿度下に長時間置かれた場合に、外部から浸入した微量の水分を粘着剤層にためやすく、その結果、気泡が発生しやすい、という知見を得た。
そして、これらの知見から、後述するαが７０％以下である粘着剤層を有するガスバリアフィルム積層体は、ガスバリア性に優れ、かつ、高温および高湿度下に長時間置かれた場合であっても、気泡などの外観不良が発生しにくいものであることを見出し、本発明を完成するに至った。【０００８】
かくして本発明によれば、下記（１）〜（１０）のガスバリアフィルム積層体、（１１）の粘着フィルム、及び（１２）の電子部材が提供される。
（１）少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されてなり、前記粘着剤層の、下記式（Ｉ）で示されるせん断荷重の減少率α（％）が７０％以下であることを特徴とするガスバリアフィルム積層体。【０００９】
【数１】
2013133256.tif 000003
【００１０】
〔式中、Ｘは、ポリエチレンテレフタレートフィルム／粘着剤層／無アルカリガラスの３層構造を有する、貼着面積が２２５ｍｍ２（１５ｍｍ×１５ｍｍ）の試験片を用いて、２３℃５０％ＲＨ、せん断速度０．１ｍｍ／分の条件でせん断試験を行った場合において、せん断方向の変位が０．１ｍｍのときのせん断荷重（Ｎ）を表し、Ｙは、同様の試験片を用いて、８０℃、せん断速度０．１ｍｍ／分の条件でせん断試験を行った場合において、せん断方向の変位が０．１ｍｍのときのせん断荷重（Ｎ）を表す。〕
（２）前記ガスバリアフィルムが、基材フィルムと、該基材フィルム上に設けられた少なくとも１層のガスバリア層とを有するものである、（１）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（３）隣接する２枚のガスバリアフィルムが、該ガスバリアフィルムのガスバリア層同士が対向するように積層されたものである、（２）に記載のガスバリアフィルム積層体。【００１１】
（４）前記ガスバリア層が、高分子ケイ素化合物からなる層にイオンが注入されて形成された層である、（２）または（３）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（５）前記粘着剤層が、アクリル系粘着剤またはウレタン系粘着剤からなるものである、（１）または（２）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（６）前記アクリル系粘着剤が、カルボキシル基を有するアクリル系単量体由来の繰り返し単位と、官能基を有しないアクリル系単量体由来の繰り返し単位の両方を有するアクリル系共重合体を主成分とするものである、（５）に記載のガスバリアフィルム積層体。【００１２】
（７）前記アクリル系共重合体の重量平均分子量が、１００，０００〜１，０００，０００である（６）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（８）前記アクリル系粘着剤が、架橋剤を含む、（５）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（９）前記粘着剤層の厚みが、０．５〜１００μｍである（１）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（１０）前記ガスバリアフィルムの水蒸気透過率が、４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下で、０．００００１〜１．０ｇ／ｍ２／ｄａｙである（１）に記載のガスバリアフィルム積層体。【００１３】
（１１）少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含み、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されてなるガスバリアフィルム積層体を製造するための粘着フィルムであって、少なくともガスバリアフィルムと粘着剤層とが隣接して積層されてなり、
前記粘着剤層の、前記式（Ｉ）で示されるせん断荷重の減少率α（％）が７０％以下であることを特徴とする粘着フィルム。
（１２）前記（１）〜（５）のいずれかに記載のガスバリアフィルム積層体を備える電子部材。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のガスバリアフィルム積層体は、高いガスバリア性を有し、かつ、高温および高湿度下に長時間置かれた場合であっても、気泡などの外観不良が発生しにくいものである。
本発明の粘着フィルムは、前記ガスバリアフィルム積層体を製造する際に好適に用いられる。
本発明のガスバリアフィルム積層体は、太陽電池や、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等の電子部材用に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明のガスバリアフィルム積層体の一例の層構成断面図である。
【図２】本発明のガスバリアフィルム積層体の一例の層構成断面図である。
【図３】本発明のガスバリアフィルム積層体を製造する工程断面図である。
【図４】実施例において粘着剤層のせん断試験を行う際に用いた試験片の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を、１）ガスバリアフィルム積層体、２）粘着フィルム、及び、３）電子部材、に項分けして詳細に説明する。
【００１７】
１）ガスバリアフィルム積層体
本発明のガスバリアフィルム積層体は、少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されてなり、前記粘着剤層が、前記式（Ｉ）で示されるせん断荷重の減少率α（％）が７０％以下のものであることを特徴とする。
【００１８】
（ガスバリアフィルム）
本発明に用いるガスバリアフィルムは、酸素や水蒸気の透過を抑制する特性（以下、「ガスバリア性」という）を有するフィルムである。
用いるガスバリアフィルムの水蒸気透過率は、４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下で、好ましくは１．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下、より好ましくは０．００００１〜１．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ、より好ましくは０．００００１〜０．５ｇ／ｍ２／ｄａｙ、さらに好ましくは０．００００１〜０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙである。
【００１９】
水蒸気透過率が１．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下のガスバリアフィルムを用いることで、ガスバリア性に優れるガスバリアフィルム積層体を得ることができる。水蒸気透過率の下限値については、外観不良が発生しにくいガスバリアフィルム積層体を得るという観点からは特になく、小さいほど好ましい。ただし、αが７０％以下の粘着剤層を用いることにより得られる効果が大きいことから、上記条件下で、水蒸気透過率が０．００００１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上のガスバリアフィルムを用いることが好ましい。
なお、水蒸気透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。
【００２０】
本発明に用いるガスバリアフィルムは、上記のようなガスバリア性を有するものであればよく、その材質等は特に限定されない。
本発明に用いるガスバリアフィルムとしては、ガスバリア性に優れることから、合成樹脂フィルムからなる基材（以下、「基材フィルム」や「基材」と略記することがある。）と、該基材上に設けられた少なくとも１層のガスバリア層を有するものが好ましい。
【００２１】
（基材）
合成樹脂フィルムからなる基材の材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂；ポリスチレン等のスチレン系樹脂；ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル系樹脂；ポリアミド（ナイロン６、ナイロン６６など）、ポリｍ−フェニレンイソフタルアミド、ポリｐ−フェニレンテレフタルアミドなどのアミド系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレートなどのポリエステル系樹脂；ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物などのシクロオレフィン系ポリマー；ポリイミド；ポリアミドイミド；ポリフェニレンエーテル；ポリエーテルケトン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリカーボネート；ポリスルフォン；ポリエーテルスルフォン；ポリフェニレンスルフィド；及びこれらの高分子の二種以上の組合せ；等が挙げられる。
【００２２】
また、合成樹脂フィルムからなる基材は、エネルギー線硬化性化合物の硬化物であってもよい。エネルギー線硬化性化合物としては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート系のエネルギー線重合性モノマー；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等の多官能アクリレートオリゴマー；等が挙げられる。ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートの意味である。
【００２３】
これらの中でも、透明性に優れ、汎用性があることから、ポリエステル系樹脂、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、アミド系樹脂、及びシクロオレフィン系ポリマーが好ましく、ポリエステル系樹脂、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、及びシクロオレフィン系ポリマーがより好ましい。
用いる基材の厚みは、通常１００ｎｍ〜１０００μｍ、好ましくは５〜２００μｍの範囲である。
【００２４】
（ガスバリア層）
本発明に用いるガスバリアフィルムのガスバリア層は、ガスバリア性を有する層である。
ガスバリア層は合成樹脂フィルムからなる基材の片面に形成されていても、基材の両面に形成されていてもよい。また、ガスバリア層は単層であってもよく、複数層積層されていてもよい。
【００２５】
ガスバリア層の材料としては、酸素及び水蒸気の透過を阻止するものであれば、特に制約はないが、優れたガスバリア性に加えて、透明性にも優れるガスバリア層を形成できるものが好ましい。
【００２６】
ガスバリア層の材料としては、例えば、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、スズ等の金属；
酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物；
窒化珪素等の無機窒化物；
無機炭化物；無機硫化物；これらの複合体である無機酸化窒化物；無機酸化炭化物；無機窒化炭化物；無機酸化窒化炭化物；高分子化合物；等が挙げられる。
【００２７】
ガスバリア層を形成する方法としては、特に限定されず、例えば、上述の材料を蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等により基材上に形成する方法や、上記材料を有機溶剤に溶解又は分散した溶液を、公知の塗布方法によって基材上に塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法、高分子化合物から構成される高分子層に、プラズマ処理を施すことにより形成する方法等が挙げられる。
【００２８】
ガスバリア層の厚みは、特に制限されないが、通常２０ｎｍ〜５０μｍ、好ましくは３０ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは４０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００２９】
本発明においては、ガスバリア層として、目的のガスバリア層を容易に形成できることから、高分子化合物から構成される高分子層に、プラズマ処理が施されることにより形成されるものが好ましい。
【００３０】
プラズマ処理の方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。なかでも、ガスバリア性が優れるガスバリア層を簡便かつ効率よく形成することができることから、高分子層表面にイオンを注入する方法が好ましい。
なお、この場合、「ガスバリア層」とは、イオン注入により改質された部分のみを意味するのではなく、「イオン注入により改質された部分を有する高分子層」を意味する。
【００３１】
高分子層を構成する高分子化合物としては、高分子ケイ素化合物；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂；ポリスチレン等のスチレン系樹脂；ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル系樹脂；ポリアミド（ナイロン６、ナイロン６６など）、ポリｍ−フェニレンイソフタルアミド、ポリｐ−フェニレンテレフタルアミドなどのアミド系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレートなどのポリエステル系樹脂；ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物などのシクロオレフィン系ポリマー；ポリイミド；ポリアミドイミド；ポリフェニレンエーテル；ポリエーテルケトン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリカーボネート；ポリスルフォン；ポリエーテルスルフォン；ポリフェニレンスルフィド；及びこれらの高分子の二種以上の組合せ；等が挙げられる。
なお、高分子化合物から形成されるガスバリア層は、前述の合成樹脂フィルムからなる基材には含まれない。
【００３２】
本発明においては、これらの中でも、ガスバリア性に優れるガスバリア層を容易に形成することができることから、高分子ケイ素化合物、ポリエステル系樹脂又はアクリル系樹脂が好ましく、高分子ケイ素化合物がより好ましい。
【００３３】
高分子ケイ素化合物としては、ケイ素を含有する高分子であれば、有機化合物であっても無機化合物であってもよい。例えば、ポリオルガノシロキサン系化合物、ポリカルボシラン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリシラザン系化合物等が挙げられる。
【００３４】
ポリオルガノシロキサン系化合物は、加水分解性官能基を有するシラン化合物を重縮合して得られる化合物である。
ポリオルガノシロキサン系化合物の主鎖構造に制限はなく、直鎖状、ラダー状、籠状のいずれであってもよい。
例えば、前記直鎖状の主鎖構造としては下記式（ａ）で表される構造が、ラダー状の主鎖構造としては下記式（ｂ）で表される構造が、籠状の主鎖構造としては、例えば下記式（ｃ）で表される構造が、それぞれ挙げられる。
【００３５】
【化１】
2013133256.tif 000004
【００３６】
【化２】
2013133256.tif 000005
【００３７】
【化３】
2013133256.tif 000006
【００３８】
式中、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚは、それぞれ独立して、水素原子、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基等の非加水分解性基を表す。なお、式（ａ）の複数のＲｘ、式（ｂ）の複数のＲｙ、及び式（ｃ）の複数のＲｚは、それぞれ同一でも相異なっていてもよい。ただし、前記式（ａ）のＲｘが２つとも水素原子であることはない。
【００３９】
無置換若しくは置換基を有するアルキル基のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられる。
アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等の炭素数２〜１０のアルケニル基が挙げられる。
【００４０】
前記アルキル基及びアルケニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシル基；チオール基；エポキシ基；グリシドキシ基；（メタ）アクリロイルオキシ基；フェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するアリール基；等が挙げられる。
【００４１】
無置換又は置換基を有するアリール基のアリール基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の炭素数６〜１０のアリール基が挙げられる。
前記アリール基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；ヒドロキシル基；チオール基；エポキシ基；グリシドキシ基；（メタ）アクリロイルオキシ基；フェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するアリール基；等が挙げられる。
【００４２】
これらの中でも、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚとしては、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又はフェニル基が好ましく、炭素数１〜６のアルキル基が特に好ましい。
【００４３】
ポリオルガノシロキサン系化合物としては、前記式（ａ）で表される直鎖状の化合物が好ましく、入手容易性、及び優れたガスバリア性を有する層を形成できる観点から、前記式（ａ）において２つのＲｘがともにメチル基の化合物であるポリジメチルシロキサンがより好ましい。
【００４４】
ポリオルガノシロキサン系化合物は、例えば、加水分解性官能基を有するシラン化合物を重縮合する、公知の製造方法により得ることができる。
用いるシラン化合物は、目的とするポリオルガノシロキサン系化合物の構造に応じて適宜選択すればよい。
【００４５】
ポリカルボシラン系化合物は、分子内の主鎖に、（−Ｓｉ−Ｃ−）結合を有する高分子化合物である。なかでも、本発明に用いるポリカルボシラン系化合物としては、下記式（ｄ）で表される繰り返し単位を含むものが好ましい。
【００４６】
【化４】
2013133256.tif 000007
【００４７】
式中、Ｒｗ、Ｒｖは、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、又は１価の複素環基を表す。複数のＲｗ、Ｒｖは、それぞれ同一であっても相異なっていてもよい。
Ｒｗ、Ｒｖのアルキル基、アリール基、アルケニル基としては、前記Ｒｘ等として例示したものと同様のものが挙げられる。
【００４８】
１価の複素環基の複素環としては、炭素原子の他に酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む３〜１０員の環状化合物であれば特に制約はない。
【００４９】
Ｒは、アルキレン基、アリーレン基又は２価の複素環基を表す。
Ｒのアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等の炭素数１〜１０のアルキレン基が挙げられる。
【００５０】
アリーレン基としては、フェニレン基、１，４−ナフチレン基、２，５−ナフチレン基等の炭素数６〜２０のアリーレン基が挙げられる。
２価の複素環基としては、炭素原子の他に酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む３〜１０員の複素環化合物から導かれる２価の基であれば特に制約はない。
なお、Ｒのアルキレン基、アリーレン基、２価の複素環基は、任意の位置に、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。
【００５１】
これらの中でも、式（ｄ）において、Ｒｗ、Ｒｖがそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアリール基であり、Ｒがアルキレン基又はアリーレン基である繰り返し単位を含むものがより好ましく、Ｒｗ、Ｒｖがそれぞれ独立して、水素原子又はアルキル基であり、Ｒがアルキレン基である繰り返し単位を含むものがさらに好ましい。
【００５２】
式（ｄ）で表される繰り返し単位を有するポリカルボシラン系化合物の重量平均分子量は、通常４００〜１２，０００である。
【００５３】
ポリカルボシラン系化合物の製造方法としては、特に限定されず、従来公知の方法を採用できる。
【００５４】
ポリシラン系化合物は、分子内に、（−Ｓｉ−Ｓｉ−）結合を有する高分子化合物である。かかるポリシラン系化合物としては、下記式（ｅ）で表される構造単位から選択された少なくとも一種の繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。
【００５５】
【化５】
2013133256.tif 000008
【００５６】
式（ｅ）中、Ｒｑ及びＲｒは、同一又は異なって、水素原子、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、シリル基、又はハロゲン原子を表す。
【００５７】
Ｒｑ及びＲｒのアルキル基、アルケニル基、アリール基としては、前記Ｒｘ等で例示したのと同様のものが挙げられる。
シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基等の炭素数３〜１０のシクロアルケニル基が挙げられる。
シクロアルケニル基としては、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数４〜１０のシクロアルケニル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基が挙げられる。
シクロアルキルオキシ基としては、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜１０のシクロアルキルオキシ基が挙げられる。
アリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数６〜２０のアリールオキシ基が挙げられる。
アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、フェニルプロピルオキシ基等の炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基が挙げられる。
置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基；アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基等で置換されたＮ−モノ又はＮ，Ｎ−ジ置換アミノ基等が挙げられる。
シリル基としては、シリル基、ジシラニル基、トリシラニル基等のＳｉ１−１０シラニル基（好ましくはＳｉ１−６シラニル基）、置換シリル基（例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基等で置換された置換シリル基）等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００５８】
前記シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、シリル基は、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基等の置換基を有していてもよい。
【００５９】
これらの中でも、本発明のより優れた効果が得られることから、前記式（ｅ）で表される繰り返し単位を含む化合物が好ましく、式（ｅ）において、Ｒｑ、Ｒｒが、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基又はシリル基である繰り返し単位を含む化合物がより好ましく、式（ｅ）において、Ｒｑ、Ｒｒが、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアリール基である繰り返し単位を含む化合物がさらに好ましい。
【００６０】
ポリシラン系化合物の形態は特に制限されず、非環状ポリシラン（直鎖状ポリシラン、分岐鎖状ポリシラン、網目状ポリシラン等）や、環状ポリシラン等の単独重合体であっても、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体、くし型共重合体等の共重合体であってもよい。
ポリシラン系化合物が非環状ポリシランである場合は、ポリシラン系化合物の末端基（末端置換基）は、水素原子であっても、ハロゲン原子（塩素原子等）、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シリル基等であってもよい。
【００６１】
ポリシラン系化合物の具体例としては、ポリジメチルシラン、ポリ（メチルプロピルシラン）、ポリ（メチルブチルシラン）、ポリ（メチルペンチルシラン）、ポリ（ジブチルシラン）、ポリ（ジヘキシルシラン）等のポリジアルキルシラン、ポリ（ジフェニルシラン）等のポリジアリールシラン、ポリ（メチルフェニルシラン）等のポリ（アルキルアリールシラン）等のホモポリマー；ジメチルシラン−メチルヘキシルシラン共重合体等のジアルキルシランと他のジアルキルシランとの共重合体、フェニルシラン−メチルフェニルシラン共重合体等のアリールシラン−アルキルアリールシラン共重合体、ジメチルシラン−メチルフェニルシラン共重合体、ジメチルシラン−フェニルヘキシルシラン共重合体、ジメチルシラン−メチルナフチルシラン共重合体、メチルプロピルシラン−メチルフェニルシラン共重合体等のジアルキルシラン−アルキルアリールシラン共重合体等のコポリマ；等が挙げられる。
【００６２】
ポリシラン系化合物の平均重合度（例えば、数平均重合度）は、通常、５〜４００、好ましくは１０〜３５０、さらに好ましくは２０〜３００程度である。
また、ポリシラン系化合物の重量平均分子量は、３００〜１００，０００、好ましくは４００〜５０，０００、さらに好ましくは５００〜３０，０００程度である。
ポリシラン系化合物の多くは公知物質であり、公知の方法を用いて製造することができる。
【００６３】
ポリシラザン系化合物は、分子内に、（−Ｓｉ−Ｎ−）結合を有する高分子化合物である。かかるポリシラザン系化合物としては、式（ｆ）
【００６４】
【化６】
2013133256.tif 000009
【００６５】
で表される繰り返し単位を有する化合物が好ましい。また、用いるポリシラザン系化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、１００〜５０，０００であるのが好ましい。
【００６６】
式（ｆ）中、ｎは任意の自然数を表す。
Ｒｍ、Ｒｐ、Ｒｔは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアルキルシリル基等の非加水分解性基を表す。
【００６７】
前記アルキル基、アルケニル基、アリール基としては、前記Ｒｘ等で例示したのと同様のものが挙げられる。
シクロアルキル基としては、前記Ｒｑ等で例示したのと同様のものが挙げられる。
アルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリｔ−ブチルシリル基、メチルジエチルシリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、メチルシリル基、エチルシリル基等が挙げられる。
【００６８】
これらの中でも、Ｒｍ、Ｒｐ、Ｒｔとしては、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又はフェニル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。
【００６９】
前記式（ｆ）で表される繰り返し単位を有するポリシラザン系化合物としては、Ｒｍ、Ｒｐ、Ｒｔが全て水素原子である無機ポリシラザン、Ｒｍ、Ｒｐ、Ｒｔの少なくとも１つが水素原子ではない有機ポリシラザンのいずれであってもよい。
無機ポリシラザンとしては、下記式
【００７０】
【化７】
2013133256.tif 000010
【００７１】
で表される繰り返し単位を有する直鎖状構造を有し、６９０〜２０００の分子量を持ち、一分子中に３〜１０個のＳｉＨ３基を有するペルヒドロポリシラザン（特公昭６３−１６３２５号公報）、式（Ａ）
【００７２】
【化８】
2013133256.tif 000011
【００７３】
〔式中、ｂ、ｃは任意の自然数を表し、Ｙ１は、水素原子又は式（Ｂ）
【００７４】
【化９】
2013133256.tif 000012
【００７５】
（式中、ｄは任意の自然数を表し、＊は結合位置を表し、Ｙ２は水素原子、又は前記（Ｂ）で表される基を表す。）で表される基を表す。〕で表される繰り返し単位を有する、直鎖状構造と分岐構造を有するペルヒドロポリシラザン、式（Ｃ）
【００７６】
【化１０】
2013133256.tif 000013
【００７７】
で表されるペルヒドロポリシラザン構造を有する、分子内に、直鎖状構造、分岐構造及び環状構造を有するペルヒドロポリシラザン等が挙げられる。
【００７８】
有機ポリシラザンとしては、
（ｉ）−（Ｒｍ’ＳｉＨＮＨ）−（Ｒｍ’は、Ｒｍと同様のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアルキルシリル基を表す。以下のＲｍ’も同様である。）を繰り返し単位として、主として重合度が３〜５の環状構造を有するもの、
（ｉｉ）−（Ｒｍ’ＳｉＨＮＲｔ’）−（Ｒｔ’は、Ｒｔと同様のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアルキルシリル基を表す。）を繰り返し単位として、主として重合度が３〜５の環状構造を有するもの、
（ｉｉｉ）−（Ｒｍ’Ｒｐ’ＳｉＮＨ）−（Ｒｐ’は、Ｒｐと同様のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基アルキルシリル基を表す。）を繰り返し単位として、主として重合度が３〜５の環状構造を有するもの、
（ｉｖ）下記式で表される構造を分子内に有するポリオルガノ（ヒドロ）シラザン、
【００７９】
【化１１】
2013133256.tif 000014
【００８０】
（ｖ）下記式
【００８１】
【化１２】
2013133256.tif 000015
【００８２】
〔Ｒｍ’、Ｒｐ’は前記と同じ意味を表し、ｅ、ｆは任意の自然数を表し、Ｙ３は、水素原子又は下記式（Ｄ）
【００８３】
【化１３】
2013133256.tif 000016
【００８４】
（式中、ｇは任意の自然数を表し、＊は結合位置を表し、Ｙ４は水素原子、又は前記（Ｄ）で表される基を表す。）で表される基を表す。〕
で表される繰り返し構造を有するポリシラザン等が挙げられる。
【００８５】
上記有機ポリシラザンは、従来公知の方法により製造することができる。例えば、下記式
【００８６】
【化１４】
2013133256.tif 000017
【００８７】
（式中、ｍは２又は３を表し、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ１は、前述した、Ｒｍ、Ｒｐ、Ｒｔ、Ｒｍ’、Ｒｐ’、Ｒｔ’のいずれかの置換基を表す。）で表される無置換若しくは置換基を有するハロゲノシラン化合物と２級アミンとの反応生成物に、アンモニア又は１級アミンを反応させることにより得ることができる。
用いる２級アミン、アンモニア及び１級アミンは、目的とするポリシラザン系化合物の構造に応じて、適宜選択すればよい。
【００８８】
また、本発明においては、ポリシラザン系化合物として、例えば、特開昭６２−１９５０２４号公報、特開平２−８４４３７号公報、特開昭６３−８１１２２号公報、特開平１−１３８１０８号公報、特開平２−１７５７２６号公報等、特開平５−２３８８２７号公報、特開平５−２３８８２７号公報、特開平６−１２２８５２号公報、特開平６−３０６３２９号公報、特開平６−２９９１１８号公報等、特開平９−３１３３３号公報、特開平５−３４５８２６号公報、特開平４−６３８３３号公報等に記載されたポリシラザン変性物を用いることもできる。
【００８９】
これらの中でも、本発明において用いるポリシラザン系化合物としては、Ｒｍ、Ｒｐ、Ｒｔが全て水素原子である無機ポリシラザン、Ｒｍ、Ｒｐ、Ｒｔの少なくとも１つが水素原子ではない有機ポリシラザンが好ましく、入手容易性、及び優れたガスバリア性を有する注入層を形成できる観点から、無機ポリシラザンがより好ましい。
なお、ポリシラザン系化合物は、ガラスコーティング材等として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。
【００９０】
前記高分子層は、上述した高分子化合物の他に、本発明の目的を阻害しない範囲で他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、硬化剤、他の高分子、老化防止剤、光安定剤、難燃剤等が挙げられる。
【００９１】
高分子層中の、高分子化合物の含有量は、優れたガスバリア性を有するガスバリア層を形成できる観点から、５０質量％以上であるのが好ましく、７０質量％以上であるのがより好ましい。
【００９２】
高分子層を形成する方法としては、特に制約はなく、例えば、高分子化合物の少なくとも一種、所望により他の成分、及び溶剤等を含有する層形成用溶液を公知の塗布方法によって基材または所望により基材上に形成されたプライマー層上に塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法が挙げられる。
【００９３】
塗工装置としては、スピンコーター、ナイフコーター、グラビアコーター等の公知の装置を使用することができる。
【００９４】
得られた塗膜の乾燥、フィルムのガスバリア性向上のため、塗膜を加熱することが好ましい。加熱、乾燥方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法が採用できる。加熱温度は、通常、８０〜１５０℃であり、加熱時間は、通常、数十秒から数十分である。
【００９５】
形成される高分子層の厚みは、特に制限されないが、通常２０ｎｍ〜１０００ｎｍ、好ましくは３０〜５００ｎｍ、より好ましくは４０〜２００ｎｍである。
本発明においては、高分子層の厚みがナノオーダーであっても、後述するようにイオンを注入することで、充分なガスバリア性能を有するフィルムを得ることができる。
【００９６】
高分子層に注入されるイオンの注入量は、形成するフィルムの使用目的（必要なガスバリア性、透明性等）等に合わせて適宜決定すればよい。
【００９７】
注入されるイオンとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオン；フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄等のイオン；
メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン等のアルカン系ガス類のイオン；エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン等のアルケン系ガス類のイオン；ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン系ガス類のイオン；アセチレン、メチルアセチレン等のアルキン系ガス類のイオン；ベンゼン、トルエン、キシレン、インデン、ナフタレン、フェナントレン等の芳香族炭化水素系ガス類のイオン；シクロプロパン、シクロヘキサン等のシクロアルカン系ガス類のイオン；シクロペンテン、シクロヘキセン等のシクロアルケン系ガス類のイオン；
金、銀、銅、白金、ニッケル、パラジウム、クロム、チタン、モリブデン、ニオブ、タンタル、タングステン、アルミニウム等の導電性の金属のイオン；
シラン（ＳｉＨ４）又は有機ケイ素化合物のイオン；等が挙げられる。
【００９８】
有機ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｔ−ブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン；
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン等の無置換若しくは置換基を有するアルキルアルコキシシラン；
ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアリールアルコキシシラン；
ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）等のジシロキサン；
ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、テトラキスジメチルアミノシラン、トリス（ジメチルアミノ）シラン等のアミノシラン；
ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラメチルジシラザン等のシラザン；
テトライソシアナートシラン等のシアナートシラン；
トリエトキシフルオロシラン等のハロゲノシラン；
ジアリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン等のアルケニルシラン；
ジ−ｔ−ブチルシラン、１，３−ジシラブタン、ビス（トリメチルシリル）メタン、テトラメチルシラン、トリス（トリメチルシリル）メタン、トリス（トリメチルシリル）シラン、ベンジルトリメチルシラン等の無置換若しくは置換基を有するアルキルシラン；
ビス（トリメチルシリル）アセチレン、トリメチルシリルアセチレン、１−（トリメチルシリル）−１−プロピン等のシリルアルキン；
１，４−ビストリメチルシリル−１，３−ブタジイン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン等のシリルアルケン；
フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン等のアリールアルキルシラン；
プロパルギルトリメチルシラン等のアルキニルアルキルシラン；
ビニルトリメチルシラン等のアルケニルアルキルシラン；
ヘキサメチルジシラン等のジシラン；
オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン等のシロキサン；
Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド；
ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド；
等が挙げられる。
これらのイオンは、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００９９】
なかでも、より簡便に注入することができ、特に優れたガスバリア性を有するガスバリア層が得られることから、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、及びクリプトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のイオンが好ましい。
【０１００】
イオンを注入する方法としては、特に限定されないが、電界により加速されたイオン（イオンビーム）を照射する方法、プラズマ中のイオンを注入する方法等が挙げられる。なかでも、本発明においては、簡便にガスバリア性のフィルムが得られることから、後者のプラズマイオンを注入する方法が好ましい。
【０１０１】
プラズマイオン注入法としては、（Ａ）外部電界を用いて発生させたプラズマ中に存在するイオンを、高分子層の表面部に注入する方法、又は（Ｂ）外部電界を用いることなく、前記層に印加する負の高電圧パルスによる電界のみで発生させたプラズマ中に存在するイオンを、高分子層の表面部に注入する方法が好ましい。
【０１０２】
前記（Ａ）の方法においては、イオン注入する際の圧力（プラズマイオン注入時の圧力）を０．０１〜１Ｐａとすることが好ましい。プラズマイオン注入時の圧力がこのような範囲にあるときに、簡便にかつ効率よく均一にイオンを注入することができ、目的のガスバリア層を効率よく形成することができる。
【０１０３】
前記（Ｂ）の方法は、減圧度を高くする必要がなく、処理操作が簡便であり、処理時間も大幅に短縮することができる。また、前記層全体にわたって均一に処理することができ、負の高電圧パルス印加時にプラズマ中のイオンを高エネルギーで層の表面部に連続的に注入することができる。さらに、ｒａｄｉｏ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ（高周波、以下、「ＲＦ」と略す。）や、マイクロ波等の高周波電力源等の特別の他の手段を要することなく、層に負の高電圧パルスを印加するだけで、層の表面部に良質のイオン注入層を均一に形成することができる。
【０１０４】
前記（Ａ）及び（Ｂ）のいずれの方法においても、負の高電圧パルスを印加するとき、すなわちイオン注入するときのパルス幅は、１〜１５μｓｅｃであるのが好ましい。パルス幅がこのような範囲にあるときに、より簡便にかつ効率よく、均一にイオンを注入することができる。
【０１０５】
また、プラズマを発生させるときの印加電圧は、好ましくは−１〜−５０ｋＶ、より好ましくは−１〜−３０ｋＶ、特に好ましくは−５〜−２０ｋＶである。印加電圧が−１ｋＶより大きい値でイオン注入を行うと、イオン注入量（ドーズ量）が不十分となり、所望の性能が得られない。一方、−５０ｋＶより小さい値でイオン注入を行うと、イオン注入時にフィルムが帯電し、またフィルムへの着色等の不具合が生じ、好ましくない。
【０１０６】
プラズマイオン注入するイオン種としては、前記注入されるイオンとして例示したのと同様のものが挙げられる。
【０１０７】
層の表面部にプラズマ中のイオンを注入する際には、プラズマイオン注入装置を用いる。
プラズマイオン注入装置としては、具体的には、（α）高分子層（以下、「イオン注入する層」ということがある。）に負の高電圧パルスを印加するフィードスルーに高周波電力を重畳してイオン注入する層の周囲を均等にプラズマで囲み、プラズマ中のイオンを誘引、注入、衝突、堆積させる装置（特開２００１−２６８８７号公報）、（β）チャンバー内にアンテナを設け、高周波電力を与えてプラズマを発生させてイオン注入する層周囲にプラズマが到達後、イオン注入する層に正と負のパルスを交互に印加することで、正のパルスでプラズマ中の電子を誘引衝突させてイオン注入する層を加熱し、パルス定数を制御して温度制御を行いつつ、負のパルスを印加してプラズマ中のイオンを誘引、注入させる装置（特開２００１−１５６０１３号公報）、（γ）マイクロ波等の高周波電力源等の外部電界を用いてプラズマを発生させ、高電圧パルスを印加してプラズマ中のイオンを誘引、注入させるプラズマイオン注入装置、（δ）外部電界を用いることなく高電圧パルスの印加により発生する電界のみで発生するプラズマ中のイオンを注入するプラズマイオン注入装置等が挙げられる。
【０１０８】
これらの中でも、処理操作が簡便であり、処理時間も大幅に短縮でき、連続使用に適していることから、（γ）又は（δ）のプラズマイオン注入装置を用いるのが好ましい。
前記（γ）及び（δ）のプラズマイオン注入装置を用いる方法については、国際公開ＷＯ２０１０／０２１３２６号公報に記載のものが挙げられる。
【０１０９】
前記（γ）及び（δ）のプラズマイオン注入装置では、プラズマを発生させるプラズマ発生手段を高電圧パルス電源によって兼用しているため、ＲＦやマイクロ波等の高周波電力源等の特別の他の手段を要することなく、負の高電圧パルスを印加するだけで、プラズマを発生させ、高分子層の表面部に連続的にプラズマ中のイオンを注入し、表面部にイオン注入により改質された部分を有する高分子層、すなわちガスバリア層が形成されたガスバリアフィルムを量産することができる。
【０１１０】
イオンが注入される部分の厚みは、イオンの種類や印加電圧、処理時間等の注入条件により制御することができ、高分子層の厚み、ガスバリアフィルムの使用目的等に応じて決定すればよいが、通常、１０〜１０００ｎｍである。
【０１１１】
イオンが注入されたことは、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）を用いて高分子層の表面から１０ｎｍ付近の元素分析測定を行うことによって確認することができる。
【０１１２】
（粘着剤層）
本発明のガスバリアフィルム積層体は、少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されてなり、前記粘着剤層の、下記式（Ｉ）で示されるせん断荷重の減少率α（％）が７０％以下であることを特徴とする。
【０１１３】
【数２】
2013133256.tif 000018
【０１１４】
式（Ｉ）中、Ｘは、ポリエチレンテレフタレートフィルム／粘着剤層／無アルカリガラスの３層構造を有する、貼着面積が２２５ｍｍ２（１５ｍｍ×１５ｍｍ）の試験片を用いて、２３℃５０％ＲＨ、せん断速度０．１ｍｍ／分の条件でせん断試験を行った場合において、せん断方向の変位が０．１ｍｍのときのせん断荷重（Ｎ）を表す。
また、Ｙは、同様の試験片を用いて、８０℃、せん断速度０．１ｍｍ／分の条件でせん断試験を行った場合において、せん断方向の変位が０．１ｍｍのときのせん断荷重（Ｎ）を表す。
【０１１５】
すなわち、αは、２３℃５０％ＲＨの条件下の粘着剤層の硬さの程度と８０℃の条件下に置いたときの粘着剤層の硬さの程度との変化の割合を数値化したものである。例えば、２３℃に対し、８０℃での粘着剤層の硬さが全く低下しない場合は、αは０％になる。
本発明においては、αは、７０％以下、好ましくは、１〜６０％、より好ましくは、５〜５０％である。
【０１１６】
本発明のガスバリアフィルム積層体は、粘着剤層の、前記式（Ｉ）で示されるせん断荷重の減少率α（％）が７０％以下であることにより、高温および高湿度下に長時間置かれた場合であっても、気泡などの外観不良が発生しにくいものとなっている。
【０１１７】
後述する実施例に示されているように、αが７０％を超える粘着剤層を有するガスバリアフィルム積層体は、高温および高湿度下に長時間置かれた場合に気泡が見られ、外観不良が発生している。そして、この原因については、先に知見（ｉｉｉ）として記載したとおりである。
したがって、高温および高湿度下に長時間置かれた場合に、気泡による外観不良が発生しにくいガスバリアフィルム積層体を得るためには、高温条件下でも粘着剤層の硬さが低下しにくいものであればよく（すなわち、αが７０％以下のものであればよく）、この特性を有する粘着剤層を形成し得る限り、用いる粘着剤の形態や組成は特に制限されない。
【０１１８】
なお、上記式（Ｉ）中、Ｘは、好ましくは５.０〜５０Ｎ、より好ましくは７．０〜５０Ｎである。Ｘが５．０Ｎ以上の粘着剤層は、十分な粘着力を有するものであるため、かかる粘着剤層を用いることで、隣接する２枚のガスバリアフィルムが剥がれにくいガスバリアフィルム積層体が得られる。
また、Ｙは、好ましくは２．０〜３０Ｎ、より好ましくは５．０〜３０Ｎ、さらに好ましくは６．０〜３０Ｎである。Ｙが２．０Ｎ以上の粘着剤層は、高温および高湿度下に長時間置かれた場合にも十分な粘着力を有するものであるため、かかる粘着剤層を用いることで、上記条件下に置かれた場合であっても、隣接する２枚のガスバリアフィルムが剥がれにくいガスバリアフィルム積層体が得られる。
【０１１９】
粘着剤層の厚みは、特に制限はなく、適宜選定されるが、好ましくは０．５〜１００μｍ、より好ましくは１〜６０μｍ、更に好ましくは３〜４０μｍである。０．５μｍ以上であれば、良好な粘着力が得られ、１００μｍ以下であれば、生産性の面で有利である。
【０１２０】
上記のように、用いる粘着剤の形態や材料は特に制限されない。したがって、用いる粘着剤の形態は、溶剤型粘着剤、エマルジョン型粘着剤、ホットメルト型粘着剤等のいずれの形態のものであってもよい。
【０１２１】
用いる粘着剤は、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤等のいずれのものであってもよいが、粘着力、取り扱い性の点から、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤が好ましい。なかでも、せん断荷重の減少率αを低くすることが容易であることから、後述するような架橋を形成し得る粘着剤が好ましい。
【０１２２】
アクリル系粘着剤は、アクリル系共重合体を主成分とする粘着剤である。
アクリル系共重合体とは、（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリル酸エステル由来の繰り返し単位を有する共重合体である。
「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリル酸エステル」とは、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルを意味する。
また、アクリル系共重合体は、本発明の効果を阻害しない限り、上記以外の繰り返し単位を有するものであってもよい。
【０１２３】
アクリル系共重合体は、架橋構造を形成し得る官能基（以下、「官能基」と略記することがある。）を有するアクリル系単量体由来の繰り返し単位と、官能基を有しないアクリル系単量体由来の繰り返し単位の両方を有することが好ましい。官能基を有するアクリル系単量体由来の繰り返し単位は、粘着剤層中で架橋構造の形成に寄与し、一方、官能基を有しないアクリル系単量体由来の繰り返し単位は、粘着剤層の粘着性の向上に寄与し得る。
【０１２４】
官能基を有するアクリル系単量体由来の繰り返し単位の官能基としては、用いる架橋剤の種類にもよるが、通常は、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、アミド基が挙げられる。なかでも、せん断荷重の減少率が低い粘着剤層を形成することができることから、カルボキシル基が好ましい。
【０１２５】
一方、官能基を有しないアクリル系単量体由来の繰り返し単位は、粘着性に優れる粘着剤層を形成することができることから、炭素数４〜１０の炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル由来のものが好ましい。
【０１２６】
アクリル系共重合体の重量平均分子量は、通常、１００，０００〜１，０００，０００、好ましくは、３００，０００〜９００，０００である。重量平均分子量がこの範囲内にあることで、せん断荷重の減少率αが低い粘着剤層を容易に形成することができる。
重量平均分子量は、重合開始剤の量や連鎖移動剤を添加することによって調節することができる。
なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定したポリスチレン換算の値である。
アクリル系粘着剤を調製する際に、アクリル系共重合体は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１２７】
アクリル系共重合体を製造する方法は、特に制限されず、溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法等の従来公知の方法を用いることができる。なかでも、重合が容易である点で溶液重合が望ましい。
【０１２８】
アクリル系共重合体の製造に用いる単量体としては、官能基を有するアクリル系単量体、官能基を有しないアクリル系単量体、及びこれらの単量体と共重合可能なその他の単量体が挙げられる。
【０１２９】
官能基を有するアクリル系単量体としては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−カルボキシエチル等のカルボキシル基を有するアクリル系単量体；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル等の水酸基を有するアクリル系単量体；等が挙げられる。
【０１３０】
これらのなかでも、せん断荷重の減少率αが低い粘着剤層を形成することができることから、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−カルボキシエチル等のカルボキシル基を有するアクリル系単量体が好ましく、（メタ）アクリル酸がより好ましい。
これらの単量体は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１３１】
アクリル系共重合体中の、官能基を有するアクリル系単量体由来の繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位に対して、１〜４０質量％、好ましくは３〜１５質量％である。
【０１３２】
官能基を有しないアクリル系単量体としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸ミリスチル、（メタ）アクリル酸パルミチル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル等のアルキル基を有するアクリル系単量体；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等のシクロアルキル基を有するアクリル系単量体；等が挙げられる。
これらのなかでも、粘着性に優れる粘着剤層を形成することができることから、官能基を有しないアクリル系単量体としては、炭素数４〜１０の炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、（メタ）アクリル酸ブチルがより好ましい。
これらの単量体は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１３３】
その他の単量体としては、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等のカルボキシル基を有する単量体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド等のアミド基を有する単量体；
アクリロニトリル；スチレン；酢酸ビニル；ビニルピロリドン等が挙げられる。
【０１３４】
重合反応に用いる開始剤は特に制限されず、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物系開始剤、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシアノバレリン酸、アゾビスシアノペンタン等のアゾ系開始剤等が挙げられる。
重合反応に用いる溶媒は特に制限されず、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、酢酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール等が挙げられる。
重合反応の温度や反応時間等の反応条件は、公知の条件を採用することができる。
【０１３５】
アクリル系粘着剤には、架橋剤を添加することができる。架橋剤とは、上記の官能基と反応して架橋を形成させる化合物である。架橋剤を用いる場合、用いる架橋剤に特に制限はなく、イソシアナート系架橋剤、エポキシ系架橋剤等が挙げられる。なかでも、せん断荷重の減少率αが低い粘着剤層を容易に形成することができることから、イソシアナート系架橋剤が好ましい。
【０１３６】
イソシアナート系架橋剤としては、特に限定されず、分子中に２個以上のイソシアナート基を有する化合物が用いられる。このようなイソシアナート系架橋剤としては、トリレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナート等の芳香族ポリイソシアナート；ヘキサメチレンジイソシアナート等の脂肪族ポリイソシアナート；イソホロンジイソシアナート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアナート等の脂環式ポリイソシアナート；、及びそれらのビウレット体、イソシアヌレート体、さらにはエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油等の低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体；等が挙げられる。
【０１３７】
エポキシ系架橋剤としては、分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物が用いられ、例えば、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパングリシジルエーテル、テトラグリシジル−１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサン、テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール等が挙げられる。
架橋剤は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１３８】
架橋剤の使用量は、架橋剤の種類にもよるが、アクリル系共重合体１００質量部に対し、通常０．０１〜１０質量部、好ましくは、０．０５〜５質量部である。
【０１３９】
アクリル系粘着剤は、粘着性等を阻害しない範囲において、各種添加剤を含有してもよい。添加剤としては、光安定剤、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、紫外線吸収剤、着色剤、樹脂安定剤、充てん剤、顔料、増量剤、帯電防止剤、シランカカップリング剤等が挙げられる。これらの添加剤は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
アクリル系粘着剤は、溶剤型粘着剤として好ましく用いられる。用いる溶剤は特に制限されず、公知のものを使用することができる。
【０１４０】
前記ウレタン系粘着剤は、ウレタン系樹脂を主成分（全体がその成分のみで構成されている場合も含む。）とする粘着剤である。また、ウレタン系粘着剤には、ウレタン系接着剤も含まれる。
用いるウレタン系粘着剤は、目的の特性を有する粘着剤層を形成できる限り特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。
【０１４１】
ウレタン系樹脂としては、ポリエーテルポリウレタン、ポリエステルポリウレタン等が挙げられる。
これらのウレタン系樹脂は、通常、ポリエーテルポリオール又はポリエステルポリオールなどのポリオールとジイソシアネートとの重付加反応により製造される。
【０１４２】
前記ジイソシアネートとしては、特に限定されず、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、ナフタレン−１，５−ジイソシアネート（ＮＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）等の芳香族ジイソシアネート；１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、３−イソシアネートメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート（ＩＰＤＩ）、２，６−ジイソシアネートエチイルカプロエート（ＬＤＩ）等の脂肪族イソシアネート；等が挙げられる。
これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１４３】
また、ウレタン系樹脂は、末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーとトリオールやジアミン等の架橋剤とを反応させて得られる３次元架橋構造を有するものであってもよい。
【０１４４】
ウレタン系粘着剤は、粘着性等を阻害しない範囲において、各種添加剤を含有してもよい。添加剤としては、光安定剤、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、紫外線吸収剤、着色剤、樹脂安定剤、充てん剤、顔料、増量剤、帯電防止剤、シランカカップリング剤等が挙げられる。これらの添加剤は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
ウレタン系粘着剤は、無溶剤型粘着剤、溶剤型粘着剤、ホットメルト型粘着剤等のいずれの形態のものであってもよい。
【０１４５】
本発明においては、アクリル系共重合体やウレタン系樹脂等の粘着剤成分を構成する高分子の繰り返し単位の種類や割合を調節することで、粘着剤層の粘着性やせん断荷重の減少率αを制御することができる。
例えば、アクリル系共重合体を用いる場合、適度に架橋構造を形成させることで、粘着性を維持したまま、せん断荷重の減少率αを低下させることができる。官能基を有する繰り返し単位の含有割合は、全繰り返し単位中、１〜２０質量％が好ましく、２〜１５質量％がより好ましい。官能基を有する繰り返し単位の含有割合が上記の範囲内であれば、ガスバリア層を侵食することがなく、ガスバリア性を保持できるため好ましい。
また、ウレタン系樹脂を用いる場合、ウレタン系樹脂の分子量や架橋構造を調節することで、粘着剤層の粘着性やせん断荷重の減少率α等を制御することができる。特に、適度に３次元架橋構造を形成させることで、粘着性を維持したまま、せん断荷重の減少率αを低下させることができる。
【０１４６】
粘着剤層を形成する方法としては、用いる粘着剤の形態に応じて公知の方法を採用できる。例えば、用いる粘着剤の形態が、溶剤型粘着剤、エマルジョン型粘着剤である場合は、粘着剤を、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等の有機溶剤に溶解した粘着剤層形成用組成物を調製し、この組成物を、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等の公知の塗工方法により塗工した後、得られた塗膜から溶媒を乾燥除去し、所望により加熱することにより、粘着剤層を形成することができる。
また、用いる粘着剤の形態が、ホットメルト型粘着剤である場合は、加熱下に容易に溶融して流動性を有するようになる性質を利用して、ホットメルト法によって塗工される。溶融状態のホットメルト型粘着剤をＴダイ、ファウンテンダイ、ギヤインダイ、スロットダイ等の公知の塗工方法により塗工し、冷却することにより、粘着剤層を形成することができる。
【０１４７】
（ガスバリアフィルム積層体）
本発明のガスバリアフィルム積層体は、少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、前記粘着剤層を介して積層されていることを特徴とする。
【０１４８】
前述のように粘着剤層を介してガスバリアフィルム同士を貼り合せた積層体は、高温及び高湿度下に長時間置いた場合に、気泡などが原因で外観不良が発生することがあった。  この問題は、ガスバリアフィルム同士を貼り合わせた積層体に特有のものであると考えられる。
すなわち、ガスバリアフィルムの代わりにガラス板を使用し、さらに、後述する比較例（ガスバリアフィルム積層体に外観不良が発生した実験例）の粘着剤層を使用した積層体（ガラス板／比較例の粘着剤層／ガラス板の層構成を有する積層体）においては、高温および高湿度下に長時間置かれた後に外観不良が発生しなかった。
また、同様に、ガスバリアフィルムに代えてポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、「ＰＥＴフィルム」ということがある。）を使用した積層体（ＰＥＴフィルム／比較例の粘着剤層／ＰＥＴフィルムの層構成を有する積層体）においても、高温および高湿度下に長時間置かれた後に外観不良が発生しなかった。
【０１４９】
前者の理由としては、ガラス板を使用する場合、ガラス板の水蒸気透過率は、約０．０００００１ｇ／ｍ２／ｄａｙと極めて小さい値であるため、積層体内部に水分がほとんど浸入しなかったと考えられる。
後者の理由としては、ＰＥＴフィルムを使用する場合、ＰＥＴフィルムの水蒸気透過率は、約１０ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、ガスバリアフィルムに比べてＰＥＴフィルムは水蒸気をよく通すことから、水分が積層体内部に浸入しても容易に外に逃げることができ、積層体内部に水分がたまりにくいと考えられる。
【０１５０】
このように、上記の外観不良の問題は、少なくとも２枚のガスバリアフィルムを粘着剤層を介して積層した積層体を案出したことで初めて生じたものである。
そして、本発明は、少なくとも２枚のガスバリアフィルムと上記特性を有する粘着剤層を組み合わせて用いることで、この外観不良の問題を解決するものである。
【０１５１】
本発明のガスバリアフィルム積層体において、積層するガスバリアフィルムの枚数は２以上であれば特に限定されない。ガスバリアフィルムの積層する枚数は、通常、２〜５である。
【０１５２】
本発明のガスバリアフィルム積層体は、所望により、保護層、導電体層、プライマー層等のその他の層が積層されていてもよい。なお、その他の層が積層される位置は、特に限定されない。他の層は、１種、又は同種若しくは異種の２層以上であってもよい。
【０１５３】
保護層は、外部から衝撃が加わった場合に、ガスバリアフィルム積層体を保護する役割を担うものである。保護層としては、透明性、耐擦傷性が良好なものが好ましい。
保護層が積層される位置は、特に限定されないが、ガスバリアフィルム積層体の最外層に積層されることが好ましい。
【０１５４】
保護層を構成する材料としては、特に限定されず、公知のものが使用できる。例えば、ケイ素含有化合物；光重合性モノマー及び／又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む重合性組成物；ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂（特にポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等とイソシアネート化合物との２液硬化型樹脂）、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、ニトロセルロース系樹脂等の樹脂類；アルキルチタネート；エチレンイミン；等が挙げられる。これらの材料は単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１５５】
保護層は、前記保護層を構成する材料を適当な溶剤に溶解又は分散してなる保護層形成用溶液を、公知の方法により積層する層上に塗工し、得られた塗膜を乾燥させ、所望により加熱することより形成することができる。
【０１５６】
保護層形成用溶液を塗工する方法としては、通常の湿式コーティング方法を用いることができる。例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、エアナイフコート、ロールナイフコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。
【０１５７】
保護層形成用溶液の塗膜を乾燥する方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法が採用できる。保護層の厚みは、ガスバリアフィルム積層体の目的に応じて適宜選択することができるが、０．０５〜５０μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがより好ましく、０．２〜５μｍがさらに好ましい。
【０１５８】
保護層の厚さが０．０５μｍより薄い場合には、耐擦傷性が十分でなく好ましくない。一方、５０μｍより厚い場合には、硬化時の歪みによるカールが生じやすいので好ましくない。
【０１５９】
導電体層は、導電性を有する層である。導電体層を構成する材料としては、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物等が挙げられる。具体的には、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）；フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）；酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の導電性金属酸化物；金、銀、クロム、ニッケル等の金属；これら金属と導電性金属酸化物との混合物；ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性物質；ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール等の有機導電性材料；等が挙げられる。
【０１６０】
これらの中でも、透明性の点から、導電性金属酸化物が好ましく、ＩＴＯが特に好ましい。導電体層は、これらの材料からなる層が複数積層されてなっていてもよい。
導電体層の形成方法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等が挙げられる。これらの中でも、簡便に導電体層が形成できることから、スパッタリング法が好ましい。
【０１６１】
スパッタリング法は、真空槽内に放電ガス（アルゴン等）を導入し、ターゲットと基板との間に高周波電圧あるいは直流電圧を加えて放電ガスをプラズマ化し、該プラズマをターゲットに衝突させることでターゲット材料を飛ばし、基板に付着させて薄膜を得る方法である。ターゲットとしては、前記導電体層を形成する材料からなるものが使用される。
【０１６２】
導電体層の厚みはその用途等に応じて適宜選択すればよい。通常１０ｎｍ〜５０μｍ、好ましくは２０ｎｍ〜２０μｍである。得られる導電体層の表面抵抗率は、通常１０００Ω／□以下である。
【０１６３】
形成された導電体層には、必要に応じてパターニングを行ってもよい。パターニングする方法としては、フォトリソグラフィー等による化学的エッチング、レーザ等を用いた物理的エッチング等、マスクを用いた真空蒸着法やスパッタリング法、リフトオフ法、印刷法等が挙げられる。
【０１６４】
プライマー層は、基材層とガスバリア層、またはその他の層との層間密着性を高める役割を果たす層である。プライマー層を設けることにより、層間密着性及び表面平滑性を向上させることができる。
プライマー層を構成する材料としては、特に限定されず、公知のものが使用できる。例えば、ケイ素含有化合物；光重合性モノマー及び／又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む重合性組成物；ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂（特にポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等とイソシアネート化合物との２液硬化型樹脂）、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、ニトロセルロース系樹脂等の樹脂類；アルキルチタネート；エチレンイミン；等が挙げられる。これらの材料は単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１６５】
プライマー層は、前記プライマー層を構成する材料を適当な溶剤に溶解又は分散してなるプライマー層形成用溶液を、基材層またはその他の層の片面又は両面に塗付し、得られた塗膜を乾燥させ、所望により加熱することより形成することができる。
【０１６６】
プライマー層形成用溶液を基材またはその他の層に塗付する方法としては、通常の湿式コーティング方法を用いることができる。例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、エアナイフコート、ロールナイフコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。
【０１６７】
プライマー層形成用溶液の塗膜を乾燥する方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法が採用できる。プライマー層の厚みは、通常、１０〜５０００ｎｍ、好ましくは２０〜４０００ｎｍである。
【０１６８】
本発明のガスバリアフィルム積層体においては、少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、前記粘着剤層を介して積層されているものであれば、積層構成は特に限定されない。
【０１６９】
本発明のガスバリアフィルム積層体の一例を図１（ａ）〜（ｃ）、図２（ａ）〜（ｃ）に示す。
図１（ａ）に示すガスバリアフィルム積層体１００Ａは、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層４を介して、ガスバリア層２ａとガスバリア層２ｂとが粘着剤層４を挟んで対向するように積層された層構成（基材１ａ／ガスバリア層２ａ／粘着剤層４／ガスバリア層２ｂ／基材１ｂ）を有する。
図１（ｂ）に示すガスバリアフィルム積層体１００Ｂは、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層４を介して、ガスバリア層２ａと基材１ｂとが粘着剤層４を挟んで対向するように積層された層構成（基材１ａ／ガスバリア層２ａ／粘着剤層４／基材１ｂ／ガスバリア層２ｂ）を有する。
図１（ｃ）に示すガスバリアフィルム積層体１００Ｃは、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層４を介して、基材１ａと基材１ｂとが粘着剤層４を挟んで対向するように積層された層構成（ガスバリア層２ａ／基材１ａ／粘着剤層４／基材１ｂ／ガスバリア層２ｂ）を有する。
【０１７０】
図２（ａ）に示すガスバリアフィルム積層体１００Ｄは、３枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層４ａを介して、ガスバリア層２ａとガスバリア層２ｂとが粘着剤層４ａを挟んで対向するように積層され、さらに、もう１枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層４ｂを介して、基材１ｂとガスバリア層２ｃとが粘着剤層４ｂを挟んで対向するように積層された層構成（基材１ａ／ガスバリア層２ａ／粘着剤層４ａ／ガスバリア層２ｂ／基材１ｂ／粘着剤層４ｂ／ガスバリア層２ｃ／基材１ｃ）を有する。
図２（ｂ）に示すガスバリアフィルム積層体１００Ｅは、３枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層４ａを介してガスバリア層２ａと基材１ｂとが、粘着剤層４ｂを介してガスバリア層２ｂと基材１ｃとが、それぞれ、粘着剤層を挟んで対向するように積層された層構成（基材１ａ／ガスバリア層２ａ／粘着剤層４ａ／基材１ｂ／ガスバリア層１ｂ／粘着剤層４ｂ／基材１ｃ／ガスバリア層２ｃ）を有する。
図２（ｃ）に示すガスバリアフィルム積層体１００Ｆは、３枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層４ａを介して、ガスバリア層２ａとガスバリア層２ｂとが粘着剤層４ａを挟んで対向するように積層され、さらに、もう１枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層４ｂを介して、基材１ｂと基材１ｃとが粘着剤層４ｂを挟んで対向するように積層された層構成（基材１ａ／ガスバリア層２ａ／粘着剤層４ａ／ガスバリア層２ｂ／基材１ｂ／粘着剤層４ｂ／基材１ｃ／ガスバリア層２ｃ）を有する。
【０１７１】
これらの中でも、本発明のガスバリアフィルム積層体としては、図１（ａ）や図２（ａ）、（ｃ）に示すように、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、ガスバリア層とガスバリア層とが粘着剤層を挟んで対向するように積層されていることが、ガスバリア層にキズやピンホールが発生し難く、ガスバリア性が低下しにくいことから好ましく、図１（ａ）や図２（ａ）に示すように、ガスバリアフィルム積層体の最外層がいずれもガスバリア層でないものがより好ましい。
【０１７２】
前記隣接する２枚のガスバリアフィルム同士を粘着剤層を介して積層する方法としては、特に限定されず、公知の方法が挙げられる。
【０１７３】
例えば、図１（ａ）に示す層構成（基材１ａ／ガスバリア層２ａ／粘着剤層４／ガスバリア層２ｂ／基材１ｂ）を有するガスバリアフィルム積層体１００Ａは、次のようにして製造することができる。
【０１７４】
先ず、図３（ａ）に示すように、合成樹脂フィルムからなる基材１と、該基材１上に設けられたガスバリア層２を有するガスバリアフィルム１０を２枚用意する（以下、それぞれ、１０ａ、１０ｂと表す。）。
次いで、図３（ｂ）に示すように、剥離フィルム３上に粘着剤層４を形成して、粘着剤層付剥離フィルム２０を得る。なお、粘着剤層付剥離フィルム２０は、粘着剤層４上にさらに別の剥離フィルムを有するものであってもよい。
次に、図３（ｃ）に示すように、ガスバリアフィルム１０ａのガスバリア層２ａと、粘着剤層付剥離フィルム２０の粘着剤層４とを、所望により加熱しながら、貼り合わせることで、粘着フィルム３０を得る。貼り合わせの方法は特に限定されず、例えば、公知のラミネーターを使用する方法が挙げられる。
【０１７５】
その後、図３（ｄ）に示すように、粘着フィルム３０の剥離フィルム３を剥離して、露出した粘着剤層４面に、ガスバリアフィルム１０ｂのガスバリア層２ｂを、所望により加熱しながら、貼り合わせることで、図３（ｅ）に示すガスバリアフィルム積層体１００Ａを得ることができる。
【０１７６】
本発明のガスバリア積層体を製造する方法は、上記の方法に限定されず、例えば、図３（ａ）に示すガスバリアフィルム１０のガスバリア層２上に直接粘着剤層を形成し、この粘着剤層と、もう１枚のガスバリアフィルムを、所望により加熱しながら、重ね合わせ圧着することで、ガスバリアフィルム積層体を得ることもできる。
【０１７７】
本発明のガスバリアフィルム積層体の形状は、後述するごとき電子部材に適用できるものであれば、特に制限されない。例えば、シート状、直方体状、多角柱状、筒状等が挙げられる。
【０１７８】
本発明のガスバリアフィルム積層体は、高いガスバリア性を有し、かつ、高温および高湿度下に長時間置かれた場合であっても、気泡などの外観不良が発生しにくいため、特に液晶ディスプレイ部材、有機ＥＬディスプレイ部材、無機ＥＬディスプレイ部材、電子ペーパー部材等のディスプレイ用部材に好適である。
【０１７９】
２）粘着フィルム
本発明の粘着フィルムは、少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含み、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されてなるガスバリアフィルム積層体を製造するための粘着フィルムであって、少なくともガスバリアフィルムと粘着剤層とが隣接して積層されてなり、前記粘着剤層が、前記式（Ｉ）で示されるせん断荷重の減少率α（％）が７０％以下のものであることを特徴とする。
【０１８０】
本発明の粘着フィルムの粘着剤層としては、先に、ガスバリアフィルム積層体の中で説明した粘着剤層と同様のものが挙げられる。
【０１８１】
本発明の粘着フィルムとしては、図３（ｃ）に示すように、ガスバリアフィルム１０ａのガスバリア層２ａと粘着剤層４とが隣接して積層されてなる粘着フィルム３０が挙げられる。
また、本発明の粘着フィルムは、粘着剤層４上に剥離フィルムを有するものであっても、剥離フィルムを有しないもの（すなわち、粘着フィルム３０から剥離フィルム３を除去してなる層構造を有するもの）であってもよい。
【０１８２】
本発明の粘着フィルムは、所望により、保護層、導電体層、プライマー層等のその他の層が積層されていてもよい。これらの層としては、先に、ガスバリアフィルム積層体の中で説明したものが挙げられる。なお、その他の層が積層される位置は、特に限定されない。他の層は、１種又は同種若しくは異種の２層以上であってもよい。
本発明の粘着フィルムは、上記の本発明のガスバリアフィルム積層体を製造する際に有用である。
【０１８３】
３）電子部材
本発明の電子部材は、上記の本発明のガスバリアフィルム積層体を備えることを特徴とする。電子部材としては、例えば、液晶ディスプレイ部材、有機ＥＬディスプレイ部材、無機ＥＬディスプレイ部材、電子ペーパー部材、太陽電池、熱電変換部材等のフレキシブル基板等が挙げられる。
本発明の電子部材は、上記の本発明のガスバリアフィルム積層体を備えるものであるため、水蒸気等による素子の劣化が起こりにくく、かつ、高温および高湿度下に長時間置かれた場合であっても、気泡などの外観不良が発生しにくいものである。
【実施例】
【０１８４】
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。【０１８５】
（１）粘着剤組成物の調製
（粘着剤組成物Ａの調製）
ブチルアクリレート（ＢＡ）及びアクリル酸（ＡＡ）を用いて得られたアクリル系共重合体（質量比（ＢＡ：ＡＡ）＝９０：１０、重量平均分子量５５０，０００）１００質量部とイソシアナート系架橋剤（東洋インキ社製、ＢＨＳ−８５１５、濃度３７．５質量％）０．２２質量部を混合し、メチルエチルケトンで希釈して、不揮発分濃度３０質量％の粘着剤組成物Ａを得た。【０１８６】
（粘着剤組成物Ｂの調製）
ブチルアクリレート（ＢＡ）、メチルアクリレート（ＭＡ）及びアクリル酸（ＡＡ）を用いて得られたアクリル系共重合体（質量比（ＢＡ：ＭＡ：ＡＡ）＝７６：２０：４、重量平均分子量８００，０００）１００質量部とイソシアナート系架橋剤（東洋インキ社製、ＢＨＳ−８５１５、濃度３７．５質量％）２質量部、エポキシ系架橋剤（大成化薬社製、ＴＣ−５、濃度５質量％）０．５質量部を混合し、酢酸エチルで希釈して、不揮発分濃度２２質量％の粘着剤組成物Ｂを得た。【０１８７】
（粘着剤組成物Ｃの調製）
２−エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）、シクロヘキシルアクリレート（ＣＨＡ）及び２−ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）を用いて得られたアクリル系共重合体（質量比（２ＥＨＡ：ＣＨＡ：ＨＥＡ）＝５９．７：４０：０．３、重量平均分子量８００，０００）１００質量部とイソシアナート系架橋剤（東洋インキ社製、ＢＨＳ−８５１５、濃度３７．５質量％）０．５質量部を混合し、メチルエチルケトンで希釈して、不揮発分濃度３０質量％の粘着剤組成物Ｃを得た。【０１８８】
（粘着剤組成物Ｄの調製）
ブチルアクリレート（ＢＡ）及びアクリル酸（ＡＡｃ）を用いて得られたアクリル系共重合体（質量比（ＢＡ：ＡＡｃ）＝９０：１０、重量平均分子量４００，０００）１００質量部とエポキシ系架橋剤（大成化薬社製、ＴＣ−５、濃度５質量％）０．５質量部を混合し、メチルエチルケトンで希釈して、不揮発分濃度３５質量％の粘着剤組成物Ｄを得た。【０１８９】
（粘着剤組成物Ｅの調製）
ポリイソブチレン樹脂（ＢＡＳＦ社製、オパノールＢ５０、重量平均分子量３４０，０００）１００質量部、ポリブテン樹脂（新日本石油社製、日石ポリブテン  グレードＨＶ−１９００、重量平均分子量１９００）３０質量部、環状オレフィン系重合体（イーストマンケミカル社製、Ｅｌａｓｔｏｔａｃ  Ｈ−１００Ｌ  Ｒｅｓｉｎ）５０質量部をトルエンに溶解して、不揮発分濃度約１８質量％の粘着剤組成物Ｅを得た。【０１９０】
（ガスバリアフィルムの作製）
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製、ＰＥＴ３８  Ｔ−１００、厚さ３８μｍ、以下、「ＰＥＴフィルム」という。）に、ポリシラザン化合物（ペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング材（クラリアントジャパン社製、アクアミカＮＬ１１０−２０）をスピンコート法により塗布し、１２０℃で１分間加熱して、厚さ１５０ｎｍの、ペルヒドロポリシラザンを含むポリシラザン層を形成した。
次に、プラズマイオン注入装置を用いてポリシラザン層の表面に、下記の条件にて、アルゴン（Ａｒ）をプラズマイオン注入して、ガスバリア層を形成して、ガスバリアフィルムを作製した。得られたガスバリアフィルムの４０℃、相対湿度９０％の条件での水蒸気透過率は、０．０２ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。なお、ガスバリアフィルムの水蒸気透過率は、米国ＭＯＣＯＮ社製、「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ」を用いて測定した。【０１９１】
ガスバリア層を形成するために用いたプラズマイオン注入装置及びイオン注入条件は以下の通りである。【０１９２】
（プラズマイオン注入装置）
ＲＦ電源：日本電子社製、型番号「ＲＦ」５６０００
高電圧パルス電源：栗田製作所社製、「ＰＶ−３−ＨＳＨＶ−０８３５」
（プラズマイオン注入条件）
プラズマ生成ガス：Ａｒ
ガス流量：１００ｓｃｃｍ
Ｄｕｔｙ比：０．５％
印加電圧：−６ｋＶ
ＲＦ電源：周波数  １３．５６ＭＨｚ、印加電力  １０００Ｗ
チャンバー内圧：０．２Ｐａ
パルス幅：５μｓｅｃ
処理時間（イオン注入時間）：２００秒【０１９３】
（実施例１）
厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、シリコーン剥離層を設けてなる剥離フィルム（リンテック社製、ＳＰ−ＰＥＴ３８１０３１）の剥離層表面に、粘着剤組成物Ａをコンマダイレクトコート法にて塗布し、得られた塗膜を１００℃で１分間乾燥させて、厚さ約１０μｍの粘着剤層を形成して、粘着剤層付剥離フィルムａを得た。次に、剥離フィルム（リンテック社製、ＳＰ−ＰＦＳ５０ＡＬ−５、厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に剥離層を設けてなる剥離フィルム）を別途準備し、該剥離フィルムの剥離層と粘着剤層付剥離フィルムａの粘着剤層面とを貼り合わせて、粘着剤層の両面に剥離フィルムが積層された粘着剤層付剥離フィルムＡを得た。
次いで、上記方法で作製したガスバリアフィルムを２枚用意し、１枚のガスバリアフィルムのガスバリア層面と、粘着剤層付剥離フィルムＡの一方の剥離フィルムを剥がして露出した粘着剤層面とを貼り合わせた。
さらに、もう一方の面側の剥離フィルムを剥離して露出した粘着剤層面と、もう１枚のガスバリアフィルムのガスバリア層面とを貼り合わせて、ガスバリアフィルム積層体Ａを作製した。【０１９４】
（実施例２）
実施例１において、粘着剤組成物Ａを粘着剤組成物Ｂに代えて、粘着剤層付剥離フィルムＢを作製し、このものを使用したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリアフィルム積層体Ｂを作製した。【０１９５】
（比較例１）
実施例１において、粘着剤組成物Ａを粘着剤組成物Ｃに代えて、粘着剤層付剥離フィルムＣを作製し、このものを使用したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリアフィルム積層体Ｃを作製した。【０１９６】
（比較例２）
実施例１において、粘着剤組成物Ａを粘着剤組成物Ｄに代えて、粘着剤層付剥離フィルムＤを作製し、このものを使用したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリアフィルム積層体Ｄを作製した。【０１９７】
（比較例３）
実施例１において、粘着剤組成物Ａを粘着剤組成物Ｅに代えて、粘着剤層付剥離フィルムＥを作製し、このものを使用したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリアフィルム積層体Ｅを作製した。【０１９８】
（実施例３）
剥離フィルム上に、ウレタン系粘着剤層を有する粘着剤層付シート（倉敷紡績社製、Ｇ−６、厚み２５μｍ）を準備し、この粘着剤層面と、上記方法で作製したガスバリアフィルムのガスバリア層面とを、ヒートラミネーター（ラミネート温度１２０℃、速度０．２４ｍ／分）にて貼り合わせた後、剥離フィルムを剥離した。露出したウレタン粘着剤層と、別のガスバリアフィルムのガスバリア層面とを前記ヒートラミネーターを使用して貼り合わせて、ガスバリアフィルム積層体Ｆを作製した。【０１９９】
（比較例４）
実施例３において、ウレタン系粘着剤層を有する粘着剤層付シートに代えて、剥離フィルム上にオレフィン系粘着剤を有する剤層付粘着シート（倉敷紡績社製、Ｚ−２、厚み２５μｍ）を使用したこと以外は、実施例３と同様にしてガスバリアフィルム積層体Ｇを作製した。【０２００】
（せん断試験）
実施例１、２、比較例１〜３のガスバリアフィルム積層体の粘着剤層についてせん断試験を行うために、以下の方法で試験片を作製した。
ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡株式会社製、コスモシャイン  ＰＥＴ１８８Ａ４３００、厚さ１８８μｍ）と上記の粘着剤層付剥離フィルムＡ〜Ｅとをそれぞれ貼り合わせた後、幅１５ｍｍ長さ１００ｍｍの大きさに裁断して、試験用粘着フィルム（粘着剤層の厚さ３０μｍ）を得た。試験用粘着フィルムの剥離フィルムを剥離して粘着剤層を露出させた後、図４に示すように、この試験用粘着フィルムと、無アルカリガラス（コーニング社製、イーグルＸＧ）とを、貼着面積が２２５ｍｍ２（１５ｍｍ×１５ｍｍ）となるように貼り合わせ、２ｋｇのロールで５回往復させて、試験片を得た。なお、図４（ａ）は、試験片の正面図、図４（ｂ）は、図４（ａ）中のＸ−Ｙ面における断面図である。【０２０１】
また、実施例３、比較例４のガスバリアフィルム積層体の粘着剤層についてせん断試験を行うために、以下の方法で試験片を作製した。
ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡株式会社製、コスモシャイン  ＰＥＴ１８８Ａ４３００、厚さ１８８μｍ）とそれぞれの粘着剤層付シートの粘着剤層面とを、ヒートラミネーター（ラミネート温度１２０℃、速度０．２４ｍ／分）にて貼り合わせた後、幅１５ｍｍ長さ１００ｍｍの大きさに裁断して試験用粘着フィルムを得た。試験用粘着フィルムの剥離フィルムを剥離して粘着剤層を露出させた後、図４に示すように、この試験用粘着フィルムと、無アルカリガラス（コーニング社製、イーグルＸＧ）とを、貼着面積が２２５ｍｍ２（１５ｍｍ×１５ｍｍ）となるように重ね合わせ、前記同様の条件でヒートラミネーターを使用して貼り合わせて、試験片を得た。【０２０２】
上記方法で得られた試験片を、それぞれ、２３℃、相対湿度５０％の環境下で２４時間放置した。その後、同環境下で、引張試験機（インストロン社製、型式５５８１）に試験片を装着（無アルカリガラスと試験用粘着フィルムにおいて、それぞれ、未貼着側の端部を、引張試験機に装着）して、試験片を水平方向（せん断方向）にせん断速度０．１ｍｍ／分にて引張り、その荷重を測定した。せん断方向の変位が０．１ｍｍのときのせん断荷重をＸ（Ｎ）とした。
また、８０℃の条件下で同様の試験を行い、この試験における、せん断方向の変位が０．１ｍｍのときのせん断荷重をＹ（Ｎ）とした。
得られたＸ及びＹから、下記式（Ｉ）によりせん断荷重の減少率αを求めた。【０２０３】
【数３】
2013133256.tif 000019
【０２０４】
（高温、高湿条件投入後の外観評価）
実施例１〜３、及び比較例１〜４で得られたガスバリアフィルム積層体Ａ〜Ｇのそれぞれを、１２０ｍｍ×１２０ｍｍの大きさに裁断し、高温湿熱条件下（条件１：６０℃、９０％ＲＨ、条件２：８５℃、８５％ＲＨ）に、それぞれ１０００時間載置した。その後、２３℃、５０％ＲＨ環境下で１日調温・調湿を行い、ガスバリアフィルム積層体を目視にて評価した。【０２０５】
評価基準は、以下に示すとおりである。
○：ガスバリアフィルム積層体に気泡が見られなかったもの。
×：ガスバリアフィルム積層体に気泡が見られたもの。
評価結果を第１表に示す。【０２０６】
【表１】
2013133256.tif 000020
【０２０７】
第１表より、以下のことがわかる。
実施例１〜３で得られるガスバリアフィルム積層体は、その粘着剤層は、せん断荷重の減少率が７０％以下のものであり、高温高湿条件下に置かれた場合であっても、気泡が見られない。
一方、比較例１〜４で得られるガスバリアフィルム積層体は、その粘着剤層は、せん断荷重の減少率が７０％を超えるものであり、高温高湿条件下に置かれた場合、気泡が見られた。
【符号の説明】
【０２０８】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ・・・基材
２，２ａ，２ｂ，２ｃ・・・ガスバリア層
３・・・剥離フィルム
４，４ａ，４ｂ・・・粘着剤層
５・・・無アルカリガラス
６・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム
７・・・粘着剤層
１０，１０ａ，１０ｂ・・・ガスバリアフィルム
２０・・・粘着剤層付剥離フィルム
３０・・・粘着フィルム
１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄ，１００Ｅ，１００Ｆ・・・ガスバリアフィルム積層体
【図１】
2013133256.tif 000023
【図２】
2013133256.tif 000024
【図３】
2013133256.tif 000025
【図４】
2013133256.tif 000026
【国際調査報告】
2013133256.tif 000027
2013133256.tif 000028
2013133256.tif 000029
2013133256.tif 000030
2013133256.tif 000031