(57)【要約】  初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を形成できる含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法を提供する。  炭素数４のオキシペルフルオロアルキレン単位（α）と、該単位（α）以外のオキシペルフルオロアルキレン単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物を用いる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素数４のオキシペルフルオロアルキレン単位（α）と、該単位（α）以外のオキシペルフルオロアルキレン単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する、含フッ素エーテル化合物。
【請求項２】
前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）において、前記単位（α）と前記単位（β）とが交互に配置されている、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項３】
前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の一端の炭素原子に、酸素原子を介して炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基が結合し、
前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の他端の酸素原子に、連結基を介して加水分解性シリル基が結合している、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項４】
前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）において、前記単位（α）と前記単位（β）とが交互に配置され、かつ前記ペルフルオロアルキル基が前記単位（β）の炭素原子に結合し、前記加水分解性シリル基が連結基を介して前記単位（α）の酸素原子に結合している、請求項３に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項５】
数平均分子量が、２，０００〜１０，０００である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項６】
前記単位（α）が、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物を９５質量％以上含む、含フッ素エーテル組成物。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物と、媒体とを含む、コーティング液。
【請求項９】
前記媒体が、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルからなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を含む、請求項８に記載のコーティング液。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項７に記載の含フッ素エーテル組成物を基材の表面に真空蒸着する工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
【請求項１１】
請求項８または９に記載のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させる工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
【請求項１２】
前記コーティング液を前記基材の表面に塗布する方法が、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法である、請求項１１に記載の表面処理層を有する基材の製造方法。
【請求項１３】
前記基材の材質が、金属、樹脂、ガラス、セラミック、またはこれらの複合材料である、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の表面処理層を有する基材の製造方法。
【請求項１４】
請求項７に記載の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材。
【請求項１５】
請求項７に記載の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材を入力面に有する、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材の表面に撥水撥油性を付与する表面処理に好適に用いることができる含フッ素エーテル化合物、該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物またはコーティング液に関する。本発明は、該化合物、含フッ素エーテル組成物またはコーティング液を用いて、表面処理層を有する基材を製造する方法および該方法によって製造された表面処理層を有する基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。該表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。該含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキル鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。【０００３】
該含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。【０００４】
含フッ素エーテル化合物としては、たとえば、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位のみが連結した構造を有し、末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２００２−５０６８８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者らの知見によれば、特許文献１に記載の含フッ素エーテル化合物は、初期の撥水撥油性に優れるものの、耐摩擦性、指紋汚れ除去性が不充分である。【０００７】
本発明は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を形成できる含フッ素エーテル化合物、該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液の提供を目的とする。
本発明は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を有する基材およびその製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、下記［１］〜［１５］の構成を有する含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法を提供する。【０００９】
［１］炭素数４のオキシペルフルオロアルキレン単位（α）と、該単位（α）以外のオキシペルフルオロアルキレン単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する、含フッ素エーテル化合物。
［２］前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）において、前記単位（α）と前記単位（β）とが交互に配置されている、［１］の含フッ素エーテル化合物。【００１０】
［３］前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の一端の炭素原子に、酸素原子を介して炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基が結合し、
前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の他端の酸素原子に、連結基を介して加水分解性シリル基が結合している、［１］または［２］の含フッ素エーテル化合物。
［４］前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）において、前記単位（α）と前記単位（β）とが交互に配置され、かつ前記ペルフルオロアルキル基が前記単位（β）の炭素原子に結合し、前記加水分解性シリル基が連結基を介して前記単位（α）の酸素原子に結合している、［３］の含フッ素エーテル化合物。【００１１】
［５］数平均分子量が、２，０００〜１０，０００である、［１］〜［４］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
［６］前記単位（α）が、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）である、［１］〜［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
［７］前記［１］〜［６］のいずれかの含フッ素エーテル化合物を９５質量％以上含む、含フッ素エーテル組成物。【００１２】
［８］前記［１］〜［６］のいずれかの含フッ素エーテル化合物と、媒体とを含む、コーティング液。
［９］前記媒体が、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルからなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を含む、［８］のコーティング液。【００１３】
［１０］前記［１］〜［６］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または前記［７］の含フッ素エーテル組成物を基材の表面に真空蒸着する工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
［１１］前記［８］または［９］のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させる工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
［１２］前記コーティング液を前記基材の表面に塗布する方法が、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法である、［１１］の表面処理層を有する基材の製造方法。【００１４】
［１３］前記基材の材質が、金属、樹脂、ガラス、セラミック、またはこれらの複合材料である、［１０］〜［１２］のいずれかの表面処理層を有する基材の製造方法。
［１４］前記［７］の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材。
［１５］前記［７］の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材を入力面に有する、タッチパネル。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の含フッ素エーテル化合物、該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液によれば、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を形成できる。
本発明の表面処理層を有する基材は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を有する。
本発明の表面処理層を有する基材の製造方法によれば、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を有する基材を製造できる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物、前駆体も同様に記す。
本発明における主鎖とは、該主鎖以外のすべての分子鎖が側鎖と見なされるような線状分子鎖である。
本発明における加水分解性シリル基とは、加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を形成し得る基である。たとえば式（１）中の−ＳｉＬｍＲ３−ｍである。
本発明におけるエーテル性酸素原子とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子である。
本発明における連結基とは、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）と加水分解性シリル基とを連結するための基であり、たとえば式（１）中のＢから−ＳｉＬｍＲ３−ｍを除いた基であり、該基自体が前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）に属さない他のオキシペルフルオロアルキレン基を有していてもよい。なお、以下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を「鎖（αβ）」ともいう。
【００１７】
本発明における含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重アセトン、内部標準：ＴＭＳ）および１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：重アセトン、内部標準：ＣＦＣｌ３）によって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン単位の数（平均値）を求めることによって算出される。末端基は、たとえば式（１）中のＡまたはＢである。
【００１８】
本発明において、オキシペルフルオロアルキレン単位の化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。単位（α）と単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）は線状の２価の基であり、両末端の一方は炭素原子に結合した結合手（この結合手を有する炭素原子を末端炭素原子と記す。）であり、他方は酸素原子の結合手（この結合手を有する酸素原子を末端酸素原子と記す。）である。ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の化学式も末端酸素原子を右側に記載して表すものとする。
【００１９】
本発明における表面処理層とは、本発明の含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物またはコーティング液で基材を表面処理することによって、基材の表面に形成される層である。
【００２０】
［含フッ素エーテル化合物］
本発明の含フッ素エーテル化合物（以下、本化合物と記す。）は、炭素数４のオキシペルフルオロアルキレン単位（α）と、該単位（α）以外のオキシペルフルオロアルキレン単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する化合物である。
【００２１】
本化合物は、鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する。鎖（αβ）は主鎖に有することが好ましい。連結基に結合する加水分解性シリル基の数は２以上であってもよく、１〜３であることが好ましく、１または２がより好ましく、１であることが特に好ましい。連結基は鎖（αβ）側に結合する結合手を１つ、加水分解性シリル基のケイ素原子に結合する結合手を１つ以上有する多価の基であり、連結基に結合する加水分解性シリル基の数が１の場合には連結基は２価の基である。連結基の鎖（αβ）側に結合する結合手は、連結基が鎖（αβ）の末端酸素原子に結合する場合は炭素原子の結合手であり、連結基が鎖（αβ）の末端炭素原子に結合する場合は酸素原子の結合手である。連結基の加水分解性シリル基のケイ素原子に結合する結合手は、炭素原子の結合手である。
【００２２】
本化合物が鎖（αβ）の一方の末端側に連結基を介した加水分解性シリル基を有しない場合、その末端には１価の有機基を有する。１価の有機基が鎖（αβ）の末端炭素原子に結合する場合は酸素原子を介して結合する。１価の有機基が鎖（αβ）の末端酸素原子に結合する場合は、１価の有機基は末端が炭素原子である有機基が好ましい。該有機基としては、ペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有するペルフルオロアルキル基が好ましい。
【００２３】
本化合物は、鎖（αβ）の一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有していてもよく、鎖（αβ）の両方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有していてもよい。表面処理層に耐摩擦性を充分に付与する点からは、鎖（αβ）の一方の末端側のみに加水分解性シリル基を有することが好ましい。
本化合物は、単一化合物であってもよく、鎖（αβ）、末端基、連結基等が異なる２種類以上の混合物であってもよい。
【００２４】
単位（α）におけるペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。単位（α）としては、表面処理層に充分に高い初期の撥水撥油性を付与できる点から、直鎖状、すなわち（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）が好ましい。
【００２５】
単位（β）は、炭素数４以外のオキシペルフルオロアルキレン単位の少なくとも１種である。鎖（αβ）には、１種の単位（β）のみが存在してもよく、炭素数が異なる２種以上の単位（β）が存在してもよい。
【００２６】
本化合物が、単位（α）を有することによって表面処理層に高い初期の撥水撥油性を付与できる。ただし、単位（α）のみからなる場合、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の結晶性が高くなりすぎるため、耐摩擦性、指紋汚れ除去性が不充分となる。そこで、単位（β）を含ませることによって、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の結晶性を低下させ、表面処理層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性をバランスよく発揮できる。
また、単位（α）と単位（β）とが交互に配置されることが好ましい。単位（α）と単位（β）とが交互に配置されると、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を効率的に発揮できる。すなわち、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性が著しく優れる。
【００２７】
本化合物は、鎖（αβ）の一端の炭素原子に、酸素原子を介して炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基が結合し、鎖（αβ）の他端の酸素原子に、連結基を介して加水分解性シリル基が結合している化合物が好ましい。このような構成であると、表面処理層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性にさらに優れる。
本化合物は、鎖（αβ）の末端炭素原子に酸素原子を介してペルフルオロアルキル基を有すると、表面処理層における初期の撥水撥油性がさらに優れる。
【００２８】
本化合物は、鎖（αβ）において、単位（α）と単位（β）とが交互に配置され、かつペルフルオロアルキル基が単位（β）の炭素原子に酸素原子を介して結合し、加水分解性シリル基が連結基を介して前記単位（α）の酸素原子に結合している化合物が好ましい。このような構成であると、表面処理層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性にさらに優れる。この理由は、表面処理層の耐摩擦性、指紋汚れ除去性を低下させやすい単位（α）が基材の表面に近い側（表面処理層から遠い側）に存在できるためと考えられる。
【００２９】
本化合物の数平均分子量は、２，０００〜１０，０００が好ましい。数平均分子量が該範囲内であれば、耐摩擦性に優れる。本化合物の数平均分子量は、２，１００〜９，０００が好ましく、２，４００〜８，０００が特に好ましい。
通常、含フッ素エーテル化合物においては、数平均分子量が小さいほど、基材との化学結合が強固となると考えられる。この理由は、単位分子量当たりに存在する加水分解性シリル基の数が多くなるためと考えられる。しかしながら、数平均分子量が前記範囲の下限値未満であると、耐摩擦性が低下しやすいことを、本発明者等は確認した。また、数平均分子量が前記範囲の上限値を超えると、耐摩擦性が低下する。この理由は、単位分子量当たりに存在する加水分解性シリル基の数の減少による影響が大きくなるためであると考えられる。
【００３０】
本化合物は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有するため、フッ素原子の含有量が多い。さらに、上述したように、表面処理層に初期の高い撥水撥油性を付与する単位（α）と、単位（α）によって高くなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の結晶性を低下させる単位（β）とを有する鎖（αβ）を有している。そのため、本化合物は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を形成できる。
【００３１】
本化合物、含フッ素エーテル組成物またはコーティング液による表面処理においては、後述するように、本化合物中の加水分解性シリル基（−ＳｉＬｍＲ３−ｍ）が加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）が形成され、該シラノール基は分子間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合が形成され、または該シラノール基が基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）が形成される。すなわち、本発明における表面処理層は、本化合物を、本化合物の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応した状態で含む。
【００３２】
（化合物（１））
本化合物の好ましい態様は、具体的には、下式（１）で表される。
Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−Ｂ  ・・・（１）。
ただし、式（１）中の記号は以下の通りである。
ｘ１およびｘ２：それぞれ独立に１以上の整数である。
Ｒｆ１：炭素数４のペルフルオロアルキレン基。
Ｒｆ２：炭素数４以外のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種。
Ａ：炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基またはＢ。
Ｂ：下式（２−１）〜（２−５）で表される基。
−Ｒｆ３ＣＸ２Ｏ（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（２−１）、
−Ｒｆ３ＣＸ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（２−２）、
−Ｒｆ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣｋＨ２ｋ−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（２−３）、
−Ｒｆ３（ＣＨ２）２−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（２−４）、
−Ｒｆ３（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（２−５）。
ただし、式（２−１）〜（２−５）中の記号は下記の通りである。
Ｒｆ３：炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基。
Ｘ：水素原子またはフッ素原子。
Ｌ：加水分解性基。
Ｒ：水素原子または１価の炭化水素基。
ｋ：１以上の整数。
ｍ：１〜３の整数。
【００３３】
＜単位（α）＞
式（１）において、単位（α）は（Ｒｆ１Ｏ）で表された部分である。
ｘ１は、１以上の整数である。表面処理層に充分な初期の撥水撥油性を付与できる点から、３以上の整数が好ましく、５以上の整数が特に好ましい。化合物（１）の数平均分子量を大きくし過ぎない点から、４５以下の整数が好ましく、３０以下の整数が特に好ましい。
【００３４】
Ｒｆ１は、炭素数４のペルフルオロアルキレン基である。Ｒｆ１は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性を付与する点からは、直鎖状、すなわちＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２が好ましい。よって、単位（α）は（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）が好ましい。
【００３５】
＜単位（β）＞
ｘ２は、１以上の整数である。表面処理層に充分な耐摩耗性、指紋汚れ除去性を付与できる点から、３以上の整数が好ましく、５以上の整数が特に好ましい。化合物（１）の数平均分子量を大きくし過ぎない点から、８０以下の整数が好ましく、６０以下の整数が特に好ましい。
【００３６】
Ｒｆ２は、炭素数４以外のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種である。Ｒｆ２は、炭素数２以上の場合、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性を付与する点からは、直鎖状が好ましい。
Ｒｆ２は、化合物（１）の数平均分子量を大きくし過ぎない点からは、炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基および炭素数５〜１５のペルフルオロアルキレン基のうちの少なくとも１種が好ましく、炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基および炭素数５〜６のペルフルオロアルキレン基のうちの少なくとも１種が特に好ましい。表面処理層に充分な耐摩耗性、指紋汚れ除去性を付与できる点からは、炭素数１〜２のペルフルオロアルキレン基のうちの少なくとも１種が好ましい。熱的または化学的安定性の点からは、炭素数１以外のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種が好ましい。
【００３７】
＜ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）＞
鎖（αβ）、すなわち［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］において、単位（α）すなわち（Ｒｆ１Ｏ）単位、単位（β）すなわち（Ｒｆ２Ｏ）単位の結合順序は限定されない。すなわち、単位（α）と単位（β）がランダムに配置されてもよく、単位（α）と単位（β）とが交互に配置されてもよく、複数の単位からなるブロックの２以上が連結してもよい。初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性さらに効率的に発揮できる点から、単位（α）と単位（β）とが交互に配置されることが好ましく、加えてＡに近い側の末端単位が単位（β）であり、Ｂに近い側の末端単位が単位（α）であることが特に好ましい。
【００３８】
鎖（αβ）としては、表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、下記の単位を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）が好ましい。
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ、
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２。
ただし、ｎは、単位（α）と単位（β）とからなる繰返し単位の単位数であり、１以上の整数である。
【００３９】
＜Ａ基＞
Ａは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基またはＢである。耐摩擦性の点からは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基が好ましい。ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。
なお、本発明における化学式の表現に従えば、鎖（αβ）の左側が炭素原子の結合手であることより、前記式（１）で表したようにＡを化学式の左側に記載した場合にはＡは酸素原子を介して鎖（αβ）と結合している表現となる。一方、Ａを化学式の右側に記載する場合、すなわちＡが鎖（αβ）の末端酸素原子に結合している表現の場合は、Ａは鎖（αβ）の末端酸素原子に酸素原子を介することなく直接結合している表現となる。
【００４０】
Ａの具体例としては、下記が挙げられる。
ＣＦ３−、
ＣＦ３ＣＦ２−、
ＣＦ３（ＣＦ２）２−、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−、
ＣＦ３（ＣＦ２）４−、
ＣＦ３（ＣＦ２）５−、
ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）−等。
【００４１】
Ａとしては、表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、下記が好ましい。
ＣＦ３−、
ＣＦ３ＣＦ２−、
ＣＦ３（ＣＦ２）２−。
【００４２】
＜Ｂ基＞
化合物（１）は、鎖（αβ）、すなわち［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］の一端または両端にＢを有する。Ｂが分子内に２つある場合には、同一であってもよく、異なっていてもよい。なお、前記のように、本発明における化学式の表現に従えば、Ｂを化学式の左側に記載した場合にはＢは酸素原子を介して鎖（αβ）の末端炭素原子に結合した表現、すなわちＢ−Ｏ−が鎖（αβ）の左側に結合している表現となる。
Ｂは、式（２−１）〜（２−５）で表される基であり、化合物（１）は、末端に−ＳｉＬｍＲｍ−３で表される加水分解性シリル基を有する。工業的な製造における取扱いやすさの点から、式（２−３）で表される基が特に好ましい。
【００４３】
以下、Ｂが式（２−１）で表される基である化合物（１）を化合物（１−１）、Ｂが式（２−２）で表される基である化合物（１）を化合物（１−２）、Ｂが式（２−３）で表される基である化合物（１）を化合物（１−３）、Ｂが式（２−４）で表される基である化合物（１）を化合物（１−４）、Ｂが式（２−５）で表される基である化合物（１）を化合物（１−５）と記す。
Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−Ｒｆ３ＣＸ２Ｏ（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−１）、
Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−Ｒｆ３ＣＸ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−２）、
Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−Ｒｆ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣｋＨ２ｋ−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−３）、
Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−Ｒｆ３（ＣＨ２）２−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−４）、
Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−Ｒｆ３（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−５）。
【００４４】
Ｒｆ３は、炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基である。ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、下記が好ましい。
−ＣＦ２−、
−ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＦ（ＣＦ３）−。
【００４５】
Ｌは、加水分解性基である。加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、化合物（１）の末端のＳｉ−Ｌは、加水分解反応によりシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）となる。シラノール基は、さらに分子間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成する。化合物（１）は、末端に加水分解性シリル基を有するため、基材との密着性が良好で、かつ耐摩擦性が良好であり、基材の表面の撥水撥油性化が可能な化合物である。
【００４６】
Ｌとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
Ｌとしては、工業的な製造が容易な点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物（１）の保存安定性に優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物（１）の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
【００４７】
Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基である。１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられる。
Ｒとしては、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。１価の飽和炭化水素基の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
Ｒとしては、合成が簡便である点から、炭素数が１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数が１〜３のアルキル基がより好ましく、炭素数が１〜２のアルキル基が特に好ましい。
【００４８】
ｋは１以上の整数であり、２〜６の整数が好ましく、特に３が好ましい。ｋが３以上の場合、ＣｋＨ２ｋは直鎖でも分岐していてもよいが、直鎖が好ましい。
ｍは、１〜３の整数であり、２または３が好ましく、３が特に好ましい。分子中にＬが複数存在することによって、基材の表面との結合がより強固になる。
ｍが２以上である場合、１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
【００４９】
加水分解性シリル基（−ＳｉＬｍＲ３−ｍ）としては、−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、−ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、−ＳｉＣｌ３、−Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、−Ｓｉ（ＮＣＯ）３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が特に好ましい。
【００５０】
＜好ましい態様＞
化合物（１）としては、上述した好ましいＡと、上述した好ましいポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）とを組み合わせた化合物が好ましく、下式で表される化合物が特に好ましい。式の番号中、Ｈは、式（１−１）のＸが水素原子であることを示し、Ｆは、式（１−１）のＸがフッ素原子であることを示す。下式で表される化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与できる。
【００５１】
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−１Ｈａ）、
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−１Ｆａ）、
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−３ａ）、
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２（ＣＨ２）２−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−４ａ）、
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−５ａ）。
【００５２】
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−１Ｈｂ）、
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−１Ｆｂ）、
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−３ｂ）、
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２（ＣＨ２）２−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−４ｂ）、
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２（ＣＨ２）３−ＳｉＬｍＲ３−ｍ  ・・・（１−５ｂ）。
ただし、Ａは、ＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−またはＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−である。
【００５３】
［含フッ素エーテル化合物の製造方法］
化合物（１）は、Ｂが式（２−１）または式（２−２）で表される基である場合、下式（３）で表される前駆体（３）をヒドロシリル化する工程を経て、末端に加水分解性シリル基を導入する方法によって、製造できる。
Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−Ｒｆ３ＣＸ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（３）。
【００５４】
前駆体（３）をヒドロシリル化する工程を経て化合物（１）を製造すると、Ｂが式（２−１）で表される基である化合物（１−１）が得られるとともに、Ｂが式（２−２）で表される基である化合物（１−２）が副生成物として得られる。たとえば、前駆体（３）とＨＳｉＬｍＲ３−ｍ（ただし、Ｌ、Ｒは、式（１）と同じ種類の原子または基であり、ｍは、式（１）と同じ数値である。）とをヒドロシリル化反応して、化合物（１−１）および化合物（１−２）を得ることができる。ヒドロシリル化反応は、白金（Ｐｔ）等の遷移金属触媒または有機過酸化物等のラジカル発生剤を用いて行うことが好ましい。
【００５５】
化合物（１）は、Ｂが式（２−３）で表される基である場合、下式（４）で表される前駆体（４）とアミノアルキルシラン化合物とを反応させる工程を経て、末端に加水分解性シリル基を導入する方法によって、製造できる。式（４）において、Ｒ１はアルキル基であり、合成の容易さの点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−Ｒｆ３Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ１  ・・・（４）。
【００５６】
たとえば、前駆体（４）とＨ２ＮＣｋＨ２ｋＳｉＬｍＲ３−ｍ（ただし、Ｌ、Ｒは、式（１）と同じ種類の原子または基であり、ｍ、ｋは、式（１）と同じ数値である。）とのアミド化反応によって、化合物（１−３）を得ることができる。
【００５７】
化合物（１）は、Ｂが式（２−４）で表される基である場合、下式（１６）で表される前駆体（１６）をヒドロシリル化する工程を経て、末端に加水分解性シリル基を導入する方法によって、製造できる。
Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−Ｒｆ３ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（１６）。
たとえば、前駆体（１６）とＨＳｉＬｍＲ３−ｍ（ただし、Ｌ、Ｒは、式（１）と同じ種類の原子または基であり、ｍは、式（１）と同じ数値である。）とをヒドロシリル化反応して、化合物（１−４）を得ることができる。
【００５８】
化合物（１）は、Ｂが式（２−５）で表される基である場合、下式（１７）で表される前駆体（１７）をヒドロシリル化する工程を経て、末端に加水分解性シリル基を導入する方法によって、製造できる。
Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−Ｒｆ３ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（１７）。
たとえば、前駆体（１７）とＨＳｉＬｍＲ３−ｍ（ただし、Ｌ、Ｒは、式（１）と同じ種類の原子または基であり、ｍは、式（１）と同じ数値である。）とをヒドロシリル化反応して、化合物（１−５）を得ることができる。
【００５９】
前駆体（３）、前駆体（４）、前駆体（１６）または前駆体（１７）は、Ａ−Ｏ−［（Ｒｆ１Ｏ）ｘ１（Ｒｆ２Ｏ）ｘ２］−の構造に応じて公知の方法で製造できる。前駆体（３）、前駆体（４）、前駆体（１６）または前駆体（１７）の製造方法は、下記の通りである。
【００６０】
（前駆体（３）の製造方法）
前駆体（３）の製造方法について、下式（３ａ）で表される前駆体（３ａ）を例にとり、説明する。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＸ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（３ａ）。
【００６１】
以下、式（３ａ）のＸがフッ素原子である場合を前駆体（３Ｆａ）、Ｘが水素原子である場合を前駆体（３Ｈａ）と記し、それぞれの製造方法の例を説明する。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（３Ｆａ）、
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（３Ｈａ）。
【００６２】
＜前駆体（３Ｆａ）の製造方法（ｉ）＞
下式（７ａ）で表される化合物（７ａ）を、金属フッ化物触媒（ＮａＦ、ＣｓＦ、ＫＦ、ＡｇＦ等）の存在下で加熱してエステルの熱分解を行った後、臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）を反応させることによって、前駆体（３Ｆａ）が得られる。式（７ａ）において、Ｒｆ４は、炭素数１〜１１のペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１１のペルフルオロアルキル基である。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒｆ４  ・・・（７ａ）。
【００６３】
＜前駆体（３Ｆａ）の製造方法（ｉｉ）＞
前記前駆体（３Ｆａ）は、以下の方法でも製造できる。
下式（８ａ）で表される化合物（８ａ）を、金属フッ化物触媒（ＮａＦ、ＣｓＦ、ＫＦ、ＡｇＦ等）の存在下で臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）と反応させることによって、前駆体（３Ｆａ）が得られる。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）Ｆ  ・・・（８ａ）。
【００６４】
＜前駆体（３Ｈａ）の製造方法＞
化合物（７ａ）または化合物（８ａ）にアルコール（メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール等。以下、Ｒ２ＯＨと記す。Ｒ２は、アルキル基である。）を作用させることによって、下式（６ａ）で表される化合物（６ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ２  ・・・（６ａ）。
【００６５】
次に、化合物（６ａ）を、還元剤（水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等）を用いて水素還元することによって、下式（５ａ）で表される化合物（５ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（５ａ）。
【００６６】
得られた化合物（５ａ）を、塩基（水素化ナトリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）の存在下で臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）と反応させることによって、前駆体（３Ｈａ）が得られる。
【００６７】
（前駆体（４）の製造方法）
前駆体（４）の製造方法について、下式（４ａ）で表される前駆体（４ａ）を例にとり、説明する。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ１  ・・・（４ａ）。
【００６８】
＜前駆体（４ａ）の製造方法＞
前駆体（４ａ）は、化合物（６ａ）とはＲ１とＲ２が異なる以外には同様の化合物である。上述したように、化合物（７ａ）または化合物（８ａ）にアルコールを作用させることによって製造できる。
【００６９】
＜化合物（７ａ）の製造方法＞
化合物（７ａ）の製造方法を、−Ｒｆ４が−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）２ＣＦ３の場合を例にとり、説明する。
【００７０】
下式（１１ａ）で表される化合物（１１ａ）とアルコール（メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２−メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等。以下、Ａ１−ＯＨと記す。）とを塩基あるいは４級アンモニウム塩（炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム等）の存在下で反応させて、下式（１０ａ）で表されるオリゴマー化合物（１０ａ）を得る。
ＣＦ２＝ＣＦＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１１ａ）、
Ａ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＨＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）ｎ＋１−Ｈ  ・・・（１０ａ）。
【００７１】
化合物（１１ａ）に対するＡ１−ＯＨの添加量を制御することによって、目的とする数平均分子量を有するオリゴマー化合物（１０ａ）を合成できる。または、Ａ１−ＯＨが化合物（１１ａ）自身であってもよく、反応時間の制御や生成物の分離精製によって、目的とする数平均分子量を有するオリゴマー化合物（１０ａ）を合成できる。
化合物（１１ａ）の合成およびその重付加反応による化合物（１０ａ）の合成は、米国特許第５１３４２１１号明細書に記載の公知の方法にしたがって実施できる。
【００７２】
化合物（１０ａ）とＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦとのエステル化反応によって、下式（９ａ）で表される化合物（９ａ）を得る。該エステル化反応は、化合物（１０ａ）と上例のようなペルフルオロ酸フロリドとの反応に限定されず、含フッ素あるいはフッ素を含まない炭化水素系の酸フロリド、酸クロリド、酸ブロミド、酸無水物等との反応であってもよい。
Ａ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＨＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）ｎ＋１−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（９ａ）。
【００７３】
さらに、フッ素ガスを用いて化合物（９ａ）の水素原子をフッ素原子に置換することによって、化合物（７ａ）を得る。該フッ素化工程は、たとえば、国際公開第２０００／５６６９４号に記載の方法等にしたがって実施できる。
【００７４】
（前駆体（１６）の製造方法）
前駆体（１６）の製造方法について、下式（１６ａ）で表される前駆体（１６ａ）を例にとり、説明する。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（１６ａ）。
【００７５】
＜前駆体（１６ａ）の製造方法＞
化合物（８ａ）を、ヨウ素化剤（ヨウ化リチウム、ヨウ素／炭酸カリウム等）を用いてヨウ素化することによって、下式（１８ａ）で表される化合物（１８ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｉ  ・・・（１８ａ）。
次に、化合物（１８ａ）を、ラジカル発生剤存在下にエチレンを作用させることによって、下式（１９ａ）で表される化合物（１９ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２Ｉ  ・・・（１９ａ）。
得られた化合物（１９ａ）を、塩基性化合物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）の存在下で臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）と反応させて脱ヨウ化水素することによって、前駆体（１６ａ）が得られる。
【００７６】
（前駆体（１７）の製造方法）
前駆体（１７）の製造方法について、下式（１７ａ）で表される前駆体（１７ａ）を例にとり、説明する。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（１７ａ）。
【００７７】
＜前駆体（１７ａ）の製造方法＞
化合物（１８ａ）を、ラジカル発生剤存在下にアリル化剤（アリルトリブチルスズ、アリルトリス（トリメチルシリル）シラン等）を作用させることによって、前駆体（１７ａ）が得られる。
【００７８】
［含フッ素エーテル組成物］
本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、本組成物と記す。）は、本化合物を９５質量％以上含む組成物である。
【００７９】
本組成物は、本化合物以外の不純物を含んでいてもよい。本化合物以外の不純物とは、本化合物の製造上不可避の化合物を意味する。具体的には、本化合物の製造工程で生成した副生成物および本化合物の製造工程で混入した成分である。本組成物は、後述する液状の媒体を含まない。本組成物中の本化合物以外の不純物の含有量は、５質量％以下が好ましい。
【００８０】
本組成物中の本化合物の含有量は、９８質量％以上が特に好ましい。すなわち不純物の含有量は、２質量％以下が特に好ましい。本化合物の含有量が前記範囲であれば、基材の表面処理に用いたときの、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる。
【００８１】
本組成物中の副生成物の同定および定量は、１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ）および１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ）によって行う。たとえば、前駆体（３）をヒドロシリル化する工程を経て、目的の化合物（１−１）および化合物（１−２）を製造する場合、ヒドロシリル化によって副生成物が生じ得る。該副生成物（式（１）におけるＢが下式（２−６）で表される化合物）に由来するスペクトルピークが検出されない場合を、副生成物の含有量がゼロであると定義する。また、該副生成物に由来するスペクトルピークが観測された場合は、内部標準による定量によって該副生成物の含有量を求める。
−Ｒｆ３ＣＸ２Ｏ−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３  ・・・（２−６）。
【００８２】
同様に、前駆体（１６）をヒドロシリル化する工程を経て、目的の化合物（１−４）を製造する場合、ヒドロシリル化によって副生成物が生じ得る。該副生成物は式（１）におけるＢが下式（２−７）で表される化合物（以下、化合物（２０）と記す。）である。
−Ｒｆ３ＣＨ２ＣＨ３  ・・・（２−７）。
【００８３】
同様に、前駆体（１７）をヒドロシリル化する工程を経て、目的の化合物（１−５）を製造する場合、ヒドロシリル化によって副生成物が生じ得る。該副生成物は式（１）におけるＢが下式（２−８）で表される化合物である。
−Ｒｆ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３  ・・・（２−８）。
【００８４】
また、目的の化合物（１−４）および化合物（１−５）を製造する場合、化合物（８）をヨウ素化して化合物（１８）を得る反応では、副生成物として式（１）におけるＢが下式（２−９）で表される化合物を（以下、化合物（２１）と記す。）生じ得る。
−Ｒｆ３Ｈ  ・・・（２−９）。
【００８５】
［表面処理層を有する基材の製造方法］
（ドライコーティング法）
本化合物および本組成物は、ドライコーティング法によって基材の表面を処理して、表面処理層を有する基材を製造する方法に、そのまま用いることができる。本化合物および本組成物は、ドライコーティング法によって密着性に優れた表面処理層を形成するのに好適である。ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。本化合物の分解を抑える点、および装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適に利用できる。真空蒸着法は、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法、高周波誘導加熱法、反応性蒸着、分子線エピタキシー法、ホットウォール蒸着法、イオンプレーティング法、クラスターイオンビーム法等に細分することができるが、いずれの方法も適用できる。本化合物の分解を抑制する点、および装置の簡便さの点から、抵抗加熱法が好適に利用できる。真空蒸着装置は特に制限なく、公知の装置が利用できる。
【００８６】
真空蒸着法を用いる場合の成膜条件は、適用する真空蒸着法の種類によって異なるが、抵抗加熱法の場合、蒸着前真空度は１×１０−２Ｐａ以下が好ましく、１×１０−３Ｐａ以下が特に好ましい。蒸着源の加熱温度は、本化合物または本組成物の蒸着源が充分な蒸気圧を有する温度であれば特に制限はない。具体的には３０〜４００℃が好ましく、５０〜３００℃が特に好ましい。加熱温度が前記範囲の下限値以上であれば、成膜速度が良好になる。前記範囲の上限値以下であれば、本化合物の分解が生じることなく、基材の表面に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与できる。真空蒸着時、基材温度は室温（２０〜２５℃）から２００℃までの範囲であることが好ましい。基材温度が２００℃以下であれば、成膜速度が良好になる。基材温度の上限値は１５０℃以下がより好ましく、１００℃以下が特に好ましい。
【００８７】
本化合物または本組成物を用い、ドライコーティング法によって基材の表面を処理する場合、該処理によって基材の表面に形成される表面処理層は、膜厚として、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。該表面処理層の膜厚が前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。なお、膜厚は、たとえば薄膜解析用Ｘ線回折計ＡＴＸ−Ｇ（ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。
【００８８】
特に、真空蒸着法においては、本組成物中の本化合物の含有量が多く、不純物の含有量が少ないため、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性の向上効果が大きい。これは、不純物である分子量が小さい副生成物が、本化合物よりも先に基材の表面に蒸着し、その結果、性能の発現を担う本化合物と基材の表面との化学結合が妨げられるのが、抑えられるためと考えられる。
【００８９】
（ウェットコーティング法）
本化合物を含むコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させることによって、表面処理層を有する基材を製造することができる。
コーティング液の塗布方法としては、公知の手法を適宜用いることができる。
塗布方法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法が好ましい。
乾燥させる方法は、媒体を乾燥除去できる方法であればよく、公知の手法を適宜用いることができる。乾燥温度は１０〜３００℃が好ましく、２０〜２００℃が特に好ましい。
【００９０】
媒体を乾燥除去した後に、基材の表面に形成される表面処理層は、膜厚として、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。該表面処理層の膜厚が前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。なお、膜厚の測定は、ドライコーティング法で形成される表面処理層の膜厚の測定方法と同様に行うことができる。
【００９１】
（後処理）
前記ドライコーティング法やウェットコーティング法により基材表面に表面処理層を形成した後に、該表面処理層の摩擦に対する耐久性を向上させるために、必要に応じて、含フッ素エーテル化合物と基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。たとえば、水分を有する大気中で表面処理層が形成された基材を加熱して、加水分解性シリル基のシラノール基への加水分解反応、基材表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進することができる。
表面処理後、表面処理層中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、たとえば、表面処理層に溶剤をかけ流す方法や、溶剤をしみ込ませた布でふき取る方法が挙げられる。
【００９２】
（コーティング液）
本発明のコーティング液（以下、本コーティング液と記す。）は、本化合物と媒体とを含む。媒体は、液状であることが好ましい。本コーティング液は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
本コーティング液は、本化合物を含んでいればよく、本化合物の製造工程で生成した副生成物等の不純物を含んでもよい。したがって、本コーティング液は、本組成物と媒体とを含んでもよい。
本化合物の濃度は、本コーティング液中、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．１〜１質量％が特に好ましい。
【００９３】
＜媒体＞
媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であってもよく、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を含んでもよい。
【００９４】
フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４〜８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣ６Ｆ１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＣ−６０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（バートレル：製品名、デュポン社製）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４〜１２の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、たとえば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
フッ素系有機溶媒としては、本化合物の溶解性の点で、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテルが好ましく、フルオロアルキルエーテルが特に好ましい。
【００９５】
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等が好ましい。
アルコール系有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等が好ましい。
ケトン系有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が好ましい。
エーテル系有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が好ましい。
エステル系有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が好ましい。
非フッ素系有機溶媒としては、本化合物の溶解性の点で、ケトン系有機溶媒が特に好ましい。
【００９６】
媒体としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、ならびに、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒が好ましい。特に、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルから選ばれるフッ素系有機溶媒が好ましい。
媒体としては、フッ素系有機溶媒であるフッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、非フッ素系有機溶媒である水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を、合計で媒体全体の９０質量％以上含むことが、本化合物の溶解性を高める点で好ましい。
本コーティング液は、媒体を９０〜９９．９９９質量％含むことが好ましく、９９〜９９．９９質量％含むことが特に好ましい。
【００９７】
本コーティング液は、本化合物および媒体の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては、たとえば、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。
酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
本コーティング液における、その他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。
【００９８】
本コーティング液の固形分濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。コーティング液の固形分濃度は、加熱前のコーティング液の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。また、本組成物の濃度は、固形分濃度と、本組成物および溶媒等の仕込み量とから算出可能である。
【００９９】
（基材）
本発明において、表面処理の対象となる基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の表面の材料としては、金属、樹脂、ガラス、セラミック、これらの複合材料が挙げられる。
【０１００】
本化合物、これを含む本組成物または本コーティング液を用いて基材の表面を処理して表面処理層が形成されることによって、良好な初期の撥水撥油性が付与されるとともに、該表面が繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい優れた耐摩擦性、および基材の表面の指紋汚れを容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が得られる。したがって、このようにして得られる、表面処理層を有する基材は、良好な初期の撥水撥油性を有するとともに、優れた耐摩擦性および指紋汚れ除去性を有するため、タッチパネルを構成する部材として好適である。タッチパネルとは、指等による接触によってその接触位置情報を入力する装置と表示装置とを組み合わせた入力／表示装置（タッチパネル装置）の、入力装置を意味する。タッチパネルは、基材と、入力検出方式に応じて、透明導電膜、電極、配線、ＩＣ等とから構成されている。基材の表面処理層を有する面をタッチパネルの入力面とすることにより、良好な指紋除去性を有するタッチパネルが得られる。
タッチパネル用基材の材質は、透光性を有する。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味する。
【０１０１】
タッチパネル用基材の材質としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学強化したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。透明樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。
また、本発明における基材として、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種ディスプレイの最表面を構成するディスプレイ用基材も好適であり、本化合物、本組成物または本コーティング液を用いた表面処理によって表面処理層を形成することによって、良好な指紋汚れ除去性が得られる。
【実施例】
【０１０２】
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１〜８、例１１〜１８、例３１〜３２および例４１〜４２は実施例、例９および例１９は比較例である。【０１０３】
［例１：組成物（Ａ）の製造］
（例１−１）
３００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム粉末の１４．１ｇを取り入れ、ＡＫ−２２５（製品名、旭硝子社製）の３５０ｇを加えた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、内温が１０℃を超えないように化合物（１２ａ）の１００ｇ、メタノールの１５．８ｇ、ＡＫ−２２５の２２ｇを混合した溶液を滴下漏斗からゆっくり滴下した。全量滴下した後、さらにメタノールの１０ｇとＡＫ−２２５の１０ｇを混合した溶液を滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、再び氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。反応終了後、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した後、固形分をフィルタによりろ過し、エバポレータで濃縮した。回収した濃縮液を減圧蒸留し、化合物（１１ａ）の８０．６ｇ（収率８８％）を得た。
ＣＦ２＝ＣＦＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＣＨ３  ・・・（１２ａ）、
ＣＦ２＝ＣＦＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１１ａ）。【０１０４】
化合物（１１ａ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．２（１Ｈ）、４．１（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８５．６（２Ｆ）、−１１４．０（１Ｆ）、−１２２．２（１Ｆ）、−１２３．３（２Ｆ）、−１２７．４（２Ｆ）、−１３５．２（１Ｆ）。【０１０５】
（例１−２−１）
還流冷却器を接続した５００ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物（１１ａ）の３００ｇ、トリフルオロエタノール（以下、ＴＦＥＯとも記す。）の１３．５ｇを取り入れ、炭酸カリウム粉末の９．３４ｇを加えた。窒素雰囲気下、６５℃で１時間撹拌した後、７時間かけて１００℃まで昇温し、さらに３時間撹拌した。ＮＭＲで化合物（１１ａ）のビニルエーテル基が完全に消失したことを確認した。塩酸水溶液を加えて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーの２７９ｇを得た。再び、ＡＫ−２２５の１１０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数（ｎ＋１）の平均値を１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。下式（１０ａ−１）中、（ｎ＋１）の平均値が７〜１０のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−１ｉ）の４７ｇ、（ｎ＋１）の平均値が１３〜１６のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−１ｉｉ）の１９ｇを得た。
ＣＦ３ＣＨ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＨＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）ｎ＋１−Ｈ  ・・・（１０ａ−１）。【０１０６】
（例１−２−２）  
還流冷却器を接続した１００ｍＬのナスフラスコに、ＴＦＥＯの６．６４ｇを取り入れ、炭酸カリウム粉末の７．３２ｇを加えた。窒素雰囲気下、７５℃で撹拌しながら、例１−１で得た化合物（１１ａ）の１９．８７ｇを加え、１時間撹拌した。続いて１２０℃まで昇温し、化合物（１１ａ）の１１３．３４ｇを内温が１３０℃以下になるように制御しながら、ゆっくりと滴下した。全量滴下した後、１２０℃に保ちながらさらに１時間撹拌し、加熱を止めて室温に下がるまで撹拌を続けた。塩酸水溶液を加えて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーを得た。再び、ＡＫ−２２５の１５０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数（ｎ＋１）の平均値を１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。上式（１０ａ−１）中、（ｎ＋１）の平均値が７〜１０のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−１ｉ）の４８．５ｇ、（ｎ＋１）の平均値が１３〜１６のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−１ｉｉ）の１３．２ｇを得た。【０１０７】
化合物（１０ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．１（２Ｈ）、４．８（１６Ｈ）、６．７〜６．９（８Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−７４．２（３Ｆ）、−８４．３〜−８５．１（１６Ｆ）、−８９．４〜−９０．５（１６Ｆ）、−１２０．２（１４Ｆ）、−１２２．０（２Ｆ）、−１２６．６（１４Ｆ）、−１２７．０（２Ｆ）、−１４５．１（８Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：８。【０１０８】
化合物（１０ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．１（２Ｈ）、４．８（２８Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−７４．２（３Ｆ）、−８４．３〜−８５．１（２８Ｆ）、−８９．４〜−９０．５（２８Ｆ）、−１２０．２（２６Ｆ）、−１２２．０（２Ｆ）、−１２６．６（２６Ｆ）、−１２７．０（２Ｆ）、−１４５．１（１４Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：１４。【０１０９】
（例１−３）
還流冷却器を接続した３００ｍＬのナスフラスコに、例１−２で得た化合物（１０ａ−１ｉ）の１１３．３３ｇ、フッ化ナトリウム粉末の５．０ｇ、ＡＫ−２２５の１５０ｇを取り入れ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦの８４．７５ｇを加えた。窒素雰囲気下、５０℃で１３時間撹拌した後、７０℃で３時間撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦとＡＫ−２２５を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、下式（９ａ−１）中、単位数（ｎ＋１）の平均値が８である、化合物（９ａ−１ｉ）の１００．６７ｇ（収率８０％）を得た。
ＣＦ３ＣＨ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＨＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）ｎ＋１−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（９ａ−１）。【０１１０】
化合物（９ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．４（１６Ｈ）、４．９（２Ｈ）、６．０−６．２（８Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−７５．２（３Ｆ）、−８０．０（１Ｆ）、−８１．９（３Ｆ）、−８２．７（３Ｆ）、−８４．７〜−８５．０（１６Ｆ）、−８６．０（１Ｆ）、−９０．５〜−９３．０（１６Ｆ）、−１２１．１（２Ｆ）、−１２１．５（１４Ｆ）、−１２８．０（１６Ｆ）、−１３０．３（２Ｆ）、−１３２．５（１Ｆ）、−１４５．３（８Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：８。【０１１１】
（例１−４）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−１１３（ＣＦ２ＣｌＣＦＣｌ２）の７５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０体積％に希釈したフッ素ガス（以下、２０％フッ素ガスと記す。）を、２５℃、流速３．２Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例１−３で得た化合物（９ａ−１ｉ）の１３０ｇをＲ−１１３の４４８ｇに溶解した溶液を、２２時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−１１３中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の８ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。２０分撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに７回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．６ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、下式（７ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（７ａ−１ｉ）の１５２．１ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（７ａ−１）。【０１１２】
化合物（７ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８０．０（１Ｆ）、−８２．０〜−８２．５（６Ｆ）、−８４．０（３０Ｆ）、−８６．７〜８７．８（６Ｆ）、−８９．２（３４Ｆ）、−１２６．５（３２Ｆ）、−１３０．４（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１１３】
（例１−５）
５００ｍＬのテトラフルオロエチレン−ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体（以下、ＰＦＡと記す。）製丸底ナスフラスコに、例１−４で得た化合物（７ａ−１ｉ）の１２０ｇおよびＡＫ−２２５の２４０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの６．１ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、下式（４ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、前駆体（４ａ−１ｉ）の１０８．５ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（４ａ−１）。【０１１４】
前駆体（４ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．０（３０Ｆ）、−８８．２（３Ｆ）、−８９．２（３４Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２６．５（３０Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１１５】
（例１−６）
３００ｍＬのナスフラスコに、例１−５で得た前駆体（４ａ−１ｉ）の９２．５ｇおよびＨ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３の６．５１ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、前駆体（４ａ−１ｉ）の９８％が化合物（１−３ａ−１ｉ）に変換していることを確認した。また、Ｈ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３のすべてが反応しており、副生物であるメタノールが生成していた。このようにして、下式（１−３ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（１−３ａ−１ｉ）を９７％含む組成物（Ａ）を得た。化合物（１−３ａ−１ｉ）の数平均分子量は、２，９００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−３ａ−１）。【０１１６】
化合物（１−３ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．６（２Ｈ）、１．６（２Ｈ）、２．８（１Ｈ）、３．３（２Ｈ）、３．５（９Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８７．９（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．２（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１１７】
［例２：組成物（Ｂ）の製造］
（例２−１）
還流冷却器を接続した２００ｍＬのナスフラスコに、例１−２−１で得た化合物（１０ａ−１ｉｉ）の１１４．７２ｇ、フッ化ナトリウム粉末の８．１ｇ、ＡＫ−２２５の１０１．７２ｇを取り入れ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦの９５．１８ｇを加えた。窒素雰囲気下、５０℃で１２時間撹拌した後、室温で終夜撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦとＡＫ−２２５を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、上式（９ａ−１）中、単位数（ｎ＋１）の平均値が１４である、化合物（９ａ−１ｉｉ）の９４．５７ｇ（収率７７％）を得た。【０１１８】
化合物（９ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．４（２８Ｈ）、４．９（２Ｈ）、６．０−６．２（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−７５．２（３Ｆ）、−８０．０（１Ｆ）、−８１．９（３Ｆ）、−８２．７（３Ｆ）、−８４．７〜−８５．０（２８Ｆ）、−８６．０（１Ｆ）、−９０．５〜−９３．０（２８Ｆ）、−１２１．１（２Ｆ）、−１２１．５（２６Ｆ）、−１２８．０（２８Ｆ）、−１３０．３（２Ｆ）、−１３２．５（１Ｆ）、−１４５．３（１４Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：１４。【０１１９】
（例２−２）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積３Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−１１３の２，３５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速４．２Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例２−１で得た化合物（９ａ−１ｉｉ）の２１３ｇをＲ−１１３の７３２ｇに溶解した溶液を、２９時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−１１３中に０．００９ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。２０分撹拌した後、再びベンゼン溶液の５ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに７回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．４ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、上式（７ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（７ａ−１ｉｉ）の２５０．１ｇ（収率９９％）を得た。【０１２０】
化合物（７ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８０．３（１Ｆ）、−８２．０〜−８２．５（６Ｆ）、−８４．２（５４Ｆ）、−８６．９〜８８．０（６Ｆ）、−８９．４（５８Ｆ）、−１２６．６（５６Ｆ）、−１３０．４（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１２１】
（例２−３）
５００ｍＬのＰＦＡ製丸底ナスフラスコに、例２−２で得た化合物（７ａ−１ｉｉ）の１１０ｇおよびＡＫ−２２５の２２０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの３．５ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、上式（４ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、前駆体（４ａ−１ｉｉ）の１０３ｇ（収率１００％）を得た。【０１２２】
前駆体（４ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．０（５４Ｆ）、−８８．２（３Ｆ）、−８９．２（５８Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２６．５（５４Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１２３】
（例２−４）
３００ｍＬのナスフラスコに、例２−３で得た前駆体（４ａ−１ｉｉ）の１００．５ｇおよびＨ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３の４．３８ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、前駆体（４ａ−１ｉｉ）の９８％が化合物（１−３ａ−１ｉｉ）に変換していることを確認した。また、Ｈ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３のすべてが反応しており、副生物であるメタノールが生成していた。このようにして、上式（１−３ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（１−３ａ−１ｉｉ）を９７％含む組成物（Ｂ）を得た。化合物（１−３ａ−１ｉｉ）の数平均分子量は、４,９００であった。結果を表１に示す。【０１２４】
化合物（１−３ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．６（２Ｈ）、１．６（２Ｈ）、２．８（１Ｈ）、３．３（２Ｈ）、３．５（９Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（５４Ｆ）、−８７．９（３Ｆ）、−８９．３（５８Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．２（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１２５】
［例３：混合物（Ｃ）の製造］
（例３−１）
５００ｍＬの３つ口ナスフラスコに、塩化リチウムの０．９２ｇをエタノールの９１．６ｇに溶解させた。これに例１−５で得た前駆体（４ａ−１ｉ）、すなわち化合物（６ａ−１ｉ）の１２０．０ｇを加えて氷浴で冷却しながら、水素化ホウ素ナトリウムの３．７５ｇをエタノールの１１２．４ｇに溶解した溶液をゆっくり滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。ＡＫ−２２５の１００ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、下式（５ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（５ａ−１ｉ）の１１９．０ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（５ａ−１）。【０１２６】
化合物（５ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．８（１Ｈ）、４．０（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２３．７（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．８（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１２７】
（例３−２）
５００ｍＬの３つ口ナスフラスコ内にて、水素化ナトリウムの２．２６ｇをテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す。）の２２．６ｇに懸濁した。これに例３−１で得た化合物（５ａ−１ｉ）の１１８．５ｇをＡＣ−２０００（製品名、旭硝子社製）の２１２．４ｇで希釈した溶液を滴下し、さらに臭化アリルの１５．７ｇを滴下した。油浴で７０℃として５時間撹拌した。得られた反応粗液を水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、ヘキサンで３回洗浄し、下式（３Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、前駆体（３Ｈａ−１ｉ）の９９．９ｇ（収率８３％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（３Ｈａ−１）。【０１２８】
前駆体（３Ｈａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．８（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、５．９（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２０．５（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１２９】
（例３−３）
１００ｍＬのポリテトラフルオロエチレン（以下、ＰＴＦＥと記す。）製密閉式耐圧容器に、例３−２で得た前駆体（３Ｈａ−１ｉ）の４９．０ｇ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシドの０．２６ｇ、トリクロロシランの２３．７ｇおよびＨＦＥ−７３００（製品名、３Ｍ社製）の２４．５ｇを入れ、１２０℃で８時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、ＨＦＥ−７３００の５０ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液１５．０ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．０５ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、下式（１−１Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（１−１Ｈａ−１ｉ）と、下式（１−２Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（１−２Ｈａ−１ｉ）との混合物（Ｃ）の４９．５ｇ（収率９７％）を得た。化合物（１−１Ｈａ−１ｉ）と化合物（１−２Ｈａ−１ｉ）とのモル比は、ＮＭＲより９３：７であった。混合物（Ｃ）の数平均分子量は、２,９００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−１Ｈａ−１）、
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−２Ｈａ−１）。【０１３０】
化合物（１−１Ｈａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
化合物（１−２Ｈａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．１（３Ｈ）、１．８（１Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１３１】
［例４：混合物（Ｄ）の製造］
（例４−１）
５００ｍＬの３つ口ナスフラスコに、塩化リチウムの０．５７ｇをエタノールの５７．０ｇに溶解させた。これに例２−３で得た前駆体（４ａ−１ｉｉ）、すなわち化合物（６ａ−１ｉｉ）の１２８．０ｇを加えて氷浴で冷却しながら、水素化ホウ素ナトリウムの２．３３ｇをエタノールの６９．９ｇに溶解した溶液をゆっくり滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。ＡＫ−２２５の１００ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、上式（５ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（５ａ−１ｉｉ）の１２７．３ｇ（収率１００％）を得た。【０１３２】
化合物（５ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．１（１Ｈ）、４．０（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（５４Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（５８Ｆ）、−１２３．７（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．８（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１３３】
（例４−２）
５００ｍＬの３つ口ナスフラスコ内にて、水素化ナトリウムの１．４０ｇをＴＨＦの１４．０ｇに懸濁した。これに例４−１で得た化合物（５ａ−１ｉｉ）の１２７．０ｇをＡＣ−２０００の２１１．５ｇで希釈した溶液を滴下し、さらに臭化アリルの９．７１ｇを滴下した。油浴で７０℃として５時間撹拌した。得られた反応粗液を水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、ヘキサンで３回洗浄し、上式（３Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、前駆体（３Ｈａ−１ｉｉ）の１０３．４ｇ（収率８１％）を得た。【０１３４】
前駆体（３Ｈａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．８（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、５．９（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（５４Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（５８Ｆ）、−１２０．５（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１３５】
（例４−３）
１００ｍＬのＰＴＦＥ製密閉式耐圧容器に、例４−２で得た前駆体（３Ｈａ−１ｉｉ）の５１．０ｇ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシドの０．１６ｇ、トリクロロシランの１２．６ｇおよびＨＦＥ−７３００の３０．６ｇを入れ、１２０℃で８時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、ＨＦＥ−７３００の５０ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液９．１ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．０５ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、上式（１−１Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（１−１Ｈａ−１ｉｉ）と、上式（１−２Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（１−２Ｈａ−１ｉｉ）との混合物（Ｄ）の５１．１ｇ（収率９８％）を得た。化合物（１−１Ｈａ−１ｉｉ）と化合物（１−２Ｈａ−１ｉｉ）とのモル比は、ＮＭＲより９３：７であった。混合物（Ｄ）の数平均分子量は、４，９００であった。結果を表１に示す。【０１３６】
化合物（１−１Ｈａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（５４Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（５８Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
化合物（１−２Ｈａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．１（３Ｈ）、１．８（１Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（５４Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（５８Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１３７】
［例５：化合物（Ｅ）の製造］
（例５−１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１−４で得た化合物（７ａ−１ｉ）の１０．５ｇおよびＣｓＦの０．３２ｇを入れ、８０℃まで昇温しエステルの熱分解を行い、副生成物である低沸点成分を系外に除去するため、８０℃に保ったまま１０ｍｍＨｇまで減圧し、１時間保持した。一部を抜き取ってＮＭＲにて分析したところ、化合物（８ａ−１）の生成を確認した。
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）Ｆ  ・・・（８ａ−１）。【０１３８】
（例５−２）
続いて、テトラグライムの８．０ｇ、ＣｓＦの１．１２ｇをナスフラスコに添加後、窒素雰囲気下、５０℃で１時間撹拌した。５０℃に保ったまま、臭化アリルの０．８０ｇを滴下した。温度を８０℃まで昇温し、窒素雰囲気下、１２時間反応させた。反応終了後、フッ素系溶媒であるＨＦＥ−７３００と水により抽出、洗浄を行い、２層分離後の有機相を回収した。有機相に５％の水酸化ナトリウム水溶液を加え３０分間撹拌させた後、２層分離後の有機相を回収した。回収した有機相の溶媒を減圧留去し、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタに通して前駆体（３Ｆａ−１）の２．３ｇ（収率２４％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（３Ｆａ−１）。【０１３９】
前駆体（３Ｆａ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．５（２Ｈ）、５．３（２Ｈ）、５．９（２Ｈ。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８６．１（２Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２６．１（２Ｆ）、−１２６．６（３０Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１４０】
（例５−３）
２５ｍＬのナスフラスコに、例５−２で得た前駆体（３Ｆａ−１）の２．３ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．００５ｇおよびトリクロロシランの０．５５ｇを入れ、６０℃で４時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液０．７５ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．０５ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１−１Ｆａ−１）（以下、化合物（Ｅ）とも記す。）の２．０ｇ（収率８３％）を得た。化合物（Ｅ）の数平均分子量は、３，０００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−１Ｆａ−１）。【０１４１】
化合物（１−１Ｆａ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．８（２Ｈ）、３．６（９Ｈ）、４．０（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８６．２（２Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２６．１（２Ｆ）、−１２６．５（３０Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１４２】
［例６：組成物（Ｆ）の製造］
（例６−１）
還流冷却器を接続した５０ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物（１１ａ）の５．０１ｇ、メタノールの５．０６ｇを取り入れ、水酸化カリウムのペレット０．５４ｇを加えた。窒素雰囲気下、２５℃で終夜撹拌した後、塩酸水溶液を加えて、過剰の水酸化カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することで、メタノール付加体の５．１４ｇを得た。再び、還流冷却器を接続した５０ｍＬナスフラスコにメタノール付加体の１．０ｇ、水酸化カリウムのペレットの０．１３ｇを加え、１００℃に加熱しながら、化合物（１１ａ）の１０．８６ｇを滴下した。１００℃を保ったまま更に９時間撹拌した後、塩酸水溶液を加えて、過剰の水酸化カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーの１１ｇを得た。再び、ＡＫ−２２５で２倍に希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数（ｎ＋１）の平均値を１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。下式（１０ａ−２）中、（ｎ＋１）の平均値が７〜１０のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−２ｉ）の４．７６ｇを得た。
ＣＨ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＨＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）ｎ＋１−Ｈ  ・・・（１０ａ−２）。：【０１４３】
化合物（１０ａ−２ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．４（１４Ｈ）、６．０〜６．２（８Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．７〜−８７．０（１６Ｆ）、−８９．４〜−９１．６（１６Ｆ）、−１２１．５（１４Ｆ）、−１２３．４（２Ｆ）、−１２８．０（１６Ｆ）、−１４５．３（８Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：８。【０１４４】
（例６−２）
還流冷却器を接続した１００ｍＬのナスフラスコに、例６−１で得た化合物（１０ａ−２ｉ）の１１．３５ｇ、フッ化ナトリウム粉末の２．０５ｇ、ＡＫ−２２５の７８ｇを取り入れ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦの９．８２ｇを加えた。窒素雰囲気下、４０℃で２４時間撹拌した後、室温で終夜撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦとＡＫ−２２５を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、下式（９ａ−２）中、単位数（ｎ＋１）の平均値が８である、化合物（９ａ−２ｉ）の９．４８ｇ（収率７５％）を得た。
ＣＨ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＨＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）ｎ＋１−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（９ａ−２）。【０１４５】
化合物（９ａ−２ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．７（１４Ｈ）、５．２（２Ｈ）、６．７−６．９（８Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−７９．０（１Ｆ）、−８１．１（３Ｆ）、−８１．９（３Ｆ）、−８３．７〜−８５．０（１６Ｆ）、−８６．０（１Ｆ）、−８９．０〜−９２．０（１６Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２０．２（１４Ｆ）、−１２６．６（１６Ｆ）、−１２９．３（２Ｆ）、−１３１．５（１Ｆ）、−１４５．０（８Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：８。【０１４６】
（例６−３）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積５００ｍＬ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−１１３の３１２ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例６−２で得た化合物（９ａ−２ｉ）の８．４ｇをＲ−１１３の８４ｇに溶解した溶液を、３．６時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−１１３中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の９ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分撹拌した後、再びベンゼン溶液の６ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．３３ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、下式（７ａ−２）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（７ａ−２ｉ）の８．８ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（７ａ−２）。【０１４７】
化合物（７ａ−２ｉ）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８０．０（１Ｆ）、−８２．０〜−８２．５（６Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８６．７〜８７．８（３Ｆ）、−８９．３（３０Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１２６．５（３２Ｆ）、−１３０．４（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１４８】
（例６−４）
５０ｍＬのナスフラスコに、例６−３で得た化合物（７ａ−２ｉ）の８．８ｇ、フッ化ナトリウム０．９９ｇ、およびＡＫ−２２５の１０．３ｇを入れた。窒素雰囲気下、メタノールの２．１ｇを加え、５０℃で２時間撹拌した後、室温で終夜撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウムを除去した後、反応混合物をエバポレータで濃縮し、前駆体（４ａ−２）の８．５ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（４ａ−２）。【０１４９】
前駆体（４ａ−２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．０（３０Ｆ）、−８９．２（３０Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２６．５（２８Ｆ）、−１２７．８（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１５０】
（例６−５）
６ｍＬのスクリュー瓶に、例６−４で得た前駆体（４ａ−２）の２．０２ｇおよびＨ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓ（ＯＣＨ３）３の０．１８ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、前駆体（４ａ−２）の９７％が化合物（１−３ａ−２）に変換していることを確認した。また、Ｈ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３のすべてが反応しており、副生物であるメタノールが生成していた。このようにして化合物（１−３ａ−２）を９６％含む組成物（Ｆ）を得た。化合物（１−３ａ−２）の数平均分子量は、２，９００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−３ａ−２）。【０１５１】
化合物（１−３ａ−２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．６（２Ｈ）、１．６（２Ｈ）、２．８（１Ｈ）、３．３（２Ｈ）、３．５（９Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８９．３（３０Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．２（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１５２】
［例７：混合物（Ｇ）の製造］
（例７−１）
５０ｍＬの２つ口ナスフラスコ内にて、水素化アルミニウムリチウムの０．０７ｇをＴＨＦの２．７ｇに懸濁させた。氷浴で冷却しながら、例６−４で得た前駆体（４ａ−２）、すなわち化合物（６ａ−２）の６．１ｇをＡＣ−６０００（製品名、旭硝子社製）の６．０ｇで希釈した溶液をゆっくりと滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。ＡＫ−２２５の１５ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物（５ａ−２）の５．９ｇ（収率９７％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（５ａ−２）。【０１５３】
化合物（５ａ−２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．０（１Ｈ）、４．０（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８９．３（２８Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２３．７（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２８．７（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１５４】
（例７−２）
５０ｍＬの２つ口ナスフラスコ内にて、水素化ナトリウムの０．１１ｇをＴＨＦの１．１ｇに懸濁した。これに例７−１で得た化合物（５ａ−２）の５．９ｇをＡＣ−６０００の１０ｇで希釈した溶液を滴下し、さらに臭化アリルの１．１ｇを滴下した。油浴で７０℃として５時間撹拌した。ＡＫ−２２５の５ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、ヘキサンで３回洗浄し、前駆体（３Ｈａ−２）の３．８ｇ（収率６３％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（３Ｈａ−２）。【０１５５】
前駆体（３Ｈａ−２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．８（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、５．９（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８９．３（３０Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２０．５（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２８．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１５６】
（例７−３）
５０ｍＬのＰＴＦＥ製密閉式耐圧容器に、例７−２で得た前駆体（３Ｈａ−２）の３．６ｇ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシドの０．０３ｇ、トリクロロシランの１．１ｇおよびＨＦＥ−７３００の３．６ｇを入れ、１２０℃で８時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液１．０ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．０５ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１−１Ｈａ−２）と化合物（１−２Ｈａ−２）との混合物（Ｇ）の３．０ｇ（収率８１％）を得た。化合物（１−１Ｈａ−２）と化合物（１−２Ｈａ−２）とのモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。混合物（Ｇ）の数平均分子量は、４，９００であった。結果を表１に示す。【０１５７】
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−１Ｈａ−２）、
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−２Ｈａ−２）。【０１５８】
化合物（１−１Ｈａ−２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８９．３（３０Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２０．７（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２８．６（２Ｆ）。
化合物（１−２Ｈａ−２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．１（３Ｈ）、１．８（１Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８９．３（３０Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２０．７（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２８．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。【０１５９】
［例８：混合物（Ｈ）の製造］
（例８−１）
３００ｍＬのオートクレーブに、ＤＣ−１１００（製品名、日油社製、ポリエーテル）の９９．２ｇ、水酸化カリウムの１．１ｇを入れ、溶媒としてｔｅｒｔ−ブタノールの５０．４ｇを加えた。８０℃に加熱して充分に撹拌した後、下式（１５ｂ）で表される化合物（１５ｂ）の２６．１ｇを加え、８０℃で７時間反応させた。冷却した後にＡＫ−２２５の４８０ｇと混合し、希塩酸（２％）水溶液の３００ｇを加えて、撹拌した。撹拌後、ＡＫ−２２５層を回収し、溶媒を留去して、濃縮物の１１３．１ｇを得た。得られた濃縮物から超臨界抽出によって不純物を除去して精製し、下式（１４ｂ−１）で表される化合物（１４ｂ）の７５．０ｇ（収率３０．２％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２＝ＣＦ  ・・・（１５ｂ）、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｘ２＋１−Ｈ  ・・・（１４ｂ−１）。【０１６０】
化合物（１４ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．７（３３Ｈ）、３．４−３．９（７８Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．９（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８０．５（３Ｆ）、−８５．０〜−８７．５（２Ｆ）、−９０．３（２Ｆ）、−１３０．３（２Ｆ）、−１４４．９（１Ｆ）。
単位数（ｘ１−１）の平均値：１２。
単位数（ｘ２＋１）の平均値：８。【０１６１】
（例８−２）
還流冷却器を接続した２００ｍＬの３つ口フラスコに、例８−１で得た化合物（１４ｂ−１）の７４．２ｇ、フッ化ナトリウムの５．１ｇ、ＡＫ−２２５の１６０．６ｇを加え、氷浴につけて撹拌した。充分に撹拌したところで、下式（１３ｂ）で表される化合物（１３ｂ）の４８．１ｇを加え、氷浴下７時間反応させた後に、室温に戻した。反応液はフィルタでろ過した後に、溶媒を留去し、得られた濃縮物を再度ろ過し、化合物（９ｂ−１）の９９．５ｇ（収率９８．１％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦ  ・・・（１３ｂ）、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｘ２＋１−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（９ｂ−１）。【０１６２】
化合物（９ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．７（３２Ｈ）、３．４〜３．８（７６Ｈ）、４．１（２Ｈ）、４．５（２Ｈ）、５．９（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−７９〜８０．５（４Ｆ）、−８０．４〜−８３．５（１１Ｆ）、−８４．５〜−８５．５（３Ｆ）、−９０．３（２Ｆ）、−１３０．３（４Ｆ）、−１３１．９（１Ｆ）、−１４４．８（１Ｆ）−１４５．６（１Ｆ）。
単位数（ｘ１−１）の平均値：１２。
単位数（ｘ２＋１）の平均値：８。【０１６３】
（例８−３）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−１１３の７４８．０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速２．７Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例８−２で得た化合物（９ｂ−１）の２７．５ｇをＲ−１１３の５７２．６ｇに溶解した溶液を、２４時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５Ｐａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−１１３中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の１２ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。ついで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物（７ｂ−１）の４９．７ｇ（収率９３％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２＋１−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（７ｂ−１）。【０１６４】
化合物（７ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：Ｒ１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−７７．４〜−７９．０（１Ｆ）、−７９．８（３Ｆ）、−８１．５（１１Ｆ）、−８３．０ｐｐｍ（３２Ｆ）、−８４．５〜−８６．５（３Ｆ）、−８８．４（５２Ｆ）、−１２５．５（３２Ｆ）、−１２９．５（２Ｆ）、−１２９．８（２Ｆ）、−１３１．１（１Ｆ）、−１４５．４（１Ｆ）。
単位数（ｘ１−１）の平均値：１２。
単位数（ｘ２＋１）の平均値：８。【０１６５】
（例８−４）
５００ｍＬのＰＦＡ製丸底ナスフラスコに、例８−３で得た化合物（７ｂ−１）の４２．７ｇおよびＡＫ−２２５の１０６．８ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの３．５ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物（６ｂ−１）の３６．６ｇ（収率９７．１％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（６ｂ−１）。【０１６６】
化合物（６ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：Ｒ１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．８（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：Ｒ１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１．４（３Ｆ）、−８２．９（３０Ｆ）、−８４．２（２Ｆ）、−８８．５（５２Ｆ）、−１１８．８（２Ｆ）、−１２５．５（３０Ｆ）−１２９．８（２Ｆ）。
単位数（ｘ１−１）の平均値：１２。
単位数（ｘ２）の平均値：７。【０１６７】
（例８−５）
５０ｍＬの２つ口ナスフラスコに、水素化アルミニウムリチウムの０．５１ｇをＴＨＦの１０．１ｇに懸濁させた。氷浴で冷却しながら、例８−４で得た化合物（６ｂ−１）の３６．０ｇをＡＣ−６０００の４０．０ｇで希釈した溶液をゆっくりと滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。ＡＫ−２２５の１５ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、シリカゲルカラムクロマトフィによる精製により、化合物（５ｂ−１）の３．９ｇ（収率１１％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（５ｂ−１）。【０１６８】
化合物（５ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．９（１Ｈ）、３．９−４．０（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８２．０（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８５．２（２Ｆ）、−８９．５（５２Ｆ）、−１２３．７（２Ｆ）、−１２６．６（３０Ｆ）、−１３０．１（２Ｆ）。
単位数（ｘ１−１）の平均値：１２。
単位数（ｘ２）の平均値：７。【０１６９】
（例８−６）
２５ｍＬの２つ口ナスフラスコに、水素化ナトリウムの０．１０ｇをＴＨＦの１．４ｇに懸濁した。これに例８−５で得た化合物（５ｂ−１）の３．９ｇをＡＣ−６０００の７．３ｇで希釈した溶液を滴下し、さらに臭化アリルの０．５７ｇを滴下した。油浴で７０℃として５時間撹拌した。ＡＫ−２２５の５ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、ヘキサンで３回洗浄し、前駆体（３Ｈｂ−１）の２．４ｇ（収率６１％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（３Ｈｂ−１）。【０１７０】
化合物（３Ｈｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．７−３．９（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、５．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８２．１（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８４．８（２Ｆ）、−８９．５（５２Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（３０Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）。
単位数（ｘ１−１）の平均値：１２。
単位数（ｘ２）の平均値：７。【０１７１】
（例８−７）
５０ｍＬのＰＴＦＥ製密閉式耐圧容器に、例８−６で得た前駆体（３Ｈｂ−１）の２．４ｇ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシドの０．００７ｇ、トリクロロシランの１．５ｇおよびＨＦＥ−７３００の７．２ｇを入れ、１２０℃で８時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液０．８ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．０５ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１−１Ｈｂ−１）と化合物（１−２Ｈｂ−１）との混合物（Ｈ）の３．３ｇ（収率８８％）を得た。化合物（１−１Ｈｂ−１）と化合物（１−２Ｈｂ−１）とのモル比は、ＮＭＲより９３：７であった。混合物（Ｉ）の数平均分子量は、３，５００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−１Ｈｂ−１）、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１−１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−２Ｈｂ−１）。【０１７２】
化合物（１−１Ｈｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８２．１（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８５．１（２Ｆ）、−８９．５（５２Ｆ）、−１２０．４（２Ｆ）、−１２６．６（３０Ｆ）、−１３０．７（２Ｆ）。
化合物（１−２Ｈｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．１（３Ｈ）、１．７（１Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８２．１（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８５．１（２Ｆ）、−８９．５（５２Ｆ）、−１２０．４（２Ｆ）、−１２６．６（３０Ｆ）、−１３０．７（２Ｆ）。
単位数（ｘ１−１）の平均値：１２。
単位数（ｘ２）の平均値：７。【０１７３】
［例９：化合物（Ｉ）の製造］
（ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位との組み合わせからなる含フッ素エーテル化合物を、米国特許第５２５８１１０号明細書、米国特許第３８４７９７８号明細書等に記載の方法にしたがって合成した。得られた含フッ素エーテル化合物の酸フロリド（−ＣＯＦ）末端を、アルコールとの反応によってエステル化し、アミノプロピルシラン化合物を反応させて、末端を加水分解性のトリメトキシシリル基に変換し、化合物（Ｉ）を得た。【０１７４】
［例３１：混合物（Ｊ）の製造］
（例３１−１）
還流冷却器を接続した１Ｌの三口フラスコに、メタノールの３７．６１ｇを取り入れ、炭酸カリウム粉末の５４．０２ｇを加えた。窒素雰囲気下、１２０℃で撹拌しながら、例１−１で得た化合物（１１ａ）の２，４００ｇをゆっくりと滴下した。全量滴下した後、１２０℃に保ちながらさらに１時間撹拌し、加熱を止めて室温に下がるまで撹拌を続けた。塩酸水溶液を加えて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、２，４０６ｇの高粘度のオリゴマーを得た。再び、ＡＫ−２２５で２倍に希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数（ｎ＋１）の平均値を１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。上式（１０ａ−２）中、（ｎ＋１）の平均値が１３〜１６のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−２ｉｉ）の５１４．４ｇ（収率２１％）を得た。【０１７５】
化合物（１０ａ−２ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．４（２６Ｈ）、６．０〜６．２（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．７〜−８７．０（２８Ｆ）、−８９．４〜−９１．６（２８Ｆ）、−１２１．５（２６Ｆ）、−１２３．４（２Ｆ）、−１２８．０（２８Ｆ）、−１４５．３（１４Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：１４。【０１７６】
（例３１−２）
還流冷却器を接続した３００ｍＬの三口フラスコに、例３１−１で得た化合物（１０ａ−２ｉｉ）の１９２．６ｇ、フッ化ナトリウム粉末の２４．３５ｇを取り入れ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦの８０．３ｇを加えた。窒素雰囲気下、４０℃で２４時間撹拌した後、室温で終夜撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦを減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、上式（９ａ−２）中、単位数（ｎ＋１）の平均値が１４である、化合物（９ａ−２ｉｉ）の１９５．４ｇ（収率９４％）を得た。【０１７７】
化合物（９ａ−２ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．７（２６Ｈ）、５．２（２Ｈ）、６．７−６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−７９．０（１Ｆ）、−８１．１（３Ｆ）、−８１．９（３Ｆ）、−８３．７〜−８５．０（２８Ｆ）、−８６．０（１Ｆ）、−８９．０〜−９２．０（２８Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２０．２（２６Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２９．３（２Ｆ）、−１３１．５（１Ｆ）、−１４５．０（１４Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：１４。【０１７８】
（例３１−３）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＣｌＣＦ２ＣＦＣｌＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ（以下、ＣＦＥ−４１９と記す。）の７５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速３．６Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例３１−２で得た化合物（９ａ−２ｉｉ）の１０７．０ｇをＣＦＥ−４１９の３７０ｇに溶解した溶液を、１７．３時間かけて注入した。【０１７９】
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、ＣＦＥ−４１９中に０．０５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．１７ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、上式（７ａ−２）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（７ａ−２ｉｉ）の１２２．５ｇ（収率９７％）を得た。【０１８０】
化合物（７ａ−２ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８０．０（１Ｆ）、−８２．０〜−８２．５（６Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８６．７〜８７．８（３Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１２６．５（５６Ｆ）、−１３０．４（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１８１】
（例３１−４）
リービッヒ冷却管を装着した１００ｍＬの三口フラスコに、例３１−３で得た化合物（７ａ−２ｉｉ）の６０．０ｇ、およびフッ化カリウム０．１５ｇを入れた。窒素雰囲気下、８０℃で２時間撹拌した。さらに減圧にして、副生するＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｆを留去した。加圧ろ過器でフッ化カリウムを除去し、化合物（８ａ−２）の５４．６ｇ（収率９８％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）Ｆ  ・・・（８ａ−２）。【０１８２】
化合物（８ａ−２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：２４．０（１Ｆ）、−５６．２（３Ｆ）、−８４．７（５４Ｆ）、−８９．１（５４Ｆ）、−９０．１（２Ｆ）、−１１９．１（２Ｆ）、−１２６．５（５２Ｆ）、−１２７．３（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１８３】
（例３１−５）
還流冷却器を接続した１００ｍＬの三口フラスコに、例３１−４で得た化合物（８ａ−２）の５４．５ｇおよびヨウ化リチウムの２．５ｇを入れ、１８０℃にて１０時間撹拌した。反応粗液から固形分をろ別することによって、５３．２ｇの生成物を得た。これは目的とする化合物（１８ａ−１）と副生成物である化合物（２１ａ−１）（式（１）におけるＢが式（２−９）で表される化合物）との混合物であり、そのモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｉ  ・・・（１８ａ−１）。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｈ  ・・・（２１ａ−１）。【０１８４】
化合物（１８ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：６．１（０．１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−５９．８（１．８Ｆ）、−８２．０（１．８Ｆ）、−８４．７（５２Ｆ）、−８９．１（５４Ｆ）、−９０．１（２Ｆ）、−１１７．６（１．８Ｆ）、−１２６．５（５２Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１８５】
（例３１−６）
３０ｍＬのＳＵＳ製オートクレーブに、例３１−５で得た化合物（１８ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物の３０．０ｇ、アゾ系開始剤Ｖ−５９（商品名、和光純薬工業社製）の０．０５８ｇ、およびＣＦＥ−４１９の５．０ｇを入れた。反応器を密閉し、反応器内圧が−０．０９９ＭＰａ（Ｇ）になるまで脱気した後、エチレンを反応器内圧が１．５０ＭＰａ（Ｇ）になるまで圧入した。その後、８０℃にて５時間攪拌した。反応粗液からＣＦＥ−４１９と留去することによって、３０．２ｇの生成物を得た。これは目的とする化合物（１９ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物であり、そのモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２Ｉ  ・・・（１９ａ−１）。【０１８６】
化合物（１９ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．７（１．８Ｈ）、３．２（１．８Ｈ）、５．９（０．１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１１６．２（１．８Ｆ）、−１２６．５（５２Ｆ）、−１２７．６（１．８Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１８７】
（例３１−７）
還流冷却器を接続した５０ｍＬのナスフラスコに、例３１−６で得た化合物（１９ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物の２９．２ｇ、１０質量％水酸化カリウムの８．８ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１４．６ｇを入れ、８０℃にて５時間撹拌した。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、２８．２ｇの生成物を得た。これは目的とする前駆体（１６ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物であり、そのモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（１６ａ−１）。【０１８８】
前駆体（１６ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：５．７−６．０（２．８Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１１５．２（１．８Ｆ）、−１２６．５（５２Ｆ）、−１２８．１（１．８Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１８９】
（例３１−８）
５０ｍＬのＰＴＦＥ製密閉式耐圧容器に、例３１−７で得た前駆体（１６ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物の２．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．０１５ｇ、トリクロロシランの０．１３ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２．０ｇを入れ、室温で２４時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液０．７５ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．１ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１−４ａ−１）、化合物（２１ａ−１）、および副生成物である化合物（２０ａ−１）（式（１）におけるＢが式（２−７）で表される化合物）との混合物（J）の１．９ｇ（収率９３％）を得た。化合物（１−４ａ−１）、化合物（２１ａ−１）、および化合物（２０ａ−１）のモル比は、ＮＭＲより７５：１０：１５であった。混合物（Ｊ）の数平均分子量は、４,８００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−４ａ−１）、
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ３  ・・・（２０ａ−１）。【０１９０】
混合物（Ｊ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．８（１．５Ｈ）、１．１（０．４５Ｈ）、２．１（１．８Ｈ）、３．６（８．１Ｈ）、５．９（０．１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１１７．８（１．８Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．８（１．８Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１９１】
［例３２：混合物（Ｋ）の製造方法］
（例３２−１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例３２−５で得た化合物（１８ａ−１）と化合物（２１ａ−１）の混合物の１０．０ｇ、アゾ系開始剤Ｖ−６０（商品名、和光純薬工業社製）の０．０１５ｇ、アリルトリブチルスズの３．７３ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１０．０ｇを入れ、９０℃にて６時間攪拌した。反応粗液をヘキサンで３回、アセトンで３回洗浄し、下層を回収した。回収した下層をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮することによって、９．０ｇの生成物を得た。これは目的とする前駆体（１７ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物であり、そのモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（１７ａ−１）。【０１９２】
前駆体（１７ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．８（１．８Ｈ）、５．３（１．８Ｈ）、５．８−５．９（１．０Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１１４．４（１．８Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．４（１．８Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１９３】
（例３２−２）
５０ｍＬのＰＴＦＥ製密閉式耐圧容器に、例３２−１で得た前駆体（１７ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物の２．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．０１１ｇ、トリメトキシシランの０．５３ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２．０ｇを入れ、８０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．１ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１−５ａ−１）と化合物（２１ａ−１）との混合物（Ｋ）の２．０ｇ（収率９８％）を得た。化合物（１−５ａ−１）および化合物（２１ａ−１）のモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。混合物（Ｋ）の数平均分子量は、４，８００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１−５ａ−１）。【０１９４】
混合物（Ｋ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（１．８Ｈ）、１．７（１．８Ｈ）、２．１（１．８Ｈ）、３．６（８．１Ｈ）、５．９（０．１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１１５．５（１．８Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．８（１．８Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。【０１９５】
［例１１〜１９、例４１〜４２：表面処理層を有する基材の製造および評価］
例１〜９および例３１〜３２で得られた各化合物、混合物または組成物を用いて基材の表面処理を行い、例１１〜１９および例４１〜４２とした。各例について下記のドライコーティング法とウェットコーティング法とをそれぞれ用いて表面処理層を有する基材を製造した。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた表面処理層を有する基材について、下記の方法で評価した。結果を表２に示す。【０１９６】
（ドライコーティング法）
ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ−３５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。例１〜９および例３１〜３２で得られた各化合物、混合物または組成物の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０−３Ｐａ以下に排気した。化合物、混合物または組成物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒をこえた時点でシャッターを開けて基材の表面への成膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への成膜を終了させた。化合物、混合物または組成物が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、その後、含フッ素溶媒であるＡＫ−２２５（製品名、旭硝子社製）にて洗浄することにより、表面処理層を有する基材を得た。【０１９７】
（ウェットコーティング法）
例１〜９および例３１〜３２で得られた各化合物、混合物または組成物と、媒体としてのノベック−７２００（製品名、３Ｍ社製）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。基材を該コーティング液にディッピングし（ディップコート法）、３０分間放置後、基材を引き上げた。基材を２００℃で３０分間乾燥させ、含フッ素溶媒であるＡＫ−２２５（製品名、旭硝子社製）にて洗浄することにより、表面処理層を有する基材を得た。【０１９８】
（評価方法）
＜水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角の測定方法＞
表面処理層を有する基材の、表面処理された表面に置いた、約２μＬの蒸留水あるいはｎ−ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置ＤＭ−５００（協和界面科学社製）を用いて測定した。基材の表面処理された面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。【０１９９】
＜初期の水およびｎ−ヘキサデカン接触角＞
ドライコーティング法およびウェットコーティング法でそれぞれ表面処理した基材（表面処理層を有する基材）について、初期の水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。【０２００】
＜耐摩擦性＞
例１１〜１９で製造した表面処理層を有する基材について、ＪＩＳ  Ｌ  ０８４９に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：旭化成社製）を荷重１ｋｇで１０万回往復させた後、水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角を測定した。
摩擦回数を増大させたときの撥水性（水接触角）および撥油性（ｎ−ヘキサデカン接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。【０２０１】
＜指紋汚れ除去性＞
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（ベンコットＭ−３：旭化成社製）にて拭き取ることによって、指紋のスタンプを準備した。該指紋スタンプを例１１〜１９および例４１〜４２で製造した表面処理層を有する基材上に乗せ、１Ｋｇの荷重にて１０秒間押しつけた。この時に、指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータ（東洋精機社製）にて測定した。この時の値を初期値とした。次に、指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパを取り付けた、往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重５００ｇにて拭き取りを行った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、１０往復拭き取るまでの間に、ヘーズが目視で確認できない数値に達したら合格とした。【０２０２】
【表１】
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【０２０３】
【表２】
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【０２０４】
表２の結果に示されるように、本化合物を用いた例１１〜１８および例４１〜４２の表面処理層を有する基材は、初期の水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角に優れ、特にドライコーティング法で形成した表面処理層を有する基材は、１０万回摩擦したときでも、接触角の低下が小さかった。単位（α）と単位（β）とからなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する本化合物は、基材の表面に良好な初期の撥水撥油性を付与できるとともに、指紋汚れ除去性が良好で、耐摩擦性に優れ、繰り返し摩擦によっても撥水撥油性が低下しにくく、効率的に製造が可能であることが確認できた。【０２０５】
例１１および例１２の結果から、数平均分子量が高い本化合物を用いた例１２の方が、接触角の低下がより小さいことが確認された。
（ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とからなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物を用いた例１９の表面処理層を有する基材は、初期の水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角がやや劣り、ドライコーティング法で形成した表面処理層を有する基材は、摩擦による接触角の低下が大きかった。
【産業上の利用可能性】
【０２０６】
本発明の含フッ素エーテル化合物は、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材等の基材の表面に撥水撥油性を付与する表面処理に好適に用いることができる。
なお、２０１２年２月１７日に出願された日本特許出願２０１２−０３２７８６号および２０１２年１０月９日に出願された日本特許出願２０１２−２２４２６３号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【国際調査報告】
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