(57)【要約】静電噴霧法を用いて有機薄膜を成膜する静電スプレー装置において、成膜する膜の均一性の保持と下地層との層混合の抑制とを図りつつ、生産性を向上する。静電スプレー装置１は、有機材料からなる帯電微粒子１３が分散したエアロゾル１２を生成するエアロゾル生成手段と、エアロゾル生成手段により生成したエアロゾルを貯留するチャンバー１０と、一端部がチャンバーに接続された搬送路２０と、搬送路の他端部に設けられたノズル３０と、キャリアガスを送出し、チャンバーから搬送路を経てノズルにエアロゾルを搬送する搬送手段と、基材２を支持し、帯電微粒子の電位との間に電位差をもって基材を保持する支持手段とを備えて構成される。
2013105445.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電噴霧法を用いて有機薄膜を基材上に成膜する静電スプレー装置において、
有機材料を含む帯電した微粒子が分散したエアロゾルを生成するエアロゾル生成手段と、
前記エアロゾル生成手段により生成したエアロゾルを貯留するチャンバーと、
一端部が前記チャンバーに接続された搬送路と、
前記搬送路の他端部に設けられたノズルと、
前記チャンバーから前記搬送路を経て前記ノズルに前記エアロゾルを搬送する搬送手段と、
前記基材を支持し、前記微粒子の電位との間に電位差をもって前記基材を保持する支持手段と、を備え、
前記ノズルにより噴霧されるエアロゾル中の微粒子を静電引力により前記基材に引き付け前記有機薄膜を成膜することを特徴とする静電スプレー装置。
【請求項２】
前記チャンバー内に前記エアロゾル生成手段を複数有することを特徴とする請求項１に記載の静電スプレー装置。
【請求項３】
前記エアロゾル生成手段、前記チャンバー及び前記一端部を複数組有し、前記搬送路は、各組の前記一端部から前記他端部に至る間に合流させる合流部を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の静電スプレー装置。
【請求項４】
前記搬送路に電圧を印加し前記搬送路の前記微粒子を搬送する面を前記微粒子と同電荷に帯電させる電圧印加手段を備えることを特徴とする請求項１から請求項３の何れか一項に記載の静電スプレー装置。
【請求項５】
前記基材は電圧が印加されたステージに保持されていることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか１項に記載の静電スプレー装置。
【請求項６】
少なくとも前記基材または前記ノズルの一方を相対的に移動させる移動手段を備えることを特徴とする請求項１から請求項５の何れか１項に記載の静電スプレー装置。
【請求項７】
前記基材が帯状基材であることを特徴とする請求項１から請求項６の何れか１項に記載の静電スプレー装置。
【請求項８】
前記有機薄膜が有機エレクトロルミネッセンス素子の有機薄膜であることを特徴とする請求項１から請求項７の何れか１項に記載の静電スプレー装置。
【請求項９】
前記有機エレクトロルミネッセンス素子の有機薄膜が発光層であることを特徴とする請求項８に記載の静電スプレー装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電噴霧法を用いて有機薄膜を成膜する静電スプレー装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子や有機薄膜太陽電池等の複数の有機薄膜の製造方法としては、蒸着法、ウェットプロセス（スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、スプレー法、印刷法）等があるが、真空プロセスを必要とせず、連続生産が簡便であるという理由で近年はウェットプロセスにおける製造方法が注目されている。
しかしながら、ウェットプロセスで作製した有機ＥＬ素子は、蒸着法により作製した有機ＥＬ素子に比べて素子性能、特に寿命に関して十分な性能が出ないことが一般的に知られている。
複数の有機薄膜をウェットプロセスで製造する場合は、溶剤により積層時に下地（下層）を溶かしてしまう、又は溶媒が下地に浸透してしまうため層混合が起きてしまう問題があり、これらは性能が不十分な要因の一つとなる。この問題を起こさない一つの手段として、積層時に下地を溶解させない溶剤を選択することが考えられるが、当該下地を溶解させない溶剤への有機材料の溶解性を確保することは、材料設計上大きな制約条件となっているのが実情である。
この為、溶剤による影響が少なく、非真空中で大面積の成膜が可能な方法が待ち望まれている。このような技術的要請に応えるために、静電噴霧法に着目することができる。【０００３】
特許文献１及び２に静電噴霧法による技術が記載されている。
静電噴霧法によれば、生成されるエアロゾル中の微粒子径を１μｍ以下まで小さくすることができる。その微粒子を吐出するノズル１つ当たりの噴霧量には限界があるので、大面積を短いタクトタイムで成膜するには、特許文献２に記載されるようにノズルを複数設けることが考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−０３４４２号公報
【特許文献２】特開２０１１−１８１２７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、ノズルを複数設けた場合には、１のノズルによって微粒子が与えられる領域と、隣接する他のノズルによって微粒子が与えられる領域と、その両者が重なる領域とで、堆積量が変化し、膜厚、膜質の不均一の問題が生じる。
また、エアロゾルの原料となる溶液の供給量を多くすると、微粒化が間に合わず、液が垂れてしまう、エアロゾル中の微粒子径が十分に小さくならないなどの問題が発生する。
さらに、タクトタイムを早めるためにノズルを基材に近づけると、十分に溶質が微粒化されず、さらには溶媒の揮発が不十分となるために、層混合が発生し、性能劣化の要因となる。【０００６】
本発明は以上の従来技術における問題に鑑みてなされたものであって、静電噴霧法を用いて有機薄膜を成膜する静電スプレー装置において、成膜する膜の均一性の保持と下地層との層混合の抑制とを図りつつ、生産性を向上することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
以上の課題を解決するための請求項１記載の発明は、静電噴霧法を用いて有機薄膜を基材上に成膜する静電スプレー装置において、
有機材料を含む帯電した微粒子が分散したエアロゾルを生成するエアロゾル生成手段と、
前記エアロゾル生成手段により生成したエアロゾルを貯留するチャンバーと、
一端部が前記チャンバーに接続された搬送路と、
前記搬送路の他端部に設けられたノズルと、
前記チャンバーから前記搬送路を経て前記ノズルに前記エアロゾルを搬送する搬送手段と、
前記基材を支持し、前記微粒子の電位との間に電位差をもって前記基材を保持する支持手段と、を備え、
前記ノズルにより噴霧されるエアロゾル中の微粒子を静電引力により前記基材に引き付け前記有機薄膜を成膜することを特徴とする静電スプレー装置である。【０００８】
請求項２記載の発明は、前記チャンバー内に前記エアロゾル生成手段を複数有することを特徴とする請求項１に記載の静電スプレー装置である。【０００９】
請求項３記載の発明は、前記エアロゾル生成手段、前記チャンバー及び前記一端部を複数組有し、前記搬送路は、各組の前記一端部から前記他端部に至る間に合流させる合流部を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の静電スプレー装置である。【００１０】
請求項４記載の発明は、前記搬送路に電圧を印加し前記搬送路の前記微粒子を搬送する面を前記微粒子と同電荷に帯電させる電圧印加手段を備えることを特徴とする請求項１から請求項３の何れか一項に記載の静電スプレー装置である。【００１１】
請求項５の発明は、前記基材は電圧が印加されたステージに保持されていることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか１項に記載の静電スプレー装置置である。【００１２】
請求項６の発明は、少なくとも前記基材または前記ノズルの一方を相対的に移動させる移動手段を備えることを特徴とする請求項１から請求項５の何れか１項に記載の静電スプレー装置である。【００１３】
請求項７の発明は、前記基材が帯状基材であることを特徴とする請求項１から請求項６の何れか１項に記載の静電スプレー装置である。【００１４】
請求項８の発明は、前記有機薄膜が有機エレクトロルミネッセンス素子の有機薄膜であることを特徴とする請求項１から請求項７の何れか１項に記載の静電スプレー装置である。【００１５】
請求項９の発明は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の有機薄膜が発光層であることを特徴とする請求項８に記載の静電スプレー装置である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、基材に噴霧するノズルの上流において、帯電し微粒化した有機材料がチャンバー内に貯留され、これをノズルへ搬送するので、液だれさせることなく大量にノズルに供給することができ、溶質の微粒化、溶媒の揮発化をノズルと基材との間の空間に求める必要がないためにノズルと基材とを近づけることが可能であり、従って基材上で有機材料の成膜面積、成膜速度を増大させて生産性を向上することができる。
特に、複数組のエアロゾル生成手段及びチャンバーを設けることにより、エアロゾルを大量に生成し供給することができ、またこの場合に、エアロゾルを複数のチャンバーから合流させて共通のノズルに搬送して噴霧するので、ノズルを複数設けた場合に生じる膜厚、膜質の不均一の問題が生じない。
以上のようにして本発明によれば、成膜する膜の均一性の保持と下地層との層混合の抑制とを図りつつ、生産性を向上することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態に係る静電スプレー装置を示す構成模式図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る静電スプレー装置のノズルを含む部分の斜視図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る静電スプレー装置の変形例を示す構成模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に本発明の一実施形態につき図面を参照して説明する。以下は本発明の一実施形態であって本発明を限定するものではない。
【００１９】
まず、本発明の一実施形態につき図１及び図２を参照して説明する。
本実施形態の静電スプレー装置１は、以下に説明する構成により静電噴霧法を用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層となる有機薄膜を基材２上に成膜する装置である。
静電スプレー装置１は、エアロゾル生成装置が装備されたチャンバー１０と、搬送路２０と、ノズル３０と、搬送装置４０と、基材支持移動装置５０とを備える。
【００２０】
チャンバー１０内に、有機材料が溶解した溶液１１と、溶液１１を原料として生成されたエアロゾル１２と、エアロゾル１２に含まれる帯電微粒子１３とを模式的に示した。微粒子１３は、溶液１１内で溶質として溶解している有機材料及び溶媒からなる。帯電微粒子１３は帯電し微粒化されてエアロゾル１２内に分散して存在する。
【００２１】
このようなエアロゾル１２を生成するエアロゾル生成装置としては、特に限定されるものではなく、利用できる技術を選択して実施すればよい。例えば、超音波霧化現象を利用した装置が知られており、これを適用することができる。その場合、チャンバー１０の底部に取り付けた超音波振動子により溶液１１を超音波振動させ、溶液１１の液面からエアロゾル１２を発生させる。このとき、溶液１１の液面に高電圧を印加する静電霧化装置や、溶液１１の液面上に側部からイオンキャリアガスを供給する超音波霧化式イオナイザーを適用することができる。後者の場合、イオンキャリアガスによってエアロゾル１２をノズル３０方向へ搬送できるので、イオンキャリアガスを供給する装置を搬送装置４０とすることができる。
また、既存の静電スプレー装置に慣用されているように、ノズルにより溶液１１を噴霧するものも適用できる。この場合、ノズルの吐出口をチャンバー１０内に配置することでエアロゾル１２をチャンバー１０内に貯留する。そのノズルは１つのチャンバー１０につき複数設けてもよい。なお、エアロゾルの生成にノズルを用いる場合は図１に示した構成に拘わらず、溶液１１の貯留部はチャンバー１０内である必要はなく、チャンバー１０の外側にエアロゾル生成装置を装備すれば足りる。また、エアロゾルの生成にノズルを用いる場合、帯電させるための電圧をノズルに印加する方式、溶液１１に印加する方式、エアロゾル１２に印加する方式のいずれでも問わず、周知の方式を選択して実施することができる。
【００２２】
搬送装置４０は、キャリアガスが充填されたガスタンク４１と、コンプレッサー４２と、バルブ４３等を備えて構成され、チャンバー１０内のエアロゾル１２が貯留される内部空間にキャリアガス４４を送出する。
キャリアガス４４としては、窒素、アルゴン、ヘリウム、空気等のガスを用いることができる。
搬送路２０は配管によって構成される。搬送路２０の一端部はチャンバー１０に接続されおり、搬送装置４０から送出されるキャリアガス４４によって、チャンバー１０から搬送路２０を経てノズル３０にエアロゾル１２を搬送する。
【００２３】
図１に示すように、エアロゾル生成装置が装備されたチャンバー１０と、搬送装置４０と、チャンバー１０に接続する搬送路２０の一端部２１とを含む装置構成Ａは、複数設けられる。
搬送路２０は、それぞれチャンバー１０，１０・・・に接続されている一端部２１，２１・・・を合流させる合流部２２を有し、合流部２２を経て他端部２３に至る。他端部２３にはノズル３０が設けられている。したがって、各チャンバー１０，１０・・・から供給されたエアロゾル１２は合流してすべてノズル３０に供給され、ノズル３０から噴霧される。
【００２４】
図１及び図２によって示しように、ノズル３０は、エアロゾル１２を一旦貯留する流路断面一様の貯留部３１と、貯留部３１に連続し吐出口３３に向って流路断面積を縮減する縮減部３２と、吐出口３３と同一平面上に底面が配置されたツバ状の抑制部材３４とを備える。ツバ状の抑制部材３４は、無くてもよいが、基材２が搬送される際に発生する同伴エアーによりエアロゾルが流されて飛散することを抑制でき、付着効率が増加するため備えた方が好ましい。
吐出口３３は、長尺矩形状に形成されており、基材２の走査方向に直交する幅方向に延在するように配置され、成膜する幅が大きく取られている。
このような吐出口３３内の位置によらず、均一にエアロゾル１２が吐出されるように、貯留部３１が設けられている。搬送路２０の他端部２３は貯留部３１の両側部に接続され、搬送路２０を通って搬送されたエアロゾル１２は、吐出口３３方向に直交する両側部から貯留部３１に流入することで、ノズル３０内の空間全体に均一に充填され、吐出口３３から吐出される。これにより、吐出口３３内の位置によらず、均一にエアロゾル１２が吐出される。
【００２５】
基材支持移動装置５０は、基材２を支持するステージ５１を有する。また、基材支持移動装置５０は、帯電微粒子１３に基材２への静電引力を付加するために、帯電微粒子１３の電位との間に電位差をもって基材２を保持する手段を有する。その手段としては、ステージ５１の基材２が接触する載置面をアースに接続する構成や、図１の電圧印加手段５２で示すように、同載置面に帯電微粒子１３と逆符号の電圧を印加する構成を適用できる。なお、電圧印加手段２４及び電圧印加手段５２は、帯電微粒子１３が正に帯電する場合を例に図示した。
さらに、基材支持移動装置５０は、ステージ５１の移動機構を有する。かかる移動機構の一つの移動軸は、ノズル３０の吐出方向及び吐出口３３の長手方向に直交する方向とされ、ステージ５１上に載置された基材２を走査する。なお、この走査は、ノズル３０と基材２との相対的移動で実現できるから、ノズル３０を移動させる構成としても勿論実施できる。
ノズル３０の吐出口３３に至った帯電微粒子１３は、エアロゾル１２及びキャリアガス４４によるガス圧等に加え、基材２との電位差に起因した静電引力により、基材２に向って飛翔し、基材２表面に付着し堆積して膜を形成する。
また、基材２に付着しなかったエアロゾル１２を回収する機構を、ノズル吐出口３３の周辺に設置しても良い。
以上のようにして静電スプレー装置１は、有機薄膜を成膜する。
成膜工程において吐出口３３に対して基材２が移動することにより、吐出口３３から吐出された帯電微粒子１３が基材２の移動方向に引かれて流れても、抑制部材３４によって帯電微粒子１３の飛散を抑制し、効率よく帯電微粒子１３が基材２に付着するように誘導することができる。
【００２６】
チャンバー１０、搬送路２０及びノズル３０は、帯電微粒子１３が付着しないように、帯電微粒子１３と同電荷に帯電させることが好ましい。静電斥力により帯電微粒子１３が付着することが防止され、高収率に帯電微粒子１３を吐出口３３まで搬送することができる。
そのために、一つには、チャンバー１０、搬送路２０及びノズル３０の構成材料として非導電性材料を用いることが有効である。この場合、初期的にはチャンバー１０、搬送路２０及びノズル３０の表面に帯電微粒子１３が付着してしまう。しかし、付着した帯電微粒子１３によって同表面は瞬時に帯電微粒子１３と同一の極に帯電し、その後帯電微粒子１３は静電斥力により付着しなくなる。その非導電性材料としては、帯電し易くするという観点から、合成樹脂、エラストマー等であることが好ましく、例えば、アクリル、塩化ビニール、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリエステル、ゴム、テフロン（登録商標）、セロファン、セルロイド、などが挙げられる。
また、チャンバー１０、搬送路２０及びノズル３０を、金属基材を誘電体で被覆したもので構成することも有効である。この場合、図１に示すような電圧印加手段２４で金属基材に電圧を印加することで誘電体を帯電させることができ、電圧値を変えることで帯電量を制御できるので好ましい。帯電量を制御することで、帯電微粒子１３を分級することができる。例えば、搬送路２０の帯電が小さい場合、帯電微粒子１３に働く斥力が小さい。そのため、径の小さい帯電微粒子１３は搬送路に接触しないが、径の大きな帯電微粒子１３は接触し、基板２まで径の大きな帯電微粒子１３は搬送されず更に均一な薄膜が得られる。大きな帯電微粒子１３も成膜に使用したい場合は帯電量を大きくすればよく、得たい膜質により便宜搬送路２０の帯電量を選択すればよい。誘電体としては、Ａｌ２Ｏ３セラミックスを溶射後、アルコキシシランで封孔処理したものが挙げられる。金属基材には、銀、白金、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属を用いることができる。ステンレスは加工し易く好ましく用いることができる。誘電体としては、ケイ酸塩系ガラス・ホウ酸塩系ガラス・リン酸塩系ガラス・ゲルマン酸塩系ガラス・亜テルル酸塩ガラス・アルミン酸塩ガラス・バナジン酸塩ガラス等を用いることができる。この中でもホウ酸塩系ガラスが加工し易い。
また、気密性の高い高耐熱性のセラミックスを焼結したセラミックスを用いることも好ましい。セラミックスの厚みは、印加する電圧に耐えうる範囲でよく、０．１ｍｍ以上、更には０．３ｍｍ以上であることが好ましい。セラミックスの材質としては例えばアルミナ系、ジルコニア系、窒化珪素系、炭化珪素系のセラミックスが挙げられるが、中でもアルミナ系のセラミックスが好ましく、アルミナ系のセラミックスの中でも特にＡｌ２Ｏ３を用いるのが好ましい。
セラミックスは、無機質材料で封孔処理されているのが好ましく、これにより金属基材の耐久性を向上させることができる。封孔処理はセラミックスに封孔剤である金属アルコキシドを主原料とするゾルをセラミックス上に塗布した後に、ゲル化させて硬化させることで、強固な３次元結合を形成させ均一な構造を有する金属酸化物によって、セラミックスの封孔処理をすることができる。また、ゾルゲル反応を促進するためにエネルギー処理を行うことが好ましい。ゾルにエネルギー処理をすることによって、金属−酸素−金属の３次元結合を促進することができる。エネルギー処理には、プラズマ処理や、２００℃以下の加熱処理、ＵＶ処理が好ましい。
【００２７】
また、チャンバー１０、搬送路２０及びノズル３０の構成材料に、ヒーターを付設してもよい。例えば、チャンバー１０、搬送路２０及びノズル３０の構成材料の外側を覆うように、ヒーターを付設する。このヒーターよって、搬送されるエアロゾル１２の温度を溶媒が気化するための最適値に保ち、溶媒を除去することを搬送中に促進することができ、更に帯電微粒子１３の径を小さくすることができる。また、基材２に帯電微粒子１３が付着した際に、瞬時に溶媒が除去され、層混合を抑制することができる。温度は、用いる溶媒の揮発しやすさに応じて設定する。更に、エアロゾル生成装置とチャンバー１０を複数用い、それぞれのチャンバー１０で生成されるエアロゾル１２を搬送路２０で合流させても良いし、合流チャンバーを用意し、合流させてからノズル３０に搬送させても良い。複数のエアロゾル生成装置とチャンバーを利用して、各エアロゾル生成装置に溶質・溶質比率・濃度の異なる原料液を供給することで、もしくは時間によって各ノズルの噴霧量を変化させることで、膜質を制御することができる。例えば、有機エレクトロルミネッセンスでの発光層に於いて、ドーパントとホストの割合を容易に調整できる。更に、それぞれの層の材料を溶解させた塗布液を用意し、層混合させたい割合に応じて、溶質濃度またはエアロゾル生成量を調整し、搬送路で合流させ塗布することで、層混合量を調整することもできる。
なお、微粒子の粒径については特に制限はないが、チャンバー内で生成するエアロゾルの微粒子径は一般的には、０．１〜１００μｍ程度であるのが好ましく、０．１〜１０μｍ程度であるのがより好ましく、更には０．１〜１μｍであることが好ましい。
また、ノズル吐出口３３から基材２に噴出されるエアロゾルの微粒子径は、０．１〜１０μｍ程度であるのがより好ましく、０．０１〜１μｍであることが好ましい。
【００２８】
また、成膜工程において収率を上げる観点から、基材２からノズル３０方向への上昇気流を抑制するために、ノズル３０から吐出されるガス温度より低い温度に、基材２を保つことが好ましい。例えば、上述のようにチャンバー１０、搬送路２０及びノズル３０を温める場合に、その温度より低い温度にステージ５１に付設した調温装置によって調温する。
また、ノズル３０のエアロゾル吐出口と基材との距離については特に制限はないが、収率を上げる観点から、距離が近い方が好ましい。好ましい距離としは、０．１〜１０ｍｍ、更に好ましくは０．５〜５ｍｍである。搬送路２０を設けているため、搬送路でエアロゾルの溶媒を除去できるため、ノズル３０のエアロゾル吐出口を基材に近づけても層混合を起こさない。
また、更に広範囲で成膜する場合、ノズル３０を基材２の搬送方向に対し、垂直の方向に並べても良い。更に生産性を向上させるために、基材２の搬送方向にノズル３０を並べても良い。エアロゾル生成部（Ａ）とエアロゾル吐出部（ノズル３０）を別にし、搬送路２０でつなぐことで、また、スリット状のノズル吐出口３３にすることで、エアロゾル吐出部を小型化できるため、基材２の巾手、長手に並べることが容易にできる。
【００２９】
基材支持移動装置５０としては、以上説明したステージ形態のものに代えて、図３に示す静電スプレー装置１Ａのようにローラー搬送装置５０Ａを適用することができる。
ローラー搬送装置５０Ａは、少なくとも一つの駆動ローラーを含むローラー５３，５３・・・にベルト状の基材２（帯状基材）を巻回保持した周知の構成のものである。少なくとも一つのローラー５３を、円筒状に形成した金属基材とその外周面を被覆する誘電体で構成し、金属基材に電圧を印加し、誘電体を基材２に接触させることで基材２を帯電させる。その帯電用のローラー５３に適用する金属基材及び誘電体としては、上述したチャンバー１０、搬送路２０及びノズル３０の構成材料と同様の材料を適用できる。
また、基材に付着する有機溶媒を低減することができるため、塗布後の乾燥プロセスの負荷を低減できる。更に、下層を溶解させず塗布できることから、同じ層を同じ溶媒・材料で逐次塗布できるため、所望の膜厚になるまで逐次塗布することで、膜中の溶媒も除去しやすくなり、品質の向上も図られる。尚、同じ層を逐次塗布する場合は、１回の塗布で乾燥後の膜厚が１〜３０ｎｍが好ましく、更には１０〜２０ｎｍが好ましい。
【００３０】
以上説明した実施形態の静電スプレー装置により、複数のチャンバー１０，１０、・・・内にエアロゾル１２を生成し、さらに帯電微粒子１３の微粒化及び溶媒の揮発化、並びにチャンバー１０、搬送路２０、ノズル３０への帯電微粒子１３の付着防止を図りつつ搬送路２０を通して搬送し、ノズル３０から大量に基材２に有機材料からなる帯電微粒子１３を与え、溶媒が揮発したことによって層混合を抑止しつつ、大面積の有機薄膜を高効率に成膜することができ、有機エレクトロルミネッセンス素子の生産性を向上することができる。なお、有機薄膜太陽電池等の有機薄膜を有したデバイスの製造に適用することができる。
【００３１】
〔溶媒〕
次に、本発明に係る微粒子に作製に用いられる溶媒について詳細に説明する。
本発明に係る有機材料を溶解または分散する液媒体としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系炭化水素系溶媒や、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、などのエーテル系溶媒、メタノールや、エタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、オクタン、デカン等のパラフィン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ等の溶媒が挙げられる。
更には、微粒子径を制御するために、上記の溶媒の中から蒸気圧の異なる溶媒を2種類以上混合した溶液を溶媒として用いることが好ましい。更には、微粒子が基材に付着した際の微粒子の濡れ性の制御及び、膜厚の均一性や平滑性を向上させるために、表面張力の異なる溶媒を２種類以上を混合した溶液を溶媒に用いることが好ましい。
〔有機材料〕
次に、本発明に係る微粒子に作製に用いられる有機材料について詳細に説明する。
本発明に係る有機薄膜を形成する有機材料は、大きくは高分子、低分子がある。
低分子とは、重量平均分子量で、５０００以下のものを指し、低分子として好ましく用いられるのは３０００以下、更に好ましくは２０００以下のものである。高分子とは、５０００より大きいものを指す。
なお、低分子材料を塗布する場合は、高分子材料と異なり、下層を溶解させない溶媒を用いても、低分子、すなわち分子が小さいがゆえに、下層へ溶媒が浸透するとともに低分子材料も浸透し、層混合を起こしやすく、性能劣化の原因となる。
【００３２】
〔有機ＥＬ素子(有機エレクトロルミネッセンス素子〕
次に、有機エレクトロルミネッセンス素子につき説明する。
有機エレクトロルミネッセンス素子は、発光する化合物を含有する発光層を、陰極と陽極で挟んだ構成を有し、発光層に電子及び正孔を注入して、再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出（蛍光・燐光）を利用して発光する素子のことである。有機ＥＬ素子の層構成の好ましい具体例を以下に示す。
【００３３】
（ｉ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
（ii）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（iii）陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極
（iv）陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層／陰極
（ｖ）陽極／陽極バッファー層／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層／陰極
ここで、発光層は、少なくとも発光色の異なる２種以上の発光材料を含有していることが好ましく、単層でも複数の発光層からなる発光層ユニットを形成していてもよい。また、正孔輸送層には正孔注入層、電子阻止層も含まれる。
【００３４】
《発光層》
本発明に係る発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。
【００３５】
本発明に係る発光層は、含まれる発光材料が前記要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。
【００３６】
また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。
【００３７】
各発光層間には非発光性の中間層を有していることが好ましい。
【００３８】
本発明における発光層の膜厚の総和は１〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、より低い駆動電圧を得ることができることから３０ｎｍ以下である。なお、本発明でいうところの発光層の膜厚の総和とは、発光層間に非発光性の中間層が存在する場合には、当該中間層も含む膜厚である。
【００３９】
個々の発光層の膜厚としては１〜５０ｎｍの範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは１〜２０ｎｍの範囲に調整することである。青、緑、赤の各発光層の膜厚の関係については、特に制限はない。
【００４０】
発光層の作製には、後述する発光材料やホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、インクジェット法等の公知の薄膜化法により製膜して形成することができる。
【００４１】
本発明においては、各発光層には複数の発光材料を混合してもよく、また燐光発光材料と蛍光発光材料を同一発光層中に混合して用いてもよい。
【００４２】
本発明においては、発光層の構成として、ホスト化合物、発光材料（発光ドーパント化合物ともいう）を含有し、発光材料より発光させることが好ましい。
【００４３】
本発明に係る有機ＥＬ素子の発光層に含有されるホスト化合物としては、室温（２５℃）における燐光発光の燐光量子収率が０．１未満の化合物が好ましい。更に好ましくは燐光量子収率が０．０１未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での体積比が５０％以上であることが好ましい。
【００４４】
ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、または複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子を高効率化することができる。また、後述する発光材料を複数種用いることで異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。
【００４５】
本発明に用いられるホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性発光ホスト）でもいい。
【００４６】
公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ発光の長波長化を防ぎ、なお且つ高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。ここで、ガラス転移点（Ｔｇ）とは、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｒｙ：示差走査熱量法）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１に準拠した方法により求められる値である。
【００４７】
公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が挙げられる。例えば、特開２００１−２５７０７６号公報、同２００２−３０８８５５号公報、同２００１−３１３１７９号公報、同２００２−３１９４９１号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−３３４７８６号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−３３４７８７号公報、同２００２−１５８７１号公報、同２００２−３３４７８８号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−３３４７８９号公報、同２００２−７５６４５号公報、同２００２−３３８５７９号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３４３５６８号公報、同２００２−１４１１７３号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２０３６８３号公報、同２００２−３６３２２７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００３−３１６５号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００３−２７０４８号公報、同２００２−２５５９３４号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−２８０１８３号公報、同２００２−２９９０６０号公報、同２００２−３０２５１６号公報、同２００２−３０５０８３号公報、同２００２−３０５０８４号公報、同２００２−３０８８３７号公報等が挙げられる。
【００４８】
次に、発光材料について説明する。
【００４９】
本発明に係る発光材料としては、蛍光性化合物、燐光発光材料（燐光性化合物、燐光発光性化合物等ともいう）を用いる。
【００５０】
本発明において、燐光発光材料とは励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温（２５℃）にて燐光発光する化合物であり、燐光量子収率が２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましい燐光量子収率は０．１以上である。
【００５１】
上記燐光量子収率は第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中での燐光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明において燐光発光材料を用いる場合、任意の溶媒のいずれかにおいて上記燐光量子収率（０．０１以上）が達成されればよい。
【００５２】
燐光発光材料の発光は原理としては２種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーを燐光発光材料に移動させることで燐光発光材料からの発光を得るというエネルギー移動型、もう一つは燐光発光材料がキャリアトラップとなり、燐光発光材料上でキャリアの再結合が起こり燐光発光材料からの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、いずれの場合においても、燐光発光材料の励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。
【００５３】
燐光発光材料は、有機ＥＬ素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、好ましくは元素の周期表で８〜１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、更に好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、または白金化合物（白金錯体系化合物）、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。
【００５４】
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子には、蛍光発光体を用いることもできる。蛍光発光体（蛍光性ドーパント）の代表例としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
【００５５】
また、従来公知のドーパントも本発明に用いることができ、例えば、国際公開第００／７０６５５号パンフレット、特開２００２−２８０１７８号公報、同２００１−１８１６１６号公報、同２００２−２８０１７９号公報、同２００１−１８１６１７号公報、同２００２−２８０１８０号公報、同２００１−２４７８５９号公報、同２００２−２９９０６０号公報、同２００１−３１３１７８号公報、同２００２−３０２６７１号公報、同２００１−３４５１８３号公報、同２００２−３２４６７９号公報、国際公開第０２／１５６４５号パンフレット、特開２００２−３３２２９１号公報、同２００２−５０４８４号公報、同２００２−３３２２９２号公報、同２００２−８３６８４号公報、特表２００２−５４０５７２号公報、特開２００２−１１７９７８号公報、同２００２−３３８５８８号公報、同２００２−１７０６８４号公報、同２００２−３５２９６０号公報、国際公開第０１／９３６４２号パンフレット、特開２００２−５０４８３号公報、同２００２−１００４７６号公報、同２００２−１７３６７４号公報、同２００２−３５９０８２号公報、同２００２−１７５８８４号公報、同２００２−３６３５５２号公報、同２００２−１８４５８２号公報、同２００３−７４６９号公報、特表２００２−５２５８０８号公報、特開２００３−７４７１号公報、特表２００２−５２５８３３号公報、特開２００３−３１３６６号公報、同２００２−２２６４９５号公報、同２００２−２３４８９４号公報、同２００２−２３５０７６号公報、同２００２−２４１７５１号公報、同２００１−３１９７７９号公報、同２００１−３１９７８０号公報、同２００２−６２８２４号公報、同２００２−１００４７４号公報、同２００２−２０３６７９号公報、同２００２−３４３５７２号公報、同２００２−２０３６７８号公報等が挙げられる。
【００５６】
本発明においては、少なくとも一つの発光層に２種以上の発光材料を含有していてもよく、発光層における発光材料の濃度比が発光層の厚さ方向で変化していてもよい。
【００５７】
《中間層》
本発明において、各発光層間に非発光性の中間層（非ドープ領域等ともいう）を設ける場合について説明する。
【００５８】
非発光性の中間層とは、複数の発光層を有する場合、その発光層間に設けられる層である。
【００５９】
非発光性の中間層の膜厚としては１〜２０ｎｍの範囲にあるのが好ましく、更には３〜１０ｎｍの範囲にあることが隣接発光層間のエネルギー移動等相互作用を抑制し、且つ素子の電流電圧特性に大きな負荷を与えないということから好ましい。
【００６０】
この非発光性の中間層に用いられる材料としては、発光層のホスト化合物と同一でも異なっていてもよいが、隣接する２つの発光層の少なくとも一方の発光層のホスト材料と同一であることが好ましい。
【００６１】
非発光性の中間層は非発光層、各発光層と共通の化合物（例えば、ホスト化合物等）を含有していてもよく、各々共通ホスト材料（ここで、共通ホスト材料が用いられるとは、燐光発光エネルギー、ガラス転移点等の物理化学的特性が同一である場合やホスト化合物の分子構造が同一である場合等を示す。）を含有することにより、発光層−非発光層間の層間の注入障壁が低減され、電圧（電流）を変化させても正孔と電子の注入バランスが保ちやすいという効果を得ることができる。更に、非ドープ発光層に各発光層に含まれるホスト化合物と同一の物理的特性または同一の分子構造を有するホスト材料を用いることにより、従来の有機ＥＬ素子作製の大きな問題点である素子作製の煩雑さをも併せて解消することができる。
【００６２】
本発明で有機ＥＬ素子を用いる場合、ホスト材料はキャリアの輸送を担うため、キャリア輸送能を有する材料が好ましい。キャリア輸送能を表す物性としてキャリア移動度が用いられるが、有機材料のキャリア移動度は一般的に電界強度に依存性が見られる。電界強度依存性の高い材料は正孔と電子注入・輸送バランスを崩しやすいため、中間層材料、ホスト材料は移動度の電界強度依存性の少ない材料を用いることが好ましい。
【００６３】
また、一方では正孔や電子の注入バランスを最適に調整するためには、非発光性の中間層は後述する阻止層、即ち正孔阻止層、電子阻止層として機能することも好ましい態様として挙げられる。
【００６４】
《注入層：電子注入層、正孔注入層》
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記の如く陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
【００６５】
注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されており、正孔注入層（陽極バッファー層）と電子注入層（陰極バッファー層）とがある。
【００６６】
陽極バッファー層（正孔注入層）は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。
【００６７】
陰極バッファー層（電子注入層）は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。上記バッファー層（注入層）はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は０．１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましい。
【００６８】
《阻止層：正孔阻止層、電子阻止層》
阻止層は、上記の如く有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層がある。
【００６９】
正孔阻止層とは、広い意味では、電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係る正孔阻止層として用いることができる。正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。
【００７０】
一方、電子阻止層とは、広い意味では、正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に係る正孔阻止層、電子輸送層の膜厚としては好ましくは３〜１００ｎｍであり、更に好ましくは５〜３０ｎｍである。
【００７１】
《正孔輸送層》
正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。
【００７２】
正孔輸送材料としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。
【００７３】
正孔輸送材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。
【００７４】
芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）；２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン；ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン；ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン；４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン；４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン；３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン；Ｎ−フェニルカルバゾール、更には米国特許第５，０６１，５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、特開平４−３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが３つスターバースト型に連結された４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。
【００７５】
更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、ｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。
【００７６】
また、特開平１１−２５１０６７号公報、Ｊ．Ｈｕａｎｇ  ｅｔ．ａｌ．著文献（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ８０（２００２），ｐ．１３９）に記載されているような所謂、ｐ型正孔輸送材料を用いることもできる。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることから、これらの材料を用いることが好ましい。
【００７７】
正孔輸送層は上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。この正孔輸送層は上記材料の１種または２種以上からなる一層構造であってもよい。
【００７８】
また、不純物をドープしたｐ性の高い正孔輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。
【００７９】
本発明においては、このようなｐ性の高い正孔輸送層を用いることが、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。
【００８０】
《電子輸送層》
電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。
【００８１】
従来、単層の電子輸送層、及び複数層とする場合は発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
【００８２】
また、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ３）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、ＧａまたはＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。
【００８３】
電子輸送層は上記電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。電子輸送層は上記材料の１種または２種以上からなる一層構造であってもよい。
【００８４】
また、不純物をドープしたｎ性の高い電子輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、同１０−２７０１７２号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。
【００８５】
本発明においては、このようなｎ性の高い電子輸送層を用いることがより低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。
【００８６】
《陽極》
有機ＥＬ素子における陽極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Ａｕ等の金属、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等の導電性透明材料が挙げられる。また、Ｉｎ２Ｏ３−ＺｎＯ等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。
【００８７】
陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は（１００μｍ以上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。
【００８８】
あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。
【００８９】
《陰極》
陰極としては仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属（電子注入性金属と称する）、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、リチウム／アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。尚、発光した光を透過させるため、有機ＥＬ素子の陽極又は陰極のいずれか一方が透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
【００９０】
また、陰極に上記金属を１ｎｍ〜２０ｎｍの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。
【実施例】
【００９１】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
実施例で使用した化合物を以下に示す。【００９２】
【化１】
2013105445.tif 000003
【００９３】
【化２】
2013105445.tif 000004
【００９４】
《有機ＥＬ素子の作製》
〔有機ＥＬ素子１の作製〕
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上に、ＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス製ＮＡ４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。この基板上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３）を純水で７０％に希釈した溶液を３０００ｒｐｍ、３０秒でスピンコート法により製膜した後、基板表面温度を２００℃にして１時間乾燥し、膜厚３０ｎｍの正孔注入層を設けた。
この基板を、窒素雰囲気下、ＪＩＳ  Ｂ  ９９２０に準拠し、測定した清浄度がクラス１００で、露点温度が−８０℃以下、酸素濃度０．８ｐｐｍのグローブボックスへ移した。グローブボックス中にて正孔輸送層用塗布液を下記のように調製し、スピンコーターにて、１５００ｒｐｍ、３０秒の条件で塗布した。この基板を、基板表面温度１５０℃で３０分間加熱乾燥し正孔輸送層を設けた。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は２０ｎｍであった。【００９５】
（正孔輸送層用塗布液）
モノクロロベンゼン                                                  １００ｇ
ポリ−（Ｎ，Ｎ′−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（フェニル）ベンジジン）（ＡＤＳ２５４ＢＥ：アメリカン・ダイ・ソース社製）  ０．５ｇ【００９６】
次いで、正孔輸送層まで設けた基板を、大気曝露させずに静電スプレー装置まで移動し、窒素雰囲気下で、下記の通り調製した発光層塗布液を図１に示した静電スプレー装置１を用いて、表１に記載の条件で塗布した。基板表面温度を１２０℃にして乾燥し発光層を設けた。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は４０ｎｍであった。また別基板にて同条件で塗布を行い、残留溶媒率が５ｗｔ％以下になるまでに要する時間は、１０分であった（基板表面温度１２０℃）。また、塗布前後での液量の変化量から送液量を算出すると、１０ｍｌ／ｍｉｎであった。
（発光層用塗布液）
酢酸ブチル                                                     100g
Ｈ−Ａ                                                            0.1g
Ｄ−Ａ                                                      0.011g
Ｄ−Ｂ                                                     0.0002g
Ｄ−Ｃ                                                     0.0002g
尚、成膜する前に、チャンバー、搬送路及びノズル内の酢酸ブチルの蒸気圧が安定するまでエアロゾル生成及び搬送を行った後に、基板を移動させて成膜を行った。【００９７】
【表１】
2013105445.tif 000005
【００９８】
次いで、大気曝露させずに、窒素雰囲気下で下記の通り調液した電子輸送層用塗布液を図１に示した静電スプレー装置１を用いて、表１に記載の溶媒以外の条件を同じにして塗布した。さらに基板表面温度１２０℃で３０分加熱乾燥し電子輸送層を設けた。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は３０ｎｍであった。
（電子輸送層用塗布液）
２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール                 100g
ＥＴ−Ａ                                                        0.75g【００９９】
次いで、電子輸送層まで設けた基板を、大気曝露せずに、蒸着機に移動し、４×１０−４Ｐａまで減圧した。尚、フッ化カリウムおよびアルミニウムをそれぞれタンタル製抵抗加熱ボートに入れ、蒸着機に取り付けておいた。
先ず、フッ化カリウムの入った抵抗加熱ボートに通電し加熱し、基板上にフッ化カリウムからなる電子注入層を３ｎｍ設けた。続いて、アルミニウムの入った抵抗加熱ボートに通電加熱し、蒸着速度１〜２ｎｍ／秒でアルミニウムからなる膜厚１００ｎｍの陰極を設けた。
陰極まで設けた基板を、大気曝露させることなく、窒素雰囲気下、ＪＩＳ  Ｂ９９２０に準拠し測定した清浄度がクラス１００で、露点温度が−８０℃以下、酸素濃度０．８ｐｐｍのグローブボックスへ移動し、捕水剤である酸化バリウムを添付したガラス製の封止缶にて封止を行い、有機ＥＬ素子１０１を得た。尚、捕水剤である酸化バリウムは、アルドリッチ社製の高純度酸化バリウム粉末を、粘着剤付きのフッ素系半透過膜（ミクロテックスＳ−ＮＴＦ８０３１Ｑ  日東電工製）でガラス製封止缶に貼り付けたものを予め準備して使用した。封止缶と有機ＥＬ素子の接着には紫外線硬化型の接着剤を用い、紫外線を照射することで両者を接着し封止された有機ＥＬ素子１を作製した。【０１００】
〔有機ＥＬ素子２の作製〕
発光層用塗布液を下記に記載の塗布液に変更し、表１に記載の条件で有機ＥＬ素子１と同様にして有機ＥＬ素子２作製した。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は４０ｎｍであった。また別基板にて同条件で塗布を行い、残留溶媒率が５ｗｔ％以下になるまでに要する時間は、１０分であった。また、塗布前後での液量の変化量から送液量を算出すると、１０ｍｌ／ｍｉｎであった。
（発光層用塗布液）
トルエン                                                         100g
Ｈ−Ａ                                                             1g
Ｄ−Ａ                                                          0.11g
Ｄ−Ｂ                                                        0.002g
Ｄ−Ｃ                                                        0.002g【０１０１】
〔有機ＥＬ素子３〜６の作製〕
有機ＥＬ素子１の発光層用塗布液を表１に記載の条件で、それ以外は有機ＥＬ素子１と同様に作製した。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は４０ｎｍであった。また別基板にて同条件で塗布を行い、残留溶媒率が５ｗｔ％以下になるまでに要する時間は表２に記載する結果（「乾燥時間（ｍｉｎ）」）のとおりであった。【０１０２】
〔有機ＥＬ素子７の作製〕
下記の通り調液した発光層用塗布液を表１に記載の条件で、それ以外は有機ＥＬ素子１と同様に有機ＥＬ素子７を作製した。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は４０ｎｍであった。また別基板にて同条件で塗布を行い、残留溶媒率が５ｗｔ％以下になるまでに要する時間は表２に記載する結果（「乾燥時間（ｍｉｎ）」）のとおりであった。
（発光層用塗布液）
トルエン                                                         80g
酢酸ブチル                                                       20g
Ｈ−Ａ                                                         0.8g
Ｄ−Ａ                                                   0.088g
Ｄ−Ｂ                                                 0.0016g
Ｄ−Ｃ                                                  0.0016g【０１０３】
〔有機ＥＬ素子８の作製〕
有機ＥＬ素子１と同様にして、正孔輸送層まで製膜した基材を用意した。
次いで、下記の通り調液した発光層塗布液を図１に示した静電スプレー装置１を用いて、表１に記載の条件で以下の順番で塗布した。
１Ｐａｓｓ目として、下記に記載の発光層塗布液を搬送速度１．８ｍ／ｍｉｎで、塗布した。その後、基板表面温度１２０℃で乾燥した。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は２０ｎｍであった。次いで、２Ｐａｓｓ目として発光層塗布液を搬送速度１．８ｍ/ｍｉｎで、塗布した。その後、基板表面温度１２０℃で乾燥した。別途用意した基板上に発行層２０ｎｍ塗布済みの基板上に、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は４０ｎｍであった。
また別基板にて同条件で塗布を行い、残留溶媒率が５ｗｔ％以下になるまでに要する２回の乾燥時間の合計時間は表２に記載する結果（「乾燥時間（ｍｉｎ）」）のとおりであった。
（発光層用塗布液）
酢酸ブチル                                                      100g
Ｈ−Ａ                                                          0.05g
Ｄ−Ａ                                                        0.0055g
Ｄ−Ｂ                                                       0.0001g
Ｄ−Ｃ                                                       0.0001g
次いで、電子輸送層、電子注入層、陰極及びガラスによる封止は実施例１と同様にして、行い、封止素子を作製した。【０１０４】
〔有機ＥＬ素子９の作製〕
発光層用塗布液を以下の２種類を用意し、２種類の塗布液をそれぞれ異なるチャンバーに入れて表１に示す条件で発光層を成膜した。  
（発光層用塗布液１）
酢酸ブチル                                                  100g
Ｈ−Ａ                                                          0.1g
Ｄ−Ｂ                                                   0.0002g
Ｄ−Ｃ                                                   0.0002g
（発光層用塗布液２）
トルエン                                                     100g
Ｄ−Ａ                                                      0.11g
なお、送液量は発光層用塗布液１は１０ｍｌ／ｍｉｎ、発光層用塗布液２は１ｍｌ／ｍｉｎであった。【０１０５】
〔有機ＥＬ素子１０の作製〕（比較例）
下記の通り調液した発光層塗布液を用いて、静電スプレー装置１を用いて表1に示す条件で１００ｍｍ□基板が膜厚４０ｎｍとなるように、塗布した。その後、基板表面温度120℃で乾燥し発光層を設けた。このときの1ノズル当たりの送液量は６０μl/ｍｉｎであった。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、６回位置をずらしながら成膜することで１００ｍｍ□で膜厚が４０ｎｍであった。このときの雰囲気の温度は25℃であった。
（発光層用塗布液）
酢酸ブチル                                                       100g
Ｈ−Ａ                                                           0.1g
Ｄ−Ａ                                                         0.011g
Ｄ−Ｂ                                                        0.0002g
Ｄ−Ｃ                                                        0.0002g
あとは有機ＥＬ素子１と同様に、電子輸送層以降塗布し、有機ＥＬ素子１０を作製した。【０１０６】
〔有機ＥＬ素子１１の作製〕（比較例）
発光層塗布の際に、表１に記載の条件以外は有機ＥＬ素子１と同様の方法で、有機ＥＬ素子１１を作製した。【０１０７】
〔有機ＥＬ素子１２の作製〕（比較例）
発光層は以下のように塗布した以外は、有機ＥＬ素子１と同様の方法で有機ＥＬ素子１２を作製した。
発光層用塗布液を下記のように調製し、旭サナック製スプレーコーターで表１に記載の条件で塗布した。このときの送液量は１０ml/minであった。さらに基板表面温度１２０℃で乾燥し発光層を設けた。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は４０ｎｍであった。また別基板にて同条件で塗布を行い、残留溶媒率が５ｗｔ％以下になるまでに要する時間は、３０分であった。
（発光層用塗布液）
酢酸ブチル                                                     100g
Ｈ−Ａ                                                           0.1g
Ｄ−Ａ                                                      0.011g
Ｄ−Ｂ                                                     0.0002g
Ｄ−Ｃ                                                     0.0002g【０１０８】
〔有機ＥＬ素子１３の作製〕（比較例）
発光層塗布の際に、発光層用塗布液を下記の記載の塗布液に変え、表１に記載の条件にした以外は有機ＥＬ素子１２と同様の方法で有機ＥＬ素子１３を作成した。
（発光層用塗布液）
トルエン                                                     100g
Ｈ−Ａ                                                            1g
Ｄ−Ａ                                                      0.11g
Ｄ−Ｂ                                                     0.002g
Ｄ−Ｃ                                                     0.002g【０１０９】
《評価》
以上のように作製した有機ＥＬ素子１〜１３の評価を開示する。各評価項目の評価結果の要点を表２にまとめた。【０１１０】
【表２】
2013105445.tif 000006
【０１１１】
（１）成膜速度    
基材を搬送させ、1Passで発光層40nm成膜できる搬送速度で成膜速度を算出した。
なお、以下のようにランク付けを行った。
５:3≦搬送速度
４；2≦搬送速度<3
３：1≦搬送速度<2
２  0.1≦搬送速度<1
１：搬送速度＜0.1【０１１２】
（２）面内均一性
〔面内輝度均一性、面内色度分布の測定〕
分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング製）を用いて、各有機ＥＬ素子を５Ｖで駆動させたとき、発光領域の端部から５ｍｍの位置から５ｍｍ間隔でメッシュ状に輝度及び色度を測定し、下式により輝度均一性及び色度分布を求めた。
輝度均一性＝Ｌｍｉｎ／Ｌｍａｘ×１００
Ｌｍａｘ：測定輝度の最大値
Ｌｍｉｎ：測定輝度の最小値。
なお、表２には得られた計算結果を下記のようにランク分けして示した。
５：輝度均一性≧８５％、輝度の変動が小さく非常に好ましい
４：85％＞輝度均一性≧70％、
３：70％＞輝度均一性≧60％、
２：60％＞輝度均一性≧50％
１：50％＞輝度均一性、輝度が変動している。【０１１３】
（３）寿命
作製した有機ＥＬ素子に対し、正面輝度１０００ｃｄ／ｍ2となるような電流を与え、連続駆動した。正面輝度が初期の半減値（５００ｃｄ／ｍ2）になるまでに掛かる時間を求め、有機ＥＬ素子１〜9の発光寿命は、有機ＥＬ素子１（比較）の測定値を１００とし、寿命＝(有機EL各素子寿命)／（有機EL素子１の寿命）で評価した。なお、表２には得られた計算結果を下記のようにランク分けして示した。
３：０．９＜寿命  
２：０．５＜寿命≦０．９
１：寿命≦０．５【０１１４】
（４）層混合量
アルバック・ファイ株式会社製 走査型X線光電子分光分析装置 (PHI 5000)を用いて、以下の方法で層混合量を測定した。
1. 各種条件で、まずGlass基板上に発光層のみを40nm成膜する。
2. 成膜後、PHI-5000を用いて、ArガスクラスターイオンでGlass成分が検出されるまでスパッタする。その時のスパッタ時間tが得られる。
これにより、スパッタ時間から膜厚が推定できるようになる。
3. 成功輸送層まで成膜した基板に、発光層を1と同じ条件で成膜する。
4. 2と同じようにスパッタするが、このとき、スパッタ時間t以上は正孔輸送層をスパッタすることになる。
5. 正孔輸送層内に、正孔輸送材料に含まれず、発光層に含まれるIrの量を見れば、層混合量が把握できる。
深さはIrが無くなるまでスパッタすれば、そのスパッタ時間から、層混合している膜厚が推定できる。
なお、層混合量は以下のようにランクづけした。
３： 発光層と正孔輸送層の層混合量  ＜2nm
２： 2nm≦発光層と正孔輸送層の層混合量＜10nm
１： 10nm≦発光層と正孔輸送層の層混合量【０１１５】
（５）材料収率
材料収率とは、ノス゛ルより塗出したミスト量Wと基材に付着したミスト量Wtとの比率を表し下記のようにあらわす。
材料収率=Wt/W×100%
なお基材に付着したミスト量Wtは液の固形分濃度と100mm×100mm×1.1tのカ゛ラス基材に付着した膜の81箇所の平均膜厚d(10mm間隔に測定)から、付着量を以下の式から計算した。
＊付着膜の重量(g)=10×10×d(cm)×固形分材料の密度(g/cm3)
Wt=付着膜の重量(g)／液の固形分濃度(%)×100
W=基板上にノス゛ルがあった時間(min)×ミスト生成量(g/min)
なお、表２には得られた計算結果を下記のようにランク分けして示した。
５   ：材料収率>85%
４：75<材料収率≦85%
３ ：65<材料収率≦75%
２：50<材料収率≦65%
１   ：材料収率 ≦ 50【０１１６】
（６）残留溶媒量
ここで、本実施例に係る残留溶媒率の測定には、下記に示す。ヘッドスペース方式のガスクロマトグラフによる定量方法が用いられる。
本実施例の有機ＥＬ素子の有機層に含有される残留溶媒の定量方法として用いられるヘッドスペース方式のガスクロマトグラフによる定量方法は、通常のガスクロマトグラフで使用される内部標準法等の検出方法を使用して測定する。
ヘッドスペース方式のガスクロマトグラフによる定量方法では、有機ＥＬ素子を開閉容器中に封入し、加温し、容器中に残留溶媒（有機溶媒及び／または水等）が充満した状態で速やかに容器中のガスをガスクロマトグラフに注入して残留溶媒量を測定するとともに、ＭＳ（質量分析）も行う。【０１１７】
以下、本実施例に用いたヘッドスペース方式のガスクロマトグラフによる測定法について詳細に説明する。
〈ヘッドスペースガスクロマトグラフ測定方法〉
１．試料の採取
２０ｍｌヘッドスペース用バイアルに、有機ＥＬ素子試料を採取する。試料量は、０．０１ｇまで秤量する（単位質量あたりの面積を算出するのに必要）。専用クリンパーを用いてバイアルにセプタムを用いてシールする。
２．試料の加温
１７０℃の恒温槽に試料を立てた状態で入れ、３０分間加温する。
３．ガスクロマトグラフ分離条件の設定
質量比で１５％になるようにシリコンオイルＳＥ−３０でコーティングした担体を内径３ｍｍ、長さ３ｍのカラムに充填したものを分離カラムとして用いる。該分離カラムをガスクロマトグラフに装着し、Ｈｅをキャリアとして、５０ｍｌ／分で流す。
分離カラムの温度を４０℃にし、昇温速度１５℃／分で２６０℃まで昇温させながら測定する。２６０℃に到達後５分間保持する。
４．試料の導入
バイアルビンを恒温槽から取り出し、直ちにガスタイトシリンジで試料から発生したガス１ｍｌを採取し、これを上記分離カラムに注入する。
５．計算
内部基準物質として使用した芳香族炭化水素化合物により、予め検量線を作製し、それぞれ各成分の濃度を求める。
６．機材
（１）ヘッドスペース条件
ヘッドスペース装置
ヒューレットパッカード社製ＨＰ７６９４「Ｈｅａｄ  Ｓｐａｃｅ  Ｓａｍｐｌｅｒ」
温度条件
トランスファーライン：２００℃
ループ温度：２００℃
サンプル量：０．８ｇ／２０ｍｌバイアル
（２）ＧＣ／ＭＳ条件
ＧＣ：ヒューレットパッカード社製ＨＰ５８９０
ＭＳ：ヒューレットパッカード社製ＨＰ５９７１
カラム：ＨＰ−６２４  ３０ｍ×０．２５ｍｍ
オーブン温度：４０℃（３分）−１５℃／分−２６０℃
測定モード：ＳＩＭ
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子や有機薄膜太陽電池等の有機薄膜の製造に利用することができる。
【符号の説明】
【０１１９】
１ 静電スプレー装置
２ 基材
１０ チャンバー
１１ 溶液
１２ エアロゾル
１３ 帯電微粒子
２０ 搬送路（配管）
３０ ノズル
３３ 吐出口
４０ 搬送装置（搬送手段）
４４ キャリアガス
５０ 基材支持移動装置（支持手段）
５０Ａ ローラー搬送装置（支持手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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