(57)【要約】  撥インク性に優れ、紫外線／オゾン照射処理を経ても撥インク性に優れ、かつ、ドットに残留物の少ない隔壁を製造できるポジ型感光性樹脂組成物であって、充分な貯蔵安定性を持つポジ型感光性樹脂組成物の提供と、該樹脂組成物を用いて形成される隔壁、及び光学素子を提供すること。  アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光剤（Ｂ）及び撥インク剤（Ｃ）を含むポジ型感光性樹脂組成物であって、前記撥インク剤（Ｃ）が、含フッ素加水分解性シラン化合物を含む混合物の部分加水分解縮合物からなり、前記加水分解性シラン化合物におけるフッ素原子の含有割合が１０〜５５質量％であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いて形成される隔壁及び光学素子。
2013133392.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光剤（Ｂ）及び撥インク剤（Ｃ）を含むポジ型感光性樹脂組成物であって、
前記撥インク剤（Ｃ）が下式（ｃ−１）で表される加水分解性シラン化合物と、下式（ｃ−２）で表される加水分解性シラン化合物とを含む混合物の部分加水分解縮合物からなり、前記撥インク剤（Ｃ）におけるフッ素原子含有率が１０〜５５質量％であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
2013133392.tif 000013
（式（ｃ−１）及び（ｃ−２）中の記号は、以下の通りである。
Ｒｆ：炭素原子数１〜６のペルフルオロアルキル基、又はＲｆ１ＯＲｆ２−で表される炭素原子数２〜４０の１価の基（なお、Ｒｆ１は、炭素原子数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ２は炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいペルフルオロアルキレン基である。）、 
Ｑ１：炭素原子数１〜１０のフッ素原子を含まない２価の有機基、
ＲＨ１：炭素原子数１〜６の１価の炭化水素基、
Ｘ１、及びＸ２：加水分解性基、
ｐ：０、１又は２。
ただし、式（ｃ−１）中の３個のＸ１、式（ｃ−２）中の（４−ｐ）個のＸ２、及びｐ個のＲＨ１は、それぞれ互いに異なっていても同一であってもよい。）
【請求項２】
ポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量が、１０〜９０質量％である請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
ポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の前記感光剤（Ｂ）の含有量が、０．１〜５０質量％である請求項１又は２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項４】
ポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の前記撥インク剤（Ｃ）の含有量が、０．０１〜１０質量％である請求項１〜３のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記撥インク剤（Ｃ）の数平均分子量（Ｍｎ）が、５００以上１,０００,０００未満である請求項１〜４のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）がノボラック型フェノール樹脂である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項７】
前記感光剤（Ｂ）がキノンジアジド基を有する化合物である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項８】
前記混合物が、さらに下式（ｃ−３）で表される加水分解性シラン化合物を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化２】
2013133392.tif 000014
（式（ｃ−３）中の記号は、以下の通りである。
Ｙ：水素原子が、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、炭素原子数２〜３のアルケニル基又はニトロ基で置換されていてもよいフェニル基、
Ｑ２：単結合又は２価の有機基、
ＲＨ２：炭素原子数１〜６の１価の炭化水素基、
Ｘ３：加水分解性基、
ｑ：１又は２、
ｒ：０又は１であり、ｑ＋ｒが１又は２となる数。
ただし、ｑ個のＹ、Ｑ２、及びＹ−Ｑ２、並びに（４−ｑ−ｒ）個のＸ３は、それぞれ互いに異なっていても同一であってもよい。）
【請求項９】
溶媒（Ｄ）をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
熱硬化剤（Ｅ）をさらに含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１１】
熱硬化促進剤（Ｆ）をさらに含む、請求項１０に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１２】
着色剤（Ｇ）をさらに含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１３】
基板表面を画素形成用の複数の区画に仕切る形に形成された隔壁であって、
請求項１〜１２のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜からなる隔壁。
【請求項１４】
基板表面に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有する光学素子であって、前記隔壁が請求項１３に記載の隔壁で形成されている光学素子。
【請求項１５】
前記光学素子がカラーフィルタ、ＴＦＴアレイ又は有機ＥＬ素子である、請求項１４に記載の光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物、これを用いて形成される隔壁、及び該隔壁を有する光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学素子である、カラーフィルタや有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子の画素部に用いられる隔壁は、感光性樹脂組成物を基板に塗布して、フォトリソグラフィ技術により形成する方法が知られている。【０００３】
近年、カラーフィルタや有機ＥＬ素子の画素部の製造方法として、インクジェット法を利用した低コスト化プロセスが提案されている。
例えば、カラーフィルタの製造においては、隔壁をフォトリソグラフィにより形成した後に、隔壁で囲まれた開口部（ドット）にＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、及びＢ（ブルー）のインクをインクジェット法により噴射し、塗布して、画素を形成する。【０００４】
インクジェット法では、隣り合う画素間におけるインクの混色を防ぐ必要がある。したがって、隔壁には、インクジェットの吐出液である水や有機溶剤を含むインクをはじく性質、いわゆる撥インク性が要求される。一方、インクジェット法で画素に形成されるインク層には、優れた膜厚均一性が必要である。そのため、隔壁で囲まれたドット（ｄｏｔ）は、吐出液に対して良好な濡れ性、いわゆる親インク性を有することが要求される。【０００５】
隔壁の表面を撥インク性にするためには、隔壁形成に用いる感光性樹脂組成物に撥インク剤を添加する技術が開発されている。
ポジ型感光性樹脂は、現像後の残渣(以下、「現像残渣」ともいう。)が少ない点で、ネガ型感光性樹脂より優れ、好ましく用いられることがある。例えば特許文献１には、表面自由エネルギーが小さい撥インク剤を含むポジ型感光性樹脂組成物を用いて、隔壁表面に撥インク性を付与する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】日本特開２００９−２５１３２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１に記載のポジ型感光性樹脂組成物では、撥インク剤の表面移行性が充分でなく、撥インク剤が隔壁内部に残留して隔壁側面の親インク性が不良になる問題があった。現像後のドットに撥インク剤が残留して、インクが均一に塗布出来ない、インクの白抜けが発生する問題もあった。ドットを洗浄するためには、紫外線／オゾン照射処理等が用いられるが、特許文献１に記載の撥インク剤では耐性が充分でなく、隔壁の撥インク性が大幅に低下してしまうという問題もあった。【０００８】
本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、撥インク性に優れ、紫外線／オゾン照射処理を経ても撥インク性に優れ、かつ、ドットに残留物が少ない隔壁を形成することができ、貯蔵安定性にも優れるポジ型感光性樹脂組成物の提供を目的とする。
また、本発明は、撥インク性に優れ、紫外線／オゾン照射処理を経ても撥インク性に優れる隔壁を有する光学素子の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、以下の［１］〜［１５］の構成を有するポジ型感光性樹脂組成物、隔壁、及び光学素子を提供する。
［１］アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光剤（Ｂ）及び撥インク剤（Ｃ）を含むポジ型感光性樹脂組成物であって、
前記撥インク剤（Ｃ）が下式（ｃ−１）で表される加水分解性シラン化合物と、下式（ｃ−２）で表される加水分解性シラン化合物とを含む混合物の部分加水分解縮合物からなり、前記撥インク剤（Ｃ）におけるフッ素原子含有率が１０〜５５質量％であるポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
2013133392.tif 000003
（式（ｃ−１）及び（ｃ−２）中の記号は、以下の通りである。
Ｒｆ：炭素原子数１〜６のペルフルオロアルキル基、又はＲｆ１ＯＲｆ２−で表される炭素原子数２〜４０の１価の基（Ｒｆ１は、炭素原子数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ２は炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいペルフルオロアルキレン基である。）、
Ｑ１：炭素原子数１〜１０のフッ素原子を含まない２価の有機基、
ＲＨ１：炭素原子数１〜６の炭化水素基、
Ｘ１、及びＸ２：加水分解性基、
ｐ：０、１又は２。
ただし、式（ｃ−１）中の３個のＸ１、式（ｃ−２）中の（４−ｐ）個のＸ２、及びｐ個のＲＨ１は、それぞれ互いに異なっていても同一であってもよい。）【００１０】
［２］ポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量が、１０〜９０質量％である上記［１］に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
［３］ポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の前記感光剤（Ｂ）の含有量が、０．１〜５０質量％である上記［１］又は［２］に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
［４］ポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の前記撥インク剤（Ｃ）の含有量が、０．０１〜１０質量％である上記［１］〜［３］のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。
［５］前記撥インク剤（Ｃ）の数平均分子量（Ｍｎ）が、５００以上１,０００,０００未満である上記［１］〜［４］のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。【００１１】
［６］前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）がノボラック型フェノール樹脂である、上記［１］〜［５］のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。
［７］前記感光剤（Ｂ）がキノンジアジド基を有する化合物である、上記［１］〜［６］のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。【００１２】
［８］前記混合物がさらに下式（ｃ−３）で表される加水分解性シラン化合物を含む、上記［１］〜［７］のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化２】
2013133392.tif 000004
（式（ｃ−３）中の記号は、以下の通りである。
Ｙ：水素原子が、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、炭素原子数２〜３のアルケニル基又はニトロ基で置換されていてもよいフェニル基、
Ｑ２：単結合又は２価の有機基、
ＲＨ２：炭素原子数１〜６の炭化水素基、
Ｘ３：加水分解性基、
ｑ：１又は２、
ｒ：０又は１であり、ｑ＋ｒが１又は２となる数。
ただし、ｑ個のＹ、Ｑ２、及びＹ−Ｑ２、並びに（４−ｑ−ｒ）個のＸ３は、それぞれ互いに異なっていても同一であってもよい。）【００１３】
［９］溶媒（Ｄ）をさらに含む、上記［１］〜［８］のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。
［１０］熱硬化剤（Ｅ）をさらに含む、上記［１］〜［９］のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。
［１１］熱硬化促進剤（Ｆ）をさらに含む、上記［１０］に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
［１２］着色剤（Ｇ）をさらに含む、上記［１］〜［１１］のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。【００１４】
［１３］基板表面を画素形成用の複数の区画に仕切る形に形成された隔壁であって、上記［１］〜［１２］のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜からなる隔壁。
［１４］基板表面に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有する光学素子であって、前記隔壁が上記［１３］に記載の隔壁で形成されている光学素子。
［１５］前記光学素子がカラーフィルタ、ＴＦＴ（Ｔhin Ｆilm Ｔransistor）アレイ又は有機ＥＬ素子である上記［１４］に記載の光学素子。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、撥インク性に優れ、紫外線／オゾン照射処理を経ても撥インク性に優れる隔壁を形成することができ、貯蔵安定性にも優れる。
本発明の光学素子は、撥インク性に優れ、紫外線／オゾン照射処理を経ても撥インク性に優れる隔壁を有することにより、白抜け現象等の発生が抑制され、外観が良好である。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いた光学素子用隔壁の製造例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本明細書においては、式（ｃ−１）で表される化合物を、「化合物（ｃ−１）」という。他の化合物も同様である。
本明細書における「全固形分」とは、ポジ型感光性樹脂組成物が含有する成分のうち、隔壁形成成分であり、溶媒（Ｄ）等の隔壁形成過程における、加熱等により揮発する揮発性成分以外の全成分を示す。ポジ型感光性樹脂組成物を１４０℃で２４時間加熱して溶媒を除去した、残存物として測定される。また、全固形分は各成分の仕込み量からも計算できる。
本明細書においては、ポジ型感光性樹脂組成物を塗布した膜を「塗膜」、それを乾燥させた状態を「膜」、さらに、それを硬化させて得られる膜を「硬化膜」という。
【００１８】
本明細書において、隔壁の「表面」は、隔壁の上面のみを示す用語として用いる。したがって、隔壁の「表面」には、隔壁の側面は含まれない。
本明細書における「インク」とは、乾燥硬化した後に、例えば光学的、電気的に機能を有する液体を総称するものであり、従来から用いられている着色材料に限定されるものではない。また、上記インクを注入して形成される「画素」についても同様に、隔壁で仕切られた、光学的、電気的な機能を有する区分を表すものとして用いられる。
本明細書における「撥インク性」とは、上記インクをはじくために、撥水性と撥油性の両方を適度に有する性質をいい、例えば、後述の方法で評価できる。
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本明細書において特に説明のない場合、％は質量％を表す。
【００１９】
［アルカリ可溶性樹脂（Ａ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）としては、ポジ型感光性樹脂組成物に用いる公知のアルカリ可溶性樹脂が用いられる。
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、後述の感光剤（Ｂ）と共に用いることで、ポジ型感光性樹脂組成物として機能する。すなわち、ポジ型感光性樹脂組成物においては、フォトリソグラフィ等の露光に際して、露光部では感光剤（Ｂ）が活性化し、現像液に対する溶解性を増大させる。該露光部は、現像時に現像液（通常はアルカリ現像液）に溶解して除去される。光照射がされない部分（未露光部分）は隔壁となる。なお、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、露光前に感光剤（Ｂ）と組み合わせることにより、現像液に対して不溶化する樹脂もある。
【００２０】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としては、フェノール類とアルデヒド類、さらに必要に応じて各種変性剤を加えて重縮合することによって製造される未変性又は変性のノボラック型フェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドの共重合体、ハイドロキノンモノメタクリレート共重合体が挙げられる。また、スルホニルイミド系ポリマー、カルボキシル基含有ポリマー、フェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、スルホンアミド基を有するアクリル系樹脂、ウレタン系の樹脂等の、種々のアルカリ可溶性の高分子化合物も用いることができる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）としては、ノボラック型フェノール樹脂が好ましい。
【００２１】
ノボラック型フェノール樹脂を製造するために用いられるフェノール類としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｍ−クレゾール等のクレゾール類；３，５−キシレノール、２，５−キシレノール、２，３−キシレノール、３，４−キシレノール等のキシレノール類；２，３，４−トリメチルフェノール、２，３，５−トリメチルフェノール、２，４，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール等のトリメチルフェノール類；２−ｔ−ブチルフェノール、３−ｔ−ブチルフェノール、４−ｔ−ブチルフェノール等のｔ−ブチルフェノール類；２−メトキシフェノール、３−メトキシフェノール、４−メトキシフェノール、２，３−ジメトキシフェノール、２，５−ジメトキシフェノール、３，５−ジメトキシフェノール等のメトキシフェノール類；２−エチルフェノール、３−エチルフェノール、４−エチルフェノール、２，３−ジエチルフェノール、３，５−ジエチルフェノール、２，３，５−トリエチルフェノール、３，４，５−トリエチルフェノール等のエチルフェノール類；ｏ−クロロフェノール、ｍ−クロロフェノール，ｐ−クロロフェノール，２，３−ジクロロフェノール等のクロロフェノール類；レゾルシノール、２−メチルレゾルシノール、４−メチルレゾルシノール、５−メチルレゾルシノール等のレゾルシノール類；５−メチルカテコール等のカテコール類；５−メチルピロガロール等のピロガロール類；ビスフェノールＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ等のビスフェノール類；２，６−ジメチロール−ｐ−クレゾール等のメチロール化クレゾール類；α−ナフトール、β−ナフトール等のナフトール類；等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００２２】
ノボラック型フェノール樹脂を製造するために用いられるアルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ポリオキシメチレン、クロラール、フルフラール、グリオキザール、ｎ−ブチルアルデヒド、カプロアルデヒド、アリルアルデヒド、ベンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、アクロレイン、テトラオキシメチレン、フェニルアセトアルデヒド、ｏ−トルアルデヒド、サリチルアルデヒド等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００２３】
上記ノボラック型フェノール樹脂のなかでも、入手容易性、金属不純物の少なさ等の点から、フェノール類としてクレゾール類、キシレノール類等を用いたノボラック型フェノール樹脂等が好ましく、クレゾール類を用いたノボラック型フェノール樹脂（以下、「クレゾールノボラック樹脂」ともいう。）が特に好ましい。
【００２４】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、０．５×１０３〜２０×１０３が好ましく、２×１０３〜１５×１０３が特に好ましい。質量平均分子量（Ｍｗ）が上記範囲であると、露光後の現像液に対する溶解性に優れる。
なお、本明細書において質量平均分子量（Ｍｗ）とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によりテトラヒドロフランを移動相として測定される、標準ポリスチレンを基準として換算した質量平均分子量を意味する。また、数平均分子量（Ｍｎ）とは、同様のＧＰＣで測定した数平均分子量を意味する。
【００２５】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、アルカリ現像液に対する溶解性に優れることが好ましい。例えば、ポジ型感光性樹脂組成物のアルカリ現像液として、一般的な２．３８質量％ＴＭＡＨ（テトラメチル水酸化アンモニウム）水溶液に対する溶解速度（オングストローム／秒、以下、単に「溶解速度」という。）を指標とすれば、５０〜４００オングストローム／秒が好ましく、１００〜２００オングストローム／秒が特に好ましい。溶解速度が上記範囲であると、ポジ型感光性樹脂組成物の現像性が良好になる。
【００２６】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、市販品を使用することもできる。市販品としては、いずれも旭有機材工業社製の商品名で、ＥＰ４０２０Ｇ（Ｍｗ：９，０００〜１４，０００、溶解速度：１６０〜２５０オングストローム／秒）、ＥＰＲ５０１０Ｇ（Ｍｗ：７，０００〜１２，５００、溶解速度：５０〜１５０オングストローム／秒）（いずれもクレゾールノボラック樹脂）等が挙げられる。
【００２７】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
ポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中のアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量は、１０〜９０質量％が好ましく、３０〜８０質量％が特に好ましい。含有量が上記範囲であると、ポジ型感光性樹脂組成物の現像性が良好になる。
【００２８】
［感光剤（Ｂ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における感光剤（Ｂ）としては、ポジ型感光性樹脂組成物に用いる公知の感光剤が用いられる。
感光剤（Ｂ）としては、キノンジアジド基を有する化合物が好ましい。キノンジアジド基を有する化合物としては、ノボラック型フェノール樹脂と組み合わせて用いられる、公知のキノンジアジド基を有する化合物が用いられる。
【００２９】
感光剤（Ｂ）としては、互いに縮合可能な、後述するキノンジアジド基を有する化合物αと化合物βとの完全縮合物や部分縮合物が挙げられる。
【００３０】
化合物αは、縮合反応可能な官能基を有する。該縮合反応可能な官能基としては、スルホ基、クロロスルホ基等が挙げられる。化合物αとしては、ベンゾキノンジアジドスルホン酸、ナフトキノンジアジドスルホン酸、アントラキノンジアジドスルホン酸等のスルホン酸、これらのスルホン酸クロリドが挙げられる。スルホン酸クロリドとしては、具体的には、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリド、１，２‐ベンゾキノンジアジド−４‐スルホン酸クロリド等が挙げられる。
【００３１】
化合物βは、化合物αと縮合反応可能な官能基を有する。該縮合反応可能な官能基としては、水酸基、アミノ基等が挙げられ、水酸基が好ましい。
化合物βとしては、得られる隔壁が耐熱性に優れる点で、芳香環を有する化合物が好ましい。該芳香族化合物における芳香環の数は、耐熱性及び水酸基を多く導入できる点で、１〜６個が好ましく、２〜４個が特に好ましい。
化合物βとしては、芳香環に結合する水素原子の少なくとも１個が水酸基に置換された芳香族化合物が特に好ましい。１分子中の水酸基の数は、１〜１０個が好ましく、２〜４個が特に好ましい。
【００３２】
化合物βの具体例としては、
フェノール、４‐メチルフェノール等のフェノール類；
２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン等のポリヒドロキシベンゾフェノン類；
トリス（４−ヒドロシキフェニル）メタン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−1−［α，α−ジメチル−α−（４′−ヒドロキシフェニル）ベンジル］エタン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−２，４−ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン、１，３，５−トリス（４-ヒドロキシフェニルジメチルベンジル）ベンゼン等のトリスフェノール型化合物；
２，４−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）−５−ヒドロキシフェノール、２，６−ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール等のリニア型３核体フェノール化合物；
１，１−ビス〔３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル〕イソプロパン、ビス［２，５−ジメチル−３−（４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−ヒドロキシフェニル］メタン、ビス［２，５−ジメチル−３−（４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシフェニル］メタン、ビス［３−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル］メタン、ビス［３−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−５−エチルフェニル］メタン、ビス［３−（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル］メタン、ビス［３−（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−５−エチルフェニル］メタン、ビス［２−ヒドロキシ−３−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）−５−メチルフェニル］メタン、ビス［２−ヒドロキシ−３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−５−メチルフェニル］メタン、ビス［４−ヒドロキシ−３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−５−メチルフェニル］メタン、ビス［２，５−ジメチル−３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−ヒドロキシフェニル］メタン等のリニア型又は環状型４核体フェノール化合物；
２，４−ビス［２−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシベンジル）−５−メチルベンジル］−６−シクロヘキシルフェノール、２，４−ビス［４−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシベンジル）−５−メチルベンジル］−６−シクロヘキシルフェノール、２，６−ビス［２，５−ジメチル−３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−ヒドロキシベンジル］−４−メチルフェノール等のリニア型又は環状型５核体フェノール化合物等の、リニア型又は環状型ポリフェノール化合物；
ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、２，３，４−トリヒドロキシフェニル−４′−ヒドロキシフェニルメタン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（２′，３′，４′−トリヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（２′，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（３′，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−２−（３′−フルオロ−４′−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（４′−ヒドロキシ−３′，５′−ジメチルフェニル）プロパン等のビスフェノール型化合物；
１−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］−４−［１′，１′−ビス（４′−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン、１−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン、１−［１−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン等の多核枝分かれ型化合物；
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２−ビス［１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフェニルシクロヘキシル）］−２−ビス［１′，１′‐ビス（４′‐ヒドロキシフェニルシクロヘキシル）］プロパン等の縮合型フェノール化合物；
１，１′−スピロビ［１Ｈ−インデン］−５，５′，６，６′−テトラオール、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン、ペンタシクロ［１９，３，１，１３，７，１９，１３，１１５，１９］オクタコサ−１，３，５，７，９，１１，１３，１５，１７，１９，２１，２３−ドデカエン−４，６，１０，１２，１６，１８，２２，２４−オクタオール等が挙げられる。これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００３３】
感光剤（Ｂ）としては、以下の化合物αと化合物βとの完全縮合物又は部分縮合物がより好ましい。
化合物α：１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリド、１，２‐ベンゾキノンジアジド−４‐スルホン酸クロリド等、
化合物β：フェノール類としてフェノール、４‐メチルフェノール；
ポリヒドロキシベンゾフェノン類として、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン；
トリスフェノール型化合物として、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−1−［α，α−ジメチル−α−（４′−ヒドロキシフェニル）ベンジル］エタン、１，３，５−トリス（４-ヒドロキシフェニルジメチルベンジル）ベンゼン；
ビスフェノール型化合物として、２，３，４−トリヒドロキシフェニル−４′−ヒドロキシフェニルメタン、２−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（３′，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（２′，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン；
多核枝分かれ型化合物として、１−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］−４−［１′，１′−ビス（４′−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン；
縮合型フェノール化合物として、２−ビス［１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフェニルシクロヘキシル）］−２−ビス［１′，１′‐ビス（４′‐ヒドロキシフェニルシクロヘキシル）］プロパン；
１，１′−スピロビ［１Ｈ−インデン］−５，５′，６，６′−テトラオール、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン、ペンタシクロ［１９，３，１，１３，７，１９，１３，１１５，１９］オクタコサ−１，３，５，７，９，１１，１３，１５，１７，１９，２１，２３−ドデカエン−４，６，１０，１２，１６，１８，２２，２４−オクタオール。
【００３４】
感光剤（Ｂ）としては、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド又は１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリドと、２，３，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノンとの縮合反応物である、式（ｂ−１）で表される化合物が特に好ましい。
【００３５】
【化３】
2013133392.tif 000005
（式（ｂ−１）中、Ｄは水素原子又は下式（ｂ−２）で表される基を示す。ただし、Ｄの少なくとも１個は式（ｂ−２）で表される基である。）
【化４】
2013133392.tif 000006
【００３６】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における感光剤（Ｂ）は、１分子中のキノンジアジド基数の異なった化合物の混合物であってもよく、キノンジアジド基を感光剤（Ｂ）全体の平均値として、１分子中に１〜４個有する化合物が好ましく、２．５〜３個有する化合物が特に好ましい。
【００３７】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の感光剤（Ｂ）の含有量は、０．１〜５０質量％が好ましく、１．０〜３０質量％が特に好ましい。上記範囲であると、ポジ型感光性樹脂組成物の現像性に優れる。下限値未満であると、感光性樹組成物として充分な感度が得られないことがあり、上限値を超えると成分が析出するおそれがある。
【００３８】
［撥インク剤（Ｃ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における撥インク剤（Ｃ）は、下式（ｃ−１）で表される加水分解性シラン化合物（以下、化合物（ｃ−１）ともいう）、下式（ｃ−２）で表される加水分解性シラン化合物（以下、化合物（ｃ−２）ともいう）を含む混合物（以下、「加水分解性シラン化合物混合物」ともいう。）の部分加水分解縮合物からなり、前記撥インク剤（Ｃ）におけるフッ素原子含有率は１０〜５５質量％である。
【化５】
2013133392.tif 000007
（式（ｃ−１）及び（ｃ−２）中の記号は、以下の通りである。
Ｒｆ：炭素原子数１〜６のペルフルオロアルキル基、又はＲｆ１ＯＲｆ２−で表される炭素原子数２〜４０の１価の基（Ｒｆ１は、炭素原子数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ２は炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいペルフルオロアルキレン基である。）、 
Ｑ１：炭素原子数１〜１０のフッ素原子を含まない２価の有機基、
ＲＨ１：炭素原子数１〜６の炭化水素基、
Ｘ１、及びＸ２：加水分解性基、
ｐ：０、１又は２。
ただし、Ｘ１、Ｘ２、及びＲＨ１が、式（ｃ−１）又は式（ｃ−２）内に複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。）
【００３９】
撥インク剤（Ｃ）は、化合物（ｃ−１）由来のペルフルオロアルキル基を含有することにより、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成される隔壁に、優れた撥インク性を付与できる。ポジ型感光性樹脂組成物を基板に塗布した際に、加水分解性シラン化合物（ｃ−１）由来のＲｆは、基板と反対側（すなわち空気側）に留まりやすくなる。すなわち、撥インク剤（Ｃ）が基板と反対側に留まりやすくなる。また、化合物（ｃ−１）は、Ｒｆとケイ素原子とを有するため、隔壁は撥インク性の耐紫外線／オゾン性に優れる。
【００４０】
撥インク剤（Ｃ）は、化合物（ｃ−２）に由来する単位を含有することにより、撥インク剤（Ｃ）の炭化水素系溶媒への溶解性、造膜性に優れる。また、撥インク剤（Ｃ）のフッ素原子含有率の調整ができる。
【００４１】
撥インク剤（Ｃ）のフッ素原子含有率は１０〜５５質量％であり、１２〜４０質量％が好ましく、１５〜３０質量％が特に好ましい。フッ素原子含有率が上記範囲であると、ポジ型感光性樹脂組物を用いて形成される隔壁に、紫外線またはオゾン照射に耐性のある撥インク性を付与できる。
【００４２】
撥インク剤（Ｃ）は、シラノール基を有することが好ましい。シラノール基の数としては、ケイ素原子１個当たり、０．２〜３．５個が好ましく、０．２〜２個がより好ましく、０．５〜１．５個が特に好ましい。上記範囲の下限値以上であると、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する際に、基板表面からの撥インク剤（Ｃ）の脱離を防止できる。上記範囲の上限値以下であると、撥インク剤（Ｃ）が、ポジ型感光性樹脂組成物中で溶媒や他の成分との相溶性に優れる。
なお、撥インク剤（Ｃ）中のシラノール基数は、２９Ｓｉ−ＮＭＲにより測定されるシラノール基を有するＳｉ基と、シラノール基を有しないＳｉ基とのピーク面積の比により算出される。
【００４３】
本発明の加水分解性シラン化合物混合物は、化合物（ｃ−１）及び化合物（ｃ−２）を含む。さらに、化合物（ｃ−１）及び化合物（ｃ−２）以外の加水分解性シラン化合物を１種又は２種以上含んでいてもよい。
【００４４】
前記化合物（ｃ−１）及び化合物（ｃ−２）以外の加水分解性シラン化合物としては、フェニル基含有の有機基を有する加水分解性シラン化合物（上記加水分解性シラン化合物（ｃ−１）、及び（ｃ−２）を除く。）が挙げられる。例えば、ケイ素原子に、１又は２個のフェニル基を末端に有する有機基と、０又は１個の炭化水素基と、１〜３個の加水分解性基が結合した加水分解性シラン化合物であり、後述する化合物（ｃ−３）が好ましい。
【００４５】
（加水分解性シラン化合物（ｃ−１））
加水分解性シラン化合物（ｃ−１）は、上記式（ｃ−１）で表されるシラン化合物である。
式（ｃ−１）中、Ｒｆは、炭素原子数１〜６のペルフルオロアルキル基、又はエーテル性酸素原子を含む炭素原子数４〜９のペルフルオロアルキル基が好ましく、炭素原子数６のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。Ｒｆが上記範囲であると、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成される隔壁が、撥インク性に優れ、特に耐紫外線／オゾン性のある撥インク性に優れ、さらに、汎用の溶媒への溶解性に優れる。
Ｒｆの構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、又は部分的に環を有する構造が挙げられるが、直鎖構造が好ましい。
【００４６】
Ｒｆの具体例としては、以下の基が挙げられる。
Ｆ（ＣＦ２）４−、Ｆ（ＣＦ２）６−。
ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、ＣＦ３ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−。
【００４７】
式（ｃ−１）中、Ｑ１は、右側の結合手にＳｉが、左側の結合手にＲｆがそれぞれ結合するとして表示した場合に、具体的には、−（ＣＨ２）ｉ１−（ｉ１は１〜５の整数。）、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ｉ２−（ｉ２は１〜４の整数。）、−ＳＯ２ＮＲ１−（ＣＨ２）ｉ３−（Ｒ１は水素原子、メチル基、又はエチル基であり、ｉ３は１以上であり、Ｒ１の炭素原子数との合計で４以下の整数。）、−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＲ１−（ＣＨ２）ｉ４−（Ｒ１は前記と同様であり、ｉ４は１以上であり、Ｒ１の炭素原子数との合計で４以下の整数。）で表される基が好ましい。Ｑ１としては、ｉ１が２又は３である−（ＣＨ２）ｉ１−がより好ましく、−（ＣＨ２）２−が特に好ましい。
【００４８】
Ｒｆが炭素原子数１〜６のペルフルオロアルキル基である場合、上記Ｑ１としては、−（ＣＨ２）ｉ１−（ｉ１は上記と同様）で表される基が好ましい。ｉ１は２〜４の整数が好ましく、−（ＣＨ２）２−が特に好ましい。
Ｒｆがエーテル性酸素原子を含む炭素原子数４〜９のペルフルオロアルキル基である場合、上記Ｑ１としては、−（ＣＨ２）ｉ１−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ｉ２−、−ＳＯ２ＮＲ１−（ＣＨ２）ｉ３−、−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＲ１−（ＣＨ２）ｉ４−で表される基（ｉ１〜ｉ４及びＲ１は上記と同様）が好ましい。この場合においても、−（ＣＨ２）２−が特に好ましい。
【００４９】
式（ｃ−１）中、Ｘ１としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基、アミノ基、又はアミノ基の水素原子がアルキル基で置換された基が挙げられる。なかでも、炭素原子数１〜４のアルコキシ基又はハロゲン原子が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、塩素原子が特に好ましい。これらの基は、加水分解反応により水酸基（シラノール基）となり、さらに分子間で縮合反応して、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する反応が円滑に進みやすい。
【００５０】
化合物（ｃ−１）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Ｆ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、Ｆ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、Ｆ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、Ｆ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、Ｆ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、Ｆ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３。
ＣＦ３ＯＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、Ｆ（ＣＦ２）２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、ＣＦ３ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
Ｆ（ＣＦ２）２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、Ｆ（ＣＦ２）２Ｏ（ＣＦ２）２Ｏ（ＣＦ２）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
Ｆ（ＣＦ２）３ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、Ｆ（ＣＦ２）３ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
【００５１】
化合物（ｃ−１）としては、なかでも、Ｆ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、Ｆ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、Ｆ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、Ｆ（ＣＦ２）３ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３等が特に好ましい。
加水分解性シラン化合物混合物中に含まれる化合物（ｃ−１）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００５２】
（加水分解性シラン化合物（ｃ−２））
加水分解性シラン化合物（ｃ−２）は、上記式（ｃ−２）で表されるシラン化合物である。
式（ｃ−２）中、ＲＨ１は炭素原子数１〜４のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ｘ２は加水分解性基であり、上式（ｃ−１）中のＸ１と好ましい態様を含めて同様である。
ｐは０、１又は２であるが、ｐが２の場合は、２個のＲＨ１、及び（４−ｐ）個のＸ２は、それぞれ互いに異なっていても同一であってもよい。
ｐは０又は１が好ましい。
【００５３】
撥インク剤（Ｃ）において、化合物（ｃ−１）由来のＲｆ１及び化合物（ｃ−２）由来のＲＨ１によって撥水性が発現され、主にＲｆによって撥油性が発現される。また、撥インク剤（Ｃ）の硬化物が充分な撥油性を発現するには、撥インク剤（Ｃ）中のＲｆとＲＨ１との合計に対して、Ｒｆの割合が高いことが好ましい。ｐが０の場合、撥インク剤（Ｃ）におけるＲｆの割合が高くなり撥油性が向上し、また造膜性に優れる。ｐが１又は２の場合、ＲＨ１がある程度存在することにより、撥インク剤（Ｃ）は炭化水素系の溶媒に溶解しやすくなり、基板の表面にポジ型感光性樹脂組成物の塗膜を形成する際に、比較的安価な溶媒を選択できる。
【００５４】
化合物（ｃ−２）としては、以下の化合物が好ましい。必要に応じて、その複数個を予め部分加水分解縮合して得た部分加水分解縮合物を用いてもよい。なお、他の加水分解性シラン化合物についても同様である。
Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）４、ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、ＣＨ３ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＨ３ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２、
（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２、
Ｓｉ（ＯＣＨ３）４を加水分解縮合した化合物（例えば、コルコート社製のメチルシリケート５１（商品名））、
Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）４を加水分解縮合した化合物（例えば、コルコート社製のエチルシリケート４０、エチルシリケート４８（いずれも商品名））。
【００５５】
本発明の加水分解性シラン化合物混合物に含まれる化合物（ｃ−２）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合、４官能性化合物及び／又は３官能性化合物と共に２官能性化合物を併用することもできる。
加水分解性シラン化合物混合物中の化合物（ｃ−２）の含有量は、化合物（ｃ−１）の１モルに対して化合物（ｃ−２）の０．１〜９モルが好ましく、０．５〜９モルが特に好ましい。
【００５６】
（加水分解性シラン化合物（ｃ−３））
加水分解性シラン化合物（ｃ−３）は、下式（ｃ−３）で表される加水分解性シラン化合物である（以下、「化合物（ｃ−３）」ともいう。）。
【００５７】
【化６】
2013133392.tif 000008
式（ｃ−３）において、加水分解性基を示すＸ３は、上記式（ｃ−１）中のＸ１と好ましい態様を含めて同様である。
また、ＲＨ２は上記式（ｃ−２）中のＲＨ１と好ましい態様を含めて同様である。
式（ｃ−３）中、Ｙは水素原子がハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、炭素原子数２〜３のアルケニル基又はニトロ基に置換されていてもよいフェニル基を表す。
Ｑ２はケイ素原子とフェニル基を連結する基であり、単結合又は２価の有機基である。
【００５８】
ｑは１又は２であり、ｒは０又は１であり、ｑ＋ｒは１又は２である。
なお、式（ｃ−３）において、ｑが２の場合、２個のＱ２は互いに異なっていても同一であってもよく、ｑ＋ｒが１の場合、３個のＸ３は互いに異なっていても同一であってもよく、ｑ＋ｒが２の場合、２個のＸ３は互いに異なっていても同一であってもよい。
式（ｃ−３）中、ｑが１で、ｒが１である、又はｑが１で、ｒが０であることが好ましい。
【００５９】
式（ｃ−３）中、Ｙとしては、フェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等が挙げられ、フェニル基が特に好ましい。このような化合物（ｃ−３）を用いることにより、高い解像度と、ドット部に残渣の少ない隔壁が得られる。これは、撥インク剤（Ｃ）がポジ型感光性樹脂組成物の膜表面に移行した後、化合物（ｃ−３）に由来するフェニル基が、現像液中で感光剤（Ｂ）のジアジド基とアゾカップリング反応することで、撥インク剤（Ｃ）をポジ型感光性樹脂組成物の膜表面に留まりやすくするためと推測される。これにより、現像、ポストベーク等を経た後においても、得られる隔壁の表面を撥インク性に、側面を親インク性に保てる。
【００６０】
式（ｃ−３）中、Ｑ２が２価の有機基である場合には、−（ＣＨ２）ｊ−（ｊは１〜６の整数）、−ＮＨ−、−ＮＨ−（ＣｋＨ２ｋ）−（ｋは１〜６の整数）、−Ｎ（ＣｇＨ２ｇ＋１）−（ｇは１〜６の整数）が電子供与性基であり、かつ入手容易性の点で好ましい。Ｑ２としては、単結合又は−ＮＨ−が特に好ましい。
【００６１】
化合物（ｃ−３）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
（Ｃ6Ｈ５）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、
（Ｃ6Ｈ５）ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
本発明の加水分解性シラン化合物混合物中に含まれる化合物（ｃ−３）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
本発明の加水分解性シラン化合物混合物中の化合物（ｃ−３）の配合量は、加水分解性シラン化合物（ｃ−１）及び（ｃ−２）の合計量の１モルに対して５モル以下が好ましく、４モル以下が特に好ましい。
【００６２】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に用いる撥インク剤（Ｃ）は、上記原料の加水分解性シラン化合物混合物の部分加水分解縮合物であり、通常、重合度等の異なる複数の縮合物で構成される混合物である。
すなわち、撥インク剤（Ｃ）は、加水分解性シラン化合物（ｃ−１）及び化合物（ｃ−２）を必須成分として用い、任意に化合物（ｃ−３）を用いて製造された場合は、下式（１）で表される平均組成式の構造を有するものとなる。ただし、実際は加水分解性基又はシラノール基が残存した生成物（部分加水分解縮合物）であるので、この生成物を化学式で表すことは困難である。
式（１）で表される平均組成式は、上記のように製造された部分加水分解縮合物において、加水分解性基又はシラノール基の全てが完全に加水分解し、縮合してシロキサン結合となった場合の化学式である。
【００６３】
【化７】
2013133392.tif 000009
式（１）中、Ｒｆ、ＲＨ１、ＲＨ２、Ｙ、Ｑ１、Ｑ２、ｐ、ｑ、及びｒの好ましい範囲は、上述したものと同様である。ｓ、ｔ、及びｕは、重合度の異なる複数の含フッ素シラン化合物混合物における各単位の平均存在モル数である。
【００６４】
式（１）で表される平均組成式の構造を有する部分加水分解縮合物においては、化合物（ｃ−１）、化合物（ｃ−２）及び化合物（ｃ−３）にそれぞれ由来する単位は、ランダムに配列していると推測される。
なお、化合物（ｃ−１）及び化合物（ｃ−２）を用いた場合の下記平均組成式（２）におけるｓ／ｔ（モル比）は、撥インク剤（Ｃ）全体の平均値として、加水分解性シラン化合物混合物における化合物（ｃ−１）に対する化合物（ｃ−２）の含有量として上述した範囲、すなわち１０／１〜９０（モル比）が好ましく、１０／５〜９０（モル比）が特に好ましい。
【化８】
2013133392.tif 000010
式（２）中、Ｒｆ、ＲＨ１、Ｑ１及びｐの好ましい範囲は、上述したものと同様である。ｓ、及びｔは、重合度の異なる複数の含フッ素シラン化合物混合物における各単位の平均存在モル数である。
【００６５】
撥インク剤（Ｃ）を加水分解性シラン化合物（ｃ−１）、加水分解性シラン化合物（ｃ−２）及び加水分解性シラン化合物（ｃ−３）を用いて製造した場合には、式（２）に式（１）の化合物（ｃ−３）に由来する単位がさらに共縮合された平均組成式の構造を有するものとなる。
【００６６】
式（１）中、撥インク剤（Ｃ）全体の平均値として、（ｓ＋ｔ）の１に対して、ｕは上述の範囲、すなわち５以下（モル比）が好ましく、４以下（モル比）が特に好ましい。
【００６７】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における撥インク剤（Ｃ）は、露光、硬化等の過程においては、含まれるシラノール基がさらに縮合し、紫外線／オゾン照射をしても優れた撥インク性を示す隔壁を形成するものと考えられる、
【００６８】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における撥インク剤（Ｃ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、５００以上が好ましく、１,０００,０００未満が好ましく、１０，０００未満が特に好ましい。数平均分子量（Ｍｎ）が上記範囲の下限値以上であると、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する際に、基板表面からの脱離を防止できる。数平均分子量（Ｍｎ）が上記範囲の上限値未満であると、溶媒への溶解性が良好で、作業性に優れる。撥インク剤（Ｃ）の数平均分子量（Ｍｎ）は反応条件等を選択することにより調節できる。
【００６９】
（撥インク剤（Ｃ）の製造）
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における撥インク剤（Ｃ）は、上述した加水分解性シラン化合物混合物を加水分解し、部分縮合させる（以下、「反応工程」ともいう。）ことで製造できる。加水分解及び部分縮合は、上述の通り、加水分解性基の加水分解反応によるシラノール基の生成と、シラノール基同士の脱水縮合反応によるシロキサン結合を生成する反応である。反応工程には、加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させる反応に通常用いる反応条件を、特に制限なく適用することができ、例えば、水、触媒、有機溶媒等を用いることができる。
【００７０】
反応工程において水を用いる場合、その量は、加水分解性シラン化合物混合物の１００質量部に対して、２５〜９，９００質量部が好ましく、１００〜１，９００質量部が特に好ましい。水の量を上記範囲とすることで、加水分解及び縮合反応の制御がし易くなる。
【００７１】
反応工程に用いる触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸、シュウ酸、マレイン酸等の有機酸を用いることが好ましい。用いる触媒の量は、加水分解性シラン化合物混合物の１００質量に対して０．０１〜１０質量部が好ましく、０．１〜１質量部が特に好ましい。
【００７２】
上記反応工程には有機溶媒を用いてもよい。該有機溶媒としては、加水分解性シラン化合物を加水分解、縮合反応する際に、通常、用いる有機溶媒、具体的には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブタノール、２−メチル−２−プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール等のセルソルブ類；２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類；メチルアセテート、エチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、４−ブチロラクトン、ブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のエステル類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールのモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のグリコールのジアルキルエーテル類が挙げられる。その他には、ベンジルアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。有機溶媒は１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
反応工程において、有機溶媒の量は、加水分解性シラン化合物混合物の１００質量部に対して、２５〜９，９００質量部が好ましく、１００〜１，９００質量部が特に好ましい。
【００７３】
得られる部分加水分解縮合物は、反応工程で用いた溶媒と共に、ポジ型感光性樹脂組成物に配合される。したがって、反応工程に用いる溶媒としては、撥インク剤（Ｃ）中のシラノール基を安定化する溶媒を用いることが好ましい。シラノール基を安定化する溶媒としては、水酸基を有し、２５℃における比誘電率（ε）が５〜２０、好ましくは８〜１５の範囲の化合物が挙げられる。
【００７４】
具体的には、炭素原子数２〜８個のグリコール系のモノアルキルエーテルアセテート溶媒、グリコール系のモノアルキルエーテル溶媒、グライム系溶媒、炭素原子数２〜４個の炭化水素系アルコール等が挙げられる。
より具体的には、グリコール系のモノアルキルエーテルアセテート溶媒として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ε：８．３）、グリコール系のモノアルキルエーテル溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ε：１２．３）、炭化水素系アルコールとして、２−プロパノール（ε：１９．９２）等が挙げられる。プロピレングリコールモノメチルエーテルは、シラノール基の安定化効果が高い点で特に好ましい。
【００７５】
反応工程は、室温から溶媒の沸点までの温度で、適当な撹拌条件の下で実施することが好ましい。
反応時間は、用いる原料成分の量、反応温度、撹拌条件等にもよるが、概ね０．５〜２４時間、好ましくは１〜１０時間を挙げることができる。
反応終了後、得られた撥インク剤（Ｃ）を、有機溶媒を除去することなく、本発明のポジ型感光性樹脂組成物中に添加することもできる。通常の方法により有機溶媒を除去してから撥インク剤（Ｃ）を単離した後、ポジ型感光性樹脂組成物中に添加してもよい。
【００７６】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の撥インク剤（Ｃ）の含有量は、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜６質量％がより好ましく、０．２〜３質量％が特に好ましい。撥インク剤（Ｃ）の含有量が上記範囲であると、ポジ型感光性樹脂組成物の貯蔵安定性に優れ、また該ポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成される光学素子の隔壁は、撥インク性に優れ、滑らかな表面を有する。
【００７７】
［溶媒（Ｄ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、溶媒（Ｄ）を含有してもよい。
溶媒（Ｄ）を含有することで、該組成物の基板への塗工性、基板表面との密着性がより優れる。また、溶媒（Ｄ）を含有することで、該組成物中で、撥インク剤（Ｃ）を安定して存在させることができる。
溶媒（Ｄ）は、ポジ型感光性樹脂組成物が必須成分として含有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光剤（Ｂ）、撥インク剤（Ｃ）、任意成分として含有する熱硬化剤（Ｅ）、熱硬化促進剤（Ｆ）及びその他の添加剤を、均一に溶解又は分散させ、ポジ型感光性樹脂組成物に含まれる各成分と反応性を有しないものであれば、特に制限されない。
【００７８】
溶媒（Ｄ）の具体例としては、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類；２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類；メチルアセテート、エチルアセテート、ｎ−ブチルアセテート、エチルラクテート、ｎ−ブチルラクテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネート、シクロヘキサノールアセテート、乳酸ブチル、γ−ブチロラクトン、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、グリセリントリアセテート等のエステル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が挙げられる。その他には、ｎ−ブタン、ｎ−ヘキサン等の鎖式炭化水素；シクロヘキサン等の環式飽和炭化水素；トルエン、キシレン、ベンジルアルコール等の芳香族炭化水素；等が挙げられる。これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００７９】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物の溶媒（Ｄ）の含有量は、ポジ型感光性樹脂組成物の全固形分１００質量％に対して、５〜２，０００質量％が好ましく、１００〜５００質量％がより好ましい。
【００８０】
［熱硬化剤（Ｅ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、熱硬化を促進する任意成分として、熱硬化剤（Ｅ）を含んでもよい。
熱硬化剤（Ｅ）としては、アミノ樹脂、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、ポリイソシアネート化合物、及びポリカルボジイミド化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
アミノ樹脂としては、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、尿素系化合物等のアミノ基の一部又は全てをヒドロキシメチル化した化合物、又は該ヒドロキシメチル化した化合物の水酸基の一部又は全てをメタノール、エタノール、ｎ−ブチルアルコール、２−メチル−１−プロパノール等でエーテル化した化合物、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。
【００８１】
エポキシ化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル類；３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル等の脂環式エポキシ樹脂；ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート等のグリシジルエステル類；テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール等のグリシジルアミン類；トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ樹脂；等が挙げられる。
【００８２】
オキサゾリン化合物としては、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン等の重合性単量体の共重合体等が挙げられる。
これらの化合物は１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００８３】
熱硬化剤（Ｅ）としては、特に１分子中に２つ以上のエポキシ基を有する化合物が好ましい。ポジ型感光性樹脂組成物が熱硬化剤（Ｅ）を含むことにより、露光時におけるポジ型感光性樹脂組成物の硬化性がより優れ、熱硬化後の形状の安定化した隔壁を形成することができる。
【００８４】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の熱硬化剤（Ｅ）の含有量は、５〜２０質量％が好ましく、１０〜１５質量％が特に好ましい。上記範囲であると、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を有する硬化膜を形成させた際に、隔壁表面以外（ドット）のインクの濡れ性がより優れる。
【００８５】
［熱硬化促進剤（Ｆ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、熱硬化を促進する任意成分として、熱硬化促進剤（Ｆ）を含んでもよい。
【００８６】
熱硬化促進剤（Ｆ）とは、加熱によりポジ型感光性樹脂組成物中に架橋構造を形成する作用を有する化合物である。
熱硬化促進剤（Ｆ）としては、例えば、それ自体が熱硬化剤（Ｅ）と反応し、架橋して架橋構造を形成する化合物や、それ自体は架橋せず、熱硬化剤（Ｅ）に対して触媒作用を有する化合物が挙げられる。
熱硬化剤（Ｅ）としてエポキシ化合物を用いる場合、架橋構造を形成する熱硬化促進剤（Ｆ）としては、ポリアミン類、ポリチオール類、ポリカルボン酸無水物が挙げられる。より具体的には、ポリアミン類として、エチレンジアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ヘキサメチレンジアミン、ポリオキシアルキレンポリアミン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、３，９−ビス（３−アミノプロピル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカンが挙げられる。ポリチオール類として、ポリエーテルポリチオール、ポリカルボン酸無水物として、水コハク酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。
触媒作用を有するものとしては、３級アミン類、イミダゾール類、ルイス酸類、オニウム塩類、ジシアンジアミド類、有機酸ジヒドラジド類、ホスフィン類等の硬化触媒が挙げられる。より具体的には、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、三フッ化ホウ素−アミン錯体、ジシアンジアミド、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
熱硬化促進剤（Ｆ）は、これらの１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００８７】
熱硬化剤（Ｅ）が１分子中に２つ以上のエポキシ基を有する化合物である場合には、熱硬化促進剤（Ｆ）としては２−メチルイミダゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾールが特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物における全固形分中の熱硬化促進剤（Ｆ）の含有量は、０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜３質量％が特に好ましい。
【００８８】
［着色剤（Ｇ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を、液晶表示素子のカラーフィルタのＲ、Ｇ、及びＢの三色の画素を囲む格子状の黒色部分であるブラックマトリックス形成のために用いる場合、着色剤（Ｇ）を含むことが好ましい。
着色剤（Ｇ）は、例えば、カーボンブラック、アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、６、７、１２、２０、３１等が挙げられる。着色剤（Ｇ）としては、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料等の有機顔料や無機顔料の混合物を用いることもできる。
【００８９】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に着色剤（Ｇ）を含有させ、ブラックマトリックス形成等に用いる場合、該ポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の着色剤（Ｇ）の含有量は、１５〜６５質量％が好ましく、２０〜５０質量％が特に好ましい。上記範囲であると、ポジ型感光性樹脂組成物は感度に優れ、また、形成される隔壁は遮光性に優れる。
【００９０】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、上記着色剤（Ｇ）等の分散性材料を含有する場合には、その分散性を向上させるために、さらに、高分子分散剤、分散助剤等を含有してもよい。これらは、本発明の効果を損なわない範囲の含有量でポジ型感光性樹脂組成物に含有できる。
【００９１】
［シランカップリング剤（Ｈ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、必要に応じて、シランカップリング剤（Ｈ）を含んでもよい。シランカップリング剤（Ｈ）を含有することにより、形成される硬化膜の基板密着性がより優れる。
シランカップリング剤（Ｈ）としては、テトラエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、へプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、ポリオキシアルキレン鎖含有トリエトキシシラン等が挙げられる。これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００９２】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中のシランカップリング剤（Ｈ）の含有量は、０．１〜２０質量％が好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。上記範囲の下限値以上であると、ポジ型感光性樹脂組成物から形成される硬化膜の基板密着性がより優れ、上記範囲の上限値以下であると、硬化膜の撥インク性が良好である。
【００９３】
［微粒子（Ｉ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、必要に応じて、微粒子（Ｉ）を含んでもよい。微粒子（Ｉ）を含有することにより、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成される隔壁の熱垂れを防止できる。
【００９４】
微粒子（Ｉ）としては、特に限定されず、シリカ、ジルコニア、フッ化マグネシウム、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等の無機系微粒子；ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の有機系微粒子等が挙げられる。耐熱性の点からは、無機系微粒子が好ましく、入手容易性や分散安定性の点からは、シリカ又はジルコニアが特に好ましい。
また、ポジ型感光性樹脂組成物が、着色剤（Ｇ）及び高分子分散剤を含有する場合には、該高分子分散剤の吸着能を考慮すれば、微粒子（Ｉ）は、負に帯電していることが好ましい。
さらに、ポジ型感光性樹脂組成物の露光感度を考慮すると、微粒子（Ｉ）は、露光時に照射される光を吸収しないことが好ましく、超高圧水銀灯の主発光波長であるｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、及びｇ線（４３６ｎｍ）を吸収しないことが特に好ましい。
【００９５】
微粒子（Ｉ）の平均粒子径は、隔壁の表面平滑性が良好になる点から、平均粒子径が１μｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以下が特に好ましい。なかでも、平均粒子径としては、５〜１００ｎｍが最も好ましい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における全固形分中の微粒子（Ｉ）の含有量は、５〜３５質量％が好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。含有量が上記範囲の下限値以上であると、撥インク性の低下抑制効果があり、上記範囲の上限値以下であると、ポジ型感光性樹脂組成物の貯蔵安定性に優れる。
【００９６】
［その他の添加剤］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物には、その他添加剤として、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、増粘剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、ハジキ防止剤及び紫外線吸収剤からなる群から選ばれる１種以上を配合してもよい。
【００９７】
［ポジ型感光性樹脂組成物の製造方法］
ポジ型感光性樹脂組成物を製造する方法として、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光剤（Ｂ）、撥インク剤（Ｃ）、必要に応じて、溶媒（Ｄ）、熱硬化剤（Ｅ）、熱硬化促進剤（Ｆ）、着色剤（Ｇ）、シランカップリング剤（Ｈ）、微粒子（Ｉ）、及びその他の添加剤と混合する方法が好ましい。
混合は、攪拌機を用いて、温度が２０℃〜２５℃、時間を３ｈｒ〜６ｈｒで行われ、得られた組成物は、そのまま使用される。
【００９８】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、通常のポジ型感光性樹脂組成物と同様に、フォトリソグラフィ等の材料として用いられ、得られた硬化膜は、通常のポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜が用いられる光学素子の部材として、使用できる。
【００９９】
［隔壁及びその製造方法］
本発明の隔壁は、基板上に区画を設けるために形成される隔壁であって、上記本発明のポジ型感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥して、硬化させてなる硬化膜からなる。
本発明の隔壁は、光学素子の用途に好適に用いられ、上記ポジ型感光性樹脂組成物が着色剤（Ｇ）を含有する場合には、得られる隔壁はブラックマトリックスとしての適用が可能である。
本発明の隔壁は、例えば、基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有する光学素子用の隔壁に適用される。
【０１００】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて、光学素子用の隔壁を製造する方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。
【０１０１】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布して塗膜を形成し（塗膜形成工程）、次いで、該塗膜を乾燥して膜とし（プリベーク工程）、次いで、該膜の隔壁とならない部分のみを露光し（露光工程）、その後、上記露光した部分の塗膜を除去して上記塗膜の未露光部分からなる隔壁を形成させる（現像工程）。次いで、必要に応じて上記形成された隔壁等を、さらに熱硬化させる（ポストベーク工程）ことにより、本発明の光学素子用の隔壁が製造できる。
【０１０２】
基板の材質は特に限定されるものではないが、各種ガラス板；ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート等）、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリイミド、ポリメタクリル樹脂、アクリル樹脂等の熱可塑性プラスチックシート；エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂の硬化シート；等が使用できる。特に、耐熱性の点からガラス板、ポリイミド等の耐熱性プラスチックが好ましい。また、透明基板であることが好ましい。
【０１０３】
基板の形状や隔壁が形成される表面については、特に制限されず、用途に応じて適宜選択される。基板が板状である場合には、平板でもよく、全面又は一部が曲率を有していてもよい。基板の厚さは隔壁の用途により適宜選択できるが、一般的には０．５〜１０ｍｍが好ましい。
【０１０４】
本発明に用いる基板は、ポジ型感光性樹脂組成物を塗布する面を予めアルコール洗浄、紫外線／オゾン洗浄等で洗浄しておくことが好ましい。
【０１０５】
図１は、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いた光学素子用隔壁の製造例を模式的に示す断面図である。
図１（Ｉ）は、基板１上に本発明のポジ型感光性樹脂組成物からなる塗膜２が形成された状態の断面を示す図である。
図１（ＩＩ）は露光工程を模式的に示す図である。
図１（ＩＩＩ）は、現像工程後の基板１と基板上に形成された隔壁６を示す断面図である。
以下、図１を用いて、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いた光学素子用隔壁の製造方法を具体的に説明する。
【０１０６】
（塗膜形成工程）
図１（Ｉ）に断面を示すように、基板１上に上記本発明のポジ型感光性樹脂組成物を塗布して、ポジ型感光性樹脂組成物からなる塗膜２を形成する。
【０１０７】
ポジ型感光性樹脂組成物の塗布方法としては、膜厚が均一な塗膜が形成される方法であれば特に制限されず、スピンコート法、スプレー法、スリットコート法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法等、通常の塗膜形成に用いられる方法が挙げられる。
塗膜２の膜厚は最終的に得られる隔壁の高さを勘案して決められる。塗膜２の膜厚は、最終的に得られる隔壁の高さの１００〜２００％が好ましく、１００〜１３０％が特に好ましい。塗膜２の膜厚は０.３〜３２５μｍが好ましく、１.３〜６５μｍが特に好ましい。
【０１０８】
（プリベーク工程）
上記塗膜形成工程で基板１上に形成された塗膜２を加熱し、膜２を得る。加熱によって、塗膜を構成するポジ型感光性樹脂組成物に含まれる溶媒を含む揮発成分が揮発、除去され、粘着性のない膜が得られる。また、撥インク剤（Ｃ）が膜表面近傍に移行する。
加熱の方法としては、基板１と共に塗膜２をホットプレート、オーブン等の加熱装置により、５０〜１２０℃、好ましくは７０〜１１０℃で、１０〜２，０００秒間、好ましくは３０〜１８０秒間程度加熱処理する方法が挙げられる。
【０１０９】
溶媒等の揮発成分を除去するために、加熱（乾燥）以外の真空乾燥等の乾燥工程を、プリベーク工程の前に別に設けてもよい。また、塗膜外観のムラを発生させず、効率よく乾燥させるために、上記プリベーク工程による乾燥を兼ねた加熱と、真空乾燥を併用することがより好ましい。真空乾燥の条件は、各成分の種類、配合割合等によっても異なるが、５００〜１０Ｐａで１０〜３００秒間程度の幅広い範囲で行うことができる。
【０１１０】
（露光工程）
図１（ＩＩ）に示すように、膜２に所定パターンのマスク４を介して光５を照射する。上記マスク４に切られた所定パターン部分のみを光５が透過し、基板１上の膜２に到達する。露光部のみがアルカリ可溶化するため、上記所定パターンは隔壁の形状に適合する形に設けられる。ポストベーク工程後に隔壁の幅の平均が、１００μｍ以下となることが好ましく、２０μｍ以下が特に好ましい。また、隣接する隔壁間の距離の平均が、３００μｍ以下となることが好ましく、１００μｍ以下が特に好ましい。マスク４としては、該範囲となるようにパターンを形成したものを用いることが好ましい。
【０１１１】
図１（ＩＩ）において、光が照射された膜の露光部分は、ポジ型感光性樹脂組成物の可溶化部分となり、一方、未露光部分３は、ポジ型感光性樹脂組成物の膜２そのものの状態である。
【０１１２】
照射する光５としては、可視光；紫外線；遠紫外線；ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２エキシマレーザー、Ｋｒ２エキシマレーザー、ＫｒＡｒエキシマレーザー、Ａｒ２エキシマレーザー等のエキシマレーザー；Ｘ線；電子線等が挙げられる。また、照射光５としては、波長１００〜６００ｎｍの電磁波が好ましく、３００〜５００ｎｍの範囲に分布を有する光線がより好ましく、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）及びｇ線（４３６ｎｍ）が特に好ましい。
【０１１３】
照射装置（図示されていない）としては、公知の超高圧水銀灯やディープ（Ｄｅｅｐ）ＵＶランプ等を用いることができる。露光量は、５〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、５０〜４００ｍＪ／ｃｍ２が特に好ましい。露光量が上記範囲の下限値以上であると、ポジ型感光性樹脂組成物の可溶化する部分の現像液に対する溶解性が充分となり、現像残渣がなくなる。上記範囲の上限値以下であると、高い解像度が得られる。
露光時間としては、露光量、感光組成物の組成、塗膜の厚さ等にもよるが、１〜６０秒間が好ましく、５〜２０秒間が特に好ましい。
【０１１４】
（現像工程）
現像液を用いて現像を行い、図１（ＩＩ）に示される基板１上の露光部分を除去する。これにより、図１（ＩＩＩ）に断面図が示されるような、基板１と上記基板上にポジ型感光性樹脂組成物の膜により形成された隔壁６の構成が得られる。また、隔壁６と基板１で囲まれた部分は、インク注入等により画素が形成されるドット７と呼ばれる部分である。得られた基板１０は、後述のポストベーク工程を経て、インクジェット方式での光学素子に用いることができる。
【０１１５】
現像液としては、無機アルカリ類、アミン類、アルコールアミン類、第４級アンモニウム塩等のアルカリ類を含むアルカリ水溶液、好ましくは、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリ類を含むアルカリ水溶液を用いることができる。
また現像液には、溶解性の向上や残渣除去のために、界面活性剤やアルコール等の有機溶媒を添加することができる。
【０１１６】
現像時間（現像液に接触させる時間）は、５〜１８０秒間が好ましく、１０〜６０秒間がより好ましい。
現像方法は液盛り法、ディッピング法、シャワー法等が挙げられる。現像後、高圧水洗や流水洗浄を行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、基板１及び隔壁６上の水分を除去できる。
【０１１７】
（ポストベーク工程）
ポストベーク工程として、基板１上の隔壁６を加熱する。加熱の方法としては、基板１と共に隔壁６をホットプレート、オーブン等の加熱装置により、１５０〜２５０℃で、５〜９０分間加熱処理をする方法が挙げられる。
加熱により、基板１上のポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜からなる隔壁６がさらに硬化し、隔壁６と基板１で囲まれるドット７の形状もより固定化される。なお、上記加熱温度は１８０℃以上であることが特に好ましい。加熱温度が低すぎると隔壁６の硬化が不充分で、充分な耐薬品性が得られない。ドット７に後述するインク注入工程にてインクを注入した場合に、該インクに含まれる溶媒によっては、隔壁６が膨潤したり、インクが滲むおそれがある。一方、加熱温度が高すぎると、隔壁６の熱分解が生じるおそれがある。
【０１１８】
形成する隔壁の幅の平均は、１００μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下が特に好ましい。なかでも、５〜２０μｍが最も好ましい。
また、隣接する隔壁間の距離（ドットの幅）の平均は、３００μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下が特に好ましい。なかでも、３０〜８０μｍが最も好ましい。
また、隔壁の高さの平均は、０．０５〜５０μｍが好ましく、０．２〜１０μｍが特に好ましい。
【０１１９】
［光学素子の製造方法］
本発明の光学素子は、上記製造方法によって基板上に隔壁を形成した後、例えば、上記基板と上記隔壁で囲まれた領域内の露出した基板表面に、親インク化処理をし（親インク化処理工程）、次いで、上記領域にインクジェット法によりインクを注入して上記画素を形成する（インク注入工程）ことにより得られる。
【０１２０】
（親インク化処理工程）
親インク化処理の方法としては、アルカリ水溶液による洗浄処理、紫外線洗浄処理、紫外線／オゾン洗浄処理、エキシマ洗浄処理、コロナ放電処理、酸素プラズマ処理等の方法が挙げられる。
アルカリ水溶液による洗浄処理は、アルカリ水溶液（水酸化カリウム、テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液等）を用いて基板表面を洗浄する湿式処理である。
紫外線洗浄処理は、紫外線を用いて基板表面を洗浄する乾式処理である。
紫外線／オゾン洗浄処理は、１８５ｎｍと２５４ｎｍの光を発光する低圧水銀ランプを用いて、基板表面を洗浄する乾式処理である。
エキシマ洗浄処理は、１７２ｎｍの光を発光するキセノンエキシマランプを用いて、基板表面を洗浄する乾式処理である。
コロナ放電処理は、高周波高電圧を利用し、空気中にコロナ放電を発生させ、基板表面を洗浄する乾式処理である。
酸素プラズマ処理は、主に真空中で、高周波電源等をトリガーとして酸素を励起させ、反応性の高い「プラズマ状態」にしたものを用いて、基板表面を洗浄する乾式処理である。
【０１２１】
親インク化処理の方法としては、簡便である点で、紫外線／オゾン洗浄処理等の乾式処理法が好ましい。紫外線／オゾンは市販の装置を用いて発生させることができる。
紫外線／オゾン装置内部に隔壁が形成された基板を設置し、空気中、室温で、１〜１０分程度、隔壁の撥油性を損なわない範囲で処理を行うことにより、親インク化処理を行うことができる。なお、処理時間については、個々の紫外線／オゾン装置にあわせて、隔壁の撥インク性を損なわない範囲となるよう調整すればよい。
【０１２２】
親インク化処理により、上記隔壁の形成後に、ドットに残る現像残渣の除去等を充分に行うことで、ドットの親インク化を充分に計ることができ、得られる光学素子を用いたカラー表示装置等の白抜け現象を防止することが可能となる。また、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成される隔壁を用いれば、上記紫外線洗浄処理等で、隔壁の撥インク性を低下させることなく、親インク化を行うことが可能である。
【０１２３】
ここで、ポジ型感光性樹脂組成物から形成される硬化膜の撥インク性（撥水撥油性）は、水及びＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：インクの溶媒として多く使用されている有機溶媒。）の接触角で見積もることができる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成された隔壁を有する基板を用いて光学素子を製造する場合、隔壁は上記親インク化処理後も、充分な撥インク性を有することが求められる。隔壁の水の接触角は９０度以上が好ましく、９５度以上が特に好ましい。また、隔壁のＰＧＭＥＡの接触角は３０度以上が好ましく、３５度以上が特に好ましい。
一方、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成された隔壁を有する基板を用いて光学素子を製造する場合、ドットについては、親インク性であることが求められ、その水の接触角は２０度以下が好ましく、１０度以下が特に好ましい。
【０１２４】
（インク注入工程）
親インク化処理工程後のドットにインクジェット法によりインクを注入して画素を形成する工程である。
この工程は、インクジェット法において一般的に用いられるインクジェット装置を用いて、通常の方法と同様に行うことができる。このような画素の形成に用いられるインクジェット装置としては、特に限定されるものではないが、帯電したインクを連続的に噴射し磁場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱し、その発泡を利用して間欠的に噴射する方法等の、各種の方法を用いたインクジェット装置を用いることができる。
【０１２５】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて製造する光学素子としては、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、有機ＴＦＴアレイ等が挙げられる。
【０１２６】
［カラーフィルタの製造］
隔壁の形成、ドットの親インク化処理、インクジェット法によるインク注入は上述の通りである。
カラーフィルタにおいて、形成される画素の形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知のいずれの配列とすることも可能である。
【０１２７】
画素の形成に用いられるインクは、主に着色成分とバインダー樹脂成分と溶媒とを含んでいる。
着色成分としては、耐熱性、耐光性等に優れた顔料及び染料を用いることが好ましい。
バインダー樹脂成分としては、透明で耐熱性に優れた樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。
水性のインクは、溶媒として水及び必要に応じて水溶性有機溶媒を含み、バインダー樹脂成分として水溶性樹脂又は水分散性樹脂を含み、必要に応じて各種助剤を含む。
また、油性のインクは、溶媒として有機溶媒を含み、バインダー樹脂成分として有機溶媒に可溶な樹脂を含み、必要に応じて各種助剤を含む。
インクジェット法によりインクを注入した後は、必要により、乾燥、加熱硬化、及び／又は紫外線硬化を行うことが好ましい。
【０１２８】
画素形成した後、必要に応じて、オーバーコート用塗布液を用いて保護膜層を形成する。
保護膜層は表面平坦性を上げる目的と隔壁や画素部のインクからの溶出物が液晶層に到達するのを遮断する目的で形成することが好ましい。
保護膜層を形成する場合は、事前に隔壁の撥インク性を除去することが好ましい。撥インク性を除去しない場合、オーバーコート用塗布液をはじき、均一な膜厚が得られないため好ましくない。
隔壁の撥インク性を除去する方法としては、プラズマアッシング（Plasma Ashing）処理や光アッシング処理等が挙げられる。
さらに必要に応じて、カラーフィルタを用いて製造される液晶パネルの高品位化のために、フォトスペーサを隔壁で構成されるブラックマトリックス上に形成することが好ましい。
【０１２９】
［有機ＥＬ素子の製造］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する前に、ガラス等の透明基板にスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透明電極をスパッタ法等によって製膜し、必要に応じて、所望のパターンに透明電極をエッチングする。次に、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成し、ドットの親インク化処理をした後、インクジェット法を用いてドットに正孔輸送材料、発光材料の溶液を順次塗布し、乾燥して、正孔輸送層、及び発光層を形成する。その後、アルミニウム等の電極を蒸着法等によって形成することによって、有機ＥＬ素子の画素が得られる。
【０１３０】
［有機ＴＦＴアレイの製造］
以下の（１）〜（３）の工程を経て、有機ＴＦＴアレイを製造することができる。
（１）ガラス等の透明基板に本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する。次いで、ドットの親インク化処理をした後、インクジェット法を用いて、ドットにゲート電極材料の溶液を塗布し、ゲート電極を形成する。
（２）ゲート電極を形成させた後、その上にゲート絶縁膜を形成させる。次いで、ゲート絶縁膜上に、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成し、ドットの親インク化処理をした後、インクジェット法を用いてドットにソース・ドレイン電極材料の溶液を塗布し、ソース・ドレイン電極を形成する。
（３）ソース・ドレイン電極を形成させた後、一対のソース・ドレイン電極を含む領域を囲むように、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する。次いで、ドットの親インク化処理をした後、インクジェット法を用いて、ドットに有機半導体の溶液を塗布し、有機半導体層をソース・ドレイン電極間に形成させる。
なお、工程（１）〜（３）は、それぞれの１工程のみにおいて、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いた隔壁を形成し、利用してもよいし、２つ以上の工程において、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いた隔壁を形成し、利用してもよい。
【実施例】
【０１３１】
以下に実施例を用いて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定して解釈されるものではない。
例１〜４が実施例であり、例５が比較例である。【０１３２】
各測定は以下の方法で行った。
［数平均分子量（Ｍｎ）］
分子量測定用の標準試料として市販されている重合度の異なる数種の単分散ポリスチレン重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を、市販のＧＰＣ測定装置（東ソー社製、装置名：ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ）を用いて測定し、ポリスチレンの分子量と保持時間（リテンションタイム）との関係をもとに検量線を作成した。
試料をテトラヒドロフランで１．０質量％に希釈し、０．５μｍのフィルターに通過させた後、該試料についてのＧＰＣを、前記ＧＰＣ測定装置を用いて測定した。
前記検量線を用いて、試料のＧＰＣスペクトルをコンピュータ解析することにより、該試料の数平均分子量（Ｍｎ）を求めた。【０１３３】
［水接触角］
静滴法により、ＪＩＳ  Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に準拠して、基板上の測定表面の３ヶ所に水滴を載せ、各水滴について測定した。液滴は２μＬ／滴であり、測定は２０℃で行った。接触角は、３測定値の平均値（ｎ＝３）で示す。【０１３４】
［ＰＧＭＥＡ接触角］
静滴法により、ＪＩＳ  Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に準拠して、基板上の測定表面の３ヶ所にＰＧＭＥＡ滴を載せ、各ＰＧＭＥＡ滴について測定した。液滴は２μＬ／滴であり、測定は２０℃で行った。接触角は、３測定値の平均値（ｎ＝３）で示す。【０１３５】
合成例１〜５及び例１〜５で用いた化合物の略語は以下の通りである。
（アルカリ可溶性樹脂（Ａ））
ＥＰ４０２０Ｇ（商品名；ＥＰ４０２０Ｇ、旭有機材工業社製、クレゾールノボラック樹脂  （質量平均分子量（Ｍｗ）：１１，６００、溶解速度：１６４（オングストローム／秒））。【０１３６】
（感光剤（Ｂ））
４ＮＴ−２５０（商品名；４ＮＴ−２５０、東洋合成社製（２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−ナフタレン−１−スルホン酸との（モノ〜テトラ）エステル））。【０１３７】
（撥インク剤（Ｃ）の原料としての加水分解性シラン化合物）
加水分解性シラン化合物（ｃ−１）に相当する、化合物（ｃ−１１）：ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（旭硝子社製）。
加水分解性シラン化合物（ｃ−２）に相当する、化合物（ｃ−２１）：Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４（コルコート社製）。
加水分解性シラン化合物（ｃ−３）に相当する、化合物（ｃ−３１）：Ｃ６Ｈ５Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３（信越化学工業社製）。
加水分解性シラン化合物（ｃ−３）に相当する、化合物（ｃ−３２）：Ｃ６Ｈ５ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（信越化学工業社製）。
Ｃ６ＦＭＡ：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ。
ＭＥＫ：メチルエチルケトン。
ＭＡＡ：メタクリル酸。
ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート。
ＭＭＡ：メチルメタクリレート。
Ｖ−６５：（商品名、和光化学工業社製（２，２’−アゾビス（２．４ジメチルバレロニトリル）（重合開始剤））。【０１３８】
（溶媒（Ｄ））
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート。
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル（東邦化学社製）。
（熱硬化剤（Ｅ））
ＴＥＰ−Ｇ（商品名；ＴＥＰ−Ｇ、旭有機材工業社製、エポキシ樹脂）。
（熱硬化促進剤（Ｆ））
２−ＭＩ（商品名、東京化成工業社製（２−メチルイミダゾール））。【０１３９】
［合成例１〜３：撥インク剤（ＣＡ１）〜（ＣＡ３）の合成及び（ＣＡ１−１）〜（ＣＡ３−１）液の調製］
撹拌機を備えた５０ｃｍ３の三口フラスコに、上記化合物（ｃ−１１）の０．５７ｇ、上記化合物（ｃ−２１）の１．２７ｇ、及び上記化合物（ｃ−３１）の０．７４ｇを入れて、撥インク剤（Ｃ１）の原料混合物を得た。次いで、該原料混合物にＰＧＭＥの９．８５ｇを入れて、溶液（原料溶液）とした。
得られた原料溶液に、室温で、撹拌しながら、触媒として１．０質量％リン酸水溶液を１．３３ｇ滴下した。滴下終了後、さらに、５時間撹拌し、加水分解及び部分縮合反応を行い、撥インク剤（ＣＡ１）を１０質量％で含有するＰＧＭＥ溶液である（ＣＡ１−１）液を得た。
触媒として１．０質量％リン酸水溶液の代わりに表１に示すものを１．３３ｇ使用する以外は、合成例１同様に実施し、撥インク剤（ＣＡ２）〜（ＣＡ３）を１０質量％で含有するＰＧＭＥ溶液である（ＣＡ２−１）〜（ＣＡ３−１）液を得た。【０１４０】
［合成例４：撥インク剤（ＣＡ４）の合成及び（ＣＡ４−１）液の調製］
上記化合物（ｃ−３１）に代えて上記化合物（ｃ−３２）を用いる以外は、合成例１と同様に実施し、撥インク剤（ＣＡ４）の原料溶液を調製した。
得られた原料溶液に、室温で、撹拌しながら、１．０質量％硝酸水溶液を０．９３ｇ滴下した。滴下終了後、さらに、５時間撹拌し、加水分解及び部分縮合反応を行い、撥インク剤（ＣＡ４）を１０質量％で含有するＰＧＭＥ溶液である（ＣＡ４−１）液を得た。【０１４１】
［合成例５：撥インク剤（ＣＡ５）及び（ＣＡ５−１）液の調製］
撹拌機を備えた内容積１０００ｃｍ３のオートクレーブに、ＭＥＫの４２０．０ｇ、Ｃ６ＦＭＡの８６．４ｇ、ＭＡＡの１８．０ｇ、ＧＭＡの２１．６ｇ、ＭＭＡの５４．０ｇ及びＶ−６５の０．８ｇを仕込み、窒素雰囲気下で撹拌しながら、５０℃で２４時間重合反応させ、粗共重合体を合成した。得られた粗共重合体の溶液に、ヘキサンを加えて再沈し、精製した後、真空乾燥した。得られた固形物にＰＧＭＥＡの１４，６４３ｇを加えて撹拌し、撥インク剤（ＣＡ５）を１０質量％で含有するＰＧＭＥＡ溶液である（ＣＡ５−１）液を得た。【０１４２】
上記合成例１〜５で調製して得た、撥インク剤を１０質量％で含有する溶液（ＣＡ１−１）〜（ＣＡ５−１）の溶媒を除いた組成物、すなわち撥インク剤（ＣＡ１）〜（ＣＡ５）の含フッ素含有率（フッ素原子の質量％）と、数平均分子量（Ｍｎ）を表１に示す。
また撥インク剤 （ＣＡ１）〜（ＣＡ５）の仕込み量組成（モル％）も表１に示す。【０１４３】
【表１】
2013133392.tif 000011
【０１４４】
［例１］
（ポジ型感光性樹脂組成物１の製造）
（ＣＡ１−１）液の１ｇ（固形分は０．１ｇ、残りはＰＧＭＥ（溶媒））、ＥＰ４０２０Ｇの１５．６ｇ、４ＮＴ−２５０の５．４ｇ、ＴＥＰ−Ｇの３．１ｇ、２−ＭＩの０．８ｇ、及びＰＧＭＥＡの７４．１ｇを５００ｃｍ３の撹拌用容器に入れ、３０分間撹拌して、ポジ型感光性樹脂組成物１を調製した。【０１４５】
（硬化膜の製造）
１０ｃｍ四方のガラス基板をエタノールで３０秒間超音波洗浄し、次いで、５分間の紫外線／オゾン洗浄を行った。紫外線／オゾン洗浄には、紫外線／オゾン発生装置としてＰＬ７−２００（センエジニアリング社製）を使用した。なお、以下の全ての紫外線／オゾン処理についても、紫外線／オゾン発生装置として本装置を使用した。【０１４６】
上記洗浄後のガラス基板表面に、スピンナを用いて、ポジ型感光性樹脂組成物１を塗布した後、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥させ、膜厚１．３μｍの膜を形成した。得られた膜の表面に、膜側から、開孔パターン（２．５ｃｍ×５ｃｍ）を有するフォトマスク（該パターン部の領域に光照射がされるフォトマスク）を介して５０μｍの間隙をあけ、高圧水銀ランプの紫外線を２５ｍＷ／ｃｍ２で１０秒間照射した。【０１４７】
次いで、露光処理がなされたガラス基板を２．３８質量％テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液に４０秒間浸漬して現像し、露光部分の膜を水により洗い流し、乾燥させた。次いで、これをホットプレート上、２３０℃で２０分間加熱することにより、上記開孔パターン部を除く領域にポジ型感光性樹脂組成物１の硬化膜が形成されたガラス基板１を得た。【０１４８】
（評価）
上記で得られたポジ型感光性樹脂組成物１及び硬化膜（隔壁）が形成されたガラス基板１について以下の評価を行った。
＜撥インク性（隔壁）、親インク性（ドット）、及び現像残渣＞
得られたガラス基板１の硬化膜、すなわち隔壁表面（未露光部分）のＰＧＭＥＡに対する接触角と、現像により膜が除去された部分、すなわちドット部分（ガラス基板表面）の水に対する接触角を測定した。この時、ドット部分の水に対する接触角により現像残渣についての評価を行った。評価は以下のように行った。
○（良好）：水の接触角が３０度未満 。
×（不良）：水の接触角が３０度以上。
その後、ガラス基板１の硬化膜が形成された側の表面全体に、紫外線／オゾン照射を１分間行った。１分照射後の硬化膜表面のＰＧＭＥＡに対する接触角及びガラス基板表面の水に対する接触角を測定した。測定方法は上述の通りである。評価結果を表２に示す。【０１４９】
＜貯蔵安定性＞
ポジ型用感光性組成物をガラス製スクリュー瓶にて２３℃（室温）で一カ月保存した。一カ月保存後、例１と同様の方法で洗浄した１０ｃｍ×１０ｃｍのガラス基板表面に、スピンナを用いて、ポジ型用感光性組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥させ、膜厚１μｍの膜を形成した。膜の外観を目視にて観察し、以下のように評価した。
○（良好）：膜上の異物が５個以下である。
×（不良）：膜上の異物が６個以上で、ガラス基板の中心部から放射状の筋模様が観察された。【０１５０】
［例２〜５］
（ＣＡ１−１）液に代えて、表に示す（ＣＡ２−１）〜（ＣＡ５−１）液を用いた以外は、例１と同様にしてポジ型感光性樹脂組成物２〜５及びポジ型感光性樹脂組成物２〜５の硬化膜が形成されたガラス基板２〜５を作製し、それらについて例１と同様にして評価した。
結果を、まとめて表２に示す。また、例１〜５で得られた組成物の組成も合わせて表２に示す。【０１５１】
【表２】
2013133392.tif 000012
【０１５２】
表２からわかるように、例１〜４で得られたポジ型感光性樹脂組成物は、貯蔵安定性に優れる。該組成物を用いることにより、現像残渣のない隔壁を得ることができる。例１〜４で得られた硬化膜は、本発明の撥インク剤を用いたため、撥インク性に優れ、紫外線／オゾン照射後も撥インク性に優れ、かつドット（ガラス基板表面）は良好な親インク性を有することがわかる。
一方、本発明によらない撥インク剤を用いた例５で得られた硬化膜は、紫外線／オゾン照射後の撥インク性が不充分であった。
【産業上の利用可能性】
【０１５３】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、撥インク性に優れ、紫外線／オゾン照射を経ても撥インク性に優れ、かつ、ドットに残留物が少ない隔壁を製造することが可能であり、インクジェット記録技術法を利用したカラーフィルタの製造、有機ＥＬ素子の製造、有機ＴＦＴアレイの製造における隔壁の形成に好適に用いることができ、特に大面積の基板の隔壁の形成に好適に用いられる。
なお、２０１２年３月９日に出願された日本特許出願２０１２−０５３４４８号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【符号の説明】
【０１５４】
１…基板、２…ポジ型感光性樹脂組成物の塗膜、３…塗膜の未露光部分、４…マスク、５…光、６…隔壁、７…ドット、１０…インクジェット方式に用いる光学素子用基板
【図１】
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【国際調査報告】
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