(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合体組成物（Ａ−１）と、
溶媒（Ｂ）と
を含み、前記重合体組成物（Ａ−１）が、テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）とジアミン化合物（ｂ）を反応させることによって得られ、
前記ジアミン化合物（ｂ）が、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）のうちの少なくとも１種、および式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のうちの少なくとも１種を含み、
【化１】
0005902334.tif 000106
式（I）
式（I）において、Ｒ1およびＲ3が、それぞれ独立して、エーテル基、チオエーテル基、エステル基、またはチオエステル基を示し、
Ｒ2が、不飽和結合を含むアルキレン基を示し、
Ｒ4が、単結合、メチレン基、またはエチレン基を示し、
Ａが、ステロイド骨格を有する炭素数１７〜４０の一価有機基を示し、
【化２】
0005902334.tif 000107
式（II）
式（II）において、Ｒ5およびＲ6が、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはシアノ基を示し、
ａおよびｂが、それぞれ独立して、０〜４の整数を示し、
ｃが、０または１を示し、
＊が、それぞれ独立して、結合位置を示す液晶配向剤。
【請求項２】
前記式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）が、式（II−１）で表される構造、式（II−２）で表される構造、またはこれらの組み合わせを含み、
【化３】
0005902334.tif 000108
式（II−１）
0005902334.tif 000109
式（II−２）
式（II−１）および式（II−２）において、
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ11、およびＲ12が、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはシアノ基を示し、
Ｒ10およびＲ13が、それぞれ独立して、炭素数１〜４０のアルキル基またはフッ素原子で置換された炭素数１〜４０のアルキル基を示し、
Ｙ1、Ｙ2、およびＹ3が、それぞれ独立して、
0005902334.tif 000110
または
0005902334.tif 000111
を示し、Ｒ14が、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、
Ｚ1およびＺ2が、それぞれ独立して、メチレン基、アリーレン基、二価の脂肪族環基、-Si(CH3)2-、-CH=CH-、-C≡C-、置換基を有するメチレン基、置換基を有するアリーレン基、置換基を有する二価の脂肪族環基、置換基を有する-Si(CH3)2-、または置換基を有する-CH=CH-を示し、前記置換基が、シアノ基、ハロゲン原子、または炭素数１〜４のアルキル基であり、
ｄ、ｅ、ｊ、およびｋが、それぞれ独立して、０〜４の整数を示し、
ｆおよびｍが、０または１を示し、
ｇおよびｎが、それぞれ独立して、１〜６の整数を示し、
ｈおよびｐが、それぞれ独立して、０〜２の整数を示し、
ｉが、０または１の整数を示し、
＊が、それぞれ独立して、結合位置を示す請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項３】
前記ジアミン化合物（ｂ）の合計モル数１００モルに対し、前記式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）の使用量が、０．５〜５０モルであり、前記式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）の使用量が、１０〜８０モルである請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項４】
前記式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）と前記式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のモル比（ｂ−１）／（ｂ−２）が、０．０５〜１．５である請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項５】
前記式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）と前記式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のモル比（ｂ−１）／（ｂ−２）が、０．１〜１．３である請求項４に記載の液晶配向剤。
【請求項６】
前記式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）と前記式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のモル比（ｂ−１）／（ｂ−２）が、０．２〜１．０である請求項５に記載の液晶配向剤。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の前記液晶配向剤により形成された液晶配向膜。
【請求項８】
請求項７に記載の前記液晶配向膜を含む液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子に関するものであり、特に、紫外線照射後でもプレチルト角の均一性に優れた液晶表示素子を作ることのできる液晶配向剤、それにより形成された液晶配向膜、およびこの液晶配向膜を有する液晶表示素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
これまで、周知の液晶表示素子は、正の誘電異方性を有する液晶分子を使用するねじれ
ツイステッドネマチック（twisted nematic, TN）型、超ねじれネマチック（super twisted nematic, STN）型、垂直配向（vertical alignment, VA）型、横電界駆動式（in plane switching, IPS）型、フリンジフィールドスイッチング（fringe field switching, FFS）型、または光学的補償ベンド（optically compensated bend, OCB）型等の様々な液晶表示素子を含む。さらに、各液晶分子の配向制御を行うために、有機膜で形成された液晶配向膜（特許文献１−４）が主に使用される。
【０００３】
ＴＮ型やＳＴＮ型液晶配向膜等の液晶分子の高速反応、および液晶駆動時のＶＡ型液晶配向膜等の傾斜方向の確実性により、ＴＮ型またはＳＴＮ型およびＶＡ型の液晶配向膜は、それぞれプレチルト角特性を有する必要がある。プレチルト角特性を提供する方法は、前者の場合、一般的に、摩擦法が使用され、後者の場合、一般的に、摩擦法や基板表面に突出部を配置する方法等が使用される。特に、摩擦法の工程で生成される埃や静電気は、表示不良や回路破損等の問題を生じさせることがある。さらに、基板表面に突出部を配置する方法は、得られた液晶表示素子の輝度等に障害を与えることがある。そのため、これらの方法には欠点が存在する。
【０００４】
その結果、上述した方法の代わりに使用するプレチルト角を提供する方法として、膜の法線に対して傾斜する方向から感光性薄膜に紫外線を放射するいわゆる光配向法（特許文献５）がある。しかしながら、特許文献５に記載されている液晶配向剤で作られた液晶表示素子は、依然として、紫外線照射後にプレチルト角の均一性が悪くなるという問題を有するため、使用に適さない。
【０００５】
さらに、ポリアミック酸等を含む液晶配向剤によって形成されたコーティング膜に液晶配向を提供する方法に関し、近年、摩擦法の代わりに光異性化（photoisomerization）、光二量化（photodimerization）、または光分解（photolysis）等の光配向方法を利用する技術が提案されている。光配向方法は、基板に形成された放射線感受性有機薄膜を偏光または非偏光の放射線で照射することにより、膜に異方性を提供し、液晶分子の配向を制御する方法である。この方法によると、上述した摩擦法と比較して、工程中に生じる埃や静電気を抑制することができるため、埃等による表示不良や収率の減少を抑制することができる。さらに、光配向技術は、基板に形成された有機薄膜に液晶配向を均一に提供する等の利点も有する。
【０００６】
具体的に説明すると、光配向技術の技術文献として、特許文献６がある。特許文献６は、共役エノンを有する繰り返し単位およびイミド構造を有する液晶配向剤を提供する。しかしながら、特許文献６に記載されている液晶配向剤で作られた液晶表示素子も、紫外線照射後にプレチルト角の均一性が悪くなるという問題を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】日本特開昭５６−９１２７７
【特許文献２】日本特開平１−１２０５２８
【特許文献３】日本特開平１１−２５８６０５
【特許文献４】日本特開２００２−２５０９２４
【特許文献５】日本特開２００４−８３８１０
【特許文献６】日本特開２００５−０３７６５４
【０００８】
そのため、紫外線照射後にプレチルト角の均一性が悪くなるという問題をいかにして軽減し、現在の業界の要求を満たすかが、本分野の技術者にとって早急に解決しなければならない課題である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、本発明は、液晶表示素子用の液晶配向剤を提供する。この液晶配向剤は、紫外線照射後にプレチルト角の均一性が悪くなるという問題を軽減することができる。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、重合体組成物（Ａ−１）および溶媒（Ｂ）を含む液晶配向剤を提供する。重合体組成物（Ａ−１）は、テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）とジアミン化合物（ｂ）を反応させることによって得られる。ジアミン化合物（ｂ）は、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）のうちの少なくとも１種、および式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のうちの少なくとも１種を含む。
【００１１】
具体的に説明すると、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）は、以下の通りである。
【００１２】
【化１】
0005902334.tif 000002
式（I）
【００１３】
式（I）において、Ｒ1およびＲ3は、それぞれ独立して、エーテル基（-O-）、チオエーテル基（-S-）、エステル基（-COO-または-OCO-）、またはチオエステル基（-COS-または-SCO-）を示し；Ｒ2は、不飽和結合を含むアルキレン基を示し；Ｒ4は、単結合、メチレン基、またはエチレン基を示し；Ａは、ステロイド骨格を有する炭素数１７〜４０の一価有機基を示す。
【００１４】
さらに、式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）は、以下の通りである。
【００１５】
【化２】
0005902334.tif 000003
式（II）
【００１６】
式（II）において、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはシアノ基を示し；ａおよびｂは、それぞれ独立して、０〜４の整数を示し；ｃは、０または１を示し；＊は、それぞれ独立して、結合位置を示す。
【００１７】
本発明の１つの実施形態において、式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）は、式（II−１）で表される構造、式（II−２）で表される構造、またはこれらの組み合わせを含む。
【００１８】
【化３】
0005902334.tif 000004
式（II−１）
0005902334.tif 000005
式（II−２）
【００１９】
式（II−１）および式（II−２）において、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ11、およびＲ12は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはシアノ基を示し；Ｒ10およびＲ13は、それぞれ独立して、炭素数１〜４０のアルキル基またはフッ素原子で置換された炭素数１〜４０のアルキル基を示し；Ｙ1、Ｙ2、およびＹ3は、それぞれ独立して、
0005902334.tif 000006
を示し、Ｒ14は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し；Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立して、メチレン基、アリーレン基、二価の脂肪族環基、-Si(CH3)2-、-CH=CH-、-C≡C-、置換基を有するメチレン基、置換基を有するアリーレン基、置換基を有する二価の脂肪族環基、置換基を有する-Si(CH3)2-、または置換基を有する-CH=CH-を示し、置換基は、シアノ基、ハロゲン原子、または炭素数１〜４のアルキル基であり；ｄ、ｅ、ｊ、およびｋは、それぞれ独立して、０〜４の整数を示し；ｆおよびｍは、０または１を示し；ｇおよびｎは、それぞれ独立して、１〜６の整数を示し；ｈおよびｐは、それぞれ独立して、０〜２の整数を示し；ｉは、０または１の整数を示し；＊は、それぞれ独立して、結合位置を示す。
【００２０】
本発明の１つの実施形態において、ジアミン化合物（ｂ）の合計モル数１００モルに対し、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）の使用量は、０．５〜５０モルであり、式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）の使用量は、１０〜８０モルである。
【００２１】
本発明の１つの実施形態において、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）と式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のモル比（ｂ−１）／（ｂ−２）は、０．０５〜１．５である。
【００２２】
本発明の１つの実施形態において、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）と式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のモル比（ｂ−１）／（ｂ−２）は、０．１〜１．３である。
【００２３】
本発明の１つの実施形態において、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）と式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のモル比（ｂ−１）／（ｂ−２）は、０．２〜１．０である。
【００２４】
本発明は、さらに、液晶配向膜を提供する。液晶配向膜は、上述した液晶配向剤により形成される。
【００２５】
本発明は、さらに、液晶表示素子を提供する。液晶表示素子は、上述した液晶配向膜を含む。
【発明の効果】
【００２６】
以上のように、本発明の液晶配向剤を使用して液晶表示素子を製造すると、紫外線照射後にプレチルト角の均一性が悪くなるという問題を軽減することができる。その結果、この液晶配向剤は、液晶配向膜および液晶表示素子に適している。
【００２７】
本発明の上記および他の目的、特徴、および利点をより分かり易くするため、図面と併せた幾つかの実施形態を以下に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の１つの実施形態に係る液晶表示素子の側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
＜液晶配向剤＞
本発明は、重合体組成物（Ａ−１）および溶媒（Ｂ）を含む液晶配向剤を提供する。また、液晶配向剤は、必要な場合、添加剤（Ｃ）をさらに含んでもよい。
【００３０】
以下、本発明の液晶配向剤の各成分について、詳しく説明する。
【００３１】
言及すべきこととして、以下、（メタ）アクリル酸は、アクリル酸および／またはメタクリル酸を示し、（メタ）アクリレートは、アクリレートおよび／またはメタクリレートを示す。同様にして、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基および／またはメタクリロイル基を示す。
＜重合体組成物Ａ−１＞
【００３２】
重合体組成物（Ａ−１）は、ポリアミック酸重合体、ポリアミド重合体、ポリイミド系ブロック共重合体、またはこれらの重合体の組み合わせを含む。特に、ポリイミド系ブロック共重合体は、ポリアミック酸ブロック共重合体、ポリイミドブロック共重合体、ポリアミック酸−ポリイミドブロック共重合体、またはこれらの重合体の組み合わせを含む。
【００３３】
重合体組成物（Ａ−１）のポリアミック酸重合体、ポリイミド重合体、およびポリイミド系ブロック共重合体は、いずれもテトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）とジアミン化合物（ｂ）を反応させることによって得ることができる。以下、テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）、ジアミン化合物（ｂ）、および重合体組成物（Ａ−１）の製造方法について説明する。
テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）
【００３４】
テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）は、例えば、脂肪族テトラカルボン酸二無水物化合物、脂環式テトラカルボン酸二無水物化合物、芳香族テトラカルボン酸二無水物化合物、または下記の式（１）〜式（６）により表されるテトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）を含む。
【００３５】
脂肪族テトラカルボン酸二無水物化合物の具体例は、エタンテトラカルボン酸二無水物またはブタンテトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸二無水物を含むことができるが、これらに限定されない。
【００３６】
脂環式テトラカルボン酸二無水物化合物の具体例は、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジクロロ−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−テトラメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’− ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、シス−３,７−ジブチル−シクロへプチル−１,５−ジエン−１,２,５,６−テトラカルボン酸二無水物、２,３,５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、またはビシクロ［２,２,２］−オクト−７−エン−２,３,５,６−テトラカルボン酸二無水物等の脂環式テトラカルボン酸二無水物化合物を含むことができるが、これらに限定されない。
【００３７】
芳香族テトラカルボン酸二無水物化合物の具体例は、例えば、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエタンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイソプロピリデンジフェニルジカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルスルフィンオキシド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタルサン）−４,４′−ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４,４′−ジフェニルメタン二無水物、エチレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロピレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，４−ブタンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，６−ヘキサンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，８−オクタンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−ビス（アンヒドロトリメリテート）、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソフラン−３−イル）ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン（1,3,3a,4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxofuran-3-yl)naphtho[1,2-c]furan-1,3-dione）、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メチル−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソフラン−３−イル）ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−エチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソフラン−３−イル）ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−７−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソフラン−３−イル）ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−７−エチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソフラン−３−イル）ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソフラン−３−イル）ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−エチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソフラン−３−イル）ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５，８−ジメチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソフラン−３−イル）ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、または５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物を含むことができるが、これらに限定されない。
【００３８】
式（１）〜式（６）により表されるテトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）は、以下の通りである。
【００３９】
【化４】
0005902334.tif 000007
式（１）
0005902334.tif 000008
式（２）
0005902334.tif 000009
式（３）
0005902334.tif 000010
式（４）
0005902334.tif 000011
式（５）
【００４０】
式（５）において、Ａ1は、芳香族環を含む二価基を示し；ｒは、１〜２の整数を示し；Ａ2およびＡ3は、同じであっても異なってもよく、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。式（５）で表されるテトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）は、好ましくは、式（５−１）〜式（５−３）で表される化合物である。
【００４１】
【化５】
0005902334.tif 000012
式（５−１）
0005902334.tif 000013
式（５−２）
0005902334.tif 000014
式（５−３）
0005902334.tif 000015
式（６）
【００４２】
式（６）において、Ａ4は、芳香族環を含む二価基を示し；Ａ5およびＡ6は、同じであっても異なってもよく、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）は、好ましくは、式（６−１）で表される化合物である。
【００４３】
【化６】
0005902334.tif 000016
式（６−１）
【００４４】
テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）は、好ましくは、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２,３,５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、または３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物を含むが、これらに限定されない。テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）は、単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。
ジアミン化合物（ｂ）
【００４５】
ジアミン化合物（ｂ）は、ジアミン（ｂ−１）、ジアミン（ｂ−２）、ジアミン（ｂ−３）、およびこれらのジアミンの組み合わせを含む。ジアミン化合物（ｂ）は、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）のうちの少なくとも１種、および式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のうちの少なくとも１種を含む。以下、ジアミン（ｂ−１）、ジアミン（ｂ−２）、およびジアミン（ｂ−３）について説明する。
ジアミン（ｂ−１）
【００４６】
ジアミン（ｂ−１）は、式（I）で表される化合物である。具体的に説明すると、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）は、以下の通りである。
【００４７】
【化７】
0005902334.tif 000017
式（I）
【００４８】
式（I）において、Ｒ1およびＲ3は、それぞれ独立して、エーテル基（-O-）、チオエーテル基（-S-）、エステル基（-COO-または-OCO-）、またはチオエステル基（-COS-または-SCO-）を示し；Ｒ2は、不飽和結合を含むアルキレン基を示し；Ｒ4は、単結合、メチレン基、またはエチレン基を示し；Ａは、ステロイド骨格を有する炭素数１７〜４０の一価有機基を示す。Ｒ1およびＲ3がエステル基またはチオエステル基である時、エステル基またはチオエステル基の方向は、限定されない。つまり、ここでの「エステル基」は、
0005902334.tif 000018
であっても、
0005902334.tif 000019
であってもよい。「チオエステル基」は、
0005902334.tif 000020
であっても、
0005902334.tif 000021
であってもよい。
【００４９】
式（I）のＡにおけるステロイド骨格は、シクロペンタン−ペルヒドロフェナントレン骨格、またはこの中に含まれる１つまたは複数の炭素−炭素結合が二重結合に変わる骨格を指す。このようなステロイド骨格を有するＡ基は、例えば、それぞれ独立して、下記の式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表される基であってもよい。
【００５０】
【化８】
0005902334.tif 000022
式（Ａ−１）
0005902334.tif 000023
式（Ａ−２）
0005902334.tif 000024
式（Ａ−３） 
0005902334.tif 000025
式（Ａ−４）
【００５１】
上記式中のＡIは、それぞれ独立して、下記のうちのいずれか１つで表される基を示し、「＊」は、それぞれ独立して、結合位置を示す。
【００５２】
【化９】
0005902334.tif 000026
【００５３】
Ａ基の具体例は、式（Ａ−１−１）、式（Ａ−２−１）、式（Ａ−３−１）、および式（Ａ−４−１）で表される構造を含む。
【００５４】
【化１０】
0005902334.tif 000027
【００５５】
式（I）で表される化合物は、下記の式（I−１）〜式（I−２２）で表される化合物である。
【００５６】
【化１１−１】
0005902334.tif 000028
【化１１−２】
0005902334.tif 000029
【化１１−３】
0005902334.tif 000030
【化１１−４】
0005902334.tif 000031
【化１１−５】
0005902334.tif 000032
【００５７】
例えば、上記の式（I−１）、式（I−２）、式（I−７）、または式（I−８）で表される化合物は、以下の方法で合成することができる。まず、無水マレイン酸（maleic anhydride）をコレステロール（cholesterol）またはコレスタノール（cholestanol）に添加した後、ジクロロスルホキシド等で塩化アシルを作る。そして、１当量またはそれ以上の塩基の存在下で、塩化アシルをジニトロフェノールと反応させた後、塩化スズ等の適切な還元剤を用いて還元を行う。
【００５８】
式（I−３）、式（I−４）、式（I−９）、または式（I−１０）で表される化合物は、以下の方法で合成することができる。まず、無水マレイン酸をコレステロールまたはコレスタノールに添加した後、炭酸カリウムの存在下で、付加物およびジニトロベンゾイルクロリドに対してエステル形成反応を行う。そして、塩化スズ等の適切な還元剤を用いて還元を行う。
【００５９】
式（I−５）または式（I−１１）で表される化合物は、以下の方法で合成することができる。まず、トルエンスルホニルクロリド等を用いてコレステロールまたはコレスタノールに対してトシル化（tosylation）を行う；塩基の存在下で、得られたトシル化コレステロールまたはトシル化コレスタノールをジニトロベンゾイルクロリドおよび過多な２−ブテン−１，４−ジオールと反応させて合成を行い、ジニトロベンゾイル−２−ブテン−１，４−ジオールモノエステルを得る。そして、ジニトロベンゾイル−２−ブテン−１，４−ジオールモノエステルおよびトシル化コレスタノールを適切な有機溶媒中で加熱し、エステル基を形成する。そして、塩化スズ等の適切な還元剤を用いて還元を行う。
【００６０】
式（I−５）または式（I−１１）で表される化合物は、以下の方法で合成してもよい。まず、メタンスルホニルクロリド等を用いてコレステロールまたはコレスタノールを反応させた後、過多な２−ブテン−１，４−ジオールを用いて置換反応を行い、モノエステル化合物を合成する。そして、塩基の存在下で、モノエステル化合物を３，５−ジニトロベンゾイルクロリドと反応させてジニトロ化合物を合成した後、パラジウム炭素等の適切な還元剤を用いてニトロ基に対して還元を行う。
【００６１】
式（I−６）または式（I−１２）で表される化合物は、以下の方法で合成することができる。まず、無水マレイン酸をコレステロールまたはコレスタノールに添加した後、水素化アルミニウムリチウム等を用いて付加物のカルボニル基をメチレン基に還元する。そして、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の塩基の存在下で、エステル形成反応において還元体を２，４−ジニトロクロロベンゼンと反応させ、塩化スズ等の適切な還元剤を用いて還元を行う。あるいは、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の塩基の存在下で、同じ方法で得られたトシル化コレステロールまたはトシル化コレスタノールを２，４−ジニトロクロロベンゼンおよび過多な２−ブテン−１，４−ジオールと反応させて、１−（１−ヒドロキシ−２−ブテニロキシ）−２，４−ジアミノベンゼンを得る。そして、加熱により適切な有機溶媒中でエステル基を形成した後、塩化スズ等の適切な還元剤を用いて還元を行う。
【００６２】
式（I−１３）、式（I−１４）、または式（I−１５）で表される化合物は、以下の方法で合成することができる。ラノステロール（lanosterol）、エルゴステロール（ergosterol）、またはルミステロール（lumisterol）を出発物質として使用する他に、式（I−１６）で表される化合物の合成方法を用いて、式（I−１３）、式（I−１４）、または式（I−１５）で表される化合物を合成してもよい。
【００６３】
式（I−１６）または式（I−１７）で表される化合物は、以下の方法で合成することができる。まず、無水マレイン酸をコレステロールまたはコレスタノールに添加した後、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミドを用いて付加物を３，５−（Ｎ，Ｎ−ジアリル）アミノフェノールと反応させる。そして、アリルを１，３−ジメチルバルビツール酸（1,3-dimethyl barbituric acid）およびテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（tetrakistriphenylphosphinepalladium）で除去する。
【００６４】
式（I−１８）または式（I−１９）で表される化合物は、以下の方法で合成することができる。まず、無水マレイン酸をコレステロールまたはコレスタノールに添加した後、ボラン−酸素架橋複合体を用いてカルボニル基を還元し、アルコール中間体を得る。そして、塩基の存在下で、中間体を３，５−ジニトロベンゾイルクロリドと反応させて、ジニトロ化合物を合成する。次に、パラジウムクロリド等の適切な還元剤を用いてニトロ基に対して還元を行う。
【００６５】
式（I−２０）、式（I−２１）、または式（I−２２）で表される化合物は、以下の方法で合成することができる。適切な水素化触媒を用いてラノステロール、エルゴステロールまたはルミステロールの出発物質に対して水素化を行った後に出発物質を再利用する他に、式（I−１３）、式（I−１４）、または式（I−１５）で表される化合物と同じ方法で、式（I−２０）、式（I−２１）、または式（I−２２）で表される化合物をそれぞれ得ることができる。
【００６６】
ジアミン（ｂ−１）の具体例は、好ましくは、式（I−１０）、式（I−１１）、式（I−１９）、または式（I−１７）で表されるジアミン、あるいはこれらのジアミンの組み合わせを含む。
【００６７】
ジアミン化合物（ｂ）の合計モル数１００モルに対し、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）の使用量は、０．５モル〜５０モルであり、好ましくは、１．０モル〜４５モルであり、より好ましくは、１．５モル〜４０モルである。式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）を液晶配向剤に使用しなかった時、液晶表示素子は、紫外線照射後にプレチルト角の均一性が悪くなる。
ジアミン（ｂ−２）
【００６８】
本発明のジアミン（ｂ−２）は、光反応性構造を有するジアミンである。光反応性構造は、好ましくは、光照射を介して異性化および二量化から選択される少なくとも１つの反応機能を有する構造である。
【００６９】
具体的に説明すると、ジアミン（ｂ−２）は、式（II）で表される構造を有する化合物である。
【００７０】
【化１２】
0005902334.tif 000033
式（II）
【００７１】
式（II）において、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはシアノ基を示し；ａおよびｂは、それぞれ独立して、０〜４の整数を示し；ｃは、０または１を示し；＊は、それぞれ独立して、結合位置を示す。
【００７２】
さらに具体的に説明すると、光反応性構造を有するジアミンは、好ましくは、液晶分子を配向する機能を有する部位をさらに含む。光反応性構造を有するジアミン（ｂ−２）は、式（II）で表される構造を有し、式（II）で表される構造は、式（II−１）で表される構造、式（II−２）で表される構造、またはこれらの組み合わせを含む。
【００７３】
【化１３】
0005902334.tif 000034
式（II−１）
0005902334.tif 000035
式（II−２）
【００７４】
式（II−１）および式（II−２）において、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ11、およびＲ12は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはシアノ基を示し；Ｒ10およびＲ13は、それぞれ独立して、炭素数１〜４０のアルキル基またはフッ素原子で置換された炭素数１〜４０のアルキル基を示し；Ｙ1、Ｙ2、およびＹ3は、それぞれ独立して、
0005902334.tif 000036
を示し、Ｒ14は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、より好ましくは、それぞれ独立して-O-を示し；Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立して、メチレン基、アリーレン基、二価の脂肪族環基、-Si(CH3)2-、-CH=CH-、-C≡C-、置換基を有するメチレン基、置換基を有するアリーレン基、置換基を有する二価の脂肪族環基、置換基を有する-Si(CH3)2-、または置換基を有する-CH=CH-を示し、置換基は、シアノ基、ハロゲン基、または炭素数１〜４のアルキル基であり；複数のＹ1、Ｙ3、Ｚ1、およびＺ2が存在する時、Ｙ1、Ｙ3、Ｚ1、およびＺ2は、同じであっても異なってもよく；ｄ、ｅ、ｊ、およびｋは、それぞれ独立して、０〜４の整数を示し；ｆおよびｍは、０または１を示し；ｇおよびｎは、それぞれ独立して、１〜６の整数を示し；ｈおよびｐは、それぞれ独立して、０〜２の整数を示し；ｉは、０または１の整数を示し；＊は、それぞれ独立して、結合位置を示す。
【００７５】
ここで、フッ素原子で置換された炭素数１〜４０のアルキル基は、一部または全ての水素原子がフッ素原子によって置換された炭素数１〜４０のアルキル基である。炭素数１〜４０のアルキル基は、好ましくは、例えば、炭素数１〜２０のアルキル基であり、アルキル基の一部または全ての水素原子は、フッ素原子により置換されてもよい。
【００７６】
フッ素原子で置換された炭素数１〜４０のアルキル基において、アルキル基の具体例は、例えば、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−へプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ラウリル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコシル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロヘキシル、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、２−（パーフルオロブチル）エチル、２−（パーフルオロオクチル）エチル、または２−（パーフルオロデシル）エチルを含む。
【００７７】
フッ素原子で置換された炭素数１〜４０のアルキル基は、好ましくは、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜１６のフルオロアルキル基である。さらに、優れた液晶配向を示す観点から見ると、フッ素原子で置換された炭素数１〜４０のアルキル基は、好ましくは、炭素数１〜８の直鎖フルオロアルキル基である。フッ素原子で置換された炭素数１〜４０のアルキル基は、好ましくは、２，２，２−トリフルオロエチル、３，３，３−トリフルオロ−ｎ−プロピル、４，４，４−トリフルオロ−ｎ−ブチル、４，４，５，５，５−ペンタフルオロ−ｎ−ペンチル、または４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロヘキシル等の炭素数３〜６の直鎖フルオロアルキル基であり、より好ましくは、２，２，２−トリフルオロエチル、３，３，３−トリフルオロ−ｎ−プロピル、４，４，４−トリフルオロ−ｎ−ブチル、または４，４，５，５，５−ペンタフルオロ−ｎ−ペンチルである。
【００７８】
光反応性構造を有するジアミン（ｂ−２）は、分子中に少なくとも１つまたは２つの光配向構造があればよく、好ましくは、１つまたは２つの構造があればよい。
【００７９】
式（II−１）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）の具体例は、式（II−１−１）〜式（II−１−２５）で表される化合物を含む。
【００８０】
【化１４−１】
0005902334.tif 000037
【化１４−２】
0005902334.tif 000038
【化１４−３】
0005902334.tif 000039
【化１４−４】
0005902334.tif 000040
【化１４−５】
0005902334.tif 000041
【化１４−６】
0005902334.tif 000042
【００８１】
式（II−２）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）の具体例は、式（II−２−１）〜式（II−２−２）で表される化合物を含む。
【００８２】
【化１５】
0005902334.tif 000043
【００８３】
ジアミン（ｂ−２）の具体例は、好ましくは、式（II−１−３）、式（II−１−６）、式（II−２−１）、または式（II−１−７）で表されるジアミン、あるいはこれらのジアミンの任意の組み合わせを含む。
【００８４】
ジアミン化合物（ｂ）の合計モル数１００モルに対し、式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）の使用量は、１０モル〜８０モルであり、好ましくは、１５モル〜７０モルであり、より好ましくは、２０モル〜６０モルである。式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）を液晶配向剤に使用しなかった時、液晶表示素子は、紫外線照射後にプレチルト角の均一性が悪くなる。
【００８５】
ジアミン（ｂ）は、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）のうちの少なくとも１種、および式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のうちの少なくとも１種を含む。式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）と式（II）で表される構造を有するジアミン（ｂ−２）のモル比（ｂ−１）／（ｂ−２）は、０．０５〜１．５であり、好ましくは、０．１〜１．３であり、より好ましくは、０．２〜１．０である。モル比（ｂ−１）／（ｂ−２）が上記の範囲内にある時、液晶表示素子は、紫外線照射後でもプレチルト角の均一性が比較的良好である。
他のジアミン（ｂ−３）
【００８６】
他のジアミン（ｂ−３）の具体例は、１，２-ジアミノエタン、１，３-ジアミノプロパン、１，４-ジアミノブタン、１，５-ジアミノペンタン、１，６-ジアミノヘキサン、１，７-ジアミノヘプタン、１，８-ジアミノオクタン、１，９-ジアミノノナン、１，１０-ジアミノデカン、４，４’-ジアミノへプタン、１，３−ジアミノ−２，２−ジメチルプロパン、１，６−ジアミノ−２，５−ジメチルヘキサン、１，７−ジアミノ−２，５−ジメチルヘプタン、１，７−ジアミノ−４，４−ジメチルヘプタン、１，７−ジアミノ−３−メチルヘプタン、１，９−ジアミノ−５−メチルノナン、２，１１−ジアミノドデカン、１，１２−ジアミノオクタデカン、１，２−ビス（３−アミノプロポキシ）エタン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジメチルジシクロヘキシルアミン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエンジアミン、トリシクロ(６．２．１．０2,7)−ウンデシレンジメチルジアミン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’-ジアミノベンザニリド、４，４’-ジアミノジフェニルエーテル、３，４’-ジアミノジフェニルエーテル、１，５−ジアミノナフタレン、５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレンジメチレンジアミン、３，３’-ジアミノベンゾフェノン、３，４’-ジアミノベンゾフェノン、４，４’-ジアミノベンゾフェノン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、９，１０−ビス（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、２，７−ジアミノフルオレン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４，４’−メチレン−ビス（２−クロロアニリン）、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ビス［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキシ］−オクタフルオロビフェニル、５−［４−（４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］フェニルメチレン−１，３−ジアミノベンゼン（5-[4-(4-n-pentylcyclohexyl)cyclohexyl]phenylmethylene-1,3-diaminobenzene）、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−（４−エチルフェニル）シクロヘキサン（1,1-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-4-(4-ethylphenyl)cyclohexane）、または式（III−１）〜式（III−２５）で表される他のジアミン（ｂ−３）を含むことができるが、これらに限定されない。
【００８７】
具体的に説明すると、式（III−１）〜式（III−２５）で表される他のジアミン（ｂ−３）は、以下の通りである。
【００８８】
【化１６】
0005902334.tif 000044
式（III−１）
【００８９】
式（III−１）において、Ｂ1は、
0005902334.tif 000045
または
0005902334.tif 000046
を示し、Ｂ2は、ステロイド含有基、トリフルオロメチル基、フッ素基、炭素数２〜３０のアルキル基、またはピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピぺリジン、およびピペラジン等から誘導された窒素原子環構造を含む一価の基を示す。
【００９０】
式（III−１）で表される他のジアミン（ｂ−３）は、好ましくは、２，４−ジアミノフェニルギ酸エチル（2,4-diaminophenyl ethyl formate）、３，５−ジアミノフェニルギ酸エチル（3,5-diaminophenyl ethyl formate）、２，４−ジアミノフェニルギ酸プロピル（2,4-diaminophenyl propyl formate）、３，５−ジアミノフェニルギ酸プロピル（3,5-diaminophenyl propyl formate）、１−ドデコキシ−２，４−ジアミノベンゼン（1-dodecoxy-2,4-diaminobenzene）、１−ヘキサドデコキシ−２，４−ジアミノベンゼン（1-hexadecoxy-2,4-diaminobenzene）、１−オクタドデコキシ−２，４−ジアミノベンゼン（1-octadecoxy-2,4-diaminobenzene）、または下記の式（III−１−１）〜式（III−１−４）で表される他のジアミン（ｂ−３）を示す。
【００９１】
【化１７】
0005902334.tif 000047
式（III−１−１）
0005902334.tif 000048
式（III−１−２）
0005902334.tif 000049
式（III−１−３）
0005902334.tif 000050
式（III−１−４）
0005902334.tif 000051
式（III−２）
【００９２】
式（III−２）において、Ｂ3は、
0005902334.tif 000052
または
0005902334.tif 000053
を示し、Ｂ4およびＢ5は、二価の脂肪族環、二価の芳香族環または二価の複素環基を示し；Ｂ6は、炭素数３〜１８のアルキル基、炭素数３〜１８のアルコキシ基、炭素数１〜５のフルオロアルキル基、炭素数１〜５のフルオロアルコキシ基、シアノ基、またはハロゲン原子を示す。
【００９３】
式（III−２）で表される他のジアミン（ｂ−３）は、好ましくは、下記の式（III−２−１）〜式（III−２−１３）で表されるジアミン化合物である。
【００９４】
【化１８】
0005902334.tif 000054
式（III−２−１）
0005902334.tif 000055
式（III−２−２）
0005902334.tif 000056
式（III−２−３）
0005902334.tif 000057
式（III−２−４）
0005902334.tif 000058
式（III−２−５）
0005902334.tif 000059
式（III−２−６）
0005902334.tif 000060
式（III−２−７）
0005902334.tif 000061
式（III−２−８）
0005902334.tif 000062
式（III−２−９）
0005902334.tif 000063
式（III−２−１０）
0005902334.tif 000064
式（III−２−１１）
0005902334.tif 000065
式（III−２−１２）
0005902334.tif 000066
式（III−２−１３）
【００９５】
式（III−２−１０）〜式（III−２−１３）において、ｑは、３〜１２の整数を示す。
【００９６】
【化１９】
0005902334.tif 000067
式（III−３）
【００９７】
式（III−３）において、Ｂ7は、水素、炭素数１〜５のアシル基、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、またはハロゲンを示し、各繰り返し単位のｓは、同じであっても異なってもよく；ｓは、１〜３の整数である。
【００９８】
式（III−３）で表されるジアミン化合物は、好ましくは、（１）ｓ＝１：例えば、ｐ−ジアミノベンゼン、ｍ−ジアミノベンゼン、ｏ−ジアミノベンゼン、または２，５−ジアミノトルエン；（２）ｓ＝２：例えば、４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノ−５，５’−ジメチトキシビフェニル、または４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル；（３）ｓ＝３：例えば、１，４’−ビス（４’−アミノフェニル）ベンゼンから選ばれ、好ましくは、ｐ−ジアミノベンゼン、２，５−ジアミノトルエン、４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、または１，４’−ビス（４’−アミノフェニル）ベンゼンから選ばれる。
【００９９】
【化２０】
0005902334.tif 000068
式（III−４）
【０１００】
式（III−４）において、ｔは、２〜１２の整数を示す。
【０１０１】
【化２１】
0005902334.tif 000069
式（III‐５）
【０１０２】
式（III−５）において、ｖは、１〜５の整数を示す。式（III−５）は、好ましくは、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィドから選ばれる。
【０１０３】
【化２２】
0005902334.tif 000070
式（III−６）
【０１０４】
式（III−６）において、Ｂ8およびＢ10は、同じであっても異なってもよく、それぞれ独立して、二価の有機基を示し、Ｂ9は、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピペリジン、およびピペラジン等から誘導された窒素原子環構造を含む二価の基を示す。
【０１０５】
【化２３】
0005902334.tif 000071
式（III−７）
【０１０６】
式（III−７）において、Ｂ11、Ｂ12、Ｂ13、およびＢ14は、それぞれ同じであっても異なってもよく、炭素数１〜１２の炭化水素基である。ｗは、１〜３の整数を示し、ｘは、１〜２０の整数を示す。
【０１０７】
【化２４】
0005902334.tif 000072
式（III−８）
【０１０８】
式（III−８）において、Ｂ15は、
0005902334.tif 000073
またはシクロへキシレン基を示し、Ｂ16は、メチレン基を示し、Ｂ17は、ペニレン基またはシクロへキシレン基を示し、Ｂ18は、水素またはヘプタン基を示す。
【０１０９】
式（III−８）で表されるジアミン化合物は、好ましくは、下記の式（III−８−１）〜式（III−８−２）で表されるジアミン化合物である。
【０１１０】
【化２５】
0005902334.tif 000074
式（III−８−１）
0005902334.tif 000075
式（III−８−２）
【０１１１】
式（III−９）〜式（III−２５）で表される他のジアミン（ｂ−３）は、以下の通りである。
【０１１２】
【化２６】
0005902334.tif 000076
式（III−９）
0005902334.tif 000077
式（III−１０）
0005902334.tif 000078
式（III−１１）
0005902334.tif 000079
式（III−１２）
0005902334.tif 000080
式（III−１３）
0005902334.tif 000081
式（III−１４）
0005902334.tif 000082
式（III−１５）
0005902334.tif 000083
式（III−１６）
0005902334.tif 000084
式（III−１７）
0005902334.tif 000085
式（III−１８）
0005902334.tif 000086
式（III−１９）
0005902334.tif 000087
式（III−２０）
0005902334.tif 000088
式（III−２１）
0005902334.tif 000089
式（III−２２）
0005902334.tif 000090
式（III−２３）
0005902334.tif 000091
式（III−２４）
0005902334.tif 000092
式（III−２５）
【０１１３】
式（III−１７）〜式（III−２５）において、Ｂ19は、炭素数１〜１０のアルキル基であり、好ましくは、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｂ20は、好ましくは、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、または炭素数１〜１０のアルコキシ基である。
【０１１４】
他のジアミン（ｂ−３）の具体例は、さらに、３，３’−ジアミノカルコン（3,3’-diaminochalcone）、４，４’−ジアミノカルコン（4,4’-diaminochalcone）、３，４’−ジアミノカルコン（3,4’-diaminochalcone）、または３，４−ジアミノカルコン（3,4-diaminochalcone）等のカルコン（chalcone）構造を有するジアミン化合物；３，３’−ジアミノスチルベン（3,3’-diaminostilbene）、４，４’−ジアミノスチルベン（4,4’-diaminostilbene）、４，４’−ジアミノスチルベン−２，２’−スルホン酸（4,4’-diaminostilbene-2,2’-sulfonic acid）、または４，４’−ビス（４−アミノ−１−ナフチルアゾ）−２，２’−スチルベンスルホン酸（4,4’-bis(4-amino-1-naphthylazo)-2,2’-stilbene sulfonic acid）等のスチルベン（stilbene）構造を有するジアミン化合物；１，２−ジアミノアントラキノン（1,2-diamino anthraquinone）、１，４−ジアミノアントラキノン（1,4-diamino anthraquinone）、１，５−ジアミノアントラキノン（1,5-diamino anthraquinone）、または１，４−ジアミノアントラキノン−２，３−ジシアノ−９，１０−アントラキノン（1,4-diamino anthraquinone-2,3-dicyano-9,10-anthraquinone）等のアントラキノン（anthraquinone）を有するジアミン化合物；あるいは、３，６−ジアミノカルバゾール（3,6-diaminocarbazole）等のカルバゾール（carbazole）を有するジアミン化合物を含んでもよい。
【０１１５】
他のジアミン（ｂ−３）は、好ましくは、１，２−ジアミノエタン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、５−［４−（４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］フェニルメチレン−１，３−ジアミノベンゼン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−（４−エチルフェニル）シクロヘキサン、２，４−ジアミノフェニルギ酸エチルエステル、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニル（2,2’-dimethyl-4,4’-diamino diphenyl）、４，４’−ジメチレンビス（シクロヘキシルアミン）（4,4’-methylenebis(cyclohexylamine)）、１，４−ジアミノシクロヘキサン（1,4-diaminocyclohexane）、式（III−１−１）、式（III−１−２）、式（III−２−１）、式（III−２−１１）、および式（III−８−１）で表される化合物、ｐ−ジアミノベンゼン、ｍ−ジアミノベンゼン、ｏ−ジアミノベンゼン、３，３’−ジアミノカルコン、または４，４’−ジアミノスチルベン等を含むが、これらに限定されない。
【０１１６】
ジアミン化合物（ｂ）の合計モル数１００モルに対し、他のジアミン（ｂ−３）の使用量は、０モル〜８９．５モルであり、好ましくは、０モル〜８４モルであり、より好ましくは、０モル〜７８．５モルである。
重合体組成物（Ａ−１）の製造方法
ポリアミック酸重合体の製造
【０１１７】
ポリアミック酸重合体の製造方法は、まず、混合物を溶媒中に溶解する。混合物は、テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）およびジアミン化合物（ｂ）を含む。そして、０℃〜１００℃の温度で、重縮合反応を行う。１時間〜２４時間反応させた後、蒸発器を用いて反応液を減圧蒸留し、ポリアミック酸重合体を得る。あるいは、反応液を大量の貧溶媒（poor solvent）に注入し、沈殿物を得る。そして、減圧乾燥の方法で沈殿物を乾燥させて、ポリアミック酸重合体を得る。
【０１１８】
特に、ジアミン化合物（ｂ）の合計モル数１００モルに対し、テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）の使用量は、好ましくは、２０モル〜２００モルであり、より好ましくは、３０モル〜１２０モルである。
【０１１９】
重縮合反応で使用する溶媒は、下記の液晶配向剤中の溶媒と同じであっても異なってもよく、重縮合反応で使用する溶媒は、反応物と生成物を溶解できる溶媒であれば、特に限定されない。好ましくは、溶媒は、（１）Ｎ−メチル−２−ピロリジノン（N-methyl-2-pyrrolidinone, NMP）、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセタミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、またはヘキサメチルホスホルアミド等の非プロトン性極性溶媒；または（２）ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノール、またはハロゲン化フェノール等のフェノール溶媒を含むが、これらに限定されない。混合物の合計使用量１００重量部に対し、重縮合反応に使用する溶媒の使用量は、好ましくは、２００重量部〜２０００重量部であり、より好ましくは、３００重量部〜１８００重量部である。
【０１２０】
特に、重縮合反応において、溶媒は、ポリアミック酸重合体の沈殿を生じさせない適切な量の貧溶媒と一緒に使用することができる。貧溶媒は、単独で使用しても、複数の組み合わせで使用してもよく、（１）メタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４ −ブタンジオール、またはトリグリコール等のアルコール；（２）アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、またはシクロヘキサノン等のケトン；（３）メチルアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート、ジエチルオキサレート、ジエチルマロネート、またはエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル；（４）ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、またはジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル；（５）ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，４−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、またはｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；または（６）テトラヒドロフラン、ヘキサン、へプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、またはキシレン等の炭化水素、あるいは上記溶媒の任意の組み合わせを含むが、これらに限定されない。ジアミン化合物（ｂ）の使用量１００重量部に対し、貧溶媒の使用量は、好ましくは、０重量部〜６０重量部であり、より好ましくは、０重量部〜５０重量部である。
ポリイミド重合体
【０１２１】
ポリイミド重合体の製造方法は、まず、テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）およびジアミン化合物（ｂ）を含む混合物を溶液中に溶解することを含む。そして、重縮合反応を行って、ポリアミック酸重合体を形成する。その後、脱水剤および触媒の存在下で、混合物をさらに加熱して脱水環化反応を行い、脱水環化反応によりポリアミック酸重合体中のアミド酸官能基をイミド官能基に変換（すなわち、イミド化）し、ポリイミド重合体を得る。
【０１２２】
脱水環化反応で使用する溶媒は、下記の液晶配向剤中の溶媒と同じであってもよいため、ここでは繰り返し説明しない。ポリアミック酸重合体の使用量１００重量部に対し、脱水環化反応で使用する溶媒の使用量は、好ましくは、２００重量部〜２０００重量部であり、より好ましくは、３００重量部〜１８００重量部である。
【０１２３】
ポリアミック酸重合体の好ましいイミド化度を得るため、脱水環化反応の操作温度は、好ましくは、４０℃〜２００℃であり、より好ましくは、４０℃〜１５０℃である。脱水環化反応の操作温度が４０℃よりも低い場合、イミド化反応が完了しないため、ポリアミック酸重合体のイミド化度が減少する。しかしながら、脱水環化反応の操作温度が２００℃よりも高い場合、得られるポリイミド重合体の重量平均分子量が比較的低くなる。
【０１２４】
重合体組成物（Ａ−１）のイミド化率は、一般的に、３０％以下であり、好ましくは、２０％以下であり、より好ましくは、１０％以下である。
【０１２５】
脱水環化反応で使用する脱水剤は、無水物化合物から選ぶことができ、その具体例は、例えば、無水酢酸、プロピオン酸無水物、またはトリフルオロ酢酸無水物を含む。ポリアミック酸重合体１モルに対し、脱水剤の使用量は、０．０１モル〜２０モルである。脱水環化反応で使用する触媒は、（１）ピリジン、トリメチルピリジン、またはジメチルピリジン等のピリジン化合物；および（２）トリエチルアミン等の第三級アミンから選ぶことができる。脱水剤１モルに対し、触媒の使用量は、０．５モル〜１０モルである。
ポリイミド系ブロック共重合体
【０１２６】
ポリイミド系ブロック共重合体は、ポリアミック酸ブロック共重合体、ポリイミドブロック共重合体、ポリアミック酸−ポリイミドブロック共重合体、またはこれらの重合体の任意の組み合わせから選ばれる。
【０１２７】
好ましくは、ポリイミド系ブロック共重合体の製造方法は、まず、溶媒中に開始物質を溶解することと、その後、重縮合反応を行うこととを含む。開始物質は、上述したポリアミック酸重合体のうちの少なくとも１種および／またはポリイミド重合体のうちの少なくとも１種を含み、テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）およびジアミン化合物（ｂ）をさらに含んでもよい。
【０１２８】
開始物質中のテトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）およびジアミン化合物（ｂ）は、ポリアミック酸重合体の製造で使用したテトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）およびジアミン化合物（ｂ）と同じである。さらに、重縮合反応で使用する溶媒は、下記の液晶配向剤中の溶媒と同じであってもよいため、ここでは繰り返し説明しない。
【０１２９】
開始物質の使用量１００重量部に対し、重縮合反応で使用する溶媒の使用量は、好ましくは、２００重量部〜２０００重量部であり、より好ましくは、３００重量部〜１８００重量部である。重縮合反応の操作温度は、好ましくは、０℃〜２００℃であり、より好ましくは、０℃〜１００℃である。
【０１３０】
好ましくは、開始物質は、（１）末端基が異なり、且つ構造が異なる２つのポリアミック酸重合体；（２）末端基が異なり、且つ構造が異なる２つのポリイミド重合体；（３）末端基が異なり、且つ構造が異なるポリアミック酸重合体およびポリイミド重合体；（４）テトラカルボン酸二無水物化合物とジアミン化合物のうちの少なくとも１つの構造がポリアミック酸重合体の形成に使用したテトラカルボン酸二無水物化合物およびジアミン化合物の構造と異なるポリアミック酸重合体、テトラカルボン酸二無水物化合物、およびジアミン化合物；（５）テトラカルボン酸二無水物化合物とジアミン化合物のうちの少なくとも１つの構造がポリイミド重合体の形成に使用したテトラカルボン酸二無水物化合物およびジアミン化合物の構造と異なるポリイミド重合体、テトラカルボン酸二無水物化合物、およびジアミン化合物；（６）テトラカルボン酸二無水物化合物とジアミン化合物のうちの少なくとも１つの構造がポリアミック酸重合体またはポリイミド重合体の形成に使用したテトラカルボン酸二無水物化合物およびジアミン化合物の構造と異なるポリアミック酸重合体、ポリイミド重合体、テトラカルボン酸二無水物化合物、およびジアミン化合物；（７）異なる構造を有する２つのポリアミック酸重合体、テトラカルボン酸二無水物化合物、およびジアミン化合物；（８）異なる構造を有する２つのポリイミド重合体、テトラカルボン酸二無水物化合物、およびジアミン化合物；（９）末端基として酸無水物基を有し、且つ異なる構造を有する２つのポリアミック酸重合体およびジアミン化合物；（１０）末端基としてアミン基を有し、且つ異なる構造を有する２つのポリアミック酸重合体およびテトラカルボン酸二無水物化合物；（１１）末端基としてアミン基を有し、且つ異なる構造を有する２つのポリイミド重合体およびジアミン化合物；または（１２）末端基としてアミン基を有し、且つ異なる構造を有する２つのポリイミド重合体およびテトラカルボン酸二無水物化合物を含むが、これらに限定されない。
【０１３１】
本発明の効果に影響しなければ、好ましくは、ポリアミック酸重合体、ポリイミド重合体、およびポリイミド系ブロック共重合体は、最初に分子量調節が行われた末端変性重合体であってもよい。末端変性重合体を使用することによって、液晶配向剤の塗膜性能を向上させることができる。末端変性重合体の製造方法は、ポリアミック酸重合体に対して重縮合反応を行うと同時に単官能化合物を追加することを含むことができる。単官能化合物は、（１）無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、ｎ−デシルサクシニック酸無水物、ｎ−ドデシルサクシニック酸無水物、ｎ−テトラデシルサクシニック酸無水物、またはｎ−ヘキサデシルサクシニック酸無水物等の酸一無水物；（２）アニリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−アミルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−トリデシルアミン、ｎ−テトラデシルアミン、ｎ−ペンタデシルアミン、ｎ−ヘキサデシルアミン、ｎ−ヘプタデシルアミン、ｎ−オクタデシルアミン、またはｎ−エイコシルアミン等のモノアミン化合物；または（３）フェニルイソシアネートまたはナフチルイソシアネート等のモノイソシアネート化合物を含むが、これらに限定されない。
溶媒（Ｂ）
【０１３２】
溶媒（Ｂ）の具体例は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（N-methyl-2-pyrrolidone, NMP）、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールｎ−ブチルエーテル（ethylene glycol n-butyl ether）、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（N,N-dimethyl acetamide）、または上述した溶媒の任意の組み合わせを含む。溶媒（Ｂ）は、好ましくは、ＮＭＰ、エチレングリコールｎ−ブチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、またはこれらの溶媒の組み合わせである。溶媒（Ｂ）は、単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。
添加剤（Ｃ）
【０１３３】
本発明の効果に影響しなければ、官能基を有するエポキシ化合物またはシラン化合物の添加剤（Ｃ）を液晶配向剤に選択的に追加してもよい。添加剤（Ｃ）の機能は、基板表面に対する液晶配向膜の接着性を向上させることである。添加剤（Ｃ）は、単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。
【０１３４】
エポキシ化合物は、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、２，２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ−グリシジル−ｐ−オキセタニルアニリン、３−（Ｎ−アリル−Ｎ−グリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、または３−（Ｎ，Ｎ−グリシジル）アミノプロピルトリメトキシシランを含むが、これらに限定されない。
【０１３５】
重合体組成物（Ａ−１）の使用量１００重量部に対し、エポキシ化合物の使用量は、通常、４０重量部以下であり、好ましくは、０．１重量部〜３０重量部である。
【０１３６】
官能基を有するシラン化合物は、例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン（3-ureidopropyltrimethoxysilane）、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシランを含むが、これらに限定されない。
【０１３７】
重合体組成物（Ａ−１）の使用量１００重量部に対し、シラン化合物の使用量は、通常、１０重量部以下であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。
＜液晶配向剤の製造方法＞
【０１３８】
本発明の液晶配向剤の製造方法は、特に限定されず、一般的な混合方法を使用して製造することができる。例えば、まず、テトラカルボン酸二無水物化合物（ａ）とジアミン化合物（ｂ）を均一に混合して、重合体組成物（Ａ−１）を得る。そして、重合体組成物（Ａ−１）を０℃〜２００℃の温度で溶媒（Ｂ）に添加する。次に、添加剤（Ｃ）を選択的に追加してもよく、混合物が溶解するまで攪拌装置で攪拌し続ける。好ましくは、溶媒（Ｂ）を２０℃〜６０℃の温度で重合体組成物に添加する。
【０１３９】
好ましくは、２５℃において、本発明の液晶配向剤の粘度は、通常、１５ｃｐｓ〜３５ｃｐｓであり、好ましくは、１７ｃｐｓ〜３３ｃｐｓであり、より好ましくは、２０ｃｐｓ〜３０ｃｐｓである。
＜液晶配向膜の製造方法＞
【０１４０】
本発明の液晶配向剤は、光配向方法により液晶配向膜を形成するのに適している。
【０１４１】
液晶配向膜の形成方法は、例えば、液晶配向剤を基板に塗布して、塗膜を形成することと、塗膜表面に対して傾斜する方向から偏光または非偏光紫外線で塗膜を照射して、塗膜に液晶配向を提供することを含む。あるいは、塗膜表面に垂直な方向から偏光紫外線で塗膜を照射して、塗膜に液晶配向を提供する。
【０１４２】
まず、ロールコーティング法、スピンコーティング法、印刷法、またはインクジェット（ink-jet）法等の適切な塗布方法によりパターン化された透明導電膜を配置した基板の透明導電膜の一側に、本発明の液晶配向剤を塗布する。塗布後、塗布面にプリベーク処理（pre-bake treatment）を行ってから、ポストベーク処理（post-bake treatment）を行い、塗布膜を形成する。プリベーク処理の目的は、有機溶媒をプリコーティング層内で揮発することである。プリベーク処理は、例えば、４０℃〜１２０℃、０．１分〜５分の条件の下で行われる。ポストベーク処理は、好ましくは、１２０℃〜３００℃、より好ましくは、１５０℃〜２５０℃の条件で行われるとともに、好ましくは、５分〜２００分、より好ましくは、１０分〜１００分行われる。ポストベーク後の塗膜の膜厚は、好ましくは、０．００１μｍ〜１μｍであり、より好ましくは、０．００５μｍ〜０．５μｍである。
【０１４３】
基板は、例えば、フロートガラス（float glass）またはソーダ石灰ガラス等のガラス；あるいは、例えば、テレフタル酸ポリエチレン、テレフタル酸ブチレン、ポリエーテルスルホン、またはポリカーボネート等のプラスチックにより形成された透明基板を含むことができる。
【０１４４】
透明導電膜は、例えば、SnO2により形成されたＮＥＳＡ膜またはIn2O3-SnO2により形成されたＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）を含むことができる。透明導電膜パターンを形成するため、フォトエッチング（photo etching）等の方法または透明導電膜を形成する時にマスクを使用する方法を使用することができる。
【０１４５】
液晶配向剤を塗布する時、基板または透明導電膜と塗膜の間の接着性を向上させるため、機能性シラン化合物またはチタネート（titanate）化合物等を基板および透明導電膜にプレコート（pre-coated）することができる。
【０１４６】
そして、偏光または非偏光紫外線で塗膜を照射することによって液晶配向を提供し、塗膜により液晶配向膜を形成する。ここで、放射線は、例えば、１５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長を有する紫外線および可視光を含むことができ、好ましくは、３００ｎｍ〜４００ｎｍの波長を有する紫外線を含む。使用する放射線が偏光（直線偏光または部分偏光）の時、照射は、塗膜表面に垂直な方向から行われる。さらに、プレチルト角を提供するため、傾斜角から照射してもよい。さらに、非偏光放射線を照射する時は、塗膜表面に対して傾斜する方向から照射しなければならない。
【０１４７】
放射線照射の光源は、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ（metal halide lamp）、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ（xenon lamp）、またはエキシマーレーザ（excimer laser）を含むことができる。好ましい波長範囲の紫外線は、例えば、上記の光源とフィルタまたは回析格子等を用いることによって得ることができる。
【０１４８】
放射線照射は、好ましくは、１Ｊ／ｍ2以上、１００００Ｊ／ｍ2以下であり、より好ましくは、１０Ｊ／ｍ2〜３０００Ｊ／ｍ2である。さらに、光配向法で従来周知の液晶配向剤により形成された塗膜に液晶配向を提供する時、１００００Ｊ／ｍ2以上の放射線照射が必要である。しかしながら、本発明の液晶配向剤を使用する場合、光配向法の放射線照射が３０００Ｊ／ｍ2以下であっても、さらには１０００Ｊ／ｍ2以下であっても、さらには３００Ｊ／ｍ2以下であっても、優れた光配向を達成することができる。その結果、液晶表示素子の製造コストを減らすことができる。
＜液晶表示素子の製造方法＞
【０１４９】
本発明の液晶表示素子は、本発明の液晶配向剤により形成された液晶配向膜を含む。本発明の液晶表示素子は、以下の方法に基づいて製造することができる。
【０１５０】
液晶配向膜が形成された２つの基板を用意し、２つの基板の間に液晶を配置して、液晶セルを作る。液晶セルを作るため、以下の２つの方法を提供することができる。
【０１５１】
１つ目の方法は、まず、２つの基板を間隔（セルギャップ）をあけて互いに対向配置させ、各液晶配向膜が互いに向かい合うようにする。そして、２つの基板の周辺をシーラント（sealant）で結合する。次に、基板表面とシーラントにより分割されたセルギャップに液晶を注入した後、注入孔を密封して、液晶セルを得る。
【０１５２】
２つ目の方法は、ＯＤＦ（one drop fill、液晶滴下）方式と呼ばれる。まず、液晶配向膜を形成する２つの基板のうちの１つの所定部分に、例えば、紫外線硬化性シーリング材を塗布する。そして、液晶配向膜に液晶を滴下した後、もう１つの基板を結合し、液晶配向膜が互いに向かい合うようにする。次に、基板表面全体に紫外線を照射して、シーラントを硬化させ、液晶セルを作る。
【０１５３】
上述した方法のうちの１つを使用した時、好ましくは、液晶が等方相（isotropic phase）を示す温度まで液晶セルを加熱した後、液晶セルを室温になるまでゆっくり冷却し、液晶が充填された時に流動配向（flow alignment）を除去する。
【０１５４】
次に、液晶セルの外表面に偏光板を結合することによって、本発明の液晶表示素子を得ることができる。ここで、液晶配向膜を水平に配向した時、液晶配向膜を形成する２つの基板内で照射される直線偏光放射の偏光方向により形成された角度および各基板と偏光板の角度を調整することによって、ＴＮ型またはＳＴＮ型の液晶セルを有する液晶表示素子を得ることができる。さらに、液晶配向膜を垂直に配向した時、液晶セルを形成することによって、液晶配向膜を形成する２つの基板の配向容易軸（easy-to-align axis）の方向が平行になり、偏光板と液晶セルがくっ付くため、その偏光方向と配向容易軸は、４５°角を形成する。その結果、垂直配向型液晶セルを有する液晶表示素子を形成することができる。
【０１５５】
シーラントの具体例は、例えば、硬化剤として使用されるエポキシ樹脂およびスペーサーとして使用されるアルミナボールを含む。
【０１５６】
液晶の具体例は、例えば、ネマチック液晶またはスメクチック液晶を含む。
【０１５７】
ＴＮ型またはＳＴＮ型の液晶セルを使用する時、ＴＮ型またはＳＴＮ型の液晶セルは、好ましくは、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶を有し、その例は、例えば、ビフェニル系液晶（biphenyl-based liquid crystal）、フェニルシクロヘキサン系液晶（phenyl cyclohexane-based liquid crystal）、エステル系液晶（ester-based liquid crystal）、ターフェニル系液晶（terphenyl liquid crystal）、ビフェニルシクロヘキサン系液晶（biphenyl cyclohexane-based liquid crystal）、ピリミジン系液晶（pyrimidine-based liquid crystal）、ジオキサン系液晶（dioxane-based liquid crystal）、ビシクロオクタン系液晶（bicyclooctane-based liquid crystal）、またはキュバン系液晶（cubane-based liquid crystal）を含むことができる。さらに、上述した液晶に、コレステリルクロライド（cholesteryl chloride）、コレステリルノナエート（cholesteryl nonabenzoate）、コレステリルカーボネート（cholesteryl carbonate）等のコレステリック液晶（cholesteric liquid crystal）；商品名「Ｃ-１５」、「ＣＢ-１５」（メルク（Merck & Co.）社製）として販売されているカイラル剤（chiral agent）；あるいは、ｐ-デシロキシベンジリデン-ｐ-アミノ-２-メチルブチルシンナメート（p-decyloxybenzylidene-p-amino-2-methyl butyl cinnamate）等の強誘電性液晶（ferroelectric liquid crystal）をさらに添加してもよい。
【０１５８】
さらに、垂直配向型液晶セルを使用する時、垂直配向型液晶セルは、好ましくは、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶を有し、その例は、例えば、ジシアノベンゼン系液晶（dicyanobenzene-based liquid crystal）、ピリダジン系液晶（pyridazine-based liquid crystal）、シッフベース系液晶（Schiff base-based liquid crystal）、アゾキシ系液晶（azoxy-based liquid crystal）、ビフェニル系液晶（biphenyl-based liquid crystal）、またはフェニルシクロヘキサン系液晶（phenyl cyclohexane-based liquid crystal）を含むことができる。
【０１５９】
液晶セルの外側に使用される偏光板は、例えば、セルロースアセテート（cellulose acetate）保護膜で狭持することによってポリビニルアルコール（polyvinyl alcohol）を延伸配向すると同時にヨウ素を吸収した時に得られる「Ｈ膜」として周知の偏光膜により形成された偏光板、または「Ｈ膜」自体で形成された偏光板を含むことができる。
【０１６０】
こうして作られた本発明の液晶表示素子は、優れた表示性能を有し、長期間の使用後でも、表示性能は低下しない。
【０１６１】
図１は、本発明の１つの実施形態に係る液晶表示素子の側面図である。液晶表示素子１００は、第１ユニット１１０と、第２ユニット１２０と、液晶ユニット１３０とを含み、第２ユニット１２０と第１ユニット１１０は分離して配置され、液晶ユニット１３０は、第１ユニット１１０と第２ユニット１２０の間に配置される。
【０１６２】
第１ユニット１１０は、第１基板１１２と、第１導電膜１１４と、第１液晶配向膜１１６とを含み、第１導電膜１１４は、第１基板１１２と第１液晶配向膜１１６の間に配置され、第１液晶配向膜１１６は、液晶ユニット１３０の一側に配置される。
【０１６３】
第２ユニット１２０は、第２基板１２２と、第２導電膜１２４と、第２液晶配向膜１２６とを含み、第２導電膜１２４は、第２基板１２２と第２液晶配向膜１２６の間に配置され、第２液晶配向膜１２６は、液晶ユニット１３０の他側に配置される。つまり、液晶ユニット１３０は、第１液晶配向膜１１６と第２液晶配向膜１２６の間に配置される。
【０１６４】
第１基板１１２および第２基板１２２は、例えば、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、硬質ガラス（パイレックス（Pyrex）ガラス）、石英ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、またはポリカーボネート等の透明材料から選択されるが、これらに限定されない。第１導電膜１１４および第２導電膜１２４の材料は、それぞれ、例えば、酸化スズ（SnO2）または酸化インジウム−酸化スズ（In2O3-SnO2）から選ばれる。
【０１６５】
第１液晶配向膜１１６および第２液晶配向膜１２６は、それぞれ、上述した液晶配向膜であり、それぞれの機能は、液晶ユニット１３０がプレチルト角を形成できるようにすることである。さらに、第１導電膜１１４および第２導電膜１２４に電圧を印加した時、第１導電膜１１４と第２導電膜１２４の間に電場を生成することができる。電場が液晶ユニット１３０を駆動することによって、液晶ユニット１３０内の液晶分子の配置を変更することができる。
ジアミン（ｂ−１）の製造例
【０１６６】
以下、式（I）で表されるジアミン（ｂ−１）の製造例１〜製造例４について説明する。
製造例１
【０１６７】
式（ｂ−１−１）で表される化合物（以下、化合物（ｂ−１−１）とする）は、下記の合成スキーム１に基づいて合成される。
【０１６８】
【化２７】
0005902334.tif 000093
（１）化合物（ｂ−１−１a)の合成
【０１６９】
攪拌機、窒素ガス導入管および温度計を設置した５Ｌの三つ口フラスコ中に、β−コレスタノール３８９ｇ、無水マレイン酸２０１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１５ｇ、トリエチルアミン１７０ｍｌおよび酢酸エチル２Ｌを加える。そして、混合物を９０℃で８時間反応させる。反応が完了した後、減圧蒸留を行って、酢酸エチルを除去する。次に、クロロホルム２Ｌを添加し、有機層を希塩酸で連続的に３回洗浄した後、水で４回洗浄する。そして、有機層を乾燥させ、硫酸マグネシウムで濃縮する。次に、得られた沈殿物をフィルタリングして溶媒を除去し、２２３ｇの白色粉末の化合物（ｂ−１−１ａ）を得る。さらに、必要に応じて、上述した規模で化合物（ｂ−１−１ａ）の合成を繰り返し、下記の各例の必要量を確保する。
（２）化合物（ｂ−１−１ｂ）の合成
【０１７０】
攪拌機、温度計、および窒素ガス導入管を設置した５Ｌの三つ口フラスコ中に、上述した合成後の化合物（ｂ−１−１ａ）２２３ｇ、３，５−ジニトロベンゾイルクロリド１０８ｇ、炭酸カリウム２０７ｇ、ヨウ化ナトリウム１５０ｇ、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５００ｍｌを加える。そして、混合物を６０℃で８時間反応させる。反応が完了した後、クロロホルム３Ｌを添加し、得られた有機層を水で３回洗浄する。次に、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させる。有機層を濃縮して、沈澱した固体を回収する。そして、固体をエタノールで洗浄し、２８０ｇの淡黄色粉末の化合物（ｂ−１−１ｂ）を得る。
（３）化合物（ｂ−１−１）の合成
【０１７１】
攪拌機、温度計、および窒素ガス導入管を設置した５Ｌの三つ口フラスコ中に、上述した合成後の化合物（ｂ−１−１ｂ）２００ｇ、塩化スズ（II）二水和物（SnCl2・2H2O）６８０ｇ、および酢酸エチル２Ｌを加える。そして、混合物を還流で４時間反応させる。反応が完了した後、反応混合物をフッ化カリウムの水溶液および水で連続的に洗浄する。有機層を乾燥させて、硫酸マグネシウムで濃縮した後、有機層をエタノールで再結晶させ、５８ｇの淡黄色結晶体の化合物（ｂ−１−１）を得る。
製造例２
【０１７２】
式（ｂ−１−２）で表される化合物（以下、化合物（ｂ−１−２）とし、式（I−１１）と同じである）は、下記の合成スキーム２に基づいて合成される。
【０１７３】
【化２８】
0005902334.tif 000094
（１）化合物（ｂ−１−２a)の合成
【０１７４】
滴下漏斗、温度計、および窒素ガス導入管を設置した１Ｌの三つ口フラスコ中に、β−コレスタノール１１７ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン３．７ｇ、テトラヒドロフラン４００ｍｌ、およびトリエチルアミン５５ｍｌを加える。そして、混合物を氷で冷却する。この時、混合物にメタンスルホニルクロリド（methanesulfonyl chloride, MsCl）３１ｍｌおよびテトラヒドロフラン１００ｍｌからなる溶液を滴下漏斗により１時間以上滴下する。次に、混合物を室温で３時間攪拌して、反応させる。反応が完了した後、酢酸エチル５００ｍｌを反応混合物に添加し、且つ得られた有機層を分液漏斗により水で３回洗浄した後、反応混合物を硫酸マグネシウムで乾燥させる。そして、有機層を約３００ｍｌに濃縮した後、有機層をエタノール６００ｍｌの中に拡散させる。濾過により得られた白色沈殿物を収集して乾燥させ、１１７ｇの化合物（ｂ−１−２ａ）を得る。式（ｂ−１−２ａ）において、Ｍｓは、メチルスルホニル（methylsulfonyl, CH3SO2-）を示す。
（２）化合物（ｂ−１−２ｂ）の合成
【０１７５】
得られた化合物（ｂ−１−２ａ）４６．７ｇ、２−ブタン−１，４−ジオール２２０ｇ、および１，４−ジオキサン（1,4-dioxane）２００ｍｌを混合した後、１００℃で２０時間加熱および攪拌して、反応させる。反応が完了した後、水５００ｍｌおよびクロロホルム５００ｍｌを反応混合物に添加する。そして、反応混合物を十分に攪拌する。次に、有機層を分離した後、飽和重曹水５００ｍｌで連続的に１回洗浄し、水５００ｍｌで２回洗浄する。有機層を硫酸マグネシウムで脱水し、有機層をフィルタリングして濃縮した後、エタノール５００ｍｌを添加する。０℃で攪拌した後、有機層を一晩放置する。一晩放置して得られた白色沈殿物をフィルタリングした後、濾過水を濃縮して、溶媒を除去し、２９．１ｇの粘性流体粗生成物の化合物（ｂ−１−２ｂ）を得る。
（３）化合物（ｂ−１−２ｃ）の合成
【０１７６】
得られた化合物（ｂ−１−２ｂ）２９．１ｇおよび３，５−ジニトロベンゾイルクロリド１４．０ｇを混合した後、０℃のテトラフドロフラン溶媒３００ｍｌ中で１０分間攪拌する。トリエチルアミン８．４ｍｌを混合物に１０分間滴下した後、混合物を室温で３時間攪拌し、反応させる。反応が完了し、且つクロロホルム５００ｍｌを添加した後、反応溶液を水３００ｍｌで４回洗浄する。有機層を硫酸マグネシウムで脱水し、有機層をフィルタリングして濃縮した後、粘性流体を回収する。シリコンコラムを使用するカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：クロロホルム）により粘性流体を精製して、２０．８ｇの淡黄色で油性の化合物（ｂ−１−２ｃ）を得る。
（４）化合物（ｂ−１−２）の合成
【０１７７】
窒素雰囲気において、得られた化合物（ｂ−１−１ｃ）２０．８ｇおよび塩化スズ（II）二水和物７８ｇを加えた後、酢酸エチル溶媒３５０ｍｌにおいて還流で４時間加熱および攪拌する。そして、フッ化カリウムの水溶液４００ｍｌ、２ｍｏｌ／Ｌを追加した後、混合物を攪拌し、沈澱した塩をフィルタリングする。有機層をフッ化カリウム４００ｍｌ、２ｍｏｌ／Ｌで１回洗浄して、水４００ｍｌで３回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで濃縮した後、有機層をフィルタリングして濃縮し、淡黄色粉末を得る。得られた粉末をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：クロロホルム／エタノール＝９５／５（体積比））で精製し、１４．５ｇの白色粉末の化合物（ｂ−１−２）を得る。
製造例３
【０１７８】
式（ｂ−１−３）で表される化合物（以下、化合物（ｂ−１−３）とし、式（I−１９）と同じである）は、下記の合成スキーム３に基づいて合成される。
【０１７９】
【化２９】
0005902334.tif 000095
（１）化合物（ｂ−１−３ｂ）の合成
【０１８０】
滴下漏斗、窒素ガス導入管、および温度計を設置した５００ｍｌの三つ口フラスコ中に、化合物（ｂ−１−１ａ）２４ｇおよびテトラヒドロフラン１５０ｍｌを加えた後、混合物を−１８℃に冷却する。０．９ｍｏｌ／Ｌの濃度を有するボラン−テトラヒドロフランコンプレックス／テトラヒドロフラン溶液（BH3/THF）５５ｍｌを３０分間混合物に滴下した後、混合物を室温でさらに１６時間反応させる。反応が完了した後、混合物を氷で冷却する。そして、水３０ｍｌをゆっくりと追加した後、酢酸エチルを添加して、分液漏斗を用いて得られた有機層を飽和重曹水の水溶液で連続的に２回洗浄し、分液漏斗を用いて水で３回洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させてから、濃縮および乾燥させ、１７ｇの白色粉末の化合物（ｂ−１−３ｂ）を得る。
（２）化合物（ｂ−１−３ｃ）の合成
【０１８１】
滴下漏斗、窒素ガス導入管、および温度計を設置した５００ｍｌの三つ口フラスコ中に、得られた化合物（ｂ−１−３ｂ）１５ｇ、トリエチルアミン４．５ｍｌ、およびテトラヒドロフラン１００ｍｌを加えた後、混合物を氷で冷却する。この時、滴下漏斗を使用してテトラヒドロフラン５０ｍｌ中に溶解した３，５−ジニトロベンゾイルクロリド７．４ｇを１時間滴下し、その後、混合物を室温で２時間反応させる。反応が完了した後、酢酸エチルを反応混合物に添加し、分液漏斗を用いて得られた有機層を飽和重曹水の水溶液で連続的に２回洗浄して、水で３回洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させる。有機層を濃縮および乾燥させた後、エタノール中で再結晶を行い、１０ｇの化合物（ｂ−１−３ｃ）を得る。
（３）化合物（ｂ−１−３）の合成
【０１８２】
滴下漏斗、窒素ガス導入管、および温度計を設置した１Ｌの三つ口フラスコ中に、得られた化合物（ｂ−１−３ｃ）１０ｇ、５重量％のパラジウム炭素粉末（Pd/C）９５ｍｇ、エタノール１２０ｍｌ、テトラヒドロフラン６０ｍｌ、およびヒドラジン一水和物３．８ｍｌを加えた後、混合物を室温で１時間攪拌する。次に、混合物を７０℃で１時間攪拌して、反応させる。反応が完了した後、混合物をシーライトでフィルタリングし、得られた濾過水に酢酸エチル３００ｍｌを添加する。そして、分液漏斗を用いて得られた有機層を水で３回洗浄した後、有機層を濃縮および乾燥させる。乾燥させた生成物をエタノール中で再結晶させ、７ｇの化合物（ｂ−１−３）を得る。
製造例４
【０１８３】
式（ｂ−１−４）で表される化合物（以下、化合物（ｂ−１−４）とし、式（I−１７）と同じである）は、下記の合成スキーム４に基づいて合成される。
【０１８４】
【化３０】
0005902334.tif 000096
（３）化合物（ｂ−１−４ｂ ）の合成
【０１８５】
化合物（ｂ−１−１ａ）４７ｇおよび３，５−（Ｎ，Ｎ−ジアリル）ジアミノフェノール２８ｇを混合した後、０℃のテトラヒドロフラン４００ｍｌ中で攪拌する。Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（N,N’-dicyclohexylcarbodiimide, DCC）２５ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン２．４ｇを混合物に添加した後、混合物を２５℃で４時間攪拌する。そして、クロロホルムを添加し、有機層を水で洗浄して、濃縮する。濃縮液をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝８：１（体積比））で精製し、粗生成物の化合物（ｂ−１−４ｂ）を得る。
（２）化合物（ｂ−１−４）の合成
【０１８６】
得られた化合物（ｂ−１−４ｂ）３８ｇ、１，３−ジメチルバルビツール酸（dimethyl barbituric acid）２３ｇ、およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0), Pd(Ph3)4）１．１ｇを混合した後、３５℃のジクロロメタン２００ｍｌ中で７時間攪拌し、反応させる。反応が完了した後、反応混合物を飽和重曹水の水溶液および水で連続的に洗浄し、有機層を濃縮する。そして、溶媒を除去して、茶色の粘性流体を得る。粘性流体をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：クロロホルム：エタノール＝９５：５（体積比））で精製して、エタノール中で再結晶を行い、１３ｇの淡黄色粉末の化合物（ｂ−１−４）を得る。
合成例
【０１８７】
以下、重合体組成物（Ａ−１）の合成例Ａ−１−１〜合成例Ａ−１−１０について説明する。
合成例Ａ−１−１
【０１８８】
５００ｍｌの四つ口フラスコに、窒素注入孔、攪拌機、コンデンサ、および温度計を設置して、窒素ガスを導入する。そして、化合物（ｂ−１−１）０．００５ｍｏｌ（１０％モル）、化合物（ｂ−２−１）０．０１５ｍｏｌ（３０％モル）、化合物（ｂ−２−１）０．０３ｍｏｌ（６０％モル）、およびＮ−メチル−２−ピロリドン（以下、ＮＭＰとする）８０ｇを追加し、混合物が溶解するまで室温で攪拌する。次に、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物０．０５モル（１００％モル）およびＮＭＰ２０ｇを添加し、混合物を室温で２時間反応させる。反応が完了した後、反応液を１５００ｍｌの水に注入して、重合体を沈殿させる。そして、得られた重合体をフィルタリングし、メタノールで洗浄および濾過の工程を繰り返し３回行う。次に、生成物を真空オーブン内に置き、生成物を６０℃で乾燥させて、重合体組成物（Ａ−１−１）を得る。
合成例Ａ−１−２〜合成例Ａ−１−１０
【０１８９】
合成例Ａ−１−２〜合成例Ａ−１−１０の重合体組成物は、合成例Ａ−１−１と同じ工程で製造され、異なる点は、重合体組成物の各原料の種類および使用量を変更したことであり（表１に示す）、表１の符号に対応する化合物は、以下の通りである。
0005902334.tif 000097
0005902334.tif 000098
0005902334.tif 000099
【０１９０】
【表１】
0005902334.tif 000100
比較合成例Ａ−２−１〜比較合成例Ａ−２−６
【０１９１】
比較合成例Ａ−２−１〜比較合成例Ａ−２−６の各重合体組成物は、合成例Ａ−１−１と同じ工程で製造され、異なる点は、重合体組成物の各原料の種類および使用量を変更したことである（表２に示す）。
【０１９２】
【表２】
0005902334.tif 000101
液晶配向剤の実施例
【０１９３】
以下、液晶配向剤の実施例１〜実施例１５および比較例１〜比較例６について説明する。
実施例１
【０１９４】
重合体組成物（Ａ−１−１）１００重量部をＮＭＰ（以下、Ｂ−１とする）１２００重量部およびエチレングリコールｎ−ブチルエーテル（以下、Ｂ−２とする）６００重量部に添加する。そして、混合物が溶解するまで攪拌装置を用いて室温で連続的に攪拌し、実施例１の液晶配向剤を得る。得られた液晶配向剤を以下の評価方法で評価し、その結果を表３に示す。以下、紫外線照射後のプレチルト角の均一性を判断する方法について説明する。
実施例２〜実施例１５
【０１９５】
実施例２〜実施例１５の液晶配向剤は、実施例１と同じ工程で製造され、異なる点は、液晶配向剤の各成分の種類および使用量を変更したことであり（表３に示す）、表３の符号に対応する化合物は、以下の通りである。得られた各液晶配向剤を以下の評価方法で評価し、その結果を表３に示す。
0005902334.tif 000102
比較例１〜比較例６
【０１９６】
比較例１〜比較例６の各液晶配向剤は、実施例1と同じ工程で製造され、異なる点は、液晶配向剤の各成分の種類および使用量を変更したことである（表４に示す）。得られた各液晶配向剤を以下の評価方法で評価し、その結果を表４に示す。
＜評価方法＞
紫外線照射後のプレチルト角の均一性
【０１９７】
上述した液晶配向剤で３０ｍｍ×４０ｍｍの長方形ガラス基板の上に液晶配向膜を作り、液晶配向膜を有する液晶表示素子を製造する。そして、液晶表示素子を紫外線（ＵＶ光）で照射する。
【０１９８】
次に、各長方形ガラス基板上で９つの固定点を選択し、液晶表示素子のプレチルト角Ｐをそれぞれ測定する。そして、プレチルト角Ｐの変化率を下記の式（７）で計算し、下記の基準に基づいて評価を行う。Ｐの変化率が大きくなればなるほど、液晶表示素子は、紫外線照射後にプレチルト角の均一性が悪くなる。
【０１９９】
【数１】
0005902334.tif 000103
式（７）
【０２００】
◎：変化率Ｐ≦３％
○：３％＜Ｐの変化率≦５％
△：５％＜Ｐの変化率≦１０％
×：１０％＜Ｐの変化率
【表３】
0005902334.tif 000104
【０２０１】
【表４】
0005902334.tif 000105
＜評価結果＞
【０２０２】
表３および表４からわかるように、重合物組成物（Ａ−２）のみを含む液晶配向剤（比較例１〜比較例６）と比較して、重合物組成物（Ａ−１）を含む液晶配向剤（実施例１〜実施例１５）で作られた液晶表示素子は、紫外線照射後でもプレチルト角の均一性が比較的良好である。表１および表２の両方を参照して、さらに具体的に説明すると、ジアミン（ｂ−１）およびジアミン（ｂ−２）によって同時に形成された重合物組成物（Ａ−１）を使用して液晶配向膜を形成し、この液晶配向膜を液晶表示素子に適用した場合、液晶表示素子は、紫外線照射後でもプレチルト角の均一性が比較的良好である。
【０２０３】
さらに、重合物組成物（Ａ−１）のジアミン（ｂ−１）およびジアミン（ｂ−２）のモル比（ｂ−１）／（ｂ−２）が０．０５〜１．５である時（すなわち、重合物組成物（Ａ−１−１）、重合物組成物（Ａ−１−２）、重合物組成物（Ａ−１−４）〜重合物組成物（Ａ−１−７）、重合物組成物（Ａ−１−９）、および重合物組成物（Ａ−１−１０）を使用した時）、この液晶配向剤で作られた液晶配向膜を使用した液晶表示素子（実施例１、２、４、５、６、７、９、１０、１１、１２、および１４）は、紫外線照射後でもプレチルト角の均一性が比較的良好である。
【０２０４】
以上のように、本発明の液晶配向剤は、特定のジアミンを含むため、この液晶配向剤を液晶配向膜に適用した時、液晶表示素子は、紫外線照射後でもプレチルト角の均一性が優れているという特性を有する。その結果、液晶配向剤は、液晶配向膜および液晶表示素子に適している。
【０２０５】
以上のごとく、この発明を実施形態により開示したが、もとより、この発明を限定するためのものではなく、当業者であれば容易に理解できるように、この発明の技術思想の範囲内において、適当な変更ならびに修正が当然なされうるものであるから、その特許権保護の範囲は、特許請求の範囲および、それと均等な領域を基準として定めなければならない。
【産業上の利用可能性】
【０２０６】
本発明により得られる液晶配向剤は、液晶配向膜および液晶表示素子の製造に適している。
【符号の説明】
【０２０７】
１００  液晶表示素子
１１０  第１ユニット
１１２  第１基板
１１４  第１導電膜
１１６  第１液晶配向膜
１２０  第２ユニット
１２２  第２基板
１２４  第２導電膜
１２６  第２液晶配向膜
１３０  液晶ユニット  
【図１】
0005902334.tif 000112