(57)【要約】半導体からなり電子が走行する一次元チャネル１８と、前記一次元チャネルに電界を印加することにより、前記一次元チャネルを走行する電子にスピン軌道相互作用に起因する有効磁場を前記電子が走行する方向と交差する方向に生成させる電極２６と、前記一次元チャネルに外部磁場を生成する外部磁場生成部３８と、を具備する整流装置。
2013027712.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体からなり電子が走行する一次元チャネルと、
前記一次元チャネルに電界を印加することにより、前記一次元チャネルを走行する電子にスピン軌道相互作用に起因する有効磁場を前記電子が走行する方向と交差する方向に生成させる電極と、
前記一次元チャネルに外部磁場を生成する外部磁場生成部と、
を具備することを特徴とする整流装置。
【請求項２】
前記一次元チャネルは量子ポイントコンタクトであることを特徴とする請求項１記載の整流装置。
【請求項３】
前記外部磁場生成部は、前記外部磁場を、前記有効磁場の方向または前記有効磁場と反対方向に生成することを特徴とする請求項１記載の整流装置。
【請求項４】
前記一次元チャネルは、閃亜鉛鉱型結晶構造を有することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項記載の整流装置。
【請求項５】
前記一次元チャネルは、（００１）面または（１１０）面上に形成されていることを特徴とする請求項４記載の整流装置。
【請求項６】
前記一次元チャネルは、前記電子が走行する方向に対し両側からくびれた箇所に形成される半導体であることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項記載の整流装置。
【請求項７】
前記一次元チャネルの前記くびれた箇所の両側に空乏層を形成するサイドゲートを具備することを特徴とする請求項６記載の整流装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項記載の整流装置を含むトランジスタ。
【請求項９】
前記一次元チャネルに電子を注入するソースと、
前記一次元チャネルから電子を受けるドレインと、を具備し、
前記電極はゲート電極であることを特徴とする請求項８記載のトランジスタ。
【請求項１０】
半導体からなり電子が走行している一次元チャネルに、電界を印加することにより、前記一次元チャネルを走行している電子にスピン軌道相互作用に起因する有効磁場を前記電子が走行している方向と交差する方向に生成させるステップと、
前記一次元チャネルに外部磁場を生成するステップと、
を含むことを特徴とする整流方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、整流装置、トランジスタおよび整流方法に関し、特に、スピン軌道相互作用を用いた整流装置、トランジスタおよび整流方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
スピンを用いたスピンエレクトロニクスはその実用化が期待されている。スピンエレクトロニクスの分野において、強磁性体の磁化方向によるメモリ機能を有する装置が開発されている。また、非特許文献１では、スピン軌道相互作用に起因する有効磁場を活用したスピン電界効果トランジスタが提案されている。このようなスピンエレクトロニクスの分野においては、スピン偏極率の高いスピンインジェクタが求められる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】APPl. Phys. Lett. 56, 665 (1990)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このようなスピンエレクトロニクスの分野においては、一方方向に電子を流すとスピン偏極率の電子が得られるが、反対方向には電子が流れない整流装置が求められている。このような整流装置を用いスピンの整流を行なうことができる。本発明は、一方方向に電子を流すとスピン偏極率の高い電子が得られるが、反対方向には電子が流れない整流装置および整流方法、並びにそれらを用いたトランジスタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、半導体からなり電子が走行する一次元チャネルと、前記一次元チャネルに電界を印加することにより、前記一次元チャネルを走行する電子にスピン軌道相互作用に起因する有効磁場を前記電子が走行する方向と交差する方向に生成させる電極と、前記一次元チャネルに外部磁場を生成する外部磁場生成部と、を具備することを特徴とする整流装置である。本発明によれば、一方方向に電子を流すとスピン偏極率の高い電子が得られるが、反対方向には電子が流れない整流装置を提供することができる。【０００６】
上記構成において、前記一次元チャネルは量子ポイントコンタクトである構成とすることができる。【０００７】
上記構成において、前記外部磁場生成部は、前記外部磁場を、前記有効磁場の方向または前記有効磁場と反対方向に生成する構成とすることができる。【０００８】
上記構成において、前記一次元チャネルは、閃亜鉛鉱型結晶構造を有する構成とすることができる。【０００９】
上記構成において、前記一次元チャネルは、（００１）面または（１１０）面上に形成されている構成とすることができる。【００１０】
上記構成において、前記一次元チャネルは、前記電子が走行する方向に対し両側からくびれた箇所に形成される半導体である構成とすることができる。【００１１】
上記構成において、前記一次元チャネルの前記くびれた箇所の両側に空乏層を形成するサイドゲートを具備する構成とすることができる。【００１２】
本発明は、上記整流装置を含むトランジスタである。【００１３】
上記構成において、前記一次元チャネルに電子を注入するソースと、前記一次元チャネルから電子を受けるドレインと、を具備し、前記電極はゲート電極である構成とすることができる。【００１４】
本発明は、半導体からなり電子が走行している一次元チャネルに、電界を印加することにより、前記一次元チャネルを走行している電子にスピン軌道相互作用に起因する有効磁場を前記電子が走行している方向と交差する方向に生成させるステップと、前記一次元チャネルに外部磁場を生成するステップと、を含むことを特徴とする整流方法である。本発明によれば、一方方向に電子を流すとスピン偏極率の高い電子が得られるが、反対方向には電子が流れない整流方法を提供することができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、一方方向に電子を流すとスピン偏極率の高い電子が得られるが、反対方向には電子が流れない整流装置および整流方法、並びにそれらを用いたトランジスタを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１（ａ）は、実施例１に係る整流装置の上面図、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＸ−Ｘ断面図、図１（ｃ）は、図１（ａ）のＹ−Ｙ断面図である。
【図２】図２は、実施例１に係る整流装置の平面模式図である。
【図３】図３（ａ）および図３（ｂ）は、量子ポイントコンタクトを走行する電子に加わる有効磁場を説明する図である。
【図４】図４は、サンプルの半導体積層構造を示す図である。
【図５】図５（ａ）は、サイドゲート電圧に対するソース−ドレイン間のコンダクタンス、図５（ｂ）は、サイドゲート電圧に対するスピン偏極率を示す図である。
【図６】図６（ａ）および図６（ｂ）は、実施例１に係る整流装置の原理を説明する図である。
【図７】図７（ａ）および図７（ｂ）は、電子の走行方向に依存したスピン分裂準位の模式図である。
【図８】図８（ａ）および図８（ｂ）は、実施例２に係るトランジスタの原理を説明する図である。
【図９】図９（ａ）および図９（ｂ）は、電子の走行方向に依存したスピン分裂準位の模式図である。
【図１０】図１０（ａ）および図１０（ｂ）は、実施例３の動作を説明する平面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施例を、図面を参照に説明する。
【実施例１】
【００１８】
図１（ａ）は、実施例１に係る整流装置の上面図、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＸ−Ｘ断面図、図１（ｃ）は、図１（ａ）のＹ−Ｙ断面図である。図１（ａ）から図１（ｃ）のように、（００１）面半導体基板１０上に、半導体層１１として障壁層１２、井戸層１４および障壁層１６が順に形成されている。半導体層１１には、基板１０まで達する溝３０が形成されている。井戸層１４のバンドギャップを障壁層１２および１６より小さくすることにより、電子を井戸層１４付近に閉じ込めることができる。これにより、井戸層１４内には二次元チャネルが形成される。井戸層１４に接するようにソース２０およびドレイン２２が形成されている。【００１９】
溝３０は、ソース２０からドレイン２２に走行する電子が通過する一次元チャネル１８が形成されるように、半導体層１１の両側面からＶ字状に形成されている。これにより、半導体層１１（特に井戸層１４）にくびれが形成される。このように、井戸層１４により二次元チャネルを形成し、溝３０によりくびれからなる一次元チャネル１８を形成する。障壁層１６上には絶縁膜２４が形成されている。絶縁膜２４上には、金属からなるゲート電極２６が形成されている。ゲート電極２６は、一次元チャネル１８に電界を印加する。溝３０によりチャネルから分離された半導体層１１の領域３４には、サイドゲート３２が接触している。サイドゲート３２により、領域３４の半導体層１１にサイドゲート電圧を印加することができる。さらに、一次元チャネル１８に外部磁場Ｂｅｘを印加する外部磁場生成部３８が設けられている。外部磁場生成部３８としては、磁化した強磁性体を用いることができる。また、電流により外部磁場を生成するものでもよい。【００２０】
図２は、実施例１に係る整流装置の平面模式図である。図２には、半導体層１１、ソース２０、ドレイン２２およびサイドゲート３２が図示されている。図２の左から右方向（ソース２０からドレイン２２方向）を＋Ｘ方向、の下から上方向を＋Ｙ方向、奥行きから手前方向を＋Ｚ方向とする。サイドゲート３２は、図１（ａ）の領域３４と一体に図示している。ドレイン２２にはソース２０に対しドレイン電圧Ｖｄｓが印加される。サイドゲート３２には、ソース２０に対しサイドゲート電圧ＶＳＧが印加されている。正のドレイン電圧Ｖｄｓを印加することにより、ソース２０からドレイン２２に電子が走行する。負のドレイン電圧Ｖｄｓを印加することにより、ドレイン２２からソース２０に電子が走行する。なお、このとき、ドレイン２２およびソース２０は実質的にはそれぞれソースおよびドレインとして機能する。負のサイドゲート電圧ＶＳＧを印加することにより、溝３０付近の半導体層１１（特に井戸層１４）に空乏層３６が形成される。空乏層３６間に一次元チャネル１８が形成される。サイドゲート電圧ＶＳＧの大きさにより、一次元チャネル１８の幅を調整することができる。一次元チャネル１８として振舞うには、一次元チャネル１８の幅は、フェルミ波長程度以下の幅であり、５０ｎｍ〜１００ｎｍ以下の幅とすることが好ましい。図２のように、チャネルの幅が１００ｎｍ程度以下であり、チャネル方向のくびれの長さが５００ｎｍ程度以下のポイント状に形成された一次元チャネル１８を量子ポイントコンタクトという。【００２１】
図３（ａ）および図３（ｂ）は、量子ポイントコンタクトを走行する電子に加わる有効磁場を説明する図である。図３（ａ）のように、ドレイン電圧Ｖｄｓが正であり、電子４０が＋Ｘ方向に走行している。ゲート電極２６により、一次元チャネルに＋Ｚ方向の電界Ｅが印加されている。この場合、一次元チャネル１８を走行（矢印４４）する電子４０には＋Ｙ方向に有効磁場Ｂαが印加される。このように半導体におけるスピン軌道相互作用は電子に対し有効磁場として作用する。有効磁場は、電子が走行することにより受ける磁場である。例えば、閃亜鉛鉱型結晶構造を有する化合物半導体にはラシュバスピン軌道相互作用とドレッセルハウススピン軌道相互作用との２種類が存在している。ドレッセルハウススピン軌道相互作用の強さβは、電子が走行する方向によって定まり、電界によらず一定である。ラシュバスピン軌道相互作用の強さαは、電界により可変である。図３（ａ）および図３（ｂ）の有効磁場Ｂαはラシュバスピン軌道相互作用により生成されるものである。有効磁場Ｂαの大きさは、電子の走行速度が速くなると大きくなる。一次元チャネル１８を通過した電子４２は、有効磁場Ｂαにより＋Ｙ方向にスピン偏極（矢印４１ａ）する。【００２２】
一次元チャネル１８を通過する電子を有効磁場Ｂαを用いスピン偏極させることにより、スピン偏極率を向上させることができる。一般に、２次元または３次元に走行する電子は、格子振動等の散乱によりドリフト速度により走行する。このため、電子に作用する有効磁場Ｂαは小さい。一方、量子ポイントコンタクトにおける一次元チャネル１８を走行する電子は、電子の平均自由工程がくびれの長さより十分長くなる。この場合、電子は一次元チャネル１８を弾道的に通過する。これにより、電子はフェルミ速度により一次元チャネル１８を走行する。フェルミ速度はドリフト速度の１００倍以上である。このため、一次元チャネル１８においては、電子に作用する有効磁場Ｂαを大きくすることができる。よって、電子４２のスピン偏極率を大きくすることができる。【００２３】
図３（ｂ）のように、ドレイン電圧Ｖｄｓが負であり電子４０が−Ｘ方向に走行している。電子４０が−Ｘ方向に走行する場合、一次元チャネル１８において有効磁場Ｂαは−Ｙ方向に生成される。よって、電子４２は−Ｙ方向にスピン偏極（矢印４１ｂ）する。電子４２のスピン偏極率を向上できるのは、図３（ａ）と同様である。なお、ゲート電極２６に印加される電圧を反転し、一次元チャネル１８に印加される電界を−Ｚ方向とすると、有効磁場Ｂαの方向は、逆となる。すなわち、ドレイン電圧Ｖｄｓ＞０の場合有効磁場Ｂαの方向は−Ｙ方向となり、電子４２は−Ｙ方向にスピン偏極される。ドレイン電圧Ｖｄｓ＜０の場合有効磁場Ｂαの方向は＋Ｙ方向となり、電子４２は＋Ｙ方向にスピン偏極される。【００２４】
スピン偏極率を測定するためサンプルを作成した。図４は、サンプルの半導体積層構造を示す図である。基板１０から順に、バッファ層５０、障壁層１２、第１半導体層５２、第２半導体層５４、第３半導体層５６および障壁層１６が積層されている。第１半導体層５２から第３半導体層５６が井戸層１４に対応する。基板１０は半絶縁性ＩｎＰ基板であり、（００１）面を主面としている。バッファ層５０は、膜厚が２００ｎｍでアンドープのＩｎ０．５２Ａｌ０．４８Ａｓ層と、電子濃度が４×１０１８ｃｍ−３で膜厚が６ｎｍのＩｎ０．５２Ａｌ０．４８Ａｓ層である。障壁層１２は、膜厚が１５ｎｍでアンドープのＩｎ０．５２Ａｌ０．４８Ａｓ層である。第１半導体層５２は膜厚が５ｎｍでアンドープの（Ｉｎ０．５３Ｇａ０．４７Ａｓ）０．４１（ＩｎＰ）０．５９層である。第２半導体層５４は、膜厚が５ｎｍでアンドープのＩｎ０．８Ｇａ０．２Ａｓ層である。第３半導体層５６は、膜厚が３ｎｍでアンドープの（Ｉｎ０．５２Ａｌ０．４８Ａｓ）０．３（Ｉｎ０．５３Ｇａ０．４７Ａｓ）０．７層である。障壁層１６は、膜厚が２５ｎｍでアンドープのＩｎ０．５２Ａｌ０．４８Ａｓ層である。Ｉｎ０．５３Ａｌ０．４７ＡｓおよびＩｎ０．５３Ｇａ０．４７Ａｓは、ＩｎＰと格子整合するため、第２半導体層５４以外はＩｎＰと格子整合し、図４の半導体積層構造は、格子歪の少ない構造となる。【００２５】
絶縁膜２４は、原子層堆積装置を用い形成された、膜厚が１５０ｎｍの酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）である。ゲート電極２６は、絶縁膜２４側から膜厚が１０ｎｍのＣｒ膜、膜厚が２００ｎｍのＡｕ膜である。ソース２０およびドレイン２２は、膜厚が２００ｎｍのＡｕＧｅＮｉ膜である。サイドゲート３２は、障壁層１６の上に形成された膜厚が２００ｎｍのＡｕＧｅＮｉ膜である。溝３０は、幅が約４００ｎｍであり、図１（ａ）の幅Ｗ１が４００ｎｍ、幅Ｗ２が８００ｎｍとなるように形成する。【００２６】
作製したサンプルを用い、Ｆａｎｏ因子からスピン偏極率を測定した。ドレイン電圧Ｖｄｓは１０μＶ、ゲート電圧は１．７Ｖとした。測定温度は３．６Ｋである。図５（ａ）は、サイドゲート電圧ＶＳＧに対するソース−ドレイン間のコンダクタンスＧ、図５（ｂ）は、サイドゲート電圧ＶＳＧに対するスピン偏極率を示す図である。量子ポイントコンタクトにおいては、電気伝導が離散化される。コンダクタンスＧが（２ｅ２／ｈ）を単位として整数倍のところにステップ構造があらわれる。コンダクタンスＧが１×（２ｅ２／ｈ）の場合は、量子ポイントコンタクトの部分に電子が伝導するチャネルが一本のみ存在すること示している。この状態において、電子の有効磁場が働くと、アップッスピンまたはダウンスピンのみが通過することになる。よって、コンダクタンスＧは０．５×（２ｅ２／ｈ）となる。【００２７】
図５（ａ）のように、サイドゲート電圧ＶＳＧが、−３．２６Ｖから−３．１７Ｖの範囲において、（２ｅ２／ｈ）で規格化したコンダクタンスＧがほぼ０．５となっている。これは、量子ポイントコンタクトがアップスピンまたはダウンスピンのみの一次元チャネルとして機能していることを示している。図５（ｂ）のように、一次元チャネル１８として機能しているサイドゲート電圧ＶＳＧが、−３．２６Ｖから−３．１７Ｖの範囲において、０．５〜０．７と高いスピン偏極率が得られる。以上のように、強磁性体を用いず高い偏極率の電子を生成することができる。【００２８】
図６（ａ）および図６（ｂ）は、実施例１に係る整流装置の原理を説明する図である。図７（ａ）および図７（ｂ）は、電子の走行方向に依存したスピン分裂準位の模式図である。図６（ａ）および図６（ｂ）のように、外部磁場生成部３８により、−Ｙ方向に外部磁場Ｂｅｘが生成されている。図６（ａ）のように、ドレイン電圧Ｖｄｓが正であり、電子が＋Ｘ方向に走行している。この場合、電子４０に加わる有効磁場Ｂαは＋Ｙ方向である。図７（ａ）のように、外部磁場Ｂｅｘが０の場合、電子４０は有効磁場Ｂαにより準位がスピン分離する。この場合、＋Ｙ方向にスピン偏極したスピン準位Ｅ１が−Ｙ方向にスピン偏極したスピン準位Ｅ２に対し低くなる。外部磁場Ｂｅｘが−Ｙ方向に印加された場合（すなわちＢｅｘ＜０の場合）、外部磁場Ｂｅｘの方向が有効磁場Ｂαの方向とは反対となる。このため、Ｂｅｘ＝０に比べ、スピン準位Ｅ１は高くなり、スピン準位Ｅ２は低くなる。外部磁場Ｂｅｘが印加されることにより、スピン準位Ｅ１が高くなるエネルギーΔＥは、１／２ｇμＢＢｅｘである。ここで、ｇはｇ因子、μＢは透磁率である。【００２９】
図６（ｂ）のように、ドレイン電圧Ｖｄｓが負であり、電子が−Ｘ方向に走行している。この場合、電子４０に加わる有効磁場Ｂαは−Ｙ方向である。図７（ｂ）のように、外部磁場Ｂｅｘが０の場合、電子４０は有効磁場Ｂαにより準位がスピン分離する。この場合、−Ｙ方向のスピン準位Ｅ２がＹ方向のスピン準位Ｅ１に対し低くなる。外部磁場Ｂｅｘ＜０が印加された場合、外部磁場Ｂｅｘの方向が有効磁場Ｂαの方向と同じである。このため、Ｂｅｘ＝０に比べ、スピン準位Ｅ２は低くなり、スピン準位Ｅ１は高くなる。外部磁場Ｂｅｘが印加されることにより、スピン準位Ｅ２が低くなるエネルギーΔＥは、１／２ｇμＢＢｅｘである。【００３０】
図７（ａ）においては、電子４０は有効磁場ＢαによりＹ方向にスピン偏極する（図６（ａ）参照）。しかし、外部磁場Ｂｅｘにより、＋Ｙ方向のスピン準位Ｅ１のエネルギーが高くなる。例えば、スピン準位Ｅ１がフェルミ準位ＥＦより高くなる。このため、−Ｙ方向にスピン偏極した電子のＸ方向への走行は妨げられる。一方、図７（ｂ）においては、電子４０は有効磁場Ｂαにより−Ｙ方向にスピン偏極する（図６（ｂ）参照）。外部磁場Ｂｅｘにより、−Ｙ方向のスピン準位Ｅ２のエネルギーが低くなる。例えば、スピン準位Ｅ２がフェルミ準位ＥＦより低くなる。このため、電子の−Ｘ方向への走行は促進される。このように、同じ電圧を印加しても電子スピンの方向により電子の流れ易さが異なるスピンラチェット状態を実現できる。以上のように、実施例１の整流装置は、−Ｘ方向に電子を流すと−Ｙ方向にスピン偏極（図６（ｂ）の矢印４１ｂ）したスピン偏極率の高い電子が得られるが、＋Ｘ方向には電子が流れない整流装置となる。また、ゲート電極２６に印加する電圧を反転し、一次元チャネル１８における電界を−Ｚ方向とすることにより、Ｘ方向に電子を流すとＹ方向にスピン偏極したスピン偏極率の高い電子が得られるが、−Ｘ方向には電子が流れない整流装置となる。【００３１】
実施例１によれば、ゲート電極２６が、一次元チャネル１８に電界を印加することにより、一次元チャネル１８を走行する電子にスピン軌道相互作用に起因する有効磁場Ｂαを電子が走行する方向に交差する方向に生成させる。外部磁場生成部３８が、一次元チャネル１８に外部磁場Ｂｅｘを生成させる。これにより、図６（ａ）から図７（ｂ）を用い説明したように、一方方向に電子を流すとスピン偏極率の高い電子が得られるが、反対方向には電子が流れない整流装置が得られる。【００３２】
一次元チャネル１８は、図２のように、量子ポイントコンタクトを用い形成することができる。【００３３】
外部磁場生成部３８が生成する外部磁場Ｂｅｘは、有効磁場Ｂαに対し直交していないことが好ましい。これにより、ΔＥを大きくでき、より整流特性を向上できる。特に、外部磁場Ｂｅｘは、図７（ｂ）のように有効磁場Ｂαの方向または図７（ａ）のように有効磁場Ｂαと反対方向に生成することが好ましい。これにより、図７（ａ）および図７（ｂ）のΔＥを最も大きくでき、より整流特性を向上できる。【００３４】
ラシュバスピン軌道相互作用を用いるため、一次元チャネル１８は、閃亜鉛鉱型結晶構造を有することが好ましい。特に、III−Ｖ族化合物半導体であることが好ましい。例えば、一次元チャネル１８としてＧａＡｓ、ＩｎＡｓ、ＡｌＡｓ、ＧａＰ、ＩｎＰ、ＡｌＰ、ＧａＳｂ、ＩｎＳｂ、ＡｌＳｂ、ＧａＮ、ＩｎＮおよびＡｌＮを用いることができる。また、これらの混晶を用いることができる。また、一次元チャネル１８として、II−IV族化合物半導体を用いることもできる。【００３５】
一次元チャネル１８が閃亜鉛鉱型結晶構造を有する場合、有効磁場Ｂαを得るため（００１）面、（１１０）面、またはこれらの面に等価な面上に形成されていることが好ましい。一次元チャネル１８における電子の走行方向は、面内方向のいずれの方向でもよい。【００３６】
図２のように、一次元チャネル１８は、電子が走行する方向に対し両側からくびれた箇所に形成される半導体である。このように、半導体層１１（特に井戸層１４）にくびれを設けることにより量子ポイントコンタクトを形成することができる。【００３７】
さらに、井戸層１４のくびれた箇所の両側に空乏層を形成するサイドゲート３２を設ける。これにより、くびれた箇所の両側の空乏層のより、図５（ａ）のように、一次元チャネル１８を形成することができる。【００３８】
実施例１に係る整流装置を用いれば、例えば量子コンピューティングにおける量子ビットの初期化に用いることができる。量子コンピューティングにおいては、最初に電子スピンを一方向に揃えて（これを初期化という）から計算を行なう。量子コンピューティングにおいては、例えば量子ビットを１量子ビットとして用いられる。量子ビットの中にスピン偏極した電子を注入するには、量子ビットと同程度のサイズ（例えば数１００ｎｍ）のスピン注入源を用いることが好ましい。例えば、強磁性体を用い半導体にスピン注入を行なう場合、数１００ｎｍサイズでのスピン注入は実現されていない。実施例１においては、１００ｎｍ程度の一次元チャネルによりスピン注入できることから、スピンの方向が揃った電子を量子ビットに注入することができる。これにより、本整流装置を例えば量子コンピューティングにおける量子ビットの初期化に用いることができる。【００３９】
さらに、実施例１に係る整流装置は、例えばスピン電界効果トランジスタなどに用いることもできる。スピン電界効果トランジスタにおいては、強磁性体を用い半導体にスピン注入を行なう。このため、強磁性体と半導体との高品位ヘテロ接合を形成することになる。よって、高度な薄膜形成技術を要する。一方、本整流装置においては、半導体のみを用いスピン偏極を生成することができる。よって、本整流装置は、強磁性体を用いる場合に比べ、より半導体デバイスに適したスピン偏極源となる。さらに、本整流装置においては、スピン整流効果を利用することにより、ランダムエネルギー変化を利用して、スピンが揃った電流を生成できるため、省電力スピン偏極源として利用することもできる。
【実施例２】
【００４０】
実施例１に係る整流装置をスピントランジスタとして用いる例を説明する。図８（ａ）および図８（ｂ）は、実施例２に係るトランジスタの原理を説明する図である。図９（ａ）および図９（ｂ）は、電子の走行方向に依存したスピン分裂準位の模式図である。図８（ａ）および図８（ｂ）を参照し、ゲート電極２６により、一次元チャネルに−Ｚ方向の電界Ｅが印加されている。外部磁場生成部３８により、−Ｙ方向に外部磁場Ｂｅｘが生成されている。図８（ａ）のように、ドレイン電圧Ｖｄｓが正であり、電子４０が＋Ｘ方向に走行している。この場合、電子４０に加わる有効磁場Ｂαは−Ｙ方向である。【００４１】
図９（ａ）のように、外部磁場Ｂｅｘが０の場合、電子４０は有効磁場Ｂαにより準位がスピン分離する。この場合、−Ｙ方向にスピン偏極したスピン準位Ｅ２が＋Ｙ方向にスピン偏極したスピン準位Ｅ２に対し低くなる。外部磁場Ｂｅｘが−Ｙ方向に印加された場合（Ｂｅｘ＜０の場合）、外部磁場Ｂｅｘの方向が有効磁場Ｂαの方向と同じとなる。このため、Ｂｅｘ＝０に比べ、スピン準位Ｅ２はΔＥ低くなり、スピン準位Ｅ１は高くなる。【００４２】
図８（ｂ）のように、ドレイン電圧Ｖｄｓが負であり、電子が−Ｘ方向に走行している。この場合、電子４０に加わる有効磁場Ｂαは＋Ｙ方向である。図９（ｂ）のように、外部磁場Ｂｅｘが０の場合、電子４０は有効磁場Ｂαにより準位がスピン分離する。この場合、＋Ｙ方向のスピン準位Ｅ１が−Ｙ方向のスピン準位Ｅ２に対し低くなる。外部磁場Ｂｅｘ＜０が印加された場合、外部磁場Ｂｅｘの方向は有効磁場Ｂαの方向とは反対である。このため、Ｂｅｘ＝０に比べ、スピン準位Ｅ１はΔＥ高くなり、スピン準位Ｅ２は低くなる。【００４３】
ゲート電極２６により、一次元チャネルに−Ｚ方向の電界Ｅが印加されている場合は、図８（ａ）、図９（ａ）のように、外部磁場Ｂｅｘにより、−Ｙ方向のスピン準位Ｅ２のエネルギーがフェルミ準位ＥＦより低くなる。このため、−Ｙ方向にスピン偏極（矢印４１ｂ）した電子４２のＸ方向への走行が促進される。一方、図８（ｂ）、図９（ｂ）のように、外部磁場Ｂｅｘにより、＋Ｙ方向のスピン準位Ｅ１のエネルギーがフェルミ準位ＥＦより高くなる。これにより、＋Ｙ方向にスピン偏極した電子のＸ方向への走行は妨げられる。【００４４】
以上のように、実施例２によれば、ソース２０が一次元チャネル１８に電子を注入し、ドレイン２２が一次元チャネル１８から電子を受ける場合（すなわちＶｄｓ＞０の場合）、ゲート電極２６に負の電圧を印加すると、図６（ａ）および図７（ａ）のように、ソース２０からドレイン２２へ−Ｙ方向のスピンを有する電子の走行が抑制される。一方、ゲート電極に正の電圧を印加すると、図８（ａ）および図９（ａ）のように、ソース２０からドレイン２２へ−Ｙ方向にスピン偏極した（矢印４１ｂ）電子４２が走行する。このように、ゲート電圧により、−Ｙ方向にスピン偏極した電子の流れをオンまたはオフするトランジスタを実現することができる。
【実施例３】
【００４５】
実施例２のトランジスタを２つ用いた例を説明する。図１０（ａ）および図１０（ｂ）は、実施例３の動作を説明する平面模式図である。図１０（ａ）および図１０（ｂ）中のクロスは半導体層１１上にゲート電極２６が形成されていることを示している。図１０（ａ）および図１０（ｂ）に示すように、実施例２において説明したトランジスタ６０および６２が複数接続されている。２つのトランジスタ６０および６２のソース２０は共有されている。【００４６】
図１０（ａ）に示すように、ソース２０とドレイン２２との間に正のドレイン電圧Ｖｄｓを印加する。これにより、トランジスタ６０においては−Ｘ方向に、トランジスタ６２においてはＸ方向に電子が移動しようとする。ゲート電極２６に正の電圧Ｖｇｓを印加する。外部磁場Ｂｅｘが−Ｙ方向に印加されている場合、図８（ａ）および図８（ｂ）を用い説明したように、トランジスタ６０においては、−Ｘ方向に電子４０は流れない。一方、トランジスタ６２においては、Ｘ方向に−Ｙ方向にスピン偏極した電子が流れる。よって、トランジスタ６０は遮断状態となる。トランジスタ６２は導通状態となり、スピン偏極した電子がソース２０からドレイン２２に流れる。【００４７】
図１０（ｂ）に示すように、ソース２０とドレイン２２との間に正のドレイン電圧Ｖｄｓを印加し、かつゲート電極２６に負の電圧Ｖｇｓを印加する。外部磁場Ｂｅｘが−Ｙ方向に印加されている場合、図６（ａ）および図６（ｂ）を用い説明したように、トランジスタ６０においては、−Ｘ方向に−Ｙ方向にスピン偏極した電子４２が流れる。トランジスタ６２においては、Ｘ方向に電子４０は流れない。よって、トランジスタ６２は遮断状態となる。トランジスタ６０は導通状態となり、スピン偏極した電子がソース２０からドレイン２２に流れる。【００４８】
実施例３によれば、実施例２に係るトランジスタを複数用いることにより、簡単に、１入力２出力のスイッチ回路を実現できる。実施例３以外にも、実施例１の整流装置を用いることにより様々な電子回路を実現することができる。【００４９】
以上、実施例１を用いたトランジスタおよび複数のトランジスタの例を説明したが、トランジスタは、実施例１に係る整流装置を備えていれば他の構成でもよい。また、実施例１の整流装置は、磁気センサ等に用いることもできる。さらに、実施例１から３は、モニタ、テレビジョン等の家庭用電気機器、通信機器およびコンピュータ等の電子機器を構成する電子部品として使用できる。【００５０】
以上、発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【符号の説明】
【００５１】
１１        半導体層
１８        一次元チャネル
２０        ソース
２２        ドレイン
２６        ゲート電極
３２        サイドゲート
３８        外部磁場生成部
６０、６２  トランジスタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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