(57)【要約】  本発明の一態様に係る鋼箔は、質量％で、Ｃ：０．０００１〜０．０２％、Ｓｉ：０．００１〜０．０１％、Ｍｎ：０．０１〜０．３％、Ｐ：０．００１〜０．０２％、Ｓ：０．０００１〜０．０１％、Ａｌ：０．０００５〜０．１％、及び、Ｎ：０．０００１〜０．００４％、を含み、残部：Ｆｅ及び不純物からなる鋼箔であって、厚さが５μｍ以上１５μｍ以下、且つ引張強度が９００ＭＰａ超１２００ＭＰａ以下である。
2013157598.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で、
Ｃ：０．０００１〜０．０２％、
Ｓｉ：０．００１〜０．０１％、
Ｍｎ：０．０１〜０．３％、
Ｐ：０．００１〜０．０２％、
Ｓ：０．０００１〜０．０１％、
Ａｌ：０．０００５〜０．１％、及び、
Ｎ：０．０００１〜０．００４％、を含み、
残部：Ｆｅ及び不純物からなる鋼箔であって、
厚さが５μｍ以上１５μｍ以下、且つ引張強度が９００ＭＰａ超１２００ＭＰａ以下であることを特徴とする鋼箔。
【請求項２】
前記鋼箔が、さらに、質量％で、Ｔｉ及びＮｂの１種又は２種をそれぞれ０．１％以下含有することを特徴とする請求項１に記載の鋼箔。
【請求項３】
前記鋼箔の表層に、Ｎｉめっき層又はＣｒめっき層を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の鋼箔。
【請求項４】
質量％で、
Ｃ：０．０００１〜０．０２％、
Ｓｉ：０．００１〜０．０１％、
Ｍｎ：０．０１〜０．３％、
Ｐ：０．００１〜０．０２％、
Ｓ：０．０００１〜０．０１％、
Ａｌ：０．０００５〜０．１％、及び、
Ｎ：０．０００１〜０．００４％、を含み、
残部：Ｆｅ及び不純物からなる鋼板に、９０％以上９８％以下の累積圧延率で冷間圧延を施し、厚さが５μｍ以上１５μｍ以下、且つ引張強度が９００ＭＰａ超１２００ＭＰａ以下の鋼箔とする箔圧延工程
を含むことを特徴とする鋼箔の製造方法。
【請求項５】
前記鋼板が、さらに、質量％で、Ｔｉ及びＮｂの１種又は２種を０．１％以下含有することを特徴とする請求項４に記載の鋼箔の製造方法。
【請求項６】
前記箔圧延工程後に、前記鋼箔の表層に、Ｎｉめっき層又はＣｒめっき層を形成するめっき工程をさらに含むことを特徴とする請求項４又は５に記載の鋼箔の製造方法。
【請求項７】
前記Ｎｉめっき層が軟質Ｎｉめっき層であることを特徴とする請求項６に記載の鋼箔の製造方法。
【請求項８】
前記箔圧延工程前に、前記鋼板の表層にＮｉめっき層を形成する圧延前めっき工程をさらに含むことを特徴とする請求項４又は５に記載の鋼箔の製造方法。
【請求項９】
前記Ｎｉめっき層が軟質Ｎｉめっき層であることを特徴とする請求項８に記載の鋼箔の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リチウムイオン二次電池に代表される非水系電解液二次電池の負極集電箔に用いることができる鋼箔と、その製造方法とに関するものである。
本願は、２０１２年４月１９日に日本にて出願された特願２０１２−０９５８４０号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
リチウムイオン二次電池に代表される非水系電解液二次電池は、高エネルギー密度を有するので、移動体通信、又は携帯用情報端末用電源として利用され、近年は、車載用にも実用され始め、その市場が急速に伸びている。それに伴い、機器の小型化、軽量化を、さらに追及するために、機器の中で大きな容積を占める電池に対し、さらなる小型化、及び軽量化のための性能改善が求められている。【０００３】
現在、その二次電池に使用されている負極活物質（以下、活物質と記載する場合がある）は、主に、黒鉛系炭素質材料である。黒鉛系炭素質材料は、電池性能を左右するキーマテリアルとなっている。しかし、黒鉛系炭素質材料中に可逆的に挿入・脱離できるリチウムの量は、炭素６原子に対してリチウム１原子が限界である。この限界値から算出される炭素材料の充放電の理論的な限界容量は、電気容量にして３７２ｍＡｈ／ｇである。現行の二次電池は、この限界容量に近いレベルで使用されているので、今後の飛躍的な性能改善は期待できない。【０００４】
このような状況の下、炭素以外の材料、例えば、合金又は無機化合物であるとともに３７２ｍＡｈ／ｇを大きく上回る電気容量を有する材料の探索が行われつつある。中でも、特に、錫、及び／又はケイ素を含んだ結晶質酸化材料又は非晶質酸化物材料において、１０００ｍＡｈ／ｇに近い放電容量を示す材料が見いだされている（例えば、特許文献１及び２、参照）。【０００５】
しかし、前述の高容量活物質は、リチウムを吸蔵・放出することによる体積の変動が、従来の黒鉛系炭素質材材料に比べて大きい。これにより、充放電の繰り返しに伴い、活物質の微粉化、又は活物質の集電体からの剥離などが生じる。このように、特許文献１及び２に開示された活物質は、良好な充放電サイクル特性を得ることができないという問題を有する。【０００６】
この問題に対して、ＣＶＤ法又はスパッタリング法により、銅箔などの集電体の上に、非晶質シリコン薄膜又は微結晶シリコン薄膜を活物質として堆積させて形成したリチウム二次電池用電極は、良好な充放電サイクル特性を示すことが見出されている（特許文献３、参照）。これは、活物質薄膜が集電体に密着しているからである。【０００７】
また、シリコン系活物質を含む層中、又は、シリコン系活物質を含む層と金属箔集電体との間に、ポリイミドを含む導電性中間層をバインダーとして配し、次いで金属箔集電体上に導電性中間層を配置した状態でこれらを非酸化雰囲気下にて焼結する集電体製造方法が見出されている（特許文献４参照）。ここで、導電性中間層は、充放電反応に伴う負極活物質の膨張収縮により、合剤層が集電体から剥離することを抑制し、従って、合剤層と集電体との間の密着性を高める。【０００８】
しかし、このようなリチウム二次電池用電極においては、活物質層と集電体とが密着しているので、充放電反応に伴う活物質薄膜の体積変動により、集電体に大きな応力が働くという問題がある。この応力によって、集電体に変形が生じ、しわなどが発生し、さらには、集電体と活物質との密着性が低下し、電池寿命が低下する。【０００９】
このような応力発生への対策として、活物質の体積膨張により生じる応力に耐え得る、より高強度な集電体が要求されている。集電体の引張強度を高める手段の一つとしては、集電体を厚くすることが考えられる。しかし、単に集電体を厚くするだけでは、集電体の引張強度の大きな向上は期待できず、そればかりでなく、電池の重量及び体積増加により、電池のエネルギー密度を低下させてしまうというデメリットが生じる。【００１０】
現在、負極集電体の金属箔としては、主に、銅箔が使用されている。負極集電体用の銅箔としては、圧延により製造されるものと、電解法により製造されるもの（電解銅箔）とが代表的である。しかし、銅箔を用いた集電体の高強度化については、電解銅箔では限界がある。したがって、圧延法による高強度銅箔の製造が検討されており、この圧延銅合金箔を負極集電体として用いることが提案されている（特許文献５、参照）。【００１１】
しかし、圧延銅箔は、厚さが低下するに伴い製造コストが上昇し、高価になる。したがって、薄く、かつ、高強度の集電体を得ることは可能であるが、この集電体には、経済性に劣るという問題がある。【００１２】
さらに、負極集電体として銅箔を用いることは、電池特性の観点からみても、最適な選択とはいえない。リチウムイオン電池が正常に作動している際の負極の電位は、多くの場合、２Ｖ（対Ｌｉ）未満であり非常に低いが、電池に短絡又は過放電等が生じた場合には、負極の電位は、３Ｖ（対Ｌｉ）超となる場合がある。このような高電位では、銅が急速に溶解し、電池特性の低下を引き起こしてしまうという問題が有る。【００１３】
さらに、銅は比重が大きな金属（比重：８．９）であるので、負極集電体として銅箔を用いる場合、電池に占める負極集電箔の重量割合が比較的高くなり、重量当たりのエネルギー密度向上を妨げる。また、コスト的にも銅箔には問題がある。例えば、正極に使用されるＡｌ箔と比較して銅箔は高価である。【００１４】
以上の背景から、薄くて強度があり、軽量で、経済的で、かつ過放電時の耐金属溶出性に優れた負極集電箔が切望されており、その材料として、鉄系の箔に対して期待が寄せられている。【００１５】
鉄は、銅に比較すると電気抵抗が大きいので、集電体としての特性に疑問を持たれがちであった。しかしながら、近年の電池構造の改良、並びに電池の用途及び要求特性の多様化によって、電気抵抗は必ずしも問題とはならなくなってきた。【００１６】
負極集電体に鉄箔を用いるものとしては、以下の技術を挙げることができる。特許文献６では、厚さ３５ミクロン以下の電解鉄箔を負極の集電体として用いることが提案されている。また、防錆性の観点から、Ｎｉめっきされた電解鉄箔を用いることも提案されている。【００１７】
しかし、電解鉄箔は電解時の効率を上げることが難しく、必ずしも経済的ではない。また、電解箔にＮｉめっきを施すことも、コストを引き上げる要因となる。さらには、Ｎｉめっきを厚く（１μｍ以上）形成しない限りは、過放電時のＦｅ溶出が避けられない。【００１８】
特許文献７では、鉄箔又はニッケルメッキを施した鉄箔の表面に三二酸化鉄を形成してなる金属箔を、負極集電体として用いることが提案されている。しかし、この金属箔においても過放電時のＦｅ溶出が避けられず、さらに負極電位での副反応が起き易く、このことは結果として、電池の効率又は寿命を阻害し易い。【００１９】
特許文献８では、フェライト系ステンレス鋼箔の集電体が提案されているが、フェライト系ステンレス鋼箔は電気抵抗が大きいので、特に、集電体が薄膜化していくと、発熱などの問題が顕在化してしまうという問題がある。また、フェライト系ステンレス鋼箔は、銅箔と比較しても、経済的ではない。【００２０】
一般に、鋼材の高強度化の分野においては、成分組成又は熱処理条件を工夫し、固溶強化、析出強化、及び組織強化などの強化機構を利用して高強度化を達成し、種々の高強度鋼板が実用化されている。しかし、これらの従来の高強度鋼板を二次電池負極集電体に適用しようとすると、添加成分、又はその析出形態等の影響で、一般的な鋼材よりも電気抵抗が高くなり、特に、板厚が薄い場合にその傾向が強くなるという問題がある。【００２１】
本発明が目的とする非水系電解液二次電池の負極集電箔については、特に、薄膜化の要求が強いので、従来の高強度鋼では、薄膜化した上での強度と電気抵抗との両立は難しい。【００２２】
特許文献９には、リチウムイオン二次電池の負極活物質担持用銅被覆鋼箔が開示されているが、箔の強度は、必要なレベルを満足するものではなく、また、箔の高強度化と電気抵抗との両立に関する知見は開示されていない。この技術では、鋼に比べ軟質でかつ耐熱性も劣る銅が表層に被覆されているので、特に加熱後の強度が低下しやすい。また、表層が銅で被覆されているので、過放電溶解性は銅箔と同程度でしかなく、開示された構成による顕著な改善効果等は認められない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２３】
【特許文献１】日本国特開平０７−２２０７２１号公報
【特許文献２】日本国特開平０７−２４９４０９号公報
【特許文献３】日本国特開２００２−８３５９４号公報
【特許文献４】日本国特開２００４−２８８５２０号公報
【特許文献５】日本国特開２００３−７３０５号公報
【特許文献６】日本国特開平０６−３１０１４７号公報
【特許文献７】日本国特開平０６−３１０１２６号公報
【特許文献８】日本国特開２０１０−３３７８２号公報
【特許文献９】日本国特開２０１２−３３４７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２４】
本発明は、薄くて強度があり、軽量で経済的な鋼箔を用い、通常、トレードオフの関係となる強度と電気抵抗の双方が両立した負極集電体用鋼箔を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
上記目的を達成する本発明の要旨は、以下の通りである。【００２６】
（１）本発明の一態様に係る鋼箔は、質量％で、Ｃ：０．０００１〜０．０２％、Ｓｉ：０．００１〜０．０１％、Ｍｎ：０．０１〜０．３％、Ｐ：０．００１〜０．０２％、Ｓ：０．０００１〜０．０１％、Ａｌ：０．０００５〜０．１％、及び、Ｎ：０．０００１〜０．００４％、を含み、残部：Ｆｅ及び不純物からなる鋼箔であって、厚さが５μｍ以上１５μｍ以下、且つ引張強度が９００ＭＰａ超１２００ＭＰａ以下である。【００２７】
（２）前記（１）に記載の鋼箔は、さらに、質量％で、Ｔｉ及びＮｂの１種又は２種をそれぞれ０．１％以下含有してもよい。【００２８】
（３）前記（１）又は（２）に記載の鋼箔は、さらに、前記鋼箔の表層に、Ｎｉめっき層又はＣｒめっき層を有していてもよい。【００２９】
（４）本発明の別の態様に係る鋼箔の製造方法は、質量％で、Ｃ：０．０００１〜０．０２％、Ｓｉ：０．００１〜０．０１％、Ｍｎ：０．０１〜０．３％、Ｐ：０．００１〜０．０２％、Ｓ：０．０００１〜０．０１％、Ａｌ：０．０００５〜０．１％、及び、Ｎ：０．０００１〜０．００４％、を含み、残部：Ｆｅ及び不純物からなる鋼板に、９０％以上９８％以下の累積圧延率で冷間圧延を施し、厚さが５μｍ以上１５μｍ以下、且つ引張強度が９００ＭＰａ超１２００ＭＰａ以下の鋼箔とする箔圧延工程を含む。【００３０】
（５）前記（４）に記載の鋼箔の製造方法は、前記鋼板が、さらに、質量％で、Ｔｉ及びＮｂの１種又は２種を０．１％以下含有してもよい。【００３１】
（６）前記（４）又は（５）に記載の鋼箔の製造方法は、前記箔圧延工程後に、前記鋼箔の表層に、Ｎｉめっき層又はＣｒめっき層を形成するめっき工程をさらに含んでもよい。【００３２】
（７）前記（６）に記載の鋼箔の製造方法は、前記Ｎｉめっき層が軟質Ｎｉめっき層であってもよい。【００３３】
（８）前記（４）又は（５）に記載の鋼箔の製造方法は、前記箔圧延工程前に、前記鋼板の表層にＮｉめっき層を形成する圧延前めっき工程をさらに含んでもよい。【００３４】
（９）前記（８）に記載の鋼箔の製造方法は、前記Ｎｉめっき層が軟質Ｎｉめっき層であってもよい。
【発明の効果】
【００３５】
本発明によれば、薄くて強度があり、軽量で経済的な鋼箔を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明に係る鋼箔の製造方法を示すフローチャートである。
【図２】本発明に係る鋼箔の製造方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
本実施形態に係る負極集電体用圧延鋼箔（以下「本実施形態に係る鋼箔」ということがある。）は、下記の成分組成からなり（％は質量％）、厚さが５μｍ以上１５μｍ以下、引張強度が９００ＭＰａ超１２００ＭＰａ以下であることを特徴とする。
【００３８】
Ｃ：０．０００１〜０．０２％、
Ｓｉ：０．００１〜０．０１％、
Ｍｎ：０．０１〜０．３％、
Ｐ：０．００１〜０．０２％、
Ｓ：０．０００１〜０．０１％、
Ａｌ：０．０００５〜０．１％、
Ｎ：０．０００１〜０．００４％、及び、
残部Ｆｅ及び不純物。
【００３９】
また、本実施形態に係る鋼箔の製造方法は、上記成分組成（質量％）の鋼板に、９０％以上の累積圧延率で冷間圧延を施し、厚さが５μｍ以上１５μｍ以下、且つ引張強度が９００ＭＰａ超１２００ＭＰａ以下の鋼箔とすることを特徴とする。
【００４０】
本実施形態に係る鋼箔では、一般的な高強度鋼材で用いられている、固溶強化、析出強化、組織強化などの強化機構を採用していない。強度を高める元素の含有量は、いずれも、従来の高強度鋼材よりも低いレベルに抑えられており、その代わりに後述する加工硬化を利用して強度を確保している。このことにより、強度と電気抵抗とを両立させることが可能となる。
【００４１】
本実施形態に係る鋼箔の成分組成の限定理由を、以下に説明する。なお、％は質量％を意味する。
【００４２】
（Ｃ：０．０００１〜０．０２％）
Ｃは、鋼の強度を高める元素であるが、過剰に含有させると鋼の電気抵抗が悪化する場合があるので、Ｃ含有量の上限を０．０２％とする。Ｃ含有量の下限は、特に規定されないが、現行の精錬技術における限界が０．０００１％程度であるので、これを下限とした。Ｃ含有量は、より好ましくは０．００１％〜０．０１％である。
【００４３】
（Ｓｉ：０．００１〜０．０１％）
Ｓｉは、鋼の強度を高める元素であるが、過剰に含有させると鋼の電気抵抗が悪化する場合があるので、Ｓｉ含有量の上限を０．０１％とする。Ｓｉ含有量を０．００１％未満にすると、精練コストが多大となるので、Ｓｉ含有量の下限は０．００１％とする。Ｓｉ含有量は、より好ましくは０．００１％〜０．００８％である。
【００４４】
（Ｍｎ：０．０１〜０．３％）
Ｍｎは、鋼の強度を高める元素であるが、過剰に含有させると鋼の電気抵抗が悪化する場合があるので、Ｍｎ含有量の上限を０．３％とする。Ｍｎ含有量を０．０１％未満にすると、精練コストが多大となるとともに、鋼が軟質化しすぎて圧延性が低下し、製造コストの増大を招く場合があるので、Ｍｎ含有量の下限は０．０１％とする。Ｍｎ含有量は、より好ましくは０．０５％〜０．２％である。
【００４５】
（Ｐ：０．００１〜０．０２％）
Ｐは、鋼の強度を高める元素であるが、過剰に含有させると鋼の電気抵抗が悪化する場合があるので、Ｐ含有量の上限を０．０２％とする。Ｐ含有量を０．００１％未満にすると、精練コストが多大となる場合があるので、Ｐ含有量の下限は０．００１％とする。Ｐ含有量は、より好ましくは０．００１％〜０．０１％である。
【００４６】
（Ｓ：０．０００１〜０．０１％）
Ｓは、鋼の熱間加工性及び耐食性を低下させる元素であるから、少ないほど好ましい。さらに、本実施形態に係る鋼箔のような薄い鋼箔の場合、Ｓが多いと、Ｓの存在に起因する介在物によって電気抵抗が悪化したり、また、鋼の強度が低下したりする場合があるので、Ｓ含有量の上限は０．０１％とする。Ｓ含有量を０．０００１％未満にすると、精練コストが多大となる場合があるので、Ｓ含有量の下限は０．０００１％とする。Ｓ含有量は、より好ましくは０．００１％〜０．００８％である。
【００４７】
（Ａｌ：０．０００５〜０．１％）
Ａｌは、鋼の脱酸元素として０．０００５％以上を含有させる。過剰に含有させると、電気抵抗が悪化し、また、製造コストの増大を招く場合があるので、Ａｌ含有量の上限は０．１％とする。Ａｌ含有量は、より好ましくは０．０１％〜０．０５％である。
【００４８】
（Ｎ：０．０００１〜０．００４％）
Ｎは、鋼の熱間加工性及び加工性を低下させる元素であるから、少ないほど好ましく、Ｎ含有量の上限は０．００４％とする。Ｎ含有量を０．０００１％未満にすると、コストが多大となる場合があるので、Ｎ含有量の下限は０．０００１％とする。Ｎ含有量は、より好ましくは０．００１％〜０．００３％である。
【００４９】
（残部Ｆｅ及び不純物）
本実施形態に係る鋼箔の成分の残部は，Ｆｅ及び不純物であるが、さらにＴｉ及び／又はＮｂを０．１％以下含有することができる。Ｔｉ及び／又はＮｂは、鋼中のＣ及びＮを炭化物及び窒化物として固定して、鋼の加工性を向上させることができる。ただし、過剰に添加すると、製造コストの増大、及び電気抵抗の悪化を招く場合がある。好ましい含有量範囲は、Ｔｉ：０．０１〜０．８％、Ｎｂ：０．００５〜０．０５％である。さらに好ましい含有量範囲は、Ｔｉ：０．０１〜０．１％、Ｎｂ：０．００５〜０．０４％である。
【００５０】
本実施形態に係る鋼箔は、さらに、付加的に、Ｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｃｒなどを、本実施形態に係る鋼箔の特性を損なわない範囲で含有してもよい。
【００５１】
本実施形態に係る鋼箔の厚さは、５μｍ以上１５μｍ以下である。これは、電池を小型化及び軽量化していくうえで、薄い集電箔、すなわち薄い鋼箔が望まれるからである。小型化及び軽量化の観点からは、鋼箔はより薄い方が好ましく、下限を特に限定する必要はない。しかしながら、コスト又は厚さの均一性を考えると、５μｍ以上がよい。なお、前述した成分組成を満足しない鋼材を圧延して鋼箔を製造した場合、厚さが１５μｍ以下の領域で顕著に電気抵抗が悪化する場合がある。
【００５２】
本実施形態に係る鋼箔の引張強度は、９００ＭＰａ超１２００ＭＰａ以下である。なお、引張強度は、常温での測定値である。引張強度が９００ＭＰａ以下では、充放電に伴う活物質の膨張収縮により、鋼箔が変形したり活物質が剥がれたりする問題が起きる可能性がある。この傾向は、鋼箔に高容量負極活物質を適用した場合において著しい。
【００５３】
鋼箔の変形及び活物質の剥離を防止する観点からは、特に、引張強度の上限を限定する必要はない。しかしながら、取り扱いの容易性、及び工業的な圧延による加工強化によって強度を得る際の安定性を考慮すると、１２００ＭＰａが鋼箔の引張強度の実質的な上限となる。
【００５４】
本実施形態に係る鋼箔の伸びは、ある程度あった方が好ましいが、なくても（測定不能レベルであっても）、本発明の目的達成には支障がない。本実施形態に係る鋼箔の好ましい伸びは０．１％以上である。
【００５５】
一般に、集電箔に活物質を被覆して電極を作製する際には、最大４００℃程度の熱処理を行うことがある。本実施形態に係る鋼箔は、引張強度に加えて耐熱性も良好であり、４００℃程度の熱処理を受けても、強度は殆ど低下せず、低下しても、引張強度低下率は最大１０％程度である。ここで、引張強度低下率とは、熱処理前の引張強度に対する引張強度低下量の百分率である。
【００５６】
図１及び図２に示される、本実施形態に係る鋼箔の製造方法は、以下の通りである。まず、通常の薄板製法に従って、前述した所定の成分組成の薄板（鋼板）を製造する。その後、大圧下の冷間圧延（箔圧延）によって、前述の薄板を５μｍ以上１５μｍ以下の鋼箔とする。大圧下の冷間圧延によって生じる加工硬化を利用して、９００Ｍｐａ超１２００ＭＰａ以下の高強度を達成する。
【００５７】
箔圧延の際の累積圧延率は９０％以上とする。ここで、累積圧延率とは、最初の圧延スタンドの入口板厚に対する累積圧下量（最初のパス前の入口板厚と最終パス後の出口板厚との差）の百分率である。累積圧延率が９０％未満であると、十分な箔強度が発現しない。箔圧延の際の累積圧延率は、好ましくは９５％以上である。累積圧延率の上限は、特に限定されない。しかしながら通常の圧延能力では、９８％程度が達成できる累積圧延率の限界である。冷間圧延は、１回又は複数回のパスによって行うが、圧延途中で焼鈍処理を行うと引張強度が不足する場合がある。従って、圧延途中で焼鈍処理を行わないことが好ましい。本実施形態に係る鋼箔は、その成分組成によって圧延性が良好であるので、中間での焼鈍は不要である。
【００５８】
本実施形態に係る鋼箔の表層に、箔圧延後にＮｉ又はＣｒなどのめっきを施してもよい。これによって、過放電時の金属溶出性を改善することができる。めっきの種類によっては、改善効果がないばかりか、むしろ悪化する場合もある。特に、Ｃｕめっき、及びＺｎめっきなどは、本発明鋼箔で用いることはできない。また、めっきの種類によっては強度が低下する場合もある。
【００５９】
また、箔圧延前の鋼板にＮｉ又はＣｒなどのめっきを施し（圧延前めっき）、この表層にめっき層を有する鋼板（薄板）を、前述の条件で箔圧延することが可能であるが、この場合、めっきの選定には細心の注意を要する。例えば、箔圧延の際のめっきの伸びが鋼の伸びに比較して小さい場合、めっき層にクラックなどの欠陥が発生し、この欠陥が箔強度の低下を引き起こす場合がある。特に、金属間化合物層のような硬質な層が基材とめっきとの界面に存在すると、累積圧延率９０％以上の条件で圧延を行った場合に、箔強度が顕著に低下する場合がある。例えばＣｕめっきのような、めっきの伸びが大きく、箔圧延の際にクラックなどの欠陥が発生しにくいめっきであっても、めっき層自体が軟質すぎると箔強度も低下しやすいので、好ましくない。
なお、めっきの伸びが鋼箔の伸びに比較して小さい、又は大きい場合、このめっきが箔圧延後に施された場合であっても、やはり箔強度に悪影響を及ぼす場合がある。めっきの伸びが鋼箔の伸びに比較して小さいと、鋼箔が温度変化によって伸縮した場合に、クラックなどの欠陥が発生する可能性がある。めっきの伸びが鋼箔の伸びに比較して大きいと、やはり箔強度が低下しやすい。
【００６０】
箔強度を低下させないめっきとしては、軟質Ｎｉめっきが特に好適である。具体的には、鋼板上に付着させた不純物以外は含有しない純Ｎｉめっきを、３００℃以上の熱処理を行い、これによって、めっき層のひずみを解放したＮｉめっきを本実施形態における軟質Ｎｉめっきとする。
【００６１】
Ｎｉめっき又はＣｒめっき以外のめっきを付着させた状態で鋼板の箔圧延を行うと、上述の理由により箔強度が低下し、本発明の目的とする性能が得られない可能性がある。また、Ｎｉめっき又はＣｒめっき以外のめっきを箔圧延後の鋼箔に行った場合でも、やはり上述の理由により箔強度が低下する場合がある。
【００６２】
本実施形態に係る鋼箔上に付着したＮｉめっきの好ましい付着量範囲は、１ｇ／ｍ２以上である。Ｎｉめっきの付着量が多いほど、金属溶出性が改善されるが、コストは増加する。Ｎｉ付着量が５０ｇ／ｍ２を超えても、顕著な性能向上は認められないので、コスト対効果の観点から、Ｎｉめっき付着量の実質的な上限は５０ｇ／ｍ２である。Ｎｉめっきのより好ましい付着量は、５ｇ／ｍ２以上２０ｇ／ｍ２以下である。
【００６３】
本実施形態に係る鋼箔上に付着したＣｒめっきの好ましい付着量範囲は、０．０１ｇ／ｍ２以上である。Ｃｒめっきの付着量が０．５ｇ／ｍ２を超えると、鋼箔上のめっき層のクラックが増加し、このクラックに起因して金属溶出性の改善効果がなくなるとともに、箔強度が低下する場合がある。金属溶出性の観点からは、ＮｉめっきよりもＣｒめっきのほうが、より少ない付着量で、顕著な効果が認められる。Ｃｒめっきのより好ましい付着量は、０．１ｇ／ｍ２以上０．３ｇ／ｍ２以下である。
【実施例】
【００６４】
次に、本発明の実施例について説明する。実施例での条件は、本発明の実施可能性及び効果を確認するために採用した一条件例であり、本発明は、これら一条件例に限定されるものではない。本発明は、本発明の要旨を逸脱せず、本発明の目的を達成する限りにおいて、種々の条件を採用し得るものである。【００６５】
（実施例１〜２１及び比較例１〜９）
通常の薄板製造方法で、表１に示す成分組成の冷延鋼板（焼鈍材）を製造し、次いで、箔圧延を行った。冷延鋼板の元厚さ、箔圧延の累積圧延率、及び、箔の厚さも、表１に示す。【００６６】
【表１】
2013157598.tif 000003
【００６７】
（評価方法）
過放電溶解性：アルゴン雰囲気（露点−６０℃）のグローブボックス内にて、三極式ビーカーセルを組み立てた。各供試材のエッジと裏面とをテープシールしたものを作用極とした。対極及び参照極としては金属リチウムを用いた。電解液としては、１ｍｏｌ／ＬのＬｉＰＦ６を、体積比で１：１のエチレンカーボネートとジエチルカーボネートとの混合溶媒に溶解させたものを用いた。【００６８】
上記セルを２５℃に保持し、浸漬電位から、５ｍＶ／ｓｅｃで貴方向に走査し、０．０１ｍＡ／ｃｍ２の電流が流れる電位を計測して、この電位を溶解電位とした。溶解電位は、Ｌｉ基準の電位（Ｖ）で表記した。【００６９】
箔強度：圧延方向と平行に、ＪＩＳ  Ｚ  ２２０１に記載の１３Ｂ引張試験片を採取し、ＪＩＳ  Ｚ２２４１により引張強度を求めた。供試材ままの鋼箔（圧延のみを行った鋼箔）、及び、４００℃、３０分加熱後の鋼箔それぞれの引張強度を求めた。加熱後の引張強度は、鋼箔が電池製造工程で加熱される可能性があるので参考値として求めた。しかし、加熱後の鋼箔に要求される引張強度の値は電池によって異なるので、加熱後の鋼箔の引張強度に関し、合否の判定は特に行わなかった。【００７０】
電気抵抗：四端子法により、体積抵抗率を２０℃にて測定した。電気抵抗が１４μΩｃｍ未満の試料をグレードＡ、電気抵抗が１４μΩｃｍ以上１６μΩｃｍ未満の試料をグレードＢ、電気抵抗が１６μΩｃｍ以上２０μΩｃｍ未満の試料をグレードＣ、及び電気抵抗が２０μΩｃｍ以上の試料をグレードＤと評価し、グレードＡ及びＢの試料を合格とした。【００７１】
引張強度及び電気抵抗を表１に併せて示す。なお、過放電溶解性については、いずれの実施例も、Ｃｕ箔よりも良好であり水準間で大きな差がなかったので、表１には示していない（Ｃｕ箔３．４Ｖに対して、実施例、比較例とも３．５〜３．６Ｖ）。本発明の実施例においては、トレードオフの関係となり易い引張強度と電気抵抗とが両立できている。本発明の範囲から外れるものは、引張強度と電気抵抗とが両立できていない。【００７２】
（実施例２２〜２５及び比較例１０）
実施例１で製造した鋼箔に対して、各種のめっきを電気めっき法で形成した。Ｎｉめっき条件は、次の通りである。硫酸Ｎｉ：３２０ｇ／ｌ、塩化Ｎｉ：７０ｇ／ｌ、ほう酸：４０ｇ／ｌからなる浴を用い、浴温度：６５℃、電流密度：２０Ａ／ｄｍ２にて、種々の付着量のＮｉをめっきした。【００７３】
Ｃｒめっき条件は次の通りである。無水クロム酸：１５０ｇ／ｌ、硫酸：１．５ｇ／ｌからなる浴を用い、浴温度：５０℃、電流密度：５０Ａ／ｄｍ２にて、種々の付着量のＣｒをめっきした。Ｚｎめっき条件は、次の通りである。硫酸Ｚｎ：２５０ｇ／ｌ、硫酸：１５ｇ／ｌ、硫酸ナトリウム：５０ｇ／ｌからなる浴を用い、浴温度：６０℃、電流密度：５０Ａ／ｄｍ２にてＺｎをめっきした。【００７４】
（実施例２６〜２９及び比較例１１）
実施例９で製造した鋼箔に対して、先の例と同様の手法で各種のめっき処理を行った。
（比較例１２）実施例１９で製造した鋼箔に対して、予め、ピロリン酸銅：８０ｇ／ｌ、ピロリン酸カリウム：３００ｇ／ｌ、アンモニア水：３ｍｌ／ｌからなるめっき浴にて１ｇ／ｍ２のＣｕストライクめっきを行い、次いで、硫酸銅：２１０ｇ／ｌ、硫酸：４５ｇ／ｌからなる浴を用い、液温：４０℃、電流密度１０Ａ／ｄｍ２にて２０ｇ／ｍ２のＣｕめっきを行った。【００７５】
評価方法は先の例と同一である。【００７６】
表２に結果を示す。【００７７】
【表２】
2013157598.tif 000004
【００７８】
Ｎｉ又はＣｒをめっきすることによって、過放電溶解性を、Ｃｕのレベル（３．４Ｖ）より改善することができた。比較例に示すように、Ｚｎをめっきしたものは、過放電溶解性がＣｕよりも悪化した。Ｃｕめっきを行ったものは、過放電溶解性がＣｕと同レベルであり改善効果が見いだせなかった。【００７９】
さらに、Ｚｎをめっきした鋼箔の、加熱後の引張強度は低下した。これは、加熱によってＺｎが、脆いＺｎ−Ｆｅの金属間化合物層を形成し、この層の破壊が起点となって鋼箔の破断が発生したからである。Ｃｕをめっきしたものも引張強度が低下した。これは、鋼に比較して極めて軟質なＣｕが表層に存在するからである。加熱によってＣｕは更に軟質化するので、鋼箔の引張強度は加熱後さらに低下した。【００８０】
（実施例３０〜３３及び比較例１３〜１４）
実施例１で用いた冷延鋼板（焼鈍材、０．３ｍｍ）に対して、各種のめっきを形成した。Ｎｉめっき処理は、先の例と同条件で行った。Ｎｉ−Ｐのめっき条件は、次の通りである。【００８１】
硫酸Ｎｉ：３００ｇ／ｌ、塩化Ｎｉ：７０ｇ／ｌ、ほう酸：４０ｇ／ｌ、亜りん酸：１０ｇ／ｌからなる浴を用い、浴温度：６０℃、電流密度：２０Ａ／ｄｍ２にて、Ｐ５％のＮｉ−Ｐめっきを鋼板表面に形成した。【００８２】
めっき後に、加熱処理を行う場合には、４００℃で３０分の処理を行った。めっき後、９５％の累積圧延率で鋼板を圧延して、１５μｍ厚の鋼箔を製造した。【００８３】
評価方法は先の例と同一である。【００８４】
表３に結果を示す。【００８５】
【表３】
2013157598.tif 000005
【００８６】
Ｎｉをめっきすることによって、過放電溶解性を、Ｃｕのレベル（３．４Ｖ）より改善することができた。また、Ｎｉをめっきすることによる引張強度の低下はなかった。ただし、比較例に示したように、Ｎｉ−Ｐをめっきしたものは、引張強度が顕著に低下した。【００８７】
Ｎｉ−Ｐは、めっきまま（めっきだけを行った状態）では、アモルファス状で非常に硬く、また、加熱すると、Ｎｉ３Ｐ化合物の析出により、さらに硬くなる。このような層を表層に有する状態で累積圧延率の高い圧延を施すと、めっき層にクラックが多発し、このクラックが基材の鋼箔にまで達するので、引張強度が低下した。
【産業上の利用可能性】
【００８８】
前述したように、本発明によれば、薄くて強度があり、軽量で経済的な鋼箔を得ることができる。その結果、リチウムイオン電池等の二次電池の性能、安全性、経済性を改善することが可能であり、本発明は、産業上の利用可能性が高いものである。
【符号の説明】
【００８９】
１    箔圧延工程
２    めっき工程
３    圧延前めっき工程
【図１】
2013157598.tif 000006
【図２】
2013157598.tif 000007
【国際調査報告】
2013157598.tif 000008
2013157598.tif 000009
2013157598.tif 000010