(57)【要約】  隣接方向に隣接して配置された複数の単位偏光子（３１ａ〜ｆ）を備えた偏光手段（３）と、ステージ（４）もしくは偏光光照射手段（２）の少なくとも一方を移動させることで前記ステージ（４）に載置された基板（９）に対して前記偏光光照射手段（２）からの紫外線を所定の走査方向に走査する走査手段を備え、前記単位偏光子（３１ａ〜ｆ）の隣接面及び単位偏光子（３１ａ〜ｆ）の隣接方向が走査方向に対して傾斜していることにより、良好な配向特性の実現を図る、光配向照射装置。
2013157114.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光光照射手段と、ステージと、走査手段を備え、
前記偏光光照射手段は、紫外線照射手段と、偏光手段を備え、
前記偏光手段は、隣接方向に隣接して配置された複数の単位偏光子を備え、
前記単位偏光子は、前記紫外線照射手段から出射される紫外線を偏光させ、
前記ステージは、配向膜が表面に形成された基板を載置可能とし、
前記走査手段は、前記ステージもしくは前記偏光光照射手段の少なくとも一方を移動させることで、前記ステージに載置された前記基板に対して、前記偏光光照射手段からの紫外線を所定の走査方向に走査し、
前記単位偏光子の隣接面及び前記単位偏光子の隣接方向は、走査方向に対して傾斜していることを特徴とする
及び前記単位偏光子の隣接方向は、走査方向に対して傾斜していることを特徴とする
光配向照射装置。
【請求項２】
前記ステージもしくは前記偏光光照射手段を回動させることで、配向膜に形成する配向方向を調整可能な配向方向調整手段を備えたことを特徴とする
請求項１に記載の光配向照射装置。
【請求項３】
前記単位偏光子は、矩形形状であることを特徴とする
請求項１または請求項２に記載の光配向照射装置。
【請求項４】
前記単位偏光子の隣接面は、前記単位偏光子の隣接方向に対して傾斜していることを特徴とする
請求項３に記載の光配向照射装置。
【請求項５】
前記単位偏光子は、平行四辺形形状であることを特徴とする
請求項１または請求項２に記載の光配向照射装置。
【請求項６】
前記走査手段は、リニアモーターを使用して前記ステージを移動させることを特徴とする
請求項１から請求項４の何れか１項に記載の光配向照射装置。
【請求項７】
前記偏光光照射手段は、前記偏光手段から出射される紫外線の一部を遮光する遮光マスクを備えたことを特徴とする
請求項１から請求項６の何れか１項に記載の光配向照射装置。
【請求項８】
前記偏光手段を回動させることで消光比を調整可能とする消光比調整手段を備えたことを特徴とする
請求項１から請求項７の何れか１項に記載の光配向照射装置。
【請求項９】
前記単位偏光子は、ワイヤーグリッド偏光子であることを特徴とする
請求項１から請求項７の何れか１項に記載の光配向照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示板製造分野にて使用されるものであって、特に、液晶表示装置に用いられる基板上において、液晶分子が望ましい角度と方向に整列するよう配向膜に配向性を付与するための光配向照射装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年の液晶表示分野の利用が拡大し需要が増大するに従って、旧来の液晶表示装置の欠点であった視野角、コントラスト比、動画性能表示などの改善が強く求められている。特に液晶表示基板上にて、液晶分子に配向性を付与する配向膜においては、配向方向の均一化、プレチルト角の付与、単一画素内での複数領域の形成（マルチドメイン）など各種改善が進められている。【０００３】
従来、液晶表示基板上に形成されたポリマー層（配向膜）に配向特性を付与することの利点並びにそのための技術は広く知られている。このような配向特性を付与する方法として布ラビング法と称される方法があるが、この方法は、布を巻き付けたローラーを回転させつつ、基板を移動させて、表面のポリマー層を強く一方向に擦る処理である。【０００４】
しかしながら、この布ラビング法では、静電気の発生、配向膜表面に生じる傷、粉じんの発生など様々な欠点が指摘されている。この布ラビング法の問題を回避するため、配向膜に紫外領域の偏光光を照射して配向特性を付与する光ラビング法が知られている。【０００５】
特許文献１には、このような光ラビング法を使用した方法について、露光マスクを利用し、配向方向が異なる複数の配向領域を分割形成する液晶表示用基板の製造方法が開示されている。【０００６】
特許文献２には、複数の石英基板部と、石英基板部を保持する偏光子ホルダで構成された大面積偏光板を有し、偏光子ホルダを移動させることで、大面積偏光板の下方へ均一に光照射することのできる偏光装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−２１９１９１号公報
【特許文献２】特開２０１０−９１９０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献２に開示される偏光装置では、複数の石英基板からなる大面積偏光板を使用することで、大面積の液晶表示素子の偏光に使用することを可能としている。しかしながら、複数の石英基板をぴったりと隙間無く配置することは困難であり、生じた隙間部分において偏光光の照射ムラが生じることとなる。このような偏光光の照射ムラは、偏光特性に大きな影響を及ぼすこととなり、製造する液晶表示装置の画像品質において問題となる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そのため、本発明に係る光配向照射装置は、
偏光光照射手段と、ステージと、走査手段を備え、
前記偏光光照射手段は、紫外線照射手段と、偏光手段を備え、
前記偏光手段は、隣接方向に隣接して配置された複数の単位偏光子を備え、
前記単位偏光子は、前記紫外線照射手段から出射される紫外線を偏光させ、
前記ステージは、配向膜が表面に形成された基板を載置可能とし、
前記走査手段は、前記ステージもしくは前記偏光光照射手段の少なくとも一方を移動させることで、前記ステージに載置された前記基板に対して、前記偏光光照射手段からの紫外線を所定の走査方向に走査し、
前記単位偏光子の隣接面及び前記単位偏光子の隣接方向は、走査方向に対して傾斜していることを特徴とする。【００１０】
さらに本発明に係る光配向照射装置は、
前記ステージもしくは前記偏光光照射手段を回動させることで、配向膜に形成する配向方向を調整可能な配向方向調整手段を備えたことを特徴とする。【００１１】
さらに本発明に係る光配向照射装置において、
前記単位偏光子は、矩形形状であることを特徴とする。【００１２】
さらに本発明に係る光配向照射装置において、
前記単位偏光子の隣接面は、前記単位偏光子の隣接方向に対して傾斜していることを特徴とする。【００１３】
さらに本発明に係る光配向照射装置において、
前記単位偏光子は、平行四辺形形状であることを特徴とする。【００１４】
さらに本発明に係る光配向照射装置において、
前記偏光光照射手段は、前記偏光手段から出射される紫外線の一部を遮光する遮光マスクを備えたことを特徴とする。【００１５】
さらに本発明に係る光配向照射装置において、
前記走査手段は、リニアモーターを使用して前記ステージを移動させることを特徴とする。【００１６】
さらに本発明に係る光配向照射装置は、
前記偏光手段を回動させることで消光比を調整可能とする消光比調整手段を備えたことを特徴とする。【００１７】
さらに本発明に係る光配向照射装置において、
前記単位偏光子は、ワイヤーグリッド偏光子であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の光配向照射装置によれば、複数の単位偏光子を含んで構成された偏光手段を使用する際、単位偏光子の隣接面及び単位偏光子の隣接方向を、走査方向に対して傾斜させたことで、単位偏光子の隣接面から照射される偏光紫外線を、基板上の所定領域にわたって分散させ、照射ムラの抑制を図ることが可能となる。【００１９】
さらに、ステージもしくは偏光光照射手段を回動させる配向方向調整手段を設けたことで、ことで、基板の配向膜に形成する配向方向を所望の方向に調整可能としている。【００２０】
さらに、単位偏光子は矩形形状であり、単位偏光子の隣接面は、単位偏光子に対して傾斜させることで、製造並びに取り扱いが容易な矩形形状の単位偏光子を使用ししつつ、偏光手段内部で隣接面を傾斜させることが可能となる。また、この隣接面の傾斜によって、ステージと偏光光照射手段の形成する角度を緩和することが可能となる。【００２１】
さらに、単位偏光子を平行四辺形形状とすることで、平行四辺形形状の斜辺を使用し、ステージと偏光光照射手段の形成する角度を緩和することが可能となる。【００２２】
さらに、偏光手段から出射される紫外線の一部を遮光する遮光マスクを設けたことで、偏光紫外線の照射領域の適正化及び全照射領域の光量の均一化を図ることが可能となる。【００２３】
さらに、走査手段にリニアモーターを使用することで、迅速に、かつ、機械的な振動を抑制した状態でステージを移動させることが可能となる。【００２４】
さらに、偏光手段を回動させることで消光比調整手段を備えることで、照射する偏光紫外線を任意の消光比に調整することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の実施形態に係る光配向照射装置の斜視図
【図２】本発明の実施形態に係る光配向照射装置の側断面図
【図３】本発明の実施形態に係る光配向照射装置の上面図
【図４】本発明の実施形態に係る光配向装置における紫外線照射の様子を示す模式図
【図５】本発明の実施形態に係る光配向照射装置における偏光手段と走査方向の関係を説明するための図
【図６】本発明の実施形態に係る光配向照射装置の制御構成を示すブロック図
【図７】本発明の他の実施形態に係る光配向照射装置における偏光手段と走査方向の関係を説明するための図
【図８】本発明の他の実施形態に係る光配向照射装置における偏光手段と走査方向の関係を説明するための図
【図９】本発明の他の実施形態に係る光配向照射装置における偏光手段と走査方向の関係を説明するための図
【図１０】本発明の他の実施形態に係る光配向照射装置における消光比の可変形態の構成を示す図
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図１は、本発明の実施形態に係る光配向照射装置の構成を示す図である。本実施形態の光配向照射装置１は、偏光光照射手段２、走査手段を主な構成要素として有する。偏光光照射手段２は、基板９の表面に形成された配向膜に対して紫外線のビームを照射することで、配向膜に配向特性を付与する手段であって、本実施形態では、反射鏡２１ａ、紫外線照射光源２１ｂを有する紫外線照射手段２１と、偏光手段３を備えて構成されている。なお、本実施形態では、照射光として紫外線を使用しているが、他の波長帯の照射光を使用することとしてもよい。その場合、使用する波長帯に応じた照射光源が用いられる。
【００２７】
図２には、本発明の実施形態に係る光配向照射装置の側断面図が、図３には本発明の実施形態に係る光配向照射装置の上面図が示されている。走査手段は、ステージ４を所定の移動方向（図ではＹ軸方向）に移動させることで、偏光光照射手段２から照射されるビームを基板９上に走査させる手段である。本実施形態の走査手段は、ステージ４、可動台５５、ボールネジ５２、ＬＭガイド５１、回転部５４を有して構成されている。可動台５５は、回転部５４を介してステージ４と機械的に結合されている。また、可動台５５は、ＬＭガイド５１にて走査方向に移動可能とされている。このＬＭガイド５１は、ＬＭレール５１ａ、５１ｂ上を、ＬＭブロック５１ｃ、５１ｄが摺動可能とされている。ＬＭブロック５１ｃ、５１ｄには可動台５５が固定されている。本実施形態では、図３に示すように２本のＬＭガイド５１ａ、５１ｂによって可動台５５を移動可能としている。
【００２８】
可動台５５には、ボールネジ５２に対応したネジ穴が切られている。このネジ穴にボールネジ５２を通し、ボールネジ５２を回転させることで、ボールネジ５２の回転を走査方向に対する可動台５５の移動に変換している。また、可動台５５には、上面に回転部５４が設けられている。この回転部５４は、図に示されるＸＹ平面内における回転を実行可能としており、偏光光照射手段２にて照射される偏光光の偏光方向の調整などに使用することが可能としている。
【００２９】
走査手段としては、本実施形態のようにＬＭガイド５１、ボールネジ５２を使用する以外に、リニアモーターを使用してステージ４を移動させることとしてもよい。リニアモーターを使用することで、迅速に、かつ、機械的な振動を抑制した状態でステージを移動させることが可能となる。また、ステージ４を移動させる以外に、偏光光照射手段２を移動させる、あるいは、ステージ４と偏光光照射手段２の両方を移動させることで、偏光光照射手段２から照射される偏光紫外線Ｂを基板９に走査することとしてもよい。
【００３０】
本実施形態では偏光手段３からの偏光紫外線Ｂを基板９に直接照射しているが、偏光手段３と基板９の間に照射領域をスリット状に制限する遮蔽マスクを設けることとしてもよい。マスクを設けることで、照射領域を制限し、有効な照射光のみを基板９に露光させることが可能となり、配向性能の向上を図ることが可能となる。
【００３１】
ステージ４には、露光対象となる基板９が設置される。本実施形態では、基板９の走査方向が、液晶表示装置としての利用時における縦方向または横方向となるように設置される。露光対象となる基板９の表面には、ポリイミドなどの光反応性高分子からなる高分子が膜状に形成されている。この配向膜上に偏光紫外線を照射して高分子膜を変性せしめ、図示されていない以降の工程で高分子膜上に液晶分子を塗布すると、液晶分子が高分子膜から作用を受け特定の方向に整列（配向）する。本来は、この配向特性を有する高分子膜を配向膜と称するが、一般に配向特性を付与する以前の高分子膜も配向膜と称しており、本明細書においても配向特性を付与する以前の高分子膜も含めて配向膜と称する。
【００３２】
偏光光照射手段２は、紫外線照射光源２１ｂ、反射鏡２１ａを含む紫外線照射光源２１と、偏光手段３を含んで構成されている。紫外線照射光源２１は、図２、図３におけるＸ軸方向に長軸を有する線光源を使用している。紫外線照射光源２１には、このような線光源のみならず点光源など各種光源を使用することも可能である。紫外線ランプなどの紫外線照射光源２１ｂから照射された紫外線は、放物面鏡などの反射鏡２１ａなどで平行光もしくは部分的な平行光となるように整えられ、無偏光紫外線Ａとして偏光手段３側に照射する。偏光手段３は、無偏光紫外線Ａから所定方向の直線偏光成分を取り出す手段である。本実施形態では、この偏光手段３によって無偏光紫外線Ａから所定方向に偏光した偏光紫外線Ｂが取り出され、基板９への入射光となる。
【００３３】
また、本実施形態において偏光光照射手段２は、走査手段による走査方向に対して傾斜するように設けられている。図３には偏光光照射手段２の一部である偏光手段３の傾斜の様子が示されている。偏光手段３は、走査方向に直交する走査直交方向３３から、矢印で示される分だけ傾斜している。走査直交方向３３に対する傾斜は、紫外線照射光源２１についても、偏光手段３に合わせた角度で実行される。なお、偏光光照射手段２の傾斜角度を手動、あるいは、モーターなどによる駆動で自由に変更可能とする配向方向調整手段を設けることとしてもよい。製造する製品に応じて傾斜角度を変更することで、基板９に対する偏光方向を変更し、製品に応じた偏光特性を実現することが可能となる。
【００３４】
図４には、この偏光手段３による紫外線照射の状況が模式的に示されている。紫外線照射光源２１から出射された平行、あるいは、部分的に平行な無偏光紫外線Ａは、各単位偏光子３１ａ〜３１ｆを透過することで、各単位偏光子３１ａ〜３１ｆ毎に設定されている偏光方向に偏光され、偏光紫外線Ｂａ〜Ｂｆに変換される。各偏光紫外線Ｂａ〜Ｂｆは、基板９上に入射して配向膜を配向させる。図４の照射領域には、各偏光紫外線Ｂａ〜Ｂｆの偏光方向が矢印で模式的に示されている。本実施形態では、偏光光照射手段２の傾斜方向を変更することで、この照射領域中に示される偏光方向を調整することが可能となっている。
【００３５】
図５には、本発明の実施形態に係る偏光手段の構成が示されている。図５は、偏光手段３を上方、すなわち、図１〜図３に示されるＺ軸の負の方向から眺めた図となっている。本実施形態の偏光手段３は、隣接方向３３に沿って隣接配置された複数の単位偏光子３１ａ〜３１ｆを有して構成されている。単位偏光子３１ａ〜３１ｆは、誘電多層膜を使用したブリュースター偏光子やワイヤーグリッド偏光子にて構成される。このような単位偏光子３１ａ〜３１ｆは、石英などを成分として構成された光学素子（偏光子）であり、本実施形態では矩形状のものを使用している。図１に示すように、基板９に照射領域を形成する際、基板９にムラ無く偏光紫外線を照射するには、基板９の一辺から対向する他辺にわたる長さの偏光手段３が必要とされる。現在、５０インチ以上の大型の液晶表示装置にて使用される基板９においては、十分な長さを有する偏光手段３が求められている。大判の偏光子の製造は困難であるとともに、現状、その価格は高価なものとなっている。本実施形態では、図５に示されるように小判の単位偏光子３１ａ〜３１ｆを、隣接方向３３に隣接させて使用することで、光配向照射装置のコストを抑えることが可能となる。
【００３６】
これら単位偏光子３１ａ〜３１ｆは、固定部３２によって所定の偏光成分を出射する方向に固定されている。このように複数の単位偏光子３１ａ〜３１ｆを隣接させた偏光手段３を用いることで、５０インチ以上の大型の基板９を使用した場合においても、十分な長さの偏光手段３を実現することが可能となっている。
【００３７】
ところで、本実施形態では、偏光手段３を単位偏光子３１ａ〜３１ｆを隣接させて形成させているため、隣り合う単位偏光子３１ａ〜３１ｆの間で発生するつなぎ目が、基板９に照射する偏光紫外線に不連続状態を形成することが考えられる。このような問題を解決するため、本実施形態では、前述したように、偏光手段３を含む偏光光照射手段２を走査方向に対して傾斜させている。したがって、図５に示されるように、単位偏光子３１ａ〜３１ｆの隣接方向３３は、走査直交方向３５に対して傾斜することとなる。
【００３８】
本実施形態では、矩形の単位偏光子３１ａ〜３１ｆを使用しているため、この偏光手段３の傾斜に伴い、単位偏光子３１ａ〜３１ｆの隣接面３４が走査方向に対して傾斜することとなる。このような走査方向に対する隣接面３４の傾斜は、隣接する単位偏光子３１の両方によって偏光紫外線が照射される重複領域を形成することとなり、基板９につなぎ目から照射される偏光紫外線を、この重複領域にわたって緩和（平均化）することが可能となる。
【００３９】
図６は、本発明の実施形態に係る光配向照射装置の制御構成を示すブロック図である。本実施形態の光配向照射装置は、その制御手段として、制御部８１、ボールネジ駆動部８２を有して構成されている。制御部８１には、ユーザーに対する各種情報のやりとりを行うための表示部８３、入力部８４が接続されている。また、制御部８１は、回転部５４、紫外線照射光源２１ｂと接続されており、これら各種構成を制御することを可能としている。
【００４０】
このような制御構成により、制御部８１は、ボールネジ駆動部８２によってボールネジ６ａを回転駆動することで、ステージ４を所望の走査方向に移動させる。その際、制御部８１は、紫外線照射光源２１ｂを点灯することで、ステージ４に設置された基板９に対して、偏光紫外線Ｂが走査されることとなる。
【００４１】
また、制御部８１は、回転部５４によってステージ４を回転させる（図１〜図３におけるＸＹ面内での回転）ことも可能である。ステージ４の回動によって、ステージ４上に設置された基板９と、偏光光照射手段２との傾斜角度を変更することで、基板９に対する偏光紫外線Ｂの偏光方向を調整することも可能である。製造する製品に応じた偏光特性を実現することが可能となる。
【００４２】
偏光手段３には、このような矩形状の単位偏光子３１ａ〜３１ｆを用いる形態の他、各種形態を採用することが可能である。図７には他の実施形態に係る偏光手段３の構成が示されている。本実施形態では、各単位偏光子３１ａ〜３１ｆが、走査方向に対して傾斜した辺を有する平行四辺形形状となっている。各単位偏光子３１ａ〜３１ｆは、単位偏光子３１ｃを例として記載するように１つの角度は鋭角αを形成している。
【００４３】
本実施形態においても前述した実施形態と同様、単位偏光子３１ａ〜３１ｆの隣接方向３３を走査直交方向３５に対して傾斜させる、すなわち、偏光光照射手段２自体の傾斜により、単位偏光子３１ａ〜３１ｆ間の隣接面３４は走査方向に対して傾斜する。さらに、本実施形態では、平行四辺形形状の各単位偏光子３１ａ〜３１ｆが鋭角を有することで、単位偏光子３１ａ〜３１ｆの斜辺が走査方向に対して傾斜を持つこととなる。このように
本実施形態では、この偏光光照射手段２自体の傾斜と、鋭角αを有する単位偏光子３１ａ〜３１ｆの斜辺という、２つの傾斜を利用して隣接面３４を走査方向に対して傾斜させることとしているため、両者の傾斜角度の緩和を図ることが可能となる。
【００４４】
すなわち、偏光光照射手段２のみを傾斜させた場合、基板９の全幅にわたって偏光紫外線Ｂを照射するには、傾斜角度が大きくなるほど、偏光光照射手段２の長手方向の長さが必要とされる。このような偏光光照射手段２の傾斜角度を抑えることで、偏光光照射手段２の長手方向の長さを短くすることが可能となる。
【００４５】
一方、単位偏光子３１ａ〜３１ｆの斜辺が走査方向となす角度を大きくする場合、鋭角部分の角度はさらに小さくなる。図７において、隣接する単位偏光子３１ｂと３１ｃとで形成される重複領域が示されている。同じ長さの重複領域を単位偏光子３１の斜辺のみで実現する場合、参考として記載した単位偏光子３１ｚに示されるように、鋭角α＞鋭角βとなることが分かる。単位偏光子３１において、鋭角部分の角度が小さくなるにつれ、その製造は製造は困難になると共に、コスト高となる。さらに、鋭角部分に欠損を生じやすくなり、取り扱いが困難になることが考えられる。特に本実施形態のように、単位偏光子３１ａ〜３１ｆを固定部３２に固定した場合、紫外線照射光源２１からの熱により、鋭角部分の欠損の可能性はさらに大きくなる。
【００４６】
本実施形態では、このような偏光光照射手段２の傾斜角度と、単位偏光子３１の斜辺の傾斜角度の両方を利用することで、両者の傾斜角度の緩和を図りつつ、有効となる重複領域を形成することとしている。
【００４７】
ところで、図７のような鋭角部分を有する平行四辺形形状の単位偏光子３１ａ〜３１ｆを精度良く製造することは困難であると共に、コスト高となることは説明した通りである。図８には、図７と同様、偏光手段３において隣接面３４を傾斜させた構成となっている。この実施形態では、図５と同様、矩形状の単位偏光子３１ａ〜３１ｆを使用している。ただし、固定部３２に対する固定方向の点において異なっている。すなわち、矩形状の単位偏光子３１ａ〜３１ｆを、走査方向に対して傾斜するように固定部３２に固定することで、図７と同様、偏光手段３において傾斜した隣接面３４が形成されている。その際、偏光紫外線の出射領域が不均衡とならないように、図８に示すように固定部３２に矩形状のスリットを設ける、あるいは、不要な領域を遮蔽する遮蔽マスクを設けることが好ましい。このような形態によれば、各単位偏光子３１ａ〜３１ｆの使用割合は減少するものの、つなぎ目の影響を抑制すると共に、単位偏光子３１ａ〜３１ｆの製造、並びに、取り扱いを容易にすることが可能となる。
【００４８】
図９には、本発明の他の実施形態に係る光配向照射装置における偏光手段と走査方向の関係が示されている。図３などで説明した実施形態では、偏光光照射手段２をステージ４に対して回動させる形態であったのに対し、本実施形態では、回転部５４によりステージ４を回転させることで、偏光光照射手段２とステージ４に載置される基板９を傾斜させることとしている。本実施形態においても回転部５４の回転角度を変更することで、基板９に対して照射される偏光紫外線Ｂの偏光方向を任意の方向に調整することが可能である。
【００４９】
図１０には、他の実施形態に係る光配向照射装置の構成が示されている。本実施形態では、基板９に照射する照射紫外線Ｂの消光比（偏光比ともいう）を、偏光手段３にて調整可能な構成としている。本実施形態では、偏光手段３を構成する単位偏光子３１にブリュースター偏光子を採用している。このブリュースター偏光子は、誘電多層膜からなる偏光子であって、ブリュースター角度を用いてｐ波偏光成分とｓ波偏光成分に分離するとともに、消光比を高く設定することが可能である。
【００５０】
このようなブリュースター偏光子を単位偏光子３１に使用する場合、単位偏光子３１に入射させる無偏光紫外線Ａの入射角度を変更することで、消光比を調整することが可能である。具体的には、図１０に示されるように偏光手段３の長手方向（紙面奥行き方向であるＸ方向）を軸として、偏光手段３を回動させることで、偏光紫外線Ｂの消光比を任意に調整することが可能である。偏光手段の回動は、手動、もしくは、制御部８１の制御によって偏光手段３を回動させる消光比調整手段によって行われる。
【００５１】
なお、単位偏光子３１には、このようなブリュースター偏光子以外に、ワイヤーグリッド偏光子を使用することも可能である。ワイヤーグリッド偏光子は、内部に配設された金属ワイヤー（グリッド）の間隔によって、波長帯域を任意に変更することが可能である。ワイヤーグリッド偏光子は、パターン転写による簡易なプロセスで製造することが可能である。しかしながら、このワイヤーグリッド偏光子においても、例えば、２０００ｍｍを超える長さの偏光子は実現出来ておらず、本実施形態のような複数の単位偏光子３１の組み合わせで構成することが有効となる。
【００５２】
なお、本発明はこれらの実施形態のみに限られるものではなく、それぞれの実施形態の構成を適宜組み合わせて構成した実施形態も本発明の範疇となるものである。
【符号の説明】
【００５３】
１…光配向照射装置、２…偏光光照射手段、２１ａ…反射鏡、２１ｂ…紫外線照射光源、３…偏光手段、３１…単位偏光子、３２…固定部、３３…単位偏光子の隣接方向、３４…単位偏光子の隣接面、３５…走査直交方向、４…ステージ、５１ａ、ｂ…ＬＭレール、５１ｃ、ｄ…ＬＭブロック、５４…回転部、５５…可動台、５２…ボールネジ、８１…制御部、８２…ボールネジ駆動部、８３…表示部、８４…入力部、９…基板、９ａ…基板設置領域
【図１】
2013157114.tif 000003
【図２】
2013157114.tif 000004
【図３】
2013157114.tif 000005
【図４】
2013157114.tif 000006
【図５】
2013157114.tif 000007
【図６】
2013157114.tif 000008
【図７】
2013157114.tif 000009
【図８】
2013157114.tif 000010
【図９】
2013157114.tif 000011
【図１０】
2013157114.tif 000012
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月9日(2012.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光光照射手段と、ステージと、走査手段を備え、
前記偏光光照射手段は、紫外線照射手段と、偏光手段を備え、
前記偏光手段は、隣接方向に隣接して配置された複数の単位偏光子を備え、
前記単位偏光子は、前記紫外線照射手段から出射される紫外線を偏光させ、
前記ステージは、配向膜が表面に形成された基板を載置可能とし、
前記走査手段は、前記ステージもしくは前記偏光光照射手段の少なくとも一方を移動させることで、前記ステージに載置された前記基板に対して、前記偏光光照射手段からの紫外線を所定の走査方向に走査し、
前記ステージに平行な面において、前記単位偏光子の隣接面及び前記単位偏光子の隣接方向は、走査方向に対して傾斜していることを特徴とする
光配向照射装置。
【請求項２】
前記ステージもしくは前記偏光光照射手段を回動させることで、配向膜に形成する配向方向を調整可能な配向方向調整手段を備えたことを特徴とする
請求項１に記載の光配向照射装置。
【請求項３】
前記単位偏光子は、矩形形状であることを特徴とする
請求項１または請求項２に記載の光配向照射装置。
【請求項４】
前記単位偏光子の隣接面は、前記単位偏光子の隣接方向に対して傾斜していることを特徴とする
請求項３に記載の光配向照射装置。
【請求項５】
前記単位偏光子は、平行四辺形形状であることを特徴とする
請求項１または請求項２に記載の光配向照射装置。
【請求項６】
前記走査手段は、リニアモーターを使用して前記ステージを移動させることを特徴とする
請求項１から請求項４の何れか１項に記載の光配向照射装置。
【請求項７】
前記偏光光照射手段は、前記偏光手段から出射される紫外線の一部を遮光する遮光マスクを備えたことを特徴とする
請求項１から請求項６の何れか１項に記載の光配向照射装置。
【請求項８】
前記偏光手段を回動させることで消光比を調整可能とする消光比調整手段を備えたことを特徴とする
請求項１から請求項７の何れか１項に記載の光配向照射装置。
【請求項９】
前記単位偏光子は、ワイヤーグリッド偏光子であることを特徴とする
請求項１から請求項７の何れか１項に記載の光配向照射装置。
【国際調査報告】
2013157114.tif 000013
2013157114.tif 000014
2013157114.tif 000015
2013157114.tif 000016