(57)【要約】  本発明の成形体は、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品に用いられ、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーを含む。そして、上記成形体を１ｇ／ｍＬの濃度でシクロヘキサンに２３℃、６時間攪拌しながら浸漬させたとき、液中パーティクルカウンターにより測定される、上記シクロヘキサン中に含まれる粒子径１μｍ以上２μｍ以下の不溶微粒子の数が、２００個／ｍｌ以下である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品に用いられる、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーを含む成形体であって、
前記成形体を１ｇ／ｍＬの濃度でシクロヘキサンに２３℃、６時間攪拌しながら浸漬させたとき、
液中パーティクルカウンターにより測定される、前記シクロヘキサン中に含まれる粒子径１μｍ以上２μｍ以下の不溶微粒子の数が、２００個／ｍｌ以下である、成形体。
【請求項２】
請求項１に記載の成形体において、
前記ポリマーが、下記一般式（１）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形体。
【化１】
2013005429.tif 000022
（式中、ｘ，ｙは共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。
ｎは置換基Ｑの置換数を示し、０≦ｎ≦２の実数である。
Ｒ１は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２＋ｎ価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ３は、炭素原子数２〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる４価の基である。
Ｑは、ＣＯＯＲ４（Ｒ４は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。）である。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＱは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。）
【請求項３】
請求項１に記載の成形体において、
前記ポリマーが、下記一般式（２）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形体。
【化２】
2013005429.tif 000023
（式中、Ｒ1は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
ｘ，ｙは共重合比を示し、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。）
【請求項４】
請求項１に記載の成形体において、
前記ポリマーが、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンおよびエチレンからなる共重合体である、成形体。
【請求項５】
ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品に用いられる、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーと添加剤とを含む成形材料であって、
前記添加剤の少なくとも一部が、前記ポリマーを含む粒子の表面に存在している、成形材料。
【請求項６】
請求項５に記載の成形材料において、
前記ポリマーを含む前記粒子がペレット形状である、成形材料。
【請求項７】
請求項５または６に記載の成形材料において、
前記粒子の表面に存在している前記添加剤が、フェノール系安定剤、高級脂肪酸金属塩、酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、塩酸吸収剤、金属不活性化剤、帯電防止剤、防曇剤、滑剤、スリップ剤、核剤、可塑剤、難燃剤からなる群より選ばれる少なくとも１種以上である、成形材料。
【請求項８】
請求項５乃至７いずれか一項に記載の成形材料において、
前記粒子の表面に存在している前記添加剤は、１３０℃における溶融粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上１００００ｍＰａ・ｓ以下であり、
前記添加剤の平均粒子径ｄ５０が１０００μｍ以下である、成形材料。
【請求項９】
請求項５乃至８いずれか一項に記載の成形材料において、
前記ポリマーの相転移点温度から、前記粒子の表面に存在している前記添加剤の相転移点温度を差し引いた値が−１００℃以上１４０℃以下である、成形材料。
【請求項１０】
請求項５乃至９いずれか一項に記載の成形材料において、
当該成形材料に含まれる前記ポリマーを１００質量部としたとき、
前記添加剤が、０．０１質量部以上５０質量部以下の範囲で前記粒子の表面に存在している、成形材料。
【請求項１１】
請求項５乃至１０いずれか一項に記載の成形材料において、
当該成形材料の総量を１００質量部としたとき、
前記添加剤が、０．０１質量部以上５０質量部以下の範囲で前記粒子の表面に存在している、成形材料。
【請求項１２】
請求項５乃至１１いずれか一項に記載の成形材料において、
前記添加剤が前記粒子の表面に融着している、成形材料。
【請求項１３】
請求項１２に記載の成形材料において、
前記添加剤が表面に付着した前記粒子を、（Ｔｍ１−２０）℃以上（Ｔｍ２＋２０）℃以下で加熱することにより得られる、成形材料。
（ここで、Ｔｍ１およびＴｍ２は前記添加剤の融点の下限および上限の温度をそれぞれ示す。）
【請求項１４】
請求項５乃至１３いずれか一項に記載の成形材料において、
前記ポリマーが、下記一般式（１）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形材料。
【化１】
2013005429.tif 000024
（式中、ｘ，ｙは共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。
ｎは置換基Ｑの置換数を示し、０≦ｎ≦２の実数である。
Ｒ１は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２＋ｎ価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ３は、炭素原子数２〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる４価の基である。
Ｑは、ＣＯＯＲ４（Ｒ４は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。）である。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＱは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。）
【請求項１５】
請求項５乃至１３いずれか一項に記載の成形材料において、
前記ポリマーが、下記一般式（２）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形材料。
【化２】
2013005429.tif 000025
（式中、Ｒ1は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
ｘ，ｙは共重合比を示し、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。）
【請求項１６】
請求項５乃至１３いずれか一項に記載の成形材料において、
前記ポリマーが、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンおよびエチレンからなる共重合体である、成形材料。
【請求項１７】
請求項５乃至１６いずれか一項に記載の成形材料を溶融成形して得られる、成形体。
【請求項１８】
請求項１７に記載の成形体からなる、光学部品。
【請求項１９】
請求項１８に記載の光学部品が、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板である、光学部品。
【請求項２０】
請求項５乃至１６いずれか一項に記載の成形材料の製造方法であって、
前記粒子の表面に前記添加剤を付着させる工程、または
前記粒子の表面に前記添加剤を付着させた後に、前記添加剤を前記粒子に融着させる工程
を含む、成形材料の製造方法。
【請求項２１】
請求項２０に記載の成形材料の製造方法において、
前記添加剤を付着させる工程では、
当該成形材料に含まれる前記ポリマーを１００質量部としたとき、
前記粒子の表面に、前記添加剤を０．０１質量部以上５０質量部以下の範囲で付着させる、成形材料の製造方法。
【請求項２２】
請求項２０または２１に記載の成形材料の製造方法において、
前記添加剤を前記粒子に融着させる工程では、
前記添加剤が表面に付着した前記粒子を、（Ｔｍ１−２０）℃以上（Ｔｍ２＋２０）℃以下の範囲内で加熱することにより、前記添加剤を前記粒子の表面に融着させる、成形材料の製造方法。
（ここで、Ｔｍ１およびＴｍ２は前記添加剤の融点の下限および上限の温度をそれぞれ示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成形体、成形材料、光学部品および成形材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学部品用の成形材料として、脂環式構造を有するポリマーを主成分とする成形材料が知られている（特許文献１参照）。こうしたポリマーを主成分とする成形材料は、射出成形によって安価に光学部品を製造できるというメリットがある。【０００３】
特許文献１には、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を含むポリマー、フェノール系安定剤、ヒンダードアミン系光安定剤およびリン系安定剤を含み、上記フェノール系安定剤および／または上記ヒンダードアミン系光安定剤の少なくとも一部が上記ポリマーからなる粒子の表面に付着して存在している成形材料が開示されている。【０００４】
この文献には、充分な光学性能を有し、かつ、紫外線に近い領域の光源で用いても劣化が起こりにくく、使用に際して高い性能や光線透過率を維持することが可能となる光学部品を得ることができると記載されている。そのため、特に青紫レーザー光源を用いる光ピックアップ装置に適すると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００６／１２３６７９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような脂環式構造を有するポリマーを主成分とする成形材料を用いて得られる成形体は、ｆθレンズ、撮像レンズなどの光学部品に用いたとき、像を上手く識別できない場合があった。また、上記成形体は、導光板などの光学部品に用いたとき、情報の表示に不具合が生じたりする場合があった。【０００７】
本願発明者は、かかる不具合の原因を鋭意調べたところ、光学部品の表面に発生する凹みが原因であることを見出した。光学部品は、その表面に凹みがあると、光路が変化して像がぼやけてしまい、像を上手く識別できなくなる。また、光量が変化して情報の表示が不鮮明になってしまう。
上述したように、これまで、上記の脂環式構造を有するポリマーを主成分とする成形材料を用いて得られる成形体は、光ピックアップ装置に用いられるレンズに主に用いられてきた。光ピックアップ装置用のレンズは、光の信号の０か１を識別できれば良いため、レンズの表面に凹みがあっても、上記の不具合は問題になりにくい。
一方、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板は、像を高精度に識別する必要があるため、成形体表面に凹みがあると上記の不具合が問題となってしまう。そのため、表面の凹みの発生が抑制された成形体が望まれている。【０００８】
一方、成形体表面の凹みの発生は、射出成形条件の変更によりある程度抑制することができる。しかしながら、射出成形条件によっては、成形体の形状など物性に影響を与えてしまうため好ましくない。そのため、広範囲の射出成形条件で、表面の凹みの発生が抑制された成形体を得ることができる成形材料が望まれている。【０００９】
そこで、本発明では、外観品質に優れた光学部品用の成形体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、以下に示す成形体、成形材料、光学部品および成形材料の製造方法が提供される。【００１１】
（１）
ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品に用いられる、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーを含む成形体であって、
上記成形体を１ｇ／ｍＬの濃度でシクロヘキサンに２３℃、６時間攪拌しながら浸漬させたとき、
液中パーティクルカウンターにより測定される、上記シクロヘキサン中に含まれる粒子径１μｍ以上２μｍ以下の不溶微粒子の数が、２００個／ｍｌ以下である、成形体。【００１２】
（２）
上記（１）に記載の成形体において、
上記ポリマーが、下記一般式（１）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形体。
【化１】
2013005429.tif 000002
（式中、ｘ，ｙは共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。
ｎは置換基Ｑの置換数を示し、０≦ｎ≦２の実数である。
Ｒ１は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２＋ｎ価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ３は、炭素原子数２〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる４価の基である。
Ｑは、ＣＯＯＲ４（Ｒ４は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。）である。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＱは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。）【００１３】
（３）
上記（１）に記載の成形体において、
上記ポリマーが、下記一般式（２）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形体。
【化２】
2013005429.tif 000003
（式中、Ｒ1は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
ｘ，ｙは共重合比を示し、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。）【００１４】
（４）
上記（１）に記載の成形体において、
上記ポリマーが、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンおよびエチレンからなる共重合体である、成形体。【００１５】
（５）
ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品に用いられる、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーと添加剤とを含む成形材料であって、
上記添加剤の少なくとも一部が、上記ポリマーを含む粒子の表面に存在している、成形材料。【００１６】
（６）
上記（５）に記載の成形材料において、
上記ポリマーを含む上記粒子がペレット形状である、成形材料。【００１７】
（７）
上記（５）または（６）に記載の成形材料において、
上記粒子の表面に存在している上記添加剤が、フェノール系安定剤、高級脂肪酸金属塩、酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、塩酸吸収剤、金属不活性化剤、帯電防止剤、防曇剤、滑剤、スリップ剤、核剤、可塑剤、難燃剤からなる群より選ばれる少なくとも１種以上である、成形材料。【００１８】
（８）
上記（５）乃至（７）いずれかに記載の成形材料において、
上記粒子の表面に存在している上記添加剤は、１３０℃における溶融粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上１００００ｍＰａ・ｓ以下であり、
上記添加剤の平均粒子径ｄ５０が１０００μｍ以下である、成形材料。【００１９】
（９）
上記（５）乃至（８）いずれかに記載の成形材料において、  
上記ポリマーの相転移点温度から、上記粒子の表面に存在している上記添加剤の相転移点温度を差し引いた値が−１００℃以上１４０℃以下である、成形材料。【００２０】
（１０）
上記（５）乃至（９）いずれかに記載の成形材料において、  
当該成形材料に含まれる上記ポリマーを１００質量部としたとき、
上記添加剤が、０．０１質量部以上５０質量部以下の範囲で上記粒子の表面に存在している、成形材料。【００２１】
（１１）  
上記（５）乃至（１０）いずれかに記載の成形材料において、
当該成形材料の総量を１００質量部としたとき、
上記添加剤が、０．０１質量部以上５０質量部以下の範囲で上記粒子の表面に存在している、成形材料。【００２２】
（１２）  
上記（５）乃至（１１）いずれかに記載の成形材料において、
上記添加剤が上記粒子の表面に融着している、成形材料。【００２３】
（１３）  
上記（１２）に記載の成形材料において、
上記添加剤が表面に付着した上記粒子を、（Ｔｍ１−２０）℃以上（Ｔｍ２＋２０）℃以下で加熱することにより得られる、成形材料。
（ここで、Ｔｍ１およびＴｍ２は上記添加剤の融点の下限および上限の温度をそれぞれ示す。）【００２４】
（１４）
上記（５）乃至（１３）いずれかに記載の成形材料において、
上記ポリマーが、下記一般式（１）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形材料。
【化１】
2013005429.tif 000004
（式中、ｘ，ｙは共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。
ｎは置換基Ｑの置換数を示し、０≦ｎ≦２の実数である。
Ｒ１は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２＋ｎ価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ３は、炭素原子数２〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる４価の基である。
Ｑは、ＣＯＯＲ４（Ｒ４は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。）である。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＱは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。）【００２５】
（１５）
上記（５）乃至（１３）いずれかに記載の成形材料において、
上記ポリマーが、下記一般式（２）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形材料。
【化２】
2013005429.tif 000005
（式中、Ｒ1は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
ｘ，ｙは共重合比を示し、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。）【００２６】
（１６）
上記（５）乃至（１３）いずれかに記載の成形材料において、
上記ポリマーが、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンおよびエチレンからなる共重合体である、成形材料。【００２７】
（１７）
上記（５）乃至（１６）いずれかに記載の成形材料を溶融成形して得られる、成形体。【００２８】
（１８）
上記（１７）に記載の成形体からなる、光学部品。【００２９】
（１９）
上記（１８）に記載の光学部品が、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板である、光学部品。【００３０】
（２０）
上記（５）乃至（１６）いずれかに記載の成形材料の製造方法であって、
上記粒子の表面に上記添加剤を付着させる工程、または
上記粒子の表面に上記添加剤を付着させた後に、上記添加剤を上記粒子に融着させる工程
を含む、成形材料の製造方法。【００３１】
（２１）
上記（２０）に記載の成形材料の製造方法において、
上記添加剤を付着させる工程では、
当該成形材料に含まれる上記ポリマーを１００質量部としたとき、
上記粒子の表面に、上記添加剤を０．０１質量部以上５０質量部以下の範囲で付着させる、成形材料の製造方法。【００３２】
（２２）
上記（２０）または（２１）に記載の成形材料の製造方法において、
上記添加剤を上記粒子に融着させる工程では、
上記添加剤が表面に付着した上記粒子を、（Ｔｍ１−２０）℃以上（Ｔｍ２＋２０）℃以下の範囲内で加熱することにより、上記添加剤を上記粒子の表面に融着させる、成形材料の製造方法。
（ここで、Ｔｍ１およびＴｍ２は上記添加剤の融点の下限および上限の温度をそれぞれ示す。）
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、外観品質に優れた光学部品用の成形体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態によってさらに明らかになる。
【００３５】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、「〜」は特に断りがなければ、以上以下を表す。
【００３６】
（成形体）
本発明の成形体は、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品に用いられ、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーを含む。そして、上記成形体を１ｇ／ｍＬの濃度でシクロヘキサンに２３℃、６時間攪拌しながら浸漬させたとき、液中パーティクルカウンターにより測定される、上記シクロヘキサン中に含まれる粒子径１μｍ以上２μｍ以下の不溶微粒子の数が、２００個／ｍｌ以下であり、好ましくは１５０個／ｍｌ以下であり、より好ましくは１２０個／ｍｌ以下であり、さらに好ましくは１００個／ｍｌ以下であり、特に好ましくは８０個／ｍｌ以下である。
上記不溶粒子の数が上記上限値以下であることにより、成形体表面の凹みの発生が抑制される。成形体表面の凹みが抑制される理由は必ずしも明らかではないが以下のような理由が推察される。
上記不溶微粒子の数が上記上限値を超える成形体は、金型への成形材料の転写の際に、金型と接する面に上記不溶微粒子が比較的多く存在する。金型と接する面に不溶微粒子が多く存在すると、その不溶微粒子により金型への成形材料の転写が阻害されてしまう。そのため、得られる成形体表面に凹みが発生してしまうと考えられる。
これに対して、本発明の成形体は、上記不溶微粒子の数が上記上限値以下であるため、上記不溶微粒子により金型への成形材料の転写が阻害されるのを抑制することができる。そのため、本発明の成形体は、成形体表面の凹みの発生が抑制されると考えられる。
ここで、上記不溶微粒子は、例えば、ポリマー由来物や、ポリマーの劣化物等と推察される。後述する本実施形態の成形材料は、滑剤効果でペレット可塑時のせん断が抑制される。そのため、ポリマー由来物やポリマー劣化物等の生成が抑制され、上記不溶微粒子の数を上記上限値以下とすることができると推察される。
【００３７】
（ポリマー）
本実施形態の成形体に用いられるポリマーは、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有している。
【００３８】
本実施形態のポリマーは好ましくは下記一般式（１）で表わされる重合体から選ばれる。
【００３９】
【化１】
2013005429.tif 000006
（式中、ｘ，ｙは共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。
ｎは置換基Ｑの置換数を示し、０≦ｎ≦２の実数である。
Ｒ１は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２＋ｎ価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ３は、炭素原子数２〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる４価の基である。
Ｑは、ＣＯＯＲ４（Ｒ４は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。）である。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＱは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。）
【００４０】
上記一般式（１）中の各記号については、次のような好ましい条件を挙げることができ、これらの条件は必要に応じ組み合わせて用いられる。
［１］Ｒ１基が、構造中に少なくとも１箇所の環構造を持つ基である。
［２］Ｒ３は、この基を含む構造単位の例示（ｎ＝０の場合）として、例示構造（ａ），（ｂ），（ｃ）；
【００４１】
【化３】
2013005429.tif 000007
ただし、式中Ｒ１は前述のとおりである。
［３］ｎが０である。
［４］ｙ／ｘが、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。
［５］Ｒ２は、水素原子および／または-ＣＨ３である。
［６］Ｑが、-ＣＯＯＨまたは、-ＣＯＯＣＨ３基である。
これらの中で、最も好ましくは、上記一般式（１）中の各記号については、次のような条件を挙げることが出来、これらの条件は必要に応じ組み合わせて用いられる。
【００４２】
［１］ Ｒ１基が、一般式（３）；
【００４３】
【化４】
2013005429.tif 000008
【００４４】
（式中、ｐは、０乃至２の整数である。）
で表される二価の基である。さらに好ましくは、上記一般式（３）においてｐが１である二価の基である。
【００４５】
［２］ Ｒ３基が、この基を含む構造単位の例示（ｎ＝０の場合）として、上記例示構造（ａ）である。
【００４６】
また、重合のタイプは本実施形態において全く制限されるものではなく、付加重合、開環重合などの公知の様々な重合タイプを適用することができる。付加重合としては、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、交互共重合などを挙げることができる。本実施形態においては、光学性能の劣化を抑制する観点からランダム共重合体を用いることが好ましい。
【００４７】
主たる成分として用いられる樹脂の構造が上記のものであると、透明性、屈折率および複屈折率などの光学物性に優れ、高精度の光学部品を得ることができる。
【００４８】
（繰り返し構造単位の一部または全部に脂環族構造を有するポリマーの例示）
上記一般式（１）で表される重合体は、以下の（ｉ）〜（iv）の４種の重合体に大別される。
（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体
（ii）開環重合体またはその水素添加物
（iii）ポリスチレン誘導体またはその水素添加物
（iv）その他の重合体
以下、順に説明する。
【００４９】
［（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体］
（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体は、一般式（２）で表現される環状オレフィン系共重合体である。例えば、エチレンまたは炭素原子数が３〜３０の直鎖状または分岐状のα−オレフィン由来の構成単位（Ａ）と、環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）とからなる。
【００５０】
【化２】
2013005429.tif 000009
一般式（２）中、Ｒ１は、炭素原子数２〜２０、好ましくは２〜１２の炭化水素基よりなる群から選ばれる２価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０、好ましくは１〜５の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
なお、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
ｘ，ｙは共重合比を示し、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。好ましくは５０／５０≦ｙ／ｘ≦９５／５、さらに好ましくは、５５／４５≦ｙ／ｘ≦８０／２０である。ｘ，ｙはモル基準である。
【００５１】
（エチレンまたはα−オレフィン由来の構成単位（Ａ））
エチレンまたはα−オレフィン由来の構成単位（Ａ）は、下記のようなエチレン、または炭素原子数が３〜３０の直鎖状または分岐状のα−オレフィン由来の構成単位である。
具体的には、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル−１−ヘキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどが挙げられる。これらのなかでも、エチレンが好ましい。上記エチレンまたはα−オレフィン由来の構成単位は、本発明の効果を損なわない範囲で２種以上含まれていてもよい。
【００５２】
（環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ））
環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、下記一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される環状オレフィン由来の構成単位よりなる群から選ばれる少なくとも１種からなる。
一般式（４）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、以下の構造を有するものである。
【００５３】
【化５】
2013005429.tif 000010
一般式（４）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数であり、ｗは０または１である。なお、ｗが１の場合には、ｗを用いて表される環は６員環となり、ｗが０の場合には、この環は５員環となる。Ｒ６１〜Ｒ７８ならびにＲａ１およびＲｂ１は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基である。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。また炭化水素基としては、通常、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３〜１５のシクロアルキル基または芳香族炭化水素基などが挙げられる。
【００５４】
より具体的には、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基などが挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、上記炭素原子数１〜２０のアルキル基に１個または複数のハロゲン原子が置換した基が挙げられる。また、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基などが挙げられ、芳香族炭化水素基としてはフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
【００５５】
さらに、上記一般式（４）において、Ｒ７５とＲ７６とが、Ｒ７７とＲ７８とが、Ｒ７５とＲ７７とが、Ｒ７６とＲ７８とが、Ｒ７５とＲ７８とが、またはＲ７６とＲ７７とがそれぞれ結合して、すなわち互いに共同して、単環または多環の基を形成していてもよい。さらに、このようにして形成された単環または多環が二重結合を有していてもよい。単環よりも多環のほうが少ない含有量で、高いガラス転移温度（Ｔｇ）の共重合体を得られるので、耐熱性の面から多環が好ましい。さらに、少ない環状オレフィン仕込み量で製造できる利点がある。ここで、形成される単環または多環の基としては、具体的に以下のようなものが挙げられる。
【００５６】
【化６】
2013005429.tif 000011
上記例示において、１または２の番号を付した炭素原子は、上記一般式（４）においてそれぞれＲ７５（Ｒ７６）またはＲ７７（Ｒ７８）が結合している炭素原子を表す。
Ｒ７５とＲ７６とで、またはＲ７７とＲ７８とでアルキリデン基を形成していてもよい。このアルキリデン基は、通常は炭素原子数２〜２０である。アルキリデン基の具体的な例としては、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基などが挙げられる。
【００５７】
一般式（５）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、以下の構造を有するものである。
【００５８】
【化７】
2013005429.tif 000012
一般式（５）中、ｘおよびｄは０または１以上の正の整数であり、ｙおよびｚは０、１または２である。また、Ｒ８１〜Ｒ９９は、お互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基またはアルコキシ基であり、Ｒ８９およびＲ９０が結合している炭素原子と、Ｒ９３が結合している炭素原子またはＲ９１が結合している炭素原子とは、直接あるいは炭素原子数１〜３のアルキレン基を介して結合していてもよい。またｙ＝ｚ＝０のとき、Ｒ９５とＲ９２またはＲ９５とＲ９９とは互いに結合して単環または多環の芳香族環を形成していてもよい。
【００５９】
ハロゲン原子としては、上記一般式（４）中のハロゲン原子と同じものを例示することができる。
脂肪族炭化水素基としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基または炭素原子数３〜１５のシクロアルキル基が挙げられる。より具体的には、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基などが挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基などが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、アリール基、アラルキル基などが挙げられ、具体的には、フェニル、トリル、ナフチル、ベンジル、フェニルエチルなどが挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などが挙げられる。ここで、Ｒ８９およびＲ９０が結合している炭素原子と、Ｒ９３が結合している炭素原子またはＲ９１が結合している炭素原子とは、直接または炭素原子数１〜３のアルキレン基を介して結合していてもよい。すなわち、上記二個の炭素原子がアルキレン基を介して結合している場合には、Ｒ８９とＲ９３とが、または、Ｒ９０とＲ９１とが互いに共同して、メチレン基（−ＣＨ２−）、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）またはプロピレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）の内のいずれかのアルキレン基を形成している。
【００６０】
さらに、ｙ＝ｚ＝０のとき、Ｒ９５とＲ９２またはＲ９５とＲ９９とは互いに結合して単環または多環の芳香族環を形成していてもよい。具体的には、ｙ＝ｚ＝０のとき、Ｒ９５とＲ９２とにより形成される以下のような芳香族環が挙げられる。単環よりも多環のほうが少ない含有量で高いガラス転移温度（Ｔｇ）の共重合体を得られるので、耐熱性の面から多環が好ましい。また、少ない環状オレフィン仕込み量で製造できる利点がある。
【００６１】
【化８】
2013005429.tif 000013
ｌは上記一般式（５）におけるｄと同じである。
一般式（６）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、以下の構造を有するものである。
【００６２】
【化９】
2013005429.tif 000014
一般式（６）中、Ｒ１００とＲ１０１は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数１〜５の炭化水素基であり、またｆは１≦ｆ≦１８の整数である。炭素原子数１〜５の炭化水素基としては好ましくはアルキル基、ハロゲン化アルキル基またはシクロアルキル基などを挙げることができる。これらの具体例は上記式（４）のＲ６１〜Ｒ７８の具体例から明らかである。
【００６３】
上記のような一般式（４）、（５）または（６）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）として、具体的には、ビシクロ−２−ヘプテン誘導体（ビシクロヘプト−２−エン誘導体）、トリシクロ−３−デセン誘導体、トリシクロ−３−ウンデセン誘導体、テトラシクロ−３−ドデセン誘導体、ペンタシクロ−４−ペンタデセン誘導体、ペンタシクロペンタデカジエン誘導体、ペンタシクロ−３−ペンタデセン誘導体、ペンタシクロ−４−ヘキサデセン誘導体、ペンタシクロ−３−ヘキサデセン誘導体、ヘキサシクロ−４−ヘプタデセン誘導体、ヘプタシクロ−５−エイコセン誘導体、ヘプタシクロ−４−エイコセン誘導体、ヘプタシクロ−５−ヘンエイコセン誘導体、オクタシクロ−５−ドコセン誘導体、ノナシクロ−５−ペンタコセン誘導体、ノナシクロ−６−ヘキサコセン誘導体、シクロペンタジエン−アセナフチレン付加物の誘導体、１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン誘導体、１，４−メタノ−１，４，４ａ，５，１０，１０ａ−ヘキサヒドロアントラセン誘導体、炭素原子数３〜２０のシクロアルキレン誘導体などが挙げられる。
【００６４】
また、上記の一般式（４）、（５）または（６）で表わされる環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）の中で、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン誘導体およびヘキサシクロ［６．６．１．１３，６．１１０，１３．０２，７．０９，１４］−４−ヘプタデセン誘導体が好ましく、特にテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンが好ましい。
【００６５】
上記のような一般式（４）または（５）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、シクロペンタジエンと対応する構造を有するオレフィン類とをディールス・アルダー反応させることによって製造することができる。これらの一般式（４）、（５）または（６）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、２種以上含まれていてもよい。また、上記モノマーを用いて重合したものは必要に応じて変性することができ、その場合にモノマー由来の構造単位の構造を変化させることができる。例えば、水素添加処理によって、条件によりモノマー由来の構造単位中のベンゼン環などをシクロヘキシル環とすることができる。
【００６６】
本実施形態において、「（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体」としては、エチレンと、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンとからなる共重合体であることが好ましい。
また、共重合のタイプは本実施形態において全く制限されるものではなく、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、交互共重合など、公知の様々な共重合タイプを適用することができるが、好ましくはランダムコポリマーである。
【００６７】
［（ii）開環重合体またはその水素添加物］
（ii）開環重合体またはその水素添加物とは、上記一般式（１）における好ましい例として挙げた構造のうち、上記例示構造（ｂ）で表わされる構成単位を含む環式オレフィン重合体である。
【００６８】
また、環式オレフィン重合体は、極性基を有するものであってもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基などが挙げられる。
環式オレフィン重合体は、通常、環式オレフィンを重合することによって、具体的には、脂環式オレフィンを開環重合することによって得られる。また、極性基を有する環式オレフィン重合体は、例えば、上記環式オレフィン重合体に極性基を有する化合物を変性反応により導入することによって、あるいは極性基を含有する単量体を共重合成分として共重合することによって得られる。
【００６９】
環式オレフィン重合体を得るために使用される脂環式オレフィンとして具体的には、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、５−メチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５，５−ジメチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−エチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ブチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ヘキシル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−オクチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−オクタデシル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−エチリデン−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−メチリデン−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ビニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−プロペニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−メトキシ−カルビニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−シアノ−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−メチル−５−メトキシカルボニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−エトキシカルボニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−５−エニル−２−メチルプロピオネイト、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−５−エニル−２−メチルオクタネイト、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン酸無水物、５−ヒドロキシメチルビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−ｉ−プロピルビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシ−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン酸イミド、５−シクロペンチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−シクロヘキセニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−フェニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、トリシクロ〔４．３．０．１２，５〕デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、トリシクロ〔４．３．０．１２，５〕デカ−３−エン、トリシクロ〔４．４．０．１２，５〕ウンデカ−３，７−ジエン、トリシクロ〔４．４．０．１２，５〕ウンデカ−３，８−ジエン、トリシクロ〔４．４．０．１２，５〕ウンデカ−３−エン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕−トリデカ−２，４，６−１１−テトラエン（別名：１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ〔８．４．０．１１１，１４．０３，８〕−テトラデカ−３，５，７，１２−１１−テトラエン（別名：１，４−メタノ−１，４，４ａ，５，１０，１０ａ−ヘキサヒドロアントラセン）、テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、８−メチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−エチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−メチリデン−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−エチリデン−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−ビニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−プロペニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−メトキシカルボニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−メチル−８−メトキシカルボニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−ヒドロキシメチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−カルボキシ−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−シクロペンチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−シクロヘキシル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−シクロヘキセニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−フェニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、ペンタシクロ〔６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３〕−ペンタデカ−３，１０−ジエン、ペンタシクロ〔７．４．０．１３，６．１１０，１３．０２，７〕−ペンタデカ−４，１１−ジエンなどのノルボルネン系単量体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテンのごとき単環のシクロアルケン；ビニルシクロヘキセンやビニルシクロヘキサンなどのビニル脂環式炭化水素系単量体；シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの脂環式共役ジエン系単量体；などが挙げられる。脂環式オレフィンは、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７０】
なお、共重合可能な単量体を必要に応じて共重合させることができる。その具体例としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル−１−ヘキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどの炭素数２〜２０のエチレンまたはα−オレフィン；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデンなどのシクロオレフィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどの非共役ジエン；などが挙げられる。これらの単量体は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
脂環式オレフィンの重合方法は、格別な制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。これらの開環重合物は、耐熱性、安定性、光学物性の面から、水素添加して用いることが好ましい。水素添加方法は公知の方法を用いることができる。
【００７１】
［（iii）ポリスチレン誘導体またはその水素添加物］
（iii）ポリスチレン誘導体またはその水素添加物とは、ビニル化合物を単量体として用いて得られる（共）重合体またはその水素添加物であり、上記一般式（１）における好ましい例として挙げた構造のうち、上記例示構造（ｃ）で表わされる構造単位を含む環状オレフィン系重合体である。ビニル化合物としては、ビニル芳香族化合物、ビニル脂環式炭化水素化合物などを挙げることができる。
【００７２】
ビニル芳香族化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−プロピルスチレン、α−イソプロピルスチレン、α−ｔ−ブチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジイソプロピルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、５−ｔ−ブチル−２−メチルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、モノフルオロスチレン、４−フェニルスチレンなどのスチレン類などを挙げることができる。
ビニル脂環式炭化水素化合物としては、ビニルシクロヘキサン、３−メチルイソプロペニルシクロヘキサンなどのビニルシクロヘキサン類；４−ビニルシクロヘキセン、４−イソプロペニルシクロヘキセン、１−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、１−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセン、２−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセンなどのビニルシクロヘキセン類などを挙げることができる。
【００７３】
本実施形態においては、前述の単量体と共重合可能な他の単量体を共重合させてもよい。共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、イソブテン、２−メチル−１−ブテン、２−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテンなどのα−オレフィン系単量体；シクロペンタジエン、１−メチルシクロペンタジエン、２−メチルシクロペンタジエン、２−エチルシクロペンタジエン、５−メチルシクロペンタジエン、５，５−ジメチルシクロペンタジエン、ジシクロペンタジエンなどのシクロペンタジエン系単量体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのモノ環状オレフィン系単量体；ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、フラン、チオフェン、１，３−シクロヘキサジエンなどの共役ジエン系単量体；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリルなどのニトリル系単量体；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、などの（メタ）アクリル酸エステル系単量体；アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などの不飽和脂肪酸系単量体；フェニルマレイミド；メチルビニルエーテル；Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどの複素環含有ビニル化合物系単量体などが挙げられる。
【００７４】
重合に用いる上記単量体の混合物は、耐熱性、低複屈折性、機械強度などの観点から、ビニル芳香族化合物および／またはビニル脂環式炭化水素化合物を、通常、５０質量％以上、好ましくは７０〜１００質量％、より好ましくは８０〜１００質量％含有するものが好ましい。単量体混合物は、ビニル芳香族化合物およびビニル脂環式炭化水素化合物の双方を含有していても構わない。
ビニル芳香族化合物およびビニル脂環式炭化水素化合物の重合方法には格別な制限はなく、公知の方法に従って行なうことができる。また得られる重合体は、必要に応じて水素添加して用いることができ、水素添加の方法は公知の方法を用いることができる。
【００７５】
［（iv）その他の重合体］
（iv）その他の重合体としては、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体とビニル化合物（エチレンや、α−オレフィンなど）との付加重合体、単環シクロアルケンの重合体、脂環式共役ジエン系単量体の重合体、ビニル脂環式炭化水素系単量体の重合体、芳香族オレフィン重合体などが挙げられるが、上記（i）〜（iii）に含まれない構造であっても、一般式（１）の範囲内において、任意に選択可能である。例えば、上記、（ｉ）〜（iii）相互、あるいは、公知の共重合可能なモノマーを共重合せしめたものが挙げられる。
【００７６】
上記（ｉ）〜（iv）で大別される４種のポリマーの中でも、光学特性上好ましいものは（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンとシクロオレフィンとの共重合体であり、エチレンとテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］-３-ドデセンのランダム付加重合によって得られるポリマーであることが全ての中で最も好ましい。本実施形態のこのような構造の範囲であると、本実施形態のポリマーの優れた特徴である成形時の歪みに起因する光学異方性が小さく、この結果、光学性能の悪化を招かない。すなわち光学異方性の小さいプラスチックであって、かつ、低吸水率、耐熱性、耐薬品性に優れるなどの性能が得られる。
【００７７】
（主鎖の一部として用いることのできるその他の構造）
また、本実施形態で用いられるポリマーは、本実施形態の成形方法によって得られる製品の良好な物性を損なわない範囲で、必要に応じて他の共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し構造単位を有していてもよい。その共重合比は限定されないが、好ましくは２０モル％以下であり、さらに好ましくは１０モル％以下であり、それ以上共重合させた場合、光学物性を損ない、高精度の光学部品が得られない恐れがある。また、共重合の種類は限定されないが、ランダムコポリマーが好ましい。
【００７８】
（ポリマーの分子量）
本実施形態の成形材料に用いられるポリマーの分子量は限定されるものではないが、１３５℃のデカリン中で測定される極限粘度［η］が、好ましくは０．０３ｄｌ／ｇ〜１０ｄｌ／ｇ、より好ましくは０．０５ｄｌ／ｇ〜５ｄｌ／ｇ、最も好ましくは０．１０ｄｌ／ｇ〜２ｄｌ／ｇを示す分子量である。
【００７９】
分子量が上記下限値以上であると、成形体の機械的強度を向上させることができる。また、分子量が上記上限値以下であると、成形性を向上させることができる。
【００８０】
（フェノール系安定剤）
本実施形態で用いられるフェノール系安定剤としては、構造中にフェノール骨格を有する安定剤が挙げられる。通常構造中に３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル基、２，４−ジメチル−３−ヒドロキシフェニル基、３−メチル−２−ヒドロキシフェニル基、あるいはその誘導体からなる基、例えば、
【００８１】
【化１０】
2013005429.tif 000015
などの特性基を含む。
【００８２】
具体例としては、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス［メチレン−３−（３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンなどや、市販品として販売されているアデカスタブＡＯ−２０、アデカスタブＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−８０、アデカスタブＡＯ−３３０（以上４種類、旭電気化学工業製）やイルガノックス１０１０（チバ・ガイギー社製）などのヒンダードフェノール系酸化防止剤などが挙げられる。また、その他に、通常はリン系安定剤に分類されるような、一分子内に燐酸エステル構造およびフェノール構造を有する酸化防止剤、例えば、６−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピンなども包含される。
【００８３】
また、フェノール系安定剤の融点範囲（Ｔｍ１（下限、単位；℃）〜Ｔｍ２（上限、単位；℃））は公知の方法で測定することができる。例えば、試料をキャピラリーに２〜３ｍｍ程度の厚さに採取し、浴液中で加熱した時の融けはじめの温度がＴｍ１（下限、単位；℃）、融け終わりの温度がＴｍ２（上限、単位；℃）となる。融点範囲は限定されないが、融点の下限（Ｔｍ１）は好ましくは５０℃以上、より好ましくは１００℃以上であり、融点の上限（Ｔｍ２）は好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１４０℃以下である。また融点の幅（Ｔｍ２−Ｔｍ１）は、好ましくは２０℃以下、より好ましくは１０℃以下である。
融点および融点幅がこの範囲にあると、成形前の乾燥操作などの取り扱いにより表面に付着したフェノール系安定剤が溶融して脱落することが防げ、かつ成形機内へフィードした際に樹脂の溶融に先立って溶融するため成型機内で均一に分散され、均一な成形体を得ることができる。
【００８４】
（高級脂肪酸金属塩）
本実施形態で用いられる高級脂肪酸金属塩としては、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸アルミニウム、またそれらの複合体などが挙げられる。特に、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムが好ましい。
【００８５】
（酸化防止剤）
本実施形態で用いられる酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤や、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤などが挙げられる。
【００８６】
本実施形態で用いられるフェノール系酸化防止剤としては、従来公知のものが使用できる。例えば、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−（１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニルアクリレートなどの特開昭６３−１７９９５３号公報や特開平１−１６８６４３号公報に記載されるアクリレート系フェノール化合物；２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２'−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４'−ブチリデン−ビス（６−ｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メタン、３，９−ビス（２−（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ）−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス（メチレン−３−（３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニルプロピオネート）メタン［すなわち、ペンタエリスリメチル−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート）］、トリエチレングリコールビス（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート）、トコフェノールなどのアルキル置換フェノール系化合物；６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、６−（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−ｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、２−オクチルチオ−４，６−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−オキシアニリノ）−１，３，５−トリアジンなどのトリアジン基含有フェノール系化合物；などが挙げられる。これらの中でも、アクリレート系フェノール化合物やアルキル置換フェノール系化合物が好ましく、アルキル置換フェノール系化合物が特に好ましい。
【００８７】
本実施形態で用いられるリン系酸化防止剤としては、一般の樹脂工業で通常使用される物であれば格別な限定はなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、トリス（シクロヘキシルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−デシロキシ−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレンなどのモノホスファイト系化合物；４，４'−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４'−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）、４，４'−イソプロピリデン−ビス（ジフェニルモノアルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ジ−トリデシルホスファイト−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４'−ビフェニレンジホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（イソデシルホスファイト）、サイクリックネオペンタンテトライルビス（ノニルフェニルホスファイト）、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニルホスファイト）、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジメチルフェニルホスファイト）、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニルホスファイト）などのジホスファイト系化合物などが挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどが特に好ましい。
【００８８】
本実施形態で用いられるイオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３'−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙げられる。
【００８９】
本実施形態で用いられるチオエーテル系酸化防止剤としては、例えば、テトラキス｛メチレン−３−（ラウリルチオ）プロピオネート｝メタン、ビス〔メチル−４−｛３−ｎ−アルキル（Ｃ１２  ｏｒ  Ｃ１４）チオプロピオニオジル｝−５−ｔ−ブチルフェニル〕スルフィド、ジトリデシル−３，３'−チオジプロピオネートなどが挙げられる。
【００９０】
（紫外線吸収剤）
本実施形態で用いられる紫外線吸収剤としては、樹脂工業で一般的に使用されるものであれば格別な限定がなく用いることができる。例えば、ベンゾフェノン系、サリチル酸系、ベンゾトリアゾール系、アクリレート系、金属錯塩系などの紫外線吸収剤を挙げることができる。
【００９１】
本実施形態で用いられるベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸３水和物、２−ヒドロキシ−４−オクチロキシベンゾフェノン、４−ドデカロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００９２】
本実施形態で用いられるサリチル酸系紫外線吸収剤としては、例えば、フェニルサルチレート，４−ｔ−ブチルフェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、フェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートなどが挙げられる。
【００９３】
本実施形態で用いられるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタリミジルメチル）フェノール、２，２'−メチレンビス［４−（１，１，３，３，−テトラメチルブチル）−６−［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］］などが挙げられる。
【００９４】
本実施形態で用いられるアクリレート系紫外線吸収剤としては、例えば、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２'−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートなどが挙げられる。
【００９５】
本実施形態で用いられる金属錯塩系紫外線吸収剤としては、通常ニッケルやコバルトの錯塩が用いられる。具体的には、ニッケル［２，２'チオビス（４−ｔ−オクチル）フェノレート］ノルマルブチルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルビス［ｏ−エチル−３，５−（ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）］ホスフェート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェート、［１−フェニル，３−メチル，４−デカノニル，ピラゾレート（５）２］ニッケルなどが挙げられる。
【００９６】
（ヒンダードアミン系光安定剤）
本実施形態で用いられるヒンダードアミン系光安定剤としては、通常構造中に、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基、ならびに２，２，６，６−テトラメチルピペリジル基または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基を有している化合物である。具体的には、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ' −ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６，−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ' −ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ' −ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物、２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン−Ｎ−オキシル、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシルピペリジン）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシピペリジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−（トリス（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシルピペリジル−４−オキシカルボニル）ブチルカルボニルオキシ）エチル）２，４，６，１０−テトラオキサロスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／ジブロモエタン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとトリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールとトリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（例えば、サノールＬＳ−２６２６、三共社製））、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸−ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）（例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４、日本チバガイギー社製）、ビス(２，２'，６，６'−テトラメチル−４−ピペリジル)セバケート（例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ７７０、日本チバガイギー社製）、ポリ［６− （１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］（例えば、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４、日本チバガイギー社製）などが挙げられる。
【００９７】
（塩酸吸収剤）
本実施形態で用いられる塩酸吸収剤としては、高級脂肪酸金属塩がある。具体的には、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸アルミニウム、１２−ヒドロキシステアリン酸ナトリウム、１２−ヒドロキシステアリン酸カルシウム、１２−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、１２−ヒドロキシステアリン酸亜鉛などがある。また、エポキシ化ステアリン酸オクチル、エポキシ化大豆油などのエポキシ系化合物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、ハイドロタルナイトなどの無機化合物などが挙げられる。
【００９８】
（金属不活性化剤）
本実施形態で用いられる金属不活性化剤としては、Ｎ，Ｎ'−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ'−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ'−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ'−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ'−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ'−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジドなどが挙げられる。
【００９９】
（帯電防止剤，防曇剤）
本実施形態で用いられる帯電防止剤，防曇剤としては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤などが挙げられる。
【０１００】
本実施形態で用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライドなどのテトラアルキルアンモニウム塩などが挙げられる。
【０１０１】
アニオン系界面活性剤としては、デカンスルホン酸ナトリウム、インデカンスルホン酸ナトリウム、ドデカンスルホン酸ナトリウム、トリデンカンスルホン酸ナトリウム、テトラデカンスルホン酸ナトリウム、ペンタデンカンスルホン酸ナトリウム、ヘキサデカンスルホン酸ナトリウム、ヘプタデンカンスルホン酸ナトリウム、オクタデカンスルホン酸ナトリウム、ノナデカンスルホン酸ナトリウム、ヘエイコサンスルホン酸ナトリウム、デカンスルホン酸カリウム、ウンデカンスルホン酸カリウム、ドデカンスルホン酸カリウム、トリデカンスルホン酸カリウム、テトラデカンスルホン酸カリウム、ペンタデカンスルホン酸カリウム、ヘキサデカンスルホン酸カリウム、ヘプタデカンスルホン酸カリウム、オクタデカンスルホン酸カリウム、ノナデカンスルホン酸カリウム、ヘエイコサンデカスルホン酸カリウムなどのアルキルスルホン酸塩、デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ウンデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、トリデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、テトラデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ペンタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヘプタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、オクタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルホスフェートなどが挙げられる。
【０１０２】
本実施形態で用いられる両性界面活性剤としては、特に限定されないが、ラウリルベタイン、ステアリルベタイン、ラウリルアミドプロピルベタイン、ステアリルアミドプロピルベタインなどのベタイン化合物、ラウリルジメチルアミンオキサイド、ステアリルジメチルアミンオキサイドジメチルアミンオキサイド化合物、Ｎ-ステアリル-α-アラニナート、Ｎ-ラウリル-α-アラニナートなどのアラニン化合物などが挙げられる。
【０１０３】
本実施形態で用いられるノニオン性界面活性剤としては、特に限定されないが、ラウリン酸モノグリセライド、パルミチン酸モノグリセライド、ステアリン酸モノグリセライド、オレイン酸モノグリセライド、ベヘニン酸モノグリセライド、カプリル酸モノグリセライド、ヤシ脂肪酸モノグリセライド、ラウリン酸ジグリセライド、パルミチン酸ジグリセライド、ステアリン酸ジグリセライド、オレイン酸ジグリセライド、ベヘニン酸ジグリセライド、カプリル酸ジグリセライド、ヤシ脂肪酸ジグリセライド、ラウリン酸トリグリセライド、パルミチン酸トリグリセライド、ステアリン酸トリグリセライド、オレイン酸トリグリセライド、ベヘニン酸トリグリセライド、カプリル酸トリグリセライド、ヤシ脂肪酸トリグリセライド、ペンタエリスリトールモノラウレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジラウレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトララウレートなどのペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールモノラウレート、ソルビトールモノステアレート、ソルビトールの脂肪酸エステルポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコールモノオレート、ポリエチレングリコールジステアレートなどのポリエチレングリコール脂肪酸エステルなどの多価アルコールの脂肪酸エステル、ラウリン酸ジエタノールアミド、ステアリン酸ジエタノールアミド、ヤシ脂肪酸ジエタノールアミドなどのジエタノールアミド類などが挙げられる。
【０１０４】
（滑剤，スリップ剤）
本実施形態で用いられる滑剤、スリップ剤としては、例えば、ワックス類、油剤、カプリン類、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸などの高級脂肪酸類またはこれらの金属塩類、すなわちリチウム塩、カルシウム塩、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩など、パルミチルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコールなとの脂肪族アルコール類、カプロン酸アミド、カプリル酸アミド、カプリン酸アミド、ラウリル酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミドなどの脂肪族アミド類、脂肪酸とアルコールとのエステル類、フルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、フルオロアルキルスルホン酸金属塩などのフッ素化合物類などが挙げられる。
【０１０５】
本実施形態で用いられるワックス類の例としては、モンタンワックス、ピートワックス、オゾケライト・セレシンワックス、石油ワックスなどの鉱物性ワックス、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックスなどのポリオレフィンワックス、Ｆｉｓｃｈｅｒ−Ｔｒｏｐｓｃｈワックス、化学修飾炭化水素ワックス、置換アミドワックスなどの合成ワックス、植物ろう、動物ろうなどが挙げられる。
【０１０６】
本実施形態で用いられる油剤の例としては、芳香族系油、ナフテン系油、パラフィン系油の鉱物油、植物油、シリコンオイルなどの天然および合成油などが挙げられる。シリコンオイルは粘度１０〜５０００ｃＳｔ、好ましくは５００ｃＳｔのジメチルポリシロキサンを使用することができる。
【０１０７】
（核剤）
本実施形態で用いられる核剤としては、例えば、ナトリウム−２，２'−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフェート、［リン酸−２，２'−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）］  ジヒドロオキシアルミニウム、ビス［リン酸−２，２'−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）］ヒドロオキシアルミニウム、トリス［リン酸−２，２'−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）］アルミニウム、ナトリウム−ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフェート、安息香酸ナトリウムなどの安息香酸金属塩、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸アルミニウム、１，３：２，４−ビス（Ｏ−ベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ビス（Ｏ−メチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ビス（Ｏ−エチルベンジリデン）ソルビトール、１，３−Ｏ−３，４−ジメチルベンジリデン−２，４−Ｏ−ベンジリデンソルビトール、１，３−Ｏ−ベンジリデン−２，４−Ｏ−３，４−ジメチルベンジリデンソルビトール、１，３：２，４−ビス（Ｏ−３，４−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３−Ｏ−ｐ−クロロベンジリデン−２，４−Ｏ−３，４−ジメチルベンジリデンソルビトール、１，３−Ｏ−３，４−ジメチルベンジリデン−２，４−Ｏ−ｐ−クロロベンジリデンソルビトール、１，３：２，４−ビス（Ｏ−ｐ−クロロベンジリデン）ソルビトール、およびこれらの混合物などが挙げられる。
【０１０８】
（可塑剤）
本実施形態で用いられる可塑剤としては、例えば、トリクレジルフォスフェート、トリキシリルフォスフェート、トリフェニルフォスフェート、トリエチルフェニルフォスフェート、ジフェニルクレジルフォスフェート、モノフェニルジクレジルフォスフェート、ジクレジルモノキシレニルフォスフェート、アリールアルキルフォスフェート、ジフェニルモノキシレニルフォスフェート、モルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリス（イソプロピルフェニル）フォスフェートなどのリン酸トリエステル系可塑剤；フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸オクチルデシル、フタル酸ブチルベンジルなどのフタル酸エステル系可塑剤；オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステルなどの脂肪酸一塩基酸エステル系可塑剤；アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−ｎ−脂肪酸二塩基酸エステル系可塑剤；二価アルコールエステル系可塑剤；オキシ酸エステル系可塑剤などが挙げられる。
【０１０９】
（難燃剤）
本実施形態で用いられる難燃剤としては、ハロゲン系難燃剤、リン系難燃剤を使用することができる。
【０１１０】
本実施形態で用いられるハロゲン系難燃剤としては、塩素系および臭素系の種々の難燃剤が使用可能であるが、難燃化効果、成形時の耐熱性、樹脂への分散性、樹脂の物性への影響などの面から、ヘキサブロモベンゼン、ペンタブロモエチルベンゼン、ヘキサブロモビフェニル、デカブロモジフェニル、ヘキサブロモジフェニルオキサイド、オクタブロモジフェニルオキサイド、デカブロモジフェニルオキサイド、ペンタブロモシクロヘキサン、テトラブロモビスフェノールＡ、およびその誘導体［例えば、テトラブロモビスフェノールＡ−ビス（ヒドロキシエチルエーテル）、テトラブロモビスフェノールＡ−ビス（２，３−ジブロモプロピルエーテル）、テトラブロモビスフェノールＡ−ビス（ブロモエチルエーテル）、テトラブロモビスフェノールＡ−ビス（アリルエーテル）など］、テトラブロモビスフェノールＳ、およびその誘導体［例えば、テトラブロモビスフェノールＳ−ビス（ヒドロキシエチルエーテル）、テトラブロモビスフェノールＳ−ビス（２，３−ジブロモプロピルエーテル）など］、テトラブロモ無水フタル酸、およびその誘導体［例えば、テトラブロモフタルイミド、エチレンビステトラブロモフタルイミドなど］、エチレンビス（５，６−ジブロモノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）、トリス−（２，３−ジブロモプロピル−１）−イソシアヌレート、ヘキサクロロシクロペンタジエンのディールス・アルダー反応の付加物、トリブロモフェニルグリシジルエーテル、トリブロモフェニルアクリレート、エチレンビストリブロモフェニルエーテル、エチレンビスペンタブロモフェニルエーテル、テトラデカブロモジフェノキシベンゼン、臭素化ポリスチレン、臭素化ポリフェニレンオキサイド、臭素化エポキシ樹脂、臭素化ポリカーボネート、ポリペンタブロモベンジルアクリレート、オクタブロモナフタレン、ヘキサブロモシクロドデカン、ビス（トリブロモフェニル）フマルアミド、Ｎ−メチルヘキサブロモジフェニルアミンなどを使用するのが好ましい。
【０１１１】
本実施形態で用いられるリン系難燃剤としては、トリス（クロロエチル）ホスフェート、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（２−クロロプロピル）ホスフェート、トリス（２，３−ブロモプロピル）ホスフェート、トリス（ブロモクロロプロピル）ホスフェート、２，３−ジブロモプロピル−２，３−クロロプロピルホスフェート、トリス（トリブロモフェニル）ホスフェート、トリス（ジブロモフェニル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェートなどの含ハロゲン系リン酸エステル難燃剤；トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェートなどの脂肪族リン酸エステル；トリフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ジクレジルフェニルホスフェート、トリクレジルフホスフェート、トリキシレニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、トリ（イソプロピルフェニル）ホスフェート、イソプロピルフェニルジフェニルホスフェート、ジイソプロピルフェニルフェニルホスフェート、トリ（トリメチルフェニル）ホスフェート、トリ（ｔ―ブチルフェニル）ホスフェート、ヒドロキシフェニルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェートなどの芳香族リン酸エステルなどのノンハロゲン系リン酸エステル難燃剤などが挙げられる。
【０１１２】
（リン系安定剤）
本実施形態で用いられるリン系安定剤としては、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４'−ビフェニレンジフォスフォナイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、２，２'−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２'−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フルオロフォスフォナイト、トリス（モノノニルフェニル）ホスファイト、トリス［２−［［２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェフィン−６−イル］オキシ］エチル］アミンなどが挙げられる。また、一分子内に燐酸エステル構造とフェノール構造とを有するものとして、例えば、６−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピンなどが例示される。
【０１１３】
本実施形態で用いられるこれらの安定剤は、成形時に発泡したり、高温での成形体表面から揮散したりすることなどを防止するため、２０℃における蒸気圧が１０-6Ｐａ以下のものが好ましい。
上記の具体的に例示されたフェノール系安定剤、リン系安定剤はいずれも蒸気圧が１０-6Ｐａ以下のものが好ましい。
【０１１４】
本実施形態で用いられるこれらのフェノール系安定剤、高級脂肪酸金属塩、酸化防止剤，紫外線吸収剤，ヒンダードアミン系光安定剤，塩酸吸収剤，金属不活性化剤，帯電防止剤，防曇剤，滑剤，スリップ剤，核剤，可塑剤，難燃剤、リン系安定剤は、成形時に発泡したり、高温での成形体表面から揮散したりすることなどを防止するため、２０℃における蒸気圧が１０-6Ｐａ以下のものが好ましい。上記の具体的に例示されたフェノール系安定剤、リン系安定剤はいずれも蒸気圧が１０-6Ｐａ以下のものが好ましい。
【０１１５】
（樹脂組成物）
本実施形態の成形材料を製造する際に用いられる樹脂組成物は、上記ポリマー１００質量部に対して、ヒンダードアミン系光安定剤が好ましくは０．２５質量部〜１０質量部、より好ましくは０．３質量部〜５質量部、さらに好ましくは０．５質量部〜３質量部、フェノール系安定剤が好ましくは０．０１質量部〜５０質量部、より好ましくは０．０４質量部〜２０質量部、高級脂肪酸金属塩が好ましくは０．０１質量部〜５０質量部、より好ましくは０．０４質量部〜２０質量部、およびリン系安定剤が好ましくは０．０１質量部〜５質量部、より好ましくは０．０２質量部〜２質量部、さらに好ましくは０．０５質量部〜１質量部配合したものであることが望ましい。
ヒンダードアミン系光安定剤が少なすぎると耐光性、耐候性、耐熱性などが不足し、多すぎるとブリードして外観不良の原因となる場合がある。フェノール系安定剤が少なすぎると、やはり耐候性、耐熱性などが不足し、多すぎると着色してしまう場合がある。高級脂肪酸金属塩が多すぎると着色もしくは濁りが生じてしまう場合がある。リン系安定剤が少なすぎると組成物が白濁して透明性が不足し、多すぎるとブリードにより成形体の外観が悪化するという問題を生じる場合がある。つまり、これらの安定剤の配合量が、各々の数値範囲内にあると、上記の特性のバランスに優れる。
【０１１６】
上記ポリマーにフェノール系安定剤、高級脂肪酸金属塩、ヒンダードアミン系光安定剤、リン系安定剤、さらに目的に応じて下記の添加剤を配合する方法は特に限定されない。ポリマーと混練してもよいし、ポリマー溶液にこれらを配合して溶媒を除去したり、貧溶媒中で析出させたりしてもよい。
【０１１７】
（その他の添加剤）
目的に応じて本実施形態の成形材料には、本発明の効果を阻害しない範囲で、これらのほかに、各種添加剤を添加してもよい。例えば、紫外線防止剤；アミン系などの帯電防止剤；脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールの部分エステルおよび部分エーテルなどの滑剤；などの各種添加剤を添加してもよい。また、用途に応じて本実施形態の水素添加物の特性を失わない範囲で、エチレン系重合体などの樹脂やゴム質重合体を添加してもよい。
【０１１８】
本実施形態においては、紫外線吸収剤を併用することが好ましく、特にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤および／またはベンゾフェノン系紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
【０１１９】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、具体的には、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル、２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチル−フェニル）−５−クロロ・ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−５−クロロ・ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−４'−ｎ−オクトキシ・フェニル）ベンゾトリアゾールなどや、市販されているＴｉｎｕｖｉｎ ３２８、ＴｉｎｕｖｉｎＰＳ（共に、日本チバガイギー社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ７０９（２−（２'−ヒドロキシ−５'−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、白石カルシウム社製）などのベンゾトリアゾール誘導体などが例示される。
【０１２０】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、具体的には、２，４−ジヒドロキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ・ベンゾフェノン、２，２'−ジヒドロキシ−４−メトキシ・ベンゾフェノン、２，２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシ・ベンゾフェノン、２，２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシ−５−スルフォベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２'−カルボキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルフォベンゾフェノン・トリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシロキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジロキシベンゾフェノン、２，２'，４，４'−テトラヒドロキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン、Ｕｖｉｎｕｌ４９０（２，２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシ・ベンゾフェノンと他の四置換ベンゾフェノンの混合物、ＧＡＦ社製）、ＰｅｒｍｙｌＢ−１００（ベンゾフェノン化合物、Ｆｅｒｒｏ社製）などが例示される。
【０１２１】
本実施形態のポリマー１００質量部に対して、紫外線吸収剤を好ましくは０．００５質量部以上、より好ましくは０．０１質量部以上、特に好ましくは０．０２質量部以上、かつ好ましくは１質量部以下、より好ましくは０．７質量部以下、特に好ましくは０．５質量部以下配合する。紫外線吸収剤が少なすぎると耐光性、耐候性などが不足する場合があり、多すぎると成形体が着色する場合がある。つまり、上記範囲にあると、耐光性および耐候性に優れ、成形体の着色が抑制される。
【０１２２】
また、例えば、滑材として、特開昭６３−２７３６６６号公報で公知のグリセリンモノステアレート、グリセリンモノラウレート、グリセリンジステアレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレートなどの多価アルコールを部分エステル化した構造を有する化合物；特開平３−３９４０３号公報で公知の３−（４−ノニルフェニルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（ベヘニルオキシ）−１，２−プロパンジオール、２，２−ビス〔４−（２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ）フェニル〕プロパンなどの多価アルコールを部分エーテル化した化合物；１２−ヒドロキシステアリン酸トリグリセリド、１２−ヒドロキシステアリン酸ステアリルアルコール、ペンタエリスリトール−テトラ−１２−ヒドロキシステアレート、エチレングリコール−ジ−１２−ヒドロキシステアレート、プロピレングリコール−ジ−１２−ヒドロキシステアレートなどのアルコール類の全てのＯＨ基がＯＨ基含有飽和脂肪酸とエステル結合した構造を有する化合物；１２−ヒドロキシステアリン酸モノグリセリドなどのアルコール類の一部のＯＨ基がＯＨ基含有飽和脂肪酸とエステル結合した構造を有する化合物などが例示される。
【０１２３】
（成形材料）
本実施形態の成形材料は、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品に用いられ、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーと添加剤とを含んでいる。このとき、上記添加剤の少なくとも一部は、上記ポリマーを含む粒子の表面に存在している。
【０１２４】
ここで、上記粒子の表面に存在している上記添加剤は、フェノール系安定剤、高級脂肪酸金属塩、酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、塩酸吸収剤、金属不活性化剤、帯電防止剤、防曇剤、滑剤、スリップ剤、核剤、可塑剤、難燃剤、リン系安定剤からなる群より選ばれる少なくとも１種以上であることが好ましく、フェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上であることがより好ましく、フェノール系安定剤であることがとくに好ましい。
【０１２５】
また、上記ポリマーを含む粒子は、通常はペレット形状である。
【０１２６】
本実施形態の成形材料を用いると、充分な光学性能を有しかつ、表面の凹みの発生が抑制され、外観品質に優れたｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品を得ることができる。さらに、本実施形態の成形材料においては、粒子表面に付着している安定剤が滑剤として働き、成形性が安定するため光学部品の大量生産に適している。
【０１２７】
また、本実施形態の成形材料においては、成形材料に含まれるポリマーを１００質量部とした場合に、上記粒子の表面に上記添加剤が０．０１質量部〜５０質量部、好ましくは０．０４質量部〜２０質量部の範囲で存在していることが好ましい。
【０１２８】
また、本実施形態の成形材料においては、成形材料の総量を１００質量部とした場合に、上記粒子の表面に上記添加剤が０．０１質量部〜５０質量部の範囲で存在していることが好ましい。
【０１２９】
本実施形態の成形材料は、ポリマー１００質量部に対し、ヒンダードアミン系光安定剤を好ましくは０．２５質量部〜１０質量部、より好ましくは０．３質量部〜５質量部、さらに好ましくは０．５質量部〜３質量部、フェノール系安定剤が好ましくは０．０１質量部〜５０質量部、より好ましくは０．０４質量部〜２０質量部、高級脂肪酸金属塩が好ましくは０．０１質量部〜５０質量部、より好ましくは０．０４質量部〜２０質量部、およびリン系安定剤は好ましくは０．０１質量部〜５質量部、より好ましくは０．０２質量部〜２質量部、さらに好ましくは０．０５質量部〜１質量部含有することが望ましい。なお、ヒンダードアミン系光安定剤とフェノール系安定剤とが共存する場合には、これらが反応して塩を形成することがあるが、上記数値範囲には塩の形成に用いられた各安定剤も含む。
【０１３０】
ヒンダードアミン系光安定剤が少なすぎると耐光性、耐候性、耐熱性などが不足し、多すぎるとブリードして外観不良の原因となる。フェノール系安定剤が少なすぎるとやはり耐候性、耐熱性などが不足し、多すぎると着色してしまう。高級脂肪酸金属塩が多すぎると着色もしくは濁りが生じてしまう。リン系安定剤が少なすぎると組成物が白濁して透明性が不足し、多すぎるとブリードにより成形体の外観が悪化するという問題を生じる。つまり、これらの安定剤の配合量が、各々の数値範囲内にあると、上記の特性のバランスに優れる。
【０１３１】
また、上記粒子の表面に存在している上記添加剤は、１３０℃における溶融粘度が好ましくは１００ｍＰａ・ｓ以上１００００ｍＰａ・ｓ以下であり、より好ましくは１５０ｍＰａ・ｓ以上１０００ｍＰａ・ｓ以下である。ここで、上記溶融粘度は、すりモード、窒素雰囲気下、せん断速度１００ｓｅｃ−１、１３０℃の条件で測定したときの値である。
【０１３２】
また、上記添加剤の平均粒子径ｄ５０は好ましくは１０００μｍ以下であり、より好ましくは５００μｍ以下であり、とくに好ましくは３００μｍ以下である。ここで、上記平均粒子径ｄ５０の測定方法は、添加剤の種類によって異なる。例えば、フェノール系安定剤の場合は、レーザー回折式粒度分布測定装置の湿式分散ユニットを用いて測定できる。また、ポリエチレンワックスの場合は、メッシュ法により平均粒子径ｄ５０を測定することができる。メッシュ法では、目開きを変えたメッシュを有するふるいを多段に重ねて各メッシュオンの粒子重量を測定して粒度分布を測定し、その中心値を平均粒子径とすることができる。
【０１３３】
また、本実施形態の成形材料は、上記ポリマーの相転移点温度から、上記粒子の表面に存在している上記添加剤の相転移点温度を差し引いた値が、好ましくは−１００℃以上１４０℃以下であり、より好ましくは０℃以上５０℃以下であり、とくに好ましくは１０℃以上３０℃以下である。ここで、上記相転移点温度は、物質によって異なるが、軟化温度、融点またはガラス転移温度を表す。
【０１３４】
（成形材料の製造方法）
本実施形態の成形材料の製造方法は、上記粒子の表面に上記添加剤を付着させる工程、または上記粒子の表面に上記添加剤を付着後、上記添加剤を上記粒子に融着させる工程と、を含むものである。
【０１３５】
繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーを含む粒子は、上記添加剤を含む上述の樹脂組成物を、ヘンシェルミキサーなどで混合後、押出機などで造粒して、例えば、ペレット形状で得られる。
【０１３６】
上記ペレット形状の粒子（以下、単にペレットとも呼ぶことがある。）の表面に、上記添加剤を付着させる方法は特に限定されるものではない。粒子表面に、上記添加剤がアンカー効果、表面張力、静電力などにより保持されていればよい。
さらに、上記添加剤を粒子表面に融着させることが好ましい。上記添加剤が常温で固体の場合、上記添加剤を粒子表面に融着させるには、上記添加剤が付着したペレットを加熱することにより行う。具体的には、上記添加剤が表面に付着した粒子を（Ｔｍ１−２０）℃以上（Ｔｍ２＋２０）℃以下で加熱することにより行う。これにより、粒子表面に付着した上記添加剤の脱落を防止することができる。ここで、Ｔｍ１およびＴｍ２は上記添加剤の融点の下限および上限の温度をそれぞれ示す。
【０１３７】
以下、成形材料の製造方法について、詳細に説明する。
本実施形態の成形材料は、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品に用いられる、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーと添加剤とを含んでいる。また、上記添加剤の少なくとも一部が、上記ポリマーを含む粒子の表面に存在している。
【０１３８】
本実施形態の成形材料は、好ましくは下記［１］のペレット表面に、［２］のパウダーを付着して得られる。
［１］一般式（１）で表される重合体から選ばれるポリマー１００質量部に対し、ヒンダードアミン系光安定剤を０．２５質量部〜１０質量部、リン系安定剤を０．０１質量部〜５質量部含有する樹脂組成物からなるペレット。
［２］フェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤を含むパウダー（ヒンダードアミン系光安定剤を含まない。）。
【０１３９】
ここで上記［１］のペレットは一般式（１）で表される重合体から選ばれるポリマー１００質量部に対し、ヒンダードアミン系光安定剤を０．２５質量部〜１０質量部、好ましくは０．３質量部〜５質量部、より好ましくは０．５質量部〜３質量部および、リン系安定剤を０．０１質量部〜５質量部、好ましくは０．０２質量部〜２質量部、より好ましくは０．０５質量部〜１質量部含有する樹脂組成物からなることが望ましい。ペレットは上記の樹脂組成物をヘンシェルミキサーなどで混合後、押出機などで造粒して得られる。
【０１４０】
本実施形態の成形材料を製造するには、好ましくは、まず一般式（１）で表される重合体から選ばれるポリマー１００質量部に対し、ヒンダードアミン系光安定剤を０．２５質量部〜１０質量部および、リン系安定剤を０．０１質量部〜５質量部含有する樹脂組成物からなるペレットの外側にフェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤をコーティングする。より好ましくはコーティングするフェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤の量がペレット１００質量部に対し、０．０１質量部〜５０質量部、好ましくは０．０４質量部〜２０質量部である。さらに好ましくはコーティングが、ペレットの表面にパウダー状のフェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤を付着させることによりなされる。ここで付着とは粉体がアンカー効果、表面張力、静電力などにより粉体表面に保持された状態を意味する。
【０１４１】
ペレットの表面に、常温で固体の上記添加剤を付着させる方法としては、例えばヘンシェルミキサー、タンブラーブレンダーなどの公知のブレンダーを用いて、ペレットと上記添加剤を混合する方法、インライン外添装置を用いて、ペレットの気力輸送配管に上記添加剤を添加する方法、予め溶媒に溶解または分散させた上記添加剤をペレット表面に噴霧などすることで塗布した後、乾燥させる方法などを挙げることができる。ここで付着とは粉体がアンカー効果、表面張力、静電力などにより粉体表面に保持された状態を意味する。
【０１４２】
本実施形態の成形材料は、好ましくは、常温で固体の上記添加剤が付着したペレットを、ペレットを構成するポリマーの融点より低い温度で加熱することにより、ペレットの表面に常温で固体の上記添加剤を融着、即ち、ペレットの表面に常温で固体の上記添加剤を密着させる。また加熱時間は特に限定されないが、５分〜２４時間、好ましくは１０分〜１２時間である。
【０１４３】
また、本実施形態の成形材料は、好ましくはフェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤の融点範囲をＴｍ１（下限、単位；℃）〜Ｔｍ２（上限、単位；℃）とした場合に、フェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤をコーティングしたペレットを（Ｔｍ１−２０）℃以上、（Ｔｍ２＋２０℃）以下、好ましくは（Ｔｍ１−１５℃）以上、（Ｔｍ２＋１５℃）以下の温度で、かつ、ペレットを構成するポリマーの融点より低い温度で加熱することにより、フェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤をペレットの表面に融着させる。すなわち、フェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤を上記の特定の温度で加熱することでフェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤をペレットの表面に密着させる。また加熱時間は特に限定されないが、５分〜２４時間、好ましくは１０分〜１２時間である。
【０１４４】
ペレット表面に、常温で固体の上記添加剤を融着する方法としては、例えば前述の方法などによって予め表面に常温で固体の上記ポリマー以外の物質を付着させたペレットを公知の乾燥器によりペレットの乾燥処理と同時に加熱処理する方法、上記インライン外添装置を用いて気力輸送装置内で常温で固体の上記添加剤を表面に付着させたペレットを、二重管式加熱器などのインライン熱処理装置を用いて加熱処理する方法などを挙げることができる。
これにより、ペレットの表面に付着したパウダー状の常温で固体の上記添加剤の脱落を防止することができる。したがって、成形材料を輸送する際などの強い衝撃を受ける場合であっても、ペレット表面の常温で固体の上記添加剤が脱落することがないため、ペレット表面の付着量がほとんど変化せず、常温で固体の上記添加剤の保持性に優れる。
【０１４５】
ペレットの表面に、常温で液体の上記添加剤を付着させる方法としては、例えば、ヘンシェルミキサー、タンブラーブレンダーなどの公知のブレンダーを用いて、ペレットと上記添加剤を混合する方法などを挙げることができる。
【０１４６】
（全光線透過率および分光光線透過率）
本実施形態の成形体を光学用途に使用する場合、光線を透過させることが必須であるので、光線透過率が良好であることが好ましい。光線透過率は用途に応じて分光光線透過率または全光線透過率により規定される。
【０１４７】
全光線、あるいは複数波長域での使用が想定される場合、全光線透過率が良いことが必要であり、反射防止膜を表面に設けていない状態での全光線透過率は８５％以上、好ましくは８８〜９３％である。全光線透過率が８５％以上であれば必要な光量を確保することができる。全光線透過率の測定方法は公知の方法が適用でき、測定装置なども限定されないが、例えば、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３に準拠して、熱可塑性、非晶性樹脂を厚み３ｍｍのシートに成形し、ヘーズメーターを用いて、本実施形態の成形材料を成形して得られるシートの全光線透過率を測定する方法などが挙げられる。
【０１４８】
また、特定波長域のみで利用される光学系、例えば、レーザー光学系の場合、全光線透過率が高くなくても、該波長域での分光光線透過率が良ければ使用することができる。この場合、使用波長における、反射防止膜を表面に設けていない状態での分光光線透過率は好ましくは８５％以上、さらに好ましくは８６％〜９３％である。分光光線透過率が８５％以上であれば必要な光量を確保することができる。また、測定方法および装置としては公知の方法が適用でき、具体的には分光光度計を例示することができる。
【０１４９】
また、本実施形態の成形材料からなる成形体は、４５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長の光の光線透過率に優れる。
なお、光学部品として用いる場合、公知の反射防止膜を表面に設けることにより、光線透過率をさらに向上させることができる。
【０１５０】
（成形体）
本実施形態の成形材料から得られる成形体は、表面の凹みの発生が抑制されているため、外観品質に優れる。そのため、像を高精度に識別する必要がある光学系において、光学部品として用いることができる。光学部品とは光学系機器などに使用される部品であり、具体的には、レーザービームプリンターなどに用いられるｆθレンズ、カメラの撮像レンズ、液晶ディスプレイなどに用いられる導光板が挙げられる。
【０１５１】
本実施形態の成形材料は、球状、棒状、板状、円柱状、筒状、チューブ状、繊維状、フィルムまたはシート形状などに成形して、例えば上記の種々の形態で使用することができる。
成形材料を成型して成形体を得る方法としては特に限定されるものではなく、公知の方法を用いることができる。その用途および形状にもよるが、例えば、射出成形法、押出成形法、吹込成形法、真空成形法、スラッシュ成形法などが適用可能である。これらの中でも、成形性、生産性の観点から射出成形法が好ましい。また、成形条件は使用目的、または成形方法により適宜選択されるが、例えば射出成形における樹脂温度は、通常１５０℃〜４００℃、好ましくは２００℃〜３５０℃、より好ましくは２３０℃〜３３０℃の範囲で適宜選択される。
【０１５２】
以下、本実施形態における成形材料が好適に用いられるｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板について説明する。
【０１５３】
（ｆθレンズ）
ｆθレンズとは、被走査面上に光スポットとして集光させて光走査を行なう方式の光走査装置に用いられるレンズである。像高をＹ、レンズの焦点距離をｆ、レンズへの入射角度をθとすると、Ｙ＝ｆθで表されることからｆθレンズと命名されている。なお、通常のカメラレンズはＹ＝ｆ・ｔａｎθの関係式で定義される。 
このｆθレンズを用いた光走査装置は偏向反射面を有する光偏向器により光束を角速度的に偏向させ、ｆθレンズにより被走査面上に光スポットとして集光させて光走査を行なう。光プリンターやデジタル複写機などの各種画像形成装置に関連して広く知られている。
【０１５４】
ｆθレンズは、レンズの表面に凹みがあると、光が屈折して像がぼやけてしまい、像を上手く識別できなくなってしまう。本実施形態の成形材料は表面凹みの発生を抑制できる。そのため、射出成形にて表面の凹みが発生しやすく、かつ、像の識別精度が求められるｆθレンズに好適に用いることができる。
【０１５５】
（撮像レンズ）
撮像レンズとは、複数のレンズを鏡胴に組み込んだもので、カメラに取りつけて使う。近年、携帯電話やＰＤＡなどの通信機器に、ＣＣＤイメージセンサや、ＣＭＯＳイメージセンサなどの固体撮像素子を用いた撮像レンズが搭載され、急速に普及してきている。これらにはその用途のため、さらなる小型化が要求されている。
【０１５６】
撮像レンズの小型化、高画質、高画素化が進むにつれて、表面凹みの発生が抑制された撮像レンズが求められる。本実施形態の成形材料は表面の凹みの発生を抑制できる。そのため、射出成形にて表面の凹みが発生しやすく、かつ、像の識別精度が求められる撮像レンズに好適に用いることができる。
【０１５７】
（導光板）
導光板とは、光源からの光を液晶パネルに均一にかつ効率よく透過させるための板をいう。
近年、表示機器は、地上波デジタルテレビジョン放送への移行や、デジタル製品の普及、発展によって、ノートＰＣにおける表示機器に代表される薄型の平面型表示機器の普及が急速である。この平面型表示機器の１つに液晶ディスプレイがある。
【０１５８】
液晶ディスプレイは、情報の表示のために液晶パネルに光を照射するバックライトとしての光源を持ち、光源からの光を液晶パネルに均一にかつ効率よく透過するために導光板を有している。液晶ディスプレイの大型化に伴って導光板自体も大面積化が求められている。
【０１５９】
導光板の表面に凹みがあると、光量が変化して情報の表示に不具合が生じてしまう。本実施形態の成形材料は表面凹みの発生を抑制できるため、射出成形にて表面の凹みが発生しやすく、かつ、光量の安定性が求められる導光板により一層好適に用いることができる。
【０１６０】
（実施例）
次に、本実施形態を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。実施例における物性測定方法は次の通りである。
【０１６１】
実施例における物性測定方法は次の通りである。
【０１６２】
（測定方法）
（１）溶融流れ指数（ＭＦＲ）
ＡＳＴＭ Ｄ１２３８に準じ２６０℃、荷重２.１６ｋｇで測定。
（２）軟化温度（ＴＭＡ）
デュポン社製Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｚｅｒを用いて、厚さ１ｍｍのシートの熱変形挙動により測定した。シート上に石英製針を載せて荷重４９ｇをかけ、速度５℃／分で昇温させ、針がシートに０.６３５ｍｍ侵入した温度を軟化温度とした。
（３）表面観察
実体顕微鏡（ＳＺＸ１６、オリンパス社製）で成形体表面を観察し、表面凹みの有無を評価した。
（４）不溶微粒子数の測定
後述するショートショット品から３５ｍｍ×６５ｍｍ×３ｍｍの小片２００ｍｇ切り出し、上記小片２００ｍｇを２００ｍＬのシクロヘキサンに２３℃、６時間浸漬し、溶解させた。
次いで、液体用パーティクルカウンター（ＰＡＭＡＳ、ＳＶＳＳ−Ｃ１６/ＨＣＢ−ＬＤ−２５／２５、パマス社製）装置を用いて、シクロヘキサン中に含まれる粒子径１μｍ以上２μｍ以下の不溶微粒子の濃度を測定した。
（５）添加剤の融点測定
使用した添加剤の融点は、メトラーＦＰ融点測定装置を使用し、オープンキャピラリーを用いて、昇温速度０．２℃／分の条件で測定した。
（６）添加剤の平均粒子径ｄ５０の測定
使用した添加剤の平均粒子径ｄ５０はレーザー回折式粒度分布測定装置（マルバーン社製、マスターサイザー２０００）の湿式分散ユニット（Ｈｙｄｒｏ  ２０００ＳＭ（Ａ））を用いて体積基準で測定した。分散媒はデカンを用いた。
（７）添加剤の溶融粘度の測定
使用した添加剤の溶融粘度は、ティー・エイ・インスツルメント社製のＡＲＥＳを用いて、すりモード、窒素雰囲気下、せん断速度１００ｓｅｃ−１、１３０℃の条件で測定した。
【０１６３】
(外添方法)
（１）付着
減圧乾燥済ペレットと、添加剤をポリ袋に入れた。ポリ袋に窒素ガスを封入して膨らませ、口を縛り、ポリ袋の中が均一となるよう振り付着させた。付着量は、ポリ袋に投入したペレット重量と安定剤重量より算出した。
（２）融着
減圧乾燥済ペレットと、添加剤をポリ袋に入れた。ポリ袋に窒素ガスを封入して膨らませ、口を縛り、ポリ袋の中が均一となるよう振り付着させた。ペレットをバットに移し、窒素下で温度１３０℃、２時間加熱処理を行い融着させた。付着量は、ポリ袋に投入したペレット重量と安定剤重量より算出した。
【０１６４】
（評価方法）
射出成形機（ＲＯＢＯＳＨＯＴ  Ｓ２０００ｉ−３０α、ファナック社製）を用いて、ショートショット品（充填率７０％）を成形し、表面凹みの有無を評価した。結果は表１および表２に示す。
Ａ：表面凹み無し
Ｂ：表面凹みがわずかに観察された
Ｃ：表面凹みが顕著に観察された
【０１６５】
（実施例１）
ＴＭＡ１４７℃、ＭＦＲ３７ｇ／１０ｍｉｎ、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンおよびエチレンからなる共重合体（以下、エチレン・テトラシクロドデセン共重合体と呼ぶ。エチレン／テトラシクロドデセン比率は７６／２４ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレット１００質量部に対し、フェノール系安定剤（イルガノックス１０１０、ＢＡＳＦ社製、１３０℃の溶融粘度：１８４ｍＰａ・ｓ、平均粒子径：２８０μｍ、融点：１１０〜１２５℃）０．１０質量部を上記付着方法に従って付着させ、そのペレットを用いて射出成形機（ＲＯＢＯＳＨＯＴ  Ｓ２０００ｉ−３０α、ファナック社製）を用いて、ショートショット品（充填率７０％）を成形した。
【０１６６】
（実施例２）
ＴＭＡ１４７℃、ＭＦＲ３７ｇ／１０ｍｉｎのエチレン・テトラシクロドデセン共重合体（エチレン／テトラシクロドデセン比率は７６／２４ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレット１００質量部に対し、フェノール系安定剤（イルガノックス１０１０、ＢＡＳＦ社製、１３０℃の溶融粘度：１８４ｍＰａ・ｓ、平均粒子径：２８０μｍ、融点：１１０〜１２５℃）０．０５質量部を上記付着方法に従って付着させ、実施例１と同様にショートショット品を得た。
【０１６７】
（実施例３）
ＴＭＡ１３０℃、ＭＦＲ３５ｇ／１０ｍｉｎのエチレン・テトラシクロドデセン共重合体（エチレン／テトラシクロドデセン比率は７１／２９ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレット１００質量部に対し、フェノール系安定剤（イルガノックス１０１０、ＢＡＳＦ社製、１３０℃の溶融粘度：１８４ｍＰａ・ｓ、平均粒子径：２８０μｍ、融点：１１０〜１２５℃）０．１０質量部を上記付着方法に従って付着させ、実施例１と同様にショートショット品を得た。
【０１６８】
（実施例４）
ＴＭＡ１３０℃、ＭＦＲ３５ｇ／１０ｍｉｎのエチレン・テトラシクロドデセン共重合体（エチレン／テトラシクロドデセン比率は７１／２９ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレット１００質量部に対し、フェノール系安定剤（イルガノックス１０１０、ＢＡＳＦ社製、１３０℃の溶融粘度：１８４ｍＰａ・ｓ、平均粒子径：２８０μｍ、融点：１１０〜１２５℃）０．１０質量部を上記融着方法に従って融着させ、実施例１と同様にショートショット品を得た。
【０１６９】
（比較例１）
ＴＭＡ１４７℃、ＭＦＲ３７ｇ／１０ｍｉｎのエチレン・テトラシクロドデセン共重合体（エチレン／テトラシクロドデセン比率は７６／２４ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレットを射出成形機（ＲＯＢＯＳＨＯＴ  Ｓ２０００ｉ−３０α、ファナック社製）を用いて、ショートショット品（充填率７０％）を成形した。
【０１７０】
（比較例２）
ＴＭＡ１３０℃、ＭＦＲ３５ｇ／１０ｍｉｎのエチレン・テトラシクロドデセン共重合体（エチレン／テトラシクロドデセン比率は７１／２９ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレットを射出成形機（ＲＯＢＯＳＨＯＴ  Ｓ２０００ｉ−３０α、ファナック社製）を用いて、ショートショット品（充填率７０％）を成形した。
【０１７１】
【表１】
2013005429.tif 000016
【０１７２】
表１から明らかなように、本実施形態の成形材料を用いると、成形体表面の凹みの発生が抑制される。したがって、本実施形態における成形材料は、表面の凹みの影響を受けやすい、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品用の成形材料として好適に用いることができる。
【０１７３】
（実施例５）
ＴＭＡ１４７℃、ＭＦＲ３７ｇ／１０ｍｉｎのエチレン・テトラシクロドデセン共重合体（エチレン／テトラシクロドデセン比率は７６／２４ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレット１００質量部に対し、フェノール系安定剤（イルガノックス１０１０、ＢＡＳＦ社製、１３０℃の溶融粘度：１８４ｍＰａ・ｓ、平均粒子径：２８０μｍ、融点：１１０〜１２５℃）０．０５質量部を上記付着方法に従って付着させ、実施例１と同様にショートショット品を得た。
【０１７４】
（実施例６）
ＴＭＡ１４７℃、ＭＦＲ３７ｇ／１０ｍｉｎのエチレン・テトラシクロドデセン共重合体（エチレン／テトラシクロドデセン比率は７６／２４ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレット１００質量部に対し、フェノール系安定剤（イルガノックス１０１０、ＢＡＳＦ社製、１３０℃の溶融粘度：１８４ｍＰａ・ｓ、平均粒子径：２８０μｍ、融点：１１０〜１２５℃）０．１０質量部を上記付着方法に従って付着させ、実施例１と同様にショートショット品を得た。
【０１７５】
（実施例７）
ＴＭＡ１４７℃、ＭＦＲ３７ｇ／１０ｍｉｎのエチレン・テトラシクロドデセン共重合体（エチレン／テトラシクロドデセン比率は７６／２４ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレット１００質量部に対し、フェノール系安定剤（イルガノックス１０１０、ＢＡＳＦ社製、１３０℃の溶融粘度：１８４ｍＰａ・ｓ、平均粒子径：２８０μｍ、融点：１１０〜１２５℃）０．１０質量部を上記融着方法に従って融着させ、実施例１と同様にショートショット品を得た。
【０１７６】
（実施例８）
ＴＭＡ１４７℃、ＭＦＲ３７ｇ／１０ｍｉｎのエチレン・テトラシクロドデセン共重合体（エチレン／テトラシクロドデセン比率は７６／２４ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレット１００質量部に対し、フェノール系安定剤（イルガノックス１０１０、ＢＡＳＦ社製、１３０℃の溶融粘度：１８４ｍＰａ・ｓ、平均粒子径：２８０μｍ、融点：１１０〜１２５℃）０．０３質量部を上記付着方法に従って付着させ、実施例１と同様にショートショット品を得た。
【０１７７】
（比較例３）
ＴＭＡ１４７℃、ＭＦＲ３７ｇ／１０ｍｉｎのエチレン・テトラシクロドデセン共重合体（エチレン／テトラシクロドデセン比率は７６／２４ｗｔ％）からなる減圧乾燥済ペレットを射出成形機（ＲＯＢＯＳＨＯＴ  Ｓ２０００ｉ−３０α、ファナック社製）を用いて、ショートショット品（充填率７０％）を成形した。
【０１７８】
【表２】
2013005429.tif 000017
【０１７９】
表１および表２から明らかなように、本実施形態の成形体は、表面の凹みの発生が抑制されている。したがって、本実施形態における成形体は、表面の凹みの影響を受けやすい、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品として好適に用いることができる。
【０１８０】
本発明は以下の態様も取り得る。
【０１８１】
（ａ１）
繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーを含む成形材料であって、
フェノール系安定剤または高級脂肪酸金属塩のいずれか一方が、上記ポリマーからなる粒子の表面に存在している、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品用の成形材料。
【０１８２】
（ａ２）
上記（ａ１）に記載の成形材料において、
当該成形材料に含まれる上記ポリマーを１００質量部としたとき、
上記フェノール系安定剤または高級脂肪酸金属塩のいずれか一方の３質量部〜５０質量部が、上記粒子の表面に存在している、成形材料。
【０１８３】
（ａ３）
上記（ａ１）に記載の成形材料において、
当該成形材料の総量を１００質量部としたとき、
上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩のいずれか一方の３質量部〜５０質量部が、上記粒子の表面に存在している、成形材料。
【０１８４】
（ａ４）
上記（ａ１）乃至（ａ３）いずれかに記載の成形材料において、
上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩のいずれか一方が上記粒子表面に融着している、成形材料。
【０１８５】
（ａ５）
上記（ａ４）に記載の成形材料において、
上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩のいずれか一方が表面に付着した上記粒子を、（Ｔｍ１−２０）℃以上（Ｔｍ２＋２０）℃以下で加熱することにより得られる、成形材料。
（ここで、Ｔｍ１およびＴｍ２はそれぞれ、上記フェノール系安定剤、または上記高級脂肪酸金属塩の融点の下限および上限の温度を示す。）
【０１８６】
（ａ６）
上記（ａ１）乃至（ａ５）いずれかに記載の成形材料において、
上記ポリマーが、下記一般式（１）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形材料。
【化１】
2013005429.tif 000018
（式中、ｘ，ｙは共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。
ｎは置換基Ｑの置換数を示し、０≦ｎ≦２の実数である。
Ｒ１は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２＋ｎ価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ３は、炭素原子数２〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる４価の基である。
Ｑは、ＣＯＯＲ４（Ｒ４は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。）である。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＱは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。）
【０１８７】
（ａ７）
上記（ａ１）乃至（ａ５）いずれかに記載の成形材料において、
上記ポリマーが、下記一般式（２）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形材料。
【化２】
2013005429.tif 000019
（式中、Ｒ1は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
ｘ，ｙは共重合比を示し、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。）
【０１８８】
（ａ８）
上記（ａ１）乃至（ａ５）いずれかに記載の成形材料において、
上記ポリマーが、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンおよびエチレンからなる共重合体である、成形材料。
【０１８９】
（ａ９）
上記（ａ１）乃至（ａ８）いずれかに記載の成形材料を溶融成形して得られる、成形体。
【０１９０】
（ａ１０）
上記（ａ９）に記載の成形体からなる、光学部品。
【０１９１】
（ａ１１）
上記（ａ１０）に記載の光学部品を用いるｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板。
【０１９２】
（ａ１２）
繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーを含む成形材料において、フェノール系安定剤または高級脂肪酸金属塩のいずれか一方が、上記ポリマーからなる粒子の表面に存在している、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品用の成形材料の製造方法であって、
上記粒子の表面に上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩のいずれか一方を付着させる工程、または上記粒子の表面に上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩のいずれか一方を付着後、融着させる工程、を含む成形材料の製造方法。
【０１９３】
（ａ１３）
上記（ａ１２）に記載の成形材料の製造方法において、
当該成形材料に含まれる上記ポリマーを１００質量部としたとき、
上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩のいずれか一方を付着させる工程が、
上記粒子の表面に、３質量部〜５０質量部の上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩のいずれか一方を付着する工程を含む成形材料の製造方法。
【０１９４】
（ａ１４）
上記（ａ１２）または（ａ１３）に記載の成形材料の製造方法において、
上記粒子の表面に上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩のいずれか一方を付着させる工程が、
上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩のいずれか一方が表面に付着した上記粒子を、（Ｔｍ１−２０）℃以上（Ｔｍ２＋２０）℃以下で加熱することにより、上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩のいずれか一方を粒子表面に融着させる工程を含む成形材料の製造方法。
（ここで、Ｔｍ１およびＴｍ２はそれぞれ、上記フェノール系安定剤または上記高級脂肪酸金属塩の融点の下限および上限の温度を示す。）
【０１９５】
さらに、本発明は以下の態様も取り得る。
【０１９６】
（ｂ１）
繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーを含む成形材料であって、
上記ポリマー以外の物質が、上記ポリマーからなる粒子の表面に存在している、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品用の成形材料。
【０１９７】
（ｂ２）
上記（ｂ１）に記載の成形材料において、
上記ポリマー以外の物質は、フェノール系安定剤、高級脂肪酸金属塩、酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、塩酸吸収剤、金属不活性化剤、帯電防止剤、防曇剤、滑剤、スリップ剤、核剤、可塑剤、難燃剤より選ばれる少なくとも１種以上である、成形材料。
【０１９８】
（ｂ３）
上記（ｂ１）または（ｂ２）に記載の成形材料において、
当該成形材料に含まれる上記ポリマーを１００質量部としたとき、
上記ポリマー以外の物質の０．０１質量部〜５０質量部が、上記粒子の表面に存在している、成形材料。
【０１９９】
（ｂ４）
上記（ｂ１）または（ｂ２）に記載の成形材料において、
当該成形材料の総量を１００質量部としたとき、
上記ポリマー以外の物質の０．０１質量部〜５０質量部が、上記粒子の表面に存在している成形材料。
【０２００】
（ｂ５）
上記（ｂ１）乃至（ｂ４）いずれかに記載の成形材料において、
上記ポリマー以外の物質が上記粒子表面に融着している、成形材料。
【０２０１】
（ｂ６）
上記（ｂ５）に記載の成形材料において、
上記ポリマー以外の物質が表面に付着した上記粒子を、（Ｔｍ１−２０）℃以上（Ｔｍ２＋２０）℃以下で加熱することにより得られる、成形材料。
（ここで、Ｔｍ１およびＴｍ２はそれぞれ、上記フェノール系安定剤、または上記高級脂肪酸金属塩の融点の下限および上限の温度を示す。）
【０２０２】
（ｂ７）
上記（ｂ１）乃至（ｂ６）いずれかに記載の成形材料において、
上記ポリマーが、下記一般式（１）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形材料。
【化１】
2013005429.tif 000020
（式中、ｘ，ｙは共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。
ｎは置換基Ｑの置換数を示し、０≦ｎ≦２の実数である。
Ｒ１は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２＋ｎ価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ３は、炭素原子数２〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる４価の基である。
Ｑは、ＣＯＯＲ４（Ｒ４は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。）である。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＱは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。）
【０２０３】
（ｂ８）
上記（ｂ１）乃至（ｂ６）いずれかに記載の成形材料において、
上記ポリマーが、下記一般式（２）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形材料。
【化２】
2013005429.tif 000021
（式中、Ｒ1は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
ｘ，ｙは共重合比を示し、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。）
【０２０４】
（ｂ９）
上記（ｂ１）乃至（ｂ６）いずれかに記載の成形材料において、
上記ポリマーが、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンおよびエチレンからなる共重合体である、成形材料。
【０２０５】
（ｂ１０）
上記（ｂ１）乃至（ｂ９）いずれかに記載の成形材料を溶融成形して得られる、成形体。
【０２０６】
（ｂ１１）
上記（ｂ１０）に記載の成形体からなる、光学部品。
【０２０７】
（ｂ１２）
上記（ｂ１１）に記載の光学部品を用いる、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板。
【０２０８】
（ｂ１３）
繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーを含む成形材料において、上記ポリマー以外の物質が、上記ポリマーからなる粒子の表面に存在している、ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品用の成形材料の製造方法であって、
上記粒子の表面に上記ポリマー以外の物質を付着させる工程、または上記粒子の表面に上記ポリマー以外の物質を付着後、融着させる工程、を含む成形材料の製造方法。
【０２０９】
（ｂ１４）
上記（ｂ１３）に記載の成形材料の製造方法において、
当該成形材料に含まれる上記ポリマーを１００質量部としたとき、
上記ポリマー以外の物質のいずれか一方を付着させる工程が、
上記粒子の表面に０．０１質量部〜５０質量部の上記ポリマー以外の物質を付着する工程を含む成形材料の製造方法。
【０２１０】
（ｂ１５）
上記（ｂ１３）または（ｂ１４）に記載の成形材料の製造方法において、
上記粒子の表面に上記ポリマー以外の物質を付着させる工程が、
上記ポリマー以外の物質が表面に付着した上記粒子を、（Ｔｍ１−２０）℃以上（Ｔｍ２＋２０）℃以下で加熱することにより、上記ポリマー以外の物質を粒子表面に融着させる工程を含む成形材料の製造方法。
（ここで、Ｔｍ１およびＴｍ２はそれぞれ、上記ポリマー以外の物質の融点の下限および上限の温度を示す。）
【０２１１】
この出願は、２０１１年７月６日に出願された日本出願特願２０１１−１５０３２９号および２０１１年７月１５日に出願された日本出願特願２０１１−１５６９４５号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月27日(2013.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｆθレンズ、撮像レンズまたは導光板から選ばれる光学部品に用いられる、繰り返し構造単位の一部または全部に脂環式構造を有するポリマーを含む成形体であって、
前記成形体を１ｇ／ｍＬの濃度でシクロヘキサンに２３℃、６時間攪拌しながら浸漬させたとき、
液中パーティクルカウンターにより測定される、前記シクロヘキサン中に含まれる粒子径１μｍ以上２μｍ以下の不溶微粒子の数が、２００個／ｍｌ以下である、成形体。
【請求項２】
請求項１に記載の成形体において、
前記ポリマーが、下記一般式（１）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形体。
【化１】
2013005429.tif 000026
（式中、ｘ，ｙは共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。
ｎは置換基Ｑの置換数を示し、０≦ｎ≦２の実数である。
Ｒ１は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２＋ｎ価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ３は、炭素原子数２〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる４価の基である。
Ｑは、ＣＯＯＲ４（Ｒ４は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。）である。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＱは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。）
【請求項３】
請求項１に記載の成形体において、
前記ポリマーが、下記一般式（２）で表される一種以上の構造を有する環状オレフィン系重合体である、成形体。
【化２】
2013005429.tif 000027
（式中、Ｒ1は、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２価の基である。
Ｒ２は、水素原子、または炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
ｘ，ｙは共重合比を示し、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。）
【請求項４】
請求項１に記載の成形体において、
前記ポリマーが、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンおよびエチレンからなる共重合体である、成形体。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
また、重合のタイプは本実施形態において全く制限されるものではなく、付加重合、開環重合などの公知の様々な重合タイプを適用することができる。付加重合としては、ランダム共重合、ブロック共重合、交互共重合などを挙げることができる。本実施形態においては、光学性能の劣化を抑制する観点からランダム共重合を用いることが好ましい。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
本実施形態において、「（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体」としては、エチレンと、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンとからなる共重合体であることが好ましい。
また、共重合のタイプは本実施形態において全く制限されるものではなく、ランダム共重合、ブロック共重合、交互共重合など、公知の様々な共重合タイプを適用することができるが、好ましくはランダム共重合である。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
環式オレフィン重合体を得るために使用される脂環式オレフィンとして具体的には、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、５−メチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５，５−ジメチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−エチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ブチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ヘキシル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−オクチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−オクタデシル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−エチリデン−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−メチリデン−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ビニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−プロペニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−メトキシ−カルボニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−シアノ−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−メチル−５−メトキシカルボニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−エトキシカルボニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−５−エニル−２−メチルプロピオネイト、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−５−エニル−２−メチルオクタネイト、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン酸無水物、５−ヒドロキシメチルビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−ｉ−プロピルビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシ−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン酸イミド、５−シクロペンチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−シクロヘキセニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−フェニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、トリシクロ〔４．３．０．１２，５〕デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、トリシクロ〔４．３．０．１２，５〕デカ−３−エン、トリシクロ〔４．４．０．１２，５〕ウンデカ−３，７−ジエン、トリシクロ〔４．４．０．１２，５〕ウンデカ−３，８−ジエン、トリシクロ〔４．４．０．１２，５〕ウンデカ−３−エン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕−トリデカ−２，４，６，１１−テトラエン（別名：１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ〔８．４．０．１１１，１４．０３，８〕−テトラデカ−３，５，７，１２−１１−テトラエン（別名：１，４−メタノ−１，４，４ａ，５，１０，１０ａ−ヘキサヒドロアントラセン）、テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、８−メチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−エチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−メチリデン−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−エチリデン−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−ビニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−プロペニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−メトキシカルボニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−メチル−８−メトキシカルボニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−ヒドロキシメチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−カルボキシ−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−シクロペンチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−シクロヘキシル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−シクロヘキセニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−フェニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、ペンタシクロ〔６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３〕−ペンタデカ−３，１０−ジエン、ペンタシクロ〔７．４．０．１３，６．１１０，１３．０２，７〕−ペンタデカ−４，１１−ジエンなどのノルボルネン系単量体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテンのごとき単環のシクロアルケン；ビニルシクロヘキセンやビニルシクロヘキサンなどのビニル脂環式炭化水素系単量体；シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの脂環式共役ジエン系単量体；などが挙げられる。脂環式オレフィンは、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
（主鎖の一部として用いることのできるその他の構造）
また、本実施形態で用いられるポリマーは、本実施形態の成形方法によって得られる製品の良好な物性を損なわない範囲で、必要に応じて他の共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し構造単位を有していてもよい。その共重合比は限定されないが、好ましくは２０モル％以下であり、さらに好ましくは１０モル％以下であり、それ以上共重合させた場合、光学物性を損ない、高精度の光学部品が得られない恐れがある。また、共重合の種類は限定されないが、ランダム共重合が好ましい。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
本実施形態で用いられるフェノール系酸化防止剤としては、従来公知のものが使用できる。例えば、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−（１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニルアクリレートなどの特開昭６３−１７９９５３号公報や特開平１−１６８６４３号公報に記載されるアクリレート系フェノール化合物；２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２'−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４'−ブチリデン−ビス（６−ｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メタン、３，９−ビス（２−（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ）−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス（メチレン−３−（３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）メタン［すなわち、ペンタエリスリトールメチル−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）］、トリエチレングリコールビス（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート）、トコフェロールなどのアルキル置換フェノール系化合物；６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、６−（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−ｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、２−オクチルチオ−４，６−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−オキシアニリノ）−１，３，５−トリアジンなどのトリアジン基含有フェノール系化合物；などが挙げられる。これらの中でも、アクリレート系フェノール化合物やアルキル置換フェノール系化合物が好ましく、アルキル置換フェノール系化合物が特に好ましい。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
本実施形態で用いられるチオエーテル系酸化防止剤としては、例えば、テトラキス｛メチレン−３−（ラウリルチオ）プロピオネート｝メタン、ビス〔メチル−４−｛３−ｎ−アルキル（Ｃ１２  ｏｒ  Ｃ１４）チオプロピオニル｝−５−ｔ−ブチルフェニル〕スルフィド、ジトリデシル−３，３'−チオジプロピオネートなどが挙げられる。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
（ヒンダードアミン系光安定剤）
本実施形態で用いられるヒンダードアミン系光安定剤としては、通常構造中に、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基、ならびに２，２，６，６−テトラメチルピペリジル基または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基を有している化合物である。具体的には、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ' −ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６，−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ' −ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ' −ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物、２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン−Ｎ−オキシル、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシルピペリジン）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシピペリジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−（トリス（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシルピペリジル−４−オキシカルボニル）ブチルカルボニルオキシ）エチル）２，４，６，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／ジブロモエタン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとトリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールとトリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオニルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（例えば、サノールＬＳ−２６２６、三共社製）、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸−ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）（例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４、日本チバガイギー社製）、ビス(２，２'，６，６'−テトラメチル−４−ピペリジル)セバケート（例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ７７０、日本チバガイギー社製）、ポリ［６− （１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］（例えば、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４、日本チバガイギー社製）などが挙げられる。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
（塩酸吸収剤）
本実施形態で用いられる塩酸吸収剤としては、高級脂肪酸金属塩がある。具体的には、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸アルミニウム、１２−ヒドロキシステアリン酸ナトリウム、１２−ヒドロキシステアリン酸カルシウム、１２−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、１２−ヒドロキシステアリン酸亜鉛などがある。また、エポキシ化ステアリン酸オクチル、エポキシ化大豆油などのエポキシ系化合物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、ハイドロタルサイトなどの無機化合物などが挙げられる。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
アニオン系界面活性剤としては、デカンスルホン酸ナトリウム、ウンデカンスルホン酸ナトリウム、ドデカンスルホン酸ナトリウム、トリデカンスルホン酸ナトリウム、テトラデカンスルホン酸ナトリウム、ペンタデカンスルホン酸ナトリウム、ヘキサデカンスルホン酸ナトリウム、ヘプタデカンスルホン酸ナトリウム、オクタデカンスルホン酸ナトリウム、ノナデカンスルホン酸ナトリウム、エイコサンスルホン酸ナトリウム、デカンスルホン酸カリウム、ウンデカンスルホン酸カリウム、ドデカンスルホン酸カリウム、トリデカンスルホン酸カリウム、テトラデカンスルホン酸カリウム、ペンタデカンスルホン酸カリウム、ヘキサデカンスルホン酸カリウム、ヘプタデカンスルホン酸カリウム、オクタデカンスルホン酸カリウム、ノナデカンスルホン酸カリウム、エイコサンデカスルホン酸カリウムなどのアルキルスルホン酸塩、デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ウンデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、トリデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、テトラデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ペンタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヘプタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、オクタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルホスフェートなどが挙げられる。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
本実施形態で用いられる両性界面活性剤としては、特に限定されないが、ラウリルベタイン、ステアリルベタイン、ラウリルアミドプロピルベタイン、ステアリルアミドプロピルベタインなどのベタイン化合物、ラウリルジメチルアミンオキサイド、ステアリルジメチルアミンオキサイドなどのジメチルアミンオキサイド化合物、Ｎ-ステアリル-α-アラニナート、Ｎ-ラウリル-α-アラニナートなどのアラニン化合物などが挙げられる。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
本実施形態で用いられるノニオン性界面活性剤としては、特に限定されないが、ラウリン酸モノグリセライド、パルミチン酸モノグリセライド、ステアリン酸モノグリセライド、オレイン酸モノグリセライド、ベヘニン酸モノグリセライド、カプリル酸モノグリセライド、ヤシ脂肪酸モノグリセライド、ラウリン酸ジグリセライド、パルミチン酸ジグリセライド、ステアリン酸ジグリセライド、オレイン酸ジグリセライド、ベヘニン酸ジグリセライド、カプリル酸ジグリセライド、ヤシ脂肪酸ジグリセライド、ラウリン酸トリグリセライド、パルミチン酸トリグリセライド、ステアリン酸トリグリセライド、オレイン酸トリグリセライド、ベヘニン酸トリグリセライド、カプリル酸トリグリセライド、ヤシ脂肪酸トリグリセライド、ペンタエリスリトールモノラウレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジラウレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトララウレートなどのペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールモノラウレート、ソルビトールモノステアレートなどのソルビトールの脂肪酸エステル、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコールモノオレート、ポリエチレングリコールジステアレートなどのポリエチレングリコール脂肪酸エステルなどの多価アルコールの脂肪酸エステル、ラウリン酸ジエタノールアミド、ステアリン酸ジエタノールアミド、ヤシ脂肪酸ジエタノールアミドなどのジエタノールアミド類などが挙げられる。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
（滑剤，スリップ剤）
本実施形態で用いられる滑剤、スリップ剤としては、例えば、ワックス類、油剤、カプリン類、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸などの高級脂肪酸類またはこれらの金属塩類、すなわちリチウム塩、カルシウム塩、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩など、パルミチルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコールなどの脂肪族アルコール類、カプロン酸アミド、カプリル酸アミド、カプリン酸アミド、ラウリル酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミドなどの脂肪族アミド類、脂肪酸とアルコールとのエステル類、フルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、フルオロアルキルスルホン酸金属塩などのフッ素化合物類などが挙げられる。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
（可塑剤）
本実施形態で用いられる可塑剤としては、例えば、トリクレジルフォスフェート、トリキシリルフォスフェート、トリフェニルフォスフェート、トリエチルフェニルフォスフェート、ジフェニルクレジルフォスフェート、モノフェニルジクレジルフォスフェート、ジクレジルモノキシレニルフォスフェート、アリールアルキルフォスフェート、ジフェニルモノキシレニルフォスフェート、モルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリス（イソプロピルフェニル）フォスフェートなどのリン酸トリエステル系可塑剤；フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸オクチルデシル、フタル酸ブチルベンジルなどのフタル酸エステル系可塑剤；オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステルなどの脂肪酸一塩基酸エステル系可塑剤；アジピン酸ジブチルなどのアジピン酸ジ−ｎ−脂肪酸二塩基酸エステル系可塑剤；二価アルコールエステル系可塑剤；オキシ酸エステル系可塑剤などが挙げられる。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１１】
本実施形態で用いられるリン系難燃剤としては、トリス（クロロエチル）ホスフェート、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（２−クロロプロピル）ホスフェート、トリス（２，３−ブロモプロピル）ホスフェート、トリス（ブロモクロロプロピル）ホスフェート、２，３−ジブロモプロピル−２，３−クロロプロピルホスフェート、トリス（トリブロモフェニル）ホスフェート、トリス（ジブロモフェニル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェートなどの含ハロゲン系リン酸エステル難燃剤；トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェートなどの脂肪族リン酸エステル；トリフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ジクレジルフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、トリ（イソプロピルフェニル）ホスフェート、イソプロピルフェニルジフェニルホスフェート、ジイソプロピルフェニルフェニルホスフェート、トリ（トリメチルフェニル）ホスフェート、トリ（ｔ―ブチルフェニル）ホスフェート、ヒドロキシフェニルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェートなどの芳香族リン酸エステルなどのノンハロゲン系リン酸エステル難燃剤などが挙げられる。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
また、例えば、滑剤として、特開昭６３−２７３６６６号公報で公知のグリセリンモノステアレート、グリセリンモノラウレート、グリセリンジステアレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレートなどの多価アルコールを部分エステル化した構造を有する化合物；特開平３−３９４０３号公報で公知の３−（４−ノニルフェニルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（ベヘニルオキシ）−１，２−プロパンジオール、２，２−ビス〔４−（２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ）フェニル〕プロパンなどの多価アルコールを部分エーテル化した化合物；１２−ヒドロキシステアリン酸トリグリセリド、１２−ヒドロキシステアリン酸ステアリルアルコール、ペンタエリスリトール−テトラ−１２−ヒドロキシステアレート、エチレングリコール−ジ−１２−ヒドロキシステアレート、プロピレングリコール−ジ−１２−ヒドロキシステアレートなどのアルコール類の全てのＯＨ基がＯＨ基含有飽和脂肪酸とエステル結合した構造を有する化合物；１２−ヒドロキシステアリン酸モノグリセリドなどのアルコール類の一部のＯＨ基がＯＨ基含有飽和脂肪酸とエステル結合した構造を有する化合物などが例示される。
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
本実施形態の成形材料を製造するには、好ましくは、まず一般式（１）で表される重合体から選ばれるポリマー１００質量部に対し、ヒンダードアミン系光安定剤を０．２５質量部〜１０質量部および、リン系安定剤を０．０１質量部〜５質量部含有する樹脂組成物からなるペレットの外側にフェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤をコーティングする。より好ましくはコーティングするフェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤の量がペレット１００質量部に対し、０．０１質量部〜５０質量部、好ましくは０．０４質量部〜２０質量部である。さらに好ましくはコーティングが、ペレットの表面にパウダー状のフェノール系安定剤および高級脂肪酸金属塩より選ばれる少なくとも１種以上の添加剤を付着させることによりなされる。ここで付着とは粉体がアンカー効果、表面張力、静電力などによりペレット表面に保持された状態を意味する。
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４１】
ペレットの表面に、常温で固体の上記添加剤を付着させる方法としては、例えばヘンシェルミキサー、タンブラーブレンダーなどの公知のブレンダーを用いて、ペレットと上記添加剤を混合する方法、インライン外添装置を用いて、ペレットの気力輸送配管に上記添加剤を添加する方法、予め溶媒に溶解または分散させた上記添加剤をペレット表面に噴霧などすることで塗布した後、乾燥させる方法などを挙げることができる。ここで付着とは粉体がアンカー効果、表面張力、静電力などによりペレット表面に保持された状態を意味する。
【国際調査報告】
2013005429.tif 000028
2013005429.tif 000029
2013005429.tif 000030
2013005429.tif 000031