(57)【要約】  積層セラミック基板（１）上に金属製リング（２）が設けられている。積層セラミック基板（１）上において金属製リング（２）内に半導体レーザ（６）が設けられている。ガラス窓（９）付きの金属製キャップ（１０）が金属製リング（２）に接合されている。金属製リング（２）は半導体レーザ（６）を覆う。金属製キャップ（１０）の外側面に外部ヒートシンク（１１）が接合されている。これらの構成により、高周波特性、生産性、及び放熱性を向上させることができる。
2013164876.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層セラミック基板と、
前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた光半導体素子と、
前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップと、
前記金属製キャップの外側面に接合された外部ヒートシンクとを備えることを特徴とする半導体パッケージ。
【請求項２】
前記外部ヒートシンクは、外部の筐体に接合される接合平面を有することを特徴とする請求項１に記載の半導体パッケージ。
【請求項３】
前記外部ヒートシンクは、前記積層セラミック基板の下面まで延びており、
前記接合平面は、前記積層セラミック基板の下面側に存在することを特徴とする請求項２に記載の半導体パッケージ。
【請求項４】
積層セラミック基板と、
前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた電極と、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられ、前記電極に接続された光半導体素子と、
前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップとを備え、
前記金属製リングの厚みは前記電極よりも厚いことを特徴とする半導体パッケージ。
【請求項５】
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた内部ヒートシンクを更に備え、
前記光半導体素子は前記内部ヒートシンク上に設けられ、
前記金属製リングの内端部は前記内部ヒートシンクに接触していることを特徴とする請求項４に記載の半導体パッケージ。
【請求項６】
積層セラミック基板と、
前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた内部ヒートシンクと、
前記内部ヒートシンク上に設けられた光半導体素子と、
前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップとを備え、
前記金属製リングの内端部は前記内部ヒートシンクに接触していることを特徴とする半導体パッケージ。
【請求項７】
前記金属製リングの外端部は前記積層セラミック基板の外端部に合わされていることを特徴とする請求項４〜６の何れか１項に記載の半導体パッケージ。
【請求項８】
前記金属製リングの外端部に接合された外部ヒートシンクを更に備えることを特徴とする請求項４〜７の何れか１項に記載の半導体パッケージ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光通信用の半導体パッケージに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の光通信用の半導体パッケージにはメタルパッケージとＣＡＮパッケージがある。メタルパッケージは、積層セラミック基板と金属製の箱を組み合わせたものである。ＣＡＮパッケージは、金属板の開口穴部に金属製の棒を通しガラスで気密と絶縁を行い、窓付きのキャップを溶接したものである。【０００３】
メタルパッケージは、積層セラミック基板を用いるため高周波特性に優れる。しかし、構造が複雑で部品点数が多くコストが高い。また、箱型形状でありフタをする前の開口部側（上側）からしか部品実装ができない。【０００４】
ＣＡＮパッケージは、金属板の上面にあらゆる方向から部品が実装でき、また金属板とキャップを電気溶接により瞬時に接合でき生産性に優れる。しかし、信号を供給するリードが金属板に対しガラス封止で固定されているためインピーダンスマッチングが取り難く高周波特性に劣る。【０００５】
これに対して、積層セラミック基板の上面の凹部に光半導体素子を実装し、それを窓付きの金属製キャップで覆った半導体パッケージが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１６３３８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
積層セラミック基板はアルミナセラミックであるために、ベース部が金属製のＣＡＮパッケージに比べて放熱性に劣っていた。【０００８】
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は高周波特性、生産性、及び放熱性を向上させることができる半導体パッケージを得るものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る半導体パッケージは、積層セラミック基板と、前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた光半導体素子と、前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップと、前記金属製キャップの外側面に接合された外部ヒートシンクとを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により、高周波特性、生産性、及び放熱性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施の形態１に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る半導体パッケージの外部ヒートシンクが外部の筐体に接合された状態を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る半導体パッケージの外部ヒートシンクが外部の筐体に接合された状態を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る半導体パッケージの変形例１のキャップ内部を示す側面図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る半導体パッケージの変形例２の外部ヒートシンクが外部の筐体に接合された状態を示す断面図である。
【図６】本発明の実施の形態２に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。
【図７】本発明の実施の形態３に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の実施の形態に係る半導体パッケージについて図面を参照して説明する。同じ又は対応する構成要素には同じ符号を付し、説明の繰り返しを省略する場合がある。
【００１３】
実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。アルミナなどからなる積層セラミック基板１上に、ＦｅやＮｉなどの金属製リング２が設けられている。積層セラミック基板１上において金属製リング２内に電極３が設けられている。電極３は積層セラミック基板１を貫通するビア４に接続されている。積層セラミック基板１上において金属製リング２内に内部ヒートシンク５が設けられている。
【００１４】
内部ヒートシンク５上に面発光型の半導体レーザ６が設けられている。なお、面発光型の半導体レーザ６の代わりに、面受光型の受光素子を用いてもよい。内部ヒートシンク５の表面に配線７が設けられている。半導体レーザ６と配線７はワイヤにより接続されている。
【００１５】
内部ヒートシンク５は、電極３の一部と配線７の一部が重なるように積層セラミック基板１上に配置されている。そして、電極３の一部と配線７の一部は、はんだや導電性樹脂などの導電性接合部材８により接合されている。このようにワイヤボンドを行わないため、電極３と配線７の接合部分での高周波伝送ロスを低減して高周波特性を改善することができる。そして、ワイヤボンド工程を省略できるため、生産性が向上する。
【００１６】
ガラス窓９付きの金属製キャップ１０が金属製リング２に電気溶接されている。金属製キャップ１０は薄いＦｅ又はＦｅ−Ｎｉ合金からなる。金属製リング２は内部ヒートシンク５及び半導体レーザ６を覆う。金属製キャップ１０の外側面に外部ヒートシンク１１が接合されている。両者の隙間を接着剤１２又ははんだを用いて充填している。なお、金属製キャップ１０と外部ヒートシンク１１を溶接した後、両者の隙間を放熱グリス等で充填してもよい。
【００１７】
外部ヒートシンク１１は、積層セラミック基板１の下面まで延びている。外部ヒートシンク１１は、外部の筐体に接合される接合平面１３，１４を有する。接合平面１３は外部ヒートシンク１１の側面に存在する。接合平面１４は、積層セラミック基板１の下面側に存在する。
【００１８】
図２及び図３は、本発明の実施の形態１に係る半導体パッケージの外部ヒートシンクが外部の筐体に接合された状態を示す断面図である。図２では、外部ヒートシンク１１の側面である接合平面１３が客先の筐体１５に接合されている。図３では、外部ヒートシンク１１の下面である接合平面１４が客先の筐体１５に接合されている。外部ヒートシンク１１と筐体１５の隙間は放熱グリス１６又は柔らかい放熱シートで埋める。半導体レーザ６で発生した熱は、内部ヒートシンク５、積層セラミック基板１、金属製リング２、金属製キャップ１０、及び外部ヒートシンク１１を介して外部の筐体１５に放熱される。
【００１９】
本実施の形態では、積層セラミック基板１を用いることで高周波特性を向上させることができる。そして、積層セラミック基板１上の金属製リング２と金属製キャップ１０は瞬時に電気溶接できる。金属製キャップ１０を溶接する前の積層セラミック基板１は側壁等の障害物がないため、半導体レーザ６などを実装しやすい。従って、生産性を向上させることができる。
【００２０】
また、金属製キャップ１０自体も一種のヒートシンクとして機能するが、材質の厚みが薄いため放熱効果は低い。これに対して、本実施の形態では、金属製キャップ１０の外側面に外部ヒートシンク１１が接合されているため、放熱性を向上させることができる。
【００２１】
図４は、本発明の実施の形態１に係る半導体パッケージの変形例１のキャップ内部を示す側面図である。変形例１では、面発光型の半導体レーザ６（又は面受光型の受光素子）が積層セラミック基板１上に直接に実装されている。このように内部ヒートシンク５を省略した場合でも上記と同様の効果を得ることができる。
【００２２】
図５は、本発明の実施の形態１に係る半導体パッケージの変形例２の外部ヒートシンクが外部の筐体に接合された状態を示す断面図である。外部ヒートシンク１１の側面である接合平面１３が客先の筐体１５に接合される場合には、外部ヒートシンク１１の下面と積層セラミック基板１の下面が一致している必要は無い。そこで、変形例２では、両者を一致させず、外部ヒートシンク１１を大きくすることで放熱性を向上させている。
【００２３】
実施の形態２．
図６は、本発明の実施の形態２に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。本実施の形態では、金属製リング２の厚みが電極３よりも厚い。これにより、製品側面からの放熱性を向上させることができる。
【００２４】
また、金属製リング２の内端部が内部ヒートシンク５に接触している。これにより、熱伝導率が低い積層セラミック基板１を介さずに内部ヒートシンク５から熱伝導率が高い金属製リング２に熱を伝えることができる。この結果、放熱性を更に向上させることができる。
【００２５】
また、金属製リング２の外端部は積層セラミック基板１の外端部に合わされている。このように積層セラミック基板１と同じ大きさまで金属製リング２の面積を広げることで、放熱性を更に向上させることができる。
【００２６】
実施の形態３．
図７は、本発明の実施の形態３に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。本実施の形態は、実施の形態２の構成に、実施の形態１と同様の外部ヒートシンク１１を追加したものである。外部ヒートシンク１１は、金属製キャップ１０の外側面及び金属製リング２の外端部に接合されている。これにより、放熱性を更に向上させることができる。
【００２７】
なお、実施の形態１〜３において、積層セラミック基板１の材料として、アルミナよりも熱伝導率が高いＡｌＮを用いることが好ましい。ＡｌＮはアルミナに比べて８倍以上の熱伝導率を有するため、放熱性に優れた半導体パッケージを得ることができる。
【００２８】
また、光半導体素子が半導体レーザ６の場合には、ガラス窓９をレンズに変えてもよい。半導体レーザ６から放出された光は距離とともに拡散していくがレンズにより集光できるため、光の結合効率を高めることができる。
【符号の説明】
【００２９】
１  積層セラミック基板
２  金属製リング
３  電極
５  内部ヒートシンク
６  半導体レーザ（光半導体素子）
７  配線
９  ガラス窓（窓）
１０  金属製キャップ
１１  外部ヒートシンク
１３，１４  接合平面
１５  筐体
【図１】
2013164876.tif 000003
【図２】
2013164876.tif 000004
【図３】
2013164876.tif 000005
【図４】
2013164876.tif 000006
【図５】
2013164876.tif 000007
【図６】
2013164876.tif 000008
【図７】
2013164876.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月3日(2014.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
ガラス窓９付きの金属製キャップ１０が金属製リング２に電気溶接されている。金属製キャップ１０は薄いＦｅ又はＦｅ−Ｎｉ合金からなる。金属製キャップ１０は内部ヒートシンク５及び半導体レーザ６を覆う。金属製キャップ１０の外側面に外部ヒートシンク１１が接合されている。両者の隙間を接着剤１２又ははんだを用いて充填している。なお、金属製キャップ１０と外部ヒートシンク１１を溶接した後、両者の隙間を放熱グリス等で充填してもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層セラミック基板と、
前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた光半導体素子と、
前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップと、
前記金属製キャップの外側面に接合された外部ヒートシンクとを備えることを特徴とする半導体パッケージ。
【請求項２】
前記外部ヒートシンクは、外部の筐体に接合される接合平面を有することを特徴とする請求項１に記載の半導体パッケージ。
【請求項３】
前記外部ヒートシンクは、前記積層セラミック基板の下面まで延びており、
前記接合平面は、前記積層セラミック基板の下面側に存在することを特徴とする請求項２に記載の半導体パッケージ。
【請求項４】
積層セラミック基板と、
前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた電極と、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられ、前記電極に接続された光半導体素子と、
前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップと、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた内部ヒートシンクとを備え、
前記金属製リングの厚みは前記電極よりも厚く、
前記光半導体素子は前記内部ヒートシンク上に設けられ、
前記金属製リングの内端部は前記内部ヒートシンクに接触していることを特徴とする半導体パッケージ。
【請求項５】
積層セラミック基板と、
前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた内部ヒートシンクと、
前記内部ヒートシンク上に設けられた光半導体素子と、
前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップとを備え、
前記金属製リングの内端部は前記内部ヒートシンクに接触していることを特徴とする半導体パッケージ。
【請求項６】
前記金属製リングの外端部は前記積層セラミック基板の外端部に合わされていることを特徴とする請求項４又は５に記載の半導体パッケージ。
【請求項７】
前記金属製リングの外端部に接合された外部ヒートシンクを更に備えることを特徴とする請求項４〜６の何れか１項に記載の半導体パッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月20日(2015.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層セラミック基板と、
前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた電極と、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられ、前記電極に接続された光半導体素子と、
前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップと、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた内部ヒートシンクとを備え、
前記金属製リングの厚みは前記電極よりも厚く、
前記光半導体素子は前記内部ヒートシンク上に設けられ、
前記金属製リングの内端部は前記内部ヒートシンクに接触していることを特徴とする半導体パッケージ。
【請求項２】
積層セラミック基板と、
前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた内部ヒートシンクと、
前記内部ヒートシンク上に設けられた光半導体素子と、
前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップとを備え、
前記金属製リングの内端部は前記内部ヒートシンクに接触していることを特徴とする半導体パッケージ。
【請求項３】
前記金属製リングの外端部は前記積層セラミック基板の外端部に合わされていることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体パッケージ。
【請求項４】
前記金属製リングの外端部に接合された外部ヒートシンクを更に備えることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の半導体パッケージ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る半導体パッケージは、積層セラミック基板と、前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた電極と、前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられ、前記電極に接続された光半導体素子と、前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップと、前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた内部ヒートシンクとを備え、前記金属製リングの厚みは前記電極よりも厚く、前記光半導体素子は前記内部ヒートシンク上に設けられ、前記金属製リングの内端部は前記内部ヒートシンクに接触していることを特徴とする。
【国際調査報告】
2013164876.tif 000010
2013164876.tif 000011
2013164876.tif 000012
2013164876.tif 000013