(57)【要約】高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部のビッカース硬度が９０〜１００Ｈｖの範囲であり、ターゲットの中央のエロージョン部のビッカース硬度が５５〜７０Ｈｖの範囲にあり、かつエロージョン部の結晶粒径が８０μｍ以下であることを特徴とする高純度銅スパッタリングターゲット。本発明は、バッキングプレート（ＢＰ）との接合を必要としない高純度銅スパッタリングターゲットに関し、該ターゲットのフランジ部の強度（硬度）を高めて、ターゲットの反り量を少なくすることにより、均一性（ユニフォーミティ）に優れた薄膜を形成できる高純度銅スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。また、同ターゲットにおいて、エロージョン部とフランジ部の（１１１）配向率を調製し、膜厚の均一性を向上させるものである。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部のビッカース硬度が９０〜１００Ｈｖの範囲であり、ターゲットの中央のエロージョン部のビッカース硬度が５５〜７０Ｈｖの範囲にあり、かつエロージョン部の結晶粒径が８０μｍ以下であることを特徴とする高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項２】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部の（１１１）配向率が２０〜３０％であり、ターゲットの中央のエロージョン部の（１１１）配向率が５７〜６８％であることを特徴とする高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項３】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部の（１１１）配向率が２０〜３０％であり、ターゲットの中央のエロージョン部の（１１１）配向率が５７〜６８％であることを特徴とする請求項１記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項４】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲット使用後の反り量が２．０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項５】
銅の純度が９９．９９９％（５Ｎ）以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項６】
冷間加工組織を有するフランジ部を備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項７】
ターゲットの外周から２０ｍｍ〜５０ｍｍの範囲をフランジ部とすることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スパッタリング中の変形が少なく、使用効率の高い高純度銅スパッタリングターゲットを提供するものであり、特に半導体用銅合金配線を形成するために有用な高純度銅スパッタリングターゲットに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子の配線材料としてＡｌ合金（比抵抗：３．０μΩ・ｃｍ程度）が使われてきたが、配線の微細化に伴い、より抵抗の低い銅配線（比抵抗：２．０μΩ・ｃｍ程度）が実用化されてきた。銅配線の形成プロセスとしては、配線又は配線溝にＴａやＴａＮなどの拡散バリア層を形成した後、銅をスパッタ成膜することが一般に行われる。銅は通常、純度４Ｎ（ガス成分抜き）程度の電気銅を粗金属として湿式や乾式の高純度化プロセスによって、５Ｎ〜６Ｎの高純度のものを製造し、これをスパッタリングターゲットとして使用されている。【０００３】
このように、デバイスの高性能化によりＣｕ配線が使用されるようになり、今後もこの比率は上がっていくことが予想される。一方、コスト削減のため、使用効率を上げる要望が高く、その要求を満たすためには一体型ターゲットが最適である。しかしながら、昨今のスパッタ投入パワーは非常に高く、変形の問題が指摘されている。【０００４】
ウエハ径が３００ｍｍ用のターゲットでは、投入パワーが高く使用中の変形防止にバッキングプレート（冷却板、以下「ＢＰ」と言う。）として高強度銅合金が使用されている。このため、変形量は少ないが、このＢＰが存在すると、その分だけターゲットを薄くしなければならないために、ターゲットの使用効率は低下する。【０００５】
また、本願発明において提案する一体型のターゲットと同じ考え方で、ＥＣＡＥ（Equal Channel Angular Extrusion）により歪導入により強度を持たせるという方法もある。しかし、これはターゲットスパッタ部の配向も歪をもった（２２０）が主配向となり膜厚均一性に影響を与えるという問題がある。【０００６】
従来技術を見ると、下記特許文献１に、タンタル、ニオブ、コバルト、チタン、バルブ金属からなる一体型ターゲット（モノリス型ターゲット）で、径を拡大させたフランジがあり、それを冷却体（ＢＰ）にボルト止めする構造のスパッタリングターゲットが提案されている。そして、そのフランジ部を冷間加工等により耐力、剛性を持たせることが記載されている。その目的は明確ではないが、フランジ部をＢＰにボルト止めするために、強度を高めたと予想される。しかし、その強度向上の目的と具体的内容は、明確でない。【０００７】
下記特許文献２には、Ａｌ、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒのターゲットの機械的強度が低いことに鑑み、ターゲットとバッキングプレートをＡｌ又はＡｌ合金の軟質金属材料で一体化することが記載され、冷却水の水圧により、ターゲット全体の反りの発生による水漏れ、異常放電の不具合が発生するのを抑制する提案がなされている。
この場合、ターゲットとバッキングプレートを一体化することが前提となっているので、従来の使用効率の面では劣ることが必然である。【０００８】
下記特許文献３には、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒのターゲットの機械的強度が低いことに鑑み、ターゲットとバッキングプレートをＡｌ合金の軟質金属材料で一体化すること、そしてこれをさらに冷間による塑性加工を行って、マイクロビッカース硬度を３６以上にする記載がある。そして、これにより冷却水の水圧により、ターゲット全体の反りの発生による水漏れ、異常放電の不具合が発生するのを抑制する提案がなされている。
この場合、ターゲットとバッキングプレートを一体化することが前提となっているので、従来の使用効率の面では劣ることが必然である。その他の参考例（特許文献４参照）として、重量で少なくとも９９．９９％の銅と、少なくも１〜５０ミクロンの平均結晶粒度と、約１５ｋｓｉ以上の降伏強さを有する、銅を含むスパッタリングターゲットが挙げられる。【０００９】
一般に、高純度銅スパッタリングターゲットの製作に際しては、溶解鋳造した銅インゴットを加工して、所定の寸法のターゲット形状に加工した後、表面を切削して製作される。
この場合、ターゲット材料の変形の抑制が要求される。ターゲットの変形が少ないと、表面の平滑性を維持することができ、均一性（ユニフォーミティ）に優れた薄膜を形成することができる。しかしながら、従来技術では、バッキングプレートを使用せずに、ターゲットのみで変形抑制し、使用効率を高めることを意図して高純度銅スパッタリングターゲット材料が開発された例はない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特表２００５−５３３９３０号公報
【特許文献２】特開２００１−１０７２２７号公報
【特許文献３】特開２００２−１２１６６２号公報
【特許文献４】特表２００５−５３３１８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、バッキングプレート（ＢＰ）との接合を必要としない高純度銅スパッタリングターゲットに関し、該ターゲットのフランジ部の強度（硬度、降伏応力）を高めて、ターゲットの反り量を少なくすることにより、均一性（ユニフォーミティ）に優れた薄膜を形成できる高純度銅スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。また、同ターゲットにおいて、エロージョン部とフランジ部の（１１１）配向率を調製し、膜厚の均一性を向上させるものである。これによって、微細化・高集積化が進む半導体製品の歩留まりや信頼性を向上させ、半導体用銅合金配線の形成に有用な高純度銅スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するために、本発明は、以下の発明を提供するものである。  
１）高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部のビッカース硬度が９０〜１００Ｈｖの範囲であり、ターゲットの中央のエロージョン部のビッカース硬度が５５〜７０Ｈｖの範囲にあり、かつエロージョン部の結晶粒径が８０μｍ以下であることを特徴とする高純度銅スパッタリングターゲット。【００１３】
２）高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部の（１１１）配向率が２０〜３０％であり、ターゲットの中央のエロージョン部の（１１１）配向率が５７〜６８％であることを特徴とする高純度銅スパッタリングターゲット。【００１４】
３）高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部の（１１１）配向率が２０〜３０％であり、ターゲットの中央のエロージョン部の（１１１）配向率が５７〜６８％であることを特徴とする上記１）記載の高純度銅スパッタリングターゲット。【００１５】
４）高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲット使用後の反り量が２．０ｍｍ以下であることを特徴とする上記１）〜３）のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。【００１６】
５）銅の純度が９９．９９９％（５Ｎ）以上であることを特徴とする上記１）〜４）のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。【００１７】
６）冷間加工組織を有するフランジ部を備えていることを特徴とする上記１）〜５）のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。【００１８】
７）ターゲットの外周から２０ｍｍ〜５０ｍｍの範囲をフランジ部とすることを特徴とする上記１）〜６）のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は、バッキングプレート（ＢＰ）との接合を必要としない高純度銅スパッタリングターゲットを提供するものであり、該ターゲットのフランジ部の強度（硬度、降伏応力）を高めて、ターゲットの反り量を少なくすることができ、均一性（ユニフォーミティ）に優れた薄膜を形成できる高純度銅スパッタリングターゲットを提供することができる優れた効果を有する。また、同ターゲットにおいて、エロージョン部とフランジ部の（１１１）配向率を調製し、膜厚の均一性を向上させることができる。これによって、微細化・高集積化が進む半導体製品の歩留まりや信頼性を向上させ、半導体用銅合金配線の形成に有用な高純度銅スパッタリングターゲットを提供することができる。
さらに、近年使用材料のリサイクルを考える必要があり、ＢＰ材を使用するターゲットに比べ、一体型は全てが同一材料のため、再生が容易であり、経済的にも有利であるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】ターゲットの説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
純度が９９．９９９％（５Ｎ）以上である高純度銅のスパッタリングターゲットは、機械的特性（強度）が低く、バッキングプレート（ＢＰ）を使用しなければ、使用中に反りを発生するという問題がある。このため、ターゲットに加工歪を与え強度を付加するという手法もあるが、この場合には、ターゲットは歪の残った（２２０）主配向となり、膜厚均一性が悪くなるという問題がある。
【００２２】
このため、本願発明は、ターゲットの強度の向上と、ターゲットの組織の双方を同時に改善するために、熱処理によりターゲットの中央のエロージョン部の組織、配向を調整後、ターゲットのフランジ部のみ塑性加工を施し、機械的特性（強度）を改善するものである。
ターゲットのフランジ部は、ターゲットのサイズにもよるが、通常ターゲットの外周から２０〜５０ｍｍ程度の範囲とする。この範囲は、通常のターゲットで実施する寸法であり、必要に応じて、この範囲外のターゲットを製造できることは言うまでもない。また、フランジ部は、エロージョンを受けない。ターゲットの説明図を、図１に示す。
【００２３】
本願発明は、高純度銅スパッタリングターゲットのフランジ部のビッカース硬度を９０〜１００Ｈｖの範囲とし、ターゲットの中央のエロージョン部のビッカース硬度を５５〜７０Ｈｖの範囲であり、エロージョン部の結晶粒径が８０μｍ以下である高純度銅スパッタリングターゲットを提供するものである。
通常、高純度銅スパッタリングターゲットには、純度が９９．９９９％（５Ｎ）以上、さらには純度が９９．９９９９％（６Ｎ）以上の銅を使用する。これによって、スパッタリング中又はスパッタリング後の反りを低減でき、均一性（ユニフォーミティ）に優れた薄膜を形成できる。なお、一般に反りは、エロージョン面側が凸状に発生するが、この反りを低減できる効果を有する。
【００２４】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットの該ターゲットのフランジ部の（１１１）配向率が２０〜３０％であり、ターゲットの中央のエロージョン部の（１１１）配向率が５７〜６８％である高純度銅スパッタリングターゲットを提供できる。この配向率は、膜厚の均一性を向上させる効果がある。上記に対して加工歪が残存した（２２０）配向が増加すると、膜厚の均一性が悪くなる傾向がある。
【００２５】
以上により、本願発明の高純度銅スパッタリングターゲットは、該ターゲット使用後の反り量を２．０ｍｍ以下とすることができる。ターゲット変形がなくなるので、均一性（ユニフォーミティ）に優れた薄膜を形成することができる。
【００２６】
高純度銅スパッタリングターゲットの製造は、カーボンルツボ（坩堝）内に純度が５Ｎ以上である高純度銅を入れて溶解する。このようにして得た溶湯を鋳造して、本発明の高純度の銅インゴットを得ることができる。その後、この銅のインゴットを、所定の鍛造比で熱間鍛造し、その後所定の圧下率で圧延して銅圧延板を得る。
【００２７】
これをさらに、所定の温度及び時間で熱処理する。このようにして製造した再結晶組織を備えた銅圧延板を、型鍛造等の加工手段により外周部のみに加工を施す。冷間鍛造等による加工は、３０％以上とするのが良い。この時に、予定するターゲットのエロージョン部には、歪が導入されないようにする。このように、フランジ部は冷間加工組織を有する。この後、研削及び研磨等の表面加工し、さらに仕上げ加工して、前記高純度銅から作製されたスパッタリングターゲットに製造する。
【００２８】
以上の工程は、溶解品であるが、焼結体として作製することもできる。この場合は、いずれも加工手段により外周部のみに加工を施す工程が必須となる。この時に、予定するターゲットのエロージョン部には、歪が導入されないようにする。
以上のようにして作製した高純度銅スパッタリングターゲットは、バッキングプレートには原則として溶接、拡散接合等の手段による接合はしない。
【００２９】
使用済みのターゲットはバッキングプレートとの接合部（拡散部又は溶接部）がないので、汚染されず、ターゲットの再生が容易であり、高純度材をそのまま再生できるという大きな利点がある。
【実施例】
【００３０】
次に、実施例に基づいて本発明を説明する。以下に示す実施例は、理解を容易にするためのものであり、これらの実施例によって本発明を制限するものではない。すなわち、本発明の技術思想に基づく変形及び他の実施例は、当然本発明に含まれる。【００３１】
（実施例１）
純度６Ｎの高純度銅（Ｃｕ）を、カーボンルツボ（坩堝）を用いて高真空雰囲気中で溶解した。この銅の溶湯を、高真空雰囲気中でカーボン鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットを４００°Ｃで温間鍛造を行った。次に、必要量を切断後、圧延（冷間加工度８２％）して、φ５３０×３０ｔとした後、３００°Ｃで１時間熱処理後、外周より２０ｍｍの位置までを冷間鍛造（加工度５０％）した。【００３２】
次に、これを、機械加工でターゲット部直径４３０ｍｍ、トータル厚さ２５ｍｍのターゲットに加工した。以上の結果、ターゲット部は３５μｍ程度の再結晶組織を有し、フランジ部は冷間加工により加工組織となった。この場合、フランジ部は、加工組織のため、結晶粒径は確認できない。【００３３】
このようにして作製した高純度銅スパッタリングターゲットについて、フランジ部の硬さ（ビッカース硬度Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を調べた。
この結果、フランジ部の硬さは１００Ｈｖ、エロージョン部の（１１１）配向率は６５．５％、結晶粒径は３５μｍとなった。この結果を、表１に示す。【００３４】
次に、このターゲットを用いて、スパッタリングを実施した。スパッタリング終了後の最大反りは、０．８ｍｍとなり、後述する比較例と較べて格段に向上していた。また、成膜後のユニフォーミティは、２．１％となり、膜厚均一性（ユニフォーミティ）が良好な結果を示していた。【００３５】
なお、表１において、フランジ部の硬さ（Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を同時に評価して掲載したが、これらについて、それぞれ単独で評価した場合においても、スパッタリング終了後の最大反り及び成膜後のユニフォーミティは、同様に評価できる結果を得た。【００３６】
【表１】
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【００３７】
（実施例２）
純度６Ｎの高純度銅（Ｃｕ）を、カーボンルツボ（坩堝）を用いて高真空雰囲気中で溶解した。この銅の溶湯を、高真空雰囲気中でカーボン鋳型に鋳込んでインゴットを得た。
次に、製造したインゴットを４００°Ｃで温間鍛造を行った。次に、必要量を切断後、圧延（冷間加工度８０％）して、φ５３０×３０ｔとした後、３２５°Ｃで１時間熱処理後、外周より３０ｍｍの位置までを冷間鍛造（加工度４０％）した。次に、これを、機械加工でターゲット部直径４３０ｍｍ、トータル厚さ２５ｍｍのターゲットに加工した。【００３８】
このようにして作製した高純度銅スパッタリングターゲットについて、フランジ部の硬さ（ビッカース硬度Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を調べた。
この結果、フランジ部の硬さは９５Ｈｖ、エロージョン部の（１１１）配向率は６４．３％、結晶粒径は４０μｍとなった。この結果を、表１に示す。【００３９】
次に、このターゲットを用いて、スパッタリングを実施した。スパッタリング終了後の最大反りは、１．３ｍｍとなり、後述する比較例と較べて格段に向上していた。また、成膜後のユニフォーミティは、２．２％となり、膜厚均一性（ユニフォーミティ）が良好な結果を示していた。【００４０】
なお、表１において、フランジ部の硬さ（Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を同時に評価して掲載したが、これらについて、それぞれ単独で評価した場合においても、スパッタリング終了後の最大反り及び成膜後のユニフォーミティは、同様に評価できる結果を得た。【００４１】
（実施例３）
純度６Ｎの高純度銅（Ｃｕ）を、カーボンルツボ（坩堝）を用いて高真空雰囲気中で溶解した。この銅の溶湯を、高真空雰囲気中でカーボン鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットを４００°Ｃで温間鍛造を行った。次に、必要量を切断後、圧延（冷間加工度８０％）して、φ５３０×３０ｔとした後、３２５°Ｃで１時間熱処理後、外周より４０ｍｍの位置までを冷間鍛造（加工度４０％）した。次に、これを、機械加工でターゲット部直径４３０ｍｍ、トータル厚さ２５ｍｍのターゲットに加工した。【００４２】
このようにして作製した高純度銅スパッタリングターゲットについて、フランジ部の硬さ（ビッカース硬度Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を調べた。
この結果、フランジ部の硬さは９５Ｈｖ、エロージョン部の（１１１）配向率は６７．１％、結晶粒径は４０μｍとなった。この結果を、表１に示す。【００４３】
次に、このターゲットを用いて、スパッタリングを実施した。スパッタリング終了後の最大反りは、１．２ｍｍとなり、後述する比較例と較べて格段に向上していた。また、成膜後のユニフォーミティは、２．３％となり、膜厚均一性（ユニフォーミティ）が良好な結果を示していた。【００４４】
なお、表１において、フランジ部の硬さ（Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を同時に評価して掲載したが、これらについて、それぞれ単独で評価した場合においても、スパッタリング終了後の最大反り及び成膜後のユニフォーミティは、同様に評価できる結果を得た。【００４５】
（実施例４）
純度６Ｎの高純度銅（Ｃｕ）を、カーボンルツボ（坩堝）を用いて高真空雰囲気中で溶解した。この銅の溶湯を、高真空雰囲気中でカーボン鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットを４００°Ｃで温間鍛造を行った。次に、必要量を切断後、圧延（冷間加工度７８％）して、φ５３０×３０ｔとした後、３５０°Ｃで１時間熱処理後、外周より５０ｍｍの位置までを冷間鍛造（加工度３０％）した。次に、これを、機械加工でターゲット部直径４３０ｍｍ、トータル厚さ２５ｍｍのターゲットに加工した。【００４６】
このようにして作製した高純度銅スパッタリングターゲットについて、フランジ部の硬さ（ビッカース硬度Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を調べた。
この結果、フランジ部の硬さは９０Ｈｖ、エロージョン部の（１１１）配向率は６８．３％、結晶粒径８０μｍとなった。この結果を、表１に示す。【００４７】
次に、このターゲットを用いて、スパッタリングを実施した。スパッタリング終了後の最大反りは、１．６ｍｍとなり、後述する比較例と較べて格段に向上していた。また、成膜後のユニフォーミティは、２．５％となり、膜厚均一性（ユニフォーミティ）が良好な結果を示していた。【００４８】
なお、表１において、フランジ部の硬さ（Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を同時に評価して掲載したが、これらについて、それぞれ単独で評価した場合においても、スパッタリング終了後の最大反り及び成膜後のユニフォーミティは、同様に評価できる結果を得た。【００４９】
（比較例１）
純度６Ｎの高純度銅（Ｃｕ）を、カーボンルツボ（坩堝）を用いて高真空雰囲気中で溶解した。この銅の溶湯を、高真空雰囲気中でカーボン鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットを４００°Ｃで温間鍛造を行った。次に、必要量を切断後、圧延（冷間加工度７８％）して、φ５３０×３０ｔとした後、３７５°Ｃで１時間熱処理後、これを、機械加工でターゲット部直径４３０ｍｍ、トータル厚さ２５ｍｍのターゲットに加工した。【００５０】
このようにして作製した高純度銅スパッタリングターゲットについて、フランジ部の硬さ（ビッカース硬度Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を調べた。
この結果、フランジ部の硬さは５８Ｈｖ、エロージョン部の（１１１）配向率は６６．３％、結晶粒径は１２０μｍとなった。この結果を、表１に示す。【００５１】
次に、このターゲットを用いて、スパッタリングを実施した。スパッタリング終了後の最大反りは、４．２ｍｍとなり、実施例と較べて悪化した。また、成膜後のユニフォーミティは、３．８％となり、膜厚均一性（ユニフォーミティ）も悪くなった。【００５２】
（比較例２）
純度６Ｎの高純度銅（Ｃｕ）を、カーボンルツボ（坩堝）を用いて高真空雰囲気中で溶解した。この銅の溶湯を、高真空雰囲気中でカーボン鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットを４００°Ｃで温間鍛造を行った。次に、必要量を切断後、圧延（冷間加工度７８％）して、φ５３０×３０ｔとした後、３５０°Ｃで１時間熱処理後、外周より３０ｍｍの位置までを冷間鍛造（加工度１０％）した。これを、機械加工でターゲット部直径４３０ｍｍ、トータル厚さ２５ｍｍのターゲットに加工した。【００５３】
このようにして作製した高純度銅スパッタリングターゲットについて、フランジ部の硬さ（ビッカース硬度Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を調べた。
この結果、フランジ部の硬さは６３Ｈｖ、エロージョン部の（１１１）配向率は６８．１％、結晶粒径は７０μｍとなった。この結果を、表１に示す。【００５４】
次に、このターゲットを用いて、スパッタリングを実施した。スパッタリング終了後の最大反りは、３．６ｍｍとなり、実施例と較べて悪化した。また、成膜後のユニフォーミティは、３．３％となり、膜厚均一性（ユニフォーミティ）も悪くなった。【００５５】
（比較例３）
純度６Ｎの高純度銅（Ｃｕ）を、カーボンルツボ（坩堝）を用いて高真空雰囲気中で溶解した。この銅の溶湯を、高真空雰囲気中でカーボン鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットを４００°Ｃで温間鍛造を行った。次に、必要量を切断後、圧延（冷間加工度８０％）して、φ５３０×３０ｔとした後、３２５°Ｃで１時間熱処理後、外周より４０ｍｍの位置までを冷間鍛造（加工度１０％）した。これを、機械加工でターゲット部直径４３０ｍｍ、トータル厚さ２５ｍｍのターゲットに加工した。【００５６】
このようにして作製した高純度銅スパッタリングターゲットについて、フランジ部の硬さ（ビッカース硬度Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を調べた。
この結果、フランジ部の硬さは６５Ｈｖ、エロージョン部の（１１１）配向率は６７．２％、結晶粒径は４５μｍとなった。この結果を、表１に示す。【００５７】
次に、このターゲットを用いて、スパッタリングを実施した。スパッタリング終了後の最大反りは、３．５ｍｍとなり、実施例と較べて悪化した。また、成膜後のユニフォーミティは、３．６％となり、膜厚均一性（ユニフォーミティ）も悪くなった。【００５８】
（比較例４）
純度６Ｎの高純度銅（Ｃｕ）を、カーボンルツボ（坩堝）を用いて高真空雰囲気中で溶解した。この銅の溶湯を、高真空雰囲気中でカーボン鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットを４００°Ｃで温間鍛造を行った。次に、必要量を切断後、圧延（冷間加工度８２％）して、φ５３０×３０ｔとした後、３００°Ｃで１時間熱処理後、外周より５０ｍｍの位置までを冷間鍛造（加工度２０％）した。これを、機械加工でターゲット部直径４３０ｍｍ、トータル厚さ２５ｍｍのターゲットに加工した。【００５９】
このようにして作製した高純度銅スパッタリングターゲットについて、フランジ部の硬さ（ビッカース硬度Ｈｖ）、エロージョン部の（１１１）配向率（％）、結晶粒径（μｍ）を調べた。
この結果、フランジ部の硬さは６８Ｈｖ、エロージョン部の（１１１）配向率は６５．３％、結晶粒径は３５μｍとなった。この結果を、表１に示す。【００６０】
次に、このターゲットを用いて、スパッタリングを実施した。スパッタリング終了後の最大反りは、３．３ｍｍとなり、実施例と較べて悪化した。また、成膜後のユニフォーミティは、３．７％となり、膜厚均一性（ユニフォーミティ）も悪くなった。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明の高純度銅スパッタリングターゲットは、バッキングプレート（ＢＰ）との接合を必要としない高純度銅スパッタリングターゲットを提供するものであり、該ターゲットのフランジ部の強度（硬度）を高めて、ターゲットの反り量を少なくすることができ、均一性（ユニフォーミティ）に優れた薄膜を形成できる高純度銅スパッタリングターゲットを提供することができる優れた効果を有する。また、同ターゲットにおいて、エロージョン部とフランジ部の（１１１）配向率を調製し、膜厚の均一性を向上させることができる。これによって、微細化・高集積化が進む半導体製品の歩留まりや信頼性を向上させ、半導体用銅合金配線の形成に有用な高純度銅スパッタリングターゲットに有用である。
さらに、近年使用材料のリサイクルを考える必要があり、ＢＰ材を使用するターゲットに比べ、一体型は全てが同一材料のため、再生が容易であり、経済的にも有利であるという効果を有する。
【図１】
2013105424.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月16日(2013.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部の（１１１）配向率が２０〜３０％であり、ターゲットの中央のエロージョン部の（１１１）配向率が５７〜６８％であることを特徴とする高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項２】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部のビッカース硬度が９０〜１００Ｈｖの範囲であり、ターゲットの中央のエロージョン部のビッカース硬度が５５〜７０Ｈｖの範囲にあり、かつエロージョン部の結晶粒径が８０μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項３】
（削除）
【請求項４】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲット使用後の反り量が２．０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜２のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項５】
銅の純度が９９．９９９％（５Ｎ）以上であることを特徴とする請求項１〜２、４のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項６】
冷間加工組織を有するフランジ部を備えていることを特徴とする請求項１〜２、４、５のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項７】
ターゲットの外周から２０ｍｍ〜５０ｍｍの範囲をフランジ部とすることを特徴とする請求項１〜２、４、５、６のいずれか一項記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月3日(2014.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部の（１１１）配向率が２０〜３０％であり、ターゲットの中央のエロージョン部の（１１１）配向率が５７〜６８％であることを特徴とする高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項２】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲットのフランジ部のビッカース硬度が９０〜１００Ｈｖの範囲であり、ターゲットの中央のエロージョン部のビッカース硬度が５５〜７０Ｈｖの範囲にあり、かつエロージョン部の結晶粒径が８０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項３】
高純度銅スパッタリングターゲットであって、該ターゲット使用後の反り量が２．０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜２のいずれか一項に記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項４】
銅の純度が９９．９９９％（５Ｎ）以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項５】
冷間加工組織を有するフランジ部を備えていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【請求項６】
ターゲットの外周から２０ｍｍ〜５０ｍｍの範囲をフランジ部とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の高純度銅スパッタリングターゲット。
【国際調査報告】
2013105424.tif 000005
2013105424.tif 000006