(57)【要約】  縦型トランジスタＳＧＴで構成されたＬｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭにおいて、小さいＳＲＡＭセル面積を実現する。  ４個のＭＯＳトランジスタを用いて構成されたスタティック型メモリセルにおいて、前記ＭＯＳトランジスタはＳＯＩ基板上に形成されたドレイン、ゲート、ソースが垂直方向に配置されたＳＧＴであり、アクセストランジスタのゲートをワードラインとして横方向に隣接する複数のセルで共通化し、ワードラインへのコンタクトを複数のセルごとに１個形成することにより、非常に小さいメモリセル面積を持つＣＭＯＳ型Ｌｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭを実現することができる。
2013121536.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４個のＭＯＳトランジスタが基板上に形成された絶縁膜上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記４個のＭＯＳトランジスタの各々は、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを書き込み及び読み出しするために記憶ノードを駆動する第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタとして機能し、
前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタにおいて、
Ｐ型の導電型を持つ第１の拡散層、第１の柱状半導体層及びＰ型の導電型を持つ第２の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第１の柱状半導体層は前記第１の柱状半導体層の底部に形成される前記第１の拡散層と前記第１の柱状半導体層の上部に形成される前記第２の拡散層の間に配置され、前記第１の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタにおいて、
Ｎ型の導電型を持つ第３の拡散層、第２の柱状半導体層及びＮ型の導電型を持つ第４の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第２の柱状半導体層は前記第２の柱状半導体層の底部に形成される前記第３の拡散層と前記第１の柱状半導体層の上部に形成される前記第４の拡散層の間に配置され、前記第２の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタ及び前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタ及び前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
データを保持する第１の記憶ノードとして機能する、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタの底部に形成されるＰ型の導電型を持つ前記第１の拡散層及び前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタの底部に形成されるＮ型の導電型を持つ前記第３の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第１の記憶ノードとして機能する、前記第１の拡散層、前記第３の拡散層は相互に接続され、
データを保持する第２の記憶ノードとして機能する、前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの底部に形成されるＰ型の導電型を持つ前記第１の拡散層及び前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタの底部に形成されるＮ型の導電型を持つ前記第３の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第２の記憶ノードとして機能する、前記第１の拡散層、前記第３の拡散層は相互に接続され、
前記第１及び前記第２のＰＭＯＳのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第１のゲート配線により互いに接続され、前記第１のゲート配線は隣接する複数のメモリセルにおける前記第１及び前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第１のゲート配線上に第１のコンタクトが形成されることを特徴とする半導体記憶装置。
【請求項２】
前記ワード線である前記第１のゲート配線上に前記第１のコンタクトが形成される領域において、メモリセルの領域と同様にピラーが配置されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項３】
前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタのゲートより延在する第２のゲート配線が、前記第２の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第２のコンタクトにより接続され、
前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタのゲートより延在する第３のゲート配線が、前記第１の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第３のコンタクトにより接続されることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項４】
前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、
又は前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つことを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項５】
前記４個のＭＯＳトランジスタは、前記絶縁膜上に２行２列に配列され、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタは１行１列目に配列され、
前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは２行１列目に配列され、
前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタは１行２列目に配列され、
前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは２行２列目に配列されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項６】
前記４個のＭＯＳトランジスタは前記絶縁膜上に配列され、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタは隣接して配列され、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと隣接して配列され、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタと隣接して配列されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体記憶装置に関し、特にＳＲＡＭ（Ｓｔａｔｉｃ Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）からなる半導体記憶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の高集積化、高性能化を実現するため、半導体基板の表面に柱状半導体を形成し、その側壁に柱状半導体層を取り囲むように形成されたゲートを有する縦型ゲートトランジスタであるＳＧＴ（Ｓｕｒｒｏｕｎｄｉｎｇ Ｇａｔｅ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が提案された（例えば、特許文献１：特開平２−１８８９６６）。ＳＧＴではドレイン、ゲート、ソースが垂直方向に配置されるため、従来のプレーナー型トランジスタに比べて占有面積を大幅に縮小することができる。【０００３】
ＳＧＴを用いてＬＳＩ（大規模集積回路）を構成する場合、それらのキャッシュ用メモリとしてＳＧＴの組み合わせで構成されるＳＲＡＭを用いることが必須である。近年、ＬＳＩに搭載されるＳＲＡＭに対する大容量化の要求は非常に強いため、ＳＧＴを用いた場合にも小さいセル面積を持つＳＲＡＭを実現することが必須である。【０００４】
特許文献２（国際公開番号Ｗ０２００９／０９６４６６）に４個のＳＧＴを用いてＳＯＩ基板上に形成されたＬｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭが示されている。Ｌｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭの等価回路図を図１に示す。また、特許文献２のＬｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭの平面図を図２１に、断面図を図２２に示す。【０００５】
図１に示したＬｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭの等価回路を用いて、Ｌｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭの動作原理について以下に示す。Ｌｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭはＰＭＯＳであるメモリにアクセスするための２個のアクセストランジスタとＮＭＯＳであるメモリを駆動するための２個のドライバトランジスタの計４個のトランジスタにより構成されている。
以下に図１のメモリセルの動作の一例として、記憶ノードＱａ１に“Ｌ”のデータが、記憶ノードＱｂ１に“Ｈ”のデータが記憶されている場合のデータの保持動作について説明する。データ保持中はワード線ＷＬ１、ビット線ＢＬ１およびＢＬＢ１はすべて“Ｈ”電位に駆動されている。アクセストランジスタ（Ｑｐ１１、Ｑｐ２１）のオフリーク電流はドライバトランジスタのオフリーク電流より、例えば１０倍〜１０００倍程度大きくなるように設定されている。このため、記憶ノードＱｂ１の“Ｈ”レベルはアクセストランジスタＱｐ２１を通してビット線ＢＬＢ１から記憶ノードＱｂ１にＯｆｆリーク電流が流れることにより保持される。一方、記憶ノードＱａ１の“Ｌ”レベルはドライバトランジスタＱｎ１１により安定して保持される。【０００６】
図２１に従来のＳＲＡＭメモリセルのレイアウト図を示す。ＳＲＡＭセルアレイ内においては図２１に示したユニットセルＵＣが繰り返し配置されている。図２２（ａ）〜（ｄ）に図２１のレイアウト図のカットラインＡ−Ａ’、Ｂ−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’及びＤ−Ｄ’における断面構造をそれぞれ示す。【０００７】
まず、図２１及び図２２を用いて特許文献２の実施例１のＳＲＡＭセルのレイアウトについて説明する。
記憶ノード（６０２ａ、６０２ｂ）は埋め込み酸化膜層６０１上に形成されたシリコン層により形成されており、上記シリコン層は不純物注入等を行うことにより、Ｎ＋拡散層領域（６０４ａ、６０４ｂ）およびＰ＋拡散層領域（６０３ａ、６０３ｂ）から構成されている。Ｑｐ１６およびＱｐ２６はアクセストランジスタ、Ｑｎ１６およびＱｎ２６はドライバトランジスタを示している。記憶ノード６０２ａ上に形成されるコンタクト６１０ａはノード接続配線Ｎａ６によりドライバトランジスタＱｎ２６のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト６１１ｂと接続され、記憶ノード６０２ｂ上に形成されるコンタクト６１０ｂはノード接続配線Ｎｂ６によりドライバトランジスタＱｎ１６のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト６１１ａと接続される。アクセストランジスタＱｐ１６上部に形成されるコンタクト６０６ａはビット線ＢＬ６に接続され、アクセストランジスタＱｐ２６上部に形成されるコンタクト６０６ｂはビット線ＢＬＢ６に接続される。アクセストランジスタＱｐ１６およびＱｐ２６のゲート電極から延在するゲート配線上に形成されるコンタクト６０７はワード線ＷＬ６に接続される。また、ドライバトランジスタ（Ｑｎ１６、Ｑｎ２６）上部に形成されるコンタクト（６０８ａ、６０８ｂ）はともに接地電位である配線層Ｖｓｓ６に接続される。【０００８】
続いて、図２２の断面図を用いて特許文献２の実施例１のＳＲＡＭセルの構造について説明する。
図２２（ａ）より、埋め込み酸化膜層６０１上に記憶ノード（６０２ａ、６０２ｂ）であるシリコン層よりなるＰ＋ソース拡散層（６０３ａ、６０３ｂ）がそれぞれ形成されている。ソース拡散層上にはシリサイド層（６１３ａ、６１３ｂ）が形成されている。Ｐ＋ソース拡散層領域６０３ａ上にアクセストランジスタＱｐ１６を形成する柱状シリコン層６２１ａが形成され、Ｐ＋ソース拡散層領域６０３ｂ上にアクセストランジスタＱｐ２６を形成する柱状シリコン層６２１ｂが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜６１７およびゲート電極６１８が形成されている。柱状シリコン層上部にはＰ＋ドレイン拡散層領域６１６が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層６１５が形成されている。アクセストランジスタＱｐ１６上に形成されるコンタクト６０６ａはビット線ＢＬ６に接続され、アクセストランジスタＱｐ２６上に形成されるコンタクト６０６ｂはビット線ＢＬＢ６に接続され、アクセストランジスタＱｐ１６およびＱｐ２６のゲートより延在するゲート配線６１８ａ上に形成されるコンタクト６０７はワード線ＷＬ６に接続される。【０００９】
図２２（ｂ）より、埋め込み酸化膜層６０１上に記憶ノード（６０２ａ、６０２ｂ）であるシリコン層よりなるＮ＋ソース拡散層（６０４ａ、６０４ｂ）がそれぞれ形成されている。ソース拡散層上にはシリサイド層（６１３ａ、６１３ｂ）が形成されている。ドライバトランジスタＱｎ１６のゲート電極から延在するゲート配線６１８ｂ上に形成されるコンタクト６１１ａは記憶ノード接続配線Ｎａ６を通じてＮ＋ソース拡散層６０４ｂ上に形成されるコンタクト６１０ｂに接続される。【００１０】
図２２（ｃ）より、埋め込み酸化膜層６０１上に記憶ノードであるシリコン層よりなるＮ＋ソース拡散層（６０４ａ、６０４ｂ）が形成されている。Ｎ＋ソース拡散層上にはシリサイド層（６１３ａ、６１３ｂ）が形成されている。Ｎ＋ソース拡散層領域６０４ａにドライバトランジスタＱｎ１６を形成する柱状シリコン層６２２ａが形成され、Ｎ＋ソース拡散層領域６０４ｂにドライバトランジスタＱｎ２６を形成する柱状シリコン層６２２ｂが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜６１７およびゲート電極６１８が形成されている。柱状シリコン層上部にはＮ＋ドレイン拡散層領域６１４が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層６１５が形成されている。ドライバトランジスタ（Ｑｎ１６、Ｑｎ２６）上に形成されるコンタクト（６０８ａ、６０８ｂ）はともに配線層を通して接地電位Ｖｓｓ６に接続される。【００１１】
図２２（ｄ）より、埋め込み酸化膜層６０１上に記憶ノードであるシリコン層よりなるＰ＋ソース拡散層６０３ａおよびＮ＋ソース拡散層６０４ａが形成される。ソース拡散層上にはシリサイド層６１３ａが形成され、シリサイド層６１３ａによってＰ＋ソース拡散層６０３ａとＮ＋ソース拡散層６０４ａは接続されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
図２１及び図２２の４Ｔ−ＳＲＡＭセルにおいては、アクセストランジスタ間のゲート上に形成されるワード線コンタクトにより、上下方向にデッドスペースが発生し、効率的に小さいＳＲＡＭセルを形成することができない。【００１３】
本発明は上記の事情を鑑みてなされたもので、従来提案されていたＳＧＴを用いたＬｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭより、さらにセル面積の小さいＳＧＴを用いたＬｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭセルを実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明は、４個のＭＯＳトランジスタが基板上に形成された絶縁膜上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記４個のＭＯＳトランジスタの各々は、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを書き込み及び読み出しするために記憶ノードを駆動する第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタとして機能し、
前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタにおいて、
Ｐ型の導電型を持つ第１の拡散層、第１の柱状半導体層及びＰ型の導電型を持つ第２の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第１の柱状半導体層は前記第１の柱状半導体層の底部に形成される前記第１の拡散層と前記第１の柱状半導体層の上部に形成される前記第２の拡散層の間に配置され、前記第１の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタにおいて、
Ｎ型の導電型を持つ第３の拡散層、第２の柱状半導体層及びＮ型の導電型を持つ第４の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第２の柱状半導体層は前記第２の柱状半導体層の底部に形成される前記第３の拡散層と前記第１の柱状半導体層の上部に形成される前記第４の拡散層の間に配置され、前記第２の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタ及び前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタ及び前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
データを保持する第１の記憶ノードとして機能する、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタの底部に形成されるＰ型の導電型を持つ前記第１の拡散層及び前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタの底部に形成されるＮ型の導電型を持つ前記第３の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第１の記憶ノードとして機能する、前記第１の拡散層、前記第３の拡散層は相互に接続され、
データを保持する第２の記憶ノードとして機能する、前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの底部に形成されるＰ型の導電型を持つ前記第１の拡散層及び前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタの底部に形成されるＮ型の導電型を持つ前記第３の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第２の記憶ノードとして機能する、前記第１の拡散層、前記第３の拡散層は相互に接続され、
前記第１及び前記第２のＰＭＯＳのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第１のゲート配線により互いに接続され、前記第１のゲート配線は隣接する複数のメモリセルにおける前記第１及び前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第１のゲート配線上に第１のコンタクトが形成されることを特徴とする半導体記憶装置を提供する。
本発明の好ましい態様では、前記ワード線である前記第１のゲート配線上に前記第１のコンタクトが形成される領域において、メモリセルと同様にピラーが配置されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
別の好ましい態様では、前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタのゲートより延在する第２のゲート配線が、前記第２の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第２のコンタクトにより接続され、前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタのゲートより延在する第３のゲート配線が、前記第１の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第３のコンタクトにより接続されることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、又は前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記４個のＭＯＳトランジスタは、前記絶縁膜上に２行２列に配列され、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタは１行１列目に配列され、前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは２行１列目に配列され、前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタは１行２列目に配列され、前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは２行２列目に配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記４個のＭＯＳトランジスタは前記絶縁膜上に配列され、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタは隣接して配列され、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと隣接して配列され、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタと隣接して配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明のＳＲＡＭを示す等価回路である。
【図２】本発明の第１の実施例を示すＳＲＡＭの平面図である。
【図３】本発明の第１の実施例を示すＳＲＡＭの平面図である。
【図４（ａ）】本発明の第１の実施例を示すＳＲＡＭの断面図である。
【図４（ｂ）】本発明の第１の実施例を示すＳＲＡＭの断面図である。
【図４（ｃ）】本発明の第１の実施例を示すＳＲＡＭの断面図である。
【図４（ｄ）】本発明の第１の実施例を示すＳＲＡＭの断面図である。
【図４（ｅ）】本発明の第１の実施例を示すＳＲＡＭの断面図である。
【図５】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図６】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図７】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図８】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図９】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図１０】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図１１】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図１２】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図１３】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図１４】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図１５】本発明の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図１６】本発明の第２の実施例を示すＳＲＡＭの平面図である。
【図１７】本発明の第３の実施例を示すＳＲＡＭの平面図である。
【図１８】本発明の第４の実施例を示すＳＲＡＭの平面図である。
【図１９】本発明の第５の実施例を示すＳＲＡＭの平面図である。
【図２０】本発明の第５の実施例を示すＳＲＡＭの平面図である。
【図２１】従来のＳＧＴを用いたＳＲＡＭを示す平面図である。
【図２２（ａ）】従来のＳＧＴを用いたＳＲＡＭを示す断面図である。
【図２２（ｂ）】従来のＳＧＴを用いたＳＲＡＭを示す断面図である。
【図２２（ｃ）】従来のＳＧＴを用いたＳＲＡＭを示す断面図である。
【図２２（ｄ）】従来のＳＧＴを用いたＳＲＡＭを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
図２に本発明の第１の実施例におけるＳＲＡＭメモリセルのレイアウト図を示す。ＳＲＡＭメモリセルアレイ内においては図２に示したユニットセルＵＣが繰り返し配置されている。図３（ａ）〜（ｄ）に図２のレイアウト図のカットラインＡ−Ａ’、Ｂ−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’及びＤ−Ｄ’における断面構造をそれぞれ示す。
【実施例１】
【００１７】
まず図２のレイアウト図を参考にして本実施例について説明する。
Ｑｐ１１およびＱｐ２１はＰＭＯＳであるメモリセルにアクセスするためのアクセストランジスタであり、Ｑｎ１１およびＱｎ２１はＮＭＯＳであるメモリセルを駆動するドライバトランジスタである。
本実施例では、１つのユニットセルＵＣは、基板上に２行２列に配列されたトランジスタを備えている。１列目には、第１の記憶ノードＱａ１上に、図の上側からアクセストランジスタＱｐ１１及びドライバトランジスタＱｎ１１がそれぞれ配列されている。また、２列目には、第２の記憶ノードＱｂ１上に、図の上側からアクセストランジスタＱｐ２１及びドライバトランジスタＱｎ２１がそれぞれ配列されている。また、アクセストランジスタのゲートから延在するゲート配線１３４は横方向に隣接する複数のメモリセルと共通化され、ワード線を形成している。本実施例のＳＲＡＭセルアレイは、このような４個のトランジスタを備えたユニットセルＵＣを図の上下方向に連続的に配列することにより構成される。【００１８】
記憶ノード（１０２ａ、１０２ｂ）は埋め込み酸化膜層１０１上に形成されたシリコン層により形成されており、上記シリコン層は不純物注入等を行うことにより、Ｎ＋拡散層領域（１０４ａ、１０４ｂ）およびＰ＋拡散層領域（１０３ａ、１０３ｂ）から構成されている。Ｑｐ１１およびＱｐ２１はアクセストランジスタ、Ｑｎ１１およびＱｎ２１はドライバトランジスタを示している。記憶ノード１０２ａ上に形成されるコンタクト１１０ａはノード接続配線Ｎａ１によりドライバトランジスタＱｎ２１のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト１１１ｂと接続され、記憶ノード１０２ｂ上に形成されるコンタクト１１０ｂはノード接続配線Ｎｂ１によりドライバトランジスタＱｎ１１のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト１１１ａと接続される。ドライバトランジスタ（Ｑｎ１１、Ｑｎ２１）上部に形成されるコンタクト（１０８ａ、１０８ｂ）はともに接地電位である配線層Ｖｓｓ１に接続される。アクセストランジスタＱｐ１１上部に形成されるコンタクト１０６ａはビット線ＢＬ１に接続され、アクセストランジスタＱｐ２１上部に形成されるコンタクト１０６ｂはビット線ＢＬＢ１に接続される。アクセストランジスタＱｐ１１およびＱｐ２１のゲート電極から延在するゲート配線（１１８ａ）はワード線として横方向に隣接する複数のメモリセルに接続されている。
階層的な配線の構成の一例として、ノード接続配線Ｎａ１、ノード接続配線Ｎｂ１、及び接地電位の配線Ｖｓｓ１を下層の配線で形成し、ビット線（ＢＬ１、ＢＬＢ１）を上層の配線で形成する構成が実現可能である。【００１９】
図３（ａ）に複数のＳＲＡＭメモリセルからなるＳＲＡＭメモリセルアレイの一部の平面図を示す。
図におけるＣｅｌｌ  ａｒｒａｙ  Ａｒｅａにおいては複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置された複数のメモリセルにおいて、ワード線１１８ａが共通化されている。ワード線はＣｏｎｔａｃｔ  Ａｒｅａに形成されたコンタクト１０７により上層の配線に接続され、必要に応じて配線層で裏打ちされる。このため、特許文献２のＳＲＡＭセルとは異なり、各々のセルにワード線へのコンタクトを形成する必要がないので、ＳＲＡＭセル面積を縮小することができる。
ワード線１１８ａに複数のセルを接続することにより、ワード線コンタクト１０７から遠い側のセルにおいてはワード線の信号の遅延による読み出しや書き込みの遅延が問題になる可能性がある。このため、ワード線に接続するセルの数は、各デバイスの設計仕様等に基づいて読み出しや書き込みの遅延が問題ない範囲で決めることができる。
図３（ｂ）に他の場合における複数のＳＲＡＭセルからなるＳＲＡＭセルアレイの一部の平面図を示す。図におけるＣｅｌｌ  ａｒｒａｙ  Ａｒｅａにおいても同様に、複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置されたメモリセルにおいて、ワード線１１８ａが共通化されている。しかし、図３（ｂ）においてはＣｏｎｔａｃｔ  Ａｒｅａにおいても、Ｃｅｌｌ  ａｒｒａｙ  Ａｒｅａと同様にピラーが配置されている。このようにＣｏｎｔａｃｔ   Ａｒｅａにおいてもピラーをメモリセル領域と同じパターンで配置することにより、Ｃｏｎｔａｃｔ  ＡｒｅａにおいてもＣｅｌｌ  ａｒｒａｙ内と同じピラー配置の規則性を保つことができるため、Ｃｏｎｔａｃｔ  Ａｒｅａに隣接するピラーとＣｏｎｔａｃｔ  Ａｒｅａに隣接していないピラー間の寸法の差を小さくすることができ、Ｃｏｎｔａｃｔ  Ａｒｅａに隣接するＳＧＴの特性とＣｏｎｔａｃｔ  Ａｒｅａに隣接していないＳＧＴ特性の誤差を最小限に抑えることができる。
図３においては、一例として実施例１のレイアウトを用いてワード線及びワード線コンタクトの構成について述べたが、実際には実施例１のレイアウトに限定されるものではなく、他の実施例のレイアウトにおいても同様なワード線及びワード線コンタクトの構成を適用することができる。【００２０】
本発明において、ＳＲＡＭを構成する各トランジスタのソースおよびドレインを以下のように定義する。ドライバトランジスタ（Ｑｎ１１、Ｑｎ２１）については、接地電圧に接続される柱状半導体層の上部に形成される拡散層をソース拡散層、柱状半導体層の下部に形成される拡散層をドレイン拡散層と定義する。アクセストランジスタ（Ｑｐ１１、Ｑｐ２１）については、動作状態によっては柱状半導体層の上部に形成される拡散層および下部に形成される拡散層がともにソースまたはドレインになるが、便宜的に柱状半導体層の上部に形成される拡散層をソース拡散層、柱状半導体層の下部に形成される拡散層をドレイン拡散層と定義する。【００２１】
続いて、図４の断面構造を参照して本発明について説明する。
図４（ａ）より、埋め込み酸化膜層１０１上に記憶ノード（１０２ａ、１０２ｂ）であるシリコン層よりなるＰ＋ソース拡散層（１０３ａ、１０３ｂ）がそれぞれ形成されている。ソース拡散層上にはシリサイド層（１１３ａ、１１３ｂ）が形成されている。Ｐ＋ソース拡散層領域１０３ａ上にアクセストランジスタＱｐ１１を形成する柱状シリコン層１２１ａが形成され、Ｐ＋ソース拡散層領域１０３ｂ上にアクセストランジスタＱｐ２１を形成する柱状シリコン層１２１ｂが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜１１７およびゲート電極１１８が形成されている。柱状シリコン層上部にはＰ＋ドレイン拡散層領域１１６が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層１１５が形成されている。アクセストランジスタＱｐ１１上に形成されるコンタクト１０６ａはビット線ＢＬ１に接続され、アクセストランジスタＱｐ２１上に形成されるコンタクト１０６ｂはビット線ＢＬＢ１に接続される。【００２２】
図４（ｂ）より、埋め込み酸化膜層１０１上に記憶ノード（１０２ａ、１０２ｂ）であるシリコン層よりなるＮ＋ソース拡散層（１０４ａ、１０４ｂ）がそれぞれ形成されている。ソース拡散層上にはシリサイド層（１１３ａ、１１３ｂ）が形成されている。ドライバトランジスタＱｎ１１のゲート電極から延在するゲート配線１１８ｂ上に形成されるコンタクト１１１ａは記憶ノード接続配線Ｎａを通じてＮ＋ソース拡散層１０４ｂ上に形成されるコンタクト１１０ｂに接続される。【００２３】
図４（ｃ）より、埋め込み酸化膜層１０１上に記憶ノードであるシリコン層よりなるＮ＋ソース拡散層（１０４ａ、１０４ｂ）が形成されている。Ｎ＋ソース拡散層上にはシリサイド層（１１３ａ、１１３ｂ）が形成されている。Ｎ＋ソース拡散層領域１０４ａにドライバトランジスタＱｎ１１を形成する柱状シリコン層１２２ａが形成され、Ｎ＋ソース拡散層領域１０４ｂにドライバトランジスタＱｎ２１を形成する柱状シリコン層１２２ｂが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜１１７およびゲート電極１１８が形成されている。柱状シリコン層上部にはＮ＋ドレイン拡散層領域１１４が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層１１５が形成されている。ドライバトランジスタ（Ｑｎ１１、Ｑｎ２１）上に形成されるコンタクト（１０８ａ、１０８ｂ）はともに配線層を通して接地電位Ｖｓｓ１に接続される。【００２４】
図４（ｄ）より、埋め込み酸化膜層１０１上に記憶ノードであるシリコン層よりなるＰ＋ソース拡散層１０３ａおよびＮ＋ソース拡散層１０４ａが形成される。ソース拡散層上にはシリサイド層１１３ａが形成され、シリサイド層１１３ａによってＰ＋ソース拡散層１０３ａとＮ＋ソース拡散層１０４ａは接続されている。
本実施例においてはシリサイドによってＮ＋ソース拡散層とＰ＋ソース拡散層が接続されているが、Ｎ＋ソース拡散層とＰ＋ソース拡散層間の接触抵抗が十分小さい場合にはシリサイドを形成する必要はない。また、シリサイドでＮ＋ソース拡散層とＰ＋ソース拡散層を接続する代わりにコンタクトでＮ＋ソース拡散層とＰ＋ソース拡散層で裏打ちすることによって接続したり、他の方法でＮ＋ソース拡散層とＰ＋ソース拡散層を接続してもよい。【００２５】
図４（ｅ）に図３（ａ）のＥ−Ｅ’における断面構造を示す。
埋め込み酸化膜層１０１上に左側のセル及び右側のセルのシリコン層よりなるＰ＋ソース拡散層１０３が形成されている。それぞれのソース拡散層上にはシリサイド層１１３が形成されている。それぞれのＰ＋ソース拡散層領域１０３上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層１２１が形成され、Ｐ＋ソース拡散層領域１０３上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層１２１が形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜１１７およびゲート電極１１８が形成されている。柱状シリコン層上部にはＰ＋ドレイン拡散層領域１１６が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層１１５が形成されている。それぞれのアクセストランジスタ上に形成されるコンタクト１０６はビット線に接続され、ワード線１１８ａ上に形成されるコンタクト１０７は上層の配線層により形成されるより低抵抗なワード線に接続される。【００２６】
以下に本発明の半導体装置を形成するための製造方法の一例を図５〜図１３を参照して説明する。各図において（ａ）は平面図、（ｂ）はＤ−Ｄ’間の断面図を示している。【００２７】
図５に示されるように、ＳＯＩ基板上にシリコン窒化膜等を成膜して、柱状シリコン層（１２１ａ、１２２ａ、１２１ｂ、１２２ｂ）のパターンをリソグラフィーにより形成し、エッチングすることにより、シリコン窒化膜マスク１１９および柱状シリコン層（１２１ａ、１２２ａ、１２１ｂ、１２２ｂ）を形成する。【００２８】
図６に示されるように、シリコン層（１２０）を分離して、記憶ノード（１０２ａ、１０２ｂ）であるシリコン層を形成する。【００２９】
図７に示されるように、Ｐ＋注入領域１２４およびＮ＋注入領域１２５にそれぞれイオン注入などにより不純物を導入し、基板上に柱状シリコン層下部のドレイン拡散層（１０３ａ、１０３ｂ、１０４ａ、１０４ｂ）を形成する。【００３０】
図８に示されるように、ゲート絶縁膜１１７およびゲート導電膜１１８を成膜する。ゲート絶縁膜１１７は酸化膜やＨｉｇｈ−ｋ膜により形成される。また、ゲート導電膜はポリシリコンや金属膜により形成される。【００３１】
図９に示されるように、レジスト等１３３を用いて、リソグラフィーによりゲート配線パターンを形成する。【００３２】
図１０に示されるように、レジスト１３３をマスクにして、ゲート導電膜１１７及びゲート絶縁膜１１８をエッチングし、除去する。これによりゲート配線（１１８ａ〜１１８ｃ）が形成される。【００３３】
図１１に示されるように、ピラー上のマスク１１９をウェットエッチやドライエッチでなどで除去する。【００３４】
図１２に示されるように、シリコン窒化膜等の絶縁膜を成膜後、エッチバックして、柱状シリコン層の側壁およびゲート電極の側壁をシリコン窒化膜等の絶縁膜１３４で覆う構造にする。【００３５】
図１３に示されるように、Ｐ＋注入領域１２４およびＮ＋注入領域１２５にそれぞれイオン注入などにより不純物を導入し、柱状シリコン層上部のソース拡散層（１１４、１１６）を形成する。【００３６】
図１４に示されるように、Ｎｉなどの金属をスパッタして、熱処理を行うことにより、ドレイン拡散層上のシリサイド層（１１３ａ、１１３ｂ）および柱状シリコン層上部のソース拡散層上のシリサイド層１１５を形成する。
ここで、柱状シリコン層およびゲート電極の側壁を覆っているシリコン窒化膜等の絶縁膜１３４により、シリサイド層に起因するドレイン−ゲート間およびソース−ゲート間のショートを抑制することができる。【００３７】
図１５に示されるように、層間膜であるシリコン酸化膜を形成後にコンタクト（１０６ａ、１０６ｂ、１０８ａ、１０８ｂ、１１０ａ、１１０ｂ、１１１ａ、１１１ｂ）を形成する。
【実施例２】
【００３８】
図１６に本実施例のＳＲＡＭレイアウトを示す。本実施例において実施例１と異なる点は、アクセストランジスタを形成する柱状シリコン層の形状とドライバトランジスタを形成する柱状シリコン層の大きさが異なる点である。本発明のＬｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭでは、アクセストランジスタのリーク電流をドライバトランジスタのリーク電流より大きく設定する必要がある。アクセストランジスタのリーク電流を増加させる一つの手段として、図１６のようにアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層の周囲長を、ドライバトランジスタを形成する柱状シリコン層の周囲長より大きく設定することによってリーク電流を増加させることができる。
一方、読み出しマージンを改善したい場合には、ドライバトランジスタの柱状シリコン層の周囲長を、アクセストランジスタを形成する柱状シリコン層の周囲長より大きく形成して、ドライバトランジスタの電流を大きくすることによって読み出しマージンを改善することができる。
本実施例においては、一例として実施例１と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際には実施例１のレイアウトに限定されるものではなく、他の実施例のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例１に示す構成と同一であるので説明を省略する。
【実施例３】
【００３９】
図１７に本実施例のＳＲＡＭセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例１と異なる。基板上の第１の拡散層により形成される記憶ノードであるＱａ３と、ドライバトランジスタＱｎ２３のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト３１０ａにより接続され、基板上の第２の拡散層により形成される記憶ノードであるＱｂ３と、ドライバトランジスタＱｎ１３のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト３１０ｂにより接続される。上記のようにゲートと記憶ノードを配線層ではなくコンタクトで直接接続することによって、ＳＲＡＭセル内におけるコンタクトの数を減らすことができるので、柱状シリコン層やコンタクトの配置を調整することによりセル面積を縮小することができる。
階層的な配線の構成の一例として、Ｖｓｓ３を下層の配線で形成し、ビット線（ＢＬ３、ＢＬＢ３）を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Ｎａ１、ノード接続配線Ｎｂ１はコンタクトにより形成されている。
本実施例においては、一例として実施例１と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際にはこのレイアウトに限定されるものではなく、他のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例１に示す構成と同一であるので説明を省略する。
【実施例４】
【００４０】
図１８に本実施例のＳＲＡＭセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例１と異なる。実施例１においては、記憶ノードＱａ１上においては、コンタクト１１０ａはドライバトランジスタＱｎ１１にのみ隣接して配置されているが、記憶ノードＱｂ１上においては、コンタクト１１０ｂはドライバトランジスタＱｎ２１とアクセストランジスタＱｐ２１の間の拡散層上に配置されている。このようなレイアウトの非対称性により、ＳＲＡＭセルの特性に非対称性が生じ、動作マージンが狭くなる可能性がある。本実施例においては、第１の記憶ノードＱａ４上のアクセストランジスタＱｐ１４、コンタクト（４１０ａ、４１１ａ）及びドライバトランジスタＱｎ１４と第２の記憶ノードＱｂ４上のアクセストランジスタＱｐ２４、コンタクト（４１０ｂ、４１１ｂ）及びドライバトランジスタＱｎ２４のレイアウトが対称であるため、上記のような非対称性に起因する動作マージンの劣化はなく、広い動作マージンを持つＳＲＡＭセルが可能である。
階層的な配線の構成の一例として、ノード接続配線Ｎａ４、ノード接続配線Ｎｂ４、及び接地電位の配線Ｖｓｓ４を下層の配線で形成し、ビット線（ＢＬ１、ＢＬＢ１）を上層の配線で形成する構成が実現可能である。
【実施例５】
【００４１】
図１９に本実施例のＳＲＡＭセルレイアウトを示す。
本実施例は実施例４と同様にレイアウトが対称であるため、広い動作マージンを持つＳＲＡＭセルが可能である。
また、実施例２と同様に、基板上の第１の拡散層により形成される記憶ノードであるＱａ５と、ドライバトランジスタＱｎ２５のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト５１０ａにより接続され、基板上の第２の拡散層により形成される記憶ノードであるＱｂ５と、ドライバトランジスタＱｎ１５のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト５１０ｂにより接続される。
なお、ビット線の配線及び接地電位の配線は、望ましくは、他のメモリセルの配線と共用するために、各メモリセル内での配線であるノード接続配線より上位の層に配置される。本実施例ではノード接続配線はコンタクトにより形成されている。
階層的な配線の構成の一例として、Ｖｓｓ３を下層の配線で形成し、ビット線（ＢＬ５、ＢＬＢ５）を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Ｎａ５、ノード接続配線Ｎｂ５はコンタクトにより形成されている。【００４２】
図２０（ａ）に複数のＳＲＡＭメモリセルからなるＳＲＡＭメモリセルアレイの一部の平面図を示す。
図におけるＣｅｌｌ  ａｒｒａｙ  Ａｒｅａにおいては複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置された複数のメモリセルにおいて、ワード線５１８ａが共通化されている。ワード線はＣｏｎｔａｃｔ  Ａｒｅａに形成されたコンタクト５０７により上層の配線に接続され、必要に応じて配線層で裏打ちされる。このため、特許文献２のＳＲＡＭセルとは異なり、各々のセルにワード線へのコンタクトを形成する必要がないので、ＳＲＡＭセル面積を縮小することができる。
ワード線５１８ａに複数のセルを接続することにより、ワード線コンタクト５０７から遠い側のセルにおいてはワード線の信号の遅延による読み出しや書き込みの遅延が問題になる可能性がある。このため、ワード線に接続するセルの数は読み出しや書き込みの遅延が問題ない範囲で決めることができる。
図２０（ｂ）に他の場合における複数のＳＲＡＭセルからなるＳＲＡＭセルアレイの一部の平面図を示す。図におけるＣｅｌｌ  ａｒｒａｙ  Ａｒｅａにおいても同様に、複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置されたメモリセルにおいて、ワード線５１８ａが共通化されている。しかし、図２０（ｂ）においてはＣｏｎｔａｃｔ  Ａｒｅａにおいても、Ｃｅｌｌ  ａｒｒａｙ  Ａｒｅａと同様にピラーが配置されている。このようにＣｏｎｔａｃｔ   Ａｒｅａにおいてもピラーを配置することにより、Ｃｏｎｔａｃｔ  Ａｒｅａに隣接するＳＧＴの特性とＣｏｎｔａｃｔ  Ａｒｅａに隣接していないＳＧＴとの特性の誤差を最小限に抑えることができる。【００４３】
以上説明したように、本発明によれば４個のＭＯＳトランジスタを用いて構成されたスタティック型メモリセルにおいて、前記ＭＯＳトランジスタはドレイン、ゲート、ソースが垂直方向に配置されたＳＧＴであり、アクセストランジスタのゲートをワードラインとして一列（図面では横方向）に隣接する複数のセルで共通化し、ワード線へのコンタクトを複数のセルごとに１個形成することにより、非常に小さいメモリセル面積を持つＣＭＯＳ型Ｌｏａｄｌｅｓｓ４Ｔ−ＳＲＡＭを実現することができる。
【符号の説明】
【００４４】
１０１、２０１、３０１、４０１、５０１：埋め込み酸化膜
１０２、１０２ａ、１０２ｂ、２０２ａ、２０２ｂ、３０２ａ、３０２ｂ、４０２ａ、４０２ｂ、５０２ａ、５０２ｂ、６０２ａ、６０２ｂ：シリコン層
１０３、１０３ａ、１０３ｂ、２０３ａ、２０３ｂ、６０３ａ、６０３ｂ：ｐ＋拡散層
１０４ａ、１０４ｂ、２０４ａ、２０４ｂ、６０４ａ、６０４ｂ：ｎ＋拡散層
１０６、１０６ａ、２０６ａ、３０６ａ、４０６ａ、５０６ａ、１０６ｂ、２０６ｂ、３０６ｂ、４０６ｂ、５０６ｂ：アクセストランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
１０７：ワード線コンタクト
１０８ａ、２０８ａ、３０８ａ、４０８ａ、５０８ａ、１０８ｂ、２０８ｂ、３０８ｂ、４０８ｂ、５０８ｂ：ドライバトランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
１１０ａ、２１０ａ、３１０ａ、４１０ａ、１１０ｂ、２１０ｂ、３１０ｂ、４１０ｂ：記憶ノード上コンタクト
１１１ａ、２１１ａ、１１１ｂ、２１１ｂ：ゲート配線上コンタクト
１１３、１１３ａ、１１３ｂ、１１５、５１３ａ、５１３ｂ、５１５：シリサイド層
１１４、５１４：ピラー上部Ｎ＋拡散層
１１６、５１６：ピラー上部Ｐ＋拡散層
１１７、５１７：ゲート絶縁膜
１１８、５１８：ゲート電極
１１８ａ、１１８ｂ、１１８ｃ、５１８ａ、５１８ｂ、５１８ｃ：ゲート配線
１１８ａ、２１８ａ、３１８ａ、４１８ａ：ワード線
１１９：シリコン酸化膜等のマスク層
１２０：シリコン層
１２１、１２１ａ、１２１ｂ、５２１ａ、５２１ｂ：アクセストランジスタ柱状シリコン層
１２２ａ、１２２ｂ、５２２ａ、５２２ｂ：ドライバトランジスタ柱状シリコン層
１２４、５２４：Ｐ＋注入領域
１２５、５２５：Ｎ＋注入領域
１３１：シリコン酸化膜
１３２：シリコン窒化膜サイドウォール
１３３：レジスト
１３４：シリコン窒化膜
Ｑｐ１１、Ｑｐ２１、Ｑｐ１２、Ｑｐ２２、Ｑｐ１３、Ｑｐ２３、Ｑｐ１４、Ｑｐ２４、Ｑｐ１５、Ｑｐ２５：アクセストランジスタ
Ｑｎ１１、Ｑｎ２１、Ｑｎ１２、Ｑｎ２２、Ｑｎ１３、Ｑｎ２３、Ｑｎ１４、Ｑｎ２４、Ｑｎ１５、Ｑｎ２５：ドライバトランジスタ
ＢＬ１、ＢＬ３、ＢＬ４、ＢＬ５、ＢＬＢ１、ＢＬＢ３、ＢＬＢ４、ＢＬＢ５：ビット線
Ｖｓｓ１、Ｖｓｓ２、Ｖｓｓ３、Ｖｓｓ４、Ｖｓｓ５：接地電位線
Ｎａ１、Ｎｂ１、Ｎａ２、Ｎｂ２、Ｎａ５、Ｎｂ５：ノード接続配線
【図１】
2013121536.tif 000003
【図２】
2013121536.tif 000004
【図３】
2013121536.tif 000005
【図４（ａ）】
2013121536.tif 000006
【図４（ｂ）】
2013121536.tif 000007
【図４（ｃ）】
2013121536.tif 000008
【図４（ｄ）】
2013121536.tif 000009
【図４（ｅ）】
2013121536.tif 000010
【図５】
2013121536.tif 000011
【図６】
2013121536.tif 000012
【図７】
2013121536.tif 000013
【図８】
2013121536.tif 000014
【図９】
2013121536.tif 000015
【図１０】
2013121536.tif 000016
【図１１】
2013121536.tif 000017
【図１２】
2013121536.tif 000018
【図１３】
2013121536.tif 000019
【図１４】
2013121536.tif 000020
【図１５】
2013121536.tif 000021
【図１６】
2013121536.tif 000022
【図１７】
2013121536.tif 000023
【図１８】
2013121536.tif 000024
【図１９】
2013121536.tif 000025
【図２０】
2013121536.tif 000026
【図２１】
2013121536.tif 000027
【図２２（ａ）】
2013121536.tif 000028
【図２２（ｂ）】
2013121536.tif 000029
【図２２（ｃ）】
2013121536.tif 000030
【図２２（ｄ）】
2013121536.tif 000031
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月15日(2013.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４個のＭＯＳトランジスタが基板上に形成された絶縁膜上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記４個のＭＯＳトランジスタの各々は、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを書き込み及び読み出しするために記憶ノードを駆動する第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタとして機能し、
前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタにおいて、
Ｐ型の導電型を持つ第１の拡散層、第１の柱状半導体層及びＰ型の導電型を持つ第２の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第１の柱状半導体層は前記第１の柱状半導体層の底部に形成される前記第１の拡散層と前記第１の柱状半導体層の上部に形成される前記第２の拡散層の間に配置され、前記第１の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタにおいて、
Ｎ型の導電型を持つ第３の拡散層、第２の柱状半導体層及びＮ型の導電型を持つ第４の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第２の柱状半導体層は前記第２の柱状半導体層の底部に形成される前記第３の拡散層と前記第２の柱状半導体層の上部に形成される前記第４の拡散層の間に配置され、前記第２の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタ及び前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタ及び前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
データを保持する第１の記憶ノードとして機能する、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタの底部に形成されるＰ型の導電型を持つ前記第１の拡散層及び前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタの底部に形成されるＮ型の導電型を持つ前記第３の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第１の記憶ノードとして機能する、前記第１の拡散層、前記第３の拡散層は相互に接続され、
データを保持する第２の記憶ノードとして機能する、前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの底部に形成されるＰ型の導電型を持つ前記第１の拡散層及び前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタの底部に形成されるＮ型の導電型を持つ前記第３の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第２の記憶ノードとして機能する、前記第１の拡散層、前記第３の拡散層は相互に接続され、
前記第１及び前記第２のＰＭＯＳのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第１のゲート配線により互いに接続され、前記第１のゲート配線は隣接する複数のメモリセルにおける前記第１及び前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第１のゲート配線上に第１のコンタクトが形成されることを特徴とする半導体記憶装置。
【請求項２】
前記ワード線である前記第１のゲート配線上に前記第１のコンタクトが形成される領域において、メモリセルの領域と同様にピラーが配置されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項３】
前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタのゲートより延在する第２のゲート配線が、前記第２の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第２のコンタクトにより接続され、
前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタのゲートより延在する第３のゲート配線が、前記第１の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第３のコンタクトにより接続されることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項４】
前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、
又は前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つことを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項５】
前記４個のＭＯＳトランジスタは、前記絶縁膜上に２行２列に配列され、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタは１行１列目に配列され、
前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは２行１列目に配列され、
前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタは１行２列目に配列され、
前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは２行２列目に配列されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項６】
前記４個のＭＯＳトランジスタは前記絶縁膜上に配列され、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタは隣接して配列され、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと隣接して配列され、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタと隣接して配列されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
続いて、図２２の断面図を用いて特許文献２の実施例１のＳＲＡＭセルの構造について説明する。
図２２（ａ）より、埋め込み酸化膜層６０１上に記憶ノード（６０２ａ、６０２ｂ）であるシリコン層よりなるＰ＋ドレイン拡散層（６０３ａ、６０３ｂ）がそれぞれ形成されている。ドレイン拡散層上にはシリサイド層（６１３ａ、６１３ｂ）が形成されている。Ｐ＋ドレイン拡散層領域６０３ａ上にアクセストランジスタＱｐ１６を形成する柱状シリコン層６２１ａが形成され、Ｐ＋ドレイン拡散層領域６０３ｂ上にアクセストランジスタＱｐ２６を形成する柱状シリコン層６２１ｂが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜６１７およびゲート電極６１８が形成されている。柱状シリコン層上部にはＰ＋ソース拡散層領域６１６が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層６１５が形成されている。アクセストランジスタＱｐ１６上に形成されるコンタクト６０６ａはビット線ＢＬ６に接続され、アクセストランジスタＱｐ２６上に形成されるコンタクト６０６ｂはビット線ＢＬＢ６に接続され、アクセストランジスタＱｐ１６およびＱｐ２６のゲートより延在するゲート配線６１８ａ上に形成されるコンタクト６０７はワード線ＷＬ６に接続される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
図２２（ｂ）より、埋め込み酸化膜層６０１上に記憶ノード（６０２ａ、６０２ｂ）であるシリコン層よりなるＮ＋ドレイン拡散層（６０４ａ、６０４ｂ）がそれぞれ形成されている。ドレイン拡散層上にはシリサイド層（６１３ａ、６１３ｂ）が形成されている。ドライバトランジスタＱｎ１６のゲート電極から延在するゲート配線６１８ｂ上に形成されるコンタクト６１１ａは記憶ノード接続配線Ｎａ６を通じてＮ＋ドレイン拡散層６０４ｂ上に形成されるコンタクト６１０ｂに接続される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
図２２（ｃ）より、埋め込み酸化膜層６０１上に記憶ノードであるシリコン層よりなるＮ＋ドレイン拡散層（６０４ａ、６０４ｂ）が形成されている。Ｎ＋ドレイン拡散層上にはシリサイド層（６１３ａ、６１３ｂ）が形成されている。Ｎ＋ドレイン拡散層領域６０４ａにドライバトランジスタＱｎ１６を形成する柱状シリコン層６２２ａが形成され、Ｎ＋ドレイン拡散層領域６０４ｂにドライバトランジスタＱｎ２６を形成する柱状シリコン層６２２ｂが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜６１７およびゲート電極６１８が形成されている。柱状シリコン層上部にはＮ＋ソース拡散層領域６１４が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層６１５が形成されている。ドライバトランジスタ（Ｑｎ１６、Ｑｎ２６）上に形成されるコンタクト（６０８ａ、６０８ｂ）はともに配線層を通して接地電位Ｖｓｓ６に接続される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
図２２（ｄ）より、埋め込み酸化膜層６０１上に記憶ノードであるシリコン層よりなるＰ＋ドレイン拡散層６０３ａおよびＮ＋ドレイン拡散層６０４ａが形成される。ドレイン拡散層上にはシリサイド層６１３ａが形成され、シリサイド層６１３ａによってＰ＋ドレイン拡散層６０３ａとＮ＋ドレイン拡散層６０４ａは接続されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明は、４個のＭＯＳトランジスタが基板上に形成された絶縁膜上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記４個のＭＯＳトランジスタの各々は、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを書き込み及び読み出しするために記憶ノードを駆動する第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタとして機能し、
前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタにおいて、
Ｐ型の導電型を持つ第１の拡散層、第１の柱状半導体層及びＰ型の導電型を持つ第２の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第１の柱状半導体層は前記第１の柱状半導体層の底部に形成される前記第１の拡散層と前記第１の柱状半導体層の上部に形成される前記第２の拡散層の間に配置され、前記第１の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタにおいて、
Ｎ型の導電型を持つ第３の拡散層、第２の柱状半導体層及びＮ型の導電型を持つ第４の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第２の柱状半導体層は前記第２の柱状半導体層の底部に形成される前記第３の拡散層と前記第２の柱状半導体層の上部に形成される前記第４の拡散層の間に配置され、前記第２の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタ及び前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタ及び前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
データを保持する第１の記憶ノードとして機能する、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタの底部に形成されるＰ型の導電型を持つ前記第１の拡散層及び前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタの底部に形成されるＮ型の導電型を持つ前記第３の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第１の記憶ノードとして機能する、前記第１の拡散層、前記第３の拡散層は相互に接続され、
データを保持する第２の記憶ノードとして機能する、前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの底部に形成されるＰ型の導電型を持つ前記第１の拡散層及び前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタの底部に形成されるＮ型の導電型を持つ前記第３の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第２の記憶ノードとして機能する、前記第１の拡散層、前記第３の拡散層は相互に接続され、
前記第１及び前記第２のＰＭＯＳのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第１のゲート配線により互いに接続され、前記第１のゲート配線は隣接する複数のメモリセルにおける前記第１及び前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第１のゲート配線上に第１のコンタクトが形成されることを特徴とする半導体記憶装置を提供する。
本発明の好ましい態様では、前記ワード線である前記第１のゲート配線上に前記第１のコンタクトが形成される領域において、メモリセルの領域と同様にピラーが配置されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
別の好ましい態様では、前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタのゲートより延在する第２のゲート配線が、前記第２の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第２のコンタクトにより接続され、前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタのゲートより延在する第３のゲート配線が、前記第１の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第３のコンタクトにより接続されることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、又は前記第１及び第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第１及び第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記４個のＭＯＳトランジスタは、前記絶縁膜上に２行２列に配列され、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタは１行１列目に配列され、前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは２行１列目に配列され、前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタは１行２列目に配列され、前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは２行２列目に配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記４個のＭＯＳトランジスタは前記絶縁膜上に配列され、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタは隣接して配列され、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第１のＮＭＯＳのドライバトランジスタは前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと隣接して配列され、前記第１のＰＭＯＳのアクセストランジスタと前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第２のＮＭＯＳのドライバトランジスタは前記第２のＰＭＯＳのアクセストランジスタと隣接して配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
まず図２のレイアウト図を参考にして本実施例について説明する。
Ｑｐ１１およびＱｐ２１はＰＭＯＳであるメモリセルにアクセスするためのアクセストランジスタであり、Ｑｎ１１およびＱｎ２１はＮＭＯＳであるメモリセルを駆動するドライバトランジスタである。
本実施例では、１つのユニットセルＵＣは、基板上に２行２列に配列されたトランジスタを備えている。１列目には、第１の記憶ノードＱａ１上に、図の上側からアクセストランジスタＱｐ１１及びドライバトランジスタＱｎ１１がそれぞれ配列されている。また、２列目には、第２の記憶ノードＱｂ１上に、図の上側からアクセストランジスタＱｐ２１及びドライバトランジスタＱｎ２１がそれぞれ配列されている。また、アクセストランジスタのゲートから延在するゲート配線１１８ａは横方向に隣接する複数のメモリセルと共通化され、ワード線を形成している。本実施例のＳＲＡＭセルアレイは、このような４個のトランジスタを備えたユニットセルＵＣを図の上下方向に連続的に配列することにより構成される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
続いて、図４の断面構造を参照して本発明について説明する。
図４（ａ）より、埋め込み酸化膜層１０１上に記憶ノード（１０２ａ、１０２ｂ）であるシリコン層よりなるＰ＋ドレイン拡散層（１０３ａ、１０３ｂ）がそれぞれ形成されている。ドレイン拡散層上にはシリサイド層（１１３ａ、１１３ｂ）が形成されている。Ｐ＋ドレイン拡散層領域１０３ａ上にアクセストランジスタＱｐ１１を形成する柱状シリコン層１２１ａが形成され、Ｐ＋ドレイン拡散層領域１０３ｂ上にアクセストランジスタＱｐ２１を形成する柱状シリコン層１２１ｂが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜１１７およびゲート電極１１８が形成されている。柱状シリコン層上部にはＰ＋ソース拡散層領域１１６が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層１１５が形成されている。アクセストランジスタＱｐ１１上に形成されるコンタクト１０６ａはビット線ＢＬ１に接続され、アクセストランジスタＱｐ２１上に形成されるコンタクト１０６ｂはビット線ＢＬＢ１に接続される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図４（ｂ）より、埋め込み酸化膜層１０１上に記憶ノード（１０２ａ、１０２ｂ）であるシリコン層よりなるＮ＋ドレイン拡散層（１０４ａ、１０４ｂ）がそれぞれ形成されている。ドレイン拡散層上にはシリサイド層（１１３ａ、１１３ｂ）が形成されている。ドライバトランジスタＱｎ１１のゲート電極から延在するゲート配線１１８ｂ上に形成されるコンタクト１１１ａは記憶ノード接続配線Ｎａ１を通じてＮ＋ドレイン拡散層１０４ｂ上に形成されるコンタクト１１０ｂに接続される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図４（ｃ）より、埋め込み酸化膜層１０１上に記憶ノードであるシリコン層よりなるＮ＋ドレイン拡散層（１０４ａ、１０４ｂ）が形成されている。Ｎ＋ドレイン拡散層上にはシリサイド層（１１３ａ、１１３ｂ）が形成されている。Ｎ＋ドレイン拡散層領域１０４ａにドライバトランジスタＱｎ１１を形成する柱状シリコン層１２２ａが形成され、Ｎ＋ドレイン拡散層領域１０４ｂにドライバトランジスタＱｎ２１を形成する柱状シリコン層１２２ｂが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜１１７およびゲート電極１１８が形成されている。柱状シリコン層上部にはＮ＋ソース拡散層領域１１４が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層１１５が形成されている。ドライバトランジスタ（Ｑｎ１１、Ｑｎ２１）上に形成されるコンタクト（１０８ａ、１０８ｂ）はともに配線層を通して接地電位Ｖｓｓ１に接続される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図４（ｄ）より、埋め込み酸化膜層１０１上に記憶ノードであるシリコン層よりなるＰ＋ドレイン拡散層１０３ａおよびＮ＋ドレイン拡散層１０４ａが形成される。ドレイン拡散層上にはシリサイド層１１３ａが形成され、シリサイド層１１３ａによってＰ＋ドレイン拡散層１０３ａとＮ＋ドレイン拡散層１０４ａは接続されている。
本実施例においてはシリサイドによってＮ＋ドレイン拡散層とＰ＋ドレイン拡散層が接続されているが、Ｎ＋ドレイン拡散層とＰ＋ドレイン拡散層間の接触抵抗が十分小さい場合にはシリサイドを形成する必要はない。また、シリサイドでＮ＋ドレイン拡散層とＰ＋ドレイン拡散層を接続する代わりにコンタクトでＮ＋ドレイン拡散層とＰ＋ドレイン拡散層で裏打ちすることによって接続したり、他の方法でＮ＋ドレイン拡散層とＰ＋ドレイン拡散層を接続してもよい。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図４（ｅ）に図３（ａ）のＥ−Ｅ’における断面構造を示す。
埋め込み酸化膜層１０１上に左側のセル及び右側のセルのシリコン層よりなるＰ＋ドレイン拡散層１０３が形成されている。それぞれのドレイン拡散層上にはシリサイド層１１３が形成されている。それぞれのＰ＋ドレイン拡散層領域１０３上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層１２１が形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜１１７およびゲート電極１１８が形成されている。柱状シリコン層上部にはＰ＋ソース拡散層領域１１６が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層１１５が形成されている。それぞれのアクセストランジスタ上に形成されるコンタクト１０６はビット線に接続され、ワード線１１８ａ上に形成されるコンタクト１０７は上層の配線層により形成されるより低抵抗なワード線に接続される。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図９に示されるように、レジスト１３３等を用いて、リソグラフィーによりゲート配線パターンを形成する。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図１０に示されるように、レジスト１３３をマスクにして、ゲート導電膜１１８及びゲート絶縁膜１１７をエッチングし、除去する。これによりゲート配線（１１８ａ〜１１８ｃ）が形成される。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図１７に本実施例のＳＲＡＭセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例１と異なる。基板上の第１の拡散層により形成される記憶ノードと、ドライバトランジスタＱｎ２３のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト３１０ａにより接続され、基板上の第２の拡散層により形成される記憶ノードと、ドライバトランジスタＱｎ１３のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト３１０ｂにより接続される。上記のようにゲートと記憶ノードを配線層ではなくコンタクトで直接接続することによって、ＳＲＡＭセル内におけるコンタクトの数を減らすことができるので、柱状シリコン層やコンタクトの配置を調整することによりセル面積を縮小することができる。
階層的な配線の構成の一例として、Ｖｓｓ３を下層の配線で形成し、ビット線（ＢＬ３、ＢＬＢ３）を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Ｎａ１、ノード接続配線Ｎｂ１はコンタクトにより形成されている。
本実施例においては、一例として実施例１と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際にはこのレイアウトに限定されるものではなく、他のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例１に示す構成と同一であるので説明を省略する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
図１８に本実施例のＳＲＡＭセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例１と異なる。実施例１においては、記憶ノードＱａ１上においては、コンタクト１１０ａはドライバトランジスタＱｎ１１にのみ隣接して配置されているが、記憶ノードＱｂ１上においては、コンタクト１１０ｂはドライバトランジスタＱｎ２１とアクセストランジスタＱｐ２１の間の拡散層上に配置されている。このようなレイアウトの非対称性により、ＳＲＡＭセルの特性に非対称性が生じ、動作マージンが狭くなる可能性がある。本実施例においては、第１の記憶ノード上のアクセストランジスタＱｐ１４、コンタクト（４１０ａ、４１１ａ）及びドライバトランジスタＱｎ１４と第２の記憶ノード上のアクセストランジスタＱｐ２４、コンタクト（４１０ｂ、４１１ｂ）及びドライバトランジスタＱｎ２４のレイアウトが対称であるため、上記のような非対称性に起因する動作マージンの劣化はなく、広い動作マージンを持つＳＲＡＭセルが可能である。
階層的な配線の構成の一例として、ノード接続配線Ｎａ４、ノード接続配線Ｎｂ４、及び接地電位の配線Ｖｓｓ４を下層の配線で形成し、ビット線（ＢＬ４、ＢＬＢ４）を上層の配線で形成する構成が実現可能である。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図１９に本実施例のＳＲＡＭセルレイアウトを示す。
本実施例は実施例４と同様にレイアウトが対称であるため、広い動作マージンを持つＳＲＡＭセルが可能である。
また、実施例３と同様に、基板上の第１の拡散層により形成される記憶ノードと、ドライバトランジスタＱｎ２５のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト５１０ａにより接続され、基板上の第２の拡散層により形成される記憶ノードと、ドライバトランジスタＱｎ１５のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト５１０ｂにより接続される。
なお、ビット線の配線及び接地電位の配線は、望ましくは、他のメモリセルの配線と共用するために、各メモリセル内での配線であるノード接続配線より上位の層に配置される。本実施例ではノード接続配線はコンタクトにより形成されている。
階層的な配線の構成の一例として、Ｖｓｓ５を下層の配線で形成し、ビット線（ＢＬ５、ＢＬＢ５）を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Ｎａ５、ノード接続配線Ｎｂ５はコンタクトにより形成されている。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１８】
2013121536.tif 000032
【国際調査報告】
2013121536.tif 000033
2013121536.tif 000034
2013121536.tif 000035
2013121536.tif 000036