(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物：
【化１】
0005880769.tif 000008
［式中：
Ｒｆは、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
Ｘ１は、単結合または２価の有機基を表し；
Ｒ１は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；
Ｒ２は、−Ｘ２−ＳｉＱ１ｋＹ１３−ｋを表し；
Ｘ２は、２価の有機基を表し；
Ｙ１は、−ＯＲ５（式中、Ｒ５はＣ２−１０のアルキル基を表す）を表し；
Ｑ１は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；
ｐは、０または１であり；
ｋは、０〜２の整数である。］
および
下記式（２）で表される少なくとも１種のアミン化合物：
【化２】
0005880769.tif 000009
［式中：
Ｒ３は、水素原子または有機基を表し；
Ｒ４は、−Ｘ３−ＳｉＱ２ｋ’Ｙ２３−ｋ’を表し；
Ｘ３は、２価の有機基を表し；
Ｙ２は、水酸基、加水分解可能な基または炭化水素基を表し； 
Ｑ２は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；
ｋ’は、０〜３の整数であり；
ｑは、０〜２の整数である。］
を含んでなる、表面処理剤。
【請求項２】
パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物において、Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１に記載の表面処理剤。
【請求項３】
パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物において、ＰＦＰＥが下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
（ａ）−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−
（式（ａ）中、ｂは１以上２００以下の整数である）；
（ｂ）−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−
（式（ｂ）中、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上２００以下の整数であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）
（ｃ）−（ＯＣ２Ｆ４−Ｒａ）ｎ’−
（式中、Ｒａは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であり；
ｎ’は、２〜１００の整数である。）
である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
【請求項４】
パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物における、ＰＦＰＥにおいて：
−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−が、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ−であり、
−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−が、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ−であり、
−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−が、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−である、
請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項５】
パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物における、ＰＦＰＥが、
−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ−、または
−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｂ−
［式中、ｂは１以上２００以下の整数である。］
である、請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項６】
パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物において、Ｒ５がＣ２−４アルキル基である、請求項１〜５のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項７】
パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物において、Ｙ１が−ＯＣＨ２ＣＨ３である、請求項１〜６のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項８】
パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物において、Ｘ１における２価の有機基が、Ｃ１−２０アルキレン基、−（ＣＨ２）ｓ−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ−、−（ＣＨ２）ｓ−ＮＲ６−（ＣＨ２）ｔ−
［式中、Ｒ６は、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し；
ｓは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
ｔは、それぞれ独立して、１〜２０の整数である。］
である、請求項１〜７のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項９】
パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物において、Ｘ２における２価の有機基が、Ｃ１−２０アルキレン基、−（ＣＨ２）ｓ−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ−、−（ＣＨ２）ｓ−ＮＲ６−（ＣＨ２）ｔ−
［式中、Ｒ６は、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し；
ｓは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
ｔは、それぞれ独立して、１〜２０の整数である。］
である、請求項１〜８のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１０】
パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物において、Ｘ１が単結合またはＣ１−６アルキレン基であり、Ｘ２がＣ１−６アルキレン基である、請求項１〜９のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１１】
パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物において、ｐが１である、請求項１〜１０のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１２】
アミン化合物において、ｋ’が０〜２の整数であり、ｑが１または２であり、少なくとも１つのＲ３が水素原子である、請求項１〜１１のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１３】
アミン化合物において、Ｙ２が−ＯＲ５（式中、Ｒ５はＣ２−１０アルキル基を表す）である、請求項１〜１２のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１４】
アミン化合物において、Ｙ２が−ＯＣＨ２ＣＨ３である、請求項１〜１３のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１５】
アミン化合物において、Ｒ３が、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基である、請求項１〜１４のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１６】
アミン化合物において、Ｘ３がＣ１−６アルキレン基である、請求項１〜１５のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１７】
アミン化合物において、ｑが２である、請求項１〜１６のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１８】
式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物および式（２）で表されるアミン化合物を含んでなる表面処理剤において、アミン化合物の含有量が０．００１質量％〜１０質量％である、請求項１〜１７のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１９】
含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜１８のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２０】
含フッ素オイルが、式（３）：
Ｒ８−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒ９
・・・（３）
［式中：
Ｒ８は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ９は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１９に記載の表面処理剤。
【請求項２１】
含フッ素オイルが、式（３ａ）または（３ｂ）：
Ｒ８−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−Ｒ９                ・・・（３ａ）
Ｒ８−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’−（ＯＣＦ２）ｄ’’−Ｒ９      ・・・（３ｂ）
［式中：
Ｒ８は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ９は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；
式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’は、それぞれ独立して１以上３００以下の整数であり；
添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’またはｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１９または２０に記載の表面処理剤。
【請求項２２】
さらに溶媒を含む、請求項１〜２１のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２３】
防汚性コーティング剤として使用される、請求項１〜２２のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２４】
真空蒸着用である、請求項１〜２３のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２５】
請求項１〜２４のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項２６】
基材と、該基材の表面に、請求項１〜２４のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項２７】
前記基材がガラスである、請求項２６に記載の物品。
【請求項２８】
前記基材がサファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラスおよび石英ガラスから成る群から選択されるガラスである、請求項２７に記載の物品。
【請求項２９】
前記物品が光学部材である、請求項２６〜２８のいずれかに記載の物品。
【請求項３０】
前記物品がディスプレイである、請求項２６〜２９のいずれかに記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と、アミン化合物とを含んで成る表面処理剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
【０００３】
そのような含フッ素シラン化合物として、パーフルオロ（ポリ）エーテル基を分子主鎖に有し、アミド結合を含む有機基を介して、含フッ素シラン化合物の末端または末端部に加水分解可能な基を有するＳｉ原子に結合した、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物が知られている（特許文献１〜３を参照のこと）。このパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物を含む表面処理剤を基材に適用すると、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基が基材との間および化合物間で反応することにより結合して、表面処理層を形成し得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２９５８５号公報
【特許文献２】特開２０００−１４３９９号公報
【特許文献３】特開２０００−３２７７７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物を含む表面処理剤で、当該化合物の末端がメトキシ基からなるものは、アミド構造を含まないパーフルオロ（ポリ）エーテル変性シラン化合物と比較し、保存安定性に優れないことがわかった。一方、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物の末端がエトキシ基のものは、保存安定性に優れているが、反応性が低く、基材との反応が進みにくいため、基材との強固な密着性が得られにくいという問題が存在することがわかった。
【０００６】
本発明は、保存安定性に優れ、かつ基材との強固な密着性を有する層を形成することのできる、新規な表面処理剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討した結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と、アミン化合物とを含む組成物を表面処理剤として用いることによって、保存安定性に優れ、基材との密着性がより強固な表面処理層を形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の第１の要旨によれば、下記式（１）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物：
【化１】
0005880769.tif 000002
［式中：
Ｒｆは、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
Ｘ１は、単結合または２価の有機基を表し；
Ｒ１は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；
Ｒ２は、−Ｘ２−ＳｉＱ１ｋＹ１３−ｋを表し；
Ｘ２は、２価の有機基を表し； 
Ｙ１は、−ＯＲ５（式中、Ｒ５はＣ２−１０のアルキル基を表す）を表し； 
Ｑ１は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；
ｐは、０または１であり；
ｋは、０〜２の整数である。］
および
下記式（２）で表される少なくとも1種のアミン化合物：
【化２】
0005880769.tif 000003
［式中：
Ｒ３は、水素原子または有機基を表し；
Ｒ４は、−Ｘ３−ＳｉＱ２ｋ’Ｙ２３−ｋ’を表し；
Ｘ３は、２価の有機基を表し；
Ｙ２は、水酸基、加水分解可能な基または炭化水素基を表し； 
Ｑ２は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し；
ｋ’は、０〜３の整数であり；
ｑは、０〜３の整数である。］
を含んでなる、表面処理剤が提供される。
【０００９】
本発明の第２の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記本発明の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と、アミン化合物とを含む表面処理剤によれば、保存安定性に優れ、かつ基材との強固な密着性を有する表面処理層を形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の表面処理剤について説明する。
【００１２】
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」または「２価の有機基」とは、それぞれ炭素を含有する１価または２価の基を意味する。かかる１価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基が挙げられる。２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【００１３】
本明細書において、アルキル基およびフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００１４】
本発明は、下記式（１）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物：
【化３】
0005880769.tif 000004
および
下記式（２）で表される少なくとも１種のアミン化合物：
【化４】
0005880769.tif 000005
を含んでなる、表面処理剤を提供する（以下、「本発明の表面処理剤」ともいう）。
【００１５】
上記式（１）中、Ｒｆは、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６のアルキル基を表す。
【００１６】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６のアルキル基における「Ｃ１−１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−６のアルキル基、特にＣ１−３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−３のアルキル基である。
【００１７】
上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１−１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１−１６のパーフルオロアルキル基である。
【００１８】
上記Ｃ１−１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−６のパーフルオロアルキル基、特にＣ１−３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【００１９】
上記式（１）中、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、パーフルオロ（ポリ）エーテル基に該当する。ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０または１以上の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和が少なくとも１であれば特に限定されるものではない。好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数、例えば１以上２００以下の整数であり、より好ましくは、それぞれ独立して０以上１００以下の整数、例えば１以上１００以下の整数である。さらに好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上、好ましくは２０以上であり、２００以下、好ましくは１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【００２０】
一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは１０以上１００以下の整数である）であり、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｂ−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｂ−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ−または−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｂ−（式中、ｂは上記と同意義である）である。
【００２１】
別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上または１以上３０以下、好ましくは０以上１０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは１０以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上、好ましくは２０以上であり、２００以下、好ましくは１００以下である。添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であり、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−（式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは上記と同意義である）である。例えば、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−（式中、ｃおよびｄは上記と同意義である）であってもよい。
【００２２】
さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ２Ｆ４−Ｒａ）ｎ’−で表される基である。式中、Ｒａは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−等が挙げられる。上記ｎ’は、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｎ’−または−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｎ’−である。
【００２３】
上記式（１）中、Ｘ１は、単結合または２価の有機基を表す。
【００２４】
上記Ｘ１の２価の有機基の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｃ１−２０アルキレン基、−（ＣＨ２）ｓ−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ−、−（ＣＨ２）ｓ−ＮＲ６−（ＣＨ２）ｔ−
［式中、Ｒ６は、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し；
ｓは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
ｔは、それぞれ独立して、１〜２０の整数である。］
で表される基が挙げられる。
【００２５】
より好ましくは、上記Ｘ１は、単結合またはＣ１−６アルキレン基が挙げられる。
【００２６】
上記式（１）中、Ｒ１は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表す。低級アルキル基は、好ましくはＣ１−６の炭化水素基を表す。
【００２７】
上記式（１）中、Ｒ２は、−Ｘ２−ＳｉＱ１ｋＹ１３−ｋを表す。
【００２８】
上記Ｘ２は、２価の有機基を表す。
【００２９】
上記Ｘ２の２価の有機基の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｃ１−２０アルキレン基、−（ＣＨ２）ｓ−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ−、−（ＣＨ２）ｓ−ＮＲ６−（ＣＨ２）ｔ−
［式中、Ｒ６は、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し；
ｓは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
ｔは、それぞれ独立して、１〜２０の整数である。］
で表される基が挙げられ、より好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基が挙げられる。また、Ｘ２は、１つまたはそれ以上の上記基が混在したものであってもよい。
【００３０】
上記Ｙ１は、−ＯＲ５を表す。
【００３１】
上記Ｒ５は、Ｃ２−１０のアルキル基であり、好ましくはＣ２−４のアルキル基であり、より好ましくはＣ２−３のアルキル基、さらに好ましくはエチル基である。
【００３２】
上記Ｑ１は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表す。低級アルキル基は、好ましくはＣ１−６の炭化水素基を表す。
【００３３】
上記ｋは、０〜２から選択される整数である。好ましくは０または１であり、より好ましくは０である。Ｒ２中のＳｉに結合する水酸基および加水分解性基が多いほど、基材との密着力が高くなるためである。
【００３４】
上記式（１）中、ｐは、０または１であり、好ましくは１である。ｐを１とすることにより、分子間での縮合が起こりにくくなり、保存安定性がより向上する。
【００３５】
上記式で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００である。
【００３６】
上記式で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０２〜１×１０５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜２０，０００、より好ましくは２，５００〜１５，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【００３７】
上記式（２）中、Ｒ３は水素原子または１価の有機基を表す。
【００３８】
上記１価の有機基は、好ましくは、低級アルキル基またはフェニル基である。低級アルキル基は、好ましくはＣ１−６のアルキル基である。
【００３９】
上記式（２）中、Ｒ４は、−Ｘ３−ＳｉＱ２ｋ’Ｙ２３−ｋ’を表す。
【００４０】
上記Ｘ３は、２価の有機基を表す。
【００４１】
上記Ｘ３の２価の有機基の具体例として、特に限定するものではないが、例えば、Ｃ１−２０アルキレン基、−（ＣＨ２）ｓ−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ−、−（ＣＨ２）ｓ−ＮＲ６−（ＣＨ２）ｔ−
［式中、Ｒ６は、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し；
ｓは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
ｔは、それぞれ独立して、１〜２０の整数である。］
で表される基が挙げられ、より好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基が挙げられる。
【００４２】
上記Ｙ２は、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基としては、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜１０、好ましくは１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは、−ＯＲ５（アルコキシ基）である。式中、Ｒ５はＣ２−１０アルキル基を表し、Ｒ５の例には、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、特に非置換アルキル基が好ましく、エチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【００４３】
上記Ｑ２は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表す。低級アルキル基は、好ましくはＣ１−６のアルキル基である。
【００４４】
上記ｋ’は、０〜３から選択される整数である。好ましくは０〜２から選択される整数であり、より好ましくは０または１であり、さらに好ましくは０である。
【００４５】
上記式（２）で表されるアミン化合物において、ｑは、０〜３の整数である。好ましくは、ｑは１または２であり、さらに好ましくは、ｑは２である。
【００４６】
上記式（２）で表されるアミン化合物の好ましい態様は、ｋ’が０〜２の整数であり、ｑが１または２であり、少なくとも１つのＲ３が水素原子である。
【００４７】
上記式（２）のアミン化合物は、上記式（１）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物を合成する際の原料アミン化合物の未反応物であってもよいし、別途添加したアミン化合物であってもよい。別途添加するアミン化合物は、合成に用いたアミン化合物と同じ化合物であってもよいし、異なるアミン化合物であってもよい。
【００４８】
上記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物は、パーフルオロカルボン酸誘導体と加水分解性基を有するアミノシランとの縮合反応によって製造することができる（特許文献１および２参照）。
【００４９】
一の態様において、本発明の表面処理剤中、式（２）で表されるアミン化合物は０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜８質量％、さらに好ましくは０．０５〜５質量％含まれる。かかる範囲とすることで、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と基材との反応を効率よく触媒することができる。
【００５０】
本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦＣ２Ｆ５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＦ３［式中、ｍおよびｎは、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍまたはｎを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍおよびｎの和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。
【００５１】
本発明の表面処理剤は、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物（１）およびアミン化合物（２）に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、他の表面処理化合物、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒などが挙げられる。
【００５２】
他の表面処理化合物としては、特に限定されないが、例えば、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）：
【化５】
0005880769.tif 000006
［式中：
Ｒｆ’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＦＰＥ’は、それぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
Ｒ１１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ１２は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ１３は、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１４は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
Ｒ１５は、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し；
Ｘは、それぞれ独立して、２〜７価の有機基を表し；
Ｙは、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表し；
Ｑは、各出現において、それぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ１６ｐ’Ｒ１７３−ｐ’を表し；
Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ１６は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ１７は、各出現において、それぞれ独立して、炭素数１〜２２のアルキル基、またはＱ’を表し；
Ｑ’は、Ｑと同意義であり；
ｐ’は、各ＱおよびＱ’において、それぞれ独立して、０〜３の整数であって、ｐ’の総和は１以上であり；
Ｑ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
ｘは、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
ｙは、それぞれ独立して、０または１であり；
ｚは、それぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、αを付して括弧でくくられた単位毎に独立して、０〜２の整数であり；
ｎは、αを付して括弧でくくられた単位毎に独立して、１〜３の整数であり；
αは、それぞれ独立して、１〜６の整数である。］
のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が挙げられる。
【００５３】
上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒ８−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒ９      ・・・（３）
式中、Ｒ８は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒ９は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ１−１６のパーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒ８およびＲ９は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１−３のパーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【００５４】
上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒ８−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−Ｒ９                  ・・・（３ａ）
Ｒ８−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’−（ＯＣＦ２）ｄ’’−Ｒ９              ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒ８およびＲ９は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【００５５】
上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。
【００５６】
本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物および式（２）で表されるアミン化合物の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。
【００５７】
一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。
【００５８】
一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物および式（２）で表されるアミン化合物の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、４：１〜１：４であることが好ましい。
【００５９】
好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物および式（２）で表されるアミン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。
【００６０】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’−Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ１−１６パーフルオロアルキル基である上記式パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物（１）で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
【００６１】
含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【００６２】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【００６３】
本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物および上記式（２）で表されるアミン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。
【００６４】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【００６５】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【００６６】
触媒は、式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
【００６７】
本発明の表面処理剤は、１つの溶液（または懸濁液もしくは分散液）の形態であってもよく、あるいは、別個の上記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と上記式（２）で表されるアミン化合物の溶液とを使用直前に混合する形態であってもよい。
【００６８】
本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【００６９】
次に、本発明の物品について説明する。
【００７０】
本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。
【００７１】
まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
【００７２】
上記ガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。
【００７３】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【００７４】
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【００７５】
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【００７６】
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【００７７】
次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。
【００７８】
本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【００７９】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【００８０】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【００８１】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【００８２】
湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：Ｃ５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物および式（２）で表されるアミン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。
【００８３】
乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【００８４】
膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【００８５】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【００８６】
次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。
【００８７】
上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。
【００８８】
前駆体膜に水分が供給されると、本発明の表面処理剤中の式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。
【００８９】
水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【００９０】
次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【００９１】
このような雰囲気下では、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物と基材との間で結合が形成される。
【００９２】
上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。
【００９３】
過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には５００℃以下、例えば３００℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。本発明では、パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物の分解を抑制する観点から、好ましくは、２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の過熱水蒸気が水分供給および乾燥加熱に用いられる。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。
【００９４】
以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。
【００９５】
上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【００９６】
すなわち本発明はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。
【００９７】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【００９８】
本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。
【００９９】
また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【０１００】
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【０１０１】
以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
【実施例】
【０１０２】
本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する２種の繰り返し単位（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の存在順序は任意である。また、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。
【０１０３】
・パーフルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物の合成
・合成例１
還流冷却器、滴下ロート、温度計および撹拌機を取り付けた２Ｌの４つ口フラスコに、エタノール２４０ｇ、トリエチルアミン１９．６ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で平均組成ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＦで表されるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸フルオライド化合物５００ｇを滴下し、その後、室温まで昇温させて、３時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン３００ｇを加えて１０分撹拌した後、静置後、下層のパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、３規定塩酸水溶液による洗浄操作を行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にエチルエステル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有エチルエステル化合物（Ａ）４７５ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有エチルエステル化合物（Ａ）：
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２ＣＦ２ＣＦ２ＣＯ２ＣＨ２ＣＨ３
【０１０４】
・合成例２
還流冷却器、滴下ロート、温度計および撹拌機を取り付けた２Ｌの４つ口フラスコに、合成例１にて合成した末端にエチルエステルを有するパーフルオロポリエーテル基含有エチルエステル化合物（Ａ）４５０ｇを仕込み、窒素気流下、室温でアミノプロピルトリエトキシシランＮＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３を２５．８４ｇ滴下した後、６５℃まで昇温させ１時間撹拌した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリエトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物（Ｂ）４７２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物（Ｂ）：
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５)３
【０１０５】
・合成例３
還流冷却器、滴下ロート、温度計および撹拌機を取り付けた２Ｌの４つ口フラスコに、エタノール２４０ｇ、トリエチルアミン１９．６ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で平均組成ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ[ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ]２２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦで表されるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸フルオライド化合物５００ｇを滴下し、その後、室温まで昇温させて、３時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン３００ｇを加えて１０分撹拌した後、静置後、下層のパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、３規定塩酸水溶液による洗浄操作を行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にエチルエステル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有エチルエステル化合物（Ｃ）４８０ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有エチルエステル化合物（Ｃ）：
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］２２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＯ２ＣＨ２ＣＨ３
【０１０６】
・合成例４
還流冷却器、滴下ロート、温度計および撹拌機を取り付けた３Ｌの４つ口フラスコに、合成例３にて合成した末端にエチルエステルを有するパーフルオロポリエーテル基含有エチルエステル化合物（Ｃ）４５０ｇを仕込み、窒素気流下、室温でアミノプロピルトリエトキシシランＮＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３を２５．８４ｇ滴下した後、６５℃まで昇温させ１時間撹拌した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリエトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物（Ｄ）４７３ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物（Ｄ）：
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］２２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
【０１０７】
（実施例１）
上記合成例２で得たパーフルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物（Ｂ）およびアミノプロピルトリエトキシシランＮＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３（Ｅ）を、ｍｏｌ比１００：５で、ノベック７２００（スリーエム社製）に溶解させて、濃度２０ｗｔ％になるように、表面処理剤１を調製した。
【０１０８】
上記で調製した表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０−３Ｐａとし、まず、前処理として、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を７ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇを蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。
【０１０９】
（実施例２）
化合物（Ｂ）に代えて、上記合成例４で得た化合物（Ｄ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１１０】
（比較例１〜２）
アミノプロピルトリエトキシシラン  ＮＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３（Ｅ）を用いずに、アミノ基含有パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物（Ｂ）を単独で用いる以外は、実施例１と同様にして、比較例１の表面処理層を形成した。また、アミノプロピルトリエトキシシランＮＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３（Ｅ）を用いずに、化合物（Ｂ）に代えて化合物（Ｄ）を用いる以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、比較例２の表面処理層を形成した。
【０１１１】
上記の実施例１および２、比較例１および２にて基材表面に形成された表面処理層について、消しゴム摩擦耐久試験により、摩擦耐久性を評価した。具体的には、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、消しゴム（コクヨ株式会社製、ＫＥＳＨＩ−７０、平面寸法１ｃｍ×１．６ｃｍ）を表面処理層の表面に接触させ、その上に５００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で消しゴムを２０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数５００回毎に水の静的接触角（度）を測定した。接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。最後に接触角が１００度を超えた時の往復回数を、表１に示す。
【０１１２】
【表１】
0005880769.tif 000007
【０１１３】
実施例１および２では、パーフルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物（Ｂ）または（Ｄ）単独の比較例１および２よりも、高い消しゴム耐久となっており、アミノプロピルトリエトキシシランＮＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３（Ｅ）を組み合わせることにより、耐久性が向上することが確認された。
【０１１４】
本発明はいかなる理論によっても拘束されないが、これは、アミノプロピルトリエトキシシランのアミノ基が、塩基性の触媒として作用し、パーフルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物と基材表面との反応性を向上させ、その結果、優れた消しゴム耐久性が得られたと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０１１５】
本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。