(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケイ酸塩発光材料の製造方法であって、
ＭとＳｉ元素とのモル比であるｙの比例（ここで、ＭはＡｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びＣｕ金属ナノ粒子のうちの少なくとも１種であり、ｙの範囲は０＜ｙ≦１×１０−２である）で、Ｍの塩溶液にＳｉＯ２エアロゲルを加え、５０℃〜７５℃で撹拌して均一に混合し、得られる混合溶液に対して超音波処理を行い、超音波処理した前記混合溶液を６０℃〜１５０℃で乾燥し、乾燥した混合物を均一に研磨して６００℃〜１２００℃で焼成し、Ｍイオン含有のＳｉＯ２エアロゲルを得る工程と、
ＬｉとＣａとＴｂとＳｉ元素のモル比が２：(１−ｘ)：ｘ：１（ここで、ｘの範囲は０＜ｘ≦０．２である）の比例でＬｉ化合物、Ｃａ化合物、Ｔｂ化合物、及び前記Ｍイオン含有のＳｉＯ２エアロゲルをそれぞれ秤量し、研磨して均一に混合し、混合材料を得る工程と、
前記混合材料を５００℃〜１０００℃で焼成処理を行ってから還元雰囲気において８００℃〜１２００℃で還元処理を行い、その後還元処理された混合材料を室温まで冷却して研磨し、一般式がＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４：Ｔｂｘ，Ｍｙ（ここで、Ｔｂ及びＭがＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４にドープされ、ドーピング粒子である）である前記ケイ酸塩発光材料を得る工程と、
を含む、
ことを特徴とするケイ酸塩発光材料の製造方法。
【請求項２】
前記Ｍの塩溶液には、溶質がＨＡｕＣｌ４、Ｈ２ＰｔＣｌ６、ＡｇＮＯ３、ＰｄＣｌ２・２Ｈ２Ｏ、及びＣｕ(ＮＯ３)２のうちの少なくとも１種であり、溶媒がエタノールである、
ことを特徴とする請求項１に記載のケイ酸塩発光材料の製造方法。
【請求項３】
前記Ｍの塩溶液の濃度は、５×１０−６〜１×１０−２ｍｏｌ／Ｌである、
ことを特徴とする請求項２に記載のケイ酸塩発光材料の製造方法。
【請求項４】
前記Ｌｉ化合物はＬｉの酸化物、炭酸塩、硝酸塩、酢酸塩、又はシュウ酸塩であり、前記Ｃａ化合物はＣａの酸化物、炭酸塩、硝酸塩、酢酸塩、又はシュウ酸塩であり、前記Ｔｂ化合物はＴｂの酸化物、炭酸塩、硝酸塩、酢酸塩、又はシュウ酸塩である、
ことを特徴とする請求項１に記載のケイ酸塩発光材料の製造方法。
【請求項５】
前記還元雰囲気はＣＯ還元雰囲気、Ｈ２還元雰囲気、又は体積分率が９５％Ｎ２と５％Ｈ２の混合還元雰囲気である、
ことを特徴とする請求項１に記載のケイ酸塩発光材料の製造方法。
【請求項６】
前記ｘの範囲は０．０２＜ｘ≦０．１０であり、前記ｙの範囲は１×１０−５＜ｙ≦５×１０−３である、
ことを特徴とする請求項１に記載のケイ酸塩発光材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光材料技術分野に関し、特にケイ酸塩発光材料及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
２０世紀の６０年代に、ＫｅｎＳｈｏｕｌｄｅｒは、電界放出陰極アレイ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ａｒｒａｙｓ、ＦＥＡｓ）に基づく電子ビーム微小化装置の構想を提案した。そして、ＦＥＡｓによってパネルディスプレー及び光源素子の設計及び製造に関する研究は、大きく関心を引いている。この新型の電界放出表示素子の作動原理は、従来の陰極線管（ＣＲＴ）の作動原理と類似して、即ち、電子ビームで赤、緑及び青の三色蛍光粉に衝撃を与え発光させることによって、結像又は照明への適用を実現することである。このような素子は、輝度、視角、応答時間、使用温度の範囲、及びエネルギー消費量等の面で、潜在的優位性を持つ。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
性能が優れている電界放出素子を製造するためには、高性能の発光材料の調製が主要因の１つである。現在、電界放出素子に用いられる蛍光材料は、主として従来の陰極線管及びプロジェクションテレビイメージ管に用いられる硫化物系、酸化物系、及び酸硫化物系の発光材料である。これらの硫化物系及び酸硫化物系の発光材料は、発光輝度が高く、一定の導電性を持つが、大電流電子ビームの衝撃において分解し易く、硫黄元素の放出によって陰極針を汚染し、且つ他の沈殿物を生成して発光材料の表面を覆うことがあるため発光材料の発光効率を低下させ、電界放出素子の実用寿命を縮める。
【０００４】
硫化物系及び酸硫化物系の発光材料が上記のような問題点があるため、研究者は安定性が良いケイ酸塩発光材料で硫化物系及び酸硫化物系の発光材料を代替することを考えているが、従来のケイ酸塩発光材料には発光効率が低いという問題が広く存在している。
【０００５】
そのため、発光効率が高いケイ酸塩発光材料及びその製造方法を提供する必要がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
ケイ酸塩発光材料であって、その一般式はＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４：Ｔｂｘ，Ｍｙであり、ここで、Ｔｂ及びＭはＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４にドープされたドーピング粒子であり、ＭはＡｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びＣｕ金属ナノ粒子のうちの少なくとも１種であり、ｘの範囲は０＜ｘ≦０．２であり、ｙはＭとＳｉ元素とのモル比で、ｙの範囲は０＜ｙ≦１×１０−２である。
【０００７】
１つの実施形態において、ｘの範囲は０．０２＜ｘ≦０．１０である。
【０００８】
１つの実施形態において、ｙの範囲は１×１０−５＜ｙ≦５×１０−３である。
【０００９】
ケイ酸塩発光材料の製造方法であって、
ＭとＳｉ元素とのモル比であるｙの比例（ここで、ＭはＡｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びＣｕ金属ナノ粒子のうちの少なくとも１種であり、ｙの範囲は０＜ｙ≦１×１０−２である）で、Ｍの塩溶液にＳｉＯ２エアロゲルを加え、５０℃〜７５℃で撹拌して均一に混合し、得られる混合溶液に対して超音波処理を行い、超音波処理した上記混合溶液を６０℃〜１５０℃で乾燥し、乾燥した混合物を均一に研磨して６００℃〜１２００℃で焼成し、Ｍイオン含有のＳｉＯ２エアロゲルを得る工程と、
ＬｉとＣａとＴｂとＳｉ元素のモル比が２：(１−ｘ)：ｘ：１（ここで、ｘの範囲は０＜ｘ≦０．２である）の比例でＬｉ化合物、Ｃａ化合物、Ｔｂ化合物、及び上記Ｍイオン含有のＳｉＯ２エアロゲルをそれぞれ秤量し、研磨して均一に混合し、混合材料を得る工程と、
上記混合材料を５００℃〜１０００℃で焼成処理を行ってから還元雰囲気において８００℃〜１２００℃で還元処理を行い、その後還元処理された混合材料を室温まで冷却して研磨し、一般式がＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４：Ｔｂｘ，Ｍｙ（ここで、Ｔｂ及びＭがＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４にドープされ、ドーピング粒子である）である上記ケイ酸塩発光材料を得る工程と、を含む。
【００１０】
１つの実施形態において、上記Ｍの塩溶液には、溶質がＨＡｕＣｌ４、Ｈ２ＰｔＣｌ６、ＡｇＮＯ３、ＰｄＣｌ２・２Ｈ２Ｏ、及びＣｕ(ＮＯ３)２のうちの少なくとも１種であり、溶媒がエタノールである。
【００１１】
１つの実施形態において、上記Ｍの塩溶液の濃度は５×１０−６〜１×１０−２ｍｏｌ／Ｌである。
【００１２】
１つの実施形態において、上記Ｌｉ化合物はＬｉの酸化物、炭酸塩、硝酸塩、酢酸塩、又はシュウ酸塩であり、上記Ｃａ化合物はＣａの酸化物、炭酸塩、硝酸塩、酢酸塩、又はシュウ酸塩であり、上記Ｔｂ化合物はＴｂの酸化物、炭酸塩、硝酸塩、酢酸塩、又はシュウ酸塩である。
【００１３】
１つの実施形態において、上記還元雰囲気はＣＯ還元雰囲気、Ｈ２還元雰囲気、又は体積分率が９５％Ｎ２と５％Ｈ２の混合還元雰囲気である。
【００１４】
１つの実施形態において、ｘの範囲は０．０２＜ｘ≦０．１０であり、ｙの範囲は１×１０−５＜ｙ≦５×１０−３である。
【発明の効果】
【００１５】
上記ケイ酸塩発光材料は、金属粒子がドープされることにより、ケイ酸塩発光材料の構造欠陥を有効に取り除き、無放射遷移の確率を低下させ、同様の励起条件において放射光の波長を変更せずに発光効率を大幅に向上させる。当該ケイ酸塩発光材料は、良い安定性を有し、硫化物系及び酸硫化物系の発光材料が分解しやすいという問題を克服し、硫化物系及び酸硫化物系の発光材料を代替して電界放出器件に適用することができる。
【００１６】
上記ケイ酸塩発光材料の製造方法は、まずＳｉＯ２エアロゲルにより金属イオンを吸着させて金属イオン含有のＳｉＯ２エアロゲルを得た後、Ｌｉ、Ｃａ及びＴｂの化合物と金属イオン含有のＳｉＯ２エアロゲルとを原料として、還元雰囲気において金属イオンを金属単体に還元して一般式がＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４：Ｔｂｘ，Ｍｙであるケイ酸塩発光材料を製造する。したがって、この製造方法は、製造プロセスが簡単で、コストが低く、非汚染で、反応がコントロールし易く、工業的生産に適して、得られるケイ酸塩発光材料は、発光性効率が高くかつ安定性が良いので、電界放出デバイスへの幅広い応用が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、一実施形態に係るケイ酸塩発光材料の製造方法のフロー図である。
【図２】図２は、実施例３で製造された発光材料が電圧１．５ＫＶで陰極線励起における発光スペクトルの比較図であり、ここで、曲線１は金属ＡｇがドープされたＬｉ２Ｃａ０．９０ＳｉＯ４：Ｔｂ０．１０，Ａｇ２．５×１０−４発光材料の発光スペクトルであり、曲線２は金属がドープされないＬｉ２Ｃａ０．９０ＳｉＯ４：Ｔｂ０．１０発光材料の発光スペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図面及び具体的な実施形態を参照して、ケイ酸塩発光材料及びその製造方法をさらに説明する。
【００１９】
一実施形態に係るケイ酸塩発光材料は、一般式がＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４：Ｔｂｘ，Ｍｙである。ここで、Ｔｂ及びＭはＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４にドープされ、ドーピング粒子である。ＭはＡｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びＣｕ金属ナノ粒子のうちの少なくとも１種である。ｘの範囲は０＜ｘ≦０．２である。ｙはＭとＳｉ元素とのモル比である。ｙの範囲は０＜ｙ≦１×１０−２である。
【００２０】
さらに、他の好適な実施形態において、ｘの範囲は０．０２＜ｘ≦０．１０であってもよく、ｙの範囲は１×１０−５＜ｙ≦５×１０−３であってもよい。
【００２１】
また、本実施形態は、図１に示すように、工程Ｓ１１０と、工程Ｓ１２０と、工程Ｓ１３０とを含むケイ酸塩発光材料の製造方法を提供する。
【００２２】
工程Ｓ１１０において、ＭとＳｉ元素とのモル比であるｙの比例で、Ｍの塩溶液にＳｉＯ２エアロゲルを加え、５０℃〜７５℃で撹拌して均一に混合し、得られる混合溶液に対して超音波処理を行い、超音波処理した混合溶液を６０℃〜１５０℃で乾燥し、乾燥した混合物を均一に研磨して６００℃〜１２００℃で焼成し、Ｍイオン含有のＳｉＯ２エアロゲルを得る。
【００２３】
ここで、ＭはＡｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びＣｕ金属ナノ粒子のうちの少なくとも１種である。ｙの範囲は０＜ｙ≦１×１０−２である。Ｍの塩溶液には、溶質がＨＡｕＣｌ４、Ｈ２ＰｔＣｌ６、ＡｇＮＯ３、ＰｄＣｌ２・２Ｈ２Ｏ、及びＣｕ(ＮＯ３)２のうちの少なくとも１種であり、溶媒がエタノールである。本実施形態において、Ｍの塩溶液の濃度範囲は５×１０−６〜１×１０−２ｍｏｌ／Ｌである。
【００２４】
工程Ｓ１２０において、ＬｉとＣａとＴｂとＳｉ元素のモル比が２：(１−ｘ)：ｘ：１の比例でＬｉ化合物、Ｃａ化合物、Ｔｂ化合物、及びＭイオン含有のＳｉＯ２エアロゲルをそれぞれ秤量し、研磨して均一に混合し、混合材料を得る。
【００２５】
ここで、ｘの範囲は０＜ｘ≦０．２である。Ｌｉ化合物はＬｉの酸化物、炭酸塩、硝酸塩、酢酸塩、又はシュウ酸塩である。Ｃａ化合物はＣａの酸化物、炭酸塩、硝酸塩、酢酸塩、又はシュウ酸塩である。Ｔｂ化合物はＴｂの酸化物、炭酸塩、硝酸塩、酢酸塩、又はシュウ酸塩である。
【００２６】
工程Ｓ１３０において、混合材料を５００℃〜１０００℃で焼成処理を行ってから還元雰囲気において８００℃〜１２００℃で還元処理を行い、その後還元処理された混合材料を室温まで冷却して研磨し、一般式がＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４：Ｔｂｘ，Ｍｙであるケイ酸塩発光材料を得る。ここで、Ｔｂ及びＭがＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４にドープされ、ドーピング粒子である。
【００２７】
本実施形態において、還元雰囲気は、ＣＯ還元雰囲気、Ｈ２還元雰囲気、又は体積分率が９５％Ｎ２と５％Ｈ２の混合還元雰囲気である。
【００２８】
そのケイ酸塩発光材料は、金属粒子がドープされることにより、ケイ酸塩発光材料の構造欠陥を有効に取り除き、無放射遷移の確率を低下させ、同様の励起条件において放射光の波長を変更せずに発光効率を大幅に向上させる。当該ケイ酸塩発光材料は、良い安定性を有し、硫化物系及び酸硫化物系の発光材料が分解しやすいという問題を克服し、硫化物系及び酸硫化物系の発光材料を代替して電界放出器件に適用することができる。
【００２９】
また、そのケイ酸塩発光材料の製造方法は、まずＳｉＯ２エアロゲルにより金属イオンを吸着させて金属イオン含有のＳｉＯ２エアロゲルを得た後、Ｌｉ、Ｃａ及びＴｂの化合物と金属イオン含有のＳｉＯ２エアロゲルとを原料として、還元雰囲気において金属イオンを金属単体に還元して一般式がＬｉ２Ｃａ１−ｘＳｉＯ４：Ｔｂｘ，Ｍｙであるケイ酸塩発光材料を製造する。したがって、この製造方法は、製造プロセスが簡単で、コストが低く、非汚染で、反応がコントロールし易く、工業的生産に適して、得られるケイ酸塩発光材料は、発光性効率が高くかつ安定性が良いので、電界放出デバイスへの幅広い応用が期待できる。
【００３０】
以下、具体的な実施例を参照しながら、ケイ酸塩発光材料の異なる組成、その製造方法、及びその性能などのテストを説明する。
【００３１】
（実施例１）
本実施例に係るケイ酸塩発光材料の組成は、Ｌｉ２Ｃａ０．８５ＳｉＯ４：Ｔｂ０．１５，Ａｕ１×１０−２であり、その製造方法は以下に示す。
【００３２】
ＳｉＯ２エアロゲル０．７２１２ｇを秤量して濃度が１×１０−２ｍｏｌ／Ｌのクロロ金酸(ＨＡｕＣｌ４)のエタノール溶液１２ｍＬに溶解させ、得られる混合溶液を７５℃で０．５時間撹拌して１０分間超音波処理を行い、１５０℃で乾燥して得られたサンプルを均一に研磨した後、１２００℃で０．５時間焼成してＡｕ３＋含有のＳｉＯ２エアロゲルを得た。
【００３３】
酸化リチウム(Ｌｉ２Ｏ)０．１１９５ｇ、酸化カルシウム(ＣａＯ)０．１９０４ｇ、七酸化四テルビウム(Ｔｂ４Ｏ７)０．１１２１ｇ、及び得られた上記Ａｕ３＋含有のＳｉＯ２エアロゲル０．２４０５ｇをそれぞれ秤量して混合材料を調製した。
【００３４】
調製された上記混合材料をメノウ乳鉢において均一に混合するまで十分に研磨した後、得られた粉末を鋼玉るつぼに移してマッフル炉において５００℃で１５時間熱処理し、その後管状炉でＣ還元雰囲気において１０００℃で２時間焼成して、すなわちＡｕ３＋をＡｕ単体に還元した後、室温まで冷却して得られたサンプルを粉末に研磨し、ＡｕがドープされるＬｉ２Ｃａ０．８５ＳｉＯ４：Ｔｂ０．１５，Ａｕ１×１０−２発光材料を得た。
【００３５】
（実施例２）
本実施例に係るケイ酸塩発光材料の組成は、Ｌｉ２Ｃａ０．９８ＳｉＯ４：Ｔｂ０．０２，Ｐｔ５×１０−３であり、その製造方法は以下に示す。
【００３６】
ＳｉＯ２エアロゲル０．３６０６ｇを秤量して濃度が５×１０−３ｍｏｌ／Ｌの塩化白金酸(Ｈ２ＰｔＣｌ６)のエタノール溶液６ｍＬに溶解させ、得られる混合溶液を５０℃で３時間撹拌して１０分間超音波処理を行い、６０℃で乾燥して得られたサンプルを均一に研磨した後、６００℃で４時間焼成してＰｔ４＋含有のＳｉＯ２エアロゲルを得た。
【００３７】
炭酸リチウム(Ｌｉ２ＣＯ３)０．２９５５ｇ、炭酸カルシウム(ＣａＣＯ３)０．３９２４ｇ、炭酸テルビウム(Ｔｂ２(ＣＯ３)３)０．０１９９ｇ、及び得られた上記Ｐｔ４＋含有のＳｉＯ２エアロゲル０．２４０４ｇをそれぞれ秤量して混合材料を調製した。
【００３８】
調製された上記混合材料をメノウ乳鉢において均一に混合するまで十分に研磨した後、得られた粉末を鋼玉るつぼに移してマッフル炉において１０００℃で２時間熱処理し、その後管状炉で在ＣＯ還元雰囲気において１２００℃で０．５時間焼成、すなわちＰｔ４＋をＰｔに還元した後、室温まで冷却して得られたサンプルを粉末に研磨し、ＰｔがドープされるＬｉ２Ｃａ０．９８ＳｉＯ４：Ｔｂ０．０２，Ｐｔ５×１０−３発光材料を得た。
【００３９】
（実施例３）
本実施例に係るケイ酸塩発光材料の組成は、Ｌｉ２Ｃａ０．９０ＳｉＯ４：Ｔｂ０．１０，Ａｇ２．５×１０−４であり、その製造方法は以下に示す。
【００４０】
ＳｉＯ２エアロゲル０．３６０６ｇを秤量して濃度が２×１０−４ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀(ＡｇＮＯ３)のエタノール溶液７．５ｍＬに溶解させ、得られる混合溶液を６０℃で２時間撹拌して１０分間超音波処理を行い、８０℃で乾燥して得られたサンプルを均一に研磨した後、８００℃で２時間焼成してＡｇ＋含有のＳｉＯ２エアロゲルを得た。
【００４１】
炭酸リチウム(Ｌｉ２ＣＯ３)０．２９５５ｇ、酸化カルシウム(ＣａＯ)０．２０１６ｇ、七酸化四テルビウム(Ｔｂ４Ｏ７)０．０７４７ｇ、及び得られた上記Ａｇ＋含有のＳｉＯ２エアロゲル０．２５２４ｇをそれぞれ秤量して混合材料を調製した。
【００４２】
調製された上記混合材料をメノウ乳鉢において均一に混合するまで十分に研磨した後、得られた粉末を鋼玉るつぼに移してマッフル炉において６００℃で４時間熱処理し、その後管状炉で９５％Ｎ２と５％Ｈ２(体積分率)の混合還元雰囲気において１０００℃で４時間焼成、すなわちＡｇ＋をＡｇに還元した後、室温まで冷却して得られたサンプルを粉末に研磨し、ＡｇがドープされるＬｉ２Ｃａ０．９０ＳｉＯ４：Ｔｂ０．１０，Ａｇ２．５×１０−４発光材料を得た。
【００４３】
図２は、本実施例で製造したＡｇがドープされるＬｉ２Ｃａ０．９０ＳｉＯ４：Ｔｂ０．１０，Ａｇ２．５×１０−４発光材料(曲線１)と金属がドープされないＬｉ２Ｃａ０．９０ＳｉＯ４：Ｔｂ０．１０発光材料(曲線２)とは、１．５ｋＶ電圧における陰極線発光スペクトルの比較図である。図２に示すように、５４４ｎｍにおける発光ピークについて、金属がドープされる発光材料の発光強度は、金属がドープされない発光材料より２９％強くなることが分かる。本実施例に係る発光材料は、安定性及び色純度が良く、発光効率が高いなどの特徴を有する。
【００４４】
（実施例４）
本実施例に係るケイ酸塩発光材料の組成は、Ｌｉ２Ｃａ０．８０ＳｉＯ４：Ｔｂ０．２０，Ｐｄ１×１０−５であり、その製造方法は以下に示す。
【００４５】
ＳｉＯ２エアロゲル０．３００５ｇを秤量して濃度が５×１０−６ｍｏｌ／Ｌの塩化パラジウム（ＰｄＣｌ２・２Ｈ２Ｏ）のエタノール溶液１０ｍＬに溶解させ、得られる混合溶液を６５℃で１．５時間撹拌して１０分間超音波処理を行い、１２０℃で乾燥して得られたサンプルを均一に研磨した後、１１００℃で２時間焼成してＰｄ４＋含有のＳｉＯ２エアロゲルを得た。
【００４６】
シュウ酸リチウム(Ｌｉ２Ｃ２Ｏ４)０．４０７６ｇ、シュウ酸カルシウム(ＣａＣ２Ｏ４)０．４０９６ｇ、シュウ酸テルビウム(Ｔｂ２(Ｃ２Ｏ４)３)０．２３２７ｇ、及び得られた上記Ｐｄ４＋含有のＳｉＯ２エアロゲル０．２５２４ｇをそれぞれ秤量して混合材料を調製した。
【００４７】
調製された上記混合材料をメノウ乳鉢において均一に混合するまで十分に研磨した後、得られた粉末を鋼玉るつぼに移してマッフル炉において７００℃で５時間熱処理し、その後管状炉でＨ２還元雰囲気において８００℃で６時間焼成して、すなわちＰｄ４＋をＰｄに還元した後、室温まで冷却して得られたサンプルを粉末に研磨し、ＰｄがドープされるＬｉ２Ｃａ０．８０ＳｉＯ４：Ｔｂ０．２０，Ｐｄ１×１０−５発光材料を得た。
【００４８】
（実施例５）
本実施例に係るケイ酸塩発光材料の組成は、Ｌｉ２Ｃａ０．９５ＳｉＯ４：Ｔｂ０．０５，Ｃｕ１×１０−４であり、その製造方法は以下に示す。
【００４９】
ＳｉＯ２エアロゲル０．３６０６ｇを秤量して濃度が５×１０−５ｍｏｌ／Ｌの硝酸銅（Ｃｕ(ＮＯ３)２）のエタノール溶液１２ｍＬに溶解させ、得られる混合溶液を７０℃で１時間撹拌して１０分間超音波処理を行い、７０℃で乾燥して得られたサンプルを均一に研磨した後、８００℃で２時間焼成してＣｕ２＋含有のＳｉＯ２エアロゲルを得た。
【００５０】
硝酸リチウム(ＬｉＮＯ３)０．５５１６ｇ、硝酸カルシウム(Ｃａ(ＮＯ３)２)０．６２３２ｇ、硝酸テルビウム(Ｔｂ(ＮＯ３)３)０．０６８９ｇ、及び得られた上記Ｃｕ２＋含有のＳｉＯ２エアロゲル０．２４０４ｇをそれぞれ秤量して混合材料を調製した。
【００５１】
調製された上記混合材料をメノウ乳鉢において均一に混合するまで十分に研磨した後、得られた粉末を鋼玉るつぼに移してマッフル炉において６００℃で４時間熱処理し、その後管状炉で９５％Ｎ２と５％Ｈ２(体積分率)の混合還元雰囲気において１０００℃で６時間焼成、すなわちＣｕ２＋をＣｕに還元した後、室温まで冷却して得られたサンプルを粉末に研磨し、ＣｕがドープされるＬｉ２Ｃａ０．９５ＳｉＯ４：Ｔｂ０．０５，Ｃｕ１×１０−４発光材料を得た。
【００５２】
（実施例６）
本実施例に係るケイ酸塩発光材料の組成は、Ｌｉ２Ｃａ０．８８ＳｉＯ４：Ｔｂ０．１２，Ａｇ５×１０−４であり、その製造方法は以下に示す。
【００５３】
ＳｉＯ２エアロゲル０．３６０６ｇを秤量して濃度が２．５×１０−４ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀（ＡｇＮＯ３）のエタノール溶液１２ｍＬに溶解させ、得られる混合溶液を６５℃で１．５時間撹拌して１０分間超音波処理を行い、１２０℃で乾燥して得られたサンプルを均一に研磨した後、９００℃で３時間焼成してＡｇ＋含有のＳｉＯ２エアロゲルを得た。
【００５４】
炭酸リチウム(Ｌｉ２ＣＯ３)０．２９５５ｇ、シュウ酸カルシウム(ＣａＣ２Ｏ４)０．４５０６ｇ、シュウ酸テルビウム(Ｔｂ２(Ｃ２Ｏ４)３)０．１３９６ｇ、及び得られた上記Ａｇ＋含有のＳｉＯ２エアロゲル０．２４０４ｇをそれぞれ秤量して混合材料を調製した。
【００５５】
調製された上記混合材料をメノウ乳鉢において均一に混合するまで十分に研磨した後、得られた粉末を鋼玉るつぼに移してマッフル炉において５００℃で１０時間熱処理し、その後管状炉でＨ２還元雰囲気において１１００℃で３時間焼成して、すなわちＡｇ＋をＡｇに還元した後、室温まで冷却して得られたサンプルを粉末に研磨し、ＡｇがドープされるＬｉ２Ｃａ０．８８ＳｉＯ４：Ｔｂ０．１２，Ａｇ５×１０−４発光材料を得た。
【００５６】
（実施例７）
本実施例に係るケイ酸塩発光材料の組成は、Ｌｉ２Ｃａ０．９２ＳｉＯ４：Ｔｂ０．０８，（Ａｇ０．５／Ａｕ０．５)１．２５×１０−３であり、その製造方法は以下に示す。
【００５７】
ＳｉＯ２エアロゲル０．７２１２ｇを秤量して濃度が１×１０−３ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀(ＡｇＮＯ３)及び濃度が１×１０−３ｍｏｌ／Ｌのクロロ金酸(ＨＡｕＣｌ４)を含むエタノール溶液１５ｍＬに溶解させ、得られる混合溶液を６０℃で２時間撹拌して１０分間超音波処理を行い、８０℃で乾燥して得られたサンプルを均一に研磨した後、１０００℃で４時間焼成してＡｇ＋及びＡｕ３＋含有のＳｉＯ２エアロゲルを得た。
【００５８】
酢酸リチウム(ＣＨ３ＣＯＯＬｉ)０．５２７９ｇ、酢酸カルシウム((ＣＨ３ＣＯＯ)２Ｃａ)０．５８２１ｇ、酢酸テルビウム((ＣＨ３ＣＯＯ)３Ｔｂ)０．１０７５ｇ、及び得られた上記Ａｇ＋及びＡｕ３＋含有のＳｉＯ２エアロゲル０．２５２４ｇをそれぞれ秤量して混合材料を調製した。
【００５９】
調製された上記混合材料をメノウ乳鉢において均一に混合するまで十分に研磨した後、得られた粉末を鋼玉るつぼに移してマッフル炉において７００℃で８時間熱処理し、その後管状炉で９５％Ｎ２と５％Ｈ２(体積分率)の混合還元雰囲気において９００℃で５時間焼成、すなわちＡｇ＋及びＡｕ３＋をＡｇ単体及びＡｕ単体に還元した後、室温まで冷却して得られたサンプルを粉末に研磨し、Ａｇ及びＡｕがドープされるＬｉ２Ｃａ０．９２ＳｉＯ４：Ｔｂ０．０８，(Ａｇ０．５／Ａｕ０．５)１．２５×１０−３発光材料を得た。
【００６０】
上述した実施例は、具体的、かつ詳細に説明しており、本発明のいくつかの実施形態を示すものであるが、本発明の特許請求の範囲を限定するものではないと理解されるべきである。本発明の思想を逸脱しないことを前提とする場合、当業者が複数の変形及び変更をしても、本発明の保護範囲に属するものであると理解されるべきである。したがって、本発明の保護範囲は、特許請求の範囲に基づくものである。
【図１】
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【図２】
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