(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１及び第２の糸を交差させて織った織物調のエンボスが形成された表面層を備え、
前記表面層は、所定の画像を表す少なくとも一つの画像領域と、当該画像領域の少なくとも一部を囲む背景領域とを有し、
前記第１及び第２の糸の交点で当該第１の糸が上糸となる上糸比率が、前記画像領域と、背景領域とで、異なるように構成されており、
前記第１の糸及び第２の糸は、当該糸の延びる方向において、下糸となる箇所を挟んで切断されて隙間が形成されている、
化粧シート。
【請求項２】
前記画像領域の上糸比率と、前記背景領域の上糸比率との差が１０％以上である、請求項１に記載の化粧シート。
【請求項３】
前記表面層のエンボスの最下面から前記上糸の上面までの高さが、０．３〜１．０ｍｍである、請求項１又は２に記載の化粧シート。
【請求項４】
前記第１の糸同士の間隔、及び第２の糸同士の間隔がそれぞれ、０．２〜３．０ｍｍである、請求項１から３のいずれか１項に記載の化粧シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、付加価値を高めるために、意匠性を向上した化粧シートが多く提案されている。その中で、見る方向によって異なる絵柄を視認することができるいわゆる隠し絵を形成した化粧シートが提案されている。例えば、特許文献１に開示された化粧シートでは、表面に３つの領域を形成し、隠し絵効果を向上している。すなわち、この化粧シートは、梨地面で形成された第１の表面部分、一方向への反射光を得ることができる第２の表面部分、及び第２の表面部分とは異なる方向への反射光を得ることができる第３の表面部分を有し、各表面部分には絵柄が形成されている。そして、このような表面部分を有することにより、正面からこの化粧シートを見た場合には、まず、梨地面である第１の表面部分の絵柄が視認できる。そして、斜め方向から見た場合には、第２及び第３の表面部分の反射光の違いによるコントラストの差によって、第２の表面部分の絵柄を視認することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−３０２６５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記化粧シートは、正面から見た場合に視認できる絵柄と、斜めから見た場合に視認できる絵柄とが別の領域に現れるため、両絵柄に関連性はなく、意匠性の観点からは統一性がない。したがって、意匠性の観点からはさらなる改良の余地があった。
【０００５】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、通常視認できる絵柄を利用した意匠性の高い化粧シートを提供することを目的とする。
【０００６】
本発明に係る化粧シートは、複数の第１及び第２の糸を交差させて編み込んだ織物調のエンボスが形成された表面層を備え、前記表面層は、所定の画像を表す少なくとも一つの画像領域と、当該画像領域の少なくとも一部を囲む背景領域とを有し、前記第１及び第２の糸の交点で当該第１の糸が上糸となる上糸比率が、前記画像領域と、背景領域とで、異なるように構成されている。
【０００７】
この構成によれば、交差する第１及び第２の糸を編み込んだ織物調のエンボスを利用しつつ、織物の中に画像を視認することができる。まず、本発明における画像の視認のメカニズムについて説明する。織物調のエンボスにおいて、上糸は表面層のエンボスの最下面からの高さが高いため、上糸の延びる方向と直交する方向から光が当たった場合には、陰影が生じやすくなる。そのため、第１の糸の上糸の割合が多い領域と少ない領域とでは陰影の量が異なり、両者を識別することが可能となる。なお、織物において第１及び第２の糸は交差しているため、第１の糸が上糸の割合が多くても、光の向きが上糸と平行であれば、陰影は生じにくい。但し、この場合には、第２の糸の上糸の割合が多い領域で陰影が生じやすくなるため、結果的に両領域の識別は可能である。
【０００８】
そこで、本発明においては、エンボスが形成された表面層に、画像領域と背景領域を設け、第１及び第２の糸の交点で第１の糸が上糸となる上糸比率が、画像領域と背景領域とで異なるように構成している。そのため、画像領域と背景領域とでは、陰影の生じ方に差が出る。これにより、両領域の境界が顕在化し、画像領域を視認することができる。このように、本発明においては、光の当たり方によって視認可能な画像を、織物の特性を利用して形成しているため、織物調という通常視認できる意匠の中に陰影による画像を視認可能に形成することができる。そのため、意匠としての統一感が増し、意匠性を向上することができる。なお、上記画像とは、絵柄のほか、文字、図形、模様など、種々の形態を含む。
【０００９】
上記化粧シートにおいて、第１の糸及び第２の糸は、糸の延びる方向において、下糸となる箇所を挟んで切断され隙間を形成することができる。このようにすると、上糸から下糸に移行する部分に隙間が形成されるため、上糸部分が強調されて視認される。そのため、画像領域として存在する絵柄等を視認しやすくすることができる。
【００１０】
上記化粧シートにおいては、画像領域の上糸比率と、背景領域の上糸比率との差が１０％以上とすることが好ましい。このような上糸比率の差を設けることで、両領域における陰影の量の差がさらに大きくなり、両領域を識別できるため、画像領域をさらに明確に視認することができる。
【００１１】
また、上記化粧シートにおいては、表面層のエンボスの最下面から上糸の上面までの高さが、０．３〜１．０ｍｍであることが好ましい。これは、高さが低すぎると陰影が生じにくくなり、高すぎるとエンボスを形成することが困難になるからである。
【００１２】
上記化粧シートにおいては、前記第１の糸同士の間隔、及び第２の糸同士の間隔がそれぞれ、０．２〜３．０ｍｍとすることが好ましい。陰影は、糸と糸の間の隙間に形成されるため、その間隔が小さいと陰影が形成される領域が少なくなり、陰影効果が低減する。一方、間隔が広すぎると、糸が粗になり、織物としての意匠性が低減する。そのため、各糸同士の間隔は、上記のように設定することが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、通常視認できる絵柄を利用した意匠性の高い化粧シートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係る化粧シートの一実施形態の断面図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】エンボスの元になる織物デザインを示す拡大平面図である。
【図４】図３のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】上糸比率が高い場合の織物デザインの一例を示す平面図である。
【図６】図３の織物デザインを元に作成された表面層のエンボスの断面図である。
【図７】表面層に光Ｌが入射したときの平面図及び断面図である。
【図８】エンボス画像の例を示す平面図である。
【図９】図８（ｂ）のエンボス画像から作製したエンボスを平面から見た写真である。
【図１０】図９のエンボスを斜めから見た写真ある。
【図１１】図３の他の例を示す織物デザインの拡大平面図である。
【図１２】図８の織物デザインを元に作成された表面層のエンボスの断面図である。
【図１３】図２の他の例を示す平面図である。
【図１４】実施例及び比較例における実験の態様を示す概略側面図（ａ）及び平面図（ｂ）である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係る化粧シートの一実施形態について図面を参照しつつ説明する。図１はこの化粧シートの断面図である。
【００１６】
図１に示すように、この化粧シートは、表面にエンボスが形成されたシート状の表面層１と、この表面層１の下面に配置されるシート状の基材２とで、形成されている。表面層１は、０．１〜１．５ｍｍの厚さを有し、化粧シートとして一般的に用いられる樹脂材料、発泡樹脂材料で形成される。そして、後述するように、エンボス版による押圧によって表面に凹凸を形成できるものが好ましい。また、基材２は、表面層１を支持する役割を果たし、例えば、厚さが０．０８〜０．１５ｍｍ程度の繊維質シート（いわゆる裏打紙）を用いることができる。
【００１７】
次に、表面層について図２〜図４を参照しつつ詳細に説明する。表面層１には、後述するように、エンボス版を樹脂材料などに押圧することで、エンボスが形成されるのであるが、まず、エンボスのデザインの元になる織物デザインについて説明する。図２は図１の平面図となるエンボス画像、図３はエンボスの元になる織物デザインの拡大平面図、図４は図３のＡ−Ａ線断面図である。図２（ａ）に示すように、表面層１の上面には、縦糸１０１と横糸１０２とを編み込んだ織物調のエンボスが形成されている。そして、このエンボスの元になる織物デザイン１１００は、図３に示すように形成されている。すなわち、所定の幅Ｄ１，Ｄ２及び高さＨ１，Ｈ２を有する複数の縦糸１０１及び横糸１０２がそれぞれ所定間隔Ｔ１，Ｔ２をおいて平行に延びており、これらが編み込まれることで織物調のデザインを形成している。このとき、縦糸１０１及び横糸１０２は、互いに直角に交差し、各交差点Ｃにおいて縦糸１０１または横糸１０２のいずれか一方が、他方の上側を通過するように配置されている。ここでは、交差点Ｃにおいて上側を通過する糸を上糸Ｕ、下側を通過する糸を下糸Ｌと称することとする。上記のように、縦糸１０１及び横糸１０２は所定の高さを有するので、２つの糸が交差する交差点Ｃの高さＨＴは一本の糸の約１．５〜２倍程度になる。
【００１８】
このように、表面層１に形成されるエンボスは、上記のような織物デザインを元に形成されるのであるが、表面層１に形成されるエンボスの中には、２種類の領域が形成されている。すなわち、図２（ａ）に示すように、絵柄を表す少なくとも一つの画像領域１１と、その周囲を囲む背景領域１２とが形成されている。図２（ａ）に示す例では、画像領域１１としてリンゴの絵が表されている。つまり、外形がリンゴの形状をなしている。図２（ｂ）は、図２（ａ）の画像領域１１を見やすくするために補助線Ｋを付したものである。画像領域１１と背景領域１２とは、いずれも縦糸１０１及び横糸１０２を有する織物調のエンボスで形成されているが、縦糸１０１が上糸になっている割合（以下、上糸比率と称する）が相違している。以下、この点を、図５を参照しつつ詳細に説明する。図５は画像領域の元になる織物デザインの拡大平面図である。
【００１９】
一般的な織物は、図３に示すように、縦糸１０１及び横糸１０２がそれぞれ、上糸、下糸を交互に繰り返す格子状に形成されている。上述した上糸比率は、全交差点Ｃのうち、縦糸１０１が上糸となっている箇所の比率である。図３の例では、１６個の交差点Ｃが存在するが、このうち、縦糸１０１が上糸になっている箇所は、８箇所である。したがって、上糸比率は５０％であり、本実施形態では、これを背景領域１２の元になる織物デザイン１１００の一例として採用している。これに対して、図５の例では、図３とは上糸比率が相違しており、これを画像領域１１の元になる織物デザイン１２００としている。すなわち、背景領域１２の上糸比率が５０％であるのに対し、画像領域１１の上糸比率は７５％となっている。図５では、１６個の交差点Ｃのうち、１２箇所で縦糸１０１が上糸Ｕとなっている。すなわち、上糸比率は７５％である。このように、本実施形態では、画像領域１１と背景領域１２とで、上糸比率を相違させている。
【００２０】
上記のように形成された織物デザイン１１００，１２００は、エンボスの元になるものであり、例えば、エンボス版で樹脂材料を押圧することによってエンボスを形成すると、平面形状は、図３及び図４と同等であるが、断面形状としては、図６に示すような形態が表面層１に現れる。すなわち、図４に示す織物デザイン１１００の最上面の部分のみが表面層１に現れ、下糸Ｌなどの表面から見えない部分は、エンボスには現れない。
【００２１】
次に、本実施形態で画像領域１１と背景領域１２を形成する意義について説明する。上記のように、画像領域１１と背景領域１２とで、上糸比率を相違させると、次のような効果を得ることができる。この点を図７を参照しつつ説明する。図７は表面層に光Ｌが入射したときの平面図及び断面図を示している。同図に示すように、化粧シートの側方のＸ方向から斜めに光Ｌが入射した場合、上糸Ｕは表面層１の最下面からの高さが高いので、陰影Ｓが生じやすい。このとき、光Ｌの入射方向Ｘと平行な糸が上糸である場合に比べ、直交する糸が上糸である場合の方が、陰影Ｓが生じる面積が大きくなる。したがって、光Ｌの入射方向と直交する上糸の割合が多い領域には陰影Ｓが生じやすく、そのような上糸の割合が小さい領域との差が生じ、視認しやすくなる。一方、光Ｌが化粧シートの側方のＹ方向（Ｘ方向と直交する方向）から斜めに入射した場合には、その反対になる。いずれにしても、本実施形態のように画像領域１０１と背景領域１０２とで、上糸比率を異ならせることにより、各領域で生じる陰影Ｓに差を設けることができ、その結果、画像領域１０１を背景領域１０２から識別することができる。すなわち、陰影Ｓによる絵柄の識別効果を得ることができる。以下、これを陰影効果と称する。このような陰影効果は、光Ｌの入射方向に依存するほか、目視を行う位置にも依存する。すなわち、側方からの光Ｌの入射が弱い場合でも、斜め側方から目視を行うことで、同等の効果を得ることができる。
【００２２】
上記のような陰影効果を得るためには、以下のようにエンボスを形成することが好ましい。まず、陰影効果は、上糸比率に依存するため、画像領域１０１と背景領域１０２とで、少なくとも上糸比率が相違する必要があり、その差が１０％以上であることが好ましく、２０％以上であることがさらに好ましい。但し、上限は特にはないが、上糸比率の相違が大きすぎると、画像領域１０１の隠し絵的な効果が低減し、はっきりと視認できる模様になってしまう可能性がある。この点は、化粧シートの作製目的にもよるが、正面から見たときに画像領域が視認しやすくなるのを防止し、隠し絵的な効果を奏したい場合には、上糸比率を４０％以下とすることが好ましい。特に、背景領域または画像領域のいずれかの上糸率が１００％になると、すべての上糸が縦糸になってしまうため、画像領域が正面視から容易に視認でき、隠し絵効果が低減する可能性がある。この観点から、画像領域及び背景領域の上糸率は、１０％以上９０％以下にすることが好ましい。
【００２３】
また、エンボスによって積極的に陰影を生じさせるためには、エンボスの凹凸の差が大きいことが好ましい。本実施形態においては、表面層１のエンボスの最下面１０３（図６参照）から、上糸の上面までの高さＨＴが０．３〜１．０ｍｍであることが好ましく、０．５〜０．７ｍｍであることがさらに好ましい。０．３ｍｍより小さいと、陰影効果が生じにくく、１．０ｍｍより大きいと、後述するエンボス版によってその高さを形成できないおそれがあることによる。また、各糸の間隔も陰影効果に影響を与える。すなわち、糸の間隔が小さいと、陰影が生じる箇所が小さくなり、結果として陰影効果が小さくなる。一方、間隔が大きすぎると、表面層１に対する縦糸１０１及び横糸１０２の密度が小さくなり、織物としての意匠性が悪くなる。このような観点から、縦糸１０１及び横糸１０２の間隔Ｔ１，Ｔ２は、それぞれ、０．２〜３．０ｍｍであることが好ましく、０．４〜２．０ｍｍであることがさらに好ましい。その他、各糸１０１、１０２の幅Ｄ１，Ｄ２は、小さすぎると形成しがたく、大きすぎると高さとのバランスが悪くなるため、０．５〜３．０ｍｍであることが好ましく、１．０〜２．０ｍｍであることがさらに好ましい。しかし、糸の太さは必ずしも均一である必要はなく、太い糸、細い糸が混在していたり、１本の糸の太さが変化していてもよい。また、糸の間隔、糸の太さについては、縦糸１０１と横糸１０２とで相違させることもできる。
【００２４】
ここで、図８にエンボスの画像の例を示す。図２及び図３に示す例は、すべて、縦糸及び横糸の幅Ｄ１，Ｄ２が１．６ｍｍ、縦糸間及び横糸間の間隔Ｔ１，Ｔ２が１．４ｍｍ、エンボスの高さＨＴが０．５ｍｍとしている。そして、各例での上糸比率は次の通りである。図８（ａ）は背景領域が０％、画像領域が１００％、図８（ｂ）は背景領域が５０％、画像領域が９０％、図８（ｃ）は背景領域が５０％、画像領域が８０％である。また、図８（ｂ）の画像からエンボスを作製したものが図９の写真である。この写真は、エンボスを正面から見たものである。この写真では、織物としてのエンボスが現れているが、画像領域の絵柄はほとんど視認できない。これに対して、図１０の写真は、図９のエンボスを斜めから見たものであり、このように見ると上述した陰影効果により画像領域の絵柄（リンゴ）が視認できる。
【００２５】
続いて、上記のように構成される化粧シートの製造方法の一例について説明する。また、以下の説明の中で、本実施形態に係る化粧シートの材料についても例示する。まず、繊維質シートで形成された基材２の上に、表面層１となる発泡剤を含有した樹脂層Ａを接着し、化粧シート基材を形成する。このとき、Ｔダイスを用い、溶融押し出しラミネート法により、樹脂層Ａを非発泡状態で接着させる。なお、樹脂層Ａの表裏に、非発泡の透明樹脂層Ｂ，Ｃを設けて、３層押し出しをすることもできる。樹脂層Ａの材料組成としては、主原料にエチレン−メタクリル酸共重合体（ＥＭＡＡ）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）などのオレフィン系樹脂を使用することができる。その他の材料として、無機充填剤、顔料、発泡剤、発泡助剤、架橋助剤、安定剤、滑剤等を公知の配合でブレンドすることができる。発泡前の表面層１は０．０４〜０．１ｍｍ程度の厚みで製膜し、後の工程で発泡させて０．３〜１．０ｍｍ程度の発泡樹脂層とすることが好ましい。
【００２６】
樹脂層Ａの表面（基材２とは反対側の面）に設ける透明樹脂層Ｂとしては、エチレン−メタクリル酸共重合体（ＥＭＡＡ）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）などが好ましい。また、表面強度の向上、耐汚染性の向上、押し出し時の目ヤニ防止などの観点から、厚みは５〜２０μｍとすることが好ましい。一方、樹脂層Ａの裏面（基材２に接する面）に設ける透明樹脂層Ｃとしては、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）が好ましい。基材２との密着、押し出し時の目ヤニ防止などの観点から、厚みは５〜１０μｍとすることが好ましい。
【００２７】
次に、樹脂層Ａ（または透明樹脂層Ｂ）の上に絵柄模様層を設ける。絵柄模様層の形成にはグラビア印刷、フレキソ印刷等が用いられる。印刷インキとしては、着色剤、結着材樹脂、溶剤を含む印刷インキを使用できる。これらのインキは公知、又は市販のものを使用してもよい。さらに絵柄模様層の上に表面保護層を積層してもよい。表面保護層についてもグラビア印刷、フレキソ印刷等、フィルムラミネート、押し出しラミネート等公知の方法を用いることができる。表面保護層は艶調整が目的であれば、例えば、シリカなどの既知フィラーを含んでもよい。表面強度が目的であれば、電離放射線硬化型樹脂を樹脂成分として含有するものが好適である。厚みは０．１〜１５μｍが好ましい。
【００２８】
続いて、上述した化粧シート基材に電離放射線を照射してもよい。樹脂層Ａに電子線を照射することで発泡性や強度を調整することができる。電子線照射の条件としては、加速電圧１５０〜２５０ｋｖ、照射量１０〜７０ｋＧｙがよい。
【００２９】
上記のように支持層２上に表面層１を形成すると、これに続いて、化粧シート基材を加熱発泡炉に通し、表面層１の厚みを５〜１０倍となるように発泡させる。加熱条件は、熱分解型発泡剤の分解により発泡樹脂層が形成される条件であれば特には限定されないが、炉内温度２００〜４００℃が好ましい。
【００３０】
発泡した化粧シート基材に対して、最表層（表面層１）にエンボスを賦型する。エンボス凹凸模様は、エンボス加工（エンボス版を用いた凹凸賦型）により賦型する。エンボス版の製造は、種々の方法があるが、例えば、特開２０１０−２８７２０４、特開２０１１−１４８１８４に記載のような方法で、織物の糸の径、性状（糸のケバなど）、ピッチなどを入力して、上記のような織物デザインを形成した後、これを元にエンボス版が形成される。
【００３１】
以上のように、本実施形態によれば、エンボスが形成された表面層１に、画像領域１１と背景領域１２を設け、縦糸１０１と横糸１０２との交差点Ｃで縦糸１０１が上糸となる上糸比率が、画像領域１１と背景領域１２とで異なるように構成している。そのため、画像領域１１と背景領域１２とでは、陰影の生じ方に差が出る。これにより、両領域の境界が顕在化し、画像領域１１を視認することができる。このように、本実施形態においては、光の当たり方によって視認可能な陰影を、織物の特性を利用して形成しているため、織物調という通常視認できる意匠の中に陰影による画像を視認可能に形成することができる。そのため、意匠としての統一感が増し、意匠性を向上することができる。
【００３２】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、種々の変更が可能である。例えば、上記実施形態では、画像領域１１の上糸比率を、背景領域１２の上糸比率よりも大きくしているが、これを反対にしてもよい。すなわち、背景領域１２の上糸比率が、画像領域１１よりも大きくてもよく、上糸比率の差によって両領域を識別できればよい。また、上記実施形態では、縦糸１０１の上糸比率を用いたが、横糸１０２が上糸になる上糸比率を用いてもよく、何れかの糸を基準にして上糸比率の差を両領域で設けておけばよい。
【００３３】
上記実施形態に係る化粧シートでは、連続的に延びる縦糸１０１及び横糸１０２を採用しているが、例えば、図１１に示すように、糸の延びる方向において、各糸を、下糸Ｕとなる箇所を挟んで切断し隙間Ｎを形成することができる。隙間Ｎの大きさは、特には限定されないが、最大で糸間の間隔にすることができる。図１１は、図４の織物デザインにおいて、下糸となる箇所を挟んで糸を切断し、隙間Ｎを形成した織物デザイン２０００である。そして、この織物デザイン２０００を元にエンボスを形成すると、図１２のような断面のエンボスが形成される。つまり、図１１に示す織物デザインの最上面の形状がエンボスとして現れる。また、平面形状としては、図１３のようなエンボスが現れる。このようにすると、上糸Ｕから下糸Ｌに移行する部分に隙間Ｎが形成されるため、上糸Ｕ部分が強調されて視認される。そのため、画像領域１１として存在する隠し絵を視認しやすくすることができる。なお、図１３の例は、図８（ｂ）の例に基づいて、隙間Ｎを形成したものであり、隙間の間隔は、１．５ｍｍである。
【００３４】
上記実施形態では、縦糸１０１と横糸１０２とを直交させているが、必ずしも直角に交差させる必要はなく、縦糸１０１と横糸１０２とが編み込まれている限り、これらが斜めに交差していてもよい。また、上記実施形態では、化粧シートを表面層１と基材シート２とで構成しているが、本発明の化粧シートは、少なくともエンボスが形成される表面層１を有していればよい。すなわち、表面層１だけで化粧シートを構成してもよいし、その他、複数の層を表面層１の下面に積層することもできる。
【００３５】
上記実施形態では、画像領域１１は一つであるが、複数でもよい。また、画像領域１１は、絵柄、図形、文字など、種々の形態を採用することができる。そして、この画像領域１１の全周が必ずしも背景領域１２に囲まれていなくてもよく、例えば、画像領域１１が化粧シートの端部に配置されている場合には、画像領域１１の周囲のうち、化粧シートの端部に接していない部分を背景領域１２が囲んでいればよい。
【実施例】
【００３６】
以下、本発明の実施例について説明する。但し、本発明は、以下の実施例に限定されない。
【００３７】
ここでは、図２に示すようなリンゴの絵柄の画像領域を有する化粧シートを作製し、実施例として５つ、比較例として１つのサンプルを作製した。そして、この化粧シートを水平面上に配置し、斜め側方から照明を照射したときの陰影効果を目視により検証した。
【００３８】
１．化粧シートの作製
（１）織物デザインの作製
画像領域の画像（リンゴ）をパソコンに入力し、公知の画像処理ソフト（例えば、Adobe
Photoshop）を用いて背景領域と画像領域の濃度を調整した。例えば、背景領域の画像濃度を５０％、画像領域の濃度を８０％とする。続いて、当該ソフトの「モノクロ２階調−誤差拡散法（ディザ）」処理を濃度調整後の画像に施すことにより、白と黒の画素の出現比率が異なる画像を作成した。次に、特開２０１０−２８７２０４、特開２０１１−１４８１８４に記載のような方法で糸の太さ、糸の間隔などを入力し、同時にモノクロ２階調の画像を読み込み、各画素と織物の横糸と縦糸の各交点を対応させ、上糸比率を調整した。例えば白い画素なら横糸が上糸、黒い画素なら縦糸が上糸となるように調整した。こうして、織物デザインのエンボス画像を形成した。
【００３９】
（２）エンボス版の作製
２−１．完成した織物デザインのエンボス画像に「Adobe Photoshop」の「ポスタリゼーション」で濃度を１０階調に変換した。エンボス版はネガ版となるため、画像は階調反転しておく。
２−２．レーザー刷版機（Schepers(DIGILAS)）でエンボスシリンダーにレジスト層を形成した。１−１で準備した画像濃度９０〜１００％（エンボス版完成時にもっとも深度が深くなる領域）の領域がレーザーによって焼き飛ばされるようにした。
２−３．エンボスシリンダーのエッチングを行った。深度は６０μmである。
２−４．エンボスシリンダーのレジスト層を洗浄剥離した。
２−５．２−２〜２−４の工程を、レジスト焼き飛ばし画像を変えてさらに８回実施した。使用する焼き飛ばし画像は、エッチング２回目用の画像濃度が８０〜１００％、エッチング３回目用の画像が７０〜１００％、エッチング４回目用の画像が６０〜１００％、・・・９回目用の画像が１０〜１００％とした。
２−６．９回のエッチングが終わったら、シリンダー表面にレジストをつけずに全体を数μｍエッチングすることで、版面の艶を合わせた。
２−７．クロム鍍金を２０μｍかけた。
【００４０】
（３）化粧シート基材の作製
まず、マルチマニホールドＴダイ押出し機を用いて、３層で構成された表面層を押し出し、支持層の上に製膜した。表面層は、支持層側の下から非発泡樹脂層（接着層）／発泡剤含有樹脂層／非発泡樹脂層（スキン層）で形成されており、順に厚みが１０μｍ／７０μｍ／１０μｍになるように支持層上に製膜した。こうして、化粧シート基材を作成した。なお、押出し条件は、非発泡樹脂層（スキン層）を形成するための樹脂を収容したシリンダー温度は１１５℃とし、発泡剤含有樹脂層を形成するための樹脂組成物を収容したシリンダー温度は１１０℃とした。そして、非発泡樹脂層（接着層）を形成するための樹脂を収容したシリンダー温度は１００℃とした。また、ダイス温度はいずれも１１０℃とした。
【００４１】
次に、上記化粧シート基材の表面に、電子線（１９５ＫＶ，３Ｍｒａｄ）を照射して発泡剤含有樹脂層と非発泡樹脂層（スキン層）とを樹脂架橋した。また、非発泡樹脂層Ａ上にコロナ放電処理を行った。続いて、非発泡樹脂層（スキン層）上に水性インキ「ハイドリック」（大日精化工業社製）により抽象絵柄を印刷した。これに続いて、抽象絵柄を印刷した化粧シート基材をギアオーブンで加熱（２２０℃×３５秒）し、発泡剤含有樹脂層を５００μｍの厚みまで発泡させた。
【００４２】
なお、上記化粧シート基材を構成する材料の組成は、以下の通りである。
(a) スキン層
ＥＭＡＡ樹脂（ニュクレルＮ1560「三井デュポンポリケミカル株式会社製」）100重量部
(b) 発泡層
EVA樹脂（エバフレックスＶ406「三井デュポンポリケミカル株式会社製」）100重量部
酸化チタン（タイペークCR63「石原産業株式会社製」）30重量部
発泡剤（AZ3050I・「大塚化学株式会社製」）6重量部
キッカー剤（エフコケムＺＮＳ−Ｐ「株式会社ＡＤＥＫＡ」）4.2重量部
(c) 接着層
ＥＶＡ樹脂（エバフレックスＥＶ150「三井デュポンポリケミカル株式会社製」）100重量部
(d) 支持層
ＷＫ665ＤＯ「株式会社興人社製」
（４）エンボスの作製
上述したエンボス版で化粧シート基材を押圧し、エンボスを施した。なお、化粧シートの大きさは、縦が１００ｍｍ、横が１００ｍｍであり、中央に画像領域を配置した。画像領域のリンゴの外形は、縦が約５０ｍｍ、横が約５０ｍｍである。
【００４３】
２．照明の照射方法
まず、化粧シートをテーブルに置く。シートは中央に画像領域が位置するようにする。そして、図１４に示すように、化粧シートの中央から化粧シート面に対し２０°の方向２ｍの距離に４０ｗ昼白色蛍光灯を３つ設置する。
【００４４】
３．目視の方法
図１４に示すように、化粧シートからみて蛍光灯と反対側に観察者が立ち、化粧シート面に対し２０°の方向１ｍの距離で観察をおこなう。
【００４５】
４．実施例及び比較例の態様
【表１】
0005861358.tif 000002
【００４６】
５．実験結果
上記実験の結果を以下の通り、評価した。
(1) 評価１：画像領域と背景領域に陰影による濃度差が認められず、画像領域を視認できない。
(2) 評価２：画像領域と背景領域に陰影による濃度差が認められ、画像領域を視認できる。
結果は、以下の通りである。
【表２】
0005861358.tif 000003
以上の結果によれば、画像領域と背景領域とで上糸比率に差を設けている実施例は陰影効果が出ているが、上糸比率の差がない比較例は陰影を視認できていない。実施例５は、背景領域の上糸比率を低くしているが、この場合でも画像領域と背景領域とで上糸比率に差を設けると、陰影効果を奏することが分かる。
【符号の説明】
【００４７】
１      表面層
１１    画像領域
１２    背景領域
１０１  縦糸（第１の糸）
１０２  横糸（第２の糸）
【図１】
0005861358.tif 000004
【図２】
0005861358.tif 000005
【図３】
0005861358.tif 000006
【図４】
0005861358.tif 000007
【図５】
0005861358.tif 000008
【図６】
0005861358.tif 000009
【図７】
0005861358.tif 000010
【図８】
0005861358.tif 000011
【図９】
0005861358.tif 000012
【図１０】
0005861358.tif 000013
【図１１】
0005861358.tif 000014
【図１２】
0005861358.tif 000015
【図１３】
0005861358.tif 000016
【図１４】
0005861358.tif 000017