(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイを吸着するコレットと、
先端に前記コレットを有し、前記ダイを吸着し基板に前記ダイをボンディングするボンディングヘッドと、
ダイを有するウェハを保持するピックアップ装置と、
前記ピックアップ装置と前記ダイのボンディングポイントとの間に位置し、ボンディングするボンディング面と平行な平行面を有する測定平板と、
前記測定平板の前記平行面に前記コレットを載置させ、前記コレットの吸着部の吸着面が前記平行面と所定の傾き角度範囲内で平行となるように前記コレットの前記測定平板に対するコレット傾き角度を調整する傾き角度調整手段と、を有し、
前記傾き角度調整手段は、前記コレットに流入する気体のリーク流量に基づいて、前記コレット傾き角度が設定リーク流量以下になるように調整し、
前記測定平板は前記コレットが所定の位置に載置されるコレット載置領域の中央部に１つの平板吸引孔を有し、
前記リーク流量は、前記平板吸引孔に流れる流量であることを特徴とするダイボンダ。
【請求項２】
傾き角度調整手段は、前記コレットの吸着部の四隅部が順次前記測定平板の前記平板吸引孔上にくるように載置し、その時の各リーク流量を測定することを特徴とする請求項１に記載のダイボンダ。
【請求項３】
傾き角度調整手段は、前記コレットの吸着部の四隅部におけるリーク流量が等しく、且つ少なくなるように前記コレット傾き角度を調整することを特徴とする請求項２に記載のダイボンダ。
【請求項４】
コレットでダイを吸着する吸着ステップと、
先端に前記コレットを有するボンディングヘッドで前記ダイを吸着し基板に前記ダイをボンディングするボンディングステップと、
ボンディングするボンディング面と平行な面を有する測定平板に前記コレットを載置し、前記コレットの吸着面が前記ボンディング面と所定の傾き角度範囲内で平行な平行面になるように前記コレットの前記測定平板に対する傾き角度を調整する傾き角度調整ステップと、を有し、
前記傾き角度調整ステップは、前記コレットに流入する気体のリーク流量が設定リーク流量以下になるように調整し、
前記測定平板は前記ボンディングヘッドの可動範囲でかつボンディング処理に障害にならない位置に設置され、前記コレットの吸着面が載置されるコレット載置領域の中央部に１つの平板吸引孔を有し、
前記リーク流量は、前記平板吸引孔に流れる流量であることを特徴とするボンディング方法。
【請求項５】
前記傾き角度調整ステップは、前記コレットの吸着部の四隅部が順次前記測定平板の前記平板吸引孔上にくるように載置し、その時の各リーク流量を測定することを特徴とする請求項４に記載のボンディング方法。
【請求項６】
前記傾き角度調整ステップは、前記コレットの吸着部の四隅部におけるリーク流量が等しく、且つ少なくなるように前記コレット傾き角度を調整することを特徴とする請求項５に記載のボンディング方法。
【請求項７】
前記傾き角度調整ステップは、コレットの使用可能な確認設定数に基づいてコレットの交換後に行われることを特徴とする請求項４に記載のボンディング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ダイボンダ及びボンディング方法に係わり、特に信頼性の高いダイボンダ及びボンディング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ダイ(半導体チップ)(以下、単にダイという)を配線基板やリードフレームなどの基板に搭載してパッケージを組み立てる工程の一部に、半導体ウェハ（以下、単にウェハという）からダイを分割する工程と、分割したダイを基板上に搭載するボンディング工程とがある。
【０００３】
ボンディング工程は、ウェハから分割されたダイをダイシングテープから１個ずつ剥離し、コレットと呼ばれる吸着治具を使って基板上にボンディングする。
【０００４】
ボンディング工程を実施する従来技術としては、例えば、特許文献１及び特許文献２に記載する技術がある。特許文献１では、コレットをダイの表面を追従させる構造を有するボンディングヘッドの技術が開示されている。また、特許文献２では、ボンディング工程においてダイの吸着時にその都度リーク流量を検出して、ダイ撓みを検出する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−０２２３０６号公報
【特許文献２】特開２００９−２５３０６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、半導体装置の高密度実装を推進する目的で、パッケージの薄型化が進められている。特に、メモリカードの配線基板上に複数枚のダイを三次元的に実装する積層パッケージが実用化されている。このような積層パッケージを組み立てる際には、パッケージ厚の増加を防ぐために、ダイの厚さを２０μｍ以下まで薄くすることが要求される。ダイが薄くなると、ダイシングテープの粘着力に比べてダイの剛性が極めて低くなり、ダイが割れる確率も従来に比べ高くなる虞がある。
【０００７】
しかしながら、特許文献１の従来技術は、コレットが既にボンディングされたダイの表面に追従してボンディングするために一度斜めにボンディングされると、その上に積層されたダイは更に斜めに装着される、或いはずれた位置にボンディングされてしまう課題がある。一方、特許文献２の従来技術は、ダイの撓みを検出できるが、時として、ボンディングしたダイとダイの間にボイドが発生し、熱圧着不良を起す課題がある。
また、特許文献１、２の従来技術は、ダイの位置ズレ、ボイドの発生或いはダイの割れなど問題が起きてからその問題を把握し、事前に問題の発生を予測できない課題がある。
【０００８】
従って、本発明の目的は、上記の課題を解決し、信頼性の高いボンディング装置及びボンディング方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記の目的を達成するために、少なくとも下記の特徴を有する。
本発明は、先端にコレットを有するボンディングヘッドでダイを吸着し基板にダイをボンディングし、ボンディングするボンディング面と平行な面を有する測定平板に前記コレットを載置し、前記コレットの吸着面が前記ボンディング面と所定の傾き角度範囲内で平行な平行面になるように前記コレットの前記測定平板に対する傾き角度を調整する傾き角度調整し、前記傾き角度調整は、前記コレットに流入する前記空気のリーク流量が所定範囲になるように調整することを第１の特徴とする。
【００１０】
また、本発明は、前記リーク流量は、前記コレットの有する気体を吸引するコレット吸引孔に流れる流量であることを第２の特徴とする。
さらに、本発明は、前記コレットが所定の位置に載置されるコレット載置領域に複数の平板吸引孔を有し、前記リーク流量は、前記平板吸引孔に流れる流量であることを第３の特徴とする。
また、本発明は、前記測定平板は、前記平行面に前記コレットとの接触部を検知する圧力センサを設け、前記圧力センサの出力に基づいて前記リーク流量のリーク方向を検出することを第４の特徴とする。
さらに、本発明は、前記圧力センサは、前記載置領域の角部を覆うように設けられたシート状のセンサであることを第５の特徴とする。
【００１１】
また、本発明は、前記傾き角度調整は、前記リーク流量と共に前記リーク方向に基づいて、前記コレット傾き角度が前記所定の傾き角度範囲内になるように調整することを第６の特徴とする。
さらに、本発明は、前記傾き角度調整は、前記圧力センサの出力に基づいて、前記コレット傾き角度が前記所定の傾き角度範囲内になるように調整することを第７の特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、従来技術の課題を解決し、信頼性の高いボンディング装置及びボンディング方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態であるダイボンダを上から見た概念図である。
【図２Ａ】測定平板の実施例１を示し、コレットが傾き角度を有している状態を示す図である。
【図２Ｂ】測定平板の実施例１を示し、コレットがボンディング面と所定範囲内で平行な状態を示す図である。
【図３】実施例１におけるボンディングフローを示す図である。
【図４Ａ】測定平板の実施例２を示し、コレットが傾き角度を有している状態を示す図である。
【図４Ｂ】測定平板の実施例２を示し、コレットがボンディング面と所定範囲内で平行になった状態を示す図である。
【図４Ｃ】測定平板の実施例２を上面から見た図である。
【図５】実施例２におけるボンディングフローを示す図である。
【図６Ａ】測定平板の実施例３を示し、コレットが傾き角度を有している状態を示す図である。
【図６Ｂ】測定平板の実施例３を示し、コレットがボンディング面と所定範囲内で平行になった状態を示す図である。
【図６Ｃ】測定平板の実施例３を上面から見た図である。
【図７】実施例３におけるボンディングフローを示す図である。
【図８】測定平板の実施例４を上面から見た図である。
【図９Ａ】測定平板の実施例５を示し、コレットが傾き角度を有している状態を示す図である。
【図９Ｂ】測定平板の実施例５を示し、コレットがボンディング面と所定範囲内で平行になった状態を示す図である。
【図９Ｃ】測定平板の実施例５を上面から見た図である。
【図１０】実施例５におけるボンディングフローを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面に基づき、本発明の実施形態を説明する。
図１は、本発明の実施形態であるダイボンダ１０を上から見た概念図である。ダイボンダは大別してウェハ供給部１と、ワーク供給・搬送部２と、ダイボンディング部３と、各部及び後述する各実施例におけるボンディングフローを制御する制御装置４とを有する。
【００１５】
ワーク供給・搬送部２はスタックローダ２１と、フレームフィーダ２２と、アンローダ２３とを有する。スタックローダ２１によりフレームフィーダ２２に供給されたワーク（リードフレーム等の基板或いは基板上に既に積層されたダイ）は、フレームフィーダ２２上の２箇所の処理位置を介してアンローダ２３に搬送される。
【００１６】
ウェハ供給部１は、ウエハカセットリフタ１１とピックアップ装置１２とを有する。ウエハカセットリフタ１１は、ウエハリングが充填されたウエハカセット(図示せず）を有し，順次ウエハリングをピックアップ装置１２に供給する。ウエハリングはダイＤを有するウェハＷを保持し、ピックアップ装置１２はウエハリングを保持する。
【００１７】
ダイボンディング部３は、プリフォーム部３１とボンディングヘッド部３２とを有する。プリフォーム部３１は、フレームフィーダ２２により搬送されてきたワークにダイ接着剤を塗布する。
【００１８】
ボンディングヘッド部３２は、ボンディングヘッド３５と測定平板５０とを有する。ボンディングヘッド３５は、ピックアップ装置１２からダイＤをピックアップして上昇し、ダイＤを平行移動してフレームフィーダ２２上のボンディングポイントまで移動させる。そして、ボンディングヘッド３５は、ダイＤを下降させダイ接着剤が塗布されたワーク上にボンディングする。測定平板５０は、後で詳述するボンディングヘッドの傾き角度を調整するため平板である。
【００１９】
以下、本実施形態の特徴である測定平板５０とコレット４０の傾き角度制御の実施例を説明する。
（実施例１）
次に、図２Ａ及び図２Ｂは測定平板５０の第１の実施例５０Ａを示し、その動作概念図を示す図である。
【００２０】
測定平板５０Ａは、フレームフィーダ２２上のボンディング面と平行な平行面を有する確りと装置に固定された平板である。本実施形態では、図１に示すように、測定平板５０Ａは、ボンディングヘッド３５が移動するピックアップ装置１２とフレームフィーダ２２上のボンディングポイントの間に設けられている。測定平板５０Ａの設置位置は、上述に関わらず、ボンディングヘッド３５の可動範囲で、かつボンディング処理に障害にならない位置であればどこでもよい。設置位置については、他の実施例でも同様である。
【００２１】
ボンディングヘッド３５の先端には、ダイＤを吸着するためのコレット４０がある。コレット４０は、図２Ａに示すようコレット吸着部４２と、コレット吸着部４２を保持するコレット吸着部ホルダー４１とを有する。コレット吸着部ホルダー４１とコレット吸着部４２は、それぞれにダイＤを吸着する為のコレット吸引孔４１ｖ、４２ｖを有する。
【００２２】
このような構成において、図２Ｂに示すように、コレット４０が測定平板５０Ａに密着するようにコレット４０（ボンディンヘッド３５）の傾き角度を制御する。言い換えれば、コレット吸着部４２の吸着面が、測定平板５０Ａの平行面と所定の角度範囲で平行となるよう制御する。この制御を行うのが傾き角度調整手段であり、傾き角度調整手段は制御装置４内のメモリに記憶されたプログロムが主構成要素となる。その他の構成要素は、各実施例の説明で明らかになる。
【００２３】
コレット４０の吸着面が測定平板５０Ａに密着したかどうかの判断は、図示しない真空供給源によってコレット４０をコレット吸引孔４１ｖ、４２ｖを介して真空吸着する際に、コレット４０の傾斜によってできる隙間からのリーク空気Ｅを監視して行なう。リーク空気Ｅは、最終的にコレット吸着部ホルダー４１のコレット吸引孔４１ｖに集約されるので、その流量をリーク流量Ｋｒとして監視する。コレットの傾き角度が所定角度以下になり、リーク流量Ｋｒが設定リーク流量Ｋａ以下になれば密着したと判断する。例えば、設定リーク流量Ｋａは、０．５リットル／min〜０．８リットル／min程度に設定する。
【００２４】
図３は、図２に示す実施例１におけるボンディングフローを示す図である。
まず、ボンディングヘッド３５でダイＤをピックアップし、ボンディング面に実装する実装動作を行う（Ｓ１）。次に、実装動作を所定数実施したかを判断する（Ｓ２）。所定数実施していれば処理を終了する。所定数実施していなければ、実施動作をコレット４０の交換が必要な数である確認設定数実施したかを判断する（Ｓ３）。実施していなければ、Ｓ１に戻り実装動作を行う。実施していれば、コレット４０を交換する（Ｓ４）。
【００２５】
次に、Ｓ５からコレット４０の傾き調整に入る。まず、測定平板５０Ａ上にコレット４０（ボンディングヘッド３５）を移動し、載置させる（Ｓ５）。その後、コレット４０を測定平板５０Ａ上に真空吸着をさせる（Ｓ６）。所定時間後、リーク流量Ｋｒを測定し、設定リーク流量Ｋａ以下かを判断する（Ｓ７）。設定リーク流量Ｋａ以下であれば、Ｓ１に戻り、再び実装動作を開始する。設定リーク流量Ｋａ以下でなければ、真空吸着を停止し（Ｓ８）、測定平板５０Ａからコレット４０を離間させる（Ｓ９）。次に、コレット４０の傾き角度を調整して（Ｓ１０）、Ｓ５に行く。Ｓ５からＳ１０のステップをトライ＆エラーで行い設定リーク流量以下になるように調整する。例えば、角度を調整したがリーク流量Ｋｒが大きくなった場合は、反対側に角度を振り調整する。
【００２６】
以上説明した実施例１によれば、構造の簡単な測定平板を設ける次の効果を奏することができる。
測定平板５０Ａはボンディング面と平行な面を有するから、測定平板５０Ａに密着したボンディングヘッド３５でダイＤを吸着すれば、ボンディング面に密着してボンディングできる。
【００２７】
また、ボンディングされたダイＤの上にさらにダイＤを密着してボンディングできることになる。その結果、積層ダイＤ間に発生するボイドを極力抑制できる。しかも、コレット４０の傾きがないので、傾きによる位置ずれがなく位置精度を高く積層できる。
さらに、ダイＤの厚さが薄い薄ダイＤであれば、ボンディング時と共にピックアップ時においても、薄ダイＤが傾かないので、撓みが小さい状態でピックアップできる。その結果、薄ダイＤの撓み、割れが極力少なく、信頼性が高く薄ダイＤをボンディングできる。
【００２８】
（実施例２）
次に、測定平板５０の第２の実施例５０Ｂを説明する。図４Ａ及び図４Ｂは、測定平板５０Ｂを側面から見た構成とその動作概念図である。図４Ｃは、測定平板５０Ｂを上面から見た図である。図５は、図４Ａ乃至図４Ｃに示す実施例２におけるボンディングフローを示す図である。なお、４２Ｒは、コレット吸着部４２が測定平板５０Ｂの所定の位置に載置された時のコレット載置領域を表す。
【００２９】
実施例２の測定平板５０Ｂの実施例１の測定平板５０Ａと異なる点は、第１に、測定平板５０Ｂのコレット載置領域４２Ｒの四隅部に平板吸引孔５１ａ乃至５１ｄ（総称するときは５１で示す）を設けている点である。第２に、図示しない真空供給源によってコレット４０の傾斜によってできる隙間から吸引されるリーク空気Ｅを、平板吸引孔５１ａ乃至５１ｄを介して、それぞれ個別に監視する点である。その他のハード構成は基本的に同じである。なお、当該図示しない真空供給源は、ダイを吸着するための真空供給源と供用してもよい。
【００３０】
第３、第４の異なる点は、ソフトウェアである図５に示すボンディングフローである。Ｓ１１からＳ１６、Ｓ１８及びＳ１９は、それぞれ実施例１のＳ１からＳ６、Ｓ８及びＳ９と同じである。異なる第３の点はＳ１７である。コレット４０の傾き角度が設定角度以下になるためには、平板吸引孔５１ａ乃至５１ｄに流れる全てリーク流量Ｋｒａ乃至Ｋｒｄ（総称するときはＫｒで示し、Ｋｒｃ、Ｋｒｄは図面上に図示せず）が設定リーク流量Ｋｂ以下なることが必要である。従って、Ｓ１７では全ての平行吸引孔５１のリーク流量Ｋｒ、例えば図４Ａのリーク流量Ｋｒａ、Ｋｒｂが前記条件を満たすかを判断する。
【００３１】
異なる第４の点はＳ２０である。隙間が大きい所に近い位置にある平板吸引孔５１のリーク流量Ｋｒは大きく、逆に隙間が小さい所に近い位置にある平板吸引孔５１のリーク流量Ｋｒは小さい。Ｓ２０では、この関係を用いてコレット４０の傾き角度を調整する。
【００３２】
以上説明した実施例２は、測定平板５０Ｂに平板吸引孔５１を設け、各平板吸引孔に流れる流量を検出するセンサなどを設ける必要ある。しかし、実施例２は、各平板吸引孔５１に流れるリーク流量Ｋｒを検出し、その違いによってどの方向に傾いているかを知ることができ、コレットの傾き角度を調整し易い利点がある。
【００３３】
以上説明した実施例２では、平板吸引孔５１を四隅部に設けるが、四隅部に限らずコレット吸着部４２の周辺部に４か所設けてもよい。４か所に限らず３か所以下又は５か所以上でもよい。さらに、１か所の場合は周辺部に設けず、コレット吸着部４２の中央部に設けてもよい。
【００３４】
（実施例３）
次に、測定平板５０の第３の実施例５０Ｃを説明する。図６Ａ及び図６Ｂは、測定平板５０Ｃを側面から見た構成とその動作概念図を示す図である。図６Ｃは測定平板５０Ｃを上面から見た図で、図６Ｂの状態を示す図である。図７は、図６Ａ乃至図６Ｃに示す実施例３におけるボンディングフローを示す図である。
【００３５】
実施例１では、リーク流量Ｋｒは検出できるが、どの方向からリークが発生しているのか解らない。それ故、実施例１ではリーク流量Ｋｒが設定リーク流量Ｋａになるまで多少のトライ＆エラーが必要である。実施例２では、測定平板５０Ｂのコレット載置領域４２Ｒの四隅部に平板吸引孔５１ａ乃至５１ｄを設け、この問題を解決している。
【００３６】
実施例３では、図６Ｃに示すように、実施例１の測定平板５０Ａのコレット４０の載置面に、タッチパッド５２を設けることでこれを解決する。タッチパッド５２は、表面にシート状の圧力センサを有し、コレット４０との接触部の受ける圧力の強さに応じた圧力マップを得ることができる。タッチパッド５２がコレット吸着部４２と確実に接触し、その接触部を得るために、その寸法は、コレット吸着部４２の底面の寸法、即ちコレット載置領域４２Ｒより所定量大きく取る必要がある。また、タッチパッド５２は、コレット載置領域４２Ｒを全面覆う必要もなく、少なくともコレット載置領域４２Ｒの角部を覆うように設けてもよい。
【００３７】
接触部は圧力マップとして得られるので、本実施例では、図６Ｃに示すようにコレット載置領域４２Ｒを４分割（５２ａ乃至５２ｄ）に分けている。その４分割領域毎に圧力強さを評価する。そこで、４分割領域のうち圧力強さの小さい領域からリークが発生した判断し、４分割領域の圧力強さが平均化するように、コレット４０の傾き角度を調整する。調整量は、図６Ａに示すリーク流量Ｋｒに基づいて決定する。定性的に言えば、リーク流量Ｋｒが大きい場合は調整量も大きく、小さい場合は小さく調整する。
【００３８】
次に、上記の考え方に基づく、図７に示すボンディングフローを説明する。図７に示すボンディングフローと図３に示したボンディングフローと異なるステップは、Ｓ３６とＳ４１である。その他のステップＳ３１乃至Ｓ３５及びＳ３７乃至Ｓ４０は、それぞれ図３のステップＳ１乃至Ｓ５及びＳ６乃至Ｓ９と基本的には同じである。Ｓ３６は、上述したように、タッチパッド５２の接触部によりリーク方向を判断する処理である。Ｓ４１は、上述したように、リーク流量Ｋｒ及びリーク方向に基づいてコレット４０の傾き角度を調整する処理である。
【００３９】
以上説明した実施例３によれば、実施例１の測定平板５０Ａのコレット４０の載置面に、タッチパッド５２を設けることによって、コレット４０の傾き角度を容易に調整できる利点がある。
【００４０】
以上の実施例３の説明では、傾き角度の調整量をリーク流量Ｋｒに基づいて定めたが、４分割領域の圧力差に基づいて定めてもよい。定性的に言えば、リーク流量Ｋｒと同様に、圧力差が大きい場合は調整量も大きく、小さい場合は小さく調整する。この場合は、最後にコレット真空吸着を行い、リーク流量Ｋｒが設定リーク流量Ｋａ以下なっていることを確認してもよい。
以上の説明ではコレット載置領域４２Ｒを４分割したが、４分割に係らず３分割又は５分割以上でもよい。
【００４１】
（実施例４）
測定平板５０の第４の実施例５０Ｄを説明する。図８は、測定平板５０Ｄを上から見た図で、実施例３の図６Ｃに対応する図である。
【００４２】
実施例３では、リーク方向を検出するのにタッチパッド５２を用いたが、実施例４では、タッチパッド５２の代わりに、コレット吸着部４２の角部が着地するコレット載置領域４２Ｒの角部に平板状の圧力センサ５４（５４ａ乃至５４ｄ）を設ける。圧力センサ５４は、コレット４０との接触部から受ける圧力に応じた値を出力する。
【００４３】
実施例４のリーク方向の検出及びコレット４０の傾き角度の調整方法の考え方は、実施例３と基本的で同じである。また、実施例３と同様に、４つの圧力センサの出力差に基づいて、コレット傾き角度の調整を実施することも可能である。
【００４４】
（実施例５）
次に、測定平板５０の第５の実施例５０Ｅを説明する。図９Ａ及び図９Ｂは、測定平板５０Ｅを側面から見た構成とその動作概念図である。図９Ｃは、測定平板５０Ｅを上面から見た図である。図１０は、図９Ａ乃至図９Ｃに示す実施例５におけるボンディングフローを示す図である。
【００４５】
実施例５は、実施例２の変形例である。実施例５の実施例２と異なる点は、次の２点である。その他の点は、基本的に実施例２と同様である。
【００４６】
第１の異なる点は、図９Ｃに示すように、測定平板５０Ｅに設けた平板吸引孔の位置及び数である。実施例２では、図４Ｃに示すように、コレット載置領域４２Ｒの四隅部に平板吸引孔５１ａ乃至５１ｄを設けた。実施例５では、図９Ｃに示すように測定平板５０Ｅの中央部に一つの平板吸引孔５５を設けている。
【００４７】
第２の異なる点は、第１の異なる点に伴い、ソフトウェアである図１０に示すボンディングフロー、特にコレット４０の傾き角度を検出方法である。実施例２では、コレット載置領域４２Ｒの四隅部に平板吸引孔５１ａ乃至５１ｄのリーク流量Ｋｒａ乃至Ｋｒｄに基づいてコレット４０の傾き方向を検出し（図５のＳ１５及びＳ１６）、平板吸引孔５１ａ乃至５１ｄのリーク流量Ｋｒａ乃至Ｋｒｄが等しく、且つ少なくなるようにコレット傾き角度を調整していた（図５のＳ２０）。
【００４８】
実施例５では、図９ＣのＳ５１からＳ５５に示すように、コレット吸着部４２の四隅部が順次測定平板５０Ｅの中央部の平板吸引孔５５上にくるように載置し、その時の各リーク流量Ｋｒａ‘乃至Ｋｒｄ’を測定する。そして、四隅部の意味合いが異なるが、Ｓ５６でコレット吸着部４２の四隅部におけるリーク流量Ｋｒａ’乃至Ｋｒｄ’（Ｋｒａ’、Ｋｒｂ’は図面上に図示せず）が等しく、且つ少なくなるようにコレット傾き角度を調整する。その他のフローは、基本的に実施例２と同じである。なお、図９Ｃにおける各二点鎖線内で示される領域４２Ｒａ乃至４２Ｒｄは、コレット吸着部４２の四隅部が平板吸引孔５５上にくるように測定平板５０Ｂの所定の位置に載置された時のそれぞれのコレット載置領域を表す。
【００４９】
図９Ａ及び図９Ｂは、コレット吸着部４２がコレット載置領域４２Ｒに載置された状態
の一例を示す。図９Ａは、コレット吸着部４２が斜線で示すコレット載置領域４２Ｒｃに、図９Ｂは、点状で示すコレット載置領域４２Ｒｄに載置された状態を示す。図９Ａでは、コレット吸着部４２の隅部の測定平板５０Ｅとの接地位置が平板吸引孔５５に近いのでリーク空気Ｅｃは少なく、リーク流量Ｋｒｃ’も少なくなる。一方、図９Ｂでは、コレット吸着部４２の隅部の測定平板５０Ｅとの接地位置が平板吸引孔５５に遠く開放側に近いので、リーク空気Ｅｃは大きく、リーク流量Ｋｒｄ’も大きくなる。同様に、コレット載置領域４２Ｒａ、４２Ｒｂでもリーク流量Ｋｒａ’、Ｋｒｂ’を測定する。そして、四隅部のリーク流量Ｋｒａ’乃至Ｋｒｄ’に基づいて、コレット４０の傾き方向を検出して、コレット傾き角度を調整する。
【００５０】
実施例５によれば、平板吸引孔を測定平板５０にコレット吸着部４２の四隅部に対応する位置に設けず、測定平板５０の中央に一か所設けるだけで、実施例２と同様にコレット４０の傾き方向を検出できる。
【００５１】
また、実施例５によれば、コレット４０の大小にかかわらず、コレット４０の傾き方向を検出できる。
【００５２】
以上説明した実施例２から実施例５の実施形態においても、実施例１と同様に次の効果を奏することができる。
各測定平板５０はボンディング面と平行な面を有するから、測定平板５０に密着したボンディングヘッド３５でダイＤを吸着すれば、ボンディング面に密着してボンディングできる。
【００５３】
また、ボンディングされたダイＤの上にさらにダイＤを密着してボンディングできることになる。その結果、積層ダイＤ間に発生するボイドを極力抑制できる。しかも、コレット４０の傾きがないので、傾きによる位置ずれがなく位置精度を高く積層できる。
さらに、ダイＤの厚さが薄い薄ダイＤであれば、ボンディング時と共にピックアップ時においても、ダイＤの傾きがないので、撓みが小さい状態でピックアップできる。その結果、ダイＤの撓み、割れが極力少なく、信頼性が高くダイＤをボンディングできる。
【００５４】
また、以上説明した実施例１から実施例５の実施形態によれば、従来はボイドの発生、撓み、割れなどの問題が発生してからその問題を認識できた。一方、本実施形態では、コレット４０（ボンディングヘッド３５）の姿勢を把握し事前に管理すること、問題の発生を大幅に低減できる。
【００５５】
さらに、自動的に行なうので、作業者によるリーク流量の判断に差異がないので、安定したコレット傾き角度を提供できる。
【００５６】
以上の効果により、本実施形態は、信頼性の高いボンディング装置又はボンディング方法を提供できる。
【００５７】
以上の説明した実施形態は、図２に示すように、ボンディングヘッド３５がダイＤをウェハから直接ピックアップするタイプのダイボンダである。以上説明した各実施例は、ボンディングヘッド３５とは別にダイＤをピックアップする専用のピックアップヘッドを設け、ピックアップヘッドでピックアップしたダイＤを所定位置に載置し、載置したダイＤをボンディングヘッドでピックアップするタイプの実施形態にも適用できる。その場合は、該所定位置を確りと固定することにより、該所定位置を測定平板として用いてもよい。
【００５８】
以上のように本発明の実施形態について説明したが、上述の説明に基づいて当業者にとって種々の代替例、修正又は変形が可能であり、本発明は、その趣旨を逸脱しない範囲で前述の種々の代替例、修正又は変形を包含するものである。
【符号の説明】
【００５９】
１：ウェハ供給部                      ２：ワーク供給・搬送部
３：ダイボンディング部                ４：制御装置
１０：ダイボンダ                      １１：ウエハカセットリフタ
１２：ピックアップ装置                ３２：ボンディングヘッド部
４０：コレット                        ４１：コレット吸着部ホルダー
４１ｖ：コレット吸着部ホルダーにおけるコレット吸着孔
４２：コレット吸着部                
４２Ｒ、４２Ｒａ、４２Ｒｂ、４２Ｒｃ、４２Ｒｄ：コレット載置領域
４２ｖ：コレット吸着部におけるコレット吸着孔
５０、５０Ａ、５０Ｂ、５０Ｃ、５０Ｄ：測定平板
５１、５１ａ、５１ｂ、５１ｃ、５１ｄ：平板吸引孔
５２：タッチパッド
５２ａ乃至、５２ｂ、５２ｃ、５２ｄ：タッチパッドの４分割領域
５４、５４ａ、５４ｂ、５４ｃ、５４ｄ：圧力センサ
５５：平板吸引孔                      Ｄ：ダイ(半導体チップ)
Ｅ、Ｅｃ、Ｅｄ：リーク空気            Ｋａ：設定リーク流量
Ｋｒ、Ｋｒａ乃至Ｋｒｄ、Ｋｒａ’乃至Ｋｒｄ’：リーク流量
Ｗ：ウェハ
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図７】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図９Ｃ】
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【図１０】
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