(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
窯業系基板の少なくとも片側の表面に、下塗り層、着色層及びクリア層をこの順で形成する窯業系化粧板の製造方法であって、
（ａ）下塗り層形成後表面を研磨し、その膜厚を５〜１００μｍとし、
（ｂ）着色層の膜厚を５〜４０μｍとし、
（ｃ）クリア層をロールコーターで塗布した１〜１５μｍの溶剤クリア層とＵＶクリア層とから構成し、着色層の上に溶剤クリア層を形成しその上にＵＶクリア層を形成し、その合計膜厚を３０〜１００μｍとすることを特徴とする、
（ｄ）コーンカロリーメーター発熱性試験による総発熱量が８ＭＪ／ｍ2以下である窯業系化粧板の製造方法。
【請求項２】
着色層形成後表面を研磨する請求項１記載の窯業系化粧板の製造方法。
【請求項３】
（ｄ）コーンカロリーメーター発熱性試験による総発熱量が７．２ＭＪ／ｍ2以下である請求項１又は２記載の窯業系化粧板の製造方法。
【請求項４】
窯業系基板表面と下塗り層の間に、含浸シーラー層を設ける請求項１〜３のいずれかに記載の窯業系化粧板の製造方法。
【請求項５】
（ｂ）着色層と（ｃ）クリア層との間に印刷層を設ける請求項１〜４のいずれかに記載の窯業系化粧板の製造方法。
【請求項６】
溶剤クリア層が、アクリルシリコーン系又はアクリルウレタン系の樹脂である請求項１〜５のいずれかに記載の窯業系化粧板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不燃性状を有し、内外装用として有用な窯業系化粧板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
けい酸カルシウム等の窯業系化粧板では、耐候性や外観性を付与するため、窯業系基板に有機塗料による多層構造の塗膜が形成されている。その塗膜の最上部には、着色層等の化粧層を保護し塗膜としての所定の性能を確保するためにクリア層が設けられている。これらの有機塗膜は基本的には可燃性である。一方、窯業系化粧板の基板は、けい酸カルシウム等であり、パルプ等の繊維を含んでいるにもかかわらず、不燃特性を有している。従って、窯業系化粧板においては、耐候性や外観上良好な有機塗膜を有していてもなお不燃性能を確保することは重要である。
【０００３】
クリア層を設けた化粧板の不燃性を確保する手段としては、下地処理剤として無機物であるナトリウムシリケート及びカリウムシリケートを使用する方法（特許文献１）、化粧層やトップクリア層の合成樹脂に一定量の耐火剤を加えた層とする方法（特許文献２及び３）、有機塗膜中の有機固形分量を一定量とする方法（特許文献４）が報告されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−２４６３０１号公報
【特許文献２】特開２０１１−９２８１６号公報
【特許文献３】特開２０１１−９４３１４号公報
【特許文献４】特開２０１１−１６３０６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、下地処理剤として無機物を使用する方法では基材と下塗り層との密着性に問題があり、合成樹脂に耐火剤を配合する方法では外観特性及び他の層との密着性に問題があり、有機固形分量を限定する方法では外観特性等が低下するおそれがある。
従って、本発明の課題は、十分な不燃性を確保しつつ、塗膜の密着性及び外観の良好な窯業系化粧板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
そこで本発明者は、前記課題を解決すべく、種々検討した結果、下塗り層を形成後にその表面を研磨しておき、最上層のクリア層の形成をロールコーターで行なえば、クリア層の膜厚の調整に加えて溶剤クリア層を薄く均一に形成でき、その結果、十分な不燃性能と良好な外観とを両立した窯業系化粧板が得られることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
すなわち、本発明は、窯業系化粧板であって、窯業系基板の少なくとも片側の表面に下塗り層、着色層及びクリア層を、この順で有する有機塗膜層を有し、
（ａ）下塗り層が、表面研磨され、その膜厚が５〜１００μｍ、
（ｂ）着色層の膜厚が５〜４０μｍ、
（ｃ）クリア層がロールコーターで塗布された１〜１５μｍの溶剤クリア層とＵＶクリア層とから構成され、合計膜厚が３０〜１００μｍ、
（ｄ）コーンカロリーメーター発熱性試験による総発熱量が８ＭＪ／ｍ2以下であることを特徴とする窯業系化粧板を提供するものである。
【０００８】
また、本発明は、窯業系基板の少なくとも片側の表面に、下塗り層、着色層及びクリア層をこの順で形成する窯業系化粧板の製造方法であって、
（ａ）下塗り層形成後表面を研磨し、その膜厚を５〜１００μｍとし、
（ｂ）着色層の膜厚を５〜４０μｍとし、
（ｃ）クリア層をロールコーターで塗布した１〜１５μｍの溶剤クリア層とＵＶクリア層とから構成し、その合計膜厚を３０〜１００μｍとすることを特徴とする、
（ｄ）コーンカロリーメーター発熱性試験による総発熱量が８ＭＪ／ｍ2以下である窯業系化粧板の製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、密着性、表面平滑性等に優れるため良好な外観と表面特性を有し、かつコーンカロリーメーター発熱性試験による総発熱量が７．２ＭＪ／ｍ2以下であり、法定の８ＭＪ／ｍ2以下を明確にクリアした窯業系化粧板が提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の窯業系化粧板（以下、単に化粧板ともいう）は、窯業系化粧板であって、窯業系基板の少なくとも片側の表面に下塗り層、着色層及びクリア層を、この順で有する有機塗膜層を有し、
（ａ）下塗り層が、表面研磨され、その膜厚が５〜１００μｍ、
（ｂ）着色層の膜厚が５〜４０μｍ、
（ｃ）クリア層がロールコーターで塗布された１〜１５μｍの溶剤クリア層とＵＶクリア層とから構成され、合計膜厚が３０〜１００μｍ、
（ｄ）コーンカロリーメーター発熱性試験による総発熱量が８ＭＪ／ｍ2以下であることを特徴とする窯業系化粧板である。
【００１１】
本発明の窯業系化粧板の基板（窯業系基板、以下単に基板ともいう）としては、住宅等の壁面を形成する繊維強化セメント板（けい酸カルシウム板を含む）、木質系セメント板、木毛セメント積層板、火山性ガラス質複層板、押し出し成形セメント板、スラグせっこう板、軽量気泡コンクリート板、ガラス板、セラミックス板が挙げられる。
これらの基板のうち、繊維強化セメント板がより好ましい。
【００１２】
これらの基板は、例えばマトリックスを形成するための主原料としてポルトランドセメント等の水硬性セメントを使用し、繊維原料として石綿以外の繊維を使用するとともに、必要に応じてワラストナイトや炭酸カルシウム粉末等の混和材を原料として使用する基板であり、具体的にはＪＩＳ  Ａ  ５４３０に規定された繊維強化セメント板等の基板である。特に、マトリックスを形成するための原料として、石灰質原料とけい酸質原料とを用い、養生工程においてオートクレーブ養生を行ってなる繊維強化セメント板の一種である０．８けい酸カルシウム板や１．０けい酸カルシウム板は、柔軟性に優れた基板であり、強度が高く吸水による長さ変化率が小さいので、本発明の窯業系化粧板の基板として好適である。
【００１３】
前記繊維原料としては、例えば化学パルプ、木質パルプ、セルロースパルプ、ポリプロピレン繊維、レーヨン繊維、アクリル繊維、ビニロン繊維、ナイロン繊維、ポリエステル繊維等の有機繊維、鋼繊維（スチール線繊維）、アモルファス金属繊維等の金属繊維、ガラス繊維、炭素繊維（カーボンファイバー）、ロックウール繊維、ウィスカー等の無機繊維などが挙げられるが、本発明では、前記のオートクレーブ養生を採用した場合であっても、化粧板の補強性及び靭性を向上できるという観点から、パルプを使用する場合が好ましい。
繊維強化セメント板中、繊維、特にパルプ等の有機繊維の含有比率は、マトリックスによってもことなるが、強度及び不燃性の確保の点から、５〜９質量％であることが好ましく、６〜８質量％であるのがさらに好ましい。パルプ等の有機繊維の含有比率が少ないと化粧板の機械的強度が低下し、熱負荷、乾燥、炭酸化や衝撃による割れを発生しやすくなる。逆にパルプ等の有機繊維の含有率が多いと、不燃性を維持することが困難となる。
【００１４】
水硬性セメントとしては、当業界で一般的に用いられているものであればよく、例えばポルトランドセメントが挙げられる。なお、本発明では耐水性の点から、石膏等の気硬性セメントは使用しないことが望ましい。
必要に応じて用いられる各種添加材としては、当業界で一般的に用いられているものが挙げられ、とくに制限されないが、例えばワラストナイト、マイカ、炭酸カルシウム等の粉末、繊維強化セメント板の廃材粉末等が挙げられる。なお、オートクレーブ養生を行う場合は、セメント中の石灰との水熱反応硬化によりさらに強度を上げる点から、けい酸質原料、例えば粉末硅石等の結晶質シリカ、フライアッシュ等の非晶質シリカ等を必要に応じて混合して用いるのが好ましい。
【００１５】
本発明において、基板の厚さは、３〜６．５ｍｍが好ましい。厚さが薄すぎると、耐衝撃性が悪化し、また、施工後に歪により表面平滑性が損なわれ、特に化粧板として不適となる。逆に厚すぎると、質量が増加し、施工性が低下し、また、コストの上昇にも繋がる。基板の厚さは、３．５〜５．５ｍｍであるのがさらに好ましい。
【００１６】
また本発明において、基板の見かけ密度は、０．６〜１．８ｇ／ｃｍ3が好ましい。密度が小さすぎると、基材表面が粗くなり、シーラーの吸い込み斑が発生することで、塗装後の外観が悪化する。また、耐凍害性が低下するとともに、剛性、破壊荷重等の機械的物性の低下に繋がる。密度が大きすぎると、質量が増加し、施工性が低下する。基板の見かけ密度は、０．７〜１．２ｇ／ｃｍ3であるのがさらに好ましい。
【００１７】
また本発明において、基板の総発熱量は５ＭＪ／ｍ2以下であるのが好ましく、４．７ＭＪ／ｍ2以下であるのがさらに好ましい。５ＭＪ／ｍ2を超えると、化粧板とした後の不燃性を満足することが困難となり、耐水性、耐候性を所望のレベルに維持することが困難になる。
【００１８】
なお、本発明において、基板又は化粧板の厚さは、ＪＩＳ Ａ ５４３０：２００８、１０．２．２項ｂ）に従い測定した値である。見かけ密度は、ＪＩＳ Ａ ５４３０：２００８、１０．５項に従い測定した値である。
基板の総発熱量は、ＪＩＳ Ａ ５４３０：２００８、１０．９項ｂ）に従い測定した値である。
【００１９】
本発明の化粧板は、基板の少なくとも片側の表面に下塗り層、着色層、及びクリア層を、この順で有する。これらの有機塗膜層は、基板の片側の表面（片面）だけでもよく、両面に有していてもよい。
【００２０】
基板と下塗り層の間、すなわち基板の少なくとも片面には、必要に応じ含浸シーラー層を設けるのが、好ましい。含浸シーラー層を設けることにより、基板の表層が強化されるとともに、表面へのアルカリの溶出が防止でき、その上層となる下塗り層との密着性も向上する。
含浸シーラー層は、公知のシーラーを用いて形成させることができ、例えば湿気硬化型ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等の硬化性樹脂を用い、基板の表面に塗布し硬化させること等により行われる。含浸シーラーは基板への含浸性が良く、高不揮発分であり、かつ、基板中の水分や雰囲気の湿気と反応して三次元架橋し、耐水性能等が良いポリイソシアネート又はポリイソシアネートとポリオールとの反応生成物である遊離イソシアネート基を有するプレポリマー及び酢酸ブチルのような溶剤を主成分とする湿気硬化型ウレタン系のものが好適である。また、化粧板としての黄変が問題となる場合には、ＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）等の脂肪族イソシアネート、ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）等の脂環族イソシアネートを使用することが好ましい。なお、昨今のＶＯＣ対策の観点から溶剤を含んでいない無溶剤シーラーを使用することもできる。
含浸シーラー層の形成は、例えば繊維強化セメント板の表面温度を５０〜６０℃に加熱し、公知のロールコーター、スプレー等の方法で含浸シーラーを塗布し、次いで硬化することにより行うことができる。含浸シーラーの粘度は、使用する含浸シーラーの種類、塗装方法を勘案して適宜決めることができ、硬化は、例えば加熱乾燥することにより行うことができる。
【００２１】
本発明においては、含浸シーラーの成分中の有機固形分量が、基板の単位面積（ｍ2）当たり３〜１００ｇとなるように設定するのが好ましい。有機固形分量が少なすぎると基板の表層がそれほど強化されない可能性がある。また、その上層となる下塗り層との密着性が低下する可能性もある。有機固形分量が多すぎると、基板の表層に余分な有機固形分が残り、この有機固形層が原因となってシーラー層内での凝集剥離や後工程での発泡、わき等の不良が生じる可能性がある。なお、わきとは発泡において、泡の中にある気体が塗膜を破ってできた微小な穴であり、塗装時の局部的厚膜に起因し、主に乾燥時の急激な昇温により生じる。含浸シーラーの成分中の有機固形分量は、基板の単位面積（ｍ2）当たり２０〜７０ｇとなるように設定するのがさらに好ましい。
【００２２】
なお本発明において、有機固形分量は、塗料原液の組成、希釈溶剤の使用量、実塗布量から簡単に算出することができる。
【００２３】
本発明の化粧板は、基板表面又は含浸シーラー層表面上に下塗り層を有し、その下塗り層の表面は研磨されており、膜厚は５〜１００μｍであることが重要である。下塗り層を形成することにより、基板の表面に存在する大小の凹凸部や、空隙部が塗料により充填され、凹凸感、塗料の吸い込み斑による光沢・色のばらつき感が抑制される。また、化粧板にピンホールのような不良が生じる可能性も減じられる。また、下塗り層を形成した後は、表面を研磨処理する。研磨処理を行うことにより、下地が平滑となり、その上に形成される各塗膜の意匠性が損なわれず、良好な外観性が提供されるだけでなく、平滑な薄い溶剤クリア層とＵＶクリア層の形成を可能とする。
【００２４】
下塗り層の膜厚は、５〜１００μｍであるのが、化粧板の表面平滑性及びその上下の塗膜との密着性、形成性、防水性、基材成分の析出防止性、塗膜ピンホールの防止、塗膜硬化性、表面異物埋没性、膜厚管理の容易性の点で重要である。５μｍ未満では、その上層及び下層の塗膜との密着性が低下する可能性があり、１００μｍを超えると総発熱量が増加し、不燃性の悪化につながる可能性がある。好ましい塗膜は、２０〜９０μｍであり、より好ましくは２５〜７０μｍである。
【００２５】
下塗り層を形成するための塗料は、表面平滑性、耐薬品性、塗膜密着性、研磨加工性、塗膜硬度、塗装容易性、クラック防止性の点から、不飽和ポリエステル系塗料が好ましく、具体的にはエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、フタル酸ジアリルエステルなどのアリル系不飽和ポリエステル、無水マレイン酸やフマル酸などの不飽和二塩基酸とグリコール類との重縮合によるマレイン酸系不飽和ポリエステル等が挙げられる。また、塗料は２液硬化型塗料とすることが、塗膜の硬化速度を制御することができるという理由から好ましい。塗料を塗布した後は、硬化させ、下塗り層を形成し、次いで上記のように研磨を行う。塗布方法は、ロールコーターやフローコーター等を用いる方法が挙げられ、中でも、基板表面に存在する大小の凹凸部や、空隙部を塗料により充填する効果を考慮すると、ロールコーターが適している。これとは別に、塗料を均一に塗布するという観点からは、フローコーターが適している。
【００２６】
本発明においては、下塗り層の成分中の有機固形分量は、基板の単位面積（ｍ2）当たり２〜５０ｇとなるように設定するのが好ましく、さらに１０〜４０ｇとするのがより好ましい。
【００２７】
下塗り層形成後の研磨手段としては、バフ研磨、プラテン研磨、ポリシャー研磨、ブラスト研磨、エッチング研磨、砥石研磨、フェルト研磨、ブラシ研磨、レーザー研磨、エンドミルあるいはバイト等による切削等が挙げられるが、下塗り層の表面を平滑にする点、研磨性の点からプラテン研磨が好ましい。プラテン研磨は、周回駆動される無端ベルト状の研磨紙を、柔らかなパッドで研磨対象に押し当てた状態で、研磨対象を進行させて研磨するものである。下塗り層の研磨は、１００μｍ以下の範囲で研磨し、最終的な下塗り層の膜厚を前記５〜１００μｍとするのが好ましい。
【００２８】
本発明の化粧板は、上記下塗り層の上層に膜厚５〜４０μｍの着色層を有する。当該着色層を形成することにより、本発明化粧板に良好な外観、化粧性（意匠性）、平滑性、基材隠蔽性（基材自体の色が化粧板の外観に影響を与えないように隠蔽する）を付与することができる。また、着色層の膜厚は、外観、化粧性の付与と不燃性の確保の点から、５〜４０μｍであることが必要であり、１０〜４０μｍがより好ましく、１５〜３５μｍがさらに好ましい。着色層が４０μｍを越えると、着色層の形成工程で塗装面に塗料の偏りが生じて着色層に凹凸が生じたり、泡痕跡が着色層の内部や表面に残り易くなるため、化粧板の表面が凹凸となって外観が低下する傾向となり易い。
【００２９】
着色層の形成に用いられる塗料としては、顔料を高濃度で含有する塗料が好ましく、具体的にはチタン量、黒鉛等の顔料；アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂等の樹脂；溶剤；添加剤等の成分を含有する塗料が好ましく、２液硬化型塗料がより好ましい。
顔料は、塗料中に３０〜５０質量％含まれるのが好ましく、これにより良好な着色性が得られ、不燃性も確保できる。着色層の形成は、ロールコーターでもフローコーターでもよい。着色層中の有機固形分量は、着色性及び不燃性の確保の点から単位面積（ｍ2）当たり３〜６０ｇ、さらに２０〜５０ｇが好ましい。
また、着色層形成後は、その表面をバフ研磨、プラテン研磨、ポリシャー研磨等により研磨するのが、クリア層の形成性、化粧特性の点から好ましい。
【００３０】
本発明の化粧板においては、必要に応じて、着色層とクリア層の間に、印刷層を設けてもよい。印刷層を設けることにより、化粧板にさらに良好な外観性、化粧性を付与することができる。
【００３１】
印刷層を形成するための塗料としては、模様、文字等の形状を形成できる塗料であればよく、例えば顔料、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂等の樹脂、溶剤、添加剤を含有する塗料が挙げられる。塗布手段は、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷、インクジェット、スクリーン印刷、ロータリースクリーン印刷、凸版式印刷、パット印刷が好ましい。印刷層の膜厚は、模様等の形成性及び不燃性の確保の点から、０．１〜５μｍが好ましく、０．１〜２μｍがより好ましく、０．３〜２μｍがさらに好ましい。印刷層中の有機固形分量は、単位面積（ｍ2）あたり０．０３〜１０gが好ましく、０．１〜７ｇがさらに好ましい。また、印刷層の形成後は、研磨は行なわないのが好ましい。
【００３２】
本発明の化粧板は、着色層又は印刷層の上層に、膜厚１〜１５μｍ溶剤クリア層とＵＶクリア層とから構成される、合計膜厚３０〜１００μｍのクリア層を形成することが重要であり、当該溶剤クリア層はロールコーターで塗布される。溶剤クリア層は、着色層又は印刷層との密着は良いが塗膜性能が必ずしも十分ではなく、一方、ＵＶクリア層は、塗膜性能は良いが印刷層との密着が不十分という性質があるので、着色層又は印刷層の上に溶剤クリア層を形成しその上にＵＶクリア層を形成することが好ましい。また、化粧板としての表面平滑性を得るためには、溶剤クリア層を形成した段階で高い表面平滑性を確保しておく必要がある。さらに光沢表面の化粧板では、一定の厚みをもつＵＶクリア層により製品に肉持ち感と高級感を与えているため、ＵＶクリア層を薄くする手法は製品外観に与える影響が大きい。そこで、ロールコーター塗布により従来よりも薄くかつ表面平滑性に優れた溶剤クリア層を形成することができた。
【００３３】
溶剤クリア層の膜厚が１μｍ未満では、良好な表面平滑性が得られず、均一な塗布が困難であるとともに、ＵＶクリア層の密着性が不十分となる。一方、膜厚が１５μｍを超えると、クリア層全体の膜厚が厚くなり、不燃性の確保が十分でもなくなる。より好ましい溶剤クリア層の膜厚は、１〜１０μｍであり、さらに好ましくは１〜８μｍであり、さらに好ましくは２〜７μｍである。
【００３４】
溶剤クリア層及びＵＶクリア層の合計膜厚は、３０〜１００μｍであり、好ましくは３０〜８０μｍであり、より好ましくは３０〜６０μｍである。３０μｍ未満では、十分な強度が得られず、また塗装面が平滑となり難いために意匠性が低下する傾向にあり、一方１００μｍを超えると十分な不燃性を確保することが困難になる。
【００３５】
また、溶剤クリア層は、膜厚を薄くする点、前工程で形成した塗膜層面に対しての塗料擦り込み効果による密着性の改善、塗布量管理の容易性、微細穴への穴埋め効果、凹凸への追従性、低粘度塗料の塗布容易性の点からロールコーターにより塗布する。
【００３６】
クリア層は、保護層として溶剤クリア層を形成するための塗料は、特に限定されるものではなく、例えば、アクリルシリコーン系、ウレタン系、アクリル系等の２液硬化型樹脂、熱硬化型樹脂等からなる無色透明樹脂又は前記樹脂に艶消し剤を含ませた半透明樹脂と、他の添加剤として例えば湿潤分散剤、沈降防止剤、消泡剤、レベリング剤等、溶剤として例えば酢酸ブチル、酢酸エチル等を含むものが挙げられる。中でも耐候性や耐汚染性に優れるアクリルシリコーン系やアクリルウレタン系の樹脂を使用するのが好ましい。なお本発明でいう透明又は半透明とは、全光線透過率が４０％以上、より好ましくは５０％以上を意味する。全光線透過率はヘイズメーター等を用いて従来公知の方法で測定することができる。塗料の塗布方法は、ロールコーター法を用いる。
【００３７】
ＵＶクリア層を形成するための塗料は、特に限定されないが、アクリルウレタン系、ポリエステル樹脂系、アルキド樹脂系、ポリエーテル樹脂系、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、ウレタン樹脂系、シリコン樹脂系、ポリブタジエン樹脂系などのラジカル重合可能な不飽和二重結合を有する紫外線重合性化合物と光開始剤の混合物あるいはカチオン開環重合型化合物と光開始剤の混合物等のＵＶ硬化型樹脂からなる無色透明樹脂又は半透明樹脂が好ましい。当該塗料には、他の添加剤として例えば湿潤分散剤、沈降防止剤、消泡剤、レベリング剤等、溶剤として例えば酢酸ブチル、酢酸エチル等を含むものが挙げられる。塗料の塗布方法は、フローコーター法が好ましいが、その他、ロールコーター法、スプレー法等の既存の方法を用いてもよい。
【００３８】
本発明においては、クリア層の成分中の有機固形分量が、基板の単位面積（ｍ2）当たり２０〜１００ｇ、さらに２０〜８０ｇとなるように設定するのが好ましい。
【００３９】
本発明の化粧板は、窯業系基板の少なくとも片側の表面に、下塗り層、着色層及びクリア層をこの順で形成する製造方法であって、
（ａ）下塗り層形成後表面を研磨し、その膜厚を５〜１００μｍとし、
（ｂ）着色層の膜厚を５〜４０μｍとし、
（ｃ）クリア層をロールコーターで塗布した１〜１５μｍの溶剤クリア層とＵＶクリア層とから構成し、その合計膜厚を３０〜１００μｍとすることを特徴とする、
（ｄ）コーンカロリーメーター発熱性試験による総発熱量が８ＭＪ／ｍ2以下である製造方法によって製造できる。各塗膜層の形成方法は、前述のとおりである。
【００４０】
本発明の化粧板は、コーンカロリーメーター発熱性試験による総発熱量が８ＭＪ／ｍ2以下である必要がある。この要件を満たすことにより、ＪＩＳ Ａ ５４３０：２００８で規定する発熱性１級（加熱時間２０分）を満たし、高い不燃性を示す。さらに好ましい総発熱量は、７．２ＭＪ／ｍ2以下である。
なお、製造した化粧板を、保管や輸送のために重ね合わせて積み込む場合は、所謂ブロッキングを避けるために、板温を４０℃以下まで冷却させてから行うのが好ましい。
【実施例】
【００４１】
以下、本発明を実施例及び比較例によりさらに説明するが、本発明は下記例に制限されない。
【００４２】
（１）繊維強化セメント板（基板）
基板として、ハイラックＭ（(株)エーアンドエーマテリアル製）を使用した。ハイラックＭは、ＪＩＳ  Ａ  ５４３０の表１において「けい酸カルシウム板  タイプ２  １．０けい酸カルシウム板」に該当する繊維強化セメント板である。実施例および比較例において使用したハイラックＭは、有機繊維原料としてパルプが７質量％配合されたものである。
【００４３】
（２）各層の形成
各塗膜は、次の塗料を使用して形成した。
含浸シーラー層：DIC株式会社  ＵＣシーラーＷ004Ｋ
下塗り層：DIC株式会社  ＳＫＳ-ＷＰ
着色層：中国塗料株式会社  EPコートＮｏ．300Ｕ  白  FTX
印刷層：ＤＩＣカラーコーチング株式会社  GOインキ
溶剤クリア層：中国塗料株式会社  EPコートＮｏ．300-60  クリア
ＵＶクリア層：中国塗料株式会社  オーレックスＮｏ．230  SX
【００４４】
実施例１
基材の表裏面にロールコーターを用いて含浸シーラーを７５g／ｍ2塗布し、基材の表裏面全体で有機固形分が３０ｇ／ｍ2となる含浸シーラー層を形成した。
次にロールコーターを用いて基材表面側に下塗り塗料を１２０g／ｍ2塗布した後、紫外線照射により塗膜を硬化し、プラテン研磨機により下塗り塗料表面を平滑に研磨して、塗膜厚さ５１μｍで下塗り層の有機固形分量が２５ｇ／ｍ2となる下塗り塗膜層を形成した。
さらに下塗り層の上から着色層として、ロールコーターとフローコーターを用いて中国塗料株式会社のエナメル塗料を１１０g／ｍ2塗布し、静置後に熱風式乾燥機で塗膜を硬化させた後、バフ研磨機を用い着色層の表面を研磨して、塗膜厚さが２８μｍで有機固形分が３０ｇ／ｍ2の着色層を形成した。
つぎに印刷層として、着色層の表面にグラビアオフセット印刷機を用いて印刷層の厚みが１μｍ以下で有機固形分量が５ｇ／ｍ2となる印刷層を形成した。さらに印刷後の表面にロールコーターを用いて溶剤クリア塗料を１３ｇ／ｍ2塗布し、静置後に熱風式乾燥炉で塗膜を硬化させた後、溶剤クリア層表面をバフ研磨機とポリッシャ研磨機で平滑に研磨して、塗膜の厚みが６μｍで有機固形分が８ｇ／ｍ2の溶剤クリア層を形成した。
さらに溶剤クリア層の表面にフローコーターを用いてＵＶクリア塗料を５０g／ｍ2塗布し、静置した後、紫外線照射装置により塗膜を硬化させて、塗膜厚さが４４μｍで有機固形分が４４ｇ／ｍ2のＵＶクリア層を形成して化粧板を作成した。
【００４５】
実施例２
実施例１と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の塗膜厚みが６１μｍで下塗り層の有機固形分量が３０ｇ／ｍ2となる下塗り層を形成し、同様に溶剤クリア層の塗膜厚みが５μｍで溶剤クリア層の有機固形分量が５ｇ／ｍ2、ＵＶクリア層の塗膜厚みが４７μｍでＵＶクリア層の有機固形分量が４７ｇ／ｍ2となる化粧板を作成した。その他の塗膜層の構成は実施例１と同様である。
【００４６】
実施例３
実施例１〜２と同様に含浸シーラー層を形成し、下塗り層についてはプラテン研磨機による下塗り層の研磨量を実施例１から増して、下塗り層の塗膜厚さが３１μｍで有機固形分量１５ｇ／ｍ2の下塗り層とした。また着色層は２７μｍで有機固形分量２９ｇ／ｍ2、溶剤クリア層が５μｍで有機固形分量が７ｇ／ｍ2、ＵＶクリア層が５３μｍで有機固形分量が５３ｇ／ｍ2となる化粧板を作成した。その他は実施例１と同様である。
【００４７】
実施例４
含浸シーラー層形成後の下塗り層について、実施例３と同様に研磨により塗膜厚さを調整して、塗膜厚さが２６μｍで有機固形分量１３ｇ／ｍ2の下塗り層とした。また溶剤クリア層は５μｍで有機固形分量が７ｇ／ｍ2、ＵＶクリア層は４７μｍで有機固形分量が４７ｇ／ｍ2となる化粧板を作成した。その他は実施例１と同様である。
【００４８】
実施例５（下塗り層が薄い例）
下塗り層について、実施例３〜４と同様の方法により塗膜厚さ１５μｍ、有機固形分量を７ｇ／ｍ2とした。その他は実施例１と同様である。
【００４９】
実施例６（着色層が薄い例）
着色層についてエナメル塗料の塗布量を５５ｇ／ｍ2として実施例１と同様に化粧板の作成を行い、着色層の塗膜厚みが１５μｍで有機固形分量が１６ｇ／ｍ2とした。その他は実施例１と同様である。
【００５０】
実施例７（溶剤クリア層１０μｍぐらいの例）
溶剤クリア層について、溶剤クリア塗料をロールコーターで２５ｇ／ｍ2塗布し、塗膜の硬化後に表面を研磨して、塗膜厚みが１０μｍで有機固形分量が１３ｇ／ｍ2の溶剤クリア層とした。その他は実施例１と同様である。
【００５１】
比較例１（ロールコーター以外で塗布）
含浸シーラー層から印刷層までの構成は実施例４と同様として、溶剤クリア層についてはフローコーターにより８０ｇ／ｍ2の塗装を行い、硬化後に表面を研磨して塗膜厚さが２１μｍで有機固形分量が２８ｇ／ｍ2となる溶剤クリア層を形成した。さらにＵＶクリア層については塗膜厚さが９０μｍで有機固形分量が９０ｇ／ｍ2となる化粧板を作成した。
【００５２】
比較例２（クリア層が溶剤クリアのみで形成された例）
含浸シーラー層から印刷層までの構成は比較例１と同様とした。溶剤クリア層についてはフローコーターを用いて１５０ｇ／ｍ2の塗装を行い、印刷層の表面に４５μｍで有機固形分量が６０ｇ／ｍ2となる溶剤クリア層を形成して化粧板とした。
【００５３】
比較例３（下塗り層が厚い例、研磨なし）
実施例４と同様に含浸シーラー層を形成し、次にロールコーターを用いて下塗り塗料を基材の表面側に１２０g／ｍ2塗布した。紫外線照射により下塗り塗料を硬化した後、下塗り塗膜の研磨を行わずに塗膜厚さが１１０μｍで有機固形分量が６０ｇ／ｍ2の下塗り塗膜を形成した。着色層からＵＶクリア層までは実施例４と同様として化粧板を作成した。
【００５４】
比較例４（着色層が厚い例）
実施例４と同様に含浸シーラー層と下塗り層を形成した後、着色層としてエナメル塗料をロールコーターとフローコーターを用いて２００g／ｍ2塗布した。塗膜硬化後にバフ研磨を行い、塗膜厚さが５０μｍで有機固形分が５４ｇ／ｍ2の着色層を形成した。印刷層および溶剤クリア層、ＵＶクリア層についてはいずれも実施例４と同様である。
【００５５】
（３）評価
比重：ＪＩＳ  Ａ５４３０−１０−５に従って測定した。
総発熱量：コーンカロリーメーター［防火材料の発熱性試験装置（財団法人建材試験センター）による発熱性試験（ＩＳＯ５６６０ Ｐａｒｔ １準拠）］に従って測定した。
外観：目視観察により良好なものを○、良好でないものを×として、これらの中間を△とした。
鉛筆硬度：ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に従って測定した。
【００５６】
得られた評価結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
0005985252.tif 000002
【００５８】
表１から明らかなように、繊維強化セメント板の表面に下塗り層、着色層及びクリア層を形成させ、各層を所定の厚さとし、かつ下塗り層を研磨し、クリア層をロールコーターで１〜１５μｍの溶剤クリア層とＵＶクリア層とにすることにより、外観及び強度が良好で総発熱量７．２ＭＪ／ｍ2以下の優れた不燃性を有する窯業系化粧板が得られる。
一方、溶剤クリア層が２１μｍと厚い比較例１は、総発熱量が８．２ＭＪ／ｍ2と高くなり、またＵＶクリア層を設けず溶剤クリア層だけを有する比較例２（クリア層をフローコーター塗装で形成）では外観が良好でなく、かつ表面の強度も不十分であった。