(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶化合物を含み、面内における遅相軸方向の屈折率と進相軸方向の屈折率の差が０．０５〜０．２であり、厚さが０．５μｍ〜２．０μｍである液晶層を有する位相遅延層と；上記位相遅延層に第１粘着剤層で付着されており、偏光子を含む偏光板と；上記偏光板の第１粘着剤層が付着されていない側に存在し、２５℃で貯蔵弾性率が０．０８ＭＰａを超過する第２粘着剤層と；を含み、
上記第２粘着剤層は、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造及び重合された活性エネルギー線重合性化合物を含む架橋構造を含み、
上記液晶層は、互いに位相遅延特性が異なる第１領域及び第２領域を含む光学素子。
【請求項２】
上記液晶化合物は、多官能性重合性液晶化合物と単官能性重合性液晶化合物を含む、請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
上記第１及び上記第２領域は、互いに異なる方向に形成された光軸を有し、上記第１領域の光軸と上記第２領域の光軸が成す角度を二等分する線は、偏光子の吸収軸と垂直または平行を成している、請求項１又は２に記載の光学素子。
【請求項４】
上記第１粘着剤層は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ以上である、請求項１から３の何れか１項に記載の光学素子。
【請求項５】
上記第１粘着剤層及び上記第２粘着剤層は、厚さが２５μｍ以下である、請求項１から４の何れか１項に記載の光学素子。
【請求項６】
上記活性エネルギー線重合性化合物は、多官能性アクリレートである、請求項１から５の何れか１項に記載の光学素子。
【請求項７】
上記液晶層の第１粘着剤層側とは反対側に形成されている基材層及び第３粘着剤層により上記基材層に付着されている保護基材層をさらに含む、請求項１から６の何れか１項に記載の光学素子。
【請求項８】
上記第１粘着剤層は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ〜０．０８ＭＰａであり、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造を含む、請求項７に記載の光学素子。
【請求項９】
上記第１粘着剤層は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０８ＭＰａを超過し、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造及び重合された活性エネルギー線重合性化合物を含む架橋構造を含む、請求項７に記載の光学素子。
【請求項１０】
上記第３粘着剤層は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０８ＭＰａを超過し、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造及び重合された活性エネルギー線重合性化合物を含む架橋構造を含む、請求項７から９の何れか１項に記載の光学素子。
【請求項１１】
上記保護基材層の表面に形成されている表面処理層をさらに含む、請求項７から１０の何れか１項に記載の光学素子。
【請求項１２】
上記表面処理層は、高硬度層、眩しさ防止層または低反射層である、請求項１１に記載の光学素子。
【請求項１３】
上記液晶層の第１粘着剤層側とは反対側に形成されている基材層及び上記基材層の表面に形成されている表面処理層をさらに含む、請求項１から１２の何れか１項に記載の光学素子。
【請求項１４】
上記第１粘着剤層は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ〜０．０８ＭＰａであり、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造を含む、請求項１３に記載の光学素子。
【請求項１５】
上記表面処理層は、高硬度層、眩しさ防止層または低反射層である、請求項１３又は１４に記載の光学素子。
【請求項１６】
下記一般式１の条件を満たす、請求項１から１５の何れか１項に記載の光学素子：
［一般式１］
Ｘ≦２００ｎｍ
上記一般式１でＸは、上記光学素子を上記第２粘着剤層でガラス基板に付着し、上記光学素子の横または縦方向の初期長さと比較して、６０℃及び１０％の相対湿度で１５０時間維持した後に測定した上記光学素子の横または縦長さの変化量である。
【請求項１７】
請求項１から１６の何れか１項に記載の光学素子を含む立体映像表示装置。
【請求項１８】
左眼用映像信号と右眼用映像信号を生成することができる映像表示素子をさらに含む、請求項１７に記載の立体映像表示装置。
【請求項１９】
上記光学素子の上記液晶層は、互いに位相遅延特性が異なる第１領域及び第２領域を含み、上記液晶層の上記第１領域及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、左眼用映像信号が透過されることができ、他方の領域は、右眼用映像信号が透過されることができるように配置された状態で第２粘着剤層で映像表示素子に付着されている、請求項１７に記載の立体映像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子及び立体映像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光を互いに偏光状態が異なる２種類以上の光に分割する技術は、多様な分野において有用に使用されることができる。
【０００３】
上記光分割技術は、例えば、立体映像の製作に適用されることができる。立体映像は、両眼時差を利用して具現することができる。例えば、２つの２次元映像を人間の左眼及び右眼にそれぞれ入力すれば、入力された情報が脳に伝達及び融合され、人間は、３次元的な遠近感と実際感を感じるようになるが、このような過程で、上記光分割技術は、使用されることができる。
【０００４】
立体映像の生成技術は、３次元計測、３Ｄテレビ、カメラまたはコンピュータグラフィックなどにおいて有用に使用されることができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、光学素子及び立体映像表示装置を提供することを目的にする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、光学素子に関する。例示的な光学素子は、位相遅延層、上記位相遅延層に第１粘着剤層で付着されている偏光板及び上記偏光板の上記位相遅延層とは反対側に形成されている第２粘着剤層を含むことができる。図１は、上記光学素子１を例示的に示す図であり、位相遅延層１１、第１粘着剤層１２１、偏光板１３及び第２粘着剤層１３が順に形成されている構造を示す。
【０００７】
１つの例示で用語「光学素子」は、光学的に意図された１つ以上の機能を示すすべての種類の光学機器、光学部品または光学装置などを意味することができる。また、１つの例示で上記光学素子は、シートまたはフィルムの形態を有するものを意味することができる。上記光学素子は、例えば、入射される光を互いに偏光状態が異なる２種類以上の光に分割する素子であることができる。このような素子は、例えば、立体映像を具現するために使用することができる。
【０００８】
上記位相遅延層は、液晶層を含み、上記液晶層は、液晶化合物を含むことができる。上記液晶化合物は、重合性液晶化合物であることができ、上記は、重合された形態で液晶層に含まれていてもよい。
【０００９】
本明細書で用語「重合性液晶化合物」は、液晶性を示すことができる部位、例えば、メソゲン（ｍｅｓｏｇｅｎ）骨格などを含み、また、重合性官能基を１つ以上含む化合物を意味することができる。また、本明細書で「重合性液晶化合物が重合された形態で含まれているということ」は、上記液晶化合物が重合され、液晶層内で液晶高分子の主鎖または側鎖のような骨格を形成している状態を意味することができる。
【００１０】
１つの例示で液晶層に含まれる重合性液晶化合物は、多官能性重合性液晶化合物と単官能性重合性液晶化合物を含むことができる。
【００１１】
本明細書で用語「多官能性重合性液晶化合物」は、上記液晶化合物のうち重合性官能基を２個以上含む化合物を意味することができる。１つの例示で多官能性重合性液晶化合物は、重合性官能基を２個〜１０個、２個〜８個、２個〜６個、２個〜５個、２個〜４個、２個〜３個または２個含むことができる。
【００１２】
また、用語「単官能性重合性液晶化合物」は、上記液晶化合物のうち１つの重合性官能基を含む化合物を意味することができる。
【００１３】
多官能性及び単官能性重合性化合物を使用すれば、液晶層の位相遅延特性を効果的に調節することができ、また、具現された位相遅延特性、例えば、位相遅延層の光軸や、位相遅延値を安定的に維持することができる。本明細書で用語「光軸」は、光が当該領域を透過するときの遅相軸または進相軸を意味することができる。
【００１４】
上記多官能性または単官能性重合性液晶化合物としては、例えば、下記化学式１で表示される化合物が例示されることができる。
【００１５】
［化学式１］
【化１】
0005850585.tif 000002
【００１６】
上記化学式１でＡは、単一結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ独立的に水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは下記化学式２の置換基であり、且つ、Ｒ１〜Ｒ１０のうち少なくとも１つは、−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは下記化学式２の置換基であるか、Ｒ１〜Ｒ５のうち隣接する２個の置換基またはＲ６〜Ｒ１０のうち隣接する２個の置換基は、互いに連結され、−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたベンゼンを形成し、上記でＱは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｐは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの重合性官能基である。
【００１７】
［化学式２］
【化２】
0005850585.tif 000003
【００１８】
上記化学式２でＢは、単一結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ１１〜Ｒ１５は、それぞれ独立的に水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基または−Ｏ−Ｑ−Ｐであり、且つ、Ｒ１１〜Ｒ１５のうち少なくとも１つは、−Ｏ−Ｑ−Ｐであるか、Ｒ１１〜Ｒ１５のうち隣接する２個の置換基は、互いに連結され、−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたベンゼンを形成し、上記でＱは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｐは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの重合性官能基である。
【００１９】
上記化学式１及び２で隣接する２個の置換基は、互いに連結され、−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたベンゼンを形成するということは、隣接する２個の置換基が互いに連結され、全体的に−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたナフタレン骨格を形成することを意味することができる。
【００２０】
上記化学式２でＢの左側の"−"は、Ｂが化学式１のベンゼンに直接連結されていることを意味することができる。
【００２１】
上記化学式１及び２で用語「単一結合」は、ＡまたはＢで表示される部分に別途の原子が存在しない場合を意味する。例えば、化学式１でＡが単一結合の場合、Ａの両側のベンゼンが直接連結され、ビフェニル（ｂｉｐｈｅｎｙｌ）構造を形成することができる。
【００２２】
上記化学式１及び２でハロゲンとしては、塩素、ブロムまたはヨードなどが例示されることができる。
【００２３】
本明細書で用語「アルキル基」は、特に別途規定しない限り、炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８または炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖アルキル基または炭素数３〜２０、炭素数３〜１６または炭素数４〜１２のシクロアルキル基を意味することができる。上記アルキル基は、任意的に１つ以上の置換基により置換されることができる。
【００２４】
本明細書で用語「アルコキシ基」は、特に別途規定しない限り、炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８または炭素数１〜４のアルコキシ基を意味することができる。上記アルコキシ基は、直鎖、分岐鎖または環状であることができる。また、上記アルコキシ基は、任意的に１つ以上の置換基により置換されることができる。
また、本明細書で用語「アルキレン基またはアルキリデン基」は、特に別途規定しない限り、炭素数１〜１２、炭素数４〜１０または炭素数６〜９のアルキレン基またはアルキリデン基を意味することができる。上記アルキレン基またはアルキリデン基は、直鎖、分岐鎖または環状であることができる。また、上記アルキレン基またはアルキリデン基は、任意的に１つ以上の置換基により置換されることができる。
【００２５】
また、本明細書でアルケニル基は、特に別途規定しない限り、炭素数２〜２０、炭素数２〜１６、炭素数２〜１２、炭素数２〜８または炭素数２〜４のアルケニル基を意味することができる。上記アルケニル基は、直鎖、分岐鎖または環状であることができる。また、上記アルケニル基は、任意的に１つ以上の置換基により置換されることができる。
【００２６】
また、上記化学式１及び２でＰは、好ましくは、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、より好ましくは、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、さらに好ましくは、アクリロイルオキシ基であることができる。
【００２７】
本明細書で特定官能基に置換されていてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、エポキシ基、オキソ基、オキセタニル基、チオール基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアリール基などが例示されることができるが、これに限定されるものではない。
【００２８】
上記化学式１及び２で少なくとも１つ以上存在することができる−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは化学式２の残基は、例えば、Ｒ３、Ｒ８またはＲ１３の位置に存在することができる。また、互いに連結され、−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたベンゼンを構成するものは、好ましくは、Ｒ３及びＲ４であるか、またはＲ１２及びＲ１３であることができる。また、上記化学式１の化合物または化学式２の残基で−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは化学式２の残基以外の置換基または互いに連結されてベンゼンを形成しているもの以外の置換基は、例えば、水素、ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖アルコキシ基を含むアルコキシカルボニル基、炭素数４〜１２のシクロアルキル基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基であることができ、好ましくは、塩素、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数４〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖アルコキシ基を含むアルコキシカルボニル基またはシアノ基であることができる。
【００２９】
液晶層は、単官能性重合性液晶化合物を多官能性重合性液晶化合物を１００重量部に対して０重量部超過１００重量部以下、１重量部〜９０重量部、１重量部〜８０重量部、１重量部〜７０重量部、１重量部〜６０重量部、１重量部〜５０重量部、１重量部〜３０重量部または１重量部〜２０重量部で含むことができる。上記範囲内で多官能性及び単官能性重合性液晶化合物の混合効果を極大化することができる。本明細書で特に別途規定しない限り、単位重量部は、重量比率を意味することができる。
【００３０】
液晶層で上記重合性液晶化合物は、水平配向されていてもよい。用語「水平配向」は、重合または非重合された液晶化合物を含む液晶層の光軸が液晶層の平面に対して約０度〜約２５度、約０度〜約１５度、約０度〜約１０度、約０度〜約５度または約０度の傾斜角度を有する場合を意味することができる。
【００３１】
上記液晶層は、面内における遅相軸方向の屈折率と面内における進相軸方向の屈折率の差が０．０５〜０．２、０．０７〜０．２、０．０９〜０．２または０．１〜０．２の範囲であることができる。上記で面内における遅相軸方向の屈折率は、液晶層の平面で最も高い屈折率を示す方向の屈折率を意味し、進相軸方向の屈折率は、液晶層の平面上で最も低い屈折率を示す方向の屈折率の差を意味することができる。通常的に光学異方性の液晶層で進相軸と遅相軸は、互いに垂直する方向に形成されている。上記それぞれの屈折率は、５５０ｎｍまたは５８９ｎｍの波長の光に対して測定した屈折率であることができる。
【００３２】
上記液晶層は、また、厚さが約０．５μｍ〜２．０μｍまたは約０．５μｍ〜１．５μｍであることができる。
【００３３】
上記屈折率関系と厚さを有する液晶層は、適用される用途に適した位相遅延特性を具現することができる。例えば、上記屈折率の関系と厚さを有する液晶層は、光分割用光学素子に適合することができ、上記素子が立体映像表示に適用される場合に不適切な光分割によって誘導されるいわゆるクロストーク（ｃｒｏｓｓｔａｌｋ）などを防止することができる。
【００３４】
上記液晶層は、入射光、例えば上記偏光板を経て入射される光を互いに異なる偏光状態を有する２種以上の光に分割することができるように形成されていてもよい。これにより、例えば、上記液晶層は、互いに異なる位相遅延特性を有する第１及び第２領域を少なくとも含むことができる。本明細書で第１領域と第２領域の位相遅延特性が互いに異なるということは、第１及び第２領域がいずれも位相遅延特性を有する領域の状態で第１及び第２領域が互いに同一であるかまたは異なる方向に形成されている光軸をそれぞれ有し、また、位相遅延値も互いに異なる領域である場合及び互いに同一の位相遅延値を有しながら異なる方向に形成されている光軸を有する場合が含まれることができる。他の例示では、第１及び第２領域の位相遅延特性が異なるというのは、第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、位相遅延特性を有する領域であり、他方の領域は、位相遅延特性がない光学的に等方性の領域である場合も含まれることができる。このような場合の例としては、上記液晶層の一部領域にのみ液晶物質の層が形成されていて、他の領域には、液晶物質の層が形成されていない場合が例示されることができる。第１または第２領域の位相遅延特性は、例えば、液晶化合物の配向状態、液晶層の上記屈折率関系または液晶層の厚さを調節して制御することができる。
【００３５】
１つの例示で上記第１領域Ａと第２領域Ｂは、図２に示されたように、互いに共通する方向に延長するストライプ形状を有しながら互いに隣接して交互に配置されているか、または図３に示されたように格子パターンで互いに隣接して交互に配置されていてもよい。
【００３６】
光学素子が立体映像の表示に使用される場合、上記第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、左眼用映像信号偏光調節領域（以下、「ＬＣ領域」と称することができる。）であり、他方の領域は、右眼用映像信号偏光調節領域（以下、「ＲＣ領域」と称することができる。）であることができる。
【００３７】
また、１つの例示で第１及び第２領域を含む液晶層により分割される、互いに異なる偏光状態を有する２種以上の光は、実質的に互いに垂直な方向を有する直線偏光された２種の光を含むか、または左円偏光された光及び右円偏光された光を含むことができる。
【００３８】
これにより、１つの例示で上記第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、入射光の偏光軸を回転させることなく、そのまま透過させる領域であり、他方の領域は、入射光の偏光軸を他の領域を透過した光の偏光軸に対して直交する方向に回転させて透過させることができる領域であることができる。上記場合では、液晶層で重合性液晶化合物を含む領域は、第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域にのみ形成されていてもよい。上記で液晶層が形成されていない領域は、空きの空間であるか、ガラスまたは光学的等方性の樹脂層、樹脂フィルムまたはシートなどが存在する領域であることができる。
【００３９】
他の例示で第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、入射光を左円偏光された光に変換して透過させることができる領域であり、他方の領域は、入射光を右円偏光された光に変換して透過させることができる領域であることができる。上記の場合、第１及び第２領域は、互いに同一の位相遅延値を有しながら互いに異なる方向に形成された光軸を有する領域であるか、一方の領域は、入射される光を当該波長の１／４波長だけ遅延させることができる領域であり、他方の領域は、入射される光を当該波長の３／４波長だけ位相遅延させることができる領域であることができる。
【００４０】
１つの例示で上記第１及び第２領域は、互いに同一の位相遅延値、例えば入射される光を当該波長の１／４波長だけ位相遅延させることができる値を有し、また、互いに異なる方向に形成されている光軸を有する領域であることができる。上記で互いに異なる方向に形成されている光軸の成す角度は、例えば垂直であることができる。
【００４１】
上記第１及び第２領域が互いに異なる方向に形成されている光軸を有する領域である場合、第１及び第２領域の光軸が成す角度を二等分する線は、上記偏光板に含まれる偏光子の吸収軸と垂直または水平を成すように形成されていることが好ましい。
【００４２】
図４は、図２または図３の例示の第１及び第２領域Ａ、Ｂが互いに異なる方向に形成された光軸を有する領域である場合の光軸の配置を説明するための例示的な図である。図４を参照すれば、第１及び第２領域Ａ、Ｂの光軸が成す角度を二等分する線は、θ１＋θ２の角度を二等分する線を意味することができる。例えば、θ１及びθ２が同一の角度なら、上記二等分線は、第１及び第２領域Ａ、Ｂの境界線Ｌと水平を成す方向に形成されることができる。また、上記で第１及び第２領域の光軸が成す角度、すなわちθ１＋θ２は、例えば、９０度であることができる。
【００４３】
本明細書において角度を定義するに際して、垂直、水平、直交または平行などの用語を使用する場合、特に別途規定しない限り、上記それぞれは、実質的な垂直、水平、直交、または平行を意味するもので、例えば、製造誤差（ｅｒｒｏｒ）または偏差（ｖａｒｉａｔｉｏｎ）などを勘案した誤差を含むものである。したがって、例えば、上記それぞれの場合、約±１５度以内の誤差、好ましくは、約±１０度以内の誤差、より好ましくは、約±５度以内の誤差を含むことができる。
【００４４】
位相遅延層は、液晶層が上部に形成される基材層をさらに含むことができる。図５は、光学素子４が液晶層１１が上部に形成される基材層４１を含む場合の構造を例示的に示す。
【００４５】
基材層としては、例えば、ガラス基材層またはプラスチック基材層を使用することができる。プラスチック基材層としては、ＴＡＣ（ｔｒｉａｃｅｔｙｌ  ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）またはＤＡＣ（ｄｉａｃｅｔｙｌ  ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）などのようなセルロース樹脂；ノルボルネン誘導体などのＣＯＰ（ｃｙｃｌｏ  ｏｌｅｆｉｎ  ｐｏｌｙｍｅｒ）；ＰＭＭＡ（ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）などのアクリル樹脂；ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）；ＰＥ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）またはＰＰ（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）などのポリオレフィン；ＰＶＡ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）；ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎｅ）；ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎ）；ＰＥＩ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）；ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｍａｐｈｔｈａｔｌａｔｅ）；ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ）などのポリエステル；ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）；ＰＳＦ（ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ）；またはフッ素樹脂などを含むシートまたはフィルムが例示されることができる。
【００４６】
上記基材層、例えば、プラスチック基材層は、上記液晶層に比べて低い屈折率を有することができる。例示的な基材層の屈折率は、約１．３３〜約１．５３の範囲である。基材層が液晶層に比べて低い屈折率を有するようにすれば、例えば、輝度向上、反射防止及びコントラスト特性向上などに有利である。
【００４７】
上記プラスチック基材層は、光学的に等方性であるか、あるいは、異方性であることができる。上記で基材層が光学的に異方性である場合、上記基材層の光軸は、前述した第１及び第２領域の光軸が成す角度を二等分する線と垂直または水平になるように配置されることが好ましい。
【００４８】
１つの例示で上記基材層は、紫外線遮断剤または紫外線吸収剤を含むことができる。紫外線遮断剤または吸収剤を基材層に含ませれば、紫外線による液晶層の劣化などを防止することができる。紫外線遮断剤または吸収剤としては、サリチル酸エステル（ｓａｌｉｃｙｌｉｃ  ａｃｉｄ  ｅｓｔｅｒ）化合物、ベンゾフェノン（ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）化合物、オキシベンゾフェノン（ｏｘｙｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）化合物、ベンゾトリアゾール（ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌ）化合物、シアノアクリレート（ｃｙａｎｏａｃｒｙｌａｔｅ）化合物またはベンゾアート（ｂｅｎｚｏａｔｅ）化合物などのような有機物または酸化亜鉛（ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）またはニッケル錯塩（ｎｉｃｋｅｌ  ｃｏｍｐｌｅｘ  ｓａｌｔ）などのような無機物が例示されることができる。基材層内の紫外線遮断剤または吸収剤の含量は、特に限定されず、目的効果を考慮して適切に選択することができる。例えば、プラスチック基材層の製造過程で上記紫外線遮断剤または吸収剤を、基材層の主材料に対する重量の比率で約０．１重量％〜２５重量％程度で含ませることができる。
【００４９】
基材層の厚さは、特に限定されず、目的する用途によって適切に調節されることができる。基材層は、単層または多層構造であることができる。
【００５０】
例示的な光学素子は、上記基材層と液晶層との間に存在する配向層をさらに含むことができる。配向層は、光学素子の形成過程で液晶化合物を配向させる役目をする層であることができる。配向層としては、この分野で公知されている通常の配向層、例えば、光配向層、（ナノ）インプリント方式の配向層またはラビング配向層などが使用されることができる。上記配向層は、任意的な構成であり、場合によって、基材層を直接ラビングするか、延伸する方式で配向層なしに配向性を付与することもできる。
【００５１】
光学素子に含まれる偏光板は、偏光子を含むことができる。偏光子は、様々な方向に振動しながら入射光から一方の方向に振動する光を抽出することができる機能性素子である。１つの例示で上記偏光子は、所定方向に形成されている光吸収軸と上記光吸収軸に垂直な光透過軸を含むことができる。偏光子としては、例えば、ＰＶＡ（ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）偏光子のような通常の偏光子を使用することができる。
【００５２】
上記偏光子の一面または両面には、保護層が形成されていてもよい。保護層としては、ＴＡＣまたはＤＡＣなどのセルロース樹脂フィルム、非結晶性ポリオレフィンフィルム、ポリエステルフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、脂環式ポリイミドフィルムまたは環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムなどは、樹脂フィルムや、紫外線などの電磁気波によって硬化されている樹脂層などが例示されることができる。
【００５３】
上記光学素子は、位相遅延層と偏光板を付着している第１粘着剤層と、偏光板に形成されている第２粘着剤層とを含む。
【００５４】
上記で第２粘着剤層は、上記光学素子を光学機器に付着するための粘着剤層であることができる。上記で光学機器としては、例えば、液晶表示装置の液晶パネルや立体映像表示装置の映像表示素子が例示されることができる。
【００５５】
上記第１及び第２粘着剤層のうち少なくとも１つは、２５℃で貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ以上、０．０３ＭＰａ以上、０．０４ＭＰａ以上、０．０５ＭＰａ以上、０．０６ＭＰａ以上、０．０７ＭＰａ以上、０．０８ＭＰａ、０．０８ＭＰａ超過または０．０９ＭＰａ以上であることができる。上記第１及び第２粘着剤のうち少なくとも１つが上記範囲の貯蔵弾性率を有するとき、該貯蔵弾性率の上限は、特に限定されるものではない。例えば、上記貯蔵弾性率は、０．２５ＭＰａ以下、０．２ＭＰａ以下、０．１６ＭＰａ以下、０．１ＭＰａ以下または０．０８ＭＰａ以下であることができる。上記光学素子で少なくとも第２粘着剤層は、上記範囲の貯蔵弾性率を有することができ、好ましくは、０．０８ＭＰａを超過する貯蔵弾性率を示すことができる。
【００５６】
第１または第２粘着剤層が上記貯蔵弾性率を示す場合、光学素子が優れた耐久性を示し、したがって、例えば、上記位相遅延層の位相遅延特性が長期間そして苛酷な条件下でも安定的に維持され、安定的な光分割特性を示すことができ、光学素子が適用された光学機器で光漏れなどのような副作用をも防止されることができる。また、光学素子の硬度特性が向上し、外部の圧力やスクラックなどに対して優れた抵抗性を示し、再作業性も適切に維持されることができる。
【００５７】
上記第１または第２粘着剤層は、厚さが２５μｍ以下、２０μｍ以下または１８μｍ以下であることができる。粘着剤層が上記厚さを有する場合、上記耐久性、硬度特性及び再作業性などがさらに向上することができる。粘着剤層は、厚さが薄いほど優れた物性を示すものであって、その厚さの下限は、特に限定されないが、工程性などを考慮して、例えば、約１μｍ以上または約５μｍ以上の範囲に調節することができる。
【００５８】
粘着剤層は、アクリル粘着剤、シリコーン粘着剤、エポキシ粘着剤またはゴム系粘着剤などを含むことができる。
【００５９】
粘着剤層がアクリル粘着剤を含む場合に、上記粘着剤は、例えば、熱硬化性成分、活性エネルギー線硬化性成分または熱硬化性成分と活性エネルギー線硬化性成分をすべて含む粘着剤組成物を硬化させて形成することができる。
【００６０】
上記で用語「硬化」は、粘着物性が発現され得るようにする粘着剤組成物の化学的または物理的状態の変化を意味することができる。また、上記で熱硬化性成分及び活性エネルギー線硬化性成分は、上記のような硬化がそれぞれ適切な熱の付加または活性エネルギー線の照射によって誘導される成分を意味することができる。上記で「活性エネルギー線」の範疇には、マイクロ波（ｍｉｃｒｏｗａｖｅｓ）、赤外線（ＩＲ）、紫外線（ＵＶ）、Ｘ線及びガンマ線はもちろん、アルファ−粒子線（ａｌｐｈａ−ｐａｒｔｉｃｌｅ  ｂｅａｍ）、プロトンビーム（ｐｒｏｔｏｎ  ｂｅａｍ）、中性子ビーム （ｎｅｕｔｒｏｎ  ｂｅａｍ）または電子線（ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｂｅａｍ）のような粒子ビームが含まれることができ、通常的には、紫外線または電子線などが使用されることができる。
【００６１】
熱硬化性成分を含む粘着剤組成物で形成された粘着剤層は、多官能性架橋剤により架橋された状態のアクリル重合体を含むことができる。
【００６２】
多官能性架橋剤により架橋されるアクリル重合体としては、例えば、重量平均分子量（Ｗｅｉｇｈｔ  Ａｖｅｒａｇｅ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｗｅｉｇｈｔ）が５０万以上のアクリル重合体を使用することができる。本明細書において重量平均分子量は、ＧＰＣ（Ｇｅｌ  Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈ）で測定された標準ポリスチレンに対する換算数値である。また、本明細書においては、特に別途規定しない限り、用語「分子量」は、「重量平均分子量」を意味する。重合体の分子量を５０万以上にして、苛酷条件下で優れた耐久性を有する粘着剤層を形成することができる。上記分子量の上限は、特に限定されず、例えば、耐久性や、組成物のコーティング性を考慮して、２５０万以下の範囲で調節することができる。
【００６３】
１つの例示で上記アクリル重合体は、（メタ）アクリル酸エステル単量体及び架橋性単量体を重合単位で含む重合体であることができる。
【００６４】
（メタ）アクリル酸エステル系単量体としては、例えばアルキル（メタ）アクリレートを使用することができ、粘着剤の凝集力、ガラス転移温度または粘着性を考慮して、炭素数が１〜２０のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを使用することができる。このような単量体としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート及びテトラデシル（メタ）アクリレートなどが例示されることができ、上記のうち一種または二種以上が使用されることができる。
【００６５】
上記重合体は、また、架橋性単量体を重合単位でさらに含むことができる。上記重合体は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル単量体８０重量部〜９９．９重量部及び架橋性単量体０．１重量部〜２０重量部を重合単位で含むことができる。上記で「架橋性単量体」は、アクリル重合体を形成する他の単量体と共重合されることができ、共重合後に重合体に架橋性官能基を提供することができる単量体を意味する。上記架橋性官能基は、後述する多官能性架橋剤と反応して架橋構造を形成することができる。
【００６６】
架橋性官能基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基またはアミノ基のような窒素含有官能基などが例示されることができる。粘着樹脂の製造時に上記のような架橋性官能基を付与することができる共重合性単量体は、多様に公知されている。架橋性単量体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチレングリコール（メタ）アクリレートまたは２−ヒドロキシプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどのようなヒドロキシ基含有単量体；（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシ酢酸、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピオン酸、４−（メタ）アクリロイルオキシ酪酸、アクリル酸二量体、イタコン酸、マレイン酸及びマレイン酸無水物などのカルボキシル基含有単量体または（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドンまたはＮ−ビニルカプロラクタムなどの窒素含有単量体などが例示されることができ、上記のうち１種または２種以上の混合を使用することができるが、これに限定されるものではない。
【００６７】
上記アクリル重合体には、必要に応じて他の多様な単量体が重合単位で含まれてもよい。
【００６８】
例えば、アクリル重合体は、下記化学式３で表示される化合物を重合単位でさらに含むことができる。
【００６９】
［化学式３］
【化３】
0005850585.tif 000004
【００７０】
上記化学式３でＲは、水素またはアルキル基を示し、Ａは、アルキレン基またはアルキリデン基を示し、Ｒ１６は、アルキル基またはアリール基を示し、ｎは、１〜６の数を示す。
【００７１】
上記化学式３の化合物は、例えば、粘着剤層が後述する活性エネルギー線成分の架橋構造を含むとき、上記架橋構造と熱硬化性成分の架橋構造の相溶性を高め、粘着剤層の物性が適正範囲に維持されるようにするのに有用であることができる。
【００７２】
本明細書で用語「アリール基」は、特に別途規定しない限り、ベンゼンを含むかまたは２個以上のベンゼンが縮合されるか結合されている構造を含む化合物またはその誘導体から由来する１価残基を意味することができる。上記アリール基は、例えば、炭素数６〜２２、好ましくは、炭素数６〜１６、より好ましくは、炭素数６〜１３のアリール基であることができ、例えば、フェニル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、ベンジル基、トリル基、キシリル基（ｘｙｌｙｌ  ｇｒｏｕｐ）またはナフチル基などであることができる。
【００７３】
上記化学式３でｎは、より好ましくは、１〜２５、さらに好ましくは、１〜１５、より好ましくは、１〜６であることができる。
【００７４】
上記化学式３の単量体としては、アルコキシアルキレングリコール（メタ）アクリル酸エステル、アルコキシジアルキレングリコール（メタ）アクリル酸エステル、アルコキシトリアルキレングリコール（メタ）アクリル酸エステル、アルコキシテトラアルキレングリコール（メタ）アクリル酸エステル、アルコキシポリエチレングリコール（メタ）アクリル酸エステル、フェノキシアルキレングリコール（メタ）アクリル酸エステル、フェノキシジアルキレングリコール（メタ）アクリル酸エステル、フェノキシトリアルキレングリコール（メタ）アクリル酸エステル、フェノキシテトラアルキレングリコール（メタ）アクリル酸エステルまたはフェノキシポリアルキレングリコール（メタ）アクリル酸エステルなどが例示されることができる。
【００７５】
化学式３の化合物が含まれる場合、その比率は、目的によって適切に調節されることができ、例えば、他の単量体の重量に対して１０重量部〜５０重量部で含まれることができる。
【００７６】
上記重合体は、上記以外にも、例えば、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミドまたはＮ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミドのような窒素含有単量体；スチレンまたはメチルスチレンのようなスチレン系単量体；グリシジル（メタ）アクリレート；またはビニルアセテートのようなカルボキシル酸ビニルエステルなどのような任意の単量体を重合単位でさらに含むこともできる。このような追加的な単量体ドルは、全体重量比率が他の単量体に対して２０重量部以下の範囲で調節されることができる。
【００７７】
アクリル重合体は、前述の各成分を必要に応じて選択及び配合した単量体の混合物を溶液重合、光重合、塊状（ｂｕｌｋ）重合、懸濁（ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ）重合または乳化（ｅｍｕｌｓｉｏｎ）重合のような重合方式に適用して製造することができる。
【００７８】
粘着剤層内で上記のようなアクリル重合体を架橋させている多官能性架橋剤としては、イソシアネート架橋剤、エポキシ架橋剤、アジリジン架橋剤及び金属キレート架橋剤のような一般的な熱硬化性架橋剤が例示されることができる。上記でイソシアネート架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソボロンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネートまたはナフタレンジイソシアネートなどの多官能性イソシアネート化合物であるか、または上記多官能性イソシアネート化合物をトリメチロールプロパンなどのようなポリオール化合物と反応させた化合物などが例示されることができる。エポキシ架橋剤としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、Ｎ、Ｎ、Ｎ'、Ｎ'−テトラグリシジルエチレンジアミン及びグリセリンジグリシジルエーテルよりなる群から選択された１つ以上が例示されることができ、アジリジン架橋剤としては、Ｎ、Ｎ'−トルエン−２、４−ビス（１−アジリジンカルボキサミド）、Ｎ、Ｎ'−ジフェニルメタン−４、４'−ビス（１−アジリジンカルボキサミド）、トリエチレンメラミン、ビスイソフタロイル−１−（２−メチルアジリジン）及びトリ−１−アジリジニルホスフィンオキシドよりなる群から選択された１つ以上が例示されることができ、金属キレート架橋剤としては、アルミニウム、鉄、亜鉛、錫、チタン、アンチモン、マグネシウムまたはバナジウムのような多価金属がアセチルアセトンまたはアセト酢酸エチルなどに配位している化合物なとが例示されることができるが、これに限定されるものではない。
【００７９】
熱硬化性成分を含む粘着剤組成物または該組成物で形成された粘着剤層内に、上記多官能性架橋剤は、例えば、上記アクリル重合体１００重量部に対して０．０１重量部〜１０重量部または０．０１重量部〜５重量部で含まれてもよい。架橋剤の比率を０．０１重量部以上に調節し、粘着剤の凝集力を効果的に維持し、また、１０重量部以下に調節すれば、粘着界面で層間剥離や浮き上り現象が発生する現象を防止し、耐久性を優秀に維持することができる。しかし、上記比率は、目的する弾性率などの物性や、粘着剤層などに他の架橋構造の包含有無などによって変更されることができる。
【００８０】
活性エネルギー線硬化性成分を含む粘着剤組成物で形成された粘着剤層は、重合された活性エネルギー線重合性化合物の架橋構造を含むことができる。上記粘着剤層は、例えば、活性エネルギー線の照射によって重合反応に参加することができる官能基、例えば、アルケニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などを１つ以上含む化合物を配合して粘着剤組成物を製造した後、該組成物に活性エネルギー線を照射し、上記成分を架橋及び重合させることによって形成することができる。上記で活性エネルギー線の照射によって重合反応に参加することができる官能基を有する化合物の例としては、上記アクリル重合体の側鎖にアクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの官能基を導入した重合体；ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートまたはポリエーテルアクリレートなどのように当業界においていわゆる活性エネルギー線硬化型オリゴマーとして知られている化合物または後述する多官能性アクリレートなどが例示されることができる。
【００８１】
熱硬化性成分及び活性エネルギー線硬化性成分を含む粘着剤組成物で形成された粘着剤層は、上記多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造及び上記重合された活性エネルギー線重合性化合物の架橋構造を同時に含むことができる。
【００８２】
このような粘着剤層は、いわゆる相互浸透高分子ネットワーク（Ｉｎｔｅｒｐｅｎｅｔｒａｔｉｎｇ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｎｅｔｗｏｒｋ；以下、「ＩＰＮ」）を含む粘着剤である。用語「ＩＰＮ」は、粘着剤層内に少なくとも２個以上の架橋構造が存在する状態を意味することができ、１つの例示において、上記架橋構造は、互いに絡んでいる状態（ｅｎｔａｎｇｌｅｍｅｎｔ）、または連結（ｌｉｎｋｉｎｇ）または浸透（ｐｅｎｅｔｒａｔｉｎｇ）している状態で存在することができる。粘着剤層がＩＰＮを含む場合、苛酷条件で耐久性に優れていて、また、作業性や、光漏れまたはクロストークの抑制能に優れた光学素子が具現されることができる。
【００８３】
ＩＰＮを含む粘着剤層には、上記多官能性架橋剤により架橋されたアクリル重合体によって具現される架橋構造の多官能性架橋剤及びアクリル重合体としては、例えば上記熱硬化性成分を含む粘着剤組成物の項目で記述した成分が使用されることができる。
【００８４】
また、重合された活性エネルギー線重合性化合物の架橋構造の上記活性エネルギー線重合性化合物としては、やはり上記記述した化合物が使用されることができる。
【００８５】
１つの例示において、上記活性エネルギー線重合性化合物は、多官能性アクリレートであることができる。多官能性アクリレートとしては、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物なら、限定なしに使用することができる。例えば、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペート（ｎｅｏｐｅｎｔｙｌｇｌｙｃｏｌ  ａｄｉｐａｔｅ）ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバル酸（ｈｙｄｒｏｘｙｌ  ｐｕｉｖａｌｉｃ  ａｃｉｄ）ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（ｄｉｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｎｙｌ）ジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレート、アリル（ａｌｌｙｌ）化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ヘキサヒドロフタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチルプロパンジ（メタ）アクリレート、アダマンタン（ａｄａｍａｎｔａｎｅ）ジ（メタ）アクリレートまたは９、９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル）フルオレン（ｆｌｕｏｒｉｎｅ）などのような２官能型アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、３官能型ウレタン（メタ）アクリレートまたはトリス（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレートなどの３官能型アクリレート；ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレートまたはペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどの４官能型アクリレート；プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどの５官能型アクリレート；及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートまたはウレタン（メタ）アクリレート（例えば、イソシアネート単量体及びトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートの反応物など）の６官能型アクリレートなどが使用されることができる。
【００８６】
多官能性アクリレートとしては、分子内に環状構造を含むものを使用することができる。多官能性アクリレートに含まれる環状構造は、炭素環式構造または複素環式構造；または単環式または多環式構造のいずれを使用してもよい。環状構造を含む多官能性アクリレートとしては、トリス（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌレート構造を有する単量体及びイソシアネート変性ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、イソシアネート単量体及びトリメチルロールプロパントリ（メタ）アクリレートの反応物など）などの６官能型アクリレートなどが例示されることができるが、これに限定されるものではない。
【００８７】
ＩＰＮを含む粘着剤層内で上記架橋構造を形成している活性エネルギー線重合性化合物は、例えば、上記アクリル重合体１００重量部に対して、５重量部〜４０重量部で含まれることができるが、これは、必要に応じて変更されることができる。
【００８８】
上記粘着剤層には、前述した成分にさらにこの分野において公知されている多様な添加剤が含まれてもよい。
【００８９】
例えば、活性エネルギー線硬化性成分を含む組成物の場合、上記成分の重合反応などを促進するための光開始剤などをさらに含むことができる。また、上記粘着剤層は、シランカップリング剤、粘着性付与樹脂、エポキシ樹脂、硬化剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、調色剤、補強剤、充填剤、消泡剤、界面活性剤及び可塑剤よりなる群から選択された１つ以上の添加剤をさらに含むことができる。
【００９０】
上記粘着剤層は、例えば、上記記述した各成分を配合して製造された粘着剤組成物をバーコーターまたはコンマコーターなどの手段で塗布し、硬化させる方式を使用することができる。また、粘着剤組成物を硬化させる方法は、特に限定されるものではなく、例えば、アクリル重合体及び多官能性架橋剤の架橋反応が進行され得るように適正温度で組成物を維持する方式と活性エネルギー線硬化性化合物の重合が可能となるように活性エネルギー線を照射する工程により硬化させることができる。適正温度での維持及び活性エネルギー線の照射が同時に要求される場合、上記工程は、順次または同時に進行されることができる。上記で活性エネルギー線の照射は、例えば、高圧水銀ランプ、無電極ランプまたはキセノンランプ（ｘｅｎｏｎ  ｌａｍｐ）などを使用して行うことができ、照射される活性エネルギー線の波長や光量などの条件は、上記活性エネルギー線硬化型化合物の重合が適切に行われることができる範囲で選択されることができる。
【００９１】
上記光学素子で上記第１または第２粘着剤層は、上記記述した類型の粘着剤のうち適切な種類を選択して形成することができる。１つの例示で上記第２粘着剤層は、少なくとも上記ＩＰＮを含む粘着剤層であることができ、上記第１粘着剤層は、熱硬化型成分の架橋構造、すなわち多官能性架橋剤により架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造を有する粘着剤層であるか、または上記ＩＰＮを含む粘着剤層であることができる。
【００９２】
第１または第２粘着剤層の貯蔵弾性率及び種類は、光学素子の具体的な構造によってさらに適切な種類が選択されることができる。
【００９３】
１つの例示で上記光学素子は、位相遅延層が上記液晶層が上部に形成される基材層をさらに含み、また、上記基材層に第３粘着剤層で付着されている保護基材層をさらに含むことができる。
【００９４】
図６は、上記構造の光学素子５の例示的な模式図であり、液晶層１１が上部に形成される基材層４１に第３粘着剤層１２３で保護基材層５１が付着されている構造を示す。このような構造の光学素子６は、例えば、図７のように、上記保護基材層５１の表面に形成される、後述するような表面処理層６１をさらに含むことができる。
【００９５】
上記で液晶層１１が形成される基材層４１としては、既に記述したような基材層が使用されることができ、保護基材層５１として、上記基材層４１と同一の範疇内で選択される基材層が使用されることができる。
【００９６】
上記構造で第２粘着剤層１２２は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ以上、０．０５ＭＰａ以上または０．０８ＭＰａ超過であるか、０．０８ＭＰａを超過し０．２５ＭＰａ以下の範囲、０．０９ＭＰａ〜０．２ＭＰａまたは０．０９ＭＰａ〜０．１６ＭＰａである粘着剤層であることができる。上記第２粘着剤層は、上記ＩＰＮを含む粘着剤層であることができる。
【００９７】
また、上記構造で第１粘着剤層は、上記熱硬化性成分の架橋構造を含む粘着剤層またはＩＰＮを含む粘着剤層であることができる。上記第１粘着剤層は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ以上、０．０５ＭＰａ以上または０．０８ＭＰａ超過であることができる。また、第１粘着剤層が熱硬化性成分の架橋構造を含む粘着剤層なら、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ〜０．０８ＭＰａまたは０．０４ＭＰａ〜０．０８ＭＰａの範囲で調節され、ＩＰＮを含む粘着剤層なら、２５℃での貯蔵弾性率が０．０８ＭＰａを超過し０．２５ＭＰａ以下の範囲、０．０９ＭＰａ〜０．２ＭＰａまたは０．０９ＭＰａ〜０．１６ＭＰａである範囲で調節されることができる。
【００９８】
上記で第３粘着剤層１２３は、上記第１または第２粘着剤層１２１、１２２と同一の範疇の貯蔵弾性率及び架橋成分を有する粘着剤が使用されることができる。
【００９９】
１つの例示で上記第３粘着剤層１２３としては、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ以上、０．０５ＭＰａ以上または０．０８ＭＰａ超過であるか、０．０８ＭＰａを超過し０．２５ＭＰａ以下の範囲、０．０９ＭＰａ〜０．２ＭＰａまたは０．０９ＭＰａ〜０．１６ＭＰａである粘着剤層であり、ＩＰＮを含む粘着剤層が使用されることができる。
【０１００】
他の例示で上記光学素子は、上記液晶層が上部に形成される基材層をさらに含み、また、上記基材層の表面に形成された表面処理層を含む構造であることができる。
【０１０１】
図８は、上記構造の光学素子７の例示的な模式図であり、液晶層１１が上部に形成される基材層４１と、基材層４１の表面に形成された表面処理層６１を含む構造を示す。
【０１０２】
このような構造で上記第２粘着剤層は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ以上、０．０５ＭＰａ以上または０．０８ＭＰａ超過であるか、０．０８ＭＰａを超過し０．２５ＭＰａ以下の範囲、０．０９ＭＰａ〜０．２ＭＰａまたは０．０９ＭＰａ〜０．１６ＭＰａである粘着剤層であることができ、上記第１粘着剤層は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ〜０．０８ＭＰａまたは０．０４ＭＰａ〜０．０８ＭＰａである粘着剤層であることができる。上記で第２粘着剤層は、上記ＩＰＮを含む粘着剤層であり、第１粘着剤層は、上記熱硬化性成分の架橋構造を含む粘着剤層であることができる。
【０１０３】
上記光学素子で上記保護基材層または液晶層が形成される基材層の表面には、前述したように表面処理層が形成されていてもよい。
【０１０４】
表面処理層としては、高硬度層、ＡＧ（Ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ）層またはＳＧ（Ｓｅｍｉ−ｇｌａｒｅ）層のような眩しさ防止層またはＡＲ（Ａｎｔｉ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層またはＬＲ（Ｌｏｗ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層のような低反射層などが例示されることができる。
【０１０５】
上記表面処理層は、基材層の１つの主表面または両方の主表面に形成されているか、必要な場合には、基材層の側面を含んだ全体表面に行われていてもよい。
【０１０６】
上記高硬度層は、５００ｇの荷重下での鉛筆硬度が１Ｈ以上または２Ｈ以上の層であることができる。上記鉛筆硬度は、例えば、ＫＳ  Ｇ２６０３で規定された鉛筆心を使用してＡＳＴＭ  Ｄ  ３３６３規格によって測定することができる。
【０１０７】
上記高硬度層は、例えば、高硬度の樹脂層であることができる。上記樹脂層は、例えば、常温硬化型、湿気硬化型、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化された状態で含むことができ、１つの例示では、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化された状態で含むことができる。高硬度層の説明で「硬化された状態」というのは、上記各樹脂組成物に含まれる成分が架橋反応または重合反応などを経て樹脂組成物がハード（ｈａｒｄ）状態に転換された場合を意味することができる。また、上記で常温硬化型、湿気硬化型、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、上記硬化状態が常温下で誘導されるか、あるいは、適切な湿気の存在下、熱の印加または活性エネルギー線の照射によって誘導されることができる組成物を意味することができる。
【０１０８】
この分野では、硬化された状態で前述した範囲の鉛筆硬度を満たすことができる多様な樹脂組成物が知られていて、平均的技術者は、適合な樹脂組成物を容易に選択することができる。
【０１０９】
１つの例示で、上記樹脂組成物は、主材としてアクリル化合物、エポキシ化合物、ウレタン系化合物、フェノール化合物またはポリエステル化合物などを含むことができる。上記で「化合物」は、単量体性、オリゴマー性または重合体性化合物であることができる。
【０１１０】
１つの例示では、上記樹脂組成物として、透明性などの光学的特性に優れていて、黄変などに対する抵抗性が優れたアクリル樹脂組成物、好ましくは、活性エネルギー線硬化型アクリル樹脂組成物を使用することができる。
【０１１１】
活性エネルギー線硬化型アクリル組成物は、例えば、活性エネルギー線重合性の重合体成分と反応性希釈用単量体を含むことができる。
【０１１２】
上記で重合体成分としては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、エーテルアクリレートまたはエステルアクリレートなどのように当業界でいわゆる活性エネルギー線重合性オリゴマーとして知られた成分であるか、または（メタ）アクリル酸エステル単量体などのような単量体を含む混合物の重合物が例示されることができる。上記で（メタ）アクリル酸エステル単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート、芳香族基を有する（メタ）アクリレート、ヘテロシクリック（メタ）アクリレートまたはアルコキシ（メタ）アクリレートなどが例示されることができる。この分野では、活性エネルギー線硬化型組成物を製造するための多様な重合体成分が知られていて、上記のような化合物が必要に応じて選択されることができる。
【０１１３】
活性エネルギー線硬化型アクリル組成物に含まれることができる、反応性希釈用単量体としては、活性エネルギー線硬化型官能基、例えば、アクリロイル基またはメタクリロイル基などを１つまたは２つ以上有する単量体が例示されることができ、例えば、上記（メタ）アクリル酸エステル単量体や多官能性アクリレートなどが使用されることができる。上記で多官能性アクリレートとしては、上記粘着剤項目で記述した化合物のうち適切な種類が選択されることができる。
【０１１４】
活性エネルギー線硬化型アクリル組成物を製造するための上記成分の選択や選択された成分の配合比率などは、特に限定されず、目的する樹脂層の硬度及びその他物性を考慮して調節されることができる。
【０１１５】
上記ＡＧ（Ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ）層またはＳＧ（Ｓｅｍｉ−ｇｌａｒｅ）層としては、例えば、凹凸面が形成されている樹脂層または粒子を含む樹脂層であって、上記粒子が上記樹脂層とは異なる屈折率を有する粒子である樹脂層を使用することができる。
【０１１６】
上記樹脂層としては、例えば、上記高硬度層の形成に使用する樹脂層を使用することができる。眩しさ防止層を形成する場合には、樹脂層が必ず高硬度を示すことができるように樹脂組成物の成分を調節する必要はないが、高硬度を示すことができるように樹脂層を形成してもよい。
【０１１７】
上記で樹脂層に凹凸面を形成する方式は、特に限定されない。例えば、上記樹脂組成物のコーティング層を目的する凹凸構造を有する金型と接触させた状態で上記樹脂組成物を硬化させるか、あるいは、樹脂組成物に適切な粒径の粒子を配合し、コーティング及び硬化させて凹凸構造を具現することができる。
【０１１８】
上記眩しさ防止層は、また、樹脂層とは屈折率が異なる粒子を使用して具現することもできる。
【０１１９】
１つの例示で上記粒子は、例えば、樹脂層との屈折率の差が０．０３以下または０．０２〜０．２であることができる。屈折率の差が過度に小さければ、ヘイズを誘発しにくいし、反対に過度に大きくなれば、樹脂層内で光の散乱が多く発生し、ヘイズを増加させるが、光透過度またはコントラスト特性などの低下が誘導されることができるので、これを考慮して適切な粒子を選択することができる。
【０１２０】
樹脂層に含まれる粒子の形状は、特に限定されず、例えば、球形、卵円形、多面体形、無定形またはそのほか他の形状を有することができる。上記粒子は、平均直径が５０ｎｍ〜５，０００ｎｍであることができる。１つの例示では、上記粒子として、表面に凹凸が形成されている粒子を使用することができる。このような粒子は、例えば、平均表面粗さＲｚが１０ｎｍ〜５０ｎｍまたは２０ｎｍ〜４０ｎｍであるか、及び／または表面に形成された凹凸の最大高さが約１００ｎｍ〜５００ｎｍまたは２００ｎｍ〜４００ｎｍであり、凹凸間の幅が４００ｎｍ〜１，２００ｎｍまたは６００ｎｍ〜１，０００ｎｍであることができる。このような粒子は、樹脂層との相溶性やその内部での分散性に優れている。
【０１２１】
上記粒子としては、多様な無機または有機粒子が例示されることができる。無機粒子としては、シリカ、非結晶質チタニア、非結晶質ジルコニア、インジウムオキシド、アルミナ、非結晶質亜鉛オキシド、非結晶質セリウムオキシド、バリウムオキシド、カルシウムカーボネート、非結晶質バリウムチタネートまたはバリウムスルフェートなどが例示されることができ、有機粒子としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシ樹脂またはシリコーン樹脂などの有機系素材の架橋物または非架橋物を含む粒子が例示されることができるが、これに限定されるものではない。
【０１２２】
樹脂層に形成される上記凹凸構造または上記粒子の含量は、特に限定されない。上記凹凸構造の形状または上記粒子の含量は、例えば、ＡＧ層の場合、上記樹脂層のヘイズ（ｈａｚｅ）が約５％〜１５％、７％〜１３％または約１０％などになるように調節され、ＳＧ層の場合、ヘイズが約１％〜３％程度になるように調節されることができる。上記ヘイズは、例えば、SEPUNG社のＨＲ−１００またはＨＭ−１５０などのようなヘーズメータ（ｈａｚｅｍｅｔｅｒ）を使用して製造社のマニュアルによって測定することができる。
【０１２３】
ＡＲ（ａｎｔｉ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層やＬＲ（ｌｏｗ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層のような低反射層は、低屈折物質をコーティングして形成することができる。低反射層を形成することができる低屈折物質は、多様に知られていて、これは、いずれも上記光学素子に適切に選択されて使用されることができる。低反射層は、低屈折物質のコーティングを通じて反射率が約１％以下になるように形成することができる。
【０１２４】
上記表面処理層の形成には、また、韓国公開特許第２００７−０１０１００１号、第２０１１−００９５４６４号、第２０１１−００９５００４号、第２０１１−００９５８２０号、第２０００−００１９１１６号、第２０００−０００９６４７号、第２０００−００１８９８３号、第２００３−００６８３３５号、第２００２−００６６５０５号、第２００２−０００８２６７号、第２００１−０１１１３６２号、第２００４−００８３９１６号、第２００４−００８５４８４号、第２００８−０００５７２２号、第２００８−００６３１０７号、第２００８−０１０１８０１号または第２００９−００４９５５７号などで公知された素材も使用されることができる。
【０１２５】
上記表面処理層は、単独で形成されるか、あるいは、２個以上が組合されて形成されることもできる。組合の例としては、基材層の表面にまず高硬度層を形成し、該表面にさらに低反射層を形成する場合が例示されることができる。
【０１２６】
上記光学素子は、また、下記一般式１の条件を満たすことができる。
【０１２７】
［一般式１］
Ｘ＝２００ｎｍ
【０１２８】
上記一般式１でＸは、上記光学素子を上記第２粘着剤層を媒介でガラス基板に付着し、６０℃及び１０％の相対湿度で１５０時間、３００時間または５００時間維持した後に測定した上記光学素子の横または縦長さの変化量である。
【０１２９】
上記Ｘは、また、１７０ｎｍ以下、１５０ｎｍ以下、１３０ｎｍ以下、１１０ｎｍ以下、９０ｎｍ以下、７０ｎｍ以下、５０ｎｍ以下または４０ｎｍ以下であることができる。上記Ｘは、その数値が低いほど光学素子が優れた耐久性及び寸法安定性を有することを意味するので、下限は、特に限定されない。
【０１３０】
本発明は、また、立体映像表示装置に関する。例示的な立体映像表示装置は、上記記述した光学素子を含むことができる。
【０１３１】
１つの例示で上記立体映像表示装置は、左眼用映像信号（以下、Ｌ信号）と右眼用映像信号（以下、Ｒ信号）を生成することができる映像表示素子をさらに含み、上記光学素子は、上記液晶層の第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、上記Ｌ信号が透過されることができ、他方の領域は、上記Ｒ信号が透過されることができるように配置された状態で上記第２粘着剤層で上記表示素子に付着していてもよい。
【０１３２】
上記で光学素子は、Ｒ及びＬ信号が表示素子から出射され、上記光学素子の偏光板を先に透過した後、さらに上記液晶層の各領域に入射されるように配置されていてもよい。
【０１３３】
立体映像表示装置は、上記光学素子を光分割素子として含む限り、この分野で公知された多様な方式がすべて適用されて製造されることができる。
【０１３４】
図９は、１つの例示的な上記装置として、観察者が偏光メガネを着用し立体映像を観察することができる装置を例示的に表示する。
【０１３５】
図９に示されたように、上記装置８は、例えば、光源８１、偏光板８２及び上記映像表示素子８３を含み、第２粘着剤層１２２、偏光板１３、第１粘着剤層１２１及び液晶層を含む位相差層１１を順に含む光学素子が上記第２粘着剤層１２２で上記表示素子８３に付着されている構造であることができる。
【０１３６】
上記で光源８１としては、例えば、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）などで一般的に使用される直下型またはエッジ型バックライトを使用することができる。
【０１３７】
上記表示素子８３は、行、列または行列方向に配列されている複数の単位画素を含む透過型液晶表示パネルであることができる。上記画素は、１つまたは２個以上で組合されてＲ信号を生成する右眼用映像信号生成領域（以下、ＲＧ領域）とＬ信号を生成する左眼用映像信号生成領域（以下、ＬＧ領域）を形成することができる。
【０１３８】
上記ＲＧ及びＬＧ領域は、図１０のようにそれぞれ共通方向に延長されるストライプ状を有しながら互いに隣接して交互に配置されているか、図１１のように格子パターンを成しながら互いに隣接して交互に配置されていてもよい。上記光学素子の液晶層１１で上記第１及び第２領域は、それぞれＬＣまたはＲＣ領域として上記ＲＧ及びＬＧ領域の配置形態を考慮してＲＧ領域で伝達されるＲ信号は、偏光板１３を経てＲＣ領域に入射され、Ｌ信号は、偏光板１３を経てＬＣ領域に入射されることができるように配置されていてもよい。
【０１３９】
映像表示素子８３は、例えば光源８１側方向から順に配置された第１透明基板、画素電極、第１配向膜、液晶層、第２配向膜、共通電極、カラーフィルタ及び第２透明基板などを含む液晶パネルであることができる。上記パネルの光入射側、すなわち光源８１側には、偏光板８２が付着されていて、その反対側には、上記光学素子が付着されていてもよい。偏光板８２に含まれる偏光子と上記光学素子の偏光板１３に含まれる偏光子は、例えば両方の吸収軸が互いに所定の角度、例えば９０度を成すように配置されていてもよい。これにより、光源８１から射出される表示素子８３を経て透過するか、あるいは、遮断されるようにすることができる。
【０１４０】
駆動状態で表示装置８の光源８１から無偏光された光が偏光板８２側に出射されることができる。偏光板８２に入射された光のうち、上記偏光板８２の偏光子の光透過軸と平行な方向に偏光軸を有する光は、偏光板８２を透過し、表示素子８３に入射されることができる。表示素子８３に入射され、ＲＧ領域を透過した光は、Ｒ信号となり、ＬＧ領域を透過した光は、Ｌ信号となり、光学素子の偏光板１３に入射される。
【０１４１】
偏光板１３を経て液晶層１１に入射された光のうちＬＣ領域を透過した光とＲＣ領域を透過した光は、互いに異なる偏光状態を有する状態でそれぞれ排出される。このように互いに異なる偏光状態を有するようになったＲ信号とＬ信号は、偏光メガネを着用している観察者の右眼及び左眼にそれぞれ入射されることができ、これにより、観察者は、立体映像を観察することができる。
【発明の効果】
【０１４２】
本発明の例示的な光学素子は、優れた耐久性、硬度特性及び再作業性を示す。したがって、上記光学素子に含まれる位相遅延層の位相遅延特性は、長期間そして苛酷な条件下でも安定的に維持され、安定的な光分割特性を示すことができる。また、光学素子が適用された光学機器で光漏れなどのような副作用も防止されることができる。また、光学素子は、外部の圧力やスクラックなどに対して優れた抵抗性を示すことができる。
【図面の簡単な説明】
【０１４３】
【図１】光学素子を例示的に示す図である。
【図２】光学素子で第１及び第２領域の配置を例示的に示す図である。
【図３】光学素子で第１及び第２領域の配置を例示的に示す図である。
【図４】第１及び第２領域の光軸の配置を説明するための例示的な図である。
【図５】光学素子を例示的に示す図である。
【図６】光学素子を例示的に示す図である。
【図７】光学素子を例示的に示す図である。
【図８】光学素子を例示的に示す図である。
【図９】立体映像表示装置を例示的に示す図である。
【図１０】ＲＧ領域とＬＧ領域の配置を示す模式的な図である。
【図１１】ＲＧ領域とＬＧ領域の配置を示す模式的な図である。
【発明を実施するための形態】
【０１４４】
以下、実施例及び比較例を通じて上記光学素子をさらに詳しく説明するが、上記光学素子の範囲が下記提示された実施例によって限定されるものではない。
【０１４５】
本実施例及び比較例で粘着剤層などの物性は、下記方式で評価した。
１．貯蔵弾性率の評価
粘着剤層を１５ｃｍ×２５ｃｍ×２５μｍ（横×縦×厚さ）のサイズに切断し、切断された粘着剤層を５層で積層させる。次いで、積層された粘着剤層を直径が８ｍｍである円形に切断した後、ガラス（ｇｌａｓｓ）を利用して、圧縮した状態で、一晩放置し、各層間の界面でのｗｅｔｔｉｎｇを向上させることによって、積層時に生じた気泡を除去し、試料を製造する。次いで、試料をパラレルプレート（ｐａｒａｌｌｅｌ  ｐｌａｔｅ）上に載置し、ギャップ（ｇａｐ）を調整した後、Ｎｏｒｍａｌ  ＆  Ｔｏｒｑｕｅの零点を合わせ、Ｎｏｒｍａｌ  ｆｏｒｃｅの安定化を確認した後、下記条件で貯蔵弾性率を測定する。
【０１４６】
［測定機器及び測定条件］
測定機器:ARES-RDA、TA Instruments Inc. with forced convection oven
測定条件:
geometry:8mm parallel plate
gap:around 1mm
test type:dynamic strain frequency sweep
strain=10.0[%]、temperature:30℃
initial frequency:0.4rad/s、final frequency:100rad/s
【０１４７】
２．位相差及び屈折率の評価
光学素子または液晶層の位相差及び屈折率の評価は、Ａｘｏｍａｔｒｉｘ社のＡｘｏｓｃａｎを利用して製造社のマニュアルによって測定した。
【０１４８】
３．厚さ及び光学素子の横または縦長さの評価
光学素子の横または縦長さの測定は、３次元測定器であるインテックＩＭＳ社のＰｒｅｍｉｕｍ  ６００Ｃ及びＩＶｉｅｗ  Ｐｒｏプログラムを使用して測定した。また、厚さの測定は、薄膜表面で反射光と下部の界面で反射される光間の干渉現象または光の位相差を利用して薄膜の特性を評価することができる装備であるｓｐｅｃｔｒａｌ  ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｅｒを利用して測定した。
【０１４９】
４．クロストーク評価
立体映像の観察時にクロストーク率は、暗状態（Ｄａｒｋ  ｓｔａｔｅ）と明状態（Ｂｒｉｇｈｔ  ｓｔａｔ）での輝度の比率として定義されることができる。実施例及び比較例では、上記光学素子が偏光メガネ方式の立体映像表示装置に適用された場合を想定して、クロストーク率は、下記方式で測定する。光学素子を使用して図９に示されたような立体映像表示装置を構成する。その後、立体映像表示装置の通常の観測地点に立体映像観察用偏光メガネを位置させる。上記で通常の観測地点は、観察者が立体映像を観察する場合、立体映像表示装置の中央から上記立体映像表示装置の水平方向の長さの３／２倍に該当する距離だけ離れた地点であり、このような位置で偏光メガネは、観察者が表示装置の中央を観察することを仮定して、位置させる。上記で、立体映像表示装置の水平方向の長さは、観察者が立体映像を観察する状態を仮定するとき、上記観察者を基準にした水平方向の長さ、例えば、映像表示装置の横の長さであることができる。上記のような配置で、立体映像表示装置がＬ信号を出力するようにした状態で偏光メガネの左眼用及び右眼用レンズの背面に輝度計（装備名：ＳＲ−ＵＬ２  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ）を配置し、それぞれの場合の輝度を測定する。上記で左眼用レンズの背面で測定される輝度は、明状態の輝度であり、右眼用レンズの背面で測定される輝度は、暗状態の輝度である。各輝度を測定した後、明状態の輝度に対する暗状態の輝度の比率（［暗状態の輝度］／［明状態の輝度］）を百分率で求め、これをクロストーク率（Ｙ）として規定することができる。また、クロストーク率は、上記と同一の方式で測定するが、立体映像表示装置がＲ信号を出力している状態で明及び暗状態での輝度を求めて測定することができる。この場合、左眼用レンズの背面で測定される輝度は、暗状態の輝度であり、右眼用レンズの背面で測定される輝度は、明状態の輝度であり、同一にその比率を百分率で求め、クロストーク率として規定することができる。
【０１５０】
［製造例１．アクリル重合体Ａの製造］
窒素ガスが還流され、温度調節が容易になるように冷却装置を設置した１Ｌ反応器にｎ−ブチルアクリレート（ｎ−ＢＡ）９９重量部及び２−ヒドロキシエチルアクリレート（２−ＨＥＡ）１重量部を投入した。次いで、反応器に溶剤としてＥＡｃ（ｅｔｈｙｌ  ａｃｅａｔｅ）１２０重量部を投入し、酸素除去のために窒素ガスを６０分間パージング（ｐｕｒｇｉｎｇ）した。その後、温度を６０℃に維持し、ＡＩＢＮ（ａｚｏｂｉｓｉｓｏｂｕｔｙｒｏｎｉｔｒｉｌｅ）０．０３重量部を投入し、重合反応を進行させて、分子量が１７０万であり、分子量分布が３．９であるアクリル重合体Ａを製造した。
【０１５１】
［製造例２．アクリル重合体Ｂの製造］
窒素ガスが還流され、温度調節が容易になるように冷却装置を設置した１Ｌ反応器にｎ−ブチルアクリレート（ｎ−ＢＡ）７９重量部、メトキシエチレングリコールアクリレート（ＭＥＡ）２０重量部及びヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）１．０重量部を投入し、反応を進行したことを除いて、製造例１に準じる方式で反応を進行し、分子量が１８０万であり、分子量分布が４．５であるアクリル重合体Ｂを製造した。
【０１５２】
［製造例３．粘着剤層Ａの製造］
アクリル重合体Ａ  １００重量部に対して多官能性架橋剤（Ｘｙｌｙｌｅｎｅ  Ｄｉｉｓｏｃｙａｎａｔｅ、ＸＤＩ系イソシアネート）１．０重量部を配合し、粘着剤組成物を製造した。製造された粘着剤組成物を離型処理されたＰＥＴフィルム（厚さ：３８μｍ、ＭＲＦ−３８、三菱社製）の離型処理面に乾燥後の厚さが２５μｍになるようにコーティングし、硬化が適切に起きることができるように適正温度で乾燥及び熟成させて、貯蔵弾性率が２５℃で約０．０４〜０．０６ＭＰａである粘着剤層Ａを製造した。
【０１５３】
［製造例４．粘着剤層Ｂの製造］
アクリル重合体Ｂ  １００重量部、多官能性架橋剤（Ｘｙｌｙｌｅｎｅ  Ｄｉｉｓｏｃｙａｎａｔｅ、ＸＤＩ系イソシアネート）３重量部、多官能性アクリレート（３官能性ウレタンアクリレート、Ａｒｏｎｉｘ  Ｍ−３１５、DongWoo通商製）２０重量部、光開始剤であるヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｉｒｇ１８４、スイスシバスペシャルティケミカル社製）２重量部及びβシアノアセチル基を有するシランカップリング剤（Ｍ８１２、韓国ＬＧ化学社製）０．２重量部を固形分濃度が３０重量％になるように溶剤に配合し、粘着剤組成物を製造した。その後、製造された粘着剤組成物を離型処理されたＰＥＴフィルム（厚さ：３８μｍ、ＭＲＦ−３８、三菱社製）の離型処理面に乾燥後の厚さが２５μｍになるようにコーティングし、１１０℃のオーブンで３分間乾燥させた。その後、上記乾燥したコーティング層上に離型処理されたＰＥＴフィルム（厚さ：３８μｍ、ＭＲＦ−３８、三菱社製）の離型処理面を追加にラミネートし、上記コーティング層に紫外線を照射（照度：６００ｍＷ／ｃｍ２、光量：１５０ｍＪ／ｃｍ２）し、貯蔵弾性率が２５℃で約０．１０〜０．１５ＭＰａである粘着剤層Ｂを形成した。
【０１５４】
［製造例５．位相遅延層Ａの製造］
ＴＡＣ基材（屈折率：１．４９、厚さ：８０，０００ｎｍ）の一面に光配向膜形成用組成物を乾燥後の厚さが約１，０００Åになるようにコーティングし、８０℃のオーブンで２分間乾燥させた。上記で光配向膜形成用組成物としては、下記化学式４のシンナメート基を有するポリノルボルネン（分子量（Ｍｗ）＝１５０，０００）及びアクリル単量体の混合物を光開始剤（Ｉｇａｃｕｒｅ  ９０７）と混合し、さらにその混合物をトルエン溶媒にポリノルボルネンの固形分濃度が２ｗｔ％になるように溶解させて製造した組成物を使用した（ポリノルボルネン：アクリル単量体：光開始剤＝２：１：０．２５（重量比））。
【０１５５】
［化学式４］
【化４】
0005850585.tif 000005
【０１５６】
次いで、上記乾燥した光配向膜形成用組成物を韓国特許出願第２０１０−０００９７２３号に開示された方法によって配向処理し、異なる方向に配向された第１及び第２配向領域を含む光配向膜を形成した。具体的には、上記乾燥した組成物の上部に幅が約４５０μｍであるストライプ形状の光透過部及び光遮断部が上下及び左右に交互に形成されているパターンマスクを位置させ、また、上記パターンマスクの上部には、それぞれ異なる偏光を透過させる２つの領域が形成された偏光板を位置させた。その後、上記光配向膜が形成されているＴＡＣ基材３０を約３ｍ／ｍｉｎの速度に移動させながら、上記偏光板及びパターンマスクを介して光配向膜形成用組成物に紫外線（３００ｍＷ／ｃｍ２）を約３０秒間照射し、配向処理を行った。次いで、配向処理された配向層上に液晶層を形成した。具体的には、上記光配向膜１１上に液晶化合物（ＬＣ２４２ＴＭ、ＢＡＳＦ製）を約１μｍの乾燥厚さとなるように塗布し、下部の配向層に配向によって配向させた後、紫外線（３００ｍＷ／ｃｍ２）を約１０秒間照射し、液晶を架橋及び重合させて、下部光配向膜の配向によって互いに直交する光軸を有する第１及び第２領域が形成されている液晶層を形成した。上記液晶層において遅相軸方向の屈折率と進相軸方向の屈折率の差は、約０．１２５であった。
【０１５７】
［製造例６．位相遅延層Ｂの製造］
ウレタンアクリレート１０ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）２０ｇ、平均粒径が３，５００ｎｍであり、平均表面粗さ（Ｒｚ）が３０ｎｍである有機粒子（Ｓｅｋｉｓｕｉ製）１ｇ、平均粒径が４，０００ｎｍであり、表面に最大高さが３００ｎｍであり、凹凸の幅が約８００ｎｍである有機粒子（Ｓｅｋｉｓｕｉ製）１ｇ、メチルエチルケトン３０ｇ、トルエン３８ｇ及びラジカル光開始剤２ｇを均一に混合し、樹脂組成物（コーティング液）を製造した。次いで、製造されたコーティング液を製造例５で使用したものと同一のＴＡＣ基材の一面にロールコーティング方式で乾燥後の厚さが約４，５００ｎｍになるようにコーティングし、乾燥させた。次いで、乾燥したコーティング液に紫外線を照射（２８０ｍＪ／ｃｍ２）し、硬化させて表面処理層（ＳＧ層）を形成した。その後、上記ＴＡＣ基材のＳＧ層が形成された面の反対面に製造例５と同一の方式で配向膜及び液晶層を順に形成し、位相遅延層Ｂを製造した。
【０１５８】
［製造例７．表面処理層を有する保護基材の製造］
ウレタンアクリレート１０ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）２０ｇ、平均粒径が３，５００ｎｍであり、平均表面粗さ（Ｒｚ）が３０ｎｍである有機粒子（Ｓｅｋｉｓｕｉ製）１ｇ、平均粒径が４，０００ｎｍであり、表面に最大高さが３００ｎｍであり、凹凸の幅が約８００ｎｍである有機粒子（Ｓｅｋｉｓｕｉ製）１ｇ、メチルエチルケトン３０ｇ、トルエン３８ｇ及びラジカル光開始剤２ｇを均一に混合し、樹脂組成物（コーティング液）を製造した。次いで、製造されたコーティング液を製造例５で使用したものと同一のＴＡＣ基材の一面にロールコーティング方式で乾燥後の厚さが約４，５００ｎｍになるようにコーティングし、乾燥させた。次いで、乾燥したコーティング液に紫外線を照射（２８０ｍＪ／ｃｍ２）し、硬化させて表面処理層（ＳＧ層）を形成した。
【０１５９】
［実施例１．光学素子Ａ］
ポリビニルアルコール系偏光子の両面にＴＡＣ保護フィルムが付着されている偏光板を使用して光学素子を製造した。具体的には、上記偏光板の一面には、粘着剤層Ｂをラミネートし、その反対面には、製造例５で製造された位相遅延層の液晶層面を粘着剤層Ｂでラミネートした。その後、粘着剤層Ｂを使用して製造例７で製造された表面処理層が形成されているＴＡＣ基材の表面処理層が形成されていない面を付着し、光学素子を製造した。
【０１６０】
［実施例２．光学素子Ｂ］
ポリビニルアルコール系偏光子の両面にＴＡＣ保護フィルムが付着されている偏光板を使用して光学素子を製造した。具体的には、上記偏光板の一面には、粘着剤層Ｂをラミネートし、その反対面には、製造例５で製造された位相遅延層の液晶層面を粘着剤層Ａでラミネートした。その後、粘着剤層Ｂを使用して製造例７で製造された表面処理層が形成されているＴＡＣ基材の表面処理層が形成されていない面を付着し、光学素子を製造した。
【０１６１】
［実施例３．光学素子Ｃ］
ポリビニルアルコール系偏光子の両面にＴＡＣ保護フィルムが付着されている偏光板を使用して光学素子を製造した。具体的には、上記偏光板の一面には、粘着剤層Ｂをラミネートし、その反対面には、製造例６で製造された位相遅延層の液晶層面を粘着剤層Ａで付着し、光学素子を製造した。
【０１６２】
［比較例１．光学素子Ｄ］
ポリビニルアルコール系偏光子の両面にＴＡＣ保護フィルムが付着されている偏光板を使用して光学素子を製造した。具体的には、上記偏光板の一面には、粘着剤層Ａをラミネートし、その反対面には、製造例５で製造された位相遅延層の液晶層面を粘着剤層Ａでラミネートした。その後、粘着剤層Ｂを使用して製造例７で製造された表面処理層が形成されているＴＡＣ基材の表面処理層が形成されていない面を付着し、光学素子を製造した。
【０１６３】
［試験例１．寸法変化率の測定］
実施例及び比較例で製造された光学素子に対して耐久性をそれぞれ評価した。具体的には、それぞれの光学素子を偏光板で位相遅延層の反対側に形成された粘着剤層を媒介でガラス基板に付着した後、６０℃及び１０％の相対湿度で１５０時間、３００時間及び５００時間放置した後、横方向の長さの変化量を測定し、下記表１に整理した。下記表１は、同一に製造された３個の光学素子をそれぞれ１５０時間、３００時間または５００時間上記条件で放置した後に測定した変化量の平均値であり、符号"−"は、横方向の長さが放置後に減少したことを意味する。
【０１６４】
【表１】
0005850585.tif 000006
【０１６５】
［試験例２．液晶層の屈折率関系及び厚さによる光分割特性の評価］
液晶層の屈折率関系及び厚さによる光分割特性の評価のために、次のようなサンプルをそれぞれ製造した。具体的には、製造例５の場合と同一の方式で位相遅延層を形成し、且つ、液晶層を形成した後、遅相軸方向と進相軸方向で屈折率の差が０．０３となるように液晶混合物の組成を調節し、厚さが約０．３μｍ、１μｍ及び２．５μｍの液晶層をそれぞれ形成し、位相遅延層を製造した。また、製造例５と同一の液晶化合物を使用して同一の方式で位相遅延層を製造し、且つ厚さが約０．３μｍ及び２．５μｍの液晶層をそれぞれ形成し、位相遅延層を製造した。また、製造例５と同一の方式で位相遅延層を形成し、且つ液晶層を形成した後、遅相軸方向と進相軸方向で屈折率の差が０．２２となるように、液晶混合物の組成を調節し、厚さが約０．３μｍ、１μｍ及び２．５μｍの液晶層をそれぞれ形成し、位相遅延層を製造した。その後、上記製造された位相遅延層を使用して実施例１と同一の方式で光学素子を製造し、その光学素子及び実施例１の光学素子を使用して立体映像を観察する場合のクロストーク率を評価し、下記表２に記載した。
【０１６６】
【表２】
0005850585.tif 000007
【符号の説明】
【０１６７】
１、４、５、６、７  光学素子
１１  位相遅延層
１２１、１２２  粘着剤層
１３  偏光板
Ａ  液晶層の第１領域
Ｂ  液晶層の第２領域
Ｌ  第１領域と第２領域の境界線
θ１、θ２：第１または第２領域の光軸が境界線Ｌと成す角度
４１  基材層
５１  保護基材層
６１  表面処理層
８  立体映像表示素子
８１  光源
８２  偏光板
８３  映像表示素子
ＬＧ  左眼用映像信号生成領域
ＲＧ  右眼用映像信号生成領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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