(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも透明基板と構造体層とを有し、
前記構造体層は、表面に凸部及び凹部の少なくともいずれかを有し、隣接する前記凸部の平均距離又は隣接する前記凹部の平均距離が、可視光の波長以下であり、
前記構造体層が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の重合物からなり、
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物を含み、
前記（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物が、以下の（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）のそれぞれ１種類以上を含有し、
（Ａ）単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物
（Ｂ）アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート
（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレート
前記（Ａ）の単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物として、以下（Ａ−１）、又は以下（Ａ−２）を満たし、
（Ａ−１）構造中に窒素を有する窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物を含有し、構造中に窒素を有しない窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物は含有せず、前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２０質量％以上である
（Ａ−２）構造中に窒素を有する窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物と、構造中に窒素を有しない窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物とを含有し、前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２０質量％以上であり、前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２２質量％以下である
かつ前記構造体層の１５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’１５０と５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’５０との比（Ｅ’１５０／Ｅ’５０）が、０．５以下であることを特徴とする透明積層体。
【請求項２】
前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物が、窒素を含む環状構造を分子中に有する請求項１に記載の透明積層体。
【請求項３】
前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物が、アクリロイルモルホリンである請求項２に記載の透明積層体。
【請求項４】
前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物が、酸素を含む環状構造を分子中に有する請求項１に記載の透明積層体。
【請求項５】
前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物が、テトラヒドロフルフリルアクリレートである請求項４に記載の透明積層体。
【請求項６】
前記（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレートが、３官能の（メタ）アクリレートである請求項１に記載の透明積層体。
【請求項７】
前記（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレートが、３官能の（メタ）アクリレートと３官能以上のウレタンアクリレートである請求項６に記載の透明積層体。
【請求項８】
前記構造体層の表面の水接触角が、２６°以上である請求項１から７のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項９】
前記透明基板の面内リタデーション値が、２０ｎｍ以下である請求項１から８のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載の透明積層体を用いた顔面用光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、工業用の精密作業時の塗装や加工粉末からの飛沫による顔、目への汚染軽減や飛来物からの保護を目的として透明プラスチック製のシールド、ゴーグルなどが用いられている。
また、医療用途などにおいても、患者への処置による飛沫からの感染を防止するため、あるいは外科手術などにおいて、飛来物から顔面を保護するため透明プラスチック製のアイシールドや顔面シールドなどが用いられている。
更には、近年の３Ｄディスプレイ機能を有している画像診断装置に対応し、３Ｄディスプレイ用の偏光光学特性を損なわない透明プラスチック製のシールドも提案されている。
【０００３】
目の保護用シールドとして幾つか市販されているが、シールドの表面反射により透過率が低下したり、外光の写り込みが発生すると、視認性の低下により作業効率の低下や、着用者の疲労を招くことになるため、低反射性で透明性のよい視認性に優れたシールドが求められる。
また、シールド着用時に呼気により曇りが発生すると、視認性が損なわれるため、防曇性に優れたシールドが求められる。
一方、防御したい粉末や汚染物等の飛沫がシールドに付着した際、軽度な飛沫付着であれば、コットンや不織布などで払拭し継続して使用できるのが好ましいが、防曇性を得るために親水性に富んだ表面とした場合、水系の汚染物に対し親和性が良いために、払拭性が損なわれるという問題が生じる。そこで、両性能のバランスを考慮した防曇性にも払拭性にも優れたシールドが求められる。
また、３Ｄディスプレイの画面視認性に影響を与えないためには、３Ｄディスプレイからの偏光特性を損なわない視認性に優れたシールドが求められる。
また、上記シールドが、基板上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下、樹脂組成物ともいう）の硬化物からなる微細な凹凸構造が形成された硬化物層を積層してなる場合、基板と硬化物層との密着性に優れ、かつ前記硬化物層を製造する際に使用する原盤と硬化物層とは剥離性に優れている、密着性にも剥離性にも優れたシールドであることが求められる。
【０００４】
基板上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細な凹凸構造が形成された硬化物層を積層してなる透明積層体であって、防汚性や耐擦傷性が付与された透明積層体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
また、基板上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細な凹凸構造が形成された硬化物層を積層してなる透明積層体であって、離型性や耐擦傷性や指紋拭き取り性が付与された透明積層体が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
さらにまた、光透過性や複屈折などの観点からトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）を基板に用い、該基板上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細な凹凸構造が形成された硬化物層を積層してなる透明積層体であって、密着性が付与された透明積層体が提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４６８９７１８号公報
【特許文献２】国際公開第２０１１／１１５１６２号公報
【特許文献３】国際公開第２０１３／００５７６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記特許文献１に記載の透明積層体は、水接触角が低い成分構成となっているため、汚染物に対する払拭性が充分満足のいくものとはいえない。また、上記特許文献２に記載の透明積層体は、分子内に２個のラジカル官能基を有し、かつ分子内に１１個以上のオキシアルキレン基を有するモノマーを必須の構成成分としているが、後述する比較例４で示めすように、ポリオキシアルキレン基を有する２官能モノマーを含有させた透明積層体は、水接触角は低く汚染物に対する払拭性は満足のいくものとはいえない。
また、上記特許文献３では、分子内に４個以下のオキシアルキレン基を有する２官能モノマーを必須の構成成分としているが、上記特許文献３の実施例で用いられているポリオキシアルキレン基を有する２官能モノマーを含有させると、水接触角が低くなり汚染物に対する払拭性が満足のいくものとはならないことは上述したとおりである（比較例４参照）。
さらにまた、特許文献３では、モールドからの離型性を付与するため、樹脂組成物に内部離型剤を含有させているが、このような副材料を含有させると、基板との密着性が低下するおそれがある。そこで、このような副材料を含有させず、密着性及び剥離性のいずれにも優れた透明積層体の提供が望まれている。
低反射で透明性に優れ、３Ｄディスプレイの偏光特性を損なわない視認性に優れた透明積層体であって、防曇性及び払拭性にも優れ、かつ基板との密着性及び原盤との剥離性にも優れた透明積層体の提供という観点からは、上記特許文献１から３のいずれの文献に記載の透明積層体も充分とはいえず、改良の余地があった。
【０００７】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、低反射で透明性に優れ、３Ｄディスプレイの偏光特性を損なわない視認性に優れた透明積層体であって、防曇性及び払拭性にも優れ、かつ基板との密着性及び原盤との剥離性にも優れた透明積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  少なくとも透明基板と構造体層とを有し、
前記構造体層は、表面に凸部及び凹部の少なくともいずれかを有し、隣接する前記凸部の平均距離又は隣接する前記凹部の平均距離が、可視光の波長以下であり、
前記構造体層が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の重合物からなり、
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物を含み、
前記（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物が、以下の（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）のそれぞれ１種類以上を含有し、
（Ａ）単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物
（Ｂ）アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート
（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレート
前記（Ａ）の単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物として、以下（Ａ−１）、又は以下（Ａ−２）を満たし、
（Ａ−１）構造中に窒素を有する窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物を含有し、構造中に窒素を有しない窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物は含有せず、前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２０質量％以上である
（Ａ−２）構造中に窒素を有する窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物と、構造中に窒素を有しない窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物とを含有し、前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２０質量％以上であり、前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２２質量％以下である
かつ前記構造体層の１５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’１５０と５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’５０との比（Ｅ’１５０／Ｅ’５０）が、０．５以下であることを特徴とする透明積層体である。
＜２＞  前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物が、窒素を含む環状構造を分子中に有する前記＜１＞に記載の透明積層体である。
＜３＞  前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物が、アクリロイルモルホリンである前記＜２＞に記載の透明積層体である。
＜４＞  前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物が、酸素を含む環状構造を分子中に有する前記＜１＞に記載の透明積層体である。
＜５＞  前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物が、テトラヒドロフルフリルアクリレートである前記＜４＞に記載の透明積層体である。
＜６＞  前記（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレートが、３官能の（メタ）アクリレートである前記＜１＞に記載の透明積層体である。
＜７＞  前記（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレートが、３官能の（メタ）アクリレートと３官能以上のウレタンアクリレートである前記＜６＞に記載の透明積層体である。
＜８＞  前記構造体層の表面の水接触角が、２６°以上である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の透明積層体である。
＜９＞  前記透明基板の面内リタデーション値が、２０ｎｍ以下である前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の透明積層体である。
＜１０＞  前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の透明積層体を用いた顔面用光学素子である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、低反射で透明性に優れ、３Ｄディスプレイの偏光特性を損なわない視認性に優れた透明積層体であって、防曇性及び払拭性にも優れ、かつ基板との密着性及び原盤との剥離性にも優れた透明積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明の透明積層体の構成の一例を示す断面図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本発明の透明積層体の構成の他の例を示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の透明積層体の表面形状の一例を示す斜視図である。
【図３Ａ】図３Ａは、転写原盤であるロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す断面図である。
【図４】図４は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。
【図５Ａ】図５Ａは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図５Ｃ】図５Ｃは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図５Ｄ】図５Ｄは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図５Ｅ】図５Ｅは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図６Ａ】図６Ａは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。
【図６Ｃ】図６Ｃは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。
【図７Ａ】図７Ａは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の他の例を説明するための工程図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の他の例を説明するための工程図である。
【図７Ｃ】図７Ｃは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の他の例を説明するための工程図である。
【図８Ａ】図８Ａは、本発明の一実施形態のアイシールドの平面図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、本発明の一実施形態のフェイスシールドの平面図である。
【図９Ａ】図９Ａは、本発明の一実施形態の顔面保護マスクの平面図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、顔面に着用されている、本発明の一実施形態の顔面保護マスクの斜視図である。
【図１０】図１０は、本発明の透明積層体の構成の変形例の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（透明積層体）
本発明の透明積層体は、少なくとも透明基板と構造体層とを有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
前記構造体層は、表面に凸部及び凹部の少なくともいずれかを有し、隣接する前記凸部の平均距離又は隣接する前記凹部の平均距離が、可視光の波長以下である。
前記構造体層は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の重合物からなる。
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物を含む。
前記（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物は、以下の（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）のそれぞれ１種類以上を含有する。
（Ａ）単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物
（Ｂ）アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート
（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレート
前記（Ａ）の単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物として、以下（Ａ−１）、又は以下（Ａ−２）を満たし、
（Ａ−１）構造中に窒素を有する窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物を含有し、構造中に窒素を有しない窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物は含有せず、前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２０質量％以上である
（Ａ−２）構造中に窒素を有する窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物と、構造中に窒素を有しない窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物とを含有し、前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２０質量％以上であり、前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２２質量％以下である
かつ前記構造体層の１５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’１５０と５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’５０との比（Ｅ’１５０／Ｅ’５０）は、０．５以下である。
尚、本発明において、（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタアクリレートを意味する。また、（メタ）アクリル系樹脂とは、アクリル系樹脂またはメタアクリル系樹脂を意味する。
【００１２】
本発明者らは、透明基板に微細かつ緻密な凹凸（モスアイ；蛾の目）構造を有する透明積層体について透明積層体を構成する材料の組成、及びその透明積層体が示す特性について検討を重ねた結果、上記特定の構成成分からなる樹脂組成物を有する透明積層体であって、構造体層の貯蔵弾性率の比を規定した、上記構成要件を満たす透明積層体が、上記課題に挙げた、視認性、防曇性、払拭性、密着性、及び剥離性の全ての項目においてバランスよく、良好な結果を示すことを見出した。
【００１３】
例えば、上記特許文献２及び上記特許文献３では、分子内に３個以上のラジカル重合性の官能基を有するモノマーに対し、特許文献２では、官能基１個あたりの分子量が１１０から２００であることが要件とされており、一方特許文献３では、官能基１個あたりの分子量が１５０以下であることが要件とされている。また、分子内に２個以上のラジカル重合性の官能基を有するモノマーに対し、特許文献２では、分子内に１１個以上のオキシアルキレン基を有するモノマーであることが要件とされており、一方特許文献３では、分子内に４個以下のオキシアルキレン基を有するモノマーであることが要件とされている。つまり、上記特許文献２及び上記特許文献３では、逆の要件の構成成分のものがそれぞれ規定されている。このように、目的や他の構成成分との関係で、樹脂組成物の構成成分は全く異なったものとなる。
本発明者らは、視認性、防曇性、払拭性、密着性、及び剥離性の全ての項目に対し良好な結果を示す樹脂組成物について検討を重ねた結果、上記特定の構成成分が有効であることを見出した。
【００１４】
本発明の透明積層体の構成の断面図の一例を図１Ａ及びＢに示す。同図に示すように、この透明積層体１は、表面に数十ｎｍ〜数百ｎｍの可視波長領域以下の微細凹凸構造（以下、「モスアイ構造」ともいう）を有する。
透明積層体１は、透明基板１１と、表面に可視光の波長（３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ）以下の間隔で凸部又は凹部からなる構造体１２ａを複数有する構造体層１２とを有する。
構造体層１２の表面には凸状または凹状の構造体１２ａが形成されているが、この複数の構造体１２ａは、複数の列をなすように配置されている。図２には、表面が凸状の構造体層１２を有する本発明の透明積層体の斜視図の一例を示す。
【００１５】
本発明の透明積層体は、微細な凹凸構造体１２ａが形成されている構造体層１２を透明基板１１の表裏両面に有していてもよい（図１Ｂ）。
両面にそれぞれ微細かつ緻密な凹凸を有する透明積層体は、該透明積層体と空気との界面での反射を有効に抑えることができる。該透明積層体は、透過特性および反射特性などの視認性により優れたものとなるため、好ましい態様といえる。
【００１６】
該透明積層体１は、例えば、可視光に対して透明性を有しており、その屈折率ｎとしては、１．４０以上２．００以下が好ましく、１．４３以上２．００以下がより好ましい。
構造体層１２の屈折率は、透明基板１１の屈折率と同様またはほぼ同様であることが好ましい。内部反射を抑制し、コントラストを向上することができるからである。例えば、図１Ａや図１Ｂで示される構成の透明積層体において、透明基板１１の屈折率が１．４８〜１．５０であり、構造体層１２の屈折率が１．５１〜１．５３などと完全に一致しなくとも、近接した屈折率であってもよい。
【００１７】
＜透明基板＞
３Ｄディスプレイの偏光特性を損なわず、視認性に優れた透明積層体を得るため、本発明では、面内リタデーション値が特定の範囲にある透明基板を使用する。
本発明では、前記透明基板の面内リタデーション値は２０ｎｍ以下であるとよい。
ここで、面内のリタデーション値とは、以下の式で定義されるものをいう。
面内リタデーション（Ｒｏ）＝ΔＮ×ｄ      ΔＮ＝｜Ｎｘ−Ｎｙ｜
上記式中、Ｎｘ、Ｎｙは、それぞれ屈折率楕円体の主軸ｘ、ｙ方向の屈折率を表わし、かつＮｘ、Ｎｙは基板の面内方向の屈折率を表わす。ｄは基板の厚み（μｍ；必要に応じｎｍに換算）を表わす。
リタデーション値は、位相差フィルム・光学材料検査装置  ＲＥＴＳ−１００  （大塚電子株式会社製）を用いて、５５０ｎｍの波長において、測定を行ない、算出することができる。
リタデーション値は、材料と厚みによって調整することが可能であり、所定の性能を満たすよう、適宜選択が可能である。
例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィン系樹脂（シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＣ）、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、オレフィン系樹脂等の基板を用いることができ、より具体的には、ＴＡＣフィルムの膜厚（ｔ）１１７μｍの基板（Ｒｏ値：３ｎｍ）、ＰＣフィルムのｔが１２５μｍの基板（Ｒｏ値：１０ｎｍ〜２０ｎｍ）、ＰＣフィルムのｔが１５０μｍの基板（Ｒｏ値：１５ｎｍ〜２０ｎｍ）、ＣＯＰフィルムのｔが１００μｍの基板（Ｒｏ値：２ｎｍ）等を用いることができる。
【００１８】
透明基板１１の平均厚みは、透明積層体１の用途に応じて適宜選択することができるが、例えば、アイシールドの用途に対しては、薄すぎるとフィルムの剛性が不足し、装着時のフィルムの自立性が損なわれるために、８０μｍ以上であると好ましい。
３Ｄディスプレイの偏光特性を損なわず、視認性に優れた透明積層体を得るためには、各基材のリタデーション値にもよるがリタデーション値として２０ｎｍ以下となるように基板の材質や厚みを設定するのが望ましい。
【００１９】
＜構造体層＞
前記構造体層は、表面に凸部及び凹部の少なくともいずれかを有し、隣接する前記凸部の平均距離又は隣接する前記凹部の平均距離が、可視光の波長以下である。
前記構造体層は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の重合物を含有する。
【００２０】
前記構造体層の平均厚みＬ（μｍ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、シールドにおける軽量化や、材料の削減などを目的とした場合には５μｍ以下とするのが好ましく、また、構造体層と基材との屈折率マッチングが一致していない場合に発生する干渉縞を抑制するためには、構造体層の厚みを７μｍ以上として外観特性の向上を図ることが好ましく、目的により適宜、構造体層の厚みを設定するのが望ましい。
この平均厚みＬは、厚み計（株式会社ミツトヨ、ライトマチックＶＬ−５０Ｓ−Ｂ）を用いて透明積層体の総厚と透明基板の厚みを各１０回測定してその平均厚を求め、透明積層体の平均厚から透明基板の平均厚を差し引くことにより算出することができる。
【００２１】
＜＜活性エネルギー線硬化性樹脂組成物＞＞
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、少なくとも下記に示す（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物を有し、更に必要に応じて、光重合開始剤や、その他、フィラーや各種機能性添加剤などの成分を含んでもよい。
前記（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物は、以下の（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）のそれぞれ１種類以上を含有する。
（Ａ）単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物
（Ｂ）アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート
（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレート
前記（Ａ）の単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物として、以下（Ａ−１）、又は以下（Ａ−２）を満たし、
（Ａ−１）構造中に窒素を有する窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物を含有し、構造中に窒素を有しない窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物は含有せず、前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２０質量％以上である
（Ａ−２）構造中に窒素を有する窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物と、構造中に窒素を有しない窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物とを含有し、前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２０質量％以上であり、前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量が２２質量％以下である
【００２２】
本発明では、上記（Ａ−１）で示す通り、前記（Ａ）単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物として、構造中に窒素を有する窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物を必ず含有する。係る窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量は２０質量％以上である。
前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物は、前記透明基板の樹脂成分を部分的に溶解し、他の樹脂組成物とも反応して、構造体層の透明基板への密着性を得るアンカー効果を発揮させることができるため、必要なものである。また、含有量が２０質量％以上であれば、加熱環境下、及び高湿環境下においても充分な密着性を確保することができる。２０質量％より少ないと、透明基板への充分な密着性が得られず、原盤からの剥離性も困難となる。
前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物としては、例えば、アクリロイルモルホリン、メチルアクリロイルモルホリン、ジエチルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、ペンタメチルピペリジルメタクリレ−ト等が挙げられる。
ここで、前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物は、窒素を含む環状構造を分子中に有する窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物であることが好ましく、特に前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物が、アクリロイルモルホリンであるとより好ましい。
【００２３】
また、本発明では、上記（Ａ−２）で示すように、前記（Ａ）単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物として、構造中に窒素を有する前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物に加え、構造中に窒素を有しない窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物を含有させてもよい。この場合、窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量は上記のとおり２０質量％以上であり、窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量は２２質量％以下である。
構造体層の柔軟性と剥離性を確保するうえで、窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物を２２質量％以下の範囲で含有させることも有効である。但し、２２質量％を超えて含有させると構造体層の透明基板への密着性に影響がでるため、２２質量％以下の範囲で含有させるとよい。
前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物としては、例えば、テトラヒドロフルフリルアクリレート、メチルテトラヒドロフルフリルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート、グリシジルメタクリレート、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン、イソブチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物は、酸素を含む環状構造を分子中に有する窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物であることが好ましく、特に前記窒素非含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物が、テトラヒドロフルフリルアクリレートであるとより好ましい。
【００２４】
前記（Ｂ）アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレートとしては、２官能のアルキルアルコールのエステル（メタ）アクリレート、つまり、アルキルアルコールを原料とした２官能の（メタ）アクリレートをいう。例えば、エチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９-ノナンジオールジアクリレート、１，１０-デカンジオールジアクリレート等が挙げられる。アルキル鎖ではなく、ポリオキシアルキレン鎖を構造中に有する、例えばポリエチレングリコールジアクリレートなどは、上記（Ｂ）アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレートには含まれない。後述する比較例４で結果が示されているように、ポリオキシアルキレン鎖を構造中に有する２官能の（メタ）アクリレートを含有した透明積層体は、水接触角が低くなり、汚れの払拭性が悪いからである。よって、本発明では、２官能の（メタ）アクリレートとしては、両末端の（メタ）アクリレートの構造部分以外の構造部分に酸素を含まないものであることが重要である。
【００２５】
前記（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。
中でも、３官能の（メタ）アクリレートを含有させることがより好ましい。
【００２６】
本発明では、前記（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレートとして、３官能の（メタ）アクリレートを含有させるか、または３官能の（メタ）アクリレートと３官能以上のウレタンアクリレートとを含有させる態様であることがより好ましい。
【００２７】
上記（Ａ）として用いる前記窒素含有単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物は、１官能の反応部位を有する化合物であるため、上記（Ｂ）や上記（Ｃ）で用いる多官能の反応部位を有する化合物と一緒に用いることで、より効率良く反応させることができる。
また、多官能の反応部位を有する化合物を用いると、構造体層は硬くなりやすく、原盤からの離型時に凹凸構造が壊れやすくなるため、上記（Ｂ）として、２官能の反応部位を有し反応性に優れながら、柔軟性も付与することができる、アルキルアルコールのエステル（メタ）アクリレートを含有させる。前記（Ｂ）アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレートを用いて、構造体層の硬さを調整するとよい。
【００２８】
前記（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物において、
（Ｂ）アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレートの前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量としては、５質量％から６０質量％であることが好ましい。
また、
（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレートの前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中における含有量としては、５質量％から２４質量％であることが好ましい。
さらにまた、（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレートとして、複数種類含有させる場合、例えば３官能の（メタ）アクリレートと３官能以上のウレタンアクリレートとを含有させる場合、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中に３官能の（メタ）アクリレートを５質量％から２４質量％、３官能以上のウレタンアクリレートを５質量％から２４質量％、それぞれ含有させることが好ましい。
【００２９】
−光重合開始剤−
前記光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤、光酸発生剤、ビスアジド化合物、ヘキサメトキシメチルメラミン、テトラメトキシグリコユリルなどが挙げられる。
前記光ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、エトキシフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメチルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、１−フェニル２−ヒドロキシ−２メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニルエタンジオン、メチルフェニルグリオキシレートなどが挙げられる。
【００３０】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記光重合開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１質量％〜１０質量％が好ましく、０．５質量％〜８質量％がより好ましい。
【００３１】
−その他の成分−
本発明においては、本発明の目的を害さない限り、下記に示すフィラー等の各種機能性添加剤を含有させることができる。但し、本発明では、上述したとおり密着性に影響を与える上記特許文献３に記載の離型剤は含有しない態様であることが好ましい。
−フィラー−
前記フィラーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機微粒子および有機微粒子のいずれも用いることができる。無機微粒子としては、例えば、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ３などの金属酸化物微粒子を挙げることができる。
【００３２】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線が照射されることにより硬化する。前記活性エネルギー線としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線等）、マイクロ波、高周波などが挙げられる。
【００３３】
＜＜凸部及び凹部＞＞
図１Ａ及び図２に示すように、複数の構造体１２ａは、透明基板１１上に形成された構造体層１２の表面に２次元配列されている。構造体１２ａは、反射の低減または透過の向上を目的とする光の波長帯域以下の短い間隔（平均配置ピッチ）で周期的に２次元配列されていることが好ましい。
本発明で間隔（ピッチ）とは、隣接する凸部の距離、又は隣接する凹部の距離をいう。
【００３４】
構造体１２ａの具体的な形状としては、例えば、錐体状、柱状、針状、半球体状、半楕円体状、多角形状などが挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、他の形状を採用するようにしてもよい。錐体状としては、例えば、頂部が尖った錐体形状、頂部が平坦な錐体形状、頂部に凸状または凹状の曲面を有する錐体形状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではない。頂部に凸状の曲面を有する錐体形状としては、例えば、放物面状などの２次曲面状が挙げられる。また、錐体状の錐面を凹状または凸状に湾曲させるようにしてもよい。後述するロール原盤露光装置（図４参照）を用いてロール原盤を作製する場合には、構造体１２ａの形状として、頂部に凸状の曲面を有する楕円錐形状、または頂部が平坦な楕円錐台形状を採用するとよい。ここで、楕円、球体、楕円体などの形状には、数学的に定義される完全な楕円、球体、楕円体などの形状のみならず、多少の歪みが付与された楕円、球体、楕円体などの形状も含まれる。平面形状としては楕円形に類するものに限らず、円形であってもよい。
光学調整機能の向上の観点からすると、頂部の傾きが緩やかで中央部から底部に徐々に急峻な傾きの錐体形状が好ましい。また、光学調整機能の向上の観点からすると、中央部の傾きが底部および頂部より急峻な錐形形状、または、頂部が平坦な錐体形状であることが好ましい。
【００３５】
なお、図１Ａ、図１Ｂ、及び図２では、各構造体１２ａが、それぞれ同一の大きさ、形状および高さを有しているが、構造体１２ａの構成はこれに限定されるものではなく、基体表面に２種以上の大きさ、形状および高さを有する構造体１２ａが形成されていてもよい。
【００３６】
構造体層１２の表面に設けられた構造体１２ａの凸部の平均アスペクト比（前記凸部の平均高さ／隣接する前記凸部の平均距離）又は凹部の平均アスペクト比（前記凹部の平均深さ／隣接する前記凹部の平均距離）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．６６〜１．９６が好ましく、０．７６〜１．９６がより好ましい。平均アスペクト比が０．６６以上であると、低反射特性を向上できる。一方、平均アスペクト比が１．９６以下であると、離型性などを向上できる。
構造体１２ａの平均配置ピッチＰ（隣接する凸部の平均距離、又は隣接する凹部の平均距離という）は、光学調整機能を目的とする光の波長帯域以下であることが好ましい。本発明でいう光学調整機能を目的とする光の波長帯域とは、例えば、可視光の波長帯域（３６０ｎｍ〜８３０ｎｍの波長帯域）以下をいう。
【００３７】
構造体１２ａの凸部の平均高さＨ、又は凹部の平均深さＨとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００ｎｍ〜３００ｎｍが好ましく、１８０ｎｍ〜３００ｎｍがより好ましく、１８０ｎｍ〜２３０ｎｍがさらに好ましい。構造体１２ａの凸部の平均高さＨ、又は凹部の平均深さＨが１００ｎｍ以上であると、低反射特性を向上できる。一方、構造体１２ａの凸部の平均高さＨ、又は凹部の平均深さＨが３００ｎｍ以下であると、離型性などを向上できる。
ここで、凸部又は凹部の平均配置ピッチ（平均距離（Ｐｍ））、及び凸部の平均高さ又は凹部の平均深さ（Ｈｍ）は、以下のようにして測定できる。
【００３８】
［Ｐｍ（ｎｍ）、Ｈｍ（ｎｍ）の測定］
まず、凸部又は凹部を有する前記構造体層の表面Ｓを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により観察し、ＡＦＭの断面プロファイルから凸部又は凹部のピッチ、及び凸部の高さ又は凹部の深さを求める。これを前記構造体層の表面から無作為に選び出された１０箇所において繰り返し行い、ピッチＰ（１）、Ｐ（２）、・・・、Ｐ（１０）と、高さ又は深さＨ（１）、Ｈ（２）、・・・、Ｈ（１０）とを求める。
ここで、前記凸部のピッチは、前記凸部の頂点間の距離である。前記凹部のピッチは、前記凹部の最深部間の距離である。前記凸部の高さは、前記凸部間の谷部の最低点を基準とした前記凸部の高さである。前記凹部の深さは、前記凹部間の山部の最高点を基準とした前記凹部の深さである。
次に、これらのピッチＰ（１）、Ｐ（２）、・・・、Ｐ（１０）、及び高さ又は深さＨ（１）、Ｈ（２）、・・・、Ｈ（１０）をそれぞれ単純に平均（算術平均）して、凸部又は凹部の平均距離（Ｐｍ）、及び凸部の平均高さ又は凹部の平均深さ（Ｈｍ）とする。
なお、前記ＡＦＭ観察においては、断面プロファイルの凸の頂点、又は凹の底辺が、立体形状の凸部の頂点、又は凹部の最深部と一致するようにするため、断面プロファイルを、測定対象となる立体形状の凸部の頂点、又は立体形状の凹部の最深部を通る断面となるように、切り出している。
【００３９】
透明基板１１の平均厚みは、透明積層体１の用途に応じて適宜選択され、用途に応じた可撓性や剛性を有することが好ましいが、例えば、上述した範囲で形成されるとよい。
また、構造体層１２は、用途に応じて、又は透明基板の片面、及び両面のいずれに形成されるかにより、適当な平均膜厚で形成されるが、例えば、上述した範囲で形成されるとよい。また、両面に形成される場合、必ずしも両側の構造体層の平均膜厚が同じである必要はない。
【００４０】
＜＜構造体層の特性＞＞
前記構造体層の１５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’１５０と５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’５０との比（Ｅ’１５０／Ｅ’５０）は、０．５以下である。
これは、透明積層体製造時に原盤温度が５０℃から１３０℃程度まで上昇するのに対応し、５０℃と１５０℃の貯蔵弾性率の維持率が０．５を超えると、構造体層が硬すぎて原盤からの剥離性が悪化するとの知見に基づき規定したものであり、本発明で規定する前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に対し、Ｅ’１５０／Ｅ’５０を規定することで、剥離性がより確実に向上した透明積層体を得ることができる。
【００４１】
前記構造体層の表面の水接触角は、２６°以上であることが好ましく、２６°以上８０°以下であることがより好ましい。
後述する実施例で示すように、水接触角が２６°以上であるとインクが拭取れ良好な払拭性を示すことができる。
また、水接触角が８０°以下であると、シールド実装時に曇りを抑制できる。
【００４２】
＜その他の部材＞
前記その他の部材としては、中間層、保護層、粘着層、接着層などが挙げられる。
【００４３】
＜＜中間層＞＞
種々の目的に応じて、前記透明基板と、前記構造体層との間に中間層を設けてもよい。
前記中間層の屈折率は、干渉ムラを防止するために、前記構造体層の屈折率と近いことが好ましい。または、前記中間層の屈折率は、前記構造体層の屈折率と前記透明基板の屈折率との間であることが好ましい。
【００４４】
＜＜保護層＞＞
前記保護層としては、前記構造体層が形成された前記透明積層体を、製造又は成形加工する際に、前記構造体層が傷付くのを防止する層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記保護層は、前記透明積層体を使用する際には、剥がされる。
【００４５】
＜＜粘着層、接着層＞＞
前記粘着層及び前記接着層としては、前記透明基板上に形成され、前記透明積層体を、被加工物、被着体などに接着させる層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、図１０で示すように、透明積層体１の透明基板１１側に粘着層２を設け、さらに光透過性基材６を積層してなる構成とすることもできる。
【００４６】
前記透明積層体は、インモールド成形用フィルム、インサート成形用フィルム、オーバーレイ成形用フィルムに特に適している。
【００４７】
前記透明積層体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、以下に記載する製造方法などが挙げられる。
【００４８】
＜透明積層体の製造方法＞
前記透明積層体の製造方法としては、例えば、未硬化樹脂層形成工程と、構造体層形成工程とを含む製造方法が挙げられ、更に必要に応じて、その他の工程を含んでもよい。
【００４９】
＜＜未硬化樹脂層形成工程＞＞
前記未硬化樹脂層形成工程としては、透明基板上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して未硬化樹脂層を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００５０】
前記透明基板としては、前記透明積層体の説明で記載したとおりである。
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記透明積層体の前記構造体層の説明で記載したとおりである。
【００５１】
前記未硬化樹脂層は、前記透明基板上に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して、必要に応じて乾燥を行うことにより形成される。前記未硬化樹脂層は、固体の膜であってもよいし、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含有される低分子量の硬化性成分によって流動性を有した膜であってもよい。
【００５２】
前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースロールコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、カーテンコーティング、コンマコート法、ディッピング法などが挙げられる。
【００５３】
前記未硬化樹脂層は、活性エネルギー線が照射されていないため、硬化していない。
【００５４】
前記未硬化樹脂層形成工程においては、前記中間層が形成された前記透明基板の前記中間層上に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して前記未硬化樹脂層を形成してもよい。
前記中間層としては、前記透明積層体の説明で記載したとおりである。
【００５５】
＜＜構造体層形成工程＞＞
前記構造体層形成工程としては、前記未硬化樹脂層を微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤に密着させ、前記転写原盤が密着した前記未硬化樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記未硬化樹脂層を硬化させて前記微細な凸部及び凹部のいずれかを転写することにより、構造体層を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００５６】
−転写原盤−
前記転写原盤は、微細な凸部及び凹部のいずれかを有する。
前記転写原盤の材質、大きさ、構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかの形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として前記転写原盤の表面をエッチングすることにより形成することが好ましい。
【００５７】
−活性エネルギー線−
前記活性エネルギー線としては、前記未硬化樹脂層を硬化させる活性エネルギー線であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記透明積層体の説明で記載したとおりである。
【００５８】
ここで、前記構造体層形成工程の具体例を、図を用いて説明する。
【００５９】
所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として転写原盤の表面をエッチングすることにより微細な凸部及び凹部のいずれかを形成した転写原盤を用いて構造体層を形成する。
【００６０】
［転写原盤の構成］
図３Ａは、転写原盤であるロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。図３Ｂは、図３Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す断面図である。ロール原盤３１は、上述した構成を有する透明積層体を作製するための転写原盤、より具体的には、前記構造体層の表面に複数の凸部又は凹部を成形するための原盤である。ロール原盤３１は、例えば、円柱状又は円筒状の形状を有し、その円柱面又は円筒面が構造体層の表面に複数の凸部又は凹部を成形するための成形面とされる。この成形面には、例えば、複数の構造体３２が２次元配列されている。図３Ｂにおいて、構造体３２は、成形面に対して凹状を有している。ロール原盤３１の材料としては、例えば、ガラスを用いることができるが、この材料に特に限定されるものではない。
【００６１】
ロール原盤３１の成形面に配置された複数の構造体３２と、前記構造体層の表面に配置された複数の凸部又は凹部とは、反転した凹凸関係にある。すなわち、ロール原盤３１の構造体３２の配列、大きさ、形状、配置ピッチ、高さ又は深さ、及びアスペクト比などは、前記構造体層の凸部又は凹部と同様である。
【００６２】
［ロール原盤露光装置］
図４は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。このロール原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。
【００６３】
レーザー光源４１は、記録媒体としてのロール原盤３１の表面に着膜されたレジストを露光するための光源であり、例えば、波長λ＝２６６ｎｍの記録用のレーザー光３４を発振するものである。レーザー光源４１から出射されたレーザー光３４は、平行ビームのまま直進し、電気光学素子（ＥＯＭ：Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）４２へ入射する。電気光学素子４２を透過したレーザー光３４は、ミラー４３で反射され、変調光学系４５に導かれる。
【００６４】
ミラー４３は、偏光ビームスプリッタで構成されており、一方の偏光成分を反射し他方の偏光成分を透過する機能をもつ。ミラー４３を透過した偏光成分はフォトダイオード４４で受光され、その受光信号に基づいて電気光学素子４２を制御してレーザー光３４の位相変調を行う。
【００６５】
変調光学系４５において、レーザー光３４は、集光レンズ４６により、ガラス（ＳｉＯ２）などからなる音響光学素子（ＡＯＭ：Ａｃｏｕｓｔｏ−Ｏｐｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）４７に集光される。レーザー光３４は、音響光学素子４７により強度変調され発散した後、レンズ４８によって平行ビーム化される。変調光学系４５から出射されたレーザー光３４は、ミラー５１によって反射され、移動光学テーブル５２上に水平かつ平行に導かれる。
【００６６】
移動光学テーブル５２は、ビームエキスパンダ５３、及び対物レンズ５４を備えている。移動光学テーブル５２に導かれたレーザー光３４は、ビームエキスパンダ５３により所望のビーム形状に整形された後、対物レンズ５４を介して、ロール原盤３１上のレジスト層へ照射される。ロール原盤３１は、スピンドルモータ５５に接続されたターンテーブル５６の上に載置されている。そして、ロール原盤３１を回転させると共に、レーザー光３４をロール原盤３１の高さ方向に移動させながら、ロール原盤３１の周側面に形成されたレジスト層へレーザー光３４を間欠的に照射することにより、レジスト層の露光工程が行われる。形成された潜像は、円周方向に長軸を有する略楕円形になる。レーザー光３４の移動は、移動光学テーブル５２の矢印Ｒ方向への移動によって行われる。
【００６７】
露光装置は、２次元パターンに対応する潜像をレジスト層に形成するための制御機構５７を備えている。制御機構５７は、フォーマッタ４９とドライバ５０とを備える。フォーマッタ４９は、極性反転部を備え、この極性反転部が、レジスト層に対するレーザー光３４の照射タイミングを制御する。ドライバ５０は、極性反転部の出力を受けて、音響光学素子４７を制御する。
【００６８】
［レジスト成膜工程］
まず、図５Ａの断面図に示すように、円柱状又は円筒状のロール原盤３１を準備する。このロール原盤３１は、例えば、ガラス原盤である。次に、図５Ｂの断面図に示すように、ロール原盤３１の表面にレジスト層（例えば、フォトレジスト）３３を形成する。レジスト層３３の材料としては、例えば、有機系レジスト、無機系レジストなどが挙げられる。前記有機系レジストとしては、例えば、ノボラック系レジスト、化学増幅型レジストなどが挙げられる。前記無機系レジストとしては、例えば、金属化合物などが挙げられる。
【００６９】
［露光工程］
次に、図５Ｃの断面図に示すように、ロール原盤３１の表面に形成されたレジスト層３３に、レーザー光（露光ビーム）３４を照射する。具体的には、図４に示したロール原盤露光装置のターンテーブル５６上にロール原盤３１を載置し、ロール原盤３１を回転させると共に、レーザー光（露光ビーム）３４をレジスト層３３に照射する。このとき、レーザー光３４をロール原盤３１の高さ方向（円柱状又は円筒状のロール原盤３１の中心軸に平行な方向）に移動させながら、レーザー光３４を間欠的に照射することで、レジスト層３３を全面にわたって露光する。これにより、レーザー光３４の軌跡に応じた潜像３５が、例えば可視光波長と同程度のピッチで、レジスト層３３の全面にわたって形成される。
【００７０】
潜像３５は、例えば、ロール原盤表面において複数列のトラックをなすように配置されるとともに、格子パターンを形成する。潜像３５は、例えば、トラックの延在方向に長軸方向を有する楕円形状である。
【００７１】
［現像工程］
次に、例えば、ロール原盤３１を回転させながら、レジスト層３３上に現像液を滴下して、レジスト層３３を現像処理する。これにより、図５Ｄの断面図に示すように、レジスト層３３に複数の開口部が形成される。レジスト層３３をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザー光３４で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、図５Ｄの断面図に示すように、潜像（露光部）３５に応じたパターンがレジスト層３３に形成される。開口部のパターンは、例えば六方格子パターンまたは準六方格子パターンなどの所定の格子パターンである。
【００７２】
［エッチング工程］
次に、ロール原盤３１の上に形成されたレジスト層３３のパターン（レジストパターン）をマスクとして、ロール原盤３１の表面をエッチング処理する。これにより、図５Ｅの断面図に示すように、錐体形状を有する構造体（凹部）３２を得ることができる。錐体形状は、例えば、トラックの延在方向に長軸方向をもつ楕円錐形状又は楕円錐台形状であることが好ましい。前記エッチングとしては、例えば、ドライエッチング、ウエットエッチングを用いることができる。このとき、エッチング処理とアッシング処理とを交互に行うことにより、例えば、錐体状の構造体３２のパターンを形成することができる。以上により、目的とするロール原盤３１が得られる。
【００７３】
［転写処理］
図６Ａの断面図に示すような未硬化樹脂層３６が形成された透明基板１１を用意する。
次に、図６Ｂの断面図に示すように、ロール原盤３１と、透明基板１１上に形成された未硬化樹脂層３６とを密着させ、未硬化樹脂層３６に活性エネルギー線３７を照射し未硬化樹脂層３６を硬化させて微細な凸部及び凹部のいずれかを転写する。微細な凸部及び凹部のいずれか１２ａが形成された構造体層１２と一体になった透明基板１１とを剥離することにより、本発明の透明積層体１が得られる（図６Ｃ）。
【００７４】
また、前記透明積層体が、図１Ｂで示されるように、透明基板の両側に構造体層を有するものである場合には、さらに以下の工程を経ることにより得られる。
上記のようにして得られた片側に構造体層が形成された透明積層体１を用い（図７Ａ）、さらに、図７Ｂに示すように、ロール原盤３１と、片面に構造体層が形成された透明基板１１の反対側の表面上に塗布された未硬化樹脂層３６とを密着させた後、紫外線などのエネルギー線をエネルギー線源３７から未硬化樹脂層３６に照射して未硬化樹脂層３６を硬化させ、硬化した構造体層１２と一体となった透明基板１１を剥離する。これにより、図７Ｃに示すように、複数の構造体１２ａを有する構造体層１２を透明基板１１の両面に有する透明積層体１が得られる。
【００７５】
＜本発明の透明積層体の適用例＞
本発明の前記透明積層体は、反射防止特性、透過性、視認性、防曇性、払拭性、密着性、及び剥離性などの全ての項目に対しバランスよく良好な結果を示すことから、これらの利点を活かし、顔面保護用マスクとして、図８Ａで示すアイシールドや、図８Ｂで示すフェイスシールドへの適用が可能である。また、ディスプレイフィルム、配電盤や分電盤などの表示部に使用する表示面フィルム(特に防曇性に優れていることから、内側に使用するフィルムに好適に使用できる)、バイクの表示機器の表示面に使用する表示面フィルム(特に防曇性に優れていることから、内側に使用するフィルムに好適に使用できる)などへの適用が可能である。また、２輪車（自転車、オートバイ）や４輪車の競技に用いられるヘルメットのシールドや、競馬などに使用するスポーツ用ゴーグルへの適用が可能である。
中でも、前記透明積層体を医療用の顔面保護用シールドや３Ｄディスプレイ機能に対応した顔面シールドなどの顔面用光学素子として使用するのが好ましい。
【００７６】
（顔面用光学素子）
本発明の前記透明積層体の反射防止特性、透過性、視認性、防曇性、払拭性、密着性、及び剥離性などの利点を活かし、顔面用光学素子として好ましく使用することができる。
例えば、本発明の顔面用光学素子を用いた医療用の顔面保護マスクは、防曇性に優れ、透過性に優れたものとなる。
本発明の顔面用光学素子を、ゴーグル型、顔面マスク型などの光学素子の取り付け治具に着脱可能に取り付けることにより、または顔面マスクに固着することにより得ることができる。
【００７７】
図９Ａは、顔面マスク７１に本発明の顔面用光学素子１をアイシールド７３として固着した顔面保護具７０の一実施形態の平面図であり、図９Ｂは、顔面に着用されている顔面保護具７０の斜視図である。
顔面マスク７１は、着用者の鼻、口及び顎の一部を覆い、紐７２等で顔面に保持される。
一方、顔面保護用光学素子１は、着用者の視界を遮ることなく、着用者の目に液体や飛散物が飛来することを防ぐアイシールド７３として、顔面マスク７１に接合領域７４ａ、７４ｂで固着されている。
上記でアイシールドとして使用する顔面保護用光学素子１は、上述した製造方法により透明積層体として得られた後、所定のサイズに裁断されることにより、使用される。尚、この裁断工程を含む、顔面保護具等の物品を製造、加工する際、透明積層体表面を保護するため、表面保護フィルムを透明積層体表面に配してもよい。
【００７８】
本発明の透明積層体を有する物品は、インモールド成形、インサート成形、オーバーレイ成形により形成することができる。
【実施例】
【００７９】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
以下の実施例において、各測定及び評価は、以下のようにして行った。
【００８０】
＜光学特性＞
全光線透過率（Ｔｔ（％））、ヘイズ値（ｈａｚｅ（％））を、株式会社村上色彩技術研究所製のヘイズメーターよりＪＩＳ  Ｋ  ７３６１に従い計測した。
【００８１】
＜水接触角（°）＞
協和界面科学株式会社製の自動接触角測定機ＣＡ−Ｖにて、１μＬの水を滴下後の１１秒〜２０秒の接触角を１秒毎に計測し、その平均値を接触角として採用した。なお、接触角は、ＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向、ＴＤ（Ｔｒａｖｅｒｓｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向の２つの値の平均値とした。
【００８２】
＜密着性＞
ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従い、コーテック株式会社製のカットガイド（治具）を用い、１００マスカットし、所定のセロハンテープにて剥離試験を行った。密着残数を計測し、全数密着の場合を１００、全数剥離した場合を０として計測し、密着性を評価した。
【００８３】
＜払拭性＞
株式会社ツキネコ製の市販の水溶性インクを１００倍に希釈し、スポイトにて１滴滴下し、その後コットン不織布にて拭取った。
汚れが拭取れた場合を良好として○、汚れが残った（色付きが残る）場合を拭取り不可として×で評価した。
【００８４】
＜貯蔵弾性率＞
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、厚さ５０μｍの離型処理されたＰＥＴフィルムにて挟み込みながらブレードにて、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の膜厚が約１００μｍとなるように塗布した。その後、ＵＶ照射し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させ、クリアフィルムを作製した。
該クリアフィルムを、幅６ｍｍ、長さ４０ｍｍの打抜き型にて打抜きし、ティー・エイ・インスツルメント社製のＲＳＡ３にて、印加周波数：１０Ｈｚ、昇温速度：１０℃／分、サンプル測定距離１０ｍｍの条件で、常温から２００℃まで貯蔵弾性率（ＧＰａ）を測定した。
１５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’１５０と５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’５０の測定結果から、貯蔵弾性率Ｅ’１５０と貯蔵弾性率Ｅ’５０の比（Ｅ’１５０／Ｅ’５０）を求めた。
【００８５】
＜防曇性＞
本発明の透明積層体からなるマスクを着用し、顔面用シールドとして装着した際の防曇性を評価した。その結果、曇りが発生しない場合を視認性良好として○、曇が発生した場合を×として評価した。
【００８６】
＜剥離性＞
下記製造工程において、構造体層を原盤ロールから剥製する際の状態を観察し、以下の基準で剥離性を評価した。
原盤ロールからの剥離が問題なく行われた場合を○、原盤ロールからの剥離の際、原盤ロールに構造体層の一部が残ったり、構造体層に白化が生じたり、剥離ができなかったりしたため剥離に問題が生じた場合を×として評価した。尚、ここで、白化とは、原盤への密着力が強く、透明積層体を剥離する際、部分的に塗膜（構造体層）の凝集破壊が発生し、白化した部分が生じることをいう。原盤にいったん塗膜が残ると、追加で転写を行った場合、構造体層に面荒れが発生し白化が生じやすくなる。
【００８７】
（実施例１）
＜微細な凹部を有する転写原盤（ガラスロール原盤）の作製＞
まず、外径１２６ｍｍのガラスロール原盤を準備し、このガラスロール原盤の表面に以下のようにしてレジスト層を形成した。即ち、シンナーでフォトレジストを質量比で１／１０に希釈し、この希釈レジストをディッピング法によりガラスロール原盤の円柱面上に平均厚み７０ｎｍ程度に塗布することにより、レジスト層を形成した。次に、ガラスロール原盤を、図４に示したロール原盤露光装置に搬送し、レジスト層を露光することにより、１つの螺旋状に連なると共に、隣接する３列のトラック間において六方格子パターンをなす潜像がレジスト層にパターニングされた。具体的には、六方格子状の露光パターンが形成されるべき領域に対して、０．５０ｍＪ／ｍのレーザー光を像様に照射し六方格子状の露光パターンを形成した。
【００８８】
次に、ガラスロール原盤上のレジスト層に現像処理を施して、露光した部分のレジスト層を溶解させて現像を行った。具体的には、図示しない現像機のターンテーブル上に未現像のガラスロール原盤を載置し、ターンテーブルごと回転させつつガラスロール原盤の表面に現像液を滴下してその表面のレジスト層を現像した。これにより、レジスト層が六方格子パターンに開口しているレジストガラス原盤が得られた。
次に、ロールエッチング装置を用い、ＣＨＦ３ガス雰囲気中でのプラズマエッチングを行った。これにより、ガラスロール原盤の表面において、レジスト層から露出している六方格子パターンの部分のみエッチングが進行し、その他の領域はレジスト層がマスクとなりエッチングはされず、楕円錐形状の凹部がガラスロール原盤に形成された。この際、エッチング量（深さ）は、エッチング時間によって調整した。最後に、Ｏ２アッシングにより完全にレジスト層を除去することにより、凹形状の六方格子パターンを有するガラスロール原盤を得た。
【００８９】
＜透明積層体の作製＞
次に、上述のようにして得られたロール原盤を用いて、ＵＶインプリントにより透明積層体を作製した。具体的には、以下のようにして行った。
−構造体層用紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂組成物の準備−
・アクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ）
（ＫＪケミカルズ株式会社製）                                ２９．７質量％
・テトラヒドロフルフリルアクリレート（ＴＨＦＡ）
（ビスコートＶ＃１５０
大阪有機化学工業株式会社製）                              １４．３質量％
・１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）
（Ｍｉｗｏｎ製）                                            １４．３質量％
・ペンタエリスリトールトリアクリレート
（Ａ−ＴＭＭ−３  新中村化学工業株式会社製）                  ２２．５質量％
・ウレタンアクリレート
（ＵＶ−１７００Ｂ  日本合成化学工業株式会社製）              １６．２質量％
・２−ヒドロキシ−１−{４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル}−２−メチル−プロパン−1−オン
（重合開始剤：Ｉｒｇ１２７（ＢＡＳＦ  Ｓ．Ｅ製））              ３．０質量％
尚、上記Ｍｉｗｏｎとは、Ｍｉｗｏｎ  ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．,Ｌｔｄである。
【００９０】
上記ＵＶ硬化性樹脂組成物中、重合開始剤以外の成分からなる組成液を５０℃にて２時間混合し、次いで重合開始剤を添加し、更に５０℃にて３０分間混合し、１０時間以上静置して、混合された液の気泡を自然脱法処理した。
透明基板として、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム（厚み（ｔ）１１７μｍ）を用意した。
透明基板上に上記のようにして得たＵＶ硬化性樹脂組成物を約４μｍになるように塗布し、次いで、上記のようにして得たガラスロール原盤とで挟み、透明基板側から紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２で照射し、樹脂の硬化を行った後、原盤から離型し、透明積層体を得た。
次に、この透明積層体の凹凸成形した面の反対面にも、上記と同様の方法で、凹凸構造の構造体層を成形し、構造体層が透明基板の両側に配された透明積層体を得た。
得られた透明積層体の構造体層の平均厚みは３μｍ、凸部の平均距離（Ｐｍ）は１７８ｎｍ、凸部の平均高さ（Ｈｍ）は２４５ｎｍ、平均アスペクト比（Ｈｍ／Ｐｍ）は、１．３８であった。
得られた透明積層体に対し、上述した方法に従い、全光線透過率（Ｔｔ）、ヘイズ値、水接触角（°）、密着性、払拭性、貯蔵弾性率、防曇性、剥離性の各項目について、測定及び評価を行った。結果を表２−１に示す。
【００９１】
（実施例２〜６）
実施例１において、構造体層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記表１−１に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして、透明積層体を得た。
得られた透明積層体の特性を評価するため、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２−１に示した。
尚、表１（表１−１から表１−３を合わせて表１ともいう）において、
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）は、Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ３００  （Ｍｉｗｏｎ製）を用い、
ポリエチレングリコールジアクリレート（エチレンクリコール鎖の繰り返し数＝９）は、Ａ−４００（新中村化学工業株式会社製）を用いた。
【００９２】
（比較例１〜１２）
実施例１において、構造体層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記表１−２、表１−３に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして、透明積層体を得た。
得られた透明積層体の特性を評価するため、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２−２、表２−３に示した。尚、比較例６は、構造体層が硬すぎるため透明積層体の試料が作製できず、貯蔵弾性率の測定ができなかった。また、比較例の中には、剥離性及び密着性の結果があまりに悪く、本発明で要求する性能が得られなかったため、残りの評価項目においては測定しなかったものもあり、その場合には、表中、‘−’で示した。
【００９３】
【表１−１】
0005985100.tif 000002
【００９４】
【表１−２】
0005985100.tif 000003
【００９５】
【表１−３】
0005985100.tif 000004
【００９６】
【表２−１】
0005985100.tif 000005
【００９７】
【表２−２】
0005985100.tif 000006
【００９８】
【表２−３】
0005985100.tif 000007
【００９９】
上記実験結果より、本発明の透明積層体は、防曇性、払拭性、基板との密着性、及び原盤との剥離性に優れた透明積層体であることが確認できた。
【符号の説明】
【０１００】
１      透明積層体
２      粘着層
６      光透過性基材
１１      透明基板
１２      構造体層
１２ａ      構造体
３１      ロール原盤
３２      構造体
３３      レジスト層
３４      レーザー光
３５      潜像
３６      未硬化樹脂層
３７      活性エネルギー線
４１      レーザー光源
４２      電気光学素子
４３      ミラー
４４      フォトダイオード
４５      変調光学系
４６      集光レンズ
４７      音響光学素子
４８      レンズ
４９      フォーマッタ
５０      ドライバ
５１      ミラー
５２      移動光学テーブル
５３      ビームエキスパンダ
５４      対物レンズ
５５      スピンドルモータ
５６      ターンテーブル
５７      制御機構
７０      顔面保護具
７１      顔面マスク
７２      紐
７３      アイシールド
７４ａ、７４ｂ      接合領域
７５      凹み
【要約】
【課題】  低反射で透明性に優れ、３Ｄディスプレイの偏光特性を損なわない視認性に優れた透明積層体であって、防曇性及び払拭性にも優れ、かつ基板との密着性及び原盤との剥離性にも優れた透明積層体の提供。
【解決手段】  少なくとも透明基板と構造体層とを有し、
前記構造体層は、表面に凸部及び凹部の少なくともいずれかを有し、隣接する前記凸部の平均距離又は隣接する前記凹部の平均距離が、可視光の波長以下であり、
前記構造体層が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の重合物からなり、
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物を含み、
前記（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物の組成物が、以下の（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）のそれぞれ１種類以上を含有し、
（Ａ）単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物
（Ｂ）アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート
（Ｃ）３官能以上の（メタ）アクリレート
前記（Ａ）の単官能（メタ）アクリロイル基含有重合性化合物として、化合物の種類と含有量を規定した特定の条件を満たし、
かつ前記構造体層の１５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’１５０と５０℃における貯蔵弾性率Ｅ’５０との比（Ｅ’１５０／Ｅ’５０）が、０．５以下であることを特徴とする透明積層体である。
【選択図】図１Ｂ【図４】
0005985100.tif 000008
【図１Ａ】
0005985100.tif 000009
【図１Ｂ】
0005985100.tif 000010
【図２】
0005985100.tif 000011
【図３Ａ】
0005985100.tif 000012
【図３Ｂ】
0005985100.tif 000013
【図５Ａ】
0005985100.tif 000014
【図５Ｂ】
0005985100.tif 000015
【図５Ｃ】
0005985100.tif 000016
【図５Ｄ】
0005985100.tif 000017
【図５Ｅ】
0005985100.tif 000018
【図６Ａ】
0005985100.tif 000019
【図６Ｂ】
0005985100.tif 000020
【図６Ｃ】
0005985100.tif 000021
【図７Ａ】
0005985100.tif 000022
【図７Ｂ】
0005985100.tif 000023
【図７Ｃ】
0005985100.tif 000024
【図８Ａ】
0005985100.tif 000025
【図８Ｂ】
0005985100.tif 000026
【図９Ａ】
0005985100.tif 000027
【図９Ｂ】
0005985100.tif 000028
【図１０】
0005985100.tif 000029