(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロリソグラフィ投影露光装置のための、光軸（ＯＡ）を有する光学系であって、  ミラー装置によって反射された光の角度分布を変更するために互いに独立して調節可能である複数のミラー要素（２００ａ，２００ｂ，２００ｃ，．．．，３００ａ，３００ｂ，３００ｃ，．．．）を有する少なくとも１つのミラー装置（２００，３００）と、
前記ミラー装置（２００，３００）の下流の光学ビーム経路に対して、前記光軸（ＯＡ）の偏向が生じる少なくとも１つの偏向面（２１２，３１２）を有する偏向デバイス（２１０，３１０）と、
を含み、
前記少なくとも１つの偏向面（２１２，３１２）は、屈折力を有し、
前記偏向デバイス（２１０，３１０）は、前記光学ビーム経路に対して前記ミラー装置（２００，３００）の上流に配置された第１の偏向面（２１１，３１１）と、該光学ビーム経路に対して該ミラー装置（２００，３００）の下流に配置された第２の偏向面（２１２，３１２）とを有し、前記光軸（ＯＡ）の偏向が、該第１の偏向面（２１１，３１１）及び該第２の偏向面（２１２，３１２）での両方の各々に生じ、
前記偏向デバイス（２１０，３１０）は、作動中に光学系を通過する光が、該光が前記第１の偏向面（２１１，３１１）上に入射する前に有した元の伝播方向に沿って、前記第２の偏向面（２１２，３１２）により再度偏向されるように構成されている、
ことを特徴とする光学系。
【請求項２】
前記ミラー装置（２００，３００）と下流の瞳平面（ＰＰ）との間の前記光学ビーム経路に対して、前記光軸（ＯＡ）の偏向が生じるちょうど１つの偏向面（２１２，３１２）を有することを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
前記ミラー装置（２００，３００）の下流の前記光学ビーム経路に対して、前記光軸（ＯＡ）の偏向が各々生じる複数の偏向面を有することを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項４】
屈折力を有する前記偏向面は、前記光学ビーム経路に対して前記複数の偏向面のうちの最初のものであることを特徴とする請求項３に記載の光学系。
【請求項５】
前記偏向デバイス（２１０，３１０）は、プリズムとして構成されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項６】
前記ミラー装置（２００，３００）の前記ミラー要素（２００ａ，２００ｂ，２００ｃ，．．．，３００ａ，３００ｂ，３００ｃ，．．．）は、５°よりも大きくなく、特に４°よりも大きくなく、より特定的に３°よりも大きくない最大傾斜角を有することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項７】
前記少なくとも１つの偏向面（２１２，３１２）は、作動中に光学系を通過する光に対して全反射をもたらすことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項８】
前記少なくとも１つの偏向面は、偏向ミラーとして具現化されることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項９】
フーリエ光学ユニット（２２０，３２０）が、前記光学ビーム経路に対して前記ミラー装置（２００，３００）の下流に配置され、該フーリエ光学ユニット（２２０，３２０）は、光学系の作動中に該フーリエ光学ユニット（２２０，３２０）上に入射する光の角度分布を該光学ビーム経路の下流に配置された瞳平面（ＰＰ）内の空間分布に変換することを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの偏向面（２１２，３１２）は、前記フーリエ光学ユニット（２２０，３２０）の一部を形成することを特徴とする請求項９に記載の光学系。
【請求項１１】
前記フーリエ光学ユニット（２２０，３２０）は、１つよりも多いレンズ要素を有することを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の光学系。
【請求項１２】
前記フーリエ光学ユニット（２２０，３２０）は、４つよりも多くなく、特に３つよりも多くないレンズ要素を有することを特徴とする請求項９から請求項１１のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１３】
２５０ｎｍよりも短く、特に２００ｎｍよりも短く、より特定的に１６０ｎｍよりも短い動作波長に向けて設計されることを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１４】
マイクロリソグラフィ投影露光装置のための、光軸（ＯＡ）を有する光学系であって、  ミラー装置によって反射された光の角度分布を変更するために互いに独立して調節可能である複数のミラー要素（２００ａ，２００ｂ，２００ｃ，．．．，３００ａ，３００ｂ，３００ｃ，．．．）を有する少なくとも１つのミラー装置（２００，３００）と、
前記ミラー装置（２００，３００）の下流の光学ビーム経路に対して、前記光軸（ＯＡ）の偏向が生じる少なくとも１つの偏向面（２１２，３１２）を有する偏向デバイス（２１０，３１０）と、
を含み、
前記少なくとも１つの偏向面（２１２，３１２）は、屈折力を有し、
前記少なくとも１つの偏向面（２１２，３１２）は、作動中に光学系を通過する光に対して全反射をもたらす、
ことを特徴とする光学系。
【請求項１５】
照明デバイス（１０）と投影レンズ（２０）とを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
前記照明デバイス（１０）は、請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の光学系を有する、
ことを特徴とする装置。
【請求項１６】
微細構造化構成要素をマイクロリソグラフィを用いて生成する方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に塗布された基板（１６０）を与える段階と、  結像される構造を有するマスク（１５０）を与える段階と、
請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の光学系を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスク（１５０）の少なくとも一部を前記層の一領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系に関する。
【背景技術】
【０００２】
マイクロリソグラフィ投影露光装置は、例えば、集積回路又はＬＣＤのような微細構造化構成要素を生成するのに使用される。そのような投影露光装置は、照明デバイスと投影レンズを有する。マイクロリソグラフィ処理では、照明デバイスを用いて照明されるマスク（＝レチクル）の像は、マスク構造を基板の感光コーティングに転写するために、感光層（フォトレジスト）で被覆されて投影レンズの像平面に配置された基板（例えば、シリコンウェーハ）上に投影される。
【０００３】
マイクロリソグラフィ投影露光装置の作動中に、照明デバイスの瞳平面に定められた照明設定、すなわち、強度分布を目標を定めて設定しなければならない。この目的で、回折光学要素（いわゆるＤＯＥ）の使用に加えて、ミラー装置の使用も、例えば、ＷＯ  ２００５／０２６８４３  Ａ２から公知である。そのようなミラー装置は、互いに独立して設定することができる複数のマイクロミラーを含み、照明デバイス内に設定される強度分布の柔軟な変更を可能にする。
【０００４】
この場合に、実際には、それぞれの望ましい照明設定を設定するためのそのようなミラー装置内のミラー要素の最大設定可能傾斜角は、ミラー要素の傾斜を実現するときの機械的問題（例えば、そこで一般的に使用される撓み部の不安定性に起因する）及び該当する場合にミラー装置の領域内での熱の放散に関する問題を回避するために制限される（典型的には数度に）。その結果、ミラー装置内の最大傾斜角のこの制限は、照明デバイスに典型的に使用され、かつ照明光の角度分布を瞳平面内の空間分布に変換するように機能するフーリエ光学ユニットが比較的長い焦点距離（例えば、数メートル）を典型的に有するべきであるという影響を有する。
【０００５】
これらの焦点距離をそれにもかかわらず適切なコストで実現するために、フーリエ光学ユニットを複数の屈折レンズ要素を有する光学ズーム系として構成することが公知であるが、原理的に、この構成は、材料及びコストに関して出費を増加させる。更に、複数の屈折レンズ要素を有する光学ズーム系としてのフーリエ光学ユニットの構成はまた、例えば、同じく空間的な要求が高く、かつ光学ズーム系内で追加のレンズ要素によって阻害されてはならない支持構造の収容がより困難になる限り、投影露光装置の光学設計の構成における構造コストの増大を意味する可能性がある。
【０００６】
従来技術に関しては、単なる例としてＷＯ  ２００５／０２６８４３  Ａ２、ＵＳ  ２００９／０１１６０９３  Ａ１、及びＵＳ  ２００６／０５５８３４  Ａ１を参照されたい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】ＷＯ  ２００５／０２６８４３  Ａ２
【特許文献２】ＵＳ  ２００９／０１１６０９３  Ａ１
【特許文献３】ＵＳ  ２００６／０５５８３４  Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、比較的低い構造コスト及び比較的小型の設計と併せて、照明デバイスに設定される強度分布を柔軟に変更することを可能にするマイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この目的は、独立請求項１の特徴に従って達成される。
【００１０】
マイクロリソグラフィ投影露光装置のための本発明による光軸を有する光学系は、ミラー装置によって反射された光の角度分布を変更するために互いに独立して調節可能である複数のミラー要素を有する少なくとも１つのミラー装置と、ミラー装置の下流の光学ビーム経路に対して光軸の偏向が生じる少なくとも１つの偏向面を有する偏向デバイスとを含み、少なくとも１つの偏向面は、屈折力を有する。
【００１１】
本発明は、特に、強度分布を変化させるように機能し、かつ互いに独立して設定することができるミラー要素を有するミラー装置と、ミラー装置の下流の光学ビーム経路に対して、光軸を偏向させるための少なくとも１つの偏向面を有する偏向デバイスとの使用から進んで、この少なくとも１つの偏向面が、単なる反射面として（そして更に、屈折力を有さないように）単純に構成されるのではなく、この偏向面に屈折力が意図的に与えられるという思想に基づいている。
【００１２】
屈折力を有する偏向面のこの構成は、光学ビーム経路内で下流に配置された瞳平面内の空間分布への照明光の角度分布の変換であって、照明デバイスの更に別の光学ビーム経路内に典型的に要求される上記変換が、より単純な又はより小型の設計の光学ユニットを用いて達成することができるという結果を有利に有する。なぜならば、この偏向面によって与えられる屈折力に関してこの偏向面の適切な構成が与えられると、上述の変換に要求される関連のフーリエ光学ユニットの光学効果をこの偏向面によって予め部分的に実施することができるからである。
【００１３】
偏向面が「ミラー装置の下流の光学ビーム経路に対して」配置されるという表現は、光学系の作動中に通過する光が、最初にミラー装置上に入射し、次に偏向面上に入射することを意味すると理解しなければならない（なぜならば、光学ビーム経路が、光源からマスクに向い、更に基板に向う方向に延びるからである）。
【００１４】
この場合に、本発明は、特に、それぞれ望ましい照明設定を設定するためのミラー要素のミラー装置内で設定することができる最大傾斜角が制限されるので（典型的に数度に）、照明光の角度分布を瞳平面内の空間分布に変換するためのそのようなフーリエ光学ユニットに関して典型的に比較的長い焦点距離（例えば、数メートル）が要求されるという考察に基づいている。次に、光学系又は照明デバイスの依然として適切な構造的長さと併せて、要求されるフーリエ光学ユニットのそのような比較的長い焦点距離を実現することができるためには、このフーリエ光学ユニットの光学ズーム系としての構成という意味における関連のフーリエ光学ユニットの短縮化が望ましい。
【００１５】
ここで本発明により、偏向デバイスの少なくとも１つの偏向面によって光学系内に屈折力が予め導入され、かつ（フーリエ）光学ユニットの必要な光学効果をこの偏向面によって予め部分的に実施することができるという事実により、達成することができるのは、上述の問題を回避又は軽減することができるように、例えば、光学ズーム系の又はフーリエ光学ユニットの少なくとも１つの屈折レンズ要素が不要にされることである。
【００１６】
屈折力を有する偏向デバイスの少なくとも１つの偏向面の本発明による構成は、光学系の比較的短い構造的長さ又は小型設計にも関わらず、それぞれ望ましい照明設定を生成するほど十分に長いフーリエ光学ユニットの焦点距離を与えることができることを主な理由として、ミラー装置のミラー要素によって実現される傾斜角に関してミラー装置に課せられる要件が軽減されるという更に別の利点を達成することを可能にする。ミラー要素のより小さい最大傾斜角（例えば、±３°よりも大きくない）を有するミラー装置のこのような可能な構成に起因して、ミラー要素の傾斜を実現するときの機械的問題（例えば、そこに典型的に使用される撓み部の不安定性に起因する）及び該当する場合にミラー装置の領域内の熱の放散に関する問題を回避することが可能である。
【００１７】
一実施形態によれば、光学系は、ミラー装置と下流の瞳平面との間の光学ビーム経路に対して、光軸の偏向が生じるちょうど１つの偏向面を有する。
【００１８】
しかし、本発明は、ミラー装置と下流の瞳平面との間にちょうど１つの偏向面を有する構成に限定されない。本発明の他の実施形態において、光学系はまた、ミラー装置と下流の瞳平面との間の光学ビーム経路に対して複数の偏向面を有することができる。この場合に、本発明により屈折力を有するように構成されたこの偏向面は、好ましくは、光学ビーム経路内のこれらの偏向面のうちの最初のものである。この構成は、光学系内で必要とされるビーム変換の場合に利用可能な構造的空間を可能な限り最適に利用することができるという利点を有する。
【００１９】
本発明の実施形態において、この少なくとも１つの偏向面は、正の屈折力を有する（すなわち、「収束効果」を有する）。
【００２０】
原理的に、個々の屈折力を用いて実現されるフーリエ光学ユニットは、フーリエ光学ユニットがテレセントリックである限り（すなわち、フーリエ光学ユニットが、入力平面内の角度を出力平面内の場所に変換するだけでなく、入力平面内の場所を出力平面内の角度にも変換する）、その焦点距離の大きさの２倍の構造的長さを有する。非テレセントリックフーリエ光学ユニットの場合には、１つの屈折力だけしか使用されない時により短い構造的長さも可能である。フーリエ光学ユニットの必要な構造的空間の短縮化は、特に、フーリエ光学ユニットが、屈折力を与えられた複数の面から構成され、そのようなフーリエ光学ユニットの最初の屈折力が収束効果を有する場合に達成することができる。発散する最初の屈折力を用いて達成することができるのは、構造的空間を延長することである。
【００２１】
前段落に示した「規則」は、有利な構成を説明している。しかし、これらの規則から逸脱していても、通常は、完全に機能するフーリエ光学ユニットを得ることが同じく可能である（しかし、この場合に、フーリエ光学ユニットの他の屈折力は比較的強く、従って、該当する場合はそれ程好都合ではない）。
【００２２】
一実施形態によれば、偏向デバイスは、プリズムとして構成される。
【００２３】
一実施形態によれば、偏向デバイスは、光学ビーム経路に対してミラー装置の上流に配置された第１の偏向面と、光学ビーム経路に対してミラー装置の下流に配置された第２の偏向面とを有し、第１の偏向面と第２の偏向面での両方の各々に光軸の偏向が生じる。
【００２４】
一実施形態によれば、ミラー装置のミラー要素は、５°よりも大きくなく、特に４°よりも大きくなく、より特定的には３°よりも大きくない最大傾斜角を有する。
【００２５】
一実施形態によれば、少なくとも１つの偏向面は、作動中に光学系を通過する光に対して全反射をもたらす。偏向ミラーとしての偏向面の同じく可能な実現と比較すると、そのような構成は、より低い光損失、従って、光学系の伝達特性の改善という利点を有する。
【００２６】
しかし、本発明は、上述の全反射の利用に限定されない。この点に関して、本発明の更に別の構成では、この少なくとも１つの偏向面は、偏向ミラーとして実現することもできる。全反射の利用と比較すると、その結果、この構成は、光学設計における偏向面の位置決めに関して、偏向面での入射角が、全反射の臨界角よりも小さい値に制限されないという利点を有する。
【００２７】
一実施形態によれば、フーリエ光学ユニットは、光学ビーム経路に対して偏向デバイスの下流に配置され、このフーリエ光学ユニットは、光学系の作動中にフーリエ光学ユニット上に入射する光の角度分布を光学ビーム経路内で下流に配置された瞳平面内の空間分布に変換する。
【００２８】
一実施形態によれば、このフーリエ光学ユニットは、１つよりも多いレンズ要素を有する。更に、本発明の実施形態において、このフーリエ光学ユニットは、４つよりも多くなく、特に３つよりも多くないレンズ要素を有する。
【００２９】
一実施形態によれば、光学系は、２５０ｎｍよりも短く、特に２００ｎｍよりも短く、より特定的には１６０ｎｍよりも短い動作波長に向けて設計される。
【００３０】
本発明は、更に、マイクロリソグラフィ投影露光装置にかつ微細構造化構成要素をマイクロリソグラフィを用いて生成する方法に関する。
【００３１】
本発明の更に別の構成は、本明細書及び従属請求項から集めることができる。
【００３２】
本発明は、添付図面に示す例示的実施形態に基づいて以下により詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明による光学系を含むマイクロリソグラフィ投影露光装置の可能な構成を解説するための概略図である。
【図２】本発明の例示的実施形態を解説するための概略図である。
【図３】本発明の例示的実施形態を解説するための概略図である。
【図４】従来技術の光学系の構成を解説するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
最初に図１を参照して、本発明による光学系を含むマイクロリソグラフィ投影露光装置の１つの可能な基本的構成を以下に説明する。図１に示す基本構成は、例えば、ＵＳ  ２００９／０１１６０９３  Ａ１から公知であり、従って、本出願の請求する主題に属さない。
【００３５】
図１に記載の投影露光装置は、照明デバイス１１０と投影レンズ１２０を有する。照明デバイス１１０は、例えば、１９３ｎｍの動作波長のためのＡｒＦエキシマレーザと、平行光ビームを発生させるビーム成形光学ユニットとを含む光源ユニット１０１からの光で構造担持マスク（レチクル）１５０を照明するように機能する。一般的に、照明デバイス１１０及び投影レンズ１２０は、好ましくは、２５０ｎｍよりも短く、特に２００ｎｍよりも短く、より特定的には１６０ｎｍよりも短い動作波長に向けて設計される。
【００３６】
図２により、照明デバイス１１０の一部は、特に、図２及びそれ以降を参照して以下により詳細に説明するようにミラー装置２００である。そのようなミラー装置２００は、ＭＭＡ（「マイクロミラーアレイ」）又はそうでなければ空間光変調器と呼ばれることもあり、かつ図２に略示すようにミラー装置２００によって反射される光の角度分布を変更するために互い独立して調節可能な複数のミラー要素２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、．．．を有する。図１により、この調節は、適切なアクチュエータを使用する駆動ユニット２０５を用いて駆動される。ミラー要素２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、．．．の各々は、例えば、−２．５°から＋２．５°までの角度範囲で個々に傾斜させることができる。光伝播方向にミラー装置２００の上流には、ミラー要素２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、．．．上への目標を定めたフォーカスのためのかつミラー要素２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、．．．の間の領域内でのミラー要素からの漏出の結果としての光損失及び迷光の発生を低減又は回避するための多数のマイクロレンズ要素を有するマイクロレンズ要素装置（例示していない）をそれ自体公知の態様で設けることができる。
【００３７】
ミラー装置２００内でのミラー要素２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、．．．の適切な傾斜配置を用いて、望ましい照明設定に依存して（適切な場合は予め均一化かつ平行化した）レーザ光をミラー装置２００のミラー要素２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、．．．によって各々に対応する方向に向けることにより、図１に記載の照明デバイス１１０の瞳平面に望ましい光又は強度分布、例えば、環状照明設定又はそうでなければ二重極設定又は四重極設定を形成することができる。
【００３８】
図１により、光源ユニット１０１及び偏光状態を設定するためのデバイス１０２から来る光は、ミラー装置２００上に入射する前に最初に偏向デバイス２１０上に入射し、それによって照明光は、偏向デバイス２１０の第１の偏向面２１１でミラー装置２００の方向に偏向され、ミラー装置２００での反射の後に偏向デバイス２１０の第２の偏向面２１２によって再度元の伝播方向に沿って偏向される。従って、偏向デバイス２１０は、光伝播方向に関してミラー装置２００の上流と下流の両方にあるそれぞれの偏向面２１１及び２１２を有する。
【００３９】
偏向デバイス２１０は、第１に、様々な照明設定を柔軟に設定するように機能するミラー装置２００が、望ましい照明設定を設定するための回折光学要素（ＤＯＥ）が装備された照明デバイス内で、例えばこのＤＯＥの交換により、モジュールの態様で（あたかも「プラグ・アンド・プレイ」原理と同等に）使用されることを可能にする。なぜならば、照明光が、偏向デバイス２１０を用いた簡単な態様でかつ照明デバイスの光学設計の残りの部分の更に別の修正の必要なく、光学ビーム経路から出て結合され、かつ光学ビーム経路内に再度結合されるからである。
【００４０】
言い換えれば、本発明により、例えば、ＤＯＥが備えられたそれぞれ既存の照明デバイスの現在の光学設計との完全な適合性と併せて、照明デバイスは、これに加えて、このＤＯＥを本発明によるモジュールと交換することにより、異なる照明設定を柔軟な態様で更に設定することができるという効果を与えることができる。照明光の上述の入力及び出力結合は、該当する場合に利用可能な構造的空間の最適な利用がそれによって可能にされる限り更に有利である。
【００４１】
光伝播方向に偏向デバイス２１０の下流のビーム経路には、図１に簡略化した形で単一のレンズ要素として例示し、かつそれ自体の上に入射する光の角度分布を下流の瞳平面ＰＰ内の空間分布に変換するように機能する光学ズーム系の形態にあるフーリエ光学ユニット２２０が置かれる。そのようなフーリエ光学ユニットは、コンデンサーとも表される。
【００４２】
ビーム経路内では、光混合を得るのに適する例えばマイクロ光学要素の装置を有することができる光混合デバイス１０３とレンズ要素群１０４とが続き、レンズ要素群１０４の下流には、レチクルマスキング系（ＲＥＭＡ）１０５を有する視野平面が置かれ、このレチクルマスキング系１０５は、光伝播方向に下流に配置されたＲＥＭＡレンズ１０６により、マスク台（通常「レチクル台」とも表される）上の更に別の視野平面に配置された構造担持マスク（レチクル）１５０上に結像され、それによってレチクル上の照明領域を区切る。
【００４３】
構造担持マスク１５０は、ウェーハ台１６１上に配置された感光層が設けられた基板１６０又はウェーハ上に投影レンズ１２０によって結像される。投影レンズ１２０は、特に液浸作動に向けて設計することができる。更に、投影レンズ１２０は、０．８５よりも大きく、特に１．１よりも大きく、特に１．３よりも大きい開口数ＮＡを有することができる。
【００４４】
図２を参照して、本発明の一例示的実施形態による偏向デバイス２１０の構成及びその機能を以下に説明する。
【００４５】
図２により、偏向デバイス２１０は、ミラー装置２００の下流の光学ビーム経路に対して配置された偏向面２１２が屈折力を有するように構成される。
【００４６】
言い換えれば、偏向面２１２は、ＵＳ  ２００９／０１１６０９３  Ａ１からそれ自体が公知の従来の装置を示す図４の場合のように光学系又は照明デバイスの光軸ＯＡを偏向させるために屈折力を伴わずに単に反射をもたらすだけではない。本発明により、屈折力を伴わない反射の代わりに、偏向面２１２は、屈折力を光学系内に予め導入し、その結果、フーリエ光学ユニット２２０によって与えられるべき光学効果（すなわち、照明光の角度分布の、ビーム経路内で下流に配置された瞳平面ＰＰ内の空間分布への変換）の一部は、この偏向面２１２によって予めもたらすことができ、従って、偏向面２１２は、その屈折力に起因して光学機能的にフーリエ光学ユニット２２０の一部になる。その結果、これは、このフーリエ光学ユニット２２０（典型的に複数の屈折レンズ要素を更に有し、単なる例として図２には２つのレンズ要素２２１、２２２、及び図３には３つのレンズ要素３２１、３２２、３２３を示す）を屈折力を持たない偏向面２１２の構成と比較して短い構造的長さで、従ってより小型に構成することができるという利点を提供する。特に、フーリエ光学ユニット２２０のより小型の構成は、フーリエ光学ユニット２２０の屈折光学要素のうちの少なくとも１つを省くことができることを意味することができる。
【００４７】
図３は、フーリエ光学ユニット３２０の３つのレンズ要素３２１、３２２、３２３を含む対応する配置の概略図を示しており、図２と比較して、類似するか又は機能的に実質的に同一の要素は、参照番号に「１００」を加えたもので表している。
【００４８】
図２及び図３により、一例として示すフーリエ光学ユニット２２０及び３２０のレンズ要素２２１、２２２及び３２１〜３２３は、光学ビーム経路内で偏向デバイス２１０及び３１０の偏向面２１２及び３１２に直接続くが、本発明は、これに限定されない。限定されるのではなく、本発明の更に別の実施形態において、偏向面２１２及び３１２と、フーリエ光学ユニット２２０及び３２０の更に別のレンズ要素２２１、２２２及び３２１〜３２３（又はその最初の屈折レンズ要素２２１及び３２１）との間に１つ又は複数の更に別の偏向面を設けることができる。
【００４９】
好ましくは、ミラー装置２００とフーリエ光学ユニット２２０の間に複数の偏向面を有する上述の構成の場合にも、これらの偏向面のうちで光学ビーム経路に対して最初のものは、屈折力を有するように構成される。なぜならば、このようにして、利用可能な構造的空間を、ビーム変換をもたらす上で最適に利用することができるからである。しかし、本発明は、原理的にこの構成にも限定されず、従って、本出願は、ミラー装置２００とフーリエ光学ユニット２２０の最初の屈折レンズ要素２２１との間の複数の偏向面のうちで光学ビーム経路に対して最初のものではなく、これらの偏向面のうちの別のものに屈折力が与えられた構成を包含するようにも考えるべきである。更に、そのような偏向面のうちの２つ又はそれよりも多くが屈折力を有することも可能である。
【００５０】
図２から明らかなように、図示の例示的実施形態において、偏向デバイス２１０の偏向面２１１、２１２では、各場合に全反射によって照明光のビーム偏向が発生し、すなわち、照明光は、関連の偏向面２１１、２１２上に各場合に関連の波長（例えば、１９３ｎｍ）で全反射の臨界角よりも小さい入射角で入射し、すなわち、ビームは、この臨界角よりも浅く入射する。入射角は、全反射の臨界角よりも例えば１°だけ、特に５°だけ小さいとすることができ、それによって取りわけ偏向面２１１、２１２上のゼロでない粗さの効果が低下する。全反射により、反射損失の最小化に起因して、本発明による光学系では特に高い伝達率を得ることができる。しかし、本発明は、この構成に限定されず、従って、更に別の実施形態において、偏向面２１１、２１２は、偏向ミラーの形態にある反射ミラー面によっても実現することができる（この場合に、上述した全反射の臨界角よりも小さい入射角への制限は省かれる）。
【００５１】
同じく図２から明らかなように、ミラー装置２００及び同じく偏向デバイス２１０は、ミラー装置２００が実質的に垂直入射で作動されるように配置され、偏向デバイス２１０又はその偏向面２１１、２１２は、全体として１８０°の偏向に対応する、９０°の角度の光軸の偏向（すなわち「曲げ」）を２回もたらす。実質的に垂直入射によるミラー装置２００の作動は、原理的に有利であるにも関わらず、本発明は、これにも限定されず、従って、更に別の実施形態において、他の角度による光軸の偏向（例えば、偏向デバイス２１０の偏向面２１１、２１２での）を実現することもできる。
【００５２】
本発明を特定の実施形態に基づいて記載したが、当業者は、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び／又は交換により、多くの変形及び代替実施形態を推測するものである。従って、そのような変形及び代替実施形態が、本発明によって関連的に包含され、本発明の範囲が、添付の特許請求の範囲及びその均等物の意味においてのみ限定されることは当業者には言うまでもない。
【符号の説明】
【００５３】
１０１  光源ユニット
１１０  照明デバイス
１５０  構造担持マスク
２００、２０５  ミラー装置
２１０  偏向デバイス
【図１】
0005861950.tif 000002
【図２】
0005861950.tif 000003
【図３】
0005861950.tif 000004
【図４】
0005861950.tif 000005