(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
モノアシルホスフィンオキサイドＡ１と、ビスアシルホスフィンオキサイドＡ２と、溶解度パラメータが８．０〜１０．０であるラジカル重合性モノマーＢとを含有する粘着剤組成物であって、
前記ラジカル重合性モノマーＢが、分岐状アルキル基および脂環式炭化水素基からなる群より選択される少なくとも１種の基を有し、
前記粘着剤組成物の全量に対する前記モノアシルホスフィンオキサイドＡ１の含有量が、１．５質量％以上であり、
前記ラジカル重合性モノマーＢの含有量ｂと、前記モノアシルホスフィンオキサイドＡ１および前記ビスアシルホスフィンオキサイドＡ２の合計の含有量ａとの質量比ｂ／ａが、３．０〜３０．０であり、
前記粘着剤組成物に含まれる酸素原子のモル数と炭素原子のモル数との比が、０．１以下である、粘着剤組成物。
ただし、前記脂環式炭化水素基は、不飽和炭化水素基を有する脂環式炭化水素基以外の脂環式炭化水素基である。前記酸素原子のモル数と炭素原子のモル数との比は、前記炭素原子のモル数に対する前記酸素原子のモル数の比である。
【請求項２】
さらに、アミノケトン系光重合開始剤およびヒドロキシケトン系光重合開始剤からなる群より選択される少なくとも１種の光重合開始剤を含有する、請求項１に記載の粘着剤組成物。
【請求項３】
さらに、下記一般式（Ｉ）で表される増感色素を含有する、請求項１または２に記載の粘着剤組成物。
【化１】
0005961201.tif 000008
一般式（Ｉ）中、Ｒ11〜Ｒ18は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、カルボキシル基またはスルホ基を表す。Ｒ15またはＲ16と、Ｒ17またはＲ18とは、互いに結合して５〜６員の脂肪族環、芳香族環、または複素環を形成していてもよい。
【請求項４】
さらに、亜リン酸エステル、アミンおよびチオールからなる群より選択される少なくとも１種の重合阻害抑制剤を含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の粘着剤組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の粘着剤組成物から得られる粘着シート。
【請求項６】
厚みが５０μｍ以上である、請求項５に記載の粘着シート。
【請求項７】
タッチパネル用粘着シートである、請求項５または６に記載の粘着シート。
【請求項８】
請求項７に記載の粘着シートと、静電容量式タッチパネルセンサーとを備える、タッチパネル用積層体。
【請求項９】
さらに、保護基板を備え、
前記保護基板と、前記粘着シートと、前記静電容量式タッチパネルセンサーとをこの順に備える、請求項８に記載のタッチパネル用積層体。
【請求項１０】
静電容量式タッチパネルセンサーと、請求項７に記載の粘着シートと、表示装置とをこの順に備える、静電容量式タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粘着剤組成物、粘着シート（特にタッチパネル用粘着シート）、タッチパネル用積層体および静電容量式タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話や携帯ゲーム機器等へのタッチパネルの搭載率が上昇しており、例えば、多点検出が可能な静電容量方式のタッチパネル（以後、単にタッチパネルとも称する）が注目を集めている。
通常、タッチパネルを製造する際には、表示装置やタッチパネルセンサーなどの各部材間を密着させるために粘着剤組成物や接着剤組成物が使用されている。なお、これらの組成物はシート状に成形されて使用されることが多い。
【０００３】
例えば、特許文献１には、（メタ）アクリレート系モノマーとＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ（モノアシルホスフィンオキサイド）とを含有するタッチパネル用の接着剤組成物が開示されている（実施例）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−１４４７４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方で、粘着剤組成物から得られる粘着シートは、タッチパネルに用いる上で様々な特性が求められる。例えば、タッチパネルの耐久性の点から優れた密着性が求められる。また、タッチパネルの環境適応性の点から、冷地や温暖地など様々な使用環境下において、誤動作が生じ難いことが求められる。すなわち、誤動作発生率が低いことが求められる。
【０００６】
このようななか本発明者らが、特許文献１を参考に、ラジカル重合性モノマーとモノアシルホスフィンオキサイドとを含有する粘着剤組成物を用いて粘着シートを形成したところ、その密着性は昨今求められるレベルを満たすものではないことが明らかになった。また、上記粘着シートをタッチパネルに用いたところ、誤動作発生率は昨今求められるレベルを必ずしも満たすものではないことが明らかになった。
【０００７】
そこで、本発明は、上記実情を鑑みて、粘着シートとしたときに密着性に優れ、かつ、粘着シートとして静電容量式タッチパネルに用いたときに、低温から高温までの幅広い温度環境下にて誤動作の発生を抑制することができる粘着剤組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、モノアシルホスフィンオキサイドに加えてビスアシルホスフィンオキサイドを併用し、かつ、ラジカル重合性モノマーとして特定のモノマーを使用するとともに、粘着剤組成物に含まれる酸素原子のモル数と炭素原子のモル数との比を特定にすることで上記課題が解決できることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
【０００９】
（１）  モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）と、ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）と、溶解度パラメータ（ＳＰ値）が８．０〜１０．０であるラジカル重合性モノマー（Ｂ）とを含有する粘着剤組成物であって、
上記ラジカル重合性モノマー（Ｂ）が、分岐状アルキル基および脂環式炭化水素基（ただし、不飽和炭化水素基を有する脂環式炭化水素基を除く）からなる群より選択される少なくとも１種の基を有し、
上記粘着剤組成物の全量に対する上記モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の含有量が、１．５質量％以上であり、
上記ラジカル重合性モノマー（Ｂ）の含有量（ｂ）と、上記モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）および上記ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の合計の含有量（ａ）との質量比（ｂ／ａ）が、３．０〜３０．０であり、
上記粘着剤組成物に含まれる酸素原子のモル数と炭素原子のモル数との比（酸素原子のモル数／炭素原子のモル数）が、０．１以下である、粘着剤組成物。
（２）  さらに、アミノケトン系光重合開始剤およびヒドロキシケトン系光重合開始剤からなる群より選択される少なくとも１種の光重合開始剤を含有する、上記（１）に記載の粘着剤組成物。
（３）  さらに、後述する一般式（Ｉ）で表される増感色素を含有する、上記（１）または（２）に記載の粘着剤組成物。
（４）  さらに、亜リン酸エステル、アミンおよびチオールからなる群より選択される少なくとも１種の重合阻害抑制剤を含有する、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の粘着剤組成物。
（５）  上記（１）〜（４）のいずれかに記載の粘着剤組成物から得られる粘着シート。
（６）  厚みが５０μｍ以上である、上記（５）に記載の粘着シート。
（７）  タッチパネル用粘着シートである、上記（５）または（６）に記載の粘着シート。
（８）  上記（７）に記載の粘着シートと、静電容量式タッチパネルセンサーとを備える、タッチパネル用積層体。
（９）  さらに、保護基板を備え、
上記保護基板と、上記粘着シートと、上記静電容量式タッチパネルセンサーとをこの順に備える、上記（８）に記載のタッチパネル用積層体。
（１０）  静電容量式タッチパネルセンサーと、上記（７）に記載の粘着シートと、表示装置とをこの順に備える、静電容量式タッチパネル。
【発明の効果】
【００１０】
以下に示すように、本発明によれば、粘着シートとしたときに密着性に優れ、かつ、粘着シートとして静電容量式タッチパネルに用いたときに、低温から高温までの幅広い温度環境下にて誤動作の発生を抑制することができる粘着剤組成物を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明のタッチパネル用積層体の一態様の断面図である。
【図２】本発明のタッチパネル用積層体の別の態様の断面図である。
【図３】本発明の静電容量式タッチパネルの断面図である。
【図４】静電容量式タッチパネルセンサーの一実施形態の平面図である。
【図５】図４に示した切断線Ａ−Ａに沿って切断した断面図である。
【図６】第１検出電極の拡大平面図である。
【図７】静電容量式タッチパネルセンサーの他の実施形態の一部断面である。
【図８】静電容量式タッチパネルセンサーの他の実施形態の一部断面である。
【図９】静電容量式タッチパネルセンサーの他の実施形態の一実施形態の一部平面図である。
【図１０】図９に示した切断線Ａ−Ａに沿って切断した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明の粘着剤組成物、並びに、本発明の粘着剤組成物を用いた粘着シート、タッチパネル用積層体および静電容量式タッチパネルについて説明する。
なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを表し、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基またはメタクリロイル基を表す。
さらに、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１３】
［粘着剤組成物］
本発明の粘着剤組成物（以下、本発明の組成物とも言う）は、モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）と、ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）と、溶解度パラメータ（ＳＰ値）が８．０〜１０．０であるラジカル重合性モノマー（Ｂ）とを含有する粘着剤組成物である。
ここで、上記ラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、分岐状アルキル基および脂環式炭化水素基（ただし、不飽和炭化水素基を有する脂環式炭化水素基を除く）からなる群より選択される少なくとも１種の基を有する。また、上記粘着剤組成物の全量に対する上記モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の含有量は、１．５質量％以上である。また、上記ラジカル重合性モノマー（Ｂ）の含有量（ｂ）と、上記モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）および上記ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の合計の含有量（ａ）との質量比（ｂ／ａ）は、３．０〜３０．０である。また、上記粘着剤組成物に含まれる酸素原子のモル数と炭素原子のモル数との比（酸素原子のモル数／炭素原子のモル数）は、０．１以下である。
本発明の組成物はこのような構成をとるため、所望の効果が得られるものと考えられる。
【００１４】
その理由は明らかではないが、およそ以下のとおりと推測される。
本発明の組成物に含有されるモノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）およびビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）は光重合開始剤として機能する。そのため、本発明の組成物に光を照射すると、本発明の組成物に含有されるラジカル重合性モノマー（Ｂ）が重合し、粘着性を有するシートが形成される。ここで、本発明の組成物は、上述のとおりモノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）に加えて、光の深部透過性に優れるビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）を併用する。そのため、本発明の組成物に光を照射した場合、系全体に亘って重合反応が均一に進み、密着性が向上するものと考えられる。
ここで、本発明の組成物に含有されるモノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）は光重合開始剤として機能するとともにビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の溶解性を補助する。また、本発明の組成物に含有されるラジカル重合性モノマー（Ｂ）は特定のＳＰ値および特定の基を有するため、ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）との相溶性が極めて高い。結果として、ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）による上記効果が担保されているものと考えられる。
これらのことは、後述する比較例が示すように、（ｉ）モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）のみを使用した場合（比較例１〜５および７）には密着性が不十分となること、（ｉｉ）ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）のみを使用した場合（比較例８）には粘着シートを形成することができるような均質な組成物が得られないこと、（ｉｉｉ）特定のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を使用しなかった場合（比較例１１〜１３および１５）には密着性が不十分となることからも推測される。
また、本発明の組成物は、組成物中に含まれる酸素原子のモル数と炭素原子のモル数との比（酸素原子のモル数／炭素原子のモル数）が特定の値以下であるため、得られる粘着シートは使用環境による比誘電率の変化が小さく、静電容量式タッチパネルに用いたときに低温から高温までの幅広い温度環境下にて誤動作の発生を抑制することができるものと考えられる。
【００１５】
以下、本発明の組成物に含有される各成分について詳述する。
【００１６】
＜モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）＞
本発明の組成物に含有されるモノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）は特に制限されず、公知のモノアシルホスフィンオキサイドを使用することができる。本発明の組成物は２種以上のモノアシルホスフィンオキサイドを含有しても構わない。
モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の好適な態様としては、例えば、下記式（Ａ１）で表されるモノアシルホスフィンオキサイドが挙げられる。
【００１７】
【化１】
0005961201.tif 000002
【００１８】
上記式（Ａ１）中、ＲA11は、置換基を有してもよい炭化水素基を表す。炭化水素基としては特に制限されないが、具体例としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基などが挙げられ、なかでも、芳香族炭化水素基であることが好ましい。
上記脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよい。上記脂肪族炭化水素基の具体例としては、直鎖状または分岐状のアルキル基（特に、炭素数１〜２０）、直鎖状または分岐状のアルケニル基（特に、炭素数２〜２０）、直鎖状または分岐状のアルキニル基（特に、炭素数２〜２０）などが挙げられる。上記脂肪族炭化水素基は、直鎖状または分岐状のアルキル基であることが好ましい。
上記芳香族炭化水素基としては、例えば、アリール基、ナフチル基などが挙げられる。上記アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基などの炭素数６〜１８のアリール基などが挙げられる。
炭化水素基が有してもよい置換基としては特に制限されないが、具体例としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子など）などが挙げられる。脂肪族炭化水素基および芳香族炭化水素基の具体例および好適な態様は、上述のとおりである。置換基は、脂肪族炭化水素基であることが好ましい。
【００１９】
上記式（Ａ１）中、ＲA12およびＲA13は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基または炭化水素オキシ基（−ＯＲ：ここでＲは炭化水素基を表す）を表す。置換基を有してもよい炭化水素基の炭化水素基、および、炭化水素オキシ基の炭化水素基（Ｒ）の具体例は上述した炭化水素基と同じである。また、炭化水素基または炭化水素オキシ基が有してもよい置換基の具体例および好適な態様は、上述した置換基と同じである。
ＲA12とＲA13のうち一方は置換基を有してもよい芳香族炭化水素基であることが好ましい。ＲA12とＲA13のうち一方が置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である場合、他方は置換基を有してもよいフェニル基（特に炭素数６〜１８）またはアルコキシ基（特に炭素数１〜５のもの）であることが好ましく、置換基を有してもよいフェニル基（特に炭素数６〜１８）であることがより好ましい。
【００２０】
モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の具体例としては、ベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，３，５，６−テトラメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、３，４−ジメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−フェニルエトキシホスフィンオキサイドなどが挙げられる。
【００２１】
モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の０．１質量％アセトニトリル溶液の４００ｎｍにおける吸光度は１．５以下であることが好ましく、１．３以下であることがより好ましい。モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の吸光度の下限は特に制限されないが、０．２以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましい。
【００２２】
本発明の組成物の全量に対するモノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の含有量は１．５質量％以上である。なかでも、１．５〜３．９質量％であることが好ましい。なお、本明細書において、本発明の組成物が溶媒を含有する場合、本発明の組成物の全量とは溶媒以外の成分の合計の量を指す。
本発明の組成物の全量に対するモノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の含有量が１．５質量％を下回ると、光による硬化性が低下し、得られる粘着シートの密着性が不十分になる。
【００２３】
＜ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）＞
本発明の組成物に含有されるビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）は特に制限されず、公知のビスアシルホスフィンオキサイドを使用することができる。本発明の組成物は２種以上のビスアシルホスフィンオキサイドを含有しても構わない。
ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の好適な態様としては、例えば、下記式（Ａ２）で表されるビスアシルホスフィンオキサイドが挙げられる。
【００２４】
【化２】
0005961201.tif 000003
【００２５】
上記式（Ａ２）中、ＲA21〜ＲA23は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基を表す。炭化水素基および置換基の具体例および好適な態様は上述したＲA11と同じである。
【００２６】
ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の具体例としては、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメチルベンゾイル）−エチルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。
【００２７】
ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の０．１質量％アセトニトリル溶液の４３０ｎｍにおける吸光度は０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましい。ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の吸光度の上限は特に制限されないが、０．８以下であることが好ましく、０．４以下であることがより好ましい。
【００２８】
本発明の組成物の全量に対するビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の含有量は特に制限されないが、０．１〜２．５質量％であることが好ましい。
【００２９】
ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の含有量（ａ２）と上記モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の含有量（ａ１）との質量比（ａ２／ａ１）は特に制限されないが、得られる粘着シートの密着性および段差追従性がより優れる理由から、０．３０以上であることが好ましく、０．４０以上であることがより好ましい。
【００３０】
＜ラジカル重合性モノマー（Ｂ）＞
本発明の組成物は、「溶解度パラメータ（ＳＰ値）が８．０〜１０．０であり、かつ、分岐状アルキル基および脂環式炭化水素基（ただし、不飽和炭化水素基を有する脂環式炭化水素基を除く）からなる群より選択される少なくとも１種の基を有するラジカル重合性モノマー（Ｂ）」を含有する。本発明の組成物は２種以上のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を含有しても構わない。
【００３１】
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）はラジカル重合性基を有する。ラジカル重合性基としては特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリロイル基、イタコン酸エステル基、クロトン酸エステル基、イソクロトン酸エステル基、マレイン酸エステル基、スチリル基、ビニル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基などが挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基が好ましく、（メタ）アクリロイル基、スチリル基がより好ましい。
【００３２】
また、上述のとおり、ラジカル重合性モノマー（Ｂ）は、分岐状アルキル基および脂環式炭化水素基（ただし、不飽和炭化水素基を有する脂環式炭化水素基を除く）からなる群より選択される少なくとも１種の基を有する。
分岐状アルキル基としては特に制限されないが、炭素数３〜３０のものが好ましく、５〜２０のものがより好ましい。分岐状アルキル基の具体例としては、ｉｓｏ−プロピル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシルアルキル基などが挙げられる。
脂環式炭化水素基としては特に制限されないが、炭素数３〜３０のものが好ましく、５〜２０のものがより好ましい。脂環式炭化水素基は、単環型であっても、多環型であってもよい。単環型の具体例としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。多環型の具体例としては、イソボルニル基、アダマンチル基などが挙げられる。なお、脂環式炭化水素基は不飽和炭化水素基を有するものではない。脂環式炭化水素基が不飽和炭化水素基を有する場合、上述したビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）との相溶性が低下し、調製が困難となる。不飽和炭化水素基を有する脂環式炭化水素基としては、例えば、ジシクロペンテニル基などが挙げられる。
【００３３】
上述のとおり、ラジカル重合性モノマー（Ｂ）のＳＰ値は８．０〜１０．０である。ここでＳＰ値は、Ｍｉｃｈａｅｌ  Ｍ．  Ｃｏｌｌｍａｎ，  Ｊｏｈｎ  Ｆ．  Ｇｒａｆ，  Ｐａｕｌ  Ｃ．  Ｐａｉｎｔｅｒ  （Ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉａ  Ｓｔａｔｅ  Ｕｎｉｖ．）による、"Ｓｐｅｃｉｆｉｃ  Ｉｎｔｅｒａｃｔｉｏｎｓ  ａｎｄ  ｔｈｅ  Ｍｉｓｃｉｂｉｌｉｔｙ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｂｌｅｎｄｓ"  （１９９１），  Ｔｅｃｈｎｏｍｉｃ  Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ  Ｃｏ．  Ｉｎｃ．に記載されている計算で求められる値である。但し、‐ＣＯＯＨ基と‐ＯＨ基については記載がないため、Ｒ．  Ｆ．  ＦｅｄｏｒｓによるＰｏｌｙｍｅｒ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  ａｎｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，  １４（２），  １４７（１９７４）に記載の値を用いる。ＳＰ値が８．０〜１０．０の範囲を外れた場合、上述したビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）との相溶性が低下し、調製が困難となる。なお、本明細書においてＳＰ値の単位は（Ｊ／ｃｍ3）1/2である。
【００３４】
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）の好適な態様としては、例えば、溶解度パラメータ（ＳＰ値）が８．０〜１０．０であり、かつ、下記式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。
【００３５】
【化３】
0005961201.tif 000004
【００３６】
上記式（Ｂ１）中、ＲB11は、水素原子またはアルキル基（好ましくはメチル基）を表す。
【００３７】
上記式（Ｂ１）中、ＬB1は、単結合または２価の有機基を表す。２価の有機基としては特に制限されないが、例えば、２価の脂肪族炭化水素基（例えば、アルキレン基。好ましくは炭素数１〜８）、２価の芳香族炭化水素基（例えば、アリーレン基。好ましくは炭素数６〜１２）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｎ(Ｒ)−（Ｒ：アルキル基）、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、またはこれらを組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。なかでも、アルキレン基、−Ｏ−またはこれらを組み合わせた基であることが好ましい。
【００３８】
上記式（Ｂ１）中、ＲB12は、分岐状アルキル基または脂環式炭化水素基（ただし、不飽和炭化水素基を有する脂環式炭化水素基を除く）を表す。分岐状アルキル基および脂環式炭化水素基（ただし、不飽和炭化水素基を有する脂環式炭化水素基を除く）の具体例および好適な態様は上述のとおりである。
【００３９】
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）の具体例としては、２−エチルヘキシルメタクリレート（ＳＰ値：８．１）、シクロヘキシルアクリレート（ＳＰ値：８．３）、イソボルニルアクリレート（ＳＰ値：８．３３）、イソボルニルメタクリレート（ＳＰ値：８．３）などが挙げられる。
【００４０】
本発明の組成物の全量に対するラジカル重合性モノマー（Ｂ）の含有量は特に制限されないが、１〜５０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることがより好ましい。
【００４１】
ラジカル重合性モノマー（Ｂ）の含有量（ｂ）と、上記モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）および上記ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の合計の含有量（ａ）との質量比（ｂ／ａ）は、３．０〜３０．０である。質量比（ｂ／ａ）は、得られる粘着シートの密着性および段差追従性がより優れる理由から、４．０以上であることが好ましく、６．０以上であることがより好ましい。
質量比（ｂ／ａ）が３．０〜３０．０の範囲から外れると、粘着シートを形成することができるような均質な組成物が得られないか、均質な組成物が得られても密着性が不十分となる。
【００４２】
＜任意成分＞
本発明の組成物には、必要に応じて、その効果や目的を損なわない範囲で、上述した成分以外の成分（任意成分）が含有されていてもよい。
任意成分としては、例えば、上述したラジカル重合性モノマー（Ｂ）以外のラジカル重合性モノマー、上述したモノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）および上述ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）以外の光重合開始剤、増感色素、重合阻害抑制剤、樹脂成分、溶媒などが挙げられる。
【００４３】
（ラジカル重合性モノマー（Ｂ）以外のラジカル重合性モノマー（Ｍ））
ラジカル重合性モノマー（Ｍ）としてはラジカル重合性モノマー（Ｂ）以外のラジカル重合性モノマーであれば特に制限されないが、例えば、ラジカル重合性基を有する化合物のうちＳＰ値が８．０〜１０．０の範囲から外れるものや、ラジカル重合性基を有する化合物のうち分岐状アルキル基および脂環式炭化水素基（ただし、不飽和炭化水素基を有する脂環式炭化水素基を除く）を有さないものなどが挙げられる。ラジカル重合性基の具体例は上述したラジカル重合性モノマー（Ｂ）と同じである。
【００４４】
ラジカル重合性モノマー（Ｍ）の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート（ＳＰ値：７．８）などが挙げられる。
【００４５】
本発明の組成物の全量に対するラジカル重合性モノマー（Ｍ）の含有量は特に制限されないが、１〜２０質量％であることが好ましい。
【００４６】
（モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）およびビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）以外の光重合開始剤（Ｐ））
光重合開始剤（Ｐ）としてはモノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）およびビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）以外の光重合開始剤であれば特に制限されない。
そのような光重合開始剤としては、例えば、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１（Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、ＢＡＳＦ社製）などのアミノケトン系光重合開始剤；ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）、ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１７３）などのヒドロキシケトン系光重合開始剤；ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系光重合開始剤；ベンジルメチルケタール（ＥｓａｃｕｒｅＫＢ１、日本シーベルヘグナー社製）；２−ヒドロキシ−２−メチル−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノールオリゴマー（ＥｓａｃｕｒｅＫＩＰ１５０、日本シーベルヘグナー社製）などが挙げられる。
本発明の組成物は、アミノケトン系光重合開始剤およびヒドロキシケトン系光重合開始剤からなる群より選択される少なくとも１種の光重合開始剤を含有するのが好ましい。
【００４７】
本発明の組成物の全量に対する光重合開始剤（Ｐ）の含有量は特に制限されないが、０．１〜５質量％であることが好ましい。
【００４８】
（増感色素）
増感色素は特に制限されないが、例えば、チオキサントン類、チオクロマノン類、カルバゾール類、キサントン類などが挙げられる。本発明の組成物は２種以上の増感色素を含有しても構わない。
【００４９】
増感色素の好適な態様としては、例えば、下記一般式（Ｉ）で表される増感色素が挙げられる。
【００５０】
【化４】
0005961201.tif 000005
【００５１】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ11〜Ｒ18は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、カルボキシル基またはスルホ基を表す。Ｒ15またはＲ16と、Ｒ17またはＲ18とは、互いに縮合して５〜６員の脂肪族環、芳香族環、または複素環を形成していてもよい。
Ｒ11〜Ｒ14は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子であることが好ましい。Ｒ15〜Ｒ18は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。
【００５２】
本発明の組成物は、上記一般式（Ｉ）で表される増感色素を含有するのが好ましい。
【００５３】
本発明の組成物の全量に対する増感色素の含有量は特に制限されないが、０．１〜２質量％であることが好ましい。
【００５４】
（重合阻害抑制剤）
重合阻害抑制剤は、酸素による重合阻害を抑制する働きを有する。重合阻害抑制は特に制限されないが、例えば、亜リン酸エステル（例えば、亜リン酸トリフェニルなど）、アミン（例えば、アニリン、ヒンダードアミン、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン）など）、チオール（例えば、ドデカンチオール、ペンタエリトリトールテトラ（３−メルカプトプロピオナート）など）などが挙げられる。本発明の組成物は２種以上の重合阻害抑制剤を含有しても構わない。
本発明の組成物は、亜リン酸エステル、アミンおよびチオールからなる群より選択される少なくとも１種の重合阻害抑制剤を含有するのが好ましい。
【００５５】
本発明の組成物の全量に対する重合阻害抑制剤の含有量は特に制限されないが、０．１〜１．０質量％であることが好ましい。
【００５６】
（樹脂成分）
本発明の組成物は樹脂成分を含有するのが好ましい。樹脂成分としては特に制限されないが、ジエン系ゴム（例えば、液状ポリブタジエンなどの液状ゴム）、石油系樹脂（例えば、芳香族系石油樹脂、脂肪族系石油樹脂、Ｃ９留分による樹脂など）、テルペン樹脂（例えば、水添テルペン樹脂、芳香族変性テルペン樹脂）、ロジン系樹脂（例えば、部分水素化ガムロジン樹脂、エリトリトール変性木材ロジン樹脂、トール油ロジン樹脂、ウッドロジン樹脂）、クマロンインデン系樹脂（例えば、クロマンインデンスチレン共重合体）、スチレン系樹脂（例えば、ポリスチレン、スチレンとα−メチルスチレンの共重合体等）などの粘着付与剤が挙げられる。なかでも、液状ゴム、テルペン樹脂が好ましい。
本発明の組成物がテルペン樹脂を含有する場合、本発明の組成物の全量に対するテルペン樹脂の含有量は特に制限されないが、１０〜５０質量％であることが好ましい。
本発明の組成物が液状ゴムを含有する場合、本発明の組成物の全量に対する液状ゴムの含有量は特に制限されないが、１０〜５０質量％であることが好ましい。
【００５７】
（溶媒）
本発明の組成物には、必要に応じて、溶媒が含有されていてもよい。使用される溶媒としては、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、またはこれらの混合溶媒を挙げることができる。
【００５８】
本発明の組成物には、上記以外にも、表面潤滑剤、レベリング剤、酸化防止剤、腐食防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、無機または有機の充填剤、金属粉、顔料などの粉体、粒子状、箔状物などの従来公知の各種の添加剤を使用する用途に応じて適宜添加することができる。
【００５９】
＜粘着剤組成物に含まれる酸素原子のモル数と炭素原子のモル数との比＞
本発明の組成物中の酸素原子のモル数と炭素原子のモル数との比（酸素原子のモル数／炭素原子のモル数）（以下、「Ｏ／Ｃ比」とも言う）は０．１以下である。なかでも、０．００５〜０．０５であることが好ましい。
Ｏ／Ｃ比が０．１を超える場合、粘着シートとして静電容量式タッチパネルに用いたときに誤動作が発生しやすくなる。
なお、本発明の組成物が溶媒を含有する場合、Ｏ／Ｃ比は、溶媒以外の全ての成分中のＯ／Ｃ比を指す。
【００６０】
上記Ｏ／Ｃ比は、粘着剤組成物中の各成分について酸素原子のモル数と炭素原子のモル数を計算することで求めることができる。
例えば、粘着剤組成物が、モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）とビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）とラジカル重合性モノマー（Ｂ）とテルペン樹脂と液状ゴムとを含有する場合、Ｏ／Ｃ比は、［モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の酸素原子のモル数＋ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の酸素原子のモル数＋ラジカル重合性モノマー（Ｂ）の酸素原子のモル数＋テルペン樹脂の酸素原子のモル数＋液状ゴムの酸素原子のモル数］／［モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の炭素原子のモル数＋ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の炭素原子のモル数＋ラジカル重合性モノマー（Ｂ）の炭素原子のモル数＋テルペン樹脂の液状ゴムの炭素原子のモル数］により求めることができる。
【００６１】
＜粘着剤組成物の調製方法＞
本発明の組成物の調製方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、上記各成分を混合した後、公知の手段により撹拌することによって調製することができる。
【００６２】
［粘着シート］
本発明の粘着シートは、上述した本発明の組成物から得られる粘着シートである。
粘着シートの厚みは特に制限されないが、５〜２５００μｍであることが好ましく、５０〜５００μｍであることがより好ましく、１００〜２５０μｍであることがさらに好ましい。
粘着シートは、光学的に透明であることが好ましい。つまり、透明粘着シートであることが好ましい。光学的に透明とは、全光線透過率は８５％以上であることを意図し、９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましい。
【００６３】
＜粘着シートの作製方法＞
粘着シートの製造方法は特に制限されず、公知の方法より製造できる。例えば、上述した本発明の組成物を所定の基材（例えば、離型ＰＥＴなどの離型シート）上に塗布し、光（紫外線、可視光線、Ｘ線など）照射することで硬化させる方法が挙げられる。
組成物を塗布する方法としては、例えば、グラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ナイフコーター、ダイコーター、ロールコーターなどによる方法が挙げられる。
光照射する方法としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯などによる方法が挙げられる。光照射のエネルギーは特に制限されないが、１〜１０Ｊ／ｃｍ2であるのが好ましい。
粘着シートの形成後、必要に応じて、形成された粘着シートの露出した表面上に離型ＰＥＴなどの離型シートを積層してもよい。
【００６４】
なお、粘着シートは、基材を有しないタイプ（基材レス粘着シート）であっても、基材の少なくとも一方の主面に粘着層が配置された基材を有するタイプ（基材付き粘着シート。例えば、基材の両面に粘着層を有する基材付き両面粘着シート、基材の片面にのみ粘着層を有する基材付き片面粘着シート）であってもよい。
【００６５】
［タッチパネル用積層体、静電容量式タッチパネル］
本発明のタッチパネル用積層体は、上述した本発明の粘着シートと、静電容量式タッチパネルセンサーとを備える。
本発明のタッチパネル用積層体の一態様について図面を参照して説明する。
図１は、本発明のタッチパネル用積層体の一態様を模式的に表す断面図である。図１において、タッチパネル用積層体１００は、粘着シート１２と、静電容量式タッチパネルセンサー１８とを備える。
また、図２は、本発明のタッチパネル用積層体の別の態様を模式的に表す断面図である。図２において、タッチパネル用積層体２００は、保護基板２０と、粘着シート１２と、静電容量式タッチパネルセンサー１８とを備える。
【００６６】
また、本発明の静電容量式タッチパネルは、静電容量式タッチパネルセンサーと、上述した本発明の粘着シートと、表示装置とをこの順に備える。
本発明の静電容量式タッチパネルの一態様について図面を参照して説明する。
図３（Ａ）は、本発明の静電容量式タッチパネルの一態様を模式的に表す断面図である。図３（Ａ）において、静電容量式タッチパネル３００は、静電容量式タッチパネルセンサー１８と、粘着シート１２と、表示装置５０とを備える。
また、図３（Ｂ）は、本発明の静電容量式タッチパネルの別の態様を模式的に表す断面図である。図３（Ｂ）において、静電容量式タッチパネル４００は、保護基板２０と、粘着シート１２と、静電容量式タッチパネルセンサー１８と、粘着シート１２と、表示装置５０とを備える。
以下、タッチパネル用積層体および静電容量式タッチパネルで使用される各種部材について詳述する。
また、図３（Ｃ）は、本発明の静電容量式タッチパネルのさらに別の態様を模式的に表す断面図である。図３（Ｃ）において、静電容量式タッチパネル５００は、保護基板一体型静電容量式タッチパネルセンサー６０と、粘着シート１２と、表示装置５０とを備える。ここで、保護基板一体型静電容量式タッチパネルセンサー６０は、後述するように、保護基板と静電容量式タッチパネルセンサーとが一体となった部材であり、保護基板と静電容量式タッチパネルセンサーとの間に粘着シートを備えない。そのため、保護基板一体型静電容量式タッチパネルセンサー６０を備える静電容量式タッチパネル５００は、上述した静電容量式タッチパネル４００と比較して、厚みが薄くなる。
【００６７】
〔静電容量式タッチパネルセンサー〕
静電容量式タッチパネルセンサー１８とは、表示装置上（操作者側）に配置され、人間の指などの外部導体が接触（接近）するときに発生する静電容量の変化を利用して、人間の指などの外部導体の位置を検出するセンサーである。
静電容量式タッチパネルセンサー１８の構成は特に制限されないが、通常、検出電極（特に、Ｘ方向に延びる検出電極およびＹ方向に延びる検出電極）を有し、指が接触または近接した検出電極の静電容量変化を検出することによって、指の座標を特定する。
【００６８】
図４を用いて、静電容量式タッチパネルセンサー１８の好適態様について詳述する。
図４に、静電容量式タッチパネルセンサー１８０の平面図を示す。図５は、図４中の切断線Ａ−Ａに沿って切断した断面図である。静電容量式タッチパネルセンサー１８０は、基板２２と、基板２２の一方の主面上（表面上）に配置される第１検出電極２４と、第１引き出し配線２６と、基板２２の他方の主面上（裏面上）に配置される第２検出電極２８と、第２引き出し配線３０と、フレキシブルプリント配線板３２とを備える。なお、第１検出電極２４および第２検出電極２８がある領域は、使用者によって入力操作が可能な入力領域ＥI（物体の接触を検知可能な入力領域（センシング部））を構成し、入力領域ＥIの外側に位置する外側領域ＥOには第１引き出し配線２６、第２引き出し配線３０およびフレキシブルプリント配線板３２が配置される。
以下では、上記構成について詳述する。
【００６９】
基板２２は、入力領域ＥIにおいて第１検出電極２４および第２検出電極２８を支持する役割を担うと共に、外側領域ＥOにおいて第１引き出し配線２６および第２引き出し配線３０を支持する役割を担う部材である。
基板２２は、光を適切に透過することが好ましい。具体的には、基板２２の全光線透過率は、８５〜１００％であることが好ましい。
基板２２は、絶縁性を有する（絶縁基板である）ことが好ましい。つまり、基板２２は、第１検出電極２４および第２検出電極２８の間の絶縁性を担保するための層である。
【００７０】
基板２２としては、透明基板（特に、透明絶縁性基板）であることが好ましい。その具体例としては、例えば、絶縁樹脂基板、セラミックス基板、ガラス基板などが挙げられる。なかでも、靭性に優れる理由から、絶縁樹脂基板であることが好ましい。
絶縁樹脂基板を構成する材料としては、より具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリアミド、ポリアリレート、ポリオレフィン、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、シクロオレフィン系樹脂などが挙げられる。なかでも、透明性に優れる理由から、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース樹脂であることが好ましい。
【００７１】
図４において、基板２２は単層であるが、２層以上の複層であってもよい。
基板２２の厚み（基板２２が２層以上の複層の場合は、それらの合計厚み）は特に制限されないが、５〜３５０μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがより好ましい。上記範囲内であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。
また、図４においては、基板２２の平面視形状は実質的に矩形状とされているが、これには限られない。例えば、円形状、多角形状であってもよい。
【００７２】
第１検出電極２４および第２検出電極２８は、静電容量の変化を感知するセンシング電極であり、感知部（センサ部）を構成する。つまり、指先をタッチパネルに接触させると、第１検出電極２４および第２検出電極２８の間の相互静電容量が変化し、この変化量に基づいて指先の位置をＩＣ回路によって演算する。
第１検出電極２４は、入力領域ＥIに接近した使用者の指のＸ方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第１検出電極２４は、第１方向（Ｘ方向）に延び、第１方向と直交する第２方向（Ｙ方向）に所定の間隔をあけて配列された電極であり、後述するように所定のパターンを含む。
第２検出電極２８は、入力領域ＥIに接近した使用者の指のＹ方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第２検出電極２８は、第２方向（Ｙ方向）に延び、第１方向（Ｘ方向）に所定の間隔をあけて配列された電極であり、後述するように所定のパターンを含む。図４においては、第１検出電極２４は５つ、第２検出電極２８は５つ設けられているが、その数は特に制限されず複数あればよい。
【００７３】
図４中、第１検出電極２４および第２検出電極２８は、導電性細線により構成される。図６に、第１検出電極２４の一部の拡大平面図を示す。図６に示すように、第１検出電極２４は、導電性細線３４により構成され、交差する導電性細線３４による複数の格子３６を含んでいる。なお、第２検出電極２８も、第１検出電極２４と同様に、交差する導電性細線３４による複数の格子３６を含んでいる。
【００７４】
導電性細線３４の材料としては、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）などの金属や合金、ＩＴＯ、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化ガリウム、酸化チタンなどの金属酸化物、などが挙げられる。なかでも、導電性細線３４の導電性が優れる理由から、銀であることが好ましい。
【００７５】
導電性細線３４の中には、導電性細線３４と基板２２との密着性の観点から、バインダーが含まれていることが好ましい。
バインダーとしては、導電性細線３４と基板２２との密着性がより優れる理由から、水溶性高分子であることが好ましい。バインダーの種類としては、例えば、ゼラチン、カラギナン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロースおよびその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウムなどが挙げられる。なかでも、導電性細線３４と基板２２との密着性がより優れる理由から、ゼラチンが好ましい。
なお、ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、その他アミノ基、カルボキシル基を修飾したゼラチン（フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン）を使用することができる。
【００７６】
また、バインダーとしては、上記ゼラチンとは異なる高分子（以後、単に高分子とも称する）をゼラチンと共に使用してもよい。
使用される高分子の種類はゼラチンと異なれば特に制限されないが、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体およびキトサン系重合体、からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、または、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体などが挙げられる。
【００７７】
導電性細線３４中における金属とバインダーとの体積比（金属の体積／バインダーの体積）は、１．０以上が好ましく、１．５以上がさらに好ましい。金属とバインダーの体積比を１．０以上とすることで、導電性細線３４の導電性をより高めることができる。上限は特に制限されないが、生産性の観点から、６．０以下が好ましく、４．０以下がより好ましく、２．５以下がさらに好ましい。
なお、金属とバインダーの体積比は、導電性細線３４中に含まれる金属およびバインダーの密度より計算することができる。例えば、金属が銀の場合、銀の密度を１０．５ｇ／ｃｍ3として、バインダーがゼラチンの場合、ゼラチンの密度を１．３４ｇ／ｃｍ3として計算して求めるものとする。
【００７８】
導電性細線３４の線幅は特に制限されないが、低抵抗の電極を比較的容易に形成できる観点から、３０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましく、９μｍ以下が特に好ましく、７μｍ以下が最も好ましく、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましい。
導電性細線３４の厚みは特に制限されないが、導電性と視認性との観点から、０．００００１ｍｍ〜０．２ｍｍから選択可能であるが、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、０．０１〜９μｍがさらに好ましく、０．０５〜５μｍが最も好ましい。
【００７９】
格子３６は、導電性細線３４で囲まれる開口領域を含んでいる。格子３６の一辺の長さＷは、８００μｍ以下が好ましく、６００μｍ以下がより好ましく、４００μｍ以上であることが好ましい。
第１検出電極２４および第２検出電極２８では、可視光透過率の点から開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。開口率とは、所定領域において第１検出電極２４または第２検出電極２８中の導電性細線３４を除いた透過性部分が全体に占める割合に相当する。
【００８０】
格子３６は、略ひし形の形状を有している。但し、その他、多角形状（例えば、三角形、四角形、六角形）としてもよい。また、一辺の形状を直線状の他、湾曲形状でもよいし、円弧状にしてもよい。円弧状とする場合は、例えば、対向する２辺については、外方に凸の円弧状とし、他の対向する２辺については、内方に凸の円弧状としてもよい。また、各辺の形状を、外方に凸の円弧と内方に凸の円弧が連続した波線形状としてもよい。もちろん、各辺の形状を、サイン曲線にしてもよい。
なお、図６においては、導電性細線３４はメッシュパターンとして形成されているが、この態様には限定されず、ストライプパターンであってもよい。
【００８１】
第１引き出し配線２６および第２引き出し配線３０は、それぞれ上記第１検出電極２４および第２検出電極２８に電圧を印加するための役割を担う部材である。
第１引き出し配線２６は、外側領域ＥOの基板２２上に配置され、その一端が対応する第１検出電極２４に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板３２に電気的に接続される。
第２引き出し配線３０は、外側領域ＥOの基板２２上に配置され、その一端が対応する第２検出電極２８に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板３２に電気的に接続される。
なお、図４においては、第１引き出し配線２６は５本、第２引き出し配線３０は５本記載されているが、その数は特に制限されず、通常、検出電極の数に応じて複数配置される。
【００８２】
第１引き出し配線２６および第２引き出し配線３０を構成する材料としては、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）などの金属や、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化ガリウム、酸化チタンなどの金属酸化物などが挙げられる。なかでも、導電性が優れる理由から、銀であることが好ましい。また、銀ペーストや銅ペーストなどの金属ペーストや、アルミニウム（Ａｌ）やモリブデン（Ｍｏ）などの金属や合金薄膜で構成されていてもよい。金属ペーストの場合は、スクリーン印刷やインクジェット印刷法で、金属や合金薄膜の場合は、スパッタ膜をフォトリソグラフィー法などのパターニング方法が好適に用いられる。
なお、第１引き出し配線２６および第２引き出し配線３０中には、基板２２との密着性がより優れる点から、バインダーが含まれていることが好ましい。バインダーの種類は、上述の通りである。
【００８３】
フレキシブルプリント配線板３２は、基板上に複数の配線および端子が設けられた板であり、第１引き出し配線２６のそれぞれの他端および第２引き出し配線３０のそれぞれの他端に接続され、静電容量式タッチパネルセンサー１８０と外部の装置（例えば、表示装置）とを接続する役割を果たす。
【００８４】
〔静電容量式タッチパネルセンサーの製造方法〕
静電容量式タッチパネルセンサー１８０の製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用することができる。例えば、基板２２の両主面上に形成された金属箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する金属箔をエッチングする方法が挙げられる。また、基板２２の両主面上に金属微粒子または金属ナノワイヤを含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行う方法が挙げられる。また、基板２２上にスクリーン印刷版またはグラビア印刷版によって印刷形成する方法、または、インクジェットにより形成する方法も挙げられる。
【００８５】
さらに、上記方法以外にハロゲン化銀を使用した方法が挙げられる。より具体的には、基板２２の両面にそれぞれ、ハロゲン化銀とバインダーとを含有するハロゲン化銀乳剤層（以後、単に感光性層とも称する）を形成する工程（１）、感光性層を露光した後、現像処理する工程（２）を有する方法が挙げられる。
以下に、各工程に関して説明する。
【００８６】
＜工程（１）：感光性層形成工程＞
工程（１）は、基板２２の両面に、ハロゲン化銀とバインダーとを含有する感光性層を形成する工程である。
感光性層を形成する方法は特に制限されないが、生産性の点から、ハロゲン化銀およびバインダーを含有する感光性層形成用組成物を基板２２に接触させ、基板２２の両面上に感光性層を形成する方法が好ましい。
以下に、上記方法で使用される感光性層形成用組成物の態様について詳述した後、工程の手順について詳述する。
【００８７】
感光性層形成用組成物には、ハロゲン化銀およびバインダーが含有される。
ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。ハロゲン化銀としては、例えば、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらに臭化銀や塩化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。
使用されるバインダーの種類は、上述の通りである。また、バインダーはラテックスの形態で感光性層形成用組成物中に含まれていてもよい。
感光性層形成用組成物中に含まれるハロゲン化銀およびバインダーの体積比は特に制限されず、上述した導電性細線３４中における金属とバインダーとの好適な体積比の範囲となるように適宜調整される。
【００８８】
感光性層形成用組成物には、必要に応じて、溶媒が含有される。
使用される溶媒としては、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、またはこれらの混合溶媒を挙げることができる。
使用される溶媒の含有量は特に制限されないが、ハロゲン化銀およびバインダーの合計質量に対して、３０〜９０質量％の範囲が好ましく、５０〜８０質量％の範囲がより好ましい。
【００８９】
（工程の手順）
感光性層形成用組成物と基板２２とを接触させる方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、感光性層形成用組成物を基板２２に塗布する方法や、感光性層形成用組成物中に基板２２を浸漬する方法などが挙げられる。
形成された感光性層中におけるバインダーの含有量は特に制限されないが、０．３〜５．０ｇ／ｍ2が好ましく、０．５〜２．０ｇ／ｍ2がより好ましい。
また、感光性層中におけるハロゲン化銀の含有量は特に制限されないが、導電性細線３４の導電特性がより優れる点で、銀換算で１．０〜２０．０ｇ／ｍ2が好ましく、５．０〜１５．０ｇ／ｍ2がより好ましい。
【００９０】
なお、必要に応じて、感光性層上にバインダーからなる保護層をさらに設けてもよい。保護層を設けることにより、擦り傷防止や力学特性の改良がなされる。
【００９１】
＜工程（２）：露光現像工程＞
工程（２）は、上記工程（１）で得られた感光性層をパターン露光した後、現像処理することにより第１検出電極２４および第１引き出し配線２６、並びに、第２検出電極２８および第２引き出し配線３０を形成する工程である。
まず、以下では、パターン露光処理について詳述し、その後現像処理について詳述する。
【００９２】
（パターン露光）
感光性層に対してパターン状の露光を施すことにより、露光領域における感光性層中のハロゲン化銀が潜像を形成する。この潜像が形成された領域は、後述する現像処理によって導電性細線を形成する。一方、露光がなされなかった未露光領域では、後述する定着処理の際にハロゲン化銀が溶解して感光性層から流出し、透明な膜が得られる。
露光の際に使用される光源は特に制限されず、可視光線、紫外線などの光、または、Ｘ線などの放射線などが挙げられる。
パターン露光を行う方法は特に制限されず、例えば、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。なお、パターンの形状は特に制限されず、形成したい導電性細線のパターンに合わせて適宜調整される。
【００９３】
（現像処理）
現像処理の方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。
現像処理の際に使用される現像液の種類は特に制限されないが、例えば、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもできる。市販品では、例えば、富士フイルム社処方のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２等の現像液、またはそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いることもできる。
現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。定着処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
定着工程における定着温度は、約２０℃〜約５０℃が好ましく、２５〜４５℃がより好ましい。また、定着時間は５秒〜１分が好ましく、７秒〜５０秒がより好ましい。
現像処理後の露光部（導電性細線）に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。
【００９４】
上記工程以外に必要に応じて、以下の下塗層形成工程、アンチハレーション層形成工程、または加熱処理を実施してもよい。
（下塗層形成工程）
基板２２とハロゲン化銀乳剤層との密着性に優れる理由から、上記工程（１）の前に、基板２２の両面に上記バインダーを含む下塗層を形成する工程を実施することが好ましい。
使用されるバインダーは上述の通りである。下塗層の厚みは特に制限されないが、密着性と相互静電容量の変化率がより抑えられる点で、０．０１〜０．５μｍが好ましく、０．０１〜０．１μｍがより好ましい。
（アンチハレーション層形成工程）
導電性細線３４の細線化の観点で、上記工程（１）の前に、基板２２の両面にアンチハレーション層を形成する工程を実施することが好ましい。
【００９５】
＜工程（３）：加熱工程＞
工程（３）は、上記現像処理の後に加熱処理を実施する工程である。本工程を実施することにより、バインダー間で融着が起こり、導電性細線３４の硬度がより上昇する。特に、感光性層形成用組成物中にバインダーとしてポリマー粒子を分散している場合（バインダーがラテックス中のポリマー粒子の場合）、本工程を実施することにより、ポリマー粒子間で融着が起こり、所望の硬さを示す導電性細線３４が形成される。
加熱処理の条件は使用されるバインダーによって適宜好適な条件が選択されるが、４０℃以上であることがポリマー粒子の造膜温度の観点から好ましく、５０℃以上がより好ましく、６０℃以上がさらに好ましい。また、基板のカール等を抑制する観点から、１５０℃以下が好ましく、１００℃以下がより好ましい。
加熱時間は特に限定されないが、基板のカール等を抑制する観点、および、生産性の観点から、１〜５分間であることが好ましく、１〜３分間であることがより好ましい。
なお、この加熱処理は、通常、露光、現像処理の後に行われる乾燥工程と兼ねることができるため、ポリマー粒子の造膜のために新たな工程を増加させる必要がなく、生産性、コスト等の観点で優れる。
【００９６】
なお、上記工程を実施することにより、導電性細線３４間にはバインダーを含む光透過性部が形成される。光透過性部における透過率は、３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率の最小値で示される透過率は９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましく、９７％以上がさらに好ましく、９８％以上が特に好ましく、９９％以上が最も好ましい。
光透過性部には上記バインダー以外の材料が含まれていてもよく、例えば、銀難溶剤などが挙げられる。
【００９７】
静電容量式タッチパネルセンサーの態様は、上記図４の態様に限定されず、他の態様であってもよい。
例えば、図７に示すように、静電容量式タッチパネルセンサー２８０は、第１基板３８と、第１基板３８上に配置された第２検出電極２８と、第２検出電極２８の一端に電気的に接続し、第１基板３８上に配置された第２引き出し配線（図示せず）と、粘着シート４０と、第１検出電極２４と、第１検出電極２４の一端に電気的に接続している第１引き出し配線（図示せず）と、第１検出電極２４および第１引き出し配線が隣接する第２基板４２と、フレキシブルプリント配線板（図示せず）とを備える。
図７に示すように、静電容量式タッチパネルセンサー２８０は、第１基板３８、第２基板４２、および粘着シート４０の点を除いて、静電容量式タッチパネルセンサー１８０と同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略する。
第１基板３８および第２基板４２の定義は、上述した基板２２の定義と同じである。
粘着シート４０は、第１検出電極２４および第２検出電極２８を密着させるための層であり、光学的に透明であることが好ましい（透明粘着シートであることが好ましい）。粘着シート４０を構成する材料としては公知の材料が使用され、粘着シート４０としては上記粘着シート１２が使用されてもよい。
図７中の第１検出電極２４と第２検出電極２８とは、図４に示すようにそれぞれ複数使用されており、両者は図４に示すように互いに直交するように配置されている。
なお、図７に示す、静電容量式タッチパネルセンサー２８０は、基板と基板表面に配置された検出電極および引き出し配線とを有する電極付き基板を２枚用意し、電極同士が向き合うように、粘着シートを介して貼り合せて得られる静電容量式タッチパネルセンサーに該当する。
【００９８】
静電容量式タッチパネルセンサーの他の態様としては、図８に示す態様が挙げられる。
静電容量式タッチパネルセンサー３８０は、第１基板３８と、第１基板３８上に配置された第２検出電極２８と、第２検出電極２８の一端に電気的に接続し、第１基板３８上に配置された第２引き出し配線（図示せず）と、粘着シート４０と、第２基板４２と、第２基板４２上に配置された第１検出電極２４と、第１検出電極２４の一端に電気的に接続し、第２基板４２上に配置された第１引き出し配線（図示せず）と、フレキシブルプリント配線板（図示せず）とを備える。
図８に示す静電容量式タッチパネルセンサー３８０は、各層の順番が異なる点を除いて、図７に示す静電容量式タッチパネルセンサー２８０と同様の層を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略する。
また、図８中の第１検出電極２４と第２検出電極２８とは、図４に示すようにそれぞれ複数使用されており、両者は図４に示すように互いに直交するように配置されている。
なお、図８に示す、静電容量式タッチパネルセンサー３８０は、基板と基板表面に配置された検出電極および引き出し配線とを有する電極付き基板を２枚用意し、一方の電極付き基板中の基板と他方の電極付き基板の電極とが向き合うように、粘着シートを介して貼り合せて得られる静電容量式タッチパネルセンサーに該当する。
【００９９】
静電容量式タッチパネルセンサーの他の態様としては、例えば、図４において、第１検出電極２４および第２検出電極２８の導電性細線３４が、金属酸化物粒子、銀ペーストや銅ペーストなどの金属ペーストで構成されていてもよい。なかでも導電性と透明性に優れる点で、銀細線による導電膜と銀ナノワイヤ導電膜が好ましい。
また、第１検出電極２４および第２検出電極２８は導電性細線３４のメッシュ構造で構成されていたが、この態様には限定されず、例えば、ＩＴＯ、ＺｎＯなどの金属酸化物薄膜（透明金属酸化物薄膜）、銀ナノワイヤや銅ナノワイヤなどの金属ナノワイヤでネットワークを構成した透明導電膜で形成されていてもよい。
より具体的には、図９に示すように、透明金属酸化物で構成される第１検出電極２４ａおよび第２検出電極２８ａを有する静電容量式タッチパネルセンサー１８０ａであってもよい。図９は、静電容量式タッチパネルセンサー１８０ａの入力領域における一部平面図を示す。図１０は、図９中の切断線Ａ−Ａに沿って切断した断面図である。静電容量式タッチパネルセンサー１８０ａは、第１基板３８と、第１基板３８上に配置された第２検出電極２８ａと、第２検出電極２８ａの一端に電気的に接続し、第１基板３８上に配置された第２引き出し配線（図示せず）と、粘着シート４０と、第２基板４２と、第２基板４２上に配置された第１検出電極２４ａと、第１検出電極２４ａの一端に電気的に接続し、第２基板４２上に配置された第１引き出し配線（図示せず）と、フレキシブルプリント配線板（図示せず）とを備える。
図９および図１０に示す静電容量式タッチパネルセンサー１８０ａは、第１検出電極２４ａおよび第２検出電極２８ａ以外の点を除いて、図８に示す静電容量式タッチパネルセンサー３８０と同様の層を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略する。
図９および図１０に示す、静電容量式タッチパネルセンサー１８０ａは、基板と基板表面に配置された検出電極および引き出し配線とを有する電極付き基板を２枚用意し、一方の電極付き基板中の基板と他方の電極付き基板の電極とが向き合うように、粘着層を介して貼り合せて得られる静電容量式タッチパネルセンサーに該当する。
【０１００】
上述したように、第１検出電極２４ａおよび第２検出電極２８ａはそれぞれＸ軸方向およびＹ軸方向に延びる電極で、透明金属酸化物で構成され、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で構成される。なお、図９および図１０においては、透明電極ＩＴＯをセンサーとして生かすため、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）自体の抵抗の高さを、電極面積を稼いで配線抵抗総量を小さくして、さらに厚みを薄くし透明電極の特性を生かし、光透過率を確保する設計になっている。
なお、ＩＴＯのほかに上記態様で使用できる材料としては、例えば、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）などが挙げられる。
なお、電極部（第１検出電極２４ａおよび第２検出電極２８ａ）のパターニングは、電極部の材料に応じて選択でき、フォトリソグラフィー法やレジストマスクスクリーン印刷−エッチング法、インクジェット法、印刷法などを用いてもよい。
【０１０１】
〔保護基板〕
保護基板２０は、粘着シート上に配置される基板であり、外部環境から後述する静電容量式タッチパネルセンサー１８を保護する役割を果たすと共に、その主面はタッチ面を構成する。
保護基板２０として、透明基板であることが好ましくプラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板などが用いられる。基板の厚みはそれぞれの用途に応じて適宜選択することが望ましい。
上記プラスチックフィルムおよびプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類；ビニル系樹脂；その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィン系樹脂（ＣＯＰ）等を用いることができる。
また、保護基板２０としては、偏光板、円偏光板などを用いてもよい。
【０１０２】
〔保護基板一体型静電容量式タッチパネルセンサー〕
保護基板一体型静電容量式タッチパネルセンサー６０は、保護基板と静電容量式タッチパネルセンサーとが一体となった部材である。
保護基板一体型静電容量式タッチパネルセンサー６０を製造する方法は特に制限されないが、例えば、保護基板に直接、検出電極等を形成する方法などが挙げられる。
【０１０３】
〔表示装置〕
表示装置５０は、画像を表示する表示面を有する装置であり、表示画面側に各部材が配置される。
表示装置５０の種類は特に制限されず、公知の表示装置を使用することができる。例えば、陰極線管（ＣＲＴ）表示装置、液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置、真空蛍光ディスプレイ（ＶＦＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）または電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）または電子ペーパー（Ｅ−Ｐａｐｅｒ）などが挙げられる。
【０１０４】
上述した本発明の粘着シートは、静電容量式タッチパネルの製造に好適に使用できる。例えば、表示装置と上記静電容量式タッチパネルセンサーとの間や、上記静電容量式タッチパネルセンサーと保護基板との間や、または、静電容量式タッチパネルセンサー内の基板と基板上に配置された検出電極を備える導電フィルム同士の間に配置される粘着シートを付与するために使用される。
特に、本発明の粘着シートは、静電容量式タッチパネル中の検出電極に隣接する粘着層を付与するために使用されることが好ましい。このような態様に使用される場合、上記変動要因の影響によるタッチ誤動作を顕著に削減することができるため、好ましい。
なお、上記検出電極に粘着シートが隣接する場合としては、例えば、静電容量式タッチパネルセンサーが基板の裏表面に検出電極が配置された態様である際に、その両面の検出電極に接するように粘着シートが配置される場合が挙げられる。また、他の場合としては、静電容量式タッチパネルセンサーが基板と基板の片面に配置された検出電極とを備える導電フィルムを２枚有し、この２枚の導電フィルムを貼り合せる際に、検出電極に接するように粘着シートが配置される場合が挙げられる。より具体的には、図７および図８の粘着シート４０の態様として使用される場合が挙げられる。
【実施例】
【０１０５】
以下、実施例により、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０６】
＜実施例１〜２５、比較例１〜１５＞
（粘着剤組成物の調製）
下記表１に示す成分を、下記表１に示す配合量（質量部）で混合し、撹拌することで各粘着剤組成物を得た。ここで、モノマー１およびモノマー２については、スラッシュ（／）の左側が成分を表し（カッコ内の数値は成分のＳＰ値）、スラッシュ（／）の右側が成分の配合量を表す。
例えば、実施例１の粘着剤組成物は、ＥＨＭＡ（２０質量部）と、ＦＡ−５１２Ｍ（５質量部）と、ＴＰＯ（２．４質量部）と、ＩＲＧ８１９（０．６質量部）と、ＵＣ−２０３（２１．７８質量部）と、Ｐ−１３５（３８．８質量部）と、Ｐｏｌｙｏｉｌ  １１０（１１．４２質量部）とを混合し、撹拌することで得られた粘着剤組成物である。各成分の詳細は後述のとおりである。
なお、実施例、ならびに、比較例８および１４以外の比較例では均質な組成物が得られた。一方、比較例８および１４では、ＩＲＧ８１９（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９）が他の成分と相溶せず、粘着シートを形成することができるような均質な組成物が得られなかった。
【０１０７】
（粘着シートの作製）
得られた各粘着剤組成物をそれぞれ離型ＰＥＴ上に塗布して粘着剤組成物層を形成した。その後、形成した粘着剤組成物層にフュージョンＵＶランプ（Ｄバルブ：照度２００ｍＷ／ｃｍ2）を３Ｊ／ｃｍ2の条件で照射し、硬化させて、離型ＰＥＴ上に形成された粘着シート（厚み：１５０μｍ）を得た。
得られた粘着シートを、蛍光灯下、目視で観察したところ、いずれも白濁が見られず、透明であった。
なお、均質な組成物が得られなかった比較例８および１４の粘着剤組成物については、粘着シートの作製を行わなかった。
【０１０８】
＜密着性の評価＞
得られた各粘着シートを２．５ｃｍ×５ｃｍに切り出し、切り出した粘着シートの片面をガラス基板に、もう一方の面をカプトンフイルムに貼り付けたサンプルを作製した。続いて、島津製作所社製オートグラフを用いてカプトンフイルムの一端を把持して、１８０度ピール試験（引張速度３００ｃｍ／分）を行い、粘着シートとガラス基板の試験力平均値を測定し、この値を接着強度（Ｎ／ｍｍ）とした。結果を表１に示す。実用上、接着強度は０．６０Ｎ／ｍｍ以上であることが好ましい。
【０１０９】
＜段差追従性の評価＞
得られた各粘着シートを２．５ｃｍ×４ｃｍに切り出し、切り出した粘着シートの片面を、カプトンテープ（５ｍｍ幅３５μｍ厚み）を巻き付けたガラス基板に貼り付け、もう一方の面を、光学ＰＥＴに貼り付けたサンプルを作製した。続いてオートクレーブを用い、内温４０℃、５気圧、２０分の条件で加熱プレス処理し、段差追従性試験用のサンプルを作製した。
作製したサンプルについて、粘着シートとカプトンテープ段差との間に形成された境界面をニコン社製光学顕微鏡で観察し、境界空隙幅を測定した。
測定された境界空隙幅のうち最も大きい値が２０μｍ未満のものを段差追従性が優れるものとして「Ａ」とし、２０μｍ以上５０μｍ未満のものを段差追従性が比較的優れるものとして「Ｂ」とし、５０μｍ以上１００μｍ未満のものを好ましくはないが実用上使用可能なものとして「Ｃ」とし、１００μｍ以上のものを段差追従性に劣り実用性がないものとして「Ｄ」とした。結果を表１に示す。
【０１１０】
＜誤動作発生率の評価＞
まず、誤動作発生率の評価で使用されるタッチパネルの製造方法を以下に示す。
【０１１１】
（ハロゲン化銀乳剤の調製）
３８℃、ｐＨ４．５に保たれた下記１液に、下記の２液および３液の各々９０％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１６μｍの核粒子を形成した。続いて下記４液および５液を８分間にわたって加え、さらに、下記の２液および３液の残りの１０％の量を２分間にわたって加え、０．２１μｍまで成長させた。さらに、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え、５分間熟成し粒子形成を終了した。
【０１１２】
１液：
水                                        ７５０ｍｌ
ゼラチン                                        ９ｇ
塩化ナトリウム                                  ３ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン  ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム            １０ｍｇ
クエン酸                                    ０．７ｇ
２液：
水                                        ３００ｍｌ
硝酸銀                                      １５０ｇ
３液：
水                                        ３００ｍｌ
塩化ナトリウム                                ３８ｇ
臭化カリウム                                  ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム
（０．００５％ＫＣｌ  ２０％水溶液）        ８ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
（０．００１％ＮａＣｌ  ２０％水溶液）  １０ｍｌ
４液：
水                                        １００ｍｌ
硝酸銀                                        ５０ｇ
５液：
水                                        １００ｍｌ
塩化ナトリウム                                １３ｇ
臭化カリウム                                  １１ｇ
黄血塩                                        ５ｍｇ
【０１１３】
その後、常法に従い、フロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を３５℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでｐＨを下げた（ｐＨ３．６±０．２の範囲であった）。次に、上澄み液を約３リットル除去した（第一水洗）。さらに３リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を３リットル除去した（第二水洗）。第二水洗と同じ操作をさらに１回繰り返して（第三水洗）、水洗・脱塩工程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をｐＨ６．４、ｐＡｇ７．５に調整し、ゼラチン３．９g、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇと塩化金酸１０ｍｇを加え５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）１００ｍｇを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を０．０８モル％含み、塩臭化銀の比率を塩化銀７０モル％、臭化銀３０モル％とする、平均粒子径０．２２μｍ、変動係数９％のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。
【０１１４】
（感光性層形成用組成物の調製）
上記乳剤に１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１．２×１０-4モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０-2モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０-4モル／モルＡｇ、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩０．９０ｇ／モルＡｇを添加し、クエン酸を用いて塗布液ｐＨを５．６に調整して、感光性層形成用組成物を得た。
【０１１５】
（感光性層形成工程）
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにコロナ放電処理を施した後、上記ＰＥＴフィルムの両面に、下塗層として厚み０．１μｍのゼラチン層、さらに下塗層上に光学濃度が約１．０で現像液のアルカリにより脱色する染料を含むアンチハレーション層を設けた。上記アンチハレーション層の上に、上記感光性層形成用組成物を塗布し、さらに厚み０．１５μｍのゼラチン層を設け、両面に感光性層が形成されたＰＥＴフィルムを得た。得られたフィルムをフィルムＡとする。形成された感光性層は、銀量６．０ｇ／ｍ2、ゼラチン量１．０ｇ／ｍ2であった。
【０１１６】
（露光現像工程）
上記フィルムＡの両面に、図４に示すような、検出電極（第１検出電極および第２検出電極）および引き出し配線（第１引き出し配線および第２引き出し配線）を配したフォトマスクを介し、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を行った。露光後、下記の現像液で現像し、さらに定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ、富士フイルム社製）を用いて現像処理を行った。さらに、純水でリンスし、乾燥することで、両面にＡｇ細線からなる検出電極および引き出し配線を備える静電容量式タッチパネルセンサーＡを得た。
なお、得られた静電容量式タッチパネルセンサーＡにおいては、検出電極はメッシュ状に交差する導電性細線で構成されている。また、上述したように、第１検出電極はＸ方向に延びる電極で、第２検出電極はＹ方向に延びる電極であり、それぞれ４．５〜５ｍｍピッチでフィルム上に配置されている。
【０１１７】
次に、得られた各粘着シートを用いて、液晶表示装置、下部粘着層、静電容量式タッチパネルセンサー、上部粘着層、ガラス基板をこの順で含むタッチパネルを製造した。なお、静電容量式タッチパネルセンサーとしては、上記で製造した静電容量式タッチパネルセンサーＡを使用した。
具体的には、粘着シート（片面に離型ＰＥＴを有するもの）と静電容量式タッチパネルセンサーＡを、粘着シートの離型ＰＥＴを有する面とは反対の面と静電容量式タッチパネルＡの一方の面とが向き合うように、２ｋｇ重ローラーを使用して貼合し、上部粘着層を形成した。さらに、粘着シートの離型ＰＥＴを剥離して、上部粘着層上に同サイズのガラス基板を、同様に２ｋｇ重ローラーを使用して貼合した。その後、高圧恒温槽にて、４０℃、５気圧の環境に２０分間曝し、脱泡処理を行った。
次に、上部粘着層の形成と同様の手順に従って、静電容量式タッチパネルＡの上部粘着層を形成した面と反対の面に粘着シート（片面に離型ＰＥＴを有するもの）を貼合し、下部粘着層を形成した。さらに、粘着シートの離型ＰＥＴを剥離して、下部粘着層上に液晶表示装置を貼り付けた。その後、高圧恒温槽にて、４０℃、５気圧の環境に２０分間曝し、脱泡処理を行った。このようにしてタッチパネルを製造した。
【０１１８】
得られたタッチパネルを−４０℃から８０℃まで２０℃ずつ段階的に昇温して、各温度におけるタッチ時の誤動作発生率を求めた。つまり、−４０℃、−２０℃、０℃、２０℃、４０℃、６０℃、および８０℃の環境下において、任意の箇所を１００回タッチし、正常に反応しなかった回数から、タッチパネルの誤動作発生率（％）［（正常に反応しなかった回数／１００）×１００］を求めた。
求められた各温度における誤動作発生率のうち最も高い値が５％未満のものを誤動作発生率が非常に低いものとして「Ａ」とし、５％以上１０％未満のものを誤動作発生率が比較的低いものとして「Ｂ」とし、１０％以上１５％未満のものを誤動作発生率が比較的高いものとして「Ｃ」とし、１５％以上のものを誤動作発生率が非常に高いものとして「Ｄ」とした。結果を表１に示す。
【０１１９】
表１中、「ｂ／ａ」は、「溶解度パラメータ（ＳＰ値）が８．０〜１０．０であり、かつ、分岐状アルキル基および脂環式炭化水素基（ただし、不飽和炭化水素基を有する脂環式炭化水素基を除く）からなる群より選択される少なくとも１種の基を有するラジカル重合性モノマー（Ｂ）」の含有量（ｂ）と、モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）およびビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の合計の含有量（ａ）との質量比（ｂ／ａ）を表す。なお、表１に記載のモノマーのうち、ＥＨＭＡ、ＣＨＭＡ、ＩＢＸＡおよびＩＢＸは上記ラジカル重合性モノマー（Ｂ）に該当し、ＨＥＭＡ、ＭＭＡ、ＦＡ−５１２Ｍ、ＦＡ−５１２ＡＳ、ＥＨＡおよびＳｔＭＡは上記ラジカル重合性モノマー（Ｂ）に該当しない。
表１中、「Ｏ／Ｃ比」は、粘着剤組成物に含まれる酸素原子のモル数と炭素原子のモル数との比（酸素原子のモル数／炭素原子のモル数）を表す。 
【０１２０】
【表１】
0005961201.tif 000006
【０１２１】
上記表１に記載の各成分の詳細は以下のとおりである。
・ＥＨＭＡ：２−エチルヘキシルメタクリレート（ＳＰ値：８．１）
・ＣＨＭＡ：シクロヘキシルメタクリレート（ＳＰ値：８．３）
・ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート（ＳＰ値：８．３３）
・ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＳＰ値：９．３９）
・ＭＭＡ：メチルメタクリレート（ＳＰ値：８．２）
・ＦＡ−５１２Ｍ：ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、日立化成社製
・ＦＡ−５１２ＡＳ：ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、日立化成社製
・ＥＨＡ：２−エチルヘキシルアクリレート（ＳＰ値：７．８）
・ＩＢＸ：イソボルニルメタクリレート（ＳＰ値：８．３）
・ＳｔＭＡ：ステアリルメタクリレート
・ＴＰＯ：Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ（２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社製）（０．１質量％アセトニトリル溶液の４００ｎｍにおける吸光度：１．０）
・ＴＰＯ−Ｌ：Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ−Ｌ（２，４，６−トリメチルベンゾイル−フェニルエトキシホスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社製）（０．１質量％アセトニトリル溶液の４００ｎｍにおける吸光度：０．４）
・ＩＲＧ８１９：Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社製）（０．１質量％アセトニトリル溶液の４３０ｎｍにおける吸光度：０．２５）
・ＩＲＧ３６９：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ＢＡＳＦ社製）
・ＩＲＧ１８４：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ＢＡＳＦ社製）
・Ｄｙｅ−Ｔ：チオクロマノン化合物（下記化合物）
【化５】
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・ＴＰＰ：亜リン酸トリフェニル
・ＤＤＴ：１−ドデカンチオール
・ＵＣ−２０３：液状ゴム（イソプレン重合物の無水マレイン酸付加物と２−ヒドロキシエチルメタクリレートとのエステル化物、１分子当りのメタクリロイル基数：３、重量平均分子量：３５０００、クラレ社製）
・ＵＣ−１０２：液状ゴム（イソプレン重合物の無水マレイン酸付加物と２−ヒドロキシエチルメタクリレートとのエステル化物、１分子当たりのメタクリロイル基数：２、重量平均分子量：１９０００、クラレ社製）
・Ｐ−１３５：ＣＬＥＡＲＯＮ  Ｐ−１３５（水添テルペン樹脂、ヤスハラケミカル社製）
・Ｐｏｌｙｏｉｌ  １１０：液状ポリブタジエン（日本ゼオン社製）
【０１２２】
表１から分かるように、モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）に加えてビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）を併用し、かつ、特定のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を使用するとともに、Ｏ／Ｃ比を特定にした実施例１〜２５の粘着剤組成物は、いずれも粘着シートとしたときに優れた密着性を示した。また、粘着シートとして静電容量式タッチパネルに用いたときに低温から高温までの幅広い温度環境下にて誤動作の発生が抑制されていた。
実施例１〜３の対比から、ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の含有量（ａ２）とモノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の含有量（ａ１）との質量比（ａ２／ａ１）が０．３０以上である実施例２および３の方がより優れた密着性および段差追従性を示した。なかでも、質量比（ａ２／ａ１）が０．４０以上である実施例３はさらに優れた密着性を示した。
実施例３〜５の対比から、ラジカル重合性モノマー（Ｂ）の含有量（ｂ）と、モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）およびビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）の合計の含有量（ａ）との質量比（ｂ／ａ）が４．０以上である実施例３および４の方がより優れた密着性および段差追従性を示した。また、実施例３〜４および１７〜１８の対比から、質量比（ｂ／ａ）が６．０以上である実施例３および１７はさらに優れた段差追従性を示すとともに、誤動作の発生がより抑制されていた。
【０１２３】
一方、モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）とビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）を併用せずに、モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）のみを使用した比較例１〜５および７はいずれも密着性が不十分であった。また、誤動作発生率が高い場合があった。
また、ビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）のみを使用した比較例８は粘着シートを形成することができるような均質な組成物が得られなかった。
また、モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）とビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）を併用するが、特定のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を使用しない比較例１１〜１３および１５は密着性が不十分であり、また、誤動作発生率が高かった。
また、モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）とビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）を併用し、かつ、特定のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を使用するが、質量比（ｂ／ａ）が３．０未満である比較例１４は粘着シートを形成することができるような均質な組成物が得られなかった。
また、モノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）とビスアシルホスフィンオキサイド（Ａ２）を併用し、かつ、特定のラジカル重合性モノマー（Ｂ）を使用するが、組成物全量に対するモノアシルホスフィンオキサイド（Ａ１）の含有量が１．５質量％未満である比較例６は密着性が不十分であり、また、誤動作発生率が高かった。
【符号の説明】
【０１２４】
１２    粘着シート
１８、１８０、１８０ａ、２８０、３８０    静電容量式タッチパネルセンサー
２０    保護基板
２２    基板
２４、２４ａ    第１検出電極
２６、２６ａ    第１引き出し配線
２８、２８ａ    第２検出電極
３０    第２引き出し配線
３２    フレキシブルプリント配線板
３４    導電性細線
３６    格子
３８    第１基板
４０    粘着シート
４２    第２基板
５０    表示装置
６０    保護基板一体型静電容量式タッチパネルセンサー
１００、２００    タッチパネル用積層体
３００、４００、５００    静電容量式タッチパネル
【図１】
0005961201.tif 000009
【図２】
0005961201.tif 000010
【図３】
0005961201.tif 000011
【図４】
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【図５】
0005961201.tif 000013
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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