(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体部と、該本体部に取り付けられた真空吸着パッド及び逆止弁とを備える基板固定用具であって、
前記本体部の外面の一部は、平面状の基板密着面とされ、本体部の内部には、真空保持室、該真空保持室と該基板固定用具の外部の真空形成手段とを連通するための第１連通孔、前記真空保持室と前記真空吸着パッドとを連通する第２連通孔が形成され、前記本体部の基板密着面には、前記第１連通孔に前記真空形成手段を接続するための開口部が形成され、前記逆止弁は前記開口部に取り付けられ、
前記真空吸着パッドは、前記本体部の前記基板密着面側に設けられており、基板を吸着する吸盤構造を有し、前記第２連通孔に連通して基板を真空吸着する際の吸引に使用される貫通孔が形成されており、
前記逆止弁は、前記基板を真空吸着する際、及び前記基板を真空吸着後に前記第１連通孔と前記真空形成手段との接続を解除した際に、前記真空保持室に空気が流入することを阻止すると共に、前記基板の真空吸着を解除する際には、前記真空保持室に空気を流入させるように開放可能とされていることを特徴とする基板固定用具。
【請求項２】
前記真空吸着パッドは、基板を真空吸着していないときには真空吸着パッドの先端が前記基板密着面より突出し、基板を真空吸着したときには真空吸着パッドの先端が前記基板密着面と同一面上に位置する、請求項１に記載の基板固定用具。
【請求項３】
前記真空保持室の内部に、前記基板密着面を補強するリブが設けられている、請求項１又は２に記載の基板固定用具。
【請求項４】
前記逆止弁は、非透気性の軟質材料の薄板からなり、前記第１連通孔の開口部を被覆する被覆部を備える、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板固定用具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板、シリコン基板等の基板を固定する基板固定用具に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板やシリコン基板等の基板の表面に微細加工を施す方法として、基板の表面にレジスト膜を設け、そのレジスト膜をパターン露光し、現像し、エッチングするフォトリソグラフィ法が広く知られている。特許文献１には、レジスト膜として単粒子膜を用いること、基板の表面に単粒子膜を設ける際にラングミュア・ブロジェット法を利用することが開示されている。
ラングミュア・ブロジェット法により基板の表面に単粒子膜を設ける際には、ラングミュア・ブロジェット法により単分子膜を転写させる方法（特許文献２）をそのまま適用することができる。以下、ラングミュア・ブロジェット法により得られる単粒子膜および単分子膜のことを総称して、ラングミュア・ブロジェット膜という。
具体的に、基板の表面にラングミュア・ブロジェット膜を設ける方法としては、水槽中の液の表面にラングミュア・ブロジェット膜を形成し、水槽中の液に基板を鉛直方向に沿って浸漬させた後、引き上げる方法が知られている。この方法では、通常、基板は固定用具に固定された状態で、水槽中の液に浸漬され、引き上げられる。基板固定用具としては、平板状のものを用いることがある（特許文献３）。基板固定用具として平板状のものを用いる場合には、基板固定用具に基板を片面粘着テープにより固定していた。
しかし、基板固定用具に基板を片面粘着テープにより固定すると、基板に付着させたラングミュア・ブロジェット膜に欠陥が生じることがあった。さらに、基板固定用具に基板を片面粘着テープにより固定すると、加工処理後、片面粘着テープを剥がす作業に手間がかかり、生産効率を下げていた。また、粘着剤の一部が基板や基板固定用具に付着したまま残り、基板の後工程や基板固定用具の再利用において問題を引き起こすこともあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−３４６３０号公報
【特許文献２】特開昭６３−５４９３３号公報
【特許文献３】特開２０１１−１３１１８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、基板の表面に欠陥の少ないラングミュア・ブロジェット膜を容易に設けることができ、しかも多数の基板にラングミュア・ブロジェット膜を連続的に付着させる方法を容易に適用できる基板固定用具を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下の態様を有する。
［１］本体部と、該本体部に取り付けられた真空吸着パッド及び逆止弁とを備える基板固定用具であって、前記本体部の外面の一部は、平面状の基板密着面とされ、本体部の内部には、真空保持室、該真空保持室と該基板固定用具の外部の真空形成手段とを連通するための第１連通孔、前記真空保持室と前記真空吸着パッドとを連通する第２連通孔が形成され、前記本体部の基板密着面には、前記第１連通孔に前記真空形成手段を接続するための開口部が形成され、前記逆止弁は前記開口部に取り付けられ、前記真空吸着パッドは、前記本体部の前記基板密着面側に設けられており、基板を吸着する吸盤構造を有し、前記第２連通孔に連通して基板を真空吸着する際の吸引に使用される貫通孔が形成されており、前記逆止弁は、前記基板を真空吸着する際、及び前記基板を真空吸着後に前記第１連通孔と前記真空形成手段との接続を解除した際に、前記真空保持室に空気が流入することを阻止すると共に、前記基板の真空吸着を解除する際には、前記真空保持室に空気を流入させるように開放可能とされていることを特徴とする基板固定用具。
［２］前記真空吸着パッドは、基板を真空吸着していないときには真空吸着パッドの先端が前記基板密着面より突出し、基板を真空吸着したときには真空吸着パッドの先端が前記基板密着面と同一面上に位置する、［１］に記載の基板固定用具。
［３］前記真空保持室の内部に、前記基板密着面を補強するリブが設けられている、［１］又は［２］に記載の基板固定用具。
［４］前記逆止弁は、非透気性の軟質材料の薄板からなり、前記第１連通孔の開口部を被覆する被覆部を備える、［１］〜［３］のいずれかに記載の基板固定用具。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の基板固定用具は、基板の表面に欠陥の少ないラングミュア・ブロジェット膜を容易に設けることができ、しかも多数の基板にラングミュア・ブロジェット膜を連続的に付着させる方法を容易に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の基板固定用具の第１実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１のＩ−Ｉ’断面図である。
【図３】図１のII−II’断面図である。
【図４】第１実施形態の基板固定用具を構成する平板部を、基板密着面とは反対側から見た平面図である。
【図５】第１実施形態の基板固定用具に基板を固定した態様を示す図であって、平板部の短手方向に沿って切断した断面図である。
【図６】第１実施形態の基板固定用具に基板を固定した態様を示す斜視図である。
【図７】本発明の基板固定用具の第２実施形態を示す斜視図である。
【図８】図７のIII−III’断面図である。
【図９】図７のIV−IV’断面図である。
【図１０】第２実施形態の基板固定用具を構成する平板部を、基板密着面とは反対側から見た平面図である。
【図１１】第２実施形態の基板固定用具に基板を固定した態様を示す斜視図である。
【図１２】本発明の基板固定用具の第３実施形態を示す斜視図である。
【図１３】図１２のＶ−Ｖ’断面図である。
【図１４】図１２のVI−VI’断面図である。
【図１５】第３実施形態の基板固定用具を構成する平板部を、基板密着面とは反対側から見た平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
＜第１実施形態＞
本発明の基板固定用具の第１実施形態について説明する。
図１〜４に、本実施形態の基板固定用具を示す。本実施形態の基板固定用具１は、円盤状の基板を固定するものであり、本体部１００と、基板を真空吸着する３個の真空吸着パッド２００と、逆止弁３００とを備える。
【０００９】
（本体部）
本実施形態における本体部１００は、平面視で略矩形状の平板部１１０と、平板部１１０に積層されたシート部１２０と、平板部１１０の短手方向の一端側に設けられた薄板部１３０とから構成された平板状部材である。
【００１０】
平板部１１０の一方の面は、基板が密着される平面状の基板密着面１１０ａとされている。平板部１１０の他方の面１１０ｂ（以下、「裏面１１０ｂ」という。）には、９本の断面矩形の環状溝部１１１ａ，１１１ｂ・・・１１１ｉが形成されている。環状溝部１１１ａ，１１１ｂ・・・１１１ｉは、各々、幅と深さが等しく、互いに同心円状に形成されている。
また、裏面１１０ｂには、環状溝部１１１ａ，１１１ｂ・・・１１１ｉより浅い深さで断面矩形の１本の第１直線溝部１１２および３本の第２直線溝部１１３ａ，１１３ｂ，１１３ｃが形成されている。
【００１１】
平板部１１０の基板密着面１１０ａ側には、真空吸着パッド２００が挿入される凹部１１４ａ，１１４ｂ，１１４ｃが３つ形成されている。
３つの凹部１１４ａ，１１４ｂ，１１４ｃは、略正三角形の頂点の位置に配置され、さらに、２つの凹部１１４ａ，１１４ｂは、平板部１１０の短手方向の位置が同じとされ、且つ、凹部１１４ｃよりも薄板部１３０側に配置されている。
各々の凹部１１４ａ，１１４ｂ．１１４ｃの内部には、真空吸着パッド２００を取り付けるための取り付け部１１４ｄが垂設されている。
【００１２】
また、平板部１１０の最外の環状溝部１１１ａよりも外側には、基板密着面１１０ａ側と裏面１１０ｂ側とを貫通する第１貫通部１１５が形成されている。第１貫通部１１５の基板密着面１１０ａ側の開口部１１５ａは逆止弁３００が取り付けられるようになっている。
また、平板部１１０には、各取り付け部１１４ｄの頂面側と裏面１１０ｂ側とを貫通する第２貫通部１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃが形成されている。第２貫通部１１６ａ，１１６ｂは、最外の環状溝部１１１ａよりも外側に配置され、第２貫通部１１６ｃは、最内の環状溝部１１１ｉよりも内側に配置されている。
【００１３】
第１直線溝部１１２は、最外の環状溝部１１１ａと第１貫通部１１５とを接続するように直線状に形成されている。
第２直線溝部１１３ａは、最外の環状溝部１１１ａと第２貫通部１１６ａとを接続するように直線状に形成され、第２直線溝部１１３ｂは、最外の環状溝部１１１ａと第２貫通部１１６ｂとを接続するように直線状に形成され、第２直線溝部１１３ｃは、最内の環状溝部１１１ｉと第２貫通部１１６ｃとを接続するように直線状に形成されている。
【００１４】
また、平板部１１０において、互いに隣接する環状溝部１１１ａ，１１１ｂ・・・１１１ｉの間は、平面視で環状の非凹部１１７ａ，１１７ｂ・・・１１７ｈとなっており、各非凹部１１７ａ，１１７ｂ・・・１１７ｈの、第１直線溝部１１２の延長線上には、第１直線溝部１１２と同じ深さと断面形状で、すなわち環状溝部１１１ａ，１１１ｂ・・・１１１ｉよりも浅い深さで浅溝部１１８ａ，１１８ｂ・・・１１８ｈが形成されている。
【００１５】
シート部１２０は、平板部１１０よりも薄いシート状で平板部１１０の裏面１１０ｂの全面に積層されている。
また、本実施形態における薄板部１３０は、平板部１１０と一体に成形され、薄板部１３０の片面は基板密着面１１０ａと同一平面とされている。
【００１６】
本体部１００を構成する材料としては、樹脂、金属を用いることができ、樹脂が好ましい。樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができる。
平板部１１０、シート部１２０および薄板部１３０は、同一の材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。
【００１７】
本実施形態における本体部１００においては、環状溝部１１１ａから環状溝部１１１ｉまでの領域において平板部１１０とシート部１２０とによって囲まれた部分が真空保持室１４０となる。すなわち、真空保持室１４０は、平板部１１０とシート部１２０との間に形成された平面視で環状の空間である。真空保持室１４０内には、環状溝部１１１ａ，１１ｂ・・・１１１ｉの各々とシート部１２０とによって小室が形成されている。また、浅溝部１１８ａ，１１８ｂ・・・１１８ｈの各々とシート部１２０とによって、これら小室を連通する流路が形成されている。
真空保持室１４０の容積は、後述するように、真空保持室１４０を負圧にして真空吸着パッド２００により基板を真空吸着した際に真空保持室１４０に空気が少し流入しても負圧を保持できる容積とされる。本実施形態における真空保持室１４０の容積は、環状溝部１１１ａ，１１１ｂ・・・１１１ｉと浅溝部１１８ａ，１１８ｂ・・・１１８ｈの合計の容積と同等である。
【００１８】
また、本体部１００において、非凹部１１７ａ，１１７ｂ・・・１１７ｈは、真空保持室１４０の内部にて基板密着面１１０ａを補強するリブとなっている。以下、非凹部１１７ａ，１１７ｂ・・・１１７ｈのことを「リブ１１７ａ，１１７ｂ・・・１１７ｈ」ということがある。
リブ１１７ａ，１１７ｂ・・・１１７ｈが真空保持室１４０内に設けられていることにより、平板部１１０の剛性を維持して、真空保持室１４０が真空状態となった際に基板密着面１１０ａが反ることを防止するようになっている。
本実施形態におけるリブ１１７ａ，１１７ｂ・・・１１７ｈは、シート部１２０に接するようになっている。そのため、基板密着面１１０ａの反りをより防止できるようになっている。
【００１９】
最外のリブ１１７ａの直径は、基板密着面１１０ａの補強効果をより高くできることから、真空保持室１４０の直径の８５％以上であることが好ましい。すなわち、最外のリブ１１７ａは、真空保持室１４０の一方向Ｘの８５％以上の範囲、方向Ｘに直交する方向Ｙの８５％以上の範囲に設けられていることが好ましい。
【００２０】
また、本体部１００においては、第１直線溝部１１２および第１貫通部１１５とシート部１２０とによって囲まれた部分は、真空保持室１４０と基板固定用具１の外部の真空形成手段とを連通するための第１連通孔１５０となる。
また、第２直線溝部１１３ａ，１１３ｂ，１１３ｃの各々と第２貫通部１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃの各々とシート部１２０とによって囲まれた部分は、いずれも、真空保持室１４０と真空吸着パッド２００の後述する貫通孔２１１とを連通する第２連通孔１６０となる。
【００２１】
（真空吸着パッド）
本実施形態における真空吸着パッド２００は、ゴムやエラストマー等の軟質材料により形成され、基板を吸着する吸盤構造を有する。具体的には、真空吸着パッド２００は、略円錐形の基板接触部２１０と、基板接触部２１０の頂部に接続された管状部２２０とからなっている。基板接触部２１０の底面には、管状部２２０の内部２２１に連通し、基板を真空吸着する際の吸引に使用される貫通孔２１１が形成されている。
真空吸着パッド２００は、管状部２２０の内部２２１に各々の取り付け部１１４ｄを挿入することによって本体部１００基板密着面１１０ａ側に固定される。
本体部１００に固定された真空吸着パッド２００においては、貫通孔２１１が、第２貫通部１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃに連通するようになっている。
【００２２】
また、真空吸着パッド２００は、基板を真空吸着していないときには真空吸着パッド２００の先端（最大直径側の端部）が基板密着面１１０ａより突出し、図５に示すように、基板Ａを真空吸着したときには真空吸着パッド２００の先端が、吸着した基板Ａの片面と共に基板密着面１１０ａと同一面上に位置するようになっている。したがって、真空吸着パッド２００は、非真空吸着時の高さおよび真空吸着時の高さが前記のようになる基板接触部２１０を有するものとされている。
【００２３】
（逆止弁）
本実施形態における逆止弁３００は、非透気性の軟質材料の薄板からなり、本体部１００に固定された枠状の固定部３１０と、固定部３１０より内側に形成され、第１貫通部１１５の基板密着面１１０ａ側の開口部１１５ａを被覆する被覆部３２０と、固定部３１０に被覆部３２０を接続したヒンジ部３３０とからなっている。ヒンジ部３３０は、被覆部３２０よりもくびれた部分であり、可撓性が高くなっている。そのため、被覆部３２０は扉のように開閉するようになっており、弁の役割を果たす。ここで、「開」は、開口部１１５ａを被覆部３２０で被覆しておらず、開口部１１５ａが露出している状態であり、「閉」は、開口部１１５ａが被覆部３２０で塞がれている状態のことである。
この逆止弁３００では、第１連通孔１５０の内部の圧力が大気圧未満である場合、被覆部３２０が第１連通孔１５０側に引っ張られているため、被覆部３２０を強制的にめくらない限りは、開口部１１５ａに密着し、空気の流入を阻止するようになっている。
第１連通孔１５０の内部の圧力が大気圧以上である場合には、被覆部３２０が第１連通孔１５０側に引っ張られていないため、空気の流入は阻止されない。
【００２４】
（製造方法）
上記の基板固定用具１は、以下の製造方法により製造される。
すなわち、まず、矩形状の平板を用意し、その平板の片面の一方の長辺側の端部を、その長辺に沿って厚みをそぐように切削加工することによって、平板部１１０および薄板部１３０を形成する。次いで、平板部１１０に、環状溝部１１１ａ，１１１ｂ・・・１１１ｉ、第１直線溝部１１２、第２直線溝部１１３ａ，１１３ｂ，１１３ｃ、浅溝部１１８ａ，１１８ｂ・・・１１８ｈ、第１貫通部１１５および第２貫通部１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃを形成する。
次いで、平板部１１０の裏面１１０ｂにシート部１２０を貼着して、環状溝部１１１ａ，１１１ｂ・・・１１１ｉ、第１直線溝部１１２、第２直線溝部１１３ａ，１１３ｂ，１１３ｃ、浅溝部１１８ａ，１１８ｂ・・・１１８ｈ、第１貫通部１１５および第２貫通部１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃをシート部１２０で被覆する。これにより、本体部１００の内部に、真空保持室１４０、第１連通孔１５０、第２連通孔１６０を形成して、本体部１００を得る。
次いで、被覆部３２０が開口部１１５ａを被覆するように、基板密着面１１０ａに形成された開口部１１５ａの周囲に固定部３１０を貼着して逆止弁３００を取り付ける。また、基板密着面１１０ａに形成した凹部１１４ａ，１１４ｂ，１１４ｃに真空吸着パッド２００を挿入し、さらに、取り付け部１１４ｄを管状部２２０の内部２２１に挿入することによって、真空吸着パッド２００を本体部１００に固定する。これにより、基板固定用具１を得る。
【００２５】
（使用方法）
上記基板固定用具１を使用して基板Ａの表面にラングミュア・ブロジェット膜を設ける方法の一例について説明する。
本例では、まず、３個の真空吸着パッド２００に１枚の基板を接触させ、次いで、逆止弁３００の被覆部３２０をめくって開口部１１５ａを露出させ、開口部１１５ａに真空形成手段を、接続管を介して接続させ、真空形成手段を作動させる。これにより、第１連通孔１５０、真空保持室１４０および第２連通孔１６０内の空気を排出して負圧とする。第１連通孔１５０、真空保持室１４０および第２連通孔１６０を負圧とすることにより、真空吸着パッド２００と基板Ａとの間も負圧となるため、真空吸着パッド２００が基板を真空吸着する。これにより、図６に示すように、基板固定用具１に基板Ａを固定する。
その後、接続管を開口部１１５ａから引き離し、開口部１１５ａを被覆部３２０で被覆し、空気の流入を阻止して、第１連通孔１５０、真空保持室１４０および第２連通孔１６０を負圧に維持する。これにより、基板Ａの固定を維持する。
次いで、基板Ａを固定した基板固定用具１を、水が入れられた水槽の上方に配置して、基板固定用具１の全体を液面上に配置する。その際、基板Ａの向きが液面に対して垂直になると共に薄板部１３０が液面と反対側（上側）に位置するように、基板固定用具１を配置する。
次いで、基板固定用具１をゆっくりと下降させて液に浸漬させた後、基板固定用具１の上方の液面上にラングミュア・ブロジェット膜を形成する。その後、基板固定用具１をゆっくりと上昇させる。この上昇の際に、液面上のラングミュア・ブロジェット膜を基板Ａの表面に移行させる。基板固定用具１を上昇させている最中には、ラングミュア・ブロジェット膜の移行を促進するために、必要に応じて、液面に単粒子又は単分子を供給してもよいし、単粒子膜又は単分子膜を基板Ａの表面に押し付けるように液面を移動させてもよい。
基板固定用具１を液面上に移動させた後、基板固定用具１から基板Ａを取り外す。基板固定用具１から基板Ａを取り外す際には、逆止弁３００の被覆部３２０を強制的に開いて、第１連通孔１５０、真空保持室１４０および第２連通孔１６０に空気を流入させて、真空吸着パッド２００による真空吸着を解除する。
【００２６】
なお、上記基板固定用具１では、基板Ａよりも小さい種々の大きさの基板を固定することもできる。その場合、３個または２個の真空吸着パッド２００を用いて１枚の基板を固定することができる。基板の固定に使用しない真空吸着パッド２００にはダミーの基板を吸着させればよい。
また、基板固定用具１では、３個の真空吸着パッドを用いて、図６に示すように、基板Ａよりも小さい基板Ａ’を３枚固定してもよい。
【００２７】
（作用効果）
上記基板固定用具１では、真空保持室１４０内を負圧にした後に、逆止弁３００によって空気の流入を阻止して負圧を保ち、その負圧を利用して真空吸着パッド２００によって基板Ａを真空吸着して固定するため、簡便である。
また、基板固定用具１では、粘着テープを用いずに基板Ａを固定することができ、しかも基板Ａが基板密着面１１０ａに密着するため、基板Ａの裏面にラングミュア・ブロジェット膜が付着することがない。したがって、基板Ａの表面に欠陥の少ないラングミュア・ブロジェット膜を容易に設けることができる。
【００２８】
平板部１１０の、環状溝部１１１ａ，１１１ｂ・・・１１１ｈを形成した部分は薄肉となるため、真空保持室１４０を負圧とした際に基板密着面１１０ａが反りやすくなる。基板密着面１１０ａが反ると、基板Ａと真空吸着パッド２００との間に隙間が生じて空気が流入し、真空吸着を維持できなくなり、基板Ａが脱落することがある。しかし、本実施形態の基板固定用具１では、真空保持室１４０の内部にリブ１１７ａ，１１７ｂ・・・１１７ｈが設けられているため、真空保持室１４０を負圧としても基板密着面１１０ａが反りにくくなっている。これにより、基板Ａと真空吸着パッド２００との間からの空気の流入を防止して、基板Ａの脱落を防ぐことができる。
また、逆止弁３００の被覆部３２０を強制的に開くことにより、真空吸着による基板Ａの固定を解除することができる。基板Ａの固定が解除されると、真空吸着パッド２００の先端が基板密着面１１０ａより突出して基板Ａを基板密着面１１０ａから離間させることができる。そのため、基板Ａを基板固定用具１から容易に離脱させることができる。
【００２９】
上記基板固定用具１は逆止弁３００を備えるので、基板固定用具１を真空形成手段に接続管を介して接続したまま保持する必要がない。そのため、基板固定用具１の使用場所が、真空形成手段に接続された接続管の届く範囲に限定されなくなる。これにより、基板固定用具１に基板Ａを固定する工程を行う場所と、基板固定用具１に固定した基板Ａ上にラングミュア・ブロジェット膜を移行させる工程を行う場所と、を自由に配置することが可能となり、作業効率を上げることができる。また、基板Ａ上にラングミュア・ブロシェット膜を移行させる手段への基板固定用具１の取り付け、取り外しが容易となる。さらに、水槽中の液の表面に形成されたラングミュア・ブロジェット膜の配列が接続管によって乱されることがなく、より欠陥の少ないラングミュア・ブロシェット膜を基板Ａ上に形成することが可能となる。
さらに、基板固定用具１では、真空形成手段を常時接続しておく必要がないため、多数の基板固定用具１を同時に使用しても煩雑にならない。したがって、多数の基板Ａにラングミュア・ブロジェット膜を連続的に付着させる方法を容易に適用できる。
【００３０】
＜第２の実施形態＞
本発明の基板固定用具の第２実施形態について説明する。
図７〜図１０に、本実施形態の基板固定用具を示す。本実施形態の基板固定用具２は、本体部４００と真空吸着パッド２００と逆止弁３００とを備えるものであり、平板部の形態、真空吸着パッドの数、逆止弁の数が第１実施形態の基板固定用具１と異なるものである。本実施形態では、真空吸着パッド２００の数は６個、逆止弁３００の数は２個となっている。
【００３１】
（本体部）
本実施形態における本体部４００を構成する平板部４１０は平面視で矩形状の板であり、平板部４１０の一方の面は、基板が密着される平面状の基板密着面４１０ａとされている。平板部４１０の裏面４１０ｂには、図１０に示すように、第１凹部群４１１、第２凹部群４１２、および第３凹部群４１３が形成されている。
また、裏面４１０ｂには、第１凹部群４１１、第２凹部群４１２、および第３凹部群４１３より浅い深さで断面矩形の第１溝部４１４ａ，４１４ｂおよび第２溝部４１５ａ，４１５ｂ，４１５ｄ，４１５ｅが形成されている。
【００３２】
各凹部群４１１，４１２，４１３は互いに離れて配置され、第１凹部群４１１と第２凹部群４１２は、平板部４１０の短手方向の位置が同じとされ、第３凹部群４１３は、第１凹部群４１１および第２凹部群４１２よりも薄板部１３０側に配置されている。
各凹部群４１１，４１２，４１３は、平面視円形状で断面矩形の多数の円形凹部４１１ａ，４１２ａ，４１３ａが密集することによって構成されている。第１凹部群４１１および第２凹部群４１２は、各々、円形凹部４１１ａ，４１２ａが、平板部４１０の長手方向に５列、短手方向に５列で配列され、各凹部群４１１，４１２全体として略矩形状になるように構成されている。第３凹部群４１３は、円形凹部４１３ａが、平板部４１０の長手方向に９列、短手方向に５列で配列され、第３凹部群４１３全体として略矩形状になるように構成されている。
第１凹部群４１１における円形凹部４１１ａ，４１１ａ同士、第２凹部群４１２における円形凹部４１２ａ，４１２ａ同士、第３凹部群４１３における円形凹部４１３ａ，４１３ａ同士は接触していない。
各凹部群４１１，４１２，４１３における円形凹部４１１ａ，４１２ａ，４１３ａは、同じ凹部群４１１，４１２，４１３の少なくとも１個の別の円形凹部４１１ａ，４１２ａ，４１３ａと、円形凹部４１１ａ，４１２ａ，４１３ａよりも浅く形成された第３溝部４１１ｂ，４１２ｂ，４１３ｂを介して連通している。
第１凹部群４１１における第３溝部４１１ｂは、平板部４１０の長手方向に沿って並んだ円形凹部４１１ａを連通するように、また、平板部４１０の長手方向において縁側の列の円形凹部４１１ａを連通させるように形成されている。
第２凹部群４１２における第３溝部４１２ｂは、平板部４１０の長手方向に沿って並んだ円形凹部４１２ａを連通するように、また、平板部４１０の長手方向において縁側の列の円形凹部４１２ａを連通させるように形成されている。
第３凹部群４１３における第３溝部４１３ｂは、平板部４１０の長手方向に沿って並んだ円形凹部４１３ａを連通するように、また、平板部４１０の長手方向において中央列の円形凹部４１３ａを連通させるように形成されている。
【００３３】
また、平板部４１０には、第１凹部群４１１の１個の円形凹部４１１ａと第２凹部群４１２の１個の円形凹部４１２ａとを連通する第４溝部４１９が形成されている。
なお、第３凹部群４１３は、第１凹部群４１１および第２凹部群４１２と連通していない。
【００３４】
また、平板部４１０においては、基板密着面４１０ａ側に、真空吸着パッド２００が挿入される凹部４１６ａ〜４１６ｆが形成されている。凹部４１６ａと凹部４１６ｅ、凹部４１６ｂと凹部４１６ｆ、凹部４１６ｃと凹部４１６ｄは近接している。また、凹部４１６ａと凹部４１６ｅとの中間点、凹部４１６ｂと凹部４１６ｆとの中間点、凹部４１６ｃと凹部４１６ｄとの中間点が略正三角形の頂点に位置するように、凹部４１６ａ〜４１６ｆは配置されている。
各々の凹部４１６ａ〜４１６ｆの内部には、真空吸着パッド２００を取り付けるための取り付け部４１６ｇが垂設されている。
【００３５】
また、平板部４１０には、基板密着面４１０ａ側と裏面４１０ｂ側とを貫通する第１貫通部４１７ａ，４１７ｂが形成されている。第１貫通部４１７ａ，４１７ｂの基板密着面４１０ａ側の開口部４１７ｃは逆止弁３００が取り付けられるようになっている。
また、平板部４１０には、各取り付け部４１６ｇの頂面側と裏面４１０ｂ側とを貫通する第２貫通部４１８ａ〜４１８ｆが形成されている。
【００３６】
第１溝部４１４ａは、第１凹部群４１１の１個の円形凹部４１１ａと第１貫通部４１７ａとを接続するように形成されている。第１溝部４１４ｂは、第３凹部群４１３の１個の円形凹部４１３ａと第１貫通部４１７ｂとを接続するように形成されている。
第２溝部４１５ａは、第１凹部群４１１の１個の円形凹部４１１ａと第２貫通部４１８ａとを接続するように形成されている。第２溝部４１５ｂは、第２凹部群４１２の１個の円形凹部４１２ａと第１貫通部４１８ｂとを接続するように形成されている。第２溝部４１５ｄは、第３凹部群４１３の１個の円形凹部４１３ａと第２貫通部４１８ｄとを接続するように形成されている。第２溝部４１５ｅ，４１５ｆは、第３凹部群４１３の、第２溝部４１５ｄが直接接続されていない１個の円形凹部４１３ａと第２貫通部４１８ｅ，４１８ｆとを接続するように形成されている。
第２貫通部４１８ｃは、第４溝部４１９の中央部に接続されている。
【００３７】
本実施形態における本体部４００では、各凹部群４１１，４１２，４１３の領域において平板部４１０とシート部１２０とによって囲まれた部分が真空保持室４４０となる。真空保持室４４０内には、円形凹部４１１ａ，４１２ａ，４１３ａの各々とシート部１２０とによって小室が形成されている。また、第３溝部４１１ｂ，４１２ｂ，４１３ｂの各々とシート部１２０とによって、これら小室を連通する流路が形成されている。
また、本実施形態では、円形凹部４１１ａ，４１１ａの間、円形凹部４１２ａ，４１２ａの間、円形凹部４１３ａ，４１３ａの間の非凹部群４１１ｃ，４１２ｃ，４１３ｃが、基板密着面４１０ａを補強するリブの役割を果たすようになっている。
また、本体部４００においては、第１溝部４１４ａ，４１４ｂの各々と第１貫通部４１７ａ，４１７ｂの各々とシート部１２０とによって囲まれた部分は、いずれも、真空保持室４４０と基板固定用具２の外部の真空形成手段とを連通するための第１連通孔４５０となる。
また、第２溝部４１５ａ〜４１５ｆの各々および第２貫通部４１８ａ〜４１８ｆの各々とシート部１２０とによって囲まれた部分は、いずれも、真空保持室４４０と真空吸着パッド２００の貫通孔２１１とを連通する第２連通孔４６０となる。
【００３８】
（真空吸着パッド）
本実施形態における真空吸着パッド２００は、第１実施形態における真空吸着パッド２００と同様のものが使用され、略円錐形の基板接触部２１０と、基板接触部２１０の頂部に接続された管状部２２０とからなり、基板接触部２１０の底面に、管状部２２０の内部２２１に連通する貫通孔２１１が形成されている。
本体部４００に固定された真空吸着パッド２００においては、貫通孔２１１が、第２貫通部４１８ａ〜４１８ｆに連通するようになっている。
また、本実施形態においても、真空吸着パッド２００は、基板を真空吸着していないときには真空吸着パッド２００の先端が基板密着面４１０ａより突出し、基板Ａを真空吸着したときには真空吸着パッド２００の先端が、吸着した基板Ａの片面と共に基板密着面４１０ａと同一面上に位置するようになっている。
【００３９】
（逆止弁）
本実施形態における逆止弁３００は、第１実施形態における逆止弁３００と同様のものが使用され、固定部３１０と、開口部４１７ｃを被覆する被覆部３２０と、ヒンジ部３３０とからなっている。
【００４０】
（使用方法）
上記基板固定用具２を使用して基板Ａの表面にラングミュア・ブロジェット膜を設ける方法の一例について説明する。
本例では、まず、６個の真空吸着パッド２００に１枚の基板Ａを接触させ、次いで、２個の逆止弁３００の被覆部３２０をめくって開口部４１７ｃを露出させ、開口部４１７ｃに真空形成手段を、接続管を介して接続させ、真空形成手段を作動させる。これにより、第１連通孔４５０、真空保持室４４０および第２連通孔４６０内の空気を排出して負圧とする。第１連通孔４５０、真空保持室４４０および第２連通孔４６０を負圧とすることにより、真空吸着パッド２００と基板Ａとの間も負圧となるため、真空吸着パッド２００が基板を真空吸着する。これにより、図１１に示すように、基板固定用具２に基板Ａを固定する。
その後、接続管を開口部４１７ｃから引き離し、開口部４１７ｃを被覆部３２０で被覆し、空気の流入を阻止して、第１連通孔４５０、真空保持室４４０、第２連通孔４６０を負圧に維持する。これにより、基板Ａの固定を維持する。
次いで、基板Ａを固定した基板固定用具２を、水が入れられた水槽の上方に配置して、基板固定用具２の全体を液面上に配置する。その際、基板Ａの向きが液面に対して垂直になると共に薄板部１３０が液面と反対側（上側）に位置するように、基板固定用具２を配置する。
次いで、基板固定用具２をゆっくりと下降させて液に浸漬させた後、基板固定用具２の上方の液面上にラングミュア・ブロジェット膜を形成する。その後、基板固定用具２をゆっくりと上昇させる。この上昇の際に、液面上のラングミュア・ブロジェット膜を基板Ａの表面に移行させる。
基板固定用具２を液面上に移動させた後、基板固定用具２から基板Ａを取り外す。基板固定用具２から基板Ａを取り外す際には、逆止弁３００の被覆部３２０を強制的に開いて、第１連通孔４５０、真空保持室４４０、第２連通孔４６０および貫通孔２１１に空気を流入させて、真空吸着パッド２００による真空吸着を解除する。
【００４１】
なお、上記基板固定用具２では、基板Ａよりも小さい種々の大きさの基板を複数枚固定することもできる。例えば、図１１に示すように小さな基板Ａ”を３枚固定することができる。図示例では、各基板Ａ”を２個の真空吸着パッドを用いて固定している。
上記基板固定用具２においても、小さい基板を固定する場合には、全ての真空吸着パッド２００を使用しなくてもよい。
【００４２】
（作用効果）
本実施形態の基板固定用具２においても、第１連通孔４５０、真空保持室４４０および第２連通孔４６０を負圧とすることにより、基板Ａを真空吸着パッド２００に真空吸着させることができ、簡便に固定することができる。
また、基板固定用具２では、粘着テープを用いずに基板Ａを固定することができ、しかも基板Ａが基板密着面４１０ａに密着するため、基板Ａの裏面にラングミュア・ブロジェット膜が付着することがない。したがって、基板Ａの表面に欠陥の少ないラングミュア・ブロジェット膜を容易に設けることができる。
また、真空形成手段を外しても、逆止弁３００によって、真空保持室４４０を負圧に維持して、基板Ａの固定を維持することができる。基板固定用具２に固定した基板Ａの表面には、第１実施形態と同様に、ラングミュア・ブロジェット膜を設けることができる。基板固定用具２でも、真空形成手段を常時接続しておく必要がないため、多数の基板固定用具２を同時に使用しても煩雑にならない。したがって、多数の基板Ａにラングミュア・ブロジェット膜を連続的に付着させる方法を容易に適用できる。
また、逆止弁３００の被覆部３２０を強制的に開くことにより、真空吸着による固定を解除することができる。
また、非凹部４１１ｃ，４１２ｃ，４１３ｃがリブとなっているため、真空保持室４４０を負圧としても基板密着面４１０ａが反りにくく、基板Ａの脱落を防ぐことができる。
【００４３】
＜第３実施形態＞
本発明の基板固定用具の第３実施形態について説明する。
図１２〜１５に、本実施形態の基板固定用具を示す。本実施形態の基板固定用具３は、本体部５００と真空吸着パッド２００と逆止弁３００とを備えるものであり、平板部の形態、真空吸着パッド２００の数、逆止弁３００の数が基板固定用具１，２とは異なるものである。本実施形態では、真空吸着パッド２００の数は１６個、逆止弁３００の数は４個となっている。
【００４４】
（本体部）
本実施形態における本体部５００を構成する平板部５１０は平面視で矩形状の板であり、平板部５１０の一方の面は、基板が密着される平面状の基板密着面５１０ａとされている。平板部５１０の裏面５１０ｂには、図１５に示すように、第１凹部群５１１、第２凹部群５１２、第３凹部群５１３、および第４凹部群５１４が形成されている。
また、裏面５１０ｂには、第１凹部群５１１、第２凹部群５１２、第３凹部群５１３および第４凹部群５１４より浅い深さで断面矩形の第１溝部５１５ａ〜５１５ｄが形成されている。
【００４５】
各凹部群５１１，５１２，５１３，５１４は互いに離れて配置され、第１凹部群５１１と第２凹部群５１２は、平板部５１０の短手方向の位置が同じとされ、第３凹部群５１３と第４凹部群５１４は、平板部５１０の短手方向の位置が同じとされ、第３凹部群５１３および第４凹部群５１４は、第１凹部群５１１および第２凹部群５１２よりも薄板部１３０側に配置されている。
各凹部群５１１，５１２，５１３，５１４は、平面視で円形状の多数の円形凹部５１１ａ，５１２ａ，５１３ａ，５１４ａが密集することによって構成されている。第１凹部群５１１および第２凹部群５１２は、各々、円形凹部５１１ａ，５１２ａが、平板部５１０の長手方向に７列、短手方向に７列に配列され、各凹部群５１１，５１２全体として略矩形状になるように構成されている。第３凹部群５１３および第４凹部群５１４は、各々、円形凹部５１３ａ，５１４ａが、平板部５１０の長手方向に８列、短手方向に６列に配列され、各凹部群５１３，５１４全体として略矩形状になるように構成されている。ただし、いずれの凹部群５１１，５１２，５１３，５１４においても、真空吸着パッド２００が取り付けられる位置には、円形凹部５１１ａ，５１２ａ，５１３ａ，５１４ａの形成が省略されている。円形凹部５１１ａ，５１２ａ，５１３ａ，５１４ａが省略された箇所は、各凹部群５１１，５１２，５１３，５１４につき４箇所とされている。
第１凹部群５１１における円形凹部５１１ａ，５１１ａ同士、第２凹部群５１２における円形凹部５１２ａ，５１２ａ同士、第３凹部群５１３における円形凹部５１３ａ，５１３ａ同士、第４凹部群５１４における円形凹部５１４ａ，５１４ａ同士は接触していない。
各凹部群５１１，５１２，５１３，５１４における円形凹部５１１ａ，５１２ａ，５１３ａ，５１４ａは、同じ凹部群５１１，５１２，５１３，５１４の少なくとも１個の別の円形凹部５１１ａ，５１２ａ，５１３ａ，５１４ａと、円形凹部５１１ａ，５１２ａ，５１３ａ，５１４ａよりも浅く形成された第３溝部５１１ｂ，５１２ｂ，５１３ｂ，５１４ｂを介して連通している。
第１凹部群５１１における第３溝部５１１ｂは、平板部５１０の長手方向に沿って並んだ円形凹部５１１ａを連通するように、また、平板部５１０の長手方向において外側から５列目の円形凹部５１１ａを連通させるように形成されている。
第２凹部群５１２における第３溝部５１２ｂは、平板部５１０の長手方向に沿って並んだ円形凹部５１２ａを連通するように、また、平板部５１０の長手方向において外側から５列目の円形凹部５１２ａを連通させるように形成されている。
第３凹部群５１３における第３溝部５１３ｂは、平板部５１０の長手方向に沿って並んだ円形凹部５１３ａを連通するように、また、平板部５１０の長手方向において縁側の列の円形凹部５１３ａを連通させるように形成されている。
第４凹部群５１４における第３溝部５１４ｂは、平板部５１０の長手方向に沿って並んだ円形凹部５１４ａを連通するように、また、平板部５１０の長手方向において縁側の列の円形凹部５１４ａを連通させるように形成されている。
第３溝部５１１ｂ〜５１４ｄにおいて、円形凹部５１１ａ〜５１４ａの形成が省略された部分を通るものは、他のものよりも長めになっている。
なお、各凹部群５１１，５１２，５１３，５１４同士は連通していない。
【００４６】
また、平板部５１０においては、基板密着面５１０ａ側に、真空吸着パッド２００が挿入される凹部５１６ａ〜５１６ｐが格子状に形成されている。
各々の凹部５１６ａ〜５１６ｐの内部には、真空吸着パッド２００を取り付けるための取り付け部５１６ｑが形成されている。
【００４７】
また、平板部５１０には、基板密着面５１０ａ側と裏面５１０ｂ側とを貫通する第１貫通部５１７ａ〜５１７ｄが形成されている。第１貫通部５１７ａ〜５１７ｄの基板密着面５１０ａ側の開口部５１７ｅは逆止弁３００が取り付けられるようになっている。
また、平板部５１０には、各取り付け部５１６ｑの頂面側と裏面５１０ｂ側とを貫通する第２貫通部５１８ａ〜５１８ｐが形成されている。
【００４８】
第１溝部５１５ａは、第１凹部群５１１の１個の円形凹部５１１ａと第１貫通部５１７ａとを接続するように形成されている。第１溝部５１５ｂは、第２凹部群５１２の１個の円形凹部５１２ａと第１貫通部５１７ｂとを接続するように形成されている。第１溝部５１５ｃは、第３凹部群５１３の１個の円形凹部５１３ａと第１貫通部５１７ｃとを接続するように形成されている。第１溝部５１５ｄは、第４凹部群５１４の１個の円形凹部５１４ａと第１貫通部５１７ｄとを接続するように形成されている。
第２貫通部５１８ａ〜５１８ｐは、第３溝部５１１ｂ〜５１４ｂに接続されている。
【００４９】
本実施形態における本体部５００においては、各凹部群５１１，５１２，５１３，５１４の領域において平板部５１０とシート部１２０とによって囲まれた部分が真空保持室５４０となる。真空保持室５４０内には、円形凹部５１１ａ，５１２ａ，５１３ａ，５１４ａの各々とシート部１２０とによって小室が形成されている。また、第３溝部５１１ｂ〜５１４ｂの各々とシート部１２０とによって、これら小室を連通する流路が形成されている。
また、本実施形態では、円形凹部５１１ａ，５１１ａの間、円形凹部５１２ａ，５１２ａの間、円形凹部５１３ａ，５１３ａの間、円形凹部５１４ａ，５１４ａの間の非凹部５１１ｃ，５１２ｃ，５１３ｃ，５１４ｃが、基板密着面５１０ａを補強するリブの役割を果たすようになっている。
また、本体部５００においては、第１溝部５１５ａ，５１５ｂ，５１５ｃ，５１５ｄの各々および第１貫通部５１７ａ〜５１７ｄの各々とシート部１２０とによって囲まれた部分は、いずれも、真空保持室５４０と基板固定用具３の外部の真空形成手段とを連通するための第１連通孔５５０となる。
また、第２貫通部５１８ａ〜５１８ｐの各々とシート部１２０とによって囲まれた部分は、いずれも、真空保持室５４０と真空吸着パッド２００の貫通孔２１１とを連通する第２連通孔５６０となる。
【００５０】
（真空吸着パッド）
本実施形態における真空吸着パッド２００は、第１実施形態における真空吸着パッド２００と同様のものが使用され、略円錐形の基板接触部２１０と、基板接触部２１０の頂部に接続された管状部２２０とからなり、基板接触部２１０の底面に、管状部２２０の内部２２１に連通する貫通孔２１１が形成されている。
本体部５００に固定された真空吸着パッド２００においては、貫通孔２１１が、第２貫通部５１８ａ〜５１８ｐに連通するようになっている。
また、本実施形態においても、真空吸着パッド２００は、基板を真空吸着していないときには真空吸着パッド２００の先端が基板密着面５１０ａより突出し、基板Ａを真空吸着したときには真空吸着パッド２００の先端が、吸着した基板Ａの片面と共に基板密着面５１０ａと同一面上に位置するようになっている。
【００５１】
（逆止弁）
本実施形態における逆止弁３００は、第１実施形態における逆止弁３００と同様のものが使用され、固定部３１０と、開口部５１７ｅを被覆する被覆部３２０と、ヒンジ部３３０とからなっている。
【００５２】
（使用方法）
上記基板固定用具３を使用して基板Ａの表面にラングミュア・ブロジェット膜を設ける方法の一例について説明する。
本例では、まず、同一の凹部群５１１，５１２，５１３，５１４に接続された４個の真空吸着パッド２００に１枚の基板Ａを接触させた。すなわち、合計４枚の基板Ａを基板固定用具３に接触させた。次いで、４個の逆止弁３００の被覆部３２０をめくって開口部５１７ｅを露出させ、開口部５１７ｅに真空形成手段を、接続管を介して接続させ、真空形成手段を作動させる。これにより、第１連通孔５５０、真空保持室５４０および第２連通孔５６０内の空気を排出して負圧とする。第１連通孔５５０、真空保持室５４０および第２連通孔５６０を負圧とすることにより、真空吸着パッド２００と基板Ａとの間も負圧となるため、真空吸着パッド２００が基板Ａを真空吸着する。これにより、基板固定用具３に基板Ａを固定する。
その後、接続管を開口部５１７ｅから引き離し、開口部５１７ｅを被覆部３２０で被覆し、空気の流入を阻止して、第１連通孔５５０、真空保持室５４０、第２連通孔５６０を負圧に維持する。これにより、基板Ａの固定を維持する。
次いで、基板Ａを固定した基板固定用具３を、水が入れられた水槽の上方に配置して、基板固定用具３の全体を液面上に配置する。その際、基板Ａの向きが液面に対して垂直になると共に薄板部１３０が液面と反対側（上側）に位置するように、基板固定用具３を配置する。
次いで、基板固定用具３をゆっくりと下降させて液に浸漬させた後、基板固定用具３の上方の液面上にラングミュア・ブロジェット膜を形成する。その後、基板固定用具３をゆっくりと上昇させる。この上昇の際に、液面上のラングミュア・ブロジェット膜を基板Ａの表面に移行させる。
基板固定用具３を液面上に移動させた後、基板固定用具３から基板Ａを取り外す。基板固定用具３から基板Ａを取り外す際には、逆止弁３００の被覆部３２０を強制的に開いて、第１連通孔５５０、真空保持室５４０、第２連通孔５６０および貫通孔２１１に空気を流入させて、真空吸着パッド２００による真空吸着を解除する。
【００５３】
なお、この基板固定用具３においても、全ての真空吸着パッド２００を使用しなくてもよい。使用しない真空吸着パッド２００にはダミーの基板を吸着させればよい。
【００５４】
（作用効果）
本実施形態の基板固定用具３においても、第１連通孔５５０、真空保持室５４０および第２連通孔５６０を負圧とすることにより、基板Ａを真空吸着パッド２００に真空吸着させることができ、簡便に固定することができる。
また、基板固定用具３では、粘着テープを用いずに基板Ａを固定することができ、しかも基板Ａが基板密着面５１０ａに密着するため、基板Ａの裏面にラングミュア・ブロジェット膜が付着することがない。したがって、基板Ａの表面に欠陥の少ないラングミュア・ブロジェット膜を容易に設けることができる。
また、真空形成手段を外しても、逆止弁３００によって、真空保持室５４０を負圧に維持して、基板Ａの固定を維持することができる。基板固定用具３に固定した基板Ａの表面には、第１実施形態と同様に、ラングミュア・ブロジェット膜を設けることができる。基板固定用具３でも、真空形成手段を常時接続しておく必要がないため、多数の基板固定用具３を同時に使用しても煩雑にならない。したがって、多数の基板Ａにラングミュア・ブロジェット膜を連続的に付着させる方法を容易に適用できる。
また、逆止弁３００の被覆部３２０を強制的に開くことにより、真空吸着による固定を解除することができる。
また、非凹部５１１ｃ，５１２ｃ，５１３ｃ，５１４ｃがリブとなっているため、真空保持室５４０を負圧としても基板密着面５１０ａが反りにくく、基板Ａの脱落を防ぐことができる。
【００５５】
＜他の実施形態＞
なお、本発明は、上記実施形態に限定されない。
例えば、第１実施形態における平板部は、環状溝部の代わりに、平面視で楕円形状又は多角形状の溝部または凹部が形成されたものでもよいし、その他任意の形状の溝部または凹部が形成されたものでもよい。また、第１実施形態におけるリブは、基板密着面を補強できれば特に制限はなく、例えば、平面視で格子状であってもよいし、螺旋状であってもよいし、ハニカム状であってもよい。
また、第２実施形態、第３実施形態において、第１凹部群、第２凹部群、第３凹部群および第４凹部群は、全体として円形状や三角形状であってもよい。また、平板部は、複数の円形凹部が密集して真空保持室となる凹部が形成されていたが、円形凹部の代わりに、平面視で多角形状（三角形状、四角形状、六角形状等）の凹部が密集して、真空保持室となる凹部が形成されてもよい。
いずれの実施形態においても、真空保持室およびリブの形状は、平板部の裏面に形成する溝部または凹部の形状によって決定される。また、リブは、シート部に接触していなくても構わない。
【００５６】
平板部にはリブが設けられていなくてもよい。平板部にリブを設けない場合には、真空吸着パッドで基板を固定したときに、真空保持室を形成するための溝部または凹部を、平面視において基板と重ならない位置に形成することが好ましい。真空保持室を形成するための溝部または凹部を基板と重ならない位置に形成すると、リブを設けなくても、基板密着面の反りが生じにくくなる。
また、平板部にリブを設けない場合には、真空保持室を形成するための溝部または凹部の形状によって基板密着面の反りを防止することも可能である。反りを防止できる溝部または凹部の形状としては、例えば、Ｚ形等が挙げられる。
上記のように、リブを設けずに反りを防止することも可能であるが、基板密着面の反りを充分に防止するためには、リブを設けることが好ましい。
【００５７】
本体部の形状は、基板密着面を有していれば平板状でなくてもよいが、基板にラングミュア・ブロジェット膜を設ける際に、液中から引き上げるときのラングミュア・ブロジェット膜の破壊を防ぐために、上記実施形態のように、上側に配置される端部が薄くなっていることが好ましい。
また、本体部の平面視の形状は円形状でもよいし、正方形状でもよいし、その他の形状でも構わない。
【００５８】
真空吸着パッドの数には特に制限はなく、１個であってもよいし、上記実施形態のように複数であってもよい。
また、真空吸着パッドは、基板を真空吸着していないときにも真空吸着パッドの先端が前記基板密着面と同一面上に位置するものであってもよい。
逆止弁の形態に特に制限はなく、公知の逆止弁を使用することができる。
【符号の説明】
【００５９】
１，２，３  基板固定用具
１００  本体部
１１０  平板部
１１０ａ  基板密着面
１１０ｂ  裏面
１１１ａ〜１１１ｉ  環状溝部
１１２  第１直線溝部
１１３ａ〜１１３ｃ  第２直線溝部
１１４ａ，１１４ｂ，１１４ｃ  凹部
１１４ｄ  取り付け部
１１５  第１貫通部
１１５ａ  開口部
１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃ  第２貫通部
１１７ａ〜１１７ｈ  非凹部（リブ）
１１８ａ〜１１８ｈ  浅溝部
１２０  シート部
１３０  薄板部
１４０  真空保持室
１５０  第１連通孔
１６０  第２連通孔
２００  真空吸着パッド
２１０  基板接触部
２１１  貫通孔
２２０  管状部
２２１  内部
３００  逆止弁
３１０  固定部
３２０  被覆部
３３０  ヒンジ部
４００  本体部
４１０  平板部
４１０ａ  基板密着面
４１０ｂ  裏面
４１１  第１凹部群
４１１ａ  円形凹部
４１１ｂ  第３溝部
４１１ｃ  非凹部
４１２  第２凹部群
４１２ａ  円形凹部
４１２ｂ  第３溝部
４１２ｃ  非凹部
４１３  第３凹部群
４１３ａ  円形凹部
４１３ｂ  第３溝部
４１３ｃ  非凹部
４１４ａ，４１４ｂ  第１溝部
４１５ａ〜４１５ｆ  第２溝部
４１６ａ〜４１６ｆ  凹部
４１６ｇ  取り付け部
４１７ａ，４１７ｂ  第１貫通部
４１７ｃ  開口部
４１８ａ〜４１８ｆ  第２貫通部
４１９  第４溝部
４４０  真空保持室
４５０  第１連通孔
４６０  第２連通孔
５００  本体部
５１０  平板部
５１０ａ  基板密着面
５１０ｂ  裏面
５１１  第１凹部群
５１１ａ  円形凹部
５１１ｂ  第３溝部
５１１ｃ  非凹部
５１２  第２凹部群
５１２ａ  円形凹部
５１２ｂ  第３溝部
５１２ｃ  非凹部
５１３  第３凹部群
５１３ａ  円形凹部
５１３ｂ  第３溝部
５１３ｃ  非凹部
５１４  第４凹部群
５１４ａ  円形凹部
５１４ｂ  第３溝部
５１４ｃ  非凹部
５１５ａ，５１５ｂ，５１５ｃ，５１５ｄ  第１溝部
５１６ａ〜５１６ｐ  凹部
５１６ｑ  取り付け部
５１７ａ〜５１７ｄ  第１貫通部
５１７ｅ  開口部
５１８ａ〜５１８ｐ  第２貫通部
５４０  真空保持室
５５０  第１連通孔
５６０  第２連通孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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