(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属酸化物ゾルに、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤を反応させ、その後、酸化して得られる下記式（１）で表される官能基を有する修飾金属酸化物ゾルを塩基で中和することを特徴とし、金属酸化物ゾルがオルガノシリカゾルである、下記式（２）で表される官能基を有する修飾金属酸化物ゾルの製造方法。
ＨＯＳ（＝Ｏ）２−Ｒ１−Ｓｉ（ＣＨ３）ｎ（−Ｏ−）３−ｎ                            （１）
｛式中、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキレン基（本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良い）であり、ｎは０又は１を表す。}
ＭＯＳ（＝Ｏ）２−Ｒ１−Ｓｉ（ＣＨ３）ｎ（−Ｏ−）３−ｎ                              （２）
｛式中、Ｍは金属イオン又はアンモニウム（ＮＲ２４）基、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキレン基（本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良い）であり、Ｒ２は同一或いは異なってもよい炭素数１〜５のアルキル基、アルカノール基又は水素原子であり、ｎは０又は１を表す。}
【請求項２】
シランカップリング剤が下記式（３）又は（４）で表される請求項１に記載の修飾金属酸化物ゾルの製造方法。
ＨＳ−Ｒ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｎ（−Ｙ）３−ｎ                                 （３）
（Ｙ−）３−ｎ（ＣＨ３）ｎＳｉ−Ｒ−Ｓ−Ｓ−Ｒ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｎ（−Ｙ）３−ｎ  （４）
{式中、Ｒは炭素数１〜１０のアルキレン基（本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良い）であり、Ｙは同一或いは異なってもよい炭素数１〜４のアルコキシ基又は水酸基、ｎは０又は１を表す。}
【請求項３】
式（２）で表される官能基が、金属酸化物ゾル１ｇあたり０．５５〜６ｍｍｏｌである請求項１又は２に記載の修飾金属酸化物ゾルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、親水化効果及び帯電防止効果が大きくて耐久性に優れ、低コストで製造できるコーティング可能な修飾金属酸化物ゾルの製造方法に関する。さらに詳しくは親水化剤、帯電防止剤、親水性コーティング組成物、抗菌剤、導電剤、イオン（プロトン）伝導性コーティング剤として好適な修飾金属酸化物ゾルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表面親水化剤として、スルホン酸基を持つビニル化合物とチオール基を持つ化合物のエン−チオール反応により得られる化合物が知られている。（特許文献１）
また、ＣＭＰ研磨剤用途としてスルホン酸基修飾水性アニオンシリカゾルが知られている。（特許文献２）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−２０３１８５号公報
【特許文献２】特開２０１０−２６９９８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の、スルホン酸基を持つビニル化合物とチオール基を持つ化合物のエン−チオール反応により得られる化合物から調整される表面親水化剤は原料であるビニル化合物のコストが高い為、結果としてコストが高いという問題がある。また、ＣＭＰ研磨剤用途としてスルホン酸基修飾水性アニオンシリカゾルはスルホン酸基の含有量が少量のため、帯電防止性能は不十分であり、コーティング膜としての強度（耐久性）が不十分である。また未中和のスルホン酸であるため、酸性で腐食性があり皮膚に有害である。本発明の目的は、親水化剤、帯電防止剤、親水性コーティング組成物、抗菌剤、導電性、イオン（プロトン）伝導性コーティング剤として好適で安全で腐食性がなくて人体に無害な修飾金属酸化物ゾルの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、本発明に至った。
即ち、本発明は、金属酸化物ゾルに、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤を反応させ、その後、酸化して得られる下記式（１）で表される官能基を有する修飾金属酸化物ゾルを塩基で中和することを特徴とし、金属酸化物ゾルがオルガノシリカゾルである、下記式（２）で表される官能基を有する修飾金属酸化物ゾルの製造方法である。
ＨＯＳ（＝Ｏ）２−Ｒ１−Ｓｉ（ＣＨ３）ｎ（−Ｏ−）３−ｎ                            （１）
｛式中、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキレン基（本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良い）であり、ｎは０又は１を表す。}
ＭＯＳ（＝Ｏ）２−Ｒ１−Ｓｉ（ＣＨ３）ｎ（−Ｏ−）３−ｎ                              （２）
｛式中、Ｍは金属イオン又はアンモニウム（ＮＲ２４）基、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキレン基（本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良い）であり、Ｒ２は同一或いは異なってもよい炭素数１〜５のアルキル基、アルカノール基又は水素原子であり、ｎは０又は１を表す。}
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、親水化効果及び帯電防止効果が大きくて耐久性に優れ、低コストでコーティング可能な修飾金属酸化物ゾルの製造方法を提供することが出来る。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
下記式（１）で表される官能基を有する修飾金属酸化物ゾルは、金属酸化物ゾルに、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤を反応させ、その後、酸化して得られる。
ＨＯＳ（＝Ｏ）２−Ｒ１−Ｓｉ（ＣＨ３）ｎ（−Ｏ−）３−ｎ                            （１）
｛式中、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキレン基（本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良い）であり、ｎは０又は１を表す。}
【０００８】
上記式（１）において、Ｒ１の炭素数１〜１０のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられる。これらのうちコスト及び原料入手の点を考慮すると、好ましくはプロピレン基である。
【０００９】
式（１）で表される官能基の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【００１０】
ＨＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＨＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＨＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＨＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＨＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＨＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＨＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
【００１１】
金属酸化物ゾルとしては、シリカゾル、アルミナゾル及びジルコニアゾルが挙げられる。
これらのうち、シリカゾルが好ましく、オルガノシリカゾルが特に好ましい。
なお、オルガノゾルとは、
有機溶媒にナノレベルの、表面改質をしたコロイダルシリカを安定的に分散させたコロイド溶液であり、アルコール、ケトン、エーテル、トルエン等の各種有機溶媒に分散可能である。
具体的には日産化学社製のオルガノシリカゾル（メタノールシリカゾル、ＩＰＡ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、ＥＧ−ＳＴ、ＮＰＣ−ＳＴ−３０、ＤＭＡＣ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ、ＭＩＢＫ−ＳＴ、ＰＭＡ−ＳＴ及びＰＧＭ−ＳＴ）や扶桑化学社製の高純度オルガノシリカゾル（ＰＬ−１−ＩＰＡ、ＰＬ−２Ｌ−ＰＧＭＥ及びＰＬ−２Ｌ−ＭＥＫ）等が挙げられる。
これらは単独のみならず、複数で用いても良い。
【００１２】
化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤としては下記式（３）又は（４）で表されるものが好ましい。
ＨＳ−Ｒ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｎ（−Ｙ）３−ｎ                                 （３）
（Ｙ−）３−ｎ（ＣＨ３）ｎＳｉ−Ｒ−Ｓ−Ｓ−Ｒ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｎ（−Ｙ）３−ｎ  （４）
{式中、Ｒは炭素数１〜１０のアルキレン基（本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良い）であり、Ｙは同一或いは異なってもよい炭素数１〜４のアルコキシ基又は水酸基、ｎは０又は１を表す。}
【００１３】
式（３）又は（４）で表されるシランカップリング剤の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【００１４】
ＨＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３ＣＨ（ＨＳ）ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、
ＨＳＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＨＳＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
ＨＳＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
ＨＳＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
ＨＳＣ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
（ＯＣ２Ｈ５）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
【００１５】
これらのうち、ウレタン結合やウレア結合を持つ化合物はイソシアネート基を有するシランカップリング剤に、２−メルカプトエタノール、２−メルカプトエチルアミン及び４−メルカプトアニリンを反応させることにより得ることが出来る。
【００１６】
金属酸化物ゾルにシランカップリング剤を反応させる場合の溶媒としては、アルコール系溶媒：メタノール、エタノール、イソプロパンール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール及び１，４−ブタンジオール等、エーテル系溶媒：ジエチルエーテル、テトラハイドロフラン及びジオキサン等、ケトン系溶媒：アセトン及びメチルエチルケトン等、非プロトン溶媒：ジメチルスルホキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、アルコール系溶媒であり、これらの溶媒は1種又は２種以上で使用できる。
【００１７】
溶媒に対する原料の金属酸化物ゾルの濃度は１〜５０重量％であり、好ましくは1〜３０重量％である。
【００１８】
カップリング剤を反応させる際の温度は限定されないが、常温（約２０℃）から沸点が好ましい。
反応温度も限定されないが、常温（約２０℃）から沸点が好ましい。
反応時間も限定されないが、１０分から４８時間が好ましく、６時間から２４時間が特に好ましい。
【００１９】
金属酸化物ゾルとシランカップリング剤との反応物を酸化するに際し、過酸化物としては、有機過酸化物（過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸、過酸化ベンゾイル等）、無機過酸化物（オゾン、過酸化水素、過酸化カルシウム等）が挙げられる。これらのうち、好ましいのは過酸化水素と過酢酸であり、特に好ましいのは過酸化水素である。
【００２０】
用いる過酸化物の量は、スルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤に対して、２００〜５０００モル％、好ましくは３００〜５０００モル％、さらに好ましくは５００〜５０００モル％である。
【００２１】
過酸化物による酸化の際の温度は限定されないが、常温（約２０℃）が好ましい。
酸化温度も限定されないが、常温（約２０℃）から沸点が好ましい。
酸化時間も限定されないが、１０分から４８時間が好ましく、６時間から２４時間が特に好ましい。
【００２２】
下記式（２）で表される官能基を有する修飾金属酸化物ゾルは上記式（１）で表される官能基を有する修飾金属酸化物ゾルを塩基で中和することにより得られる。
ＭＯＳ（＝Ｏ）２−Ｒ１−Ｓｉ（ＣＨ３）ｎ（−Ｏ−）３−ｎ                              （２）
｛式中、Ｍは金属イオン又はアンモニウム（ＮＲ２４）基、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキレン基（本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良い）であり、Ｒ２は同一或いは異なってもよい炭素数１〜５のアルキル基、アルカノール基又は水素原子であり、ｎは０又は１を表す。}
【００２３】
塩基としては、水酸化物（水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等）、酢酸塩（酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム及び酢酸銀等）、金属酸化物（酸化銀等）、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド等が挙げられる。
【００２４】
中和するときの温度は特に制限はなく、通常室温で行えばよい。
【００２５】
加える塩基はそのまま加えても、溶媒（例えば、水等）で希釈してから加えても良い。
【００２６】
式（２）において、Ｒ１の炭素数１〜１０のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられる。これらのうちコスト及び原料入手の点を考慮すると、好ましくはプロピレン基である。
【００２７】
Ｍとしては、金属イオン（アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、銀イオン、銅イオン及びニッケルイオン等）又はアンモニウム（ＮＲ２４）イオンが挙げられ、親水性、抗菌性などの点を考慮すると、好ましくは、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、銀イオンおよびアンモニウムイオンである。
【００２８】
アンモニウムイオンのＲ２としては水素原子、炭素数１〜５のアルキル基およびアルカノール基が挙げられ、好ましくは、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基（メチル基、エチル基及びプロピル基など）および炭素数１〜３のアルカノール基（ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基および３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基など）である。Ｒ２は同一であっても異なっていてもよい。
【００２９】
アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオンとしては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、セシウムイオン、マグネシウムイオン及びカルシウムイオンなどが挙げられる。
これらのうち好ましくは、アルカリ金属イオンであり、特に好ましいのはリチウムイオン、ナトリウムイオンである。
【００３０】
これらのアンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、銀イオンの加える量はスルホン酸基に対して通常０．１〜１．３モル倍、好ましくは０．５〜１．１モル倍、特に好ましくは０．７〜１．０５モル倍である。
【００３１】
またこれらのイオンは同一或いは異なっていてもよい。
【００３２】
式（２）で表される官能基の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【００３３】
ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮａＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＫＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮＨ４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
Ｎ（ＣＨ３）４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮＨ（Ｃ２Ｈ５）３ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮＨ（Ｃ２Ｈ４ＯＨ）３ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＡｇＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮａＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＫＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮＨ４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
Ｎ（ＣＨ３）４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮＨ（Ｃ２Ｈ５）３ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＡｇＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮａＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＫＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮＨ４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
Ｎ（ＣＨ３）４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮＨ（Ｃ２Ｈ５）３ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＡｇＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）
ＬｉＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮａＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＫＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮＨ４ＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
Ｎ（ＣＨ３）４ＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＮＨ（Ｃ２Ｈ５）３ＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
ＡｇＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ-）３
【００３４】
ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮａＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＫＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ（ＣＨ３）３ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ（Ｃ２Ｈ５）３ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＡｇＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮａＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＫＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ（ＣＨ３）３ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ（Ｃ２Ｈ５）３ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＡｇＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮａＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＫＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ（ＣＨ３）３ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ（Ｃ２Ｈ５）３ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＡｇＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＬｉＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮａＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＫＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ４ＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ（ＣＨ３）３ＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＮＨ（Ｃ２Ｈ５）３ＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
ＡｇＯＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＮＨＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（−Ｏ-）２
【００３５】
式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり０．５５〜６ｍｍｏｌであることが好ましく、１〜６ｍｍｏｌであることがより好ましい。上記範囲内とすることにより、親水性と成膜性がより好ましいものとなる。
【００３６】
本発明の製造方法で得られる修飾金属酸化物ゾルは親水化剤、親水性コーティング組成物、帯電防止剤として有用である。
【実施例】
【００３７】
以下に実施例を示し、本発明を具体的に説明する。実施例は、本発明を説明するものであり、制限を加えるものではない。以下特記しない限り、部は重量部を意味する。
【００３８】
実施例１
３−（トリメトキシシリル）プロパン−１−チオール（チッソ株式会社）１．０部（５．１モル部）をエタノール３６部に溶解させた後、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）３．０部、水１０.０部を加え２４時間加熱還流した。冷却後過酸化水素水（三徳化学工業株式会社製、３０％水溶液）３．５部（３０．８モル部）を加え２４時間加熱還流した。反応終了後室温まで冷却後、水酸化リチウム１水和物０.２１４部（５．１モル部）を少量の水に溶かして加え中和することにより、本発明の化合物、ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり５．７ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。
【００３９】
実施例２
エタノールを３６部から３４部に、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）を３．０部から５．０部に変更した以外は、実施例１と同様に行い、本発明の化合物、ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり３．４ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。
【００４０】
実施例３
エタノールを３６部から３２部に、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）を３．０部から７．０部に変更した以外は、実施例１と同様に行い、本発明の化合物、ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり２．４ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。
【００４１】
実施例４
エタノールを３６部から３２部に、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）を３．０部から１０．０部に変更した以外は、実施例１と同様に行い、本発明の化合物、ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり１．７ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。
【００４２】
実施例５
エタノールを３６部から３４部に、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）を３．０部から５．０部に変更し、水酸化リチウム１水和物０.２１４部（５．１モル部）を１Ｎ水酸化ナトリウム水（ナカライテスク社製）５．１容量部（５．１モル部）に変更した以外は、実施例１と同様に行い、本発明の化合物、ＮａＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり３．４ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。
【００４３】
実施例６
エタノールを３６部から３４部に、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）を３．０部から５．０部に変更し、水酸化リチウム１水和物０.２１４部（５．１モル部）を１Ｎ水酸化カリウム水（ナカライテスク社製）５.１容量部（５．１モル部）に変更した以外は、実施例１と同様に行い、本発明の化合物、ＫＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり３．４ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。
【００４４】
実施例７
エタノールを３６部から３４部に、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）を３．０部から５．０部に変更し、水酸化リチウム１水和物０.２１４部（５．１モル部）をアンモニア（ナカライテスク社製、３０％水溶液）０.２８９部（５．１モル部）に変更した以外は、実施例１と同様に行い、本発明の化合物、ＮＨ４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり３．４ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。
【００４５】
実施例８
エタノールを３６部から３４部に、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）を３．０部から５．０部に変更し、水酸化リチウム１水和物０.２１４部（５．１モル部）をテトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド（ナカライテスク社製）０.５１５部（５．１モル部）に変更した以外は、実施例１と同様に行い、本発明の化合物、Ｎ（Ｃ２Ｈ５）４ＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり３．４ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。
【００４６】
実施例９
エタノールを３６部から３４部に、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）を３．０部から５．０部に変更し、水酸化リチウム１水和物０.２１４部（５．１モル部）をトリエタノールアミン（ナカライテスク社製）０．７９０部（５．３モル部）に変更した以外は、実施例１と同様に行い、本発明の化合物、Ｎ（Ｃ２Ｈ４ＯＨ）３・ＨＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり３．４ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。
【００４７】
実施例１０
エタノールを３６部から２４部に、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）を３．０部から１５．０部に変更した以外は、実施例１と同様に行い、本発明の化合物、ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり１．１ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。  
【００４８】
実施例１１
エタノールをメタノールに変更した以外は、実施例２と同様に行い、本発明の化合物、ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり３．４ｍｍｏｌ）を含むメタノール溶液を得た。
【００４９】
実施例１２
エタノールをメタノールに変更した以外は、実施例１０と同様に行い、本発明の化合物、ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたメタノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり１．１ｍｍｏｌ）を含むメタノール溶液を得た。
【００５０】
実施例１３
エタノールを３６部から２４部に、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）３．０部をオルガノシリカゾル（日産化学製、３０％イソプロパノールＳＴゾル）５．０部に、水酸化リチウム１水和物０.２１４部（５．１モル部）を酸化銀０.５９１部（２５．５モル部）に変更した以外は、実施例１と同様に行い、本発明の化合物、ＡｇＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（−Ｏ−）３基で修飾されたイソプロパノールシリカゾル（式（２）で表される官能基は、金属酸化物ゾル１ｇあたり３．４ｍｍｏｌ）を含むエタノール溶液を得た。
【００５１】
比較例１
３−（トリメトキシシリル）プロパン−１−チオール（チッソ株式会社）１．０部（５．１モル部）をエタノール３６部に溶解させた後、水１０.０部を加え２４時間加熱還流した。冷却後過酸化水素水（三徳化学工業株式会社製、３０％水溶液）３．５部（３０．８モル部）を加え２４時間加熱還流した。反応終了後室温まで冷却後、水酸化リチウム１水和物０.２１４部（５．１モル部）を少量の水に溶かして加え中和することにより、ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＨ）３を調整した。これに、オルガノシリカゾル（日産化学製、３０％メタノール溶液）３．０部を加え、室温で６時間攪拌することにより、ＬｉＯＳＯ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＨ）３とオルガノシリカゾルとの混合物を含むエタノール溶液を得た。
【００５２】
親水性評価および耐久性結果
実施例１〜１３及び比較例１で得た修飾金属酸化物ゾルをエタノール（必要に応じて水との混合液）で２５倍に希釈して処理液（表面親水化剤）とし、以下の様に所定の基板の表面を改質し、接触角を測定した。
また、ラビングテスター（大平理科工業社製）を用いて、表面改質した基板を水湿フェルト（荷重：５００ｇ）で１００回擦った（ラビング試験）。ラビング試験後の基板を蒸留水で洗浄し、乾燥させた後、接触角を測定した。
【００５３】
＜基板（１）＞
スライドガラス｛７６ｍｍ、２６ｍｍ、１．２ｍｍ；水酸化ナトリウムの２−プロパノール飽和溶液に２４時間浸漬した後、水洗し、乾燥（６０℃、２時間）したもの｝を処理液（表面親水化剤）に浸漬し、スライドガラスを取り出した後、液切りをし、１２０℃、２４間加熱処理することにより、基板（１）を得た。
＜基板（２）＞
スライドガラス｛７６ｍｍ、２６ｍｍ、１．２ｍｍ；水酸化ナトリウムの２−プロパノール飽和溶液に２４時間浸漬した後、水洗し、乾燥（６０℃、２時間）したもの｝を処理液（表面親水化剤）に浸漬し、スライドガラスを取り出した後、液切りをし、室温で１０分間アンモニアガス処理することにより、基板（２）を得た。
【００５４】
接触角測定装置｛協和界面化学株式会社、ＤＲＯＰ  ＭＡＳＴＥＲ  ５００、液適量２μＬ、測定間隔１０００ｍｓ、測定回数３０回｝で、表面改質スライドガラスの表面の任意の５箇所について、接触角（度）を測定し、平均値を算出した。
【００５５】
【表１】
0005840930.tif 000002
【００５６】
表１から明らかなように、本発明の製造方法で得られた修飾金属酸化物ゾルを用いた親水化剤は未処理品に比べ、接触角が顕著に小さく、（表面）親水化の効果が優れることが判る。また親水化処理した基板を純水に１分間浸してのち乾燥させて接触角を測定したがほとんど変化は無かった。
また比較例１との比較から明らかなように、本発明の製造方法で得られた修飾金属酸化物ゾルを用いた親水化剤は、スルホン酸塩を有するシランカップリング材で作製した親水化剤に比べて耐久性に優れている。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明の製造方法で得られる修飾金属酸化物ゾルは親水化効果及び帯電防止効果が大きく、コーティング可能で安価に製造出来るため、親水化剤、帯電防止剤、親水性コーティング組成物、抗菌剤、導電剤、イオン（プロトン）伝導性コーティング剤として好適である。