(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
タキサンと、親水性ブロック（Ａ）と疎水性ブロック（Ｂ）とを含む両親媒性ブロック共重合体と、及びオスモル濃度調節剤とからなる、安定性を向上させた、希釈前または再構成前のタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物の製造方法であって、ここで、前記タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物が、組成物全体の乾燥重量を基準に、タキサンの０．１〜３０重量％、親水性ブロックと疎水性ブロックを含む両親媒性ブロック共重合体の２０〜９８重量％、及びオスモル濃度調節剤の０．１〜５０重量％からなり、ここで、該親水性ブロック（Ａ）と疎水性ブロック（Ｂ）とを含む両親媒性ブロック共重合体が、Ａ−Ｂ、Ａ−Ｂ−ＡまたはＢ−Ａ−Ｂ型ブロック共重合体であり、前記親水性ブロック（Ａ）がポリエチレングリコールまたはモノメトキシポリエチレングリコールであり、前記疎水性ブロック（Ｂ）がポリ乳酸（ＰＬＡ）またはポリ乳酸とグリコール酸の共重合体（ＰＬＧＡ）であり、前記オスモル濃度調節剤が塩化ナトリウムまたは塩化カルシウムであり、
タキサンと両親媒性ブロック共重合体を有機溶媒に溶解させ、高分子溶液を得て；及び
オスモル濃度調節剤を含む水溶液を前記高分子溶液に加えて高分子ミセルを形成する
ことを含む、前記製造方法。
【請求項２】
タキサンと、親水性ブロック（Ａ）と疎水性ブロック（Ｂ）とを含む両親媒性ブロック共重合体と、オスモル濃度調節剤と、及び凍結乾燥補助剤とからなる、安定性を向上させた、凍結乾燥された希釈前または再構成前のタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物の製造方法であって、ここで、前記タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物が、組成物全体の乾燥重量を基準に、タキサンの０．１〜３０重量％、親水性ブロックと疎水性ブロックを含む両親媒性ブロック共重合体の２０〜９８重量％、オスモル濃度調節剤の０．１〜５０重量％、及び凍結乾燥補助剤の１〜６０重量％からなり、ここで、該親水性ブロック（Ａ）と疎水性ブロック（Ｂ）とを含む両親媒性ブロック共重合体が、Ａ−Ｂ、Ａ−Ｂ−ＡまたはＢ−Ａ−Ｂ型ブロック共重合体であり、前記親水性ブロック（Ａ）がポリエチレングリコールまたはモノメトキシポリエチレングリコールであり、前記疎水性ブロック（Ｂ）がポリ乳酸（ＰＬＡ）またはポリ乳酸とグリコール酸の共重合体（ＰＬＧＡ）であり、前記オスモル濃度調節剤が塩化ナトリウムまたは塩化カルシウムであり、
タキサンと両親媒性ブロック共重合体を有機溶媒に溶解させ、高分子溶液を得て；
オスモル濃度調節剤を含む水溶液を高分子溶液に加えて高分子ミセルを形成させ；
凍結乾燥補助剤を前記高分子ミセルに加え；及び
凍結乾燥を行う
ことを含む、前記製造方法。
【請求項３】
前記有機溶媒が、アセトン、エタノール、メタノール、酢酸エチル、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、酢酸、及びジオキサンよりなる群から一種以上選択される、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記有機溶媒が、ミセル組成物重量を基準に、０．５〜３０重量％の量で使用される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記水溶液が、オスモル濃度が３０〜１５，０００ｍＯｓｍ／ｋｇである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
タキサンと、親水性ブロック（Ａ）と疎水性ブロック（Ｂ）とを含む両親媒性ブロック共重合体と、及びオスモル濃度調節剤とからなる、安定性を向上させた、希釈前または再構成前のタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物であって、ここで、前記タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物が、組成物全体の乾燥重量を基準に、タキサンの０．１〜３０重量％、親水性ブロックと疎水性ブロックを含む両親媒性ブロック共重合体の２０〜９８重量％、及びオスモル濃度調節剤の０．１〜５０重量％からなり、ここで、該親水性ブロック（Ａ）と疎水性ブロック（Ｂ）とを含む両親媒性ブロック共重合体が、Ａ−Ｂ、Ａ−Ｂ−ＡまたはＢ−Ａ−Ｂ型ブロック共重合体であり、前記親水性ブロック（Ａ）がポリエチレングリコールまたはモノメトキシポリエチレングリコールであり、前記疎水性ブロック（Ｂ）がポリ乳酸（ＰＬＡ）またはポリ乳酸とグリコール酸の共重合体（ＰＬＧＡ）であり、前記オスモル濃度調節剤が塩化ナトリウムまたは塩化カルシウムである、前記組成物。
【請求項７】
前記タキサンが、パクリタキセル、ドセタキセル、７−エピパクリタキセル、ｔ−アセチルパクリタキセル、１０−デスアセチルパクリタキセル、１０−デスアセチル−７−エピパクリタキセル、７−キシロシルパクリタキセル、１０−デスアセチル−７−グルタリルパクリタキセル、７−Ｎ，Ｎ−ジメチルグリシルパクリタキセル、７−Ｌ−アラニルパクリタキセル、またはこれらの混合物である、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
前記親水性ブロック（Ａ）の数平均分子量が５００〜２０，０００ダルトンの範囲であり、上記疎水性ブロック（Ｂ）の数平均分子量が５００〜２０，０００ダルトンの範囲である、請求項６又は７に記載の組成物。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれか１項に記載の組成物と凍結乾燥補助剤からなる凍結乾燥された希釈前または再構成前のタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物。
【請求項１０】
前記凍結乾燥組成物が、注射用の蒸留水、０．９％生理食塩水、及び５％デキストロース水溶液で再構成したとき、タキサンの９５％以上が１２時間、沈殿せずに安定である、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
前記凍結乾燥補助剤が、凍結乾燥組成物全体の乾燥重量を基準に、１〜６０重量％の量で使用される、請求項９に記載の組成物。
【請求項１２】
前記凍結乾燥補助剤が、ラクトース、マンニトール、ソルビトール、及びスクロースよりなる群から一種以上選択される、請求項９に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の例示的な態様は、タキサンを含有する両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薬物の静脈投与を行うために生分解性高分子を利用した超微粒子薬物送達システム（ｓｕｂｍｉｃｒｏｎｉｃ  ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ  ｄｒｕｇ  ｄｅｌｉｖｅｒｙ  ｓｙｓｔｅｍ）が研究されている。最近、生分解性高分子を利用した極小粒子システム（ｎａｎｏｐａｒｔｉｃｌｅ  ｓｙｓｔｅｍ）及び高分子ミセルシステムが静脈投与によって投与された薬物の体内分布を変更することで副作用を軽減させ、効能が向上した有用な技術であると報告されている。また、斯かるシステムは、薬物の標的化が可能であることから、目標とする器官、組職または細胞への薬物の放出を調節するようになる。実際に斯かるシステムは体液との適合性に優れ、難溶性薬物の可溶化能及び薬物の生体内利用率を向上させるものと知られている。
【０００３】
最近、親水性部分と疎水性部分とで構成されたブロック共重合体に薬物を化学的に結合してブロック共重合体ミセルを製造する方法が報告されたことがある。上記ブロック共重合体は、親水性部分（Ａ）と疎水性部分（Ｂ）とが重合されてなるＡ−Ｂ型二重ブロック共重合体である。上記ブロック共重合体では、親水性部分（Ａ）としてポリエチレンオキシドを使用し、疎水性部分（Ｂ）としてポリアミノ酸類またはポリアミノ酸類に疎水性基を結合させてなるものとを使用した。上記ブロック共重合体によって形成された高分子ミセルのコアにアドリアマイシンまたはインドメタシンなどの薬物を物理的に封入させて薬物送達システムとして使用することができる。しかしながら、上記ブロック共重合体によって形成された高分子ミセルは、生体内で加水分解されず酵素によってのみ分解され、免疫反応を誘発するなどの生体適合性に劣るため、生体内への使用時には各種の問題を引き起こし得る。
【０００４】
したがって、このような生分解性及び生体適合性を向上させたコアシェル型薬物送達システムを開発するための多くの努力がなされている。
【０００５】
例えば、親水性高分子であるポリアルキレングリコールと疎水性高分子であるポリ乳酸とからなる二重または多重ブロック共重合体について知られている。より具体的には、上記二重または多重ブロック共重合体の末端基にアクリル酸誘導体を結合させて共重合体を形成する。該形成された共重合体を架橋結合させて高分子ミセルを安定化させるようになる。上記二重または多重ブロック共重合体を製造する方法では、上記高分子が架橋結合にて安定した構造をなすためには、Ａ−ＢまたはＡ−Ｂ−Ａ型の二重または三重ブロック共重合体の疎水性部分に架橋結合物質（ｃｒｏｓｓｌｉｎｋｅｒ）を導入しなければならないという製造上の困難がある。また、上記架橋結合物質は、人体に適用した例がないことから安全性が確保されておらず、架橋結合された高分子が分解しないことから生体内への適用が不可能であるという問題点がある。
【０００６】
また、高分子ミセル組成物の製造方法として溶媒蒸発法が知られている。該溶媒蒸発法は、難水溶性であるタキサン誘導体を両親媒性ブロック共重合体高分子ミセル内に封入させることができる大量生産法として適用可能である。しかしながら、溶媒蒸発法を活用する場合には、タキサンと高分子の両方とも溶解可能であり且つ沸点が低くて蒸発法にて揮発させることができる有機溶媒を用いる必要があるという制約が伴う。さらに、有機溶媒としては、医薬品の製造用として使用可能であり且つ残留溶媒が人体に無害なものを用いなければならない。その他にも、溶媒蒸発法は長時間高温に露出させる工程を含むため、薬理成分の破壊または薬理効果の低下といった問題点を引き起こし得る。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、関連技術と関連した上述の課題を解決するための努力において、安定性を向上させたタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物を提供することである。
【０００８】
工程を短縮させたタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
一局面では、タキサンと、親水性ブロックと疎水性ブロックとを含む両親媒性ブロック共重合体と、及びオスモル濃度調節剤を含むタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物が提供される。
【００１０】
別の局面では、タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物の製造方法が提供され、（ａ）タキサンと両親媒性ブロック共重合体を有機溶媒に溶解させ；及び（ｂ）オスモル濃度調節剤を含む水溶液を加えて高分子ミセルを形成することを含むことを含む。
【００１１】
発明の効果
本明細書に開示される一態様に係るタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物は、優れた安定性によって薬物が短時間で放出されることを抑えることができる。また、本明細書に開示される別の態様に係る上記組成物を製造する方法は、別途の有機溶媒除去工程が不要となり、これによって薬理効果を極大化させ、且つ製造工程及び製造時間を短縮させることができるという長所がある。
【００１２】
ここで、タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物のある種の例示的な態様を参照にしながら、詳細な記述が与えられ、例示のためにだけ以下に与えられ、したがって限定的でない添付の図面に例示される組成物を製造する方法が与えられる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】製造例１から得られた二重ブロック共重合体［ｍＰＥＧ−ＰＬＡ］の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図２】製造例２から得られた二重ブロック共重合体［ｍＰＥＧ−ＰＬＧＡ］の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下では、種々の態様に詳細に参照され、例示が添付の図面において説明され、以下に
記載される。本発明は、例示的な態様と併せて記載されるが、本記載が限定されることを意図していないことは理解されよう。
【００１５】
本明細書に開示されている一態様に係るタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物は、タキサンと、親水性ブロックと疎水性ブロックとを含む両親媒性ブロック共重合体と、及びオスモル濃度調節剤を含むことができる。上記タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物は、生分解性及び生体適合性に優れ、相対的に安定性が向上した高分子ミセル構造を提供する。
【００１６】
本明細書に開示されている一態様に係る組成物において、ミセル組成物全体の乾燥重量を基準に、上記タキサンの含量は０．１〜３０重量％、上記親水性ブロックと疎水性ブロックを含む両親媒性ブロック共重合体の含量は２０〜９８重量％であり得る。また、上記オスモル濃度調節剤の含量は、組成物全体の乾燥重量を基準に、０．１〜５０重量％であり得る。
【００１７】
タキサンは、無水または水和状態であってもよく、あるいは非結晶状態または結晶状態であってもよい。また、上記タキサンは、天然植物から抽出するか、または半合成もしくは植物細胞培養などによって得ることができる。一態様において、上記タキサンの含量は、組成物全体の乾燥重量を基準に、０．１〜３０重量％であり、具体的には０．５〜１５重量％、より具体的には１〜７重量％である。
【００１８】
一態様において、上記タキサンは、パクリタキセル（ｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）、ドセタキセル（ｄｏｃｅｔａｘｅｌ）、７−エピパクリタキセル（７−ｅｐｉｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）、ｔ−アセチルパクリタキセル（ｔ−ａｃｅｔｙｌ  ｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）、１０−デスアセチルパクリタキセル（１０−ｄｅｓａｃｅｔｙｌ−ｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）、１０−デスアセチル−７−エピパクリタキセル（１０−ｄｅｓａｃｅｔｙｌ−７−ｅｐｉｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）、７−キシロシルパクリタキセル（７−ｘｙｌｏｓｙｌｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）、１０−デスアセチル−７−グルタリルパクリタキセル（１０−ｄｅｓａｃｅｔｙｌ−７−ｇｌｕｔａｒｙｌｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）、７−Ｎ，Ｎ−ジメチルグリシルパクリタキセル（７−Ｎ，Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｇｌｙｃｙｌｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）、７−Ｌ−アラニルパクリタキセル（７−Ｌ−ａｌａｎｙｌｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）、またはこれらの混合物である。具体的には、パクリタキセルまたはドセタキセルを使用することができる。
【００１９】
一態様において、上記両親媒性ブロック共重合体は、親水性ブロック（Ａ）と疎水性ブロック（Ｂ）がＡ−Ｂ、Ａ−Ｂ−Ａ、Ｂ−Ａ−Ｂ形態で連結された構造を含むことができる。また、上記両親媒性ブロック共重合体は、水溶液状態で疎水性ブロックがコアを形成し、親水性ブロックがシェルを形成するコアシェル（ｃｏｒｅ−ｓｈｅｌｌ）形態の高分子ミセルを形成してもよい。
【００２０】
一態様において、上記両親媒性ブロック共重合体の親水性ブロック（Ａ）は、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）またはモノメトキシポリエチレングリコール（ｍＰＥＧ）であり得る。具体的には、モノメトキシポリエチレングリコール（ｍＰＥＧ）であってもよい。上記親水性ブロック（Ａ）の数平均分子量は、５００〜２０，０００ダルトンであり、具体的には１，０００〜５，０００ダルトンであり、より具体的には１，０００〜２，５００ダルトンであってもよい。
【００２１】
上記両親媒性ブロック共重合体の疎水性ブロック（Ｂ）は水に溶けず、生分解性高分子であってもよい。一態様において、上記疎水性ブロック（Ｂ）は、ポリ乳酸（ＰＬＡ）またはポリ（乳酸−ｃｏ−グリコール酸）（ＰＬＧＡ）であってもよい。別の一態様において、上記疎水性ブロック（Ｂ）の数平均分子量は、５００〜２０，０００ダルトン、具体的には１，０００〜５，０００ダルトンであり、より具体的には１，０００〜２，５００ダルトンであってもよい。上記疎水性ブロック（Ｂ）のヒドロキシ末端は脂肪酸基で保護されていてもよく、上記脂肪酸基の具体例としては、酢酸塩基、プロピオン酸塩基、酪酸塩基、ステアリン酸塩基またはパルミチン酸塩基などがある。上記親水性ブロック（Ａ）と疎水性ブロック（Ｂ）を含む両親媒性ブロック共重合体の含量は、組成物全体の乾燥重量を基準に、２０〜９８重量％、具体的には６５〜９８重量％、より具体的には８０〜９８重量％であってもよい。
【００２２】
別の態様において、上記両親媒性ブロック共重合体における、親水性ブロック（Ａ）と疎水性ブロック（Ｂ）の組成比は、共重合体重量を基準に、親水性ブロック（Ａ）が４０〜７０重量％、具体的には５０〜６０重量％の範囲であってもよい。親水性ブロック（Ａ）の割合が４０％未満であると、高分子の水に対する溶解度が低くてミセルを形成しにくくなる。一方、親水性ブロック（Ａ）の割合が７０％を超過すると、高分子が親水的となりすぎて高分子ミセルの安定性が低くなり、したがって、その組成物は、タキサンの可溶化組成物として使用されない場合がある。
【００２３】
上記オスモル濃度調節剤は、タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物の安定性を向上させる機能を果たす。特に、オスモル濃度調節剤は、水溶液状態での安定性を著しく向上させる。オスモル濃度調節剤の機能の１つの可能なメカニズムは、次のとおりである。
【００２４】
高分子ミセル構造に薬物が封入される度合いは、高分子の疎水性ブロックが水溶液で形成するコアの分画に比例する。また、高分子ミセルの安定性は、高分子ミセルが水溶液で形成する動的な平衡状態、すなわち、高分子ミセル状態と単一高分子で水に溶解された状態の平衡定数に依存する。
【００２５】
高分子ミセル構造の内部に多量の難溶性薬物を包含させることが可能であるが、薬物の包含により、高分子ミセルの親水性ブロックの周りを多量の水分子が取り囲み、水分子と親水性ブロックとの相互作用によって動的平衡状態にあるミセルの疎水性ブロック間の疎水性相互作用が相対的に弱くなりつつ不安定になる。このため、オスモル濃度調節剤を加えると、オスモル濃度調節剤と水間で静電気的引力が作用することで高分子ミセルの親水性ブロックから水分子が離れていき、その結果、相対的に緩い相互作用をしていた疎水性ブロックの疎水性相互作用が相対的に大きくなりつつ安定したミセル構造を形成するようになる。また、上記オスモル濃度調節剤は、本明細書に開示されている一態様に係る組成物の製造過程の途中で除去されずに最終組成物に残存する。上記オスモル濃度調節剤の安定化効果を通じて、本発明の安定したタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物を得ることができる。
【００２６】
上記オスモル濃度調節剤は、薬学的に許容可能なもので、血液との接触時に溶血現象を起こさない範囲内で選択可能である。一態様において、上記オスモル濃度調節剤は電解質であってもよく、具体的に無機塩類であってもよい。特に、オスモル濃度調節剤は、塩化ナトリウム、塩化カルシウム、硫酸ナトリウム及び塩化マグネシウムよりなる群から選択される一種以上であってもよい。より具体的には、上記オスモル濃度調節剤は、塩化ナトリウムまたは塩化カルシウムであり得る。特に、塩化ナトリウムであり得る。別の態様において、上記オスモル濃度調節剤の含量は、組成物全体の乾燥重量を基準に、０．１〜５０重量％、具体的には０．５〜２０重量％であり、より具体的には１〜１０重量％である。
【００２７】
別の局面では、上記タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物を含む凍結乾燥組成物を提供する。
【００２８】
上記凍結乾燥組成物は、凍結乾燥補助剤をさらに含んでいてよい。一態様において、上記凍結乾燥補助剤は、ラクトース、マンニトール、ソルビトール及びスクロースよりなる群から選択される一種以上であってもよい。上記凍結乾燥補助剤は、凍結乾燥された組成物がケーキ形態を保持できるようにするために添加される。また、上記凍結乾燥補助剤は、両親媒性ブロック共重合体組成物が、再構成する過程で早期に均一に溶けることを助ける作用をする。別の態様において、上記凍結乾燥補助剤の含量は、凍結乾燥組成物全体の乾燥重量を基準に、１〜９０重量％、より具体的には１０〜６０重量％であってもよい。
【００２９】
一態様において、上記凍結乾燥組成物は、水溶液への再構成時、組成物全体の乾燥重量を基準に、タキサンの含量は０．１〜１５重量％の範囲であり得る。また、再構成時、上記両親媒性ブロック共重合体の濃度は１０〜１５０ｍｇ／ｍＬであり、オスモル濃度調節剤の濃度は５〜３０ｍｇ／ｍＬ（具体的には１０〜２０ｍｇ／ｍＬ）であり、凍結乾燥補助剤の濃度は１〜１００ｍｇ／ｍＬであってもよい。別の態様において、上記凍結乾燥組成物は、水溶液中において共重合体の分子量に応じて、ミセルの粒子の大きさが１〜４００ｎｍの範囲であり、より具体的には５〜２００ｎｍの範囲であり得る。
【００３０】
一態様において、タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物は、水溶液、粉末または錠剤の形態で製剤化されてもよい。別の態様において、上記組成物は、注射用の製剤であってもよい。例えば、上記組成物は、注射用の蒸留水、０．９％生理食塩水、及び５％デキストロース水溶液などで再構成することができる。組成物を再構成するとき、室温でタキサンの９５％以上が沈殿されず最小１２時間以上安定である。
【００３１】
さらに別の局面では、タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物を製造する方法を提供する。
【００３２】
本明細書に開示されている一態様によれば、タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物の製造方法は、
（ａ）タキサンと両親媒性ブロック共重合体を有機溶媒に溶解させ；及び
（ｂ）オスモル濃度調節剤を含む水溶液をそれに加えて高分子ミセルを形成する
ことを含んでもよい。
【００３３】
別の態様において、本方法は、上記工程ｂ）の後に、
（ｃ）凍結乾燥補助剤を高分子ミセルに加え；及び
（ｄ）凍結乾燥を行う
ことをさらに含むことができる。
【００３４】
有機溶媒を使用してタキサンをミセル組成物に溶媒蒸発にて封入させる場合、上記組成物は、注射用水への再構成後、室温で放置しておくと早い速度で薬物が沈殿されることがある。これは、溶媒蒸発において使用した有機溶媒が組成物内に残存するためである。
【００３５】
したがって、本明細書に開示されている方法の一態様によれば、薬物の沈殿を防止するためにオスモル濃度調節剤を使用すると共に、有機溶媒を最小量にすることができる。最終組成物内の残留有機溶媒を最小化するためには、減圧条件下、６０℃以上の高温で１２時間以上乾燥しなければならない。しかし、このような減圧・高温乾燥条件下では薬物が分解されるおそれがある。このため、本明細書に開示されている一態様に係るタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物の製造方法では、最小量の有機溶媒を使用することで使用した有機溶媒を除去するという別途の工程を経ず、直接凍結乾燥することができる。
【００３６】
本明細書に開示されている一態様に係る、オスモル濃度調節剤を含み、最小量の有機溶媒を使用するタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物は、注射用製剤などへの再構成時、１２時間以上もタキサンの沈殿が防止される凍結乾燥組成物を製造することができる。
【００３７】
一態様において、上記工程（ａ）における有機溶媒は、アセトン、エタノール、メタノール、酢酸エチル、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、酢酸及びジオキサンよりなる群から選択される一種以上であってもよい。上記有機溶媒は、製造されたミセル組成物の重量基準に、０．５〜３０重量％、具体的には０．５〜１５重量％、より具体的には１〜１０重量％で使用されてもよい。有機溶媒を０．５重量％未満で使用すると、薬物を溶かしにくい場合がある。一方、有機溶媒を３０重量％を超過して使用すると、凍結乾燥組成物を再構成時に薬物が沈殿する場合がある。
【００３８】
上記工程（ｂ）では、オスモル濃度調節剤を含む水溶液のオスモル濃度を、３０〜１５、０００ｍＯｓｍ／ｋｇ、具体的には１００〜５０００、より具体的には２００〜２５００ｍＯｓｍ／ｋｇに調節することができる。上記オスモル濃度が３０ｍＯｓｍ／ｋｇ未満であると、組成物の製造過程で薬物が沈殿されることがあり、一方、１５、０００ｍＯｓｍ／ｋｇを超過すると、高分子の層分離現象が起こる可能性がある。１つの例示的な態様において、上記オスモル濃度調節剤は、塩化ナトリウム、塩化カルシウム、硫酸ナトリウム及び塩化マグネシウムよりなる群から選択される一種以上であればよい。また、上記オスモル濃度調節剤の含量は、ミセル組成物全体の乾燥重量を基準に、０．１〜５０重量％であり得る。上記工程（ｂ）は、２５℃以下で行われることができる。
【００３９】
一態様において、タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物の製造方法は、上記工程（ｄ）の凍結乾燥を行う前に、工程（ｃ）で得た高分子ミセル水溶液を滅菌フィルターにて滅菌する工程をさらに含んでもよい。
【００４０】
本明細書に開示されている一態様に係るタキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物は、水溶液に溶かすか粉末形態で経口投与または非経口投与することができる。非経口投与は、難溶性薬物を静脈、筋肉、皮下、腹腔、経鼻、直腸、眼または肺などの経路から投与し、経口投与は、錠剤またはカプセル形態、または水溶液で直接投与することが可能である。
【００４１】
また、本明細書に開示されている一態様に係る凍結乾燥組成物では、時間経過に伴う再構成後の組成物内のドセタキセルの濃度にほとんど変化がない。しかし、オスモル濃度調節剤を添加していない場合には、１時間後からドセタキセルの濃度が減少するようになる。
【実施例】
【００４２】
以下の実施例は、限定されることを意図していない。
【００４３】
製造例１：モノメトキシポリエチレングリコール−ポリラクチド（ｍＰＥＧ−ＰＬＡ）ブロック共重合体（Ａ−Ｂ型）の合成
モノメトキシポリエチレングリコール（数平均分子量：２，０００ダルトン）５．０ｇを１００ｍｌの二口丸底フラスコに入れた後、減圧（１ｍｍＨｇ）下で３〜４時間１３０℃で加熱して水分を除去した。次に、上記フラスコ内部を窒素ガスで充填し、注射器を利用して反応触媒であるアクタン酸スズ（Ｓｎ（Ｏｃｔ）2）をｄ−及びｌ−ラクチドの０．１ｗｔ％（１０．１３ｍｇ、２５ｍｍｏｌ）にて加えた。反応混合を３０分間撹拌した後、１３０℃で１時間減圧（１ｍｍＨｇ）して、触媒を溶解させた溶媒（トルエン）を除去した。精製したラクチド１０．１３ｇを加えた後、１３０℃で１８時間加熱した。加熱後に生成された高分子を塩化メチレンに溶解させた後、ジエチルエーテルに加えて高分子を沈殿させた。得られた高分子を真空オーブンで４８時間乾燥した。
【００４４】
上記モノメトキシポリエチレングリコール−ポリラクチド（ｍＰＥＧ−ＰＬＡ）の数平均分子量は２，０００−１，７６５ダルトンであった。また、1Ｈ−ＮＭＲによって行った共重合体の解析から、Ａ−Ｂ型のジブロック共重合体であることを確認した（図１）。
【００４５】
製造例２：モノメトキシポリエチレングリコール−ポリ（乳酸−ｃｏ−グリコール酸）（ｍＰＥＧ−ＰＬＧＡ）ブロック共重合体の合成（Ａ−Ｂ型）の合成
上記製造例１の方法に従い、モノメトキシポリエチレングリコール（数平均分子量：５，０００ダルトン）、ラクチド及びグリコリドをアクタン酸スズ触媒と一緒に１２０℃で１２時間反応させてブロック共重合体を合成した。
【００４６】
上記共重合体であるモノメトキシポリエチレングリコール−ポリ（乳酸−ｃｏ−グリコール酸）（ｍＰＥＧ−ＰＬＧＡ）の数平均分子量は、５，０００−４，０００ダルトンであり、Ａ−Ｂ型共重合体である。また、1Ｈ−ＮＭＲによって行った共重合体の解析から、Ａ−Ｂ型のジブロック共重合体であることを確認した（図２）。
【００４７】
実施例１：塩化ナトリウム及びドセタキセル含有ｍＰＥＧ−ＰＬＡブロック共重合体ミセル組成物の製造
最初に、製造例１から得られた両親媒性ブロック共重合体ｍＰＥＧ−ＰＬＡ（数平均分子量：２，０００−１，７６５ダルトン）の７６０ｍｇを６０℃でエタノール０．２ｍＬに完全に溶解させて濁りのない、共重合体を含むエタノール溶液を製造した。エタノール溶液の温度を２５℃に冷却し、ドセタキセル２０ｍｇを添加して、ドセタキセルが完全に溶けるまで、得られた溶液を撹拌した。
【００４８】
次に、オスモル濃度が３００ｍＯｓｍ／ｋｇ、６００ｍＯｓｍ／ｋｇである、０．９重量％、１．８重量％塩化カルシウム水溶液をそれぞれ、別々の容器で製造した。市販のオスモメーター（Ｇｏｎｏｔｅｃｈ  ＧｍｂＨ、ＯＳＭＯＭＡＴ０３０）を利用してオスモル濃度を測定した。上記水溶液をそれぞれ、共重合体を含む上記エタノール溶液に４ｍｌずつ加え、得られた混合物は、４０℃で１０分間撹拌され、高分子ミセル水溶液を製造した。
【００４９】
次に、上記各溶液にｄ−マンニトール１００ｍｇを溶解させ、得られた溶液は、孔径が２００ｎｍのフィルターにてろ過し、溶解されていないドセタキセルを除去した後、凍結乾燥した。
【００５０】
上記凍結乾燥された組成物に対して下記の液体クロマトグラフィーを利用してドセタキセルの含量を定量した。さらに、粒子の大きさは、動的光散乱（ＤＬＳ）法で測定した（表１）。結果を下記の表１に示す。
【００５１】
【表１】
0005981514.tif 000002
【００５２】
液体クロマトグラフィー
１）カラム：粒径５μｍ、孔径３００Åを有するペンタフルオロフェニルをコーティングされた粒子が充填された長さ２５０ｍｍ、内径４．６ｍｍのステンレスカラム
２）移動相：アセトニトリル：メタノール：水＝２６：３２：４２０
３）流速：１．５ｍｌ／分
４）注入量：２０μｌ
５）検出器：ＵＶ吸光光度計（測定波長：２３２ｎｍ）
【００５３】
実施例２：塩化カルシウム及びパクリタキセル含有ｍＰＥＧ−ＰＬＡブロック共重合体高分子ミセル組成物の製造
最初に、製造例１から得られた両親媒性ブロック共重合体ｍＰＥＧ−ＰＬＡ（数平均分子量：２，０００−１，７６５ダルトン）の１００ｍｇを６０℃でエタノール０．１ｍＬに完全に溶解させて濁りのない、共重合体を含むエタノール溶液を製造した。エタノール溶液の温度を２５℃に冷却し、パクリタキセル２０ｍｇを添加して、パクリタキセルが完全に溶けるまで、得られた溶液を撹拌した。
【００５４】
次に、オスモル濃度が２３０ｍＯｓｍ／ｋｇ、４６０ｍＯｓｍ／ｋｇである、０．９重量％、１．８重量％塩化カルシウム水溶液をそれぞれ、別々の容器で製造した。上記水溶液をそれぞれ、共重合体を含む上記エタノール溶液に４ｍｌずつ加え、得られた混合物は、４０℃で１０分間撹拌され、高分子ミセル水溶液を製造した。
【００５５】
次に、上記各溶液にｄ−マンニトール３９ｍｇを溶解させ、得られた溶液は、孔径が２００ｎｍのフィルターにてろ過し、溶解されていないパクリタキセルを除去した後、凍結乾燥した。
【００５６】
実施例１に記載されるように、上記凍結乾燥された組成物に対して液体クロマトグラフィーを利用してパクリタキセルの含量を定量した。さらに、粒子の大きさは、ＤＬＳ法で測定した。結果を下記の表２に示す。
【００５７】
【表２】
0005981514.tif 000003
【００５８】
実施例３：塩化ナトリウム及びドセタキセル含有ｍＰＥＧ−ＰＬＧＡブロック共重合体ミセル組成物の製造
最初に、製造例２から得られた両親媒性ブロック共重合体ｍＰＥＧ−ＰＬＧＡ（数平均分子量：５，０００−４，０００ダルトン）の７６０ｍｇを５０℃でアセトン０．２ｍＬに完全に溶解させて濁りのない、共重合体を含むアセトン溶液を製造した。アセトン溶液の温度を２５℃に冷却し、ドセタキセル４０ｍｇを添加して、ドセタキセルが完全に溶けるまで、得られた溶液を撹拌した。
【００５９】
次に、共重合体及びさらに薬物を含むアセトン溶液にオスモル濃度３００ｍＯｓｍ／ｋｇである、０．９重量％塩化ナトリウム水溶液８ｍｌを加え、得られた混合物を２５℃で２０分間掻きまぜて均質した溶液にした。均一な溶液が形成されると、ｄ−マンニトール２００ｍｇをこの溶液に溶解させて濁りのない高分子ミセル水溶液を製造した。最後に、高分子ミセル水溶液は、孔径が２００ｎｍであるフィルターにてろ過し、溶解されていないドセタキセルを除去した後、凍結乾燥した。
【００６０】
実施例１に記載されるように、上記凍結乾燥された組成物に対して液体クロマトグラフィーを利用してドセタキセルの含量を定量した。さらに、粒子の大きさは、ＤＬＳ法で測定した。
【００６１】
ドセタキセル含量：１０１．３重量％
粒子の大きさ：３５ｎｍ
【００６２】
実施例４：塩化カルシウム及びパクリタキセル含有ｍＰＥＧ−ＰＬＧＡブロック共重合体高分子ミセル組成物の製造
最初に、製造例２から得られた両親媒性ブロック共重合体ｍＰＥＧ−ＰＬＧＡ（数平均分子量：５，０００−４，０００ダルトン）の１００ｍｇを５０℃でアセトン０．２ｍＬに完全に溶解させて濁りのない、共重合体を含むアセトン溶液を製造した。アセトン溶液の温度を２５℃に冷却し、パクリタキセル４０ｍｇを添加して、パクリタキセルが完全に溶けるまで、得られた溶液を撹拌した。
【００６３】
次に、共重合体及びさらに薬物を含むアセトン溶液にオスモル濃度２３０ｍＯｓｍ／ｋｇである、０．９重量％塩化カルシウム水溶液８ｍｌを加え、得られた混合物を２５℃で２０分間掻きまぜて均質した溶液にした。均一な溶液が形成されると、ｄ−マンニトール５３ｍｇをこの溶液に溶解させて濁りのない高分子ミセル水溶液を製造した。最後に、高分子ミセル水溶液は、孔径が２００ｎｍであるフィルターにてろ過し、溶解されていないドセタキセルを除去した後、凍結乾燥した。
【００６４】
上記凍結乾燥された組成物に対して高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を利用してドセタキセルの含量を定量した。さらに、粒子の大きさは、ＤＬＳ法で測定した。
【００６５】
ドセタキセル含量：１０１．１重量％
粒子の大きさ：３５ｎｍ
【００６６】
比較例１：無機塩類を含まないｍＰＥＧ−ＰＬＡブロック共重合体高分子ミセル組成物の製造
最初に、製造例１から得られた両親媒性ブロック共重合体ｍＰＥＧ−ＰＬＡ（数平均分子量：２，０００−１，７６５ダルトン）の７６０ｍｇを６０℃でエタノール０．２ｍＬに完全に溶解させて濁りのない、共重合体を含むエタノール溶液を製造した。エタノール溶液の温度を２５℃に冷却し、ドセタキセル２０ｍｇを添加して、ドセタキセルが完全に溶けるまで、得られた溶液を撹拌した。
【００６７】
次に、共重合体を含むエタノール溶液に注射用の蒸留水（オスモル濃度：０ｍＯｓｍ／ｋｇ）の４ｍＬを加え、得られた混合物を４０℃で１０分間掻きまぜて均質した溶液にした。均一な溶液が形成されると、ｄ−マンニトール１００ｍｇをこの溶液に溶解させて濁りのない高分子ミセル水溶液を製造した。最後に、高分子ミセル水溶液は、孔径が２００ｎｍであるフィルターにてろ過し、溶解されていないドセタキセルを除去した後、凍結乾燥した。
【００６８】
上記凍結乾燥された組成物に対してＨＰＬＣを利用してドセタキセルの含量を定量した。さらに、粒子の大きさは、ＤＬＳ法で測定した。
【００６９】
ドセタキセル含量：１００．３重量％
粒子の大きさ：１８ｎｍ
【００７０】
実験例１：安定性試験
実施例１の塩化ナトリウム含有組成物と比較例１の無機塩類が含有されていない組成物に対して、３７℃水溶液での安定性を比較評価した。
【００７１】
実施例１及び比較例１の凍結乾燥組成物をそれぞれ、注射用蒸留水溶液にドセタキセルの濃度が１ｍｇ／ｍｌになるように希釈した。それぞれの希釈溶液を３７℃で放置した状態で、ミセル構造内に含まれているドセタキセルの濃度を経時的に測定した。その結果を以下の表３に示す。
【００７２】
【表３】
0005981514.tif 000004
【００７３】
表３の結果から見ることができるように、実施例１の組成物では、１２時間が経過してもドセタキセルが沈殿されていなかったが、比較例１の組成物では、１２時間が経過したとき、ドセタキセルの沈殿量が５９％に達した。上記結果から、塩化ナトリウムを添加すると、ミセル組成物のドセタキセル保有能が約２倍以上も増大することが分かる。また、両親媒性ブロック共重合体に対する無機塩類の量が増加することにより、安定性が増大することが分かる。
【００７４】
例示的な態様を参照にして、記載が詳細に与えられている。しかし、タキサン含有両親媒性ブロック共重合体ミセル組成物並びにその製造方法の原理及び精神から逸脱することなしにこれらの態様において変更がなされ得ることが当業者に承認されるものであり、その範囲は、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等物において定義される。
【図１】
0005981514.tif 000005
【図２】
0005981514.tif 000006