(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学結像系の心合わせの方法であって，
第１ダイアフラムエレメントを少なくとも利用して心合わせ軸を規定するステップであって，前記心合わせ軸は，前記第１ダイアフラムエレメントのダイアフラムアパーチャと，該第１ダイアフラムエレメントの後ろの一定の距離に配置された標的とを結ぶ，ステップと，
前記心合わせ軸にそって，前記結像系に放射されたビームの放射光が，前記結像系を通過した後，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャを通って，前記標的に当たるまで，前記心合わせ軸に対して前記光学結像系を心合わせするステップと，
少なくとも，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャ及び／又は前記標的の範囲において，前記ビームの前記放射光に関して，放射光の第１のセンサ検出を実行するステップと，
前記放射光検出の際に発生されたセンサ信号を信号処理ユニットに供給するステップと，
を有し，
前記センサ放射光検出は，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャの領域においてだけ行われる方法。
【請求項２】
光学結像系の心合わせの方法であって，
第１ダイアフラムエレメントを少なくとも利用して心合わせ軸を規定するステップであって，前記心合わせ軸は，前記第１ダイアフラムエレメントのダイアフラムアパーチャと，該第１ダイアフラムエレメントの後ろの一定の距離に配置された標的とを結ぶ，ステップと，
前記心合わせ軸にそって，前記結像系に放射されたビームの放射光が，前記結像系を通過した後，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャを通って，前記標的に当たるまで，前記心合わせ軸に対して前記光学結像系を心合わせするステップと，
少なくとも，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャ及び／又は前記標的の範囲において，前記ビームの前記放射光に関して，放射光の第１のセンサ検出を実行するステップと，
前記放射光検出の際に発生されたセンサ信号を信号処理ユニットに供給するステップと，
を有し，
一つのダイアフラムアパーチャの標的は第２ダイアフラムエレメントによって形成され，前記第２ダイアフラムエレメントに関する前記センサ放射光検出は，前記第２ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャの領域においてだけ行われる方法。
【請求項３】
光学結像系の心合わせの方法であって，
第１ダイアフラムエレメントを少なくとも利用して心合わせ軸を規定するステップであって，前記心合わせ軸は，前記第１ダイアフラムエレメントのダイアフラムアパーチャと，該第１ダイアフラムエレメントの後ろの一定の距離に配置された標的とを結ぶ，ステップと，
前記心合わせ軸にそって，前記結像系に放射されたビームの放射光が，前記結像系を通過した後，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャを通って，前記標的に当たるまで，前記心合わせ軸に対して前記光学結像系を心合わせするステップと，
少なくとも，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャ及び／又は前記標的の範囲において，前記ビームの前記放射光に関して，放射光の第１のセンサ検出を実行するステップと，
前記放射光検出の際に発生されたセンサ信号を信号処理ユニットに供給するステップと，
を有し，
一つのダイアフラムアパーチャの標的は第２ダイアフラムエレメントによって形成され，前記第２ダイアフラムエレメントに関する前記センサ放射光検出は，前記第２ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャの外側でも行われる方法。
【請求項４】
前記第１ダイアフラムエレメントに関する前記センサ放射光検出は，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャの外側でも行われる，請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
表示画像用の画像データは，前記センサ信号に基づいて，前記信号処理ユニットが発生する，請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
制御信号は，前記光学結像系の少なくとも一部の心合わせのためのアクチュエータ用の前記センサ信号に基づいて，前記信号処理ユニットが発生する，請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
光学結像系（１２）の心合わせのための装置であって，
ダイアフラムアパーチャ（３４）を有する第１ダイアフラムエレメント（２４）と，
前記第１ダイアフラムエレメントの後ろの一定の距離に配置され，標的位置を規定する標的エレメント（２６）と，
放射ビーム（３０）の放射源（２８）であって，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャと前記標的位置とを結ぶ心合わせ軸（１４）に沿って，前記放射ビームを前記第１ダイアフラムエレメントに放射できるように配置されているか，又は配置することができる，放射源と，
前記結像系の心合わせ支柱（２０）であって，前記放射ビームの放射光が，前記結像系を通過した後，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャを通って前記標的位置に当たるまで，前記心合わせ軸に対して前記結像系の心合わせができるようにする，心合わせ支柱と，
少なくとも，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャ及び／又は前記標的位置の領域における，前記放射ビームの放射光に関する放射光検出用のセンサ装置と，
前記センサ装置のセンサ信号を処理するための信号処理ユニット（４２）と，
を備え，
前記第１ダイアフラムエレメント（２４４）及び／又はダイアフラムアパーチャ（３４）が前記標的位置を形成する第２ダイアフラムエレメント（２６）上の前記センサ装置は，前記ダイアフラムアパーチャの領域においてだけ放射光を検出する装置。
【請求項８】
光学結像系（１２）の心合わせのための装置であって，
ダイアフラムアパーチャ（３４）を有する第１ダイアフラムエレメント（２４）と，
前記第１ダイアフラムエレメントの後ろの一定の距離に配置され，標的位置を規定する標的エレメント（２６）と，
放射ビーム（３０）の放射源（２８）であって，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャと前記標的位置とを結ぶ心合わせ軸（１４）に沿って，前記放射ビームを前記第１ダイアフラムエレメントに放射できるように配置されているか，又は配置することができる，放射源と，
前記結像系の心合わせ支柱（２０）であって，前記放射ビームの放射光が，前記結像系を通過した後，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャを通って前記標的位置に当たるまで，前記心合わせ軸に対して前記結像系の心合わせができるようにする，心合わせ支柱と，
少なくとも，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャ及び／又は前記標的位置の領域における，前記放射ビームの放射光に関する放射光検出用のセンサ装置と，
前記センサ装置のセンサ信号を処理するための信号処理ユニット（４２）と，
を備え，
前記第１ダイアフラムエレメント（２４４）及び／又はダイアフラムアパーチャ（３４）が前記標的位置を形成する第２ダイアフラムエレメント（２６）上の前記センサ装置は，前記ダイアフラムアパーチャの領域及び前記ダイアフラムアパーチャの外側双方において放射光を検出する装置。
【請求項９】
光学結像系（１２）の心合わせのための装置であって，
ダイアフラムアパーチャ（３４）を有する第１ダイアフラムエレメント（２４）と，
前記第１ダイアフラムエレメントの後ろの一定の距離に配置され，標的位置を規定する標的エレメント（２６）と，
放射ビーム（３０）の放射源（２８）であって，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャと前記標的位置とを結ぶ心合わせ軸（１４）に沿って，前記放射ビームを前記第１ダイアフラムエレメントに放射できるように配置されているか，又は配置することができる，放射源と，
前記結像系の心合わせ支柱（２０）であって，前記放射ビームの放射光が，前記結像系を通過した後，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャを通って前記標的位置に当たるまで，前記心合わせ軸に対して前記結像系の心合わせができるようにする，心合わせ支柱と，
少なくとも，前記第１ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャ及び／又は前記標的位置の領域における，前記放射ビームの放射光に関する放射光検出用のセンサ装置と，
前記センサ装置のセンサ信号を処理するための信号処理ユニット（４２）と，
を備え，
ダイアフラムアパーチャ（３４）を有する少なくとも一つのダイアフラムエレメント（２４，２６）を備え，前記ダイアフラムエレメントの少なくとも前記ダイアフラムアパーチャが前記放射光に対して透明な材料片（３８）によって覆われ，前記材料片は，前記放射ビーム（３０）の前記放射光を検出するための少なくとも一つのセンサ素子（３６）を担持する装置。
【請求項１０】
前記センサ素子（３６）は，前記ダイアフラムエレメント（２４，２６）の前記ダイアフラムアパーチャ（３４）領域に配置される，請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記材料片（３８）は，相互に間隔を置いて配置された複数のセンサ素子（３６）を担持する，請求項９又は１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記センサ素子（３６）の少なくとも一つの部分集合が，前記ダイアフラムエレメントの前記ダイアフラムアパーチャ（３４）の領域に配置される，請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記センサ素子（３６）は行列様式に配置される，請求項１１又は１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記第１ダイアフラムエレメント（２４）は，材料片（３８）及びセンサ素子（３６）が取り付けられたダイアフラムエレメントによって形成される，請求項９〜１３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】
前記標的は，材料片（３８）及びセンサ素子（３６）が取り付けられたダイアフラムエレメント（２６）の上に形成される，請求項９〜１４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１６】
前記信号処理ユニット（４２）に接続された表示ユニット（４４）を備え，前記信号処理ユニットは，前記センサ信号に基づいて表示画像用の画像データを発生し，前記表示ユニット上に前記表示画像を表示するようになっている，請求項７〜１５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１７】
前記信号処理ユニット（４２）に接続された前記結像系（１２）用のアクチュエータを備え，前記信号処理ユニットは，前記光学結像系の少なくとも一部の心合わせ用の前記センサ信号に基づいて，前記アクチュエータ用の制御信号を発生するようになっている，請求項７〜１６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１８】
前記第１ダイアフラムエレメント（２４）及び／又は前記標的位置を形成する第２ダイアフラムエレメント（２６）の前記ダイアフラムアパーチャ（３４）の大きさは変更できる，請求項７〜１７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１９】
前記結像系（１２）は集束レンズを備える，請求項７〜１８のいずれか一項に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学結像系の心合わせ（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学結像系は，診断又は治療にかかわらず眼科の多くの器具に見られる。光学結像系は，例えばレーザ器具のように，目の治療に用いられるレーザ放射光の焦点を目の中又は目の上の点に合わせるために，焦点合わせ機能を有することがある。また，レーザビームを拡大するために多くのレーザ装置で用いられるようなビーム拡大望遠鏡（ビーム拡大器）も，心合わせを必要とする光学結像系であってよい。被写体を画面センサに結像させるレンズも同様に，本発明の観点での光学結像系であってよい。一般に，本発明は，通常眼科医のオフィス又は眼科医院で見られるような眼科器具のレンズに限定されない。このような分野以外の装置における応用も同様に可能である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の出発点は，所与の軸（以降，心合わせ軸という）に対して正確に光学結像系を心合わせすることがしばしば必要になることであり，例えば，装置の光学部品の少なくとも一部を組み込むために用いられる組立てレールのような，結像系が組み込まれているか，組み込むことが望ましい装置の構造的特徴によって指示される。心合わせは，特定の所望の方法で，通常並列に，結像系の光軸を調整することを含む。このため，心合わせ軸に対して，非常にデリケートに結像系を動かし，所望の終点に到達すると，それを終点にロックすることができる必要がある。
【０００４】
光学結像系の心合わせには，例えば，相互に間隔を空けて配置された二つのダイアフラムエレメントが必要である。ダイアフラムエレメントは，結像系に対する心合わせ軸が，結像系がダイアフラムエレメントの開口部を通って心合わせできるように，装置に固定される。ダイアフラムエレメントは，心合わせ過程のために開口部によって心合わせ軸を規定すると言ってもよい。ダイアフラムエレメントは，心合わせが行われた後，装置の光軸経路から完全に取り除かれるか，少なくとも折りたたまれ，光学系の一端，特に像側に配置される。結像系の他端（被写体側）から，光ビームが心合わせ軸に沿って結像系に放射される。心合わせを実行する人の目視観察だけに基づく手続については，光ビームは可視スペクトラム内に入っていなければならない。心合わせする人は，第１の，近い方のダイアフラムエレメントのアパーチャだけでなく，第２の，遠い方のダイアフラムエレメントのアパーチャも光ビームの光が通過するまで，心合わせ軸に対して（そして，結果として二つのダイアフラムエレメントに対して）結像系を動かす。このように，光ビームは最初に第１のダイアフラムエレメントに当たり，次に光が第２のダイアフラムエレメントにも当たるように結像系の正しい角位置を調整しなければならない。第２ダイアフラムのアパーチャを探している心合わせする人が，再度第２ダイアフラムアパーチャに対する心合わせを逃すことがよくあり，これは心合わせする人にとって困難で，遅く，つまらない過程であり得る。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
これに比べて，本発明の一態様による方法によれば，光学結像系の心合わせのための方法であって，
第１ダイアフラムエレメントを少なくとも利用して心合わせ軸を規定するステップであって，心合わせ軸は第１ダイアフラムエレメントのアパーチャと，第１ダイアフラムエレメントの後ろから一定の距離を隔てて配置された標的とを結ぶ，ステップと，
心合わせ軸に沿って結像系に放射されたビームの放射光が，結像系を通過した後，第１ダイアフラムエレメントのアパーチャを通って標的に当たるまで，心合わせ軸に対して光学結像系を心合わせするステップと，
少なくとも，第１ダイアフラムエレメントのアパーチャ及び／又は標的の範囲のビームの放射に関して，第１センサによる放射光の検出を行うステップと，
信号処理ユニットに，放射光検出の際に発生されたセンサ信号を供給するステップと，
を有する方法が提供される。
【０００６】
一つの例示変形物によれば，センサ信号に基づいて信号処理ユニットによって表示画像用の画像データが発生される。表示画像の適切な可視化によって，心合わせを行う人は，例えば第１ダイアフラムエレメントのアパーチャに対する，及び／又は標的に対する（放射光検出がどこで行われるかに応じて）使用されているビームの現在位置を，したがって結像系の現在の心合わせ状態を容易に特定することができる。モニタ上に現在の心合わせ状態を可視化することによって，心合わせを実行している人の心合わせ作業を容易にし，短縮することができる。
【０００７】
代替として，又は追加で，光学結像系の少なくとも一つ部分の心合わせのためのアクチュエータ用のセンサ信号に基づいて，信号処理ユニットによって制御信号を発生させることができる。このようにして，心合わせ過程の少なくとも部分的な自動化が可能になり，心合わせを実行する人の荷が更に軽くなる。
【０００８】
センサ放射光検出は，第１ダイアフラムエレメントに関して，ダイアフラムアパーチャの領域においてだけ行うことができる。しかし，第１ダイアフラムエレメントに関してダイアフラムアパーチャの外側でも，同様にセンサ放射光検出を行うことができる。
【０００９】
本発明の一実施形態において，一つのダイアフラムアパーチャの標的は第２ダイアフラムエレメントによって形成される。この第２ダイアフラムエレメントに関するセンサ放射光検出は，ダイアフラムアパーチャの領域においてだけ行ってもよいし，ダイアフラムアパーチャの外で行なってもよい。標的を形成するために，ダイアフラムエレメントに代えて，標的面に当たる放射光を検出するために，（放射光が第１ダイアフラムエレメントを通過する限り）標的面に配置された１又は複数のセンサによって，ダイアフラムアパーチャ無しで標的面を利用することができる。
【００１０】
心合わせ状態のセンサベースの検出のお陰で，利用するビームは任意選択で可視スペクトラム内又は不可視スペクトラム内の放射光を含んでもよい。特に，紫外（ＵＶ）又は赤外（ＩＲ）レーザのように，可視スペクトラム内で放射しない場合でも，結像系が目的とする器具内にいずれにしても存在することがある放射源を用いることができる。しかし，もちろん，器具の実際の運転には必要のない別の放射源を利用することもできる。
【００１１】
心合わせされた結像系は，単レンズ又はレンズアセンブリからなるレンズ系であってよい。
【００１２】
本発明の別の態様によれば，光学結像系の心合わせのための装置であって，
ダイアフラムアパーチャを有する第１ダイアフラムエレメントと，
第１ダイアフラムエレメントの後ろの一定の距離に配置され，標的位置を規定する標的エレメントと，
放射ビームの放射源であって，第１ダイアフラムエレメントのアパーチャと，標的位置とを結ぶ心合わせ軸に沿って，放射ビームを第１ダイアフラムエレメントに放射できるようになっているか，放射するようにできる放射源と，
結像系の心合わせ支柱であって，結像系を通過した後，放射ビームの放射光が第１ダイアフラムエレメントのアパーチャを通って標的位置に当たるまで，心合わせ軸に対して結像系の心合わせを可能にする，支柱と，
少なくとも，第１ダイアフラムエレメントのアパーチャ及び／又は標的位置の領域において，放射ビームの放射に関して放射光検出するセンサ装置と，
センサ装置のセンサ信号を処理するための信号処理ユニットと，
を備える装置が提供される。
【００１３】
一つの実施形態によれば，第１ダイアフラムエレメント及び／又はアパーチャが標的位置を形成する第２ダイアフラムエレメント上のセンサ装置は，ダイアフラムアパーチャの領域においてだけ放射光を検出できる。
【００１４】
一つの有利な修正物は，少なくとも一つダイアフラムエレメント内のアパーチャが放射光に対して透明な材料片で覆われることを必要とし，該材料片は放射ビームの放射光を検出する少なくとも一つのセンサ素子を担持する。センサ素子は，ダイアフラムアパーチャの領域において放射光検出ができるように，例えば，ダイアフラムエレメントのアパーチャの領域に配置してもよい。
【００１５】
一つの例示実施形態において，材料片は，相互に間隔を空けて配置された複数のセンサ素子を担持する。これらのセンサ素子の少なくとも一つの部分集合（すなわち，２以上）は，ダイアフラムエレメントのアパーチャの領域内に配置してもよいし，又は，所望であれば，材料片のセンサ素子を全部そのように配置してもよい。センサ素子は，行列形式で規則正しい分布をしていてもよいし，不規則に分布していてもよく，後者は不要な回折効果を減少又は防止することを補助できる。
【００１６】
第１ダイアフラムエレメントは，材料片及びセンサ素子を備えるダイアフラムエレメントによって形成してもよい。代替として，又は追加で，標的を材料片及びセンサ素子を備えるダイアフラムエレメントによって形成してもよい。
【００１７】
信号処理ユニットは表示ユニットに接続してもよく，信号処理ユニットは，センサ信号に基づいて表示画像用の画像データを発生し，表示画像を表示ユニットに表示するようになっている。
【００１８】
代替として，又は追加で，信号処理ユニットは結像系のアクチュエータに接続してもよく，信号処理ユニットは，光学結像系の少なくとも一部の心合わせのためのセンサ信号に基づいて，アクチュエータ用の制御信号を発生するようになっている。
【００１９】
結像系の光軸の外側のビーム経路の調査のような更なる調査のために，標的位置を形成する第１ダイアフラムエレメント及び／又は第２ダイアフラムエレメントのアパーチャのサイズは変更可能であってよい。例えば，手動調整の可能性があってもよいし，更なる自動化のために，ダイアフラムのサイズを信号処理ユニットによって制御してもよい。
【００２０】
以下，添付の簡単な図面を用いて，本発明をより詳しく説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】光学結像系の心合わせのための装置の例示実施形態の図である。
【図２】ビーム検出用のセンサを備えた，図１の装置のダイアフラムエレメントの拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
図１に示した心合わせ装置は全体を１０で示されている。この装置は，所与の心合わせ軸１４に対して，ボックス１２で概略を示した光学結像系の心合わせ，すなわち，結像系１２の光軸１６が，心合わせ軸１４に対して，一定の所望の位置及び方向を有するように空間内で結像系１２を調整すること，を可能にする。一般に，心合わせの目的は，結像系１２の光軸１６が，心合わせ軸１４に平行，かつ特定の同軸性を以って延びるように，結像系を調整することである。
【００２３】
結像系１２は任意の所与の数の光学レンズを有してよく，光学レンズは心合わせ軸１４に対して単位として移動させることができる。したがって，結像系１２は単レンズとして設計してもよいし，複レンズ系として設計してもよい。純粋に例示のために，図１は単レンズ１８を示しているが，これは決して制限としてとらえてはならない。所望であれば，光学結像系１２は，代替として，又は追加で，回折素子のような１又は複数のほかの光学素子を備えてもよい。
【００２４】
結像系１２は，図１に概略だけ示した取付台２２の上の心合わせ支柱２０によって指示される。取付台２２は，一対のダイアフラムエレメント２３，２６と，心合わせ軸１４に平行，かつ好適には同軸のビーム軸を有する放射ビーム３０を放射することができる放射源２８とを含む，心合わせ装置１０の種々の光学部品を指示する役割をする。放射ビーム３０の伝ぱ方向に対して，放射源２８の取付位置は，心合わせされる結像系１２の前に配置され，一対のダイアフラムエレメント２４，２６の取付位置は，結像系１２の後ろにある。取付台２２は，眼科診断又は治療器具の一部である。結像系１２を除いて，放射源２８，ダイアフラム対２４，２６及び他の光学部品は取付台２２に固定され，又は固定することができ，これらは結像系１２の心合わせには必要ないが，診断又は治療器具を機能させるには必要である。例えば，１又は複数の偏向ミラー，スキャナの部品，１又は複数のカメラ，光干渉断層造影装置（ＯＣＴ）又は光低干渉反射率（ＯＬＣＲ）測定装置の備品，等は，取付台２２の上に配置され，又は追加で配置してもよい。このような追加光学部品は当業者には周知であり，ここでは更なる説明は必要ない。
【００２５】
取付台２２は，例えばレール形状であってよいが，任意のほかのより複雑な形状を有してもよい。
【００２６】
心合わせ支柱２０は，取付台２２に対する結像系１２の手動及び／又は電気制御による移動を可能にする。心合わせ軸１４は取付台２２に対して所定の位置及び方向を有し，それによって，取付台２２に対する結像系１２の心合わせが同時に心合わせ軸１４に対する心合わせも伴う。心合わせ支柱２０は，例えば，取付台２２に対する１又は複数の旋回軸の周りに，結像系１２の旋回を可能にする。代替として，又は追加で，心合わせ支柱２０は，取付台２２に対する１又は複数の移動方向へ，結像系１２の平行移動を可能にする。
【００２７】
ダイアフラムエレメント２４，２６はそれぞれ，ダイアフラム保持台３２を介して取付台２２に固定されている。ダイアフラムエレメント２４，２６は，結像系１２が組み込まれている器具の実際の診断又は治療のための操作ではなく，心合わせのためだけに必要とされるものであるから，ダイアフラム保持台３２は，ダイアフラムエレメント２４，２６を，心合わせ済み結像系１２の光軸１６の領域から取り除くことができるようにする。このため，ダイアフラム保持台３２は，例えば，ダイアフラムエレメント２４，２６を取付台２２にプラグイン又はねじ込みで着脱可能に固定できるようにしてもよい。代替として，ダイアフラム保持台３２がダイアフラムエレメント２４，２６を旋回又はあるほかの動きをさせて，実際の診断又は治療過程を混乱させないようにすることが考えられる。ダイアフラムエレメント２４，２６のこのような旋回又はほかの動きは手動で行ってもよいし，ダイアフラムエレメント２４，２６を電気的に作動させ，適切な駆動手段（例えば，電気モータ）でダイアフラムエレメント２４，２６を使用位置及び不使用位置に自動配置することを可能にするように設計してもよい。
【００２８】
放射源２８は，可視スペクトラム及び／又は不可視スペクトラム内の放射光を放射する。放射源は，眼科器具の診断及び／又は治療操作にも必要な放射源であってよい。代替として，放射源は眼科器具の操作に必要のない補助放射源であってもよく，これは眼科器具の主操作の際は停止したままにするか，又は取付台２２から取り外してもよい。所望であれば，放射源２８は，ダイアフラムエレメント２４，２６のように，取付台２２の上に使用位置と不使用位置との間を移動（例えば，旋回）できるようにしてもよい。放射光は放射源２８自体で発生してもよいし，代替として，放射源２８は放射光の単なる送出ヘッドであって，その放射光は心合わせ装置１０又は眼科器具（放射源２８が眼科器具においても使用される限り）のどこかで発生され，例えば光ファイバ又は放射アームによって送出ヘッドに供給してもよい。
【００２９】
心合わせ軸１４の方向におけるダイアフラムエレメント２４，２６の相互間隔は，例えば，数センチメートル又は数十センチメートルである。結像系１２と第１ダイアフラムエレメント２４（すなわち，二つのダイアフラムエレメント２４，２６のうちビーム伝ぱの方向で最初のもの）との間に同程度の間隔が存在してもよい。
【００３０】
二つのダイアフラムエレメント２４，２６はそれぞれ，例えば，円形ダイアフラム穴３４を有する（図２参照）。この図は代表としてダイアフラムエレメント２４を示しているが，次の所見は，明示的に差を指摘しない限り，ダイアフラムエレメント２６にも同様に適用される。ダイアフラム穴３４は，例えば，０．１ｍｍ〜２ｍｍの範囲の直径を有する。ダイアフラムエレメント２４，２６の使用位置において，すなわち，結像系１２の心合わせを実行するとき，二つのダイアフラムエレメント２４，２６のダイアフラム穴３４は心合わせ軸１４に中心がある。換言すれば，心合わせ軸１４は，ダイアフラムアパーチャ３４のアパーチャ中心点を通る。ビーム軸が心合わせ軸１４と同軸であり，入射側（被写体側）から結像系１２に放射される放射ビーム３０からの放射光の少なくとも一部が第１ダイアフラムエレメント２４のダイアフラム穴３４を通過するだけでなく，これらの放射光部分が第２ダイアフラムエレメント２６のアパーチャ３４の領域にも到達するとき，結像系１２は正しく心合わせされている。放射ビーム３０は発散してもよいが，その場合は非常にわずかな発散であることが望ましい。代替として，放射ビームは発散しない平行な（ｃｏｌｌｉｍａｔｅｄ）ビームであってもよい。例えば，放射ビーム３０をレーザ光によって形成してもよい。
【００３１】
放射ビーム３０の放射光が二つのダイアフラムエレメント２４，２６のアパーチャ３４に当たるか否かを検出するために，図示した例示実施形態における二つのダイアフラムエレメントはそれぞれ，特定のダイアフラムアパーチャ３４の領域に放射ビーム３０の放射光が当たることを検出するための適切なセンサを備えてもよい。ダイアフラムエレメント２４の例について図２に示すように，放射ビーム２８の放射光を感知できるいくつかのセンサ素子３６はダイアフラムアパーチャ３４の領域内に配置され，図示した例においては２次元格子パターンで分布する。少なくともダイアフラムエレメント２４の場合，センサ素子３６はダイアフラムアパーチャ３４のアパーチャ全体の断面を満たすのではなく，互いに間隙を残し，またダイアフラムアパーチャ３４の端にある。この間隙は，放射ビーム３０の放射光がダイアフラムアパーチャ３４を通ることを可能にする。代替実施形態においては，ダイアフラムアパーチャ３４の周辺にただ一つのセンサ素子３６があってもよい。
【００３２】
図２に示した例において，センサ素子３４は，ダイアフラムアパーチャ３４の円周の外側ではなく内側だけにある。しかし，本発明において，１又は複数のセンサ素子をダイアフラムアパーチャ３４の外側に配置することも除外されない。
【００３３】
センサ素子３６の担体は，放射源２８の放射光に対して少なくとも部分的に透明な材料片３８であり，ダイアフラムアパーチャ３４を完全に覆い，例えば，接着で又は別様に，ダイアフラムエレメント２４に固定される。材料片３８は，剛性の，すなわち形状が安定した材料で形成してもよいし，可撓性材料で形成してもよい。材料編の厚みに関しては薄膜のように薄くてもよいし，板又は円盤の形状であってもよい。例えば，材料３８は，ガラス状のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ），ポリエチレン（ＰＥ）又はポリカーボネート（ＰＣ）でできていてもよい。もちろん，センサ素子３６に所望の位置安定度を与えることができる限り，任意の透明又は半透明の材料で材料片３８を形成してもよい。センサ素子３６は，例えば，材料片３８に接着してもよいし，リトグラフィ法によって付けてもよい。有利には，いくつかのセンサ素子３６を材料片３８上に分散配置することによって，照射される放射光の強度に関する位置分解情報（ｐｏｓｉｔｉｏｎ−ｒｅｓｏｌｖｅｄ  ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ）を得ることができる。
【００３４】
もちろん，円形アパーチャの代わりに，ダイアフラムアパーチャ３４は長方形又は正方形のアパーチャであってもよい。センサ素子３６は，ダイアフラムアパーチャ３４の形状によらず，アパーチャの断面全体の上にできる限り均一に分布することが望ましい。
【００３５】
一つの代替実施形態においては，第２ダイアフラムエレメント２６を取り除いて，例えば板状の，センサ素子３６用の別の担体で置き換えてもよい。この担体はダイアフラムとして作用する開口部を必要としない。この担体は，心合わせ軸１４が当たる領域に１又は複数のセンサ素子３６を備えていれば十分である。担体の放射ビーム３０の放射光に対する透過性は必要ない。この担体が放射光に対して透明でなくても，結像光学系１２が正しく心合わせされているか否かについての情報はセンサ素子３６から得ることができる。
【００３６】
センサ素子３６は，センサ信号を対応する信号線４０を介して，センサ信号を処理する電子信号処理ユニット４２に伝える。この処理は画像信号を発生することを含んでもよく，画像信号は信号処理ユニット４２によって，表示のために表示ユニット（モニタ）４４に与えられる。表示された画像は，心合わせ軸１４及び／又はダイアフラムアパーチャ３４に対する結像系１２の現在の心合わせ状態の図形表現を含む。結像系１２を手動で心合わせする場合は，このような図形表現は，利用者にとって面倒な心合わせ作業を容易にすることができる。図１において，信号処理ユニット４２と表示ユニット４４との間の画像信号線４６は画像信号を伝送する役割をする。
【００３７】
結像系１２の自動化された心合わせのために，信号処理ユニット４２は，代替として，又は追加で制御信号を発生してもよく，この制御信号は制御信号線４８（図１において点線で示される）を介して，図示していないが，心合わせ支柱２０に統合された結像系１２のサーボドライブに送られる。所定の基準（ｎｏｍｉｎａｌ）状態と比較することによって，信号処理ユニット４２は現在供給されているセンサ信号を用いて，更なる調整の必要性を確認し，それに応じて上述のサーボドライブを作動させることができる。基準状態は，例えば，センサ素子３６のセンサ信号の信号強度に関する１又は複数のしきい値によって規定してもよく，しきい値は個々のセンサ素子３６及び／又はセンサ素子３６の１又は複数のグループごとに明確に設定してもよい。代替として，又は追加で，センサ素子３６によって検出された放射光強度の所定の局所分布によって，基準状態を規定してもよい。もちろん，上述の基準は例に過ぎず，所望であれば，基準状態を設定するために別の基準を用いてもよい。一定の状況においては，第１ダイアフラムエレメント２４ではなく（図１の例示実施形態において第２ダイアフラムエレメント２６のダイアフラムアパーチャ３４によって表される）標的位置に関する別の基準を設定してもよい。
【００３８】
画像信号及び制御信号を信号線４６によって有線伝送する代わりに，これらの信号の少なくともいくつかを，例えば無線ＬＡＮ（ＷＬＡＮ），ＷｉＦｉ又はＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）によって無線伝送することも考慮できることは言うまでもない。
【００３９】
さらに，第１ダイアフラムエレメント２４及び／又は第２ダイアフラムエレメント２６のアパーチャ３４は，手動で又は信号処理ユニット４２による制御で調整可能な大きさであってもよい。ダイアフラムアパーチャ３４の断面を拡大することによって，光軸１６の外側にある放射経路も測定することができる。もちろん，調整可能な大きさのダイアフラムアパーチャ３４によって，センサ素子３６に取り付けられた材料片３８の領域は，ダイアフラムアパーチャ３４の断面が最大のときも，基本的にアパーチャ断面全体に渡って放射光測定を実行できるように十分大きい。そして，センサ素子３６の少なくともいくつかは，ダイアフラムアパーチャ３４の大きさが縮小されたとき，アパーチャの端の外側になるであろう。例えば，ダイアフラムアパーチャ３４が増大したとき，放射ビーム３０の強度特性（ｐｒｏｆｉｌｅ）及び／又は発散に関する測定値を取得することができる。さらに，第１ダイアフラムアパーチャ３４の端（すなわち，第１ダイアフラムエレメント２４のアパーチャ３４）における回折は，第２ダイアフラムエレメント２６のセンサ素子３６によって形成される第２検出器において回折パターンを生成することがあり，放射ビーム３０の一定の特性（ｐｒｏｐｅｒｔｙ）に関する情報を得るために，この第２検出器のセンサ信号によって，信号処理ユニット４２が評価することができる。
【図１】
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【図２】
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