(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
固い層からなる支持層上に設計水準に応じて未改良層を残し、この未改良層上に盛土縦断方向に対して直交するように所定間隔毎に複数の壁を配置して壁式改良層を形成し、この壁式改良層上に浅層改良層を形成した後に、この浅層改良層上に盛土を行う壁式地盤改良工法において、前記壁を連続壁構造とする一方、この連続壁構造とした前記壁の盛土横断方向の外端部には、この外端部に対峙させ、かつ、構成する部材間に隙間を有する少なくとも１列以上の変位抑止壁を配置することを特徴とする変位抑止壁を備える壁式地盤改良工法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は変位抑止壁を備える壁式地盤改良工法に係り、特に壁式地盤改良工法の改良工法であって、変位抑止壁を備えることによって、構築物の盛土及び周辺部位の沈下を抑制して軟弱地盤の改良を図る変位抑止壁を備える壁式地盤改良工法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
道路や堤防などの構築物を構築する際に、例えば壁式地盤改良工法を使用するものがある。
この壁式地盤改良工法によって構築物１０１を構築する際には、図９に示す如く、先ず固い層からなる支持層１０２を確保する。
このとき、この「支持層１０２」は、一般的な「固い地盤」と解釈することができる。
そして、前記支持層１０２を確保した後に、この支持層１０２上に所定深さの未改良層１０３を残している。
この未改良層１０３は、設計水準により残さない場合もある。
この未改良層１０３上には、盛土縦断方向Ａに対して直交するように所定間隔毎に深層混合処理でセメント系の複数の壁１０４を配置して壁式改良層１０５を形成している。
なお、参考までに説明すると、上記の「深層混合処理」としては、例えばバケットを使用して土砂を掘削し、その後、土砂内にセメントミルクと撹拌混合させて埋設し、直線的な複数の壁１０４を作り、これらの壁１０４と壁１０４間に位置する土砂とによって一体的な壁式改良層１０５を形成する処理方策を想定している。
また、前記壁式改良層１０５上に浅層改良層１０６を形成した後に、この浅層改良層１０６上に盛土１０７を行って前記構築物１０１を構築している。
更に、この構築物１０１上には、道路や堤防などを形成している。
なお、上記「盛土縦断方向Ａ」は、前記構築物１０１上に形成される道路や堤防などの長手方向に合致する方向を指している。
【０００３】
また、地盤改良工法に関しては、以下の特許文献１〜特許文献３などのように多数の技術内容が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−３１７３０７号公報
【特許文献２】特開２０１０−３７８３１号公報
【特許文献３】特開２０１４−１９６６１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、従来の壁式地盤改良工法においては、図９から明らかなように、前記構築物１０１を構築した際に、前記壁式改良層１０５を構成する複数の壁１０４間に土砂が位置している。
このとき、前記未改良層１０３上方に位置する盛土１０７の重量によって圧密沈下が発生する。
なお、この圧密沈下の発生時には、盛土１０７の周辺部位をも引きずり込んでしまい、構築物１０１の盛土１０７の周辺部位に沈下が発生するという不都合がある。
【０００６】
また、上述した不都合を防止する構造としては、前記壁式改良層を構成する複数の壁の外端部に一体的なシートパイルを配置する方式のものが考えられる。
しかし、このシートパイル方式のものは、一体的な構成を備えていることにより、盛土１０７の周辺部位に沈下が発生することは防止できるものの、材料費が嵩み、コストが上昇してしまうという不都合があるとともに、シートパイルによって地下水の流れが遮断されてしまうという不都合がある。
【０００７】
この発明は、変位抑止壁によって構築物の盛土及び周辺部位の沈下を抑制して軟弱地盤の改良を効果的に果たし得る変位抑止壁を備える壁式地盤改良工法を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
そこで、この発明は、上述不都合を除去するために、固い層からなる支持層上に設計水準に応じて未改良層を残し、この未改良層上に盛土縦断方向に対して直交するように所定間隔毎に複数の壁を配置して壁式改良層を形成し、この壁式改良層上に浅層改良層を形成した後に、この浅層改良層上に盛土を行う壁式地盤改良工法において、前記壁を連続壁構造とする一方、この連続壁構造とした前記壁の盛土横断方向の外端部には、この外端部に対峙させ、かつ、構成する部材間に隙間を有する少なくとも１列以上の変位抑止壁を配置することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、以下の効果を奏することができる。
（１）前記変位抑止壁によって構築物の盛土及び周辺部位の沈下を抑制して軟弱地盤の改良を効果的に行うことができる。
（２）また、前記変位抑止壁を構成する部材間の隙間を利用して壁式改良層の横断方向の地下水の流れが阻害されず、かつ、壁で壁間の地盤を高速しているため液状化対策にも著効を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、この発明の実施例１を示す変位抑止壁の配置状態の概略断面平面図である。（実施例１）
【図２】図２は、変位抑止壁の配置状態の概略断面正面図である。（実施例１）
【図３】図３は、変位抑止壁の有無による地表面沈下を示す図である。（実施例１）
【図４】図４は、この発明の実施例２を示す変位抑止壁の配置状態の概略断面平面図である。（実施例２）
【図５】図５は、この発明の実施例３を示す変位抑止壁の配置状態の概略断面平面図である。（実施例３）
【図６】図６は、この発明の実施例４を示す変位抑止壁の配置状態の概略断面平面図である。（実施例４）
【図７】図７は、この発明の実施例５の壁式改良層の壁の概略断面平面図を示し、（ａ）は一体成形の壁の概略断面平面図、（ｂ）は複数本の不連続な杭部材からなる壁の概略断面平面図、（ｃ）は複数本の一部が重複するように連続する杭部材からなる壁の概略断面平面図、（ｄ）は一体成形部分と複数本の不連続な杭部材からなる部分とを有する壁の概略断面平面図である。（実施例５）
【図８】図８は、この発明の実施例６を示す複数本の一部が重複するように連続する杭部材からなる壁の要部説明図である。（実施例６）
【図９】図９は、この発明の従来技術を示す壁式地盤改良工法の概略斜視説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下図面に基づいてこの発明の実施例を詳細に説明する。
【実施例１】
【００１２】
図１〜図３はこの発明の実施例１を示すものである。
図１及び図２において、１はこの発明の壁式地盤改良工法によって構築される構築物である。
この構築物１は、従来技術部分で説明したように、固い層からなる支持層２を確保した後に、この支持層２上に所定深さの未改良層３を形成する。
そして、この未改良層３上に盛土縦断方向Ａに対して直交するように所定間隔毎に深層混合処理でセメント系の複数の壁４を配置して壁式改良層５を形成する。
また、この壁式改良層５上に浅層改良層６を形成した後に、この浅層改良層６上に盛土７を行って構築するという壁式地盤改良工法に基づいている。
【００１３】
そして、この発明の実施例１における前記構築物１において、前記壁４の盛土横断方向Ｂの外端部近傍には、構成する部材間に隙間を有する少なくとも１列以上の変位抑止壁８を配置する構成とする。
詳述すれば、前記壁４を、例えば３個の第１壁４−１、第２壁４−２、第３壁４−３として説明すると、図１に示す如く、夫々の第１〜第３壁４−１、４−２、４−３を所定間隔毎、かつ、前記盛土縦断方向Ａに対して直交するように、つまり、夫々の第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の長手方向を盛土横断方向Ｂに合致させるように配置して前記壁式改良層５を形成する。
【００１４】
その後、夫々の第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３に、この外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３から所定距離Ｓだけ離間させて前記変位抑止壁８を配置する。
このとき、この変位抑止壁８を、例えば３列の第１の変位抑止壁列８Ａ、第２の変位抑止壁列８Ｂ、第３の変位抑止壁列８Ｃとする（なお、この構成は、図３における「変位抑止壁３列」と換言することが可能である。）。
【００１５】
上記「所定距離Ｓ」に関しては、地盤状況に応じて任意に設定変更可能である。
そして、３列の第１の変位抑止壁列８Ａ、第２の変位抑止壁列８Ｂ、第３の変位抑止壁列８Ｃを配置する際の夫々の離間寸法を、変更させることが可能であるが、この発明の実施例１においては、変更させずに「所定距離Ｓ」を使用する構成とする。
【００１６】
追記すれば、前記第１壁４−１の外端部４ａ−１には、図１から明らかなように、第１壁４−１の長手方向を盛土横断方向Ｂに対して直交するように、つまり、長方形状からなる断面形状の長手方向を前記盛土縦断方向Ａに合致させるとともに、第１壁４−１の外端部４ａ−１から所定距離Ｓだけ離間するように、第１の変位抑止壁列８Ａの第１変位抑止壁８Ａ−１を配置する。
また、前記第２壁４−２の外端部４ａ−２には、上述の前記第１壁４−１と同様に、第２壁４−２の外端部４ａ−２から所定距離Ｓだけ離間するように第１の変位抑止壁列８Ａの第２変位抑止壁８Ａ−２を配置する。
更に、前記第３壁４−３の外端部４ａ−３には、上述の前記第１壁４−１及び前記第２壁４−２と同様に、第３壁４−３の外端部４ａ−３から所定距離Ｓだけ離間するように第１の変位抑止壁列８Ａの第３変位抑止壁８Ａ−３を配置する。
そして、第１の変位抑止壁列８Ａの外側に、この第１の変位抑止壁列８Ａから所定距離Ｓだけ離間するように、前記第２の変位抑止壁列８Ｂの第１〜第３変位抑止壁Ｂ−１、８Ｂ−２、８Ｂ−３を夫々配置する。
また、前記第２の変位抑止壁列８Ｂの外側には、この第２の変位抑止壁列８Ｂから所定距離Ｓだけ離間するように、前記第３の変位抑止壁列８Ｃの第１〜第３変位抑止壁８Ｃ−１、８Ｃ−２、８Ｃ−３を夫々配置するものである。
【００１７】
そして、前記第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃの構成する部材である各第１〜第３変位抑止壁８Ａ−１、８Ａ−２、８Ａ−３及び第１〜第３変位抑止壁８Ｂ−１、８Ｂ−２、８Ｂ−３、第１〜第３変位抑止壁８Ｃ−１、８Ｃ−２、８Ｃ−３を配置した際に、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３によって現出される第１及び第２間隙部９−１、９−２に対峙するように、かつ、これらの第１及び第２間隙部９−１、９−２よりも小さくなるように、構成する部材間の隙間である所定の第１及び第２隙間１０−１、１０−２を確保する。
つまり、前記第１壁４−１と前記第２壁４−２によって現出される前記第１間隙部９−１に対しては、図１に示す如く、第１変位抑止壁列８Ａの第１変位抑止壁８Ａ−１と第２変位抑止壁８Ａ−２との間、及び、第２の変位抑止壁列８Ｂの第１変位抑止壁８Ｂ−１と第２変位抑止壁８Ｂ−２との間、そして、第３の変位抑止壁列８Ｃの第１変位抑止壁８Ｃ−１と第２変位抑止壁８Ｃ−２との間に、盛土横断方向Ｂに延びる前記第１隙間１０−１を夫々確保する。
同様に、前記第２壁４−２と前記第３壁４−３によって現出される前記第２間隙部９−１に対しては、第１変位抑止壁列８Ａの第２変位抑止壁８Ａ−２と第３変位抑止壁８Ａ−３との間、及び、第２の変位抑止壁列８Ｂの第２変位抑止壁８Ｂ−２と第３変位抑止壁８Ｂ−３との間、そして、第３の変位抑止壁列８Ｃの第２変位抑止壁８Ｃ−２と第３変位抑止壁８Ｃ−３との間に、盛土横断方向Ｂに延びる前記第２隙間１０−２を確保するものである。
【００１８】
なお、この発明の実施例１においては、図１に開示して前記第１、第２隙間１０−１、１０−２を直線状態となるように、第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃの構成を説明したが、これらの第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃの配置位置をずらした特別構成とすることも可能である。
例えば、第１の変位抑止壁列８Ａに対して、第２の変位抑止壁列８Ｂの配置位置を盛土縦断方向Ａにずらし、前記第１、第２隙間１０−１、１０−２とが直線状態とならないようにするものである。
さすれば、特別構成として直線状態ではなくても、繋がった状態の第１、第２隙間を確保することができるため、地下水の流れが阻害されない。
【００１９】
また、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３に前記第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃを形成する際に、これらの第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃの深さを任意に設定することが可能である。
この発明の実施例１においては、図２に示す如く、前記第１の変位抑止壁列８Ａから前記第２の変位抑止壁列８Ｂ、前記第３の変位抑止壁列８Ｃに向かって漸次深さを大とする設定とする。
このとき、最も外側部位に位置し、かつ、最も深い第３の変位抑止壁列８Ｃの下端を、前記支持層２まで到達する構成とする。
【００２０】
更に、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３に前記第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃを形成した後には、前記第１壁４−１、第２壁４−２、第３壁４−３の前記壁式改良層５上に前記浅層改良層６を形成するとともに、この浅層改良層６を第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃ上にも延長させて、一体的に形成する。
このとき、この浅層改良層６は、ジオテキスタイルでも対応可能である。
そして、前記浅層改良層６を形成した後に、この浅層改良層６上に盛土７を行う際には、前記壁式改良層５側から第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃ側に向かって前記盛土７の上面の高さ位置が漸次減少するように傾斜させて前記構築物１を構築する。
【００２１】
次に作用を説明する。
【００２２】
「変位抑止壁３列」の前記第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃを備える前記構築物１を構築すると、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３と、これらの第１〜第３壁４−１、４−２、４−３によって現出される前記第１及び第２間隙部９−１、９−２の土砂とによって前記壁式改良層５が形成される。
このとき、この壁式改良層５よりも下方の前記未改良層３は未改良領域となっており、経年使用によって盛土１０７などの重量により圧密沈下が発生する。
そして、前記未改良層３などの圧密沈下の発生時に、前記盛土１０７の周辺部位の引きずり込みが防止される。
また、壁式改良層５の横断方向の地下水の流れも阻害されない。
【００２３】
ここで、構築物１の盛土７及び周辺部位の沈下状態について説明する。
従来のように、第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃを有しない構築物、つまり、「変位抑止壁無し」の構築物の場合には、図３に実線で示す如く、例えば道路境界（着目位置）における法尻からの距離が５（ｍ）で、約−２５（ｃｍ）程度の地盤面沈下が発生している。
これに対して、この発明の実施例１である前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３に前記第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃを備える「変位抑止壁３列」の前記構築物１の場合には、図３に破線で示す如く、殆ど地盤面沈下が発生しておらず、あえて数値で開示すると、道路境界（着目位置）における法尻からの距離が５（ｍ）で、約−２（ｃｍ）程度の地盤面沈下が発生している。
なお、前記第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃは、前記構築物１の法尻から天端までの間で２／３までの範囲を標準としている。
【００２４】
これにより、この発明の実施例１においては、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の盛土横断方向Ｂの外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３には、この外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３に対峙させ、かつ、構成する部材間の隙間である所定の第１及び第２隙間１０−１、１０−２を有する前記変位抑止壁８、例えば３列の前記第１の変位抑止壁列８Ａ、第２の変位抑止壁列８Ｂ、第３の変位抑止壁列８Ｃを配置する構成とすることによって、以下の効果を奏することができる。
（１）前記変位抑止壁８である前記第１の変位抑止壁列８Ａ、第２の変位抑止壁列８Ｂ、第３の変位抑止壁列８Ｃ間において、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３によって現出される第１及び第２間隙部９−１、９−２よりも小さくなるように前記第１及び第２隙間１０−１、１０−２を設定することにより、前記変位抑止壁８によって前記構築物１の盛土７及び周辺部位の沈下を抑制して軟弱地盤の改良を効果的に行うことができる。
（２）また、前記変位抑止壁８である前記第１の変位抑止壁列８Ａ、第２の変位抑止壁列８Ｂ、第３の変位抑止壁列８Ｃ間に設けた前記第１及び第２隙間１０−１、１０−２を利用して壁式改良層５の第１〜第３壁４−１、４−２、４−３間の下方に位置する前記未改良層３などの地下水の流れが阻害されず、かつ、第１〜第３壁４−１、４−２、４−３で液状化対策にも著効を奏する。
（３）更に、たとえ前記構築物１の支持層２が傾斜している状態であっても、変位抑止壁８である前記第１の変位抑止壁列８Ａ、第２の変位抑止壁列８Ｂ、第３の変位抑止壁列８Ｃが未改良層３などに位置する土砂全体を保持するように抵抗となるため、支持層２の傾斜状態に拘わらず、軟弱地盤の改良を十分に遂行し得る。
【実施例２】
【００２５】
図４はこの発明の実施例２を示すものである。
この実施例２において、上述実施例１のものと同一機能を果たす箇所には、同一符号を付して説明する。
【００２６】
上述実施例１においては、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３に前記第１〜第３の変位抑止壁列８Ａ、８Ｂ、８Ｃを備える「変位抑止壁３列」の前記構築物１としたが、この実施例２の特徴とするところは、「変位抑止壁１列」からなる変位抑止壁８を備える構築物１１とした点にある。
【００２７】
すなわち、前記変位抑止壁８は、長方形状からなる断面形状の第１〜第３変位抑止壁８−１、８−２、８−３を有している。
また、上述した実施例１と同様に、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３によって現出される第１及び第２間隙部９−１、９−２に対峙するように、所定の第１及び第２隙間１０−１、１０−２を確保するものである。
このため、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３に前記変位抑止壁８を備える「変位抑止壁１列」の前記構築物１１の場合には、図３に１点鎖線で示す如く、道路境界（着目位置）における法尻からの距離が５（ｍ）で、約−１５（ｃｍ）程度の地盤面沈下が発生している。
【００２８】
さすれば、上述した案施例１と同様に、以下の効果を奏することができる。
（１）前記変位抑止壁８間において、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３によって現出される第１及び第２間隙部９−１、９−２よりも小さくなるように前記第１及び第２隙間１０−１、１０−２を設定することにより、前記変位抑止壁８によって前記構築物１１の盛土及び周辺部位の沈下を抑制して軟弱地盤の改良を効果的に行うことができる。
（２）また、前記変位抑止壁８間に設けた前記第１及び第２隙間１０−１、１０−２を利用して壁式改良層５の第１〜第３壁４−１、４−２、４−３間の下方に位置する前記未改良層３などの地下水の流れが阻害されず、かつ、第１〜第３壁４−１、４−２、４−３で液状化対策にも著効を奏する。
（３）更に、たとえ前記構築物１１の支持層が傾斜している状態であっても、前記変位抑止壁８が未改良層３などに位置する土砂全体を保持するように抵抗となるため、支持層の傾斜状態に拘わらず、軟弱地盤の改良を十分に遂行し得る。
【実施例３】
【００２９】
図５はこの発明の実施例３を示すものである。
【００３０】
この実施例３の特徴とするところは、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３に変位抑止壁２８を備える「変位抑止壁１列」の前記構築物２１を構築するとともに、前記変位抑止壁２８の第１〜第３変位抑止壁２８−１、２８−２、２８−３の長手方向を、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の長手方向に合致させる構成とした点にある。
【００３１】
すなわち、前記構築物２１を構築する際に、図５に示す如く、「変位抑止壁１列」の前記変位抑止壁２８である長方形状からなる断面形状の前記第１〜第３変位抑止壁２８−１、２８−２、２８−３を設ける一方、これらの第１〜第３変位抑止壁２８−１、２８−２、２８−３の長手方向を、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の長手方向である盛土横断方向Ｂに合致させるものである。
このとき、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の幅寸法と第１〜第３変位抑止壁２８−１、２８−２、２８−３の幅寸法とは任意に設定する構成とすることも可能であるが、この発明の実施例３においては、ほぼ同一の幅寸法として接触面積を大としている。
【００３２】
これにより、上述した実施例２と比較すると、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３によって現出される第１及び第２間隙部９−１、９−２に対峙する所定の第１及び第２隙間３０−１、３０−２は、第１及び第２間隙部９−１、９−２と同様な寸法まで拡大しているが、第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３に前記第１〜第３変位抑止壁２８−１、２８−２、２８−３を配置して接触面積を大としているため、以下の効果を奏することができる。
（１）前記変位抑止壁２８間において、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３によって現出される第１及び第２間隙部９−１、９−２と同様な寸法に前記第１及び第２隙間３０−１、３０−２を設定したことにより、接触面積を大とした前記変位抑止壁２８によって前記構築物２１の盛土及び周辺部位の沈下を抑制して軟弱地盤の改良を効果的に行うことができる。
（２）また、前記変位抑止壁２８間に設けた前記第１及び第２隙間３０−１、３０−２を利用して壁式改良層５の第１〜第３壁４−１、４−２、４−３間の下方に位置する前記未改良層３などの地下水の流れが阻害されず、かつ、第１〜第３壁４−１、４−２、４−３で液状化対策にも著効を奏する。
（３）更に、たとえ前記構築物２１の支持層が傾斜している状態であっても、前記変位抑止壁２８が未改良層３などに位置する土砂全体を保持するように抵抗となるため、支持層の傾斜状態に拘わらず、軟弱地盤の改良を十分に遂行し得る。
【実施例４】
【００３３】
図６はこの発明の実施例４を示すものである。
【００３４】
上述した実施例１〜３においては、変位抑止壁８、２８の断面形状を長方形状としたが、この実施例４の特徴とするところは、変位抑止壁３８の断面形状を円形状とした点にある。
【００３５】
すなわち、前記構築物３１を構築する際に、図６に示す如く、「変位抑止壁１列」の前記変位抑止壁３８である円形状からなる断面形状の前記第１〜第３変位抑止壁３８−１、３８−２、３８−３を設けるものである。
このとき、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の幅寸法と第１〜第３変位抑止壁３８−１、３８−２、３８−３の径寸法とを任意に設定する構成とすることも可能であるが、この発明の実施例４においては、第１〜第３変位抑止壁３８−１、３８−２、３８−３の径寸法を少し大きい寸法とする。
なお、前記変位抑止壁３８の第１〜第３変位抑止壁３８−１、３８−２、３８−３を形成する際には、例えば土砂を掘削しつつ、土砂内にセメント系のセメントミルを注入して撹拌を行い、円柱状杭を作ることによって対応可能である。
【００３６】
これにより、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３によって現出される第１及び第２間隙部９−１、９−２に対峙する所定の第１及び第２隙間４０−１、４０−２を、第１及び第２間隙部９−１、９−２よりも小さな寸法にでき、第１〜第３壁４−１、４−２、４−３の外端部４ａ−１、４ａ−２、４ａ−３に前記第１〜第３変位抑止壁３８−１、３８−２、３８−３を配置しているため、以下の効果を奏することができる。
（１）前記変位抑止壁３８間において、前記第１〜第３壁４−１、４−２、４−３によって現出される第１及び第２間隙部９−１、９−２よりも小さくなるように前記第１及び第２隙間４０−１、４０−２を設定したことにより、前記変位抑止壁３８によって前記構築物３１の盛土及び周辺部位の沈下を抑制して軟弱地盤の改良を効果的に行うことができる。
（２）また、前記変位抑止壁３８間に設けた前記第１及び第２隙間４０−１、４０−２を利用して壁式改良層５の第１〜第３壁４−１、４−２、４−３間の下方に位置する前記未改良層３などの地下水の流れが阻害されず、かつ、第１〜第３壁４−１、４−２、４−３で液状化対策にも著効を奏する。
（３）更に、たとえ前記構築物３１の支持層が傾斜している状態であっても、前記変位抑止壁３８が未改良層３などに位置する土砂全体を保持するように抵抗となるため、支持層の傾斜状態に拘わらず、軟弱地盤の改良を十分に遂行し得る。
【実施例５】
【００３７】
図７はこの発明の実施例５を示すものである。
【００３８】
上述した実施例１〜４においては、図７（ａ）に示す如く、壁４を連続壁構造として説明したが、この実施例５の特徴とするところは、壁構造を改良した点にある。
【００３９】
このとき、壁構造を、例えば図７（ｂ）〜（ｄ）に示すように改良する。
つまり、図７（ｂ）に示す不連続円柱壁４１の場合には、断面形状が円形状の円柱部材４１を所定間隔を設けて複数本を並べて形成する。
また、図７（ｃ）に示す連続円柱壁５１の場合には、断面形状が円形状の円柱部材４２を少しの寸法だけオーバラップするように複数本を並べて形成する。
更に、図７（ｄ）に示す併用壁６１の場合には、例えば、実施例１〜３に開示される連続壁６２の中間部位に不連続円柱壁６３を配置する、いわゆる併用した壁構造に形成する。
なお、前記円柱部材４１、４２、そして、不連続円柱壁６３について説明すると、「深層混合処理」によって形成する際に、例えば土砂を掘削しつつ、土砂内にセメント系のセメントミルクを注入して撹拌を行い、複数本の円柱部材を形成するものである。
【００４０】
これにより、壁構造を上述した前記不連続円柱壁４１や前記連続円柱壁５１、前記併用壁６１とすることができ、構築物を構築する際に、地層状態に応じて適宜選択することができ、汎用性が大となって作業性の向上やコスト低減などを図ることが可能である。
また、前記変位抑止壁を備える構築物に、この発明の実施例５の構成を有する前記不連続円柱壁４１や前記連続円柱壁５１、前記併用壁６１を使用しても、未改良層などの地下水の流れに何ら不具合が生ずることがない。
【実施例６】
【００４１】
図８はこの発明の実施例６を示すものである。
【００４２】
この実施例６の特徴とするところは、壁構造を改良する際に、連続円柱壁７１の強度を向上させる構成とした点にある。
【００４３】
すなわち、前記連続円柱壁７１を、断面形状が円形状の円柱部材７２を少しの寸法だけオーバラップするように複数本を並べて形成する際に、連続円柱壁７１の両端部７１ａに円柱部材７２を複数整列させる。
詳述すれば、前記連続円柱壁７１の両端部７１ａを形成する場合に、中心部分に位置する基礎列部分の第１円柱部材７２−１に対して、この第１円柱部材７２−１を両側、つまり、盛土縦断方向Ａの前後側を挟むように第２、第３円柱部材７２−２、７２−３を形成するものである。
【００４４】
これにより、壁構造を両端部７１ａが第２、第３円柱部材７２−２、７２−３によって複数列となった前記連続円柱壁７１とすることができ、構築物を構築する際に、連続円柱壁７１の周辺部位に位置する軟弱地盤との接触面積を増加させることができ、連続円柱壁７１の摩擦力が増加し、沈下が減少する。
しかも、前記連続円柱壁７１の全領域を複数列とする必要がないため、作業性の向上やコスト低減などを図ることも可能である。
また、前記変位抑止壁を備える構築物に、この発明の実施例６の前記連続円柱壁７１を使用すれば、前記連続円柱壁７１の両端部７１ａが絞りとして機能するため、前記連続円柱壁７１間の土砂をより堅固に保持できるとともに、未改良層などの地下水の流れを阻害しない。
【００４５】
なお、この発明は上述実施例１〜６に限定されるものではなく、種々の応用改変が可能である。
【００４６】
例えば、この発明において、前記壁の外端部に対峙するように配置する少なくとも１列以上の変位抑止壁に関して、実施例１では３列とする一方、実施例２では１列として説明したが、変位抑止壁を２列あるいは４列以上の特別構成とすることも可能である。
さすれば、前記変位抑止壁による上述した著効を奏することが可能である。
【００４７】
また、この発明の実施例１においては、変位抑止壁を３列とした際に、第１〜第３の変位抑止壁列の深さを漸次相違させ、外側に位置する第３の変位抑止壁列の下端を支持層まで到達する構成として説明したが、第３の変位抑止壁列の下端が支持層に接触せずに支持層の近傍まで延びる構成や、第３の変位抑止壁列以外の第２および／または第３の変位抑止壁列の下端が支持層に接触する構成、そして、第１〜第３の変位抑止壁列の下端の全てが支持層に接触する構成などの特別構成とすることも可能である。
【００４８】
更に、この発明の実施例６においては、壁構造の改良に関して説明したが、説明した構成を変位抑止壁に応用する特別構成とすることも可能である。
【符号の説明】
【００４９】
１  壁式地盤改良工法によって構築される構築物
２  支持層
３  未改良層
４  壁
４−１  第１壁
４ａ−１  外端部
４−２  第２壁
４ａ−２  外端部
４−３  第３壁
４ａ−３  外端部
５  壁式改良層
６  浅層改良層
７  盛土
８  変位抑止壁
８Ａ  第１の変位抑止壁列
８Ｂ  第２の変位抑止壁列
８Ｃ  第３の変位抑止壁列
９−１  第１間隙部
９−２  第２間隙部
１０−１  第１隙間
１０−２  第２隙間
Ａ  盛土縦断方向
Ｂ  盛土横断方向
Ｓ  所定距離
【要約】
【課題】本発明は、変位抑止壁によって構築物の盛土及び周辺部位の沈下を抑制して軟弱地盤の改良を効果的に果たし得る変位抑止壁を備える壁式地盤改良工法を実現することを目的としている。
【解決手段】このため、固い層からなる支持層上に設計水準に応じて未改良層を残し、この未改良層上に盛土縦断方向に対して直交するように所定間隔毎に複数の壁を配置して壁式改良層を形成し、壁式改良層上に浅層改良層を形成した後に、浅層改良層上に盛土を行う壁式地盤改良工法において、壁の盛土横断方向の外端部近傍には、構成する部材間に隙間を有する少なくとも１列以上の変位抑止壁を配置している。
【選択図】図１【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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