(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱エレメント・コイルの支持構造であって、支持構造は、コイルの隣接するループに連動し、コイルが共線的及び同心的な配置で保持されると同時にコイルのループが中心軸から内側及び外側へ自由に動くことを可能にし、
加熱エレメント・コイルの外周に配置された複数の垂直支持柱アセンブリを含み、
個々の垂直支持柱アセンブリはあるピッチを有する複数の個別スペーサーを含み、垂直支持柱アセンブリは少なくとも部分的に固定レールの垂直チャンネル内にあり、
隣接するスペーサーは、協同動作する噛み合わせ機構と協同動作するポケットとを有し、該ポケットはコイルのループを囲み、
加熱エレメント・コイルが膨張したり収縮したりする際に、垂直支持柱アセンブリは、中心軸に平行な軸方向及び中心軸に直交する半径方向において垂直チャンネル内で摺動可能に動くと共に、隣接するスペーサーの噛み合わせ機構が維持され、
前記スペーサーが前記加熱エレメント・コイルの中心から外側へ向かって動くことができる最大距離は、前記スペーサーの外面と前記垂直チャンネルの内側表面の間のスペースによって定められ、
前記スペーサーが前記加熱エレメント・コイルの中心へ向かって動く最大距離は、スペーサー突出部の内側の表面と前記垂直支持柱アセンブリを支持する柱支持コンポーネントのレセプタクルとの干渉によって制限されることを特徴とする支持構造。
【請求項２】
垂直チャンネルは加熱エレメント絶縁部の一体的な部分であることを特徴とする請求項１に記載の支持構造。
【請求項３】
垂直チャンネルは一部又は全部が別のコンポーネントであることを特徴とする請求項１に記載の支持構造。
【請求項４】
垂直チャンネルは柱支持コンポーネントにおける凹みによって位置づけられることを特徴とする請求項３に記載の支持構造。
【請求項５】
複数の垂直支持柱アセンブリは柱支持コンポーネントによって支持されることを特徴とする請求項１に記載の支持構造。
【請求項６】
垂直チャンネル内にあるスペーサーの部分はスペーサーの残りの部分と異なる幅であり、チャンネルによって捕捉されることを特徴とする請求項１に記載の支持構造。
【請求項７】
垂直チャンネル内にあるスペーサーの部分はスペーサーの残りの部分と異なる幅であり、チャンネルによって対称に捕捉されることを特徴とする請求項１に記載の支持構造。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一項に記載の加熱エレメント・コイルの支持構造のためのスペーサーであって、
スペーサーの第一の対向する側面に相補的なコンポーネントを含む噛み合わせ機構と、
スペーサーの第二の対向する側面に開いているキャビティと、
噛み合わせ機構に交わる軸から外れている延長部であって、加熱エレメント・コイルの個別ループを嵌合するサイズになっているポケットを含む延長部と、
を備えるスペーサー。
【請求項９】
キャビティは相補的なコンポーネントの間に位置していることを特徴とする請求項８に記載のスペーサー。
【請求項１０】
相補的なコンポーネントは突出部と凹みであることを特徴とする請求項８に記載のスペーサー。
【請求項１１】
延長部に対向するスペーサーの部分は、該スペーサーの残りの部分と異なる幅であることを特徴とする請求項８に記載のスペーサー。
【請求項１２】
スペーサーの異なる幅を有する部分は加熱エレメント・コイルの支持構造のチャンネルによる捕捉に適合していることを特徴とする請求項１０に記載のスペーサー。
【請求項１３】
加熱したときの加熱エレメント・コイルの中心位置に対する位置を制御する方法であって、
加熱エレメント・コイルの個別ループを請求項８〜１２の何れか一項に記載のスペーサーの複数個が垂直に積み重ねられた柱に取り付けるステップを含み、
隣接するスペーサーの噛み合わせ機構の協同動作を維持しつつ、加熱したときの加熱エレメント・コイルの長さの増加を、中心位置に対するスペーサーの径方向外側への動きによって調節することを特徴とする方法。
【請求項１４】
スペーサーの径方向外側への動きは加熱エレメント・コイルの個別ループの同心性を維持することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
スペーサーの径方向外側への動きは加熱エレメント・コイルの共線性、同心性、及び中心位置合わせを維持することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
スペーサーは、
該スペーサーの第一の対向する側面に相補的なコンポーネントを含む噛み合わせ機構と、
スペーサーの第二の対向する側面に開いているキャビティと、
噛み合わせ機構に交わる軸から外れている延長部であって、加熱エレメント・コイルの個別ループを嵌合するサイズになっているポケットを含む延長部と、
を備えることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
スペーサーは、該スペーサーの残りの部分と異なる幅を有する延長部に対向する部分を含み、該部分を加熱エレメント・コイルの支持構造のチャンネルに捕捉するステップを含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
ポケットは、該ポケットに対するコイルのループの移動を許容するために、コイルの断面に対応するサイズに形成されていることを特徴とする請求項１に記載の支持構造。
【請求項１９】
噛み合わせ機構はより確実な固定機構を含むことを特徴とする請求項１に記載の支持構造。
【請求項２０】
前記確実な固定機構はありつぎ機構であることを特徴とする請求項１９に記載の支持構造。
【請求項２１】
複数の前記スペーサーを積み重ねることにより形成された柱を支持する柱支持コンポーネントは、前記スペーサーと前記加熱エレメント・コイルとを合わせた重量を支持面に分布させ、前記垂直チャンネルと前記垂直支持柱アセンブリとの向きを維持し、
前記スペーサー突出部が前記垂直支持柱アセンブリの一番下のスペーサーの下面に形成されている請求項１に記載の支持構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コイル状加熱エレメントの支持構造に関する。詳しくは、本発明は、協同動作する噛み合わせ機構を有し、加熱エレメントの熱膨張のときに加熱エレメント・コイルの共線性、同心性、及び中心位置の一つ以上を維持する垂直スタックに配置されるスペーサーに関する。本発明はまた、半導体コンポーネントを処理する炉における支持構造など、そのようなスペーサーを含む支持構造、及びそのようなスペーサーによってコイル状加熱エレメントを支持する方法、に関する。
【背景技術】
【０００２】
背景技術についての以下の説明でいくつかの構造及び／又は方法に言及する。しかし、以下の言及は、それらの構造及び／又は方法が従来技術を構成することを認めるものと解してはならない。本出願人は、それらの構造及び／又は方法が従来技術というに値しないことを実証する権利を保留することを明記する。
【０００３】
金属抵抗合金は電気加熱エレメント・アセンブリの構造で圧倒的に多く用いられる材料である。典型的なＦｅＣｒＡｌ合金は、外側表面に酸化物保護皮膜を作りだすことによって高温安定性と長寿命を実現している。この酸化物層は、材料の高温強度を増し、かつ芯合金を保護して電線を急速に消耗させることになる他の酸化物や窒化物が生じないようにする。酸化物保護層は加熱合金に含まれるアルミニウムの酸化によって形成される。ＦｅＣｒＡｌ抵抗合金の公知の性質のひとつは時間と共に長さの永久的な伸びが生ずることである。長さの永久伸びは主として合金の熱サイクリングのときに起こる。電線は加熱されると膨張し、酸化物の膨張係数は芯の金属よりも小さいので酸化物皮膜に引っ張り応力が発生し、酸化物表面にクラックが発生する。新しく露出した合金は、露出した部分にさらに酸化物を生成して表面を“治す”。電線が冷却すると合金と酸化物の熱膨張の差により圧縮力が発生する。この圧縮力は酸化物の一部を物質からはがす、すなわち“剥落”させる。伸びた長さのある割合は永久的なものになり、その効果は時間と共に蓄積する。
【０００４】
この合金の永久伸び特性をできるだけ小さくするためにいろいろな改良（粉末冶金など）がなされた。合金に発生する応力を最小にすることで伸びを減らし、一般にエレメントの寿命を延ばすことができることが見出された。電線に生ずる応力の一つの源は、らせん状コイルが膨張してエレメント・アセンブリを囲む加熱装置を押すときに生ずる力である。この状況を軽減するためにいろいろなアプローチがなされた。電線と絶縁部の間に小さなスペースを残すことによってコイルが膨張する余地を作りだすことができるが、このようなデザインは、コイルの共線性と同心性の問題に対処していない。従来技術におけるこれらの方法は一般にセラミック・スペーサーの列に何らかの形で溝を設けて膨張や収縮（並びに永久伸び）を可能にするという手段に頼っているが、コイルの共線性と同心性を保証するためのメカニズムは何も提供されない。これらのアセンブリは垂直に取り付けられるので、重力がコイルの巻線に下向きの力を生じ、コイルの下方部分の直径を広げ、上方の巻線を緊縮するように作用する。これは、下方の巻線に上方部分より大きな力を加えることになり、下方部分の老化を加速させる。また、コイルの位置が多少固定され重力による下向きの力がさらに大きくなる電源端子などの箇所では、より大きな力が加えられるであろう。従来技術では、加熱エレメント・コイルに突起を取り付けてスペーサー・アセンブリを通って動くのをブロックしようという試みがなされた。これは、アセンブリの下方部分に物質が蓄積するのを減らすのに役立つが、加熱電線の温度一様性にマイナスの影響があり、破損の危険がある。さらに、これらの方法はコイルの共線性と中心位置を保つという問題に対処していない。コイルを共線的に保つ拘束メカニズムが何もなく、一つのコイルは隣接するコイルに対して水平に動くことができ、垂直軸に沿って加熱エレメントの表面が不規則に分布するようになる。これは加熱エレメント内部で温度の一様性を低下させる。アセンブリのどこかの点でコイルの変形が始まると、一般にその箇所でそれは時間と共に悪化し続ける。したがって変形もエレメントの寿命の短縮につながる。
【０００５】
温度の一様性と全体としての寿命は、アセンブリ内のコイルの中心位置合わせによって左右される。従来技術はコイルの中心位置を維持するメカニズムを何も備えていない。
【０００６】
熱サイクリングでコイルが膨張したり収縮したりするときにコイルが自由に動くことができ、加熱エレメント・コイルの同心性、共線性、及び中心位置を維持できるエレメント・アセンブリがこの産業で必要とされている。
【発明の概要】
【０００７】
典型的な実施形態は従来技術の問題と欠点を克服している。例えば、一連の柱で周に沿ってコイルを連動させ加熱エレメント・コイルにおける隣接するコイルに対する動きを制限するスペーサーはコイルの巻線が同心的で共線的にとどまることを可能にする。同時に、連動するスペーサーの柱は、コイルが膨張したり収縮したりするときにコイル・アセンブリの中心に対して内側及び外側へスライドすることができる。これによってコイルは、コイル・アセンブリの外径（ＯＤ）と絶縁材の内径（ＩＤ）の間に設けられたスペースに自由に膨張できる。
【０００８】
支持構造はまたスペーサーの柱のガイドとしても働き、好ましくは周のまわりに均等に配置されると同時にコイル・アセンブリの中心と整列している。これによって、コイル・アセンブリが加熱エレメント・アセンブリ内で中心位置にとどまるように働く力のベクトルが作りだされる。
【０００９】
コイルの隣接するループを連動させてそれらが共線的かつ同心的な配置にとどまるようにし、同時にコイルのループが中心軸から内側及び外側へ一致して自由に動くことを可能にする加熱エレメント・コイルの支持構造のある典型的な実施形態は、複数の垂直支持柱アセンブリを含み、その各々は加熱エレメント・コイルの周のまわりに位置し、垂直支持柱はあるピッチを有する複数の個別スペーサーを含み、垂直支持柱は少なくとも部分的に垂直チャンネル内にあり、垂直支持柱はこの垂直チャンネル内で摺動可能に動く。
【００１０】
加熱エレメント・コイルの垂直支持構造のスペーサーのある典型的な実施形態は、スペーサーの第一の対向する側面に相補的な成分を含む噛み合わせ機構と、第二の対向する側面に開いているキャビティと、噛み合わせ機構に交わる軸から外れた延長部を含み、延長部は加熱エレメント・コイルの個別ループに嵌合するサイズのポケットを含む。
【００１１】
加熱したときに加熱エレメント・コイルの中心位置に対する位置を制御する方法の典型的な実施形態は、垂直に重ねられたスペーサーの柱に加熱エレメント・コイルの個別ループを取り付けるステップを含み、加熱したときの加熱エレメント・コイルの長さの増加に対しては、隣接するスペーサーの噛み合わせ機構の協同動作は維持したままで中心位置に対するスペーサーの径方向外側への動きによって順応する。
【００１２】
上の一般的な記述と以下の詳細な記述はどちらも例示的かつ説明的なものであって、特許請求の範囲によって規定される本発明をさらに詳しく説明するためのものであることは言うまでもない。
【００１３】
以下の詳細な説明は添付された図面を参照して読むことができ、図面では同様の参照数字によって同様のエレメントを表している。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１Ａ】加熱エレメント・コイルの支持構造のある実施形態を示す正面等角図である。
【図１Ｂ】図１に示された加熱エレメント・コイルの支持構造のある実施形態を示す背面等角図である。
【図２】大きなピッチのスペーサーの詳細等角図である。
【図３】小さなピッチのスペーサーの詳細等角図である。
【図４】支持部材を示す詳細等角図である。
【図５】加熱エレメント・コイルの支持構造のある実施形態を示す側面図である。
【図６】加熱コイル構造の周のまわりに配置された垂直エレメント支持構造の配置を示す平面図である。
【図７】加熱コイル構造の外周に配置された垂直エレメント支持構造の配置を示す斜視図である。
【図８】コイルに作用する中心位置決め力ベクトルを示すダイアグラムである。
【図９Ａ】垂直チャンネルの二つの側面におけるある代替的なスペーサー・プロファイルと連動手段を示す平面図である。
【図９Ｂ】垂直チャンネルの一つの側面におけるある代替的なスペーサー・プロファイルと連動手段を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１Ａと１Ｂを参照して説明すると、スペーサー・アセンブリ１０の一つの典型的な実施形態は、何列かの垂直に積み重ねられたスペーサー１２を含み、それらが垂直に向いたコイルの個別円形ループ１４の支持体になっている。垂直に向いたコイルは全体が示されておらず、その個別ループ１４だけがスペーサー・アセンブリ１０と相互作用している領域で示され、スペーサー・アセンブリ１０を見ることができるようになっている。垂直に積み重ねられたスペーサー１２は柱１６を形成し、いろいろなピッチ寸法を有することができ、コイルの円形ループの間の間隔を調整してコイルが散逸する電力を有利な仕方で分布させて望ましい温度プロファイル特性を実現することができる。垂直に重ねられたスペーサー１６の柱１２における個別スペーサー１６の側方への動きは垂直チャンネル１８、例えばレール２０におけるチャンネル又はその他の拘束デバイス、によって拘束され、スペーサー１６が整列している状態を保ちながら、チャンネル１８の拘束の範囲内で内側及び外側への動きが可能である。垂直チャンネル１８は、図示のように別のコンポーネントであってもよく、又はヒーターの絶縁部にある機構を組み込むことによって全部又は一部を形成することもできる。スペーサーの柱を支持するコンポーネント２２はスペーサー１６とコイルを合わせた重量を支持面（図示せず）に分布させ、チャンネル１８と垂直に重ねられたスペーサー１６の柱１２の向きを維持する。同様のスペーサー柱支持コンポーネント（図示せず）が垂直に重ねられたスペーサー１６の柱１２の最上部に位置し、スペーサー・アセンブリのトップを拘束している。
【００１６】
次に図２を参照して説明すると、各スペーサー１６は、垂直に向いたコイルの円形ループ１４が捕捉され支持されるポケット３０を有する。スペーサーはまた、垂直に重ねられたスペーサー１６の柱１２に配置されたときに隣接するスペーサーの凹み３６と噛み合う突出部３４などの噛み合わせ機構３２ａ、３２ｂを有する。隣り合うスペーサーの噛み合わせ機構３２ａ、３２ｂは重力及びコイルの重量と共に働いて、柱１２のような連続する垂直関係でスペーサーを連動させる。その他の垂直関係も可能である、例えば、互い違いの、交替する、ステップ状又は階段状のものがあり得る。噛み合わせ機構３２ａ、３２ｂは単純に入れ子になって組み立てを容易にするものであってもよく、本発明の精神から逸脱することなく噛み合わせ機構３２ａ、３２ｂを“ありつぎ”のようなもっとしっかりした固定方法に変形することも、望むなら固定具を組み込むこともできるであろう。
【００１７】
あるいはまた、柱１２の終わりにおける突出部３４が柱支持コンポーネント２２の一部と噛み合うようにすることも、凹み３６が反対側の柱支持コンポーネントの一部と噛み合うようにすることもできる。中央のキャビティ３８はスペーサーの幅の少なくとも一部、あるいはまた全部、を横断し、スペーサー１６の全体質量を減らすために組み込まれたものであり、それはまたスペーサー１６を加熱するために必要なエネルギーを減らし、スペーサー１６に貯えられるエネルギーを減らし、それはスペーサー１６が冷却する速さにも影響がある。
【００１８】
図２に示されたスペーサー１６は大きなピッチ寸法の典型的なものである。ピッチ寸法は、トップ平坦面４２を含む平面から突出部３４を除くボトム平坦面４４を含む平面間での距離と定義される。ピッチ寸法は、さらに、コイル・アセンブリにおける個別円形ループの間の距離を決定する。
【００１９】
図３は、小さなピッチ寸法のスペーサー１６の別の典型的な実施形態を示す図である。これは、図２におけるスペーサー１６に関して説明した大きなピッチ寸法のスペーサー１６と同じ基本的な特徴から成る。すなわち、基本的な特徴は、ポケット３０，噛み合わせ機構３２ａ、３２ｂと突出部３４及び凹み３６，及び中央キャビティ３８などである。図３のスペーサーの実施形態の、図２に示されたものと比較したときの顕著な違いは、図３のスペーサーは平坦な基底５０を有し、それをスペーサー柱支持コンポーネント２２と組み合わせるように用いることができるということである。平坦な基底５０はスペーサー柱を支持するための余分な表面積と、平坦な基底５０とスペーサー柱支持コンポーネント２２の間の摩擦を減らすなめらかな表面を提供する。
【００２０】
スペーサー支持アセンブリにおけるいろいろなコンポーネントの関係が図４に示されている。スペーサー柱支持コンポーネント２２は、トップ表面の少なくとも一部に浮き彫りされたガイド溝６０を含む。ガイド溝６０は、最後の（一番下の）スペーサー１６の平坦基底５０部分をスペーサー柱支持コンポーネント２２の中心軸に整列させる。スペーサー柱支持コンポーネント２２内にはレセプタクル６２が形成され、スペーサー柱支持コンポーネント２２の少なくとも一部を通過し、使用時には垂直チャンネル１８を捕捉してスペーサー柱１２と垂直チャンネル１８の整列を維持するために用いられる。スペーサー柱支持コンポーネント２２の開口又は空所は、スペーサー柱１２の最後の（一番下の）スペーサー１６の突出部３４を捕捉することによってスペーサー柱１２の内側への側方移動を拘束する。スペーサー柱１２の外側への側方移動は垂直チャンネル１８の一番内側の表面によって制限される。平坦な基底５０とガイド溝６０の間の界面は表面強化手法（研磨、研削、選択的コーティング、など）によって強化して摩擦を最小にし、スペーサー支持柱１２が所望の軸で自由に動けるようにすることができる。さらに、望むなら、界面に小さなベアリングその他の構造を組み込んで摩擦をさらに減らすこともできる。
【００２１】
図５は典型的なスペーサー柱支持コンポーネント２２を示す側面図であり、スペーサー柱１２の最後の（一番下の）スペーサー１６の捕捉された突出部３４とスペーサー柱支持コンポーネント２２のガイド溝６０の関係が詳しく示されている。連動しているスペーサー１６の一部７０は垂直チャンネル１８の内部にあってスペーサー１６を整列した（共線的）状態で、加熱エレメント・コイルの中心に向いた優先方向に保ち、同時に加熱エレメント・コイルの直径の接線及び垂直スペーサー柱１２に直交する軸で内側及び外側に摺動的に動くことが可能になっている。スペーサー１６が加熱エレメント・コイルの中心から外側へ動くことが出きる最大距離はスペーサー１６と垂直なサポート１８の内側表面の間のスペース７２によって定められる。この加熱エレメント・コイルの中心の方への内側への最大移動は、スペーサー突出部３４の最も内側の表面とスペーサー柱支持コンポーネント２２のレセプタクルとの干渉によって制限される。
【００２２】
図５では、電線はスペーサー柱支持コンポーネント２２の下面の上方で距離Ｄのところで支持される。これによって電線は自由に放射することができ、スペーサー柱支持コンポーネントが載っている面に接触しない。適当な距離の一例は９．３５ｍｍである。
【００２３】
図６を参照して説明すると、垂直エレメント支持構造８０Ａ−８０Ｈのいくつかの柱が加熱コイル構造８２の周のまわりに配置されている。配置は周に沿って中心位置８４からそして対向する対で（すなわち、８０Ａから８０Ｅまで、８０Ｂから８０Ｆまで、などで）等距離である。垂直エレメント支持構造８０Ａ−８０Ｈは、図４に示されていると同様の、スペーサー柱支持コンポーネント２２の端がある場所から見られている。
【００２４】
図７を参照して説明すると、加熱コイル構造８２の周のまわりに配置された垂直エレメント支持構造８０Ａ−８０Ｈが斜視図で示されている。この図はスペーサー１６のポケット３０に保持されているコイル８２の一例を示す。スペーサー１６は垂直エレメント支持構造８０Ａ−８０Ｈのチャンネル１８における垂直な柱１２に配置されている。これらの特徴の各々は図７では見やすいように個別にラベル表示されていない。
【００２５】
図８は、加熱コイルの周のまわりに配置された垂直エレメント支持構造（図６と７の８０Ａ−８０Ｈ）の力と動きを概略図で示している。加熱コイルと垂直エレメント支持構造の動きは矢印９０Ａ−９０Ｈによって理想化された仕方で表されている。加熱エレメント・コイル８２の温度が上昇すると、コイルの長さが増加し、それによってコイル直径が増加し、平均直径が第一の位置９２から第二の位置９４へ動く。垂直なスペーサー柱１２が同心性を維持しつつ中心位置８４から外側への動きを導く。同時に、隣接するコイル・ループは連動してコイル・ループを共線的かつ同心的に保つ。加熱エレメントが冷却して収縮するとき、平均直径は第二の位置９４から第一の位置９２に減少する。垂直に支持されたスペーサー１６の柱１２が加熱エレメント・アセンブリの中心へ戻る動きを導く。永久伸びにも同様な仕方で対処して、加熱エレメント・コイルが時間と共に伸びると平均コイル直径を増加させる。垂直支持されたスペーサー１６の柱１２は、加熱エレメント・アセンブリの共線性、同心性、及び中心位置を維持する。
【００２６】
スペーサー・プロファイルと垂直チャンネルとして別の形態を採用することもできる。それらの代替形態のうち二つを図９Ａと９Ｂに平面図で示す。図９Ａと９Ｂでは、スペーサー１６は垂直チャンネル１８に摺動可能に嵌合する。スペーサー１６の垂直チャンネル１８内にある部分７０はスペーサーの残りの部分と幅（Ｗ）が異なり、チャンネルのフランジ・エッジなどの機構によって捕捉される。図９Ａでは、このような機構、第一のフランジ・エッジ１００ａと第二のフランジ・エッジ１００ｂ、と二つあり、スペーサー１６はこの機構１００ａ、１００ｂによってチャンネル１８に対称に捕捉される。図９Ｂでは、このような機構１００が一つあり、スペーサー１６はこの機構１００によってチャンネル１８に非対称に捕捉される。機構と捕捉が垂直チャンネル１８内でのスペーサー１６の第一の方向、すなわちＹ方向、での移動を直径の変化及び／又は加熱コイルの位置に応じて制限する。
【００２７】
どちらの代替形態も図４と図５で説明したメカニズムと合わせて、又はそれと独立に用いることができる。これらの代替形態を用いることには、スペーサー列の最大内向き移動リミットを強化するという利点がある。しかし、これらの代替形態では、スペーサーの上に垂直チャンネルをスライドさせることによってスペーサーを取り付けることが必要になるかもしれない。したがって、柱内部のスペーサーが壊れたときにそれを交換することが難しくなる可能性がある。
【００２８】
上で説明した構造から、いくつかの有利な特徴が生まれることが分かる。すなわち、加熱エレメント・コイルの隣接するループを拘束し、ループを共線的かつ同心的に保ち、アセンブリにおける加熱エレメント・コイルの中心位置を維持する共線配置でスペーサー支持柱を整列された状態に保ち、加熱エレメント・コイルの膨張と収縮を可能にする支持構造が提供されている。
【００２９】
本発明の好ましい実施形態に関して説明してきたが、添付された特許請求の範囲で明確にされる本発明の精神と範囲から逸脱することなく具体的に記述されていない追加、削除、変更及び代替が可能であることは当業者には明らかであろう。
【図１Ａ】
0005897827.tif 000002
【図１Ｂ】
0005897827.tif 000003
【図２】
0005897827.tif 000004
【図３】
0005897827.tif 000005
【図４】
0005897827.tif 000006
【図５】
0005897827.tif 000007
【図６】
0005897827.tif 000008
【図７】
0005897827.tif 000009
【図８】
0005897827.tif 000010
【図９Ａ】
0005897827.tif 000011
【図９Ｂ】
0005897827.tif 000012