(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、
前記真空チャンバに第１の開閉バルブを介して接続された第１真空ポンプユニットと、
前記真空チャンバに第２の開閉バルブを介して接続された第２真空ポンプユニットとを備え、
前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、第２真空ポンプユニットの排気側と第１真空ポンプユニットの吸気側の連通と、第２真空ポンプユニットの排気側と排気配管の連通とを選択可能に構成し、
第１の開閉バルブを開き、第２の開閉バルブを閉じ、第２真空ポンプユニットを運転し、第２真空ポンプユニットの排気側と第１真空ポンプユニットの吸気側を連通し、第２真空ポンプユニットの排気側と排気配管との連通を遮断した状態で、第１真空ポンプユニットを運転することにより、真空チャンバの排気を行うように構成したことを特徴とする真空排気システム。
【請求項２】
複数の真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、
前記複数の真空チャンバに１対１で対応して設けられ、それぞれ開閉バルブを介して接続された複数の第１真空ポンプユニットと、
前記複数の真空チャンバに開閉バルブを介して接続された１台の第２真空ポンプユニットとを備え、
前記１台の第２真空ポンプユニットで複数の真空チャンバを排気するように構成し、
前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を少なくとも一つの前記第１真空ポンプユニットの吸気側に接続し、他方を排気配管に接続したことを特徴とする真空排気システム。
【請求項３】
真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、
前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第１真空ポンプユニットと、
前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第２真空ポンプユニットとを備え、
前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの吸気側に接続し、他方を排気配管に接続し、
前記第１真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の内径は、前記第２真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の内径と比べて大きく設定されていることを特徴とする真空排気システム。
【請求項４】
真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、
前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第１真空ポンプユニットと、
前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第２真空ポンプユニットとを備え、
前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの吸気側に接続し、他方を排気配管に接続し、
前記第１真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の長さは、前記第２真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の長さと比べて短く設定されていることを特徴とする真空排気システム。
【請求項５】
真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、
前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第１真空ポンプユニットと、
前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第２真空ポンプユニットとを備え、
前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの吸気側に接続し、他方を排気配管に接続し、
前記真空チャンバ内のガスを前記第２真空ポンプユニットで排気した後に、前記第１真空ポンプユニットで排気することを特徴とする真空排気システム。
【請求項６】
真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、
前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第１真空ポンプユニットと、
前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第２真空ポンプユニットとを備え、
前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの吸気側に接続し、他方を排気配管に接続し、
前記第１真空ポンプユニットは直列に接続された２つの真空ポンプを含み、前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの排気側ポンプの吸気口に接続し、他方を排気配管に接続したことを特徴とする真空排気システム。
【請求項７】
前記第１真空ポンプユニットは直列に接続された２つの真空ポンプを含み、前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの排気側ポンプの吸気口に接続し、他方を排気配管に接続したことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の真空排気システム。
【請求項８】
前記第１真空ポンプユニットおよび前記第２真空ポンプユニットは、二軸容積型ドライ真空ポンプからなることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の真空排気システム。
【請求項９】
前記第２真空ポンプユニットの内部圧縮比は、１〜３であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の真空排気システム。
【請求項１０】
前記第１真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の内径は、前記第２真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の内径と比べて大きく設定されていることを特徴とする請求項１、２、４乃至９のいずれか１項に記載の真空排気システム。
【請求項１１】
前記第１真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の長さは、前記第２真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の長さと比べて短く設定されていることを特徴とする請求項１乃至３、５乃至１０のいずれか１項に記載の真空排気システム。
【請求項１２】
前記真空チャンバ内のガスを前記第２真空ポンプユニットで排気した後に、前記第１真空ポンプユニットで排気することを特徴とする請求項１乃至４、６乃至１１のいずれか１項に記載の真空排気システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造装置等の真空チャンバを真空排気するための真空排気システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から真空下で、半導体製造プロセスにおける各種処理を行う半導体製造装置や電子線等を用いて各種試料を検査する検査装置などで真空チャンバが用いられている。真空チャンバは真空ポンプを備えた真空排気システムを用いて所定の真空度まで真空排気される。
上述の真空排気システムは、通常、真空チャンバに接続されるブースタポンプと、このブースタポンプに接続されるメインポンプとから構成されている。
【０００３】
しかしながら、処理対象となる半導体ウェハや液晶パネルなどの基板が大型化するにつれて真空チャンバが大型化し、排気時間を短縮または維持するためにはポンプ装置全体を大型化しなければならないという問題点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−３８９９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本発明者らは、従来の真空排気システムにおいてはポンプ装置全体が大型化して消費電力量が大きくなるため、図１に示すような真空排気システムを構築し、各ポンプユニットの消費電力値の解析を進めたものである。
図１は、本発明者らが実験を行った真空排気システムを示す模式図である。図１に示すように、真空排気システムは、ブースターポンプＢＰとメインポンプＭＰとからなる第１真空ポンプユニット１と、メインポンプＭＰからなる第２真空ポンプユニット２とを備えている。第１真空ポンプユニット１と第２真空ポンプユニット２は、それぞれバルブＶ２，Ｖ１を介して真空チャンバＣＨに配管接続されている。
【０００６】
図２は、真空チャンバの圧力、バルブＶ１，Ｖ２の開閉状態、各ポンプユニットの消費電力値の変動を示す図である。図２に示すように、バルブＶ１，Ｖ２は開（ＯＰＥＮ）と閉（ＣＬＯＳＥ）の状態をとる開閉バルブである。図２に示すように、まず、プロセス１においてバルブＶ１，Ｖ２がＣＬＯＳＥである時、真空チャンバＣＨの内圧は、当初、そのシステムの到達圧力であるが、搬入，搬出動作により内圧は大気圧まで上昇する。真空チャンバＣＨの圧力が大気圧に達した後、プロセス２においてバルブＶ１はＯＰＥＮ、バルブＶ２はＣＬＯＳＥとなり、第２真空ポンプユニット２がバルブＶ１を介して真空チャンバＣＨ内のガスをある程度の圧力まで排気する。その後、プロセス３においてバルブＶ１がＣＬＯＳＥ、バルブＶ２がＯＰＥＮとなり第１真空ポンプユニット１がバルブＶ２を介して再び真空チャンバＣＨ内を排気する。これにより、真空チャンバＣＨの圧力はシステムの到達圧力まで減圧される。その後、プロセス４において対象物の処理を行う。そして、プロセス１〜４を繰り返す。
【０００７】
しかしながら、図１および図２に示す真空排気システムにおいては、真空排気システムの小型化は達成できるものの、システム全体の消費電力は低減できないという問題点があることが判明した。
【０００８】
本発明は、上述の事情に鑑みなされたもので、システム全体の消費電力を低減して省エネルギーの達成と真空チャンバの高速排気とを両立させ、装置全体のスループットを向上させることができる真空排気システムを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述の目的を達成するため、本発明の第１の態様は、真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、前記真空チャンバに第１の開閉バルブを介して接続された第１真空ポンプユニットと、前記真空チャンバに第２の開閉バルブを介して接続された第２真空ポンプユニットとを備え、前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、第２真空ポンプユニットの排気側と第１真空ポンプユニットの吸気側の連通と、第２真空ポンプユニットの排気側と排気配管の連通とを選択可能に構成し、第１の開閉バルブを開き、第２の開閉バルブを閉じ、第２真空ポンプユニットを運転し、第２真空ポンプユニットの排気側と第１真空ポンプユニットの吸気側を連通し、第２真空ポンプユニットの排気側と排気配管との連通を遮断した状態で、第１真空ポンプユニットを運転することにより、真空チャンバの排気を行うように構成したことを特徴とする。
【００１０】
本発明の第２の態様は、複数の真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、前記複数の真空チャンバに１対１で対応して設けられ、それぞれ開閉バルブを介して接続された複数の第１真空ポンプユニットと、前記複数の真空チャンバに開閉バルブを介して接続された１台の第２真空ポンプユニットとを備え、前記１台の第２真空ポンプユニットで複数の真空チャンバを排気するように構成し、前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を少なくとも一つの前記第１真空ポンプユニットの吸気側に接続し、他方を排気配管に接続したことを特徴とする。
本発明の第３の態様は、真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第１真空ポンプユニットと、前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第２真空ポンプユニットとを備え、前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの吸気側に接続し、他方を排気配管に接続し、前記第１真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の内径は、前記第２真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の内径と比べて大きく設定されていることを特徴とする。
本発明の第４の態様は、真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第１真空ポンプユニットと、前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第２真空ポンプユニットとを備え、前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの吸気側に接続し、他方を排気配管に接続し、前記第１真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の長さは、前記第２真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の長さと比べて短く設定されていることを特徴とする。
本発明の第５の態様は、真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第１真空ポンプユニットと、前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第２真空ポンプユニットとを備え、前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの吸気側に接続し、他方を排気配管に接続し、前記真空チャンバ内のガスを前記第２真空ポンプユニットで排気した後に、前記第１真空ポンプユニットで排気することを特徴とする。
本発明の第６の態様は、真空チャンバ内のガスを排気する真空排気システムにおいて、前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第１真空ポンプユニットと、前記真空チャンバに開閉バルブを介して接続された第２真空ポンプユニットとを備え、前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの吸気側に接続し、他方を排気配管に接続し、前記第１真空ポンプユニットは直列に接続された２つの真空ポンプを含み、前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの排気側ポンプの吸気口に接続し、他方を排気配管に接続したことを特徴とする。
【００１１】
本発明の好ましい態様によれば、前記第１真空ポンプユニットは直列に接続された２つの真空ポンプを含み、前記第２真空ポンプユニットの排気側を分岐させ、一方を前記第１真空ポンプユニットの排気側ポンプの吸気口に接続し、他方を排気配管に接続したことを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記第１真空ポンプユニットおよび前記第２真空ポンプユニットは、二軸容積型ドライ真空ポンプからなることを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記第２真空ポンプユニットの内部圧縮比は、１〜３であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記第１真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の内径は、前記第２真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の内径と比べて大きく設定されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記第１真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の長さは、前記第２真空ポンプユニットと前記真空チャンバとを接続する配管の長さと比べて短く設定されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記真空チャンバ内のガスを前記第２真空ポンプユニットで排気した後に、前記第１真空ポンプユニットで排気することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、以下に列挙する効果を奏する。
（１）第２真空ポンプユニットを備えることにより、真空排気システムの小型化と高速排気を達成できる。
（２）待機運転時の第２真空ポンプユニットの背圧を制御することにより、消費電力量を低減し省エネルギーな真空排気システムを提供することができる。
（３）上記（１）と（２）を両立させることにより、高真空でのプロセス処理と大気圧での工程を繰り返すプロセス装置において、スループットの向上と省エネルギーを達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本発明者らが実験を行った真空排気システムを示す模式図である。
【図２】図２は、真空チャンバの圧力、バルブの開閉状態、各ポンプユニットの消費電力値の変動を示す図である。
【図３】図３は、本発明に係る真空排気システムの基本構成を示す模式図である。
【図４】図４は、真空チャンバの圧力、バルブＶの開閉状態、各ポンプユニットの消費電力値の変動を示す図である。
【図５】図５は、本発明に係る真空排気システムの他の実施形態を示す模式図である。
【図６】図６は、図５に示すシステムにおける真空チャンバの圧力、バルブの開閉状態、各ポンプユニットの消費電力値の変動を示す図である。
【図７】図７は、真空チャンバを２個設け、２つの真空チャンバに第１真空ポンプユニットを各１台接続し、２つの真空チャンバに１台の第２真空ポンプユニットを接続した実施形態を示す模式図である。
【図８】図８は、図７に示すシステムにおける真空チャンバの圧力、バルブの開閉状態、各ポンプユニットの消費電力値の変動を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明に係る真空排気システムの実施形態を図３乃至図８を参照して説明する。図３乃至図８において、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
図３（ａ）は、本発明に係る真空排気システムの基本構成を示す模式図である。図３（ａ）に示すように、真空排気システムは、ブースターポンプＢＰとメインポンプＭＰとからなる第１真空ポンプユニット１と、メインポンプＭＰからなる第２真空ポンプユニット２とを備えている。第１真空ポンプユニット１と第２真空ポンプユニット２は、それぞれバルブＶ２，Ｖ１を介して真空チャンバＣＨに配管接続されている。第１真空ポンプユニット１と真空チャンバＣＨとを接続する配管３の内径は、第２真空ポンプユニット２と真空チャンバＣＨとを接続する配管４の内径と比べて大きく設定されており、これにより第１真空ポンプユニット１の希薄ガス排気性能を向上させている。また、第１真空ポンプユニット１の吸気口側と第２真空ポンプユニット２の排気口側とは、配管５およびバルブＶ３を介して接続されており、これにより第２真空ポンプユニット２の背圧を制御可能としている。バルブＶ３は三方弁から構成されている。
【００１５】
上記プロセス１〜４において、プロセス１は１０秒、プロセス２は１０秒、プロセス３は１０秒、プロセス４は１０〜５０秒である。プロセスの１サイクルが４０秒から１０分間以内の場合は、ポンプの加減速時間を考慮して第２真空ポンプユニット２の回転速度を維持する方が好ましい。
図３（ａ）に示すように、第２真空ポンプユニット２にバルブＶ４を介してシール用Ｎ２または乾燥空気を導入する管路を設け、バルブＶ２が閉じている時にバルブＶ４を開き、シール用Ｎ２または乾燥空気を導入するようにしてもよい。
【００１６】
図３（ａ）で示した実施形態においては、バルブＶ３として三方弁を使用したが、図３（ｂ）に示すように、第２真空ポンプユニット２の排気側と第１真空ポンプユニット１の吸気側とを接続する配管５に２つのバルブＶ３−１，Ｖ３−２を設け、いずれか一方のバルブを開とし、他方のバルブを閉とする制御を行ってもよい。
また、図３（ａ）で示した実施形態においては、第１真空ポンプユニット１をブースターポンプＢＰとメインポンプＭＰとで構成したが、図３（ｃ）に示すように、第１真空ポンプユニット１をメインポンプＭＰのみで構成してもよい。
【００１７】
図４は、真空チャンバの圧力、バルブＶ１，Ｖ２，Ｖ３の開閉状態、各ポンプユニットの消費電力値の変動を示す図である。図４に示すように、バルブＶ１，Ｖ２は開（ＯＰＥＮ）と閉（ＣＬＯＳＥ）の状態をとる開閉バルブであり、バルブＶ３は図３（ａ）においてＡ方向とＢ方向との連通を切り換えることができる三方弁である。図４に示すように、まず、プロセス１においてバルブＶ１，Ｖ２がＣＬＯＳＥで、バルブＶ３がＢ方向である時、真空チャンバＣＨの内圧は、当初、そのシステムの到達圧力であるが、搬入，搬出動作により内圧は大気圧まで上昇する。真空チャンバＣＨの圧力が大気圧に達した後、プロセス２においてバルブＶ１はＯＰＥＮ、バルブＶ２はＣＬＯＳＥ、バルブＶ３はＡ方向に切り換わり、第２真空ポンプユニット２がバルブＶ１を介して真空チャンバＣＨ内のガスをある程度の圧力まで排気する。その後、プロセス３においてバルブＶ１がＣＬＯＳＥ、バルブＶ２がＯＰＥＮ、バルブＶ３がＢ方向に切り換わり、第１真空ポンプユニット１がバルブＶ２を介して再び真空チャンバＣＨ内を排気する。これにより、真空チャンバＣＨの圧力はシステムの到達圧力まで減圧される。このとき、同時に、バルブＶ３を介して第２真空ポンプユニット２の背圧が第１真空ポンプユニット１の吸気口の圧力まで減圧される。そのため、第２真空ポンプユニット２はガス圧縮仕事量が減少し、消費電力を従来に比べ大幅に低減できる。その後、プロセス４において対象物の処理を行う。そして、プロセス１〜４を繰り返す。
【００１８】
図５は、本発明に係る真空排気システムの他の実施形態を示す模式図である。図５に示すように、本実施形態の真空排気システムにおいては、第１真空ポンプユニット１のメインポンプの吸気側と第２真空ポンプユニット２の排気側とは、配管５およびバルブＶ３を介して接続されており、これにより第２真空ポンプユニット２の背圧を制御可能としている。バルブＶ３が三方弁から構成されていることは、図３（ａ）に示す真空排気システムと同様である。
【００１９】
図６は、図５に示すシステムにおける真空チャンバの圧力、バルブＶ１，Ｖ２，Ｖ３の開閉状態、各ポンプユニットの消費電力値の変動を示す図である。図６に示すように、バルブＶ１，Ｖ２は開（ＯＰＥＮ）と閉（ＣＬＯＳＥ）の状態をとる開閉バルブであり、バルブＶ３は図５においてＡ方向とＢ方向との連通を切り換えることができる三方弁である。図６に示すように、まず、プロセス１においてバルブＶ１，Ｖ２がＣＬＯＳＥで、バルブＶ３がＢ方向である時、真空チャンバＣＨの内圧は、当初、そのシステムの到達圧力であるが、搬入，搬出動作により内圧は大気圧まで上昇する。真空チャンバＣＨの圧力が大気圧に達した後、プロセス２においてバルブＶ１はＯＰＥＮ、バルブＶ２はＣＬＯＳＥ、バルブＶ３はＡ方向に切り換わり、第２真空ポンプユニット２がバルブＶ１を介して真空チャンバＣＨ内のガスをある程度の圧力まで排気する。その後、プロセス３においてバルブＶ１がＣＬＯＳＥ、バルブＶ２がＯＰＥＮ、バルブＶ３がＢ方向に切り換わり、第１真空ポンプユニット１がバルブＶ２を介して再び真空チャンバＣＨ内を排気する。これにより、真空チャンバＣＨの圧力はシステムの到達圧力まで減圧される。このとき、同時に、バルブＶ３を介して第２真空ポンプユニット２の背圧が第１真空ポンプユニット１のブースターポンプＢＰの排気口の圧力まで減圧される。そのため、第２真空ポンプユニット２はガス圧縮仕事量が減少し、消費電力を従来に比べ大幅に低減できる。その後、プロセス４において対象物の処理を行う。そして、プロセス１〜４を繰り返す。
【００２０】
図３乃至図６に示す真空排気システムは、大気側の排気速度が大きい第２真空ポンプユニット２と、第２真空ポンプユニット２と比較すると高真空側の排気速度が大きく、到達圧力が０．５Ｐａ程度の第１真空ポンプユニット１とを組み合わせて使用する真空排気システムであり、第２真空ポンプユニット２の排気側に排気出口を切り換えることが可能なバルブＶ３を設け、該バルブＶ３の一方の出口を第１真空ポンプユニット１の吸気側に接続し、他方の出口を大気側に接続している真空排気システムである。
【００２１】
図７は、真空チャンバを２個設け、２つの真空チャンバＣＨ１，ＣＨ２にそれぞれ第１真空ポンプユニット１，１’を接続し、２つの真空チャンバＣＨ１，ＣＨ２に１台の第２真空ポンプユニット２を接続した実施形態を示す模式図である。図７に示す実施形態においては、真空チャンバＣＨ１，ＣＨ２のいずれかが大気圧の時に第２真空ポンプユニット２の排気側を排気配管に接続し、それ以外の状態では第２真空ポンプユニット２の排気側を第１真空ポンプユニット１，１’の吸気側に接続する。なお、図７では２つの第１真空ポンプユニットについて符号１および１’を使用しているが、２つの第１真空ポンプユニットは同一の機能を有するものである。また、バルブＶ１，Ｖ２とバルブＶ１’，Ｖ２’についても同様である。
【００２２】
図８は、図７に示すシステムにおける真空チャンバＣＨ１，ＣＨ２の圧力、バルブＶ１，Ｖ２，Ｖ１’，Ｖ２’，Ｖ３の開閉状態、各ポンプユニットの消費電力値の変動を示す図である。
【００２３】
大気側の排気速度が大きい第２真空ポンプユニット２として以下のポンプが好適である。
１）二軸容積型ドライポンプ（ルーツ、スクリュー、クロー）で吸気側の理論排気速度と排気側の理論排気速度の比が１〜３のポンプである。
２）例として好適な容積型ドライポンプは、３段型のルーツ式ドライポンプであり、圧縮比２．５である。また前記ポンプとしては、最大排気速度４０００〜８０００Ｌ／ｍｉｎ、大気側排気速度３０００〜６０００Ｌ／ｍｉｎ、到達時消費動力４〜８ｋＷ、到達圧力は１００〜５０００Ｐａ程度が好ましい。
【００２４】
高真空側の排気速度が大きく、到達真空度が高い第１真空ポンプユニット１として以下のポンプが好適である。
１）容積型ドライポンプ（ルーツ、スクリュー、クロー）で吸気側の理論排気速度と排気側の理論排気速度の比が５〜２００であり、好ましくは１００〜２００である。ポンプロータの段間に逆止弁を入れて、大気側での実効排気速度を向上させてもよい。
２）例として好適な容積型ドライポンプは、単段のルーツ式ドライポンプと５段型のルーツ式ドライポンプを組み合わせたポンプである。また前記ポンプとしては、吸気側の理論排気速度２００００Ｌ／ｍｉｎ、排気側の理論排気速度５００Ｌ／ｍｉｎ、到達時消費動力０．７５ｋＷ、到達圧力０．１〜１Ｐａが好ましい。
【００２５】
プロセス装置を含む真空排気システム全体の仕様の一例を以下に記す。
１）真空チャンバ容積８０〜２００Ｌ、必要圧力０．５〜１．０Ｐａである。
２）高真空側配管は１００Ａ×０．３ｍ、大気側配管は５０Ａ×１ｍである。高真空側は、配管径を大きく、短くすることで必要な圧力を到達するのに必要な時間を短縮する。大気側は、コンダクタンス影響が小さいので配管の径が細かったり、長さが長くとも問題はない。
３）真空チャンバ内で行うプロセスは、被処理物表面に対して金属皮膜及びその保護膜の薄膜形成である。
【００２６】
これまで本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術思想の範囲内において、種々の異なる形態で実施されてよいことは勿論である。
【符号の説明】
【００２７】
１    第１真空ポンプユニット
２    第２真空ポンプユニット
３，４，５    配管
ＣＨ    真空チャンバ
ＢＰ    ブースターポンプ
ＭＰ    メインポンプ
Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ３−１，Ｖ３−２，Ｖ４    バルブ
【図１】
0005956754.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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