(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）シェル材料と、
ｂ）コア材料と、
を含む、乳房インプラントをテクスチャー加工するために用いられるポロゲン組成物であって、
該シェル材料が、該コア材料の融解温度よりも低い融解温度および／または該コア材料のガラス転移温度よりも低いガラス転移温度を有し、
該コア材料が糖または塩の水溶性固体であり、
該シェル材料が、ポリエチレングリコール、パラフィン、ポリソルベート２０およびポリカプロラクトン（ＰＣＬ）から成る群から選択される、
前記ポロゲン組成物。
【請求項２】
ａ）シェル材料と、
ｂ）コア材料と、
を含む、乳房インプラントをテクスチャー加工するために用いられるポロゲン組成物であって、
所定の物理的または物理化学的処理下で、該シェル材料が可融性であり、該コア材料が可融性でなく、
該コア材料が糖または塩の水溶性固体であり、
該シェル材料が、ポリエチレングリコール、パラフィン、ポリソルベート２０およびポリカプロラクトン（ＰＣＬ）から成る群から選択される、
前記ポロゲン組成物。
【請求項３】
シェルの融解が、固相から液相またはゴム相への物理状態の変化によって生じる、請求項２記載のポロゲン組成物。
【請求項４】
前記物理化学的処理が、加熱または有機溶媒である、請求項２記載のポロゲン組成物。
【請求項５】
乳房インプラントをテクスチャー加工するために用いられるポロゲン組成物を製造する方法であって、
ａ）コア材料から粒子を作製する工程と、ｂ）シェル材料で該粒子をコーティングする工程とを、含み、
該ポロゲン組成物が、シェル材料とコア材料とを含み、かつ該シェル材料が、該コア材料の融解温度よりも低い融解温度および／または該コア材料のガラス転移温度よりも低いガラス転移温度を有し、
該コア材料が糖または塩の水溶性固体であり、
該シェル材料が、ポリエチレングリコール、パラフィン、ポリソルベート２０およびポリカプロラクトン（ＰＣＬ）から成る群から選択される、
前記方法。
【請求項６】
乳房インプラント用の多孔性材料を製造する方法であって、
ａ）シェル材料とコア材料とを含むポロゲンを物質でコーティングして、物質をコーティングしたポロゲン混合物を形成する工程であって、該シェル材料が、該コア材料の融解温度よりも低い融解温度および／または該コア材料のガラス転移温度よりも低いガラス転移温度を有する、前記工程と、
ｂ）該物質をコーティングしたポロゲン混合物を処理して、融解されたポロゲンを含むポロゲン足場を形成し、かつ該物質を安定化させる工程と、
ｃ）該ポロゲン足場を除去する工程であって、ポロゲン足場の除去によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成するマトリックスを含む多孔性材料が得られる、前記工程と、
を含み、
該コア材料が糖または塩の水溶性固体であり、
該シェル材料が、ポリエチレングリコール、パラフィン、ポリソルベート２０およびポリカプロラクトン（ＰＣＬ）から成る群から選択される、
前記方法。
【請求項７】
生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法であって、
ａ）エラストマーベースで心棒をコーティングする工程と、
ｂ）エラストマーベースを硬化させて、基層を形成する工程と、
ｃ）硬化させた基層をエラストマーベースでコーティングする工程と、
ｄ）エラストマーベースをポロゲンでコーティングして、エラストマーをコーティングした混合物を形成する工程であって、ポロゲンが、シェル材料とコア材料とを含み、かつ該シェル材料が、該コア材料の融解温度よりも低い融解温度および／または該コア材料のガラス転移温度よりも低いガラス転移温度を有する、前記工程と、
ｅ）該エラストマーをコーティングした混合物を処理して、融解されたポロゲンを含むポロゲン足場を形成し、かつエラストマーベースを硬化させる工程であって、該ポロゲン足場が、実質的にすべての融解されたポロゲンがそれぞれ、少なくとも４つの他の融解されたポロゲンに接続する、３次元構造を有し、かつそれぞれの融解されたポロゲン間の実質的にすべての接続の径が、平均ポロゲン径の１５％〜８０％である、前記工程と、
ｆ）ポロゲン足場を除去する工程であって、ポロゲン足場の除去によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成する非分解性、生体適合性エラストマーマトリックスを含む多孔性材料が得られる、前記工程と、
を含み、
該コア材料が糖または塩の水溶性固体であり、
該シェル材料が、ポリエチレングリコール、パラフィン、ポリソルベート２０およびポリカプロラクトン（ＰＣＬ）から成る群から選択される、
前記方法。
【請求項８】
前記工程（ｂ）および（ｃ）を少なくとも１回繰り返す、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記工程（ｂ）および（ｃ）を少なくとも２回繰り返す、請求項７記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
優先権
本出願は、米国特許法第１１９条（ｅ）に基づき、２０１０年５月１１日に出願された米国仮特許出願第６１／３３３，５９９号に対する優先権を主張し、また、米国特許法第１２０条に基づき、２０１１年２月４日に出願された米国特許出願第１３／０２１，６１５号（２０１０年２月５日に出願された米国仮出願第６１／３０１，８６４号に対する優先権の利益を主張する）に対する優先権を主張する。これらの文献はそれぞれ、その全体が引用により本明細書中に組み込まれる。
【背景技術】
【０００２】
多孔性材料は、バイオ医学、産業および家庭用途において広く使用される。バイオ医学の領域において、多孔性材料は、生体組織工学／再生のためのマトリックス、創傷被覆材、薬剤放出マトリックス、分離およびろ過用の膜、無菌フィルタ、人工腎臓、吸収剤、止血デバイス等に使用されている。種々の産業および家庭用途において、多孔性材料は、絶縁材料、包装材料、衝撃吸収体、液体吸収剤またはガス吸収剤、膜、フィルタ等として使用されている。
【０００３】
多孔性材料の一般的な製造方法は、ネガティブテンプレート(negative template)として使用される３次元足場に依存する。かかる例の１つは、ポロゲン足場法である。この方法では、例えば、ポロゲンを融解させ、これによって、互いにすべて接続された融解ポロゲンを含むポロゲン足場を形成する、物理的手段および／または化学的手段等によって、ポロゲンは、金型に注入され、処理される。その後、材料は、金型に注入され、ポロゲン足場をコーティングし、次いで、この材料は、例えば、硬化工程または凍結工程等によって、安定化させる。安定化の後、ポロゲン足場は、多孔性材料を残して除去される。例えば、Ｍａの「多孔性材料の逆作製(Reverse Fabrication of Porous Materials)」、米国特許出願公開第２００２／０００５６００号；ＲａｔｎｅｒとＭａｒｓｈａｌｌの「新規多孔性材料(Novel Porous Materials)」、米国特許出願公開第２００８／００７５７５２号；ＭａとＣｈｅｎの「マルチサイズの形状を有する多孔性材料(Porous Materials having Multi-Sized Geometries)」、米国特許出願公開第２００７／００３６８４４号を参照されたい（これらの文献はそれぞれ、その全体が引用により組み込まれる）。
【０００４】
一般に、ポロゲン足場を作製するのに使用するポロゲンは、例えば、ゼラチン、スクロース、またはポリ（ラクチド‐ｃｏ‐グリコリド）等の単一の材料からなる。しかしながら、ポロゲンを互いに融解させる物理的処理および／または化学的処理では、一般に、すべてのポロゲンを均一に融解して、十分に構造化されたポロゲン足場を形成しない。例えば、ほとんどのポロゲンは、ポロゲンが固相中で、融点（またはガラス転移点）を超える温度に加熱される場合、熱手段を用いて融解される。この温度で、ポロゲンは、ポロゲンが互いに溶融することを可能にする液相に転移する。この工程は、慎重に制御され、所望の数の接続を形成するのに十分な融解を可能にする。非常に短い熱処理によって、不十分な数のポロゲン融解が生じ、非常に長い熱処理によって、固形ブロックの形成が生じる。しかしながら、たとえ同じ物質で構成されたとしても、すべてのポロゲンは同時に溶融しない。したがって、慎重な制御条件下であっても、得られるポロゲン足場は、均一に構造化されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００２／０００５６００号
【特許文献２】米国特許出願公開第２００８／００７５７５２号
【特許文献３】米国特許出願公開第２００７／００３６８４４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このため、物理的処理および／または化学的処理に際して、均一に融解されたポロゲンのポロゲン足場が作製される、ポロゲンの持続的な必要性がある。本出願は、シェル材料とコア材料とを含むポロゲン組成物、およびこれらのポロゲン組成物を製造する方法を開示する。物理的処理および／または化学的処理に際して、本明細書に開示するポロゲン組成物は、均一に融解されたポロゲンのポロゲン足場を生成する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
したがって、本明細書の態様は、シェル材料とコア材料とを含むポロゲン組成物を開示する。
【０００８】
本明細書の別の態様は、ポロゲン組成物を形成する方法であって、次に示す工程を含む方法を開示する：ａ）コア材料から粒子を作製する工程と、ｂ）シェル材料で粒子をコーティングする工程。
【０００９】
本明細書の更なる別の態様は、多孔性材料を形成する方法であって、次に示す工程を含む方法を開示する：ａ）本明細書に開示するポロゲンを融解して、融解されたポロゲンを含むポロゲン足場を形成する工程と、ｂ）ポロゲン足場を材料でコーティングし、材料をコーティングしたポロゲン足場を形成する工程と、ｃ）この材料をコーティングしたポロゲン足場を安定化させる工程と、ｄ）ポロゲン足場を除去する工程であって、ポロゲン足場の除去によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成するマトリックスを含む多孔性材料が得られる、前記工程。
【００１０】
更なる本明細書の別の態様は、多孔性材料を形成する方法であって、次に示す工程を含む方法を開示する：ａ）本明細書に開示するポロゲンを材料でコーティングして、材料をコーティングしたポロゲン混合物を形成する工程と、ｂ）この材料をコーティングしたポロゲン混合物を処理して、融解されたポロゲンと安定化させた材料をと含むポロゲン足場を形成する工程と、ｃ）ポロゲン足場を安定化させた材料から除去する工程であって、ポロゲン足場の除去によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成するマトリックスを含む多孔性材料が得られる、前記工程。
【００１１】
本明細書の更なる態様は、生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法であって、次に示す工程を含む方法を開示する：ａ）多孔性材料を供するための生体適合性の移植可能なデバイスを調製する工程と、ｂ）調製した生体適合性の移植可能なデバイスの表面に多孔性材料を付着する工程。多孔性材料は、本明細書に開示する方法によって製造することができる。
【００１２】
本明細書の更なる態様は、生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法であって、次に示す工程を含む方法を開示する：ａ）エラストマーベースで心棒をコーティングする工程と、ｂ）エラストマーベースを硬化させて、基層を形成する工程と、ｃ）硬化させた基層をエラストマーベースでコーティングする工程と、ｄ）エラストマーベースをポロゲンでコーティングして、エラストマーをコーティングしたポロゲン混合物を形成する工程であって、本明細書に開示するように、ポロゲンが、シェル材料とコア材料とを含む、前記工程と、ｅ）エラストマーをコーティングしたポロゲン混合物を処理して、融解されたポロゲンを含むポロゲン足場を形成し、かつエラストマーベースを硬化させる工程と、ｆ）ポロゲン足場を除去する工程であって、ポロゲン足場の除去によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成する非分解性、生体適合性エラストマーマトリックスを含む多孔性材料が得られる、前記工程。この方法において、工程（ｃ）および（ｄ）は、所望の厚さの材料層が達成されるまで、複数回繰り返すことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、単一の材料からなるポロゲンと、本明細書に開示する、シェル材料およびコア材料を含むポロゲンを示す。単一の材料からなるポロゲンの融解の制御は、各ポロゲンが、その固相からその液相に転移するランダムなタイミングにより、困難である。このため、処理下でポロゲンを融解することによって、ポロゲンの不十分な融解（または融解不足(under-fusion)）、および／またはポロゲンの非常に多い融解（過剰融解）が生じる。ポロゲンの融解の制御は、本明細書に開示するポロゲン組成物を使用して行うことができる。処理は、シェル材料が、その固相からその液相に転移することを可能にするが、その固相中にコア材料を維持する条件下で、行われる。このため、本明細書に開示するポロゲン組成物の融解によって、より均一なポロゲン足場が得られる。
【図２】図２は、本明細書の多孔性材料を被覆した代表的な生体適合性の移植可能なデバイスを示す。図２Ａは、多孔性材料を被覆した移植可能なデバイスの上面図である。図２Ｂは、多孔性材料を被覆した移植可能なデバイスの側面図である。図２Ｃおよび２Ｄは、多孔性材料を被覆した生体適合性の移植可能なデバイスの断面図を示す。
【図３】図３は、本明細書の代表的な多孔性材料のシェルを示す。図３Ａは、材料のシェルの上面図である。図２Ｂは、材料のシェルの側面図である。図３Ｃは、材料のシェルの下面図である。図３Ｄは、材料のシェルの断面図を示す。
【図４】図４は、本明細書の多孔性材料を被覆した代表的な生体適合性の移植可能なデバイスを示す。図４Ａは、多孔性材料を被覆した移植可能なデバイスの上面図である。図４Ｂは、多孔性材料を被覆した移植可能なデバイスの側面図である。図４Ｃは、多孔性材料を被覆した生体適合性の移植可能なデバイスの下面図である。図４Ｄは、多孔性材料を被覆した生体適合性の移植可能なデバイスの断面図を示す。
【図５】図５は、本明細書に開示する多孔性材料の分析を示す。図５Ａは、多孔性材料の上面の５０倍拡大の走査型電子顕微鏡の像である。図５Ｂは、多孔性材料の断面の５０倍拡大の走査型電子顕微鏡の像である。
【図６】図６は、本明細書に開示する多孔性材料の分析を示す。図６Ａは、多孔性材料の上面の５０倍拡大の走査型電子顕微鏡の像である。図６Ｂは、多孔性材料の断面の５０倍拡大の走査型電子顕微鏡の像である。
【図７】図７は、本明細書に開示する多孔性材料の分析を示す。図７Ａは、多孔性材料の上面の５０倍拡大の走査型電子顕微鏡の像である。図７Ｂは、多孔性材料の断面の５０倍拡大の走査型電子顕微鏡の像である。
【図８】図８は、本明細書に開示する多孔性材料の分析を示す。図８Ａは、多孔性材料の上面の５０倍拡大の走査型電子顕微鏡の像である。図８Ｂは、多孔性材料の断面の５０倍拡大の走査型電子顕微鏡の像である。
【図９Ａ】図９は、テクスチャード１の生体材料に標準化された種々の生体材料の厚さ、およびカプセルの崩壊のデータを示す棒グラフである。図９Ａは、標準化された平均±標準化された標準偏差としての厚さのデータの棒グラフを示す。図９Ｂは、信頼区間の上限および下限を有する標準偏差で標準化された崩壊の棒グラフを示す。
【図９Ｂ】同上。
【図１０】図１０は、種々の生体材料（ｎ＝６）に形成されたカプセルのコラーゲン含量のデータを示す棒グラフである。結果を、平均±標準偏差として示す。アスタリスク（＊）は、テクスチャー１の生体材料が統計的に有意であることを示す。
【図１１】図１１は、種々の生体材料の組織付着性試験のデータを示す棒グラフである。結果を、平均±標準偏差として示す。
【図１２】図１２は、時間０週および６週における種々の組織エキスパンダー（ｎ＝８）に形成されたカプセル／内部成長の剛性のデータを示す棒グラフである。結果を、平均±標準偏差として示す。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書に開示するポロゲン組成物は、処理時に生じる融解の程度および量を制御する手段を提供する。これは、シェル材料およびコア材料の提供によって、一部が行われ、シェル材料は、コア材料と比較して、低い融点温度および／またはガラス転移温度を有する。一般に、ポロゲンは、単一の材料からなる。これらの単一の材料からなるポロゲンの融解の制御は、各ポロゲンが、一部において、その固相からその液相に転移するランダムなタイミングにより、困難である。このため、ポロゲン融解を生ずるように設計された所定の処理条件下において、固相に残存したポロゲンの集合が存在するが、同時に、液相またはゴム相に完全に転移したポロゲンの集合も存在する（図１）。固相から液相またはゴム相への、この均一でないかまたは制御されない転移によって、ポロゲンの不十分な融解（または融解不足）、および／またはポロゲンの非常に多い融解（過剰融解）の領域を含むポロゲン足場が得られる。融解過程の抑制されない性質によって、均一でないポロゲン足場が生じ、均一でない細孔サイズおよび相互接続のマトリックスを有する多孔性材料が最終的に得られる。かかる無秩序な構造は、多孔性材料の有用性を低減する。本明細書に開示するポロゲン組成物は、単一の材料であるポロゲンでみられる融解速度の制御不能を克服する。本明細書に開示する組成物は、シェル材料とコア材料とを含んだポロゲンを含む。融解処理は、シェル材料が、その固相からその液相またはゴム相の転移を可能にするが、その固相中にコア材料を維持する条件下で行なわれるので、ポロゲンの融解の制御が達成される。このため、本明細書に開示するポロゲン組成物の融解によって、より均一なポロゲン足場が得られる（図１）。したがって、本明細書のポロゲン組成物を利用する多孔性材料を製造する方法によって、細孔サイズおよび相互接続のより均一なマトリックスを有する多孔性材料が製造される。
【００１５】
本明細書は、一部において、ポロゲン組成物を開示する。本明細書に使用する、「ポロゲン組成物」または「ポロゲン」という用語は、多孔性材料を作製するために使用することができる、構造化された材料を指す。
【００１６】
ポロゲンは、本明細書に開示するエラストマーマトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分な形状を有する。いかなるポロゲン形状も、本明細書に開示するエラストマーマトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分であるという条件で、有用である。有用なポロゲン形状には、粗い球状、完全な球状、楕円体、多面体、三角形、ピラミッド形、正方形、長方形、平行四辺形、台形、菱形および凧形等の四角形、ならびに他の型の多角形が含まれるが、これらに限定されない。
【００１７】
実施態様において、ポロゲンは、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させる、エラストマーマトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分な形状を有する。本実施態様の態様において、ポロゲンは、粗い球状、完全な球状、楕円体、多面体、三角形、ピラミッド形、四角形、または多角形の形状を有する。
【００１８】
ポロゲンは、相互に接続した細孔のアレイを区画形成する、マトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分な真円度を有する。本明細書に使用する「真円度」は、（６×Ｖ）／（π×Ｄ３）（式中、Ｖは容積であり、Ｄは径である）と定義される。いかなるポロゲンの真円度も、本明細書に開示するエラストマーマトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分であるという条件で、有用である。
【００１９】
実施態様において、ポロゲンは、相互に接続した細孔のアレイを区画形成する、マトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分な真円度を有する。本実施態様の態様において、ポロゲンは、例えば、約０．１、約０．２、約０．３、約０．４、約０．５、約０．６、約０．７、約０．８、約０．９、または約１．０の平均真円度を有する。本実施態様の別の態様において、ポロゲンは、例えば、少なくとも０．１、少なくとも０．２、少なくとも０．３、少なくとも０．４、少なくとも０．５、少なくとも０．６、少なくとも０．７、少なくとも０．８、少なくとも０．９、または少なくとも１．０の平均真円度を有する。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲンは、例えば、最大０．１、最大０．２、最大０．３、最大０．４、最大０．５、最大０．６、最大０．７、最大０．８、最大０．９、または最大１．０の平均真円度を有する。さらに、本実施態様の別の態様において、ポロゲンは、例えば、約０．１〜約１．０、約０．２〜約１．０、約０．３〜約１．０、約０．４〜約１．０、約０．５〜約１．０、約０．６〜約１．０、約０．７〜約１．０、約０．８〜約１．０、約０．９〜約１．０、約０．１〜約０．９、約０．２〜約０．９、約０．３〜約０．９、約０．４〜約０．９、約０．５〜約０．９、約０．６〜約０．９、約０．７〜約０．９、約０．８〜約０．９、約０．１〜約０．８、約０．２〜約０．８、約０．３〜約０．８、約０．４〜約０．８、約０．５〜約０．８、約０．６〜約０．８、約０．７〜約０．８、約０．１〜約〜約０．７、約０．２〜約０．７、約０．３〜約０．７、約０．４〜約０．７、約０．５〜約０．７、約０．６〜約０．７、約０．１〜約０．６、約０．２〜約０．６、約０．３〜約０．６、約０．４〜約０．６、約０．５〜約０．６、約０．１〜約０．５、０．２〜約０．５、０．３〜約０．５、または０．４〜約０．５の平均真円度を有する。
【００２０】
ポロゲンは、ポロゲン足場を形成させるのに十分な厚さを有する。このため、ポロゲンは、ポロゲンの厚さが、その意図した目的に有用なポロゲン足場を形成するのに十分であるという条件で、任意の厚さであり得る。ポロゲンの厚さは、その形状で測定されたものが基礎となり得る。例えば、球状および楕円形のポロゲンにおいて、厚さは、コア材料の径に基づいて測定される。例えば、多面体、三角形、ピラミッド形、四角形、または多角形のような側面のある形状のポロゲンにおいて、厚さは、ポロゲンの底幅に基づいて測定される。
【００２１】
別の実施態様において、ポロゲンは、相互に接続した細孔のアレイを区画形成する、マトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分な平均ポロゲン径を有する。本実施態様の態様において、ポロゲンは、例えば、約５０μｍ、約７５μｍ、約１００μｍ、約１５０μｍ、約２００μｍ、約２５０μｍ、約３００μｍ、約３５０μｍ、約４００μｍ、約４５０μｍ、または約５００μｍの平均ポロゲン径を有する。別の態様において、ポロゲンは、例えば、約５００μｍ、約６００μｍ、約７００μｍ、約８００μｍ、約９００μｍ、約１０００μｍ、約１５００μｍ、約２０００μｍ、約２５００μｍ、または約３０００μｍの平均ポロゲン径を有する。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲンは、例えば、少なくとも５０μｍ、少なくとも７５μｍ、少なくとも１００μｍ、少なくとも１５０μｍ、少なくとも２００μｍ、少なくとも２５０μｍ、少なくとも３００μｍ、少なくとも３５０μｍ、少なくとも４００μｍ、少なくとも４５０μｍ、または少なくとも５００μｍの平均ポロゲン径を有する。さらに別の態様において、ポロゲンは、例えば、少なくとも５００μｍ、少なくとも６００μｍ、少なくとも７００μｍ、少なくとも８００μｍ、少なくとも９００μｍ、少なくとも１０００μｍ、少なくとも１５００μｍ、少なくとも２０００μｍ、少なくとも２５００μｍ、または少なくとも３０００μｍの平均ポロゲン径を有する。本実施態様の更なる態様において、ポロゲンは、例えば、最大５０μｍ、最大７５μｍ、最大１００μｍ、最大１５０μｍ、最大２００μｍ、最大２５０μｍ、最大３００μｍ、最大３５０μｍ、最大４００μｍ、最大４５０μｍ、または最大５００μｍの平均ポロゲン径を有する。さらに、本実施態様の更なる態様において、ポロゲンは、例えば、最大５００μｍ、最大６００μｍ、最大７００μｍ、最大８００μｍ、最大９００μｍ、最大１０００μｍ、最大１５００μｍ、最大２０００μｍ、最大２５００μｍ、または最大３０００μｍの平均ポロゲン径を有する。さらにまた、本実施態様の更なる態様において、ポロゲンは、例えば、約３００μｍ〜約６００μｍ、約２００μｍ〜約７００μｍ、約１００μｍ〜約８００μｍ、約５００μｍ〜約８００μｍ、約５０μｍ〜約５００μｍ、約７５μｍ〜約５００μｍ、約１００μｍ〜約５００μｍ、約２００μｍ〜約５００μｍ、約３００μｍ〜約５００μｍ、約５０μｍ〜約１０００μｍ、約７５μｍ〜約１０００μｍ、約１００μｍ〜約１０００μｍ、約２００μｍ〜約１０００μｍ、約３００μｍ〜約１０００μｍ、約５０μｍ〜約１０００μｍ、約７５μｍ〜約３０００μｍ、約１００μｍ〜約３０００μｍ、約２００μｍ〜約３０００μｍ、または約３００μｍ〜約３０００μｍの平均ポロゲン径を有する。
【００２２】
別の実施態様において、ポロゲンは、相互に接続した細孔のアレイを区画形成する、マトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分な平均ポロゲン底幅(mean porogen base)を有する。本実施態様の態様において、ポロゲンは、例えば、約５０μｍ、約７５μｍ、約１００μｍ、約１５０μｍ、約２００μｍ、約２５０μｍ、約３００μｍ、約３５０μｍ、約４００μｍ、約４５０μｍ、または約５００μｍの平均ポロゲン底幅を有する。別の態様において、ポロゲンは、例えば、約５００μｍ、約６００μｍ、約７００μｍ、約８００μｍ、約９００μｍ、約１０００μｍ、約１５００μｍ、約２０００μｍ、約２５００μｍ、または約３０００μｍの平均ポロゲン底幅を有する。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲンは、例えば、少なくとも５０μｍ、少なくとも７５μｍ、少なくとも１００μｍ、少なくとも１５０μｍ、少なくとも２００μｍ、少なくとも２５０μｍ、少なくとも３００μｍ、少なくとも３５０μｍ、少なくとも４００μｍ、少なくとも４５０μｍ、または少なくとも５００μｍの平均ポロゲン底幅を有する。さらに別の態様において、ポロゲンは、例えば、少なくとも５００μｍ、少なくとも６００μｍ、少なくとも７００μｍ、少なくとも８００μｍ、少なくとも９００μｍ、少なくとも１０００μｍ、少なくとも１５００μｍ、少なくとも２０００μｍ、少なくとも２５００μｍ、または少なくとも３０００μｍの平均ポロゲン底幅を有する。本実施態様の更なる態様において、ポロゲンは、例えば、最大５０μｍ、最大７５μｍ、最大１００μｍ、最大１５０μｍ、最大２００μｍ、最大２５０μｍ、最大３００μｍ、最大３５０μｍ、最大４００μｍ、最大４５０μｍ、または最大５００μｍの平均ポロゲン底幅を有する。さらに、本実施態様の更なる態様において、ポロゲンは、例えば、最大５００μｍ、最大６００μｍ、最大７００μｍ、最大８００μｍ、最大９００μｍ、最大１０００μｍ、最大１５００μｍ、最大２０００μｍ、最大２５００μｍ、または最大３０００μｍの平均ポロゲン底幅を有する。さらにまた、本実施態様の更なる態様において、ポロゲンは、例えば、約３００μｍ〜約６００μｍ、約２００μｍ〜約７００μｍ、約１００μｍ〜約８００μｍ、約５００μｍ〜約８００μｍ、約５０μｍ〜約５００μｍ、約７５μｍ〜約５００μｍ、約１００μｍ〜約５００μｍ、約２００μｍ〜約５００μｍ、約３００μｍ〜約５００μｍ、約５０μｍ〜約１０００μｍ、約７５μｍ〜約１０００μｍ、約１００μｍ〜約１０００μｍ、約２００μｍ〜約１０００μｍ、約３００μｍ〜約１０００μｍ、約５０μｍ〜約１０００μｍ、約７５μｍ〜約３０００μｍ、約１００μｍ〜約３０００μｍ、約２００μｍ〜約３０００μｍ、または約３００μｍ〜約３０００μｍの平均ポロゲン底幅を有する。
【００２３】
本明細書は、一部において、シェル材料を含むポロゲンを開示する。ポロゲンのシェル材料は、１）シェル材料の融点温度（Ｔｍ）が、コア材料の融点温度よりも低い；および／または、２）シェル材料のガラス転移温度（Ｔｇ）が、コア材料のガラス転移温度よりも低いという条件で、任意の材料によって作製することができる。本明細書に使用する、「融点温度」または「融点」という用語は、いかなる固定圧力でも、材料の固相および液相が平衡状態にある温度を指し、液体の最初の痕跡が現われる温度である。純物質からなる材料において、溶融または融解過程は、単一の温度で生じる。２つ以上の物質からなる材料において、融解過程は、通常、一連の温度で生じ、また、融点および氷点温度が区別される。本明細書に使用する、「氷点温度」または「氷点」という用語は、いかなる固定圧力でも、材料の固相および液相が平衡状態にある温度を指し、固体の最後の痕跡が消失する温度である。氷点温度は、２つ以上の物質からなる材料の融点温度よりも通常高い。
【００２４】
一部の高分子と同様に非晶質材料も、真の融点温度を有さず、特定の温度における固相から液相への急激な相変化がない。その代り、非晶質材料および高分子は、一連の温度において粘弾性の緩やかな変化を示す。かかる材料は、ガラス化またはガラス転移（材料を、結晶構造のないガラス質の非晶質固体に変換する過程）によって、特性評価される。ガラス化は、ガラス転移温度で生じる。本明細書に使用する「ガラス転移温度」という用語は、いかなる固定圧力でも、非晶質材料のガラス相および液相が平衡状態にある温度を指し、材料の密度対温度グラフの「膝」時点をおおよそ定義した温度である。非晶質材料のガラス転移温度は、その融解温度よりも低い。
【００２５】
シェル材料は、天然または合成材料、無機または有機材料を含み得る。本明細書に開示するシェル材料として適切な例示的な材料には、天然および合成の塩とこれらの誘導体、天然および合成のセラミックおよび／またはこれらの誘導体、天然および合成の糖とこれらの誘導体、天然および合成の多糖とこれらの誘導体、天然および合成のワックスとこれらの誘導体、天然および合成の金属とこれらの誘導体、天然および合成の界面活性剤とこれらの誘導体、天然および合成の有機固体とこれらの誘導体、天然および合成の水溶性固体とこれらの誘導体、および／または天然および合成の高分子とこれらの誘導体、これらの複合物、および／またはこれらの組合せが含まれるが、これらに限定されない。
【００２６】
天然または合成の塩とこれらの誘導体とは、生成物が電気的に中性であるように、陽イオンと陰イオンとからなるイオン化合物をいう。塩の構成イオンは、無機または有機、および単原子イオンまたは多原子イオンであり得る。一般的な塩を形成する陽イオンには、アンモニウムＮＨ４＋、カルシウムＣａ２＋、鉄Ｆｅ２＋およびＦｅ３＋、マグネシウムＭｇ２＋、カリウムＫ＋、ピリジニウムＣ５Ｈ５ＮＨ＋、第四アンモニウムＮＲ４＋、ならびにナトリウムＮａ＋が含まれるが、これらに限定されない。一般的な塩を形成する陰イオンには、酢酸塩ＣＨ３ＣＯＯ−、炭酸塩ＣＯ３２−、塩化物Ｃｌ−、クエン酸塩ＨＯＣ（ＣＯＯ−）（ＣＨ２ＣＯＯ−）２、シアニドＣ≡Ｎ−、水酸化物ＯＨ−、硝酸塩ＮＯ３−、亜硝酸塩ＮＯ２−、酸化物Ｏ２−、リン酸塩ＰＯ４３−、および硫酸塩ＳＯ４２−が含まれるが、これらに限定されない。塩の非限定例には、塩化コバルト６水化物、硫酸銅５水和物、ヘキサシアノ鉄酸、酢酸鉛、硫酸マグネシウム、二酸化マンガン、硫化水銀、グルタミン酸ナトリウム、塩化ニッケル６水化物、重酒石酸カリウム、塩化カリウム、二クロム酸カリウム、フッ化カリウム、過マンガン酸カリウム、アルギン酸ナトリウム、クロム酸ナトリウム、塩化ナトリウム、フッ化ナトリウム、ヨウ素酸ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、硝酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、および／またはこれらの混合物が含まれる。
【００２７】
天然または合成のセラミックとこれらの誘導体とは、結晶構造もしくは部分的に結晶構造を有し得るか、または非晶質であり得る（例えば、ガラス）、無機の、非金属の固体をいう。セラミックには、例えば、アルミナおよび酸化ジルコニウム等の酸化物、例えば、炭化物、ホウ化物、窒化物、およびケイ化物等の非酸化物；ならびに、酸化物と非酸化物の組合せを含む複合物が含まれる。塩の非限定例には、アルミナ、チタン酸バリウム、ビスマス・ストロンチウム・カルシウム・銅酸化物、窒化ホウ素、ジルコン酸チタン酸鉛、二ホウ化マグネシウム、酸窒化珪素アルミニウム(Silicon aluminium oxynitride)、炭化ケイ素、窒化ケイ素、チタン酸ストロンチウム、炭化チタン、酸化ウラン、イットリウム・バリウム・銅酸化物、酸化亜鉛、および酸化ジルコニウムが含まれる。
【００２８】
天然または合成の糖とこれらの誘導体とは、１〜１０の単糖単位を含む化合物（例えば、単糖類、二糖類、三糖類、および４〜１０の単糖単位を含むオリゴ糖）をいう。親単糖に（潜在的に)カルボニル基を有する場合、単糖類は、３個以上の炭素原子を有するポリヒドロキシアルデヒドまたはポリヒドロキシケトンであり、これらには、アルドース、ジアルドース、アルドケトース(aldoketose)、ケトース、およびジケトース、ならびに環状形態、デオキシ糖、およびアミノ糖とこれらの誘導体が含まれる。オリゴ糖は、グリコシド結合が少なくとも２つの単糖単位に加わる化合物である。単位の数によって、これらは、二糖類、三糖類、四糖類、五糖類、六糖類(hexoaccharide)、七糖類(heptoaccharide)、八糖類(octoaccharide)、九糖類(nonoaccharide)、十糖類(decoaccharide)等と呼ばれる。オリゴ糖は、分岐していないか、分岐しているか、または環状であり得る。糖の非限定例には、例えば、グリセルアルデヒドおよびジヒドロキシアセトンのようなトリオース；エリトロース、トレオース、およびエリトルロースのようなテトロース；アラビノース、リキソース、リボース、キシロース、リブロース、キシルロースのようなペントース；アロース、アルトロース、ガラクトース、グルコース、グロース、イドース、マンノース、タロース、フルクトース、プシコース、ソルボース、タガトース、フコース、ラムノースのようなヘキソース；セドヘプツロースおよびマンノヘプツロースのようなヘプトース；オクツロース(octulose)および２‐ケト‐３‐デオキシ‐マンノ‐オクトナート(2-keto-3-deoxy-manno-octonate)のようなオクトース(octoose)；シアロース(sialose)のようなノノース；デコース(decose)等の単糖類；ならびに、例えば、スクロース、ラクトース、マルトース、トレハロース、セロビオース、ゲンチオビオース、コウジビオース、ラミナリビオース、マンノビオース、メリビオース、ニゲロース、ルチノース、およびキシロビオースのような二糖類；ラフィノース、アカルボース、マルトトリオース、およびメレジトースのような三糖類、および／またはこれらの混合物等のオリゴ糖が含まれる。また、糖には、アセスルファムカリウム、アリターム、アスパルテーム、アセスルファム、シクラマート、ズルチン、グルシン、ネオヘスペリジンジヒドロカルコン、ネオテーム、サッカリン、およびスクラロースのような糖代替物も含まれる。
【００２９】
天然または合成の多糖とこれらの誘導体とは、グリコシド結合が加わった二糖単位の１０を超える繰り返しの単糖を含む重合体の炭水化物化合物をいう。多糖は、直鎖であるか、または種々の程度の分岐を含み得る。構造によって、これらの巨大分子は、これらの単糖構成部分からの明確な特性を有し得る。これらは、非晶質であるか、または水に不溶性であり得る。多糖中の単糖がすべて同じ型である場合、多糖は、ホモ多糖と呼ばれるが、１を超える型の単糖が存在する場合、これらは、ヘテロ多糖と呼ばれる。多糖の非限定例には、アミロース；セルロース；セルロース誘導体（フィコール(FICOLL)、アルキルセルロース、カルボキシセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヘミセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等）；キチン；キトサン；デキストラン（デキストラン１Ｋ、デキストラン４Ｋ、デキストラン４０Ｋ、デキストラン６０Ｋ、およびデキストラン７０Ｋ等）；デキストリン；グリコーゲン；イヌリン；グルコサミノグリカン(glcosaminoglycan)（コンドロイチン硫酸(chondrotin sulfate)、ケラチン硫酸(keratin sulfate)、ヘパリン硫酸(heparin sulfate)、アルギン酸、ヒアルロン酸等）；ペクチン；プルラン；澱粉；ヘタスターチ；澱粉誘導体（ヒドロキシメチル澱粉、ヒドロキシエチル澱粉、ヒドロキシプロピル澱粉、ヒドロキシブチル澱粉、およびヒドロキシペンチル澱粉等）；キサンタン；ならびに、これらの塩が含まれる。
【００３０】
天然または合成のワックスとこれらの誘導体とは、種々の長鎖のアルカン、エステル、ポリエステル、および長鎖の第一級アルコールと脂肪酸のヒドロキシエステルを含む、１つの型の脂質をいう。ワックスは、グリセリン（プロパン‐１，２，３‐トリオール）(glycerin (propan-1,2,3-triol))のトリグリセリドエステルおよび３つの脂肪酸を欠くことによって、通常、脂肪と区別される。ワックスには、動物蝋、植物蝋、鉱蝋、石油ワックス、合成ワックス、および／またはこれらの混合物が含まれる。ワックスの非限定例には、蜜蝋、中国蝋、ラノリン（羊毛脂）、セラックワックス、鯨蝋のような動物蝋；シロヤマモモ蝋、カンデリラ蝋、カルナウバ蝋、キャスターワックス(castor wax)、エスパルトワックス、木蝋、ホホバ蝋、オーリクリー蝋(ouricury wax)、米糠蝋、大豆蝋のような植物蝋；セレシン蝋、モンタン蝋、オゾケライト、ピート蝋(peat wax)のような鉱蝋；パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ワセリンのような石油ワックス；および、ポリエチレンワックス、フィッシャー・トロプシュワックス、エステル化ワックス、けん化ワックス、置換されたアミドワックス、重合α‐オレフィンワックスが含まれる。
【００３１】
天然または合成の金属とこれらの誘導体とは、元素、化合物、または高い電気伝導率が特徴である合金をいう。合金は、主成分が金属である固溶体中の２つ以上の元素の混合物である。金属は、卑金属、鉄金属、貴金属(noble metal)、または貴金属(precious metal)であり得る。金属の非限定例には、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、およびフランシウムのようなアルカリ金属；ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、およびラジウムのようなアルカリ土類金属；亜鉛、モリブデン、カドミウム、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、テクネチウム、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金、水銀、ラザホージウム、ドブニウム、シーボーギウム、ボーリウム、ハッシウム、マイトネリウム、ダームスタチウム、レントゲニウム、およびコペルニシウムのような遷移金属；アルミニウム、ガリウム、インジウム、スズ、タリウム、鉛、ビスマス、１１３番元素、１１４番元素、１１５番元素、および１１６番元素のようなポスト遷移金属；ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、およびルテチウムのようなランタノイド；ならびに、アクチニウム、トリウム、プロトアクチニウム、ウラニウム、ネプツニウム、プルトニウム、アメリシウス、キュリウム、バークリウム、カリホルニウム、アインスタイニウム、フェルミウム、メンデレビウム、ノーベリウム、およびローレンシウムのようなアクチノイドが含まれる。
【００３２】
天然または合成の界面活性剤とこれらの誘導体とは、両親媒性であり、有機溶媒と水において共に可溶な有機化合物をいう。界面活性剤には、陽イオン界面活性剤（第四アンモニウム陽イオンに基づく）、および陰イオン界面活性剤（硫酸塩、スルホン酸塩、またはカルボン酸陰イオンに基づく）のようなイオン性界面活性剤、双性イオン（両性）界面活性剤、および／または非イオン性界面活性剤が含まれるが、これらに限定されない。界面活性剤の非限定例には、ペルフルオロオクタノアート（ＰＦＯＡまたはＰＦＯ）、ペルフルオロオクタンスルホナート(perfluorooctanesulfonate)（ＰＦＯＳ）、ドデシル硫酸ナトリウム（ＳＤＳ）、ラウリル硫酸アンモニウム、および他のアルキル硫酸塩、ラウリルエーテル硫酸ナトリウム（ＳＬＥＳ）としても知られているラウレス硫酸ナトリウム、アルキルベンゼンスルホン酸塩、石鹸、ならびに脂肪酸塩のような陰イオン界面活性剤；ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミドとしても知られているセチルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢ）、および他のアルキルトリメチルアンモニウム塩、塩化セチルピリジニウム（ＣＰＣ）、ポリエトキシル化牛脂アミン（ＰＯＥＡ）、塩化ベンザルコニウム（ＢＡＣ）、塩化ベンゼトニウム（ＢＺＴ）のような陽イオン界面活性剤；ドデシルベタイン、コカミドプロピルベタイン、ココアンホグリシネート(coco ampho glycinate)のような双性イオン界面活性剤；スクロースモノラウラート、コール酸ナトリウム、ドデシルジメチルアミンオキシド、アルキルナフタリンスルホナート（ＡＮＳ）、アルキルポリ（エチレンオキシド）、アルキルフェノールポリ（エチレンオキシド）、ポリ（エチレンオキシド）、ポロキサマ１２４（プルロニック（PLURONIC）（登録商標）Ｌ４４）、ポロキサマ１８１（プルロニック（PLURONIC）（登録商標）Ｌ６１）、ポロキサマ１８２（プルロニック（PLURONIC）（登録商標）Ｌ６２）、ポロキサマ１８４（プルロニック（PLURONIC）（登録商標）Ｌ６４）、ポロキサマ１８８（プルロニック（PLURONIC）（登録商標）Ｆ６８）、ポロキサマ２３７（プルロニック（PLURONIC）（登録商標）Ｆ８７）、ポロキサマ３３８（プルロニック（PLURONIC）（登録商標）Ｌ１０８）、およびポロキサマ４０７（プルロニック（PLURONIC）（登録商標）Ｆ１２７）を含む、ポロキサマまたはポロキサミンとしても知られている、ポリ（プロピレンオキシド）共重合体、オクチルグルコシド、およびドデシルマルトシドを含むアルキルポリグルコシド、セチルアルコール、およびオレイルアルコールを含む脂肪アルコール、コカミドＭＥＡ、コカミドＤＥＡ、ポリソルベート２０（トゥイーン（TWEEN）（登録商標）２０）、ポリソルベート４０（トゥイーン（TWEEN）（登録商標）４０）、ポリソルベート６０（トゥイーン（TWEEN）（登録商標）６０）、ポリソルベート６１（トゥイーン（TWEEN）（登録商標）６１）、ポリソルベート６５（トゥイーン（TWEEN）（登録商標）６５）、ポリソルベート８０（トゥイーン（TWEEN）（登録商標）８０）、およびポリソルベート８１（トゥイーン（TWEEN）（登録商標）８１）を含むポリソルベートのような非イオン界面活性剤；ＢＲＩＪ（登録商標）３０およびＢＲＩＪ（登録商標）３５のようなポリオキシエチレングリコールドデシルエーテル；２‐ドデカオキシエタノール（ルブロール（LUBROL）（登録商標）‐ＰＸ）；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル（トリトン（TRITON）（登録商標）Ｘ‐１００）；ドデシル硫酸ナトリウム（ＳＤＳ）；３‐［（３‐コラミドプロピル）ジメチルアンモニオ］‐１‐プロパンスルホナート（ＣＨＡＰＳ）；ならびに、３‐［（３‐コラミドプロピル）ジメチルアンモニオ］‐２‐ヒドロキシ‐１‐プロパンスルホナート（ＣＨＡＰＳＯ）が含まれる。
【００３３】
天然および合成の無機固体とこれらの誘導体とは、生物起源ではない鉱物をいう。無機固体の非限定例には、ハイドロキシアパタイト（ＨＡＰ）、炭酸ハイドロキシアパタイト(carbonated hydroxyapatite)、フッ化ハイドロキシアパタイト、種々のリン酸カルシウム（ＣＡＰ）、ガラス、塩、酸化物、ケイ酸塩、および／またはこれらと同等のもの、および／またはこれらの混合物が含まれる。
【００３４】
天然または合成の水溶性固体とこれらの誘導体とは、水に溶解可能な物質をいう。無機固体の非限定例には、水酸化ナトリウムおよびナフタレンが含まれる。
【００３５】
天然または合成の高分子とこれらの誘導体とは、共有化学結合によって一般に結合される構造単位の繰り返しからなる天然および合成の高分子をいう。高分子には、天然または合成の親水性高分子、天然または合成の疎水性高分子、天然または合成の両親媒性高分子、分解性高分子、部分的分解性高分子、非分解性高分子、およびこれらの組合せが含まれる。高分子は、ホモ重合体または共重合体であり得る。共重合体は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体、および／またはこれらの混合物であり得る。高分子の非限定例には、ポリ（アルキレンオキシド）、ポリ（アクリルアミド）、ポリ（アクリル酸）、ポリ（アクリルアミド‐ｃｏ‐アクリル酸）、ポリ（アクリルアミド‐ｃｏ‐ジアリルジメチルアンモニウムクロリド）、ポリ（アクリロニトリル）、ポリ（アリルアミン）、ポリ（アミド）、ポリ（無水物）、ポリ（ブチレン）、ポリ（ε‐カプロラクトン)、ポリ（カーボネート）、ポリ（エステル）、ポリ（エーテルエーテルケトン）、ポリ（エーテルスルホン）、ポリ（エチレン）、ポリ（エチレンアルコール）、ポリ（エチレンイミン）、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（エチレンオキシド）、ポリ（グリコリド）（ポリ（グリコール酸）等）、(ポリ（ヒドロキシブチラート）、ポリ（ヒドロキシエチルメタクリラート）、ポリ（ヒドロキシプロピルメタクリラート）、ポリ（ヒドロキシストレン）、ポリ（イミド）、ポリ（ラクチド）、ポリ（Ｌ‐乳酸）、ポリ（Ｄ，Ｌ‐乳酸）、ポリ（ラクチド‐ｃｏ‐グリコリド）、ポリ（リジン）、ポリ（メタクリラート）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（メタクリル酸メチル）、ポリ（オルトエステル）、ポリ（フェニレンオキシド）、ポリ（ホスファゼン）、ポリ（ホスホエステル）、ポリ（プロピレンフマレート）、ポリ（プロピレン）、ポリ（プロピレングリコール）、ポリ（プロピレンオキシド）、ポリ（スチレン）、ポリ（スルホン）、ポリ（テトラフロオルエチレン）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（フッ化ビニリデン）、ポリ（ビニルピロリドン）、ポリ（ウレタン）、コラーゲン、ゼラチン、これらの共重合体（ポリ（エチレンオキシド）ポリ（プロピレンオキシド）共重合体（ポロキサマ）、ポリ（ビニルアルコール‐ｃｏ‐エチレン）、ポリ（スチレン‐ｃｏ‐アリルアルコール）、およびポリ（エチレン）‐ブロック‐ポリ（エチレングリコール）等）、および／またはこれらの混合物が含まれる。
【００３６】
シェル材料は、ポロゲン足場を形成させるのに十分な厚さを有する。このため、シェル材料は、シェル材料の量が、その意図した目的に有用なポロゲン足場を形成するのに十分であるという条件で、任意の厚さであり得る。シェル材料の厚さは、コア材料に隣接するシェルの内面からシェルの外面で測定される。
【００３７】
したがって、実施態様において、ポロゲン組成物はシェル材料を含む。本実施態様の態様において、ポロゲン組成物は、コア材料の融点温度よりも低い融点温度を有するシェル材料を含む。本実施態様の態様において、ポロゲン組成物は、コア材料の融点温度よりも、例えば、約１℃、約２℃、約３℃、約４℃、約５℃、約６℃、約７℃、約８℃、約９℃、約１０℃、約１５℃、約２０℃、約２５℃、約３０℃、約３５℃、約４０℃、約４５℃、または約５０℃低い融点温度を有するシェル材料を含む。本実施態様の別の態様において、ポロゲン組成物は、コア材料の融点温度よりも、例えば、少なくとも１℃、少なくとも２℃、少なくとも３℃、少なくとも４℃、少なくとも５℃、少なくとも６℃、少なくとも７℃、少なくとも８℃、少なくとも９℃、少なくとも１０℃、少なくとも１５℃、少なくとも２０℃、少なくとも２５℃、少なくとも３０℃、少なくとも３５℃、少なくとも４０℃、少なくとも４５℃、または少なくとも５０℃低い融点温度を有するシェル材料を含む。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲン組成物は、コア材料の融点温度よりも、例えば、約５℃〜約５０℃、約５℃〜約７５℃、約５℃〜約１００℃、約５℃〜約２００℃、約５℃〜約３００℃、約１０℃〜約５０℃、約１０℃〜約７５℃、約１０℃〜約１００℃、約１０℃〜約２００℃、または約１０℃〜約３００℃低い融点温度を有するシェル材料を含む。
【００３８】
本実施態様の態様において、ポロゲン組成物は、コア材料のガラス転移温度よりも低いガラス転移温度を有するシェル材料を含む。本実施態様の態様において、ポロゲン組成物は、コア材料のガラス転移温度よりも、例えば、約１℃、約２℃、約３℃、約４℃、約５℃、約６℃、約７℃、約８℃、約９℃、約１０℃、約１５℃、約２０℃、約２５℃、約３０℃、約３５℃、約４０℃、約４５℃、または約５０℃低いガラス転移温度を有するシェル材料を含む。本実施態様の別の態様において、ポロゲン組成物は、コア材料のガラス転移温度よりも、例えば、少なくとも１℃、少なくとも２℃、少なくとも３℃、少なくとも４℃、少なくとも５℃、少なくとも６℃、少なくとも７℃、少なくとも８℃、少なくとも９℃、少なくとも１０℃、少なくとも１５℃、少なくとも２０℃、少なくとも２５℃、少なくとも３０℃、少なくとも３５℃、少なくとも４０℃、少なくとも４５℃、または少なくとも５０℃低いガラス転移温度を有するシェル材料を含む。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲン組成物は、コア材料のガラス転移温度よりも、例えば、約５℃〜約５０℃、約５℃〜約７５℃、約５℃〜約１００℃、約５℃〜約２００℃、約５℃〜約３００℃、約１０℃〜約５０℃、約１０℃〜約７５℃、約１０℃〜約１００℃、約１０℃〜約２００℃、または約１０℃〜約３００℃低いガラス転移温度を有するシェル材料を含む。
【００３９】
別の実施態様において、ポロゲン組成物は、ポロゲン足場を形成させるのに十分な厚さを有するシェル材料を含む。本実施態様の態様において、ポロゲン組成物は、例えば、約１μｍ、約２μｍ、約３μｍ、約４μｍ、約５μｍ、約６μｍ、約７μｍ、約８μｍ、約９μｍ、約１０μｍ、約１５μｍ、約２０μｍ、約２５μｍ、約３０μｍ、約３５μｍ、約４０μｍ、約４５μｍ、または約５０μｍの厚さを有するシェル材料を含む。本実施態様の別の態様において、ポロゲン組成物は、例えば、少なくとも１μｍ、少なくとも２μｍ、少なくとも３μｍ、少なくとも４μｍ、少なくとも５μｍ、少なくとも６μｍ、少なくとも７μｍ、少なくとも８μｍ、少なくとも９μｍ、少なくとも１０μｍ、少なくとも１５μｍ、少なくとも２０μｍ、少なくとも２５μｍ、少なくとも３０μｍ、少なくとも３５μｍ、少なくとも４０μｍ、少なくとも４５μｍ、または少なくとも５０μｍの厚さを有するシェル材料を含む。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲン組成物は、例えば、約５μｍ〜約５０μｍ、約５μｍ〜約７５μｍ、約５μｍ〜約１００μｍ、約５μｍ〜約２００μｍ、約５μｍ〜約３００μｍ、約１０μｍ〜約５０μｍ、約１０μｍ〜約７５μｍ、約１０μｍ〜約１００μｍ、約１０μｍ〜約２００μｍ、約１０μｍ〜約３００μｍ、約１５μｍ〜約５０μｍ、約１５μｍ〜約７５μｍ、約１５μｍ〜約１００μｍ、約１５μｍ〜約２００μｍ、または約１５μｍ〜約３００μｍの厚さを有するシェル材料を含む。
【００４０】
別の実施態様において、シェル材料は無機材料を含む。別の実施態様において、シェル材料は有機材料を含む。別の実施態様において、シェル材料は、塩および／またはその誘導体、セラミックおよび／またはその誘導体、糖および／またはその誘導体、多糖および／またはその誘導体、ワックスおよび／またはその誘導体、金属および／またはその誘導体、界面活性剤および／またはその誘導体、水溶性固体および／またはその誘導体、または高分子および／またはその誘導体を含む。
【００４１】
本明細書は、一部において、コア材料を含むポロゲンを開示する。ポロゲンのコア材料は、１）コア材料の融点温度（Ｔｍ）が、シェル材料の融点温度よりも高い；および／または、２）コア材料のガラス転移温度（Ｔｇ）が、シェル材料のガラス転移温度よりも高いという条件で、任意の材料によって作製することができる。コア材料は、ポロゲン足場を形成するのに有用であるという条件で、任意の形状であり得る。有用なコアの形状には、粗い球状、完全な球状、楕円体、多面体、三角形、ピラミッド形、正方形、長方形、平行四辺形、台形、菱形および凧形等の四角形、ならびに他の型の多角形が含まれるが、これらに限定されない。
【００４２】
コア材料は、ポロゲン足場を形成させるのに十分な厚さを有する。このため、コア材料は、コア材料の量が、その意図した目的に有用なポロゲン足場を形成するのに十分であるという条件で、任意の厚さであり得る。コア材料の厚さは、その形状で測定されたものが基礎となり得る。例えば、三角形のコア、四角形のコア、および他の型の多角形のコアにおいて、厚さは、コア材料の底幅に基づいて測定される。例えば、多面体、三角形、ピラミッド形、四角形、または多角形のような側面のある形状のコアにおいて、厚さは、コアの底幅に基づいて測定される。
【００４３】
コア材料は、天然または合成材料、無機または有機材料を含み得る。本明細書に開示するコア材料として適切な例示的な材料には、天然および合成の塩とこれらの誘導体、天然および合成のセラミックおよび／またはこれらの誘導体、天然および合成の糖とこれらの誘導体、天然および合成の多糖とこれらの誘導体、天然および合成のワックスとこれらの誘導体、天然および合成の金属とこれらの誘導体、天然および合成の有機固体とこれらの誘導体、天然および合成の水溶性固体とこれらの誘導体、および／または天然および合成の高分子とこれらの誘導体、これらの複合物、および／またはこれらの組合せが含まれるが、これらに限定されない。コア材料として適切な例示的な材料は、本明細書において上述されている。
【００４４】
したがって、実施態様において、ポロゲン組成物はコア材料を含む。本実施態様の態様において、ポロゲン組成物は、シェル物質の融点温度よりも高い融点温度を有するコア材料を含む。本実施態様の態様において、ポロゲン組成物は、シェル材料の融点温度よりも、例えば、約１℃、約２℃、約３℃、約４℃、約５℃、約６℃、約７℃、約８℃、約９℃、約１０℃、約１５℃、約２０℃、約２５℃、約３０℃、約３５℃、約４０℃、約４５℃、または約５０℃高い融点温度を有するコア材料を含む。本実施態様の別の態様において、ポロゲン組成物は、シェル材料の融点温度よりも、例えば、少なくとも１℃、少なくとも２℃、少なくとも３℃、少なくとも４℃、少なくとも５℃、少なくとも６℃、少なくとも７℃、少なくとも８℃、少なくとも９℃、少なくとも１０℃、少なくとも１５℃、少なくとも２０℃、少なくとも２５℃、少なくとも３０℃、少なくとも３５℃、少なくとも４０℃、少なくとも４５℃、または少なくとも５０℃高い融点温度を有するコア材料を含む。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲン組成物は、シェル材料の融点温度よりも、例えば、約５℃〜約５０℃、約５℃〜約７５℃、約５℃〜約１００℃、約５℃〜約２００℃、約５℃〜約３００℃、約１０℃〜約５０℃、約１０℃〜約７５℃、約１０℃〜約１００℃、約１０℃〜約２００℃、または約１０℃〜約３００℃高い融点温度を有するコア材料を含む。
【００４５】
本実施態様の態様において、ポロゲン組成物は、シェル材料のガラス転移温度よりも高いガラス転移温度を有するコア材料を含む。本実施態様の態様において、ポロゲン組成物は、シェル材料のガラス転移温度よりも、例えば、約１℃、約２℃、約３℃、約４℃、約５℃、約６℃、約７℃、約８℃、約９℃、約１０℃、約１５℃、約２０℃、約２５℃、約３０℃、約３５℃、約４０℃、約４５℃、または約５０℃高いガラス転移温度を有するコア材料を含む。本実施態様の別の態様において、ポロゲン組成物は、シェル材料のガラス転移温度よりも、例えば、少なくとも１℃、少なくとも２℃、少なくとも３℃、少なくとも４℃、少なくとも５℃、少なくとも６℃、少なくとも７℃、少なくとも８℃、少なくとも９℃、少なくとも１０℃、少なくとも１５℃、少なくとも２０℃、少なくとも２５℃、少なくとも３０℃、少なくとも３５℃、少なくとも４０℃、少なくとも４５℃、または少なくとも５０℃高いガラス転移温度を有するコア材料を含む。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲン組成物は、シェル材料のガラス転移温度よりも、例えば、約５℃〜約５０℃、約５℃〜約７５℃、約５℃〜約１００℃、約５℃〜約２００℃、約５℃〜約３００℃、約１０℃〜約５０℃、約１０℃〜約７５℃、約１０℃〜約１００℃、約１０℃〜約２００℃、または約１０℃〜約３００℃高いガラス転移温度を有するコア材料を含む。
【００４６】
別の実施態様において、ポロゲン組成物は、ポロゲン足場を形成させるのに十分な厚さを有するコア材料を含む。本実施態様の態様において、ポロゲン組成物は、例えば、約１０μｍ、約２０μｍ、約３０μｍ、約４０μｍ、約５０μｍ、約６０μｍ、約７０μｍ、約８０μｍ、約９０μｍ、約１００μｍ、約２００μｍ、約３００μｍ、約４００μｍ、約５００μｍ、約６００μｍ、約７００μｍ、約８００μｍ、または約９００μｍの厚さを有するコア材料を含む。本実施態様の別の態様において、ポロゲン組成物は、例えば、少なくとも１０μｍ、少なくとも２０μｍ、少なくとも３０μｍ、少なくとも４０μｍ、少なくとも５０μｍ、少なくとも６０μｍ、少なくとも７０μｍ、少なくとも８０μｍ、少なくとも９０μｍ、少なくとも１００μｍ、少なくとも２００μｍ、少なくとも３００μｍ、少なくとも４００μｍ、少なくとも５００μｍ、少なくとも６００μｍ、少なくとも７００μｍ、少なくとも８００μｍ、または少なくとも９００μｍの厚さを有するコア材料を含む。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲン組成物は、例えば、約１０μｍ〜約５００μｍ、約１０μｍ〜約７５０μｍ、約１０μｍ〜約１０００μｍ、約１０μｍ〜約２０００μｍ、約１０μｍ〜約３０００μｍ、約２５μｍ〜約５００μｍ、約２５μｍ〜約７５０μｍ、約２５μｍ〜約１０００μｍ、約２５μｍ〜約２０００μｍ、約２５μｍ〜約３０００μｍ、約５０μｍ〜約５００μｍ、約５０μｍ〜約７５０μｍ、約５０μｍ〜約１０００μｍ、約５０μｍ〜約２０００μｍ、約５０μｍ〜約３０００μｍ、約１００μｍ〜約５００μｍ、約１００μｍ〜約７５０μｍ、約１００μｍ〜約１０００μｍ、約１００μｍ〜約２０００μｍ、または約１００μｍ〜約３０００μｍの厚さを有するコア材料を含む。
【００４７】
別の実施態様において、コア材料は無機材料を含む。別の実施態様において、コア材料は有機材料を含む。別の実施態様において、コア材料は、塩および／またはその誘導体、セラミックおよび／またはその誘導体、糖および／またはその誘導体、多糖および／またはその誘導体、ワックスおよび／またはその誘導体、金属および／またはその誘導体、水溶性固体および／またはその誘導体、または高分子および／またはその誘導体を含む。
【００４８】
本明細書は、一部において、シェル材料とコア材料とを含むポロゲンであって、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有するポロゲンを開示する。シェル材料またはコア材料のうちのいずれかの融点温度またはガラス転移温度は、当業者に周知であり、公的に利用可能な情報である。例えば、Polymer Physics，第４５４頁（Michael Rubinstein, Edmund T. Rolls, Ralph H. Colby編集, Oxford University Press, 2003）；Inorganic Chemistry，第８２２頁（Peter Atkins, Duward F. Shriver, Tina Overton, Jonathan Rourke, W.H. Freeman編集, 2006）；および、Carbohydrate Chemistry，第９６頁(B.G. Davis and A.J. Fairbanks, Oxford University Press 2002)を参照されたい（これらの文献はそれぞれ、その全体が引用により組み込まれる）。
【００４９】
したがって、実施態様において、ポロゲンは、無機材料を含んだシェル材料と、無機材料を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、有機材料を含んだシェル材料と、無機材料を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、無機材料を含んだシェル材料と、有機材料を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、有機材料を含んだシェル材料と、有機材料を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。
【００５０】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。
【００５１】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。
【００５２】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。
【００５３】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。
【００５４】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。
【００５５】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。
【００５６】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。
【００５７】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、コア材料が、シェル材料の融点温度またはガラス転移温度と比較して、高い融点温度またはガラス転移温度を有する。
【００５８】
本明細書の態様は、一部において、コア材料とシェル材料とを含むポロゲンであって、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない、ポロゲンを開示する。本明細書に使用する、「所定の物理的または物理化学的処理下で」という用語は、シェル材料が、その固相からその液相に転移することを可能にするが、その固相中にコア材料を維持する、物理的または物理化学的処理を指す。
【００５９】
したがって、実施態様において、ポロゲンは、無機材料を含んだシェル材料と、無機材料を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、有機材料を含んだシェル材料と、無機材料を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、無機材料を含んだシェル材料と、有機材料を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、有機材料を含んだシェル材料と、有機材料を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。
【００６０】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、塩および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。
【００６１】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。
【００６２】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。
【００６３】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、多糖および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。
【００６４】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。
【００６５】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、金属および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。
【００６６】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。
【００６７】
別の実施態様において、ポロゲンは、塩および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、セラミックおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、多糖および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、ワックスおよび／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、金属および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、界面活性剤および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、水溶性固体および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。別の実施態様において、ポロゲンは、高分子および／またはその誘導体を含んだシェル材料と、高分子および／またはその誘導体を含んだコア材料とを含み、所定の物理的または物理化学的処理下で、シェル材料が可融性であり、コア材料が可融性でない。
【００６８】
本明細書は、ポロゲン組成物を製造する方法を開示する。
【００６９】
別の態様において、ポロゲン組成物を製造する方法は、次に示す工程を含む：ａ）コア材料から粒子を形成する工程と、ｂ）シェル材料で粒子をコーティングする工程。
【００７０】
本明細書は、一部において、コア材料から粒子を形成する工程を開示する。適切なコア材料は、上述するとおりである。コア材料からの粒子の形成は、流動層顆粒化、ローター顆粒化、もしくは押出‐球形化によるペレット化；ローラーミルによる研削、およびふるい分け；溶媒蒸発；または、エマルションが含まれるが、これらに限定されない、適切な手段によって行うことができる。また、コア材料の適切な粒子は、例えば、フィッシャーサイエンティフィック(Fisher Scientific)社（ピッツバーグ、ペンシルベニア州）、ベーリンガー・インゲルハイム・ファーマシューティカル(Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals)社（リッジフィールド、コネチカット州）；および、ポーラー(Paulaur)社（クランブリー、ニュージャージー州）から市販されている。
【００７１】
本明細書は、一部において、シェル材料で粒子をコーティングする工程を開示する。適切なシェル材料は、上述するとおりである。シェル材料で粒子をコーティングする工程は、例えば、浸漬、吹付け、ろ過、へら付け塗り、カーテン塗装、刷毛塗り、もしくは蒸着等の機械的な塗布；物理吸着による塗布(physical adsorption application)；熱による塗布(thermal application)；流動化塗布；付着塗布；化学結合による塗布(chemical bonding application)；自己集合による塗布(self-assembling application)；分子捕捉による塗布(molecular entrapment application)、および／またはこれらの組合せが含まれるが、これらに限定されない、適切な手段によって、行うことができる。シェル材料は、所望の厚さのシェル材料で粒子をコーティングする方法においてコア材料の粒子に塗布される。余剰のシェル材料の除去は、重力ろ過もしくはふるい、真空ろ過もしくはふるい、ブローイング、および／またはこれらの組合せが含まれるが、これらに限定されない、適切な手段によって、行うことができる。
【００７２】
本明細書は、一部において、本明細書に開示するポロゲン組成物を使用して、多孔性材料を製造する方法を開示する。本明細書に開示するポロゲンは、前述したポロゲンを利用する多孔性材料を製造する方法において使用することができる。かかる方法の一例は、例えば、Gatesらの「ナノメーター規模に制御された空洞サイズの空洞を含む材料(Materials Containing Voids with Void Size Controlled on the Nanometer Scale)」、米国特許第７，６７４，５２１号；Hartらの「生体分子アレイにおける個別のナノテクスチャー構造および使用方法(Discrete Nano-Textured Structures in Biomolecular Arrays and Method of Use)」、米国特許第７，６５１，８７２号；XuとGrenzの「多孔性単一材料のための収縮可能な支持体を使用する方法およびデバイス(Methods and Devices Using a Shrinkable Support for Porous Monolithic Materials)」、米国特許第７，６５１，７６２号；van den Hoekらの「誘電体材料に細孔を導入するためのVLSIの組立方法(VLSI Fabrication Processes for Introducing Pores into Dielectric Materials)」、米国特許第７，６２９，２２４号；Murphyらの「生体組織工学足場(Tissue Engineering Scaffolds)」、米国特許第７，５７５，７５９号；Swetlinらの「ポリエステル組成物、該組成物を製造する方法、およびこれから製造される物品(Polyester Compositions, Methods of Manufacturing Said Compositions, and Articles Made Therefrom)」、米国特許第７，５５７，１６７号；Goodnerらの「超臨界二酸化炭素を使用する犠牲材料の除去による相互接続構造体の形成(Formation of Interconnect Structures by Removing Sacrificial Material with Supercritical Carbon Dioxide)」、米国特許第７，４６６，０２５号；Xuの「超多孔性ゾルゲルモノリス(Ultraporous Sol Gel Monoliths)」、米国特許第７，４３９，２７２号；Toddの「シリコーン含有材料のための装置、前駆体、および蒸着方法(Apparatus, Precursors and Deposition Methods for Silicon-Containing Materials)」、米国特許第７，４２５，３５０号；FlodinとAurellの「開孔多孔性高分子材料を調製する方法および開孔多孔性高分子材料(Method for Preparing an Open Porous Polymer Material and an Open Porous Polymer Material)」、米国特許第７，４２５，２８８号；WatkinsとPaiの「メソ多孔性材料および方法(Mesoporous Materials and Methods)」、米国特許第７，４１９，７７２号；Connorらの「多孔性合成物、およびこれを製造する方法(Porous Composition of Matter, and Method of Making Same)」、米国特許第７，３６８，４８３号；Lukasらの「多孔性低誘電率組成物、ならびにこれを製造および使用する方法(Porous Low Dielectric Constant Compositions and Methods for Making and Using Same)」、米国特許第７，３３２，４４５号；Wuらの「有機官能基を有する前駆体を使用した、低応力多孔性低Ｋ誘電体材料を製造する方法(Methods for Producing Low Stress Porous Low-K Dielectric Materials Using Precursors with Organic Functional Groups)」、米国特許第７，２４１，７０４号；YuanおよびDingの「官能化された多孔性ポリ（アリールエーテルケトン）材料およびこれらの使用(Functionalized Porous Poly(Aryl Ether Ketone) Materials and Their Use)」、米国特許第７，１７６，２７３号；Gleasonらの「コロイド状結晶のテンプレート上への化学蒸着による多孔性材料の形成(Porous Material Formation by Chemical Vapor Deposition onto Colloidal Crystal Templates)」、米国特許第７，１１２，６１５号；Bruzaらの「架橋可能なマトリックス前駆体とポロゲンとを含む組成物、およびこれから調製される多孔性マトリッ���ス(Composition Containing a Cross-Linkable Matrix Precursor and a Poragen, and Porous Matrix Prepared Therefrom)」、米国特許第７，１０９，２４９号；Huangらの「高度多孔性低誘電率材料の調製におけるポロゲンとしての窒素含有高分子(Nitrogen-Containing Polymers as Porogens in the Preparation of Highly Porous, Low Dielectric Constant Materials)」、米国特許第７，０８７，９８２号；Taboasらの「制御された局所的／地球規模で、かつミクロ多孔性／マクロ多孔性の３次元プラスチック、高分子、およびセラミック／セメント複合物の足場組立体、ならびにこの適用(Controlled Local/Global and Micro/Macro-Porous 3D Plastic, Polymer and Ceramic/Cement Composite Scaffold Fabrication and Applications Thereof)」米国特許第７，０８７，２００号；Klosterらの「ポロゲン材料を使用する、選択的に変換された中間層誘電体を形成する方法(Method of Forming a Selectively Converted Inter-Layer Dielectric Using A Porogen Material)」、米国特許第７，０１８，９１８号；Youらの「多孔性材料(Porous Materials)」米国特許第６，９９８，１４８号；Khanarianらの「多孔性光学材料(Porous Optical Materials)」、米国特許第６，９６７，２２２号；HolmesとCooperの「多孔性架橋高分子モノリスの製造(Manufacturing Porous Cross-Linked Polymer Monoliths)」、米国特許第６，６９３，１５９号；Maの「多孔性材料の逆作製(Reverse Fabrication of Porous Materials)」、米国特許第６，６７３，２８５号；Kilaasらの「ライナーとマトリックス系の組合せ(Combined Liner and Matrix System)」、米国特許第６，６７２，３８５号；ChaoukとMeijsの「多孔性高分子を含む水和可能なシロキサン(Hydratable Siloxane Comprising Porous Polymers)」、米国特許第６，６６３，６６８号；Allenらの「多孔性材料(Porous Materials)」、米国特許第６，６０２，８０４号；Hawkerらの「多孔性誘電体材料およびこれによって作製される電子デバイス(Porous Dielectric Material and Electronic Devices Fabricated Therewith)」、米国特許第６，５４１，８６５号；Davankovらの「生物体の生理学的流体の精製のための生体適合性高分子吸着材料を製造する方法(Method of Making Biocompatible Polymeric Adsorbing Material for Purification of Physiological Fluids of Organism)」、米国特許第６，５３１，５２３号；Shastriらの「３次元高分子マトリックス(Three-Dimensional Polymer Matrices)」、米国特許第６，４７１，９９３号；Yatesの「光発生ナノ多孔性材料(Photogenerated Nanoporous Materials)」、米国特許第６，３８０，２７０号；Fonnumの「アミノ基含有支持体マトリックスの製造方法、該方法によって製造された支持体マトリックス、および支持体マトリックスの使用(Method for the Manufacture of Amino Group Containing Support Matrices, Support Matrices Prepared by the Method, and Use of the Support Matrices)」、米国特許第６，３３５，４３８号；Chaoukらの「高分子(Polymers)」、米国特許第６，２２５，３６７号；Chaoukらの「高水分含量の多孔性高分子(High Water Content Porous Polymer)」米国特許第６，１６０，０３０号；Hawkerらの「誘電性組成物およびこれらの製造方法(Dielectric Compositions and Method for Their Manufacture)」、米国特許第６，１０７，３５７号；Liらの「高分子微粒子および調製方法(Polymeric Microbeads and Methods of Preparation)」、米国特許第６，１００，３０６号；Chaoukらの「ポロゲンの使用による多孔性高分子の製造方法(Process for Manufacture of A Porous Polymer by Use of A Porogen)」、米国特許第６，０６０，５３０号；Liらの「高分子微粒子(Polymeric Microbeads)」米国特許���５，８６３，９５７号；Frechet とSvecの「傾斜を有する多孔性高分子材料(Porous Polymeric Material with Gradients)」、米国特許第５，７２８，４５７号；Frechet とSvecの「多孔性材料の細孔サイズの選択的改良(Pore-Size Selective Modification of Porous Materials)」、米国特許第５，６３３，２９０号；Yenらの「イオン交換ポリエチレン膜および方法(Ion Exchange Polyethylene Membrane and Process)」、米国特許第５，５３１，８９９号；Soriaらの「ろ過用膜、ガスもしくは液体の分離、またはパーベーパレーション装置、およびかかる膜の製造方法(Membrane for a Filtration, Gas or Liquid Separation or Pervaporation Apparatus and A Manufacturing Method for Such Membrane)」、米国特許第５，０６６，３９８号；Axisaらの「多孔性エラストマーの製造方法(Method of Fabricating A Porous Elastomer)」、米国特許出願公開第２０１０／００７５０５６号；LiljenstenとPersoonの「生物分解性骨軟骨インプラント(Biodegradable Ostochondreal Implant)」、米国特許出願公開第２００９／０１６４０１４号；Favisらの「多孔性ナノシースネットワーク、ならびにこれを製造および使用する方法(Porous Nanosheath Networks, Method of Making and Uses Thereof)」、米国特許出願公開第２００９／００８７６４１号；Hosoyaらの「多孔性高分子、およびこれを製造する方法(Porous Polymer and Process For Producing the Same)」、米国特許出願公開第２００９／００４５１１９号；Anderssonの「キトサン組成物(Chitosan Compositions)」、米国特許出願公開第２００９／００２２７７０号；Xieの「燃料電池極板用３次元親水性多孔質構造体(Three-Dimensional Hydrophilic Porous Structures for Fuel Cell Plates)」、米国特許出願公開第２００８／０２９２９３９号；RatnerとMarshallの「新規多孔性材料(Novel Porous Materials)」、米国特許出願公開第２００８／００７５７５２号；MaとChenの「マルチサイズの形状を有する多孔性材料(Porous Materials having Multi-Sized Geometries)」、米国特許出願公開第２００７／００３６８４４号；Maの「多孔性材料の逆作製(Reverse Fabrication of Porous Materials)」、米国特許出願公開第２００２／０００５６００号；Liuらの「多孔性材料、製造する方法、および使用(Porous Materials, Methods of Making and Uses)」、代理人事件番号１８６１４  ＰＲＯＶ（ＢＲＥ）；ならびに、Liuらの「多孔性材料、製造する方法、および使用(Porous Materials, Methods of Making and Uses)」代理人事件番号１８７０７  ＰＲＯＶ（ＢＲＥ）に記載され、これらの文献はそれぞれ、その全体が引用により組み込まれる。
【００７３】
一態様において、多孔性材料を製造する方法は、次に示す工程を含む：ａ）シェル材料とコア材料とを含むポロゲンを基体物質でコーティングして、物質をコーティングしたポロゲン混合物を形成する工程と、ｂ）この物質をコーティングしたポロゲン混合物を処理し、ポロゲンを融解させてポロゲン足場を形成し、かつ物質を安定化させる工程と、ｃ）ポロゲン足場を除去する工程であって、ポロゲン足場の除去によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成する物質マトリックスを含む多孔性材料が得られる、前記工程。
【００７４】
別の態様において、多孔性材料を製造する方法は、次に示す工程を含む：ａ）シェル材料とコア材料とを含むポロゲンを基体物質でコーティングして、物質をコーティングしたポロゲン混合物を形成する工程と、ｂ）この物質をコーティングしたポロゲン混合物を、金型に充填する工程と、ｃ）この物質をコーティングしたポロゲン混合物を処理し、ポロゲンを融解させてポロゲン足場を形成し、かつ物質を安定化させる工程と、ｄ）ポロゲン足場を除去する工程であって、ポロゲン足場の除去によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成する物質マトリックスを含む多孔性材料が得られる、前記工程。
【００７５】
本明細書に使用する、「基体物質」という用語は、「未硬化の物質」と同義であり、未硬化の状態である、本明細書に開示する物質を指す。本明細書に使用する、「エラストマーベース」という用語は、「未硬化のエラストマー」と同義であり、未硬化の状態である、本明細書に開示するエラストマーを指す。本明細書に使用する、「シリコーン系エラストマーベース」という用語は、「未硬化のシリコーン系エラストマー」と同義であり、未硬化の状態である、本明細書に開示するシリコーン系エラストマーを指す。
【００７６】
本明細書は、一部において、融解前に、ポロゲンを金型に充填する工程を開示する。いかなる金型の形状もポロゲンの充填に使用してもよい。ポロゲンは、基体物質のコーティング前に、金型に充填することができ、また、金型に充填する前に、基体物質で最初にコーティングすることができる。最初にコーティングする場合、物質をコーティングしたポロゲン混合物は、金型に充填する前に、最初に揮発分除去する(devolitalized)必要があり得る。非限定例として、金型の形状は、例えば、乳房インプラント用のシェル、または筋肉インプラント用のシェル等の移植可能なデバイスの輪郭を描くシェルであり得る。別の非限定例として、金型の形状は、シートを形成するものであり得る。かかるシートは、必要とされる用途に基づいて、広い種類または割合で作製することができる。例えば、シートは、移植可能なデバイスよりもわずかに大きなサイズで作製することができ、その結果、デバイスを覆い、かつ過度の装飾を可能にするのに十分な材料である。別の一例として、シートは、当業者が所望の量のみを適用（例えば、痕跡形成の制御のためのテクスチャー加工した表面を有するストリップの作製等）することを可能にする連続的なロールとして作製することができる。ポロゲンは、超音波撹拌、機械的撹拌または緊密に充填されたポロゲンのアレイを得るのに適切な他の方法を用いて、金型に充填することができる。
【００７７】
実施態様において、物質をコーティングしたポロゲン混合物は、金型に充填される。本実施態様の態様において、物質をコーティングしたポロゲン混合物は、緊密に充填されたポロゲンのアレイを得るのに適切な方法で、金型に充填される。本実施態様の別の態様において、物質をコーティングしたポロゲン混合物は、超音波撹拌または機械的撹拌を使用して、金型に充填される。
【００７８】
別の実施態様において、ポロゲンは金型に充填される。本実施態様の態様において、ポロゲンは、緊密に充填されたポロゲンのアレイを得るのに適切な方法で、金型に充填される。本実施態様の別の態様において、ポロゲンは、超音波撹拌または機械的撹拌を使用して、金型に充填される。
【００７９】
本明細書に使用する「ポロゲン足場」という用語は、融解されたポロゲンからなる３次元構造のフレームワークを指し、これは、相互に接続したアレイまたは細孔を区画形成するマトリックスのネガティブレプリカ(negative replica)として有用である。本明細書に開示するポロゲン組成物は、シェル材料とコア材料とを含む。
【００８０】
本明細書は、一部において、ポロゲンを基体物質でコーティングして、物質をコーティングしたポロゲン混合物を形成する工程を開示する。基体物質でポロゲンをコーティングする工程は、例えば、浸漬、吹付け、ろ過、へら付け塗り、カーテン塗装、刷毛塗り、もしくは蒸着等の機械的な塗布、熱による塗布、付着塗布、化学結合による塗布、自己集合による塗布、分子捕捉による塗布、および／またはこれらの組合せが含まれるが、これらに限定されない、適切な手段によって、行うことができる。物質は、所望の厚さの物質でポロゲンをコーティングする方法においてポロゲンに塗布される。余剰の基体物質の除去は、重力ろ過もしくはふるい、真空ろ過もしくはふるい、ブローイング、および／またはこれらの組合せが含まれるが、これらに限定されない、適切な手段によって、行うことができる。
【００８１】
いかなる基体物質も、多孔性材料を形成するのに適切な材料であるという条件で、ポロゲンをコーティングするのに使用することができる。基体物質は、有機または無機材料、これらの複合物および／またはこれらの組合せであり得る。適切な基体物質には、天然および合成のセラミックおよび／またはこれらの誘導体、天然および合成の多糖とこれらの誘導体、天然および合成の金属とこれらの誘導体、天然および合成の高分子とこれらの誘導体、および／または天然および合成のエラストマーおよびこれらの誘導体、これらの複合物、および／またはこれらの組合せが含まれるが、これらに限定されない。
【００８２】
天然もしくは合成のエラストマーまたは弾性高分子とは、周囲温度で、そのガラス転移温度を超えて存在し、このため、粘弾性を提供し、重要な部分運動が可能である、非晶質高分子をいい、これには、炭素系エラストマー、シリコーン系エラストマー、熱硬化性エラストマー、および熱可塑性エラストマーが含まれるが、これらに限定されない。本明細書に使用する「周囲温度」という用語は、約１８℃〜約２２℃の温度を指す。エラストマー（天然に存在するかまたは合成により製造されるもののいずれか）は、共に結合して長い高分子鎖を形成する、炭素、水素、酸素、および／またはシリコーンから通常なるモノマーを含む。エラストマーは、一般に、互いに架橋するが、非共有架橋結合エラストマーが知られている。エラストマーは、ホモ重合体もしくは共重合体であり、分解性であるか、実質的に非分解性であるか、または非分解性であり得る。共重合体は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体、および／またはこれらの混合物であり得る。他の高分子の分類と異なり、エラストマーは、再構成して、負荷した応力を分散させることによって、切断することなしに、その本来の長さの何倍も伸ばすことができる。架橋は、応力が除かれると、エラストマーが、これらの本来の形態に戻れるようにする。エラストマーは、非医療用等級のエラストマーまたは医療用等級エラストマーであり得る。医療用等級のエラストマーは、一般に、３つのカテゴリー（移植が可能でない、短期間移植可能である、および長期間移植可能であるエラストマー）に分類される。例示的な実質的に非分解性および／または非分解性の生体適合性エラストマーには、ブロモ・イソブチレン・イソプレン(bromo isobutylene isoprene)（ＢＩＩＲ）、ポリブタジエン（ＢＲ）、クロロ・イソブチレン・イソプレン(chloro isobutylene isoprene)（ＣＩＩＲ）、ポリクロロプレン（ＣＲ）、クロロスルホン化ポリエチレン（ＣＳＭ）、エチレンプロピレン（ＥＰ）、エチレン・プロピレン・ジエン・モノマー（ＥＰＤＭ）、フルオロ化炭化水素（ＦＫＭ）、フルオロシリコーン（ＦＶＱＭ）、水素化ニトリルブタジエン（ＨＮＢＲ）、ポリイソプレン（ＩＲ）、イソブチレン・イソプレン・ブチル(isobutylene isoprene butyl)（ＩＩＲ）、メチル・ビニル・シリコーン（ＭＶＱ）、アクリロニトリルブタジエン（ＮＢＲ）、ポリウレタン（ＰＵ）、スチレンブタジエン（ＳＢＲ）、スチレンエチレン／ブチレンスチレン(ＳＥＢＳ)、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ポリシロキサン（ＳＩ）、およびアクリロニトリル・ブタジエン・カルボキシ・モノマー(acrylonitrile butadiene carboxy monomer)（ＸＮＢＲ）が含まれるが、これらに限定されない。
【００８３】
したがって、実施態様において、ポロゲンは、相互に接続したアレイまたは細孔を区画形成する、マトリックスを含む多孔性材料を形成させるのに十分な厚さの基体物質でコーティングされる。本実施態様の態様において、ポロゲンは、例えば、約１μｍ、約２μｍ、約３μｍ、約４μｍ、約５μｍ、約６μｍ、約７μｍ、約８μｍ、約９μｍ、約１０μｍ、約２０μｍ、約３０μｍ、約４０μｍ、約５０μｍ、約６０μｍ、約７０μｍ、約８０μｍ、約９０μｍ、または約１００μｍの厚さの物質でコーティングされる。本実施態様の別の態様において、ポロゲンは、例えば、少なくとも１μｍ、少なくとも２μｍ、少なくとも３μｍ、少なくとも４μｍ、少なくとも５μｍ、少なくとも６μｍ、少なくとも７μｍ、少なくとも８μｍ、少なくとも９μｍ、少なくとも１０μｍ、少なくとも２０μｍ、少なくとも３０μｍ、少なくとも４０μｍ、少なくとも５０μｍ、少なくとも６０μｍ、少なくとも７０μｍ、少なくとも８０μｍ、少なくとも９０μｍ、または少なくとも１００μｍの厚さの基体物質でコーティングされる。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲンは、例えば、最大１μｍ、最大２μｍ、最大３μｍ、最大４μｍ、最大５μｍ、最大６μｍ、最大７μｍ、最大８μｍ、最大９μｍ、最大１０μｍ、最大２０μｍ、最大３０μｍ、最大４０μｍ、最大５０μｍ、最大６０μｍ、最大７０μｍ、最大８０μｍ、最大９０μｍ、または最大１００μｍの厚さの基体物質でコーティングされる。さらに、本実施態様の別の態様において、ポロゲンは、例えば、約１μｍ〜約５μｍ、約１μｍ〜約１０μｍ、約５μｍ〜約１０μｍ、約５μｍ〜約２５μｍ、約５μｍ〜約５０μｍ、約１０μｍ〜約５０μｍ、約１０μｍ〜約７５μｍ、約１０μｍ〜約１００μｍ、約２５μｍ〜約１００μｍ、または約５０μｍ〜約１００μｍの厚さの基体物質でコーティングされる。
【００８４】
本明細書は、一部において、物質をコーティングしたポロゲンを揮発分除去する工程を開示する。本明細書に使用する「揮発分除去する」または「揮発分除去」という用語は、物質をコーティングしたポロゲンから揮発性成分を除去する工程を指す。物質をコーティングしたポロゲンの揮発分除去は、物質をコーティングしたポロゲンから、揮発性成分を実質的にすべて除去する、適切な手段によって、行うことができる。揮発分除去手順の非限定例には、蒸発、真空凍結乾燥、サブリミネーション(sublimination)、抽出、および／またはこれらの組合せが含まれる。
【００８５】
実施態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、単一の温度で、物質をコーティングしたポロゲンから、揮発性成分を実質的にすべて、蒸発させるのに十分な時間で、揮発分除去される。本実施態様の態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、周囲温度で、約１分〜約５分間、揮発分除去される。本実施態様の別の態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、周囲温度で、約４５分〜約７５分間、揮発分除去される。本実施態様の更なる別の態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、周囲温度で、約９０分〜約１５０分間、揮発分除去される。本実施態様の別の態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、約１８℃〜約２２℃で、約１分〜約５分間、揮発分除去される。本実施態様の更なる別の態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、約１８℃〜約２２℃で、約４５分〜約７５分間、揮発分除去される。さらに、本実施態様の別の態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、約１８℃〜約２２℃で、約９０分〜約１５０分間、揮発分除去される。
【００８６】
本明細書は、一部において、物質をコーティングしたポロゲン混合物を処理し、ポロゲンを融解させてポロゲン足場を形成し、かつ物質を安定化させる工程を開示する。本明細書に使用する「処理する」という用語は、１）ポロゲンを融解して、細孔の相互に接続したアレイのマトリックスを含む多孔性材料を製造するのに有用なポロゲン足場を形成する工程、および２）物質を安定化させる工程を指す。処理の非限定例には、加熱または凍結のような熱処理、化学的処理、触媒処理、放射線処理、および物理的処理が含まれる。物質をコーティングしたポロゲン足場の処理は、ポロゲンを融解して、細孔の相互に接続したアレイのマトリックスを含む多孔性材料を製造するのに有用なポロゲン足場を形成し、かつ物質を安定化させるという条件で、任意の条件下、任意の時間で、行うことができる。
【００８７】
物質をコーティングしたポロゲン混合物の熱処理は、ポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成し、かつ基体物質を安定化させて本明細書に開示する物質マトリックスを形成するという条件で、任意の条件下、任意の時間で、行うことができる。熱処理に有用な温度の非限定例は、例えば、ポロゲンのガラス転移温度または融解温度よりも約５℃〜約５０℃高いような、ポロゲンのガラス転移温度または融解温度よりも高い温度である。いかなる温度も、ポロゲンの融解を生ずるのに十分であるという条件で、熱処理に用いることができる。非限定例として、熱処理は、約３０℃〜約２５０℃であり得る。所定の温度における熱処理時間の増加によって、接続サイズが増加し、焼結温度の上昇によって、接続の成長速度が増加する。いかなる時間も、ポロゲンの融解を生じ、物質を硬化させるのに十分であるという条件で、熱処理に用いることができる。適切な時間は、約０．５時間〜約４８時間が一般的である。
【００８８】
したがって、実施態様において、物質をコーティングしたポロゲン足場は、物質を安定させるのに十分である、熱処理、化学的処理、触媒処理、放射線処理、または物理的処理によって処理される。別の実施態様において、物質コーティングしたポロゲン足場は、物質を安定化させるのに十分である、単一の時間で処理される。
【００８９】
別の実施態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、単一の温度で、単一の時間、熱処理され、処理温度および時間が、ポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分である。
【００９０】
本実施態様の別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃高い、約１０℃高い、約１５℃高い、約２０℃高い、約２５℃高い、約３０℃高い、約３５℃高い、約４０℃高い、約４５℃高い、または約５０℃高い温度で、しばらくの間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分である。本実施態様の別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、少なくとも５℃高い、少なくとも１０℃高い、少なくとも１５℃高い、少なくとも２０℃高い、少なくとも２５℃高い、少なくとも３０℃高い、少なくとも３５℃高い、少なくとも４０℃高い、少なくとも４５℃高い、または少なくとも５０℃高い温度で、しばらくの間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分である。本実施態様の更なる別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、最大５℃高い、最大１０℃高い、最大１５℃高い、最大２０℃高い、最大２５℃高い、最大３０℃高い、最大３５℃高い、最大４０℃高い、最大４５℃高い、または最大５０℃高い温度で、しばらくの間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分である。さらに、本実施態様の別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃〜約１０℃高い、約５℃〜約１５℃高い、約５℃〜約２０℃高い、約５℃〜約２５℃高い、約５℃〜約３０℃高い、約５℃〜約３５℃高い、約５℃〜約４０℃高い、約５℃〜約４５℃高い、約５℃〜約５０℃高い、約１０℃〜約１５℃高い、約１０℃〜約２０℃高い、約１０℃〜約２５℃高い、約１０℃〜約３０℃高い、約１０℃〜約３５℃高い、約１０℃〜約４０℃高い、約１０℃〜約４５℃高い、または約１０℃〜約５０℃高い温度で、しばらくの間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分である。
【００９１】
本実施態様の別の態様において、物質をコーティングしたポロゲン足場上の物質は、約３０℃〜約１３０℃で、約１０分〜約３６０分間、加熱され、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分である。
【００９２】
更なる別の実施態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、複数の温度で、複数の時間、熱処理され、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分である。本実施態様の態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、第１の温度で、第１の時間、次いで、第２の温度で、第２の時間、処理され、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度と第２の温度が異なる。
【００９３】
本実施態様の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンを、第１の温度で、第１の時間、加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンを第２の温度で、第２の時間、加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度と第２の温度が異なる。本実施態様の別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃高い、約１０℃高い、約１５℃高い、約２０℃高い、約２５℃高い、約３０℃高い、約３５℃高い、約４０℃高い、約４５℃高い、または約５０℃高い温度で、第１の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃高い、約１０℃高い、約１５℃高い、約２０℃高い、約２５℃高い、約３０℃高い、約３５℃高い、約４０℃高い、約４５℃高い、または約５０℃高い温度で、第２の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度と第２の温度が異なる。本実施態様の更なる別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、少なくとも５℃高い、少なくとも１０℃高い、少なくとも１５℃高い、少なくとも２０℃高い、少なくとも２５℃高い、少なくとも３０℃高い、少なくとも３５℃高い、少なくとも４０℃高い、少なくとも４５℃高い、または少なくとも５０℃高い温度で、第１の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、少なくとも５℃高い、少なくとも１０℃高い、少なくとも１５℃高い、少なくとも２０℃高い、少なくとも２５℃高い、少なくとも３０℃高い、少なくとも３５℃高い、少なくとも４０℃高い、少なくとも４５℃高い、または少なくとも５０℃高い温度で、第２の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度と第２の温度が異なる。さらに、本実施態様の別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、最大５℃高い、最大１０℃高い、最大１５℃高い、最大２０℃高い、最大２５℃高い、最大３０℃高い、最大３５℃高い、最大４０℃高い、最大４５℃高い、または最大５０℃高い温度で、第１の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、最大５℃高い、最大１０℃高い、最大１５℃高い、最大２０℃高い、最大２５℃高い、最大３０℃高い、最大３５℃高い、最大４０℃高い、最大４５℃高い、または最大５０℃高い温度で、第２の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度と第２の温度が異なる。
【００９４】
さらに、本実施態様の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃〜約１０℃高い、約５℃〜約１５℃高い、約５℃〜約２０℃高い、約５℃〜約２５℃高い、約５℃〜約３０℃高い、約５℃〜約３５℃高い、約５℃〜約４０℃高い、約５℃〜約４５℃高い、約５℃〜約５０℃高い、約１０℃〜約１５℃高い、約１０℃〜約２０℃高い、約１０℃〜約２５℃高い、約１０℃〜約３０℃高い、約１０℃〜約３５℃高い、約１０℃〜約４０℃高い、約１０℃〜約４５℃高い、または約１０℃〜約５０℃高い温度で、第１の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃〜約１０℃高い、約５℃〜約１５℃高い、約５℃〜約２０℃高い、約５℃〜約２５℃高い、約５℃〜約３０℃高い、約５℃〜約３５℃高い、約５℃〜約４０℃高い、約５℃〜約４５℃高い、約５℃〜約５０℃高い、約１０℃〜約１５℃高い、約１０℃〜約２０℃高い、約１０℃〜約２５℃高い、約１０℃〜約３０℃高い、約１０℃〜約３５℃高い、約１０℃〜約４０℃高い、約１０℃〜約４５℃高い、または約１０℃〜約５０℃高い温度で、第２の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度と第２の温度が異なる。
【００９５】
本実施態様の別の態様において、熱処理は、第１の温度で、第１の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、第２の温度で、第２の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、第３の温度で、第３の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度が第２の温度と異なり、第２の温度が第３の温度と異なる。
【００９６】
本実施態様の別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃高い、約１０℃高い、約１５℃高い、約２０℃高い、約２５℃高い、約３０℃高い、約３５℃高い、約４０℃高い、約４５℃高い、または約５０℃高い温度で、第１の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃高い、約１０℃高い、約１５℃高い、約２０℃高い、約２５℃高い、約３０℃高い、約３５℃高い、約４０℃高い、約４５℃高い、または約５０℃高い温度で、第２の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃高い、約１０℃高い、約１５℃高い、約２０℃高い、約２５℃高い、約３０℃高い、約３５℃高い、約４０℃高い、約４５℃高い、または約５０℃高い温度で、第３の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度が第２の温度と異なり、第２の温度が第３の温度と異なる。本実施態様の更なる別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、少なくとも５℃高い、少なくとも１０℃高い、少なくとも１５℃高い、少なくとも２０℃高い、少なくとも２５℃高い、少なくとも３０℃高い、少なくとも３５℃高い、少なくとも４０℃高い、少なくとも４５℃高い、または少なくとも５０℃高い温度で、第１の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、少なくとも５℃高い、少なくとも１０℃高い、少なくとも１５℃高い、少なくとも２０℃高い、少なくとも２５℃高い、少なくとも３０℃高い、少なくとも３５℃高い、少なくとも４０℃高い、少なくとも４５℃高い、または少なくとも５０℃高い温度で、第２の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、少なくとも５℃高い、少なくとも１０℃高い、少なくとも１５℃高い、少なくとも２０℃高い、少なくとも２５℃高い、少なくとも３０℃高い、少なくとも３５℃高い、少なくとも４０℃高い、少なくとも４５℃高い、または少なくとも５０℃高い温度で、第３の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度が第２の温度と異なり、第２の温度が第３の温度と異なる。さらに、本実施態様の別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、最大５℃高い、最大１０℃高い、最大１５℃高い、最大２０℃高い、最大２５℃高い、最大３０℃高い、最大３５℃高い、最大４０℃高い、最大４５℃高い、または最大５０℃高い温度で、第１の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、最大５℃高い、最大１０℃高い、最大１５℃高い、最大２０℃高い、最大２５℃高い、最大３０℃高い、最大３５℃高い、最大４０℃高い、最大４５℃高い、または最大５０℃高い温度で、第２の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、最大５℃高い、最大１０℃高い、最大１５℃高い、最大２０℃高い、最大２５℃高い、最大３０℃高い、最大３５℃高い、最大４０℃高い、最大４５℃高い、または最大５０℃高い温度で、第３の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度が第２の温度と異なり、第２の温度が第３の温度と異なる。
【００９７】
また、本実施態様の別の態様において、熱処理は、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃〜約１０℃高い、約５℃〜約１５℃高い、約５℃〜約２０℃高い、約５℃〜約２５℃高い、約５℃〜約３０℃高い、約５℃〜約３５℃高い、約５℃〜約４０℃高い、約５℃〜約４５℃高い、約５℃〜約５０℃高い、約１０℃〜約１５℃高い、約１０℃〜約２０℃高い、約１０℃〜約２５℃高い、約１０℃〜約３０℃高い、約１０℃〜約３５℃高い、約１０℃〜約４０℃高い、約１０℃〜約４５℃高い、または約１０℃〜約５０℃高い温度で、第１の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃〜約１０℃高い、約５℃〜約１５℃高い、約５℃〜約２０℃高い、約５℃〜約２５℃高い、約５℃〜約３０℃高い、約５℃〜約３５℃高い、約５℃〜約４０℃高い、約５℃〜約４５℃高い、約５℃〜約５０℃高い、約１０℃〜約１５℃高い、約１０℃〜約２０℃高い、約１０℃〜約２５℃高い、約１０℃〜約３０℃高い、約１０℃〜約３５℃高い、約１０℃〜約４０℃高い、約１０℃〜約４５℃高い、または約１０℃〜約５０℃高い温度で、第２の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱し、次いで、物質をコーティングしたポロゲンの融解温度またはガラス転移温度よりも、例えば、約５℃〜約１０℃高い、約５℃〜約１５℃高い、約５℃〜約２０℃高い、約５℃〜約２５℃高い、約５℃〜約３０℃高い、約５℃〜約３５℃高い、約５℃〜約４０℃高い、約５℃〜約４５℃高い、約５℃〜約５０℃高い、約１０℃〜約１５℃高い、約１０℃〜約２０℃高い、約１０℃〜約２５℃高い、約１０℃〜約３０℃高い、約１０℃〜約３５℃高い、約１０℃〜約４０℃高い、約１０℃〜約４５℃高い、または約１０℃〜約５０℃高い温度で、第３の時間、物質をコーティングしたポロゲンを加熱することを含み、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分であり、また、第１の温度が第２の温度と異なり、第２の温度が第３の温度と異なる。
【００９８】
さらに、本実施態様の別の態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、約６０℃〜約７５℃で、約１５分〜約４５分間、次いで、約１２０℃〜約１３０℃で、約６０分〜約９０分間、処理され、処理温度および時間が、物質をコーティングしたポロゲンを融解して、ポロゲン足場を形成するのに十分であり、かつ物質を硬化させて、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させるのに十分な物質マトリックスを形成するのに十分である。本実施態様の更なる別の態様において、物質をコーティングしたポロゲンは、約６０℃〜約７５℃で、約１５分〜約４５分間、次いで、約１３５℃〜約１５０℃で、約９０分〜約１５０分間、次いで、約１５０℃〜約１６５℃で、約１５分〜約４５分間、処理される。
【００９９】
本明細書は、一部において、ポロゲン足場を形成する工程を開示する。本明細書に使用する「ポロゲン足場」という用語は、融解されたポロゲンからなる３次元構造のフレームワークを指し、これは、本明細書に開示する相互に接続したアレイまたは細孔を区画形成するマトリックスのネガティブレプリカとして有用である。
【０１００】
ポロゲン足場は、ポロゲン足場中の融解されたポロゲンが実質的にすべて同様の径を有するように、形成される。本明細書に使用する「実質的に」という用語は、融解されたポロゲンを説明するのに使用する場合、ポロゲン足場を含むポロゲンの少なくとも９０％が融解され、例えば、ポロゲン足場を含むポロゲンの少なくとも９５％が融解されるか、またはポロゲン足場を含むポロゲンの少なくとも９７％が融解される。本明細書に使用する「同様の径」という用語は、融解されたポロゲンを説明するのに使用する場合、２つの融解されたポロゲンの径の差異が、大きな径の約２０％未満であることを指す。本明細書に使用する「径」という用語は、融解されたポロゲンを説明するのに使用する場合、線が、融解されたポロゲンの境界の外部を通過するか否かにかかわらず、融解されたポロゲン内の２点をつなぐ、引くことができる最長の線分を指す。いかなる融解されたポロゲンの径も、本明細書に開示するエラストマーマトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分であるという条件で、有用である。
【０１０１】
それぞれの融解されたポロゲン間の接続の径が、本明細書に開示するエラストマーマトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分であるように、ポロゲン足場は形成される。本明細書に使用する「径」という用語は、融解されたポロゲン間の接続を説明する場合、２つの融解されたポロゲンの重心をつなぐ線に対して垂直な平面における２つの融解されたポロゲン間の接続の断面の径を指し、接続の断面の面積が最小値であるように、平面が選択される。本明細書に使用する「接続の断面の径」という用語は、接続の断面の中心または重心（中心を欠く断面を有する接続の場合）を通過し、断面周囲で終端となる、直線部分の平均の長さを指す。本明細書に使用する「実質的に」という用語は、融解されたポロゲン間の接続を説明するのに使用する場合、ポロゲン足場を含む融解されたポロゲンの少なくとも９０％が、互いの間の接続を構成し、例えば、ポロゲン足場を含む融解されたポロゲンの少なくとも９５％が、互いの間の接続を構成するか、またはポロゲン足場を含む融解されたポロゲンの少なくとも９７％が、互いの間の接続を構成する。
【０１０２】
実施態様において、ポロゲン足場は、融解されたポロゲンが実質的にすべて同様の径を有するように、融解されたポロゲンを含む。本実施態様の態様において、すべての融解されたポロゲンの少なくとも９０％は、同様の径を有するか、すべての融解されたポロゲンの少なくとも９５％は、同様の径を有するか、またはすべての融解されたポロゲンの少なくとも９７％は、同様の径を有する。本実施態様の別の態様において、２つの融解されたポロゲンの径の差異は、例えば、大きな径の約２０％未満であるか、大きな径の約１５％であるか、大きな径の約１０％未満であるか、または大きな径の約５％未満である。
【０１０３】
別の実施態様において、ポロゲン足場は、相互に接続したポロゲンのアレイに組織を成長させるのに十分な平均径を有する、融解されたポロゲンを含む。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、例えば、約５０μｍ、約７５μｍ、約１００μｍ、約１５０μｍ、約２００μｍ、約２５０μｍ、約３００μｍ、約３５０μｍ、約４００μｍ、約４５０μｍ、または約５００μｍの平均融解ポロゲン径を有する、融解されたポロゲンを含む。別の態様において、ポロゲン足場は、例えば、約５００μｍ、約６００μｍ、約７００μｍ、約８００μｍ、約９００μｍ、約１０００μｍ、約１５００μｍ、約２０００μｍ、約２５００μｍ、または約３０００μｍの平均融解ポロゲン径を有する、融解されたポロゲンを含む。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲン足場は、例えば、少なくとも５０μｍ、少なくとも７５μｍ、少なくとも１００μｍ、少なくとも１５０μｍ、少なくとも２００μｍ、少なくとも２５０μｍ、少なくとも３００μｍ、少なくとも３５０μｍ、少なくとも４００μｍ、少なくとも４５０μｍ、または少なくとも５００μｍの平均融解ポロゲン径を有する、融解されたポロゲンを含む。さらに別の態様において、エラストマーマトリックスは、例えば、少なくとも５００μｍ、少なくとも６００μｍ、少なくとも７００μｍ、少なくとも８００μｍ、少なくとも９００μｍ、少なくとも１０００μｍ、少なくとも１５００μｍ、少なくとも２０００μｍ、少なくとも２５００μｍ、または少なくとも３０００μｍの平均融解ポロゲン径を有する、融解されたポロゲンを含む。さらに、本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、例えば、最大５０μｍ、最大７５μｍ、最大１００μｍ、最大１５０μｍ、最大２００μｍ、最大２５０μｍ、最大３００μｍ、最大３５０μｍ、最大４００μｍ、最大４５０μｍ、または最大５００μｍの平均融解ポロゲン径を有する、融解されたポロゲンを含む。本実施態様の更なる別の態様において、エラストマーマトリックスは、例えば、最大５００μｍ、最大６００μｍ、最大７００μｍ、最大８００μｍ、最大９００μｍ、最大１０００μｍ、最大１５００μｍ、最大２０００μｍ、最大２５００μｍ、または最大３０００μｍの平均融解ポロゲン径を有する、融解されたポロゲンを含む。さらに、本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、例えば、約３００μｍ〜約６００μｍ、約２００μｍ〜約７００μｍ、約１００μｍ〜約８００μｍ、約５００μｍ〜約８００μｍ、約５０μｍ〜約５００μｍ、約７５μｍ〜約５００μｍ、約１００μｍ〜約５００μｍ、約２００μｍ〜約５００μｍ、約３００μｍ〜約５００μｍ、約５０μｍ〜約１０００μｍ、約７５μｍ〜約１０００μｍ、約１００μｍ〜約１０００μｍ、約２００μｍ〜約１０００μｍ、約３００μｍ〜約１０００μｍ、約５０μｍ〜約１０００μｍ、約７５μｍ〜約３０００μｍ、約１００μｍ〜約３０００μｍ、約２００μｍ〜約３０００μｍ、または約３００μｍ〜約３０００μｍの範囲の平均融解ポロゲン径を有する、融解されたポロゲンを含む。
【０１０４】
別の実施態様において、ポロゲン足場は、複数の他のポロゲンに接続した、融解されたポロゲンを含む。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、例えば、約２の他の融解されたポロゲン、約３の他の融解されたポロゲン、約４の他の融解されたポロゲン、約５の他の融解されたポロゲン、約６の他の融解されたポロゲン、約７の他の融解されたポロゲン、約８の他の融解されたポロゲン、約９の他の融解されたポロゲン、約１０の他の融解されたポロゲン、約１１の他の融解されたポロゲン、または約１２の他の融解されたポロゲンの、平均融解ポロゲン接続性を有する。本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、例えば、少なくとも２の他の融解されたポロゲン、少なくとも３の他の融解されたポロゲン、少なくとも４の他の融解されたポロゲン、少なくとも５の他の融解されたポロゲン、少なくとも６の他の融解されたポロゲン、少なくとも７の他の融解されたポロゲン、少なくとも８の他の融解されたポロゲン、少なくとも９の他の融解されたポロゲン、少なくとも１０の他の融解されたポロゲン、少なくとも１１の他の融解されたポロゲン、または少なくとも１２の他の融解されたポロゲンの、平均融解ポロゲン接続性を有する。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲン足場は、例えば、最大２の他の融解されたポロゲン、最大３の他の融解されたポロゲン、最大４の他の融解されたポロゲン、最大５の他の融解されたポロゲン、最大６の他の融解されたポロゲン、最大７の他の融解されたポロゲン、最大８の他の融解されたポロゲン、最大９の他の融解されたポロゲン、最大１０の他の融解されたポロゲン、最大１１の他の融解されたポロゲン、または最大１２の他の融解されたポロゲンの、平均融解ポロゲン接続性を有する。
【０１０５】
さらに、本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、例えば、約２の他の融解されたポロゲンから約１２の他の融解されたポロゲン、約２の他の融解されたポロゲンから約１１の他の融解されたポロゲン、約２の他の融解されたポロゲンから約１０の他の融解されたポロゲン、約２の他の融解されたポロゲンから約９の他の融解されたポロゲン、約２の他の融解されたポロゲンから約８の他の融解されたポロゲン、約２の他の融解されたポロゲンから約７の他の融解されたポロゲン、約２の他の融解されたポロゲンから約６の他の融解されたポロゲン、約２の他の融解されたポロゲンから約５の他の融解されたポロゲン、約３の他の融解されたポロゲンから約１２の他の融解されたポロゲン、約３の他の融解されたポロゲンから約１１の他の融解されたポロゲン、約３の他の融解されたポロゲンから約１０の他の融解されたポロゲン、約３の他の融解されたポロゲンから約９の他の融解されたポロゲン、約３の他の融解されたポロゲンから約８の他の融解されたポロゲン、約３の他の融解されたポロゲンから約７の他の融解されたポロゲン、約３の他の融解されたポロゲンから約６の他の融解されたポロゲン、約３の他の融解されたポロゲンから約５の他の融解されたポロゲン、約４の他の融解されたポロゲンから約１２の他の融解されたポロゲン、約４の他の融解されたポロゲンから約１１の他の融解されたポロゲン、約４の他の融解されたポロゲンから約１０の他の融解されたポロゲン、約４の他の融解されたポロゲンから約９の他の融解されたポロゲン、約４の他の融解されたポロゲンから約８の他の融解されたポロゲン、約４の他の融解されたポロゲンから約７の他の融解されたポロゲン、約４の他の融解されたポロゲンから約６の他の融解されたポロゲン、約４の他の融解されたポロゲンから約５の他の融解されたポロゲン、約５の他の融解されたポロゲンから約１２の他の融解されたポロゲン、約５の他の融解されたポロゲンから約１１の他の融解されたポロゲン、約５の他の融解されたポロゲンから約１０の他の融解されたポロゲン、約５の他の融解されたポロゲンから約９の他の融解されたポロゲン、約５の他の融解されたポロゲンから約８の他の融解されたポロゲン、約５の他の融解されたポロゲンから約７の他の融解されたポロゲン、または約５の他の融解されたポロゲンから約６の他の融解されたポロゲンと接続した、融解されたポロゲンを含む。
【０１０６】
別の実施態様において、ポロゲン足場は、融解されたポロゲンを含み、融解されたポロゲン間の接続の径が、相互に接続した細孔のそのアレイ内に組織を成長させる、エラストマーマトリックスを作製するのに有用なポロゲン足場を形成させるのに十分な形状である。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、融解されたポロゲンを含み、融解されたポロゲン間の接続の径が、例えば、平均融解ポロゲン径の約１０％、平均融解ポロゲン径の約２０％、平均融解ポロゲン径の約３０％、平均融解ポロゲン径の約４０％、平均融解ポロゲン径の約５０％、平均融解ポロゲン径の約６０％、平均融解ポロゲン径の約７０％、平均融解ポロゲン径の約８０％、または平均融解ポロゲン径の約９０％である。本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、融解されたポロゲンを含み、融解されたポロゲン間の接続の径が、例えば、平均融解ポロゲン径の少なくとも１０％、平均融解ポロゲン径の少なくとも２０％、平均融解ポロゲン径の少なくとも３０％、平均融解ポロゲン径の少なくとも４０％、平均融解ポロゲン径の少なくとも５０％、平均融解ポロゲン径の少なくとも６０％、平均融解ポロゲン径の少なくとも７０％、平均融解ポロゲン径の少なくとも８０％、または平均融解ポロゲン径の少なくとも９０％である。本実施態様の更なる別の態様において、ポロゲン足場は、融解されたポロゲンを含み、融解されたポロゲン間の接続の径が、例えば、平均融解ポロゲン径の最大１０％、平均融解ポロゲン径の最大２０％、平均融解ポロゲン径の最大３０％、平均融解ポロゲン径の最大４０％、平均融解ポロゲン径の最大５０％、平均融解ポロゲン径の最大６０％、平均融解ポロゲン径の最大７０％、平均融解ポロゲン径の最大８０％、または平均融解ポロゲン径の最大９０％である。
【０１０７】
さらに、本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、融解されたポロゲンを含み、融解されたポロゲン間の接続の径が、例えば、平均融解ポロゲン径の約１０％〜約９０％、平均融解ポロゲン径の約１５％〜約９０％、平均融解ポロゲン径の約２０％〜約９０％、平均融解ポロゲン径の約２５％〜約９０％、平均融解ポロゲン径の約３０％〜約９０％、平均融解ポロゲン径の約３５％〜約９０％、平均融解ポロゲン径の約４０％〜約９０％、平均融解ポロゲン径の約１０％〜約８０％、平均融解ポロゲン径の約１５％〜約８０％、平均融解ポロゲン径の約２０％〜約８０％、平均融解ポロゲン径の約２５％〜約８０％、平均融解ポロゲン径の約３０％〜約８０％、平均融解ポロゲン径の約３５％〜約８０％、平均融解ポロゲン径の約４０％〜約８０％、平均融解ポロゲン径の約１０％〜約７０％、平均融解ポロゲン径の約１５％〜約７０％、平均融解ポロゲン径の約２０％〜約７０％、平均融解ポロゲン径の約２５％〜約７０％、平均融解ポロゲン径の約３０％〜約７０％、平均融解ポロゲン径の約３５％〜約７０％、平均融解ポロゲン径の約４０％〜約７０％、平均融解ポロゲン径の約１０％〜約６０％、平均融解ポロゲン径の約１５％〜約６０％、平均融解ポロゲン径の約２０％〜約６０％、平均融解ポロゲン径の約２５％〜約６０％、平均融解ポロゲン径の約３０％〜約６０％、平均融解ポロゲン径の約３５％〜約６０％、平均融解ポロゲン径の約４０％〜約６０％、平均融解ポロゲン径の約１０％〜約５０％、平均融解ポロゲン径の約１５％〜約５０％、平均融解ポロゲン径の約２０％〜約５０％、平均融解ポロゲン径の約２５％〜約５０％、平均融解ポロゲン径の約３０％〜約５０％、平均融解ポロゲン径の約１０％〜約４０％、平均融解ポロゲン径の約１５％〜約４０％、平均融解ポロゲン径の約２０％〜約４０％、平均融解ポロゲン径の約２５％〜約４０％、または平均融解ポロゲン径の約３０％〜約４０％である。
【０１０８】
本明細書は、一部において、物質を安定化させる工程を開示する。本明細書に使用する「安定化させる」という用語は、構成要素に基体物質を曝露させ、例えば、互いの物質の物理または化学架橋成分等によって、より安定した状態へ基体物質における相変化を活性化する工程を指す。かかる安定化は、例えば、物質マトリックスを形成する。安定化の非限定例には、例えば、熱硬化、化学硬化、触媒硬化、放射線硬化、および物理硬化等の硬化が含まれる。物質をコーティングしたポロゲン足場の安定化は、用いる条件が物質を安定化させるという条件で、任意の条件下で、任意の時間、行うことができる。
【０１０９】
本明細書は、一部において、処理された物質からポロゲン足場を除去する工程を開示する。ポロゲン足場の除去は、除去によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成するマトリックスを含む多孔性材料が得られるという条件で、適切な手段によって行うことができる。ポロゲン除去の非限定例には、溶媒抽出、熱分解抽出、分解抽出、機械的抽出、および／またはこれらの組合せが含まれる。このため、抽出方法を用いて除去可能なシェル材料およびコア材料を使用することは有益であるが、かかる方法は、多孔性材料に損傷を与えないようにする。例えば、溶媒抽出等の他の溶液への暴露を必要とする抽出方法では、抽出は、ポロゲン足場の除去を促進する時間で、複数の溶液の変更を導入することができる。溶媒抽出に有用な溶媒の非限定例には、水、塩化メチレン、酢酸、ギ酸、ピリジン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、ベンゼン、および／またはこれらの混合物が含まれる。混合溶媒は、第１の溶媒と第２の溶媒の比の約１：１よりも高い比であるか、または第１の溶媒と第２の溶媒の比の約１：１よりも低い比であり得る。
【０１１０】
実施態様において、ポロゲン足場は、抽出によって除去され、抽出によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成するマトリックスを含む多孔性材料を残して、ポロゲン足場が実質的にすべて除去される。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、抽出によって除去され、抽出によって、例えば、ポロゲン足場の約７５％、ポロゲン足場の約８０％、ポロゲン足場の約８５％、ポロゲン足場の約９０％、ポロゲン足場の約９５％が除去される。本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、抽出によって除去され、抽出によって、例えば、ポロゲン足場の少なくとも７５％、ポロゲン足場の少なくとも８０％、ポロゲン足場の少なくとも８５％、ポロゲン足場の少なくとも９０％、ポロゲン足場の少なくとも９５％が除去される。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、抽出によって除去され、抽出によって、例えば、ポロゲン足場の約７５％〜約９０％、ポロゲン足場の約７５％〜約９５％、ポロゲン足場の約７５％〜約１００％、ポロゲン足場の約８０％〜約９０％、ポロゲン足場の約８０％〜約９５％、ポロゲン足場の約８０％〜約１００％、ポロゲン足場の約８５％〜約９０％、ポロゲン足場の約８５％〜約９５％、またはポロゲン足場の約８５％〜約１００％が除去される。態様において、ポロゲン足場は、溶媒抽出、熱抽出、分解抽出、機械的抽出、および／またはこれらの組合せによって除去される。
【０１１１】
別の実施態様において、ポロゲン足場は、溶媒抽出によって除去され、溶媒抽出によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成するマトリックスを含む多孔性材料を残して、ポロゲン足場が実質的にすべて除去される。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、溶媒抽出によって除去され、溶媒抽出によって、例えば、ポロゲン足場の約７５％、ポロゲン足場の約８０％、ポロゲン足場の約８５％、ポロゲン足場の約９０％、ポロゲン足場の約９５％が除去される。本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、溶媒抽出によって除去され、溶媒抽出によって、例えば、ポロゲン足場の少なくとも７５％、ポロゲン足場の少なくとも８０％、ポロゲン足場の少なくとも８５％、ポロゲン足場の少なくとも９０％、ポロゲン足場の少なくとも９５％が除去される。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、溶媒抽出によって除去され、溶媒抽出によって、例えば、ポロゲン足場の約７５％〜約９０％、ポロゲン足場の約７５％〜約９５％、ポロゲン足場の約７５％〜約１００％、ポロゲン足場の約８０％〜約９０％、ポロゲン足場の約８０％〜約９５％、ポロゲン足場の約８０％〜約１００％、ポロゲン足場の約８５％〜約９０％、ポロゲン足場の約８５％〜約９５％、またはポロゲン足場の約８５％〜約１００％が除去される。
【０１１２】
更なる別の実施態様において、ポロゲン足場は、熱分解抽出によって除去され、熱分解抽出によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成するマトリックスを含む多孔性材料を残して、ポロゲン足場が実質的にすべて除去される。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、熱分解抽出によって除去され、熱分解抽出によって、例えば、ポロゲン足場の約７５％、ポロゲン足場の約８０％、ポロゲン足場の約８５％、ポロゲン足場の約９０％、ポロゲン足場の約９５％が除去される。本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、熱分解抽出によって除去され、熱分解抽出によって、例えば、ポロゲン足場の少なくとも７５％、ポロゲン足場の少なくとも８０％、ポロゲン足場の少なくとも８５％、ポロゲン足場の少なくとも９０％、ポロゲン足場の少なくとも９５％が除去される。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、熱分解抽出によって除去され、熱分解抽出によって、例えば、ポロゲン足場の約７５％〜約９０％、ポロゲン足場の約７５％〜約９５％、ポロゲン足場の約７５％〜約１００％、ポロゲン足場の約８０％〜約９０％、ポロゲン足場の約８０％〜約９５％、ポロゲン足場の約８０％〜約１００％、ポロゲン足場の約８５％〜約９０％、ポロゲン足場の約８５％〜約９５％、またはポロゲン足場の約８５％〜約１００％が除去される。
【０１１３】
さらに別の実施態様において、ポロゲン足場は、分解抽出によって除去され、分解抽出によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成するマトリックスを含む多孔性材料を残して、ポロゲン足場が実質的にすべて除去される。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、分解抽出によって除去され、分解抽出によって、例えば、ポロゲン足場の約７５％、ポロゲン足場の約８０％、ポロゲン足場の約８５％、ポロゲン足場の約９０％、ポロゲン足場の約９５％が除去される。本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、分解抽出によって除去され、分解抽出によって、例えば、ポロゲン足場の少なくとも７５％、ポロゲン足場の少なくとも８０％、ポロゲン足場の少なくとも８５％、ポロゲン足場の少なくとも９０％、ポロゲン足場の少なくとも９５％が除去される。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、分解抽出によって除去され、分解抽出によって、例えば、ポロゲン足場の約７５％〜約９０％、ポロゲン足場の約７５％〜約９５％、ポロゲン足場の約７５％〜約１００％、ポロゲン足場の約８０％〜約９０％、ポロゲン足場の約８０％〜約９５％、ポロゲン足場の約８０％〜約１００％、ポロゲン足場の約８５％〜約９０％、ポロゲン足場の約８５％〜約９５％、またはポロゲン足場の約８５％〜約１００％が除去される。
【０１１４】
さらに別の実施態様において、ポロゲン足場は、機械的抽出によって除去され、機械的抽出によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成するマトリックスを含む多孔性材料を残して、ポロゲン足場が実質的にすべて除去される。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、機械的抽出によって除去され、機械的抽出によって、例えば、ポロゲン足場の約７５％、ポロゲン足場の約８０％、ポロゲン足場の約８５％、ポロゲン足場の約９０％、ポロゲン足場の約９５％が除去される。本実施態様の別の態様において、ポロゲン足場は、機械的抽出によって除去され、機械的抽出によって、例えば、ポロゲン足場の少なくとも７５％、ポロゲン足場の少なくとも８０％、ポロゲン足場の少なくとも８５％、ポロゲン足場の少なくとも９０％、ポロゲン足場の少なくとも９５％が除去される。本実施態様の態様において、ポロゲン足場は、機械的抽出によって除去され、機械的抽出によって、例えば、ポロゲン足場の約７５％〜約９０％、ポロゲン足場の約７５％〜約９５％、ポロゲン足場の約７５％〜約１００％、ポロゲン足場の約８０％〜約９０％、ポロゲン足場の約８０％〜約９５％、ポロゲン足場の約８０％〜約１００％、ポロゲン足場の約８５％〜約９０％、ポロゲン足場の約８５％〜約９５％、またはポロゲン足場の約８５％〜約１００％が除去される。
【０１１５】
本明細書は、一部において、相互に接続した細孔のアレイを区画形成する物質マトリックスを含む多孔性材料を開示する。本明細書に使用する、「マトリックス」または「物質マトリックス」という用語は、「処理された物質」と同義であり、その処理されたか又は硬化させた状態の物質からなる３次元構造のフレームワークを指す。本明細書に開示するポロゲン組成物を使用する方法によって形成された多孔性材料は、広範囲の医療、商用、および家庭用途を有する。医療分野において、多孔性材料は、生体組織工学／再生のためのマトリックス、細胞増殖支持マトリックス、創傷被覆材、薬剤放出マトリックス、分離およびろ過用膜、無菌フィルタ、人工腎臓、吸収剤、止血デバイス等として使用されている。種々の産業および家庭用途において、多孔性材料は、絶縁材料、包装材料、衝撃吸収体、液体吸収剤またはガス吸収剤、膜、フィルタ等として使用されている。
【０１１６】
かかるマトリックスおよびこれらの使用の一例は、例えば、Gatesらの「ナノメーター規模に制御された空洞サイズの空洞を含む材料(Materials Containing Voids with Void Size Controlled on the Nanometer Scale)」、米国特許第７，６７４，５２１号；Hartらの「生体分子アレイにおける個別のナノテクスチャー構造および使用方法(Discrete Nano-Textured Structures in Biomolecular Arrays and Method of Use)」、米国特許第７，６５１，８７２号；XuとGrenzの「多孔性単一材料のための収縮可能な支持体を使用する方法およびデバイス(Methods and Devices Using a Shrinkable Support for Porous Monolithic Materials)」、米国特許第７，６５１，７６２号；van den Hoekらの「誘電体材料に細孔を導入するためのVLSIの組立方法(VLSI Fabrication Processes for Introducing Pores into Dielectric Materials)」、米国特許第７，６２９，２２４号；Murphyらの「生体組織工学足場(Tissue Engineering Scaffolds)」、米国特許第７，５７５，７５９号；Swetlinらの「ポリエステル組成物、該組成物を製造する方法、およびこれから製造される物品(Polyester Compositions, Methods of Manufacturing Said Compositions, and Articles Made Therefrom)」、米国特許第７，５５７，１６７号；Goodnerらの「超臨界二酸化炭素を使用する犠牲材料の除去による相互接続構造体の形成(Formation of Interconnect Structures by Removing Sacrificial Material with Supercritical Carbon Dioxide)」、米国特許第７，４６６，０２５号；Xuの「超多孔性ゾルゲルモノリス(Ultraporous Sol Gel Monoliths)」、米国特許第７，４３９，２７２号；Toddの「シリコーン含有材料のための装置、前駆体、および蒸着方法(Apparatus, Precursors and Deposition Methods for Silicon-Containing Materials)」、米国特許第７，４２５，３５０号；FlodinとAurellの「開孔多孔性高分子材料を調製する方法および開孔多孔性高分子材料(Method for Preparing an Open Porous Polymer Material and an Open Porous Polymer Material)」、米国特許第７，４２５，２８８号；WatkinsとPaiの「メソ多孔性材料および方法(Mesoporous Materials and Methods)」、米国特許第７，４１９，７７２号；Connorらの「多孔性合成物、およびこれを製造する方法(Porous Composition of Matter, and Method of Making Same)」、米国特許第７，３６８，４８３号；Lukasらの「多孔性低誘電率組成物、ならびにこれを製造および使用する方法(Porous Low Dielectric Constant Compositions and Methods for Making and Using Same)」、米国特許第７，３３２，４４５号；Wuらの「有機官能基を有する前駆体を使用した、低応力多孔性低Ｋ誘電体材料を製造する方法(Methods for Producing Low Stress Porous Low-K Dielectric Materials Using Precursors with Organic Functional Groups)」、米国特許第７，２４１，７０４号；YuanおよびDingの「官能化された多孔性ポリ（アリールエーテルケトン）材料およびこれらの使用(Functionalized Porous Poly(Aryl Ether Ketone) Materials and Their Use)」、米国特許第７，１７６，２７３号；Gleasonらの「コロイド状結晶のテンプレート上への化学蒸着による多孔性材料の形成(Porous Material Formation by Chemical Vapor Deposition onto Colloidal Crystal Templates)」、米国特許第７，１１２，６１５号；Bruzaらの「架橋可能なマトリックス前駆体とポロゲンとを含む組成物、およびこれから調製される多孔性マトリックス(Composition Containing a Cross-Linkable Matrix Precursor and a Poragen, and Porous Matrix Prepared Therefrom)」、米国特許第７，１０９，２４９号；Huangらの「高度多孔性低誘電率材料の調製におけるポロゲンとしての窒素含有高分子(Nitrogen-Containing Polymers as Porogens in the Preparation of Highly Porous, Low Dielectric Constant Materials)」、米国特許第７，０８７，９８２号；Taboasらの「制御された局所的／地球規模で、かつミクロ多孔性／マクロ多孔性の３次元プラスチック、高分子、およびセラミック／セメント複合物の足場組立体、ならびにこの適用(Controlled Local/Global and Micro/Macro-Porous 3D Plastic, Polymer and Ceramic/Cement Composite Scaffold Fabrication and Applications Thereof)」米国特許第７，０８７，２００号；Klosterらの「ポロゲン材料を使用する、選択的に変換された中間層誘電体を形成する方法(Method of Forming a Selectively Converted Inter-Layer Dielectric Using A Porogen Material)」、米国特許第７，０１８，９１８号；Youらの「多孔性材料(Porous Materials)」米国特許第６，９９８，１４８号；Khanarianらの「多孔性光学材料(Porous Optical Materials)」、米国特許第６，９６７，２２２号；HolmesとCooperの「多孔性架橋高分子モノリスの製造(Manufacturing Porous Cross-Linked Polymer Monoliths)」、米国特許第６，６９３，１５９号；Maの「多孔性材料の逆作製(Reverse Fabrication of Porous Materials)」、米国特許第６，６７３，２８５号；Kilaasらの「ライナーとマトリックス系の組合せ(Combined Liner and Matrix System)」、米国特許第６，６７２，３８５号；ChaoukとMeijsの「多孔性高分子を含む水和可能なシロキサン(Hydratable Siloxane Comprising Porous Polymers)」、米国特許第６，６６３，６６８号；Allenらの「多孔性材料(Porous Materials)」、米国特許第６，６０２，８０４号；Hawkerらの「多孔性誘電体材料およびこれによって作製される電子デバイス(Porous Dielectric Material and Electronic Devices Fabricated Therewith)」、米国特許第６，５４１，８６５号；Davankovらの「生物体の生理学的流体の精製のための生体適合性高分子吸着材料を製造する方法(Method of Making Biocompatible Polymeric Adsorbing Material for Purification of Physiological Fluids of Organism)」、米国特許第６，５３１，５２３号；Shastriらの「３次元高分子マトリックス(Three-Dimensional Polymer Matrices)」、米国特許第６，４７１，９９３号；Yatesの「光発生ナノ多孔性材料(Photogenerated Nanoporous Materials)」、米国特許第６，３８０，２７０号；Fonnumの「アミノ基含有支持体マトリックスの製造方法、該方法によって製造された支持体マトリックス、および支持体マトリックスの使用(Method for the Manufacture of Amino Group Containing Support Matrices, Support Matrices Prepared by the Method, and Use of the Support Matrices)」、米国特許第６，３３５，４３８号；Chaoukらの「高分子(Polymers)」、米国特許第６，２２５，３６７号；Chaoukらの「高水分含量の多孔性高分子(High Water Content Porous Polymer)」米国特許第６，１６０，０３０号；Hawkerらの「誘電性組成物およびこれらの製造方法(Dielectric Compositions and Method for Their Manufacture)」、米国特許第６，１０７，３５７号；Liらの「高分子微粒子および調製方法(Polymeric Microbeads and Methods of Preparation)」、米国特許第６，１００，３０６号；Chaoukらの「ポロゲンの使用による多孔性高分子の製造方法(Process for Manufacture of A Porous Polymer by Use of A Porogen)」、米国特許第６，０６０，５３０号；Liらの「高分子微粒子(Polymeric Microbeads)」米国特許第５，８６３，９５７号；Frechet とSvecの「傾斜を有する多孔性高分子材料(Porous Polymeric Material with Gradients)」、米国特許第５，７２８，４５７号；Frechet とSvecの「多孔性材料の細孔サイズの選択的改良(Pore-Size Selective Modification of Porous Materials)」、米国特許第５，６３３，２９０号；Yenらの「イオン交換ポリエチレン膜および方法(Ion Exchange Polyethylene Membrane and Process)」、米国特許第５，５３１，８９９号；Soriaらの「ろ過用膜、ガスもしくは液体の分離、またはパーベーパレーション装置、およびかかる膜の製造方法(Membrane for a Filtration, Gas or Liquid Separation or Pervaporation Apparatus and A Manufacturing Method for Such Membrane)」、米国特許第５，０６６，３９８号；Axisaらの「多孔性エラストマーの製造方法(Method of Fabricating A Porous Elastomer)」、米国特許出願公開第２０１０／００７５０５６号；LiljenstenとPersoonの「生物分解性骨軟骨インプラント(Biodegradable Ostochondreal Implant)」、米国特許出願公開第２００９／０１６４０１４号；Favisらの「多孔性ナノシースネットワーク、ならびにこれを製造および使用する方法(Porous Nanosheath Networks, Method of Making and Uses Thereof)」、米国特許出願公開第２００９／００８７６４１号；Hosoyaらの「多孔性高分子、およびこれを製造する方法(Porous Polymer and Process For Producing the Same)」、米国特許出願公開第２００９／００４５１１９号；Anderssonの「キトサン組成物(Chitosan Compositions)」、米国特許出願公開第２００９／００２２７７０号；Xieの「燃料電池極板用３次元親水性多孔質構造体(Three-Dimensional Hydrophilic Porous Structures for Fuel Cell Plates)」、米国特許出願公開第２００８／０２９２９３９号；RatnerとMarshallの「新規多孔性材料(Novel Porous Materials)」、米国特許出願公開第２００８／００７５７５２号；MaとChenの「マルチサイズの形状を有する多孔性材料(Porous Materials having Multi-Sized Geometries)」、米国特許出願公開第２００７／００３６８４４号；Maの「多孔性材料の逆作製(Reverse Fabrication of Porous Materials)」、米国特許出願公開第２００２／０００５６００号；Liuらの「多孔性材料、製造する方法、および使用(Porous Materials, Methods of Making and Uses)」、代理人事件番号１８６１４  ＰＲＯＶ（ＢＲＥ）；ならびに、Liuらの「多孔性材料、製造する方法、および使用(Porous Materials, Methods of Making and Uses)」代理人事件番号１８７０７  ＰＲＯＶ（ＢＲＥ）に記載され、これらの文献はそれぞれ、その全体が引用により組み込まれる。
【０１１７】
一態様において、生体適合性の移植可能なデバイスは、本明細書に開示するポロゲン組成物を使用する方法によって形成された多孔性材料を含む。
【０１１８】
本明細書は、一部において、本明細書に開示する多孔性材料の層を備える生体適合性の移植可能なデバイスであって、多孔性材料がデバイス表面を被覆する、デバイスを開示する。例えば、図２および図４〜８を参照されたい。本明細書に使用する「移植可能な」という用語は、組織、筋肉、器官または動物体の他の部分に埋め込むことができるか、または付着することができる材料を指す。本明細書に使用する「動物」という用語には、ヒトを含む哺乳動物がすべて含まれる。生体適合性の移植可能なデバイスは、「医療デバイス」、「バイオ医療デバイス」、「移植可能な医療デバイス」、または「移植可能なバイオ医療デバイス」と同義であり、これには、ペースメーカー、硬膜代替物、移植可能な細動除去器、組織エキスパンダー、および傷跡が残るのを低減するかまたは防ぐ、乳房インプラント、筋肉インプラントのような補綴、再建、または審美の目的に使用される、組織インプラントが含まれるが、これらに限定されない。本明細書に開示する多孔性材料に付着することができる生体適合性の移植可能なデバイスの一例は、例えば、Schuesslerの「医療物品用の回転成形装置(Rotational Molding System for Medical Articles)」、米国特許第７，６２８，６０４号；Smithの「乳房固定安定装置および方法(Mastopexy Stabilization Apparatus and Method)」、米国特許第７，０８１，１３５号；Knisleyの「膨張型人工器官(Inflatable Prosthetic Device)」、米国特許第６，９３６，０６８号；Falconの「強化された丸みを有する人工乳房および軟部組織エキスパンダー(Reinforced Radius Mammary Prostheses and Soft Tissue Expanders)」、米国特許第６，６０５，１１６号；Schuesslerの「医療物品のための回転成形(Rotational Molding for Medical Articles)」、米国特許第６，６０２，４５２号；Murphyの「シームレス人工乳房(Seamless Breast Prosthesis)」、米国特許第６，０７４，４２１号；Knowltonの「乳房再建に使用する分節型乳房エキスパンダー(Segmental Breast Expander For Use in Breast Reconstruction)」、米国特許第６，０７１，３０９号；VanBeekの「機械的組織エキスパンダー(Mechanical Tissue Expander)」、米国特許第５，８８２，３５３号；Hunterの「軟部組織インプラントおよび傷跡防止剤(Soft Tissue Implants and Anti-Scarring Agents)」、Schuesslerの「膨張型補綴用のセルフシールシェル(Self-Sealing Shell For Inflatable Prostheses)」、米国特許出願公開第２０１０／００４９３１７号；米国特許出願公開第２００９／０２１４６５２号；Schragaの「検出促進剤を含む医療用インプラント、および内容物の漏出を検出する方法(Medical Implant Containing Detection Enhancing Agent and Method For Detecting Content Leakage)」、米国特許出願公開第２００９／０１５７１８０号；Schuesslerの「全障壁エラストマーゲルを充填した人工乳房(All-Barrier Elastomeric Gel-Filled Breast Prosthesis)」、米国特許出願公開第２００９／００３０５１５号；Connellの「特異的な組織エキスパンダーインプラント(Differential Tissue Expander Implant)」、米国特許出願公開第２００７／０２３３２７３号；Hunterの「医療用インプラントおよび傷跡防止剤(Medical implants and Anti-Scarring Agents)」、米国特許出願公開第２００６／０１４７４９２号；Van Eppsの「個別の固定面を有する軟質充填補綴シェル(Soft Filled Prosthesis Shell with Discrete Fixation Surfaces)」国際公開公報第２０１０／０１９７６１号；Schuesslerの「膨張型補��用のセルフシールシェル(Self Sealing Shell for Inflatable Prosthesis)」、国際公開公報第２０１０／０２２１３０号；ならびに、Yacoubの「補綴インプラントシェル(Prosthesis Implant Shell)」、国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ０９／６１０４５号に記載され、これらの文献はそれぞれ、その全体が引用により本明細書中に組み込まれる。
【０１１９】
本明細書に開示する生体適合性の移植可能なデバイスは、デバイスの通常操作時に動物の軟部組織に移植することができる。かかる移植可能なデバイスは、動物体の軟部組織に完全に移植する（すなわち、すべてのデバイスは、身体内に移植される）か、または、デバイスは、動物体に部分的に移植することができる（すなわち、デバイスの一部のみが、動物体内に移植され、デバイスの残りの部分は、動物体の外部に位置する）。また、本明細書に開示する生体適合性の移植可能なデバイスは、医療デバイスの通常操作時に動物の軟部組織に固定することもできる。かかるデバイスは、動物体の皮膚に一般に固定する。
【０１２０】
本明細書は、一部において、生体適合性の移植可能なデバイスの表面を被覆する多孔性材料を開示する。本明細書に開示する多孔性材料はいずれも、生体適合性の移植可能なデバイスの表面を被覆する多孔性材料として使用することができる。一般に、生体適合性の移植可能なデバイスの表面は、組織成長を促進し、および／または、被膜拘縮もしくは傷跡が生じ得る線維性被膜の形成を低減するか、または防ぐ方法で、動物組織の周囲に暴露させる。
【０１２１】
したがって、実施態様において、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面を被覆する。別の実施態様において、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの表面の一部を被覆する。本実施態様の態様において、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面に被覆する。別の態様において、多孔性材料は、例えば、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面の、約２０％、約３０％、約４０％、約５０％、約６０％、約７０％、約８０％、もしくは約９０％にのみ被覆する。更なる別の態様において、多孔性材料は、例えば、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面の、少なくとも２０％、少なくとも３０％、少なくとも４０％、少なくとも５０％、少なくとも６０％、少なくとも７０％、少なくとも８０％、もしくは少なくとも９０％にのみ被覆する。更なる別の態様において、多孔性材料は、例えば、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面の、最大２０％、最大３０％、最大４０％、最大５０％、最大６０％、最大７０％、最大８０％、もしくは最大９０％にのみ被覆する。更なる態様において、多孔性材料は、例えば、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面の、約２０％〜約１００％、約３０％〜約１００％、約４０％〜約１００％、約５０％〜約１００％、約６０％〜約１００％、約７０％〜約１００％、約８０％〜約１００％、もしくは約９０％〜約１００％にのみ被覆する。
【０１２２】
生体適合性の移植可能なデバイスを被覆する多孔性材料の層は、材料の厚さが、被膜拘縮もしくは傷跡が生じ得る線維性被膜の形成を低減するか、または防ぐのに十分な方法で、エラストマーマトリックスの相互に接続したアレイ内の組織を成長させる条件により、任意の厚さであり得る。
【０１２３】
したがって、実施態様において、生体適合性の移植可能なデバイスを被覆する多孔性材料の層は、被膜拘縮もしくは傷跡が生じ得る線維性被膜の形成を低減するか、または防ぐのに十分な方法で、エラストマーマトリックスの相互に接続したアレイ内の組織を成長させる、厚さである。本実施態様の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスを被覆する多孔性材料の層は、例えば、約１００μｍ、約２００μｍ、約３００μｍ、約４００μｍ、約５００μｍ、約６００μｍ、約７００μｍ、約８００μｍ、約９００μｍ、約１ｍｍ、約２ｍｍ、約３ｍｍ、約４ｍｍ、約５ｍｍ、約６ｍｍ、約７ｍｍ、約８ｍｍ、約９ｍｍ、または約１０ｍｍの厚さを有する。本実施態様の別の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスを被覆する多孔性材料の層は、例えば、少なくとも１００μｍ、少なくとも２００μｍ、少なくとも３００μｍ、少なくとも４００μｍ、少なくとも５００μｍ、少なくとも６００μｍ、少なくとも７００μｍ、少なくとも８００μｍ、少なくとも９００μｍ、少なくとも１ｍｍ、少なくとも２ｍｍ、少なくとも３ｍｍ、少なくとも４ｍｍ、少なくとも５ｍｍ、少なくとも６ｍｍ、少なくとも７ｍｍ、少なくとも８ｍｍ、少なくとも９ｍｍ、または少なくとも１０ｍｍの厚さを有する。本実施態様の更なる別の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスを被覆する多孔性材料の層は、例えば、最大１００μｍ、最大２００μｍ、最大３００μｍ、最大４００μｍ、最大５００μｍ、最大６００μｍ、最大７００μｍ、最大８００μｍ、最大９００μｍ、最大１ｍｍ、最大２ｍｍ、最大３ｍｍ、最大４ｍｍ、最大５ｍｍ、最大６ｍｍ、最大７ｍｍ、最大８ｍｍ、最大９ｍｍ、または最大１０ｍｍの厚さを有する。さらに、本実施態様の別の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスを被覆する多孔性材料の層は、例えば、約１００μｍ〜約５００μｍ、約１００μｍ〜約１ｍｍ、約１００μｍ〜約５ｍｍ、約５００μｍ〜約１ｍｍ、約５００μｍ〜約２ｍｍ、約５００μｍ〜約３ｍｍ、約５００μｍ〜約４ｍｍ、約５００μｍ〜約５ｍｍ、約１ｍｍ〜約２ｍｍ、約１ｍｍ〜約３ｍｍ、約１ｍｍ〜約４ｍｍ、約１ｍｍ〜約５ｍｍ、または約１．５ｍｍ〜約３．５ｍｍの厚さを有する。
【０１２４】
本明細書は、一部において、多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法を開示する。態様において、生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法は、生体適合性の移植可能なデバイスの表面に多孔性材料を付着する工程を含む。別の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法は、ａ）多孔性材料を供するための生体適合性の移植可能なデバイスを調製する工程と、ｂ）調製したデバイスの表面に多孔性材料を付着する工程とを含む。本明細書に開示する多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスに付着する多孔性材料として使用することができる。
【０１２５】
更なる別の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法は、次に示す工程を含む：ａ）エラストマーベースで心棒をコーティングする工程と、ｂ）エラストマーベースを硬化させて、基層を形成する工程と、ｃ）硬化させた基層をエラストマーベースでコーティングする工程と、ｄ）エラストマーベースをポロゲンでコーティングして、エラストマーをコーティングした混合物を形成する工程であって、本明細書に開示するように、ポロゲンが、シェル材料とコア材料とを含む、前記工程と、ｅ）エラストマーをコーティングした混合物を処理して、融解されたポロゲンを含むポロゲン足場を形成し、かつエラストマーベースを硬化させる工程と、ｆ）ポロゲン足場を除去する工程であって、ポロゲン足場の除去によって、相互に接続した細孔のアレイを区画形成する非分解性、生体適合性エラストマーマトリックスを含む多孔性材料が得られる、前記工程。この方法において、工程（ｃ）および（ｄ）は、所望の厚さの材料層が達成されるまで、複数回繰り返すことができる。
【０１２６】
本明細書は、一部において、多孔性材料を供するための生体適合性の移植可能なデバイスの表面を調製する工程を開示する。多孔性材料を供するための生体適合性の移植可能なデバイスの表面を調製する工程は、多孔性材料または生体適合性の移植可能なデバイスの所望の特性を損なわない技術によって、行うことができる。非限定例として、生体適合性の移植可能なデバイスの表面は、接着物質を塗布することによって調製することができる。接着物質の非限定例には、例えば、ＲＴＶシリコーン、ＨＴＶシリコーン等のシリコーン接着剤が含まれる。接着物質は、例えば、キャストコーティング、スプレー塗装、浸漬塗装、カーテン塗装、ナイフ塗布、刷毛塗り、蒸着コーティング等の当業者に公知の方法を使用して、生体適合性の移植可能なデバイス、多孔性材料、またはこれらの両方の表面に塗布される。
【０１２７】
本明細書は、一部において、生体適合性の移植可能なデバイスの表面に多孔性材料を付着する工程を開示する。多孔性材料は、デバイスの全表面、またはデバイスの表面の一部のみに付着することができる。非限定例として、多孔性材料は、デバイスの前面またはデバイスの背面にのみ付着される。生体適合性の移植可能なデバイスの表面への多孔性材料の付着は、多孔性材料または生体適合性の移植可能なデバイスの所望の特性を損なわない技術によって、行うことができる。
【０１２８】
例えば、付着は、例えば、固着、接着、溶融等の当該技術分野で公知の方法を用いて、生体適合性の移植可能なデバイスの表面に、既に形成された多孔性材料を付着することによって生じる場合がある。例えば、シリコーンの分散物は、生体適合性の移植可能なデバイス、多孔性材料シートまたはこれらの両方の表面に接着剤として塗布され、次いで、デバイス表面にしわが存在しないように、接着剤によってデバイス表面に多孔性材料を付着させる方法で、２つの材料が共に配置される。シリコーン接着剤を硬化させ、次いで、余剰の材料を切断し、デバイス周囲に均一な継ぎ目を形成する。この工程によって、本明細書に開示する多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイスが得られる。実施例２および４は、この型の付着の方法を示す。
【０１２９】
または、付着は、例えば、キャストコーティング、スプレー塗装、浸漬塗装、カーテン塗装、ナイフ塗布、刷毛塗り、蒸着コーティング等の当該技術分野で公知の方法を用いて、生体適合性の移植可能なデバイスの表面に多孔性材料を直接形成することによって生じる場合がある。例えば、エラストマーベースを心棒に塗布し、硬化させて、硬化させたエラストマーベースの基層を形成する。次いで、基層を、最初にエラストマーベースでコーティングし、その後、ポロゲンでコーティングして、エラストマーをコーティングしたポロゲン混合物を作製する。その後、この混合物を、本明細書に開示するように、処理して、ポロゲン足場を形成し、エラストマーを硬化させる。次いで、デバイス表面に多孔性材料の層を残して、ポロゲン足場を除去する。多孔性材料層の厚さは、付加的なエラストマーベースおよびポロゲンのコーティングの繰り返しによって増加させることができる。実施例５〜８は、この型の付着の方法を示す。
【０１３０】
付着方法にかかわらず、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面、または生体適合性の移植可能なデバイスの表面の一部のみに塗布することができる。非限定例として、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面にのみ塗布される。
【０１３１】
したがって、実施態様において、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの表面への多孔性材料の接着によって、生体適合性の移植可能なデバイスの表面に付着される。本実施態様の態様において、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの表面への多孔性材料の固着、接着、または溶融によって、生体適合性の移植可能なデバイスの表面に付着される。
【０１３２】
別の実施態様において、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの表面に多孔性材料を形成することによって、生体適合性の移植可能なデバイスの表面に付着される。本実施態様の態様において、多孔性材料は、キャストコーティング、スプレー塗装、浸漬塗装、カーテン塗装、ナイフ塗布、刷毛塗り、蒸着コーティングによって、生体適合性の移植可能なデバイスの表面に付着される。
【０１３３】
本実施態様の別の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスの表面で多孔性材料を形成する工程は、硬化させたエラストマー基層をエラストマーベースでコーティングし、次いで、未硬化のエラストマーベースをポロゲンでコーティングして、エラストマーをコーティングしたポロゲン混合物を形成する工程を含む。本実施態様の別の態様において、硬化させたエラストマー基層をエラストマーベースでコーティングし、次いで、未硬化のエラストマーベースをポロゲンでコーティングして、エラストマーをコーティングしたポロゲン混合物を形成する工程は、例えば、混合物が処理される前に、少なくとも１回、少なくとも２回、少なくとも３回、少なくとも４回、少なくとも５回、少なくとも６回、少なくとも７回、少なくとも８回、少なくとも９回、または少なくとも１０回繰り返すことができる。
【０１３４】
別の実施態様において、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面に塗布される。別の実施態様において、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの表面の一部に塗布される。本実施態様の態様において、多孔性材料は、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面に塗布される。別の態様において、多孔性材料は、例えば、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面の、約２０％、約３０％、約４０％、約５０％、約６０％、約７０％、約８０％、または約９０％にのみ塗布される。更なる別の態様において、多孔性材料は、例えば、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面の、少なくとも２０％、少なくとも３０％、少なくとも４０％、少なくとも５０％、少なくとも６０％、少なくとも７０％、少なくとも８０％、または少なくとも９０％にのみ塗布される。さらに別の態様において、多孔性材料は、例えば、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面の、最大２０％、最大３０％、最大４０％、最大５０％、最大６０％、最大７０％、最大８０％、または最大９０％にのみ塗布される。更なる態様において、多孔性材料は、例えば、生体適合性の移植可能なデバイスの全表面、生体適合性の移植可能なデバイスの前面、または生体適合性の移植可能なデバイスの背面の、約２０％〜約１００％、約３０％〜約１００％、約４０％〜約１００％、約５０％〜約１００％、約６０％〜約１００％、約７０％〜約１００％、約８０％〜約１００％、または約９０％〜約１００％にのみ塗布される。
【０１３５】
生体適合性の移植可能なデバイスに塗布される多孔性材料の層は、材料の厚さが、被膜拘縮もしくは傷跡が生じ得る線維性被膜の形成を低減するか、または防ぐのに十分な方法で、エラストマーマトリックスの相互に接続したアレイ内の組織を成長させる条件により、任意の厚さであり得る。
【０１３６】
したがって、実施態様において、生体適合性の移植可能なデバイスに塗布される多孔性材料の層は、被膜拘縮もしくは傷跡が生じ得る線維性被膜の形成を低減するか、または防ぐのに十分な方法で、エラストマーマトリックスの相互に接続したアレイ内の組織を成長させる、厚さである。本実施態様の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスに塗布される多孔性材料の層は、例えば、約１００μｍ、約２００μｍ、約３００μｍ、約４００μｍ、約５００μｍ、約６００μｍ、約７００μｍ、約８００μｍ、約９００μｍ、約１ｍｍ、約２ｍｍ、約３ｍｍ、約４ｍｍ、約５ｍｍ、約６ｍｍ、約７ｍｍ、約８ｍｍ、約９ｍｍ、または約１０ｍｍの厚さを有する。本実施態様の別の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスに塗布される多孔性材料の層は、例えば、少なくとも１００μｍ、少なくとも２００μｍ、少なくとも３００μｍ、少なくとも４００μｍ、少なくとも５００μｍ、少なくとも６００μｍ、少なくとも７００μｍ、少なくとも８００μｍ、少なくとも９００μｍ、少なくとも１ｍｍ、少なくとも２ｍｍ、少なくとも３ｍｍ、少なくとも４ｍｍ、少なくとも５ｍｍ、少なくとも６ｍｍ、少なくとも７ｍｍ、少なくとも８ｍｍ、少なくとも９ｍｍ、または少なくとも１０ｍｍの厚さを有する。本実施態様の更なる別の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスに塗布される多孔性材料の層は、例えば、最大１００μｍ、最大２００μｍ、最大３００μｍ、最大４００μｍ、最大５００μｍ、最大６００μｍ、最大７００μｍ、最大８００μｍ、最大９００μｍ、最大１ｍｍ、最大２ｍｍ、最大３ｍｍ、最大４ｍｍ、最大５ｍｍ、最大６ｍｍ、最大７ｍｍ、最大８ｍｍ、最大９ｍｍ、または最大１０ｍｍの厚さを有する。さらに、本実施態様の別の態様において、生体適合性の移植可能なデバイスに塗布される多孔性材料の層は、例えば、約１００μｍ〜約５００μｍ、約１００μｍ〜約１ｍｍ、約１００μｍ〜約５ｍｍ、約５００μｍ〜約１ｍｍ、約５００μｍ〜約２ｍｍ、約５００μｍ〜約３ｍｍ、約５００μｍ〜約４ｍｍ、約５００μｍ〜約５ｍｍ、約１ｍｍ〜約２ｍｍ、約１ｍｍ〜約３ｍｍ、約１ｍｍ〜約４ｍｍ、約１ｍｍ〜約５ｍｍ、または約１．５ｍｍ〜約３．５ｍｍの厚さを有する。
【０１３７】
また、本明細書は、本明細書に開示する多孔性材料を被覆した補綴を患者に移植する段階を含む、補綴を移植する方法であって、移植後いつでも、カプセルが形成されている場合、カプセルの厚さは７５μｍ以下であり、カプセルは、補綴表面に類似しない５０％以上の繊維を含む繊維組織崩壊(fiber disorganization)を有し、１００μｍ以上の補綴の生体材料への組織成長を有し、４０％未満のコラーゲン含量であり、少なくとも８Ｎのピーク力で組織に付着し、および／または、２０ｍｍＨｇ／ｍＬ未満の剛性を有する、方法も開示する。
【０１３８】
さらに、本明細書は、本明細書に開示する多孔性材料を被覆した補綴を患者に移植する段階を含む、補綴を移植する方法であって、移植後いつでも、カプセルが形成されている場合、カプセルの厚さは５０μｍ以下であり、カプセルは、補綴表面に類似する６０％以上の繊維を含む繊維組織崩壊を有し、１２５μｍ以上の補綴の生体材料への組織成長を有し、３０％未満のコラーゲン含量であり、少なくとも９Ｎのピーク力で組織に付着し、および／または、１５ｍｍＨｇ／ｍＬ未満の剛性を有する、方法も開示する。
【０１３９】
さらにまた、本明細書は、本明細書に開示する多孔性材料を被覆した補綴を患者に移植する段階を含む、補綴を移植する方法であって、移植後いつでも、カプセルが形成されている場合、カプセルの厚さは２５μｍ以下であり、カプセルは、補綴表面に類似しない７０％以上の繊維を含む繊維組織崩壊を有し、１５０μｍ以上の補綴の生体材料への組織成長を有し、２０％未満のコラーゲン含量であり、少なくとも１０Ｎのピーク力で組織に付着し、および／または、１０ｍｍＨｇ／ｍＬ未満の剛性を有する、方法も開示する。
【０１４０】
そして、本明細書は、本明細書に開示する多孔性材料を被覆した補綴を患者に移植する段階を含む、補綴を移植する方法であって、移植後いつでも、カプセルが形成されている場合、カプセルの厚さは、約５μｍ〜約７５μｍであり、カプセルは、補綴表面に類似しない約５０％〜約９０％の繊維を含む繊維組織崩壊を有し、約１００μｍ〜約３００μｍの補綴の生体材料への組織成長を有し、約５％〜約４０％のコラーゲン含量であり、約８Ｎ〜約１１Ｎのピーク力で組織に付着し、および／または、約５ｍｍＨｇ／ｍＬ〜約２０ｍｍＨｇ／ｍＬの剛性を有する、方法も開示する。
【実施例】
【０１４１】
次の実施例は、今般検討された代表的な実施態様を示すが、開示する多孔性材料、かかる多孔性材料を形成する方法、かかる多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイス、およびかかる生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法を限定するように、解釈されない。
【０１４２】
実施例１
多孔性材料シートを製造する方法
本実施例は、本明細書に開示するポロゲン組成物を使用して、多孔性材料のシートを製造する方法を示す。
【０１４３】
ポロゲンを物質でコーティングするために、約３３５μｍの糖コアと約１５μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲンの適量を、キシレン中約３５％（ｖ／ｖ）のシリコーン（ＰＮ‐３２０６‐１；ヌシルテクノロジー(NuSil Technology)社製、カーピンテリア、カリフォルニア州）の適量と混合した。別の試験で使用するポロゲン組成物は、約３３５μｍの糖コアと約５３μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲンか、約３９０μｍの糖コアと約８３μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンか、または約４６０μｍの糖コアと約１０４μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンであった。この混合物を、４３μｍのふるいによってろ過して、余剰のシリコーンを除去し、非粘着表面でコーティングした約２０ｃｍ×２０ｃｍ平方の金型に注入した。
【０１４４】
物質をコーティングしたポロゲン混合物を処理し、ポロゲンを融解させてポロゲン足場を形成し、かつ物質を安定化させるために、ポロゲン／シリコーン混合物をオーブンに入れ、約７５℃の温度で約６０分間、加熱し、その後、約１２６℃で約７５分間、加熱した。別の試験において、ポロゲン／シリコーン混合物をオーブンに入れて処理し、約１２６℃の温度で約７５分間、加熱するか、約１４５℃の温度で約１５０分間、加熱するか、または約１２６℃の温度で約８５分間、加熱し、その後、約３０℃で約６０分間、加熱した。硬化後、硬化させたエラストマーをコーティングしたポロゲン足場のシートを除去した。
【０１４５】
硬化させた物質からポロゲン足場を除去するために、硬化させたエラストマー／ポロゲン足場を、湯に浸漬した。約３０分後、湯を除去し、得られた３０ｃｍ×３０ｃｍ×１．５ｍｍの多孔性材料のシートを、約１８℃〜約２２℃の周囲温度で風乾させた。本工程によって、本明細書に開示する多孔性材料のシートを得る。
【０１４６】
多孔性材料のシートからの試料を、ｍｉｃｒｏＣＴ分析および／または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって特性評価することができる。
【０１４７】
実施例２
多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法
本実施例は、本明細書に開示するポロゲン組成物を使用して形成された多孔性材料を含む、生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法を示す。
【０１４８】
実施例１に記載するとおりに、細孔の相互に接続したアレイを区画形成するエラストマーマトリックスを含む、多孔性材料のシートを得る。
【０１４９】
多孔性材料を生体適合性の移植可能なデバイスに付着するために、第１の多孔性材料シートをシリコーンの薄層でコーティングし、次いで、接着面を上にして、金型の底部のキャビティに設置する。その後、生体適合性の移植可能なデバイスを、接着剤でコーティングした材料の表面上に設置する。次いで、第２の多孔性材料シートを、シリコーンの薄層でコーティングし、生体適合性の移植可能なデバイスのコーティングしていない表面に適用する。その後、モールドキャビティの上部を、適所に固定して、２つの材料シートを共に押圧し、均一の界面を形成する。被覆されたデバイスをオーブンに入れて、約１２６℃の温度で約７５分間、加熱することによって、シリコーン接着剤を硬化させる。硬化後、余剰の材料を除去して、生体適合性の移植可能なデバイスの周囲に均一の継ぎ目を形成する。本工程によって、本明細書に開示する生体適合性の移植可能なデバイス１０を得る（図２）。図２Ａは、多孔性材料１０を被覆した移植可能なデバイスの上面図である。図２Ｂは、多孔性材料１０を被覆した移植可能なデバイスの側面図であり、移植可能なデバイス１０の底部１２、および移植可能なデバイス１０の上部１４を示す。図２Ｃおよび２Ｄは、多孔性材料１０を被覆した移植可能なデバイスの断面図であり、移植可能なデバイス１６、内面２２と外面２４とを含む多孔性材料層２０であって、内面２２が、移植可能なデバイスの表面１８に付着する、多孔性材料層２０を示す。生体適合性の移植可能なデバイスのデバイス表面における多孔性材料の存在により、被膜拘縮もしくは傷跡が生じ得る線維性被膜の形成を低減するか、または防ぐ。
【０１５０】
または、生体適合性の移植可能なデバイスを心棒に存在させたままで、多孔性材料を生体適合性の移植可能なデバイスに積層することができる。本工程において、第１の多孔性材料シートを、シリコーンの薄層で被覆し、次いで、表面にしわが存在しないように、デバイスを心棒に覆う。シリコーン接着剤を硬化させた後、上述のとおりに、シリコーンの別のコーティングを、生体適合性の移植可能なデバイスの被覆していない表面に塗布し、第２の多孔性材料を伸ばして、デバイスの背部を被覆する。上述のとおりに、シリコーン接着剤を硬化させた後、生体適合性の移植可能なデバイスを心棒から取り除き、余剰の多孔性材料を除去して、デバイスの周囲に均一の継ぎ目を形成する。本工程によって、本明細書に開示する多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイスを得る。例えば、図２を参照されたい。
【０１５１】
実施例３
多孔性材料のシェルを製造する方法
本実施例は、本明細書に開示するポロゲン組成物を使用して、多孔性材料のシェルを製造する方法を示す。
【０１５２】
ポロゲンを物質でコーティングするために、約３３５μｍの糖コアと約５３μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲン組成物の適量を、キシレン中約３５％（ｖ／ｖ）のシリコーン（ＰＮ‐３２０６‐１；ヌシルテクノロジー(NuSil Technology)社製、カーピンテリア、カリフォルニア州）の適量と混合する。別の試験で使用するポロゲン組成物は、約３３５μｍの糖コアと約６５μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲンか、約３２０μｍの糖コアと約３０μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンか、または約３５０μｍの糖コアと約５０μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンである。この混合物を、４３μｍのふるいによってろ過して、余剰のシリコーンを除去する。
【０１５３】
物質をコーティングしたポロゲン混合物を、金型に注入するために、ろ過した、エラストマーをコーティングしたポロゲン混合物を、乳房インプラントシェルの形状の金型に注入し、金型を機械的に撹拌して、混合物をしっかりと充填する。シェルの厚さを、シェル金型のデザインに基づいて制御する。
【０１５４】
物質をコーティングしたポロゲン混合物を処理し、ポロゲンを融解させてポロゲン足場を形成し、かつエラストマーを硬化させるために、ポロゲン／シリコーン混合物をオーブンに入れ、約７５℃の温度で約４５分間、加熱し、その後、約１２６℃で約７５分間、加熱する。別の試験において、ポロゲン／シリコーン混合物をオーブンに入れて処理し、約１２６℃の温度で約７５分間、加熱するか、または約１４５℃の温度で約６０分間、加熱する。処理後、シェル金型を取り外し、硬化させた、エラストマーをコーティングしたポロゲン足場を除去する。
【０１５５】
硬化させた物質からポロゲン足場を除去するために、硬化させたエラストマー／ポロゲン足場を、湯に浸漬する。約３時間後、湯を除去し、得られた多孔性材料のシェルを、約１２６℃で３０分間、オーブンで乾燥させる。本工程によって、本明細書に開示する多孔性材料のシェル１０を得る（図３）。図３Ａは、材料のシェル１０の上面図である。図２Ｂは、材料のシェル１０の側面図であり、材料のシェル１０の底部１２、および材料のシェル１０の上部１４を示す。図３Ｃは、材料のシェル１０の下面図であり、後に、生体適合性の移植可能なデバイスを挿入することができる孔１６を示す。図３Ｄは、材料のシェル１０の断面図を示し、孔１６、材料のシェル１０の内面２０、および材料のシェル１０の外面２２を示す。
【０１５６】
多孔性材料のシートからの試料を、ｍｉｃｒｏＣＴ分析および／または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって特性評価することができる。
【０１５７】
実施例４
多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法
本実施例は、本明細書に開示するポロゲン組成物を使用して形成された多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイスを製造する方法を示す。
【０１５８】
実施例３に記載するとおりに、細孔の相互に接続したアレイを区画形成するマトリックスを含む多孔性材料のシェルを得る。
【０１５９】
生体適合性の移植可能なデバイスに多孔性材料のシェルを付着するために、デバイスの表面をシリコーンの薄層でコーティングする。次いで、材料のシェルを、材料形態においてしわが存在しないように、接着剤をコーティングしたデバイスに載置する。被覆されたデバイスをオーブンに入れて、約１２６℃の温度で約７５分間、加熱することによって、シリコーン接着剤を硬化させる。硬化後、余剰の材料を除去して、生体適合性の移植可能なデバイスの周囲に均一の継ぎ目を形成する。本工程によって、本明細書に開示する生体適合性の移植可能なデバイス１０を得る（図４）。図４Ａは、多孔性材料１０を被覆した移植可能なデバイスの上面図である。図４Ｂは、多孔性材料１０を被覆した移植可能なデバイスの側面図であり、移植可能なデバイス１０の底部１２、および移植可能なデバイス１０の上部１４を示す。図４Ｃは、多孔性材料１０を被覆した移植可能なデバイスの下面図であり、孔１６および移植可能なデバイス１８を示す。図４Ｄは、多孔性材料１０を被覆した移植可能なデバイスの断面図であり、移植可能なデバイス１８、内面２２と外面２４とを含む多孔性材料層２０であって、内面２２が、移植可能なデバイスの表面１９に付着する、多孔性材料層２０を示す。生体適合性の移植可能なデバイスのデバイス表面における多孔性材料の存在により、被膜拘縮もしくは傷跡が生じ得る線維性被膜の形成を低減するか、または防ぐ。
【０１６０】
実施例５
多孔性材料を含むインプラントを製造する方法
本実施例は、約０．５ｍｍ〜約１．５ｍｍの厚さの本明細書に開示する多孔性材料を含むインプラントを製造する方法を示す。
【０１６１】
多孔性材料を供するためのデバイスの表面を調製するために、キシレン中約３５％（ｗ／ｗ）のシリコーン（ＰＮ‐３２０６‐１；ヌシルテクノロジー(NuSil Technology)社製、カーピンテリア、カリフォルニア州）の基層を、心棒（ＬＲ‐１０）にコーティングし、オーブンに入れ、約１２６℃の温度で約７５分間、硬化させた。
【０１６２】
基層を、物質とポロゲンとを含む混合物でコーティングするために、硬化させた基層を、最初に、キシレン中約３５％（ｗ／ｗ）のシリコーン（ＰＮ‐３２０６‐１；ヌシルテクノロジー(NuSil Technology)社製、カーピンテリア、カリフォルニア州）に浸漬し、次いで、約３分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。キシレン蒸発後、未硬化のシリコーンを有する心棒を、最大量のポロゲンが未硬化のシリコーンに吸収されるまで、約３３５μｍの糖コアと約５３μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲン組成物に浸漬した。別の試験で使用するポロゲン組成物は、約３３５μｍの糖コアと約６０μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲンか、約３９０μｍの糖コアと約８３μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンか、または約４６０μｍの糖コアと約１０４μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンであった。未硬化のシリコーン／ポロゲンコーティングを有する心棒を、約６０分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。
【０１６３】
物質をコーティングしたポロゲン混合物を処理し、ポロゲンを融解させてポロゲン足場を形成し、かつ物質を安定化させるために、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物でコーティングした心棒を、オーブンに入れ、約７５℃の温度で３０分間、硬化させ、その後、約１２６℃で７５分間、硬化させた。別の試験において、ポロゲン／シリコーン混合物をオーブンに入れて処理し、約１２６℃の温度で約７５分間、加熱するか、または約１４５℃の温度で約６０分間、加熱した。
【０１６４】
ポロゲン足場を除去するために、硬化させたシリコーン／ポロゲン足場を、湯に浸漬した。約３分後、湯を除去し、得られた約０．５ｍｍ〜約１．５ｍｍの多孔性材料を含むインプラントを、約１２６℃で、３０分間、オーブンで乾燥させた。本工程によって、本明細書に開示する多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイスを得た。例えば、図２および４を参照されたい。
【０１６５】
インプラントからの試料を、ｍｉｃｒｏＣＴ分析によって特性評価した。この分析は、多孔性材料が、約１．４ｍｍ〜約１．６ｍｍの厚さ、約８０％の孔隙率であり、少なくとも８０％含まれる開口した細孔と、最大０．０７％含まれる閉鎖した細孔とを有することを示した。平均支柱厚さは約９０μｍであり、平均細孔サイズは約４００μｍであった。多孔性材料は、約２０ｋＰａの圧縮弾性率、約３５０％の破断点伸び、および約１４μＰａの引張強さを有する。多孔性材料の走査型電子顕微鏡分析を図５に示す。
【０１６６】
基層を被覆する多孔性材料の厚さを増加させるために、複数回の浸漬を行って、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の多層でコーティングした心棒を作製した。所望厚さが達成されるまで、浸漬を繰り返した。下記の実施例４〜６は、この複数回の浸漬法の具体例を説明する。
【０１６７】
実施例６
多孔性材料を含むインプラントを製造する方法
本実施例は、本明細書に開示するポロゲン組成物を使用して形成された、約１ｍｍ〜約２．５ｍｍの厚さの多孔性材料を含むインプラントを製造する方法を示す。
【０１６８】
実施例３に記載するとおりに、エラストマーの基層を備える心棒を調製した。
【０１６９】
基層を、物質とポロゲンとを含む混合物でコーティングするために、硬化させた基層を、最初に、キシレン中約３５％（ｗ／ｗ）のシリコーン（ＰＮ‐３２０６‐１；ヌシルテクノロジー(NuSil Technology)社製、カーピンテリア、カリフォルニア州）に浸漬し、次いで、約３分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。キシレン蒸発後、未硬化のシリコーンを有する心棒を、最大量のポロゲンが未硬化のシリコーンに吸収されるまで、約３３５μｍの糖コアと約５３μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲン組成物に浸漬した。別の試験で使用するポロゲン組成物は、約３３５μｍの糖コアと約６０μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲンか、約３９０μｍの糖コアと約８３μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンか、または約４６０μｍの糖コアと約１０４μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンであった。未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物のコーティングを有する心棒を、約６０分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。キシレン蒸発後、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物でコーティングした心棒を、最初に、キシレン中約３５％（ｗ／ｗ）のシリコーンに浸漬し、風乾させ、キシレンを蒸発させた（約３分間）。次いで、この心棒を、最大量のポロゲンが未硬化のシリコーンに吸収されるまで、ポロゲン組成物に浸漬した。未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の第２のコーティングを有する心棒を、約６０分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。
【０１７０】
実施例３に記載するとおりに、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の２つのコーティングを備える心棒を処理した。
【０１７１】
ポロゲン足場を除去は、実施例５に記載するとおりであり、また、得られた約１ｍｍ〜約２．５ｍｍの多孔性材料を含むインプラントを、約１２６℃で、３０分間、オーブンで乾燥させた。本工程によって、本明細書に開示する多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイスを得た。例えば、図２および４を参照されたい。
【０１７２】
インプラントからの試料を、ｍｉｃｒｏＣＴ分析によって特性評価した。この分析は、多孔性材料が、約１．０ｍｍ〜約３．０ｍｍの厚さ、約８５％の孔隙率であり、少なくとも８０％含まれる開口した細孔と、最大１０％含まれる閉鎖した細孔とを有することを示した。平均支柱厚さは約９０μｍであり、平均細孔サイズは約４００μｍであった。多孔性材料は、約２０ｋＰａの圧縮弾性率、約３００％の破断点伸び、および約１４μＰａの引張強さを有する。多孔性材料の走査型電子顕微鏡分析を図６に示す。
【０１７３】
実施例７
多孔性材料を含むインプラントを製造する方法
本実施例は、本明細書に開示するポロゲン組成物を使用して形成された、約２．５ｍｍ〜約４．５ｍｍの厚さの多孔性材料を含むインプラントを製造する方法を示す。
【０１７４】
実施例３に記載するとおりに、エラストマーの基層を備える心棒を調製した。
【０１７５】
基層を、物質とポロゲンとを含む混合物でコーティングするために、硬化させた基層を、最初に、キシレン中約３５％（ｗ／ｗ）のシリコーン（ＰＮ‐３２０６‐１；ヌシルテクノロジー(NuSil Technology)社製、カーピンテリア、カリフォルニア州）に浸漬し、次いで、約３分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。キシレン蒸発後、未硬化のシリコーンを有する心棒を、最大量のポロゲンが未硬化のシリコーンに吸収されるまで、約３３５μｍの糖コアと約５３μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲン組成物に浸漬した。別の試験で使用するポロゲン組成物は、約３３５μｍの糖コアと約６０μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲンか、約３９０μｍの糖コアと約８３μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンか、または約４６０μｍの糖コアと約１０４μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンであった。未硬化のシリコーン／ＰＧＬＡコーティングを有する心棒を、約６０分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。キシレン蒸発後、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物でコーティングした心棒を、最初に、キシレン中約３５％（ｗ／ｗ）のシリコーンに浸漬し、風乾させ、キシレンを蒸発させた（約３分間）。次いで、この心棒を、最大量のポロゲンが未硬化のシリコーンに吸収されるまで、ポロゲン組成物に浸漬した。未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の第２のコーティングを有する心棒を、約６０分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。キシレン蒸発後、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の２つの層でコーティングした心棒を、最初に、キシレン中約３２％（ｗ／ｗ）のシリコーンに浸漬し、風乾させ、キシレンを蒸発させた（約３分間）。次いで、この心棒を、最大量のポロゲンが未硬化のシリコーンに吸収されるまで、ポロゲン組成物に浸漬した。未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の第３のコーティングを有する心棒を、約６０分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。
【０１７６】
実施例３に記載するとおりに、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の３つのコーティングを備える心棒を処理した。
【０１７７】
ポロゲン足場を除去は、実施例５に記載するとおりであり、また、得られた約２．５ｍｍ〜約４．５ｍｍの多孔性材料を含むインプラントを、約１８℃〜約２２℃の周囲温度で、風燥させた。本工程によって、本明細書に開示する多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイスを得た。例えば、図２および４を参照されたい。
【０１７８】
インプラントからの試料を、ｍｉｃｒｏＣＴ分析によって特性評価した。この分析は、多孔性材料が、約２．０ｍｍ〜約３．０ｍｍの厚さ、約８０％の孔隙率であり、少なくとも７５％含まれる開口した細孔と、最大２５％含まれる閉鎖した細孔とを有することを示した。平均支柱厚さは約１００μｍであり、平均細孔サイズは約９０μｍであった。多孔性材料の走査型電子顕微鏡分析を図７に示す。
【０１７９】
実施例８
多孔性材料を含むインプラントを製造する方法
本実施例は、本明細書に開示するポロゲン組成物を使用して形成された、約３．５ｍｍ〜約５．５ｍｍの厚さの多孔性材料を含むインプラントを製造する方法を示す。
【０１８０】
実施例３に記載するとおりに、エラストマーの基層を備える心棒を調製した。
【０１８１】
基層を、物質とポロゲンとを含む混合物でコーティングするために、硬化させた基層を、最初に、キシレン中約３５％（ｗ／ｗ）のシリコーン（ＰＮ‐３２０６‐１；ヌシルテクノロジー(NuSil Technology)社製、カーピンテリア、カリフォルニア州）に浸漬し、次いで、約３分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。キシレン蒸発後、未硬化のシリコーンを有する心棒を、最大量のポロゲンが未硬化のシリコーンに吸収されるまで、約３３５μｍの糖コアと約５３μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲン組成物に浸漬した。別の試験で使用するポロゲン組成物は、約３３５μｍの糖コアと約６０μｍのポリエチレングリコールシェルとを含むポロゲンか、約３９０μｍの糖コアと約８０μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンか、または約４６０μｍの糖コアと約１０４μｍのポリエチレングリコールシェルを含むポロゲンであった。未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物のコーティングを有する心棒を、約６０分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。キシレン蒸発後、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物でコーティングした心棒を、最初に、キシレン中約３５％（ｗ／ｗ）のシリコーンに浸漬し、風乾させ、キシレンを蒸発させた（約３分間）。次いで、この心棒を、最大量のポロゲンが未硬化のシリコーンに吸収されるまで、ポロゲン組成物に浸漬した。未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の第２のコーティングを有する心棒を、約６０分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。キシレン蒸発後、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の２つの層でコーティングした心棒を、最初に、キシレン中約３２％（ｗ／ｗ）のシリコーンに浸漬し、風乾させ、キシレンを蒸発させた（約３分間）。次いで、この心棒を、最大量のポロゲンが未硬化のシリコーンに吸収されるまで、ポロゲン組成物に浸漬した。未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の第３のコーティングを有する心棒を、約６０分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。キシレン蒸発後、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の３つの層でコーティングした心棒を、最初に、キシレン中約２８％（ｗ／ｗ）のシリコーンに浸漬し、風乾させ、キシレンを蒸発させた（約３分間）。次いで、この心棒を、最大量のポロゲンが未硬化のシリコーンに吸収されるまで、ポロゲン組成物に浸漬した。未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の第４のコーティングを有する心棒を、約６０分間、風乾させ、キシレンを蒸発させた。
【０１８２】
実施例３に記載するとおりに、未硬化のシリコーン／ポロゲン混合物の４つのコーティングを備える心棒を処理した。
【０１８３】
ポロゲン足場を除去は、実施例５に記載するとおりであり、また、得られた約３．５ｍｍ〜約５．５ｍｍの多孔性材料を含むインプラントを、約１２６℃で３０分間、オーブンで乾燥させた。本工程によって、本明細書に開示する多孔性材料を含む生体適合性の移植可能なデバイスを得た。例えば、図２および４を参照されたい。
【０１８４】
インプラントからの試料を、ｍｉｃｒｏＣＴ分析によって特性評価する。多孔性材料の走査型電子顕微鏡分析を図８に示す。
【０１８５】
実施例９
ポロゲン組成物を製造する方法
本実施例は、本明細書に開示するポロゲン組成物を製造する方法を示す。
【０１８６】
糖コア材料と高分子シェル材料とを含むポロゲン組成物を製造するために、コア材料に適切な糖粒子をポーラー(Paular)社（クランバリー、ニュージャージー州）から購入した。これらの糖粒子を、約４０メッシュ〜約６０メッシュのふるいにかけて、約２５０μｍ〜約４５０μｍのサイズの粒子に分離した。高分子で糖コア粒子をコーティングするために、ポリ（エチレングリコール）を、流動層乾燥機を使用して、流動化によって、約５３μｍの厚さで、糖コア材料にコーティングした。得られたポロゲン組成物から、約３３５μｍの径の糖コア材料と、約５３μｍの厚さのポリ（エチレングリコール）シェル材料とを含むポロゲンを生成した。
【０１８７】
高分子コア材料とワックスシェル材料とを含むポロゲン組成物を製造するために、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）コア材料を、溶媒蒸発法を用いて製造する。簡潔には、ジクロロメタン中３０％（ｗ／ｖ）ＰＣＬの溶液（約５００ｍＬ）を、常時撹拌しながら、ポリ（ビニルアルコール）（分子量２３０００）の６％（ｗ／ｖ）の溶液（３Ｌ）に注入する。この混合物を、塩化メチレンを蒸発させるのに十分な時間、連続的に撹拌する。得られたＰＣＬ粒子のコア材料をろ過して、砕片を除去し、次いで、脱イオン水で洗浄して、ポリ（ビニルアルコール）を除去する。本工程によって、約４００μｍ〜約５００μｍの平均径を有する約１００ｇのＰＣＬ粒子のコア材料を得る。ワックスで高分子コア粒子をコーティングするために、パラフィンを、流動層乾燥機を使用して、流動化によって、約５０μｍの厚さで、ＰＣＬコア材料にコーティングする。得られたポロゲン組成物から、約４５０μｍの径の高分子コア材料と、約５０μｍの厚さのパラフィンシェル材料とを含むポロゲンを生成する。
【０１８８】
塩コア材料と界面活性剤シェル材料とを含むポロゲン組成物を製造するために、コア材料に適切な塩化ナトリウム粒子を市販業者から購入する。これらの塩粒子を、約４０メッシュ〜約６０メッシュのふるいにかけて、約２５０μｍ〜約４５０μｍのサイズの粒子に分離する。界面活性剤で塩コア粒子をコーティングするために、ポリソルベート２０を、流動層乾燥機を使用して、流動化によって、約１５μｍの厚さで、塩コア材料にコーティングする。得られたポロゲン組成物から、約３５０μｍの径の塩コア材料と、約１５μｍの厚さのポリソルベート２０シェル材料とを含むポロゲンを生成する。
【０１８９】
ＰＧＬＡ（５０：５０）コアとＰＣＬシェル材料とを含むポロゲン組成物を製造するために、ＰＧＬＡ（５０：５０）およびポリカプロラクトン（ＰＣＬ）を、塩化メチレン中に共溶解し、少なくとも２部のＰＧＬＡ（５０：５０）および最大１部のＰＣＬを、塩化メチレン中に溶解した。溶媒蒸発を利用して、微粒子を形成した。ＰＣＬシェルとＰＧＬＡ（５０：５０）コアを、６０℃で微粒子をアニール化することによって形成して、ＰＧＬＡとＰＣＬ間で相分離させた。ジクロロメタン中ＰＧＬＡ（５０：５０）およびＰＣＬの３０％（ｗ／ｖ）溶液（約５００ｍＬ）を、常時撹拌しながら、塩化メチレンが蒸発するまで、ポリ（ビニルアルコール）（分子量２３０００）の６％（ｗ／ｖ）の溶液（３Ｌ）に注入した。得られたポリビニルアルコール分散物中の粒子を、６０℃で加熱して、ＰＧＬＡ（５０：５０）とＰＣＬ間で相分離させた。冷却後、微粒子をろ過して、砕片を除去し、次いで、脱イオン水で洗浄して、ポリ（ビニルアルコール）を除去した。本工程によって、約４００μｍ〜約５００μｍの平均径を有する約１００ｇのＰＧＬＡ（５０：５０）コアおよびＰＣＬシェル組成物を得た。
【０１９０】
実施例１０
カプセルの厚さおよび崩壊
形成されたカプセルの厚さおよび崩壊を測定するために、種々の多孔性生体材料のディスク（径１ｃｍ）を、標準手順を用いて、スプレーグ・ドーリー・ラットの皮下に移植した。試験する生体材料を、次に示すように、市販のインプラントから入手するか、または試験的に作製した：スムース１、滑らかな表面を有する生体材料（ナトレール(NATRELLE)（登録商標）、アラーガン(Allergan)社製、アーヴィン、カリフォルニア州）；スムース２、滑らかな表面を有する生体材料（メモリーゲル(MEMORYGEL)（登録商標）、メンター(Mentor)社製、サンタバーバラ、カリフォルニア州）；テクスチャード１、塩消失法で作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（バイオセル(BIOCELL)（登録商標）、アラーガン社製、アーヴィン、カリフォルニア州）；テクスチャード２、インプリンティング法で作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（シルテックス(SILTEX)（登録商標）、メンター(Mentor)社製、サンタバーバラ、カリフォルニア州）；テクスチャード３、インプリンティング法またはガス形成法のいずれかで作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（シリメド(SILIMED)（登録商標）、シェントラ(Sientra)社製、サンタバーバラ、カリフォルニア州）；テクスチャード４、インプリンティング法で作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（ペロウスプラスチエ(Perouse Plastie)、メンター(Mentor)社製、サンタバーバラ、カリフォルニア州）；テクスチャード５、開口したセルのポリウレタン表面を有する生体材料；テクスチャード６、本明細書に開示する方法によって作製した開口したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料。試料を６週で採取し、ホルマリンで固定し、加工してパラフィンブロックを作製した。パラフィンブロックを、２μｍ厚さのミクロトームを使用して、切断し、ヘマトキシロンおよびエオシン（Ｈ＆Ｅ）で染色した。
【０１９１】
カプセルを、多孔性生体材料に形成されたカプセルの厚さおよび崩壊の測定によって、特性評価した。カプセル厚さは、Ｈ＆Ｅ染色した生体材料の２つの代表的な２０倍の像を得ること、および像の３点においてカプセルの厚さを測定することによって、測定した。カプセルの崩壊を、Ｈ＆Ｅ染色した生体材料の３つの代表的な２０倍の像を得ること、次いで、インプラント表面に対して参照ベクトル接線を引くこと、ならびに、カプセル内のコラーゲン線維に沿ってベクトルを引くことによって、評価した。その後、参照ベクトルに対する各ベクトルの角度を測定し、角度の標準偏差を算出した（高い標準偏差は、高度の崩壊を表す）。画像解析の計算を、すべてニコン・エレメンツ・アドバンスト・ソフトウェア(Nikon Elements Advanced Research software)上で行った。
【０１９２】
厚さおよび崩壊の測定をすべて盲検化して得、各測定を、テクスチャード１の生体材料から得たデータに標準化した。収集した厚さデータについて、１元配置ＡＮＯＶＡを行って、有意な効果（ｐ＜０．０５）を判断した。ＡＮＯＶＡ分析から統計的に有意な効果がある場合、Tukeyの事後試験を、α＝０．０５で多重比較について行った。収集した崩壊データについて、Leveneの等分散の試験を用いて、試験群間の崩壊に、統計的に有意な差異（p＜０．０５）があるか否か判断した。個々のグループ間における非有意性の基準は、群数を調整した信頼区間の重複（９５％）であった。
【０１９３】
それぞれの試験内のテクスチャー１の生体材料に標準化された、カプセルの厚さおよび崩壊を図９に示す。スムーステクスチャー１および２の生体材料、ならびにテクスチャー１〜４の生体材料（閉鎖したセルのテクスチャーを有する）は、明らかなカプセルの形成を示し、また、形成されたカプセルは、約１００μｍ〜約１４０μｍの同等の厚さであった（図９Ａ）。テクスチャー５〜６の生体材料は、最小のカプセル形成を示し、１０μｍ未満の厚さで形成されたカプセルであった（図９Ａ）。カプセル組織に関して、テクスチャー１の生体材料によって、スムース１および２ならびにテクスチャー２〜４の生体材料よりも崩壊したカプセルが得られることが分かった（図９Ｂ）。テクスチャー５および６の生体材料は、広範囲な内部成長（約２００μｍ）を示し、これは、相互に接続し、スムース１および２ならびにテクスチャー１〜４の生体材料よりも崩壊した（繊維の５０％以上がインプラント表面に類似しなかった）（図９Ｂ）。これらの知見は、スムース１および２の生体材料（滑らかな表面）、ならびにテクスチャー１〜４の生体材料（閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面）によって、主に組織されたコラーゲンを有するカプセルが得られたことを示す。対照的に、テクスチャー５〜６の生体材料（開口したセルのテクスチャー加工した表面）は、有意な内部成長を誘導し、これは、カプセルを排除することができ、材料組織界面で組織を崩壊させることができる。
【０１９４】
実施例１１
カプセルコラーゲン
形成されたカプセルのコラーゲン含量を測定するために、種々の多孔性生体材料のディスク（径１ｃｍ）を、標準手順を用いて、スプレーグ・ドーリー・ラットの皮下に移植した。試験する生体材料を、次に示すように、市販のインプラントから入手するか、または試験的に作製した：スムース１、滑らかな表面を有する生体材料（ナトレール(NATRELLE)（登録商標）、アラーガン(Allergan)社製、アーヴィン、カリフォルニア州）；スムース２、滑らかな表面を有する生体材料（メモリーゲル(MEMORYGEL)（登録商標）、メンター(Mentor)社製、サンタバーバラ、カリフォルニア州）；テクスチャード１、塩消失法で作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（バイオセル(BIOCELL)（登録商標）、アラーガン社製、アーヴィン、カリフォルニア州）；テクスチャード２、インプリンティング法で作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（シルテックス(SILTEX)（登録商標）、メンター(Mentor)社製、サンタバーバラ、カリフォルニア州）；テクスチャード３、インプリンティング法で作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（ペロウスプラスチエ(Perouse Plastie)、メンター(Mentor)社製、サンタバーバラ、カリフォルニア州）；テクスチャード４、インプリンティング法またはガス形成法のいずれかで作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（シリメド(SILIMED)（登録商標）、シェントラ(Sientra)社製、サンタバーバラ、カリフォルニア州）；テクスチャード５、インバースフォーム(inverse foam)ポリウレタン‐ポリエチレングリコール表面を有する生体材料；
テクスチャード６、インバースフォームポリウレタン‐ポリエチレングリコール表面を有する生体材料；テクスチャード７、開口したセルのポリウレタン表面を有する生体材料；テクスチャード８、不織フェルト表面を有する生体材料。試料を６週で採取し、ホルマリンで固定し、加工してパラフィンブロックを作製した。パラフィンブロックを、２μｍ厚さのミクロトームを使用して、切断し、アニリンブルーで染色した。
【０１９５】
カプセルを、移植した多孔性生体材料に形成されたカプセルの染色暗さを測定することによって、特性評価した。カプセルの暗さを、５つの代表的な２０倍の像から測定し、染色の深さを表すために、カプセルの全体的な強度を平均した。断面の厚さおよび正確な染色回数等のパラメーターの変化の原因を説明するために、全測定を、同じ断面の真皮内で測定した強度に標準化し、これを、この領域でみられた共通の染色により、基準として利用した。１元配置ＡＮＯＶＡを行って、有意な効果（ｐ＜０．０５）を判断した。ＡＮＯＶＡ分析から統計的に有意な効果がある場合、Tukeyの事後試験を、α＝０．０５で多重比較について行った。
【０１９６】
図１０は、スムースおよびテクスチャードの生体材料に形成されたカプセルと内部成長の平均コラーゲン密度を示す。スムース１および２の生体材料、ならびにテクスチャード１〜４の生体材料（閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面）に形成されたカプセルが、テクスチャー５および６の生体材料（インバースフォームのテクスチャー加工した表面）、テクスチャード７の生体材料（開口したセルのテクスチャー加工した表面）、ならびにテクスチャード８の生体材料（不織フェルトのテクスチャー加工した表面）において、コラーゲン密度の統計的に有意な増加を示すことが分かった。このため、カプセル形成の防止は、開口し、相互に接続したテクスチャーへの有意な内部成長（低いコラーゲン密度を有する）に関係することを示した。
【０１９７】
実施例１２
組織付着
多孔性生体材料への組織付着に対するテクスチャーの効果を評価するために、種々の生体材料のストリップを、標準手順を用いて、スプレーグ・ドーリー・ラットの皮下に移植した。試験する生体材料を、次に示すように、市販のインプラントから入手するか、または試験的に作製した：スムース１、ｎ＝３８、滑らかな表面を有する生体材料（ナトレール(NATRELLE)（登録商標）、アラーガン(Allergan)社製、アーヴィン、カリフォルニア州）；テクスチャード１、ｎ＝６４、塩消失法で作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（バイオセル(BIOCELL)（登録商標）、アラーガン社製、アーヴィン、カリフォルニア州）；テクスチャード２、ｎ＝６、インプリンティング法で作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（シルテックス(SILTEX)（登録商標）、メンター(Mentor)社製、サンタバーバラ、カリフォルニア州）；テクスチャード３、ｎ＝６、インバースフォームポリウレタン‐ポリエチレングリコール表面を有する生体材料；テクスチャード４、ｎ＝４５、インバースフォームポリウレタン‐ポリエチレングリコール表面を有する生体材料；テクスチャード５、ｎ＝４５、開口したセルのポリウレタン表面を有する生体材料；テクスチャード６、ｎ＝６、開口したセルのポリウレタン表面を有する生体材料；テクスチャード７、ｎ＝６、本明細書に開示する方法によって作製した０．８ｍｍの開口したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料；テクスチャード８、ｎ＝６、本明細書に開示する方法によって作製した１．５ｍｍの開口したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料。試料を４週で採取し、組織を、２ｍｍ／秒の引抜き速度で、機械的試験装置上の試験ストリップから引き抜いた。付着強度を、周囲組織からインプラントを分離するのに必要なピーク力として測定した。１元配置ＡＮＯＶＡを行って、有意な効果（ｐ＜０．０５）を判断した。ＡＮＯＶＡ分析から統計的に有意な効果がある場合、Tukeyの事後試験を、α＝０．０５で多重比較について行った。
【０１９８】
スムース１の生体材料は、付着をほとんど示さず、マイクロ規模を超える有意な突出はなく、周囲組織に最小の障害物を有していた（図１１）。テクスチャード１および２の生体材料（閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面）は、有限の組織相互作用を示し、スムース１よりも多い付着を示した（図１１）。テクスチャード３および４の生体材料（インバースファームのテクスチャー加工した表面）、およびテクスチャー５〜８の生体材料（開口セルのテクスチャー加工した表面）は、最も高い程度の組織付着を示した（図１１）。このため、テクスチャード５〜８の生体材料は、非常に多孔性で相互に接続したテクスチャーにより、有意に組織浸透／内部成長を促進した。
【０１９９】
実施例１３
カプセルの剛性
多孔性生体材料に形成されたカプセル／内部成長の剛性を評価するために、種々のテクスチャーのシリコーン生体材料を含む７ｍＬの小型エキスパンダーを、標準手順を用いて、スプレーグ・ドーリー・ラットの皮下に移植した。試験する生体材料を、次に示すように、市販のインプラントから入手するか、または試験的に作製した：スムース１、滑らかな表面を有する生体材料（ナトレール(NATRELLE)（登録商標）、アラーガン(Allergan)社製、アーヴィン、カリフォルニア州）；テクスチャード１、塩消失法で作製した閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料（バイオセル(BIOCELL)（登録商標）、アラーガン社製、アーヴィン、カリフォルニア州）；テクスチャード２、本明細書に開示する方法によって作製した０．８ｍｍの開口したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料；テクスチャード３、本明細書に開示する方法によって作製した１．５ｍｍの開口したセルのテクスチャー加工した表面を有する生体材料。０（移植直後）、および６週で、食塩水を、各エキスパンダーに漸増的に加え、また、各段階でエキスパンダーにかけた圧力、およびエキスパンダーによってかけた圧力を、ディジタル水銀圧力計で測定した。剛性を、圧容量曲線の線形領域に趨勢線を適合させること、および線の傾斜を測定することによって算出した。カプセル／内部成長の剛性の増加を、傾斜の増加によって表した。エキスパンダー対エキスパンダーの不安定性の原因を説明するために、各剛性測定を、エキスパンダー自体の剛性に標準化した。１元配置ＡＮＯＶＡを行って、有意な効果（ｐ＜０．０５）を判断した。ＡＮＯＶＡ分析から統計的に有意な効果がある場合、Tukeyの事後試験を、α＝０．０５で多重比較について行った。
【０２００】
スムース１の生体材料のエキスパンダーに形成されたカプセルは、６週後に最も大きな剛性を示した（図１２）。テクスチャード１の生体材料のエキスパンダー（閉鎖したセルのテクスチャー加工した表面）は、スムース１の生体材料のエキスパンダーよりも低い剛性であるが、テクスチャード２および３の生体材料のエキスパンダー（開口したセルのテクスチャー加工した表面）よりも大きな剛性を示した（図１２）。このデータは、閉鎖したセルの生体材料によって、内部成長を支援し、カプセル形成を防ぐ、開口したセルの生体材料によって得られるものよりも硬い、カプセルが得られることを示す。
【０２０１】
実施例１４
ブリージングおよびカプセル反応
本明細書に開示する多孔性生体材料の臨界形態特性および物理特性を確認するために、種々の生体材料のディスク（径１ｃｍ）を、標準手順を用いて、スプレーグ・ドーリー・ラットの皮下に移植し、カプセル形成によって、かかる移植に対する反応およびブリージングを判断した。各生体材料について試験する形態特性および物理特性を、表１および２に示す。
【０２０２】
【表１】
0005852640.tif 000002
【０２０３】
【表２】
0005852640.tif 000003
【０２０４】
移植した多孔性生体材料を採取し、ホルマリンで固定し、加工してパラフィンブロックを作製した。パラフィンブロックを、２μｍ厚さのミクロトームを使用して、切断し、ヘマトキシロンおよびエオシン（Ｈ＆Ｅ）で染色した。評価される形態特性によって、カプセル反応を、切断した生体材料の少なくとも３つの代表的な１倍、４倍、２０倍または５０倍の像を得ること、ディジタルで像を捕らえること、およびそれぞれの捕らえた像の３点以上において特性を測定することによって、測定した。画像解析の計算を、すべてニコン・エレメンツ・アドバンスト・ソフトウェア(Nikon Elements Advanced Research software)上で行った。ブリージング反応および物理特性を、ルーチン法を用いて測定した。例えば、Winnieの文献：Softness Measurements for Open-Cell Foam Materials and Human Soft Tissue, Measurement Science and Technology (2006)を参照されたい。
【０２０５】
この分析から得た結果の概要を表３に示す。結果は、試験した一部の生体材料において、非常に狭い範囲の孔隙率（７４〜８６％）でしかブリージングがみられなかった点で、広範囲の孔隙率を有する多孔性生体材料が、十分に許容されることを示す。カプセル形成の点では、孔隙率の増加によって、カプセル形成が減少した。また、細孔間の相互接続径は、径の増加によって、ブリージング反応が減少するという点で、ブリージング反応に影響を及ぼした（表３）。より顕著には、細孔当たりの相互接続数の増加によって、移植した多孔性生体材料に応じて、動物で調査したブリージング反応およびカプセル形成が共に減少した（表３）。結局、圧縮力によって測定した、多孔性生体材料の剛性の微妙なバランスは、最適なインビボ反応を提供するのに必要であった。これは、生体材料の剛性の増加によって、ブリージングが減少したが、剛性の減少は、カプセル形成の減少のために必要であったからである（表３）。
【０２０６】
【表３】
0005852640.tif 000004
【０２０７】
これらの試験から得た全データの分析によって示した、本明細書に開示するポロゲン方法から製造された多孔性材料の最適形態特性および物理特性は、次のとおりであった：約８０％〜約８８％の孔隙率を有すること、約１１０μｍ〜約１４０μｍの相互接続サイズを有すること、細孔当たり約７〜約１１の相互接続を有すること、５％の歪みにおいて約０．５０ｋＰａ〜約０．７０ｋＰａの圧縮力を有すること、１０％の歪みにおいて約１．０ｋＰａ〜約２．０ｋＰａの圧縮力を有すること、および、２０％の歪みにおいて約３．５ｋＰａ〜約５．５ｋＰａの圧縮力を有すること。本実施態様の態様において、本明細書に開示するポロゲン方法から製造された多孔性材料の最適形態特性および物理特性は、次のとおりであった：約８３％〜約８５％の孔隙率を有すること、約１２０μｍ〜約１３０μｍの相互接続サイズを有すること、細孔当たり約８〜約１０の相互接続を有すること、５％の歪みにおいて約０．５５ｋＰａ〜約０．６５ｋＰａの圧縮力を有すること、１０％の歪みにおいて約１．３ｋＰａ〜約１．７ｋＰａの圧縮力を有すること、および、２０％の歪みにおいて約４．０ｋＰａ〜約５．０ｋＰａの圧縮力を有すること。
【０２０８】
最後に、本明細書の態様は、特定の実施態様への言及によって強調されるが、当業者は、これらの開示された実施態様が、単に、本明細書に開示する主題の原理の例示にすぎないことを認識するものと理解される。したがって、開示する主題が、本明細書に記載する、特定の方法、プロトコール、および／または試薬等に全く限定されないものと理解される。このため、開示する主題の種々の改良もしくは変更、または代替的形態は、本明細書の趣旨から逸脱することなしに、本明細書の教示に従って、行うことができる。結局のところ、本明細書に使用する用語は、特定の実施態様のみを説明するためにあるにすぎず、本発明の範囲を限定することを意図せず、専ら特許請求の範囲によって定義される。したがって、本発明は、本明細書に示し、かつ記載するように、はっきりと限定されない。
【０２０９】
本発明の特定の実施態様は、本発明を実施するための、本発明者らに知られている最良の形態を含めて、本明細書に説明される。当然、これらの記載する実施態様における変更は、前述の説明を読むことによって、当業者に明らかとなる。本発明者らは、当業者がかかる変更を適切に利用することを期待する。また、本発明者らは、本明細書に具体的に記載する以外のものを、本発明として実施する予定である。したがって、本発明には、準拠法によって可能になるように、本明細書に添付した特許請求の範囲で詳述する、主題の変形例および等価物がすべて含まれる。さらに、特に、本明細書中に指示がないか、または、その他に、文脈で明確に否定されない限り、あらゆる変更における上述する実施態様の組合せが、本発明に包含される。
【０２１０】
本発明の別の実施形態、構成要素、または手段のグループ分けは、限定されるものと解釈されない。グループのメンバーはそれぞれ、別々に、または本明細書に開示する他のグループメンバーと組合せて、引用され、主張してもよい。グループの１以上のメンバーが、便宜上、および／または特許性の理由によるグループに含まれるか、またはこれから削除されてもよいことが予想される。かかる包含物または削除が生じる場合、本明細書は、添付する特許請求の範囲で使用する、すべてのマーカッシュグループの記載された説明を改良、実行するグループを含むと考えられる。
【０２１１】
特に指示がない限り、本明細書および特許請求の範囲に使用する、特徴、品目、量、パラメーター、特性、用語等を表現するすべての数は、「約」という用語によって、すべての事例で修飾されるものと理解される。本明細書に使用する「約」という用語は、このように修飾された特徴、品目、量、パラメーター、特性、または用語が、示された特徴、品目、量、パラメーター、特性、または用語の、プラスまたはマイナス１０パーセント上および下の値の範囲を包含することを意味する。したがって、これと反対である指示がない限り、本明細書および添付する特許請求の範囲に示す数的パラメーターは、変化させてもよい近似値である。少なくとも、特許請求の範囲の均等論の適用を制限しようとせずに、数的表示はそれぞれ、少なくとも報告された有効数字の数に照らして、および通常の四捨五入法の適用によって、解釈される。それにもかかわらず、本発明の広い範囲を示す数的範囲および数値は、可能な限り正確に報告した具体例に示す、近似値、数的範囲および数値である。しかしながら、数的範囲または数値は、それぞれの試験測定でみられた標準偏差から常に生ずる一定の誤差を本質的に含む。本明細書の値の数的範囲の詳説は、範囲内にあるそれぞれの個別の数値について、別々に言及する速記法として有用であることを単に意図するにすぎない。本明細書中に特に指示がない限り、別々に本明細書に詳述するかの如く、数的範囲の個別の値はそれぞれ、本明細書に組み込まれる。
【０２１２】
「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」という用語、ならびに本発明に記載する文脈（特に、次に示す特許請求の範囲の文脈）で使用する同様の指示語は、本明細書中に指示がないか、または、その他に、文脈で明確に否定されない限り、単数と複数の両方を網羅するように、解釈される。本明細書中に指示がないか、または、その他に、文脈で明確に否定されない限り、本明細書に記載する方法はすべて、任意の適切な順序で行うことができる。本明細書に提供されるすべての実施例、または例示的な用語（例えば、「ｓｕｃｈ  ａｓ」）の使用は、単に、本発明をうまく説明することを意図するにすぎず、これ以外の特許請求の範囲に記載する発明の範囲において限定をもたらさない。本明細書中の用語は、本発明の実施にとって不可欠な特許請求の範囲に記載されていない構成要素を示すものと解釈されない。
【０２１３】
本明細書に開示する具体的な実施態様は、〜からなる、または〜から実質的になるという語を使用して、特許請求の範囲でさらに限定してもよい。特許請求の範囲に使用する場合、出願時の、または補正によって追加した、「〜からなる」という移行語(transition term)は、特許請求の範囲で規定されない、構成要素、手段、または含有物を排除する。「〜から実質的になる」という移行語は、規定する材料または手段、ならびに基本的特徴および新しい特徴に対し物質的に影響を与えないものに、特許請求の範囲を限定する。このように、特許請求の範囲に記載する、本発明の実施態様は、本明細書に本質的にまたは明らかに記載され、利用可能である。
【０２１４】
特許、特許公報、および本明細書に引用し、公表する他の出版物はすべて、例えば、本発明に関して使用され得る刊行物に記載する組成物および方法を説明し、開示する目的で、その全体が引用により本明細書中に組み込まれる。これらの刊行物は、本出願の出願日前におけるこれらの開示のために、専ら提供される。この点に関して、先行発明によって、または他の理由で、かかる開示に先行して、本発明者らに権利が与えられないという承認として解釈されない。日付に関する表明、またはこれらの文書の内容に関する表示はすべて、本出願人に利用可能な情報に基づくものであり、これらの文書の日付または内容の妥当性に関して承認を構成しない。
【図１】
0005852640.tif 000005
【図２Ａ】
0005852640.tif 000006
【図２Ｂ】
0005852640.tif 000007
【図２Ｃ】
0005852640.tif 000008
【図２Ｄ】
0005852640.tif 000009
【図３Ａ】
0005852640.tif 000010
【図３Ｂ】
0005852640.tif 000011
【図３Ｃ】
0005852640.tif 000012
【図３Ｄ】
0005852640.tif 000013
【図４Ａ】
0005852640.tif 000014
【図４Ｂ】
0005852640.tif 000015
【図４Ｃ】
0005852640.tif 000016
【図４Ｄ】
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【図５Ａ】
0005852640.tif 000018
【図５Ｂ】
0005852640.tif 000019
【図６Ａ】
0005852640.tif 000020
【図６Ｂ】
0005852640.tif 000021
【図７Ａ】
0005852640.tif 000022
【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
0005852640.tif 000024
【図８Ｂ】
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【図９Ａ】
0005852640.tif 000026
【図９Ｂ】
0005852640.tif 000027
【図１０】
0005852640.tif 000028
【図１１】
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【図１２】
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