(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光基板に描画する回路パターンが輪郭線によって表された輪郭データであって、前記輪郭線の少なくとも曲線部分が階数、複数の制御点座標値、ウェイト及びノットベクトルを要素として含むＮＵＲＢＳ曲線によって表された輪郭線を示す輪郭データを取得する取得手段と、
前記被露光基板位置と描画パターン位置との位置補正量を検出する検出手段と、
前記ＮＵＲＢＳ曲線の複数の制御点座標値を前記位置補正量に基づいて補正する補正手段と、
前記補正手段によって制御点座標値が変更されたＮＵＲＢＳ曲線によって少なくとも曲線部分が表された輪郭線を示す輪郭データに基づいて、前記被露光基板の露光領域を導出する導出手段と、
前記導出手段によって導出された露光領域を露光して回路パターンを描画する露光手段と、
を備え、
前記導出手段は、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、前記ＮＵＲＢＳ曲線の対象ノット領域における媒介変数ｔの最小値ｔ０と最大値ｔ１のポイントの傾きを算出し、その傾きの差が規定値以上の場合にはｔ０１＝（ｔ０＋ｔ１）／２となるポイントの傾きを算出し、ｔ０、ｔ１、ｔ０１の傾きの差が規定値以下となるまで再帰的に補間点を導出する露光描画装置。
【請求項２】
前記導出手段は、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、相互に隣接する補間点間の距離が一定間隔となるように補間点間の座標を導出する
請求項１記載の露光描画装置。
【請求項３】
前記ウェイトが正の値のみで構成される
請求項１記載の露光描画装置。
【請求項４】
前記検出手段は、前記被露光基板の歪み、前記被露光基板の伸縮倍率、前記被露光基板の角度ずれ、及び前記被露光基板の位置ずれの少なくとも１つを前記位置補正量として検出する
請求項１乃至３の何れか１項記載の露光描画装置。
【請求項５】
前記導出手段は、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、媒介変数ｔの変化量Δｔを、補間ピッチ距離ΔＬ、ＮＵＲＢＳ曲線ｘ（ｔ）、ｙ（ｔ）の微分ｘ’（ｔ）、ｙ’（ｔ）を用いて下記の式により導出し、導出されたΔｔずつ変化させながら前記補間点の座標値を導出する
【数１】
0005967946.tif 000012
請求項１乃至４の何れか１項記載の露光描画装置。
【請求項６】
前記被露光基板には位置決めのための複数のマークが形成されており、
前記検出手段は、前記複数のマークの位置を検出することにより、前記被露光基板の歪み、伸縮倍率、角度ずれ及び位置ずれの少なくとも１つを検出する
請求項１乃至５の何れか１項記載の露光描画装置。
【請求項７】
前記補正手段は、前記被露光基板の歪みを補正する場合、前記制御点が、予め定められた四角形状の領域の一方の対辺のｉ：１−ｉの内分点を相互に結んだ線上で、かつ他方の対辺のｊ：１−ｊの内分点を相互に結んだ線上にある場合、当該制御点を、前記検出手段により検出された前記予め定められた領域の前記一方の対辺に対応する対辺のｉ：１−ｉの内分点を相互に結んだ線上で、かつ前記他方の対辺に対応する対辺のｊ：１−ｊの内分点を相互に結んだ線上にある点に置き換える
請求項１乃至６の何れか１項記載の露光描画装置。
【請求項８】
請求項１記載の露光描画装置と、
前記被露光基板に描画する回路パターンを示すベクトルデータを前記輪郭データに変換して前記露光描画装置の前記取得手段で取得できるように送信する送信手段と、
を有する露光描画システム。
【請求項９】
コンピュータを、
被露光基板に描画する回路パターンが輪郭線によって表された輪郭データであって、前記輪郭線の少なくとも曲線部分が階数、複数の制御点座標値、ウェイト及びノットベクトルを要素として含むＮＵＲＢＳ曲線によって表された輪郭線を示す輪郭データを取得する取得手段と、
前記被露光基板位置と描画パターン位置との位置補正量を検出する検出手段と、
前記ＮＵＲＢＳ曲線の複数の制御点座標値を前記位置補正量に基づいて補正する補正手段と、
前記補正手段によって制御点座標値が変更されたＮＵＲＢＳ曲線によって少なくとも曲線部分が表された輪郭線を示す輪郭データに基づいて、前記被露光基板の露光領域を導出する導出手段と、
として機能させるためのプログラムであって、
前記導出手段は、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、前記ＮＵＲＢＳ曲線の対象ノット領域における媒介変数ｔの最小値ｔ０と最大値ｔ１のポイントの傾きを算出し、その傾きの差が規定値以上の場合にはｔ０１＝（ｔ０＋ｔ１）／２となるポイントの傾きを算出し、ｔ０、ｔ１、ｔ０１の傾きの差が規定値以下となるまで再帰的に補間点を導出するプログラム。
【請求項１０】
被露光基板に描画する回路パターンが輪郭線によって表された輪郭データであって、前記輪郭線の少なくとも曲線部分が階数、複数の制御点座標値、ウェイト及びノットベクトルを要素として含むＮＵＲＢＳ曲線によって表された輪郭線を示す輪郭データを取得する取得ステップと、
前記被露光基板位置と描画パターン位置との位置補正量を検出する検出ステップと、
前記ＮＵＲＢＳ曲線の複数の制御点座標値を前記位置補正量に基づいて補正する補正ステップと、
前記補正ステップにて制御点座標値が変更されたＮＵＲＢＳ曲線によって少なくとも曲線部分が表された輪郭線を示す輪郭データに基づいて、前記被露光基板の露光領域を導出する導出ステップと、
前記導出ステップにて導出された露光領域を露光して回路パターンを描画する露光ステップと、
を備え、
前記導出ステップでは、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、前記ＮＵＲＢＳ曲線の対象ノット領域における媒介変数ｔの最小値ｔ０と最大値ｔ１のポイントの傾きを算出し、その傾きの差が規定値以上の場合にはｔ０１＝（ｔ０＋ｔ１）／２となるポイントの傾きを算出し、ｔ０、ｔ１、ｔ０１の傾きの差が規定値以下となるまで再帰的に補間点を導出する露光描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法に係り、特に、基板に対して画像を描画する露光描画装置及び露光描画システム、当該露光描画装置により実行されるプログラム、及び、基板に対して画像を描画する露光描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光描画装置では、ＣＡＤ等の上位ＣＰＵから送信されるベクトルデータ（回路データ）を受信してラスタデータを作成し、このラスタデータにより被描画体の露光を行うのが一般的である。例えば、特許文献１に記載されている露光描画装置は、描画パターンを示すＣＡＤデータを読み込んで、ＣＡＤデータから輪郭線を示すベクトルデータを作成し、作成した輪郭線を示すベクトルデータに基づいて光ビームのオン／オフを制御するためのドットデータを生成して露光を行う露光描画装置である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平３−９７３６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１に記載されている技術では、ベクトルデータを受信してそのベクトルデータからラスタデータを作成するため、送受信するデータのデータ量が多くなり、データ変換および転送に負担がかかってしまう、という問題があった。
【０００５】
また、特に、ベクトルデータが示す画像における輪郭線が複雑な曲線であった場合には、ベクトルデータのデータ量そのものが大きい上に演算負荷も大きくなってしまう。そのため、露光描画装置においてはメモリ等に制限があることを考えると、演算に使用するデータ点数を増やすことができないため、複雑な曲線を精度よく表現することが難しくなってしまう、という問題もあった。
【０００６】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、露光される回路パターンの輪郭線が複雑な曲線である場合であっても当該回路パターンの輪郭線を精度よく描画することができる露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、請求項１記載の露光描画装置は、被露光基板に描画する回路パターンが輪郭線によって表された輪郭データであって、前記輪郭線の少なくとも曲線部分が階数、複数の制御点座標値、ウェイト及びノットベクトルを要素として含むＮＵＲＢＳ曲線によって表された輪郭線を示す輪郭データを取得する取得手段と、前記被露光基板位置と描画パターン位置との位置補正量を検出する検出手段と、前記ＮＵＲＢＳ曲線の複数の制御点座標値を前記位置補正量に基づいて補正する補正手段と、前記補正手段によって制御点座標値が変更されたＮＵＲＢＳ曲線によって少なくとも曲線部分が表された輪郭線を示す輪郭データに基づいて、前記被露光基板の露光領域を導出する導出手段と、前記導出手段によって導出された露光領域を露光して回路パターンを描画する露光手段と、を備え、前記導出手段は、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、前記ＮＵＲＢＳ曲線の対象ノット領域における媒介変数ｔの最小値ｔ０と最大値ｔ１のポイントの傾きを算出し、その傾きの差が規定値以上の場合にはｔ０１＝（ｔ０＋ｔ１）／２となるポイントの傾きを算出し、ｔ０、ｔ１、ｔ０１の傾きの差が規定値以下となるまで再帰的に補間点を導出する。
【０００８】
請求項１に記載の露光描画装置によれば、取得手段により、被露光基板に描画する回路パターンが輪郭線によって表された輪郭データであって、前記輪郭線の少なくとも曲線部分が階数、複数の制御点座標値、ウェイト及びノットベクトルを要素として含むＮＵＲＢＳ曲線によって表された輪郭線を示す輪郭データが取得され、検出手段により、前記被露光基板位置と描画パターン位置との位置補正量が検出される。
【０００９】
ここで、本発明では、補正手段により、前記検出手段で検出された位置補正量が、前記ＮＵＲＢＳ曲線の複数の制御点の前記位置補正量の補正に寄与する座標値を変更することにより補正され、導出手段により、前記補正手段によって制御点座標値が変更されたＮＵＲＢＳ曲線によって少なくとも曲線部分が表された輪郭線を示す輪郭データに基づいて、前記被露光基板の露光領域が導出され、露光手段により、前記導出手段によって導出された露光領域が露光されて回路パターンが描画される。また、導出手段により、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、前記ＮＵＲＢＳ曲線の対象ノット領域における媒介変数ｔの最小値ｔ０と最大値ｔ１のポイントの傾きが算出され、その傾きの差が規定値以上の場合にはｔ０１＝（ｔ０＋ｔ１）／２となるポイントの傾きが算出され、ｔ０、ｔ１、ｔ０１の傾きの差が規定値以下となるまで再帰的に補間点が導出される。
【００１０】
すなわち、ＮＵＲＢＳ曲線によって表された輪郭線を示す輪郭データが取得され、被露光基板の位置補正量が当該ＮＵＲＢＳ曲線の複数の制御点の位置補正量の補正に寄与する座標値を変更することにより補正されることで、輪郭データにおいて、補正の演算に使用されるデータのデータ量や補正の演算負荷を少なく抑えつつ被露光基板の位置補正量を補正することができる。
【００１１】
このように、請求項１記載の露光描画装置によれば、輪郭データにおいて、補正の演算に使用されるデータのデータ量や補正の演算負荷を少なく抑えつつ被露光基板の位置補正量を補正できる結果、露光される回路パターンの輪郭線が複雑な曲線である場合であっても当該回路パターンの輪郭線を精度よく描画することができる。また、滑らかな輪郭線を描画することができる。
【００１２】
なお、本発明は、請求項２に記載の発明のように、前記導出手段は、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、相互に隣接する補間点間の距離が一定間隔となるように補間点間の座標を導出するようにしても良い。これにより、滑らかな輪郭線を描画することができる。
【００１３】
また、本発明は、請求項３に記載の発明のように、前記ウェイトが正の値のみで構成されるようにしても良い。これにより、被露光基板の歪みの影響を反映させることができる。
【００１４】
また、本発明は、請求項４に記載の発明のように、前記検出手段は、前記被露光基板の歪み、前記被露光基板の伸縮倍率、前記被露光基板の角度ずれ、及び前記被露光基板の位置ずれの少なくとも１つを前記位置補正量として検出するようにしても良い。これにより、被露光基板の状態に応じて回路パターンの輪郭線を調整することができる。
【００１５】
また、本発明は、請求項５に記載の発明のように、前記導出手段は、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、媒介変数ｔの変化量Δｔを、補間ピッチ距離ΔＬ、ＮＵＲＢＳ曲線ｘ（ｔ）、ｙ（ｔ）の微分ｘ’（ｔ）、ｙ’（ｔ）を用いて下記の式により導出し、導出されたΔｔずつ変化させながら前記補間点の座標値を導出するようにしても良い。これにより、滑らかな輪郭線を描画することができる。
【００１６】
【数１】
0005967946.tif 000002
【００１８】
また、本発明は、請求項６に記載の発明のように、前記被露光基板には位置決めのための複数のマークが形成されており、前記検出手段は、前記複数のマークの位置を検出することにより、前記被露光基板の歪み、伸縮倍率、角度ずれ及び位置ずれの少なくとも１つを検出するようにしても良い。これにより、被露光基板の位置補正量を簡易に検出することができる。
【００１９】
また、本発明は、請求項７に記載の発明のように、前記補正手段は、前記被露光基板の歪みを補正する場合、前記制御点が、予め定められた四角形状の領域の一方の対辺のｉ：１−ｉの内分点を相互に結んだ線上で、かつ他方の対辺のｊ：１−ｊの内分点を相互に結んだ線上にある場合、当該制御点を、前記検出手段により検出された前記予め定められた領域の前記一方の対辺に対応する対辺のｉ：１−ｉの内分点を相互に結んだ線上で、かつ前記他方の対辺に対応する対辺のｊ：１−ｊの内分点を相互に結んだ線上にある点に置き換えるようにしても良い。これにより、被露光基板と描画パターンの位置を精度よく合わせることができる。
【００２０】
一方、上記目的を達成するために、請求項８に記載の描画露光システムは、請求項１記載の露光描画装置と、前記被露光基板に描画する回路パターンを示すベクトルデータを前記輪郭データに変換して前記露光描画装置の前記取得手段で取得できるように送信する送信手段と、を有している。
【００２１】
従って、請求項８に記載の露光描画システムによれば、請求項１に記載の発明と同様に作用することができるので、請求項１に記載の発明と同様に、露光される回路パターンの輪郭線が複雑な曲線である場合であっても当該回路パターンの輪郭線を精度よく描画することができる。また、滑らかな輪郭線を描画することができる。
【００２２】
一方、上記目的を達成するために、請求項９に記載のプログラムは、コンピュータを、被露光基板に描画する回路パターンが輪郭線によって表された輪郭データであって、前記輪郭線の少なくとも曲線部分が階数、複数の制御点座標値、ウェイト及びノットベクトルを要素として含むＮＵＲＢＳ曲線によって表された輪郭線を示す輪郭データを取得する取得手段と、前記被露光基板位置と描画パターン位置との位置補正量を検出する検出手段と、前記ＮＵＲＢＳ曲線の複数の制御点座標値を前記位置補正量に基づいて補正する補正手段と、前記補正手段によって制御点座標値が変更されたＮＵＲＢＳ曲線によって少なくとも曲線部分が表された輪郭線を示す輪郭データに基づいて、前記被露光基板の露光領域を導出する導出手段と、として機能させるプログラムであって、前記導出手段は、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、前記ＮＵＲＢＳ曲線の対象ノット領域における媒介変数ｔの最小値ｔ０と最大値ｔ１のポイントの傾きを算出し、その傾きの差が規定値以上の場合にはｔ０１＝（ｔ０＋ｔ１）／２となるポイントの傾きを算出し、ｔ０、ｔ１、ｔ０１の傾きの差が規定値以下となるまで再帰的に補間点を導出するプログラムである。
【００２３】
従って、請求項９に記載のプログラムによれば、コンピュータを請求項１に記載の発明と同様に作用させることができるので、請求項１に記載の発明と同様に、露光される回路パターンの輪郭線が複雑な曲線である場合であっても当該回路パターンの輪郭線を精度よく描画することができる。
【００２４】
一方、上記目的を達成するために、請求項１０に記載の露光描画方法は、被露光基板に描画する回路パターンが輪郭線によって表された輪郭データであって、前記輪郭線の少なくとも曲線部分が階数、複数の制御点座標値、ウェイト及びノットベクトルを要素として含むＮＵＲＢＳ曲線によって表された輪郭線を示す輪郭データを取得する取得ステップと、前記被露光基板位置と描画パターン位置との位置補正量を検出する検出ステップと、前記ＮＵＲＢＳ曲線の複数の制御点座標値を前記位置補正量に基づいて補正する補正ステップと、前記補正ステップにて制御点座標値が変更されたＮＵＲＢＳ曲線によって少なくとも曲線部分が表された輪郭線を示す輪郭データに基づいて、前記被露光基板の露光領域を導出する導出ステップと、前記導出ステップにて導出された露光領域を露光して回路パターンを描画する露光ステップと、を備え、前記導出ステップでは、輪郭線を表すために前記ＮＵＲＢＳ曲線の補間を行う際、前記ＮＵＲＢＳ曲線の対象ノット領域における媒介変数ｔの最小値ｔ０と最大値ｔ１のポイントの傾きを算出し、その傾きの差が規定値以上の場合にはｔ０１＝（ｔ０＋ｔ１）／２となるポイントの傾きを算出し、ｔ０、ｔ１、ｔ０１の傾きの差が規定値以下となるまで再帰的に補間点を導出する。
【００２５】
従って、請求項１０に記載の露光描画方法によれば、請求項１に記載の発明と同様に作用するので、請求項１に記載の発明と同様に、露光される回路パターンの輪郭線が複雑な曲線である場合であっても当該回路パターンの輪郭線を精度よく描画することができる。また、滑らかな輪郭線を描画することができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、露光される回路パターンの輪郭線が複雑な曲線である場合であっても当該回路パターンの輪郭線を精度よく描画することができる、という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】実施形態に係る露光描画システムの全体の構成を示す構成図である。
【図２】実施形態に係る露光描画装置の構成を示す斜視図である。
【図３】実施形態に係る露光描画装置の露光ヘッドの構成を示す斜視図である。
【図４】（Ａ）は、本実施形態に係る露光描画装置においてＰＷＢに形成される露光済み領域を示す平面図であり、（Ｂ）は、実施形態に係る露光描画装置における各露光ヘッドにより露光エリアの配列を示す図である。
【図５】実施形態に係る露光描画装置の露光素子ユニットのドット配列を示す平面図である。
【図６】実施形態に係る露光描画システムにおけるＰＷＢに対する露光制御を行うための機能ブロック図である。
【図７】実施形態に係る露光描画処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。
【図８】実施形態に係る露光描画システムにおいて作成されたＮＵＲＢＳデータの一例を示す図である。
【図９】実施形態に係る露光描画システムにおいてＮＵＲＢＳデータによって示される輪郭データの一例を示す図である。
【図１０】実施形態に係る露光描画システムにおいてＮＵＲＢＳ表現におけるウェイトについて説明するための図である。
【図１１】（Ａ）は、実施形態に係る露光描画システムにおけるマーク及びレイアウト情報を含んだ回路パターンの一例を示す図であり、（Ｂ）は、（Ａ）示す各々の回路パターンにおけるマーク計測結果の一例を示す図である。
【図１２】（Ａ）は、図１１に示すレイアウト情報を含んだ回路パターンが記述された情報を示す図であり、（Ｂ）は、（Ａ）に示す回路パターンにおけるマーク計測結果情報の一例を示す図である。
【図１３】（Ａ）は、実施形態に係る露光描画システムにおける制御点の理論上の位置決め穴の位置を示す図であり、（Ｂ）は、実施形態に係る露光描画システムにおける制御点の計測された位置決め穴の位置を示す図である。
【図１４】（Ａ）は、従来の手法でＮＵＲＢＳ補間された輪郭線の一例を示す図であり、（Ｂ）は、実施形態に係る露光描画システムの手法でＮＵＲＢＳ補間された輪郭線の一例を示す図である。
【図１５】実施形態に係る露光描画システムにおけるスキャンラインにより回路パターンの輪郭線内を塗りつぶした状態を示す図である。
【図１６】実施形態に係る露光描画システムにおけるＮＵＲＢＳ表現におけるウェイトを説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本実施形態に係る露光描画システム１について添付図面を用いて詳細に説明する。本実施形態では、露光描画システム１として、プリント配線基板やプリント基板及びフラットパネルディスプレイ用ガラス基板等の平板基板を被露光基板として、被露光基板に対して露光描画を行うシステムを例として説明する。
【００２９】
図１は、本実施形態に係る露光描画システム１の全体の構成を示す構成図である。図１に示すように、露光描画システム１は、被露光基板に対して露光される画像データを作成する制御装置２、制御装置２で作成された画像データが示す画像を被露光基板に対して露光する露光描画装置３を備えている。
【００３０】
図２は、本実施形態に係る露光描画装置３の構成を示す斜視図である。図２に示すように、露光描画装置３は、複数（例えば４本）の脚部１５４に支持された厚い板状の設置台１５６を備えている。また、設置台１５６の上面には、ステージ移動方向に沿って平行に延びた２本のガイド１５８が設けられているとともに、平板状のステージ１５２がガイド１５８に案内されて往復移動（走査）可能に支持されている。ステージ１５２の上面には、被露光基板（以下、ＰＷＢ（プリント配線基板）ともいう。）１５０を吸着して保持する機能が備えられている。
【００３１】
なお、この露光描画装置３には、ステージ１５２をガイド１５８に沿って駆動する駆動装置（図示省略）が設けられており、走査方向での所望の倍率に対応した移動速度（走査速度）となるように、後述するステージ制御部１１２（図６も参照）によって駆動制御される。
【００３２】
設置台１５６の中央部には、ステージ１５２の移動経路を跨ぐようにゲート１６０が設けられている。ゲート１６０の脚部の各々は、設置台１５６の両側面に固定されている。このゲート１６０を挟んで一方の側には露光ヘッド１６２が設けられ、他方の側にはＰＷＢ１５０の先端及び後端と、ＰＷＢ１５０に予め設けられている平面視円形状の複数（本実施の形態では、１２個）の位置決め穴（以下、「マーク」ともいう。）１５０Ａの位置とを検知するための複数（本実施の形態では、３台）のカメラ１６４が設けられている。
【００３３】
図３は、本実施形態に係る露光描画装置３の露光ヘッド１６２の構成を示す斜視図である。また、図４（Ａ）は、本実施形態に係る露光描画装置３においてＰＷＢ１５０に形成される露光済み領域を示す平面図であり、図４（Ｂ）は、本実施形態に係る露光描画装置３における各露光ヘッドにより露光エリアの配列を示す図である。
【００３４】
露光ヘッド１６２は、図３及び図４に示すように、ｍ行ｎ列（例えば、２行５列）の略マトリックス状に配列された複数の露光素子ユニット１６６を備えている。
【００３５】
露光素子ユニット１６６で露光される領域である画像領域Ｐは、図３に示すように、矩形状であり、短辺が走査方向に対し所定の傾斜角θで傾斜している。そして、ステージ１５２の移動に伴い、ＰＷＢ１５０には露光素子ユニット１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。なお、図３に示すように、走査方向とステージ移動方向とは、相互に向きが反対である。
【００３６】
また、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域１７０それぞれが、隣接する露光済み領域１７０と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光素子ユニットの各々は、配列方向に所定間隔（画像領域の長辺の自然数倍、本実施の形態では１倍）ずらして配置されている。このため、例えば、１行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ａと、画像領域１６８Ａの右隣に位置する画像領域１６８Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ｂにより露光される。同様に、画像領域１６８Ｂと、画像領域１６８Ｂの右隣に位置する画像領域１６８Ｄとの間の露光できない部分は、画像領域１６８Ｃにより露光される。
【００３７】
露光素子ユニット１６６の各々は、入射された光ビームを空間光変調素子である図示しないデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）によって、ドット単位でオン／オフ制御され、ＰＷＢ１５０には、二値化されたドットパターン（黒／白）が露光され、この複数のドットパターンによって１画素の濃度を表現するようになっている。
【００３８】
図５は、本実施形態に係る露光描画装置３の露光素子ユニット１６６のドット配列を示す平面図である。図５に示すように、前述した帯状の露光済み領域１７０（１つの露光素子ユニット１６６）は、二次元配列（例えば、４行５列に配列）された２０個のドットによって形成される。
【００３９】
二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶ各ドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。
【００４０】
なお、傾斜角度の調整のばらつきによって、利用しないドットが存在する場合もある。例えば、図５では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤは、常にオフ状態とする。
【００４１】
ところで、本実施の形態に係る露光描画装置３は、多層プリント配線板として構成されるＰＷＢ１５０の各層の回路パターンを露光対象とした装置である。以下、露光描画装置３を用いた当該ＰＷＢ１５０の全体的な製造工程を簡単に説明する。
【００４２】
まず、ＰＷＢ１５０の表面に感光剤を塗布し、当該ＰＷＢ１５０を露光描画装置３におけるステージ１５２上の所定位置（本実施の形態では、図２に示すようにステージ１５２の略中央の位置）に載置する。これによって当該ＰＷＢ１５０は、ステージ１５２の表面に吸着されて保持される。
【００４３】
次に、露光描画装置３により、ＰＷＢ１５０の上面に対して回路パターンを示す画像データに基づく走査露光を行うことによって当該ＰＷＢ１５０の上面に回路パターンの画像（潜像）を形成する。
【００４４】
そして、当該ＰＷＢ１５０に対し、図示しない現像装置によって現像（露光描画装置３による未露光部分の除去）及びエッチングを行う。これにより、多層プリント配線板における１層分が作成できる。
【００４５】
次に、作成した１層分のＰＷＢ１５０の回路パターン形成面に対して、２層目を構成する基板をプレス熱板によりプレスするプレス工程によって積層させる。
【００４６】
その後、以上の工程（感光剤の塗布、露光描画装置３による回路パターンの走査露光、現像、エッチング、基板の積層）を必要な層数分だけ繰り返し、最終層（表層）のエッチングが終了した後に所定の仕上げ工程を経て最終的なＰＷＢ１５０が完成する。
【００４７】
ここで、前述したように、ＰＷＢ１５０の所定位置には複数（本実施の形態では１２個）の位置決め穴１５０Ａが設けられているが、これらの位置において、上記プレス工程において生じるＰＷＢ１５０の伸縮により、上記所定位置から任意方向にずれが生じる可能性がある。そこで、本実施形態に係る露光描画装置３では、位置決め穴５０Ａの位置を測定してその測定位置に基づいてずれ量を導出して、導出したずれ量に基づいて描画用の画像データの補正を行う。
【００４８】
次に、露光描画装置３の走査露光時の作用を詳細に説明する。
【００４９】
図６は、本実施形態に係る露光描画システム１におけるＰＷＢ１５０に対する露光制御を行うための機能ブロック図である。図６に示すように、制御装置２は、データ作成部２００、及びデータ変換部１０４を備えている。また、露光描画装置３は、コントローラ１０２、ステージ１１２、ステージ制御部１１２、カメラ１６４、露光位置情報画像処理部１１０、補正画像処理部１０６、画像露光制御部１０８、及び露光ヘッド１６２を備えている。
【００５０】
制御装置２のデータ作成部２００は、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを含んで構成されている。データ作成部２００は、ＰＷＢ１５０に露光する回路パターンを示す描画用の画像データ（ベクトルデータ）を生成して、データ変換部１０４に対して出力する。
【００５１】
データ変換部１０４には、データ作成部２００からＰＷＢ１５０に露光描画すべき回路パターンを示すベクトルデータを入力すると、入力したベクトルデータを、回路パターンを示すＮＵＲＢＳ（Non−Uniform Rational B−Spline；非一様有理化Ｂスプライン）表現に変換することによりＮＵＲＢＳデータを作成する。
【００５２】
ここで、ＮＵＲＢＳ曲線について説明する。複雑な形状を表現するための自由曲線を滑らかにつなげて表現する手法として、曲線を比較的単純なセグメントと呼ばれる区間に分けて表現する手法がある。このような曲線を定義する関数の１つに基底スプライン（Base Spline)があり、一般的にＢスプラインと呼ばれている。Ｂスプラインは、複数の制御ベクトルで定義することができる。また、Ｂスプライン曲線のセグメントのつなぎ目に対応するパラメータをノットと呼び、曲線全体の始点から終点に向かってノットの値は増えていく。そして、ノットの増加量が不均一なＢスプライン曲線を有理化したものをＮＵＲＢＳ曲線という。
【００５３】
ＮＵＲＢＳ曲線はｔを媒介変数とする関数であり下記の（２）式及び（３）式に示すようなＣ（ｔ）で表現される。
【数２】
0005967946.tif 000003
【数３】
0005967946.tif 000004
【００５４】
なお、ｐは階数（次数ｐ−１）、ｎは制御点数、Ｐiは制御点座標値、Ｗiは各制御点のウェイト、ｕiはノット（ｕi≦ｕi ＋１）である。また、[ｕ１，ｕ２， ｕ３，…ｍ， ｕｍ]はノットベクトルであり、ノット数（ｍ）＝制御点数（ｎ）＋階数（ｐ）の関係が成り立つ。また、階数は次数で表現しても良い。
【００５５】
工業製品のデザイン等を行うＣＡＤシステムにおいては、曲線や曲面の形状をＮＵＲＢＳで表現することが一般的である。ＮＵＲＢＳは、自由曲線の表現形式として、ＣＡＤデータ交換の標準規格ＩＧＥＳ（Initial Graphics DataExchange Specification）で採用されている。
【００５６】
データ変換部１０４では、ベクトルデータで表された回路パターンの輪郭線を複数領域に分割して、分割した領域に含まれる曲線について、階数、各々の制御点の座標値、例えばＸ座標値とＹ座標値、各々の制御点におけるウェイト、及びノットベクトルを要素とするＮＵＲＢＳ表現で記述することでＮＵＲＢＳ曲線を示すＮＵＲＢＳデータを作成する。
【００５７】
そして、データ変換部１０４は、作成したＮＵＲＢＳデータを露光描画装置３の補正画像処理部１０６に出力する。また、データ変換部１０４は、変換して得られたＮＵＲＢＳデータを、露光描画装置３全体の動作を司るコントローラ１０２に対しても出力する。
【００５８】
このように、本実施形態に係る露光描画システム１では、制御装置２においてベクトルデータをデータ量が少ないＮＵＲＢＳデータに変換したうえで露光描画装置３に出力することで、制御装置２から露光描画装置３に送信するデータのデータ容量を小さくすることができる。
【００５９】
露光描画装置３がＮＵＲＢＳデータを受信すると、コントローラ１０２では、受信したＮＵＲＢＳデータに基づき、ステージ１５２をガイド１５８に沿って移動させるための図示しない駆動装置により、走査方向に対する所望の倍率に対応した移動速度（走査速度）で移動させるための制御をステージ制御部１１２に対して実行させる。これにより、ステージ１５２に載置された回路パターン露光前のＰＷＢ１５０は、最下流の位置（図１に示される位置）からステージ移動方向への移動が開始される。
【００６０】
一方、露光位置情報画像処理部１１０は、複数（本実施の形態では、３台）のカメラ１６４により撮影されたＰＷＢ１５０の撮影画像を示す画像データを順次入力している。また、露光位置情報画像処理部１１０は、画像データを入力する毎に、入力した画像データに基づき、ステージ１５２上に載置されたＰＷＢ１５０の位置決め穴１５０Ａの位置を検出する。さらに、露光位置情報画像処理部１１０は、検出された位置決め穴１５０Ａの位置を示す位置情報を補正画像処理部１０６に対して出力する。
【００６１】
なお、ＰＷＢ１５０の位置決め穴１５０Ａの検出は、カメラ１６４から入力された画像データによって示される画像と、上記プレス工程を経ていない標準的なＰＷＢ１５０に対するカメラ１６４による撮影によって得られ、かつ露光位置情報画像処理部１１０に備えられた不図示のメモリに登録しておいた画像データにより示される画像（基準画像）とのパターン・マッチングにより得ることができる。また、上記不図示のメモリに標準的なＰＷＢ１５０における位置決め穴１５０Ａの位置を示す情報を予め記憶しておき、カメラ１６４から入力された画像データにおける、当該位置決め穴１５０Ａの位置を示す情報により示される位置を含む所定範囲内の領域に対応する画像データから、位置決め穴１５０Ａの形状である円形の画像を抽出することにより検出する方法等を適用することもできる。
【００６２】
このようにして得られた位置決め穴１５０Ａの位置は、プレス工程によるＰＷＢ１５０の任意方向の歪みに起因して、歪みが生じていない場合の位置から任意方向にずれている場合が多い。
【００６３】
ＰＷＢ１５０に対して露光を行う際に、ＰＷＢ１５０において任意方向の歪みが生じていることも考えられ、この場合には、データ変換部１０４により得られたＮＵＲＢＳデータをそのまま用いて各層の回路パターンを形成した場合、結果的に得られるＰＷＢ１５０には、各層毎の回路パターンの相対位置に位置ずれが生じる可能性がある。
【００６４】
そこで、補正画像処理部１０６では、露光位置情報画像処理部１１０から入力された位置決め穴１５０Ａの実際の位置を示す位置情報に基づき、オフセットのずれ量、伸縮倍率によるずれ量、回転によるずれ量及び歪みによるずれ量を含むずれ量を導出して、導出したずれ量に基づいてＮＵＲＢＳデータを補正する。
【００６５】
図７は、本実施形態に係る露光描画処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートであり、当該プログラムは露光描画装置３に備えられた記録媒体であるＲＯＭの所定領域に予め記憶されている。露光描画装置３は、予め定められたタイミング（本実施形態では、実行する旨の指示入力が行なわれたタイミング）で、当該露光描画処理プログラムを実行する。
【００６６】
ステップＳ１０１において、データ作成部２００は、回路パターンを示すＣＡＤデータ等のベクトルデータを作成する。また、ステップＳ１０３において、データ作成部１０４は、作成された回路パターンを示すベクトルデータを、回路パターンの輪郭線をＮＵＲＢＳ曲線で表現したＮＵＲＢＳデータに変換する。
【００６７】
図８は、本実施形態に係る露光描画システム１において作成されたＮＵＲＢＳデータの一例を示す図である。図８に示すように、ＮＵＲＢＳデータにおいて、階数ａ、制御点のＸ座標値ｂ、制御点のＹ座標値ｃ、ウェイトｄ、及びノットベクトルｅの組が、制御点毎に配列されることによりＮＵＲＢＳ曲線が記述される。本実施形態では、このＮＵＲＢＳデータにより、分割された各々の領域において描画される輪郭線が記述される。
【００６８】
なお、図８に示す例では、回路パターン情報及びマーク計測結果情報がテキストで記述されているが、バイナリで記述されていても良い。また、回路パターン情報は、１つのファイル内に複数の回路パターンに関する情報が記述されても良く、回路パターン毎に分割された情報が各々異なるファイルで作成されても良い。
【００６９】
図９は、本実施形態に係る露光描画システム１においてＮＵＲＢＳデータによって示される輪郭データの一例を示す図である。なお、図９において、輪郭データにおいて示される複数の点がＮＵＲＢＳ表現における制御点である。図９に示すように、ＮＵＲＢＳデータによって曲線を表現することにより曲線を滑らかに表現することができる。すなわち、ＮＵＲＢＳ表現を用いることにより、ベクトルデータより少ないデータ量でベクトルデータと同等の曲線を表現することができる。
【００７０】
図１０は、本実施形態に係る露光描画システム１においてＮＵＲＢＳ表現における重み付けについて説明するための図である。図１０に示すように、例えば、重み付けを１とした曲線ａ０に対して、１より大きい重み付けを行った曲線ａ１は、曲線ａ０より曲率が大きくなる（曲率半径が小さくなる）とともに、１より小さい重み付けを行った曲線ａ２は、曲線ａ０より曲率が小さくなる（曲率半径が大きくなる）。このように、ＮＵＲＢＳ曲線では適切なウェイトを設定することにより円弧を含む曲線を精度よく表現することができる。回路パターン表現においては、円弧が多用されるのでこの性質は重要である。
【００７１】
ステップＳ１０５において、露光位置データ画像処理部１１０は、ＰＷＢ１５０に形成されているマークの位置を計測する。この際、露光位置情報画像処理部１１０は、カメラ１６４によりＰＷＢ１５０に描画されたマークが撮影された撮影画像から、ＰＷＢ１５０に格子状に配列されて描画された複数のマークのうち、隣接する縦２つ横２つの４つのマークの位置を計測する。
【００７２】
ステップＳ１０７において、補正画像処理部１０６は、ステップＳ１０５において計測された４つのマークの各々の相対位置及びマークの座標値の理論値からＰＷＢ１５０のずれ量を算出し、ずれ量に基づいてＮＵＲＢＳ表現における制御点を座標変換することで、ＮＵＲＢＳデータを補正する。なお、本実施形態では、ずれ量として、オフセットのずれ量、伸縮倍率によるずれ量、回転によるずれ量、及び歪みによるずれ量を算出するが、これに限定されず、上記各種ずれ量の何れか１つまたは複数であっても良い。
【００７３】
ここで、本実施の形態に係る露光描画システム１の補正画像処理部１０６において行われるＮＵＲＢＳデータの補正手順について、図１１を参照しつつ詳細に説明する。なお、ここでは、錯綜を回避するために、各位置決め穴１５０Ａの位置を示す位置情報に基づいて得られ、かつ位置決め穴１５０Ａで囲まれた複数の領域Ａ乃至Ｄに着目して説明する。角領域内には、回路パターンが形成される。
【００７４】
図１１（Ａ）は、本実施形態に係る露光描画システム１において、位置決め穴１５０Ａ及びレイアウト情報を含んだ回路パターンの一例を示す図であり、図１１（Ｂ）は、図１１（Ａ）示す各々の回路パターンにおけるマーク計測結果の一例を示す図である。
【００７５】
図１１（Ａ）に示すようなステップＳ１０３にて分割された複数の領域Ａ乃至Ｄにおけるマークの座標値の理論値と、図１１（Ｂ）に示すような計測で得られたマークの座標値とから、各々の制御点におけるオフセットのずれ量、伸縮倍率によるずれ量、回転によるずれ量及び歪みによるずれ量が計測される。一例として図１１（Ｂ）に示すように、領域Ａは右回りに回転しており、領域Ｂは上辺から下辺に向かって徐々に下辺に沿った方向に歪んでおり、領域Ｃは左回りに回転しており、領域Ｄは正面視右下に平行移動していることがわかる。補正画像処理部１０６は、ＰＷＢ１５０に描画する画像パターンにおいて、これらのずれ量の補正を行う。
【００７６】
図１２（Ａ）は、図１１に示すレイアウト情報を含んだ回路パターンが記述された情報を示す図であり、図１２（Ｂ）は、図１２（Ａ）に示す回路パターンにおけるマーク計測結果情報の一例を示す図である。
【００７７】
図１２（Ａ）に示すように、分割された各領域における回路パターン情報（図７に示すようなＮＵＲＢＳデータ）の各々に対して、マーク計測結果情報において、Ｘ座標のオフセット値ofs_x、Ｙ座標のオフセット値ofs_y、Ｘ方向の伸縮倍率k_x、Ｙ方向の伸縮倍率k_y、回転量d_theta、歪み量（disx,disy）を示す情報が対応付けられる。
【００７８】
図１３（Ａ）は、本実施形態に係る露光描画システム１における制御点の理論上の位置決め穴１５０Ａの位置を示す図であり、図１３（Ｂ）は、本実施形態に係る露光描画システム１における制御点の計測された位置決め穴１５０Ａの位置を示す図である。
【００７９】
図１３（Ａ）に示すように、まず、Ａ点、Ｂ点、Ｃ点、Ｄ点で角とする区形状の領域Ｂにおいて、Ａ点とＢ点との間をｉ：１−ｉに内分する内分点をＥ点とし、Ｄ点とＣ点との間をｉ：１−ｉに内分する内分点をＦ点とし、更に、Ｅ点とＦ点との間をｊ：１−ｊに内分する内分点をＰ点として、当該Ｐ点の座標からｉとｊを決定する。
【００８０】
すなわち、上記の仮定により、各点Ａ乃至Ｆをベクトルで表すと、下記の（４）式が得られる。
【数４】
0005967946.tif 000005
【００８１】
この（４）式を用いて、下記に示す（５）式の連立方程式を解く。なお、当該連立方程式におけるａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、ｈ、ｅは何れも位置補正量（ＰＷＢ１５０の歪み、伸縮倍率、回転及びオフセットによるずれ量）を表す定数である。
【数５】
0005967946.tif 000006
【００８２】
この連立方程式を解くことにより、下記の（６）式からｊが求められる。
【数６】
0005967946.tif 000007
【００８３】
そして、ｊの値を下記の（７）式に代入することによりｉが求められる。
【数７】
0005967946.tif 000008
【００８４】
データ変換部１０４により変換されたＮＵＲＢＳデータの制御点を、上記演算により求められたｉとｊに対応する制御点に置き換えることにより、歪み量が補正された制御点の値を導出することができる。
【００８５】
補正画像処理部１０６は、領域Ａ乃至Ｄの各々の回路パターンにおいて、下記の式を用いて、制御点の座標値（ｘ，ｙ）を、歪みによるずれ量を補正するために第１変換座標値（ｘ’，ｙ’）に変換した後、第１変換座標値（ｘ’，ｙ’）を、伸縮倍率によるずれ量、オフセットのずれ量及び回転によるずれ量を補正するための第２変換値（ｘ”，ｙ”）に変換する。
【００８６】
【数８】
0005967946.tif 000009
【数９】
0005967946.tif 000010
【００８７】
このようにして、制御点の座標値（ｘ，ｙ）を上記（８）式及び（９）式により導出された第２変換値（ｘ”，ｙ”）に置き換えることで、図１３（Ａ）に示すデータ変換部１０４により作成されたＮＵＲＢＳデータが示す輪郭線が、図１３（Ｂ）に示すＰＷＢ１５０のずれ量に応じて補正される。
【００８８】
この際、補正画像処理部１０６は、分割された各々の領域Ａ乃至Ｄにおける各々の制御点について補正を行う。このように、位置決めマーク１５０Ａのずれ量に基づいて輪郭線を補正する際、ＮＵＲＢＳ曲線を用いた場合には制御点のみを補正すれば良く、ベクトルデータの全体について補正を行うのと比較して短時間で輪郭データを補正することができるとともに、メモリ使用量や演算負荷を低減することができる。
【００８９】
ステップＳ１０９において、補正画像処理部１０６は、ＮＵＲＢＳ曲線を滑らかに描くためにＮＵＲＢＳ曲線上において複数の点（以下、「補間点」ともいう。）を補間するＮＵＲＢＳ補間演算を行う。
【００９０】
図１４（Ａ）は、従来の手法でＮＵＲＢＳ補間された輪郭線の一例を示す図であり、図１４（Ｂ）は、本実施形態に係る露光描画システム１の手法でＮＵＲＢＳ補間された輪郭線の一例を示す図である。
【００９１】
図１４（Ａ）に示すように、媒介変数ｔを一定にしてＮＵＲＢＳ補間した場合に、ノット量と制御点間距離に依存して補間ピッチ距離が異なってしまう。ＮＵＲＢＳ曲線上において等間隔に補間できることが望ましい。
【００９２】
そこで、補間ピッチ距離ΔＬ、ＮＵＲＢＳ曲線ｘ（ｔ）、ｙ（ｔ）の微分関数ｘ’（ｔ）、ｙ’（ｔ）を用いて下記の（１０）式により導出されるΔｔに基づき、Δｔだけ増加させながら補間点の座標を順次算出する。
【数１０】
0005967946.tif 000011
【００９３】
なお、補間ピッチΔＬは、必要解像度により、例えば１μｍならΔＬ＝１μｍのように決定され、隣接する補間点間の各々の距離が等しくなるように補間される。
【００９４】
また、本実施形態に係る露光描画装置３のＮＵＲＢＳ補間の別の手法として、図１４（Ｂ）に示すように、対象ノット領域における媒介変数ｔの最小値ｔ０と最大値ｔ１の傾きを算出し、その傾きの差が規定値以上の場合にはｔ０１＝（ｔ０＋ｔ１）／２となるポイントの傾きを算出し、ｔ０、ｔ１、ｔ０１の傾きの差が規定値以下となるまで再帰的に補間点を算出していく手法を用いても良い。
【００９５】
ステップＳ１１１において、補正画像処理部１０６は、スキャンラインを行う。
【００９６】
図１５は、本実施形態に係る露光描画システム１におけるスキャンラインにより回路パターンの輪郭線内を塗りつぶした状態を示す図である。図１５に示すように、補間点を微小線分で結んで連続する曲線として描かれたＮＵＲＢＳ曲線を輪郭線として、輪郭線の内部が塗りつぶされる。
【００９７】
ステップＳ１１３において、画像露光制御部１０８は、露光ヘッド１６２を用いてＰＷＢ１５０に対して露光を行い、ＰＷＤ１５０の表面に回路パターンを描画する。
【００９８】
また、本実施形態に係る露光描画装置３では、ＮＵＲＢＳ表現におけるウェイトは正の値を持つように設定される。
【００９９】
図１６は、本実施形態に係る露光描画システム１におけるＮＵＲＢＳ表現におけるウェイトを説明するための図である。図１６に示すように、例えば制御点Ｐ０、Ｐ１、Ｐ２がある場合に、ウェイトが正の場合には、輪郭線が、円弧状の線分Ｌ１に示すように、制御点Ｐ０、Ｐ１、Ｐ２を結んだ三角形の内部に描かれるが、ウェイトが負の場合には、輪郭点が、円弧状の線分Ｌ２に示すように、線分が頂点内に収まらないので、歪みの影響が反映し難いからである。
【０１００】
なお、図１５に示す例では、正の重み付けを行った場合、ノットベクトルU={0,0,0,1,1,1}、ウェイト{Wi}={1,0.5,1}、制御点座標値{Pi}={(0.866,0.5), (0,2), (-0.866,0.5)}となり、負の重み付けを行った場合、ノットベクトルU={0,0,0,1,1,1}、ウェイト{Wi}={1,−0.5,1}、制御点座標値{Pi}={(0.866,0.5), (0,2), (-0.866,0.5)}となっている。
【０１０１】
一方、画像露光制御部１０８は、補正画像処理部１０６において変換されたＰＷＢ１５０の回路パターン領域における全ての分割領域に対応するＮＵＲＢＳデータを用いて、最終画像データとなる各露光素子ユニット１６６のオン／オフデータを生成する。そして、当該オン／オフデータを用い、ステージ１５２の移動に同期して、露光ヘッド１６２の各露光素子ユニット１６６のＤＭＤが制御され、回路パターンの画像露光が実行される。これにより、回路パターンを示す画像がＰＷＢ１５０に露光されることになる。なお、データ変換部１０４、補正画像処理部１０６、画像露光制御部１０８、露光位置情報画像処理部１１０の各々の作動はコントローラ１０２によって制御される。
【０１０２】
以上説明したように、本実施形態では、被露光体の画像を示すベクトルデータをＮＵＲＢＳデータに変換するとともに、ＰＷＢ１５０に予め設けられた複数の位置決め穴１５０Ａの各々の位置を示す位置情報を取得し、当該位置情報に基づいてＰＷＢ１５０における回路パターン画像の露光領域を複数の領域に仮想的に分割し、各分割領域毎に、露光される回路パターン画像をオフセットのずれ量、伸縮倍率によるずれ量、回転によるずれ量、歪みによるずれ量に基づいてＮＵＲＢＳデータを変換し、変換後のＮＵＲＢＳデータに基づいて当該画像をＰＷＢ１５０に露光しているので、ＰＷＢ１５０が任意形状に歪む場合であっても高精度に被露光体の画像を描画することができる。
【０１０３】
また、本実施形態では、ＰＷＢ１５０のずれ量に応じて画像データを補正する際、ベクトルデータを用いている場合には画像データが示す画像全体について補正する必要があったが、ＮＵＲＢＳデータを用いている場合には、制御点のみを補正すればいいため、露光される回路パターンの輪郭線が複雑な曲線である場合であっても当該回路パターンの輪郭線を精度よく描画することがきる
【符号の説明】
【０１０４】
１…露光描画システム，２…制御装置，３…露光描画装置，１０２…コントローラ，１０４…データ変換部，１０６…補正画像処理部，１０８…画像露光制御部，１１０…露光位置情報画像処理部，１１２…ステージ制御部，１５０…ＰＷＢ，１５０Ａ…位置決め穴，１５２…ステージ，１６４…露光ヘッド，１６４…カメラ，２００…データ作成部。
【図１】
0005967946.tif 000013
【図２】
0005967946.tif 000014
【図３】
0005967946.tif 000015
【図４】
0005967946.tif 000016
【図５】
0005967946.tif 000017
【図６】
0005967946.tif 000018
【図７】
0005967946.tif 000019
【図８】
0005967946.tif 000020
【図９】
0005967946.tif 000021
【図１０】
0005967946.tif 000022
【図１１】
0005967946.tif 000023
【図１２】
0005967946.tif 000024
【図１３】
0005967946.tif 000025
【図１４】
0005967946.tif 000026
【図１５】
0005967946.tif 000027
【図１６】
0005967946.tif 000028