(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
第２基板とを有し、
前記第２基板は、複数の柱状スペーサを有し、
前記第１基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、
前記第１基板は、走査線と、前記走査線と交差する映像線とを有し、
前記凸部の幅は、前記映像線の延長方向において、前記柱状スペーサの幅よりも大きく、
前記凸部は、前記走査線の延長方向に等間隔で、かつ一直線上に配置されており、
前記複数の柱状スペーサは、前記走査線の延長方向に等間隔で配置されておらず、かつ/又は、一直線上に配置されておらず、
前記複数の柱状スペーサのうちの一部は、各々その先端の一部の領域において前記凸部と接地しており、かつ、前記接地の面積は前記柱状スペーサ毎に異なり、
前記複数の柱状スペーサのうちの残りの部分は、各々その先端の全領域において前記凸部と接地していることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１基板の、前記柱状スペーサの先端部が対向する凸部は、前記走査線上に形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１基板の、前記柱状スペーサの先端部が対向する凸部には、台座が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１基板は、液晶側の面に配向膜を有し、前記台座は、第１基板と、前記配向膜との間に配置されることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
第１基板と、  第２基板とを有し、  前記第２基板は、複数の柱状スペーサを有し、  前記第１基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、  前記凸部は、走査線の延長方向に等間隔で、かつ一直線上に配置されており、  前記複数の柱状スペーサは、前記走査線の延長方向に等間隔で配置されておらず、かつ/又は、一直線上に配置されておらず、  前記複数の柱状スペーサのうちの一部は、各々その先端の一部の領域において前記凸部と接地しており、かつ、前記接地の面積は前記柱状スペーサ毎に異なり、  前記複数の柱状スペーサのうちの残りの部分は、各々その先端の全領域において前記凸部と接地しており、  前記複数の柱状スペーサのうちの隣接する２つの柱状スペーサの中心を結ぶ線と、前記凸部のうち、前記隣接する２つの柱状スペーサに対応する２つの凸部の中心を結ぶ線とが平行ではないことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
第１基板と、  第２基板とを有し、  前記第２基板は、複数の柱状スペーサを有し、  前記第１基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、  前記凸部は、走査線の延長方向に等間隔で、かつ一直線上に配置されており、  前記複数の柱状スペーサは、前記走査線の延長方向に等間隔で配置されておらず、かつ/又は、一直線上に配置されておらず、  前記複数の柱状スペーサのうちの一部は、各々その先端の一部の領域において前記凸部と接地しており、かつ、前記接地の面積は前記柱状スペーサ毎に異なり、  前記複数の柱状スペーサのうちの残りの部分は、各々その先端の全領域において前記凸部と接地しており、  前記複数の柱状スペーサのうちの第１の走査線の延在方向に隣接する２つの柱状スペーサの中心を結ぶ線と、前記第１の走査線の延在方向に隣接する２つの柱状スペーサに対応する２つの凸部の中心を結ぶ線とは平行ではなく、前記柱状スペーサのうちの前記第１の走査線に隣接する第２の走査線の延在方向に隣接する２つの柱状スペーサの中心を結ぶ線と、前記第２の走査線の延在方向に隣接する２つの柱状スペーサに対応する２つの凸部の中心を結ぶ線とは平行ではないことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に係り、特に、第１基板と第２基板との間の間隔を一定に保持する柱状スペーサの配置方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の表示装置として、一対の基板間に液晶を封入した液晶表示装置や、一対の基板間に有機発光素子を形成した有機ＥＬ表示装置、ＭＥＭＳのような機械的駆動素子を形成した表示装置等が知られている。例えば液晶表示装置の製造工程では、液晶表示パネル内に液晶を封入するために、液晶の封入・封止行程が存在する。液晶使用量の削減や、作業時間（タクト）の短縮のために、液晶表示パネル内に液晶を注入する方式として、ＯＤＦ（One Drop Fill）方式への移行が進んでいる。
ＯＤＦ方式では、液晶を注入する代わりに、第１基板（以下、ＴＦＴ基板という）上に液晶を滴下してからＴＦＴ基板と第２基板（以下、ＣＦ基板という）を貼り合わせる。このＯＤＦ方式では、液晶表示パネルへの液晶の注入工程がなく、コストの低減と、作業時間の短縮を実現することができる。
一方、一般に、液晶表示パネルでは、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間のギャップ間隔を支持するために、柱状スペーサが配置される。
この柱状スペーサは、常時、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間のギャップ間隔を支持するメイン柱状スペーサと、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に圧力が加わった場合のみ、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間のギャップ間隔を支持するサブ柱状スペーサの２つが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−３３８７７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば、柱状スペーサはＣＦ基板上に形成されるが、ＯＤＦ方式では、常時、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間のギャップ間隔を維持する柱状スペーサのＴＦＴ基板への接地面積の大小によって不具合が発生する。
柱状スペーサのＴＦＴ基板への接地面積が大きいと、ＴＦＴ基板とＣＦ基板間の反発力が強く、液晶表示パネル内に気泡ができ、一方、柱状スペーサのＴＦＴ基板への接地面積が小さいときは、押し耐性が低下し輝度むらや、液晶漏れが発生する。
そのため、ＯＤＦ方式を適用する液晶表示パネルでは、メイン柱状スペーサの密度を低くして、メイン柱状スペーサのＴＦＴ基板への接地面積を従来と比べて少なくし、サブ柱状スペーサにより、押し耐性低下を防止している。
この場合、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に貼り合わせずれが生じた場合、密度の低いメイン柱状スペーサのＴＦＴ基板への接地面積が変動し、押し耐性の低下による輝度むらや、液晶漏れが発生する。そして、ＯＤＦ方式では、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に貼り合わせずれによる、メイン柱状スペーサのＴＦＴ基板への接地面積の変動率が大きく、貼り合わせの裕度が狭くなっている。
本発明は、前記従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、基板間の間隙に液晶を封止する液晶表示装置をはじめ、基板間に間隙を有する有機ＥＬ表示装置や他の表示装置において、第１基板と第２基板との間に貼り合わせずれが生じても、柱状スペーサの先端部の第１基板への接地面積の変動率を少なくすることが可能となる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかにする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。
（１）第１基板と、第２基板とを有し、前記第２基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第１基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記第１基板は、走査線を有し、前記第２基板上に形成される前記複数の柱状スペーサは、前記走査線の延長方向に等間隔で配置されておらず、かつ/又は、一直線上に配置されておらず、ランダムに配置されている。
（２）第１基板と、第２基板とを有し、前記第２基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第１基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記第１基板は、走査線を有し、前記第１基板と前記第２基板との間に貼り合わせずれが生じない場合に、前記第２基板に形成される前記複数の柱状スペーサの一部の柱状スペーサは、その先端部の全ての領域において前記第１基板上に形成される凸部に対向しておらず、一部の領域において前記第１基板上に形成される凸部に対向している。
【０００６】
（３）第１基板と、第２基板とを有し前記第２基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第１基板は、前記柱状スペーサの先端部が対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記第１基板は、走査線を有し、前記第１基板と前記第２基板との間に貼り合わせずれが生じない場合に、前記第２基板に形成される前記複数の柱状スペーサの各々の柱状スペーサは、その先端部の全ての領域において前記第１基板上に形成される凸部に対向しておらず、一部の領域において前記第１基板上に形成される凸部に対向している。
（４）（１）ないし（３）の何れかにおいて、前記第１基板の、前記柱状スペーサの先端部が対向する凸部は、前記走査線上に形成される。
（５）（１）ないし（３）の何れかにおいて、前記第１基板の、前記柱状スペーサの先端部が対向する凸部には、台座が形成されている。
（６）（４）または（５）において、前記第１の基板と前記第２の基板との間には液晶が封止されており、前記第１基板は、前記液晶側の面に配向膜を有し、前記台座層は、第１基板と、前記配向膜との間に配置される。
（７）（１）ないし（６）の何れかにおいて、前記柱状スペーサの先端部は、前記凸部に接触している。
（８）第１基板と、第２基板とを有し、前記第２基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第１基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記柱状スペーサうちの隣接する２つの柱状スペーサの中心を結ぶ線と、前記凸部のうち、前記隣接する２つの柱状スペーサに対応する２つの凸部の中心を結ぶ線とが平行ではない。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の実施例の液晶表示パネルの電極構成を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ'切断線に沿った断面構造を示す断面図である。
【図３】本発明の実施例の液晶表示パネルの柱状スペーサの配置方法を説明するための図である。
【図４】本発明の実施例の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に貼り合わせずれが生じた場合の柱状スペーサのＴＦＴ基板への接地面積の変動率を説明するための模式図である。
【図５】本発明の実施例の変形例の液晶表示パネルの概略断面構造を示す要部断面図である。
【図６】図５に示す液晶表示パネルの１画素構成を説明するための図である。
【図７】従来の液晶表示パネルの柱状スペーサの配置方法を説明するための図である。
【図８】従来の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に貼り合わせずれが生じた場合の柱状スペーサのＴＦＴ基板への接地面積の変動率を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。また、以下の実施例は、本発明の特許請求の範囲の解釈を限定するためのものではない。
［実施例１］
本実施例の液晶表示装置は、一対のガラス基板の一方のガラス基板に形成された画素電極と、対向電極との間で電界を印加して液晶分子を駆動する、所謂、ＩＰＳ（In-Plane-Switching）方式の液晶表示パネルを有する液晶表示装置である。
図１は、本発明の実施例の液晶表示パネルの電極構成を示す平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ'切断線に沿った断面構造を示す断面図である。
本実施例の液晶表示パネルでは、液晶層（ＬＣ）を挟んで、ＴＦＴ基板（本発明の第１基板）と、ＣＦ基板（本発明の第２基板）とが設けられる。
図２に示すように、ＴＦＴ基板は、透明基板（例えば、ガラス基板）（ＳＵＢ１）を有し、透明基板（ＳＵＢ１）の液晶層側には、透明基板（ＳＵＢ１）から液晶層（ＬＣ）に向かって順に、走査線（ゲート線ともいう）（ＧＬ）、ゲート絶縁膜（ＰＡＳ１）、a-Si半導体層（ＭＴＬ）、映像線（ソース線またはドレイン線ともいう）（ＤＬ）、画素電極に接続される電極（ドレイン電極またはソース電極）（ＳＤ）、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）、画素電極との間で電界を生じさせるための対向電極（ＣＴＬ）、配向膜（ＡＬ１）が形成される。なお、透明基板（ＳＵＢ１）の外側には偏光板（ＰＯＬ１）が形成される。図２では図示されていないが、対向電極上には絶縁膜と画素電極とが形成されており、画素電極は層間絶縁膜（ＰＡＳ２）と前記絶縁膜とに設けられたコンタクトホールを介して電極（ＳＤ）に接続されている。また、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とは、液晶を封止するために所定の距離離間された状態で固定されている。固定は、周辺部に設けられた樹脂製のシール剤の接着により行われている。
【０００９】
ＣＦ基板は、透明基板（例えば、ガラス基板）（ＳＵＢ２）を有し、透明基板（ＳＵＢ２）の液晶層側には、透明基板（ＳＵＢ２）から液晶層（ＬＣ）に向かって順に、遮光膜（ＢＭ）、赤・緑・青のカラーフィルタ（ＣＦ）、平坦化膜（ＯＣ）、配向膜（ＡＬ２）が形成される。なお、透明基板（ＳＵＢ２）の外側には偏光板（ＰＯＬ２）が形成される。また、本実施例の液晶表示装置では、透明基板（ＳＵＢ２）の主表面側が観察側となっている。
本実施例では、対向電極（ＣＴＬ）は面状に形成され、対向電極と液晶層との間に設けられる画素電極（ＰＸ）には複数のスリット（ＳＬＴ）が形成される。
本実施例の液晶表示装置では、画素電極（ＰＸ）と、対向電極（ＣＴＬ）とが、層間絶縁膜を介して積層されており、画素電極（ＰＸ）と対向電極（ＣＴ）との間に形成されるアーチ状の電気力線が液晶層（ＬＣ）を貫くように分布することにより液晶層（ＬＣ）を配向変化させる。
画素電極（ＰＸ）および対向電極（ＣＴＬ）は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電膜で構成される。さらに、画素電極（ＰＸ）と対向電極（ＣＴＬ）とが、層間絶縁膜を介して重畳しており、これによって保持容量を形成している。尚、画素電極と対向電極との配置はこれに限定されず、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）を介して画素電極を対向電極とを配置する構造であってよく、また、ゲート絶縁膜を介して画素電極と対向電極を配置する構造であってもよい。また、画素電極と対向電極との配置を逆転させ、画素電極を面状とし、対向電極にスリットを設ける構造であってもよい。尚、本実施形態では、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）は有機膜を想定しているが、上述のような種々の構成を採用する上では有機膜から無機膜へと変更することも可能性である。
【００１０】
図１に示すように、走査線（ＧＬ）と、映像線（ＤＬ）とで囲まれる矩形状の領域内に、１サブピクセルが形成される。この１サブピクセルが形成される領域は、ＣＦ基板（ＳＵＢ２）側に形成される遮光膜（ＢＭ）によって遮光されることから、実質的な１サブピクセルが形成される領域として機能する領域は、遮光膜（ＢＭ）の開口部（図２において太線で示している）となる。また、図１において、ＴＦＴは、アクティブ素子を構成する薄膜トランジスタである。
透明基板（ＳＵＢ２）の、図１の１０の位置には、一対の透明基板（ＳＵＢ１，ＳＵＢ２）間のギャップを一定に保持するための柱状スペーサ（ＳＰＡ）が形成される。この柱状スペーサ（ＳＰＡ）は、図２に示すように、ＴＦＴ基板（ＳＵＢ１）側では、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成される位置に形成される。
柱状スペーサ（ＳＰＡ）は、感光性樹脂で構成され、透明基板（ＳＵＢ２）の遮光膜（ＢＭ）上に形成される。なお、遮光膜（ＢＭ）上に形成される柱状スペーサ（ＳＰＡ）は、実際の製品では複数個形成される。
また、ＴＦＴ基板（ＳＵＢ１）の、走査線（ＧＬ）上の柱状スペーサ（ＳＰＡ）の先端部が接触する領域には、ＴＦＴのa-Si半導体層（ＭＴＬ）が形成される。つまり、a-Si半導体層を中心に、映像線（ＤＬ）と画素電極に接続される電極（ＳＤ）とによって柱状スペーサの台座が構成される。なお、柱状スペーサの先端部が接触する箇所を、ＴＦＴ形成領域から離間させた走査線（ＧＬ）上に形成してもよい。この場合、柱状スペーサの先端部が接触する箇所にアルミニウム（Ａｌ）等の金属膜、あるいは、アモルファスシリコン層で形成した台座を設けることも可能である。
図１に示す柱状スペーサ（ＳＰＡ）は、常時、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間のギャップ間隔を支持するメイン柱状スペーサである。
【００１１】
［従来技術の問題点］
図７は、従来の液晶表示パネルの柱状スペーサの配置方法を説明するための図である。
図７は、ＣＦ基板を液晶（ＬＣ）側から見た図であるが、図７では、遮光膜（ＢＭ）、柱状スペーサ（ＳＰＡ）以外の、赤・緑・青のカラーフィルタ（ＣＦ）、平坦化膜（ＯＣ）、および、配向膜（ＡＬ２）の図示は省略している。
図７において、ＰＢＭは遮光膜（ＢＭ）に形成された開口部を示し、各サブピクセルの開口部を表している。さらに、図７において、Ｘ方向は、走査線（ＧＬ）の延長方向であり、Ｙ方向は、走査線（ＧＬ）と直交する方向（所謂、映像線（ＤＬ）の延長方向）である。
従来の液晶表示パネルでは、図７に示すように、柱状スペーサ（ＳＰＡ）は、遮光膜（ＢＭ）上に形成された平坦化膜（ＯＣ）上に、規則的に、Ｘ方向およびＹ方向に一直線に配列されている。
【００１２】
図８は、従来の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に貼り合わせずれが生じた場合の柱状スペーサのＴＦＴ基板への接地面積の変動率を説明するための模式図である。この図８において、Ｃ−ＳＵＢはＣＦ基板であり、柱状スペーサ（ＳＰＡ）以外の、透明基板（ＳＵＢ２）、遮光膜（ＢＭ）、赤・緑・青のカラーフィルタ（ＣＦ）、平坦化膜（ＯＣ）、および、配向膜（ＡＬ２）の図示は省略したものである。
また、Ｔ−ＳＵＢはＴＦＴ基板であり、柱状スペーサ（ＳＰＡ）が常時当接する凸部（図２では、台座により突出する凸部に対応する）（ＰＤＡ）以外の、透明基板（ＳＵＢ１）、走査線（ＧＬ）、対向電極（ＣＴ）、映像線（ＤＬ）、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、層間絶縁膜（ＰＡＳ１，ＰＡＳ２）、画素電極（ＰＸ）、配向膜（ＡＬ１）の図示は省略したものである。
図８（ａ）は、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれがない場合を、図８（ｂ）は、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じた場合を図示したものである。
従来の液晶表示パネルの柱状スペーサ（ＳＰＡ）では、柱状スペーサ（ＳＰＡ）が規則的に配置されているため、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じなかった場合、柱状スペーサ（ＳＰＡ）の先端部が、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＴＦＴ）に形成された凸部（ＰＤＡ）と接触する接触面積は、Ｓ３１、Ｓ３２、Ｓ３３、Ｓ３４の有効接地面積の合計値（Ｓ３１＋Ｓ３２＋Ｓ３３＋Ｓ３４）となる。
従来の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じた場合、柱状スペーサ（ＳＰＡ）の先端部が、凸部（ＰＤＡ）と接触する接触面積はＳ４１、Ｓ４２、Ｓ４３、Ｓ４４の有効接地面積の合計値（Ｓ４１＋Ｓ４２＋Ｓ４３＋Ｓ４４）へと変動する。このとき、このときの有効接地面積の変動率は下記（１）式で表される。
（S41＋S42＋S43＋S44）×100／（S31＋S32＋S33＋S34）  ・・・・・・・・（１）
【００１３】
図３は、本実施例の液晶表示パネルの柱状スペーサの配置方法を説明するための図である。図３は、ＣＦ基板を液晶（ＬＣ）側から見た図であるが、図３では、遮光膜（ＢＭ）、柱状スペーサ（ＳＰＡ）以外の、赤・緑・青のカラーフィルタ（ＣＦ）、平坦化膜（ＯＣ）、および、配向膜（ＡＬ２）の図示は省略している。
図７と同様に、図３において、ＰＢＭは遮光膜（ＢＭ）に形成された開口部を示し、各サブピクセルの開口部を表している。さらに、図３において、Ｘ方向は、走査線（ＧＬ）の延長方向であり、Ｙ方向は、走査線（ＧＬ）と直交する方向（所謂、映像線（ＤＬ）の延長方向）である。
本実施例の液晶表示パネルでは、図３に示すように、柱状スペーサ（ＳＰＡ）は、遮光膜（ＢＭ）上に形成された平坦化膜（ＯＣ）上に、規則的に、Ｘ方向およびＹ方向に一直線に配列されておらず、正規の位置よりＸＹ方向にずらしてランダムに配置される。
このため、後述する図４に示すように、本実施例では、柱状スペーサ（ＳＰＡ）の先端部の全ての領域が、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）に形成された凸部（ＰＤＡ）と接触するのではなく、柱状スペーサ（ＳＰＡ）の先端部の一部の領域が前述の凸部（ＰＤＡ）と接触する。
なお、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）に形成された凸部（ＰＤＡ）は、上述の台座により形成されるもの以外に、例えば、信号線同士の交差により形成されるものであってもよい。また、ランダムに配置とは、柱状スペーサが配置された箇所を結ぶ線が、走査線や映像線の延在方向や、台座が形成されている箇所を結ぶ線と平行でないことを意味している。つまり、少なくとも、隣接する２つの柱状スペーサの中心を結ぶ線と、前記隣接する２つの柱状スペーサに対応する２つの凸部の中心を結ぶ線とが平行ではないことを意味している。
尚、ランダム配置された数個の柱状スペーサを繰り返す配置することであってもよい。
本実施形態では、柱状スペーサは、サブピクセルに１つ形成されているが、複数のサブピクセルに１つの割合で形成されるものであっても本発明の効果を得ることが出来る。また、例えば、青のサブピクセルの柱状スペーサをメインスペーサ、青以外のサブピクセルの柱状スペーサをサブスペーサとし、通常はメインスペーサがＴＦＴ基板と接触し、サブスペーサはＴＦＴ基板と接触していない構成であってもよい。メインスペーサとサブスペーサを何色のサブピクセルに配置するかは限定されるものではなく、メインスペーサとサブスペーサの双方をランダム配置してもよく、一方のみをランダム配置してもよい。
【００１４】
図４は、本実施例の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に貼り合わせずれが生じた場合の柱状スペーサのＴＦＴ基板への接地面積の変動率を説明するための模式図である。この図４において、Ｃ−ＳＵＢは、前述の図８で説明したＣＦ基板であり、また、Ｔ−ＳＵＢも、前述の図８で説明したＴＦＴ基板である。また、ＰＤＡは、柱状スペーサ（ＳＰＡ）が常時当接する凸部（図２では、台座により突出する凸部に対応する）である。
図４（ａ）は、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれがない場合を、図４（ｂ）は、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じた場合を図示したものである。
本実施例の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じなかった場合、柱状スペーサ（ＳＰＡ）の先端部が、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＴＦＴ）に形成された凸部（ＰＤＡ）と接触する接触面積は、Ｓ１１、Ｓ１２、Ｓ１３、Ｓ１４の有効接地面積の合計値（Ｓ１１＋Ｓ１２＋Ｓ１３＋Ｓ１４）となる。
本実施例の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じた場合、柱状スペーサ（ＳＰＡ）の先端部が、凸部（ＰＤＡ）と接触する接触面積はＳ２１、Ｓ２２、Ｓ２３、Ｓ２４の有効接地面積の合計値（Ｓ２１＋Ｓ２２＋Ｓ２３＋Ｓ２４）へと変動する。このとき、このときの有効接地面積の変動率は下記（２）式で表される。
（S21＋S22＋S23＋S24）×100／（S11＋S12＋S13＋S14）  ・・・・・・・・（２）
【００１５】
本実施例の液晶表示パネルでは、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じなかった場合に、柱状スペーサ（ＳＰＡ）の先端部が、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＴＦＴ）に形成された凸部（ＰＤＡ）と接触する接触面積は、従来の液晶表示パネルよりも小さくなる。
しかしながら、前述の（２）式で表される本実施例の液晶表示パネルの有効接地面積の変動率は、前述の（１）式で表される従来の液晶表示パネルの有効接地面積の変動率より少なくすることができる。
例えば、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが規格内（±３μｍ）の場合で、柱状スペーサ（ＳＰＡ）の先端部が、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＴＦＴ）に形成された凸部（ＰＤＡ）と接触する接触面積の変動率は、従来の液晶表示パネルが、９８．３６％と、変動率が約−６．１４％減であるのに対して、本実施例の液晶表示パネルでは、９６．４２％と、変動率が約−３．５８％減であり、本実施例では、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが規格内（±３μｍ）の場合に、柱状スペーサ（ＳＰＡ）の先端部が、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＴＦＴ）と接触する接触面積の変動率を従来よりも小さくすることが可能である。尚、上記では、柱状スペーサの先端部が凸部に接触することを前提としているが、状況によっては、常に接触している訳ではなく、何かしらの力がかかっていない状態では接触していない場合もある。そのため、接触面積とは、柱状スペーサの先端部が凸部に接触するであろう面積、つまり、柱状スペーサの先端部が凸部に対向している面積を示している。
【００１６】
図８（ｂ）に示す、従来の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じた場合の状態と、図４（ａ）に示す、本実施例の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じない場合の状態とは、一見同じように見える。
しかしながら、従来の液晶表示パネルでは、図７に示すように、柱状スペーサ（ＳＰＡ）は、規則的に、Ｘ方向およびＹ方向に一直線に配列されているので、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じた場合に、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＴＦＴ）に形成された凸部（ＰＤＡ）の中心から、柱状スペーサ（ＳＰＡ）の中心までのズレ方向（あるいは、移動方向）は、全ての柱状スペーサ（ＳＰＡ）において同じ方向となる。
これに対して、本実施例の液晶表示パネルでは、図３に示すように、柱状スペーサ（ＳＰＡ）は、規則的に、Ｘ方向およびＹ方向に一直線に配列されておらず、正規の位置よりＸＹ方向にずらしてランダムに配置されるので、本実施例の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＳＵＢ）とＣＦ基板（Ｃ−ＳＵＢ）との間に貼り合わせずれが生じない場合に、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＴＦＴ）に形成された凸部（ＰＤＡ）の中心から、柱状スペーサ（ＳＰＡ）までのズレ方向（あるいは、移動方向）は、各々の柱状スペーサ（ＳＰＡ）毎にランダムな方向となる。
なお、図３、図７では、柱状スペーサ（ＳＰＡ）は、円柱の場合について説明したが、柱状スペーサ（ＳＰＡ）は円柱に限らず、３角形柱、４角形柱等の多角形柱であってもよい。さらに、図４では、全ての柱状スペーサ（ＳＰＡ）が、その先端部の一部の領域において、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＴＦＴ）に形成された凸部（ＰＤＡ）と接触しているが、複数の柱状スペーサ（ＳＰＡ）の中の２個以上の柱状スペーサ（ＳＰＡ）が、その先端部の一部の領域が、ＴＦＴ基板（Ｔ−ＴＦＴ）に形成された凸部（ＰＤＡ）と接触するようにしてもよい。
【００１７】
図５は、本発明の実施例の液晶表示パネルの変形例の概略断面構造を示す要部断面図である。
図５に示す液晶表示パネルは、液晶層（ＬＣ）を挟んで、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とが設けられる。図５に示すように、ＴＦＴ基板は、透明基板（例えば、ガラス基板）（ＳＵＢ１）を有し、透明基板（ＳＵＢ１）の液晶層側には、透明基板（ＳＵＢ１）から液晶層（ＬＣ）に向かって順に、走査線（ゲート線ともいう）（ＧＬ）、ゲート絶縁膜（ＰＡＳ１）、映像線（図示せず）、画素電極（ＰＸ）および画素電極（ＰＸ）に接続される電極（ドレイン電極またはソース電極）（ＳＤ）、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）、対向電極（ＣＴ、ＣＴＬ）、配向膜（ＡＬ１）が形成される。また、透明基板（ＳＵＢ１）の外側には偏光板（ＰＯＬ１）が設けられる。
透明基板（ＳＵＢ２）の液晶層側には、透明基板（ＳＵＢ２）から液晶層（ＬＣ）に向かって順に、遮光膜（ＢＭ）、赤・緑・青のカラーフィルタ（ＣＦ）、平坦化膜（ＯＣ）、配向膜（ＡＬ２）が形成される。また、透明基板（ＳＵＢ２）の外側には偏光膜（ＰＯＬ２）が設けられる。また、図５において、ＳＬはシール材、ＦＰＣはフレキシブル配線基板である。
なお、図５に示す液晶表示パネルでは、画素電極（ＰＸ）は面状に形成され、対向電極（ＣＴ、ＣＴＬ）は、複数のスリットを有する電極とされる。
【００１８】
図６は、図５に示す液晶表示パネルの１画素構成を説明するための図である。
図６において、ＤＬは映像線、ＧＬは走査線であり、走査線（ＧＬ）と映像線（ＤＬ）とは交差するように配置される。
走査線（ＧＬ）と映像線（ＤＬ）とが交差する位置に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が配置される。薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のゲート電極は、走査線（ＧＬ）に接続され、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のドレイン電極（または、ソース電極）は、映像線（ＤＬ）に接続される。
対向電極（ＣＴ、ＣＴＬ）には、対向電圧が供給される。例えば、液晶表示パネル（ＬＣＤ）の交流駆動方法が、ドット反転法などのコモン対称法の場合、対向電極（ＣＴ、ＣＴＬ）には、一定の電位（例えば、ＧＮＤの接地電位）が供給される。
また、前述の説明では、本発明を、ＩＰＳ方式の液晶表示装置に適用した実施例について説明したが、本発明は、これに限定されず、例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）方式、あるいは、ＶＡ（Vertically Aligned）方式の液晶表示装置にも適用可能である。但し、本発明を、これらの液晶表示装置に適用する場合には、対向電極（ＣＴ）はＣＦ基板（ＳＵＢ２）側に形成される。
【００１９】
尚、以上では、ＴＦＴ基板に対向する基板にカラーフィルタを設ける構成としているが、ＴＦＴ基板側にカラーフィルタを設ける構造であってもよい。この場合、ＣＦ基板を対向基板と称することも可能である。また、ＣＦ基板に設けられた遮光膜はマトリクス状に形成されているが、特に制限される訳ではなく、映像線と平行な方向にのみ形成したストライプ状の遮光膜であってもよい。柱状スペーサは、ＴＦＴ上、走査線上に限らず、映像線上に設けてもよいことは言うまでもない。また、本実施形態では、柱状スペーサに対応するＴＦＴ基板上には台座を設けることを前提に記述しているが、前述した通り、信号線の交差箇所の段差により形成される凸部を利用することも可能である。更には、走査線や映像線等の配線等が形成されている箇所自体が他の箇所に対して段差を有しているため、それら段差により形成される凸部を利用することも可能である。
上記では、液晶表示装置に関する実施例を記載しているが、本発明は液晶表示装置以外、有機発光素子が設けられたＴＦＴ基板と他の基板（対向基板）とを所定間隔を離間させた状態で張り合わせたような有機ＥＬ表示装置や、ＭＥＮＳのような機械的な駆動素子を設けた第１の基板と第２の基板とを離間した状態で張り合わせ、基板間に気体や液体を封止したような表示装置に適用することも可能である。
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。
【符号の説明】
【００２０】
Ｔ−ＴＦＴ  ＴＦＴ基板
Ｃ−ＴＦＴ  ＣＦ基板
ＦＰＣ  フレキシブル配線基板
ＴＦＴ  薄膜トランジスタ
ＳＵＢ１，ＳＵＢ２  透明基板（例えば、ガラス基板）
ＰＯＬ１，ＰＯＬ２  偏光板
ＰＡＳ１，ＰＡＳ２  絶縁膜
ＯＣ  平坦化膜
ＳＤ  画素電極に接続される電極（ドレイン電極またはソース電極）
ＡＬ１，ＡＬ２  配向膜
ＬＣ  液晶層
ＢＭ  遮光膜
ＰＢＭ  開口部
ＣＦ  カラーフィルタ
ＰＸ  画素電極
ＳＬＴ  スリット
ＣＴ、ＣＴＬ  対向電極
ＧＬ  走査線（ゲート線ともいう）
ＤＬ  映像線（ソース線またはドレイン線ともいう）
ＳＰＡ  柱状スペーサ
ＭＴＬ  a-Si半導体層
ＰＤＡ  凸部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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