(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１指標を角膜に投影する第１投影光学系と、角膜に投影された第１指標の反射像を撮像する第１撮像光学系と、
角膜形状を測定するために前記第１指標とは投影範囲と使用波長の少なくともいずれかが異なる第２指標を角膜に投影する第２投影光学系と、角膜に投影された第２指標の反射像を撮像する第２撮像光学系と、
前記第１撮像光学系によって取得された第１指標の反射像に基づいて第２投影光学系の投影光量を調整し、第２撮像光学系によって撮像された第２指標の反射像に基づいて被検者眼の角膜形状を測定する演算制御手段と、を備える角膜形状測定装置であって、
前記演算制御手段は、
第１撮像光学系によって撮像された第１指標の反射像に基づいて被検者眼の角膜形状を測定し、
測定された角膜形状に基づいて第２投影光学系の投影光量を調整し、第２撮像光学系によって撮像された第２指標の反射像に基づいて被検者眼の角膜形状を測定することを特徴とする角膜形状測定装置。
【請求項２】
前記演算制御手段は、前記第１指標の反射像に基づいて第１指標の像高を測定し、
測定された第１指標の像高に基づいて第２投影光学系の投影光量を調整することを特徴とする請求項１の角膜形状測定装置。
【請求項３】
前記第１投影光学系が、赤外光源を有し、赤外光にて第１指標を角膜に投影し、前記第２投影光学系は、可視光源を有し、可視光にて第２指標を角膜に投影する請求項１又は請求項２の角膜形状測定装置。
【請求項４】
前記第２投影光学系が、角膜上の投影範囲が前記第１指標より広い指標を第２指標として角膜に投影する請求項１又は請求項２の角膜形状測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被検眼の角膜形状を測定する角膜形状測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
角膜形状測定装置は、例えば、指標パターンを角膜に投影する光学系と、投影された指標パターン像を撮像する光学系と、撮像されたパターン像を解析して角膜トポグラフィーを演算する演算部と、を備える（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−２１５９５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記装置は、撮像された指標パターンの輝度の大小をモニタリングし、測定に必要な輝度が確保された指標パターン像を解析用パターンとして取得していた。すなわち、上記装置は、同じ指標パターンを複数回角膜に投影していた。
【０００５】
本発明は、上記従来技術を鑑み、被検者にとって低負担でかつ、精度の良い測定結果を取得できる角膜形状測定装置を提供することを技術課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
【０００７】
（１）
第１指標を角膜に投影する第１投影光学系と、角膜に投影された第１指標の反射像を撮像する第１撮像光学系と、
角膜形状を測定するために前記第１指標とは投影範囲と使用波長の少なくともいずれかが異なる第２指標を角膜に投影する第２投影光学系と、角膜に投影された第２指標の反射像を撮像する第２撮像光学系と、
前記第１撮像光学系によって取得された第１指標の反射像に基づいて第２投影光学系の投影光量を調整し、第２撮像光学系によって撮像された第２指標の反射像に基づいて被検者眼の角膜形状を測定する演算制御手段と、を備える角膜形状測定装置であって、
前記演算制御手段は、
第１撮像光学系によって撮像された第１指標の反射像に基づいて被検者眼の角膜形状を測定し、
測定された角膜形状に基づいて第２投影光学系の投影光量を調整し、第２撮像光学系によって撮像された第２指標の反射像に基づいて被検者眼の角膜形状を測定することを特徴とする。
（２）
前記演算制御手段は、前記第１指標の反射像に基づいて第１指標の像高を測定し、
測定された第１指標の像高に基づいて第２投影光学系の投影光量を調整することを特徴とする（１）の角膜形状測定装置。
（３）
前記第１投影光学系が、赤外光源を有し、赤外光にて第１指標を角膜に投影し、前記第２投影光学系は、可視光源を有し、可視光にて第２指標を角膜に投影する（１）又は（２）の角膜形状測定装置。
（４）  
前記第２投影光学系が、角膜上の投影範囲が前記第１指標より広い指標を第２指標として角膜に投影する（１）又は（２）の角膜形状測定装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、被検者にとって低負担でかつ、精度の良い測定結果を取得できる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。図１は本実施形態に係る角膜形状測定装置の概略構成図である。図２は撮像光学系によって撮像された第１指標像及び前眼部像を示す例であり、撮像画像がモニタに表示された状態を示す。図３は撮像光学系によって撮像された第２指標像及び前眼部像を示す例である。図４は第１指標パターン像を用いて角膜形状を測定する手法について説明する図である。
【００１０】
本装置の概要について説明する。角膜形状測定装置は、第１投影光学系１と、第２投影光学系１０と、撮像光学系２０と、演算制御部７０と、を含み、被検者眼Ｅの角膜形状の分布を測定する。なお、各構成１、１０、２０、７０は、図１に図示の構成に限定されない。
【００１１】
第１投影光学系１は、第１指標を角膜Ｅｃに投影する（例えば、図２の指標Ｔ２参照）。第１投影光学系１は、例えば、簡易的に角膜形状を測定するために用いられる。第１指標のパターンを形成する光は、眼にとって低負担であって、例えば、眼にとって眩しくない赤外光（近赤外光であってもよい）が好ましい。また、可視光であっても、角膜上の投影範囲を一部に限定した指標パターンであれば、一定の効果が得られる。第１の指標パターンは、例えば、角膜上の一部の角膜曲率（曲率半径）を測定するための指標であればよい。
【００１２】
第１投影光学系１は、例えば、撮像光学系２０の光軸Ｌ１から離れた位置に配置された光源を有し、斜め方向から角膜Ｅｃに向けて指標を投光する。第１投影光学系１は、例えば、点状指標、リング指標、スリット指標、等を角膜Ｅｃに投影する。光源は、一つ、複数であってもよい。光源は、点状光源、リング光源、スリット光源であってもよい。光源は、好ましくは赤外光源、又は可視光源が用いられる。
【００１３】
第１投影光学系１は、専用の光学系であってもよいし、他の目的で利用される光学系との兼用であってもよい。兼用の場合、例えば、アライメント光学系が第１投影光学系として用いられる。
【００１４】
第２投影光学系１０は、第１指標とは異なる第２指標を角膜Ｅｃに投影する（例えば、図３参照）。第２指標は、例えば、第１指標とは投影範囲と使用波長の少なくともいずれかが異なる。第２投影光学系１０は、角膜形状の分布を測定するために用いられる。第２指標のパターンは、広範囲に亘る角膜形状を測定可能なパターンが好ましい。例えば、角膜上の投影範囲について、第２指標パターンは、第１の指標パターンより広い。
【００１５】
第２投影光学系１０は、例えば、光軸Ｌ１から離れた位置に配置された光源を有し、斜め方向から角膜Ｅｃに向けて指標を投光する。第２投影光学系１０は、例えば、点状指標、リング指標、スリット指標、等を角膜Ｅｃに投影する。より好ましくは、角膜の広範囲に指標を投影するため、第２投影光学系１０は、複数のリングパターン又は格子パターンを投影する。光源は、一つ、複数であってもよい。また、光源は、点状光源、リング光源、スリット光源であってもよい。
【００１６】
光源は、可視光源、又は赤外光源が用いられる。第２の指標パターンとしては、例えば、可視光（例えば、青、緑、赤）が利用される。特に、青色光の利用は、茶，黒色系の虹彩の影響を回避する上で有効である。なお、可視光の波長帯域は、一般的には、λ＝３６０ｎｍ〜８３０ｎｍとされている。
【００１７】
なお、第１投影光学系１と第２投影光学系１０は、各構成の一部が重複するようにしてもよい。例えば、第２投影光学系１０は、多重リングパターンを投影する光学系であって、第２投影光学系１０の一部のリングパターンが、第１投影光学系１として利用される構成であってもよい。
【００１８】
撮像光学系２０は、撮像素子２２を有し、角膜に投影された第１指標と第２指標の反射像を撮像する。撮像素子２２は、例えば、前眼部と略共役な位置に配置される。そして、撮像光学系２０は、第１投影光学系１及び第２投影光学系１０の波長帯域に合わせて撮像可能な波長帯域が設定される。撮像素子２２には、例えば、２次元ＣＣＤ、２次元ＣＭＯＳなどの二次元受光素子が用いられる。撮像光学系２０は、指標パターンの撮像の他、前眼部像を撮像するようにしてもよい。撮像素子２２からの出力は、演算制御部７０に接続される。
【００１９】
なお、第１指標と第２指標を撮像する撮像素子及び撮像光学系は、同一構成であることが好ましいが、それぞれ別の撮像光学系であってもよい。なお、図１では、第１指標を撮像する撮像光学系は、第２指標を撮像する撮像光学系を兼用する。
【００２０】
演算制御部７０は、例えば、ＣＰＵによって構成され、各構成を制御する。演算制御部７０は、撮像素子２２によって撮像された指標の反射像に基づいて角膜形状を測定する。演算制御部７０は、第１指標の反射像に基づいて第２投影光学系１０の投影光量を調整し、第２指標の反射像に基づいて眼Ｅの角膜形状を測定する。
【００２１】
例えば、演算制御部７０は、第１投影光学系１を用いて第１指標パターンを角膜に投影し、角膜に投影された第１指標パターン像に基づいて角膜形状を測定する。次に、演算制御部７０は、第２指標投影光学系１０を用いて第２指標パターンを角膜に投影し、角膜に投影された第２指標パターン像を撮像光学系２０によって取得する。演算制御部７０は、第２指標パターン像を解析用パターンとして取得し、記憶部７２に記憶させる。解析用パターンが取得された後、第２指標パターンの投影は、速やかに終了されるのが好ましい。
【００２２】
このとき、演算制御部７０は、第１の指標パターンによって取得された角膜形状（第１測定結果）に基づいて第２の指標パターンの光量を制御する。なお、角膜形状に応じて第２指標パターンの光量を変更するのは、測定に必要な光量を確保するためである。すなわち、角膜曲率半径が小さいほど、指標パターンの角膜での反射光は眼の周辺方向に進行し、撮像光学系に向かう光が少なくなる傾向にあるため、光量不足になりやすい。一方、角膜曲率半径が大きいほど、指標パターンの角膜での反射光は正面方向に反射され、撮像光学系に向かう光が多くなる傾向にある。
【００２３】
そこで、第１の指標パターンの撮像結果に応じて、眼Ｅの角膜曲率に合った光量にて第２指標パターンを投影する。なお、角膜曲率に関係なく、指標パターンの光量を初めから高めに設定しておいてもよいが、眼の負担を考慮すると、必ずしも良好な手法とはいえない。指標パターンの投影は、被検者にとって負担である（例えば、可視光の場合、眩しさの問題がある）。
【００２４】
例えば、演算制御部７０は、第１の指標パターンによって得られた第１結果が所定の閾値を満たすか否かを判定し、判定結果に基づいて光量を制御する。このとき、第１結果が所定の角膜曲率半径より大きい場合、演算制御部７０は、第１光量レベルにて第２指標パターンが投光されるように投光光量を調整する。また、演算制御部７０は、第１結果が所定の角膜曲率半径以下の場合、演算制御部７０は、第１光量レベルより大きい第２光量レベルにて第２指標パターンが投光されるように投光光量を調整する。
【００２５】
光量を調整する手法としては、光源に印加する電圧を制御するようにしてもよいし、光源から眼の間に配置されるフィルタによって光量が制御されてもよい（例えば、液晶シャッタ）。なお、演算制御部７０は、第２の指標パターンの全ての光量を変更する必要はなく、例えば、第２の指標パターンにおける周辺部に関して、光量を変更するようにしてもよい。
【００２６】
演算制御部７０は、記憶部７２に記憶された第２指標パターン像を解析し、眼Ｅの角膜形状の分布情報を取得する。そして、演算制御部７０は、得られた分布情報を数値、カラーマップにて出力する。得られた分布情報は、眼内レンズの選択、レーザ屈折矯正手術などに用いられる。
【００２７】
本装置は、簡易的な第１指標パターンを用いて角膜形状を測定する。そして、簡易的に測定された角膜形状を利用して、角膜解析に用いる第２指標パターンの光量を調整する。そして、第２指標パターン像の解析によって広範囲での角膜形状を測定し、測定結果を出力する。これにより、測定精度を確保できると共に、眼にとって負担の大きい第２指標パターンの発光が少なくて済むことで、被検者の負担が軽減される。
【００２８】
なお、装置は、第１の角膜曲率の測定後、速やかに第２指標パターン像を投影するのが好ましい。これにより、角膜解析に用いる第２指標パターンが短時間で取得され、涙液の減少に伴う測定精度の低下が回避される。
【００２９】
また、装置は、第１の指標パターンを赤外光にて角膜に投影し、第２の指標パターンを可視光にて角膜に投影することにより、簡易測定時における眼の負担がいっそう軽減される。
【００３０】
なお、演算制御部７０は、第１指標の反射像に基づいて第２投影光学系１０の投影光量を調整する場合、第１指標の反射像に基づいて測定された角膜形状を利用する手法に限定されない。演算制御部７０は、第１指標の反射像の撮像結果を利用する。例えば、演算制御部７０は、第１指標の反射像の光量レベルを検出し、検出された光量レベルに基づいて第２投影光学系１０の投影光量を調整する。この場合、第１指標の光量レベルが低いほど、第２指標の投影光量を大きくする。
【００３１】
以下に、本実施形態に係る角膜形状測定装置の一例について詳細に説明する。この場合、第１投影光学系１の一例として、眼Ｅに対するＺ方向のアライメント状態を検出するための指標を投光する投光光学系４５ａが用いられる。第２投影光学系１０の一例として、プラチド指標投影光学系１１が用いられる。また、撮像光学系２０として、前眼部観察光学系２１が用いられる。
【００３２】
本一例に係る装置の光学系は、被検眼の角膜上にプラチド指標を投影するプラチド指標投影光学系１１と、被検眼の前眼部を撮像する撮像光学系２１と、被検眼を固視させるための固視標呈示光学系３０と、被検眼角膜にＸＹ方向（上下左右）のアライメント用指標を投影するＸＹアライメント指標投影光学系４０と、被検眼角膜にＺ（作動距離）方向のアライメント用指標を投影しその反射光を検出することにより被検眼に対する装置本体のＺ方向のアライメント情報を検出する作動距離検出光学系４５（投影光学系４５ａ及び検出光学系４５ｂ）と、被検眼の眼屈折力分布又は波面収差を測定するための眼屈折力分布測定光学系９と、に大別される。これらの光学系は、図示なき筐体に配置される。その筐体は、周知のアライメント用移動機構により、眼Ｅに対して三次元的に移動される。
【００３３】
まず、プラチド投影光学系１０について説明する。プラチド板１２は中央部に開口を持つ略半球状であり、光軸Ｌ１を中心として同心円の多数の透光部と遮光部を持つリングパターンが形成されている。可視光源１３は、ＬＥＤ等の可視光を発する。光源１３を発した光は反射板１４で反射され、プラチド板１２を背後からほぼ均一に照明する。被検眼角膜にはプラチドリング像が投影される。なお、前眼部照明光源１５は、プラチド板１２の外周に配置され、前眼部を近赤外光にて照明する。
【００３４】
また、反射板１４の背後には、指標投影光学系４５ａ及び指標検出光学系４５ｂが、光軸Ｌ１に対して左右対称に配置されている。指標投影光学系４５ａは、赤外光源４６とレンズ４７を備え、光軸Ｌ１に対して斜め方向から指標を投影する。指標検出光学系４５ｂは、レンズ４８と位置検出素子４９を備え，投影された指標を反対方向から検出する。
【００３５】
指標投影光学系４５ａにより角膜に形成された指標像の光束は、プラチド板１２及び反射板１４に設けられた開口を通り、指標検出光学系４５ｂのレンズ４８を介して位置検出素子４９に入射する。位置検出素子４９に入射した指標像の位置から，装置に対する眼Ｅの作動距離方向におけるアライメント情報が検出される。
【００３６】
ビームスプリッタ２５は光軸Ｌ１と光軸Ｌ２を同軸とする。光軸Ｌ２上には、固視標呈示光学系３０が配置されている。固視標呈示光学系３０は、例えば、可視の照明光源３１、固視標３２、レンズ３３を有する。光源３１は固視標３２を照明する。固視標３２からの光は、レンズ３３、ダイクロイックミラー２７、ハーフミラー２６、対物レンズ２３、ビームスプリッタ２５を介して、被検眼の眼底に投影される。なお、光源３１及び固視標３２は光軸Ｌ２方向に移動可能であり、被検眼に固視させる固視標３２の視度を変更し、被検眼に雲霧を掛ける。
【００３７】
ダイクロイックミラー２７は可視光を透過し赤外光を反射する。ダイクロイックミラー２７は光軸Ｌ２と光軸Ｌ３を同軸とする。光軸Ｌ３上には、ＸＹアライメント指標投影光学系４０が配置されている。投影光学系４０は、例えば、光源４１、レンズ４２を有する。光源４１からの光は、レンズ４２を介して、ダイクロイックミラー２７にて反射された後、前述の固視標３２からの光と同様の光路を経て、被検眼の角膜上に投影される。
【００３８】
ハーフミラー２６は、光軸Ｌ２と光軸Ｌ４とを同軸とする。光軸Ｌ４上には、撮像光学系２０が配置されている。観察光学系２１は、ビームスプリッタ２５、対物レンズ２３、ハーフミラー２６、テレセントリック絞り２４、撮像レンズ２８、二次元撮像素子２２を有する。被検眼前眼部からの光束は、ビームスプリッタ２５、対物レンズ２３、ビームスプリッタ２６、撮像レンズ２８、テレセントリック絞り２４を介して、撮像素子２２により撮像（受光）される。なお、観察光学系２１は、テレセントリック絞り２４を持ち、光軸に平行な光束を取り込むテレセントリック光学系を構成する。撮像素子２２は、被検眼の前眼部正面像の観察用に使用される他、角膜上に投影されるプラチド指標の撮像、光源４１により形成されるアライメント指標像の検出用として兼用される。
【００３９】
ビームスプリッタ２５の透過方向には、眼屈折力分布測定光学系９が配置されている。測定光学系９は、被検眼の眼底に測定指標を投影する投影光学系２と、投影光学系２によって投影された眼底反射光を受光する受光光学系３と、ビームスプリッタ４と、対物レンズ６と、を含む。ビームスプリッタ４は、投影光学系２から発せられた測定光を反射して被検眼に向かわせ、眼底にて反射された測定光を透過し受光光学系３へと向かわせる。なお、被検眼の眼屈折力分布を測定するための光学系としては、位相差方式（例えば、特開平１０−１０８８３７号公報参照）や、ハルトマン板を用いた方式（例えば、特開平１０−２１６０９２号公報）のものが考えられる。
【００４０】
次に、制御系について説明する。演算制御部（以下、制御部）７０は、撮像素子２２からの撮像信号に基づいて角膜形状データ（角膜曲率分布データ）を取得する。制御部７０は、受光光学系３からの受光信号に基づいて眼Ｅの眼屈折力分布データ（波面収差データ）を取得する。制御部７０は、光源４１により角膜に形成された指標像が撮像素子２２により検出されると、指標像の座標位置を得てＸＹ方向のアライメント情報を検出する。制御部７０は、位置検出素子４９からの信号によりＺ方向のアライメント情報を検出する。
【００４１】
モニタ７５は、制御部７０に接続され、撮像素子２２によって撮像される前眼部像や角膜形状データ等の取得結果を表示する。制御部７０は、モニタ７５の表示を制御し、取得された角膜形状データ及び眼屈折力分布データに基づくカラーマップを表示する。記憶手段としてのメモリ７５は、取得されたマッピング画像及び数値情報からなる眼光学特性情報（例えば、角膜形状情報及び眼屈折力分布情報）を記憶する。制御部７０には、検者がアライメント作業を行うためのジョイスティック５が接続されている。なお、ジョイスティック５の頂部には、測定開始スイッチ５ａが設けられている。
【００４２】
以上のような構成を備える装置において、その動作について説明する。まず、検者は、被検者の顔を図示なき顔支持ユニットに固定させた後、ジョイスティック５を用いて被検眼に対するアライメントを行う。検者は、表示モニタ７５に表示される前眼部像を見ながらアライメントを行う。
【００４３】
図２はアライメント完了時の前眼部観察画面を示す図である。指標Ｔ１は投影光学系４０によって角膜上に形成された指標である。指標Ｔ２は指標投影光学系４５ａによって角膜上に形成された指標である。レチクルＬＴはアライメント基準であり電子的に表示される。
【００４４】
検者は、指標Ｔ１がレチクルＬＴ内に収まるように装置本体をＸＹ方向に移動させる。次に、検者は、図示なきインジケータがアライメント完了を示すように装置本体をＺ方向に移動させる。
【００４５】
上下左右方向、及び作動距離方向のアライメントが適正な状態となったら、検者は、測定開始スイッチ５ａを押す。なお、制御部７０は、ＸＹＺ方向のアライメント情報が許容範囲を満たしたとき、自動的に測定開始のトリガを発するようにしてもよい。
【００４６】
指標Ｔ１は眼Ｅに対して正面方向から投影された光によって形成された指標であり、アライメント完了時において、指標Ｔ１は撮像光軸Ｌ４上に配置される。
【００４７】
投影光学系４５ａから照射された光の角膜での反射光の一部は、眼Ｅの角膜で反射された後、検出光学系４５ｂによって検出される。これにより、Ｚ方向のアライメント状態が検出される。
【００４８】
投影光学系４５ａから照射された光の角膜での反射光の一部（光軸Ｌ１に平行な光束）は、撮像素子２２に受光される（図４参照）。指標Ｔ２は投影光学系４５ａによって形成される指標であり、アライメント完了時において、撮像素子２２上における光軸Ｌ４上から離れた位置に受光される。このとき、光軸Ｌ４に対する指標Ｔ２の像高Ｄは、眼Ｅの角膜曲率半径によって変化する（図２、図４参照）。
【００４９】
＜第１の測定＞  そこで、制御部７０は、撮像素子２２から出力される撮像画像における指標Ｔ２の座標位置を画像処理により検出し、像高Ｄを測定する（図２参照）。制御部７０は、撮像光軸Ｌ４から指標Ｔ２までの距離を像高Ｄとして測定してもよいし、指標Ｔ１と指標Ｔ２との間の距離を像高Ｄとして測定するようにしてもよい。そして、制御部７０は、測定された像高Ｄに基づいて曲率半径を測定する。この場合、例えば、角膜曲率が異なる模型眼を用いて角膜曲率と距離Ｄとの関係を予め求めておけばよい（キャリブレーション）。
【００５０】
そして、制御部７０は、測定された曲率半径が、所定の曲率半径（例えば、５ｍｍ）より大きいか否かを判定する。判定結果は、第２の測定における投影光学系１１の投影光量の調整に用いられる。このとき、曲率半径が大きいほど、投影光量が低く設定される。一方、曲率半径が小さいほど、投影光量が高く設定される。なお、光量設定について、所定の曲率半径を閾値とする２段階の光量設定を例に示したが、これに限定されない。例えば、曲率半径に応じて３段階以上の光量が設定できる構成であってもよい。
【００５１】
なお、制御部７０は、第１の測定を行う前眼部像として、アライメント完了と判定された前眼部像（測定開始のトリガとなった画像）、又はアライメント完了と判定された次のフレームレートにて取得された前眼部像を用いることが好ましい。
【００５２】
また、第１の測定にて得られる角膜曲率は、光量設定に用いられるものである。したがって、制御部７０は、曲率半径と一対の関係にある像高Ｄに応じて投影光学系１０の光量を調整するようにしてもよい。
【００５３】
＜第２の測定＞  第１の測定の終了後、制御部７０は、投影光学系１１の各光源を発光させ、角膜Ｅｃ上にプラチド指標Ｐを投影する（図３参照）。このとき、制御部７０は、第１の測定にて取得された曲率半径に応じて光源４６への印加電圧を調整することにより、プラチド指標の光量を調整する。
【００５４】
そして、制御部７０は、プラチド指標が投影された前眼部像を撮像素子２２を用いて撮像する。そして、前眼部の撮像が完了されると、制御部７０は、取得されたプラチド指標の解析により角膜形状の分布情報を得る。そして、制御部７０は、取得された分布情報をカラーマップにて表示する。
【００５５】
なお、上記構成においては、アライメント指標Ｔ１を角膜上に形成させるための投影光学系（投影光学系４０）を特別に設けたが、投影光学系２がこれを兼用する構成であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本実施形態に係る角膜形状測定装置の概略構成図である。
【図２】撮像光学系によって撮像された第１指標パターン像及び前眼部像を示す例であり、撮像画像がモニタに表示された状態を示す。
【図３】撮像光学系によって撮像された第２指標像及び前眼部像を示す例である。
【図４】第１指標パターン像を用いて角膜形状を測定する手法について説明する図である。
【符号の説明】
【００５７】
１  第１投影光学系
１０  第２投影光学系
１３  可視光源
２０  撮像光学系
４６  赤外光源
７０  演算制御部
【図１】
0006007466.tif 000002
【図２】
0006007466.tif 000003
【図３】
0006007466.tif 000004
【図４】
0006007466.tif 000005