(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性の支持体と、
前記支持体によって支持される基板と、
前記支持体と前記基板との間に設けられており、前記支持体と前記基板とを接着する接着層と、
前記支持体と前記接着層との間に設けられており、前記支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する分離層とを備え、
前記接着層は、前記支持体側から前記基板側へ透過する光の透過量を低減する接着剤組成物により形成されており、
前記接着剤組成物は、接着材料と、非相溶性ポリマーとを含み、
前記非相溶性ポリマーは、前記接着材料に溶解せずに、前記接着剤組成物中に分散していることを特徴とする積層体。
【請求項２】
前記接着剤組成物は、光吸収剤及び光分散剤のうちの少なくとも１つをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記接着剤組成物において、前記接着材料に対する前記光吸収剤の含有量が０．１〜１０重量％であることを特徴とする請求項２に記載の積層体。
【請求項４】
前記光吸収剤は、有機物であることを特徴とする請求項２又は３に記載の積層体。
【請求項５】
前記接着剤組成物において、前記接着材料に対する前記光分散剤の含有量が５〜５０重量％であることを特徴とする請求項２に記載の積層体。
【請求項６】
前記光分散剤は、無機物であることを特徴とする請求項２又は５に記載の積層体。
【請求項７】
前記接着剤組成物において、前記接着材料に対する前記非相溶性ポリマーの含有量が１０〜５０重量％であることを特徴とする請求項１に記載の積層体。
【請求項８】
前記非相溶性ポリマーは、エチレン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ポリウレタン系エラストマー、アクリル系重合体であることを特徴とする請求項１又は７に記載の積層体。
【請求項９】
前記接着材料は、炭化水素樹脂であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の積層体における前記基板から前記支持体を分離する方法であって、
前記支持体を介して前記分離層にレーザー光を照射して、前記分離層を変質させる光照射工程を包含していることを特徴とする分離方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は積層体及び積層体の分離方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
支持体上に固定された被研削基材を、支持体から剥離するための技術が、特許文献１及び特許文献２に記載されている。特許文献１及び２に記載の積層体は、支持体、光熱変換層、接合層及び被研削基材が、この順番に積層されて形成されており、支持体側からレーザー光を照射することによって、光熱変換層を変質させ、支持体から被研削機材を剥離する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−６４０４０号公報（２００４年２月２６日公開）
【特許文献２】特開２００９−１５５６５２号公報（２００９年７月１６日公開）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、モバイルパソコン、スマートフォン、電子ペーパー等のポータブルデバイスの普及に伴い、軽くかつ割れないディスプレイのニーズが高まっている。ディスプレイには、従来、ガラス基板が使用されていたが、軽量でかつ割れにくいディスプレイのニーズに応じて、ガラス基板の代わりにフィルム基板が用いられている。
【０００５】
ディスプレイの製造プロセスにおいても、基板を自動搬送するが、フィルム基板は従来のガラス基板よりも薄いため、ガラス基板と同様にフィルム基板を自動搬送するのは困難である。このため、フィルム基板を用いた製造プロセスにおいては、フィルム基板にガラス等のサポートプレートを貼り合わせた積層体を予め作成し、積層体の状態でフィルム基板を自動搬送する。
【０００６】
製造プロセス中は、サポートプレートに貼り合わされたフィルム基板を自動搬送しながら、フィルム基板上に電気回路、表示素子等の構造物を実装する。そして、製造プロセス後に、フィルム基板をサポートプレートから分離する。したがって、製造プロセス中は、フィルム基板とサポートプレートとが強固に接着していることが好ましいが、製造プロセス後には、サポートプレートからフィルム基板を円滑に分離できることが好ましい。
【０００７】
フィルム基板とサポートプレートとを強固に接着した場合、接着材料によっては、フィルム基板上に実装した構造物を破損させることなく、フィルム基板からサポートプレートを分離することは困難である。したがって、製造プロセス中にはフィルム基板とサポートプレートとの強固な接着を実現しつつ、製造プロセス後にはフィルム基板上に実装した素子を破損させることなく分離するという、非常に困難な仮止め技術の開発が求められている。
【０００８】
特許文献１及び２に記載の積層体において、剥離時に支持体側からレーザー光を照射すると、照射したレーザー光が光熱変換層から漏れることがある。そして、その漏れ光がウエハ等の被研削基材に到達し、当該基材に悪影響を及ぼすことがあった。また、このような漏れ光を低減するためには、熱光変換層を厚膜化することが考えられるが、スループット及びコスト面から困難である。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、製造プロセス後には光照射により容易に基板と支持体とに分離可能であるとともに、光による基板表面への悪影響を防止した積層体を提供することを主たる目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するために、本発明に係る積層体は、光透過性の支持体と、前記支持体によって支持される基板と、前記支持体と前記基板との間に設けられており、前記支持体と前記基板とを接着する接着層と、前記支持体と前記接着層との間に設けられており、前記支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する分離層とを備え、前記接着層は、前記支持体側から前記基板側へ透過する光の透過量を低減する接着剤組成物により形成されていることを特徴としている。
【００１１】
本発明に係る分離方法は、上記の積層体における前記基板から前記支持体を分離する方法であって、前記支持体を介して前記分離層にレーザー光を照射して、前記分離層を変質させる光照射工程を包含していることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係る積層体は、光透過性の支持体と、前記支持体によって支持される基板と、前記支持体と前記基板との間に設けられており、前記支持体と前記基板とを接着する接着層と、前記支持体と前記接着層との間に設けられており、前記支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する分離層とを備え、前記接着層は、前記支持体側から前記基板側へ透過する光の透過量を低減する接着剤組成物により形成されているため、製造プロセス後には光照射により容易に基板と支持体とに分離可能であるとともに、光による基板表面への悪影響を防止した積層体を提供できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法、及びサポートプレートの分離方法を示す図である。
【図２】サポートプレートの分離工程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。
【００１５】
本発明に係る積層体は、光透過性の支持体と、支持体によって支持される基板と、支持体と基板との間に設けられており、支持体と基板とを接着する接着層と、支持体と接着層との間に設けられており、支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する分離層とを備え、接着層は、支持体側から基板側へ透過する光の透過量を低減する接着剤組成物により形成されていることを特徴としている。
【００１６】
〔積層体１〕
本発明に係る積層体の一実施形態について、図１を用いて説明する。図１は本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法、及びサポートプレートの分離方法を示す図である。積層体１は、基板１１、接着層１４、分離層１６、及び、サポートプレート（支持体）１２をこの順番に積層してなる。また、サポートプレート１２と基板１１とは、分離層１６及び接着層１４を介して接着している。
【００１７】
（基板１１）
基板１１は、サポートプレート１２に支持された状態で、薄化、実装等のプロセスに供されるものである。基板１１としては、ウエハ基板に限定されず、薄いフィルム基板、フレキシブル基板等の任意の基板を使用することができる。
【００１８】
（サポートプレート１２）
サポートプレート１２は、基板１１を支持する支持体であり、光透過性を有している。そのため、積層体１の外からサポートプレート１２に向けて光が照射されたときに、当該光がサポートプレート１２を通過して分離層１６に到達する。また、サポートプレート１２は、必ずしも全ての光を透過させる必要はなく、分離層１６に吸収されるべき（所望の波長を有している）光を透過させることができればよい。
【００１９】
サポートプレート１２は、基板１１を支持するものであり、基板１１の薄化、搬送、実装等のプロセス時に、基板１１の破損又は変形を防ぐために必要な強度を有していればよい。以上のような観点から、サポートプレート１２としては、ガラス、シリコン、アクリルからなるもの等が挙げられる。サポートプレート１２がシリコン板である場合には、波長が２μｍ以上の赤外線を透過させることができる。
【００２０】
（分離層１６）
分離層１６は、サポートプレート１２を介して照射される光を吸収することによって変質する。本明細書において、分離層１６が「変質する」とは、分離層１６をわずかな外力を受けて破壊され得る状態、又は分離層１６と接する層との接着力が低下した状態にさせる現象を意味する。また、分離層１６の変質は、吸収した光のエネルギーによる（発熱性又は非発熱性の）分解、架橋、立体配置の変化又は官能基の解離（そして、これらにともなう分離層の硬化、脱ガス、収縮又は膨張）等であり得る。分離層１６の変質は、分離層１６を構成する材料による光の吸収の結果として生じる。よって、分離層１６の変質の種類は、分離層１６を構成する材料の種類に応じて変化し得る。
【００２１】
分離層１６は、サポートプレート１２における、接着層１４を介して基板１１が貼り合わされる側の表面に設けられている。すなわち、分離層１６は、サポートプレート１２と接着層１４との間に設けられている。
【００２２】
分離層１６の厚さは、例えば、０．１〜５０μｍであることがより好ましく、０．１〜１０μｍの厚さであることがさらに好ましい。分離層１６の厚さが０．１〜５０μｍの範囲内に収まっていれば、短時間の光の照射及び低エネルギーの光の照射によって、分離層１６を所望のように変質させることができる。また、分離層１６の厚さは、生産性の観点から１μｍ以下の範囲内に収まっていることが好ましい。
【００２３】
なお、積層体１において、分離層１６とサポートプレート１２との間に他の層がさらに形成されていてもよい。この場合、他の層は光を透過する材料から構成されていればよい。これによって、分離層１６への光の入射を妨げることなく、積層体１に好ましい性質などを付与する層を、適宜追加することができる。分離層１６を構成している材料の種類によって、用い得る光の波長が異なる。よって、他の層を構成する材料は、すべての光を透過させる必要はなく、分離層１６を構成する材料を変質させ得る波長の光を透過させることができる材料から適宜選択し得る。
【００２４】
また、分離層１６は、光を吸収する構造を有する材料のみから形成されていることが好ましいが、本発明における本質的な特性を損なわない範囲において、光を吸収する構造を有していない材料を添加して、分離層１６を形成してもよい。また、分離層１６における接着層１４に対向する側の面が平坦である（凹凸が形成されていない）ことが好ましく、これにより、分離層１６の形成が容易に行なえ、且つ貼り付けにおいても均一に貼り付けることが可能となる。
【００２５】
分離層１６は、以下に示すような分離層１６を構成する材料を予めフィルム状に形成したものをサポートプレート１２に貼り合わせて用いてもよいし、サポートプレート１２上に分離層１６を構成する材料を塗布してフィルム状に固化したものを用いてもよい。サポートプレート１２上に分離層１６を構成する材料を塗布する方法は、分離層１６を構成する材料の種類に応じて、従来公知の方法から適宜選択することができる。
【００２６】
分離層１６は、レーザーから照射される光を吸収することによって変質するものであってもよい。すなわち、分離層１６を変質させるために分離層１６に照射される光は、レーザーから照射されたものであってもよい。分離層１６に照射する光を発射するレーザーの例としては、ＹＡＧレーザー、リビーレーザー、ガラスレーザー、ＹＶＯ４レーザー、ＬＤレーザー、ファイバーレーザー等の固体レーザー、色素レーザー等の液体レーザー、ＣＯ２レーザー、エキシマレーザー、Ａｒレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー等の気体レーザー、半導体レーザー、自由電子レーザー等のレーザー光、又は、非レーザー光等が挙げられる。分離層１６に照射する光を発射するレーザーは、分離層１６を構成している材料に応じて適宜選択することが可能であり、分離層１６を構成する材料を変質させ得る波長の光を照射するレーザーを選択すればよい。
【００２７】
＜光吸収性を有している構造をその繰返し単位に含んでいる重合体＞
分離層１６は、光吸収性を有している構造をその繰返し単位に含んでいる重合体を含有していてもよい。当該重合体は、光の照射を受けて変質する。当該重合体の変質は、上記構造が照射された光を吸収することによって生じる。分離層１６は、重合体の変質の結果として、光の照射を受ける前の強度又は接着性を失っている。よって、わずかな外力を加える（例えば、サポートプレート１２を持ち上げるなど）ことによって、分離層１６が破壊されて、サポートプレート１２と基板１１とを容易に分離することができる。
【００２８】
光吸収性を有している上記構造は、光を吸収して、繰返し単位として当該構造を含んでいる重合体を変質させる化学構造である。当該構造は、例えば、置換もしくは非置換のベンゼン環、縮合環又は複素環からなる共役π電子系を含んでいる原子団である。より詳細には、当該構造は、カルド構造、又は上記重合体の側鎖に存在するベンゾフェノン構造、ジフェニルスルフォキシド構造、ジフェニルスルホン構造（ビスフェニルスルホン構造）、ジフェニル構造もしくはジフェニルアミン構造であり得る。
【００２９】
上記構造が上記重合体の側鎖に存在する場合、当該構造は以下の式によって表され得る。
【００３０】
【化１】
0005875850.tif 000002
【００３１】
式中、Ｒはそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基、ハロゲン、水酸基、ケトン基、スルホキシド基、スルホン基又はＮ（Ｒ４）（Ｒ５）であり（ここで、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である）、Ｚは、存在しないか、又はＣＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−もしくは−ＮＨ−であり、ｎは０又は１〜５の整数である。
【００３２】
また、上記重合体は、例えば、以下の式のうち、（ａ）〜（ｄ）のいずれかによって表される繰返し単位を含んでいるか、（ｅ）によって表されるか、又は（ｆ）の構造をその主鎖に含んでいる。
【００３３】
【化２】
0005875850.tif 000003
【００３４】
式中、ｌは１以上の整数であり、ｍは０又は１〜２の整数であり、Ｘは、（ａ）〜（ｅ）において上記の“化１”に示した式のいずれかであり、（ｆ）において上記の“化１”に示した式のいずれかであるか、又は存在せず、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立して、−ＣＯ−又はＳＯ２−である。ｌは好ましくは１０以下の整数である。
【００３５】
上記の“化１”に示されるベンゼン環、縮合環及び複素環の例としては、フェニル、置換フェニル、ベンジル、置換ベンジル、ナフタレン、置換ナフタレン、アントラセン、置換アントラセン、アントラキノン、置換アントラキノン、アクリジン、置換アクリジン、アゾベンゼン、置換アゾベンゼン、フルオリム、置換フルオリム、フルオリモン、置換フルオリモン、カルバゾール、置換カルバゾール、Ｎ−アルキルカルバゾール、ジベンゾフラン、置換ジベンゾフラン、フェナンスレン、置換フェナンスレン、ピレン及び置換ピレンが挙げられる。例示した置換基が置換を有している場合、その置換基は、例えば、アルキル、アリール、ハロゲン原子、アルコキシ、ニトロ、アルデヒド、シアノ、アミド、ジアルキルアミノ、スルホンアミド、イミド、カルボン酸、カルボン酸エステル、スルホン酸、スルホン酸エステル、アルキルアミノ及びアリールアミノから選択される。
【００３６】
上記の“化１”に示される置換基のうち、フェニル基を２つ有している５番目の置換基であって、Ｚが−ＳＯ２−である場合の例としては、ビス（２，４‐ジヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，４‐ジヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，５‐ジヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，６‐ジヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４‐ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３‐ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（２‐ヒドロキシフェニル）スルホン、及びビス（３，５‐ジメチル‐４‐ヒドロキシフェニル）スルホンなどが挙げられる。
【００３７】
上記の“化１”に示される置換基のうち、フェニル基を２つ有している５番目の置換基であって、Ｚが−ＳＯ−である場合の例としては、ビス（２，３‐ジヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（５‐クロロ‐２，３‐ジヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（２，４‐ジヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（２，４‐ジヒドロキシ‐６‐メチルフェニル）スルホキシド、ビス（５‐クロロ‐２，４‐ジヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（２，５‐ジヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（３，４‐ジヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（３，５‐ジヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（２，３，４‐トリヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（２，３，４‐トリヒドロキシ‐６‐メチルフェニル）‐スルホキシド、ビス（５‐クロロ‐２，３，４‐トリヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（２，４，６‐トリヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（５‐クロロ‐２，４，６‐トリヒドロキシフェニル）スルホキシドなどが挙げられる。
【００３８】
上記の“化１”に示される置換基のうち、フェニル基を２つ有している５番目の置換基であって、Ｚが−Ｃ（＝Ｏ）−である場合の例としては、２，４‐ジヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４‐トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’‐テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，５，６’‐テトラヒドロキシベンゾフェノン、２‐ヒドロキシ‐４‐メトキシベンゾフェノン、２‐ヒドロキシ‐４‐オクトキシベンゾフェノン、２‐ヒドロキシ‐４‐ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２’‐ジヒドロキシ‐４‐メトキシベンゾフェノン、２，６‐ジヒドロキシ‐４‐メトキシベンゾフェノン、２，２’‐ジヒドロキシ‐４，４’‐ジメトキシベンゾフェノン、４‐アミノ‐２’‐ヒドロキシベンゾフェノン、４‐ジメチルアミノ‐２’‐ヒドロキシベンゾフェノン、４‐ジエチルアミノ‐２’‐ヒドロキシベンゾフェノン、４‐ジメチルアミノ‐４’‐メトキシ‐２’‐ヒドロキシベンゾフェノン、４‐ジメチルアミノ‐２’，４’‐ジヒドロキシベンゾフェノン、及び４‐ジメチルアミノ‐３’，４’‐ジヒドロキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００３９】
上記構造が上記重合体の側鎖に存在している場合、上記構造を含んでいる繰返し単位の、上記重合体に占める割合は、分離層１６の光の透過率が０．００１〜１０％になる範囲にある。当該割合がこのような範囲に収まるように重合体が調製されていれば、分離層１６が十分に光を吸収して、確実かつ迅速に変質し得る。すなわち、積層体１からのサポートプレート１２の除去が容易であり、当該除去に必要な光の照射時間を短縮させることができる。
【００４０】
上記構造は、その種類の選択によって、所望の範囲の波長を有している光を吸収することができる。例えば、上記構造が吸収可能な光の波長は、１００〜２０００ｎｍであることがより好ましい。この範囲のうち、上記構造が吸収可能な光の波長は、より短波長側であり、例えば、１００〜５００ｎｍである。例えば、上記構造は、好ましくは約３００〜３７０ｎｍの波長を有している紫外光を吸収することによって、当該構造を含んでいる重合体を変質させ得る。
【００４１】
上記構造が吸収可能な光は、例えば、高圧水銀ランプ（波長：２５４ｎｍ〜４３６ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザー（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマレーザー（波長：１５７ｎｍ）、ＸｅＣｌレーザー（３０８ｎｍ）、ＸｅＦレーザー（波長：３５１ｎｍ）もしくは固体ＵＶレーザー（波長：３５５ｎｍ）から発せられる光、又はｇ線（波長：４３６ｎｍ）、ｈ線（波長：４０５ｎｍ）もしくはｉ線（波長：３６５ｎｍ）などである。
【００４２】
上述した分離層１６は、繰り返し単位として上記構造を含んでいる重合体を含有しているが、分離層１６はさらに、上記重合体以外の成分を含み得る。当該成分としては、フィラー、可塑剤、及びサポートプレート１２の剥離性を向上し得る成分などが挙げられる。これらの成分は、上記構造による光の吸収、及び重合体の変質を妨げないか、又は促進する、従来公知の物質又は材料から適宜選択される。
【００４３】
＜無機物＞
分離層１６は、無機物からなっていてもよい。分離層１６は、無機物によって構成されることにより、光を吸収することによって変質するようになっており、その結果として、光の照射を受ける前の強度又は接着性を失う。よって、わずかな外力を加える（例えば、サポートプレート１２を持ち上げる等）ことによって、分離層１６が破壊されて、サポートプレート１２と基板１１とを容易に分離することができる。
【００４４】
上記無機物は、光を吸収することによって変質する構成であればよく、例えば、金属、金属化合物及びカーボンからなる群より選択される１種類以上の無機物を好適に用いることができる。金属化合物とは、金属原子を含む化合物を指し、例えば、金属酸化物、金属窒化物であり得る。このような無機物の例示としては、これに限定されるものではないが、金、銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウム、チタン、クロム、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＮ、及びカーボンからなる群より選ばれる１種類以上の無機物が挙げられる。なお、カーボンとは炭素の同素体も含まれ得る概念であり、例えば、ダイヤモンド、フラーレン、ダイヤモンドライクカーボン、カーボンナノチューブ等であり得る。
【００４５】
上記無機物は、その種類によって固有の範囲の波長を有する光を吸収する。分離層１６に用いた無機物が吸収する範囲の波長の光を分離層に照射することにより、上記無機物を好適に変質させ得る。
【００４６】
無機物からなる分離層１６に照射する光としては、上記無機物が吸収可能な波長に応じて、例えば、ＹＡＧレーザー、リビーレーザー、ガラスレーザー、ＹＶＯ４レーザー、ＬＤレーザー、ファイバーレーザー等の固体レーザー、色素レーザー等の液体レーザー、ＣＯ２レーザー、エキシマレーザー、Ａｒレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー等の気体レーザー、半導体レーザー、自由電子レーザー等のレーザー光、又は、非レーザー光を適宜用いればよい。
【００４７】
無機物からなる分離層１６は、例えばスパッタ、化学蒸着（ＣＶＤ）、メッキ、プラズマＣＶＤ、スピンコート等の公知の技術により、サポートプレート１２上に形成され得る。無機物からなる分離層１６の厚さは特に限定されず、使用する光を十分に吸収し得る膜厚であればよいが、例えば、０．１〜１０μｍの膜厚とすることがより好ましい。また、分離層１６を構成する無機物からなる無機膜（例えば、金属膜）の両面又は片面に予め接着剤を塗布し、サポートプレート１２及び基板１１に貼り付けてもよい。
【００４８】
なお、分離層１６として金属膜を使用する場合には、分離層１６の膜質、レーザー光源の種類、レーザー出力等の条件によっては、レーザーの反射や膜への帯電等が起こり得る。そのため、反射防止膜や帯電防止膜を分離層１６の上下又はそのどちらか一方に設けることで、それらの対策をとることが好ましい。
【００４９】
＜赤外線吸収性の構造を有する化合物＞
分離層１６は、赤外線吸収性の構造を有する化合物によって形成されていてもよい。当該化合物は、赤外線を吸収することにより変質する。分離層１６は、化合物の変質の結果として、赤外線の照射を受ける前の強度又は接着性を失っている。よって、わずかな外力を加える（例えば、サポートプレートを持ち上げるなど）ことによって、分離層１６が破壊されて、サポートプレート１２と基板１１とを容易に分離することができる。
【００５０】
赤外線吸収性を有している構造又は赤外線吸収性を有している構造を含む化合物としては、例えば、アルカン、アルケン（ビニル、トランス、シス、ビニリデン、三置換、四置換、共役、クムレン、環式）、アルキン（一置換、二置換）、単環式芳香族（ベンゼン、一置換、二置換、三置換）、アルコール及びフェノール類（自由ＯＨ、分子内水素結合、分子間水素結合、飽和第二級、飽和第三級、不飽和第二級、不飽和第三級）、アセタール、ケタール、脂肪族エーテル、芳香族エーテル、ビニルエーテル、オキシラン環エーテル、過酸化物エーテル、ケトン、ジアルキルカルボニル、芳香族カルボニル、１，３−ジケトンのエノール、ｏ−ヒドロキシアリールケトン、ジアルキルアルデヒド、芳香族アルデヒド、カルボン酸（二量体、カルボン酸アニオン）、ギ酸エステル、酢酸エステル、共役エステル、非共役エステル、芳香族エステル、ラクトン（β−、γ−、δ−）、脂肪族酸塩化物、芳香族酸塩化物、酸無水物（共役、非共役、環式、非環式）、第一級アミド、第二級アミド、ラクタム、第一級アミン（脂肪族、芳香族）、第二級アミン（脂肪族、芳香族）、第三級アミン（脂肪族、芳香族）、第一級アミン塩、第二級アミン塩、第三級アミン塩、アンモニウムイオン、脂肪族ニトリル、芳香族ニトリル、カルボジイミド、脂肪族イソニトリル、芳香族イソニトリル、イソシアン酸エステル、チオシアン酸エステル、脂肪族イソチオシアン酸エステル、芳香族イソチオシアン酸エステル、脂肪族ニトロ化合物、芳香族ニトロ化合物、ニトロアミン、ニトロソアミン、硝酸エステル、亜硝酸エステル、ニトロソ結合（脂肪族、芳香族、単量体、二量体）、メルカプタン及びチオフェノール及びチオール酸などの硫黄化合物、チオカルボニル基、スルホキシド、スルホン、塩化スルホニル、第一級スルホンアミド、第二級スルホンアミド、硫酸エステル、炭素−ハロゲン結合、Ｓｉ−Ａ１結合（Ａ１は、Ｈ、Ｃ、Ｏ又はハロゲン）、Ｐ−Ａ２結合（Ａ２は、Ｈ、Ｃ又はＯ）、又はＴｉ−Ｏ結合であり得る。
【００５１】
上記炭素−ハロゲン結合を含む構造としては、例えば、−ＣＨ２Ｃｌ、−ＣＨ２Ｂｒ、−ＣＨ２Ｉ、−ＣＦ２−、−ＣＦ３、−ＣＨ＝ＣＦ２、−ＣＦ＝ＣＦ２、フッ化アリール、及び塩化アリールなどが挙げられる。
【００５２】
上記Ｓｉ−Ａ１結合を含む構造としては、ＳｉＨ、ＳｉＨ２、ＳｉＨ３、Ｓｉ−ＣＨ３、Ｓｉ−ＣＨ２−、Ｓｉ−Ｃ６Ｈ５、ＳｉＯ脂肪族、Ｓｉ−ＯＣＨ３、Ｓｉ−ＯＣＨ２ＣＨ３、Ｓｉ−ＯＣ６Ｈ５、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ、Ｓｉ−ＯＨ、ＳｉＦ、ＳｉＦ２、及びＳｉＦ３などが挙げられる。Ｓｉ−Ａ１結合を含む構造としては、特に、シロキサン骨格及びシルセスキオキサン骨格を形成していることが好ましい。
【００５３】
上記Ｐ−Ａ２結合を含む構造としては、ＰＨ、ＰＨ２、Ｐ−ＣＨ３、Ｐ−ＣＨ２−、Ｐ−Ｃ６Ｈ５、Ａ３３−Ｐ−Ｏ（Ａ３は脂肪族又は芳香族）、（Ａ４Ｏ）３−Ｐ−Ｏ（Ａ４はアルキル）、Ｐ−ＯＣＨ３、Ｐ−ＯＣＨ２ＣＨ３、Ｐ−ＯＣ６Ｈ５、Ｐ−Ｏ−Ｐ、Ｐ−ＯＨ、及びＯ＝Ｐ−ＯＨなどが挙げられる。
【００５４】
上記構造は、その種類の選択によって、所望の範囲の波長を有している赤外線を吸収することができる。例えば、上記構造が吸収可能な赤外線の波長は、例えば１μｍ〜２０μｍの範囲内であり、２μｍ〜１５μｍの範囲内をより好適に吸収できる。さらに、上記構造がＳｉ−Ｏ結合、Ｓｉ−Ｃ結合及びＴｉ−Ｏ結合である場合には、９μｍ〜１１μｍの範囲内であり得る。なお、各構造が吸収できる赤外線の波長は当業者であれば容易に理解することができる。例えば、各構造における吸収帯として、非特許文献：ＳＩＬＶＥＲＳＴＥＩＮ・ＢＡＳＳＬＥＲ・ＭＯＲＲＩＬＬ著「有機化合物のスペクトルによる同定法（第５版）−ＭＳ、ＩＲ、ＮＭＲ、ＵＶの併用−」（１９９２年発行）第１４６頁〜第１５１頁の記載を参照することができる。
【００５５】
分離層１６の形成に用いられる、赤外線吸収性の構造を有する化合物としては、上述のような構造を有している化合物のうち、塗布のために溶媒に溶解でき、固化されて固層を形成できるものであれば、特に限定されるものではない。しかしながら、分離層１６における化合物を効果的に変質させ、サポートプレート１２と基板１１との分離を容易にするには、分離層１６における赤外線の吸収が大きいこと、すなわち、分離層１６に赤外線を照射した際の赤外線の透過率が低いことが好ましい。具体的には、分離層１６における赤外線の透過率が９０％より低いことが好ましく、赤外線の透過率が８０％より低いことがより好ましい。
【００５６】
一例を挙げて説明すれば、シロキサン骨格を有する化合物としては、例えば、下記式（１）で表される繰り返し単位及び下記式（２）で表される繰り返し単位の共重合体である樹脂、あるいは下記式（１）で表される繰り返し単位及びアクリル系化合物由来の繰り返し単位の共重合体である樹脂を用いることができる。
【００５７】
【化３】
0005875850.tif 000004
【００５８】
（式（２）中、Ｒ１は、水素、炭素数１０以下のアルキル基、炭素数１０以下のアルコキシ基である）
中でも、シロキサン骨格を有する化合物としては、上記式（１）で表される繰り返し単位及び下記式（３）で表される繰り返し単位の共重合体であるｔｅｒｔ−ブチルスチレン（ＴＢＳＴ）−ジメチルシロキサン共重合体がより好ましく、上記式（１）で表される繰り返し単位及び下記式（３）で表される繰り返し単位を１：１で含む、ＴＢＳＴ−ジメチルシロキサン共重合体がさらに好ましい。
【００５９】
【化４】
0005875850.tif 000005
【００６０】
また、シルセスキオキサン骨格を有する化合物としては、例えば、下記式（４）で表される繰り返し単位及び下記式（５）で表される繰り返し単位の共重合体である樹脂を用いることができる。
【００６１】
【化５】
0005875850.tif 000006
【００６２】
（式（４）中、Ｒ２は、水素又は炭素数１以上、１０以下のアルキル基であり、式（５）中、Ｒ３は、炭素数１以上、１０以下のアルキル基、又はフェニル基である）
シルセスキオキサン骨格を有する化合物としては、このほかにも、特許文献３：特開２００７−２５８６６３号公報（２００７年１０月４日公開）、特許文献４：特開２０１０−１２０９０１号公報（２０１０年６月３日公開）、特許文献５：特開２００９−２６３３１６号公報（２００９年１１月１２日公開）及び特許文献６：特開２００９−２６３５９６号公報（２００９年１１月１２日公開）において開示されている各シルセスキオキサン樹脂を好適に利用できる。
【００６３】
中でも、シルセスキオキサン骨格を有する化合物としては、下記式（６）で表される繰り返し単位及び下記式（７）で表される繰り返し単位の共重合体がより好ましく、下記式（６）で表される繰り返し単位及び下記式（７）で表される繰り返し単位を７：３で含む共重合体がさらに好ましい。
【００６４】
【化６】
0005875850.tif 000007
【００６５】
シルセスキオキサン骨格を有する重合体としては、ランダム構造、ラダー構造、及び籠型構造があり得るが、何れの構造であってもよい。
【００６６】
また、Ｔｉ−Ｏ結合を含む化合物としては、例えば、（ｉ）テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）チタン、及びチタニウム−ｉ−プロポキシオクチレングリコレートなどのアルコキシチタン、（ii）ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン、及びプロパンジオキシチタンビス（エチルアセトアセテート）などのキレートチタン、（iii）ｉ−Ｃ３Ｈ７Ｏ−［−Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ３Ｈ７）２−Ｏ−］ｎ−ｉ−Ｃ３Ｈ７、及びｎ−Ｃ４Ｈ９Ｏ−［−Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ４Ｈ９）２−Ｏ−］ｎ−ｎ−Ｃ４Ｈ９などのチタンポリマー、（iv）トリ−ｎ−ブトキシチタンモノステアレート、チタニウムステアレート、ジ−ｉ−プロポキシチタンジイソステアレート、及び（２−ｎ−ブトキシカルボニルベンゾイルオキシ）トリブトキシチタンなどのアシレートチタン、（ｖ）ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（トリエタノールアミナト）チタンなどの水溶性チタン化合物などが挙げられる。
【００６７】
中でも、Ｔｉ−Ｏ結合を含む化合物としては、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（トリエタノールアミナト）チタン（Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ９）２［ＯＣ２Ｈ４Ｎ（Ｃ２Ｈ４ＯＨ）２］２）が好ましい。
【００６８】
上述した分離層１６は、赤外線吸収性の構造を有する化合物を含有しているが、分離層１６はさらに、上記化合物以外の成分を含み得る。当該成分としては、フィラー、可塑剤、及びサポートプレート１２の剥離性を向上し得る成分などが挙げられる。これらの成分は、上記構造による赤外線の吸収、及び化合物の変質を妨げないか、又は促進する、従来公知の物質又は材料から適宜選択される。
【００６９】
＜フルオロカーボン＞
分離層１６は、フルオロカーボンからなっていてもよい。分離層１６は、フルオロカーボンによって構成されることにより、光を吸収することによって変質するようになっており、その結果として、光の照射を受ける前の強度又は接着性を失う。よって、わずかな外力を加える（例えば、サポートプレート１２を持ち上げるなど）ことによって、分離層１６が破壊されて、サポートプレート１２と基板１１とを容易に分離することができる。
【００７０】
また、一つの観点からいえば、分離層１６を構成するフルオロカーボンは、プラズマＣＶＤ法によって好適に成膜され得る。なお、フルオロカーボンは、ＣｘＦｙ（パーフルオロカーボン）及びＣｘＨｙＦｚ（ｘ、ｙ及びｚは自然数）を含み、これらに限定されないが、例えば、ＣＨＦ３、ＣＨ２Ｆ２、Ｃ２Ｈ２Ｆ２、Ｃ４Ｆ８、Ｃ２Ｈ２Ｆ、Ｃ２Ｆ６、Ｃ５Ｆ８等で有り得る。また、分離層１６を構成するために用いるフルオロカーボンに対して、必要に応じて窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス、酸素、アルカン、アルケンなどの炭化水素、及び、二酸化炭素、水素を添加してもよい。また、これらのガスを複数混合して用いてもよい（フルオロカーボン、水素、窒素の混合ガス等）。また、分離層１６は、単一種のフルオロカーボンから構成されていてもよいし、２種類以上のフルオロカーボンから構成されていてもよい。
【００７１】
フルオロカーボンは、その種類によって固有の範囲の波長を有する光を吸収する。分離層１６に用いたフルオロカーボンが吸収する範囲の波長の光を分離層に照射することにより、フルオロカーボンを好適に変質させ得る。なお、分離層１６における光の吸収率は８０％以上であることが好ましい。
【００７２】
分離層１６に照射する光としては、フルオロカーボンが吸収可能な波長に応じて、例えば、ＹＡＧレーザー、リビーレーザー、ガラスレーザー、ＹＶＯ４レーザー、ＬＤレーザー、ファイバーレーザー等の固体レーザー、色素レーザー等の液体レーザー、ＣＯ２レーザー、エキシマレーザー、Ａｒレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー等の気体レーザー、半導体レーザー、自由電子レーザー等のレーザー光、又は、非レーザー光を適宜用いればよい。フルオロカーボンを変質させ得る波長としては、これに限定されるものではないが、例えば、６００ｎｍ以下の範囲のものを用いることができる。
【００７３】
＜赤外線吸収物質＞
分離層１６は、赤外線吸収物質を含有していてもよい。分離層１６は、赤外線吸収物質を含有して構成されることにより、光を吸収することによって変質するようになっており、その結果として、光の照射を受ける前の強度又は接着性を失う。よって、わずかな外力を加える（例えば、サポートプレート１２を持ち上げる等）ことによって、分離層１６が破壊されて、サポートプレート１２と基板１１とを容易に分離することができる。
【００７４】
赤外線吸収物質は、赤外線を吸収することによって変質する構成であればよく、例えば、カーボンブラック、鉄粒子、又はアルミニウム粒子を好適に用いることができる。赤外線吸収物質は、その種類によって固有の範囲の波長を有する光を吸収する。分離層１６に用いた赤外線吸収物質が吸収する範囲の波長の光を分離層１６に照射することにより、赤外線吸収物質を好適に変質させ得る。
【００７５】
（接着層１４）
サポートプレート１２から基板１１を剥離するために、サポートプレート１２側から光照射を行なう際、分離層１６から光が漏れることがある。例えば、分離層１６を変質させるために必要な照射量以上の光を照射した場合には、照射された光の一部が分離層１６において吸収されず、分離層１６から漏れるおそれがある。そのため、漏れた光が、基板１１に到達してしまい、基板１１自体又は基板１１に形成されている保護すべき微細構造が悪影響を受けてしまうことがある。
【００７６】
本実施形態に係る積層体１においては、接着層１４を、サポートプレート１２側から基板１１側へ透過する光の透過量を低減する接着剤組成物により形成されている。したがって、上述した漏れ光を接着層１４において吸収又は分散させ、基板１１に到達させるのを防ぐ。
【００７７】
接着層１４を形成する接着剤組成物は、接着材料と、当該接着材料に非相溶である非相溶性ポリマー、光吸収剤及び光分散剤のうちの少なくとも１つとを含んでいることが好ましい。これにより、サポートプレート１２側からの光を接着層１４において吸収、分散、及び散乱させることができるので、基板１１に光が到達せず、基板１１自体及び基板に実装された素子等を保護することができる。
【００７８】
なお、接着層１４は、基板１１をサポートプレート１２に接着固定すると同時に、基板１１の表面を覆って保護する構成である。よって、接着層１４は、基板１１の加工又は搬送の際に、サポートプレート１２に対する基板１１の固定、及び基板１１の保護すべき面の被覆を維持する接着性及び強度を有している必要がある。一方で、製造プロセス後などサポートプレート１２に対する基板１１の固定が不要になったときに、基板１１から容易に剥離又は除去され得る必要がある。
【００７９】
したがって、接着層１４は、通常は強固な接着性を有し、何らかの処理によって接着性が低下するか、又は特定の溶剤に対する可溶性を有する接着材料を含むことが好ましい。
【００８０】
接着層１４の厚さは、例えば、１〜１５０μｍであることがより好ましく、１０〜１００μｍであることがさらに好ましい。
【００８１】
〔接着材料〕
上記接着材料として、例えばアクリル系、ノボラック系、ナフトキサン系、炭化水素系、ポリイミド系等の、当該分野において公知の種々の接着材料が、本発明に係る接着層１４を構成する接着材料として使用可能である。以下では、本実施の形態における接着材料が含有する樹脂等の組成について説明する。
【００８２】
接着材料としては、接着性を備えたものであれば特に限定されないが、例えば、炭化水素樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、マレイミド系樹脂等、又はこれらの組み合わせたものなどが挙げられる。
【００８３】
＜炭化水素樹脂＞
炭化水素樹脂は、炭化水素骨格を有し、単量体組成物を重合してなる樹脂である。炭化水素樹脂として、シクロオレフィン系ポリマー（以下、「樹脂（Ａ）」ということがある）、ならびに、テルペン樹脂、ロジン系樹脂及び石油樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂（以下、「樹脂（Ｂ）」ということがある）等が挙げられるが、これに限定されない。
【００８４】
樹脂（Ａ）としては、シクロオレフィン系モノマーを含む単量体成分を重合してなる樹脂であってもよい。具体的には、シクロオレフィン系モノマーを含む単量体成分の開環（共）重合体、シクロオレフィン系モノマーを含む単量体成分を付加（共）重合させた重合体等が挙げられる。
【００８５】
樹脂（Ａ）を構成する単量体成分に含まれる前記シクロオレフィン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、ノルボルナジエンなどの二環体、ジシクロペンタジエン、ジヒドロキシペンタジエンなどの三環体、テトラシクロドデセンなどの四環体、シクロペンタジエン三量体などの五環体、テトラシクロペンタジエンなどの七環体、又はこれら多環体のアルキル（メチル、エチル、プロピル、ブチルなど）置換体、アルケニル（ビニルなど）置換体、アルキリデン（エチリデンなど）置換体、アリール（フェニル、トリル、ナフチルなど）置換体等が挙げられる。これらの中でも特に、ノルボルネン、テトラシクロドデセン、又はこれらのアルキル置換体からなる群より選ばれるノルボルネン系モノマーが好ましい。
【００８６】
樹脂（Ａ）を構成する単量体成分は、上述したシクロオレフィン系モノマーと共重合可能な他のモノマーを含有していてもよく、例えば、アルケンモノマーを含有することが好ましい。アルケンモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、α−オレフィンなどが挙げられる。アルケンモノマーは、直鎖状であってもよいし、分岐状であってもよい。
【００８７】
また、樹脂（Ａ）を構成する単量体成分として、シクロオレフィンモノマーを含有することが、高耐熱性（低い熱分解、熱重量減少性）の観点から好ましい。樹脂（Ａ）を構成する単量体成分全体に対するシクロオレフィンモノマーの割合は、５モル％以上であることが好ましく、１０モル％以上であることがより好ましく、２０モル％以上であることがさらに好ましい。また、樹脂（Ａ）を構成する単量体成分全体に対するシクロオレフィンモノマーの割合は、特に限定されないが、溶解性及び溶液での経時安定性の観点からは８０モル％以下であることが好ましく、７０モル％以下であることがより好ましい。
【００８８】
また、樹脂（Ａ）を構成する単量体成分として、直鎖状又は分岐鎖状のアルケンモノマーを含有してもよい。樹脂（Ａ）を構成する単量体成分全体に対するアルケンモノマーの割合は、溶解性及び柔軟性の観点からは１０〜９０モル％であることが好ましく、２０〜８５モル％であることがより好ましく、３０〜８０モル％であることがさらに好ましい。
【００８９】
なお、樹脂（Ａ）は、例えば、シクロオレフィン系モノマーとアルケンモノマーとからなる単量体成分を重合させてなる樹脂のように、極性基を有していない樹脂であることが、高温下でのガスの発生を抑制するうえで好ましい。
【００９０】
単量体成分を重合する際の重合方法や重合条件等については、特に制限はなく、常法に従い適宜設定すればよい。
【００９１】
樹脂（Ａ）として用いることのできる市販品としては、例えば、ポリプラスチックス社製の「ＴＯＰＡＳ」、三井化学社製の「ＡＰＥＬ」、日本ゼオン社製の「ＺＥＯＮＯＲ」及び「ＺＥＯＮＥＸ」、ＪＳＲ社製の「ＡＲＴＯＮ」などが挙げられる。
【００９２】
樹脂（Ａ）のガラス転移点（Ｔｇ）は、６０℃以上であることが好ましく、７０℃以上であることが特に好ましい。樹脂（Ａ）のガラス転移点が６０℃以上であると、接着剤積層体が高温環境に曝されたときに接着剤層の軟化をさらに抑制することができる。
【００９３】
樹脂（Ｂ）は、テルペン系樹脂、ロジン系樹脂及び石油樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂である。具体的には、テルペン系樹脂としては、例えば、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂、水添テルペンフェノール樹脂等が挙げられる。ロジン系樹脂としては、例えば、ロジン、ロジンエステル、水添ロジン、水添ロジンエステル、重合ロジン、重合ロジンエステル、変性ロジン等が挙げられる。石油樹脂としては、例えば、脂肪族又は芳香族石油樹脂、水添石油樹脂、変性石油樹脂、脂環族石油樹脂、クマロン・インデン石油樹脂等が挙げられる。これらの中でも、水添テルペン樹脂、水添石油樹脂が好ましい。
【００９４】
樹脂（Ｂ）の軟化点は特に限定されないが、８０〜１６０℃であることが好ましい。樹脂（Ｂ）の軟化点が８０℃以上であると、接着剤積層体が高温環境に曝されたときに軟化することを抑制することができ、接着不良を生じない。一方、樹脂（Ｂ）の軟化点が１６０℃以下であると、接着剤積層体を剥離する際の剥離速度が良好なものとなる。
【００９５】
樹脂（Ｂ）の分子量は特に限定されないが、３００〜３０００であることが好ましい。樹脂（Ｂ）の分子量が３００以上であると、耐熱性が充分なものとなり、高温環境下において脱ガス量が少なくなる。一方、樹脂（Ｂ）の分子量が３０００以下であると、接着剤積層体を剥離する際の剥離速度が良好なものとなる。なお、本実施形態における樹脂（Ｂ）の分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算の分子量を意味するものである。
【００９６】
なお、樹脂として、樹脂（Ａ）と樹脂（Ｂ）とを混合したものを用いてもよい。混合することにより、耐熱性及び剥離速度が良好なものとなる。例えば、樹脂（Ａ）と樹脂（Ｂ）との混合割合としては、（Ａ）：（Ｂ）＝８０：２０〜５５：４５（質量比）であることが、剥離速度、高温環境時の熱耐性、及び柔軟性に優れるので好ましい。
【００９７】
＜アクリル−スチレン系樹脂＞
アクリル−スチレン系樹脂としては、例えば、スチレン又はスチレンの誘導体と、（メタ）アクリル酸エステル等とを単量体として用いて重合した樹脂が挙げられる。
【００９８】
（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、鎖式構造からなる（メタ）アクリル酸アルキルエステル、脂肪族環を有する（メタ）アクリル酸エステル、芳香族環を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。鎖式構造からなる（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、炭素数１５〜２０のアルキル基を有するアクリル系長鎖アルキルエステル、炭素数１〜１４のアルキル基を有するアクリル系アルキルエステル等が挙げられる。アクリル系長鎖アルキルエステルとしては、アルキル基がｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコシル基等であるアクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエステルが挙げられる。なお、当該アルキル基は、分岐状であってもよい。
【００９９】
炭素数１〜１４のアルキル基を有するアクリル系アルキルエステルとしては、既存のアクリル系接着剤に用いられている公知のアクリル系アルキルエステルが挙げられる。例えば、アルキル基が、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、２−エチルヘキシル基、イソオクチル基、イソノニル基、イソデシル基、ドデシル基、ラウリル基、トリデシル基等からなるアクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエステルが挙げられる。
【０１００】
脂肪族環を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が挙げられるが、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートがより好ましい。
【０１０１】
芳香族環を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、特に限定されるものではないが、芳香族環としては、例えばフェニル基、ベンジル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。また、芳香族環は、炭素数１〜５の鎖状又は分岐状のアルキル基を有していてもよい。具体的には、フェノキシエチルアクリレートが好ましい。
【０１０２】
＜マレイミド系樹脂＞
マレイミド系樹脂としては、例えば、単量体として、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ペンチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド、Ｎ−ｎ−へプチルマレイミド、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−ステアリルマレイミドなどのアルキル基を有するマレイミド、Ｎ−シクロプロピルマレイミド、Ｎ−シクロブチルマレイミド、Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−シクロヘプチルマレイミド、Ｎ−シクロオクチルマレイミド等の脂肪族炭化水素基を有するマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メチルフェニルマレイミド等のアリール基を有する芳香族マレイミド等を重合して得られた樹脂が挙げられる。
【０１０３】
例えば、下記式（８）で表される繰り返し単位及び下記式（９）で表される繰り返し単位の共重合体であるシクロオレフィンコポリマーを接着成分の樹脂として用いることができる。
【０１０４】
【化７】
0005875850.tif 000008
【０１０５】
（式（９）中、ｎは０又は１〜３の整数である。）
なお、光硬化性樹脂（例えば、ＵＶ硬化性樹脂）以外の樹脂を用いて接着層１４を形成することが好ましい。これは、光硬化性樹脂が、接着層１４の剥離又は除去の後に、基板１１の微小な凹凸の周辺に残渣として残ってしまう場合があり得るからである。特に、特定の溶剤に溶解する接着剤が接着層１４を構成する材料として好ましい。これは、基板１１に物理的な力を加えることなく、接着層１４を溶剤に溶解させることによって除去可能なためである。接着層１４の除去に際して、強度が低下した基板１１からでさえ、基板１１を破損させたり、変形させたりせずに、容易に接着層１４を除去することができる。
【０１０６】
上述した分離層、接着層を形成する際の希釈溶剤として、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、メチルオクタン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン等の直鎖状の炭化水素、炭素数３〜１５の分岐状の炭化水素、ｐ−メンタン、ｏ−メンタン、ｍ−メンタン、ジフェニルメンタン、１，４−テルピン、１，８−テルピン、ボルナン、ノルボルナン、ピナン、ツジャン、カラン、ロンギホレン、ゲラニオール、ネロール、リナロール、シトラール、シトロネロール、メントール、イソメントール、ネオメントール、α−テルピネオール、β−テルピネオール、γ−テルピネオール、テルピネン−１−オール、テルピネン−４−オール、ジヒドロターピニルアセテート、１，４−シネオール、１，８−シネオール、ボルネオール、カルボン、ヨノン、ツヨン、カンファー、ｄ−リモネン、ｌ−リモネン、ジペンテン等のテルペン系溶剤；γ−ブチロラクトン等のラクトン類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン（ＣＨ）、メチル−ｎ−ペンチルケトン、メチルイソペンチルケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール等の多価アルコール類；エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、又はジプロピレングリコールモノアセテート等のエステル結合を有する化合物、前記多価アルコール類又は前記エステル結合を有する化合物のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル等のモノアルキルエーテル又はモノフェニルエーテル等のエーテル結合を有する化合物等の多価アルコール類の誘導体（これらの中では、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）が好ましい）；ジオキサンのような環式エーテル類や、乳酸メチル、乳酸エチル（Ｅ
Ｌ）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシブチルアセテート、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類；アニソール、エチルベンジルエーテル、クレジルメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、フェネトール、ブチルフェニルエーテル等の芳香族系有機溶剤等を挙げることができる。
【０１０７】
次に、接着材料とともに接着剤組成物に含まれている光吸収剤、光分散剤及び当該接着材料に非相溶である非相溶性ポリマーについて説明する。
【０１０８】
〔光吸収剤〕
光吸収剤は、接着剤組成物に含有させるものであり、レーザー光等の光を吸収する性質を有するものである。これにより、当該接着剤組成物により形成された接着層１４は、分離層１６から漏れた光を吸収することができる。よって、サポートプレート１２側から基板１１側へ透過する光の透過量を低減することができ、漏れた光が基板１１上に悪影響を及ぼすことを防止することができる。
【０１０９】
光吸収剤としては、照射される光を吸収することができる限り、特に限定されないが、例えば、有機物から形成された有機光吸収剤が好ましい。有機光吸収剤としては、例えば、着色剤（染料、顔料）等が挙げられる。なお、光吸収剤として染料又は顔料を使用する場合には、４００〜６００ｎｍの光を吸収するものを使用することが好ましい。染料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ２、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１４８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６２、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６９、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８：２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２００、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４９：２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１９、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー４４、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー７７、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー７９、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー８１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー８２、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー９８、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１０３、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１０４、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１１２、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１６２等が挙げられる。また、顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー７４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５等が挙げられる。また、上記染料及び顔料の混合物を用いてもよい。
【０１１０】
また、その他の染料又は顔料としては、オリエント化学工業株式会社製のＶａｌｉｆａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ４１２０、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ３１５０、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ３１０８、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２３１０Ｎ、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １１０１、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｒｅｄ  ３３２０、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｒｅｄ  ３３０４、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｒｅｄ  １３０６、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｂｌｕｅ  ２６１０、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｂｌｕｅ  ２６０６、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｂｌｕｅ  １６０３、Ｏｉｌ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＧＧ−Ｓ、Ｏｉｌ  Ｙｅｌｌｏｗ  ３Ｇ、Ｏｉｌ  Ｙｅｌｌｏｗ  １２９、Ｏｉｌ  Ｙｅｌｌｏｗ  １０７、Ｏｉｌ  Ｙｅｌｌｏｗ  １０５、Ｏｉｌ  Ｓｃａｒｌｅｔ  ３０８、Ｏｉｌ  Ｒｅｄ  ＲＲ、Ｏｉｌ  Ｒｅｄ  ＯＧ、Ｏｉｌ  Ｒｅｄ  ５Ｂ、Ｏｉｌ  Ｐｉｎｋ  ３１２、Ｏｉｌ  Ｂｌｕｅ  ＢＯＳ、Ｏｉｌ  Ｂｌｕｅ  ６１３、Ｏｉｌ  Ｂｌｕｅ  ２Ｎ、Ｏｉｌ  Ｂｌａｃｋ  ＢＹ、Ｏｉｌ  Ｂｌａｃｋ  ＢＳ、Ｏｉｌ  Ｂｌａｃｋ  ８６０、Ｏｉｌ  Ｂｌａｃｋ  ５９７０、Ｏｉｌ  Ｂｌａｃｋ  ５９０６、Ｏｉｌ  Ｂｌａｃｋ  ５９０５、日本化薬株式会社製のＫａｙａｓｅｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＳＦ−Ｇ、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＫＣＬ、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＧＮ、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  Ａ−Ｇ、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２Ｇ、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｒｅｄ  ＳＦ−４Ｇ、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｒｅｄ  Ｋ−ＢＬ、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｒｅｄ  Ａ−ＢＲ、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｍａｇｅｎｔａ  ３１２、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｂｌｕｅ  Ｋ−ＦＬ、有本化学工業株式会社製のＦＳ  Ｙｅｌｌｏｗ  １０１５、ＦＳ  Ｍａｇｅｎｔａ  １４０４、ＦＳ  Ｃｙａｎ  １５２２、ＦＳ  Ｂｌｕｅ  １５０４、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８８、８３、８２、７９、５６、２９、１９、１６、１４、０４、０３、０２、０１、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｒｅｄ  ８４：１、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｒｅｄ  ８４、２１８、１３２、７３、７２、５１、４３、２７、２４、１８、０１、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  ７０、６７、４４、４０、３５、１１、０２、０１、Ｃ．ＩＳｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ  ４３、７０、３４、２９、２７、２２、７、３、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ３、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ７、Ｐｌａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＤＹ３５２、Ｐｌａｓｔ  Ｒｅｄ  ８３７５、三井化学製のＭＳ  Ｙｅｌｌｗ  ＨＤ−１８０、ＭＳ  Ｒｅｄ  Ｇ、ＭＳ  Ｍａｇｅｎｔａ  ＨＭ−１４５０Ｈ、ＭＳ  Ｂｌｕｅ  ＨＭ−１３８４、住友化学製のＥＳ  Ｒｅｄ  ３００１、ＥＳ  Ｒｅｄ  ３００２、ＥＳ  Ｒｅｄ  ３００３、ＴＳ  Ｒｅｄ  ３０５、ＥＳ  Ｙｅｌｌｏｗ  １００１、ＥＳ  Ｙｅｌｌｏｗ  １００２、ＴＳ  Ｙｅｌｌｏｗ  １１８、ＥＳ  Ｏｒａｎｇｅ  ２００１、ＥＳ  Ｂｌｕｅ  ６００、ＴＳ  Ｔｕｒｑ  Ｂｌｕｅ  ６１８、Ｂａｙｅｒ製のＭＡＣＲＯＬＥＸ  Ｙｅｌｌｏｗ  ６Ｇ、Ｃｅｒｅｓ  Ｂｌｕｅ  ＧＮＮＥＯＰＡＮ  Ｙｅｌｌｏｗ  Ｏ７５、Ｃｅｒｅｓ  Ｂｌｕｅ  ＧＮ、ＭＡＣＲＯＬＥＸ  Ｒｅｄ  Ｖｉｏｌｅｔ  Ｒ等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１１１】
なお、接着層１４は、分離層１６を変質させるために用いた光を吸収するため、分離層１６の構成に応じて、光吸収剤を適宜変更する必要がある。
【０１１２】
接着剤組成物における、光吸収剤の含有量は、接着材料に対して０．１〜１０重量％が好ましく、接着材料に対して０．５〜５重量％であることがより好ましく、接着材料に対して１〜２重量％であることがさらに好ましい。ここで、光吸収剤の接着材料に対する含有量とは、接着材料を１００重量％としたときの光吸収剤の含有量を指す。
【０１１３】
〔光分散剤〕
光分散剤は、接着剤組成物に含有させるものであり、レーザー光等の光を分散する性質を有するものである。これにより、当該接着剤組成物により形成された接着層１４は、分離層１６から漏れた光を分散させることができる。よって、サポートプレート１２側から基板１１側へ透過する光の透過量を低減することができ、漏れた光が基板１１上に悪影響を及ぼすことを防止することができる。
【０１１４】
光分散剤としては、特に限定されないが、例えば無機物から形成された無機光分散剤であることが好ましい。無機光分散剤としては、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化鉄、酸化スズ、酸化アンチモン、フェライト類、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、炭酸バリウム、ドーソナイト、ハイドロタルサイト、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ケイ酸カルシウム、タルク、クレー、マイカ、モンモリロナイト、ベントナイト、セピオライト、イモゴライト、セリサリト、ガラス繊維、ガラスビーズ、シリカ系バルン、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、カーボンブラック、グラファイト、炭素繊維、炭素バルン、ホウ酸亜鉛、各種磁性粉等が挙げられる。
【０１１５】
また、光分散剤は、シラン系、チタネート系等の各種カップリング剤によって表面処理が施されていてもよい。表面処理の方法としては、乾式法、スラリー法もしくはスプレー法等によって、各種カップリング剤により光分散剤を直接処理する方法、直接法、マスターバッチ法等のインテグラルブレンド法、またはドライコンセントレート法等の方法が挙げられる。
【０１１６】
光分散剤として用いることのできる市販品としては、例えば信越化学社製のシリコーンレジンパウダー、シリコーン複合パウダー、シリコーンゴムパウダー等が挙げられる。
【０１１７】
なお、接着層１４は、分離層１６を変質させるために用いた光を分散するため、分離層１６の構成に応じて、光分散剤を適宜変更する必要がある。
【０１１８】
接着剤組成物における、光分散剤の含有量は、接着材料に対して５〜９０重量％であることが好ましく、接着材料に対して１０〜５０重量％であることがより好ましく、接着材料に対して１０〜２０重量％であることがさらに好ましい。ここで、光分散剤の接着材料に対する含有量とは、接着材料を１００重量％としたときの光分散剤の含有量を指す。
【０１１９】
光分散剤の平均粒径は、０．５〜５μｍであることが好ましい。これにより、接着剤組成物内において沈降せずに分散されるため、その機能を充分に発揮することができる。また、光分散剤の平均粒径は、ウエハの応力を緩和させるという観点からは、０．５〜１μｍであることが好ましい。このような平均粒径の光分散剤を含む接着剤組成物を用いれば、基板をサポートガラスに接着させた後に高温プロセスに供した場合の基板の反り量を軽減することができる。したがって、その後のプロセス流動が可能となる。
【０１２０】
〔非相溶性ポリマー〕
非相溶性ポリマーは、接着剤組成物に含有させるものであり、レーザー光等の光を散乱させる性質を有するものである。これにより、当該接着剤組成物により形成された接着層１４は、分離層１６から漏れた光を散乱させることができる。よって、サポートプレート１２側から基板１１側へ透過する光の透過量を低減することができ、漏れた光が基板１１上に悪影響を及ぼすことを防止することができる。
【０１２１】
なお、本明細書において「非相溶性ポリマー」とは、接着剤組成物を形成している接着材料に溶解せずに、接着剤組成物中に分散しているポリマーをいう。そのため、非相溶性ポリマーは接着剤組成物中において分散しており、接着材料から形成される相、及び非相溶ポリマーから形成される相の２相が接着剤組成物中に存在している。なお、非相溶性ポリマーは接着材料に溶解せずに分散しているため、接着層１４は白濁している。ここで、接着剤組成物又は接着層１４が白濁している状態とは、接着剤組成物又は接着層の光透過率が０〜１０％であることを指している。
【０１２２】
非相溶性ポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、エチレン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ポリウレタン系エラストマー、アクリル系重合体が挙げられる。エチレン系エラストマーとしては、例えば、エチレン−プロピレンエラストマー（ＥＰＭ、ＥＰＤＭ）等が挙げられる。スチレン系エラストマーとしては、ポリスチレン-ポリ（エチレン／プロピレン）ブロックコポリマー（ＳＥＰ）、スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー（ＳＩＳ）、スチレン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー（ＳＢＳ）、スチレン−ブタジエン−ブチレン−スチレンブロックコポリマー（ＳＢＢＳ）、エチレン−プロピレンターポリマー（ＥＰＴ）、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロックコポリマー（ＳＥＢＳ）、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロックコポリマー（スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー)（ＳＥＰＳ）、スチレン−エチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロックコポリマー（ＳＥＥＰＳ）及び、これらの水添物が挙げられる。また、ポリウレタン系エラストマーとしては、例えば、ポリエーテル系ポリウレタン、ポリエステル系ポリウレタン等が挙げられる。アクリル共重合体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル（炭素数１〜１０）、スチレン等から選択される少なくとも１種を重合したもの等が挙げられる。
【０１２３】
なお、接着層１４は、分離層１６を変質させるために用いた光を散乱するため、分離層１６の構成に応じて、非相溶性ポリマーを適宜変更する必要がある。
【０１２４】
接着剤組成物における、非相溶性ポリマーの含有量は、接着材料に対して１０〜９０重量％であることが好ましく、接着材料に対して２０〜５０重量％であることがより好ましい。ここで、非相溶性ポリマーの接着材料に対する含有量とは、接着材料を１００重量％としたときの光吸収剤の含有量を指す。
【０１２５】
なお、接着剤組成物中には、非相溶ポリマー、光吸収剤及び光分散剤のうち少なくとも１つが含まれていればよい。そのため、非相溶ポリマー、光吸収剤及び光吸収剤のうち２つが接着剤組成物中に含まれていてもよく、また、非相溶ポリマー、光吸収剤及び光分散剤の全てが接着剤組成物中に含まれていてもよい。
【０１２６】
また、分離層１６における本質的な特性を損なわない範囲において、分離層の変質に関与しない材料を添加して、分離層１６を形成してもよい。そのため、接着層１４とともに、分離層１６が、非相溶ポリマー、光吸収剤及び光分散剤のうち少なくとも１つを備えていてもよい。
【０１２７】
（その他の成分）
接着剤組成物には、本発明における本質的な特性を損なわない範囲において、混和性のある他の物質をさらに含んでいてもよい。例えば、接着剤の性能を改良するための付加的樹脂、可塑剤、接着補助剤、安定剤、着色剤、酸化防止剤及び界面活性剤等、慣用されている各種添加剤をさらに用いることができる。
【０１２８】
〔積層体の分離方法〕
本発明に係る分離方法は、積層体における基板から支持体を分離する方法であって、支持体を介して分離層にレーザー光を照射して、分離層を変質させる光照射工程を包含していることを特徴としている。
【０１２９】
本発明に係る分離方法の一実施形態について、図１及び２を参照して説明する。図２は、サポートプレートの分離工程を示す図である。
【０１３０】
まず、積層体１の製造工程を説明する。図１（１）に示すように、基板１１に接着剤組成物１３を塗布する。接着剤組成物１３は、接着材料と、当該接着材料に非相溶である非相溶性ポリマー、光吸収剤及び光分散剤のうちの少なくとも１つとを含んでいる。接着剤組成物１３は、例えば、溶剤に溶解させた状態で基板１１にスピン塗布される。このとき、次工程において基板１１を加工する、あるいは、素子等を搭載する面と対向する面に接着剤組成物１３を塗布する必要がある。そして、温度を上昇させつつ段階的にベークすることによって接着剤組成物１３が固化し、基板１１上に接着層１４が形成される。
【０１３１】
また、図１（２）に示すように、光を照射することによって変質する分離層材料１５はサポートプレート１２の一方の面に、溶剤に溶解させてスピン塗布される。そして、溶剤を蒸発させることによって、分離層材料１５が固化し、サポートプレート１２上に分離層１６が形成される。
【０１３２】
次に、図１（３）に示すように、分離層１６が形成されているサポートプレート１２の面と接着層１４が形成されている基板１１の面とを貼り合わせる。例えば、接着層１４に分離層１６を接触させて、２００℃の真空において加圧することによって、接着層１４と分離層１６との貼り付けが行われる。そして、基板１１、接着層１４、分離層１６及びサポートプレート１２がこの順番に積層してなる積層体１が製造される。
【０１３３】
また、接着層１４を基板１１上に形成せずに、分離層１６上に形成してもよい。この場合には、接着層１４に基板１１を貼り付けることによって、積層体１が製造される。
【０１３４】
なお、基板１１、サポートプレート１２の形状、性質等に伴い、接着層１４、分離層１６の形成及び接着層１４と分離層１６との接着は、それぞれ好適な方法が適宜選択される。
【０１３５】
積層体１を製造した後は、基板１１を積層体１の状態で自動搬送して、製造プロセス中における基板１１の加工及び基板１１への素子の実装等を行なう。そして、製造プロセス終了後に、サポートプレート１２から基板１１を分離する。
【０１３６】
まず、図１（４）に示すように、サポートプレート１２側の面から積層体１にレーザー光を照射する（光照射工程）。この場合に、図２（１）に示すように、レーザー光はサポートプレート１２を透過して、分離層１６に照射される。
【０１３７】
次に、分離層１６にレーザー光が照射されることによって、図２（２）に示すように、分離層１６が変質する。ここでは、変質は、分離層１６に含まれている化合物の分解であるとして説明する。
【０１３８】
次に、図１（５）及び図２（３）に示すように、基板１１からサポートプレート１２を剥離する。変質した分離層１６は、その強度が著しく低下している。したがって、例えば、わずかな外力を加えてサポートプレート１２を引き上げることによって、分離層１６が容易に破壊されて、サポートプレート１２が積層体１から剥離される。
【０１３９】
ここで、接着剤組成物１３には、接着材料の他に、接着材料に非相溶である非相溶性ポリマー、光吸収剤及び光分散剤の少なくとも１つが含まれている。そのため、分離層１６を変質させ、基板１１とサポートプレート１２とを剥離する際に、照射された光が分離層１６から基板１１側に漏れたとしても、接着層１４において吸収又は分散される。したがって、例えば、分離層１６を変質させるのに必要な照射量以上の光を照射された場合であっても、接着層１４において、基板側へ透過する光の透過量を低減することができる。よって、照射された光が基板１１に照射されることによる当該基板への悪影響を防止することができる。
【０１４０】
次に、図１（６）に示すように、基板１１上の接着層１４を溶剤で洗浄して、接着層１４を除去する。ここで、サポートプレート１２の剥離後に接着層１４に分離層１６の残りが付着している場合がある。少量の分離層１６の残りが付着しているだけであれば、上述のように接着層１４を溶解させる溶剤を噴霧すればよい。しかし、その前に分離層１６の材料を溶解させる溶剤を噴霧してもよい。
【０１４１】
以上のように、積層体１は、上述のような分離層１６を備えているので、光の照射によって、基板１１からサポートプレート１２を容易に剥離することができる。また、接着層１４は上述のような接着剤組成物１３から形成されているので、光による基板１１表面への悪影響を防止することができる。
【０１４２】
なお、光の照射は、必ずしも分離層１６の全領域に対してなされる必要はない。光が照射された領域と照射されていない領域とが混在していても、分離層１６全体としての強度が十分に低下していれば、わずかな外力を加えてサポートプレートを引き上げることによって、分離層１６が容易に破壊されて、サポートプレート１２を積層体１から剥離することができる。
【０１４３】
光を照射する領域と照射しない領域との比率及び位置関係は、分離層１６を形成する化合物の種類、分離層の厚さ、照射する光の強度等によって異なるが、当業者であれば、過度の試験を要することなく、適宜条件を設定できる。このように、分離層１６の一部にのみ光を照射する場合であってもサポートプレートを分離することができるため、積層体１あたりにかかる光の総照射時間を短くでき、その結果、分離処理に要する時間を短縮することができる。
【０１４４】
以下に実施例を示し、本発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。もちろん、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、細部については様々な態様が可能であることはいうまでもない。さらに、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、それぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。また、本明細書中に記載された文献の全てが参考として援用される。
【実施例】
【０１４５】
〔実施例〕
接着剤組成物を以下のように調製した。
【０１４６】
（接着剤組成物の調製）
＜接着剤組成物１＞
まず、光吸収剤として染料を含んでいる接着剤組成物を調製した。シクロオレフィン系樹脂のＴＯＰＡＳ８００７Ｘ１０（ポリプラスチック社）をｐ−メンタンに２５％濃度で溶解させた。酸化防止剤ＩＲ１０１０（ＢＡＳＦ社製）を５重量％で添加し、更に染料としてＯＩＬ  ＲＥＤ  ＲＲ（オリエント化学工業）を１重量％添加し接着剤組成物１とした。
【０１４７】
＜接着剤組成物２＞
次に、光分散剤としてフィラー分散液を含んでいる接着剤組成物を調製した。シクロオレフィン系樹脂のＴＯＰＡＳ８００７Ｘ１０をｐ−メンタンに２５％濃度で溶解させ、ポリマー溶液を調製した。一方で、フィラー分散液を平均粒径０．８μｍのＸ−５２−８５４（信越化学工業株式会社）を３０重量％になるようにプラネタリーミキサーを用いてｐ−メンタンに分散させた。次に、上記のポリマー溶液に樹脂固形分に対してフィラー分散液が２０重量％になるように添加して、更にプラネタリーミキサーで接着剤中に均一に分散させた。そして、酸化防止剤ＩＲ１０１０を５重量％添加して接着剤組成物２とした。
【０１４８】
＜接着剤組成物３＞
さらに、非相溶性ポリマーとしてエチレン系エラストマーを含んでいる接着剤組成物を調製した。シクロオレフィン系樹脂のＴＯＰＡＳ８００７Ｘ１０をｐ−メンタンに２５％濃度で溶解させ、エチレン−プロピレンエラストマー（三井ＥＰＴ  ９０９０Ｍ（三井化学社製））を２０重量％になるように添加して、更に酸化防止剤ＩＲ１０１０を５重量％添加して接着剤組成物３とした。
【０１４９】
（分離層の作成）
サポートプレート上に分離層としてＣＶＤ法によりフルオロカーボン膜を形成し（膜厚０．４μｍ）、分離層を有するサポートプレートを合計で三枚作成した。その際、反応ガスとして流量０．４ｓｌｍのＣ４Ｆ８を用い、圧力を７０Ｐａとし、高周波電力を２８００Ｗとし、成膜温度を２４０℃とした。
【０１５０】
（積層体の作成）
ウエハ基板に、上記接着剤組成物１〜３をそれぞれスピン塗布した。次に、当該ウエハ基板を１００℃、１６０℃、２２０℃で各３分ベークし膜厚１５μｍの接着層を有するウエハ基板を合計で三枚作成した。その後、接着層が形成されたウエハ基板と、分離層を有するサポートプレートとを２１５℃で張り合わせて積層体とした。
【０１５１】
次に、上述のようにして得られた積層体において、ウエハ基板を薄化した。その後、５３２ｎｍの波長を有するレーザー光を、積層体におけるサポートプレート側から分離層に向けて照射した。具体的には、ビーム形状が６０μｍ、照射ピッチが１２０μｍ、送り速度が３０００ｍｍ／ｓｅｃであるレーザー光を、１．３〜５．２Ｗの範囲から選択した平均出力と、３０〜２００ｋＨｚの範囲から選択したパルス周波数とを組み合わせた条件により、積層体に照射した。レーザー光のスキャン回数は１回であった。
【０１５２】
その結果、分離層はレーザー光の照射を受けて変質し、サポートプレートは積層体から容易に分離した。また、サポートプレートからのレーザー光（５３２ｎｍ）の照射中に、積層体の接着層側にレーザーセンサーを置いた状態で、漏れ光の測定を行ったところ、漏れ光は測定されずに、積層体のウエハ基板への漏れ光の照射が防止されていた。
【０１５３】
〔比較例〕
シクロオレフィン系樹脂のＴＯＰＡＳ８００７Ｘ１０をｐ−メンタンに２５％濃度で溶解させ、酸化防止剤ＩＲ１０１０を５重量％添加し、接着剤組成物とした。当該接着剤組成物を用いて、実施例と同様の方法で分離層を有するサポートプレートに接着層を形成してレーザーセンサーで漏れ光の測定を行った。その結果、３０ｍｗの漏れ光が測定された。比較例では、接着層にウエハ基板を接着させていなかったが、仮にウエハ基板を接着させていた場合には、漏れ光によるウエハ基板の損傷が予想される。
【産業上の利用可能性】
【０１５４】
本発明は、様々な製品の製造時に使用される仮止めした積層体を提供することが可能である。
【符号の説明】
【０１５５】
１    積層体
１１  基板
１２  サポートプレート（支持体）
１３  接着剤組成物
１４  接着層
１５  分離層材料
１６  分離層
【図１】
0005875850.tif 000009
【図２】
0005875850.tif 000010