(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性化合物として、重合前及び／又は重合後において液晶性を示す重合性化合物を１種のみ含有する重合性材料からなる膜を用いて、
前記膜の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始した後、該膜中に存在する液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させることにより配向性フィルムを得ることを特徴とする配向性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記重合性材料の重合を光重合により行い、且つ、前記境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させるために、光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させることを特徴とする請求項１に記載の配向性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記光重合の際にフォトマスクを利用し、前記フォトマスク及び／又は前記膜を連続的に移動させることにより前記光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させることを特徴とする請求項２に記載の配向性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記フォトマスクが、複数の略長方形状の開口部が各開口部の長辺が略平行となるようにして形成されたマスクであることを特徴とする請求項３に記載の配向性フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記重合性材料からなる膜として予備重合された膜を用いることを特徴とする請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の配向性フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記境界を移動させる速度が１×１０−７〜４×１０−１ｍ／ｓであることを特徴とする請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の配向性フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記重合性化合物が、下記一般式（１）：
Ｚ１ｐ−Ｍ１−Ｌ１−（Ｍ２−Ｌ２）ｑ−Ｍ３−Ｚ２ｒ      （１）
で表わされ且つ式中のＺ１、Ｚ２、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｌ１、Ｌ２、ｐ、ｑ、ｒがそれぞれ以下に示すものである化合物Ｃ１１〜Ｃ１７［化合物Ｃ１１において、式（１）中のＺ１及びＺ２は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が単結合及び炭素数１から１２の直鎖アルキレン基のうちのいずれかであり、Ｌ３が単結合、エーテル基、エステル基及びカーボネート基のうちのいずれかであり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合及び−ＣＯＯ−のうちのいずれかであり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、且つ、ｒが１であり、
化合物Ｃ１２において、式（１）中のＺ１及びＺ２は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が単結合及び炭素数１から１２の直鎖アルキレン基のうちのいずれかであり、Ｌ３が単結合、エーテル基、エステル基及びカーボネート基のうちのいずれかであり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が−ＣＯＯ−であり、Ｍ２が１，４−フェニレン基であり、Ｌ２が−ＯＣＯ−であり、ｑが１であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、且つ、ｒが１であり、
化合物Ｃ１３において、式（１）中のＺ１及びＺ２は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が式：（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｚ（ｚは２及び３のうちのいずれかである。）で表わされる基であり、Ｌ３が単結合であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合及びエステル基のいずれかであり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、且つ、ｒが１であり、
化合物Ｃ１４において、式（１）中のＺ１は式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が単結合であり、Ｌ３が単結合であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種であり、且つ、ｒが１であり、
化合物Ｃ１５において、式（１）中のＺ１が式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が炭素数１から１２の直鎖アルキレン基であり、Ｌ３がエーテル基であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種であり、且つ、ｒが１であり、
化合物Ｃ１６において、式（１）中のＺ１が式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が式：（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｚ（ｚは２及び３のうちのいずれかである。）で表わされる基であり、Ｌ３が単結合であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種であり、且つ、ｒが１であり、
化合物Ｃ１７において、式（１）中のＺ１が式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が炭素数１から１２の直鎖アルキレン基であり、Ｌ３がエーテル基であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が−ＣＯＯ−であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種であり、且つ、ｒが１である。］からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であること、
を特徴とする請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載の配向性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配向性フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶性化合物を一様に配向させる方法として、電場や磁場等の外場を利用して化合物を配向させる方法や、いわゆるラビング法、斜方蒸着法、マイクログルーブ法、ＬＢ膜法、光配向法等によって基板の液晶性化合物に接する面に異方性を付与することで基板自体に配向規制力を持たせ、これを利用して液晶性化合物を配向させる方法等が提案されてきた。そして、このような液晶性化合物を一様に配向させる方法を利用した液晶表示素子や配向性フィルムの製造方法として、工業的には、大面積化の観点や、処理時間や処理コストの面で優れているといった観点から、ラビング法（例えばポリイミド等の配向膜を綿やレーヨン等からなるベルベット状の布で擦る方法）を利用した方法が一般的に利用されてきた。
【０００３】
しかしながら、ラビング法を利用して配向性フィルムを製造した場合には、その処理工程中に静電気が発生し易く、かかる静電気に起因して様々な問題が生じていた。例えば、静電気の発生により配向性フィルムの表面に異物が付着したり、配向欠陥が発生することで、そのフィルムを表示装置等に利用した場合において表示不良が発生するといった問題があった。また、ラビング法を利用して配向性フィルムを形成した場合、ラビング時の発塵やキズの発生等といった問題も生じていた。また、液晶表示素子の分野においては高精細化が進められてきており、より画素密度の高密度化が求められていることから、ラビング処理の均一性も要求され、ラビング法を利用して配向性フィルムを製造する場合には上記問題が製造歩留まりを低下させるものとなってきていた。そのため、近年では、ラビング法以外の方法で、効率よく大面積の配向性フィルムを製造できるような方法の出現が望まれている。
【０００４】
一方、配向性フィルムの製造方法の一つとして、１９９８年に発行されたＣｈｅｍ．  Ｍａｔｅｒ（Vol.10，No.1）の第１３５頁〜第１４５頁に記載されたCornelus  F.  van  Nostrumらの論文「Photoinduced  Opposite  Diffusion  of  Nematic  and  Isotropic  Monomers  during  Patterned  Photopolymerization（非特許文献１）」においては、ラビング処理を施した２枚の対向するガラススライドを含むセル中に２種のモノマーを含む混合物を満たし、格子状のフォトマスクを用いて前記混合物からなる層の一部を露光することにより、その露光部において重合体を配向させる方法が開示されている。
【０００５】
また、２０１２年９月５日に発行された高分子学会予稿集（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，vol.61，No．2，ページ：ＲＯＭＢＵＮＮＯ．１Ｌ０５）に記載された、宍戸厚の論文「液晶高分子の光配向制御とソフトマターメカニクスの開拓（非特許文献２）」においては、４−（６−アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４’−シアノビフェニル（Ａ６ＣＢ）または４−アクリロイルオキシ−４’−シアノビフェニル（Ａ０ＣＢ）とエチレングリコールジメタクリレートとをモノマーとして含む組成物をセル中に導入し、フォトマスクをかぶせて光を照射して光重合を行なうことにより、フォトマスクの境界部分に光学異方性を有するフィルムを得る方法が開示されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Cornelus  F．  van  Nostrum  et  al．，Chem.  Mater．，  “Photoinduced  Opposite  Diffusion  of  Nematic  and  Isotropic  Monomers  during  Patterned  Photopolymerization”，  Vol．10，  No．1，  １９９８年，  １３５頁〜１４５頁
【非特許文献２】宍戸厚，「液晶高分子の光配向制御とソフトマターメカニクスの開拓」，高分子学会予稿集（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ：ＣＤ−ＲＯＭ），vol.61，No．2，２０１２年９月５日発行，ページ：ＲＯＭＢＵＮＮＯ．１Ｌ０５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、先ず、上記非特許文献１に記載の方法においては、格子状のフォトマスクを利用して部分的に重合体を形成しており、得られたフィルムにおいては配向領域が狭いものとなっていた。すなわち、上記非特許文献１に開示されている方法は部分的に配向したフィルムを製造する方法に過ぎず、大面積に連続して配向が形成されたような配向性フィルムを製造するといった技術的な思想は、上記非特許文献１には何ら記載されていなかった。また、上記非特許文献１において実際に使用されている製造方法においてはラビング処理を施した基板（ガラススライド）を用いている。このように、上記非特許文献１に開示されているような従来の方法は、大面積の配向性フィルムを効率よく製造することができるような方法ではなかった。
【０００８】
また、上記非特許文献１〜２に記載されているような従来の方法はいずれも、２種以上のモノマーを組み合わせて利用しており、配向を形成するメカニズムとしては、光重合時における、モノマーの分子拡散を利用する旨が説明されている。このように、上記非特許文献１〜２に記載されているような従来の方法はいずれも、２種以上のモノマーの分子拡散を利用する方法であり、２種以上のモノマーを必須成分として利用する方法である。一方、上記非特許文献１〜２のいずれにおいても、重合性を示す化合物（モノマー）として１種の化合物のみを利用することなど何ら記載も示唆もなされていない。
【０００９】
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、重合性化合物としては１種の化合物のみを含有する重合性材料を配向性フィルムの材料に用いながら、大面積に配向領域が形成された配向性フィルムを効率よく製造することを可能とする配向性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、重合性化合物として、重合前及び／又は重合後において液晶性を示す重合性化合物を１種のみ含有する重合性材料からなる膜を用いて、前記膜の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始した後、前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させることにより、驚くべきことに、重合領域において該膜中に存在する液晶性を示す化合物（重合前の前記重合性化合物及び前記重合性化合物を重合後に得られる化合物のうちの少なくとも１種の化合物であって、液晶性を示す化合物）を配向させることが可能となり、ラビング処理を施していないような基板やセルを用いた場合においても、重合領域を移動させながら大面積に配向領域を効率よく形成することができ、これにより、重合性化合物としては１種の化合物のみを含有する重合性材料を配向性フィルムの材料に用いながら、大面積に配向領域が形成された配向性フィルムを効率よく製造することが可能となることを見出して、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明の配向性フィルムの製造方法は、重合性化合物として、重合前及び／又は重合後において液晶性を示す重合性化合物を１種のみ含有する重合性材料からなる膜を用いて、
前記膜の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始した後、該膜中に存在する液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させることにより配向性フィルムを得ることを特徴とする方法である。
【００１２】
上記本発明の配向性フィルムの製造方法においては、前記重合性材料の重合を光重合により行い、且つ、前記境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させるために、光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させることが好ましい。
【００１３】
さらに、上記本発明の配向性フィルムの製造方法においては、前記光重合の際にフォトマスクを利用し、前記フォトマスク及び／又は前記膜を連続的に移動させることにより前記光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させることが好ましい。また、このようなフォトマスクとしては、複数の略長方形状の開口部が各開口部の長辺が略平行となるようにして形成されたマスクであることが好ましい。
【００１４】
また、上記本発明の配向性フィルムの製造方法においては、前記重合性材料からなる膜として予備重合された膜を用いることが好ましい。
【００１５】
また、上記本発明の配向性フィルムの製造方法においては、前記境界を移動させる速度が１×１０−７〜４×１０−１ｍ／ｓであることが好ましい。
【００１６】
さらに、上記本発明の配向性フィルムの製造方法においては、前記重合性化合物が、下記一般式（１）で表わされ且つ該式中のＺ１、Ｚ２、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｌ１、Ｌ２、ｐ、ｑ、ｒがそれぞれ以下に示すものである、下記化合物Ｃ１１〜Ｃ１７からなる群から選択される１種の化合物であることが好ましい。
【００１７】
ここで、前記重合性化合物として選択され得る化合物Ｃ１１〜Ｃ１７は、それぞれ、下記一般式（１）：
Ｚ１ｐ−Ｍ１−Ｌ１−（Ｍ２−Ｌ２）ｑ−Ｍ３−Ｚ２ｒ      （１）
で表される化合物であって、
化合物Ｃ１１は、式（１）中のＺ１及びＺ２は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が単結合及び炭素数１から１２の直鎖アルキレン基のうちのいずれかであり、Ｌ３が単結合、エーテル基、エステル基及びカーボネート基のうちのいずれか（より好ましくはエーテル基）であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合及び−ＣＯＯ−のうちのいずれか（より好ましくは単結合）であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、且つ、ｒが１である化合物であり、
化合物Ｃ１２は、式（１）中のＺ１及びＺ２は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が単結合若しくは炭素数１から１２の直鎖アルキレン基のうちのいずれかであり、Ｌ３が単結合、エーテル基、エステル基及びカーボネート基のうちのいずれか（より好ましくはエーテル基）であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が−ＣＯＯ−であり、Ｍ２が１，４−フェニレン基であり、Ｌ２が−ＯＣＯ−であり、ｑが１であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、且つ、ｒが１である化合物であり、
化合物Ｃ１３は、式（１）中のＺ１及びＺ２は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が式：（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｚ（ｚは２及び３のうちのいずれかである。）で表される基であり、Ｌ３が単結合であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合及びエステル基のいずれか（より好ましくは単結合）であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、且つ、ｒが１である化合物であり、
化合物Ｃ１４は、式（１）中のＺ１が式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が単結合であり、Ｌ３が単結合であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種（より好ましくはシアノ基）であり、且つ、ｒが１である化合物であり、
化合物Ｃ１５は、式（１）中のＺ１が式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が炭素数１から１２の直鎖アルキレン基であり、Ｌ３がエーテル基であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種（より好ましくはシアノ基）であり、且つ、ｒが１である化合物であり、
化合物Ｃ１６は、式（１）中のＺ１が式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が式：（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｚ（ｚは２若しくは３である。）で表わされる基であり、Ｌ３が単結合であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種（より好ましくはシアノ基）であり、且つ、ｒが１である化合物であり、
化合物Ｃ１７は、Ｚ１が式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり、Ｆ１がアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Ｓ１が炭素数１から１２の直鎖アルキレン基であり、Ｌ３がエーテル基であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が−ＣＯＯ−であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種（より好ましくはシアノ基）であり、ｒが１である化合物である。
【００１８】
なお、上記本発明の配向性フィルムの製造方法によって、上記目的が達成される理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。ここで、上記目的が達成される理由を説明するために、前記重合性化合物として光重合性の化合物を用いた場合の本発明の好適な一実施形態を例に挙げて、図１〜４を参照しながら、本発明の配向性フィルムの製造方法において液晶性を示す化合物（重合前の重合性化合物及び重合後に得られる化合物のうちの少なくとも１種の化合物であって、液晶性を示す化合物）を配向させることが可能となる原理（本発明者らが推察する原理）を併せて説明する。また、以下の説明及び図面中、同一又は相当する要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１９】
図１は、前記重合性化合物を含む重合性材料からなる膜に対して光重合を開始する前の状態を模式的に示す概略縦断面図である。また、図２は、光源から光を照射して膜の一部の領域から重合を開始した状態を模式的に示す概略縦断面図であり、図３は、図２中の重合領域の境界を未重合の領域に向けて移動させた後の状態を模式的に示す概略縦断面図であり、図４は、図３の重合領域の境界を未重合の領域に向けて移動させた後の状態を模式的に示す概略縦断面図である。なお、図中、点線Ｓは重合領域の境界を示しており、矢印Ａは重合領域の境界Ｓを移動させる方向を概念的に示しており、矢印Ｌは光源から照射される光を概念的に示すものであり、Ａ１は光Ｌが照射されて重合された領域（重合領域：露光部）を概念的に示し、Ａ２は光Ｌが照射されていない未重合の領域（未重合領域：遮光部）を概念的に示し、Ａ３は配向が形成されている領域を概念的に示す。
【００２０】
このような図１〜４に示す実施形態において、光重合により配向性フィルムを製造する場合においては、先ず、図１に示すように、光源１１と、光源１１から照射される光を透過させることが可能な２枚の基板１２と、前記２枚の基板１２の間に配置した重合性材料からなる膜１３と、光源１１から照射される光を遮光することが可能なフォトマスク１４とを準備し、前記２つの基板１２のうちの一方の基板側に光源１１を配置し、膜１３の一部の領域のみに光源１１からの光が照射されるように、膜１３と光源１１との間に、膜１３の一部を遮光することが可能なフォトマスク１４を配置する。次に、図２に示すように、光源１１を点灯し、光源１１から光Ｌを照射する。このようにして光Ｌを照射すると、遮光部Ａ２では反応は進行せず未重合のままであるが、光が照射される露光部Ａ１においては重合が進行する。このようにして一部の領域を露光して、膜１３の一部の領域（露光部）Ａ１から前記重合性材料の重合を開始する。そして、このようにして重合された領域（重合領域：露光部）Ａ１においては、前記重合性材料中の前記重合性化合物（モノマー）が重合されて重合体（ポリマー）が形成される。そのため、重合領域（露光部）Ａ１においては重合が進行しモノマーの濃度が減少する。これにより、重合領域（露光部）Ａ１と未重合領域（遮光部）Ａ２との間では膜中に存在するモノマーの濃度に偏りが生じる。なお、一般に、膜中において化合物の濃度に偏りが生じると、物質の拡散現象により濃度勾配を解消する方向に物質の拡散が生じる。そのため、上述のように光を照射すると、膜の材料に、重合性化合物として１種の化合物のみを含有する重合性材料を用いていても、重合領域（露光部）Ａ１と未重合領域（遮光部）Ａ２の境界Ｓにおいて、モノマーの濃度に偏りが生じ、これにより濃度勾配を解消する方向に化合物（モノマー及び／又はポリマー）の拡散が誘起される。そして、未重合領域である遮光部Ａ２から重合領域である露光部Ａ１へは主にモノマーの流れが発生し、重合領域（露光部）Ａ１から未重合領域（遮光部）Ａ２へは主にポリマーの流れが発生するものと推察される。なお、このような化合物の流れとしては、より分子量が小さく動き易い化合物の流れがより大きくなる傾向にある。このようにして未重合領域Ａ２と重合領域Ａ１との間において化合物の流れが生じると、その流れにより、膜中の重合領域に存在する液晶性を示す化合物（重合領域に存在する重合前の重合性化合物（モノマー）及び重合後に得られる化合物（ポリマー）のうちの少なくとも１種の化合物であって、液晶性を示す化合物）には一種のずり応力が加わり、その液晶性を示す化合物が重合領域（露光部）Ａ１と未重合領域（遮光部）Ａ２の境界Ｓの近傍の領域において配向し、配向領域Ａ３が形成（誘起）される。なお、このような化合物の移動による流れが生じる方向は重合領域（露光部）Ａ１と未重合領域（遮光部）Ａ２の境界Ｓに対して略垂直な方向となるため、液晶性を示す化合物が棒状のものである場合、通常、平均的な配向方向は境界Ｓに対して略垂直な方向となる。ここで、上記従来技術（非特許文献１）のように、図２に示す位置においてフォトマスク１４を固定して境界Ｓの位置を固定した場合について検討すると、光重合が進行すると、重合領域Ａ１の内部の粘性が増大していくことから、化合物の拡散が抑制されていき、配向領域は境界近傍の領域のみに限定され、光照射領域の境界から垂直な方向に概ね数十〜数百μｍ程度の領域に配向領域が形成されるに過ぎない。これに対して、図１〜４に示す本発明の好適な実施形態においては、図２〜図４に示すように、重合領域（露光部）Ａ１と未重合領域（遮光部）Ａ２の境界Ｓを未重合領域Ａ２に向けて移動させる（なお、本実施形態においては、フォトマスク１４を連続的に移動させていくことにより、境界Ｓを未重合領域Ａ２に向けて移動させる。）。そして、膜１３の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始した後（図２参照）、重合領域の境界Ｓを未重合の領域Ａ２に向けて連続的に移動させることにより（図２〜４参照）、境界Ｓの移動していく先々において（新たな位置で）、膜中に存在する化合物の拡散が誘起されていき、光重合と拡散誘起による配向とを連続的に引き起こすことが可能となる。この際、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で（前述の化合物（モノマー及び／又はポリマー）の移動により生じる一種のずり応力が、配向を形成するために前記液晶性を示す化合物に十分に加えられるような速度で）、境界Ｓを連続的に移動させることにより、拡散誘起による配向を連続的に生じさせることが可能である。そのため、本発明においては、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で、重合領域Ａ１の境界Ｓを未重合の領域に向けて連続的に移動させることにより、配向領域を連続的に増大させることを可能としている。更には、前記液晶性を示す化合物を、前記ずり応力により配向させた場合において、一旦配向が始まると、液晶が持つ自己組織化能力によっても配向が増幅されるため、より効率よく配向が形成されることとなる。このように、上記非特許文献１〜２に記載のような従来技術においては重合性化合物として２種以上のモノマーを利用することが必須の構成となっていたが、本発明においては、重合性化合物としては１種の化合物のみを利用しているにもかかわらず、上述のように配向領域を連続的に増大させることが可能であるものと本発明者らは推察する。従って、本発明においては、重合性化合物として、重合前及び／又は重合後において液晶性を示す重合性化合物を１種のみ含有する重合性材料からなる膜を用いているにもかかわらず、大面積に配向領域が形成された配向性フィルムを効率よく製造することが可能であるものと本発明者らは推察する。また、本発明は、上述のように、重合領域（露光部）Ａ１と未重合領域（遮光部）Ａ２の境界Ｓを未重合領域Ａ２に向けて移動させることにより、移動して行く境界Ｓの近傍の領域に物質の拡散現象を順次連続的に引き起こして配向領域を連続的に増大させることを可能とする方法であるため、配向規制力を持たせるための前処理を施していない基板（例えばラビング処理を施していないような基板）等を用いた場合においても、効率よく配向性フィルムを製造することができる。そのため、ラビング処理により生じる発塵や静電気の問題、配向性フィルムへのほこりの付着や混入等の問題も効率よく回避することが可能であるばかりか���基板やセルに予め配向規制力を持たせるための前処理を施す必要もなく、作業性の点においても効率的な方法といえる。なお、図１〜４に示す例においては前記重合性化合物として光重合性の化合物を用いた場合を例にして、配向が形成される原理について説明しているが、本発明においては、重合領域（露光部）Ａ１と未重合領域（遮光部）Ａ２の境界Ｓを未重合領域Ａ２に向けて移動させることにより生じる物質の拡散現象を利用して、膜中に配向を形成して配向領域を増大させることを可能とする方法であることから、前記重合性化合物としては、光重合性の化合物に限定されるものではなく、光重合性の化合物以外の化合物（例えば熱重合性の化合物等）を利用してもよい。
【００２１】
また、本発明の配向性フィルムの製造方法においては、重合を開始した後に膜中において未重合領域から重合領域に移動する化合物を利用して、前記液晶性を示す化合物を配向させることから、その化合物が移動する方向（前記領域の境界にほぼ垂直な方向）に配向の方向を制御することが可能である。そのため、例えば、重合を光重合で行う場合にはマスクの形状に応じて様々な方向に配向を制御することも可能となる。
【００２２】
ここで、そのような配向方向の制御に関して、図５に示す本発明に好適な他の実施形態を参酌して簡単に説明する。なお、図５（ａ）は、光源側（照射する光の光軸方向）から見た場合におけるフォトマスク１４と基板１２との光重合開始前の関係（光照射領域の境界Ｓを移動させる前の状態）を模式的に示す概略平面図であり、図５（ｂ）は、光源側から見た場合におけるフォトマスク１４と基板１２との光重合開始後の関係（光照射領域の境界Ｓを矢印Ａの方向に移動させた状態）を模式的に示す概略平面図である。図５中において、重合領域Ａ１の境界Ｓは基板１２の２辺に対して垂直となっており、図５（ａ）〜（ｂ）に模式的に示すように境界Ｓを移動させた場合には、その境界Ｓに対してほぼ垂直に化合物の流れが生じ、境界Ｓに対してほぼ垂直に配向方向が制御される（図中の矢印Ｐは、境界Ｓに対して垂直な方向を概念的に説明するために示すものであり、化合物の流れは矢印Ｐとほぼ同じ方向及び／又はその１８０°反対側の方向に生じるものと推察される。）。一方、マスク１４のエッジを斜めにして、境界Ｓが基板１２の２辺に対して垂直以外の角度で接触するようにして境界Ｓを移動させた場合には、その斜めの境界Ｓに対してほぼ垂直、又は境界Ｓの移動速度が速い場合には、境界Ｓの移動方向のベクトルと境界Ｓに対して垂直方向のベクトルとのベクトル和の方向に配向方向が制御される。なお、このようにマスク１４のエッジを斜めにした場合の配向方向の制御に関して、図６に示す本発明に好適な他の実施形態を参酌して、更に詳細に説明する。図６は、光源側（照射する光の光軸方向）から見た場合におけるフォトマスク１４と基板１２との関係を模式的に示す概略平面図である。図６に示すフォトマスク１４はエッジが斜めに形成され、境界Ｓが基板１２の２辺に対して垂直以外の角度をなすようにして接触するように配置されている。そして、このような境界Ｓを図中の矢印Ａの方向に向けて連続的に移動させながら光重合を行う場合（例えばマスク１４を矢印Ａの方向に向けて連続的に移動させながら光重合を行う場合）、基本的に、膜中の化合物（モノマー及び／又はポリマー）の拡散誘起により、マスクの境界Ｓに対してほぼ垂直な方向に化合物の流れが生じる（図中の矢印Ｐは、境界Ｓに対して垂直な方向を概念的に説明するために示すものであり、化合物の流れは矢印Ｐとほぼ同じ方向及び／又はその１８０°反対側の方向に生じるものと推察される。）。そのため、このような境界Ｓを図中の矢印Ａの方向に向けて連続的に移動させながら光重合を行なった場合、その斜めの境界Ｓに対してほぼ垂直な方向（矢印Ｐとほぼ同じ方向）に配向方向が制御されることとなる。なお、上述のように、境界Ｓの移動速度が速い場合には、境界Ｓの移動方向のベクトル（矢印Ａで示す方向）と、境界Ｓに対して垂直方向のベクトル（矢印Ｐで示す方向）とのベクトル和の方向に配向方向が制御されることとなる。
【００２３】
そのため、図５（ａ）〜（ｂ）に模式的に示すように境界Ｓを移動させた場合と、図６に模式的に示すようにマスク１４のエッジを斜めにして境界Ｓを移動させた場合とにおいては、異なる方向に配向方向が制御されることとなる。このように、光重合を採用する場合においては、マスク１４のエッジの形状に応じて、異なる配向方向を有するフィルムを得ることも可能である。
【００２４】
このように、本発明は、重合領域の境界を移動させながら物質の拡散現象を利用して配向を形成し、これにより配向領域を増大させることが可能とする方法であることから、所望の配向性を有し且つ大面積に配向領域が形成されている配向性フィルムを効率よく製造することが可能となるものと本発明者らは推察する。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、重合性化合物としては１種の化合物のみを含有する重合性材料を配向性フィルムの材料に用いながら、大面積に配向領域が形成された配向性フィルムを効率よく製造することを可能とする配向性フィルムの製造方法を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】重合性材料からなる膜に対して光重合を開始する前の状態を模式的に示す概略縦断面図である。
【図２】光源から光を照射して膜の一部の領域から重合を開始した状態を模式的に示す概略縦断面図である。
【図３】図２中の重合領域の境界を未重合の領域に向けて移動させた後の状態を模式的に示す概略縦断面図である。
【図４】図３中の重合領域の境界を未重合の領域に向けて移動させた後の状態を模式的に示す概略縦断面図である。
【図５】図５（ａ）は、光源側から見た場合におけるフォトマスクと基板との光重合開始前の関係（光照射領域の境界を移動させる前の状態）を模式的に示す概略平面図であり、図５（ｂ）は、光源側から見た場合におけるフォトマスクと基板との光重合開始後の関係（光照射領域の境界を移動させた状態）を模式的に示す概略平面図である。
【図６】光源側から見た場合における、エッジを斜めに形成したフォトマスクと基板との光重合開始前の関係を模式的に示す概略平面図である。
【図７】光源側から見た場合における、複数の略長方形状の開口部を有するフォトマスクと基板との光重合開始前の関係を模式的に示す概略平面図である。
【図８】光源側から見た場合における、複数の略長方形状の開口部を有するフォトマスクと基板との光重合開始前の関係を模式的に示す概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。
【００２８】
本発明の配向性フィルムの製造方法は、重合性化合物として、重合前及び／又は重合後において液晶性を示す重合性化合物を１種のみ含有する重合性材料からなる膜を用いて、
前記膜の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始した後、該膜中に存在する液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させることにより配向性フィルムを得ることを特徴とする方法である。
【００２９】
このような重合性材料は、その材料中に、重合性化合物としては、重合前及び／又は重合後において液晶性を示す重合性化合物を１種のみを含有するものである。このように、本発明においては、重合性化合物としては１種の化合物のみを用いた重合性材料からなる膜を利用しながらも、大面積に十分に一様な配向が形成された配向性フィルムを得ることを可能とする。
【００３０】
このような重合性化合物としては、１以上（より好ましくは１〜６）の重合性官能基を有するものが好ましい。このような重合性官能基の数が前記下限未満では、重合しないため、重合性化合物（モノマー）の濃度変化に由来して生じる化合物の拡散を利用した配向により、配向性フィルムを形成することが困難となる。また、このような重合性官能基の数が前記上限を超えると化合物の拡散よりも重合が速く進みすぎるため、拡散に伴う配向を形成することが困難となる傾向にある。
【００３１】
また、このような重合性官能基としては、特に制限されず、公知のものを適宜利用することができ、例えば、ビニル基、アリル基、ビニルエーテル基、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基等が挙げられ、中でも、化合物の合成の容易さ、取り扱い性等の観点から、ビニルエーテル基、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基、シンナモイル基、カルコン基が好ましく、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基がより好ましい。
【００３２】
さらに、本発明においては、液晶が持つ自己組織化能力によって配向を増幅させるという観点から、重合性化合物は、重合前及び／又は重合後において液晶性を示す化合物である必要がある（少なくとも重合後の膜中に存在する重合性化合物に由来する成分（重合性化合物そのもの、重合性化合物の重合物）が液晶性を示す必要がある）。なお、ここにいう「重合後に液晶性を示す化合物」とは、前記重合性化合物を重合させた場合に得られる化合物が液晶性を示すものであることをいう（重合性化合物の単独重合体（ポリマー）が液晶性を示す化合物であることをいう）。また、ここにいう「液晶性を示す化合物」としては、所定の温度範囲で液晶性を示すような化合物（いわゆるサーモトロピック液晶化合物）であることが好ましい。なお、このようなサーモトロピック液晶化合物としては、昇温及び降温を行った場合に液晶相の挙動を確認した場合に、昇温過程及び降温過程の両方で液晶性を示すエナンチオトロピック液晶化合物であっても、昇温過程及び降温過程のうちの一方の過程においてのみ液晶性を示すモノトロピック液晶化合物であってもよい。なお、本発明においては、重合前の前記重合性化合物（モノマー）及び前記重合性化合物を重合することにより得られる化合物（重合体：ポリマー）のうちの少なくとも１種を液晶性を示す化合物（液晶性を有する化合物）とすることにより、重合の開始により、膜中において化合物（モノマー及び／又はポリマー）の拡散が励起されると、前記液晶性を示す化合物にずり応力（せん断応力）を加えることが可能となり、これにより、一旦、前記液晶性を有する化合物の配向が始まると、液晶が持つ自己組織化能力によって配向が増幅されるため効率よく配向を形成することが可能である。
【００３３】
また、前記重合性化合物としては、下記一般式（１）：
Ｚ１ｐ−Ｍ１−Ｌ１−（Ｍ２−Ｌ２）ｑ−Ｍ３−Ｚ２ｒ          （１）
［式中、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子（より好ましくはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ）；ＣＮ；ＮＯ２；ＯＣＦ３；炭素数１から１８の直鎖又は分岐したアルキル基｛なお、前記アルキル基は、前記アルキル基のうち、１個または複数の炭素が連続して結合することのない酸素原子、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ１−、−ＮＲ１ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＲ１−、又は−ＮＲ１ＣＯＯ−に置換されていても良い（式中：Ｒ１は水素原子、または炭素数１から６のアルキル基を表す。）。｝；炭素数１から１８のアルコキシ基；及び、式：−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１
｛式中：Ｆ１は下記式（Ｆ−１）から（Ｆ−２０）：
【００３４】
【化１】
0006012553.tif 000002
【００３５】
（式中、Ｒ２は水素原子、または炭素数１から６のアルキル基を表す。）、
で表わされる基のいずれかを表し、
Ｓ１は、単結合、炭素数１から１８の直鎖または分岐したアルキレン基（なお、前記アルキレン基は、前記アルキレン基のうち、１個又は複数の炭素が、連続して結合することのない酸素原子、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ３−、−ＮＲ３ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＲ３−、または−ＮＲ３ＣＯＯ−に置換されていても良い（式中、Ｒ３は水素原子、または炭素数１から６のアルキル基を表す。）。）のうちのいずれかであり、
Ｌ３は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＨ２−ＣＨ２―、−ＣＦ２−ＣＦ２−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ４−、−ＮＲ４ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＲ４−、−ＮＲ４ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−を表す（式中、Ｒ４は水素原子、または炭素数１から６のアルキル基を表す。）。｝
で表わされる基のうちのいずれかを示し、
Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＨ２−ＣＨ２―、−ＣＦ２−ＣＦ２−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ４−、−ＮＲ４ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＲ４−、−ＮＲ４ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−を表し（式中、Ｒ４は水素原子、または炭素数１から６のアルキル基を表す）、
Ｍ１およびＭ３は、それぞれ独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，６−ジイル基、１，３，４−ベンゼントルイル基、１，３，５−ベンゼントルイル基、１，３，４，５−ベンゼンテトライル基を表し、Ｍ２は、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基または１，３−ジオキサン−２，６−ジイル基を表し、
Ｍ１、Ｍ２およびＭ３として選択される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立してアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基で置換されていてもよく、
ｐおよびｒはそれぞれ独立に１、２、または３を表し、
ｑは０、１、または２を表し、
Ｚ１および／またはＺ２が複数の場合は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
で表わされる化合物が好ましい。
【００３６】
なお、前記重合性化合物としては、重合前及び／又は重合後において液晶性を示すものであればよいため、前記一般式（１）で表わされる化合物以外のものであっても、重合前及び／又は重合後において液晶性を示すものであれば好適に利用することができる。このような一般式（１）で表わされる化合物以外に使用可能な化合物としては、例えば、一般式（１）で表わされる構造以外の構造を有し、且つ、ビニル基、アリル基、ビニルエーテル基、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基等の官能基を有する化合物を適宜使用することができる。このような重合性化合物として利用可能な成分（例えば、重合前及び／又は重合後において液晶性を示す各種熱重合化合物や光重合化合物）は、市販されているものも多く、それらを適宜使用してもよい。
【００３７】
また、前記重合性材料に含有させる前記重合性化合物としては、重合時に重合領域と未重合領域の境界の位置の制御が容易であり、より効率よく所望の配向性を有するフィルムを形成することが可能となって、作業効率をより向上させることが可能であることから、光重合性の化合物を用いることが好ましい。すなわち、本発明においては、前記重合性化合物を光重合性の化合物とし、前記重合性材料の重合を光重合により行うことが好ましい。なお、ここで言う光重合性の化合物とは、ビニル基、アリル基、ビニルエーテル基、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基のように、光開始剤の存在により官能基が反応する化合物でもよいし、光開始剤がなくとも官能基が光により反応する化合物でもよい。光開始剤がなくても官能基が反応する光重合性化合物の例としては、シンナモイル基やカルコン基、クマリン基のような光２量化反応が可能な官能基を有する化合物等を例示することができる。
【００３８】
また、前記重合性化合物としては、より効率よく重合を進行させることが可能なモノマーであるといった観点や、より効率よく配向性フィルムを形成することが可能となるという観点から、前記一般式（１）で表される化合物であって、式中のＺ１及びＺ２がいずれも−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり（なお、Ｚ１及びＺ２は同一であっても異なっていてもよく、合成の容易さの観点からは、同一の基であることが好ましい。）、Ｆ１がアクリル基若しくはメタクリル基であり、Ｓ１が単結合若しくは炭素数１から１２の直鎖アルキレン基であり、Ｌ３が単結合、エーテル基（−Ｏ−）、エステル基（−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−）及びカーボネート基（−ＯＣＯＯ−）のうちのいずれか（より好ましくはエーテル基）であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合及び−ＣＯＯ−のうちのいずれか（より好ましくは単結合）であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、且つ、ｒが１である化合物Ｃ１１、
前記一般式（１）で表される化合物であって、式中のＺ１及びＺ２がいずれも−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり（なお、Ｚ１及びＺ２は同一であっても異なっていてもよく、合成の容易さの観点からは、同一の基であることが好ましい。）、Ｆ１がアクリル基若しくはメタクリル基であり、Ｓ１が単結合若しくは炭素数１から１２の直鎖アルキレン基であり、Ｌ３が単結合、エーテル基、エステル基及びカーボネート基のうちのいずれか（より好ましくはエーテル基）であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が−ＣＯＯ−であり、Ｍ２が１，４−フェニレン基であり、Ｌ２が−ＯＣＯ−であり、ｑが１であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、且つ、ｒが１である化合物Ｃ１２、
前記一般式（１）で表される化合物であって、式中のＺ１およびＺ２がいずれも−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされる基であり（なお、Ｚ１及びＺ２は同一であっても異なっていてもよく、合成の容易さの観点からは、同一の基であることが好ましい。）、Ｆ１がアクリル基若しくはメタクリル基であり、Ｓ１が式：（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｚ（ｚは２若しくは３である。）で表わされる基であり、Ｌ３が単結合であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合及びエステル基のいずれか（より好ましくは単結合）であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、且つ、ｒが１である化合物Ｃ１３、
前記一般式（１）で表される化合物であって、式中のＺ１が−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされ、Ｆ１がアクリル基若しくはメタクリル基であり、Ｓ１が単結合であり、Ｌ３が単結合であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種（より好ましくはシアノ基）であり、且つ、ｒが１である化合物Ｃ１４、
前記一般式（１）で表される化合物であって、式中のＺ１が−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされ、Ｆ１がアクリル基若しくはメタクリル基であり、Ｓ１が炭素数１から１２の直鎖アルキレン基であり、Ｌ３がエーテル基であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種（より好ましくはシアノ基）であり、且つ、ｒが１である化合物Ｃ１５、
前記一般式（１）で表される化合物であって、式中のＺ１が−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされ、Ｆ１がアクリル基若しくはメタクリル基であり、Ｓ１が式：（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｚ（ｚは２若しくは３である。）で表わされる基であり、Ｌ３が単結合であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が単結合であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種（より好ましくはシアノ基）であり、且つ、ｒが１である化合物Ｃ１６、及び、
前記一般式（１）で表される化合物であって、式中のＺ１が−Ｌ３−Ｓ１−Ｆ１で表わされ、Ｆ１がアクリル基若しくはメタクリル基であり、Ｓ１が炭素数１から１２の直鎖アルキレン基であり、Ｌ３がエーテル基であり、ｐが１であり、Ｍ１が１，４−フェニレン基であり、Ｌ１が−ＣＯＯ−であり、ｑが０であり、Ｍ３が１，４−フェニレン基であり、Ｚ２が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基の中から選択される１種（より好ましくはシアノ基）であり、且つ、ｒが１である化合物Ｃ１７、
がより好ましい。
【００３９】
また、このような化合物Ｃ１１〜１７としては、４，４’−ビス（８−（メタ）アクリロイルオキシ−３，６−ジオキサオクチル−１−オキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（９−（メタ）アクリロイルオキシ）ノニルオキシビフェニル、４，４’−ビス（６−（メタ）アクリロイルオキシ）ヘキシロキシビフェニル、１，４−ビス（６−(メタ)アクリロイルオキシヘキシロキシ）メチルヒドロキノン、４−（６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４’−シアノビフェニル、４−（９−（メタ）アクリロイルオキシノニルオキシ）−４’−シアノビフェニル、４−（５−（メタ）アクリロイルオキシ−３−オキサペンチル−１−オキシ）−４‘−シアノビフェニル、４−（８−（メタ）アクリロイルオキシ−３，６−ジオキサオクチル−１−オキシ）−４’−シアノビフェニル、４−シアノフェニル−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）ベンゾエートが好適なものとして挙げられる。
【００４０】
さらに、このような重合性材料は、その材料中に重合性化合物としては１種の化合物のみ（重合前及び／又は重合後において液晶性を示す重合性化合物を１種のみ）含有するものである。このような重合性材料においては、重合性化合物とともに、重合性を示す化合物以外の他の成分（重合性を示さない化合物）を本発明の効果を損なわない範囲において、適宜含有させてもよい。このような重合性材料に含有させることが可能な他の成分（重合性を示さない化合物）としては、各種溶媒、光重合開始剤、粘度調整剤、可塑剤、重合禁止剤、界面活性剤などを挙げることができる。なお、このように重合性材料中に他の成分（各種添加剤等）を含有させる場合において、前記重合性材料中の前記重合性材料の含有量はモル比で７０モル％以上（より好ましくは８０モル％以上）であることが好ましい。このような重合性材料の含有量が前記下限未満では、重合後の膜中の液晶性を示す化合物の量が低下し、配向を形成することが困難となる傾向にある。
【００４１】
また、前記重合性材料中の前記重合性化合物を光重合させる場合には、より効率よく重合を進行せしめることが可能となることから、前記重合性化合物とともに光重合開始剤を用いることが好ましい。このような光重合開始剤としては特に制限されず、公知のものを適宜利用することができ、市販のもの（例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名「イルガキュア６５１」等）を用いてもよい。また、このような光重合開始剤を用いる場合においては、その使用量は用いる重合性材料中の重合性化合物の種類や光の吸収波長、等に応じて適宜設計することができ、例えば、重合性材料中の全化合物に対して０．１〜１０モル％としてもよい。なお、このような光重合開始剤の含有比率が前記下限未満では光重合開始剤を用いる効果が十分に得られなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると液晶性を低下させる傾向にあり、これにより良好な配向が効率よく得られなくなる傾向にある。
【００４２】
また、このような重合性材料からなる膜の形態（厚み等を含む大きさ）は、特に制限されず、目的の設計に応じて適宜その形態を変更することができ、例えば、厚みを０．１〜２００μｍとしてもよい。また、このような重合性材料からなる膜としては、基板上に前記重合性材料を塗布することにより得られる塗膜であってもよく、いわゆるセル中に重合性材料を導入してセルにより重合性材料を膜状としたものであってもよく、その膜の形成方法やその製造時の基板の使用の有無等も特に制限されず、公知の方法を適宜利用でき、その条件等は重合性材料中の重合性化合物の種類、重合の方式（光重合や熱重合）、最終製品の用途等に応じて適宜選択することができる。更に、前記重合性材料からなる膜を基板上やセル中に製造する場合において、用いる基板等は水平なものではなくてもよい。
【００４３】
また、このような重合性材料からなる膜としては、膜の形状や均一性を十分に維持しつつ配向性フィルムを形成するという観点から、２枚の基板の間に重合性材料の膜を配置して基板により膜を支持すること（例えば２枚の基板を含むセルを利用してセル中に膜を配置する等）や、１枚の基板上に前記重合性材料からなる膜を形成し、もう一方の面は気相界面としたものが好ましい。また、このような基板やセルの材料は特に制限されず、公知の材料（例えばガラスやプラスチック等）を適宜利用することができる。また、重合を光重合により行う場合において、前記膜の光の入射面側に基板が接触しているような場合には、その基板を介して光を入射させる必要があることから、該基板は少なくとも光重合に使用される波長の光を透過可能な材料からなるものとすることが好ましい。
【００４４】
さらに、本発明においては、このような重合性材料からなる膜を用いて、該膜の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始する。なお、ここにいう「膜の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始する」には、例えば、当初より膜の一部分を重合を開始させるための領域として設定し、その領域から重合を開始する場合（例えば、光重合の場合に、予め光源からの光が照射される部分（露光部）に膜の一部が存在するような状態にし、その膜の露光部から前記重合性材料の重合を開始するような場合）の他、重合するための領域を徐々に形成させながら膜の一部の領域から重合を開始する場合（例えば、フォトマスクを用いる光重合の場合に、前記マスクで膜の全体を覆い、前記マスクで遮光されている部分に膜が全て入るような状態とした後、光の照射の際に膜を光の照射領域に徐々に露出させていき、膜の露光されている部分（膜の一部の領域）から重合を開始するような場合：なお、この場合、光の照射領域に前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記膜を導入（露出）させることが好ましい。）を含む。
【００４５】
このように、前記重合性材料からなる膜を一部の領域から重合する方法としては特に制限されるものではなく、公知の方法を適宜採用することができる。このような膜の一部の領域から重合を開始する方法としては、例えば、一部の領域に光（Ｘ線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）等）を照射して、その照射領域から重合を開始する光重合による方法や、一部の領域から加熱を開始して、その加熱領域から重合を開始する熱重合による方法等が挙げられる。このような重合の方法としては、重合させる領域の制御がより容易であるという観点や、取り扱いの容易さ、照射する光の照射強度や照射エネルギーの設定や管理の容易さの観点から、一部の領域に光を照射する光重合による方法を採用することが好ましい。なお、このような光重合において、光重合の対象物である膜をセル等で支持している場合において、光照射面側の基板等が透明でない場合には電子線を用いることで光重合することが可能であり、電子線の利用は基板が透明でない場合に有用である。
【００４６】
さらに、前記重合性材料の重合方法として光重合を採用する場合には、より効率よく重合反応を進行させることが可能となることから、紫外線又は可視光を利用することが好ましい。このような光を照射するための光源としては特に制限されず、光重合に利用可能な公知の光源を適宜利用することができ、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプ、ＬＥＤランプ等を利用してもよい。
【００４７】
また、このような光重合の際に利用する光の照射波長としては特に限定は無く、化合物の吸収スペクトルと、光開始剤の推奨使用波長等を勘案して決定すればよい。また、例えば、重合性材料からなる膜が基板上に形成され、膜の一方の界面が周囲の雰囲気ガスに接触するような状態において重合を行う場合において、アクリル基やメタクリル基を含む化合物を用いてラジカル反応を利用する場合には、酸素が存在すると酸素阻害により重合が進み難い等といった観点から、窒素等の不活性ガス雰囲気下で重合を行うことが好ましい。オキセタン基やエポキシ基のようにカチオン反応を用いた酸素阻害の影響のない重合性官能基の場合には、特に不活性雰囲気下で重合を行う必要はなく、大気中で重合を行ってよい。一方、セルなどを用いて重合性材料からなる膜が、雰囲気ガスと接触しないような状態にある場合には、大気中において重合を開始してもよい。このように、本発明においては、重合性材料からなる膜が雰囲気ガスと接触する状態（膜の界面が気相と接触する状態）で重合を行ってもよく、重合性材料からなる膜が雰囲気ガスと接触しないような状態（膜の界面がセルの壁面（固相）と接触する状態）で重合を行ってもよい。
【００４８】
また、重合性材料の重合方法として光重合を採用する場合、加熱条件下で光照射を実施してもよく、その加熱温度は、使用する重合性材料の種類、重合反応の種類、液晶性、重合性材料の粘度、加熱の容易さ等を勘案して適宜選択することができるが、通常は室温（２５℃程度）〜３００℃程度とすることが好ましい。このような加熱温度が前記下限未満では重合性材料もしくはその中の１成分が結晶化するなどにより、重合反応や配向膜の形成を効率よく進行させることが困難となったり、重合性材料の粘度が高くなることによって、重合反応の速度が遅くなる等といった問題が生じる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、重合性化合物に光を照射する前に熱によって膜全体の重合が進行してしまい、配向性フィルムが得られなくなったり、空気中で反応を行う場合に重合性化合物が分解される可能性が高くなり、安定して配向性フィルムを得ることが困難となる傾向にある。
【００４９】
また、このような光重合の際には、０．１μＷ／ｃｍ２〜３０ｍＷ／ｃｍ２の強度で光を照射することが好ましく、０．５μＷ／ｃｍ２〜１０ｍＷ／ｃｍ２の強度で光を照射することがより好ましい。このような光の照度が前記下限未満では反応速度が遅くなるため、前記境界の移速度が遅くなり、生産性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると重合性化合物が拡散する速度よりも重合反応速度の方が速くなり過ぎることにより、化合物の拡散が十分に起こらず、配向性フィルムが得られなくなる傾向にある。
【００５０】
さらに、このような光重合の際に、一部の領域から光を照射するための方法は特に制限されず、例えば、一部の領域のみに光を照射できるようにした光源を利用してもよく、あるいは、フォトマスクを利用して一部の領域から光を照射してもよいが、重合領域と未重合領域の制御がより容易となるため、フォトマスクを利用することが好ましい。
【００５１】
また、本発明においては、上述のようにして、前記重合性材料からなる膜の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始した後に、該膜中に存在する液晶性を示す化合物（重合前の前記重合性化合物（モノマー）及び／又は前記重合性化合物を重合後に得られる化合物（ポリマー）であって、液晶性を示す化合物）が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる。このようにして重合領域と未重合領域との境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させることにより、連続的に重合を行って、移動して行く境界の近傍の領域において、膜中の化合物（前記モノマー及び／又はポリマー）の物質の拡散現象を順次連続的に引き起こすことが可能となり、これにより配向領域を連続的に増大させて配向性フィルムを得ることが可能となる。なお、このように前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる際における重合条件は、前述の重合開始時の重合条件と同様の条件を採用すればよい。
【００５２】
ここで、前記境界を移動させる際の移動速度である「液晶性を示す化合物が配向するような速度」は、液晶性を示す化合物の種類、拡散移動する化合物の種類、重合して形成される化合物（重合物：ポリマー）の種類、重合性化合物の種類、重合時に採用する重合の条件（例えば光重合を採用する場合の光の照射条件等）等によっても、前記膜中の液晶性を示す化合物を配向させるために必要となる時間等が異なることから、一概に言えるようものではない。すなわち、本発明においては、重合領域と未重合領域とにおいて生じる化合物の濃度勾配に起因して、重合領域と未重合領域との境界の近傍において前記重合性材料中の化合物（主にモノマー及び／又はポリマー）の拡散移動（流れ）を引き起こし、前記重合性材料中に存在する液晶性を示す化合物に、一種のずり応力を付加して、前記境界の近傍において前記液晶性を示す化合物を配向させるため、「液晶性を示す化合物が配向するような速度」は、その液晶性を示す化合物の種類や拡散移動する化合物の種類等によって異なるものとなる。例えば、前記重合性化合物の重合速度が非常に速い場合、重合領域と未重合領域において膜中の化合物（モノマー及び／又はポリマー）の濃度勾配が急激に生じて、前記重合性化合物の重合領域への移動速度が非常に速いものとなる。このような場合には、前記境界の移動速度を比較的速くしても、前記重合性化合物の重合領域への移動に伴って生じるずり応力を、重合領域に存在する液晶性を示す化合物に十分に加えることができ、液晶性を示す化合物を十分に配向させることが可能となる。これに対して、例えば、前記重合性化合物の重合速度が遅く、重合領域と未重合領域において化合物の濃度勾配が穏やかに発生するような場合には、膜中の液晶性を示す化合物に十分にずり応力を付与するためには時間がかかるため、前記境界の移動速度を早くすると、前記境界の近傍において、十分に液晶性を示す化合物を配向させることが困難となる。このように、「液晶性を示す化合物が配向するような速度」は、液晶性を示す化合物の種類や拡散移動する化合物の種類、重合して形成される化合物（重合物）の種類、重合条件等に応じて適宜配向が生じるように決定すればよく、その速度の設定は適宜変更することができる。
【００５３】
また、このような液晶性を示す化合物が配向するような速度（前記境界を移動させる移動速度）としては、１×１０−７〜４×１０−１ｍ／ｓとすることが好ましく、１×１０−６〜４×１０−２ｍ／ｓとすることがより好ましい。このような速度が前記下限未満では化合物の拡散よりも重合反応が早く進行するため、粘性が高くなることにより化合物の拡散移動が却って抑制されてしまい、液晶性を示す化合物にずり応力を十分に付与することができなくなり、広範囲を効率よく配向させることが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、速度が速くなり過ぎて、境界近傍において十分に化合物の拡散移動を行うことが困難となり、重合領域において配向を形成することが困難となる傾向にある。また、重合性材料として化合物Ｃ１１〜１７のうちの１種を利用する場合、前記重合性材料の重合に際して、０．１μW／ｃｍ２〜３０ｍＷ／ｃｍ２の強度で照射する光重合法を採用する場合においては、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度（前記境界を移動させる移動速度）は、配向性フィルムを効率よく形成することが可能であるという観点から、１×１０−７〜４×１０−１ｍ／ｓに設定することが好ましい。
【００５４】
また、前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる方法としては、特に制限されず、例えば、重合方法が熱重合である場合には、加熱領域を未重合の領域に連続的に移動させていくことが可能な方法を適宜採用すればよく、また、重合方法が光重合である場合には、光の照射領域を未照射の領域に連続的に移動させていくことが可能な方法を適宜採用すればよい。
【００５５】
また、このような領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる方法としては、境界の移動速度をより容易に制御でき、より効率よく配向領域を形成させることが可能であることから、前記重合性材料の重合を光重合により行い、且つ、前記境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させるために、光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させる方法を採用することが好ましい。また、光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させる方法としては、境界を移動させることが可能な方法であればよく特に制限されず、例えば、前記重合性材料からなる膜に対して、一部の領域のみに光を照射できるようにした光源自体を連続的に移動させるような方法や、前記光源を固定しつつ前記重合性材料の膜を連続的に移動させる方法、フォトマスクを利用し、フォトマスクを連続的に移動させる方法、更には、フォトマスクを利用し、フォトマスクを固定しつつ前記重合性材料の膜を連続的に移動させる方法を利用してもよい。
【００５６】
また、このような光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させる方法の中でも、前記光重合の際にフォトマスクを利用して、前記フォトマスク及び／又は前記膜を連続的に移動させる方法（例えば、フォトマスクを利用し、そのフォトマスクを連続的に移動させる方法や、フォトマスクを利用し、そのフォトマスクを固定しつつ前記重合性材料の膜を連続的に移動させる方法等）を採用することが好ましい。このように、前記重合性材料の重合に光重合を採用し、フォトマスクを利用することで、前記光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させることを、より容易に達成することが可能である。
【００５７】
ここで、前記重合性材料の重合を光重合により行い、その光重合の際にフォトマスクを利用する場合の本発明の配向性フィルムの製造方法の好適な実施形態について、図１〜４を参照して簡単に説明する。図１〜４に示す好適な実施形態においては、先ず、膜１３の一部の領域のみに光源１１からの光が照射されるように膜１３と光源１１との間に光を遮蔽することが可能なフォトマスク１４を配置した後（図１）、光源１１から光を照射することにより膜１３の一部の領域Ａ１から前記重合性材料の重合を開始し（図２参照）、その後、液晶性を示す化合物が配向するような速度でフォトマスク１４を連続的に移動させることにより、液晶性を示す化合物が配向するような速度で重合領域の境界Ｓを未重合の領域Ａ２に向けて（矢印Ａの方向に向けて）連続的に移動させて（図３〜４参照）、これにより配向性フィルムを得る。このように、前記重合性材料の重合に光重合を利用した場合には、フォトマスク１４の移動させる方法のような簡便な方法で、重合領域と未重合領域の境界Ｓを移動させることを達成でき、配向性フィルムをより効率よく製造することが可能となる。なお、フォトマスクを利用する場合の本発明の配向性フィルムの製造方法の好適な実施形態について図１〜４を参照して説明したが、フォトマスクを利用する場合における本発明の配向性フィルムの製造方法の実施形態は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記図１〜４に示す実施形態においては、重合領域と未重合領域の境界Ｓを移動させるために、フォトマスク１４の移動させる方法を採用しているが、フォトマスク１４を固定して膜１３自体を移動させる方法を採用してもよい。また、上記図１〜４に示す実施形態においては、膜１３の一部の領域Ｒ１に光が照射されるような状態とした後に前記重合性材料の重合を開始しているが、本発明の配向性フィルムの製造方法において採用可能な重合方法は、かかる実施形態において採用したような方法に制限されるものではなく、例えば、フォトマスクにより膜の全てを覆い、光の照射開始とともに、液晶性を示す化合物が配向するような速度でフォトマスク又は膜を連続的に移動させて、膜が前記速度で光の照射領域（露光部）に導入されていくようにすることにより、その光の照射領域（露光部）に導入された領域（膜の一部の領域）から重合を開始し、そのまま液晶性を示す化合物が配向するような速度で重合領域の境界を未重合の領域に向けて移動させて配向フィルムを得るような方法を採用してもよい。
【００５８】
また、前記重合性材料の重合を光重合により行い、その光重合の際にフォトマスクを利用する場合、フォトマスクのエッジ形状に応じて、配向方向を容易に制御することが可能である。以下、このようなフォトマスクのエッジ形状に応じた配向の制御に関して、図５及び６にそれぞれ示す実施形態を参照しながら簡単に説明する。例えば、フォトマスクとして、図５に示すようなフォトマスク１４を用いた場合には、図５に示す境界Ｓに対してほぼ垂直な方向に化合物の流れが生じ、境界Ｓに対してほぼ垂直に配向方向が制御できる。また、フォトマスクとして、図６に示すようなエッジが斜め方向に形成されたフォトマスク１４を利用した場合、基本的に、図６に示す境界Ｓに対してほぼ垂直な方向に化合物の流れが生じ、その斜めの境界Ｓに対してほぼ垂直、又は境界Ｓの移動速度が速い場合には境界Ｓの移動方向のベクトル（矢印Ａ）と境界Ｓに対して垂直方向のベクトル（矢印Ｐ）とのベクトル和の方向に配向方向が制御できる。そのため、フォトマスクを利用した光重合を行なう場合には、フォトマスクのエッジ形状に応じて配向方向を所望の方向により容易に制御することが可能となる。従って、所望の配向方向を形成するために、フォトマスクのエッジ形状を適宜変更しながら利用してもよく、これにより簡便に配向方向を制御することが可能である。
【００５９】
また、前記重合性材料の重合を光重合により行い、その光重合の際にフォトマスクを利用する場合、前記フォトマスクとして、複数の略長方形状の開口部が、各開口部の長辺が略平行となるようにして形成されたフォトマスクを好適に利用することができる。以下、このような複数の略長方形状の開口部が各開口部の長辺が略平行となるように形成されたマスクを利用した場合における光重合の方法の好適な実施形態を、図７や図８を参照しながら簡単に説明する。図７及び図８は、それぞれ、光源側（照射する光の光軸方向）から見た場合におけるフォトマスク１４と基板１２との関係を模式的に示す概略平面図である。なお、これらの実施形態においては、開口部１４Ａを介して透過した光により基板１２上に配置された膜の光重合が可能となるように、光源とフォトマスク１４と基板１２とが配置されている。
【００６０】
このような図７及び図８に示すフォトマスク１４は、複数の略長方形状の開口部１４Ａを有する。ここで、「略長方形状」とは、図７に示す開口部１４Ａのような長方形の形状の他、長方形の四隅が円弧状となっている形状、長方形の長辺又は短辺に対応する部分が円弧状の辺となっている形状、更には、図８に示す開口部１４Ａのような四隅の角度が９０度ではない平行四辺形の形状（なお、このような形状の場合にも、四隅が円弧状のものや、長辺又は短辺に対応する部分が円弧状の辺となっている形状も含む。）をも含む概念である。このように、略長方形状の開口部とは、開口部が、長方形のように、長辺（円弧状の辺でもよい）に相当する辺が、短辺（円弧状の辺でもよい。）に相当する辺よりも長くなっている細長い形状であることを意図する表現である。
【００６１】
このような開口部１４Ａの略長方形状（細長い形状）は特に制限されず、長辺の長さＹが短辺の長さＸよりも長ければよい。また、このような長辺の長さＹと短辺の長さＸとの比（Ｙ／Ｘ）としては、２．０以上であることが好ましく、５．０〜２．０×１０５であることがより好ましい。
【００６２】
また、このような開口部１４Ａの短辺の長さＸとしては、重合させる際に用いる基板１２や膜の大きさ等によっても異なるものであり、一概には言えないが、１μｍ〜１０ｍｍであることが好ましく、１０μｍ〜１ｍｍであることがより好ましい（なお、複数の開口部１４Ａの短辺の長さＸの平均値も、同様の数値範囲となることが好ましい。）。このような開口部１４Ａの短辺の長さＸが前記下限未満では、配向が生じ難くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、膜面内の配向が均一なフィルムが得られ難くなる傾向にある。
【００６３】
また、このような開口部１４Ａは、各開口部の長辺が略平行に配置されている。このように開口部１４Ａを、各開口部の長辺が略平行になるように配置することで、大面積に配向フィルムを形成する際に、その配向方向を一様な方向に制御することが可能となる。また、このような開口部１４Ａを有するマスクとしては、開口部１４Ａが周期的に形成されていることが好ましく、同様の形状の開口部１４Ａが周期的に形成されていることがより好ましい。このように、開口部１４Ａは周期的に形成されている場合、開口部１４Ａのピッチ（１つの開口部の中心から隣接する開口部の中心までの距離）は特に制限されるものではないが、１μｍ〜１０ｍｍであることが好ましく、１０μｍ〜１ｍｍであることがより好ましい（なお、複数の開口部１４Ａのピッチの平均値も、同様の数値範囲となることが好ましい。）。このような開口部１４Ａのピッチが前記下限未満では配向が生じ難くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、膜面内の配向が均一なフィルムが得られ難くなる傾向にある。なお、このような開口部を複数有するフォトマスクにおいて、開口部の数は２以上であればよく、特に制限されず、マスクや基板の大きさ等に応じて、その設計を適宜変更することができる。
【００６４】
このような複数の長方形状の開口部が略平行に形成されたマスク１４を用いて、例えば、基板１２を方向Ａと反対側の方向又は同じ方向に向かって動かしながら、基板上に形成された膜に対して、開口部１４Ａを介して光を照射して光重合を行った場合、各開口部１４Ａごとに重合領域の境界が形成され、各境界をそれぞれ未重合の領域に向けて連続的に移動させることが可能となり、各開口部１４Ａごとにそれぞれ配向領域を形成していくことが可能となる。そのため、複数の長方形状の開口部が略平行に形成されたマスク１４を用いた場合には、マスク及び／又は膜を、隣り合う開口部の間隔（距離）と同じ長さ移動させることにより、大面積に配向領域を形成することが可能となり、効率よく配向フィルムを形成することが可能となる。
【００６５】
また、このような複数の長方形状の開口部が略平行に形成されたマスク１４を用いる場合においては、開口部１４Ａのエッジの形状に応じて、配向方向を制御することも可能であり、例えば、図７に示す実施形態において、前記膜（図示せず）が形成されている基板１２を方向Ａと反対側の方向（又は同じ方向）に向かって動かしながら光重合を行った場合、配向方向を開口部１４Ａの長辺に対して垂直な方向に制御することが可能である。また、図８に示す実施形態においては、例えば前記膜（図示せず）が形成されている基板１２を方向Ａと反対側の方向に向かって動かしながら（これにより境界Ｓを図中の矢印Ａの方向に向けて連続的に移動させながら）光重合を行った場合、光源側から見た場合に、開口部１４Ａのエッジが基板１２の２辺に対して斜め方向に形成されているため、重合により開口部１４Ａの長辺に対してほぼ垂直な方向に化合物の流れが生じ、その長辺に対してほぼ垂直、又は、基板１２の移動速度が速い場合には、その境界Ｓの移動方向のベクトルと開口部１４Ａの長辺に対してほぼ垂直方向のベクトルとのベクトル和の方向に配向方向が制御できる。なお、図７〜８を参照して本発明に好適に採用することが可能な光重合の方法について説明したが、本発明において採用することが可能な光重合の方法は、これらの方法に限定されるものではない。例えば、上述の実施形態においては基板１２を移動させる方法を説明しているが、基板１２を固定化し、マスクと光源とを移動させる方法等を適宜採用して光重合を行ってもよい。
【００６６】
また、本発明においては、重合性材料からなる膜の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始した後、該膜中に存在する液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させることにより、配向性フィルムを製造するが、このような配向性フィルムの製造に用いる重合性材料からなる膜として、予備重合を施した膜を利用してもよい。このような予備重合を施した膜を利用することにより、重合領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる速度をより速くしても十分に配向構造を形成することが可能となり、より効率よく大面積に配向性フィルムを形成することが可能となる傾向にある。なお、ここにいう「予備重合」とは、前記重合性材料の膜を、重合性化合物の流動性が損なわれない程度にわずかに重合させること（例えば予備重合及び本重合の双方に光重合を利用する場合、前記重合性材料の膜に対して、本重合よりも強度の弱い光を照射することで、流動性が損なわれない程度に膜中の重合性化合物をわずかに重合させること）をいう。
【００６７】
このように、本発明においては、重合領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる速度をより速くして、なるべく短時間で配向性フィルムを形成させるという観点から、予備重合後の膜を好適に利用することができる。このような予備重合の方法としては、特に制限されず、例えば、予備重合に光重合を採用する場合には、フォトマスクを用いた予備的な重合であっても、フォトマスクを利用せずに行なう予備的な重合であってもよい。このように、前記予備重合は、例えば、複数の略長方形状の開口部が各開口部の長辺が略平行となるようにして形成されたフォトマスクを用いた光重合による予備的な重合であってもよい。
【００６８】
このような予備重合の際に、光重合を採用する場合には、０．００１μＷ／ｃｍ２〜１０ｍＷ／ｃｍ２の強度で光を照射することが好ましく、０．０５μＷ／ｃｍ２〜１ｍＷ／ｃｍ２の強度で光を照射することがより好ましい。このような光の照度が前記下限未満では反応が不十分となり予備重合の効果が得られ難くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると重合性化合物の重合が進み過ぎた膜となり、前記重合性材料からなる膜の一部の領域から前記重合性材料の重合（重合性化合物の重合）を開始した後に、該膜中に存在する液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させても、化合物の拡散が十分に起こらず、配向性フィルムが得られなくなる傾向にある。なお、このような予備重合の際に光重合を採用する場合、光重合の条件としては、前記光の照度に関する条件以外は、前記重合性材料の重合方法として説明した光重合の条件と同様の条件を採用することができる。
【００６９】
このようにして、本発明においては、前記重合性材料からなる膜を用いて、前記膜の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始した後、該膜中に存在する液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させることにより、配向性フィルムを得ることを可能とする。なお、本発明の配向性フィルムの製造方法においては、重合を開始した後に膜中において未重合領域から重合領域に移動する化合物（前記モノマー及び／又は前記ポリマー）により生じる一種のずり応力を利用して、該膜中に存在する前記液晶性を示す化合物（前記モノマー及び／又は前記ポリマー）を配向させることから、基本的に、その化合物が移動する方向（前記領域の境界に垂直な方向）に配向の方向を制御することが可能であり、重合を光重合で行う場合にはマスクの形状に応じて様々な方向に配向を制御することや場所により配向方向を変えたパターン配向も可能となる。また、本発明は、重合性化合物としては、重合前及び重合後のうちの少なくとも一方において液晶性を示す、重合性の化合物（モノマー）を１種のみ含有する重合性材料からなる膜を用いながらも、重合領域の境界を移動させることにより配向を形成しつつ、配向領域を移動とともに増大させて配向性フィルムを得ることを可能とする方法である（重合性化合物を１種のみ利用した場合であっても重合領域の境界を移動させることで物質の拡散現象を利用することが可能となるため配向を形成できるものと本発明者らは推察している。）。
【００７０】
また、本発明においては、重合性材料からなる膜の一部の領域から前記重合性材料の重合を開始した後、該膜中に存在する液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させることにより、配向性フィルムを製造するが、前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて、膜中に配向領域を形成させた後においては、その重合性材料の重合反応を完了又は配向性フィルムをより十分に硬化させるために、例えば、重合が更に進行する温度条件下で膜を静置する等してもよい。なお、配向領域中に残存する未重合成分（重合性化合物）を更に効率よく重合させるために、形成された配向状態を維持可能な条件で、別途、光を照射したり、温度条件等を適宜変更したりして、重合を更に進行せしめる工程を別途施してよい。このように、本発明においては、重合領域の境界を移動させながら物質の拡散現象を利用して配向を形成するが、その境界の移動に伴う重合工程で膜中の成分を完全に重合させる必要はなく、前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させた後、その配向構造が維持されるようにしながら、重合を更に進行させる工程（後重合工程）を実施して、最終的に配向構造の固定化された配向性フィルムを得てもよい。なお、このような後重合工程の条件は特に制限されず、用いる重合性材料中の成分の種類等に応じて適宜変更しながら実施すればよい。
【００７１】
また、本発明の配向性フィルムの製造方法においては、基板に長尺の基板フィルム等を使用することで、ロール・ツー・ロールで長尺の配向性フィルムを製造することが可能である。
【００７２】
このようにして本発明の配向性フィルムの製造方法により得られる配向性フィルムは、大面積に前記液晶性を示す化合物の配向が形成されたフィルムとすることが可能であるため、偏光板や液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いるための位相差フィルムとして利用したり、有機ＥＬディスプレイの反射防止用円偏光板に用いるための位相差フィルムや３Ｄ用パターン位相差フィルムに利用することが可能である。
【実施例】
【００７３】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００７４】
（合成例１：Ａ６ＣＢ及びそのホモポリマーの合成等）
〈Ａ６ＣＢの合成及びその特性評価〉
４−（６−アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４’−シアノビフェニル（Ａ６ＣＢ）は、以下に示す方法により合成した。すなわち、４−シアノー４‘−ヒドロキシビフェニル（１００ｍｍｏｌ）を１２０ｍＬのＮ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド（ＤＭＦ）中に溶解して溶解液を得た。次に、前記溶解液に１−ブロモヘキサノール（１１０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１１０ｍｍｏｌ）及びヨウ化カリウム（触媒量：炭酸カルシウム１ｍｏｌに対して１ｍｍｏｌの割合）を加えて、１００℃で５時間加熱攪拌した。次いで、加熱攪拌を中止して反応を終了せしめた後、得られた反応液を酢酸エチルで抽出し、形成された有機層を１規定の塩酸、飽和食塩水の順で洗浄した。次いで、洗浄後の有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥剤をろ過により取り除いた後、溶媒を減圧留去した。その後、シリカゲルクロマトグラフィーで目的物（４−シアノー４’−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）ビフェニル）を分離、精製した後、クロロホルムとヘキサンで再結晶することにより白色固体状の化合物Ａ（４−シアノー４’−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）ビフェニル）２１．３ｇ（７２ｍｍｏｌ）を得た。
【００７５】
次に、前記化合物Ａ（５０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン２０．７ｍＬ（１５０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ３０ｍＬをナスフラスコ中で混合し、ヒドロキノン（触媒量：前記化合物１ｍｏｌに対して２ｍｍｏｌの割合）を加えて混合物を得た後、前記ナスフラスコを２３℃の水浴に沈め、ナスフラスコ内部の雰囲気を窒素雰囲気とした後に、前記混合物に対して、窒素雰囲気下、攪拌しながら塩化アクリロイル（１５０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下して反応溶液を得た。このようにして窒素雰囲気下、４８時間攪拌を行った後、前記反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を３００ｍＬ加え、更に３０分攪拌を行った。その後、得られた反応溶液をクロロホルムで抽出し、有機層を１規定の塩酸、飽和食塩水の順で洗浄した。次いで、得られた有機層から溶媒を室温で減圧留去し，シリカゲルクロマトグラフィーで目的物（４−（６−アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４’−シアノビフェニル）を分離精製した後、メタノールで再結晶することにより、４−（６−アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４’−シアノビフェニル９．８ｇ（２８ｍｍｏｌ）を得た。なお、このようにして得られた化合物の構造をＮＭＲ及びＩＲ測定により確認したところ、下記一般式（２）で表される４−（６−アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４’−シアノビフェニルであることが確認された。
【００７６】
【化２】
0006012553.tif 000003
【００７７】
このようにして得られた４−（６−アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４’−シアノビフェニルは、上記式（２）からも明らかなように、剛直なシアノビフェニル構造をメソゲンとして有する化合物である。また、示差走査熱量計（ＤＳＣエスアイアイ・ナノテクノロジー製ＤＳＣ６２２０）を用いて、１℃／分の速度で昇温及び降温を行い、４−（６−アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４‘−シアノビフェニルからなる液晶相の挙動を確認したところ、液晶性を示さず、昇温過程では６９℃で結晶層から等方相へと相転移し、降温過程では５３℃で等方相から結晶性へと相転移した。
【００７８】
〈Ａ６ＣＢのホモポリマーの合成及びその特性評価〉
上述のようにして得られた４−（６−アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４’−シアノビフェニル１５ｍｍｏｌを３５ｍＬのＮ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド（ＤＭＦ）中に添加した後、更に、０．７５ｍｍｏｌのアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を熱重合開始剤として添加して、７０℃の温度条件で６時間攪拌し、反応を進行せしめて重合溶液を得た。次に、反応終了後の前記重合溶液を０．５Ｌのメタノール中に投入し、ポリマーを析出させ、再度０．５Ｌのメタノール中で洗浄してから濾別して固形分を得た。次いで、得られた固形分を室温（２５℃）で２４時間真空乾燥することにより４．７ｇのポリマー（Ａ６ＣＢのホモポリマー）を得た。
【００７９】
このようにして得られたポリマーに対してＧＰＣ測定を行ったところ、前記ポリマーの数平均分子量Ｍｎは、ポリスチレン標準で換算したところ、８０００ｇ／ｍｏｌであることが確認された。更に、前記ポリマーを示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて示差走査熱量分析したところ、昇温過程では３８℃においてガラス転移温度を示し、３８〜１２６℃で液晶性を示し、降温過程では１２４〜２９℃まで液晶性を示し、２９℃においてガラス転移温度を示した。このような結果から、合成例１で得られた４−（６−アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４’−シアノビフェニルは、重合後に液晶性を示す化合物であることが分かった。
【００８０】
（実施例１）
先ず、重合性化合物（モノマー）として合成例１で得られた４−（６−アクリロイルオキシヘキシロキシ）−４’−シアノビフェニル（Ａ６ＣＢ：１官能アクリレート）を用いて、前記重合性化合物に対して、光重合開始剤としてイルガキュア６５１（ＢＡＳＦ社製）を含有量が１モル％となる割合で添加し、得られた混合物をジクロロメタンに一旦溶解してから溶媒を留去することにより、重合性化合物としてはＡ６ＣＢのみ（１種のみ）を含有する重合性材料を調製した。
【００８１】
次に、大きさ２５ｍｍ角、厚さ１．１ｍｍのソーダガラス基板２枚を、直径２μｍのシリカ粒子を混合したエポキシ系接着剤をガラス基板の左右の端部（左右の平行な２辺）に縦２５ｍｍ、幅２．５ｍｍで塗って、貼り合わせることでセル厚２μｍのガラスセル（該接着剤はスペーサーとしても機能する。該接着剤を塗っていない部分はそれぞれ開口部とした。）を作製した。なお、前記ソーダガラス基板は、中性洗剤、イオン交換水、アセトン、イソプロパノールの順に超音波洗浄を行った後、ＵＶオゾン処理を行ったものを使用した。
【００８２】
次いで、前記ガラスセルをホットステージ（メトラートレド社製の商品名「ＦＰ−９０、ＦＰ−８２ＨＴ」）上に設置した後、１００℃の温度条件で重合性材料を融解させつつ前記ガラスセルの一方の開口部から、前記ガラスセル中に毛細管現象により重合性材料を注入した後、１００℃で１０分保持して重合性材料の膜（膜の大きさ：縦２０ｍｍ、横２０ｍｍ、厚み２μｍ）を得た。次に、縦：３０ｍｍ、横３０ｍｍの正方形の形状のフォトマスクを、前記ガラスセル中の前記膜の全体を覆うように（遮光部に膜が入るように）固定配置した。また、光源を、仮にマスクが存在しなかった場合に、膜の全面に光が照射されるような位置に配置した。次いで、光源から光の照射を開始し、光を照射しながら、前記マスクを２０μｍ／ｓで移動させて、膜上に徐々に光照射領域を形成して行くことで、露光部（光照射部）に導入された膜の一部の領域から重合を開始し、そのままマスクを２０μｍ／ｓで移動させ続けることで、光照射領域と光の未照射領域の境界を未照射領域に向けて２０μｍ／ｓで移動させ続けて、１００℃の温度条件下（加熱条件下）で光重合を行った。ここで、このようなマスクを移動させる工程を図５を参照して説明すると、マスク１４を移動させる前のセルのソーダガラス基板１２上の露光部Ａ１を縦：５ｍｍ、横２５ｍｍの長方形の領域とし（該領域は重合性材料を注入していない側の開口部から縦に５ｍｍの領域となっており、その領域中に前記膜は存在していない。また、ここにいう縦方向は、図中の矢印Ａの示す方向をいう。）、また、マスクの移動方向は、図５（ａ）〜（ｂ）に示すように、光照射領域Ａ１の境界Ｓと垂直な方向（図中の矢印Ａに示す方向）とした。なお、図５は、光源側（照射する光の光軸方向）から基板及びフォトマスクを見た状態を模式的に示す概略平面図である。また、このような光重合においては、光源として高圧水銀灯（ウシオ社製の商品名「ＳＸ−ＵＩ５０１ＨＱ」）を用いるとともに、色ガラスフィルター（ＡＧＣテクノグラス社製、ＩＲＡ−２６５、ＵＶ−Ｄ５４Ｃ、ＮＤ（９０％）、ＮＤ（４０％））を組み合わせて使用し、照度１．０ｍＷ／ｃｍ２（ピーク波長：３６６ｎｍ）の紫外光を照射した。このようにして、マスクを用いて一部の領域から重合を開始し、重合領域と未重合領域の境界を移動させながら前記重合性材料を重合して、前記膜状の重合性材料の全領域に光を照射して光重合を行った。また、このような光重合を行なった後においては、前記ガラスセルを１００℃の温度条件で１０分間静置し、前記膜中の重合性化合物の重合を更に進行させた（後重合工程）。このような後重合工程を施した後、前記ガラスセルをホットステージから取り出してガラスセル中に形成されたフィルム（透明無着色、硬化後の厚み：１．７μｍ）を得た。
【００８３】
このようにして得られたフィルムの特性を確認するため、直交に配置した２枚の偏光板の間に前記ガラスセルを挿入し、かかるガラスセルを回転させながら観察したところ、暗視野と明視野を有し、得られたフィルムは、約２０ｍｍ角の領域で、ほぼ均一に配向した配向性フィルムであることが確認された。なお、暗視野となる方向は、直交に配置した２枚の偏光板の吸収軸に対して、平行又は垂直の方向であった（セルの回転により４５°おきに明暗が現れた。）。また、偏光顕微鏡（オリンパス社製の商品名「ＢＸ５０」）を用いて配向状態を確認したところ、得られたフィルムは均一に配向しており、微小領域においても配向が確認された。
【００８４】
次に、得られたフィルム中の化合物の配向方向を確認するために、フォトマスクのマスクエッジと垂直な方向の吸収スペクトル（Ａ⊥）と、フォトマスクのマスクエッジと平行な方向の吸収スペクトル（Ａ／／）を測定した。なお、吸収スペクトル測定には紫外可視分光光度計（日本分光製Ｖ−６５０ＳＴ）を用い、グランテーラープリズムを使用して偏光方向を調整した。
【００８５】
このような吸収スペクトルの測定結果から、フォトマスクのマスクエッジと垂直な方向の吸収スペクトル（Ａ⊥）の方が平行方向の吸収スペクトル（Ａ／／）よりも吸光度が大きいことが分かった。また、このような吸収スペクトルの測定結果から、分子の配向度を表すオーダーパラメータＳを下記計算式（１）：
Ｓ＝（Ａ⊥−Ａ／／）／（Ａ⊥＋２Ａ／／）        （１）
［式中、Ａ⊥は垂直方向の吸収スペクトルの強度を示し、Ａ／／は平行方向の吸収スペクトルの強度を示す。］
により求めたところ、オーダーパラメータＳは０．２２と非常に大きな値を示した。なお、オーダーパラメータＳは測定波長３３０ｎｍから３４５ｎｍの間の１ｎｍ刻みの吸光度（Ａ）のデータから、各波長のオーダーパラメータＳを求めた後、平均した値から求めた。
【００８６】
以上の結果から、実施例１で得られたフィルムにおいては、液晶性を有する化合物（Ａ６ＣＢの重合物）がフォトマスクのマスクエッジ（図５中の境界Ｓ）に対して垂直な方向に配向していることが分かった。更に、ベレックコンペンセーター（オリンパス製Ｕ−ＣＢＥ）を用いてリタデーションΔｎｄを確認したところ、波長５４６ｎｍの光に対するΔｎｄは１３０ｎｍであった。なお、複屈折Δｎを硬化後のフィルムの厚みとの関係から計算して求めたところ、波長５４６ｎｍの光に対するΔｎは０．０７６であった。得られた結果を表１に示す。
【００８７】
【表１】
0006012553.tif 000004
【００８８】
上述のような結果からも明らかなように、実施例１で得られたフィルムにおいては、重合領域のほぼ全面に亘って一様に配向した配向性フィルムが形成されていることが確認され、本発明の配向性フィルムの製造方法によれば、重合性化合物としては１種の化合物のみを含有する重合性材料を配向性フィルムの材料に用いながら、大面積に配向領域が形成された配向性フィルムを製造することが可能となることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
以上説明したように、本発明によれば、重合性化合物としては１種の化合物のみを含有する重合性材料を配向性フィルムの材料に用いながら、大面積に配向領域が形成された配向性フィルムを効率よく製造することを可能とする配向性フィルムの製造方法を提供することが可能となる。このように、本発明の配向性フィルムの製造方法は、大面積に配向領域を形成可能である点において特に優れた方法であるため、例えば、偏光板や液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いるための位相差フィルム、有機ＥＬディスプレイの反射防止用円偏光板に用いるための位相差フィルム、３Ｄ用パターン位相差フィルム等として利用するための配向フィルムの製造方法等として有用である。
【符号の説明】
【００９０】
１１：光源、１２：基板、１３：重合性材料からなる膜、１４：フォトマスク、１４Ａ：開口部、Ｘ：開口部１４Ａの短辺の長さ、Ｙ：開口部１４Ａの長辺の長さ、Ｓ：重合領域の境界、Ａ：重合領域の境界Ｓを移動させる方向を概念的に示す矢印、Ｐ：重合領域の境界Ｓに垂直な方向を概念的に示す矢印、Ｌ：光源から照射される光、Ａ１：光が照射されて重合された領域（重合領域：露光部）、Ａ２：光が照射されていない未重合の領域（未重合領域：遮光部）、Ａ３：配向が形成されている領域。
【図１】
0006012553.tif 000005
【図２】
0006012553.tif 000006
【図３】
0006012553.tif 000007
【図４】
0006012553.tif 000008
【図５】
0006012553.tif 000009
【図６】
0006012553.tif 000010
【図７】
0006012553.tif 000011
【図８】
0006012553.tif 000012