(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の引き臼を回転することにより水に浸漬されたコメを粉砕して、第１のコメスラリーを生成する第１粉砕装置と、
第２の引き臼を回転することにより前記第１のコメスラリーに含まれるコメ粒子を粉砕して、第２のコメスラリーを生成する第２粉砕装置と、
前記浸漬されたコメとともに、水を前記第１の引き臼に投入する原料供給装置と、
を備え、
前記第１の引き臼は、
円盤形の第１の下臼と、
前記第１の下臼の上に載置され、前記第１の下臼と同軸に配置される円盤形の第１の上臼と、
を備え、
前記第２の引き臼は、
円盤形の第２の下臼と、
前記第２の下臼の上に載置され、前記第２の下臼と同軸に配置される円盤形の第２の上臼と、
を備え、
前記第１の下臼の上面と、前記第１の上臼の下面とに、第１の溝が形成され、
前記第２の下臼の上面と、前記第２の上臼の下面とに、前記第１の溝よりも深い第２の溝が形成されるコメスラリー製造装置。
【請求項２】
請求項１に記載のコメスラリー製造装置であって、さらに、
第３の引き臼を回転することにより前記第２のコメスラリーに含まれるコメ粒子を粉砕して、第３のコメスラリーを生成する第３粉砕装置、
を備えたコメスラリー製造装置。
【請求項３】
請求項２に記載のコメスラリー製造装置であって、
前記第３の引き臼は、
円盤形の第３の下臼と、
前記第３の下臼の上に載置され、前記第３の下臼と同軸に配置される円盤形の第３の上臼と、
を備え、
前記第３の下臼の上面と、前記第３の上臼の下面とに、前記第２の溝と同じ深さであるか又は前記第２の溝よりも深い第３の溝が形成されるコメスラリー製造装置。
【請求項４】
請求項３に記載のコメスラリー製造装置であって、
前記第１の溝は、
前記第１の下臼の上面の中心部又は前記第１の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．３〜０．５ｍｍである第１の主溝、
を含み、
前記第２の溝は、
前記第２の下臼の上面の中心部又は前記第２の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．５〜０．７ｍｍである第２の主溝、
を含み、
前記第３の溝は、
前記第３の下臼の上面の中心部又は前記第３の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．５〜０．７ｍｍである第３の主溝、
を含むコメスラリー製造装置。
【請求項５】
請求項４に記載のコメスラリー製造装置であって、
前記第１の溝は、
前記第１の主溝と平行であり、深さが０．３〜０．５ｍｍである第１の副溝、
を含み、
前記第２の溝は、
前記第２の主溝と平行であり、深さが０．４〜０．６ｍｍである第２の副溝、
を含み、
前記第３の溝は、
前記第３の主溝と平行であり、深さが０．６〜０．８ｍｍである第３の副溝、
を含むコメスラリー製造装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載のコメスラリー製造装置であって、
前記第１の引き臼に供給される前記浸漬されたコメの量は、１分間あたり２５ｇ以上４０ｇ以下であるコメスラリー製造装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれかに記載のコメスラリー製造装置であって、
前記第１の引き臼に供給される水の量は、前記第１の引き臼に供給される前記浸漬されたコメの量の２４倍以上４１倍以下であるコメスラリー製造装置。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれかに記載のコメスラリー製造装置であって、
前記コメスラリーに含まれるコメ粒子の平均粒径は、５μｍ以下であるコメスラリー製造装置。
【請求項９】
請求項１ないし請求項８のいずれかに記載のコメスラリー製造装置であって、
前記浸漬されたコメは、１．５時間以上６時間以下の期間で水に浸漬されたコメであるコメスラリー製造装置。
【請求項１０】
１．５時間以上６時間以下の期間で玄米を水に浸漬するステップと、
水に浸漬された玄米とともに、水を第１の引き臼に投入するステップと、
前記第１の引き臼を回転することにより前記水に浸漬された玄米を粉砕して、第１のコメスラリーを生成するステップと、
第２の引き臼を回転することにより前記第１のコメスラリーに含まれるコメ粒子を粉砕して、第２のコメスラリーを生成するステップと、
を備え、
前記第１の引き臼は、
円盤形の第１の下臼と、
前記第１の下臼の上に載置され、前記第１の下臼と同軸に配置される円盤形の第１の上臼と、
を備え、
前記第２の引き臼は、
円盤形の第２の下臼と、
前記第２の下臼の上に載置され、前記第２の下臼と同軸に配置される円盤形の第２の上臼と、
を備え、
前記第１の下臼の上面と、前記第１の上臼の下面とに、第１の溝が形成され、
前記第２の下臼の上面と、前記第２の上臼の下面とに、前記第１の溝よりも深い第２の溝が形成されるコメスラリーの製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載のコメスラリーの製造方法であって、さらに、
第３の引き臼を回転することにより前記第２のコメスラリーに含まれるコメ粒子を粉砕して、第３のコメスラリーを生成するステップ、
を備えるコメスラリーの製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載のコメスラリーの製造方法であって、
前記第３の引き臼は、
円盤形の第３の下臼と、
前記第３の下臼の上に載置され、前記第３の下臼と同軸に配置される円盤形の第３の上臼と、
を備え、
前記第３の下臼の上面と、前記第３の上臼の下面とに、前記第２の溝と同じ深さであるか又は前記第２の溝よりも深い第３の溝が形成されるコメスラリーの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載のコメスラリーの製造方法であって、
前記第１の溝は、
前記第１の下臼の上面の中心部又は前記第１の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．３〜０．５ｍｍである第１の主溝、
を含み、
前記第２の溝は、
前記第２の下臼の上面の中心部又は前記第２の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．５〜０．７ｍｍである第２の主溝、
を含み、
前記第３の溝は、
前記第３の下臼の上面の中心部又は前記第３の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．５〜０．７ｍｍである第３の主溝、
を含むコメスラリーの製造方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載のコメスラリーの製造方法であって、
前記第１の溝は、
前記第１の主溝と平行であり、深さが０．３〜０．５ｍｍである第１の副溝、
を含み、
前記第２の溝は、
前記第２の主溝と平行であり、深さが０．４〜０．６ｍｍである第２の副溝、
を含み、
前記第３の溝は、
前記第３の主溝と平行であり、深さが０．６〜０．８ｍｍである第３の副溝、
を含むコメスラリーの製造方法。
【請求項１５】
請求項１０ないし請求項１４のいずれかに記載のコメスラリーの製造方法であって、
前記第１の引き臼に投入されるステップにおいて、前記第１の引き臼に供給される前記浸漬されたコメの量は、１分間あたり２５ｇ以上４０ｇ以下であるコメスラリーの製造方法。
【請求項１６】
請求項１０ないし請求項１５のいずれかに記載のコメスラリーの製造方法であって、
前記第１の引き臼に投入されるステップにおいて、前記第１の引き臼に供給される水の量は、前記第１の引き臼に供給される前記浸漬されたコメの量の２４倍以上４１倍以下であるコメスラリーの製造方法。
【請求項１７】
請求項１０ないし請求項１６のいずれかに記載のコメスラリーの製造方法であって、
前記コメスラリーに含まれるコメ粒子の平均粒径は、５μｍ以下であるコメスラリーの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コメを湿式粉砕することにより、コメ粒子の分散体（コメスラリー）を製造するコメスラリー製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
コメの消費量を増加させることを目的として、コメの様々な利用方法が検討されている。コメの利用方法の一つとして、米粉の製造が挙げられる。米粉からパン、麺類、菓子などを製造することにより、コメの利用を促進することができる。米粉は、コメを粉砕することにより製造される。
【０００３】
非特許文献１には、コメなどの食品を粉砕する方法として、湿式粉砕が記載されている。湿式粉砕は、原料に４〜５％の水を加えた上で、原料を粉砕する方法である。湿式粉砕には、以下の特徴がある。第１の特徴は、消費電力が少ないことである。第２の特徴は、粉砕時の発熱を原因とした粉砕物の変質を防止できることである。第３の特徴は、防塵効果があることである。
【０００４】
非特許文献２には、コメから米粉を製造するための製粉機械として、水挽粉砕機、気流粉砕機、高速粉砕機（ピンミル）などが記載されている。水挽粉砕機は、予め水に浸漬したコメを、石臼を用いて粉砕する。石臼には、浸漬したコメとともに、水が供給される。気流粉砕機は、ファンが高速回転している粉砕室内で、コメを粉砕室の内壁に衝突させたり、コメ同士を衝突させたりすることにより、コメを粉砕する。ピンミルは、ピン上の突起物が取り付けられた円盤を高速回転させることにより、コメを粉砕する。
【０００５】
特許文献１には、コメを１２時間で水に浸漬し、このコメを適量の水とともに粉砕することにより、米粉を製造する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平５−２６８８９０号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】「食品工学ポケットブック」，２９３ページ，種谷  真一著，株式会社工業調査会，１９９４年１１月２１日発行
【非特許文献２】「米粉の利用促進について」，［online］，農林水産省，［２０１１年１１月７日検索］，インターネット＜ＵＲＬ：http://www.maff.go.jp/j/soushoku/keikaku/komeko/k_suisin_kaigi/07/pdf/090317_suisin.pdf＞
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、水挽粉砕機を用いて米粉を製造する場合、原料のコメを水に長時間で浸漬しなければならないため、米粉の製造に時間を要するという問題がある。気流式粉砕機又は高速粉砕機（ピンミル）を用いて、コメを湿式粉砕することも可能であるが、これらの機器では、消費電力が大きく、高価である。
【０００９】
本発明は、上記問題点に鑑み、コメを湿式粉砕して得られるコメ粒子の分散体（コメスラリー）を、効率良く製造することができるコメスラリー製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、請求項１記載の発明は、コメスラリー製造装置であって、第１の引き臼を回転することにより水に浸漬されたコメを粉砕して、第１のコメスラリーを生成する第１粉砕装置と、第２の引き臼を回転することにより前記第１のコメスラリーに含まれるコメ粒子を粉砕して、第２のコメスラリーを生成する第２粉砕装置と、前記浸漬されたコメとともに、水を前記第１の引き臼に投入する原料供給装置と、を備え、前記第１の引き臼は、円盤形の第１の下臼と、前記第１の下臼の上に載置され、前記第１の下臼と同軸に配置される円盤形の第１の上臼と、を備え、前記第２の引き臼は、円盤形の第２の下臼と、前記第２の下臼の上に載置され、前記第２の下臼と同軸に配置される円盤形の第２の上臼と、を備え、前記第１の下臼の上面と、前記第１の上臼の下面とに、第１の溝が形成され、前記第２の下臼の上面と、前記第２の上臼の下面とに、前記第１の溝よりも深い第２の溝が形成されるコメスラリー製造装置。
【００１２】
請求項２記載の発明は、請求項１に記載のコメスラリー製造装置であって、さらに、第３の引き臼を回転することにより前記第２のコメスラリーに含まれるコメ粒子を粉砕して、第３のコメスラリーを生成する第３粉砕装置、を備える。
【００１３】
請求項３記載の発明は、請求項２に記載のコメスラリー製造装置であって、前記第３の引き臼は、円盤形の第３の下臼と、前記第３の下臼の上に載置され、前記第３の下臼と同軸に配置される円盤形の第３の上臼と、を備え、前記第３の下臼の上面と、前記第３の上臼の下面とに、前記第２の溝と同じ深さであるか又は前記第２の溝よりも深い第３の溝が形成される。
【００１４】
請求項４記載の発明は、請求項３に記載のコメスラリー製造装置であって、前記第１の溝は、前記第１の下臼の上面の中心部又は前記第１の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．３〜０．５ｍｍである第１の主溝、を含み、前記第２の溝は、前記第２の下臼の上面の中心部又は前記第２の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．５〜０．７ｍｍである第２の主溝、を含み、前記第３の溝は、前記第３の下臼の上面の中心部又は前記第３の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．５〜０．７ｍｍである第３の主溝、を含む。
【００１５】
請求項５記載の発明は、請求項４に記載のコメスラリー製造装置であって、前記第１の溝は、前記第１の主溝と平行であり、深さが０．３〜０．５ｍｍである第１の副溝、を含み、前記第２の溝は、前記第２の主溝と平行であり、深さが０．４〜０．６ｍｍである第２の副溝、を含み、前記第３の溝は、前記第３の主溝と平行であり、深さが０．６〜０．８ｍｍである第３の副溝、を含む。
【００１６】
請求項６記載の発明は、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載のコメスラリー製造装置であって、前記第１の引き臼に供給される前記浸漬されたコメの量は、１分間あたり２５ｇ以上４０ｇ以下である。
【００１７】
請求項７記載の発明は、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載のコメスラリー製造装置であって、前記第１の引き臼に供給される水の量は、前記第１の引き臼に供給される前記浸漬されたコメの量の２４倍以上４１倍以下である。
請求項８記載の発明は、請求項１ないし請求項７のいずれかに記載のコメスラリー製造装置であって、前記コメスラリーに含まれるコメ粒子の平均粒径は、５μｍ以下である。
請求項９記載の発明は、請求項１ないし請求項８のいずれかに記載のコメスラリー製造装置であって、前記浸漬されたコメは、１．５時間以上６時間以下の期間で水に浸漬されたコメである。
請求項１０記載の発明は、コメスラリーの製造方法であって、１．５時間以上６時間以下の期間で玄米を水に浸漬するステップと、水に浸漬された玄米とともに、水を第１の引き臼に投入するステップと、前記第１の引き臼を回転することにより前記水に浸漬された玄米を粉砕して、第１のコメスラリーを生成するステップと、を備え、第２の引き臼を回転することにより前記第１のコメスラリーに含まれるコメ粒子を粉砕して、第２のコメスラリーを生成するステップと、を備え、前記第１の引き臼は、円盤形の第１の下臼と、前記第１の下臼の上に載置され、前記第１の下臼と同軸に配置される円盤形の第１の上臼と、を備え、前記第２の引き臼は、円盤形の第２の下臼と、前記第２の下臼の上に載置され、前記第２の下臼と同軸に配置される円盤形の第２の上臼と、を備え、前記第１の下臼の上面と、前記第１の上臼の下面とに、第１の溝が形成され、前記第２の下臼の上面と、前記第２の上臼の下面とに、前記第１の溝よりも深い第２の溝が形成される。
請求項１１記載の発明は、請求項１０に記載のコメスラリーの製造方法であって、さらに、第３の引き臼を回転することにより前記第２のコメスラリーに含まれるコメ粒子を粉砕して、第３のコメスラリーを生成するステップ、を備える。
請求項１２記載の発明は、請求項１１に記載のコメスラリーの製造方法であって、前記第３の引き臼は、円盤形の第３の下臼と、前記第３の下臼の上に載置され、前記第３の下臼と同軸に配置される円盤形の第３の上臼と、を備え、前記第３の下臼の上面と、前記第３の上臼の下面とに、前記第２の溝と同じ深さであるか又は前記第２の溝よりも深い第３の溝が形成される。
請求項１３記載の発明は、請求項１２に記載のコメスラリーの製造方法であって、前記第１の溝は、前記第１の下臼の上面の中心部又は前記第１の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．３〜０．５ｍｍである第１の主溝、を含み、前記第２の溝は、前記第２の下臼の上面の中心部又は前記第２の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．５〜０．７ｍｍである第２の主溝、を含み、前記第３の溝は、前記第３の下臼の上面の中心部又は前記第３の上臼の下面の中心部から放射状に形成され、深さが０．５〜０．７ｍｍである第３の主溝、を含む。
請求項１４記載の発明は、請求項１３に記載のコメスラリーの製造方法であって、前記第１の溝は、前記第１の主溝と平行であり、深さが０．３〜０．５ｍｍである第１の副溝、を含み、前記第２の溝は、前記第２の主溝と平行であり、深さが０．４〜０．６ｍｍである第２の副溝、を含み、前記第３の溝は、前記第３の主溝と平行であり、深さが０．６〜０．８ｍｍである第３の副溝、を含む。
請求項１５記載の発明は、請求項１０ないし請求項１４のいずれかに記載のコメスラリーの製造方法であって、前記第１の引き臼に投入されるステップにおいて、前記第１の引き臼に供給される前記浸漬されたコメの量は、１分間あたり２５ｇ以上４０ｇ以下である。
請求項１６記載の発明は、請求項１０ないし請求項１５のいずれかに記載のコメスラリーの製造方法であって、前記第１の引き臼に投入されるステップにおいて、前記第１の引き臼に供給される水の量は、前記第１の引き臼に供給される前記浸漬されたコメの量の２４倍以上４１倍以下である。
請求項１７記載の発明は、請求項１０ないし請求項１６のいずれかに記載のコメスラリーの製造方法であって、前記コメスラリーに含まれるコメ粒子の平均粒径は、５μｍ以下である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のコメスラリー製造装置は、水に１．５時間以上６時間以下で浸漬されたコメを、第１の石臼に水を供給しながら、第１の石臼を用いて粉砕することにより、第１のコメスラリーを生成する。コメの浸漬時間を短縮することができるため、コメスラリーを効率良く製造することができる。
【００１９】
本発明のコメスラリー製造装置は、第１のコメスラリーに含まれるコメ粒子を第２の石臼を用いて粉砕することにより第２のコメスラリーを生成する。第２のコメスラリーに含まれるコメ粒子が第３の石臼によりさらに粉砕されることにより、第３のコメスラリーが生成される。このように、コメ粒子の粉砕を繰り返すことにより、コメ粒子の粒径が非常に小さいコメスラリーを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施の形態によるコメスラリー製造装置の構成を示す機能ブロック図である。
【図２】図１に示すコメスラリー製造装置において、コメを最初に粉砕する石臼を構成する下臼の上面図である。
【図３】図２に示す下臼の拡大上面図である。
【図４】図１に示すコメスラリー製造装置において、コメを最初に粉砕する石臼を構成する上臼の下面図である。
【図５】図１に示すコメスラリー製造装置において、コメを２番目に粉砕する石臼を構成する下臼の拡大上面図である。
【図６】図１に示すコメスラリー製造装置において、コメを３番目に粉砕する石臼を構成する下臼の拡大上面図である。
【図７】図１に示すコメスラリー製造装置を用いたときのコメスラリーの製造手順を示す図である。
【図８】実施例１におけるコメ粒子のメディアン径と平均径とを示す図である。
【図９】実施例１におけるコメ粒子の粒度分布を示すグラフである。
【図１０】実施例２において調製したアイスクリームミックスの組成を示す図である。
【図１１】実施例２において調製したコメアイスクリームの採点結果を示す図である。
【図１２】実施例３において測定したコメの含水率の経時変化を示すグラフである。
【図１３】実施例４でコメの供給量を変化させたときにおける、コメの供給量とコメ粒子の粒径との対応を示すグラフである。
【図１４】実施例５で水の供給量を変化させたときにおける、水の供給量とコメの供給量とコメ粒子の粒径との対応を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態を説明する。
【００２２】
｛１．コメスラリー製造装置の構成｝
図１は、本発明の実施の形態に係るコメスラリー製造装置１の構成を示す図である。図１に示すコメスラリー製造装置１は、予め水に浸漬したコメを、石臼を用いて湿式粉砕することにより、コメスラリーを製造する装置である。コメスラリーは、水に浸漬したコメを湿式粉砕して得られる分散体である。図１に示す石臼２１，３１，４１及び回転軸２６，３６，４６については、説明の便宜上、断面で示している。
【００２３】
コメスラリー製造装置１は、原料供給装置１０と、粉砕装置２０，３０，４０とを備える。原料供給装置１０は、コメスラリーの原料（水及びコメ）を粉砕装置２０に供給する。粉砕装置２０は、原料供給装置１０から供給されたコメを湿式粉砕して、コメスラリー５１を生成する。コメスラリー５１は、粉砕装置３０に供給される。粉砕装置３０は、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子を粉砕して、コメスラリー５２を生成する。コメスラリー５２は、粉砕装置４０に供給される。粉砕装置４０は、コメスラリー５２に含まれるコメ粒子を粉砕して、コメスラリー５３を生成する。
【００２４】
コメスラリー５３は、液状の食品材料として使用される。例えば、砂糖、大豆タンパク質、ヌカ油などをコメスラリー５３に添加することにより、植物由来の原料のみを用いたアイスクリームミックスを製造することができる。また、コメスラリー５３を用いた発酵飲料やデザートなどを製造することができる。このように、牛乳や乳製品に代えて、コメスラリーを用いることにより、牛乳アレルギーの消費者に対して、様々な食品を提供することが可能となる。
【００２５】
原料供給装置１０は、ホッパ１１と、原料供給スクリュ１２と、モータ１３と、原料供給ビーカ１４と、送液ポンプ１５と、送液管１６とを備える。ホッパ１１には、予め水に浸漬されたコメが投入される。原料供給スクリュ１２は、モータ１３により回転し、ホッパ１１に投入されたコメを粉砕装置２０に供給する。送液ポンプ１５は、原料供給ビーカ１４内の水を、送液管１６を通して粉砕装置２０に供給する。
【００２６】
モータ１３及び送液ポンプ１５は、図示しない制御装置（ＰＣなど）により制御される。これにより、粉砕装置２０へ供給されるコメ及び水の量を制御することができる。
【００２７】
粉砕装置２０は、石臼２１と、シュラウド２４と、モータ２５とを備える。石臼２１は、下臼２２と、上臼２３とを備える。下臼２２は、円盤形であり、モータ２５により回転軸２６を中心に回転する。上臼２３は、円盤形であり、下臼２２の上に載置される。上臼２３は、下臼２２と同軸に配置され、回転しないように固定される。
【００２８】
上臼２３には、上臼２３を上下方向に貫通する貫通孔２３ａが形成される。原料供給装置１０から供給されるコメおよび水は、貫通孔２３ａに投入される。下臼２２が、モータ２６により回転することで、原料供給装置１０から供給されるコメが粉砕される。シュラウド２４は、下臼２２と上臼２３との隙間から流出するコメスラリー５１を集め、粉砕装置３０に供給する。
【００２９】
粉砕装置３０は、石臼３１と、シュラウド３４と、モータ３５とを備える。石臼３１は、下臼３２と、上臼３３とを備える。下臼３２は、円盤形であり、モータ３５により回転軸３６を中心に回転する。上臼３３は、円盤形であり、下臼３２の上に載置される。上臼３３は、下臼２２と同軸に配置され、回転しないように固定される。
【００３０】
上臼２３と同様に、上臼３３には、貫通孔３３ａが形成される。貫通孔３３ａには、シュラウド２４から排出されたコメスラリー５１が投入される。下臼３２が、モータ３５により回転することで、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子が粉砕される。シュラウド３４は、下臼３２と上臼３３との隙間から流出するコメスラリー５２を集め、粉砕装置４０に供給する。
【００３１】
粉砕装置４０は、石臼４１と、シュラウド４４と、モータ４５とを備える。石臼４１は、下臼４２と、上臼４３とを備える。下臼４２は、円盤形であり、モータ４５により回転軸４６を中心に回転する。上臼４３は、円盤形であり、下臼４２の上に載置される。上臼４３は、下臼４２と同軸に配置され、回転しないように固定される。
【００３２】
上臼２３，３３と同様に、上臼４３には、貫通孔４３ａが形成される。貫通孔４３ａには、シュラウド３４から排出されたコメスラリー５２が投入される。下臼４２がモータ４５により回転することで、コメスラリー５２に含まれるコメ粒子が粉砕される。シュラウド４４は、下臼４２と上臼４３との隙間から流出するコメスラリー５３を集める。
【００３３】
｛２．石臼２１，３１，４１の詳細｝
以下、石臼２１，３１，４１に形成される溝について説明する。下臼２２，３２，４２の下面及び上臼２３，３３，４３の上面には、溝が形成されている。石臼２１，３１，４１に投入されたコメ又はコメ粒子は、回転する下臼と、固定された上臼とによって生じる摩砕力及びせん断力によって微細化される。下臼の上面及び上臼の下面に形成される溝の深さなどを変更することにより、コメ粒子の微細化の度合いを変えることができる。
【００３４】
最初に、石臼２１に形成される溝について説明する。図２は、下臼２２の上面図である。図２に示すように、８本の主溝２２ｃが、下臼２２の上面２２ｂに形成される。８本の主溝２２ｃは、回転軸２６から下臼２２の外縁２２ｅに向かって放射状に形成される。
【００３５】
副溝２２ｄ，２２ｄ，・・・が、上面２２ｂに形成される。図２では、一部の副溝のみに符号を付している。副溝２２ｄは、８本の主溝２２ｃのうち、いずれか一つに対して平行である。一つの主溝２２ｃに対して、８本の平行な副溝２２ｄが形成される。主溝２２ｃ及び副溝２２ｄの深さは、０．３〜０．５ｍｍであり、好ましくは０．４ｍｍである。
【００３６】
図３は、下臼２２の拡大上面図である。図３において、主溝２２ｃ及び副溝２２ｄの端を一点鎖線（仮想線）で結んでいる。図３に示すように、下臼２２の外縁２２ｅから、主溝２２ｃ及び副溝２２ｄまでの距離ｄ１は、３〜５ｍｍである。図３では、距離ｄ１は、各溝で同じである。しかし、距離ｄ１は、溝ごとに異なっていてもよい。距離ｄ１は、３〜５ｍｍの範囲であればよい。
【００３７】
図４は、上臼２３の下面図である。図４に示すように、上臼２３の下面２３ｂに形成される溝のパターンは、下臼２２の上面２２ｂに形成される溝のパターン（図２参照）と同じである。８本の主溝２３ｃが、下面２３ｂに形成される。副溝２３ｄ，２３ｄ，・・・が、下面２３ｂに形成される。主溝２３ｃの配置及び深さは、主溝２２ｃと同様であり、副溝２３ｄの配置及び深さは、副溝２２ｄと同様である。
【００３８】
次に、石臼３１に形成される溝について、図５を参照しながら説明する。図５は、下臼３２の拡大上面図である。８本の主溝３２ｃが、主溝２２ｃと同様に、下臼３２の上面３２ｂに放射状に形成される。図５では、一部の主溝３２ｃを示している。主溝３２ｃの深さは、０．５〜０．７ｍｍであり、好ましくは０．６ｍｍである。複数の副溝３２ｄ，３２ｄ，・・・が、上面３２ｂに形成される。副溝３２ｄは、８本の主溝３２ｃのいずれか一つに平行である。一つの主溝３２ｃに対して、８本の副溝３２ｄが形成される。副溝３２ｄの深さは、０．４〜０．６ｍｍであり、好ましくは０．５ｍｍである。
【００３９】
図５において、主溝３２ｃ及び副溝３２ｄの端を一点鎖線（仮想線）で結んでいる。下臼３２の外縁３２ｅから、主溝３２ｃ及び副溝３２ｄまでの距離ｄ２は、３〜８ｍｍである。図５では、各溝の距離ｄ２が一致している。しかし、距離ｄ２は、溝ごとに異なっていてもよい。距離ｄ２は、３〜８ｍｍの範囲内であればよい。
【００４０】
上臼３３の上面にも、下臼３２の下面３２ｂと同じ主溝及び副溝が形成されるが、その詳細な説明は省略する。
【００４１】
次に、石臼４１に形成される溝について、図６を参照しながら説明する。図６は、下臼４２の拡大上面図である。８本の主溝４２ｃが、主溝２２ｃと同様に、下臼４２の上面４２ｂに放射状に形成される。図６では、一部の主溝４２ｃを示している。主溝４２ｃの深さは、０．５〜０．７ｍｍであり、好ましくは０．６ｍｍである。複数の副溝４２ｄ，４２ｄ，・・・が、上面４２ｂに形成される。副溝４２ｄは、８本の主溝４２ｃのいずれか一つに平行である。副溝２２ｄ，３２ｄと異なり、一つの主溝４２ｃに対して、６本の副溝４２ｄが形成される。副溝４２ｄの深さは、０．６〜０．８ｍｍであり、好ましくは０．７ｍｍである。
【００４２】
図６において、主溝４２ｃ及び副溝４２ｄの端を一点鎖線で結んでいる。下臼４２の外縁４２ｅから、主溝４２ｃ及び副溝４２ｄまでの距離ｄ３は、１１〜１２ｍｍである。図６では、各溝の距離ｄ３が一致している。しかし、距離ｄ３は、溝ごとに異なっていてもよい。距離ｄ３は、１１〜１２ｍｍの範囲内であればよい。
【００４３】
上臼４３の上面にも、下臼４２の下面４２ｂと同じ主溝及び副溝が形成されるが、その詳細な説明は省略する。
【００４４】
以上説明したように、主溝２２ｃ，３２ｃ，４２ｃのそれぞれの深さとして、好ましくは０．４ｍｍ、０．６ｍｍ、０．６ｍｍである。副溝２２ｄ，３２ｄ，４２ｄのそれぞれの深さとして、好ましくは０．４ｍｍ、０．５ｍｍ、０．７ｍｍである。つまり、石臼３１に形成される溝は、石臼２１に形成される溝よりも深い。石臼４１に形成される溝は、石臼３１に形成される溝と同じ深さであるか、石臼３１に形成される溝よりも深い。このように、コメ粒子の粉砕が進むにつれて、石臼に形成される溝の深さを大きくすることにより、石臼内でのコメ粒子の滞留時間を長くすることができる。したがって、粒径の小さいコメスラリーを製造することができる。
【００４５】
なお、下臼の上面に形成される溝のパターンと、上臼の下面に形成される溝のパターンとは、同じでなくてもよい。石臼２１，３１，４１の上臼及び下臼に形成される溝のパターンは、それぞれ異なってもいてもよい。たとえば、石臼２１，３１，４１のうち、いずれか一つの石臼において、主溝の数が異なっていてもよい。また、主溝及び副溝は、曲線であってもよい。
【００４６】
｛コメスラリーの製造｝
コメスラリー製造装置１を用いたコメスラリーの製造手順を詳しく説明する。図７は、コメスラリーの製造手順を示すフローチャートである。
【００４７】
まず、コメをホッパ１１に投入する前に、コメを水に浸漬する（ステップＳ１）。浸漬時間として、好ましくは１．５時間以上６時間以下であり、より好ましくは１．５時間以上４時間以下であり、さらに好ましくは１．５時間以上２時間以下である。従来に比べて浸漬時間を短縮することができるため、コメスラリーを効率良く製造することができる。
【００４８】
次に、浸漬されたコメを粉砕装置２０に供給する。具体的には、浸漬されたコメをホッパ１１に投入する。原料供給スクリュ１２を回転させることにより、浸漬されたコメを、粉砕装置２０に供給する。浸漬されたコメの供給量として、好ましくは１分あたり２７ｇ以上４０ｇ以下であり、より好ましくは１分あたり３２ｇ以上４０ｇ以下である。コメの供給量を２７〜４０（ｇ／ｍｉｎ）とすることにより、石臼２１内におけるコメの滞留時間を長くすることができる。この結果、コメが石臼２１に接触する回数と、コメ同士が接触する回数が増加するため、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子の微細化を促進することができる。
【００４９】
また、送液ポンプ１５を用いて、原料供給ビーカ１４内の水を粉砕装置２０に供給する。コメの供給量に対して、水の供給量が少なすぎる場合、石臼２１，３１，４１内で、コメの流動性が低くなり、粉砕効率が低下する。一方、コメの供給量に対して、水の供給量が多すぎる場合、石臼２１，３１，４１内で、コメが浮遊するため、粉砕効率が低下する。したがって、水の供給量として、好ましくは浸漬されたコメの供給量の２４倍以上４１倍以下であり、より好ましくは浸漬されたコメの供給量の３２倍以上３６倍以下である。また、水の供給量を変更することにより、コメスラリー５１〜５３中の固形分濃度（コメ粒子の濃度）を調整することができる。
【００５０】
粉砕装置２０において、下臼２２を回転させることにより、供給されたコメを湿式粉砕する（ステップＳ２）。これにより、コメスラリー５１が生成される。下臼２２の回転速度は、特に限定されないが、好ましくは、２０〜５０ｒｐｍ（Round Per Minute）である。
【００５１】
コメスラリー５１に含まれるコメ粒子を、粉砕装置３０を用いて、さらに粉砕する（ステップＳ３）。具体的には、コメスラリー５１を、上臼３３に形成された貫通孔３３ａに投入する。下臼３２を回転させることにより、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子を粉砕する。これにより、コメスラリー５２が生成される。下臼３２の回転速度は、粉砕装置２０の下臼２２の回転速度と同じである。
【００５２】
コメスラリー５２に含まれるコメ粒子を、粉砕装置４０を用いて、さらに粉砕する（ステップＳ４）。具体的には、コメスラリー５２を、上臼４３に形成された貫通孔４３ａに投入する。下臼４２を回転させることにより、コメスラリー５２に含まれるコメ粒子を粉砕する。これにより、コメスラリー５３が生成される。下臼４２の回転速度は、粉砕装置２０の下臼２２の回転速度と同じである。
【００５３】
このように、コメスラリー製造装置１を用いることにより、短い浸漬時間で、乳白色のコメスラリー５３を製造することができる。コメスラリー製造装置１は、コメの湿式粉砕を繰り返すことにより、コメ粒子の平均粒径が５μｍ以下であるコメスラリー５３を製造することができる。
【００５４】
なお、コメスラリー５３を均質化したり、加熱殺菌したりしてもよい。コメスラリー５３を加熱殺菌することにより、コメ粒子が糊化したコメスラリーを得ることができる。
【００５５】
コメスラリー５３の用途は特に限定されない。たとえば、植物由来の大豆タンパク質、酒粕、ヌカ油、砂糖などを、コメスラリー５３に添加することにより、ミルク状の食材を生成することができる。ミルク状の食材は、牛乳や乳製品に代わる食材として使用できるため、牛乳アレルギーを有する消費者に対して、様々な食品を提供することができる。
【００５６】
コメスラリー５３を発酵飲料等の飲料やデザート等の食品の原料として使用してもよい。加熱されていないコメ粒子は、人体に吸収されない。このため、コメスラリー５３を使用して、低カロリーの飲料や食品を製造することができる。また、コメスラリー５３に含まれるコメ粒子の平均径が、５μｍ以下であるため、消費者は、コメ粒子のザラザラとした存在を感じることなく、コメスラリー５３を含む飲料を飲用することができる。
【実施例】
【００５７】
以下、本発明の実施例について説明する。
【００５８】
｛実施例１（コメスラリーの製造）｝
実施例１では、コメスラリー製造装置１を用いて試料米を粉砕し、コメスラリー５１〜５３に含まれるコメ粒子の粒径を測定した。
【００５９】
最初に、試料米（北陸１９３号玄米）を、２℃の蒸留水に１．５時間で浸漬した。一定量（１分あたり２０ｇ）の浸漬された試料米が、粉砕装置２０に供給されるように、スクリュ１２の回転数を調整した。また、１分あたり８５ｍｌの水が粉砕装置２０に供給されるように、給水ポンプ１５を制御した。下臼２２，３２，４２の回転数を５０ｒｐｍに設定して、コメスラリー５１〜５３を製造した。コメスラリー５１〜５３に含まれるコメ粒子の粒度分布、メディアン径及び平均径を、レーザー回折粒度分布計（株式会社島津製作所製、ＳＡＬＤ−２２００）を用いて測定した。
【００６０】
図８に、コメスラリー５１，５２，５３におけるコメ粒子のメディアン径と、平均径とを示す。図９に、コメスラリー５１，５２，５３におけるコメ粒子の粒度分布を示す。
【００６１】
図８に示すように、粉砕回数の増加に応じて、コメ粒子のメディアン径と、平均径とが小さくなる。特に、コメスラリー５３に含まれるコメ粒子の平均粒径は、４．２１８μｍである。水に浸漬されたコメを、石臼２１，３１，４１を用いて繰り返し湿式粉砕することにより、平均粒径が５μｍ以下のコメスラリー５３を製造できることが明らかとなった。
【００６２】
図９に示すように、粉砕回数の増加に応じて、粒径が１００μｍ以上である粒子の出現頻度が低下している。特に、コメスラリー５３において、粒径が１００μｍ以上であるコメ粒子が存在しない。水に浸漬されたコメを、石臼２１，３１，４１を用いて繰り返し湿式粉砕することにより、粒径の大きい（１００μｍ以上の）コメ粒子が、コメスラリー中に残存することを防止できることが明らかとなった。
【００６３】
図８に示すように、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子の平均径は、１０．５６７μｍであり、従来の湿式粉砕により得られるコメ粒子よりも平均径は小さい。このことから、石臼２１のみを用いた湿式粉砕でも、従来よりも粒径の小さいコメ粒子を含むコメスラリーを製造できることが明らかとなった。
【００６４】
｛実施例２（コメスラリーを用いたアイスクリームの製造）｝
実施例２では、コメスラリー５３を原料としたアイスクリーム（コメアイスクリーム）の感応検査を行った。
【００６５】
図１０に、コメアイスクリームの製造に用いたアイスクリームミックスの組成を示す。図１０に示すように、酒粕パウダー２７ｇ、米ぬか５１ｇ、砂糖２９９ｇ、乳化剤０．４ｇ、水４１６ｇ、及び米ぬか油１８７ｍｌを、コメスラリー５３（１０２０ｇ）に添加することにより、アイスクリームミックスを調製した。この調製されたアイスクリームミックスの重さは、２０００ｇである。この調製されたアイスクリームミックスをフリージングすることにより、コメアイスクリームを製造した。
【００６６】
男女を合わせて１２７名の評価者が、コメアイスクリームを試食して、コメアイスクリームを採点した。最低点は０点であり、最高点は１００点である。なお、各評価者が好みのアイスクリームを食べた場合における好みのアイスクリームの評価を５０点としている。
【００６７】
図１１に、各評価者の採点の平均点を示す。図１１に示すように、コメアイスクリームの評価は、男女ともに、通常のアイスクリームと同等であった。図１１に示す結果から、コメスラリー製造装置１を用いて製造したコメスラリーから、牛乳アイスクリームと同等の食感を有するコメアイスクリームを製造できることが明らかとなった。
【００６８】
｛実施例３（コメの浸漬条件）｝
実施例３では、水に浸漬された試料米（北陸１９３号玄米）の含水率の変化を確認することにより、コメの浸漬条件を確認した。具体的には、試料米を温度２℃の蒸留水に浸漬して、試料米の含水率の時間的な変化を測定した。試料米と水との重量比は、２：１である。
【００６９】
図１２に、試料米の含水率の経時変化を示す。図１２に示すように、含水率は、試料を水に漬けてから急激に上昇する。含水率が２５％程度となった後に、含水率の上昇は、緩やかとなる。含水率は、６時間の経過後に３０．６％となり、その後、ほとんど上昇しない平衡状態となった。このことから、コメを水に浸漬する時間は、６時間以内であればよいことが明らかとなった。
【００７０】
また、実施例１で説明したように浸漬時間を１．５時間とした場合において、コメスラリー５１、５２、５３に含まれるコメ粒子の平均径は、それぞれ、１０．５６７μｍ、７．２１５μｍ、４．２１８μｍであった（図８参照）。つまり、浸漬時間が１．５時間程度で、コメ粒子の平均粒径が１０μｍ以下のコメスラリーを得ることができる。このことから、浸漬時間は、１．５時間以上であればよいことが明らかとなった。
【００７１】
｛実施例４（浸漬されたコメの供給条件）｝
実施例４では、粉砕装置２０に供給するコメの量と、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子の粒径との対応関係を調べることにより、コメの供給条件を確認した。
【００７２】
具体的には、北陸１９３号玄米（試料米）を、２℃の蒸留水に６時間で浸漬した。この浸漬したコメの供給量を、７．３１〜３６．２（ｇ／ｍｉｎ）の範囲で変化させた場合における、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子の粒径の変化を測定した。このとき、粉砕装置２０への水の供給量は、１３０（ｍｌ／ｍｉｎ）で一定であり、下臼２２の回転速度は、２０（ｒｐｍ）である。
【００７３】
図１３に、コメの供給量と、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子の粒径との対応を示す。図１３に示すように、コメの供給量が２６．５（ｇ／ｍｉｎ）よりも大きくなった場合、コメ粒子のメディアン径が、急激に小さくなる（２μｍ以下となる）ことが明らかとなった。
【００７４】
また、コメの供給量が２６．５（ｇ／ｍｉｎ）よりも大きくなるにつれて、メディアン径が小さくなる傾向にあることも確認できた。このことから、コメの供給量を増加させることにより、コメ粒子の粒径を小さくすることができると予想される。しかし、コメの供給量が多すぎる場合、石臼内でのコメの流動性が低くなり、粉砕効率が低下すると予想される。したがって、コメの供給量の上限は、４０（ｇ／ｍｉｎ）程度であることが望ましい。
【００７５】
以上のことから、コメの供給量が、２６．５〜４０（ｇ／ｍｉｎ）であれば、コメスラリー中のコメ粒子を、より微細化できると考えられる。
【００７６】
コメ粒子の２５％径の変化は、メディアン径の変化に比べて小さい。しかし、コメの供給量が２６．５（ｇ／ｍｉｎ）よりも大きい場合、コメ粒子の２５％径が小さくなる傾向にあることを確認できた。
【００７７】
｛実施例５（水の供給条件）｝
実施例５では、粉砕装置２０に供給する水の量と、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子の粒径との対応関係を調べることにより、水の供給条件を確認した。
【００７８】
具体的には、北陸１９３号玄米（試料米）を、２℃の蒸留水に６時間で浸漬した。この浸漬したコメの供給量を、７．３１（ｇ／ｍｉｎ）に維持しながら、水の供給量を１３０〜３７０（ｍｌ／ｍｉｎ）の範囲で変化させた場合における、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子の粒径の変化を測定した。下臼２２の回転速度は、２０（ｒｐｍ）である。
【００７９】
図１４に、水の供給量と、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子の粒径との対応を示す。図１４に示すように、水の供給量が１８０〜３００（ｍｌ／ｍｉｎ）の範囲で、コメ粒子のメディアン径が小さくなることを確認できた。水の供給量が１８０ｍｌである場合、コメの供給量（７．３１（ｇ／ｍｉｎ））と水の供給量との比は、１：２４.６倍である。水の供給量が３００ｍｌである場合、コメの供給量（７．３１（ｇ／ｍｉｎ））と水の供給量との比は、１：４１．０６である。したがって、コメの供給量の２４〜４１倍の水を粉砕装置３０に供給することにより、コメスラリー５１に含まれるコメ粒子を微細化できることが明らかとなった。
【符号の説明】
【００８０】
１  コメスラリー製造装置
１０  原料供給装置
２０，３０，４０  粉砕装置
２１，３１，４１  石臼
２２，３２，４２  下臼
２２ｃ，２３ｃ，３２ｃ，４２ｃ  主溝
２２ｄ，２３ｄ，３２ｄ，４２ｄ  副溝
２３，３３，４３  上臼
５１，５２，５３  コメスラリー
【図１】
0006007460.tif 000002
【図２】
0006007460.tif 000003
【図３】
0006007460.tif 000004
【図４】
0006007460.tif 000005
【図５】
0006007460.tif 000006
【図６】
0006007460.tif 000007
【図７】
0006007460.tif 000008
【図８】
0006007460.tif 000009
【図９】
0006007460.tif 000010
【図１０】
0006007460.tif 000011
【図１１】
0006007460.tif 000012
【図１２】
0006007460.tif 000013
【図１３】
0006007460.tif 000014
【図１４】
0006007460.tif 000015