(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、金属繊維を含む導電膜と、金属錯体化合物を含む樹脂層と、を含む積層体であって、
前記樹脂層が感光性樹脂層の硬化樹脂層である積層体。
【請求項２】
前記積層体が遮蔽部を有する請求項１記載の積層体。
【請求項３】
前記金属繊維が、銀繊維である請求項１又は２記載の積層体。
【請求項４】
前記金属繊維の少なくとも一部が、前記樹脂層に含まれる請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項５】
前記金属繊維が、網目構造を形成している請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項６】
前記金属錯体化合物の金属が、アルミニウム、チタン又はジルコニウムである請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項７】
支持フィルムと、前記支持フィルム上に設けられた、金属繊維を含む導電膜と、感光性樹脂層と、を備える感光性導電フィルムであって、
前記感光性樹脂層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及び金属錯体化合物を含有する感光性導電フィルム。
【請求項８】
前記金属錯体化合物の金属が、アルミニウム、チタン又はジルコニウムである請求項７記載の感光性導電フィルム。
【請求項９】
前記感光性樹脂層が、さらにアミン添加剤を含有する請求項７又は８に記載の感光性導電フィルム。
【請求項１０】
前記アミン添加剤が、アミノ基含有シラン化合物である請求項９記載の感光性導電フィルム。
【請求項１１】
前記感光性樹脂層が、さらに紫外線吸収剤を含有する請求項７〜１０のいずれか一項に記載の感光性導電フィルム。
【請求項１２】
前記金属繊維が、銀繊維である請求項７〜１１のいずれか一項に記載の感光性導電フィルム。
【請求項１３】
請求項７〜１２のいずれか一項に記載の感光性導電フィルムの感光性樹脂層を基板上に配置して、
前記感光性樹脂層に、パターン状に活性光線を照射する露光工程と、
前記感光性樹脂層の未露光部を除去することにより導電パターンを形成する現像工程と、
を備える導電パターンの製造方法。
【請求項１４】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の積層体を備えるタッチパネルセンサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性繊維を含む積層体、感光性導電フィルム、導電パターンの製造方法、導電パターン基板、及びタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
パソコン、テレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ機器、ＦＡ機器等の表示機器等には液晶表示素子やタッチスクリーンが用いられている。これら液晶表示素子やタッチスクリーンには透明電極材が必要である。透明電極材としては、高い光透過率を示すことから、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジウム、又は酸化スズが最適であり、液晶表示素子用基板等の電極として主流になっている。【０００３】
タッチパネルは、すでに各種の方式が実用化されているが、近年、静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。静電容量方式タッチパネルでは、指先（導電体）がタッチ入力面に接触すると、指先と導電膜との間が静電容量結合し、コンデンサを形成する。このため、静電容量方式タッチパネルは、指先の接触位置における電荷の変化を捉えることによって、その座標を検出している。【０００４】
特に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備え、その操作性の良さから、携帯電話や携帯型音楽プレーヤ等の小型の表示装置を有する機器における表示面上の入力装置として利用が進んでいる。【０００５】
一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、前記Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成している。電極には透明電極材が用いられる。【０００６】
従来、透明電極材には、ＩＴＯ、酸化インジウム及び酸化スズ等が用いられているが、最近、これらに替わる材料を用いて透明な導電パターンを形成する試みがなされている。例えば、下記特許文献１には、導電性繊維を含有する感光層を有する感光性導電フィルムによる導電パターンの形成方法が提案されている。この技術を用いれば、種々の基板上にフォトリソグラフィー工程で直接導電パターンを簡便に形成できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際特許公開第２０１０／０２１２２４号公報
【発明の概要】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に開示されている感光性導電フィルムのように、透明電極材として導電性繊維を使用してセンサ電極（導電パターン）を形成した場合、長時間、太陽光やキセノンランプ等の光に当たるとタッチパネルが正常に動作しなくなるという耐候性の問題があった。
【０００９】
本発明の目的は、太陽光やキセノンランプ等の光照射下でも、正常に動作できるタッチパネル、そのタッチパネルを構成し得る導電パターンを備える積層体、導電パターンの製造方法及び感光性導電フィルムを提供することである。
【００１０】
本発明者らは、前記問題を解決するために鋭意検討した結果、タッチパネルの動作不良が、光照射下での導電パターンの抵抗上昇又は断線であることを見出し、光照射下での導電パターンの抵抗上昇又は断線を抑制する方法を発明するに至った。
【００１１】
本発明によれば、以下の積層体、感光性導電フィルム及びタッチパネル等が提供される。
１．基板と、導電性繊維と、樹脂層と、を含む積層体であって、
前記積層体において、キセノンランプから６０Ｗ／ｍ２（波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの分光放射照度の積算値）の照射強度で照射を３００時間受けた後の抵抗上昇率が２０％以下である積層体。
２．前記積層体が遮蔽部を有する１記載の積層体。
３．前記導電性繊維が、銀繊維である１又は２記載の積層体。
４．支持フィルムと、前記支持フィルム上に設けられた、導電性繊維を含む感光層と、を備える感光性導電フィルムであって、
前記感光層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及び金属添加剤を含有する感光性導電フィルム。
５．前記金属添加剤が、金属粒子、金属酸化物粒子、又は金属錯体化合物である４記載の感光性導電フィルム。
６．前記金属添加剤の金属が、アルミニウム、チタン又はジルコニウムである４又は５記載の感光性導電フィルム。
７．前記感光層が、さらにアミン添加剤を含有する４〜６のいずれかに記載の感光性導電フィルム。
８．前記アミン添加剤が、アミノ基含有シラン化合物である７記載の感光性導電フィルム。
９．前記感光層が、さらに紫外線吸収剤を含有する４〜８のいずれかに記載の感光性導電フィルム。
１０．前記導電性繊維が、銀繊維である４〜９のいずれかに記載の感光性導電フィルム。
１１．４〜１０のいずれかに記載の感光性導電フィルムの感光層を基板上に配置して、
前記感光層に、パターン状に活性光線を照射する露光工程と、
前記感光層の未露光部を除去することにより導電パターンを形成する現像工程と、
を備える導電パターンの製造方法。
１２．基板と、前記基板上に１１記載の導電パターンの製造方法により製造された導電パターンと、を備える導電パターン基板。
１３．１〜３のいずれか記載の積層体、又は１２記載の導電パターン基板を備えるタッチパネルセンサ。
【００１２】
本発明によれば、太陽光やキセノンランプ等の光照射下でも、正常に動作できるタッチパネル、そのタッチパネルを構成し得る導電パターンを備える積層体、導電パターンの製造方法及び感光性導電フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】遮蔽部境界での断線のメカニズムを示す図である。
【図２】感光性導電フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。
【図３】感光性導電フィルムの一実施形態を示す一部切欠き斜視図である。
【図４】感光性導電フィルムを用いた導電パターン形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。
【図５】感光性導電フィルムを用いた導電パターンの形成方法の別の実施形態を説明するための模式断面図である。
【図６】静電容量式のタッチパネルセンサの一例を示す模式上面図である。
【図７】図６に示されるタッチパネルセンサの製造方法の一例を説明するための模式図である。
【図８】図６に示されるａ−ａ’線に沿った部分断面図である。
【図９】図６に示されるｂ−ｂ’線に沿った部分断面図である。
【図１０】実施例１で作製した耐光性試験用のアウトセル型試料の平面図である。
【図１１】実施例１で作製した耐光性試験用のアウトセル型試料の断面図である。
【図１２】実施例１１及び１２で作製した耐光性試験用のカバーガラス一体型試料の平面図である。
【図１３】実施例１１及び１２で作製した耐光性試験用のカバーガラス一体型試料の断面図である。
【図１４】実施例１でタッチパネル駆動評価のために作製したＦＰＣと接続した導電パターンを有するＰＥＴフィルム基板の平面図である。
【図１５】実施例１で作製したタッチパネル駆動評価用のアウトセル型試料の断面図である。
【図１６】実施例１で作製したタッチパネル駆動評価用のアウトセル型試料の平面図である。
【図１７】実施例１で作製したタッチパネル駆動評価用の装置を示す図である。
【図１８】実施例１１及び１２で作製したタッチパネル駆動評価用のカバーガラス一体型試料の断面図である。
【図１９】実施例１１及び１２で作製したタッチパネル駆動評価用のカバーガラス一体型試料の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。尚、本明細書における「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」及びそれに対応する「メタクリレート」を意味する。同様に「（メタ）アクリル酸」とは、「アクリル酸」及び「メタクリル酸」を意味し、「（メタ）アクリル基」とは、「アクリル基」及び「メタクリル基」を意味する。また「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００１５】
本発明者らは、光照射によるタッチパネルの動作不良の原因を調べ、動作不良が導電パターンの抵抗上昇又は断線によるものであり、さらに具体的には透明電極材として使用した銀ナノワイヤの切断が原因であることを確認した。
【００１６】
そこで、光照射後のセンサ電極を詳細に調べた結果、センサ電極の抵抗上昇又は断線が下記２通りのメカニズムで発生することが判明した。即ち、（ｉ）紫外光による銀ナノワイヤの劣化と、（ii）可視光による銀ナノワイヤの劣化である。
【００１７】
（ｉ）紫外光による銀ナノワイヤの劣化メカニズムは以下の通りである。まず、紫外光によって導電パターン中に含まれる樹脂組成物が分解して、最終的には酸（酢酸等）が生成する。この酸が銀ナノワイヤを腐食又は劣化させる。酸による銀ナノワイヤの劣化が原因で、センサ電極が抵抗上昇又は断線する。
【００１８】
（ii）可視光による銀ナノワイヤの劣化メカニズムは、以下の通りである。可視光を銀ナノワイヤが吸収し、銀ナノワイヤがイオン化して導電パターンの樹脂組成物中に拡散する。銀ナノワイヤがイオン化して樹脂中に拡散することで、銀ナノワイヤが細り、最終的に断線し、センサ電極が抵抗上昇又は断線する。
【００１９】
可視光による銀ナノワイヤの劣化は、紫外光と可視光が同時に銀ナノワイヤに当たる条件では進行しにくく、紫外光がカットされ可視光のみが銀ナノワイヤに当たる条件では、劣化が進行しやすい。
【００２０】
本発明者らは、光照射によって抵抗上昇又は断線に至ったセンサ電極を調べることで、センサ電極の断線箇所には、大きく分けて２箇所あることをつき止めた。即ち（１）ビューエリアと（２）遮蔽部境界である。特にスマートフォンやタブレットＰＣの場合、遮蔽部境界とは、加飾印刷部等の遮蔽部とビューエリアとの境界のことである。本発明者らの多大な検討の結果、（１）ビューエリアでの断線は、主に前述の（ｉ）紫外光による銀ナノワイヤの劣化が原因で発生していることをつき止めた。また、（２）遮蔽部境界での断線は、主に前述の（ii）可視光での劣化が原因で発生していることを見出した。
【００２１】
（２）遮蔽部境界での断線のメカニズムを、図１を用いて説明する。図１において、１０２はタッチ画面、２００はタッチパネル、２０１は光又は太陽光、２０２は紫外光、２０３は可視光、２０４は赤外光、２１０はＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）、２２０はセンサ電極、２２１は銀ナノワイヤ、２３０は基材、２４０は遮蔽部（加飾印刷部）を示す。
【００２２】
まず、遮蔽部２４０とビューエリア１０２の境界に当たった光２０１が遮蔽部境界で回折する。回折の大きさは光の波長によって違うため、遮蔽部境界からセンサ電極の銀ナノワイヤに光が当たるまでに、紫外光２０２、可視光２０３、及び赤外光２０４に分光される。即ち、遮蔽部境界でのセンサ電極には、分光によって紫外光２０２と可視光２０３とが別々にあたる部分が局所的に存在する。このため、分光によって可視光２０３のみが銀ナノワイヤ２２１に当たる状態になるため、前記（ii）のメカニズム（可視光による銀ナノワイヤの劣化）によって銀ナノワイヤが劣化し、センサ電極の抵抗上昇又は断線が発生することになる。
【００２３】
本発明者らは、前記知見から、導電パターンと樹脂層を含む積層体において、キセノンランプから６０Ｗ／ｍ２（波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの分光放射照度の積算値）の照射強度で照射を３００時間受けた部分の抵抗上昇率が２０％以下であれば、断線を効果的に抑制できることを見出し、本発明に至った。さらに、抵抗上昇率を２０％以下に抑制する具体的な方法を見出した。
【００２４】
本発明の積層体は、基板と、導電性繊維と、樹脂層と、を含む積層体であって、キセノンランプから６０Ｗ／ｍ２（波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの分光放射照度の積算値）の照射強度で照射を３００時間受けた部分の抵抗上昇率が２０％以下である。積層体が遮蔽部を有するときは、遮蔽部の端部での抵抗上昇率も２０％以下である。抵抗上昇率は、実施例に記載の通りアウトセル型サンプル又はカバーガラス一体型サンプルを用いて測定する。
【００２５】
このような積層体は、以下の感光性導電フィルムを用いて製造できる。
例えば、支持フィルム上に、導電性繊維を含む感光層を備え、前記感光層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤に加えて、金属添加剤を含有する感光性導電フィルムを用いる。
【００２６】
具体的には、基板上に、前記感光性導電フィルムをラミネート（転写）し、パターン状に活性光線を照射して露光し、感光層の未露光部を除去して、導電パターンを形成する。その結果、基板の上に導電パターンが設けられた積層体が得られる。例えば、図４（ｃ）、図５（ｄ）のように、導電パターンは、樹脂層と導電性繊維を含む。基板、樹脂層、導電性繊維の順に配置される。
【００２７】
金属添加剤を含むことにより、可視光による銀ナノワイヤの劣化又は断線を大幅に抑制することができる。これは、銀ナノワイヤが可視光を吸収することで得たエネルギーが、金属添加剤に移動することで、銀ナノワイヤの粒子化、樹脂中への拡散が抑制されるためである。
また、硬化樹脂層が、金属添加剤を含むことで、紫外光による劣化又は断線を抑制することができる。これは、紫外光による硬化樹脂層の分解によって発生した酸と、金属添加剤が反応して、酸による銀ナノワイヤの劣化が抑制されるためであると推察する。
【００２８】
また、感光性導電フィルムは、アミン添加剤を含有してもよい。アミン添加剤にも耐光性を高める作用がある。これは、紫外光による樹脂層の分解によって発生した酸と、アミンが反応して酸を中和することで、酸による銀ナノワイヤの劣化が抑制されるためであると推察する。
【００２９】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００３０】
＜感光性導電フィルム＞
本発明に係る感光性導電フィルムは、支持フィルムと、前記支持フィルム上に設けられた導電性繊維を含む感光層から構成される。感光性導電フィルムの一実施形態を図２に示す。感光性導電フィルム１０は、支持フィルム１と感光層４からなり、感光層４は、導電膜２と感光性樹脂層３からなる。尚、感光性導電フィルムは、図２に示す様に、導電性繊維を含む導電膜２と、前記導電膜２上に設けられた感光性樹脂層３との境界が、明確に分かれていてもよいが、導電膜２と感光性樹脂層３との境界は必ずしも明確になっていなくともよい。導電膜は感光層の面方向に導電性が得られるものであればよく、導電膜に感光性樹脂層が混じり合った態様であってもよい。例えば、導電膜中に感光性樹脂層を構成する組成物が含浸されていたり、感光性樹脂層を構成する組成物が導電膜の表面に存在していたりしてもよい。
【００３１】
本発明の感光層は、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、金属添加剤を含有している。さらに、アミン添加剤を含んでもよい。尚、本発明においてアミン添加剤は金属を含まない。金属添加剤とアミン添加剤は、導電膜と感光性樹脂層のいずれか、又はその両方に添加できる。
【００３２】
以下、感光性導電フィルム１０を構成する支持フィルム１、導電膜２及び感光性樹脂層３のそれぞれについて詳細に説明する。
【００３３】
支持フィルム１としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムが挙げられる。これらのうち、透明性や耐熱性の観点からは、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。尚、これらの重合体フィルムは、後に感光層４から除去するため、除去が不可能となるような表面処理が施されないことが好ましく、除去が不可能となる材質でないことが好ましい。
【００３４】
また、支持フィルム１の厚みは、５〜３００μｍであることが好ましく、１０〜２００μｍであることがより好ましく、１５〜１００μｍであることが特に好ましい。機械的強度が低下し、導電膜２を形成するために導電性分散液若しくは感光性樹脂層３を形成するために感光性樹脂組成物を塗工する工程、又は露光した感光性樹脂層３を現像する前に支持フィルムを剥離する工程において、支持フィルムが破れることを防止する観点から、５μｍ以上であることが好ましく、１０μｍ以上であることがより好ましく、１５μｍ以上であることがさらに好ましい。また、支持フィルムを介して活性光線を感光性樹脂層に照射後のパターンの解像度に優れる点では、３００μｍ以下であることが好ましく、２００μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以下であることがさらに好ましい。
【００３５】
支持フィルム１のヘーズ値は、感度及び解像度を良好にできる観点から、０．０１〜５．０％であることが好ましく、０．０１〜３．０％であることがより好ましく、０．０１〜２．０％であることがさらに好ましく、０．０１〜１．０％であることが特に好ましい。尚、ヘーズ値はＪＩＳ  Ｋ  ７３７５（２００８年制定）に準拠して測定することができる。また、ＮＤＨ−１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製、商品名）等の市販の濁度計等でも測定可能である。
【００３６】
導電膜２は、導電性繊維として、金、銀、銅、白金等の金属繊維又はカーボンナノチューブ等の炭素繊維等が挙げられるが、本発明は銀ナノワイヤを含む導電性繊維を用いた際に効果を奏する。
【００３７】
図３は、感光性導電フィルムの一実施形態を示す一部切欠き斜視図である。導電膜２は、図３に示すように、導電性繊維同士が接触してなる網目構造を有することが好ましい。このような網目構造を有する導電膜２は、感光性樹脂層３の支持フィルム１側の表面に形成されていてもよいが、支持フィルム１を剥離したときに露出する感光層４の表面においてその面方向に導電性が得られるのであれば、導電膜２に感光性樹脂層３の一部が入り込む形態で形成されていてもよく、感光性樹脂層３の支持フィルム１側の表層に導電膜２が含まれる形態で形成されていてもよい。
【００３８】
前記の銀ナノワイヤを含む導電性繊維は、例えば、銀イオンをＮａＢＨ４等の還元剤で還元する方法、又はポリオール法により調製することができる。
【００３９】
導電性繊維の繊維径は、１ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、２ｎｍ〜２０ｎｍであることがより好ましく、３ｎｍ〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。また、導電性繊維の繊維長は、１μｍ〜１００μｍであることが好ましく、２μｍ〜５０μｍであることがより好ましく、３μｍ〜１０μｍであることがさらに好ましい。繊維径及び繊維長は、走査型電子顕微鏡により測定することができる。
【００４０】
また、前記導電膜２には、導電性繊維と合わせて有機導電体を用いることができる。有機導電体としては、特に制限無く用いることができるが、チオフェン誘導体やアニリン誘導体のポリマー等の有機導電体を用いることが好ましい。
具体的には、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリヘキシルチオフェンやポリアニリン、ポリビニルピロリドン等を用いることができる。
【００４１】
導電膜２の厚みは、本発明の感光性導電フィルムを用いて形成される導電パターンの用途や求められる導電性によっても異なるが、１μｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ〜０．５μｍであることがより好ましく、５ｎｍ〜０．１μｍであることがさらに好ましい。導電膜２の厚みが１μｍ以下であると、４５０〜６５０ｎｍの波長域での光透過率が高く、パターン形成性にも優れ、特に透明電極の作製に好適なものとなる。尚、導電膜２の厚みは、走査型電子顕微鏡写真によって測定される値を指す。
【００４２】
導電膜２は、例えば、支持フィルム１上に、上述した導電性繊維や有機導電体を水及び／又は有機溶剤と、界面活性剤等の分散安定剤等を加えた導電性分散液を塗工した後、乾燥することにより形成することができる。乾燥後、支持フィルム１上に形成した導電膜２は、必要に応じてラミネートされてもよい。
塗工は、ロールコート法、コンマコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、ダイコート法、バーコート法、スプレーコート法等の公知の方法で行うことができる。また、乾燥は、３０〜１５０℃で１〜３０分間程度、熱風対流式乾燥機等で行うことができる。導電膜２において、導電性繊維や有機導電体は界面活性剤や分散安定剤と共存していてもかまわない。
【００４３】
前記導電性分散液には、必要に応じて金属添加剤、アミン添加剤を加えることができる。これによって、導電性分散液を塗工及び乾燥することにより形成した導電膜を含む導電パターンに、金属添加剤、アミン添加剤を含有させることができる。
【００４４】
感光性樹脂層３としては、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物から形成されるものが挙げられる。前記の感光性樹脂組成物は、（Ｄ）金属添加剤及び／又は（Ｅ）アミン添加剤を含むことができる。
【００４５】
（Ａ）バインダーポリマーとしては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、アミド樹脂、アミドエポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応で得られるエポキシアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂と酸無水物の反応で得られる酸変性エポキシアクリレート樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４６】
前記の中でも、アルカリ現像性及びフィルム形成性に優れる観点から、アクリル樹脂を用いることが好ましく、そのアクリル樹脂が（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来するモノマー単位を構成単位として有するとより好ましい。ここで、「アクリル樹脂」とは、（メタ）アクリル基を有する重合性単量体に由来するモノマー単位を主に有する重合体のことを意味する。
【００４７】
前記アクリル樹脂は、（メタ）アクリル基を有する重合性単量体をラジカル重合して製造されるものが使用できる。
【００４８】
前記（メタ）アクリル基を有する重合性単量体としては、ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミド；（メタ）アクリル酸アルキルエステル、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸、α−ブロモ（メタ）アクリル酸、α−クロル（メタ）アクリル酸、β−フリル（メタ）アクリル酸、β−スチリル（メタ）アクリル酸等の（メタ）アクリル酸等が挙げられる。
【００４９】
また、前記アクリル樹脂は、前記のような（メタ）アクリル基を有する重合性単量体の他に、スチレン誘導体、アクリロニトリル、ビニル−ｎ−ブチルエーテル等のビニルアルコールのエステル類、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フマール酸、ケイ皮酸、α−シアノケイ皮酸、イタコン酸、クロトン酸等の１種又は２種以上の重合性単量体が共重合されていてもよい。
【００５０】
前記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸プロピルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸ヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヘプチルエステル、（メタ）アクリル酸オクチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ノニルエステルが挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５１】
また、（Ａ）バインダーポリマーは、アルカリ現像性をより良好にする観点から、カルボキシル基を有することが好ましい。カルボキシル基を有する重合性単量体としては、上述したような（メタ）アクリル酸が挙げられる。
【００５２】
（Ａ）バインダーポリマーが有するカルボキシル基の比率は、使用する全重合性単量体に対するカルボキシル基を有する重合性単量体の割合として、１０〜５０質量％であることが好ましく、１２〜４０質量％であることがより好ましく、１５〜３０質量％であることがさらに好ましく、１５〜２５質量％であることが特に好ましい。アルカリ現像性に優れる点では１０質量％以上であることが好ましく、アルカリ耐性に優れる点では、５０質量％以下であることが好ましい。
【００５３】
（Ａ）バインダーポリマーの重量平均分子量は、機械強度及びアルカリ現像性のバランスを図る観点から、５０００〜３０００００であることが好ましく、２００００〜１５００００であることがより好ましく、３００００〜１０００００であることがさらに好ましい。耐現像液性に優れる点では、重量平均分子量が、５０００以上であることが好ましい。また、現像時間の観点からは、３０００００以下であることが好ましい。尚、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により測定され、標準ポリスチレンを用いて作成した検量線により換算された値である。
【００５４】
次に、（Ｂ）光重合性化合物について説明する。光重合性化合物はエチレン性不飽和結合を有することが好ましい。
エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物としては、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート化合物；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレンポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン（メタ）アクリレート；テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラメチロールメタン（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、ウレタンモノマー等が挙げられる。
【００５５】
（Ｂ）光重合性化合物の含有割合は、バインダーポリマー及び光重合性化合物の合計１００質量％に対して、３０〜８０質量％であることが好ましく、４０〜７０質量％であることがより好ましい。光硬化性及び転写した導電膜（導電膜及び感光性樹脂層）の塗膜性に優れる点では、３０質量％以上であることが好ましく、フィルムとして巻き取った場合の保管安定性に優れる点では、８０質量％以下であることが好ましい。
【００５６】
次に（Ｃ）光重合開始剤について説明する。光重合開始剤としては、使用する露光機の光波長と、機能発現に必要な波長とが合うものを選択すれば、特に制限はないが、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、オキサゾール系化合物等が挙げられる。
【００５７】
これらの中でも、透明性、及び１０μｍ以下でのパターン形成能から、オキシムエステル化合物が好ましい。オキシムエステル化合物としては、下記一般式（Ｃ−１）及び一般式（Ｃ−２）で表される化合物が挙げられる。速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物が好ましい。
【００５８】
【化１】
0005858197.tif 000002
前記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、又は炭素数３〜２０のシクロアルキル基を示す。中でも、炭素数３〜９のアルキル基が好ましい。
尚、本発明の効果を阻害しない限り、前記一般式（Ｃ−１）中の芳香環に置換基を有していてもよい。置換基としては、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられる。
【００５９】
【化２】
0005858197.tif 000003
前記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基、又は炭素数３〜２０のシクロアルキル基を示し、Ｒ４は、炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ５は、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。ｐ１は０〜３の整数を示す。尚、ｐ１が２以上である場合、複数のＲ４はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。尚、カルバゾール上には本発明の効果を阻害しない範囲で置換基を有していてもよい。置換基としては、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられる。
【００６０】
前記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ２又はＲ４は炭素数１〜１２のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがさらに好ましい。
【００６１】
前記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ３は炭素数１〜８のアルキル基、又は炭素数４〜１５のシクロアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、又は炭素数４〜１０のシクロアルキル基であることがより好ましく、メチル基、エチル基であることが特に好ましい。
【００６２】
前記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ５は炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１６のアリール基であることが好ましく、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基であることがさらに好ましい。
【００６３】
前記一般式（Ｃ−１）で表される化合物としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−フェニル，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］等が挙げられる。前記一般式（Ｃ−２）で表される化合物としては、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−フェニル，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１（ＢＡＳＦ（株）製、商品名）として入手可能である。また、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０２（ＢＡＳＦ（株）製、商品名）として商業的に入手可能である。これらは単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００６４】
前記一般式（１）の中でも、特に１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−フェニル，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］が特に好ましい。
【００６５】
光重合開始剤の含有割合は、バインダーポリマー及び光重合性化合物の合計１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましく、１〜５質量部であることが特に好ましい。光感度に優れる点では、０．１質量部以上であることが好ましく、光硬化性に優れる点では、２０質量部以下であることが好ましい。
【００６６】
次に（Ｄ）金属添加剤について説明する。金属添加剤は金属を含む添加剤であり、金属添加剤としては、特に制限は無いが、感光性導電フィルムの透明性の点から金属粒子、金属酸化物粒子、金属錯体化合物が好ましい。透明性が悪いと、感光性導電フィルムで導電パターンを形成する際、露光時に光が散乱したり、光が底部まで行き届かなかったりし、導電パターンの形成不良が発生する。
【００６７】
金属酸化物粒子としては、酸化アルミニニウム粒子、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子等が挙げられる。金属酸化物としては、特に制限は無いが、感光性導電フィルムの透明性の点から、一次粒子径が１００ｎｍ以下であることが好ましい。また、金属酸化物粒子のなかでも、入手のしやすさ、価格及び可視光による銀ナノワイヤの劣化を効果的に抑制できる点から、酸化チタン粒子が特に好ましい。
【００６８】
本発明における（Ｄ）金属添加剤は、感光性樹脂中への溶解性の観点から、金属錯体化合物が好ましい。金属錯体が感光性導電フィルム中に含まれることで、可視光による銀ナノワイヤの劣化又は断線を、大幅に抑制することができる。
【００６９】
金属錯体化合物は、下記一般式（２）で表される化合物が好ましい。
【００７０】
【化３】
0005858197.tif 000004
【００７１】
式（２）において、Ｍ１は、アルミニウム、チタン又はジルコニウムの金属原子であり、感光性導電フィルムの未硬化物の安定性の観点からは、チタンが好ましい。また、感光性導電フィルムの透明性の観点からは、ジルコニウム、アルミニウムが好ましい。チタンを使用した場合、黄色く着色するのに対し、ジルコニウム、アルミニウムは着色しにくく透明性が高い。
【００７２】
ｍは０〜４までの整数であり、ｎは０〜４までの整数であり、ｍとｎの和は３又は４（Ｍ１がアルミニウムのときは３、チタン又はジルコニウムのときは４である、以下同様）である。
安定性の観点から、ｍが０〜２であることが好ましく、ｎが１〜４であることが好ましい。
【００７３】
Ｒ５は、各々独立に炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜６）のアルキル基を示す。炭素数１〜１８のアルキル基は、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基等が挙げられる。保存安定性の観点から、イソプロピル基であることが好ましい。
【００７４】
Ｒ６は、各々独立に１価の有機基であり、前記１価の有機基は、酸素原子、窒素原子から選択されるＭ１と配位結合可能な原子を１つ以上有する。好ましくは、水酸基、カルボニル基、及びアミノ基から選択されるＭ１と配位結合可能な基を１つ以上有する
【００７５】
式（２）で表わされる金属錯体化合物は、下記式（２’）で表わされる金属錯体化合物であることが好ましい。
【化４】
0005858197.tif 000005
（式中、Ｍ１、Ｒ５、ｍ、及びｎは式（２）と同様である。
Ｒ６’は、各々独立に炭素数１〜６の２価の有機基、Ｒ７は、各々独立に水酸基、カルボニル基含有基（好ましくは、炭素数２〜９（好ましくは炭素数２〜７）のアルキルカルボニル基）及びアミノ基から選択される基である。）
【００７６】
式（２）で表わされる金属錯体化合物は、入手し易さから、下記式（３）で表わされる金属錯体化合物であることが好ましい。
【化５】
0005858197.tif 000006
【００７７】
式（３）において、Ｍ１は、アルミニウム、チタン及びジルコニウムから選択される金属原子である。
【００７８】
ａは０〜４までの整数であり、ｂは０〜４までの整数であり、ｃは０〜４までの整数であり、ａとｂとｃの和は３又は４である。
入手しやすさの観点から、ａが０〜２であることが好ましく、ｂが１〜４であることが好ましく、ｃが０〜２であることが好ましい。また、ａとｂの和、、ａとｃの和、又はｂが、３又は４であることが好ましい。
【００７９】
式（３）のＲ５は、式（２）のＲ５と同じである。
【００８０】
Ｒ８及びＲ９は、各々独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜６）のアルキル基、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜６）のアルキルアルコール残基（アルコキシ基）又は炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜６）のアミノアルキル基である。
【００８１】
Ｒ８及びＲ９の具体例としては、水素原子、水酸基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、メチルアルコール残基、エチルアルコール残基、ｎ−プロピルアルコール残基、２−プロピルアルコール残基、ｎ−ブチルアルコール残基、ｎ−ヘキシルアルコール残基、アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、アミノヘキシル基等が挙げられ、入手しやすさの観点から、メチル基であることが好ましい。
【００８２】
Ｒ１１〜Ｒ１４は、水素原子、水酸基、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜６）のアルキル基、又は炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜６）のヒドロキシアルキル基である。具体的には、水素原子、水酸基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシペンチル基等が挙げられる。
【００８３】
（Ｄ）成分である金属添加剤のうち、式（２）の金属錯体化合物において、Ｍ１がチタンである化合物の具体例としては、チタンジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）、チタンテトラアセチルアセトネート、チタニウムジ−２−エチルヘキソキシビス（２−エチル−３−ヒドロキシヘキソキシド）、チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）、チタンジイソプロポキシビス（トリエタノールアミネート）、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテートが挙げられる。
【００８４】
（Ｄ）成分である金属添加剤のうち、式（２）の金属錯体化合物において、Ｍ１がジルコニウムである化合物の具体例としては、モノブトキシトリスアセチルアセトネートジルコニウム、ジブトキシビスアセチルアセトネートジルコニウム、トリブトキシアセチルアセトネートジルコニウム、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ブトキシトリスエチルアセチルアセテートジルコニウム、ジブトキシビスエチルアセトアセテートジルコニウム、トリブトキシモノエチルアセチルアセテートジルコニウム、テトラキスエチルラクテートジルコニウム、ジブトキシビスエチルラクテートジルコニウム、ビスアセチルアセトネートビスエチルアセチルアセトネートジルコニウム、モノアセチルアセトトリスエチルアセチルアセトネートジルコニウム、モノアセチルアセトネートビスエチルアセチルアセトネートブトキシジルコニウム、ビスアセチルアセトネートビスエチルラクトナトジルコニウム等が挙げられる。
【００８５】
（Ｄ）成分である金属添加剤のうち、式（２）の金属錯体化合物において、Ｍ１がアルミニウムである化合物の具体例としては、アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネート等が挙げられる。
【００８６】
（Ｄ）成分である金属添加剤のうち、アルミニウム錯体化合物の具体例としては、下記一般式（４）で表される化合物（アルミニウム錯体）が挙げられる。
【化６】
0005858197.tif 000007
（式中、Ｒ４５〜Ｒ５０は、各々独立に水素原子又は１価の有機基である。）
【００８７】
Ｒ４５〜Ｒ５０の１価の有機基としては、炭素数１〜２０（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜６）のアルキル基、炭素数１〜２０（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜６）のアルコキシ基等が挙げられる。３つの配位子は、同一でも異なってもよい。
【００８８】
式（４）で表される化合物としては、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネート等が挙げられ、好ましくはアルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネート等が挙げられる。
【００８９】
これらの金属錯体化合物、金属粒子、金属酸化物粒子は単独又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００９０】
特に感光性導電フィルムの未硬化物の安定性の点から、（Ｄ）成分である金属添加剤は、チタントリエタノールアミネート、チタンジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）、チタンテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、又はアルミニウムトリスアセチルアセトネートであることが好ましく、チタントリエタノールアミネート、チタンジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）、又はチタンテトラアセチルアセトネートであることがより好ましい。また、感光性導電フィルムの透明性を特に高める観点からは、ジルコニウムテトラアセチルアセトネートが好ましい。
【００９１】
（Ｄ）成分の金属添加剤の含有割合は、（Ａ）バインダーポリマー及び（Ｂ）光重合性化合物の合計１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部であることが好ましく、０．１〜１０質量部であることがより好ましく、０．２〜５質量部であることが特に好ましい。光照射時の銀ナノワイヤの劣化を十分に抑制するためには、０．０１質量部以上であることが好ましく、感光性導電フィルムの未硬化物の安定性及び感光性導電フィルムの透明性の観点からは、２０質量部以下であることが好ましい。
【００９２】
（Ｄ）成分の金属添加剤を感光層に含有させる方法としては、感光性樹脂組成物中にあらかじめ内部添加する方法が一般的であるが、本発明は内部添加に限るものではない。感光層中に（Ｄ）金属添加剤を含有させる他の方法としては、例えば、導電性繊維分散液中に（Ｄ）金属添加剤を内部添加する方法や、支持フィルム上に形成した導電膜を、（Ｄ）成分の金属添加剤を含む液体に接触（例えば、浸漬等）したのち、改めて乾燥して導電膜を形成する方法等がある。
【００９３】
次に（Ｅ）アミン添加剤について説明する。
【００９４】
（Ｅ）アミン添加剤は非共有電子対を持つ窒素原子が塩基性を示すものであり、第一級アミン、第二級アミン、及び第三級アミンを含むが、（Ｅ）アミン添加剤による感光性樹脂層３のゲル化を防止する点から比較的反応性の低いものが好ましく、第二級アミン又は第三級アミンが好ましい。さらに感光性樹脂層への相溶性が良いもの、感光性樹脂層３の塗工の際に揮発しないものを選択することが好ましい。（Ｅ）アミン添加剤は１種のみを用いてもいいし、２種以上を併用してもよい。
【００９５】
第一級アミンとしては、アリルアミン、イソプロピルアミン、ジアミノプロピルアミン、エチルアミン、２−エチルヘキシルアミン、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミン、３−エトキシプロピルアミン、３−（ジエチルアミノ）プロピルアミン、３−（ジブチルアミノ）プロピルアミン、ｔ−ブチルアミン、３−（メチルアミノ）プロピルアミン、３−（ジメチルアミノ）プロピルアミン、３−メトキシプロピルアミン、Ｎ−メチルエチレンジアミン、Ｎ−エチルエチレンジアミン、Ｎ−メチルトリメチレンジアミン、Ｎ−エチルトリメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ジプロピレントリアミン、２，４−ジアミノ−６−フェニル−１，３，５−トリアジン（ベンゾグアナミン）、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００９６】
第二級アミンとしては、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルエチルアミン、Ｎ−メチルプロピルアミン、Ｎ−メチルイソプロピルアミン、Ｎ−メチルブチルアミン、Ｎ−メチルイソブチルアミン、Ｎ−メチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−エチルプロピルアミン、Ｎ−エチルイソプロピルアミン、Ｎ−エチルブチルアミン、Ｎ−エチルイソブチルアミン、Ｎ−エチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルビニルアミン、Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−メチルベンジルアミン、Ｎ−エチルベンジルアミン、Ｎ−メチルフェニチルアミン、Ｎ−エチルフェネチルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルトリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジエチルトリメチレンジアミン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、３−（フェニルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート等が挙げられる。
【００９７】
第三級アミンとしては、テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−オクタデシルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−メチルピペラジン、Ｎ−エチルピペラジン、アクリロイルモルホリン等が挙げられる。
【００９８】
前記のアミン添加剤のなかでも、３−（フェニルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のアミノ基含有シラン化合物が好ましい。
【００９９】
（Ｅ）アミン添加剤の含有割合は、（Ａ）バインダーポリマー及び（Ｂ）光重合性化合物の総量１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましく、３〜７質量部であることが特に好ましい。光照射時の紫外光による銀ナノワイヤの劣化を充分に抑制するためには、０．１質量部以上であることが好ましく、感光性導電フィルムの未硬化物の安定性及び感光性導電フィルムの透明性の点からは、２０質量部以下であることが好ましい。
【０１００】
（Ｅ）成分のアミン添加剤を感光層に含有させる方法としては、感光性樹脂組成物中にあらかじめ内部添加する方法が一般的であるが、本発明は内部添加に限るものではない。感光層中に（Ｅ）アミン添加剤を含有させる他の方法としては、例えば、導電性繊維分散液中に（Ｅ）アミン添加剤を内部添加する方法や、支持フィルム上に形成した導電膜を、（Ｅ）成分のアミン添加剤を含む液体にさらしたのち、改めて乾燥して導電膜を形成する方法等がある。
【０１０１】
次に紫外線吸収剤について説明する。紫外線吸収剤を（Ｄ）金属添加剤を含む感光層中に含有させることで、耐光性を大きく向上させることができる。即ち、感光層に（Ｄ）金属添加剤を加えることで、紫外光及び可視光による銀ナノワイヤの劣化又は断線を抑制できる効果に加えて、紫外線吸収剤も感光層に含有させることで、感光層が吸収する紫外光の量が減り、紫外光による樹脂の分解によって発生する酸の量が減り、酸による銀ナノワイヤの劣化を抑制することができる。要するに、紫外線吸収剤を（Ｄ）金属添加剤を含む感光層中に含有させることで、（Ｄ）金属添加剤のみを含む場合と比べて、紫外光による銀ナノワイヤの劣化又は断線をより効果的に抑制することができるようになる。
【０１０２】
本発明に用いることができる紫外線吸収剤は、反射光吸収の観点から、波長３８０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ、透明性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。具体的には最大吸収波長が３６０ｎｍ以下の材料がこれに該当する。
紫外線吸収剤としては、オキシベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、サリチル酸エステル化合物、ベンゾフェノン化合物、ジフェニルアクリレート化合物、シアノアクリレート化合物、ジフェニルシアノアクリレート化合物、ニッケル錯塩化合物等が挙げられる。これらの中でも、ジフェニルシアノアクリレート化合物、シアノアクリレート化合物、又はジフェニルアクリレート化合物が好ましい。
【０１０３】
紫外線吸収剤の含有割合は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜３０質量部であることが好ましく、１〜２０質量部であることがより好ましく、２〜１０質量部であることがさらに好ましい。
【０１０４】
紫外線吸収剤の含有量は、解像性に優れる点、紫外光による導電性繊維の劣化又は断線を効果的に抑制する点において、０．１質量部以上であることが好ましく、活性光線照射の際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となることを抑える点においては、３０質量部以下であることが好ましい。
【０１０５】
紫外線吸収剤を感光層に含有させる方法としては、感光性樹脂組成物中にあらかじめ内部添加する方法が一般的であるが、本発明は内部添加に限るものではない。感光層中に紫外線吸収剤を含有させる他の方法としては、例えば、導電性繊維分散液中に紫外線吸収剤を内部添加する方法や、支持フィルム上に形成した導電膜を、紫外線吸収剤を含む液体にさらしたのち、改めて乾燥して導電膜を形成する方法等がある。感光性樹脂組成物中に均一に充分に紫外線吸収剤を含有させて、紫外線による導電性繊維の劣化又は断線を効果的に抑制するためには、感光性樹脂組成物中にあらかじめ内部添加する方法が、最も好ましい。
【０１０６】
感光性樹脂層３は、導電膜２を形成した支持フィルム１上に、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解した感光性樹脂組成物の溶液を塗布、乾燥することにより形成できる。但し、この場合、乾燥後の感光性樹脂層中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止するため、２質量％以下であることが好ましい。
【０１０７】
感光性樹脂層３の塗工は、例えば、ロールコート法、コンマコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、ダイコート法、バーコート法、スプレーコート法等の公知の方法で行うことができる。塗工後、有機溶剤等を除去するための乾燥は、７０〜１５０℃で５〜３０分間程度、熱風対流式乾燥機等で行うことができる。
【０１０８】
感光性樹脂層３の厚みは、用途により異なるが、乾燥後の厚みで１〜５０μｍであることが好ましく、１〜１５μｍであることがより好ましく、１〜１０μｍであることがさらに好ましい。この厚みが１μｍ未満では塗工が困難となる傾向があり、５０μｍを超えると光透過の低下による感度が不充分となり転写する感光性樹脂層の光硬化性が低下する傾向がある。
【０１０９】
本発明で用いる感光性導電フィルムにおいて、前記導電膜２及び前記感光性樹脂層３の積層体は、両層の合計膜厚を１〜１０μｍとしたときに４５０〜６５０ｎｍの波長域における最小光透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。導電膜及び感光性樹脂層がこのような条件を満たす場合、ディスプレイパネル等での高輝度化が容易となる。
【０１１０】
本発明で用いる感光性導電フィルムにおいて、感光性樹脂層３の支持フィルム１側と反対側の面に接するように保護フィルムを積層することができる。
【０１１１】
保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムを用いることができる。また、保護フィルムとして上述の支持体フィルムと同様の重合体フィルムを用いてもよい。
【０１１２】
保護フィルムと感光性樹脂層との間の接着力は、保護フィルムを感光性樹脂層から剥離しやすくするために、感光層４と支持フィルム１との間の接着力よりも小さいことが好ましい。
【０１１３】
また、保護フィルムは、保護フィルム中に含まれる直径８０μｍ以上のフィッシュアイ数が５個／ｍ２以下であることが好ましい。尚、「フィッシュアイ」とは、材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸、キャスティング法等によりフィルムを製造する際に、材料の異物、未溶解物、酸化劣化物等がフィルム中に取り込まれたものである。
【０１１４】
保護フィルムの厚みは、１〜１００μｍであることが好ましく、５〜５０μｍであることがより好ましく、５〜３０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３０μｍであることが特に好ましい。保護フィルムの厚みが１μｍ未満ではラミネートの際、保護フィルムが破れやすくなる傾向があり、１００μｍを超えると価格が高くなる傾向がある。
【０１１５】
＜導電パターンの形成方法＞
以下、本発明の導電パターンの形成方法を、図面を用いて説明する。
図４に示すように、支持フィルム１、導電膜２及び感光性樹脂層３を有する感光性導電フィルム１０の感光性樹脂層３を、基板２０上にラミネートし（図４の（ａ））、次に、感光性樹脂層３にマスク５を介して活性光線Ｌをパターン状に照射し（図４の（ｂ））、現像により未硬化部分（未露光部分）を除去することにより導電パターン（導電膜２ａ）を形成する（図４の（ｃ））。こうして得られる導電パターンは、導電膜２ａの厚みに加えて樹脂硬化層３ｂの厚みを有している。
これらの厚みは基板との段差Ｈｂとなり、この段差が大きいとディスプレイ等に要求される平滑性が得られにくくなる。また、段差が大きいと導電パターンが視認されやすくなる。そのため、用途によって図５に示す方法と使い分ければよい。
【０１１６】
図５に記載のように、支持フィルム１を有する感光層４の所定部分に活性光線を照射する第一の露光工程（図５（ｂ））後に、支持フィルム１を剥離してから、酸素存在下で、第一の露光工程での露光部及び未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程（図５（ｃ））と、を備えることが好ましい。第二の露光工程は、酸素存在下で行われ、例えば、空気中で行うことが好ましい。また、酸素濃度を増やした条件でもよい。
【０１１７】
図５の導電パターンの形成方法の現像工程では、第二の露光工程で露光した感光性樹脂層３の充分硬化していない表面部分が除去される。具体的には、ウェット現象により感光性樹脂層３の充分硬化していない表面部分、つまり導電膜２を含む表面層が除去される。これにより、基板上に導電パターンとともに導電膜を有していない樹脂硬化層が設けられ、導電パターン基板４２が得られ、基板上に導電パターンのみを設けた場合に比べて導電パターンの段差Ｈａを小さくすることができる。
【０１１８】
本発明の導電パターンの形成方法は、本発明の感光性導電フィルムを、基板上に感光性樹脂層が密着するようにラミネートする工程と、前記支持フィルムを付けたまま基板上の感光性樹脂層の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、その後前記支持フィルムを剥離する工程と、露光した感光性樹脂層を現像することにより導電パターンを形成する現像工程とを備える。これらの工程を経ることにより、基板上にパターニングされた導電パターンを備える導電パターン基板が得られる。
【０１１９】
基板としては、ガラス基板、ポリカーボネート等のプラスチック基板等が挙げられる。基板は、４５０〜６５０ｎｍの波長域での最小光透過率が８０％以上であるものが好ましい。
【０１２０】
ラミネート工程は、例えば、感光性導電フィルムを、保護フィルムがある場合はそれを除去した後、加熱しながら感光性樹脂層側を基板に圧着することにより行なわれる。尚、この作業は、密着性及び追従性の見地から減圧下で積層することが好ましい。感光性導電フィルムの積層は、感光性樹脂層及び／又は基板を７０〜１３０℃に加熱することが好ましく、圧着圧力は、０．１〜１．０ＭＰａ程度（１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ２程度）とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。また、感光性樹脂層を前記のように７０〜１３０℃に加熱すれば、予め基板を予熱処理することは必要ではないが、積層性をさらに向上させるために基板の予熱処理を行うこともできる。
【０１２１】
前記支持フィルムを付けたまま基板上の感光性樹脂層の所定部分に活性光線を照射する露光工程において、露光方法としては、アートワークと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを通して活性光線を画像状に照射する方法（マスク露光法）が挙げられる。活性光線の光源としては、公知の光源が用いられる。
【０１２２】
前記露光工程での露光量は、使用する装置や感光性樹脂組成物の組成によって異なるが、５ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２〜２００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。光硬化性に優れる点では、１０ｍＪ／ｃｍ２以上であることが好ましく、解像性の点では２００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましい。
露光工程は２段階で行ってもよく、１段階目を前記の露光量で行ったあと、２段階目を１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２で行ってもよい。
【０１２３】
ウェット現像は、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤系現像液等、用いる感光性樹脂に対応した現像液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により行われる。
【０１２４】
現像液としては、アルカリ性水溶液等の安全かつ安定であり、操作性が良好なものが用いられる。前記アルカリ性水溶液の塩基としては、リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ、リチウム、ナトリウム、カリウム又はアンモニウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ；リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩等が用いられる。
【０１２５】
また、現像に用いるアルカリ性水溶液としては、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、四ホウ酸ナトリウム水溶液等が好ましい。前記アルカリ性水溶液の濃度は０．１〜５質量％が通常用いられる。  
また、前記アルカリ性水溶液のｐＨは９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光性樹脂層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
【０１２６】
また、水又はアルカリ水溶液と、一種以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いることができる。ここで、アルカリ水溶液に含まれる塩基としては、上述の塩基以外に、ホウ砂やメタケイ酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、エタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノ−２−プロパノール、モルホリン等を用いてもよい。
【０１２７】
有機溶剤としては、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアルコキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
【０１２８】
水系現像液は、有機溶剤の濃度を２〜９０質量％とすることが好ましく、その温度は、現像性にあわせて調整することができる。さらに、水系現像液のｐＨは、レジストの現像が充分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１２とすることが好ましく、ｐＨ９〜１０とすることがより好ましい。また、水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量添加することもできる。
【０１２９】
有機溶剤系現像液としては、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止のため、１〜２０質量％の範囲で水を添加することが好ましい。
【０１３０】
上述した現像液は、必要に応じて、２種以上を併用してもよい。
現像の方式としては、例えば、ディップ方式、バトル方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピング等が挙げられる。これらのうち、高圧スプレー方式を用いることが、解像度向上の観点から好ましい。
【０１３１】
本発明の導電パターンの形成方法においては、現像後に必要に応じて、６０〜２５０℃程度の加熱又は０．２〜１０Ｊ／ｃｍ２程度の露光を行うことにより導電パターンをさらに硬化してもよい。
【０１３２】
上述した本発明の導電パターンの形成方法によれば、ＩＴＯ等の無機膜のようにエッチングレジストを形成することなく、ガラスやプラスチック等の基板上に容易に透明な導電パターンを形成することが可能である。
【０１３３】
本発明の導電パターン基板は、上述した導電パターンの形成方法や導電パターンの形成方法により得られるが、透明電極として有効に活用できる観点から、導電膜又は導電パターンの表面抵抗率が２０００Ω／□以下であることが好ましく、１０００Ω／□以下であることがより好ましく、５００Ω／□以下であることが特に好ましい。表面抵抗率は、例えば、導電性繊維や有機導電体の分散液の濃度又は塗工量によって調整することができる。
【０１３４】
また、本発明の導電パターン基板は、４５０〜６５０ｎｍの波長域における最小光透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。
【０１３５】
＜タッチパネルセンサ＞
本発明に係るタッチパネルセンサは、前記の導電パターン基板を備える。
図６は、静電容量式のタッチパネルセンサの一例を示す模式上面図である。図６に示されるタッチパネルセンサは、透明基板１０１の片面にタッチ位置を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域に静電容量変化を検出して、Ｘ位置座標とする透明電極１０３と、Ｙ位置座標とする透明電極１０４を備えている。これらの透明電極１０３、１０４には、タッチパネルとしての電気信号を制御するドライバー素子回路と接続するための引出し配線１０５と、その引出し配線１０５と透明電極１０３、１０４を接続する接続電極１０６が配置されている。さらに、引出し配線１０５の接続電極１０６と反対側の端部には、ドライバー素子回路と接続する接続端子１０７が配置されている。
【０１３６】
図７は、図６に示されるタッチパネルセンサの製造方法の一例を示す模式図である。この製造方法においては、本発明に係る導電パターンの形成方法によって透明電極１０３、１０４が形成される。
【０１３７】
まず、図７（ａ）に示すように、透明基板１０１上に透明電極１０３（Ｘ位置座標）を形成する。具体的には、感光性導電フィルム１０を感光性樹脂層３が透明基板１０１に設けられるようにラミネート（転写）する。転写した感光層４（導電膜２及び感光性樹脂層３）に対し、所望の形状に遮光マスクを介してパターン状に活性光線を照射する（第一の露光工程）。その後、遮光マスクを除き、さらに支持フィルムを剥離したうえで感光層４に活性光線を照射する（第二の露光工程）。露光工程の後、現像を行うことで、硬化が不充分な感光性樹脂層３と共に、導電膜２が除去され、導電パターン２ａが形成される。この導電パターン２ａによりＸ位置座標を検知する透明電極１０３が形成される（図７（ｂ））。図７（ｂ）は、図７（ａ）のＩ−Ｉ切断面の模式断面図である。本発明に係る導電パターンの形成方法により透明電極１０３を形成することで、段差の小さな透明電極１０３を設けることができる。
【０１３８】
続いて、図７（ｃ）に示すように透明電極（Ｙ位置座標）１０４を形成する。前記の工程により形成された透明電極１０３を備える基板１０１に、さらに、新たな感光性導電フィルム１０をラミネートし、前記同様の操作により、Ｙ位置座標を検知する透明電極１０４が形成される（図７（ｄ））。図７（ｄ）は、図７（ｃ）のＩＩ−ＩＩ切断面の模式断面図である。本発明に係る導電パターンの形成方法により透明電極１０４を形成することで、透明電極１０３上に透明電極１０４を形成する場合であっても、段差を充分に小さくでき、気泡の捲き込みを充分に低減した、平滑性の高いタッチパネルセンサを作製することができる。
【０１３９】
次に、透明基板１０１の表面に、外部回路と接続するための引出し線１０５と、この引出し線と透明電極１０３、１０４を接続する接続電極１０６を形成する（図示せず）。図７では、引出し線１０５及び接続電極１０６は、透明電極１０３及び１０４の形成後に形成しているが、各透明電極形成時に同時に形成してもよい。引出し線１０５は、例えば、フレーク状の銀を含有する導電ペースト材料を使って、スクリーン印刷法を用いて、接続電極１０６を形成するのと同時に形成することができる。
【０１４０】
図８及び図９はそれぞれ、図６に示されるａ−ａ’及びｂ−ｂ’に沿った部分断面図である。これらは、ＸＹ位置座標の透明電極の交差部を示す。図８及び図９に示されるように、透明電極が本発明に係る導電パターンの形成方法により形成されていることにより、段差が小さく平滑性の高いタッチパネルセンサを得ることができる。
【実施例】
【０１４１】
以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。【０１４２】
実施例、比較例で用いた成分は以下の通りである。
（Ｂ）成分
・トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）【０１４３】
（Ｃ）成分
・１，２−オクタンジオン，１−［（４−フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ（株）製）【０１４４】
（Ｄ）成分
・チタンジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）（ＴＣ−１００、マツモトファインケミカル（株）製）
・チタンテトラアセチルアセトネート（ＴＣ−４０１、マツモトファインケミカル（株）製）
・ジルコニウムテトラアセチルアセトネート（ＺＣ−１５０、マツモトファインケミカル（株）製）
・アルミニウムトリスアセチルアセトネート（アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）製）
・酸化チタン粒子（酸化チタン粒子分散液ＮＤ１３９、テイカ（株）製）【０１４５】
（Ｅ）成分
・３−（フェニルアミノ）プロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５７３、信越化学工業（株）製）
・２，４−ジアミノ−６−フェニル−１，３，５−トリアジン（ベンゾグアナミン、（株）日本触媒製）【０１４６】
（紫外線吸収剤）
・２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル（ＳＥＥＳＯＲＢ５０１、シプロ化成（株）製）【０１４７】
（その他の成分）
・オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＳＨ−３０、東レ・ダウコーニング（株）製）（レベリング剤）
・メチルエチルケトン（東燃化学（株）製）（溶媒）【０１４８】
製造例１
＜銀繊維分散液（導電性繊維分散液（導電膜形成用塗液））の調製＞
［ポリオール法による銀繊維の調製］
２０００ｍｌの３口フラスコに、エチレングリコール５００ｍｌを入れ、窒素雰囲気下、マグネチックスターラーで攪拌しながらオイルバスにより１６０℃まで加熱した。ここに、別途用意した溶液１（２ｍｇのＰｔＣｌ２を５０ｍｌのエチレングリコールに溶解した溶液）を滴下した。４〜５分後、溶液２（５ｇのＡｇＮＯ３をエチレングリコール３００ｍｌに溶解した溶液）と、溶液３（ポリビニルピロリドン（和光純薬（株）製、重量平均分子量：５万８０００）５ｇをエチレングリコール１５０ｍｌに溶解した溶液）とを、それぞれの滴下ロートから１分間で滴下し、反応溶液を１６０℃で６０分間攪拌した。【０１４９】
前記反応溶液が３０℃以下になるまで放置した後、アセトンで１０倍に希釈した。前記反応溶液の希釈液を、遠心分離機により２０００回転で２０分間遠心分離し、上澄み液をデカンテーションした。沈殿物にアセトンを加え、攪拌後に、前記と同様の条件で遠心分離し、アセトンをデカンテーションした。その後、蒸留水を用いて同様に２回遠心分離して、銀繊維を得た。得られた銀繊維を光学顕微鏡で観察したところ、繊維径（直径）は４０ｎｍで、繊維長は４μｍであった。【０１５０】
［銀繊維分散液の調製］
純水に、前記で得られた銀繊維が０．２質量％の濃度となるように、また、ドデシルーペンタエチレングリコールが０．１質量％の濃度となるように分散し、銀繊維分散液を得た。【０１５１】
製造例２
＜バインダーポリマー溶液（Ａ１）の調製＞
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温した。反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が４５，０００のバインダーポリマー溶液（固形分５０質量％）（Ａ１）を得た。（Ａ１）の酸価は、７８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）は６０℃であった。【０１５２】
【表１】
0005858197.tif 000008
【０１５３】
作製したバインダーポリマー溶液の特性は、以下の方法で測定した。【０１５４】
（１）重量平均分子量
重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。【０１５５】
ポンプ：日立  Ｌ−６０００型（（株）日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成（株）製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立  Ｌ−３３００型ＲＩ（（株）日立製作所製、製品名）【０１５６】
（２）酸価
酸価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマー溶液を、１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形のポリマーを得た。そして、固形のポリマー１ｇを精秤した後、精秤したポリマーを三角フラスコに入れ、アセトンを３０ｇ添加し、均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝１０×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。【０１５７】
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）
前記で作製したバインダーポリマー溶液をポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製、製品名「ピューレックスＡ５３」）上に均一に塗布し、９０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して、乾燥後の厚さが４０μｍであるバインダーポリマーからなる膜を形成した。次いで高圧水銀灯ランプを有する露光機（（株）オーク製作所製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、照射エネルギー量が４００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）となるように前記膜を露光した。露光された膜をホットプレート上にて６５℃で２分間、次いで９５℃で８分間加熱し、熱風対流式乾燥機にて１８０℃で６０分間加熱処理をした後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、セイコーインスツルメンツ社製ＴＭＡ／ＳＳ６０００を用いて、昇温速度５℃／分で温度を上昇させたときの前記硬化膜の熱膨張率を測定し、その曲線から得られる変曲点をガラス転移温度Ｔｇとして求めた。【０１５８】
実施例１
＜感光性導電フィルムＶ１の作製＞
［導電フィルム（感光性導電フィルムの導電膜）Ｗ１の作製］
前記製造例１で得られた銀繊維分散液を、５０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、帝人（株）製、商品名「Ｇ２−５０」）上に２５ｇ／ｍ２で均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥し、導電フィルムＷ１を形成した。導電膜の乾燥後の膜厚は、０．１μｍであった。【０１５９】
［感光性樹脂組成物の溶液Ｘ１の作製］
表２に示す材料を、表２に示す配合量（質量部）で、攪拌機を用いて１５分間混合し、感光性樹脂組成物の溶液Ｘ１を作製した。
表２中、（Ａ）成分及び（Ｄ）成分の配合量はその固形分のみの質量を記載した。【０１６０】
［感光性導電フィルムＶ１の作製］
感光性樹脂組成物の溶液Ｘ１を、前記導電フィルムＷ１上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して感光性樹脂層を形成した。その後、感光性樹脂層を、ポリエチレンフィルム（タマポリ（株）製、商品名「ＮＦ−１３」）で覆い、感光性導電フィルムＶ１を得た。尚、感光性樹脂層の乾燥後の膜厚は５μｍであった。【０１６１】
＜感光性導電フィルムＶ１の評価＞
［感光性導電フィルムＶ１の光透過率の測定］
得られた感光性導電フィルムＶ１のポリエチレンフィルムを剥がしながら、厚さ１ｍｍのガラス基板上に、感光性樹脂層が接するようにラミネータ（日立化成（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１１０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、支持体フィルムを含む感光性導電フィルムＶ１が積層された基板を作製した。【０１６２】
次いで、ガラス基板上の感光性導電フィルムに、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、支持体フィルム側より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）で、紫外線を照射した後、支持体フィルムを除去し、感光性樹脂層と導電膜（感光層）（膜厚５．０μｍ）の透過率測定用試料を得た。【０１６３】
次いで、得られた試料を紫外可視分光光度計（Ｕ−３３１０：日立計測器サービス（株）製）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率を測定した。
得られた試料の透過率は、波長７００ｎｍにおいて９２％、波長５５０ｎｍにおいて９１％、波長４００ｎｍにおいて８７％であり、良好な透過率を確保できていた。【０１６４】
［感光性導電フィルムＶ１のアウトセル型構成での耐光性試験］
得られた感光性導電フィルムＶ１のポリエチレンフィルムを剥がしながら、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡（株）製、商品名Ａ４３００、縦６ｃｍ×横６ｃｍ、厚さ１２５μｍ）上に、感光性樹脂層が接するようにラミネータ（日立化成（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１１０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａの条件でラミネートして、ＰＥＴフィルム基板上に、支持体フィルムを含む感光性導電フィルムＶ１が積層された基板を作製した。【０１６５】
次いで、ＰＥＴ基板上の感光性導電フィルムＶ１に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、支持体フィルム側（感光性導電フィルム導電膜上方）より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（ｉ線における測定値）で、紫外線を照射した後、支持体フィルムを除去し、さらに導電膜上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２（ｉ線における測定値）で紫外線を照射し、感光層の硬化膜（膜厚５．０μｍ）をＰＥＴフィルム全面に形成し、積層体を得た。尚、得られた積層体のシート抵抗値を、非接触抵抗測定器（ナプソン（株）製、ＥＣ−８０Ｐ）により測定したところ、２００±２０Ω／□であった。【０１６６】
次いで、得られた積層体の上に、ＯＣＡ（日立化成（株）製、商品名ＴＥ−５０００Ｈ、膜厚１００μｍ）を片面のセパレータを剥がした後に、前記積層体の硬化膜（含導電膜）が、ＯＣＡの粘着層に接するように、ラミネータ（日立化成（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度室温（２０〜３０℃）、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａの条件でラミネートして、ＰＥＴフィルム基板上に、硬化膜（含導電膜）及びＯＣＡが積層された積層体を作製した。【０１６７】
次いで、得られた前記積層体（ＰＥＴフィルム／硬化膜／ＯＣＡ）について、ＯＣＡのセパレータを剥がした後、ＯＣＡの粘着層とガラス基板（縦６ｃｍ×横６ｃｍ、厚さ１ｍｍ）が接するように、ラミネータ（日立化成（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度室温（２０〜３０℃）、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａの条件でラミネートして、ＰＥＴフィルム基板上に、硬化膜とＯＣＡとガラスが積層された積層体を作製した。この積層体の構成（ＰＥＴフィルム／硬化膜／ＯＣＡ／ガラス）をアウトセル型の積層体と呼ぶ。【０１６８】
次いで、得られた前記アウトセル型の積層体（ＰＥＴフィルム／硬化膜／ＯＣＡ／ガラス）について、縦６ｃｍ×横６ｃｍ全面の３分の１を覆うように、ガラス面側に黒テープ（ニチバン（株）製、ビニールテープＶＴ−５０黒）を手で貼り付けて、耐光性（耐候性）試験用の試料を得た。試料の平面図及び断面図をそれぞれ図１０、図１１に示す。
図１０、１１において、３００はガラス基板、３０１は黒テープ、４０１はビューエリアのシート抵抗値測定箇所、４０２は遮蔽部端部のシート抵抗値測定箇所、３１０はＰＥＴフィルム、４は硬化膜、２１０はＯＣＡを示す。【０１６９】
得られた耐光性試験用試料のシート抵抗値を、非接触抵抗計（ナプソン（株）製、ＥＣ−８０Ｐ）を用いて、耐光性試験用試料のＰＥＴフィルム面から測定することで耐光性を評価した。シート抵抗値は、ビューエリア４０１（黒テープが貼り付けていない領域）と遮蔽部端部４０２（黒テープを貼り付けた領域と貼り付けていない領域の境界部）の２箇所について測定した（図１０参照）。シート抵抗値はビューエリア、遮蔽部ともに２００±２０Ωであり、このシート抵抗値を耐光性試験前の初期値（Ｒ０）とした。【０１７０】
次いで、耐光性試験用試料について、耐光性試験機（アトラス  マテリアルテクノロジー社製、ＳＵＮＴＥＳＴ  ＸＬＳ＋）を用いてキセノンランプを照射した。試験条件は、ブラックパネル温度６０℃、照射強度６０Ｗ／ｍ２（波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの分光放射照度の積算値）、試験槽内の温度は４５℃、湿度は１５％ＲＨ、試験時間３００時間で試験した。なお、上記試験条件でのキセノンランプの波長３６５ｎｍでの照度は、０．８Ｗ／ｍ２であった。また、キセノンランプは耐光性試験用試料の黒テープ貼り付け面側から光照射した。耐光性試験後、室温で１時間静置してから、改めてビューエリアと遮蔽部のシート抵抗値を測定した。この抵抗値を耐光性試験後のシート抵抗値（Ｒ１）とした。【０１７１】
耐光性を、耐光性試験前後のシート抵抗値Ｒ０、Ｒ１をもとに、以下の評点に従って評価した。ここで、Ｒ０とＲ１の比（Ｒ１／Ｒ０）をＲｒとした。下記のように、抵抗上昇率が２０％以下のとき、評価結果を◎又は○とした。
◎；Ｒｒ≦１．１
○；１．１＜Ｒｒ≦１．２
△；１．２＜Ｒｒ≦１．５
×；１．５＜Ｒｒ≦２
××；Ｒｒ＞２
耐光性を評価したところ、ビューエリアの評点は◎、遮蔽部の評点は◎だった。【０１７２】
［感光性導電フィルムＶ１のアウトセル型構成でのタッチパネル駆動評価］
得られた感光性導電フィルムＶ１のポリエチレンフィルムを剥がしながら、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡（株）製、商品名Ａ４３００、縦１５ｃｍ×１５ｃｍ、厚さ１２５μｍ）上に、感光性樹脂層が接するようにラミネータ（日立化成（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１１０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａの条件でラミネートして、ＰＥＴフィルム基板上に、支持体フィルムを含む感光性導電フィルムＶ１が積層された基板を作製した。【０１７３】
ラミネート後、ＰＥＴフィルム基板を冷却し基板の温度が室温（２３℃〜２５℃）になった時点で、支持体フィルムであるＰＥＴフィルム面にライン幅／スペース幅が１５００／３６００μｍで長さが１００ｍｍの配線パターンを有するアートワークを密着させた。そして、ＰＥＴ基板上の感光性導電フィルムＶ１に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、支持体フィルム側（感光性導電フィルム導電膜上方）より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（ｉ線における測定値）で、紫外線を照射した。【０１７４】
露光後、室温（２３℃〜２５℃）で１５分間放置した後、支持体フィルムを除去し、続いて、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を３０秒間スプレーすることにより現像した。現像により、ライン幅／スペース幅が約１５００／３６００μｍで長さが１０ｃｍの導電パターンが、ＰＥＴフィルム基板に形成された。【０１７５】
次に、図１４に示すように、ＰＥＴフィルム基板３２０の導電パターン３２１と、ＦＰＣ３２４を接続した。具体的には、得られた導電パターン３２１を有するＰＥＴフィルム基板３２０上に、公知の方法で、銀ペースト（東洋紡（株）（株）製、ＤＷ−１１７Ｈ−４１）を印刷し、１２０℃で３０分間、箱型乾燥機で加熱して、銀ペーストを硬化した。その後、公知の方法でＦＰＣ（フレキシブル配線板）３２４と銀ペースト引出し配線３２２とをＡＣＦ（異方導電性フィルム）３２３で接続し、導電パターン１本１本を銀ペースト引出し配線３２２、ＡＣＦ３２３を介してＦＰＣ３２４と接続した。以上のようにして、ＦＰＣと接続した導電パターンを有するＰＥＴフィルム基板３２０を２枚作製した。【０１７６】
次いで、得られたＰＥＴフィルム基板２枚について、導電パターンをそれぞれＸ軸電極３２５、Ｙ軸電極３２６とし、Ｘ軸電極とＹ軸電極が直交するように、ＯＣＡ（日立化成（株）製、商品名ＤＡ−５０００Ｈ、膜厚１００μｍ）を介して積層した。【０１７７】
次いで、図１５に示すように、得られた前記積層体（Ｘ軸電極ＰＥＴフィルム３２０、３２５／ＯＣＡ２１０／Ｙ軸電極ＰＥＴフィルム３２０、３２６）について、Ｙ軸電極側にＯＣＡ２１０を貼付け、さらにガラス３００（縦１５ｃｍ×横１５ｃｍ、厚さ１ｍｍ）を貼り合せて、Ｘ軸電極ＰＥＴフィルムとＹ軸電極フィルムとガラスがＯＣＡを介して積層された積層体を作製した。この積層体（Ｘ軸電極ＰＥＴフィルム／ＯＣＡ／Ｙ軸電極ＰＥＴフィルム／ＯＣＡ／ガラス）をアウトセル型のタッチパネルと呼ぶ。【０１７８】
次いで、得られた前記アウトセル型のタッチパネルについて、縦１５ｃｍ×横１５ｃｍ全面の２分の１を覆うように、ガラス面側に黒テープ３０１（ニチバン（株）製、ビニールテープＶＴ−５０黒）を手貼りで貼り付けた。黒テープは、図１６に示すように、Ｙ軸電極ＰＥＴフィルム基材の導電パターンにおいて、銀ペースト引出し配線が形成された側を覆うように貼り付けた。以上のようにして作製した、黒テープを有するアウトセル型のタッチパネルを使用して、駆動評価をした。図１５、図１６は、それぞれ試料の断面図と平面図である。【０１７９】
図１７に示すように、前記の駆動評価用タッチパネル３２７を、ＦＰＣ３２４を介して市販のコントローラーＩＣ基板３２８（（株）（株）ＤＭＣ社製、ＥＸＣ７２３６）と接続した。その後、コントローラーＩＣ基板を付属のＵＳＢ３２９を介して、Ｗｉｎｄｏｗｓ（登録商標）７内蔵のＰＣ３３０と接続した。駆動評価用タッチパネルの黒テープが貼付けていないガラス面を、人差し指でタッチし、ＰＣ画面上のマウスカーソルが反応するかを調べたところ、指のタッチに応じて、マウスカーソルが反応し、問題なくタッチパネルが駆動していることを確認した。【０１８０】
次いで、駆動評価用タッチパネル３２７について、黒テープ貼り付け面側から、耐光性試験機（アトラス  マテリアルテクノロジー社製、ＳＵＮＴＥＳＴ  ＸＬＳ＋）を用いてキセノンランプを照射した。試験条件は、ブラックパネル温度６０℃、照射強度６０Ｗ／ｍ２（波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの分光放射照度の積算値）、試験槽内の温度は４５℃、湿度は１５％ＲＨ、試験時間３００時間で試験した。なお、上記試験条件でのキセノンランプの波長３６５ｎｍでの照度は、０．８Ｗ／ｍ２であった。耐光性試験後、室温で１時間静置してから、改めて駆動評価用タッチパネル３２７をコントローラーＩＣ３２８を介してＰＣ３３０と接続して、タッチパネルが駆動するかどうかを評価したところ、問題なく駆動することを確認した。【０１８１】
本発明では、耐光性試験後に、問題なくタッチパネルが駆動するものを○、耐光性試験後に、タッチパネルのガラス面を指でタッチしても、ＰＣのマウスカーソルが反応せず、タッチパネルが駆動しなかったものを×と判定した。【０１８２】
実施例２〜４、参考例１、実施例６、７
表２に示す感光性樹脂組成物の溶液（Ｘ）を用いた以外は、実施例１と同様に感光性導電フィルムを作製し、耐光性を評価した。結果を表２に示す。
【０１８３】
実施例８〜１０
導電フィルムＷ１の変わりに導電フィルムＷ２又はＷ３を用いたこと、そして表２に示す感光性樹脂組成物の溶液（Ｘ）を用いた以外は、実施例１と同様に感光性導電フィルムを作製し、耐光性を評価した。結果を表２に示す。
尚、導電フィルムＷ２及びＷ３の作製方法は以下の通りである。【０１８４】
［導電フィルム（感光性導電フィルムの導電膜）Ｗ２の作製］
前記製造例１で得られた銀繊維分散液を、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、帝人（株）製、商品名「Ｇ２−５０」、５０μｍ厚）上に２５ｇ／ｍ２で均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥し、導電膜を形成した。この導電膜をチタン錯体水溶液（１質量％チタントリエタノールアミネート水溶液、商品名ＴＣ−４００、マツモトファインケミカル（株）製、ＴＣ−４００を純水で希釈して使用）に３分間含浸した後、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥し、導電フィルムＷ２を形成した。導電膜の乾燥後の膜厚は、０．１μｍであった。【０１８５】
［導電フィルム（感光性導電フィルムの導電膜）Ｗ３の作製］
前記製造例１で得られた銀繊維分散液に、チタントリエタノールアミネート（商品名ＴＣ−４００、マツモトファインケミカル（株）製）を、銀繊維１００質量部に対してチタントリエタノールアミンが３質量部の割合になるように添加した後、十分に撹拌した。その後、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、帝人（株）製、商品名「Ｇ２−５０」、５０μｍ厚）上に２５ｇ／ｍ２で均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥し、導電フィルムＷ３を形成した。導電膜の乾燥後の膜厚は、０．１μｍであった。【０１８６】
実施例１１，１２
耐光性試験用の試料の構成をカバーガラス一体型（ガラス／硬化層／ＯＣＡ／ＰＥＴフィルム）にしたこと、そして表２に示す感光性樹脂組成物溶液（Ｘ）を用いた以外は、実施例１と同様に耐光性を評価した。結果を表２に示す。尚、カバーガラス一体型（ガラス／硬化層／ＯＣＡ／ＰＥＴフィルム）構成の試料の作製方法は以下の通りである。【０１８７】
［感光性導電フィルムＶ１の耐光性試験用試料（カバーガラス一体型）の作製方法］
感光性導電フィルムＶ１のポリエチレンフィルムを剥がしながら、ガラス（縦６ｃｍ×横６ｃｍ、厚さ１ｍｍ）基板上に、ラミネートしたこと、及び、得られたガラス／硬化膜／ＯＣＡ積層体をＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製、商品名Ａ４３００、縦６ｃｍ×横６ｃｍ、厚さ１２５μｍ）にラミネートした他は、アウトセル型積層体と同様にして、ガラス／硬化層／ＯＣＡ／ＰＥＴフィルムの構成のカバーガラス一体型の積層体を得た。
尚、ガラス基板と硬化膜からなる積層体のシート抵抗値は２００±２０Ω／□ｃｍ２であった。【０１８８】
次いで、得られた前記カバーガラス一体型の積層体（ガラス／硬化層／ＯＣＡ／ＰＥＴフィルム）について、縦６ｃｍ×横６ｃｍ全面の３分の１を覆うように、ガラス面側に黒テープ（ニチバン（株）製、ビニールテープＶＴ−５０黒）を手貼りで貼り付けて、耐光性試験用の試料を得た。試料の平面図、断面図をそれぞれ図１２、図１３に示す。
図１２、１３の符号は、図１０、１１の符号と同じである。【０１８９】
［感光性導電フィルムＶ１のカバーガラス一体型構成でのタッチパネル駆動評価］
図１８、図１９は、それぞれ評価用試料の断面図と平面図である。
感光性導電フィルムＶ１のポリエチレンフィルムを剥がしながら、ガラス（縦１５ｃｍ×横１５ｃｍ、厚さ１ｍｍ）基板上に、ラミネートしたこと、及び、得られたＸ軸電極ガラス基板３２０、３２５、Ｙ軸電極ガラス基板３２０、３２６を、Ｘ軸電極ガラス基板／ＯＣＡ２１０／Ｙ軸電極ガラス基板の構成で積層した他は、アウトセル型積層体と同様にして積層体を作製した。この積層体（Ｘ軸電極ガラス基板／ＯＣＡ／Ｙ軸電極ガラス基板）をカバーガラス一体型のタッチパネルと呼ぶ。【０１９０】
次いで、得られた前記カバーガラス一体型のタッチパネルについて、縦１５ｃｍ×横１５ｃｍ全面の２分の１を覆うように、Ｙ軸電極ガラス面側に黒テープ３０１（ニチバン（株）製、ビニールテープＶＴ−５０黒）を手貼りで貼り付けた。黒テープは、Ｙ軸電極ＰＥＴフィルム基材の導電パターンにおいて、銀ペースト引出し配線が形成された側を覆うように貼り付けた。以上のようにして作製した、黒テープを有するカバーガラス一体型のタッチパネルを使用して、アウトセル型のタッチパネルと同様の判定方法で駆動評価をした。【０１９１】
比較例１〜４
表２に示す感光性樹脂組成物の溶液（Ｘ）を用いた以外は、実施例１と同様に感光性導電フィルムを作製し、耐光性を評価した。結果を表２に示す。【０１９２】
比較例５、６
耐光性試験用の試料の構成をカバーガラス一体型（ガラス／硬化層／ＯＣＡ／ペットフィルム）にしたこと、そして表２に示す感光性樹脂組成物の溶液（Ｘ）を用いた以外は、実施例１と同様に耐光性を評価した。結果を表２に示す。【０１９３】
【表２】
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【０１９４】
表２に示すように、（Ｄ）成分である金属添加剤を含む実施例１〜４、参考例１、実施例６〜１２は試料の構成によらず、また、金属添加剤を含む部位にもよらず（実施例８〜１０参照）、ビューエリア及び遮蔽部の両方において耐光性に優れ、タッチパネルの駆動も良好であった。
【０１９５】
一方、表２に示すように、（Ｄ）金属添加剤も（Ｅ）アミン添加剤も含まない比較例１、２、５は、紫外線吸収剤を使用しても、ビューエリア及び遮蔽部の両方において耐光性は悪くタッチパネルの駆動は不良であった。【０１９６】
（Ｄ）金属添加剤を含まないが（Ｅ）アミン添加剤は含む比較例３、４、６は、遮蔽部端部において耐光性が悪くタッチパネルの駆動は不良であった。
【産業上の利用可能性】
【０１９７】
本発明の感光性導電フィルムを用いれば、太陽光やキセノンランプ等の光照射下でも、抵抗上昇又は断線不良が発生しないセンサ電極（導電パターン）を形成することができる。本発明の感光性導電フィルムは、特に液晶表示素子等のフラットパネルディスプレイ、タッチスクリーン、太陽電池、照明等の装置の電極配線として用いられる導電パターンの形成に用いることができる。【０１９８】
上記に本発明の実施形態及び／又は実施例を幾つか詳細に説明したが、当業者は、本発明の新規な教示及び効果から実質的に離れることなく、これら例示である実施形態及び／又は実施例に多くの変更を加えることが容易である。従って、これらの多くの変更は本発明の範囲に含まれる。
この明細書に記載の文献及び本願のパリ優先の基礎となる日本出願明細書の内容を全てここに援用する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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