(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
プッシュ／プルワイヤと、その遠位端にカプセルとを備え、前記カプセルは、１つまたは複数の放射線源を保持するチャンバを含み、前記チャンバは壁により画成され、内部に空間を有し、前記カプセルの前記壁の外表面の少なくとも一部はコーティングを含み、前記コーティングはＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＣｒＮ、ＣｒＮ、ＴｉＡｌＣｒＮ、ＤＬＣおよびＭｏＳ２から選択される１つまたは複数の材料を含み、前記カプセルは前記プッシュ／プルワイヤに結合している、または、前記カプセルは前記プッシュ／プルワイヤに含まれる高線量率密封小線源治療またはパルス線量率密封小線源治療に用いる密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項２】
前記コーティングはＤＬＣを含む、請求項１に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項３】
前記コーティングは窒化チタンを含む、請求項１または２に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項４】
前記コーティングは１〜１５μｍの範囲の平均厚さを有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項５】
前記コーティングは０．０２〜０．５の範囲の摩擦係数を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項６】
前記壁は、鋼、チタン、ニッケル、アルミニウムおよびこれらの合金からなる群から選択される１つまたは複数の材料を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項７】
前記壁はセラミックスおよび／または複合材料から作られた１つまたは複数の材料を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項８】
前記壁は２５〜５００μｍの範囲の平均厚さを有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項９】
前記壁および前記コーティング材料は異なる色を有し、前記カプセル壁は鋼、チタンおよびニッケルから選択される１つまたは複数で作られ、前記コーティングはＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＡｌＣｒＮおよびＤＬＣから選択される１つまたは複数で作られている、請求項１〜８のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項１０】
前記カプセルは前記チャンバ内に１つまたは複数の放射線源を含み、前記１つまたは複数の放射線源は、イリジウム−１９２およびコバルト−６０からなる群から選択される１つまたは複数を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項１１】
前記カプセルの前記チャンバは栓によって密閉されている、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項１２】
前記カプセルは圧着接合、プレス接合、クリック接合、溶接または接着接合により前記プッシュ／プルワイヤに結合されている、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項１３】
前記プッシュ／プルワイヤ、溶接および／またはカップリングスリーブの表面の少なくとも一部は前記コーティングをさらに含む、請求項１２に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項１４】
前記カプセルはＩＳＯ規格２９１９：２０１２に適合している、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリ。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリと、前記密封小線源治療用線源アセンブリを処置部位に誘導するためのカテーテル、可撓管、中空針またはアプリケータとを含む部品キット。
【請求項１６】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の密封小線源治療用線源アセンブリを作製する方法であって、
−  放射線源を保持するチャンバであって、壁により画成されているチャンバを含むカプセルを用意すること、
−  ＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＣｒＮ、ＣｒＮ、ＴｉＡｌＣｒＮ、ＤＬＣおよびＭｏＳ２から選択される１つまたは複数を含むコーティングを、前記カプセルの前記壁の外表面の少なくとも一部に施すこと、および
−  前記カプセルをプッシュプルワイヤに結合すること
を含む方法。
【請求項１７】
前記コーティングは物理蒸着技術、化学蒸着技術またはレーザクラッディングにより前記壁に施される、請求項１６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、密封小線源治療用線源アセンブリ、部品キット、および密封小線源治療用線源アセンブリを作製する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
密封小線源治療は、癌治療の重要な要となっている。密封小線源治療は、健康な組織を通して外部線源を照射する外照射療法（ＥＢＲＴ：ｅｘｔｅｒｎａｌ  ｂｅａｍ  ｒａｄｉａｔｉｏｎ  ｔｈｅｒａｐｙ）と異なり、腫瘍内または腫瘍近傍に放射性線量を直接照射する。放射線源を含むカプセルは、中空針、可撓管もしくはカテーテルまたは同種のものを通して処置対象の領域に送達される。このため、いわゆるアフターローディング法を利用し、それに基づき、最初にカテーテルまたは同種のものを体内に留置し、次いで放射線源を含み、かつプッシュ／プルワイヤ（すなわち中空針、可撓管またはカテーテルを通して放射線源を誘導するため、ガイドワイヤとも呼ばれる）の遠位端に結合したカプセルを遠隔制御装置によって処置領域に送達するのが一般的である。コンピューター制御リモートアフターローディング装置を用いて、放射線が非常に短距離で作用する１つ
または複数の小さな放射線源が、特別に設計されたアプリケータ内に高い精度で定置されて標的領域に送達される。これにより、周囲の健康な組織および器官の望ましくない曝露を最小限に抑えながら、個別に対応した放射線量が標的領域に正確に送達されることが可能になる。さらに、この密封小線源治療の物理的特質がまさに、健康な組織の曝露を最小限に抑えるのに役立つ。密封小線源治療は、「逆二乗則」に依存する。すなわち、照射線源の周囲では、線量が距離の二乗で減少する。このため、処置される腫瘍の周囲の組織が受ける線量は、他の照射法で予測されるより非常に少ない。
【０００３】
密封小線源治療は、放射線治療の２つの基本目標、すなわち、効果的な腫瘍線量と周囲組織の温存とを組み合わせたものである。高度にコンピューター化された処置計画および画像誘導送達システムにより、効率が高まり、転帰が改善され、患者にとって受け入れやすくなる。密封小線源治療は、これを、特別に設計されたアプリケータおよびリモートコンピューター制御送達装置を使用して、放射線源を腫瘍内または腫瘍に隣接して挿入することにより達成する。こうすると、周囲の健康な組織および器官の望ましくない曝露を最小限に抑えながら、個別に対応した放射線量を非常に正確に標的領域に照射することができる。大規模な臨床研究および広範な臨床の現場で得られた経験および洞察から、密封小線源治療について以下の重要な利点が立証される。
【０００４】
密封小線源治療は、様々な癌および他の疾患を処置するため世界中で使用されている。密封小線源治療は、子宮頸癌の標準的処置であり、前立腺癌、乳癌、皮膚癌および頭頸部癌だけでなく、他の身体の癌部位など他の疾患の処置ガイドラインの重要な部分である。
【０００５】
密封小線源治療により短時間に高放射線量を照射できることは、患者が、ＥＢＲＴで必要とされる数週ではなく、数日で処置を完了することができることを意味する。たとえば、高線量率（ＨＤＲ：ｈｉｇｈ  ｄｏｓｅ−ｒａｔｅ）密封小線源治療による前立腺癌の処置は、ＥＢＲＴの場合の数週間と比較して２回の処置セッションで行うことができる。これは、放射線治療の処置に対する患者のコンプライアンスに重要な影響を与えるほか、患者の生活への影響を最小限に抑える可能性がある。
【０００６】
密封小線源治療は一般に忍容性が良好であり、主としてその組織温存アプローチにより、その用途の多くで毒性プロファイルも良好である。有害事象は、子宮頸癌、前立腺癌および乳癌の場合、他の処置方式と同等以下である。前立腺癌では、たとえば、密封小線源治療を使用すると、腸機能、膀胱機能および勃起機能に関する長期的な問題が低下する。
【０００７】
医療資源に対する圧力が強まる中、密封小線源治療に見られるように処置全体の長さを短縮し、外来を対象とした処置の利用を増やすことは、コストを抑制し、資源をより効率的に利用するのに有効な方法である。加えて、密封小線源治療は、より新しい形態のＥＢＲＴ、たとえば陽子線治療よりインフラ全体のコストを低減し、放射線治療部門の既存の資源を最大限に活用する機会（たとえば線形加速器利用の混雑の緩和）も提供する。
【０００８】
密封小線源治療は、使用する線量率、すなわち低線量率、中線量率または高線量率によって特徴付けることができる。密封小線源治療により短時間に高放射線量を照射できることは、総放射線量および放射線の照射率の両方が癌細胞の破壊に影響を与えるため、処置の有効性にとって重要である。処置線量を短期間に投与すると、より多くの癌性細胞が破壊され、ＨＤＲ密封小線源治療により、特に周囲の非癌性組織に全体としてＥＢＲＴと同様の効果が達成される。また、治療期間が短くなると、腫瘍制御を達成しやすくすることもできる。処置と処置の間に細胞に再び出現する機会が減少するためである。放射線源の急速な線量の減衰は、腫瘍部位から距離と共に増大し、その結果、健康な周囲組織に対する毒性が低下する。
【０００９】
アフターローダーを使用する効果的な処置では、カプセルとプッシュ／プルワイヤとを組み合わせたものが、カテーテルの湾曲に追従できる高度の可撓性を有するべきである。カテーテルが鋭い湾曲をなしていても、大きな摩擦を起こさず、カプセルを摩耗させずにカテーテル中をカプセルを移動させることが可能であるべきである。カプセルがカテーテル中を移動して腫瘍部位に定置されるときにかなり量の摩擦を受ける場合、これにより、位置決め精度が低下する恐れがある。この治療は、カプセルが所定の腫瘍部位（殺される腫瘍細胞が最も多く、損傷を受ける健康な組織が最も少ない）に正確に定置されると最も効果的となるため、位置決め精度は、適用した治療の転帰に非常に重要である。さらに、カプセルが摩耗すると、（極端な場合）カプセルからの漏出、および放射能漏れおよび／または曝露につがなる恐れもある。この種の漏出により、アフターローディングシステムの汚染が起こるか、あるいは患者と接触しにくくなる恐れがあり、これは、重大な安全性リスクとなる。したがって、密封小線源治療用線源アセンブリに高い耐摩耗性を持たせ、それによりカプセル壁の完全性を確かなものにすると望ましい。さらに、一定期間においてカプセルの任意の摩耗を検出できると都合がよいと考えられる。
【００１０】
本発明の目的は、カプセル壁の高い完全性を有する密封小線源治療用線源アセンブリを提供することである。
【００１１】
本発明のさらなる目的は、アフターローディング装置を用いて精度よく定置することができる密封小線源治療用線源アセンブリを提供することである。
【００１２】
本発明のなおさらなる目的は、密封小線源治療システムにおけるカプセルの摩耗を検出するための検出機構を提供することである。
【００１３】
これらの目的は、カプセルに特種なコーティングを施した密封小線源治療用アセンブリを提供することにより、少なくともある程度達成できることが明らかになっている。
【００１４】
したがって、第１の態様では、本発明は、プッシュ／プルワイヤと、その遠位端にカプセルとを備え、前記カプセルは、１つまたは複数の放射線源を保持するチャンバを含み、前記チャンバは壁により画成され、内部に空間を有し、前記カプセルの前記壁の外表面の少なくとも一部はコーティングを含み、前記コーティングはＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＣｒＮ、ＣｒＮ、ＴｉＡｌＣｒＮ、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ：ｄｉａｍｏｎｄ−ｌｉｋｅ  ｃａｒｂｏｎ）、ＭｏＳ２または他の好適なコーティング材料から選択される１つまたは複数を含み、前記カプセルは前記プッシュ／プルワイヤに結合している、または、前記カプセルは前記プッシュ／プルワイヤに含まれる高線量率密封小線源治療またはパルス線量率密封小線源治療に用いる密封小線源治療用線源アセンブリを対象とする。
【００１５】
本発明によれば、カプセルは特定のコーティング材料の物理的性質により完全性が向上することが明らかになった。さらに、本発明の密封小線源治療用線源アセンブリは、カプセルの摩擦係数が比較的低いため、アフターローディング装置を用いて約０．１〜１ｍｍ、たとえば０．５〜１ｍｍという高い精度で定置することができる。したがって、密封小線源治療用線源アセンブリは、カテーテルを通して前後に滑らかに動かすことができる。さらに、本発明のいくつかの実施形態では、コーティングは、摩耗表示器として働くことができることも明らかになった。コーティングがその下にあるカプセル壁と異なる色を有する場合、色の変化から、カプセルが摩耗を受けており、交換するべきであることが示され得る。
【００１６】
本発明の密封小線源治療用線源アセンブリのカプセルは、低線量率密封小線源治療に使用しても、中線量率密封小線源治療に使用しても、高線量率密封小線源治療に使用しても、あるいはパルス線量率密封小線源治療に使用してもよい。位置決め精度およびカプセル完全性に関する上記の問題は、線源放射能が比較的高く、漏出の危険または不正確になる危険がより高い高線量率密封小線源治療で特に顕著であるため、好ましい実施形態では、密封小線源治療のカプセルは高線量率密封小線源治療用のカプセルである。
【００１７】
本出願に使用する場合、「低線量率」という用語は、０．４Ｇｙ・ｈｒ−１〜２Ｇｙ・ｈｒ−１の範囲の線量率をいうものとする。
【００１８】
本出願に使用する場合、「中線量率」という用語は、２Ｇｙ・ｈｒ−１〜１２Ｇｙ・ｈｒ−１の範囲の線量率をいうものとする。
【００１９】
本出願に使用する場合、「高線量率」という用語は、１２Ｇｙ・ｈｒ−１（０．２Ｇｙ・ｍｉｎ−１）の範囲より高い線量率をいうものとする。実際に、大部分のＨＤＲ機器は、さらに高い線量率、典型的には約２Ｇｙ・ｍｉｎ−１で作動させる。ＨＤＲ密封小線源治療では、高強度（約３〜３０キュリー）照射線源が使用され、典型的にはそれが腫瘍に挿入され、一連の予め計画された所定の停留位置を通過し、各停留位置は最大で数秒維持され、典型的には線源が患者内に存在する時間は１回当たり３０分未満である。ＨＤＲ密封小線源治療は現在、前立腺、乳房、頸部、子宮、肺、眼および他の解剖学的部位の処置に特に利用されている。
【００２０】
本出願に使用する場合、「パルス線量率」という用語は、処置の高線量率パルス（典型的には５分または１０分持続）が短い間隔（典型的には１時間に１回）で繰り返される技術をいうものとする。その意図は、高線量率型機器を用いて低線量率処置の放射線生物効果をシミュレートすることにある。ＬＤＲの放射線生物効果の方を好む臨床医がこれを達成には、最新のＨＤＲ機器により達成できる複雑な線量分布の柔軟性を用いて達成すればよい。
【００２１】
本出願で使用する場合、「ダイヤモンドライクカーボン」（ＤＬＣ）は、ｓｐ２混成軌道結合およびｓｐ３混成軌道結合の両方を含むアモルファス形の炭素構造をいうものとする。ダイヤモンドライクカーボンは、炭素原子のアモルファスマトリックスまたは炭素と水素原子との混合物を有し、ダイヤモンドの炭素のように非常に大きな四面体構造で結合している。ＤＬＣは、大部分が準安定なアモルファス材料であるが、微細結晶相を含んでもよい。ＤＬＣの例としては、アモルファスダイヤモンド（ａ−Ｄ）、アモルファスカーボン（ａ−Ｃ）、テトラヘドラルアモルファスカーボン（ｔａ−Ｃ）およびダイヤモンドライクヒドロカーボンおよび同種のものが挙げられる。ｔａ−Ｃが最も好ましいＤＬＣである。
【００２２】
本出願に使用する場合、「放射線源」という用語は、ペレット、粉末およびコーティングの形態など任意の種類の形態の放射線源をいうものとする。
【００２３】
本発明の密封小線源治療用線源アセンブリのカプセルは、放射線源を保持するチャンバを含む。チャンバは、密閉されたチャンバであってもよい。カプセルのチャンバは、チャンバを囲む壁により画成されている。典型的には、壁は、カプセルの遠位端（患者に最初に挿入されることを意図したカプセルの端部と定義される）で密閉されている円筒形マントルである。壁は、生物学的に不活性な材料で作ってもよい。しかしながら、カプセルは、ほとんどの場合、アプリケータ（医療機器）またはカテーテルで囲まれており、したがって通常体液または組織と直接接触しないため、これは重大な意味を持たない。カプセルの遠位端は、カテーテルを通して低摩擦で誘導されるため、半球形を有していてもよい。カプセルの長さは、２．５〜８ｍｍの範囲または３〜６ｍｍの範囲など２〜１０ｍｍの範囲であってもよい。カプセルの幅（すなわち断面直径）は、０．５〜１．５ｍｍの範囲または０．６〜１．２ｍｍの間など０．４〜２ｍｍの範囲であってもよい。カプセルの近位端（患者に最後に挿入されることを意図したカプセルの端部と定義される）は、栓などで密封してもよい。好ましくは、放射線源を保持するチャンバは、この密封部で密閉されている。密封は典型的には、レーザ溶接などの溶接により達成される。
【００２４】
チャンバは、放射線源を保持することを意図している。ただし、チャンバは空であってもよい。こうした「空」カプセルは、密封小線源治療処置の開始時に頻繁に使用される。「空」カプセルは、カプセルの位置決めを点検するため、およびカテーテルまたはアプリケータの通路に何らかの妨害物が存在するかどうかを点検するため、カテーテル内およびカテーテル外で誘導することができる。この最初の点検を行った後、実際の処置を実施するために、放射性物質を含むカプセルをカテーテルに送り込んでもよい。空チャンバは好ましくは空間を含む。チャンバが放射線源を含む場合、この放射線源は通常、チャンバ内にペレットの形態で存在する。通常、放射線源は、完全にはチャンバを満たしておらず、したがって放射線源の入ったチャンバも空間を含む。
【００２５】
本発明の密封小線源治療用カプセルと組み合わせて、様々な放射性物質を使用することができる。好ましくは、放射線源は、イリジウム−１９２およびコバルト−６０からなる群から選択される。
【００２６】
イリジウム−１９２は、イリジウム−１９１の中性子放射化により生成され得る。イリジウム−１９２は、７４日の半減期を有し、式（１）に示すようにβ−放射により崩壊する。
【００２７】
【化１】
0006033853.tif 000002
【００２８】
光子放出は、加重平均約０．３８ＭｅＶの複雑なスペクトルである。イリジウム−１９２は、新たに生成されると、安定なイリジウム−１９３の中性子放射化から生じる少量の放射性イリジウム−１９４が混入する。しかしながら、その半減期は１７時間であり、急速に崩壊して問題にならなくなる。イリジウム−１９２は高比放射能を有し、そのため高放射能線源を小寸化することができる。
【００２９】
コバルト−６０は、安定なコバルト−５９の中性子放射化により生成することができる。コバルト−６０は、５．２６年の半減期を有し、式（２）に示すようなβ−放射により崩壊する。
【００３０】
【化２】
0006033853.tif 000003
【００３１】
コバルト−６０は、１．１７ＭｅＶおよび１．３３ＭｅＶのγ線エネルギーを放出する。
【００３２】
他の好適な放射線源として、セシウム−１３７、カリホルニウム−２５２、金−１９８、インジウム−１１４、パラジウム−１０３、リン−３２、ラジウム−２２６、ルテニウム−１０６、サマリウム−１４５、ストロンチウム−９０、タンタル−１８２、ツリウム−１０７、タングステン−１８１、およびイッテルビウム−１６９が挙げられる。
【００３３】
カプセルの壁に使用される材料は、好ましくは耐腐食性である。実施形態の１つでは、壁は、鋼（ステンレス鋼およびオーステナイト鋼など）、チタンおよびニッケルからなる群から選択される１つまたは複数の材料を含む。特に、ステンレス鋼およびチタンは、カプセル壁に非常に好適な材料であると考えられる。さらなる実施形態では、カプセルの壁は、セラミックスおよび複合材料からなる群から選択される１つまたは複数の材料を含む。
【００３４】
好ましくは、カプセル壁は、２５〜５００μｍの範囲の平均厚さ、好ましくは５０〜２５０μｍの範囲の平均厚さを有する。カプセル壁が２５μｍ厚未満の平均厚さを有する場合、漏出の可能性のリスクが高まる一方、壁厚が５００μｍを超えると、遮蔽が大きくなり、それにより処置の有効性が低下する。
【００３５】
本発明によれば、カプセルの壁の外表面の少なくとも一部はコーティングを含む。好ましくは、コーティングは、カプセルの壁の外表面全体に存在する。このため、その場合、カプセルの外表面はコーティングで完全に覆われる。コーティングは、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＣｒＮ、ＣｒＮ、ＴｉＡｌＣｒＮ、ＤＬＣおよびＭｏＳ２から選択される１つまたは複数を含む。特に、コーティングは窒化チタンおよび／またはＤＬＣを含むことが好ましい。これらの材料は、好都合なことに層の厚さが小さくても摩擦係数が低い。
【００３６】
コーティングの平均厚さは、１〜１５μｍの範囲であってもよく、好ましくは１〜１０μｍ、たとえば１〜５μｍの範囲である。これらの範囲の平均厚さを持つコーティングは、摩擦および耐摩耗性に優れた特性を示す。層厚さを判定するのに好適な方法として、破壊方法（研磨ボールを用いて層および基材から球状キャップを研磨して、キャップ直径およびボール直径の測定により層厚さを再計算することなどによる）および非破壊法（蛍光Ｘ線）がある。
【００３７】
実施形態の１つでは、本発明の密封小線源治療用線源アセンブリのカプセルは、０．０２〜０．５の摩擦係数を有するコーティングが施される。好ましくは、コーティングの摩擦係数は、０．０３〜０．３の範囲である。コーティングの摩擦係数は、たとえば、明確に定義されコーティングされたピンを（乾燥または潤滑条件下で）１００Ｃｒ６鋼製の回転させたディスクに押し付けるピンオンディスク試験機で測定することができる。
【００３８】
本発明の特別な実施形態によれば、壁およびコーティング材料は異なる色を有し、それにより、使用者は、コーティングが摩耗または損傷などにより部分的に除去されると、色の違いを理解することができる。これにより、使用中のカプセルの摩耗を検出する機構が得られる。この特別な実施形態によれば、壁は鋼、チタンおよびニッケルから選択される１つまたは複数で作られ、コーティングはＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＡｌＣｒＮおよびＤＬＣから選択される１つまたは複数で作られ、鋼、チタンおよびニッケルは各々灰色または銀色を有するのが好ましい。ＴｉＮコーティングは典型的には金色を有し；ＴｉＣＮコーティングは典型的には青灰色を有し、ＴｉＡｌＣｒＮコーティングは典型的には無煙炭色を有し；ＤＬＣコーティングは典型的には黒色を有する。したがって、これらの壁とコーティング材料との色の対比は、カプセルの摩耗が容易に検出できるような対比になっている。
【００３９】
コーティング材料と基材との色の違いは、目視検査または光学的手段の使用により容易に検出され、簡単に自動化することができる。このため、表面材料の色に何らかの変化があれば、検出して、カプセルの表面の任意の摩耗を示す指標として使用することができる。この情報を用いて、何らかの侵食または摩耗が、放射性物質の漏出または患者もしくは術者の安全性を危険に曝すほどひどくなる前に、カプセルの使用を止めることができる。
【００４０】
カプセルは、圧着接合、プレス接合、クリック接合、溶接または接着（粘着）接合によりプッシュ／プルワイヤに結合してもよい。カプセルをプッシュ／プルワイヤに結合するのに特に好適な例は、溶接および／またはカップリングスリーブである。
【００４１】
プッシュ／プルワイヤ材料は、カプセル壁材料と同じでもよい。実施形態の１つでは、カプセルは、たとえばプッシュ／プルワイヤ内にチャンバを設けることによりプッシュ／プルワイヤ内に含まれる。その場合には、プッシュ／プルワイヤ材料の一部がカプセルのチャンバの壁を形成する。
【００４２】
好ましくは、プッシュ／プルワイヤは、金属材料、たとえば鋼またはチタンで作られた細い可撓性のワイヤである。特別な実施形態では、プッシュ／プルワイヤはまた、ロッドまたはチューブの形態であってもよい。
【００４３】
別の実施形態では、プッシュ／プルワイヤは、ＮｉＴｉｎｏｌ（商標）などのチタン合金から作られた細い可撓性のロッドの形態であってもよく、カプセルは、たとえばＮｉＴｉｎｏｌ（商標）ロッド内のチャンバの穿孔または成形によりプッシュ／プルワイヤの遠位端に形成する。その場合には、プッシュ／プルワイヤ材料の一部がカプセルのチャンバの壁を形成する。
【００４４】
別の実施形態では、カプセルのチャンバは、栓によって密閉されている。好ましくは、栓はカプセルの近位端、すなわちプッシュ／プルワイヤに結合しているカプセルの端部にある。栓は、不活性な金属材料、たとえばチタンまたはステンレス鋼から製造してもよい。カプセルのチャンバは典型的には、栓を壁に溶接することにより密封される。
【００４５】
プッシュ／プルワイヤは、溶接、圧着により、あるいは接着により（エポキシなどを用いて）、および／またはカップリングスリーブを使用することによりカプセルに結合することができる。こうした場合には、前記溶接、および／またはカップリングスリーブの表面の一部は、カプセルと同一または類似のコーティングを含んでもよい。さらに、プッシュ／プルワイヤも、同一または類似のコーティングを含んでもよい。本発明の密封小線源治療用線源アセンブリは、密封小線源治療での使用を意図している。密封放射線源の国際規格は、ＩＳＯ規格２９１９：２０１２として知られる。この規格は、試験性能に基づくものであり、一般的な要件、性能試験、生産試験、表示および認証を規定している。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明に係る密封小線源治療用カプセルアセンブリの一実施例を示す。
【図２】本発明に係る密封小線源治療用カプセルアセンブリの他の実施例を示す。
【００４７】
図１に、本発明の密封小線源治療用カプセルアセンブリの例を模式的に示す。図１に示す密封小線源治療用線源アセンブリは、カプセル１を含む。カプセル１は、放射線源（図示せず）を保持するチャンバ２を有する。チャンバ２は、壁３により画成されている。カプセルの壁３の外表面の少なくとも一部はコーティング４を含む。図１に示すように、チャンバ２は、必ずしも壁３に完全に包囲される必要はない。図１に示す密封小線源治療用線源アセンブリのカプセル１のチャンバ２は、栓５によって密閉されている。カプセル１は、溶接部７によってプッシュ／プルワイヤ６に結合している。図１に示す密封小線源治療用線源アセンブリでは、壁３の外表面は、コーティング４で完全にコーティングされている。任意に、コーティング４はさらに、栓５、プッシュ／プルワイヤ６および／または溶接部７の外表面に施してもよい。
【００４８】
図２に、本発明の密封小線源治療用線源アセンブリの別の例を模式的に示す。図２に示す密封小線源治療用アセンブリは、放射線源（図示せず）を保持するチャンバ２を有するカプセル１をさらに含む。ただし、図２に示す例の場合、プッシュ／プルワイヤは、ＮｉＴｉｎｏｌ（商標）ロッド、または形状記憶金属などの可撓性材料の形態であってもよく、チャンバ２は、プッシュ／プルワイヤ６の端部を掘削するかまたはくり抜いて作製してもよい。このため、壁３（チャンバ２を画成する）は、プッシュ／プルワイヤ６の一部である。あるいは、チャンバ２は、プッシュ／プルワイヤ６に後で結合することができる（溶接などにより）材料を掘削するかまたはくり抜いてもよい。コーティング４は、壁３の外表面に施してある。図２に示す例では、コーティング４はさらに、プッシュ／プルワイヤ６およびスリーブアセンブリ８に施してもよい。図２では、チャンバ２は、遠位側の栓５で密閉されている。図２の実施形態では、コーティング４をさらに栓５に施してもよい。
【００４９】
さらなる態様では、本発明は、本明細書に記載するような密封小線源治療用線源アセンブリと、前記密封小線源治療用線源アセンブリを処置部位に誘導するためのカテーテル、可撓管または中空針とを含む部品キットを対象とする。
【００５０】
本発明によれば、カテーテル、可撓管または中空針を通して密封小線源治療用線源アセンブリを前後に移動することにより生じる摩擦は、好都合なことに減少する。密封小線源治療用線源アセンブリとカテーテル、可撓管または中空針とを組み合わせると、好都合なことにカプセルを処置部位に正確に定置することができる。加えて、部品キットにより、患者の身体と直接接触するのがカテーテルまたは同種のものの外表面のみであるため、カプセル壁、コーティングおよび／またはプッシュ／プルワイヤに非生体適合性材料を使用することが可能になる。
【００５１】
なおさらなる態様では、本発明は、好ましくは本明細書に記載するような密封小線源治療用線源アセンブリを作製する方法であって、
−  放射線源を保持するチャンバであって、壁により画成されているチャンバを含むカプセルを用意するステップ、
−  ＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＣｒＮ、ＣｒＮ、ＴｉＡｌＣｒＮ、ＤＬＣおよびＭｏＳ２から選択される１つまたは複数を含むコーティングを、カプセルの壁の外表面の少なくとも一部に施すステップ、および
−  任意に前記カプセルをプッシュ／プルワイヤに結合するステップ
を含む方法を対象とする。
【００５２】
カプセルがプッシュ／プルワイヤに含まれている場合には、カプセルを用意するステップは、プッシュ／プルワイヤの端部を掘削するまたはくり抜くことを含んでもよい。あるいは、カプセルは、別途用意して別個のプッシュ／プルワイヤに結合してもよい。
【００５３】
コーティングは、当該技術分野において公知の様々な蒸着技術を用いて施すことができる。好適な技術として、物理蒸着（カソードアーク蒸着、電子ビーム物理蒸着、蒸発蒸着、パルスレーザ蒸着、スパッタ蒸着など）、化学蒸着（マイクロ波プラズマ援用化学蒸着、プラズマ強化化学蒸着、リモートプラズマ強化化学蒸着、原子層化学蒸着、燃焼化学蒸着、ホットワイヤ化学蒸着、有機金属化学蒸着、ハイブリッド物理化学蒸着、急速熱化学蒸着および気相成長）、および肉盛溶接、たとえばレーザクラッディングが挙げられる。好ましくは、コーティングは、物理蒸着、化学蒸着またはレーザクラッディングによって施される。
【００５４】
さらなる態様では、本発明は、アセンブリのカプセルまたは他の任意の部分の摩擦および／または摩耗を減らすための、密封小線源治療用カプセル上での、本明細書に記載するようなコーティングの使用を対象とする。
【００５５】
なおさらなる態様では、本発明は、摩耗を検出する表示器としての、密封小線源治療用カプセル（好ましくは本明細書に記載するようなカプセルおよびプッシュ／プルワイヤを含む密封小線源治療用線源アセンブリのカプセル）上での、本明細書に記載するようなコーティングの使用を対象とする。こうした使用の場合、カプセルは、鋼、チタンおよびニッケルから選択される１つまたは複数で作られたチャンバ壁を有し、コーティングは、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＡｌＣｒＮおよびＤＬＣから選択される１つまたは複数で作られることが好ましい。
【００５６】
摩擦を減らし、表面摩耗の指標となる本明細書に記載するようなコーティングの使用は、放射線源を含む密封小線源治療用線源アセンブリのほか、照射線源を含むカプセルを用いて処置を開始する前にカテーテルまたはアプリケータの通路に遮るものがないことを点検および確認するのに使用する「ダミー」カプセルまたは「点検」カプセルを有する密封小線源治療アセンブリにも応用でき、かつ適している。
【００５７】
なおさらなる態様では、本発明は、密封小線源治療処置を必要とする個体に、本明細書に記載するような密封小線源治療用線源アセンブリを導入することを含む密封小線源治療処置を対象とする。密封小線源治療処置は、高線量率密封小線源治療処置でも、あるいは、特別な実施形態では、パルス線量率密封小線源治療処置でもよい。パルス線量率密封小線源治療処置では、典型的には５分から１０分の期間持続する高線量率パルスの処置が短い間隔で繰り返される。間隔は、たとえば、３０分に１回から３時間に１回など多岐にわたってもよい。典型的には、高線量率パルスは１時間に１回繰り返される。
【００５８】
好適には、密封小線源治療用線源アセンブリは、カテーテル、可撓管、中空針またはアプリケータを通して密封小線源治療用線源アセンブリを送り込むことにより処置部位に配置することができる。
【図１】
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【図２】
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