(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜液を吐出する複数のノズルが幅方向に配列されたインクジェットヘッドの吐出面と、前記ノズルから膜液が吐出される基板の膜形成面とを対向させて、前記インクジェットヘッド及び前記基板を非回転状態で、この両者を前記幅方向と直交する方向に相対的に移動させながら、前記ノズルから前記基板の膜形成面に前記膜液を吐出するように構成した膜形成装置において、
前記インクジェットヘッドのノズルの配列幅長さを、前記基板が相対的に移動する際における該基板の膜形成面の幅方向最大長さ以上にし、
前記基板の膜形成面が、該膜形成面の外周端にコーナー部が接し且つ前記相対的な移動方向に平行な二辺とこの方向に直交する二辺とからなる矩形領域と、前記矩形領域から食み出した複数の非矩形領域とに区分され、
前記複数の非矩形領域ではそれぞれ、前記相対的な移動方向に対して前記膜液を吐出するノズルの個数を変化させると共に、前記膜液を吐出するノズルの個数が少ない場合と多い場合とで前記ノズルからの膜液の吐出直後に得られる膜の厚みが均一になるように前記ノズルからの膜液の吐出量の制御が行われるように構成し、
前記複数の非矩形領域がそれぞれ、前記相対的な移動方向に対して複数の部分領域に区分され、それらの部分領域の別異に応じて、前記膜液を吐出するノズルの個数および前記ノズルからの膜液の吐出量についての異なる制御が行われるように構成したことを特徴とする膜形成装置。
【請求項２】
前記矩形領域では、前記相対的な移動位置の別異に関わらず前記膜液を吐出するノズルの個数および前記ノズルからの膜液の吐出量を一定にする制御が行われるように構成したことを特徴とする請求項１に記載の膜形成装置。
【請求項３】
前記矩形領域は、前記膜形成面の外周端に四つのコーナー部が接する中央矩形領域と、前記相対的な移動方向と直交する方向に対して前記中央矩形領域の両側に配置され且つ前記膜形成面の外周端に二つのコーナー部が接する側方矩形領域とに区分され、前記中央矩形領域および前記側方矩形領域ではそれぞれ、前記相対的な移動位置の別異に関わらず前記膜液を吐出するノズルの個数および前記ノズルからの膜液の吐出量を一定にする制御が行われるように構成したことを特徴とする請求項１または２に記載の膜形成装置。
【請求項４】
膜液を吐出する複数のノズルが幅方向に配列されたインクジェットヘッドの吐出面と、前記ノズルから膜液が吐出される基板の膜形成面とを対向させて、前記インクジェットヘッド及び前記基板を非回転状態で、この両者を前記幅方向と直交する方向に相対的に移動させながら、前記ノズルから前記基板の膜形成面に前記膜液を吐出する膜形成方法において、
前記インクジェットヘッドのノズルの配列幅長さを、前記基板が相対的に移動する際における該基板の膜形成面の幅方向最大長さ以上にし、
前記基板の膜形成面が、該膜形成面の外周端にコーナー部が接し且つ前記相対的な移動方向に平行な二辺とこの方向に直交する二辺とからなる矩形領域と、前記矩形領域から食み出した複数の非矩形領域とに区分され、
前記複数の非矩形領域ではそれぞれ、前記相対的な移動方向に対して前記膜液を吐出するノズルの個数を変化させると共に、前記膜液を吐出するノズルの個数が少ない場合と多い場合とで前記ノズルからの膜液の吐出直後に得られる膜の厚みが均一になるように前記ノズルからの膜液の吐出量の制御が行われ、
前記複数の非矩形領域がそれぞれ、前記相対的な移動方向に対して複数の部分領域に区分され、それらの部分領域の別異に応じて、前記膜液を吐出するノズルの個数および前記ノズルからの膜液の吐出量についての異なる制御が行われることを特徴とする膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、ガラス基板、または樹脂基板等に膜を形成するための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、半導体ウエハ等の円板状の基板に膜を形成するための代表的な手法として、図１７に示すように、基板（ウエハ）Ｗの中央に膜液Ｌを滴下すると共に、そのウエハＷを矢印Ａ０方向に回転させ、遠心力により膜液Ｌを展伸させるスピンコーティング法が用いられる。
【０００３】
このスピンコーティング法では、図１７に矢印Ａ１で示す方向に多量の膜液Ｌが飛散するため、ウエハＷの外周側に７０％〜９０％の膜液Ｌを捨てることになる。したがって、ウエハＷの表面に所定の膜厚を得るための作業では、膜液Ｌについての大きな食み出し領域Ｂ１が形成されて、使用効率（残留膜液）が１０％〜３０％となり、大きな無駄が生じる。
【０００４】
さらに、このスピンコーティング法では、図１８（ａ）、（ｂ）に示すように、ウエハＷの矢印Ａ０方向への回転に伴って、矢印Ａ２で示すような気流が発生するため、膜厚が不均一となり、膜の塗布ムラの原因にもなる。また、図１９（ａ）に示すように、ウエハＷの表面に電極や部品等の凸部Ｍが存在する場合には、凸部Ｍを起点とする膜の塗布ムラＮ１が生じるだけでなく、図１９（ｂ）に示すように、凸部Ｍの外周側に気泡Ｎ２が発生するという問題も生じ得る。
【０００５】
しかも、このスピンコーティング法では、図２０に示すように、遠心力によってウエハＷの外周側に向かって展伸された膜液Ｌが、ウエハＷの外周端Ｗｂから裏面Ｗｃ側に達してしまうという事態を招く。そのため、図２１に示すように、洗浄液を用いて、バックリンスＢＬおよびエッジリンスＥＬという手法で、ウエハＷの外周端部Ｗｂおよび裏面Ｗｃに付着した膜液Ｌを洗い流す必要性が生じ、洗浄のための作業が煩雑且つ面倒になるばかりでなく、費用面でも不利となる。
【０００６】
このような問題に対処するために、特許文献１の段落［０００７］には、スピンコーティング法によらない手法として、ウエハの上方に設けたノズルの吐出孔からレジスト液を供給しながら該ノズルをＸ方向に往復させ、且つウエハをＹ方向に間欠送りすることが記載されている。さらに、ウエハの外周端部（周縁）や裏面にレジスト液が付着することを防止するために、ウエハの回路形成領域以外の部分をマスクで覆うことも記載されている。
【０００７】
さらに、特許文献２の段落［００２７］には、ノズルから落下してくる塗布液を受け止めてウエハの外縁領域への塗布液の供給を防ぐ一対の液受け部材が設けられており、この一対の液受け部材はＸ方向間隔が可変であり、且つ、この一対の液受け部材の先端部は、ウエハのＹ方向位置に関わらず、ウエハの外縁より僅かに内側に位置するように調整することが記載されている。
【０００８】
また、特許文献２の段落［００５０］および図１２には、塗布液ノズルには多数の吐出口がウエハの直径に相当する長さに亘って一列に並んでおり、塗布液を吐出口から吐出させながらウエハの一端側から他端側に並進運動して、塗布液のスキャン塗布を行うことが記載されている。この場合も、上記と同様に、多数の吐出口から落下してくる塗布液を受け止めてウエハの外縁領域への塗布液の供給を防ぐ一対の液受け部材が設けられている筈である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−２３７１７９号公報
【特許文献２】国際公開ＷＯ２００５／０３４２２８Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、上述の特許文献１、２に開示された構成は何れも、ノズル（吐出口）から落下した膜液がウエハの外周端部から裏面に達することを防止するために、マスクや液受け部材が必要になり、ウエハ周辺の装置構造が複雑になるという問題を有する。しかも、マスクや液受け部材を設けていても、これらの部材は長期使用に耐え得ないため、耐久性の問題も生じる。
【００１１】
さらに、マスクや液受け部材の先端面（内周端面）から、膜液が垂れ落ちるなどして、ノズル（吐出口）から落ちる膜液以外にも、ウエハの要求位置周辺に落ちる膜液が存在することになる。このような事態が生じると、膜液を正確な要求位置に落とすことが困難になり、ウエハ上に膜が実際に形成される領域に狂いが生じ得るだけでなく、ウエハ上で得られる膜厚の均一性が阻害される。
【００１２】
なお、矩形や多角形などの角板状をなす基板についても、上記と同様の膜を形成する要請が起こり得るが、そのような場合に、既述の問題に対処するには、どのようにすればよいかという問題がある。
【００１３】
以上のような問題を回避するためには、ピエゾ方式等のインクジェットヘッドにおける複数のノズルから適宜の数のノズルを使用して、基板上に膜液を吐出することが考えられる。その場合、この種のインクジェットヘッドは、膜液を吐出するノズルの個数が変化した場合には、基板上における吐出直後の膜厚が不均一になるという現象が生じる。
【００１４】
しかしながら、従来においては、このような現象がどのような場合に不利となって生じるかという点と、そのような現象が生じる事態を見出した場合にその事態を解消しようとする点とについては、それら二つの点の試みへの着眼すら見受けられず、それら二つの点が放置されているのが実情であった。
【００１５】
本発明は、上記事情に鑑み、インクジェットヘッドを用いて基板上に膜液を吐出する場合に、ノズルの個数が変化することで吐出直後の基板上での膜厚が不均一になるという事態を有益性を考慮して見出し、その事態を的確に回避することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
先ず、本発明の説明に先立って、本発明の基本となる構成を備えた技術的手段について以下に説明をしておく。すなわち、この技術的手段は、膜液を吐出する複数のノズルが幅方向に配列されたインクジェットヘッドの吐出面と、前記ノズルから膜液が吐出される基板の膜形成面とを対向させて、前記インクジェットヘッド及び前記基板を非回転状態で、この両者を前記幅方向と直交する方向に相対的に移動させながら、前記ノズルから前記基板の膜形成面に前記膜液を吐出するように構成した膜形成装置において、前記インクジェットヘッドのノズルの配列幅長さを、前記基板が相対的に移動する際における該基板の膜形成面の幅方向最大長さ以上にして、前記両者の相対的な移動を完了させるまでの間に、前記膜液が前記基板の外周端部から裏面側に向かって付着することを抑制するために前記吐出された膜液の付着を前記基板の膜形成面と外周端部との境界で止めるべく、前記複数のノズルにおける膜液を吐出するノズルの個数を可変制御するように構成したものである。
【００１７】
このような構成によれば、基板の形状や姿勢がどのような態様であっても、インクジェットヘッドと基板とが相対移動している間に、膜液を吐出するノズルの個数が可変制御されることによって、基板の先頭部分から後端部分まで、該基板の膜形成面と外周端部との境界で膜液の付着が止められ、膜液が外周端部および裏面に達するという不具合が回避される。したがって、従来のように、マスクや液受け部材が不要になり、基板周辺の装置構造が簡素化されると共に、マスクや液受け部材からの膜液の垂れ落ちがなくなるため、膜液を要求位置に正確に吐出できると共に、基板上での膜厚の正確性を確保できる。この場合、膜液を吐出するノズルの個数を可変制御するためには、インクジェットヘッドと基板との相対移動位置と、基板上の膜形成面の位置とから決まるＢＭＰデータを作成し、そのＢＭＰデータに基づいてインクジェットヘッドの複数のノズルを制御すればよい。
【００１８】
上記の構成において、前記基板が前記インクジェットヘッドに対して相対的に移動する際の態様が、その相対的な移動方向に平行な二辺と、この方向に直交する二辺とからなる矩形の基板となる態様ではないことが有利である。
【００１９】
このようにすれば、基板が上記の矩形となる態様の場合には、膜液を吐出するノズルの個数を予め決めておけば、それらのノズルの全てから膜液を吐出するか否か、つまり膜液を吐出するノズルの個数を零にするか一定数にするかの可変制御をするだけで済む。これに対して、基板が上記のように矩形となる態様でない場合には、その矩形の領域から食み出した複数の非矩形領域についてそれぞれ、膜液を吐出するノズルの個数を緻密に変更していく必要があるが、上記の構成によれば、このような要請に対して、的確に応じることができる。
【００２０】
このような基板としては、円板状をなす基板と、矩形や三角形その他の多角形などの角板状をなす基板とを挙げることができる。なお、矩形からなる角板状をなす基板の場合には、前記相対的な移動方向に対して当該基板が傾斜している場合に有利となる。
【００２１】
以上の構成において、前記基板の膜形成面に向かって吐出された膜液の乾燥後における膜厚は、下限値が３００ｎｍに且つ上限値が３０μｍ以上に制御可能であることが好ましい。
【００２２】
このようにすれば、基板上に、厚みが３００ｎｍ程度の極めて薄い膜と、厚みが３０μｍ以上の極めて厚い膜とを、正確に形成することができる。なお、２０μｍ以上または３０μｍ以上の極めて厚い膜を形成する場合には、回数に制限なく重ね塗りによって行われる。この場合の上限値は、例えば１００μｍとされる。
【００２３】
以上の構成において、前記基板の膜形成面に向かって吐出されて乾燥後に使用可能な膜になった膜液の吐出量は、全吐出量の９５％〜１００％（好ましくは１００％）とすることができる。
【００２４】
このようにすれば、インクジェットプリンタ等のインクジェット方式の装置つまりインクジェットヘッドが有効利用されて、膜液の無駄を可及的に少なくすることができる。
【００２５】
以上の構成において、前記基板の外周端にコーナー部が接し、且つ前記相対的な移動方向に平行な二辺と、この方向に直交する二辺とからなる矩形領域に対しては、前記相対的な移動位置の別異に関わらず一定数のノズルから膜液を吐出し、前記基板の膜形成面のうち前記矩形領域から食み出した複数の非矩形領域に対してはそれぞれ、前記相対的な移動位置の別異に応じて異なる個数のノズルから膜液を吐出するように制御することが好ましい。
【００２６】
このようにすれば、基板の矩形領域に対するノズルの制御が簡素化されるため、基板全体に対するノズルの制御も効率良く簡素化される。
【００２７】
この場合、前記複数の非矩形領域をそれぞれ、前記相対的な移動方向に複数の部分領域に区分し、それら複数の部分領域に応じて、膜液を吐出するノズルの個数およびノズルからの膜液の吐出量を可変制御することが好ましい。
【００２８】
このようにすれば、部分領域を一単位として制御を行えばよいため、制御の煩雑さを回避しつつ制御の正確性を確保することができる。
【００２９】
以上の構成において、前記インクジェットヘッドは、複数個の個別インクジェットヘッドが幅方向に対して千鳥状に配列された並設インクジェットヘッドであることが好ましい。
【００３０】
このようにすれば、基板の大型化にも対処可能となるため、サイズの小さな基板からサイズの大きな基板に亘って広く使用することが可能となる。
【００３１】
以上の構成において、前記基板の膜形成面と外周端部との境界の内周側に連なる筋状の領域では、内周側に向かって漸次膜液の吐出量が増加し、該筋状の領域から内周側に連なる領域では、その増加した膜液の最大吐出量と同一の吐出量となるように制御することが好ましい。
【００３２】
このようにすれば、基板の膜形成面に、均一な吐出量で膜液を形成した場合、つまり基板の膜形成面の全域に亘って膜液の液面高さを均一とした場合には、膜液の乾燥後に、前記境界の内周側に連なる筋状の領域が外周側に移行するに連れて漸次膜厚が大きくなる。そこで、膜液を吐出する時点で、その筋状の領域につき、内周側に移行するに連れて漸次膜液の吐出量が増加するように制御しておけば、乾燥後に基板上で均一な膜厚を得ることができる。
【００３３】
この場合、前記筋状の領域を、内周側から外周側にかけて複数の部分筋状領域に区分し、それら複数の部分筋状領域に応じて、個々のノズルからの膜液の吐出量を可変制御することが好ましい。
【００３４】
このようにすれば、部分筋状領域を一単位として制御を行えばよいため、制御の煩雑さを回避しつつ制御の正確性を確保することができる。
【００３５】
以上の構成において、前記相対的な移動時に、前記複数のノズルに対して膜液の吐出と非吐出とを制御することにより、前記膜形成面に膜が形成される複数の閉鎖領域と、膜が形成されない領域とを作り出すことができ、また、前記相対的な移動時に、前記複数のノズルに対して膜液の吐出と非吐出とを制御することにより、前記膜形成面に膜が形成されない複数の閉鎖領域と、膜が形成される領域とを作り出すこともできる。
【００３６】
このような構成によれば、従来のスピンコーティング法やノズルを使用した方法では不可能であった膜の形成状態を作り出すことができ、特に、基板が円板状をなす場合に有効である。
【００３７】
また、他の技術的手段は、膜液を吐出する複数のノズルが幅方向に配列されたインクジェットヘッドの吐出面と、前記ノズルから膜液が吐出される基板の膜形成面とを対向させて、前記インクジェットヘッド及び前記基板を非回転状態で、この両者を前記幅方向と直交する方向に相対的に移動させながら、前記ノズルから前記基板の膜形成面に前記膜液を吐出するように構成した膜形成装置において、前記基板が前記インクジェットヘッドに対して相対的に移動する際の態様が、その相対的な移動方向に平行な二辺と、この方向に直交する二辺とからなる矩形の基板となる態様ではなく、前記インクジェットヘッドのノズルの配列幅長さを、前記基板が相対的に移動する際における該基板の膜形成面の幅方向最大長さ以上にして、前記両者の相対的な移動を完了させるまでの間に、前記複数のノズルにおける膜液を吐出するノズルの個数を可変制御するものである。
【００３８】
このような構成によれば、上述の技術的手段と略同様の作用効果を得ることができる。但し、この場合には、基板上における膜形成面と基板の外周端部との関係については、上述の技術的手段のような厳格な制約を受けない。
【００３９】
さらに、他の技術的手段は、膜液を吐出する複数のノズルが幅方向に配列されたインクジェットヘッドの吐出面と、前記ノズルから膜液が吐出される基板の膜形成面とを対向させて、前記インクジェットヘッド及び前記基板を非回転状態で、この両者を前記幅方向と直交する方向に相対的に移動させながら、前記ノズルから前記基板の膜形成面に前記膜液を吐出するように構成した膜形成装置において、前記基板の膜形成面の外周端から内周側に連なる筋状の領域では、内周側に向かって漸次膜液の吐出量が増加し、該筋状の領域から内周側に連なる領域では、その増加した膜液の最大吐出量と同一の吐出量となるように制御するものである。
【００４０】
このような構成によれば、下記に示すような作用効果が得られる。すなわち、基板の膜形成面に、均一な吐出量で膜液を形成した場合、つまり基板の膜形成面の全域に亘って膜液の液面高さを均一とした場合には、膜液の乾燥後に、前記膜形成面の外周端から内周側に連なる筋状の領域が外周側に移行するに連れて漸次膜厚が大きくなる。そこで、膜液を吐出する時点で、その筋状の領域につき、内周側に移行するに連れて漸次膜液の吐出量が増加するように制御しておけば、乾燥後に基板上で均一な膜厚を得ることができる。
【００４１】
以上の構成において、前記基板は、半導体ウエハであってもよく、または、ガラス基板であってもよく、もしくは、樹脂基板であってもよい。
【００４２】
以上のような技術的手段を踏まえて、上記課題を解決するために創案された本発明に係る装置は、膜液を吐出する複数のノズルが幅方向に配列されたインクジェットヘッドの吐出面と、前記ノズルから膜液が吐出される基板の膜形成面とを対向させて、前記インクジェットヘッド及び前記基板を非回転状態で、この両者を前記幅方向と直交する方向に相対的に移動させながら、前記ノズルから前記基板の膜形成面に前記膜液を吐出するように構成した膜形成装置において、前記インクジェットヘッドのノズルの配列幅長さを、前記基板が相対的に移動する際における該基板の膜形成面の幅方向最大長さ以上にし、前記基板の膜形成面が、該膜形成面の外周端にコーナー部が接し且つ前記相対的な移動方向に平行な二辺とこの方向に直交する二辺とからなる矩形領域と、前記矩形領域から食み出した複数の非矩形領域とに区分され、前記複数の非矩形領域ではそれぞれ、前記相対的な移動方向に対して前記膜液を吐出するノズルの個数を変化させると共に、前記膜液を吐出するノズルの個数が少ない場合と多い場合とで前記ノズルからの膜液の吐出直後に得られる膜の厚みが均一になるように前記ノズルからの膜液の吐出量の制御が行われるように構成したことに特徴づけられる。
【００４３】
このような構成によれば、基板の膜形成面における非矩形領域では、膜液を吐出するノズルの個数を相対的な移動方向に対して変化させることが有効であることに加えて、そのように膜液を吐出するノズルの個数を変化させた場合における膜形成面の非矩形領域での吐出直後の膜厚が不均一になるという現象が、的確に回避される。
【００４４】
この場合において、前記複数の非矩形領域はそれぞれ、前記相対的な移動方向に複数の部分領域に区分され、それらの部分領域の別異に応じて、前記膜液を吐出するノズルの個数および前記ノズルからの膜液の吐出量ついての異なる制御が行われるように構成することが好ましい。
【００４５】
上記の本発明に係る装置の構成において、前記矩形領域では、前記相対的な移動位置の別異に関わらず前記膜液を吐出するノズルの個数および前記ノズルからの膜液の吐出量を一定にする制御が行われるように構成することが好ましい。
【００４６】
上記の本発明に係る装置の構成において、前記矩形領域は、前記膜形成面の外周端に四つのコーナー部が接する中央矩形領域と、前記相対的な移動方向と直交する方向に対して前記中央矩形領域の両側に配置され且つ前記膜形成面の外周端に二つのコーナー部が接する側方矩形領域とに区分され、前記中央矩形領域および前記側方矩形領域ではそれぞれ、前記相対的な移動位置の別異に関わらず前記膜液を吐出するノズルの個数および前記ノズルからの膜液の吐出量を一定にする制御が行われるように構成することが好ましい。
【００４７】
また、上記課題を解決するために創案された本発明に係る方法は、膜液を吐出する複数のノズルが幅方向に配列されたインクジェットヘッドの吐出面と、前記ノズルから膜液が吐出される基板の膜形成面とを対向させて、前記インクジェットヘッド及び前記基板を非回転状態で、この両者を前記幅方向と直交する方向に相対的に移動させながら、前記ノズルから前記基板の膜形成面に前記膜液を吐出する膜形成方法において、前記インクジェットヘッドのノズルの配列幅長さを、前記基板が相対的に移動する際における該基板の膜形成面の幅方向最大長さ以上にし、前記基板の膜形成面が、該膜形成面の外周端にコーナー部が接し且つ前記相対的な移動方向に平行な二辺とこの方向に直交する二辺とからなる矩形領域と、前記矩形領域から食み出した複数の非矩形領域とに区分され、前記複数の非矩形領域ではそれぞれ、前記相対的な移動方向に対して前記膜液を吐出するノズルの個数を変化させると共に、前記膜液を吐出するノズルの個数が少ない場合と多い場合とで前記ノズルからの膜液の吐出直後に得られる膜の厚みが均一になるように前記ノズルからの膜液の吐出量の制御が行われ、前記複数の非矩形領域がそれぞれ、前記相対的な移動方向に対して複数の部分領域に区分され、それらの部分領域の別異に応じて、前記膜液を吐出するノズルの個数および前記ノズルからの膜液の吐出量についての異なる制御が行われることに特徴づけられる。
【００４８】
このような方法によれば、上述の本発明に係る装置と実質的に同一の作用効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００４９】
以上のように本発明によれば、インクジェットヘッドを用いて基板上に膜液を吐出する場合に、ノズルの個数が変化することで吐出直後の基板上での膜厚が不均一になるという事態が有益性を考慮して見出され、その事態が的確に回避される。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る膜形成装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る膜形成装置の構成要素であるインクジェットヘッドの下面におけるノズルの配列状態の一例を示す概略図である。
【図３】図３（ａ）は、本発明の第１実施形態に係る膜形成装置の構成要素であるノズルの膜液吐出方式の第１例を示す概略正面図であり、図３（ｂ）は、本発明の第１実施形態に係る膜形成装置の構成要素であるノズルの膜液吐出方式の第２例を示す概略正面図であり、図３（ｃ）は、本発明の第１実施形態に係る膜形成装置の構成要素であるノズルの膜液吐出方式の第３例を示す概略正面図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係る基板上の膜形成面に対する膜液の吐出状態の第１例を説明するための概略平面図である。
【図５】図５（ａ）は、本発明の第１実施形態に係る基板上の膜形成面の一部に対する膜液の吐出状態の問題点を説明するための概略平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＦ−Ｆ断面図である。
【図６】図６（ａ）は、本発明の第１実施形態に係る基板上の膜形成面の一部に対する膜液の吐出状態を説明するための概略平面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＧ−Ｇ断面図である。
【図７】図７（ａ）は、本発明の第１実施形態に係る基板上に膜が形成された直後の外周側部分の問題点を示す拡大縦断面図であり、図７（ｂ）は、本発明の第１実施形態に係る基板上に膜が形成された後の乾燥後における外周側部分の問題点を示す拡大縦断面図である。
【図８】図８（ａ）は、本発明の第１実施形態に係る基板上に膜が形成された直後の外周側部分を示す拡大縦断面図であり、図８（ｂ）は、本発明の第１実施形態に係る基板上に膜が形成された後の乾燥後における外周側部分を示す拡大縦断面図である。
【図９】本発明の第１実施形態に係る基板上の膜形成面に対する膜液の吐出状態の第２例を説明するための概略平面図である。
【図１０】本発明の第１実施形態に係る基板上の膜形成面に対する膜液の吐出状態の第２例を説明するための部分拡大概略平面図である。
【図１１】本発明の第２実施形態に係る基板上の膜形成面に対する膜液の吐出状態を説明するための部分拡大概略平面図である。
【図１２】本発明の第３実施形態に係る基板上の膜形成面に対する膜液の吐出状態を説明するための部分拡大概略平面図である。
【図１３】本発明の第４実施形態に係る基板上の膜の形成状態を示す概略縦断側面図である。
【図１４】本発明の第５実施形態に係る基板上の膜の形成状態を示す概略縦断側面図である。
【図１５】図１５（ａ）は、本発明の第６実施形態に係る基板上の膜形成状態の第１例を示す概略平面図であり、図１５（ｂ）は、本発明の第６実施形態に係る基板上の膜形成状態の第２例を示す概略平面図である。
【図１６】図１６（ａ）は、本発明の第７実施形態に係る基板上の膜形成状態の第１例を示す概略平面図であり、図１６（ｂ）は、本発明の第７実施形態に係る基板上の膜形成状態の第２例を示す概略平面図である。
【図１７】従来の問題点を説明するための概略斜視図である。
【図１８】図１８（ａ）は、従来の問題点を説明するための概略平面図であり、図１８（ｂ）は、従来の問題点を説明するための概略正面図である。
【図１９】図１９（ａ）は、従来の問題点を説明するための概略平面図であり、図１９（ｂ）は、従来の問題点を説明するための概略正面図である。
【図２０】従来の問題点を説明するための概略縦断正面図である。
【図２１】従来の問題点を説明するための概略縦断正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５１】
以下、本発明の実施形態に係る膜形成装置および膜形成方法について図面を参照しつつ説明する。
【００５２】
まず、本発明の第１実施形態に係る膜形成装置および膜形成方法について説明する。図１に示すように、膜形成装置１は、半導体ウエハからなる円板状の基板２が、矢印Ａ方向に搬送される共に、その搬送経路の上方には、ピエゾ方式のインクジェットヘッド３が固定設置されている。このインクジェットヘッド３は、複数（図例では５個）の個別インクジェットヘッド３ａが搬送方向Ａと直交する幅方向Ｂに対して千鳥状に配列された併設インクジェットヘッドである。このインクジェットヘッド３における各個別インクジェットヘッド３ａの下面（吐出面）には、幅方向Ｂに複数のノズル４が、同一のノズルピッチ４Ｐで配列されている。したがって、インクジェットヘッド３には、全体的に視れば、幅方向Ｂに一定のノズルピッチ４Ｐで多数のノズル４が配列されていることになる。そして、全てのノズル４の位置を示すデータは、インクジェットヘッド３の記憶手段５に記憶されている。
【００５３】
基板２の表面への膜液の吐出に関しては、基板２の搬送方向Ａの位置と、基板２の表面における膜形成面２Ａの位置とに応じて決まるＢＭＰデータ（ビットマップデータ）が、記憶手段５に記憶されている。このＢＭＰデータは、インクジェットヘッド３の各ノズル４に対して、膜液を吐出させるノズル４の個数、各ノズル４からの膜液の吐出量、および各ノズル４からの膜液の吐出の有無を、指定することができる。したがって、各ノズル４の膜液の吐出ピッチは任意に指定することができる。また、基板２の搬送速度は、２ｍｍ／ｓｅｃ〜１００ｍｍ／ｓｅｃ、好ましくは１０ｍｍ／ｓｅｃ〜５０ｍｍ／ｓｅｃとされるが、この基板２の搬送速度は、ノズル４からの膜液の吐出量や吐出周波数、さらにはノズル４の配列状態などを考慮して適宜設定される。
【００５４】
図１に符合Ｃで拡大して示すように、単位面積当たりにおける基板２の膜形成面２Ａにおける膜液の塗布状態は、インクジェットヘッド３の全てのノズル４から膜液６を吐出した場合（１００％の吐出状態の場合）に、ノズルピッチ４Ｐと、搬送方向の吐出ピッチＡｐとの関係において、全ての膜液６（同図に示す円の形状をなす線）が隙間なく重なることになる。
【００５５】
図２は、インクジェットヘッド３の下面におけるノズル４の配列状態の一例を示している。インクジェットヘッド３における各個別インクジェットヘッド３ａの下面には、２つのライン型インクジェットノズル３ｂが並列に取り付けられている。そして、一方のライン型インクジェットノズル３ｂの各ノズル４の位置と、他方のライン型インクジェットノズル３ｂの各ノズル４の位置とは、幅方向Ｂにノズルピッチ４Ｐの半ピッチ分だけずれている。したがって、このインクジェットヘッド３の全体としての実質的なノズルの配列ピッチは、個々のライン型インクジェットノズル３ｂのノズルピッチ４Ｐの１／２とされている。なお、ライン型インクジェットノズル３ｂの配列個数やノズル４の配列状態などは、これに限定されるわけではない。
【００５６】
ここで、インクジェットヘッド３から吐出される膜液の吐出方式を説明する。図３（ａ）は、バイナリーモードと称される方式で、画像データのＢＭＰデータ上で、一つのノズル４に相当する吐出データを１回ＯＮさせた場合に、予め決められた吐出量の膜液６が１滴のみ吐出するモードである。図３（ｂ）は、マルチドロップモードと称される方式で、画像データのＢＭＰデータ上で、一つのノズル４に相当する吐出データに、１〜７までの数字（この例では３）を付加させた場合に、１回ＯＮさせるだけで、予め決められた吐出量の膜液６が３滴連続して吐出するモードである。図３（ｃ）は、ＤＰＮモードと称される方式で、画像データのＢＭＰデータ上で、一つのノズル４に相当する吐出データに、吐出量のデータを入力することで、１回ＯＮさせるだけで、入力された吐出量の膜液６を吐出するモードである。本発明は、この何れの方式も採用することができるが、この実施形態では、図３（ａ）のバイナリーモード方式が採用される。その理由は、バイナリーモード方式は、他の二つの方式に比べて、複雑な電気制御が不要だからである。
【００５７】
図４は、基板２の表面における膜形成面２Ａに対して、インクジェットヘッド３から膜液６を吐出する態様を例示している。基板２の膜形成面２Ａは円形であるために、その輪郭は搬送方向Ａと一致せず且つ幅方向Ｂとも一致せず、インクジェットヘッド３のノズルの幅方向配列長さは、基板２の膜形成面２Ａの幅方向最大長さ（膜形成面２Ａの直径Ｄ１）よりも長い。そして、膜形成面２Ａである円形の全領域は、幅方向Ｂの中央に存在してコーナー部が円形輪郭と接する三つの矩形領域２０と、左右二つの部分円形領域２１と、上下六つの部分円形領域２２とに区分される。この場合、矩形領域２０は、膜形成面２Ａの外周端である円形輪郭に四つのコーナー部が接する中央矩形領域２０と、搬送方向Ａと直交する方向に対して中央矩形領域２の両側に配置され且つ膜形成面２Ａの円形輪郭に二つのコーナー部が接する側方矩形領域２０とに区分されている。そして、三つの矩形領域２０では、搬送方向Ａの移動位置の別異に関係なくインクジェットヘッド３における膜液を吐出するノズル４の個数が一定数であって、具体的には、三つの個別インクジェットヘッド３ａによって、それらの一定数のノズル４（この実施形態では全てのノズル４）から膜液が吐出される。これに対して、八つの部分円形領域２１，２２では、搬送方向Ａの移動位置の別異に応じてインクジェットヘッド３における膜液を吐出するノズル４の個数が変化する。これによって、膜液の吐出状態は、円形輪郭に沿うことになり、結果的には、円形の膜形成面２Ａの全領域に正確な円形となるように膜液が吐出される。以上のような制御は、記憶手段５に記憶されているＢＭＰデータなどに基づいて制御手段７（図１参照）が行う。
【００５８】
この場合、八つの部分円形領域２１、２２のうち、左右二つの部分円形領域２１についてはそれぞれ、搬送方向Ａに対して複数（図例では１２）の領域ａ〜ｌに区分され、それらの領域の別異に応じて、個々のノズル４からの膜液の吐出量が変化する。また、幅方向Ｂの中央上下の領域を除く上下四つの部分円形領域２２についてはそれぞれ、搬送方向Ａに対して複数（図例では６）の領域ａ〜ｆに区分され、それらの領域の別異に応じて、個々のノズル４からの膜液の吐出量が変化する。なお、幅方向Ｂの中央の上下二つの部分円形領域２２についてもそれぞれ、搬送方向Ａに対して複数の領域に分割して、それらの別異に応じて、個々のノズル４からの膜液の吐出量を変化させてもよいが、そのような事を行わないようにしてもよい。以上のような制御は、記憶手段５に記憶されているＢＭＰデータなどに基づいて制御手段７が行う。
【００５９】
ここで、インクジェットヘッド３の特性として、膜液を吐出させるノズル４の個数が変化した場合には、吐出直後の膜厚が不均一になることが周知となっている。このような現象は、クロストーク現象と呼称されている。具体的には、膜液を吐出させるノズル４の個数が少ない場合には、個々のノズル４からの膜液の吐出量が多くなり、膜液を吐出させるノズル４の個数が多い場合には、個々のノズル４からの膜液の吐出量が少なくなる。そのため、仮に、上述の八つ（または六つ）の部分円形領域２１、２２について、膜液を吐出させるノズル４の個数を変化させるだけであれば、吐出直後の膜厚が不均一となる。具体的には、図５（ａ）に示す部分円形領域２１については、上下方向中央部から両端部に移行するに連れて、漸次、膜液を吐出させるノズル４の個数が少なくなる。そのため、基板２の表面の膜形成面２Ａに吐出された直後の膜８は、図５（ｂ）に示すように、上下方向中央部の膜厚が薄く、両端部に移行するに連れて、漸次、膜厚が厚くなる。そこで、上下方向中央部から上下方向両端部に移行するに連れて、漸次、ノズル４からの膜液の吐出量を少なくすればよいことになる。この実施形態では、図６（ａ）に示すように（すなわち図４に示すように）、部分円形領域２１を搬送方向Ａに対して複数（例えば１２）の領域ａ〜ｌに分割して、個々のノズル４からの膜液の吐出量を、上下方向中央部の領域ｆ、ｇで多くし、両端側の領域に移行するに連れて、その吐出量を少なくする。その結果、図６（ｂ）に示すように、基板２の表面の膜形成面２Ａに吐出された直後の膜８は、上下方向の全領域ａ〜ｌに亘って膜厚が均一になる。このように膜厚を均一にするためには、予め上記の１２の領域についての個別のノズル４からの膜液の吐出量を重量計で測定して記憶手段５に記憶しておき、この記憶したデータを基に部分円形領域２１の膜液の吐出量が均一になるように制御手段７で自動補正すればよい。そして、他の部分円形領域２１、２２についても同様のことを行うことにより、円形の膜形成面２Ａの全領域に亘って、吐出直後の膜厚が均一になる。以上のような制御は、記憶手段５に記憶されているＢＭＰデータなどに基づいて制御手段７が行う。なお、矩形領域２０では、既述のように搬送方向Ａの移動位置の別異に関係なく膜液を吐出するノズル４の個数が一定数であるため、ノズル４からの膜液の吐出量も移動位置の別異に関係なく一定量となる。
【００６０】
図７（ａ）は、基板２上における吐出直後の膜厚が均一とされた膜８の塗布状態を示している。この塗布状態は、膜液が基板２の湾曲した外周端部２ｂから裏面２ｃに向かって付着することが防止されて、湾曲した外周端部２ｂと平面状の膜形成面２Ａとの境界２ｄで、膜８（膜液）の付着が止められている。したがって、膜８の外周端部８ｂは、基板２の湾曲した外周端部２ｂと平面状の膜形成面２Ａとの境界２ｄまたはその近傍に位置している。なお、基板２の外周端部が図示のように湾曲して大きく外周側に突出していない場合には、基板２の外周端部と見なすことができる部位と、平面状の膜形成面２Ａとの境界が、膜８の外周端部８ｂの位置となる。見方を変えれば、膜８の外周端部８ｂは、基板２の外周端部２ｂにおける裏面側部分２ｅに至っていなければよい。
【００６１】
このような状態の下で、膜８が乾燥した場合には、図７（ｂ）に示すように、乾燥した膜８Ａの外周端部８ｂから内周側に存在する細幅の筋状領域２３のみが隆起して、その中央側の領域は、相対的に膜厚が薄く均一な状態となる。このような現象は、コーヒーリング現象と一般に呼称されている。そこで、この実施形態では、図８（ａ）に示すように、吐出直後の膜８の外周端部８ｂの内周側における筋状領域２３については、内周側から外周側に移行するに連れて漸次膜厚が薄くなるように、所定のノズル４から膜液が吐出されるようになっている。この場合、膜液の吐出直後における上記の筋状領域２３の膜８の表面（上面）８ｃは、内周側から外周側に向かって下降傾斜すると共に、僅かに凹状に湾曲している。そして、このような状態から、膜８が乾燥した場合には、図８（ｂ）に示すように、膜８Ａの外周端部８Ａｂから中央までの全領域に亘って膜厚が均一になる。このようにするための具体的な制御は、以下のようにして行われる。
【００６２】
すなわち、図９に示すように、基板２上の円形の膜形成面２Ａについて、等角度で周方向に複数（図例では１２個）の扇形領域２４に区分すると共に、さらに最外周の筋状領域２３を径方向に複数（図例では６個）の部分円弧状領域ａ〜ｆに区分する。そして、１２個の扇形領域２４のそれぞれについて、６個の部分円弧状領域ａ〜ｆごとに、ノズル４からの膜液の吐出量を補正し、結果的に、図８（ｂ）に示すように、乾燥後の膜８Ａの膜厚が均一になるようにする。なお、筋状領域２３の全周に亘って一挙にノズル４からの膜液の吐出量を補正せずに、周方向に１２分割したのは、制御の容易化と正確化とを確保するためであり、１２分割した扇形領域２４に対して個別に補正されたその補正データは、記憶手段５に記憶される。なお、同図の上端には、ノッチ部２Ｂが形成されているが、このノッチ部２Ｂは、図１０に示すように、一つの区画部として、径方向に複数（図例では６個）のＶ型領域ａ〜ｆに区分し、これらのＶ型領域ａ〜ｆについても、上記と同様にして吐出量を補正すれば、結果的に、ノッチ部２Ｂについても、乾燥後に均一な膜厚が得られる。また、ノッチ部２Ｂ以外の形状をなすオリフラが設けられる場合であっても、このオリフラに対して同様の事が行われる。以上のような制御は、記憶手段５に記憶されているＢＭＰデータなどに基づいて制御手段７が行う。
【００６３】
図１１は、本発明の第２実施形態に係る膜形成装置１の概略平面図であって、基板２の表面における膜形成面２Ａに対して、インクジェットヘッド３から膜液６を吐出する態様を例示している。この第２実施形態に係る膜形成装置１が上述の第１実施形態に係るそれと大きく相違している点は、基板２が、矩形のガラス基板または樹脂基板であって、搬送方向Ａに対して傾斜した姿勢とされている点である。したがって、図１１に示すように、基板２の輪郭は、搬送方向Ａと一致せず且つ幅方向Ｂとも一致せず、インクジェットヘッド３のノズルの幅方向配列長さは、基板２の膜形成面２Ａの幅方向最大長さＬ１よりも長い。この場合、膜形成面２Ａである矩形の全領域は、幅方向Ｂの中央に存在してコーナー部が矩形輪郭と接する三つの矩形領域２５と、左右二つの非矩形領域２６と、上下八つの非矩形領域２７とに区分される。そして、三つの矩形領域２５では、搬送方向Ａの移動位置の別異に関係なくインクジェットヘッド３における膜液を吐出するノズル４の個数が一定数であって、具体的には、三つの個別インクジェットヘッド３ａによって、それらの一定数のノズル４（この実施形態では全てのノズル４）から膜液が吐出される。これに対して、八つの非矩形領域２６、２７では、搬送方向Ａの移動位置の別異に応じてインクジェットヘッド３における膜液を吐出するノズル４の個数が変化する。これによって、膜液の吐出状態は、傾斜姿勢の矩形輪郭に沿うことになり、結果的には、傾斜姿勢の矩形の膜形成面２Ａの全領域に膜液が吐出される。以上のような制御は、記憶手段５に記憶されているＢＭＰデータなどに基づいて制御手段７が行う。この場合、左右二つの非矩形領域２６についてはそれぞれ、搬送方向Ａに対して複数（図例では４つ）の領域ａ〜ｄに区分され、それらの領域の別異に応じて、個々のノズル４からの膜液の吐出量が変化する。また、上下八つの非矩形領域２７についてはそれぞれ、搬送方向Ａに対して複数（図例では６つ（一部は５つ）の領域ａ〜ｆ（一部はａ〜ｅ）に区分され、それらの領域の別異に応じて、個々のノズル４からの膜液の吐出量が変化する。なお、基板２上への吐出直後における膜８の膜厚の不均一を均一にするための制御については、既述の図６（ａ）、（ｂ）に基づいて説明した事項と実質的に同一の制御が行われ、且つ、乾燥後における膜８Ａの膜厚の不均一を均一にするための制御については、既述の図８（ａ）、（ｂ）に基づいて説明した事項と実質的に同一の制御が行われる。また、基板２の外周端部２ｂと膜８、８Ａの形成位置との関係は、既述の図７、８に基づいて説明した事項と実質的に同一である。
【００６４】
図１２は、本発明の第３実施形態に係る膜形成装置１の概略平面図であって、基板２の表面における膜形成面２Ａに対して、インクジェットヘッド３から膜液６を吐出する態様を例示している。この第３実施形態に係る膜形成装置１が上述の第２実施形態に係るそれと大きく相違している点は、矩形のガラス基板または樹脂基板からなる基板２が、搬送方向Ａに対して非傾斜姿勢とされている点である。そして、インクジェットヘッド３のノズルの幅方向配列長さは、基板２の膜形成面２Ａの幅方向最大長さＬ２（膜形成面２Ａの一辺の長さ）よりも長い。したがって、基板２上の膜形成面２Ａに対して、インクジェットヘッド３における膜液を吐出させるノズル４の個数が変化するのは、矩形の膜形成面２Ａの下辺を通過する際に、零から一定数に変化する場合と、膜形成面２Ａの上辺を通過する際に、一定数から零に変化する場合とである。但し、このような変化をする場合には、基板２の外周端部２ｂと膜形成面２Ａとの位置関係について、厳格な制御が必要である。また、この実施形態では、幅方向Ｂの中央部における三つの矩形領域２８については、三つの個別インクジェットヘッド３によって、それらの一定数のノズル４（この実施形態では全てのノズル４）から膜液が吐出される。これに対して、左右両端二つ部分矩形領域２９では、上記の一定数よりも少ない個数のノズル４から膜液が吐出される。したがって、この二つの部分矩形領域２９では、中央部の三つの矩形領域２８よりも個々のノズル４からの膜液の吐出量が少なくされる。なお、乾燥後における膜８Ａの膜厚の不均一を均一にするための制御については、既述の図８（ａ）、（ｂ）に基づいて説明した事項と実質的に同一の制御が行われる。また、基板２の外周端部２ｂと膜８、８Ａの形成位置との関係は、既述の図７、８に基づいて説明した事項と実質的に同一である。
【００６５】
図１３は、本発明の第４実施形態に係る膜形成装置１を例示している。この第４実施形態に係る膜形成装置１が、上述の第１、第２、第３実施形態に係るそれと相違しているところは、基板２上における円形または傾斜姿勢の矩形もしくは非傾斜姿勢の膜形成面２Ａに電極膜や部品などの凸部９が複数存在する場合に、インクジェットヘッド３の所要のノズル４からの膜液の吐出量を電気的に可変制御して、乾燥後における膜８Ａの膜厚を均一にした点である。さらに、この場合には、気泡などは発生しない。その他の制御は、上述の第１、第２、第３実施形態のそれぞれの場合と実質的に同一である。
【００６６】
図１４は、本発明の第５実施形態に係る膜形成装置１を例示している。この第５実施形態に係る膜形成装置１が、上述の第１、第２、第３実施形態に係るそれと相違しているところは、基板２上における円形または傾斜姿勢の矩形もしくは非傾斜姿勢の矩形の膜形成面２Ａに、電極膜や部品などの凸部９が複数存在する場合に、インクジェットヘッド３の所要のノズル４からの膜液の吐出量を電気的に可変制御して、乾燥後における膜８Ａの表面（上面）を平坦にした点である。さらに、この場合にも、気泡などは発生しない。その他の制御は、上述の第１、第２、第３実施形態のそれぞれの場合と実質的に同一である。
【００６７】
図１５（ａ）、（ｂ）は、本発明の第６実施形態に係る膜形成装置１を例示している。この第６実施形態に係る膜形成装置１が、上述の第１、第２、第３実施形態に係るそれと相違しているところは、平面視円形の基板２上における円形の膜形成面２Ａ、および平面視矩形の傾斜姿勢の矩形もしくは非傾斜姿勢の矩形の膜形成面２Ａに、膜が形成されない複数の閉鎖領域１０と、膜が形成される領域１１とを作り出した点である。その他の制御は、上述の第１、第２、第３実施形態のそれぞれの場合と実質的に同一である。なお、上述の図７、８、９に示した構成を、膜形成面２Ａの外周端部のみならず、各閉鎖領域１０の周縁部に適用してもよい。
【００６８】
図１６（ａ）、（ｂ）は、本発明の第７実施形態に係る膜形成装置１を例示している。この第７実施形態に係る膜形成装置１が、上述の第１、第２、第３実施形態に係るそれと相違しているところは、平面視円形の基板２上における円形の膜形成面２Ａ、および平面視矩形の基板２上における傾斜姿勢の矩形もしくは非傾斜姿勢の矩形の膜形成面２Ａに、膜が形成される複数の閉鎖領域１１と、膜が形成されない領域１０とを作り出した点である。その他の制御は、上述の第１、第２、第３実施形態のそれぞれの場合と実質的に同一である。なお、上述の図７、８、９に示した構成を、各閉鎖領域１１の周縁部に適用してもよい。
【００６９】
そして、以上の実施形態で、基板２上に形成される乾燥後の膜８Ａの膜厚は、下限値を３００ｎｍとすることができ、上限値を３０μｍ以上、例えば５０μｍとすることができる。
【００７０】
また、以上の実施形態に係る膜形成装置１を使用して膜８Ａを形成した場合、実際にインクジェットヘッド３から吐出した膜液の全吐出量の９５％以上が膜８Ａの形成に使用された。したがって、無駄になった膜液は、全吐出量の５％未満であった。この場合、無駄になった膜液とは、膜８Ａを形成する前にノズル４の表面をクリーニングする時にノズル４の内部から出た少量の膜液と、ノズル４の表面をクリーニングした後にノズル面を整えるために少量だけスタンバイショット（捨て打ち）した膜液との総和である。したがって、基板２の膜形成面２Ａに実際に膜８Ａを形成している際には、インクジェットヘッド３から吐出した膜液の全吐出量の１００％もしくは略１００％が膜８Ａの形成に使用されることになる。
【００７１】
以上の実施形態では、膜８、８Ａの外周端部８ｂ、８Ａｂを、図８に示すように、基板２の外周端部２ｂと平面状をなす膜形成面２Ａとの境界２ｄに位置させたが、この膜８、８Ａの外周端部８ｂ、８Ａｂは、上記の境界２ｄよりも内周側にあってもよく或いは外周側にあってもよい。したがって、図９に示す構成も図示の状態よりも内周側にあっても外周側にあってもよい。
【００７２】
また、以上の実施形態では、５個の個別インクジェットヘッド３を使用したが、その個数は限定されるものではなく、例えば、１個の個別インクジェットヘッド３のみを使用してもよい。
【００７３】
さらに、以上の実施形態では、インクジェットヘッド３の全てのノズル４から膜液６を吐出する場合（１００％の吐出状態の場合）に、本発明を適用したが、７０％〜９５％または８５％〜９５％の吐出状態であってもよい。
【００７４】
また、以上の実施形態で使用した膜液６は、感光性絶縁膜、非感光性絶縁膜、レジスト膜、ＵＶ膜などの機能性膜あるいはその他の膜を形成するものであれば、特に限定されるものではない。
【００７５】
さらに、以上の実施形態では、基板２が搬送方向Ａに一回移動する間に、膜８Ａの形成が完了するようにしたが、基板２が二回以上（往復動を含む）移動する間に膜８Ａの形成が完了するようにしてもよく、その場合には、基板２の膜形成面２Ａを必要に応じて複数領域に分割して、基板２の一回の移動で分割した領域毎に膜８Ａを形成するようにしてもよい。
【００７６】
加えて、以上の実施形態では、基板２が移動してインクジェットヘッド３が固定設置されていたが、これとは逆に、インクジェットヘッド３が移動して基板２が固定設置されていてもよく、あるいは、両者２、３が移動してもよい。
【符号の説明】
【００７７】
１  膜形成装置
２  基板
２Ａ  基板の膜形成面
２ｂ  基板の外周端部
２ｃ  基板の裏面
３  インクジェットヘッド
３ａ  個別インクジェットヘッド
４  ノズル
５  記憶手段
６  膜液
７  制御手段
８  膜（吐出直後の膜）
８Ａ  膜（乾燥後の膜）
９  凸部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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