(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の距離を隔てて対向配置される一対の基板間に、閉ループ形状に形成されて液晶を囲み封止するシールパターンと、前記一対の基板のそれぞれに形成される表示領域およびその外側に額縁状に設けられる額縁領域と、を備えた液晶表示装置を製造する方法であって、
前記一対の基板の何れか一方の基板表面における少なくとも前記額縁領域におけるシールパターン内側の領域に前記液晶が複数の液滴として配置される液晶滴下工程と、前記液晶滴下工程の後に行われ、前記一対の基板を対向させて真空中で貼り合わせ、前記複数の液滴のそれぞれが前記一対の基板間に挟まれることにより、前記シールパターンにより囲まれる領域内に拡がり封止される基板貼り合わせ工程と、前記液晶滴下工程の前に行われ、前記シールパターンにより囲まれる領域内の前記一方の基板の表面に、前記シールパターンに対し、前記液滴の一滴が拡がる範囲内に近接して平行に配置されるダミーパターンを形成する工程とを備え、
前記ダミーパターンは、前記液滴の一滴の容積ｐ、前記一対の基板間を隔てる所定の距離Ｇに対して、前記シールパターンの形成位置と該シールパターンより１／２×√（ｐ／Ｇ）の距離が離れた位置の間の領域に配置されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記ダミーパターンは、前記所定の距離の半分未満の高さで形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記額縁領域におけるシールパターン内側の領域に配置される液滴が、前記シールパターンの中心位置と少なくとも距離Ｄ以上離れた位置に滴下され、前記シールパターンの幅Ｗに対して、Ｄ＝１／２×√（ｐ／Ｇ）＋Ｗ／２の関係となることを特徴とする請求項１或いは請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記一方の基板が、カラーフィルタを備えるカラーフィルタ基板であり、前記ダミーパターンは、前記カラーフィルタ基板上において形成される前記カラーフィルタを構成する色材の何れかと同一材料により形成されることを特徴とする請求項１から請求項３の何れかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記ダミーパターンは、複数本形成され、それぞれ異なる色の色材により形成されることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記一方の基板が、スイッチング素子がアレイ状に配置されるアレイ基板であり、前記ダミーパターンは、該ダミーパターン以外の前記アレイ基板上において形成されるパターンの何れかと同一材料で形成されることを特徴とする請求項１から請求項３の何れかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記額縁領域における前記シールパターン内側の領域に、部分的に幅が広く形成される領域を備え、前記ダミーパターンは当該幅が広く形成される額縁領域のみに形成されることを特徴とする請求項１から請求項６の何れかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記一方の基板が、スイッチング素子がアレイ状に配置される矩形のアレイ基板であり、前記部分的に幅が広く形成される額縁領域が、前記アレイ基板における矩形の一辺に位置する額縁領域であり、該幅が広く形成される矩形の一辺に位置する額縁領域では、前記矩形の他の辺に位置する額縁領域に比べて、前記アレイ基板上において形成される周辺配線の形成領域の幅が広く形成され、前記幅が広く形成される矩形の一辺に位置する額縁領域に形成される周辺配線は、前記シールパターン内側の領域に形成されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記液晶滴下工程において、前記複数の液滴のそれぞれが配置される位置が、前記表示領域において、ほぼ均等に配列され、該ほぼ均等に配列する液滴に対して、液滴を配置しない液滴空白部が分散して設けられることを特徴とする請求項１から請求項８の何れかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、滴下注入方式を用い製造される液晶表示装置およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルの製造工程において、液晶表示パネル内に液晶を注入する液晶注入工程として、真空注入方式と滴下注入（ＯＤＦ：Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌｉｎｇ）方式が一般的である。滴下注入方式では、シール剤を塗布することでシールパターンを形成し液晶を滴下した基板と対向基板を真空貼り合わせした後、シール剤を硬化させることで液晶セルを形成する。この真空貼り合わせの際、シールパターンを構成するシール剤は未硬化状態であるが、液晶が拡がりすぎてシールパターンと接触することにより、シールパターン形成領域への液晶の侵入、液晶中へのシール剤成分の溶出による液晶の汚染などの問題が発生する。また、液晶の拡がりが不足する場合には、パネル内の特にシールパターン近傍の領域に液晶が行き渡らないことによる気泡領域が発生する。その結果、シールパターン近傍の領域においてセルやシールパターン自体が潰れすぎて周辺部ギャップ（基板間距離）が不均一になる表示不良が発生する。特に、シール剤中に導電性粒子を混在させて、シールパターンに基板間導通機能を持たせた液晶表示パネルの場合には、導通が安定するように弾性変形可能な導電粒子によりシールパターン形成領域の基板保持がされる。従って、この様な気泡領域が発生し、大気開放時の大気圧によって予定より大きな差圧が加わると、シールパターンと導電粒子が所定のギャップよりも潰れてしまう。その後、その潰れたギャップのままシール剤は硬化されてしまうことから、上述の周辺部ギャップが不均一となる不良の発生が顕著となる。また、最近の液晶表示パネルの多様化に伴って、額縁領域の幅が四辺で異なる液晶表示パネルや、円形、楕円形、その他多角形など、矩形ではない外形を有した異形液晶表示パネルも開発されている。それらの液晶表示パネルでは、額縁領域の幅が表示領域の周囲で異なることになり、特に相対的に幅が広く形成される額縁領域では上記説明のようなギャップムラを発生し易い。
【０００３】
このような問題を解決する方法として、特許文献１では、表示領域とシールパターンの間に枠状の液晶流動制御壁を形成することにより液晶の過度の拡がりを防ぎ、表示不良を抑える方法が開示されている。また、特許文献２においても、表示領域とシールパターンの間に枠状や点在する島状のパターンにカラーフィルタと同じ材料からなる凸部を形成することにより、液晶がシールパターン形成領域に達するまでの時間を伸ばし未硬化状態のシール剤と液晶が接触することを防止する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３１５８１０号公報
【特許文献２】特開平８−１９００９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
然しながら、この特許文献１においては、未硬化状態のシール剤と液晶が接触することを防ぐために、液晶が拡がることを遅くすること、或いは液晶の拡がりを制御し滴下位置より四角形状に拡がらせることに主眼を置いており、液晶流動制御壁の高さが一対の基板間隔と同程度か少なくとも半分以上程度に形成されている。また、制御壁を迷路状に入り組んだ形状に形成することで液晶の拡がり経路を複雑化して拡がり速度を遅くしている。従って、液晶が未硬化シール剤へ接触することを防ぐ作用は効果的に発揮されると思われる。逆に拡がりが遅くなり過ぎて、上述の液晶の拡がりが不足しシールパターン近傍領域に気泡領域が生ずることによる表示不良については発生が助長されることが懸念される。このような不良に対しては、液晶を滴下する際の滴下位置、滴下量とシールパターン形成領域の位置関係、更に、液晶の拡がり速度や方向について、より詳細に設定する必要がある。これに対し、特許文献１においては、液晶の滴下位置とシールパターン形成領域の位置関係などについては具体的に記載されておらず、上記不良を解決する有効な方法は提案されていない。また、液晶流動制御壁を作製する工程が追加されることになり、生産性が悪くなることも懸念される。一方、特許文献２においても、表示領域とシールパターンの間に形成された凸部により液晶の拡がりを大まかに制御し、シール剤との接触を遅らせることは可能である。然しながら、液晶についてはシールパターンで囲まれる領域内の中央部に滴下されるのみであり、シールパターンで囲まれる領域内への液晶の拡がり方や速度について木目細かく適正に制御することはできない。結果として、やはり上記説明の気泡領域が生ずることによって表示不良が発生する課題については解決することができない。
【０００６】
この発明は、上述の様な問題を解決するためになされたものであり、その目的は、額縁領域の幅によらず生産性或いは信頼性の高い液晶表示装置およびその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、対向配置される一対の基板間に、閉ループ形状に形成されて液晶を囲み封止するシールパターンを備え、基板表面に液晶が複数の液滴として配置された後に前記の基板間に挟まれることによってシールパターンにより囲まれる領域内に液晶が拡がり封止されるもので、更に、基板の表面に、前記シールパターンに対し、前記液滴の一滴が拡がる範囲内に近接して平行に配置されるダミーパターンを形成する工程を備え、前記ダミーパターンは、前記液滴の一滴の容積ｐ、前記一対の基板間を隔てる所定の距離Ｇに対して、前記シールパターンの形成位置と該シールパターンより１／２×√（ｐ／Ｇ）の距離が離れた位置の間の領域に配置されるものである。
【発明の効果】
【０００８】
滴下注入方式による液晶表示装置の製造時において、液晶を適当な速度で過不足なくシールパターンにより囲まれる領域内に拡げ、表示不良が発生することを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施の形態１の液晶表示装置における液晶表示パネルの平面図である。
【図２】本発明の実施の形態１の液晶表示装置における液晶表示パネルの断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１の液晶表示パネルの製造工程におけるパネル組み立て工程を示すフローチャートである。
【図４】本発明の実施の形態１の液晶表示パネルの製造工程における液晶滴下工程での液晶滴下位置を示す平面図である。
【図５】本発明の実施の形態１の液晶表示パネル製造工程における液晶滴下工程での液晶滴下位置を示す要部平面図である。
【図６】本発明の実施の形態１の液晶表示パネル製造工程における液晶滴下工程での液晶滴下位置を示す要部断面図である。
【図７】本発明の実施の形態１の液晶表示パネル製造工程における基板貼り合わせ工程での液晶の拡がり状態を示す要部平面図である。
【図８】本発明の実施の形態１の液晶表示パネル製造工程における基板貼り合わせ工程での液晶の拡がり状態を示す要部断面図である。
【図９】本発明の実施の形態１変形例の液晶表示パネル製造工程における液晶滴下位置を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
実施の形態１
本実施の形態１における液晶表示装置を構成する液晶表示パネル１０の構成について図１および図２の模式図を用いて説明する。図１は、液晶表示パネル全体の構成の平面図を示しており、図２は、図１における断面線Ａ−Ｂにおける断面図を其々示したものである。なお、図は模式的なものであり、示された構成要素の正確な大きさなどを反映するものではない。また、図面が煩雑とならないよう、発明の主要部以外の省略や構成の一部簡略化などを適宜行っている。以下の図においても同様とする。更に、以下の図においては、図中、既出の図において説明したものと同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。また、ここでは、一例として、液晶の動作モードがＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードで、スイッチング素子に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を用いた液晶表示パネルに本発明を適用した場合について説明する。
【００１１】
この液晶表示パネル１０は、図に示されるように、スイッチング素子としてＴＦＴがアレイ状に配置されるＴＦＴアレイ基板１１０と、カラーフィルタなどの形成されるカラーフィルタ基板１２０と、液晶表示パネル１０が動作した際に画像などを表示する表示面に対応する領域である表示領域１００に対して、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０との間における、少なくとも表示領域１００を囲うように閉ループ形状に設けられたシールパターン１３３を備えている。また、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０はこのシールパターン１３３により接着して貼り合わされている。更に、このＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０間のシールパターン１３３の閉ループにより囲まれる領域内（空間内）に液晶１３０が充填され挟持されることにより、少なくとも表示領域１００を含む範囲において液晶層１３０Ｌが形成配置されている。言い換えると、シールパターン１３３は閉ループにより囲まれる領域内（空間内）に液晶１３０を囲み封止している。
【００１２】
なお、後述する製造方法に関する説明部分において別途詳細に説明を行うが、この液晶表示パネル１０は、一対の基板であるＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０の何れか一方の基板表面に液晶１３０が複数の液滴として配置された後に両方の基板間に挟まれることによりシールパターン１３３により囲まれる領域内に封止されて形成される滴下注入（ＯＤＦ：Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌｉｎｇ）方式により製造される。従って、シールパターン１３３は、図でも示されるとおり、閉ループ形状であり真空注入方式で製造される液晶表示パネルのように液晶を注入するための開口部である注入口は形成されておらず、別途注入口を封止するための封止材も設けられていないといった構造的な特徴を備えている。
【００１３】
また、この表示領域１００の外側を額縁状に囲うように額縁領域１０１が配置される。なお、ここで使用した表示領域１００および額縁領域１０１については、液晶表示パネル１０のＴＦＴアレイ基板１１０上、カラーフィルタ基板１２０上、或いは両基板間に挟まれる領域の全てにおいて使用することとし、本明細書中においては全て同様の意味にて使用する。
【００１４】
上述のＴＦＴアレイ基板１１０は、透明基板であるガラス基板１１１の一方の面に液晶１３０を配向させる配向膜１１２、配向膜１１２の下部に設けられ液晶１３０を駆動する電圧を印加する画素電極１１３、画素電極１１３に電圧を供給するスイッチング素子であるＴＦＴ１１４、ＴＦＴ１１４を覆う絶縁膜１１５、ＴＦＴ１１４に信号を供給する配線である複数のゲート配線１１８ｇおよびソース配線１１８ｓ、ＴＦＴ１１４に供給される信号を外部から受け入れる端子１１６、端子１１６から入力された信号を対向電極へ伝達するためのトランスファ電極１１７、端子１１６から入力された信号をゲート配線１１８ｇおよびソース配線１１８ｓやトランスファ電極１１７へ伝達する周辺配線１１８ａ等を有している。ＴＦＴ１１４については、ＴＦＴアレイ基板１１０上の表示領域１００において、其々縦横に複数本配列して設けられるゲート配線１１８ｇとソース配線１１８ｓの各交差部近傍に設けられ、画素電極１１３については、ゲート配線１１８ｇとソース配線１１８ｓにより囲まれる各画素領域内にマトリクス状に配列して形成される。また、端子１１６、トランスファ電極１１７、周辺配線１１８ａについては、額縁領域１０１に形成される。また、ガラス基板１１１の他方の面には偏光板１３１を有している。
【００１５】
一方、上述のカラーフィルタ基板１２０は、透明基板であるガラス基板１２１の一方の面に液晶１３０を配向させる配向膜１２２、配向膜１２２の下部に配置され、ＴＦＴアレイ基板１１０上の画素電極１１３との間に電界を生じ液晶１３０を駆動する共通電極１２３、共通電極１２３下部に設けられるカラーフィルタ１２４およびカラーフィルタ１２４間を遮光するため、或いは表示領域１００に対応する領域外側に配置される額縁領域１０１を遮光するために設けられる遮光層であるブラックマトリクス（Ｂｌａｃｋ  Ｍａｔｒｉｘ：ＢＭ）１２５等を有している。また、ガラス基板１２１の他方の面に偏光板１３２を有している。
【００１６】
更に本発明での特徴的な構成として、カラーフィルタ基板１２０の額縁領域１０１に設けられるブラックマトリクス１２５の上に、カラーフィルタ１２４を構成する色材と同一材料によってダミーパターン１２６が形成されている。このダミーパターン１２６は、色材の一層分の厚みと同等の１μｍ程度に形成され、シールパターン１３３の内側近傍にシールパターン１３３に沿って、言い換えると、シールパターン１３３の延在方向に平行に設けられる。また、シールパターン１３３とダミーパターン１２６間の距離は、製造時において滴下注入方式により液晶１３０がシールパターン１３３で囲まれる領域内に封止する際に配置される液滴の一滴が拡がる範囲内の距離に配置されていれば良い。ここでは、シールパターン１３３とダミーパターン１２６間の距離を上記範囲内の距離となるように、具体的には０．２〜０．３ｍｍ程度の距離に設定した。なお、ここでは、二本のダミーパターン１２６を形成しているが、少なくとも一本あれば良く、二本以上配列しても良い。後に詳細に説明を行うが、液晶１３０の液滴が各方向へ拡がる速さのバランスを適正となるよう調整して配置するダミーパターン１２６の本数と高さを適宜設定すると良い。また、長さについては、シールパターン１３３に沿って連続していても良いし、シールパターン１３３の延在方向に平行な短いパターンを点線状或いは破線状に配列して設けても良い。点線状に設ける場合には、複数列の何れかのダミーパターン１２６がシールパターン１３３の内側に必ず沿って配置されるようにすると良い。
【００１７】
また、本実施の形態１においては、額縁領域１０１のシールパターン１３３より内側に設けられる部分に関して、図中下側（−Ｙ方向）の一辺に設けられる額縁領域１０１が他の三辺に設けられる額縁領域１０１よりも幅が広く形成されており、この幅が広く形成される額縁領域１０１のみに上記のダミーパターン１２６を配置している。なお、この幅が広く形成される額縁領域１０１では、ＴＦＴアレイ基板１１０に、先に説明した周辺配線１１８ａが設けられ、この周辺配線１１８ａの形成領域は、特に他の辺に設けられる周辺配線１１８ａの形成領域に比べて幅の広い領域(大きな面積)を占有している。その結果、この辺では額縁領域１０１の幅が広く形成されている。ここで、上記説明における額縁領域１０１の幅、周辺配線１１８ａの形成領域の幅は、表示領域１００端部または基板の端部に沿う方向に対し垂直方向での幅、或いはシールパターン１３３の延在方向に対し垂直方向での幅を示すものである。
【００１８】
また、これら周辺配線１１８ａは、できる限りシールパターン１３３で囲まれる領域内に配置されることで、外部環境からの水分による腐食発生などが防止でき信頼性が向上することとなる。この周辺配線１１８ａがシールパターン１３３より内側の領域に設けられることも、特にこのシールパターン１３３より内側に設けられる部分の幅が広く形成される額縁領域１０１が存在する要因となっている。
【００１９】
また、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０は、シールパターン１３３と表示領域１００に配置される柱状スペーサ１３４を介して、対向配置されている。更に、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０は、この柱状スペーサ１３４により所定の基板間隔に、つまり、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０間を所定の一定の基板間距離Ｇに隔てて保持されている。なお、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０間を隔てる所定の基板間距離Ｇについては、正確には、表示領域１００の特に画素電極１１３上における液晶層１３０Ｌの厚みに相当するが、シールパターン１３３で囲まれる領域全体での液晶層１３０Ｌの厚みの平均値と考えても良い。更にトランスファ電極１１７と共通電極１２３は、シールパターン１３３中に混在される導電性粒子により電気的に接続されており、端子１１６から入力された信号が共通電極１２３に伝達される。導電性粒子としては、弾性変形可能なものが導通の安定の点で好ましく、例えば、表面に金メッキがされた球形の樹脂を用いると良い。この他に、液晶表示パネル１０は、駆動信号を発生する制御基板１３５、制御基板１３５を端子１１６に電気的に接続するＦＦＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｆｌａｔ  Ｃａｂｌｅ）１３６などを備えている。
【００２０】
更に、液晶表示パネル１０の表示面の反対側であるＴＦＴアレイ基板１１０に対向して光源となるバックライトユニット（図示せず）が配置されており、更に、液晶表示パネル１０とバックライトユニット間には光の偏光状態や指向性などを制御する光学シートが配置されている。液晶表示パネル１０は、これら部材と共に表示面となる表示領域１００におけるカラーフィルタ基板１２０の外側の部分が開放された筐体（図示せず）の中に収納され、本実施の形態１の液晶表示装置は構成される。
【００２１】
この液晶表示装置は次のように動作する。例えば、外部回路である制御基板１３５から画像信号や制御信号などの電気信号が入力されると、画素電極１１３および共通電極１２３に駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶１３０の分子の方向が変わる。その結果、各画素の光透過率が制御される。そして、バックライトユニットの発する光がＴＦＴアレイ基板１１０、液晶層１３０Ｌおよびカラーフィルタ基板１２０を介することで、外部へ各画素の光透過率に応じて透過或いは遮断されることにより、液晶表示パネル１０の表示領域１００にカラー画像等が表示される。
【００２２】
なお、この液晶表示装置に用いられる液晶表示パネル１０は一例であり他の構成でも良い。液晶表示パネル１０の動作モードは、ＴＮモードに限られず、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、強誘電性液晶モード等でも良く、駆動方法は、単純マトリックスやアクティブマトリックス等でも良い。また、画素電極１１３を透過電極とする透過型液晶表示パネルに限られず、画素電極１１３を反射電極とする反射型液晶表示パネルや、反射電極と透過電極の双方とする半透過型液晶表示パネルでも良い。更にカラーフィルタ基板１２０に設けた共通電極１２３をＴＦＴアレイ基板１１０側に設置して、画素電極１１３との間に基板面に対して横方向に電界をかけ液晶１３０を動作させる横電界方式を用いた液晶表示パネルでも良い。画素電極１１３に電圧を供給するスイッチング素子についても、ＴＦＴに限られずダイオードなどの素子であっても良く、単純マトリックス方式で駆動する場合には省略される。
【００２３】
次に、本実施の形態１の液晶表示装置の製造方法について説明する。ＴＦＴアレイ基板１１０およびカラーフィルタ基板１２０の製造方法については一般的な方法を用いても良いため、簡単に説明する。ＴＦＴアレイ基板１１０は、ガラス基板１１１の一方の面に、成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、エッチング等のパターン形成工程を繰り返し用いてＴＦＴ１１４や画素電極１１３、端子１１６、トランスファ電極１１７を形成することにより製造される。また、カラーフィルタ基板１２０は、ガラス基板１２１の一方の面に、同様に、成膜からパターン形成工程を繰り返し用いて、カラーフィルタ１２４、ブラックマトリクス１２５、共通電極１２３、有機樹脂膜をパターニングして形成された柱状スペーサ１３４、更に先に説明したカラーフィルタ１２４と同一材料により形成されるダミーパターン１２６を形成することにより製造される。
【００２４】
なお、カラーフィルタ１２４と同一材料によって形成されるダミーパターン１２６については、従来の一般的なカラーフィルタ基板が備えていない構成ではあるが、先に説明したとおり、カラーフィルタ１２４を構成する色材（カラーレジスト）と同一材料よりなることから、カラーフィルタ１２４を構成する色材（カラーレジスト）を形成する際に同時形成すれば良い。更に、平面パターンの設計のみを変更すれば良いので、従来のカラーフィルタ基板の製造方法の延長で容易に形成することが可能である。なお、ここで用いた同時に形成するという意味は、両者が同一材料よりなることから、同じ膜材料を基板全体に成膜した後に共通の露光工程或いはエッチング工程を用いたパターニング工程を経ることにより、それぞれの平面パターン形状に同時に形成されることを意味する。更に、設計コスト以外の製造コストの増加を殆ど伴わないという利点があり、以降でも同様の意味にて使用する。
【００２５】
また、カラーフィルタ１２４の表面に表面凹凸を減らすため、表面を保護するため、或いは色材からの汚染防止のためなどにて、透明樹脂膜などからなるオーバーコート層を設ける場合がある。そのような場合には、カラーフィルタ１２４と同一材料によって形成されるダミーパターン１２６上にも、このオーバーコート層を形成しても良い。但し、ダミーパターン１２６により表面に凹凸形状が形成されることや凸部の高さなどが本発明では重要な事項であることから、ある程度の凹凸形状が残る程度に、更に段差としては所定の基板間距離の半分未満となる程度に、オーバーコート層の厚みを余り厚くなり過ぎないよう調整して形成すると良い。なお、オーバーコート層をパターニングすることにより、オーバーコート層と同一材料によりなるパターンを部分的に含んでダミーパターン１２６を構成しても良く、当然、オーバーコート層と同一材料によりなるパターン自体により、ダミーパターン１２６を形成しても構わない。
【００２６】
なお、本実施の形態１では、平行する二本のダミーパターン１２６を配置することとしているが、比較的近接して配置することから、二本のダミーパターン１２６を異なる色の色材により形成することが望ましい。これにより、近接配置される二本のダミーパターン１２６は、それぞれ異なる色の色材の異なるパターニング工程により形成されることから、色材形成のパターニング露光処理におけるパターン間分離の分解能によらず、パターン間の位置合わせ精度に応じて、比較的、精度良く、二本のダミーパターン１２６を近接して配置することができる。当然、三本以上、平行して配列するダミーパターン１２６を形成する場合にも異なる色の色材により構成することで同様の効果が得られる。
【００２７】
続いて、本実施の形態１において特徴的なパネル組み立て工程について、図３に示すフローチャートに従って説明する。まず、基板洗浄工程において、画素電極１１３が形成されているＴＦＴアレイ基板１１０を洗浄する（Ｓ１）。次に、配向膜材料塗布工程において、ＴＦＴアレイ基板１１０の一方の面に、配向膜材料を塗布形成する（Ｓ２）。この工程は、例えば、印刷法により有機膜からなる配向膜材料を塗布し、ホットプレートなどにより焼成処理し乾燥させる。その後、ラビング工程において配向膜材料にラビングを行い、配向膜材料表面を配向処理し配向膜１１２とする（Ｓ３）。また、Ｓ１からＳ３と同様に、共通電極１２３が形成されているカラーフィルタ基板１２０についても、洗浄、配向膜材料の塗布、ラビングを行うことにより配向膜１２２を形成する。
【００２８】
続いて、シール剤塗布工程において、先に説明したとおり、ディスペンサを用いてシール剤をＴＦＴアレイ基板１１０或いはカラーフィルタ基板１２０の一方の面に塗布し、少なくとも表示領域１００を囲む閉ループ形状のシールパターン１３３を形成する（Ｓ４）。本実施の形態１では、構成の説明部分で説明したとおり、シールパターン１３３に基板間導通機能を持たせることから、導電性粒子を混在させたシール剤を塗布している。また、カラーフィルタ基板１２０側にシールパターン１３３を形成した。
【００２９】
なお、本実施の形態１では、基板間を所定の距離に保持するスペーサとしては、有機樹脂膜をパターニングして形成された柱状スペーサ１３４を用いたが、球状のスペーサを散布することで、基板間を所定の距離に保持するスペーサを形成しても良い。その場合には、上記のＳ４の工程後に、スペーサ散布工程を行うと良い。このスペーサ散布により形成されたスペーサを用いた場合にも、ＴＦＴアレイ基板１１０或いはカラーフィルタ基板１２０表面の凹凸が額縁領域１０１と表示領域１００とで異なることから、表示領域１００での基板間距離の制御を優先すると、額縁領域１０１では、スペーサ散布により形成されたスペーサによって適正な基板間距離に保持することが難しい。従って、柱状スペーサ１３４を用いた場合と同様に本発明の特徴的構成による改善作用が有効に発揮される。
【００３０】
更に、その後、カラーフィルタ基板１２０上に所定量の液晶１３０を複数の液滴状態で配列して滴下する液晶滴下工程が行われる（Ｓ５）。続いて、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０を対向させて、貼り合わせる基板貼り合わせ工程が行われる（Ｓ６）。この工程では、貼り合わせ装置内に閉ループ形状のシールパターン１３３と液滴状態の液晶１３０を載せたカラーフィルタ基板１２０とＴＦＴアレイ基板１１０をセットし真空排気を行い、真空中にて貼り合わされる。この際に、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０間において挟まれることにより、所定の基板間距離Ｇとなるまで、シール剤が潰され、上記配列する複数の液滴として配置された複数の液滴のそれぞれが拡がり、液晶１３０が閉ループのシールパターン１３３とカラーフィルタ基板１２０とＴＦＴアレイ基板１１０に囲まれる空間に封止される。なお、液晶滴下工程（Ｓ５）〜基板貼り合わせ工程（Ｓ６）については、本発明の特徴的な工程であることから、このパネル組み立て工程全体フローの概要説明後に、別途、詳細に説明することにする。
【００３１】
続いて、シール剤硬化工程において、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０を貼り合わせた状態で、シールパターン１３３を完全に硬化させる（Ｓ７）。この工程は、例えば、シールパターン１３３を形成するシール剤の材質に合わせて熱を加えることや、紫外線を照射することにより行われる。ここでは、大気中においてＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０を貼り合わせるシールパターン１３３に紫外線を照射して硬化させる。次に、セル分断工程において、貼り合わせた基板を多数の個別セルに分解する（Ｓ８）。この工程においては、同時形成された液晶表示パネルのセルを個別のセルに分断することと、ＴＦＴアレイ基板１１０の端子１１６の形成される部分と対向するカラーフィルタ基板１２０部分を分断して端材として除去し、端子１１６が露出されるようにする。
【００３２】
続いて、偏光板貼り付け工程において、セルに偏光板１３１、１３２を貼り付け（Ｓ９）、制御基板実装工程において、制御基板１３５を実装する（Ｓ１０）ことによって、液晶表示パネル１０が完成する。最後に液晶表示パネル１０に対して、光学シートを介してバックライトユニットを対向して配置し、表示面となる表示領域１００におけるカラーフィルタ基板１２０の外側の部分が開放された筐体中に収納することで、本実施の形態１の液晶表示装置が完成する。
【００３３】
続いて、本実施の形態１における特徴的な作用と効果が得られる液晶滴下工程（Ｓ５）〜基板貼り合わせ工程（Ｓ６）について、図４〜図６を用いて詳細に説明する。図４は、カラーフィルタ基板１２０上に所定量の液晶１３０を液滴状態で滴下する液晶滴下工程（Ｓ５）後のカラーフィルタ基板１２０を示した平面図であり、図５は、図４中にて破線にて囲われるカラーフィルタ基板１２０の一つのコーナ領域Ｃ近傍を拡大した詳細平面図である。このコーナ領域Ｃは、先に説明した他の三辺に設けられる額縁領域１０１よりも幅が広く形成されている額縁領域１０１(図４中の下辺に位置する額縁領域１０１)を含むコーナ部に相当する。また、図６は、図５中の断面線Ｘ１−Ｘ２、断面線Ｙ１−Ｙ２に相当する位置での断面図であり、基板貼り合わせ工程（Ｓ６）に至る前のＴＦＴアレイ基板１１０がカラーフィルタ基板１２０上に対向配置された状態を示したものである。
【００３４】
先ず、液晶滴下工程（Ｓ５）後では、図４で示すように、カラーフィルタ基板１２０上に閉ループ形状に形成されたシールパターン１３３で囲われる領域内に複数の液滴状態の液晶１３０ｄが配列して滴下される。この液晶１３０の滴下については、圧電素子(ピエゾ素子)により吐出動作するディスペンス装置を用いることができ、一滴の液晶１３０ｄの液滴量としては、１〜２ｍｇ程度（容積１〜２×１０−３ｃｃ程度）に制御して滴下される。また、図４、図５の平面図、或いは断面線Ｙ１−Ｙ２に相当する位置での断面図である図６（ａ）に示されるとおり、幅が広く形成されている額縁領域１０１には、カラーフィルタ１２４を構成する色材と同一材料によってダミーパターン１２６が形成されている。このダミーパターン１２６は、シールパターン１３３の内側近傍にシールパターン１３３に沿って設けられている。
【００３５】
この幅が広く形成されている額縁領域１０１における液晶１３０ｄの滴下位置と、シールパターン１３３との距離、ダミーパターン１２６の形成位置については、特定の関係で配置する必要がある。先ず、一滴の液滴の容積ｐ、所定の基板間距離Ｇ、最終的なシールパターン１３３の幅Ｗとすると、液晶の滴下位置（図５中では、滴下される液晶１３０ｄの個々の液滴を実線にて、滴下位置の中心位置ＬＤｃは、一点鎖線（交差部）により示している。）とシールパターン１３３（シールパターン幅の中心ＳＬｃを基準）との間の距離として目安となる距離Ｄは、Ｄ（単位ｃｍ）＝１／２×√（ｐ／Ｇ）＋Ｗ／２と設定すると良い。つまり、額縁領域１０１における液晶１３０ｄの滴下位置は、シールパターン１３３の中心位置ＳＬｃより、この距離Ｄと同等か、若干大きい程度離れた位置に設定すれば良い。或いは、額縁領域１０１内に滴下するのであれば、シールパターン１３３からの距離について上限が決まることから、シールパターン１３３の中心位置ＳＬｃより少なくとも距離Ｄ以上離れた額縁領域１０１内の位置に滴下するようにしても良い。
【００３６】
これは、以後に詳細に説明を行うが、特にシールパターン１３３の近傍に滴下された液晶１３０ｄが、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０間に挟まれて拡がる際に、シールパターン１３３の延在方向と平行或いは垂直方向の辺を有した概ね矩形に成形されながら拡がることにもとづくものである。最終的にＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０の貼り合わせが完了し、所定の基板間距離Ｇとなった際に、液晶１３０ｄの一滴が、高さが基板間距離Ｇの四角柱の範囲を占めると仮定して見積っている。この滴下位置より矩形に拡がった場合における液晶１３０ｄの一滴の占める形状について、高さが基板間距離Ｇの四角柱とした場合、ｐ（一滴の液滴の容積）は、一辺の長さを２ａ（矩形の中心（正確には重心）より辺までの距離をａとすると）を用いて、（２ａ）２×Ｇに相当する。従って、ａ（単位ｃｍ）＝１／２×√（ｐ／Ｇ）と見積ることができる。このａは、液滴中心ＬＤｃから矩形に拡がった場合の特に矩形の辺と垂直方向への拡がり量、或いはシールパターン１３３に向かう方向への拡がり量とも見ることができる。
【００３７】
また、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０の貼り合わせが完了し、所定の基板間距離Ｇとなった時点において、丁度、液晶１３０ｄが、ほぼシールパターン１３３の端部近傍まで満たされることが好ましい。従って、シールパターン端部と液滴中心ＬＤｃの距離が、このａと同等か、若干大きい程度に設定されれば良いことになる。また、シールパターン端部は、シールパターン幅の中心ＳＬｃを基準とするとＷ／２の距離に相当することから、好ましい液晶の滴下位置とシールパターン１３３（シールパターン幅の中心ＳＬｃを基準）の距離の目安となる距離Ｄは、ａ＋Ｗ／２に相当し、Ｄ（単位ｃｍ）＝１／２×√（ｐ／Ｇ）＋Ｗ／２の式が導かれる。
【００３８】
ここでは、上述の一般的な圧電素子(ピエゾ素子)方式によるディスペンス装置で吐出される液滴量（容積１〜２×１０−３ｃｃ程度）と、ＴＮモードの液晶で用いられる所定の基板間距離(４μｍ程度)をもとにして、上記の式を用いて、好ましい液晶の滴下位置とシールパターン１３３（シールパターン幅の中心ＳＬｃを基準）の距離Ｄを１ｃｍ程度と見積ることができる。具体的に見積る際には、一滴の液滴の容積ｐについては、上記のような一般的な値を目安として用いても良いし、使用するディスペンス装置において吐出される一滴の液滴量の平均値を用いても良い（基板上にバラツキを平均化するのに充分な所定の個数の液滴を滴下し、前後における基板の重量差を秤量し、滴下個数で割ることで容易に算出することができる。）。
【００３９】
また、シールパターン１３３の幅Ｗは最大で１ｍｍ程度であり、幅中心ＳＬｃとシールパターン１３３端部の距離はＷ／２に相当することから０．５ｍｍ程度となる。従って、１ｃｍ程度となる距離Ｄに比べ、かなり小さいことになる。よって、シールパターン１３３端部から滴下される液滴の中心位置ＬＤｃの距離も、距離Ｄを近似的に用いても大きな問題は無い。従って、額縁領域１０１における液晶１３０ｄの滴下位置は、シールパターン１３３端部より１ｃｍ程度離した位置に滴下することとした。
【００４０】
また、シールパターン１３３の延在方向での配列する個々の液滴間の距離（隣接する液滴の中心位置ＬＤｃ間の距離に相当）は、概ね液滴中心ＬＤｃからの拡がり量の２倍、つまり矩形に拡がった場合を想定すると矩形の一辺の長さ２ａとするのが良い。一方、距離Ｄは、概ねこの液滴中心ＬＤｃからの拡がり量ａ、即ち、一滴の液滴の拡がる範囲にも相当する。従って、この距離Ｄの２倍の２ｃｍ程度の間隔で個々の液滴を滴下形成することとした。
【００４１】
更に、ダミーパターン１２６については、カラーフィルタ基板１２０の形成時に既に形成されることとなるが、少なくともこのシールパターン１３３と最も近接して滴下される液滴中心ＬＤｃとの間、或いは当該最も近接して滴下される液滴の滴下位置とシールパターン１３３との間に設けられれば、最も近接して滴下される液滴の拡がり速度と形状を調整することができる。従って、平面パターン設計としては、シールパターン１３３とダミーパターン１２６間の距離は一滴の液滴の拡がる範囲内の距離、言い換えると、シールパターン１３３の形成位置と、当該シールパターン１３３より液滴中心ＬＤｃからの拡がり量、即ち、ａ（単位ｃｍ）＝１／２×√（ｐ／Ｇ）の距離が離れた位置の間の領域にダミーパターン１２６を配置すれば良い。例えば、本実施の形態１では、上記説明の液晶１３０ｄの滴下位置に対応して、シールパターン１３３の端部から１ｃｍ以内の範囲内にダミーパターン１２６を形成することとし、具体的には、シールパターン１３３端部より、０．２〜０．３ｍｍ程度の範囲より選ばれる等距離を離して、シールパターン１３３の延在方向と同一方向に、つまり平行に延在してダミーパターン１２６を複数本形成することとした。
【００４２】
一方、上述の幅が広く形成されている額縁領域１０１以外の額縁領域１０１については、表示領域１００とシールパターン１３３が比較的近接して配置されることから、上述のようにダミーパターン１２６の設定や、液晶の滴下位置の厳密な設定は不要である。図５の平面図と、図６（ｂ）の表示領域１００とシールパターン１３３が比較的近接して配置される額縁領域１０１を跨ぐＸ１−Ｘ２断面図にて示されるとおり、当該額縁領域１０１では、ダミーパターン１２６は設置されておらず、液晶の滴下位置は、額縁領域１０１に滴下する必要は無い。従って、シールパターン１３３から比較的離れて、表示領域１００内に滴下すると良い。つまり、これら額縁領域１０１と表示領域１００への液晶１３０の滴下処理については、幅が広く形成されている額縁領域１０１のように厳密に滴下位置を設定する必要性は低く、カラーフィルタ基板１２０上に滴下される各液滴の総量として、所望の基板間距離Ｇとシールパターン１３３で囲まれる領域より見積れる液晶充填領域の容積にみあう液晶１３０の滴下量を設定管理することを重要視すれば良い。
【００４３】
続いて、基板貼り合わせ工程（Ｓ６）によって、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０が近接されて、シールパターン１３３がＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０間に挟まれることで拡がり、液晶１３０についても、同様に、それぞれの液滴がＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０間に挟まれることで液晶充填領域内に順次拡がることとなる。以下、図７および図８を用い、基板貼り合わせ工程（Ｓ６）における滴下された液晶１３０ｄとシールパターン１３３の拡がる際の挙動などについて、詳細に説明する。ここで、図７は、先に説明した図５と同じ位置での基板貼り合わせ工程（Ｓ６）の完了する少し前の状態を示したものである。一方、図８は、図７中の断面線Ｘ１−Ｘ２、断面線Ｙ１−Ｙ２に相当する位置での断面図であり、図６と同じ位置での図７と同じ時点での状態を示したものである。
【００４４】
なお、図７では、液滴状態の液晶１３０ｄの各液滴の滴下された際の位置を破線にて図示（液滴の中心位置ＬＤｃは、図５と同様に一点鎖線にて図示）しており、その後、液滴状態の液晶１３０ｄの各液滴の拡がる領域を概ね円形や角部を丸めた正方形にて示している。なお、図中では、各液滴の拡がる領域間に重複する領域が存在する。実際には、図で液晶の拡がる領域間に重複する領域では、双方の液滴が干渉しあい重複した容積分の液晶は周囲に拡がることとなる。また、各液滴は、ダミーパターン１２６、表示領域１００に形成される配向膜１２２、その他の段差などにより複雑に干渉を受けながら拡がることから、実際には、この様な単純な拡がり形状とはならない。従って、図７で示されるのは、あくまでも各液滴のおおよその拡がり状態を見積り説明するための概念的な図である。
【００４５】
先ず、図７にて示されるとおり、表示領域１００に滴下された液滴については、周囲へ等方に拡がる際に、液滴が接するカラーフィルタ基板１２０表面の凹凸などにより特に異方性の干渉作用を受けない。従って、隣接する液滴と干渉を生ずるまでは、概ね等方に、即ち、円形状に拡がることになる。一方、額縁領域１０１に滴下された液滴については、シールパターン１３３と平行に設けられるダミーパターン１２６の存在によりシールパターン１３３に向かう方向への液晶の拡がり領域は概ね矩形に成形される。また、逆側の表示領域１００へ向かう方向への液晶の拡がり領域については、表示領域１００でのカラーフィルタ基板１２０表面に形成される配向膜１２２の段差によって、同じく概ね矩形に成形される。
【００４６】
なお、ダミーパターン１２６の高さが、この配向膜１２２の段差などの表示領域１００へ向かう方向へ液晶が拡がる際に越えるカラーフィルタ基板１２０表面の凹凸に比べて、極端に高い場合には、ダミーパターン１２６によりシールパターン１３３に向かう方向への液晶の拡がる速度が遅くなりすぎることになる。つまり、液晶がダミーパターン１２６により形成される段差に初めて掛かった際に、液晶がダミーパターン１２６の段差を乗り越える前に表示領域１００へ向かう方向ばかりへ拡がってしまうことになる。そのような場合には、結果として図７にて示されるような概ね矩形（正方形）に拡がらないことになり好ましくない。つまり、滴下された液滴が各方向へ拡がる速さが適度にバランスすることが必要であり、適当なダミーパターン１２６の高さの目安としては、配向膜１２２の段差などのカラーフィルタ基板１２０に形成される段差と同等であれば良い。これら段差は所定の基板間距離に対して半分程度まで高いものは通常は形成されないことから、ダミーパターン１２６の高さは、少なくとも所定の基板間距離に対し半分未満に形成されることが望ましい。また、ダミーパターン１２６の高さがカラーフィルタ基板１２０に形成される段差よりも低い場合には、本実施の形態１のように複数本のダミーパターン１２６を配置することによって拡がる速さのバランスを調整すると良い。
【００４７】
なお、額縁領域１０１においても、表示領域１００に設けられる柱状スペーサ１３４と同等の高さを有した柱状スペーサを配置する場合がある。このような柱状スペーサは、基板表面の凹凸が表示領域１００と異なることから、柱状スペーサ１３４とは多少異なる高さに形成されるが、所定の基板間距離程度の高さ、つまり、基板間距離の半分を遥かに超える高さを有している。然しながら、通常、数μｍ程度の直径の円柱形状で、散在して配置されることから、液晶の拡がりを妨げる土手のような役割は発揮しない。従って、上の説明では、このような柱状スペーサについては、液晶の拡がり速度に影響する段差を形成する対象からは除外した説明としている。
【００４８】
また、上述のとおり説明してきたシールパターン１３３に向かう方向や表示領域１００へ向かう方向とは垂直方向となるダミーパターン１２６の長手方向への液晶の拡がりについては、当該方向への拡がりを規制するような顕著な表面凹凸、段差などが無いことから、シールパターン１３３に向かう方向や表示領域１００へ向かう方向と比べて若干早くなる。また、当該ダミーパターン１２６の長手方向へ拡がる場合、拡がり形状についても拡がる途中段階では曲面状となると思われる。但し、先に説明したとおり、シールパターン１３３の延在方向での配列する個々の液滴間の距離は、矩形に拡がった場合の容積を考慮して設定されることから、結局は、隣接する液滴間の干渉により、最終的には矩形に近い領域内に個々の液滴の拡がり領域は規制されることとなる。結果として、図７にて示されるとおり、額縁領域１０１に滴下された液滴については、概ね矩形（正方形）の領域に納まることになる。つまり、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０の貼り合わせが完了し、所定の基板間距離Ｇとなった際に、液晶１３０ｄの一滴が、最終的に高さが基板間距離Ｇの四角柱の範囲を占めると仮定したことは、概ね正しいと言える。
【００４９】
また、先に設定した滴下位置とシールパターン１３３間の距離は、このように液滴が基板貼り合わせ工程において基板間に拡がる際に、滴下位置を中心として、等方な正方形に拡がる場合を仮定して見積った一滴の液晶が拡がり領域をもとに設定したものである。つまり、滴下位置とシールパターン１３３間の距離は、各液滴の容積から見積った矩形に拡がった領域と同等か、それよりもシールパターン１３３が若干離れた位置に設定されていることから、この額縁領域１０１に滴下された液滴については、シールパターン１３３で囲まれる領域内に、ほぼ過不足無く納まることとなる。その結果、必要以上に液晶１３０がシールパターン１３３よりも外へ漏れ出すことや、長時間、未硬化状態のシールパターン１３３と液晶１３０が接触することによる液晶１３０の汚染も発生することが無い。
【００５０】
また、図８（ａ）は、先に説明した幅が広く形成されている額縁領域１０１での断面図（断面線Ｙ１−Ｙ２に相当する位置での断面図）に対応するものであるが、この断面図からも解かるように、この幅が広く形成されている額縁領域１０１では、表示領域１００のように柱状スペーサ１３４が形成されて基板間距離が所定値に保持されることがなく、適正な基板間距離を得ることが難しい。つまり、基板間距離に変動を生じやすい。なお、先に説明したとおり、額縁領域１０１でも柱状スペーサを配置することは可能であるが、額縁領域１０１の表面の凹凸が表示領域１００と異なることから、額縁領域１０１に配置した柱状スペーサは所定の基板間距離とは異なる高さに形成されてしまう。従って、適正な基板間距離を得ることが難しいことは変わらない。このように基板間距離に変動を生じやすい額縁領域１０１が比較的広く存在するにも関わらず、図８（ａ）に示すとおり、当該額縁領域１０１に滴下された液晶１３０ｄにより、基板貼り合わせ工程（Ｓ６）の間、絶えずＴＦＴアレイ基板１１０に対して反発力を作用することができる。従って、過度にＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０間のシールパターン１３３に圧力が印加されることを防止することができる。
【００５１】
特に、ダミーパターン１２６の高さが適当な高さに設定されていることから、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０の貼り合わせの進行に応じて、シールパターン１３３近傍に液晶１３０ｄが適当な速度で拡がっていくこととなる。従って、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０間の距離が所定の基板間距離Ｇに近づいた時点では、シールパターン１３３近傍に液晶１３０ｄがある程度満たされていることとなり、シールパターン１３３のごく近傍でも液晶１３０ｄによる上記反発力を作用することができる。以上の結果として、シールパターン１３３やシールパターン１３３中の導電性粒子が潰れすぎて、周辺部ギャップが不均一となる不良の発生を防止することができる。
【００５２】
また、単に、幅が広く形成されている額縁領域１０１において、シールパターン１３３に近接して液晶１３０ｄを滴下するだけでは、液滴が拡がりすぎて、液晶１３０がシールパターン１３３よりも外へ漏れ出すことや、長時間、未硬化状態のシールパターン１３３と液晶１３０が接触することによる液晶１３０の汚染も発生することになる。然しながら、先に説明したとおり、ダミーパターン１２６の配置や、液晶の滴下位置、ダミーパターン１２６、シールパターン１３３などの位置関係が適正に選択されていることから、液滴が拡がりすぎることはなく、このような問題も生じない。
【００５３】
また、幅が広く形成されている額縁領域１０１以外の額縁領域１０１については、表示領域１００とシールパターン１３３が比較的近接して配置されることから、上述のようにダミーパターン１２６の設定や、液晶の滴下位置の厳密な設定は不要である旨を先に説明した。更に、図８（ｂ）の断面図（断面線Ｘ１−Ｘ２に相当する位置での断面図）からも解かるように、これら相対的に幅が狭く形成されている額縁領域１０１と当該額縁領域１０１に近接する表示領域１００の部分については、表示領域１００内に配置される柱状スペーサ１３４が、額縁領域１０１の特にシールパターン１３３の形成部にかなり近接して配置されることから、シールパターン１３３の形成部でも絶えず適正な基板間距離に近い距離にて保持されることとなる。従って、多少、液晶の拡がりが遅れ、気泡領域が形成されたとしても、シールパターン１３３やシールパターン１３３中の導電性粒子が潰れすぎることは無い。また、最終的には、シールパターン１３３で囲まれる領域内で徐々に均一化された液晶が行き渡ることにより気泡領域に液晶が充填されることとなる。従って、表示不良を生ずる程の基板間ギャップの不均一が生ずることは無い。
【００５４】
以上説明したとおり、本実施の形態１の液晶表示装置とこれを構成する液晶表示パネル１０においては、上述の通り、カラーフィルタ基板１２０において、シールパターン１３３の延在方向に沿って、つまり、延在方向に平行にダミーパターン１２６が近接して配置されていることから、カラーフィルタ基板１２０上に滴下される液滴の拡がり速度と形状を調整することができる。更に、当該ダミーパターン１２６は、額縁領域１０１におけるシールパターン１３３と表示領域１００の間の領域に設けられ、特に一滴の液滴が拡がる範囲程度にシールパターン１３３に近接して配置されることから、シールパターン１３３の近傍に液晶１３０ｄを滴下しても液滴の拡がり速度と形状を適正に調整することができる。また、ダミーパターン１２６の配置や高さ、液晶の滴下位置、ダミーパターン１２６、シールパターン１３３の位置関係が適正に選択されていることから、液晶を適当な速度で過不足なくシールパターンにより囲まれる領域内に拡げることができる。
【００５５】
その結果、このようにシールパターン１３３の近傍に液晶１３０ｄを滴下したとしても、液滴が拡がりすぎて、液晶１３０がシールパターン１３３よりも外へ漏れ出すことや、長時間、未硬化状態のシールパターン１３３と液晶１３０が接触することにより液晶１３０が汚染することも発生することがない。また、上述のような問題を生ずることなくシールパターン１３３の近傍に液晶１３０ｄを滴下できることによって、或いはＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０の貼り合わせの進行に応じてシールパターン１３３近傍に液晶１３０ｄが適当な速度で拡がっていくことによって、額縁領域１０１に滴下された液晶１３０ｄにより、基板貼り合わせ工程において、ＴＦＴアレイ基板１１０に対して、シールパターン１３３のごく近傍も含め、ある程度均一な反発力を作用することができる。従って、シールパターン１３３などが潰れすぎて、周辺部ギャップが不均一となることを防止することができる。その結果として、周辺部ギャップが不均一となること或いは液晶１３０が汚染することの両者を起因とする表示不良が発生することを防ぐことができる。
【００５６】
なお、以上説明した実施の形態１においては、ダミーパターン１２６について、カラーフィルタ１２４を構成する色材と同一材料によって同時に形成したため、特に工程増加を伴わず、生産性に影響せずに上記説明の効果を得ることができる。また、配向膜１２２や共通電極１２３と同一材料によってダミーパターン１２６を同時に形成しても構わず、同様の効果を得ることができる。液晶１３０ｄの滴下をＴＦＴアレイ基板１１０側に行う場合には、ＴＦＴアレイ基板１１０に形成されるダミーパターン１２６以外の何れかのパターンと同一材料によってダミーパターン１２６を同時に形成しても良く、当然、同様の効果を得ることができる。
【００５７】
特に、ダミーパターン１２６の高さとしては、液晶１３０ｄが拡がる速度を遅くしすぎないことが重要であることから、所定の基板間距離Ｇに対して、半分未満に形成されることが望ましい。従って、色材で形成する場合には、色材一層分の厚みが適当であり、上記で例示した材料であれば好適に使用することができる。一方、複数層の色材を積層して形成した場合には、上記好適な範囲を超える程度にダミーパターン１２６の高さが高くなり過ぎる可能性が高く好ましくない。また、基板間距離の高さ（厚み）に相当する柱状スペーサ１３４と同一材料に形成することは、同様に、ダミーパターン１２６の高さが高くなり過ぎることから適さない。但し、ハーフトーン露光技術（或いはグレイトーン露光技術）などを用い、領域により異なる露光量とすることにより異なる高さ（厚み）に樹脂を形成する場合には、柱状スペーサ１３４と同一材料により柱状スペーサ１３４の高さの半分以下程度にダミーパターン１２６を形成することは可能である。このように低い高さに形成する場合には、柱状スペーサ１３４と同一材料に形成したダミーパターン１２６を適用することに支障は無く、同様の効果を得ることができる。また、複数層の色材を積層して形成した場合についても、比較的薄い色材層を用いることなどにより上記好適な範囲に納めてダミーパターン１２６を形成できるのであれば、当然適用することに支障は無い。
【００５８】
なお、以上説明した実施の形態１においては、幅が広く形成されている額縁領域１０１のみにダミーパターン１２６を配置した。特に額縁領域１０１の幅が狭くシールパターン１３３と表示領域１００の柱状スペーサ１３４の形成領域が近接する場合には、シールパターン１３３と近接して液晶１３０ｄの液滴を形成する必要も無く、ダミーパターン１２６も形成する必要は無い。特に狭い額縁領域１０１では、ダミーパターン１２６を形成する領域も不足し、ダミーパターン１２６を形成するために額縁領域１０１を拡げることは本末転倒となる。従って、額縁領域１０１の幅が異なる場合には、本実施の形態１のように特に他の辺に比べて広い幅を有する辺のみに設けるのが望ましい。また、二辺以上、幅が広い額縁領域１０１が形成される場合には、ダミーパターン１２６の形成領域に相当する其々の額縁領域１０１の幅に応じて、ダミーパターン１２６を形成する本数などを適宜調整すると良い。また、ダミーパターン１２６を形成することが有効な額縁領域１０１の幅の概ねの目安としては、滴下する液晶１３０ｄの一滴あたりの容積にもよるが、概ね１ｃｍ程度以上の幅の額縁領域１０１が形成される場合には、本実施の形態１と同様にダミーパターン１２６を形成して、ダミーパターン１２６と表示領域１００の間に液晶１３０ｄを滴下することが有効となる。
【００５９】
また、異形パネルなどで、特定の辺とは言えないが、上記の程度に比較的広い幅の額縁領域が部分的に形成される場合には、当該広い幅の額縁領域において、シールパターンの形状によらず、シールパターンの近傍にシールパターンの形状に沿って、言い換えると、シールパターンの延在方向と平行に、ダミーパターン１２６と同様のダミーパターンを形成すれば良い。より具体的には、このダミーパターンは、近接して配置する対象となるシールパターンから垂直方向において概ね等距離に形成すれば良い。このように異形パネルなどでも、広い幅の額縁領域において、シールパターンの形状に沿って、言い換えると、シールパターンの延在方向と平行に、シールパターンの近傍にダミーパターン１２６と同様のダミーパターンを形成し、更に液晶の液滴をシールパターンの近傍の額縁領域におけるシールパターンより実施の形態１と同様の距離を空けた位置に滴下することで、本実施の形態１と同様の効果を得ることが可能である。また、特定の辺の額縁領域１０１において幅が広く形成されている場合と同様に、ダミーパターンの形成は、当該広い幅の額縁領域のみに設けるので充分であり、逆に不必要な部分にまで配置する必要はない。当該広い幅の額縁領域のみに設けることが、表示装置の省スペース化、狭額縁化の点で好ましい。
【００６０】
なお、以上説明した実施の形態１においては、ＴＮモードの例を用いたことから、所定の基板間距離Ｇを４μｍ程度に設定し、液滴の拡がり領域もこの基板間距離Ｇをもとにして設定している。他のモードなど最適な基板間距離が異なる場合の液晶表示装置に適用する場合には、適宜、ダミーパターン１２６の適当な近接範囲や滴下位置について、設定される基板間距離を考慮して選択すると良い。例えば、横電界方式を用いた液晶表示パネルでは、通常、最適な基板間距離は３μｍ程度となることから、液滴の拡がり領域は少し拡がることとなる。
【００６１】
また、以上説明した実施の形態１においては、図４に示すとおり、シールパターン１３３に近接して、額縁領域１０１に滴下した液晶１３０ｄの液滴を除いて、表示領域１００に、ほぼ均等に配列して液滴を滴下した。図９に示すとおり、ほぼ均等に配列する液滴に対して、所々に液滴を配置しない液滴空白部１３０ｖを設けても良い。この液滴空白部１３０ｖについては、周期的に設けても良いし、ランダムに設けても良い。但し、それぞれの液滴空白部１３０ｖが互いに余り近接して設けられても意味が無く、滴下領域内において、適度に分散して配置されるのが好ましい。基本的には、滴下領域内において、概ね均一な密度に液滴空白部１３０ｖが設けられるのが、より好ましい。
【００６２】
このように、ほぼ均等に配列する液滴に対して液滴空白部１３０ｖを設けたことにより生ずる作用と得られる効果について、以下説明する。先に説明した本発明の実施の形態１では、シールパターン１３３に近接して液滴を配置し、液晶１３０がシールパターン１３３で囲まれる領域内に全て充填完了する時点とシールパターン１３３の近傍まで液晶１３０が充填完了する時点を概ね一致するように設定した。然しながら、このような特別な設定を行う場合を除くと、一般的には、少しシールパターン１３３からは離れた領域となる主に表示領域１００のみに液滴を配列して滴下することで、シールパターン１３３で囲まれる領域内に液晶１３０を充填することとなる。その結果、液晶１３０ｄが配列して滴下される領域となる主に表示領域１００において、各液滴の間の領域が液晶により満たされる時点に遅れて、シールパターン１３３の近傍にまで液晶１３０が充填されることとなる。つまり、シールパターン１３３の近傍では、最後に液晶１３０が充填されることとなる。このことが、本発明の課題となるシールパターン近傍のセルやシールパターン自体が潰れすぎて周辺部ギャップが不均一になる表示不良が発生する要因となっている。これに対し、配列する液滴において液滴空白部１３０ｖを適度に設けることで、液晶が滴下される領域での各液滴の間の領域が液晶により満たされる時点を遅らせることができる。これにより、各液滴の間の領域が液晶により満たされる時点とシールパターン１３３の近傍にまで液晶１３０が充填される時点を概ね一致させること、或いは近づけることができる。結果として、気泡発生領域を面内に細かく散らすことができ、特にシールパターン１３３の近傍など、局所的に大きな気泡が形成されることを防ぐことができる。つまり、シールパターン１３３の近傍などセルやシールパターン自体が潰れすぎてギャップが不均一になることにより表示不良が発生することを防止することができる。
【００６３】
なお、上記作用は、本実施の形態１に適用した場合にも、シールパターン１３３に近接して配置した液滴以外の液滴の拡がりについて、パネル周辺側、即ち、パネル中心部よりシールパターン１３３方向へ向かうのみでなく、液晶の滴下された各点において、滴下された位置を中心に等方的に液晶を拡げる作用を有する。従って、実施の形態１で狙うシールパターン１３３で囲まれる領域内の全てに液晶１３０の充填が完了する時点とシールパターン１３３の近傍まで液晶１３０の充填が完了する時点を一致させる作用について、より精度を上げる効果がある。
【００６４】
なお、ここで、液滴空白部１３０ｖを設ける場合に関する説明において用いた、液晶１３０ｄの液滴をほぼ均等に配列する程度としては、以下の程度であれば良い。具体的には、滴下位置が図４に示す例えばＸＹ方向において均等のピッチで配列した配置として設計されている。或いはディスペンス装置による滴下処理において、ノズルを移動しながら滴下する場合には、吐出動作の周期を一定としながら一定速度でノズルを移動し、ノズルを停止して滴下する場合には、ノズルの送りピッチを例えばＸＹ方向のそれぞれにおいて一定の所定値とする程度で良い。つまり、滴下処理時における位置バラツキは許容される程度である。以上の範囲であれば、先に説明したほぼ均等に配列する液滴に対して液滴空白部１３０ｖを設けたことにより得られる効果と同様の効果を得ることができる。
【００６５】
なお、本発明は上記説明を行った実施の形態１およびその変形例或いは変形を示唆した構成に限られたものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜公知の構成に変更することが可能である。また、上記説明を行った実施の形態１およびその変形例或いは変形を示唆したそれぞれの構成は、矛盾を生じない範囲で好適に組み合わせて適用することができ、それぞれの構成により生ずるそれぞれの効果や複合効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００６６】
１０  液晶表示パネル、１００  表示領域、１０１  額縁領域、
１１０  ＴＦＴアレイ基板、１２０  カラーフィルタ基板、
１１１，１２１  ガラス基板、１１２，１２２  配向膜、１１３  画素電極、
１１４  ＴＦＴ、１１５  絶縁膜、１１６  端子、１１７  トランスファ電極、
１１８ｇ  ゲート配線、１１８ｓ  ソース配線、１１８ａ  周辺配線、
１２３  共通電極、１２４  カラーフィルタ、１２５  ブラックマトリクス、
１２６  ダミーパターン、１３０，１３０ｄ  液晶、１３０Ｌ  液晶層、
１３１，１３２  偏光板、１３３  シールパターン、１３４  柱状スペーサ、
１３５  制御基板、１３６  ＦＦＣ。
【図１】
0005942555.tif 000002
【図２】
0005942555.tif 000003
【図３】
0005942555.tif 000004
【図４】
0005942555.tif 000005
【図５】
0005942555.tif 000006
【図６】
0005942555.tif 000007
【図７】
0005942555.tif 000008
【図８】
0005942555.tif 000009
【図９】
0005942555.tif 000010