(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
配合組成物として、四面体の中心付近から４頂点への平均繊維長さが２〜５０μｍである針状突起を有するテトラポッド形ウィスカーを１〜５０質量％含有することを特徴とする消しゴム。
【請求項２】
前記テトラポッド形ウィスカーが酸化亜鉛ウィスカーであることを特徴とする請求項１記載の消しゴム。
【請求項３】
前記テトラポッド形ウィスカーは、配合組成物全量に対して、１５〜３５質量％含有されていることを特徴とする請求項１又は２記載の消しゴム。
【請求項４】
前記テトラポッド形ウィスカーは、四面体の中心付近から４頂点への繊維径が０．２〜３μｍであることを特徴とする請求項１〜３の何れか一つに記載の消しゴム。
【請求項５】
更に、平均粒径（ｍｖ値）が１０〜２００ｎｍである炭酸カルシウムが配合されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか一つに記載の消しゴム。
【請求項６】
前記テトラポッド形ウィスカーの表面にダイヤモンドが付着していることを特徴とする請求項１〜５の何れか一つに記載の消しゴム。
【請求項７】
更に、非金属繊維が含有されていることを特徴とする請求項１〜６の何れか一つに記載の消しゴム。
【請求項８】
前記テトラポッド形ウィスカーの表面をシリコーン処理していることを特徴とする請求項１〜７の何れか一つに記載の消しゴム。
【請求項９】
前記テトラポッド形ウィスカーの表面に二酸化チタンが付着していることを特徴とする請求項１〜８の何れか一つに記載の消しゴム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、鉛筆やシャープペンシル等の筆記描線の消去性に優れる消しゴムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、鉛筆やシャープペンシル等の筆記描線を消去するための消しゴムには、材料面から天然ゴム、合成ゴムなどのゴム系のものと、塩化ビニル等のプラスチック樹脂を主成分とするプラスチック系のものなどが知られ、また、形状面から通常の直方体状、角消しなどに好適な多角形状のものなどが知られ、更に、筆記描線の消去性を向上させるものとして基材中に各種研磨材や無機物などを配合したものが知られている。
【０００３】
従来より、筆記描線の消去性を向上させた消しゴムとしては、例えば、１）熱可塑性樹脂を基材とする消しゴムにおいて、該消しゴムに、表面をカップリング剤処理した研磨材を含有した研磨材入り消しゴム（例えば、特許文献１参照）、２）プラスチック字消し樹脂基材に窒化ケイ素ウィスカー及び／又は炭化ケイ素ウィスカーの一種又は二種を配合したことを特徴とするプラスチック字消し組成物（例えば、特許文献２参照）、３）塩化ビニル系樹脂と可塑剤とから少なくともなる消しゴム組成物において、アスペクト比が１．１以上で、長径が１０μｍ以上３０μｍ以下である炭酸カルシウム粒子が、特定量充填されている消しゴム組成物（例えば、特許文献３参照）が知られている。
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１〜３の消しゴムは、従来のものよりも消去性を向上したものであるが、未だ鉛筆やシャープペンシル等の筆記描線の消去時に、筆跡が若干残ったり、未だ、紙面を汚すことがなく且つ確実に消去することができない点などに課題があるのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭６３−１８８０９９号公報（特許請求の範囲、実施例等）
【特許文献２】特開平３−５４０００号公報（特許請求の範囲、実施例等）
【特許文献３】特開２０１１−２５１４３２号公報（特許請求の範囲、実施例等）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記従来技術の課題等に鑑み、これを解消しようとするものであり、鉛筆やシャープペンシル等の筆記描線の消去時に、紙面を汚すことがなく且つ確実に消去することができる消しゴムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記従来の課題等に鑑み、鋭意研究を行った結果、配合組成物として特定の構造特性を有するウィスカーを含有することにより、上記目的の消しゴムが得られることを見い出し、本発明を完成するに至ったのである。
【０００８】
すなわち、本発明は、次の（１）〜（９）に存する。
（１）  配合組成物として、四面体の中心付近から４頂点への平均繊維長さが２〜５０μｍである針状突起を有するテトラポッド形ウィスカーを１〜５０質量％含有することを特徴とする消しゴム。
（２）  前記テトラポッド形ウィスカーが酸化亜鉛ウィスカーであることを特徴とする上記（１）記載の消しゴム。
（３）  前記テトラポッド形ウィスカーは、配合組成物全量に対して、１５〜３５質量％含有されていることを特徴とする上記（１）又は（２）記載の消しゴム。
（４）  前記テトラポッド形ウィスカーは、四面体の中心付近から４頂点への繊維径が０．２〜３μｍであることを特徴とする上記（１）〜（３）の何れか一つに記載の消しゴム。
（５）  更に、平均粒径（ｍｖ値）が１０〜２００ｎｍである炭酸カルシウムが配合されていることを特徴とする上記（１）〜（４）の何れか一つに記載の消しゴム。
（６）  前記テトラポッド形ウィスカーの表面にダイヤモンドが付着していることを特徴とする上記（１）〜（５）の何れか一つに記載の消しゴム。
（７）  更に、非金属繊維が含有されていることを特徴とする上記（１）〜（６）の何れか一つに記載の消しゴム。
（８）  前記テトラポッド形ウィスカーの表面をシリコーン処理していることを特徴とする上記（１）〜（７）の何れか一つに記載の消しゴム。
（９）  前記テトラポッド形ウィスカーの表面に二酸化チタンが付着していることを特徴とする上記（１）〜（８）の何れか一つに記載の消しゴム。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、鉛筆やシャープペンシル等の筆記描線の消去時に、紙面を汚すことがなく且つ確実に消去することができる消しゴムが提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本発明の実施形態を詳しく説明する。
本発明の消しゴムは、配合組成物としてテトラポッド形ウィスカーを含有することを特徴とするものである。
【００１１】
本発明に用いるテトラポッド形ウィスカーは、４個の針状突起（４軸結晶）を有する単結晶性のウィスカーであり、例えば、酸化亜鉛ウィスカー、ダイヤモンドウィスカー、ＺｎＳｅウィスカーなどを挙げることができ、好ましくは、更なる筆記描線の消去性の向上、コスト、隠ぺい力の点から、酸化亜鉛ウィスカーの使用が好適である。
また、これらのテトラポッド形ウィスカーは、更なる筆記描線の消去性の向上、消去時の摩擦係数の点から、四面体の中心付近から４頂点への平均繊維長さ（針状短繊維長）が、２〜５０μｍであり、かつ繊維径（針状短繊維径、平均値）が０．２〜３μｍであることが好ましい。
【００１２】
これらのテトラポッド形ウィスカーは、原料として酸化皮膜を有する金属粉末を、酸素を含む雰囲気下で加熱処理して生成することができ、例えば、酸化亜鉛ウィスカーでは、表面に酸化皮膜を有する金属亜鉛粉末を、酸素を含む雰囲気下で加熱処理してテトラポッド形ウィスカーを得ることができる。
また、これらのテトラポッド形ウィスカーの表面には、消去性能や消去時の摩擦係数の点から、ナノダイヤモンドや、二酸化チタンを付着したり、または、シリコーン処理したものであってもよい。
ダイヤモンドの付着処理としては、例えば、テトラポッド形ウィスカーに対してダイヤモンドナノ粒子水分散液を所定の固形分質量比（０．１〜１）を加えて攪拌しながら乾燥させて、ダイヤモンド付着テトラポッド形ウィスカーを製造することができる。
用いるダイヤモンドナノ粒子としては、例えば、爆発法、静圧法、衝撃圧縮法、ＥＡＣＶＤ法、気相合成法及び液相成長法で作製したダイヤモンドナノ粒子が挙げられ、形態としては、例えば、多結晶ダイヤモンド粒子、単結晶ダイヤモンド粒子およびクラスターダイヤモンドなどが挙げられる。具体的には、ナノ炭素研究所社製の商品名「ナノアマンド」、東名ダイヤモンド工業社製のＭＤシリーズ、住石マテリアルズ社製のＳＣＭナノダイヤ、ＳＣＭファインダイヤ、ナノテックシステムズ社製ＣＤ（Ｃｌｕｓｔｅｒ Ｄｉａｍｏｎｄ）、ＣＤＳ（Ｃｌｕｓｔｅｒ Ｄｉａｍｏｎｄ Ｓｌｕｒｒｙ）、ＧＣＤ（Ｇｒａｐｈｉｔｅ Ｃｌｕｓｔｅｒ Ｄｉａｍｏｎｄ）、ＧＣＤＳ（ｇｒａｐｈｉｔｅ Ｃｌｕｓｔｅｒ Ｄｉａｍｏｎｄ ｓｌｕｒｒｙ）、ＪＥＴＲＯ社製人口ダイヤモンド等を用いることができる。
【００１３】
更に、二酸化チタンの付着処理としては、例えば、酸化チタン水分散液を所定の固形分質量比（１〜１０）を加えて攪拌しながら乾燥させる方法で行うことができ、さらに、シリコーン処理としては、例えば、シリコーン処理剤を用いたコーティング方法で行うことができる。
【００１４】
具体的に用いることができるテトラポッド形ウィスカーとしては、酸化亜鉛ウィスカーでは市販の松下電器産業社製のパナテトラシリーズ（未表面処理：ＷＺ−０５０１、ＷＺ−０５０１L、表面処理：ＷＺ−０５１１、ＷＺ−０５１１ＬＷＺ−０５３１、ＷＺ−０５４１、ＷＺ−０５Ｅ１、ＷＺ−０５Ｆ１）などが挙げられる。
【００１５】
これらのテトラポッド形ウィスカーの含有量は、組成物全量に対して、１〜５０質量％（以下、「質量％」を単に「％」という）、好ましくは、１５〜３５％配合されていることが望ましい。
この含有量が１％未満であると、添加効果が殆ど得られない結果となり、また、５０％を超えると、成形・混合など製造方法に問題が生じ、好ましくない。
【００１６】
本発明に用いる上記テトラポッド形ウィスカー以外には、基材成分、可塑剤、炭酸カルシウムなどの充填材、非金属繊維、更に必要に応じて、消しゴムに用いられている各種配合剤を所望量配合することができる。
【００１７】
用いることができる基材成分は、特に限定されず、例えば、各種の熱可塑性樹脂、合成ゴムなどの少なくとも１種を使用することができる。
熱可塑性樹脂としては、例えば、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体などの塩化ビニル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレンアクリル酸共重合体、ポリオレフィン、塩素化ポリオレフィンなどが挙げられる。合成ゴムとしては、例えば、ブチルゴム、ブタジエンゴム、ニトリルゴム、ニトリルブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴムなどが挙げられる。特に好ましい樹脂としては、塩化ビニル系樹脂が挙げられる。
【００１８】
好適に用いられる塩化ビニル系樹脂としては、具体的には、ポリ塩化ビニルとしてカネビニールシリーズ（カネカ社製）、ビニカシリーズ（三菱化成ビニル社製）、リューロンペーストシリーズ（ホモポリマーおよびコポリマー：東ソー社製）等が挙げられ、これらは、単独でも２種以上併用してもよい。
これらの基材成分の含有量は、組成物全量に対して、好ましくは、２０〜６０％含有されていることが望ましい。
【００１９】
用いることができる可塑剤としては、含有されている熱可塑性樹脂を可塑化又はゲル化することができる可塑剤であれば、特に限定されず、例えば、フタル酸ジオクチル（ＤＯＰ、ジオクチルフタレート）、アジピン酸ジオクチル（ＤＯＡ）、セバシン酸ジオクチル（ＤＯＳ）、セバシン酸ブチル（ＤＢＳ）、フタル酸ジメチル（ＤＭＰ）、フタル酸ジヘキシルなどが挙げられ、これらは、組成物全量に対して、好ましくは、５〜４０％含有されていることが望ましい。
【００２０】
用いることができる充填材としては、塩化ビニルや可塑剤に溶解したり反応したりする物質でなければ、特に限定されず、例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、シリカ、タルク、クレー、珪藻土、石英粉、アルミナ、アルミナシリケート、マイカ、セリサナイト、モンモリロナイトなどが挙げられ、これらは、組成物全量に対して、好ましくは、５〜５０％含有されていることが望ましい。
特に、これらの充填材は、消去性、強度、潤滑性の点から、平均径（ｍｖ値）が１０〜２００ｎｍであることが好ましく、また、コスト、消去性能、摩擦係数の点から炭酸カルシウムが含有されていることが望ましい。
なお、本発明（後述する実施例等を含む）における平均径（ｍｖ値）は、レーザー回折・散乱法における測定結果から体積でかさみづけされた平均径をいい、例えば、炭酸カルシウムでは、マイクロトラック（日機装社製、３１００ＩＩ）を用いて乾式測定することができる。
【００２１】
用いることができる非金属繊維としては、塩化ビニルや可塑剤に溶解したり反応したりする物質でなければ、特に限定されず、例えば、ナイロンなどの有機繊維、シリカファイバーやアルミナファイバーなどのセラミック繊維などが挙げられ、これらは、組成物全量に対して、好ましくは、５〜３０％含有されていることが望ましい。
【００２２】
また、必要に応じて、各種配合剤、例えば、基材成分（特に塩化ビニル系樹脂）の高温における劣化を防止するために、例えば、ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎなどの熱安定剤を用いることができる。また、粘度調整剤、滑剤、溶剤、着色剤、紫外線吸収剤、防腐剤、防黴剤、芳香剤などを適宜量配合することができる。
更に、基材成分としてゴムや、エラストマーを用いた場合には、例えば、軟化剤、加硫剤、加硫促進剤、充填剤、老化防止剤、着色剤などを適宜量配合することができる。
【００２３】
本発明の消しゴムは、配合組成物として上記テトラポッド形ウィスカー、基材成分、可塑剤、炭酸カルシウムなどの充填材、有機繊維などの非金属繊維、更に必要に応じて、上記各種配合剤のそれぞれ所定量を常法により混練することにより調製した後、好ましい形状に成形して作製することができる。
【００２４】
本発明の消しゴムが、何故、従来の消しゴムよりも鉛筆やシャープペンシル等の筆記描線の消去性に優れるかは以下のように推察される。
すなわち、本発明の消しゴムでは、配合組成物としてテトラポッド形ウィスカーを含有することにより、紙繊維の隙間に詰った鉛筆材料を掻き出しやすくし、消去力を高めると共に、ウィスカーの潤滑性によって滑りやすく、更に消しゴム全体の弾性率を高める結果となる。更に、ウィスカーには隠ぺい力があるため、消去しきれない細かい材料は隠蔽することとなる。従って、本発明の消しゴムは、従来の消しゴムよりも筆記描線の消去性に優れたものとなる。
【実施例】
【００２５】
以下に、実施例及び比較例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は下記実施例等に限定されるものではない。
【００２６】
〔実施例１〜８、比較例１〜３〕
（実施例１）
テトラポッド形ウィスカー〔パナテトラ  ＷＺ−０５０１、松下電器産業社製、平均繊維長１０μｍ（針状部分）、平均繊維径１μｍ〕                        ４０質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５４、カネカ社製）          ４０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                      １９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００２７】
（実施例２）
テトラポッド形ウィスカー〔パナテトラ  ＷＺ−０５０１Ｌ、松下電器産業社製、平均繊維長２０μｍ（針状部分）、平均繊維径２μｍ〕                      ４０質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５４、カネカ社製）          ４０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                    １９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００２８】
（実施例３）
テトラポッド形ウィスカー〔パナテトラ  ＷＺ−０５０１、松下電器産業社製、平均繊維長１０μｍ（針状部分）、平均繊維径１μｍ〕１（質量比）に対して０．００１ｗｔ％水分散ナノダイヤ（ナノアマンド）を１０（質量比）加えて攪拌しながら乾燥させ、ナノダイヤ修飾テトラポッド形ウィスカーを作製した。
ナノダイヤ修飾テトラポッド形ウィスカー                            ４０質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５４、カネカ社製）          ４０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                    １９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００２９】
（実施例４）
テトラポッド形ウィスカー〔パナテトラ  ＷＺ−０５０１、松下電器産業社製、平均繊維長１０μｍ（針状部分）、平均繊維径１μｍ〕                        ２０質量部
炭酸カルシウム（ＮＥＯＬＩＧＨＴ  ＳＳ、竹原化学工業社製、平均粒径４０ｎｍ）
２０質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５４、カネカ社製）          ４０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                    １９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００３０】
（実施例５）
テトラポッド形ウィスカー〔パナテトラ  ＷＺ−０５０１、松下電器産業社製、平均繊維長１０μｍ（針状部分）、平均繊維径１μｍ〕                        ２０質量部
ＦＲＴＰ用グラスファイバー（カット長３ｍｍ）                      ２０質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５４、カネカ社製）          ４０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                    １９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００３１】
（実施例６）
テトラポッド形ウィスカー〔パナテトラ  ＷＺ−０５、松下電器産業社製、平均繊維長１０μｍ（針状部分）、平均繊維径１μｍ、シリコーン処理〕            ４０質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５４、カネカ社製）          ４０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                    １９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００３２】
（実施例７）
テトラポッド形ウィスカー〔パナテトラ  ＷＺ−０５０１、松下電器産業社製、平均繊維長１０μｍ（針状部分）、平均繊維径１μｍ〕                          ５質量部
炭酸カルシウム（ＮＥＯＬＩＧＨＴ  ＳＳ、竹原化学工業社製、平均粒径４０ｎｍ）
３５質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５４、カネカ社製）          ４０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                    １９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００３３】
（実施例８）
テトラポッド形ウィスカー〔パナテトラ  ＷＺ−０５０１、松下電器産業社製、平均繊維長１０μｍ（針状部分）、平均繊維径１μｍ〕                        ５０質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５４、カネカ社製）          ２０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                    ２９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００３４】
（比較例１）
炭酸カルシウム（極微細炭酸カルシウム「Ｖｉｇｏｔ  １０」、白石工業社製、平均粒径１００ｎｍ）                                                      ４０質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５、カネカ社製）            ４０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                    １９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００３５】
（比較例２）
炭酸カルシウム（極微細炭酸カルシウム「Ｖｉｓｃｏｅｘｃｅｌ−３０」、白石工業社製、平均粒径３０ｎｍ）                                              ４０質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５４）                        ４０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                      １９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００３６】
（比較例３）
ＦＲＴＰ用グラスファイバー（カット長３ｍｍ）                      ４０質量部
ポリ塩化ビニル（カネビニールＰＳＭ−１５４、カネカ社製）          ４０質量部
ステアリン酸Ｃａ−Ｚｎ（安定剤）                                    １質量部
ジオクチルフタレート（可塑剤）                                    １９質量部
上記材料を真空ミキサーにて混合してペーストを調製した。これを厚さ２０ｍｍの金型に流し込み成形し、１ｋｇ／ｃｍ２で加圧しながら１５０℃で１時間加熱して消しゴムを得た。
【００３７】
上記実施例１〜８及び比較例１〜３で得られた各焼成鉛筆芯（シャープペンシル用鉛筆芯）について、ＪＩＳ  Ｓ  ６０５０−２００８に開示されているプラスチック字消しの消し能力（消字率）試験に準拠し、Ｅ（消字率：＝消去率）＝（１−Ｍ／Ｃ）×１００〔Ｍ：摩消部の濃度、Ｃ：着色部の濃度〕により、通常消去率（４往復）、初期消去率（１往復）、最終消去率（７往復）を算出した。
これらの結果を下記表１に示す。
【００３８】
【表１】
0005938711.tif 000002
【００３９】
上記表１の結果から明らかなように、本発明の範囲となる実施例１〜８の消しゴムは、本発明の範囲外となる比較例１〜３の消しゴムに較べて、鉛筆等の筆記描線の消去性に優れる消しゴムであることが判明した。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
鉛筆やシャープペンシル等の筆記描線の消去などに好適に利用することができる。