(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の一般式（Ａ）：
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z      （Ａ）
[式中、Ｚは、-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)CF2)-、-(CF2CF(CF3))-、及び-(CF(CF3))-から独立して選択され；
ａは、１〜２００の整数であり；
ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり；
ｈ、ｎ及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり；
ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり；
Ｘは、酸素原子であり；
Ｒは、１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；
ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり；
Ｘ’は、独立して選択される加水分解性基であり；
Ｒ１は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；
Ｙは、フッ素及びSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-（ここで、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ及びｈは、上記のとおりである。）から選択される。]
を有するポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物であって、
但し、ｉが０である場合に、ｊも０であり；ｉが０よりも大きい整数である場合に、ｊも０よりも大きい整数であり；及びｉが０よりも大きい整数である場合に、ｍも０よりも大きい整数であり；
但し、Ｙが、フッ素であり；Ｚが、-(CF2)-であり；ａが、１〜３の整数であり；ｃ、ｄ、ｆ及びｉが、０である場合に、以下の一般式（Ｂ）：
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F                                  （Ｂ）
[式中、ａは、１〜３であり、ｂ、ｅ及びｇは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、２５〜５０モル％の量で、表面処理組成物中に存在し、
及び但し、以下の一般式（Ｃ）：
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3                                        （Ｃ）
[式中、Ｙ’は、フッ素及びCH3-CR5=CR5-(Cn’H2n’)-X-(CH2)h-から選択され；
ｎ’は、０〜１７から独立して選択される整数であり；
Ｒ５は、水素原子及びメチル基から独立して選択され；
Ｚ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ及びＸは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、４０モル％未満の量で、表面処理組成物中に存在する、表面処理組成物。
【請求項２】
ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物の製造方法であって、製造方法が、
少なくとも１つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物を準備する工程；
ヒドロシラン化合物を準備する工程；
ヒドロシリル化触媒を準備する工程；
異性体減少剤を準備する工程；及び
ヒドロシリル化触媒と異性体減少剤の存在下においてパーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物を反応させてポリフルオロポリエーテルシランと表面処理組成物とを製造する工程；
を含み、
但し、ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式（Ｇ）：
Y-Z’a’-[(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-Si-(X’)3-z(R1)z              （Ｇ）
[式中、Ｚ’は、-(CF2)-であり；
ａ’は、１〜３の整数であり；
ｂ、ｅ及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり；
ｈ及びｎは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり；
Ｘは、酸素原子；
ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり；
Ｘ’は、独立して選択される加水分解性基であり；
Ｒ１は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；
Ｙはフッ素である。]
を有する場合に、以下の一般式（Ｂ）：
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F                            （Ｂ）
[式中、ａは、１〜３であり、ｂ、ｅ及びｇは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、２５〜５０モル％の量で表面処理組成物中に存在する、表面処理組成物の製造方法。
【請求項３】
ポリフルオロポリエーテルシランが以下の一般式（A）：
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z              （Ａ）
[式中、Ｚは、-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)CF2)-、-(CF2CF(CF3))-、及び-(CF(CF3))-から独立して選択され；
ａは、１〜２００の整数であり；
ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり；
ｈ、ｎ及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり；
ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり；
Ｘは、酸素原子であり；
Ｒは、１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；
ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり；
Ｘ’は、独立して選択される加水分解性基であり；
Ｒ１は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；
Ｙは、フッ素及びSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-（ここで、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ及びｈは、上記のとおりである。）から選択される。]
を有し、
但し、ｉが０である場合に、ｊも０であり；ｉが０よりも大きい整数である場合に、ｊも０よりも大きい整数であり；及びｉが０よりも大きい整数である場合に、ｍも０よりも大きい整数であり；
但し、Ｙが、フッ素であり；Ｚが、-(CF2)-であり；ａが、１〜３の整数であり；ｃ、ｄ、ｆ及びｉが、０である場合に；以下の一般式（Ｂ）：
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F                            （Ｂ）
[式中、ａは、１〜３であり、ｂ、ｅ及びｇは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、２５〜５０モル％の量で、表面処理組成物中に存在する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
異性体減少剤が、カルボン酸化合物を含む、請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】
異性体減少剤が、１以上のシリル化カルボン酸を含む、請求項２〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
以下の一般式（Ｃ）：
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3                        （Ｃ）
[式中、Ｙ’は、フッ素及びCH3-CR5=CR5-(Cn’H2n’)-X-(CH2)h-から選択され；
ｎ’は、０〜１７から独立して選択される整数であり；
Ｒ５は、水素原子とメチル基から独立して選択され；
Ｚ、ａ、ｂ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ及びＸは上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、４０モル％未満の量で表面処理組成物中に存在する、請求項２〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物であって、
ポリフルオロポリエーテルシランが、ヒドロシリル化触媒と異性体減少剤との存在下においてパーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物とから形成され、
ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式（Ａ）：
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z              （Ａ）
[式中、Ｚは、-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)CF2)-、-(CF2CF(CF3))-、及び-(CF(CF3))-から独立して選択され；
ａは、１〜２００の整数であり；
ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり；
ｈ、ｎ及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり；
ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり；
Ｘは、酸素原子であり；
Ｒは、１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；
ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり；
Ｘ’は、独立して選択される加水分解性基であり；
Ｒ１は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；
Ｙは、フッ素及びSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-（ここで、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ及びｈは、上記のとおりである。）から選択される。]
を有し、
但し、ｉが０である場合に、ｊも０であり；ｉが０よりも大きい整数である場合に、ｊも０よりも大きい整数であり；及びｉが０よりも大きい整数である場合に、ｍも０よりも大きい整数であり；
但し、Ｙが、フッ素であり；Ｚが、-(CF2)-であり；ａが、１〜３の整数であり；ｃ、ｄ、ｆ及びｉが、０である場合に；以下の一般式（Ｂ）：
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F                    （Ｂ）
[式中、ａは、１〜３であり、ｂ、ｅ及びｇは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、２５〜５０モル％の量で、表面処理組成物中に存在する、表面処理組成物。
【請求項８】
異性体減少剤が、カルボン酸化合物を含む、請求項７に記載の表面処理組成物。
【請求項９】
異性体減少剤が、１以上のシリル化カルボン酸を含む、請求項７または８に記載の表面処理組成物。
【請求項１０】
表面処理した物品であって；
表面を有する物品；及び、
物品の表面上に形成される層；を含み、
層が、ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物から形成されており、
ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式（Ａ）：
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z                （Ａ）
[式中、Ｚは、-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)CF2)-、-(CF2CF(CF3))-、及び-(CF(CF3))-から独立して選択され；
ａは、１〜２００の整数であり；
ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり；
ｈ、ｎ及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり；
ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり；
Ｘは、酸素原子であり；
Ｒは、１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；
ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり；
Ｘ’は、独立して選択される加水分解性基であり；
Ｒ１は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；
Ｙは、フッ素及びSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-（ここで、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ及びｈは、上記のとおりである。）から選択される。]
を有し、
但し、ｉが０である場合に、ｊも０であり；ｉが０よりも大きい整数である場合に、ｊも０よりも大きい整数であり；及びｉが０よりも大きい整数である場合に、ｍも０よりも大きい整数であり；
但し、Ｙが、フッ素であり；Ｚが、-(CF2)-であり；ａが、１〜３の整数であり；ｃ、ｄ、ｆ及びｉが、０である場合に；以下の一般式（Ｂ）：
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F                      （Ｂ）
[式中、ａは、１〜３であり、ｂ、ｅ及びｇは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物は、表面処理組成物の合計量に基づいて、２５〜５０モル％の量で、表面処理組成物中に存在し、
及び但し、以下の一般式（Ｃ）：
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3                            （Ｃ）
[式中、Ｙ’は、フッ素及びCH3-CR5=CR5-(Cn’H2n’)-X-(CH2)h-から選択され；
ｎ’は、０〜１７から独立して選択される整数であり；
Ｒ５は、水素原子及びメチル基から独立して選択され；
Ｚ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ及びＸは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて４０モル％未満の量で、表面処理組成物中に存在する、表面処理した物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して、表面処理組成物に関する。更に詳細には、本発明は、ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、及び表面処理した物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子及び光学機器／部品は、汚れやすく及び汚染しやすく、これは、主に、指などの肌と接触することに起因する。例えば、スマートフォンのような会話型タッチ−スクリーン・ディスプレイを含む電子機器は、使用するときに指紋、皮脂、汗、化粧品などにより頻繁に汚れる及び／又は汚染する。これらの汚れ及び／又は汚染が機器のディスプレイに付着すると、汚れ及び／又は汚染は容易に落ちない。更に、このような汚れ及び／又は汚染はこれらの機器の外観及び有用性を低下させる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このような汚れ及び汚染の出現及び広がりを最小限にしようとして、表面処理組成物を電子機器のディスプレイ上に適用する。しかしながら、従来の表面処理組成物は、従来の表面処理組成物を製造することから様々な異性体、非反応性成分、及び残留した未反応成分を含む。これらの異性体、非反応性成分、及び残留した未反応成分は、従来の表面処理組成物から得られる物理的特性に対する有害な影響を有する。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物を提供する。表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式（Ａ）：
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z  （Ａ）
を有する。
【０００５】
一般式（Ａ）において、Ｚは、-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)CF2)-、-(CF2CF(CF3))-、及び-(CF(CF3))-から独立して選択され；ａは、１〜２００の整数であり；ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり；並びにｈ、ｎ及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり；ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり；Ｘは、二価有機基又は酸素原子であり；Ｒは、１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり；Ｘ’は、独立して選択される加水分解性基である。Ｒ１は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；Ｙは、フッ素及びSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-（ここで、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ及びｈは、上記のとおりである。）から選択される。
【０００６】
加えて、ｉが０である場合に、ｊも０であり；ｉが０より大きい整数である場合に、ｊも０より大きい整数であり；ｉが０よりも大きい整数である場合に、ｍも０よりも大きい整数である。
【０００７】
更に、Ｙがフッ素であり、Ｚが-(CF2)-であり；ａが１〜３の整数であり；ｃ、ｄ、ｆ及びｉが０である場合に；以下の一般式（Ｂ）：
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F  （Ｂ）
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、少なくとも２５モル％の量で表面処理組成物中に存在する。
【０００８】
表面処理組成物中に、以下の一般式（Ｃ）：
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3  (C)
[式中、Ｙ’は、フッ素及びCH3-CR5=CR5-(Cn’H2n’)-X-(CH2)h-から選択され；ｎ’は、０〜１７から独立して選択される整数であり；Ｒ５は、水素原子及びメチル基から独立して選択され；及びＺ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ及びＸは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、４０モル％未満の量で存在する。
【０００９】
本発明は、表面処理組成物の製造方法も提供する。本発明の方法は、少なくとも１つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物；ヒドロシラン化合物；ヒドロシリル化触媒；及び異性体減少剤を準備する工程を含む。本発明の方法は、ヒドロシリル化触媒と異性体減少剤の存在下においてパーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物を反応させてポリフルオロポリエーテルシラン及び表面処理組成物を準備する工程を更に含む。
【００１０】
本発明は、表面処理した物品を更に提供する。表面処理した物品は、表面を有する物品を含む。層は物品表面上に形成されており、層は表面処理組成物から形成されている。
【００１１】
本発明の表面処理組成物は、耐久性並びに防汚性及び耐汚染性を含む優れた物理的特性を有する。
【００１２】
本発明は、表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、及び表面処理した物品を提供する。表面処理組成物は、防汚性、耐汚染性、耐久性、及び低表面張力などの優れた物理的特性を有する。従って、表面処理組成物は、以下に更に詳細に記載されるように、物品の物理的特性を改善するために、電子物品などの物品が有する表面上に層を形成するのに特に適している。しかしながら、表面処理組成物は、このような使用又は物品に限定されないことを理解されたい。例えば、表面処理組成物は、ガラスのような他の物品及び／又は基材上に、層を形成するのにも適している。
【００１３】
本発明の表面処理組成物は、以下の一般式（Ａ）：
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z
を有するポリフルオロポリエーテルシランを含む。式（Ａ）においてｂ〜ｇにより括られる基、即ち、角括弧内の基は、ポリフルオロポリエーテルシラン内において任意の順番であってよく、上記及びこの明細書全体を通して一般式（Ａ）で表されている順番とは異なる順番を含むことを理解されたい。更に、これらの基は、ランダム形態又はブロック形態であってよい。加えて、ｂにより括られる基は、典型的に、直鎖状であってよく、即ち、ｂにより括られる基が、代替的に、(O-CF2-CF2-CF2)bと記載されてよい。
【００１４】
上記の一般式（Ａ）において、Ｚは、-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)-CF2)-、-(CF2-CF(CF3))-、及び-(CF(CF3))-から独立して選択される。いくつかの実施形態において、Ｚ及び[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]で示される残基は、Ｚ及びこの残基が過酸化物を形成しないように選択される。ポリフルオロポリエーテルシランが主鎖において酸素−酸素（Ｏ−Ｏ）結合を含まないようにＺが選択されることを理解されたい。加えて、この一般式において、ａは、１〜２００の整数であり；ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり；ｈ、ｎ及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり；ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり；Ｘは、二価有機基又は酸素原子であり；Ｒは、１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり；Ｘ’は、独立して選択される加水分解性基であり；Ｒ１は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であり；Ｙは、フッ素及びSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-（ここで、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ及びｈは、上記のとおりである。）から選択される。
【００１５】
１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基であってよいＲは、直鎖状、分岐状、又は環状であってよい。加えて、Ｒは、炭化水素基においてヘテロ原子を含んでよく、及び置換されてよく又は置換されなくてよい。加えて、ｎ及びｊにより括られる基、即ち、基(CnH2n)及び(CjH2j)は、独立して直鎖状又は分岐状であってもよい。例えば、ｎが３である場合に、これらの基は、構造-CH2-CH2-CH2-、-CH(CH3)-CH2-又は-CH2-CH(CH3)-を独立して有してよく、後者の２つの構造は、ペンダントアルキル基を有し、即ち、これらの構造は、分岐状であり、直鎖状ではない。
【００１６】
ｍ、ｉ及びｊにより括られる残基に関して、ｉが０である場合にｊも０であり；ｉが０よりも大きい整数である場合に、ｊも０よりも大きい整数であり；ｉが０よりも大きい整数である場合に、ｍも０よりも大きい整数であるということを理解されたい。別の言い方をすれば、ｉにより括られる基が存在する場合に、ｊにより括られる基も存在する。逆も真実である、即ち、ｉにより括られる基が存在しない場合に、ｊにより括られる基も存在しない。加えて、ｉが０よりも大きい整数である場合に、ｍにより括られる基は存在し、ｍも０よりも大きい整数である。いくつかの実施形態において、ｍ及びｉはそれぞれ１である。シロキサン結合（即ち、Ｓｉ−Ｏ結合）がｉにより括られる基で存在するようにｍが１よりも大きい整数であってよいけれども、典型的に、ｉは１を越えない。
【００１７】
但し、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランにおいて、Ｙがフッ素であり；Ｚが-(CF2)-であり；ａが１〜３の整数であり；ｃ、ｄ、ｆ及びｉが０である場合に；一般式（Ｂ）:
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F (B)
により表される含フッ素化合物は、表面処理組成物の合計量に基づいて、少なくとも２５モル％、典型的に、２５〜５０モル％の量で、表面処理組成物中に存在することがある。典型的に、このような含フッ素化合物、即ち、一般式（Ｂ）により表される含フッ素化合物は、以下に更に詳細に示されるように、表面処理組成物を製造するのに用いるパーフルオロポリエーテル含有化合物とともに含有される。
【００１８】
典型的に、以下の一般式（Ｃ）：
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3 (C)
の含フッ素化合物は、表面処理組成物の合計量に基づいて、４０モル％未満、あるいは、３０モル％未満、あるいは、２５モル％未満の量で表面処理組成物中に存在する。
【００１９】
上記の一般式（Ｃ）において、Ｙ’は、フッ素及びCH3-CR5=CR5-(Cn’H2n’)-X-(CH2)h-から選択され；ｎ’は、０〜１７から独立して選択される整数であり；Ｒ５は、水素原子及びメチル基から独立して選択され；及びＺ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ及びＸは上記のとおりである。ポリフルオロポリエーテルシランと同様に、式（Ｃ）においてｂ〜ｇにより括られる基、即ち、角括弧内の基は、一般式（Ｃ）の含フッ素化合物において任意の順番であってよく、上記及び本明細書全体を通して一般式（Ａ）に表される順番とは異なる順番を含むことを理解されたい。更に、これらの基は、ランダム形態又はブロック形態であってよい。以下に更に詳細に記載されるように、一般式（Ｃ）により表される含フッ素化合物は、ポリフルオロポリエーテルシラン及び表面処理組成物を製造する場合にその場で形成される望ましくない異性体である。そのため、表面処理組成物の製造方法に関して以下に記載される理由のために、表面処理組成物中におけるこれらの異性体、即ち、一般式（Ｃ）により表される含フッ素化合物のモル％を最小限にすることが好都合である。
【００２０】
ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＸ’により表される加水分解性基は、ハロゲン（ハライド）基、アルコキシ(-OR2)基、アルキルアミノ(-NHR2又は-NR2R3)基、カルボキシ(-OOC-R2)基、アルキルイミノキシ(-O-N=CR2R3)基、アルケニルオキシ(O-C(=CR2R3)R4)基、又はＮ−アルキルアミド(-NR2COR3)基から独立して選択してよく、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素及び１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基から選択される。Ｒ２、Ｒ３及びＲ４が、独立して、１〜２２の炭素原子を有する炭化水素基である場合に、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、直鎖状、分岐状又は環状であってよい。加えて、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、炭化水素基におけるヘテロ原子を独立して含んでよく、及び置換されてよく又は置換されなくてよい。いくつかの実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＸ’により表される加水分解性基は、アルコキシ(-OR2)基及びアルキルアミノ(-NHR2又は-NR2R3)基から独立して選択される。ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＸ’により表される加水分解性基がアルキルアミノ基である場合に、Ｒ２及びＲ３は、アルキルアミノ基における環状アミンを必要に応じて形成してよい。
【００２１】
このような実施形態に限定されないが、特定種類の表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの例示的な実施形態が以下に詳細に記載される。典型的に、これらの実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランが、Ｘ’により表される３つの加水分解性基を含むように、ｚは０である。しかしながら、上述したように、これらの特定のポリフルオロポリエーテルシランが３つよりも少ない加水分解性基を含むように、ｚは０以外の整数（例えば、１又は２）であってよいことを理解されたい。
【００２２】
いくつかの実施形態において、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＹはフッ素である。典型的に、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＹがフッ素である場合に、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｃ、ｄ及びｇは０である。そのため、これらの実施形態において、ｃ、ｄ及びｇにより括られる基を有さない場合に、ポリフルオロポリエーテルシランは一般式Y-Za-[(OC3F6)b-(OC2F4)e-(CF(CF3))f]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)zを有する。
【００２３】
上記で説明されているように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＹがフッ素である１つの実施形態において、一般式（Ａ）におけるＺは-(CF2)-であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｃ、ｄ、ｆ及びｇは０であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｂ、ｅ、ｈ及びｎは、それぞれ独立して、０よりも大きい整数である。この実施形態の１つの例として、ａは３であり、ｂは少なくとも１であり、ｅは１であり、ｈは１であり、Ｘは酸素原子であり、ｎは３であり、ｍ、ｉ及びｊはそれぞれ０である。この１つの例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式：CF3-CF2-CF2-(O-CF2-CF2-CF2)b-O-CF2-CF2-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si-(X’)3-z(R1)zを有する。従って、Ｘ’により表される加水分解性基が全てアルコキシ基、例えば、メトキシ基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式：CF3-CF2-CF2-(O-CF2-CF2-CF2)b-O-CF2-CF2-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si-(OCH3)3を有する。あるいは、Ｘ’により表される加水分解性基が全てアルキルアミノ基、例えば、N(CH3)2である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式：CF3-CF2-CF2-(O-CF2-CF2-CF2)b-O-CF2-CF2-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si-(N(CH3)2)3を有する。
【００２４】
上述したように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＹがフッ素であり一般式（Ａ）におけるＺが-(CF2)-である別の実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｃ、ｄ、ｆ及びｇは０であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｂ、ｅ、ｈ、ｎ、ｍ、ｉ及びｊは、それぞれ独立して、０よりも大きい整数である。この実施形態の１つの例として、ａは３であり、ｂは少なくとも１であり、ｅは１であり、ｈは１であり、Ｘは酸素原子であり、ｎは３であり、並びにｍ及びｉはそれぞれ１であり、ｊは２である。この１つの例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式：CF3-CF2-CF2-(O-CF2-CF2-CF2)b-O-CF2-CF2-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si(CH3)2-O-Si(CH3)2-CH2-CH2-Si-(X’)3-z(R1)zを有する。従って、Ｘ’により表される加水分解性基が全てアルコキシ基、例えば、メトキシ基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式：CF3-CF2-CF2-(O-CF2-CF2-CF2)b-O-CF2-CF2-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si(CH3)2-O-Si(CH3)2-CH2-CH2-Si(OCH3)3を有する。
【００２５】
上記で説明されているように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＹがフッ素である別の実施形態において、一般式（Ａ）におけるＺは、-(CF(CF3)CF2O)-である。この実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｇは０であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｆ、ｈ及びｎは、それぞれ独立して、０よりも大きい整数である。この実施形態の１つの例として、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｇは０であり、ａは少なくとも１であり、ｆは１であり、ｈは１であり、Ｘは酸素原子であり、ｎは３であり、ｉ、ｍ及びｊはそれぞれ０である。この１つの例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式：F-(CF(CF3)-CF2O)a-CF(CF3)-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si-(X’)3-z(R1)zを有する。従って、Ｘ’により表される加水分解性基が全てアルコキシ基、例えば、メトキシ基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは以下の一般式：F-(CF(CF3)-CF2O)a-CF(CF3)-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si-(OCH3)3を有する。あるいは、Ｘ’により表される加水分解性基が全てアルキルアミノ基、例えば、N(CH3)2基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは以下の一般式：F-(CF(CF3)-CF2O)a-CF(CF3)-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si-(N(CH3)2)3を有する。
【００２６】
直前で説明されているように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＹがフッ素であり一般式（Ａ）におけるＺが-(CF(CF3)CF2O)-である別の実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｇは０であり、ａは少なくとも１であり、ｆは１であり、ｈは１であり、Ｘは酸素原子であり、ｎは３であり、ｍ及びｉはそれぞれ１であり、ｊは２である。この１つの例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式：F-(CF(CF3)CF2O)a-CF(CF3)-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si(CH3)2-O-Si(CH3)2-CH2-CH2-Si-(X’)3-z(R1)zを有する。従って、Ｘ’により表される加水分解性基が全てアルコキシ基、例えば、メトキシ基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは以下の一般式：F-(CF(CF3)CF2O)a-CF(CF3)-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si(CH3)2-O-Si(CH3)2-CH2-CH2-Si(OCH3)3を有する。
【００２７】
他の実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＹは、Si-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-である。典型的に、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＹが、Si-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-である場合に、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｂ、ｃ及びｆは０である。そして、これらの実施形態において、ｂ、ｃ及びｆにより括られる基を有さない場合に、ポリフルオロポリエーテルシランは以下の一般式：Y-Za-[(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)zを有する。
【００２８】
直前で説明されているように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＹがSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-である１つの実施形態において、Ｚは-(CF2)-であり、Ｘは酸素原子であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｂ、ｃ、ｄ及びｆは０であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｅ及びｇは、それぞれ独立して、０よりも大きい整数である。この実施形態の１つの例において、Ｚは-(CF2)-であり、Ｘは酸素原子であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｂ、ｃ、ｄ、ｆ、ｍ、ｉ及びｊは０であり、ｅは少なくとも１であり、ｇは少なくとも１であり、ｈは１であり、Ｘは酸素原子であり、ｎは３である。この１つの例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式：(R1)z(X’)3-zSi-CH2-CH2-CH2-O-CH2-CF2-(OCF2CF2)e-(OCF2)g-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si-(X’)3-z(R1)zを有する。従って、Ｘ’により表される加水分解性基が全てアルコキシ基、例えば、メトキシ基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは以下の一般式：(CH3O)3Si-CH2-CH2-CH2-O-CH2-CF2-(OCF2CF2)e-(OCF2)g-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si-(OCH3)3を有する。あるいは、Ｘ’により表される加水分解性基が全てアルキルアミノ基、例えば、N(CH3)2基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式：((CH3)2N)3Si-CH2-CH2-CH2-O-CH2-CF2-(OCF2CF2)e-(OCF2)g-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Si-(N(CH3)2)3を有する。
【００２９】
あるいは、上記で説明されているように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるＹがSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-である別の実施形態において、Ｚは-(CF2)-であり、Ｘは酸素原子であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｂ、ｃ、ｅ及びｆは０であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）におけるｄ及びｇは、それぞれ独立して、０よりも大きい整数である。
【００３０】
本発明の表面処理組成物は、例えば、有機溶媒のような液状媒体を含んでよい。一般式（Ａ）により表されるポリフルオロポリエーテルシランと、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）により表される含フッ素化合物の濃度は、好ましくは、表面処理組成物の合計重量に基づいて、０．００１重量％〜８０重量％、あるいは、０．１重量％〜６０重量％である。有機溶媒が表面処理組成物と反応しないならば、有機溶媒は、表面処理組成物を好ましくは溶解する様々な溶媒であってよい。有機溶媒の例は、例えば、含フッ素アルカン、含フッ素ハロアルカン、含フッ素芳香族及び／又は含フッ素エーテル（例えば、ハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ））のような含フッ素溶媒を含む。
【００３１】
触媒を必要に応じて用い、本発明の表面処理組成物による表面改質を促進してよい。これらの触媒は、ポリフルオロエーテルシランの加水分解性基と物品表面の間の反応を促進する。これらの触媒を、単独で又は２種類以上の組み合わせとして用いて、本発明の表面改質剤を形成してよい。適切な触媒化合物の例は、酸、塩基、例えば、ジブチル錫ジオクトエート、ステアリン酸鉄及びオクタン酸鉛などのような有機酸の金属塩、チタン酸テトライソプロピル、チタン酸テトラブチルのようなチタン酸エステル、アセチルアセトナト・チタンのようなキレート化合物を含む。任意の触媒を、典型的に、表面処理組成物１００重量部に基づいて、０〜５重量部、あるいは、０．０１〜２重量部の量で用いる。
【００３２】
表面処理組成物は、例えば、カップリング剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、色素、触媒などの任意の適切な他の成分を追加的に含んでよい。
【００３３】
上記のように、本発明は、ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物の製造方法も提供する。いくつかの実施形態において、本発明の方法により製造されるポリフルオロポリエーテルシランは、上述した一般式（Ａ）により示されるポリフルオロポリエーテルシランである。しかしながら、本発明の方法により製造されるポリフルオロポリエーテルシランは、本発明の方法に用いる反応剤に応じて、一般式（Ａ）により示されるポリフルオロポリエーテルシランの構造とは異なる構造を有してよいということを理解されたい。
【００３４】
本発明の方法により製造されるポリフルオロポリエーテルシランが以下の一般式（Ｇ）：
Y-Z’a’-[(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-Si-(X’)3-z(R1)z
［式中、Ｚ’が-(CF2)-であり；
ａ’が１〜３の整数であり；
ｂ、ｅ及びｇが、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり；
ｈ及びｎが、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり；
Ｘが、二価有機基又は酸素原子であり；
ｚが、０〜２から独立して選択される整数であり；
Ｘ’が、独立して選択される加水分解性基であり；
Ｒ１が、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず１〜２２までの炭素原子を有する加水分解性基であり；Ｙがフッ素である。］
を有する場合に、以下の一般式（Ｂ）：
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F    （Ｂ）
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、少なくとも２５モル％の量で、表面処理組成物中に存在する。この場合において、例えば、ポリフルオロポリエーテルシランが上記の一般式（Ｇ）を有する場合に、一般式（Ｂ）においてａは１〜３であり、ｂ、ｅ及びｇは上記のとおりであることを理解されたい。
【００３５】
本発明の方法は、少なくとも１つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物を準備する（用いる）工程を含む。本発明の方法は、ヒドロシラン化合物を準備する（用いる）工程も含む。加えて、本発明の方法は、ヒドロシリル化触媒を準備する（用いる）工程を含む。本発明の方法は、異性体減少剤を準備する（用いる）工程を更に含む。本発明の方法は、ヒドロシリル化触媒及び異性体減少剤の存在下において、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物を反応させて、ポリフルオロポリエーテルシラン及び表面処理組成物を製造する工程も含む。これらの方法の工程のそれぞれは、以下に更に詳細に記載される。
【００３６】
上記で説明されているように、本発明の方法は、少なくとも１つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物を準備する工程を含む。いくつかの実施形態において、少なくとも１つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物が、以下の一般式（Ｄ）：
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’’H2n’’)-CR5=CR5H
を有する。一般式（Ｄ）において、Ｙ’は、フッ素及びCR5H=CR5-(Cn’’H2n’’)-X-(CH2)h-から選択され；ｎ’’は、０〜１６から独立して選択される整数であり；Ｒ５は、水素原子及びメチル基から独立して選択され；及びＺ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ及びＸは上記のとおりである。ｎ’’により表される基、即ち、(Cn’’H2n’’)基は、また、独立して、直鎖状又は分岐状であってよいことを理解されたい。例えば、ｎ’’が３である場合に、これらの基は、構造-CH2-CH2-CH2-、-CH(CH3)-CH2-、又は-CH2-CH(CH3)-を独立して有してよく、後者の２つの構造は、ペンダントアルキル基を有し、即ち、これらの構造は、分岐状であり、直鎖状ではない。一般式（Ｄ）においてｂ〜ｇにより括られる基、即ち、角括弧内の基は、パーフルオロポリエーテル含有化合物内の任意の順番であってよく、上記及び本明細書全体を通して一般式（Ａ）に表される順番とは異なる順番を含むことを理解されたい。
【００３７】
一般式（Ｄ）において説明するように、少なくとも１つの脂肪族不飽和基は、典型的に、エチレン系不飽和基である。典型的に、エチレン系不飽和基は、パーフルオロポリエーテル含有化合物の末端基である。しかしながら、脂肪族不飽和基は、また、パーフルオロポリエーテル含有化合物の主鎖から側基（ペンダント基）として存在してよいということを理解されたい。加えて、上述したように、一般式（Ｄ）において、パーフルオロポリエーテル含有化合物は、単官能基であってよく、即ち、１つの脂肪族不飽和基を含んでよく、又は二官能基であってよく、即ち、２つの脂肪族不飽和基を含んでよい。パーフルオロポリエーテル含有化合物が二官能である場合に、脂肪族不飽和基は、典型的に、パーフルオロポリエーテル含有化合物の末端に位置している。
【００３８】
本発明の方法は、ヒドロシラン化合物を準備する工程も含む。いくつかの実施形態において、ヒドロシラン化合物は、Ｘ’、Ｒ１及びｚが上記に規定されている以下の一般式（Ｅ）H-Si(X’)3-z(R1)zを有する。あるいは、他の実施形態において、ヒドロシラン化合物はヒドロシロキサンを含む。ヒドロシラン化合物がヒドロシロキサンを含む実施形態において、ヒドロシロキサンは、Ｒ、ｍ、ｉ、ｊ、Ｘ’、ｚ及びＲ１が上記のとおりである以下の一般式（Ｆ）H-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)zを典型的に有する。一般式（Ａ）におけるｉが少なくとも１である場合に、典型的に、ヒドロシラン化合物はヒドロシロキサンを含む。
【００３９】
いくつかの実施形態において、上記の一般式（Ｅ）におけるＸ’により表される加水分解性基は、ハロゲン原子から独立して選択される。これらの実施形態において、ｚは、ヒドロシランがそこに結合されている３つのハロゲン原子を有するように典型的に０である。１つの例として、ヒドロシランは、多くの供給者から市販されているトリクロロシランであってよい。
【００４０】
ヒドロシリル化触媒は、触媒の第ＶＩＩＩ族の遷移金属を典型的に含む。例えば、ヒドロシリル化触媒は、白金又はロジウムを典型的に含む。ヒドロシリル化触媒が白金を含む場合に、ヒドロシリル化触媒は、１,３−ジビニル−１,１,３,３-テトラメチルジシロキサンとの白金錯体として又は塩化白金酸として、あるいはロジウムを含む場合にトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（I）クロリドとして典型的に準備される。しかしながら、他のヒドロシリル化触媒を、本発明の方法においてその範囲から逸脱せずに用いてよいことを理解されたい。
【００４１】
ヒドロシリル化触媒が白金錯体を含む場合に、パーフルオロポリエーテル含有化合物１モルに基づいて、０．００１〜１００ミリモル、あるいは、０．００１〜５０ミリモル、あるいは、０．０１〜１０ミリモルの量で白金を供給する量で、ヒドロシリル化触媒を典型的に用いる。
【００４２】
上記のように、本発明の方法は、異性体減少剤を準備する工程も含む。いくつかの実施形態において、異性体減少剤はカルボン酸化合物を含む。カルボン酸化合物は、（ａ）カルボン酸、（ｂ）カルボン酸の無水物、（ｃ）シリル化カルボン酸、及び／又は（ｄ）本発明の方法の反応における反応又は分解により上記のカルボン酸化合物（即ち、（ａ）、（ｂ）及び／又は（ｃ））を生成する物質を含んでよい。これらのカルボン酸化合物の１または２以上の混合物を異性体減少剤として用いてよいことを理解されたい。例えば、シリル化カルボン酸は、異性体減少剤としてカルボン酸の無水物と組み合わせて用いてよい。加えて、１または２種類以上のカルボン酸化合物の混合物を異性体減少剤として用いてよい。例えば、２種類の異なるシリル化カルボン酸を同時に用いてよく、又は２種類のシリル化カルボン酸を、カルボン酸の無水物と同時に用いてよい。
【００４３】
異性体減少剤が（ａ）カルボン酸を含む場合に、カルボキシ基を有するいずれかのカルボン酸を用いてよい。カルボン酸の適切な例は、飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸、モノカルボン酸、及びジカルボン酸を含む。飽和又は不飽和の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、水素原子などは、これらのカルボン酸におけるカルボキシ基以外の部分として通常選択される。適切なカルボン酸の具体例は、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ｎ−酪酸、イソ酪酸、ヘキサン酸、シクロヘキサン酸、ラウリン酸、及びステアリン酸などの飽和モノカルボン酸；シュウ酸及びアジピン酸などの飽和ジカルボン酸；安息香酸及びｐ−フタル酸などの芳香族カルボン酸；クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−クロロ安息香酸、及びトリメチルシリル酢酸などの、これらのカルボン酸の炭化水素基の水素原子がハロゲン原子又は有機シリル基で置換されているカルボン酸；アクリル酸、メタクリル酸、及びオレイン酸などの不飽和脂肪酸；カルボキシ基に加えて、ヒドロキシ基、カルボニル基、又はアミノ基を有する化合物、即ち、乳酸などのヒドロキシ酸、アセト酢酸などのケト酸、グリオキシル酸などのアルデヒド酸、及びグルタミン酸などのアミノ酸を含む。
【００４４】
異性体減少剤が、（ｂ）カルボン酸の無水物を含む場合に、カルボン酸の無水物の適切な例は、酢酸無水物、プロピオン酸無水物及び安息香酸無水物を含む。これらのカルボン酸の無水物は、反応系において反応又は分解により得られてよく、塩化アセチル、塩化ブチリル、塩化ベンゾイル、及び他のカルボン酸ハロゲン化物、並びに例えば、酢酸亜鉛、酢酸タリウムなどのカルボン酸金属塩、及び例えば、(２−ニトロベンジル)プロピオネートのような光又は熱により分解されるカルボン酸エステルを含む。
【００４５】
異性体減少剤が（ｃ）シリル化カルボン酸を含む実施形態において、シリル化カルボン酸の適切な例は、例えば、トリメチルシリルホルメート、トリメチルシリルアセテート、トリエチルシリルプロピオネート、安息香酸トリメチルシリル及びトリフルオロ酢酸トリメチルシリルのようなトリアルキルシリル化カルボン酸；及び例えば、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ジ−ｔ−ブトキシジアセトキシシラン、及びシリコンテトラ安息香酸塩などのジ−、トリ−又はテトラカルボキシシリレートである。
【００４６】
異性体減少剤は、用いられる少なくとも１つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物の合計量に基づいて、０．００１〜２０重量％、あるいは、０．０１〜５重量％、あるいは、０．０１〜１重量％の量で典型的に用いる。異性体減少剤として適切な市販のシリル化カルボン酸の例は、Dow Corning Corporation（Midland、MI在）から市販されているDOW CORNING（登録商標）ETS 900又はXIAMETER（登録商標）OFS-1579 Silane（エチルトリアセトキシシランとメチルトリアセトキシシランの混合物）である。
【００４７】
上述したように、本発明の方法は、ヒドロシリル化触媒及び異性体減少剤の存在下において、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物を反応させる工程を含む。ヒドロシリル化触媒を、一度に全て追加でき、又は時間をかけて徐々に追加してよい。あるいは、ヒドロシリル化触媒を連続して追加してよい。典型的に、ヒドロシリル化触媒を、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物の反応混合物に、時間をかけて徐々に追加する。パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物の反応混合物にヒドロシリル化触媒を追加する時刻の間隔は、変化でき、限定されるものではないが、反応を完了させるのに必要な時間、パーフルオロポリエーテル含有化合物及び特定のヒドロシラン化合物の相対量などを含む多くの要因に依存し得るということを理解されたい。
【００４８】
当業者に容易に理解されるように、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物は、ヒドロシリル化触媒及び異性体減少剤の存在下において、ヒドロシリル化反応を行う。ヒドロシリル化反応に用いられる反応の工程及び成分を含む反応条件は、当業者により認識されるように、一般式（Ａ）により表されるポリフルオロポリエーテルシランにおける所望の加水分解性基Ｘ’に基づいて、典型的に選択されることを理解されたい。一般式（Ａ）により表されるポリフルオロポリエーテルシランにおける１以上の加水分解性基Ｘ’を、より好ましくあり得る異なる加水分解性基と独立して交換してよいということは当業者により容易に理解される。例は、過剰のアルキルアミンと塩素化ポリフルオロポリエーテルシランの反応であり、アルキルアミン加水分解性基を有するポリフルオロポリエーテルシランを生成する。
【００４９】
パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシランの間のヒドロシリル化反応は、適切な時間間隔及び温度において過剰の水素化ケイ素を用いて反応させ、反応を完了させることにより典型的に行われる。パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシランのモル比は、典型的に、１：１〜１：５、あるいは、１：１．２〜１：３である。溶媒は混合を促進するように追加されるということを理解されたい。核磁気共鳴（ＮＭＲ）又は赤外（IR）分光法のような様々な計測方法を用いて、反応進行をモニターしてよい。過剰の水素化ケイ素を、真空蒸留により反応生成物から容易に除去できる。
【００５０】
パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物の間の反応中に、パーフルオロポリエーテル含有化合物は、容易に異性化し、下付き、基、及び置換基が上記のとおりである以下の一般式（Ｃ）：Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3により表される異性体になる。特に、パーフルオロポリエーテル含有化合物は、パーフルオロポリエーテル含有化合物の１つ又は両方の末端に、少なくとも１つのエチレン系不飽和基を一般に含む。しかしながら、一般式（Ｃ）に示すように、化合物のヒドロシリル化の間に、パーフルオロポリエーテル含有化合物から生成した異性体は、その末端にエチレン系不飽和基を含まない。むしろ、一般式（Ｃ）により示される異性体は、異性体自体の主鎖においてエチレン系不飽和基を含み、末端は、典型的に、一価のアルキル基である。特に、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物の間の反応は、典型的に、異性体減少剤の不存在下において、表面処理組成物の合計量に基づいて、４０モル％より多い量で、あるいは、５０モル％より多い量で、あるいは、６０モル％より多い量で、得られる表面処理組成物中に存在し一般式（Ｃ）により表される異性体を生成する。異性体のエチレン系不飽和基の位置に起因して、異性体はヒドロシランと容易に反応せず、異性体は、ポリフルオロポリエーテルシランと表面処理組成物を製造した後に表面処理組成物中に残る。異性体は、例えば、耐久性のような表面処理組成物の物理特性に望ましくない影響を与える。
【００５１】
しかしながら、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシランを異性体減少剤の存在下で反応させる場合に、表面処理組成物が、望ましいポリフルオロポリエーテルシランのより多い量を有するように、生成した異性体の量が顕著に減少する。特に、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシランを異性体減少剤の存在下で反応させる場合に、一般式（Ｃ）により表される異性体は、表面処理組成物の合計量に基づいて、４０モル％未満、あるいは、３０モル％未満、あるいは、２５モル％未満の量で、典型的に存在する。
【００５２】
上記のように、本発明は、表面処理した物品を更に提供する。表面処理した物品は、表面を有する物品を含む。層は物品表面上に形成されている。層は本発明の表面処理組成物から形成されている。
【００５３】
物品は、任意の物品であってよい。しかしながら、本発明の表面処理組成物から得られる優れた物理特性に起因して、物品は、典型的に電子物品、光学物品、消費器具（家電）及び部品、自動車の本体及び部品などである。最も典型的に、物品は、指紋又は皮脂から生じる汚れ及び／又は汚染を減少させることが望ましい物品である。
【００５４】
電子物品の例は、例えば、ＬＣＤディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、ＯＬＥＤディスプレイ、プラズマディスプレイなどの電子ディスプレイを有する電子物品を典型的に含む。これらの電子ディスプレイは、例えば、コンピューターモニター、テレビ、スマートフォン、ＧＰＳユニット、音楽プレイヤー、遠隔制御、ポータブルリーダーのような様々な電子機器に頻繁に用いられている。例示的な電子物品の例は、会話型タッチ−スクリーン・ディスプレイ、又は肌と頻繁に接触し、ディスプレイの汚染及び／又は汚れをしばしばもたらす他の部品を有するものを含む。
【００５５】
上記で説明されるように、物品は、例えば、消費家電及び部品のような金属物品であってもよい。例えば、物品は、食器洗浄機、ストーブ、電子レンジ、冷蔵庫、冷凍庫などであってよい。これらの実施形態において、消費家電及び部品は、例えば、ステンレス鋼、ブラッシュド・ニッケル（磨きニッケル）などの光沢金属外観を有するものである。
【００５６】
あるいは、物品は、自動車の本体又は部品であってよい。例えば、表面処理組成物は、層を形成するように、自動車本体のトップコート上に直接適用でき、該層は、光沢外観を自動車本体に与え、審美的に魅力的であり、埃などのような汚れ、及び指紋からの汚染に侵されない。
【００５７】
適切な光学物品の例は、例えば、ガラス板、無機層を含んでなるガラス板、およびセラミックなどの無機材料を含む。適切な光学物品の追加的な例は、例えば、透明プラスチック材料、及び無機層を含む透明プラスチック材料などの有機材料を含む。光学物品の具体例は、反射防止フィルム、光学フィルタ、光学レンズ、眼鏡レンズ、ビームスプリッタ、プリズム、鏡などを含む。
【００５８】
無機材料の例は、ガラス板を含む。無機層を含むガラス板を形成するための無機化合物の例は、金属酸化物（例えば、二酸化ケイ素、一酸化ケイ素などの酸化ケイ素）、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）などを含む。
【００５９】
このような無機化合物を含む無機層又は無機材料は、単層又は多層であってよい。無機層は、反射防止層として機能し、例えば、ウェットコーティング法、ＰＶＤ（物理蒸着）法、ＣＶＤ（化学蒸着）法などの既知の方法により形成されてよい。ウェットコーティング法の例は、浸漬コーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法などの方法を含む。ＰＶＤ法の例は、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの方法を含む。
【００６０】
有機材料のなかで、透明プラスチック材料の例は、様々な有機ポリマーを有する材料を含む。透明性、屈折率、多分散度などの光学特性、並びに耐衝撃性、耐熱性及び耐久性などの様々な他の特性の観点から、光学部材として用いられる材料は、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレンなど）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリアミド（ナイロン６、ナイロン６６など）、ポリスチレン、塩化ポリビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、セルロース（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファンなど）、又はこのような有機ポリマーのコポリマーを通常含む。これらの材料は、眼科用要素に用いてよいことを理解されたい。眼科用要素の例は、限定されるものではないが、矯正及び非矯正レンズを含み、単焦点、又は二重焦点、三重焦点及び累進多焦点レンズなどの多焦点のレンズを含んでおり、該レンズは、セグメント化されてよく又はセグメント化されなくてよく、並びに視界を矯正、保護又は向上するように用いる他の要素であってよく、限定なしに、接触レンズ、眼内レンズ、拡大レンズ及び保護的レンズ又はバイザーを含む。眼科用要素に好ましい材料は、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート及びポリカーボネートのコポリマー、ポリオレフィン、特に、ポリノルボルネン、ジエチレングリコール−ビス（アリルカーボネート）ポリマー（CR39として知られるもの）及びコポリマー、（メタ）アクリルポリマー及びコポリマー、特に、ビスフェノールＡから誘導される（メタ）アクリルポリマー及びコポリマー、チオ（メタ）アクリルポルマー及びコポリマー、ウレタン及びチオウレタンのポリマー及びコポリマー、エポキシポリマー及びコポリマー、及びエピスルフィドポリマー及びコポリマーから選択される１以上のポリマーを含む。
【００６１】
このような光学物品に加えて、本発明の表面処理組成物は、例えば、自動車用又は航空機用窓部材などの他の物品上に層を形成するように適用でき、従って、進化した機能性をもたらす。表面硬度を更に改善するように、表面処理組成物及びＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）の組み合わせを用いて、所謂ゾル−ゲル処理により表面改質を行うことも可能である。
【００６２】
本発明の表面処理組成物は、優れた撥液性を有し、従って、リソグラフィー及び機器形成に適用してよい。層を表面処理組成物のウェットコーティング法及び／又はドライコーティング法によって形成してよい。
【００６３】
ウェットコーティング法の具体例は、浸漬コーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法などの方法を含む。
【００６４】
ドライコーティング法の具体例は、真空蒸着法、ＰＶＤ法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などの方法を含む。真空蒸着法の具体例は、抵抗加熱法、電子ビーム法、高周波熱法、イオンビーム法などの方法を含む。ＣＶＤ法の例は、プラズマＣＶＤ法、光学ＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法などの方法を含む。
【００６５】
特に、物品表面上に表面処理組成物を堆積して層を形成する方法は、ウェット又はドライコーティング法に限定されない。例えば、層は、大気圧プラズマ法又は真空蒸着法によるコーティングを用いて形成してよい。
【００６６】
ウェットコーティング法を用いる場合に、希釈溶媒を、表面処理組成物に典型的に用いる。これらの希釈溶媒の具体例は、５〜１２の炭素原子を有するパーフルオロ脂肪族炭化水素、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、及びパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン；ポリフッ素化芳香族炭化水素、例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン；ポリフッ素化脂肪族炭化水素、パーフルオロブチルメチルエーテル及び同様のＨＥＦなどを含む。このような溶媒は、単独で又は２以上の混合物として用いてよい。典型的に、複雑な形状及び／又は大きい面積を有する材料のためにウェットコーティング法を用いる。
【００６７】
層を、表面処理組成物から物品表面上に形成する場合、層に、加熱、加湿、触媒後処理、光照射、電子ビーム照射などを更に付してよい。
【００６８】
典型的に、表面処理組成物から形成される層の厚さは、１〜５０００ｎｍ、あるいは、１〜２００ｎｍ、あるいは、１〜２０ｎｍ、あるいは、１〜１０ｎｍである。
【００６９】
本発明のポリフルオロポリエーテルシランの製造方法を示す以下の例は、本発明を説明すること及び限定しないことが意図される。添付の特許請求の範囲は、詳細な説明に記載される特別の及び特定の化合物、組成物又は方法に限定されず、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内にあるいくつかの実施形態の間で変化してよいことを理解されたい。様々な実施形態の特定の特徴又は態様を記載するために本明細書に記載のマーカッシュ群に関して、異なる、特別な及び／又は予想されない結果が、全ての他のマーカッシュ要素から独立した個々のマーカッシュ群の各要素から得られることを理解されたい。マーカッシュ群の各要素は、個別に及び／又は組み合わせて用いてよく、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内におけるいくつかの実施形態のために適切なサポートを与える。
【００７０】
本発明の様々な実施形態を記載されたいずれかの範囲及び下位範囲は、また、独立して及び集合して、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内にあり、たとえ、このような値が本明細書に明確に記載されていない場合でも、全体の及び／又は部分の値を含む全ての範囲を記載及び意図するということを理解されたい。当業者は、列挙された範囲及び下位範囲が、本発明の様々な実施形態を充分に記載し及び実施可能にし、このような範囲及び下位範囲が、関連した半分、３分の１、４分の１及び５分の１などに更に区分けされてよいということを容易に理解する。ただ１つの例として、「０．１〜０．９の」範囲が、下部３分の１、即ち、０．１〜０．３、中部３分の１、即ち、０．４〜０．６、及び上部３分の１、即ち、０．７〜０．９に更に区分けされてよく、独立して及び集合して、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内にあり、独立して及び集合して用いてよく、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内にある具体的な実施形態のために適切なサポートを与える。加えて、「少なくとも」、「よりも多く」、「未満」及び「以下」などのような範囲を規定又は修飾する用語に関して、このような用語は下位範囲及び／又は上限値又は下限値を含むということを理解されたい。別の例として、「少なくとも１０」の範囲は、少なくとも１０〜３５の下位範囲、少なくとも１０〜２５の下位範囲、及び２５〜３５の下位範囲などを本質的に含んでおり、それぞれの下位範囲を、独立して及び／又は集合して用いてよく、特許請求の範囲の技術的範囲内における具体的な実施形態のために適切なサポートを与える。最後に、開示した範囲における独立した要素を用いてよく、特許請求の範囲の技術的範囲内における具体的な実施形態のための適切なサポートを与える。例えば、「１〜９の」範囲は、様々な独立した整数、例えば、３、及び小数点（又は分数）を含む独立した数、例えば、４．１を含んでおり、それを用いてよく、及び特許請求の範囲の技術的範囲内における具体的な実施形態のための適切なサポートを与える。
【実施例】
【００７１】
実施例１〜６及び比較例１
【００７２】
実施例１〜６及び比較例１において、ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物を製造する１つの方法が記載され、ここで、ポリフルオロポリエーテルシランの加水分解性基はアルコキシ基である。以下に記載され表１に示されるように、実施例１〜６及び比較例１は、異性体減少剤の相対量を除いて、同じである。従って、実施例１〜６と比較例１について、以下に記載される方法を、異性体減少剤の有／無又は相対量を除いて、繰り返す。
【００７３】
攪拌機、デジタル温度計、還流凝縮器及び乾燥窒素パージを備えた１００ｍｌの四つ口フラスコに、２０ｇ（約４．９ミリモル）のアリルオキシ末端パーフルオロポリエーテル、１.５ｇ（１１．１ミリモル）のトリクロロシラン、１０ｇの反応溶媒、及び異性体減少剤（比較例１は除く。比較例１は異性体減少剤を含まなかった。）を加え、反応混合物を生成した。アリルオキシ末端パーフルオロポリエーテルは、Ｍｎ＝４１１０である一般式F(CF2CF2CF2O)xCF2CF2CH2OCH2CH=CH2を有し、３０モル％の量で一般式（Ｂ）で表される含フッ素化合物を含有した。アリルオキシ末端パーフルオロポリエーテルに対する異性体減少剤の量を表１に示す。反応混合物を、１５０ｒｐｍで攪拌し、６０℃に加熱した。０．５ｍｇの白金（４重量％Ｐｔ）と１，３−ジエテニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの錯体を４時間に亘って６０℃で反応混合物に徐々に加えた。反応混合物を室温に冷却した。反応溶媒及び残留トリクロロシランを真空ストリッピングにより除去した。次いで、オルトギ酸トリメチル（３０ｇ（２８３ミリモル））とメタノール（３５０ｍｇ（１１.１ミリモル））の混合物をフラスコに入れた。フラスコの温度を６５℃に維持して、クロロシランのメトキシ化を促進した。７時間後に、反応混合物を３０℃に冷却した。余分な反応剤及び生成した副生成物を真空ストリッピングにより除去した。０．１ｇの乾燥した活性炭をストリッピング残留物に追加して、室温で６時間に亘りエージングした。活性炭を濾過により除去し、２１．０ｇの濾液を収集した。ポリフルオロポリエーテルシラン、異性体化したパーフルオロポリエーテル化合物、及び一般式（Ｂ）により表される含フッ素化合物（非反応性である）の相対量を含めて、結果を以下の表１に示す。
【００７４】
【表１】
0005922142.tif 000002
【００７５】
実施例１〜６と比較例１において、少なくとも１つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物は、アリルオキシ末端パーフルオロポリエーテルと、３０モル％の一般式（Ｂ）により表される含フッ素化合物（非反応性である）である。
【００７６】
ヒドロシラン化合物はトリクロロシランである。
【００７７】
異性体減少剤はシリル化カルボン酸化合物であり、ダウコーニングコーポレイション（Midland、MI在）から商標名Dow Corning（登録商標）ETS 900（エチルトリアセトキシシランとメチルトリアセトキシシランの混合物）で市販されている。
【００７８】
ヒドロシリル化触媒は、白金（４重量％Ｐｔ）と、１，３−ジエテニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの錯体である。
【００７９】
ＰＦＸにより表される反応溶媒はパーフルオロキシレンである。
【００８０】
ＰＦＨにより表される反応溶媒はパーフルオロヘキサンである。
【００８１】
ＨＦＥにより表される反応溶媒はｎ−パーフルオロプロピルエチルエーテルである。
【００８２】
表１に明確に示されるように、実施例１〜６は、比較例１よりもずっと大きな収率の特定のポリフルオロポリエーテルシランを有した。実施例１〜６の表面処理組成物が、ポリフルオロポリエーテルシランのより大きな収率を有しただけでなく、これらの表面処理組成物は、ずっと少ない異性化したパーフルオロポリエーテル化合物を有した。実施例１〜６により得られるこれらの優れた結果は、異性体減少剤に起因しており、異性体減少剤は実施例１〜６に用いられているが、比較例１に用いられていない。比較例１において、表面処理組成物は、約４２モル％の異性化したパーフルオロポリエーテル化合物（一般式（Ｃ）により表される含フッ素化合物として上述されている）を有した。対照的に、実施例１〜６の表面処理組成物は、１５．７モル％以下の異性化したパーフルオロポリエーテル化合物を有した。
【００８３】
実施例７及び比較例２
【００８４】
実施例１〜６及び比較例１で用いられたポリフルオロポリエーテルシランの製造方法を、実施例７及び比較例２で繰り返した。しかしながら、実施例７及び比較例２において、ヒドロシラン化合物は、実施例１〜６及び比較例１の方法に用いるトリクロロシランではなく、トリメトキシシランである。そして、実施例７と比較例２において、用いられるヒドロシラン化合物が、アルコキシ加水分解性基を有するポリフルオロポリエーテルシランをもたらすので、クロロシランをメトキシ化する工程を行わない。実施例７において、用いるパーフルオロポリエーテル含有化合物の合計量に対して０．２％の異性体減少剤を用いた。比較例２において異性体減少剤は用いなかった。実施例７及び比較例２から得られた結果を以下の表２に示す。
【００８５】
【表２】
0005922142.tif 000003
【００８６】
表２に明確に示すように、実施例７は、比較例２よりもずっと大きな収率の特定ポリフルオロポリエーテルシランを有した。実施例７の表面処理組成物はポリフルオロポリエーテルシランのより大きな収率を有しただけでなく、この表面処理組成物は、ずっと少ない異性化したパーフルオロポリエーテル化合物を有した。実施例７により得られたこれらの優れた結果は、異性体減少剤に起因しており、異性体減少剤は、実施例７に用いられているが、比較例２には用いられていない。比較例２において、表面処理組成物は、４２．５モル％の異性化したパーフルオロポリエーテル化合物（一般式（Ｃ）により表される含フッ素化合物として記載されている）を含有した。対照的に、実施例７の表面処理組成物は、１２．７モル％だけの異性化したパーフルオロポリエーテル化合物を含有した。
【００８７】
実施例８
【００８８】
実施例１〜６及び比較例１に用いるポリフルオロポリエーテルシランの製造方法を、実施例８でも繰り返した。しかしながら、実施例８におけるヒドロシリル化触媒は、アルミナ担持白金である。加えて、実施例８において、用いるパーフルオロポリエーテル含有化合物の量に対して０．４％の異性体減少剤を用いる。また、実施例８から得られたポリフルオロポリエーテルシランはアルコキシ加水分解性基を含む。実施例８から得られた結果を以下の表３に示す。
【００８９】
【表３】
0005922142.tif 000004
【００９０】
上記に、表３に明確に示すように、実施例８において、表面処理組成物におけるポリフルオロポリエーテルシランの収率は６０．９モル％であり、異性化したパーフルオロポリエーテル化合物は９．１モル％の量でのみ表面処理組成物中に存在した。
【００９１】
実施例９
【００９２】
実施例１〜６と比較例１に用いるポリフルオロポリエーテルシランの製造方法を、実施例９でも繰り返した。しかしながら、実施例９におけるヒドロシリル化触媒は、白金（２３重量％Ｐｔ）と１，３ージエテニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの錯体であり、合計で０．００３グラムであった。加えて、実施例９において、用いるパーフルオロポリエーテル含有化合物の量に対して０．２％の異性体減少剤を用いた。アルコキシ加水分解性基を与えるメトキシ化の代わりに、トリクロロシランによるヒドロシリル化を行い、真空ストリッピングにより余分な反応剤及び反応溶媒を除去し、過剰のジメチルアミンによりポリフルオロポリエーテルトリクロロシランをアミノ化した。そのため、実施例９で製造したポリフルオロポリエーテルシランは、トリス（ジメチルアミノ）加水分解性基を有した。実施例９で用いるアミノ化法を直下に記載する。
【００９３】
攪拌機、温度計、ドライアイス還流濃縮器及び乾燥窒素ヘッドスペース・パージを備えた２５０ミリリットルの三つ口フラスコに、７５グラム（約１８ミリモル）のトリクロロシリル末端のパーフルオロポリエーテル及び１９５グラムのパーフルオロヘキサン溶媒を追加した。無水のジメチルアミン（アルドリッチケミカルカンパニー（Milwaukee、WI在）から市販されている）を、４０．２グラム（約８９３ミリモル）追加するまでヘッドスペースに供給し、フラスコの内容物を６℃に冷却した。フラスコを窒素ヘッドスペース・パージ下で攪拌し、ドライアイスを還流濃縮機から気化させて、反応混合物を１６時間に亘って周辺温度までゆっくりと暖めた。塩のスラリーを濾過して、濾液としてトリス（ジメチルアミノ）官能性ポリフルオロポリエーテルシランを単離した。溶媒を真空ストリッピングにより除去した。実施例９から得られた結果を以下の表４に示す。
【００９４】
【表４】
0005922142.tif 000005
【００９５】
上記の表４に明確に示すように、実施例９において、表面処理組成物におけるポリフルオロポリエーテルシランの収率は６０.８モル％であり、異性化したポリフルオロポリエーテル化合物は、９．２モル％の量でのみ表面処理組成物中に存在した。
【００９６】
材料の評価
【００９７】
上記で形成した特定表面処理組成物から形成した層の物理特性を測定する。実施例４と比較例１の表面処理組成物から形成した層の物理特性を測定するために、ガラスをコロナ放電により予め洗浄した。０．１４トールの圧力にある真空チャンバーは、それぞれの表面処理組成物を含むルツボとガラス基材との両方を有する。ルツボ温度を９０分で３１０℃に上昇させ、表面処理組成物を蒸発させた。コーティングしたガラス基材をチャンバーから取り出した後に、表面を微細繊維布により乾燥拭きした。
【００９８】
実施例４と比較例１の表面処理組成物から形成した層の接触角及び転落角を、協和界面科学株式会社から商標名CA-DTで市販されている接触角計により測定した。特に、１マイクロリットルの水滴を用いて、接触角を測定し、２０マイクロリットルの水滴を用いて、転落角を測定した。以下の表５に示すように、初期の水の接触角を測定し、ガラス表面をパーフルオロヘキサンにより洗浄し、接触角を再測定した。以下の表５において、相違は、２つの測定の間の差のことを言い、実施例４の表面処理組成物に関して表面の結合における改善を示す。
【００９９】
【表５】
0005922142.tif 000006
【０１００】
以下の表６において、実施例４と比較例１の表面処理組成物から個別に形成した層について、増加する摩耗サイクルの関数として、水転落角を測定した。これらの層は、上述した物理蒸着法により形成した。処理したガラスを、BEMCOT（登録商標）M-3II(旭化成せんい株式会社から市販されている)でラビングした（擦った）。負荷は５００ｇ／ｃｍ２であった。
【０１０１】
【表６】
0005922142.tif 000007
【０１０２】
上記の表６に明確に示すように、実施例４の表面処理組成物から形成した層は、比較例１の表面処理組成物から形成した層よりもずっと低い初期転落角を有した。更に、実施例４の表面処理組成物から形成した層は、様々なラビングサイクルにおける転落角により明らかなように、比較例１の表面処理組成物から形成した層に比較して優れた耐久性を有した。
【０１０３】
本発明は、説明のために本明細書に記載されており、用いた術語は、限定のためではなくて、説明のための用語の範疇に本質的に入ることが意図されることを理解されたい。明らかに、本発明の多数の改良及び変形は上記の教示を考慮すると可能である。本発明は、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内において、具体的に記載されたものとは異なった形態で実施できる。