(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁層上に形成された複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置において、
前記有機ＥＬ素子が、前記絶縁層上に形成された、第１電極と、第１電荷輸送層と、発光層と、第２電荷輸送層と、第２電極とをこの順で有し、
前記第１電極は前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに形成されており、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層と第２電極とが前記複数の有機ＥＬ素子に渡って連続して形成されており、
前記第一電極と他の前記第一電極との間に配置されている溝を有し、
前記有機ＥＬ素子を第二電極側から俯瞰した俯瞰図において、前記溝の一辺が前記第一電極の一辺と一致し、
前記溝の深さは前記第１電荷輸送層の膜厚より大きく、
前記溝の深さと前記第１電極の膜厚の合計は、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層の膜厚の合計よりも小さいことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
絶縁層上に形成された発光色が互いに異なる複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置において、
前記有機ＥＬ素子が、前記絶縁層上に形成された、第１電極と、第１電荷輸送層と、発光色に応じた発光層と、第２電荷輸送層と、第２電極とをこの順で有し、
前記第１電極は前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに形成されており、前記第１電荷輸送層と第２電荷輸送層と第２電極とが複数の有機ＥＬ素子に渡って連続して形成されており、
前記第１電荷輸送層の膜厚は、前記有機ＥＬ素子の発光色によって異なっており、
前記第一電極と他の前記第一電極との間に配置されている溝を有し、
前記溝の深さは前記第１電荷輸送層の最も薄い膜厚より大きく、
前記溝の深さと前記第１電極の膜厚の合計は、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層の膜厚の合計で最も薄い膜厚よりも小さいことを特徴とする発光装置。
【請求項３】
前記溝は、隣接する有機ＥＬ素子の発光色が異なる場合に、隣接する有機ＥＬ素子の第１電極に相対する第１電極の辺にのみ形成されていることを特徴とする請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記溝が形成された辺において、前記絶縁層の側面よりも前記第１電極の側面が外側に突出していることを特徴とする請求項２又は３に記載の発光装置。
【請求項５】
前記溝の形状は、逆テーパーであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項６】
絶縁層上に形成された複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置において、
前記有機ＥＬ素子が、前記絶縁層上に形成された、第１電極と、第１電荷輸送層と、発光層と、第２電荷輸送層と、第２電極とをこの順で有し、
前記第１電極は前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに形成されており、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層と第２電極とが前記複数の有機ＥＬ素子に渡って連続して形成されており、
前記第一電極と他の前記第一電極との間に配置されている溝を有し、
前記溝が形成された辺において、前記絶縁層の側面よりも前記第１電極の側面が外側に突出しており、
前記溝の深さは前記第１電荷輸送層の膜厚より大きく、
前記溝の深さと前記第１電極の膜厚の合計は、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層の膜厚の合計よりも小さいことを特徴とする発光装置。
【請求項７】
前記溝の形状は、逆テーパーであることを特徴とする請求項６に記載の発光装置。
【請求項８】
絶縁層上に形成された複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置において、
前記有機ＥＬ素子が、前記絶縁層上に形成された、第１電極と、第１電荷輸送層と、発光層と、第２電荷輸送層と、第２電極とをこの順で有し、
前記第１電極は前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに形成されており、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層と第２電極とが前記複数の有機ＥＬ素子に渡って連続して形成されており、
前記第一電極と他の前記第一電極との間に配置されている溝を有し、
前記溝の形状は、逆テーパーであり、
前記溝の深さは前記第１電荷輸送層の膜厚より大きく、
前記溝の深さと前記第１電極の膜厚の合計は、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層の膜厚の合計よりも小さいことを特徴とする発光装置。
【請求項９】
絶縁層上に形成された複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置において、
前記有機ＥＬ素子が、前記絶縁層上に形成された、第１電極と、第１電荷輸送層と、発光層と、第２電荷輸送層と、第２電極とをこの順で有し、
前記第１電極は前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに形成されており、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層と第２電極とが前記複数の有機ＥＬ素子に渡って連続して形成されており、
前記第一電極と他の前記第一電極との間に配置されている溝を有し、
前記有機ＥＬ素子を第二電極側から俯瞰した俯瞰図において、前記溝の一辺が、前記第一電極の一辺と一致または前記第一電極と重なっていることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
前記溝の深さは前記第１電荷輸送層の膜厚より大きく、
前記溝の深さと前記第１電極の膜厚の合計は、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層の膜厚の合計よりも小さいことを特徴とする請求項９に記載の発光装置。
【請求項１１】
撮像素子と、ディスプレイとを有する撮像装置であって、
前記ディスプレイは、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の発光装置を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１２】
ディスプレイを有する画像形成装置であって、
前記ディスプレイは、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の発光装置を有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を用いた発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子を用いた発光装置は基板上に複数の第１電極、発光層を含む複数の有機材料からなる膜、第２電極を順に成膜することで画素を形成する。そして、第１電極と第２電極の間に電圧を印加することにより各電極から電荷を注入し、発光層にて正孔−電子再結合を起こさせ、光を発生させる。一般的に、第１電極は基板上に電気的に独立した状態で複数形成されており、第２電極は複数の第１電極上を覆い形成される。このように、第１電極を電気的に独立させることにより、任意の箇所を選択して発光させることが可能となる。
【０００３】
しかしながら、近年の発光装置の高画素化に伴い、近接する隣接画素間でのリーク電流の問題が顕在化してきており、特許文献１には画素間を区切る絶縁膜のテーパー形状を用いて、このような隣接画素間のリーク電流を抑える方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２７７５９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前述した画素間を区切る絶縁膜を用いたリーク電流抑制方法では、画素間を区切る絶縁膜を形成する必要があり、画素の高精細化には不向きであった。
【０００６】
本発明の課題は、画素間を区切る絶縁膜を用いることなく、隣接画素間のリーク電流を抑制し、高精細化に対応した発光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１は、絶縁層上に形成された複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置において、
前記有機ＥＬ素子が、前記絶縁層上に形成された、第１電極と、第１電荷輸送層と、発光層と、第２電荷輸送層と、第２電極とをこの順で有し、
前記第１電極は前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに形成されており、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層と第２電極とが前記複数の有機ＥＬ素子に渡って連続して形成されており、
前記第一電極と他の前記第一電極との間に配置されている溝を有し、
前記有機ＥＬ素子を第二電極側から俯瞰した俯瞰図において、前記溝の一辺が前記第一電極の一辺と一致し、
前記溝の深さは前記第１電荷輸送層の膜厚より大きく、
前記溝の深さと前記第１電極の膜厚の合計は、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層の膜厚の合計よりも小さいことを特徴とする。
【０００８】
本発明の第２は、絶縁層上に形成された発光色が互いに異なる複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置において、
前記有機ＥＬ素子が、前記絶縁層上に形成された、第１電極と、第１電荷輸送層と、発光色に応じた発光層と、第２電荷輸送層と、第２電極とをこの順で有し、
前記第１電極は前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに形成されており、前記第１電荷輸送層と第２電荷輸送層と第２電極とが複数の有機ＥＬ素子に渡って連続して形成されており、
前記第１電荷輸送層の膜厚は、前記有機ＥＬ素子の発光色によって異なっており、
前記第一電極と他の前記第一電極との間に配置されている溝を有し、
前記溝の深さは前記第１電荷輸送層の最も薄い膜厚より大きく、
前記溝の深さと前記第１電極の膜厚の合計は、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層の膜厚の合計で最も薄い膜厚よりも小さいことを特徴とする。
本発明の第３は、絶縁層上に形成された複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置において、
前記有機ＥＬ素子が、前記絶縁層上に形成された、第１電極と、第１電荷輸送層と、発光層と、第２電荷輸送層と、第２電極とをこの順で有し、
前記第１電極は前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに形成されており、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層と第２電極とが前記複数の有機ＥＬ素子に渡って連続して形成されており、
前記第一電極と他の前記第一電極との間に配置されている溝を有し、
前記溝が形成された辺において、前記絶縁層の側面よりも前記第１電極の側面が外側に突出しており、
前記溝の深さは前記第１電荷輸送層の膜厚より大きく、
前記溝の深さと前記第１電極の膜厚の合計は、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層の膜厚の合計よりも小さいことを特徴とする。
本発明の第４は、絶縁層上に形成された複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置において、
前記有機ＥＬ素子が、前記絶縁層上に形成された、第１電極と、第１電荷輸送層と、発光層と、第２電荷輸送層と、第２電極とをこの順で有し、
前記第１電極は前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに形成されており、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層と第２電極とが前記複数の有機ＥＬ素子に渡って連続して形成されており、
前記第一電極と他の前記第一電極との間に配置されている溝を有し、
前記溝の形状は、逆テーパーであり、
前記溝の深さは前記第１電荷輸送層の膜厚より大きく、
前記溝の深さと前記第１電極の膜厚の合計は、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層の膜厚の合計よりも小さいことを特徴とする。
本発明の第５は、絶縁層上に形成された複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置において、
前記有機ＥＬ素子が、前記絶縁層上に形成された、第１電極と、第１電荷輸送層と、発光層と、第２電荷輸送層と、第２電極とをこの順で有し、
前記第１電極は前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに形成されており、前記第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層と第２電極とが前記複数の有機ＥＬ素子に渡って連続して形成されており、
前記第一電極と他の前記第一電極との間に配置されている溝を有し、
前記有機ＥＬ素子を第二電極側から俯瞰した俯瞰図において、前記溝の一辺が、前記第一電極の一辺と一致または前記第一電極と重なっていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、第１電極の一辺に沿って絶縁層に溝を設けることで、第１電極及び絶縁層の溝の側面で第１電荷輸送層の膜厚を薄くすることができ、隣接画素間でのリーク電流を効果的に抑えることができる。また、係る溝は第１電極とパターンを同じくするため、隣接する画素間で追加の部材が不要で、高画素化することができる。
【００１０】
さらに、本発明では、係る溝と第１電極の膜厚の合計を、第１電荷輸送層と発光層と第２電荷輸送層の膜厚の合計よりも小さくすることで、係る溝のカバレッジ不足を招くことがなく、第１電極と第２電極の短絡も防止される。
【００１１】
また、本発明では上記溝において、絶縁層の側面よりも第１電極の側面を突出させることにより、溝の側面に形成される第１電荷輸送層の膜厚がさらに薄くなるため、より効果的にリーク電流を抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１の実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】図１の実施形態の部分拡大図である。
【図３】本発明の第２の実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【図４】本発明の他の実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明するが、本発明は本実施形態に限定されるものではない。尚、本明細書で特に図示または記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知又は公知技術を適用する。
【００１４】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の発光装置の第１の実施形態の２画素（有機ＥＬ素子）分の構成を模式的に示す断面図である。
【００１５】
本発明は、絶縁層上に複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置である。本実施形態では、有機ＥＬ素子が、絶縁層１上に形成された、第１電極２と、第１電荷輸送層３と、発光層４と、第２電荷輸送層５と、第２電極６とをこの順で有する。そして、第１電極２が有機ＥＬ素子毎に形成されており、第１電荷輸送層３と発光層４と第２電荷輸送層５と第２電極６とが複数の有機ＥＬ素子に共通に形成されている。
【００１６】
本実施形態において、絶縁層１は、ガラス、シリコンウェハ、樹脂などからなる。絶縁層１の下部にはトランジスタなどを形成し、第１電極２の電気信号を制御してもよい。
【００１７】
第１電極２は、アルミニウム、銀、クロム、チタン、コバルト、ニッケル、モリブデン、タングステン、インジウム、白金などの金属単体又は合金又は酸化物からなる。
【００１８】
第１電荷輸送層３は第１電極２から第１の電荷を効率よく注入する機能と、第１電荷輸送層３上に形成される発光層４に第１の電荷を運ぶ機能を持っている。第１電荷輸送層３は第１電極２から第１の電荷注入を行う第１電荷注入層と第１の電荷を運ぶ第１電荷輸送層からなる積層膜であってもよい。また、第１電荷輸送層３は発光層４から漏れてくる第２の電荷を遮蔽する第１ブロッキング層を含む積層膜であってもよい。
【００１９】
第１電荷輸送層３上に発光層４を形成し、発光層４上に第２電荷輸送層５を形成する。第２電荷輸送層５は第２電極５から第２の電荷を効率よく注入する機能と、発光層４に注入された第２の電荷を運ぶ機能を持っている。第２電荷輸送層５は第２電極６から第２の電荷注入を行う第２電荷注入層と第２の電荷を運ぶ第２電荷輸送層からなる積層膜であってもよい。また、第２電荷輸送層５は発光層４から漏れてくる第１の電荷を遮蔽する第２ブロッキング層を含む積層膜であってもよい。
【００２０】
第２電極６は複数の第１電極２を覆う形で形成されており、第１電極２とは異なる電荷を注入する。第２電極６の材料は、第１電極２と同様であるが、第１電極２と第２電極６はいずれか一方が反射性の電極、他方が光透過性の電極となる。従って、反射性の電極については、反射性の高い金属を用いるか、或いは、光透過性の導電層と反射性の高い金属反射層とを積層する。また、光透過性の電極については、金属の薄膜或いはＩＴＯ（酸化インジウムスズ）などの光透過性の導電材を用いて形成する。
【００２１】
本発明において、絶縁層１には少なくとも第１電極２の一辺に沿った溝１０が形成されている。尚、ここで言う第１電極２の一辺とは、第２電極６側（紙面上方）から見た第１電極２の平面形状の一辺である。溝１０の詳細を、図２を用いて説明する。図２は溝１０の領域を拡大したものであり、溝１０と該溝１０が沿った第１電極２の一辺は紙面に垂直な方向に延びている。尚、第１電極２をマスクとして絶縁層１をエッチングすれば、第１電極２の一辺に沿った溝１０が簡単に形成される。
【００２２】
図２において、絶縁層１に形成された溝１０の深さ（ｄ１）は第１電荷輸送層３の膜厚（ｄ３）よりも大きく、溝１０の深さと第１電極２の膜厚の合計（ｄ２）は第１電荷輸送層３と発光層４と第２電荷輸送層５の膜厚の合計（ｄ４）よりも小さくなる。
【００２３】
絶縁層１にこのような溝１０を設けることにより、溝１０の側面に形成される第１電荷輸送層３の膜厚は薄くなる。そのため、溝１０を設けた第１電極２の一辺に隣接する有機ＥＬ素子の第１電極２上の発光層４に第１電荷輸送層３を通じて電流が流れる経路を狭めることができる。その結果、溝１０を設けた第１電極２の一辺に隣接する有機ＥＬ素子の第１電極２上の発光層４へのリーク電流を抑えることができる。また、絶縁層１に設けられた溝１０は第１電極２の一辺に沿っている、即ちパターンを同じくしているため、絶縁層１のみで溝１０を設けた場合に比べて、溝１０の側面で第１電荷輸送層３を薄くする効果が大きく、リーク電流を抑制する効果が大きい。
【００２４】
また、溝１０の断面形状は順テーパー状でもよいが、逆テーパー状の方が、溝１０の側面で第１電荷輸送層３を薄くする効果が大きく、リーク電流を抑制する効果が大きいため好ましい。
【００２５】
このような溝１０を形成した場合、溝１０のカバレッジ不足のため、第１電極１と第２電極６が短絡してしまうことが懸念される。しかしながら、本発明では第１電荷輸送層３と発光層４と第２電荷輸送層５の膜厚の合計（ｄ４）よりも、溝１０の深さと第１電極２の膜厚の合計（ｄ２）を小さくすることで、第１電極１と第２電極６の短絡を回避することができる。
【００２６】
本実施形態の発光装置はレーザービームプリンタなどの画像形成装置に適用することができる。より具体的には、画像形成装置は、発光装置によって潜像が形成される感光体と、感光体を帯電する帯電手段と、を備えている。また、本発明の発光装置は、異なる色を発する複数の有機ＥＬ素子を含んでいてもよく、この場合には、ＣＭＯＳセンサなどの撮像素子を有するデジタルカメラやデジタルビデオカメラなどの撮像装置のディスプレイや電子ビューファインダに使用することができる。その他に、画像形成装置のディスプレイ、携帯電話やスマートフォンなどの携帯情報端末のディスプレイに使用することができる。また、本発明の発光装置は、単色の複数の有機ＥＬ素子と、赤色、緑色、青色のカラーフィルタと、を備える構成であってもよい。
【００２７】
（第２の実施形態）
図３に本発明の第２の実施形態の構成を模式的に示す断面図を示す。図３は、Ａ，Ｂの２画素の端部とその間隙領域を拡大したものである。尚、第２電極については図示を省略する。
【００２８】
本実施形態は、発光色が異なる複数の有機ＥＬ素子を備えた発光装置であり、有機ＥＬ素子が、絶縁層１上に形成された、第１電極２と、第１電荷輸送層３と、発光色に応じた発光層４ａ，４ｂと、第２電荷輸送層５と、第２電極（不図示）とをこの順で有する。そして、第１電極２が有機ＥＬ素子毎に形成されており、第１電荷輸送層３と第２電荷輸送層５と第２電極（不図示）とが複数の有機ＥＬ素子に共通に形成されている。さらに、第１電荷輸送層が前記有機ＥＬ素子の発光色によって異なる膜厚で形成されている。
【００２９】
図３において画素Ａと画素Ｂでは異なる色を発光する。画素Ａの発光層４ａと画素Ｂの発光層４ｂとは異なる色を発光する材料により形成され、画素Ａの第１電荷輸送層３の厚さ（ｄ３ａ）と、画素Ｂの第１電荷輸送層３の厚さ（ｄ３ｂ）は異なっている。これは、発光する色が異なるため、光学長の調整を行うことが必要なためである。
【００３０】
画素Ｂの溝１０ｂでは絶縁層１の溝の深さ（ｄ１）より第１電荷輸送層３の膜厚が厚く（ｄ３ｂ）、溝形成によって第１電荷輸送層３を薄くする効果が得られていない。しかし、隣接する画素Ａの溝１０ａでは絶縁層１の溝の深さ（ｄ１）より第１電荷輸送層３の膜厚が薄く（ｄ３ａ）なっており、溝形成によって第１電荷輸送層３を薄くする効果が得られている。
【００３１】
ここで、画素Ａと画素Ｂとの間でのリーク電流を考えると、溝１０ａにおいて、リーク電流の経路となる第１電荷輸送層３が薄くなっており、リーク電流を抑制することができる。このように、本実施形態では、第１電荷輸送層３の膜厚が有機ＥＬ素子の発光色により異なる場合でも、少なくとも第１電荷輸送層３の最も薄い領域で溝による薄膜化を実施すれば画素間のリーク電流を抑えることができる。
【００３２】
また、溝１０ａ，１０ｂのカバレッジ不足による第１電極２と第２電極（不図示）の短絡は第１電荷輸送層３の膜厚とそれに対応する発光層４ａ，４ｂの膜厚と、第２電荷輸送層５の膜厚の合計が最も薄い領域でのみ考慮すれば回避することができる。
【００３３】
また、隣接する有機ＥＬ素子の発光色が異なる場合、隣接する有機ＥＬ素子の第１電極と相対する辺にのみ溝を設けることで、リーク電流が流れても色合いに変化を与えることがなくなり、表示に与える影響を小さくすることができる。
【００３４】
上記第１，第２の実施形態においては、溝が形成された第１電極２の一辺において、第１電極２の側面と絶縁層１の溝の側面とが連続しているが、本発明はこれに限定されない。例えば、図４の断面模式図で示すように、第１電極２が、絶縁層１に形成された溝１０の側面よりも外側に突出していても良い。このような構造にすることで、溝の側面に形成される第１電荷輸送層３の膜厚をより効果的に薄くすることができる。各層の膜厚条件は第１の実施の形態と同様である。
【００３５】
本実施形態の発光装置は、ＣＭＯＳセンサなどの撮像素子を有するデジタルカメラやデジタルビデオカメラなどの撮像装置のディスプレイや電子ビューファインダに使用することができる。その他に、画像形成装置のディスプレイ、携帯電話やスマートフォンなどの携帯情報端末のディスプレイに使用することができる。
【実施例】
【００３６】
図１に示す構成の発光装置のサンプルを作製した。先ず、ガラス基板上に低温ポリシリコンを用いたＴＦＴ駆動回路を作製し、表面にポリイミド樹脂からなる絶縁層１を成膜した。絶縁層１の厚さは１．５μｍとし、フォトリソグラフィの技術を用いて、該絶縁層１にコンタクトホールを形成した。
【００３７】
次に第１電極２としてアルミニウムとＩＴＯの積層膜をスパッタリング法で成膜し、パターニングした。アルミニウムの膜厚は３０ｎｍ、ＩＴＯの膜厚は１０ｎｍとした。つまり、第１電極２の厚さは４０ｎｍである。第１電極２は絶縁層１に形成したコンタクトホールを通じてＴＦＴ駆動回路と電気的に接続し、所望の第１電極２にのみ電気信号を送れるようにした。
【００３８】
この状態のサンプルをＡ、Ｂ、Ｃの３種類作製し、サンプルＡ、サンプルＢに対しては酸素プラズマ処理を行うことで第１電極２をマスクとして、絶縁層１を３０ｎｍエッチングし、溝１０を形成した。サンプルＣに対しては溝１０は形成していない。
【００３９】
次にサンプルＡ、サンプルＢ、サンプルＣに第１電荷輸送層３として、α−ＮＰＤを２０ｎｍの膜厚で蒸着法により成膜した。
【００４０】
次にクマリン６をドープしたＢａｌｑを発光層４として蒸着法により成膜したが、サンプルＡ、サンプルＣは４０ｎｍの膜厚とし、サンプルＢは２０ｎｍの膜厚とした。
【００４１】
次に第２電荷輸送層５としてＡｌｑ3とＣｓ2ＣＯ3の共蒸着膜をサンプルＡ、サンプルＣでは２０ｎｍ、サンプルＢでは１０ｎｍの膜厚で成膜した。
【００４２】
次に第２電極６としてＩＴＯをスパッタリング法により５０ｎｍの厚さに成膜した。サンプルＡ，Ｂ，Ｃの構成を下記表１に示す。
【００４３】
【表１】
0005988624.tif 000002
【００４４】
以上の方法で作製したサンプルＡ、Ｂ、ＣをＴＦＴ駆動回路を通して、所望の第１電極２の領域のみ発光させた。その結果、サンプルＡでは所望の第１電極２の領域のみ発光したが、サンプルＢでは第１電極２と第２電極６が短絡してしまい、発光が見られず、サンプルＣでは所望の第１電極２に隣接する個所でもリーク電流によるわずかな発光が見られた。
【符号の説明】
【００４５】
１：絶縁層、２：第１電極、３：第１電荷輸送層、４，４ａ，４ｂ：発光層、５：第２電荷輸送層、６：第２電極、１０，１０ａ，１０ｂ：溝
【図１】
0005988624.tif 000003
【図２】
0005988624.tif 000004
【図３】
0005988624.tif 000005
【図４】
0005988624.tif 000006