(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた放射線撮影装置であって、
前記親水加工部は親水性ポリマー及び抗菌剤を含有し、前記親水加工部の表面の水接触角が３０°以下であり、平均粒径６〜１０μｍの滑剤粒子を含有する、放射線撮影装置。
【請求項２】
前記親水加工部の表面の表面粗さＲａが２〜１５μｍである、請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項３】
前記親水加工部の平均厚みが１〜１０μｍである、請求項１または２に記載の放射線撮影装置。
【請求項４】
前記抗菌剤の含有量が、前記親水加工部全質量に対して、０．００１〜５質量％である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項５】
前記抗菌剤が、銀を担持したセラミックス粒子、及び、銀粒子からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項６】
前記セラミックス粒子の平均粒径が０．１〜１０μｍである、請求項５に記載の放射線撮影装置。
【請求項７】
前記銀粒子の平均粒径が１〜１００ｎｍである、請求項５に記載の放射線撮影装置。
【請求項８】
前記抗菌剤が、有機系抗菌剤である場合、前記抗菌剤の含有量が、１〜４質量％である請求項４に記載の放射線撮影装置。
【請求項９】
前記親水加工部が、撮影時に被写体が接触する部分に設けられている、請求項１〜８のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の放射線撮影装置において、当該放射線撮影装置は可搬型放射線撮影装置であり、前記親水加工部は、少なくとも当該可搬型放射線撮影装置の筐体において放射線が照射される側の表面に設けられていることを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項１１】
前記親水加工部が、さらに前記筐体の背面部及び／又は側面部に設けられている、請求項１０に記載の放射線撮影装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の放射線撮影装置において、前記可搬型放射線撮影装置は、筒型の形状を有し、且つ少なくとも一端部が開口端部である筐体本体を有し、前記筐体本体は、前記開口端部が蓋部材により閉塞されて筐体を構成してなる放射線撮影装置。
【請求項１３】
請求項１０又は１１に記載の放射線撮影装置において、前記可搬型放射線撮影装置の前記筐体の背面部と側面部の少なくとも一部とが一体で形成されている放射線撮影装置。
【請求項１４】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の放射線撮影装置において、当該放射線撮影装置がマンモグラフィ装置であり、前記親水加工部が、フェースガード部表面の被写体と接する部分に設けられていることを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載のマンモグラフィ装置において、前記親水加工部が、乳房台の表面の被写体と接する部分、又は乳房圧迫板の表面の被写体と接する部分に設けられている放射線撮影装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた放射線撮影装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
医療現場で使われる医療装置は、複数の患者と連続的に接触するものが多い。中でも、放射線撮影装置は、複数の患者に対して連続的に使用されるものである。これらの医療装置に患者の体液等が付着し、清掃・洗浄が十分で無い場合には、患者同士の間、又は患者と撮影者との間で病原性ウィルス等の感染が発生する懸念がある。このような感染を防止するべく、定期的に、又は感染の危険が高い場合には一患者に使用する毎に、エタノール水溶液や次亜塩素酸ナトリウム水溶液等の消毒液を用いて、医療装置の表面の消毒がなされている。
【０００３】
放射線撮影装置、特に可搬型の放射線撮影装置は、手術室や救急救命室等で使われる場合に、感染性のウィルスや細菌を含んだ血液や吐瀉物、体液、又は皮脂等が付着するケースがある。また、マンモグラフィ装置では、フェースガード部に患者の口紅や皮脂が付着したり、乳房台及び乳房圧迫板に漏出母乳やバイオプシ（マンモトーム生検）の際の出血による血液又は皮脂が付着したりする。患者に由来するこの種の汚染物質は拭取り難く、特に汚染物質が表面に固着し、拭取りに時間を要する場合がある。
これらの問題に対して、以下のような技術が提案されている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、医療機器の外表面に防水加工が施された緩衝材が取り付けられた技術が開示されている。この技術によれば、汚染物質が付着し難くなるという利点がある。
【０００５】
また、特許文献２には、殺菌作用を示す光触媒（例えば、ＴｉＯ2）で医療機器を被覆することが提案されている。
【０００６】
一方、感染対策の観点から、特許文献３〜５に提案されるように、放射線撮影装置をはじめとする各種医療機器に対して抗菌加工を施すことも考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１２−１３２７０３号公報
【特許文献２】特開２０１２−１２３２９７号公報
【特許文献３】特開平７−３１３５６１号公報
【特許文献４】特開２００５−２７５２９３号公報
【特許文献５】特開２００３−２０７８６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載された技術は、消毒という側面から見た場合、医療装置表面の消毒液に対する濡れ性が小さくなる。すなわち、消毒液が弾かれるようになるので、医療装置の外表面に消毒液が長時間留まることが容易ではなくなり、細菌類に対する消毒効果が十分に得られない可能性が高い。
【０００９】
また、特許文献２に記載された光触媒は、殺菌性能とともに親水性を発現することが知られているが、殺菌性能や親水性能を発現させるためには、光が照射されることが必須であるので、暗所を含む様々な医療環境で使用される装置としては好適ではない。
【００１０】
特許文献３〜５に記載された抗菌加工に基づく抗菌作用は、抗菌加工が施された外表面と汚染物質との界面でしか機能しない。すなわち、この界面では細菌が繁殖することを抑制することが可能であるが、汚染物質の厚みが大きなものであるときには、汚染物質の内部で細菌が繁殖することを抑制することは容易ではない。また、抗菌加工の作用は、あくまで汚染物質が除去された状態で始めて有効になるものであり、汚染物質が容易に除去されることが前提として必要である。
【００１１】
上述のように、従来技術においては、拭取りのみで汚染物質を容易に除去できる放射線撮影装置は提供されておらず、さらなる改良が必要であった。
また、放射線撮影装置としては、汚染物質が除去できることに加え、汚染物質に起因する細菌の繁殖を抑制できることが望まれている。
【００１２】
つまり、付着した汚染物質を簡便な作業で容易に除去でき、かつ、細菌の繁殖を抑制できる放射線撮影装置が要望されているにも関わらず、それが十分に具現化された放射線撮影装置は未だ知られていない。
【００１３】
本発明は上記した問題を解決するためになされたもので、簡便な作業を行うのみで汚染物質を除去でき、かつ、細菌の繁殖を抑制できる放射線撮影装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の目的は、以下の［１］の構成により達成される。
【００１５】
［１］外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた放射線撮影装置であって、上記親水加工部は、親水性を示す親水性ポリマー及び抗菌剤を含有し、上記親水加工部の表面の水接触角が３０°以下であり、平均粒径６〜１０μｍの滑剤粒子を含有する、放射線撮影装置。
【００１６】
なお、本発明における放射線撮影装置には、装置本体や、その周辺機器が含まれるものとする。
【００１７】
すなわち、本発明においては、光が照射されない暗所であっても、水や水溶液に対して良好に濡れる親水加工部が放射線撮影装置に設けられている。このため、暗所に長時間保管していた放射線撮影装置に対し、取り出し後すぐに水又はエタノール水溶液若しくは次亜塩素酸ナトリウム水溶液等の消毒液で拭取りを行った場合であっても、水又は消毒液が親水加工部に沿って濡れ広がり、親水加工部と汚染物質の間に進入する。このため、汚染物質が付着している場合には、汚染物質が脱落し易くなる。その結果、汚染物質を短時間で容易に除去することができる。
【００１８】
また、放射線撮影装置の外表面上での消毒液の滞在時間が長くなるので、汚染物質由来の細菌が残留していたとしても、この細菌に対して消毒液が長時間接触する。従って、従来よりも殺菌能力を向上させることができる。
【００１９】
さらに、放射線撮影装置の親水加工部が水で洗浄し得る部分であるときには、水による拭取りを行う他、例えば、流水によって汚染物質を容易に除去することが可能である。消毒液と同様に、流水が親水加工部と汚染物質の間に進入するからである。
【００２０】
勿論、使用直後の放射線撮影装置においても同様にして汚染物質を除去し得るとともに、従来よりも殺菌能力を向上させることができる。
【００２１】
また、親水加工部内に抗菌剤が含まれるため、親水加工部において細菌の繁殖を抑制できる。そのため、仮に細菌が残留したとしても、その繁殖を抑制することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、水や水溶液に対して良好に濡れる親水加工部を放射線撮影装置に設けるようにしているので、拭取りを行ったり、流水を供給したりするという簡便な作業を行うことによって、感染の原因となり得る汚染物質を容易に除去することができる。
また、親水加工部には抗菌剤が含まれており、細菌の繁殖を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態に係る放射線撮影装置としての可搬型放射線撮影装置の一部断面斜視図である。
【図２】図１に示す可搬型放射線撮影装置の概略縦断面図である。
【図３】別の可搬型放射線撮影装置の全体概略斜視図である。
【図４】本発明の別の実施の形態に係る放射線撮影装置としてのマンモグラフィ装置の要部概略斜視図である。
【図５】本発明のまた別の実施の形態に係る放射線撮影装置としての立位撮影用の放射線撮影装置の要部概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明に係る放射線撮影装置につき好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照して詳細に説明する。
【００２５】
図１は、実施の形態１に係る可搬型放射線撮影装置１０（いわゆる電子カセッテ）の一部断面斜視図である。可搬型放射線撮影装置１０は、放射線撮影装置の１種である。図２は、可搬型放射線撮影装置１０の概略縦断面図である。この可搬型放射線撮影装置１０においては、筐体１８の内部に、放射線Ｒａｙが照射される照射面１９側から、図示しない患者を透過した放射線Ｒａｙを検出する放射線検出器１２、及び後述する制御基板１３が順に設けられている。照射面１９において、放射線検出器１２により放射線画像が撮影される領域が撮影領域１９Ａである。
【００２６】
放射線検出器１２は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス基板（以下、ＴＦＴ基板という）３０の表面にガドリニウム硫酸化物（ＧＯＳ）又はヨウ化セシウム（ＣｓＩ）等からなるシンチレータ２９が貼付されて構成される。ＴＦＴ基板３０は、発生した光の外部への漏れ出しを防止するため、シンチレータ２９が貼り付けられた面と反対側の面に、発生した光を遮光する遮光体３１を有していてもよい。
【００２７】
放射線検出器１２では、照射されたＸ線等の放射線Ｒａｙがシンチレータ２９で光に変換される。発生した光は、ＴＦＴ基板３０に設けられたセンサ部に入射する。このセンサ部は、シンチレータ２９から発生した光を受光して電荷を蓄積する。センサ部毎にＴＦＴスイッチが設けられており、このＴＦＴスイッチがＯＮされたときには、センサ部に蓄積された電荷量に応じて、放射線画像を示す電気信号（画像信号）が信号線に流れる。
【００２８】
また、放射線検出器１２の信号配線方向の一端側には、結線用のコネクタ３２が複数個並んで設けられ、走査配線方向の一端側には、コネクタ３７が複数個並んで設けられている。コネクタ３２には信号配線が接続され、コネクタ３７には走査配線が接続されている。
【００２９】
制御基板１３は、スキャン信号制御回路４０と、信号検出回路４２とを備える。スキャン信号制御回路４０にはコネクタ４８が設けられており、このコネクタ４８には、フレキシブルケーブル５２の一端が電気的に接続されている。さらに、このフレキシブルケーブル５２の他端はコネクタ３７に電気的に接続されている。この構成により、スキャン信号制御回路４０は各走査配線にＴＦＴスイッチをＯＮ／ＯＦＦするための制御信号を出力することができる。
【００３０】
信号検出回路４２には複数個のコネクタ４６が設けられており、このコネクタ４６には、フレキシブルケーブル４４の一端が電気的に接続されている。さらに、このフレキシブルケーブル４４の他端は、コネクタ３２に電気的に接続されている。信号検出回路４２は、信号配線毎に、入力される電気信号を増幅する増幅回路を内蔵している。この構成により、信号検出回路４２は、各信号配線から入力される電気信号を増幅回路により増幅して検出することで、画像を構成する各画素の情報として、各センサ部に蓄積された電荷量を検出する。
【００３１】
筐体１８は、矩形平板状に形成されるとともに、図２に示すように、放射線検出器１２の撮影動作や外部装置との通信の制御等各種の制御を行う制御基板１３が放射線検出器１２と重なるように内蔵されている。なお、本実施の形態では、ＴＦＴ基板３０が照射面１９側の筐体１８内面に接触するように放射線検出器１２を配置している。
【００３２】
筐体１８は、放射線Ｒａｙが照射される正面側、換言すれば被写体と接する側に配置されるフロントパネル６０と、反被写体側に配置されるバックパネル６２（背面部）とが対向して設けられている。フロントパネル６０は、天板６４と、天板６４を保持する保持部６６により構成されている。天板６４のバックパネル６２側の面には放射線検出器１２が設けられている。保持部６６は、図２中の左右方向両端部において、バックパネル６２側に湾曲して側面部の一部を形成している。また、バックパネル６２は、図２中の左右方向両端部において、フロントパネル６０側に湾曲して側面部の一部を形成している。すなわち、筐体１８の背面部と側面部の一部とは、一体で形成されている。なお、必ずしも背面部と側面部の一部のみとを一体で形成する必要はなく、側面部全てを背面部と一体で形成しても良い。このとき、筐体の継ぎ目を少なくすることができ、拭取り性が向上する。
【００３３】
本実施の形態では、天板６４をカーボンで形成している。これにより、放射線Ｒａｙの吸収を抑えつつ強度を確保している。また、保持部６６及びバックパネル６２はＡＢＳ樹脂により形成している。
【００３４】
天板６４は、放射線検出器１２により放射線画像が撮影される領域が撮影領域１９Ａである。
【００３５】
以上の構成において、少なくとも、撮影時に患者である被写体（図示せず）が接触する照射面１９には親水加工部が設けられている。なお、照射面１９だけではなく、バックパネル６２や側面部等にも親水加工部を設けるようにしても良い。その他、撮影者が接触し得る部分、例えば全外表面に親水加工部を設けても良いことは勿論である。
本発明において、照射面１９等に設けられる親水加工部は、患者等の被写体の下に可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ）１０が挿入された際、被写体との接触面となるので、滑りやすくするため、ドット状、又はメッシュ状としておいても良い。
【００３６】
また、例えば、照射面１９側のフロントパネル６０の表面には親水処理を施して、照射面１９に親水加工部を設け、照射面１９の反対側（反被写体側）のバックパネル６２の外側表面、特に、バックパネル６２の両側において、参照符号Ａで示される部分、即ち、バックパネル６２と筐体１８の側面部の一部を構成するフロントパネル６０の保持部６６との継ぎ目から、筐体１８の背面部の一部を構成するバックパネル６２の端部の領域に至る外側表面の部分Ａに撥水処理を施して、撥水加工部を設けるのが好ましい。
このように、バックパネル６２の外側表面（両側の部分Ａ）に撥水加工部を設けることにより、患者等の被写体の下に可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ）１０を挿入しやすくなる。
【００３７】
なお、図２に示す可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ）１０の筐体１８の保持部６６のように、電子カセッテの角部が傾斜（湾曲）しているような構造の場合には、汚染物質が垂れて、電子カセッテ周辺が汚染されてしまう恐れがある。しかしながら、本発明においては、照射面１９側のフロントパネル６０の表面に親水加工部を設けると共に、バックパネル６２の外側表面（両側の部分Ａ）に撥水加工部を設けることにより、フロントパネル６０の表面の濡れ性を良好にして、フロントパネル６０の保持部６６から汚染物質が垂れるのを防止し、汚染物質の拡散を防止することができる。
【００３８】
また、筐体１８の背面部を構成するバックパネル６２の外側表面の中央部分Ｂに、エンボス加工を施し、中央部分Ｂをエンボス構造にすることにより、患者等の被写体下に電子カセッテ１０を挿入しやすくさせることができる。
【００３９】
親水加工部には、親水性ポリマー及び抗菌剤が少なくとも含有される。
以下では、親水加工部に含まれる材料について詳述する。
【００４０】
親水性ポリマーとは、親水性基を有するポリマーである。
親水性基の種類は特に制限されず、例えば、ポリオキシアルキレン基（例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、オキシエチレン基とオキシプロピレン基がブロック又はランダム結合したポリオキシアルキレン基)、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシル基のアルカリ金属塩、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、スルホン酸基、スルホン酸基のアルカリ金属塩などが挙げられる。
親水性ポリマーの主鎖の構造は特に制限されず、例えば、ポリウレタン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレアなどが挙げられる。
なお、ポリ（メタ）アクリル酸エステルとは、ポリアクリル酸エステル及びポリメタアクリル酸エステルの両方を含む概念である。
【００４１】
親水性ポリマーの好適態様の一つとしては、上記親水性基を有するモノマーを重合させて得られるポリマーが挙げられる。
親水性基を有するモノマーとは、上記親水性基と重合性基とを有する化合物を意図する。親水性基の定義は上述の通りである。
親水性基を有するモノマー中における親水性基の数は特に制限されないが、親水加工部がより親水性を示す点より、２個以上が好ましく、２〜６個がより好ましく、２〜３個がさらに好ましい。
【００４２】
重合性基の種類は特に制限されず、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、アニオン重合性基などが挙げられる。ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが挙げられる。カチオン重合性基としては、ビニルエーテル基、オキシラニル基、オキセタニル基などが挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
なお、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基及びメタアクリロイル基の両方を含む概念である。
親水性基を有するモノマー中における重合性基の数は特に制限されないが、得られる親水加工部の機械的強度がより優れる点で、２個以上が好ましく、２〜６個がより好ましく、２〜３個がさらに好ましい。
【００４３】
親水性基を有するモノマーの好適態様の一つとしては、以下の式（１）で表される化合物が挙げられる。
【００４４】
【化１】
0006043737.tif 000002
【００４５】
式（１）中、Ｒ１は、置換基を表す。置換基の種類は特に制限されず、公知の置換基が挙げられ、例えば、ヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基（例えば、アルキル基、アリール基）、上記親水性基などが挙げられる。
Ｒ２は、重合性基を表す。重合性基の定義は上述の通りである。
Ｌ１は、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基の種類は特に制限されず、例えば、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリール基、及び、それらの組み合わせが挙げられる。
Ｌ２は、ポリオキシアルキレン基を表す。ポリオキシアルキレン基とは、以下の式（２）で表される基を意図する。
式（２）      ＊−（ＯＲ３）ｍ−＊
式（２）中、Ｒ３は、アルキレン基（例えば、エチレン基、プロピレン基）を表す。ｍは、２以上の整数を表し、２〜１０が好ましく、２〜６がより好ましい。なお、＊は、結合位置を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。
【００４６】
親水性ポリマーを得る際には、上記親水性基を有するモノマーと他のモノマーとを併用してもよい。つまり、親水性基を有するモノマーと、他のモノマー（親水性基を有するモノマー以外のモノマー）とを共重合させて得られる親水性ポリマーを使用してもよい。
他のモノマーの種類は特に制限されず、重合性基を有する公知のモノマーであれば適宜使用できる。重合性基の定義は、上述の通りである。
なかでも、親水加工部の機械的強度がより優れる点で、重合性基を２以上有する多官能モノマーが好ましい。多官能モノマーは、いわゆる架橋剤として作用する。
多官能モノマー中に含まれる重合性基の数は特に制限されず、親水加工部の機械的強度がより優れる点、及び、取扱い性の点から、２〜１０個が好ましく、２〜６個がより好ましい。
多官能モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートが挙げられる。
【００４７】
親水性モノマーと他のモノマー（特に、多官能モノマー）との混合比（親水性モノマーの質量／他のモノマーの質量）は特に制限されないが、親水加工部の親水性の制御がしやすい点から、０．０１〜１０が好ましく、０．１〜１０がより好ましい。
【００４８】
なお、親水加工部には、上記親水性ポリマーが主成分として含まれていることが好ましい。ここで、主成分とは、親水加工部全質量に対して、親水性ポリマーの含有量が５０質量％以上であることを意図し、７０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましい。
【００４９】
親水加工部に含まれる抗菌剤の種類は特に制限されず、公知の抗菌剤が使用できる。例えば、無機系抗菌剤、又は、有機系抗菌剤（好ましくは、水溶性の有機系抗菌剤）が挙げられる。なお、抗菌剤としては、黄色ブドウ球菌や大腸菌に代表される病原性細菌類に対して殺菌効果を発揮するものが好適に用いられる。
【００５０】
有機系抗菌剤としては、例えば、フェノールエーテル誘導体、イミダゾール誘導体、スルホン誘導体、Ｎ−ハロアルキルチオ化合物、アニリド誘導体、ピロール誘導体、第４アンモニウム塩、ピリジン系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、又はイソチアゾリン系化合物等が挙げられる。
【００５１】
より具体的には、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、Ｎ−フルオルジクロロメチルチオ−フタルイミド、２，３，５，６−テトラクロロイソフタロニトリル、Ｎ−トリクロロメチルチオ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボキシイミド、８−キノリン酸銅、ビス（トリブチル錫）オキシド、２−（４−チアゾリル）ベンズイミダゾール〈以後、ＴＢＺと表示〉、２−ベンズイミダゾールカルバミン酸メチル〈以後、ＢＣＭと表示〉、１０,１０'−オキシビスフェノキシアルシン〈以後、ＯＢＰＡと表示〉、２，３，５，６−テトラクロロ−４−（メチルスルフォン）ピリジン、ビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）亜鉛〈以後、ＺＰＴと表示〉、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ'−（フルオロジクロロメチルチオ）−Ｎ’−フェニルスルファミド〈ジクロルフルアニド〉、ポリ−（ヘキサメチレンビグアニド）ハイドロクロライド、ジチオ−２−２'−ビス（ベンズメチルアミド）、２−メチル−４，５−トリメチレン−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−プロパンジオール、ヘキサヒドロ−１，３−トリス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｓ−トリアジン、ｐ−クロロ−ｍ−キシレノール、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン等が挙げられるが、これらに制限されるものではない。
【００５２】
これら有機系抗菌剤は、親水性、耐水性、昇華性、安全性等を考慮し、適宜選択して使用することができる。これら有機系抗菌剤の中では、親水性、抗菌効果、コストの点から、２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−プロパンジオール、ＴＢＺ、ＢＣＭ、ＯＢＰＡ、又はＺＰＴが好ましい。
【００５３】
なお、有機系抗菌剤としては、天然系抗菌剤も含まれる。天然系抗菌剤としては、カニやエビの甲殻等に含まれるキチンを加水分解して得られる塩基性多糖類のキトサンがある。
【００５４】
無機系抗菌剤としては、殺菌作用の高い順に、水銀、銀、銅、亜鉛、鉄、鉛、ビスマス等が挙げられる。例えば、銀、銅、亜鉛、ニッケル等の金属や金属イオンを担体に担持させたものが挙げられる。なお、担体としては、ケイ酸塩系担体、リン酸塩系担体、酸化物（例えば、ガラス）、チタン酸カリウム、又は、アミノ酸が挙げられる。
より具体的には、ゼオライト系抗菌剤、ケイ酸カルシウム系抗菌剤、リン酸ジルコニウム系抗菌剤、リン酸カルシウム抗菌剤、酸化亜鉛系抗菌剤、溶解性ガラス系抗菌剤、シリカゲル系抗菌剤、活性炭系抗菌剤、酸化チタン系抗菌剤、チタニア系抗菌剤、有機金属系抗菌剤、イオン交換体セラミックス系抗菌剤、層状リン酸塩−四級アンモニウム塩系抗菌剤、又は抗菌ステンレス等が挙げられるが、これらに制限されるものではない。
【００５５】
上記抗菌剤の中では、抗菌効果が大きいことから、金属粒子（特に、銅粒子、銀粒子が好ましい）や、銀系無機系抗菌剤や、有機系抗菌剤が好ましい。銀系無機系抗菌剤としては、特に、銀を担持したセラミックス粒子（銀セラミックス粒子）が好ましく、より具体的には、ケイ酸塩系担体であるゼオライトに銀を担持させた銀ゼオライトや、シリカゲルに銀を担持させた抗菌剤が挙げられる。なお、有機系抗菌剤としては、２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−プロパンジオール、ＴＰＮ、ＴＢＺ、ＢＣＭ、ＯＢＰＡ、又はＺＰＴが好ましい。
特に好ましい市販の銀ゼオライト系抗菌剤としては、品川燃料の「ゼオミック」や富士シリシア化学の「シルウェル」や日本電子材料の「バクテノン」等がある。その他、銀を無機イオン交換体セラミックスに担持させた東亜合成の「ノバロン」や触媒化成工業の「アトミーボール」やトリアジン系抗菌剤の「サンアイバックＰ」も好ましい。銀粒子としては、日本イオンの「ナノシルバー」を選定することができる。また、セラミックスに対して銀を化学的に結合させた銀セラミックス粒子からなる富士ケミカルの「バクテキラー」、「バクテライト」を選定することもできる。
【００５６】
抗菌剤の最も好ましい形態としては、金属イオンを徐放する銅粒子、銀粒子、銅セラミックス粒子、銀セラミックス粒子が好ましく、とりわけ、銀粒子、銀セラミックス粒子が特に好ましい。
【００５７】
親水加工部内における抗菌剤の含有量は特に制限されないが、汚染物質の除去性及び抗菌性のバランスの点から、親水加工部全質量に対して、０．００１〜１５質量％（以下、「ｗｔ％」と表記する）が好ましく、０．００１〜１０ｗｔ％がより好ましく、０．００１〜５ｗｔ％がさらに好ましい。
【００５８】
抗菌剤として金属粒子を用いる場合、親水加工部内の抗菌剤の含有量は、親水加工部全質量に対して、０．００１〜１０ｗｔ％が好ましく、０．００１〜５ｗｔ％がより好ましく、０．００１〜１ｗｔ％がさらに好ましく、０．００１〜０．１ｗｔ％が特に好ましい。含有量が０.００１ｗｔ％以上であればより抗菌効果を向上させることができる。また、含有量が１０ｗｔ％以下であれば親水性も低下せず、且つ経時性も悪化せず、防汚性に悪影響を及ぼさない。
また、金属粒子（特に、銀粒子）の平均粒径は１ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、１ｎｍ〜２０ｎｍがより好ましい。金属粒子は、粒径が小さいほど、表面積／体積比が大きくなり、より微量で抗菌性を発現させることができる。
【００５９】
銀セラミックス粒子を用いる場合、親水加工部全質量に対して、含有量が０.１ｗｔ％以上であればより抗菌効果を向上させることができる。また、含有量が１０ｗｔ％以下であれば親水性も低下せず、且つ経時性も悪化せず、防汚性に悪影響を及ぼさない。
銀セラミックス粒子の平均粒径は、０．１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．１μｍ〜２μｍがより好ましい。
【００６０】
なお、抗菌剤として、有機系抗菌剤を使用する場合、親水加工部全質量に対する有機系抗菌剤の含有量としては、汚染物質の除去性及び抗菌性のバランスの点から、１〜４ｗｔ％が好ましい。
【００６１】
本発明においては、抗菌剤が、親水加工部の表面に露出していなくてもよい。
【００６２】
親水加工部中には、上記親水性ポリマー及び抗菌剤以外の他の成分が含まれていてもよい。
例えば、親水加工部には、滑剤が含まれていてもよい。親水加工部に滑剤を含有させることで最外層の凹凸形状を形成することができる。
滑剤の平均粒径は特に制限されないが、０．５μｍ〜３０μｍが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍがより好ましく、６μｍ〜１０μｍがさらに好ましい。
なお、滑剤の平均粒径は、顕微鏡（例えば、走査型電子顕微鏡）を用いて任意の１００個の粒径（直径）を測定し、それらを算術平均したものである。なお、滑剤が真円状でない場合は、長径を直径として測定する。
また、滑剤の素材は特に制限されず、無機化合物（例えば、金属）又は樹脂が挙げられ、樹脂が好ましい。樹脂を採用すると、放射線Ｒａｙの吸収量が低いため、撮影画像にアーチファクトとして重畳する問題や、可搬型放射線撮影装置１０内の放射線検出器１２に到達する放射線量を減衰させる問題が生じにくく、結果として被写体である患者への被曝量を低減させることができる。
【００６３】
親水加工部の表面の水接触角は３０°以下を示し、汚染物質の除去性がより優れる点で、２１°以下が好ましく、１５°以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、使用される材料特性の点から、５°以上の場合が多い。
水接触角が３０°超の場合、汚染物質の除去性に劣る。
なお、本明細書において、水接触角は、ＪＩＳ  Ｒ ３２５７：１９９９の静滴法に基づいて測定を行う。測定には、株式会社ニック製ＬＳＥ-ＭＥ１（ソフトウェア２ｗｉｎ ｍｉｎｉ）を用いる。より具体的には、純水を用いて室温２０℃で、水平を保った親水性加工部表面上に液滴２μｌを滴下し、滴下後２０秒時点での接触角を測定する。
【００６４】
親水加工部の表面は、微小な凹凸形状を有することが好適である。微小な凹凸形状を有することで、被写体との接触面積を低減することができ、結果として、皮脂等に由来する汚染物質の付着量を低減することができる。また、汚染物質との接触面積を減らすとともに、汚染物質と親水加工部表面との間に隙間ができやすくなることで、この間隙に水等が入り易くなり、結果として、汚染物質の除去性を向上させることにつながる。
また、特に親水加工部における被写体との接触部に凹凸形状を有する場合は、患者である被写体の皮膚との接触面積が減ることで、べたつき感が低減され、撮影時の患者の不快感を低減することにもつながる。
【００６５】
親水加工部の表面の表面粗さＲａは特に制限されないが、１μｍ〜２０μｍが好ましく、２μｍ〜１５μｍがより好ましく、３μｍ〜６μｍがさらに好ましい。
なお、表面粗さＲａは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１：２００１規定に基づいて測定する。具体的には、触針走査式粗さ測定器を使用し、親水加工部の表面の任意の５ヵ所を測定し、その平均値を表面粗さＲａとする。また「粗さ計モード」を搭載したレーザーマイクロスコープ（例えば、キーエンス社ＶＫ-Ｘ２００）を用いて、触診走査式と同等の測定を行うことも出来る。
【００６６】
親水加工部の平均厚みは特に制限されないが、汚染物質の除去性及び抗菌性の点からは、０．５μｍ〜２０μｍが好ましく、１μｍ〜１０μｍがより好ましい。
なお、親水加工部の平均厚みの測定方法としては、サンプル片を樹脂に包埋して、ミクロトームで断面を削り出し、削り出した断面を走査電子顕微鏡で観察し測定する。親水加工部の任意の１０点の位置における厚みを測定し、それらを算術平均する。
【００６７】
上記親水加工部の作製方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、上述した親水性ポリマー及び抗菌剤を含む組成物を塗布して親水加工部を形成する方法や、別途作製した親水性ポリマー及び抗菌剤を含むポリマーフィルムを所定の位置に貼り付ける方法などが挙げられる。
なかでも、親水加工部の厚みや表面凹凸の調整がより容易である点から、上述した、親水性基を有するモノマー及び抗菌剤を含む親水加工部形成用組成物（以後、単に「組成物」とも称する）を所定の位置に塗布して塗膜を形成し、塗膜に硬化処理を施すことにより親水加工部を形成する方法（塗布法）が好ましい。
【００６８】
組成物には、上述した親水性基を有するモノマー及び抗菌剤が含まれるが、他の成分（上記他のモノマー、滑剤、溶媒（水又は有機溶媒））が含まれていてもよい。
なお、組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。重合開始剤が含まれることにより、塗膜中での重合がより効率よく進行し、機械的強度に優れる親水加工部が形成される。重合開始剤の種類は特に制限されず、硬化処理の方法により最適な種類が選択されるが、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が選択される。より具体的には、ベンゾフェノン、フェニルフォスフィンオキシドなどの芳香族ケトン類、α‐ヒドロキシアルキルフェノン系化合物（ＢＡＳＦ ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、１２７、２９５９、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３など)、フェニルフォスフィンオキシド系化合物（ＭＡＰＯ：ＢＡＳＦ ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ、ＢＡＰＯ：ＢＡＳＦ ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９）などが挙げられる。
組成物中に含まれる重合開始剤の含有量は特に制限されないが、親水性基を有するモノマー及び他のモノマーの合計質量１００質量部に対して、０．１〜１５質量部が好ましく、１〜６質量部がより好ましい。
【００６９】
組成物を塗布する方法は特に制限されず、公知の塗布方法が採用される。
また、硬化処理の方法は特に制限されず、加熱処理又は光照射処理が挙げられる。
【００７０】
本実施の形態に係る可搬型放射線撮影装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次にその作用効果について説明する。
【００７１】
被写体の放射線画像を取得するためには、先ず、可搬型放射線撮影装置１０の少なくとも照射面１９、好適には筐体１８の全外表面を清浄化する。すなわち、消毒液を含ませたワイパーで筐体１８を拭き取る。消毒液としては、エタノール水溶液や次亜塩素酸ナトリウム水溶液が好適に用いられる。
【００７２】
可搬型放射線撮影装置１０の筐体１８の外表面には、上記したように親水加工部が設けられている。しかも、この親水加工部では、光が照射されない暗所であっても、水接触角が３０°以下である。このため、可搬型放射線撮影装置１０が暗所で保管されていたとしても、筐体１８の外表面に十分な親水性が発現する。
【００７３】
この親水性により、筐体１８の外表面が消毒液で十分に濡らされる。換言すれば、消毒液が筐体１８の外表面に十分に濡れ広がる。従って、この時点で筐体１８の外表面に細菌が万一残留していたとしても、この細菌に対して消毒液が長時間接触する。また、筐体１８の外表面の親水加工部内には、抗菌剤が含まれているので、細菌に対して抗菌剤が作用する。従って、従来よりも殺菌能力を向上させることができ、細菌の繁殖を抑制できる。
【００７４】
すなわち、可搬型放射線撮影装置１０を暗所で保管していた場合であっても、取り出した直後に消毒を行うことができる。
【００７５】
このようにして清浄化された可搬型放射線撮影装置１０の筐体１８の照射面１９を被写体に接触させた状態で、医師又は放射線技師（撮影者）が放射線源から放射線Ｒａｙを被写体の撮影部位に照射する。放射線Ｒａｙは、被写体の撮影部位を透過して可搬型放射線撮影装置１０の照射面１９を通過し、放射線検出器１２のシンチレータ２９に到達する。
【００７６】
シンチレータ２９は、放射線Ｒａｙの透過量に応じた量の蛍光（可視光）を発光する。一方、ＴＦＴ基板３０に設けられたセンサ部には、この蛍光の量（発光量）に応じた量の電荷が生成・蓄積される。この電荷に関する情報が制御部から読み出されることにより、被写体の撮影部位の放射線画像が得られる。
【００７７】
可搬型放射線撮影装置１０は、手術室や救急救命室等で使用されることもある。この場合、患者（被写体）の血液や体液が筐体１８に付着する可能性がある。この種の汚染物質を除去するべく流水で洗浄することが考えられるが、この際にバッテリ装着部やコネクタ接続部が水に濡れ、故障が発生する懸念がある。
【００７８】
そこで、撮影が終了した後、エタノール水溶液や次亜塩素酸ナトリウム水溶液等の消毒液を含ませたワイパーで筐体１８を拭き取る。この場合においても上記と同様に、筐体１８の外表面に親水加工部が設けられているから、筐体１８の外表面に消毒液が濡れ広がり、消毒液で十分に濡らされる。
【００７９】
従って、筐体１８に汚染物質が付着している場合、親水加工部と汚染物質の間に水や消毒液が進入する。その結果、汚染物質が筐体１８から脱落し易くなる。すなわち、汚染物質を容易に除去することができる。
【００８０】
しかも、消毒液が筐体１８の外表面上に留まる時間が長くなるので、汚染物質からの細菌が外表面に残留していたとしても、この細菌に対して消毒液が長時間接触する。また、筐体１８の外表面の親水加工部内には、抗菌剤が含まれているので、細菌に対して抗菌剤が作用する。従って、従来よりも殺菌能力を向上させることができ、細菌の繁殖を抑制できる。
【００８１】
このように、筐体１８の外表面に親水加工部を設けることにより、従来は流水による洗浄を行うことが困難であった可搬型放射線撮影装置から、汚染物質を除去し、且つ消毒液による消毒を行った場合には殺菌能力を向上させた消毒を容易に行うことが可能となる。さらに、筐体１８の外表面の親水加工部には、抗菌剤が含有されているので、消毒液による消毒を行った後、細菌が繁殖することを抑制することができる。したがって、仮に、汚染物質が残存していたとしても、抗菌剤の作用により、細菌の繁殖を抑制できる。
【００８２】
本実施の形態によれば、撮影後の可搬型放射線撮影装置１０の筐体１８を容易に清浄化することができる。また、筐体１８の外表面の親水加工部には、抗菌剤が含有されているので、細菌の繁殖が抑制され、清浄化された状態が長時間にわたって継続するという利点が得られる。
【００８３】
図３は、実施の形態２に係る可搬型放射線撮影装置７０の全体概略斜視図である。この可搬型放射線撮影装置７０は、筐体７２の内部に放射線検出器７４が収容されて構成される。
【００８４】
この放射線検出器７４は、図示しないシンチレータ、センサ部等を備える。また、放射線検出器７４には、チャージアンプＩＣ、通信部（いずれも図示せず）等が設けられる。
【００８５】
筐体７２は、長手方向両端が開口した開口端部である本体部材７６と、開口端部を閉塞する第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０とからなる。本体部材７６は、内部に空洞を有し、いわゆる筒型の形状である。これら本体部材７６、第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０は、いずれも、放射線を透過可能な樹脂材から構成されてもよい。
【００８６】
第１蓋部材７８には、バッテリ装着部８２やコネクタ接続部８４が設けられる。バッテリ装着部８２に装着されるバッテリ（図示せず）によって駆動電流が供給されるとともに、コネクタ接続部８４に装着されるコネクタ（図示せず）を介して、可搬型放射線撮影装置７０と外部機器との間で有線通信が行われる。なお、有線通信に代替して無線通信を行うようにしてもよいことは勿論である。
さらに、図３に示すように、第１蓋部材７８には、表示部８８等が設けられていても良い。表示部８８は、ＬＥＤランプ等で構成され、電子カセッテ１０の駆動状態等を表示するのに用いられる。
【００８７】
筐体７２を構成する本体部材７６、第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０の一端面は、放射線が照射される照射面８６であり、患者である被写体（図示せず）に接触する。これら本体部材７６、第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０の少なくとも被写体と接触する部分（すなわち放射線が照射される面）には、上記の可搬型放射線撮影装置１０と同様に、親水性層からなる親水加工部が設けられている。なお、本体部材７６、第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０の被写体と接触する部分だけでなく、撮影者が接触し得る全外表面に親水加工部を設けてもよい。
【００８８】
この場合、内部に放射線検出器７４を収容した本体部材７６の開口端部が第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０によって閉塞されることで、いわゆるモノコック型の筐体７２が形成されるとともに、可搬型放射線撮影装置７０が構成される。なお、本体部材７６は、内部に放射線検出器７４を収容できればよく、必ずしも両端部が開口端部である必要は無い。例えば、一端部のみが開口端部であり、その開口端部を蓋部材によって閉塞してもよい。
【００８９】
この可搬型放射線撮影装置７０においても、実施の形態１に係る可搬型放射線撮影装置１０と同様の効果が得られる。なお、例えば、被写体に接触する部分がコネクタ接続部８４等の外部機器接続部から大きく離間している場合等、被写体に接触する部分を流水で洗浄しても外部機器接続部が水で濡れる懸念のない放射線撮影装置である場合には、被写体に接触する部分に対し、流水による洗浄を行うようにしてもよい。この場合においても、親水加工部が存在するために水が汚染物質と外表面の間に進入するので、汚染物質を容易に除去することができ、細菌の繁殖を抑制できる。
【００９０】
なお、図３に示す可搬型放射線撮影装置７０において、本体部材７６に対して、第２蓋部材８０は、嵌合もしくは接着・溶着することができる。接着又は溶着し、第１蓋部材７８を再剥離可能に取り付ける構造とした場合は、第１蓋部材７８以外の部分を洗浄液に浸漬することが可能となる。この時、誤って、水に濡れることが無いように、バッテリ装着部８２及びコネクタ接続部８４は、図示しないが、エラストマーで蓋をしておくのが良い。また、第１蓋部材７８は、図示しないが、Ｏリング等で防水しておくのが良い。
この場合においても、筐体７２には親水加工部が設けられているので、汚染物質を容易に除去することができ、細菌の繁殖を抑制できる。
この実施形態においては、図示しないが、第１蓋部材７８に着脱取っ手又は収納取っ手が設けられていても良い。さらに、このような図３に示す可搬型放射線撮影装置７０のように、モノコック構造の筐体７２においては、貼り易いので、自己粘着性のシートを貼るようにしても良い。
【００９１】
（マンモグラフィ装置）
本発明の放射線撮影装置は、図４に示すようなマンモグラフィ装置９０であってもよい。この場合、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部は、被写体と接する部分である、フェースガード９２、乳房台９４又は乳房圧迫板９６に好適に設けることができる。
【００９２】
フェースガード９２には患者の口紅や皮脂が付着する場合があり、乳房台９４及び乳房圧迫板９６には、漏出母乳やバイオプシ（マンモトーム生検）の際の出血による血液、皮脂が付着する場合がある。フェースガード９２、乳房台９４、又は乳房圧迫板９６に親水加工部を設けることにより、口紅、母乳、血液、皮脂を清拭によって簡便に除去できるとともに、消毒の際に消毒液の濡れ性が高いことから従来よりも殺菌能力を向上させることができる。
【００９３】
さらに、抗菌加工された親水加工部を設けることによって、清拭後に残留している菌に対しても繁殖を抑え、又は殺菌することができる。また、この親水加工部の基材表面に微小な凹凸形状を設けること、及びこの親水加工部に滑剤を含有することも好適に用いることができる。
【００９４】
（立位撮影用の放射線撮影装置）
本発明の放射線撮影装置は、図５に示すような立位撮影用の放射線画像診断装置１００であってもよい。この場合、撮影時に被写体が接触する撮影台１０２や、撮影時に被写体が把持するグリップ１０４、１０６に抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けることが好適である。さらに、撮影者が触れるオペレーションパネル部を含む他の部分にも、好適に抗菌加工された親水加工部を設けることができる。
【００９５】
（ＣＲカセッテ）
また、コンピューティッド・ラジオグラフィ（ＣＲ）で用いられるイメージングプレートを撮影の際に格納するＣＲカセッテの外表面にも抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を好適に設けることができる。この場合、可搬型放射線撮影装置と同様に被写体が接触する撮影面の表面や、撮影者が触れ得る全外表面にこのような親水加工部を設けることが好適である。
【００９６】
（グリッド）
さらに、可搬型放射線撮影装置やＣＲカセッテでの撮影時に、散乱線を除去するとともにコントラストを改善するために用いられるグリッドの表面にも抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けることが好適である。
【００９７】
上記例に限らず、被写体と接触し、感染性の汚染物質が付着し得る放射線撮影装置の外表面に抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けることができる。
【実施例】
【００９８】
［実施例１］
可搬型放射線撮影装置１０において、筐体１８のうち、被写体である患者と接触するフロントパネル６０の表面に、後述する抗菌剤を含有する親水加工部形成用組成物を塗布及び硬化（紫外線照射処理）して、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けた。親水加工部の平均厚みは約２μｍであった。天板６４は、カーボン板表面にポリカーボネートシート（旭硝子製カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃ）を貼付けたものを用いた。カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃは、平坦な光沢表面であった。
なお、フロントパネル６０の表面（親水加工部形成用組成物が塗布される面）は平滑であった。
（親水加工部形成用組成物）
組成物には、以下の成分が含まれていた。なお、以下の銀セラミックス粒子分散液は、形成される親水加工部中の銀セラミックス粒子の含有量（親水加工部全質量に対する含有量（ｗｔ％（質量％）））が０．５ｗｔ％となる量を使用した。
親水性基を有するモノマー：Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ４００４（東洋ケミカルズ社製）７４質量部
抗菌剤：銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ）
架橋剤：Ａ-ＤＰＨ（新中村化学工業株式会社製）２０質量部
重合開始剤：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  （ＢＡＳＦ社製）３質量部
【００９９】
［実施例２］
親水加工部形成用組成物中の抗菌剤として、銀セラミックス粒子の代わりに、銀微粒子分散液（日本イオン社製、平均粒径１０ｎｍ）を使用し、形成される親水加工部中の銀微粒子の含有量（親水加工部全質量に対する含有量（ｗｔ％）が０．００２ｗｔ％となる量を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１００】
［比較例１］
親水性基を有するモノマーの代わりに、Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。なお、上記モノマーには親水性基は含まれていない。
【０１０１】
［比較例２］
抗菌剤を使用しなかった以外は、実施例１と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１０２】
［実施例３］
旭硝子製カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃの代わりにマット仕様のポリカーボネートシート（旭硝子製カーボグラスＣＦＲ２３０Ｃ）を用いてフロントパネル６０を製作し、親水加工部形成用組成物に、さらに平均粒径８μｍの滑材を３質量部添加し、抗菌剤として銀セラミックス粒子の代わりにビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）亜鉛（ＺＰＴ）分散液（大和化学工業製）を抗菌剤（ＺＰＴ）の親水加工部に対する含有量が０．５ｗｔ％となるように使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１０３】
［実施例４］
抗菌剤の含有量を０．５ｗｔ％から２．５ｗｔ％となるようにビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）亜鉛（ＺＰＴ）分散液の使用量を変更した以外は、実施例３と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１０４】
［実施例５］
抗菌剤の含有量を０．５ｗｔ％から５ｗｔ％となるようにビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）亜鉛（ＺＰＴ）分散液の使用量を変更した以外は、実施例３と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１０５】
［比較例３］
抗菌剤の含有量を０．５ｗｔ％から９ｗｔ％となるようにビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）亜鉛（ＺＰＴ）分散液の使用量を変更した以外は、実施例３と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１０６】
上記実施例１〜５、及び、比較例１〜３で得られた可搬型放射線撮影装置を用いて、以下の各種評価を実施した。
なお、実施例１〜５、及び、比較例１〜３で得られた可搬型放射線撮影装置中の親水加工部の水接触角は、上述した方法によって、測定した。結果を表１にまとめて示す。
【０１０７】
＜各種評価＞
（除去性（その１））
皮脂の主要成分であるオレイン酸を含む不飽和脂肪酸混合物に着色を行ったもの（以下、着色不飽和脂肪酸混合物という）を汚染物質として使用し、流水での除去しやすさを評価した。
フロントパネル表面（親水加工部上）に着色不飽和脂肪酸混合物を直径２ｃｍ程度の領域で塗り、水道水のシャワー（温度２５℃）を直接当て、除去されるまでの時間を測定した。表１中には、着色不飽和脂肪酸混合物が除去されるまでの時間を記載した。なお、流水で洗浄する場合は、コネクタ部、ねじ穴、バッテリ装着部等に水が入り込まないように注意して評価を実施した。結果を表１にまとめて示す。
【０１０８】
（除去性（その２））
湿布による清拭での汚染物質の除去しやすさについても同様に、着色不飽和脂肪酸混合物を汚染物質として使用して評価した。
上記と同様にフロントパネル表面（親水加工部上）に市販の着色不飽和脂肪酸混合物を直径２ｃｍ程度の領域で塗り、旭化成製ＢＥＭＣＯＴを常温の水に浸漬して、３往復清拭した後での着色不飽和脂肪酸混合物の残留を見た。着色不飽和脂肪酸混合物が除去されて残らない場合はＡ、除去するまでにさらに追加で３往復以内の清拭を要した場合をＢ、除去するまでにさらに追加で３往復超１０往復以内の清拭を要した場合をＣ、１０往復では除去されない場合をＤとした。結果を表１にまとめて示す。
【０１０９】
（抗菌性）
抗菌性は、ＪＩＳ Ｚ ２８０１に記載の評価方法に従って抗菌活性値を測定し、以下の基準に従って評価を行った。抗菌活性値は高いほど抗菌性が高く、抗菌活性値が２．０未満のものを「抗菌性なし」としてＣ、抗菌活性値が２．０以上５．７３未満のものを「抗菌性あり」としてＢ、抗菌活性値が５．７３以上のものは「抗菌性が優れる」としてＡとした。
菌液接触３時間後の抗菌性についても同様に評価した。結果を表１にまとめて示す。なお、上記「菌液接触３時間後の抗菌性」とは、菌液を親水加工部を３時間接触させた後に、上記評価方法に従って評価される抗菌性である。
なお、菌種は大腸菌を用いた。
【０１１０】
以下、表１中、「抗菌剤含有量」は、親水加工部全質量に対する、抗菌剤の含有量（ｗｔ％）を表す。
【０１１１】
【表１】
0006043737.tif 000003
【０１１２】
表１から、比較例１及び３では流水でも湿布による清拭でも除去されない不飽和脂肪酸混合物による汚染物質が、実施例１〜５では容易に除去されることが分かる。不飽和脂肪酸のような汚染物質は、通常は水を用いた洗浄のみでは除去し難い。しかし、水接触角を３０°以下に下げて親水性を上げたことで、水を用いた洗浄だけでも容易に汚染物質が除去できることが分かった。また、１週間暗所に保管した後に同様の試験を行った場合でも、同様の結果が得られた。
【０１１３】
この理由は、親水加工部表面に水が供給された際に、通常疎水的な成分を含む汚染物質よりも水との親和性が高いため、汚染物質の端部から親水加工部表面との間に水分子が入り込み、汚染物質と親水加工部表面の固着力が低下するからである。さらに、流水での水圧や湿布等で機械的に拭取りを行うことで、汚れが除去される。このとき、親水性の低い表面に付着した汚染物質を同様に除去する場合と比較すると、汚染物質と基材表面の間に浸入する水により固着力が低下していることで、より少ない力や拭取り回数で、より簡便・確実に汚染物質を除去できるようになる。
また、抗菌剤が親水加工部に含まれることにより、抗菌性が優れることが確認された。このように親水加工部が優れた抗菌性を示すことにより、微量に表面に残留した病原性の細菌に対して抗菌剤が作用し、細菌の繁殖を抑え、又は殺菌することができ、放射線撮影装置の表面を媒介した感染の可能性を低減できる。
【０１１４】
また、実施例１〜５に示すように、抗菌剤の含有量が所定の範囲（０．００１〜５ｗｔ％）であれば、除去性及び抗菌性のバランスがより優れることが確認された。
【０１１５】
［実施例６］
旭硝子製カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃの代わりにマット仕様のポリカーボネートシート（旭硝子製カーボグラスＣＦＲ２３０Ｃ）を用いてフロントパネル６０を製作し、親水加工部形成用組成物に、さらに平均粒径８μｍの滑剤を親水加工部全質量に対して３ｗｔ％の含有量となるように加えた以外は、実施例１と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１１６】
［実施例７］
滑剤の含有量を３ｗｔ％から５ｗｔ％となるように滑剤の添加量を変更した以外は、実施例６と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１１７】
［実施例８］
旭硝子製カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃの代わりにマット仕様のポリカーボネートシート（旭硝子製カーボグラスＣＦＲ２３０Ｃ）を用いてフロントパネル６０を製作し、親水加工部形成用組成物に、さらに平均粒径１２μｍの滑剤を親水加工部全質量に対して３ｗｔ％の含有量となるように加えた以外は、実施例１と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１１８】
［実施例９］
滑剤の含有量を３ｗｔ％から５ｗｔ％となるように滑剤の添加量を変更した以外は、実施例８と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１１９】
［実施例１０］
滑剤の含有量を３ｗｔ％から７ｗｔ％となるように滑剤の添加量を変更した以外は、実施例８と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１２０】
［実施例１１］
旭硝子製カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃの代わりにマット仕様のポリカーボネートシート（旭硝子製カーボグラスＣＦＲ２３０Ｃ）を用いてフロントパネル６０を製作し、親水加工部形成用組成物に、さらに平均粒径１６μｍの滑剤を親水加工部全質量に対して５ｗｔ％の含有量となるように加えた以外は、実施例１と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１２１】
［実施例１２］
滑剤の含有量を５ｗｔ％から７ｗｔ％となるように滑剤の添加量を変更した以外は、実施例１１と同様の手順に従って、親水加工部を設けた。
【０１２２】
上記実施例６〜１２で得られた可搬型放射線撮影装置を用いて、上述した各種評価を実施した。また、以下の（べたつき感評価）も合わせて実施した。
なお、実施例６〜１２で得られた可搬型放射線撮影装置中の親水加工部の水接触角は、上述した方法によって、測定した。
さらに、実施例６〜１２で得られた可搬型放射線撮影装置中の親水加工部の表面の表面粗さＲａをキーエンス社製 VK-X200で対物レンズ１０倍を用いて、上述した方法にて測定した。
結果を表２にまとめて示す。
【０１２３】
（べたつき感評価）
親水加工部に触ったときのべたつき感に関して、官能評価を行った。望ましい順にＡ、Ｂ、Ｃで採点した。明らかにべたつきがあるものや、手のひらで擦った場合に引っかかりを感じたものはＣとした。
【０１２４】
表２中、「滑剤の含有量」は、親水加工部全質量に対する、滑剤の含有量（ｗｔ％）を表す。
【０１２５】
【表２】
0006043737.tif 000004
【０１２６】
表２に示すように、表面粗さが２〜１５μｍの場合、汚染物質の除去性、抗菌性、べたつき感のバランスがより優れることが確認された。
【０１２７】
［実施例１３］
フロントパネル６０の代わりにバックパネル６２に親水加工部形成用組成物を塗布して、親水加工部を設けた以外は、実施例１と同様にして、可搬型放射線撮影装置を作製した。
【０１２８】
その結果、バックパネル６２上に設けられた親水加工部も、実施例１と同様の汚染物質の除去性、及び、抗菌性を示すことが確認された。
よって、撮影者の接触による汚れや、手術室又は救急救命室で、血液や体液等が付着した場合についても、これらの汚れを簡単に取り易くできる。
【０１２９】
［実施例１４〜１５］
（マンモグラフィ装置）
マンモグラフィ装置９０において、被写体である患者の顔面が接触するフェースガード９２の表面に、実施例１で用いたものと同じ親水加工部形成用組成物を塗布及び硬化して、実施例１４のマンモグラフィ装置を作製した。同様に、実施例２で用いたものと同じ親水加工部形成用組成物を塗布及び硬化して、実施例１５のマンモグラフィ装置を作製した。
【０１３０】
フェースガード９２は、撮影時に患者の皮脂や口紅や咳による飛沫が付着することがあるが、実施例１〜２と同様に、優れた除去性及び抗菌性を示した。
【０１３１】
［実施例１６］
マンモグラフィ装置９０において、乳房台９４及び乳房圧迫板９６の被写体の乳房と接触する表面に、実施例１で用いたものと同じ親水加工部形成用組成物を塗布及び硬化して、親水加工部を設けて、実施例１６のマンモグラフィ装置を作製した。
【０１３２】
乳房台９４及び乳房圧迫板９６の表面は、撮影時に被写体の乳房の皮膚が接触するとともに撮影時の乳房圧迫により漏出する母乳や、バイオプシ（マンモトーム生検）でニードルを挿す際の出血による血液が付着する場合がある。上記で作製したマンモグラフィ装置の親水加工部は、実施例１と同様に、優れた除去性及び抗菌性を示した。
【０１３３】
なお、マンモグラフィ装置９０のその他の部分に関しては、例えば、上記した以外に患者が触れ得る部分、又は操作パネル等、撮影者が接触する部分、その他の汚れが付着し得る部分について、同様に親水加工部を好適に設けることができる。
【０１３４】
［実施例１７］
（立位撮影用の放射線撮影装置）
立位撮影用の放射線画像診断装置１００に対して、撮影台１０２の表面に、実施例１で用いたものと同じ親水加工部形成用組成物を塗布及び硬化して、親水加工部を設けて、実施例１７の放射線画像診断装置を作製した。
【０１３５】
［実施例１８］
立位撮影用の放射線画像診断装置１００に対して、患者が把持するグリップ１０４及びグリップ１０６についても実施例１で用いたものと同じ親水加工部形成用組成物を塗布及び硬化して、親水加工部を設けて、実施例１８の放射線画像診断装置を作製した。
【０１３６】
実施例１７及び１８で作製した親水加工部は、実施例１と同様に、優れた除去性及び抗菌性を示した。
なお、撮影台１０２は患者の皮膚が接触したり、患者が咳をしたりした場合に、感染性細菌を含んだ飛沫が付着する可能性があり、この部分をより簡便且つ確実に洗浄・消毒できることは重要である。
さらに、実施例６〜１２に示すように、所定の表面粗さＲａを有する親水加工部を撮影台１０２の表面に設ける場合は、汚れの除去し易さ及び抗菌性を実現しつつ、べたつき感が低減され、患者が接触した際の快適さも実現することができる。
【０１３７】
一方、グリップ１０４及びグリップ１０６については、患者がしっかりと把持する必要があるため、親水加工部の表面には微小な凹凸形状は設けないことが好適である。
【０１３８】
立位撮影用の放射線画像診断装置１００のその他の部分についても、操作パネル等、撮影者が接触する部分、汚れが付着する部分について、同様に親水加工部を好適に設けることができる。
【０１３９】
［実施例１９］
（ＣＲカセッテ）
イメージングプレートを使ったコンピューティッド・ラジオグラフィ（ＣＲ）で用いられるカセッテケースについても、実施例１と同様の手順に従って、親水加工部を有するカセッテケースを作製した。カセッテケースと可搬型放射線撮影装置の外形は類似するため、詳細は割愛するが、同様の結果が得られた。
【符号の説明】
【０１４０】
１０、７０…可搬型放射線撮影装置        １８、７２…筐体
１２、７４…放射線検出器                １９、８６…照射面
１９Ａ…撮影領域                        ２９…シンチレータ
３０…ＴＦＴ基板                        ６０…フロントパネル
６２…バックパネル                      ６４…天板
７６…本体部材                          ７８、８０…蓋部材
８２…バッテリ装着部                    ８４…コネクタ接続部
９０…マンモグラフィ装置                ９２…フェースガード
９４…乳房台                            ９６…乳房圧迫板
１００…放射線画像診断装置              １０２…撮影台
１０４、１０６…グリップ
【図１】
0006043737.tif 000005
【図２】
0006043737.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【図５】
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