(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％、および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むケイ皮酸エステル共重合体１〜７０重量％を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【化１】
0006048556.tif 000014
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜１２の置換基を示す。）
【化２】
0006048556.tif 000015
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【請求項２】
ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５〜５０モル％、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位０〜８５モル％および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
【化３】
0006048556.tif 000016
（式中、Ｒ６は炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【化４】
0006048556.tif 000017
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【化５】
0006048556.tif 000018
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【請求項３】
ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位１０〜５０モル％、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位０〜６０モル％および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位３０〜９０モル％を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
【化６】
0006048556.tif 000019
（式中、Ｒ６は炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【化７】
0006048556.tif 000020
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【化８】
0006048556.tif 000021
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【請求項４】
ケイ皮酸エステル共重合体が、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ−ｎ−プロピル残基単位、フマル酸モノ−ｎ−ブチル残基単位、フマル酸モノ−ｔ−ブチル残基単位、フマル酸モノ−２−エチルヘキシル残基単位から選ばれるフマル酸モノエステル残基単位５〜５０モル％、フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジ−ｎ−プロピル残基単位、フマル酸ジ−ｎ−ブチル残基単位、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基単位、フマル酸ジ−２−エチルヘキシル残基単位から選ばれるフマル酸ジエステル残基単位０〜８５モル％、および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の樹脂組成物。
【化９】
0006048556.tif 000022
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【請求項５】
ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５〜８５モル％、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５〜４０モル％、および下記一般式（２）で示されアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
【化１０】
0006048556.tif 000023
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【化１１】
0006048556.tif 000024
【化１２】
0006048556.tif 000025
【化１３】
0006048556.tif 000026
【化１４】
0006048556.tif 000027
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【化１５】
0006048556.tif 000028
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【請求項６】
ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５〜６５モル％、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５〜４０モル％、および下記一般式（２）で示されアルコキシケイ皮酸エステル残基単位３０〜９０モル％を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
【化１６】
0006048556.tif 000029
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【化１７】
0006048556.tif 000030
【化１８】
0006048556.tif 000031
【化１９】
0006048556.tif 000032
【化２０】
0006048556.tif 000033
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【化２１】
0006048556.tif 000034
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【請求項７】
一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂がセルロ−スエ−テルであることを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかの項に記載の樹脂化合物。
【請求項８】
セルロ−スエ−テルのエ−テル化度（置換度）が１．５〜３．０であることを特徴とする請求項７に記載の樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜請求項８のいずれかの項に記載の樹脂組成物を用いてなり、厚みが５〜２００μｍであることを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項１０】
請求項１〜請求項８のいずれかの項に記載の樹脂組成物を用いてなり、厚みが２０〜６０μｍであることを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項１１】
下記式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が８０〜３００ｎｍで、下記式（２）で示されるＮｚ係数が０．３５〜０．６５であることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の光学補償フィルム。
Ｒｅ＝（ｎｙ−ｎｘ）×ｄ                          （１）
Ｎｚ＝（ｎｙ−ｎｚ）／（ｎｙ−ｎｘ）              （２）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
【請求項１２】
下記式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が５０〜３００ｎｍで、下記式（２）で示されるＮｚ係数が−０．２〜０．２であることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の光学補償フィルム。
Ｒｅ＝（ｎｙ−ｎｘ）×ｄ                          （１）
Ｎｚ＝（ｎｙ−ｎｚ）／（ｎｙ−ｎｘ）              （２）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
【請求項１３】
下記式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が０〜２０ｎｍで、下記式（３）で示される面外位相差（Ｒｔｈ）が、−１５０〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の光学補償フィルム。
Ｒｅ＝（ｎｙ−ｎｘ）×ｄ                          （１）
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ          （３）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
【請求項１４】
光線透過率が８５％以上であることを特徴とする請求項９〜請求項１３のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
【請求項１５】
ヘ−ズが１％以下であることを特徴とする請求項９〜請求項１４のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
【請求項１６】
４５０ｎｍにおけるレタ−デ−ションと５５０ｎｍにおけるレタ−デ−ションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０５であることを特徴とする請求項９〜請求項１５のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
【請求項１７】
５８９ｎｍにおけるレタ−デ−ションとフィルム膜厚の比Ｒｅ（５８９）（ｎｍ）／フィルム膜厚（μｍ）が４．０ｎｍ／μｍ以上であることを特徴とする請求項９〜請求項１６のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
【請求項１８】
樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％、および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むケイ皮酸エステル共重合体１〜７０重量％を含有する樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することを特徴とする請求項９〜請求項１７のいずれかの項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【化２２】
0006048556.tif 000035
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜１２の置換基を示す。）
【化２３】
0006048556.tif 000036
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【請求項１９】
一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂がセルロ−スエ−テルであるときのエ−テル化度（置換度）が１．５〜３．０であることを特徴とする請求項１８に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項２０】
キャストして得られた厚み１０〜２００μｍのフィルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸させることを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項２１】
キャストして得られた厚み３０〜１００μｍのフィルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸させることを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものであり、より詳しくは、樹脂組成物ならびに位相差特性および波長分散特性に優れた液晶ディスプレイ用の光学補償フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュ−タ−用モニタ−、ノ−トパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。
【０００３】
液晶ディスプレイには、垂直配向型（ＶＡ−ＬＣＤ）、面内配向型液晶（ＩＰＳ−ＬＣＤ）、ス−パ−ツイストネマチック型液晶（ＳＴＮ−ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイなどの多くの方式が有り、ディスプレイにあわせた光学補償フィルムが必要となっている。
【０００４】
従来の光学補償フィルムとしては、セルロ−ス系樹脂、ポリカ−ボネ−トや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。特にトリアセチルセルロ−スフィルムなどのセルロ−ス系樹脂からなるフィルムは、偏光子であるポリビニルアルコ−ルとの接着性も良好なことから幅広く使用されている。
【０００５】
しかしながら、セルロ−ス系樹脂からなる光学補償フィルムはいくつかの課題がある。例えば、セルロ−ス系樹脂フィルムは延伸条件を調整することで各種ディスプレイにあわせた位相差値を持つ光学補償フィルムに加工されるが、セルロ−ス系樹脂フィルムの一軸または二軸延伸により得られるフィルムの三次元屈折率は、ｎｙ≧ｎｘ＞ｎｚであり、それ以外の３次元屈折率、例えば、ｎｙ＞ｎｚ＞ｎｘや、ｎｙ＝ｎｚ＞ｎｘなどの３次元屈折率を有する光学補償フィルムを製造するためには、フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかけるなど特殊な延伸方法が必要であり屈折率（位相差値）の制御も困難である（例えば、特許文献１〜３参照）。ここでｎｘはフィルム面内の進相軸方向（最も屈折率の小さい方向）の屈折率、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向（最も屈折率の大きい方向）の屈折率、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示す。
【０００６】
また、セルロ−ス系樹脂フィルムは一般に溶剤キャスト法により製造されるが、キャスト法により成膜したセルロ−ス系樹脂フィルムはフィルム厚み方向に４０ｎｍ程度の面外位相差（Ｒｔｈ）を有するため、ＩＰＳモ−ドの液晶ディスプレイなどではカラ−シフトが起こるなどの問題がある。ここで面外位相差（Ｒｔｈ）は以下の式で示される位相差値である。
【０００７】
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献４参照）。
【０００８】
しかしながら、フマル酸エステル系樹脂からなる延伸フィルムの３次元屈折率は、ｎｚ＞ｎｙ＞ｎｘであり、上記３次元屈折率を示す光学補償フィルムを得るためには他の光学補償フィルム等との積層などが必要である。
【０００９】
そこで、上記３次元屈折率を示す光学補償フィルムとして、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムが提案されている（例えば、特許文献５〜特許文献７参照）。
【００１０】
特許文献５〜特許文献７は光学補償フィルムとして優れた性能を有するものの、目的とするＲｅの発現のためには本発明よりも厚いフィルム厚が必要である。また、一般に位相差フィルムは反射型液晶表示装置、タッチパネルや有機ＥＬの反射防止層としても用いられるものであり、該用途では、長波長域ほどレタ−デ−ションが大きい位相差フィルム（以下、「逆波長分散フィルム」という）が求められるものであるが、特許文献５〜特許文献７には逆波長分散フィルムとして用いられることについて何らの記載がないものである。
【００１１】
反射防止層として逆波長分散フィルムが用いられる場合、位相差は測定波長λの１／４程度が好ましく、４５０ｎｍにおけるレタ−デ−ションと５５０ｎｍにおけるレタ−デ−ションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８１に近いことが好ましい。そして、表示装置の薄型化を鑑みた場合、使用される逆波長分散フィルムも薄いことが求められる。上記のような要求特性に対し、種々の位相差フィルムが開発されている。
【００１２】
このような位相差フィルムとして、正の固有複屈折を有するポリマ−と、負の固有複屈折を有するポリマ−とをブレンドして得た、逆波長分散性を有する位相差板が開示されている（例えば、特許文献８参照）。しかし、当該文献には、正の固有複屈折を有するポリマ−としてノルボルネン系ポリマ−、負の固有複屈折を有するポリマ−としてスチレンと無水マレイン酸との共重合体、及びそれらポリマ−をブレンドして得られる組成物が開示されているが、該組成物を用いた位相差板は、位相差フィルムの位相差特性として望ましいＲｅとＮｚの関係を満足するものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特許２８１８９８３号公報
【特許文献２】特開平５−２９７２２３号公報
【特許文献３】特開平５−３２３１２０号公報
【特許文献４】特開２００８−６４８１７号公報
【特許文献５】特開２０１３−２８７４１号公報
【特許文献６】特開２０１４−１２５６０９号公報
【特許文献７】特開２０１４−１２５６１０号公報
【特許文献８】特開２００１−３３７２２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、光学補償フィルムに適する樹脂組成物ならびにそれを用いた位相差特性および波長分散特性に優れた光学補償フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のセルロ−ス系樹脂および特定のケイ皮酸エステル共重合体を含有する樹脂組成物、それを用いた光学補償フィルムおよびその製造方法が、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、樹脂成分として所定の式で示されるセルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％、および所定の式で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むケイ皮酸エステル共重合体１〜７０重量％を含有することを特徴とする樹脂組成物、それを用いた光学補償フィルム、ならびにその製造方法である。
【００１６】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１７】
本発明の樹脂組成物は、樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％、および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むケイ皮酸エステル共重合体１〜７０重量％を含有する。
【００１８】
【化１】
0006048556.tif 000002
【００１９】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜１２の置換基を示す。）
【００２０】
【化２】
0006048556.tif 000003
【００２１】
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
本発明のセルロ−ス系樹脂としては、例えば、セルロ−スエ−テル、セルロ−スエステル、セルロ−スエ−テルエステル、セルロ−スアシレ−ト等が挙げられる。そして、本発明の樹脂組成物は、これらのセルロ−ス系樹脂を１種または２種以上含有していてもよい。
【００２２】
本発明のセルロ−ス系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ−ミエイション・クロマトグラフィ−（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０３〜１×１０６であることが好ましく、５×１０３〜２×１０５であることがさらに好ましい。
【００２３】
本発明のセルロ−ス系樹脂としては、ケイ皮酸エステル共重合体との相溶性に優れ、かつ面内位相差Ｒｅが大きく、更に延伸加工性に優れるため、セルロ−スエ−テルが好ましい。
【００２４】
以下、本発明の光学補償フィルムに用いられるセルロ−ス系樹脂として好ましいセルロ−スエ−テルについて説明する。
【００２５】
本発明のセルロ−ス系樹脂であるセルロ−スエ−テルは、β−グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコ−ス単位の２位、３位および６位の水酸基の一部または全部をエ−テル化したポリマ−である。本発明のセルロ−スエ−テルとしては、例えば、メチルセルロ−ス、エチルセルロ−ス、プロピルセルロ−ス等のアルキルセルロ−ス；ヒドロキシエチルセルロ−ス、ヒドロキシプロピルセルロ−ス等のヒドロキシアルキルセルロ−ス；ベンジルセルロ−ス、トリチルセルロ−ス等のアラルキルセルロ−ス；シアンエチルセルロ−ス等のシアノアルキルセルロ−ス；カルボキシメチルセルロ−ス、カルボキシエチルセルロ−ス等のカルボキシアルキルセルロ−ス；カルボキシメチルメチルセルロ−ス、カルボキシメチルエチルセルロ−ス等のカルボキシアルキルアルキルセルロ−ス；アミノエチルセルロ−ス等のアミノアルキルセルロ−ス等が挙げられる。
【００２６】
該セルロ−スエ−テルにおけるセルロ−スの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度（エ−テル化度）は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロ−スの水酸基がエ−テル化している割合（１００％のエ−テル化は置換度１）を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、エ−テル基の全置換度ＤＳは、好ましくは１．５〜３．０（１．５≦ＤＳ≦３．０）であり、さらに好ましくは１．８〜２．８である。セルロ−スエ−テルは、溶解性、相溶性の点から、炭素数１〜１２の置換基を有することが好ましい。炭素数１〜１２の置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デカニル基、ドデカニル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェノニル基、ベンジル基、ナフチル基等を挙げることができる。これらの中でも、溶解性、相溶性の点から、炭素数１〜５のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基が好ましい。本発明で用いるセルロ−ス系ポリマ−のエ−テル基は１種類だけでもよいし、２種類以上のエ−テル基を有していてもよい。また、エ−テル基の他にエステル基を有していてもよい。
【００２７】
セルロ−スエ−テルは一般に、木材又はコットンより得たセルロ−スパルプをアルカリ分解し、アルカリ分解したセルロ−スパルプをエ−テル化することで合成される。アルカリとしては、リチウム，カリウム，ナトリウムなどのアルカリ金属の水酸化物やアンモニアなどが利用できる。前記アルカリ類は一般に、水溶液として使用される。そして、アルカリ性にされたセルロ−スパルプは、セルロ−スエ−テルの種類に応じて用いられるエ−テル化剤と接触されることによりエ−テル化されるものである。エ−テル化剤としては、例えば、塩化メチル、塩化エチル等のハロゲン化アルキル；ベンジルクロライド、トリチルクロライド等のハロゲン化アラルキル；モノクロロ酢酸、モノクロロプロピオン酸等のハロカルボン酸；エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイド等が挙げられ、これらのエ−テル化剤は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００２８】
なお、必要であれば、反応終了後、粘度調整のため塩化水素、臭化水素、塩酸、及び硫酸等で解重合処理してもよい。
【００２９】
本発明の樹脂組成物が含有するケイ皮酸エステル共重合体（以下、ケイ皮酸エステル共重合体という）は、一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むものである。本発明において、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が１０モル％未満の場合、位相差発現性が低下し、９０モル％を超える場合、相溶性が低下する。すなわち、本発明はケイ皮酸エステル共重合体がアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を１０〜９０モル％含んでなるケイ皮酸エステル共重合体であることにより、該共重合体の相溶性が高く、かつ、本発明に係る樹脂組成物が光学補償フィルムとして用いられるとき、Ｒｅがより向上していることを特徴するものである。
【００３０】
ケイ皮酸エステル共重合体における一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位のエステル置換基であるＲ４は炭素数１〜１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、セルロ−ス樹脂との相溶性から、炭素数１〜４のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。エステル置換基であるＲ５は、炭素数１〜１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、溶解性、相溶性の点から、炭素数１〜４のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位としては、溶解性、相溶性の点から、４−メトキシケイ皮酸メチル残基、４−メトキシケイ皮酸エチル残基、４−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４−エトキシケイ皮酸メチル残基、４−エトキシケイ皮酸エチル残基、４−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４−エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４−エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４−エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４−イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、４−イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、４−イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、４−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４−イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４−イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４−イソプロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸メチル残基、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸エチル残基、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸メチル残基、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸エチル残基、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸メチル残基、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸エチル残基、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸メチル残基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸エチル残基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３−メトキシケイ皮酸メチル残基、３−メトキシケイ皮酸エチル残基、３−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３−エトキシケイ皮酸メチル残基、３−エトキシケイ皮酸エチル残基、３−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３−エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３−エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３−エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３−イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、３−イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、３−イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、３−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３−イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３−イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３−イソプロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸メチル残基、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸エチル残基、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸メチル残基、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸エチル残基、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸メチル残基、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸エチル残基、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸３−エチルヘキシル残基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸メチル残基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸エチル残基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２−メトキシケイ皮酸メチル残基、２−メトキシケイ皮酸エチル残基、２−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２−エトキシケイ皮酸メチル残基、２−エトキシケイ皮酸エチル残基、２−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２−エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２−エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２−エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２−イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、２−イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、２−イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、２−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２−イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２−イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２−イソプロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸メチル残基、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸エチル残基、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸メチル残基、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸エチル残基、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸メチル残基、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸エチル残基、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸メチル残基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸エチル残基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基から選ばれるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位が好ましい。
【００３１】
本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体は、下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５〜５０モル％、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位０〜８５モル％および一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むものであることが好ましく、下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位１０〜５０モル％、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位０〜６０モル％および一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位３０〜９０モル％を含むものであることがさらに好ましい。
【００３２】
【化３】
0006048556.tif 000004
【００３３】
（式中、Ｒ６は炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
【００３４】
【化４】
0006048556.tif 000005
【００３５】
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
本発明において、フマル酸モノエステル残基単位が５モル％より大きい場合、より相溶性に優れる樹脂となる。そして、該残基単位が５〜５０モル％である場合、位相差特性の発現が高く、かつ、より相溶性に優れる樹脂となるものである。
【００３６】
本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体が一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位を有する場合、該残基単位のエステル置換基であるＲ６は炭素数１〜１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、セルロ−ス樹脂との相溶性から、炭素数１〜４のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位としては、例えば、フマル酸モノメチル残基、フマル酸モノエチル残基、フマル酸モノ−ｎ−プロピル残基、フマル酸モノイソプロピル残基、フマル酸モノ−ｎ−ブチル残基、フマル酸モノ−ｓ−ブチル残基、フマル酸モノ−ｔ−ブチル残基、フマル酸モノ−ｎ−ペンチル残基、フマル酸モノ−ｓ−ペンチル残基、フマル酸モノ−ｔ−ペンチル残基、フマル酸モノ−ｎ−ヘキシル残基、フマル酸モノ−ｓ−ヘキシル残基、フマル酸モノ−ｔ−ヘキシル残基、フマル酸モノ−２−エチルヘキシル、フマル酸モノシクロプロピル残基、フマル酸モノシクロペンチル残基、フマル酸モノシクロヘキシル残基等が挙げられる。これらの中でも、セルロ−ス系樹脂との相溶性が良いことから、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ−ｎ−プロピル残基単位、フマル酸モノ−ｎ−ブチル残基単位、フマル酸モノ−ｓ−ブチル残基単位、フマル酸モノ−ｔ−ブチル残基単位から選ばれるフマル酸モノエステル残基単位が好ましい。
【００３７】
本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体が一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位を有する場合、該残基単位のエステル置換基であるＲ７、Ｒ８は炭素数１〜１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、セルロ−ス樹脂との相溶性から、炭素数１〜４のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位としては、例えば、フマル酸ジメチル残基、フマル酸ジエチル残基、フマル酸ジ−ｎ−プロピル残基、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−ｎ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｓ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｎ−ペンチル残基、フマル酸ジ−ｓ−ペンチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ペンチル残基、フマル酸ジ−ｎ−ヘキシル残基、フマル酸ジ−ｓ−ヘキシル残基、フマル酸ジ−ｔ−ヘキシル残基、フマル酸ジ−２−エチルヘキシル残基、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が挙げられる。これらの中でも、重合性、位相差発現性、セルロ−ス系樹脂との相溶性が良いことから、フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基単位から選ばれるフマル酸ジエステル残基単位が好ましい。
【００３８】
本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体は、フマル酸モノエステル残基単位５〜５０モル％、フマル酸ジエステル残基単位０〜８０モル％、およびアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％の割合で含む合計単量体を１００モル％として、ケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体の残基単位０〜２０モル％を含んでいてもよい。
【００３９】
本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体は、一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５〜８５モル％、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５〜４０モル％、および一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むものであることが好ましく、一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５〜６５モル％、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５〜４０モル％、および一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位３０〜９０モル％を含むものであることがさらに好ましい。
【００４０】
【化５】
0006048556.tif 000006
【００４１】
【化６】
0006048556.tif 000007
【００４２】
【化７】
0006048556.tif 000008
【００４３】
【化８】
0006048556.tif 000009
【００４４】
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基、アルキレン基またはエーテル基を示す。）
本発明において、一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位が５モル％より大きい場合、より相溶性に優れる樹脂となる。そして、これらの群より選ばれる残基単位が５〜４０モル％である場合、位相差特性の発現が高く、かつ、より相溶性に優れる樹脂となるものである。また、本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体がこれらの群より選ばれる残基単位を含む場合において、一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位が５モル％より大きい場合、より重合性に優れる樹脂となるものである。
【００４５】
本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体が一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位を含む場合、アクリル酸エステル残基単位、メタクリル酸エステル残基単位、アクリル酸アミド残基単位またはメタクリル酸アミド残基単位のエステル置換基の一部であるＲ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２は炭素数１〜１２のアルキル基、アルキレン基またはエーテル基であり、例えば、メチル（メチレン）基、エチル（エチレン）基、プロピル（プロピレン）基、イソプロピル（イソプロピレン）基、ｓ−ブチル（ｓ−ブチレン）基、ｔ−ブチル（ｔ−ブチレン）基、ｓ−ペンチル（ｓ−ペンチレン）基、ｔ−ペンチル（ｔ−ペンチレン）基、ｓ−ヘキシル（ｓ−ヘキシレン）基、ｔ−ヘキシル（ｔ−ヘキシレン）基、２−エチルヘキシル（２−エチルヘキシレン）基、シクロプロピル（シクロプロピレン）基、シクロペンチル（シクロプロペンチレン）基、シクロヘキシル（シクロヘキシレン）基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、ｓ−ブトキシメチル基、ｔ−ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、イソプロポキシエチル基、ｎ−ブトキシエチル基、ｓ−ブトキシエチル基、ｔ−ブトキシエチル基等が挙げられる。
【００４６】
ケイ皮酸エステル共重合体は、フマル酸ジエステル残基単位５〜８５モル％、一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５〜４０モル％、およびアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％の割合で含む合計単量体を１００モル％として、ケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体の残基単位０〜２０モル％を含んでいてもよい。
【００４７】
ケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体の残基単位としては、例えば、スチレン残基、α−メチルスチレン残基などのスチレン類残基；アクリル酸残基；アクリル酸メチル残基、アクリル酸エチル残基、アクリル酸ブチル残基などのアクリル酸エステル類残基；メタクリル酸残基；メタクリル酸メチル残基、メタクリル酸エチル残基、メタクリル酸ブチル残基などのメタクリル酸エステル類残基；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基などのビニルエステル類残基；メチルビニルエ−テル残基、エチルビニルエ−テル残基、ブチルビニルエ−テル残基などのビニルエ−テル残基；Ｎ−メチルマレイミド残基、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基、Ｎ−フェニルマレイミド残基などのＮ−置換マレイミド残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基；ケイ皮酸メチル残基、ケイ皮酸エチル残基、ケイ皮酸イソプロピル残基、ケイ皮酸−ｎ−プロピル残基、ケイ皮酸−ｎ−ブチル残基、ケイ皮酸−ｓ−ブチル残基、ケイ皮酸−ｔ−ブチル残基などのケイ皮酸エステル残基；ケイ皮酸残基；エチレン残基、プロピレン残基などのオレフィン類残基；ビニルピロリドン残基；ビニルピリジン残基等の１種または２種以上を挙げることができる。
【００４８】
ケイ皮酸エステル共重合体は、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ−ミエイション・クロマトグラフィ−（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０３〜５×１０６のものであることが好ましく、５×１０３〜２×１０５であることがさらに好ましい。
【００４９】
本発明の樹脂組成物におけるセルロ−ス系樹脂とケイ皮酸エステル共重合体の組成の割合は、セルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％およびケイ皮酸エステル共重合体１〜７０重量％である。セルロ−ス系樹脂が３０重量％未満の場合（ケイ皮酸エステル共重合体が７０重量％を超える場合）、またはセルロ−ス系樹脂が９９重量％を超える場合（ケイ皮酸エステル共重合体が１重量％未満の場合）は、位相差の制御が困難である。好ましくは、セルロ−ス系樹脂３０〜９０重量％およびケイ皮酸エステル共重合体１０〜７０重量％であり、さらに好ましくはセルロ−ス系樹脂４０〜８０重量％およびケイ皮酸エステル共重合体２０〜６０重量％である。
【００５０】
ケイ皮酸エステル共重合体の製造方法としては、該ケイ皮酸エステル共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよい。
【００５１】
本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体がフマル酸ジエステル残基単位及びフマル酸モノエステル残基単位を含む場合、ケイ皮酸エステル共重合体の製造方法としては、例えば、フマル酸モノエステル類とフマル酸ジエステル類とアルコキシケイ皮酸エステル類、場合によってはフマル酸モノエステル類、フマル酸ジエステル類およびアルコキシケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体を併用し、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。この際の該フマル酸モノエステル類としては、例えば、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノ−ｎ−プロピル、フマル酸モノイソプロピル、フマル酸モノ−ｎ−ブチル、フマル酸モノ−ｓ−ブチル、フマル酸モノ−ｔ−ブチル、フマル酸モノ−ｓ−ペンチル、フマル酸モノ−ｔ−ペンチル、フマル酸モノ−ｓ−ヘキシル、フマル酸モノ−ｔ−ヘキシル、フマル酸モノ−２−エチルヘキシル、フマル酸モノシクロプロピル、フマル酸モノシクロペンチル、フマル酸モノシクロヘキシル等が挙げられ、該フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジ−ｎ−プロピル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ−ｎ−ブチル、フマル酸ジ−ｓ−ブチル、フマル酸ジ−ｔ−ブチル、フマル酸ジ−ｓ−ペンチル、フマル酸ジ−ｔ−ペンチル、フマル酸ジ−ｓ−ヘキシル、フマル酸ジ−ｔ−ヘキシル、フマル酸ジ−２−エチルヘキシル、フマル酸ジシクロプロピル、フマル酸ジシクロペンチル、フマル酸ジシクロヘキシル等が挙げられ、該アルコキシケイ皮酸エステル類としては、例えば、４−メトキシケイ皮酸メチル、４−メトキシケイ皮酸エチル、４−メトキシケイ皮酸イソプロピル、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、４−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、４−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、４−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、４−エトキシケイ皮酸メチル、４−エトキシケイ皮酸エチル、４−エトキシケイ皮酸イソプロピル、４−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、４−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、４−エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、４−エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、４−エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、４−イソプロポキシケイ皮酸メチル、４−イソプロポキシケイ皮酸エチル、４−イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル、４−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル、４−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル、４−イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、４−イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、４−イソプロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸メチル、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸エチル、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸イソプロピル、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、４−ｎ−プロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸メチル、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸エチル、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、４−ｎ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸メチル、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸エチル、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、４−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸メチル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸エチル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、３−メトキシケイ皮酸メチル、３−メトキシケイ皮酸エチル、３−メトキシケイ皮酸イソプロピル、３−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、３−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、３−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、３−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、３−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、３−エトキシケイ皮酸メチル、３−エトキシケイ皮酸エチル、３−エトキシケイ皮酸イソプロピル、３−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、３−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、３−エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、３−エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、３−エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、３−イソプロポキシケイ皮酸メチル、３−イソプロポキシケイ皮酸エチル、３−イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル、３−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル、３−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル、３−イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、３−イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、３−イソプロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸メチル、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸エチル、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸イソプロピル、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、３−ｎ−プロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸メチル、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸エチル、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、３−ｎ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸メチル、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸エチル、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、３−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸３−エチルヘキシル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸メチル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸エチル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−メトキシケイ皮酸メチル、２−メトキシケイ皮酸エチル、２−メトキシケイ皮酸イソプロピル、２−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、２−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、２−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、２−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、２−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−エトキシケイ皮酸メチル、２−エトキシケイ皮酸エチル、２−エトキシケイ皮酸イソプロピル、２−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、２−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、２−エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、２−エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、２−エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−イソプロポキシケイ皮酸メチル、２−イソプロポキシケイ皮酸エチル、２−イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル、２−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル、２−イソプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル、２−イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、２−イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、２−イソプロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸メチル、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸エチル、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸イソプロピル、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、２−ｎ−プロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸メチル、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸エチル、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、２−ｎ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸メチル、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸エチル、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、２−ｓｅｃ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸メチル、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸エチル、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸イソプロピル、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、２−ｔｅｒｔ−ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル等が挙げられる。フマル酸モノエステル類、フマル酸ジエステル類およびアルコキシケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン類；アクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類；メタクリル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチルなどのメタクリル���エステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類；メチルビニルエ−テル、エチルビニルエ−テル、ブチルビニルエ−テルなどのビニルエ−テル；Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドなどのＮ−置換マレイミド；アクリロニトリル；メタクリロニトリル；ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸イソプロピル、ケイ皮酸−ｎ−プロピル、ケイ皮酸−ｎ−ブチル、ケイ皮酸−ｓ−ブチル、ケイ皮酸−ｔ−ブチルなどのケイ皮酸エステル；ケイ皮酸；エチレン、プロピレンなどのオレフィン類；ビニルピロリドン；ビニルピリジン等の１種または２種以上を挙げることができる。
【００５２】
ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
【００５３】
ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパ−オキサイド、ラウリルパ−オキサイド、オクタノイルパ−オキサイド、アセチルパ−オキサイド、ジ−ｔ−ブチルパ−オキサイド、ｔ−ブチルクミルパ−オキサイド、ジクミルパ−オキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパ−オキシ）ヘキサンなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレ−ト、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）などのアゾ系開始剤等が挙げられる。
【００５４】
そして、溶液重合法または沈殿重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒；メタノ−ル、エタノ−ル、プロピルアルコ−ル、ブチルアルコ−ルなどのアルコ−ル系溶媒；シクロヘキサン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、酢酸イソプロピル等が挙げられ、これらの混合溶媒をも挙げられる。
【００５５】
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には３０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
【００５６】
本発明の樹脂組成物は、熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダ−ドフェノ−ル系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
【００５７】
本発明の樹脂組成物は、耐候性を高めるためヒンダ−ドアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾ−ル、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエ−ト等が挙げられる。
【００５８】
本発明の樹脂組成物は、いわゆる可塑剤として知られる化合物を、機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、レタ−デ−ション調整等の目的で添加してもよく、可塑剤としては、例えば、リン酸エステルやカルボン酸エステル等が挙げられる。また、アクリル系ポリマ−なども用いられる。リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェ−ト、トリクレジルホスフェ−ト、フェニルジフェニルホスフェ−ト等を挙げることが出来る。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステル等、フタル酸エステルとしては、例えば、ジメチルフタレ−ト、ジエチルフタレ−ト、ジシクロヘキシルフタレ−ト、ジオクチルフタレ−ト及びジエチルヘキシルフタレ−ト等、またクエン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル及びクエン酸アセチルトリブチル等を挙げることが出来る。またその他、オレイン酸ブチル、リシノ−ル酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル、トリアセチン、トリメチロ−ルプロパントリベンゾエ−ト等も挙げられる。アルキルフタリルアルキルグリコレ−トもこの目的で用いられる。アルキルフタリルアルキルグリコレ−トのアルキルは炭素原子数１〜８のアルキル基である。アルキルフタリルアルキルグリコレ−トとしては、メチルフタリルメチルグリコレ−ト、エチルフタリルエチルグリコレ−ト、プロピルフタリルプロピルグリコレ−ト、ブチルフタリルブチルグリコレ−ト、オクチルフタリルオクチルグリコレ−ト、メチルフタリルエチルグリコレ−ト、エチルフタリルメチルグリコレ−ト、エチルフタリルプロピルグリコレ−ト、プロピルフタリルエチルグリコレ−ト、メチルフタリルプロピルグリコレ−ト、メチルフタリルブチルグリコレ−ト、エチルフタリルブチルグリコレ−ト、ブチルフタリルメチルグリコレ−ト、ブチルフタリルエチルグリコレ−ト、プロピルフタリルブチルグリコレ−ト、ブチルフタリルプロピルグリコレ−ト、メチルフタリルオクチルグリコレ−ト、エチルフタリルオクチルグリコレ−ト、オクチルフタリルメチルグリコレ−ト、オクチルフタリルエチルグリコレ−ト等を挙げることが出来る。これら可塑剤を２種以上混合して使用してもよい。
【００５９】
本発明の樹脂組成物は位相差を調整する目的で、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を含有していてもよい。位相差を調整する目的で使用される添加剤の下記式（Ａ）で示される複屈折Δｎについては、特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは０．０５以上であり、さらに好ましくは０．０５〜０．５、特に好ましくは０．１〜０．５である。添加剤のΔｎは分子軌道計算によって求めることができる。
【００６０】
Δｎ＝ｎｙ−ｎｘ                        （Ａ）
（式中、ｎｘは添加剤分子の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙは添加剤分子の遅相軸方向の屈折率を示す。）
本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、本発明の樹脂組成物における芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤は、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環の分子内の個数については、特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは１〜１２個であり、さらに好ましくは１〜８個である。芳香族炭化水素環としては、例えば、５員環、６員環、７員環または二つ以上の芳香族環からなる縮合環等が挙げられ、芳香族性ヘテロ環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロ−ル環、オキサゾ−ル環、チアゾ−ル環、イミダゾ−ル環、トリアゾ−ル環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，３，５−トリアジン環等が挙げられる。
【００６１】
芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、水酸基、エ−テル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられる。
【００６２】
本発明で用いられる芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤としては、例えば、トリクレジルホスフェ−ト、トリキシレニルホスフェ−ト、トリフェニルホスフェ−ト、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェ−ト、クレジルジフェニルホスフェ−ト、ビスフェノ−ルＡビス（ジフェニルホスフェ−ト）等のリン酸エステル系化合物；ジメチルフタレ−ト、ジエチルフタレ−ト、ジブチルフタレ−ト、ジヘキシルフタレ−ト、ジノルマルオクチルフタレ−ト、２−エチルヘキシルフタレ−ト、ジイソオクチルフタレ−ト、ジカプリルフタレ−ト、ジノニルフタレ−ト、ジイソノニルフタレ−ト、ジデシルフタレ−ト、ジイソデシルフタレ−ト等のフタル酸エステル系化合物；トリブチルトリメリテ−ト、トリ−ノルマルヘキシルトリメリテ−ト、トリ（２−エチルヘキシル）トリメリテ−ト、トリ−ノルマルオクチルトリメリテ−ト、トリ−イソクチルトリメリテ−ト、トリ−イソデシルトリメリテ−ト等のトリメリット酸エステル系化合物；トリ（２−エチルヘキシル）ピロメリテ−ト、テトラブチルピロメリテ−ト、テトラ−ノルマルヘキシルピロメリテ−ト、テトラ（２−エチルヘキシル）ピロメリテ−ト、テトラ−ノルマルオクチルピロメリテ−ト、テトラ−イソクチルピロメリテ−ト、テトラ−イソデシルピロメリテ−ト等のピロメリット酸エステル系化合物；安息香酸エチル、安息香酸イソプロピル、パラオキシ安息香酸エチル等の安息香酸エステル系化合物；フェニルサリシレ−ト、ｐ−オクチルフェニルサリシレ−ト、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレ−ト等のサリチル酸エステル系化合物；メチルフタリルエチルグリコレ−ト、エチルフタリルエチルグリコレ−ト、ブチルフタリルブチルグリコレ−ト等のグリコ−ル酸エステル系化合物；２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル等のベンゾトリアゾ−ル系化合物；２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、Ｎ−ベンゼンスルホンアミド等のスルホンアミド系化合物、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン系化合物等が挙げられ、樹脂との相溶性の点から、好ましくはトリクレジルホスフェ−ト、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェ−ト、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンが挙げられ、これらは必要に応じて１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６３】
本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、光学特性及び機械的特性の観点から、好ましくは本発明の樹脂組成物における芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤の割合は０．０１〜３０重量％であり（上記の樹脂成分：７０〜９９．９９重量％）、さらに好ましくは０．０１〜２０重量％、特に好ましくは０．０１〜１５重量％である。
【００６４】
本発明の樹脂組成物は、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマ−、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。
【００６５】
本発明の樹脂組成物は、セルロ−ス系樹脂とケイ皮酸エステル共重合体をブレンドすることにより得ることができる。
【００６６】
ブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が本発明の樹脂組成物に含有される場合における溶融ブレンド法とは、加熱により樹脂と芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂と芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等のアルコ−ル溶剤；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル溶剤；ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を用いることができる。各樹脂および芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。得られたブレンド樹脂溶液を貧溶剤に投入し、樹脂組成物を析出させることも可能であり、またブレンド樹脂溶液のまま光学補償フィルムの製造に用いることも可能である。
【００６７】
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが５〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１００μｍがさらに好ましく、２０〜８０μｍが特に好ましく、２０〜６０μｍがもっとも好ましい。
【００６８】
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの位相差特性は、目的とする光学補償フィルムにより異なるものであり、例えば、１）下記式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは８０〜３００ｎｍ、さらに好ましくは１００〜３００ｎｍ、特に好ましくは１００〜２８０ｎｍであって、下記式（２）で示されるＮｚ係数が好ましくは０．３５〜０．６５、さらに好ましくは０．４５〜０．５５であるもの、２）面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは５０〜２００ｎｍ、さらに好ましくは８０〜１６０ｎｍであって、Ｎｚ係数が好ましくは−０．２〜０．２、さらに好ましくは−０．１〜０．１であるもの、３）面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは０〜２０ｎｍ、さらに好ましくは０〜５ｎｍ、下記式（３）で示される面外位相差（Ｒｔｈ）が好ましくは−１５０〜２０ｎｍ、さらに好ましくは−１５０〜１０ｎｍ、特に好ましくは−１２０〜０ｎｍであるもの等が挙げられる。このときの位相差特性は全自動複屈折計（王子計測機器株式会社製、商品名ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用い、測定波長５８９ｎｍの条件で測定されるものである。
【００６９】
これらは、従来のセルロ−ス系樹脂からなる光学補償フィルムでは発現が困難な位相差特性を有している。
【００７０】
Ｒｅ＝（ｎｙ−ｎｘ）×ｄ                      （１）
Ｎｚ＝（ｎｙ−ｎｚ）／（ｎｙ−ｎｘ）          （２）
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ      （３）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
本発明の光学フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）＜１．０５であり、さらに好ましくは０．６１＜Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）＜１．０２であり、特に好ましくは０．６１＜Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）＜１．００である。
【００７１】
本発明のセルロ−ス系樹脂としてセルロ−スエ−テルを使用した場合、単独では、低波長分散の光学フィルムを提供することができる。このフィルムに、延伸方向に対して負の複屈折性を示すケイ皮酸エステル共重合体をブレンドした樹脂組成物は、一般的に逆波長分散性を示す光学フィルムを提供することができるものである。
【００７２】
これらの位相差特性および波長分散特性を同時に満足することは、従来のセルロ−ス系樹脂を用いた光学補償フィルムでは発現が困難であるが、本発明においてセルロ−スエ−テルを用いる場合には、本発明に係る樹脂組成物を用いた光学補償フィルムがこれらの特性を同時に満足するものである。
【００７３】
本発明の光学補償フィルムは、必要膜厚を薄くするため、５８９ｎｍにおけるレタ−デ−ションとフィルム膜厚の比Ｒｅ（５８９）（ｎｍ）／フィルム膜厚（μｍ）が４．０ｎｍ／μｍ以上であることが好ましい。
【００７４】
本発明の光学補償フィルムは、輝度向上のため、光線透過率が好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【００７５】
本発明の光学補償フィルムは、コントラスト向上のため、ヘ−ズが好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
【００７６】
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの製造方法としては、本発明の光学補償フィルムの製造が可能であれば如何なる方法を用いてもよいが、光学特性、耐熱性、表面特性などに優れる光学補償フィルムが得られることから、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液（一般にはド−プと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させて光学補償フィルムを得る方法である。流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクタ−ブレ−ド法、バ−コ−タ−法、ロ−ルコ−タ−法、リップコ−タ−法等が用いられ、工業的には、ダイからド−プをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的に用いられている。また、用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレ−ト等のプラスチック基板などがある。高度に表面性、光学均質性の優れた基板を工業的に連続製膜するには、表面を鏡面仕上げした金属基板が好ましく用いられる。溶液キャスト法において、厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償フィルムを製造する際には、樹脂溶液の粘度は極めて重要な因子であり、樹脂溶液の粘度は樹脂の濃度、分子量、溶媒の種類に依存するものである。
【００７７】
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムを製造する際の樹脂溶液は、セルロ−ス系樹脂とケイ皮酸エステル共重合体を溶媒に溶解し調製する。樹脂溶液の粘度は、重合体の分子量、重合体の濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは１００〜１００００ｃｐｓ、さらに好ましくは３００〜５０００ｃｐｓ、特に好ましくは５００〜３０００ｃｐｓである。
【００７８】
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの製造方法としては、例えば、樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％、および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０〜９０モル％を含むケイ皮酸エステル共重合体１〜７０重量％を含有する樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することが挙げられる。
【００７９】
【化９】
0006048556.tif 000010
【００８０】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜１２の置換基を示す。）
【００８１】
【化１０】
0006048556.tif 000011
【００８２】
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
本発明の樹脂組成物を用いて得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）を発現するために一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロ−ル延伸による縦一軸延伸法やテンタ−延伸による横一軸延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。また本発明では、熱収縮性フィルムの収縮力の作用下に延伸を行う特殊延伸法を用いずに位相差特性を発現させることができる。
【００８３】
延伸する際の光学補償フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、１０〜２００μｍが好ましく、３０〜１５０μｍがさらに好ましく、３０〜１００μｍが特に好ましい。
【００８４】
延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは５０〜２００℃、さらに好ましくは１００〜１８０℃である。一軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、１．０５〜４.０倍が好ましく、１．１〜３．５倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから長さ方向には１．０５〜４.０倍が好ましく、１．１〜３．５倍がさらに好ましく、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、幅方向には１．０１〜１．２倍が好ましく、１．０５〜１．１倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差（Ｒｅ）を制御することができる。
【００８５】
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエ−テルサルフォン、ポリアリレ−ト、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリナフタレンテレフタレ−ト、ポリカ−ボネ−ト、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハ−ドコ−ト層やガスバリア層を積層することも可能である。
【発明の効果】
【００８６】
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、薄膜で特定の位相差特性を示すことから、液晶ディスプレイ用光学補償フィルムや反射防止用フィルムとして有用である。
【実施例】
【００８７】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００８８】
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
【００８９】
＜重合体の解析＞
重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名：ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。
【００９０】
重合体がフマル酸モノエステル残基単位を含む場合において、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より組成比解析が困難な場合はＪＩＳ  Ｋ  ２５０１（２００３版）石油製品及び潤滑油−中和価試験方法に則ってフマル酸モノエステル濃度を求めた。
【００９１】
＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パ−ミエイション・クロマトグラフィ−（ＧＰＣ）装置（東ソ−製、商品名：Ｃ０−８０１１（カラムＧＭＨＨＲ−Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフラン、またはジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
【００９２】
＜光学補償フィルムの光線透過率およびヘ−ズの測定＞
作成したフィルムの光線透過率およびヘ−ズは、ヘ−ズメ−タ−（日本電色工業製、商品名：ＮＤＨ２０００）を使用し、光線透過率の測定はＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１（１９９７版）に、ヘ−ズの測定はＪＩＳ−Ｋ  ７１３６（２０００年版）に、それぞれ準拠して測定した。
【００９３】
＜位相差特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いて光学補償フィルムの位相差特性を測定した。
【００９４】
＜波長分散特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用い、波長４５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（５５０）の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。
【００９５】
合成例１
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル１２ｇ、４−メトキシケイ皮酸エチル３７ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝５０／５０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝５０／５０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フフマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体２３ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３１，０００、フマル酸モノエチル残基単位４０モル％、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位６０モル％であった。
【００９６】
合成例２
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル６．３ｇ、フマル酸ジイソプロピル１５ｇ、４−エトキシケイ皮酸メチル２９ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４８ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−エトキシケイ皮酸メチル共重合体３１ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３８，０００、フマル酸モノエチル残基単位２２モル％、フマル酸ジイソプロピル残基単位４０モル％、４−エトキシケイ皮酸メチル残基単位３８モル％であった。
【００９７】
合成例３
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノイソプロピル４．３ｇ、フマル酸ジエチル１３ｇ、４−メトキシケイ皮酸イソプロピル３３ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、１０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノイソプロピル／フマル酸ジエチル／４−メトキシケイ皮酸イソプロピル共重合体２９ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３３，０００、フマル酸モノイソプロピル残基単位１６モル％、フマル酸ジエチル残基単位４１モル％、４−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位４３モル％であった。
【００９８】
合成例４
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル１．０ｇ、フマル酸ジエチル１１ｇ、４−メトキシケイ皮酸エチル３９ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４３ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、１０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体２７ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３３，０００、フマル酸モノエチル残基単位４．５モル％、フマル酸ジエチル残基単位３５．５モル％、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位６０モル％であった。
【００９９】
合成例５
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル５．０ｇ、フマル酸ジイソプロピル３８ｇ、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル７．３ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝７０／３０（重量％／重量％）中に滴下して析出、メタノール／水＝７０／３０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体２４ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３１，０００、フマル酸モノエチル残基単位１３モル％、フマル酸ジイソプロピル残基単位７２モル％、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル残基単位１５モル％であった。
【０１００】
合成例６
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル１．６ｇ、フマル酸ジイソプロピル４．８ｇ、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル４４ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．１８ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、６０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をヘキサン中に滴下して析出、ヘキサン２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体１１ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３６，０００、フマル酸モノエチル残基単位７モル％、フマル酸ジイソプロピル残基単位１１モル％、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル残基単位８２モル％であった。
【０１０１】
合成例７
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル１０ｇ、Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）アクリルアミド５．０ｇ、４−メトキシケイ皮酸エチル３５ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４４ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）アクリルアミド／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体２４ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２４，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位３５モル％、Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）アクリルアミド残基単位１５モル％、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位５０モル％であった。
【０１０２】
合成例８
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジエチル９．３ｇ、アクリル酸２−ヒドロキシエチル３．７ｇ、４−メトキシケイ皮酸エチル３７ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．５２ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル／アクリル酸２−ヒドロキシエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体２２ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２２，０００、フマル酸ジエチル残基単位３６モル％、アクリル酸２−ヒドロキシエチル残基単位１４モル％、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位５０モル％であった。
【０１０３】
合成例９
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル２３ｇ、アクリル酸２−ヒドロキシエチル２．３ｇ、４−メトキシケイ皮酸エチル２５ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．５０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２−ヒドロキシエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体２９ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３６，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位５８モル％、アクリル酸２−ヒドロキシエチル残基単位１０モル％、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位３２モル％であった。
【０１０４】
合成例１０
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル１８ｇ、アクリル酸２−ヒドロキシエチル０．３０ｇ、４−メトキシケイ皮酸エチル３２．０ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２−ヒドロキシエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体２７ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３７，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位５７モル％、アクリル酸２−ヒドロキシエチル残基単位３モル％、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位４０％モルであった。
【０１０５】
実施例１
セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製  エトセル  スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ  ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０５ｇ、合成例１により得られたフマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体４５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：７０重量％、フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体：３０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
【０１０６】
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に示す。
【０１０７】
【表１】
0006048556.tif 000012
【０１０８】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【０１０９】
実施例２
実施例１で用いたエチルセルロース１０５ｇ、合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−エトキシケイ皮酸メチル共重合体４５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：７０重量％、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−エトキシケイ皮酸メチル共重合体：３０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【０１１０】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【０１１１】
実施例３
実施例１で用いたエチルセルロース９７ｇ、合成例３により得られたフマル酸モノイソプロピル／フマル酸ジエチル／４−メトキシケイ皮酸イソプロピル共重合体５３ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６５重量％、フマル酸モノイソプロピル／フマル酸ジエチル／４−メトキシケイ皮酸イソプロピル共重合体：３５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【０１１２】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【０１１３】
実施例４
実施例１で用いたエチルセルロース１０５ｇ、合成例４により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体４５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：７０重量％、フマル酸モノエチル／フマル酸ジエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体：３０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【０１１４】
得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった
実施例５
実施例１で用いたエチルセルロース９２ｇ、合成例５により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル５８ｇをトルエン：アセトン＝９５：５（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：重量６０％、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体：重量４０％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【０１１５】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【０１１６】
実施例６
実施例１で用いたエチルセルロース１１２ｇ、合成例６により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル３８ｇをトルエン：アセトン＝９０：１０（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後１４０℃にて２段乾燥後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：重量％、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体：重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【０１１７】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【０１１８】
実施例７
実施例１で用いたエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製  エトセル  スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ  ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）９７ｇ、合成例７により得られたフマル酸ジイソプロピル／Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）アクリルアミド／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体５３ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６５重量％、フマル酸ジイソプロピル／Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）アクリルアミド／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体：３５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
【０１１９】
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【０１２０】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【０１２１】
実施例８
実施例１で用いたエチルセルロース９７ｇ、合成例８により得られたフマル酸ジエチル／アクリル酸２−ヒドロキシエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体５３ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６５重量％、フマル酸ジエチル／アクリル酸２−ヒドロキシエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体：３５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【０１２２】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【０１２３】
実施例９
実施例１で用いたエチルセルロース９０ｇ、合成例９により得られたフマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２−ヒドロキシエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体６０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６０重量％、フマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２−ヒドロキシエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体：４０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【０１２４】
得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【０１２５】
実施例１０
実施例１で用いたエチルセルロース９７ｇ、合成例１０により得られたフマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２−ヒドロキシエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体５３ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６５重量％、フマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２−ヒドロキシエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体：３５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
【０１２６】
得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。
【０１２７】
比較例１
実施例１で用いたエチルセルロース１５０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で１．４倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に示す。
【０１２８】
得られたフィルムは、厚み方向の面外位相差（Ｒｔｈ）が大きく目的とする光学特性を有していなかった。
【０１２９】
【表２】
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【０１３０】
比較例２
実施例１で用いたフマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体１８０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍ、厚み４０μｍのフィルム（樹脂組成物）を得た。得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
【０１３１】
得られたフィルムは、厚み方向の面外位相差（Ｒｔｈ）が小さく目的とする光学特性を有していなかった。
【０１３２】
比較例３
実施例７で用いたフマル酸ジイソプロピル／Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）アクリルアミド／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体１８０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍ、厚み４０μｍのフィルム（樹脂組成物）を得た。得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
【０１３３】
得られたフィルムは、厚み方向の面外位相差（Ｒｔｈ）が小さく目的とする光学特性を有していなかった。
【０１３４】
比較例４
実施例１で用いたエチルセルロース３０ｇ、合成例１により得られたフマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体１２０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：２０重量％、フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体：８０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
【０１３５】
得られたフィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。
【０１３６】
比較例５
実施例１で用いたエチルセルロース３０ｇ、合成例７により得られたフマル酸ジイソプロピル／Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）アクリルアミド／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体１２０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：２０重量％、フマル酸ジイソプロピル／Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）アクリルアミド／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体：８０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
【０１３７】
得られたフィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。