(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）、式（２）及び式（３）で表される構造単位を有し、該構造単位以外の構造単位を有さない共重合体、及び溶剤を含有する樹脂組成物。
【化１】
0005950125.tif 000021
（式中、Ｒ0はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ1は炭素原子数１乃至１０のアルキル基、炭素原子数１乃至１０のアルコキシ基、シアノ基、カルボキシル基、フェニル基又はハロゲノ基を表し、ａは０乃至５の整数を表し、Ｒ2は単結合又は炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表し、Ｒ3はブロックイソシアネート基を表し、Ｘは−Ｏ−基又は−ＮＨ−基を表し、Ｒ4は単結合又は炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表し、Ｒ5は、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、又は２，３−ジヒドロキシプロピル基を表す。）
【請求項２】
前記式（２）で表される構造単位は下記式（２−１）又は式（２−２）で表される構造単位である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【化２】
0005950125.tif 000022
（式中、Ｒ0及びＲ2は請求項１に記載の定義と同義であり、２つのＲ9はそれぞれ独立に水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ10はメチル基を表し、ｂは０乃至３の整数を表す。）
【請求項３】
前記式（３）で表される構造単位は下記式（３−１）で表される構造単位である、請求項１又は請求項２に記載の樹脂組成物。
【化３】
0005950125.tif 000023
（式中、Ｒ0、Ｘ及びＲ5は請求項１に記載の定義と同義である。）
【請求項４】
前記共重合体の重量平均分子量は１，０００乃至１００，０００である、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項５】
前記式（１）、式（２）及び式（３）で表される構造単位を有する共重合体において、前記式（１）で表される構造単位、前記式（２）で表される構造単位及び前記式（３）で表される構造単位の和１００ｍｏｌ％に対し、前記式（１）で表される構造単位の含有率は２０ｍｏｌ％乃至９０ｍｏｌ％であり、前記式（２）で表される構造単位の含有率は５ｍｏｌ％乃至７５ｍｏｌ％であり、前記式（３）で表される構造単位の含有率は５ｍｏｌ％乃至７５ｍｏｌ％である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
マイクロレンズ用である請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項７】
平坦化膜用である請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の樹脂組成物から得られる硬化膜。
【請求項９】
請求項６に記載の樹脂組成物から作製されるマイクロレンズ。
【請求項１０】
請求項７に記載の樹脂組成物から作製される平坦化膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱硬化性の樹脂組成物、及び当該樹脂組成物より形成される硬化膜、マイクロレンズ及び平坦化膜に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＣＤ／ＣＭＯＳイメージセンサの高精細化が進み、センサ感度の向上が要求されるようになってきたことから、搭載されるマイクロレンズに対しては、高透明性や高耐熱性が要求される。【０００３】
ＣＣＤ／ＣＭＯＳイメージセンサ用マイクロレンズの製造方法の１つとして、エッチバック法が知られている（特許文献１及び特許文献２）。すなわち、カラーフィルター層上に形成したマイクロレンズ用樹脂層上にレジストパターンを形成し、熱処理によってこのレジストパターンをリフローしてレンズパターンを形成する。このレジストパターンをリフローして形成したレンズパターンをエッチングマスクとして下層のマイクロレンズ用樹脂層をエッチバックし、レンズパターン形状をマイクロレンズ用樹脂層に転写することによってマイクロレンズを作製する。【０００４】
エッチバック法では、レンズパターン形状を忠実に下層のマイクロレンズ用樹脂層へ転写するにあたり、レジストのドライエッチングレートＸとマイクロレンズ用樹脂層のドライエッチングレートＹが同等（Ｘ：Ｙ＝１：０．８〜１．２）であることが求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１−１０６６６号公報
【特許文献２】特開平６−１１２４５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記の事情に基づいてなされたものであり、その目的は、優れた透明性、耐熱性、耐溶剤性、平坦性及びレジストと同等のドライエッチングレートを有する硬化膜を形成できる、保存安定性に優れた熱硬化性の樹脂組成物を提供することである。また、本発明の他の目的は、優れた透明性、耐熱性及び耐溶剤性を有するマイクロレンズを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、前記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記式（１）、式（２）及び式（３）で表される構造単位を有する共重合体、又は下記式（１）、式（４）及び式（５）で表される構造単位を有する共重合体、及び溶剤を含有する樹脂組成物である。
【化１】
0005950125.tif 000002
（式中、Ｒ0はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ1は炭素原子数１乃至１０のアルキル基、炭素原子数１乃至１０のアルコキシ基、シアノ基、カルボキシル基、フェニル基又はハロゲノ基を表し、ａは０乃至５の整数を表し、Ｒ2は単結合又は炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表し、Ｒ3はブロックイソシアネート基を表し、Ｘは−Ｏ−基又は−ＮＨ−基を表し、Ｒ4は単結合又は炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表し、Ｒ5は置換基としてヒドロキシ基を有する炭素原子数１乃至２０の炭化水素基又は置換基としてヒドロキシ基を有するフェニル基を表し、前記炭素原子数１乃至２０の炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、Ｒ6は水素原子又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表し、Ｒ7は炭素原子数１乃至１０のアルキル基、炭素原子数６乃至１０の環状炭化水素基、フェニル基、ベンジル基又はフェネチル基を表し、あるいは前記Ｒ6とＲ7は互いに結合して４乃至７員環の含酸素環構造を形成してもよく、Ｒ8はエポキシ基、又はエポキシ環を有する炭素原子数５乃至１０の基を表す。）【０００８】
本発明の樹脂組成物は、例えばマイクロレンズ用樹脂組成物又は平坦化膜用樹脂組成物である。
本発明はまた、前記樹脂組成物から得られる硬化膜である。
さらに本発明は、前記樹脂組成物から作製されるマイクロレンズである。当該マイクロレンズは、例えば前述のエッチバック法によって作製される。
さらに本発明は、前記樹脂組成物から作製される平坦化膜である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の樹脂組成物は、当該組成物に含まれる共重合体が自己架橋タイプであるため必ずしも架橋剤が添加される必要はなく、熱硬化性を有すると共に、前記式（２）で表される構造単位においてイソシアネート基がブロック化されているため、また、前記式（４）で表される構造単位においてカルボキシル基がブロック化されているため、保存安定性に優れる。さらに、本発明の樹脂組成物から形成される膜は、優れた透明性、耐熱性、耐溶剤性、平坦性及びレジストと同等のエッチングレートを有する。
以上より、本発明の樹脂組成物から形成される膜は、その形成工程、又は配線等の周辺装置の形成工程において、高温での加熱処理が行われる場合にマイクロレンズが着色し、レンズ形状が変形する可能性を、著しく減少できる。また、本発明の樹脂組成物から樹脂層を形成しその上にレジストを塗布する場合、及びマイクロレンズ又は平坦化膜を形成後に電極／配線形成工程が行われる場合には、レジストとのミキシング、有機溶剤によるマイクロレンズ又は平坦化膜の変形及び剥離といった問題も著しく減少できる。したがって、本発明の樹脂組成物は、マイクロレンズ及び平坦化膜を形成する材料として好適である。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、段差基板上に本発明の樹脂組成物を塗布し、ベークして形成される硬化膜を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明は、共重合体と溶剤を含有する樹脂組成物である。以下、各成分の詳細を説明する。本発明の樹脂組成物から溶剤を除いた固形分は通常、１質量％乃至５０質量％である。
【００１２】
＜共重合体＞
本発明の樹脂組成物に含まれる共重合体は、前述の式（１）、式（２）及び式（３）で表される構造単位を有する共重合体、又は前述の式（１）、式（４）及び式（５）で表される構造単位を有する共重合体である。
【００１３】
前記式（１）で表される構造単位を形成する化合物（モノマー）の具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、４−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、４−メトキシスチレン、４−シアノスチレン、４−ビニル安息香酸、４−ビニルビフェニル、４−フルオロスチレン、４−クロロスチレン、４−ブロモスチレンが挙げられる。これらの化合物は単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。前記式（１）で表される構造単位としては、例えば下記式（１−１）、式（１−２）、式（１−３）で表される構造単位が挙げられる。
【化２】
0005950125.tif 000003
【００１４】
前記式（２）で表される構造単位は、ブロックイソシアネート基を有する（メタ）アクリレートから形成される。ブロックイソシアネート基とは、イソシアネート基（−ＮＣＯ）が熱脱離可能な保護基によりブロックされた基を意味し、すなわち、イソシアネート基にブロック剤を反応させた基である。
ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−エトキシヘキサノール、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタノール、２−エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類、フェノール、ｏ−ニトロフェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール等のフェノール類、ε−カプロラクタム等のラクタム類、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類、ピラゾール、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチルピラゾール等のピラゾール類、ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類、マロン酸ジエステル、アセト酢酸エステル、マロン酸ジニトリル、アセチルアセトン、メチレンジスルホン、ジベンゾイルメタン、ジピバロイルメタン、アセトンジカルボン酸ジエステル等の活性メチレン系化合物類が挙げられる。
【００１５】
前記式（２）で表される構造単位を形成する化合物（モノマー）の具体例としては、２−イソシアネートエチルメタクリレート、２−イソシアネートエチルアクリレート等のイソシアネート含有（メタ）アクリレートに、メチルエチルケトンオキシム、ε−カプロラクタム、３，５−ジメチルピラゾール、マロン酸ジエチル等のブロック剤を付加した化合物が挙げられる。なお、これらの化合物は単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００１６】
前記式（２）で表される構造単位は、例えば下記式（２−１）又は式（２−２）で表される。
【化３】
0005950125.tif 000004
（式中、Ｒ0はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2はそれぞれ独立に単結合又は炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表し、２つのＲ9はそれぞれ独立に水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ10はメチル基を表し、ｂは０乃至３の整数を表す。）
【００１７】
前記式（３）で表される構造単位は、例えば下記式（３−１）で表される。
【化４】
0005950125.tif 000005
（式中、Ｒ0はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘは−Ｏ−基又は−ＮＨ−基を表し、Ｒ5は置換基としてヒドロキシ基を有する炭素原子数１乃至２０の炭化水素基又は置換基としてヒドロキシ基を有するフェニル基を表し、前記炭素原子数１乃至２０の炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。）
上記置換基としてヒドロキシ基を有する炭素原子数１乃至２０の炭化水素基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル基、２，３−ジヒドロキシプロピル基、３，５−ジヒドロキシ−１−アダマンチル基が挙げられる。
【００１８】
前記式（３）で表される構造単位を形成する化合物（モノマー）の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３，５−ジヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシフェニルメチル（メタ）アクリレート、Ｎ−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニルメチル）（メタ）アクリルアミドが挙げられる。なお、これらの化合物は単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
なお、本明細書において、（メタ）アクリレートはメタクリレート及びアクリレートを意味し、（メタ）アクリルアミドはメタクリルアミド及びアクリルアミドを意味し、（メタ）アクリル酸はアクリル酸及びメタクリル酸を意味する。
【００１９】
前記式（１）、式（２）及び式（３）で表される構造単位を有する共重合体において、前記式（１）で表される構造単位、前記式（２）で表される構造単位及び前記式（３）で表される構造単位の和１００ｍｏｌ％に対し、前記式（１）で表される構造単位の含有率は２０ｍｏｌ％乃至９０ｍｏｌ％であり、好ましくは３０ｍｏｌ％乃至８０ｍｏｌ％、前記式（２）で表される構造単位の含有率は５ｍｏｌ％乃至７５ｍｏｌ％であり、好ましくは１０ｍｏｌ％乃至６０ｍｏｌ％、前記式（３）で表される構造単位の含有率は５ｍｏｌ％乃至７５ｍｏｌ％であり、好ましくは１０ｍｏｌ％乃至６０ｍｏｌ％である。
【００２０】
前記式（４）で表される構造単位を形成する化合物（モノマー）は、アクリル酸もしくはメタクリル酸とアルケニルエーテル化合物を反応させて得られる保護されたカルボキシル基を有するアクリレートもしくはメタクリレートを重合する方法、又はアクリル酸もしくはメタクリル酸の重合体とアルケニルエーテル化合物とを反応させる方法によって得られる。
【００２１】
ここで用いられる上記アルケニルエーテル化合物は下記式（６）で表される。
【化５】
0005950125.tif 000006
（式中、Ｒ6は水素原子又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表し、Ｒ7は炭素原子数１乃至１０のアルキル基、炭素原子数６乃至１０の環状炭化水素基、フェニル基、ベンジル基又はフェネチル基を表し、あるいは前記Ｒ6とＲ7は互いに結合して４乃至７員環の含酸素環構造を形成してもよい。）
【００２２】
カルボキシル基を有する化合物とアルケニルエーテル化合物の反応は、例えば、特許第３０４２０３３号公報に記載されているように、リン酸エステル類の１つであるリン酸モノオクチルを触媒とし、７０℃で攪拌することにより行なうことができる。
【００２３】
前記式（６）で表されるアルケニルエーテル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ノルボルニルビニルエーテル、１−アダマンチルビニルエーテル、２−アダマンチルビニルエーテル等の脂肪族ビニルエーテル化合物、フェニルビニルエーテル等のアリールビニルエーテル化合物、ベンジルビニルエーテル、フェネチルビニルエーテル等のアラルキルビニルエーテル化合物、２,３−ジヒドロフラン、４−メチル−２,３−ジヒドロフラン、２，３−ジヒドロ−４Ｈ−ピラン等の環状ビニルエーテル化合物が挙げられる。
【００２４】
前記式（４）で表される構造単位は、例えば下記式（４−１）又は式（４−２）で表される。
【化６】
0005950125.tif 000007
（式中、Ｒ0はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ7は炭素原子数１乃至１０のアルキル基、炭素原子数６乃至１０の環状炭化水素基、フェニル基、ベンジル基又はフェネチル基を表し、ｃは１又は２を表す。）
【００２５】
前記式（４）で表される構造単位を形成する化合物（モノマー）の具体例としては、１−メトキシエチル（メタ）アクリレート、１−エトキシエチル（メタ）アクリレート、１−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、１−イソプロポキシエチル（メタ）アクリレート、１−ｎ−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、１−ｔｅｒｔ−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、１−ｎ−ヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、１−シクロヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（メタ）アクリレート等のモノマーが挙げられる。なお、これらのモノマーは単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００２６】
前記式（５）で表される構造単位は、例えば、下記式（５−１）又は式（５−２）で表される。また、前記式（５）で表される構造単位は、例えば、段落［００２７］で挙げた化合物（モノマー）から得られる構造単位でも良い。
【化７】
0005950125.tif 000008
（式中、Ｒ0はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ4はそれぞれ独立に単結合又は炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表す。）
【００２７】
前記式（５）で表される構造単位を形成する化合物（モノマー）の例としては、下記式で表されるモノマーが挙げられる。なお、これらのモノマーは単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【化８】
0005950125.tif 000009
（式中、Ｒ0はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ4はそれぞれ独立に単結合又は炭素原子数１乃至５のアルキレン基を表す。）
前記式（５）で表される構造単位を形成する化合物（モノマー）のより具体的な例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロペンチルメチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、５，６−エポキシ−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプチルメチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル（メタ）アクリレートが挙げられる。これらのモノマーは単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００２８】
前記式（１）、式（４）及び式（５）で表される構造単位を有する共重合体において、前記式（１）で表される構造単位、前記式（４）で表される構造単位及び前記式（５）で表される構造単位の和１００ｍｏｌ％に対し、前記式（１）で表される構造単位の含有率は２０ｍｏｌ％乃至９０ｍｏｌ％であり、好ましくは３０ｍｏｌ％乃至８０ｍｏｌ％、前記式（４）で表される構造単位の含有率は５ｍｏｌ％乃至７５ｍｏｌ％であり、好ましくは１０ｍｏｌ％乃至６０ｍｏｌ％、前記式（５）で表される構造単位の含有率は５ｍｏｌ％乃至７５ｍｏｌ％であり、好ましくは１０ｍｏｌ％乃至６０ｍｏｌ％である。
【００２９】
前記共重合体の重量平均分子量は通常、１，０００乃至１００，０００であり、好ましくは３，０００乃至５０，０００である。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、標準試料としてポリスチレンを用いて得られる値である。
【００３０】
また、本発明の樹脂組成物における前記共重合体の含有量は、当該樹脂組成物の固形分中の含有量に基づいて通常、１質量％乃至９９質量％であり、好ましくは５質量％乃至９５質量％である。
【００３１】
本発明において、前記共重合体を得る方法は特に限定されないが、一般的には、前記式（１）、式（２）及び式（３）で表される構造単位を形成する化合物（モノマー）、又は前記式（１）、式（４）及び式（５）で表される構造単位を形成する化合物（モノマー）、並びに所望により前記化合物以外の化合物（以下、本明細書では化合物Ｘと略称する。）を、重合開始剤存在下の溶剤中において、通常５０℃乃至１２０℃の温度下で重合反応させることにより得られる。このようにして得られる共重合体は、通常、溶剤に溶解した溶液状態であり、この状態で単離することなく、本発明の樹脂組成物に用いることもできる。
【００３２】
また、上記のようにして得られた共重合体の溶液を、攪拌させたヘキサン、ジエチルエーテル、メタノール、水等の貧溶媒に投入して当該共重合体を再沈殿させ、生成した沈殿物をろ過・洗浄後、常圧又は減圧下で常温乾燥又は加熱乾燥することで、当該共重合体を粉体とすることができる。このような操作により、前記共重合体と共存する重合開始剤や未反応化合物を除去することができる。本発明においては、前記共重合体の粉体をそのまま用いてもよく、あるいはその粉体を、例えば後述する溶剤に再溶解して溶液の状態として用いてもよい。
【００３３】
前記化合物Ｘの具体例としては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、インデン、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、４−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル及びジプロピレングリコールモノビニルエーテルが挙げられる。
【００３４】
本発明の樹脂組成物の調製方法は、特に限定されないが、例えば、前記式（１）、式（２）及び式（３）で表される構造単位を有する共重合体、又は前記式（１）、式（４）及び式（５）で表される構造単位を有する共重合体を溶剤に溶解し、均一な溶液とする方法が挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
【００３５】
前記溶剤としては、共重合体を溶解するものであれば特に限定されない。そのような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、２−ヘプタノン、γ−ブチロラクトンを挙げることができる。これらの溶剤は、単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３６】
これらの溶剤の中でも、本発明の樹脂組成物を基板上に塗布して形成される塗膜のレベリング性の向上の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、２−ヘプタノン、乳酸エチル、乳酸ブチル及びシクロヘキサノンが好ましい。
【００３７】
また、本発明の樹脂組成物は、塗布性を向上させる目的で、界面活性剤を含有することもできる。
当該界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップ〔登録商標〕ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、三菱マテリアル電子化成（株）製）、メガファック〔登録商標〕Ｆ−１７１、同Ｆ−１７３、同Ｒ−３０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサヒガード〔登録商標〕ＡＧ７１０、サーフロン〔登録商標〕Ｓ−３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（旭硝子（株）製）、ＦＴＸ−２０６Ｄ、ＦＴＸ−２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１８、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２３０Ｄ、ＦＴＸ−２４０Ｄ、ＦＴＸ−２１２Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｐ、ＦＴＸ−２２８Ｐ、ＦＴＸ−２４０Ｇ等のフタージェントシリーズ（（株）ネオス製）等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）を挙げることができる。これらの界面活性剤は、単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３８】
また、前記界面活性剤が使用される場合、本発明の樹脂組成物における含有量は、当該樹脂組成物の固形分中の含有量に基づいて、３質量％以下であり、好ましくは１質量％以下であり、より好ましくは０．５質量％以下である。
【００３９】
また、本発明の樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、架橋剤、硬化助剤、紫外線吸収剤、増感剤、可塑剤、酸化防止剤、密着助剤等の添加剤を含むことができる。
【００４０】
以下、本発明の樹脂組成物の使用例について説明する。
基板｛例えば、酸化珪素膜で被膜されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素膜又は酸化窒化珪素膜で被膜されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素基板、石英基板、ガラス基板（無アルカリガラス、低アルカリガラス、結晶化ガラスを含む）、ＩＴＯ膜が形成されたガラス基板｝上に、スピナー、コーター等の適当な塗布方法により本発明の樹脂組成物を塗布後、ホットプレート等の加熱手段を用いてベークして硬化させてマイクロレンズ用樹脂層を形成する。
【００４１】
ベーク条件は、ベーク温度８０℃乃至３００℃、ベーク時間０．３分乃至６０分間の中から適宜選択される。ベークは２ステップ以上処理してもよい。
【００４２】
また、本発明の樹脂組成物から形成される膜の膜厚としては、例えば０．００１μｍ乃至１００μｍであり、好ましくは０．０１μｍ乃至１０μｍである。
【００４３】
その後、本発明の樹脂組成物から形成されたマイクロレンズ用樹脂層の上にレジストを塗布し、所定のマスクを通して露光し、必要に応じて露光後加熱（ＰＥＢ）を行い、アルカリ現像、リンス、乾燥することにより、所定のレジストパターンを形成する。露光には、例えば、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーを使用することができる。
【００４４】
次いで、加熱処理することにより、上記レジストパターンをリフローしてレンズパターンを形成する。このレンズパターンをエッチングマスクとして下層のマイクロレンズ用樹脂層をエッチバックして、レンズパターン形状をマイクロレンズ用樹脂層に転写することによってマイクロレンズを作製する。
【実施例】
【００４５】
以下に実施例及び比較例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでない。
〔下記合成例で得られた共重合体の重量平均分子量の測定〕
装置：日本分光（株）製ＧＰＣシステム
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ〔登録商標〕ＫＦ−８０４Ｌ及び８０３Ｌ
カラムオーブン：４０℃
流量：１ｍＬ／分
溶離液：テトラヒドロフラン【００４６】
［共重合体の合成］
＜合成例１＞
スチレン３６．０ｇ、２−（Ｏ−［１’−メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチルメタクリレート（カレンズ〔登録商標〕ＭＯＩ−ＢＭ（昭和電工（株）製））１０．５ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート５．６ｇ、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル２．２ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０１．０ｇに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２６．０ｇを７５℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、下記式（７）で表される構造単位を有する共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１３，０００（ポリスチレン換算）であった。
【化９】
0005950125.tif 000010
【００４７】
＜合成例２＞
スチレン２８．０ｇ、２−［（３，５−ジメチルピラゾリル）カルボキシアミノ］エチルメタクリレート（カレンズ〔登録商標〕ＭＯＩ−ＢＰ（昭和電工（株）製））１４．５ｇ、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート８．３ｇ、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１．９ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９８．０ｇに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５．０ｇを７５℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、下記式（８）で表される構造単位を有する共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１５，０００（ポリスチレン換算）であった。
【化１０】
0005950125.tif 000011
【００４８】
＜合成例３＞
スチレン２２．０ｇ、２−（Ｏ−［１’−メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチルメタクリレート（カレンズ〔登録商標〕ＭＯＩ−ＢＭ（昭和電工（株）製））１７．１ｇ、４−ヒドロキシフェニルメタクリレート１２．５ｇ、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１．７ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル９９．０ｇに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル２５．４ｇを７５℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、下記式（９）で表される構造単位を有する共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１５，０００（ポリスチレン換算）であった。
【化１１】
0005950125.tif 000012
【００４９】
＜合成例４＞
スチレン２３．０ｇ、２−（Ｏ−［１’−メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチルメタクリレート（カレンズ〔登録商標〕ＭＯＩ−ＢＭ（昭和電工（株）製））１７．８ｇ、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド１３．０ｇ、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル２．１ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル１０４．０ｇに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル２６．７ｇを７５℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、下記式（１０）で表される構造単位を有する共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１３，０００（ポリスチレン換算）であった。
【化１２】
0005950125.tif 000013
【００５０】
＜合成例５＞
スチレン３８．０ｇ、１−ｎ−ブトキシエチルメタクリレート８．５ｇ、グリシジルメタクリレート６．５ｇ、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル２．３ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０３．０ｇに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２６．０ｇを７５℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、下記式（１１）で表される構造単位を有する共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１４，０００（ポリスチレン換算）であった。
【化１３】
0005950125.tif 000014
【００５１】
＜合成例６＞
スチレン３０．０ｇ、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルメタクリレート１０．５ｇ、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（サイクロマー〔登録商標〕Ｍ１００（ダイセル化学工業（株）製））１２．１ｇ、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル２．０ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０２．０ｇに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２６．０ｇを７５℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、下記式（１２）で表される構造単位を有する共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１３，０００（ポリスチレン換算）であった。
【化１４】
0005950125.tif 000015
【００５２】
＜合成例７＞
スチレン３６．０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１１．２ｇ、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル２．１ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル９２．０ｇに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル２４．０ｇを７５℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、下記式（１３）で表される構造単位を有する共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１３，０００（ポリスチレン換算）であった。
【化１５】
0005950125.tif 000016
【００５３】
＜合成例８＞
スチレン２６．０ｇ、２−（Ｏ−［１’−メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチルメタクリレート（カレンズ〔登録商標〕ＭＯＩ−ＢＭ（昭和電工（株）製））２５．９ｇ、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１．８ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００．０ｇに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５．６ｇを７５℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、下記式（１４）で表される構造単位を有する共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１２，０００（ポリスチレン換算）であった。
【化１６】
0005950125.tif 000017
【００５４】
＜合成例９＞
スチレン３０．０ｇ、１−ｎ−ブトキシエチルメタクリレート２３．０ｇ、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル２．０ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０２．２ｇに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２６．２ｇを７５℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、下記式（１５）で表される構造単位を有する共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１１，０００（ポリスチレン換算）であった。
【化１７】
0005950125.tif 000018
【００５５】
＜合成例１０＞
スチレン３３．０ｇ、グリシジルメタクリレート１９．３ｇ、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル２．２ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０１．３ｇに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２６．０ｇを７５℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、下記式（１６）で表される構造単位を有する共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１０，０００（ポリスチレン換算）であった。
【化１８】
0005950125.tif 000019
【００５６】
［樹脂組成物の調製］
＜実施例１＞
合成例１で得られた共重合体の溶液５０．０ｇ及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇを、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５．０ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。【００５７】
＜実施例２＞
合成例２で得られた共重合体の溶液５０．０ｇ及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇを、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５．０ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。【００５８】
＜参考例３＞
合成例３で得られた共重合体の溶液５０．０ｇ及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５．０ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。
【００５９】
＜参考例４＞
合成例４で得られた共重合体の溶液５０．０ｇ及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５．０ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。
【００６０】
＜実施例５＞
合成例５で得られた共重合体の溶液５０．０ｇ及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇを、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５．０ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。【００６１】
＜実施例６＞
合成例６で得られた共重合体の溶液５０．０ｇ及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇを、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５．０ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。【００６２】
＜実施例７＞
合成例１で得られた共重合体の溶液５０．０ｇ、界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇ、及び架橋剤としてニカラック〔登録商標〕ＭＷ−３９０（（株）三和ケミカル製）０．７５ｇを、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５．０ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。【００６３】
＜実施例８＞
架橋剤としてニカラック〔登録商標〕ＭＷ−３９０に代えてエポリード〔登録商標〕ＧＴ−４０１（ダイセル化学工業（株）製）０．７５ｇを用いた以外は、上記実施例７と同じ条件で樹脂組成物を調製した。【００６４】
＜実施例９＞
架橋剤としてニカラック〔登録商標〕ＭＷ−３９０に代えてＶＥＳＴＡＮＡＴ〔登録商標〕Ｂ１３５８／１００（エボニックデグサジャパン（株）製）０．７５ｇを用いた以外は、上記実施例７と同じ条件で樹脂組成物を調製した。【００６５】
＜比較例１＞
合成例７で得られた共重合体の溶液５０．０ｇ及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇを、プロピレングリコールモノメチルエーテル１．１ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９．０ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。【００６６】
＜比較例２＞
合成例８で得られた共重合体の溶液５０．０ｇ及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３．６ｇに溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。【００６７】
＜比較例３＞
合成例９で得られた共重合体の溶液５０．０ｇに界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇを溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。【００６８】
＜比較例４＞
合成例１０で得られた共重合体の溶液５０．０ｇに界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）０．０３ｇを溶解させて溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。【００６９】
［耐溶剤性試験］
実施例１、実施例２、参考例３、参考例４、実施例５乃至実施例９及び比較例１乃至比較例４で調製した樹脂組成物をそれぞれ、シリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において１００℃で１分間、さらに２３０℃で５分間ベークを行い、膜厚２μｍの膜を形成した。これらの膜に対して、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、アセトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、２−プロパノール、及び２．３８質量％濃度の水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液に、それぞれ２３℃の温度条件下、１０分間浸漬する試験を行った。浸漬前後において膜厚変化を測定し、上記浸漬溶剤のうち１つでも、浸漬前の膜厚に対して５％以上の膜厚増減があった場合は“×”、全ての溶剤について膜厚増減が５％未満であった場合は“○”として耐溶剤性を評価した。評価結果を表１に示す。
【００７０】
［透過率測定］
実施例１、実施例２、参考例３、参考例４及び実施例５乃至実施例９で調製した樹脂組成物をそれぞれ、石英基板上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において１００℃で１分間、さらに２３０℃で５分間ベークを行い、膜厚２μｍの膜を形成した。これらの膜に対して、紫外線可視分光光度計ＵＶ−２５５０（（株）島津製作所製）を
用いて波長４００ｎｍの透過率を測定した。さらにこの膜を２６０℃で５分間加熱した後、波長４００ｎｍの透過率を測定した。評価結果を表１に示す。
【００７１】
［ドライエッチングレートの測定］
ドライエッチングレートの測定に用いたエッチャー及びエッチングガスは、以下の通りである。
エッチャー：ＲＩＥ−１０ＮＲ（サムコ（株）製）
エッチングガス：ＣＦ4【００７２】
実施例１、実施例２、参考例３、参考例４及び実施例５乃至実施例９で調製した樹脂組成物をそれぞれ、シリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において１００℃で１分間、さらに２３０℃で５分間ベークを行い、膜厚２μｍの膜を形成した。上記エッチャー及びエッチングガスを用い、これらの膜のドライエッチングレートを測定した。同様に、レジスト溶液（ＴＨＭＲ−ｉＰ１８００（東京応化工業（株）製）を、シリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において９０℃で１．５分間、１１０℃で１．５分間、さらに１８０℃で１分間ベークを行い、膜厚１μｍのレジスト膜を形成し、ドライエッチングレートを測定した。そして、前記レジスト膜に対する、実施例１、実施例２、参考例３、参考例４及び実施例５乃至実施例９で調製した樹脂組成物から得られた膜のドライエッチングレート比を求めた。評価結果を表１に示す。
【００７３】
［保存安定性］
実施例１、実施例２、参考例３、参考例４及び実施例５乃至実施例９で調製した樹脂組成物をそれぞれ、３５℃（加速試験）にて３週間保管し、調製直後の粘度と比較して、粘度変化が１０％未満であるものを“○”、１０％以上であるものを“×”とした。評価結果を表１に示す。
【００７４】
［段差平坦化性］
実施例１、実施例２、参考例３、参考例４及び実施例５乃至実施例９で調製した樹脂組成物を、それぞれ高さ０．５μｍ、ライン幅３０μｍ、ライン間スペース３０μｍの段差基板上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において１００℃で１分間、さらに２３０℃で５分間ベークを行い、膜厚２μｍの膜を形成した。図１に示すｈ１（段差基板の段差）とｈ２（硬化膜の膜厚差）から、“式：（１−（ｈ２／ｈ１））×１００”を用いて平坦化率を求めた。評価結果を表１に示す。
【００７５】
【表１】
0005950125.tif 000020
【００７６】
表１の結果から、本発明の樹脂組成物から形成された膜は、高耐溶剤性、高透明性であると共に、２６０℃で加熱した後でも着色しない高耐熱性を有するものであった。さらに、エッチバック法では、レンズパターン形状を忠実に下層のマイクロレンズ用樹脂層へ転写するにあたり、レジストのドライエッチングレートＸとマイクロレンズ用樹脂層のドライエッチングレートＹが同等（Ｘ：Ｙ＝１：０．８〜１．２）であることが求められるが、本発明の樹脂組成物はこれを満足する結果となった。さらに、本発明の樹脂組成物は、保存安定性に優れることがわかった。また、本発明の樹脂組成物から形成された膜は、いずれも平坦化率５０％以上の段差平坦化性を有し、中でも実施例１、実施例２、実施例５乃至実施例９で調製した樹脂組成物から形成された膜については、平坦化率８０％以上の優れた段差平坦化性を有するものであった。一方、比較例１乃至比較例４で調製した樹脂組成物から形成された膜については、耐溶剤性を満足しない結果となり、マイクロレンズ用として及び平坦化膜として適さないことがわかった。
【符号の説明】
【００７７】
１：段差基板
２：硬化膜
３：ライン幅
４：ライン間スペース
ｈ１：段差基板の段差
ｈ２：硬化膜の膜厚差
【図１】
0005950125.tif 000024