(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム原反における欠陥の位置情報を含む欠陥情報を取得する欠陥情報取得工程と、
上記フィルム原反を、長手方向に沿うスリットラインでスリットして複数のフィルムを得るスリット工程と、
１つの上記欠陥に関する上記欠陥情報に基づいてスリット後のフィルムの不良判定を行うことにより、実際に上記欠陥を含むフィルムおよび該フィルムに隣接する別のフィルムを不良フィルムと判定する判定工程と、を含み、
上記欠陥情報取得工程では、上記欠陥情報として、上記フィルム原反の表面の領域を幅方向に並ぶ複数の領域に分けた分割領域ごとの欠陥の有無の情報を取得し、
上記判定工程では、上記欠陥を有する１つの上記分割領域に関する上記欠陥情報に基づいて、上記欠陥を有する上記分割領域を含んで得られるフィルムおよび該フィルムに隣接する別のフィルムを不良フィルムと判定することを特徴とするフィルム製造方法。
【請求項２】
上記スリット工程では、上記分割領域の境界線に沿ったスリットラインで上記フィルム原反をスリットし、
上記判定工程では、上記欠陥を有する上記分割領域の境界線を介して該分割領域に隣接する分割領域を含んで得られる上記別のフィルムを不良フィルムと判定することを特徴とする請求項１に記載のフィルム製造方法。
【請求項３】
上記スリット工程では、複数の上記分割領域に対応して各上記フィルムを得るように上記分割領域の境界線に沿ったスリットラインで上記フィルム原反をスリットし、
上記判定工程では、上記欠陥を有し、かつ、各上記フィルムに対応する上記複数の分割領域のうち端部に位置する上記分割領域の境界線を介して、該分割領域に隣接する分割領域を含んで得られる上記別のフィルムを不良フィルムと判定することを特徴とする請求項２に記載のフィルム製造方法。
【請求項４】
上記スリット工程では、３つの上記分割領域に対応して各上記フィルムを得るように上記分割領域の境界線に沿ったスリットラインで上記フィルム原反をスリットし、
上記判定工程では、上記欠陥を有し、かつ、各上記フィルムに対応する上記３つの分割 
領域のうち端部に位置する上記分割領域の境界線を介して、該分割領域に隣接する分割領域を含んで得られる上記別のフィルムを不良フィルムと判定することを特徴とする請求項３に記載のフィルム製造方法。
【請求項５】
上記スリット工程では、上記分割領域を分断するスリットラインで上記フィルム原反をスリットし、
上記判定工程では、上記欠陥を有する上記分割領域が分断されてなる領域を含んで得られる２つのフィルムを不良フィルムと判定することを特徴とする請求項１に記載のフィルム製造方法。
【請求項６】
上記欠陥情報取得工程では、上記欠陥情報として、互いに交互に配列される第１の分割領域と上記第１の分割領域よりも幅広の第２の分割領域との欠陥の有無の情報を取得し、
上記スリット工程では、上記第１の分割領域を分断するスリットラインで上記フィルム原反をスリットし、
上記判定工程では、上記欠陥を有する上記第１の分割領域が分断されてなる領域を含んで得られる２つのフィルムを不良フィルムと判定することを特徴とする請求項５に記載のフィルム製造方法。
【請求項７】
上記フィルム原反の長手方向に所定長さを有する単位領域ごとの上記欠陥情報を記録する欠陥情報記録工程を含むことを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載のフィルム製造方法。
【請求項８】
上記欠陥情報記録工程では、上記単位領域における上記分割領域ごとの上記欠陥の有無の情報を記録することを特徴とする請求項７に記載のフィルム製造方法。
【請求項９】
上記欠陥情報記録工程では、上記単位領域における欠陥の個数に応じて、
上記欠陥情報として、上記単位領域における欠陥の個数の情報、各欠陥の位置情報、および各欠陥の大きさの情報からなる群より選択される少なくとも何れか１つの情報を記録する第１モードと、
上記欠陥情報として、上記単位領域における上記分割領域ごとの上記欠陥の有無の情報を記録する第２モードと、を切り換えることを特徴とする請求項８に記載のフィルム製造方法。
【請求項１０】
上記実際に欠陥を含むフィルムに該欠陥の位置を示す第１の印を付与するとともに、
上記別のフィルムにおける上記第１の印に対応する位置に第２の印を付与する欠陥印付与工程を含むことを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載のフィルム製造方法。
【請求項１１】
上記欠陥情報に基づいて、上記フィルム原反における上記実際に欠陥を含むフィルムに対応する位置に上記欠陥の位置を示す第１の印を付与するとともに、上記フィルム原反における上記別のフィルムに対応する位置であって、上記第１の印の位置から幅方向に移動させた位置に第２の印を付与する原反欠陥印付与工程を含み、
上記スリット工程では、上記第１の印および上記第２の印が付与された上記フィルム原反をスリットすることを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載のフィルム製造方法。
【請求項１２】
上記原反欠陥印付与工程では、上記第１の印および上記第２の印を、上記スリットラインに重ならないように付与することを特徴とする請求項１１に記載のフィルム製造方法。
【請求項１３】
上記欠陥情報に基づいて、上記不良フィルムの一部を切除する欠陥切除工程を含むことを特徴とする請求項１〜１２の何れか１項に記載のフィルム製造方法。
【請求項１４】
フィルム原反における欠陥の位置情報を含む欠陥情報を取得する欠陥情報取得部と、
上記フィルム原反を、長手方向に沿うスリットラインでスリットして複数のフィルムを得るスリット部と、
１つの上記欠陥に関する上記欠陥情報に基づいてスリット後のフィルムの不良判定を行うことにより、実際に上記欠陥を含むフィルムおよび該フィルムに隣接する別のフィルムを不良フィルムと判定する判定部と、を備え、
上記欠陥情報取得部は、上記欠陥情報として、上記フィルム原反の表面の領域を幅方向に並ぶ複数の領域に分けた分割領域ごとの欠陥の有無の情報を取得し、
上記判定部は、上記欠陥を有する１つの上記分割領域に関する上記欠陥情報に基づいて、上記欠陥を有する上記分割領域を含んで得られるフィルムおよび該フィルムに隣接する別のフィルムを不良フィルムと判定することを特徴とするフィルム製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム製造方法、フィルム製造装置、フィルム、及びフィルム捲回体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学フィルムを有するシート状製品の欠点検査装置が知られている（特許文献１）。この欠点検査装置は、保護フィルム検査部から得られた欠点の情報をその位置情報、製造識別情報と共にコードデータ（２次元コード、ＱＲコード（登録商標））として、ＰＶＡフィルム原反の片端面に所定ピッチで形成する。【０００３】
これにより、シート状製品の欠点の位置情報を取得した後、スリット工程においてシート状製品を長手方向に沿って切断することによって得られた複数のフィルムのうち、何れのフィルムに欠点が含まれているかを特定することができる。これにより、欠点のあるフィルムに対して、欠点がある箇所を切除するなどの適切な処置を施すことによって、欠点を有しないフィルムを製造することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】日本国公開特許公報「特開２００８−１１６４３７号公報（２００８年５月２２日公開）」
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、フィルム原反としてのシート状製品の欠陥の位置情報を取得しても、スリット工程において所望のスリット位置でフィルム原反を切断できなかった場合、複数のフィルムのうち何れのフィルムに欠陥が含まれているかを正確に特定することができず、欠陥を有する不良フィルムであるにも関わらず良品フィルムであると判定してしまう。その結果、不良フィルムに対して適切な処置を施すことができず、場合によっては不良フィルムが良品フィルムとして流出してしまう。【０００６】
本発明の目的は、フィルム原反を切断することによってフィルムを得る場合において、欠陥を有するフィルムを良品フィルムと判定してしまうリスクを低減したフィルム製造方法、フィルム製造装置、フィルム、及びフィルム捲回体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、本発明に係るフィルム製造方法は、フィルム原反における欠陥の位置情報を含む欠陥情報を取得する欠陥情報取得工程と、上記フィルム原反を、長手方向に沿うスリットラインでスリットして複数のフィルムを得るスリット工程と、１つの上記欠陥に関する上記欠陥情報に基づいてスリット後のフィルムの不良判定を行うことにより、実際に上記欠陥を含むフィルムおよび該フィルムに隣接する別のフィルムを不良フィルムと判定する判定工程と、を含むことを特徴とする。【０００８】
上記の製造方法によれば、スリット後のフィルムの不良判定を行うことにより、結果的に、実際に欠陥を含むフィルムを不良フィルムのみならず、該フィルムに隣接する別のフィルムも不良フィルムと判定する。これにより、所望のスリット位置からずれた位置でフィルム原反をスリットすることによって本来欠陥が含まれるはずのフィルムに欠陥が含まれず、該フィルムに隣接する別のフィルムに欠陥が含まれることとなった場合であっても、欠陥を有するフィルムを誤って良品フィルムと判定してしまうリスクを低減することができる。【０００９】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記欠陥情報取得工程では、上記欠陥情報として、上記フィルム原反の表面の領域を幅方向に並ぶ複数の領域に分けた分割領域ごとの欠陥の有無の情報を取得し、上記判定工程では、上記欠陥を有する１つの上記分割領域に関する上記欠陥情報に基づいて、上記欠陥を有する上記分割領域を含んで得られるフィルムおよび該フィルムに隣接する別のフィルムを不良フィルムと判定する製造方法であってもよい。【００１０】
上記の製造方法によれば、フィルム原反における分割領域ごとの欠陥の有無の情報を取得し、実際に欠陥を含むフィルムに隣接する別のフィルムを不良フィルムと判定する。このように、各分割領域における欠陥の有無に関する簡易な情報に基づいて、上記別フィルムを不良フィルムと判定するため、欠陥を有するフィルムを誤って良品フィルムと判定してしまうリスクを低減することができる。【００１１】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記スリット工程では、上記分割領域の境界線に沿ったスリットラインで上記フィルム原反をスリットし、上記判定工程では、上記欠陥を有する上記分割領域の境界線を介して該分割領域に隣接する分割領域を含んで得られる上記別のフィルムを不良フィルムと判定する製造方法であってもよい。【００１２】
欠陥を有する分割領域の境界線に沿ったスリットラインでフィルム原反をスリットする場合、スリット位置がずれることによって本来欠陥が含まれるはずのフィルムに隣接する別のフィルムに欠陥が含まれ易い。【００１３】
上記の製造方法によれば、分割領域の境界線に沿ったスリットラインでフィルム原反をスリットし、欠陥を有する分割領域に隣接する分割領域を含んで得られるフィルムを不良フィルムと判定するため、スリット位置のずれによって欠陥が含まれ易いフィルムを適切に不良フィルムと判定することができ、欠陥を有するフィルムを誤って良品フィルムと判定してしまうリスクを低減することができる。【００１４】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記スリット工程では、複数の上記分割領域に対応して各上記フィルムを得るように上記分割領域の境界線に沿ったスリットラインで上記フィルム原反をスリットし、上記判定工程では、上記欠陥を有し、かつ、各上記フィルムに対応する上記複数の分割領域のうち端部に位置する上記分割領域の境界線を介して、該分割領域に隣接する分割領域を含んで得られる上記別のフィルムを不良フィルムと判定する製造方法であってもよい。【００１５】
一つの分割領域に対応して一つのフィルムを得るようにフィルム原反をスリットする場合、欠陥を有する分割領域に対応するフィルムの両隣のフィルムに欠陥が含まれ易く、両隣のフィルムを不良フィルムと判定する必要がある。【００１６】
これに対して、上記の製造方法によれば、複数の分割領域に対応してフィルムを得るようにフィルム原反をスリットするため、欠陥を有する分割領域に対応するフィルムの両隣のフィルムのうち、少なくとも一方のフィルムには欠陥が含まれ難く、上記一方のフィルムを不良フィルムと判定する必要がない。これにより、実際には欠陥が含まれていないにも関わらず不良フィルムと判定するフィルムを減らすことができる。【００１７】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記スリット工程では、３つの上記分割領域に対応して各上記フィルムを得るように上記分割領域の境界線に沿ったスリットラインで上記フィルム原反をスリットし、上記判定工程では、上記欠陥を有し、かつ、各上記フィルムに対応する上記３つの分割領域のうち端部に位置する上記分割領域の境界線を介して、該分割領域に隣接する分割領域を含んで得られる上記別のフィルムを不良フィルムと判定する製造方法であってもよい。【００１８】
上記の製造方法によれば、一つのフィルムに対応する３つの分割領域のうち、真ん中の分割領域が欠陥を有している場合、上記３つの分割領域に対応するフィルムの両隣のフィルムには欠陥が含まれ難く、上記両隣のフィルムを不良フィルムと判定する必要がない。これにより、実際には欠陥が含まれていないにも関わらず不良フィルムと判定するフィルムを減らすことができる。【００１９】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記スリット工程では、上記分割領域を分断するスリットラインで上記フィルム原反をスリットし、上記判定工程では、上記欠陥を有する上記分割領域が分断されてなる領域を含んで得られる２つのフィルムを不良フィルムと判定する製造方法であってもよい。【００２０】
分割領域を分断するスリットラインでフィルム原反をスリットする場合、欠陥を有する分割領域が分断されてなる領域を含んで得られる２つのフィルムは、何れも欠陥を含んでいる可能性が高い。上記の製造方法によれば、欠陥を含んでいる可能性が高い上記２つのフィルムを不良フィルムと判定することができ、欠陥を有するフィルムを誤って良品フィルムと判定してしまうリスクを低減することができる。【００２１】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記欠陥情報取得工程では、上記欠陥情報として、互いに交互に配列される第１の分割領域と上記第１の分割領域よりも幅広の第２の分割領域との欠陥の有無の情報を取得し、上記スリット工程では、上記第１の分割領域を分断するスリットラインで上記フィルム原反をスリットし、上記判定工程では、上記欠陥を有する上記第１の分割領域が分断されてなる領域を含んで得られる２つのフィルムを不良フィルムと判定する製造方法であってもよい。【００２２】
欠陥を有する分割領域が分断されてなる領域を含んで得られる２つのフィルムを不良フィルムと判定する場合において、幅が広い分割領域を分断するよりも、幅が狭い分割領域を分断する方が、分断される分割領域に欠陥が含まれる可能性が低いため、実際には欠陥が含まれていないにも関わらず不良フィルムと判定するフィルムを減らすことができる。【００２３】
また、上記の課題を解決するために、本発明に係るフィルム製造方法は、フィルム原反における欠陥の位置情報を含む欠陥情報を取得する欠陥情報取得工程と、上記フィルム原反を、長手方向に沿うスリットラインでスリットして複数のフィルムを得るスリット工程と、上記欠陥情報に基づいてスリット後のフィルムの不良判定を行う判定工程と、を含み、上記欠陥情報取得工程では、上記欠陥情報として、上記フィルム原反の表面の領域を幅方向に並ぶ複数の領域に分けた分割領域ごとの欠陥の有無の情報を取得し、上記判定工程では、欠陥が存在する上記分割領域が上記スリットラインに重ならない場合には、該分割領域を含んで得られる１つのフィルムを不良フィルムと判定し、欠陥が存在する上記分割領域またはその境界線が上記スリットラインに重なる場合には、該スリットラインで分断される２つのフィルムを不良フィルムと判定することを特徴とする。【００２４】
上記の製造方法によれば、欠陥が存在する上記分割領域またはその境界線が上記スリットラインに重なる場合には、該スリットラインで分断される２つのフィルムを不良フィルムと判定する。欠陥を有する分割領域に重なるスリットラインでフィルム原反をスリットする場合、スリット位置がずれることによって本来欠陥が含まれるはずのフィルムに隣接する別のフィルムに欠陥が含まれ易いが、スリットラインを挟んで互いに隣接する２つのフィルムを不良フィルムと判定することにより、本来欠陥が含まれるはずのフィルムに欠陥が含まれず、該フィルムに隣接する別のフィルムに欠陥が含まれることとなった場合であっても、欠陥を有するフィルムを誤って良品フィルムと判定してしまうリスクを低減することができる。【００２５】
さらに、上記の製造方法によれば、欠陥が存在する上記分割領域が上記スリットラインに重ならない場合には、該分割領域を含んで得られる１つのフィルムを不良フィルムと判定する。欠陥を有する分割領域をスリットラインでスリットしない場合、スリット位置がずれた場合であっても、本来欠陥が含まれるはずのフィルムに隣接する別のフィルムに欠陥が含まれる可能性は低い。そのため、分割領域を含んで得られる１つのフィルムを不良フィルムと判定することにより、実際には欠陥が含まれていないにも関わらず不良フィルムと判定するフィルムを減らすことができる。【００２６】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記フィルム原反の長手方向に所定長さを有する単位領域ごとの上記欠陥情報を記録する欠陥情報記録工程を含む製造方法であってもよい。【００２７】
上記の製造方法によれば、単位領域に複数の欠陥が含まれている場合に、単位領域ごとの欠陥情報としてまとめて記録することができ、製造工程を簡易化することができる。【００２８】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記欠陥情報記録工程では、上記単位領域における上記分割領域ごとの上記欠陥の有無の情報を記録する製造方法であってもよい。【００２９】
上記の製造方法によれば、単位領域をさらに分割領域に分けて分割領域ごとの欠陥の有無の情報としてまとめて記録することができ、記録する情報量を削減することができる。【００３０】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記欠陥情報記録工程では、上記単位領域における欠陥の個数に応じて、上記欠陥情報として、上記単位領域における欠陥の個数の情報、各欠陥の位置情報、および各欠陥の大きさの情報からなる群より選択される少なくとも何れか１つの情報を記録する第１モードと、上記欠陥情報として、上記単位領域における上記分割領域ごとの上記欠陥の有無の情報を記録する第２モードと、を切り換える製造方法であってもよい。【００３１】
上記の製造方法によれば、欠陥の数に応じて、詳細な欠陥情報を記録する第１モードと、簡易な情報を記録する第２モードとを切り換えることができるため、記録可能な情報量に制約がある場合に、情報量の制約の下で適切な欠陥情報を記録することができる。【００３２】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記実際に欠陥を含むフィルムに該欠陥の位置を示す第１の印を付与するとともに、上記別のフィルムにおける上記第１の印に対応する位置に第２の印を付与する欠陥印付与工程を含む製造方法であってもよい。【００３３】
上記の製造方法によれば、後の工程において、不良フィルムにおける欠陥の位置を容易に検知することができる。【００３４】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記欠陥情報に基づいて、上記フィルム原反における上記実際に欠陥を含むフィルムに対応する位置に上記欠陥の位置を示す第１の印を付与するとともに、上記フィルム原反における上記別のフィルムに対応する位置であって、上記第１の印の位置から幅方向に移動させた位置に第２の印を付与する原反欠陥印付与工程を含み、上記スリット工程では、上記第１の印および上記第２の印が付与された上記フィルム原反をスリットする製造方法であってもよい。【００３５】
上記の製造方法によれば、スリット前のフィルム原反に対して印を付与するため、スリット後のフィルムに対して印を付与する場合に比べて、正確な位置に印を付与することができる。【００３６】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記原反欠陥印付与工程では、上記第１の印および上記第２の印を、上記スリットラインに重ならないように付与する製造方法であってもよい。【００３７】
上記の製造方法によれば、スリット工程において印が切断されて不良フィルムの判別が困難になることを防止することができる。【００３８】
本発明に係るフィルム製造方法は、上記欠陥情報に基づいて、上記不良フィルムの一部を切除する欠陥切除工程を含む製造方法であってもよい。【００３９】
上記の製造方法によれば、不良フィルムの欠陥を切除して良品のフィルムとして利用することができる。【００４０】
また、上記の課題を解決するために、本発明に係るフィルム製造装置は、フィルム原反における欠陥の位置情報を含む欠陥情報を取得する欠陥情報取得部と、上記フィルム原反を、長手方向に沿うスリットラインでスリットして複数のフィルムを得るスリット部と、１つの上記欠陥に関する上記欠陥情報に基づいてスリット後のフィルムの不良判定を行うことにより、実際に上記欠陥を含むフィルムおよび該フィルムに隣接する別のフィルムを不良フィルムと判定する判定部と、を備えていることを特徴とする。【００４１】
また、上記の課題を解決するために、本発明に係るフィルム製造装置は、フィルム原反における欠陥の位置情報を含む欠陥情報を取得する欠陥情報取得部と、上記フィルム原反を、長手方向に沿うスリットラインでスリットして複数のフィルムを得るスリット部と、上記欠陥情報に基づいてスリット後のフィルムの不良判定を行う判定部と、を含み、上記欠陥情報取得部は、上記欠陥情報として、上記フィルム原反の表面の領域を幅方向に並ぶ複数の領域に分けた分割領域ごとの欠陥の有無の情報を取得し、上記判定部では、欠陥が存在する上記分割領域が上記スリットラインに重ならない場合には、該分割領域を含んで得られる１つのフィルムを不良フィルムと判定し、欠陥が存在する上記分割領域またはその境界線が上記スリットラインに重なる場合には、該スリットラインで分断される２つのフィルムを不良フィルムと判定することを特徴とする。【００４２】
また、上記の課題を解決するために、本発明に係るフィルムは、欠陥を有するフィルム原反の表面を長手方向に沿った境界線で区画してなる領域ごとに対応して得られる複数のフィルムのうちの一つのフィルムであって、上記境界線を介して上記欠陥が含まれる領域に隣接する領域に対応して得られ、上記境界線を介して上記欠陥に対向する位置に印が付与されていることを特徴とする。【００４３】
また、上記の課題を解決するために、本発明に係るフィルム捲回体は、上記フィルムがロール状に巻き取られてなることを特徴とする。【００４４】
このように、欠陥に対応する位置に印が付与された状態でフィルムを巻き取ってフィルム捲回体とすることにより、フィルムの取り扱いが容易になるとともに、フィルムを巻き出したときに欠陥の位置を認識することができる。
【発明の効果】
【００４５】
本発明によれば、フィルム原反を切断することによってフィルムを得る場合において、欠陥を有するフィルムの流出を抑制したフィルム製造方法、フィルム製造装置、フィルム、及びフィルム捲回体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】実施形態１に係るリチウムイオン二次電池の断面構成を示す模式図である。
【図２】図１に示されるリチウムイオン二次電池の詳細構成を示す模式図である。
【図３】図１に示されるリチウムイオン二次電池の他の構成を示す模式図である。
【図４】上記セパレータ原反の欠陥マーキング方法の欠陥検出工程及び欠陥情報記録工程を説明するための模式図である。
【図５】上記欠陥検出工程における基材欠陥検査装置の構成を説明するための図である。
【図６】上記欠陥検出工程における塗工欠陥検査装置の構成を説明するための図である。
【図７】上記欠陥検出工程におけるピンホール欠陥検査装置の構成を説明するための図である。
【図８】上記セパレータをスリットするスリット装置の構成を示す模式図である。
【図９】図８に示されるスリット装置の切断装置の構成を示す拡大図・側面図・正面図である。
【図１０】上記セパレータの欠陥位置特定方法の読み取り工程、目印付与工程、及び巻き取り工程を説明するための模式図である。
【図１１】上記セパレータの欠陥位置特定方法の目印検知工程、及び欠陥除去工程を説明するための模式図である。
【図１２】実施形態２に係るセパレータ原反の欠陥マーキング方法の欠陥検出工程及び欠陥情報記録工程を説明するための模式図である。
【図１３】上記セパレータの欠陥位置特定方法の読み取り工程、目印付与工程、及び巻き取り工程を説明するための模式図である。
【図１４】実施形態３に係るセパレータ製造方法において欠陥コードを記録する位置を説明するためのセパレータ原反の平面図である。
【図１５】欠陥を含む分割領域とスリットラインと不良セパレータとの関係を例示する図である。
【図１６】実施形態４に係るセパレータ製造方法の読み取り工程、目印付与工程、及び巻き取り工程を説明するための模式図である。
【図１７】欠陥に対応する位置に目印が付与されたセパレータ原反またはセパレータを示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００４７】
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。
【００４８】
〔実施形態１〕
以下、本発明に係るフィルムの一例として、リチウムイオン二次電池などの電池用のセパレータ及び耐熱セパレータについて説明する。また、本発明に係るフィルム製造方法およびフィルム製造装置の一例として、セパレータ製造方法およびセパレータ製造装置について順に説明する。
【００４９】
＜リチウムイオン二次電池＞
リチウムイオン二次電池に代表される非水電解液二次電池は、エネルギー密度が高く、それゆえ、現在、パーソナルコンピュータ、携帯電話、携帯情報端末等の機器、自動車、航空機等の移動体に用いる電池として、また、電力の安定供給に資する定置用電池として広く使用されている。
【００５０】
図１は、リチウムイオン二次電池１の断面構成を示す模式図である。図１に示されるように、リチウムイオン二次電池１は、カソード１１と、セパレータ１２と、アノード１３とを備える。リチウムイオン二次電池１の外部において、カソード１１とアノード１３との間に、外部機器２が接続される。そして、リチウムイオン二次電池１の充電時には方向Ａへ、放電時には方向Ｂへ、電子が移動する。
【００５１】
＜セパレータ＞
セパレータ１２は、リチウムイオン二次電池１の正極であるカソード１１と、その負極であるアノード１３との間に、これらに挟持されるように配置される。セパレータ１２は、カソード１１とアノード１３との間を分離しつつ、これらの間におけるリチウムイオンの移動を可能にする多孔質フィルムである。セパレータ１２は、その材料として、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンを含む。
【００５２】
図２は、図１に示されるリチウムイオン二次電池１の詳細構成を示す模式図であって、（ａ）は通常の構成を示し、（ｂ）はリチウムイオン二次電池１が昇温したときの様子を示し、（ｃ）はリチウムイオン二次電池１が急激に昇温したときの様子を示す。
【００５３】
図２の（ａ）に示されるように、セパレータ１２には、多数の孔Ｐが設けられている。通常、リチウムイオン二次電池１のリチウムイオン３は、孔Ｐを介し往来できる。
【００５４】
ここで、例えば、リチウムイオン二次電池１の過充電、又は、外部機器の短絡に起因する大電流等により、リチウムイオン二次電池１は、昇温することがある。この場合、図２の（ｂ）に示されるように、セパレータ１２が融解又は柔軟化し、孔Ｐが閉塞する。そして、セパレータ１２は収縮する。これにより、リチウムイオン３の往来が停止するため、上述の昇温も停止する。
【００５５】
しかし、リチウムイオン二次電池１が急激に昇温する場合、セパレータ１２は、急激に収縮する。この場合、図２の（ｃ）に示されるように、セパレータ１２は、破壊されることがある。そして、リチウムイオン３が、破壊されたセパレータ１２から漏れ出すため、リチウムイオン３の往来は停止しない。ゆえに、昇温は継続する。
【００５６】
＜耐熱セパレータ＞
図３は、図１に示されるリチウムイオン二次電池１の他の構成を示す模式図であって、（ａ）は通常の構成を示し、（ｂ）はリチウムイオン二次電池１が急激に昇温したときの様子を示す。
【００５７】
図３の（ａ）に示されるように、リチウムイオン二次電池１は、耐熱層４をさらに備えてよい。耐熱層４と、セパレータ１２とは、耐熱セパレータ１２ａ（セパレータ）を形成している。耐熱層４は、セパレータ１２のカソード１１側の片面に積層されている。なお、耐熱層４は、セパレータ１２のアノード１３側の片面に積層されてもよいし、セパレータ１２の両面に積層されてもよい。そして、耐熱層４にも、孔Ｐと同様の孔が設けられている。通常、リチウムイオン３は、孔Ｐと耐熱層４の孔とを介し往来する。耐熱層４は、その材料として、例えば全芳香族ポリアミド（アラミド樹脂）を含む。
【００５８】
図３の（ｂ）に示されるように、リチウムイオン二次電池１が急激に昇温し、セパレータ１２が融解又は柔軟化しても、耐熱層４がセパレータ１２を補助しているため、セパレータ１２の形状は維持される。ゆえに、セパレータ１２が融解又は柔軟化し、孔Ｐが閉塞するにとどまる。これにより、リチウムイオン３の往来が停止するため、上述の過放電又は過充電も停止する。このように、セパレータ１２の破壊が抑制される。
【００５９】
＜耐熱セパレータ原反（セパレータ原反）の製造工程＞
リチウムイオン二次電池１の耐熱セパレータ１２ａの製造は特に限定されるものではなく、公知の方法を利用して行うことができる。以下では、セパレータ１２がその材料として主にポリエチレンを含む場合を仮定して説明する。しかし、セパレータ１２が他の材料を含む場合でも、同様の製造工程により、耐熱セパレータ１２ａを製造できる。
【００６０】
例えば、熱可塑性樹脂に無機充填剤又は可塑剤を加えてフィルム成形した後、該無機充填剤及び該可塑剤を適当な溶媒で除去する方法が挙げられる。例えば、セパレータ１２が、超高分子量ポリエチレンを含むポリエチレン樹脂から形成されてなるポリオレフィンセパレータである場合には、以下に示すような方法により製造することができる。
【００６１】
この方法は、（１）超高分子量ポリエチレンと、無機充填剤（例えば、炭酸カルシウム、シリカ）、又は可塑剤（例えば、低分子量ポリオレフィン、流動パラフィン）とを混練してポリエチレン樹脂組成物を得る混練工程、（２）ポリエチレン樹脂組成物を用いてフィルムを成形する圧延工程、（３）工程（２）で得られたフィルム中から無機充填剤又は可塑剤を除去する除去工程、及び、（４）工程（３）で得られたフィルムを延伸してセパレータ１２を得る延伸工程を含む。なお、前記工程（４）を、前記工程（２）と（３）との間で行なうこともできる。
【００６２】
除去工程によって、フィルム中に多数の微細孔が設けられる。延伸工程によって延伸されたフィルムの微細孔は、上述の孔Ｐとなる。これにより、所定の厚さと透気度とを有するポリエチレン微多孔膜であるセパレータ１２が形成される。
【００６３】
なお、混練工程において、超高分子量ポリエチレン１００重量部と、重量平均分子量１万以下の低分子量ポリオレフィン５〜２００重量部と、無機充填剤１００〜４００重量部とを混練してもよい。
【００６４】
その後、塗工工程において、セパレータ１２の表面に耐熱層４を形成する。例えば、セパレータ１２に、アラミド／ＮＭＰ（Ｎ−メチル−ピロリドン）溶液（塗工液）を塗布し、アラミド耐熱層である耐熱層４を形成する。耐熱層４は、セパレータ１２の片面だけに設けられても、両面に設けられてもよい。また、耐熱層４として、アルミナ／カルボキシメチルセルロース等のフィラーを含む混合液を塗工してもよい。
【００６５】
また、塗工工程において、セパレータ１２の表面に、ポリフッ化ビニリデン／ジメチルアセトアミド溶液（塗工液）を塗布（塗布工程）し、それを凝固（凝固工程）させることによりセパレータ１２の表面に接着層を形成することもできる。接着層は、セパレータ１２の片面だけに設けられても、両面に設けられてもよい。
【００６６】
塗工液をセパレータ１２に塗工する方法は、均一にウェットコーティングできる方法であれば特に制限はなく、従来公知の方法を採用することができる。例えば、キャピラリーコート法、スピンコート法、スリットダイコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、バーコーター法、グラビアコーター法、ダイコーター法などを採用することができる。耐熱層４の厚さは塗工ウェット膜の厚み、塗工液中のバインダー濃度とフィラー濃度の和で示される固形分濃度、フィラーのバインダーに対する比を調節することによって制御することができる。
【００６７】
なお、塗工する際にセパレータ１２を固定あるいは搬送する支持体としては、樹脂製のフィルム、金属製のベルト、ドラム等を用いることができる。
【００６８】
以上のように、耐熱層４が積層されたセパレータ原反１２ｃである耐熱セパレータ原反１２ｂを製造できる（図４）。製造された耐熱セパレータ原反１２ｂは、円筒形状のコア５３に巻き取られる（図４）。なお、以上の製造方法で製造される対象は、耐熱セパレータ原反１２ｂに限定されない。この製造方法は、塗工工程を含まなくてもよい。この場合、製造される対象は、セパレータ原反１２ｃである。以下では、主に機能層として耐熱層を有する耐熱セパレータ（フィルム）を例に挙げて説明するが、機能層を有しないセパレータ（フィルム）およびセパレータ原反（フィルム原反）についても、同様の処理（工程）を行うことができる。
【００６９】
＜欠陥検出工程＞
リチウムイオン二次電池に使用される耐熱セパレータの製造においては、セパレータ原反に耐熱層を塗工した耐熱セパレータ原反を形成する塗工工程において、検査装置により欠陥を検出すると、当該欠陥を有する原反にマーカにより線を描いて耐熱セパレータ原反を巻き取る。そして、次のスリット工程において耐熱セパレータ原反を巻出す。その後、巻き出された耐熱セパレータ原反に上記マーカによる線を作業員が視認したら、作業員は、上記耐熱セパレータ原反の巻出し動作を停止する。次に、作業員は、上記マーカによる線に対応する欠陥の耐熱セパレータ原反の幅方向の位置を目視確認する。次に、上記マーカによる線に対応する耐熱セパレータ原反の部分が、切断装置により長手方向に沿ってスリットされて複数の耐熱セパレータが形成される。その後、作業員は、上記マーカによる線に対応する欠陥の幅方向の位置に対応する耐熱セパレータの欠陥に対応する位置に、テープを当該耐熱セパレータからはみ出すように貼る。そして、上記テープをはみ出すように貼られた耐熱セパレータは巻き取りローラーに巻き取られる。
【００７０】
次に、巻き取りローラーに巻き取られた上記耐熱セパレータは、巻替工程において、巻き取りローラーから巻替ローラーに巻き替えられる。その後、当該耐熱セパレータからはみ出すように貼られたテープを巻き替える途中で作業員が発見すると、巻き替え動作を停止する。そして、当該テープに対応する欠陥が存在する耐熱セパレータの個所を幅方向に沿って作業員が切断して除去する。次に、巻き取りローラー側の耐熱セパレータと巻替ローラー側の耐熱セパレータとをつなぎ合わせる。その後、巻き替え動作を再開し、耐熱セパレータをすべて巻替ローラーに巻き替える。
【００７１】
しかしながら、耐熱セパレータ原反に欠陥を検出すると上記マーカによる線を描くだけなので、次のスリット工程で、作業員が上記マーカを視認したら、作業員は、上記耐熱セパレータ原反の巻出し動作を停止させて、上記欠陥の幅方向の位置を目視確認する必要がある。このため、耐熱セパレータ原反をスリットした複数の耐熱セパレータでの欠陥位置を特定するために非常に手間がかかる。
【００７２】
図４は、上記耐熱セパレータ原反１２ｂの欠陥マーキング方法の欠陥検出工程及び欠陥情報記録工程を説明するための模式図であり、図４の（ａ）は両工程の正面図であり、図４の（ｂ）は両工程の平面図である。図５は欠陥検出工程における基材欠陥検査装置５５の構成を説明するための図である。図６は欠陥検出工程における塗工欠陥検査装置５７の構成を説明するための図である。図７は欠陥検出工程におけるピンホール欠陥検査装置５８の構成を説明するための図である。
【００７３】
セパレータ原反１２ｃに塗工部５４で耐熱層が塗布された耐熱セパレータ原反１２ｂがコア５３に巻き取られる。セパレータ原反１２ｃの欠陥Ｄを検査する基材検査工程（欠陥検出工程）は、セパレータ原反１２ｃの繰り出し工程と塗工工程との間に配置された基材欠陥検査装置５５（欠陥検出部、セパレータ製造装置）により実施される。基材欠陥検査装置５５は、光源５５ａと検出器５５ｂとがセパレータ原反１２ｃを挟むように配置され、光源５５ａからセパレータ原反１２ｃの表面、裏面に垂直な方向に出射されてセパレータ原反１２ｃを透過した透過光を検出器５５ｂが検出することにより、セパレータ原反１２ｃに存在する欠陥Ｄを検査する（欠陥Ｄの位置を特定する）（欠陥検出工程）。上記セパレータ原反１２ｃに存在する欠陥Ｄは、貫通孔（ピンホール）に係る欠陥、膜厚不正に係る欠陥、及び、異物に係る欠陥を含む。
【００７４】
セパレータ原反１２ｃに塗布された耐熱層４の欠陥Ｄを検査する塗工検査工程（欠陥検出工程）は、塗工工程と、コア５３による巻き取り工程との間に配置された塗工欠陥検査装置５７（欠陥検出部、セパレータ製造装置）により実施される。塗工欠陥検査装置５７は、耐熱セパレータ原反１２ｂの耐熱層４側に配置された光源５７ａ及び検出器５７ｂを有する。塗工欠陥検査装置５７は、光源５７ａから出射されて耐熱層４により反射された反射光を検出器５７ｂで検出することにより、耐熱層４に存在する欠陥Ｄを検出する（欠陥Ｄの位置を特定する）。上記耐熱層４に存在する欠陥Ｄは、スジに係る欠陥、剥がれに係る欠陥、弾きに係る欠陥、及び、表面不良に係る欠陥を含む。上記弾きに係る欠陥とは、異物、油分等で塗工液がセパレータ原反１２ｃの表面から弾かれて局所的に耐熱層４が形成されないか、もしくは、形成されても、ごく薄い耐熱層４になる欠陥を意味する。上記表面不良に係る欠陥とは、耐熱層４の膜厚不良に係る欠陥を意味する。
【００７５】
耐熱セパレータ原反１２ｂに生じるピンホールによる欠陥Ｄを検査するピンホール検査工程（欠陥検出工程）は、塗工欠陥検査装置５７と欠陥情報記録装置５６との間に配置されたピンホール欠陥検査装置５８（欠陥検出部、セパレータ製造装置）により実施される。ピンホール欠陥検査装置５８は、耐熱セパレータ原反１２ｂのセパレータ原反１２ｃ側に配置された光源５８ａと、光源５８ａから耐熱セパレータ原反１２ｂの表面、裏面に垂直な方向に向かって出射した光を通過させるスリット５８ｃと、スリット５８ｃを通過して耐熱セパレータ原反１２ｂを透過した光に基づいて欠陥Ｄを検出する（欠陥Ｄの位置を特定する）検出器５８ｂとを有している。上記ピンホールによる欠陥Ｄは、数百μｍから数ｍｍの直径を有する。
【００７６】
ピンホール欠陥検査装置５８とコア５３との間に欠陥情報記録装置５６が配置されている。欠陥情報記録装置５６は、基材欠陥検査装置５５、塗工欠陥検査装置５７、ピンホール欠陥検査装置５８により検出された欠陥Ｄの位置情報などの欠陥情報が保存された欠陥コードＤＣを、２次元コード、ＱＲコード（登録商標）等のコードデータにより、耐熱セパレータ原反１２ｂの長手方向における欠陥Ｄの位置に対応する耐熱セパレータ原反１２ｂの幅方向の端部に記録する。上記位置情報は、耐熱セパレータ原反１２ｂの長手方向及び幅方向における欠陥Ｄの位置を表す。上記位置情報は、欠陥Ｄの種類を区別できる情報を含んでもよい。欠陥Ｄの種類は、例えば、基材欠陥検査装置５５により検査される基材の構造的欠陥、塗工欠陥検査装置５７により検査される塗布に関する欠陥、ピンホール欠陥検査装置５８により検査される孔あきに関する欠陥である。
【００７７】
セパレータ原反１２ｃ、耐熱セパレータ原反１２ｂのフィルム張力は、通常２００Ｎ／ｍ以下であり、好ましくは、１２０Ｎ／ｍ以下である。ここで、「フィルム張力」とは、走行するフィルムの幅方向の単位長さ当たりに加わる走行方向の張力を意味する。例えばフィルム張力が２００Ｎ／ｍなら、フィルムの幅１ｍに対して２００Ｎの力が加えられる。フィルム張力が２００Ｎ／ｍよりも高いとフィルムの走行方向にシワが入り、欠陥検査の精度が低下する虞がある。また、フィルム張力は通常１０Ｎ／ｍ以上であり、好ましくは３０Ｎ／ｍ以上である。フィルム張力が１０Ｎ／ｍよりも低いとフィルムの弛みや蛇行が発生する虞がある。セパレータ原反１２ｃ、耐熱セパレータ原反１２ｂには、孔Ｐが形成されており、そのフィルム張力は、光学フィルム等の孔が無いフィルムのフィルム張力よりも小さい。従って、セパレータ原反１２ｃ、耐熱セパレータ原反１２ｂは、光学フィルム等の孔が無いフィルムよりも伸びやすい物性を有する。このため、耐熱セパレータ原反１２ｂの長手方向における欠陥Ｄの位置に対応する耐熱セパレータ原反１２ｂの幅方向の端部に欠陥コードＤＣを記録すると、耐熱セパレータ原反１２ｂが長手方向に伸びても、欠陥Ｄの長手方向の位置と欠陥コードＤＣの長手方向の位置とが実質的にずれない。従って、耐熱セパレータ原反１２ｂが長手方向に伸びても、欠陥Ｄの長手方向の位置を容易に特定することができる。
【００７８】
欠陥コードＤＣが端部に記録された耐熱セパレータ原反１２ｂは、コア５３に巻き取られる。耐熱セパレータ原反１２ｂを巻き取ったコア５３は、次のスリット工程に運ばれる。
【００７９】
欠陥情報記録装置５６（図４）は、欠陥Ｄの位置情報を表す欠陥コードＤＣを耐熱セパレータ原反１２ｂの長手方向における欠陥Ｄの位置に対応する耐熱セパレータ原反１２ｂの幅方向の端部に記録する。欠陥Ｄと欠陥コードＤＣとの間の長手方向に沿った距離ＬＭＤは、例えば、好ましくは１００ｍｍ以下であり、より好ましくは３０ｍｍ以下である。欠陥コードＤＣと耐熱セパレータ原反１２ｂの幅方向の端との間の距離ＬＴＤは、例えば、好ましくは１００ｍｍ以下であり、より好ましくは３０ｍｍ以下である。また、耐熱セパレータ原反１２ｂにおいて幅方向の端部は波打ちやすいため、距離ＬＴＤは、１０ｍｍ以上であることが好ましい。
【００８０】
＜スリット装置＞
耐熱セパレータ原反１２ｂ（以下「セパレータ原反」）から形成される耐熱セパレータ１２ａ（以下「セパレータ」）、又は、セパレータ原反１２ｃから形成されるセパレータ１２は、リチウムイオン二次電池１などの応用製品に適した幅（以下「製品幅」）であることが好ましい。しかし、生産性を上げるために、セパレータ原反は、その幅が製品幅以上となるように製造される。そして、一旦製造された後に、セパレータ原反は、製品幅に切断（スリット）されてセパレータとなる。
【００８１】
なお、「セパレータの幅」とは、セパレータが延びる平面に対し平行であり、かつ、セパレータの長手方向に対し垂直である方向の、セパレータの長さを意味する。また、スリットとは、セパレータ原反を長手方向（製造におけるフィルムの流れ方向、ＭＤ：Machine direction）に沿って切断することを意味する。カットとは、セパレータ原反又はセパレータを横断方向（ＴＤ：transverse direction）に沿って切断することを意味する。横断方向（ＴＤ）とは、セパレータの長手方向（ＭＤ）と厚み方向とに対し略垂直である方向（幅方向）を意味する。
【００８２】
図８は、セパレータ原反１２ｂをスリットするスリット装置６の構成を示す模式図であって、（ａ）は全体の構成を示し、（ｂ）はセパレータ原反１２ｂをスリットする前後の構成を示す。
【００８３】
図８の（ａ）に示されるように、スリット装置６は、回転可能に支持された円柱形状の、巻出ローラー６１と、ローラー６２〜６５と、複数の巻取ローラー６９とを備える。スリット装置６には、後述する切断装置７（図９）がさらに設けられている。
【００８４】
＜スリット前＞
スリット装置６では、セパレータ原反１２ｂを巻きつけた円筒形状のコア５３が、巻出ローラー６１に嵌められている。図８の（ａ）に示されるように、セパレータ原反１２ｂは、コア５３から経路Ｕ又はＬへ巻き出される。巻き出されたセパレータ原反１２ｂは、ローラー６３を経由し、ローラー６４へ例えば速度１００ｍ／分で搬送される。搬送される工程においてセパレータ原反１２ｂは、複数のセパレータ１２ａに長手方向に沿ってスリットされる。
【００８５】
＜スリット後＞
図８の（ａ）に示されるように、複数のセパレータ１２ａの一部は、それぞれ、複数の巻取ローラー６９に嵌められた各コア８１（ボビン）へ巻き取られる。また、複数のセパレータ１２ａの他の一部は、それぞれ、複数の巻取ローラー６９に嵌められた各コア８１（ボビン）へ巻き取られる。なお、ロール状に巻き取られたセパレータを「セパレータ捲回体（フィルム捲回体）」と称する。
【００８６】
＜切断装置＞
図９は、図８の（ａ）に示されるスリット装置６の切断装置７（スリット部）の構成を示す図であって、（ａ）は切断装置７の側面図であり、（ｂ）は切断装置７の正面図である。
【００８７】
図９の（ａ）（ｂ）に示されるように、切断装置７は、ホルダー７１と、刃７２とを備える。ホルダー７１は、スリット装置６に備えられている筐体などに固定されている。そして、ホルダー７１は、刃７２と搬送されるセパレータ原反１２ｂとの位置関係が固定されるように、刃７２を保持している。刃７２は、鋭く研がれたエッジによってセパレータの原反をスリットする。
【００８８】
図１０は、セパレータ１２ａの欠陥位置特定方法の読み取り工程（欠陥情報取得工程）、判定工程、目印付与工程、及び巻き取り工程を説明するための模式図である。セパレータ原反１２ｂは、コア５３（図８）から一定速度（例えば、８０ｍ／分）で巻き出される。読み取り部７３（欠陥情報取得部）は、セパレータ原反１２ｂの幅方向の端部に記録された欠陥コードＤＣを読み取ることにより、セパレータ原反１２ｂにおける欠陥情報を取得する（欠陥情報取得工程）。そして、スリット装置６に設けられた複数の切断装置７は、セパレータ原反１２ｂを長手方向に沿って切断して複数個のセパレータ１２ａを形成する（スリット工程）。
【００８９】
＜欠陥除去工程＞
次に、判定装置７５（判定部）は、読み取り部７３が読み取った欠陥コードＤＣに基づいて、セパレータのうち、欠陥Ｄを有するセパレータを不良セパレータ（不良フィルム）であると判定する（判定工程）。目印付与装置７４は、判定装置７５が不良セパレータであると判定したセパレータ１２ａの欠陥Ｄに対応する位置に目印Ｌを付与する（欠陥印付与工程）。なお、欠陥Ｄが複数個存在するときは、判定装置７５は、複数個のセパレータ１２ａを不良セパレータであると判定する。ここで、好ましい目印Ｌとしては、ラベルが挙げられ、好ましい目印付与装置７４としては、ラベラが挙げられる。
【００９０】
目印Ｌは、ラベルに替えて、ペンにより描画されたマークでもよく、インジェクタにより塗布されたマークでもよい。また、目印Ｌは、樹脂から構成されるセパレータ１２ａを加熱することにより印字するサーモラベルでもよく、また、セパレータ１２ａにレーザで穴を開けることにより目印Ｌを形成してもよい。
【００９１】
切断装置７によりスリットされた複数個のセパレータ１２ａは、複数個のコア８１にそれぞれ巻き取られる（巻き取り工程）。
【００９２】
そして、目印付与装置７４は、欠陥コードＤＣにより表される欠陥Ｄのセパレータ原反１２ｂの長さ方向の位置情報を欠陥コードＤＣ２として、上記特定した一つのセパレータ１２ａを巻き取った最外周部８６及び／又はコア８１に記録する。
【００９３】
図１１は、セパレータ１２ａの欠陥位置特定方法の目印検知工程、及び欠陥除去工程を説明するための模式図であり、図１１の（ａ）は目印検知工程を説明するための模式図であり、図１１の（ｂ）は欠陥除去工程を説明するための模式図である。まず、目印検知装置８３が最外周部８６及び／又はコア８１に記録された欠陥コードＤＣ２を読み出す。そして、目印検知装置８３が読み出した情報を受けて、目印付与装置７４により目印Ｌを貼りつけられたセパレータ１２ａのコア８１から、コア８２への巻き替え動作を開始する。次に、目印検知装置８３は、読み出した欠陥コードＤＣ２により表される欠陥Ｄのセパレータ原反１２ｂの長さ方向の位置情報に基づいて、欠陥Ｄの位置が近付くと、セパレータ１２ａの上記巻き替え動作の速度を減速する。
【００９４】
そして、セパレータ１２ａの欠陥Ｄに対応する位置に張り付けられた目印Ｌが、目印検知装置８３により検知される（目印検知工程）。目印検知装置８３により目印Ｌが検知されると、目印検知装置８３がセパレータ１２ａの巻き替え動作を停止する。その後、欠陥除去装置８４は、目印Ｌに対応する欠陥Ｄの上流側及び下流側のセパレータ１２ａの箇所を幅方向に沿って切断して欠陥Ｄをセパレータ１２ａから除去する（欠陥除去工程）。かかる欠陥除去工程は、欠陥除去装置８４に代えて作業者が手作業で実施してもよい。そして、繋ぎ合わせ装置８５は、切断したセパレータ１２ａを繋ぎ合わせる（繋ぎ合わせ工程）。かかる繋ぎ合わせ工程は、繋ぎ合わせ装置８５に代えて作業者が手作業で実施してもよい。次に、繋ぎ合わせ装置８５は、セパレータ１２ａの巻き替え動作を再開する。そして、セパレータ１２ａのコア８１からコア８２への巻き替えが完了する。ここで、２つに分割されたセパレータ１２ａは繋ぎ合わせずに、それぞれ別のコアに巻き替えてもよい。つまり、切断される前の部分をコア８２に巻き替え、切断された後の部分をコア８２以外のコアに巻き替えればよい。
【００９５】
〔実施形態２〕
実施形態１では、セパレータ原反１２ｂに存在する欠陥Ｄの位置情報をセパレータ原反１２ｂの端部に記録する例を示した。しかしながら、本発明はこれに限定されない。欠陥Ｄの位置情報は、情報記憶装置に記録するように構成してもよい。
【００９６】
図１２は、実施形態２に係るセパレータ原反１２ｂの欠陥マーキング方法の欠陥検出工程及び欠陥情報記録工程を説明するための模式図である。図１３は、セパレータ１２ａの欠陥位置特定方法の読み取り工程、目印貼り工程、及び巻き取り工程を説明するための模式図である。実施形態１で前述した構成要素には同一の参照符号を付している。従って、これらの構成要素の詳細な説明は繰り返さない。
【００９７】
欠陥情報記録装置５６ａ（欠陥情報記録部、セパレータ原反製造装置）は、基材欠陥検査装置５５、塗工欠陥検査装置５７、ピンホール欠陥検査装置５８により検出されたセパレータ原反１２ｃ・１２ｂに存在する欠陥Ｄの長手方向及び幅方向における位置を表す位置情報を情報記憶装置９１に記録する。そして、読み取り部７３ａは、欠陥Ｄの長手方向及び幅方向における位置情報を情報記憶装置９１から読みとる（読み取り工程）。
【００９８】
〔実施形態３〕
以下、本発明の他の実施形態について、図１４〜図１５に基づいて説明する。なお、説明の便宜上、前記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。
【００９９】
実施形態１では、欠陥情報記録装置５６は、欠陥コードＤＣを、セパレータ原反１２ｂの長手方向における欠陥Ｄの位置に対応する位置に記録するものとして説明したが、欠陥情報記録工程５６による欠陥コードＤＣの記録の仕方はこれに限られない。
【０１００】
以下、本実施形態の欠陥情報記録装置５６による欠陥コードＤＣの記録の仕方について説明する。
【０１０１】
＜単位領域＞
図１４は、欠陥コードＤＣを記録する位置を説明するためのセパレータ原反の平面図である。
【０１０２】
図１４に示されるように、本実施形態の欠陥情報記録装置５６は、セパレータ原反１２ｂの長手方向に所定長さを有する単位領域２０ごとに、各単位領域２０に存在する欠陥Ｄに対応する欠陥コードＤＣを記録（形成）する（欠陥情報記録工程）。
【０１０３】
セパレータ原反１２ｂの長手方向における単位領域２０の長さは、例えば２５０ｍｍとすることができる。
【０１０４】
図１４中には、セパレータ原反１２ｂの長手方向に並ぶ６つの単位領域２０ａ〜２０ｆが例示されており、欠陥Ｄが含まれる各単位領域２０ａ・２０ｂ・２０ｄ・２０ｆに対応して欠陥コードＤＣが記録されている。なお、図１４の例では、欠陥情報記録装置５６は、単位領域２０ｃ・２０ｅのように欠陥Ｄが存在しない単位領域２０には、対応する欠陥コードＤＣを記録しない。
【０１０５】
また、欠陥情報記録装置５６は、単位領域２０ａ・２０ｂのように複数の欠陥Ｄが存在する単位領域２０には、複数の欠陥Ｄの位置情報などを表す１つの欠陥コードＤＣを記録する。
【０１０６】
このように、単位領域２０ごとに複数の欠陥Ｄの位置情報などを表す欠陥コードＤＣを記録することによって、１つの欠陥Ｄに対して１つの欠陥コードＤＣを記録する場合に比べて、記録する欠陥コードＤＣの数を減らすことができ、製造工程を簡易化することができる。
【０１０７】
＜欠陥コードに盛り込む情報＞
欠陥情報記録装置５６は、単位領域２０に存在する欠陥Ｄの個数の情報、欠陥Ｄの種類、セパレータ原反１２ｂの表面における欠陥Ｄの位置を表す座標、欠陥Ｄの大きさ、などの詳細情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録する。
【０１０８】
しかしながら、単位領域２０に多数の欠陥Ｄが存在する場合、全ての欠陥Ｄの詳細情報を１つの欠陥コードＤＣに盛り込むことができない。
【０１０９】
そこで、欠陥情報記録装置５６は、単位領域２０を、セパレータ原反１２ｂの幅方向に並ぶ複数の分割領域２１に分けて、各分割領域２１における欠陥Ｄの有無などの簡易情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録してもよい。
【０１１０】
例えば、図１４に例示されるように、３つの欠陥Ｄが含まれている単位領域２０ｄを、セパレータ原反１２ｂの幅方向に並ぶ分割領域２１ａ〜２１ｄに分けて、各分割領域２１ａ〜２１ｄにおける欠陥Ｄの有無の情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録する。具体的には、分割領域２１ａには欠陥Ｄは含まれておらず、分割領域２１ｂには欠陥Ｄが含まれており、分割領域２１ｃには欠陥Ｄが含まれておらず、分割領域２１ｄには欠陥Ｄが含まれていない、という簡易情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録する。
【０１１１】
これにより、欠陥コードＤＣに盛り込む情報の量を低減することができる。なお、図１４に示した分割領域２１は一例に過ぎず、セパレータ原反１２ｂの幅方向に並ぶ分割領域２１の数、および各分割領域２１の幅は、適宜設定することができる。
【０１１２】
また、欠陥情報記録装置５６は、単位領域２０に存在する欠陥Ｄの個数に応じて、詳細情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録する第１モードと、簡易情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録する第２モードとを切り換えてもよい。
【０１１３】
これにより、欠陥コードＤＣに盛り込むことができる情報量に制約がある場合に、情報量の制約の下で適切な情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録することができる。
【０１１４】
＜判定工程＞
実施形態１および実施形態２では、判定装置７５（判定部）が、１つの欠陥Ｄに基づいて１つの不良セパレータを特定するものとして説明したが、本実施形態の判定装置７５による判定工程は、実施形態１および実施形態２の判定装置７５による判定工程とは異なる。
【０１１５】
本実施形態では、読み取り部７３が、セパレータ原反１２ｂに記録された欠陥コードＤＣを読み取り、スリット装置６が、セパレータ原反１２ｂを長手方向に沿うスリットラインでスリットし、判定装置７５は、１つの欠陥Ｄに基づいて、実際に欠陥Ｄを含むセパレータ１２ａおよび該セパレータ１２ａに隣接する別のセパレータ１２ａを不良セパレータと判定する（不良判定する）。
【０１１６】
そして、目印付与装置７４は、実際に欠陥Ｄを含むセパレータ１２ａに該欠陥Ｄの位置を示す目印Ｌ１（第１の印）を付与するとともに、該セパレータ１２ａに隣接する別のセパレータ１２ａにおける目印Ｌ１に対応する位置に目印Ｌ２（第２の印）を付与する（欠陥印付与工程）。
【０１１７】
すなわち、上記別のセパレータ１２ａは、セパレータ原反１２ｂの表面を長手方向に沿ったスリットライン（境界線）で区画してなる領域に対応して得られるセパレータであり、スリットラインを介して欠陥Ｄに対向する位置に目印Ｌ２が付与されている。
【０１１８】
これにより、スリット装置６が、所望のスリット位置からずれた位置でセパレータ原反１２ｂをスリットすることによって、本来欠陥Ｄが含まれるはずのセパレータ１２ａに欠陥Ｄが含まれず、該セパレータ１２ａに隣接する別のセパレータ１２ａに欠陥Ｄが含まれることとなった場合であっても、該別のセパレータ１２ａは不良セパレータ１２ａと判定され、欠陥Ｄを有するセパレータ１２ａの流出を抑制することができる。
【０１１９】
また、欠陥印付与工程の後の工程において、目印確認装置を用いて、目印付与装置７４によって適切な位置に目印Ｌが付与されているか否かを検査してもよい。
【０１２０】
さらに、本実施形態では、読み取り部７３が、分割領域ごとの欠陥の有無の簡易情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを読み取り、判定装置７５は、少なくとも１つの欠陥Ｄを有する分割領域２１に基づいて、欠陥Ｄを有する分割領域２１を含んで得られるセパレータ１２ａおよび該セパレータ１２ａに隣接する別のセパレータ１２ａを不良セパレータと判定してもよい。
【０１２１】
これにより、各分割領域２１における欠陥Ｄの有無に関する簡易な情報に基づいて、上記別のセパレータ１２ａを不良セパレータと判定することができる。
【０１２２】
なお、その後、図１１に示されるように、欠陥除去装置８４が目印Ｌ１・Ｌ２に基づいて不良セパレータの欠陥部分を切除してもよい（欠陥切除工程）。
【０１２３】
以下、図面を参照してより具体的に説明する。以下の説明では、欠陥情報記録装置５６が簡易情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録した場合における、判定装置７５による不良セパレータの判定工程について説明する。
【０１２４】
図１５は、欠陥を含む分割領域とスリットラインと不良セパレータとの関係を例示する図であり、（ａ）は１つの分割領域が１つのセパレータに対応するようなスリットラインでセパレータ原反をスリットする場合を示し、（ｂ）は２つの分割領域が１つのセパレータに対応するようなスリットラインでセパレータ原反をスリットする場合を示し、（ｃ）は３つの分割領域が１つのセパレータに対応するようなスリットラインでセパレータ原反をスリットする場合を示し、（ｄ）は分割領域を分断するスリットラインでセパレータ原反をスリットする場合を示す。なお、図１５では欠陥コードＤＣの表示を省略している。また、図１５中のバツ印は、分割領域に含まれていた欠陥Ｄが、スリット後のセパレータにおいて存在し得る位置を示している。
【０１２５】
＜１分割領域が１セパレータに対応＞
図１５の（ａ）の例では、欠陥情報記録装置５６は、セパレータ１２ａの幅に等しい幅を有する各分割領域２１ａ〜２１ｄにおける簡易情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録する。読み取り部７３は上記欠陥コードＤＣを読み取る。スリット装置６は、各分割領域２１ａ〜２１ｄの境界線に沿ったスリットラインでセパレータ原反１２ｂをスリットすることにより、各分割領域２１ａ〜２１ｄに対応してセパレータ１２ａａ〜１２ａｄを得る。
【０１２６】
このように、欠陥Ｄを有する分割領域２１の境界線に沿ったスリットラインでセパレータ原反１２ｂをスリットする場合、スリット位置がずれることによって本来欠陥が含まれるはずのセパレータ１２ａに隣接する別のセパレータ１２ａに欠陥が含まれ易い。
【０１２７】
そこで、本実施形態の判定装置７５は、欠陥Ｄを有する分割領域２１を含んで得られるセパレータ１２ａを不良セパレータと判定するとともに、欠陥Ｄを有する分割領域２１の境界線を介して隣接する分割領域２１を含んで得られる別のセパレータ１２ａを不良セパレータと判定する。
【０１２８】
すなわち、図１５の（ａ）に示されるように、分割領域２１ｃに欠陥Ｄが含まれている場合、判定装置７５は、分割領域２１ｃを含んで得られるセパレータ１２ａｃを不良セパレータと判定するとともに、分割領域２１ｃの境界線を介して隣接する分割領域２１ｂを含んで得られるセパレータ１２ａｂおよび分割領域２１ｄを含んで得られるセパレータ１２ａｄを不良セパレータと判定する。
【０１２９】
本実施形態の判定工程を含むセパレータ１２ａの製造方法によれば、スリット位置のずれによって欠陥が含まれ易いセパレータ１２ａを適切に不良セパレータと判定することができる。そのため、欠陥を有するセパレータを誤って良品セパレータと判定してしまうリスクを低減することができる。
【０１３０】
＜２分割領域が１セパレータに対応＞
図１５の（ｂ）の例では、欠陥情報記録装置５６は、セパレータ１２ａの幅の１／２の幅を有する各分割領域２１ａａ〜２１ｄｂにおける簡易情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録する。読み取り部７３は上記欠陥コードＤＣを読み取る。スリット装置６は、各分割領域２１ａａ〜２１ｄｂの境界線うち一つ飛ばしの境界線に沿ったスリットラインでセパレータ原反１２ｂをスリットする。これにより、分割領域２１ａａ・２１ａｂに対応してセパレータ１２ａａを得て、分割領域２１ｂａ・２１ｂｂに対応してセパレータ１２ａｂを得て、分割領域２１ｃａ・２１ｃｂに対応してセパレータ１２ａｃを得て、分割領域２１ｄａ・２１ｄｂに対応してセパレータ１２ａｄを得る。
【０１３１】
本実施形態の判定装置７５は、欠陥Ｄを有する分割領域２１を含んで得られるセパレータ１２ａを不良セパレータと判定するとともに、欠陥Ｄを有する分割領域２１と境界線を介して隣接する分割領域２１を含んで得られる別のセパレータ１２ａを不良セパレータと判定する。
【０１３２】
すなわち、図１５の（ｂ）に示されるように、分割領域２１ｃａに欠陥Ｄが含まれている場合、判定装置７５は、分割領域２１ｃａを含んで得られるセパレータ１２ａｃを不良セパレータと判定するとともに、分割領域２１ｃａの境界線を介して分割領域２１ｃａと隣接する分割領域２１ｂｂを含んで得られる別のセパレータ１２ａｂを不良セパレータと判定する。
【０１３３】
図１５の（ａ）に示される例のように、一つの分割領域２１に対応して一つのセパレータ１２ａを得るようにセパレータ原反１２ｂをスリットする場合、欠陥Ｄを有する分割領域２１に対応するセパレータ１２ａの両隣のセパレータ１２ａに欠陥Ｄが含まれ易く、両隣のセパレータ１２ａを不良セパレータと判定する必要がある。その結果、１つの欠陥Ｄに対して３つのセパレータ１２ａを不良セパレータと判定することとなる。
【０１３４】
これに対して、図１５の（ｂ）に示される例では、欠陥Ｄを有する分割領域２１ｃａを含んで得られるセパレータ１２ａｃの両隣のセパレータ１２ａｂ・１２ａｄのうち、一方のセパレータ１２ａｄには該欠陥Ｄが含まれ難く、セパレータ１２ａｄを不良セパレータ１２と判定する必要がない。これにより、実際には欠陥Ｄが含まれていないにも関わらず不良セパレータ１２と判定するセパレータ１２ａを減らすことができる。
【０１３５】
＜３分割領域が１セパレータに対応＞
図１５の（ｃ）の例では、欠陥情報記録装置５６は、セパレータ１２ａの幅の１／３の幅を有する各分割領域２１ａａ〜２１ｄｃにおける簡易情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録する。読み取り部７３は上記欠陥コードＤＣを読み取る。スリット装置６は、各分割領域２１ａａ〜２１ｄｃの境界線うち二つ飛ばしの境界線に沿ったスリットラインでセパレータ原反１２ｂをスリットする。これにより、分割領域２１ａａ・２１ａｂ・２１ａｃに対応してセパレータ１２ａａを得て、分割領域２１ｂａ・２１ｂｂ・２１ｂｃに対応してセパレータ１２ａｂを得て、分割領域２１ｃａ・２１ｃｂ・２１ｃｃに対応してセパレータ１２ａｃを得て、分割領域２１ｄａ・２１ｄｂ・２１ｄｃに対応してセパレータ１２ａｄを得る。
【０１３６】
そこで、本実施形態の判定装置７５は、欠陥Ｄを有する分割領域２１を含んで得られるセパレータ１２ａを不良セパレータと判定するとともに、欠陥Ｄを有する分割領域２１と境界線を介して隣接する分割領域２１を含んで得られる別のセパレータ１２ａを不良セパレータと判定する。
【０１３７】
すなわち、図１５の（ｃ）に示されるように、分割領域２１ｄａに欠陥Ｄが含まれている場合、判定装置７５は、分割領域２１ｄａを含んで得られるセパレータ１２ａｄを不良セパレータと判定するとともに、分割領域２１ｄａの境界線を介して分割領域２１ｄａと隣接する分割領域２１ｃｃを含んで得られる別のセパレータ１２ａｃを不良セパレータと判定する。言い換えると、分割領域２１ｄａに欠陥Ｄが含まれている場合、判定装置７５は、分割領域２１ｄａの境界線に重なるスリットラインで分断される２つのセパレータ１２ａｃ・１２ａｄを不良セパレータと判定する。
【０１３８】
図１５の（ｂ）に示される例のように、二つの分割領域２１に対応して一つのセパレータ１２ａを得るようにセパレータ原反１２ｂをスリットする場合、欠陥Ｄを有する分割領域２１に対応するセパレータ１２ａの隣のセパレータ１２ａに欠陥Ｄが含まれ易く、隣のセパレータ１２ａを不良セパレータと判定する必要がある。その結果、１つの欠陥Ｄに対して２つのセパレータ１２ａを不良セパレータと判定することとなる。
【０１３９】
これに対して、図１５の（ｃ）に示される例では、一つのセパレータ１２ａに対応する３つの分割領域２１のうち真ん中の分割領域２１に欠陥Ｄが存在していた場合、１つの欠陥Ｄに対して１つのセパレータ１２ａを不良セパレータと判定するだけで済む。
【０１４０】
すなわち、図１５の（ｃ）に示されるように、分割領域２１ａｂに欠陥Ｄが存在していた場合、分割領域２１ａｂを含んで得られるセパレータ１２ａａの隣のセパレータ１２ａｂには該欠陥Ｄが含まれ難く、セパレータ１２ａｂを不良セパレータ１２と判定する必要がない。これにより、実際には欠陥Ｄが含まれていないにも関わらず不良セパレータ１２と判定するセパレータ１２ａを減らすことができる。
【０１４１】
＜分割領域を分断するスリットライン＞
図１５の（ａ）〜（ｃ）の例は、スリット装置６が各分割領域２１の境界線に沿ったスリットラインでセパレータ原反１２ｂをスリットする例であったが、分割領域２１の境界線とスリットラインの位置関係はこれに限られない。
【０１４２】
図１５の（ｄ）の例では、欠陥情報記録装置５６は、交互に配列された幅狭の分割領域２１ａａ・２１ｂａ・２１ｃａ・２１ｄａ・２１ｅａ（第１の分割領域）と、幅広の分割領域２１ａｂ・２１ｂｂ・２１ｃｂ・２１ｄｂ（第２の分割領域）とにおける簡易情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録する。読み取り部７３は上記欠陥コードＤＣを読み取る。スリット装置６は、幅狭の分割領域を分断するスリットラインでセパレータ原反１２ｂをスリットすることにより、各幅広の分割領域と分断された２つの幅狭の分割領域とに対応して各セパレータ１２ａａ〜１２ａｄを得る。
【０１４３】
幅狭の分割領域に欠陥Ｄが含まれていた場合、欠陥Ｄを有する分割領域が分断されてなる領域を含んで得られる２つのセパレータ１２ａは、何れも欠陥Ｄを含んでいる可能性が高い。
【０１４４】
そこで、本実施形態の判定装置７５は、欠陥Ｄを有する分割領域が分断されてなる領域を含んで得られる２つのセパレータ１２ａを不良セパレータと判定する。言い換えれば、判定装置７５は、スリットラインに重なる分割領域に欠陥Ｄが含まれる場合、該分割領域に重なる２つのセパレータ１２ａを不良セパレータと判定する。また、幅広の分割領域に欠陥Ｄが含まれていた場合、該幅広の分割領域を含んで得られる１つのセパレータ１２ａを不良セパレータと判定する。
【０１４５】
すなわち、図１５の（ｄ）に示されるように、分割領域２１ｄａに欠陥Ｄが含まれている場合、判定装置７５は、分割領域２１ｄａが分断されてなる領域を含んで得られる２つのセパレータ１２ａｃ・１２ａｄを不良セパレータと判定する。言い換えると、分割領域２１ｄａに欠陥Ｄが含まれている場合、判定装置７５は、分割領域２１ｄａに重なるスリットラインで分断される２つのセパレータ１２ａｃ・１２ａｄを不良セパレータと判定する。また、分割領域２１ａｂに欠陥Ｄが含まれている場合、判定装置７５は、分割領域２１ａｂを含んで得られる１つのセパレータ１２ａａを不良セパレータと判定する。
【０１４６】
本実施形態の判定工程を含むセパレータ１２ａの製造方法によれば、欠陥が含まれ易いセパレータ１２ａを適切に不良セパレータと判定することができる。そのため、欠陥を有するセパレータを誤って良品セパレータと判定してしまうリスクを低減することができる。
【０１４７】
また、幅広の分割領域を分断するスリットラインでセパレータ原反１２ｂをスリットする場合に比べて、幅狭の分割領域を分断するスリットラインでセパレータ原反１２ｂをスリットする場合、分断される分割領域に欠陥が含まれる可能性が低いため、実際には欠陥が含まれていないにも関わらず不良セパレータと判定するセパレータを減らすことができる。
【０１４８】
〔実施形態４〕
以下、本発明の他の実施形態について、図１６〜１７に基づいて説明する。なお、説明の便宜上、前記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。
【０１４９】
図１６は、セパレータ１２ａの欠陥位置特定方法の読み取り工程、目印付与工程、及び巻き取り工程を説明するための模式図である。
【０１５０】
実施形態３の製造方法は、スリット工程と目印付与工程とをこの順に処理する製造方法であったが、これら各工程の順はこれに限られない。
【０１５１】
すなわち、本実施形態の製造方法は、目印付与工程とスリット工程とをこの順に処理する点で、実施形態３の製造方法とは異なっている。以下、より詳細に説明する。
【０１５２】
図１６に示されるように、読み取り部７３がセパレータ原反１２ｂに記録された欠陥コードＤＣを読み取り（欠陥情報取得工程）、判定装置７５が欠陥コードＤＣに基づいて、セパレータ原反１２ｂにおいてスリット後に不良セパレータとなる部分を特定し（判定工程）、目印付与装置７４は、セパレータ原反１２ｂに対して、不良セパレータとなる部分に目印Ｌを付与する（原反欠陥印付与工程）。
【０１５３】
セパレータ原反１２ｂにおける欠陥Ｄの位置情報に基づいてスリット後のセパレータ１２ａに目印Ｌを付与する場合、スリット工程におけるセパレータ１２ａの幅方向への位置ずれの影響によって、セパレータ原反１２ｂにおける欠陥Ｄの位置と、スリット後のセパレータ１２ａにおける欠陥Ｄの位置とが対応しないことがあり、欠陥Ｄに対して付与される目印Ｌの位置がずれてしまうことがある。これに対して、セパレータ原反１２ｂにおける欠陥Ｄの位置情報に基づいてスリット前にセパレータ原反１２ｂに対して目印Ｌを付与することにより、欠陥Ｄに対応する正確な位置に目印Ｌを付与することができる。
【０１５４】
なお、目印Ｌ１および目印Ｌ２は、スリットラインに重ならないように付与することが好ましい。これにより、スリット工程において目印Ｌ１・Ｌ２が切断されて不良セパレータの判別が困難になることを防止することができる。
【０１５５】
図１７は、欠陥に対応する位置に目印が付与されたセパレータ原反またはセパレータを示す斜視図であり、（ａ）は本来のスリットラインを破線で図示したものであり、（ｂ）は本来の位置からずれたスリットラインを破線で図示したものである。
【０１５６】
なお、図１７は、欠陥情報記録装置５６が、図１５の（ｄ）に示されるように交互に配置された幅狭の分割領域と、幅広の分割領域とにおける簡易情報を盛り込んだ欠陥コードＤＣを記録したセパレータ原反１２ｂを例示したものである。
【０１５７】
図１７の（ａ）に示されるように、幅狭の分割領域２１ｂａに３つの欠陥Ｄが含まれている場合、判定装置７５は、分割領域２１ｂａが分断されてなる領域を含んで得られる２つのセパレータ１２ａｂ・１２ａａを不良セパレータと判定する。目印付与装置７４は、セパレータ原反１２ｂにおける、不良セパレータと判定されたセパレータ１２ａｂに対応する部分に目印Ｌ１を付与するとともに、不良セパレータと判定されたセパレータ１２ａａに対応する部分に目印Ｌ２を付与する。目印Ｌ１・Ｌ２は、対応する欠陥Ｄの周囲に付与される。
【０１５８】
その後、スリット装置６は、上記目印Ｌ１・Ｌ２が付与されたセパレータ原反１２ｂをスリットする。
【０１５９】
なお、実施形態３の製造方法のように、スリット工程と目印付与工程とをこの順に処理する場合には、目印付与装置７４は、スリット後のセパレータ１２ａｂに目印Ｌ１を付与するとともに、セパレータ１２ａａに目印Ｌ２を付与する。スリット工程の前にセパレータ原反１２ｂに目印を付与した場合、スリット工程において目印が切断されるリスクがあるが、スリット後のセパレータ１２ａｂ・１２ａａに目印Ｌ１・Ｌ２を付与することにより、このようなリスクを回避することができる。
【０１６０】
図１７の（ａ）に示されるように、スリット工程において、セパレータ原反１２ｂを本来のスリットラインでスリットした場合、セパレータ１２ａｂに欠陥Ｄが含まれることとなる。しかしながら、図１７の（ｂ）に示されるように、セパレータ原反１２ｂを本来の位置からずれたスリットラインでスリットした場合、セパレータ１２ａａに欠陥Ｄが含まれることとなる。
【０１６１】
本実施形態の製造方法によれば、セパレータ１２ａｂに対応する部分に目印Ｌ１を付与するだけでなく、セパレータ１２ａａに対応する部分に目印Ｌ２を付与する。また、実施形態３の製造方法によれば、スリット後のセパレータ１２ａｂに目印Ｌ１を付与するとともに、セパレータ１２ａａに目印Ｌ２を付与する。
【０１６２】
そのため、スリットラインが本来の位置からずれてしまい、セパレータ１２ａａに欠陥Ｄが含まれることとなった場合であっても、不良セパレータであるセパレータ１２ａａの流出を抑制することができる。
【０１６３】
（本発明の他の側面）
上記の課題を解決するために、本発明に係るセパレータ原反の製造方法は、セパレータ原反を形成する形成工程と、前記形成工程により形成したセパレータ原反に存在する欠陥を検出する欠陥検出工程と、前記セパレータ原反の幅方向における前記欠陥の位置情報を含む欠陥情報を記録する欠陥情報記録工程とを包含することを特徴とする。ここで、「セパレータ原反」とは、スリットされる前の幅広のセパレータを意味するものとする。
【０１６４】
この特徴によれば、セパレータ原反の幅方向における前記欠陥の位置情報を含む欠陥情報を記録するので、当該記録された位置情報に基づいて、セパレータ原反に存在する欠陥を容易に特定することができる。従って、セパレータ原反に存在する欠陥を容易に除去することができる。
【０１６５】
本発明に係るセパレータ原反の製造方法では、前記欠陥情報は、前記セパレータ原反の長手方向における前記欠陥の位置情報をさらに含むことが好ましい。ここで、「セパレータ原反の長手方向」は、セパレータの製造工程において製造対象物が搬送される方向に相当するものとする。
【０１６６】
上記構成によれば、前記欠陥の長手方向における位置情報に基づいて、捲回されたセパレータ原反からセパレータ原反を巻き出すときに上記欠陥を容易に発見することができる。
【０１６７】
本発明に係るセパレータ原反の製造方法では、前記欠陥情報は、前記セパレータ原反の長手方向における前記欠陥の位置に対応する箇所に記録されていることが好ましい。
【０１６８】
上記構成によれば、欠陥情報が記録された位置に基づいて、セパレータ原反の長手方向における欠陥の位置を特定することができる。また、セパレータ原反の長手方向における前記欠陥の位置に対応する箇所に欠陥情報が記録されるので、セパレータ原反が長手方向に伸びても、欠陥と欠陥情報との長手方向の位置が実質的にずれない。従って、セパレータ原反が長手方向に伸びても、欠陥の長手方向の位置を容易に特定することができる。
【０１６９】
上記の課題を解決するために、本発明に係るセパレータの製造方法は、セパレータ原反を形成する形成工程と、前記形成工程により形成したセパレータ原反に存在する欠陥を検出する欠陥検出工程と、前記セパレータ原反の幅方向における前記欠陥の位置情報を含む欠陥情報を記録する欠陥情報記録工程と、前記欠陥情報記録工程により前記位置情報が記録された欠陥を有するセパレータ原反を前記原反の長手方向に沿って切断した複数のセパレータを形成する切断工程と、前記位置情報を読み取る読み取り工程と、前記読み取り工程により読み取られた位置情報に基づいて、前記切断工程により切断された複数のセパレータのうちの少なくとも一つに、前記欠陥の位置を特定するための目印を付与する目印付与工程とを包含することを特徴とする。
【０１７０】
この特徴によれば、読み取り工程により読み取られた位置情報に基づいて、切断工程により切断された複数のセパレータのうちの少なくとも一つに、欠陥の位置を特定するための目印を付与するので、セパレータ原反をスリットした複数のセパレータのうちの当該欠陥を含むセパレータの欠陥部位を容易に除去することができる。
【０１７１】
本発明に係るセパレータの製造方法では、前記目印付与工程により欠陥の位置を特定するための目印を付与された複数のセパレータのうちの少なくとも一つを巻き取る巻き取り工程と、前記巻き取り工程により巻き取られた複数のセパレータのうちの少なくとも一つを巻き替えながら前記目印を検知する目印検知工程と、前記目印検知工程による目印の検知に応じて巻き替え動作を停止して前記欠陥を除去する欠陥除去工程とを包含することが好ましい。
【０１７２】
上記構成によれば、巻き取り工程の後で欠陥を除去するので、巻き取り工程で巻き取りを停止する必要が無く作業効率が向上する。
【０１７３】
本発明に係るセパレータの製造方法では、前記欠陥除去工程は、前記欠陥の長手方向の両側のセパレータの箇所を幅方向に沿って切断して前記欠陥を前記セパレータから除去した後、前記切断したセパレータをつなぎ合わせることが好ましい。
【０１７４】
上記構成によれば、セパレータ原反に存在する欠陥を除去したセパレータを製造することができる。
【０１７５】
本発明に係るセパレータの製造方法では、前記欠陥情報記録工程は、前記位置情報を前記セパレータ原反の幅方向の端部に記録することが好ましい。
【０１７６】
上記構成によれば、セパレータ原反の幅方向の端部を読み取ることにより欠陥部位を認識することができる。
【０１７７】
本発明に係るセパレータの製造方法では、前記欠陥情報記録工程は、前記位置情報を情報記憶装置に記録してもよい。
【０１７８】
上記構成によれば、情報記憶装置に記録された情報を読み取ることにより欠陥部位を認識することができる。
【０１７９】
本発明に係るセパレータの製造方法では、前記目印付与工程は、ラベルを貼ることによって行うことが好ましい。
【０１８０】
上記の課題を解決するために、本発明に係るセパレータ原反は、自己の欠陥の幅方向における位置情報を幅方向の端部に記録したことを特徴とする。
【０１８１】
上記の課題を解決するために、本発明に係るセパレータ原反製造装置は、セパレータ原反を形成する形成部と、前記形成部により形成されたセパレータ原反に存在する欠陥を検出する欠陥検出部と、前記セパレータ原反の幅方向における前記欠陥の位置情報を含む欠陥情報を記録する欠陥情報記録部とを備えることを特徴とする。
【０１８２】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０１８３】
４  耐熱層
６  スリット装置（スリット部）
７  切断装置（切断機）
１２  セパレータ（フィルム）
１２ａ  耐熱セパレータ、セパレータ（フィルム）
１２ｂ  耐熱セパレータ原反、セパレータ原反（フィルム原反）
１２ｃ  セパレータ原反
５４  塗工部（フィルム原反製造装置）
５５  基材欠陥検査装置（欠陥検出部、フィルム原反製造装置）
５７  塗工欠陥検査装置（欠陥検出部、フィルム原反製造装置）
５８  ピンホール欠陥検査装置（欠陥検出部、フィルム原反製造装置）
５６、５６ａ  欠陥情報記録装置（欠陥情報記録部、フィルム原反製造装置）
７３  読み取り部
７４  目印付与装置
７５  判定装置（判定部）
８１  コア
８２  コア
８３  目印検知装置
８４  欠陥除去装置
８５  繋ぎ合わせ装置
８６  最外周部
９１  情報記憶装置
Ｄ  欠陥
ＤＣ、ＤＣ２  欠陥コード
Ｌ  目印
【図１】
0006017093.tif 000002
【図２】
0006017093.tif 000003
【図３】
0006017093.tif 000004
【図４】
0006017093.tif 000005
【図５】
0006017093.tif 000006
【図６】
0006017093.tif 000007
【図７】
0006017093.tif 000008
【図８】
0006017093.tif 000009
【図９】
0006017093.tif 000010
【図１０】
0006017093.tif 000011
【図１１】
0006017093.tif 000012
【図１２】
0006017093.tif 000013
【図１３】
0006017093.tif 000014
【図１４】
0006017093.tif 000015
【図１５】
0006017093.tif 000016
【図１６】
0006017093.tif 000017
【図１７】
0006017093.tif 000018