(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材上に形成された保護層と、
前記保護層上に形成され、体積ホログラムが記録された体積ホログラム層と、
前記体積ホログラム層上に形成されたヒートシール層と、
を有する体積ホログラム転写箔であって、
前記保護層が、電離線硬化性樹脂からなるハードコート成分と、前記保護層の破断伸度を高める破断伸度制御成分と、前記ハードコート成分および前記破断伸度制御成分と異なる熱膨張係数を有し、前記２成分と非相溶である箔切れ性制御成分とを含有しており、
前記保護層の破断伸度制御成分が電離線硬化性樹脂であることを特徴とする体積ホログラム転写箔。
【請求項２】
前記保護層のハードコート成分である電離線硬化性樹脂が、紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の体積ホログラム転写箔。
【請求項３】
前記破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーが有する官能基数が、ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーが有する官能基数に対して少ないことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の体積ホログラム転写箔。
【請求項４】
前記破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーの分子量が、前記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーの分子量より大きいことを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかに記載の体積ホログ
ラム転写箔。
【請求項５】
前記破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるモノマーまたはオリゴマーが、前記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるモノマーまたはオリゴマーと同一の官能基を含有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載の体積ホログラム転写箔。
【請求項６】
前記保護層の破断伸度制御成分が表面タック性を付与できるものであることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかに記載の体積ホログラム転写箔。
【請求項７】
前記保護層の箔切れ性制御成分が、転写箔切断時の加熱温度以下の融点を有することを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかに記載の体積ホログラム転写箔。
【請求項８】
前記基材が、前記保護層形成側表面に離型層を有するものであることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれかに記載の体積ホログラム転写箔。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、体積ホログラム層を熱圧により被着体に転写して体積ホログラム積層体を作製するために用いられ、良好な箔切れ性を有する体積ホログラム転写箔に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在クレジットカードや、キャッシュカード等に代表されるプラスチックカードにおいては、主として複製防止および意匠性付与の観点からホログラム付カードが広く用いられるに至っている。ホログラムは、その優れた立体表現や美しさに加えて、複製が困難であるという利点を有することからセキュリティ用途等に多く使用されている。
ホログラムの原理は、波長の等しい二つの光（物体光と参照光）を干渉させることによって、物体光の波面が干渉縞として感光材料に記録されており、干渉縞記録時の参照光と同一波長の光が当てられると干渉縞によって回折現象が生じ、元の物体光と同一の波面が再生できるというものである。
【０００３】
このようなホログラムは、干渉縞の記録形態によっていくつかの種類に分類することができるが、代表的には表面レリーフ型ホログラムと体積ホログラムとに分けることができる。ここで、表面レリーフ型ホログラムは、ホログラム層の表面に微細な凹凸パターンが賦型されることによりホログラムが記録されたものである。一方、体積ホログラムは光の干渉によって生じる干渉縞が、屈折率の異なる縞として厚み方向に三次元的に描画されることによってホログラムが記録されたものである。体積ホログラムは材料の屈折率差によってホログラム像が記録されたものであるため、レリーフ型ホログラムに比べて複製することが特に困難である。したがって、有価証券やカード類の偽造防止手段としての用途が期待されている。
【０００４】
また、意匠性の付与や偽造防止手段等としてホログラムを用いる場合において、ホログラムを有価証券やカード等に付与する方法としては、ホログラムを付与する対象に応じて種々の方法が知られている。このような方法としては、例えば、スリット状のホログラムを編み込む方法や、ホログラムを外部から視認可能なように媒体中に埋め込む方法が知られているが、一般的にはホログラムを所定の位置に貼付する方法が用いられている。中でも、より簡便な方法として、任意の基材上にホログラムが形成されたホログラム転写箔から、ホログラム層を転写することによってホログラム層を所定の位置に貼付する方法が広く用いられるに至っている。
【０００５】
ここで、体積ホログラムには屈折率の異なる複数の材料が用いられるのが一般的であり、通常は特定の光を照射することによって重合させることが可能な光重合性材料が用いられている。このため、体積ホログラムが記録されたホログラム層は機械強度が大きくなる傾向があることが知られている。また、体積ホログラムは、屈折率差が三次元的に配列されることによってホログラム像が記録されるものであるという性質上、ホログラムが形成される層の厚みが上記レリーフ型ホログラムと比較して厚くなる傾向にある。このため、体積ホログラム層は箔切れ性が乏しく、上述したホログラム層転写箔を用いてホログラム層を転写する方法を用いることが困難であることが指摘されてきた。
【０００６】
このような状況において、特許文献１には体積ホログラムが記録されたホログラム層の破断伸度および破断強度を所定の値に調整することにより、体積ホログラムについても上述したホログラム層転写箔を用いた転写方法を用いることを可能とした例が開示されている。しかしながら、ホログラム像を鮮明に記録するためには、使用できる材料が限られていること等の理由により、鮮明なホログラム像を記録することと、破断点伸度および破断強度を所定の値に調整することとを両立することは困難であるという問題点がある。
【０００７】
また、ホログラムを用いた意匠性の付与や偽造防止は、その有用性に鑑みさらなる汎用性の向上が求められている。これに伴い、工業的生産過程において連続的に体積ホログラムを所定の位置に付与することを可能にするため、ホログラム転写箔を長尺状に形成し、体積ホログラムを連続的に転写する方法も開発されている。しかしながら、転写箔上に形成された体積ホログラムを部分的に転写することが必要となり、より高い箔切れ性が求められるようになった。
上記の課題に対して、特許文献２では、ホログラム層に切れ込み部を形成することによって、ホログラム層の箔切れ性を向上させる技術が開示されている。このような切れ込み部を形成する技術によって箔切れ性に向上は見られたが、転写後の製品に切れ込みが残る等、美観が損なわれるという問題点があり、さらにコスト面、生産工程の複雑化等の生産性に新たな課題を抱えるようになった。このため切れ込み部等を形成しなくても問題なく部分的転写が可能な程度の良好な箔切れ性を有する転写箔が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００９−００９１０５号公報
【特許文献２】特開２０１０−１２２６００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで本発明者等は、従来保護層として使用されていた熱可塑性樹脂に代わって電離線硬化性樹脂を利用する手法を検討した。しかしながら、ある種の電離線硬化性樹脂を保護層の含有成分として用いることによって、脆性は高くなり、箔切れ性は向上するが、電離線硬化性樹脂のみから構成される保護層では、過剰に脆性が高まり、転写時または転写後に割れが発生する等の不具合が生じることが判明した。したがって、部分的転写が可能であり、且つ、割れが生じない程度の良好な箔切れ性を有する転写箔が望まれるようになった。
【００１０】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、体積ホログラム層を熱圧により被着体に転写して体積ホログラム積層体を作製するために用いられ、良好な箔切れ性を有する体積ホログラム転写箔を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために本発明は、基材と、上記基材上に形成された保護層と、上記保護層上に形成され、体積ホログラムが記録された体積ホログラム層と、上記体積ホログラム層上に形成されたヒートシール層と、を有する体積ホログラム転写箔であって、上記保護層が、電離線硬化性樹脂からなるハードコート成分と、上記保護層の破断伸度を高める破断伸度制御成分と、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分と異なる熱膨張係数を有し、上記２成分と非相溶である箔切れ性制御成分とを含有することを特徴とする体積ホログラム転写箔を提供する。
【００１２】
本発明によれば、例えば、上記保護層が上記ハードコート成分のみで形成される場合、硬度が過剰に高くなり、体積ホログラム層転写時または転写後に、割れ等を生じる可能性があるが、上記ハードコート成分と上記破断伸度制御成分とを混合して形成することで、上記保護層の破断伸度が高まり、柔軟性を付与することができる。
また、本発明における保護層は、箔切れ性制御成分を有しており、上記箔切れ性制御成分は上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分と非相溶であるため、上記保護層内に微粒子状に分散することができる。そして、上記箔切れ性制御成分は、上記２成分と異なる熱膨張係数を有しており、環境温度の変化等によって体積変化を起こし、上記箔切れ性制御成分の周囲に存在する上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分に歪みやマイクロクラックを生じさせることができる。
これにより、上述したように上記箔切れ性制御成分は保護層全体に分散することができることから、保護層全体の脆性が高まり、箔切れ性をより良好な状態にすることが可能となる。
したがって、例えば、長尺状の体積ホログラム転写箔から連続的にホログラム層を転写すること等が可能となり、生産性を向上させることができる。
【００１３】
上記発明においては、上記保護層のハードコート成分である電離線硬化性樹脂が、紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。汎用性が高いからである。
【００１４】
上記発明においては、上記保護層の破断伸度制御成分が電離線硬化性樹脂であることが好ましい。熱可塑性樹脂等に比べ比較的低分子量であり、粘性が低いため、上記保護層形成時に用いられる塗工液も容易に調製できるからである。
【００１５】
また上記発明においては、上記破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーが有する官能基数が、上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーが有する官能基数に対して少ないことが好ましい。上記保護層に柔軟性を付与することができ、より良好な箔切れ性とすることができるからである。
【００１６】
さらに上記発明においては、上記破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーの分子量が、上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーの分子量より大きいことが好ましい。上記保護層の破断伸度を増加させることができ、適度な柔軟性を付与することができるからである。したがって、過剰な脆性の増加に起因する転写時または転写後の割れを生じにくくすることができる。
【００１７】
上記発明においては、上記破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるモノマーまたはオリゴマーが、上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるモノマーまたはオリゴマーと同一の官能基を含有することが好ましい。上記ハードコート成分と同時に重合することが可能となり、生産工程の簡易化を図ることができるからである。
【００１８】
上記発明においては、上記保護層の破断伸度制御成分が表面タック性を付与できるものであることが好ましい。本発明の体積ホログラム転写箔を製造する際に必要な、基材と上記保護層との接着性を確保するためである。
【００１９】
また上記発明においては、上記保護層の箔切れ性制御成分が、転写箔切断時の加熱温度以下の融点を有することが好ましい。熱転写時に、上記箔切れ性制御成分が溶解するため、上記箔切れ性制御成分が存在していた空間が孔と同様の状態となり、上記保護層の脆性がより高まるからである。したがって、上記保護層の箔切れ性をより良好にすることができる。
【００２０】
また上記発明においては、上記基材が、上記保護層形成側表面に離型処理を施されたものであることが好ましい。体積ホログラム層転写時の基材の剥離が容易になるからである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、体積ホログラム層を熱圧により被着体に転写して体積ホログラム積層体を作製するために用いられ、良好な箔切れ性を有する体積ホログラム転写箔とすることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の体積ホログラム転写箔の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の体積ホログラム転写箔の保護層の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の体積ホログラム転写箔について詳細に説明する。
本発明の体積ホログラム転写箔は、基材と、上記基材上に形成された保護層と、上記保護層上に形成され、体積ホログラムが記録された体積ホログラム層と、上記体積ホログラム層上に形成されたヒートシール層と、を有する体積ホログラム転写箔であって、上記保護層が、電離線硬化性樹脂からなるハードコート成分と、上記保護層の破断伸度を高める破断伸度制御成分と、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分と異なる熱膨張係数を有し、上記２成分と非相溶である箔切れ性制御成分とを含有することを特徴とするものである。
【００２４】
このような本発明の体積ホログラム転写箔について図を参照しながら説明する。図１は本発明の体積ホログラム転写箔の一例を示す概略断面図である。図１に例示するように、本発明の体積ホログラム転写箔１０は、基材１と、上記基材１上に形成された保護層２と、上記保護層２上に形成され、体積ホログラムが記録された体積ホログラム層３と、上記体積ホログラム層３上に形成されたヒートシール層４とを有することを特徴とするものである。
【００２５】
本発明の体積ホログラム転写箔は、上記保護層がハードコート成分、破断伸度制御成分および箔切れ性制御成分を含有するものであるので、体積ホログラム層を熱圧により被着体に転写して体積ホログラム積層体を作製するために用いた際に、良好な箔切れ性を有する体積ホログラム転写箔とすることが可能となる。
【００２６】
このような本発明の体積ホログラム転写箔は、通常、体積ホログラム層を任意の被着体へ転写することによって、体積ホログラム積層体を作製するために用いられるものである。
本発明の体積ホログラム転写箔は、少なくとも基材、保護層、体積ホログラム層、およびヒートシール層を有するものであり、必要に応じて他の任意の構成を有してもよいものである。
以下、本発明の体積ホログラム層に用いられる各構成について順に説明する。
【００２７】
１．保護層
本発明に用いられる保護層について説明する。本発明に用いられる保護層は、後述する電離線硬化性樹脂からなるハードコート成分と、上記保護層の破断伸度を高める破断伸度制御成分と、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分と異なる熱膨張係数を有し、上記２成分と非相溶である箔切れ性制御成分とを含有することを特徴とするものである。
【００２８】
このような保護層について、図を参照しながら説明する。図２は上記保護層の一例を示す模式図である。図２に例示するように、上記保護層は、電離線硬化性樹脂を含有するハードコート成分６と、上記保護層の破断伸度を高める破断伸度制御成分５と、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分と異なる熱膨張係数を有し、上記２成分と非相溶である箔切れ性制御成分７とを含有するものであり、上記箔切れ性制御成分７は、上記ハードコート成分６および破断伸度制御成分５の中に、微粒子状に均一に分散された状態となっている。
【００２９】
従来、このような体積ホログラム層に用いられる保護層には、一般的に熱可塑性樹脂が広く用いられており、箔切れ性に問題を有していたため、切れ込み部を作製する等して箔切れ性を向上させ対応してきた。しかしながら、切れ込み部を形成した場合、上述したように美観を損なうこと、また、切れ込み部作製工程を増やすことによる生産工程の複雑化等の問題が生じていたため、体積ホログラム転写箔としての箔切れ性の向上が求められていた。
このような問題の解決策として、熱可塑性樹脂に代わり電離線硬化性樹脂を利用する保護層が検討されたが、比較的硬度の高い電離線硬化性樹脂からなる保護層では、過剰な脆性の増加により転写時または転写後に割れが生じる等の新たな課題が見出された。
【００３０】
そこで本発明における保護層では、上記課題を解決するために、上記ハードコート成分と上記破断伸度制御成分とを混合して形成している。上記２成分を混合して形成されることで、上記保護層の破断伸度が高まり、柔軟性を有することができるからである。
【００３１】
また、本発明における保護層は、箔切れ性制御成分を有しており、上記箔切れ性制御成分は上記ハードコート成分および破断伸度制御成分と非相溶であるため、保護層内に微粒子状に分散することができる。
さらに、上記箔切れ性制御成分は、上記２成分と異なる熱膨張係数を有しており、環境温度の変化等によって体積変化が起こると、上記箔切れ性制御成分の周囲に存在する上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分に歪みやマイクロクラックを生じさせる。
上述したように保護層全体に微粒子状に分散した上記箔切れ性制御成分が、上記２成分に歪みやマイクロクラックを生じさせることにより、上記保護層全体の脆性が高まり、箔切れ性を良好な状態にすることができる。したがって、例えば、長尺状の体積ホログラム転写箔から連続的に体積ホログラム層を転写すること等が可能となり、生産性を向上させることができる。
【００３２】
また、上記保護層が用いられることにより、本発明の体積ホログラム転写箔を用いて被着体に体積ホログラム層を転写する際に、体積ホログラム積層体の表面を上記保護層によって覆うことができるため、転写された体積ホログラム層を保護することができる。
以下、本発明における保護層の各構成について説明する。
【００３３】
（１）ハードコート成分
本発明における保護層のハードコート成分について説明する。本発明に用いられるハードコート成分は、電離線硬化性樹脂からなることを特徴とするものである。
上記電離線硬化性樹脂は、電離線の照射により硬化しうるものであれば特に限定されるものではないが、一般的には、被膜形成成分としてその構造中にラジカル重合性の活性基を有するモノマー、オリゴマー、またはポリマーを主成分として重合されたものである。中でも、モノマーまたはオリゴマーを主成分として重合されたものが好ましい。上記電離線硬化性樹脂を塗工液とした際に、モノマーまたはオリゴマーは、ポリマーを用いた場合に対して、粘性が比較的低く容易に使用できる利点を有するからである。
本発明においては、特にオリゴマーが好ましい。
【００３４】
また、上記電離線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分することもあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等を包含するものと定義する。
したがって、上記電離線硬化樹脂を硬化させる電離線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線または電子線などが適用できるが、紫外線が好適である。汎用性が高いからである。即ち、本発明におけるハードコート成分としては、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００３５】
上記紫外線硬化性樹脂としては、特に限定されるものではないが、具体例としては、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等が挙げられる。
中でも、モノマーとして（メタ）アクリル酸エステルの誘導体等を用いて重合されたもの、またオリゴマーとして、ウレタンアクリレート（ＳＰ値：９．０５）やポリエステルアクリレート（ＳＰ値：９〜１４）等を用いて重合された紫外線硬化性樹脂であれば良い。
【００３６】
また、本発明におけるハードコート成分である電離線硬化性樹脂としては、上述したようにオリゴマーが重合してなるものが好ましいが、このようなオリゴマーとしては、比較的多くの官能基を有するものが好ましい。上記オリゴマーが有する官能基数が多いほど、上記ハードコート成分の架橋密度が高まりやすく、硬度を高くすることができるからである。したがって、上記保護層の脆性が高まりやすくなるため、箔切れ性がより向上する傾向にある。
このような上記オリゴマーが有する官能基数は、５〜５０の範囲内であることが好ましく、中でも、５〜１０の範囲内であることがより好ましい。
上記オリゴマーが有する官能基数が少なすぎると、オリゴマー同士の架橋点が少なくなりやすく、適当な硬度を示さない場合があるため、充分な箔切れ性を有する電離線硬化性樹脂を得ることができなくなる可能性がある。また、官能基数が多すぎると、架橋点が過剰になりやすく、体積ホログラム層転写時または転写後に上記保護層に割れ等が生じる原因となる可能性がある。
【００３７】
また本発明においては、上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーの分子量が１００００以下であることが好ましく、中でも、１０００〜５０００の範囲内であることがより好ましい。
上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーの分子量が大きすぎる場合は、オリゴマーの分子鎖の自由度が過大となりやすく、適度な硬度を有することができなくなるため、良好な箔切れ性を示すことができなくなる可能性がある。
一方、上記オリゴマーの分子量が小さすぎる場合は、オリゴマーの分子鎖の自由度が過小となりやすく、硬度が過度に高まりやすくなるため、体積ホログラム層転写時または転写後に割れ等を生じる可能性が考えられるからである。
【００３８】
（２）破断伸度制御成分
次に、本発明における保護層の破断伸度制御成分について説明する。本発明に用いられる破断伸度制御成分は、上記保護層の破断伸度を高めることを特徴とするものである。
本発明における破断伸度制御成分は、硬質なハードコート成分と混合して上記保護層に含有されることによって、上記保護層の破断伸度を高め、上記保護層に適度な柔軟性を付与することが可能となる。したがって、上記保護層の箔切れ性が良好なものとなる。
【００３９】
上記破断伸度制御成分としては、破断伸度が５０％〜１０００％の範囲内であることが好ましく、中でも、１００％〜５００％の範囲内であることがより好ましい。
破断伸度が上記範囲内より大きい場合、上記ハードコート成分と混合し保護層を形成する際に、柔軟性が過度に高まる傾向にあり、上記保護層の良好な箔切れ性を維持することができなくなる可能性がある。
一方、破断伸度が上記範囲内より小さい場合、上記ハードコート成分と混合し保護層を形成する際に、上記保護層に適度な柔軟性を付与することができなくなり、上記保護層の硬度が過剰に高くなりやすく、転写時または転写後に割れ等の不具合を生じる可能性がある。
【００４０】
なお、破断伸度の測定方法は、ＪＩＳ Ｋ ５６００に準じて実施されている。詳細は、２０℃、６５％ＲＨの雰囲気下で２４時間以上放置した後、試料幅１５ｍｍ、チャック間距離２５ｍｍ、ＲＡＮＧＥ１％、引っ張り速度１０ｍｍ／ｍｉｎの条件で引っ張り、破断伸度は、引っ張り時の破断または亀裂が入ったときの破断点伸びの自長に対する伸び率とした。
【００４１】
本発明における破断伸度制御成分としては、上記保護層の破断伸度を高められるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、熱可塑性樹脂、電離線硬化性樹脂等が挙げられる。具体的には、熱可塑性樹脂として、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられ、また、電離線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、可視光線硬化性樹脂、近赤外線硬化性樹脂等が挙げられる。
【００４２】
本発明における破断伸度制御成分としては、上述した保護層の破断伸度を高める物質の中でも、電離線硬化性樹脂が好ましい。電離線硬化性樹脂は、熱可塑性樹脂等に比べ比較的分子量が低く、粘性が低いため、上記保護層形成時に用いられる塗工液の調製も容易となるからである。
【００４３】
また、上記破断伸度制御成分としては、電離線硬化性樹脂であれば特に限定されるものではないが、柔軟性を有する電離線硬化性樹脂であることが好ましく、上記破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂が、上述したハードコート成分に対してより柔軟性を有することが特に好ましい。
上記破断伸度制御成分は、上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂に対して、より柔軟性を有することで、上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂と混合して本発明における保護層を形成した際に、上記保護層に柔軟性を付与できるからである。したがって、硬度が過剰に高くなることを抑制し、良好な箔切れ性を維持しつつ、転写時または転写後に割れ等の不具合が生じることを防止することができる。
ここで、上記柔軟性としては、上記保護層を形成した場合に、割れ等を防止できる程度であれば特に限定されるものではないが、本発明において柔軟性を有するものとしては、上述した範囲内の破断伸度を有するものとすることができる。
【００４４】
本発明における破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂としては、柔軟性を有するものであれば特に限定されるものではないが、ラジカル重合性の活性基を有するモノマー、オリゴマー、またはポリマーを主成分として重合しているものが好ましい。中でも、モノマーまたはオリゴマーが好ましく、特にオリゴマーを主成分として重合しているものが好ましい。
上述したオリゴマーを主成分として重合している電離性硬化性樹脂が好ましい理由については、上述の「（１）ハードコート成分」に記載した理由と同様であるため、ここでの記載は省略する。
【００４５】
また、本発明に用いる破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂を硬化する電離線としては、上述の「（１）ハードコート成分」に記載したものを使用することができるが、中でも、紫外線が好ましい。汎用性が高いからである。したがって、本発明における破断伸度制御成分としては、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
また、紫外線硬化性樹脂の具体例としては、ハードコート成分に使用できるものと同様である。即ち、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等が挙げられ、中でも、主成分となるモノマーとして（メタ）アクリル酸エステルの誘導体を用いて重合されたもの、また主成分となるオリゴマーとしてウレタンアクリレートやポリエステルアクリレートを用いて重合された紫外線硬化性樹脂等が挙げられる。
【００４６】
上記破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーが有する官能基数としては、１〜５の範囲内であることが好ましく、中でも、２〜３の範囲内であることがより好ましい。
【００４７】
また、上記破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーが有する官能基数としては、上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーが有する官能基数より少ないことが好ましい。
上記破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーが有する官能基数を、上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーよりも小さくすることで、架橋密度の低い電離線硬化性樹脂とすることができるからである。したがって、ハードコート成分と混合して上記保護層中に含有されることで、上記保護層に柔軟性を付与することができ、上記保護層の硬度を適当な程度に調整することが可能となり、体積ホログラム層転写時または転写後の割れを防ぐことができる。
【００４８】
本発明における破断伸度制御成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーの分子量としては３０００〜２００００の範囲内であることが好ましく、特に、８０００〜１５０００の範囲内であることがより好ましい。
【００４９】
また、上記破断伸度制御成分の原料組成物であるオリゴマーの分子量が、上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるオリゴマーの分子量に対して大きいことが好ましい。その分子量は２倍以上大きいものであることが好ましく、２．５倍〜１０倍の範囲内であることがより好ましい。
分子量の差が上記の範囲より大きい場合、上記破断伸度制御成分の硬度が低くなりすぎる傾向にあることから、上述したハードコート成分と混合して上記保護層を形成する際に、上記保護層の硬度が低くなりすぎてしまう場合があり、結果として良好な箔切れ性を得ることができなくなる可能性がある。
一方、上記の範囲内よりも小さい場合、上記破断伸度制御成分は充分な柔軟性を得ることができない傾向にあり、上記保護層に柔軟性を付与できない場合があるため、上記保護層の硬度は高くなり、体積ホログラム層転写時または転写後に割れを生じる等の不具合が生じる可能性がある。
【００５０】
また、本発明における破断伸度制御成分の原料組成物であるモノマーまたはオリゴマーとしては、上記ハードコート成分である電離線硬化性樹脂の原料組成物であるモノマーまたはオリゴマーと同じ官能基を有するものであることが好ましい。同一の電離線の照射で同時に架橋することが可能となるからである。
【００５１】
また、本発明における破断伸度制御成分としては、上記保護層の破断伸度を高められるものであれば特に限定するものではないが、表面タック性を付与できるものであることが好ましい。積層している基材および体積ホログラム層との接着性が保持されるからである。このような表面タック性を付与できるものとしては、例えば、熱可塑性樹脂、電離線硬化性樹脂等が挙げられるが、本発明においては電離線硬化性樹脂が好ましく、中でも紫外線硬化性樹脂がより好ましい。上記紫外線硬化性樹脂が好ましい理由は、上述した理由と同様であるため、ここでの記載は省略する。
このような表面タック性を付与できる紫外線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重合により硬化するウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂等が挙げられる。
【００５２】
本発明における破断伸度制御成分の含有率としては、上記保護層に柔軟性を付与できるものであれば特に限定されるものではないが、上記ハードコート成分との重量比が、ハードコート成分：破断伸度制御成分＝３〜９：７〜１の範囲内であることが好ましい。中でも、ハードコート成分：破断伸度制御成分＝５〜８：５〜２の範囲内であることがより好ましい。
上記破断伸度制御成分の含有率が低すぎると、本発明における保護層に充分な柔軟性を付与することができない場合があり、上記保護層の硬度が過度に高まり、体積ホログラム層転写時または転写後に割れが生じる可能性がある。一方、破断伸度制御成分の含有率が高すぎると、上記保護層の柔軟性が過剰に高くなる場合があり、箔切れ性が低下する可能性がある。
【００５３】
（３）箔切れ性制御成分
次に本発明における箔切れ性制御成分について説明する。本発明に用いられる箔切れ性制御成分は、上述したハードコート成分および破断伸度制御成分と異なる熱膨張係数を有し、上記２成分と非相溶であることを特徴とするものである。
【００５４】
本発明によれば、上記箔切れ性制御成分は、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分と非相溶であるため、上記箔切れ性制御成分を上記保護層内に微粒子状に分散させることができる。
また、上記箔切れ性制御成分は、上記２成分と異なる熱膨張係数を有するため、電離線照射により架橋した上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分を含有する上記保護層に混合して含有されることで、環境温度の変化により、上記保護層内で上記箔切れ性制御成分の周囲に存在する架橋した上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分に歪みやマイクロクラックを発生させ、上記保護層の脆性を高めることができる。
したがって、上述したように、上記箔切れ性制御成分は、保護層内に微粒子状に分散させることができることから、保護層全体の脆性が向上し、より良好な箔切れ性を有する保護層とすることができる。
【００５５】
本発明において非相溶か否かの判断は、一般的な相溶性を示す指標を用いて判断することができるが、例えば、溶解度指数（ＳＰ値）を用いることが好ましい。
ＳＰ値とは、少なくとも２成分からなる混合系における相溶性、非相溶性を示す指標として用いられており、例えばＳＭＡＬＬの計算方法から算出されるものである。ＳＰ値の差が小さいほど相溶性が高く、ＳＰ値の差が大きいほど非相溶性が高くなることが知られている。本発明においては、上記箔切れ性制御成分が、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分中に分散される程度に、上記２成分に対して非相溶であれば特に限定されるものではない。
本発明においては、上記箔切れ性制御成分が、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分中に分散される程度に、上記２成分に対して非相溶であれば特に限定されるものではないが、上記ＳＰ値の差が１以上であることが好ましい。
上記ＳＰ値の差が、小さい場合、上記箔切れ性制御成分は、他の成分と相溶性が良好となる傾向があるため、上記保護層内で微粒子状に分散されなくなる可能性があることから、上記保護層の脆性を高める歪みやマイクロクラックを生じることが困難となる場合があり、上記保護層の箔切れ性は低下する可能性がある。
【００５６】
また、本発明における箔切れ性制御成分の熱膨張係数としては、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分と異なるものであり、上記箔切れ性制御成分と上記２成分との熱膨張係数の差異により応力が発生し、歪みやマイクロクラックを生じる程度のものであれば特に限定されない。
【００５７】
本発明における熱膨張係数としては、熱力学分析器（ＴＭＡ）を用いて測定した値を用いることができる。
【００５８】
また、本発明における箔切れ性制御成分が、転写箔切断時の加熱温度以下の融点を有することが好ましい。熱転写時に、上記箔切れ性制御成分が溶解することで、上記箔切れ性制御成分が存在していた空間が孔と同様の状態となり、上記保護層の脆性がより高まるからである。したがって、上記保護層の箔切れ性をより良好にすることができる。
【００５９】
上記箔切れ性制御成分の融点としては、転写箔切断時の加熱温度以下であれば特に限定するものではないが、一般的には、転写箔切断時に転写箔にかかる温度が、６０℃〜２００℃の範囲内であることから、上記箔切れ性制御成分の融点としては、４０℃〜２００℃の範囲内であることが好ましく、６０℃〜１２０℃の範囲内であることが特に好ましい。
上記温度範囲内より上記箔切れ性制御成分の融点が高い場合、転写箔切断時に上記箔切れ性制御成分は溶解せず、体積変化は生じるが、孔と同様の状態とはならないことから充分に箔切れ性を向上させることができないからである。
一方、上記温度範囲内より箔切れ性制御成分の融点が低い場合、常温での取り扱いや、転写箔作製が困難となる可能性があるからである。
【００６０】
上記箔切れ性制御成分の具体例としては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズ等が挙げられる。また、より具体的な例として、ポリエチレンワックス（ＳＰ値：８．０）、脂肪酸等が挙げられる。中でも、ポリエチレンワックスがより好ましい。加熱時に溶解することで、大きな体積変化を起こしやすく、上記保護層の箔切れ性をより向上させることができるからである。
【００６１】
上記箔切れ性制御成分の含有率としては、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分の合計重量１００重量部に対して、上記箔切れ性制御成分の重量比が１重量部〜１０重量部の範囲内であることが好ましく、２重量部〜５重量部の範囲内であることが特に好ましい。
【００６２】
（４）その他の成分
本発明における保護層は、少なくとも上述したハードコート成分、破断伸度制御成分および箔切れ性制御成分を有するものであるが、必要に応じてこれら以外の任意の成分を有するものであっても良い。本発明に用いられる任意の成分としては、本発明における保護層、本発明の体積ホログラム転写箔に所望の機能を付与することができるものであれば特に限定されるものではない。
上記保護層に用いられる任意の成分としては、例えば、ＵＶ吸収成分や光重合開始剤等が挙げられる。以下、ＵＶ吸収成分および光重合開始剤について説明する。
【００６３】
（ｉ）ＵＶ吸収成分
本発明における保護層がＵＶ吸収成分を含有する場合には、保護層に紫外線防止能を付与することができ、本発明の体積ホログラム転写箔を用いて被着体に転写された体積ホログラム層が日光下あるいは照明光源の下に長時間暴露された際に、ホログラム画像や色が経時的に劣化するのを防ぐことができる。
【００６４】
保護層とは別に後述の紫外線防止層が形成されている場合には、保護層にＵＶ吸収成分を含有させても良いし、含有させなくても良い。また、保護層とは別に紫外線防止層が形成されており、保護層がＵＶ吸収成分を含有する場合には、紫外線防止層および保護層にそれぞれ紫外線吸収波長帯の異なる紫外線吸収剤およびＵＶ吸収成分を含有させることが好ましい。それにより、紫外線吸収域が増え、耐光性が向上するからである。
【００６５】
ＵＶ吸収成分としては、例えば、有機系紫外線吸収剤、無機系紫外線吸収剤を挙げることができる。有機系紫外線吸収剤としては、具体的に、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、ヒンダートアミン系、サリチル酸系、ハイドロキノン系、トリアジン系等の紫外線吸収剤が挙げられる。また、無機系紫外線吸収剤としては、具体的に、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム等の金属酸化物系微粒子を広く使用できる。
【００６６】
また、ＵＶ吸収成分は、紫外線吸収性基が側鎖に結合した紫外線吸収性樹脂であってもよい。紫外線吸収性基としては、上記の有機系紫外線吸収剤や無機系紫外線吸収剤の構造を有するものを挙げることができる。紫外線吸収性樹脂では、紫外線吸収部位が樹脂中に固定化されているために、体積ホログラム層へ紫外線吸収剤が移行することがない。このため、保護層と体積ホログラム層とが接することによってホログラムが変色等するのを防止することができる。また、固定化されている紫外線吸収部位はブリードアウトして紫外線吸収能力が低下することもない。
【００６７】
このような紫外線吸収性樹脂の例としては、メタクリル酸メチルとベンゾフェノン系紫外線吸収剤との共重合体（ＢＡＳＦジャパン製  ＵＶＡ６３５Ｌ）、メタクリル酸メチルとベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤との共重合体（新中村化学工業（株）製  バナレジンＵＶＡ−７３Ａ、大塚化学（株）製  ＰＵＶＡ５０Ｍ−４０ＴＭ、（株）ニッコー化学研究所製  ＮＣＩ−７００、ＮＣＩ−９００）等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００６８】
また、ＵＶ吸収成分の特に好適な例として、紫外線吸収性モノマーが挙げられる。紫外線吸収性モノマーは、本発明における電離線硬化性樹脂からなるハードコート成分を含有する保護層に含有させる成分として好ましい。保護層を紫外線等の電離線を照射して硬化させる際に、紫外線吸収性モノマーは、電離線硬化性樹脂であるハードコート成分と重合する。そのため、紫外線吸収性モノマーを用いる場合には、上述の紫外線吸収性樹脂を保護層に混合させる場合よりも、架橋密度を高めることができ、耐久性に優れた保護層を得ることができる。
紫外線吸収性モノマーとしては、例えば、重合性の不飽和結合を持ったベンゾフェノン系の紫外線吸収性モノマーや、重合性の不飽和結合を持ったベンゾトリアゾール系の紫外線吸収性モノマーが挙げられる。重合性の不飽和結合を持ったベンゾフェノン系の紫外線吸収性モノマーは、例えば２−ヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メタクリロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン等が挙げられる。重合性の不飽和結合を持ったベンゾトリアゾール系の紫外線吸収性モノマーは、例えば（２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシ）エチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２［２′−ヒドロキシ−５′−（アクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５−メチル−３−ビニルフェニル］ベンゾトリアゾール等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００６９】
ＵＶ吸収成分を含有させることで紫外線防止能を保護層に付与することができる。保護層としての好ましい紫外線防止能としては、保護層の吸光度が、波長３４０ｎｍにおいて０．５以上、中でも０．７以上であることが好ましい。保護層の吸光度が低いと、体積ホログラム層が日光下あるいは照明光源の下に長時間暴露された際に、ホログラム画像や色が著しく劣化するおそれがあるからである。
なお、保護層の吸光度は、以下のようにして測定することができる。すなわち、まず、体積ホログラム転写箔よりヒートシール層および体積ホログラム層を取り除く。次いで、その際に残留した基材および保護層の積層体に膜厚方向に波長３４０ｎｍの光を入射した場合の吸光度を測定する。続いて、予め測定した基材の吸光度をリファレンスとして、保護層の吸光度を求める。吸光度Ａとは、入射光の強度をＩとして、上記積層体を透過した光の強度をＩ’とすると、Ａ＝−ｌｏｇ（Ｉ’/Ｉ）で求められる値である。吸光度の測定は、例えば日本分光株式会社製の顕微紫外可視近赤外分光光度計MSV-350や、島津製作所株式会社製の紫外可視近赤外分光光度計UV-3100PC等を用いて測定することができる。
【００７０】
厚みが１０μｍ以下の薄い保護層において、このような吸光度を実現するためには、高い紫外線吸収能をもったＵＶ吸収成分を高濃度に含有させることが必要であり、その点においても、上述の紫外線吸収性モノマーを用いることが好ましい。
【００７１】
上記ＵＶ吸収成分の含有率としては、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分の合計重量１００重量部に対して、上記ＵＶ吸収成分の重量比が０．１重量部〜１０重量部の範囲内であることが好ましい。上記ＵＶ吸収成分の含有率が少ないと、保護層の紫外線防止能が不十分となる場合がある。また、上記ＵＶ吸収成分の含有率が多い場合には、ハードコート成分が相対的に減少するので、ハードコート成分とＵＶ吸収成分の相溶性により、白濁等の不具合が生じる場合がある。
【００７２】
（ii）光重合開始剤
本発明における保護層を紫外線等の電離線で硬化させる場合には、光重合開始剤を含有させることが好ましい。
特に、保護層が上述のＵＶ吸収成分を含有する場合には、吸収波長の異なる２種類以上の光重合開始剤を含有することが好ましい。上述のＵＶ吸収成分を含有させた場合には、ＵＶ吸収成分により紫外線が吸収されてしまうために、１種類のみの光重合性開始剤を用いただけでは十分に硬化しない場合がある。そのため、吸収波長の異なる２種類以上の光重合開始剤を用いることが効果的である。
【００７３】
光重合開始剤としては、例えば、リン系、アセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、フォスフィンオキサイド系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、アミン系等の光重合開始剤を用いることができる。
中でも、吸収波長の異なる２種類以上の光重合開始剤を用いる場合には、長波長側に吸収波長を持つリン系の光重合開始剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製  イルガキュアー８１９、ＢＡＳＦ社製  ルシリンＴＰＯ）等と、酸素阻害影響を受けにくいアセトフェノン系の光重合開始剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製  ダロキュアー１１７３、イルガキュアー１８４、同１２７）等とを併用することが好ましい。
【００７４】
上記光重合開始剤の含有率としては、上記ハードコート成分および上記破断伸度制御成分の合計重量１００重量部に対して、上記光重合開始剤の重量比が０．１重量部〜１０重量部の範囲内であることが好ましい。上記光重合開始剤の含有率が少ない場合には、反応が開始しにくくなる。また、上記光重合開始剤の含有率が多い場合には、ハードコート成分が相対的に減少するので、ハードコート成分の減少による保護性能の低下が生じる場合がある。
【００７５】
（５）保護層
本発明に用いられる保護層の厚みは、本発明の体積ホログラム転写箔の用途や種類に応じて適宜選択されるものではあるが、通常、０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも、２．５μｍ〜５μｍの範囲内であることがより好ましい。
上記保護層の厚みが厚すぎると、箔切れ不良が生じやすくなる場合や部分転写の時に顕著な凹凸差が生じる場合があり、一方上記保護層の厚みが薄すぎると、体積ホログラム層を保護することができなくなる場合があるからである。
【００７６】
２．基材
本発明に用いられる基材について説明する。本発明に用いられる基材としては、本発明の体積ホログラム転写箔の各構成を支持できるものであれば特に限定されるものではないが、上記保護層形成側表面に離型処理を施されたものであることが好ましい。基材と保護層との剥離が容易となるからである。
【００７７】
このような離型処理としては、具体的には、フッ素系離型剤、ステアリン酸塩系離型剤、ワックス系離型剤等をディッピング塗布、スプレー塗布、ロールコート塗布法等が挙げられる。
【００７８】
また、本発明における基材は長尺に形成されたものであっても良く、長尺に形成されたもの以外であっても良い。
「長尺」とは、長手方向の距離と、長手方向に垂直な方向（幅方向）の距離との比（長手方向の距離／長手方向に垂直な方向（幅方向）の距離）が、５以上であることを意味するものとする。
【００７９】
本発明に用いられる基材の具体例としては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリフッ化エチレン系フィルム、ポリフッ化ビニリデンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリアミドフィルム、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム等の樹脂フィルム等を挙げることができる。
【００８０】
また、本発明に用いられる基材の厚さとしては、体積ホログラム転写箔の用途や種類などに応じて適宜選択されるものであるが、通常２μｍ〜２００μｍの範囲内、好ましくは１０μｍ〜５０μｍの範囲内とされる。
【００８１】
３．体積ホログラム層 
次に、本発明に用いられる体積ホログラム層について説明する。本発明に用いられる体積ホログラム層は、体積ホログラムが記録されたものであり、本発明の体積ホログラム転写箔を用いて、被着体へ転写されるものである。
以下、このような体積ホログラム層について詳細に説明する。
【００８２】
（１）構成材料
本発明に用いられる体積ホログラム層を構成する材料としては、体積ホログラムを記録することができるものであれば特に限定されるものではなく、一般的に体積ホログラムに用いられる材料を任意に用いることができる。このような材料としては、例えば、銀塩材料、重クロム酸ゼラチン乳剤、光重合性樹脂、光架橋性樹脂等の公知の体積ホログラム記録材料を挙げることができるが、なかでも本発明においては、（ｉ）バインダー樹脂、光重合可能な化合物、光重合開始剤および増感色素を含有する第１の感光材料、または、（ii）カチオン重合性化合物、ラジカル重合性化合物、光ラジカル重合開始剤および光カチオン重合開始剤系を含有する第２の感光材料を好適に用いることができる。
以下、このような第１の感光材料および第２の感光材料について順に説明する。
【００８３】
（ｉ）第１の感光材料
上記第１の感光材料について説明する。上述したように第１の感光材料は、バインダー樹脂、光重合可能な化合物、光重合開始剤および増感色素を含有するものである。
【００８４】
（バインダー樹脂）
上記バインダー樹脂としては、例えばポリ（メタ）アクリル酸エステル、またはその部分加水分解物、ポリ酢酸ビニルまたはその加水分解物、アクリル酸、アクリル酸エステル等の共重合可能なモノマー群の少なくとも１つを重合成分とする共重合体、またはそれらの混合物や、ポリイソプロピレン、ポリブタジエン、ポリクロロピレン、ポリビニルアルコールの部分アセタール化物であるポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等、またはそれらの混合物などを挙げることができる。ここで、体積ホログラム層を形成する際には、記録された体積ホログラムを安定化するために、加熱してモノマーを移動させる工程が実施される場合がある。このため、本発明に用いられるバインダー樹脂はガラス転移温度が比較的低く、モノマー移動が容易に移動できるものであることが好ましい。
【００８５】
（光重合可能な化合物）
上記光重合可能な化合物としては、後述するような１分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合および光架橋可能なモノマー、オリゴマー、プレポリマーおよびそれらの混合物を用いることができる。具体例としては、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド化合物等を挙げることができる。
【００８６】
ここで、上記不飽和カルボン酸のモノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等を挙げることができる。また上記脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート等を挙げることができる。
【００８７】
上記メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート等を挙げることができる。また、上記イタコン酸エステルとしてはエチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート等を挙げることができる。また、上記クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラクロトネート等を挙げることができる。さらに上記イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等を挙げることができる。さらにまた、上記マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレエート、トリエチレングリコールジマレエート、ペンタエリスリトールジマレエート、ソルビトールテトラマレエート等を挙げることができる。
【００８８】
上記ハロゲン化不飽和カルボン酸としては、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート等を挙げることができる。
また、上記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスメタクリルアミド等を挙げることができる。
【００８９】
（光重合開始剤）
本発明に用いられる光重合開始剤としては、例えば、１，３−ジ（ｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３´，４，４´−テトラキス（ｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、Ｎ−フェニルグリシン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２−メルカプトベンズイミダゾール、また、イミダゾール二量体類等を挙げることができる。なかでも本発明に用いられる光重合開始剤は、記録された体積ホログラムの安定化の観点から、ホログラム記録後に分解処理されるものが好ましい。このような観点からすると、紫外線照射することにより容易に分解される点において、有機過酸化物系の光重合開始剤が用いられることが好ましい。
【００９０】
（増感色素）
本発明に用いられる増感色素としては、チオピリリウム塩系色素、メロシアニン系色素、キノリン系色素、スチリルキノリン系色素、ケトクマリン系色素、チオキサンテン系色素、キサンテン系色素、オキソノール系色素、シアニン染料、ローダミン染料、チオピリリウム塩系色素、ピリリウムイオン系色素、ジフェニルヨードニウムイオン系色素等を挙げることができる。
【００９１】
（ii）第２の感光材料
次に、本発明に用いられる第２の感光材料について説明する。上述したように第２の感光材料は、カチオン重合性化合物、ラジカル重合性化合物、光ラジカル重合開始剤系、および、カチオン重合開始剤系を含有するものである。
【００９２】
ここで、このような第２感光材料が用いられる場合、体積ホログラム層に体積ホログラムを記録する方法としては、光ラジカル重合開始剤系が感光するレーザー光等の光を照射し、次いで、光カチオン重合開始剤系が感光する上記レーザー光とは別の波長の光を照射する方法が用いられることになる。
【００９３】
（カチオン重合性化合物）
上記カチオン重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物の重合が比較的低粘度の組成物中で行われることが好ましいという点から、室温で液状のものが好適に用いられる。このようなカチオン重合性化合物としては、例えば、ジグリセロールジエーテル、ペンタエリスリトールポリジグリシジルエーテル、１，４−ビス（２，３−エポキシプロポキシパーフルオロイソプロピル）シクロヘキサン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル等を挙げることができる。
【００９４】
（ラジカル重合性化合物）
上記ラジカル重合性化合物としては、分子中に少なくとも１つのエチレン性不飽和二重結合を有するものが好ましい。また、本発明に用いられるラジカル重合性化合物の平均屈折率は、上記カチオン重合性化合物の平均屈折率より大きいことが好ましく、なかでも０．０２以上大きいことが好ましい。これは、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物との屈折率の差によって、体積ホログラムが形成されることによるものである。したがって、平均屈折率の差が上記値以下である場合には、屈折率変調が不十分となるからである。本発明に用いられるラジカル重合性化合物としては、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、スチレン、２−ブロモスチレン、フェニルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、２，３−ナフタレンジカルボン酸（アクリロキシエチル）モノエステル、メチルフェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、β−アクリロキシエチルハイドロゲンフタレート等を挙げることができる。
【００９５】
（光ラジカル重合開始剤系）
本発明に用いられる光ラジカル重合開始剤系としては、体積ホログラムを記録する際に、第１露光によって活性ラジカルを生成し、該活性ラジカルがラジカル重合性化合物を重合させることができるものであれば特に限定されるものではない。また、一般に光を吸収する成分である増感剤と活性ラジカル発生化合物や酸発生化合物を組み合わせて用いてもよい。このような光ラジカル重合開始剤系における増感剤は可視レーザー光を吸収するために色素のような有色化合物が用いられる場合が多いが、無色透明ホログラムとする場合には、シアニン系色素の使用が好ましい。シアニン系色素は一般に光によって分解しやすいため、本発明における後露光、または室内光や太陽光の下に数時間から数日放置することでホログラム中の色素が分解されて可視域に吸収を持たなくなり、無色透明な体積ホログラムを得ることができるからである。
【００９６】
上記シアニン系色素の具体例としては、アンヒドロ−３，３´−ジカルボキシメチル−９−エチル−２，２´チアカルボシアニンベタイン、アンヒドロ−３−カルボキシメチル−３´，９´−ジエチル−２，２´チアカルボシアニンベタイン、３，３´，９−トリエチル−２，２´−チアカルボシアニン・ヨウ素塩、３，９−ジエチル−３´−カルボキシメチル−２，２´−チアカルボシアニン・ヨウ素塩、３，３´，９−トリエチル−２，２´−（４，５，４´，５´−ジベンゾ）チアカルボシアニン・ヨウ素塩、２−［３−（３−エチル−２−ベンゾチアゾリデン）−１−プロペニル］−６−［２−（３−エチル−２−ベンゾチアゾリデン）エチリデンイミノ］−３−エチル−１，３，５−チアジアゾリウム・ヨウ素塩、２−［［３−アリル−４−オキソ−５−（３−ｎ−プロピル−５，６−ジメチル−２−ベンゾチアゾリリデン）−エチリデン−２−チアゾリニリデン］メチル］３−エチル−４，５−ジフェニルチアゾリニウム・ヨウ素塩、１，１´，３，３，３´，３´−ヘキサメチル−２，２´−インドトリカルボシアニン・ヨウ素塩、３，３´−ジエチル−２，２´−チアトリカルボシアニン・過塩素酸塩、アンヒドロ−１−エチル−４−メトキシ−３´−カルボキシメチル−５´−クロロ−２，２´−キノチアシアニンベタイン、アンヒドロ−５，５´−ジフェニル−９−エチル−３，３´−ジスルホプロピルオキサカルボシアニンヒドロキシド・トリエチルアミン塩等が挙げられ、これらの１種または２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００９７】
上記活性ラジカル発生化合物としては、例えば、ジアリールヨードニウム塩類、あるいは２，４，６−置換−１，３，５−トリアジン類が挙げられる。高い感光性が必要なときは、ジアリールヨードニウム塩類の使用が特に好ましい。上記ジアリールヨードニウム塩類の具体例としては、ジフェニルヨードニウム、４，４´−ジクロロジフェニルヨードニウム、４，４´−ジメトキシジフェニルヨードニウム、４，４´−ジターシャリーブチルジフェニルヨードニウム、３，３´−ジニトロジフェニルヨードニウムなどのクロリド、ブロミド、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート、トリフルオロメタンスルホン酸塩、９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホン酸塩などが例示される。又２，４，６−置換−１，３，５−トリアジン類の具体例としては、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４´−メトキシ−１´−ナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【００９８】
（光カチオン重合開始剤系）
本発明に用いられる光カチオン重合開始剤系としは、体積ホログラムが記録される際の第１露光に対しては低感光性で、第１露光と異なる波長の光を照射する後露光に感光してブレンステッド酸あるいはルイス酸を発生し、カチオン重合性化合物を重合させるような開始剤系であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては第１露光の間はカチオン重合性化合物を重合させないものが用いられることが特に好ましい。このような光カチオン重合開始剤系としては、例えばジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、鉄アレン錯体類等が挙げられる。ジアリールヨードニウム塩類で好ましいものとしては上述した光ラジカル重合開始剤系で示したヨードニウムのテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネートなどが挙げられる。トリアリールスルホニウム塩類で好ましいものとしては、トリフェニルスルホニウム、４−ターシャリーブチルトリフェニルスルホニウム等が挙げられる。
【００９９】
（その他）
第２の感光材料には、必要に応じてバインダー樹脂、熱重合防止剤、シランカップリング剤、可塑剤、着色料等を併用してもよい。バインダー樹脂は、ホログラム層記録前の組成物の成膜性、膜厚の均一性を改善する場合や、レーザー光等の光の照射による重合で形成された干渉縞を後露光までの間、安定に存在させるために使用される。バインダー樹脂は、カチオン重合性化合物やラジカル重合性化合物と相溶性のよいものであればよく、例えば塩素化ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレートと他の（メタ）アクリル酸アルキルエステルとの共重合体、塩化ビニルとアクリロニトリルの共重合体、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。バインダー樹脂は、その側鎖又は主鎖にカチオン重合性基等の反応性を有していてもよい。
【０１００】
（２）体積ホログラム層
本発明における体積ホログラム層としては、上述した構成材料以外に必要に応じて、微粒子を添加しても良い。このような微粒子は、体積ホログラム層中に含有されることで、意図的に欠陥を形成し、体積ホログラム層に脆性を付与することができるため、良好な箔切れ性を有することが可能となる。
【０１０１】
ここで、上記微粒子としては、所定の粒径を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、樹脂骨格として低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、（メタ）アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシまたはウレタンや、これらのコポリマーを含む有機微粒子や、シリカ、マイカ、タルク、クレー、グラファイト、炭酸カルシウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、フェライト、チャイナクレー、カオリン、二酸化チタン、ガラスフレーク、アスベスト、ろう石粉、けい石粉、硫酸バリウム、シェルベン、シャモット、チタニア等の無機微粒子等を用いることができ、これらの微粒子を１種、または２種類以上混合して使用しても良い。
上記の中でも本発明としては、上記有機微粒子の樹脂中の骨格または側鎖の水素の一部または全部をフッ素原子で置換した含フッ素系樹脂の微粒子であるフッ素系微粒子、またはチタニア微粒子であることが好ましい。これにより、箔切れをより良好なものとすることが可能であるからである。
【０１０２】
また、上記含フッ素系樹脂の微粒子であるフッ素系微粒子は、摩擦係数が小さいことから、体積ホログラム層中に含有される他の成分との相互作用が小さく、少量で体積ホログラム層に脆性を付与することが可能となる。上記フッ素系微粒子としては、上記に例示した有機微粒子を部分的または全フッ素化したものや、微粒子の表面をフッ素含有化合物で処理したものを使用することができる。特に、（メタ）アクリル酸エステル化合物を利用したフッ素系微粒子の使用が好ましい。そのような微粒子として、具体的には特開平５−１９４３２２号公報記載の含フッ素アクリル酸エステルや、特開平９−１０４６５５号公報記載の含フッ素（メタ）アクリル化合物、特開２００１−７２６４６号公報記載の含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物で示されるフッ素モノマーを１種以上用いたモノマー重合体、または他のフッ素を含まない１分子中に少なくとも１のエチレン性不飽和結合を持った化合物と共重合を行ったモノマー共重合体、特開平６−７３１３７号公報で示される含フッ素樹脂複合微粒子、特開平５−１９４６６８号公報で示されるフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。これらのフッ素系微粒子は、１種または２種以上混合して用いることが可能である。
【０１０３】
また、本発明に用いられる体積ホログラム層の厚みは、所定の体積ホログラム像を記録することができる範囲内であれば特に限定されるものではなく、上述した構成材料の種類に応じて適宜調整することができる。なかでも本発明に用いられる体積ホログラム層の厚みは、１μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、特に３μｍ〜２５μｍの範囲内であることが好ましい。
なお、体積ホログラム層の厚みが大きくなると、本発明の体積ホログラム転写箔を用いる際に、体積ホログラム層の箔切れ不良が生じやすくなる場合がある。
【０１０４】
４．ヒートシール層
次に、本発明に用いられるヒートシール層について説明する。本発明に用いられるヒートシール層は熱可塑性樹脂を含有するものであり、本発明の体積ホログラム転写箔を用いて体積ホログラム積層体を製造する際に、体積ホログラム層と被着体とを接着させる機能を有するものである。また、本発明に用いられるヒートシール層は、上述した体積ホログラム層上に形成されるものである。
以下、本発明に用いられるヒートシール層について詳細に説明する。
【０１０５】
本発明におけるヒートシール層に用いられる熱可塑性樹脂としては、本発明の体積ホログラム転写箔から体積ホログラム層が転写される被着体の種類に応じて、体積ホログラム層と被着体とを接着できるものであれば特に限定されるものではない。このような熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、エチレン−イソブチルアクリレート共重合樹脂、ブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニルおよびその共重合体樹脂、アイオノマー樹脂、酸変性ポリオレフィン系樹脂、アクリル系・メタクリル系などの（メタ）アクリル系樹脂、アクリル酸エステル系樹脂、エチレン・（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリメチルメタクリレート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビニル系樹脂、マレイン酸樹脂、アルキッド樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、メラミン・アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系樹脂、スチレンブタジエンスチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレンイソプレンスチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、スチレンエチレンブチレンスチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、スチレンエチレンプロピレンスチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）等を挙げることができる。本発明においてはこれらのいずれの熱可塑性樹脂であっても好適に用いることができる。
【０１０６】
なお、本発明に用いられる熱可塑性樹脂は１種類のみであってもよく、あるいは、２種類以上であってもよい。
【０１０７】
本発明に用いられるヒートシール層には、上記熱可塑性樹脂以外に他の添加剤が含まれていてもよい。本発明に用いられる添加剤としては、例えば、分散剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤等を挙げることができる。
【０１０８】
本発明に用いられるヒートシール層の厚みは特に限定されるものではなく、上述した体積ホログラム層の構成材料や、本発明の体積ホログラム転写箔を用いて体積ホログラム層が転写される被着体の種類等によって適宜選択されるものである。中でも本発明におけるヒートシール層の厚みは、１μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、１μｍ〜２５μｍの範囲内であることがより好ましい。厚みが上記範囲よりも薄いと被着体との接着性が不十分になってしまう可能性があるからである。また上記範囲よりも厚いと、本発明の体積ホログラム転写箔から体積ホログラム層を転写する際に、ヒートシール層を加熱する温度が高くなりすぎてしまい、被着体等に損傷が生じてしまう可能性があるからである。
【０１０９】
５．その他の構成
本発明の体積ホログラム転写箔は、少なくとも上記基材、保護層、体積ホログラム層、およびヒートシール層を有するものであるが、必要に応じてこれら以外の任意の構成を有するものであってもよい。本発明に用いられる任意の構成としては、本発明の体積ホログラム転写箔に所望の機能を付与することができるものであれば特に限定されるものではない。以下、任意の構成について説明する。
【０１１０】
（１）プライマー層
本発明に用いられる任意の構成としては、例えば、体積ホログラム層とヒートシール層との接着性を向上させるために用いられるプライマー層を挙げることができる。このようなプライマー層としては、例えば、ポリウレタン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エチレンと酢酸ビニルあるいはアクリル酸等との共重合体、エポキシ樹脂等が用いられたものを挙げることができる。
【０１１１】
（２）バリア層
また上記プライマー層以外に、本発明に用いられる任意の構成としては、例えば、上記体積ホログラム層と上記ヒートシール層との間に形成されるバリア層を挙げることができる。体積ホログラム層に用いられる感光材料やヒートシール層に用いられる熱可塑性樹脂の組み合わせによっては、経時的に体積ホログラム層から他の層への低分子量成分の移行が起こり、これに起因して体積ホログラム層に記録された体積ホログラムの再生波長が青側（短波長側）に移行してしまう場合があるが、バリア層を設けることによって、このような問題を解消することができるからである。
【０１１２】
バリア層に用いられる材料としては、所望のバリア性を発現できる材料であれば特に限定されるものではないが、通常、透明性有機樹脂材料が用いられる。本発明に用いられる透明性有機樹脂材料としては、例えば、無溶剤系の３官能以上、好ましくは６官能以上の、紫外線や電子線等の電離放射線に反応する電離放射線硬化性エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂等を挙げることができる。
【０１１３】
（３）紫外線防止層
また、本発明に用いられる任意の構成としては、例えば、上記保護層と上記体積ホログラム層との間、あるいは上記基材と上記保護層との間に形成される紫外線防止層を挙げることができる。紫外線防止層は、転写された体積ホログラム層が日光下あるいは照明光源の下に長時間暴露された際に、ホログラム画像や色が経時的に劣化するのを防ぐために設けられるものである。
【０１１４】
紫外線防止層に必要な紫外線防止能としては、体積ホログラム層と基材との間に存在する紫外線防止層および保護層を含む全ての層の吸光度の合計が、波長３４０ｎｍにおいて０．５以上、中でも０．７以上であることが好ましい。体積ホログラム層と基材との間に存在する紫外線防止層および保護層を含む全ての層の吸光度が低いと、転写された体積ホログラム層が日光下あるいは照明光源の下に長時間暴露された際に、ホログラム画像や色が著しく劣化するおそれがあるからである。
なお、体積ホログラム層と基材との間に存在する紫外線防止層および保護層を含む全ての層の吸光度の合計は、以下のようにして測定することができる。すなわち、まず、体積ホログラム転写箔よりヒートシール層および体積ホログラム層を取り除く。次いで、その際に残留した基材、紫外線防止層および保護層を含む積層体に膜厚方向に波長３４０ｎｍの光を入射した場合の吸光度を測定する。続いて、予め測定した基材の吸光度をリファレンスとして、体積ホログラム層と基材との間に存在する紫外線防止層および保護層を含む全ての層の吸光度を求める。吸光度Ａとは、入射光の強度をＩとして、上記積層体を透過した光の強度をＩ’とすると、Ａ＝−ｌｏｇ（Ｉ’/Ｉ）で求められる値である。吸光度の測定は、例えば日本分光株式会社製の顕微紫外可視近赤外分光光度計MSV-350や、島津製作所株式会社製の紫外可視近赤外分光光度計UV-3100PC等を用いて測定することができる。
【０１１５】
紫外線防止層は、少なくとも紫外線吸収剤を含有するものである。紫外線吸収剤としては、公知のものが用いられるが、上記保護層に含有されるＵＶ吸収成分として用いられる紫外線吸収剤と同様とすることもできる。
【０１１６】
また、紫外線防止層は、適宜バインダー樹脂を含有していてもよい。バインダー樹脂としては、例えば、ポリメタクリル酸、ポリメタクリルアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル系樹脂；ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のビニル系樹脂；エチルセルロース、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリエステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂を１種又は２種以上を混合したものや、紫外線や電子線等に反応する電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等が挙げられる。
【０１１７】
６．体積ホログラム転写箔の製造方法
本発明の体積ホログラム転写箔は、一般的に体積ホログラム転写箔を製造する方法として公知の方法を用いることができるが、例えば、基材に保護層形成用塗工液を塗工して保護層を形成し、また、別の基材上に体積ホログラム記録材料を塗工し、レーザー光を用いて体積ホログラムを撮影し記録した体積ホログラム層を形成する。上記保護層上に上記体積ホログラム層が接するように両基材を重ね、基材／体積ホログラム層／保護層／基材の積層体を得た後、全面に紫外線を照射し、体積ホログラム層の定着を行う。その後、上記基材／体積ホログラム層／保護層／基材の積層体の体積ホログラム層側の基材を剥離し、ヒートシール層を塗工して製造する方法等が挙げられる。
【０１１８】
７．体積ホログラム転写箔の用途
本発明の体積ホログラム転写箔は、上記体積ホログラム層を被着体に転写することによって、被着体に体積ホログラム層が貼り合わされた構成を有する体積ホログラム積層体を製造するために用いられる。
【０１１９】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１２０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１２１】
［実施例１］
（第１積層体)
第１のフィルムとしてＰＥＴフィルム（ルミラーＴ６０（厚み５０μｍ）：東レ株式会社製）を準備し、以下の組成からなる体積ホログラム記録材料を、乾燥膜厚６μｍとなるようにグラビアコートにて塗工し、塗工面に表面離型処理ＰＥＴフィルム（ＳＰ−ＰＥＴ（厚み５０μｍ）、トーセロ株式会社製）をラミネートし、第１積層体を作製した。
【０１２２】
・バインダー樹脂｛ポリメチルメタクリレート系樹脂（分子量２００，０００）}
…  ５０重量部
・３，９−ジエチル−３′−カルボキシルメチル−２，２′−チアカルボシアニン沃素塩                                                                …０．５重量部
・ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート            …    ６重量部
・２，２−ビス［４−（アクリロキシジエトキシ）フェニル］プロパン
…  ８０重量部
・１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル                  …  ８０重量部
・フッ素系微粒子                                                …    ８重量部
・溶剤（メチルイソブチルケトン／ｎ−ブタノール＝１／１（重量比））
…２００重量部
【０１２３】
（基材／剥離性保護層の第２積層体)
第２のフィルム（基材）としてＰＥＴフィルム（ＳＧ−１（厚み３８μｍ）：パナック株式会社製）を準備し、保護層として、以下の組成からなる保護層溶液を、乾燥膜厚３μｍとなるようにグラビアコートにて塗工した。
【０１２４】
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−７６００Ｂ  日本合成化学社製  分子量；１４００  官能基数６  鉛筆硬度３Ｈ  硬化収縮率６．３）              …  ６０重量部
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−３５００ＢＡ  日本合成化学社製  分子量；１３０００  官能基数２  ガラス転移温度１℃  鉛筆硬度６Ｂ＞  ヤング率４Ｎ／ｍｍ２  破断強度５Ｎ／ｍｍ２  破断伸度１４０％）                        …  ４０重量部
・ポリエチレンワックス（分子量；１００００、平均粒径；５μｍ）  …    １重量部
・溶剤（メチルエチルケトン）                                    …４００重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）                                                                …    ４重量部
【０１２５】
（体積ホログラム記録)
第１のフィルム／体積ホログラム記録用材料の層／表面離型処理ＰＥＴフィルムの第１積層体に波長；５３２ｎｍのレーザー光を用いて体積ホログラムを撮影し記録した。その後、表面離型処理ＰＥＴフィルムを剥離して露出させた体積ホログラム層に、第２のフィルム／保護層の第２積層体の保護層側が接するようにして重ね、ニップした８０℃の熱ローラ対の間を通過させて、第１のフィルム／体積ホログラム層／保護層／第２のフィルムの積層体を得た後、高圧水銀灯を用いて、全面に照射線量；２５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、体積ホログラム層の定着を行った。
【０１２６】
（ヒートシール層の塗工)
上記で得た第１のフィルム／体積ホログラム層／保護層／第２のフィルムから第１のフィルムを剥離し、体積ホログラム層上に下記組成からなる材料を、乾燥膜厚４μｍとなるようにグラビアコートにて塗工した。乾燥温度は１００℃とした。
【０１２７】
・ポリエステル樹脂（バイロン５５０  ＴＯＹＯＢＯ社製  Ｔｇ：−１５℃  分子量２８０００）                                                          …２０重量部
・溶剤（メチルエチルケトン／トルエン＝１／１（質量比））          …８０重量部
【０１２８】
［実施例２］
保護層溶液の組成を下記のように変更した以外は、実施例１と同様に作製した。
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−７６００Ｂ  日本合成化学社製  分子量；１４００  官能基数６  鉛筆硬度３Ｈ  硬化収縮率６．３）              …  ６０重量部
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−３２１０ＥＡ  日本合成化学社製  分子量；９０００  官能基数２  ガラス転移温度−１０℃  鉛筆硬度６Ｂ＞  硬化収縮率４〜５  ヤング率５Ｎ／ｍｍ２  破断強度４Ｎ／ｍｍ２  破断伸度７０％）      …  ４０重量部
・ポリエチレンワックス（分子量；１００００、平均粒径；５μｍ）  …    １重量部
・溶剤（メチルエチルケトン）                                    …４００重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）                                                                …    ４重量部
【０１２９】
［実施例３］
保護層溶液の組成を下記のように変更した以外は、実施例１と同様に作製した。
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−７６２０ＥＡ  日本合成化学社製  分子量；４１００  官能基数９  鉛筆硬度３Ｈ）                              …  ６０重量部
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−３５００ＢＡ  日本合成化学社製  分子量；１３０００  官能基数２  ガラス転移温度１℃  鉛筆硬度６Ｂ＞  ヤング率４Ｎ／ｍｍ２  破断強度５Ｎ／ｍｍ２  破断伸度１４０％）                        …  ４０重量部
・ポリエチレンワックス（分子量；１００００、平均粒径；５μｍ）  …    １重量部
・溶剤（メチルエチルケトン）                                    …４００重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）                                                                …    ４重量部
【０１３０】
［実施例４］
保護層溶液の組成を下記のように変更した以外は、実施例１と同様に作製した。
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−７６２０ＥＡ  日本合成化学社製  分子量；４１００  官能基数９  鉛筆硬度３Ｈ）                              …  ６０重量部
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−３５００ＢＡ  日本合成化学社製  分子量；１３０００  官能基数２  ガラス転移温度１℃  鉛筆硬度６Ｂ＞  ヤング率４Ｎ／ｍｍ２  破断強度５Ｎ／ｍｍ２  破断伸度１４０％）                        …  ４０重量部
・ポリエチレンワックス（分子量；１００００、平均粒径；５μｍ）  …    ３重量部
・溶剤（メチルエチルケトン）                                    …４００重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）                                                                …    ４重量部
【０１３１】
［実施例５］
保護層溶液の組成を下記のように変更した以外は、実施例１と同様に作製した。
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−７６００Ｂ  日本合成化学社製  分子量；１４００  官能基数６  鉛筆硬度３Ｈ  硬化収縮率６．３）            …    ５０重量部
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−３５００ＢＡ  日本合成化学社製  分子量；１３０００  官能基数２  ガラス転移温度１℃  鉛筆硬度６Ｂ＞  ヤング率４Ｎ／ｍｍ２  破断強度５Ｎ／ｍｍ２  破断伸度１４０％）                      …    ５０重量部
・ポリエチレンワックス（分子量；１００００、平均粒径；５μｍ）…      １重量部
・紫外線吸収性モノマー（２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシ）エチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール）                    …      １重量部
・アセトフェノン系光重合開始剤（イルガキュアー１８４  チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）                                              …      ２重量部
・リン系光重合開始剤（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド）（ルシリンＴＰＯ  ＢＡＳＦ社製）                          …      ２重量部
・溶剤（メチルエチルケトン）                                  …  ４００重量部
【０１３２】
［実施例６］
保護層溶液の組成を下記のように変更した以外は、実施例１と同様に作製した。
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−７６００Ｂ  日本合成化学社製  分子量；１４００  官能基数６  鉛筆硬度３Ｈ  硬化収縮率６．３）            …    ５０重量部
・ウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ−３５００ＢＡ  日本合成化学社製  分子量；１３０００  官能基数２  ガラス転移温度１℃  鉛筆硬度６Ｂ＞  ヤング率４Ｎ／ｍｍ２  破断強度５Ｎ／ｍｍ２  破断伸度１４０％）                      …    ５０重量部
・ポリエチレンワックス（分子量；１００００、平均粒径；５μｍ）…      １重量部
・紫外線吸収性モノマー（２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン）                                                …      １重量部
・アセトフェノン系光重合開始剤（イルガキュアー１８４  チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）                                              …      ２重量部
・リン系光重合開始剤（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド）（ルシリンＴＰＯ  ＢＡＳＦ社製）                          …      ２重量部
・溶剤（メチルエチルケトン）                                  …  ４００重量部
【０１３３】
［転写評価］
実施例１〜実施例６の転写箔について、用紙転写用の市販の熱ラミネーターを用い、転写温度１５０℃、転写スピード１ｍ／ｍｉｎで転写評価を行った。転写開始部から転写終了部まで用紙へ転写することができた。
【０１３４】
［耐光性評価］
実施例１〜実施例４の転写箔について、キセノンランプを用いた耐光性試験を行った。試験条件は、照度強度５５０Ｗ／ｍ２、波長帯３００ｎｍ〜８００ｎｍ、ブラックパネル温度６３℃、照射時間１００時間とした。いずれの転写箔も、視認性が若干低下するものの、視認することができた。
実施例５〜実施例６の転写箔について、上記の耐光性評価を行った。視認性が低下することなく、視認することができた。
【０１３５】
［比較例１］
実施例１の保護層溶液からポリエチレンワックスを除いたこと以外は、実施例１と同様に体積ホログラム転写箔を作製した。
【０１３６】
［比較例２］
実施例２の保護層溶液からポリエチレンワックスを除いたこと以外は、実施例２と同様に体積ホログラム転写箔を作製した。
【０１３７】
［比較例３］
実施例３の保護層溶液からポリエチレンワックスを除いたこと以外は、実施例３と同様に体積ホログラム転写箔を作製した。
【０１３８】
［比較例４］
第２積層体の作製を下記に変更したこと以外は、実施例１と同様に体積ホログラム転写箔を作製した。
第２のフィルムとしてＰＥＴフィルム（ルミラーＴ６０（５０μｍ）：東レ株式会社製）を準備し、保護層として、下記組成を用いて作製した。
・熱可塑性ポリメチルメタクリレート樹脂（分子量；３５０００）    …  ９７重量部
・ポリエチレンワックス（分子量；１００００、平均粒径；５μｍ）  …    ３重量部
・溶剤（メチルエチルケトン／トルエン＝１／１（重量比））        …４００重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）                                                                …    ４重量部
【０１４０】
［転写評価］
比較例１〜比較例４の転写箔について、用紙転写用の市販の熱ラミネーターを用い、転写温度１５０℃、転写スピード１ｍ／ｍｉｎで転写評価を行った。
転写開始部で転写箔の破断が起きず、転写箔側に用紙が破壊されて巻き込まれた。
比較例１〜３の結果から、ポリエチレンワックスを含有しない保護層を用いた場合、保護層の箔切れ性が不十分となり、転写することができなかった。
また、比較例４の結果から、熱可塑性樹脂を用いた保護層を用いた場合でも、箔切れ性が不十分となり、転写することができなかった。
【符号の説明】
【０１４１】
１  …  基材
２  …  保護層
３  …  体積ホログラム層
４  …  ヒートシール層
５  …  破断伸度制御成分
６  …  ハードコート成分
７  …  箔切れ性制御成分
１０  …  体積ホログラム転写箔
【図１】
0005884314.tif 000002
【図２】
0005884314.tif 000003