(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、基板上に配列された複数の反射鏡を備え、前記複数の反射鏡の各々が制御情報に基づいて独立にオンオフ駆動されて前記光源から照射された光をオン状態に応じた方向に反射する反射鏡アレイと、反射された光を予め定めた照明領域に投光する投光部と、を有する光照射手段と、
前記照明領域の画像情報に基づいて遮光対象を検出する対象検出手段と、
前記遮光対象を遮光する複数の暗画素からなる遮光領域を含み且つ前記遮光領域の周辺における暗画素及び明画素の配置状態が互いに異なる複数の照射パターンが交互に照射されるように、前記複数の反射鏡の各々をオン状態又はオフ状態とする前記制御情報を生成する情報生成手段と、
生成された制御情報に基づいて前記光照射手段を制御する照明制御手段と、
を含む照明装置。
【請求項２】
前記複数の照射パターンは、
前記遮光対象を遮光する複数の暗画素からなる遮光領域を含み且つ前記遮光領域の周辺に複数の暗画素を配置した予め定めた形状の第１照射パターン、
前記遮光領域の周辺に複数の暗画素と複数の明画素とを配置した前記予め定めた形状の第２照射パターン、
及び、前記予め定めた形状に複数の暗画素を配置し且つ当該複数の暗画素の周辺に複数の暗画素と複数の明画素とを配置した第３照射パターン、
から選択される少なくとも２つの照射パターンである、請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記複数の照射パターンは、
前記遮光対象を遮光する複数の暗画素からなる遮光領域を含み且つ前記遮光領域の左右両側に複数の暗画素を配置した予め定めた形状の第１照射パターン、
前記遮光領域の左側に複数の暗画素が配置されるように前記予め定めた形状に複数の暗画素を配置した第２照射パターン、
及び、前記遮光領域の右側に複数の暗画素が配置されるように前記予め定めた形状に複数の暗画素を配置した第３照射パターン、
から選択される少なくとも２つの照射パターンである、請求項１に記載の照明装置。
【請求項４】
前記複数の照射パターンは、
前記遮光対象を遮光する複数の暗画素からなる遮光領域を含み且つ前記遮光領域の上下両側に複数の暗画素を配置した予め定めた形状の第１照射パターン、
前記遮光領域の上側に複数の暗画素が配置されるように前記予め定めた形状に複数の暗画素を配置した第２照射パターン、
及び、前記遮光領域の下側に複数の暗画素が配置されるように前記予め定めた形状に複数の暗画素を配置した第３照射パターン、
から選択される少なくとも２つの照射パターンである、請求項１に記載の照明装置。
【請求項５】
前記複数の照射パターンは、
前記遮光対象を遮光する複数の暗画素からなる遮光領域を含み且つ前記遮光領域の周辺に複数の暗画素を配置した予め定めた形状の第１照射パターン、
前記遮光領域の左右両側及び上側に複数の暗画素が配置されるように前記予め定めた形状に複数の暗画素を配置した第２照射パターン、
前記遮光領域の左右両側及び下側に複数の暗画素が配置されるように前記予め定めた形状に複数の暗画素を配置した第３照射パターン、
前記遮光領域の左側及び上下両側に複数の暗画素が配置されるように前記予め定めた形状に複数の暗画素を配置した第４照射パターン、
及び、前記遮光領域の右側及び上下両側に複数の暗画素が配置されるように前記予め定めた形状に複数の暗画素を配置した第５照射パターン、
から選択される少なくとも２つの照射パターンである、請求項１に記載の照明装置。
【請求項６】
前記複数の照射パターンは、
前記遮光対象を遮光する複数の暗画素からなる遮光領域を含み且つ前記遮光領域の周辺に複数の暗画素と複数の明画素とを予め定めた比率で配置した少なくとも１層の中間層を設けた第１照射パターン、
及び前記遮光領域を含み且つ前記中間層の複数の暗画素と複数の明画素の配置をランダムに変化させた第２照射パターンである、請求項１に記載の照明装置。  
【請求項７】
前記中間層が複数層ある場合に、外側に配置される中間層ほど暗画素の比率が低い、請求項６に記載の照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光源から照射された光を偏向する微小可動鏡で構成された空間変調器（デジタルミラー）など、オンオフ切替え可能な素子のアレイを含むディスプレイ装置が知られている。特許文献１に記載されたディスプレイ装置では、光がディスプレイ上に向けられる「オン」状態と光がディスプレイ上に向けられない「オフ」状態との間で各素子を切換えるために、時分割変調処理を用いてグレースケールを表示している。即ち、デューティ比を制御して、オンオフ切替えを高速に行うこと（高周波駆動）により、「オン」状態と「オフ」状態の中間の明るさを表現している（特許文献１参照）。
【０００３】
また、特許文献２に記載された投影装置は、光源からの光を用い、画像信号に応じた光像を形成して投影する投影光学系を含んだ投影手段を備えている。この投影装置では、投影光学系がズーム画角を最大画角にする、非合焦状態にフォーカスを調整する等（光学系の調整）により、投影画像の周辺をぼかす「ぼかし照明」を実現している（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許３８４４０１３号公報
【特許文献２】特開２０１３−７６９２３号公報
【特許文献３】特開２０１２−１９０５９４号公報
【特許文献４】特開２０１１−０５１４４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、複数の微小可動鏡を備えたデジタルミラーで配光を制御する車両用照明装置が提案されている（特許文献３参照）。また、走行中にグレア防止のために自動的に照明領域の一部を遮光する車両用前照灯システムが提案されている（特許文献４参照）。
【０００６】
しかしながら、デジタルミラーで配光を制御する車両用照明装置では、照明領域の一部を遮光すると、照明領域内に存在する遮光領域とこれに隣接する照射領域との境界が明確となり、視覚的な違和感を生じるという問題があった。
【０００７】
また、遮光領域と照射領域との境界をぼかす方法として、高周波駆動を行う特許文献１に記載の方法と、光学系の調整を行う特許文献２に記載の方法などが挙げられる。しかしながら、前者には、高周波駆動によりデジタルミラーの寿命が短くなるという問題があり、後者には、新たに可動光学系が必要となるという問題があった。
【０００８】
本発明の目的は、照明領域内に存在する遮光領域と当該遮光領域に隣接する照射領域との間に、明度が段階的に変化する境界領域を生成することができる照明装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために請求項１に記載の発明は、光源と、基板上に配列された複数の反射鏡を備え、前記複数の反射鏡の各々が制御情報に基づいて独立にオンオフ駆動されて前記光源から照射された光をオン状態に応じた方向に反射する反射鏡アレイと、反射された光を予め定めた照明領域に投光する投光部と、を有する光照射手段と、前記照明領域の画像情報に基づいて遮光対象を検出する対象検出手段と、前記遮光対象を遮光する複数の暗画素からなる遮光領域を含み且つ前記遮光領域の周辺における暗画素及び明画素の配置状態が互いに異なる複数の照射パターンが交互に照射されるように、前記複数の反射鏡の各々をオン状態又はオフ状態とする前記制御情報を生成する情報生成手段と、生成された制御情報に基づいて前記光照射手段を制御する照明制御手段と、を含む照明装置であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の照明装置によれば、照明領域内に存在する遮光領域と当該遮光領域に隣接する照射領域との間に、明度が段階的に変化する境界領域を生成することができる、という効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施の形態に係る照明装置の構成の一例を示す概略図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｃ）は配光可変ライトの構成の一例を示す概略図である。
【図３】部分遮光照明の方法を説明する説明図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る照明装置の構成の一例を示す機能ブロック図である。
【図５】「境界ぼかし処理」の手順の一例を示すフローチャートである。
【図６】（Ａ）〜（Ｄ）は照射パターンの一例を示す模式図である。
【図７】図６の照射パターンを交互に照射した場合の光像を示す模式図である。
【図８】（Ａ）〜（Ｃ）は照射パターンの他の一例を示す模式図である。
【図９】図８の照射パターンを交互に照射した場合の光像を示す模式図である。
【図１０】（Ａ）〜（Ｅ）は照射パターンの他の一例を示す模式図である。
【図１１】図１０の照射パターンを交互に照射した場合の光像を示す模式図である。
【図１２】（Ａ）及び（Ｂ）は照射パターンの他の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の一例を詳細に説明する。
【００１３】
＜照明装置の構成＞
まず、照明装置について説明する。
図１は本発明の実施の形態に係る照明装置の構成の一例を示す概略図である。図１に示すように、本実施の形態に係る照明装置１０は、自車両１２に搭載されている。照明装置１０は、撮像装置１４、ヘッドライト１６、及び制御装置１８を備えている。撮像装置１４及びヘッドライト１６の各々は、制御装置１８に接続されている。制御装置１８は、撮像装置１４で撮像された前方画像に基づいてヘッドライト１６を制御する。
【００１４】
撮像装置１４は、例えば、ドライバ２０の視点の高さとなる車室内リアビューミラー位置に設置されている。撮像装置１４は、自車両１２の前方画像を撮像して、撮像画像の画像情報を制御装置１８に出力する。自車両１２の前方画像には、ヘッドライト１６により照明される照明領域が含まれる。撮像装置１４としては、例えば、赤外線カメラ等の暗視カメラ、ＣＣＤ撮像素子等の可視カメラが用いられる。本実施の形態では、暗視カメラを用いて撮像により熱画像情報を得る例について説明する。
【００１５】
ヘッドライト１６は、自車両１２の前端部に設置されている。図示は省略するが、ヘッドライト１６は、自車両１２の前端部の左右両側に設置されている。左右両側に設置されたヘッドライト１６の各々は、略対称となるように配置されている。ヘッドライト１６は、後述する通り、配光可変ライト２２とライト駆動部２４とを備えている（図４参照）。ライト駆動部２４は、制御装置１８で生成された制御情報に基づいて、配光可変ライト２２から照射される光を制御する。これによりヘッドライト１６は、種々の照射パターンを投光することができる。
【００１６】
制御装置１８は、装置全体の制御及び各種演算を行うコンピュータとして構成されている。具体的には、制御装置１８は、ＣＰＵ（中央処理装置;  Central Processing Unit）、各種プログラムを記憶したＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）、各種情報を記憶する不揮発性メモリ、及び入出力インターフェース（Ｉ／Ｏ）を備えている。ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、不揮発性メモリ、及びＩ／Ｏの各々は、バスを介して接続されている。
【００１７】
本実施の形態では、後述する「境界ぼかし処理」の制御プログラムが予めＲＯＭに記憶されている。ＣＰＵはＲＯＭに記憶された制御プログラムを読み出し、ＲＡＭをワークエリアとして使用して、読み出したプログラムを実行する。制御装置１８の機能については後述する（図４参照）。
【００１８】
＜配光可変ライト＞
ここで配光可変ライト２２の構成について説明する。
図２（Ａ）〜（Ｃ）は配光可変ライト２２の構成の一例を示す概略図である。図２（Ａ）に示すように、配光可変ライト２２は、光源４０、凹面型の球面鏡４２、反射鏡アレイ４４、投光レンズ４６及び光吸収体４８を備えている。光源４０は、凹面型の球面鏡４２の内部に配置されている。光源４０としては、ハロゲンランプ、ＨＩＤバルブ等の高輝度放電灯、発光ダイオード等の高輝度光源などを用いることができる。
【００１９】
光源４０は、図示しないスイッチの切替え操作に応じてライト駆動部２４により点灯又は消灯される。即ち、図示しないスイッチの切替え操作により、ヘッドライト１６が点灯又は消灯されるのである。反射鏡アレイ４４は、図２（Ｂ）に示すように、基板４４Ｓ上に配列された複数の反射鏡４４Ｍを備えている。複数の反射鏡４４Ｍの各々は、図２（Ｃ）に示すように、制御装置１８からの制御情報に基づいてライト駆動部２４により独立にオンオフ駆動される。高周波駆動されていない反射鏡アレイ４４の駆動周波数は、１００Ｈｚ程度である。
【００２０】
光源４０から射出された光は、凹面型の球面鏡４２で反射されて、反射鏡アレイ４４の表面に照射される。オン状態の反射鏡４４Ｍで反射された光は、光路Ｌｏｎを通って投光レンズ４６に入射する。投光レンズ４６は、入射した光を車両前方に投光する。一方、オフ状態の反射鏡４４Ｍで反射された光は、光路Ｌｏｆｆを通って光吸収体４８に照射される。光吸収体４８は、照射された光を吸収する。即ち、反射鏡アレイ４４のオンオフ制御により、反射鏡アレイ４４のオンオフに応じた照射パターンの光が照射される。
【００２１】
＜部分遮光照明＞
次に、部分遮光照明について説明する。
図３は部分遮光照明の方法を説明する説明図である。自車両１２のヘッドライト１６は、車両前方の照明領域５２に光を照射する。ここで、撮像装置１４は照明領域５２を含む車両前方の領域を撮像している。撮像された画像に基づいて照明領域５２内に遮光対象５０が検出された場合には、ヘッドライト１６は遮光対象５０が遮光領域５４に含まれる照射パターンの光を照射する。これにより、遮光対象５０が遮光される。ここで「遮光対象」とは、照明による幻惑を低減することが好ましい対象であり、具体的には歩行者や対向車両等が含まれる。
【００２２】
上記の部分遮光照明では、照明領域５２の一部を遮光すると、遮光領域５４とこれに隣接する照射領域５６との境界が明確となり、視覚的な違和感を生じてしまう。本実施の形態では、複数の照射パターンを交互に照射したときの残像現象を利用して、遮光領域５４と照射領域５６との間に、明度が段階的に変化する境界領域を生成する。これにより、視覚的な違和感を低減することができる。以下、具体的な手法を説明する。
【００２３】
＜制御装置の機能構成＞
次に、制御装置１８の機能について説明する。
図４は本発明の実施の形態に係る照明装置１０の構成の一例を示す機能ブロック図である。図４に示すように、制御装置１８は、画像取得部２６、遮光対象検出部２８、遮光パターン生成部３０、ぼかしパターン生成部３２、照射パターン設定部３４、及び照明制御部３６を備えている。
【００２４】
画像取得部２６は、撮像装置１４で撮像された画像を取得する。画像取得部２６は、撮像装置１４から入力されたアナログ信号をデジタル信号に変換するＡ/Ｄ変喚器、デジタル信号を画像情報として記憶する画像メモリ等を含んで構成されている。画像取得部２６は、予め定めた間隔（例えば、３０Ｈｚ程度の周波数）で撮像装置１４から画像情報を取得して、デジタル化された画像情報を画像メモリに一時的に保持する。
【００２５】
遮光対象検出部２８は、画像取得部２６により取得された画像から遮光対象を検出する。遮光対象の検出方法としては、パターンマッチング、高輝度領域の抽出等、従来既知の手法を用いることができるため、ここでは詳細な説明は省略する。
【００２６】
遮光パターン生成部３０は、照明領域における遮光対象の位置を特定し、遮光対象を遮光領域に含む「遮光パターン」を生成する。遮光パターンは、複数の暗画素からなる遮光領域と、複数の明画素からなる照射領域とで構成された照射パターンである。具体例については後述する。
【００２７】
ぼかしパターン生成部３２は、残像効果により遮光領域と照射領域との境界をぼかすための「ぼかしパターン」を生成する。ぼかしパターンは、複数の暗画素からなる遮光領域と複数の明画素からなる照射領域とで構成され、遮光領域の周辺における暗画素及び明画素の配置状態が互いに異なる複数の照射パターンである。具体例については後述する。
【００２８】
照射パターン設定部３４は、生成した遮光パターン及び複数のぼかしパターンの中から、交互に照射する照射パターンを選択して、選択された照射パターンを設定する。同時に、照射時間、照射回数、選択された照射パターンの照射順序などを設定する。なお、遮光対象が検出されない場合は、照明領域全域を照射領域とする「全灯パターン」を照射パターンとして設定する。
【００２９】
ここで、照射時間は、照射パターンの設定が完了した後、次の画像に基づいて次の照射パターンの設定が完了するまでの更新周期である。照射回数は、照射パターンを切替える回数である。例えば、更新周期が１０Ｈｚであり、反射鏡アレイ４４の駆動周波数が１００Ｈｚとすると、照射回数は１０回までとなる。換言すれば、更新に要する時間が０．１秒であり、反射鏡アレイ４４のオンオフ切替え時間が０．０１秒であると、照射パターンを１０回まで切替えることができる。
【００３０】
照射パターン設定部３４は、設定された条件に基づいて、反射鏡アレイ４４の複数の反射鏡４４Ｍの各々をオン状態又はオフ状態とする制御情報を生成する。照明制御部３６は、照射パターン設定部３４で生成された制御情報に基づいて、ライト駆動部２４を介して配光可変ライト２２からの光の照射を制御する。
【００３１】
＜境界ぼかし処理＞
次に、「境界ぼかし処理」について具体的に説明する。
図５は「境界ぼかし処理」の手順の一例を示すフローチャートである。図示しないスイッチの切替え操作によりヘッドライト１６が点灯されると、制御装置１８のＣＰＵが「境界ぼかし処理」の実行を開始し、予め定めた時間間隔で「境界ぼかし処理」を繰り返し実行する。予め定めた時間間隔は、例えば上記更新周期（例えば１０Ｈｚ）としてもよく、撮像装置１４から画像情報を取得する周期（例えば３０Ｈｚ）としてもよい。
【００３２】
ステップ１００で、撮像装置１４で撮像された車両前方の画像を取得する。具体的には、画像メモリから最新の画像情報を読み出す。次に、ステップ１０２で、取得された画像から遮光対象を検出する。次に、ステップ１０４で、遮光対象が検出されたか否かを判定する。遮光対象が検出された場合は、ステップ１０６に進み、遮光対象が検出されない場合はステップ１１０に進む。
【００３３】
次に、ステップ１０６で、照明領域における遮光対象の位置を特定し、遮光対象を遮光領域を含む「遮光パターン」を生成する。次に、ステップ１０８で、残像効果により遮光領域と照射領域との境界をぼかすための「ぼかしパターン」を生成する。
【００３４】
図６（Ａ）〜（Ｄ）は照射パターンの一例を示す模式図である。照射パターンは、照明領域に生成される光像の明暗パターンである。ここでは、照射パターンを複数のブロック（矩形状の単位領域）に分割し、１つのブロックを１画素とする。１画素は、反射鏡アレイ４４の１つの反射鏡４４Ｍに対応付けられてもよく、複数の反射鏡４４Ｍに対応付けられてもよい。遮光対象が存在する場合は、照射パターンは、複数の暗画素からなる遮光領域と、複数の明画素からなる照射領域とで構成される。
【００３５】
図６（Ａ）は「遮光パターン」の一例を示す。遮光パターン６０Ａには、遮光対象に光が照射されないように、６個の暗画素からなる遮光領域６２が配置され、遮光領域６２以外には明画素からなる照射領域６４が配置されている。
【００３６】
図６（Ｂ）〜（Ｄ）は「ぼかしパターン」の一例を示す。図６（Ｂ）に示すぼかしパターン６０Ｂには、６個の暗画素からなる遮光領域６２（白枠で囲んだ部分）が配置され、遮光領域６２を取り囲む周辺領域６６には１４個の暗画素が配置されている。遮光領域６２及び周辺領域６６以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。遮光領域６２と周辺領域６６とは、予め定めた形状（この例では４画素×５画素の矩形状）の領域６８となるように配置されている。
【００３７】
図６（Ｃ）に示すぼかしパターン６０Ｃには、６個の暗画素からなる遮光領域６２が配置され、遮光領域６２を取り囲む周辺領域６６には８個の暗画素と６個の明画素とが略交互に配置されている。遮光領域６２及び周辺領域６６以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。遮光領域６２と周辺領域６６とは、予め定めた形状の領域６８となるように配置されている。
【００３８】
図６（Ｄ）に示すぼかしパターン６０Ｄには、予め定めた形状の領域６８に２０個の暗画素が配置され、この領域６８を取り囲む周辺領域７０には１１個の暗画素と１１個の明画素とが略交互に配置されている。領域６８及び周辺領域７０以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。
【００３９】
次に、ステップ１１０で、生成した遮光パターン及び複数のぼかしパターンの中から、交互に照射する照射パターンを選択して、選択された照射パターンを設定する。同時に、照射時間、照射回数、選択された照射パターンの照射順序などを設定する。なお、遮光対象が検出されずにステップ１１０に進んだ場合は、全灯パターンを設定する。そして、設定された条件に基づいて、反射鏡アレイ４４の複数の反射鏡４４Ｍの各々をオン状態又はオフ状態とする制御情報を生成する。
【００４０】
次に、ステップ１１２で、生成された制御情報に基づいて、ライト駆動部２４を介して配光可変ライト２２からの光の照射を制御する。これにより、選択された照射パターンが交互に照射される。上記の通り、反射鏡アレイ４４の駆動周波数に応じて照射パターンが切替わる。
【００４１】
一般には、３０Ｈｚ以上の周波数で複数の照射パターンが切り替わっても、目視では複数の照射パターンを区別できない。従って、反射鏡アレイ４４の駆動周波数で複数の照射パターンが交互に照射されると、残像効果により遮光領域６２と照射領域６４との境界がぼけて見える。照射回数の多い画素の光量は増加し、照射回数の少ない画素の光量は減少する。
【００４２】
例えば、図６（Ｂ）〜（Ｄ）に示す３種類の「ぼかしパターン」を交互に照射すると、図７に示すように、照明領域に生成される光像８０Ａにおいて、遮光領域６２（白枠で囲んだ部分）と照射領域６４との間に、明度が段階的に変化する境界領域が生成される。
【００４３】
なお、上記では、図６（Ｂ）〜（Ｄ）に示す３種類の「ぼかしパターン」を交互に照射する例について説明したが、所望する境界領域の形態に応じて図６（Ａ）〜（Ｄ）に示す４種類の照射パターンの中から２以上の照射パターンを選択して交互に照射すればよい。例えば、図６（Ｂ）と図６（Ｃ）に示す２種類の照射パターンを交互に照射してもよく、図６（Ａ）〜（Ｄ）に示す４種類の照射パターンを交互に照射してもよい。
【００４４】
＜照射パターンの変形例＞
次に、ぼかしパターンの変形例について説明する。
【００４５】
（変形例１）
図８（Ａ）〜（Ｃ）は照射パターン（ぼかしパターン）の他の一例を示す模式図である。図８（Ａ）に示すぼかしパターン６０Ｅには、１２個の暗画素からなる遮光領域６２（白枠で囲んだ部分）が配置され、遮光領域６２の左右両側の周辺領域６６には左右４個ずつ暗画素が配置されている。遮光領域６２及び周辺領域６６以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。遮光領域６２と周辺領域６６とは、予め定めた形状（この例では４画素×５画素の矩形状）の領域６８となるように配置されている。
【００４６】
図８（Ｂ）及び図８（Ｃ）に示すぼかしパターンは、図８（Ａ）に示すぼかしパターン６０Ｅの領域６８を図面上で１画素分左右にずらしたものである。遮光領域６２と周辺領域６６とは、予め定めた形状の領域６８となるように配置されている。
【００４７】
図８（Ｂ）に示すぼかしパターン６０Ｆには、１２個の暗画素からなる遮光領域６２が配置され、遮光領域６２の左側の周辺領域６６には８個の暗画素が配置されている。遮光領域６２及び周辺領域６６以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。        
【００４８】
図８（Ｃ）に示すぼかしパターン６０Ｇには、１２個の暗画素からなる遮光領域６２が配置され、遮光領域６２の右側の周辺領域６６には８個の暗画素が配置されている。遮光領域６２及び周辺領域６６以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。
【００４９】
例えば、図８（Ａ）〜（Ｃ）に示す３種類の「ぼかしパターン」を交互に照射すると、図９に示すように、照明領域に生成される光像８０Ｂにおいて、遮光領域６２（白枠で囲んだ部分）と照射領域６４との間に、残像効果により明度が段階的に変化する境界領域が生成される。この場合は、遮光領域６２の左右両側に境界領域が形成される。なお、所望する境界領域の形態に応じて図８（Ａ）〜（Ｃ）に示す３種類の照射パターンの中から２以上の照射パターンを選択して交互に照射してもよい。
【００５０】
同様に、図８（Ａ）に示すぼかしパターン６０Ｅ、図８（Ａ）に示すぼかしパターン６０Ｅの領域６８を図面上で１画素分上側にずらしたぼかしパターン、及び図８（Ａ）に示すぼかしパターン６０Ｅの領域６８を図面上で１画素分下側にずらしたぼかしパターンの、３種類の「ぼかしパターン」を交互に照射すると、遮光領域の上下両側に境界領域が形成される。
【００５１】
（変形例２）
図１０（Ａ）〜（Ｃ）は照射パターン（ぼかしパターン）の他の一例を示す模式図である。図１０（Ａ）に示すぼかしパターン６０Ｈには、６個の暗画素からなる遮光領域６２（白枠で囲んだ部分）が配置され、遮光領域６２を取り囲む周辺領域６６には１４個の暗画素が配置されている。遮光領域６２及び周辺領域６６以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。遮光領域６２と周辺領域６６とは、予め定めた形状（この例では４画素×５画素の矩形状）の領域６８となるように配置されている。
【００５２】
図１０（Ｂ）〜（Ｅ）に示すぼかしパターンは、図１０（Ａ）に示すぼかしパターン６０Ｈの領域６８を図面上で１画素分上下左右にずらしたものである。遮光領域６２と周辺領域６６とは、予め定めた形状の領域６８となるように配置されている。
【００５３】
図１０（Ｂ）に示すぼかしパターン６０Ｉには、６個の暗画素からなる遮光領域６２が配置され、遮光領域６２の左右両側及び上側の周辺領域６６には１４個の暗画素が配置されている。遮光領域６２及び周辺領域６６以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。
【００５４】
図１０（Ｃ）に示すぼかしパターン６０Ｊには、６個の暗画素からなる遮光領域６２が配置され、遮光領域６２の左右両側及び下側の周辺領域６６には１４個の暗画素が配置されている。遮光領域６２及び周辺領域６６以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。
【００５５】
図１０（Ｄ）に示すぼかしパターン６０Ｋには、６個の暗画素からなる遮光領域６２が配置され、遮光領域６２の左側及び上下両側の周辺領域６６には１４個の暗画素が配置されている。遮光領域６２及び周辺領域６６以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。
【００５６】
図１０（Ｅ）に示すぼかしパターン６０Ｌには、６個の暗画素からなる遮光領域６２が配置され、遮光領域６２の右側及び上下両側の周辺領域６６には１４個の暗画素が配置されている。遮光領域６２及び周辺領域６６以外には、明画素からなる照射領域６４が配置されている。
【００５７】
例えば、図１０（Ａ）〜（Ｅ）に示す５種類の「ぼかしパターン」を交互に照射すると、図１１に示すように、照明領域に生成される光像８０Ｃにおいて、遮光領域６２（白枠で囲んだ部分）と照射領域６４との間に、残像効果により明度が段階的に変化する境界領域が生成される。なお、所望する境界領域の形態に応じて図１０（Ａ）〜（Ｅ）に示す５種類の照射パターンの中から２以上の照射パターンを選択して交互に照射してもよい。
【００５８】
（変形例３）
図１２（Ａ）及び（Ｂ）は照射パターン（ぼかしパターン）の他の一例を示す模式図である。なお、この例では、１ブロックは複数の画素から構成されている。図１２（Ａ）に示すぼかしパターン６０ＭＸ（ｘ＝１）には、複数の暗画素からなる遮光領域６２が配置されている。遮光領域６２を取り囲む周辺領域６６には、３層の中間層６６Ａ、中間層６６Ｂ及び中間層６６Ｃが、遮光領域６２から外側に向かって記載した順に配置されている。なお、中間層は３層に限らず、所望する境界領域の形態に応じて任意の層数としてもよい。
【００５９】
図１２（Ａ）の領域Ａを拡大すると、図１２（Ｂ）に示すように、３層の中間層６６Ａ〜６６Ｃの各々は、複数の暗画素と複数の明画素とが予め定めた比率で配置され、遮光領域６２に近い中間層６６Ａから外側に向かって暗画素の比率が低下する。他のぼかしパターン６０Ｍｘ（ｘは２以上の整数）は、中間層６６Ａ〜６６Ｃの各々について複数の暗画素と複数の明画素の配置をランダムに変化させたパターンである。
【００６０】
例えば、図１２（Ａ）に示すｘ種類の「ぼかしパターン」を交互に照射すると、図１２（Ａ）に示すように、照明領域に生成される光像８０Ｄにおいて、遮光領域６２（白枠で囲んだ部分）と照射領域６４との間に、残像効果により明度が段階的に変化する境界領域が生成される。
【００６１】
なお、上記実施の形態で説明した照明装置の構成は一例であり、本発明の主旨を逸脱しない範囲内においてその構成を変更してもよいことは言うまでもない。例えば、ぼかしパターンは例示したものに限定される訳ではない。
【００６２】
交互に照射される複数の照射パターンは、遮光対象を遮光する複数の暗画素からなる遮光領域を含み且つ遮光領域の周辺における暗画素及び明画素の配置状態が互いに異なる複数の照射パターンであればよい。これら複数の照射パターンを交互に照射すれば、残像効果により遮光領域と照射領域との間に明度が段階的に変化する境界領域が生成される。従って、ぼかしパターンについては種々の変形例がある。
【符号の説明】
【００６３】
１０   照明装置
１２   自車両
１４   撮像装置
１６   ヘッドライト
１８   制御装置
２０   ドライバ
２２   配光可変ライト
２４   ライト駆動部
２６   画像取得部
２８   遮光対象検出部
３０   遮光パターン生成部
３２   ぼかしパターン生成部
３４   照射パターン設定部
３６   照明制御部
４０   光源
４２   球面鏡
４４   反射鏡アレイ
４４Ｓ 基板
４４Ｍ 反射鏡
４６   投光レンズ
４８   光吸収体
５０   遮光対象
５２   照明領域
５４   遮光領域
５６   照射領域
６０Ａ 遮光パターン
６０Ｂ〜Ｌ    ぼかしパターン
６０Ｍｘ      ぼかしパターン
６２   遮光領域
６４   照射領域
６６   周辺領域
６６Ａ〜６６Ｃ       中間層
６８   領域
７０   周辺領域
８０Ａ〜８０Ｄ       光像
【図１】
0005955356.tif 000002
【図２】
0005955356.tif 000003
【図３】
0005955356.tif 000004
【図４】
0005955356.tif 000005
【図５】
0005955356.tif 000006
【図６】
0005955356.tif 000007
【図７】
0005955356.tif 000008
【図８】
0005955356.tif 000009
【図９】
0005955356.tif 000010
【図１０】
0005955356.tif 000011
【図１１】
0005955356.tif 000012
【図１２】
0005955356.tif 000013