(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を洗浄する洗浄装置において、
外面が中心軸の回りに位置決めされている本体部分を有する略円筒ブラシマンドレルであって、前記外面には、第２の特徴部に隣接する第１の特徴部を有する第１の係合部が形成されている略円筒ブラシマンドレルと、
前記ブラシマンドレルの周囲に成形される中空ボアを有する円筒ブラシであって、前記中空ボアは、前記ブラシマンドレルの前記第１の係合部と嵌合するとと共に該第１の係合部を囲む第２の係合部が形成されている内面を有する円筒ブラシとを具備し、
前記第１の特徴部は、前記ブラシマンドレルに対する前記円筒ブラシの回転方向移動を防止するように前記中心軸回りの前記ブラシマンドレルの回転方向に対して概ね垂直な方向に続く第１の表面であり、前記第２の特徴部は、前記第１の表面に対して概ね垂直な方向に、かつ前記中心軸に沿って続く第２の表面であり、該第２の表面は、前記ブラシマンドレルに対する前記円筒ブラシの軸方向移動を防止するように、前記中心軸により近い第１の部分と、前記中心軸から前記第１の部分よりも遠くに離れている第２の部分とを有し、
前記第１の特徴部は、第１の端を始端とすると共に第２の端を終端とするチャネルであり、前記第２の特徴部は、前記チャネルの前記第１の端において第１の湾曲テーパー部と、前記チャネルの前記第２の端において第２の湾曲テーパー部とを有する、前記チャネルの底部における湾曲面である洗浄装置。
【請求項２】
前記本体部分は、該本体部分の前記中心軸に沿って流体を受け取る流体通路を形成し、該流体通路から該本体部分の前記外面に流体を流通させる細孔を該本体部分の前記外面から前記流体通路にかけて形成する請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
回転機構を係合させる、前記ブラシマンドレルと連結される回転係合部を更に備える請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記円筒ブラシは、該円筒ブラシの外面上に複数の突起部を有する請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項５】
基板を洗浄する洗浄装置において、
外面が中心軸の回りに対称に位置決めされている本体部分を有する略円筒ブラシマンドレルであって、前記外面には、第２の特徴部に隣接する第１の特徴部を有する第１の係合部が形成されている略円筒ブラシマンドレルと、
前記ブラシマンドレルの周囲に成形される中空ボアを有する円筒ブラシであって、前記中空ボアは、前記ブラシマンドレルの前記第１の係合部と嵌合するとと共に該第１の係合部を囲む第２の係合部が形成されている内面を有する円筒ブラシとを具備し、
前記第１の特徴部は、前記中心軸回りの前記ブラシマンドレルの回転方向に対して概ね垂直な方向に続き、前記外面に対して概ね垂直である第１の表面を含み、前記第２の特徴部は、前記第１の表面に対して概ね垂直な方向に、かつ前記中心軸に沿って続く第２の表面を含み、第１の特徴部は、第２の特徴部から径方向外側に一直線上に配置されておらず、
前記第２の表面は、前記ブラシマンドレルに対する前記円筒ブラシの軸方向移動を防止するように、前記中心軸により近い第１の部分と、前記中心軸から前記第１の部分よりも遠くに離れている第２の部分とを有し、
前記第１の特徴部は、第１の端を始端とすると共に第２の端を終端とするチャネルであり、前記第２の特徴部は、前記チャネルの前記第１の端において第１の湾曲テーパー部と、前記チャネルの前記第２の端において第２の湾曲テーパー部とを有する、前記チャネルの底部における湾曲面である洗浄装置。
【請求項６】
前記本体部分は、該本体部分の前記中心軸に沿って流体を受け取る流体通路を形成し、該流体通路から該本体部分の前記外面に流体を流通させる細孔を該本体部分の前記外面から前記流体通路にかけて形成する請求項５に記載の洗浄装置。
【請求項７】
回転機構を係合させる、前記ブラシマンドレルと連結される回転係合部を更に備える請求項５に記載の洗浄装置。
【請求項８】
前記円筒ブラシは、該円筒ブラシの外面上に複数の突起を有する請求項５に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は包括的には、物品を洗浄する方法および装置に関する。本発明は、より詳細には、半導体基板を洗浄するのに使用されるブラシを保持するブラシマンドレルに関する。
【０００２】
［関連出願の相互参照］
本出願は、米国特許商標庁に2011年6月8日に出願された米国仮特許出願第61/494,786号「BRUSH CORE FOR PVA SPONGE BRUSH」の優先権の利益に基づくと共にその利益を主張するものであり、この米国仮特許出願の内容はその全体が、法が認める限りにおいて、引用することにより本明細書の一部をなす。
【０００３】
本出願は、米国特許商標庁に2011年6月8日に出願された米国意匠特許出願第29/393,743号「BRUSH CORE FOR SPONGE BRUSH」の優先権の利益を主張するものであり、この米国意匠特許出願の内容はその全体が、法が認める限りにおいて、本明細書に引用することにより本明細書の一部をなす。
【背景技術】
【０００４】
従来、化学機械研磨(CMP)後処理を行う自動洗浄システムにおいて、成型された円筒状のポリビニルアルコール(PVA)ブラシが、半導体ウェハーまたは他の円盤状の基板等の基板の表面を効果的に洗浄するのに使用される。円筒状のポリビニルアルコールブラシはまた洗浄システムにおいて、フラットパネルディスプレイ製造、ガラス製造およびプリント回路基板組立ての際にガラスおよび他の非円盤形状の基板を洗浄および乾燥するのに使用される。円筒ブラシは、例えば、短くは５０ｍｍ程度の長さから長くは１０ｍ程度の長さを有することが好ましい。
【０００５】
円筒ブラシは、洗浄処理において、中心ブラシマンドレル上に配設され該中心ブラシマンドレルによって駆動される。円筒ブラシと中心ブラシマンドレルとの間での正確で安定した連結が望ましい。円筒ブラシは、基板を洗浄することに役立つ突起をその外面上に有することができる。
【０００６】
円筒ブラシは、その軸を中心として正確に回転すると共に、その有効寿命にわたって略一定の突起圧パターンを略円筒状の表面に与えることが期待され、これにより、最短時間で基板表面全体が最適に洗浄され、基板表面への損傷が最小限となる。
【０００７】
幾つかの例では、円筒ブラシは、中心ブラシマンドレルの周囲に成形される。例えば、ブラシマンドレルを金型内に配置し、ポリビニルアルコールのような化学品の混合物を金型内に射出して円筒ブラシを中心ブラシマンドレルの周囲に成形することができる。図１Ａ、１Ｂを参照すると、前述のブラシマンドレルの構成では、ブラシマンドレル３０が、その外面５４上に形成された、円筒ブラシをより良好に係合および保持する複数の異形凹所、穴、開口５２を有することができる。円筒ブラシ１１０はブラシマンドレル３０の周囲に成形されるため、円筒ブラシ１１０が成形されるにつれ、気泡が開口５２内に捕捉され、開口５２内に滞留するかまたは上昇して円筒ブラシ１１０内に捕捉される可能性がある。捕捉された気泡は、円筒ブラシ１１０が設計された通りに性能を果たすことを妨げる欠陥を円筒ブラシ１１０内に形成する。
【０００８】
さらに、円筒ブラシの寿命にわたって通常、ブラシがブラシマンドレル上で部分的に滑ることによって軸方向または回転方向に移動することがあり、これでは性能が不十分とみなされる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そのため、円筒ブラシと中心ブラシマンドレルとの間に正確で安定した連結を提供することができると共に、気泡が形成することを防止することができるか、或いは、気泡が円筒ブラシ内に捕捉されることを防止することができるブラシマンドレルを有することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
一態様では、基板を洗浄する洗浄装置が提供される。洗浄装置は、略円筒ブラシマンドレルと、円筒ブラシとを備えるが、それらに限定されない。ブラシマンドレルは、外面が中心軸の回りに位置決めされている本体部分を有する。外面には、第２の特徴部に隣接する第１の特徴部を有する第１の係合部が形成。されている。円筒ブラシは、ブラシマンドレルの周囲に成形される中空ボアを有する。中空ボアは、ブラシマンドレルの第１の係合部と嵌合するとと共に第１の係合部を囲む第２の係合部が形成されている内面を有する。第１の特徴部は、ブラシマンドレルに対する円筒ブラシの回転方向移動を防止するように中心軸回りのブラシマンドレルの回転方向に対して概ね垂直な方向に続く（flow）第１の表面である。第２の特徴部は、第１の表面に対して概ね垂直な方向に、かつ中心軸に沿って続く第２の表面である。第２の表面は、ブラシマンドレルに対する円筒ブラシの軸方向移動を防止するように、中心軸により近い第１の部分と、中心軸から第１の部分よりも遠くに離れている第２の部分とを有する。
【００１１】
一態様では、基板を洗浄する洗浄装置が提供される。洗浄装置は、略円筒ブラシマンドレルと、円筒ブラシとを備えるが、それらに限定されない。ブラシマンドレルは、外面が中心軸の回りに対称に位置決めされている本体部分を有する。外面には、第２の特徴部に隣接する第１の特徴部を有する第１の係合部が形成。されている。円筒ブラシは、ブラシマンドレルの周囲に成形される中空ボアを有する。中空ボアは、ブラシマンドレルの第１の係合部と嵌合するとと共に該第１の係合部を囲む第２の係合部が形成されている内面を有する。第１の特徴部は、中心軸回りのブラシマンドレルの回転方向に対して概ね垂直な方向に続き、外面に対して概ね垂直である第１の表面を含む。第２の特徴部は、第１の表面に対して概ね垂直な方向に、かつ中心軸に沿って続く第２の表面を含む。第１の特徴部は、第２の特徴部にわたって形成され径方向妨げ特徴部を備えていない。
【００１２】
一態様では、基板を洗浄する方法が提供される。本方法は、外面が中心軸の回りを包囲しているブラシマンドレルの周囲に成形される中空ボアを有する略円筒ブラシを有する洗浄装置と基板とを係合させることを含むがこれに限定されない。外面には、第２の特徴部に隣接する第１の特徴部を有する第１の係合部が形成。されている。円筒ブラシは、ブラシマンドレルの周囲に成形される中空ボアを有する。中空ボアは、ブラシマンドレルの第１の係合部と嵌合するとと共に第１の係合部を囲む第２の係合部が形成されている内面を有する。第１の特徴部は、中心軸回りのブラシマンドレルの回転方向に対して概ね垂直な方向に続き、外面に対して概ね垂直である第１の表面を含む。第２の特徴部は、第１の表面に対して概ね垂直な方向に、かつ中心軸に沿って続く第２の表面を含む。第１の特徴部は、第２の特徴部にわたって形成され径方向に妨げる特徴部を備えていない。
【００１３】
本発明は、添付の図面および記載を参照しながらより良く理解することができる。図中の構成要素は、必ずしも同縮尺で描かれておらず、代わりに、本発明の原理を例示することに重点が置かれている。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１Ａ】従来のマンドレルを示す図である。
【図１Ｂ】従来のブラシとマンドレルとの組合せを示す図である。
【図２Ａ】本発明の一実施形態によるブラシとマンドレルを示す図である。
【図２Ｂ】本発明の一実施形態によるブラシとマンドレルを示す図である。
【図２Ｃ】本発明の一実施形態によるブラシとマンドレルを示す図である。
【図２Ｄ】本発明の一実施形態によるブラシとマンドレルを示す図である。
【図２Ｅ】本発明の一実施形態によるブラシとマンドレルを示す図である。
【図２Ｆ】本発明の一実施形態によるブラシとマンドレルを示す図である。
【図２Ｇ】本発明の一実施形態によるブラシとマンドレルを示す図である。
【図２Ｈ】本発明の一実施形態によるブラシとマンドレルを示す図である。
【図３】本発明の一実施形態による、基板を洗浄、研磨する洗浄システムの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明に従った方法およびシステムは、ブラシの回転方向および軸方向の滑りを低減することによって、また、ブラシ内での不所望な気泡の形成を最小限に抑えることによって、従来のブラシおよびブラシ−マンドレル装置の不利益を克服する。特に、円筒ブラシは、第１の特徴部および第２の特徴部を有する第１の係合部が形成。されている外面を有するブラシマンドレルの周囲に成形される。第１の特徴部は、第２の特徴部にわたって形成され径方向に妨げる特徴部を有していない。それによって、ブラシをブラシマンドレルの周囲に成形する際、第１の係合部またはブラシ内に気泡が捕捉されることが防止される。
【００１６】
図３を参照すると、基板１０４を洗浄、研磨する洗浄システム１００が示されている。洗浄システム１００は、基板１０４、より詳細には基板１０４の表面１０６を研磨および／または洗浄するように自動または手動で設定することができる自動洗浄システムであることが好ましい。基板１０４は、ガラス、乾燥ガラス、半導体ウェハー、フラットパネルディスプレイのガラスパネル、ガラス製品パネルおよびプリント回路基板を含むシリコン系基板、ポリマー系基板、シリコン系半導体基板、単元素半導体基板、シリコンオンインシュレーター(SOI: silicon on insulator)基板、III-V族半導体基板、II-VI族半導体、他の二元半導体基板、三元半導体基板、四元半導体基板等の種々のタイプの半導体基板、光ファイバー基板、超伝導基板、ガラス基板、溶融石英基板、溶融シリカ基板、エピタキシャルシリコン基板、並びに有機半導体基板等の、多様な円盤状または非円盤状の基板のうちの任意の１つを含む。
【００１７】
図２Ａ〜図２Ｇおよび図３を参照すると、洗浄システム１００は、中空ボア１１２を有する略円筒ブラシ１１０と、ブラシ１１０と中空ボア１１２内で係合するブラシマンドレル１３０と、ブラシマンドレル１３０と係合する回転装置１０２とを備える。円筒ブラシ１１０は、化学機械研磨(CMP)後処理を行う自動洗浄システムにおいて、基板１０４の表面１０６を効果的に洗浄するのに従来的に使用されるかまたは使用することができる、成型された円筒状のポリビニルアルコール(PVA)発泡ブラシ、ポリウレタン発泡ブラシまたは他のポリマー発泡ブラシ等の任意のブラシとすることができる。
【００１８】
図２Ｈを参照すると、円筒ブラシ１１０は、中空ボア１１２を形成すると共に第２の係合部１１６が形成される内面１１３とは反対側に洗浄用外面１１４を有する。中空ボア１１２は、好ましくは、ブラシ１１０を、予め成形されているブラシマンドレル１３０の回りに射出成型することによって、ブラシマンドレル１３０の周囲に成形される。中空ボア１１２は、円筒ブラシ１１０の内面１１３によって画定される。第２の係合部１１６が第１の係合部１４０の周囲に成形されることから、内面１１３には、ブラシマンドレル１３０の第１の係合部１４０と嵌合すると共に第１の係合部１４０を囲む第２の係合部１１６が形成される。
【００１９】
第２の係合部１１６は、中空ボア１１２の輪郭を画定し、ブラシマンドレル１３０の第１の係合部１４０と嵌合すると共に第１の係合部１４０を囲む。図１Ｂを参照すると、ブラシマンドレル１３０の回転軸ａ1に対して垂直なＡ−Ａの線に沿った、第２の係合部１１６の断面に沿って、中空ボア１１２の輪郭が画定されている。ブラシマンドレル１３０とブラシ１１０との間での滑りおよび移動を防止するように、第２の係合部１１６を第１の係合部１４０の周囲に成形することによって、ブラシ１１０はブラシマンドレル１３０にしっかりと嵌め合わされる。
【００２０】
洗浄用外面１１４は、図３に示すように、概ね滑らかとすることができるか、または、図１Ｂに示すように、チャネル１２０が間に形成されている突起１１８を有することができる。チャネル１２０を伴った突起１１８を有することは、ブラシ１１０が或る特定の基板１０４をより良好に洗浄することに役立ち得る。チャネル１２０、ライン、縁、点または他の隆起表面すなわち突起１１８等の、洗浄用外面１１４の表面特徴部を組み込んで、増大するトルク伝達レベルで有益な効果を有することができるが、洗浄用外面１１４の幾何学形状変化へのその影響、また、ブラシ１１０をブラシマンドレル１３０上に成形する困難性へのその影響にも起因して制限される可能性がある。
【００２１】
図３、２Ａ〜図２Ｇを参照すると、ブラシマンドレル１３０がブラシ１１０と中空ボア１１２内で係合する。ブラシマンドレル１３０は、ブラシ１１０の中空ボア１１２を画定している内面１１３と係合すると共に内面１１３に固定される外面１３３を形成している本体部分１３２を有する。
【００２２】
ブラシマンドレル１３０は略円筒状であることが好ましい。本明細書において定義されるように、ブラシマンドレル１３０等の略円筒状の部材は、長手方向中心軸ａ1の周囲に成形される部材であり、この部材が中心軸ａ1回りに回転する際に部材が発生させる遠心力が±２０％しか変化しないことで比較的バランスよく配置されたブラシマンドレル１３０を提供するように中心軸ａ1の回りにバランスよく配置させることが好ましい。そのため、ブラシマンドレル１３０は、完全な円筒状の外面１３３を有する必要はないが、第１の係合部１４０等の凹凸部(interruption)をその外面１３３に有し得る。
【００２３】
図２Ｄを参照すると、外面１３３は、ブラシマンドレル１３０の中心軸ａ1の回りに位置決めされることが好ましく、ブラシマンドレル１３０の中心軸ａ1の回りに対称に位置決めされることがより好ましい。ブラシ１１０とブラシマンドレル１３０との間での回転方向移動と、好ましくは軸方向移動とを防止するために、外面１３３の外形すなわち輪郭に、第１の係合部１４０が形成。され得る。回転方向移動は本明細書において、図１Ｂに示すように、回転軸ａ1回りでの回転方向αに沿った移動と定義することができる。軸方向移動は本明細書において、回転軸ａ1の±３０°内で回転軸ａ1に対して概ね垂直である軸方向γに沿った移動と定義される。第１の係合部１４０は、ブラシ１１０の第２の係合部１１６とより良好に係合するために、外面１３３の概ねの輪郭に形成。する任意の特徴部である。第１の係合部１４０は、図２Ａ〜図２Ｇ、３において示すように、ブラシ１１０をブラシマンドレル１３０に効果的に軸方向に固定するために、１つのバンド若しくは一連のバンド、１つのリッジ若しくは一連のリッジ、または１つのチャネル１７４若しくは一連のチャネル１７４のような特徴部を外面１３３に沿った任意の数の場所に有する。
【００２４】
一実施形態では、第１の係合部は、図２Ａ、２Ｂに示すように、ブラシマンドレル１３０の回転軸ａ1の±３０°内で回転軸ａ1に対して概ね平行であることが好ましい方向に、ブラシマンドレル１３０の長さに沿って延びる１つのチャネル１７４または一連のチャネル１７４を有する。しかしながら、チャネル１７４は、ブラシマンドレル１３０の回転軸ａ1の±３０°内で回転軸ａ1に対して概ね垂直であると共に、ブラシマンドレル１３０の回転方向αの±３０°内で回転方向αに対して概ね平行であることが好ましい方向に、ブラシマンドレル１３０を包囲することができる。一実施形態では、チャネル１７４は、ブラシマンドレル１３０を螺旋パターンで包囲する。
【００２５】
図２Ａ、２Ｇを参照すると、第１の係合部１４０は、第２の特徴部１８０に隣接する第１の特徴部１７０を有することが好ましい。第１の特徴部１７０は、ブラシマンドレル１３０に対する円筒ブラシ１１０の回転方向移動を防止するように、外面１３３から中心軸ａ1に向かって、中心軸ａ1回りのブラシマンドレル１３０の回転方向αの±３０°内で回転方向αに対して概ね垂直な方向に続く第１の表面１７２を有することが好ましい。第１の表面はチャネル１７４の側壁を形成することが好ましい。
【００２６】
第２の特徴部１８０は、第１の表面１７２の±３０°内で中心軸ａ1に沿って第１の表面１７２に対して概ね垂直な方向に続く第２の表面１８２であることが好ましい。第２の表面１８２はまた、外面１３３の±６０°内で外面１３３に対して概ね平行であることが好ましい。第２の表面１８２は、ブラシマンドレル１３０に対する円筒ブラシ１１０の軸方向移動を防止するように、中心軸ａ1により近い第１の部分１８４と、中心軸ａ1から第１の部分１８４よりも遠くに離れている第２の部分１８６とを有することが好ましい。円筒ブラシ１１０をブラシマンドレル１３０の周囲に成形する際にチャネル１７４またはブラシ１１０内での気泡１９２の捕捉を防止するように、鋭利な縁または角がないことが好ましい滑らかな遷移部が第１の部分１８４と第２の部分１８６との間にあることが好ましい。滑らかな移行部は、図２Ａに示すように、一連の湾曲した突出部(hills)および凹部(valleys)であることが好ましい。
【００２７】
チャネル１７４は、第１の端１７５を始端とすると共に第２の端１７６を終端としており、第２の特徴部１８０は、チャネル１７４の第１の端１７５において第１の湾曲テーパー部１７７と、チャネル１７４の第２の端１７６において第２の湾曲テーパー部１７８とを有する、チャネル１７４の底部における湾曲面１８２であることが好ましい。湾曲面１８２と共に第１のテーパー部１７７および第２のテーパー部１７８は、気泡１９２が内部または上に捕捉されるほど鋭利な縁または角がないため、円筒ブラシ１１０をブラシマンドレル１３０の周囲に成形する際にチャネル１７４またはブラシ１１０内での気泡１９２の捕捉を防止することに役立つ。
【００２８】
第２の特徴部１８０を囲むと共に第２の特徴部１８０に隣接することが好ましい第１の特徴部１４０、好ましくは第１の表面１７２は、第２の特徴部１８０にわたって形成される径方向に妨げる特徴部を備えていないことが好ましい。径方向に妨げる特徴部は、第２の特徴部１８０の表面１８２の一点から、外面１３３に形成されている開口１９０を通して真っ直ぐな線を引いた場合を除いて、その真っ直ぐな線が第１の特徴部１７０のいかなる部分も通ることも触れることもない、第２の特徴部１８０にわたって形成される任意の特徴部である。このようにして、円筒ブラシ１１０をブラシマンドレル１３０の周囲に成形する際に第１の特徴部１７０の部分は気泡１９２がチャネル１７４を出ることを遮ることも妨げることもない。
【００２９】
図２Ｄ、２Ｅを参照すると、流体通路１５０から本体部分１３２の外面１３３に、また、通路１５８を通してブラシ１１０に研磨用流体を流通させる細孔１５６が、本体部分１３２の外面１３３から流体通路１５０にかけて形成されていることが好ましい。
【００３０】
第１の係合部１４０および第２の係合部１１６に起因して、ブラシマンドレル１３０の外面１３３とブラシ１１０の内面１１３との間の物理的な嵌合により、有意な耐滑り性がもたらされる。この耐滑り性は、接着、マンドレルの表面処理（化学的、物理的、コロナ放電等）を含む他の方法、または、刻み目、鋭利な縁、フック、点、キー溝若しくは他の連結部のような更なる表面特徴部によって更に向上させることができる。
【００３１】
図２Ｅ、２Ｆ、３を参照すると、一実施形態では、ブラシマンドレル１３０はまた、回転装置１０２と係合、連結する回転係合部１６０、１６２を備える。回転係合部１６０、１６２は、別の機構と連結するかまたは別の機構に固定するのに使用することができる任意の機構であり、ナット形小片のような、ブラシマンドレル１３０と一体形成され回転装置１０２に固定可能な構成を備える。回転装置１０２は、電気モーター、ガスモーターまたはガスエンジン、モーターや手動で駆動されるクランクシャフト動力装置、或いは、プーリー、ホイール、機械的なリンク機構および／または自動若しくは手動により駆動される歯車の任意の組合せのようなブラシマンドレル１３０を回転運動させる装置を含む。回転装置１０２は、ブラシマンドレル１３０を回転装置１０２に係合、連結させるための回転係合部１６０、１６２と連結する相補的な係合部を有している。
【００３２】
作用を説明する。ブラシ１１０を、好ましくはブラシ１１０をブラシマンドレル１３０の回りに射出成形することによって、ブラシマンドレル１３０の周囲に成形する。ブラシ１１０をブラシマンドレル１３０の周囲に成形すると、ブラシマンドレル１３０およびブラシ１１０を次に、回転装置１０２との連結時に回転係合部１６０を係合部と連結することによって回転装置１０２と連結する。次に、ブラシ１１０を回転軸ａ1回りに回転方向αに沿って回転させる。ブラシ１１０を回転させている間、またはブラシ１１０を回転させる前に、ブラシ１１０を基板１０４の表面１０６近くに配置して表面１０６と係合させる。表面１０６上でのブラシ１１０の回転運動は、表面１０６を洗浄および／または研磨することに役立つ。図３を参照すると、一実施形態では、基板１０４を同様に回転軸ａ2回りに回転方向βに沿って回転させる。一実施形態では、本体部分１３２に形成されている流体通路１５０を通し、また、本体部分１３２の外面１３３から流体通路１５０にかけて形成されている細孔１５６を通してブラシ１１０内に研磨用流体を圧送する。研磨用流体は、基板１０４を更に洗浄および／または研磨することに役立つ。
【００３３】
上記の例示的な例は、半導体基板１０４を洗浄するのに使用される円筒状のＰＶＡブラシ１１０を記載しているが、当業者は、本発明に従った方法およびシステムがそれに限定されないことを理解するであろう。例えば、ブラシ１１０は、他の材料を含むことができ、他のタイプの基板１０４の（正：of）表面１０６を洗浄するのに使用することができる。さらに、ブラシ１１０は円筒状を有することに限定されず、任意の形状または形態を有することができる。
【００３４】
要約書(Abstract of the Disclosure)が、読み手が技術開示の本質を迅速につきとめることを可能にするために提供される。その理解を踏まえれば、要約書は特許請求の範囲の範囲または意味を解釈または限定するのに用いられるのではないことが示される。加えて、上記の発明を実施するための形態において、種々の特徴が、本開示を合理化する目的から種々の実施形態にともにグループ化されていることがわかることができる。本開示の方法は、実施形態が各特許請求の範囲において明記されているよりも多くの特徴を要するという意図を反映するものと解釈されるべきではない。むしろ、添付の特許請求の範囲が反映されるため、本発明の主題は、開示されている１つの実施形態の全ての特徴を満たさない。したがって、添付の特許請求の範囲は、発明を実施するための形態に含まれ、各特許請求の範囲はそれ自体が別個に請求される主題としてのものである。
【００３５】
本発明の種々の実施形態を記載してきたが、当業者には本発明の範囲内で他の実施形態および実施態様が可能であることが明白であろう。したがって、本発明は、添付の特許請求の範囲およびその等価物を除き、限定されないものとする。
【符号の説明】
【００３６】
１００    洗浄システム
１０２    回転装置
１０４    基板
１０４    半導体基板
１０６    表面
１０６    （正：ｏｆ）表面
１１０    円筒ブラシ
１１０    略円筒ブラシ
１１０    ブラシ
１１２    中空ボア
１１３    内面
１１４    洗浄用外面
１１６    第２の係合部
１１８    突起
１２０    チャネル
１３０    ブラシマンドレル
１３２    本体部分
１３３    外面
１４０    第１の係合部
１４０    第１の特徴部
１５０    流体通路
１５６    細孔
１５８    通路
１６０    回転係合部
１６２    回転係合部
１７０    第１の特徴部
１７２    第１の表面
１７４    チャネル
１７５    第１の端
１７６    第２の端
１７７    第１の湾曲テーパー部
１７７    第１のテーパー部
１７８    第２の湾曲テーパー部
１７８    第２のテーパー部
１８０    第２の特徴部
１８２    第２の表面
１８２    湾曲面
１８２    表面
１８４    第１の部分
１８６    第２の部分
１９０    開口
１９２    気泡
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図２Ｆ】
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【図２Ｇ】
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【図２Ｈ】
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【図３】
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