(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
［ＨＯ−（ＣＨ2）n−ＳＯ3］-          （１）
（式（１）中、ｎは１以上の整数である）
で示されるアニオンとアルカリ金属またはアルカリ土類金属とから形成されるヒドロキシアルキルスルホン酸塩を塩素化剤と反応させて、
下記式（２）
Ｃｌ−（ＣＨ2）n−ＳＯ2−Ｃｌ        （２）
（式（２）中、ｎは１以上の整数である）
で示されるクロロアルキルスルホニルクロリドを得る方法であって、
前記反応を、下記式（３）
【化１】
0006003896.tif 000005
（式（３）中、ｍは１または２であり、ｍが２の場合、複数のＲは各々同じであってもよいし異なってもよく、Ｒは、ハロゲン原子から選ばれる１種以上の極性基である）
で示される置換ベンゼン系溶媒中で行うことを特徴とするクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法。
【請求項２】
前記塩素化剤として、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リンおよび塩化スルフリルからなる群より選ばれる１種以上を用いるとともに、前記反応を前記置換ベンゼン系溶媒とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの混合溶媒中で行う請求項１に記載のクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法。
【請求項３】
前記Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの使用量は、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１モルに対して０．８モル以下とする請求項２に記載のクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法。
【請求項４】
前記反応は、前記置換ベンゼン系溶媒の沸点未満であり且つ４０℃以上の温度で行う請求項１〜３のいずれかに記載のクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法。
【請求項５】
前記反応は、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して１個目の塩素原子を導入する第１ステップと、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して２個目の塩素原子を導入する第２ステップに分けられ、前記第１ステップの際に前記塩素化剤の一部を添加し、前記第２ステップの際に前記塩素化剤の残部を添加する請求項１〜４のいずれかに記載のクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬、農薬、電子材料等として用いられる様々な有機化合物の合成中間体として有用なクロロアルキルスルホニルクロリドの製造技術の改良に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
クロロアルキルスルホニルクロリドは、例えば、医薬、農薬、電子材料等として用いられる様々な有機化合物の合成中間体として汎用されている。
クロロアルキルスルホニルクロリドの製法としては、例えば、３１５ｍＬのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）および６００ｍＬのジクロロメタンを収容した容器の中にイセチオン酸ナトリウム５００ｇを入れ、さらに１２１６ｇの塩化チオニルを滴下して４０〜６０℃で反応させることにより、クロロエチルスルホニルクロリドを合成する方法が知られている（特許文献１）。ここで、生成したクロロエチルスルホニルクロリドは、反応液を分液、洗浄、乾燥した後に、溶媒を留去させることにより単離されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第４２６９７９０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１記載の方法で得られたクロロエチルスルホニルクロリドは、純度が低く、収率も十分に満足しうるレベルに達するものではなかった。【０００５】
そこで、本発明は、純度が高いクロロアルキルスルホニルクロリドを収率良く良好な生産性で得ることができるクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、前記課題を解決するため、特許文献１に記載の方法において得られる目的物の純度および収率が低い原因を突き止めるべく鋭意研究を行った。その結果、溶媒留去時や蒸留時など、反応後に生成物を含む反応液を加熱する際に、ＤＭＦが残存していると、生成したクロロアルキルスルホニルクロリドが分解してしまうことを見出した。そしてこの知見に基づき、目的物分解の原因と考えられるＤＭＦを使用しないか若しくはその使用量を低減するべく試みたところ、ＤＭＦの使用量の削減に伴い、反応途中で反応液がホイップ状になり攪拌性が非常に悪くなってしまうこと、さらに反応後の分液性（特に２回目以降の分液性）も悪化することが分かった。ＤＭＦは塩化チオニルと付加体（ビルスマイヤー試薬）を形成して触媒的に塩素化反応を促進する作用をなすものであり、一般的には触媒量の使用でその役割を果たすと考えられるが、特許文献１では非常に多量のＤＭＦを使用している。その理由は、上記知見から、攪拌性や分液性を保つためであると推察される。【０００７】
本発明者は、以上の知見に鑑み、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩の塩素化反応の溶媒として、ＤＭＦを使用しないか若しくはその使用量を触媒量程度に低減した場合であっても反応液の良好な攪拌性および分液性を確保しうるような溶媒を選択すれば、目的とするクロロアルキルスルホニルクロリドの純度および収率を向上させることができるのではないかと考えた。そして種々の溶媒を検討した結果、所定の構造を持つ溶媒が上述した条件を満たすことを見出し、塩素化反応において該特定構造を持つ溶媒を用いれば、良好な攪拌性と分液性とを確保しつつ、クロロアルキルスルホニルクロリドを高い純度で収率良く得ることができることを確認し、本発明を完成した。【０００８】
すなわち、本発明のクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法は、下記式（１）
［ＨＯ−（ＣＨ2）n−ＳＯ3］−        （１）
（式（１）中、ｎは１以上の整数である)
で示されるアニオンとアルカリ金属またはアルカリ土類金属とから形成されるヒドロキシアルキルスルホン酸塩を塩素化剤と反応させて、下記式（２）
Ｃｌ−（ＣＨ2）n−ＳＯ２−Ｃｌ        （２）
（式（２）中、ｎは１以上の整数である)
で示されるクロロアルキルスルホニルクロリドを得る方法であって、前記反応を、下記式（３）【０００９】
【化１】
0006003896.tif 000002
（式（３）中、ｍは１〜３の整数であり、ｍが２以上の場合、複数のＲは各々同じであってもよいし異なってもよく、Ｒは、ハロゲン原子、−ＮＯ2基、−ＣＮ基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ1基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1基（ここでＲ1は炭素数１〜８のアルキル基である）から選ばれる１種以上の極性基である）
で示される置換ベンゼン系溶媒中で行うことを特徴とする。【００１０】
本発明においては、前記式（３）中、ｍが１又は２であり、Ｒがハロゲン原子から選ばれる１種であることが好ましい。また本発明の好ましい態様は、前記塩素化剤として、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リンおよび塩化スルフリルからなる群より選ばれる１種以上を用いるとともに、前記反応を前記置換ベンゼン系溶媒とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの混合溶媒中で行うことである。このとき、前記Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの使用量は、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１モルに対して０．８モル以下とすることが好ましい。本発明において、前記反応は、前記置換ベンゼン系溶媒の沸点未満であり且つ４０℃以上の温度で行うことが好ましい。さらに本発明の好ましい態様においては、前記反応は、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して１個目の塩素原子を導入する第１ステップと、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して２個目の塩素原子を導入する第２ステップに分けられ、前記第１ステップの際に前記塩素化剤の一部を添加し、前記第２ステップの際に前記塩素化剤の残部を添加する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩の塩素化反応において特定の構造を有する溶媒を用いるので、ＤＭＦを使用しないか若しくはその使用量を触媒量程度に低減した場合であっても反応液の良好な攪拌性および分液性を確保することができ、その結果、純度が高いクロロアルキルスルホニルクロリドを収率良く良好な生産性で得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明のクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法は、下記式（１）
［ＨＯ−（ＣＨ2）n−ＳＯ3］−        （１）
（式（１）中、ｎは１以上の整数である)
で示されるアニオンとアルカリ金属またはアルカリ土類金属とから形成されるヒドロキシアルキルスルホン酸塩を塩素化剤と反応させて下記式（２）
Ｃｌ−（ＣＨ2）n−ＳＯ２−Ｃｌ        （２）
（式（２）中、ｎは１以上の整数である)
で示されるクロロアルキルスルホニルクロリドを得るものである。本発明における当該反応は、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して２個の塩素原子を導入する塩素化反応である。
【００１３】
前記式（１）および前記式（２）において、ｎは、８以下であることが好ましく、より好ましくは２以上４以下であり、さらに好ましくは２又は３であり、特に好ましくは２である。
前記アルカリ金属またはアルカリ土類金属の具体例としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム等が挙げられ、これらの中でも入手容易性やコスト面から特にナトリウムが好ましい。
【００１４】
前記式（１）で示されるアニオンとアルカリ金属とから形成されるヒドロキシアルキルスルホン酸塩は、例えば、
ＨＯ−（ＣＨ2）n−ＳＯ3−Ｍ          （１−１）
（式（１−１）中、Ｍはアルカリ金属であり、ｎは式（１）と同様である)
で示され、
前記式（１）で示されるアニオンとアルカリ土類金属とから形成されるヒドロキシアルキルスルホン酸塩は、例えば、
［ＨＯ−（ＣＨ2）n−ＳＯ3］２Ｍ          （１−２）
（式（１−２）中、Ｍはアルカリ土類金属であり、ｎは式（１）と同様である)
で示される。
【００１５】
前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩の具体例としては、例えば、ヒドロキシメタンスルホン酸ナトリウム、２−ヒドロキシエタン−１−スルホン酸ナトリウム（イセチオン酸ナトリウム）、３−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸ナトリウム等が挙げられ、これらはいずれも市販されている。なお、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１６】
本発明においては、塩素化剤との反応を、下記式（３）
【００１７】
【化２】
0006003896.tif 000003
（式（３）中、ｍは１〜３の整数であり、ｍが２以上の場合、複数のＲは各々同じであってもよいし異なってもよく、Ｒは、ハロゲン原子、−ＮＯ2基、−ＣＮ基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ1基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1基（ここでＲ1は炭素数１〜８のアルキル基である）から選ばれる１種以上の極性基である）
で示される置換ベンゼン系溶媒中で行う。これにより、ＤＭＦを使用しないか若しくはその使用量を触媒量程度に低減した場合であっても反応液の良好な攪拌性および分液性を確保することができ、その結果、純度が高いクロロアルキルスルホニルクロリドを収率良く良好な生産性で得ることができる。
【００１８】
前記式（３）において、ｍは、１又は２であることが好ましく、特に好ましくは１である。
前記式（３）において、Ｒで示すハロゲン原子の具体例としては、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ、Ｉ等が挙げられる。またＲ1で示すアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましく挙げられる。Ｒとしては、特にハロゲン原子から選ばれる１種であることが好ましく、中でもＣｌがより好ましい。
【００１９】
前記置換ベンゼン系溶媒は、分子全体として双極子モーメントを持っていることが望ましい。ベンゼンに結合する極性基（Ｒ）が１個の場合には分子全体として双極子モーメントを有することになる。一方、ベンゼンに結合する極性基（Ｒ）が２個以上の場合、各極性基は、少なくとも１個の極性基が双極子モーメントを残す関係にあることが好ましく、より好ましくは互いの双極子モーメントを強め合う関係にあるのがよい。例えばベンゼンに結合する極性基（Ｒ）が２個（ｍ＝２）である場合、２個の極性基Ｒはオルト位（１，２位；１，６位）またはメタ位（１，３位または１，５位）の関係にあることが好ましく、パラ位（１，４位）にあるときには極性基Ｒは互いに異なっていることが望ましい。
【００２０】
前記置換ベンゼン系溶媒は、高沸点であることが望ましく、その沸点は好ましくは９０℃以上、より好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは１１０℃以上である。置換ベンゼン系溶媒が高沸点であると、反応温度を高く設定することができるので、反応時間の短縮が可能になり生産性の向上が図れる。置換ベンゼン系溶媒はベンゼン環構造を有するものであることから、一般に上記のような比較的高い沸点を有する。また置換ベンゼン系溶媒の沸点があまりに高すぎると、反応後、反応液から目的物であるクロロアルキルスルホニルクロリドを単離する際に溶媒を留去させにくくなるので、置換ベンゼン系溶媒の沸点は、２５０℃以下が好ましく、より好ましくは２００℃以下である。
なお前記置換ベンゼン系溶媒は、溶媒として使用しうるよう常温で液体であることが好ましく、例えば融点が３０℃以下であることが好ましい。
【００２１】
前記置換ベンゼン系溶媒の具体例としては、例えば、Ｒ＝ハロゲン原子であるクロロベンゼン、ブロモベンゼン、フルオロベンゼン、ヨードベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、Ｒ＝−ＮＯ2基であるニトロベンゼン、Ｒ＝−ＣＮ基であるベンゾニトリル、Ｒ＝−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ1基（Ｒ1＝メチル）であるアセトフェノン、Ｒ＝−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1基（Ｒ1＝メチル、エチル）である安息香酸メチルや安息香酸エチル等が好ましく挙げられる。これらの中でも、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼンがより好ましく、特にクロロベンゼンが好ましい。なお、置換ベンゼン系溶媒は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２２】
前記置換ベンゼン系溶媒の使用量は、特に制限されるものではないが、例えば、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩に対して質量比で０．８倍以上、２０倍以下が好ましく、１．５倍以上、１０倍以下がより好ましく、２倍以上、５倍以下がさらに好ましい。溶媒量が多すぎると、反応容量が大きくなり生産性が低下する傾向があり、一方、溶媒量が少なすぎると、反応時の攪拌性が悪化し、反応性が低下する虞がある。
【００２３】
前記塩素化剤としては、特に制限はないが、例えば、ＰＣｌ5、ＰＣｌ3、ＰＯＣｌ3等のリン系塩素化剤；ＣｌＳＯ3Ｈ、ＳＯ2Ｃｌ2、ＳＯＣｌ2等の硫黄系塩素化剤；のほか、ＣＯＣｌ2、（ＣＯＣｌ）2、α，α−ジクロロメチルメチルエーテル、ジルコニウムテトラクロリド等が挙げられる。これらの中でも、ＳＯＣｌ2（塩化チオニル）、ＰＯＣｌ3（オキシ塩化リン）、ＰＣｌ5（五塩化リン）、ＰＣｌ3（三塩化リン）、ＳＯ2Ｃｌ2（塩化スルフリル）が好ましく、ＳＯＣｌ2（塩化チオニル）がより好ましい。これら塩素化剤は一般に市販されている。なお、塩素化剤は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２４】
前記塩素化剤の使用量は、理論上、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１モルに対して２モルであり、好ましくは２．０５モル以上、３．０モル以下、より好ましくは２．１モル以上、２．５モル以下である。塩素化剤の使用量が理論量より少ないと、オレフィン化したような副生物が生じやすくなり、逆に塩素化剤の使用量が多すぎると、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子内に３個以上の塩素原子が導入された副生物が生じやすくなるため、いずれにしても目的物であるクロロアルキルスルホニルクロリドの純度および収率が低下する虞がある。
【００２５】
前記塩素化剤、特に、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リンおよび塩化スルフリルからなる群より選ばれる１種以上である塩素化剤を用いる場合には、反応を促進させる触媒的作用を得る目的で、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を併用することが好ましい。この場合、前記反応を前記置換ベンゼン系溶媒とＤＭＦとの混合溶媒中で行えばよい。このとき、ＤＭＦの使用量は、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１モルに対して０．８モル以下とすることが好ましく、より好ましくは０．５モル以下、さらに好ましくは０．２モル以下、特に好ましくは０．１モル以下である。ＤＭＦの使用量が前記範囲内であると、後述する分液操作等により反応液から確実にＤＭＦを分離することができ、またたとえ反応液中にＤＭＦが残存したとしてもその量は微量であるので、蒸留等の加熱の際に残存ＤＭＦが目的物であるクロロアルキルスルホニルクロリドの分解を招くようなことはなく、高い純度で収率良く目的物を得ることが可能になる。なお、本発明では上述した置換ベンゼン系溶媒を使用することにより、ＤＭＦを使用しなくても若しくはその使用量が前記範囲の如く微量であっても、十分な攪拌性および分液性を確保することができる。
【００２６】
本発明において、前記反応は、置換ベンゼン系溶媒の沸点未満であり且つ４０℃以上の温度で行うことが好ましい。塩素化反応の際に置換ベンゼン系溶媒が還流すると多種類の副生物が生じやすくなり、ひいては目的物であるクロロアルキルスルホニルクロリドの純度および収率が低下する虞がある。したがって、塩素化の反応温度の上限は、置換ベンゼン系溶媒の沸点未満とすることが好ましく、具体的には置換ベンゼン系溶媒の沸点に応じて設定すればよい。例えば、置換ベンゼン系溶媒の沸点をＴｂｐ（℃）とすると、（Ｔｂｐ−５）℃とすることが好ましく、より好ましくは（Ｔｂｐ−１０）℃、さらに好ましくは（Ｔｂｐ−１５）℃である。一方、塩素化反応の際の反応温度が低すぎると、反応の進行が遅くなるので反応の終了までに長時間を要し生産性を損なう虞が生じるので、前記反応は４０℃以上で行うことが好ましく、より好ましくは４５℃以上、さらに好ましくは５０℃以上である。
【００２７】
本発明における塩素化反応は、便宜上、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して１個目の塩素原子を導入する第１ステップと、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して２個目の塩素原子を導入する第２ステップに分けられるが、この第１ステップと第２ステップは実質的には連続して行われる。ここで第１ステップにおける反応温度と第２ステップにおける反応温度は同じであってもよいし異なっていてもよいが、反応速度をコントロールするうえでは、第２ステップの反応温度が第１ステップの反応温度よりも高くなるように設定することが好ましい。このとき、第１ステップの反応温度と第２ステップの反応温度との温度差は、好ましくは１５℃以上１００℃以下、より好ましくは２０℃以上７０℃以下、さらに好ましくは３０℃以上５０℃以下である。第２ステップの反応温度を第１ステップの反応温度よりも高くするには、反応の進行（反応時間の経過）に伴い連続的に反応温度を上げるようにしてもよいし、段階的に昇温するようにしてもよい。煩雑さを回避するうえでは後者が好ましく、より好ましくは２段階に分けて昇温するのがよい。
なお、前記塩素化反応の反応時間は、反応温度等に応じて適宜設定すればよいが、生産性を考慮すると、５分以上４８時間以下が好ましく、１０分以上２４時間以下がより好ましく、３０分以上１０時間以下がさらに好ましい。
【００２８】
前記塩素化反応を行うにあたり、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩と、前記置換ベンゼン系溶媒と、前記塩素化剤と、必要に応じて用いられるＤＭＦ等との仕込み順序やその方法は特に限定されないが、通常、塩素化剤以外の原料（すなわち、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩、置換ベンゼン系溶媒、および必要に応じてＤＭＦ等）を混合しておき、この混合物に塩素化剤を添加する方法が安全性などの点から好ましく採用される。ここで塩素化剤を添加するに際しては、上述した第１ステップの際に塩素化剤の一部を添加し、上述した第２ステップの際に塩素化剤の残部を添加することが好ましい。このとき、第１ステップで添加する塩素化剤の量Ｘと、第２ステップで添加する塩素化剤の量Ｙとの比率はＸ：Ｙ（モル比）＝１：０．５〜１．５が好ましく、Ｘ：Ｙ（モル比）＝１：０．９〜１．３がより好ましく、Ｘ：Ｙ（モル比）＝１：１〜１．１がさらに好ましい。
【００２９】
前記塩素化反応で生じたクロロアルキルスルホニルクロリドは、公知の方法を適宜採用して単離できる。例えば、得られた反応液に無機酸（塩酸等）の水溶液を加えて洗浄した後に分液することによりＤＭＦ等を溶解させた水層を取り除き、得られた有機層から溶媒（置換ベンゼン系溶媒）を減圧下で留去した後、蒸留により目的物であるクロロアルキルスルホニルクロリドを分離すればよい。洗浄、分液は、必要に応じて複数回行うことができる。従来は２回目以降の分液性が悪化することがあったが、本発明によれば良好な分液性を確保することができる。
【００３０】
本発明の製造方法で得られるクロロアルキルスルホニルクロリドの純度は、通常９８．５％以上、好ましくは純度９９．０％以上、より好ましくは純度９９．５％以上である。なお、この純度は、例えばガスクロマトグラフィー分析等で求めることができる。
また本発明の製造方法においては、上述した高純度のクロロアルキルスルホニルクロリドを好ましくは７５％以上の収率で得ることができる。クロロアルキルスルホニルクロリドの収率は、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは８２％以上である。
【００３１】
本願は、２０１１年９月２６日に出願された日本国特許出願第２０１１−２０９７８９号に基づく優先権の利益を主張するものである。２０１１年９月２６日に出願された日本国特許出願第２０１１−２０９７８９号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。
【実施例】
【００３２】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例等によって制限を受けるものではなく、上記・下記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。【００３３】
実施例で得られた生成物のガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析は、下記条件で行った。
＜ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析条件＞
検出器 ：水素炎イオン化型検出器（ＦＩＤ）
カラム ：アジレント・テクノロジー社製「ＤＢ−１７カラム」
カラム温度：５０℃で５分間保持し、次いで１０℃／分で２５０℃まで昇温し、２５０℃で５分間保持
注入口温度：２５０℃
検出器温度：２５０℃
キャリアーガス：ヘリウム
流量（圧力）：１００ｋＰａ【００３４】
なお、実施例１および実施例２における反応は下記スキームで示される。【００３５】
【化３】
0006003896.tif 000004
【００３６】
（実施例１）
内容量３００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム６０．０ｇ、ＤＭＦ３．０ｇ、クロロベンゼン（沸点１３２℃）１２０．０ｇを仕込み、これに塩化チオニル４８．２ｇを加え、副生ガス（ＳＯ2およびＨＣｌ）を発生させながら昇温した。８０℃に昇温後、塩化チオニル５３．０ｇを８時間かけて滴下し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。反応中、フラスコ内の反応液の攪拌性は良好であった。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液し、再度、有機層を３５％塩酸で洗浄した後、分液した。このとき２回とも分液性は良好であった。次いで有機層を減圧下でクロロベンゼンを留去させて濃縮した後、蒸留により生成物である２−クロロエタンスルホニルクロリドを分離した。その結果、２−クロロエタンスルホニルクロリド５４．１ｇを得た（収率８２％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．６％であった。【００３７】
（実施例２）
内容量５００Ｌの反応缶にイセチオン酸ナトリウム９２．０ｋｇ、ＤＭＦ４．７ｋｇ、クロロベンゼン（沸点１３２℃）１８４．１ｋｇを仕込み、これに塩化チオニル７４．３ｋｇを加え、副生ガス（ＳＯ2およびＨＣｌ）を発生させながら昇温した。８０℃に昇温後、塩化チオニル８１．２ｋｇを８時間かけて滴下し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。反応中、反応釜内の反応液の攪拌性は良好であった。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液し、有機層を得た。このときの分液性も良好であった。次いで有機層を減圧下でクロロベンゼンを留去させて濃縮した後、蒸留により生成物である２−クロロエタンスルホニルクロリドを分離した。その結果、２−クロロエタンスルホニルクロリド８３．５ｋｇを得た（収率８２．５％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．１％であった。【００３８】
（実施例３）
内容量２００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム２０．０ｇ、ＤＭＦ１．０ｇ、クロロベンゼン４１．９ｇを仕込み、これにオキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3）２２．８ｇを加え、副生ガスを発生させながら１２０℃まで昇温し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液し、再度、有機層を１５％塩酸で洗浄した後、分液した。このとき２回とも分液性は良好であった。次いで、有機層を蒸留し、２−クロロエタンスルホニルクロリド１５．６ｇを得た（収率７１％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．５％であった。【００３９】
（実施例４）
内容量２００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム２０．０ｇ、ＤＭＦ１．０ｇ、クロロベンゼン４０．３ｇを仕込み、これに五塩化リン（ＰＣｌ5）３０．９ｇを加え、副生ガスを発生させながら９５℃まで昇温し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液した。このとき分液性は良好であった。次いで、有機層を蒸留し、２−クロロエタンスルホニルクロリド７．９ｇを得た（収率３６％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．４％であった。【００４０】
（実施例５）
内容量１００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム１０．０ｇ、ＤＭＦ１．０ｇ、クロロベンゼン２０．３ｇを仕込み、これに三塩化リン（ＰＣｌ3）１８．６ｇを加え、副生ガスを発生させながら９９℃まで昇温し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液した。このとき分液性は良好であった。次いで、有機層を蒸留し、２−クロロエタンスルホニルクロリド３．２ｇを得た（収率２９％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．２％であった。【００４１】
（実施例６）
内容量１００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム１０．０ｇ、ＤＭＦ０．５ｇ、クロロベンゼン２０．０ｇを仕込み、これに塩化スルフリル（ＳＯ2Ｃｌ2）１８．２ｇを加え、副生ガスを発生させながら７２℃まで昇温し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液した。このとき分液性は良好であった。次いで、有機層を蒸留し、２−クロロエタンスルホニルクロリド１．０ｇを得た（収率９％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．２％であった。【００４２】
（比較例１）
内容量３００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム６０．０ｇ、ＤＭＦ３．０ｇ、ジクロロメタン（沸点４０℃）１２０．０ｇを仕込み、これに塩化チオニル４８．２ｇを加え、副生ガス（ＳＯ2およびＨＣｌ）を発生させながら昇温した。４５℃に昇温後、塩化チオニル５３．０ｇを８時間かけて滴下したところ、反応液がホイップ状になり、攪拌が困難となった。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液し、再度、有機層を３５％塩酸で洗浄した。次いで、水層と有機層を分液しようと試みたが、分液性が悪く、十分に水層を除くことはできなかった。次いで水層が混じった有機層を減圧下でジクロロメタンを留去させて濃縮した後、蒸留により生成物である２−クロロエタンスルホニルクロリドを分離した。その結果、２−クロロエタンスルホニルクロリド４２．９ｇを得た（収率６５．０％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は６３．０％であった。