(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１軸を中心として回転可能な第１塗布ヘッドと、
前記第１塗布ヘッドと塗布対象物との間に塗布液を供給する塗布液供給部と、
前記第１塗布ヘッドから前記塗布対象物に向かう第１方向及び前記第１軸と交差する第２方向に沿って前記塗布対象物及び前記第１塗布ヘッドの少なくともいずれかを相対的に移動させる移動機構部と、
制御部と、
を備え、
前記移動が停止したときに、
前記制御部は、前記第１塗布ヘッドの前記第１軸を中心とする周方向に沿って、前記塗布液が付着した第１領域から前記塗布液が付着していない第２領域に、前記第１塗布ヘッドを回転させて前記第２領域の少なくとも一部を前記塗布対象物に対向させて前記移動を再開する動作を実施する塗布装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記第１塗布ヘッドの前記回転の前に、前記第１塗布ヘッドを、前記第１方向において前記塗布対象物と離間させる動作を実施する請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】
前記塗布対象物は、前記塗布液が付着した第３領域と、前記塗布液が付着していない第４領域と、を含み、
前記制御部は、前記第３領域を前記第１塗布ヘッドに対して移動させ、前記第４領域を前記第２領域の前記少なくとも一部に対向させる動作を実施する請求項１または２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記第２領域の前記少なくとも一部と前記第４領域とが対向した状態において、前記第１塗布ヘッドを前記塗布対象物に近接させる動作を実施する請求項３記載の塗布装置。
【請求項５】
前記塗布液供給部は、前記第１塗布ヘッドと前記塗布対象物とが近接した状態において、前記第２領域の前記少なくとも一部と前記第４領域との間に前記塗布液を供給する請求項４記載の塗布装置。
【請求項６】
前記第１塗布ヘッドと、第２塗布ヘッドと、を切り替え可能に連結した連結部をさらに備え、
前記制御部は、前記第１塗布ヘッドに塗布可能な領域がないときに、前記第２塗布ヘッドに切り替え、前記第２塗布ヘッドを前記塗布対象物に対向させる動作を実施する請求項１〜５のいずれか１つに記載の塗布装置。
【請求項７】
前記第１塗布ヘッドは、前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向に沿って設けられた少なくとも１つの溝を含む請求項１〜６のいずれか１つに記載の塗布装置。
【請求項８】
前記第１塗布ヘッドの前記第１軸と直交する方向に切断した断面は、円形状である請求項１〜７のいずれか１つに記載の塗布装置。
【請求項９】
前記塗布液は、高分子有機化合物を含み、
前記塗布液の蒸気圧は、１００パスカル以上３００００パスカル以下である請求項１〜８のいずれか１つに記載の塗布装置。
【請求項１０】
第１軸を中心として回転可能な第１塗布ヘッドと、
前記第１塗布ヘッドと塗布対象物との間に塗布液を供給する塗布液供給部と、
前記第１塗布ヘッドから前記塗布対象物に向かう第１方向及び前記第１軸と交差する第２方向に沿って前記塗布対象物及び前記第１塗布ヘッドの少なくともいずれかを相対的に移動させる移動機構部と、
前記第１塗布ヘッドと、第２塗布ヘッドと、を切り替え可能に連結した連結部と、
制御部と、
を備え、
前記移動が停止したときに、
前記制御部は、前記第１塗布ヘッドの前記第１軸を中心とする周方向に沿って、前記塗布液が付着した第１領域から前記塗布液が付着していない第２領域に、前記第１塗布ヘッドを回転させて前記第２領域の少なくとも一部を前記塗布対象物に対向させる動作を実施し、
前記制御部は、前記第１塗布ヘッドに塗布可能な領域がないときに、前記第２塗布ヘッドに切り替え、前記第２塗布ヘッドを前記塗布対象物に対向させる動作を実施する、塗布装置。
【請求項１１】
第１軸を中心として回転可能な第１塗布ヘッドから塗布対象物に向かう第１方向及び前記第１軸と交差する第２方向に沿って前記塗布対象物及び前記第１塗布ヘッドの少なくともいずれかを相対的に移動させながら、前記第１塗布ヘッドの第１領域と前記塗布対象物との間に塗布液を供給する工程と、
前記第１領域が前記塗布対象物に対向した状態において前記移動が停止したことを検知する工程と、
前記第１塗布ヘッドを回転させ、前記第１塗布ヘッドの前記塗布液が付着していない第２領域であって、前記第１軸を中心とする周方向に沿って前記第１領域と並ぶ前記第２領域の少なくとも一部を前記塗布対象物に対向させて前記移動を再開する工程と、
を含む塗布方法。
【請求項１２】
第１軸を中心として回転可能な第１塗布ヘッドから塗布対象物に向かう第１方向及び前記第１軸と交差する第２方向に沿って前記塗布対象物及び前記第１塗布ヘッドの少なくともいずれかを相対的に移動させながら、前記第１塗布ヘッドの第１領域と前記塗布対象物との間に塗布液を供給する工程と、
前記第１領域が前記塗布対象物に対向した状態において前記移動が停止したことを検知する工程と、
前記第１塗布ヘッドを回転させ、前記第１塗布ヘッドの前記塗布液が付着していない第２領域であって、前記第１軸を中心とする周方向に沿って前記第１領域と並ぶ前記第２領域の少なくとも一部を前記塗布対象物に対向させて前記移動を再開する工程と、
をコンピュータに実行させる塗布プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、塗布装置、塗布方法及び塗布プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
導電性ポリマーやフラーレンなどを用いた有機半導体を含む太陽電池がある。この太陽電池においては、塗布装置を用いた簡便な方法で光電変換膜を形成することができる。このような塗布装置において、高い稼働率が求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１９４６１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の実施形態は、稼働率の高い塗布装置、塗布方法及び塗布プログラムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の実施形態によれば、第１塗布ヘッドと、塗布液供給部と、移動機構部と、制御部と、を含む塗布装置が提供される。前記第１塗布ヘッドは、第１軸を中心として回転可能である。前記塗布液供給部は、前記第１塗布ヘッドと塗布対象物との間に塗布液を供給する。前記移動機構部は、前記第１塗布ヘッドから前記塗布対象物に向かう第１方向及び前記第１軸と交差する第２方向に沿って前記塗布対象物及び前記第１塗布ヘッドの少なくともいずれかを相対的に移動させる。前記移動が停止したときに、前記制御部は、前記第１塗布ヘッドの前記第１軸を中心とする周方向に沿って、前記塗布液が付着した第１領域から前記塗布液が付着していない第２領域に、前記第１塗布ヘッドを回転させて前記第２領域の少なくとも一部を前記塗布対象物に対向させて前記移動を再開する動作を実施する。
本発明の実施形態によれば、第１軸を中心として回転可能な第１塗布ヘッドと、前記第１塗布ヘッドと塗布対象物との間に塗布液を供給する塗布液供給部と、前記第１塗布ヘッドから前記塗布対象物に向かう第１方向及び前記第１軸と交差する第２方向に沿って前記塗布対象物及び前記第１塗布ヘッドの少なくともいずれかを相対的に移動させる移動機構部と、前記第１塗布ヘッドと、第２塗布ヘッドと、を切り替え可能に連結した連結部と、制御部と、を備えた、塗布装置が提供される。前記移動が停止したときに、前記制御部は、前記第１塗布ヘッドの前記第１軸を中心とする周方向に沿って、前記塗布液が付着した第１領域から前記塗布液が付着していない第２領域に、前記第１塗布ヘッドを回転させて前記第２領域の少なくとも一部を前記塗布対象物に対向させる動作を実施する。前記制御部は、前記第１塗布ヘッドに塗布可能な領域がないときに、前記第２塗布ヘッドに切り替え、前記第２塗布ヘッドを前記塗布対象物に対向させる動作を実施する。
本発明の実施形態によれば、第１軸を中心として回転可能な第１塗布ヘッドから塗布対象物に向かう第１方向及び前記第１軸と交差する第２方向に沿って前記塗布対象物及び前記第１塗布ヘッドの少なくともいずれかを相対的に移動させながら、前記第１塗布ヘッドの第１領域と前記塗布対象物との間に塗布液を供給する工程と、前記第１領域が前記塗布対象物に対向した状態において前記移動が停止したことを検知する工程と、前記第１塗布ヘッドを回転させ、前記第１塗布ヘッドの前記塗布液が付着していない第２領域であって、前記第１軸を中心とする周方向に沿って前記第１領域と並ぶ前記第２領域の少なくとも一部を前記塗布対象物に対向させて前記移動を再開する工程と、を含む塗布方法が提供される。
本発明の実施形態によれば、第１軸を中心として回転可能な第１塗布ヘッドから塗布対象物に向かう第１方向及び前記第１軸と交差する第２方向に沿って前記塗布対象物及び前記第１塗布ヘッドの少なくともいずれかを相対的に移動させながら、前記第１塗布ヘッドの第１領域と前記塗布対象物との間に塗布液を供給する工程と、前記第１領域が前記塗布対象物に対向した状態において前記移動が停止したことを検知する工程と、前記第１塗布ヘッドを回転させ、前記第１塗布ヘッドの前記塗布液が付着していない第２領域であって、前記第１軸を中心とする周方向に沿って前記第１領域と並ぶ前記第２領域の少なくとも一部を前記塗布対象物に対向させて前記移動を再開する工程と、をコンピュータに実行させる塗布プログラムが提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１（ａ）〜図１（ｄ）は、第１の実施形態に係る塗布装置の動作を例示する模式的断面図である。
【図２】第１の実施形態に係る塗布装置を例示する模式的平面図である。
【図３】第１の実施形態に係る塗布方法を例示するフローチャート図である。
【図４】実施形態に係る太陽電池モジュールの一部を例示する模式的断面図である。
【図５】第１の実施形態に係る別の塗布装置を例示する模式的平面図である。
【図６】第２の実施形態に係る塗布装置を例示する模式的平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。  
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。  
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【０００８】
（第１の実施形態）  
図１（ａ）〜図１（ｄ）は、第１の実施形態に係る塗布装置の動作を例示する模式的断面図である。
図１（ａ）〜図１（ｄ）は、塗布プロセスの停止後から再開するまでの一連の動作を説明する図である。
図２は、第１の実施形態に係る塗布装置を例示する模式的平面図である。  
図２は、図１（ａ）の塗布装置を上から見たときの平面図である。  
【０００９】
図１（ａ）に示すように、実施形態に係る塗布装置１１０は、第１塗布ヘッド１０と、塗布液供給部２０と、制御部３０と、移動機構部４０と、を含む。この例において、移動機構部４０は、第１塗布ヘッド１０と、バックアップローラ４５と、を含む。図１（ｂ）〜図１（ｄ）では、バックアップローラ４５の図示を省略する。
【００１０】
第１塗布ヘッド１０は、第１軸１０ｒを中心として回転方向Ｄ１に沿って回転可能である。回転方向Ｄ１の向きは、変更できても良い。例えば、第１塗布ヘッド１０の第１軸１０ｒと直交する方向に切断した断面は、円形状である。第１塗布ヘッド１０は、例えば、円柱状のローラである。
【００１１】
移動機構部４０は、移動方向Ｄ２に沿って第１塗布ヘッド１０及び塗布対象物５０の少なくともいずれかを相対的に移動させる。移動方向Ｄ２は、第１方向及び第１軸１０ｒと交差する第２方向に沿う。
【００１２】
例えば、第１塗布ヘッド１０を駆動側、バックアップローラ４５を従動側とする。第１塗布ヘッド１０を従動側、バックアップローラ４５を駆動側としてもよい。これにより、第１塗布ヘッド１０とバックアップローラ４５との間において塗布対象物５０を移動させることができる。移動機構部４０の動作は、制御部３０により制御される。
【００１３】
この例においては、第１塗布ヘッド１０の位置を固定し、塗布対象物５０を移動させている。塗布対象物５０の位置を固定し、第１塗布ヘッド１０を移動させるようにしてもよい。この場合、バックアップローラ４５の代わりに、塗布対象物５０を支持し固定する支持台（図示せず）が用いられる。
【００１４】
第１方向は、第１塗布ヘッド１０から塗布対象物５０に向かう方向である。第１方向は、例えば、Ｚ軸方向である。第２方向は、第１方向と交差する１つの方向である。第２方向は、例えば、Ｘ軸方向である。第３方向は、第１方向及び第２方向と交差する１つの方向である。第３方向は、例えば、Ｙ軸方向である。第１軸１０ｒは、例えば、Ｙ軸方向に沿う。
【００１５】
移動機構部４０により、第１塗布ヘッド１０とバックアップローラ４５との間に塗布対象物５０が搬送される。塗布対象物５０は、例えば、後述する太陽電池モジュールに用いられる基板である。
【００１６】
塗布液供給部２０は、第１塗布ヘッド１０と塗布対象物５０との間に塗布液６０を供給する。第１塗布ヘッド１０に対して塗布対象物５０が移動しながら、第１塗布ヘッド１０と塗布対象物５０との間に塗布液５０が供給される。塗布液供給部２０の動作は、制御部３０により制御される。
【００１７】
第１塗布ヘッド１０は、第１領域１１と、第２領域１２と、を含む。第１領域１１は、塗布対象物５０に対向し、塗布液６０が付着する領域である。例えば、第１領域１１は、塗布対象物５０と非接触の状態で対向する。第２領域１２は、第１軸１０ｒを中心とする周方向に沿って第１領域１１と並び、塗布液６０が付着していない領域である。第２領域１２は、第１塗布ヘッド１０の回転方向Ｄ１において第１領域１１と連続する。
【００１８】
塗布装置１１０は、例えば、太陽電池モジュールの製造に用いられる。塗布装置１１０は、太陽電池モジュールの基板（塗布対象物５０）の上に、発電層の材料（塗布液６０）を塗布する。発電層とは、例えば、後述する第１電荷輸送層、光活性層及び第２電荷輸送層のいずれかである。塗布液６０は、第１電荷輸送層の材料、光活性層の材料及び第２電荷輸送層の材料のいずれかを溶媒に溶かした溶液である。この場合、塗布液６０は、高分子有機化合物を含む。塗布液６０の蒸気圧は、例えば、１００パスカル（Ｐａ）以上３００００Ｐａ以下であることが好ましい。このときの温度は、例えば、２０℃である。
【００１９】
第１塗布ヘッド１０に対して塗布対象物５０を移動させることで、塗布対象物５０の上に約１マイクロメートル（μｍ）程度の薄い塗布膜が大面積且つ均一に設けられる。
【００２０】
高分子有機材料を溶媒に溶かし、塗布により、基板の上に発電層を形成する方法として、例えば、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法などが用いられている。これらの塗布方法においては、塗布装置の構成が比較的簡便である。
【００２１】
塗布装置１１０は、例えば、長いシート状の塗布対象物５０に対して、連続的に塗布液６０を塗布する場合に好適である。しかしながら、塗布液６０の補充、塗布対象物５０の交換、不具合発生による塗布プロセスの中止などで、塗布動作が停止することがある。
【００２２】
図１（ａ）に示す状態、すなわち、第１領域１１が塗布対象物５０と対向した状態において塗布動作が停止した場合を想定する。塗布動作の停止とは、塗布対象物５０の移動が停止することを意味する。このとき、塗布液６０が第１塗布ヘッド１０と接する第１領域１１（点Ａ１と点Ａ２との間の領域）から高分子有機材料の析出・固着が発生する。この第１領域１１に高分子有機材料が固着したまま、塗布動作を再開すると、塗布液６０の広がり（矢印Ａ３の範囲）が適正値から変化する。このため、塗布膜厚が変化してしまい、望ましくない。
【００２３】
高分子有機材料を取り除くプロセスが実施される。例えば、拭き取り治具を用いて取り除く、または、溶媒を流すことで再度溶かして取り除く、などの方法が取られる。このため、一旦塗布動作が停止すると、塗布動作の再開までに時間がかかり、稼働率を低下させてしまう。
【００２４】
これに対して、本実施形態によれば、制御部３０は、第１領域１１が塗布対象物５０に対向した状態において塗布対象物５０（または第１塗布ヘッド１０）の移動が停止したときに、第１塗布ヘッド１０を回転させ、第２領域１２の少なくとも一部を、塗布対象物５０に対向させる動作を実施する。第２領域１２は、塗布液６０が付着していない領域である。これにより、一旦停止した塗布動作を、第１塗布ヘッド１０において塗布液６０が付着していない領域から再開することができる。このため、塗布液６０を取り除く処理が不要となり、稼働率を高めることができる。
【００２５】
なお、不具合発生などに応じて塗布動作が停止される場合に、停止信号が制御部３０に入力される。塗布対象物５０（または第１塗布ヘッド１０）の移動の停止は、この停止信号を制御部３０が受信することで、検知することができる。
【００２６】
制御部３０には、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）やメモリなどを含む演算装置が用いられる。制御部３０の各ブロックの一部、又は全部には、ＬＳＩ（Large Scale Integration）等の集積回路またはＩＣ（Integrated Circuit）チップセットを用いることができる。各ブロックに個別の回路を用いてもよいし、一部又は全部を集積した回路を用いてもよい。各ブロック同士が一体として設けられてもよいし、一部のブロックが別に設けられてもよい。また、各ブロックのそれぞれにおいて、その一部が別に設けられてもよい。集積化には、ＬＳＩに限らず、専用回路又は汎用プロセッサを用いてもよい。
【００２７】
制御部３０は、塗布装置１１０による塗布動作を制御する。制御部３０は、例えば、塗布プログラムとして実現される。すなわち、制御部３０は、汎用のコンピュータ装置を基本ハードウェアとして用いることでも実現される。制御部３０に含まれる各部の機能は、上記のコンピュータ装置に搭載されたプロセッサに塗布プログラムを実行させることにより実現することができる。このとき、制御部３０は、上記の塗布プログラムをコンピュータ装置にあらかじめインストールすることで実現してもよいし、ＣＤ−ＲＯＭなどの記憶媒体に記憶して、あるいはネットワークを介して上記の塗布プログラムを配布して、この塗布プログラムをコンピュータ装置に適宜インストールすることで実現してもよい。また、制御部３０は、上記のコンピュータ装置に内蔵あるいは外付けされたメモリ、ハードディスクもしくはＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−Ｒなどの記憶媒体などを適宜利用して実現することができる。
【００２８】
図１（ｂ）に示すように、制御部３０は、第１塗布ヘッド１０を回転させる前に、第１塗布ヘッド１０を塗布対象物５０と離間させる動作を実施してもよい。第１塗布ヘッド１０の離間方向Ｄ３は、Ｚ軸方向に沿う。このように、第１塗布ヘッド１０を塗布対象物５０から上方に移動させ、第１塗布ヘッド１０と塗布対象物５０とが塗布液６０を介してつながらない状態にする。
【００２９】
留め置かれた塗布液６０の半分以上は、第１塗布液６０ａとして、塗布対象物５０の側に残る。第１塗布ヘッド１０の第１領域１１の側にも第２塗布液６０ｂが付着したままになる。塗布対象物５０は、第３領域５３と、第４領域５４と、を含む。第３領域５３は、第１領域１１に対向し、第１塗布液６０ａが付着している。第４領域５４は、Ｘ軸方向において第３領域５３と連続し、塗布液６０が付着していない。
【００３０】
図１（ｃ）に示すように、制御部３０は、塗布対象物５０と離間した第１塗布ヘッド１０を、回転方向Ｄ４に沿って回転させ、第２領域１２の少なくとも一部を塗布対象物５０に対向させる動作を実施する。すなわち、塗布対象物５０と対向する位置に、第２塗布液６０ｂが付着していない第２領域１２を移動させる。第１塗布ヘッド１０は、例えば、予め定めた角度だけ回転される。第１塗布ヘッド１０について塗布に使用できる領域が例えば３箇所であれば、この角度は１２０度に設定される。第１塗布ヘッド１０の仕様に基づき適宜回転角を設定すればよい。
【００３１】
図２に示すように、第１塗布ヘッド１０は、Ｙ軸方向に沿って設けられた少なくとも１つの溝１５を含む。第１塗布ヘッド１０に付着している第２塗布液６０ｂを、溝１５に流れ込ませることで回収する。この例においては、３つの溝１５が設けられている。第１塗布ヘッド１０に付着している第２塗布液６０ｂは、第１塗布ヘッド１０の回転に伴い、第１塗布ヘッド１０の周面に沿って下向きに流れ落ちる。溝１５を設けることで、この流れ落ちる第２塗布液６０ｂを回収することができる。これにより、第２塗布液６０ｂを無駄にすることがなくなる。
【００３２】
さらに、図１（ｃ）に示すように、制御部３０は、塗布対象物５０の第３領域５３を第１塗布ヘッド１０に対して移動させ、第４領域５４を第２領域１２の少なくとも一部と対向させる動作を実施する。つまり、塗布対象物５０も移動させて、第１塗布液６０ａが付着していない第４領域５４を第１塗布ヘッド１０に対向させる。このようにして、塗布対象物５０に付着した第１塗布液６０ａ、及び、第１塗布ヘッド１０に付着した第２塗布液６０ｂが再度使われないようにする。
【００３３】
図１（ｄ）に示すように、制御部３０は、第２領域１２の少なくとも一部と第４領域５４とが対向した状態において、第１塗布ヘッド１０を塗布対象物５０に近接させる動作を実施する。第１塗布ヘッド１０の近接方向Ｄ５は、Ｚ軸方向に沿う。例えば、第１塗布ヘッド１０は、塗布対象物５０と非接触の状態で支持される。
【００３４】
さらに、制御部３０は、移動機構部４０（第１塗布ヘッド１０）に移動再開を指示し、塗布対象物５０の移動を再開させる。また、制御部３０は、塗布液供給部２０に塗布液６０の供給再開を指示する。例えば、これらの指示は略同時に実施される。塗布液供給部２０は、制御部３０の指示に従って、第１塗布ヘッド１０と塗布対象物５０とが近接した状態において、第２領域１２の少なくとも一部と第４領域５４との間に塗布液６０を供給する。このようにして、塗布動作を再開する。塗布動作の再開は、例えば、作業者の指示入力をトリガとして実施することができる。塗布動作の再開は、例えば、制御部３０の塗布プログラムに従って、自動的に実施してもよい。
【００３５】
図３は、第１の実施形態に係る塗布方法を例示するフローチャート図である。  
塗布装置１１０は、Ｘ軸方向に沿って塗布対象物５０及び第１塗布ヘッド１０の少なくともいずれかを相対的に移動させながら、第１塗布ヘッド１０の第１領域１１と塗布対象物５０との間に塗布液６０を供給する（ステップＳ１）。塗布装置１１０は、第１塗布ヘッド１０の第１領域１１が塗布対象物５０に対向した状態において塗布対象物５０（または第１塗布ヘッド１０）の移動が停止したか否かを判定（検知）する（ステップＳ２）。塗布装置１１０は、ステップＳ２において、移動停止と判定した場合（ＹＥＳの場合）、第１塗布ヘッド１０を回転させ、第１塗布ヘッド１０の塗布液６０が付着していない第２領域１２の少なくとも一部を、塗布対象物５０に対向させる（ステップＳ３）。また、ステップＳ３において、移動停止ではないと判定した場合（ＮＯの場合）、ステップＳ１に戻り処理を繰り返す。
【００３６】
このように、本実施形態によれば、制御部３０は、第１領域１１が塗布対象物５０に対向した状態において塗布対象物５０（または第１塗布ヘッド１０）の移動が停止したときに、第１塗布ヘッド１０を回転させ、第２領域１２の少なくとも一部を、塗布対象物５０に対向させる動作を実施する。第２領域１２は、塗布液６０が付着していない領域である。これにより、一旦停止した塗布動作を、第１塗布ヘッド１０において塗布液６０が付着していない領域から再開することができる。このため、塗布液６０を取り除く処理が不要となり、稼働率を高めることができる。
【００３７】
図４は、実施形態に係る太陽電池モジュールの一部を例示する模式的断面図である。  
図４は、有機薄膜太陽電池セルの一部を例示する。
図４に示すように、第１電荷輸送層７０ａは、例えば、正孔を輸送し、電子をブロッキングする正孔輸送層である。第２電荷輸送層７０ｂは、例えば、電子を輸送し、正孔をブロッキングする電子輸送層である。
【００３８】
透明電極を含む陽極７２は、基板７１の上に設けられる。第１電荷輸送層７０ａは、陽極７２の上に設けられる。光活性層（光電変換層）７３は、第１電荷輸送層７０ａの上に設けられる。第２電荷輸送層７０ｂは、光活性層７３の上に設けられる。光活性層７３は、第１導電形の半導体層７３ｎと第２導電形の半導体層７３ｐとがバルクへテロ接合した薄膜である。陰極７４は、第２電荷輸送層７０ｂの上に設けられる。セルの表面には、封止フィルム（図示せず）が設けられている。
【００３９】
これらの第１電荷輸送層７０ａ、光活性層７３及び第２電荷輸送層７０ｂをあわせて発電層としている。
【００４０】
実施形態に係る太陽電池モジュールは、例えば、バルクへテロ接合型である。バルクへテロ接合型の光活性層の特徴は、ｐ形半導体とｎ形半導体とがブレンドされ、ナノオーダーのｐｎ接合が光活性層の全体に広がっていることである。このため、従来の積層型有機薄膜太陽電池よりもｐｎ接合領域が広く、実際に発電に寄与する領域も光活性層全体に広がっている。従って、バルクへテロ接合型の有機薄膜太陽電池における発電に寄与する領域は、積層型有機薄膜太陽電池と比べ厚くなる。これにより、光子の吸収効率も向上し、取り出せる電流も増加する。
【００４１】
以下、本実施形態に係る太陽電池モジュールに用いられる部材について説明する。
【００４２】
（基板）
塗布対象物５０は、例えば、基板７１である。基板７１は、他の構成部材を支持する。基板７１は、例えば、電極の形成に伴う熱や有機溶剤によって変質しない材料が用いられる。基板７１の材料には、例えば、無アルカリガラス、石英ガラス等の無機材料が用いられる。基板７１の材料には、例えば、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、液晶ポリマー、シクロオレフィンポリマー等のプラスチック、または、高分子フィルムでもよい。基板７１には、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、または、シリコンなどの金属基板を用いてもよい。基板７１には、例えば、光透過性を有する材料が用いられる。その他の構成部材を支持するために十分な強度があれば、基板７１の厚さは、特に限定されない。
【００４３】
（陽極）
陽極７２は、基板７１の上に設けられる。陽極７２には、透明または半透明の導電性を有する材料が用いられる。陽極７２の形成には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法及び塗布法などが用いられる。陽極７２の材料としては、導電性の金属酸化物膜や半透明の金属薄膜などが挙げられる。具体的には、金属酸化物膜として、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、それらの複合体であるインジウム・スズ・オキサイド（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、または、インジウム・亜鉛・オキサイドなどを含む導電性ガラスを用いて作製された膜、などが挙げられる。金属薄膜の材料には、金、白金、銀、または、銅などが用いられる。光透過性を有する陽極７２の材料には、ＩＴＯまたはＦＴＯが好ましい。光透過性を有する陽極７２の材料には、有機系の導電性ポリマーであるポリアニリンおよびその誘導体や、ポリチオフェンおよびその誘導体などを用いてもよい。
【００４４】
陽極７２の材料としてＩＴＯを用いた場合、陽極７２の膜厚は、ＩＴＯの場合、３０ナノメートル（ｎｍ）以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。３０ｎｍより薄くすると、導電性が低下して抵抗が高くなり、光電変換効率低下の原因となる。３００ｎｍよりも厚くすると、ＩＴＯの可撓性が低下し、応力が作用するとＩＴＯが割れる場合がある。陽極７２のシート抵抗は低いことが好ましく、例えば、１０Ω／□以下である。陽極７２は、単層でもよく、異なる仕事関数の材料を用いた層を積層したものでもよい。
【００４５】
（第１電荷輸送層）
塗布液６０は、例えば、第１電荷輸送層７０ａの材料を含む。第１電荷輸送層７０ａは、陽極７２と光活性層７３との間に配置される。第１電荷輸送層７０ａは、下部の電極の凹凸をレベリングして太陽電池素子の短絡を防ぐ。第１電荷輸送層７０ａは、正孔のみを効率的に輸送する。第１電荷輸送層７０ａは、光活性層７３の界面近傍で発生した励起子の消滅を防ぐ。第１電荷輸送層７０ａには、例えば、ポリチオフェン系ポリマー、ポリアニリン、または、ポリピロール等の有機導電性ポリマーが用いられる。ポリチオフェン系ポリマーには、例えば、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリ(３，４−エチレンジオキシチオフェン)−ポリ(スチレンスルホネート)）などが用いられる。ポリチオフェン系ポリマーの代表的な製品としては、例えば、スタルク社のＣｌｅｖｉｏｓ ＰＨ５００、ＣｌｅｖｉｏｓＰＨ、ＣｌｅｖｉｏｓＰＶ Ｐ Ａｌ ４０８３、及び、ＣｌｅｖｉｏｓＨＩＬ１．１が挙げられる。無機物では、酸化モリブテンが好適な材料である。
【００４６】
第１電荷輸送層７０ａの材料としてＣｌｅｖｉｏｓ ＰＨ５００を使用する場合、第１電荷輸送層７０ａの厚さは、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。薄すぎる場合は、電子をブロックする作用が低下する。厚すぎる場合は、膜抵抗が大きくなり、光活性層７３で発生した電流を制限してしまうため、光変換効率が低下する。
【００４７】
第１電荷輸送層７０ａの形成には、例えば、スピンコート法などの塗布法を用いることができる。第１電荷輸送層７０ａの材料を所望の厚さに塗布した後、ホットプレート等で加熱及び乾燥する。例えば、１４０℃以上２００℃以下で、１分以上１０分以下程度、加熱及び乾燥することが好ましい。塗布する溶液は、予めフィルターでろ過したものを使用することが望ましい。
【００４８】
（光活性層）
塗布液６０は、例えば、光活性層（光電変換層）７３の材料を含む。光活性層７３は、陽極７２と陰極７４との間に配置されている。光活性層７３は、第１導電形の第１半導体層７３ｎと、第２導電形の第２半導体層７３ｐと、を含む。第１半導体層７３ｎは、例えば、第２電荷輸送層７０ｂと第２半導体層７３ｐとの間に設けられる。例えば、第１導電形はｎ形であり、第２導電形はｐ形である。第１導電形がｐ形であり、第２導電形がｎ形でもよい。
【００４９】
光活性層７３は、例えば、第１半導体層７３ｎと第２半導体層７３ｐとがバルクヘテロ接合した構造の薄膜である。バルクへテロ接合型の光活性層の特徴は、ｎ形半導体とｐ形半導体とがブレンドされ、ナノオーダーのｐｎ接合が光電変換層の全体に広がっていることである。この構造は、例えば、ミクロ層分離構造と呼ばれる。
【００５０】
バルクへテロ接合型の光活性層７３では、混合されたｐ形半導体とｎ形半導体との接合面において生じる光電荷分離を利用して電流を得る。ｐ形半導体には、電子供与性の性質を有する材料が用いられる。一方、ｎ形半導体には、電子受容性の性質を有する材料が用いられる。実施形態においては、ｐ形半導体及びｎ形半導体の少なくともいずれかに有機半導体が用いられる。
【００５１】
ｐ形有機半導体としては、例えば、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、オリゴチオフェン及びその誘導体、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリシラン及びその誘導体、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン及びその誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン及びその誘導体、ポリフェニレンビニレン及びその誘導体、ポリチエニレンビニレン及びその誘導体などを使用することができる。これらを併用してもよい。また、これらの共重合体を使用してもよく、例えば、共重合体としては、チオフェン−フルオレン共重合体、フェニレンエチニレン−フェニレンビニレン共重合体等が挙げられる。
【００５２】
好ましいｐ形有機半導体は、π共役を有する導電性高分子であるポリチオフェン及びその誘導体である。ポリチオフェン及びその誘導体は、優れた立体規則性を確保することができ、溶媒への溶解性が比較的高い。ポリチオフェン及びその誘導体は、チオフェン骨格を有する化合物であれば特に限定されない。ポリチオフェン及びその誘導体の具体例としては、例えば、ポリアルキルチオフェン、ポリアリールチオフェン、ポリアルキルイソチオナフテン及びポリエチレンジオキシチオフェン等が挙げられる。ポリアルキルチオフェンとしては、ポリ３−メチルチオフェン、ポリ３−ブチルチオフェン、ポリ３−ヘキシルチオフェン、ポリ３−オクチルチオフェン、ポリ３−デシルチオフェン及びポリ３−ドデシルチオフェン等が挙げられる。ポリアリールチオフェンとしては、ポリ３−フェニルチオフェン、ポリ３−（ｐ−アルキルフェニルチオフェン）などが挙げられる。ポリアルキルイソチオナフテンとしては、ポリ３−ブチルイソチオナフテン、ポリ３−ヘキシルイソチオナフテン、ポリ３−オクチルイソチオナフテン、ポリ３−デシルイソチオナフテンなどが挙げられる。
【００５３】
また、カルバゾール、ベンゾチアジアゾール及びチオフェンからなる共重合体であるＰＣＤＴＢＴ(ポリ[Ｎ−９”−ヘプタ−デカニル−２，７−カルバゾール−アルト−５，５−(４’，７’−ジ−２−チエニル−２’，１’，３’−ベンゾチアジアゾール)])などの誘導体は、優れた光電変換効率を得られる化合物である。
【００５４】
溶媒に溶解させた溶液を塗布することによって、これらの導電性高分子の膜を形成することができる。従って、大面積の有機薄膜太陽電池を、印刷法等により、安価な設備にて低コストで製造できる。
【００５５】
ｎ形有機半導体としては、フラーレン及びその誘導体を用いることが好ましい。ここで使用されるフラーレン誘導体は、フラーレン骨格を有する誘導体であれば特に限定されない。具体的には、Ｃ６０、Ｃ７０、Ｃ７６、Ｃ７８及びＣ８４などを基本骨格として構成される誘導体が挙げられる。フラーレン誘導体は、フラーレン骨格における炭素原子が任意の官能基で修飾されていてもよい。この官能基同士が互いに結合して環を形成していてもよい。フラーレン誘導体には、フラーレン結合ポリマーも含まれる。溶剤に親和性の高い官能基を有し、溶媒への可溶性が高いフラーレン誘導体が好ましい。
【００５６】
フラーレン誘導体における官能基としては、例えば、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シアノ基、アルコキシ基、及び、芳香族複素環基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子や塩素原子などが挙げられる。アルキル基としは、例えば、メチル基やエチル基などが挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基などが挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基やエトキシ基などが挙げられる。芳香族複素環基としては、例えば、芳香族炭化水素基、チエニル基、及び、ピリジル基などが挙げられる。また、芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基やナフチル基などが挙げられる。より具体的には、水素化フラーレン、オキサイドフラーレン、及び、フラーレン金属錯体などが挙げられる。水素化フラーレンとしては、例えば、Ｃ６０Ｈ３６やＣ７０Ｈ３６などが挙げられる。オキサイドフラーレンとしては、例えば、Ｃ６０やＣ７０などが挙げられる。上述した中でも、フラーレン誘導体として、６０ＰＣＢＭ（[６，６]-フェニルＣ６１酪酸メチルエステル）または７０ＰＣＢＭ（[６，６]-フェニルＣ７１酪酸メチルエステル）を使用することが特に好ましい。未修飾のフラーレンを使用する場合、Ｃ７０を使用することが好ましい。フラーレンＣ７０は、光キャリアの発生効率が高く、有機薄膜太陽電池に使用するのに適している。
【００５７】
ｐ形半導体がＰ３ＡＴ系である場合、光活性層７３におけるｎ形有機半導体とｐ形有機半導体との混合比率は、およそｎ：ｐ＝１：１であることが好ましい。また、ｐ形半導体がＰＣＤＴＢＴ系である場合、混合比率は、およそｎ：ｐ＝４：１であることが好ましい。
【００５８】
有機半導体を溶媒に溶解することによって、有機半導体を塗布することができる。塗布に用いる溶媒としては、不飽和炭化水素系溶媒、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン化飽和炭化水素系溶媒、及び、エーテル類などが挙げられる。不飽和炭化水素系溶媒としては、トルエン、キシレン、テトラリン、デカリン、メシチレン、ｎ−ブチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼン、および、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンなどが挙げられる。ハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒としては、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、および、トリクロロベンゼンなどが挙げられる。ハロゲン化飽和炭化水素系溶媒としては、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロブタン、ブロモブタン、クロロペンタン、クロロヘキサン、ブロモヘキサン、および、クロロシクロヘキサンなどが挙げられる。エーテル類としては、テトラヒドロフランおよびテトラヒドロピランなどが挙げられる。特に、ハロゲン系の芳香族溶剤が好ましい。これらの溶剤を単独、もしくは混合して使用することが可能である。
【００５９】
溶液を塗布して膜を形成する方法としては、スピンコート法、ディップコート法、キャスティング法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、スプレー法、スクリーン印刷、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、グラビア・オフセット印刷、ディスペンサー塗布、ノズルコート法、キャピラリーコート法、及び、インクジェット法などが挙げられる。これらの塗布法を単独で用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。
【００６０】
（第２電荷輸送層）
塗布液６０は、例えば、第２電荷輸送層７０ｂの材料を含む。第２電荷輸送層７０ｂは、陰極７４と光活性層７３との間に配置される。第２電荷輸送層７０ｂは、正孔をブロックして電子のみを効率的に輸送する。第２電荷輸送層７０ｂは、光活性層７３と第２電荷輸送層７０ｂとの界面で生じたエキシトンの消滅を防ぐ。
【００６１】
第２電荷輸送層７０ｂの材料には、例えば、金属酸化物が用いられる。金属酸化物としては、例えば、ゾルゲル法にてチタンアルコキシドを加水分解して得たアモルファス性の酸化チタンなどが挙げられる。第２電荷輸送層７０ｂの膜の形成方法は、薄膜を形成できる方法であれば特に限定されない。例えば、第２電荷輸送層７０ｂの形成方法は、スピンコート法が挙げられる。第２電荷輸送層７０ｂの材料として酸化チタンを使用する場合、第２電荷輸送層７０ｂの厚さは、例えば、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましい。第２電荷輸送層７０ｂの厚さが上記の範囲より薄い場合は、ホールブロック効果が低下する。このため、光活性層７３で発生したエキシトンが電子とホールに解離する前に失活してしまい、効率的に電流を取り出すことができない。第２電荷輸送層７０ｂの厚さが厚すぎる場合は、膜抵抗が大きくなり、光活性層７３で発生した電流を制限してしまう。このため、光変換効率が低下する。塗布する溶液は、あらかじめフィルターで濾過されていることが好ましい。所望の厚さになるように溶液を塗布した後、ホットプレートなどを用いて加熱及び乾燥する。５０℃以上１００℃以下の温度において、１分以上１０分以下程度、加熱及び乾燥する。加熱及び乾燥は、空気中にて加水分解を促進しながら行われる。無機物を用いる場合、金属カルシウムなどが好適な材料である。
【００６２】
（陰極）
陰極７４は、第２電荷輸送層７０ｂの上に設けられる。陰極７４の材料は、導電性を有する材料であれば特に限定されない。陰極７４の形成には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法、または、塗布法などが用いられる。これにより、電極として導電性を有する材料を含む膜を形成することができる。電極の材料としては、導電性の金属薄膜や、導電性の金属酸化物膜などが挙げられる。
【００６３】
陽極７２は、例えば、仕事関数の高い材料を用いて形成される。この場合、陰極７４には、仕事関数の低い材料を用いることが好ましい。仕事関数の低い材料としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属などが挙げられる。具体的には、Ｌｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｙｂ、Ｚｒ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｂａ、およびこれらの合金を挙げることができる。また、これらの仕事関数の低い材料のうちの少なくともいずれかと、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、または、錫などとの合金でもよい。合金の例としては、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、及び、カルシウム−アルミニウム合金などが挙げられる。
【００６４】
陰極７４は、単層でもよく、異なる仕事関数の材料で構成される層を積層したものでもよい。
【００６５】
陰極７４の厚さは、例えば、１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。陰極７４の厚さがこの範囲より薄い場合は、抵抗が大きくなりすぎ、光活性層７３で発生した電荷を十分に外部回路へ伝達できない。陰極７４の厚さが厚い場合には、陰極７４の形成に長時間を要するため、材料温度が上昇し、光活性層７３にダメージを与えて性能が劣化してしまうことがある。さらに、材料を大量に使用するため、製造装置の占有時間が長くなり、コストアップに繋がる。
【００６６】
以上では、第１電荷輸送層７０ａが正孔輸送層であり、第２電荷輸送層７０ｂが電子輸送層である場合について説明した。第１電荷輸送層７０ａを電子輸送層、第２電荷輸送層７０ｂを正孔輸送層としてもよい。例えば、透明電極が陰極で対向電極が陽極となる逆構成と呼ばれる構成においては、基板７１の側から、陰極（透明電極）、第１電荷輸送層（電子輸送層）、光活性層、第２電荷輸送層（正孔輸送層）、陽極（対向電極）という構成となる。
【００６７】
図５は、第１の実施形態に係る別の塗布装置を例示する模式的断面図である。  
図５に示すように、本実施形態に係る塗布装置１１１は、多角柱状の第１塗布ヘッド１０を含む。第１塗布ヘッド１０の第１軸１０ｒと直交する方向に切断した断面は、多角形状である。第１塗布ヘッド１０は、第１軸１０ｒを中心として回転可能である。その他の構成は、第１の実施形態における塗布装置１１０と同じである。このように、第１塗布ヘッド１０は、円柱状に限定されない。第１塗布ヘッド１０は、第１塗布ヘッド１０と塗布対象物５０との間に適正な量の塗布液６０を保持できる形状であればよい。第１塗布ヘッド１０を構成する複数の面のうち、塗布液６０が付着する第１領域１１を曲面としてもよい。
【００６８】
（第２の実施形態）
図６は、第２の実施形態に係る塗布装置を例示する模式的断面図である。
図６に示すように、本実施形態に係る塗布装置１１２は、連結部８０をさらに備える。連結部８０は、第１塗布ヘッド１０ａと、第２塗布ヘッド１０ｂと、第３塗布ヘッド１０ｃと、を切り替え可能に連結する。
【００６９】
これら第１塗布ヘッド１０ａ、第２塗布ヘッド１０ｂ及び第３塗布ヘッド１０ｃの基本的な構造は、第１の実施形態で説明した第１塗布ヘッド１０の構造と同じである。
【００７０】
連結部８０は、第１腕部８１と、第２腕部８２と、第３腕部８３と、を含む。これら第１腕部８１、第２腕部８２及び第３腕部８３は、第４軸８０ｒを中心として回転方向Ｄ６に沿って回転可能である。第１腕部８１の端部には、第１塗布ヘッド１０ａが回転可能に設けられる。第１塗布ヘッド１０ａは、第１軸１０ｒａを中心として回転可能である。第２腕部８２の端部には、第２塗布ヘッド１０ｂが回転可能に設けられる。第２塗布ヘッド１０ｂは、第２軸１０ｒｂを中心として回転可能である。第３腕部８３の端部には、第３塗布ヘッド１０ｃが回転可能に設けられる。第３塗布ヘッド１０ｃは、第３軸１０ｒｃを中心として回転可能である。
【００７１】
第１塗布ヘッド１０ａ、第２塗布ヘッド１０ｂ及び第３塗布ヘッド１０ｃは、連結部８０を介して連結される。第１塗布ヘッド１０ａ、第２塗布ヘッド１０ｂ及び第３塗布ヘッド１０ｃのそれぞれは、例えば、第４軸８０ｒから等距離に配置される。つまり、第１軸１０ｒａと第４軸８０ｒとの間の距離と、第２軸１０ｒｂと第４軸８０ｒとの間の距離と、第３軸１０ｒｃと第４軸８０ｒとの間の距離と、が等しい。連結部８０は、塗布対象物５０に対向させる塗布ヘッドを選択的に切り替えることができる。連結部８０の切り替え動作は、制御部３０の制御に従って実施される。
【００７２】
例えば、１つの第１塗布ヘッド１０ａについて塗布に使用できる領域が全３箇所とする。この場合、塗布動作の停止時に対応できる回数も限定される。第１塗布ヘッド１０ａに塗布可能な領域がない場合、第１塗布ヘッド１０ａを塗布に使用することはできない。
【００７３】
そこで、図６に示すように、塗布装置１１２は、複数の塗布ヘッドを切り替え可能に備えている。制御部３０は、第１塗布ヘッド１０ａに塗布可能な領域がないときに、連結部８０に連結されている第２塗布ヘッド１０ｂ及び第３塗布ヘッド１０ｃのうち、例えば、第２塗布ヘッド１０ｂに切り替え、切り替えた第２塗布ヘッド１０ｂを塗布対象物５０に対向させる動作を実施する。第２塗布ヘッド１０ｂは、塗布液６０が付着していない未使用の状態である。つまり、第２塗布ヘッド１０ｂ（及び第３塗布ヘッド１０ｃ）を用いることで、塗布動作の停止時に対応できる回数を増やすことができる。
【００７４】
なお、第１塗布ヘッド１０ａに塗布可能な領域が存在するか否かは、例えば、塗布回数をカウントすることで判定することができる。または、第１塗布ヘッド１０ａを回転させた回数をカウントすることで判定してもよい。
【００７５】
以上、実施形態として塗布装置、塗布装置による塗布方法を例示して説明したが、実施形態は、この塗布方法をコンピュータに実施させるための塗布プログラムの形態、あるいは、この塗布プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体の形態としてもよい。
【００７６】
上記の記録媒体としては、具体的には、ＣＤ-ＲＯＭ（-Ｒ／-ＲＷ）、光磁気ディスク、ＨＤ（ハードディスク）、ＤＶＤ-ＲＯＭ（-Ｒ／-ＲＷ／-ＲＡＭ）、ＦＤ（フレキシブルディスク）、フラッシュメモリ、メモリカードや、メモリスティック及びその他各種ＲＯＭやＲＡＭ等が想定でき、これら記録媒体に上述した本実施形態の塗布方法をコンピュータに実行させるための塗布プログラムを記録して流通させることにより、当該方法の実現を容易にする。そしてコンピュータ等の情報処理装置に上記のごとくの記録媒体を装着して情報処理装置により塗布プログラムを読み出すか、若しくは情報処理装置が備えている記憶媒体に当該塗布プログラムを記憶させておき、必要に応じて読み出すことにより、本実施形態の塗布方法を実行することができる。
【００７７】
実施形態によれば、稼働率の高い塗布装置、塗布方法及び塗布プログラムが提供できる。
【００７８】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、第１塗布ヘッド、塗布液供給部、移動機構部及び制御部などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
【００７９】
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
【００８０】
その他、本発明の実施の形態として上述した塗布装置、その塗布方法及び塗布プログラムを基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての塗布装置、その塗布方法及び塗布プログラムも、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【００８１】
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
【００８２】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００８３】
１０、１０ａ…第１塗布ヘッド、１０ｂ…第２塗布ヘッド、１０ｃ…第３塗布ヘッド、１０ｒ、１０ｒａ…第１軸、１０ｒｂ…第２軸、１０ｒｃ…第３軸、１１…第１領域、１２…第２領域、１５…溝、２０…塗布液供給部、３０…制御部、４０…移動機構部、４５…バックアップローラ、５０…塗布対象物、５３…第３領域、５４…第４領域、６０…塗布液、６０ａ、６０ｂ…第１、第２塗布液、７０ａ、７０ｂ…第１、第２電荷輸送層、７１…基板、７２…陽極、７３…光活性層、７３ｎ…第１半導体層、７３ｐ…第２半導体層、７４…陰極、８０…連結部、８１〜８３…第１〜第３腕部、８０ｒ…第４軸、１１０〜１１２…塗布装置、Ｄ１、Ｄ４、Ｄ６…回転方向、Ｄ２…移動方向、Ｄ３…離間方向、Ｄ５…近接方向
【要約】
【課題】稼働率の高い塗布装置、塗布方法及び塗布プログラムを提供する。
【解決手段】実施形態の塗布装置は、第１塗布ヘッド、塗布液供給部、移動機構部及び制御部を含む。第１塗布ヘッドは、第１軸を中心として回転可能である。塗布液供給部は、第１塗布ヘッドと塗布対象物との間に塗布液を供給する。移動機構部は、第２方向に沿って塗布対象物及び第１塗布ヘッドの少なくともいずれかを相対的に移動させる。第１塗布ヘッドは、第１、第２領域を含む。第１領域は、塗布対象物に対向し塗布液が付着する。第２領域は、第１軸を中心とする周方向に沿って第１領域と並び、塗布液が付着していない。制御部は、第１領域が塗布対象物に対向した状態において移動が停止したときに、第１塗布ヘッドを回転させて第２領域の少なくとも一部を、塗布対象物に対向させる動作を実施する。
【選択図】図１【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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