(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される化合物を含む表面処理剤により、酸化亜鉛または酸化チタンの表面を被覆することを特徴とする無機微粒子の表面被覆方法。
Ｒ1aＳｉ［ＮＲ22］4-a（１）
（式（１）において、Ｒ1はそれぞれ独立に炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基であり、ａは１〜３の整数である。）
【請求項２】
前記式（１）で表される化合物が、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジメチルシランおよびＮ，Ｎ−ジメチルアミノトリメチルシランの少なくとも１つである請求項１記載の無機微粒子の表面被覆方法。
【請求項３】
下記式（２）で表される化合物を含む表面処理剤により無機微粒子の表面被覆を行なった後、表面に存在する未反応のＮＲ22基の一部または全部を加水分解した後、さらに、下記式（３）で表される化合物を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面を被覆することを特徴とする無機微粒子の表面被覆方法。
Ｒ1aＳｉ［ＮＲ22］4-a  （２）
（式（２）において、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素数１〜８のアラルキル基、アリール基の中から選択される基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基または炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和ヘテロシクロアルキル基を示し、ａは１〜２の整数である。ただし、Ｒ1がいずれも水素原子である場合を除く。）
Ｒ13Ｓｉ［ＮＲ22］  （３）
（式（３）において、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素数１〜８のアラルキル基、アリール基の中から選択される基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基または炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和ヘテロシクロアルキル基を示す。ただし、Ｒ1がいずれも水素原子である場合を除く。）
【請求項４】
前記式（２）で表される化合物を含む表面処理剤により無機微粒子の表面被覆を行なった後、表面に存在する未反応のＮＲ22基の一部又は全部を加水分解した後、該表面被覆および該加水分解の操作を２回以上繰り返した後、前記式（３）で表される化合物を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面を被覆することを特徴とする請求項３に記載の無機微粒子の表面被覆方法。
【請求項５】
前記式（２）で表される化合物がトリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルシランおよびビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジメチルシランの少なくとも１つである請求項３または請求項４に記載の無機微粒子の表面被覆方法。
【請求項６】
前記式（３）で表される化合物がＮ，Ｎ−ジメチルアミノトリメチルシランである請求項３〜請求項５のいずれかに記載の無機微粒子の表面被覆方法。
【請求項７】
無機微粒子が酸化亜鉛または酸化チタンである請求項３〜請求項６のいずれかに記載の無機微粒子の表面被覆方法。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれかの方法で得られた表面被覆された無機微粒子を配合してなる化粧料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機微粒子の表面を被覆する方法に関し、詳しくは特定な構造のアミノシラン系シリル化剤による無機微粒子の表面を被覆する方法に関する。また、該方法で表面被覆された無機微粒子を配合した化粧料に関する。
【背景技術】
【０００２】
酸化亜鉛および酸化チタンなどの無機微粒子は、人体に対する安全性が高く、また可視部での透明性に優れるため、化粧水、乳液、ファンデーション、口紅などの化粧料に利用されている。
【０００３】
また、酸化亜鉛および酸化チタンなどは紫外線の吸収機構により、受けたエネルギーの一部を電子などの形で放出して、ラジカルの生成を引き起こし、そのため、光触媒活性と呼ばれる活性が発現し、化粧料の安定性に影響を与え、光触媒活性が強すぎると、化粧料の変色などの問題が起こることが知られている。
【０００４】
これに対し、上記問題を解決するために、無機微粒子の表面をいろいろな化合物で被覆することが検討されている。
例えば、特許文献１によれば、酸化亜鉛と第１の樹脂とを含有してなる芯材部と、芯材部の表面に形成され第２の樹脂からなる被覆膜とを備えてなる紫外線遮断複合粒子が記載され、第１および第２の樹脂として、(メタ)アクリル樹脂、（メタ）アクリル酸エステル、シリコンアクリル共重合体などが例示されている。
【０００５】
また、特許文献２には、酸化チタンおよび酸化亜鉛微粒子にシリカを被覆してなるシリカ被覆微粒子酸化チタンおよびシリカ被覆微粒子酸化亜鉛が記載され、表面を被覆するシリカ層によって、微粒子酸化チタンや微粒子酸化亜鉛の表面活性が抑制されることが記載されている。
【０００６】
一方、特許文献３には、基板表面の疎水化処理に使用されるアミノシラン系シリ  
ル化剤を含む表面処理剤が記載されている。しかしながら、この表面処理剤を無機  
微粒子の表面処理に使用することに関する記載はない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１４−８４４４８号公報
【特許文献２】特開２００７−１６１１１号公報
【特許文献３】特開２０１３−１７７５３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１では無機微粒子を乳化重合により、樹脂で被覆するために、乳化重合工程時に凝集等によって不安定になり収率が上がらない恐れがある。また、得られた複合粒子中の無機微粒子含量が低い。
特許文献２では無機微粒子をシリカで被覆するために、親水性が高くなり、シリコーンオイル等の疎水性の媒体での分散性が充分ではない。
【０００９】
本発明は、上記の状況を鑑み、無機微粒子の光触媒活性を抑制すると共に無機微粒子からのイオンの溶出を抑制するだけでなく、さらに、分散媒への分散性に優れた無機微粒子の表面被覆方法を提供し、また、該方法で得られた無機微粒子の表面被覆物を配合した化粧料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、特定なアミノシラン系シリル化剤を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面を被覆することで上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明の第１の形態は、下記式（１）で表される化合物を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面を被覆することを特徴とする無機微粒子の表面被覆方法である。
【００１２】
Ｒ1aＳｉ［ＮＲ22］4-a  （１）
（式（１）において、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素数１〜８のアラルキル基、アリール基の中から選択される基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基または炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和ヘテロシクロアルキル基を示し、環状構造であっても良い。ａは１〜３の整数である。ただし、Ｒ1がいずれも水素原子である場合を除く。）
【００１３】
また、本発明における第２の形態は、下記式（２）で表される化合物を含む表面処理剤により無機微粒子の表面被覆を行なった後、無機微粒子の表面に存在する未反応のＮＲ22基の一部または全部を加水分解した後、さらに、下記式（３）で表される化合物を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面を被覆することを特徴とする無機微粒子の表面被覆方法である。
【００１４】
Ｒ1aＳｉ［ＮＲ22］4-a  （２）
（式（２）において、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素数１〜８のアラルキル基、アリール基の中から選択される基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基または炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和ヘテロシクロアルキル基を示し、環状構造であっても良い。ａは１〜２の整数である。ただし、Ｒ1がいずれも水素原子である場合を除く。）
【００１５】
Ｒ13Ｓｉ［ＮＲ22］  （３）
（式（３）において、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素数１〜８のアラルキル基、アリール基の中から選択される基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基または炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和ヘテロシクロアルキル基を示し、環状構造であっても良い。ただし、Ｒ1がいずれも水素原子である場合を除く。）
【００１６】
さらに、本発明の第３の形態は、前記式（２）で表される化合物を含む表面処理剤により無機微粒子の表面被覆を行なった後、無機微粒子の表面に存在する未反応のＮＲ22基の一部または全部を加水分解した後、該表面被覆および該加水分解の操作を２回以上繰り返した後、前記式（３）で表される化合物を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面を被覆することを特徴とする前記第２の形態に記載する無機微粒子の表面被覆方法である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の被覆方法で得られる無機微粒子の表面被覆物は、無機微粒子の光触媒活性が抑制され、また、無機微粒子からの金属イオンの溶出が抑制され、さらに分散媒への分散性に優れているので、化粧料用途に利用可能である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明について詳しく説明する。なお、特にことわりのない限り、部数
は質量部、％は質量％を表す。
【００１９】
本発明における無機微粒子としては、特に限定されないが、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化セリウムなどが挙げられ、これらの中でも紫外線遮蔽に優れることから酸化亜鉛および酸化チタンが好ましい。
無機微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ〜５０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜５μｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍ〜５００ｎｍである。
平均粒子径が５ｎｍ未満では粒子径が小さすぎるために表面被覆の操作が困難であり、一方、平均粒子径が５０μｍを越えると分散媒中に分散させる場合に沈降し易くなり、化粧料に用いた場合に透明性を損なう恐れがある。
なお、平均粒子径は、無機微粒子１００個を選び、これら各々の最長の直線部分を測定して、これらの測定値を加重平均して求めた数値である。
【００２０】
本発明において、下記式（１）で表されるアミノシラン系シリル化剤を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面を被覆する。
Ｒ1aＳｉ［ＮＲ22］4-a  （１）
（式（１）において、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素数１〜８のアラルキル基、アリール基の中から選択される基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基または炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和ヘテロシクロアルキル基を示し、環状構造であっても良い。ａは１〜３の整数である。ただし、Ｒ1がいずれも水素原子である場合を除く。）
【００２１】
前記式（１）で表されるアミノシラン系シリル化剤としては、
トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルシラン（以下、３ＤＭＡ１ＭＳと略す）、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）エチルシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチルシラン、トリス（ｔ−ブチルアミノ）メチルシラン、トリス（アリルアミノ）メチルシラン、メチルトリス（ピペリジノ）シラン、メチルトリス（ピロリジノ）シラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジルシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビニルシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）シクロヘキシルシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニルシラン等、
また、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジメチルシラン（以下、２ＤＭＡ２ＭＳと略す）、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジエチルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）ジエチルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ｔ−ブチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（アリルアミノ）ジメチルシラン、ジメチルビス（ピペリジノ）シラン、ジメチルビス（ピロリジノ）シラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジベンジルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジビニルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジシクロヘキシルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジフェニルシラン等、
さらに、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノトリメチルシラン（以下、ＴＭＳＤＭＡと略す）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノトリエチルシラン、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノトリエチルシラン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノトリメチルシラン、ｔ−ブチルアミノトリメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、トリメチルシリルアセタミド、トリメチルシリルピペリジン、トリメチルシリルイミダゾール、トリメチルシリルピロリジン、ヘキサメチルジシラザン、Ｎ−メチルヘキサメチルジシラザン、１，２−ジ−Ｎ−オクチルテトラメチルジシラザン、１，２−ジビニルテトラメチルジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、トリス（ジメチルシリル）アミン等が挙げられる。
【００２２】
上記の中でも、好ましい化合物は、前記式（１）におけるＲ1およびＲ2がそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数１〜４のアルキル基であり、特に好ましくは、Ｒ1およびＲ2がそれぞれメチル基である３ＤＭＡ１ＭＳ、２ＤＭＡ２ＭＳおよびＴＭＳＤＭＡである。
【００２３】
前記式（１）で表される化合物を含む表面処理剤としては、式（１）で表される化合物を単独で用いることができ、また、有機溶剤で希釈して用いることもできる。
表面処理剤における式（１）で表される化合物の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。
表面処理剤に使用する有機溶剤としては、前記式（１）で表される化合物と反応せず、式（１）で表される化合物を溶解できる有機溶媒が使用可能であり、特に限定されずに従来公知の有機溶剤を使用することができる。
【００２４】
前記有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、アニソール等のエーテル類、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート等のエステル類、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類等などが例示される。
【００２５】
無機微粒子の表面被覆の方法は、無機微粒子の表面に前記式（１）で表される化合物を含む表面処理剤を接触させて、無機微粒子の表面を被覆するものである。
表面処理剤を暴露する方法は特に制限なく公知の方法を使用することができる。例えば、表面処理剤を気化させて蒸気とし、その蒸気を無機微粒子表面に接触させる方法、表面処理剤に無機微粒子を浸漬させる方法、刷毛などの塗工手段により表面処理剤を無機微粒子の表面に塗工する方法などが挙げられる。また、無機微粒子の表面に表面処理剤を暴露する場合の温度、撹拌の有無、浸漬時間などは特に制限されることはない。
これらの方法の中でも、簡易な方法でありその効果も確実な点から、表面処理剤に無機微粒子を浸漬させる方法が好ましい。
【００２６】
上記の方法で、表面処理剤を暴露した無機微粒子は、必要に応じて表面処理剤と分離する。例えば、表面処理剤に無機微粒子を浸漬させる方法の場合、静置分離や遠心分離などにより表面処理剤を分離させる必要がある。
表面処理剤を分離した後、洗浄および乾燥を行うことで表面が被覆された無機微粒子を得ることができる。
【００２７】
無機微粒子を洗浄する方法は特に制限なく公知の方法を使用することができる。例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、アニソール等のエーテル類、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート等のエステル類、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類等の有機溶剤に表面被覆後の無機微粒子を浸漬し、静置や遠心分離等によって得られた上澄み液をデカンテーションすることもできるし、ろ過によって無機微粒子を分離することもできる。
【００２８】
無機微粒子を乾燥する方法は特に制限なく公知の方法を使用することができる。例えば、常温常圧で風乾することもできるし、減圧下、常温もしくは適宜加熱もしくは冷却しながら溶剤を除去することもできる。減圧時の圧力は特に制限はなく０〜１気圧の範囲であれば良い。また、温度も特に制限はなく、好ましくは−１０〜２００℃であり、より好ましくは０〜１５０℃であり、特に好ましくは１０〜１５０℃である。
【００２９】
また、本発明における好ましい方法は、下記式（２）で表されるアミノシラン系シリル化剤を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面被覆を行なった後、無機微粒子の表面に存在する未反応のＮＲ22基の一部または全部を加水分解した後、さらに、下記式（３）で表されるアミノシラン系シリル化剤を含む表面処理剤により、再度、無機微粒子の表面を被覆する方法である。
【００３０】
Ｒ1aＳｉ［ＮＲ22］4-a  （２）
（式（２）において、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素数１〜８のアラルキル基、アリール基の中から選択される基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基または炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和ヘテロシクロアルキル基を示し、環状構造であっても良い。ａは１〜２の整数である。ただし、Ｒ1がいずれも水素原子である場合を除く。）
【００３１】
Ｒ13Ｓｉ［ＮＲ22］  （３）
（式（３）において、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素数１〜８のアラルキル基、アリール基の中から選択される基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の飽和もしくは不飽和アルキル基、炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基または炭素数１〜８の飽和もしくは不飽和ヘテロシクロアルキル基を示し、環状構造であっても良い。ただし、Ｒ1がいずれも水素原子である場合を除く。）
【００３２】
前記式（２）で表されるアミノシラン系シリル化剤としては、
３ＤＭＡ１ＭＳ、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）エチルシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）メチルシラン、トリス（ｔ−ブチルアミノ）メチルシラン、トリス（アリルアミノ）メチルシラン、メチルトリス（ピペリジノ）シラン、メチルトリス（ピロリジノ）シラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジルシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビニルシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）シクロヘキシルシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニルシラン等、
また、２ＤＭＡ２ＭＳ、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジエチルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）ジエチルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ｔ−ブチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（アリルアミノ）ジメチルシラン、ジメチルビス（ピペリジノ）シラン、ジメチルビス（ピロリジノ）シラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジベンジルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジビニルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジシクロヘキシルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジフェニルシラン等が挙げられる。
【００３３】
これらの中でも、好ましくは前記式（２）におけるＲ1およびＲ2がそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数１〜４のアルキル基であり、特に好ましくは、Ｒ1およびＲ2がそれぞれメチル基である３ＤＭＡ１ＭＳおよび２ＤＭＡ２ＭＳである。
【００３４】
また、前記式（３）で表されるアミノシラン系シリル化剤としては、
ＴＭＳＤＭＡ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノトリエチルシラン、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノトリエチルシラン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノトリメチルシラン、ｔ−ブチルアミノトリメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、トリメチルシリルアセタミド、トリメチルシリルピペリジン、トリメチルシリルイミダゾール、トリメチルシリルピロリジン、ヘキサメチルジシラザン、Ｎ−メチルヘキサメチルジシラザン、１，２−ジ−Ｎ−オクチルテトラメチルジシラザン、１，２−ジビニルテトラメチルジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、トリス（ジメチルシリル）アミン等が挙げられる。
【００３５】
これらの中でも、好ましくは前記式（３）におけるＲ1およびＲ2がそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数１〜４のアルキル基であり、特に好ましくは、Ｒ1およびＲ2がそれぞれメチル基であるＴＭＳＤＭＡである。
【００３６】
前記式（２）で表されるアミノシラン系シリル化剤を含む表面処理剤および該表面処理による無機微粒子の被覆方法は、前記の式（１）で表されるアミノシラン系シリル化剤の場合と同様である。
【００３７】
式（２）で表されるアミノシラン系シリル化剤を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面被覆を行なった後、無機微粒子の表面に存在する未反応のＮＲ22基の一部または全部について加水分解を行う。
【００３８】
加水分解する方法は特に制限なく、公知の方法を使用することができる。例えば、表面被覆された微粒子を水に浸漬などの方法で接触させることにより、未反応のＮＲ22基は加水分解させることができる。また、加水分解を促進するため酸を併用しても良い。このとき、無機微粒子と水あるいは水と酸の混合溶液との接触を良好にするため、有機溶剤を併用することもできる。
【００３９】
この場合、用いる有機溶媒としては親水性のものが好ましい。例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類等が挙げられる。
また、加水分解を促進するため併用しても良い酸としてはギ酸、酢酸、シュウ酸等のカルボン酸類、硫酸、メタンスルホン酸等のスルホン酸類、リン酸、塩酸、硝酸等、公知の酸を使用することができる。また、加水分解を促進するため、適宜加熱することもできる。その温度は特に限定はないが、通常は１５〜２００℃である。
【００４０】
加水分解後の無機微粒子を洗浄する方法は、特に制限なく公知の方法を使用することができる。例えば、無機微粒子を水に浸漬し、静置や遠心分離等によって得られた上澄み液をデカンテーションすることもできるし、ろ過によって無機微粒子を分離することもできる。このとき、無機微粒子と水との接触を良好にするため、適切な有機溶剤を併用することもできる。
【００４１】
この場合、用いる有機溶媒としては、親水性のものが好ましい。例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類、アセトニトリル等のニトリル類等が挙げられる。
これらの中でも、乾燥除去が容易で安全性が高いアセトンおよびメチルエチルケトンが特に好ましい。
【００４２】
分離した無機微粒子を乾燥する方法は特に制限なく公知の方法を使用することができる。例えば、常温常圧で風乾することもできるし、減圧下、常温もしくは適宜加熱もしくは冷却しながら溶剤を除去することもできる。
減圧時の圧力は特に制限がなく０〜１気圧の範囲であれば良い。また、温度も特に制限はなく、好ましくは−１０〜２００℃であり、より好ましくは０〜１５０℃であり、特に好ましくは１０〜１５０℃である。
【００４３】
無機微粒子の表面を加水分解した後、前記式（３）で表されるアミノシラン系シリル化剤を含む表面処理剤および該表面処理による無機微粒子の表面を被覆する方法は、前記式（１）で表されるアミノシラン系シリル化剤の場合と同様である。
【００４４】
さらに、本発明における好ましい方法は、前記式（２）で表されるアミノシラン系シリル化剤を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面被覆を行なった後、無機微粒子の表面に存在する未反応のＮＲ22基の一部または全部を加水分解した後、該表面被覆および該加水分解の操作を２回以上繰り返した後、さらに、下記式（３）で表されるアミノシラン系シリル化剤を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面を被覆する方法である。
前記表面被覆および加水分解の操作を繰り返すことで無機微粒子の分散性がより向上するが、作業性の面から該操作を２回〜５回繰り返すことが好ましい。
【００４５】
なお、繰り返して行う、無機微粒子の表面被覆の方法、および無機微粒子の表面に存在する未反応のＮＲ22基を加水分解する方法は前記と同じである。
【００４６】
本発明における化粧料は、上記の方法で表面被覆された無機微粒子を配合してなるものである。
化粧料における表面被覆された無機微粒子は、化粧料全体の質量に対して１質量％〜７０質量％含有していることが好ましく、さらに好ましくは３質量％〜５０質量％の範囲である。
化粧料全体の質量に対して１質量％〜７０質量％含有することにより、透明感を十分に確保することができ、ざらつき感などもなく使用感に優れた化粧料を得ることができる。
【００４７】
本発明における化粧料には、本発明の効果を損なわない範囲内において、有機系紫外線遮断剤、無機系紫外線遮断剤およびその他の添加剤を含有することができる。
【００４８】
有機系紫外線遮断剤としては、アントラニラート類、ケイ皮酸誘導体、サルチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンザルマロナート誘導体など公知の化合物が挙げられ、これらの１種または２種以上を用いることができる。
【００４９】
無機系紫外線遮断剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどが挙げられ、これらの１種または２種以上を用いることができる。
【００５０】
本発明における化粧料は、表面被覆された無機微粒子を、乳液、クリーム、ファンデーション、口紅、アイシャドーなどの基材中に公知の方法で配合することにより得ることができる。
特に、油性成分を含む日焼け止め、メークアップ下地、乳液、クリーム、ファンデーション、口紅、アイシャドー、マスカラなどの化粧品に好適である。
【００５１】
前記油性成分としては、通常の化粧料に用いられるものであればどのような油性成分も配合できる。例えば、油脂、ロウ類、炭化水素油、シリコーン油、高級脂肪酸、高級アルコール、合成エステル油、天然エステル油等が挙げられる。
【００５２】
油脂としては、例えば、アボガド油、ツバキ油、タートル油、マカデミアナッツ油、トウモロコシ油、ミンク油、オリーブ油、ナタネ油、卵黄油、ゴマ油、パーシック油、小麦胚芽油、サザンカ油、ヒマシ油、アマニ油、サフラワー油、綿実油、エノ油、大豆油、落花生油、茶実油、カヤ油、コメヌカ油、シナギリ油、日本キリ油、ホホバ油、胚芽油、トリグリセリン、カカオ脂、ヤシ油、馬脂、硬化ヤシ油、パーム油、牛脂、羊脂、硬化牛脂、パーム核油、豚脂、牛骨脂、モクロウ核油、硬化油、牛脚脂、モクロウ、硬化ヒマシ油等が挙げられる。
【００５３】
ロウ類としては、例えば、ミツロウ、カンデリラロウ、綿ロウ、カルナウバロウ、ベイベリーロウ、イボタロウ、鯨ロウ、モンタンロウ、ヌカロウ、ラノリン、カポックロウ、酢酸ラノリン、液状ラノリン、サトウキビロウ、ラノリン脂肪酸イソプロピル、ラウリン酸ヘキシル、還元ラノリン、ジョジョバロウ、硬質ラノリン、セラックロウ、ＰＯＥラノリンアルコールエーテル、ＰＯＥラノリンアルコールアセテート、ＰＯＥコレステロールエーテル、ラノリン脂肪酸ポリエチレングリコール、ＰＯＥ水素添加ラノリンアルコールエーテル等が挙げられる。
【００５４】
炭化水素油としては、例えば、イソヘキサデカン、イソドデカン等を例示することができる。
【００５５】
シリコーン油としては、例えば、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、デカメチルポリシロキサン、ドデカメチルポリシロキサン、テトラメチルテトラハイドロジェンポリシロキサン、シクロテトラジメチルシロキサン、シクロペンタジメチルシロキサン等の直鎖状または環状のポリシロキサン等を例示することができる。
【００５６】
高級脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、ウンデシレン酸、トール酸、イソステアリン酸、リノール酸、リノレイン酸、エイコサペンタエン酸（ＥＰＡ）、ドコサヘキサエン酸（ＤＨＡ）等が挙げられる。
【００５７】
高級アルコールとしては、例えば、直鎖アルコール（例えば、ラウリルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、ミリスチルアルコール、オレイルアルコール、セトステアリルアルコール等）；分枝鎖アルコール（例えば、モノステアリルグリセリンエーテル(バチルアルコール)、２−デシルテトラデシノール、ラノリンアルコール、コレステロール、フィトステロール、ヘキシルドデカノール、イソステアリルアルコール、オクチルドデカノール等）等が挙げられる。
【００５８】
合成エステル油としては、例えばミリスチン酸イソプロピル、オクタン酸セチル、ミリスチン酸オクチルドデシル、パルミチン酸イソプロピル、ステアリン酸ブチル、ラウリン酸ヘキシル、ミリスチン酸ミリスチル、オレイン酸デシル、ジメチルオクタン酸ヘキシルデシル、乳酸セチル、乳酸ミリスチル、酢酸ラノリン、ステアリン酸イソセチル、イソステアリン酸イソセチル、１２−ヒドロキシステアリン酸コレステリル、ジ−２−エチルヘキサン酸エチレングリコール、ジペンタエリスリトール脂肪酸エステル、モノイソステアリン酸Ｎ−アルキルグリコール、ジカプリン酸ネオペンチルグリコール、リンゴ酸ジイソステアリル、ジ−２−へプチルウンデカン酸グリセリン、トリ−２−エチルヘキサン酸トリメチロールプロパン、トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、テトラ−２−エチルヘキサン酸ペンタンエリスリトール、トリ−２−エチルヘキサン酸グリセリン、トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、セチル２−エチルヘキサノエート、２−エチルヘキシルパルミテート、トリミリスチン酸グリセリン、トリ−２−ヘプチルウンデカン酸グリセライド、ヒマシ油脂肪酸メチルエステル、オレイン酸オレイル、セトステアリルアルコール、アセトグリセライド、パルミチン酸２−へプチルウンデシル、アジピン酸ジイソブチル、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸−２−オクチルドデシル、アジピン酸ジ−２−ヘプチルウンデシル、エチルラウレート、セバチン酸ジ−２−エチルヘキシル、ミリスチン酸２−ヘキシルデシル、パルミチン酸２−ヘキシルデシル、アジピン酸２−ヘキシルデシル、セバチン酸ジイソプロピル、コハク酸２−エチルヘキシル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、クエン酸トリエチルが挙げられる。
【００５９】
天然系のエステル油としては、例えばアボガド油、ツバキ油、タートル油、マカデミアナッツ油、トウモロコシ油、ミンク油、オリーブ油、ナタネ油、卵黄油、ゴマ油、パーシック油、小麦胚芽油、サザンカ油、ヒマシ油、アマニ油、サフラワー油、綿実油、エノ油、大豆油、落花生油、茶実油、カヤ油、コメヌカ油、シナギリ油、ホホバ油、胚芽油、トリグリセリン、トリオクタン酸グリセリン、トリイソパルミチン酸グリセリンが挙げられる。
【００６０】
さらに、化粧水や日焼け止めジェルなどの水系化粧料にも、表面被覆された無機微粒子を配合することが可能で、紫外線遮断性、透明感、使用感に優れた水系化粧料を得ることができる。
また、この化粧料を化粧品の成分として用いることにより、紫外線遮断性、透明感、使用感に優れたスキンケア化粧品、メークアップ化粧品、ボディケア化粧品などに使用可能である。
【実施例】
【００６１】
以下、実施例および比較例により、本発明を具体的に説明する。
＜実施例１＞
表面が無処理の酸化亜鉛微粒子を３ＤＭＡ１ＭＳで１回処理した後、さらにＴＭＳＤＭＡで処理することにより表面被覆酸化亜鉛微粒子を調製した。
１）酸化亜鉛微粒子の表面処理剤３ＤＭＡ１ＭＳによる処理
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面が無処理の酸化亜鉛微粒子(堺化学工業株式会社製ＦＩＮＥＸ−３０)４．０ｇと０．２質量％に調製した３ＤＭＡ１ＭＳのアセトン溶液７．７２ｇを混合し、ボルテックスミキサーを用いて５分間混合した。さらにミックスローターを用いて７０ｒｐｍで１時間混合し、得られた分散液を室温で一晩静置した。
【００６２】
２）過剰の表面処理剤の分離・洗浄と未反応のＮ（ＣＨ3）2基の加水分解
次いで、分散液を遠心分離（５０００ｒｐｍ、５分間）にかけ、分離した上澄み液を取り除いた。残った酸化亜鉛にアセトン２ｇを混合し、ボルテックスミキサーで混合した後、遠心分離（５０００ｒｐｍ、５分間）にかけ、分離した上澄み液を取り除いた。このアセトンによる洗浄作業を５回繰り返した。
洗浄後の酸化亜鉛に０．１質量％に調製したシュウ酸の水／アセトン混合溶液（水:アセトン＝１：１質量比)７．２ｇを混合し、ボルテックスミキサーを用いて５分間混合した。さらにミックスローターを用いて７０ｒｐｍで１．５時間混合した。
【００６３】
３）過剰の水、シュウ酸および塩の分離・洗浄・乾燥
次いで、分散液を遠心分離（５０００ｒｐｍ、５分間）にかけ、分離した上澄み液を取り除いた。残った酸化亜鉛に水／アセトン混合溶液（水:アセトン＝１：１質量比）２ｇを混合し、ボルテックスミキサーで混合した後、遠心分離（５０００ｒｐｍ、５分間）にかけ、分離した上澄み液を取り除いた。この水／アセトン混合溶液による洗浄作業を３回繰り返した。さらに酸化亜鉛にアセトン２ｇを混合し、ボルテックスミキサーで混合した後、遠心分離（５０００ｒｐｍ、５分間）にかけ、分離した上澄み液を取り除いた。このアセトンによる洗浄作業を２回繰り返した。
洗浄後の酸化亜鉛は乾燥機を用いて５０℃で１時間乾燥させ、さらにミニジェットオーブンを用いて、窒素気流下、１５０℃で１時間乾燥させた。
【００６４】
４）表面処理剤ＴＭＳＤＭＡによる処理
上記３ＤＭＡ１ＭＳで処理した酸化亜鉛微粒子３．０ｇと０．２質量％に調製したＴＭＳＤＭＡアセトン溶液５．４５ｇを混合し、ボルテックスミキサーを用いて５分間混合した。さらにミックスローターを用いて７０ｒｐｍで１時間混合し、得られた分散液を室温で一晩静置した。
【００６５】
５）過剰な表面処理剤の分離・洗浄・乾燥
次いで、分散液を遠心分離（５０００ｒｐｍ、５分間）にかけ、分離した上澄み液を取り除いた。残った酸化亜鉛にアセトン２ｇを混合し、ボルテックスミキサーで混合した後、遠心分離（５０００ｒｐｍ、５分間）にかけ、分離した上澄み液を取り除いた。このアセトンによる洗浄作業を５回繰り返した。
洗浄後の酸化亜鉛は乾燥機を用いて５０℃で１時間乾燥させ、さらにミニジェットオーブンを用いて窒素気流下、１５０℃で１時間乾燥させ、所望の表面被覆酸化亜鉛微粒子を得た。
【００６６】
＜実施例２＞
表面を高密度シリカ層で被覆し親水性を付与する処理を行った（以下、高密度シリカで被覆処理という）酸化亜鉛微粒子をＴＭＳＤＭＡで処理することにより表面被覆酸化亜鉛微粒子を調製した。
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子(堺化学工業株式会社製ＦＩＮＥＸ−３０Ｗ)を用いて、実施例１の４）〜５）と同じ処理を行ない、所望の HTMLCONTROL Forms.HTML:Hidden.1 表面被覆酸化亜鉛微粒子を得た。
【００６７】
＜実施例３＞
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子(堺化学工業株式会社製ＦＩＮＥＸ−３０Ｗ)を用い、３ＤＭＡ１ＭＳに替えて２ＤＭＡ２ＭＳを用いた以外は、実施例１の１）〜３）と同様にして所望の HTMLCONTROL Forms.HTML:Hidden.1 表面被覆酸化亜鉛微粒子を得た。
【００６８】
＜実施例４＞
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子(堺化学工業株式会社製ＦＩＮＥＸ−３０Ｗ)を用い、３ＤＭＡ１ＭＳを用いて実施例１の１）〜３）と同様にして所望の HTMLCONTROL Forms.HTML:Hidden.1 表面被覆酸化亜鉛微粒子を得た。
【００６９】
＜実施例５＞
表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子を２ＤＭＡ２ＭＳで１回処理した後、さらにＴＭＳＤＭＡで処理することにより表面被覆酸化亜鉛微粒子を調製した。
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子(堺化学工業株式会社製ＦＩＮＥＸ−３０Ｗ)を用い、３ＤＭＡ１ＭＳに替えて２ＤＭＡ２ＭＳを用いた以外は、実施例１と同様にして所望の HTMLCONTROL Forms.HTML:Hidden.1 表面被覆酸化亜鉛微粒子を得た。
【００７０】
＜実施例６＞
表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子を３ＤＭＡ１ＭＳで１回処理した後、さらにＴＭＳＤＭＡで処理することにより表面被覆酸化亜鉛微粒子を調製した。
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子(堺化学工業株式会社製ＦＩＮＥＸ−３０Ｗ)を用いた以外は、実施例１と同様にして所望の HTMLCONTROL Forms.HTML:Hidden.1 表面被覆酸化亜鉛微粒子を得た。
【００７１】
＜実施例７＞
表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子を３ＤＭＡ１ＭＳで２回処理した後、さらにＴＭＳＤＭＡで処理することにより表面被覆酸化亜鉛微粒子を調製した。
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子(堺化学工業株式会社製ＦＩＮＥＸ−３０Ｗ)を用いて、実施例１の１）〜３）と同様の操作を２回繰り返した以外は、実施例１と同様にして所望の表面被覆酸化亜鉛微粒子を得た。
【００７２】
＜実施例８＞
表面を高密度純度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子を３ＤＭＡ１ＭＳで４回処理した後、さらにＴＭＳＤＭＡで処理することにより表面被覆酸化亜鉛微粒子を調製した。
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子(堺化学工業株式会社製ＦＩＮＥＸ−３０Ｗ)を用いて、実施例１の１）〜３）と同様の操作を４回繰り返した以外は、実施例１と同様にして所望の表面被覆酸化亜鉛微粒子を得た。
【００７３】
＜実施例９＞
表面を高密度シリカで被覆処理した酸化チタン微粒子を３ＤＭＡ１ＭＳで４回処理した後、さらにＴＭＳＤＭＡで処理することにより表面被覆酸化チタン微粒子を調製した。
短軸平均長さ１０ｎｍ、長軸平均長さ９０ｎｍで、表面を高密度シリカで被覆処理した酸化チタン微粒子(堺化学株式会社製ＳＴＲ−１００Ｗ)を用いた以外は、実施例８と同様の操作により所望の表面被覆酸化チタン微粒子を得た。
【００７４】
＜比較例１〜５＞
比較例１〜５は、堺化学工業株式会社製の無機微粒子を用いて、アミノシラン系シリル化剤による表面の被覆処理を行なわずに分散性および亜鉛溶出量の試験を行なった。
比較例１
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面を無処理の酸化亜鉛微粒子：ＦＩＮＥＸ−３０を用いた。
比較例２
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面を高密度シリカで被覆処理した酸化亜鉛微粒子：ＦＩＮＥＸ−３０Ｗを用いた。
比較例３
平均一次粒子径３５ｎｍで、表面を高密度シリカで被覆処理した後、さらに表面をハイドロゲンジメチコンで被覆し親水性を付与する処理を行った酸化亜鉛微粒子：ＦＩＮＥＸ−３０Ｗ−ＬＰ２を用いた。
比較例４
短軸平均長さ１０ｎｍ、長軸平均長さ９０ｎｍで、高密度シリカで被覆処理した酸化チタン微粒子：ＳＴＲ−１００Ｗを用いた。
比較例５
短軸平均長さ１０ｎｍ、長軸平均長さ９０ｎｍで、高密度シリカで被覆処理した後、さらに表面をハイドロゲンジメチコンで被覆し親水性を付与する処理を行った酸化チタン微粒子：ＳＴＲ−１００Ｗ−ＬＰを用いた。
【００７５】
実施例１〜９で得られた表面被覆を行なった無機微粒子と、比較例１〜５の無機微粒子の、オイルへの分散性および亜鉛溶出抑制の試験を行なった。試験方法は下記に示すとおりであり、オイルへの分散性の評価結果を表１、亜鉛溶出抑制の評価結果を表２に示す。
【００７６】
＜オイルへの分散性評価＞
メチルフェニルシリコーンオイル(信越化学工業株式会社製、ＫＦ−５４)に対し、各表面被覆微粒子または無機微粒子が２体積％になるように混合し、ペイントシェーカーで２０分間混合した後、レオメーター(Ａｎｔｏｎ  Ｐａａｒ社製、ＭＣＲ３０１)を用いて、分散系の粘度を測定した(２５℃、ずり速度：１．０×１０-2〜１．０×１０3［ｌ／ｓ］)。
各サンプル２回測定を行い、１回目の測定で全てのサンプルに同等なせん断履歴を与えたとして、２回目を本測定とした。
評価の基準は以下のとおり４段階で評価した。
◎：粘度のずり速度依存性がほとんど無く、オイル単独と遜色ないほど極めて粘度が低い。
○：粘度のずり速度依存性が低く、測定したずり速度領域において粘度が常に１０Ｐａ・ｓ以下である。
△：粘度のずり速度依存性が高く、測定したずり速度領域において粘度が常に５０Ｐａ・ｓ以下である。
×：粘度のずり速度依存性が極めて高く、低ずり速度領域において粘度が５０Ｐａ・ｓを超える。
【００７７】
＜亜鉛溶出抑制評価＞
各表面被覆酸化亜鉛微粒子または無機微粒子０．２ｇと水／エタノール混合溶液（１：１質量比)３９．８ｇを混合し１時間静置した。その後６０００ｒｐｍで１時間遠心分離をかけて上澄み液を分離した。その上澄み液を０．４５μｍと０．１μｍのフィルターに通液させた後、ＩＣＰ質量分析（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製７７００ｓ）により溶出した亜鉛の定量を行った。
【００７８】
なお、表１および表２における略号は、前記と同じく以下の化合物を表す。
３ＤＭＡ１ＭＳ：トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルシラン
２ＤＭＡ２ＭＳ：ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジメチルシラン
ＴＭＳＤＭＡ  ：Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノトリメチルシラン
【００７９】
【表１】
0005978508.tif 000002
【００８０】
【表２】
0005978508.tif 000003
【００８１】
表１および表２からわかるように、本発明の特定な構造のアミノシラン系シリル化剤により表面被覆した無機微粒子は、オイルへの分散性および亜鉛の溶出抑制に優れている。
【要約】
【課題】本発明は、無機微粒子の光触媒活性を抑制すると共に無機微粒子からのイオンの溶出を抑制するだけでなく、分散媒への分散性に優れた無機微粒子の表面被覆方法を提供し、また、該方法で得られた無機微粒子の表面被覆物を配合した化粧料を提供することを目的とする。
【解決方法】下記式（１）で表される化合物を含む表面処理剤により、無機微粒子の表面を被覆することを特徴とする無機微粒子の表面被覆方法である。
Ｒ1aＳｉ［ＮＲ22］4-a  （１）
【選択図】なし