(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子と、その両面に対向して貼合された２枚のλ／４板を有する円偏光板であって、一方のλ／４板（以下「λ／４板Ｔ１」という。）と、他方のλ／４板（以下「λ／４板Ｔ２」という。）の面内リターデーション値Ｒｏが、温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨの環境下で、下記要件（ａ）〜（ｃ）を満たすことを特徴とする円偏光板。
（ａ）４５０〜６５０ｎｍの範囲内での測定において、前記λ／４板Ｔ１の面内リターデーション値Ｒｏが、前記λ／４板Ｔ２の面内リターデーション値Ｒｏより、３．０〜２０．０ｎｍ小さい。
（ｂ）測定波長４５０ｎｍでの測定における前記λ／４板Ｔ１の面内リターデーション値Ｒｏ（４５０）が、１１０〜１４０ｎｍの範囲内にある。
（ｃ）測定波長６５０ｎｍでの測定における前記λ／４板Ｔ２の面内リターデーション値Ｒｏ（６５０）が、１４５〜１６５ｎｍの範囲内にある。
【請求項２】
前記λ／４板Ｔ１とλ／４板Ｔ２とが、共に、総アシル基置換度が２．０〜２．７の範囲内であるセルロースアセテートを７０質量％以上含有していることを特徴とする請求項１に記載の円偏光板。
【請求項３】
前記偏光子の透過軸に対して、前記λ／４板Ｔ１とλ／４板Ｔ２の遅相軸のなす角度が、共に、４４°〜４６°であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の円偏光板。
【請求項４】
前記λ／４板Ｔ１に対する前記λ／４板Ｔ２の下記式で定義される張力の大きさが、偏光子に貼合されている全ての面内で、０．７〜１．３０倍の範囲内にあることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の円偏光板。
（式）：張力＝弾性率×膜厚（ｋＮ／ｍ）
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の円偏光板と、有機エレクトロルミネッセンス素子とが、具備されていることを特徴とする立体画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、円偏光板及び立体画像表示装置に関し、更に詳しくは、立体画像表示装置に用いられる円偏光板及び立体画像表示機能を備えた有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特定の波長の直線偏光を円偏光に変換する機能を持つλ／４板は、近年、立体（３Ｄ）画像表示装置の分野で需要が出てきている。【０００３】
立体画像表示装置にはいくつかの方式が知られているが、その一つに液晶シャッター機能の付いた専用の立体画像視認用眼鏡を観測者が着用することで、２次元画像を立体（３次元：３Ｄ）画像として観測者に認識させる方式がある。この方式で現在有力視されているのが、画像を表示するディスプレイに視差画像である右眼用画像と左眼用画像とを時系列で交互に切り替えて映し出し、観測者は立体画像視認用眼鏡を着用して、液晶ディスプレイの画像を見るという方式である（例えば、特許文献１参照。）。【０００４】
このような液晶ディスプレイと立体画像視認用眼鏡からなる立体画像表示装置では、首を傾けた際に、輝度低下や色相の変化によって画像が２重に見える（以下クロストークともいう。）という問題がある。首を傾けた際の輝度低下の抑制及び色相変化の抑制ためには、液晶ディスプレイの視認側にλ／４板を用いることが有効である。【０００５】
更に近年、消費電力が少なく容積が小さい面発光素子を持つ有機エレクトロルミネッセンス（以下有機ＥＬともいう。）画像表示装置のニーズが高まっており、必然的に立体画像表示機能を備えた有機ＥＬ画像表示装置のニーズが高まっている。【０００６】
有機ＥＬ画像表示装置においては金属電極からの反射光による色相劣化を防ぐため、λ／４板を使用した円偏光板が必要となる。よって、本発明の円偏光板は、発光層側に有機ＥＬ画像表示装置の金属電極からの反射を防止するためのλ／４板（以下「λ／４板Ｔ２」という。）、視認側に立体画像（以下３Ｄ画像ともいう。）のクロストークを防止するためのλ／４板（以下「λ／４板Ｔ１」という。）を搭載している。【０００７】
有機ＥＬ画像表示装置の可視光における反射光を全てカットするためには可視光全波長領域においてλ／４位相差とする必要がある。しかし、位相差の波長分散を改良することは基本的に位相差そのものとのトレードオフ関係となり、困難である。波長領域によっては反射光のカットが困難であり、特に視感度の高い赤領域の反射光は視認性の劣化を招く。しかし通常のＥＬ画像表示装置においては、λ／４板の位相差を高めに設定して視感度の高い赤領域の反射光がカットできていれば視認上大きな問題とはならなかった。【０００８】
しかしながら、有機ＥＬ画像表示装置に３Ｄ画像機能を付与した場合、円偏光板でカットされなかった青領域の反射光が、３Ｄ画像におけるクロストークの原因となることが判明した。【０００９】
一方、特許文献２及び特許文献３には有機ＥＬ表示装置やセルロースエステルフィルムを備えた円偏光板について開示されているが、３Ｄ画像機能を付与する可能性や、その場合の前記問題に対しては述べられていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平８−２０１９４２号公報
【特許文献２】特開２００９−２５１２８８号公報
【特許文献３】特開２００９−１３２１３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、立体画像表示機能を備えた有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置において発生する赤色相の劣化と青領域の反射光に起因するクロストークを改良した円偏光板を提供すること及びその円偏光板を用いた立体画像表示装置を提供することである。さらにもう一つの解決課題は、有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置において発生するパネル反りの起こらない円偏光板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、上記課題に対して鋭意検討した結果、有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置を構成する円偏光板に用いるλ／４板Ｔ２の面内方向リターデーション値Ｒｏを高めに設定して赤領域の反射光をカットし、立体画像表示装置を構成するλ／４板Ｔ１の面内方向リターデーション値Ｒｏを低めに設定することで３Ｄ画像における青領域の反射光に起因するクロストークを抑制できることを見いだし本発明を完成するに至った。【００１３】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
１．偏光子と、その両面に対向して貼合された２枚のλ／４板を有する円偏光板であって、一方のλ／４板（以下「λ／４板Ｔ１」という。）と、他方のλ／４板（以下「λ／４板Ｔ２」という。）の面内リターデーション値Ｒｏが、温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨの環境下で、下記要件（ａ）〜（ｃ）を満たすことを特徴とする円偏光板。
（ａ）４５０〜６５０ｎｍの範囲内での測定において、前記λ／４板Ｔ１の面内リターデーション値Ｒｏが、前記λ／４板Ｔ２の面内リターデーション値Ｒｏより、３．０〜２０．０ｎｍ小さい。
（ｂ）測定波長４５０ｎｍでの測定における前記λ／４板Ｔ１の面内リターデーション値Ｒｏ（４５０）が、１１０〜１４０ｎｍの範囲内にある。
（ｃ）測定波長６５０ｎｍでの測定における前記λ／４板Ｔ２の面内リターデーション値Ｒｏ（６５０）が、１４５〜１６５ｎｍの範囲内にある。
２．前記λ／４板Ｔ１とλ／４板Ｔ２とが、共に、総アシル基置換度が２．０〜２．７の範囲内であるセルロースアセテートを７０質量％以上含有していることを特徴とする前記第１項に記載の円偏光板。
３．前記偏光子の透過軸に対して、前記λ／４板Ｔ１とλ／４板Ｔ２の遅相軸のなす角度が、共に、４４°〜４６°であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の円偏光板。
４．前記λ／４板Ｔ１に対する前記λ／４板Ｔ２の下記式で定義される張力の大きさが、偏光子に貼合されている全ての面内で、０．７〜１．３０倍の範囲内にあることを特徴とする前記第１項から第３項までのいずれか一項に記載の円偏光板。
（式）：張力＝弾性率×膜厚（ｋＮ／ｍ）
５．前記第１項から第４項までのいずれか一項に記載の円偏光板と、有機エレクトロルミネッセンス素子とが、具備されていることを特徴とする立体画像表示装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明は上記手段により、立体画像表示機能を備えた有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置に於ける赤色相の劣化と青のクロストークが改良された円偏光板を提供し、赤色相の劣化と青領域のクロストークが改良された立体画像表示機能を備えた有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置を提供することができる。さらにパネルの反りのない有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置を提供することができる。【００１５】
（本発明の機構）
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。【００１６】
すなわち、有機ＥＬ画像表示装置ではλ／４板を搭載した円偏光板で金属電極の反射光をカットするが、広帯域（凡そ４５０〜５５０ｎｍの可視光領域）でのλ／４位相差を実現して可視光全てをカットするのが困難であった。有機ＥＬ画像表示装置に立体（３Ｄ）機能を搭載した際、カットし切れなかった光がクロストークとなってしまう。本発明では、λ／４板Ｔ２（発光層側）の位相差を高めにして視感度の高い赤領域の反射光を優先してカットする。ここでは、青領域（低波長光）が光モレするが視感度低く、通常の有機ＥＬ画像表示装置では問題ない。しかし、立体画像表示機能を備えた有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置では光モレした低波長光が青のクロストークとなってしまう。このため表面側（視認側）にも位相差低めのλ／４板Ｔ１を搭載することで光モレした低波長光を円偏光化してクロストークを改良することができたものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の立体画像表示装置の構成を説明する模式図
【図２】λ／４板Ｔ１、Ｔ２の張力の測定方向を表す概念図
【図３】斜め延伸するために用いるテンターのレールの軌道（レールパターン）を説明する模式図
【図４】パネルの反りを説明する概念図
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の円偏光板は、偏光子と、その両面に対向して貼合された２枚のλ／４板を有する円偏光板であって、一方のλ／４板（以下「λ／４板Ｔ１」という。）と、他方のλ／４板（以下「λ／４板Ｔ２」という。）の面内リターデーション値Ｒｏが、温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨの環境下で、前記要件（ａ）〜（ｃ）を満たすことを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項５までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００１９】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記円偏光板を構成する前記λ／４板Ｔ１と前記λ／４板Ｔ２が、共に総アシル基置換度２．０〜２．７のセルロースアセテートを７０質量％以上含有することが面内リターデーション値Ｒｏと波長分散特性（波長とＲｏの関係）とを調整する上で好ましい。
【００２０】
さらに、本発明においては、前記円偏光板を構成する前記λ／４板Ｔ１と前記λ／４板Ｔ２が、斜め延伸によって作製されたものであることが、偏光板がロール・トゥ・ロールで作製できて、生産性向上とコストダウンの効果が得られることから好ましい。
【００２１】
さらに、本発明においては、前記λ／４板Ｔ１に対する前記λ／４板Ｔ２の張力の大きさが、貼合されている全ての面内で０．７０倍〜１．３０倍の範囲内であることが。パネルの反り改善の効果が得られることから好ましい。
【００２２】
本発明の円偏光板は、立体画像表示機能を備えた有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置に好適に具備され得る。これにより、表示装置に於ける赤色相の劣化と青領域の反射光に起因するクロストークを改良する効果が得られる。
【００２３】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明を行う。なお、本発明において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で用いる。
【００２４】
＜本発明の円偏光板の概要＞
本発明の円偏光板は、偏光子と、その両面に対向して貼合された２枚のλ／４板を有する円偏光板であって、一方のλ／４板（以下「λ／４板Ｔ１」という。）と、他方のλ／４板（以下「λ／４板Ｔ２」という。）の面内リターデーション値Ｒｏが、温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨの環境下で、下記要件（ａ）〜（ｃ）を満たすことを特徴としている。
（ａ）４５０〜６５０ｎｍの範囲内での測定において、前記λ／４板Ｔ１の面内リターデーション値Ｒｏが、前記λ／４板Ｔ２の面内リターデーション値Ｒｏより、３．０〜２０．０ｎｍ小さい。
（ｂ）測定波長４５０ｎｍでの測定における前記λ／４板Ｔ１の面内リターデーション値Ｒｏ（４５０）が、１１０〜１４０ｎｍの範囲内にある。
（ｃ）測定波長６５０ｎｍでの測定における前記λ／４板Ｔ２の面内リターデーション値Ｒｏ（６５０）が、１４５〜１６５ｎｍの範囲内にある。
【００２５】
円偏光板とは前記のように、位相差板を１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向のなす角をπ／４に調整して、有機エレクトロルミネッセンス発光体の金属電極の鏡面反射を遮蔽するために有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置に使用される。本発明の鏡面反射の遮蔽に使用される１／４波長板Ｔ２（発光層側）は、広帯域λ／４板である。広帯域λ／４板とは可視光線領域の波長の全ての光に対して１／４波長の位相差を与えるもの、即ち逆波長分散（Ｒｏ（４５０）＜Ｒｏ（５５０）＜Ｒｏ（６５０））を有するλ／４板である。正波長分散においてもλ／４板とλ／２板を積層することで広帯域λ／４を達成することが可能だが、積層だと厚さ方向の位相差（Ｒｔ）上昇や軸ズレによる視認性低下が起こる。本発明のように、セルロースアセテートのような逆波長分散を有する材料を使用して単層で広帯域を達成したλ／４板は、視認性だけでなくコストや生産性の観点からも好ましい。
【００２６】
λ／４板Ｔ２の波長分散は、Ｒｏ（４５０）／Ｒｏ（６５０）比の値が１．００未満であり、好ましくは０．５０〜０．９８、より好ましくは０．６０〜０．９５、最も好ましいのは０．６５〜０．９２である。特に視認感度の高い緑から赤においてλ／４であると視認レベルでの色相改良の効果が大きいことから好ましく、Ｒｏ（５５０）／Ｒｏ（６５０）比の値が０．９８以下が好ましく、より好ましいのは０．９６以下、更に好ましいのは０．９４以下である。この範囲であると赤の反射光がカットされ、画像の締まりが良くなる。
【００２７】
本発明の円偏光板においてλ／４板Ｔ２の対向に位置するλ／４板Ｔ１（視認側）は必ずしも広帯域λ／４板でなくても良いが、Ｒｏ（４５０）／Ｒｏ（６５０）比の値１．２０以下であることが好ましく、より好ましくは０．５０〜１．００、更に好ましくは０．６５〜０．９５である。この範囲であると立体画像でのクロストーク改良の効果が得られる。
【００２８】
有機エレクトロルミネッセンス素子は、紫外線により劣化し易いので、円偏光板は紫外線吸収機能を備えていることが好ましい。視認側の保護フィルムが紫外線吸収機能を備えていると、偏光子と有機エレクトロルミネッセンス素子の両方を紫外線から保護できて好ましいが、さらに発光層側のλ／４板にも紫外線吸収機能を備えていると、より有機エレクトロルミネッセンス素子の劣化を抑制できて好ましい。
【００２９】
特にλ／４板Ｔ２で高波長側の位相差が高く、λ／４板Ｔ１で低波長側の位相差が低いことが反射光カットによる画像コントラスト向上と、クロストーク改良効果の両立の点で好ましい。
【００３０】
達成手段は基材フィルムに例えばセルロースアセテートを使用して総アシル基置換度を調整することで位相差発現性と波長分散性を調節できる。セルロースアセテートは元来逆波長分散となっており、広帯域λ／４板を作製するに好ましい樹脂であるが、総アシル基置換度が低いと位相差発現性が高くなる代わりに波長分散がフラットになってしまい、総アシル基置換度を高めるとより逆波長分散となって好ましいが、位相差発現性は劣化する。波長分散性を劣化させずに位相差を高めるには、延伸条件（温度、倍率）で制御する手段がある。これらの手段を適時組合わせて、好ましいＴ１／Ｔ２の位相差を組合わせることが可能である。
【００３１】
延伸を行う場合は、斜め延伸によって遅走軸の角度を４５°±５°にしておくと、偏光板作製の際、ロール・トゥ・ロール貼合ができて生産性が向上する。
【００３２】
しかし、延伸によって作製したλ／４板を偏光子の両側に貼合した円偏光板は、カールが大きくなることが判明した。液晶表示装置では元々厚い上にパネルの両側に偏光板が用いられるため、バランスが取れて問題とならなかったが、有機ＥＬ画像表示装置の場合は円偏光板が１枚しか用いられないことが多く、円偏光板のカールがそのままパネルの反りの原因となる。
【００３３】
この問題は、λ／４板Ｔ１、Ｔ２が、面内のどの方向に対しても同等の張力を持つような方向に貼合することで解決できた。
【００３４】
本発明において、張力は、以下の式で表される。
【００３５】
張力（ｋＮ／ｍ）＝弾性率（ＧＰａ）×膜厚（μｍ）
＜フィルムの面内リターデーション値Ｒｏ＞
本発明の面内リターデーション値Ｒｏはλ／４板Ｔ１の面内リターデーション値Ｒｏ（４５０）が１１０〜１４０ｎｍであり、１１０〜１３０ｎｍがより好ましい。λ／４板Ｔ１の面内リターデーション値Ｒｏ（４５０）が１１０ｎｍ以下若しくは１４０ｎｍ以上であると青の光モレが大きくなって青色相とクロストークが劣化する。λ／４板Ｔ２の面内リターデーション値Ｒｏ（６５０）は、１４５〜１６５ｎｍであり、１５５〜１６５ｎｍがより好ましい。λ／４板Ｔ２の面内リターデーション値Ｒｏ（６５０）が１４５ｎｍ以下若しくは１６５ｎｍ以上であると赤の光モレが大きくなって赤色相とクロストークが劣化する。λ／４板Ｔ１、λ／４板Ｔ２共にＲｏ（５５０）は１３０〜１５０ｎｍが好ましい。
【００３６】
面内リターデーション値Ｒｏとは、以下の式で表されるもので、具体的には、２３℃・５５％ＲＨの環境下で、例えば、株式会社オプトサイエンス社製偏光・位相差解析装置「Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  ＯＰＭＦ」を用いて測定することができる。
【００３７】
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内における遅相軸ｘ方向における屈折率、ｎｙはフィルム面内方向であり、ｘ方向に直行するｙ方向における屈折率、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。屈折率は２３℃・５５％ＲＨにおいて測定する。）
＜フィルムの張力＞
本発明において、前記λ／４板Ｔ１に対する前記λ／４板Ｔ２の下記式で定義される張力の大きさが、偏光子に貼合されている全ての面内で、０．７〜１．３０倍の範囲内にあることが好ましい。
【００３８】
偏光板のカール（反り）は、偏光子が収縮する際、両側の保護フィルムの張力が弱い方を内側にカールすることが判明した。本発明において、張力は、以下の式で表される。
【００３９】
張力（ｋＮ／ｍ）＝弾性率（ＧＰａ）×膜厚（μｍ）
液晶表示装置においては、例えば特開２００７−２５６６３７号公報では弾性率３．４〜４．４の横延伸セルロースアセテートを用いた偏光板のカール改良技術が開示されている。但しそれは、偏光板のカールを改良することで液晶パネルの生産性を向上することが目的であり、有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置でのパネル反りの抑制とは目的が異なる。加えて、両側の保護フィルムの張力バランスが異なった場合の弊害については述べられていない。
【００４０】
仮にこのフィルムを本発明の画像表示装置に使用したとしても、貼合方向によっては両側の張力バランスが劣化し、効果が得られない。
【００４１】
本発明の画像表示装置に使用されるλ／４板Ｔ１に対するλ／４板Ｔ２の張力の比は、貼合されている全ての面内で０．７０〜１．３０倍であることが好ましいが、０．９０〜１．１０倍であることがより好ましい。この範囲内であるとパネル反り抑制の効果が得られる。
【００４２】
図２はλ／４板Ｔ１とλ／４板Ｔ２の張力の測定方向を表したものである。すなわち、λ／４板Ｔ１とＴ２の張力を、搬送方向ｔ１と巾手方向ｔ２、搬送方向に対して４５°の角度をなす方向ｔ４５と−４５°の角度をなす方向ｔ−４５、の４方向について測定し、Ｔ１張力／Ｔ２張力の比を求めることができる。
【００４３】
また、λ／４板Ｔ１及びλ／４板Ｔ２の張力は１００〜５００ｋＮ／ｍが好ましいが、２００〜４００ｋＮ／ｍがより好ましく、２５０〜３５０ｋＮ／ｍが最も好ましい。張力がこの範囲であるとフィルムの強度が適切であり、リワーク適性に優れて好ましい。
【００４４】
＜λ／４板の機能＞
本発明の円偏光板は、偏光子と、その両面に対向して貼合された２枚のλ／４板を有することを特徴としている。これらの２枚のλ／４板を構成する基材フィルムはλ／４板機能を有している。λ／４板とはある特定の波長の直線偏光を円偏光に（又は、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有するものをいう。λ／４板は、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、層の面内のリターデーション値（位相差値）Ｒｏが約１／４となるように設計されている。
【００４５】
上記のようなλ／４板機能を持たせるためには、基材フィルムに例えばセルロースアセテートを使用して総アシル化度を調整することで位相差発現性と波長分散性を調節することができる。セルロースアセテートは元来逆波長分散となっており、広帯域λ／４板を作製するに好ましい樹脂であるが、総アシル化度が低いと位相差発現性が高くなる代わりに波長分散がフラットになってしまい、総アシル基置換度を高めるとより逆波長分散となって好ましいが、位相差発現性は劣化する。波長分散性を劣化させずに位相差を高めるには、延伸条件（温度、倍率）で制御する手段がある。これらの手段を組み合わせて、好ましいλ／４板Ｔ１とＴ２の位相差を組み合わせることが可能である。
【００４６】
＜基材フィルム＞
本発明に係る基材フィルムは熱可塑性樹脂を主に含有するλ／４板であることが好ましく、該基材フィルムは製造が容易であること、防眩層と接着し易いこと、光学的に等方性であることが好ましい。また、λ／４板が熱可塑性樹脂を含有する基材フィルムであると偏光板保護フィルムとして使用することもできる。
【００４７】
基材フィルムは、上記性質を有した基材フィルムであればいずれでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を使用することができる。
【００４８】
これらの内、セルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、及びＫＣ１２ＵＲ（以上、コニカミノルタオプト（株）製））、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、本発明においては、セルロースエステルフィルムが防眩層で上記した突形状が得られやすいこと、製造性、コスト面から特に好ましい。
【００４９】
基材フィルムの屈折率は、１．３０〜１．７０であることが好ましく、１．４０〜１．６５であることがより好ましい。屈折率は、アタゴ社製  アッペ屈折率計２Ｔを用いてＪＩＳ  Ｋ７１４２の方法で測定する。
【００５０】
（セルロースエステルフィルム）
次に基材フィルムとして特に好ましいセルロースエステルフィルムについてより詳細に説明する。
【００５１】
セルロースエステルフィルムは上記特徴を有するものであれば特に限定はされないが、セルロースエステル樹脂（以下、セルロースエステルともいう）は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。
【００５２】
上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独あるいは混合して用いることができる。
【００５３】
セルロースジアセテートは、平均酢化度（結合酢酸量）５１．０〜５６．０％が好ましく用いられる。また、市販品としては、ダイセル社Ｌ２０、Ｌ３０、Ｌ４０、Ｌ５０、イーストマンケミカル社のＣＡ３９８−３、ＣＡ３９８−６、ＣＡ３９８−１０、ＣＡ３９８−３０、ＣＡ３９４−６０Ｓが挙げられる。
【００５４】
セルローストリアセテートは、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートである。
【００５５】
平均酢化度がこの範囲内であると寸法変化が小さく、また偏光板としたときの偏光度の点で好ましい。また溶剤に対する溶解度が良好で生産性の点でも好ましい。
【００５６】
＜総アシル基置換度＞
本発明に係る円偏光板は、前記λ／４板Ｔ１とλ／４板Ｔ２とが、共に、総アシル基置換度が２．０〜２．７の範囲内であるセルロースアセテートを７０質量％以上含有していることが好ましい。
【００５７】
セルロースアシレートとしては、総アシル基置換度が、２．０〜２．７であって数平均分子量（Ｍｎ）が１２５０００以上、１８００００未満、重量平均分子量（Ｍｗ）は、２６５０００以上３６００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．８〜２．１であることが好ましい。
【００５８】
総アシル基置換度とは、セルロースを構成する繰り返し単位であるグルコース単位の２位、３位及び６位のヒドロキシ基がエステル化している割合の合計を表す。具体的には、グルコースの２位、３位及び６位のそれぞれのヒドロキシ基が１００％エステル化した場合をそれぞれ置換度１とする。したがって、セルロースを構成するグルコースの２位、３位及び６位の全てが１００％エステル化した場合、総アシル基置換度は最大で３となる。アシル基で置換されていない部分は通常ヒドロキシ基として存在しているものである。
【００５９】
なお、アシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めたものである。
【００６０】
好ましいセルロースアシレートは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。
【００６１】
式（Ｉ）  ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）  ０≦Ｘ≦２．５
特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。
【００６２】
セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。測定条件は以下のとおりである。
【００６３】
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）
Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００６４】
本発明に係るセルロースアシレートは公知の方法により合成することができる。セルロースアシレートの原料のセルロースは、特に限定は無いが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースアシレートは、それぞれ任意の割合で混合使用することができる。
【００６５】
一般的には、原料のセルロースと所定の有機酸（酢酸、プロピオン酸など）と酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸など）、触媒（硫酸など）と混合して、セルロースをエステル化し、セルロースのトリエステルができるまで反応を進める。トリエステルにおいてはグルコース単位の３個のヒドロキシ基は、有機酸のアシル基で置換されている。同時に２種類以上の有機酸を使用すると、混合エステル型のセルロースアシレート、例えば、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートを作製することができる。次いで、セルロースのトリエステルを加水分解することで、所望のアシル基置換度を有するセルロースアシレートを合成する。その後、濾過、沈殿、水洗、脱水、乾燥などの工程を経て、セルロースアシレートができあがる。
【００６６】
具体的には、特開平１０−４５８０４号公報、特開２００９−１６１７０１号公報などに記載の方法を参考にして合成することができる。
【００６７】
＜セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂含有フィルム＞
また、基材フィルムは、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを含有し、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比が、アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０であるフィルムを用いても良い。
【００６８】
アクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、及びこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル基の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル基の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上の単量体を併用して用いることができる。
【００６９】
これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は８００００〜５０００００であることが好ましく、更に好ましくは、１１００００〜５０００００の範囲内である。
【００７０】
アクリル樹脂の重量平均分子量は、測定条件含めて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁又は乳化重合では３０〜１００℃、塊状又は溶液重合では８０〜１６０℃で実施しうる。得られた共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。また、市販品も使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０、ＢＲ８３、ＢＲ８５、ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。アクリル樹脂は２種以上を併用することもできる。また、アクリル樹脂には、（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体に（メタ）アクリル系樹脂がグラフトされたグラフト共重合体を用いてもよい。前記グラフト共重合体は、（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体がコア（ｃｏｒｅ）を構成し、その周辺に前記（メタ）アクリル系樹脂がシェル（ｓｈｅｌｌ）を構成するコア−シェルタイプのグラフト共重合体であることが好ましい。
【００７１】
基材フィルムにおけるアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、基材フィルムの５５質量％以上であることが好ましく、更に好ましくは６０質量％以上であり、特に好ましくは、７０質量％以上である。基材フィルムは、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂以外の樹脂や添加剤を含有して構成されていても良い。
【００７２】
（アクリル粒子）
基材フィルムは脆性の改善に優れる点から、アクリル粒子を含有しても良い。アクリル粒子とは、前記アクリル樹脂及びセルロースエステル樹脂を相溶状態で含有する基材フィルム中に粒子の状態（非相溶状態ともいう）で存在するアクリル成分を表す。
【００７３】
アクリル粒子は特に限定されるものではないが、多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体の市販品の例としては、例えば、三菱レイヨン社製“メタブレン”、(株)カネカ製“カネエース”、（株）クレハ社製“パラロイド”、ロームアンドハース社製“アクリロイド”、ガンツ化成工業社製“スタフィロイド”及びクラレ社製“パラペットＳＡ”などが挙げられ、これらは、単独ないし２種以上を用いることができる。基材フィルムにアクリル粒子を添加する場合は、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂との混合物の屈折率とアクリル粒子の屈折率が近いことが、透明性が高いフィルムを得る点では好ましい。具体的には、アクリル粒子とアクリル樹脂の屈折率差が０．０５以下であることが好ましく、より好ましくは０．０２以下、とりわけ０．０１以下であることが好ましい。
【００７４】
アクリル粒子は、該フィルムを構成するアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量に対して、含有質量比でアクリル粒子：アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂総質量＝０．５：１００〜３０：１００の範囲で含有させることが、目的効果がより良く発揮される点から好ましく、更に好ましくは、アクリル粒子：アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量＝１．０：１００〜１５：１００の範囲である。
【００７５】
（微粒子）
本実施形態に係る基材フィルムには、取扱性を向上させるため、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましく用いられる。
【００７６】
微粒子の１次平均粒子径としては、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。
【００７７】
（その他の添加剤）
［可塑剤］
基材フィルムには、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を併用することもできる。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、あるいはエポキシ系等が挙げられる。この中で、ポリエステル系とフタル酸エステル系の可塑剤が好ましく用いられる。ポリエステル系可塑剤は、フタル酸ジオクチルなどのフタル酸エステル系の可塑剤に比べて非移行性や耐抽出性に優れる。用途に応じてこれらの可塑剤を選択、あるいは併用することによって、広範囲の用途に適用できる。
【００７８】
ポリエステル系可塑剤は、一価から四価のカルボン酸と一価から六価のアルコールとの反応物であるが、主に二価カルボン酸とグリコールとを反応させて得られたものが用いられる。代表的な二価カルボン酸としては、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、フタル酸、アゼライン酸、セバシン酸などが挙げられる。またポリエステル系可塑剤の好ましくは、芳香族末端エステル系可塑剤である。芳香族末端エステル系可塑剤としては、フタル酸、アジピン酸、少なくとも１種のベンゼンモノカルボン酸及び少なくとも１種の炭素数２〜１２のアルキレングリコールとを反応させた構造を有するエステル化合物が好ましく、最終的な化合物の構造としてアジピン酸残基及びフタル酸残基を有していればよく、エステル化合物を製造する際には、ジカルボン酸の酸無水物又はエステル化物として反応させてもよい。
【００７９】
ベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、安息香酸であることが最も好ましい。また、これらはそれぞれ１種又は２種以上の混合物として使用することができる。
【００８０】
炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等が挙げられる。これらの中では特に１，２−プロピレングリコールが好ましい。これらのグリコールは、１種又は２種以上の混合物として使用してもよい。
【００８１】
芳香族末端エステル系可塑剤は、オリゴエステル、ポリエステルの型のいずれでもよく、分子量は１００〜１００００の範囲が良いが、好ましくは３５０〜３０００の範囲である。また酸価は、１．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。
【００８２】
可塑剤は基材フィルム１００質量部に対して、０．５〜３０質量部を添加するのが好ましい。具体的には以下に示す化合物（２−１〜２−１０）などが挙げられるがこれらに限定されない。
【化１】
0006003894.tif 000002
【化２】
0006003894.tif 000003
更に、基材フィルムには、糖エステル化合物が含有されていても良い。糖エステル化合物とは、下記単糖、二糖、三糖又はオリゴ糖などの糖のＯＨ基の全て若しくは一部をエステル化した化合物であり、より具体的な例示としては、一般式（１）で表される化合物などを挙げることができる。
【００８３】
【化３】
0006003894.tif 000004
（式中、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、置換又は無置換の炭素数２〜２２のアルキルカルボニル基、あるいは、置換又は無置換の炭素数２〜２２のアリールカルボニル基を表し、Ｒ１〜Ｒ８は、同じであっても、異なっていてもよい（以下、水素原子以外のＲ１〜Ｒ８をアシル基ともいう。））
以下に一般式（１）で示される化合物をより具体的（化合物１−１〜化合物１−２３）に示すが、これらに限定はされない。
【化４】
0006003894.tif 000005
【化５】
0006003894.tif 000006
【化６】
0006003894.tif 000007
［紫外線吸収剤］
基材フィルムは、紫外線吸収剤を含有することも好ましく、用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系又はサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。
【００８４】
なお、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。
【００８５】
分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。
【００８６】
これらは、市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等のチヌビン類を好ましく使用できる。
【００８７】
さらに、基材フィルムには、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、基材フィルムに帯電防止性能を与えることも可能である。
【００８８】
［難燃剤］
基材フィルムには、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いても良い。ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる１種、あるいは２種以上の混合物を挙げることができる。
【００８９】
具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。基材フィルムは、「延性破壊が起こらないフィルム」であることが好ましい。ここで、延性破壊とは、ある材料が有する強度よりも、大きな応力が作用することで生じる破断のことであり、最終破断までに材料の著しい伸びや絞りを伴う破壊と定義される。その破面には、ディンプルと呼ばれる窪みが無数に形成される特徴がある。
【００９０】
＜基材フィルムの物性＞
基材フィルムはより高温の環境下での使用に耐えられることが求められており、基材フィルムは張力軟化点が、１０５〜１４５℃であれば、十分な耐熱性を示すものと判断でき好ましく、特に１１０〜１３０℃が好ましい。
【００９１】
張力軟化点の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ−１２２５Ａ）を用いて、光学フィルムを１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、１０Ｎの張力で引っ張りながら３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温を続け、９Ｎになった時点での温度を３回測定し、その平均値により求めることができる。
【００９２】
なお、ここでいうガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。
【００９３】
液晶表示装置の偏光板用保護フィルムとして基材フィルムが用いられる場合は、吸湿による寸法変化によりムラや位相差値の変化が発生してしまい、コントラストの低下や色むらといった問題を発生させる。特に屋外で使用される液晶表示装置に用いられる偏光板保護フィルムであれば、上記の問題は顕著となる。このため、寸法変化率（％）は０．５％未満が好ましく、更に、０．３％未満であることが好ましい。基材フィルムは、フィルム面内の直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下であることが好ましい。さらに好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ローラ傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認する。
【００９４】
なお、反射光で観察する場合に、欠点の大きさが不明瞭であれば、表面にアルミや白金を蒸着して観察する。かかる欠点頻度にて表される品位に優れたフィルムを生産性よく得るには、ポリマー溶液を流延直前に高精度濾過することや、流延機周辺のクリーン度を高くすること、また、流延後の乾燥条件を段階的に設定し、効率よくかつ発泡を抑えて乾燥させることが有効である。
【００９５】
欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。
【００９６】
また、目視で確認できない場合でも、該フィルム上にハードコート層などを形成したときに、塗剤が均一に形成できず欠点（塗布抜け）となる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）をいう。
【００９７】
また、基材フィルムは、ＪＩＳ−Ｋ７１２７−１９９９に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。
【００９８】
破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。
【００９９】
基材フィルムの厚さは、２０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは３０μｍ以上である。
【０１００】
厚さの上限は特に限定される物ではないが、溶液製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は２５０μｍ程度である。なお、フィルムの厚さは用途により適宜選定することができる。
【０１０１】
基材フィルムは、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。また、製膜時のフィルム接触部（冷却ローラ、カレンダーローラ、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ローラなど）の表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、アクリル樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。
【０１０２】
＜基材フィルムの製膜＞
次に、基材フィルムの製膜方法の例を説明するが、これに限定されるものではない。基材フィルムの製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。
【０１０３】
本発明に係る基材フィルムは溶液流延法でも溶融流延法のどちらで製膜してもよい。
【０１０４】
セルロースエステル樹脂やアクリル樹脂を溶解に用いた溶媒の残留抑制の点からは溶融流延法で作製する方法が好ましい。溶融流延によって形成される方法は、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるフィルムが得られる、溶融押出し法が好ましい。また、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点からは流延法による溶液流延法が好ましい。
【０１０５】
（有機溶媒）
基材フィルムを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。
【０１０６】
例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。
【０１０７】
ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂の溶解を促進する役割もある。
【０１０８】
特に、メチレンクロライド、及び炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、アクリル樹脂と、セルロースエステル樹脂と、アクリル粒子の３種を、少なくとも計１５〜４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。
【０１０９】
炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。
【０１１０】
〔溶液流延法〕
基材フィルムは、溶液流延法によって製造することができる。溶液流延法では、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。
【０１１１】
ドープ中のセルロースエステル、及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂の濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。
【０１１２】
キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
【０１１３】
好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃が更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
【０１１４】
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
【０１１５】
特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０１１６】
セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％である。
【０１１７】
残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１１８】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０１１９】
また、セルロースエステルフィルムあるいはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０１２０】
フィルム乾燥工程では一般にローラ乾燥方式（上下に配置した多数のローラにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０１２１】
〔延伸工程〕
本発明に係る基材フィルムは、波長５５０ｎｍで測定した面内方向のリターデーション値Ｒｏ（５５０）が１００〜１６０ｎｍの範囲であるが、該リターデーションはフィルム延伸によって付与することが好ましい。
【０１２２】
延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のローラに周速差をつけ、その間でローラ周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。すなわち、製膜方向に対して横方向に延伸しても、縦方向に延伸しても、両方向に延伸してもよく、さらに両方向に延伸する場合は同時延伸であっても、逐次延伸であってもよい。なお、いわゆるテンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸が行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。
【０１２３】
本発明においては特に、延伸はフィルム搬送ローラの周速差を利用して搬送方向に行うか、若しくは搬送方向と直交方向（幅手方向又はＴＤ方向ともいう）にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で行うことが好ましく、更に左右把持手段によってウェブの把持長（把持開始から把持終了までの距離）を左右で独立に制御できるテンターを用いることも好ましい。
【０１２４】
また、本発明では本発明に係る基材フィルムを、延伸工程でフィルム搬送方向に対して４５°方向に延伸することがフィルム長手方向に対する配向角θを４０〜５０°にする上で好ましい。
【０１２５】
これは、遅相軸が長手方向と平行な方向に透過軸があるロール状の偏光フィルムと、配向角が実質的に４５°である基材フィルムとを長手方向を合わせてロール・トゥ・ロールで貼合すると、ロール状長尺状のλ／４板を容易に製造できるので、フィルムのカットロスが少なく生産上有利なことによる。
【０１２６】
（斜め延伸の方法）
以下、４５°の方向に延伸する方法を説明する。
【０１２７】
本発明に係るλ／４板Ｔ１とλ／４板Ｔ２は、斜め延伸によって作製されたものであることが好ましい。
【０１２８】
セルロースエステルフィルムを長手方向に対して実質的に４５°の方向に斜め延伸するためには、図３で示されるテンターを用いることが好ましい。図３は、テンターによる斜め延伸と斜め延伸するために用いるテンターのレールの軌道を示す模式図である。
【０１２９】
延伸フィルムの製造は、テンター４を用いて行う。このテンター４は、操出ローラ（図示せず）からテンター入り口側のガイドローラ８−１を通って繰り出されるフィルム１を、オーブンによる加熱環境下で、そのフィルムの送り方向７−１（フィルムの中点の移動方向）に対して斜め方向に拡幅する装置である。このテンターは、オーブンとフィルムを搬送するための把持具（保持手段）が走行する左右で一対のレールと、該レール上を走行する多数の把持具（保持手段）とを備えている。フィルムロールから繰り出され、テンター入口部に順次供給されるフィルムの両端を把持具（保持手段）で把持し（フィルム保持開始点２−１、２−２）、オーブン内にフィルムを導きテンターの出口部で把持具からフィルムを解放する。把持具（保持手段）から解放（フィルム保持終了点５−１、５−２）されたフィルム（斜め延伸フィルム６）は、テンター出口側ガイドローラ８−２を経て巻芯に巻き取られる。一対のレールは、それぞれ無端状の連続軌道（保持手段の軌跡３−１、３−２）を有し、テンターの出口部でフィルムの把持を解放した把持具（保持手段）は外側を走行して、順次入口部へ戻されるようになっている。
【０１３０】
なお、テンターのレール形状は、製造すべき延伸フィルムに与える配向角、延伸倍率等に応じて、左右で非対称な形状となっており、手動で又は自動で微調整できるようになっている。本発明においては、長尺の熱可塑性樹脂フィルムを延伸し、配向角θが延伸後の巻取り方向に対して、４０°〜８０°の範囲内で、任意の角度に設定できるようになっている。本発明において、テンターの把持具は、前後の把持具と一定間隔を保って、一定速度で走行するようになっている。
【０１３１】
延伸工程における延伸倍率Ｒ（Ｗ／Ｗｏ）は、好ましくは１．３〜３．０倍、より好ましくは１．５〜２．８倍である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向厚さムラが小さくなるので好ましい。テンター延伸機の延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差を付けると幅方向厚さムラをさらに良好なレベルにすることが可能になる。なお、Ｗｏは延伸前のフィルムの幅、Ｗは延伸後のフィルムの幅を表す。
【０１３２】
上記斜め方向に延伸する工程は、製膜工程内（オンライン）で行ってもよく、また一度フィルムを巻き取った後に繰り出して上記テンターにて延伸を行ってもよい（オフライン）。
【０１３３】
フィルムを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラ、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。
【０１３４】
フィルムの乾燥工程における乾燥温度は好ましくはフィルムのガラス転移点−５℃以下、１００℃以上で１０分以上６０分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は１００〜２００℃、更に好ましくは１１０〜１６０℃で乾燥が行われる。
【０１３５】
所定の熱処理の後、巻き取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。更に、幅手両端部にはナーリング加工をすることが好ましい。
【０１３６】
ナーリング加工は、加熱されたエンボスローラを押し当てることにより形成することができる。エンボスローラには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。
【０１３７】
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの幅手両端部のナーリングの高さは４〜２０μｍ、幅５〜２０ｍｍが好ましい。
【０１３８】
また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻き取りの前に設けることが好ましい。
【０１３９】
本発明に係るλ／４板機能を有する基材フィルムは、フィルムを構成する樹脂、添加剤、溶剤等を同じ組成にしてウェブを作製し、上記延伸条件を変化させることによって、面内方向のリターデーション値Ｒｏを変化させて作製することが好ましい。こうすることによって、製造コストを低減することができる。
【０１４０】
〔溶融製膜法〕
基材フィルムは、溶融製膜法によって製膜しても良い。溶融製膜法は、樹脂及び可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。
【０１４１】
加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの成形法の中では、機械的強度及び表面精度などの点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常あらかじめ混練してペレット化しておくことが好ましい。
【０１４２】
ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し１軸や２軸の押出し機を用いて混練し、ダイからストランド状に押出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。
【０１４３】
添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。
【０１４４】
粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。
【０１４５】
押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混練の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
【０１４６】
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。
【０１４７】
上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて、押し出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ローラと弾性タッチローラでフィルムをニップされ、冷却ローラ上で固化させる。
【０１４８】
供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。
【０１４９】
押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。
【０１５０】
可塑剤や粒子などの添加剤は、あらかじめ樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。
【０１５１】
冷却ローラと弾性タッチローラでフィルムをニップする際のタッチローラ側のフィルム温度はフィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するローラは、公知のローラが使用できる。
【０１５２】
弾性タッチローラは挟圧回転体ともいう。弾性タッチローラとしては、市販されているものを用いることもできる。
【０１５３】
冷却ローラからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
【０１５４】
また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ローラに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。
【０１５５】
延伸する方法は、公知のローラ延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。
【０１５６】
巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きや擦り傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。
【０１５７】
〔λ／４板フィルムの物性〕
本実施形態におけるλ／４板フィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍが用いられる。特に膜厚は１０〜１００μｍであることが特に好ましい。更に好ましくは２０〜６０μｍである。
【０１５８】
本発明に係るλ／４板フィルムは、幅１〜４ｍのものが用いられる。特に幅１．４〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．６〜３ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。
【０１５９】
また、λ／４板フィルムのＪＩＳ  Ｂ  ０６０１  ２００１で規定される；算術平均粗さＲａは、好ましくは１．０〜４．０ｎｍ、より好ましくは２．０〜３．０ｎｍである。
【０１６０】
＜機能性層＞
本発明に係るλ／４板Ｔ１上には、表面加工層として、ハードコート層、防眩性ハードコート層、帯電防止層、バックコート層、反射防止層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層等の機能性層を設けることができる。
【０１６１】
（ハードコート層、防眩性ハードコート層）
本発明のλ／４板は、その表面にハードコート層を設けることも好ましい。当該ハードコート層は、クリアハードコート層又は防眩性ハードコート層のいずれかであることが好ましい。
【０１６２】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、当該ハードコート層が、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する樹脂を用いて形成された態様のハードコート層であることが好ましい。さらに、当該ハードコート層が、３個又は４個のアクリロイル（ａｃｒｙｌｏｙｌ）基を有するアクリル酸エステル（ａｃｒｙｌａｔｅ）を含有する塗布液を用いて形成されたものであることが好ましい。
【０１６３】
当該ハードコート層が塗布液を用いて形成されたものである場合、当該塗布液が含有する溶媒量が、１０質量％未満であることが好ましい。また、当該塗布液が含有する溶媒が、エタノール又はメタノールであることが好ましい。一方、前記塗布液が、水及び有機溶媒を含有していないことも好ましい。
【０１６４】
本発明に用いられるハードコート層は、少なくともλ／４板の一方の面に設けられる。本発明においては、当該ハードコート層上に、少なくとも低屈折率層を含む反射防止層が設けられることも好ましい。特に、車載カーナビゲーション用の場合では、より視認性を向上させるために、防眩性ハードコート層の上に反射防止層が設けられることが好ましい。本発明に用いられるハードコート層が防眩性である場合は、表面に微細な凹凸形状を有するが、当該微細凹凸形状は、ハードコート層に微粒子を含有させることで形成し、下記のような平均粒径０．０１〜４μｍの微粒子をハードコート層中に含有させることで形成できる。また、後述するように、当該防眩性ハードコート層上に設けられた反射防止層の最表面の表面粗さとして、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１  ２００１で規定される算術平均粗さＲａが０．０８〜０．５μｍの範囲に調整されることが好ましい。
【０１６５】
クリアハードコート層の場合は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１  ２００１で規定される算術平均粗さＲａが０．００１〜０．１μｍのクリアハードコート層であり、Ｒａが０．００２〜０．０５μｍであることが好ましい。算術平均粗さＲａは光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えば、ＷＹＫＯ社製非接触表面微細形状計測装置ＷＹＫＯ  ＮＴ−２０００を用いて測定することができる。
【０１６６】
本発明に用いられる防眩性ハードコート層中に含有される粒子としては、例えば、無機又は有機の微粒子が用いられる。
【０１６７】
無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができる。
【０１６８】
また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコーン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、又はポリフッ化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。本発明では特に、酸化ケイ素微粒子又はポリスチレン系樹脂微粒子であることが好ましい。
【０１６９】
上記記載の無機又は有機の微粒子は、防眩性ハードコート層の作製に用いられる樹脂等を含む塗布組成物に加えて用いることが好ましい。
【０１７０】
本発明に用いられる防眩性ハードコート層に防眩性を付与するためには、無機又は有機微粒子の含有量は、防眩性ハードコート層作製用の樹脂１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部が好ましく、更に好ましくは、０．１質量部〜２０質量部となるように配合することである。より好ましい防眩効果を付与するには、平均粒径０．１μｍ〜１μｍの微粒子を防眩性ハードコート層作製用の樹脂１００質量部に対して１質量部〜１５質量部を用いるのが好ましい。また、異なる平均粒径の微粒子を２種以上用いることも好ましい。
【０１７１】
また、本発明に用いられる防眩性ハードコート層には、帯電防止剤を含有させることも好ましく、帯電防止剤としては、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ及びＶからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ以下であるような導電性材料が好ましい。
【０１７２】
前記帯電防止剤としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。
【０１７３】
金属酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ２、Ｖ２Ｏ５等、あるいはこれらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＴｉＯ２及びＳｎＯ２が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ２に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、またＳｎＯ２に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好ましい。
【０１７４】
また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は１０７Ω・ｃｍ以下、特に１０５Ω・ｃｍ以下である。
【０１７５】
十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、クリアハードコート層又は防眩性ハードコート層の膜厚は０．５〜１５μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、１．０〜７μｍである。
【０１７６】
（活性エネルギー線硬化樹脂）
本発明に用いられるハードコート層は、紫外線等活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化樹脂を含有することが好ましい。
【０１７７】
活性エネルギー線硬化樹脂とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性エネルギー線照射によって硬化する樹脂でもよい。
【０１７８】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０１７９】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下、アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する。）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシ基（水酸基）を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載の、ユニディック１７−８０６（ＤＩＣ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【０１８０】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端のヒドロキシ基（水酸基）やカルボキシ基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。
【０１８１】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端のヒドロキシ基（水酸基）にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【０１８２】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【０１８３】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を示す。
【０１８４】
（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる）、
（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び／又はプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物、
（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル、
（ｄ）ノボラック樹脂又はレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物、
（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、
（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート、
（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル、
（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル、
（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの、
（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。
【０１８５】
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０００以下である。
【０１８６】
上記のエポキシ化合物を活性エネルギー線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、（ｈ）又は（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。
【０１８７】
エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤又は光増感剤は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。
【０１８８】
活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造又は網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。
【０１８９】
本発明に有用な活性エネルギー線反応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤又は光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。
【０１９０】
かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で表される化合物である。
【０１９１】
一般式（ａ）：〔（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ（Ｒ３）ｃ（Ｒ４）ｄＺ〕ｗ＋〔ＭｅＸｖ〕ｗ−
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、Ｂｒ、Ｃｌ）、又はＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
【０１９２】
上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸｖ〕ｗ−の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ４−）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ４−）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ４−）、テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ４−）、テトラクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ４−）等を挙げることができる。
【０１９３】
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３−）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ３−）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。
【０１９４】
このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載のVIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリューム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。
【０１９５】
また、エポキシアクリレート基を有する活性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性エネルギー線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物１００質量部に対して０．１〜１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは１〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。
【０１９６】
本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネルギー線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して０．１〜１５質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、１〜１０質量部の範囲の添加が好ましい。
【０１９７】
また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性エネルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。
【０１９８】
また、本発明に用いられるハードコート層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素又は硫黄を含む３員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。なお、本発明では、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。
【０１９９】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、ハードコート層が、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する樹脂を用いて形成された態様のハードコート層であることが好ましい。さらに、当該ハードコート層が、３個又は４個のアクリロイル（ａｃｒｙｌｏｙｌ）基を有するアクリル酸エステル（ａｃｒｙｌａｔｅ）を含有する塗布液を用いて形成されたものであることが好ましい。
【０２００】
本発明に用いられるハードコート層が活性エネルギー線硬化型樹脂を含む場合、活性エネルギー線の照射方法としては、支持体上に、防眩性ハードコート層、反射防止層（中〜高屈折率層及び低屈折率層）等の塗設後に活性エネルギー線を照射してもよいが、ハードコート層塗設時に活性エネルギー線を照射することが好ましい。
【０２０１】
本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であればいずれも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、５０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【０２０２】
紫外線照射は、ハードコート層と後述する反射防止層を構成する複数の層（中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層）それぞれに対して１層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。あるいはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。
【０２０３】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【０２０４】
本発明に使用する上記活性エネルギー線反応性化合物を光重合又は光架橋反応を開始させるには、上記活性エネルギー線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。
【０２０５】
本発明に用いられるハードコート層が活性エネルギー線硬化樹脂を含有する場合、活性エネルギー線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。
【０２０６】
具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤及び／又は光増感剤の使用量は、組成物の１〜１０質量％が好ましく、特に好ましくは２．５〜６質量％である。
【０２０７】
また、活性エネルギー線硬化樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。
【０２０８】
ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。
【０２０９】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド  Ｈ−６０１（三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、又はその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。
【０２１０】
活性エネルギー線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は１０〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。
【０２１１】
本発明に用いられるハードコート層、及び反射防止層は界面活性剤を含有することも好ましく、界面活性剤としては、シリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。
【０２１２】
シリコーン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。
【０２１３】
非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類のヒドロキシ基（水酸基）、また、ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン）等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性ヒドロキシ基（水酸基）の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン鎖）が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。
【０２１４】
疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、防眩性ハードコート層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。
【０２１５】
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤  ＳＩＬＷＥＴ  Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＦＺ−２１０１、ＦＺ−２１０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１１８、ＦＺ−２１２０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１２３、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１５４、ＦＺ−２１６１、ＦＺ−２１６２、ＦＺ−２１６３、ＦＺ−２１６４、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１等が挙げられる。
【０２１６】
また、ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ  ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５等が挙げられる。
【０２１７】
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を一つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。
【０２１８】
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤  ＡＢＮ  ＳＩＬＷＥＴ  ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−２２０８等が挙げられる。
【０２１９】
フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることができる。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−（フルオロアルキルオキシ）−１−アルキルスルホン酸ナトリウム、３−（ω−フルオロアルカノイル−Ｎ−エチルアミノ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−（３−パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノエチル）等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。
【０２２０】
これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。
【０２２１】
好ましい添加量はハードコート層、及び反射防止層の塗布液に含まれる固形分当たり０．０１〜３．０％であり、より好ましくは０．０２〜１．０％である。
【０２２２】
他の界面活性剤を併用して用いることもでき、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。
【０２２３】
本発明に係るハードコート層を塗設する際の溶媒としては、ハードコート層塗設のために従来使用されている種々の溶媒を用いることができる。本発明において、特に好ましい溶媒は、エタノール又はメタノールである。
【０２２４】
溶媒量は１０質量％未満であることが好ましい。更に好ましくは、５〜８質量％の範囲であるが、あるいは上記溶媒を全く使用しない、無溶媒であることも好ましい。
【０２２５】
アクリル基が５個以上のモノマーをハードコート層として用いると、斜め延伸したλ／４板（位相差フィルム）の面上のスジをさらに強調させてしまう。また、アセトンやＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）、酢酸エチルなどの非極性溶媒を用いると、斜め延伸したλ／４板（位相差フィルム）に残る、斜め方向の残留応力を強めて、フィルム面上にスジを誘発させる。また、ハードコート層を設けたフィルムに湿熱耐久試験を行ったときに、アクリル基５個以上のモノマー、あるいは上記の様な非極性溶媒を用いると、面内位相差Ｒｏの変動値（最大値−最小値）の値が幅手で１０ｎｍよりも大きい値になる。このことは、作製したフィルムを表示装置に具備したときに、表示品質を著しく劣化させることになる。
【０２２６】
ハードコート層組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター、スプレーコート、インクジェット法等公知の方法を用いることができる。塗布量はウエット膜厚で５〜３０μｍが適当で、好ましくは１０〜２０μｍである。塗布速度は１０〜２００ｍ／分が好ましい。
【０２２７】
ハードコート層組成物は塗布乾燥された後、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射され硬化処理されることが好ましいが、前記活性エネルギー線の照射時間は０．５秒〜５分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、３秒〜２分である。
【０２２８】
（バックコート層）
本発明に係るλ／４板は、基材フィルムの防眩層を設けた側と反対側の面に、カールやフィルムを巻き状で保管した際のくっつき防止のために、バックコート層を設けてもよい。
バックコート層は、上記目的のため、微粒子を含有することが好ましく、微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。また、前記微粒子を分散する目的や後述するバインダーを溶解して塗布組成物とするために、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、機能性層で説明した溶剤が好ましい。バックコート層に含まれる粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％が好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は１．５％以下であることが好ましく、０．５％以下である。またバインダーとして、ジアセチルセルロース等のセルロースエステル樹脂を用いることが好ましい。
【０２２９】
（反射防止層）
本発明に係るλ／４板は、防眩層の上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。
【０２３０】
反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層、若しくは支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。又は、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。反射防止フィルムの層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。
【０２３１】
基材フィルム／防眩層／低屈折率層
基材フィルム／防眩層／中屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／防眩層／高屈折率層（導電性層）／低屈折率層
（低屈折率層）
反射防止フィルムには必須である低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、支持体である基材フィルムの屈折率より低く、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。
【０２３２】
低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。
【０２３３】
低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質又は空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質又は空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。
【０２３４】
なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ−１）で表される有機珪素化合物若しくはその加水分解物、あるいは、その重縮合物を併せて含有させても良い。
【０２３５】
一般式（ＯＳｉ−１）：Ｓｉ（ＯＲ）４
前記一般式で表される有機珪素化合物は、式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
【０２３６】
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。
【０２３７】
（高屈折率層）
高屈折率層の屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、屈折率を１．４〜２．２の範囲に調整することが好ましい。また、高屈折率層の厚さは５ｎｍ〜１μｍが好ましく、１０ｎｍ〜０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．１μｍであることが最も好ましい。屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。金属酸化また、用いる金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０〜２．６０であるものが好ましく、１．８５〜２．５０であるものが更に好ましい。
【０２３８】
金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも１種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はＡｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。
【０２３９】
これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は１０〜２００ｎｍの範囲であり、１０〜１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状あるいは不定形状であることが好ましい。
【０２４０】
金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して０．１〜５質量％、より好ましくは０．５〜３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。２種以上の表面処理を組み合わせてもよい。また高屈折率層は、π共役系導電性ポリマーを含有しても良い。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。
【０２４１】
π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性が得られるが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。
【０２４２】
また、イオン性化合物を含有しても良い。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンとＢＦ４−、ＰＦ６−等の無機イオン系、ＣＦ３ＳＯ２−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、ＣＦ３ＣＯ２−等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。該ポリマーとバインダーの比率はポリマー１００質量部に対して、バインダーが１０〜４００質量部が好ましく、特に好ましくは、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１００〜２００質量部である。
【０２４３】
＜円偏光板の作製方法＞
本発明に係るλ／４板を用いた本発明の円偏光板について述べる。円偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明に係るλ／４板の裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理したλ／４板（フィルム）を、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。
【０２４４】
もう一方の面には本発明に係るλ／４板機能を有するフィルムＴ２であればよい。本発明に係るフィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは、前述した基材フィルムであるセルローストリアセテートフィルムやアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比が、アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０である保護フィルムを用いることが好ましい。構成の詳細は前述のとおりであり、具体的には、リターデーション値Ｒｏが５９０ｎｍで０〜５ｎｍ、Ｒｔが−２０〜＋２０ｎｍの無配向フィルムが一例として挙げられる。
【０２４５】
また、市販の偏光板保護フィルムを用いることも好ましく、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ（コニカミノルタオプト（株）製）等が挙げられる。
【０２４６】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜（偏光子ともいう。）とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるが、これのみに限定されるものではない。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は５〜３０μｍ、好ましくは８〜１５μｍの偏光膜が好ましく用いられる。
【０２４７】
該偏光膜の面上に、本発明に係るλ／４板の片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
【０２４８】
（接着剤層）
有機ＥＬ表示基板と貼り合わせるために保護フィルムの片面に用いられる接着剤層（接着層ともいう。）は、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。
【０２４９】
具体的な接着剤層としては、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤若しくは粘着剤等のポリマーを用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬化法、熱熔融法、光硬化法等により膜形成させ、硬化せしめることができる。なかでも、アクリル系共重合体は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れていて好ましく用いることができる。
【０２５０】
＜立体画像表示装置＞
本発明の円偏光板は、立体画像表示装置において、種々の態様において用いることができる。例えば、画像表示装置と液晶シャッタメガネとからなる立体画像表示装置であって、当該液晶シャッタメガネが、（１）λ／４板、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている、又は（２）λ／４板、偏光子、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている液晶シャッタメガネであることを特徴とする態様の立体画像表示装置において用いることができる。
【０２５１】
なお、いずれの態様の場合も、画像表示装置の前側（視認側）円偏光板は、λ／４板（本発明に係るλ／４フィルムＴ１）、偏光子、及び光学フィルムセル（λ／４フィルムＴ２）がこの順に設けられている構成になっている。
【０２５２】
＜有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置（有機ＥＬ画像表示装置）＞
一般に、有機ＥＬ画像表示装置は、図１に示したようにガラス、プラスッチック等の透明基板１ａ上に金属電極２ａと有機発光層３ａと透明電極４ａとを順に積層して発光層（有機エレクトロルミネッセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層３ａＲ、３ａＧ、３ａＢは、種々の有機薄膜の積層体であり、それぞれ赤色発光層（３ａＲ）、緑色発光層（３ａＧ）、青色発光層（３ａＢ）を表し、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、及び電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
【０２５３】
有機ＥＬ画像表示装置は、透明電極４ａの上に絶縁膜５ａを有し、さらにその上に接着層６ａを介して円偏光板１０ａが配置される。円偏光板１０ａは、偏光子８ａの視認側にλ／４板９ａ（λ／４板Ｔ１）と偏光子８ａの有機発光層３ａ側（発光層側）にλ／４板７ａ（λ／４板Ｔ２）が配置されている。
【０２５４】
有機ＥＬ画像表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物資を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【０２５５】
有機ＥＬ画像表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
【０２５６】
このような構成の有機ＥＬ画像表示装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度と極めて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ画像表示装置の表示面が鏡面のように見える。
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネッセンス発光体を含む有機ＥＬ画像表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差板（図示せず）を設けることができる。
【０２５７】
位相差板及び偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板をλ／４板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【０２５８】
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光となるが、特に位相差板が１／４波長板でしかも偏光板と位相差板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
【０２５９】
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【０２６０】
本発明においては、上記の態様・構成により、立体（３Ｄ）画像観賞時に首を傾けた際のクロストーク若しくは輝度低下及び色味変化を低減でき、使用環境に対して優れた視認性を保つことが可能で、使用環境に対してより耐久性が高い立体画像表示装置とすることができる。
【実施例】
【０２６１】
以下実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明に実施の態様はこれらに限定されるものではない。【０２６２】
（実施例１）
＜フィルム１の作製＞
〈微粒子分散液の調製〉
微粒子（アエロジル  Ｒ８１２  日本アエロジル（株）製）１１質量部
エタノール                                            ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い微粒子分散液を調製した。【０２６３】
〈微粒子添加液１の調製〉
メチレンクロライド５質量部を入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、上記微粒子分散液５質量部をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液１を調製した。【０２６４】
〈主ドープ１の調製〉
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。これを加熱し、攪拌しながら、下記組成物を完全に溶解し。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ１を調製した。【０２６５】
〈主ドープ１の組成〉
メチレンクロライド                                  ３４０質量部
エタノール                                            ６４質量部
セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．５３、プロピオニル基置換度０．９１、総置換度２．４４、重量平均分子量Ｍｗ２２００００）
１００質量部
糖エステル化合物Ａ                                      ５質量部
ポリエステルＢ                                          ５質量部
ＴＩＮＵＶＩＮ９２８（ＢＡＳＦジャパン社製）            ２質量部
微粒子添加液１                                          ２質量部【０２６６】
【化７】
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主ドープ１をステンレスベルト支持体上で流延し、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５質量％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。【０２６７】
剥離したフィルムを、１６０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に１％延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１５質量％であった。【０２６８】
次いで、乾燥ゾーンを多数のローラで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。【０２６９】
以上のようにして、乾燥膜厚７３μｍのロール状の原反フィルム１を得た。【０２７０】
ロール状の原反フィルム１を、スライド可能な繰出装置にセットし、斜め延伸テンター装置（図３）の斜め延伸機に供給した。そのとき、斜め延伸装置の入口部に最も近いガイドローラの主軸と斜め延伸装置の把持具（クリップつかみ部）との距離を８０ｃｍとした。クリップは搬送方向の長さが２インチのものを、上記ガイドローラは直径１０ｃｍのものを使用した。テンターで延伸温度１９０℃、延伸倍率１．７４倍で巾手方向に延伸を行い、その後、レールが４５°屈曲する際に延伸と垂直方向に０．７１倍に収縮した。延伸後のフィルムは、斜め延伸テンター出口側第一ローラで測定した張力の変動を引取モーター回転数に反映させるフィードバック制御を行って、引取張力の変動が３％未満となるように制御した。その後、フィルム両端をトリミングして、エアーフローローラからなる搬送方向変更装置で搬送方向を変更し、スライド可能な巻取装置で巻き取り、２０００ｍｍ幅のロール状のフィルム１を得た。【０２７１】
フィルム１の配向角θは、王子計測器社製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて測定した結果、フィルム長手方向に対して４５°±１°の範囲にあった。
＜フィルム２〜１８の作製＞
以下、表１に記載のセルロースアセテートの置換度、膜厚、延伸倍率、温度など製造条件変更して、位相差の異なるフィルム２〜１８を作製した。
＜フィルム１９の作製＞
特開２０１０−１３４２３２号公報の実施例４に従って以下のようにしてフィルム１９を作製した。【０２７２】
（ポリカーボネート共重合体樹脂の製造）
イソソルビド（ＩＳＳ）６１．９９質量部、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）１２４．１２質量部、ジフェニルカーボネート１５４．６１質量部及び触媒としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド１．８×１０−２質量部と水酸化ナトリウム１．６×１０−４質量部を窒素雰囲気下１８０℃に加熱し溶融させた。その後、３０分かけて減圧度を１３．４ｋＰａに調整した。その後、２０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、１時間かけて減圧度を１３３Ｐａ以下とした。合計６時間撹拌下で反応を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。【０２７３】
（フィルム１９の作製）
次に上記のようにして製造した芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを用いて、フィルム１と同様にしてフィルム（厚さ８４±０．８μｍ）を作製した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを実施例１と同様に評価した。実施例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚さ６４μｍのフィルム１９を得た。【０２７４】
＜評価・測定＞
以上のようにして作製したフィルム１〜１９について以下の項目を測定し、結果を表１に示した。
＜リターデーションと波長分散＞
２３℃・５５％ＲＨの環境下で、株式会社オプトサイエンス社製Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  ＯＰＭＦで、４５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏ（４５０）、５５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏ（５５０）を測定した。【０２７５】
加えて、６５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏ（６５０）を測定し、Ｒｏ（５５０）÷Ｒｏ（６５０）で求めた比率で波長分散を表した。【０２７６】
【表１】
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＜円偏光板１０１〜１１７の作製＞
厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。【０２７７】
これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光子を得た。【０２７８】
次いで、下記工程１〜５に従って表２、表３、表４に示した組合せでλ／４板Ｔ１（発光層側）と偏光子とλ／４板Ｔ２（視認側）を長手方向を合わせるようにロール・トゥ・ロールで貼り合わせて円偏光板１０１〜１１７を作製した。【０２７９】
工程１：λ／４板Ｔ１とλ／４板Ｔ２を６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化した。【０２８０】
工程２：前記偏光子を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。【０２８１】
工程３：工程２で偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理したλ／４板Ｔ１とλ／４板Ｔ２の間に配置した。【０２８２】
工程４：工程３で積層したλ／４板Ｔ１と偏光子とλ／４板Ｔ２を圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。【０２８３】
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製したλ／４板Ｔ１と偏光子とλ／４板Ｔ２とをそれぞれ１２９６ｍｍ×７８４ｍｍの長方形に切り出してから貼り合わせた試料を２分間乾燥し、円偏光板１０１〜１１７を作製した。【０２８４】
なお、円偏光板１０４においてはλ／４板Ｔ１とＴ２の延伸方向がクロスするように貼合し、その他の偏光板については延伸方向が同方向になるように貼合した。【０２８５】
＜円偏光板１１８の作製＞
円偏光板１０１〜１１７作製の工程３において、あらかじめフィルム４、１９及び偏光子を１２９６ｍｍ×７８４ｍｍの長方形に切り出してから同様の工程で貼合し、円偏光板１１８を作製した。切り出す際、フィルム４と偏光子は長軸方向（長さ１２９６ｍｍの方向）が搬送方向と平行になるように、フィルム１９は長軸方向が搬送方向と４５°になる角度で切り出した。【０２８６】
以上のようにして作製した円偏光板について、使用したλ／４板Ｔ１とＴ２の張力を、搬送方向（円偏光板１１８は長軸方向）、巾手方向（円偏光板１１８は短軸方向）、搬送方向（円偏光板１１８は長軸方向）と４５°の角度をなす方向、−４５°の角度をなす方向、の４方向について測定し、Ｔ１張力／Ｔ２張力の比を求め、表２、表３、表４に記した。【０２８７】
＜張力の測定＞
２３℃・５５％ＲＨの環境下で試料を２４時間調湿し、ＪＩＳ  Ｋ７１２７に記載の方法に準じて、引っ張り試験器（株）オリエンテック製テンシロンＲＴＡ−１００を使用して弾性率を求めた。試験片の形状は１号形試験片で、試験速度は１０ｍｍ／分の条件で測定した。求めた弾性率に膜厚を掛けた値が張力である。【０２８８】
張力（ｋＮ／ｍ）＝弾性率（ＧＰａ）×膜厚（μｍ）
（実施例２）
＜立体画像に対応した有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置の作製＞
次に、以下の手順で、有機エレクトロルミネッセンス表示装置を作製した。【０２８９】
本実施例の有機ＥＬ表示素子は、ガラス基板上にスパッタリング法によって厚さ８０ｎｍのクロムからなる反射電極、反射電極上に陽極としてＩＴＯをスパッタリング法で厚さ４０ｎｍに成膜し、陽極上に正孔輸送層としてポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）をスパッタリング法で厚さ８０ｎｍ、正孔輸送層上にシャドーマスクを用いて、ＲＧＢそれぞれの発光層を１００ｎｍの膜厚で形成した。赤色発光層としては、ホストとしてトリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム（Ａｌｑ３）と発光性化合物［４−（ｄｉｃｙａｎｏｍｅｔｈｙｌｅｎｅ）−２−ｍｅｔｈｙｌ−６（ｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｓｔｙｒｙｌ）−４Ｈ−ｐｙｒａｎ］（ＤＣＭ）とを共蒸着（質量比９９：１）して１００ｎｍの厚さで形成した。緑色発光層としては、ホストとしてＡｌｑ３と、発光性化合物クマリン６（Ｃｏｕｍａｒｉｎ６）とを共蒸着（質量比９９：１）して１００ｎｍの厚さで形成した。青色発光層としては、ホストとしてＢＡｌｑと発光性化合物Ｐｅｒｙｌｅｎｅとを共蒸着（質量比９０：１０）して厚さ１００ｎｍで形成した。【０２９０】
【化８】
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さらに、発光層上に電子が効率的に注入できるような仕事関数の低い第１の陰極としてカルシウムを真空蒸着法により４ｎｍの厚さで成膜し、第１の陰極上に第２の陰極としてアルミニウムを２ｎｍの厚さで成膜した。ここで、第２の陰極として用いたアルミニウムはその上に形成される透明電極をスパッタリング法により成膜する際に、第１の陰極であるカルシウムが化学的変質をすることを防ぐ役割がある。以上のようにして、有機発光層を得た。次に、陰極上にスパッタリング法によって透明導電膜を８０ｎｍの厚さで成膜した。ここで透明導電膜としてはＩＴＯを用いた。さらに、透明導電膜上にＣＶＤ法によって窒化珪素を２００ｎｍ成膜することで、絶縁膜とした。【０２９１】
上記のように製作した有機ＥＬ表示素子と偏光子の両側に本発明に係るλ／４板を搭載した円偏光板１０１〜１１８とを対向して接着層を用いて固定化することで、立体画像に対応した有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置を製造し以下の評価を行った。【０２９２】
評価結果を表２、表３、表４に示す。【０２９３】
＜外光反射による赤色相の評価＞
作製した表示装置を２３℃・５５％ＲＨの部屋に４８時間保存後、電圧を印加せず、発光していない状態にして、照度約１００ｌｘの環境下に置き、正面から反射色の赤色相レベルを視感評価し、その差を比較した。【０２９４】
◎：全く外光反射が認知できない
○：僅かに外光反射による赤みが見られるが、気にならない程度
△：外光反射による赤みが気になる状態
×：外光反射による赤みが極めて気になる状態
＜パネルの反りの評価＞
上記のようにして作製した表示装置（１２９６ｍｍ×７８４ｍｍ）を４０℃・２５％ＲＨの環境に１０００時間置いた後にパネルの反りを評価した。図４はパネルを上方から見た図であり、図４に示したように、パネル長尺方向の長さＹとパネル長尺方向中央部分に対する端部の位置のズレの大きさＸを測定した。【０２９５】
＜クロストーク評価＞
ＳＯＮＹ製３ＤメガネＴＤＧ−ＢＲ１００をかけて正面からの外光反射防止効果とクロストークを視認評価した。【０２９６】
◎：全くクロストークがない
○：クロストークが殆ど気にならない程度
△：青のクロストークが気になる状態
×：青のクロストークが極めて気になる状態
【表２】
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【表３】
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【表４】
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以上の結果から明らかなように本発明の円偏光板は、比較例の円偏光板に比べて、外光反射による色相劣化やクロストークが極めて小さく、視認性にも優れている。また、λ／４板Ｔ１、Ｔ２の張力の比を面内の４方向で好ましい範囲にすることにより、パネルの反りを抑えることができることが確認された。【０２９７】
また、斜め延伸で作製したλ／４板は、ロール・トゥ・ロールでの偏光板作製が可能で、生産性に優れる。
【産業上の利用可能性】
【０２９８】
本発明の円偏光板は、立体画像表示機能を備えた有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置の円偏光板及び当該円偏光板を用いた立体画像表示機能を備えた有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置の製造に用いることができる。
【符号の説明】
【０２９９】
１ａ  透明基盤
２ａ  金属電極
３ａＲ  赤色発光層
３ａＧ  緑色発光層
３ａＢ  青色発光層
４ａ  透明電極
５ａ  絶縁膜
６ａ  接着層
７ａ  λ／４板Ｔ２
８ａ  偏光子
９ａ  λ／４板Ｔ１
１０ａ  円偏光板
１１ａ  有機ＥＬ表示基盤
Ｔ１  λ／４板Ｔ１
Ｔ２  λ／４板Ｔ２
１ｂ  偏光子
ｔ１  搬送方向
ｔ２  幅手方向
ｔ４５  搬送方向に対して４５°の角度をなす方向
ｔ−４５  搬送方向に対して−４５°の角度をなす方向
１  未延伸フィルム
２−１  右側のフィルム保持開始点
２−２  左側のフィルム保持開始点
３−１  右側のフィルム保持手段の軌跡
３−２  左側のフィルム保持手段の軌跡
４  テンター
５−１  右側のフィルム保持終了点
５−２  左側のフィルム保持終了点
６  斜め延伸フィルム
７−１  フィルムの送り方向
８−１  テンター入り口側のガイドローラ
８−２  テンター出口側のガイドローラ
９  フィルムの延伸方向
Ｘ  パネルの反り
Ｙ  パネルの長尺方向の長さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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