(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記エチレン／テトラフルオロエチレン共重合体の架橋物を含む成形体からなり、波長４００ｎｍにおける光線透過率が、厚さ２２０μｍの光学部材において９０．０％以上であることを特徴とする光学部材。
（エチレン／テトラフルオロエチレン共重合体）
テトラフルオロエチレンに基づく単位（Ａ）、エチレンに基づく単位（Ｂ）およびＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１（ただし、ｎは２〜１０の整数である。）に基づく単位（Ｃ）を有し、前記単位（Ａ）と前記単位（Ｂ）とのモル比（（Ａ）／（Ｂ））が、５０／５０〜６６／３４であり、前記単位（Ｃ）と前記単位（Ａ）および前記単位（Ｂ）の合計とのモル比（（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝）が、４．０／１００〜１０／１００であるエチレン／テトラフルオロエチレン共重合体。
【請求項２】
前記（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝が、４．０／１００〜７．５／１００である、請求項１に記載の光学部材。
【請求項３】
前記エチレン／テトラフルオロエチレン共重合体が、テトラフルオロエチレンに基づく単位（Ａ）、エチレンに基づく単位（Ｂ）およびＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１（ただし、ｎは２〜１０の整数である。）に基づく単位（Ｃ）のみからなる、請求項１または２に記載の光学部材。
【請求項４】
２８０℃で５分間加熱した際の収縮率が、厚さ５００μｍの光学部材において、縦方向および横方向のいずれも５％以内である請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学部材。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学部材を製造する方法であって、
前記エチレン／テトラフルオロエチレン共重合体を含む樹脂材料の成形体に放射線を照射することによって、前記エチレン／テトラフルオロエチレン共重合体を架橋させる、光学部材の製造方法。
【請求項６】
放射線の線量が１〜１０Ｍｒａｄである請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
放射線が電子線である請求項５または６に記載の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学部材を備えた、物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学部材、その製造方法および該光学部材を備えた物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品、電子機器等は、光学部材（光学フィルム、光学レンズ、発光ダイオードの封止材等）を備えている場合がある。【０００３】
該光学部材には、下記（ｉ）の理由等から、樹脂材料を用いることが求められることがある。
（ｉ）電子部品、電子機器等の小型化、高集積化、高性能化等に伴い、光学部材にも小型化が求められている。該光学部材の材料としては、光学部材を小型に加工しやすい点から、樹脂材料が好適である。【０００４】
また、該光学部材には、下記（ｉｉ）、（ｉｉｉ）の理由等から、耐熱性、耐光性が求められることがある。
（ｉｉ）ハンダリフロー法によって光学部材を回路基板に実装することがある。ハンダリフロー法においては、環境問題への対応の点から、鉛フリーハンダを用いることが望まれている。そのため、光学部材には、鉛フリーハンダのリフロー温度（約２６０℃）でも溶融せずに形状を維持できる耐熱性が求められる。
（ｉｉｉ）発光ダイオードの高輝度化に伴い、封止材には、さらなる耐熱性、耐光性が求められる。【０００５】
耐熱性、耐光性に優れる樹脂材料としては、エチレン／テトラフルオロエチレン共重合体（以下、ＥＴＦＥと記す。）が知られている。しかし、通常のＥＴＦＥは、結晶性が高いため、透明性が低く、光学部材用の樹脂材料には適さない。【０００６】
透明性が改善されたＥＴＦＥとしては、下記のＥＴＦＥが提案されている。
テトラフルオロエチレン（以下、ＴＦＥと記す。）に基づく単位（Ａ）、エチレン（以下、Ｅと記す。）に基づく単位（Ｂ）およびＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１（ただし、ｎは２〜１０の整数である。）に基づく単位（Ｃ）からなり、単位（Ａ）と単位（Ｂ）とのモル比（（Ａ）／（Ｂ））が、５０／５０〜６０／４０であり、単位（Ｃ）の含有量が、２〜７モル％であるＥＴＦＥ（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】日本特許第３４２４２７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
光学部材の樹脂材料としては、透明性はできるだけ高いことが望ましい。よって、特許文献１に記載のＥＴＦＥよりもさらに透明性の高いＥＴＦＥが求められている。【０００９】
本発明は、従来のＥＴＦＥからなる成形体に比べ透明性、耐熱性に優れ、かつ耐光性が良好である光学部材、その製造方法および該光学部材を備えた物品を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の光学部材は、下記ＥＴＦＥの架橋物を含む成形体からなることを特徴とする。
（ＥＴＦＥ）
ＴＦＥに基づく単位（Ａ）、Ｅに基づく単位（Ｂ）およびＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１（ただし、ｎは２〜１０の整数である。）に基づく単位（Ｃ）を有し、前記単位（Ａ）と前記単位（Ｂ）とのモル比（（Ａ）／（Ｂ））が、５０／５０〜６６／３４であり、前記単位（Ｃ）と前記単位（Ａ）および前記単位（Ｂ）の合計とのモル比（（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝）が、４．０／１００〜１０／１００であるＥＴＦＥ。【００１１】
前記（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝は、４．０／１００〜７．５／１００であることが好ましい。
本発明の光学部材の波長４００ｎｍにおける光線透過率は、厚さ２２０μｍの光学部材において９０．０％以上であることが好ましい。
本発明の光学部材を、２８０℃で５分間加熱した際の収縮率は、厚さ５００μｍの光学部材において縦方向および横方向のいずれも５％以内であることが好ましい。【００１２】
本発明の光学部材の製造方法は、本発明の光学部材を製造する方法であって、前記ＥＴＦＥを含む樹脂材料の成形体に放射線を照射することによって、前記ＥＴＦＥを架橋させることを特徴とする。
本発明の光学部材の製造方法は、放射線の線量が１〜１０Ｍｒａｄであることが好ましい。
本発明の光学部材の製造方法は、放射線が電子線であることが好ましい。
本発明の物品は、本発明の光学部材を備えたものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光学部材は、従来のＥＴＦＥからなる成形体に比べ透明性、耐熱性に優れ、かつ耐光性が良好である。
本発明の光学部材の製造方法によれば、従来のＥＴＦＥに比べ透明性が改善され、かつ耐熱性、耐光性に優れる光学部材を製造できる。
本発明の物品は、従来のＥＴＦＥに比べ透明性が改善され、かつ耐熱性、耐光性に優れる光学部材を備えたものとなる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書における「単位」は、単量体が重合することによって形成された該単量体に由来する繰返し単位を意味する。単位は、重合によって直接形成された単位であってもよく、重合体を処理することによって該単位の一部が別の構造に変換された単位であってもよい。
また、本明細書における「単量体」は、重合性不飽和基を有する化合物を意味する。
また、本明細書における「（メタ）アクリレート」は、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。
また、本発明における「放射線」は、γ線、電子線、Ｘ線等の電離性放射線を意味する。
【００１５】
＜光学部材＞
本発明の光学部材は、特定のＥＴＦＥの架橋物を含む成形体からなるものである。ＥＴＦＥの架橋物は、ＥＴＦＥに放射線を照射してＥＴＦＥを架橋させることによって形成されたものである。
【００１６】
（ＥＴＦＥ）
本発明におけるＥＴＦＥは、ＴＦＥに基づく単位（Ａ）、Ｅに基づく単位（Ｂ）およびＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１（ただし、ｎは２〜１０の整数である。）に基づく単位（Ｃ）を有する。
【００１７】
単位（Ａ）と単位（Ｂ）とのモル比（（Ａ）／（Ｂ））は、５０／５０〜６６／３４であり、５３／４７〜６５／３５が好ましく、５６／４４〜６０／４０がより好ましい。（Ａ）／（Ｂ）が該範囲内であれば、透明性、耐熱性、耐光性、耐候性、耐薬品性、ガスバリア性、燃料バリア、機械的強度、成形性等のバランスが良好となる。
【００１８】
単位（Ｃ）と単位（Ａ）および単位（Ｂ）の合計とのモル比（（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝）は、４．０／１００〜１０／１００であり、４．０／１００〜７．５／１００が好ましく、４．５／１００〜７．５／１００がより好ましく、４．６／１００〜７．５／１００がさらに好ましい。（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝が４．０／１００以上であれば、透明性が高くなる。（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝が１０／１００以下であれば、ＥＴＦＥの製造が容易である。
【００１９】
ＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１におけるｎは、２〜１０の整数であり、２〜８が好ましく、２〜６がより好ましい。ｎが２以上であれば、得られるＥＴＦＥが耐ストレスクラック等の物性に優れる。ｎが１０以下であれば、ＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１の製造が容易で、重合性に優れる。
【００２０】
ＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１の具体例としては、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）２Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）３Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）５Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）６Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）７Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）８Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）９Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）１０Ｆ等が挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１としては、重合性に優れ、ＥＴＦＥが物性に優れることから、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）２Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）３Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）５Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）６Ｆ、またはＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）７Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）８Ｆが好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）２Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）３Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）５Ｆ、またはＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）６Ｆがより好ましい。
ＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２１】
本発明におけるＥＴＦＥは、単位（Ａ）、単位（Ｂ）および単位（Ｃ）以外に、その他の単量体に基づく単位（Ｄ）を有していてもよい。
その他の単量体としては、炭化水素系オレフィン（プロピレン、ブテン等）、不飽和基に水素原子を有するフルオロオレフィン（フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、トリフルオロエチレン等）、不飽和基に水素原子を有しないフルオロオレフィン（ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン等。ただし、ＴＦＥを除く。）、ペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）（ペルフルオロ（プロピルビニルエーテル）等）、ビニルエーテル（アルキルビニルエーテル、（フルオロアルキル）ビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、メチルビニロキシブチルカーボネート等）、ビニルエステル（酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、ブタン酸ビニル、ピバル酸ビニル、安息香酸ビニル、クロトン酸ビニル等）、（メタ）アクリレート（（ポリフルオロアルキル）アクリレート、（ポリフルオロアルキル）メタクリレート等）、酸無水物（無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物等）等が挙げられる。
【００２２】
その他の単量体は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明におけるＥＴＦＥが単位（Ｄ）を有する場合、単位（Ｄ）の割合は、ＥＴＦＥ中の全単位（１００モル％）のうち、０．０１〜２０モル％が好ましく、０．０１〜１０モル％がより好ましく、０．０５〜５モル％がさらに好ましく、０．１〜３モル％が特に好ましい。
本発明におけるＥＴＦＥとしては、耐熱性等の物性に優れ、製造が容易である点から、単位（Ａ）、単位（Ｂ）および単位（Ｃ）のみからなるＥＴＦＥが好ましい。
【００２３】
本発明におけるＥＴＦＥの容量流速（以下、Ｑ値と記す。）は、１〜１０００ｍｍ３／秒が好ましく、５〜５００ｍｍ３／秒がより好ましく、５〜２００ｍｍ３／秒がさらに好ましい。Ｑ値は、ＥＴＦＥの溶融流動性を表す指標であり、分子量の目安となる。Ｑ値が大きいと分子量が低く、小さいと分子量が高いことを示す。本発明におけるＥＴＦＥのＱ値は、島津製作所社製のフローテスタを用いて、温度：２９７℃、荷重：７ｋｇ下に直径：２．１ｍｍ、長さ：８ｍｍのオリフィス中に押出すときのＥＴＦＥの押出し速度である。
【００２４】
（ＥＴＦＥの製造方法）
ＥＴＦＥは、たとえば、特開２００４−２３８４０５号公報に記載された方法等によって製造できる。ＥＴＦＥの製造方法は、該方法に限定されない。
ＥＴＦＥの製造方法においては、通常のラジカル重合開始剤を用いる重合法が用いられる。重合法としては、塊状重合法、有機溶媒（フッ化炭化水素、塩化炭化水素、フッ化塩化炭化水素、アルコール、炭化水素等）を用いる溶液重合法、水性媒体および必要に応じて適当な有機溶媒を用いる懸濁重合法、水性媒体および乳化剤を用いる乳化重合法が挙げられる。ＥＴＦＥ中に乳化剤等の不純物が残留しないことから、溶液重合法または懸濁重合法が好ましい。
【００２５】
ラジカル重合開始剤としては、重合温度の観点から、半減期が１０時間となる温度が０℃〜１００℃のものが好ましく、２０〜９０℃のものがより好ましい。
ラジカル重合開始剤の具体例としては、アゾ化合物（アゾビスイソブチロニトリル等）、非フッ素系ジアシルペルオキシド（ジイソブチリルペルオキシド、ジオクタノイルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド等）、ペルオキシジカーボネート（ジイソプロピルペルオキシジカーボネート等）、ペルオキシエステル（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシイソブチレート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシアセテート等）、含フッ素ジアシルペルオキシド（（Ｚ（ＣＦ２）ｐＣＯＯ）２（ただし、Ｚは水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、ｐは１〜１０の整数である。）で表される化合物等）、無機過酸化物（過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等）等が挙げられる。
【００２６】
溶液重合法においては、ＥＴＦＥの容量流速を制御するために、連鎖移動剤を用いることが好ましい。連鎖移動剤としては、アルコール（メタノール、エタノール等）、クロロフルオロハイドロカーボン（１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン等）、ハイドロカーボン（ペンタン、ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキサン等）等が挙げられる。また、基材（ポリアミド等）との接着性に優れる官能基をＥＴＦＥの末端に導入するために、官能基（エステル基、カーボネート基、水酸基、カルボキシル基、カルボニルフルオリド基等）を有する連鎖移動剤を用いてもよい。該連鎖移動剤としては、酢酸、酢酸メチル、エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げられる。
【００２７】
重合温度は、０℃〜１００℃が好ましく、２０〜９０℃がより好ましい。
重合圧力は、０．１〜１０ＭＰａが好ましく、０．５〜３ＭＰａがより好ましい。
重合時間は、１〜３０時間が好ましく、２〜２０時間がより好ましく、２〜１０時間がさらに好ましい。なお、ラジカル重合開始剤を多く入れすぎると、ＥＴＦＥ中に残存するラジカル重合開始剤が加熱成形時に発泡することが確認されており、発泡しない範囲での重合時間とする必要がある。
【００２８】
（他の成分）
本発明の光学部材は、熱安定性に優れる点から、熱安定剤を含んでいてもよい。熱安定剤としては、銅化合物、錫化合物、鉄化合物、鉛化合物、チタン化合物およびアルミニウム化合物からなる群から選ばれる１種以上が好ましい。具体例としては、酸化銅、ヨウ化銅、アルミナ、硫酸錫、硫酸ゲルマニウム、塩基性硫酸鉛、亜硫酸錫、燐酸バリウム、ピロリン酸錫等が挙げられ、酸化銅、またはヨウ化銅が好ましい。熱安定剤の含有量は、光学部材中、１×１０−８〜５質量％が好ましく、１×１０−７〜２質量％がより好ましく、５×１０−７〜１質量％がさらに好ましい。
【００２９】
本発明の光学部材は、用途、目的に応じて、その他の配合剤を含んでいてもよい。その他の配合剤としては、各種の添加剤、フィラー、他の合成樹脂等が挙げられる。熱安定剤およびその他の配合剤の合計の含有量は、８０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がさらに好ましい。
【００３０】
（透明性）
本発明の光学部材の波長４００ｎｍにおける光線透過率は、厚さ２２０μｍにおいて９０．０％以上が好ましく、９０．５％以上がより好ましく、９０．９％以上がさらに好ましい。
光線透過率は、以下のようにして測定する。
ＥＴＦＥを含む樹脂材料を融点＋５０℃±２０℃の範囲（たとえば、融点２５０℃の場合は２８０℃〜３２０℃）でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得る。該ＥＴＦＥフィルムに放射線を照射してサンプルを得る。該サンプルについて、分光光度計を用いて波長４００ｎｍにおける光線透過率を測定する。
【００３１】
（耐熱性）
本発明の光学部材の２８０℃で５分間加熱した際の収縮率は、縦方向および横方向のいずれも５％以内が好ましく、３％以内がより好ましく、２％以内がさらに好ましい。
収縮率は、ＥＴＦＥをプレス成形して作製した厚さ５００μｍのフィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出し、２８０℃で５分間加熱した後、測定する。
【００３２】
（耐光性）
通常、サンシャインウェザーメーター（スガ試験機）を使用し、ブラックパネル温度は６３℃で１００時間照射後の透明性を評価し、透明性に変化がないことを確認する。
【００３３】
（光学部材の製造方法）
本発明の光学部材は、特定のＥＴＦＥを含む樹脂材料の成形体に放射線を照射し、該ＥＴＦＥを架橋させることによって製造される。
樹脂材料は、ＥＴＦＥの他に、前記熱安定剤、その他の配合剤を含んでいてもよい。
成形体は、樹脂材料を成形することによって得られる。成形法としては、公知の成形法（押出成形法、射出成形法、プレス成形法等）が挙げられる。
【００３４】
ＥＴＦＥの架橋条件は、成形体の形状、厚さ等に応じて適宜設定される。
光学部材は、前記成形体にγ線、電子線、Ｘ線等の電離性放射線を照射することによって得られる。架橋条件は、成形体の形状、厚さ等にもよるため一概には言えないが、放射線としては、設備の点から電子線が好ましい。
電子線の照射は、フッ素樹脂の融点未満の温度雰囲気、好ましくはガラス転移点以下の温度雰囲気で少なくとも１回以上、及び、フッ素樹脂の融点以上の温度雰囲気で少なくとも１回以上行われる。フッ素樹脂の融点未満の温度雰囲気で電子線が照射され架橋が施されることで、成形体を、２回目の照射を行う際にフッ素樹脂の融点以上に加熱しても、溶融や変形が見られず成形体の形状が維持される。このように、架橋物とは、フッ素樹脂のＱ値が０ｍｍ３／秒で、溶融成形性を失ったものをいう。
放射線の線量は、通常、１〜２０Ｍｒａｄであり、３〜１０Ｍｒａｄが好ましい。
【００３５】
（作用効果）
以上説明した本発明の光学部材にあっては、ＣＨ２＝ＣＨＣｎＦ２ｎ＋１（ただし、ｎは２〜１０の整数である。）に基づく単位（Ｃ）を特定の割合で含むＥＴＦＥの架橋物を含む成形体からなるため、従来のＥＴＦＥからなる未架橋の成形体に比べ透明性に優れる。ＥＴＦＥにおける単位（Ｃ）の割合を増やすことによって、成形体の透明性が改善されることは従来から知られていたが、本発明においては、単位（Ｃ）の割合が比較的多いＥＴＦＥに放射線を照射し、ＥＴＦＥを架橋させることによって、成形体の透明性をさらに改善している。
また、以上説明した本発明の光学部材にあっては、ＥＴＦＥの架橋物を含む成形体からなるため、従来のＥＴＦＥからなる未架橋の成形体に比べ耐熱性に優れる。
また、以上説明した本発明の光学部材にあっては、もともと耐光性のよいＥＴＦＥを用いているため、耐光性が良好である。
【００３６】
本発明の光学部材は、従来のＥＴＦＥの耐光性、耐候性、耐薬品性、ガスバリア性等の特性を維持しつつ、光学部材に適用し得る高い透明性を有する。
また、本発明の光学部材は、鉛フリーハンダを用いたハンダリフローに適用し得る高い耐熱性を有する。
【００３７】
＜光学部材を備えた物品＞
本発明の物品は、本発明の光学部材を備えたものである。
本発明の物品としては、本発明の光学部材を光学フィルム（導光板、光拡散シート、集光シート等）、光学レンズ（ピックアップレンズ、カメラレンズ、マイクロアレーレンズ、プロジェクターレンズ、フレネルレンズ等）等として実装した電子機器（携帯電話機、ノートパソコン、デジタルカメラ、液晶テレビ等）、本発明の光学部材を封止材として備えた発光ダイオード等が挙げられる。
【実施例】
【００３８】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定されない。
例１〜７は実施例であり、例８〜１３は比較例である。【００３９】
（各単位の割合）
ＥＴＦＥにおける各単位の割合は、全フッ素量測定および溶融１９Ｆ−ＮＭＲ測定の結果から算出した。【００４０】
（融点）
ＥＴＦＥの融点は、示差走査熱量計（ＳＩＩ社製、ＥＸＳＴＡＲ ＤＳＣ７０２０）を用いて、ＥＴＦＥを１０℃／分で加熱した際の吸熱ピークから求めた。【００４１】
（Ｑ値）
島津製作所社製のフローテスタを用いて、温度：２９７℃、荷重：７ｋｇ下に直径：２．１ｍｍ、長さ：８ｍｍのオリフィス中に押出すときのＥＴＦＥの押出し速度（ｍｍ３／秒）をＱ値とした。【００４２】
（ＥＴＦＥを架橋する前の光線透過率）
ＥＴＦＥを融点＋５０℃±２０℃の範囲でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得た。該ＥＴＦＥフィルムについて、島津製作所社製、ＵＶ−３６００を用いて波長４００ｎｍにおける光線透過率を測定した。【００４３】
（ＥＴＦＥを架橋した後の光線透過率）
ＥＴＦＥを融点＋５０℃±２０℃の範囲でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得た。該ＥＴＦＥフィルムに放射線を照射してサンプルを得た。該サンプルについて、島津製作所社製、ＵＶ−３６００を用いて波長４００ｎｍにおける光線透過率を測定した。【００４４】
（耐熱性）
収縮率は、プレス成形して作製した厚さ５００μｍのフィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出し、２８０℃で５分間加熱した後、測定した。収縮率が縦方向および横方向のいずれも５％以内の場合を○（良）、収縮率が縦方向および横方向のいずれか一方または両方が５％を超える場合を×（不良）と評価した。【００４５】
〔例１〕
真空脱気した９４Ｌのステンレス鋼製オートクレーブに、１−ヒドロトリデカフルオロヘキサンの８７．３ｋｇ、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン（旭硝子社製、ＡＫ２２５ｃｂ。以下、ＡＫ２２５ｃｂと記す。）の４．２１ｋｇ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆの２．１３ｋｇを仕込み、撹拌しながら６６℃まで昇温し、ＴＦＥ／Ｅ＝８９／１１（モル比）の混合ガスを１．５ＭＰａＧになるまで導入し、５０質量％のｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレートのＡＫ２２５ｃｂ溶液の６０．４ｇを仕込んで重合を開始した。重合中は、圧力が１．５ＭＰａＧとなるようにＴＦＥ／Ｅ＝６０／４０（モル比）の混合ガスおよび該混合ガスに対して７．０モル％に相当する量のＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆを連続的に添加し、ＴＦＥ／Ｅ混合ガスの７．１９ｋｇを仕込んだ後にオートクレーブを冷却し、残留ガスをパージし、重合を終了させた。重合に要した時間は３３３分であった。【００４６】
得られたＥＴＦＥのスラリを２２０Ｌの造粒槽へ移し、７７Ｌの水を加えて撹拌しながら加熱し、重合溶媒および残留モノマーを除去し、７．２ｋｇのＥＴＦＥ１を得た。ＥＴＦＥ１における各単位の割合は、単位（Ａ）／単位（Ｂ）／単位（Ｃ）＝５４．５／３９．０／６．５（モル比）であった。（Ａ）／（Ｂ）、（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝、融点、Ｑ値を表１に示す。【００４７】
ＥＴＦＥ１を２５０℃でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得た。該ＥＴＦＥフィルムに放射線（電子線）を、線量が５Ｍｒａｄとなるように照射してサンプルを得た。該サンプルの波長４００ｎｍにおける光線透過率を表１に示す。また、該サンプルについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、変形は見られなかった。耐光性も問題がなかった。【００４８】
〔例２〕
内容積が１．３Ｌの撹拌機付き重合槽を脱気し、１−ヒドロトリデカフルオロヘキサンの１１９８．２ｇ、ＡＫ２２５ｃｂの１０４．２ｇ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆの３２．８ｇを仕込み、ＴＦＥの１８２．７ｇ、Ｅの６．３ｇを圧入し、重合槽内を６６℃に昇温し、ラジカル重合開始剤として２．５質量％のｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレートの１−ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の１５．４ｍＬを仕込み、重合を開始した。重合中は、圧力が一定になるようにＴＦＥ／Ｅ＝６０／４０（モル比）の混合ガスを連続的に仕込み、該混合ガスに対して５．０モル％となるようにＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆを連続的に仕込んだ。重合開始から２３９分後、混合ガスの１００ｇを仕込んだ時点で、重合槽内を室温まで降温するとともに常圧までパージした。【００４９】
得られたＥＴＦＥのスラリをガラスフィルタで吸引ろ過し、１５０℃で１５時間乾燥することによって、１０７ｇのＥＴＦＥ２を得た。ＥＴＦＥ２における各単位の割合は、単位（Ａ）／単位（Ｂ）／単位（Ｃ）＝５３．０／４１．４／５．６（モル比）であった。（Ａ）／（Ｂ）、（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝、融点、Ｑ値を表１に示す。【００５０】
ＥＴＦＥ２を２７０℃でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得た。該ＥＴＦＥフィルムに放射線（電子線）を、線量が５Ｍｒａｄとなるように照射してサンプルを得た。該サンプルの波長４００ｎｍにおける光線透過率を表１に示す。また、該サンプルについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、変形は見られなかった。耐光性も問題がなかった。【００５１】
〔例３〕
内容積が１．３Ｌの撹拌機付き重合槽を脱気し、１−ヒドロトリデカフルオロヘキサンの１１５６．５ｇ、ＡＫ２２５ｃｂの１４２．９ｇ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆの２２．７ｇを仕込み、ＴＦＥの１８７．６ｇ、Ｅの６．５ｇを圧入し、重合槽内を６６℃に昇温し、ラジカル重合開始剤として２．５質量％のｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレートの１−ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の１０．６ｍＬを仕込み、重合を開始した。重合中は、圧力が一定になるようにＴＦＥ／Ｅ＝６０／４０（モル比）の混合ガスを連続的に仕込み、該混合ガスに対して４．０モル％となるようにＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆを連続的に仕込んだ。重合開始から１９６分後、混合ガスの１００ｇを仕込んだ時点で、重合槽内を室温まで降温するとともに常圧までパージした。【００５２】
得られたＥＴＦＥのスラリをガラスフィルタで吸引ろ過し、１５０℃で１５時間乾燥することによって、９６ｇのＥＴＦＥ３を得た。ＥＴＦＥ３における各単位の割合は、単位（Ａ）／単位（Ｂ）／単位（Ｃ）＝５４．３／４１．３／４．４（モル比）であった。（Ａ）／（Ｂ）、（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝、融点、Ｑ値を表１に示す。【００５３】
ＥＴＦＥ３を２７０℃でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得た。該ＥＴＦＥフィルムに放射線（電子線）を、線量が５Ｍｒａｄとなるように照射してサンプルを得た。該サンプルの波長４００ｎｍにおける光線透過率を表１に示す。また、該サンプルについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、変形は見られなかった。耐光性も問題がなかった。【００５４】
〔例４〕
内容積が１．３Ｌの撹拌機付き重合槽を脱気し、１−ヒドロトリデカフルオロヘキサンの１１７９．４ｇ、ＡＫ２２５ｃｂの１６７．４ｇ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）２Ｆの１５．５ｇを仕込み、ＴＦＥの１８７．６ｇ、Ｅの６．５ｇを圧入し、重合槽内を６６℃に昇温し、ラジカル重合開始剤として２．５質量％のｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレートの１−ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の１０．６ｍＬを仕込み、重合を開始した。重合中は、圧力が一定になるようにＴＦＥ／Ｅ＝６０／４０（モル比）の混合ガスを連続的に仕込み、該混合ガスに対して４．０モル％となるようにＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）２Ｆを連続的に仕込んだ。重合開始から２００分後、混合ガスの１００ｇを仕込んだ時点で、重合槽内を室温まで降温するとともに常圧までパージした。【００５５】
得られたＥＴＦＥのスラリをガラスフィルタで吸引ろ過し、１５０℃で１５時間乾燥することによって、９８ｇのＥＴＦＥ４を得た。ＥＴＦＥ４における各単位の割合は、単位（Ａ）／単位（Ｂ）／単位（Ｃ）＝５４．２／４１．３／４．５（モル比）であった。（Ａ）／（Ｂ）、（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝、融点、Ｑ値を表１に示す。【００５６】
ＥＴＦＥ４を２７０℃でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得た。該ＥＴＦＥフィルムに放射線（電子線）を、線量が５Ｍｒａｄとなるように照射してサンプルを得た。該サンプルの波長４００ｎｍにおける光線透過率を表１に示す。また、該サンプルについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、変形は見られなかった。耐光性も問題がなかった。【００５７】
〔例５〕
内容積が１．３Ｌの撹拌機付き重合槽を脱気し、１−ヒドロトリデカフルオロヘキサンの１１９４．５ｇ、ＡＫ２２５ｃｂの１５３．４ｇ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）６Ｆの３３．０ｇを仕込み、ＴＦＥの１８７．６ｇ、Ｅの６．５ｇを圧入し、重合槽内を６６℃に昇温し、ラジカル重合開始剤として２．５質量％のｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレートの１−ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の１０．６ｍＬを仕込み、重合を開始した。重合中は、圧力が一定になるようにＴＦＥ／Ｅ＝６０／４０（モル比）の混合ガスを連続的に仕込み、該混合ガスに対して４．０モル％となるようにＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）６Ｆを連続的に仕込んだ。重合開始から１９３分後、混合ガスの１００ｇを仕込んだ時点で、重合槽内を室温まで降温するとともに常圧までパージした。【００５８】
得られたＥＴＦＥのスラリをガラスフィルタで吸引ろ過し、１５０℃で１５時間乾燥することによって、９９ｇのＥＴＦＥ５を得た。ＥＴＦＥ５における各単位の割合は、単位（Ａ）／単位（Ｂ）／単位（Ｃ）＝５４．４／４１．３／４．３（モル比）であった。（Ａ）／（Ｂ）、（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝、融点、Ｑ値を表１に示す。【００５９】
ＥＴＦＥ５を２７０℃でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得た。該ＥＴＦＥフィルムに放射線（電子線）を、線量が５Ｍｒａｄとなるように照射してサンプルを得た。該サンプルの波長４００ｎｍにおける光線透過率を表１に示す。また、該サンプルについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、変形は見られなかった。耐光性も問題がなかった。【００６０】
〔例６〕
内容積が１．３Ｌの撹拌機付き重合槽を脱気し、１−ヒドロトリデカフルオロヘキサンの１１２８．８ｇ、ＡＫ２２５ｃｂの１６８．７ｇ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆの２０．２ｇを仕込み、ＴＦＥの１８７．６ｇ、Ｅの６．５ｇを圧入し、重合槽内を６６℃に昇温し、ラジカル重合開始剤として２．５質量％のｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレートの１−ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の１０．６ｍＬを仕込み、重合を開始した。重合中は、圧力が一定になるようにＴＦＥ／Ｅ＝６０／４０（モル比）の混合ガスを連続的に仕込み、該混合ガスに対して４．０モル％となるようにＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆを連続的に仕込んだ。重合開始から１７５分後、混合ガスの１００ｇを仕込んだ時点で、重合槽内を室温まで降温するとともに常圧までパージした。【００６１】
得られたＥＴＦＥのスラリをガラスフィルタで吸引ろ過し、１５０℃で１５時間乾燥することによって、９８ｇのＥＴＦＥ６を得た。ＥＴＦＥ６における各単位の割合は、単位（Ａ）／単位（Ｂ）／単位（Ｃ）＝５６．４／３９．６／４．０（モル比）であった。（Ａ）／（Ｂ）、（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝、融点、Ｑ値を表１に示す。【００６２】
ＥＴＦＥ６を２７０℃でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得た。該ＥＴＦＥフィルムに放射線（電子線）を、線量が５Ｍｒａｄとなるように照射してサンプルを得た。該サンプルの波長４００ｎｍにおける光線透過率を表１に示す。また、該サンプルについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、変形は見られなかった。耐光性も問題がなかった。【００６３】
〔例７〕
内容積が１．３Ｌの撹拌機付き重合槽を脱気し、１−ヒドロトリデカフルオロヘキサンの１２１７．０ｇ、メタノールの１２．３ｇ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆの２４．５ｇを仕込み、ＴＦＥの２０９．１ｇ、Ｅの７．４ｇを圧入し、重合槽内を３５℃に昇温し、ラジカル重合開始剤として３０質量％のジイソピロピルペルオキシジカーボネートの１−ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の３０．８ｍＬを仕込み、重合を開始した。重合中は、圧力が一定になるようにＴＦＥ／Ｅ＝６０／４０（モル比）の混合ガスを連続的に仕込み、該混合ガスに対して４．０モル％となるようにＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆを連続的に仕込んだ。重合開始から１８７分後、混合ガスの１００ｇを仕込んだ時点で、重合槽内を室温まで降温するとともに常圧までパージした。【００６４】
得られたＥＴＦＥのスラリをガラスフィルタで吸引ろ過し、１５０℃で１５時間乾燥することによって、９３．８ｇのＥＴＦＥ７を得た。ＥＴＦＥ７における各単位の割合は、単位（Ａ）／単位（Ｂ）／単位（Ｃ）＝５４．３／４１．６／４．１（モル比）であった。（Ａ）／（Ｂ）、（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝、融点、Ｑ値を表１に示す。【００６５】
ＥＴＦＥ７を２７０℃でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得た。該ＥＴＦＥフィルムに放射線（電子線）を、線量が５Ｍｒａｄとなるように照射してサンプルを得た。該サンプルの波長４００ｎｍにおける光線透過率を表１に示す。また、該サンプルについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、変形は見られなかった。耐光性も問題がなかった。【００６６】
〔例８〕
例１の未架橋のＥＴＦＥフィルムの光線透過率を表２に示す。また、該フィルムについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、溶融してしまった。【００６７】
〔例９〕
例４の未架橋のＥＴＦＥフィルムの光線透過率を表２に示す。また、該フィルムについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、溶融してしまった。【００６８】
〔例１０〕
例５の未架橋のＥＴＦＥフィルムの光線透過率を表２に示す。また、該フィルムについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、溶融してしまった。【００６９】
〔例１１〕
例７の未架橋のＥＴＦＥフィルムの光線透過率を表２に示す。また、該フィルムについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、溶融してしまった。【００７０】
〔例１２〕
内容積が１．３Ｌの撹拌機付き重合槽を脱気し、１−ヒドロトリデカフルオロヘキサンの１２７４．３ｇ、メタノールの２３．４ｇ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆの８．１ｇを仕込み、ＴＦＥの１８３．５ｇ、Ｅの１１．０ｇを圧入し、重合槽内を３５℃に昇温し、ラジカル重合開始剤として１５質量％のジイソピロピルペルオキシジカーボネートの１−ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の１５．４ｍＬを仕込み、重合を開始した。重合中は、圧力が一定になるようにＴＦＥ／Ｅ＝５４／４６（モル比）の混合ガスを連続的に仕込み、該混合ガスに対して１．４モル％となるようにＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆを連続的に仕込んだ。重合開始から３００分後、混合ガスの９０ｇを仕込んだ時点で、重合槽内を室温まで降温するとともに常圧までパージした。【００７１】
得られたＥＴＦＥのスラリをガラスフィルタで吸引ろ過し、１５０℃で１５時間乾燥することによって、９５．８ｇのＥＴＦＥ８を得た。ＥＴＦＥ８における各単位の割合は、単位（Ａ）／単位（Ｂ）／単位（Ｃ）＝５２．２／４６．３／１．５（モル比）であった。（Ａ）／（Ｂ）、（Ｃ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝、融点、Ｑ値を表２に示す。【００７２】
ＥＴＦＥ８を３１０℃でプレス成形して厚さ２２０μｍのＥＴＦＥフィルムを得た。フィルムの光線透過率を表２に示す。また、該フィルムについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、溶融した。【００７３】
〔例１３〕
例１２のＥＴＦＥフィルムに放射線（電子線）を、線量が５Ｍｒａｄとなるように照射してサンプルを得た。該サンプルの波長４００ｎｍにおける光線透過率を表２に示す。また、該サンプルについて２８０℃における耐熱性を評価したところ、変形は見られなかった。【００７４】
【表１】
0006003905.tif 000002
【００７５】
【表２】
0006003905.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明の光学部材は、透明性に優れることから、光学フィルム、光学レンズ、発光ダイオードの封止材等に好適に用いられる。本発明の光学部材は、透明性に優れ、かつ耐熱性にも優れることから、回路基板等へ鉛フリーハンダを用いたハンダリフロー法による実装用途等に適用できる。【００７７】
なお、２０１２年１月３０日に出願された日本特許出願２０１２−０１６４７７号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。