(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステル基材を準備する工程と、
前記ポリエステル基材上に、３以上のアクリロイル基を有するモノマーを含むモノマー原料と、アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体を含むポリマー原料とを含有する樹脂組成物を塗布する工程と、
前記樹脂組成物を硬化させて有機層を形成する工程と、
前記有機層上に無機層を形成する工程と、を有することを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記共重合体のアクリロニトリルの重合比率が、０．１モル％以上１０モル％以下である、請求項１に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記３以上のアクリロイル基を有するモノマーの配合量が、前記モノマー原料と前記ポリマー原料との合計量に対して４０質量％以上７０質量％以下である、請求項１又は２に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記ポリエステル基材が、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリエチレンナフタレートフィルムである、請求項１〜３のいずれか１項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記有機層上に無機層を形成する工程が、イオンプレーティング法により行われる、請求項１〜４のいずれか１項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法で製造されたガスバリア性フィルムを備える装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、良好なガスバリア性と耐久性を示すガスバリア性フィルムの製造方法及びその製造方法で製造されたガスバリア性フィルムを備える装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガスバリア性フィルムは、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）、液晶表示素子、薄膜トランジスタ、太陽電池、タッチパネル、電子ペーパー等の装置に対し、それらの性能を劣化させる酸素又は水蒸気等の化学成分の透過を防ぐために好ましく適用されている。特に最近の電子デバイスの高性能化と高品質化に伴い、ガスバリア性フィルムは、高いガスバリア性を有することが求められている。
【０００３】
近年のガスバリア性フィルムには、プラスチックフィルム基材と、そのプラスチック基材上に設けられた有機層と、その有機層上に設けられた無機層とで構成されているものがある。有機層は、ガスバリア性の無機層の下に平坦化層として設けられ、無機層に欠陥が生じるのを防止してガスバリア性を高めるという役割を担うとされている。また、基材となるプラスチックフィルムとしては、機械的強度と化学的安定性に優れ、さらに軽量かつ安価であるポリエステルフィルムが広く用いられている。
【０００４】
ポリエステルフィルムは、表面の凹凸が小さく、密度が高いという性質を有する。また、ポリエステルフィルム表面には、カルボキシル基（ＣＯＯＨ基）や、水酸基（ＯＨ基）等の極性を有する官能基が少ない。そのため、ポリエステルフィルムを基材として用いたガスバリア性フィルムは、ポリエステルフィルムとそのポリエステルフィルム上に設けられる有機層との密着性が低いという問題があった。
【０００５】
こうした構成を有するガスバリア性フィルムは、従来から種々提案されている。特許文献１には、プラスチックフィルムの片面又は両面に、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有する化合物（Ａ）、及びガラス転移温度が６０℃以上２００℃以下のアクリル系樹脂（Ｂ）を含む樹脂組成物の硬化物からなる樹脂層を有するガスバリア性積層体用基材に関する技術が提案されている。また、同文献には、アクリル系樹脂（Ｂ）が、ホモポリマーのガラス転移温度が−１００℃以上６０℃未満のラジカル重合性モノマー（ｂ１）と、ホモポリマーのガラス転移温度が６０℃以上２００℃以下のラジカル重合性モノマー（ｂ２）との共重合体であることが好ましいとされている。さらに、同文献には、そのラジカル重合性モノマー（ｂ１）又は（ｂ２）が、水酸基及びカルボキシル基の一方又は両方を有することが好ましいとされている。
【０００６】
特許文献２には、透明なフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層が設けられているハードコートフィルムであって、そのハードコート層の形成材料がウレタンアクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート及び水酸基を２個以上含むアルキル基を有する（メタ）アクリルポリマーを含むハードコートフィルムに関する技術が提案されている。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味し、「（メタ）アクリルポリマー」とは、アクリルポリマー又はメタクリルポリマーを意味する。
【０００７】
特許文献３には、プラスチックフィルム上の少なくとも片面に、紫外線硬化樹脂層とガスバリア性無機化合物層とがこの順番で１層ずつ形成され、その紫外線硬化樹脂層がペンタエリスリトール（メタ）アクリレートとイソシアヌル酸（メタ）アクリレートとを主成分とする樹脂からなる表示素子用ガスバリア性基板に関する技術が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−１１８０４６号公報
【特許文献２】特開２００７−４６０３１号公報
【特許文献３】特開２０１０−９４８６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
最近の高性能化の要請はガスバリア性フィルムに対しても同様であり、必要十分なガスバリア性を確保した上で、熱や湿度に対する耐久性（耐湿熱性）を高くすることが望まれている。具体的には、本発明者の検討によれば、特許文献１〜３で提案されたガスバリア性積層体用基材、ハードコートフィルム及び表示素子用ガスバリア性基板のそれぞれは、高温で多湿の環境下に保持することにより、有機層とプラスチックフィルム基材との密着性が低下し、それらの耐久性が低下するという新たな問題が見出された。
【００１０】
本発明は、上記課題を解決したものであって、その目的は、良好なガスバリア性と耐久性を示すガスバリア性フィルムの製造方法を提供することにある。また、本発明の他の目的は、良好な耐久性を示す装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者が上記課題に対して鋭意検討した結果、ガスバリア性フィルムのプラスチックフィルム基材にポリエステル基材を用い、そのポリエステル基材上に設けられる有機層の組成を工夫することによって、このガスバリア性フィルムを高温で多湿の環境下に保持した後であっても、有機層とポリエステル基材との高い密着性を維持できることを見出し、本発明を完成させた。
【００１２】
上記課題を解決するための本発明に係るガスバリア性フィルムの製造方法は、ポリエステル基材を準備する工程と、前記ポリエステル基材上に、３以上のアクリロイル基を有するモノマーを含むモノマー原料と、アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体を含むポリマー原料とを含有する樹脂組成物を塗布する工程と、前記樹脂組成物を硬化させて有機層を形成する工程と、前記有機層上に無機層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【００１３】
この発明によれば、ポリエステル基材上に、３以上のアクリロイル基を有するモノマーを含むモノマー原料を含有する樹脂組成物を塗布する工程を有するので、形成される有機層の架橋密度が高くなると考えられる。そのため、この有機層は、高硬度で緻密なものになると推測されるので、その有機層上に形成される無機層は、緻密なものになると考えられる。よって、良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルムを製造できる。また、ポリエステル基材上に、アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体を含むポリマー原料を含有する樹脂組成物を塗布する工程を有するので、有機層にニトリル基（ＣＮ基）を導入することができる。この有機層に導入されたニトリル基とポリエステル基材中のエステル結合とは、極性相互作用により高い親和性を発現すると考えられるので、有機層とポリエステル基材との密着性が高くなる。よって、良好な耐久性を示すガスバリア性フィルムを製造できる。その結果、本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、良好なガスバリア性と耐久性を示すガスバリア性フィルムを製造できる。
【００１４】
本発明に係るガスバリア性フィルムの製造方法において、前記共重合体のアクリロニトリルの重合比率が、０．１モル％以上１０モル％以下であることが好ましい。
【００１５】
この発明によれば、前記した共重合体のアクリロニトリルの重合比率が、０．１モル％以上１０モル％以下であるので、有機層にニトリル基を導入することができる。この有機層に導入されたニトリル基とポリエステル基材中のエステル結合とは、極性相互作用により高い親和性を発現すると考えられるので、有機層とポリエステル基材との密着性が高くなる。その結果、良好な耐久性を示すガスバリア性フィルムを製造できる。
【００１６】
本発明に係るガスバリア性フィルムの製造方法において、前記３以上のアクリロイル基を有するモノマーの配合量が、前記モノマー原料と前記ポリマー原料との合計量に対して４０質量％以上７０質量％以下であることが好ましい。
【００１７】
この発明によれば、３以上のアクリロイル基を有するモノマーの配合量が、モノマー原料とポリマー原料との合計量に対して４０質量％以上７０質量％以下であるので、形成される有機層の架橋密度が高くなると考えられる。そのため、この有機層は、高硬度で緻密なものになると推測されるので、その有機層上に形成される無機層は、緻密なものになると考えられる。その結果、良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルムを製造できる。
【００１８】
本発明に係るガスバリア性フィルムの製造方法において、前記ポリエステル基材が、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリエチレンナフタレートフィルムであることが好ましい。
【００１９】
本発明に係るガスバリア性フィルムの製造方法において、前記有機層上に無機層を形成する工程が、イオンプレーティング法により行われることが好ましい。
【００２０】
この発明によれば、有機層上に無機層を形成する工程が、イオンプレーティング法により行われるので、有機層上に緻密な無機層を形成できると考えられる。その結果、良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルムを製造できる。
【００２１】
上記課題を解決するための本発明に係る装置の製造方法は、上記本発明に係るガスバリア性フィルムの製造方法で製造されたガスバリア性フィルムを備える装置を製造する方法であることを特徴とする。
【００２２】
この発明によれば、良好なガスバリア性と耐久性を示すガスバリア性フィルムを備えるので、良好な耐久性を示す装置を製造できる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係るガスバリア性フィルムの製造方法によれば、良好なガスバリア性と耐久性を示すガスバリア性フィルムを製造できる。また、本発明に係る装置の製造方法によれば、良好な耐久性を示す装置を製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明に係るガスバリア性フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
【図２】本発明に係るガスバリア性フィルムの他の一例を示す模式的な断面図である。
【図３】本発明に係るガスバリア性フィルムのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００２６】
［ガスバリア性フィルムの製造方法］
本発明に係るガスバリア性フィルム１０の製造方法は、図１〜図３に示すガスバリア性フィルム１０を製造する方法であり、ポリエステル基材１を準備する工程（準備工程）と、ポリエステル基材１上に、３以上のアクリロイル基を有するモノマーを含むモノマー原料と、アクリロニトリル（ＡＣＮ）をモノマー成分とする共重合体を含むポリマー原料とを含有する樹脂組成物を塗布する工程（塗布工程）と、その樹脂組成物を硬化させて有機層２を形成する工程（有機層形成工程）と、有機層２上に無機層３を形成する工程（無機層形成工程）と、を有することに特徴がある。
【００２７】
こうしたガスバリア性フィルム１０の製造方法によれば、形成される有機層２の架橋密度が高くなると考えられるので、この有機層２は、高硬度で緻密なものになると推測される。そのため、その有機層２上に形成される無機層３は、緻密なものになると考えられるので、良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルム１０を製造できる。また、有機層２にニトリル基（ＣＮ基）を導入することができ、この有機層２に導入されたニトリル基とポリエステル基材１中のエステル結合とは、極性相互作用により高い親和性を発現すると考えられるので、有機層２とポリエステル基材１との密着性が高くなる。よって、良好な耐久性を示すガスバリア性フィルム１０を製造できる。その結果、良好なガスバリア性と耐久性を示すガスバリア性フィルム１０を製造できる。
【００２８】
ガスバリア性フィルム１０は、ポリエステル基材１と、ポリエステル基材１上に接して設けられた有機層２と、その有機層２上に設けられた無機層３とを有する。有機層２と無機層３は、図１に示すようにポリエステル基材１の一方の面Ｓ１にその順で少なくとも設けられるが、図２に示すように他方の面Ｓ２にも有機層２’と無機層３’とをその順で設けてもよい。ガスバリア性を向上させる観点からすれば、図２に示すように、ポリエステル基材１の両面に有機層２，２’と無機層３，３’をそれぞれその順で設けたガスバリア性フィルム１０Ｂが好ましい。また、ガスバリア性フィルム１０は、図３に示すように、有機層２が第１の有機層４と第２の有機層５との２層で形成されていてもよく、また、図示しないが、無機層３が２層で形成されていてもよい。
【００２９】
以下、各工程について詳細に説明する。
【００３０】
（準備工程）
準備工程は、ポリエステル基材１を準備する工程である。ポリエステル基材１は、ポリエステル系樹脂で形成される。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、これらの共重合体、及びポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート（ＰＣＴ）等から選ばれるものを挙げることができる。ポリエステル系樹脂の中でも、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、及びこれらの共重合体が好ましい。特に好ましくは、ポリエステル基材１をポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリエチレンナフタレートフィルムとすることである。
【００３１】
ポリエステル基材１の厚さは特に限定されないが、１０μｍ以上５００μｍ以下程度であることが好ましい。
【００３２】
ポリエステル基材１の表面は、有機層２との密着性を向上させるために、必要に応じて、コロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理、及び易接着処理等の表面処理を行ってもよいし、行わなくてもよい。こうした表面処理の具体的な方法は従来公知のものを適宜用いることができる。製造工程の簡略化や、コスト低減の観点からすれば、こうした表面処理を行わない方が好ましい。なお、ガスバリア性フィルム１０は、こうした表面処理を行わなくても、有機層２とポリエステル基材１との高い密着性を維持でき、特に、ガスバリア性フィルム１０を高温で多湿の環境下に保持した後でも、両者の高い密着性を維持できる。
【００３３】
（塗布工程）
塗布工程は、ポリエステル基材１上に、３以上のアクリロイル基を有するモノマーを含むモノマー原料と、アクリロニトリル（ＡＣＮ）をモノマー成分とする共重合体を含むポリマー原料とを含有する樹脂組成物を塗布する工程である。
【００３４】
樹脂組成物は、モノマー原料とポリマー原料との混合物である。モノマー原料は、主に３以上のアクリロイル基を有するモノマーを含み、ポリマー原料は、主にアクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体を含む。
【００３５】
３以上のアクリロイル基を有するモノマーとしては、特に限定されないが、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、グリセロールアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等、及びこれらのエチレンオキシド変性物、プロピレンオキシド変性物、及びカプロラクタン変性物等から選ばれる１種又は２種以上のモノマーを挙げることができる。なお、本明細書において、「アクリロイル基」はメタクリロイル基を含み、「アクリレート」はメタクリレートを含み、「アクリル酸」はメタクリル酸を含み、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等の「アクリル酸エステル」は、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステルを含む。
【００３６】
３以上のアクリロイル基を有するモノマーには、３以上のアクリロイル基を有するオリゴマーが含まれていてもよい。３以上のアクリロイル基を有するオリゴマーとしては、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、及びシリコーンアクリレート等から選ばれる１種又は２種以上のオリゴマーを挙げることができる。こうしたオリゴマーは、３以上のアクリロイル基を有するモノマーが結合して生成したものであってもよいし、３未満のアクリロイル基を有するモノマーが結合して生成したものであってもよい。
【００３７】
３未満のアクリロイル基を有するモノマーとしては、特に限定されないが、例えば、単官能のアクリル酸エステルモノマーや、２官能のアクリル酸エステルモノマーを挙げることができる。単官能のアクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソオクチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリレート、アクリロイルモルホリン等から選ばれる１又は２以上のモノマーを挙げることができる。また、２官能のアクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ノナンジオールジアクリレート、ペンタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールＡポリエトキシジオールジアクリレート、ビスフェノールＡポリプロポキシジオールジアクリレート等から選ばれる１又は２以上のモノマーを挙げることができる。
【００３８】
３以上のアクリロイル基を有するモノマーを樹脂組成物に含有させることにより、形成される有機層２の架橋密度が高いものになると考えられる。そのため、有機層２は高硬度で緻密なものになると考えられるので、有機層２上に形成される無機層３は、緻密なものになると考えられる。その結果、良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルム１０を製造できる。
【００３９】
３以上のアクリロイル基を有するモノマーは、１以上の水酸基（ＯＨ基）を有することが好ましい。こうしたモノマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリペンタエリスリトールペンタアクリレート、及びジトリメチロールプロパントリアクリレートト等から選ばれる１種又は２種以上のモノマーを挙げることができる。
【００４０】
３以上のアクリロイル基を有するモノマーのうち、１以上の水酸基（ＯＨ基）を有するモノマーを樹脂組成物に含有させ、この樹脂組成物で有機層２を形成することにより、水酸基を有機層２に導入することができる。この水酸基とポリエステル基材１中のエステル結合とは、水素結合に基づく相互作用により高い親和性を発現すると考えられるので、有機層２とポリエステル基材１との密着性を高めることができる。
【００４１】
３以上のアクリロイル基を有するモノマーの配合量は、モノマー原料とポリマー原料との合計量に対して４０質量％以上７０質量％以下であることが好ましい。３以上のアクリロイル基を有するモノマーの配合量をこの範囲にすることにより、形成される有機層２の架橋密度がより一層高いものになると考えられるので、有機層２はより高硬度で緻密なものになると推測される。
【００４２】
３以上のアクリロイル基を有するモノマーの配合量は、上記範囲外でも本発明の効果を奏するが、例えば、３以上のアクリロイル基を有するモノマーの配合量が、モノマー原料とポリマー原料との合計量に対して４０質量％未満では、この樹脂組成物で形成される有機層２の架橋密度が低下すると考えられるので、耐熱性が低下したり、硬度が低下してしまうおそれがある。有機層２の耐熱性が低下した場合、有機層２が加熱された際に有機層２から低分子成分の揮発分が発生することがあるので、無機層３の形成時に緻密な無機層３を形成できない可能性がある。また、有機層２の硬度が低下した場合、有機層２上に無機層３を形成できない可能性がある。３以上のアクリロイル基を有するモノマーの配合量が、モノマー原料とポリマー原料との合計量に対して７０質量％を超えると、樹脂組成物が硬化する際、無機層を成膜する際、又は、湿熱環境下に保持した際等に生じる有機層２の硬化収縮が大きくなると考えられるので、有機層２とポリエステル基材１との密着性が低下したり、有機層２と無機層３に欠陥が生じるおそれがある。そのため、有機層２とポリエステル基材１との間に剥離が生じてガスバリア性フィルム１０の耐久性が低下したり、また、ガスバリア性フィルム１０のガスバリア性が低下する可能性がある。
【００４３】
アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体とは、アクリロニトリルモノマーと他のモノマーとの共重合体のことである。他のモノマーとしては、アクリロニトリルと共重合可能なモノマーであるならば特に限定されないが、例えば、分子中に１又は２以上のエチレン性不飽和二重結合を有するビニル系モノマーを挙げることができる。こうしたビニル系モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等のアクリル酸エステル類；塩化ビニル、臭化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニル類；アクリル酸、アクリルアミド、スチレン、α−メチルスチレン、及び酢酸ビニル等から選ばれる１種又は２種以上のモノマーを挙げることができる。
【００４４】
さらに、アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体は、下記化学式（１）で表される構造を有する共重合体を挙げることができる。
【００４５】
【化１】
0005870834.tif 000002
【００４６】
化学式（１）及び中、Ｒ１は水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、特に限定されないが、例えば、水素原子、炭素数１８以下の直鎖又は分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシルアルキル基、スルホン酸基、アルキルエーテル基、アリルエーテル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルアミド基、及び、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子等であり、ｍ及びｎは、共重合体を構成するモノマー成分のモル比を表し、ｍ＋ｎ＝１００であり、ｎ＝０．１〜１０である。
【００４７】
アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体としては、具体的には、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸メチル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エチル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸ブチル−アクリロニトリル共重合体、及びスチレン−アクリロニトリル共重合体等から選ばれる１種又は２種以上の共重合体を挙げることができる。
【００４８】
アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体を樹脂組成物に含有させることにより、その樹脂組成物で形成される有機層２に、アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の側鎖に由来するニトリル基（ＣＮ基）を導入することができる。有機層２のニトリル基とポリエステル基材１中のエステル結合とは、極性相互作用により高い親和性を発現すると考えられるので、有機層２とポリエステル基材１との密着性を向上させることができる。
【００４９】
また、樹脂組成物にポリマーを含有させることにより、樹脂組成物が硬化する際、無機層を成膜する際、又は、湿熱環境下に保持した際等に生じる有機層２の硬化収縮を緩和できると考えられる。そのため、有機層２とポリエステル基材１との密着性が低下したり、有機層２と無機層３に欠陥が生じるのを防止できると考えられるので、良好なガスバリア性と耐久性を示すガスバリア性フィルム１０を製造できる。
【００５０】
アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体のアクリロニトリルの重合比率は、０．１モル％以上１０モル％以下であることが好ましく、０．５モル％以上５モル％以下であることがより好ましい。アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体のアクリロニトリルの重合比率を０．１モル％以上１０モル％以下にすることにより、有機層２にニトリル基を導入して、有機層２とポリエステル基材１との密着性をより向上させることができる。
【００５１】
アクリロニトリルの重合比率は、上記範囲外でも本発明の効果を奏するが、例えば、アクリロニトリルの重合比率が１０モル％を超えると、アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の分子量が小さくなるので、樹脂組成物が硬化する際等に生じる有機層２の硬化収縮が大きくなると考えられる。そのため、有機層２とポリエステル基材１との密着性が低下したり、有機層２と無機層３に欠陥が生じるおそれがある。
【００５２】
アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の数平均分子量は、１５０００以上２５０００以下であることが好ましい。アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の数平均分子量をこの範囲内にすることにより、樹脂組成物が硬化する際等に生じる有機層２の硬化収縮を緩和し、且つ、緻密な有機層２を形成できると考えられる。そのため、良好なガスバリア性と耐久性を示すガスバリア性フィルム１０を製造できる。なお、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の値を用いることができる。
【００５３】
アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の数平均分子量は、上記範囲外でも本発明の効果を奏するが、例えば、アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の数平均分子量が１５０００未満では、この共重合体の分子量が小さいので、樹脂組成物が硬化する際等に生じる有機層２の硬化収縮が大きくなると考えられる。そのため、有機層２とポリエステル基材１との密着性が低下したり、有機層２と無機層３に欠陥が生じるおそれがある。また、アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の数平均分子量が２５０００を超えると、有機層２の架橋密度が低下すると考えられるので、高硬度で緻密な有機層２を形成できないおそれがある。
【００５４】
ポリマーであるアクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の配合量は、モノマー原料とポリマー原料との合計量に対して３０質量％以上６０質量％以下であることが好ましい。アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の配合量をこの範囲内にすることにより、有機層２にニトリル基を導入して、有機層２とポリエステル基材１との密着性をより向上させ、また、緻密な有機層２を形成できると考えられる。そのため、良好なガスバリア性と耐久性を示すガスバリア性フィルム１０を製造できる。
【００５５】
アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の配合量は、上記範囲外であっても本発明の効果を奏するが、例えば、アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の配合量がモノマー原料とポリマー原料との合計量に対して３０質量％未満では、有機層２に導入されるニトリル基の量が少ないので、有機層２とポリエステル基材１との密着性が十分に向上しないおそれがある。また、アクリロニトリルをモノマー成分とする共重合体の配合量がモノマー原料とポリマー原料との合計量に対して６０質量％を超えると、有機層２の架橋密度が低下すると考えられるので、有機層２の耐熱性が低下したり、高硬度で緻密な有機層２を形成できないおそれがある。
【００５６】
樹脂組成物には、上記以外の従来公知のモノマー、オリゴマー、ポリマー等の重合性化合物を併せて含んでいてもよい。こうした重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。ラジカル重合性化合物としては、特に限定されないが、例えば、分子中に１又は２以上のエチレン性不飽和二重結合を有するものが好ましい。分子中に１又は２以上のエチレン性不飽和結合を含有するモノマーとしては、特に限定されないが、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカブロラクトン、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン、スチレン等のビニルモノマー；アクリルアミド誘導体、単官能アクリル酸エステルモノマー及び２官能のアクリル酸エステルモノマー等から選ばれる１又は２以上のモノマーを挙げることができる。分子中に１又は２以上のエチレン性不飽和結合を含有するオリゴマーとしては、特に限定されないが、例えば、上記したモノマーが結合して生成したオリゴマー、多官能性アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等から選ばれる１又は２以上のオリゴマーが挙げられる。分子中に１又は２以上のエチレン性不飽和結合を含有するポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、上記したモノマー又はオリゴマーの重合体を挙げることができる。
【００５７】
樹脂組成物には、組成物の粘度調整の見地から溶剤を含有させてもよい。溶剤としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；又はこれらの混合物を挙げることができる。こうした溶媒は、本発明の要旨の範囲内において、任意の割合で混合して用いてもよい。
【００５８】
樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲内で、必要に応じて添加剤を添加してもよい。添加剤としては、例えば、熱安定剤、可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、酸化防止剤、赤外線吸収剤、色素（着色染料、着色顔料）、体質顔料、及び光拡散剤等が挙げられる。
【００５９】
樹脂組成物には、重合開始剤を添加剤として含有させることが好ましい。重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類を挙げることができる。より具体的には、光重合開始剤として、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを好ましく挙げることができる。
【００６０】
樹脂組成物を塗布する方法としては、従来公知の塗布方法を適用することができる。こうした塗布方法としては、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスロールコート法、リバースロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、カーテンコート法、フローコート法、ダイコート法等を挙げることができる。
【００６１】
樹脂組成物を塗布した後は、必要に応じて乾燥を行う。乾燥温度は、常温であってもよいが、樹脂組成物が溶剤を含有する場合には、溶剤の沸点以上の温度として溶剤を除去するための乾燥を行うことが好ましい。
【００６２】
樹脂組成物をポリエステル基材１に塗布する回数は、１回でもよいし、２回以上でもよい。樹脂組成物の塗布を２回以上行うことにより、図３に示すガスバリア性フィルム１０Ｃを製造できる。樹脂組成物の塗布を２回以上行う場合は、本発明の構成要素を満たせば、同じ組成の樹脂組成物を用いてもよいし、異なる組成の樹脂組成物を用いてもよい。ガスバリア性フィルム１０のガスバリア性と耐久性向上の観点からすれば、１回目に塗布する樹脂組成物の組成は、この樹脂組成物で形成される有機層２とポリエステルフィルム基材１の密着性を向上させるために、ポリマーを多くする方が好ましい。また、２回目以降に塗布する樹脂組成物の組成は、この樹脂組成物で形成される有機層２上に形成される無機層３の緻密性を向上させるために、モノマーを多くする方が好ましい。樹脂組成物の塗布の回数を２回以上にする場合で、異なる組成の樹脂組成物を用いる場合は、ポリエステル基材１に塗布した樹脂組成物が互いに混ざらないようにするため、その塗布工程の間で塗布された樹脂組成物を乾燥させるか、又は、その塗布工程の間に後述する有機層形成工程を設けることが好ましい。
【００６３】
（有機層形成工程）
有機層形成工程は、樹脂組成物を硬化させて有機層２を形成する工程である。こうした有機層２の形成方法により、有機層２はポリエステル基材１に接して設けられる。
【００６４】
樹脂組成物を硬化させる方法は、特に限定されないが、電離放射線を照射して架橋重合等させて硬化させる方法が挙げられる。なお、電離放射線とは、電子線及び紫外線の他、可視光線、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線等の荷電粒子線のことである。
【００６５】
電離放射線として紫外線を適用する場合には、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が用いられる。また、電離放射線として電子線を適用する場合には、例えば、コッククロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を電子線源として用いることができる。
【００６６】
形成される有機層２の厚さは、単層又は２層以上に関わらず、基板のたわみの観点から０．１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、さらに表面性や生産性の観点を加えると０．５μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。
【００６７】
（無機層形成工程）
無機層形成工程は、有機層２上に無機層３を形成する工程である。
【００６８】
無機層３は、水蒸気等のガスを遮断する機能層として有機層２上に形成される。無機層３の形成材料としては、例えば、無機酸化物、無機酸化窒化物、無機窒化物、無機酸化炭化物、無機酸化炭化窒化物、及び酸化珪素亜鉛等から選ばれる１又は２以上の無機化合物を挙げることができる。具体的には、珪素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウム、セリウム、及び亜鉛から選ばれる１種又は２種以上の元素を含有する無機化合物を挙げることができ、より具体的には、珪素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物、チタン酸化物、スズ酸化物、珪素亜鉛合金酸化物及びインジウム合金酸化物等の無機酸化物、珪素窒化物、アルミニウム窒化物、及びチタン窒化物等の無機窒化物、酸化窒化珪素等の無機酸化窒化珪素を挙げることができる。特に好ましくは、無機層３が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、及び酸化珪素亜鉛から選ばれる１種又は２種以上からなる層である。無機層３は上記材料を単独で用いてもよいし、本発明の要旨の範囲内で上記材料を任意の割合で混合して用いてもよい。
【００６９】
無機層３の厚さは、使用する無機化合物によっても異なるが、ガスバリア性確保の見地から、通常５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上であり、また、クラック等の発生を抑制する見地から、通常５０００ｎｍ以下、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは３００ｎｍ以下である。また、無機層３は単層であってもよいし、合計厚さが上記範囲内となる２層以上の無機層３であってもよい。２層以上の無機層３の場合には、同じ材料同士を組み合わせてもよいし、異なる材料同士を組み合わせてもよい。
【００７０】
無機層３の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相成長法又はプラズマ化学気相成長法等を好ましく挙げることができる。こうした各種の形成方法での成膜条件は、得ようとする無機層の物性及び厚さ等を考慮し、従来公知の成膜条件を適宜調整して行えばよい。
【００７１】
より具体的には、（１）無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、又は金属等の原料を基材上に加熱蒸着させる真空蒸着法、（２）原料に酸素ガスを導入して酸化させ、基材に蒸着させる酸化反応蒸着法、（３）ターゲット原料にアルゴンガス、酸素ガスを導入してスパッタリングすることにより、基材に堆積させるスパッタリング法、（４）原料をプラズマガンで発生させたプラズマビームで加熱させ、基材に堆積させるイオンプレーティング法、（５）有機珪素化合物等を原料とし、酸化珪素膜を基材に堆積させるプラズマ化学気相成長法、等を利用することができる。
【００７２】
上記した無機層３の形成方法の中でも、好ましくは、イオンプレーティング法が挙げられる。イオンプレーティング法で無機層３を形成することにより、有機層２上に緻密な無機層３を形成できるので、良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルム１０を製造できる。
【００７３】
（他の工程）
ガスバリア性フィルム１０の製造方法には、例えば、無機層３上や有機層２が設けられていない側の面Ｓ２上に任意の機能層を形成する工程が含まれていてもよい。任意の機能層としては、従来公知のマット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層等が挙げられる。こうした機能層の形成工程は、従来公知の形成方法を適用できる。
【００７４】
［装置の製造方法］
本発明に係る装置の製造方法は、上記本発明のガスバリア性フィルムの製造方法で製造されたガスバリア性フィルム１０を備える装置であることに特徴がある。これにより、良好なガスバリア性と耐候性を示すガスバリア性フィルム１０を備えるので、良好な耐候性を示す装置を提供できる。より具体的には、装置の品質特性を低下させる高温及び高湿度の影響を低減できる。こうした装置としては、例えば、表示装置及び発電装置が挙げることができる。
【００７５】
表示装置としては、例えば、有機ＥＬ素子、液晶表示素子、タッチパネル、電子ペーパー等を挙げることができる。また、発電装置としては、例えば、太陽電池素子（太陽電池モジュール）を挙げることができる。これら装置は、吸湿により被封止体たる有機ＥＬ素子、液晶表示素子、及び太陽電池素子等が劣化しやすい性質を有するので、本発明のガスバリア性フィルム１０を備える意義が大きい。
【００７６】
装置の構成は特に限定されず、それぞれ従来公知の構成を適宜採用することができる。また、こうした装置の製造方法も特に限定されず、封止体としてガスバリア性フィルム１０を備えれば、従来公知の製造方法を適用できる。
【００７７】
具体的には、例えば、有機ＥＬ素子としては、本発明に係るガスバリア性フィルム１０上に陰極と陽極を有し、両電極の間に、有機発光層（単に「発光層」ともいう。）を含む有機層を有するものを挙げることができる。こうした有機ＥＬ素子は、例えば、スパッタ法等の従来公知の方法により、ガスバリア性フィルム１０上に電極を形成して製造できる。発光層を含む有機層の積層態様としては、陽極側から、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。さらに、正孔輸送層と発光層との間、又は、発光層と電子輸送層との間には、電荷ブロック層等を有していてもよい。また、陽極と正孔輸送層との間に正孔注入層を有してもよく、陰極と電子輸送層との間に電子注入層を有してもよい。また、発光層は一層だけでもよく、また、第一発光層、第二発光層及び第三発光層等のように発光層を分割してもよい。さらに、各層は複数の二次層に分かれていてもよい。なお、有機ＥＬ素子は発光素子であることから、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は、透明であることが好ましい。
【００７８】
太陽電池モジュールとしては、本発明に係るガスバリア性フィルム１０を太陽電池バックシートとして使用した例を挙げることができる。こうした太陽電池モジュールは、太陽光側から厚さ方向に順に、前面基材（ガラス又はフィルム等の高光線透過性を有するもの）、充填材、太陽電池素子、リード線、端子、端子ボックス、太陽電池バックシートの構成で、それらがシール材を介して両端の外装材（アルミニウム枠等）に固定されている。その太陽電池バックシートとしては、裏面封止用フィルムと、外層側に配置されるフィルムとの間に、本発明に係るガスバリア性フィルム１０を配置する例を挙げることができる。裏面封止用フィルムとしては、太陽電池モジュール側で太陽光を反射して電換効率を高めるべく、高度な反射率を有する例えば白色のポリエステルフィルム等が使用される。また、外層側に配置されるフィルムとしては、耐候性、耐加水分解性フィルム等が使用される。
【実施例】
【００７９】
本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
【００８０】
［実施例１］
ポリエステル基材として、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ、東レ株式会社製、商品名：Ｓ１０）の片面に、下記の組成に調製した樹脂組成物Ａをダイコートにて塗布し、８０℃で３分間乾燥させた後、波長２６０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲における積算光量４００ｍＪの条件で紫外線を照射し、厚さ２μｍの有機層を形成した。なお、ポリエチレンテレフタレートフィルムには、表面処理を行ったり、アンダーコート層を設けたりはしていない。
【００８１】
（樹脂組成物Ａの組成）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（モノマー）及びメタクリル酸メチル−アクリロニトリル共重合体（ポリマー）の混合物（日本合成化学工業株式会社製、商品名：ＵＶ−５５０１）：１５．４質量部
・メチルエチルケトン：３２質量部
・トルエン：３２質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：０．６質量部
・なお、上記したモノマーのアクリロイル基の数は３であり、上記したポリマーのアクリロニトリル（ＡＣＮ）の重合比率は１モル％で、数平均分子量は２００００である。
【００８２】
無機層は、上記有機層上に形成した。具体的には、上記有機層が形成されたポリエチレンテレフタレートフィルムの有機層側を成膜する向きにしてホローカソード型イオンプレーティング装置にセットした。そして、蒸発源材料である酸化珪素（高純度化学研究所製）をホローカソード型イオンプレーティング装置内のるつぼに投入した後、真空引きを行った。真空度が５×１０−４Ｐａまで到達した後、プラズマガンにアルゴンガスを１５ｓｃｃｍ導入し、電流１１０Ａ、電圧９０Ｖのプラズマを発電させた。チャンバー内を１×１０−１Ｐａに維持することと磁力によりプラズマを所定方向に曲げ、蒸発源材料に照射させた。るつぼ内の蒸発源材料は溶融状態を経て昇華することが確認された。イオンプレーティングを１５秒間行って基板に堆積させることにより、膜厚１００ｎｍの酸化珪素層を形成した。
【００８３】
以上のようにして得た実施例１のガスバリア性フィルムは、ポリエチレンテレフタレートフィルムと、有機層と、無機層とがその順に積層して構成されている。
【００８４】
［実施例２］
ポリエステル基材として、厚さ１００μｍのポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥＮ、帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：Ｑ５１）を用いた以外は、実施例１と同様にして実施例２のガスバリア性フィルムを製造した。
【００８５】
［実施例３］
下記の組成に調製した樹脂組成物Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施例３のガスバリア性フィルムを製造した。樹脂組成物Ｂは、ポリマーの種類を変更したこと以外は、樹脂組成物Ａと同様のものである。
【００８６】
（樹脂組成物Ｂの組成）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（モノマー、日本化薬株式会社製、商品名：ＰＥＴ−３０）：７．７質量部
・スチレン−アクリロニトリル共重合体（ポリマー）：７．７質量部
・メチルエチルケトン：３２質量部
・トルエン：３２質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：０．６質量部
・なお、上記したモノマーのアクリロイル基の数は３であり、上記したポリマーのアクリロニトリル（ＡＣＮ）の重合比率は１モル％で、数平均分子量は１８０００〜２００００である。
【００８７】
［実施例４］
下記の組成に調製した樹脂組成物Ｃを用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施例４のガスバリア性フィルムを製造した。樹脂組成物Ｃは、モノマーの種類を変更したこと以外は、樹脂組成物Ｂと同様のものである。
【００８８】
（樹脂組成物Ｃの組成）
・６官能型ウレタンアクリレート（モノマー、日本合成化学工業株式会社製、商品名：ＵＶ−７６００Ｂ）：７．７質量部
・スチレン−アクリロニトリル共重合体（ポリマー）：７．７質量部
・メチルエチルケトン：３２質量部
・トルエン：３２質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：０．６質量部
・なお、上記したモノマーのアクリロイル基の数は６であり、上記したポリマーのアクリロニトリル（ＡＣＮ）の重合比率は１モル％で、数平均分子量は１８０００〜２００００である。
【００８９】
［実施例５］
下記の組成に調製した樹脂組成物Ｄを用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施例５のガスバリア性フィルムを製造した。樹脂組成物Ｄは、モノマーとポリマーの配合量を変更し、ポリマーの種類を変更したこと以外は、樹脂組成物Ｂと同様のものである。
【００９０】
（樹脂組成物Ｄの組成）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（モノマー、日本化薬株式会社製、商品名：ＰＥＴ−３０）：１０．８質量部
・スチレン−アクリロニトリル共重合体（ポリマー）：４．６質量部
・メチルエチルケトン：３２質量部
・トルエン：３２質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：０．６質量部
・なお、上記したモノマーのアクリロイル基の数は３であり、上記したポリマーのアクリロニトリル（ＡＣＮ）の重合比率は１モル％で、数平均分子量は１８０００〜２００００である。
【００９１】
［比較例１］
下記の組成に調製した樹脂組成物ａを用いたこと以外は、実施例１と同様にして比較例１のガスバリア性フィルムを製造した。樹脂組成物ａは、モノマーの種類及び配合量を変更し、ポリマーを含まないこと以外は、樹脂組成物Ａと同様のものである。
【００９２】
（樹脂組成物ａの組成）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（モノマー、東亞合成株式会社製、商品名：Ｍ−４０３）：１５．４質量部
・メチルエチルケトン：３２質量部
・トルエン：３２質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：０．６質量部
・なお、上記したモノマーのアクリロイル基の数は６である。
【００９３】
［比較例２］
下記の組成に調製した樹脂組成物ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして比較例２のガスバリア性フィルムを製造した。樹脂組成物ｂは、モノマーの種類を変更したこと以外は、樹脂組成物ａと同様のものである。
【００９４】
（樹脂組成物ｂの組成）
・６官能型ウレタンアクリレート（モノマー、日本合成化学工業株式会社製、商品名：ＵＶ−７６００Ｂ）：１５．４質量部
・メチルエチルケトン：３２質量部
・トルエン：３２質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：０．６質量部
・なお、上記したモノマーのアクリロイル基の数は６である。
【００９５】
［比較例３］
下記の組成に調製した樹脂組成物ｃを用いたこと以外は、実施例１と同様にして比較例３のガスバリア性フィルムを製造した。樹脂組成物ｃは、モノマーの種類を変更したこと以外は、樹脂組成物ａと同様のものである。
【００９６】
（樹脂組成物ｃの組成）
・２官能型ウレタンアクリレート（モノマー、日本合成化学工業株式会社製、商品名：ＵＶ−３０００Ｂ）：１５．４質量部
・メチルエチルケトン：３２質量部
・トルエン：３２質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：０．６質量部
・なお、上記したモノマーのアクリロイル基の数は２である。
【００９７】
［比較例４］
下記の組成に調製した樹脂組成物ｄを用いたこと以外は、実施例１と同様にして比較例４のガスバリア性フィルムを製造した。樹脂組成物ｄは、ポリマーの種類及び含有量を変更し、モノマーを含まないこと以外は、樹脂組成物Ａと同様のものである。
【００９８】
（樹脂組成物ｄの組成）
・ポリメタクリル酸メチル（ポリマー、シグマアルドリッチジャパン株式会社製）：１５．４質量部
・メチルエチルケトン：３２質量部
・トルエン：３２質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：０．６質量部
・なお、上記したポリマーのアクリロニトリル（ＡＣＮ）の重合比率は０モル％であり、数平均分子量は１２０００〜２４０００である。
【００９９】
［比較例５］
下記の組成に調製した樹脂組成物ｅを用いたこと以外は、実施例１と同様にして比較例５のガスバリア性フィルムを製造した。樹脂組成物ｅは、モノマーの種類を変更したこと以外は、樹脂組成物Ｃと同様のものである。
【０１００】
（樹脂組成物ｅの組成）
・２官能型ウレタンアクリレート（モノマー、日本合成化学工業株式会社製、商品名：ＵＶ−３０００Ｂ：７．７質量部
・スチレン−アクリロニトリル共重合体（ポリマー）：７．７質量部
・メチルエチルケトン：３２質量部
・トルエン：３２質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：０．６質量部
・なお、上記したモノマーのアクリロイル基の数は２であり、上記したポリマーのアクリロニトリル（ＡＣＮ）の重合比率は１モル％で、数平均分子量は１８０００〜２００００である。
【０１０１】
［参考例１］
下記の組成に調製した樹脂組成物ｆを用いたこと以外は、実施例１と同様にして参考例１のガスバリア性フィルムを製造した。樹脂組成物ｆは、ポリマーの種類を変更したこと以外は、樹脂組成物Ｂと同様のものである。
【０１０２】
（樹脂組成物ｆの組成）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（モノマー、日本化薬株式会社製、商品名：ＰＥＴ−３０）：７．７質量部
・スチレン−アクリロニトリル共重合体（ポリマー、和光純薬工業株式会社製）：７．７質量部
・メチルエチルケトン：３２質量部
・トルエン：３２質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：０．６質量部
・なお、上記したモノマーのアクリロイル基の数は３であり、上記したポリマーのアクリロニトリル（ＡＣＮ）の重合比率は２５モル％で、数平均分子量は１８０００〜２００００である。
【０１０３】
実施例１〜５、比較例１〜５及び参考例１の樹脂組成物の組成を表１に示す。なお、モノマー原料とポリマー原料のそれぞれの配合量は、モノマー原料とポリマー原料との合計量に対する配合量を表している。
【０１０４】
【表１】
0005870834.tif 000003
【０１０５】
［評価と結果］
実施例１〜５、比較例１〜５及び参考例１のガスバリア性フィルムについて、（ア）製造直後（初期）の水蒸気透過率の測定、（イ）製造直後（初期）の密着性試験、（ウ）耐湿熱試験後の水蒸気透過率の測定、及び（エ）耐湿熱試験後の密着性試験を行った。
【０１０６】
水蒸気透過率の測定は、温度４０℃、湿度１００％ＲＨの雰囲気下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、商品名：ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１）を用いて行った。
【０１０７】
耐湿熱試験は、不飽和型プレッシャークッカー装置（平山製作所株式会社製、商品名：ＰＣ−４２２Ｒ７）を用いて温度：１２０℃、湿度：８５％ＲＨに調節された雰囲気下に、ガスバリア性フィルムを４８時間保持することによって行った。
【０１０８】
密着性試験は、碁盤目試験により行った。碁盤目試験は、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９）「塗料一般試験方法−第５部：塗膜の機械的性質−第６節：付着性（クロスカット法）」の記載に準拠して行った。具体的には、無機層を貫通してポリエステル基材に達する切れ目を１ｍｍ間隔で縦横に１１本入れて１００個の碁盤目を作り、この碁盤目上にセロテープ（ニチバン株式会社の登録商標、商品名）を貼り付けた後、これを速やかに６０°の方向に引っ張って剥離させ、目視により観察して剥離の有無を確認した。結果の表記方法としては、１００個の碁盤目の剥がれが全くない場合を０／１００と表記し、１０個が剥がれた場合を１０／１００と表記し、１００個の碁盤目のすべてが剥がれた場合を１００／１００と表記した。
【０１０９】
結果を表２に示す。
【０１１０】
【表２】
0005870834.tif 000004
【０１１１】
表１から、実施例１〜５のガスバリア性フィルムは、耐湿熱試験後であっても、高い水蒸気透過率を維持できた。また、実施例１〜３及び５のガスバリア性フィルムは、密着性試験によって有機層と無機層との間に剥離が生じず、実施例４のガスバリア性フィルムは、生じた剥離は１００個中５個のみであり、実用上問題ないことがわかった。
【０１１２】
参考例１のガスバリア性フィルムは、耐湿熱試験後の水蒸気透過率と密着性試験の結果が、実施例１〜５のガスバリア性フィルムに比べてやや劣るものであったが、用途によっては実用上問題なく使用できるものであった。
【０１１３】
比較例１及び２のガスバリア性フィルムは、初期の水蒸気透過率及び密着性は良好であったが、耐湿熱試験後、水蒸気透過率及び密着性が共に悪化した。比較例３のガスバリア性フィルムは、初期の水蒸気透過率が高く、ガスバリア性が不十分であった。比較例４及び５のガスバリア性フィルムは、耐湿熱試験後も密着性は良好であったが、初期の水蒸気透過率が高く、ガスバリア性が不十分であった。
【符号の説明】
【０１１４】
１  ポリエステル基材
２，２’  有機層
３，３’  無機層
４  第１の有機層
５  第２の有機層
１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ  ガスバリア性フィルム
Ｓ１  ポリエステル基材の片面
Ｓ２  ポリエステル基材の他の面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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