(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性化合物と、光重合開始剤と、ルチル型酸化チタンと、を含む紫外線硬化型インクジェット用インク組成物であって、
被記録媒体として、シリコン、ゲルマニウム、セレンのいずれかの材質からなる半導体基材、又は半導体チップを封入した保護基材であり、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂の少なくとも何れかの材質からなる封止剤を用いたパッケージ基材に記録するために用いられ、
動的光散乱法による前記ルチル型酸化チタンのメジアン径が２００ｎｍ以上２６０ｎｍ以下であり、
該インク組成物の総質量に対し、前記ルチル型酸化チタンの含有量が１２〜１８質量％であり、
前記重合性化合物はＮ−ビニルカプロラクタムを含み、
該インク組成物の総質量に対して、前記Ｎ−ビニルカプロラクタムの含有量が５〜２５質量％である、
紫外線硬化型インクジェット用インク組成物。
【請求項２】
重合性化合物として２官能以上の（メタ）アクリレートを含有する、請求項１に記載の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物。
【請求項３】
前記光重合開始剤はアシルホスフィンオキサイド化合物を含み、
該インク組成物の総質量に対して、前記アシルホスフィンオキサイド化合物の含有量が７〜１５質量％である、請求項１又は２に記載の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物。
【請求項４】
３６５〜４２０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2以下の照射エネルギーで照射することにより硬化可能な、請求項１〜３のいずれか１項に記載の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物。
【請求項５】
被記録媒体としての前記半導体基材、又は前記パッケージ基材と、該パッケージ基材又は該半導体基材に記録された請求項１〜４のいずれか１項に記載の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物の硬化物と、を備える、記録物。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物を被記録媒体としての前記半導体基材、又は前記パッケージ基材に吐出する吐出工程と、
吐出された該インク組成物に、３６５〜４２０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2以下の照射エネルギーで照射して、該インク組成物を硬化する硬化工程と、を含む、インクジェット記録方法。
【請求項７】
紫外線源として紫外線発光ダイオードを用いる、請求項６に記載のインクジェット記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線硬化型インクジェット用インク組成物、記録物、及びインクジェット記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、被記録媒体に、画像データ信号に基づき画像を形成する記録方法として、種々の方式が利用されてきた。このうち、インクジェット方式は、安価な装置で、必要とされる画像部のみにインクを吐出し被記録媒体上に直接画像形成を行うため、インクを効率良く使用でき、ランニングコストが安い。
【０００３】
近年、耐水性、耐溶剤性、及び耐擦過性などの良好な画像を被記録媒体の表面に形成するため、インクジェット方式の記録方法において、紫外線を照射すると硬化する紫外線硬化型インクジェット用インク組成物が使用されている。
【０００４】
一方で、近年、半導体チップ（集積回路（ＩＣ）チップ）等をパッケージしてなる電子部品（ＩＣパッケージ）が様々な機器に使用されており、そのような電子部品には文字、記号、ロゴマーク等を印刷するマーキングを施すのが通常である。そのため、電子部品に適したマーキングを施す印刷技術が求められている。
【０００５】
例えば、特許文献１には、電子部品に対しインクジェット方式で付着させたインクに紫外線を照射して、当該電子部品上にインクを定着させるというマーキング方法が開示されている。特許文献２には、ベアチップを多数個取りする基板の周縁部の捨て基板部に、インクジェット方式でロット番号等を印字するというマーキング方法が開示されている。
【０００６】
また、例えば、特許文献３には、二酸化チタンを含むインクが最大インク膜厚１０〜３０μｍで硬化するように、照射される紫外線の積算光量及び照度を特定範囲にした、プリント配線板製造におけるインクジェット記録方法が開示されている。特許文献４には、インクジェットプリンターから、着色剤、光重合開始剤、及びエポキシ試薬を含有する紫外線硬化性インクをプリント回路基板上に噴射してマーキングを提供する工程と、当該マーキングを少なくとも２秒間後に紫外線に暴露する工程と、を含む、インクジェット印刷方法が開示されている。
【０００７】
また、例えば、特許文献５には、ＩＣパッケージ上にコーティングを行い、その上にマーキングを施したモールドＩＣパッケージが開示されている。特許文献６には、複数のＩＣチップを有するウエハーのうち、不良ＩＣチップの箇所のみにマーキングする方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−２７４３３５号公報
【特許文献２】特開２０００−３３２３７６号公報
【特許文献３】特開２００６−２１４７９号公報
【特許文献４】特表２００７−５２７４５９号公報
【特許文献５】実用新案登録第２５３９８３９号明細書
【特許文献６】特開２００３−２７３１７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１〜６に開示された技術はいずれも、インクの硬化性、硬化したインクにおける耐擦性、及び記録された画像の視認性のうち少なくともいずれか一つに劣るか又は改善の余地がある。そのため、従来のマーキング方法は、精密な電子部品に適用し難いという問題が生じる。
【００１０】
そこで、本発明は、硬化性、耐擦性、及び視認性に優れた紫外線硬化型インクジェット用インク組成物、並びにこれを用いた記録物及びインクジェット記録方法を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した。その結果、重合性化合物と、光重合開始剤と、メジアン径及び含有量が所定範囲である酸化チタンと、を含み、被記録媒体としてのパッケージ基材又は半導体基材に記録するために用いられる紫外線硬化型インクジェット用インク組成物により、上記問題点を解決できることを見出し、本発明を完成した。
【００１２】
すなわち、本発明は下記のとおりである。
［１］
重合性化合物と、光重合開始剤と、酸化チタンと、を含む紫外線硬化型インクジェット用インク組成物であって、被記録媒体としてのパッケージ基材又は半導体基材に記録するために用いられ、動的光散乱法による前記酸化チタンのメジアン径が２６０ｎｍ以下であり、かつ、該インク組成物の総質量に対し、前記酸化チタンの含有量が１２〜１８質量％である、紫外線硬化型インクジェット用インク組成物。
［２］
前記重合性化合物はＮ−ビニルカプロラクタムを含み、該インク組成物の総質量に対して、前記Ｎ−ビニルカプロラクタムの含有量が５〜２５質量％である、［１］に記載の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物。
［３］
前記光重合開始剤はアシルホスフィンオキサイド化合物を含み、該インク組成物の総質量に対して、前記アシルホスフィンオキサイド化合物の含有量が７〜１５質量％である、［１］又は［２］に記載の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物。
［４］
３６５〜４２０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2以下の照射エネルギーで照射することにより硬化可能な、［１］〜［３］のいずれかに記載の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物。
［５］
被記録媒体としてのパッケージ基材又は半導体基材と、該パッケージ基材又は該半導体基材に記録された［１］〜［４］のいずれかに記載の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物の硬化物と、を備える、記録物。
［６］
［１］〜［４］のいずれかに記載の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物を被記録媒体上に吐出する吐出工程と、吐出された該インク組成物に、３６５〜４２０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2以下の照射エネルギーで照射して、該インク組成物を硬化する硬化工程と、を含む、インクジェット記録方法。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に制限されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００１４】
本明細書において、「パッケージ基材」とは、半導体チップ等を封入する保護基材を意味する。「半導体基材」とは、半導体チップ等であって直接基材にもなるウエハーを含む意味である。以下では、パッケージ基材又は半導体基材を「パッケージ基材等」ともいう。また、「記録物」とは、パッケージ基材又は半導体基材上にインクが記録されて硬化物が形成されたものをいう。なお、本明細書における硬化物は、硬化膜や塗膜を含む、硬化された物質を意味する。
【００１５】
本明細書において、「硬化性」とは、光に感応して硬化する性質をいう。「耐擦性」とは、硬化物を引っ掻いた時に、硬化物がパッケージ基材等から剥がれにくい性質をいう。「視認性」とは、任意の画像（文字を含む。）を人の目で認識可能な性質をいう。「保存安定性」とは、保存前後における粘度が変化しにくい性質をいう。
【００１６】
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びそれに対応するメタクリレートのうち少なくともいずれかを意味し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びそれに対応するメタクリルのうち少なくともいずれかを意味する。
【００１７】
［紫外線硬化型インクジェット用インク組成物］
本発明の一実施形態は、紫外線硬化型インクジェット用インク組成物に係る。当該インク組成物は、重合性化合物と、光重合開始剤と、酸化チタンと、を含む。また、動的光散乱法による上記酸化チタンのメジアン径が２６０ｎｍ以下であり、かつ、上記酸化チタンは、当該インク組成物の総質量に対して１２〜１８質量％含まれるものである。さらに、上記インク組成物は、被記録媒体としてのパッケージ基材又は半導体基材に記録するという用途に適するという特徴を有する。
以下、本実施形態のインク組成物に含まれるか、又は含まれ得る添加剤（成分）を説明する。
【００１８】
〔重合性化合物〕
本実施形態のインク組成物は、重合性化合物を含有する。この重合性化合物は、後述する光重合開始剤の作用により光照射時に重合されて、印刷されたインクを硬化させることができる。
【００１９】
（Ｎ−ビニルカプロラクタム）
本実施形態における重合性化合物は、Ｎ−ビニルカプロラクタムを含有することが好ましい。インク組成物が重合性化合物としてＮ−ビニルカプロラクタムを含有することにより、インクの硬化性、硬化したインクにおける耐擦性、及び記録された画像の視認性を良好なものとすることができる。
【００２０】
Ｎ−ビニルカプロラクタムの含有量は、インク組成物の総質量（１００質量％）に対し、５〜２５質量％であることがより好ましく、８〜２０質量％であることがより好ましい。Ｎ−ビニルカプロラクタムの含有量が上記範囲内であると、インクの硬化性、硬化したインクにおける耐擦性、及び記録された画像の視認性に優れたものとなる上、さらにインクの保存安定性も優れたものとすることができる。
【００２１】
（分子中にビニル基及び（メタ）アクリル基を共に有する化合物）
本実施形態のインク組成物は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物（以下、「モノマーＡ」という。）を含んでもよい。
ＣＨ2＝ＣＲ1−ＣＯＯＲ2−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ3  ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基であり、Ｒ2は炭素数２〜２０の２価の有機残基であり、Ｒ3は水素原子又は炭素数１〜１１の１価の有機残基である。）
【００２２】
上記モノマーＡは、分子中にビニル基及び（メタ）アクリル基を共に有する化合物であり、ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類と換言することができる。
インク組成物がモノマーＡを含有することにより、インクの硬化性などを良好なものとすることができる。
【００２３】
上記の一般式（Ｉ）において、Ｒ2で表される２価の有機残基としては、炭素数２〜２０の直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、構造中にエーテル結合及びエステル結合の少なくとも一方による酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基、炭素数６〜１１の置換されていてもよい２価の芳香族基が好適である。これらの中でも、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、及びブチレン基などの炭素数２〜６のアルキレン基、オキシエチレン基、オキシｎ−プロピレン基、オキシイソプロピレン基、及びオキシブチレン基などの構造中にエーテル結合による酸素原子を有する炭素数２〜９のアルキレン基が好適に用いられる。
【００２４】
上記の一般式（Ｉ）において、Ｒ3で表される炭素数１〜１１の１価の有機残基としては、炭素数１〜１０の直鎖状、分枝状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１１の置換されていてもよい芳香族基が好適である。これらの中でも、メチル基又はエチル基である炭素数１〜２のアルキル基、フェニル基及びベンジル基などの炭素数６〜８の芳香族基が好適に用いられる。
【００２５】
上記の有機残基が置換されていてもよい基である場合、その置換基は、炭素原子を含む基及び炭素原子を含まない基に分けられる。まず、上記置換基が炭素原子を含む基である場合、当該炭素原子は有機残基の炭素数にカウントされる。炭素原子を含む基として、以下に限定されないが、例えばカルボキシル基、アルコキシ基が挙げられる。次に、炭素原子を含まない基として、以下に限定されないが、例えば水酸基、ハロ基が挙げられる。
【００２６】
上記の一般式（Ｉ）で表されるモノマーＡの具体例としては、以下に限定されないが、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−ビニロキシメチルプロピル、（メタ）アクリル酸２−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１，１−ジメチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ｐ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｍ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｏ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロペノキシエトキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、及び（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコールモノビニルエーテルが挙げられる。
【００２７】
上記したものの中でも、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸５−ビニロキシペンチル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ｐ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシ）エチルが好ましい。
【００２８】
これらの中でも、低粘度で、引火点が高く、かつ、硬化性に優れるため、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルが好ましく、さらに、臭気が低く、皮膚への刺激を抑えることができ、かつ、反応性に優れるため、アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルがより好ましい。
【００２９】
（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルとしては、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル及び（メタ）アクリル酸２−（１−ビニロキシエトキシ）エチルが挙げられ、アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルとしては、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル及びアクリル酸２−（１−ビニロキシエトキシ）エチルが挙げられる。
【００３０】
モノマーＡは、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
モノマーＡの含有量は、インク組成物の総質量（１００質量％）に対し、２０〜５０質量％であることが好ましい。モノマーＡの含有量が上記範囲内であると、硬化したインクにおける耐擦性などを良好なものとすることができる。
【００３２】
上記一般式（Ｉ）で表されるモノマーＡの製造方法としては、以下に限定されないが、（メタ）アクリル酸と水酸基含有ビニルエーテル類とをエステル化する方法（製法Ｂ）、（メタ）アクリル酸ハロゲン化物と水酸基含有ビニルエーテル類とをエステル化する方法（製法Ｃ）、（メタ）アクリル酸無水物と水酸基含有ビニルエーテル類とをエステル化する方法（製法Ｄ）、（メタ）アクリル酸エステル類と水酸基含有ビニルエーテル類とをエステル交換する方法（製法Ｅ）、（メタ）アクリル酸とハロゲン含有ビニルエーテル類とをエステル化する方法（製法Ｆ）、（メタ）アクリル酸アルカリ（土類）金属塩とハロゲン含有ビニルエーテル類とをエステル化する方法（製法Ｇ）、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル類とカルボン酸ビニルとをビニル交換する方法（製法Ｈ）、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル類とアルキルビニルエーテル類とをエーテル交換する方法（製法Ｉ）が挙げられる。
これらの中でも、本実施形態に所望の効果を一層発揮することができるため、製法Ｅが好ましい。
【００３３】
（上記以外の重合性化合物）
上記以外の重合性化合物（以下、「その他の重合性化合物」という。）としては、従来公知の、単官能、２官能、及び３官能以上の多官能といった種々のモノマー及びオリゴマーが使用可能である。上記モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸及びマレイン酸等の不飽和カルボン酸やそれらの塩又はエステル、ウレタン、アミド及びその無水物、アクリロニトリル、スチレン、種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、並びに不飽和ウレタンが挙げられる。また、上記オリゴマーとしては、例えば、直鎖アクリルオリゴマー等の上記のモノマーから形成されるオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレート、オキセタン（メタ）アクリレート、脂肪族ウレタン（メタ）アクリレート、芳香族ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３４】
また、他の単官能モノマーや多官能モノマーとして、Ｎ−ビニルカプロラクタム以外のＮ−ビニル化合物を含んでいてもよい。そのようなＮ−ビニル化合物として、例えば、Ｎ−ビニルフォルムアミド、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、及びアクリロイルモルホリン、並びにそれらの誘導体が挙げられる。
【００３５】
その他の重合性化合物のうち、（メタ）アクリル酸のエステル、即ち（メタ）アクリレートが好ましく、２官能以上である多官能の（メタ）アクリレートがより好ましく、多官能のアクリレートがさらに好ましい。
【００３６】
上記（メタ）アクリレートのうち、単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、イソアミル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル−ジグリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ラクトン変性可とう性（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、及びジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
これらの中でも、粘度及び臭気を低減させるため、フェノキシエチル（メタ）アクリレート及びイソボルニル（メタ）アクリレートのうち少なくとも一方が好ましく、フェノキシエチル（メタ）アクリレートがより好ましく、フェノキシエチルアクリレートがさらに好ましい。
【００３７】
上記（メタ）アクリレートのうち、多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、及びポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の２官能（メタ）アクリレート、並びに、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、カウプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、及びペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール骨格を有する（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクタム変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール骨格を有する（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、及びトリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート等のトリペンタエリスリトール骨格を有する（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、及びテトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等のテトラペンタエリスリトール骨格を有する（メタ）アクリレート、ペンタペンタエリスリトールウンデカ（メタ）アクリレート及びペンタペンタエリスリトールドデカ（メタ）アクリレート等のペンタペンタエリスリトール骨格を有する（メタ）アクリレート、並びにこれらのエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物及びプロピレンオキサイド（ＰＯ）付加物のうち少なくともいずれか等、３官能以上の（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３８】
これらの中でも、ペンタエリスリトール骨格を有する多官能（メタ）アクリレートが好ましく、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートのうち少なくともいずれかがより好ましく、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートのうち少なくともいずれかがさらに好ましく、ペンタエリスリトールトリアクリレートが特に好ましい。上記の場合、硬化したインクにおける耐擦性を一層良好なものとすることができる。
【００３９】
上記その他の重合性化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４０】
〔光重合開始剤〕
本実施形態のインク組成物は、光重合開始剤を含有する。光重合開始剤は、安全性に優れ、且つ光源にかかるコストを抑えることができるため、紫外線の照射による光重合によって、被記録媒体の表面に存在するインクを硬化させて画像を形成するために用いられる。光重合開始剤としては、光のエネルギーによって、ラジカルやカチオンなどの活性種を生成し、上記重合性化合物の重合を開始させるものであれば、制限はないが、光ラジカル重合開始剤や光カチオン重合開始剤を使用することができ、中でも光ラジカル重合開始剤を使用することが好ましい。
【００４１】
本実施形態のインク組成物は、硬化性を良好なものとすることができるため、上記光ラジカル重合開始剤としてアシルホスフィンオキサイド化合物（以下、「アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう。）を含むことが好ましい。
上記アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤は、後述の紫外線照射による硬化に好適であるという有利な効果を発揮する。アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤は、他の種類の光重合開始剤に比べて、硬化時に照射される紫外線の発光ピーク波長における光開裂効率が高い。そのため、未反応で残存する光重合開始剤の量を抑えることができる。したがって、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤を用いるとインク塗膜の膜特性に優れることとなる。
【００４２】
アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤としては、以下に限定されないが、例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、及びビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイドが挙げられる。
【００４３】
アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤の市販品としては、例えば、ＤＡＲＯＣＵＲ  ＴＰＯ（２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド）が挙げられる。
【００４４】
また、本実施形態のインク組成物に含まれる光重合開始剤は、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤からなることが好ましいが、これ以外の光重合開始剤を含んでもよい。
【００４５】
光ラジカル重合開始剤のうちアシルホスフィンオキサイド化合物以外のものとしては、例えば、芳香族ケトン類、芳香族オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物（チオキサントン化合物、チオフェニル基含有化合物など）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、及びアルキルアミン化合物が挙げられる。
【００４６】
これらの中でも、アシルホスフィンオキサイド化合物との併用によってインクの硬化性を一層良好なものとするため、チオキサントン化合物が好ましい。
【００４７】
アシルホスフィンオキサイド化合物以外の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、４，４'−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、及び２，４−ジエチルチオキサントンが挙げられる。
【００４８】
アシルホスフィンオキサイド化合物以外の光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４（１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）、ＤＡＲＯＣＵＲ  １１７３（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９（１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７（２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル]−２−メチル−プロパン−１−オン｝、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７（２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３６９（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３７９（２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ７８４（ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１（１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０２（エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム））、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ７５４（オキシフェニル酢酸、２−[２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ]エチルエステルとオキシフェニル酢酸、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物）（以上、BASF社製）、Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＴＰＯ（Lambson社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ（２，４−ジエチルチオキサントン）（日本化薬社（Nippon Kayaku Co., Ltd.）製）、Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ、ＬＲ８８９３、ＬＲ８９７０（以上、BASF社製）、及びユベクリルＰ３６（UCB社製）が挙げられる。
【００４９】
光重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５０】
光重合開始剤の含有量は、インク組成物の総質量（１００質量％）に対し、７〜１５質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることがより好ましい。含有量が上記範囲内であると、インクの硬化性（紫外線硬化速度）、硬化したインクにおける耐擦性、及び記録された画像の視認性に優れたものとすることができ、かつ、光重合開始剤の溶け残りや光重合開始剤に由来する着色を避けることができる。
【００５１】
〔酸化チタン〕
本実施形態のインク組成物は、白色顔料として酸化チタンを含有する。これにより、良好な視認性（明度）が得られる。
【００５２】
上記酸化チタンとしては、白色顔料として一般的なルチル型の酸化チタンが好ましい。このルチル型の酸化チタンは、自ら製造したものであってもよく、市販されているものであってもよい。ルチル型の酸化チタン（粉末状）を自ら製造する場合の工業的製造方法として、従来公知の硫酸法及び塩素法が挙げられる。
【００５３】
ルチル型の酸化チタンの市販品としては、例えば、Ｔｉｐａｑｕｅ（登録商標）  ＣＲ−６０−２、ＣＲ−６７、Ｒ−９８０、Ｒ−７８０、Ｒ−８５０、Ｒ−９８０、Ｒ−６３０、Ｒ−６７０、ＰＦ−７３６等のルチル型（以上、石原産業社（ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD.）製商品名）が挙げられる。
【００５４】
酸化チタンのメジアン径は、２６０ｎｍ以下であり、２００〜２６０ｎｍが好ましく、２１０〜２６０ｎｍがより好ましい。メジアン径が上記の範囲内にあると、インクの硬化性及び硬化したインクにおける耐擦性に優れ、また、記録された画像の視認性を優れたものとすることも可能であるので、高画質の画像を形成することができる。なお、本明細書における「酸化チタンのメジアン径」は、インク組成物を調製する前における酸化チタンのメジアン径でなく、インク組成物中に存在する酸化チタンのメジアン径を意味する。
【００５５】
ここで、本明細書において、メジアン径とは、動的光散乱法による球換算５０％平均粒径（ｄ５０）を意味し、以下のようにして得られる値である。
【００５６】
分散媒中の粒子に光を照射し、この分散媒の前方・側方・後方に配置された検出器によって、発生する回折散乱光を測定する。得られた測定値を利用して、本来は不定形である粒子を、球形であると仮定し、当該粒子の体積と等しい球に換算された粒子集団の全体積を１００％として累積カーブを求め、その際の累積値が５０％となる点を、「動的光散乱法による球換算５０％平均粒径（ｄ５０）」とする。
【００５７】
なお、本明細書において、この動的光散乱法によるメジアン径の測定に用いる測定機及び測定用希釈溶剤は、後記実施例で用いたものとする。
【００５８】
酸化チタンの含有量は、特に硬化性に優れる上、（特に黒地基材上での）隠蔽性及び色再現性にも優れるため、インク組成物の総質量（１００質量％）に対し、１２〜１８質量％であり、１４〜１６質量％であることが好ましい。
【００５９】
〔分散剤〕
本実施形態のインク組成物が顔料を含む場合、顔料分散性をより良好なものとするため、分散剤をさらに含んでもよい。分散剤として、特に限定されないが、例えば、高分子分散剤などの顔料分散液を調製するのに慣用されている分散剤が挙げられる。その具体例として、ポリオキシアルキレンポリアルキレンポリアミン、ビニル系ポリマー及びコポリマー、アクリル系ポリマー及びコポリマー、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、アミノ系ポリマー、含珪素ポリマー、含硫黄ポリマー、含フッ素ポリマー、及びエポキシ樹脂のうち一種以上を主成分とするものが挙げられる。高分子分散剤の市販品として、味の素ファインテクノ社製のアジスパーシリーズ、ノベオン（Noveon）社から入手可能なソルスパーズシリーズ（Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ  ３６０００等）、ＢＹＫ社製のディスパービックシリーズ、楠本化成社製のディスパロンシリーズが挙げられる。
【００６０】
〔重合禁止剤〕
本実施形態のインク組成物は、硬化前における重合性化合物の重合反応を抑えるため、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤として、以下に限定されないが、例えば、ｐ−メトキシフェノール、クレゾール、ｔ−ブチルカテコール、ジ−ｔ−ブチルパラクレゾール、ヒドロキノンモノメチルエーテル、α−ナフトール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ブチルフェノール）、及び４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等のフェノール化合物、ｐ−ベンゾキノン、アントラキノン、ナフトキノン、フェナンスラキノン、ｐ−キシロキノン、ｐ−トルキノン、２，６−ジクロロキノン、２，５−ジフェニル−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジアセトキシ−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジカプロキシ−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジアシロキシ−ｐ−ベンゾキノン、ヒドロキノン、２，５−ジーブチルヒドロキノン、モノ−ｔ−ブチルヒドロキノン、モノメチルヒドロキノン、及び２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン等のキノン化合物、フェニル−β−ナフチルアミン、ｐ−ベンジルアミノフェノール、ジ−β−ナフチルパラフェニレンジアミン、ジベンジルヒドロキシルアミン、フェニルヒドロキシルアミン、及びジエチルヒドロキシルアミン等のアミン化合物、ジニトロベンゼン、トリニトロトルエン、及びピクリン酸などのニトロ化合物、キノンジオキシム及びシクロヘキサノンオキシム等のオキシム化合物、フェノチアジン等の硫黄化合物が挙げられる。
【００６１】
〔界面活性剤〕
本実施形態のインク組成物は、硬化したインクにおける耐擦性を良好にすることができるため、界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、シリコーン系界面活性剤として、ポリエステル変性シリコーンやポリエーテル変性シリコーンを用いることができ、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン又はポリエステル変性ポリジメチルシロキサンを用いることが特に好ましい。具体例としては、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、３５１０、３５３０、３５７０（以上、BYK社製商品名）を挙げることができる。
【００６２】
〔その他の添加剤〕
本実施形態のインク組成物は、上記に挙げた添加剤以外の添加剤（成分）を含んでもよい。このような成分としては、特に制限されないが、例えば従来公知の、重合促進剤、浸透促進剤、及び湿潤剤（保湿剤）、並びにその他の添加剤があり得る。上記のその他の添加剤として、例えば従来公知の、定着剤、防黴剤、防腐剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、キレート剤、ｐＨ調整剤、及び増粘剤が挙げられる。
【００６３】
また、本実施形態のインク組成物は、好ましくは３６５〜４２０ｎｍの範囲、より好ましくは３６５〜３９５ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する紫外線を照射することにより硬化可能である。また、５００ｍＪ／ｃｍ2以下の紫外線の照射エネルギーで硬化するインク組成物が好ましく、８００ｍＪ／ｃｍ2以下の紫外線の照射エネルギーで硬化するインク組成物がより好ましい。このようなインク組成物を用いることにより、低コストで画像を形成することができる。
【００６４】
［被記録媒体］
本実施形態の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物は、後述するインクジェット記録方法を利用して、被記録媒体上に吐出されること等により、記録物が得られる。この被記録媒体としては、パッケージ基材又は半導体基材が好ましい。すなわち、上記インク組成物は、被記録媒体としてのパッケージ基材等に記録するという用途に適している。なぜなら、パッケージ基材等にマーキングする際に用いられるインクには、優れた硬化性、耐擦性、及び視認性が求められるからである。
【００６５】
なお、上記で定義したように、パッケージ基材は、半導体チップ等を封入する保護基材を意味し、半導体基材は、半導体チップ等であって直接基材にもなるウエハーも含む意味である。そして、上記の半導体チップ等を封入して製造されたものが電子部品（ＩＣパッケージ）となる。この電子部品を一以上集積して構成されたものが電子機器となる。
【００６６】
パッケージ基材の規格としては、例えば、ＰＧＡ（Ｐｉｎ  Ｇｒｉｄ  Ａｒｒａｙ）、ＤＩＰ（Ｄｕａｌ  Ｉｎｌｉｎｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＳＩＰ（Ｓｉｎｇｌｅ  Ｉｎｌｉｎｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＺＩＰ（Ｚｉｇｚａｇ  Ｉｎｌｉｎｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＤＯ（Ｄｉｏｄｅ  Ｏｕｔｌｉｎｅ）パッケージ、及びＴＯ（Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ  Ｏｕｔｌｉｎｅ）パッケージ等の挿入形パッケージ、並びにＰ−ＢＧＡ（Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｂａｌｌ  ｇｒｉｄ  ａｒｒａｙ）、Ｔ−ＢＧＡ（Ｔａｐｅ  Ｂａｌｌ  ｇｒｉｄ  ａｒｒａｙ）、Ｆ−ＢＧＡ（Ｆｉｎｅ  Ｐｉｔｃｈ  Ｂａｌｌ  ｇｒｉｄ  ａｒｒａｙ）、ＳＯＪ（Ｓｍａｌｌ  Ｏｕｔｌｉｎｅ  Ｊ−ｌｅａｄｅｄ）、ＴＳＯＰ（Ｔｈｉｎ  Ｓｍａｌｌ  Ｏｕｔｌｉｎｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＳＯＮ（Ｓｍａｌｌ  Ｏｕｔｌｉｎｅ  Ｎｏｎ−ｌｅａｄ）、ＱＦＰ（Ｑｕａｄ  Ｆｌａｔ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＣＦＰ（Ｃｅｒａｍｉｃ  Ｆｌａｔ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＳＯＴ（Ｓｍａｌｌ  Ｏｕｔｌｉｎｅ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、ＰＬＣＣ（Ｐｌａｓｔｉｃ  ｌｅａｄｅｄ  ｃｈｉｐ  ｃａｒｒｉｅｒ）、ＬＧＡ（Ｌａｎｄ  ｇｒｉｄ  ａｒｒａｙ）、ＬＬＣＣ（Ｌｅａｄ  ｌｅｓｓ  ｃｈｉｐ  ｃａｒｒｉｅｒ）、ＴＣＰ（Ｔａｐｅ  ｃａｒｒｉｅｒ  ｐａｃｋａｇｅ）、ＬＬＰ（Ｌｅａｄｌｅｓｓ  Ｌｅａｄｆｒａｍｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）、及びＤＦＮ（Ｄｕａｌ  Ｆｌａｔｐａｃｋ  Ｎｏｎ−ｌｅａｄ）等の表面実装形パッケージが挙げられる。
【００６７】
パッケージ基材の市販品として、例えば、東芝セミコンダクター社（Toshiba Semi-Conductor Co., Ltd.）製の汎用ロジックＩＣパッケージ（ＳＯＰ１４−Ｐ−３００−１．２７Ａ）、ルネサスエレクトロニクス社（Renesas Electronics Corporation）製の表面実装型パッケージ（ＵＰＡ２３５０Ｂ１Ｇ）、シャープ社（Sharp Corporation）製の面実装型パッケージ（Ｐ−ＬＦＢＧＡ０４８−０６０６）、及びローム社（ROHM Co., Ltd.）製のシリアルＥＥＰＲＯＭ（ＢＲ２４Ｌ０１Ａ）が挙げられる。
【００６８】
パッケージ基材の材質としては、電子部品本体へのインクの浸透を防ぐため、非吸収性材質が挙げられる。この非吸収性材質の具体例としては、以下に限定されないが、金、銀、銅、アルミニウム、鉄−ニッケル系合金、ステンレス、及び真鋳などの金属、並びに半導体（例えばシリコン）、炭化物、窒化物（例えば窒化珪素）、及びホウ化物などの無機物質、並びにシリコン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド、及びポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）等の有機物質が挙げられる。
【００６９】
中でも、インクとの密着性がより良好になるため、パッケージ基材としては、シリコン又はエポキシ樹脂がより好ましい。このように、シリコン又はエポキシ樹脂からなるパッケージ基材を電子部品の封止材として用いることで、パッケージ基材の外面に、上記実施形態のインク組成物を好適に記録（マーキング）することができる。
【００７０】
一方、半導体基材（ウエハー）の市販品として、例えば、信越化学工業社（Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.）製の３００ｍｍシリコンウエハー、ＳＵＭＣＯ社製のＳＯＩウエハー、及びコバレントマテリアル社（Covalent Materials Corporation）製のポリッシュトウエハーが挙げられる。
【００７１】
半導体基材の材質としては、例えばシリコン、ゲルマニウム、及びセレンが挙げられる。中でも、インクとの密着性に優れ、かつ、半導体材料として極めて安定しているため、シリコンが好ましい。
【００７２】
なお、上記電子機器として、例えば、ＵＳＢメモリ、メモリーカード、ＳＤメモリーカード、メモリースティック、スマートメディア、ｘＤピクチャーカード、及びコンパクトフラッシュ（登録商標）等のフラッシュメモリーカードが挙げられる。
【００７３】
ここで、パッケージ基材等へのマーキング方法を説明する。
【００７４】
まず、半導体基材としてウエハー上にマーキングする場合、ダイシング（ｄｉｃｉｎｇ）前のウエハー上にマーキングしてもよいし、あるいはウエハー上に回路を形成した後、チップ状にダイシングした半導体チップ上にマーキングしてもよい。後者の場合、ＩＣ（集積回路）が形成されたシリコンウエハーは、回路形成工程中、ウエハー表面に酸化ケイ素膜を形成するのが一般的である。酸化ケイ素膜を形成する方法として、例えば、厚さの制御に優れた方法の一つである高周波スパッタリング法が挙げられる。この方法を利用して、ターゲット材料である二酸化ケイ素をシリコンウエハー上にスパッタリングすることができる。
【００７５】
次に、パッケージ基材へマーキングする場合、半導体チップを封入後のパッケージ基材上にマーキングしてもよく、半導体チップの封入前のパッケージ基材上にマーキングしてもよい。
【００７６】
電子部品は、半導体チップのパッドとリードフレームとをボンディングし、チップ全体を封止剤と共にパッケージ基材に封入することにより作製する。当該封止剤として、以下に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、及びシリコン樹脂が挙げられる。このようにして作製された電子部品上（外面）にマーキングを行うことができる。
【００７７】
なお、当該インク組成物を非吸収性の被記録媒体に適用した場合、紫外線を照射し硬化させた後に乾燥工程を設けること等が必要となり得る。
【００７８】
このように、本実施形態によれば、インクの硬化性、硬化したインクにおける耐擦性、及び記録された画像の視認性に優れた紫外線硬化型インクジェット用インク組成物を提供することができる。
【００７９】
［記録物］
本発明の一実施形態は、記録物に係る。当該記録物は、上記実施形態のインク組成物が、被記録媒体としてのパッケージ基材等に記録されたものであり、パッケージ基材等と、そのパッケージ基材等に記録された上記インク組成物の硬化物とを備える。上記記録物は、インク組成物の硬化性に優れると共に、パッケージ基材等上に付着し硬化したインク組成物（硬化物）における耐擦性、及び記録された画像の視認性に優れるという特徴を有する。
【００８０】
［インクジェット記録方法］
本発明の一実施形態は、インクジェット記録方法に係る。当該インクジェット記録方法は、上記実施形態のインク組成物をパッケージ基材等（被記録媒体）上に吐出する吐出工程と、上記吐出工程により吐出されて付着したインク組成物に、所定範囲に発光ピーク波長を有する紫外線を照射して、当該インク組成物を硬化する硬化工程と、を含むものである。このようにして、パッケージ基材等上で硬化したインク組成物により硬化物が形成される。以下、上記の各工程を詳細に説明する。
【００８１】
〔吐出工程〕
上記吐出工程においては、従来公知のインクジェット記録装置を用いることができる。インク組成物の吐出の際は、インク組成物の粘度を、３０ｍＰａ・ｓ以下とするのが好ましく、５〜２０ｍＰａ・ｓとするのがより好ましい。インク組成物の粘度が、インク組成物の温度を室温として、あるいは、インク組成物を加熱しない状態として上記のものであれば、インク組成物の温度を室温として、あるいはインク組成物を加熱せずに吐出させればよい。一方、インク組成物を所定の温度に加熱することによって粘度を好ましいものとして吐出させてもよい。このようにして、良好な吐出安定性が実現される。
【００８２】
〔硬化工程〕
次に、上記硬化工程においては、パッケージ基材等上に吐出されて付着したインク組成物が、紫外線の照射によって硬化する。
具体的には、紫外線の照射によって、重合性化合物の重合反応が開始する。また、インク組成物に含まれる光重合開始剤が紫外線の照射により分解して、ラジカル、酸、及び塩基などの開始種を発生し、重合性化合物の重合反応が、その開始種の機能によって促進される。このとき、インク組成物において光重合開始剤と共に増感色素が存在すると、系中の増感色素が紫外線を吸収して励起状態となり、光重合開始剤と接触することによって光重合開始剤の分解を促進させ、より高感度の硬化反応を達成させることができる。
【００８３】
紫外線源としては、水銀ランプやガス・固体レーザー等が主に利用されており、放射線硬化型インクジェット用インク組成物の硬化に使用される光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプが広く知られている。その一方で、現在環境保護の観点から水銀フリー化が強く望まれており、ＧａＮ系半導体紫外発光デバイスへの置き換えは産業的、環境的にも非常に有用である。さらに、紫外線発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ）及び紫外線レーザーダイオード（ＵＶ−ＬＤ）は小型、高寿命、高効率、低コストであり、放射線硬化型インクジェット用光源として期待されている。これらの中でも、ＵＶ−ＬＥＤが好ましい。
【００８４】
また、上記紫外線の発光ピーク波長及び照射エネルギーの好ましい範囲は、上記のとおりである。
【００８５】
上記の場合、上記実施形態のインク組成物の組成に起因して低エネルギー且つ高速での硬化が可能となる。照射エネルギーは、照射時間に照射強度を乗じて算出される。上記実施形態のインク組成物の組成によって照射時間を短縮することができ、この場合、記録速度が増大する。他方、上記実施形態のインク組成物の組成によって照射強度を減少させることもでき、この場合、装置の小型化やコストの低下が実現する。その際の紫外線照射にＵＶ−ＬＥＤを用いることが好適であることを本発明者らは見出したのである。このようなインク組成物は、上記波長範囲の紫外線照射により分解する光重合開始剤を含むことにより得られ、上記波長範囲の紫外線照射により重合を開始する重合性化合物を含むと、より低エネルギー且つ高速での硬化が可能となる。なお、発光ピーク波長は、上記の波長範囲内に１つあってもよいし複数あってもよい。複数ある場合であっても上記発光ピーク波長を有する紫外線の全体の照射エネルギーを上記の照射エネルギーとする。
【００８６】
このように、本実施形態によれば、インクの硬化性、硬化したインクにおける耐擦性、及び記録された画像の視認性のいずれにも優れた紫外線硬化型インクジェット用インク組成物を用いた記録物及びインクジェット記録方法を提供することができる。
【実施例】
【００８７】
以下、本発明の実施形態を実施例によってさらに具体的に説明するが、本実施形態はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００８８】
［使用原料］
下記の実施例及び比較例において使用した原料は、以下の通りである。
〔光重合開始剤〕
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９（BASF社製商品名、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、表１では８１９と略記した。）
・ＤＡＲＯＣＵＲＥ  ＴＰＯ（BASF社製商品名、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、表１ではＴＰＯと略記した。）
〔顔料（酸化チタン）〕
・Ｔｉｐａｑｕｅ（登録商標）  ＣＲ−６０−２（石原産業社（ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD.）製商品名、表１ではＣＲ６０−２と略記した。）
・Ｔｉｐａｑｕｅ（登録商標）  ＰＦ−７１１（石原産業社製、表１ではＰＦ−７１１と略記した。）
・Ｔｉｐａｑｕｅ（登録商標）  ＣＲ−５８−２（石原産業社製、表１ではＣＲ５８−２と略記した。）
〔分散剤〕
・Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ  ３６０００（Noveon社製商品名）
〔重合禁止剤〕
・ｐ−メトキシフェノール（関東化学社（KANTO CHEMICAL CO., INC）製、表１ではＭＥＨＱと略記した。）
〔界面活性剤〕
・ＢＹＫ−３５００（ビックケミー（BYK-Chemie）社製商品名、ポリシロキサン、両末端、表１ではＢＹＫ３５００と略記した。）
〔重合性化合物〕
・ＶＥＥＡ（アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル、日本触媒社（Nippon Shokubai Co., Ltd.）製商品名、表１ではＶＥＥＡと略記した。）
・Ｖ−ＣＡＰ（Ｎ−ビニルカプロラクタム、ISP社製商品名、表１ではＮＶＣと略記した。）
・ビスコート＃１９２（フェノキシエチルアクリレート、大阪有機化学工業社製商品名、表１ではＰＥＡと略記した。）
・ＳＲ−４４４（ペンタエリスリトールトリアクリレート、サートマー社（Sartomer Co.）製商品名、表１ではＰＥＴＡと略記した。）
〔基材〕
・基材１（パッケージ基材）：エポキシ樹脂面１（シャープ社製、面実装型パッケージ、型番「Ｐ−ＬＦＢＧＡ０４８−０６０６」）
・基材２（半導体基材）：シリコン面２（SUMCO社製、ＳＯＩウエハー）
・基材３（その他の基材）：ルミラー（登録商標）Ｅ２０＃１２５（東レ社製商品名、二軸延伸ポリエステル（ＰＥＴ）フィルム、白色グレード、厚み１２５μｍ）
【００８９】
なお、上記の基材２は、回路形成して半導体チップにダイシングしたものを使用した。回路形成の際、ウエハー表面の酸化ケイ素層の厚さを５０ｎｍとした。
【００９０】
［実施例１〜６、比較例１〜６］
〔顔料分散液の作製〕
インク組成物の作製に先立ち、顔料分散液を作製した。上記の各酸化チタンを６０質量％、分散剤を５質量％、重合性化合物としてのＶＥＥＡを３５質量％の割合で、それぞれ混合し、１時間スターラーで撹拌した。撹拌後の混合液をビーズミルで分散し、顔料分散液を得た。なお、分散条件は、直径０．６５ｍｍのジルコニアビーズを７０％の充填率で充填し、周速を９ｍ／ｓとし、分散時間を２〜４時間とした。
【００９１】
〔インク組成物の作製〕
下記表１に記載の成分を、表１に記載の組成（単位：質量％）となるように添加し（表
１中、顔料とＶＥＥＡの一部とは上記顔料分散液として添加）、これを常温で１時間混合撹拌して完全に溶解させた。これを、さらに５μｍのメンブランフィルターでろ過して、各紫外線硬化型インクジェット用インク組成物を得た。
なお、表１中、顔料分散液は、固形分である顔料及びＶＥＥＡの含有量に基づき組成を算出したため、分散剤を記載していない。また、表１中の空欄部は無添加を意味する。
【００９２】
【表１】
0006004050.tif 000002
【００９３】
［評価項目］
各実施例及び比較例で調製した紫外線硬化型インクジェット用インク組成物について、以下の方法により酸化チタンのメジアン径、硬化性、耐擦性、明度、及び保存安定性を評価した。
【００９４】
〔メジアン径〕
動的光散乱法により、各インク組成物中の酸化チタンのメジアン径を測定した。前処理として、各インク組成物をジエチレングリコールジエチルエーテルで希釈し、得られた液を測定に供試した。測定機としては、堀場製作所社（HORIBA, Ltd）製の動的光散乱式粒径分布測定装置  ＬＢ−５５０を使用した。
【００９５】
〔硬化性〕
インクジェットプリンター  ＰＸ−Ｇ５０００（セイコーエプソン社（Seiko Epson Corporation）製商品名）を用いて、上記の紫外線硬化型インクジェット用インク組成物をそれぞれのノズル列に充填した。常温、常圧下で、上記基材１上に、記録解像度７２０ｄｐｉ×７２０ｄｐｉ及び液滴重量７ｎｇの条件で、ベタパターン画像を印刷した。なお、このベタパターン画像は、記録解像度で規定される最小記録単位領域である画素の全ての画素に対してドットを記録した画像である。
上記の印刷と共に、キャリッジの横に搭載した紫外線照射装置内のＵＶ−ＬＥＤから、照射強度が４００ｍＷ／ｃｍ2であり、且つ波長が３９５ｎｍである紫外線を照射してベタパターン画像を硬化させた。なお、指触試験により画像（塗膜表面）のタック感がなくなった時点で硬化したものと判断した。
【００９６】
評価は、硬化の際に要した紫外線の照射エネルギーを算出することにより行った。照射エネルギー［ｍＪ／ｃｍ2］は、光源から照射される被照射表面における照射強度［ｍＷ／ｃｍ2］を測定し、これと照射継続時間［ｓ］との積から求めた。照射強度の測定は、紫外線強度計ＵＭ−１０、受光部ＵＭ−４００（いずれもコニカミノルタセンシング社（KONICA MINOLTA SENSING,INC.)製）を用いて行った。
評価基準は以下のとおりである。◎及び○が実用上許容できる評価基準である。評価結果を下記表２に示す。
◎：３００ｍＪ／ｃｍ2未満
○：３００ｍＪ／ｃｍ2以上５００ｍＪ／ｃｍ2未満
×：５００ｍＪ／ｃｍ2以上
【００９７】
〔耐擦性〕
上記硬化性の評価項目と同様のベタパターン画像の印刷及び硬化を、上記基材１〜３について行った。そして、荷重変動型摩擦摩耗試験システム（トライボギアＴＹＰＥ−ＨＨＳ２０００〔商品名〕、新東科学社製）を用いて硬化膜（塗膜）の剥がれ度合いを確認した。条件は、荷重を１５０ｇｆに設定し、Φ０．２ｍｍのサファイア針で、硬化後のベタパターン画像を引っ掻き、塗膜の剥がれた程度を確認した。
評価基準は以下のとおりである。◎及び○が実用上許容できる評価基準である。評価結果を表２に示す。
◎：塗膜面にキズ、剥離がない。
○：塗膜面に傷がつく。剥離がない。
×：塗膜面に傷がつき、塗膜が剥離する。
【００９８】
〔明度〕
上記硬化性の評価項目と同様のベタパターン画像の印刷及び硬化を、上記基材１（黒色の基材）について行った。そして、測色計（GretagMacbeth社製のＡＧ  Ｔｙｐｅ  Ｓｐｅｃｔｒｏｌｉｎｏ）を用いて、基材１上のベタパターン画像の明度を測定した。この明度により、画像の視認性の優劣を判断した。
評価基準は以下のとおりである。◎及び○が実用上許容できる評価基準である。明度５０は、黒色のパッケージ上で最低限白さを認識できるレベルの数値である。評価結果を表２に示す。
◎：明度６０以上。
○：明度５０以上６０未満。
×：明度５０未満。
【００９９】
〔保存安定性〕
３０ｍＬ容のガラス瓶に上記の各インク組成物を２４ｍＬずつ投入し、５０℃で１４日間、遮光しながら放置した。放置前のインク粘度に対する放置後のインク粘度を測定することで、放置前後におけるインクの増粘率を算出し、これによりインクの保存安定性を評価した。
評価基準は以下のとおりである。◎及び○が実用上許容できる評価基準である。評価結果を表２に示す。
◎：１０％未満。
○：１０％以上２０％未満。
×：２０％以上。
【０１００】
【表２】
0006004050.tif 000003
【０１０１】
上記表２より、重合性化合物と、光重合開始剤と、メジアン径及び含有量が所定範囲である酸化チタンと、を含み、被記録媒体としてのパッケージ基材又は半導体基材に記録するために用いられる紫外線硬化型インクジェット用インク組成物は、インクの硬化性及び保存安定性、硬化したインクにおける耐擦性、並びに記録された画像の視認性（明度）のいずれにも優れることが分かった。
【０１０２】
より具体的にいえば、まず、顔料（酸化チタン）のメジアン径が２６０ｎｍ以下である場合（各実施例）は、２６０ｎｍを超える場合（比較例３〜６）と比べて、硬化性及び耐擦性に優れることが分かった。また、顔料（酸化チタン）の含有量が１２〜１８質量％の範囲内である場合（各実施例）は、この範囲外である場合（比較例１，２，５，６）と比べて、硬化性、耐擦性、及び視認性に優れることが分かった。
【０１０３】
また、実施例のインク組成物をパッケージ基材である基材１及び半導体基材である基材２に印刷した画像は、パッケージ基材、半導体基材のいずれでもない基材３に印刷した画像と比べて、耐擦性に優れることが分かった。