(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、金属ナノワイヤーを含む導電層および光散乱性微粒子を含む光散乱性層のいずれか一方をパターン状に形成する工程と、
パターン状に形成された一方の層の間に他方の層を形成する工程とを含むことを特徴とする導電性部材の製造方法。
【請求項２】
前記導電層と前記光散乱性層とのヘイズの比率（光散乱性層のヘイズ／導電層のヘイズ）が０．７以上１．３以下である請求項１に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項３】
前記導電層および前記光散乱性層が、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物を加水分解および重縮合させたマトリクスを含む請求項１または２に記載の導電性部材の製造方法。
Ｍ1（ＯＲ1）aＲ24-a        （ＩＩ）
（一般式（ＩＩ）中、Ｍ1はＳｉ、ＴｉおよびＺｒから選択される元素を示し、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示し、ａは２〜４の整数を示す。）
【請求項４】
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長が、１５０ｎｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項５】
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長が、１〜４０μｍである請求項１〜４のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項６】
前記導電層を構成する前記金属ナノワイヤーの含有量が、導電層中１．０ｍｇ／ｍ2〜１５０．０ｍｇ／ｍ2である請求項１〜５のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項７】
前記金属ナノワイヤーが、銀を含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項８】
前記導電層と前記光散乱性層との厚さの差が薄い層の厚さに対して５００％以下である請求項１〜７のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項９】
前記パターン状に形成する工程が、前記導電層および前記光散乱性層のいずれか一方の層上にフォトレジストをパターン状に適用し、前記フォトレジストの開口部に前記一方の層を溶解する液を適用する工程である請求項１〜８のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項１０】
前記パターン状に形成する工程が、前記導電層および前記光散乱性層のいずれか一方の層上にフォトレジストをパターン状に印刷し、前記フォトレジストの開口部に前記一方の層を溶解する液を適用する工程である請求項１〜８のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項１１】
前記一方の層を溶解する液を適用した後に、前記フォトレジストの開口部に前記他方の層を形成し、前記フォトレジストを剥離する請求項９または１０に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項１２】
前記パターン状に形成する工程が、前記導電層および前記光散乱性層のいずれか一方の層をパターン状に印刷する工程である請求項１〜８のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項１３】
前記パターン状に形成する工程が、前記導電層および前記光散乱性層のいずれか一方の層をパターン露光し、現像する工程である請求項１〜８のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項１４】
前記基板上に、前記金属ナノワイヤーを含む導電層をパターン状に形成した後、パターン状に形成された前記導電層の間に、前記光散乱性微粒子を含む光散乱性層を形成することを含む請求項１〜１３のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項１５】
前記基板上に、前記光散乱性微粒子を含む光散乱性層をパターン状に形成した後、パターン状に形成された前記光散乱性層の間に、前記金属ナノワイヤーを含む導電層を形成することを含む請求項１〜１３のいずれか１項に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項１６】
基板と、金属ナノワイヤーを含む導電層と、少なくとも光散乱性微粒子を含む光散乱性層とを有し、光散乱性層は非導電性であって、前記導電層の単位面積あたりの前記金属ナノワイヤーの本数に対して、
前記光散乱性層の単位面積あたりの前記金属ナノワイヤーの本数が５％以下であり、
前記光散乱性層の単位面積あたりの前記光散乱性微粒子の個数に対して、前記導電層の単位面積あたりの前記光散乱性微粒子の個数が５％以下であることを特徴とする導電性部材。
【請求項１７】
前記導電層と前記光散乱性層とのヘイズの比率（光散乱性層のヘイズ／導電層のヘイズ）が０．７以上１．３以下である請求項１６に記載の導電性部材。
【請求項１８】
請求項１６または１７に記載の導電性部材を有することを特徴とする偏光板。
【請求項１９】
請求項１６または１７に記載の導電性部材を有することを特徴とする円偏光板。
【請求項２０】
請求項１６または１７に記載の導電性部材を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２１】
請求項１８に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２２】
請求項１９に記載の円偏光板を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２３】
請求項１６または１７に記載の導電性部材を有することを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性部材の製造方法、導電性部材、それを用いたタッチパネル等に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルを搭載した液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置（例えば、携帯情報端末および携帯電話）、および集積型太陽電池等に用いる電極用の導電材料としてＩＴＯが広く利用されているが、インジウム金属の埋蔵量が少ないこと、長波長領域の透過率が低いことに起因する色味、低抵抗化には高温の熱処理が必要であること、屈曲耐性が低いなどの問題があるため、ＩＴＯの代替材料が種々検討されている。
【０００３】
代替材料の一つとして導電性の金属ナノワイヤーを用いた導電材料が提案されており（例えば特許文献１）、金属ナノワイヤーは、透明性、低抵抗、使用金属量の低減の面では優れていることからＩＴＯガラスやＩＴＯフィルムの代替材料としての期待が高まっている。
【０００４】
しかし、金属ナノワイヤーは、ワイヤー構造であることからヘイズ値が高く、高湿熱条件化での耐久性が弱いという問題がある。
また、その中でも特に、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等やタッチパネル等の表示装置のようなパターニング電極を必要とする装置において、透明電極をパターニングした際に金属ナノワイヤーを有する部分（導電性領域）と有しない部分（非導電性領域）とのヘイズ値の差が大きく、電極パターンが見え易くなるという視認性の問題がある。
【０００５】
このため、例えば特許文献２では、金属ナノワイヤーを部分的に切断することによって、非導通部に金属ナノワイヤーまたはそのフラグメントの金属ナノロッドを残留させて、導通部と非導通部のヘイズの差を小さくする方法が提案されている。また、例えば、特許文献３には、導電性ナノファイバー層に、エネルギー線照射またはエッチングレジストによるパターン形成の方法で、視認できない大きさの微小ピンホールを形成して、非導通部とすることによって、導通部と非導通部のヘイズ差を小さくする方法が提案されている。
【０００６】
さらに、例えば、特許文献４には、導電性ナノファイバーをプラズマ処理またはコロナ処理によって強制酸化して絶縁化する方法が開示されており、パターン見えの問題解決のために、これらのインビジブル化やステルス化などと称される技術開発が盛んに進められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許公報ＵＳ２００７／００７４３１６号
【特許文献２】米国特許ＵＳ８０１８５６８号
【特許文献３】特開２０１０−１５７４００号公報
【特許文献４】特開２０１０−２８７５４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献３のエネルギー線を用いる方法は、エネルギー線をパターン照射するための設備およびエネルギーコストが高く、実用化が難しい。さらに、特許文献４は、耐酸化性、耐硫化性などの環境耐性や耐熱性を付与する目的で、導電性繊維に腐食防止剤等を適用した導電膜や、導電性繊維の一部のみが膜面へ露出し、大部分が膜中に埋没するように形成された導電膜へは適用できないといった問題があった。本発明者は、上記特許文献に記載の技術について鋭意検討した結果、これらの技術は、導電性粒子を完全に取り去った場合と比較して、エレクトロケミカルマイグレーション（以下、単にマイグレーションともいう）による絶縁不良を起こしやすいという問題を生じることが分かった。しかしながら、導電性粒子を完全に取り去ると、ヘイズの問題が残る。
本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み成し遂げられたものであり、高い導電性と高い透明性を有すると共に、パターン見えが小さく、かつ、エレクトロケミカルマイグレーションによる絶縁不良を起こしにくい導電性部材、その製造方法、当該導電性部材を用いたタッチパネル、および表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を踏まえて、本発明者は、鋭意検討した結果、金属ナノワイヤーを有する導電性領域と金属ナノワイヤーを有さない非導電性領域とのヘイズ差を小さくするには、絶縁性の光散乱性粒子を含有させた光散乱性層を非導電性領域に形成すればよいことを見出した。また本発明者は、予期せぬことに、かかる構成とすることにより、マイグレーションを起こしにくいことも見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
前記課題を解決し得た本発明の導電性部材の製造方法は、
基板上に、金属ナノワイヤーを含む導電層および光散乱性微粒子を含む光散乱性層のいずれか一方をパターン状に形成する工程と、パターン状に形成された一方の層の間に他方の層を形成する工程とを含むことを特徴とする。
好ましくは、導電層と光散乱性層とのヘイズの比率（光散乱性層のヘイズ／導電層のヘイズ）が０．７以上１．３以下である。
また好ましくは、導電層および光散乱性層が、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物を加水分解および重縮合させたマトリクスを含む。
Ｍ1（ＯＲ1）aＲ24-a        （ＩＩ）
（一般式（ＩＩ）中、Ｍ1はＳｉ、ＴｉおよびＺｒから選択される元素を示し、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示し、ａは２〜４の整数を示す。）
また好ましくは、金属ナノワイヤーの平均短軸長が、１５０ｎｍ以下である。
また好ましくは、金属ナノワイヤーの平均長軸長が、１〜４０μｍである。
また好ましくは、導電層を構成する金属ナノワイヤーの含有量が、導電層中１．０ｍｇ／ｍ2〜１５０ｍｇ／ｍ2である。
また好ましくは、金属ナノワイヤーが、銀を含む。
また好ましくは、導電層と光散乱性層との厚さの差が薄い層の厚さに対して５００％以下である。
また好ましくは、パターン状に形成する工程が、導電層および光散乱性層のいずれか一方の層上にフォトレジストをパターン状に適用し、フォトレジストの開口部に一方の層を溶解する液を適用する工程である。
また好ましくは、パターン状に形成する工程が、導電層および光散乱性層のいずれか一方の層上にフォトレジストをパターン状に印刷し、フォトレジストの開口部に一方の層を溶解する液を適用する工程である。
また好ましくは、一方の層を溶解する液を適用した後に、フォトレジストの開口部に他方の層を形成し、フォトレジストを剥離する。
また好ましくは、パターン状に形成する工程が、導電層および光散乱性層のいずれか一方の層をパターン状に印刷する工程である。
また好ましくは、パターン状に形成する工程が、導電層および光散乱性層のいずれか一方の層をパターン露光し、現像する工程である。
また好ましくは、基板上に、金属ナノワイヤーを含む導電層をパターン状に形成した後、パターン状に形成された導電層の間に、光散乱性微粒子を含む光散乱性層を形成することを含む。
また好ましくは、基板上に、光散乱性微粒子を含む光散乱性層をパターン状に形成した後、パターン状に形成された光散乱性層の間に、金属ナノワイヤーを含む導電層を形成することを含む。
本発明の導電性部材は、基板と、金属ナノワイヤーを含む導電層と、少なくとも光散乱性微粒子を含む光散乱性層とを有し、導電層の単位面積あたりの金属ナノワイヤーの本数に対して、光散乱性層の単位面積あたりの金属ナノワイヤーの本数が５％以下であり、光散乱性層の単位面積あたりの光散乱性微粒子の個数に対して、導電層の単位面積あたりの光散乱性微粒子の個数が５％以下であることを特徴とする。
好ましくは、導電層と光散乱性層とのヘイズの比率（光散乱性層のヘイズ／導電層のヘイズ）が０．７以上１．３以下である。
本発明の偏光板は、本発明の導電性部材を有することを特徴とする。
本発明の円偏光板は、本発明の導電性部材を有することを特徴とする。
本発明の表示装置は、本発明の導電性部材を有することを特徴とする。
本発明の表示装置は、本発明の偏光板を有することを特徴とする。
本発明の表示装置は、本発明の円偏光板を有することを特徴とする。
本発明のタッチパネルは、本発明の導電性部材を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、高い導電性と高い透明性を有すると共に、パターン見えが小さく、かつ、エレクトロケミカルマイグレーションによる絶縁不良を起こしづらい導電性部材およびその製造方法、並びに当該導電性部材を用いたタッチパネル、および表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の導電性部材の一例を示した概略図である。
【図２】本発明の導電性部材の他の一例を示した概略図である。
【図３】エッチングマスクを利用した、導電性部材の製造方法の一例を示した概略図である。
【図４】ポジ型のフォトレジストを利用した、導電性部材の製造方法の一例を示した概略図である。
【図５】ネガ型のフォトレジストを利用した、導電性部材の製造方法の一例を示した概略図である。
【図６】ネガ型およびポジ型のフォトレジストを利用した、導電性部材の製造方法の一例を示した概略図である。
【図７】印刷パターンとマスクパターンを利用した、導電性部材の製造方法の一例を示した概略図である。
【図８】印刷パターンを利用した、導電性部材の製造方法の一例を示した概略図である。
【図９】印刷パターンとネガ型のフォトレジストを利用した、導電性部材の製造方法の一例を示した概略図である。
【図１０】印刷パターンとポジ型のフォトレジストを利用した、導電性部材の製造方法の一例を示した概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の代表的な実施形態に基づいて記載されるが、本発明の主旨を超えない限りにおいて、本発明は記載された実施形態に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において「光」という語は、可視光線のみならず、紫外線、エックス線、ガンマ線などの高エネルギー線、電子線のような粒子線等を含む概念として用いる。
本明細書中、アクリル酸、メタクリル酸のいずれか或いは双方を示すため「（メタ）アクリル酸」と、アクリレート、メタクリレートのいずれか或いは双方を示すため「（メタ）アクリレート」と、それぞれ表記することがある。
また、含有量は特に断りのない限り、質量換算で示し、特に断りのない限り、質量％は、組成物の総量に対する割合を表し、「固形分」とは、組成物中の溶剤を除く成分を表す。
【００１４】
図１に本発明の導電性部材の一例の概略図を示す。導電性部材は、基板２００と、金属ナノワイヤーを含む導電層１００と、少なくとも光散乱性微粒子を有する光散乱性層１５０とを有し、前記光散乱性層１５０における前記金属ナノワイヤーの本数が、導電層１００の単位面積あたりの金属ナノワイヤーの本数に対して５％以下であり、導電層１００の単位面積あたりの光散乱性微粒子の個数が光散乱性層１５０の単位面積あたりの光散乱性微粒子の個数に対して５％以下であることを特徴とする。
本発明では、光散乱性層１５０に光散乱性微粒子を有する。光散乱性微粒子が光散乱性層１５０に含まれることで、光散乱性微粒子が導電層の金属ナノワイヤーと同等の光散乱をするという理由により導電層１００と光散乱性層１５０との間のヘイズの違いが小さくなる（ヘイズの比率が１に近づく）と考えている。
【００１５】
導電層および光散乱性層は、基板上に形成されており、導電層は、金属ナノワイヤーを含む導電性領域を形成し、該導電性領域の一部をパターニングして形成されるか、または種々の印刷方式により直接パターン印刷されることによって形成される。光散乱性層は、パターニングにより形成された導電層の間の部分（非導電性領域）に形成される。ここで、導電層と光散乱性層の形成の順序は特に限定されない。例えば、光散乱性層は、光散乱性微粒子を含む非導電性領域を形成し、該非導電性領域の一部をパターニングして形成されるか、または種々の印刷方式により直接パターン印刷されることによって形成され、導電層は、パターニングにより光散乱性層が除去された部分（非導電性領域）に形成されるように製造してもよい。
【００１６】
以下、本発明に用いられる種々の部材、製造方法等について詳細に説明する。
【００１７】
導電層：
本発明に係る導電層は、基板上に有し、金属ナノワイヤー、およびマトリクスよりなる。
【００１８】
（金属ナノワイヤー）
本明細書では、金属ナノワイヤーとは、導電性を有し、且つ長軸方向長さが直径（短軸方向長さ）の５倍以上（アスペクト比が５以上）の長い形状を持つものをいう。中実繊維であっても、中空繊維であってもよい。
【００１９】
前記金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、長周期律表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、および第６周期からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、第２族〜第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属がより好ましく、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、および第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属がさらに好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。
【００２０】
前記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンタル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、これらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、および銀との合金が特に好ましい。
前記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウム、錫、ビスマス、ニッケルなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２１】
前記金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状や断面の多角形の角が丸まっている断面形状であることが好ましい。
ここで、前記金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、ミクロトームにより作製した断面切片を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより調べることができる。
【００２２】
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さ（「平均短軸長」、「平均直径」と称することがある）としては、１５０ｎｍ以下が好ましく、５〜１００ｎｍがより好ましく、１０〜３０ｎｍが特に好ましい。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。
【００２３】
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さ（「平均長さ」と称することがある）としては、１μｍ以上であることが好ましく、５μｍ〜４０μｍがより好ましく、５μｍ〜３０μｍがさらに好ましい。
前記平均長軸長さが、１μｍ未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、４０μｍを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーが曲がっている場合、画像解析によって金属ナノワイヤー像の曲線をトレースし、軌跡長さを測定することにより、各金属ナノワイヤーの長軸長さを求めた。
【００２４】
金属ナノワイヤーの短軸長の変動係数としては、０〜５０％が好ましく、０〜４０％がより好ましく、０〜３０％が特に好ましい。
前記変動係数は、上記電子顕微鏡（ＴＥＭ）像からランダムに選択した３００個の金属ナノワイヤーの短軸長（直径）を測定し、その３００個についての標準偏差と平均値を計算することにより、求めた。
【００２５】
前記金属ナノワイヤーは、特に制限はなく、いかなる方法で作製してもよいが、以下のようにハロゲン化合物と分散剤を溶解した溶媒中で金属イオンを還元することによって製造することが好ましい。また、金属ナノワイヤーを形成した後は、常法により脱塩処理を行うことが、分散性、導電層の経時安定性の観点から好ましい。
また、金属ナノワイヤーの製造方法としては、特開２００９−２１５５９４号公報、特開２００９−２４２８８０号公報、特開２００９−２９９１６２号公報、特開２０１０−８４１７３号公報、特開２０１０−８６７１４号公報などに記載の方法を用いることができる。
【００２６】
金属ナノワイヤーの製造に用いられる溶媒としては、親水性溶媒が好ましく、例えば、水、アルコール類、多価アルコール類、エーテル類、ケトン類などが挙げられ、これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどが挙げられる。多価アルコール類としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコールなどが挙げられる。エーテル類としては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどが挙げられる。加熱する場合、その加熱温度は、用いる溶媒の沸点を超えない限りにおいて、２５０℃以下が好ましく、２０℃以上２００℃以下がより好ましく、３０℃以上１８０℃以下がさらに好ましく、４０℃以上１７０℃以下が特に好ましく、５０℃以上１００℃以下が最も好ましい。なお、上記沸点とは、反応溶媒の蒸気圧が反応容器中の圧力と等しくなる温度のことを指す。上記加熱温度を２０℃以上とすることで、金属ナノワイヤーの形成が促進され、製造にかかる工程時間を短縮できるため好ましい。また、２５０℃以下とすることで、金属ナノワイヤーの短軸長さおよび長軸長さの単分散性が向上し、透明性、および、導電性の観点から好適である。なお、必要に応じて、粒子形成過程で温度を変更してもよく、途中での温度変更は核形成の制御や再核発生の抑制、選択成長の促進による単分散性向上の効果があることがある。
【００２７】
前記金属ナノワイヤーの製造に用いられる溶媒を加熱する際には、還元剤を添加して行うことが好ましい。
前記還元剤としては、特に制限はなく、通常使用されるものの中から適宜選択することができ、例えば、水素化ホウ素金属塩、水素化アルミニウム塩、アルカノールアミン、脂肪族アミン、ヘテロ環式アミン、芳香族アミン、アラルキルアミン、アルコール類、多価アルコール類、有機酸類、還元糖類、糖アルコール類、亜硫酸ナトリウム、ヒドラジン化合物、デキストリン、ハイドロキノン、ヒドロキシルアミン、グルタチオンなどが挙げられる。これらの中でも、還元糖類、その誘導体としての糖アルコール類、多価アルコール類が特に好ましい。前記還元剤によっては、機能として分散剤や溶媒としても機能する化合物があり、同様に好ましく用いることができる。
【００２８】
前記金属ナノワイヤー製造の際には分散剤と、ハロゲン化合物またはハロゲン化金属微粒子とを添加して行うことが好ましい。
分散剤の添加のタイミングは、還元剤の添加前でも、添加と同時、さらには、添加後でもよく、金属イオンあるいはハロゲン化金属微粒子の添加前でも、添加と同時、さらには、添加後でもよい。
【００２９】
前記分散剤を添加する段階は、粒子調製する前に添加し、分散ポリマー存在下で添加してもよいし、粒子調整後に分散状態の制御のために添加しても構わない。分散剤の添加を２段階以上に分けるときには、その量は必要とする金属ワイヤーの短軸および長軸の長さにより変更する必要がある。これは、分散剤量によって、金属ナノワイヤーの核となる金属粒子の量やサイズが影響され、かつ、金属ナノワイヤーの核となる金属粒子の量やサイズによって、金属ナノワイヤーの短軸および長軸の長さが影響されることに起因しているためと考えられる。
前記分散剤としては、例えばアミノ基含有化合物、チオール基含有化合物、スルフィド基含有化合物、アミノ酸またはその誘導体、ペプチド化合物、多糖類、多糖類由来の天然高分子、合成高分子、またはこれらに由来するゲル等の高分子類、などが挙げられる。これらのうち分散剤として用いられる各種高分子化合物類は、後述するポリマーに包含される化合物である。
【００３０】
分散剤として好適に用いられるポリマーとしては、例えば保護コロイド性のあるポリマーであるゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリアルキレンアミン、ポリアクリル酸の部分アルキルエステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン構造を含む共重合体、アミノ基やチオール基を有するポリアクリル酸、等の親水性基を有するポリマーが好ましく挙げられる。
分散剤として用いるポリマーはＧＰＣ法により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）が、３０００以上３０００００以下であることが好ましく、５０００以上１０００００以下であることがより好ましい。
前記分散剤として使用可能な化合物の構造については、例えば「顔料の事典」（伊藤征司郎編、株式会社朝倉書院発行、２０００年）の記載を参照できる。
使用する分散剤の種類によって得られる金属ナノワイヤーの形状を変化させることができる。
【００３１】
前記ハロゲン化合物としては、臭素、塩素、ヨウ素を含有する化合物であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、臭化ナトリウム、塩化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム、塩化カリウム、ヨウ化カリウム等のアルカリハライドが好ましい。
また、下記の分散剤として機能するハロゲン化合物も同様に好ましく用いることができる。
前記ハロゲン化合物の代替としてハロゲン化銀微粒子を使用してもよいし、ハロゲン化合物とハロゲン化銀微粒子を共に使用してもよい。
【００３２】
また、分散剤とハロゲン化合物とは双方の機能を有する単一の物質を用いてもよい。即ち、分散剤としての機能を有するハロゲン化合物を用いることで、１つの化合物で、分散剤とハロゲン化合物の双方の機能を発現する。
分散剤としての機能を有するハロゲン化合物としては、例えば、アミノ基と臭化物イオンまたは塩化物イオン、ヨウ化物イオンを含むヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムアイオダイド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムアイオダイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド、ステアリルトリメチルアンモニウムアイオダイド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムアイオダイド、ジメチルジステアリルアンモニウムブロミド、ジメチルジステアリルアンモニウムクロリド、ジメチルジステアリルアンモニウムアイオダイド、ジラウリルジメチルアンモニウムブロミド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロリド、ジラウリルジメチルアンモニウムアイオダイド、ジメチルジパルミチルアンモニウムブロミド、ジメチルジパルミチルアンモニウムクロリド、ジメチルジパルミチルアンモニウムアイオダイド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムアイオダイド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムアイオダイド、テトラプロピルアンモニウムブロミド、テトラプロピルアンモニウムクロリド、テトラプロピルアンモニウムアイオダイド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムアイオダイド、メチルトリエチルアンモニウムクロリド、メチルトリエチルアンモニウムブロミド、メチルトリエチルアンモニウムアイオダイド、ジメチルジエチルアンモニウムブロミド、ジメチルジエチルアンモニウムクロリド、ジメチルジエチルアンモニウムアイオダイド、エチルトリメチルアンモニウムブロミド、エチルトリメチルアンモニウムクロリド、エチルトリメチルアンモニウムアイオダイド、ヘキサデシルジメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルジメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルジメチルアンモニウムアイオダイド、ドデシルジメチルアンモニウムブロミド、ドデシルジメチルアンモニウムクロリド、ドデシルジメチルアンモニウムアイオダイド、ステアリルジメチルアンモニウムブロミド、ステアリルジメチルアンモニウムクロリド、ステアリルジメチルアンモニウムアイオダイド、デシルジメチルアンモニウムブロミド、デシルジメチルアンモニウムクロリド、デシルジメチルアンモニウムアイオダイドなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３３】
金属ナノワイヤー以外の有機物および無機イオン等の不要分を取り除く脱塩処理の方法としては、特に制限はなく、遠心分離等による金属ナノワイヤーの沈降とそれに引き続く上澄みの除去、限外ろ過によるろ液の除去、その他、透析、ゲルろ過などを用いることができる。また、不要分を取り除くために、適宜、不要分の溶出を促進する薬剤を添加して脱塩処理を行うことも可能である。このような不要分の溶出を促進する薬剤としては、例えば、塩化銀等のハロゲン化銀に対するアンモニア、各種金属イオンに対するキレート剤、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウムなどが挙げられる。
【００３４】
前記金属ナノワイヤーは、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、ハロゲン化物イオン等の無機イオンをなるべく含まないことが好ましい。前記金属ナノワイヤーを水性分散物とさせたときの電気伝導度は１ｍＳ／ｃｍ以下が好ましく、０．１ｍＳ／ｃｍ以下がより好ましく、０．０５ｍＳ／ｃｍ以下がさらに好ましい。
前記金属ナノワイヤーを水性分散物とさせたときの２０℃における粘度は、０．５ｍＰａ・ｓ〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、１ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。
【００３５】
本発明の前記金属ナノワイヤーのアスペクト比としては、１０以上であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０以上がより好ましく、１００以上がさらに好ましく、５０００以上がさらに好ましく、１０，０００から１００，０００がより好ましい。前記アスペクト比とは、一般的には繊維状の物質の長辺と短辺との比（平均長軸長さ／平均短軸長さの比）を意味する。
前記アスペクト比の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子顕微鏡等により測定する方法などが挙げられる。
前記金属ナノワイヤーのアスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、前記金属ナノワイヤーのアスペクト比が１０以上であるか否かは、電子顕微鏡の１視野で確認できればよい。また、前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さと平均短軸長さとを各々別に測定することによって、前記金属ナノワイヤー全体のアスペクト比を見積もることができる。
なお、前記金属ナノワイヤーがチューブ状（中空繊維）の場合には、前記アスペクト比を算出するための直径としては、該チューブの外径を用いる。
【００３６】
ここで、前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さおよび平均長軸長さは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）や光学顕微鏡を用い、ＴＥＭ像や光学顕微鏡像を観察することにより求めることができ、本発明においては、金属ナノワイヤーの平均短軸長さおよび平均長軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から求めたものである。
【００３７】
金属ナノワイヤーの含有量は、導電層中１．０ｍｇ／ｍ2〜１５０．０ｍｇ／ｍ2が好ましく、５．０ｍｇ／ｍ2〜５０ｍｇ／ｍ2がより好ましく、５．０ｍｇ／ｍ2〜２５ｍｇ／ｍ2が特に好ましい。
【００３８】
また、前記導電層は、パターン導電層であってもよく、当該態様では、導電層形成用組成物は、感光性組成物であるのが好ましい。感光性組成物は、ネガ型であってもポジ型であってもよい。以下、導電層の形成に利用可能な、感光性組成物の例について説明するが、以下の例に限定されるものではない。
【００３９】
前記導電層の形成には、前記金属ナノワイヤーとともに、マトリクスとして、例えば、（１）バインダーおよび光重合性組成物を少なくとも含有する感光性組成物、（２）ゾルゲル硬化物を少なくとも含有する組成物を用いることができる。
ここで、「マトリクス」とは、金属ナノワイヤーまたは光散乱性微粒子を含んで層を形成する物質の総称である。マトリクスを含むことにより、導電層における金属ナノワイヤーまたは光散乱性層における光散乱性微粒子の分散が安定に維持される上、基材表面に導電層または光散乱性層を、接着層を介することなく形成した場合においても基材と導電層または光散乱性層との強固な接着が確保される。本発明の導電層または光散乱性層は、マトリクスを特に制限なく用いることができるが、後述の特定アルコキシド化合物を加水分解および重縮合して得られるゾルゲル硬化物をマトリクスとして用いることが、耐摩耗性、耐熱性および耐湿熱性に優れる点から特に好ましい。
【００４０】
バインダー：
バインダーとしては、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基（例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基など）を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。
これらの中でも、有機溶剤に可溶でアルカリ水溶液に可溶なものが好ましく、また、酸解離性基を有し、酸の作用により酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶となるものが特に好ましい。
ここで、前記酸解離性基とは、酸の存在下で解離することが可能な官能基を表す。
【００４１】
前記バインダーの製造には、例えば公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。前記ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類およびその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めることができる。
【００４２】
前記線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましい。
前記側鎖にカルボン酸を有するポリマーとしては、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有する重合体に酸無水物を付加させた重合体等であり、さらに側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。
【００４３】
これらの中でも、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマー  からなる多元共重合体が特に好ましい。
さらに、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する高分子重合体や（メタ）アクリル酸／グリシジル（メタ）アクリレート／他のモノマー  からなる多元共重合体も有用なものとして挙げられる。該ポリマーは任意の量で混合して用いることができる。
【００４４】
前記以外にも、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクレート／メタクリル酸共重合体、などが挙げられる。
【００４５】
前記アルカリ可溶性樹脂における具体的な構成単位としては、（メタ）アクリル酸と、該（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体とが好適である。
【００４６】
前記（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、例えばアルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。これらは、アルキル基およびアリール基の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。
前記アルキル（メタ）アクリレートまたはアリール（メタ）アクリレートとしては、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４７】
前記ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、ポリスチレンマクロモノマー、ＣＨ2＝ＣＲ1Ｒ2〔ただし、Ｒ1は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ2は炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環を表す。〕、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４８】
前記バインダーの重量平均分子量は、アルカリ溶解速度、膜物性等の点から、１，０００〜５００，０００が好ましく、３，０００〜３００，０００がより好ましく、５，０００〜２００，０００がさらに好ましい。
ここで、前記重量平均分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて求めることができる。
【００４９】
バインダーの含有量は、前述の金属ナノワイヤーを含む光重合性組成物（感光性組成物）の固形分の総質量を基準として、５質量％〜９０質量％であることが好ましく、１０質量％〜８５質量％がより好ましく、２０質量％〜８０質量％がさらに好ましい。前記好ましい含有量範囲であると、現像性と金属ナノワイヤーの導電性の両立が図れる。
【００５０】
（光重合性組成物（感光性組成物））
光重合性組成物は、露光により画像を形成する機能を導電層に付与するか、またはそのきっかけを与える化合物を意味する。（ａ）付加重合性不飽和化合物と、（ｂ）光が照射されるとラジカルを発生する光重合開始剤とを基本成分として含む。
【００５１】
［（ａ）付加重合性不飽和化合物］
成分（ａ）の付加重合性不飽和化合物（以下、「重合性化合物」ともいう。）は、ラジカルの存在下で付加重合反応を生じて高分子化される化合物であり、通常、分子末端に少なくとも一つの、より好ましくは二つ以上の、さらに好ましくは四つ以上の、さらにより好ましくは六つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物が使用される。
これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、即ち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物などの化学的形態をもつ。
このような重合性化合物としては、種々のものが知られており、それらは成分（ａ）として使用することができる。
このうち、特に好ましい重合性化合物としては、膜強度の観点から、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００５２】
成分（ａ）の含有量は、前述の金属ナノワイヤーを含む光重合性組成物の固形分の総質量を基準として、２．６質量％以上３７．５質量％以下であることが好ましく、５．０質量％以上２０．０質量％以下であることがより好ましい。
【００５３】
［（ｂ）光重合開始剤］
成分（ｂ）の光重合開始剤は、光が照射されるとラジカルを発生する化合物である。このような光重合開始剤には、光照射により、最終的には酸となる酸ラジカルを発生する化合物およびその他のラジカルを発生する化合物などが挙げられる。以下、前者を「光酸発生剤」と呼び、後者を「光ラジカル発生剤」と呼ぶ。
−光酸発生剤−
光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている活性光線または放射線の照射により酸ラジカルを発生する公知の化合物およびそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。
【００５４】
このような光酸発生剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、キノンジアジド化合物、ジ−またはトリ−ハロメチル基を少なくとも一つ有するトリアジン系化合物または１，３，４−オキサジアゾール、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルハライド、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネートなどが挙げられる。これらの中でも、スルホン酸を発生する化合物であるイミドスルホネート、オキシムスルホネート、ｏ−ニトロベンジルスルホネートが特に好ましい。
また、活性光線または放射線の照射により酸ラジカルを発生する基、あるいは化合物を樹脂の主鎖または側鎖に導入した化合物、例えば、米国特許第３，８４９，１３７号明細書、独国特許第３９１４４０７号明細書、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３８号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号の各公報等に記載の化合物を用いることができる。
さらに、米国特許第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号等の各明細書に記載の化合物も、酸ラジカル発生剤として使用することができる。
【００５５】
前記トリアジン系化合物としては、例えば特開２０１１−０１８６３６号公報、特開２０１１−２５４０４６号公報に記載されている化合物を使用することができる。
【００５６】
本発明においては、光酸発生剤の中でもスルホン酸を発生する化合物が好ましく、下記のようなオキシムスルホネート化合物が高感度である観点から特に好ましい。
【００５７】
【化１】
0005865851.tif 000002
【００５８】
キノンジアジド化合物として、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物を用いると高感度で現像性が良好である。
キノンジアジド化合物の中で下記の化合物でＤが独立して水素原子または１，２−ナフトキノンジアジド基であるものが高感度である観点から好ましい。
【００５９】
【化２】
0005865851.tif 000003
【００６０】
−光ラジカル発生剤−
光ラジカル発生剤は、光を直接吸収し、または光増感されて分解反応若しくは水素引き抜き反応を起こし、ラジカルを発生する機能を有する化合物である。光ラジカル発生剤としては、波長３００ｎｍ〜５００ｎｍの領域に吸収を有する化合物であることが好ましい。
このような光ラジカル発生剤としては、多数の化合物が知られており、例えば特開２００８−２６８８８４号公報に記載されているようなトリアジン系化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、アシルホスフィン（オキシド）化合物、が挙げられる。これらは目的に応じて適宜選択することができる。これらの中でも、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシムエステル化合物、およびアシルホスフィン（オキシド）化合物が露光感度の観点から特に好ましい。
【００６１】
光ラジカル発生剤としては、例えば特開２０１１−０１８６３６号公報、特開２０１１−２５４０４６号公報に記載されている光ラジカル発生剤を使用することができる。
【００６２】
光重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよく、その含有量は、金属ナノワイヤーを含む光重合性組成物の固形分の総質量を基準として、０．１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜３０質量％がより好ましく、１質量％〜２０質量％がさらに好ましい。このような数値範囲において、後述の導電性領域と非導電性領域とを含むパターンを導電層に形成する場合に、良好な感度とパターン形成性が得られる。
【００６３】
上記成分（ａ）および（ｂ）以外のその他の添加剤としては、例えば、連鎖移動剤、架橋剤、分散剤、溶媒、界面活性剤、酸化防止剤、硫化防止剤、金属腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤等の各種の添加剤などが挙げられる。
【００６４】
［連鎖移動剤］
連鎖移動剤は、光重合性組成物の露光感度向上のために使用されるものである。このような連鎖移動剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどのＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、Ｎ−フェニルメルカプトベンゾイミダゾール、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンなどの複素環を有するメルカプト化合物、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンなどの脂肪族多官能メルカプト化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６５】
連鎖移動剤の含有量は、前述の金属ナノワイヤーを含む光重合性組成物の固形分の総質量を基準として、０．０１質量％〜１５質量％が好ましく、０．１質量％〜１０質量％がより好ましく、０．５質量％〜５質量％がさらに好ましい。
【００６６】
［架橋剤］
架橋剤は、フリーラジカルまたは酸および熱により化学結合を形成し、導電層を硬化させる化合物で、例えばメチロール基、アルコキシメチル基、アシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されたメラミン系化合物、グアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物、ウレア系化合物、フェノール系化合物もしくはフェノールのエーテル化合物、エポキシ系化合物、オキセタン系化合物、チオエポキシ系化合物、イソシアネート系化合物、またはアジド系化合物、メタクリロイル基またはアクリロイル基などを含むエチレン性不飽和基を有する化合物、などが挙げられる。これらの中でも、膜物性、耐熱性、溶剤耐性の点でエポキシ系化合物、オキセタン系化合物、エチレン性不飽和基を有する化合物が特に好ましい。
また、前記オキセタン系化合物は、１種単独でまたはエポキシ系化合物と混合して使用することができる。特にエポキシ系化合物との併用で用いた場合には反応性が高く、膜物性を向上させる観点から好ましい。
なお、架橋剤としてエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を用いる場合、当該架橋剤も、また、前記重合性化合物に包含され、その含有量は、本発明における重合性化合物の含有量に含まれることを考慮すべきである。
架橋剤の含有量は、前述の金属ナノワイヤーを含む光重合性組成物の固形分の総質量を１００質量部としたとき、１質量部〜２５０質量部が好ましく、３質量部〜２００質量部がより好ましい。
【００６７】
［分散剤］
分散剤は、光重合性組成物中における前述の金属ナノワイヤーが凝集することを防止しつつ分散させるために用いられる。分散剤としては、前記金属ナノワイヤーを分散させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適否選択することができる。例えば、顔料分散剤として市販されている分散剤を利用でき、特に金属ナノワイヤーに吸着する性質を持つ高分子分散剤が好ましい。このような高分子分散剤としては、例えばポリビニルピロリドン、ＢＹＫシリーズ（ビックケミー社製）、ソルスパースシリーズ（日本ルーブリゾール社製など）、アジスパーシリーズ（味の素株式会社製）などが挙げられる。
なお、分散剤として高分子分散剤を、前記金属ナノワイヤーの製造に用いたもの以外をさらに別に添加する場合、当該高分子分散剤も、また、前記バインダーに包含され、その含有量は、前述のバインダーの含有量に含まれることを考慮すべきである。
分散剤の含有量としては、バインダー１００質量部に対し、０．１質量部〜５０質量部が好ましく、０．５質量部〜４０質量部がより好ましく、１質量部〜３０質量部が特に好ましい。
分散剤の含有量を０．１質量部以上とすることで、分散液中での金属ナノワイヤーの凝集が効果的に抑制され、５０質量部以下とすることで、塗布工程において安定な液膜が形成され、塗布ムラの発生が抑制されるため好ましい。
【００６８】
［溶媒］
溶媒は、前述の金属ナノワイヤー並びに特定アルコキシド化合物と、光重合性組成物とを含む組成物を基材表面に膜状に形成するための塗布液とするために使用される成分であり、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシブタノール、水、１−メトキシ−２−プロパノール、イソプロピルアセテート、乳酸メチル、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、プロピレンカーボネート、などが挙げられる。この溶媒は、前述の金属ナノワイヤーの分散液の溶媒の少なくとも一部を兼ねていてもよい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
このような溶媒を含む塗布液の固形分濃度は、０．１質量％〜２０質量％の範囲で含有させることが好ましい。
【００６９】
［金属腐食防止剤］
金属ナノワイヤーの金属腐食防止剤を含有させておくことが好ましい。このような金属腐食防止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えばチオール類、アゾール類などが好適である。
金属腐食防止剤を含有させることで、防錆効果を発揮させることができ、導電材料の経時による導電性および透明性の低下を抑制することができる。金属腐食防止剤は感光性層形成用組成物中に、適した溶媒で溶解した状態、または粉末で添加するか、後述する導電層用塗布液による導電膜を作製後に、これを金属腐食防止剤浴に浸すことで付与することができる。
金属腐食防止剤を添加する場合は、金属ナノワイヤーに対して０．５質量％〜１０質量％含有させることが好ましい。
【００７０】
その他マトリクスとしては、前述の金属ナノワイヤーの製造の際に使用された分散剤としての高分子化合物を、マトリクスを構成する成分の少なくとも一部として使用することが可能である。
【００７１】
前記導電層の形成には、前記金属ナノワイヤーとともに、マトリクス成分としてゾルゲル硬化物を少なくとも含有する組成物を用いることもできる。
【００７２】
＜ゾルゲル硬化物＞
上記ゾルゲル硬化物は、Ｓｉ、Ｔｉ、ＺｒおよびＡｌからなる群から選ばれた元素のアルコキシド化合物（以下、「特定アルコキシド化合物」ともいう。）を加水分解および重縮合し、さらに所望により加熱、乾燥して得られるものである。
〔特定アルコキシド化合物〕
特定アルコキシド化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが、入手が容易である点で好ましい。
Ｍ1（ＯＲ1）aＲ24-a        （ＩＩ）
（一般式（ＩＩ）中、Ｍ1はＳｉ、ＴｉおよびＺｒから選択される元素を示し、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示し、ａは２〜４の整数を示す。）
【００７３】
一般式（ＩＩ）におけるＲ1およびＲ2の各炭化水素基としては、好ましくはアルキル基またはアリール基が挙げられる。
アルキル基を示す場合の炭素数は好ましくは１〜１８、より好ましくは１〜８であり、さらにより好ましくは１〜４である。また、アリール基を示す場合は、フェニル基が好ましい。
アルキル基またはアリール基は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、メルカプト基などが挙げられる。
なお、一般式（ＩＩ）で示される化合物は低分子化合物であり、分子量１０００以下であることが好ましい。
【００７４】
一般式（ＩＩ）で示される化合物の具体例としては、例えば、特開２０１０−０６４４７４号公報などに記載されている。
【００７５】
一般式（ＩＩ）で示される化合物を加水分解および重縮合し、さらに所望により加熱、乾燥し成膜すると、下記一般式（Ｉ）で表される結合を含む三次元架橋結合を含んで構成されるマトリクスとなる。
−Ｍ1−Ｏ−Ｍ1−        （Ｉ）
（Ｍ1はＳｉ、ＴｉおよびＺｒから選択される元素を示す。）
【００７６】
本発明において前記ゾルゲル硬化物を導電層のマトリクスとして用いる場合、前述の金属ナノワイヤーに対する特定アルコキシド化合物の比率、即ち、特定アルコキシド化合物／金属ナノワイヤーの質量比が０．２５／１〜３０／１の範囲で使用される。上記質量比が０．２５／１よりも小さい場合には、透明性が劣ると同時に、耐摩耗性、耐熱性、耐湿熱性および耐屈曲性のうちの少なくとも一つが劣った導電層となってしまい、他方、上記質量比が３０／１よりも大きい場合には、導電性および耐屈曲性の劣る導電層となってしまう。
上記質量比は、より好ましくは０．５／１〜２０／１の範囲、さらに好ましくは１／１〜１５／１、最も好ましくは２／１〜８／１の範囲が高い導電性と高い透明性（全光線透過率およびヘイズ）を有すると共に、耐摩耗性、耐熱性および耐湿熱性に優れ、かつ耐屈曲性に優れる導電材料を安定的に得ることができるので、好ましい。
【００７７】
ゾルゲル反応を促進させるために、酸性触媒または塩基性触媒を併用することが反応効率を高められるため好ましい。
【００７８】
〔触媒〕
触媒としては、前述の特定アルコキシド化合物の加水分解および重縮合の反応を促進させるものであれば使用することができる。
このような触媒としては、酸、あるいは塩基性化合物が含まれ、そのまま用いるか、または、水またはアルコールなどの溶媒に溶解させた状態のもの（以下、これらを包括してそれぞれ酸性触媒、塩基性触媒とも称する）で使用される。
酸、あるいは塩基性化合物を溶媒に溶解させる際の濃度については特に限定はなく、用いる酸、或いは塩基性化合物の特性、触媒の所望の含有量などに応じて適宜選択すればよい。ここで、触媒を構成する酸、或いは塩基性化合物の濃度が高い場合は、加水分解、重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の高過ぎる塩基性触媒を用いると、沈殿物が生成して導電層に欠陥となって現れる場合があるので、塩基性触媒を用いる場合、その濃度は水溶液での濃度換算で１Ｎ以下であることが望ましい。
【００７９】
酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に限定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場合には、導電層中にほとんど残留しないような元素から構成される触媒がよい。具体的には、酸性触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン酸、そのＲＣＯＯＨで示される構造式のＲを他元素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸などが挙げられ、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。
【００８０】
金属錯体からなるルイス酸触媒もまた好ましく使用できる。特に好ましい触媒は、金属錯体触媒であり、周期律表の２族、３族、４族および５族から選ばれる金属元素とβ−ジケトン、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸またはそのエステル、アミノアルコール、エノール性活性水素化合物の中から選ばれるオキソまたはヒドロキシ酸素含有化合物から構成される金属錯体である。
構成金属元素の中では、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなどの２族元素、Ａｌ、Ｇａなどの１３族元素、Ｔｉ、Ｚｒなどの４族元素およびＶ、ＮｂおよびＴａなどの５族元素が好ましく、それぞれ触媒効果の優れた錯体を形成する。その中でもＺｒ、ＡｌおよびＴｉから得られる錯体が優れており、好ましい。
【００８１】
上記金属錯体の配位子を構成するオキソまたはヒドロキシ酸素含有化合物は、本発明においては、アセチルアセトン（２，４−ペンタンジオン）、２，４−ヘプタンジオンなどのβジケトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ブチルなどのケトエステル類、乳酸、乳酸メチル、サリチル酸、サリチル酸エチル、サリチル酸フェニル、リンゴ酸，酒石酸、酒石酸メチルなどのヒドロキシカルボン酸およびそのエステル、４−ヒドロキシー４−メチル−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ヘプタノン、４−ヒドロキシ−２−ヘプタノンなどのケトアルコール類、モノエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−メチル−モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミノアルコール類、メチロールメラミン、メチロール尿素、メチロールアクリルアミド、マロン酸ジエチルエステルなどのエノール性活性化合物、アセチルアセトン（２，４−ペンタンジオン）のメチル基、メチレン基またはカルボニル炭素に置換基を有する化合物が挙げられる。
【００８２】
好ましい配位子はアセチルアセトン誘導体であり、アセチルアセトン誘導体は、本発明においては、アセチルアセトンのメチル基、メチレン基またはカルボニル炭素に置換基を有する化合物を指す。アセチルアセトンのメチル基に置換する置換基としては、いずれも炭素数が１〜３の直鎖または分岐のアルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基であり、アセチルアセトンのメチレン基に置換する置換基としてはカルボキシル基、いずれも炭素数が１〜３の直鎖または分岐のカルボキシアルキル基およびヒドロキシアルキル基であり、アセチルアセトンのカルボニル炭素に置換する置換基としては炭素数が１〜３のアルキル基であってこの場合はカルボニル酸素には水素原子が付加して水酸基となる。
【００８３】
好ましいアセチルアセトン誘導体の具体例としては、エチルカルボニルアセトン、ｎ−プロピルカルボニルアセトン、ｉ−プロピルカルボニルアセトン、ジアセチルアセトン、１―アセチル−１−プロピオニル−アセチルアセトン、ヒドロキシエチルカルボニルアセトン、ヒドロキシプロピルカルボニルアセトン、アセト酢酸、アセトプロピオン酸、ジアセト酢酸、３，３−ジアセトプロピオン酸、４，４−ジアセト酪酸、カルボキシエチルカルボニルアセトン、カルボキシプロピルカルボニルアセトン、ジアセトンアルコールが挙げられる。中でも、アセチルアセトンおよびジアセチルアセトンがとくに好ましい。上記のアセチルアセトン誘導体と上記金属元素の錯体は、金属元素１個当たりにアセチルアセトン誘導体が１〜４分子配位する単核錯体であり、金属元素の配位可能の手がアセチルアセトン誘導体の配位可能結合手の数の総和よりも多い場合には、水分子、ハロゲンイオン、ニトロ基、アンモニオ基など通常の錯体に汎用される配位子が配位してもよい。
【００８４】
好ましい金属錯体の例としては、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム錯塩、ジ（アセチルアセトナト）アルミニウム・アコ錯塩、モノ（アセチルアセトナト）アルミニウム・クロロ錯塩、ジ（ジアセチルアセトナト）アルミニウム錯塩、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、環状アルミニウムオキサイドイソプロピレート、トリス（アセチルアセトナト）バリウム錯塩、ジ（アセチルアセトナト）チタニウム錯塩、トリス（アセチルアセトナト）チタニウム錯塩、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタニウム錯塩、ジルコニウムトリス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムトリス（安息香酸）錯塩、等が挙げられる。これらは水系塗布液での安定性および、加熱乾燥時のゾルゲル反応でのゲル化促進効果に優れているが、中でも、特にエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、ジ（アセチルアセトナト）チタニウム錯塩、ジルコニウムトリス（エチルアセトアセテート）が好ましい。
【００８５】
上記した金属錯体の対塩の記載を本明細書においては省略しているが、対塩の種類は、錯体化合物としての電荷の中性を保つ水溶性塩である限り任意であり、例えば硝酸塩、ハロゲン酸塩、硫酸塩、燐酸塩などの化学量論的中性が確保される塩の形が用いられる。
金属錯体のシリカゾルゲル反応での挙動については、Ｊ．Ｓｏｌ−Ｇｅｌ．Ｓｃｉ．ａｎｄ Ｔｅｃ．１６．２０９（１９９９）に詳細な記載がある。反応メカニズムとしては以下のスキームを推定している。すなわち、塗布液中では、金属錯体は、配位構造を取って安定であり、塗布後の加熱乾燥過程に始まる脱水縮合反応では、酸触媒に似た機構で架橋を促進させるものと考えられる。いずれにしても、この金属錯体を用いたことにより塗布液の経時安定性、並びに導電層の皮膜面質および高耐久性に優れるものを得られる。
上記の金属錯体触媒は、市販品として容易に入手でき、また公知の合成方法、例えば各金属塩化物とアルコールとの反応によっても得られる。
【００８６】
本発明に係る触媒は、後述するゾルゲル塗布液中に、その不揮発性成分に対して、好ましくは０〜５０質量％、さらに好ましくは５〜２５質量％の範囲で使用される。触媒は、単独で用いても二種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００８７】
〔溶剤〕
ゾルゲル塗布液には、基板上に均一な塗布液膜の形成性を確保するために、所望により、有機溶剤を含有させてもよい。
このような有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶剤、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、１−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール系溶剤、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエステル系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤、などが挙げられる。
この場合、ＶＯＣ（揮発性有機溶剤）の関連から問題が起こらない範囲での添加が有効であり、ゾルゲル塗布液の総質量に対して５０質量％以下の範囲が好ましく、さらに３０質量％以下の範囲がより好ましい。
【００８８】
基板上に形成されたゾルゲル塗布液の塗布液膜中においては、特定アルコキシド化合物の加水分解および重縮合の反応が起こるが、その反応を促進させるために、上記塗布液膜を加熱、乾燥することが好ましい。ゾルゲル反応を促進させるための加熱温度は、３０℃〜２００℃の範囲が適しており、５０℃〜１８０℃の範囲がより好ましい。加熱、乾燥時間は１０秒間〜３００分間が好ましく、１分間〜１２０分間がより好ましい。
【００８９】
前記導電層の表面抵抗は、１Ω／□〜１，０００Ω／□であることが好ましく、１Ω／□〜２００Ω／□であることがより好ましい。
前記表面抵抗は、例えば表面抵抗計（三菱化学株式会社製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ  ＭＣＰ−Ｔ６００）により、測定することができる。
【００９０】
本発明の導電層の厚さは、０．０１μｍ〜２μｍが好ましく、０．０１μｍ〜１μｍがさらに好ましく、０．０１μｍ〜０．５μｍがより好ましく、０．０１μｍ〜０．０５μｍがさらにより好ましい。膜厚を０．０１μｍ以上２μｍ以下とすることで、十分な耐久性、膜強度が得られる。特に、０．０１μｍ〜０．０５μｍの範囲とすれば、製造上の許容範囲が確保されるので好ましい。
【００９１】
導電層のヘイズは、０．０１〜２．０が好ましく、０．０１〜１．０がより好ましく、０．０１〜０．５が特に好ましい。ここで導電層のヘイズとは、基板等のその他の構成材料によるヘイズの値を差し引いた、導電層由来のヘイズであることを意味する。
【００９２】
（光散乱性層）
本発明に係る光散乱性層は、光散乱性微粒子、およびマトリクスよりなる。本発明において、光散乱性層は導電性を有さないことから、非導電層でもある。光散乱性層のマトリクスは、導電層のマトリクスと同一であってもよいし、別種のマトリクスを用いてもよいが、導電層と光散乱性層の視認性を低くして、パターン見えを低減する観点から、主成分が同一のマトリクスを用いることが好ましい。
【００９３】
＜光散乱性微粒子＞
本発明において、光散乱性微粒子は、パターン形成された光散乱性層（非導電性領域）の幅内に収まる大きさを有する粒子であり、電気的に絶縁性であり、かつ、光散乱性を示す微粒子を指す。
前記絶縁性とは、微粒子の成分のバルク体積抵抗率が１０5Ωｍ以上であることを指す。微粒子が多層構造の場合は、粒子の短軸方向における厚み比率で各層のバルク体積抵抗率を加重平均して、微粒子の体積抵抗率とみなすこととする。
前記光散乱性とは、微粒子層の形成によって、結果としてヘイズを上昇させる性質を指し、定量的特性により制限されない。
【００９４】
前記光散乱性微粒子における微粒子とは、パターン形成された光散乱性層（非導電性領域）の幅内に収まる大きさを有する粒子を指し、形状には特に制限がなく、球、平板、ロッド、ワイヤー（繊維）などが例として挙げられる。ここで、粒子がワイヤー状の場合、屈折または屈曲によって、パターン形成された非導電性領域の幅内に収まるならば、繊維の長軸長さがパターン形成された非導電性領域の幅を超えていても良い。
光散乱性微粒子としては、例えば、（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ）からなる群より選択される少なくとも一つの原子（元素）を含有する無機酸化物微粒子または無機窒化物微粒子または無機硫化物微粒子または無機リン化物微粒子、有機高屈折率ポリマー微粒子、表面処理により導電性を消失させた（Ｆｅ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ）からなる群より選択される少なくとも一つの原子を含有する金属微粒子、またはアクリル粒子、架橋アクリル粒子等の樹脂粒子などが挙げられる。これらの光散乱性微粒子は１種単独で用いることもでき、２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも無機化合物の粒子が好ましく、入手が容易であることから、シリカ粒子であることが好ましい。
【００９５】
光散乱性微粒子の具体的な粒径は、０．１〜２μｍが好ましく、０．１〜１μｍがより好ましく、０．１〜０．５μｍが特に好ましい。光散乱性微粒子の粒子径が０．１μｍよりも小さい場合、十分な光散乱効果が得られず、ヘイズを上昇させることができないことがある。
【００９６】
光散乱性微粒子の具体的な含有量は、光散乱性層中０．００５ｍｇ／ｍ2〜２０ｍｇ／ｍ2が好ましく、０．０５ｍｇ／ｍ2〜１５ｍｇ／ｍ2がより好ましく、０．１ｍｇ／ｍ2〜１０ｍｇ／ｍ2が特に好ましい。
【００９７】
光散乱性層のマトリクスは、前記導電層のマトリクスと同様のものを使用することができる。また、光散乱性微粒子の分散剤としては、前記マトリクス中に有する分散剤と同様のものを使用することができる。
【００９８】
光散乱性層の厚さは、０．０１μｍ〜２μｍが好ましく、０．０１μｍ〜１μｍがさらに好ましく、０．０１μｍ〜０．５μｍがより好ましく、０．０１μｍ〜０．０５μｍがさらにより好ましい。膜厚を０．０１μｍ以上２μｍ以下とすることで、十分な耐久性、膜強度が得られる。特に、０．０１μｍ〜０．０５μｍの範囲とすれば、製造上の許容範囲が確保されるので好ましい。なお、光散乱性層の厚さとは、微粒子の高さを含む平均の厚みとする。
なお、導電層と光散乱性層との厚さの差は、前記導電層および前記光散乱性層のいずれか薄い方の層の厚さに対して５００％以下が好ましく、１００％以下がより好ましく、実質的にないことがさらに好ましい。膜厚の差が大きいと、段差起因の光の乱反射によりパターンが視認しやすくなったり、表示装置等と貼り合わせる際に段差部分に空気が入りやすくなったりするため、膜厚の差をできるだけ少なくすることが好ましい。なお、「実質的に」とは、不可避的に局所に発生した欠陥部は許容することを意味する。
【００９９】
また、光散乱性層のヘイズは、０．０１〜２．０が好ましく、０．０１〜１．０がより好ましく、０．０１〜０．５が特に好ましい。
導電層と光散乱性層とのヘイズの比率（光散乱性層のヘイズ／導電層のヘイズ）は、０．７〜１．３が好ましく、０．８〜１．２がより好ましく、０．９〜１．１が特に好ましい。
【０１００】
導電層のヘイズと光散乱性層のヘイズとの差を小さくするには、光散乱性層中の光散乱性微粒子の濃度を調整して行うことが好ましい。
【０１０１】
導電性部材の製造方法：
導電性部材の製造方法は、基板上に、金属ナノワイヤーを含む導電層および光散乱性微粒子を含む光散乱性層のいずれか一方をパターン状に形成（以下、「パターニング」ともいう）する工程と、前記パターニングした一方の層の間に他方の層を形成する工程とを含むことを特徴とし、一方の層が導電層である場合、他方の層は光散乱性層であり、一方の層が光散乱性層である場合、他方の層は導電層である。なお、「パターニングした一方の層の間に他方の層を形成する」とは、パターニングされた層が除去された部分に形成すること、または図８に一例を示すように、パターン印刷によりパターニングされた一方の層の間に他方の層を形成することをいう（図８では一方の層が層１、他方の層が層２である、図３〜図１０も同様である）。
なお、「基板上に、金属ナノワイヤーを含む導電層および光散乱性微粒子を含む光散乱性層のいずれか一方をパターン状に形成する工程」とは、一例は、一方の層を形成し、パターニングする工程、または、一方の層をパターン状に塗布するパターン印刷を行う工程であり、これらの工程に制限されるものではない。
【０１０２】
以下、導電性部材の製造方法を一例として図３〜図１０を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、導電層と光散乱性層の形成の順序は特に限定されない。
【０１０３】
まず、導電層用塗布液を調製する。該塗布液は、少なくとも金属ナノワイヤーを含み、好ましくはバインダー、さらには必要に応じて感光性化合物およびその他の成分を混合して、常法により調製することができる。
【０１０４】
次に、前記導電層用塗布液を、ガラス板やフィルム等の基板表面に塗布する。塗布する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えばスプレーコート法、エアブラシ法、カーテンスプレー法、ディップコート法、ローラーコート法、スピンコート法、インクジェット法、押出し法、バーコート法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、ドクターコート法などが挙げられる。塗布量としては、導電層中における金属ナノワイヤーの含有量が１．０〜１５０．０ｍｇ／ｍ2となるように塗布することが好ましい。
【０１０５】
なお、導電層用塗布液を、基板表面に塗布する代わりに、光散乱性層用塗布液を調製し、基板表面に塗布し、光散乱性層を形成させてもよい。
【０１０６】
また、導電層を形成するために実施される塗布工程において、金属ナノワイヤーの配向性が促進されると、偏光性のある導電層が形成される傾向がある。ナノワイヤーの配向のランダム性が維持される塗布方法としては、スプレー塗布法、インクジェット塗布法等が挙げられる。また、ナノワイヤーの配向性を促進する塗布方法（例えばスロットルダイ法等の塗布方法）を採用する場合であっても、一方向に沿って塗布した後、当該方向と異なる方向（例えば直交する方向）に沿って塗布することで、ナノワイヤーの配向性を緩和することができる。
【０１０７】
また、導電層を形成した後、導電層中の金属ナノワイヤーの配向性を軽減するための処理を行ってもよい。一方向に沿って塗布されて形成された導電層中の金属ナノワイヤーは、当該方向に沿って配向する傾向がある。従って、塗布の方向とは異なる方向（例えば直交する方向）に沿って、延伸処理（例えば１％以上５％未満の延伸率の延伸処理）等を行うと、配向性が軽減されるので好ましい。なお、延伸処理を実施する場合は、高分子フィルム等の可撓性のある基板上に導電層を形成した後、基板に支持された状態の導電層を基板とともに延伸処理するのが好ましい。
【０１０８】
次いで、形成された導電層または光散乱性層をパターン状に形成する工程を行う。即ち一方の層をパターニングする。以下、層１および層２のどちらか一方が導電層、他方が光散乱性層であるとして、導電性部材の製造方法の例を下記に示す。なお、層１の形成後に層２が形成されるものとする。また、パターン状に形成された導電層および光散乱性層をそれぞれ「パターン導電層」および「パターン光散乱性層」ということがある。
【０１０９】
図７〜図１０に一例を示すように、パターン印刷により層１を形成する場合、導電層または光散乱性層を形成後、パターニングする必要はなく、基板表面上に直接パターン状に印刷して層１を形成する。
【０１１０】
パターン導電層およびパターン光散乱性層の形成方法（導電層および光散乱性層をパターン状に形成する方法）としては、それぞれを実質的に重ならないようにパターン状に形成できれば、各導電層および光散乱性層の形成方法はいかなる方法でも良く、下記に限定されるものではない。ここで「実質的に」とは、パターン状に形成する精度等の理由によって、不可避的に重なる部分があることを許容することを意味する。
【０１１１】
パターン導電層またはパターン光散乱性層を形成する工程としては、
（１）図４〜図６に一例を示すように、層１に対し、パターン露光し、現像することでパターン導電層またはパターン光散乱性層を形成する工程、
（２）図３に一例を示すように、層１上にエッチングマスクをパターン状に適用し、エッチングマスクの開口部に層１を溶解する溶解液を適用することでパターン導電層またはパターン光散乱性層を形成する工程、
（３）図７〜図１０に一例を示すように、層１をスクリーン印刷などの種々の印刷方式によって直接パターン状に印刷することで、パターン導電層またはパターン光散乱性層を形成する工程、
（４）層１を形成後に溶解液をパターン状に印刷することで、パターン導電層またはパターン光散乱性層を形成する工程、などが挙げられる。
【０１１２】
層１を溶解する溶解液とは、導電層を溶解する溶解液または光散乱性層を溶解する溶解液を表す。導電層を溶解する溶解液とは、金属ナノワイヤーを溶解する溶解液、および導電層のマトリクスを溶解する溶解液の少なくともいずれかの溶解液のことをいう。また、光散乱性層を溶解する溶解液とは、光散乱性微粒子を溶解する溶解液、および光散乱性層のマトリクスを溶解する溶解液の少なくともいずれかの溶解液のことをいう。
以下、（１）〜（４）について説明する。
【０１１３】
前記（１）の工程：
前記（１）の工程は、図４〜図６に一例を示すように、層１に対し、パターン露光し、現像することでパターン導電層またはパターン光散乱性層を形成する工程である。
前記パターニングは、図４〜図６に一例を示すように、層１に対し、パターン露光し、現像するものであり、さらに必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【０１１４】
前記パターン露光の露光方法としては、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。この際、レンズを用いた屈折式露光でも反射鏡を用いた反射式露光でもよく、コンタクト露光、プロキシミティー露光、縮小投影露光、反射投影露光などの露光方式を用いることができる。
【０１１５】
上記パターン露光に用いる光源は、フォトレジスト組成物の感光波長域との関連で選定されるが、一般的にはｇ線、ｈ線、ｉ線、ｊ線等の紫外線が好ましく用いられる。また、紫外線ＬＥＤを用いてもよい。
パターン露光の方法にも特に制限はなく、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービーム等による走査露光で行ってもよい。この際、レンズを用いた屈折式露光でも反射鏡を用いた反射式露光でもよく、コンタクト露光、プロキシミティー露光、縮小投影露光、反射投影露光などの露光方式を用いることができる。
【０１１６】
前記現像工程は、図４〜図６に一例を示すように、層１における露光部および非露光部のいずれかを、溶媒を付与して現像する工程である。
前記現像工程において、前記基材と層１の間に、感光層を有する場合には、前記感光層における露光部および非露光部のいずれかを除去する。
【０１１７】
前記溶媒としては、アルカリ溶液が好ましい。前記アルカリ溶液に含まれるアルカリとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。
【０１１８】
前記アルカリ溶液による現像方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば前記アルカリ溶液中に本発明の前記導電層付き偏光板を浸漬する方法、本発明の前記導電層付き偏光板にシャワーやスプレーを用いて有機溶剤をかけ流す方法、本発明の前記導電層付き偏光板にアルカリ溶液を浸したナプキン等で塗りつける方法などが挙げられる。
前記アルカリ溶液の付与方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば塗布、浸漬、噴霧などが挙げられる。これらの中でも、浸漬が特に好ましい。
前記アルカリ溶液の浸漬時間は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０秒間〜５分間であることが好ましい。
【０１１９】
前記（２）の工程：
前記（２）の工程は、図３に一例を示すように、層１上にエッチングマスクをパターン状に適用し、エッチングマスクの開口部に層１を溶解する溶解液を適用することでパターン導電層またはパターン光散乱性層を形成する工程であり、即ちパターンエッチングにより層１をパターニングする。
図３に一例を示したパターンエッチングの方法としては、予め形成した層１上にエッチングマスクをパターン形成し、層１を溶解する溶解液（層１のマトリクスを溶解する溶解液、層１の金属ナノワイヤーを溶解する溶解液、または層１の光散乱性微粒子を溶解する溶解液）をマスクの開口部に塗布、または該溶解液へ浸漬する方法を用いることができる。エッチングマスクのパターン形成方法としては、例えば、
（Ａ）層１上にフォトレジスト層を設け、このフォトレジスト層に所望のパターン露光および現像を行って、当該パターン状のレジストを形成する方法、
（Ｂ）前記溶解液に溶解しない膜を種々の印刷方式で直接パターン形成する方法、
（Ｃ）前記溶解液に溶解しないパターン膜を物理的に層１へ貼り合せる方法などが挙げられる。
（Ａ）の方法は、例えば特表２０１０−５０７１９９号公報（特に、段落０２１２〜０２１７）に記載されている。
【０１２０】
前記金属ナノワイヤーを溶解する溶解液としては、金属ナノワイヤーに応じて適宜選択することができる。例えば金属ナノワイヤーが銀ナノワイヤーの場合には、いわゆる写真科学業界において、主にハロゲン化銀カラー感光材料の印画紙の漂白、定着工程に使用される漂白定着液、強酸、酸化剤、過酸化水素などが挙げられる。これらの中でも、漂白定着液、希硝酸、過酸化水素が特に好ましい。
前記希硝酸の濃度は、１質量％〜２０質量％であることが好ましい。前記過酸化水素の濃度は、３質量％〜３０質量％であることが好ましい。
【０１２１】
前記漂白定着液としては、例えば特開平２−２０７２５０号公報の第２６頁右下欄１行目〜３４頁右上欄９行目、および特開平４−９７３５５号公報の第５頁左上欄１７行目〜１８頁右下欄２０行目に記載の処理素材や処理方法が好ましく適用できる。
漂白定着時間は、１８０秒間以下が好ましく、１２０秒間以下１秒間以上がより好ましく、９０秒間以下５秒間以上がさらに好ましい。また、水洗または安定化時間は、１８０秒間以下が好ましく、１２０秒間以下１秒間以上がより好ましい。
前記漂白定着液としては、写真用漂白定着液であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、富士フイルム株式会社製ＣＰ−４８Ｓ、ＣＰ−４９Ｅ（カラーペーパー用漂白定着剤）、コダック社製エクタカラーＲＡ漂白定着液、大日本印刷株式会社製漂白定着液Ｄ−Ｊ２Ｐ−０２−Ｐ２、Ｄ−３０Ｐ２Ｒ−０１、Ｄ−２２Ｐ２Ｒ−０１などが挙げられる。これらの中でも、ＣＰ−４８Ｓ、ＣＰ−４９Ｅが特に好ましい。
【０１２２】
前記金属ナノワイヤーを溶解する溶解液の粘度は、２５℃で、５ｍＰａ・ｓ〜３００，０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、１０ｍＰａ・ｓ〜１５０，０００ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。前記粘度を、５ｍＰａ・ｓ以上とすることで、溶解液の拡散を所望の範囲に制御することが容易となって、導電性領域と非導電性領域との境界が明瞭なパターニングが確保され、他方、３００，０００ｍＰａ・ｓ以下とすることで、溶解液の印刷を負荷なく行うことが確保されると共に、金属ナノワイヤーの溶解に要する処理時間を所望の時間内で完了させることができる。
【０１２３】
層１のマトリクスを溶解する溶解液としては、層１のマトリクスに応じて適宜選択することができる。
【０１２４】
光散乱性微粒子を溶解する溶解液としては、光散乱性微粒子に応じて適宜選択することができる。
【０１２５】
層１のマトリクスを溶解する溶解液を塗布する方法としては、溶解液を塗布することができれば特に制限はなく、例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、などが挙げられる。
エッチングマスクは公知の溶解液、または物理的剥離によって、取り除かれる。
【０１２６】
前記（３）の工程：
前記（３）の工程は、図７〜図１０に一例を示すように、層１をスクリーン印刷などの種々の印刷方式によって直接パターン状に印刷することで、パターン状の層１を形成する方法である。
【０１２７】
図７〜図１０に一例を示した、層１、またはエッチングマスクを直接パターン印刷する種々の印刷方式とは、層１形成用溶液またはエッチングマスク形成用溶液をパターン状に付与できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばスクリーン印刷、インクジェット印刷などを用いることができる。前記インクジェット印刷としては、例えばピエゾ方式およびサーマル方式のいずれも使用可能である。
【０１２８】
また、導電層は、転写材料を利用して、転写により、目的とするパターンを基板上に形成してもよい。
【０１２９】
前記（４）の工程：
前記（４）の工程は、層１を形成後に溶解液をパターン状に印刷することで、パターン導電層またはパターン光散乱性層を形成する方法である。
前記金属ナノワイヤーを溶解する溶解液のパターン状の印刷方法としては、溶解液をパターン状に印刷できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷などを用いることができる。前記インクジェット印刷としては、例えばピエゾ方式およびサーマル方式のいずれも使用可能である。
【０１３０】
前記パターンの種類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、文字、記号、模様、図形、配線パターンなどが挙げられる。
前記パターンの大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ナノサイズからミリサイズのいずれの大きさであっても構わない。具体的には、パターンの幅としては、０．１〜１００００μｍが好ましく、１〜１０００μｍがより好ましく、１０〜５００μｍが特に好ましい。
【０１３１】
層１をパターニングした後、パターニングした層１の間（パターニングにより層１が除去された部分（領域）、または図７〜図１０に一例を示すようにパターン印刷により層１を形成しなかった部分（領域））に層２を形成し、前記基板上に層１および層２を形成する工程を行う。
層１が除去された領域（層１が形成されていない領域）に層２を形成する方法としては、
（Ａ）層１上に感光性マトリクスを含む層２を適用した後にパターン露光および現像を行う方法（図４〜６、図９〜１０）、
（Ｂ）エッチングマスクを取り除く前の層１上またはパターン形成された層１上に同じパターンのエッチングマスクを形成した表面上（実際には層１上のエッチングマスク上と、層１が取り除かれた領域の上）に層２を形成し、エッチングマスクの溶解液によってエッチングマスクごと層１と重なる部分の層２だけを取り除く方法（図３、図７：図中、エッチングマスク上に形成された層２は図示しない）、
（Ｃ）前述の種々の印刷方式によって、層２を層１とはネガ反転したパターンメッシュを使用したパターン印刷する方法（図８）などが挙げられる。
【０１３２】
（Ａ）の方法は、パターニングされた層１上および層１が除去された領域に層２の塗布液を塗布し、パターン露光、現像することで層１が除去された領域に層２を形成させる。層２の塗布液の塗布方法としては、層１の塗布液の塗布方法と同様の方法で塗布することができる。
【０１３３】
（Ａ）の方法で行うパターン露光および現像は、図４〜６、図９〜１０に一例を示すように、層１の一部をパターニングする際の露光、現像と同様の方法で行うことができる。層１も感光性マトリクス、即ち露光、現像により層１を形成した場合、層１および層２の感光性マトリクスの組み合わせは、図４に一例を示すように、層１をポジ型によるパターン露光を行い、層２もポジ型によるパターン露光を行う方法、図５に一例を示すように、層１をネガ型によるパターン露光を行い、層２もネガ型によるパターン露光を行う方法、図６に一例を示すように、層１をネガ型によるパターン露光を行い、層２をポジ型によるパターン露光を行う方法が挙げられる。なお、層１をポジ型によるパターン露光を行い、層２をネガ型でパターン露光を行う場合、層２のパターン露光によって、層１の溶解性が上がってしまい、層２の現像時に層１が剥がれてしまうことがある。
【０１３４】
（Ｂ）の方法は、図３および図７に一例を示すように、層１を溶解する溶解液を適用した後、フォトレジストやマスクの開口部から層２の塗布液を塗布し、フォトレジストやマスクを剥離することで層２を形成させる。層２の塗布方法としては、層１の塗布液の塗布方法と同様の方法で塗布することができる。（Ｂ）の方法は、層１をパターン形成する際に使用したエッチングマスクを層２のパターン形成用のマスクとして流用することができる。
【０１３５】
＜導電性部材の態様＞
本発明の導電性部材における、基板表面に垂直な方向から観察した場合の態様としては、導電性領域である導電層と、非導電性領域から形成された光散乱性層とを含む。導電層の単位面積あたりの金属ナノワイヤーの本数に対して、光散乱性層の単位面積あたりの金属ナノワイヤーの本数が５％以下であり、１％以下が好ましく、実質的に含まれないことがより好ましい。また、光散乱性層の単位面積あたりの光散乱性微粒子の個数に対して、導電層の単位面積あたりの光散乱性微粒子の個数が５％以下であり、１％以下が好ましく、実質的に含まれないことがより好ましい。なお、「実質的に」とは、不可避的に局所に残留した分は許容することを意味する。
また、本発明の導電性部材は、例えば、タッチパネルを作製するために用いることができ、この場合、所望の形状を有する導電性領域と非導電性領域が形成される。
【０１３６】
本発明は、導電層と光散乱性層とを目視では容易に判別できないパターニングを形成可能であるが、例えば、光学顕微鏡を用いることにより、導電層と光散乱性層との判別が可能となる。すなわち、金属ナノワイヤーと光散乱性層の絶縁性の光散乱性微粒子の形状が異なる場合には、粒子形状の違いにより判別可能である。また、形状が同一もしくは近しい場合には、繊維状粒子が導電層と光散乱性層との境界を横断しないように配置されていることによって判別可能である。人間の目は、このように実際には境界線が描かれていない場合であっても、隣接する２つの領域の境界部での特異的配置を違和感として感じ、容易に判別できる。
【０１３７】
基板：
上記基板としては、導電層および光散乱性層を担うことができるものである限り、目的に応じて種々のもの使用することができる。一般的には、板状またはシート状のものが使用される。
【０１３８】
基板は、透明であっても、不透明であってもよい。基板を構成する素材としては、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス等の透明ガラス；ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ポリイミド、セルロース誘導体等の合成樹脂；アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス等の金属；その他セラミック、半導体基板に使用されるシリコンウエハーなどを挙げることができる。これらの基板の導電層が形成される表面は、所望により、アルカリ性水溶液による清浄化処理、シランカップリング剤などの薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着などの前処理を行うことができる。
【０１３９】
基板の厚さは、用途に応じて所望の範囲のものが使用される。一般的には、１μｍ〜５００μｍの範囲から選択され、３μｍ〜４００μｍがより好ましく、５μｍ〜３００μｍがさらに好ましい。
【０１４０】
導電性部材に透明性が要求される場合には、基板の全可視光透過率が７０％以上のもの、より好ましくは８５％以上のもの、さらに好ましくは、９０％以上のものから選ばれる。
導電性部材に低レターデーション性が要求される場合には、基板の波長５５０ｎｍの面内レターデーション値Ｒｅ（５５０）が１００ｎｍ以下のもの、より好ましくは５０ｎｍ以下のもの、さらに好ましくは、１０ｎｍ以下のものから選ばれる。
Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＫＯＢＲＡ  ＷＲ（ともに王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。
【０１４１】
中間層：
図２に一例を示すように、基板と導電層または光散乱性層（以下、導電層と光散乱性層とをまとめて「パターン層」ともいう。）との間に少なくとも一層の中間層を有することが好ましい。基板とパターン層との間に中間層を設けることにより、基板とパターン層との密着性、パターン層の全光線透過率、パターン層のヘイズ、およびパターン層の膜強度のうちの少なくとも一つの向上を図ることが可能となる。
中間層としては、基板とパターン層との接着力を向上させるための接着剤層、パターン層に含まれる成分との相互作用により機能性を向上させる機能性層、帯電防止層などが挙げられ、目的に応じて適宜設けられる。
なお、本発明では、支持体と、導電層と隣接する層を含めた全体を基板と定義する。例えば、図２に示すように、支持体と中間層とを有し、中間層がパターン層と隣接する場合、支持体と中間層を含めて基板と定義する。
【０１４２】
支持体の材料については可撓性高分子であれば特に制限はない。例えば、高分子（樹脂および重合体のいずれも含む意味で用いる）フィルム、シートおよび成形体から選択することができる。
使用可能な高分子フィルム等の例には、ポリエチレンテレフタレート（PET）、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ポリイミド、FRP（繊維強化プラスチック）等を主成分として含むフィルム等が含まれる。
【０１４３】
中間層に使用される材料は特に限定されず、上記の特性のいずれか少なくとも一つを向上させるものであればよい。
例えば、中間層として接着層を備える場合、接着剤に使用されるポリマー、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、Ｓｉのアルコキシド化合物を加水分解および重縮合させて得られるゾルゲル膜などから選ばれる素材が含まれる。
また、パターン層と接する中間層（即ち、中間層が単層の場合には、当該中間層が、そして中間層が複数の層を含む場合には、そのうちの導電層と接する中間層）が、当該パターン層に含まれる金属ナノワイヤーと相互作用可能な官能基を有する化合物を含む機能性層であることが、全光線透過率、ヘイズ、および膜強度に優れたパターン層が得られることから好ましい。このような中間層を有する場合においては、パターン層が金属ナノワイヤーと有機高分子とを含むものであっても、膜強度に優れたパターン層が得られる。
【０１４４】
この作用は明確ではないが、パターン層に含まれる金属ナノワイヤーと相互作用可能な官能基を有する化合物を含む中間層を設けることで、パターン層に含まれる金属ナノワイヤーと中間層に含まれる上記の官能基を有する化合物との相互作用により、パターン層における導電性材料の凝集が抑制され、均一分散性が向上し、パターン層中における導電性材料の凝集に起因する透明性やヘイズの低下が抑制されるとともに、密着性に起因して膜強度の向上が達成されるものと考えられる。このような相互作用性を発現しうる中間層（機能性層）は、導電性材料との相互作用によりその効果を発揮することから、本発明における前述の三次元架橋構造を有するパターン層のみならず、金属ナノワイヤーと有機高分子とを含むパターン層と隣接して設けられても、その効果を発現する。
【０１４５】
上記の金属ナノワイヤーと相互作用可能な官能基としては、アミド基、アミノ基、メルカプト基、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基またはそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一つであることがより好ましい。さらに好ましくは、アミノ基、メルカプト基、リン酸基、ホスホン酸基またはそれらの塩であることが好ましく、最も好ましくはアミノ基である。これらの官能基は、金属ナノワイヤーが銀ナノワイヤーの場合には、特に顕著にその効果を発揮する。
上記のような官能基を有する化合物としては、例えばウレイドプロピルトリエトキシシラン、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミドなどのようなアミド基を有する化合物、例えばＮ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（３−アミノプロピル）−１，４−ブタンジアミン四塩酸塩、スペルミン、ジエチレントリアミン、ｍ−キシレンジアミン、メタフェニレンジアミンなどのようなアミノ基を有する化合物、例えば３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、２−メルカプトベンゾチアゾール、トルエン−３，４−ジチオールなどのようなメルカプト基を有する化合物、例えばポリ（ｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム）、ポリ（２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸）などのようなスルホン酸またはその塩の基を有する化合物、例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアスパラギン酸、テレフタル酸、ケイ皮酸、フマル酸、コハク酸などのようなカルボン酸基を有する化合物、例えばホスマーＰＥ、ホスマーＣＬ、ホスマーＭ、ホスマーＭＨ、およびそれらの重合体、ポリホスマーＭ−１０１、ポリホスマーＰＥ−２０１、ポリホスマーＭＨ−３０１などのようなリン酸基を有する化合物、例えばフェニルホスホン酸、デシルホスホン酸、メチレンジホスホン酸、ビニルホスホン酸、アリルホスホン酸などのようなホスホン酸基を有する化合物が挙げられる。
これらの官能基を選択することで、導電層形成用の塗布液を塗布後、金属ナノワイヤーと中間層に含まれる官能基とが相互作用を生じて、乾燥する際に金属ナノワイヤーが凝集するのを抑制し、金属ナノワイヤーが均一に分散された導電層を形成することができる。
【０１４６】
中間層は、中間層を構成する化合物が溶解した、もしくは分散、乳化した液を基板上に塗布し、乾燥することで形成することができ、塗布方法は一般的な方法を用いることができる。その方法としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、などが挙げられる。
【０１４７】
その他の層（機能層）：
本発明の導電性部材は、基板およびパターン層以外にその他の層（機能層）を有していてもよい。
機能層としては、例えば、粘着層等の絶縁膜、保護膜、下塗り層、密着層、クッション層、オーバーコート保護層、保護フィルム層、防汚層、撥水層、撥油層、ハードコート層、粘着層、バリア層などが挙げられる。
また、例えば、アンチグレア層、反射防止層、低反射層、λ／４層、偏光層、位相差層などを積層させることで、光学的な機能を付与することができる。これらは単層でもよく、複数を積層してもよい。
【０１４８】
本発明に係る導電性部材は、高い導電性と高い透明性を有すると共に、パターン見えが小さく、かつ、エレクトロケミカルマイグレーションによる絶縁不良を起こしづらいので、例えば、偏光板、円偏光板、タッチパネル、ディスプレイ用電極、電磁波シールド、有機ＥＬディスプレイ用電極、無機ＥＬディスプレイ用電極、電子パーパー、フレキシブルディスプレイ用電極、集積型太陽電池、液晶表示装置、タッチパネル機能付表示装置、その他の各種デバイスなどに幅広く適用される。これらの中でも、タッチパネルへの適用が特に好ましい。
【０１４９】
偏光板、円偏光板：
本発明の偏光板および円偏光板は、本発明の導電材料を有する以外は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。偏光板および円偏光板は、導電材料と、偏光膜とを有し、さらに必要に応じて保護フィルムを有する。好ましくは、導電材料が、偏光膜または保護フィルム上に積層されている態様である。
【０１５０】
偏光膜として一般的な直線偏光膜を用いることができる。偏光膜は延伸フィルムからなっていても、塗布により形成される層であってもよい。前者の例には、ポリビニルアルコールの延伸フィルムをヨウ素または二色性染料等で染色したフィルムが挙げられる。後者の例には、二色性液晶性色素を含む組成物を塗布して、所定の配向状態に固定した層が挙げられる。
保護フィルムとしては、波長５５０ｎｍの面内レターデーション値Ｒｅ（５５０）が、４０ｎｍ以下の透明材料を使用することが好ましい。
【０１５１】
タッチパネル：
本発明に係る導電性部材は、例えば、表面型静電容量方式タッチパネル、投射型静電容量方式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどに適用される。ここで、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサおよびタッチパッドを含むものとする。
前記タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成が、２枚の透明電極を貼合する貼合方式、１枚の基板の両面に透明電極を具備する方式、片面ジャンパー方式あるいはスルーホール方式あるいは片面積層方式のいずれかであることが好ましい。
【０１５２】
前記表面型静電容量方式タッチパネルについては、例えば特表２００７−５３３０４４号公報に記載されている。
【０１５３】
本発明の表示装置は、本発明の導電材料を有する以外は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【０１５４】
前記液晶表示装置は、カラーフィルタと、バックライトとを備え、さらに必要に応じてその他の部材を備えてなる。
前記液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、株式会社工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、前記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
前記液晶表示装置に用いられる液晶、即ち液晶化合物および液晶組成物については特に制限はなく、いずれの液晶化合物および液晶組成物をも使用することができる。
【実施例】
【０１５５】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、実施例中の含有率としての「％」、および、「部」は、いずれも質量基準に基づくものである。
以下の例において、金属ナノワイヤーの平均短軸長（平均直径）および平均長軸長、平均アスペクト比、並びに、短軸長の変動係数は、以下のようにして測定した。
【０１５６】
＜金属ナノワイヤーの平均短軸長（平均直径）、平均長軸長、および、平均アスペクト比＞
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用いて拡大観察される金属ナノワイヤーから、ランダムに選択した３００個の金属ナノワイヤーの短軸長（直径）と長軸長を測定し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長（平均直径）、平均長軸長を求めた。さらに、平均長軸長／平均短軸長の値を平均アスペクト比として求めた。
【０１５７】
＜金属ナノワイヤーの短軸長（直径）の変動係数＞
上記電子顕微鏡（ＴＥＭ）像からランダムに選択した３００個のナノワイヤーの短軸長（直径）を測定し、その３００個についての標準偏差と平均値を計算することにより、標準偏差を平均値で割った商として金属ナノワイヤーの短軸長（直径）の変動係数を求めた。
【０１５８】
調製例１：
―銀ナノワイヤー分散液（１）の調整―
予め、下記の添加液Ａ、Ｂ、Ｃ、および、Ｄを調製した。
〔添加液Ａ〕
ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド１２０ｍｇ、ステアリルトリメチルアンモニウムヒドロキシド６００ｍｇ、グルコース２．０ｇを蒸留水１２０．０ｇに溶解させ、反応溶液Ａ−１とした。さらに、硝酸銀粉末７０ｍｇを蒸留水２．０ｇに溶解させ、硝酸銀水溶液Ａ−１とした。反応溶液Ａ−１を２５℃に保ち、激しく攪拌しながら、硝酸銀水溶液Ａ−１を添加した。硝酸銀水溶液Ａ−１の添加後から１８０分間、激しい攪拌をし、添加液Ａとした。
〔添加液Ｂ〕
硝酸銀粉末４２．０ｇを蒸留水９５８ｇに溶解した。
〔添加液Ｃ〕
２５％アンモニア水７５ｇを蒸留水９２５ｇと混合した。
〔添加液Ｄ〕
ポリビニルピロリドン（Ｋ３０）４００ｇを蒸留水１．６ｋｇに溶解した。
【０１５９】
次に、以下のようにして、銀ナノワイヤー分散液（１）を調製した。ステアリルトリメチルアンモニウムブロミド粉末１．３０ｇと臭化ナトリウム粉末３３．１ｇとグルコース粉末１，０００ｇ、硝酸（１Ｎ）１１５．０ｇを８０℃の蒸留水１２．７ｋｇに溶解させた。この液を８０℃に保ち、５００ｒｐｍで攪拌しながら、添加液Ａを添加速度２５０ｍｌ／分、添加液Ｂを５００ｍｌ／分、添加液Ｃを５００ｍｌ／分で順次添加した。攪拌速度を２００ｒｐｍとし、８０℃で加熱をした。ついで、攪拌速度を２００ｒｐｍにしてから１００分間、加熱攪拌を続けた後に、２５℃に冷却した。その後、攪拌速度を５００ｒｐｍに変更し、添加液Ｅを５００ｍｌ／分で添加した。この液を仕込液１０１とした。
次に、１−プロパノールを激しく攪拌しながら、そこへ仕込液１０１を混合比率が体積比１対１となるように一気に添加した。得られた混合液を３分間攪拌し、仕込液１０２とした。
分画分子量１５万の限外濾過モジュールを用いて、限外濾過を次の通り実施した。仕込液１０２の濃度を４倍に濃縮した後、蒸留水と１−プロパノールの混合溶液（体積比１対１）の添加と濃縮を、最終的にろ液の伝導度が５０μＳ／ｃｍ以下になるまで繰り返した。得られたろ液を濃縮し、金属含有量０．４５％の銀ナノワイヤー分散液（１）を得た。
得られた銀ナノワイヤー分散液（１）の銀ナノワイヤーについて、前述のようにして平均短軸長、平均長軸長、銀ナノワイヤーの短軸長の変動係数、平均アスペクト比を測定した。
その結果、平均短軸長１８．６ｎｍ、平均長軸長８．２μｍ、変動係数が１５．０％であった。平均アスペクト比は４４０であった。以後、「銀ナノワイヤー分散液（１）」と表記する場合は、上記方法で得られた銀ナノワイヤー分散液を示す。
【０１６０】
調製例２：
―銀ナノワイヤー分散液（２）の調整―
プロピレングリコール３７０ｇに硝酸銀粉末６０ｇを溶解させ、硝酸銀溶液１０１を調製した。プロピレングリコール４．４５ｋｇにポリビニルピロリドン（分子量５５，０００）７２．０ｇを添加し、窒素ガスを容器の気相部分に通気しながら、９０℃に昇温した。この液を反応溶液１０１とした。窒素ガスの通気を保持したまま、激しく攪拌している反応溶液１０１へ硝酸銀溶液１０１を２．５０ｇ添加して、加熱攪拌を１分間行った。さらに、この溶液へテトラブチルアンモニウムクロリド１１．８ｇをプロピレングリコール１００ｇに溶解させた溶液を添加し、反応溶液２０２とした。
９０℃に保ち、攪拌速度５００ｒｐｍで攪拌している反応溶液２０２へ、硝酸銀溶液１０１を添加速度５０ｍｌ／分で２００ｇ添加した。攪拌速度を１００ｒｐｍに落とし、窒素ガスの通気を止めて、加熱攪拌を１５時間行った。９０℃に保ち、攪拌速度１００ｒｐｍで攪拌しているこの液へ、硝酸銀溶液１０１を添加速度０．５ｍｌ／分にて２２０ｇ添加し、添加終了後から２時間、加熱攪拌を続けた。攪拌速度を５００ｒｐｍに変更し、この液へ蒸留水１．０ｋｇを添加した後に、２５℃まで冷却して仕込液２０１を作製した。
分画分子量１５万の限外濾過モジュールを用いて、限外濾過を次の通り実施した。蒸留水と１−プロパノールの混合溶液（体積比１対１）の仕込液２０１への添加と濃縮を、最終的にろ液の伝導度が５０μＳ／ｃｍ以下になるまで繰り返した。得られたろ液を濃縮し、金属含有量０．４５％の銀ナノワイヤー分散液（２）を得た。
得られた銀ナノワイヤー分散液（２）の銀ナノワイヤーについて、前述のようにして平均短軸長、平均長軸長、銀ナノワイヤーの短軸長の変動係数、平均アスペクト比を測定した。
その結果、平均短軸長２８．５ｎｍ、平均長軸長１５．２μｍ、変動係数が１８．６％であった。平均アスペクト比は５３３であった。以後、「銀ナノワイヤー分散液（２）」と表記する場合は、上記方法で得られた銀ナノワイヤー分散液を示す。
【０１６１】
調製例３：
―銀ナノワイヤー分散液（３）の調整―
調製例１において、添加液Ａを使用しなかったこと以外は調製例１と同様にして、金属含有量０．４５％の銀ナノワイヤー分散液（３）を得た。
得られた銀ナノワイヤー分散液（３）の銀ナノワイヤーについて、前述のようにして平均短軸長、平均長軸長、銀ナノワイヤーの短軸長の変動係数、平均アスペクト比を測定した。
その結果、平均短軸長４７．２ｎｍ、平均長軸長１２．６μｍ、変動係数が２３．１％であった。平均アスペクト比は２６７であった。以後、「銀ナノワイヤー分散液（３）」と表記する場合は、上記方法で得られた銀ナノワイヤー分散液を示す。
【０１６２】
調製例４：
−ＰＥＴ基板１０１の作製−
下記の配合で接着用溶液１を調製した。
［接着用溶液１］
・タケラックＷＳ−４０００（コーティング用ポリウレタン、固形分濃度３０％、三井化学（株）製）  ５．３部
・界面活性剤（ナローアクティＨＮ−１００、三洋化成工業（株）製）  ０．２５部
・界面活性剤（サンデットＢＬ、固形分濃度４３％、三洋化成工業（株）製）０．３５部
・水  ９４．１部
【０１６３】
厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルムの一方の表面にコロナ放電処理を施し、このコロナ放電処理を施した表面に、上記の接着用溶液１を塗布し１２５℃で１．５分間乾燥させて、厚さが０．１１μｍの第１の接着層を形成した。
【０１６４】
以下の配合で、接着用溶液２を調製した。
［接着用溶液２］
・テトラエトキシシラン（ＫＢＥ−０４、信越化学工業（株）製）            ５．０部
・３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
（ＫＢＭ−４０３、信越化学工業（株）製）                                ３．１部
・２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
（ＫＢＭ−３０３、信越化学工業（株）製）                              １８．１部
・酢酸水溶液（酢酸濃度＝０．０５％、ｐＨ＝５．２）                    １０．０部
・硬化剤（ホウ酸、和光純薬工業（株）製）                                ０．８部
・コロイダルシリカ（スノーテックスＯ、平均粒子径１０ｎｍ〜２０ｎｍ、固形分濃度
２０％、ｐＨ＝２．６、日産化学工業（株）製）                          ６０．０部
・界面活性剤（ナローアクティＨＮ−１００、三洋化成工業（株）製）        ０．２部
・界面活性剤（サンデットＢＬ、固形分濃度４３％、三洋化成工業（株）製）  ０．２部
【０１６５】
接着用溶液２は、以下の方法で調製した。酢酸水溶液を激しく攪拌しながら、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを、この酢酸水溶液中に３分間かけて滴下した。次に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランを酢酸水溶液中に強く攪拌しながら３分間かけて添加した。次に、テトラエトキシシランを、酢酸水溶液中に強く攪拌しながら５分かけて添加し、その後２時間攪拌を続けた。次に、コロイダルシリカと、硬化剤と、界面活性剤とを順次添加し、接着用溶液２を調製した。
【０１６６】
前述の第１の接着層の表面をコロナ放電処理したのち、その表面に、上記の接着用溶液２をバーコート法により塗布し、１７０℃で１分間加熱して乾燥し、厚さ０．５μｍの第２の接着層を形成して、ＰＥＴ基板１０１を得た。
【０１６７】
調製例５：
−ガラス基板１００の作製−
水酸化ナトリウム１％水溶液に浸漬した厚み０．７μｍの無アルカリガラス基板を超音波洗浄機によって３０分間超音波照射し、ついでイオン交換水で６０秒間水洗した後２００℃で６０分間加熱処理を行った。その後、シランカップリング液（Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄してガラス基板１００を得た。以後、「ガラス基板１００」と表記する場合は、上記前処理で得られた無アルカリガラス基板を示す。
【０１６８】
調製例６：
―導電性部材（１）の作製―
下記組成のゾルゲル溶液（１）を６０℃で１時間撹拌して均一になったことを確認した。得られたゾルゲル溶液の重量平均分子量（Ｍｗ）をＧＰＣ（ポリスチレン換算）で測定したところ、Ｍｗは４，４００であった。ゾルゲル溶液２．２４部と銀ナノワイヤー分散液（１）１７．７６部を混合し、さらに蒸留水と１−プロパノールで希釈してゾルゲル塗布液を得た。得られたゾルゲル塗布液の溶剤比率は蒸留水：１−プロパノール＝６０：４０であった。上記のＰＥＴ基板１０１の第２の接着層の表面にコロナ放電処理を施し、その表面にバーコート法で銀量が０．０１５ｇ／ｍ2、全固形分塗布量が０．１２０ｇ／ｍ2となるように上記ゾルゲル塗布液を塗布したのち、１００℃で１分間乾燥してゾルゲル反応を起こさせて、導電層を形成した。かくして、導電性部材（１）を得た。
【０１６９】
＜ゾルゲル溶液（１）＞
・テトラエトキシシラン（ＫＢＥ−０４、信越化学工業（株）製）  ５．０部
・１％酢酸水溶液                                            １１．０部
・蒸留水                                                      ４．０部
【０１７０】
調製例７：
―導電性部材（２）の作製―
調製例６において、銀ナノワイヤー分散液（１）の代わりに銀ナノワイヤー分散液（２）を使用したこと以外は調製例６と同様にして、導電性部材（２）を得た。
【０１７１】
調製例８：
―導電性部材（３）の作製―
調製例６において、銀ナノワイヤー分散液（１）の代わりに銀ナノワイヤー分散液（３）を使用したこと以外は調製例６と同様にして、導電性部材（３）を得た。
【０１７２】
調製例９：
―導電性部材（４）の作製―
銀ナノワイヤー分散液（１）と、ヒドロキシエチルセルロースとの質量比（銀ナノワイヤー／ヒドロキシエチルセルロース）を１／１となるように混合し、導電性組成物（４）を作製した。厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルムの一方の表面にコロナ放電処理を施し、その表面に、バーコーターを用いて、銀量が０．０１５ｇ／ｍ2となるように、前記導電性組成物（４）を塗布し、１００℃で２分間乾燥させ、導電性部材（４）を得た。
【０１７３】
調製例１０：
―パターニング導電性部材（Ｐ−１）の作製―
＜感光性組成物（１）の調製＞
共重合体を構成するモノマー成分として、メタクリル酸（ＭＡＡ）（７．８ｇ）、ベンジルメタクリレート（ＢｚＭＡ）（３７．２ｇ）を使用し、ラジカル重合開始剤としてＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル、０．５ｇ）を使用し、これらを溶剤ＰＧＭＥＡ（５５．０ｇ）中において重合反応させることによりバインダー（Ａ−１）のＰＧＭＥＡ溶液（固形分濃度：４５質量％）を得た。なお、重合温度は、温度６０℃から１００℃に調整した。
分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィ法（ＧＰＣ）を用いて測定した結果、ポリスチレン換算による重量平均分子量（Ｍｗ）は３０，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．２１であった。
バインダー（Ａ−１）４．２部（固形分４０．０質量％、ＰＧＭＥＡ溶液）、感光性化合物としてのＴＡＳ−２００（エステル化率６６％、東洋合成株式会社製）０．９５部、架橋剤としてのＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学株式会社製）０．８０部、およびＰＧＭＥＡ  １９．０部を加え、攪拌し、感光性組成物（１）を調製した。
【０１７４】
＜＜レジストパターニング＞＞
導電性部材（１）上に、感光性組成物（１）を乾燥膜厚５μｍとなるようバーコート法により塗布し、１００℃のオーブンで１分間乾燥した。この基板に露光マスク（フォトマスク）の上から、高圧水銀灯ｉ線（３６５ｎｍ）を６０ｍＪ／ｃｍ2の強度（照度２０ｍＷ／ｃｍ2）で照射し露光を行った。露光後の基板を、２．４１％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液でシャワー現像６０秒間を行った。シャワー圧は０．０４ＭＰａ、ストライプパターンが出現するまでの時間は３０秒であった。純水のシャワーでリンスした後、５０℃で１分間乾燥し、パターニングレジスト付導電性部材（１）を作製した。また、露光マスクは、ライン／スペースが１００／１００μｍ、細線長さが１．５ｃｍとした。
【０１７５】
＜＜エッチング＞＞
パターニングレジスト付導電性部材（１）を、３０℃、１．０％の硝酸、１．０％Ｆｅ（III）−ＥＤＴＡ、１．０％チオ硫酸アンモニウム、の混合水溶液に浸漬させ、エッチングを行い、純水のシャワーでリンスした後、５０℃で１分間乾燥し、レジスト付パターニング導電性部材（１）を作製した。
【０１７６】
＜＜光散乱性層の形成＞＞
下記ゾルゲル溶液（２）と、シリカ微粒子分散物（シーホスターＫＥ−Ｗ５０、（株）日本触媒製、平均粒子径０．４５〜０．５５μｍ、固形分濃度２０％）を、質量比でテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）：ＳｉＯ2（微粒子分散物由来のもの）＝７：１となるよう混合し、得られた混合液をレジスト付パターニング導電性部材（１）上にシリカ微粒子量が１ｍｇ／ｍ2となるようにバーコートし、１２０℃で３分間乾燥した。さらに、露光マスクをせず、高圧水銀灯ｉ線（３６５ｎｍ）を１００ｍＪ／ｃｍ2の強度（照度２０ｍＷ／ｃｍ2）で照射し、露光を行った。露光後の基板を、２．４０％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液でシャワー現像７５秒間を行った。シャワー圧は０．０５ＭＰａであった。純水のシャワーでリンスした後、５０℃で１分間乾燥し、パターニング導電性部材（Ｐ−１）を作製した。
【０１７７】
＜ゾルゲル溶液（２）＞
下記組成のゾルゲル溶液（２）を６０℃で１時間撹拌して均一になったことを確認し、ゾルゲル溶液（２）とした。
・テトラエトキシシラン（ＫＢＥ−０４、信越化学工業（株）製）  ５．１部
・１％酢酸水溶液                                            １０．５部
・蒸留水                                                      ４．４部
【０１７８】
調製例１１：
―パターニング導電性部材（Ｐ−２）の作製―
調製例１０において、シリカ微粒子の代わりに酸化チタン微粒子（ＦＴＬ−３００、石原産業（株）製、平均短軸長０．２７μｍ、平均長軸長５．１５μｍ）を用いたこと以外は、調製例１０と同様にして、パターニング導電性部材（Ｐ−２）を作製した。
【０１７９】
調製例１２：
―パターニング導電性部材（Ｐ−３）の作製―
調製例１０において、シリカ微粒子の代わりに酸化ジルコニア微粒子（ＺＲ−３０ＡＬ、日産化学工業（株）製、平均粒径０．０７〜０．１１μｍ）を用いたこと以外は、調製例１０と同様にして、パターニング導電性部材（Ｐ−３）を作製した。
【０１８０】
調製例１３：
―パターニング導電性部材（Ｐ−４）の作製―
調製例１０において、シリカ微粒子の代わりにアルミナ微粒子（Ａ３３Ｆ、日本軽金属（株）製、平均粒径０．７μｍ）を用いたこと以外は、調製例１０と同様にして、パターニング導電性部材（Ｐ−４）を作製した。
【０１８１】
調製例１４：
―パターニング導電性部材（Ｐ−５）の作製―
調製例１０において、導電性部材（１）の代わりに導電性部材（２）を使用したこと以外は、調製例１０と同様にして、パターニング導電性部材（Ｐ−５）を作製した。
【０１８２】
調製例１５：
―パターニング導電性部材（Ｐ−６）の作製―
調製例１０において、導電性部材（１）の代わりに導電性部材（３）を使用したこと以外は、調製例１０と同様にして、パターニング導電性部材（Ｐ−６）を作製した。
【０１８３】
調製例１６：
―パターニング導電性部材（Ｐ−Ｃ１）およびパターニング導電性部材（Ｐ−７）の作製―
＜＜パターニング＞＞
導電性部材（１）を用いて、以下の方法によりパターニング処理を行った。スクリーン印刷は、ミノグループ社製のバキューム式刷台（ＷＨＴ−３型）とスキージＮｏ．４イエローを使用した。パターンを形成するための銀ナノワイヤーの溶解液は、現像剤ＣＰ−４８Ｓ−Ａ液と、現像剤ＣＰ−４８Ｓ−Ｂ液（いずれも、富士フイルム社製）と、純水とを１：１：１となるように混合し、ここへヒドロキシエチルセルロースを添加することにより増粘させて形成し、スクリーン印刷用のインクとした。使用したパターンメッシュはストライプパターン（ライン／スペース＝１００μｍ／１００μｍ）を用いた。パターン印刷後、１５秒間静置した後に、純水（シャワー圧０．０４ＭＰａ）でリンスした。エアスプレーにて水滴を飛ばし、５０℃で１分間、乾燥させた。得られた膜をパターニング導電性部材（Ｐ−Ｃ１）とした。
【０１８４】
＜＜光散乱性層の形成＞＞
下記ゾルゲル溶液（３）と、シリカ微粒子分散物（シーホスターＫＥ−Ｗ５０、（株）日本触媒製、平均粒子径０．４５〜０．５５μｍ、固形分濃度２０％）を、質量比でテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）：ＳｉＯ2（微粒子分散物由来のもの）＝７：１となるよう混合したものをスクリーン印刷用のインクとし、上記パターニング工程と同じ装置、同じパターンメッシュを使用して、パターニング導電性部材（Ｐ−Ｃ１）の非導電層（導電層から銀ナノワイヤーを溶解させて取り除いた層）の上に微粒子量１ｍｇ／ｍ2となるようにパターン印刷した。１２０℃で３分間乾燥し、パターニング導電性部材（Ｐ−７）とした。
【０１８５】
＜ゾルゲル溶液（３）＞
下記組成のゾルゲル溶液（３）を６０℃で６時間撹拌して均一になったことを確認し、ゾルゲル溶液（３）とした。
・テトラエトキシシラン（ＫＢＥ−０４、信越化学工業（株）製）５．１部
・１％酢酸水溶液                                          １０．５部
・蒸留水                                                    ４．４部
【０１８６】
調製例１７：
―パターニング導電性部材（Ｐ−８）の作製―
調製例１６において、導電性部材（１）の代わりに導電性部材（４）を使用したこと以外は、調製例１６と同様にパターニングおよび光散乱性層の形成を行い、パターニング導電性部材（Ｐ−８）を得た。
【０１８７】
調製例１８：
―パターニング導電性部材（Ｐ−９）の作製―
＜＜銀ナノワイヤーＰＧＭＥ分散液の作製＞＞
銀ナノワイヤー分散液（１）を遠心分離の後、デカンテーションにより上澄みを除去し、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を添加して、再分散を行い、その操作を３回繰り返し、金属含有量２．０％の銀ナノワイヤーＰＧＭＥ分散液（１）を得た。
【０１８８】
＜＜感光性組成物（２）の作製＞＞
メタノール１６７ｇ、酢酸エチル３３３ｇ、メタクリル酸２０．０ｇ、ベンジルメタクリレート１３０ｇ、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＣ−１１０Ｓ（日本化薬株式会社製）  ３０．０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０．０ｇ、アゾビスイソブチロニトリル１．０ｇ、およびチオグリコール酸３．０ｇを混合攪拌し、６５℃で６時間重合させた。この重合後の溶液にシクロヘキサン３，０００ｇを加え、ポリマーを析出させ、上澄みをデカンテーションで除いた後、４０℃で２０時間真空乾燥して、１３８ｇのポリマーを合成した。
得られたポリマーは、メタクリル酸２３モル％、ベンジルメタクリレート５６モル％、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＣ−１１０Ｓ  ８モル％、および２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３モル％からなるランダム共重合体であった。
【０１８９】
得られたポリマーについて、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を溶媒としてゲルパーミッションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリエチレンオキサイド換算の重量平均分子量は、７，０００であった。
次に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３．３０ｇに上記ポリマー０．４６ｇ、Ｍ−４００（東亜合成株式会社製）  ０．４６ｇ、４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン０．０４６ｇ、３，４，４'−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンの２５％トルエン溶液０．１８２ｇ、ＢＹＫ−３００（ビックケミー・ジャパン株式会社製）  ２．０ｍｇを加えて混合攪拌し、ポリマー溶液を調製した。
上記ポリマー溶液を撹拌しながら、ゆっくりと銀ナノワイヤーＰＧＭＥ分散液（１）を２０．０ｇ滴下し、感光性組成物（２）を作製した。
【０１９０】
＜＜パターニング導電性部材（Ｐ−９Ｐ）の作製＞＞
ガラス基板１００上に感光性組成物（２）をスリット塗布し、９０℃のホットプレート上で２分間乾燥し、プリベークした。このガラス基板に露光マスク（ストライプパターン：ライン／スペース＝１００μｍ／１００μｍ）の上から、高圧水銀灯ｉ線（３６５ｎｍ）を１００ｍＪ／ｃｍ2の強度（照度２０ｍＷ／ｃｍ2）で照射し、露光を行った。露光後のガラス基板を、純水５，０００ｇに炭酸水素ナトリウム５．０ｇと炭酸ナトリウム２．５ｇとを溶解した現像液でシャワー現像３０秒間を行った。シャワー圧は０．０４ＭＰａ、ストライプパターンが出現するまでの時間は１５秒であった。純水のシャワーでリンスした後、２００℃で１０分間ポストベークし、パターニング導電性部材（Ｐ−９Ｐ）を作製した。
【０１９１】
＜＜光散乱性層の形成＞＞
感光性組成物（２）の作製において、銀ナノワイヤーＰＧＭＥ分散液（１）の代わりに酸化チタン微粒子（ＦＴＬ−３００、石原産業（株）製、平均短軸長０．２７μｍ、平均長軸長５．１５μｍ）の１．０％ＰＧＭＥ分散液を用いたこと以外は、感光性組成物（２）の作製と同様にして、感光性組成物（３）を作製した。
さらに、パターニング導電性部材（Ｐ−９Ｐ）の導電層を設けた面上に感光性組成物（３）をスリット塗布し、９０℃のホットプレート上で２分間乾燥し、プリベークした。この基板に、パターニング導電性部材（Ｐ−９Ｐ）の作製で使用したマスクとはネガ−ポジ反転した露光マスクを、パターニング導電性部材（Ｐ−９Ｐ）の導電性部（露光部）を露光しない位置にセットし、高圧水銀灯ｉ線（３６５ｎｍ）を１００ｍＪ／ｃｍ2の強度（照度２０ｍＷ／ｃｍ2）で照射し、露光を行った。露光後、純水５，０００ｇに炭酸水素ナトリウム５．０ｇと炭酸ナトリウム２．５ｇを溶解した現像液でシャワー現像３０秒間（シャワー圧は０．０４ＭＰａ）を行った。純水のシャワーでリンスした後、２００℃で１０分間ポストベークし、パターニング導電性部材（Ｐ−９）を作製した。
【０１９２】
調製例１９：
―パターニング導電性部材（Ｐ−Ｃ２）の作製―
調製例１０のパターニング導電性部材（Ｐ−１）の作製において、＜＜エッチング＞＞工程の代わりに、下記の＜＜エッチング２＞＞の工程を行い、＜＜光散乱性層の形成＞＞工程の代わりに、下記の＜＜現像＞＞工程を行ったこと以外は、調製例１０と同様にして、パターニング導電性部材（Ｐ−Ｃ２）を得た。
【０１９３】
＜＜エッチング２＞＞
パターニングレジスト付導電性部材（１）を、蒸留水１０部、３７％塩酸３．１部、塩化銅（ＩＩ）２水和物４．１部からなる混合溶液に浸漬させて、部分エッチングを行い、純水のシャワーでリンスした後、５０℃で１分間乾燥し、レジスト付パターニング導電性部材（Ｐ−Ｃ２）を作製した。
【０１９４】
＜＜現像＞＞
レジスト付パターニング導電性部材（Ｐ−Ｃ２）に、マスクをせず、高圧水銀灯ｉ線（３６５ｎｍ）を１００ｍＪ／ｃｍ2の強度（照度２０ｍＷ／ｃｍ2）で照射し、露光を行った。露光後の基板を、２．４０％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液でシャワー現像７５秒間を行った。シャワー圧は０．０５ＭＰａであった。純水のシャワーでリンスした後、５０℃で１分間乾燥し、パターニング導電性部材（Ｐ−Ｃ２）を作製した。
【０１９５】
調製例２０：
―パターニング導電性部材（Ｐ−Ｃ３）の作製―
導電性部材（１）の導電層を設けた表面に、開口部／非開口部＝１００μｍ／１００μｍのストライプパターンを設けた厚さ２５０μｍのＰＥＴフィルムを密着させて貼り、コロナ表面改質評価装置（春日電機(株)製、ＴＥＣ−４ＡＸ）でコロナ処理（出力１５０Ｗ、電極距離１ｍｍ、スキャン４ｍ／分×１回）を行った。密着させたＰＥＴベースを剥がし、パターニング導電性部材（Ｐ−Ｃ３）を得た。
【０１９６】
調製例２１：
―パターニング導電性部材（Ｐ−１０）の作製―
調製例１８において、パターニング導電性部材（Ｐ−９Ｐ）の作製に用いる感光性組成物（２）中の銀ナノワイヤーＰＧＭＥ分散液（１）の代わりに酸化チタン微粒子（ＦＴＬ−３００、石原産業（株）製、平均短軸長０．２７μｍ、平均長軸長５．１５μｍ）の１．０％ＰＧＭＥ分散液を用い、また、光散乱性層の形成に用いられる感光性組成物（３）中の酸化チタン微粒子（ＦＴＬ−３００、石原産業（株）製、平均短軸長０．２７μｍ、平均長軸長５．１５μｍ）の１．０％ＰＧＭＥ分散液の代わりに銀ナノワイヤーＰＧＭＥ分散液（１）を用いたこと以外は、調製例１８と同様にして、パターニング導電性部材Ｐ−１０を作製した。
【０１９７】
調製例２２：
―パターニング導電性部材（Ｐ−１１）の作製―
調製例６の導電性部材（１）の作製方法において、ゾルゲル溶液２．２４部と銀ナノワイヤー分散液（１）１７．７６部に加えて、シリカ微粒子分散物（シーホスターＫＥ−Ｗ５０、（株）日本触媒製、平均粒子径０．４５〜０．５５μｍ、固形分濃度２０％）を０．００１４部添加したこと以外は調製例６と同様にして、導電性部材（１１）を作製した。導電性部材（１１）には、銀量が１５ｍｇ／ｍ2、シリカ微粒子が０．０５５ｍｇ／ｍ2含有していた。なお、シリカ微粒子の含有量は、光学顕微鏡で単位面積あたりの個数をカウントし、（微粒子の平均体積（０．１２５μｍ3））×（微粒子の比重（２．２ｇ／ｃｍ3））×（単位面積あたりの個数）の式によって算出した。
さらに調製例１０のパターニング導電性部材（Ｐ−１）の作製において、導電性部材（１）の代わりに、上記導電性部材（１１）を用いたこと以外は調製例１０と同様にして、パターニング導電性部材（Ｐ−１１）を作製した。
パターニング導電性部材（Ｐ−１１）の光散乱性層には、シリカ微粒子が１．０ｍｇ／ｍ2含有しており、光散乱性微粒子が導電層に、光散乱性層中の光散乱性微粒子に対して５．５％含まれていた。
【０１９８】
作製したパターニング導電性部材の構成を下記表に示した。なお、光散乱性層の金属ナノワイヤー含有率は、以下のようにして測定した。
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＳＭ−６５００Ｆ）を用いて、拡大観察される光散乱性層のうち、１０ｃｍ×１０ｃｍ以上のサンプルのランダムに選択した５箇所以上の領域から合計４０，０００μｍ2以上を観察し、アスペクト比５以上の金属ナノワイヤーの個数をカウントして、面積当たりの平均個数を求めた。さらに、導電層中の金属ナノワイヤーの面積当たりの平均個数を同様に求め、その比率から、光散乱性層の金属ナノワイヤー含有率（（単位面積あたりの光散乱性層中金属ナノワイヤー個数）／（単位面積あたりの導電層中金属ナノワイヤー個数））を求めた。
【０１９９】
また、同様に導電層中の光散乱性微粒子含有率は以下のようにして測定した。
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＳＭ−６５００Ｆ）を用いて、拡大観察される導電層のうち、１０ｃｍ×１０ｃｍ以上のサンプルのランダムに選択した５箇所以上の領域から合計４０，０００μｍ2以上を観察し、光散乱性微粒子個数をカウントして、面積当たりの平均個数を求めた。さらに、光散乱性層中の光散乱性微粒子の面積当たりの平均個数を同様に求め、その比率から、導電層の光散乱性微粒子含有率（（単位面積あたりの導電層中光散乱性微粒子個数）／（単位面積あたりの光散乱性層中光散乱性微粒子個数））を求めた。
【０２００】
さらに、本実施例において作製したパターニング導電性部材の導電層または光散乱性層（または非導電層）の厚みは、共焦点レーザー走査顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ社製  ＶＫ−８５１０）を使用して、高さ方向分解能０．０１μｍ、測定領域約３００μｍ×２００μｍの条件で５視野撮影し、導電層または光散乱性層（または非導電層）の平均厚みを測定した。なお、導電性粒子または光散乱性粒子の存在する領域は、粒子の存在しない領域に比べて凸になっており、厚みが高くなっていることがあるが、それらの粒子の厚み分も含めて平均厚みを測定した。
【０２０１】
【表１】
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【０２０２】
＜＜評価＞＞
得られた各導電性部材について、表面抵抗、光学特性（全光線透過率、ヘイズ）、パターン形状視認性、耐マイグレーション性を評価した。
【０２０３】
＜表面抵抗値＞
導電層の導電性領域の表面抵抗を、三菱化学株式会社製Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ  ＭＣＰ−Ｔ６００を用いて測定した。測定は１０ｃｍ×１０ｃｍのサンプルのランダムに選択した５箇所の導電性領域の中央部を測定し平均値を求めた。
【０２０４】
＜光学特性（全光線透過率）＞
ガードナー社製のヘイズガードプラスを用いて、Ｃ光源下のＣＩＥ視感度関数ｙについて、測定角０°で全光線透過率を測定した。１０ｃｍ×１０ｃｍのサンプルのランダムに選択した５箇所の平均値を全光線透過率として採用した。
【０２０５】
＜光学特性（ヘイズ）＞
ガードナー社製のヘイズガードプラスを用いてヘイズを測定した。測定は、まず、パターニング導電性部材のストライプパターンと同じパターンを有するフォトマスクをブランクとして測定した。次に、導電層または光散乱性層のいずれかをフォトマスクで遮蔽するように重ねて密着させ、その状態で測定を行った。フォトマスクの位置合わせには、光学顕微鏡を用いた。１０回の測定の平均値を導電層領域または光散乱性層領域のヘイズとして採用した。
【０２０６】
＜パターン形状視認性＞
黒い紙の上に、パターニング導電性部材を、ストライプの長手方向が視線と垂直になるように置き、パターニング導電性部材面に対して斜め４５°から見た時のパターン視認性を下記基準で評価した。
〔評価基準〕
３：導電パターンを殆ど認識できない。
２：導電パターンがあることがわかる。
１：導電パターンがあることが明瞭にわかる。
【０２０７】
＜耐マイグレーション性＞
パターニング導電性部材を、４０℃/７０％ＲＨ（相対湿度）の環境下で、隣り合う電極間で直流３Ｖの電圧を２４時間印加し続け、印加前の抵抗値をＲ０、印加後の抵抗値をＲとして、下記のランク付けを行った。なお、ランクの数字は大きいほど性能が良いことを示しており、ランク３以上では実用上問題の無いレベルである。
〔評価基準〕
５：  Ｒ/Ｒ０が１．１以下、０．９以上
４：  Ｒ/Ｒ０が１．１を超えて１．２以下、または０．８以上０．９未満
３：  Ｒ/Ｒ０が１．２を超えて１．３以下、または０．７以上０．８未満
２：  Ｒ/Ｒ０が１．３を超えて１．５以下、または０．６以上０．７未満
１：  Ｒ/Ｒ０が１．５以上、または０．６未満
【０２０８】
【表２】
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【０２０９】
表から、金属ナノワイヤーを含む導電層および絶縁性の光散乱性微粒子を有する光散乱性層を有する実施例は、導電層と光散乱性層との間のヘイズ値の比率が小さく、マイグレーションを起こしにくいことがわかる。また、表のＰ−１とＰ−２の比較により、光散乱性層の金属ナノワイヤーの本数が、導電層の単位面積あたりの金属ナノワイヤーの本数に対して５％以下であり、且つ導電層の単位面積あたりの光散乱性微粒子の個数が光散乱性層の単位面積あたりの光散乱性微粒子の個数に対して５％以下である実施例は、よりヘイズ値の差が小さく、パターン見えがしづらいことがわかる。
一方、比較例は、導電層と光散乱性層との間のヘイズ値の比率およびマイグレーションの少なくともいずれかが実施例と比較して劣ることがわかる。
【０２１０】
−タッチパネルの作製−
導電性部材（１）を用いて、以下の方法によりパターニング処理を行った。スクリーン印刷は、ミノグループ社製のバキューム式刷台（ＷＨＴ−３型）とスキージＮｏ．４イエローを使用した。パターニングを形成するための銀ナノワイヤーの溶解液は、現像剤ＣＰ−４８Ｓ−Ａ液と、現像剤ＣＰ−４８Ｓ−Ｂ液（いずれも、富士フイルム社製）と、純水とを１：１：１となるように混合し、得られた混合液にヒドロキシエチルセルロースを添加することにより増粘させて形成し、スクリーン印刷用インクとした。スクリーン印刷用メッシュパターンを使用して導電性部材（１）に前記スクリーン印刷用インクをパターン印刷した。パターン印刷後、１５秒間静置した後に、純水（シャワー圧０．０４ＭＰａ）でリンスした。エアスプレーにて水滴を飛ばし、５０℃で１分間、乾燥させた。得られたパターニングされた導電性部材（１）を用いて『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行、株式会社テクノタイムズ）、三谷雄二監修、"タッチパネルの技術と開発"、シーエムシー出版（２００４年１２月発行）、「ＦＰＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ２００９  Ｆｏｒｕｍ  Ｔ−１１講演テキストブック」、「Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  アプリケーションノートＡＮ２２９２」等に記載の方法により、タッチパネルを作製した。なお、スクリーン印刷用メッシュパターンのパターン形状も、タッチパネルの作製に用いた前記参考文献に従った。
作製したタッチパネルを使用した場合、低いヘイズのために導電層と非導電層の区別がつきづらく、かつ低い抵抗のために素手、手袋を嵌めた手、指示具のうち少なくとも一つによる文字等の入力または画面操作に対し応答性に優れるタッチパネルを製作できることが分かった。
【符号の説明】
【０２１１】
１００    導電層
１５０    光散乱性層
２００    支持体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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