(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子材料で作製されたバルーンを含むバルーンカテーテルであって、前記バルーンは表面を有し、前記表面は、式：
【化１】
0005937217.tif 000025
（式中、
Ｒ1はＨであり；
Ｒ2はＨ、Ｚ基から選択され、前記Ｚ基は−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒa、−Ｓ（Ｏ）2ＮＨ−Ｒaおよび−Ｐ（Ｏ）2ＮＨ−Ｒaから選択され（式中Ｒaは、１以上の−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3、−ＰＯ4、−ＮＨ2、及び−ＮＨ4＋からなる群から選ばれる極性官能基または−（ＣＦ2）m−ＣＦ3ペルフルオロアルキル基（式中ｍは１〜７０）で置換されていてもよいＣ1−Ｃ4直鎖または分岐飽和アルキル鎖であるか；またはＲaは−（ＣＨＲＣＨ2Ｏ）n−Ｘ（式中ｎは１〜７０であり、ＲはＨまたは−ＣＨ3であり、ＸはＨ、飽和分岐若しくは直鎖Ｃ1−Ｃ4アルキル鎖または−（ＣＨ2）p−Ｏ−（ＣＨ2）q−Ｗ基（式中ＷはＨ、−ＣＨ3または−ＮＨ2であり、ｐとｑは独立して１〜３０である）から選択される）か；またはＲaはＣ1−Ｃ70直鎖若しくは分岐飽和アルキル鎖または芳香族化合物である）；
Ｒ3は−ＮＯ2または上記定義のＺ基から選択される）
の共有結合基を含むことを特徴とする、バルーンカテーテル。
【請求項２】
Ｒa中の前記直鎖または分岐飽和アルキル鎖が炭化水素鎖、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリオレフィンを含む群より選択される、請求項１に記載のバルーンカテーテル。
【請求項３】
Ｒaの芳香族基がキシレン、ポリスチレンおよびアクリロニトリルブタジエンスチレンを含む群より選択される、請求項１または２のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項４】
Ｒa中の前記ペルフルオロアルキル基が式−（ＣＦ2）nＣＦ3（式中、ｎ＝１〜７０である）のものである、請求項１〜３のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項５】
前記ペルフルオロアルキル基がポリテトラフルオロエチレンである、請求項１または４のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項６】
式：
【化２】
0005937217.tif 000026
の化合物において、Ｒ1とＲ2はＨであり、Ｒ3は−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒa、−Ｓ（Ｏ）2ＮＨ−Ｒaおよび−Ｐ（Ｏ）2ＮＨ−Ｒaから選択されるＺ基（式中、Ｒaは、１以上の−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3、−ＰＯ4、−ＮＨ2、及び−ＮＨ4＋からなる群から選ばれる極性官能基または−（ＣＦ2）m−ＣＦ3ペルフルオロアルキル基（式中、ｍは１〜７０である）で置換されていてもよいＣ1−Ｃ4直鎖または分岐飽和アルキル鎖であるか；またはＲaは−（ＣＨＲＣＨ2Ｏ）n−Ｘ（式中、ｎは１〜７０であり、ＲはＨまたは−ＣＨ3であり、ＸはＨ、飽和分岐若しくは直鎖Ｃ1−Ｃ4アルキル鎖または−（ＣＨ2）p−Ｏ−（ＣＨ2）q−Ｗ基（式中、ＷはＨ、−ＣＨ3または−ＮＨ2であり、ｐとｑは独立して１〜３０である）から選択される）であるか；またはＲaはＣ1−Ｃ70直鎖若しくは分岐飽和アルキル鎖または芳香族化合物である）である、請求項１に記載のバルーンカテーテル。
【請求項７】
式：
【化３】
0005937217.tif 000027
の化合物において、Ｒ1はＨであり、Ｒ2はＣ（Ｏ）ＮＨ−Ｒa、−Ｓ（Ｏ）2ＮＨ−Ｒaおよび−Ｐ（Ｏ）2ＮＨ−Ｒaから選択されるＺ基（式中、Ｒaは１以上の−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3、−ＰＯ4、−ＮＨ2、及び−ＮＨ4＋からなる群から選ばれる極性官能基または−（ＣＦ2）m−ＣＦ3ペルフルオロアルキル基（式中、ｍは１〜７０である）で置換されていてもよいＣ1−Ｃ4直鎖または分岐飽和アルキル鎖であるか；またはＲaは−（ＣＨＲＣＨ2Ｏ）n−Ｘ（式中、ｎは１〜７０であり、ＲはＨまたは−ＣＨ3であり、ＸはＨ、飽和分岐若しくは直鎖Ｃ1−Ｃ4アルキル鎖または−（ＣＨ2）p−Ｏ−（ＣＨ2）q−Ｗ基（式中、ＷはＨ、−ＣＨ3または−ＮＨ2であり、ｐとｑは独立して１〜３０である）から選択される）であるか；またはＲaはＣ1−Ｃ70直鎖若しくは分岐飽和アルキル鎖または芳香族化合物であり；Ｒ3は−ＮＯ2である）である、請求項１に記載のバルーンカテーテル。
【請求項８】
前記Ｚ基中のＲaが−（ＣＨ2ＣＨ2）ＯＨ、−（ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2）ＯＨ、−Ｃ（ＣＨ2ＯＨ）3、−（ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）9−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3、−（ＣＨ2）（ＣＦ2）7ＣＦ3から選択される、請求項１〜７のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項９】
高分子材料が、一般式：
H-(O-PF-OOC-PA-COO-PF-OOC-PA-CO)n-OH
（式中、ＰＡはポリアミドセグメントであり、ＰＦはＯＨ末端基ダイマージオールポリエステルを含むジオールセグメントであり、ｎは５〜２０の間である）のポリアミド系コポリマーと、以下の式（１）のアミノカルボン酸と以下の式（２）のラクタムを含む群において選択されるブロック化合物を形成するポリアミドを以下の式（３）のポリエーテルジアミントリブロックと以下の式（４）のジカルボン酸を重合化させて得られるエラストマー
【化４】
0005937217.tif 000028
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれその中に炭化水素鎖を含む連結基であり、１以上のアミド基により中断され得、Ｒ１とＲ２は独立して２〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基とアミド結合を含み、Ｒ３は１〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基を含み、ｘは１〜２０に変化し得、ｙは４〜５０に変化し得、ｚは１〜２０に変化し得、ｍは０または１である）とを含む群において選択される、請求項１〜８のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項１０】
前記表面が親水基を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項１１】
前記表面が疎水基を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項１２】
前記表面が前記バルーンの外表面である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項１３】
前記表面が前記バルーンの内表面である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項１４】
前記表面が前記バルーンの内表面および外表面である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項１５】
前記表面が前記バルーンの外表面であり、少なくとも１つの活性物質が前記外表面の少なくとも一部分に結合する、請求項１〜９のいずれか一項に記載のバルーンカテーテル。
【請求項１６】
前記活性物質が前記バルーン外表面に直接結合する、請求項１５に記載のバルーンカテーテル。
【請求項１７】
前記活性物質が、前記活性物質を連結または包含するのに適した架橋物質により前記バルーン外表面に結合される、請求項１５に記載のバルーンカテーテル。
【請求項１８】
請求項１〜１７のバルーンカテーテルのバルーン表面を改質する方法であって、
a)  式（Ｉ）：
【化５】
0005937217.tif 000029
（式中、
Ｒ1はＨであり；
Ｒ2はＨ、Ｚ基より選択され、前記Ｚ基は−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒa、−Ｓ（Ｏ）2ＮＨ−Ｒaおよび−Ｐ（Ｏ）2ＮＨ−Ｒa（式中、Ｒaは、１以上の−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3、−ＰＯ4、−ＮＨ2、及び−ＮＨ4＋からなる群から選ばれる極性官能基または−（ＣＦ2）m−ＣＦ3ペルフルオロアルキル基（式中ｍは１〜７０）で置換されていてもよいＣ1−Ｃ4直鎖または分岐飽和アルキル鎖であるか；またはＲaは−（ＣＨＲＣＨ2Ｏ）n−Ｘ（式中、ｎは１〜７０であり、ＲはＨまたは−ＣＨ3であり、ＸはＨ、飽和分岐若しくは直鎖Ｃ1−Ｃ4アルキル鎖または−（ＣＨ2）p−Ｏ−（ＣＨ2）q−Ｗ基（式中、ＷはＨ、−ＣＨ3または−ＮＨ2であり、ｐとｑは独立して１〜３０である）から選択される）であるか；またはＲaはＣ1−Ｃ70直鎖若しくは分岐置換アルキル鎖または芳香族化合物であり；Ｒ3は−ＮＯ2または上記定義のＺ基である）から選択される）の化合物の溶液を適切な溶媒中で準備するステップ；
ｂ）前記バルーン表面をステップａ）で準備した溶液と接触させるステップ；
ｃ）ステップｂ）で得られたバルーン表面を前記表面を光活性化することができる放射線で照射するステップ、
を含む方法。
【請求項１９】
式（Ｉ）の前記化合物が、Ｎ−（トリス（ヒドロキシメチル）−４−アジドベンゼンスルホニルアミド、Ｎ（−２−ヒドロキシエチル）−４−アジドベンズアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−アジドベンゼンスルホニルアミドおよびＮ−（ポリエーテルアミン）−４−アジドベンズアミド、２−ニトロ−５−アジドベンゾイルグリシン、Ｎ−（４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシル）５−アジド−２−ニトロベンゾエート、Ｎ−（トリス（ヒドロキシメチル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエート、Ｎ−（ドデカエチレングリコールモノメチルエーテル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエート、Ｎ−（ヘキサデシル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエート、を含む群において選択される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
ステップａ）の溶媒が、メタノール、エタノール、アセトニトリルおよびクロロホルムから選択される、請求項１８または１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記放射線が、前記バルーンカテーテルの前記高分子材料を透過することができる波長を有する、請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
前記放射線が、２００ｎｍ〜６００ｎｍで構成される波長を有する、請求項１８〜２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
ステップｃ）の照射が暗所において室温で実施される、請求項１８〜２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
ステップｃ）の照射が０．５〜１時間実施される、請求項１８〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
ステップｂ）が、式（Ｉ）の前記化合物を含む前記溶液を前記バルーン表面を通して流すことにより実施される、請求項１８〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
ステップｂ）の前に処理される前記バルーン表面を洗浄し乾燥させるステップを含む、請求項１８〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
ステップｂ）の後、結合しなかった式(I)の化合物を除去するために前記バルーン表面を洗浄する、請求項１８〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８】
前記バルーン表面が、バルーン内表面、バルーン外表面または両方である、請求項１８〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、血管内インターベンション用バルーンカテーテルに関する。
【０００２】
具体的には、本発明はバルーン表面に改善された特性を付与されたバルーンカテーテルに関する。
【０００３】
より具体的には、本発明は、バルーン表面の少なくとも一部分に適切な特性を付与するために光活性化反応を通じて改質されたバルーン表面を有するバルーンカテーテルに関する。
【背景技術】
【０００４】
現在、血管内インターベンションは、様々な種類の血管疾患の治療に広く許容される手順である。例えば、血管形成術は狭窄した、時には閉塞された血管を開通させ、正常な血流を回復させる手順である。血管形成術は、冠動脈の治療、例えばその冠動脈に存在する冠動脈狭窄の治療にも成功裏に使用されている。
【０００５】
血管内治療の実施では、カテーテル（例えば血管形成術カテーテル）は患者の血管（例えば腕または鼠蹊部の血管）内に挿入され、介入部位、例えば閉塞したまたは部分的に閉塞した血管（静脈または動脈）まで押し込まれる。カテーテルが正しく配置されるためには、典型的には、最初にガイドワイヤが（所望により案内カテーテルと組み合わせて）血管に挿入されて、バルーンカテーテル、ステント送達システム、凝血塊抽出カテーテルまたは多目的カテーテルなどの血管内カテーテルを正しく配置する。血管形成術の場合、これに続くバルーンを膨張および収縮させる操作の結果、血管壁が引き延ばされて薄化し、内腔径が増大して許容可能な血流が再確立される。
【０００６】
当技術分野では、血管内治療用医療機器の特徴を改良するため継続的な努力がなされている。具体的には、これら医療機器の寸法、可撓性、押しやすさおよび摺動性の特性が常に熟考され、おそらくは継続的改良の対象である。さらに、（例えば血管形成術後の血管拡張および／またはステント埋め込みによる再狭窄を防止するための）治療薬を送達するのに適した医療機器を使用する場合は、該治療薬の送達有効性（例えば血管系に沿って治療薬を輸送する有効性並びに介入部位で治療薬が血管壁に吸収される有効性）も継続的改良の対象である。
【０００７】
医療機器が挿入されねばならない血管の微小寸法のため、特に冠動脈を治療する場合、寸法は重要な要素である。機器の直径において寸法が小さいことは、血管壁の損傷を避けるために非常に望ましい。
【０００８】
特に蛇行性の血管の場合は特に、医療機器が血管経路に適切に沿うように、可撓性もまた必須である。
【０００９】
押しやすさとは、医師が医療機器を血管系を通って介入部位まで容易に押すことのできる可能性を意味し、摺動性とは、医療機器が少ない摩擦で血管系内を移動する能力に関する。
【００１０】
摺動性に関しては、カテーテルの内表面とガイドワイヤの外表面の間、並びにバルーンの外表面および／またはカテーテルシャフトの外表面と血管壁の間に無視できる摩擦が存在して、血管系内におけるバルーンカテーテルの送達が、医師によって関連の努力なしに容易に行われ得、血管壁を損傷する危険を最小限に減少させ得ることが好ましい。
【００１１】
摩擦を減少させてバルーンカテーテルの摺動性を改善するために、カテーテルシャフトおよび／またはカテーテルバルーンの外表面は一般に、バルーンカテーテルが血管系に沿って移動する間その潤滑性を適切に増加させる親水性コーティングを施される。
【００１２】
さらに、ポリマーの表面改質の少なくとも２つの主要な手順が当技術分野で既知である。
【００１３】
第１の手順によると、高分子材料の表面は、その組成物および／または微細構造への作用により改質され得る。
【００１４】
第２の手順によると、所望の特徴を付与された材料のコーティングが、改質される高分子材料の表面に適用される。
【００１５】
例えば、米国特許第５，７１４，３６０号は、光活性結合剤を通じて基質に特定の特性を付与することができる合成ポリマー、特にポリビニルピロリドン（polyvinylpirrolidone）、炭水化物、タンパク質、脂質、核酸、薬物、色素および蛍光化合物から選択された標的分子の共有結合を開示している。米国特許第６，５５１，２６７号は、管の内壁に恒久的に結合した架橋結合されたヒドロゲルで被覆されたプラスチック材料物品を開示している。米国特許第６，１２０，９０４号は、プラズマ処理された表面へのポリウレタン／ポリウレアヒドロゲルコーティングの形成を開示している。米国特許第５，４１５，６１９号は、負の電荷を生成する硫酸の反応でのポリエステル表面の改質を説明しており、過塩素酸でのさらなる処理によりヒドロキシル基などの親水性官能基が挿入される。
【００１６】
ポリアミド表面は、ターブチレート（terbutylate）カリウムなどの強塩基を使用する、Polymer (2006, vol.47, 14, 4916-4924)に開示の方法で改質してもよく、こうして生成したカリウム塩は他の有用な分子を結合し得る。
【００１７】
コーティングを適用する方法は、例えば、シリコン樹脂とヘパリンの混合物が管表面に適用される米国特許第５，０６１，７３８号に教示されるように、浸漬または噴霧により実施され得る。
【００１８】
あるいは、押出しおよび共押出し法を使用してもよく、例えば米国特許第６，５０６，３３３号に開示のように、管材料とは不混和性の潤滑親水性ポリマーと管材料が混合される。
【００１９】
発表論文"To adjust wetting properties of organic surface by in situ photoreaction of aromatic azide"（Feng Shiら, Langmuir 2007, 23(3), 1253-1257）は、疎水特性を改質高分子表面に付与し得るアルキルまたはハロゲン置換鎖などの置換アルキル鎖を開示している。
【００２０】
発表論文"Adsorption of proteins onto poly(ether urethane) with a phosphorylcholine moiety and influence of preadsorbed phospholipid"（A.P. van der Heidenら, Journal of Biomedical Materials Research (1998), 40(2), 195-203）は、ＰＣ含有アリールアジドで光化学的に改質されたＰＥＵフィルムを開示している。
【００２１】
米国特許第５，２５８，０４１号は、生体分子を疎水表面の支持体に付着させる方法を開示しており、該方法は、表面に組み込まれることができる疎水案内基を有する長鎖化学スペーサーの使用を含み、生体分子はスペーサーの逆末端に共有結合される。
【００２２】
上述した先行技術の方法はいずれも、所望の親水性または疎水特性を、他の性能に負の影響を及ぼすことなくバルーンカテーテルのバルーン表面に付与するのには適さない。
【００２３】
例えば、一般に、適用されたコーティングはあまり安定ではなく、カテーテルの使用中に剥離または剥げなど離脱、損傷または劣化し得る。
【００２４】
一方で、医療機器材料の表面を改質するプラズマ処理は表面そのものを損傷する原因になり得、再現可能な結果を生じない。
【００２５】
官能基を高分子材料に導入するための化学反応の使用は、表面の構造的変更につながり得、不十分な官能性付与となる場合がある。
【００２６】
最後に、再現可能な結果を得るための調合技術のセットアップは複雑で困難である。さらに、当該技術は非常に高額でもある。
【００２７】
従って、出願人は、バルーンカテーテルのバルーン表面を改質するのに適した、確実かつ再現可能な方法を提供する必要性を感じている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２８】
本発明の目的は、バルーン表面が置換芳香族アジドにより光活性化反応を通じて改質されたバルーンカテーテルである。
【００２９】
具体的には、当該光活性化反応は、バルーンカテーテルのバルーン表面に疎水性または親水性のいずれかの特性を付与する。
【００３０】
あるいは、当該光活性化反応は、バルーンの改質された表面に対象（例えば治療薬）の任意の所与の物質を結合するのに使用され得る。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】Ｃ−Ｈを含有する表面に本発明のパラ置換アリールアジド化合物を挿入する反応機構を示す。
【図２】実施例４による化合物の調製のために得られたＴＬＣを示す。
【図３】表２に報告される値のヒストグラムを示す。
【図４】表２に報告される標準偏差値のプロットを示す。
【図５】表２に報告される標準偏差値のプロットを示す。
【図６】表５に報告される値のヒストグラムを示す。
【図７】表５に報告される標準偏差値のプロットを示す。
【図８】表５に報告される標準偏差値のプロットを示す。
【図９】本発明のアリールアジドの光励起の反応機構を示す。
【図１０】実施例１３による化合物の調製のために得られたＴＬＣを示す。
【図１１】実施例１３による化合物の調製のために得られたＴＬＣを示す。
【図１２】実施例１３による化合物の調製のために得られたＴＬＣを示す。
【図１３】実施例１３による化合物の調製のために得られたＴＬＣを示す。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
本発明の１つの実施形態によると、バルーンカテーテルは、高分子材料でできたバルーンを含み、該バルーンの外表面は、光活性化反応を通じて親水性部分の挿入により改質されている。
【００３３】
本発明により改質された親水性のバルーン外表面は、バルーンカテーテルのバルーン外表面の摩擦係数を有利に低下させるので、バルーンカテーテルは、血管壁に損傷を与えることなく血管系に沿って容易に移動され得る。
【００３４】
あるいは、本発明により改質された親水性のバルーン外表面は、例えば、所与の薬剤（例えば治療または診断剤）を介入部位に移送するための担体（例えばナノ粒子）を結合するのに有利に使用され得る。
【００３５】
本発明のさらなる１つの実施形態によると、バルーンカテーテルは高分子材料でできたバルーンを含み、該バルーンの内表面は、光活性化反応を通じて親水性部分の挿入により改質されている。
【００３６】
本発明により改質された親水性のバルーン内表面は、バルーンカテーテルのバルーン内表面の摩擦係数を有利に低下させる。この付与された特性は、血管内インターベンション（例えば血管形成術）の間、長いバルーン（最高３００ｍｍ長）が関与する場合に特に関係する特徴であるが、バルーン膨張および収縮時間を減少させるのに貢献し得る（バルーン長がバルーン膨張/収縮時間を著しく増加させたことは明白である)。
【００３７】
本発明のさらなる１つの実施形態によると、バルーンカテーテルは、高分子材料でできたバルーンを含み、バルーンの外表面は、光活性化反応を通じて疎水性部分の挿入により改質されている。
【００３８】
本発明により改質された疎水性のバルーン外表面は、例えば、所与の薬剤（例えば治療または診断剤）を介入部位に移送するための担体（例えばナノ粒子）を結合するのに有利に使用され得る。
【００３９】
あるいは、バルーンの疎水外表面は、バルーンが血管の閉塞（例えば慢性的全閉塞）を貫通する能力を向上させるのに有利に使用され得る。実際、疎水表面が血管閉塞物質と親和性があるおかげで、改質された外表面を有するバルーンは血管の閉塞をより良好に貫通して進むことができる。
【００４０】
本発明のさらなる１つの実施形態によると、バルーンカテーテルは、高分子材料でできたバルーンを含み、バルーンの内表面は、光活性化反応を通じて疎水性部分の挿入により改質されている。
【００４１】
このさらなる実施形態のあり得る利点は、製品保存期間中に生じ得るポリマー層間の望まれない接着を防止することである。このことは、この（バルーンの折り目を遮断し貼り付ける）接着がバルーンの初回膨張時に破れやピンホールによる不具合をもたらし得るので、重要な問題である。
【００４２】
さらなる１つの実施形態によると、バルーンカテーテルは、薬物溶出バルーン（すなわち、所与の介入部位で開放され得る活性物質、例えば治療薬を備えたバルーン）を含み、その外表面は、少なくとも１つの活性物質をバルーン外表面の少なくとも一部分に適切に結合させるように、本発明による光活性化反応を通じて改質される。活性物質は、改質された表面に直接結合され得るか、あるいは活性物質は、該活性物質を結合または封入するのに適した架橋物質により、改質された表面に結合され得る。適切な活性物質は、抗増殖、抗炎症、消炎、抗過形成、抗悪性腫瘍、抗有糸分裂、細胞増殖抑制、細胞障害性、血管新生抑制、抗再狭窄、微小管阻害、移動抑制（antimigrative）または抗血栓活性物質である。抗増殖、抗炎症、消炎、抗過形成、抗悪性腫瘍、抗有糸分裂、細胞増殖抑制、細胞障害性、血管新生抑制、抗再狭窄、微小管阻害、移動抑制（antimigrative）または抗血栓活性物質の例は、アブシキシマブ、アセメタシン、アセチルビスミオンＢ、アクラルビシン、アデメチオニン、アドリアマイシン、アエシン、アフロモソン（afromoson）、アカゲリン、アルデスロイキン、アミドロン（amidorone）、アミノグルテテミド（aminoglutethemide）、アムサクリン、アナキンラ、アナストロゾール、アネモニン、アノプテリン、抗真菌剤、抗血栓剤、アポシマリン（apocymarin）、アルガトロバン、アリストラクタム−AII、アリストロキア酸、三酸化ヒ素および他のヒ素含有化合物、アスコマイシン、アスパラギナーゼ、アスピリン、アトルバスタチン、オーラノフィン、アザチオプリン、アジスロマイシン、バッカチン（baccatine）、バフィロマイシン、バシリキシマブ、ベンダムスチン、ベンゾカイン、ベルベリン、ベツリン、ベツリン酸、ビロボール、ビオリムス、ビスパルテノリジン（bisparthenolidine）、ブレオマイシン、ボムブレスタチン（bombrestatin）、ボスウェル酸とそれらの誘導体、ブルセアノール（bruceanole）Ａ、ＢおよびＣ、ブリオフィリンＡ、ブスルファン、抗トロンビン、ビバリルジン、カドヘリン、カンプトテシン、カペシタビン、o−カルバモイルフェノキシ酢酸、カルボプラチン、カルムスチン、セレコキシブ、セファランチン、セリバスタチン、CETP阻害剤、クロランブシル、リン酸クロロキン、シクトキシン（cictoxin）、シプロフロキサシン、シスプラチン、クラドリビン、クラリスロマイシン、コルヒチン、コンカマイシン、クマジン、Ｃ型ナトリウム利尿ペプチド（CNP）、クドライソフラボン（cudraisoflavone）Ａ、クルクミン、シクロホスファミド、シクロスポリンＡ、シタラビン、ダカルバジン、ダクリズマブ、ダクチノマイシン、ダプソン、ダウノルビシン、ジクロフェナク、１，11−ジメトキシカンチン−６−オン、ドセタキセル、ドキソルビシン、ズナマイシン、エピルビシン、エポチロンＡおよびＢ、エリスロマイシン、エストラムスチン、エトポシド、エベロリムス、フィルグラスチム、フルロブラスチン（fluroblastin）、フルバスタチン、フルダラビン、フルダラビン−5'−リン酸二水素、フルオロウラシル、ホリミシン、ホスフェストロール、ゲムシタビン、グハラキノシド、ギンコール、ギンコール酸、グリコシド１ａ、４−ヒドロキシオキシシクロホスファミド、イダルビシン、イホスファミド、��ョサマイシン、ラパコール、ロムスチン、ロバスタチン、メルファラン、ミデカマイシン、ミトキサントロン、ニムスチン、ピバスタチン、プラバスタチン、プロカルバジン、マイトマイシン、メトトレキサート、メルカプトプリン、チオグアニン、オキサリプラチン、ビスマスおよびビスマス化合物またはキレート、イリノテカン、トポテカン、ヒドロキシカルバミド、ミルテホシン、ペントスタチン（pentostatine）、ペガスパルガーゼ、エキセメスタン、レトロゾール、ホルメスタン、ＳＭＣ増殖阻害剤−２ω、ミトキサントロン、ミコフェノール酸モフェチル、c−mycアンチセンス、b-mycアンチセンス、β−ラパコン、ポドフィロトキシン、ポドフィル酸２−エチルヒドラジド、モルグラモスチム（rhuGM-CSF）、ペグインターフェロンα−２ｂ、ラノグラスチム（lanograstim）（r-HuG-CSF）、マクロゴール、セレクチン（サイトカイン（cytokin）アンタゴニスト）、サイトカイン（cytokin）阻害剤、COX−２阻害剤、NFkB、アンギオペプチン、筋肉の細胞増殖を阻害するモノクローナル抗体、bFGFアンタゴニスト、プロブコール、プロスタグランジン、１−ヒドロキシ−１１−メトキシカンチン−６−オン、スコポレチン、NOドナー、四硝酸ペンタエリスリトール、シンドノイミン（syndnoimine）、Ｓ−ニトロソ誘導体、タモキシフェン、スタウロスポリン、β−エストラジオール、α−エストラジオール、エストリオール、エストロン、エチニルエストラジオール、メドロキシプロゲステロン、エストラジオールシピオナート、エストラジオールベンゾエート、トラニラスト、カメバカウリンおよび癌治療に使用される他のテルペノイド、ベラパミル、チロシンキナーゼ阻害剤（チロホスチン）、パクリタキセル、パクリタキセル誘導体、６−α−ヒドロキシパクリタキセル、2'−スクシニルパクリタキセル、2'−スクシニルパクリタキセルトリエタノールアミン、2'−グルタリルパクリタキセル、2'−グルタリルパクリタキセルトリエタノールアミン、パクリタキセルのＮ−（ジメチルアミノエチル）グルタミドとの2'−Ｏ−エステル、パクリタキセルのＮ−（ジメチルアミノエチル）グルタミドヒドロクロリドとの2'−Ｏ−エステル、タキソテール、亜酸化炭素（MCS）、亜酸化炭素の大環状オリゴマー、モフェブタゾン、ロナゾラク、リドカイン、ケトプロフェン、メフェナム酸、ピロキシカム、メロキシカム、ペニシラミン、ヒドロキシクロロキン、金チオリンゴ酸ナトリウム、オキサセプロール、β−シトステリン、ミルテカイン、ポリドカノール、ノニバミド、レボメントール、エリプチシン、D-24851（Calbiochem）、コルセミド、サイトカラシンＡ〜Ｅ、インダノシン、ノコダゾール、S100タンパク質、バシトラシン、ビトロネクチン受容体アンタゴニスト、アゼラスチン、金属プロテイナーゼ１および２のグアニジルシクラーゼ刺激因子組織阻害剤、遊離核酸、ウイルス伝達物質、DNAおよびRNA断片に組み込まれた核酸、プラスミノーゲン活性化因子阻害剤−１、プラスミノーゲン活性化因子阻害剤−２、アンチセンスオリゴヌクレオチド、VEGF阻害剤、IGF-1、セファドロキシル、セファゾリン、セファクロル、セフォチキシン、トブラマイシン、ゲンタマイシン、ジクロキサシリン、オキサシリンなどのペニシリン、スルホンアミド、メトロニダゾー��などの抗生物質、エノキソパリン（enoxoparin）、脱硫酸およびＮ−再アセチル化ヘパリン、組織プラスミノーゲン活性化因子、GpIIb／IIIa血小板膜受容体、ファクターXa阻害剤抗体、ヘパリン、ヒルジン、ｒ−ヒルジン、PPACK、プロタミン、プロウロキナーゼ、ストレプトキナーゼ、ワルファリン、ウロキナーゼ、ジピラミドール（dipyramidol）、トラピジル、ニトロプルシドなどの血管拡張剤、トリアゾロピリミジンおよびセラミンなどのPDGFアンタゴニスト、カプトプリル、シラザプリル、リシノプリル、エナラプリル、ロサルタンなどのACE阻害剤、チオプロテアーゼ（thioprotease）阻害剤、プロスタサイクリン、バピプロスト、インターフェロンａ、βおよびγ、ヒスタミンアンタゴニスト、セロトニンブロッカー、アポトーシス阻害剤、p65、NF−kBまたはBcl−xＬアンチセンスオリゴヌクレオチドなどのアポトーシス調節因子、ハロフジノン、ニフェジピン、トコフェロールトラニラスト、モルシドミン、茶ポリフェノール、エピカテキンガラート、エピガロカテキンガラート、レフルノミド、エタネルセプト、スルファサラジン、エトポシド、ジクロキサシリン、テトラサイクリン、トリアムシノロン、ムタマイシン、プロカイニミド（procainimide）、レチノイン酸、キニジン、ジソピラミド、フレカイニド、プロパフェノン、ソトロール（sotolol）、イノトジオール、マキロシド（maquiroside）Ａ、グハラキノシド、マンソニン（mansonine）、ストレブロシド、ヒドロコルチゾン、ベタメタゾン、デキサメタゾンなどの天然および合成ステロイド、フェノポルフェン（fenoporfen）、イブプロフェン、インドメタシン、ナプロキセン、フェニルブタゾンなどの非ステロイド物質（NSAID）および他のアシクロビル、ガンシクロビルおよびジドブジンなどの抗ウイルス剤、クロトリマゾール、フルシトシン、グリセオフルビン、ケトコナゾール、ミコナゾール、ニスタチン、テルビナフィン、クロロキン、メフロキン、キニーネなどのアンチプロゾアール（antiprozoal）剤、さらにヒポカエスクリン（hippocaesculin）、バリングトゲノール−C21−アンゲラート、14−デヒドロアグロスチスタチン（dehydroagrostistachin）、アグロスケリン（agroskerin）、アグロスチスタチン（agrostistachin）、17−ヒドロヒドロキシアグロスチスタチン（hydroxyagrostistachin）、オバトジオリド、４，７−オキシシクロアニソメル（oxycycloanisomelic）酸、バッカリノイドＢ１、Ｂ２、Ｂ３およびＢ７、ツベイモシド、ブルセアンチノシドＣ、ヤダンジオシド（yadanzioside）ＮおよびＰ、イソデオキシエレファントピン、トメンファトピン（tomenphantopin）ＡおよびＢ、コロナリンＡ、Ｂ、ＣおよびＤ、ウルソル酸、ヒプタチン酸Ａ、イソイリドゲルマナール、メイテンホリオール、エフサンチン（effusantin）Ａ、エクスシサニンＡおよびＢ、ロンギカウリンＢ、スクルポネアチンＣ、カメバウニン（kamebaunin）、ロイカメニンＡおよびＢ、13，18−デヒドロ−６−α−セネシオイルオキシカパリン、タキサマイリンＡおよびＢ、レゲニロール（regenilol）、トリプトリド、シマリン、ヒドロキシアノプテリン、プロトアネモニン、塩化ケリブリン（cheliburin）、シノコクリンＡおよびＢ、ジヒドロニチジン、ニチジンクロリド、12−β−ヒドロキシプレグナジエン（hydroxypregnadien）−３，20−ジオン、ヘレナリン、インジシン、インジシン−Ｎ−オキシド、ラシオカルピン、イノトジオール、ポドフィロトキシン、ジュスチシジンＡおよびＢ、ラレアチン（larreatin）、マロテリン（malloterin）、マロトクロマノール、イソブチリルマロトクロマノール、マキノリシド（maquiroside）Ａ、マルカンチンＡ、マイタンシン、リコリジシン（lycoridicin）、マルゲチン（margetine）、パンクラチスタチン、リリオデニン、ビスパルテノリジン（bisparthenolidine）、オキソウシンスニン、ペリプロコシドＡ、ウルソル酸、デオキシプソロスペルミン（deoxypsorospermin）、サイコルビン（psycorubin）、リシンＡ、サンギナリン、マヌコムギ酸、メチルソルビフォリン（methylsorbifolin）、スファテリアクロメン（sphatheliachromen）、スチゾフィリン、マンソニン（mansonine）、ストレブロシド、ジヒドロウサンバレンシン（dihydrousambaraensine）、ヒドロキシウサンバリン（hydroxyusambarine）、ストリクノペンタミン、ストリクノフィリン、ウサンバリン、ウサンバレンシン、リリオデニン、オキソウシンスニン、ダフノレチン、ラリシレシノール、メトキシラリシレシノール、シリンガレシノール、シロリムス（ラパマイシン）、ラパマイシンとヒ素若しくはヒ素化合物若しくはヒ素含有複合体との併用、ソマトスタチン、タクロリムス、ロキシスロマイシン、トロレアンドマイシン、シンバスタチン、ロスバスタチン、ビンブラスチン、ビンクリスチン、ビンデシン、サリドマイド、テニポシド、ビノレルビン、トロホスファミド、トレオスルファン、トレモゾロミド（tremozolomide）、チオテパ、トレチノイン、スピラマイシン、ウンベリフェロン、デスアセチルビスミオンＡ、ビスミオンＡおよびＢ、ゼオリン、ファスジルなどの天然テルペノイドの群からの活性物質である。カテーテルバルーンに適用され得る好ましい活性物質は、パクリタキセルおよび他のタキサン類、ラパマイシンおよび他のmTOR（哺乳動物のラパマイシン標的）阻害剤、メトトレキシック（methotrexic）酸、ヒ素またはヒ素化合物、ビスマス若しくはビスマス化合物またはサリドマイドである。
【００４３】
本明細書および特許請求の範囲では、「親水性」と「疎水性（hydrophobocity）」は、それぞれ、所与の分子または化合物の水との高親和性および低親和性を指す。これらの特性は一般に、本明細書の実験セクションによりよく説明されるように、接触角（θ）を測定することで評価される。湿潤性は、固体が湿潤する程度を定義し、液体と固体間の分子の相互作用による液体分子同士の凝集力および接着力により決定される。
【００４４】
典型的には、範囲限界は次のとおりである：１）固／液相互作用（Ｓ／Ｌ）が強く液／液相互作用（Ｌ／Ｌ）が弱い場合、湿潤性は完全であり接触角θ＝０°である（湿潤性は完全なので最大の親水性である）；２）固／液相互作用（Ｓ／Ｌ）が弱く液／液相互作用（Ｌ／Ｌ）が弱い場合、湿潤性は中程度であり接触角θ＝９０°である：３）固／液相互作用（Ｓ／Ｌ）が弱く液／液相互作用（Ｌ／Ｌ）が強い場合、湿潤性はなく接触角θ＝１８０°である（湿潤性がないので最大の疎水性である）。例えば、ＰＡ１２の接触角θは約８５°なので、この角度値を増加させる表面改質ではＰＡ１２材料をより疎水性にするが、この角度値を低下させる表面改質ではＰＡ１２材料をより親水性にする。親水基の例は、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ３、−ＰＯ４、−ＮＨ２、−ＮＨ４＋、ＰＥＧ（ポリ（エチレングリコール））、ＰＥＯ（ポリエチレンオキシド）である。疎水基の例は、脂肪族炭素鎖、例えば、一般的には炭化水素鎖、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリオレフィン、または芳香族、例えば、キシレン、ポリスチレン、アクリロニトリルブタジエンスチレンまたは式（ＣＦ２）ｎＣＦ３（式中、ｎ＝１〜７０）のフッ化ポリマー、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）である。
【００４５】
本発明は医療機器を調製する特定の用途を見出すので、生体高分子は、バルーンカテーテルの作製に特に適した高分子材料である。
【００４６】
以下の開示においては、生体適合性高分子材料または生体高分子は、体表面または組織および特に血液と接触しても組織刺激または凝血若しくは血栓の形成を引き起こすことなく適切に留置され得るような材料を包含することを意図する。親水表面は実際に、血液の巨大分子および血球の吸収を減速することが実証されている。
【００４７】
好ましくは、本発明に適した高分子材料は、Ｃ−ＨまたはＣ−Ｘ官能基を含み、ここでＸはヘテロ原子である。好ましくは、Ｘは窒素、酸素、硫黄、亜リン酸、ホウ素、塩素、臭素およびヨウ素を含む群から選択される。
【００４８】
本発明に適した特に好ましい生体適合性ポリマーは、例えば、化合物と調製方法に関しその内容を参照によりここに組み込む国際公開第２００５／０３７３３７号に記載されているような一般式：
H-(O-PF-OOC-PA-COO-PF-OOC-PA-CO)n-OH
のポリアミド、ポリエステル−ポリアミドコポリマー、ポリアミド系コポリマー（式中、ＰＡはポリアミドセグメントであり、ＰＦはＯＨ末端基ダイマー二量体ジオールポリエステルを含むジオールセグメントであり、ｎは５〜２０の間である）を含み、または高分子材料は、化合物と調製方法に関しその内容を参照によりここに組み込む国際公開第２００７／１３２４８５号に記載されているような以下の式（１）のアミノカルボン酸および以下の式（２）のラクタムを含む群において選択される、ブロック化合物を形成するポリアミドを以下の式（３）のポリエーテルジアミントリブロックと以下の式（４）のジカルボン酸と重合化させて得られるエラストマーであり得る：
【００４９】
【化１】
0005937217.tif 000002
【００５０】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれその中に炭化水素鎖を含む連結基であり、１以上のアミド基により中断され得、Ｒ１とＲ２は独立して２〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基とアミド結合を含み、Ｒ３は１〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基を含み、ｘは１〜２０、好ましくは１〜１８、より好ましくは１〜１６に変化し得、ｙは４〜５０、好ましくは５〜４５、より好ましくは８〜３０に変化し得、ｚは１〜２０、好ましくは１〜１８、より好ましくは１〜１２に変化し得、ｍは０または１である）。
【００５１】
本発明に適した特に好ましいポリマーはポリアミドであり、より具体的には、ポリアミドＰＡ１２とＰＥＢＡＸ（登録商標）の商標名で販売されているポリエーテルブロックアミドコポリマーである。
【００５２】
本発明によると、ポリマー表面の改質は、材料表面の湿潤特性を改質することができる部分を挿入して得られる。図１に示すように、紫外線下におけるＲ基を有する置換芳香族アジドは極めて反応性の高い中間体フェニルニトレンを産生する。その後、ニトレン遊離基はＣ−Ｈ結合を有する基質から水素を取って２つの遊離基部分を生じ、次いでそれらは結合する。結果として、アジド分子が基質に挿入される。
【００５３】
本発明の１つの実施形態によると、バルーンカテーテルの高分子バルーン表面は、式：
【化２】
0005937217.tif 000003
（式中、
Ｒ１は互いに独立してＨまたはＦであり；
Ｒ２はＨ、Ｆ、Ｚ基から選択され、該Ｚ基は−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒａ、−Ｓ（Ｏ）２ＮＨ−Ｒａおよび−Ｐ（Ｏ）２ＮＨ−Ｒａから選択され、式中Ｒａは、所望により、１以上の−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ３、−ＰＯ４、−ＮＨ２、−ＮＨ４＋などのような極性官能基または−（ＣＦ２）ｍ−ＣＦ３ペルフルオロアルキル基（式中ｍは１〜７０）で置換されたＣ１−Ｃ４直鎖または分岐飽和アルキル鎖であるか；またはＲａは−（ＣＨＲＣＨ２Ｏ）ｎ−Ｘ（式中ｎは１〜７０であり、ＲはＨまたは−ＣＨ３であり、ＸはＨ、飽和分岐若しくは直鎖Ｃ１−Ｃ４アルキル鎖または−（ＣＨ２）ｐ−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−Ｗ基（式中ＷはＨ、−ＣＨ３または−ＮＨ２であり、ｐとｑは独立して１〜３０である）から選択される）であるか；またはＲａはＣ１−Ｃ７０直鎖若しくは分岐飽和アルキル鎖または芳香族化合物であり；
Ｒ３は−ＮＯ２または上記定義のＺ基から選択される）の当該表面基への共有結合により親水性または少なくとも以前よりも高い親水性を与えられる。
【００５４】
直鎖または分岐飽和アルキル鎖であるＲａについては、炭化水素鎖、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリオレフィンを含む群より選択され得るが、Ｒａが芳香族基である場合はキシレン、ポリスチレンおよびアクリロニトリルブタジエンスチレンを含む群内で選択され得る。
【００５５】
好ましいペルフルオロアルキルＲａ基は、−（ＣＦ２）ｎＣＦ３（式中ｎは１〜７０かまたはポリテトラフルオロエチレンである）である。
【００５６】
本発明の１つの好ましい実施形態について、Ｎ−（トリス（ヒドロキシメチル）−４−アジドベンゼンスルホニルアミド、
Ｎ（−２−ヒドロキシエチル）−４−アジドベンズアミド、
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−アジドベンゼンスルホニルアミド、
Ｎ−（ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ  Ｍ−６００）−４−アジドベンズアミド、
４−アジド−２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）ベンズアミド、
４−アジド−２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｎ−（４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシル）ベンズアミド、
２−ニトロ−５−アジドベンゾイルグリシン、
Ｎ−（４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシル）５−アジド−２−ニトロベンゾエート、
Ｎ−（トリス（ヒドロキシメチル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエート、
Ｎ−（ドデカエチレングリコールモノメチルエーテル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエートおよび
Ｎ−（ヘキサデシル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエート
がバルーン高分子材料の表面処理に使用されている。ＪＥＦＦＡＭＩＮＥはポリオキシアルキレンポリアミンの登録商標である。ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ  Ｍ６００ポリエーテルアミンは分子量６００のポリプロピレングリコールモノアミンであり、他端にメトキシエチル末端基を有し、酸化プロピレン／エチレンオキシド（ＰＯ／ＥＯ）モル比は９／１である。当該化合物の調製については以下の実施例セクションで詳述する。
【００５７】
しかし、パラ置換Ｒ基の組成物を変えることにより、上述の親水基の代わりに、適切な疎水性部分が上述のようにバルーンカテーテルのバルーン表面に導入される。
【００５８】
バルーンの内表面を本発明の方法により変更する必要がある場合は、出願人は、バルーンの内表面に対しても光活性化反応が成功裏に実施され得ることを見出している。この目的のために、処理する高分子材料並びに放射線吸収が生じないように紫外線源の波長を選択する必要がある。上述のアジド化合物の光活性化波長は、通常バルーンカテーテルに使用される材料の吸収波長に干渉しないことが見出されている。
【００５９】
本発明の１つの実施形態によると、パラ置換アリールアジド化合物のメタノール若しくはエタノール若しくはアセトン溶液またはアセトニトリル若しくはクロロホルム溶液が調製され、処理するバルーン内表面を当該溶液と接触させる。典型的には、バルーン作製プロセスの最後にバルーンをカテーテルシャフト上に配置して連結する前に、バルーン内（すなわちバルーン内腔）を通して溶液を流す。次いで処理後の表面をパラ置換アリールアジドを光活性化することができる適切な波長の光線により活性化し、照射は適切な時間にわたり実施される。好ましくは、所与のパラ置換アリールアジドの光線波長は、その特定のパラ置換アリールアジドの最大波長に実質的に対応する波長として選択される。典型的には、光線波長は約２００ｎｍ〜約６００ｎｍで構成される。好ましくは、光線波長は約２５０ｎｍ〜約３５０ｎｍで構成され、より好ましくは約２３０ｎｍ〜約３００ｎｍで構成される。光活性化反応は暗所において室温すなわち約２５℃で実施され、反応時間は典型的には０．５〜１時間からなる。
【００６０】
出願人はまた、光活性化反応は、アジド化合物溶液をバルーン内に継続的に流すことによっても生じ得ることを見出した。この態様は、バッチプロセスに典型的な、具体的には時間とコスト削減の点、並びに処理表面の均一性と均質性の点におけるあらゆる欠点が継続的なプロセスにより回避されるので、特に有利である。
【００６１】
光反応処理前、バルーン内表面の全ての不純物を除去するために内表面を好ましくは洗浄する。典型的には、光反応が生じた後、バルーン内表面を非結合分子が全て除去されるまで再度洗浄する。洗浄溶液の監視は通常ＵＶにより実施される。
【００６２】
上述したように、バルーンの内表面を改質する場合は、照射紫外線がバルーンの高分子材料を貫通して、活性化プロセスが生じるバルーン内表面に到達することが必要である。従って、バルーンの高分子材料は使用される特定のＵＶ照射光に対し透過性でなければならない。
【００６３】
好ましくは、光線波長は可視スペクトルに含まれ、使用される活性化分子に応じて選択される。本発明の１つの実施形態によると、置換アリールアジド化合物の最大吸収波長が使用される。例えば、２５４ｎｍの波長が有利に使用され得るが、これはバルーン作製に典型的に使用される高分子材料がこの波長に透過性を有するからである。
【００６４】
本発明により処理されるバルーン表面の改質並びに当該表面の湿潤特性の改質の程度は、以下の実施例に記載するように、Ｗｉｌｈｅｌｍｙ法を用いて動的接触角（ＤＣＡ）を測定することにより評価されている。
【００６５】
上記開示のように、バルーンカテーテルのバルーン外表面は、親水または疎水特性を付与するために、並びに任意の適当な活性物質を結合させるために改質され得る。
【００６６】
バルーン外表面を改質するために、あらゆる既知の技法、例えば浸漬、噴霧、分注、ブラッシングなどによりアジド化合物溶液をバルーン表面に適用してよい。
【００６７】
また、バルーン外表面を改質するために、光反応処理前に、表面から全ての不純物を除去するためにバルーン外表面を好ましくは洗浄する。典型的には、光反応が生じた後、バルーン外表面を非結合分子が全て除去されるまで再度洗浄する。
【００６８】
〔実施例１〕
Ｎ−（トリス（ヒドロキシメチル）−４−アジドベンゼンスルホニルアミドの調製
【化３】
0005937217.tif 000004
【００６９】
表題化合物の調製の第１ステップは、G.A. Wiese e J. W. Jones “Preparation of Tris (hydroxymethyl) sulfanilamidomethane”, Journal of the American Pharmaceutical Association,S.E., Volume 37, Issue 9, 380-383 (1948)の開示に従った。
【００７０】
二口フラスコ内で、２モルの２−アミノ−２（ヒドロキシメチル）−１，３−プロパンジオール（トリス）を最小量の水に溶解させた。次いで、１モルのアセトアミドベンゼンスルホニルクロリドを加えた。反応を約３０分７０℃で放置し、ｔ−ブタノール−エチルアセテート２：８を溶出剤とする薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）により反応をチェックした。置換アミドをモル比１／１．４で４〜６ＮのＨＣｌ溶液と共に用いて、７０〜８０℃で還流下約５時間かけて処理した。反応は、出発化合物が消失するまで、ｔ−ブタノール−エチルアセテート２：８を溶出剤としてＴＬＣでチェックした。
【００７１】
次いで溶媒を黄色っぽいゲルが得られるまで蒸発させた。ゲルをトリスクロリドレート（chloridrate）を除く最小量のエタノールで処理して可溶化させた。次いで、完全に可溶化するまで水を加温し続け、その後クエンチして濾過した。アルコール溶液を、塩化アンモニアの白色沈殿物が得られるまで気体性アンモニアで処理した。次いで濾過ステップを実施し、濾過された混合物を冷蔵庫内に一晩置いた。
【００７２】
Ｎ−（トリス（ヒドロキシメチル））−４−アミノベンゼンスルファニルアミドの白色沈殿物が得られ、これを濾過しエタノール−水９：１溶液を用いて再結晶させた。
【００７３】
濾過し再結晶化させた沈殿物の融点は１５８℃であった。この値は文献に記載の値（約１５９〜１６１℃）と一致した。
【００７４】
表題化合物を次いでＮ−（トリス（ヒドロキシメチル））−４−アミノベンゼンスルファニルアミドをクロリド酸（chloride acid）（比率５：１）水溶液中で可溶化させ、０℃で氷浴中１５分撹拌し調製した。次いで、亜硝酸ナトリウムを最小量の水中に溶解して得た溶液（亜硝酸：アニリンの比率１：１）を滴下して加え、温度を氷浴中−５／−１０°にした。次いで、撹拌しながら反応を３０分放置した。ＮａＮ３を最小量の水で可溶化させ（アジドナトリウム：アニリンのモル比１：３）、次いでクエンチした。それを溶液に滴下して加え、撹拌しながら室温で１時間かけて反応させた。白色沈殿物が形成され、これを濾過し水性メタノール（１：１溶液）を用いて再結晶させた。
【００７５】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（融点、ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、Ｃ−ＮＭＲおよびＵＶ）に従い特徴決定した。
濾過し再結晶した沈殿物の融点は１２５℃であった。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３２８０ｃｍ−１、２１１０ｃｍ−１、２１３０ｃｍ−１、１５９０ｃｍ−１、１２８８ｃｍ−１、１０５４ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）３．４３（ｓ，６Ｈ）；４．２（ｂｒ，３Ｈ）；６．９２（ｓ，１Ｈ）；７．２５（２Ｈ，ｄ）；７．８７（２Ｈ，ｄ）であった。
表題化合物のＣ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）６０．８（ＣＨ２）；６４．５，１１９．２（ＣＨ）；１２８．２（ＣＨ）；１４０．７；１４２．８であった。
表題化合物のＵＶ（ＭｅＯＨ）スペクトルの特徴的なピークは２０８（４．０６）；２６３（４．０７）；２９０（ｓｈ，３．４０）であった。
【００７６】
〔実施例２〕
Ｎ（−２−ヒドロキシエチル）−４−アジドベンズアミドの調製
【化４】
0005937217.tif 000005
【００７７】
この合成はH.Brintzinger and H. Koddebusch, “Amid- und Ester-amid-Bildung zwischen carbonsaurechloriden und Mono-, Di- und Triathanolamin”, Chemische Berichte 82, 201 (1949)により開示されたプロセスの記載に従った。
【００７８】
１モル量のｐ−ニトロベンゾイルクロリドを最小量のクロロホルムに溶解させ、当量モルのエタノールアミンをクロロホルムに溶解させた（およそ同体積）。２種類の溶液を、フラスコ内室温で撹拌条件下、２ｍｌのクロロホルム溶液に滴下して加えた。温度は氷浴を用いて４０℃未満に維持した。４−ニトロ−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ベンズアミドの白色の結晶性固体が生成し（収率９０％）、圧力下で濾過して再結晶させた（１００％酢酸エチル）。
【００７９】
濾過し再結晶した沈殿物の融点は１２３℃であった。この値は文献に記載の値（約１２３〜１２５℃）と一致していた。
【００８０】
次いで４−ニトロ−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ベンズアミドをエタノールに可溶化させ、触媒としてＰｄ／Ｃを加えた（Ｐｄ／Ｃ：４−ニトロ−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ベンズアミドの重量比１：５）。水素化Ｅｒｌｅｎｍｅｙｅｒフラスコの底に触媒を配置し、次いで４−ニトロ−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ベンズアミドと２５ｍｌのエタノールを加えた。混合物を撹拌し水素添加器に接続した。水素を撹拌条件下および大気圧下でアルコール溶液中に流した。水素化を水素の消費後にチェックした。水素化終了時に濾過紙上で濾過を行い、溶媒を回転エバポレーターにより除去した。冷却により結晶化した油性の残渣が得られた。１００％酢酸エチル中で結晶化した白色固体が得られた。４−アミノ−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ベンズアミドの白色結晶性固体が得られた。
【００８１】
濾過し再結晶した沈殿物の融点は１１９℃であった。この値は文献に記載の値と一致していた（約：１１９〜１２０℃）。
【００８２】
次いで４−アミノ−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−ベンズアミドを塩化物酸（chloridic acid）の水溶液に可溶化し（比率５：１）、氷浴中０℃で１５分撹拌して表題化合物を得た。次いで、亜硝酸ナトリウムを最小量の水に溶解して得た溶液（亜硝酸：アニリンの比率１：１）を滴下して加え、氷浴中で−５／−１０℃の温度にした。次いで、撹拌しながら３０分かけて反応させた。ＮａＮ３を最小量の水に可溶化させてから（アジドナトリウム：アニリンのモル比１：３）クエンチした。次いでこれを滴下して溶液に加え、撹拌しながら室温で１時間かけて反応させた。白色沈殿物が生成し、これを濾過して水性メタノール（１：１溶液）を用いて再結晶させた。
【００８３】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（融点、ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、Ｃ−ＮＭＲおよびＵＶ）に従い特徴決定した。
濾過し再結晶した沈殿物の融点は９７〜９８℃であった。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３３０５ｃｍ−１、２１３２ｃｍ−１、２１１０ｃｍ−１、１６３４ｃｍ−１、１２８４ｃｍ−１、１０５８ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）３．３０（ｑ，２Ｈ）；３．５０（ｑ，２Ｈ）；７．２（ｄ，２Ｈ）；７．９（ｄ，２Ｈ）；８．４５（ｔ）であった。
表題化合物のＣ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）４２．２（ＣＨ２）；５９．７（ＣＨ２）；１１８．８（ＣＨ）；１２９．１（ＣＨ）；１３１．１；１４２．１；１６５．３であった。
表題化合物のＵＶ（ＭｅＯＨ）スペクトルの特徴的なピークは２１１（４．２３）；２６８（４．２７）；２９０（ｓｈ，３７８）であった。
【００８４】
〔実施例３〕
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−アジドベンゼンスルホニルアミドの調製
【化５】
0005937217.tif 000006
【００８５】
この合成は、M.L. Crossley, E.H. Northey, M.E. Hultquist, “Sulfanilamide Derivatives. VI. Substituted N-Aliphatic Sulfaniamides” J. Am. Chem. Soc., 62 (3), pp. 532-534 (1940)に開示されるプロセスの記載に従い、いくつか変形を加えた。
【００８６】
１モルのｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロリドを最小量のクロロホルムに可溶化させ、当量モルのエタノールアミンをクロロホルムに溶解させた（およそ同体積）。
【００８７】
２種類の溶液をフラスコ内で撹拌条件下および室温下で滴下して２ｍｌのクロロホルム溶液に加えた。温度は氷浴中４０℃未満に維持した。Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−ニトロベンゼンスルホンアミドの赤色結晶性固体が生成し（収率６８％）圧力下で濾過して再結晶させた（１００％酢酸エチル）。
【００８８】
濾過し再結晶した沈殿物の融点は１２７℃であった。この値は文献に記載の値と一致していた（約１２６〜１２７℃）。
【００８９】
１モルのＮ−（２−ヒドロキシエチル）−４−ニトロベンゼンスルホンアミドをＥｒｌｅｎｍｅｙｅｒフラスコ内でエタノールに溶解させ、Ｐｄ／Ｃを触媒として加えた（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−ニトロベンゼンスルホンアミド：Ｐｄ／Ｃの重量比５：１）。次いで、Ｅｒｌｅｎｍｅｙｅｒフラスコの底に触媒を配置してからＮ−（２−ヒドロキシエチル）−４−ニトロベンゼンスルホンアミドと２５ｍｌのエタノールを加えた。混合物を撹拌して水素添加器に接続した。撹拌条件下および大気圧下で水素をアルコール溶液内に流した。水素が消費された後水素化をチェックした。水素化終了時に濾過紙上で濾過を行い、溶媒を回転エバポレーターにより除去した。冷却により結晶化した油性の残渣が得られた。１００％酢酸エチル中で結晶化した黄茶色の固体が得られた。Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−アミノベンゼンスルホンアミドの黄茶色の固体が得られた。
【００９０】
濾過し再結晶した沈殿物の融点は９５℃であった。この値は文献に記載の値と一致していた（約９５〜９７℃）。
【００９１】
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−アミノベンゼンスルホンアミドを塩化物酸（chloridic acid）の水溶液に可溶化し（比率５：１）、氷浴中０℃で１５分撹拌して表題化合物を調製した。次いで、亜硝酸ナトリウムを最小量の水に溶解して得た溶液（亜硝酸：アニリンの比率１：１）を滴下して加え、氷浴中で−５／−１０℃の温度にした。次いで、撹拌しながら３０分かけて反応させた。ＮａＮ３を最小量の水に可溶化させてから（アジド：アニリンのモル比１：３）クエンチした。次いでこれを滴下して溶液に加え、撹拌しながら室温で１時間かけて反応させた。白色沈殿物が生成し、これを濾過して水性メタノール（１：１溶液）を用いて再結晶させた。
【００９２】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（融点、ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、Ｃ−ＮＭＲおよびＵＶ）に従い特徴決定した。
濾過し再結晶した沈殿物の融点は５７〜５８℃であった。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３４４５ｃｍ−１、２１３４ｃｍ−１、２１１５ｃｍ−１、１５８８ｃｍ−１、１３０１ｃｍ−１、１１６０ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）２．７７（ｑ，２Ｈ）；３．３６（ｔ，２Ｈ）；４．８（ｂｒ，１Ｈ）；７．３２（８ｄ，２Ｈ）；７．６４（ｔ、１Ｈ）；７．４７（ｄ，２Ｈ）であった。
表題化合物のＣ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）４５．０（ＣＨ２）；５９．８（ＣＨ２）；１１９．７（ＣＨ２）；１２８．５（ＣＨ２）；１３６．８；１４３．５であった。
表題化合物のＵＶ（ＭｅＯＨ）スペクトルの特徴的なピークは２１０（４．３０）；２６３（４．４０）；２９０（ｓｈ，２．４５）であった。
【００９３】
〔実施例４〕
Ｎ−（ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ  Ｍ−６００）４−アジドベンズアミドの調製
【化６】
0005937217.tif 000007
【００９４】
ｐ−ニトロベンゾイルクロリドを最小量のクロロホルムに溶解させ、式：
【化７】
0005937217.tif 000008
の当量モルのＪＥＦＦＡＭＩＮＥ  Ｍ６００(Jefferson Chemical Co.社)をクロロホルムに溶解させた。２種類の溶液を滴下して２ｍｌのクロロホルム溶液にフラスコ内で撹拌条件下および室温下で加えた。２４時間かけて反応させ、反応は、反応混合物内にｐ−ニトロベンゾイルクロリドが検出されなくなるまで１００％酢酸エチル中ＴＬＣでチェックした。溶媒を回転エバポレーターにより蒸発させ、黄色っぽいシロップ状の油を得た。ＴＬＣ（酢酸エチル／シクロエサン（cycloesane）８／２）により、図２に示すように４種類の反応生成物が検出され、ライン１はｐ−ニトロベンゾイルクロリドに対応し、ライン２は反応生成物に対応する。反応生成物はフラッシュクロマトグラフィー後、茶色い油として直接ケイ素ゲルに充填した。
【００９５】
クロマトグラフィーカラム：
0005937217.tif 000009
油を最小量のシクロエサン（cycloesane）に可溶化させ、カラム内に入れた。
第１溶出化合物（Ｒｆ  ＴＬＣ：０．８７）はエチル−４−ニトロベンゾエートの白色結晶性固体であり、その他の３種類の溶出産生物は全てＮ−（ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ  Ｍ−６００）−４−ニトロベンズアミドである。
【００９６】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、Ｃ−ＮＭＲ）に従い特徴決定した。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３３２５ｃｍ−１、２９７５ｃｍ−１、１６５３ｃｍ−１、１６０２ｃｍ−１、１５２７ｃｍ−１、１３４６ｃｍ−１、１１０７ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）１．１（ｍ，約２１Ｈ）；３．３（ｓ，３Ｈ）；３．３、３．７（ｍ，約２２Ｈ）；８．０（ｍ，２Ｈ）；８．２３（ｄ，２Ｈ）であった。
表題化合物のＣ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）約１７（６ＣＨ３）；５９．０（ＣＨ３）；７１．５，７３．４（５ＣＨ２）；７４．７、７５．３（５ＣＨ）；１２３．３，１２３．４（ＣＨ）；１８．４（３ＣＨ）；１４０．４（２Ｃ）；１４９．３；１６４．５；１６４．８であった。
【００９７】
Ｎ−（ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ  Ｍ−６００）−４−ニトロベンズアミドをエタノールに可溶化させ、Ｐｄ／Ｃを触媒として加えた（Ｎ−（ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ  Ｍ−６００）−４−ニトロベンズアミド：Ｐｄ／Ｃの重量比５：１）。
【００９８】
次いでＥｒｌｅｎｍｅｙｅｒフラスコの底に触媒を配置してから、Ｎ−（ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ  Ｍ−６００）−４−ニトロベンズアミドと２５ｍｌのエタノール。混合物を撹拌して水素添加器に接続した。水素を撹拌条件下および大気圧下でアルコール溶液中に流した。水素化を水素の消費後にチェックした。水素化終了時に濾過紙上で濾過を行い、溶媒を回転エバポレーターにより除去した。黄茶色の油が得られた。
【００９９】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ）に従い特徴決定した。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３３５５ｃｍ−１，２９７２ｃｍ−１，１６３４ｃｍ−１，１６０８ｃｍ−１，１５０６ｃｍ−１，１１０５ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）１．１５，１．２５（約３０Ｈ，ｍ）；３．４５（ｓ，３Ｈ）；３．３、３．８（約３６Ｈ，ｍ）；６．８２（ｍ，２Ｈ）；７．７０（ｍ，２Ｈ）であった。
【０１００】
次いで、Ｎ−（ＪＥＦＦＡＭＩＮＥ  Ｍ−６００）−４−アミノベンズアミドを塩化物酸（chloridic acid）の水溶液に可溶化し（比率５：１）、氷浴中０℃で１５分撹拌して表題化合物を得た。次いで、亜硝酸ナトリウムを最小量の水に溶解して得た溶液（亜硝酸：アニリンの比率１：１）を滴下して加え、氷浴中で−５／−１０℃の温度にした。次いで、撹拌しながら３０分かけて反応させた。ＮａＮ３を最小量の水に可溶化させてから（アジドナトリウム：アニリンのモル比１：３）クエンチした。次いでこれを滴下して溶液に加え、撹拌しながら室温で１時間かけて反応させた。クロロホルムを加えることにより２つの相が生成された:黄色っぽい油が得られた。
【化８】
0005937217.tif 000010
【０１０１】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、Ｃ−ＮＭＲ）に従い特徴決定した。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３３５０ｃｍ−１、２９７２ｃｍ−１、２１２３ｃｍ−１、１６５４ｃｍ−１、１６８８ｃｍ−１、１６０４ｃｍ−１、１４９９ｃｍ−１、１２７５ｃｍ−１、１１０９ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）１．１５（ｍ，２１Ｈ）；３．４（ｓ，３Ｈ）；３．４、３．７（ｍ，２３Ｈ）；７．４（ｄ，２Ｈ）；７．８、７．９（ｍ，２Ｈ）であった。
表題化合物のＣ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）１７（６ＣＨ３）；５８．９（ＣＨ３）；７２（５ＣＨ）；７４（４ＣＨ２）；１１８．７（ＣＨ）；１２８（２ＣＨ）；１３１．３，１４２．９，１６５．５（２Ｃ）であった。
【０１０２】
〔実施例５〕
４−アジド−２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）ベンズアミドの調製
【化９】
0005937217.tif 000011
【０１０３】
この合成は、“Facile UV Patterning of Robust Carbon Nanotube Forests Using Perfluoroarylazides”; S. J. Pastine, D. Okawa, B. Kessler, M. Rolandi, M. Llorente,A. Zettl, and J. M. J. Frechet; J. AM. CHEM. SOC. 2008, 130, 4238-4239に開示されるプロセスの記載に従った。
【０１０４】
二口フラスコにスクシンイミジル−（４−アジドテトラフルオロ）ベンゾエート（２０４ｍｇ、０．６１４ｍｍｏｌ、１．０当量）および２ｍＬのＣＨ２Ｃｌ２を入れた。得られた溶液にプロポノールアミン（proponolamine）（６０μＬ、０．７３７ｍｍｏｌ、１．２当量）をシリンジを介して加えた。
【０１０５】
２時間後、反応をＣＨ２Ｃｌ２で希釈し、水（２回）、ブラインで洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、真空内で濃縮してオフホワイト／ピンク色っぽい固体を定量的な収率、すなわち収率約１００％で得た。化合物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１：２）によりさらに精製し白色固体を得てもよい。
【０１０６】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000.に記載されている以下の解析（融点、ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、ＵＶ）に従い特徴決定した。
化合物の融点は９５℃〜１００℃であった。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３２７６ｃｍ−１；２１３３ｃｍ−１；１６５６ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）６．６（ＮＨ）；３．８（ＣＨ２ＯＨ）；３．６（ＣＨ２ＮＨ）；２．９（ＯＨ）；１．９（ＣＨ２）であった。
表題化合物のＵＶ（ＭｅＯＨ）スペクトルの特徴的なピークは２５６ｎｍであった。
【０１０７】
〔実施例６〕
４−アジド−２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｎ−（４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシル）ベンズアミドの調製
【化１０】
0005937217.tif 000012
【０１０８】
この合成は、“Facile UV Patterning of Robust Carbon Nanotube Forests Using Perfluoroarylazides”; S. J. Pastine, D. Okawa, B. Kessler, M. Rolandi, M. Llorente,A. Zettl, and J. M. J. Frechet; J. AM. CHEM. SOC. 2008, 130, 4238-4239に開示されるプロセスの記載に従った。
【０１０９】
二口フラスコにスクシンイミジル−（４−アジドテトラフルオロ）ベンゾエート（１００ｍｇ、０．３００ｍｍｏｌ、１．０当量）、２ｍＬのＣＨ２Ｃｌ２および２ｍＬの酢酸エチルを入れた。得られた溶液に４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシルアミン（１５０ｍｇ、０．３１４ｍｍｏｌ、１．０５当量）をシリンジを介して加えた。
【０１１０】
４時間後、フラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１の後１：１）後に反応懸濁物を白色固体として直接ケイ素ゲルに充填した。
【０１１１】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（融点、ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、ＵＶ）に従い特徴決定した。
得られた固体の融点は、１００℃〜１０２℃であった。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは２１２７ｃｍ−１；１６５４ｃｍ−１；１１４７ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）６．１（ＮＨ）；３．５５（ＣＨ２ＮＨ）；２．２０（ＣＨ２（ＣＦ２）７）；１．９５（ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２）であった。
表題化合物のＵＶ（ＭｅＯＨ）スペクトルの特徴的なピークは２５６ｎｍであった。
【０１１２】
〔実施例７〕
２−ニトロ−５−アジドベンゾイルグリシンの調製
【化１１】
0005937217.tif 000013
【０１１３】
この合成は、“Photoaffinity Labeling of Peptide Hormone Binding Sites”; R. E. Galardy, L. C. Craig, J. D. Jamieson and M.P. Printz; The Journal of Biological Chemistry, Vol. 249, No. 11, PP. 2510-2618, 1974に開示されるプロセスの記載に従った。
【０１１４】
７０ｍｌの水中２．５ｇの炭酸水素ナトリウムと１．１ｇのグリシンに、１４０ｍｌのジオキサン中３．９ｇの４−アジド安息香酸のＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステルを加えた。１２時間後、混合物を４０ｍｌまで回転蒸発させ、氷冷し、濃塩酸で調製しｐＨ２にした。全手順を暗所で行った。固体生成物を水から再結晶させた。
【０１１５】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（融点、ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、Ｃ−ＮＭＲおよびＵＶ）に従い特徴決定した。
濾過し再結晶した沈殿物の融点は１８９℃〜１９５℃であった。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３２８７ｃｍ−１；２１０２ｃｍ−１；１７０４ｃｍ−１；１６４４ｃｍ−１；１５８２ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）１２．３５（ＯＨ）；９．０（ＮＨ）；８．１、７．４、７．２（芳香族Ｈ）；３．９（ＣＨ２）であった。
表題化合物のＣ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）１７０、１６４（Ｃ＝Ｏ）；１４５，１４３，１３４，１２６，１２０，１１８（芳香族Ｈ）；４０（ＣＨ２）であった。
表題化合物のＵＶ（ＭｅＯＨ）スペクトルの特徴的なピークは３０７ｎｍであった。
【０１１６】
〔実施例８〕
Ｎ−（４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシル）５−アジド−２−ニトロベンゾエートの調製
【化１２】
0005937217.tif 000014
【０１１７】
二口フラスコに３ｍＬの酢酸エチル中Ｎ−スクシンイミジル−５−アジド−２−ニトロベンゾエート（１００ｍｇ）と４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシルアミン（１８０ｍｇ）を入れた。
【０１１８】
溶液を暗所に置き一晩撹拌した。
【０１１９】
反応生成物をフラッシュクロマトグラフィー後（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）白色固体として直接ケイ素ゲルに充填した。
【０１２０】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（融点、ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、Ｃ−ＮＭＲおよびＵＶ）に従い特徴決定した。
濾過し再結晶した沈殿物の融点は１０５〜１１０℃であった。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３２６０ｃｍ−１；２１００ｃｍ−１；１６４０ｃｍ−１；１２００ｃｍ−１；１１００ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）８．７５（ＮＨ）；８．１、７．４、７．２５（芳香族Ｈ）；２．４５，１．７５（脂肪族Ｈ）であった。
表題化合物のＣ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）１６５（Ｃ＝Ｏ）；１４５，１４２，１３５，１２５，１２０，１１８（芳香族Ｃ）；４０，３０，２０（脂肪族Ｈ）であった。
表題化合物のＵＶ（ＭｅＯＨ）スペクトルの特徴的なピークは３０８ｎｍであった。
【０１２１】
〔実施例９〕
Ｎ−（トリス（ヒドロキシメチル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエートの調製
【化１３】
0005937217.tif 000015
【０１２２】
二口フラスコにＮ−スクシンイミジル−５−アジド−２−ニトロベンゾエート（１００ｍｇ）と３．６ｍＬのジオキサンを入れた。得られた溶液にトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（１ｍＬの水中８０ｍｇ）と２００μＬのＴＥＡ溶液をシリンジを介して加えた。
【０１２３】
溶液を暗所に置き一晩撹拌した。
【０１２４】
試料を回転エバポレーターと真空ポンプを用いて乾燥させた（一晩）。生成物は黄色結晶性固体であった。
【０１２５】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（融点、ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、Ｃ−ＮＭＲおよびＵＶ）に従い特徴決定した。
得られた生成物の融点は、１２５〜１３０℃であった。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３３８１ｃｍ−１；２１２４ｃｍ−１；１７１３ｃｍ−１；１５８３ｃｍ−１；１４１０ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）８．１（ＮＨ）；７．４，７．１，７．０５（芳香族Ｈ）；３．７５（ＯＨ）；２．２５（脂肪族Ｈ）であった。
表題化合物のＣ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）１６５（Ｃ＝Ｏ）；１４５，１４０，１３５，１２７，１２５，１２０（芳香族Ｃ）；６２（Ｃ−ＯＨ）；２５，３５，４０（脂肪族Ｃ）であった。
表題化合物のＵＶ（ＭｅＯＨ）スペクトルの特徴的なピークは３０８ｎｍであった。
【０１２６】
〔実施例１０〕
Ｎ−（ドデカエチレングリコールモノメチルエーテル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエートの調製
【化１４】
0005937217.tif 000016
【０１２７】
二口フラスコにＮ−スクシンイミジル−５−アジド−２−ニトロベンゾエート（１００ｍｇ）、５ｍＬの酢酸エチルおよび２００μＬのトリエチルアミンを入れた。得られた溶液に酢酸エチル中メチル−ＰＥＧ１２−アミン（ThermoFisher Scientific社から購入）溶液（５ｍＬ中１８３ｍｇ）をシリンジを介して加えた。溶液を暗所に１６時間置いた。溶液（明るい黄色）を１０ｍＬのブラインで２回抽出した。水相を１０ｍＬのＣＨ２Ｃｌ２で抽出した（３回）。有機層を無水ＭｇＳＯ４で脱水し、濾過して回転エバポレーターで乾燥させた。生成物は暗い黄色の油である。
【０１２８】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（融点、ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、Ｃ−ＮＭＲおよびＵＶ）に従い特徴決定した。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３２００ｃｍ−１；２８７３ｃｍ−１；２１２１ｃｍ−１；１６６９ｃｍ−１；１１０４ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）６．８（ＮＨ）；８．２，７．３，７．２（芳香族Ｈ）；３．６５（脂肪族Ｈ）；３．３（ＯＣＨ３）であった。
表題化合物のＣ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）１６５（Ｃ＝Ｏ）；１４６，１４２，１３５，１２７，１２０，１１９（芳香族Ｃ）；７０（脂肪族Ｃ）；５７（ＯＣＨ３）であった。
表題化合物のＵＶ（ＭｅＯＨ）スペクトルの特徴的なピークは３０５ｎｍであった。
【０１２９】
〔実施例１１〕
Ｎ−（ヘキサデシル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエートの調製
【化１５】
0005937217.tif 000017
【０１３０】
二口フラスコに５０ｍＬの酢酸エチルと３０ｍＬのジクロロメタン中Ｎ−スクシンイミジル−５−アジド−２−ニトロベンゾエート（１ｇ）とヘキサデシルアミン（０．７９１ｇ）を入れた。続いて撹拌条件下で２００μＬのトリエタノールアミンを加えた。
【０１３１】
溶液を暗所に置き一晩撹拌した。
【０１３２】
反応生成物をフラッシュクロマトグラフィー後（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）白色固体として直接ケイ素ゲルに充填した。
【０１３３】
表題化合物を、例えば“Foundations of Spectroscopy”, S. Duckett and B. Gilbert, Oxford University Press, 2000に記載されている以下の解析（融点、ＩＲ、Ｈ−ＮＭＲ、ＵＶ）に従い特徴決定した。
反応生成物の融点は、９４〜１００℃であった。
表題化合物のＩＲ（ＮａＣｌ）スペクトルの特徴的なピークは３２７８．４ｃｍ−１；２１２２．２ｃｍ−１；１６４４．２ｃｍ−１であった。
表題化合物のＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルの特徴的なピークは（３００ＭＨｚで）８．６（ＮＨ）；８．１，８．０５，７．４，７．３，７．２（芳香族Ｈ）；３．２、０．８（脂肪族Ｈ）であった。
表題化合物のＵＶ（ＭｅＯＨ）スペクトルの特徴的なピークは３０５ｎｍであった。
【０１３４】
〔実施例１２〕
動的接触角（ＤＣＡ）の決定
典型的には、分子間の相互作用を測定する方法は、動的接触角（ＤＣＡ）試験（傾斜した基部を用いる「前進および後退接触角」）である。接触角は、液滴について滴のプロファイルを解析しその頂点が３相ラインで開始する角度を測定することにより測定される。固体が０°〜９０°傾斜している場合、後退角は減少するが前進角は増加する。前進角と後退角の差は、接触角ヒステリシスである。しかし、目的は円筒状プロファイル（すなわち血管形成術バルーン）の動的接触角（ＤＣＡ）を測定することなので、傾斜基部を用いる方法はこの試料タイプには使用できなかった。
【０１３５】
従って、この試料の動的接触角（ＤＣＡ）はＷｉｌｈｅｌｍｙ法により測定した。この方法によると、固体試料を電気天秤に設置し、既知の表面張力を有する液体の中に入れ、または該液体から引き出す。固体試料が液体に貫入する際に前進接触角を決定し、該試料を液体から引き出す際に後退接触角測定値を得る。
【０１３６】
Ｗｉｌｈｅｌｍｙ法は、例えば“Contact Hysteresis on Heterogeneous Surface” (Leonard W. Schwartz, Stephen Garoff - Langmuir 1985, 1, 219-230)、“Molecular Mechanisms Associated with Adhesion and Contact Angle Hysteresis of Monolayer Surface” (Y. L. Chen, C. A. Helm, J. N. Israelachvili - J. Phys. Chem. 1991, 95, 10736-10747)、“Dinamic Contact Angles s and Contact Angle Hysteresis of Plasma Polymers” (J.H. Wang, P.M. Claesson, J.L. Parker H. Yasuda - Langmuir 1994,10, 3887-3897)、“A Systematic Comparison of Contact Angle Methods” (Lorraine M. Lander, Lisa M. Siewierski, William J. Brittain, Erwin A. Voglert - Langmuir 1993,9, 2237-2239)に開示されている。
【０１３７】
Ｗｉｌｈｅｌｍｙ法による動的接触角（ＤＣＡ）の測定は、
ａ）プレート試料と、
ｂ）バルーン試料
の両方において実施して、バルーン試料（幾何学的形状が複雑）から得られた値をプレート試料（幾何学的形状が単純）から得られた値と比較できるようにした。
【０１３８】
〔実施例１２ａ〕
Ｗｉｌｈｅｌｍｙ法によるプレート試料の動的接触角（ＤＣＡ）の決定
試験プロトコルを規定するために、最初に高分子プレートの動的接触角（ＤＣＡ）を測定した。
プレートはポリアミド１２で作製し、寸法は以下の通りであった：幅Ｗ＝２５ｍｍ、長さＬ＝３０ｍｍ、厚みｓ＝１．２ｍｍ。
測定は、Force Tensiometer Sigma 700（KSV Instruments, Inc.社製)を用いて実施した。プレートをメタノールとアセトンで洗浄し、それに続いて特定の芳香族アジド溶液に一晩浸漬した。プレートは３ｍｍ／分の速度で溶液に出し入れした。プレートを溶液中深さ１７ｍｍで浸漬した。
５種類の異なる芳香族アジド（以下表1のとおり）を試験したが、ＰＡ１２で作製した試料１つは一切芳香族アジドで処理しなかった（対照試料）：
【０１３９】
【表１】
0005937217.tif 000018
【０１４０】
試料は全て波長２５４ｎｍの紫外線を３０分照射した。
次いで照射した試料をメタノール、アセトンおよび水の溶液で洗浄した。
１５分かけて水分を切り、試料をForce Tensiometerで試験した結果を表1に示す。
ＰＡ１２プレート（対照試料）を、アジド処理試料に実施した全ステップに供した。唯一の違いは、ＰＡ１２プレートを浸漬した溶液は一切芳香族アジドを含有していなかったことである。
【０１４１】
表２の値を解析すると以下が明らかとなる：
−親水性分子（それぞれＴＲＩＳ、ｐｎＴＲＩＳ、ｐｎＰＥＧ材料でできた試料Ｓ２、Ｓ４およびＳ５）については、θ後退（表面の極性画分の試験に有用なパラメーター）がＰＡ１２自体（ＰＡ１２でできた試料Ｓ１であり、芳香族アジドで処理されていない）のθ後退値に対し減少する；
−疎水性分子（それぞれｐｎＰＴＦＥとｐｎＡＬＣ材料でできた試料Ｓ３およびＳ６）については、θ前進（表面の分散性画分の試験に有用なパラメーター）がＰＡ１２自体（ＰＡ１２でできた試料Ｓ１であり、芳香族アジドで処理されていない）のθ前進値に対し増加する。
表２の値は、ヒストグラムとして図３にもプロットされている。
さらに、図４と図５はそれぞれ、表２のθ後退およびθ前進値、それぞれ標準偏差を示してプロットされたものを示す。
従って、表２は、高分子プレートの表面が、本発明による光活性化反応の結果として明白に改質されたことを明らかに示している。このことは、非処理表面（すなわちＳ１）の後退および前進接触角に対する後退および前進接触角の変動パーセンテージ（θ％）を示す表３に報告されている値によっても確認される。
【０１４２】
【表２】
0005937217.tif 000019
【０１４３】
【表３】
0005937217.tif 000020
【０１４４】
〔実施例１２ｂ〕
Ｗｉｌｈｅｌｍｙ法によるバルーン試料の動的接触角（ＤＣＡ）の決定  モル
実施例１２ａに記載の試験手順をバルーン試料の試験にも使用した。
バルーン（Invatec S.p.A.社製ADMIRAL（登録商標）XTREME）はポリアミド１２で作製し、寸法は以下のとおりであった：外径＝４ｍｍ、長さＬ＝６０ｍｍ。
測定は、Force Tensiometer Sigma700(KSV Instruments, Inc.社製)を用いて実施した。
バルーンをメタノールとアセトンで洗浄し、それに続いて特定の芳香族アジド溶液に一晩浸漬した。
２種類の異なる芳香族アジド（以下の表のとおり）を試験したが、ＰＡ１２で作製した試料１つは一切芳香族アジドで処理しなかった（対照試料）：
【０１４５】
【表４】
0005937217.tif 000021
【０１４６】
試料は全て波長２５４ｎｍの紫外線を３０分照射した。次いで照射した試料をメタノール、アセトンおよび水の溶液で洗浄した。１５分かけて水分を切り、試料をForce Tensiometerで試験した結果を表５に示す。ＰＡ１２バルーン（対照試料）を、アジド処理試料に実施した全ステップに供した。唯一の違いは、ＰＡ１２バルーンを浸漬した溶液は一切芳香族アジドを含有していなかったことである。
【０１４７】
【表５】
0005937217.tif 000022
【０１４８】
表５の値を解析すると以下が明らかとなる：
−親水性分子（ｐｎＴＲＩＳ材料でできた試料Ｓ８）については、θ後退（表面の極性画分の試験に有用なパラメーター）がＰＡ１２自体（ＰＡ１２でできた試料Ｓ７であり、芳香族アジドで処理されていない）のθ後退値に対し著しく減少する；
−疎水性分子（ｐｎＡＬＣ材料でできた試料Ｓ９）については、θ前進（表面の分散性画分の試験に有用なパラメーター）がＰＡ１２自体（ＰＡ１２でできた試料Ｓ７であり、芳香族アジドで処理されていない）のθ前進値に対し増加する。
表５の値は、ヒストグラムとして図６にもプロットされている。
さらに、図７と図８はそれぞれ、表５のθ後退およびθ前進値、それぞれ標準偏差を示してプロットされたものを示す。
したがって、表５は、高分子バルーンの表面が、本発明による光活性化反応の結果として明白に改質されたことを明らかに示している。このことは、非処理表面（すなわちＳ７）の後退および前進接触角に対する後退および前進接触角の変動パーセンテージ（θ％）を示す表６に報告されている値によっても確認される。
さらに、同じ材料について、プレート試料とバルーン試料について得られた接触角を比較すると（表２と表５）、本発明による光活性化反応後に得られた接触角は明らかに非常に似ている。このことは、プレート試料（初等幾何学的に平坦な試料）で得られた表面改質が、バルーン試料（幾何学的に非常に複雑な円筒状試料）でも得られたことを意味する。
【０１４９】
【表６】
0005937217.tif 000023
【０１５０】
〔実施例１３〕
高分子表面の光活性化反応収率の評価
この解析は、高分子表面の光活性化反応収率が、反応に使用された置換芳香族アジドにいかに影響されるかを示す。
【０１５１】
アリールアジドの光励起について提案される反応機構を図９に示す（“Thrombin inhibitors grafting on polyester membranes for the preparation of blood-compatible materials”, Claudio Salvagnini, 2005）。
【０１５２】
まず、アリールアジド（１）は窒素分子の欠失と一過性の一重線アリールニトレン（２Ｓ）の形成を経る。この不安定な化合物は、炭化水素の挿入（３）または１，２−アザシクロヘプタテトラエンに対する内部再配置（４）により高速に反応し得る。これは電子不足種であり、主として求核剤（Ｎｕ）と反応してアゼピン付加物（５）を形成する。少量の三重線ニトレン種（２Ｔ）が項間交差を通じて形成される。三重線ニトレンは本質的にジラジカル種であり、水素−ラジカル抽出および炭化水素基質への共有結合ができる（７）。
【０１５３】
本発明による高分子表面の処理では、高分子材料表面の親水性または疎水特徴を増強するために、特に光活性化反応の良好な収率を得るために、溶液中アリールアジドの大部分が炭化水素基質（３）または（７）への共有結合により反応することが重要である。特に光活性化反応の良好な収率を得るために、溶液中アリールアジドの残基部分のみが反応廃棄物を意味するアゼピン付加物（５）形成により反応することが重要である。
【０１５４】
ここで反応に戻ると、一度形成された当該一重線アリールニトレン（２Ｓ）は通常、ニトレンの性質に応じた速度で、対応する三重線への項間交差を経る。共有結合の形成では、単一反応ステップにおいてその基質から１つの電子対を得るので、一重線アリールニトレンの方が良好である。一方、三重線ニトレン（２Ｔ）は、その電子的性質により２ステップ反応を経ることを余儀なくし、ここでニトレンと基質の共有結合は２番目のステップにおいてのみなされる。
【０１５５】
このため、通常アリールアジドの光励起反応機構では、アゼピン形成が主たる反応経路である一方で、一重線アリールニトレン（２ｓ）の非常に小さな部分のみがゆっくりと炭化水素基質（３）または三重線ニトレン（２Ｔ）へと変換される。
【０１５６】
以上に予測されるように、光活性化反応の良好な収率のためには、溶液中アリールアジドの大部分が炭化水素基質（３）または（７）との共有結合により反応することが重要である。実施例５の化合物［４−アジド−２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）ベンズアミド；実施例６の４−アジド−２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｎ−（４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシル）ベンズアミド；実施例７の２−ニトロ−５−アジドベンゾイルグリシン；実施例８のＮ−（４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシル）５−アジド−２−ニトロベンゾエート；実施例９のＮ−（トリス（ヒドロキシメチル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエートと実施例１０のＮ−（ドデカエチレングリコールモノメチルエーテル）−５−アジド−２−ニトロベンゾエートは、良好な反応速度と収率を提供することを示している。
【０１５７】
これらの置換芳香族アジドの光活性化反応をＵＶ照射光線を用いて試験している。２種類の異なる試料を以下を用いて調製した：
−実施例３のＮ−（２−ヒドロキシエチル）−４−アジドベンゼンスルホニルアミド３ｍｌの溶液１０−２Ｍ（Ａｚ１）；
−実施例５の４−アジド−２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）ベンズアミド３ｍｌの溶液１０−２Ｍ（Ａｚ２）。
【０１５８】
試料に使用した溶媒はメタノールであった。ＰＡ１２表面を各溶液に浸漬し、試料を光波長２５４ｎｍで照射した。
【０１５９】
光活性化反応の収率を評価するためにこれらの試料をＴＬＣ試験（溶出剤：１００％酢酸エチル）で別々の時間で試験した。別々の時間で得られた試料Ａｚ１とＡｚ２の両方の光活性化反応のＴＬＣの結果を図１０〜１３に示す。
【０１６０】
時間ｔ＝０
アジドの存在はスポット（点）により示され、特定の距離Ｒｆと相関付けられる。
【０１６１】
【数１】
0005937217.tif 000024
【０１６２】
開始点では、２つのアジドを表す２つのスポットの存在、特に高分子表面との反応に利用可能なアリールアジドの存在を見ることができる。Ｒｆの具体的な開始値は、ＡＺ１がＲｆＡｚ１＝０．６４であり、ＡＺ２がＲｆＡｚ２＝０．５８である。
【０１６３】
時間ｔ＝５分
一定の反応時間（５分）の後、２つの反応生成物に対応する、それぞれＰｈ１とＰｈ２として示されるスポットも検出することができる。
具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−アジドベンゼンスルホニルアミドに関する反応については、以下を見ることができる：
−反応に利用可能であり同じＲｆＡｚ１＝０．６４で示される少量のアリールニトレンに対応する、（ｔ＝０時のスポットと比較して）非常に小さいスポット；
−ＲｆＰｈ１＝０．４６で示される、少量のアゼピンに対応する新しいスポット。この状況は、アリールニトレンの一部がアゼピンに変換されていることを示す。
４−アジド−２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）ベンズアミドに関する反応については、反応に利用可能であり同じＲｆＡｚ２＝０．５８で示される少量のアリールアジドに対応する、（ｔ＝０時のスポットと比較して）非常に小さいスポットのみを見ることができる。この状況では、アゼピンの不存在（すなわち関連スポットの不存在）と反応に利用可能なアリールアジド量の減少（すなわち小さい関連スポットにより表される）により、アリールニトレンの一部分が高分子表面と反応していることが示される。
【０１６４】
時間ｔ＝３０分
反応のこの段階では、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−アジドベンゼンスルホニルアミドについては、まだ両方のスポットを見ることが可能である：アリールアジド（ＲｆＡｚ１＝０．６４）に対応するスポット（さらに減少する）と、アゼピン（ＲｆＰｈ１＝０．４６）に対応するスポット（増加する）。
４−アジド−２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）ベンズアミドに関する反応については、今や以下を見ることができる：
−反応に利用可能であり同じＲｆＡｚ２＝０．５８で表されるアリールアジドに対応する小さいスポット；
−ＲｆＰｈ２＝０．３５で示される、少量のアゼピンに対応する新しいスポット。この状況は、アリールニトレンの新しい（ｎｏｗ）部分のみがアゼピンに変換されていることを示す。
【０１６５】
時間ｔ＝１時間３０分
反応のこの段階では、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−アジドベンゼンスルホニルアミドについては、アゼピン（ＲｆＰｈ１＝０．４６）に対応する１つのスポットのみを見ることができる。この状況は、高分子表面との反応に利用可能なアリールニトレンはもう存在せず、反応が終了したことを示す。
４−アジド−２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）ベンズアミドに関する反応については、まだ両方のスポットを見ることが可能である：反応に利用可能なアリールアジドに対応する小さいスポットと、アゼピンに対応するスポット。この状況は、高分子表面との反応に利用可能なアリールニトレンが尚も存在し、反応は継続中であることを示す。
【０１６６】
電子吸引性置換基を有するアジドについて得られたＴＬＣ測定値は、反応廃棄物を表すアゼピンがすぐには出現しないことを示す。上述の結果は、電子吸引性置換基（例えば−Ｆおよび−ＮＯ２）で増強されたアジドは、高分子表面との良好な光活性化反応収率を有する。
【図１】
0005937217.tif 000030
【図２】
0005937217.tif 000031
【図４】
0005937217.tif 000032
【図５】
0005937217.tif 000033
【図７】
0005937217.tif 000034
【図８】
0005937217.tif 000035
【図９】
0005937217.tif 000036
【図１０】
0005937217.tif 000037
【図１１】
0005937217.tif 000038
【図１２】
0005937217.tif 000039
【図１３】
0005937217.tif 000040
【図３】
0005937217.tif 000041
【図６】
0005937217.tif 000042