(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の上に第１方向に配列された複数の第１電極セル、及び前記第１電極セルを前記第１方向に連結する複数の第１連結電極を含む第１ハイブリッド電極と、
前記基板の上に前記第１ハイブリッド電極と離隔され、前記第１方向に交差する第２方向に配列され、前記第１連結電極の間に配置された複数の第２電極セル、及び前記第２電極セルを前記第２方向に連結する複数の第２連結電極を含む第２ハイブリッド電極と、を含み、
前記第１ハイブリッド電極は順次的に積層された第１下部透明膜及び第１金属膜を含み、
前記第２ハイブリッド電極は順次的に積層された第２下部透明膜及び第２金属膜を含み、
前記基板と前記第１ハイブリッド電極との間、及び前記基板と前記第２ハイブリッド電極との間の緩衝膜をさらに含むタッチスクリーンパネル。
【請求項２】
前記第２連結電極は前記第１連結電極の上に延長する請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項３】
前記第１金属膜は前記第２下部透明膜と直接接触する請求項２に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項４】
前記第１下部透明膜及び前記第２下部透明膜は１．９〜２．６５の屈折率を有する請求項２に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項５】
前記第１下部透明膜は１０〜３０ｎｍの厚さを有する請求項４に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項６】
前記第２下部透明膜は１００〜３００ｎｍの厚さを有する請求項４に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項７】
前記第１金属膜及び前記第２金属膜は銀又は銀合金を含む請求項２に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項８】
前記第１金属膜及び前記第２金属膜は６〜１２ｎｍの厚さを有する請求項７に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項９】
前記第１金属膜上の第１透明金属酸化膜と、
前記第２金属膜上の第２透明金属酸化膜と、をさらに含む請求項２に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１０】
前記第１透明金属酸化膜は前記第２下部透明膜と直接接触する請求項９に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１１】
前記第１透明金属酸化膜及び前記第２透明金属酸化膜はＩＴＯ、ＩＺＴＯ、ＩＺＯ、ＡＺＯ、又はＧＺＯを含む請求項９に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１２】
前記第１透明金属酸化膜及び前記第２透明金属酸化膜は３０〜６０ｎｍの厚さを有する請求項１１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１３】
前記緩衝膜は１．７〜２．６５の屈折率を有し、６〜８０ｎｍの厚さを有する請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１４】
前記緩衝膜は第１緩衝膜及び前記第１緩衝膜上の第２緩衝膜を含み、前記第１緩衝膜は前記第２緩衝膜より大きい屈折率を有する請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１５】
前記第１ハイブリッド電極及び前記第２ハイブリッド電極上の光接着膜をさらに含む請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はタッチスクリーンパネルに関し、さらに詳細にはハイブリッド電極を有するタッチスクリーンパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、コンピュータ、携帯用移動通信端末機等の電子装置が普遍化されて、タッチスクリーンはデータを入力するための手段として広く使用されている。タッチスクリーンは抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、及び赤外線方式に分類される。
【０００３】
抵抗膜方式のタッチスクリーンは指又はペンを利用して基板をタッチすれば、下部基板の透明電極が互に接触しながら電気的信号が発生し、発生された電気的信号によって位置を把握してデータを入力する装置である。抵抗膜方式のタッチスクリーンは価格が低廉であり、高い光透過性、マルチタッチ、及び反応速度が速いので、小型化に有利であり、ＰＤＡ、ＰＭＰ、ナビゲーション、及びヘッドセット等に主に適用される。静電容量方式のタッチスクリーンは透明電極を含む基板を指でタッチして導電体が接触される場合、指から発生する静電気によって絶縁層に一定な静電容量が形成される。静電容量が形成された部分を通じて信号が伝達されて信号の大きさを計算して位置を把握する。超音波方式（ＳＡＷ）のタッチスクリーンは放出された超音波が障害物によって波動の大きさが小さくなることを感知する技術を利用する。超音波方式のタッチスクリーンは光の透過性が高くて正確性と鮮明度とが高くなって外部場所に設置された無人情報端末機等に使用される。反面、センサーの汚染と液体とに弱い。赤外線方式（ＩＲ）のタッチスクリーンは直進性と障害物があれば、遮断される赤外線の特性とを利用し、ディスプレイの全面にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）フィルムやガラス基板が必要無しでガラス１枚で具現できるので、透過率が最も優れる。
【０００４】
このような多様なタッチスクリーン方式の中で静電容量方式は感性タッチの基本であるマルチタッチが可能であり、高透過センサーの製作が可能である。したがって、静電容量方式タッチスクリーンは感性タッチが可能である大面積及び薄いディスプレイに適用できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】韓国特許公開第１０−２０１０−００８２５１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、製作工程が単純化されて製作費用が低下されたタッチスクリーンパネルを提供することにある。
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は以上に言及された課題に制限されず、言及されないその他の課題は以下の記載から当業者に明確に理解できる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明はタッチスクリーンパネルを提供する。前記タッチスクリーンパネルは基板と、前記基板の上に第１方向に配列された複数の第１電極セル、及び前記第１電極セルを前記第１方向に連結する複数の第１連結電極を含む第１ハイブリッド電極と、前記基板の上に前記第１ハイブリッド電極と離隔され、前記第１方向に交差する第２方向に配列され、前記複数の第１連結電極間に配置された複数の第２電極セル、及び前記第２電極セルを前記第２方向に連結する複数の第２連結電極を含む第２ハイブリッド電極と、を含む。前記第１ハイブリッド電極は順次的に積層された第１下部透明膜及び第１金属膜を含み、前記第２ハイブリッド電極は順次的に積層された第２下部透明膜及び第２金属膜を含む。
前記第２連結電極は前記第１連結電極の上に延長する。
前記第１金属膜は前記第２下部透明膜と直接接触することができる。
【０００９】
前記第１下部透明膜及び前記第２下部透明膜は１．９〜２．６５の屈折率を有することができる。
前記第１金属膜及び前記第２金属膜は銀又は銀合金を包含できる。
前記第１金属膜上の第１透明金属酸化膜と、
【００１０】
一実施形態で、前記タッチスクリーンパネルは前記第２金属膜上の第２透明金属酸化膜をさらに包含できる。前記第１透明金属酸化膜は前記第２下部透明膜と直接接触することができる。
【００１１】
前記第１透明金属酸化膜及び前記第２透明金属酸化膜はＩＴＯ、ＩＺＴＯ、ＩＺＯ、ＡＺＯ、はＧＺＯを包含できる。
【００１２】
一実施形態で、前記タッチスクリーンパネルは前記基板と前記第１ハイブリッド電極との間、及び前記基板と前記第２ハイブリッド電極との間の緩衝膜をさらに包含できる。
【００１３】
前記緩衝膜は１．７〜２．６５の屈折率を有し、６〜８０ｎｍの厚さを有することができる。
【００１４】
前記緩衝膜は第１緩衝膜及び前記第１緩衝膜上の第２緩衝膜を含み、前記第１緩衝膜は前記第２緩衝膜より大きい屈折率を有することができる。
【００１５】
一実施形態で、前記タッチスクリーンパネルは前記第１ハイブリッド電極及び前記第２ハイブリッド電極上の光接着膜をさらに包含できる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、Ｘ軸電極とＹ軸電極との間の層間絶縁膜無しでタッチスクリーンパネルを製作できるので、製作工程が単純化され、製作費用を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施形態によるタッチスクリーンパネルの平面図である。
【図２Ａ】本発明の一実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
【図２Ｂ】本発明の一実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、図１のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。
【図２Ｃ】本発明の一実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、図１のＣ−Ｃ’線に沿う断面図である。
【図２Ｄ】本発明の一実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、図１のＤ−Ｄ’線に沿う断面図である。
【図２Ｅ】本発明の一実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、図１のＥ−Ｅ’線に沿う断面図である。
【図３】本発明の一実施形態によるタッチスクリーンパネルのＥ−Ｅ’線に沿う断面図である。
【図４Ａ】本発明の他の実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
【図４Ｂ】本発明の他の実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、図１のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。
【図４Ｃ】本発明の他の実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、図１のＣ−Ｃ’線に沿う断面図である。
【図４Ｄ】本発明の他の実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、図１のＤ−Ｄ’線に沿う断面図である。
【図４Ｅ】本発明の他の実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、図１のＥ−Ｅ’線に沿う断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態によるタッチスクリーンパネルのＥ−Ｅ’線に沿う断面図である。
【図６】本発明の実施形態によるタッチスクリーンパネルへ入射された光の反射を図示することであって、図１のＥ−Ｅ’線に沿う断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以上の本発明の目的、他の目的、特徴及び長所は添付された図面と関連された以下の望ましい実施形態を通じて容易に理解され得る。しかし、本発明はここで説明される実施形態に限定されなく、他の形態に具体化されることもあり得る。むしろ、ここで紹介される実施形態は開示された内容が徹底であり、完全になるように、そして当業者に本発明の思想が十分に伝達され得るように提供されることである。
【００１９】
本明細書で、ある膜（又は層）が他の膜（又は層）又は基板の上にあったと述べる場合にそれは他の膜（又は層）又は基板の上に直接形成されるか、又はそれらの間に第３の膜（又は層）が介在されることもあり得る。また、図面において、構成の大きさ及び厚さ等は明確性のために誇張される。また、本明細書の多様な実施形態で第１、第２、第３等の用語が多様な領域、膜（又は層）等を説明するために使用されたが、これら領域、膜がこのような用語によって限定されてはならない。これらの用語は単なる所定領域又は膜（又は層）を他の領域又は膜（又は層）と区別させるために使用されただけである。ここに説明され、例示される各実施形態はそれの相補的な実施形態も含む。本明細書で「及び／又は」という表現は前後に羅列された構成要素の中で少なくとも１つを含む意味と使用される。明細書全体に掛けて同一な参照番号に表示された部分は同一な構成要素を示す。
【００２０】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態に対して詳細に説明する。
【００２１】
図１は本発明の実施形態によるタッチスクリーンパネルの平面図である。図１を参照すれば、本発明の実施形態によるタッチスクリーンパネルは基板（図示せず）の上に第１方向に延長する第１ハイブリッド電極２０、及び第１方向に交差する第２方向に延長する第２ハイブリッド電極３０を含む。第１ハイブリッド電極２０及び第２ハイブリッド電極３０に各々連結される第１配線４１及び第２配線４２が提供される。第１ハイブリッド電極２０はＸ軸電極、第２ハイブリッド電極３０はＹ軸電極であり得る。
【００２２】
第１ハイブリッド電極２０は第１方向に配列された複数の第１電極セル２０ａ、及び第１電極セル２０ａを第１方向に連結する複数の第１連結電極２０ｂを包含できる。複数の第１電極セル２０ａは斜方形模様を有することができる。複数の第１電極セル２０ａは各々の頂点部分の２つが左右方向に隣接して互に対向するように形成され、他の２つが上下方向に隣接して互に対向するように形成され得る。複数の第１連結電極２０ｂは第１方向に互に隣接している第１電極セル２０ａの頂点部分を連結するように形成され得る。しかし、本発明はこれに制限されなく、複数の第１電極セル２０ａは斜方形、長方形、正方形、及び多角形のような多様な模様に形成され得る。
【００２３】
第２ハイブリッド電極３０は第１ハイブリッド電極２０と離隔され、第２方向に配列され、複数の第１連結電極２０ｂの間に配置された複数の第２電極セル３０ａ、及び第２電極セル３０ａを第２方向に連結する複数の第２連結電極３０ｂを包含できる。第２電極セル３０ａは第１ハイブリッド電極２０と接しないように互いに隣接する第１連結電極２０ｂの間に位置するように形成され得る。第２電極セル３０ａは斜方形模様を有することができる。しかし、本発明はこれに制限されなく、第２電極セル３０ａは斜方形、長方形、正方形、及び多角形のような多様な模様に形成され得る。
【００２４】
第２連結電極３０ｂは第１連結電極２０ｂの上に延長できる。
【００２５】
第１連結電極２０ｂの幅及び第２連結電極３０ｂの幅は大略２０乃至２０００μｍであり得る。複数の第１電極セル２０ａの間の間隔、及び複数の第２電極セル３０ａの間の間隔は大略２０乃至２０００μｍであり得る。第１電極セル２０ａと第２電極セル３０ａとの間の間隔は大略１０乃至１０００μｍであり得る。
【００２６】
複数の第１及び第２配線４１、４２はタッチスクリーンパネルの縁に提供される。第１配線４１は第１ハイブリッド電極２０と連結されて電流信号を伝達するドライビングラインであり得る。複数の第２配線４２は第２ハイブリッド電極３０と連結されて、電流信号を感知するセンシングラインであり得る。複数の第１及び第２配線４１、４２の幅は２０μｍ乃至約２００μｍであり得る。複数の第１配線４１の間の間隔は大略２０乃至２０００μｍであり得る。複数の第２配線４２の間の間隔は大略２０乃至２０００μｍであり得る。第１及び第２配線４１、４２の厚さは大略１００乃至１０００ｎｍであり得、第１及び第２配線４１、４２の厚さはタッチスクリーンパネルの大きさと第１及び第２配線４１、４２の抵抗値とによって異なることがあり得る。第１及び第２配線４１、４２はＭｏ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｇ、Ｔｉ／Ｃｕ、Ｔｉ／Ａｇ、Ｃｒ／Ａｇ、Ｃｒ／Ｃｕ、Ａｌ／Ｃｕ、及びＭｏ／Ａｌ／Ｍｏの中でいずれか１つの物質でなされた単層及び／又は多層の金属層であり得る。
【００２７】
図２Ａ乃至図２Ｅは本発明の一実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、各々図１のＡ−Ａ’線、Ｂ−Ｂ’線、Ｃ−Ｃ’線、Ｄ−Ｄ’線、及びＥ−Ｅ’線に沿う断面図である。
【００２８】
基板１０が提供される。基板１０は化学的に強化処理された強化ガラス基板、強化されたプラスチック基板、強化フィルムがコーティングされたＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）基板、又はＰ．Ｅ．Ｔ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）基板であり得る。
【００２９】
基板１０の上に緩衝膜１１が形成される。緩衝膜１１は順次的に積層された第１緩衝膜１２、及び第２緩衝膜１３を包含できる。第１緩衝膜１２は大略２乃至２０ｎｍの厚さを有し得る。第１緩衝膜１２は高屈折率の絶縁膜であり得る。第１緩衝膜１２は大略１．８乃至２．９の屈折率を有する透明絶縁膜であり得る。第１緩衝膜１２はＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５、及びＨｆＯ２の中でいずれか１つの物質であり得る。第２緩衝膜１３は大略２０乃至１００ｎｍの厚さを有することができる。第２緩衝膜１３は低屈折率の絶縁膜であり得る。第２緩衝膜１３は第１緩衝膜１２より小さい屈折率を有することができる。第２緩衝膜１３は大略１．３乃至１．８の屈折率を有する透明絶縁膜であり得る。第２緩衝膜１３はＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、ＭｇＦ２、及びＳｉＯｘＮｙの中でいずれか１つの物質であり得る。第１及び第２緩衝膜１２、１３はスクリーンプリンティング方法、物理気相蒸着法、化学気相蒸着法、又は原子層蒸着法によって形成され得る。
【００３０】
緩衝膜１１は第１緩衝膜１２又は第２緩衝膜１３の中の１つで形成され得る。緩衝膜１１は、例えば、１．７〜２．６５の屈折率を有し、６〜８０ｎｍの厚さを有する透明絶縁膜であり得る。緩衝膜１１は、例えばＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５、及びＨｆＯ２の中でいずれか１つの物質であり得る。
【００３１】
第１ハイブリッド電極２０が緩衝膜１１の上に形成される。第１ハイブリッド電極２０は順次的に積層された第１下部透明膜２１、第１金属膜２３及び第１透明金属酸化膜２５を包含できる。第１下部透明膜２１、第１金属膜２３及び第１透明金属酸化膜２５は同時にパターニングされ得る。図１に示したように、第１ハイブリッド電極２０は第１方向に配列された第１電極セル２０ａ、及び第１電極セル２０ａを第１方向に連結する第１連結電極２０ｂを包含できる。第１下部透明膜２１は１．９〜２．６５の屈折率を有することができる。第１下部透明膜２１は１０〜３０ｎｍの厚さを有することができる。第１下部透明膜２１はＺｎＯ、ＺＩＴＯ（ＺｎＯ＋Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）、ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺＴＯ（ＺｎＯ＋ＳｎＯ２）、ＴｉＯ２、ＡＺＯ（Ａｌ−ｄｏｐｅｄ  ＺｎＯ）、ＧＺＯ（Ｇａ−ｄｏｐｅｄ  ＺｎＯ）、ＳｉＮｘ、ＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）、ＩＺＯ（Ｉｎ２Ｏ３＋ＺｎＯ）又はこれらの化合物であり得る。第１金属膜２３は大略６乃至１２ｎｍの厚さを有することができる。第１金属膜２３はＡｇ、又はＡｇ合金であり得る。Ａｇ合金はＡｇ−Ａｌ、Ａｇ−Ｍｏ、Ａｇ−Ａｕ、Ａｇ−Ｐｄ、Ａｇ−Ｔｉ、Ａｇ−Ｃｕ、Ａｇ−Ａｕ−Ｐｄ、及びＡｇ−Ａｕ−Ｃｕ等の２元又は３元金属であり得る。第１透明金属酸化膜２５は大略３０〜６０ｎｍの厚さを有することができる。第１透明金属酸化膜２５はＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）、ＩＺＴＯ（ＺｎＯ＋Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）、ＩＺＯ（Ｉｎ２Ｏ３＋ＺｎＯ）、ＡＺＯ（Ａｌ−ｄｏｐｅｄ  ＺｎＯ）又はＧＺＯ（Ｇａ−ｄｏｐｅｄ  ＺｎＯ）であり得る。
【００３２】
第２ハイブリッド電極３０は順次的に積層された第２下部透明膜３１、第２金属膜３３及び第２透明金属酸化膜３５を包含できる。第２下部透明膜３１、第２金属膜３３及び第２透明金属酸化膜３５は同時にパターニングされ得る。図１に示したように、第２ハイブリッド電極３０は第２方向に配列された第２電極セル３０ａ、及び第２電極セル３０ａを第２方向に連結する第２連結電極３０ｂを包含できる。第２下部透明膜３１は１．９〜２．６５の屈折率を有する絶縁膜であり得る。第２下部透明膜３１は１００〜３００ｎｍの厚さを有することができる。第２下部透明膜３１はＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、又はＡｌ２Ｏ３であり得る。第２下部透明膜３１はステップカバレージ（ｓｔｅｐ  ｃｏｖｅｒａｇｅ）が２０％以上であり得る。第２下部透明膜３１はＩＰＶＤ（ｉｏｎｉｚｅｄ  ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、ＡＬＤ、ＰＥＣＶＤ、又は溶解法（ｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｐｒｏｃｅｓｓ）で形成され得る。第２金属膜３３は大略６乃至１２ｎｍの厚さを有することができる。第２金属膜３３はＡｇ、又はＡｇ合金であり得る。Ａｇ合金はＡｇ−Ａｌ、Ａｇ−Ｍｏ、Ａｇ−Ａｕ、Ａｇ−Ｐｄ、Ａｇ−Ｔｉ、Ａｇ−Ｃｕ、Ａｇ−Ａｕ−Ｐｄ、及びＡｇ−Ａｕ−Ｃｕ等の２元又は３元金属であり得る。第２透明金属酸化膜３５は大略３０〜６０ｎｍの厚さを有することができる。第２透明金属酸化膜３５はＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）、ＩＺＴＯ（ＺｎＯ＋Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）、ＩＺＯ（Ｉｎ２Ｏ３＋ＺｎＯ）、ＡＺＯ（Ａｌ−ｄｏｐｅｄ  ＺｎＯ）又はＧＺＯ（Ｇａ−ｄｏｐｅｄ  ＺｎＯ）であり得る。
【００３３】
本実施形態によれば、第１透明金属酸化膜２５と第２下部透明膜３１とは直接接触する。
【００３４】
図３を参照して、第１及び第２ハイブリッド電極２０、３０と第１及び第２配線４１、４２の上に、光接着フィルム（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  ｃｌｅａｒ  ａｄｈｅｓｉｖｅ）５０を介在して、偏光フィルム６０及びディスプレイ装置７０が形成され得る。ディスプレイ装置７０はＬＣＤ、ＯＬＥＤ又は電気泳動装置等であり得る。
【００３５】
図４Ａ乃至図４Ｅは本発明の他の実施形態によるタッチスクリーンパネルを説明することであって、各々図１のＡ−Ａ’線、Ｂ−Ｂ’線、Ｃ−Ｃ’線、Ｄ−Ｄ’線、及びＥ−Ｅ’線に沿う断面図である。前述した一実施形態との差異点を中心に説明する。
【００３６】
図４Ａ乃至図４Ｅを参考すれば、緩衝膜１１の上に第１ハイブリッド電極２０が形成される。第１ハイブリッド電極２０は順次的に積層された第１下部透明膜２１及び第１金属膜２３を包含できる。第１下部透明膜２１及び第１金属膜２３は同時にパターニングされ得る。図１に示したように、第１ハイブリッド電極２０は第１方向に配列された第１電極セル２０ａ、及び第１電極セル２０ａを第１方向に連結する第１連結電極２０ｂを包含できる。第１下部透明膜２１は１．９〜２．６５の屈折率を有することができる。第１下部透明膜２１は１０〜３０ｎｍの厚さを有することができる。第１下部透明膜２１はＺｎＯ、ＩＺＴＯ（ＺｎＯ＋Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）、ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺＴＯ（ＺｎＯ＋ＳｎＯ２）、ＴｉＯ２、ＡＺＯ（Ａｌ−ｄｏｐｅｄ  ＺｎＯ）、ＧＺＯ（Ｇａ−ｄｏｐｅｄ  ＺｎＯ）、ＳｉＮｘ、ＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）、ＩＺＯ（Ｉｎ２Ｏ３＋ＺｎＯ）又はこれらの化合物であり得る。第１金属膜２３は大略６乃至１２ｎｍの厚さを有することができる。第１金属膜２３はＡｇ、又はＡｇ合金であり得る。Ａｇ合金はＡｇ−Ａｌ、Ａｇ−Ｍｏ、Ａｇ−Ａｕ、Ａｇ−Ｐｄ、Ａｇ−Ｔｉ、Ａｇ−Ｃｕ、Ａｇ−Ａｕ−Ｐｄ、及びＡｇ−Ａｕ−Ｃｕ等の２元又は３元金属であり得る。
【００３７】
第１ハイブリッド電極２０の上に第２ハイブリッド電極３０が形成される。第２ハイブリッド電極３０は順次的に積層された第２下部透明膜３１及び第２金属膜３３を包含できる。第２下部透明膜３１及び第２金属膜３３は同時にパターニングされ得る。図１に示したように、第２ハイブリッド電極３０は第２方向に配列された第２電極セル３０ａ、及び第２電極セル３０ａを第２方向に連結する第２連結電極３０ｂを包含できる。第２下部透明膜３１は１．９〜２．６５の屈折率を有する絶縁膜であり得る。第２下部透明膜３１は１００〜３００ｎｍの厚さを有することができる。第２下部透明膜３１はＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、又はＡｌ２Ｏ３であり得る。第２下部透明膜３１はステップカバレージ（ｓｔｅｐ  ｃｏｖｅｒａｇｅ）が２０％以上であり得る。第２下部透明膜３１はＩＰＶＤ（ｉｏｎｉｚｅｄ  ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、ＡＬＤ、ＰＥＣＶＤ、又はｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｐｒｏｃｅｓｓで形成され得る。第２金属膜３３は大略６乃至１２ｎｍの厚さを有することができる。第２金属膜３３はＡｇ、又はＡｇ合金であり得る。Ａｇ合金はＡｇ−Ａｌ、Ａｇ−Ｍｏ、Ａｇ−Ａｕ、Ａｇ−Ｐｄ、Ａｇ−Ｔｉ、Ａｇ−Ｃｕ、Ａｇ−Ａｕ−Ｐｄ、及びＡｇ−Ａｕ−Ｃｕ等の２元又は３元金属であり得る。
【００３８】
本実施形態によれば、第１金属膜２３と第２下部透明膜３１とは直接接触する。
【００３９】
図５を参照して、第１及び第２ハイブリッド電極２０、３０と第１及び第２配線４１、４２の上に、光接着フィルム５０を介在して、偏光フィルム６０及びディスプレイ装置７０が形成され得る。ディスプレイ装置７０はＬＣＤ、ＯＬＥＤ又は電気泳動装置等であり得る。
【００４０】
本発明の実施形態によれば、第１ハイブリッド電極２０と第２ハイブリッド電極３０との間を絶縁させるために、別の工程又は別の層間絶縁膜を必要としない。第２ハイブリッド電極３０の絶縁性の第２下部透明膜３１が第１ハイブリッド電極２０と第２ハイブリッド電極３０との間の絶縁機能を果たす。したがって、蒸着及びパターニングをための工程を減らし得る。例えば、タッチスクリーンパネルを製作するための一般的な方法によれば、４つ以上のマスクが必要とするが、本発明の実施形態によれば、３つのマスクに減らすことが可能である。
【００４１】
本発明の実施形態によるタッチスクリーンパネルのインデックスマッチングを説明する。
【００４２】
本発明の実施形態によれば、第１ハイブリッド電極２０と第２ハイブリッド電極３０とは絶縁のために、大略１０〜２０００μｍの間隔に互に離隔されて形成される。これら間の間隔によってこれらの下の緩衝膜１１が露出される。本発明の実施形態によるタッチスクリーンパネルは第１ハイブリッド電極２０の第１領域Ｒ１、第２ハイブリッド電極３０の第２領域Ｒ２、及び第１ハイブリッド電極２０と第２ハイブリッド電極３０との間の第３領域Ｒ３を含む（図１及び図６参照）。第１乃至第３領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の上で、物質の屈折率及び厚さが互に異なり得る。第１乃至第３領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３で各々反射された光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３のスペクトルが互に異なり得る。そのため、タッチスクリーンパネルはまだら模様を有することができる。
【００４３】
本発明の一実施形態によるタッチスクリーンパネルで、第１領域Ｒ１、第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３での光の透過度及び反射度をシミュレーションした。
【００４４】
下の表１のような最適の条件で、５５０ｎｍ波長での反射度は９４％以上であった。光の透過度差異は３．５％以下であった。光の反射度の差異は０．６８％以下であった。
【表１】
0006025429.tif 000002
【００４５】
下の表２のような条件で、５５０ｎｍ波長での反射度は９４％以上であった。光の透過度の差異は４％以下であった。光の反射度の差異は１％以下であった。
【表２】
0006025429.tif 000003
【００４６】
類似に、本発明の他の実施形態によるタッチスクリーンパネルで、第１領域Ｒ１、第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３での光の透過度及び反射度をシミュレーションした。下の表３のような条件で、５５０ｎｍ波長での反射度は８５％以上であった。光の透過度の差異は５％以下であった。光の反射度の差異は２％以下であった。
【表３】
0006025429.tif 000004
【００４７】
前述したシミュレーション結果のように、本発明の実施形態によれば、膜の屈折率及び厚さを調節することによって第１領域Ｒ１、第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３での反射度の差異を２％以下に調節することができる。このようなインデックスマッチング条件を最適化することにしたがってタッチスクリーンパネルの視認性を確保できる。
【符号の説明】
【００４８】
２０・・・・第１ハイブリッド電極
２０ａ・・・第１電極セル
２０ｂ・・・第１連結電極
２１・・・・第１下部透明膜
２３・・・・第１金属膜
３０・・・・第２ハイブリッド電極
３０ａ・・・第２電極セル
３０ｂ・・・第２連結電極
３１・・・・第２下部透明膜
３３・・・・第２金属膜
４１・・・・第１配線
４２・・・・第２配線
【図１】
0006025429.tif 000005
【図２Ａ】
0006025429.tif 000006
【図２Ｂ】
0006025429.tif 000007
【図２Ｃ】
0006025429.tif 000008
【図２Ｄ】
0006025429.tif 000009
【図２Ｅ】
0006025429.tif 000010
【図３】
0006025429.tif 000011
【図４Ａ】
0006025429.tif 000012
【図４Ｂ】
0006025429.tif 000013
【図４Ｃ】
0006025429.tif 000014
【図４Ｄ】
0006025429.tif 000015
【図４Ｅ】
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【図５】
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【図６】
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