(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈折率が１．５８以上のカルボキシル基を有するカルド樹脂と、
屈折率が１．５８以上のフルオレン骨格を有するエネルギー線重合性モノマーと、
平均粒径５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の金属又はその酸化物からなる微粒子と、
エネルギー線重合開始剤と、
溶剤と、を含有し、
前記カルド樹脂の含有量が、全固形分中の割合で、５〜２０質量％であり、
前記エネルギー線重合性モノマーの含有量が、全固形分中の割合で、２０〜７０質量％であり、
前記微粒子と全樹脂成分との質量比であるＰＶ比が０．３以上１．８以下であるエネルギー線硬化性組成物。
【請求項２】
前記カルド樹脂が、酸価３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である請求項１に記載のエネルギー線硬化性組成物。
【請求項３】
前記エネルギー線重合性モノマーが、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有する請求項１又は２に記載のエネルギー線硬化性組成物。
【請求項４】
前記微粒子が、酸化ジルコニウムである請求項１から３のいずれかに記載のエネルギー線硬化性組成物。
【請求項５】
エネルギー線硬化した後の屈折率が１．６５以上である請求項１から４のいずれかに記載のエネルギー線硬化性組成物。
【請求項６】
エネルギー線硬化性組成物を、エネルギー線硬化した後の屈折率が１．７０以上である請求項１から５のいずれかに記載のエネルギー線硬化性組成物。
【請求項７】
パターニングされたＩＴＯ膜上に、請求項１から６のいずれかに記載のエネルギー線硬化性組成物の硬化物を用いて形成された絶縁層及び／又は保護層が形成されている透明積層部材。
【請求項８】
請求項７に記載の透明積層部材を備え、
タッチ面側から、ガラス、前記絶縁層及び／又は保護層、前記ＩＴＯ膜の順に配置されているタッチパネル。
【請求項９】
請求項８に記載のタッチパネルを備える画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エネルギー線硬化性樹脂組成物、該エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を絶縁層又は保護層に用いる積層部材、該積層部材を備えるタッチパネル、該タッチパネルを備える光学表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルを内蔵するスマートフォン、パソコン、ゲーム機等の光学表示装置は、操作者がその画面に手、ペン等で触れることにより操作ができる。これらの装置は、操作者が画面に表示された部分を押す、滑らせる等、直感的に理解しやすい方法により操作できるため、非常に扱いやすく、その市場は急速に拡大している。
【０００３】
図１に示す一例のように、このタッチパネルのセンサー部分は、通常、透明基板１上に、第１のＩＴＯ電極２、絶縁層３、第２のＩＴＯ電極４、保護層５を所望の形状にパターニングして積層し、その他取り出し電極６などが形成されている。ここで、絶縁層３又は保護層５の成膜は、パターン形成されたＩＴＯ電極等の積層体上に、エネルギー線硬化性樹脂組成物をコートし、その後、紫外線露光などのエネルギー線の照射及び加熱することにより行われる。
【０００４】
この絶縁層や保護層は、多様な要求性能が求められる。いずれの層もＩＴＯに対する密着性や、ＩＴＯ成膜時の耐熱性が必要であり、また、製造工程中のハンドリング時の破損を防ぐための硬度なども要求される。また、絶縁層や保護層の一部はＩＴＯ電極を露出させる必要があるために、パターン形成のための現像性も必要とされる。この現像性の付与に関し、特許文献１には、現像性を有するタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−２７０３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ここで、上記のパターン形成されたＩＴＯ電極膜は非常に高屈折率である。このため、他の部材との屈折率差によって、このＩＴＯパターンがタッチ面側から透けて見えてしまうという別の問題があり、これを解消する方法が求められていた。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、ＩＴＯに対する密着性、現像性のいずれにも優れ、かつ、ＩＴＯに近い高屈折率が得られるエネルギー線硬化性樹脂組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねたところ、高屈折率で現像性を有するカルド樹脂と、同じく高屈折率のモノマーとを組み合わせ、これに更に、金属またはその酸化物の微粒子を所定のＰＶ比で添加することにより、絶縁層及び／又は保護層としての屈折率を大幅に向上してＩＴＯとの屈折率差を小さくすることができ、これによってＩＴＯパターンがタッチ面側から透けて見えてしまうことを効果的に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【０００９】
（１）屈折率が１．５８以上のカルボキシル基を有するカルド樹脂と、
屈折率が１．５８以上のフルオレン骨格を有するエネルギー線重合性モノマーと、
平均粒径５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の金属又はその酸化物からなる微粒子と、
エネルギー線重合開始剤と、
溶剤と、を含有し、
前記微粒子と全樹脂成分との質量比であるＰＶ比が０．３以上１．８以下であるエネルギー線硬化性組成物である。
【００１０】
（２）前記カルド樹脂が、酸価３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である（１）に記載のエネルギー線硬化性組成物。
【００１１】
（３）前記エネルギー線重合性モノマーが、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有する（１）又は（２）に記載のエネルギー線硬化性組成物。
【００１２】
（４）前記微粒子が、酸化ジルコニウムである（１）から（３）のいずれかに記載のエネルギー線硬化性組成物。
【００１３】
（５）エネルギー線硬化した後の屈折率が１．６５以上である（１）から（４）のいずれかに記載のエネルギー線硬化性組成物。
【００１４】
（６）エネルギー線硬化した後の屈折率が１．７０以上である（１）から（５）のいずれかに記載のエネルギー線硬化性組成物。
【００１５】
（７）パターニングされたＩＴＯ膜上に、（１）から（６）のいずれかに記載のエネルギー線硬化性組成物を硬化してなる絶縁層及び／又は保護層が形成されている透明積層部材。
【００１６】
（８）（７）に記載の透明積層部材を備え、
タッチ面側から、ガラス、前記絶縁層及び／又は保護層、前記ＩＴＯ膜の順に配置されているタッチパネル。
【００１７】
（９）（８）に記載のタッチパネルを備える画像表示装置。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、絶縁層及び／又は保護層としての屈折率を大幅に向上してＩＴＯとの屈折率差を小さくすることができ、これによってＩＴＯパターンがタッチ面側から透けて見えてしまうことを効果的に防止できるエネルギー線硬化性組成物を提供できる。このエネルギー線硬化性組成物は、静電容量式タッチパネルの絶縁層及び／又は保護層の材料として特に適している。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】タッチパネルの一例を示す、（ａ）平面図、（ｂ）Ａ−Ａ断面図、である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の具体的な実施形態について、詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。
【００２１】
＜エネルギー線硬化性組成物＞
本発明のエネルギー線硬化性組成物（以下単に組成物ともいう）は以下のａ）からｅ）を含有する。以下順に説明する。
ａ）屈折率が１．５８以上のカルボキシル基を有するカルド樹脂
ｂ）屈折率が１．５８以上のフルオレン骨格を有するエネルギー線重合性モノマー
ｃ）平均粒径５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の金属又はその酸化物からなる微粒子
ｄ）エネルギー線重合開始剤
ｅ）溶剤
ｆ）その他
【００２２】
［ａ）カルド樹脂］
本発明に用いるカルド樹脂は、フルオレン骨格を有するエポキシアクリレートと多塩基酸無水物との反応により得られるエポキシアクリレート樹脂のことをいい、その質量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１５００〜１８０００である。なお、本発明における質量平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した際の、ポリスチレン換算の重量平均分子量である。
【００２３】
このようなフルオレン構造を有するカルド樹脂を用いることにより、１．５８以上の高屈折率が得られる。また、ｂ）のフルオレン骨格を有するエネルギー線重合性モノマーとの相溶性がよく白濁を防止できる。さらに、ＩＴＯ膜をスパッタリングなどで形成する際の耐熱性にも優れる。
【００２４】
カルド樹脂の屈折率は１．５８以上、好ましくは１．６０以上であり、上限は１．６８である。屈折率が１．５８未満であると、たとえ微粒子を添加しても、硬化後の絶縁層及び／又は保護層の屈折率を充分に高くできない。１．６８を超えるものは製造が困難である。なお、このカルド樹脂の屈折率とは、硬化後の段階で、実施例に記載の方法により分光光度計により測定した反射率から計算した値であり、ＪＩＳ  Ｋ−７１４２Ａ法による測定値と同様の値が得られる。
【００２５】
また、本発明に用いるカルド樹脂はカルボキシル基を有している。このためにアルカリ現像などの現像性を有している。より具体的には、ＪＩＳ−Ｋ００７０による酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、好ましくは４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。酸価が上記範囲内であれば、十分なアルカリ可溶性を発現させることができるからである。一方、上限は、特に限定されるものではないが、通常１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。なお、酸価は、フェノールフタレインを指示薬として用い、水酸化カリウムエタノール溶液にて滴定し求めた値である。
【００２６】
本発明に用いられるカルド樹脂の一例として、下記化学式（１）で表される化合物を挙げることができる。
【００２７】
【化１】
0005885465.tif 000002
【００２８】
化学式（１）において、Ｒ1およびＲ2は互いにそれぞれ独立しており、炭素数が１〜５のアルキル基、単環構造又は環の数が２〜３の縮合環構造をもつアリール基、或いは単環構造又は環の数が２〜３の縮合環構造をもつ複素環基を表す。
【００２９】
屈折率が１．５８以上のカルボキシル基を有するカルド樹脂は、市販品を用いることができ、たとえば、商品名ＩＮＲ−１６Ｍ、ナガセケムテックス株式会社製を好適に用いることができる。
【００３０】
上記カルド樹脂の含有量は、全固形分中の割合で、通常５〜３０質量％であり、好ましくは１０〜２０質量％である。カルド樹脂の含有量が少な過ぎると、充分な光硬化性が得られない場合が生じ、含有量が多過ぎると、現像不良や硬化不良を生じる恐れがあるので好ましくない。
【００３１】
［ｂ）エネルギー線重合性モノマー］
本発明に用いるエネルギー線重合性モノマーはフルオレン骨格を有しているので高屈折率である。屈折率は１．５８以上、好ましくは１．６０以上であり、上限は１．６８である。屈折率が１．５８未満であると、たとえ微粒子を添加しても、硬化後の絶縁層及び／又は保護層の屈折率を充分に高くできない。１．６８を超えるものは製造が困難である。なお、このエネルギー線重合性モノマーの屈折率とは、上記カルド樹脂と同様に、硬化後の段階で、実施例に記載の方法により分光光度計により測定した反射率から計算した値であり、ＪＩＳ  Ｋ−７１４２Ａ法による測定値と同様の値が得られる。
【００３２】
本発明に用いられるフルオレン骨格を有するエネルギー線重合性モノマーとしては特に限定されないが、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合とを有するモノマーを用いることが好ましい。このモノマーは、下記化学式（２）において基本骨格として表される９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するものである。
【００３３】
【化２】
0005885465.tif 000003
【００３４】
上記のエネルギー線重合性モノマーは市販品を使用することができ、具体的には、ＥＡ−０２００、ＥＡ-Ｆ５００３、ＥＡ-Ｆ５５０３、ＥＡ-Ｆ５５１０、（大阪ガスケミカル社製）、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ―４Ｅ（新中村化学社製）、ＢＰＥＦジアクリレート、ＢＰＥＦジメタクリレート（長瀬産業社製、大阪ガスケミカル社製、ＪＦＥケミカル社製）等が挙げられる
【００３５】
上記エネルギー線重合性モノマーの含有量は、全固形分中の割合で、通常１０〜７０質量％であり、好ましくは２０〜５０質量％であり、より好ましくは３０〜４０質量％である。エネルギー線重合性モノマーの含有量が少な過ぎると、充分な光硬化性が得られない場合が生じ、含有量が多過ぎると、硬化収縮による密着不良や現像適性の低下を生じる恐れがあるので好ましくない。
【００３６】
［ｃ）微粒子］
本発明に用いる微粒子は、平均粒径５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の金属微粒子又は金属酸化物微粒子であり、好ましい平均粒径は５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、より好ましい平均粒径は１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。そして、この微粒子と全樹脂成分との質量比であるＰＶ比が０．３以上１．８以下であることを特徴としている。屈折率を調整できる点から金属微粒子又は金属酸化物微粒子を用いるが、絶縁性の観点から、絶縁層として用いる場合には金属酸化物粒子が好ましく、より好ましくは非導電性の金属酸化物粒子が好ましい。
【００３７】
微粒子の平均粒径（平均一次粒子径を意味する）は５〜２００ｎｍである。平均一次粒子径は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）などを用いて、粒子自身を直接観察することによって測定できる。
【００３８】
平均一次粒子径が５ｎｍ未満の場合、微粒子同士の凝集力が非常に大きいことから、透明性の高い一次粒子レベルの分散をさせることが非常に困難である。一方、平均一次粒子径が２００ｎｍを超える金属酸化物の場合、一次粒子レベルで分散させることは容易になるが、粒子径が大きいことから可視光などの光に対して散乱が生じ易く、硬化膜の透明性を悪化させる問題が生じる。
【００３９】
金属酸化物の微粒子としては、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、スズ、珪素、及び、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものが好ましい。具体的には、五酸化アンチモン、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化スズ、ＡＴＯ被覆酸化チタン、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛等が挙げられる。これらは公知の市販品が容易に入手できる。金属の微粒子としては、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、スズ、珪素、及び、アルミニウムからなる群から選ばれるものが例示できる。これらの微粒子は単独でもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００４０】
微粒子の含有量は、微粒子と全樹脂成分との質量比であるＰＶ比が０．３以上１．８以下であり、下限は好ましくは０．６以上、上限は好ましくは１．５以下、より好ましくは１．２以下である。これにより、透明性を維持しつつも、絶縁層及び／又は保護層の屈折率をベース樹脂よりも高くしてＩＴＯ膜の屈折率に近づけることができる点に本発明の特徴があり、また、併せて、現像性の向上を図ることができるという点において、従来ない優れた効果を奏する組成物を提供するものである。
【００４１】
ＰＶ比が０．３未満であると、たとえ微粒子を添加しても、硬化後の絶縁層及び／又は保護層の屈折率を充分に高くできない。また、現像性も低下する。一方、１．８を超えると、ヘイズ値が増加して透明性が低下する。なお、本発明のＰＶ比におけるＰは本発明における微粒子の全質量であり、Ｖは全固形分からＰを除いた差分の質量である。
【００４２】
［ｄ）エネルギー線重合開始剤］
本発明のエネルギー線硬化性樹脂組成物には、さらにエネルギー線重合開始剤を配合する。このようなエネルギー線重合開始剤としては、例えば、２−メチル−１−〔４−メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２- ジメチルアミノ-２- （４- メチル- ベンジル）-１- （４- モリフォリン-４- イル- フェニル）- ブタン-１- オン、ビス（２,４,６-トリメチルベンゾイル）- フェニルフォスフィンオキサイド、２,４,６-トリメチルベンゾイル- ジフェニル- フォスフィンオキサイド、１,２- オクタンジオン,１-[４-（フェニルチオ）-,２-（０- ベンゾイルオキシム）、エタノン,１-[９-エチル-６-（ ２-メチルベンゾイル）-９H-カルバゾール-３-イル]-,１-（ O-アセチルオキシム)等を挙げることができる。また、感度や透明性、製版適性の観点から２−メチル−１−〔４−メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパノン−１や１,２- オクタンジオン,１-[４-（フェニルチオ）-,２-（O- ベンゾイルオキシム）が好ましい。
【００４３】
エネルギー線重合開始剤の配合割合は、全固形分中の割合で１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは２〜７質量％である。
【００４４】
［ｅ）溶剤］
本発明のエネルギー線硬化性樹脂組成物は、適宜溶剤に溶解して固形分調整を行うことができる。溶剤としては、エネルギー線硬化性樹脂組成物の各成分に対して反応せず、これらを溶解もしくは分散可能な有機溶剤であれば特に限定されるものではない。具体的には、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；および、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート等のエステル類;などが挙げられる。これらの溶剤は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせてもよい。これらのなかでも、塗布適性や溶解性の観点からＰＧＭＥＡ、ＰＧＭＥ、または両者の混合溶媒が好ましい。
【００４５】
溶剤量は、目的とする塗布性や分散溶解性に応じて適宜選択可能であるが、好ましくは組成物中の固形分で１０〜４０質量％となるように調整すればよい。
【００４６】
［ｆ）その他］
本発明のエネルギー線硬化性樹脂組成物は、密着助剤、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、エネルギー線安定剤（光安定剤）、レベリング剤、硬度向上等のため無機微粒子（コロイダルシリカ等）などを適宜使用してもよい。
【００４７】
本発明において使用し得る密着助剤としては、例えば、  シランカップリング剤である信越化学社製ＫＢＭ−４０３、  ＫＢＭ―５０３、  ＫＢＭ−８０３等を、全固形分中の割合で０．１〜１０質量％配合できる。
【００４８】
本発明において使用し得る界面活性剤としては、例えば、フッ素系であるＤＩＣ社製「メガファック」Ｒ０８ＭＨ、ＲＳ−７２−Ｋ、ＲＳ−７５等、シリコーン系であるビックケミー・ジャパン社製ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３０１等を、全固形分中の割合で０．１〜５質量％配合できる。
【００４９】
ＩＴＯ密着性を高めるために、さらに分子中に二重結合を有するリン酸化合物を添加してもよい。本発明に用いられるリン酸化合物としては、分子中にエチレン性不飽和二重結合を有するリン酸化合物であれば特に限定せずに使用することができる。例えば、２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート（商品名ライトエステルＰ−１Ｍ、ライトエステルＰ−２Ｍ共栄社化学（株）製）、エチレンオキサイド  変性リン酸ジメタクリレート（商品名ＰＭ−２１日本化薬（株）製）、燐酸含有エポキシメタクリレート（商品名ニューフロンティアＳ−２３Ａ  第一工業製薬（株）製）などのリン酸（メタ）アクリレート類、ビニルホスホン酸（商品名ＶＰＡ−９０，ＶＰＡ−１００  ＢＡＳＦ社製）などのリン酸ビニル化合物が挙げられる。
【００５０】
＜透明積層部材／タッチパネル＞
上記の本発明のエネルギー線硬化性組成物は、上記のパターン形成された薄膜のＩＴＯ電極上に塗布され、紫外線などによって光硬化されて硬化物となり絶縁層及び／又は保護層を形成することで本発明の透明積層部材を構成し、当該透明積層部材がタッチパネルの一部を構成する。
【００５１】
図１を再度用いて本発明を説明すると、このタッチパネル１０のセンサー部分は、通常、透明基板１上に、第１のＩＴＯ電極２、絶縁層３、第２のＩＴＯ電極４、保護層５を所望の形状にパターニングして積層することにより製造されている。本発明における絶縁層及び／又は保護層は、この絶縁層３、保護層５のいずれか又は両方に適用できる。
【００５２】
透明基板１としては、可視エネルギー線に対して透明な基材であれば特に限定されるものではない。具体的には、石英ガラス、無アルカリガラス、強化ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム（ＰＥＴ等）、エネルギー線学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材が挙げられる。
【００５３】
まず、透明基板１上に公知の方法で所望の形状にパターン化した第１のＩＴＯ電極２を形成する。その後、第１のＩＴＯ電極２上に、本発明のエネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して絶縁層３を形成する。塗布方法としては、特に限定されるものではなく、例えばスプレーコート法、ディップコート法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法等を挙げることができる。
【００５４】
次に、エネルギー線硬化性樹脂組成物上に所定形状の開口パターンを有するマスクを載置し、活性エネルギー線の照射を行なう。活性エネルギー線としては、例えば、紫外線、電子線等が挙げられる。照射量は、通常のパターニングに用いる範囲で適宜設定できるが、例えば、３０〜３００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜１５０ｍＪ／ｃｍ２の範囲で設定できる。活性エネルギー線照射後の塗膜は通常の方法により現像される。現像処理後のエネルギー線硬化性樹脂組成物を加熱（ポストベイク）する。加熱条件は、通常の絶縁層及び／又は保護層の形成と同様の範囲で設定できるが、例えば、２００〜３００℃、２０〜４０分間加熱することができる。その結果、当該実施形態においては、本発明のエネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層３がパターン形成される。絶縁層の膜厚（乾燥時）としては、特に限定されないが、通常、０．５〜５μｍ、好ましくは０．７５〜３μｍの範囲で適宜設定できる。
【００５５】
その後、上記と同様にして、第２のＩＴＯ電極４、保護層５を順次形成して、本発明の透明積層部材を製造する。ここで保護層５は上記の絶縁層３と同様の組成物を上記同様の方法で形成すればよい。
【００５６】
この透明積層部材を備える本発明のタッチパネルは、タッチ面側から、ガラス、前記絶縁層及び／又は保護層、前記ＩＴＯ膜の順に配置されている。従来、タッチ面側から、ガラス越に視認した際、従来はＩＴＯ電極のパターンが透けて見えてしまっていたが、本発明においては、絶縁層及び／又は保護層を高屈折率化して屈折率を１．６５以上、好ましくは１．７０以上とした。これにより、ＩＴＯの屈折率である２．０〜２．２に近づけたので、ＩＴＯ電極のパターンが透けて見えるのを効果的に防止できる。このように、本発明においては、絶縁層及び／又は保護層そのものに高屈折率性を付与したので、他の高屈折率フィルムなどを併用する必要がなく、簡単な構成でコスト的にも優れるものとなる。なお、本発明における絶縁層及び／又は保護層の屈折率とは、下記の実施例における方法で測定した値である。
【００５７】
＜画像表示装置＞
本発明は、上記タッチパネルを備えた画像表示装置も提供する。かかる画像表示装置としては、例えば、ブラウン管（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示装置等が挙げられる。また、本発明の画像表示装置には、上記液晶表示装置を備えたスマートフォン、パソコン、ゲーム機等も含まれる。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００５９】
下記のａ）からｆ２）を表１の配合（固形分の質量部）として実施例及び比較例における組成物を得た。
ａ）カルボキシル基を有するカルド樹脂（商品名ＩＮＲ−１６Ｍ、ナガセケムテックス株式会社製、屈折率１．６１、固形分５５％）
ｂ）フルオレン骨格を有するエネルギー線重合性モノマー（商品名ＥＡ−０２００、大阪ガスケミカル社製、屈折率１．６２、固形分９５質量％）
ｃ）金属酸化物微粒子（平均粒径４３ｎｍの酸化ジルコニウム、ＰＧＭＥ中に固形分２２２．５％で分散、酸化ジルコニウムとしての固形分２０．１％）
ｄ）エネルギー線重合開始剤（商品名イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）
ｅ）溶剤（ＰＧＭＥＡ、固形分２５％となるように調整）
ｆ１）界面活性剤（商品名メガファックＲ０８ＭＨ、ＤＩＣ社製）
ｆ２）密着助剤（シランカップリング剤、商品名ＫＢＭ−４０３、信越化学社製）
【００６０】
【表１】
0005885465.tif 000004
【００６１】
＜評価項目及び評価方法＞
下記の評価を行った結果をまとめて表２に示した。
（１）解像度／現像残渣
ガラス基板上に、実施例および比較例で得られた組成物を乾燥後の厚みが１．５μｍとなるようにスピンコートし、１００℃ホットプレート上にて２分間静置（予備乾燥）しマスク露光を行った。次いで、現像液として、０．０５％水酸化カリウム水溶液を用いて６０秒間の現像を行い、未露光部の現像性を評価した。なお、露光条件は以下のとおりとした。また、現像性の評価は、解像度は１０〜１００ｕｍの線幅を有するラインアンドスペース型のパターンを有するマスクを置き、上記の条件にて紫外線を照射後、現像処理を行った。得られた基板について、光学顕微鏡で観察を行い、基板上に残っていて、かつ、解像している最も線幅の小さいパターンの線幅を解像度とした。また、現像残渣の有無を、未露光部が完全に溶解するかどうかで、○：目視で残渣なし、×：目視で残渣あり、の基準で評価した。
（露光条件）
露光機：プロキシ露光機
マスク：クロムマスク
露光ギャップ：１５０μｍ
光源：超高圧水銀灯
露光量：１００ｍＪ／ｃｍ２
【００６２】
（２）密着性１
ＩＴＯ基板上に上記「（１）現像性」と同様の条件で製膜した塗膜について、２３０℃で３０分ポストベーク処理を行った後、セロハン粘着テープにて碁盤目剥離試験を行った。ここで、碁盤目剥離試験は、カッターナイフでＩＴＯ基板の素地に到達するように、直行する縦横１１本ずつの平行な直線を１ｍｍ間隔で引いて１ｍｍ×１ｍｍのマス目を１００個作製し、セロハン粘着テープ（商品名：セロテープ（登録商標）、品番：ＣＴ４０５ＡＰ−２４、ニチバン株式会社製）を消しゴムですって貼り付け、直角に瞬間的に剥離して、マス目の残存数を目視によって評価した。なお、マス目の剥離面積を以下の基準で判定した。
５：剥離面積が０％
４：剥離面積が０％超〜２５％以内
３：剥離面積が２５％超〜５０％以内
３：剥離面積が５０％超〜７５％以内
１：剥離面積が７５％超〜１００％
【００６３】
（３）密着性２
さらなる加速試験として、密着性１と同様の条件で得られた加熱後の塗膜について、さらに１２０℃、１００％ＲＨ、２気圧の条件に３時間供した後、セロハン粘着テープにて碁盤目剥離試験を行った。碁盤目剥離試験は上記と同様の条件で実施及び評価した。
【００６４】
（４）視認性
ＩＴＯパターン基板上に上記（１）と同様の条件で製膜した塗膜について、２３０℃で３０分ポストベーク処理を行った後、目視にてＩＴＯパターンの映り込み度合いを評価し、○：ＩＴＯパターンが見えない、△：ＩＴＯパターンがやや見える、×：ＩＴＯパターンが見える、の３段階で判定した。
【００６５】
（５）透明性
ガラス基板上に上記（１）と同様の条件で製膜した塗膜について、２３０℃で３０分ポストベーク処理を行った後、目視にて透明性を評価し、○：透明、△：やや不透明、×：白化の２段階で判定した。
【００６６】
（６）屈折率
１）ガラス基板上に製膜した塗膜について、２３０℃で３０分ポストベーク処理を行った。
２）その後、裏面反射を防止するためのガラス面側に黒色テープを貼り、硬化膜面から、島津製作所製分光光度計ＵＶ−３１５０を用い、波長域３８０から７８０ｎｍでの反射率を測定し、その平均である平均反射率Ｒを算出した。
３）Ｒを用いて下記式より本発明の屈折率ｎ１を計算した。但し、ｎ０は空気の屈折率であり１．０００として計算した。
Ｒ＝（ｎ０−ｎ１）２／（ｎ０＋ｎ１）２
【００６７】
【表２】
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【００６８】
表２から明らかなように、本発明の組成物においては、絶縁層及び／又は保護層を形成した際に、ＩＴＯとの密着性と現像性に優れ、しかも、屈折率が１．６７以上と高いので、ＩＴＯパターンの映り込みがない。
【符号の説明】
【００６９】
１      透明基板
２      第１のＩＴＯ電極
３      絶縁層
４      第２のＩＴＯ電極
５      保護層
６      取り出し電極
１０      タッチパネル
【図１】
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