(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を収納する容器本体と、この容器本体の開口した正面を開閉する蓋体とを備え、容器本体の内部両側に、φ４５０ｍｍの半導体ウェーハを水平に支持する一対の支持ティースを対設し、容器本体に搬送用の被吊持部を装着し、蓋体に施錠機構を内蔵した基板収納容器であって、
容器本体の背面壁に、蓋体の質量に釣り合う重心位置調整手段を設け、この重心位置調整手段を、衝撃緩和材が移動可能に充填された中空のカプセルとし、
施錠機構を、蓋体正面の表面プレートの操作口を貫通した操作ピンに回転操作される回転プレートと、この回転プレートの回転に伴い、上下方向にスライドして容器本体正面のリムフランジの係止穴に係止爪を係止させる複数のスライドプレートとから構成し、
重心位置調整手段により、半導体ウェーハを収納した基板収納容器の重心位置を半導体ウェーハのセンター位置から±４０ｍｍ以内とし、基板収納容器が蓋体側に傾斜するのを規制するようにしたことを特徴とする基板収納容器。
【請求項２】
容器本体の背面壁両側部に凹部をそれぞれ形成して凹部の内面には干渉リブを形成し、重心位置調整手段のカプセルを中空の略柱形に形成して容器本体の複数の凹部にそれぞれ嵌合可能とし、カプセルの外周面に、凹部の干渉リブに嵌め合わされる干渉溝を形成した請求項１記載の基板収納容器。
【請求項３】
基板を収納する容器本体と、この容器本体の開口した正面を開閉する蓋体とを備え、容器本体の内部両側に、φ４５０ｍｍの半導体ウェーハを水平に支持する一対の支持ティースを対設し、容器本体に搬送用の被吊持部を装着し、蓋体に施錠機構を内蔵した基板収納容器であって、
容器本体の背面壁に、蓋体の質量に釣り合う重心位置調整手段を設け、この重心位置調整手段を複数の支持ブロックとし、この複数の支持ブロックにより、容器本体を正面が上向きになるよう配置した場合に、容器本体の傾きを防止するようにし、
施錠機構を、蓋体正面の表面プレートの操作口を貫通した操作ピンに回転操作される回転プレートと、この回転プレートの回転に伴い、上下方向にスライドして容器本体正面のリムフランジの係止穴に係止爪を係止させる複数のスライドプレートとから構成し、
重心位置調整手段により、半導体ウェーハを収納した基板収納容器の重心位置を半導体ウェーハのセンター位置から±４０ｍｍ以内とし、基板収納容器が蓋体側に傾斜するのを規制するようにしたことを特徴とする基板収納容器。
【請求項４】
基板を収納する容器本体と、この容器本体の開口した正面を開閉する蓋体とを備え、容器本体の内部両側に、φ４５０ｍｍの半導体ウェーハを水平に支持する一対の支持ティースを対設し、容器本体に搬送用の被吊持部を装着し、蓋体に施錠機構を内蔵した基板収納容器であって、
容器本体の背面壁に、蓋体の質量に釣り合う重心位置調整手段を設け、この重心位置調整手段を支持板としてその容器本体の背面壁に積層しない非積層面を傾斜形成し、この支持板により、容器本体を正面が上向きになるよう配置した場合に、容器本体を一方向に傾斜させるようにし、
施錠機構を、蓋体正面の表面プレートの操作口を貫通した操作ピンに回転操作される回転プレートと、この回転プレートの回転に伴い、上下方向にスライドして容器本体正面のリムフランジの係止穴に係止爪を係止させる複数のスライドプレートとから構成し、
重心位置調整手段により、半導体ウェーハを収納した基板収納容器の重心位置を半導体ウェーハのセンター位置から±４０ｍｍ以内とし、基板収納容器が蓋体側に傾斜するのを規制するようにしたことを特徴とする基板収納容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェーハに代表される基板を収納、保管、搬送、輸送等する際に使用される基板収納容器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来における基板収納容器は、図示しないが、複数枚の半導体ウェーハを上下方向に整列収納する容器本体と、この容器本体の開口した正面を開閉する重い蓋体とを備え、工程間を自動的に搬送されて半導体ウェーハ用の加工装置に付設されたロードポート装置に位置決め搭載される（特許文献１参照）。【０００３】
容器本体は、例えばφ３００ｍｍや４５０ｍｍの半導体ウェーハを水平に収納する正面の開口したフロントオープンボックスに形成され、天井の略中央部に、工場の天井搬送機構に握持して吊持される搬送用のロボティックフランジが装着されている。また、蓋体は、ロードポート装置の蓋体開閉装置に外部から操作される施錠機構が内蔵され、容器本体に収納された半導体ウェーハに対向する対向面に、複数枚の半導体ウェーハの前部周縁を弾発的に保持するフロントリテーナが装着されており、これら施錠機構やフロントリテーナにより質量が増大する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００‐３０６９８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来における基板収納容器は、以上のように構成され、半導体ウェーハを収納した容器本体の開口した正面に重い蓋体が嵌合されるので、半導体ウェーハのセンター位置から正面側、換言すれば、前方の蓋体側に重心が大きく偏ることとなり、天井搬送機構により持ち上げて搬送される際、蓋体側に傾斜することが少なくない。この結果、天井搬送機構による搬送時に基板収納容器を安定した姿勢で高速搬送したり、加工装置のロードポート装置に水平に位置決め搭載することが非常に困難になるという問題が生じる。【０００６】
このような問題を解消する手段として、蓋体を薄く形成して軽量化を図る方法が提案されている。しかしながら、この方法による場合、フロントリテーナが半導体ウェーハを保持する際の反力が蓋体に作用するので、蓋体の剛性が不足して変形や損傷を招くおそれが新たに生じる。【０００７】
本発明は上記に鑑みなされたもので、蓋体側に重心が偏るのを抑制して蓋体側に傾斜するのを防ぎ、安定した姿勢で搬送等することのできる基板収納容器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明においては上記課題を解決するため、基板を収納する容器本体と、この容器本体の開口した正面を開閉する蓋体とを備え、容器本体の内部両側に、φ４５０ｍｍの半導体ウェーハを水平に支持する一対の支持ティースを対設し、容器本体に搬送用の被吊持部を装着し、蓋体に施錠機構を内蔵したものであって、
容器本体の背面壁に、蓋体の質量に釣り合う重心位置調整手段を設け、この重心位置調整手段を、衝撃緩和材が移動可能に充填された中空のカプセルとし、
施錠機構を、蓋体正面の表面プレートの操作口を貫通した操作ピンに回転操作される回転プレートと、この回転プレートの回転に伴い、上下方向にスライドして容器本体正面のリムフランジの係止穴に係止爪を係止させる複数のスライドプレートとから構成し、
重心位置調整手段により、半導体ウェーハを収納した基板収納容器の重心位置を半導体ウェーハのセンター位置から±４０ｍｍ以内とし、基板収納容器が蓋体側に傾斜するのを規制するようにしたことを特徴としている。 
【０００９】
なお、容器本体の背面壁両側部に凹部をそれぞれ形成して凹部の内面には干渉リブを形成し、重心位置調整手段のカプセルを中空の略柱形に形成して容器本体の複数の凹部にそれぞれ嵌合可能とし、カプセルの外周面に、凹部の干渉リブに嵌め合わされる干渉溝を形成することができる。
【００１０】
また、本発明においては上記課題を解決するため、基板を収納する容器本体と、この容器本体の開口した正面を開閉する蓋体とを備え、容器本体の内部両側に、φ４５０ｍｍの半導体ウェーハを水平に支持する一対の支持ティースを対設し、容器本体に搬送用の被吊持部を装着し、蓋体に施錠機構を内蔵したものであって、
容器本体の背面壁に、蓋体の質量に釣り合う重心位置調整手段を設け、この重心位置調整手段を複数の支持ブロックとし、この複数の支持ブロックにより、容器本体を正面が上向きになるよう配置した場合に、容器本体の傾きを防止するようにし、
施錠機構を、蓋体正面の表面プレートの操作口を貫通した操作ピンに回転操作される回転プレートと、この回転プレートの回転に伴い、上下方向にスライドして容器本体正面のリムフランジの係止穴に係止爪を係止させる複数のスライドプレートとから構成し、
重心位置調整手段により、半導体ウェーハを収納した基板収納容器の重心位置を半導体ウェーハのセンター位置から±４０ｍｍ以内とし、基板収納容器が蓋体側に傾斜するのを規制するようにしたことを特徴としている。
【００１１】
また、本発明においては上記課題を解決するため、基板を収納する容器本体と、この容器本体の開口した正面を開閉する蓋体とを備え、容器本体の内部両側に、φ４５０ｍｍの半導体ウェーハを水平に支持する一対の支持ティースを対設し、容器本体に搬送用の被吊持部を装着し、蓋体に施錠機構を内蔵したものであって、
容器本体の背面壁に、蓋体の質量に釣り合う重心位置調整手段を設け、この重心位置調整手段を支持板としてその容器本体の背面壁に積層しない非積層面を傾斜形成し、この支持板により、容器本体を正面が上向きになるよう配置した場合に、容器本体を一方向に傾斜させるようにし、
施錠機構を、蓋体正面の表面プレートの操作口を貫通した操作ピンに回転操作される回転プレートと、この回転プレートの回転に伴い、上下方向にスライドして容器本体正面のリムフランジの係止穴に係止爪を係止させる複数のスライドプレートとから構成し、
重心位置調整手段により、半導体ウェーハを収納した基板収納容器の重心位置を半導体ウェーハのセンター位置から±４０ｍｍ以内とし、基板収納容器が蓋体側に傾斜するのを規制するようにしたことを特徴としている。
【００１３】
ここで、特許請求の範囲における半導体ウェーハには、少なくともφ４５０ｍｍの半導体ウェーハが単数複数含まれる。また、容器本体やカプセルは、透明、不透明、半透明のいずれでも良い。容器本体の背面壁については、凹凸の補強構造に構成してその一部を上下方向に伸びる凹部とし、この凹部を断面略半円の溝に形成することができる。 
【００１４】
干渉リブや干渉溝の形状、数等は、適宜増減変更することができる。
【００１５】
本発明によれば、容器本体の後部に重心位置調整手段を設けてカウンターウェイトとして機能させるので、半導体ウェーハを収納した基板収納容器の重心の移動を半導体ウェーハのセンター位置から±４０ｍｍの範囲内に抑制することができる。この抑制作用により、半導体ウェーハを収納した基板収納容器の重心が蓋体側に偏るのを防いだり、基板収納容器が蓋体側に傾斜するのを抑え、基板収納容器の姿勢を安定させることができる。 
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、重心位置調整手段を設けてカウンターウェイトとして機能させるので、半導体ウェーハを収納した基板収納容器の重心の移動を半導体ウェーハのセンター位置から±４０ｍｍの範囲内に抑制することができ、これにより、蓋体側に重心が偏るのを抑制して蓋体側に基板収納容器が傾斜するのを防ぎ、安定した姿勢で搬送等することができるという効果がある。 
【００１７】
また、重心位置調整手段を、容器本体の背面壁に取り付けられ、衝撃緩和材が移動可能に充填された中空のカプセルとするので、例え基板収納容器に衝撃等が作用しても、基板収納容器の挙動に伴う衝撃緩和材の移動により、衝撃等を吸収したり、減衰することができる。 
【００１８】
請求項２記載の発明によれば、容器本体の背面壁両側部に凹部をそれぞれ形成して凹部の内面には干渉リブを形成し、カプセルを中空の略柱形に形成して容器本体の複数の凹部にそれぞれ嵌合可能とし、カプセルの外周面に、凹部の干渉リブに嵌め合わされる干渉溝を形成するので、背面壁の両側部にカプセルを略均等に位置させ、基板収納容器のバランスを向上させたり、バランスの悪化に伴う半導体ウェーハの位置ずれや回転等を阻止することができる。また、干渉リブと干渉溝との嵌合により、簡易な構成でカプセルの脱落を防止することが可能になる。 
【００１９】
請求項３記載の発明によれば、複数の支持ブロックの高さを揃えることができるので、半導体ウェーハを収納した容器本体を正面が上向きになるよう配置した場合に、容器本体の姿勢を安定させ、容器本体内の半導体ウェーハが傾いて接触し、破損等するのを防止することが可能となる。また、容器本体に凹部を設ける必要がないので、容器本体を成形する場合、金型に改良を施す必要がない。 
【００２０】
請求項４記載の発明によれば、複数枚の半導体ウェーハを収納した容器本体を正面が上向きになるよう配置し、この容器本体の正面から蓋体を取り外しても、収納された複数枚の半導体ウェーハを一方向に傾けて整列支持することができる。したがって、複数枚の半導体ウェーハ同士が接触したり、隣接する半導体ウェーハ同士が反対方向に傾いて接触し、この接触に伴い損傷したり、破損を招くのを防止することが可能となる。さらに、容器本体に凹部を設ける必要がないので、容器本体を成形する場合、金型を改良する必要がない。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明に係る基板収納容器の実施形態を模式的に示す全体斜視説明図である。
【図２】本発明に係る基板収納容器の実施形態における容器本体の背面壁側を模式的に示す斜視説明図である。
【図３】本発明に係る基板収納容器の実施形態における容器本体の凹部とカプセルとを模式的に示す斜視説明図である。
【図４】本発明に係る基板収納容器の実施形態における容器本体の凹部を模式的に示す部分説明図である。
【図５】本発明に係る基板収納容器の実施形態における容器本体の凹部を模式的に示す部分背面説明図である。
【図６】本発明に係る基板収納容器の実施形態におけるカプセルを模式的に示す斜視説明図である。
【図７】本発明に係る基板収納容器の実施形態におけるカプセルを模式的に示す部分断面斜視説明図である。
【図８】本発明に係る基板収納容器の第２の実施形態を模式的に示す斜視説明図である。
【図９】本発明に係る基板収納容器の第３の実施形態を模式的に示す斜視説明図である。
【図１０】本発明に係る基板収納容器の第３の実施形態を模式的に示す背面説明図である。
【図１１】本発明に係る基板収納容器の第４の実施形態を模式的に示す斜視説明図である。
【図１２】本発明に係る基板収納容器の第４の実施形態におけるストッパーバンドを模式的に示す断面説明図である。
【図１３】本発明に係る基板収納容器の第５の実施形態を模式的に示す説明図である。
【図１４】本発明に係る基板収納容器の第６の実施形態を模式的に示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施の形態を説明すると、本実施形態における基板収納容器は、図１ないし図７に示すように、半導体ウェーハＷを整列収納する容器本体１と、この容器本体１の開口した正面１３を着脱自在に開閉する重い蓋体２０とを備え、容器本体１の後部に重い重心位置調整手段４０を設け、この重心位置調整手段４０により、前方の蓋体２０側に重心が偏るのを抑制したり、蓋体２０側に傾斜するのを規制するようにしている。
【００２３】
半導体ウェーハＷは、図１に示すように、例えば７７５μｍの厚さを有するφ３００ｍｍ、あるいは９２５μｍの厚さを有するφ４５０ｍｍのシリコンウェーハからなり、周縁部に図示しない位置合わせや識別用のノッチが平面Ｖ字形に切り欠かれており、容器本体１に２５枚が上下方向に整列して収納される。
【００２４】
容器本体１と蓋体２０とは、所定の樹脂を含有する成形材料により複数の部品がそれぞれ射出成形され、この複数の部品の組み合わせで構成される。この成形材料中の所定の樹脂としては、例えば力学的性質や耐熱性等に優れるポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエステル系、ポリスチレン系、ポリオレフィン系等からなる熱可塑性エラストマー、ポリアセタール、液晶ポリマー、あるいは環状オレフィン樹脂等があげられる。この所定の樹脂には、カーボン、カーボン繊維、金属繊維、カーボンナノチューブ、導電性ポリマー、帯電防止剤、又は難燃剤等が必要に応じて選択的に添加される。
【００２５】
容器本体１は、図１ないし図３に示すように、半導体ウェーハＷを水平に収納する正面１３の開口したフロントオープンボックスに成形され、横長の正面１３を水平横方向に向けた状態で加工装置に付設されたロードポート装置上に位置決めして搭載されたり、洗浄槽の洗浄液により洗浄される。この容器本体１の内部両側、換言すれば、両側壁１０の内面には、半導体ウェーハＷを水平に支持する左右一対の支持ティース２が対設され、この一対の支持ティース２が上下方向に所定のピッチで配列されており、各支持ティース２が前後方向に細長い板片に形成される。
【００２６】
容器本体１の底板３の前部両側と後部中央とには、複数の位置決め具が締結ビス等を介しそれぞれ螺着され、各位置決め具が断面略Ｖ字形に形成されてロードポート装置のテーブル上の位置決めピンに上方から嵌合し、基板収納容器、換言すれば、容器本体１を高精度に位置決めするよう機能する。また、容器本体１の底板３には、底板３を被覆して複数の位置決め具等をそれぞれ露出させるボトムプレート４が締結ビスを介して水平に螺着され、このボトムプレート４の左右両側部には、搬送用のコンベヤレールがそれぞれ選択的に形成される。
【００２７】
容器本体１の天井５の略中央部には図１に示すように、搬送用のロボティックフランジ６が着脱自在に装着され、このロボティックフランジ６が工場の天井搬送機構に握持して吊持された後、基板収納容器が工程間を高速で搬送される。
【００２８】
容器本体１の後部である背面壁７は、図２ないし図５に示すように、例えば凹凸の補強構造に構成され、左右両側部には、上下方向に直線的に伸びる凹部８がそれぞれ内方向に向けて凹み形成されており、この左右一対の凹部８がそれぞれ断面略半円の溝形に湾曲形成される。各凹部８の上下両端部の内面には、外部に露出する干渉リブ９がそれぞれ平面略半円弧形に湾曲形成される。また、背面壁７の内面両側部には、半導体ウェーハＷの後部周縁を保持可能なリアリテーナが凹部８に対向するようそれぞれ選択的に形成される。
【００２９】
容器本体１の両側壁１０外面には、前後方向に伸びる取付用の切り欠き１１が形成され、各切り欠き１１にグリップ部１２がそれぞれ着脱自在に装着される。各グリップ部１２は、作業の非常時等に握持操作される他、容器本体１の補強や変形防止の機能を発揮する。
【００３０】
容器本体１の背面壁７の反対側に位置する正面１３は、周縁から外方向に張り出すリムフランジ１４が膨出形成され、このリムフランジ１４内に蓋体２０がロードポート装置の蓋体開閉装置により着脱自在に圧入して嵌合される。このリムフランジ１４の内周面の上下両側部には、蓋体２０の施錠機構３０用の係止穴１５がそれぞれ穿孔される。
【００３１】
蓋体２０は、図１に示すように、容器本体１の正面１３のリムフランジ１４内に嵌合する横長の筐体２１と、この筐体２１の開口した正面を被覆する表面プレート２８と、これら筐体２１と表面プレート２８との間に介在される施錠機構３０とを備えて構成される。
【００３２】
筐体２１は、基本的には枠形の周壁を備えた浅底の断面略皿形に形成され、中央部が裏面側から表面側に向け正面略箱形に突出形成されており、この中央部と周壁の左右両側部との間に施錠機構３０用の設置空間がそれぞれ区画形成される。筐体２１の周壁の上下両側部には、施錠機構３０用の貫通孔２２がそれぞれ穿孔され、各貫通孔２２がリムフランジ１４の係止穴１５に対向する。
【００３３】
筐体２１の容器本体１に収納された半導体ウェーハＷに対向する対向面、すなわち裏面には、複数枚の半導体ウェーハＷの前部周縁を弾発的に保持するフロントリテーナ２３が着脱自在に装着される。このフロントリテーナ２３は、筐体２１の裏面に装着されて蓋体２０の変形を防止する縦長の枠体２４を備え、この枠体２４の縦桟部には、傾斜しながら半導体ウェーハＷ方向に伸びる複数の弾性片２５がそれぞれ上下に並べて一体形成されており、各弾性片２５の先端部には、半導体ウェーハＷの前部周縁をＶ溝により保持する小さな保持ブロック２６が一体形成される。
【００３４】
筐体２１の裏面周縁部には、枠形の嵌合溝が形成され、この嵌合溝には、容器本体１の正面１３内周縁に圧接するリップタイプのガスケットが密嵌される。このガスケットは、例えば耐熱性や耐候性等に優れるフッ素ゴム、シリコーンゴム、各種の熱可塑性エラストマー（例えば、オレフィン系、ポリエステル系、ポリスチレン系等）等を成形材料として弾性変形可能な枠形に成形される。
【００３５】
表面プレート２８は、筐体２１の開口した正面に対応するよう横長の平板に形成され、左右両側部に、施錠機構３０用の操作口２９がそれぞれ穿孔される。また、施錠機構３０は、表面プレート２８の操作口２９を貫通した蓋体開閉装置の操作ピンに回転操作される左右一対の回転プレート３１と、各回転プレート３１の回転に伴い上下方向にスライドする複数のスライドプレート３２と、各スライドプレート３２のスライドに伴い筐体２１の貫通孔２２から突出してリムフランジ１４の係止穴１５に係止する複数の係止爪３３とを備えて構成され、フロントリテーナ２３の前方に位置する。
【００３６】
重心位置調整手段４０は、図２ないし図７に示すように、容器本体１の背面壁７における左右一対の凹部８にそれぞれ着脱自在に嵌合され、蓋体２０の質量に釣り合う所定量の衝撃緩和材４３が充填された左右一対の重いカプセル４１からなり、半導体ウェーハＷを収納した基板収納容器の重心位置を半導体ウェーハＷのセンター位置から±４０ｍｍ以内、好ましくは±３０ｍｍ以内の許容範囲とする。
【００３７】
各カプセル４１は、所定の材料を用いて容器本体１の背面壁７の高さと略同じ長さを有する中空縦長の円柱形、換言すれば、シリンダ形に形成され、上下両端部の外周面には、凹部８の干渉リブ９に圧入して密嵌する略リング形の干渉溝４２がそれぞれ形成されており、この干渉溝４２の密嵌により脱落が防止される。カプセル４１の所定の材料としては、例えば容器本体１や蓋体２０と同様の成形材料、アルミ、ステンレス、銅等からなる各種金属、これらの合金、あるいはこれらの金属や合金に樹脂コーティングして被覆した材料等が該当する。
【００３８】
カプセル４１は、衝撃緩和材４３の注入や充填量の変更を容易にしたい場合、上下方向や左右方向に分割可能に形成される。例えば、衝撃緩和材４３の注入される有底円筒形のカプセル本体を備え、このカプセル本体の開口端部に、着脱自在のキャップが螺嵌する構成等とされる。
【００３９】
衝撃緩和材４３は、特に限定されるものではないが、例えば液体、ゲル状部材、粒状体、発泡体等が該当し、基板収納容器の動きに応じ、上下方向等に動作してダンパーとしても機能する。この衝撃緩和材４３が液体の場合には、水、粘性抵抗の高いオイル、水を吸収したポリアクリル酸、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリアクリルアミド、オイルを吸収したポリノルビオルネン樹脂、ポリスチレンブタジエン共重合樹脂等が適宜使用される。
【００４０】
上記構成によれば、容器本体１の背面壁７の凹部８に大型のカプセル４１を嵌合してカウンターウェイトとして重い蓋体２０と釣り合わせ、半導体ウェーハＷを収納した基板収納容器の重心位置を半導体ウェーハＷのセンター位置から±４０ｍｍ以内の許容範囲に抑制することができる。
【００４１】
係る抑制作用により、半導体ウェーハＷを収納した基板収納容器の重心が正面１３側、換言すれば、前方の蓋体２０側に大きく偏るのを著しく抑制したり、あるいは天井搬送機構により持ち上げて搬送される場合にも、基板収納容器が蓋体２０側に傾斜するのを有効に防ぐことができる。したがって、天井搬送機構による搬送時に基板収納容器を安定した姿勢で高速搬送したり、加工装置のロードポート装置に水平に位置決め搭載することが実に容易となる。
【００４２】
また、蓋体２０を薄く形成して軽量化を図る必要が全くないので、蓋体２０の剛性が不足して変形や損傷を招くおそれを排除することができる。また、容器本体１の背面壁７にカプセル４１が単に位置するのではなく、容器本体１の背面壁７と略同じ長さのカプセル４１が背面壁７の両側部にそれぞれ均等に位置するので、基板収納容器の前後や左右のバランスを大幅に向上させたり、バランスの悪化に伴う半導体ウェーハＷの回転等を有効に阻止することが可能になる。
【００４３】
また、容器本体１に水平に収納される半導体ウェーハＷの略全域に亘り、カウンターウェイトであるカプセル４１を半導体ウェーハＷに対して垂直に配置するので、基板収納容器の重心位置をＺ方向にもバランス良く均等に調整することが可能となる。このため、基板収納容器を高速で搬送しても、重心位置の偏心に伴う基板収納容器の振動を小さくすることが可能となる。
【００４４】
また、各カプセル４１に固定の錘体を単に収納するのではなく、流動性の衝撃緩和材４３を充填するので、例え基板収納容器に衝撃が作用しても、衝撃緩和材４３の流動により衝撃を吸収したり、制振したり、減衰することができる。したがって、基板収納容器や半導体ウェーハＷの損傷防止が大いに期待できる。さらに、各カプセル４１が凹部８のデザインに対応する円柱形で、かつ着脱自在なので、カプセル４１を必要に応じて取り外したり、衝撃緩和材４３を適宜増減させる等、各種の便宜を図ることもできる。
【００４５】
次に、図８は本発明の第２の実施形態を示すもので、この場合には、容器本体１の後部である両側壁１０後部に、重心位置調整手段４０である重い複数の補強リブ４４をそれぞれ上下方向に一体的に配列し、各補強リブ４４を多角形の略ボタン形に形成するようにしている。
【００４６】
複数の補強リブ４４は、蓋体２０の質量を考慮して大きさや数等が決定され、必要に応じ、銅、アルミ、ステンレス、これらの合金に樹脂コーティングして被覆した部材等がインサートされる。その他の部分については、上記実施形態と略同様であるので説明を省略する。
【００４７】
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、重心位置調整手段４０の構成の多様化を図ることができる他、重心位置調整手段４０として別体のカプセル４１を敢えて製造する必要性がないのは明らかである。さらに、容器本体１の背面壁７に凹部８を設ける作業を省略することができるので、容器本体１を射出成形する金型を改良する必要が全くない。
【００４８】
次に、図９及び図１０は本発明の第３の実施形態を示すもので、この場合には、重心位置調整手段４０を、容器本体１の底板３とボトムプレート４との後部間に着脱自在に装着される重い錘体４５とするようにしている。
【００４９】
ボトムプレート４の表面後部には、錘体４５用の取付部１６が形成される。錘体４５は、特に限定されるものではないが、例えば蓋体２０の質量に釣り合う銅や鉛製の板、棒等からなり、必要に応じ、合成樹脂製のカバー等により被覆保護されてボトムプレート４の取付部１６に装着される。その他の部分については、上記実施形態と略同様であるので説明を省略する。
【００５０】
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、重心位置調整手段４０の構成の多様化や小型化を図ることができる他、凹部８を設ける必要がないので、容器本体１を射出成形する専用の金型に改良を施す必要が全くない。
【００５１】
次に、図１１及び図１２は本発明の第４の実施形態を示すもので、この場合には、容器本体１の背面壁７の上下に、各カプセル４１に嵌合してその脱落を防止する複数のストッパーバンド４６を着脱自在に螺着するようにしている。
【００５２】
各ストッパーバンド４６は、背面壁７の凹部８を跨ぐ細長い可撓性のバンド４７を備え、このバンド４７の内面には、カプセル４１の外周面に密接して保持する断面略半円弧形の湾曲した弾性保持片４８が一体形成される。その他の部分については、上記実施形態と略同様であるので説明を省略する。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、簡易な構成でカプセル４１の落下を防止することができる。
【００５３】
次に、図１３は本発明の第５の実施形態を示すもので、この場合には、容器本体１の背面壁７の上下に、重心位置調整手段４０である重い複数の支持ブロック４９を所定の間隔で装着してこれら複数の支持ブロック４９を同じ高さに形成し、この複数の支持ブロック４９により、容器本体１の姿勢を制御するようにしている。
【００５４】
複数の支持ブロック４９は、例えば２個、４個、５個、又は６個の必要数が使用され、容器本体１の背面壁７の上下方向や上下左右方向に所定の間隔を空けて締結具等で螺着される。例えば、複数の支持ブロック４９は、容器本体１の背面壁７の四隅部、四隅部と中央部とに適宜螺着される。各支持ブロック４９は、例えばアルミ、ステンレス、銅、合成樹脂等からなる所定の材料を使用して他の支持ブロック４９と同じ高さの重い角型、多角形型、丸型等に形成される。その他の部分については、上記実施形態と略同様であるので説明を省略する。
【００５５】
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、重い複数の支持ブロック４９の高さを揃えて整合することにより、所定のテーブルに容器本体１を正面１３が上向きになるよう配置した場合に、容器本体１の姿勢を安定させて傾斜を防止することが可能となる。したがって、隣接する半導体ウェーハＷ同士がランダムに傾いて接触し、この接触に伴い損傷したり、破損するのを防止することができるのは明らかである。また、容器本体１の背面壁７に凹部８を設けなくても良いので、容器本体１を射出成形する金型を改良する必要が全くない。
【００５６】
次に、図１４は本発明の第６の実施形態を示すもので、この場合には、容器本体１の背面壁７に、重心位置調整手段４０である重い支持板５０を装着し、この支持板５０により、容器本体１を正面１３が上向きになるよう配置した場合に、容器本体１の姿勢を調整して一方向に僅かに傾斜させるようにしている。
【００５７】
支持板５０は、例えばアルミ、ステンレス、銅、合成樹脂等からなる所定の材料を使用して容器本体１の背面壁７よりも小さい板に形成され、容器本体１の背面壁７に重ねて締結具等で螺着される。この支持板５０は、容器本体１の背面壁７に積層する積層面が平坦に形成され、背面壁７に積層しない広い非積層面５１が僅かに傾斜形成されることにより、容器本体１の天井５側の肉厚が厚く、容器本体１の底板３側の肉厚が薄くされる。その他の部分については、上記実施形態と略同様であるので説明を省略する。
【００５８】
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、所定のテーブルに支持板５０の傾斜した非積層面５１を接触させて容器本体１を正面１３が上向きになるよう配置した後、この容器本体１の正面１３から蓋体２０を取り外しても、複数枚の半導体ウェーハＷを一方向（例えば、半導体ウェーハＷの裏面方向）に傾けて整列支持することができるのは明らかである。
【００５９】
したがって、複数枚の半導体ウェーハＷの表面同士が接触したり、隣接する半導体ウェーハＷ同士が反対方向に傾いて接触し、この接触に伴い損傷したり、破損を招くのを防止することが可能となる。さらに、容器本体１の背面壁７に凹部８を設ける必要がないので、容器本体１用の金型に改良を施す必要がない。
【００６０】
なお、上記実施形態では蓋体２０の筐体２１裏面にフロントリテーナ２３を単に装着したが、筐体２１の裏面中央部にフロントリテーナ２３を装着しても良いし、筐体２１の裏面両側部にフロントリテーナ２３をそれぞれ装着しても良い。また、上記実施形態では一対のカプセル４１を使用したが、１本でも良いし、３本や４本等としても良い。また、カプセル４１を縦に嵌合するのではなく、横や斜め等に嵌合しても良い。
【００６１】
また、容器本体１の背面壁７に、凹部８に嵌合したカプセル４１の脱落を規制するストッパーバンド４６以外の規制片やテープ等を適宜取り付けることができる。また、凹部８とカプセル４１との間に、制振ゴム等の弾性層を介在させることができる。また、上記実施形態ではカプセル４１を単に中空の円柱形に形成したが、中空の楕円柱形や角柱形等に形成したり、衝撃緩和材４３の漏洩を防止する観点から、二重構造の筒形等に形成することもできる。さらに、第１、第２、第３、第５の実施形態における重心位置調整手段４０を適宜組み合わせることも可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明に係る基板収納容器は、例えば半導体や液晶の製造分野等で使用される。
【符号の説明】
【００６３】
１      容器本体
３      底板
４      ボトムプレート
５      天井
６      ロボティックフランジ（被吊持部）
７      背面壁
８      凹部
９      干渉リブ
１０    側壁
１３    正面
１６    取付部
２０    蓋体
２１    筐体
２３    フロントリテーナ
２８    表面プレート
３０    施錠機構
４０    重心位置調整手段
４１    カプセル
４２    干渉溝
４３    衝撃緩和材
４４    補強リブ
４５    錘体
４６    ストッパーバンド
４７    バンド
４８    弾性保持片
４９    支持ブロック
５０    支持板
５１    非積層面
Ｗ      半導体ウェーハ（基板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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