(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体管の外周に取り付けられた複数の電極間に高圧交流電圧を印加することで誘電体バリア放電を発生させるプラズマ生成部、前記誘電体管の一端側に配置されて前記プラズマ生成部における放電時に発せられる励起光により試料をイオン化する試料イオン化部及び前記試料イオン化部でイオン化された試料を電流として検出する試料イオン検出部を備えた放電イオン化電流検出器と、
前記誘電体管の他端側からプラズマガスをその流量を可変に調節して供給することができるプラズマガス供給部と、
前記試料イオン化部に前記誘電体管とは反対側から試料ガスを供給する試料ガス供給部と、
前記試料ガス供給部からの試料ガス供給流量とその供給流量に対して設定すべきプラズマガスの供給流量との関係を流量設定条件として保持する流量設定条件保持部と、
前記流量設定条件保持部に保持されている流量設定条件に基づいて、前記プラズマガス供給部からのプラズマガス供給流量を試料ガス供給流量に応じた流量に設定するように構成されているガス流量設定手段と、を備え、
前記流量設定条件保持部の保持する前記流量設定条件は、試料ガス供給流量とその試料ガス供給流量に対して前記プラズマ生成部に試料ガスを侵入させない最小限のプラズマガス供給流量との関係を最小設定条件として含む、分析装置。
【請求項２】
前記ガス流量設定手段は、前記放電イオン化電流検出器の検出感度が最高感度に設定されたときに前記最小設定条件を用いて前記プラズマガス供給部からのプラズマガス供給流量を設定するように構成されている請求項１に記載の分析装置。
【請求項３】
前記最小設定条件は、試料ガスの種類及び前記放電イオン化電流検出器の温度に応じて予め決められた係数によって試料ガス供給流量に対するプラズマガス供給流量の相関関係を表わす関係式である請求項２に記載の分析装置。
【請求項４】
前記関係式は次式によって表わされるものである請求項３に記載の分析装置。
Ｖｐ＝ｆ（Ｖｃ）×Ｋ１×Ｋ２
なお、Ｖｐはプラズマガス流量、Ｖｃはキャリアガス流速、ｆ（Ｖｃ）はキャリアガス流速Ｖｃの関数、Ｋ１は試料ガスの種類に応じた係数、Ｋ２は放電イオン化電流検出意の温度に応じた係数である。
【請求項５】
当該分析装置はキャリアガスによって試料を分析カラムに搬送し該分析カラムにおいて試料を成分ごと分離し、分離された成分を前記放電イオン化電流検出器に導入するガスクロマトグラフであり、
前記試料は溶媒を含み、その溶媒が前記放電イオン化電流検出器に導入される成分の中で最も高濃度の成分であり、
前記ガス流量設定手段は、前記放電イオン化電流検出器に前記溶媒が導入される時間帯のプラズマガス供給流量よりも前記溶媒以外の成分が導入される時間帯のプラズマガス供給流量を小さく設定することができるように構成されている請求項１から４のいずれか一項に記載の分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放電イオン化電流検出器を備えた分析装置に関し、特に、プラズマ生成部において誘電体バリア放電を発生させ、誘電体バリア放電の発生時に発せられる光により試料をイオン化する方式の放電イオン化電流検出器を備えた分析装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガスクロマトグラフ用の微量ガス検出器としては、ＴＣＤ（Thermal Conductive Detector）、ＥＣＤ（Electric Capture Detector）など種々の方式の検出器が提案され実用化されているが、現在最も一般的に使用されている検出器はＦＩＤ（Flame Ionization Detector）である。ＦＩＤは水素炎によりサンプルガスをイオン化し、そのイオン化電流を測定することで広いダイナミックレンジ（約６桁）を達成している。【０００３】
また、高圧放電により生成したプラズマでＨｅ、Ｎ2、Ａｒ、Ｎｅ、Ｘｅなどの不活性ガスの励起種を生成し、それによってサンプルをイオン化する検出器も提案されている。例えばＰＤＤ（Pulsed Discharge Detector）は、パルス化した高電圧を印加することで火花放電を発生させてプラズマを生成する。プラズマを利用する方法は水素を必要とせず、一般に、イオン化効率がＦＩＤよりも大きい。例えばプロパンに対するイオン化効率はＦＩＤが０．０００５％であるのに対しＰＤＤは０．０７％である。【０００４】
ＰＤＤとは異なる方法でプラズマを生成するものとして、誘電体バリア放電を利用する方法がある（非特許文献１参照。）。誘電体バリア放電は放電を発生させるための電極の表面が誘電体により覆われているため、金属電極を使用して放電を発生させる場合のような熱電子や二次電子などの放出が少なく、プラズマ発生の安定性が高い。また、放電電流が誘電体によって抑制されるため、電極の劣化や電極での発熱が抑えられ、耐久性が高いという特徴ももっている。【０００５】
ＰＤＤや誘電体バリア放電を利用したイオン化検出器としては、放電により発生したプラズマにより生成された励起種を試料と混合することで試料のイオン化を行なうもののほか、放電によりプラズマを生成する際に発せられる励起光により試料のイオン化を行なう放電イオン化電流検出器がある（特許文献１、非特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−１５８３５７号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】“Gas Chromatographic Applications with the Dielectric Barrier Discharge Detector", Journal of Chromatographic Science, Vil.44, February 2006
【非特許文献２】“PHOTOIONIZATION DETECTION AND ITS APPLICATION IN GAS CHROMATOGRAPHY", Journal of Chromatography, 300(1984) p249-264
【非特許文献３】“Characterization and mechanism studies of dielectric barrier discharge generated at atmospheric pressure", APPLIED PHYSICS LETTERS 96,
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
放電イオン化電流検出器は、一般的に、プラズマを生成するためのプラズマガスが流れる管の下流側に試料をイオン化するための空間である試料イオン化部が設けられ、プラズマ生成部とは反対方向から試料が試料イオン化部内にキャピラリにより噴出されるようになっている。プラズマ生成部に試料ガスが侵入すると放電の発生に影響を与え、プラズマ生成部における放電状態が不安定になるため、試料ガスがプラズマ生成部に侵入しないようにプラズマガスの流量をある程度の大きさ以上にしておく必要がある。【０００９】
また、ＰＤＤのような放電方式では、プラズマガスが放電用電極を冷却する役割も果たしており、放電用電極の冷却具合によっても放電状態が変化するため、プラズマガスを放電用電極の冷却効果が十分に得られる流量で一定に維持して流すことが望ましい。従来の放電イオン化電流検出器では、以上のことを考慮してプラズマガスの流量を十分に大きい値に固定して検出を行なっていた。このため、常に大量のプラズマガスを消費していた。【００１０】
また、試料イオン化部では試料ガスとプラズマガスとが混合され、試料ガスがプラズマガスによって希釈される。従来では、大流量でプラズマガスを流す必要があったため、イオン化された試料を検出するための検出部における試料ガス濃度が低くなり、高い検出感度を得ることが困難であった。【００１１】
そこで、本発明は、プラズマガスの消費量を抑制して高い検出感度を得ることができる放電イオン化電流検出器を備えた分析装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、誘電体管の外周に取り付けられた複数の電極間に高圧交流電圧を印加することで誘電体バリア放電を発生させるプラズマ生成部、誘電体管の一端側に配置されてプラズマ生成部における放電時に発せられる励起光により試料をイオン化する試料イオン化部及び試料イオン化部でイオン化された試料を電流として検出する試料イオン検出部を備えた放電イオン化電流検出器を備えた分析装置である。この分析装置は、誘電体管の他端側からプラズマガスをその流量を可変に調節して供給することができるプラズマガス供給部と、試料イオン化部に誘電体管とは反対側から試料ガスを供給する試料ガス供給部と、試料ガス供給部からの試料ガス供給流量とその供給流量に対して設定すべきプラズマガスの供給流量との関係を流量設定条件として保持する流量設定条件保持部と、流量設定条件保持部に保持されている流量設定条件に基づいて、プラズマガス供給部からのプラズマガス供給流量を試料ガス供給流量に応じた流量に設定するように構成されているガス流量設定手段と、を備えている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は、誘電体バリア放電により励起光を発生させて試料をイオン化する方式の放電イオン化電流検出器では、放電用電極における発熱が小さいためにプラズマガスによる電極の冷却がほぼ不要であるという知見に基づいてなされたものである。すなわち、プラズマガスの流量が少なくとも試料ガスがプラズマガスに侵入しない大きさであればよい。本発明の分析装置では、放電イオン化電流検出器の誘電体管にプラズマガスを供給するプラズマガス供給部がその供給流量を可変に調節することができるようになっており、試料ガス供給部からの試料ガス供給流量とその供給流量に対して設定すべきプラズマガスの供給流量との関係を流量設定条件として保持する流量設定条件保持部と、流量設定条件保持部に保持されている流量設定条件に基づいて、プラズマガス供給部からのプラズマガス供給流量を試料ガス供給流量に応じた流量に設定するように構成されているガス流量設定手段と、を備えているので、プラズマガスの供給流量が試料ガスの供給流量に応じた必要最小限の流量に設定することができる。これにより、プラズマガスの消費量を抑制することができるとともに、試料ガスの希釈率を低下させて検出感度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】放電イオン化電流検出器を備えた分析装置の一実施例を示す概略構成断面図である。
【図２】同実施例においてプラズマガス流量の設定条件を設定する際の装置構成の一例を示す概略断面構成図である。
【図３】図２の装置構成における光検出器の検出信号と電流アンプの出力信号の波形グラフであり、（Ａ）はプラズマガスの流速を５ｃｍ／秒に設定したとき、（Ｂ）はプラズマガスの流速を７．５ｃｍ／秒に設定したとき、（Ｃ）はプラズマガスの流速を１０ｃｍ／秒に設定したときを示している。
【図４】プラズマガス流量の設定手順を示すフローチャートである。
【図５】プラズマガス流量を試料成分に応じて制御する方法を説明するための図であり、（Ａ）は放電イオン化検出器で得られるクロマトグラム、（Ｂ）はプラズマガス流量の時間変化を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の分析装置において、流量設定条件保持部の保持する流量設定条件は、試料ガス供給流量とその試料ガス供給流量に対してプラズマ生成部に試料ガスを侵入させない最小限のプラズマガス供給流量との関係を最小設定条件として含んでおり、ガス流量設定手段は、放電イオン化電流検出器の検出感度が最高感度に設定されたときに最小設定条件を用いてプラズマガス供給部からのプラズマガス供給流量を設定するように構成されていることが好ましい。そうすれば、プラズマガスの消費量を最小限に抑制しながら最高感度での検出を行なう機能を分析装置にもたせることができる。
【００１６】
上記最小設定条件としては、試料ガスの種類及び放電イオン化電流検出器の温度に応じて予め決められた係数によって試料ガス供給流量に対するプラズマガス供給流量の相関関係を表わす関係式が挙げられる。
【００１７】
上記関係式の一例として次式が挙げられる。
Ｖｐ＝ｆ（Ｖｃ）×Ｋ１×Ｋ２
なお、Ｖｐはプラズマガス流量、Ｖｃはキャリアガス流速、ｆ（Ｖｃ）はキャリアガス流速Ｖｃの関数、Ｋ１は試料ガスの種類に応じた係数、Ｋ２は放電イオン化電流検出意の温度に応じた係数である。
【００１８】
本発明にかかる分析装置は、当該分析装置はキャリアガスによって試料を分析カラムに搬送し該分析カラムにおいて試料を成分ごと分離し、分離された成分を放電イオン化電流検出器に導入するガスクロマトグラフに適用することができる。ガスクロマトグラフでは、試料は溶媒を含み、その溶媒が放電イオン化電流検出器に導入される成分の中で最も高濃度の成分であることが一般的である。その場合、キャリアガスの流量や分析カラムの種類及温度が同じ条件であれば、溶媒がクロマトグラムのピークとして現れる時間帯は常に一定であるので、溶媒が放電イオン化電流検出器に導入される時間帯を予測することができる。そこで、本発明の分析装置においては、ガス流量設定手段は、放電イオン化電流検出器に溶媒が導入される時間帯のプラズマガス供給流量よりも溶媒以外の成分が導入される時間帯のプラズマガス供給流量を小さく設定することができるように構成されていることが好ましい。そうすれば、試料ガス中において最も高濃度である溶媒が放電イオン化電流検出器に導入される時間帯はプラズマガス供給流量を溶媒がプラズマ生成部に進入しない流量に設定し、溶媒以外の成分が放電イオン化電流検出器に導入される時間帯はプラズマガス供給流量をそれよりも小さい流量に設定することができるので、溶媒以外の成分をより高感度で測定することが可能となる。
【００１９】
以下、放電イオン化電流検出器を備えた分析装置であるガスクロマトグラフの一実施例について図面を用いて説明する。図１はガスクロマトグラフの一実施例を示す概略構成断面図である。
ガスクロマトグラフにより分離された試料成分を検出するための検出器として放電イオン化電流検出器２を備えている。放電イオン化電流検出器２はプラズマ生成部、試料イオン化部及び試料イオン検出部を備えている。
【００２０】
プラズマ生成部は、例えば石英などからなる誘電体管４とその誘電体管４の外周の互いに離間した３箇所に取り付けられたリング状の電極６，８，１０により構成されている。電極６は交流電源２０により高圧交流電圧が印加されるようになっている。電極６を挟んで配置された２つの電極８及び１０は接地されている。誘電体管４の一端側にはガス入口１２が設けられており、ガス入口１２からプラズマガスとしてヘリウムが誘電体管４内の流路４ａに供給される。電極６に高圧交流電圧が印加されることで、電極６と電極８の間及び電極６と電極１０の間において誘電体バリア放電が起こり、その放電によって誘電体管４内の流路４ａを流れるプラズマガスが励起され、励起光が発せられる。
なお、プラズマガスとしては、ヘリウムのほか、アルゴン、窒素、ネオン、キセノンのいずれか１つ又はそれらの混合ガスを用いることができる。
【００２１】
誘電体管４の下流端である他端側に、試料イオン化部と試料イオン検出部を構成する管５の一端が接続されている。管５の他端側にキャピラリ１４が挿入されている。キャピラリ１４はガスクロマトグラフの分析カラム３６からの試料ガスを管５内の空間５ａに供給するものであり、誘電体管４の他端に対して対向して配置されている。試料ガスはキャピラリ１４の先端から誘電体管４に向かって噴出される。
【００２２】
管５は誘電体管４の下流端に接続された一端側からバイアス電極２２と電荷収集電極２６を備えている。バイアス電極２２と電荷収集電極２６はともにリング状の電極である。バイアス電極２２には直流電源２４により直流電圧が印加される。キャピラリ１４の先端は管５と誘電体管４の接続部分と電荷収集電極２６との間にあり、キャピラリ１４の先端から噴出された試料ガス中の成分はプラズマ生成部の誘電体バリア放電の発生時に発せられる励起光によりイオン化されて電荷を帯びる。イオン化された試料はバイアス電極２２によって電位が与えられた後、電荷収集電極２６によりその電荷が収集され、電流アンプ２８によって増幅されて電流信号として出力される。
【００２３】
管５の一端側側壁にガス排出口１６が設けられており、管５の他端側側壁にもガス排出口１８が設けられている。ガス排出口１６はバイアス電極２２よりも一端側に設けられており、ガス排出口１８は電荷収集電極２６よりも他端側に設けられている。ガス排出口１６からは誘電体管４からのプラズマガスの一部が排出され、ガス排出口１８からは誘電体管４からのプラズマガスの残りとそのプラズマガスによって押し戻された試料ガスが排出される。
【００２４】
プラズマ生成部に供給されるプラズマガスの流量はフローコントローラなどの流量制御機構３０により調節される。キャピラリ１４の先端から噴出される試料ガスの流量は、フローコントローラなどの流量制御機構３２により調節されるキャリアガス流量によって決まる。流量制御機構３２からの流路は試料導入部３４に接続され、試料導入部３４は分析カラム３６に接続され、分析カラム３６がキャピラリ１４に接続されている。
【００２５】
流量制御機構３０及び３２は制御部３８により制御されている。制御部３８は流量制御機構３０及び３２を制御するためのガス流量設定手段４０を備えている。制御部３８はこのガスクロマトグラフを制御するコンピュータ又はこのガスクロマトグラフに接続されたパーソナルコンピュータなどの汎用のコンピュータにより実現することができる。ガス流量設定手段４０は制御部３８をなすコンピュータの記憶装置に格納されたプログラムにより実現することができる。流量設定条件保持部４２は制御部３８とは別体として示されているが、制御部３８をなすコンピュータの記憶装置によって実現することができ、また、制御部３８をなすコンピュータとは別の記憶装置によって実現することもできる。
【００２６】
ガス流量設定手段４０は、測定試料によって決定されるキャリアガス流量に応じてプラズマガス流量を設定するように構成されている。キャリアガス流量は、測定対象の試料の種類と分析の目的に応じて分析者により設定される。分析者は、試料の分離性能を高くした状態で分析したい、測定時間を短縮したい、キャリアガスの消費量を抑えたい、などの要求に応じてキャリアガス流量を設定する。
【００２７】
ガス流量設定手段４０は、そのように設定されたキャリアガス流量に基づき、試料ガスが誘電体管４と電極６，８及び１０で構成されるプラズマ生成部に到達しない最小限のプラズマガス流量を最小限流量として求め、分析者からの要求に応じてその最小限流量以上の流量をプラズマガス流量として設定するように構成されている。
【００２８】
最小限流量は、流量設定条件保持部４２に保持されている流量設定条件に基づいて求められる。最小限流量をプラズマガス流量として設定することで、プラズマガスの消費量を最小限に抑制することができるとともに試料ガスの希釈率を低くして試料の検出感度を高くすることができる。ガス流量設定手段４０は、分析者が最高感度での測定を要求する場合に最小限流量をプラズマガス流量として設定する。なお、分析者は、最小限流量以上のプラズマガス流量をガス流量設定手段４０を通じて任意に設定することも可能である。
【００２９】
この放電イオン化電流検出器２のプラズマ生成部は誘電体バリア放電を発生させるものであるため、電極６，８及び１０における発熱がほとんどなく、プラズマガスによる電極６，８及び１０の冷却効果を考慮する必要がない。したがって、プラズマガスの流量は、キャピラリ１４の先端から噴出された試料ガスが誘電体管４と電極６，８及び１０で構成されるプラズマ生成部に到達しない流量であればよい。
【００３０】
試料ガスがプラズマ生成部に到達するか否かは、その成分ガスがプラズマガス流に逆らって拡散できるか否かであり、キャリアガスとプラズマガスの流量比のほか、試料ガス（最も高濃度の成分）の種類や温度によって決まるものである。流量設定条件保持部４２は、試料ガスがプラズマ生成部に到達しない最小限流量を求めるための条件（最小設定条件）である次式（１）を流量設定条件の一つとして保持している。
Ｖｐ＝ｆ（Ｖｃ）×Ｋ１×Ｋ２                （１）
ここで、Ｖｐはプラズマガス流量、Ｖｃはキャリアガス流速、ｆ（Ｖｃ）はキャリアガス流速Ｖｃの関数（例えばＶｃ×０．３など）、Ｋ１は試料ガスの種類に応じた係数、Ｋ２は温度に応じた係数である。流量設定条件保持部４２は式（１）とともに装置構成に合わせて実測されたｆ（Ｖｃ）、Ｋ１及びＫ２を保持している。なお、試料ガスの種類とは、ガスクロマトグラフで分離された試料ガス成分のうち最も高濃度の成分であり、一般的に溶媒が最も高濃度成分となる。
【００３１】
最小設定条件である（１）式の各係数の求め方の一例について説明する。図２に示されているように、図１の分析装置の放電イオン化電流検出器２のガス排出口１６に誘電体管４４を接続し、誘電体管４４の外周にリング状の電極４６を装着して交流電源４８により高圧交流電圧を印加して誘電体管４４内において放電を発生させる。誘電体管４４内のプラズマ発光を光ファイバ５０で取り込み、分光検出器（光検出器）５２で検出する。
【００３２】
図３は図２の構成により取得した光検出器５２の出力信号と電流アンプ２８の出力信号である。この測定は、試料としてノルマルヘキサンを用い、検出器温度を基準の温度（２００℃）で一定にし、キャリアガスの流量を５０ｃｃｍ（流速３０ｃｍ／秒）で固定し、プラズマガス流速を、（Ａ）５ｃｍ／秒、（Ｂ）７．５ｃｍ／秒、（Ｃ）１０ｃｍ／秒に設定し、光検出器５２では波長５８８ｎｍの光のスペクトルを測定した。（Ａ）及び（Ｂ）のデータでは光検出器５２の出力信号にピークが出現している。これは、ガス排出口１６から試料が排出されていることを示している。これに対し、（Ｃ）のデータでは光検出器５２の出力信号にピークは出現せず、ガス排出口１６から試料が排出されていないことがわかる。したがって、この装置構成及び測定条件では、プラズマガス流速を１０ｃｍ／秒（キャリアガス流速３０ｃｍ／秒×０．３）以上に設定すれば、試料であるノルマルヘキサンが誘電体管４内の流路４ａに侵入しない。
【００３３】
そこで、この装置構成及び測定条件を基準の条件とし、ｆ（Ｖｃ）＝０．３Ｖｃ、この測定に使用した溶媒に関する係数Ｋ１＝１、この測定時の温度に関する係数Ｋ２＝１と設定し、流量設定条件保持部４２に記憶させる。このときのプラズマガス流速（１０ｃｍ／秒）を基準とし、同じ装置構成で、試料成分としてガスクロマトグラフで用いられ得る別の溶媒を用いて同様に測定してガス排出口１６から試料が排出されないプラズマガス流速を求めることで、基準となるプラズマガス流速と求めたプラズマガス流速の比率から式（１）の溶媒に関する係数Ｋ１を求めることができる。同様に、検出器温度を変えて測定してガス排出口１６から試料が排出されないプラズマガス流速を求めることで、基準となるプラズマガス流速と求めたプラズマガス流速の比率から式（１）の検出器温度に関する係数Ｋ２を求めることができる。
【００３４】
プラズマガス流量の設定手順について図４を用いて説明する。
分析者は、試料ガスのうち最も高濃度の成分の種類（通常は溶媒）、検出器温度、さらには分析の目的に応じたキャリアガス流量を装置に設定する。制御部３８のガス流量設定手段４０は、分析者によって入力されたそれらの情報と流量設定条件保持部４２に保持されている最小設定条件に基づいてプラズマガス流量の最小限流量を求め、分析者が最高感度での測定を要求している場合には、その最小限流量をプラズマガス流量として設定する。分析者が最高感度での測定を要求していない場合、ガス流量設定手段４０は分析者に最小限流量以上の流量で任意の流量をプラズマガス流量として設定させる。
【００３５】
また、一般的に、分析カラム３６に導入される試料は、分析対象の試料成分が溶媒に入れられたものである。その場合、分析カラム３６で分離された試料成分のうち最も高濃度のものは溶媒になる。溶媒はその組成と濃度が既知のものであるため、キャリアガス流量や分析カラム３６の種類及び温度が同じであれば、分析カラム３６を通過して放電イオン化電流検出器２に導入される時間帯は常に同じであり予測することができる。
【００３６】
そこで、時間帯ごとにプラズマガス流量を設定できるようにガス流量設定手段４０を構成してもよい。溶媒に対するクロマトグラムのピークを高感度で測定する必要はないため、図５に示されているように、高濃度成分である溶媒が放電イオン化電流検出器２に導入される時間帯だけ、プラズマガス流量を溶媒がプラズマ生成部に到達しない大きい流量に設定し、それ以外の時間帯は溶媒以外の成分がプラズマ生成部に到達しない程度の小さい流量に設定するといったことが可能となる。これにより、プラズマガスの消費量を低減することができるとともに、溶媒によるプラズマ生成部の汚染を確実に防止しながら溶媒以外の試料成分を高感度で検出することができる。この場合、溶媒が放電イオン化電流検出器２に導入される時間帯のプラズマガス流量として、その溶媒について上述した（１）式により求めた最小限流量を設定することができ、それ以外の時間帯のプラズマガス流量として、溶媒以外の試料成分のうち最も高濃度の成分について（１）式により求めた最小限流量を設定することができる。なお、溶媒以外の試料成分が未知の場合は予め規定された流量（例えば、溶媒についての最小限流量の１／２など）を設定してもよい。
【符号の説明】
【００３７】
２      放電イオン化電流検出器
４      誘電体管
６，８，１０      放電用電極
１２      プラズマガス入口
１４      キャピラリ（試料ガス導入用）
１６，１８      ガス排出口
２０      高圧交流電源
２２      バイアス電極
２４      直流電源
２６      電荷収集電極
２８      電流アンプ
３０，３２      流量制御機構
３４      試料導入部
３６      分析カラム
３８      制御部
４０      ガス流量制御手段
４２      流量設定条件保持部
【図１】
0005871057.tif 000002
【図２】
0005871057.tif 000003
【図３】
0005871057.tif 000004
【図４】
0005871057.tif 000005
【図５】
0005871057.tif 000006