(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光のうち、第１偏光を透過させる偏光板と、
前記偏光板上に配置された表示パネルと、
前記表示パネル上に配置され、前記表示パネルを通過した光のうち、第２偏光を透過させる偏光層、前記偏光層上に配置されて前記第２偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターン、及び前記第２偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンを含む位相遅延層を含む光学板と、を含み、
前記第１パターンは、
前記第２偏光をλ／４位相遅延させる第１光学層と、
前記第１光学層上に配置され、前記第１光学層を通過した光をλ／２位相遅延させる第２光学層と、を含み、
前記第２パターンは、
前記第２偏光をλ／４位相遅延させ、前記第１光学層からなる異方性光学層と、
前記異方性光学層上に配置され、前記第２光学層を変化させてなり、前記異方性光学層を通過した光を透過させる等方性光学層と、を含む表示装置。  
【請求項２】
前記光学板は、
前記偏光板が透過させた前記第１偏光が入射される前記表示パネルの入射面側と対向する出射面側に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。  
【請求項３】
請求項１に記載の表示装置の製造方法であって、
表示パネルを製造する段階と、
前記表示パネル上に入射光のうち、偏光を透過させる偏光層を形成する段階と、
前記偏光層上に、前記偏光を位相遅延させる位相遅延フィルムを形成する段階と、
前記位相遅延フィルムによって位相遅延された前記偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターン及び前記偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンを含む位相遅延層を形成する段階と、を含む表示装置の製造方法。  
【請求項４】
前記位相遅延フィルムを形成する段階は、
前記偏光をλ／４位相遅延させる第１光学フィルムを形成する段階と、
前記第１光学フィルム上に配置され、前記第１光学フィルムを通過した光をλ／２位相遅延させる第２光学フィルムを形成する段階と、を含むことを特徴とする請求項３に記載の表示装置の製造方法。  
【請求項５】
前記位相遅延層を形成する段階は、
前記第２光学フィルムに熱を加えて、前記第２光学フィルムが変形された等方性光学層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項４に記載の表示装置の製造方法。  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学板及びその製造方法と表示装置及びその製造方法に関する。より詳しくは、偏光メガネを通じて立体画像を表示する表示装置用光学板及びその製造方法と表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶表示装置は各画素領域を駆動するためのスイッチング素子が形成されたアレイ基板と、前記アレイ基板と対向する対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に介在して形成された液晶層とを含む。前記液晶表示パネルは前記液晶層に電圧を印加して光の透過率を制御する方式で２次元の平面画像（以下、２Ｄ画像と言う）を表示する。  
【０００３】
最近、ゲーム、映画などのような分野で３次元の立体画像（以下、３Ｄ画像と言う）に対する需要が増加することによって、３Ｄ画像を表示するための表示装置も継続的に開発されている。観察者が左眼及び右眼各々を通じて互いに異なる２Ｄ画像等を見て、観察者の脳内で前記２Ｄ画像らを融合することによって観察者は３Ｄ画像を視認することになる。３Ｄ画像を表示するための表示装置は特殊メガネの着用可否によって、大きくはメガネ式（ｓｔｅｒｅｏ−ｓｃｏｐｉｃ）と非メガネ式（ａｕｔｏ  ｓｔｅｒｅｏ−ｓｃｏｐｉｃ）とに区分する。  
【０００４】
前記メガネ式表示装置は前記特殊メガネとして、偏光メガネまたは液晶シャッター（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｓｈｕｔｔｅｒ）メガネを利用することができる。前記液晶シャッターメガネ式表示装置は、それ自体が３Ｄ画像を表示する。前記液晶シャッターメガネを利用する場合、大型表示装置に容易に適用できる反面、メガネ自体の価格が高く、画像表示速度が遅くて表示品質が落ちる短所がある。  
【０００５】
反面、前記偏光メガネ式表示装置は２Ｄ画像を表示する表示パネル上に互いに異なる方向の偏光を出射する光学板を配置して、前記特殊メガネを着用した観察者の左眼及び右眼に各々互いに異なる方向を有する偏光が到達するようにする。これによって、観察者が３Ｄ画像を視認することになる。前記偏光メガネを利用する場合、前記液晶シャッターメガネに比べて相対的に低い費用で前記偏光メガネを製作することができ、表示品質も良好という長所があって常用化に有利である。しかし、表示装置自体が３Ｄ画像を表示することと異り前記光学板を前記表示パネルに付着しなければならないので前記光学板と前記表示パネルのミスアラインが問題になる。  
【０００６】
また、前記光学板は一般的にベース基板またはベースフィルム上に領域別に異なる方向性を有する配向膜及び前記配向膜上に配置された液晶を含む。このような光学板を製造するためにはコーティング工程、露光工程、配向工程などの複数の工程を遂行することによって製造工程時間及び／または製造費用を上昇させる要因になる。さらに、両面に各々偏光板が付着された表示パネルと前記光学板との結合により表示装置の厚さが厚くなる問題点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−２７９９４６号公報
【特許文献２】韓国特許出願公開２００２−００５９０２８号明細書
【特許文献３】韓国特許出願公開２００７−０００６１１６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、本発明の技術的課題はこのような問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は製造工程を単純化させ、表示装置の全体的な厚さを減少させることのできる光学板を提供することにある。  
【０００９】
本発明の他の目的は製造工程を単純化させて生産性を向上させることのできる光学板の製造方法を提供することにある。  
【００１０】
本発明のまた他の目的はアライン信頼性を向上させることのできる表示装置を提供することにある。  
【００１１】
本発明のまた他の目的は前記表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上述の本発明の目的を実現するための実施形態に係る光学板は偏光板及び位相遅延層を含む。前記偏光板は入射光のうち、偏光を透過させる。前記位相遅延層は前記偏光板上に配置し、前記偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターン及び前記偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンを含む。  
【００１３】
一例として、前記第１パターンは前記偏光を前記３λ／４位相遅延させる単一層であってもよい。その時、前記第２パターンは、前記偏光を前記λ／４位相遅延させる位相遅延部及び前記位相遅延部上に配置され、前記位相遅延部を通過した光を透過させる等方性光学部を含むことができる。  
【００１４】
他の例として、前記第１パターンは前記偏光をλ／４位相遅延させる第１光学層及び前記第１光学層上に配置され、前記第１光学層を通過した光をλ／２位相遅延させる第２光学層を含むことができる。この時、前記第２パターンは前記偏光をλ／４位相遅延させ、前記第１光学層と同じ異方性光学層及び前記異方性光学層上に配置され、前記異方性光学層を通過した光を透過させる等方性光学層を含むことができる。  
【００１５】
上述の本発明の他の目的を実現するための実施形態に係る光学板の製造方法が提供される。前記製造方法において、基板上に入射光のうち、偏光を透過させる偏光板上に前記偏光を位相遅延させる位相遅延フィルムを形成する。前記位相遅延フィルムによって位相遅延された前記偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターン及び前記偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンを含む位相遅延層を形成する。  
【００１６】
一例として、前記位相遅延層を形成する段階は、前記偏光を３λ／４位相遅延させる単一層である前記位相遅延フィルムに熱を加えて前記光学層の一部が変形した等方性光学部及び前記等方性光学部の下部に残留し、前記偏光をλ／４位相遅延させる異方性光学部を含む前記第２パターンを形成する段階を含むことができる。  
【００１７】
他の例として、前記位相遅延フィルムを形成する段階は、前記偏光をλ／４位相遅延させる第１光学フィルムを形成する段階及び前記第１光学フィルム上に前記第１光学フィルムを通過した光をλ／２位相遅延させる第２光学フィルムを形成する段階を含むことができる。  
【００１８】
この時、前記第２光学フィルムに熱を加えて前記第２光学フィルムが変形した等方性光学層を形成、または、前記第２光学フィルムの一部を除去して前記第１光学フィルムの一部を露出させることによって前記第２パターンを形成することができる。  
【００１９】
上述の本発明のまた他の目的を実現するための実施形態に係る表示装置は偏光板、表示パネル及び光学板を含む。前記偏光板は入射光のうち、第１偏光を透過させる。前記表示パネルは前記偏光板上に配置される。前記光学板は前記表示パネル上に配置され、前記表示パネルを通過した光のうち、第２偏光を透過させる偏光層と、前記偏光層上に配置されて前記第２偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターン及び前記第２偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンを含む位相遅延層とを含む。  
【００２０】
前記偏光層の偏光軸は、前記位相遅延層の位相遅延軸と４５°の傾斜を成すことができる。  
【００２１】
一例として、前記第１パターンは前記第２偏光を前記３λ／４位相遅延させる単一層であってもよい。この時、前記第２パターンは、前記第２偏光を前記λ／４位相遅延させる位相遅延部及び前記位相遅延部上に配置され、前記位相遅延部を通過した光を透過させる等方性光学部を含むことができる。  
【００２２】
他の例として、前記第１パターンは前記第２偏光をλ／４位相遅延させる第１光学層及び前記第１光学層上に配置され、前記第１光学層を通過した光をλ／２位相遅延させる第２光学層を含むことができる。  
【００２３】
この時、前記第２パターンは前記第２偏光をλ／４位相遅延させ、前記第１光学層と同じ異方性光学層及び前記異方性光学層上に配置され、前記異方性光学層を通過した光を透過させる等方性光学層を含むことができる。前記光学板は前記偏光板が透過させた前記第１偏光が入射される前記表示パネルの入射面側と対向する出射面側に形成されることができる。  
【００２４】
上述の本発明のまた他の目的を実現するための実施形態に係る表示装置の製造方法が提供される。前記製造方法で、表示パネルを製造し、前記表示パネル上に入射光のうち、偏光を透過させる偏光層を形成する。前記偏光層上に、前記偏光を位相遅延させる位相遅延フィルムを形成した後、前記位相遅延フィルムによって位相遅延された前記偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターン及び前記偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンを含む位相遅延層を形成する。
【００２５】
前記製造方法で、外部光が入射される前記表示パネルの入射面側に偏光板を形成する段階をさらに含み、前記位相遅延フィルムは前記入射面側と対向して前記表示パネルを通過した光が出射される出射面側に形成することができる。
【発明の効果】
【００２６】
このような光学板及びその製造方法と表示装置及びその製造方法によると、偏光層及び位相遅延層を含む光学板を利用することによって表示パネルと前記光学板のアライン信頼性を向上させることができる。また、表示装置の全体的な厚さを減少させることができ、表示装置の製造工程を単純化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る表示装置を説明するための概念斜視図である。
【図２】図１の表示パネルと位相遅延層との間の配置関係を説明するための拡大平面図である。
【図３】図１のＩ−Ｉ’ラインに沿って切断した断面図である。
【図４】図３に図示した第２パターンの拡大断面図である。
【図５】図３に図示した光学板を通過する光を説明するための概念図である。
【図６】図３に図示した光学板を通過する光を説明するための概念図である。
【図７】図１に図示した光学板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８】図１に図示した光学板の製造方法を説明するための断面図である。
【図９】図１に図示した光学板の製造方法を説明するための断面図である。
【図１０】図１に図示した光学板の製造方法を説明するための断面図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態に係る光学板の断面図である。
【図１２】図１１に図示した光学板を通過する光を説明するための概念図である。
【図１３】図１１に図示した光学板を通過する光を説明するための概念図である。
【図１４】図１１に図示した光学板の製造方法を説明するための断面図である。
【図１５】本発明の第３の実施形態に係る光学板の断面図である。
【図１６】図１５に図示した光学板を通過する光を説明するための概念図である。
【図１７】図１５に図示した光学板の製造方法を説明するための断面図である。
【図１８】本発明の第４の実施形態に係る光学板の製造方法を説明するための断面図である。
【図１９】本発明の第５の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２０】本発明の第５の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２１】本発明の第６の実施形態に係る表示装置を説明するための断面図である。
【図２２】図２１に図示した表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２３】本発明の第７の実施形態に係る表示装置を説明するための断面図である。
【図２４】図２３に図示した表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２５】本発明の第８の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、添付した図面らを参照して、本発明の望ましい実施形態らをより詳細に説明する。
【００２９】
第１の実施形態
まず、図１〜図３を参照して光学板を含む表示装置に対して説明した後、図５及び図６を参照して本実施形態に係る光学板を具体的に説明する。
【００３０】
図１は本発明の第１の実施形態に係る表示装置を説明するための概念斜視図である。  
【００３１】
図１を参照すると、本実施形態に係る表示装置５００は表示パネル１００、偏光板２００、光学板３００、及びバックライトアセンブリ４００を含む。  
【００３２】
前記表示パネル１００は前記バックライトアセンブリ４００から提供される光を利用して画像を表示する。一例として、前記表示パネル１００は液晶を含む液晶表示パネルであることができる。前記表示パネル１００は前記バックライトアセンブリ４００の上部に配置されることができる。  
【００３３】
前記偏光板２００は前記表示パネル１００と前記バックライトアセンブリ４００との間に配置される。前記偏光板２００は前記バックライトアセンブリ４００から提供される入射光を偏光させ前記表示パネル１００に提供する。前記偏光板２００は前記入射光のうち第１偏光を透過させる。  
【００３４】
前記光学板３００は前記表示パネル１００の上部に配置される。前記光学板３００は偏光層３１０及び位相遅延層３２０を含む。前記偏光層３１０は前記表示パネル１００を通過した光のうち、第２偏光を透過させる。前記第２偏光の方向は前記第１偏光の方向と異なる方向であり、例えば、互いに垂直であることができる。図１では、説明の便宜のために前記光学板３００と前記表示パネル１００を分離して図示したが、前記光学板３００は前記表示パネル１００に付着したり、または、前記表示パネル１００上に直接的に形成されて、前記表示パネル１００と直接的に接触する。  
【００３５】
前記偏光層３１０は前記光学板３００を構成する一構成要素として「層（ｌａｙｅｒ）」と定義される。反面、前記偏光層３１０は前記表示パネル１００と独立的な構成要素として「板（ｐｌａｔｅ）」と定義されることもできる。本発明の詳細な説明及び特許請求範囲では「偏光層」はベース基板上に線格子パターンが形成された前記偏光板２００と実質的に同一であると定義し、前記偏光板２００と区分するために一括的に「偏光層」と称して説明する。  
【００３６】
前記位相遅延層３２０は前記偏光層３１０上に配置されて前記偏光層３１０を通過した前記第２偏光の位相を遅延させる。前記位相遅延層３２０は前記第２偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターンＰ１及び前記第２偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンＰ２を含む。そこで、「λ」は光の波長を示す。一例として、前記波長は緑色光の波長範囲の約５００ｎｍ〜約５５０ｎｍであることができる。  
【００３７】
前記第１パターンＰ１及び前記第２パターンＰ２は前記表示装置５００の第１方向Ｄ１に沿って延び、第２方向Ｄ２に沿って反復的に配列される。前記第２方向Ｄ２は前記第１方向Ｄ１と垂直であることができる。一例として、前記第１パターンＰ１及び前記第２パターンＰ２が線格子で配列される。前記第１パターンＰ１は前記第２偏光を位相遅延させることによって前記第２偏光を第１円偏光に変更する。前記第１パターンＰ１は回転子によって前記第２偏光を−４５°回転させたのと実質的に同じであるように前記第２偏光を前記第１円偏光に変更することができる。前記第２パターンＰ２は前記第２偏光を前記第１パターンＰ１と相異なるように位相遅延させることによって前記第２偏光を第２円偏光に変更する。前記第２パターンＰ２は回転子によって前記第２偏光を＋４５°回転させたのと実質的に同じであるように前記第２偏光を前記第２円偏光に変更することができる。前記第１円偏光の方向と前記第２円偏光の方向は互いに反対方向である。一例として、前記第１円偏光が左円偏光である時、前記第２円偏光は右円偏光であることができる。これとは異なって、前記第１円偏光が右円偏光である時、前記第２円偏光は左円偏光であることができる。  
【００３８】
前記表示装置５００は、２Ｄ画像を表示するが、偏光メガネ６００を着用した観察者は前記偏光メガネ６００を通じて前記第１及び第２円偏光を両眼各々に選択的に提供されることができる。前記偏光メガネ６００は前記第１円偏光を通過させることのできる第１メガネ部６１０及び前記第２円偏光を通過させることのできる第２メガネ部６２０を含む。前記第１円偏光は前記第１メガネ部６１０は通過するが、前記第２メガネ部６２０は通過することができない。前記第２円偏光は、前記第２メガネ部６２０は通過するが、前記第１メガネ部６１０は通過することができない。これによって、前記観察者は片目では前記第１円偏光のみを見、他の片目では前記第２円偏光のみを見て、前記観察者の脳内は実質的には立体画像（以下、３Ｄ画像）を認識することになる。反面、前記観察者が前記偏光メガネ６００を脱げば前記表示装置５００を通じて平面画像（以下、２Ｄ画像）を視認することができる。  
【００３９】
図２は図１の表示パネルと位相遅延層との間の配置関係を説明するための拡大平面図である。図３は図１のＩ−Ｉ’ラインに沿って切断した断面図である。
【００４０】
図２及び図３を参照すると、前記表示パネル１００は薄膜トランジスタ（図示せず）及び画素電極（図示せず）を含む第１基板１１０及び前記第１基板１１０と対向する第２基板１２０を含む。前記第１基板１１０と第２基板１２０との間には表示素子が介在して前記バックライトアセンブリ４００が提供する光の透過率を前記表示素子が調節して前記表示パネル１００が画像を表示することができる。例えば、前記表示素子は液晶であってもよい。前記偏光板２００は、前記表示パネル１００が前記バックライトアセンブリ４００から光の提供を受ける入射面側に結合する。前記光学板３００は、前記入射面側と対向する、表示パネル１００の出射面側に結合する。具体的に、前記偏光板２００は前記入射面側の前記第１基板１１０の外側に結合し、前記光学板３００は前記出射面側の前記第２基板１２０の外側に結合する。前記第２基板１２０の外側に前記偏光層３１０及び前記位相遅延層３２０が順次に形成されることができる。  
【００４１】
前記表示パネル１００は前記第１基板１１０と第２基板１２０の結合によって定義される複数の画素セルを含む。前記画素セルの各々は一つの画素電極及びカラーを現わすカラーフィルタを含む。前記カラーフィルタは前記第１基板１１０に形成されることもでき、前記第２基板１２０に形成されることもできる。前記画素セルは、レッドを現わすレッド画素（Ｒ）、グリーンを現わすグリーン画素（Ｇ）及びブルーを現わすブルー画素（Ｂ）を含むことができる。前記レッド、グリーン及びブルー画素（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は前記第１方向Ｄ１に繰り返して配列されて第ｎ画素列Ｒｎを定義する。前記レッド、グリーン及びブルー画素（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の前記第２方向Ｄ２に配置されたレッド、グリーン及びブルー画素（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が前記第ｎ画素列Ｒｎの前記第２方向Ｄ２に配置された第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１を定義する。前記第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１の前記第２方向Ｄ２に第ｎ＋２画素列Ｒｎ＋２が配置される。より正確には、図２の第２方向Ｄ２の矢印方向とは逆方向に、第ｎ画素列Ｒｎ、第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１、第ｎ＋２画素列Ｒｎ＋２が配置される。  
【００４２】
前記第１パターンＰ１は前記第１方向Ｄ１に沿って延び、前記第２方向Ｄ２に離隔して配置されることによって、前記第ｎ画素列Ｒｎ及び前記第ｎ＋２画素列Ｒｎ＋２上に配置される。前記第２パターンＰ２は互いに隣接した前記第１パターンＰ１の間に配置されて、前記第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１上に配置される。  
【００４３】
前記位相遅延層３２０の位相遅延軸は前記偏光層３１０の偏光吸収軸と所定の一定角度を有する。一例として、前記位相遅延軸が前記第１方向Ｄ１または、前記第２方向Ｄ２に延びる場合、前記偏光吸収軸は前記第１方向Ｄ１と前記第２方向Ｄ２との間の第３方向Ｄ３に延びることができる。前記位相遅延軸は前記位相遅延層３２０が前記第２偏光を円偏光させるために前記吸収軸と４５°の傾斜を成すことが望ましい。  
【００４４】
図４は図３に図示した第２パターンの拡大断面図である。  
【００４５】
図４を参照すると、前記第２パターンＰ２は光学的に異方性を有する位相遅延部３２３ａ及び前記位相遅延部３２３ａ上に配置されて等方性を有する等方性光学部３２３ｂを含むことができる。前記位相遅延部３２３ａは前記第２偏光を実質的にλ／４位相遅延させる。前記位相遅延部３２３ａは前記第１パターンＰ１の単一層の一部が前記等方性光学部３２３ｂに変更した後に残留する部分である。前記等方性光学部３２３ｂは前記位相遅延部３２３ａを通過した光を光学的に変更或いは透過させる。  
【００４６】
図５及び図６は、図３に図示した光学板を通過する光を説明するための概念図である。  
【００４７】
図５を参照すると、前記表示パネル１００の前記第ｎ画素列Ｒｎ及び前記第ｎ＋２画素列Ｒｎ＋２を通過した光は前記偏光層３１０を通過することによって、前記第２偏光になる。続いて、前記第２偏光は前記位相遅延層３２０の前記第１パターンＰ１を通過することによって、前記第２偏光が３λ／４位相遅延されて前記第１円偏光になることができる。本実施形態に係る前記第１パターンＰ１は前記第２偏光を３λ／４位相遅延させる単一層で形成される。
【００４８】
図６を参照すると、前記表示パネル１００の前記第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１を通過した光は前記偏光層３１０を通過することによって、前記第２偏光になる。前記第２偏光は前記第２パターンＰ２の前記位相遅延部３２３ａを通過することによって前記第２偏光がλ／４位相遅延されて前記第２円偏光になる。続いて、前記等方性光学部３２３ｂは前記第２円偏光に光学的に影響を与えないので前記第２円偏光は前記等方性光学部３２３ｂを通過する。  
【００４９】
図面で図示していないが、前記位相遅延層３２０は前記第２偏光を３λ／４位相遅延させる第３パターン及び前記第２偏光をλ／４位相遅延させる第４パターンを含み、前記第３及び第４パターンはチェック形態で配列することができる。前記レッド、グリーン及びブルー画素（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を一つの単位とする時、前記第３及び第４パターンの各々は少なくとも１つの単位と対応するように前記チェック形態で配列することができる。  
【００５０】
図７〜図１０は図１に図示した光学板の製造方法を説明するための断面図である。  
【００５１】
図７を参照すると、前記偏光層３１０上に第１位相遅延フィルムＰＬ１を形成する。前記第１位相遅延フィルムＰＬ１は前記偏光層３１０を通過した前記第２偏光を３λ／４位相遅延させる位相遅延フィルムである。前記第１位相遅延フィルムＰＬ１の位相遅延軸は前記偏光層３１０の偏光吸収軸と４５°の傾斜を成すように前記偏光層３１０上に形成される。  
【００５２】
図８を参照すると、前記第１位相遅延フィルムＰＬ１上で前記第１位相遅延フィルムＰＬ１の一部領域に熱Ｅを提供する。前記熱Ｅを提供する工程は、熱転写印刷機を利用することができる。前記熱転写印刷機が前記熱Ｅを提供することによって前記第１位相遅延フィルムＰＬ１の一部にのみ局部的に前記等方性光学部３２３ｂを形成することができる。  
【００５３】
前記一部領域に前記等方性光学部３２３ｂが形成されることによって、前記一部領域の隣接領域の前記第１位相遅延フィルムＰＬ１は単一層の前記第１パターンＰ１と定義されることができる。また、前記一部領域に前記等方性光学部３２３ｂが形成されることによって、前記等方性光学部３２３ｂの下部には光学的に異方性を有する部分が残留して前記第２パターンＰ２の前記位相遅延部３２３ａが形成される。  
【００５４】
図９を参照すると、前記第１位相遅延フィルムＰＬ１の前記一部領域と所定間隔離隔された領域に前記熱Ｅを提供する。これによって、前記離隔された領域に前記等方性光学部３２３ｂが形成される。前記離隔された領域の前記等方性光学部３２３ｂの下部には光学的に異方性を有する部分が残留して前記第２パターンＰ２の前記位相遅延部３２３ａが形成される。  
【００５５】
図１０を参照すると、上述のような工程を繰り返して遂行することによって、前記第１位相遅延フィルムＰＬ１に前記第１パターンＰ１及び第２パターンＰ２を含む前記位相遅延層３２０を形成することができる。これによって、前記光学板３００が完成される。  
【００５６】
図示はしていないが、前記第１位相遅延フィルムＰＬ１の複数の領域に同時に前記熱Ｅを加える熱転写印刷機を利用することによって図７及び図９で説明した工程を一つのステップとして完了することもできる。  
【００５７】
本実施形態によると、光の出射面側に互いに異なる位相遅延された光を透過させる位相遅延層を単純な工程で容易に形成することができる。これによって、前記光学板３００の生産性を向上させることができる。  
【００５８】
図１０に図示した光学板３００は、前記第１基板１１０と第２基板１２０を含む前記表示パネル１００を製造し、前記表示パネル１００の前記第１基板１１０の外側に前記偏光板２００を結合させた後に、図３に示すように前記表示パネル１００と結合することができる。これによると、前記光学板３００を利用することによって前記表示装置５００の全体的な厚さを減少させることができ、前記表示装置５００の製造工程を単純化させることができる。  
【００５９】
第２の実施形態
図１１は、本発明の第２の実施形態に係る光学板の断面図である。  
【００６０】
図１１を参照すると、本実施形態に係る光学板３０１は偏光層３１０及び前記偏光層３１０上に形成された位相遅延層３２１を含む。前記位相遅延層３２１は前記偏光層３１０を通過した偏光を位相遅延させて第１円偏光及び第２円偏光を作る。  
【００６１】
前記位相遅延層３２１は前記偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターンＰ１及び前記偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンＰ２を含む。具体的に、前記第１パターンＰ１は第１光学層３３２及び前記第１光学層３３２上に形成された第２光学層３４２を含む。前記第１光学層３３２の位相遅延軸と前記第２光学層３４２の位相遅延軸は実質的に互いに一致することができる。前記第１光学層３３２は前記偏光をλ／４位相遅延させる。前記第２光学層３４２は前記第１光学層３３２を通過した光をλ／２位相遅延させる。前記第２パターンＰ２は前記第１光学層３３２と実質的に同じ異方性光学層３３４及び前記異方性光学層３３４上に形成された等方性光学層３４２を含む。前記異方性光学層３３４は、前記偏光をλ／４位相遅延させる。前記等方性光学層３４４は、λ／４位相遅延された前記偏光を光学的に変形せずに透過させる。  
【００６２】
前記第１光学層３３２及び前記異方性光学層３３４は、前記偏光をλ／４位相遅延させる互いに実質的に同じ層である。前記等方性光学層３４４は前記第２光学層３４２と実質的に同じ層が熱によって変形されて形成される。  
【００６３】
図１２及び図１３は、図１１に図示した光学板を通過する光を説明するための概念図である。  
【００６４】
図１２を参照すると、入射光は前記偏光層３１０を通過することによって前記偏光になる。前記偏光は前記第１パターンＰ１の前記第１光学層３３２を通過することによって、λ／４位相遅延される。λ／４位相遅延された前記偏光は前記第２円偏光と実質的に同一であることもできる。続いて、前記第２円偏光が前記第１パターンＰ１の前記第２光学層３４２を通過することによって、前記第２円偏光の方向が変わって前記第１円偏光になることができる。即ち、前記偏光は前記第１光学層３３２及び第２光学層３４２を、次々と通過することによって３λ／４位相遅延板を通過したのと実質的に同じ結果で前記偏光を前記第１円偏光に作ることができる。  
【００６５】
図１３を参照すると、入射光は前記偏光層３１０を通過することによって前記偏光になる。前記偏光は前記第２パターンＰ２の前記異方性光学層３３４を通過することによって前記偏光がλ／４位相遅延されて前記第２円偏光になる。続いて、前記第２円偏光は前記等方性光学層３４４を通過する。この場合、前記等方性光学層３４４は、前記第２円偏光に光学的に影響を与えないので前記第２円偏光は前記等方性光学層３４４を通過する。  
【００６６】
図１４は図１１に図示した光学板の製造方法を説明するための断面図である。
【００６７】
図１４を参照すると、前記偏光層３１０を形成する。前記偏光層３１０を形成する段階は、図７で説明したのと実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。  
【００６８】
前記偏光層３１０上に第１光学フィルム３３０及び第２光学フィルムＰＬ２を含む第２異方性光学フィルムを形成する。前記第１光学フィルム３３０は、前記偏光層３１０を通過した前記偏光をλ／４位相遅延させる位相遅延フィルムである。前記第１光学フィルム３３０の位相遅延軸は、前記偏光層３１０の偏光吸収軸と４５°の傾斜を成すように前記偏光層３１０上に形成される。前記第２光学フィルムＰＬ２は前記第２円偏光をλ／２位相遅延させる位相遅延フィルムである。前記第２光学フィルムＰＬ２の位相遅延軸は、前記偏光層３１０の偏光吸収軸と４５°の傾斜を成すように前記偏光層３１０上に形成される。前記第２光学フィルムＰＬ２の位相遅延軸は前記第１光学フィルム３３０の位相遅延軸と実質的に同じ方向でありうる。  
【００６９】
前記第２光学フィルムＰＬ２上で前記第２光学フィルムＰＬ２の一部領域に熱Ｅを提供して、前記第２光学フィルムＰＬ２の光学的性質を変更することによって前記等方性光学層３４４を形成する。前記等方性光学層３４４の下部に配置された前記第１光学フィルム３３０が前記異方性光学層３３４と定義される。続いて、前記一部領域と所定間隔離隔された領域に前記熱Ｅを提供して前記離隔された領域の前記第２光学フィルムＰＬ２で前記等方性光学層３４４を形成する。このような工程を繰り返すことによって、図１１に図示した前記光学板３０１を製造することができる。
図示はしていないが、第２光学フィルムＰＬ２の複数の領域に同時に熱Ｅを加える熱転写印刷機を利用することによって図１４で説明した工程を一つのステップとして完了することもできる。  
【００７０】
本実施形態によると、光の出射面側に互いに異なる位相遅延された光を透過させる位相遅延層を互いに異なる２つの光学フィルムを利用して単純な工程で容易に形成することができる。これによって、前記光学板３０１の生産性を向上させることができる。また、前記光学板３０１を図１に図示した表示パネル１００と結合して表示装置を製造することができる。  
【００７１】
図１１に図示した光学板３０１は、図３に図示した表示パネル１００を製造し、前記表示パネル１００の第１基板１１０の外側に偏光板２００を結合させた後に前記表示パネル１００と結合することができる。これによると、前記光学板３０１を利用することによって表示装置５００の全体的な厚さを減少させることができ、前記表示装置５００の製造工程を単純化させることができる。
【００７２】
第３の実施形態
図１５は、本発明の第３の実施形態に係る光学板の断面図である。  
【００７３】
図１５を参照すると、本実施形態に係る光学板３０２は偏光層３１０及び前記偏光層３１０上に形成された位相遅延層３２２を含む。前記位相遅延層３２２は前記偏光層３１０を通過した偏光を位相遅延させて第１円偏光及び第２円偏光を作る。  
【００７４】
前記位相遅延層３２２は前記偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターンＰ１及び前記偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンＰ２を含む。具体的に、前記第１パターンＰ１は、第１光学層３３２及び前記第１光学層３３２上に形成された第２光学層３４２を含む。前記第１パターンＰ１は、図１１で説明した第１パターンと実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。前記第２パターンＰ２は、前記第１光学層３３２と実質的に同じ異方性光学層３３４のみを含む。図１５では、図１１の等方性光学層３４４に相当する部分に、符号番号３４４を付しているが、図１１の等方性光学層３４４は図１５では存在しない。前記異方性光学層３３４は、前記偏光をλ／４位相遅延させる。前記第１光学層３３２及び前記異方性光学層３３４は、前記偏光をλ／４位相遅延させる互いに実質的に同じ層である。  
【００７５】
前記偏光が前記第１パターンＰ１により前記第１円偏光になることは、図１２で説明したのと実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。  
【００７６】
図１６は図１５に図示した光学板を通過する光を説明するための概念図である。  
【００７７】
図１６を参照すると、入射光は前記偏光層３１０を通過することによって前記偏光になる。前記偏光は前記第１パターンＰ２を通過することによって、前記偏光がλ／４位相遅延されて前記第２円偏光になる。前記第２パターンＰ２は前記異方性光学層３３４のみを含むので、前記異方性光学層３３４を通過した前記第２円偏光は光学的に変形せずに観察者に伝えられる。  
【００７８】
図１７は図１５に図示した光学板の製造方法を説明するための断面図である。
【００７９】
図１７を参照すると、前記偏光層３１０を形成する。前記偏光層３１０を形成する段階は、図７で説明したのと実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。  
【００８０】
前記偏光層３１０上に第１光学フィルム３３０及び第２光学フィルムＰＬ２を含む第２位相遅延フィルムを形成する。前記第１光学フィルム３３０及び第２光学フィルムＰＬ２は、図１４で説明したのと実質的に同一なので、具体的な説明は省略する。  
【００８１】
前記第２光学フィルムＰＬ２上にフォトレジストパターンＰＲを形成し、前記フォトレジストパターンＰＲをマスクとして利用して前記第２光学フィルムＰＬ２をパターニングする。前記フォトレジストパターンＰＲが形成されていない領域の前記第２光学フィルムＰＬ２は除去されて離隔空間３４５を形成する。また、前記フォトレジストパターンＰＲが形成された領域の前記第２光学フィルムＰＬ２は残留して前記第２光学層３４２を形成する。  
【００８２】
本実施形態によれば、光の出射面側に互いに異なる位相遅延された光を透過させる位相遅延層を互いに異なる２つの光学フィルムを利用して単純な工程で容易に形成することができる。これに従って、前記光学板３０２の生産性を向上させることができる。また、前記光学板３０２を図１に図示した表示パネル１００と結合して表示装置を製造することができる。  
【００８３】
図１５に図示した光学板３０２は、図３に図示した表示パネル１００を製造し、前記表示パネル１００の第１基板１１０の外側に偏光板２００を結合させた後に前記表示パネル１００と結合することができる。これによれば、前記光学板３０２を利用することによって表示装置５０２の全体的な厚さを減少させることができ、前記表示装置の製造工程を単純化させることができる。  
【００８４】
第４の実施形態
以下、図１５に図示した光学板の製造方法の他の例を図１８を参照して説明する。  
【００８５】
図１８は本発明の第４の実施形態に係る光学板の製造方法を説明するための断面図である。本実施形態に係る光学板は図１５に図示した光学板と実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。
【００８６】
図１８を参照すると、偏光層３１０を形成し、前記偏光層３１０上に第１光学フィルム３３０を含む第３位相遅延フィルムを形成する。前記偏光層３１０及び前記第１光学フィルム３３０は、図７で説明したのと実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。  
【００８７】
前記第１光学フィルム３３０上に、前記第１光学フィルム３３０を通過した光をλ／２位相遅延させて互いに離隔して配置された異方性光学パターン３４６を形成する。前記異方性光学パターン３４６は外部圧力Ｐを加えて前記第１光学フィルム３３０上に付着することができる。前記異方性光学パターン３４６と前記第１光学フィルム３３０との間には接着剤が介在することができる。図１７の第１光学フィルム３３０は図１５の第１光学層３３２及び異方性光学層３３４に相当する。また、図１８の異方性光学パターン３４６は図１５の第１パターンＰ１の第２光学層３４２に相当する。図１８において、異方性光学パターン３４６が形成されていない領域は、図１５において第２パターンＰ２に相当する。
【００８８】
本実施形態によれば、光の出射面側に互いに異なる位相遅延された光を透過させる位相遅延層を、互いに異なる２つの光学フィルムを利用して単純な工程で容易に形成することができる。これによって、前記光学板３０２の生産性を向上させることができる。  
【００８９】
第５の実施形態
本実施形態に係る表示装置は図２及び図３で説明した表示装置と実質的に同一である。従って、重複する説明は省略し、本実施形態に係る表示装置は図２及び図３を参照して説明する。図２及び図３を参照すると、本実施形態に係る表示装置は第１基板１１０と第２基板１２０を含む表示パネル１００、偏光板２００、光学板３００及びバックライトアセンブリ４００を含む。  
【００９０】
図１９及び図２０は本発明の第５の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。  
【００９１】
図２及び図１９を参照すると、前記第１基板１１０と第２基板１２０を含む前記表示パネル１００を製造し、前記表示パネル１００の前記第１基板１１０の外側に前記偏光板２００を結合させる。続いて、前記第２基板１２０の外側に前記偏光層３１０を形成する。前記偏光層３１０は前記第２基板１２０をベース基板として利用して前記第２基板１２０上に形成する。  
【００９２】
前記偏光層３１０上に第１位相遅延フィルムＰＬ１を形成する。前記第１位相遅延フィルムＰＬ１は前記偏光層３１０を通過した前記第２偏光を３λ／４位相遅延させる位相遅延フィルムである。前記第１位相遅延フィルムＰＬ１の位相遅延軸は、前記偏光層３１０の偏光吸収軸と４５°の傾斜を成すように前記偏光層３１０上に形成される。  
【００９３】
前記第１位相遅延フィルムＰＬ１上で前記表示パネル１００の第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１と対応する領域に熱Ｅを提供する。前記熱Ｅを提供する工程は、熱転写印刷機を利用することができる。前記熱転写印刷機が前記第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１と対応する領域に局部的に前記熱Ｅを提供することによって前記第１位相遅延フィルムＰＬ１の一部にのみ前記等方性光学部３２３ｂを形成することができる。  
【００９４】
前記第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１と対応する領域に前記等方性光学部３２３ｂが形成されることによって、前記表示パネル１００の第ｎ画素列Ｒｎと対応する領域の前記第１位相遅延フィルムＰＬ１は単一層の前記第１パターンＰ１と定義されることができる。また、前記第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１と対応する領域に前記等方性光学部３２３ｂが形成されることによって、前記等方性光学部３２３ｂの下部には、光学的に異方性を有する部分が残留して前記第２パターンＰ２の前記位相遅延部３２３ａが形成される。  
【００９５】
図２０を参照すると、前記第１位相遅延フィルムＰＬ１上で前記表示パネル１００の第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３と対応する領域に熱Ｅを提供する。前記熱転写印刷機が前記第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３と対応する領域に局部的に前記熱Ｅを提供することによって、前記第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３と対応する領域に前記等方性光学部３２３ｂが形成される。前記第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３と対応する領域に前記等方性光学部３２３ｂが形成されることによって、前記表示パネル１００の第ｎ＋２画素列Ｒｎ＋２と対応する領域の前記第１位相遅延フィルムＰＬ１は前記第１パターンＰ１と定義されることができる。また、前記第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３と対応する領域に前記等方性光学部３２３ｂが形成されることによって、前記第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３と対応する領域の前記等方性光学部３２３ｂの下部には光学的に異方性を有する部分が残留して前記第２パターンＰ２の前記位相遅延部３２３ａが形成される。  
【００９６】
上述のような工程を通じて、前記第１位相遅延フィルムＰＬ１で前記位相遅延層３２０を形成することができる。これによって、前記第２基板１２０上に前記光学板３００を形成することができる。図示はしていないが、前記第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１及び第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３に同時に前記熱Ｅを加える熱転写印刷機を利用することによって図１９及び図２０で説明した工程を一つのステップで完了することもできる。  
【００９７】
本実施形態によれば、前記偏光層３１０と一体型の前記位相遅延層３２０を含む前記光学板３００を前記表示パネル１００上に直接的に形成することによって、前記表示パネル１００と前記光学板３００のアライン信頼性を向上させることができる。また、前記光学板３００は前記第１位相遅延フィルムＰＬ１を前記熱転写印刷機を利用してパターニングして単純な工程で容易に形成することができる。また、前記光学板３００を利用することによって前記表示装置５００の全体的な厚さを減少させることができ、前記表示装置５００の製造工程を単純化させることができる。  
【００９８】
第６の実施形態
図２１は本発明の第６の実施形態に係る表示装置を説明するための断面図である。  
【００９９】
図２１を参照すると、本実施形態に係る表示装置５０１は第１基板１１０と第２基板１２０を含む表示パネル１００、偏光板２００、光学板３０１及びバックライトアセンブリ４００を含む。図２１に図示した表示装置５０１は前記光学板３０１を除いては図２及び図３に図示した表示装置５００と実質的に同一である。また、前記光学板３０１は前記第２基板１２０上に直接的に形成されたことを除いては図１１に図示した光学板と実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。  
【０１００】
前記光学板３０１は前記表示パネル１００の第２基板１２０上に形成された偏光層３１０及び前記偏光層３１０上に形成された位相遅延層３２１を含む。前記位相遅延層３２１は前記第２偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターンＰ１及び前記第２偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンＰ２を含む。前記第１パターンＰ１は、前記表示パネルの第ｎ画素列Ｒｎ及び第ｎ＋２画素列Ｒｎ＋２上に形成され、前記第２パターンＰ２は前記表示パネルの第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１及び第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３上に形成される。  
【０１０１】
図２２は図２１に図示した表示装置の製造方法を説明するための断面図である。  
【０１０２】
図２２を参照すると、前記第１基板１１０と第２基板１２０を含む前記表示パネル１００を製造し、前記表示パネル１００の前記第１基板１１０の外側に前記偏光板２００を結合させる。続いて、前記第２基板１２０の外側に前記偏光層３１０を形成する。前記偏光層３１０は前記第２基板１２０をベース基板として利用して前記第２基板１２０上に形成される。  
【０１０３】
前記偏光層３１０上に第１光学フィルム３３０及び第２光学フィルムＰＬ２を含む第２異方性光学フィルムを形成する。前記第２異方性光学フィルムは図１４で説明したのと実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。
【０１０４】
前記第２光学フィルムＰＬ２上で前記表示パネル１００の第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１と対応する領域に熱Ｅを提供する。これによって、前記第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１と対応する領域に前記等方性光学層３４４が形成される。前記第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１と対応する領域に、前記等方性光学層３４４が形成されることによって、第ｎ画素列Ｒｎと対応する領域の前記第２光学フィルムＰＬ２は前記第１パターンＰ１の前記第２光学層３４２と定義されることができる。続いて、第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３と対応する領域に前記熱Ｅを提供する。上述のような工程を通じて、前記第１光学フィルム３３０及び第２光学フィルムＰＬ２で前記位相遅延層３２１を形成することができる。これによって、前記第２基板１２０上に前記光学板３０１を形成することができる。  
【０１０５】
本実施形態によれば、前記偏光層３１０と一体型の前記位相遅延層３２１を含む前記光学板３０１を前記表示パネル１００上に直接的に形成することによって、前記表示パネル１００と前記光学板３０１のアライン信頼性を向上させることができる。また、前記光学板３０１は単純な工程で容易に形成することができる。また、前記光学板３０１を利用することによって前記表示装置５０１の全体的な厚さを減少させることができ、前記表示装置５０１の製造工程を単純化させることができる。  
【０１０６】
第７の実施形態
図２３は、本発明の第７の実施形態に係る表示装置を説明するための断面図である。  
【０１０７】
図２３を参照すると、本実施形態に係る表示装置５０２は第１基板１１０と第２基板１２０を含む表示パネル１００、偏光板２００、光学板３０２及びバックライトアセンブリ４００を含む。図２３に図示した表示装置５０２は前記光学板３０２を除いては図２１に図示した表示装置５０１と実質的に同一である。また、前記光学板３０２は前記第２基板１２０上に直接的に形成されたことを除いては図１５に図示した光学板と実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。  
【０１０８】
図２４は図２３に図示した表示装置の製造方法を説明するための断面図である。  
【０１０９】
図２４を参照すると、前記第１基板１１０と第２基板１２０を含む前記表示パネル１００を製造し、前記表示パネル１００の前記第１基板１１０の外側に前記偏光板２００を結合させる。続いて、前記第２基板１２０の外側に前記偏光層３１０を形成する。前記偏光層３１０は前記第２基板１２０をベース基板として利用して前記第２基板１２０上に形成される。  
【０１１０】
前記偏光層３１０上に第１光学フィルム３３０及び第２光学フィルムＰＬ２を含む第２位相遅延フィルムを形成する。前記第２異方性光学フィルムは図１４で説明したのと実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。  
【０１１１】
前記第２光学フィルムＰＬ２上にフォトレジストパターンＰＲを形成し、前記フォトレジストパターンＰＲをマスクとして利用して前記第２光学フィルムＰＬ２をパターニングする。前記表示パネル１００の第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１及び第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３と対応する領域の前記第２光学フィルムＰＬ２は除去され、第ｎ画素列Ｒｎ及び第ｎ＋２画素列Ｒｎ＋２と対応する領域の前記第２光学フィルムＰＬ２が残留して前記第１パターンＰ１の前記第２光学層３４２を形成する。  
【０１１２】
本実施形態によれば、前記表示パネル１００と前記光学板３０２のアライン信頼性を向上させることができる。また、前記光学板３０２は単純な工程で容易に形成することができる。また、前記光学板３０２を利用することによって前記表示装置５０２の全体的な厚さを減少させることができ、前記表示装置５０２の製造工程を単純化させることができる。
【０１１３】
第８の実施形態
以下では、図２５を参照して図２４で説明したのと他の方法で図２３に図示した表示装置の製造方法を説明する。  
【０１１４】
図２５は本発明の第８の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。本実施形態に係る表示装置は図２３に図示した表示装置と実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。
【０１１５】
図２５を参照すると、第１基板１１０と第２基板１２０を含む表示パネル１００を製造し、前記表示パネル１００の前記第１基板１１０の外側に偏光板２００を結合させる。続いて、前記第２基板１２０の外側に偏光層３１０を形成する。前記偏光層３１０は前記第２基板１２０をベース基板として利用して前記第２基板１２０上に形成する。前記偏光層３１０上に第１光学フィルム３３０を含む第３位相遅延フィルムを形成する。前記第１光学フィルム３３０は図１４で説明したのと実質的に同一であるので、重複する説明は省略する。  
【０１１６】
前記第１光学フィルム３３０上に前記第１光学フィルム３３０を通過した光をλ／２位相遅延させ、互いに離隔して配置された異方性光学パターン３４６を形成する。前記異方性光学パターン３４６は前記表示パネル１００の第ｎ画素列Ｒｎ及び第ｎ＋２画素列Ｒｎ＋２と対応する領域にのみ形成する。前記表示パネル１００の第ｎ＋１画素列Ｒｎ＋１及び第ｎ＋３画素列Ｒｎ＋３と対応する領域の前記第１光学フィルム３３０は前記異方性光学パターン３４６は形成されておらず、露出されている。前記異方性光学パターン３４６は外部圧力Ｐを加えて前記第１光学フィルム３３０上に付着することができる。前記異方性光学パターン３４６と前記第１光学フィルム３３０との間には接着剤が介在することができる。
【０１１７】
従来、光学板は一般的にベース基板またはベースフィルム上に領域別に異なる方向性を有する配向膜及び前記配向膜上に配置された液晶を含んで形成されているため、コーティング工程、露光工程、配向工程などの複数の工程を遂行することで形成されており、製造工程時間及び／または製造費用を上昇させる要因となっていた。本発明によれば、光学板の構成が上記実施形態に示す通り、従来のような領域別に異なる方向性を有する配向膜及び前記配向膜上に配置された液晶を含んで形成されているわけではないため、上記実施形態のような簡便な製造工程で光学板を形成することができる。よって、製造工程時間及び／または製造費用を減らすことができる。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特徴請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
本発明に係る光学板及びその製造方法と表示装置及びその製造方法は、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）のみならず、携帯型ディスプレイ機器、プラズマ表示パネル（ｐｌａｓｍａ  ｄｉｓｐｌａy  ｐａｎｅｌ；ＰＤＰ）、平板型表示装置、３Ｄゲーム画像装置、放送用３Ｄテレビ、軍事用３Ｄディスプレイ、シミュレーション訓練用３Ｄディスプレイ及び医療用３Ｄディスプレイなどに多様に適用することができる
【符号の説明】
【０１１９】
５００、５０１、５０２    表示装置
１００                    表示パネル
２００                    偏光板
３００、３０１、３０２    光学板
４００                    バックライトアセンブリ
６００                    偏光メガネ
６１０、６２０            第１、第２メガネ部
３１０                    偏光層
３２０、３２１、３２２    位相遅延層
Ｐ１、Ｐ２                第１、第２パターン
３２３ａ                  位相遅延部
３２３ｂ                  等方性光学部
３３２                    第１光学層
３４２                    第２光学層
３３４                    異方性光学層
３４４                    等方性光学層
Ｒｎ、Ｒｎ＋１、Ｒｎ＋２、Ｒｎ＋３            
第ｎ、第ｎ＋１、第ｎ＋２、第ｎ＋３画素列
Ｅ                        熱
Ｐ                        圧力
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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