(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平に保持し鉛直軸回りに回転させる基板保持部と、
基板に処理液を供給する処理液供給部と、
基板の周囲を囲う外カップと
基板の裏面側に設けられ、基板の裏面に対してその先端が突出するように設けられた突出部を有する第１の内カップ構成部材と、
前記第１の内カップ構成部材の外周側に前記第１の内カップ構成部材と別体で形成され、基板の下部周縁部からその外側へ下向きに傾斜する傾斜面を有する第２の内カップ構成部材と
前記基板保持部の下方に基台をさらにそなえ、前記第１の内カップ構成部材および前記第２の内カップ構成部材は前記基台にそれぞれ着脱可能に取り付けられる液処理装置。
【請求項２】
基板を水平に保持し鉛直軸回りに回転させる基板保持部と、
基板に処理液を供給する処理液供給部と、
基板の周囲を囲う外カップと
基板の裏面側に設けられ、基板の裏面に対してその先端が突出するように設けられた突出部を有する第１の内カップ構成部材と、
前記第１の内カップ構成部材の外周側に前記第１の内カップ構成部材と別体で形成され、基板の下部周縁部からその外側へ下向きに傾斜する傾斜面を有する第２の内カップ構成部材と
をそなえ、
前記第１の内カップ構成部材と前記第２の内カップ構成部材は基板の径方向に離間して配置され、前記第１の内カップ構成部材の外周面と前記第２の内カップ構成部材の内周面とで処理液の排液経路を形成する液処理装置。
【請求項３】
前記突出部は、外周方向へ下向きに傾斜する傾斜面を有する請求項１又は２のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記排液経路の下方に排液口を有する請求項２に記載の液処理装置。
【請求項５】
前記第１の内カップ構成部材は内部に中空部が形成される請求項１ないし４のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記第１の内カップ構成部材に、基板の裏面に処理液を供給する裏面洗浄液供給部が取り付けられている請求項１ないし５のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記第１の内カップ構成部材の高さを調整する第１の高さ調整機構をそなえる請求項１ないし６のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項８】
前記第２の内カップ構成部材の高さを調整する第２の高さ調整機構をそなえる請求項１ないし７のいずれか一項に記載の液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ等の基板に対して当該基板を回転させながら処理液を供給して所定の液処理を施す液処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造において用いられるフォトリソグラフィープロセスにおいては、主として、半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という）上にレジスト液を塗布しレジスト膜を形成するレジスト塗布工程、レジスト膜を所定のパターンに露光する露光工程、露光されたレジスト膜を現像する現像工程が行われ、ウエハ上に所定のレジストパターンが形成される。
【０００３】
レジスト塗布工程や現像工程では、回転しているウエハ表面の中心部にノズルから処理液としてのレジスト液や現像液などを供給し、その処理液を遠心力により半径方向外側に拡散させることによってウエハの表面全体を処理液で覆う、いわゆるスピン処理法が多く用いられている。
【０００４】
スピン処理法を用いる液処理装置は、たとえば特許文献１に開示されているように、ウエハを保持して回転させるスピンチャックとウエハの周囲を囲う外カップと、外カップと協働して排気および排液経路を規定する内カップとをそなえている。内カップは液処理時の回転により生じた気流やウエハから振り切られた処理液を排液口や排気口に誘導するためにウエハの周縁部下方から外側に向けて傾斜する傾斜部を有している。
【０００５】
また、このような液処理装置においては、回転する際にウエハの表面または裏面で気流が発生し、排気手段によりカップ外へ排出するようになっている。この排気手段の排気量を小さくするために、内カップにはウエハの裏面側の排気量を小さく制限するための突出部が形成されている。
【０００６】
また、現像工程などに用いる液処理装置においてウエハを停止または低回転で回転させて基板上に処理液の液膜を形成して処理する場合には、ウエハＷ表面の処理液が基板の端部から基板の裏面に回り込みが発生する場合がある。そのため、現像装置などの液処理装置においては突出部にウエハの裏面への周り込みを防止の機能を付加している場合もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−８１９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来の内カップは、たとえばチャックの下方にそなえられたチャックベースに固定されており、傾斜部などに付着液滴や固着物の除去のための定期クリーニングの際などには、一旦取り外した後に再度取り付ける必要があるが、内カップが大型であるため内カップを精度よく水平に取り付けるのは熟練度を要し、大きな作業時間を要していた。
【０００９】
また、内カップの各部の形状、すなわち突出部の形状や傾斜部の角度・寸法も処理プロセスによって最適な条件は異なるため、これらの形状を自由に設定することができる内カップ構造が望まれていた。
【００１０】
本発明は、このような事情の下になされたものであり、取り外し、取り付けが容易で形状等の設定の自由度が高い内カップ構造を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明の液処理装置は、基板を水平に保持し鉛直軸回りに回転させる基板保持部と、基板に処理液を供給する処理液供給部と、基板の周囲を囲う外カップと、基板の裏面側に設けられ、その先端が上方に突出する突出部を有する第１の内カップ構成部材と、前記第１の内カップ構成部材の外周側にと前記第１の内カップ構成部材と別体で形成され、基板の下部周縁部からその外側へ下向きに傾斜する傾斜面を有する第２の内カップ構成部材とをそなえることを特徴とする（請求項１）。
【００１２】
また、上記液処理装置は以下のように構成しても良い。
・前記基板保持部の下方に基台をさらにそなえ、前記第１の内カップ構成部材および前記第２の内カップ構成部材は前記基台にそれぞれ着脱可能に取り付けられる（請求項１）。
・前記第１の内カップ構成部材と前記第２の内カップ構成部材は基板の径方向に離間して配置され、前記第１の内カップ構成部材の外周面と前記第２の内カップ構成部材の内周面とで処理液の排液経路を形成する（請求項２）。
・前記突出部は外周方向へ下向きに傾斜する傾斜面を有する（請求項３）。
・排液経路の下方に排液口を形成する（請求項４）
・前記第１の内カップ構成部材は内部に中空部が形成される（請求項５）
・前記第１の内カップ構成部材に、基板の裏面に処理液を供給する裏面洗浄液供給部が取り付けられる（請求項６）
・前記第１の内カップ構成部材の高さを調整する第１の高さ調整機構をそなえる（請求項７）
・前記第２の内カップ構成部材の高さを調整する第２の高さ調整機構をそなえる（請求項８）
【発明の効果】
【００１３】
本発明の液処理装置によれば、内カップ構造を、突出部を有する第１の内カップ構成部材と、第１の内カップ構成部材とは別体で形成されて傾斜部を有する第２の内カップ構成部材とで構成したため、第１の内カップ構成部材、第２の内カップ構成部材のいずれかまたは双方を交換する際にも短時間で精度の高い取り付けが容易となる。また、内カップ構造を第１の内カップ構成部材と第２の内カップ構成部材とに分離したことにより、内カップ構造の形状の自由度を高めることが可能となる（請求項１）。
【００１４】
また、本発明の液処理装置においては、第１の内カップ構成部材と第２の内カップ構成部材の間を置換して配置し、その間隙を排液経路とすることにより第１の内カップ構成部材の突出部で捕集した処理液を確実に排液することができる（請求項２）。
【００１５】
さらに、突出部が外周方向へ下向きに傾斜する傾斜面を有するため突出部で捕集した処理液をすみやかに下方向へ流すとともに、周辺への処理液の跳ね返りを低減させることができる（請求項３）。
【００１６】
さらに、第１の内カップ構成部材と第２の内カップ構成部材とにより形成された排液経路の下方に排液口を形成することにより、突出部が捕集した処理液をすみやかに排出することができる（請求項４）。
【００１７】
そして、第１の内カップ構成部材に中空部を形成し、この中空部内に配管等の液処理装置の構成物を収納してスペースを低減することができる（請求項５）
【００１８】
また、裏面洗浄液供給部を第１の内カップ構成部材に設けたため、スペースの低減を計ることができるとともに、第２の内カップ構成部材をメンテナンス等で取り外した場合も、裏面洗浄液供給部の取り外しや再調整が不要となる（請求項６）
【００１９】
第１の内カップ構成部材、第２の内カップ構成部材を互いに独立に高さ調整が可能となるため、種々の処理条件に容易に対応することができる（請求項７，８）
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる液処理装置の平面図である。
【図２】本発明の第１実施形態にかかる液処理装置の断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態にかかる液処理装置の詳細を説明するための拡大図である。
【図４】本発明の第２実施形態にかかる液処理装置の断面図である。
【図５】本発明の第２実施形態にかかる液処理装置のカップ洗浄機構の動作を説明するための図である。
【図６】本発明の第２実施形態にかかる液処理装置の詳細を説明するための拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
＜第１実施形態＞ 
図１〜図３を参照して本発明に係る液処理装置を現像処理装置に適用した第１の実施形態について説明する。図１〜図３に示すように現像処理装置１は、真空吸着することによりウエハＷを水平に保持する基板保持部としてのスピンチャック２を備えている。このスピンチャック２は下方より接続された回転駆動部３により鉛直軸回りに回転することが可能である。前記スピンチャック２を取り囲むように処理カップ４が設けられ、処理カップ４は外カップ５と内カップ６とから構成される。また、ウエハＷの上方にウエハＷに対して処理液としての現像液、リンス液を供給する処理液供給部としての現像液供給ノズル７ａ、リンス液供給ノズル７ｂをそなえている。
【００２２】
内カップ６は、スピンチャック２に保持されたウエハＷの下方に設けられ、第１の内カップ構成部材３０と第１の内カップ構成部材３０の外周部に設けられた第２の内カップ構成部材４０とで構成される。
【００２３】
第１の内カップ構成部材３０は、円環状のベース体３５の上部にウエハＷの裏面側周縁部と近接して対向する位置のウエハＷ裏面に向けて上方に突出して設けられた円環状の突出部３１を有している。本実施形態においてこの突出部３１は、ウエハＷが回転する際にウエハＷの裏面側に生じる気流がウエハＷの外方に流出することを制限することによってウエハＷの裏面側の排気量を低減させるための機能と、処理液ノズル７（現像液供給ノズル７ａ、リンス液供給ノズル７ｂ）からウエハWの表面に供給された処理液としての現像液、リンス液がウエハＷの裏面に回り込んでウエハＷ裏面の中心領域例えばスピンチャック２の近傍領域に侵入するのを防止する機能の双方を有している。
【００２４】
第１の内カップ構成部材３０は、ウエハＷの端部から中心方向に20〜50mm内側に入った位置となるように基台としてのチャックベース１１に例えば螺子などの係合機構で着脱可能に取り付けられており、第１の内カップ構成部材３０の突出部３１の先端は水平方向でウエハＷの端部から0〜30mm、垂直方向で１mm以下になるように構成されている。突出部３１をウエハＷの裏面に対して近接させることにより、ウエハＷの裏面側の気流の流出経路を狭く制限し回転に伴い生じる気流の処理カップ４への排出量を低減させると共に、ウエハＷの表面側から裏面に回りこんできた処理液の液膜を堰き止めることができるようになっている。
【００２５】
第２の内カップ構成部材４０は、第１の内カップ構成部材３０の外周部に位置するようにチャックベース１１に着脱自在に螺子などの係合機構により取り付けられ、ウエハＷの裏面側周縁部と近接して対向する位置から外側下方へ傾斜した環状の傾斜壁４１と、この傾斜壁４１の下縁に連続し、下方へ伸びた環状の垂直壁４２とを有し、ウエハＷからこぼれ落ちた処理液を液受け部５１に誘導するようになっている。これら第１および第２の内カップ構成部材３０、４０はチャックベース１１に図示しない高さ調整機構を介して取り付けられるようになっており、第１および第２の内カップ構成部材３０、４０はチャックベース１１（ウエハＷ）に対してそれぞれ独立に垂直方向の取り付け高さを調整できるようになっている。
【００２６】
そして、第１の内カップ構成部材３０は、それぞれその内周面と外周面とを形成する円環状で垂直である内周壁３２および外周壁３３をそなえるベース体３５と、ベース体３５の上方に設けられた突出部３１とを有し、ベース体３５の内周壁３２と外周壁３３との間には中空部３６が形成されている。
【００２７】
また、突出部３１の頂部３１ａから内側方向に向けて下降する内側傾斜壁３１ｂ、外側方向に向けて傾斜する外側傾斜壁３１ｃをそなえ、この内側傾斜壁３１ｂの下端部からベース体３５の内周面を形成する内周壁３２に連続し、外側傾斜壁３１ｃとベース体３５の外周面を形成する外周壁３３と連続するように形成されている。
【００２８】
一方、第２の内カップ構成部材４０の内周側は傾斜壁４１の上端から鉛直下向きに下降する垂直壁（内周壁）４３を有し、第１の内カップ構成部材３０の外周壁３３と第２の内カップ構成部材４０の垂直壁４３は所定の間隙（例えば、数ミリ）を有するように構成されている。その結果、第１の内カップ構成部材３０の外側傾斜壁３１ｃ、外周壁３３および第２の内カップ構成部材４０の内周壁４３によって規定される円環状（円溝状）の空間は処理液の排出経路６０として機能するようになっている。なお、第１の内カップ構成部材３０の突出部３１の外周側が外側傾斜壁３１ｃのように傾斜しているため、ウエハＷの裏面に回り込んできた処理液は突出部３１により堰き止められた後、外側傾斜壁３１ｃを伝って下側の排出経路６０に流れやすくなっており、また、第１の内カップ構成部材３０の外周側の部材、例えば第２の内カップ構成部材４０等への処理液の跳ね返りが小さくなるようになっている。また、突出部３１の内周側についても内側傾斜壁３１ｂのように傾斜して構成しているため、仮にウエハＷの裏面に回り込んで来た処理液の一部が突出部３１を乗り越えて内側に侵入した際にも内側傾斜壁３１ｂを伝って下方に流れるようになっているため、ウエハＷの突出部３１より内側の領域や、スピンチャック２等に処理液が付着することがない。
【００２９】
また、上記の第１の内カップ構成部材３０と第２の内カップ構成部材４０とにより規定される円環状の空間すなわち、排出経路６０の下方には排出口６１が形成され、ウエハＷの裏面側に周り込み第１の内カップ構成部材３０の突出部３１で堰き止められた処理液は排出経路６０を介して排出口６１から排出管６２へ排出されるようになっている。この排出口６１は一つではなく複数であってもよく、排出経路６０の下方位置に同心円状に配置するようにしても良い。さらに、一つの排液口６１または複数の排液口６１を同心円に連通させる図示しない溝を設けるようにしても良い。また、突出部３１より内側のチャックベース１１の表面に上記の溝や排出口６１に連通する溝を設けても良い。
【００３０】
また、チャックベース１１にはウエハＷの裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄液供給機構としての裏面洗浄液供給ノズル８０を有しており、ウエハＷの裏面にリンス液などを供給するようになっている。この裏面洗浄液供給ノズル８０は、第１の内カップ構成部材３０より内周位置に裏面洗浄液（バックリンス）液を供給するようになっているが、バックリンスを供給する際にはウエハＷの回転数を高くするようになっているため、裏面洗浄液供給ノズル８０により供給されるウエハＷの裏面の液膜は十分薄く、第１の内カップ構成部材３０の突出部３１とウエハＷの裏面の間を通過できるようになっている。換言すれば、第１の内カップ構成部材３０の突出部３１とウエハＷの裏面との間のギャップは、０〜２００ｒｐｍの停止または低回転時にウエハＷの表面から回りこんでくる処理液の液膜の厚さより小さく、例えば１０００ｒｐｍ以上の高回転で回転させながらバックリンス液を供給した際にウエハＷの裏面に形成されるバックリンス液膜の厚さより大きくなるように形成されている。
【００３１】
また、裏面洗浄液供給ノズル８０は配管８１で裏面洗浄液供給源８２と接続されており、この配管８１は第１の内カップ構成部材３０の内周壁３２に設けられた一つまたは複数の開口３４を介して第１の内カップ構成部材３０の内部に形成された中空部３６の内部に収納され、中空部３６の下方か裏面洗浄液供給源８２と接続されるようになっている。そのため、チャックベース１１上の配管を整然と配置することが可能となる。また、内カップ６を第１の内カップ構成部材３０と第２の内カップ構成部材４０とに分離して別体で構成するとともに、第２の内カップ構成部材４０と比して交換頻度が低い第１の内カップ構成部材３０に形成された中空部３６に例えばバックリンス液の配管８１などの機構を設けることによって、第２の内カップ構成部材４０を定期メンテンナンス等で交換する場合においても第１の内カップ構成部材３０は固定し、その中空部３６に収容される部材等についても動かす必要が無い。
【００３２】
続いて現像処理装置１に設けられた制御部１００について説明する。制御部１００は、例えばコンピュータからなり、メモリ、ＣＰＵからなるデータ処理部の他に、現像処理を行うためのプログラムなどを備えている。このプログラムには、搬入されたウエハＷをスピンチャック２で保持し、現像処理を行った後、洗浄処理と乾燥処理とを行い、その後ウエハＷを現像処理装置１から搬出するまでのウエハＷの搬送スケジュールや一連の各部の動作を制御するようにステップ群が組まれている。これらのプログラム（処理パラメータの入力操作や表示に関するプログラムも含む）は、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスクまたはメモリーカードなどの記憶媒体に格納されて制御部１００にインストールされる。
【００３３】
次に液処理装置としての現像処理装置１で行われる現像工程の一連の流れについて説明する。レジスト膜が形成され、露光されたウエハＷが図示しない搬送手段と昇降ピンによりスピンチャック２上に搬送され、スピンチャック２により水平に吸着保持される。
【００３４】
続いて、現像ノズル７ａが待機領域からウエハＷ上に移動し、現像液を吐出しながらウエハＷの径方向に沿って移動する。ウエハＷの表面全体に現像液が液盛りされると、現像ノズル７ａは待機領域へ戻り、洗浄ノズル７ｂが待機領域からウエハＷの中心部上に移動する。この際ウエハＷの表面に供給された処理液は、ウエハＷ表側に液盛されつつ、その一部はウエハＷの裏面に回り込むが、この回りこんだ処理液は第１の内カップ構成部材３０の突出部３１に接触することで堰きとめられ、第１の内カップ構成部材３０と第２の内カップ構成部材４０の間に形成された排出経路６０を経由して排出口６１から排出される。
【００３５】
続いて、スピンチャック２が例えば５００ｒｐｍで回転すると共に洗浄ノズル７ｂからウエハＷの中心に向けて処理液としての純水が吐出される。吐出された純水は、遠心力によってウエハＷの中心から周縁部へ向けて広がるように流れ、ウエハＷの表面に行き渡り、現像液が洗い流される。この際には、ウエハＷの裏面には中心部から外側に向けての気流が生じ、一部は突出部３１とウエハＷ裏面の間を抜けて排出されるが、一部は第１の内カップ構成部材３０の突出部３１によって内側へ還流され、その結果ウエハＷの裏面で生じる気流の排出を低減させる。然る後、リンスの供給が停止し、ウエハＷが高速、例えば２０００ｒｐｍで回転し、ウエハＷに残存している洗浄液を振り切り、ウエハＷを乾燥させ、洗浄ノズル７ｂが待機領域に戻り、処理が終了する。
【００３６】
この現像処理装置１によれば、内カップ６を、ウエハＷの裏面に対してその先端が近接するように設けられた突出部３１を有する第１の内カップ構成部材３０と、第１の内カップ構成部材３０の外周側に配置されウエハＷからこぼれ落ちた処理液を下方に案内するための傾斜壁４１を有する第２の内カップ構成部材４０とに分割して構成することにより、ウエハＷから振り切られた処理液を適切に下方に流し、処理液または処理液のミストが突出部３１より内側に入り込むことを確実に防止しつつ、定期保守や不具合の際には必要に応じて第１の内カップ構成部材３０または第２の内カップ構成部材４０のいずれかのみを交換することができ、保守交換作業を簡易的に行なうことができる。また、第１の内カップ構成部材３０と第２の内カップ構成部材４０とを別体で形成したことにより、第１の内カップ構成部材３０の形状や、第２の内カップ構成部材４０の傾斜壁４１、垂直壁４２の形状や寸法を処理条件に応じて適宜に組合せて使用することが可能になる。
【００３７】
＜第２の実施形態＞
次に、本発明に係る液処理装置をウエハＷにレジスト液等の塗布装置に適応した第２実施形態について、図４〜６を参照して説明する。塗布装置１０１は、第１の実施形態と同様に、真空吸着することによりウエハＷを水平に保持する保持機構としてのスピンチャック１０２を備えている。このスピンチャック１０２は下方より接続された回転駆動部１０３により昇降可能であり、鉛直軸回りに回転することが可能である。前記スピンチャック１０２を取り囲むようにした処理カップ１０４、ウエハＷに塗布液を塗布する処理液供給ノズルとしての塗布ノズル１０７が設けられているが、第１の実施懈形態と同様であるので説明を省略する。
【００３８】
第２の実施形態において、処理カップ１０４を構成する外カップ１０５、内カップ１０６は第１の実施形態と同様に第１の内カップ構成部材１３０と、第２の内カップ構成部材１４０とで構成されている。第２の内カップ構成部材１４０は、第１の実施形態と同様に塗布ノズル１０７から供給された処理液としてのレジスト液やシンナーがウエハＷの回転に伴い、ウエハＷの端部からこぼれ落ちた処理液を液受け部１５１に誘導するようになっている。
【００３９】
第１の内カップ構成部材１３０は、ベース体１３５とベース体上部に突出部１３１が設けられている。ベース体１３５は突出部１３１の外周面を形成する円環状の外周壁１３１ｂと内周面を形成する円環状の内周壁１３１ｃと、外周壁１３１ｂの上端部と内周壁１３１ｃの上端部を接続する上部壁１３１ａを有し、突出部１３１はベース体１３５の最外周側に設けられている。ベース体１３５の内周側上部には突出部１３１は形成されておらず、第１の内カップ構成部材１３０はその内周側上部が切り欠かれている。この切り欠かれることにより生じたベース体１３５の内側上方部の空間は、後述するカップ洗浄部材１９０が待機する際の収納空間の一部として機能する。
【００４０】
チャックベース１０２にはウエハＷの裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄液供給部としてのバックリンス供給機構１８０を有しており、ウエハＷの裏面に溶剤等の洗浄液を供給し、ウエハＷの裏面を洗浄するようになっている。また、カップ洗浄部材１９０は、ウエハＷに対してプロセス処理していない際に処理カップ１０４を洗浄するためのものであり、カップ洗浄部材１９０の待機時（不使用時）にはスピンチャック１０２の下方で第１の内カップ構成部材１３０の内側の空間に待機するように構成されている。そのため、カップ洗浄部材１９０は、その中心にスピンチャック１０２が通過できるような孔を有するとともに、カップ洗浄部材１９０を垂直方向に昇降可能な図示しない昇降機構を有している。
【００４１】
洗浄カップ１０４を洗浄する際には、図５に示すように、カップ洗浄部材１９０はスピンチャック１０２より上方の処理位置に上昇し、この状態でバックリンス液供給ノズル１８０からチャック洗浄部材１９０の裏面周縁部に向けて洗浄液を供給する。カップ洗浄部材１９０の裏面に供給された洗浄液は反射され外カップ１０５および内カップ１０６に供給され、その結果、外カップ１０５および内カップ１０６を洗浄することができる。なお、カップ洗浄部材１９０の裏面周縁部の内周側には図示しない円環状の開口や同心円状に配置された複数の開口が形成されており、図４に示すプロセス処理時すなわちカップ洗浄部材１９０が待機位置に位置する際には、バックリンス液供給ノズル１８０から供給された処理液がウエハＷの裏面の到達するようになっている。
【００４２】
また、図６を用いて第２の実施形態にかかる塗布装置１０１の第１の内カップ構成部材１３０の詳細について説明する。図６に示すように第１の内カップ構成部材１３０には、ウエハＷの裏面のベベル部に対して洗浄液を供給する裏面洗浄液供給部としてのベベル洗浄液供給ノズル１７０が設けられている。第１の内カップ構成部材１３０内に突出部１３１の上方からベース体１３５に垂直方向に円柱状の中空部が一つまたは複数形成され、この中空部にベベル洗浄液供給機構としてのベベル洗浄ノズル１７０が配置されている。このベベル洗浄ノズル１７０にはその上部先端に吐出口を有するとともに、洗浄液の供給源１７２、洗浄液供給管１７１に接続されている。なお、本実施形態において、ベベル洗浄供給ノズル１７１は第１の内カップ構成部材１３０内の中空部（間隙）に収容したが、第１の内カップ構成部材１３０の上などに載置するようにしても構わない。
【００４３】
次に、第２の実施形態に係る液処理装置を適用した塗布装置１０１の動作について説明する。
【００４４】
まず、ウエハＷをスピンチャック１０２によって水平に保持した状態で、塗布ノズル１０７からレジストを滴下すると共に、スピンチャック１０２を用いて回転しているウエハＷの表面にレジストを塗布するレジスト塗布後、回転数を上昇させてウエハＷに塗布されたレジストをウエハＷの外周方向に拡げる。この際、ウエハＷ上から振り切られてウエハＷ上から余剰レジストが第２の内カップ構成部材１４０の傾斜壁１４１および垂直壁１４２により液受け部１５１に案内される。
【００４５】
その後、ウエハＷに塗布されたレジストが乾燥する前に、ベベル洗浄ノズル１７１から洗浄液をウエハＷの側端下部面や側端面や周縁端部から例えば2〜5mm内方に供給して、ベベル部に付着するレジストを除去する（ベベル洗浄工程）。ウエハＷのベベル部のレジストを除去した後に、ベベル洗浄ノズル１７０からの洗浄液の供給を停止し、ベベルリンス時と同じ回転数（例えば、２０００ｒｐｍ）でスピンチャック１０２を回転して一次乾燥を行う。一次乾燥を所定時間行った後、スピンチャック１０２を低速回転（例えば、１０００ｒｐｍ）にして、裏面洗浄ノズル１８０から洗浄液を、ウエハＷの裏面に供給して裏面に付着するレジストを除去する（裏面洗浄工程）。裏面に付着するレジストを除去するバックリンスを所定時間行った後、裏面洗浄ノズル１８０からの洗浄液の供給を停止し、その後、スピンチャック１０２を高速回転（例えば、２０００ｒｐｍ）してウエハＷ上に付着する洗浄液を振り切り乾燥（二次乾燥工程）して、レジスト塗布を終了する。
【００４６】
上記の各処理中、ウエハＷは各工程中所望の回転数で回転しているため、ウエハＷの裏面側には気流が発生し、その気流の一部は第１の内カップ構成部材１３０の突出部１３１とウエハＷの裏面の間を通り排気されるが、残りの気流は第１の内カップ構成部材１３０の突出部１３１により内側に還流され、その結果、ウエハＷの裏面からの気流が低減される。
【００４７】
以上、いくつかの実施形態を参照しながら本発明を説明したが、本発明は前記の実施形態に限定されることなく、添付の特許請求の範囲に含まれる事項の範囲で種々の変形が可能である。
【００４８】
例えば、上述の各実施形態においては、第１の内カップ構成部材の形状が異なる場合について説明したが、第２の内カップ構成部材の形状が異なる場合にも有効である。例えば、排気口からの距離に応じて、第２の内カップ構成部材の傾斜壁、垂直壁の長さまたは外カップとの距離を変えて径方向の排気を均一にする場合、処理プロセスの回転数などの種々の条件においてカップ体を準備、変更する必要があるが、このような場合予め種々の形状の第２の内カップ構成部材を準備しておき、処理条件に応じて第２の内カップ構成部材のみを取り替えることで短期間に精度よく交換作業を行なうことができる。また、第１の内カップ構成部材と第２の内カップ構成部材の材料、表面処理状態を変えるようにしても良く、処理薬液や処理条件に応じて用いるようにしても良い。
【００４９】
また、上述の実施形態においては、現像処理装置、レジスト塗布装置を例として説明したがこれらに限らず、基板にエッチング液を供給するエッチング装置、基板に洗浄液を供給して基板を洗浄する洗浄装置のほか、基板に接着剤を塗布する装置など基板を回転させながら基板に対して処理液を供給する液処理装置に対して適応が可能である。また、本実施形態においては、基板は半導体ウエハを用いる場合について説明したが、矩形のマスク基板、ＦＰＤ基板などの種々の形状の基板に対して適応可能である。
【符号の説明】
【００５０】
１，１０１：液処理装置
２，１０２：スピンチック
３，１０３：回転駆動部
４，１０４：処理カップ
５，１０５：外カップ
６，１０６：内カップ
７：処理液供給ノズル
１１：チャックベース
３０，１３０：第１の内カップ構成部材
３１，１３１：突出部
３５，１３５：ベース体
４０，１４０：第２の内カップ構成部材
４１，１４１：傾斜壁
４２，１４２：垂直壁
８０、１８０：裏面洗浄供給ノズル
１００：コンピュータ（制御部）
１８０：裏面洗浄ノズル
１８１：ベベル洗浄ノズル
１９０：カップ洗浄部材
Ｗ：ウエハＷ（基板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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