(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計であって、
基準光通路（２１）と、試験光通路（２２）と、ピンホール基板（１４）と、を備えており、前記ピンホール基板（１４）に試験ピンホール（２４）および基準ピンホール（２３）が存在し、
レーザ源によって放出された光が、前記試験光通路（２２）を通って、試験ビーム拡大システム（１１）および試験ビーム収束システム（１３）を順に通過し、次いで、前記ピンホール基板（１４）における前記試験ピンホール（２４）を照らすことができ、
前記レーザ源によって放出された光が、前記基準光通路（２１）を通って、基準ビーム拡大システム（６）と、くさび形位相シフト機構（７）と、基準ビーム収束システム（１０）とを順に通過し、次いで、前記ピンホール基板（１４）における前記基準ピンホール（２３）を照らすことができ、
前記試験ピンホール（２４）によって放出された回折波面が、前記ピンホール基板（１４）の近傍の試験対象の光学部品（１９）によって反射され、前記基準ピンホール（２３）の近傍で収束し、前記回折波面が、前記試験対象の光学部品（１９）の表面形状の情報を含み、前記ピンホール基板（１４）によって反射されて、基準ピンホール（２３）によって放出された回折波面と干渉し、これにより干渉縞が形成され、
前記干渉縞によるインターフェログラムを得ることができ、くさび形位相シフト機構（７）を使用することによって、複数の位相シフトインターフェログラムを得ることができ、前記複数の位相シフトインターフェログラムを解析することによって、前記試験対象の光学部品（１９）の表面形状の高精度の誤差を得ることができる、
高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計。
【請求項２】
前記基準光通路（２１）に、光強度減衰機構（９）がさらに設けられており、前記光強度減衰機構（９）を調整することによって、干渉縞の最良のコントラストを達成することができる、
請求項１に記載の高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計。
【請求項３】
前記レーザ源が、作用レーザ源（１）およびキャリブレーションレーザ源（２）を備えている、
請求項１に記載の高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計。
【請求項４】
請求項１に記載の前記高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計を使用することによる試験方法であって、前記高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計が、キャリブレーション・観察光学結像システム（１５）と、輝点画像光学取得システム（１６）と、狭視野インターフェログラム光学結像システム（１７）と、インターフェログラム光電式取得システム（１８）と、前記試験対象の光学部品（１９）を載せる、前記試験対象の光学部品の向き調整機構（２０）と、をさらに備えており、前記レーザ源が、作用レーザ源（１）およびキャリブレーションレーザ源（２）を含み、前記作用レーザ源（１）および前記キャリブレーションレーザ源（２）に、屈折・反射・透過型分割プリズム（３）が配置されており、
前記試験方法が、
ｉ）  電源をオンにするステップであって、前記作用レーザ源（１）および前記キャリブレーションレーザ源（２）が光の放出を開始して安定化する、ステップと、
ｉｉ）  前記試験対象の光学部品（１９）を前記ピンホール基板（１４）の近傍に配置するステップと、
ｉｉｉ）  前記キャリブレーションレーザ源（２）をオンにするステップであって、前記キャリブレーションレーザ源から放出された光が屈折・反射・透過型分割プリズム（３）を経た後に干渉計システムに入る、ステップと、
ｉｖ）  前記基準光通路（２１）に位置合わせするように、前記キャリブレーション・観察光学結像システム（１５）および前記輝点画像光学取得システム（１６）を調整するステップと、前記試験ピンホール（２４）によって放出された回折光が前記試験対象の光学部品（１９）によって反射され、かつ、その収束点が前記基準ピンホール（２３）の近傍で前記ピンホール基板（１４）に近づくように、前記輝点画像光学取得システム（１６）の輝点画像を観察することによって、前記試験対象の光学部品（１９）の姿勢を変化させるように、前記試験対象の光学部品の前記向き調整機構（２０）を調整するステップと、
ｖ）  前記キャリブレーションレーザ源（２）をオフにし、前記作用レーザ源（１）をオンにするステップであって、前記作用レーザ源から放出された光が、前記屈折・反射・透過型分割プリズム（３）を介して前記干渉計システムに入り、前記基準光通路（２１）における基準光と前記試験光通路（２２）における試験光が形成される、ステップと、
ｖｉ）  前記キャリブレーション・観察光学結像システム（１５）および前記輝点画像光学取得システム（１６）を前記光路から取り外し、前記基準ピンホール（２３）によって放出された回折基準光が、前記試験対象の光学部品（１９）によって反射されて前記基準ピンホール（２３）の近傍で収束する前記試験光と干渉するように、前記狭視野インターフェログラム光学結像システム（１７）および前記インターフェログラム光電式取得システム（１８）を前記基準光通路（２１）に位置合わせするステップと、
ｖｉｉｉ）  前記くさび形位相シフト機構（７）と、前記狭視野インターフェログラム光学結像システム（１７）および前記インターフェログラム光電式取得システム（１８）との協働を制御するステップであって、複数の位相シフトインターフェログラムを収集する、ステップと、
ｉｘ）  位相シフトインターフェログラム処理ソフトウェアを使用するステップであって、前記試験対象の光学部品（１９）の精密な試験を達成する、ステップと、
を含む、試験方法。
【請求項５】
ステップｖｉの後、ステップｖｉｉｉの前に、
ｖｉｉ）  前記基準光通路（２１）における前記光強度減衰機構（９）を調整するステップであって、前記干渉縞の最良のコントラストを達成する、ステップ、
を含む、請求項４に記載の試験方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、点回折干渉計の技術分野に関し、より詳細には、高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計およびその試験方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
点回折干渉計は、基準干渉波面の生成技術の独特な特徴のため、計測器レベルの光波面試験機器となっており、主として、市販の標準レンズのキャリブレーションおよび測定と、高精度のリソグラフィレンズの開発に適用されている。
【０００３】
現在、点回折干渉計の作動メカニズムは２種類存在し、第１の作動メカニズムでは、光学基板に１マイクロメートル未満のピンホールを形成し、光がこのピンホールを通過するときに高精度の回折球状波面が形成される。この波面の一部分を試験光として使用し、波面の別の部分を基準光として使用し、したがって、光の２つの部分が反射後に干渉し、インターフェログラムが生成される。試験ミラーを動かすことによっていくつかの異なる位相のインターフェログラムを生成し、試験対象のミラー（または光学系）と基準との間の形状の誤差（deviation）を解析して取得する。第２の作動メカニズムでは、光ファイバから放出される光の回折を利用して基準球状波面を形成し、低コヒーレンス光源を使用して、試験対象のミラーの高精度の試験を達成する。
【０００４】
上の２つのメカニズムのうち、最初の種類の点回折干渉計の場合、回折波面を２つの部分に分割するため、試験可能な角度が、ピンホールを使用することによって回折される波面の角度の１／２のみであり、したがって試験可能な角度が制限され、最大値はＮＡ０．３である。可動式試験ミラーを使用する結果として、干渉計のキャビティ長が変化し、これにより試験の精度が低下する。また、縞のコントラストを調整できない結果として、コーティングされていないミラー（uncoated mirror）を試験するときにコントラストが低く試験精度も下がる。
【０００５】
第２の種類の点回折干渉計の問題としては、試験可能な開口数が小さく、その理由として、コア径の小さい光ファイバの製造が難しく、したがって光ファイバから放出される波面の回折角が小さいためである。その一方で、低コヒーレンス光源を使用することにより、試験ミラーの曲率半径の一致に関する制限的な要件が存在し、これにより試験工程が煩雑である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、従来技術による点回折干渉計の技術的問題点、すなわち、試験可能な角度が制限される、試験精度が低い、縞のコントラストを調整できない、試験工程が煩雑であるなどを解決することである。本発明は、試験光と基準光との間の擾乱（disturbance）が発生することなく高い開口数における高精度の試験を達成できる、高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計およびその試験方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の技術的問題点を解決するため、本発明の技術的解決策は以下のとおりである。
【０００８】
高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計であって、
基準光通路と、試験光通路と、ピンホール基板と、を備えており、ピンホール基板に試験ピンホールおよび基準ピンホールが形成されており、
レーザ源によって放出された光が、試験光通路を通って、試験ビーム拡大システムおよび試験ビーム収束システムを順に通過し、次いで、ピンホール基板における試験ピンホールを照らすことができ、
レーザ源によって放出された光が、基準光通路を通って、基準ビーム拡大システム、くさび形位相シフト機構、および基準ビーム収束システムを順に通過し、次いで、ピンホール基板における基準ピンホールを照らすことができ、
試験ピンホールによって放出された回折波面が、ピンホール基板の近傍の試験対象の光学部品によって反射され、基準ピンホールの近傍で収束し、この回折波面が、試験対象の光学部品の表面形状の情報を含み、ピンホール基板によって反射されて、基準ピンホールによって放出された回折波面と干渉し、これにより干渉縞が形成され、
干渉縞によるインターフェログラムを得ることができ、くさび形位相シフト機構を使用することによって、複数の位相シフトインターフェログラムを得ることができ、これらの複数の位相シフトインターフェログラムを解析することによって、試験対象の光学部品の表面形状の高精度の誤差を得ることができる、
高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計。
【０００９】
上の技術的解決策においては、基準光通路に、光強度減衰機構がさらに設けられており、この光強度減衰機構を調整することによって、干渉縞の最良のコントラストを達成することができる。
【００１０】
上の技術的解決策においては、レーザ源は、作用レーザ源（work laser source）およびキャリブレーションレーザ源を備えている。
【００１１】
高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計を使用することによる試験方法においては、高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計は、キャリブレーション・観察光学結像システム（calibration and observation optical imaging system）と、輝点画像光学取得システム（bright spot image optical acquisition system）と、狭視野インターフェログラム光学結像システム（small field interferogram optical imaging system）と、インターフェログラム光電式取得システム（interferogram photo-electric acquisition system）と、試験対象の光学部品を載せる、試験対象の光学部品の向き調整機構（orientation calibrating mechanism of the optical component to be tested）と、をさらに備えており、レーザ源が、作用レーザ源およびキャリブレーションレーザ源を備えており、作用レーザ源およびキャリブレーションレーザ源を含むレーザ源に、屈折・反射・透過型分割プリズム（refraction-reflection-transmission splitting prism）が配置されており、
本試験方法が、
ｉ）  電源をオンにするステップであって、作用レーザ源およびキャリブレーションレーザ源が光の放出を開始して安定化する、ステップと、
ｉｉ）  試験対象の光学部品をピンホール基板の近傍に配置するステップと、
ｉｉｉ）  キャリブレーションレーザ源をオンにするステップであって、キャリブレーションレーザ源から放出された光が屈折・反射・透過型分割プリズムを経た後に干渉計システムに入る、ステップと、
ｉｖ）  キャリブレーション・観察光学結像システムおよび輝点画像光学取得システムを基準光通路に位置合わせするように調整するステップであって、試験ピンホールによって放出された回折光が試験対象の光学部品によって反射され、かつ、その収束点が基準ピンホールの近傍でピンホール基板に近づくように、輝点画像光学取得システムの輝点画像を観察することによって、試験対象の光学部品の向き調整機構を調整して、試験対象の光学部品の姿勢を変化させる、ステップと、
ｖ）  キャリブレーションレーザ源をオフにし、次いで作用レーザ源をオンにするステップであって、作用レーザ源から放出された光が、屈折・反射・透過型分割プリズムを経た後に干渉計システムに入り、基準光通路における基準光と試験光通路における試験光が形成される、ステップと、
ｖｉ）  キャリブレーション・観察光学結像システムおよび輝点画像光学取得システムを光路／光通路から取り外し、基準ピンホールによって放出された回折基準光が、試験対象の光学部品によって反射されて基準ピンホールの近傍で収束する試験光と干渉するように、狭視野インターフェログラム光学結像システムおよびインターフェログラム光電式取得システムを基準光通路に位置合わせするステップと、
ｖｉｉｉ）  くさび形位相シフト機構と、狭視野インターフェログラム光学結像システムおよびインターフェログラム光電式取得システムとの協働を制御するステップであって、複数の位相シフトインターフェログラムを収集する、ステップと、
ｉｘ）  位相シフトインターフェログラム処理ソフトウェアを使用するステップであって、試験対象の光学部品の精密な試験を達成する、ステップと、
を含む。
【００１２】
上記の技術的解決策においては、本方法は、ステップｖｉの後、ステップｖｉｉｉの前に、
ｖｉｉ）  基準光通路における光強度減衰機構を調整するステップであって、干渉縞の最良のコントラストを達成する、ステップ、
をさらに含む。
【００１３】
本発明は、以下の有利な効果を有する。
本発明における高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計では、基準光通路と試験光通路との間の擾乱（これにより位相シフト時にインターフェログラムの状態の変化が生じる）を防止するため、基準光通路と試験光通路を分離することができるように、デュアルピンホール基板と、２本の収束する光路によって照らす方法とを採用している。撮影するために狭視野インターフェログラム光学結像システムを基準光通路に位置合わせするのみであるため、本発明では画像に対する試験光通路の影響を回避することができ、位相シフト方式において高開口数の試験を達成することができる。その一方で、本発明における高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計では、多段階光学位相シフト板を採用しており、くさび形位相シフト板の横方向の動きによって基準光通路内でくさび形位相シフト板の厚さを変化させることによって、基準光通路と試験光通路の光路差を変化させ、これにより位相シフト機構に要求される精度が低減する。本発明では、作用レーザ源として、長い干渉長さを有する６３２．８ｎｍのヘリウムネオンレーザ源を採用しており、したがって、広いダイナミックレンジの試験を達成することができる。本発明の特徴として、高い試験精度、高い試験開口数、広い試験範囲が挙げられる。
【００１４】
本明細書に開示されているさまざまな実施形態の上記および他の特徴ならびに利点は、以下の説明および図面から深く理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計の光路構造を示している。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の独創的な原理は、以下のとおりである。
【００１７】
本発明の高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計では、基準光通路と試験光通路との間の擾乱（これにより位相シフト時にインターフェログラムの状態の変化が生じる）を防止するため、基準光通路と試験光通路を分離することができるように、デュアルピンホール基板と、２本の収束する光路によって照らす方法とを採用している。撮影するために狭視野インターフェログラム光学結像システムを基準光路／光通路に位置合わせするのみであり、したがって、本発明では画像に対する試験光通路の影響を回避することができ、位相シフト方式において高開口数の試験を達成することができる。その一方で、本発明における高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計では、多段階光学位相シフト板を採用しており、くさび形位相シフト板の横方向の動きによって基準光通路内で光学的くさび形位相シフト板の厚さを変化させることによって、基準光と試験光の光路差を変化させ、これにより位相シフト機構に要求される精度が低減する。本発明では、作用レーザ源として、長い干渉長さを有する６３２．８ｎｍのヘリウムネオンレーザ源を採用しており、したがって、広いダイナミックレンジの試験を達成することができる。本発明の特徴として、高い試験精度、高い試験開口数、広い試験範囲が挙げられる。
【００１８】
本発明の高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計は、試験対象の光学部品の姿勢を迅速かつ容易に調整できるように、キャリブレーション・観察光学システムを備えており、したがって、試験光の収束点を容易に戻してピンホール基板に位置合わせすることができる。現時点では、本発明の試験装置の開発が完了しており、この装置は小型であり、軸線が水平状態か垂直状態かには無関係に使用することができ、その動作時には試験対象のミラーの超高精度の試験を達成することができる。
【００１９】
以下では、本発明について図面を参照しながら詳しく説明する。
【００２０】
図１に示したように、高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計は、
基準光通路２１と、試験光通路２２と、ピンホール基板１４と、キャリブレーション・観察光学結像システム１５と、輝点画像光学取得システム１６と、狭視野インターフェログラム光学結像システム１７と、インターフェログラム光電式取得システム１８と、試験対象の光学部品１９を調整するための、試験対象の光学部品の向き調整機構２０と、作用レーザ源１およびキャリブレーションレーザ源２を含むレーザ源と、を備えている。作用レーザ源１は、高い安定性のレーザ源であり、長時間にわたり安定的に動作させるのに適している。キャリブレーションレーザ源２は、高出力のレーザ源であり、光路の調整および試験に適している。
【００２１】
作用レーザ源１およびキャリブレーションレーザ源２を含むレーザ源には、屈折・反射・透過型分割プリズム３が配置されている。ピンホール基板１４には、試験ピンホール２４および基準ピンホール２３が配置されている。
【００２２】
レーザ源によって放出された光は、試験光通路２２を通って、試験ビーム拡大システム１１および試験ビーム収束システム１３を順に通過することができ、次いで、ピンホール基板１４における試験ピンホール２４に達することができる。
【００２３】
レーザ源によって放出された光は、基準光通路２１を通って、基準ビーム拡大システム６と、くさび形位相シフト機構７と、基準レーザビーム収束システム１０とを順に通過することができ、次いで、ピンホール基板１４における基準ピンホール２３に達することができる。くさび形位相シフト機構７の状態を制御することによって、複数の位相シフトインターフェログラムを取得することができる。
【００２４】
試験ピンホール２４において放出された回折波面は、ピンホール基板１４の近傍の試験対象の光学部品１９によって反射され、基準ピンホール２３の近傍で収束する。この回折波面は、試験対象の光学部品１９の表面形状の情報を含んでおり、ピンホール基板１４によって反射されて、基準ピンホール２３によって放出された回折波面と干渉することにより、干渉縞が形成される。基準光通路２１には、光強度減衰機構９がさらに設けられており、この光強度減衰機構９を調整することによって、干渉縞の最良のコントラストを達成することができる。
【００２５】
本発明の高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計の動作プロセスにおいては、作用レーザ源１から放出されて屈折・反射・透過型分割プリズム３を透過および反射する光を利用して、基準光通路２１における光と試験光通路２２における光を発生させる。これら２つの光路の光は、基準ビーム拡大システム６と、くさび形位相シフト機構７と、基準ビーム反射ミラー８と、光強度減衰機構９と、基準ビーム収束システム１０と、試験ビーム拡大システム１１と、試験ビーム反射ミラー１２と、試験ビーム収束システム１３と、を順に通過し、次いで、それぞれ収束し、ピンホール基板１４における基準ピンホール２３および試験ピンホール２４に位置合わせされ、回折される。
【００２６】
基準ピンホール２３によって放出された回折波面は、試験の基準波面として使用される。試験ピンホール２４によって放出された回折波面は、試験対象の光学部品１９によって反射され、基準ピンホール２３の近傍で収束し、この回折波面は、試験対象の光学部品１９の表面形状の情報を含んでおり、ピンホール基板１４によって反射されて、基準ピンホール２３によって放出された回折波面と干渉し、これにより干渉縞が形成される。次いで、狭視野インターフェログラム光学結像システム１７およびインターフェログラム光電式取得システム１８を使用して、干渉画像を得る。次いで、光強度減衰機構９を使用して干渉縞のコントラストを調整する。次いで、くさび形位相シフト機構７を使用して、複数の位相シフトインターフェログラムを収集する。このインターフェログラムの情報を解析することによって、試験対象の光学部品１９の表面形状の高精度の誤差が得られる。
【００２７】
高開口数の位相シフト型デュアルピンホール回折干渉計を使用することによる、本発明の試験方法は、以下のステップ、すなわち、
ステップ１）  位相シフト点回折干渉計のメインフレーム電源スイッチをオンにするステップであって、作用レーザ源１およびキャリブレーションレーザ源２が光の放出を開始して安定化する、ステップと、
ステップ２）  試験対象の光学部品１９を、試験対象の光学部品の向き調整機構２０の上に配置するステップと、
ステップ３）  コンピュータ２５の制御下でキャリブレーションレーザ源シャッター４を開くステップであって、キャリブレーションレーザ源２によって放出された光が屈折・反射・透過型分割プリズム３を経た後に干渉計システムに入る、ステップと、
ステップ４）  キャリブレーション・観察光学結像システム１５および輝点画像光学取得システム１６が基準光通路２１に位置合わせされるように、サーボモータを制御するようにコンピュータ２５を使用するステップと、試験ピンホール２４によって放出された回折光が、試験対象の光学部品１９によって反射された後、その収束点が基準ピンホール２３の近傍においてピンホール基板１４を照らすように、輝点画像光学取得システム１６の輝点画像を観察することによって、試験対象の光学部品の向き調整機構２０を調整するステップであって、試験対象の光学部品１９の姿勢を変化させる、ステップと、
ステップ５）  コンピュータ２５の制御下でキャリブレーションレーザ源シャッター４を閉じ、作用レーザ源シャッター５を開くステップであって、作用レーザ源１によって放出された光が屈折・反射・透過型分割プリズム３を介して干渉計システムに入ることにより、基準光通路２１における基準光と試験光通路２２における試験光とが形成される、ステップと、
ステップ６）  コンピュータ２５の制御下で、キャリブレーション・観察光学結像システム１５および輝点画像光学取得システム１６を光路から取り外し、基準ピンホール２３からの回折基準光が、試験対象の光学部品１９によって反射されて基準ピンホール２３の近傍で収束する試験光と干渉するように、狭視野インターフェログラム光学結像システム１７およびインターフェログラム光電式取得システム１８を基準光通路２１に位置合わせするステップであって、
狭視野インターフェログラム光学結像システム１７と、インターフェログラム光電式取得システム１８によって、干渉縞を観察することができる。インターフェログラム光電式取得システム１８によって、（できる限り少ない数の干渉縞で）収集するという要件を満たしながら、コンピュータ２５上で干渉縞を観察することができるように、試験対象の光学部品の向き調整機構２０によって、試験対象の光学部品１９の姿勢を微調整する、ステップと、
ステップ７）  干渉縞の最良のコントラストを得るように光強度減衰機構９を調整するステップと、
ステップ８）  くさび形位相シフト機構７と、狭視野インターフェログラム光学結像システム１７およびインターフェログラム光電式取得システム１８との協働を制御するようにコンピュータ２５を使用するステップであって、複数の位相シフトインターフェログラムを収集する、ステップと、
ステップ９）  試験対象の光学部品１９の高精度の試験を達成するように位相シフトインターフェログラム処理ソフトウェアを使用するステップと、
を含む。
【００２８】
当然ながら、上の説明は一例として示したものであり、本発明を制限するものではない。当業者には、上の開示内容から、本明細書に開示されている本発明の範囲および概念の範囲内である変形形態を実施することができるであろう。本明細書において本発明の実装または実施形態のすべてを提示することは不可能であるし、その必要もない。さらには、本明細書に開示されている実施形態のさまざまな特徴は、単独で使用する、または互いにさまざまに組み合わせて使用することができ、組合せは、本明細書に記載されている特定の組合せに限定されないものとする。したがって、特許請求の範囲は、説明した実施形態によって制限されない。
【符号の説明】
【００２９】
１  作用レーザ源
２  キャリブレーションレーザ源
３  屈折・反射・透過型分割プリズム
４  キャリブレーションレーザ源シャッター
５  作用レーザ源シャッター
６  基準ビーム拡大システム
７  くさび形位相シフト機構
８  基準ビーム反射ミラー
９  光強度減衰機構
１０  基準ビーム収束システム
１１  試験ビーム拡大システム
１２  試験ビーム反射ミラー
１３  試験ビーム収束システム
１４  ピンホール基板
１５  キャリブレーション・観察光学結像システム
１６  輝点画像光学取得システム
１７  狭視野インターフェログラム光学結像システム
１８  インターフェログラム光電式取得システム
１９  試験対象の光学部品
２０  試験対象の光学部品の向き調整機構
２１  基準光通路（経路）
２２  試験光通路（経路）
２３  基準ピンホール
２４  試験ピンホール
２５  コンピュータ
【図１】
0006042586.tif 000002