(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品であって、
対向する第１及びの第２の表面を有する基材と、
複数のセルを画定する複数のトレースを備え、前記基材の前記第１の表面上に配設される導電体微小パターンと、を備え、
前記導電体微小パターンが、８０％を超える開放面積分率及びトレース配向の一様分布を有し、前記トレースのそれぞれが、０．５〜１０マイクロメートルのトレース幅を有し、
前記導電体微小パターンが、半反射金属、透明層、及び反射層を順に備える３層材料である、物品。
【請求項２】
前記微小パターンのトレース配向の前記一様分布が、３未満の２度のビン当たりの測定された周波数の標準偏差を有する、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記導電体微小パターンが、反復する位置配列に位置しないセルを有する、請求項１に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
本出願は、その開示内容の全体を本明細書に援用する米国特許仮出願第６１／４３８，８００号（２０１１年２月２日出願）の利益を主張するものである。
【背景技術】
【０００２】
光透過及び電気伝導度が必要とされる用途のための金属系導電体メッシュの使用は、当該技術分野において既知である。このような用途の例としては、ディスプレイのための電磁干渉の遮蔽が挙げられる。業界では、メッシュは、セルを形成するために開放面積によって分離される連結されたトレースを有するパターン形状を意味することが一般に理解されている。
【０００３】
ディスプレイに組み込まれ、反射された（直射日光等の）コリメートされた光の下で観察されると、いくつかのメッシュ設計が、望ましくない視覚効果を及ぼすことが現在の研究で観察されている。例示的な望ましくない視覚効果としては、線形トレース及び反復するセル形状を含むメッシュがプラスチックフィルム又はガラス等の変性されていない基材に配設されるとき、それぞれが観察可能である、例えば、反射光の星形パターン及び光の干渉によって生じる着色反射光の帯域（虹に類似）が挙げられる。線形トレースを有するメッシュの事例としては、六角形及び正方形のセルを有するものが挙げられる。反射光の点の望ましくない外観である発光は、線形のトレース系導電体メッシュにも発生する。
【０００４】
一部の当業者は、タッチスクリーンディスプレイ等のディスプレイの製造において波状トレースを使用することによって、重ねられたメッシュ微小パターンの外観を低減することを試みてきた。第１のメッシュがトレースの視認性を最小化するために、それぞれがある構成で第２のメッシュに重ねる線形トレースを有する、アンテナ、電磁干渉遮蔽、並びに光透明基材及び２つの導電性メッシュを有するタッチスクリーンセンサ等の物品を記載する、例えば、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ  ２０１０／０９９１３２  Ａ２号を参照されたい。
【０００５】
他の者は、光学干渉部材等の周辺光低減部材を使用することを試みてきた。入射周辺光の一部分を反射するための半吸収部材層と、周辺光の別の一部分を位相ずれさせるための実質的に透明な層と、光の２つの反射された部分が位相を異にし、それによって破壊的に干渉するように位相ずれした周辺光を反射するための反射層とを含む、光学干渉部材を開示するＰＣＴ国際公開第ＷＯ  ２００３／１０５２４８号を参照されたい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
メッシュがディスプレイに組み込まれ、反射された直射日光等のコリメートされた光の下で観察されるとき、トレースの視認性を低減することに関して金属系導電体メッシュの外観を改良することが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、導電体微小パターンの設計と組み合わせて変性された基材又は導電性光学干渉層を使用する物品を提供する。ディスプレイ又は装置に組み込まれると、この組み合わせは、ディスプレイ又は装置が太陽光等のコリメートされた又はほぼコリメートされた光を含むがこれらに限定されない、光の下で観察されるとき、星形、発光、ハロー、及び虹等の望ましくない視覚効果を低減する。
【０００８】
一態様では、本開示は、（ａ）対向する第１及び第２の表面を有する基材と、（ｂ）複数のセルを画定する複数のトレースを備え、基材の第１の表面上に配設される導電体微小パターンと、を備え、導電体微小パターンが、８０％を超える開放面積分率及びトレース配向の一様分布を有し、トレースのそれぞれが、０．５〜１０マイクロメートルのトレース幅を有し、導電体微小パターンが、半反射金属、透明層、及び透明層上に配設される反射層を順に備える３層材料を備える、物品に関する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
以下の図面を参照して本開示を更に記載し得る。
【図１】規則的な六角形の微小パターンの概略の平面図。
【図２】本明細書では擬似ランダム六角形の微小パターンと呼ぶ、多角形の微小パターンの一部分の概略の平面図。
【図３】本明細書では部分的に湾曲した六角形微小パターンと呼ぶ、規則的な六角形に基づく第１の例示的な非線形微小パターン設計の概略の平面図。
【図３ａ】図３の微小パターンのいくつかのセルの分解図。
【図４】本明細書では完全に湾曲した六角形微小パターンと呼ぶ、規則的な六角形に基づく第２の例示的な非線形微小パターン設計の概略の平面図。
【図４ａ】図４の微小パターンのいくつかのセルの分解図。
【図５】擬似ランダム湾曲設計である、第３の例示的な非線形微小パターンの平面図。
【図６】トレースに対する配向を決定するために測定方法を示す微小パターン内のセル。
【図７】図１の微小パターンのためのトレースセグメントの法線の配向のヒストグラム。
【図８】図２に例示した部分である、擬似ランダム六角形の微小パターンのためのトレースセグメントの法線の配向のヒストグラム。
【図９】図３に示した部分である、部分的に湾曲した六角形の微小パターンのためのトレースセグメントの法線の配向のヒストグラム。
【図１０】図４に示した部分である、完全に湾曲した六角形の微小パターンのためのトレース配向の角分布のヒストグラム。
【図１１】ディスプレイ等の装置に組み込むのに有用な第１の微小パターン化基材の様々な部分。
【図１１ａ】ディスプレイ等の装置に組み込むのに有用な第１の微小パターン化基材の様々な部分。
【図１１ｂ】ディスプレイ等の装置に組み込むのに有用な第１の微小パターン化基材の様々な部分。
【図１２】ディスプレイ等の装置に組み込むのに有用な第２の微小パターン化基材の様々な部分。
【図１２ａ】ディスプレイ等の装置に組み込むのに有用な第２の微小パターン化基材の様々な部分。
【図１２ｂ】ディスプレイ等の装置に組み込むのに有用な第２の微小パターン化基材の様々な部分。
【図１３】装置に組み込まれ得る第１及び第２の微小パターン化基材の重なり。
【図１４】本明細書では完全に湾曲した正方形微小パターンと呼ぶ、第３の例示的な非線形微小パターンの平面図。
【００１０】
これらの図は、一定の縮尺ではなく、説明目的を意図したものである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
別途記載がない限り、本明細書及び特許請求の範囲で使用される特徴の大きさ、量、物理特性を表す数字は全て、どの場合においても用語「約」によって修飾されるものとして理解されるべきである。それ故に、そうでないことが示されない限り、前述の明細書及び添付の特許請求の範囲で示される数値パラメータは、当業者が本明細書で開示される教示内容を用いて、目標対象とする所望の特性に応じて、変化し得る近似値である。
【００１２】
端点による数値範囲の列挙には、その範囲内の全ての数（例えば１〜５には、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４、及び５が含まれる）、及びその範囲内の任意の範囲が含まれる。
【００１３】
本明細書で使用されるとき、用語「微小パターン」とは、それぞれが１ｍｍ以下の寸法（例えばトレース幅）を有する、点、トレース、塗り潰し図形、又はこれらの組み合わせの配列を指す。好ましい実施形態では、微小パターンは、それぞれのセルが少なくとも０．５ミクロン、典型的には、２０ミクロン以下の幅を有する、複数のセルを画定する複数のトレースによって形成されるメッシュである。この微小パターン特徴の寸法は、微小パターンの選択によって変わり得る。いくつかの好ましい実施形態において、微小パターン特徴の寸法（例えば、トレース幅）は１０、９、８、７、６、又は５マイクロメートル未満（例えば１〜３マイクロメートル）である。線形及び非線形トレースは、本開示に有用である。
【００１４】
本明細書で使用されるとき、用語「可視光線透明性」とは、非パターン化基材、又は少なくとも１つの偏光状態の可視光線に対して少なくとも６０％の透過率の微小パターン化基材を含む、物品の透過レベルを指し、透過率％は、入射光（所望により偏光）の強度に対して正規化される。局部的に光を６０透過率パーセント未満（例えば、０％）に遮蔽する、微細特徴（例えば、最小寸法、例えば０．５〜１０マイクロメートル、０．５〜５マイクロメートル、又は１〜５マイクロメートルの幅の、点、正方形、又はトレース）を含む、入射光の少なくとも６０％を透過する物品に関して、これは可視光透明の意味の範囲内であるが、このような場合、微細特徴を含み、微細特徴の最小寸法の１０００倍の幅である、およそ等軸の面積に関して、平均透過率は６０パーセントを超える。「可視光線透明性」に関連する用語「可視」は、用語「光」を修飾するものであり、基材又は微小パターン化物品が透明である光の波長範囲を特定するためのものである。
【００１５】
本明細書で使用されるとき、導電体微小パターンの「開放面積分率」（又は開放面積若しくは開放面積の比率）、又は導電体微小パターンの領域は、導電体によって遮蔽されていない微小パターン面積又は領域面積の割合である。開放面積は、１から、導電体微小パターンによって遮蔽される面積率を引いたものに相当し、少数又は百分率として、便利かつ互換的に表現することができる。導電体微小パターンによって遮蔽される面積率は、導電体微小パターンの線の密度と互換的に使用される。本開示に有用である例示的な開放面積分率値は、５０％超、７５％超、８０％超、９０％超、９５％超、９６％超、９７％超、９８％超、９９％超、９９．２５〜９９．７５％、９９．８％、９９．８５％、９９．９％、及び更には９９．９５のものである。いくつかの実施形態では、導電体微小パターンの区域の開放面積（例えば、可視光線透明導電性区域）は、８０％〜９９．５％であり、他の実施形態では９０％〜９９．５％であり、他の実施形態では、９５％〜９９％であり、他の実施形態では、９６％〜９９．５％であり、他の実施形態では、９７％〜９８％であり、他の実施形態では、最大９９．９５％である。
【００１６】
本明細書で使用されるとき、「トレース」は、２つの平面の交点によって、又は平面及び非平面の交点によって得られる幾何学的要素を指す。２つの平面の交点によって得られる幾何学的要素は、線形として（又は線形トレースとして）本明細書に記載される。平面及び非平面の交点によって得られる幾何学的要素は、非線形として（又は非線形トレースとして）本明細書に記載される。線形トレースは、ゼロ曲率を有し、あるいは別の言い方をすれば、それは、無限の曲率半径を有する。非線形トレースは、ゼロでない曲率を有し、あるいは別の言い方をすれば、それは、有限の曲率半径を有する。曲率又は曲率半径は、解析幾何学で既知であるように、トレースに沿った任意の点に対して決定され得る。また、法線は、解析幾何学で既知でもあるように、線形又は非線形トレースに位置する点で構成され得る。
【００１７】
本明細書で使用されるとき、「反射防止」は、材料と材料が露出した周囲媒質との間の境界面でフレネル光反射を低減し、かつ境界面を通じて光透過を高める、表面又はコーティングの挙動を指す。反射防止表面又はコーティングが存在しない場合、フレネル反射は、当該技術分野において既知であるように、材料の屈折率と周囲媒質との間の差によって影響される。
【００１８】
微小パターン設計
いくつかの異なる形状又は設計は、本開示に有用である導電体微小パターンに使用され得る。メッシュ微小パターン設計の種類は、（Ａ）反復のセルの形状を有するものと、（Ｂ）非反復のセル形状を有するものと、（Ｃ）反復配列に位置しない重心を有するセルを有するものと、（Ｄ）トレースがトレース配向の一様分布を有するセルを有するものと、を含む。これらの種類は相互に排他的でない。これらの種類のそれぞれの中に、トレースは、線形又は非線形（即ち、いくつかの有限の曲率半径を有する）であり得る。以下に記載されるメッシュ微小パターンは、トレースの幅又はセルの寸法に関して限定されない。いくつかの実施形態では、トレースは、０．１〜２０マイクロメートルの範囲内、いくつかの実施形態では、０．５〜１０マイクロメートルの範囲内、いくつかの実施形態では、０．５〜５マイクロメートルの範囲内、いくつかの実施形態では、０．５〜４マイクロメートルの範囲内、いくつかの実施形態では、０．５〜３マイクロメートルの範囲内、いくつかの実施形態では、０．５〜２マイクロメートルの範囲内、いくつかの実施形態では、１〜３マイクロメートル、いくつかの実施形態では、０．１〜０．５マイクロメートルの範囲内の幅を有する。いくつかの実施形態では、メッシュ導電体微小パターンの領域の開放面積（例えば、可視光線透明導電性領域）は、８０％〜９９．５％であり、他の実施形態では、９０％〜９９．５％であり、他の実施形態では、９５％〜９９％であり、他の実施形態では、９６％〜９９．５％であり、他の実施形態では、９７％〜９８％であり、他の実施形態では、最大９９．９５％である。
【００１９】
（Ａ）反復のセルを有する微小パターン
反復のセル形状の特性は、セルが反復する配列に位置することである。非反復する配列に位置するセルに関して、セルの重心が（セル当たり１つの配列位置のみがある制限下で）配列を画定する位置から離れて短い距離以下に位置することを意味するものである。セルの位置関係のこの記載は、メッシュのトレース又はトレース接合（頂点）ではなく、メッシュセルの開放面積（又は開度）に着目する。セルが反復する配列に位置する場合によっては、セルの重心は、点の配列（即ち、位置）に精密に位置する。配列に関して、単なる位置のみを含む単位セルの別個の並進対称を特徴とする２次元（即ち、微小パターンの平面において）での位置の配列を意味するものである。配列の並進対称は、配列が不変である微小パターンの平面内に最小並進を画定する１つ以上の基底ベクトルにおいて画定される。この文脈において、配列は、例えば、正方形の配列（若しくは正方形の格子）、矩形の配列（若しくは矩形の格子）、又は三角形の配列（若しくは三角形の格子）を含み得る。短い距離に関して、この用語が配列の精密な位置から変位されるべき反復する配列に位置するために本明細書で記載されるセルを備えるメッシュの重心の許容差に関するとき、変位の配向に構成され得る最短の配列基底ベクトルの長さをとることによって、かつその基底ベクトルと関連付けられる単位セル内の配列位置の数によってその長さを分けることによって、得られる値の５０％未満の距離であることを意味するものである。セルが反復する配列に位置するいくつかの実施形態では、重心が配列の位置から変位される距離は、変位の配向に構成され得る最短の配列基底ベクトルの長さをとることによって、かつその基底ベクトルと関連付けられる単位セル内の配列位置の数によってその長さを分けることによって、得られる値の２５％未満である。これらの種類の微小パターンの実例は、図１、３、４、及び１４に示される。
【００２０】
次に図面を参照すると、図１は、複数の線形トレース１２によって形成される規則的な六角形の導電体微小パターン１０の例示的な形状の平面図を示す。６つのトレース１２ａ〜１２ｆは、開放面積を有するセル１４を形成する。図に示すように、それぞれのトレースは、実質的に等しい長さであり、６つの内角のそれぞれは、ほぼ１２０°である。メッシュセルの重心は、三角形格子（又は配列）に位置する。六角形のセルの反対側の縁部を画定する（平行な）トレースの中心線に対して六角形のセルの１つの縁部を画定するトレースの中心線からの距離は、例えば、２００マイクロメートルである。
【００２１】
図３は、非線形設計、即ち、複数の開放面積セル３４を画定する複数の湾曲したトレース３２によって形成される部分的に湾曲した六角形の導電体微小パターン３０の例示的な形状の平面図を示す。一方法では、微小パターン設計は、図１に示される規則的な六角形の微小パターン設計から開始して、ある程度の距離で、例えば、１０マイクロメートルでそれぞれのトレースの中点を変位させて、かつトレースを曲げることを可能にして生成され得る。図３ａは、示される６つのトレース３２ａ〜３２ｆを有する拡大されたセル３４’を示す。微小パターン３０の１つの特性は、トレース３２ａ及び３２ｃに対する接線３６ａ及び３６ｃがそれぞれ、互いにほぼ平行でないことである。図１のメッシュ微小パターンと同様に、図３のメッシュセルの重心は、点の三角形の格子（即ち、点の配列）に位置する。
【００２２】
図４は、複数のセル４４を画定する複数の湾曲したトレース４２によって形成される完全に湾曲した六角形の導電体微小パターン４０である、別の非線形設計の例示の形状の平面図を示す。一方法では、微小パターン設計は、図３に示されるトレースの曲率半径を減少させることによって、例えば、それぞれのトレースの中点を更に変異させることによって生成され得る。図４ａは、６つのトレース４２ａ〜４２ｆを有する拡大されたセル４４’を示す。微小パターン４０の１つの特性は、トレース４２ａ及び４２ｃに対する接線４６ａ及び４６ｃがそれぞれ、互いにほぼ平行であることである。図１のメッシュ微小パターンと同様に、図４のメッシュセルの重心は、点の三角形の格子（即ち、点の配列）に位置する。
【００２３】
図１４は、正方形から開始して、ある程度の距離で正方形のそれぞれの面の中点を変位させて、かつトレースを曲げることを可能にして生成され得る、別の例示的な非線形微小パターン設計２４０を示す。開放面積セル２４４を画定する４つのトレース２４２ａ〜２４２ｄを示す。図１４のメッシュセルの重心は、正方形の格子（即ち、点の配列）に位置する。
【００２４】
（Ｂ）非反復のセルを有する微小パターン
非反復のセル形状を有するメッシュ微小パターンに関して、セルは、反復する配列（例えば、矩形の配列、正方形の配列、三角形の配列）に位置してよく、あるいは、位置しなくてもよい。このセル形状において、セルは、同一の寸法かつ同一の形状ではない。この種類のセル形状の実例を図２に示す。
【００２５】
図２は、複数のセル２４を画定する複数の線形トレース２２によって形成される擬似ランダム六角形の導電体微小パターン２０の例示的な形状の平面図を示す。一方法では、微小パターン設計は、図１に示される規則的な六角形のパターン設計から開始することによって、ランダム化方向に、かつ最初の六角形のセルの辺長未満のランダム化距離で頂点を変位させることによって、並びに線形トレースを維持することによって、生成され得る。最初の六角形のセルの辺長未満の距離で（例えば、辺長の半分未満の距離で）頂点を変位させることによって生成されるとき、微小パターン２０の１つの特性は、セルの重心が図１のメッシュのセルの最初の重心位置によって画定される配列の点から短い距離内に位置することである。より具体的には、図２のメッシュのセルの重心は、図１の最初のメッシュの重心によって画定される配列位置間の最小離隔距離の５０％（即ち、六角形のメッシュセルの重心によって画定される三角形の格子に対して変位の方向に基底ベクトルの長さの５０％）に等しい距離内に位置する。この結果は、図１のそれぞれの最初のメッシュセル開度の重心が頂点を少し移動する手順によって実質的に変位されなかったからである。この場合、セルは、本明細書では配列に位置すると呼ばれる。本明細書で後に開示されるいくつかの実施形態では、重心の位置（頂点の位置だけでなく）はまた、ランダム化されるように特定される。
【００２６】
（Ｃ）配列にないセルを有する微小パターン
上記で定義したように、セルの重心が配列を画定する位置から短い距離以下で位置するように、メッシュの微小パターンのセルが２つの寸法で配置される場合、メッシュセルは、本明細書では反復する配列に（又は配列に）位置すると見なされる。セルが反復する配列に位置する場合によっては、セルの重心は、点の配列に精密に位置する。反復する配列にない（即ち、反復する配列に位置しない）セルを有する微小パターンの特性は、この用語が本明細書で使用されるとき、（メッシュセル当たり１つの配列位置のみがある更なる制限下で）メッシュの重心の全てが変位の配向に構成され得る最短の配列基底ベクトルの長さをとることによって、かつその基底ベクトルと関連付けられる単位セル内の配列位置の数によって分けることによって得られる値の５０％未満の距離内に位置するように、４つ又はそれより少ない位置を含む単位セルを使用して位置の配列が構成され得ないようにメッシュセルの重心（即ち、セル開度の重心）が配置される。このメッシュ微小パターンに関して、セルは概して、同一の寸法かつ形状ではない。ここまで上述した３つの微小パターン（Ａ、Ｂ、及びＣ）のうち、Ｃ型の微小パターンは、より高い不規則度を有する。この種類のセル形状の実例を図５に示す。
【００２７】
図５は、複数の開放面積セル５４を画定する複数のトレース５２によって形成される擬似ランダム湾曲微小パターン５０である、更に別の非線形設計の一部分の平面図を示す。この形状は、それぞれが２マイクロメートルの例示的な幅を有する、湾曲した導電性トレースによって画定されるセルを含む。擬似ランダム湾曲設計を有する導電体微小パターンのセルは、例えば、４つ〜８つの縁部からセルを画定する様々な数の縁部又はトレースを有し得る。セルの寸法は、１０，０００平方マイクロメートルの面積〜７０，０００平方マイクロメートルの面積まで様々である。参考として、図１の規則的な六角形の微小パターンの面積は、３５，０００平方マイクロメートルである。例えば、それぞれのセルの重心によって画定されるように、セルの位置は、規則的に離間配置された配列に位置しない。
【００２８】
Ｄ．トレース配向の一様分布を有する微小パターン
この種類の微小パターンの特性は、セル形状に関して、又はセルの重心の位置に関して限定されないことである。この種類の微小パターン形状をより良く説明するために、トレース配向の角度分布の概念を使用する。
【００２９】
トレース配向の角度分布
それぞれのトレース設計は、本明細書で更に説明するように、トレース配向の角度分布を特徴とし得る。本明細書に記載される手順によって、かつ１センチメートル×１センチメートルの面積にわたって測定可能であるとき、本明細書の擬似ランダム湾曲設計のトレース配向の角度分布は、実質的に一様である。例えば、いくつかの実施形態では、分布の一様性に関して、その基準配向のプラスマイナス１０度内に存在する微小パターン内のトレースセグメントの法線がない、微小パターンの平面内に基準配向が確立され得ない。場合によっては、その基準配向のプラスマイナス５度内に存在する微小パターン内にトレースセグメントの法線がない、微小パターンの平面内に基準配向が確立され得ない。場合によっては、その基準配向のプラスマイナス２度内に存在する微小パターン内にトレースセグメントの法線がない、微小パターンの平面内に基準配向が確立され得ない。更に、分布の一様性に関して、例えば、１センチメートル×１センチメートルの面積にわたって、２つの範囲内のトレースセグメントの法線の集積化密度が２つの集積化密度値のうちのより小さいものの５０％超によって異なる、微小パターンの平面内の配向の２０°の範囲が２つない。場合によっては、例えば、１センチメートル×１センチメートルの面積にわたって、２つの範囲内のトレースセグメントの法線の集積化密度が２つの集積化密度値のうちのより小さいものの２５％超によって異なる、微小パターンの平面内の配向の２０°の範囲が２つない。場合によっては、例えば、１センチメートル×１センチメートルの面積にわたって、２つの範囲内のトレースセグメントの法線の集積化密度が２つの集積化密度値のうちのより小さいものの１０％超によって異なる、微小パターンの平面内の配向の２０°の範囲が２つない。場合によっては、例えば、１センチメートル×１センチメートルの面積にわたって、２つの範囲内のトレースセグメントの法線の集積化密度が２つの集積化密度値のうちのより小さいものの１０％超によって異なる、微小パターンの平面内の配向の１０°の範囲が２つない。場合によっては、例えば、１センチメートル×１センチメートルの面積にわたって、２つの範囲内のトレースセグメントの法線の集積化密度が２つの集積化密度値のうちのより小さいものの１０％超によって異なる、微小パターンの平面内の配向の２つの５°の範囲がない。
【００３０】
本開示の微小パターンは、特に情報の表示（例えば、携帯電話、スマートフォン、タブレットコンピュータ、ラップトップコンピュータ、デスクトップコンピュータのモニタ、読み出し装置、自動車用ディスプレイ、又は小売ディスプレイ）と組み合わせられるとき、他の微小パターンを観察された多数の潜在的に望ましくない視覚特徴の同時最小化を提供する。これらの潜在的に望ましくない視覚特徴としては、既に説明したように、星形、虹、及び発光が挙げられる。微小パターン設計によって軽減される潜在的に望ましくない特徴としては、ディスプレイの画素パターンのモアレ干渉も挙げられる。微小パターン設計によって軽減される潜在的に望ましくない特徴としては、ディスプレイ（情報をわかりにくくするが、必ずしもモアレパターンにつながらない）の個別画素の見易さの相当な閉鎖（例えば、２５％、５０％、又は更には７５％）も挙げられる。潜在的に望ましくない視覚特徴のうちの１つ以上の軽減を最適化するためにディスプレイに関して、傾けられる（例えば、回転される、又はバイアスされる）微小パターンの本開示の範囲内である。微小パターンの傾斜は、画素化したディスプレイのモアレ干渉を最小化するのに特に有用であり得る。場合によっては、位置の正方形の配列に分布される４つの面を持つセル形状（例えば、完全に湾曲した正方形のセル形状）は、傾斜によってモアレ干渉の最小化に便利である。
【００３１】
本開示に有用であるトレースの母集団の配向は、微小パターン内の異なる配向のトレースセグメントの相対濃度、存在、又は存在度を表す分布として数量化され得る。この分布は、線形トレース又は非線形トレースを備える微小パターン内のトレースの母集団の配向を表すために使用され得る。また、それは、反復の形状（例えば、正方形又は六角形の微小パターンの場合のように）を備える微小パターン内の、又は非反復の形状（例えば、線形（図２のように）若しくは非線形（図５のように）のトレースを備える擬似ランダム微小パターン設計の場合のように）を備える微小パターン内のトレースの母集団の配向を表すために使用され得る。この記述子は、トレースの法線の配向の関数として微小パターンの単位面積当たりの集積化微小パターントレース長である。言い換えれば、この記述子は、導電体微小パターンを形成するトレースセグメントの配向の周波数分布（又はトレースセグメントの法線の配向の分布）として表され得る。「集積化」とは、特定の配向を有する画定された面積内のトレースに対するトレース幅全体の総和を意味するものである。
【００３２】
非線形トレースを有する導電体微小パターン内の配向に対する上述した周波数特性を収集するために、以下の手順が使用され得る。この手順は、例えば、１１インチ（２７．９ｃｍ）×１７インチ（４３．２ｃｍ）の紙に微小パターン設計の拡大された印刷のための一連の手動線引き及び測定工程を含む。特性化手順は、（ａ）紙に微小パターンの拡大されたレンダリングを印刷する工程と、（ｂ）微小パターンのトレースをほぼ等しい経路長の少なくとも２００セグメントに分割する工程と、（ｃ）それぞれのセグメントの法線を手動で線引きする工程と、（ｄ）０°方向を確立することによって基準の配向構造を確立する工程と、（ｅ）（例えば、分度器を使用して）０°方向に対してあらゆる法線の配向を測定する工程とを含む。トレース、ひいてはトレースの法線は、以下の理由で角度範囲の１８０°を使用して特定され得る。垂直真っ直ぐに向かうトレースは、上向き又は下向きに配向されるように任意に表され得る。トレース又は上向きに配向されるその法線は、トレース又は下向きに配向されるその法線と異ならない。したがって、下向きに配向されるトレースと多少なりとも異なる（即ち、上向きトレースが下向きトレースと異なることを示唆する意味がない）、上向きに配向されるトレースを生成することができない。したがって、可能なトレースセグメント配向の全範囲は、角度範囲の１８０°のみを必要とする。
【００３３】
図６は、トレース配向の法線の角度がトレースセグメントＰ１で測定される場合、図４の実施形態の１つの完全なセルの線図を示す。簡潔さのために、２００セグメントのうちの１つのみを示す。図に示すようにトレースセグメントＰ１の法線Ｎを描く。トレースセグメントＰ１及び法線Ｎの両方を交差して接線Ｔを描く。破線矢印で示すように基準ゼロ度線を描く。角度シータ（θ）が次に測定され、基準線と法線との間の角度を決定することができる。この測定は次に、６つのトレースのそれぞれに沿ってＰ１と類似するセグメントに対して複数回繰り返される。任意だが十分に多数のセグメント（この場合、統計的に重要な測定のための２００セグメント）がセルに対して描かれ得る。ほぼ等しい数のセグメントが６つのトレースのそれぞれに対して描かれる。
【００３４】
トレースセグメントの法線の配向のこのように測定された分布は、配向測定のヒストグラムを示すことによって表され得る。トレースセグメントの法線の配向の分布がトレースセグメントそれ自体の配向の分布に対して直接相関をもたらすことが注目されるべきである。本明細書の微小パターンに関して、この手順は、微小パターンのうちの少なくとも１つの完全なセルを構成するトレースのために行われる。２次元微小パターンを生成するために２つの方向に複製される単一のセル形状及び寸法を有する微小パターンに関して、単一セルを構成するトレースの特性化は、より大きな面積にわたって（例えば１０、１００、又は更には１０００セルを占める面積にわたって）２次元微小パターンのトレース配向の分布を決定するのに適切である。例えば、直径２００マイクロメートルである単一の規則的な六角形のセルを構成するトレースの特性化は、１ミリメートル×１ミリメートル、１センチメートル×１センチメートル、又は更には１メートル×１メートルであるこのようなセルの規則的な六角形の微小パターンのトレース配向の分布を決定するのに適切である。複数のセル形状又は寸法を有する微小パターンに関して、有用な精度（例えば、１ミリメートル×１ミリメートル、１センチメートル×１センチメートル、又は更には１メートル×１メートルの実際の導電体微小パターンの面積にわたってトレース配向の実際の分布と比較したとき、トレース配向のこのように測定された分布が少なくとも０．８、少なくとも０．９、少なくとも０．９５、又は更には少なくとも０．９９のＲ２相関係数を示す場合）を有する微小パターン全体のトレース配向の分布を決定するために十分な数のセルが特徴付けられるべきである。
【００３５】
トレースセグメントの法線の配向（角度θで表される）が測定される時点で、それらは、２つのミクロンのビンに入れられ、それによって０〜１８０度の９０のビンを生成することができる。それぞれのビンは、ビンの２度の角度範囲内に配向を生成した測定の数を表す整数を含む。このビニング手順は、配向の別個の分布をもたらす。最後に、周波数値の標準偏差（２度のビン当たりの測定された周波数の標準偏差）が計算され得る。トレースセグメントの法線のいくつかの分布、ひいては一様と考慮されるように本明細書に記載されるトレース配向の分布に関して、このように計算された標準偏差は、４未満である。本明細書では一様とされるトレース配向のいくつかの分布に関して、このように計算された標準偏差は、３未満である。本明細書では一様とされるトレース配向のいくつかの分布に関して、このように計算された標準偏差は、２未満である。本明細書では一様であるトレース配向のいくつかの分布に関して、このように計算された標準偏差は、１未満である。
【００３６】
図７は、規則的な六角形である、図１の微小パターンの複数のトレースセグメントに対する角度θのヒストグラムを示す。３つの明白な頂点は、それぞれの角度が他の頂点から離れて約６０度である、３つの角度で生じる。３つの頂点が約６０°離れている限り、４０°、１００°、及び１６０°等の他の角度で生じ得る点において、ヒストグラムのｘ軸に示される角度の絶対値が任意であることが注目されるべきである。図１を参照すると、法線に対する配向角度が、トレース１２ａが１２ｄと、１２ｂが１２ｅと、及び１２ｃが１２ｆと同一であるため、この３つの頂点の結果となる。この微小パターンに関して、２度のビン当たりの測定された周波数の標準偏差は、高度な非一様の直接表示である、１１．６として測定された。
【００３７】
図８、９、及び１０はそれぞれ、図２の擬似ランダム六角形の微小パターン、図３の部分的に湾曲した微小パターン、及び図４の完全に湾曲した微小パターンに対する角度θのヒストグラムを示す。これらのヒストグラムのそれぞれは、図１０のヒストグラムが４つの微小パターンのうちの最も一様な分布を有して、図１の微小パターンのヒストグラムと比較すると角度θのより広い分布を有する。更に、これらのヒストグラムの標準偏差は、１．６（図８）、２．６（図９）、及び１．０（図１０）である。
【００３８】
更に非線形トレースを有する導電体微小パターン内のトレースセグメント配向の分布について、一様分布を有し、更に分布に表されないいくつかの配向又は小範囲の配向を有することが本明細書に記載される微小パターンの範囲内である。即ち、所定の面積の微小パターン内の可能な配向の全１８０°にわたってトレース又はトレースセグメント配向の完全に一様な分布を有する微小パターンは、単一トレース（又はトレースセグメント）の除去によって、又は例えば、５°を超える範囲の角度、若しくは例えば、２°を超える範囲の角度などの狭い範囲の角度内の全てのトレースの除去によって、「一様分布」を有することが本明細書に記載される微小パターンの範囲から除去されない。
【００３９】
部分トレースセグメント配向の周波数を測定（約２００測定値）及びビニングする（２°のビン）ための上述した手順を参照して、擬似ランダム湾曲微小パターン（図５）は、５未満、３未満、２未満、１、又は更には１未満の２°のビン当たりの測定された周波数の標準偏差を有し得る。
【００４０】
トレースセグメント配向の分布の一様性に加えて、本開示の導電体微小パターンの形状は、トレースの曲率半径に関して記載され得る。場合によっては、微小パターンを含むトレースの曲率半径は、１センチメートル未満である。場合によっては、メッシュパターンを含むトレースのほぼ全ての曲率半径は、１センチメートル未満である。場合によっては、微小パターンを含むトレースの曲率半径は、１ミリメートル未満である。場合によっては、微小パターンを含むトレースのほぼ全ての曲率半径は、１ミリメートル未満である。場合によっては、メッシュパターンを含むトレースの曲率半径は、５０ミクロン〜１ミリメートルである。場合によっては、微小パターンを含むトレースのほぼ全ての曲率半径は、５０ミクロン〜１ミリメートルである。場合によっては、微小パターンを含むトレースの曲率半径は、７５ミクロン〜７５０ミクロンである。場合によっては、微小パターンを含むトレースのほぼ全ての曲率半径は、７５ミクロン〜７５０ミクロンである。場合によっては、メッシュパターンを含むトレースの曲率半径は、１００ミクロン〜５００ミクロンである。場合によっては、微小パターンを含むトレースのほぼ全ての曲率半径は、１００ミクロン〜５００ミクロンである。場合によっては、微小パターンを含むトレースの曲率半径は、１５０ミクロン〜４００ミクロンである。場合によっては、微小パターンを含むトレースのほぼ全ての曲率半径は、１５０ミクロン〜４００ミクロンである。
【００４１】
３層材料を含む導電体
３層（即ち、多層）材料導電体は、「金属−誘電体−金属」の順にコーティングされる３つの真空蒸着した薄いフィルムで構成される。２つの金属層は、それらの光学特性の点で異なる。第１の金属層は、高反射かつ高吸収性があるために、光学的に不透明で、非常に低い（例えば、本質的にゼロパーセント）光透過を可能にするように十分に厚い。第２の層は、誘電体層であり、可視波長で透明である。第３の層は、半透明金属層である。この３層は、２つの配向又は配列（即ち、第１の金属が最初に蒸着され、又は第２の金属が最初に蒸着されて）のいずれかで基材の表面に蒸着され得る。金属及び透明材料の厚さ及び選択に関して適切に設計される場合、薄いフィルムスタックは、減少した反射を示すために半透明の金属層を有する面から観察される。最上位の半透明金属層及び最下位の不透明金属層から反射される光の相互作用は、スペクトル反射又は観察された色を決定する。非常に低い又は暗い反射率をもたらすために、これらの２つの反射の位相差は、可視波長の範囲にわたって、それが等しく、また、反射率が達成可能な限り低いように管理されるべきである。これは、それぞれの層に対して適切な材料及び層厚さを選択することによってなされる。不透明な金属層は概して、銀又はアルミニウムであるが、低吸収性を有する別の高反射金属であってよい。誘電体層は、アクリレート材料で構成されるポリマー層であるが、二酸化ケイ素等の明白に透明な無機材料であってもよく、半透明金属層は概して、クロムであるが、単一性に近い光学定数（ｎ、ｋ）率を有する（チタン等の）別の金属であってもよい。２つの金属層に関して、電気的に接続されることが所望の場合、それらは、透明層にわたって伝導経路を有しなければならない。これは、透明層内の欠陥位置で層均一性を局部的に妨げる層不規則及び障害の結果を生じ得る。
【００４２】
この３層材料は、例えば、フィルムに又は別個の基材をコーティングする搬送ラインでのロール対ロールコーティング等の順次的かつ連続的な様々な方法で適切な蒸着発生源を含むコーティングチャンバで調製され得る。別の手法は、別個の基材（又は複数の基材）がチャンバに定置され、コーティングされ、次いで除去され、次のバッチと置換される、バッチコーティング概念を用いる。全３層は、１つのチャンバ内のバッチに順次コーティングされてよく、あるいはそれぞれのバッチは、チャンバでコーティングされ、次いで次の層の次のチャンバに移動される、１つの層を有してよい。いずれかの手法において、真空コーティングプロセスは、必要とした非常に薄いかつ非常に精密な厚さレベルで特定の材料をコーティングするのに最適である。金属及び無機誘電体のコーティングに関して、物理気相蒸着が最も好まれ、電子ビーム蒸着又はスパッタリングが最も広く利用されている。誘電体（透明）層が有機的である場合、有機気相蒸着、プラズマ重合、又は液体コーティング等の方法が使用され得る。
【００４３】
不透明体、高反射層に好適な金属としては、銀、パラジウム、白金、アルミニウム、銅、モリブデン、ニッケル、スズ、タングステン、合金、及びこれらの組み合わせが挙げられる。半反射金属層に好適な金属としては、チタン、クロム、アルミニウム、ニッケル、銅、金、モリブデン、白金、ロジウム、銀、タングステン、コバルト、鉄、ゲルマニウム、ハフニウム、パラジウム、レニウム、バナジウム、シリコン、セレン、タンタル、イットリウム、ジルコニウム、並びにこれらの組み合わせ及び合金が挙げられる。透明な材料に好適な材料としては、アクリルポリマー、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＨｆＯ２、Ｓｃ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＴｈＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５、及びこれらの組み合わせが挙げられる。いくつかの実施形態では、半反射金属は、クロム又はチタンを含み、不透明体かつ反射金属は、銀又はアルミニウムを含み、透明材料は、アクリルポリマー、ＳｉＯ２、又はＴｉＯ２を含む。
【００４４】
半反射金属の厚さは、１〜５０ナノメートル、場合によっては、２〜２０ナノメートルであってよい。透明材料の厚さは、２０〜１００ナノメートル、場合によっては、４０〜８０ナノメートルであってよい。不透明な高反射金属の厚さは、５０ナノメートル〜１０マイクロメートル、場合によっては、７５ナノメートル〜１マイクロメートル、更に他の場合、１００ナノメートル〜２５０ナノメートルであってよい。
【００４５】
導電体微小パターンを製造する方法
開示した設計を有する導電体微小パターンは、任意の好適な方法を使用して調製され得る。導電体微小パターンを調製するための方法の例としては、減法又は加法が挙げられる。例示的な減法としては、基材（例えば、可視光線透明基材）に配設される金属コーティング上のパターン化マスクの配置、続いて（金属がマスクによって覆われない金属コーティングの領域から除去され、金属がマスクによって覆われる金属コーティングの領域にとどまる）選択的エッチングが挙げられる。好適なマスクとしては、（当該技術分野において既知であるようにフォトリソグラフィーによってパターン化された）フォトレジスト、印刷したポリマー、又は（例えば、マイクロコンタクトプリンティングを使用して印刷される）印刷した自己組織化単分子層が挙げられる。他の例示的な減法としては、基材（例えば、可視光線透明基材）上のパターン化リフトオフマスクの初期配置、金属導電体（例えば、薄いフィルム金属）を有するマスク化及び非マスク化領域のブランケットコーティング、並びにリフトオフマスク及びその上に配設される任意の金属の洗浄が挙げられる。例示的な加法プロセスとしては、所望の微小パターン形状の形態での基材（例えば、可視光線透明基材）上の無電解蒸着触媒の印刷、続いてパターン化された無電解金属蒸着（例えば銅又はニッケル）が挙げられる。
【００４６】
導電体微小パターンを生成するための好ましい方法としては、マイクロコンタクトプリンティングが挙げられる。導電体パターンの反射率を減少させる（カーボンブラック充填材料とコーティングすること又は硫化物等の吸収する反応生成物を形成するために金属を部分的に反応させること）ための他の手段と比較すると、本明細書で記載される手段は、マイクロコンタクトプリンティング及びエッチングに基づくパターニング手法との組み合わせに特に適合していると認められ、したがって特定の微小パターン設計パラメータ（例えば、０．５〜１０マイクロメートル、０．５〜５マイクロメートル、又は１〜３マイクロメートルのトレース幅）及び導電体厚さ（例えば、０．００１〜２マイクロメートル、０．０５〜１マイクロメートル、０．０７５〜０．５マイクロメートル、又は０．１〜０．２５マイクロメートルの厚さを有する第１の金属層又は第２の金属層）が製造されることを可能にした。ミクロン規模特徴上のカーボンブラック充填材料の配置は、非実用的である。吸収性反応生成物に対する厚さサブミクロンの金属（例えば、０．０７５〜０．５マイクロメートル、又は０．１〜０．２５マイクロメートル）の部分的化学変換は、この層の電気伝導度を実質的に減少もさせずに反射率を実質的に減少させるのに有効ではない。
【００４７】
空気にさらすと反射を防止するナノ構造化表面を備える基材（例えば、可視光線透明性）の場合、空気にさらすとナノ構造化し、かつ反射を防止する表面を含む基材が提供され、金属導電体が表面上に（例えば、スパッタリングによって又は蒸着によって）蒸着され、エラストマースタンプを使用して自己組織化単分子層（ＳＡＭ）が一定のパターンで印刷され、最後に、金属は、ＳＡＭを有さない蒸着した金属領域からエッチングされ、かつＳＡＭを含む蒸着した金属領域からエッチングされない。
【００４８】
３層材料導電体の場合、主表面を有する基材（例えば、可視光線透明性）が提供され、半反射金属が基材表面（場合によっては、１〜２０ナノメートルの厚さを有するチタン）上に蒸着され、透明材料が半反射金属（場合によっては、５０〜１００ナノメートルを有するＳｉＯ２）上に蒸着され、不透明反射金属が透明材料（場合によっては、Ｔｉ金属導電体が最初に５オングストローム〜５ナノメートルの厚さを有する接着促進層、続いて５０ナノメートル〜２５０ナノメートルの厚さを有する銀として蒸着される）上に蒸着され、エラストマースタンプを使用して自己組織化単分子層（ＳＡＭ）が一定のパターンで印刷され、最後に、銀がＳＡＭを有さない蒸着した金属領域からエッチングされ、かつＳＡＭを含む蒸着した金属領域からエッチングされず、エッチングの第２の段階において、不透明な反射金属の下で後続の層の材料がＳＡＭを有しない蒸着した金属領域からエッチングされ、かつＳＡＭを含む蒸着した金属領域からエッチングされない。
【００４９】
導電体微小パターンを使用して物品を製造する方法
基材の表面上に配設される導電体微小パターンは、いくつかの異なる物品を製造するのに有用である。透明な導電性パターンを備えるコンポーネンツとしては、タッチディスプレイのための触覚センサパネルが挙げられる。例えば、相互キャパシタンスモード検出を利用し、かつマルチタッチ解像能力を含み得る、電子機器との組み合わせに好適であるいくつかの触覚センサなどのタッチディスプレイのためのいくつかの触覚センサパネルは、重ねられる２つ以上の導電体パターンを含む。重ねられる２つ以上の導電体パターンは、それぞれの基材が本開示による導電体微小パターンの１つの主表面上に配設した、透明な接着剤と共に２つの基材を積層することによって生成され得る。このような積層した物品は、基材が透明であるとき、かつ導電体微小パターンが高い開放面積分率を有するとき、可視光線透明性であり得る。積層した構成体を形成するための好適な基材の例としては、上述した高分子フィルム基材が挙げられる。
【００５０】
積層した構成体を形成するための好適な接着材料の例は、少なくとも約９０％又は更にはそれより高い光透過率、及び約５％未満又は更にはそれより低いヘイズ値を呈する光学的に透明な接着剤である。光透過及びヘイズは、（ＢＹＫ  Ｇａｒｄｎｅｒ，Ｃｏｌｕｍｂｉａ，ＭＤからの）Ｍｏｄｅｌ  ９９７０  ＢＹＫ  Ｇａｒｄｎｅｒ  ＴＣＳ  Ｐｌｕｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒを使用して（ＤｕＰｏｎｔ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥからの）２５マイクロメートルのＭｅｌｉｎｅｘ（登録商標）ポリエステルフィルム４５４と７５×５０ミリメートルの単純な顕微鏡スライド（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩからのガラススライド）との間にそれを配設することによって測定され得る。好適な光学的に透明な接着剤は、帯電防止特性を有してよく、金属系導電体と適合し、光学的感圧接着剤に関するＰＣＴ国際公開第ＷＯ  ２００８／１２８０７３号、延伸剥離式光学的に透明な感圧接着剤に関する米国特許出願公開第ＵＳ  ２００９−０３００８４  Ａ１号、光学的透過接着剤を有する帯電防止光学的構成体に関する同第ＵＳ  ２０１０−００２８５６４  Ａ１号、光学的に透明な延伸剥離接着テープに関するＰＣＴ国際公開第ＷＯ  ２００９／１１４６８３号、腐食検知層と適合する接着剤に関する同第ＷＯ  ２０１０／０１９５２８号、及び延伸剥離接着テープに関する同第ＷＯ  ２０１０／０７８３４６号に記載されるものを含む例示的な光学的接着剤に記載される接着剤を延伸させることによってガラス基材から剥離させることができてよい。一実施形態では、光学的に透明な接着剤は、約５μｍ以下の厚さを有する。
【００５１】
基材上に配設される導電体微小パターンを有する基材、あるいは２つ以上の基材上に配設される導電体微小パターンを有する２つ以上の基材を含む積層体は、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰ）、又はエレクトロウェッティングディスプレイなどディスプレイに更にラミネートされ得る。このような基材又は積層体は、参照した接着剤材料を使用してディスプレイにラミネートされ得る。基材上に配設される導電体微小パターンを有する基材、あるいは２つ以上の基材上に配設される導電体微小パターンを有する２つ以上の基材を含む積層体は、例えば、厚い（例えば、１ミリメートル）ポリマーシート又はガラスシート等の剛性の支持体などの別の材料に更にラミネートされ得る。剛性の支持体の例としては、携帯電話又はスマートフォン等の移動可能なハンドヘルド型装置のレンズが挙げられる。
【００５２】
いくつかの実施形態では、本明細書に記載されるように導電体微小パターン例えば、可撓性又は剛性であり得る平坦な基材のそれぞれの主表面上などの基材の複数の面に配設される。配向に名目上平行であり、かつ微小パターンに垂直な方向に離間配置される２つの導電体微小パターンを必要とする用途に関して、例えばポリマーフィルムのそれぞれの面上などの同一の平坦な基材のそれぞれの面に配設されることが２つの微小パターンにとって有利であり得る。
【００５３】
図１１は、エッチングされ、パターン化された３層（即ち、多層）導電体を含む面である基材の第１の面上の複数の第１の不連続領域７０４間を交互にする複数の第１の連続領域７０２を概略的に（正確な縮尺ではない）有する例示的な第１のパターン化基材７００を示す。３層の導電体は、基材に近接してその半透明金属層、続いてその透明な誘電体層、続いてその高反射の光学的に不透明な金属層と配向され得る。第１のパターン化基材は、実際は、１１の第１の連続領域７０２を有する。第１の連続領域７０２は、約２．２ミリメートルの幅、約４．９５ミリメートルのピッチ、及び約９５ミリメートルの長さを有する。基材は、実質的に裸のＰＥＴフィルムであった、対向する第２の面を有する。第１の領域７０２のそれぞれは、それぞれの第１の連続領域７０２に電気的に接触するために１つの端部で配設される対応する幅４０ミクロンの導電性トレース７０６を有する。第１のパターン化基材のメッシュ設計は、上述したように（図１１ａ及び１１ｂに示した六角形のメッシュ設計と対照的に）、メッシュを構成する導電性トレースの湾曲を含む、擬似ランダムの形状かつ寸法であり得る。
【００５４】
透明なセンサ要素及び第２のパターン化基材の形成
例示的な第２のパターン化基材は、パターン化３層（即ち、多層）導電体を有する第２のフィルムを製造するために第２の可視光線基材を使用して第１のパターン化基材として製造され得る。３層の導電体は、基材に近接してその半透明金属層、続いてその透明な誘電体層、続いてその高反射の光学的に不透明な金属層と配向され得る。第２のスタンプは、第２の不連続メッシュパターン領域の間に介在される第２の連続メッシュパターン領域を有して製造され得る。
【００５５】
図１２は、エッチングされ、パターン化された銀金属配線技術を含む面である第２の基材の第１の面上の複数の第２の不連続領域７２４間を交互にする複数の第２の連続領域７２２を概略的に（正確な縮尺ではない）有する第２のパターン化基材７２０を示す。第２のパターン化基材は、実際は、１９の第１の連続領域７２２を有する。第２の連続領域７２２は、約４．４８ミリメートルの幅、約４．９３ミリメートルのピッチ、及び約５５ミリメートルの長さを有する。第２の連続領域７２２のそれぞれは、それぞれの第２の連続領域７２２に電気的に接触するために１つの端部で配設される対応する幅４０ミクロンの導電性トレース７２６を有する。第１のパターン化基材のメッシュ設計は、上述したように（図１２ａ及び１２ｂに示した六角形のメッシュ設計と対照的に）、メッシュを構成する導電性トレースの湾曲を含む、擬似ランダムの形状かつ寸法であり得る。
【００５６】
投影型静電容量タッチスクリーンセンサ要素の形成
２層投影型静電容量タッチスクリーン透明センサ要素を製造するために、上記で作製された第１及び第２のパターン化された基材が、以下のように使用され得る。第１及び第２のパターン化された基材が、ミネソタ州セントポールの３Ｍ  ＣｏｍｐａｎｙからのＯｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｌｅａｒ  Ｌａｍｉｎａｔｉｎｇ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ  ８２７１を使用して互いに接着されて、多層構成体を生成した。手持ち式ローラーを使用して、接着剤を含まない第１及び第２の導電性トレース領域７０６及び７２６の領域を有する２つのパターン化基材をラミネートした。第１の基材の第１の面がフロートガラスに近接するように、Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｌｅａｒ  Ｌａｍｉｎａｔｉｎｇ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ  ８１４６−３を使用して、多層構成体を厚さ０．７ｍｍのフロートガラスにラミネートした。接着剤を含まない第１及び第２の導電性トレース領域７０６及び７２６により、第１及び第２のパターン化基材７００及び７２０への電気的接続をなすことができた。
【００５７】
図１３は、第１及び第２のパターン化基材が重ねられた（第１及び第２のパターン化基材を積層することから生じるように）多層タッチスクリーンセンサ要素７４０の平面図を概略的に（正確な縮尺ではない）示す。領域７３０は、第１及び第２の連続領域の重なりを表す。領域７３２は、第１の連続領域と第２の不連続領域との重なりを表す。領域７３４は、第２の連続領域と第１の不連続領域との重なりを表す。また、領域７３６は、第１と第２の不連続領域間の重なり部分表す。これらの重複領域が複数存在したが、例証を容易とするために、それぞれ１つの領域のみが図に示されている。
【００５８】
触覚検出システムの追加コンポーネンツ
透明なセンサ要素の相互キャパシタンス測定を行うために使用され得る集積回路は、ＵＳＢ変換器及びマイクロコントローラＴＭＡ３５０（Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ，Ｓａｎ  Ｊｏｓｅ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａから市販）に対するＩ２Ｃを含む、修正参照Ｒｅｖ  ＊Ｄを有するＣＹ３２９０−ＴＭＡ３００  ＴｒｕｅＴｏｕｃｈ（商標）Ｄｅｖ  Ｋｉｔである。ＴＭＡ３５０は、当該技術分野において既知であるように、透明なセンサ要素のために構成され得る。この構成は、設計に応じてタッチスクリーンからタッチスクリーンにまで変わり得る。この場合、システムは、１９の異なるバーを駆動し、１１の異なるバーを測定することができる。ＴＭＡ３５０の構成は、変換するチャネル数の選択と、正確に又は迅速に測定をする方法と、ノイズ及びタッチしきい値と、適用されるべき任意のデジタルフィルタリングと、ＣＹ３２９０−ＴＭＡ３００に特定の様々な他の設定とが含まれ得る。上記からの測定が実行中であったが、マイクロコントローラはまた、Ｉ２ＣをＴＭＡ３５０からコンピュータインターフェースのＵＳＢに変換するＴｒｕｅＴｏｕｃｈ（商標）Ｂｒｉｄｇｅを介してモニタを有するコンピュータにデータを送信していた。このＵＳＢインターフェースは、Ｃｙｐｒｅｓｓ  ＴｒｕｅＴｏｕｃｈ（商標）ソフトウェアがＴＭＡ３５０からデータをレンダリングし、かつどのようにこの値が接触と非接触との間で変わっていたかを見ることを可能にする。
【００５９】
触覚検出システムの試験結果
透明センサ要素を触覚センサ駆動デバイスに接続することができる。指の接触がガラス表面になされるとき、コンピュータのモニタは、モニタの対応する位置において色変化（黒から緑）の形態で触覚検出領域内に生じる接触の位置をレンダリングすることができ、タッチスクリーンシステムの結果をシミュレートするために隣接するディスプレイ内の位置を表示した。２つ、３つ、及び４つの指の接触がガラス表面に同時になされるとき、コンピュータのモニタは、モニタの対応する位置において色変化（黒から緑）の形態で触覚検出領域内に生じる接触の位置をレンダリングすることができ、タッチスクリーンシミュレーションディスプレイ内の位置を表示した。
【００６０】
応用例
いくつかの実施形態では、本明細書に記載される物品は、可視光線透明基材の上又はその中に配設されるセル形状の開放微小パターンを画定する非線形トレースを含む導電体微小パターンを備える。いくつかのこのような実施形態では、導電体微小パターンは、ＥＭＩ遮蔽の少なくとも一部分を形成する。いくつかのこのような実施形態では、導電体微小パターンは、アンテナの少なくとも一部分を形成する。いくつかのこのような実施形態では、導電体微小パターンは、触覚センサ（例えば、タッチスクリーンセンサ）の少なくとも一部分を形成する。いくつかのこのような実施形態では、導電体微小パターンは、例えば、電気泳動の対電極などのディスプレイ電極の少なくとも一部分を形成する。
【００６１】
いくつかの実施形態では、本明細書に記載される物品は、可視光線透明基材の上又はその中に配設されるセル形状の第１の開放微小パターンを画定する非線形トレースを含む第１の導電体微小パターンと、第１の導電体微小パターンから電気的に絶縁されるセル形状の第２の開放微小パターンを画定する非線形トレースを含む第２の導電体微小パターンと、を含む。第２の導電体微小パターンは、第１の導電体微小パターンと同じ基材上に配設されてよく、又は別の基材上に配設されてよい。第２の導電体微小パターンは、第１の導電体微小パターンを重ねる。
【００６２】
いくつかの実施形態では、両方の導電体微小パターンは、例えば、タッチスクリーンセンサなどの触覚センサの少なくとも一部分を形成する。
【００６３】
いくつかの実施形態では、両方の導電体微小パターンは、電気泳動ディスプレイの少なくとも一部分を形成する。
【００６４】
あるいは、別の実施形態では、導電体微小パターンの一方は、例えば、タッチスクリーンセンサなどの触覚センサの少なくとも一部分を形成し、他方の導電体微小パターンは、無線通信のアンテナとして機能してよい。
【００６５】
更に別の実施形態では、導電体微小パターンの一方は、例えば、タッチスクリーンセンサなどの触覚センサの少なくとも一部分を形成し、他方の導電体微小パターンは、電磁干渉（ＥＭＩ）遮蔽として機能してよい。
【００６６】
更に別の実施形態では、導電体微小パターンの一方は、無線通信のアンテナの少なくとも一部分を形成し、他方の導電体微小パターンは、電磁干渉（ＥＭＩ）遮蔽として機能してよい。
【実施例】
【００６７】
基材
２つの異なる基材をこの実施例セクションで使用した。
【００６８】
第１の基材は、Ｅ．Ｉ．ｄｕ  Ｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥから製品番号ＳＴ５０４として市販のものを使用し、約１２５マイクロメートルの厚さを有するポリエチレンテレフタレート（「ＰＥＴ」）の可視光線透明基材であった。
【００６９】
第２の基材は、ＷＯ  ２０１０／０７８７１  Ａ１の開示により調製される構造化トリアセテートフィルム（「構造化ＴＡＣ」）であった。出発基材は、（Ｉｓｌａｎｄ  Ｐｙｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ  Ｃｏｒｐ．，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，ＮＹから市販の）７５マイクロメートルの厚さを有するセルローストリアセテートであった。したがって、基材の第１の表面上のナノ構造を収容するためにこのＴＡＣフィルムを変性した。ナノ構造化表面は、０．１〜０．２％の反射率を示した。ナノ構造化表面は、０．２〜０．４％の透過ヘイズを示した。ナノ構造化表面は、高さ１００〜２５０ナノメートルであったナノ特徴を含んだ。ナノ特徴の高さ幅比（異方性）は、１を超えた。
【００７０】
伝導体
ＰＥＴ基材又は構造化ＴＡＣ基材上に、以下の導電性コーティングを蒸着した。
【００７１】
（１）既知の真空スパッタリング法を使用して両方が蒸着される、基材上に直接配設される厚さ５オングストロームのチタン、続いて厚さ１００ナノメートルの銀の多層構成体である「スパッタ銀」フィルム、
（２）既知の電子ビーム蒸着法を使用して両方が蒸着される、基材上に直接配設される厚さ５オングストロームのチタン、続いて厚さ１００ナノメートルの銀の多層構成体である「蒸着銀」、又は
（３）既知の電子ビーム蒸着法を使用して全ての層が蒸着される、基材上に直接配設される厚さ１５．５ナノメートルの第１のチタン層、続いて厚さ７０ナノメートルの二酸化ケイ素層、続いて厚さ２．２ナノメートルの第２のチタン層、続いて９０ナノメートルの銀の多層構成体である「蒸着多層」。
【００７２】
導電性コーティングの蒸着後、基材は、導電性コーティング及び反対側、即ち、導電性コーティングを有しない側を含むコーティングされた側を有する。
【００７３】
本明細書の実施例のそれぞれの形状に使用される導電性コーティングをその表面上のオクタデシルチオール自己組織化単分子層マスクを印刷すること、続いて米国特許出願公開第ＵＳ  ２００９／０２１８３１０号に記載されるように湿式化学エッチングすることによってパターン化した。蒸着多層導電体のプロセスの湿式化学エッチング工程において、微小パターンがとどまる予定であった領域内を除き、導電体の全ての層（即ち、第１のチタン層、二酸化ケイ素、第２のチタン層、及び銀層）をエッチングし、トレースを形成した。
【００７４】
基材の特性化
ＢＹＫ  Ｇａｒｄｎｅｒ色誘導球を使用して基材（ＰＥＴ又は構造化ＴＡＣに関わらず）の両主表面（コーティングされた側及び裸の側）を測定するために平均反射率（％Ｒ）を使用した。
【００７５】
気泡を捕捉することを最小限にするためにローラーを使用してＹａｍａｔｏ  Ｂｌａｃｋ  Ｖｉｎｙｌ  Ｔａｐｅ  ＃２００−３８（Ｙａｍａｔｏ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｗｏｏｄｈａｖｅｎ，ＭＩから市販）を測定表面の反対側に適用することによってそれぞれのフィルムのうちの１つの試料を調製した。表面の全％反射（正反射及び乱反射）を測定するために、ＢＹＫ  Ｇａｒｄｉｎｅｒ  Ｃｏｌｏｒ−Ｇｕｉｄｅ  Ｓｐｈｅｒｅの開口に対して試料のテープをしていない側を定置した。４００〜７００ｎｍの波長範囲に対する１０°入射角での％反射を測定した。反射率が裸の側（即ち、導電体コーティングされた側の反対側）から測定されるとき、測定された反射率は、基材フィルムと空気との間の界面からの反射を含むことを注目されたい。下記の表１に導電体を有する基材の％Ｒを示す。
【００７６】
【表１】
0005977260.tif 000002
【００７７】
比較例Ｃ１
この実施例は、規則的な六角形の導電体微小パターンを使用してＰＥＴ基材及びスパッタＡｇ導電体を使用することによってなされた。トレース幅は、約２マイクロメートルであった。六角形のセルの直径（面から平行な面まで）は、約２００マイクロメートルであった。開放面積分率は、約９８％であった。
【００７８】
比較例Ｃ２
この実施例は、規則的な六角形の導電体微小パターンを使用してＰＥＴ基材及びスパッタＡｇ導電体を使用することによってなされた。トレース幅は、約２マイクロメートルであった。開放面積分率は、約９８％であった。
【００７９】
（実施例３〜６）
これらの実施例は、規則的な六角形の微小パターン（実施例３）、擬似ランダム六角形の微小パターン（実施例４）、部分的に湾曲した六角形の微小パターン（実施例５）、及び完全に湾曲した六角形の微小パターン（実施例６）を有する構造化ＴＡＣ基材及びスパッタ銀導電体を使用することによってなされた。いかなる場合でも、トレース幅は、約２マイクロメートルであり、開放面積分率は、約９８％であった。
【００８０】
（実施例７）
この実施例は、ＰＥＴ基材及び蒸着多層導電体を使用してなされ得る。パターン設計は、約２００マイクロメートルのセル直径及び約２マイクロメートルのトレース幅を有する規則的な六角形のメッシュである。開放面積分率は、約９８％である。３層材料導電体の銀層のパターニングに続いて、マイクロコンタクトプリンティング、続いて湿式化学エッチング（上述のように）によって、蒸着多層導電体の後続の層は、緩衝酸化物エッチ溶液の１０：１の溶液（３８５ｍＬ、１０の割合の４０体積％のＮＨ４Ｆ溶液に対する１の割合の４９体積％のＨＦ溶液）を有する湿式化学エッチングによってエッチングされ得る。多層フィルムは、エッチ浴内に、パターン化された側を下に向けた溶液の表面上に、プラスチックパン内に定置され得る。フィルムは、６２秒後にエッチ浴から除去され、脱イオン水流で速やかに洗い流され、空気銃で乾燥されるべきである。
【００８１】
（実施例８〜１０）
これらの実施例は、擬似ランダム六角形の微小パターン（実施例８）、部分的に湾曲した六角形の微小パターン（実施例９）、及び完全に湾曲した六角形の微小パターン（実施例１０）を有するＰＥＴ基材及び蒸着多層導電体を使用することによってなされた。実施例８〜１０の場合、トレース幅は、約２マイクロメートルであり、開放面積分率は、約９８％であった。３層材料導電体の銀層のパターニングに続いて、マイクロコンタクトプリンティング、続いて湿式化学エッチング（上述のように）によって、蒸着多層導電体の後続の層は、酸化物エッチ溶液を緩衝された１０：１の溶液（３８５ｍＬ、容量１０パーツ４０％  ＮＨ４Ｆ溶液〜１パーツ４９％  ＨＦ溶液）を有する湿式化学エッチングによってエッチングされ得る。多層フィルムは、エッチ浴内に、パターン化された側を下に向けた溶液の表面上に、プラスチックパン内に定置され得る。フィルムは、６２秒後にエッチ浴から除去され、脱イオン水流で速やかに洗い流され、空気銃で乾燥されるべきである。
【００８２】
（実施例１１）
この実施例は、擬似ランダム湾曲微小パターンを有する構造化ＴＡＣ基材及びスパッタ銀導電体を使用してなされ得る。
【００８３】
（実施例１２）
この実施例は、擬似ランダム湾曲微小パターンを有するＰＥＴ基材及び蒸着多層導電体を使用してなされ得る。
【００８４】
【表２】
0005977260.tif 000003
【００８５】
物品の特性化
１つ以上の導電体微小パターンを有する積層した物品を太陽光照明の下でそれらの微小パターンの誘目性について評価した。この評価は、倍率なし（肉眼）の目視検査を含んでいた。デジタルカメラ（ｉＰｈｏｎｅ  ３ＧＳ、Ａｐｐｌｅ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ｃｏｒｐ，Ｃｕｐｅｒｔｉｎｏ，ＣＡ）を使用してこの試料を更に撮像した。目又はカメラに達する光の強度を観察又は記録するためのより好適なレベルまで減少させるために、適用される半反射エネルギー管理フィルムを有するガラス単位窓を絶縁した典型的な商用建築的二重窓を通過することによってそれぞれの試料上の太陽光照明を最初に減衰させた。いくつかの視覚効果は、様々な微小パターンの誘目性の一因となった。第１のこのような視覚効果類別は、明るい（非拡散）太陽光で照らされると、多先端の星形の形状の明るい反射パターンの形態をとる「星形」と本明細書に記載される。規則的な六角形のメッシュは、６つの先端の星形を生じさせ得る。規則的な正方形のメッシュは、４つの先端の星形を生じさせ得る。第２の視覚効果類別は、明るい（非拡散）太陽光で照らされると、帯域に沿って色のスペクトルを示す帯域の反射の形態をとる「虹」と本明細書に記載される。第３の視覚効果類別は、明るい（非拡散）太陽光で照らされると、直接正反射の点を取り囲む拡散したピンク及び緑ハローの形態をとる「着色ハロー」と本明細書に記載される。第４の視覚効果類別は、明るい（非拡散）太陽光で照らされると、微小パターンにわたる光の明るい点の形態をとる「発光」と本明細書に記載される。
【００８６】
【表３】
0005977260.tif 000004
【００８７】
星形、虹、発光、及び着色ハローの点数に関して表３のデータを
【００８８】
【数１】
0005977260.tif 000005
【００８９】
及び許容できない外観点数
【００９０】
【数２】
0005977260.tif 000006
【００９１】
で表される、許容外観点数において報告する。点数を判定する際、許容点数は、視覚アーチファクト（星形、虹、ハロー、又は発光であるかに関わらず）の完全欠損を示唆しなかったが、これが存在する場合、アーチファクトのレベルは、利用者に許容であり得るレベル（少なくとも
【００９２】
【数３】
0005977260.tif 000007
【００９３】
で採点される実施例より許容できるもの）である。実施例３〜６に関して、Ｃ１及びＣ２と比較すると、微小パターン（即ち、基材フィルム（ナノ構造表面）側又は基材フィルムの反対側から）に対していずれかの方向からの評価に関して、外観の改良（微小パターンのより少ない顕著な特徴）を達成した。この改良（誘目性の低減）は、基材フィルム側からの評価（観察）に対してより大きかった。
【００９４】
積層した導電体微小パターン実施例の電気的かつ透過した光学測定の結果を表４に報告する。それぞれの基材種類に行われる測定からＴＡＣ及びＰＥＴに割り当てられる項目を得て、上述（ベースラインデータ）のようにガラスにラミネートした。Ｈａｚｅ−Ｇａｒｄ  Ｐｌｕｓ（ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒ，Ｃｏｌｕｍｂｉａ，ＭＤ）を使用して光透過率（％Ｔ）、清澄性（％Ｃ）、及び透過ヘイズ（％Ｈ）を測定した。
【００９５】
【表４】
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【００９６】
積層した導電体微小パターン実施例の反射率測定の結果を表５に報告する。それぞれの基材種類に行われる測定からＴＡＣ及びＰＥＴに割り当てられる項目を得て、上述（ベースラインデータ）のようにガラスにラミネートした。表５に示すように、微小パターンの基材側から観察し、測定すると前者であるとき、標準の基材フィルム（ＰＥＴ）上に配設される同一の微小パターンと比較すると、微小パターンは、（空気にさらすと反射を防止する）ナノ構造化基材表面上に配設されるときより少ない反射率の一因となる。
【００９７】
【表５】
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本出願では、以下の態様が提供される。
１．  物品であって、対向する第１及びの第２の表面を有する基材と、複数のセルを画定する複数のトレースを備え、前記基材の前記第１の表面上に配設される導電体微小パターンと、を備え、前記導電体微小パターンが、８０％を超える開放面積分率及びトレース配向の一様分布を有し、前記トレースのそれぞれが、０．５〜１０マイクロメートルのトレース幅を有し、前記導電体微小パターンが、半反射金属、透明層、及び反射層を順に備える３層材料である、物品。
２．  前記半反射金属が、チタン、クロム、アルミニウム、ニッケル、銅、金、モリブデン、白金、ロジウム、銀、タングステン、コバルト、鉄、ゲルマニウム、ハフニウム、パラジウム、レニウム、バナジウム、シリコン、セレン、タンタル、イットリウム、ジルコニウム、並びにこれらの組み合わせ及び合金からなる群から選択される、態様１に記載の物品。
３．  前記透明材料が、アクリルポリマー、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＨｆＯ２、Ｓｃ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＴｈＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５、及びこれらの組み合わせからからなる群から選択される、態様１に記載の物品。
４．  前記反射層が、金、銀、パラジウム、白金、アルミニウム、銅、モリブデン、ニッケル、スズ、タングステン、合金、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、態様１に記載の物品。
５．  前記導電体微小パターントレースのそれぞれが、１センチメートル未満の曲率半径を有する、態様１に記載の物品。
６．  前記微小パターンのトレース配向の前記一様分布が、３未満の２度のビン当たりの測定された周波数の標準偏差を有する、態様１に記載の物品。
７．  前記導電体微小パターンが、非反復のセル形状を有する、態様１に記載の物品。
８．  前記導電体微小パターンが、反復する位置配列に位置しないセルを有する、態様１に記載の物品。
９．  トレースが、法線入射で、かつ前記基材の前記第１の表面に向かって配向される方向に２０％未満の正反射率を有する、態様１に記載の物品。
１０．  前記トレースが、法線入射で、かつ前記基材の前記第１の表面に向かって配向される方向に１０％未満の正反射率を有する、態様１に記載の物品。
１１．  前記トレースが、法線入射で、かつ前記基材の前記第１の表面に向かって配向される方向に５０％未満の正反射率を有する、態様１に記載の物品。
１２．  前記トレースが、法線入射で、かつ前記基材の前記第１の表面から離れて配向される方向に２０％未満の正反射率を有する、態様１に記載の物品。
１３．  前記トレースが、法線入射で、かつ前記基材の前記第１の表面から離れて配向される方向に１０％未満の正反射率を有する、態様１に記載の物品。
１４．  前記トレースが、法線入射で、かつ前記基材の前記第１の表面から離れて配向される方向に５０％未満の正反射率を有する、態様１に記載の物品。
１５．  導電体微小パターンを製造する方法であって、対向する第１及びの第２の表面を有する基材を提供する工程と、半反射材料、透明材料、及び不透明反射金属を含む導体層を順に前記基材の前記第１の表面上に堆積させる工程と、エラストマースタンプを使用して前記導電層上に自己組織化単分子層の微小パターンを印刷する工程であって、複数のトレースによって形成される前記自己組織化単分子層の微小パターンが複数の開放面積セルを画定し、前記導電体微小パターンが８０％を超える開放面積分率及びトレース配向の一様分布を有し、前記トレースのそれぞれが０．５〜１０マイクロメートルの幅を有する工程と、前記自己組織化単分子層の微小パターンによって覆われない前記導電体をエッチングする工程と、を含む、方法。
【図１】
0005977260.tif 000010
【図２】
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【図３】
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【図３ａ】
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【図４】
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【図４ａ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１１ａ】
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【図１１ｂ】
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【図１２】
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【図１２ａ】
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【図１２ｂ】
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【図１３】
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【図１４】
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