(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
鍋の内面に向けて洗浄液を噴射して鍋を洗浄するための鍋洗浄装置において、
鍋を伏せた状態で載置する鍋載置台と、鍋載置台に載置された鍋の内面へ向けて洗浄液を噴射する洗浄液噴射機構とを有し、洗浄液噴射機構は、洗浄液を貯留する貯留槽に循環ポンプを連通連結して収容して洗浄液を循環させて鍋の洗浄を行うとともに、貯留槽にオーバーフロー管を配設して、洗浄済みの洗浄液をオーバーフロー管から排出するように構成すると共に、
貯留槽に新規の洗浄液を補充する洗浄液補充機構を設け、洗浄液補充機構は、鍋載置台に載置された鍋の内面及び外面へ向けて補充する新規の洗浄液を噴射するように構成し、
洗浄液補充機構は、貯留槽の水位が所定水位以下となった場合に新規の洗浄液を補充するように構成し、
鍋載置台は、載置した鍋の外面の左右及び上方を洗浄液または／及び新規の洗浄液が流通可能な状態で覆う上部フレームを形成したことを特徴とする鍋洗浄装置。
【請求項２】
前記上部フレームは、前後一対の棒状を門型に屈曲して形成したことを特徴とする請求項１に記載の鍋洗浄装置。
【請求項３】
前記鍋載置台は、鍋を載置する棒状で前後に伸延した左右一対の支持フレームと支持フレームに横断して取付けた矩形枠状の枠フレームと、枠フレームの上部に取付けた前記上部フレームと、枠フレームの後側において載置した鍋の後側面を覆う左右一対の棒状のサイドフレームと、で構成したことを特徴とする請求項１または２に記載の鍋洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、鍋の内面に向けて洗浄液を噴射して鍋を洗浄するための鍋洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、飲食物を提供する店舗においては、調理で使用した鍋を洗浄するために鍋洗浄装置が使用されている（たとえば、特許文献１参照。）。
【０００３】
この従来の鍋洗浄装置は、ケーシングの内部に鍋を立てた状態で載置するとともに、立てた状態の鍋の内面へ向けて洗浄液を噴射して、鍋を洗浄するように構成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１９７６０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、上記従来の鍋洗浄装置では、鍋を立てた状態で洗浄するように構成しているために、鍋の内面全体をむらなく洗浄することが困難であった。
【０００６】
また、従来の鍋洗浄装置では、常に新規の洗浄液を鍋の内面へ向けて噴射するように構成しているために、洗浄液の使用量が多くなり、鍋洗浄装置の使用に際して多大なランニングコストを要していた。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
そこで、請求項１に係る本発明では、鍋の内面に向けて洗浄液を噴射して鍋を洗浄するための鍋洗浄装置において、鍋を伏せた状態で載置する鍋載置台と、鍋載置台に載置された鍋の内面へ向けて洗浄液を噴射する洗浄液噴射機構とを有し、洗浄液噴射機構は、洗浄液を貯留する貯留槽に循環ポンプを連通連結して収容して洗浄液を循環させて鍋の洗浄を行うとともに、貯留槽にオーバーフロー管を配設して、洗浄済みの洗浄液をオーバーフロー管から排出するように構成すると共に、貯留槽に新規の洗浄液を補充する洗浄液補充機構を設け、洗浄液補充機構は、鍋載置台に載置された鍋の内面及び外面へ向けて補充する新規の洗浄液を噴射するように構成し、洗浄液補充機構は、貯留槽の水位が所定水位以下となった場合に新規の洗浄液を補充するように構成し、鍋載置台は、載置した鍋の外面の左右及び上方を洗浄液または／及び新規の洗浄液が流通可能な状態で覆う上部フレームを形成することにした。
【０００８】
また、請求項２に係る本発明では、前記請求項１に係る本発明において、前記上部フレームは、前後一対の門型に形成することにした。
【０００９】
また、請求項３に係る本発明では、前記請求項１または２に係る本発明において、前記鍋載置台は、鍋を載置する左右一対の支持フレームと支持フレームの上部に取付けた矩形枠状の枠フレームと、枠フレームの上部に取付けた前記上部フレームと、枠フレームの後側において載置した鍋の後側面を覆う左右一対のサイドフレームと、で構成することにした。
【発明の効果】
【００１０】
そして、本発明では、以下に記載する効果を奏する。
【００１１】
すなわち、本発明では、鍋の内面に向けて洗浄液を噴射して鍋を洗浄するための鍋洗浄装置において、鍋を伏せた状態で載置する鍋載置台と、鍋載置台に載置された鍋の内面へ向けて洗浄液を噴射する洗浄液噴射機構とを有し、洗浄液噴射機構は、洗浄液を貯留する貯留槽に循環ポンプを収容して洗浄液を循環させて鍋の洗浄を行うとともに、貯留槽にオーバーフロー管を配設して、洗浄済みの洗浄液をオーバーフロー管から排出するように構成しているために、伏せた状態の鍋の内面へ向けて洗浄液を噴射することで鍋の内面をむらなく洗浄することができ、また、洗浄液を循環して利用することで洗浄液の使用量を少なくして鍋洗浄装置のランニングコストを低減することができる。
【００１２】
特に、貯留槽に新規の洗浄液を補充する洗浄液補充機構を設け、洗浄液補充機構は、鍋載置台に載置された鍋の内面及び外面へ向けて補充する新規の洗浄液を噴射するように構成した場合には、鍋の内面及び外面を新規の洗浄液で良好に洗浄することができる。
【００１３】
また、貯留槽の水位が所定水位以下となった場合に新規の洗浄液を補充するように洗浄液補充機構を構成した場合には、貯留槽に貯留した洗浄液で鍋の内面を洗浄した後に続けて新規の洗浄液で鍋の内面及び外面をすすぐことができ、鍋全体を良好に洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係る鍋洗浄装置を示す平面図（ａ）、側面図（ｂ）、正面図（ｃ）。
【図２】同拡大正面図。
【図３】同拡大側面図。
【図４】同拡大平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明に係る鍋洗浄装置の具体的な構成について図面を参照しながら説明する。
【００１６】
図１〜図４に示すように、鍋洗浄装置１は、ケーシング２の内部に、鍋３を伏せた状態で載置するための鍋載置台４と、鍋３に向けて洗浄液５を噴射するための洗浄液噴射機構６と、洗浄液５を補充するための洗浄液補充機構７と、これら洗浄液噴射機構６や洗浄液補充機構７を制御するための制御機構８とを収容している。
【００１７】
ケーシング２は、中空箱型状のケース本体９の後側上部にフード10を形成し、ケース本体９の前側上端部とフード10の前側部を開口するとともに、フード10の前側部に扉11を開閉自在に取付けている。
【００１８】
また、ケーシング２は、ケース本体９の内部に仕切壁12を取付けて、ケース本体９の内部を仕切壁12で前後に区画し、仕切壁12より後方側上部に洗浄液５を貯留するための貯留槽13を形成している。
【００１９】
鍋載置台４は、貯留槽13の開口部に左右一対の支持フレーム14,15を高さ調節可能に取付け、左右の支持フレーム14,15の上部に矩形枠状の枠フレーム16を取付け、枠フレーム16の上部に前後一対の門型の上部フレーム17,18を取付けるとともに、枠フレーム16の後側上部に左右一対のサイドフレーム19,20を取付けている。
【００２０】
そして、鍋載置台４は、支持フレーム14,15と枠フレーム16で鍋３を伏せた状態（上下反転させた状態）で保持するとともに、上部フレーム17,18とサイドフレーム19,20で鍋３の外方を覆うようにしている。
【００２１】
洗浄液噴射機構６は、ケーシング２の底部中央に貯留槽13に連通連結した循環ポンプ21を収容し、循環ポンプ21に上下に伸延する噴射ノズル22を連通連結し、噴射ノズル22の先端部を鍋載置台４の左右の支持フレーム14,15の間から上方へ向けて突出させている。
【００２２】
また、洗浄液噴射機構６は、ケーシング２の底部後方に排水口23を形成し、排水口23に貯留槽13の内部に収容したオーバーフロー管24を接続し、さらに、貯留槽13の内部に多孔板状の塵取り網25を水平に着脱可能に取付け、塵取り網25よりも上方にオーバーフロー管24の上端（吸入口）を位置させている。
【００２３】
そして、洗浄液噴射機構６は、貯留槽13の内部の洗浄液５を循環ポンプ21で循環させながら噴射ノズル22から鍋載置台４に伏せた状態で載置した鍋３の内面へ向けて噴射して洗浄液５で鍋３の内面を洗浄するとともに、余剰の洗浄液５をオーバーフロー管24から廃棄し、また、鍋３から剥がれ落ちた塵を塵取り網25で捕捉するようにしている。
【００２４】
洗浄液補充機構７は、ケーシング２の前側下部に吸水口26を形成し、吸水口26に上下に伸延する吸水管27の下端部を接続し、吸水管27の上端部に前後に伸延する下側吐出管28の前端部を接続し、下側吐出管28の後端部に上下に伸延する連結管29の下端部を接続し、連結管29の上端部に上側吐出管30を接続している。
【００２５】
また、洗浄液補充機構７は、吸水管27の中途部に開閉弁31を介設し、下側吐出管28の中途部に上方へ向けて噴射する下側噴射ノズル32,33を前後に間隔をあけて接続するとともに、上側吐出管30の中途部に下方へ向けて噴射する上側噴射ノズル34,35を前後に間隔をあけて接続している。
【００２６】
そして、洗浄液補充機構７は、吸水源から供給される新規の洗浄液５を下側噴射ノズル32,33及び上側噴射ノズル34,35から噴射し、鍋載置台４に伏せた状態で載置した鍋３の内面へ向けて下側噴射ノズル32,33から洗浄液５を噴射するとともに、鍋３の外面へ向けて上側噴射ノズル34,35から洗浄液５を噴射し、洗浄液５を貯留槽13に補充するようにしている。
【００２７】
制御機構８は、洗浄液噴射機構６の循環ポンプ21や洗浄液補充機構７の開閉弁31を制御するとともに、ケーシング２に設けた扉11の開閉状態を検出する開閉検出センサー36や貯留槽13に設けた洗浄液５の水位を検出する水位検出センサー37や貯留槽13に設けた洗浄液５を温めるヒーター38が接続されている。
【００２８】
そして、制御機構８では、鍋載置台４に鍋３が伏せられた状態で載置されて扉11が閉じられたことを開閉検出センサー36で検出すると、洗浄液噴射機構６の循環ポンプ21を駆動して洗浄液５を噴射ノズル22から鍋３の内面へ向けて噴射し、これにより、鍋３の内面の洗浄を行う。
【００２９】
また、制御機構８では、貯留槽13の水位が予め設定した水位よりも下がったことを水位検出センサー37で検出すると、洗浄液噴射機構６の循環ポンプ21の駆動を停止するとともに、洗浄液補充機構７の開閉弁31を予め設定した時間だけ開弁して新規の洗浄液５を下側噴射ノズル32,33及び上側噴射ノズル34,35から噴射し、これにより、鍋３の内面へ向けて下側噴射ノズル32,33から洗浄液５を噴射するとともに、鍋３の外面へ向けて上側噴射ノズル34,35から洗浄液５を噴射して、洗浄液５の補充を行う。
【００３０】
以上に説明したように、上記鍋洗浄装置１は、鍋３を伏せた状態で載置する鍋載置台４と、鍋載置台４に載置された鍋３の内面へ向けて洗浄液５を噴射する洗浄液噴射機構６とを有し、洗浄液噴射機構６は、洗浄液５を貯留する貯留槽13に循環ポンプ21を収容して洗浄液５を循環させて鍋３の洗浄を行うとともに、貯留槽13にオーバーフロー管24を配設して、洗浄済みの洗浄液５をオーバーフロー管24から排出するように構成している。
【００３１】
そのため、上記構成の鍋洗浄装置１では、伏せた状態の鍋３の内面へ向けて洗浄液５を噴射することで鍋３の内面をむらなく洗浄することができる。また、上記構成の鍋洗浄装置１では、洗浄液５を循環して利用することで洗浄液５の使用量を少なくして鍋洗浄装置１のランニングコストを低減することができる。
【００３２】
また、上記鍋洗浄装置１は、貯留槽13に新規の洗浄液５を補充する洗浄液補充機構７を設け、洗浄液補充機構７は、鍋載置台４に載置された鍋３の内面及び外面へ向けて補充する新規の洗浄液５を噴射するように構成している。
【００３３】
そのため、上記構成の鍋洗浄装置１では、鍋３の内面及び外面を新規の洗浄液５で良好に洗浄することができる。
【００３４】
さらに、上記鍋洗浄装置１は、貯留槽13の水位が所定水位以下となった場合に新規の洗浄液５を補充するように洗浄液補充機構７を構成している。
【００３５】
そのため、上記構成の鍋洗浄装置１では、貯留槽13に貯留した洗浄液５で鍋３の内面を洗浄した後に続けて新規の洗浄液５で鍋３の内面及び外面をすすぐことができ、鍋３の全体を良好に洗浄することができる。
【符号の説明】
【００３６】
１  鍋洗浄装置                          ２  ケーシング
３  鍋                                  ４  鍋載置台
５  洗浄液                              ６  洗浄液噴射機構
７  洗浄液補充機構                      ８  制御機構
９  ケース本体                          10  フード
11  扉                                  12  仕切壁
13  貯留槽                              14,15  支持フレーム
16  枠フレーム                          17,18  上部フレーム
19,20  サイドフレーム                   21  循環ポンプ
22  噴射ノズル                          23  排水口
24  オーバーフロー管                    25  塵取り網
26  吸水口                              27  吸水管
28  下側吐出管                          29  連結管
30  上側吐出管                          31  開閉弁
32,33  下側噴射ノズル                   34,35  上側噴射ノズル
36  開閉検出センサー                    37  水位検出センサー
38  ヒーター
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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