(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転する被清掃体の回転軸方向に沿って延び、発泡性の樹脂又はゴムで構成され、前記被清掃体と接触して前記被清掃体の回転に伴って従動回転しながら前記被清掃体を清掃する清掃部と、前記清掃部の長手方向の両端側に設けられると共に一部が前記清掃部から突出するように前記清掃部に固定され、前記清掃部の回転軸方向に延びる一対の回転軸部材と、を備える清掃部材と、
前記回転軸部材を回転可能に支持する支持部材と、
前記支持部材に支持された前記回転軸部材が、前記回転軸方向に沿って移動して前記支持部材から脱落するのを抑制する脱落抑制手段と、
を備える清掃装置。
【請求項２】
前記脱落抑制手段は、
前記清掃部から突出した前記回転軸部材の外周面に設けられた凸部と、
前記支持部材において前記回転軸部材の回転方向に沿って形成され、前記凸部が収容される凹部と、
を備える請求項１に記載の清掃装置。
【請求項３】
前記脱落抑制手段は、
前記清掃部から突出した前記回転軸部材の外周面において前記回転軸部材の回転方向に沿って形成された凹部と、
前記支持部材に設けられ、前記凹部に収容される凸部と、
を備える請求項１に記載の清掃装置。
【請求項４】
前記脱落抑制手段は、
前記支持部材に形成され、前記回転軸部材の端部が前記支持部材の外側に突出するように前記回転軸部材が挿入される挿入部と、
前記挿入部から外側に露出した前記回転軸部材の露出部分に取り付けられ、前記回転軸部材が前記挿入部から抜けるのを抑制する抜止部材と、
を備える請求項１に記載の清掃装置。
【請求項５】
回転する像保持体と接触して前記像保持体の回転に伴って従動回転して前記像保持体の表面を帯電させる被清掃体としての帯電部材と、
前記回転軸部材が前記帯電部材とで前記清掃部を挟むように配置され、前記帯電部材と接触して前記帯電部材の回転に伴って従動回転して前記帯電部材を清掃する請求項１〜４の何れか１項に記載の清掃装置と、
を備える帯電装置。
【請求項６】
請求項５に記載の帯電装置と、
前記帯電装置に備えられた前記帯電部材が接触し、回転に伴って前記帯電部材が従動回転することで外表面が帯電され、帯電された外表面において静電潜像が形成される静電潜像領域が、回転軸方向において前記回転軸部材と重ならない像保持体と、
を備える像保持体装置。
【請求項７】
請求項６に記載の像保持体装置と、
前記像保持体装置の像保持体の表面に形成された静電潜像をトナー画像として現像する現像装置と、
を備える画像形成装置。
【請求項８】
回転する像保持体と接触して前記像保持体の回転に伴って従動回転して前記像保持体の表面を帯電させる被清掃体としての帯電部材と、回転する前記被清掃体の回転軸方向に沿って延び、前記被清掃体と接触して前記被清掃体の回転に伴って従動回転しながら前記被清掃体を清掃する清掃部と、前記清掃部の長手方向の両端側に設けられると共に一部が前記清掃部から突出するように前記清掃部に固定され、前記清掃部の回転軸方向に延びる一対の回転軸部材と、を備える清掃部材と、前記回転軸部材を回転可能に支持する支持部材と、前記支持部材に支持された前記回転軸部材が、前記回転軸方向に沿って移動して前記支持部材から脱落するのを抑制する脱落抑制手段と、を備え、前記回転軸部材が前記帯電部材とで前記清掃部を挟むように配置され、前記帯電部材と接触して前記帯電部材の回転に伴って従動回転して前記帯電部材を清掃する清掃装置と、を備える帯電装置と、
前記帯電装置に備えられた前記帯電部材が接触し、回転に伴って前記帯電部材が従動回転することで外表面が帯電され、帯電された外表面において静電潜像が形成される静電潜像領域が、回転軸方向において前記回転軸部材と重ならない像保持体と、
を備える像保持体装置。
【請求項９】
前記脱落抑制手段は、前記清掃部から突出した前記回転軸部材の外周面に設けられた凸部と、前記支持部材において前記回転軸部材の回転方向に沿って形成され、前記凸部が収容される凹部と、を備える、
請求項８に記載の像保持体装置。
【請求項１０】
前記脱落抑制手段は、前記清掃部から突出した前記回転軸部材の外周面において前記回転軸部材の回転方向に沿って形成された凹部と、前記支持部材に設けられ、前記凹部に収容される凸部と、を備える、
請求項８に記載の像保持体装置。
【請求項１１】
前記脱落抑制手段は、前記支持部材に形成され、前記回転軸部材の端部が前記支持部材の外側に突出するように前記回転軸部材が挿入される挿入部と、前記挿入部から外側に露出した前記回転軸部材の露出部分に取り付けられ、前記回転軸部材が前記挿入部から抜けるのを抑制する抜止部材と、を備える、
請求項８に像保持体装置。
【請求項１２】
請求項８〜１１の何れか１項に記載の像保持体装置と、
前記像保持体装置の像保持体の表面に形成された静電潜像をトナー画像として現像する現像装置と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、清掃装置、帯電装置、像保持体装置、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に記載の画像形成装置には、円筒状の帯電部材（被清掃体）の表面に当接して従動回転する円筒状の清掃部材が設けられている。そして、この清掃部材は、回転可能となるように外周部分で支持されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−２１７０９５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、清掃部材による被清掃体に対する清掃性能を確保した上で、清掃部材を支持する支持部材から清掃部材が脱落するのを抑制することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の請求項１に係る清掃装置は、回転する被清掃体の回転軸方向に沿って延び、発泡性の樹脂又はゴムで構成され、前記被清掃体と接触して前記被清掃体の回転に伴って従動回転しながら前記被清掃体を清掃する清掃部と、前記清掃部の長手方向の両端側に設けられると共に一部が前記清掃部から突出するように前記清掃部に固定され、前記清掃部の回転軸方向に延びる一対の回転軸部材と、を備える清掃部材と、前記回転軸部材を回転可能に支持する支持部材と、前記支持部材に支持された前記回転軸部材が、前記回転軸方向に沿って移動して前記支持部材から脱落するのを抑制する脱落抑制手段と、を備えることを特徴とする。  
【０００６】
本発明の請求項２に係る清掃装置は、請求項１に記載おいて、前記脱落抑制手段は、前記清掃部から突出した前記回転軸部材の外周面に設けられた凸部と、前記支持部材において前記回転軸部材の回転方向に沿って形成され、前記凸部が収容される凹部と、を備えることを特徴とする。
【０００７】
本発明の請求項３に係る清掃装置は、請求項１に記載おいて、前記脱落抑制手段は、前記清掃部から突出した前記回転軸部材の外周面において前記回転軸部材の回転方向に沿って形成された凹部と、前記支持部材に設けられ、前記凹部に収容される凸部と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明の請求項４に係る清掃装置は、請求項１に記載おいて、前記脱落抑制手段は、前記支持部材に形成され、前記回転軸部材の端部が前記支持部材の外側に突出するように前記回転軸部材が挿入される挿入部と、前記挿入部から外側に露出した前記回転軸部材の露出部分に取り付けられ、前記回転軸部材が前記挿入部から抜けるのを抑制する抜止部材と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
本発明の請求項５に係る帯電装置は、回転する像保持体と接触して前記像保持体の回転に伴って従動回転して前記像保持体の表面を帯電させる被清掃体としての帯電部材と、前記回転軸部材が前記帯電部材とで前記清掃部を挟むように配置され、前記帯電部材と接触して前記帯電部材の回転に伴って従動回転して前記帯電部材を清掃する請求項１〜４の何れか１項に記載の清掃装置と、を備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明の請求項６に係る像保持体装置は、請求項５に記載の帯電装置と、前記帯電装置に備えられた前記帯電部材が接触し、回転に伴って前記帯電部材が従動回転することで外表面が帯電され、帯電された外表面において静電潜像が形成される静電潜像領域が、回転軸方向において前記回転軸部材と重ならない像保持体と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
本発明の請求項７に係る画像形成装置は、請求項６に記載の像保持体装置と、前記像保持体装置の像保持体の表面に形成された静電潜像をトナー画像として現像する現像装置と、を備えることを特徴とする。
本発明の請求項８に係る像保持体装置は、回転する像保持体と接触して前記像保持体の回転に伴って従動回転して前記像保持体の表面を帯電させる被清掃体としての帯電部材と、回転する前記被清掃体の回転軸方向に沿って延び、前記被清掃体と接触して前記被清掃体の回転に伴って従動回転しながら前記被清掃体を清掃する清掃部と、前記清掃部の長手方向の両端側に設けられると共に一部が前記清掃部から突出するように前記清掃部に固定され、前記清掃部の回転軸方向に延びる一対の回転軸部材と、を備える清掃部材と、前記回転軸部材を回転可能に支持する支持部材と、前記支持部材に支持された前記回転軸部材が、前記回転軸方向に沿って移動して前記支持部材から脱落するのを抑制する脱落抑制手段と、を備え、前記回転軸部材が前記帯電部材とで前記清掃部を挟むように配置され、前記帯電部材と接触して前記帯電部材の回転に伴って従動回転して前記帯電部材を清掃する清掃装置と、を備える帯電装置と、前記帯電装置に備えられた前記帯電部材が接触し、回転に伴って前記帯電部材が従動回転することで外表面が帯電され、帯電された外表面において静電潜像が形成される静電潜像領域が、回転軸方向において前記回転軸部材と重ならない像保持体と、を備える。
本発明の請求項９に係る像保持体装置は、請求項８に記載の像保持体装置であって、前記脱落抑制手段は、前記清掃部から突出した前記回転軸部材の外周面に設けられた凸部と、前記支持部材において前記回転軸部材の回転方向に沿って形成され、前記凸部が収容される凹部と、を備える。
本発明の請求項１０に係る像保持体装置は、請求項９に記載の像保持体装置であって、前記脱落抑制手段は、前記清掃部から突出した前記回転軸部材の外周面において前記回転軸部材の回転方向に沿って形成された凹部と、前記支持部材に設けられ、前記凹部に収容される凸部と、を備える。
本発明の請求項１１に係る像保持体装置は、請求項１０に記載の像保持体装置であって
、前記脱落抑制手段は、前記支持部材に形成され、前記回転軸部材の端部が前記支持部材の外側に突出するように前記回転軸部材が挿入される挿入部と、前記挿入部から外側に露出した前記回転軸部材の露出部分に取り付けられ、前記回転軸部材が前記挿入部から抜けるのを抑制する抜止部材と、を備える。
本発明の請求項１２に係る画像形成装置は、請求項８〜１１の何れか１項に記載の像保持体装置と、前記像保持体装置の像保持体の表面に形成された静電潜像をトナー画像として現像する現像装置と、を備える。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の請求項１の清掃装置によれば、回転軸部材が支持部材から脱落するのを抑制する脱落抑制手段が設けられていない場合と比して、清掃部材による被清掃体に対する清掃性能を確保した上で、清掃部材を支持する支持部材から清掃部材が脱落するのを抑制することができる。
【００１３】
本発明の請求項２の清掃装置によれば、回転軸部材及び支持部材に脱落抑制手段が設けられていない構成と比して、清掃部材による被清掃体に対する清掃性能を確保した上で、清掃部材を支持する支持部材から清掃部材が脱落するのを簡易な構成で抑制することができる。
【００１４】
本発明の請求項３の清掃装置によれば、回転軸部材及び支持部材に脱落抑制手段が設けられていない構成と比して、清掃部材による被清掃体に対する清掃性能を確保した上で、清掃部材を支持する支持部材から清掃部材が脱落するのを簡易な構成で抑制することができる。
【００１５】
本発明の請求項４の清掃装置によれば、回転軸部材及び支持部材に脱落抑制手段が設けられていない構成と比して、清掃部材による被清掃体に対する清掃性能を確保した上で、清掃部材を支持する支持部材から清掃部材が脱落するのを簡易な構成で抑制することができる。
【００１６】
本発明の請求項５の帯電装置によれば、請求項１〜４の何れか１項に記載の清掃装置を備えていない場合と比して、清掃部材による帯電部材に対する清掃性能の確保した上で、清掃部材を支持する支持部材から清掃部材が脱落するのを抑制することができる。
【００１７】
本発明の請求項６の像保持体装置によれば、静電潜像が形成される静電潜像領域が、回転軸方向において回転軸部材と重なる場合と比して、像保持体の静電潜像領域を、回転軸方向に沿ってムラなく帯電させることができる。
【００１８】
本発明の請求項７の画像形成装置によれば、請求項６に記載の像保持体装置を備えていない場合と比して、像保持体の表面に形成されるトナー画像において、回転軸方向に沿って生じる濃度ムラを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る清掃装置を示した正面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る清掃装置を示した斜視図である。
【図３】（Ａ）（Ｂ）本発明の第１実施形態に係る清掃装置を示した拡大正面図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係るプロセスカートリッジを示した拡大側面図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る画像形成装置を示した概略構成図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係る清掃装置を示した斜視図である。
【図７】（Ａ）（Ｂ）本発明の第２実施形態に係る清掃装置を示した拡大正面図である。
【図８】本発明の第３実施形態に係る清掃装置を示した斜視図である。
【図９】本発明の第３実施形態に係る清掃装置を示した拡大正面図である。
【図１０】本発明の各実施形態の実施例に係る清掃装置及び比較例に係る清掃装置の評価の結果を表にまとめた図面である。
【図１１】本発明の実施例及び比較例に対しての衝撃試験の試験方法を示した図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の第１実施形態に係る清掃装置、帯電装置、像保持体装置及び画像形成装置の一例について図１〜図５に従って説明する。
【００２１】
（全体構成）
図５に示されるように、本発明の実施形態に係る画像形成装置１０は、タンデム方式のフルカラーの画像形成装置１０である。なお、各図において矢印ＵＰは、鉛直方向の上方を示す。
【００２２】
画像形成装置１０の内部には、円柱状の像保持体１２と、像保持体１２の表面を帯電させる帯電装置３４と、像保持体１２の表面に形成された後述する静電潜像をトナー画像として現像する現像装置２４と、を含んで構成される、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の各色の像保持体装置の一例としてのプロセスカートリッジ１８Ｙ、１８Ｍ、１８Ｃ、１８Ｋが、上方向から下方向へ順に並んで備えられている。なお、以下の説明では、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、黒（Ｋ）を区別して説明する場合は、符号の後にＹ、Ｍ、Ｃ、Ｋを記載し、特に区別しない場合は、Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋを省略して記載する。
【００２３】
〔プロセスカートリッジ・露光装置〕
各色のプロセスカートリッジ１８は、画像形成装置１０に対して着脱可能な構成とされている。また、像保持体１２としては、例えば、有機系の感光材料等よりなる感光体層が外周面（表面）に被覆された導電性円筒体が用いられ、像保持体１２は、図示しないモータによって回転駆動するようになっている。
【００２４】
図４に示されるように、帯電装置３４に設けられた帯電部材の一例としての帯電ロール１４が像保持体１２の外周面に接触するように配置され、この帯電ロール１４が像保持体１２の回転に伴って従動回転して像保持体１２の表面を帯電させるようになっている。
【００２５】
また、図５に示されるように、この帯電ロール１４が接触する位置に対して像保持体１２の回転方向（図中矢印Ｄ）の下流側に位置する像保持体１２の外周面に向けてレーザービームＬＢを出射してこの外周面を露光する各色共通の露光装置１６が、プロセスカートリッジ１８の隣りに配置されている。帯電した像保持体１２の外周面がこの露光装置１６から出射されるレーザービームＬＢによって露光され、像保持体１２の外周面には、画像情報に応じた静電潜像が形成されるようになっている。
【００２６】
また、図４に示されるように、像保持体１２の外周面においてレーザービームＬＢが当る部位に対して像保持体１２の回転方向の下流側には、像保持体１２の外周面に形成された静電潜像を各色のトナー画像として現像する現像装置２４が設けられている。
【００２７】
さらに、帯電ロール１４に対して像保持体１２の回転方向（図中矢印Ｄ）の上流側には、像保持体１２の表面に接触して像保持体１２の表面から異物を掻き落とす清掃ブレード２６が設けられている。
【００２８】
例えば、フルカラーの画像を形成する場合には、帯電・露光・現像の各工程が、ブラック（Ｋ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の各色に対応して行われ、各色の像保持体１２の外周面には、ブラック（Ｋ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の各色に対応したトナー画像が形成される。なお、帯電装置３４については、詳細を後述する。
【００２９】
〔転写装置〕
図５に示されるように、画像形成装置１０の内部には、上下方向に並んだ各色の像保持体１２の外周面と接するように、支持ロール４０と支持ロール４２とで張力が付与されつつ内周面側から支持された無端状の用紙搬送ベルト２０が設けられている。また、用紙搬送ベルト２０を挟んで各色の像保持体１２の反対側には、用紙搬送ベルト２０によって搬送される記録媒体としてのシート部材Ｐに各色の像保持体１２の外周面に形成された各色のトナー画像を転写する転写ロール２２が夫々設けられている。以上より、シート部材Ｐを搬送してトナー画像をシート部材Ｐに転写する転写装置３６は、支持ロール４０、支持ロール４２、用紙搬送ベルト２０及び転写ロール２２を含んで構成されている。
【００３０】
〔定着装置・排出ロール〕
転写装置３６に対してシート部材Ｐの搬送方向（以下シート部材搬送方向と記載する）の下流側には、シート部材Ｐに転写されたトナー画像を加熱・加圧することでシート部材Ｐに定着させる定着装置４８が設けられている。
【００３１】
また、定着装置４８に対してシート部材搬送方向の下流側には、画像形成装置１０の上部に設けられた排出部４６にトナー画像が定着したシート部材Ｐを排出する排出ロール４４が設けられている。
【００３２】
〔用紙収納容器〕
転写装置３６に対してシート部材搬送方向の上流側には、複数のシート部材Ｐが収容される用紙収納容器２８が設けられている。さらに、用紙収納容器２８に収容された最上位のシート部材Ｐと接するように、最上位のシート部材Ｐを用紙収納容器２８から取り出す取出ロール３０が設けられている。また、取出ロール３０に対してシート部材搬送方向の下流側には、取出ロール３０によって取り出されたシート部材Ｐを用紙搬送ベルト２０に引き渡す搬送ロール３２、３４が設けられている。
【００３３】
（要部構成）
次に、帯電装置について説明する。
【００３４】
図４に示されるように、帯電装置３４は、前述した帯電ロール１４と、帯電ロール１４と接触し、帯電ロール１４の回転に伴って従動回転して帯電ロール１４を清掃する清掃装置５０とを備えている。
【００３５】
図１に示されるように、清掃装置５０は、帯電ロール１４の回転軸方向に沿って延び、帯電ロール１４と接触して帯電ロール１４の回転に伴って従動回転する清掃部材５２と、清掃部材５２の両端側を回転可能に支持する支持部材５４と、清掃部材５２が支持部材５４から脱落するのを抑制する脱落抑制手段の一例としての脱落抑制装置５６と、を備えている。
【００３６】
〔帯電ロール〕
帯電ロール１４は、像保持体１２の回転軸方向に沿って延びる導電性で円柱状のシャフト１４Ａと、導電性弾性層及び表面層が順にシャフト１４Ａの周囲に形成された円柱状の帯電層１４Ｂと、を備えている。
【００３７】
帯電ロール１４の直径はφ４〔ｍｍ〕からφ１５〔ｍｍ〕までが好ましく、より好ましくはφ６〔ｍｍ〕からφ９〔ｍｍ〕である。また、帯電層１４Ｂの肉厚は、０．５〔ｍｍ〕から４〔ｍｍ〕であることが好ましい。
【００３８】
帯電ロール１４の直径がφ１５〔ｍｍ〕より大きくなると周面１箇所あたりの外添剤に接触する回数が減り、さらに放電回数が減るので、汚れや帯電性能に対する長期安定性には優れるものの装置の小型化の観点から不利である。
【００３９】
一方、帯電ロール１４の直径がφ４〔ｍｍ〕より小さいと装置を小型化できるので優位であるが、周面１箇所あたりの外添剤に接触する回数が増え、また放電回数が増えるので、長期安定性に対し不利となる。この帯電ロール１４の一例として下記に記載する。
【００４０】
シャフト１４Ａの材質としては、一例として、快削鋼、ステンレス鋼等が用いられ、摺動性などの用途に応じ材質および表面処理方法は適時選択され、導電性を有さない材質についてはメッキ処理など一般的な処理により加工され導電化処理が行われる。
また、帯電ロール１４の帯電層１４Ｂを構成する導電性弾性層（図示省略）は、一例として、弾性を有するゴム等の弾性材を基材として、導電性弾性層の抵抗を調整するカーボンブラックやイオン導電材等の導電材、必要に応じて軟化剤、可塑剤、硬化剤、加硫剤、加硫促進剤、老化防止剤、シリカ及び炭酸カルシウム等の充填剤等、通常ゴムに添加され得る材料が必要に応じて加えられる。
【００４１】
通常ゴムに添加される材料を添加した混合物を、導電性のシャフト１４Ａの周面に被覆することにより帯電層１４Ｂを形成される。また、抵抗値の調整を目的とした導電剤として、マトリックス剤に配合されるカーボンブラックやイオン導電剤のような、電子及びイオンの少なくとも一方を電荷キャリアとして電気伝導する材料を分散したものを用いることができる。また、帯電層１４Ｂの基材となる弾性材は、発泡体であってもよい。
【００４２】
帯電層１４Ｂの基材となる弾性材としては、一例として、ゴム材中に導電剤を分散させることによって形成される。ゴム材としては、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、ニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド共重合ゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド−アリルグリシジルエーテル共重合ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン３元共重合ゴム（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、天然ゴム等、及びこれらのブレンドゴム等が用いられる。
【００４３】
中でも、シリコーンゴム、エチレンプロピレンゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド共重合ゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド−アリルグリシジルエーテル共重合ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴムおよびこれらのブレンドゴムが好ましく用いられる。これらのゴム材は発泡したものであっても無発泡のものであってもよい。
【００４４】
また、導電剤としては、電子導電剤やイオン導電剤が用いられる。電子導電剤の一例としては、ケッチェンブラック、アセチレンブラック等のカーボンブラック；熱分解カーボン、グラファイト；アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス鋼等の各種導電性金属または合金；酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化スズ−酸化アンチモン固溶体、酸化スズ−酸化インジウム固溶体等の各種導電性金属酸化物；絶縁物質の表面を導電化処理したもの；などの微粉末を用いることができる。また、イオン導電剤の一例としては、テトラエチルアンモニウム、ラウリルトリメチルアンモニウム等の過塩素酸塩、塩素酸塩等；リチウム、マグネシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の過塩素酸塩、塩素酸塩等；を用いることができる。
【００４５】
これらの導電剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、その添加量は特に制限はないが、電子導電剤の場合は、ゴム材１００質量部に対して、１〜６０質量部の範囲であることが好ましく、一方、イオン導電剤の場合は、ゴム材１００質量部に対して、０．１〜５．０質量部の範囲であることが好ましい。
【００４６】
帯電層１４Ｂを構成する表面層（図示省略）は、トナー等の異物による汚染の防止のためなどに形成しているものであり、表面層の材料としては、樹脂、ゴム等の何れを用いてもよく特に限定するものではない。一例として、ポリエステル、ポリイミド、共重合ナイロン、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体、メラミン樹脂、フッ素ゴム、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、セルロース、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等を用いることができる。
【００４７】
このうち外添剤による汚れの観点から、ポリフッ化ビニリデン、４フッ化エチレン共重合体、ポリエステル、ポリイミド、共重合ナイロンが好ましく用いられる。共重合ナイロンは、６１０ナイロン、１１ナイロン、１２ナイロン、の内のいずれか１種または複数種を重合単位として含むものであって、この共重合体に含まれる他の重合単位としては、６ナイロン、６６ナイロン等が挙げられる。ここで、６１０ナイロン、１１ナイロン、１２ナイロンよりなる重合単位が共重合体中に含まれる割合は、質量比で合わせて１０％以上であることが好ましい。重合単位が１０％以上の場合は、調液性及び表面層塗布時における成膜性に優れるとともに、特に繰り返し使用時における樹脂層の磨耗や樹脂層への異物付着が少なく、ロールの耐久性が優れ、環境による特性の変化も少なくなる。
【００４８】
また、高分子材料は単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。当該高分子材料の数平均分子量は、１，０００〜１００，０００の範囲であることが好ましく、１０，０００〜５０，０００の範囲であることがより好ましい。
【００４９】
さらに、表面層には導電性材料を含有させ、抵抗値を調整することができる。導電性材料としては、粒径が３μｍ以下であるものが望ましい。
【００５０】
また、抵抗値の調整を目的とした導電剤として、マトリックス剤に配合されるカーボンブラックや導電性金属酸化物粒子、あるいはイオン導電剤のような、電子及び／又はイオンを電荷キャリアとして電気伝導する材料を分散したものを用いることができる。
【００５１】
導電剤のカーボンブラックとして、具体的には、デグサ社製の「スペシャルブラック３５０」、同「スペシャルブラック１００」、同「スペシャルブラック２５０」、同「スペシャルブラック５」、同「スペシャルブラック４」、同「スペシャルブラック４Ａ」、同「スペシャルブラック５５０」、同「スペシャルブラック６」、同「カラーブラックＦＷ２００」、同「カラーブラックＦＷ２」、同「カラーブラックＦＷ２Ｖ」、キャボット社製「ＭＯＮＡＲＣＨ１０００」、キャボット社製「ＭＯＮＡＲＣＨ１３００」、キャボット社製「ＭＯＮＡＲＣＨ１４００」、同「ＭＯＧＵＬ−Ｌ」、同「ＲＥＧＡＬ４００Ｒ」等が用いられる。
【００５２】
カーボンブラックはｐＨ４．０以下であり、一般的なカーボンブラックに比べ、表面に存在する酸素含有官能基の効果により、樹脂組成物中への分散性がよく、ｐＨ４．０以下のカーボンブラックを配合することにより、帯電均一性をよくすることができ、さらに抵抗値の変動を小さくすることができる。
【００５３】
抵抗値を調整するための導電性粒子である導電性金属酸化物粒子は、酸化錫、アンチモンがドープされた酸化錫、酸化亜鉛、アナターゼ型酸化チタン、ＩＴＯ等の導電性を有した粒子で、電子を電荷キャリアとする導電剤あれば何れも用いることができ、特に限定されるものではない。これらは、単独で用いてもよく、２種類以上を併用することもできる。また、本実施形態を阻害しない限り、何れの粒径であってもよいが、抵抗値調整及び強度の点より、好ましくは酸化錫、アンチモンドープがされた酸化錫、アナターゼ型酸化チタンであり、さらに、酸化錫、アンチモンドープがされた酸化錫が好ましい。
【００５４】
このような導電性材料によって抵抗制御を行うことにより、表面層の抵抗値は環境条件によって変化せず、安定な特性が得られる。
【００５５】
さらに、表面層には、フッ素系又はシリコーン系の樹脂が用いられている。特に、表面層は、フッ素変性アクリレートポリマーで構成されることが好ましい。また、表面層の中に微粒子を添加してもよい。これにより、表面層が疎水性となって帯電ロール１４への異物の付着が防止されるように作用する。また、アルミナやシリカのような絶縁性の粒子を添加して、帯電ロール１４の表面に凹凸を付与し、像保持体１２との摺擦時の負担を小さくして帯電ロール１４と像保持体１２相互の耐磨耗性を向上させることも可能である。
【００５６】
〔清掃部材〕
清掃部材５２は、帯電ロール１４の回転軸方向に沿って延び、帯電層１４Ｂと接触して帯電ロール１４の回転に伴って従動回転しながら帯電層１４Ｂを清掃する円柱状の清掃部５２Ａを備えている。
【００５７】
さらに、清掃部５２Ａの長手方向の両端側には、円柱状の回転軸部材５２Ｂが設けられている。この回転軸部材５２Ｂは、一部が清掃部５２Ａから突出するように清掃部５２Ａに固定され、清掃部５２Ａの長手方向に延び、清掃部材５２の中心線上に配置されている。
【００５８】
この回転軸部材５２Ｂにおいて清掃部５２Ａの内部に収容された部分と、帯電層１４Ｂの表面とで清掃部５２Ａの両端側の一部を挟み込むようになっている。
【００５９】
また、回転軸方向において、像保持体１２の外周面において静電潜像が形成される静電潜像領域（図１に示す領域Ｇ）に、回転軸部材５２Ｂが重ならないよう回転軸部材５２Ｂの長さ及び位置が決められている。
【００６０】
なお、清掃部５２Ａの材質としては、樹脂、ゴム、ガラス、金属など特に限定するものではないが、特に発泡体が好ましく、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリアミドまたはポリプロピレン等の発泡性の樹脂又はＮＢＲ，ＥＰＤＭ，ＳＢＲ，シリコンゴム等を材質としたものより選択される。これらは１種類に限定せず、これらの材料を積層して使用することも可能である。
【００６１】
また、清掃部５２Ａの直径は特に限定するものではないが、省スペース及び帯電ロール表面への均一な接触という観点から、φ１０〔ｍｍ〕以下程度であり、特にφ２〜φ６〔ｍｍ〕がより好ましい範囲である。
【００６２】
さらに、回転軸部材５２Ｂは、アルミ、ステンレス、真鍮等の金属が主に使用されており、摺動性などの用途に応じ材質および表面処理方法は適時選択され、導電性を有さない材質についてはメッキ処理など一般的な処理により加工され導電化処理が行われてもよく、もちろんそのまま使用してもよい。
【００６３】
〔支持部材〕
図１、図２、図３に示されるように、清掃部材５２の両端側を回転可能に支持する一対の支持部材５４には、清掃部材５２の長手方向両端側に配置されている。この支持部材５４には、清掃部材５２の回転軸部材５２Ｂを支持するＵ溝６０（図２参照）と、帯電ロール１４のシャフト１４Ａを支持するＵ溝６２（図２参照）とが形成されている。
【００６４】
支持部材５４は、清掃部材５２が帯電ロール１４に対して近接離間する方向（以下近接離間方向と記載する）に延びて設けられ、長手方向中央側には、シャフト１４Ａ側を向いた段差面５４Ａ（図２参照）が設けられている。前述したＵ溝６０は、この段差面５４Ａに形成されている。
【００６５】
さらに、支持部材５４において長手方向の先端側に設けられ、段差面５４Ａが形成されることで狭くされた頂面５４Ｂ（図２参照）には、前述したＵ溝６２が形成されている。
【００６６】
〔脱落抑制装置〕
図２に示されるように、 清掃部材５２が支持部材５４から脱落するのを抑制する脱落抑制装置５６は、清掃部５２Ａから外部に露出した回転軸部材５２Ｂの外周面に固定され、回転軸部材５２Ｂの径方向外側に突出するリング部材６６を備えている。さらに、支持部材５４の段差面５４Ａには、回転軸部材５２ＢがＵ溝６０に支持された状態でこのリング部材６６を回転可能に収容する凹部７０が備えられている。
【００６７】
この凹部７０は、Ｕ溝６０の回転軸方向の中央側に形成され、Ｕ溝６０は、凹部７０が形成されることで、外側Ｕ溝６０Ａと内側Ｕ溝６０Ｂとに分離されている。
【００６８】
この構成により、回転する回転軸部材５２Ｂが、支持部材５４から回転軸方向に脱落しないようになっている。
【００６９】
また、各部材の形状は、下記関係式が満たされるように決められている。
【００７０】
リング部材６６の回転軸部材５２Ｂからの高さ（図３（Ａ）に示すＨ寸法）と、シャフト１４Ａの表面から回転軸部材５２Ｂの表面までの距離（図３（Ａ）に示すＪ寸法）とについては、Ｈ≦Ｊを満たすように各部材の形状が決められている。
【００７１】
これにより、リング部材６６が、シャフト１４Ａに干渉しないようになっている。
【００７２】
また、通常時（画像形成時）とは異なる外部からの力により、清掃部５２Ａが帯電ロール１４により圧縮される圧縮量（最大食い込み量：図３（Ｂ）に示すＫ寸法）と、通常時に清掃部５２Ａが帯電ロール１４により圧縮される圧縮量（設定食い込み量：図３（Ａ）に示すＬ寸法）と、前述したＨ寸法とについては、Ｋ−Ｌ＜Ｈを満たすように各部材の形状が決められている。
【００７３】
これにより、外部からの力により清掃部５２Ａが帯電ロール１４により圧縮されても、リング部材６６が、凹部７０から抜けないようになっている。
【００７４】
また、前述した寸法Ｈと、凹部７０の深さ（図３（Ａ）に示すＭ寸法）とについては、Ｈ≦Ｍを満たすように各部材の形状が決められている。
【００７５】
これにより、リング部材６６の先端と凹部７０の底面とが強く当るのが抑制され（摩擦力が増えるのが抑制され）、清掃部材５２の回転を阻害しないようになっている。
【００７６】
また、リング部材６６の幅（図３（Ａ）に示すＮ寸法）と、凹部７０の幅（図３（Ａ）に示すＰ寸法）とについては、Ｎ≦Ｐを満たすように各部材の形状が決められている。
【００７７】
これにより、凹部７０に収容されたリング部材６６の板面と凹部７０の側面とが強く当るのが抑制され（摩擦力が増えるのが抑制され）、清掃部材５２の回転を阻害しないようになっている。
【００７８】
（要部構成の作用）
次に、要部構成の作用について説明する。
【００７９】
図１に示されるように、像保持体１２を回転させると、像保持体１２の回転に伴って帯電ロール１４が従動回転する。さらに、帯電ロール１４の回転に伴って清掃部材５２が従動回転する。これにより、帯電層１４Ｂの表面に付着したトナーや外添剤などの汚れが、清掃部５２Ａ側へ移行又は掻き出され、帯電ロール１４の表面は清掃される。
【００８０】
ここで、回転軸部材５２Ｂが支持部材５４から脱落するのを抑制する脱落抑制装置５６が設けられている。このため、回転する清掃部５２Ａが変形しても清掃部材５２が支持部材５４から脱落するのが抑制される。
【００８１】
また、回転軸部材５２Ｂにおいて清掃部５２Ａの内部に収容された部分と、帯電層１４Ｂの表面とで清掃部５２Ａの両端側の一部を挟み込むようになっている。このため、外力により清掃部５２Ａが大きく変形しても清掃部材５２が支持部材５４から脱落するのが効果的に抑制される。
【００８２】
また、凹部７０と、リング部材６６とで脱落抑制装置５６を構成することで、簡易な構成で、清掃部材５２が支持部材５４から脱落するのが抑制される。
【００８３】
一方、小径化した帯電ロール１４を用いる場合に、像保持体１２から受けるトルクが小さくなるため、清掃部の一端側から他端側までに貫通した回転軸部材を用いると、清掃部材の帯電ロール１４に対する接触圧により、帯電ロール１４が回転しなくなってしまうことが考えられる。
【００８４】
しかし、本実施形態の清掃部材５２では、回転軸部材５２Ｂは、清掃部５２Ａの一端側から他端側まで設けられておらず、清掃部５２Ａの両端側にしか設けられていない。このため、清掃部の一端側から他端側までに貫通した回転軸部材を用いる場合と比して、清掃部材５２の帯電ロール１４に対する接触圧が低くなるため、帯電ロール１４の回転を阻害するのが抑制される。
【００８５】
さらに、小径化された帯電ロール１４を用いることで、像保持体１２に接触する帯電ロール１４が撓むことがある。このように、帯電ロール１４が撓んだ場合に、清掃部５２Ａの一端側から他端側までに貫通した回転軸部材を用いると、清掃部材５２の剛性が高すぎ、帯電ロール１４の回転軸方向中央側と両端側で接触圧に差が出てしまう。このような場合に、回転軸方向において帯電ロール１４に清掃ムラが生じる。さらに、回転軸方向において、帯電ロール１４の清掃ムラに起因する帯電ムラが像保持体１２に生じる。
【００８６】
しかし、前述したように、本実施形態の清掃部材５２では、回転軸部材５２Ｂは、清掃部５２Ａの一端側から他端側まで設けられておらず、清掃部５２Ａの両端側にしか設けられていない。このため、清掃部の一端側から他端側までに貫通した回転軸部材を用いる場合と比して、帯電ロール１４の回転軸方向中央側と両端側で生じる接触圧の差が抑制される。
【００８７】
また、帯電ロール１４の回転軸方向中央側と両端側とで生じる接触圧の差が抑制されることで、回転軸方向において帯電ロール１４に生じる清掃ムラが抑制される。
【００８８】
また、帯電ロール１４に生じる清掃ムラが抑制されることで、回転軸方向において、帯電ロール１４の清掃ムラに起因する帯電ムラが像保持体１２に生じるのが抑制される。
【００８９】
さらに、本実施形態のように、回転軸部材５２Ｂを回転軸方向に分割した場合に、回転軸方向において、回転軸部材５２Ｂが像保持体１２の印字領域内（静電潜像領域）に重なってしまうと、回転軸部材５２の有無によって、清掃部材と帯電ロールとの間の接触圧に差が生じ、静電潜像領域と対応する部分の帯電ロールに清掃ムラが生じることが考えられる。
【００９０】
さらに、この帯電ロールの清掃ムラにより、像保持体１２の静電潜像領域内に帯電ムラが生じ、この像保持体１２の静電潜像領域内の帯電ムラにより、像保持体１２の表面に形成されるトナー画像に濃度ムラが生じることが考えられる。
【００９１】
しかし、前述したように、回転軸方向において、像保持体１２の静電潜像領域と、回転軸部材５２Ｂとが重ならないよう回転軸部材５２Ｂの長さ及び位置が決められている。このため、回転軸部材５２Ｂの長さ及び位置が起因して、像保持体１２の表面に形成されるトナー画像に濃度ムラが生じるのが抑制される。
【００９２】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態に係る清掃装置、帯電装置、像保持体装置及び画像形成装置の一例について図６、図７に従って説明する。なお、第１実施形態と同一部材については、同一符号を付してその説明を省略する。
【００９３】
図６、図７に示されるように、第２実施形態に係る脱落抑制手段の一例としての脱落抑制装置８０は、回転軸部材５２Ｂの径方向へ突出するリング部材を備えておらず、これに替えて、回転軸部材５２Ｂの外周面に形成された凹部８２を備えている。
【００９４】
〔脱落抑制装置〕
清掃部材５２が支持部材５４から脱落するのを抑制する脱落抑制装置８０は、清掃部５２Ａから外部に露出した回転軸部材５２Ｂの外周面に形成され、回転軸部材５２Ｂの回転方向に沿った凹部８２を備えている。さらに、支持部材５４の段差面５４Ａには、回転軸部材５２ＢがＵ溝６０に支持された状態でこの凹部８２に収容される凸部８４が設けられている（形成されている）。
【００９５】
この凸部８４は、Ｕ溝６０の回転軸方向の中央側に回転軸部材５２Ｂの周方向に亘って形成され、Ｕ溝６０は、凸部８４が形成されることで、外側Ｕ溝６０Ａと内側Ｕ溝６０Ｂとに分離されている。
【００９６】
この構成により、回転する回転軸部材５２Ｂが支持部材５４から脱落しないようになっている。
【００９７】
また、各部材の形状は、下記関係式が満たされるように決められている
通常時（画像形成時）とは異なる外部からの力により、清掃部５２Ａが帯電ロール１４により圧縮される圧縮量（図７（Ｂ）に示すＱ寸法）と、通常時に清掃部５２Ａが帯電ロール１４により圧縮される圧縮量（図７（Ａ）に示すＲ寸法）と、凸部８４の高さ（図７（Ａ）に示すＳ寸法）と、凹部８２の深さ（図７（Ａ）に示すＹ寸法）と、回転軸部材５２Ｂの半径（図７（Ａ）に示すＴ寸法）とについては、Ｑ−Ｒ＜Ｓ≦Ｙ＜Ｔを満たすように各部材の形状が決められている。
【００９８】
これにより、外部からの力により清掃部５２Ａが帯電ロール１４により圧縮されても、凸部８４から凹部８２が脱落しないようになっている（図７（Ｂ）参照）。また、回転軸部材５２Ｂの回転が、凸部８４との接触により阻害されないようになっている。
【００９９】
また、凸部８４の幅（図７（Ｂ）に示すＵ寸法）と、凹部８２の幅（図７（Ｂ）に示すＶ寸法）とについては、Ｕ≦Ｖを満たすように各部材の形状が決められている。
【０１００】
これにより、回転軸部材５２Ｂに形成された凹部８２に、凸部８４が収容された状態で、回転軸部材５２Ｂが回転可能となっている。
【０１０１】
なお、他の作用については、第１実施例と同様である。
【０１０２】
＜第３実施形態＞
次に、本発明の第３実施形態に係る清掃装置、帯電装置、像保持体装置及び画像形成装置の一例について図８、図９に従って説明する。なお、第１実施形態と同一部材については、同一符号を付してその説明を省略する。
【０１０３】
図８、図９に示されるように、第３実施形態に係る脱落抑制手段の一例としての脱落抑制装置９０は、清掃部５２Ａから外部に露出した回転軸部材５２Ｂが挿入される挿入部の一例としての貫通孔９２を含んで構成されている。
【０１０４】
〔脱落抑制装置〕
図８、図９に示されるように、 清掃部材５２が支持部材５４から脱落するのを抑制する脱落抑制装置９０は、支持部材５４に形成され、回転軸部材５２Ｂの端部が外部に露出するように回転軸部材５２Ｂが挿入される貫通孔９２を含んで構成されている。
【０１０５】
さらに、貫通孔９２から外側に露出した回転軸部材５２Ｂの端側には、回転軸部材５２Ｂが貫通孔９２から抜けるのを抑制するリング状の抜止部材９４が固定されている。
【０１０６】
なお、作用については、第１実施例と同様である。
【０１０７】
ここで、実施例としての帯電装置３４と、比較例としての帯電装置を用いて、帯電ロールに対する清掃部材の脱落性能等の評価を行なった。
【０１０８】
〔実施例１〕
［帯電ロール］
エピクロルヒドリンゴム１００質量部にイオン導電剤ＰＥＬ−１００（日本カーリット社製）３質量部を添加して十分混練した後、これを押し出して成形したものを、シャフト１４Ａとしての、φ５〔ｍｍ〕（Ｌ＝２４５ｍｍ）のＳＵＭ−Ｎｉシャフト（快削鋼（新日鉄ＳＵＭ２４ＥＺ）にＮｉメッキを施したもの）に挿入した。
【０１０９】
この状態で、プレス成形機にて加硫をおこなった後、研磨によって加工を行い、端部外径φ７．００〔ｍｍ〕、中央部外径φ７．１５〔ｍｍ〕（クラウン量１５０μｍ）とした。次に、回転軸方向にゴム部分を切断加工し、長さ２３０〔ｍｍ〕の帯電層１４Ｂを得た。その後、この表面に浸漬コーティング方法によってフッ素系樹脂を、膜厚５μｍでコーティングを行なった。なお、実施例１の帯電ロール１４としては、中央部外径が端部外径よりも大きい所謂クラウン形状とされた帯電ロール１４を用いた。
【０１１０】
このような工程で得られた帯電ロール１４を評価に用いた。
【０１１１】
［清掃部材］
ポリエーテルとイソシアネートとを混合し、得られたウレタン樹脂を加熱硬化させ、３次元網目構造からなるウレタン材料（密度７０〔ｋｇ／ｍ３〕、セル数７０個／２５ｍｍ、（株）イノアックコーポレーション製）を外径φ５ｍｍの円筒状に切削加工した。その後、全長２３０ｍｍとなるように両端をカットして清掃部５２Ａを得た。
【０１１２】
さらに、清掃部５２Ａの両端面に回転軸方向に延びる円柱状の凹部（深さ４〔ｍｍ〕、直径２．９５〔ｍｍ〕）を形成させた。回転軸部材５２Ｂとして、ステンレス（ＳＵＳ３０４）製の軸芯（外径φ３．００〔ｍｍ〕、Ｌ＝１０〔ｍｍ〕）を２本用いた。後述するリング部材６６を固定した後に、ホットメルト型の接着剤を端部から４〔ｍｍ〕だけ塗布し、接着剤が塗布された部分を、清掃部５２Ａに形成された凹部に挿入して加熱接着した。
【０１１３】
このように、回転軸部材５２Ｂを含む全長を２４２〔ｍｍ〕、清掃部５２Ａの外径をφ５〔ｍｍ〕、回転軸部材５２Ｂの外径をφ３〔ｍｍ〕とした。この構成により、回転軸方向において、像保持体１２の静電潜像領域（図１に示す領域Ｇ）に、回転軸部材５２Ｂが重ならないようにした。
【０１１４】
このような工程で得られた清掃部材５２を評価に用いた。
【０１１５】
[脱落抑制装置・支持部材]
前述した回転軸部材５２Ｂに、外側端面より３〔ｍｍ〕の位置に、周方向１周に渡って深さ０．５〔ｍｍ〕、幅０．８〔ｍｍ〕のケガキ線を入れた。このケガキ線の位置に外径６．５〔ｍｍ〕、厚さ０．７５〔ｍｍ〕のＳＵＳ製のリング部材６６を固定した。
【０１１６】
このように、リング部材６６の回転軸部材５２Ｂからの高さ（図３（Ａ）に示すＨ寸法）を１．７５〔ｍｍ〕とした。
【０１１７】
さらに、後述する印字テストで使用するＤＥＬＬ製Ｃ３１１０ｃｎのプロセスカートリッジに装着可能となるように帯電ロール１４と清掃部材５２とを共受けとする支持部材５４（導電性ＰＯＭ製、軸受けはＵ字受け）を作製した。
【０１１８】
支持部材５４のＵ溝６０において、回転軸部材５２Ｂに固定されたリング部材６６と対向する位置に、深さ２．０〔ｍｍ〕(図３（Ａ）のＭ相当)、幅０．８〔ｍｍ〕(図３（Ａ）のＰ相当)の凹部７０を形成させた。
【０１１９】
なお、その他のパラメータとして、帯電ロール１４に対する清掃部材５２の設定食い込み量を０．５〔ｍｍ〕、最大食い込み量を１．０〔ｍｍ〕、シャフト１４Ａの表面から回転軸部材５２Ｂの表面までの距離を２〔ｍｍ〕、側面視にて、像保持体１２の回転中心と帯電ロール１４の回転中心とを結んだ線と、帯電ロール１４の回転中心と清掃部材５２の回転中心を結んだ線との成す角度（軸間線角度：図４に示す角度Ｗ）を１１°とした。
【０１２０】
以上のように実施例１では、第１実施形態の実施例に該当する脱落抑制装置５６及び支持部材５４を用いた。
【０１２１】
〔実施例２〕
［帯電ロール・清掃部材］
帯電ロール１４及び清掃部材５２については、実施例１と同様のものを用いた。
【０１２２】
[脱落抑制装置・支持部材]
前述した回転軸部材５２Ｂにおいて外側端面より３〔ｍｍ〕の位置に、周方向１周に渡って深さ１．１５〔ｍｍ〕、幅０．８〔ｍｍ〕の凹部８２を形成させた。このように、凹部８２の深さを１．１５〔ｍｍ〕とした。
【０１２３】
さらに、支持部材５４のＵ溝６０において、回転軸部材５２Ｂに形成された凹部８２と対向する位置には、高さ１．１０〔ｍｍ〕(図７（Ａ）のＳ相当)、幅０．７５〔ｍｍ〕(図７（Ｂ）のＵ相当)の凸部８４を形成させた。
【０１２４】
なお、その他のパラメータについては、実施例１と同様とした。
【０１２５】
以上のように実施例２では、第２実施形態の実施例に該当する脱落抑制装置８０及び支持部材５４を用いた。
【０１２６】
〔実施例３〕
［帯電ロール］
帯電ロール１４については、実施例１と同様のものを用いた。
【０１２７】
［清掃部材］
清掃部材５２については、回転軸部材５２Ｂの長さだけを、実施例１で用いた物に対して変更した。実施例１に対して回転軸部材５２Ｂを８〔ｍｍ〕伸ばして長さ１８〔ｍｍ〕とし、外側への突出量を多くした。
【０１２８】
[脱落抑制装置・支持部材]
回転軸部材５２Ｂの端部が支持部材５４から外部に露出するように回転軸部材５２Ｂが挿入される貫通孔９２を支持部材５４に形成させた。
【０１２９】
貫通孔９２を通って外部に露出した回転軸部材５２Ｂの外側端面より１．５〔ｍｍ〕の位置に、周方向１周に渡って深さ０．５〔ｍｍ〕、幅０．８〔ｍｍ〕のケガキ線を入れた。このケガキ線の位置に外径６．５〔ｍｍ〕、厚さ０．７５〔ｍｍ〕のＳＵＳ製の抜止部材９４（Ｅリング）を固定した。
【０１３０】
なお、その他のパラメータについては、実施例１と同様とした。
【０１３１】
以上のように実施例３では、第３実施形態の実施例に該当する脱落抑制装置９０及び支持部材５４を評価に用いた。
【０１３２】
〔実施例４〕
［帯電ロール］
帯電ロール１４については、実施例１と同様のものを用いた。
【０１３３】
［清掃部材］
清掃部材５２については、回転軸部材５２Ｂの長さだけを、実施例１で用いた物に対して変更した。実施例１に対して回転軸部材５２Ｂを１０〔ｍｍ〕伸ばして長さ２０〔ｍｍ〕とし、清掃部５２Ａの内部に収容される収容量を多くした。この構成により、回転軸方向において、像保持体１２の静電潜像領域（図１に示す領域Ｇ）に、回転軸部材５２Ｂが４〔ｍｍ〕ずつ重なるようにした。
【０１３４】
[脱落抑制装置・支持部材]
脱落抑制装置５６及び支持部材５４については、実施例１と同様のものを用いた。
【０１３５】
〔比較例１〕
［帯電ロール・清掃部材］
帯電ロール及び清掃部材については、実施例１と同様のものを用いた。
【０１３６】
[脱落抑制装置・支持部材]
実施例１に対して脱落抑制装置が設けられてないものを用いた。
【０１３７】
〔比較例２〕
［帯電ロール］
帯電ロールについては、実施例１と同様のものを用いた。
【０１３８】
［清掃部材］
実施例１の清掃部材に対して、回転軸部材だけを変更したものを用いた。一対の回転軸部材ではなく、清掃部の一端側から他端側までに至る一本の回転軸部材を用いた。
【０１３９】
[脱落抑制装置・支持部材]
脱落抑制装置及び支持部材については、実施例１と同様のものを用いた。
【０１４０】
〔評価方法（衝撃試験）〕
実施例１〜４及び比較例１〜２に係る帯電装置をＤＥＬＬ製Ｃ３１１０ｃｎのプロセスカートリッジに組み込んだ後、直方体状の梱包箱に梱包して落下衝撃試験を行なった。
【０１４１】
図１１に示されるように、厚さ３〔ｃｍ〕の鉄板とされた落下床部材の床面に、落下高さ１．２〔ｍ〕から、直方体状の梱包箱の稜線が床面に当るように梱包箱を落下させた。稜線については、１２稜線の全に対して落下衝撃試験を行なった。  
【０１４２】
全ての落下衝撃試験終了後、梱包箱を開梱し、清掃部材が、支持部材から脱落しているか否かを評価した。評価結果については、図１０に記載の表に示す。○は脱落無し、×は脱落有りである。
【０１４３】
〔評価方法（印字テスト）〕
実施例１〜４及び比較例１〜２に係る帯電装置を、ＤＥＬＬ製Ｃ３１１０ｃｎのプロセスカートリッジに組み込んだ。このプロセスカートリッジをＤＥＬＬ製Ｃ３１１０ｃｎに取り付け連続印字テストを実施した。
【０１４４】
印字条件は、３０％濃度ハーフトーン１枚を１Ｊｏｂとして指示を送り、画像を記録媒体に形成させた後、その都度回転動作を停止させ、断続回転するようにした。
【０１４５】
像保持体が５００，０００回転するまでの清掃部材の脱落の有無を評価した（脱落評価）。
【０１４６】
また、像保持体が５００，０００回転するまで、出力画像に、帯電ロールの接触不良に起因する濃度ムラが出力画像に生じるか否かを評価した。図１０に示す表には濃度ムラが生じた像保持体の回転数が記載されている（濃度ムラ評価）。
【０１４７】
像保持体が５００，０００回転しても清掃部材が支持部材から脱落せず、像保持体が５００，０００回転するまで、濃度ムラが生じない場合は○とした。像保持体が５００，０００回転しても脱落せず、像保持体が１００，０００回転して濃度ムラが生じた場合を△とした。他の場合を×とした。
【０１４８】
〔評価結果〕
図１０の表に示されるように、衝撃試験が○で、かつ、印字テストが△又は○の仕様に対しては、総合判定を○とした。
【０１４９】
この表から分かるように、実施例１〜４については、総合評価が○であり、清掃部材の支持部材から脱落、及び出力画像の濃度ムラに対して、問題ないことが分かる。
【０１５０】
但し、実施例４については、実施例１〜３に対して、回転軸方向において、像保持体１２の静電潜像領域（図１に示す領域Ｇ）に、回転軸部材５２Ｂが４〔ｍｍ〕ずつ重なっているため、濃度ムラ評価が劣ることが分かった。
【０１５１】
この評価結果からも、各実施形態では、清掃部材５２による帯電ロール１４に対する清掃性能の確保した上で、清掃部材５２を支持する支持部材５４から清掃部材５２が脱落するのが抑制されることが分かる。
【０１５２】
なお、本発明を特定の実施形態について詳細に説明したが、本発明は係る実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内にて他の種々の実施形態が可能であることは当業者にとって明らかである。例えば、上記、第１実施形態では、リング部材６６を、回転軸部材５２Ｂに対して別個に設けたが、回転軸部材５２Ｂを樹脂材料で成形する場合には、リング部材を回転軸部材に一体的に設けてもよい。
【０１５３】
また、第２実施形態では、凹部８２の成形方法について特に言及しなかったが、樹脂材料で回転軸部材５２Ｂを成形する場合には、凹部を形成させる金型を用いることで、凹部８２を形成させる工程が削減される。
【０１５４】
また、上記実施形態では、特に言及しなかったが、清掃部５２Ａに回転軸方方向の張力を付与して、支持部材に取り付けてもよい。
【符号の説明】
【０１５５】
１０          画像形成装置
１２          像保持体
１４          帯電ロール（帯電部材の一例）
１８          プロセスカートリッジ（像保持体装置の一例）
３４          帯電装置
５０          清掃装置
５２          清掃部材
５２Ａ        清掃部
５２Ｂ        回転軸部材
５４          支持部材
５６          脱落抑制装置（脱落抑制手段の一例）
６６          リング部材（凸部の一例）
７０          凹部
８０          脱落抑制装置（脱落抑制手段の一例）
８２          凹部
８４          凸部
９０          脱落抑制装置（脱落抑制手段の一例）
９２          貫通孔（挿入部の一例）
９４          抜止部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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