(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を出射する発光点を複数有するマルチビーム光源と、当該マルチビーム光源を支持する支持フレームとを有するマルチビームユニットと、
反射面を有して当該反射面で光を偏向する偏向器と、
各発光点から出射される光を前記偏向器の反射面に複数の光線として導く入射光学系と、
前記偏向器で偏向される複数の光線を感光面上で少なくとも副走査方向に結像させる走査レンズと、
複数色に対応した数の前記マルチビームユニット、前記偏向器、前記入射光学系および前記走査レンズが固定される筐体と、を備えた光走査装置の製造方法において、
金型に形成される複数のキャビティで成形される複数の走査レンズの副走査倍率の目標値からのズレ量をキャビティ毎に予め把握しておく工程と、
各キャビティで成形した複数の走査レンズを、前記キャビティの数よりも少ない複数のグループに前記ズレ量に応じて分類する工程と、
前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチが前記複数のグループに応じたそれぞれ異なる値となる複数種類のマルチビームユニットを予め用意しておく工程と、
前記各発光点から感光面上に結像された複数の像のピッチが目標値となるように、前記走査レンズに、前記走査レンズの分類される前記グループに対応したマルチビームユニットを組み合わせて前記筐体に固定する工程と、を備えることを特徴とする光走査装置の製造方法。
【請求項２】
光を出射する発光点を複数有するマルチビーム光源と、当該マルチビーム光源を支持する支持フレームとを有するマルチビームユニットと、
反射面を有して当該反射面で光を偏向する偏向器と、
各発光点から出射される光を前記偏向器の反射面に複数の光線として導く入射光学系と、
前記偏向器で偏向される複数の光線を感光面上で少なくとも副走査方向に結像させる走査レンズと、
複数色に対応した数の前記マルチビームユニット、前記偏向器、前記入射光学系および前記走査レンズが固定される筐体と、を備えた光走査装置の製造方法において、
金型に形成される複数のキャビティで成形される複数の走査レンズの副走査倍率の目標値からのズレ量をキャビティ毎に予め把握しておく工程と、
各キャビティで成形した複数の走査レンズを、前記キャビティの数よりも少ない複数のグループに前記ズレ量に応じて分類する工程と、
前記マルチビームユニットと前記入射光学系の少なくとも一部とを一体化して１つの入射光学系モジュールにする工程と、
前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチが前記複数のグループに応じたそれぞれ異なる値となる複数種類の入射光学系モジュールを予め用意しておく工程と、
前記各発光点から感光面上に結像された複数の像のピッチが目標値となるように、前記走査レンズに、前記走査レンズの分類される前記グループに対応した入射光学系モジュールを組み合わせて前記筐体に固定する工程と、を備えることを特徴とする光走査装置の製造方法。
【請求項３】
前記複数のグループに応じた、前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチの値は、それぞれ前記グループに分類される前記ズレ量の範囲の中間値に対応した値であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項４】
前記走査レンズに、ズレ量を識別するためのズレ量識別情報を付与する工程を備えたことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項５】
前記マルチビームユニットに、前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチを識別するためのピッチ識別情報を付与する工程を備えたことを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項６】
前記ズレ量識別情報は、金型での成形時に前記走査レンズに刻印されるキャビティナンバーであることを特徴とする請求項４に記載の光走査装置の製造方法。
【請求項７】
光を出射する発光点を複数有するマルチビーム光源と、当該マルチビーム光源を支持する支持フレームとを有するマルチビームユニットと、
反射面を有して当該反射面で光を偏向する偏向器と、
各発光点から出射される光を前記偏向器の反射面に複数の光線として導く入射光学系と、
前記偏向器で偏向される複数の光線を感光面上で少なくとも副走査方向に結像させる走査レンズと、
複数色に対応した数の前記マルチビームユニット、前記偏向器、前記入射光学系および前記走査レンズが固定される筐体と、を備えた光走査装置の製造方法において、
金型に形成される複数のキャビティで成形される複数の走査レンズの副走査倍率の目標値からのズレ量をキャビティ毎に予め把握しておく工程と、
各キャビティで成形した複数の走査レンズを前記ズレ量に応じて分類する工程と、
前記ズレ量の分類に応じて前記マルチビーム光源を回転させて前記支持フレームに固定した複数種類のマルチビームユニットであって、前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチが前記ズレ量の分類に応じたそれぞれ異なる値となる複数種類のマルチビームユニットを予め用意しておく工程と、
前記走査レンズに、前記走査レンズの前記分類に対応した前記マルチビームユニットを組み合わせて前記筐体に固定する工程と、を備えることを特徴とする光走査装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マルチビーム光源を備える光走査装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、タンデム方式のカラーレーザプリンタにおいて、複数の発光点を有するマルチビーム光源を有する光走査装置を使用したものが知られている（特許文献１参照）。具体的に、この光走査装置は、マルチビーム光源と、マルチビーム光源から出射される光をポリゴンミラーに導く入射光学系と、ポリゴンミラーで偏向された光を感光面上で副走査方向に結像させる走査レンズとを備えている。
【０００３】
このような技術においては、通常金型に形成した複数のキャビティによって複数の走査レンズを一度に成形するため、キャビティ毎に走査レンズの副走査方向のばらつきが生じるという問題がある。この問題に対し、前述した従来技術では、感光面上に走査される複数の走査線の間隔を測定し、その結果に基づきマルチビーム光源を回転させることで、走査線の間隔を調整している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２８５０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来技術では、感光面上に走査される複数の走査線の間隔を測定すべく、マルチビーム光源、入射光学系、ポリゴンミラーおよび走査レンズを筐体に取り付けた後で、マルチビーム光源を回転させる必要があるので、走査線の間隔の調整作業が煩雑になるといった問題がある。
【０００６】
そこで、本発明は、キャビティ精度の違いによる走査線の間隔のずれを簡易な方法で抑制することができる光走査装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため、本発明に係る光走査装置の製造方法では、マルチビームユニットと、偏向器と、入射光学系と、走査レンズと、複数色に対応した数の前記マルチビームユニット、前記偏向器、前記入射光学系および前記走査レンズが固定される筐体と、を備える光走査装置を製造する。
ここで、マルチビームユニットは、光を出射する発光点を複数有するマルチビーム光源と、当該マルチビーム光源を支持する支持フレームとを有する。また、偏向器は、反射面を有して当該反射面で光を偏向し、入射光学系は、各発光点から出射される光を前記偏向器の反射面に複数の光線として導く。また、走査レンズは、前記偏向器で偏向される複数の光線を感光面上で少なくとも副走査方向に結像させる。
そして、本発明に係る光走査装置の製造方法は、金型に形成される複数のキャビティで成形される複数の走査レンズの副走査倍率の目標値からのズレ量をキャビティ毎に予め把握しておく工程と、各キャビティで成形した複数の走査レンズを前記ズレ量に応じて分類する工程と、前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチが前記キャビティ毎のズレ量の分類に応じた値となる複数種類のマルチビームユニットを予め用意しておく工程と、前記各発光点から感光面上に結像された複数の像のピッチが目標値となるように、前記走査レンズおよび前記マルチビームユニットを組み合わせて前記筐体に固定する工程と、を備えている。
【０００８】
このような製造方法によれば、ズレ量に応じて分類される走査レンズと、ズレ量に応じて分類されるマルチビームユニットとを組み合わせて筐体に固定するだけで、感光面上の複数の像のピッチを簡単に目標値にすることができるので、キャビティ精度の違いによる走査線の間隔のずれを簡易な方法で抑制することができる。
【０００９】
また、本発明に係る光走査装置の製造方法は、金型に形成される複数のキャビティで成形される複数の走査レンズの副走査倍率の目標値からのズレ量をキャビティ毎に予め把握しておく工程と、各キャビティで成形した複数の走査レンズを前記ズレ量に応じて分類する工程と、前記マルチビームユニットと前記入射光学系の少なくとも一部とを一体化して１つの入射光学系モジュールにする工程と、前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチが前記キャビティ毎のズレ量の分類に応じた値となる複数種類の入射光学系モジュールを予め用意しておく工程と、前記各発光点から感光面上に結像された複数の像のピッチが目標値となるように、前記走査レンズおよび前記入射光学系モジュールを組み合わせて前記筐体に固定する工程と、を備えていてもよい。
【００１０】
この場合であっても、ズレ量に応じて分類される走査レンズと、ズレ量に応じて分類される入射光学系モジュールとを組み合わせて筐体に固定するだけで、感光面上の複数の像のピッチを簡単に目標値にすることができるので、キャビティ精度の違いによる走査線の間隔のずれを簡易な方法で抑制することができる。さらに、この場合には、マルチビームユニットと入射光学系の少なくとも一部とを一体化して１つの入射光学系モジュールにするので、筐体に対して光学系部品を組み付ける作業をより容易にすることができる。
【００１１】
また、前記製造方法は、前記走査レンズに、ズレ量を識別するためのズレ量識別情報を付与する工程を備えていてもよい。
【００１２】
これによれば、走査レンズを複数のグループに分類する際に、異なるズレ量の走査レンズが混ざってしまった場合であっても、簡単にズレ量を識別して分類し直すことができる。
【００１３】
また、前記製造方法は、前記マルチビームユニットに、前記複数の発光点の副走査方向におけるピッチを識別するためのピッチ識別情報を付与する工程を備えていてもよい。
【００１４】
これによれば、マルチビームユニットを複数のグループに分類する際に、異なるズレ量のマルチビームユニットが混ざってしまった場合であっても、簡単にズレ量を識別して分類し直すことができる。
【００１５】
また、前記ズレ量識別情報は、金型での成形時に前記走査レンズに刻印されるキャビティナンバーであるのが好ましい。
【００１６】
これによれば、金型成形により走査レンズにキャビティナンバーを付けることで、金型成形の工程とは別に識別情報を付与する工程を設ける必要がないので、製造スピードを上げることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、キャビティ精度の違いによる走査線の間隔のずれを簡易な方法で抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本実施形態に係る光走査装置を示す平面図である。
【図２】光走査装置を示す断面図である。
【図３】マルチビームユニットを示す斜視図（ａ）と、副走査方向におけるピッチの調整を示す正面図（ｂ），（ｃ）である。
【図４】副走査方向に光を結像するための結像光学系を示す説明図（ａ）と、マルチビーム光源の各発光点を示す図（ｂ）と、感光面に結像された各像を示す図（ｃ）である。
【図５】金型のキャビティを示す図である。
【図６】各金型のキャビティに対応する補正レンズの副走査倍率の目標値からのズレ量などを複数のグループに分類した表である。
【図７】入射光学系モジュールを示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の説明において、「主走査方向」とは、感光体の一例としての感光ドラム５１の表面（感光面）でのレーザ光の走査方向であり、本実施形態では左右方向に相当する。また、「副走査方向」とは、主走査方向（およびレーザ光の光軸）に直交する方向である。
【００２０】
図１および図２に示すように、光走査装置４０は、筐体４０Ａ内に、マルチビーム光源４１と、入射光学系の一例としてのコリメートレンズ４２、反射ミラー４３およびシリンドリカルレンズ４４と、偏向器の一例としてのポリゴンミラー４５と、ｆθレンズ４６と、反射ミラー４７と、走査レンズの一例としての補正レンズ４８とを複数色に対応した数だけ備えている。
【００２１】
マルチビーム光源４１は、図３（ａ）に示すように、レーザ光を出射する複数の発光点Ｌ１，Ｌ２を有する半導体レーザであり、支持フレーム１１０とともにマルチビームユニット１００を構成している。支持フレーム１１０は、マルチビーム光源４１を回転可能に支持している。そして、このマルチビームユニット１００では、図３（ｂ），（ｃ）に示すように、支持フレーム１１０に対してマルチビーム光源４１を回転させることで、各発光点Ｌ１，Ｌ２の副走査方向におけるピッチＰｓを調整することが可能となっている。
【００２２】
マルチビーム光源４１は、光走査装置４０が露光する４つの感光ドラム５１に対応して４つ設けられ、それぞれ支持フレーム１１０を介して筐体４０Ａに固定されるようになっている。詳しくは、２つのマルチビーム光源４１は、左右方向においてポリゴンミラー４５と対向して配置されている。また、残りの２つのマルチビーム光源４１は、前後方向において互いに向かい合った状態で配置されている。
【００２３】
コリメートレンズ４２は、マルチビーム光源４１の各発光点Ｌ１，Ｌ２から出射されたレーザ光を集光させて２本（複数）の光線に変換するレンズであり、複数のマルチビーム光源４１に対してレーザ光の進行方向下流側に１つずつ設けられている。
【００２４】
反射ミラー４３は、コリメートレンズ４２で変換された２本の光線をポリゴンミラー４５に向けて反射または通過させるミラーであり、前側の２つのマルチビーム光源４１と、後側の２つのマルチビーム光源４１とに対して１つずつ設けられている。
【００２５】
シリンドリカルレンズ４４は、ポリゴンミラー４５の面倒れを補正するため、反射ミラー４３を反射または通過した２本の光線を屈折させて副走査方向に収束し、ポリゴンミラー４５の反射面上に集光する（光線として導く）レンズであり、各反射ミラー４３とポリゴンミラー４５との間に１つずつ設けられている。
【００２６】
ポリゴンミラー４５は、六角柱の各側面に反射面が形成されており、高速回転しながらマルチビーム光源４１から出射されたレーザ光を反射面で反射して主走査方向に偏向および等角速度で走査するミラーである。ポリゴンミラー４５は、筐体４０Ａのほぼ中央付近に１つ配置されている。
【００２７】
ｆθレンズ４６は、ポリゴンミラー４５によって等角速度で走査されたレーザ光を主走査方向に等速度で走査するように変換するレンズであり、ポリゴンミラー４５の前後に１つずつ設けられている。
【００２８】
反射ミラー４７は、レーザ光を反射するミラーであり、ｆθレンズ４６を通過したレーザ光が補正レンズ４８に向かうように適宜な位置にそれぞれ配置されている。
【００２９】
補正レンズ４８は、ポリゴンミラー４５の面倒れを補正するため、ポリゴンミラー４５で偏向された２本の光線を感光ドラム５１上で副走査方向に結像させるレンズであり、４つの感光ドラム５１に対して１つずつ設けられている。なお、図２では、便宜上、各感光ドラム５１に対する２本の光線を１本省略して図示することとする。
【００３０】
以上のように構成された光学系（４１〜４８）では、図４（ａ）〜（ｃ）に示すように、マルチビーム光源４１の２つの発光点Ｌ１，Ｌ２から出射された光が光学系によって副走査方向にずれた２本のビーム（光線）に変換され、２本のビームによって感光ドラム５１の表面を同時に走査することが可能となっている。ここで、図４（ａ）では、副走査方向での２本のビームの結像の過程を分かり易くするために、副走査方向に光を結像するための光学系（コリメートレンズ４２、シリンドリカルレンズ４４および補正レンズ４８）のみを図示するとともに、ポリゴンミラー４５を省略している。
【００３１】
そして、図４（ｃ）に示すような感光ドラム５１上の各像Ｉ１，Ｉ２の副走査方向のピッチＤｓは、解像度に応じた値に設定する必要があり、例えば解像度が６００ｄｐｉであれば４２．３μｍに設定される。このピッチＤｓは、各発光点Ｌ１，Ｌ２の副走査方向のピッチＰｓと、光学系の横倍率βｓとを以下の式（１）に代入することで決まる。
【００３２】
Ｄｓ＝βｓ・Ｐｓ＝β１・β２・Ｐｓ  ・・・（１）
ここで、β１は、入射光学系（コリメートレンズ４２およびシリンドリカルレンズ４４）の副方向倍率であり、β２は、補正レンズ４８の副方向倍率である。β１，β２は、以下の式で表される。
【００３３】
β１＝δｓ／Ｐｓ  ・・・（２）
β２＝Ｄｓ／δｓ  ・・・（３）
（δｓ：ポリゴンミラー４５の反射面上での各像の副走査方向におけるピッチ）
【００３４】
ここで、入射光学系であるコリメートレンズ４２やシリンドリカルレンズ４４は、単純な形状であり、コリメートレンズ４２はガラス製のものが多く使われるため、その製造誤差（β１の目標値からズレ）は無視できる程度のものである。これにより、各像Ｉ１，Ｉ２のピッチＤｓに影響を与えるのは、補正レンズ４８の副方向倍率β２と、各発光点Ｌ１，Ｌ２のピッチＰｓとなる。そのため、製造誤差により補正レンズ４８の副方向倍率が目標値β２からずれた値β２’になった場合には、下記の式（４）のように、この値β２’
に合わせた値Ｐｓ’に各発光点Ｌ１，Ｌ２のピッチを調整して、各像Ｉ１，Ｉ２のピッチを目標値Ｄｓにする必要がある。
【００３５】
Ｄｓ＝β１・β２’・Ｐｓ’  ・・・（４）
【００３６】
そして、式（１），（４）より、下記の式（５），（６）が導かれる。
Ｐｓ’・β２’＝Ｐｓ・β２  ・・・（５）
Ｐｓ’／Ｐｓ＝β２／β２’  ・・・（６）
【００３７】
式（６）により、後述するように金型の複数のキャビティに応じて補正レンズ４８の副走査倍率の目標値に対するズレ量を比β２’／β２として把握しておけば、各発光点Ｌ１，Ｌ２の副走査方向におけるピッチの目標値に対するズレ量を比Ｐｓ’／Ｐｓより決定できることが分かる。なお、Ｐｓ，Ｐｓ’は、下記の式（７），（８）のようにも表すことができる。
【００３８】
Ｐｓ＝Ｐ・ｓｉｎθ  ・・・（７）
Ｐｓ’＝Ｐ・ｓｉｎ（θ＋δθ）  ・・・（８）
（Ｐ：発光点Ｌ１，Ｌ２の光軸間距離、δθ：マルチビーム光源４１の角度の目標値θからのズレ量）
【００３９】
そして、δθ＜＜１であることから、式（８）は、下記の式（９）のようになる。
Ｐｓ’＝Ｐ・ｓｉｎ（θ＋δθ）≒Ｐ（ｓｉｎθ・ｃｏｓδθ＋ｃｏｓθ・ｓｉｎδθ）≒Ｐ（ｓｉｎθ＋ｃｏｓθ・δθ）  ・・・（９）
【００４０】
そして、式（６），（７），（９）より、下記の式（１０），（１１），（１２）の順でδθが導かれる。
Ｐｓ’／Ｐｓ＝１＋δθ／ｔａｎθ  ・・・（１０）
１＋δθ／ｔａｎθ＝β２／β２’  ・・・（１１）
δθ＝ｔａｎθ・（β２／β２’−１）  ・・・（１２）
【００４１】
以上により、マルチビーム光源４１を、補正レンズ４８の副走査倍率の目標値に対する比β２’／β２に応じて、目標の角度θからどの程度回せばよいかを知ることが可能となっている。
【００４２】
なお、マルチビーム光源４１を回すことで、各像Ｉ１，Ｉ２の主走査方向におけるピッチも変わるが、主走査方向におけるビームの位置は発光タイミングによって任意に調整できる。
【００４３】
＜光走査装置の製造方法＞
次に、光走査装置４０の製造方法について説明する。
図５に示すように、まず、金型１０に形成される複数のキャビティＣ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４で複数の補正レンズ４８を成形し、成形された複数の補正レンズ４８の副走査倍率の目標値からの比β２’／β２をキャビティＣ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４毎に予め把握しておく。なお、金型１０を複数使用する場合には、各金型１０のキャビティＣ５，Ｃ６，・・・毎に、比β２’／β２を把握しておく。
【００４４】
つまり、補正レンズ４８の試作時や１回目の成形時において、各金型１０のキャビティＣ１，Ｃ２，・・・に対応する比β２’／β２を、図６に示すように予め把握しておく。
【００４５】
キャビティＣ１，Ｃ２，・・・に対応する比β２’／β２を把握した後は、各金型１０の各キャビティＣ１，Ｃ２，・・・で成形した複数の補正レンズ４８を比β２’／β２に応じて分類する。分類の方法としては、例えば、金型１０での成形後に、各キャビティＣ１，Ｃ２，・・・に対応した複数の補正レンズ４８に対して、ズレ量を識別するためのズレ量識別情報（バーコードやマーク等）を作業者が付与しておき、後の工程（例えば、ランナーから成形品を切り取る工程）において、作業者がズレ量識別情報に基づいて補正レンズ４８を分類することができる。具体的には、図６に示すように、例えば、ズレ量識別情報が１００．７５％〜１０１．２５％を示す情報である場合には、補正レンズ４８をＡグループに分類し、ズレ量識別情報が９８．７５％〜９９．２５％である場合には、補正レンズ４８をＥグループに分類すればよい。
【００４６】
なお、ズレ量識別情報は、金型１０での成形時に補正レンズ４８に刻印されるキャビティナンバーであってもよい。この場合には、例えば、キャビティナンバーがＣ７（キャビティＣ７を示す番号）である場合には、補正レンズ４８をＡグループに分類し、キャビティナンバーがＣ１０である場合には、補正レンズ４８をＥグループに分類すればよい。これによれば、金型１０での成形時に自動的に補正レンズ４８にズレ量識別情報（キャビティナンバー）を付けることができるので、わざわざ作業者がバーコード等を付与する必要がなく、製造スピードを上げることができる。
【００４７】
なお、ズレ量識別情報は補正レンズ４８に必ずしも付与しなくもよい。具体的には、例えば、各キャビティで成形された各補正レンズ４８から延びる各補正レンズ４８に対応したランナー部分にキャビティナンバーが付いていれば、後の工程において、各補正レンズ４８を複数のグループに分類することができる。ただし、補正レンズ４８にズレ量識別情報を付与する場合には、補正レンズ４８を複数のグループに分類する際や分類した後に、異なるズレ量の補正レンズ４８が混ざってしまった場合であっても、簡単にズレ量を識別して分類し直すことができる。
【００４８】
また、金型成形とは別の工程において、複数の発光点Ｌ１，Ｌ２の副走査方向におけるピッチＰｓ’がキャビティ毎の比β２’／β２の分類に応じた値となる複数種類のマルチビームユニット１００を予め用意しておく。具体的には、比Ｐｓ’／Ｐｓがキャビティ毎の比β２’／β２の中間値に対応する値となるように、マルチビーム光源４１を目標の角度θからδθだけ回して支持フレーム１１０に固定する。このようにして、Ａグループ〜Ｅグループに対応した複数種類のマルチビームユニット１００を予め用意しておく。
【００４９】
なお、分類したマルチビームユニット１００に対して、複数の発光点Ｌ１，Ｌ２の副走査方向におけるピッチを識別するためのピッチ識別情報（バーコードやマーク等）を付与してもよい。これによれば、マルチビームユニット１００を複数のグループに分類する際や分類した後に、異なるズレ量のマルチビームユニット１００が混ざってしまった場合であっても、簡単にズレ量を識別して分類し直すことができる。
【００５０】
以上のように、複数の補正レンズ４８およびマルチビームユニット１００を複数のグループに分類した後は、各発光点Ｌ１，Ｌ２から感光面上に結像された複数の像Ｉ１，Ｉ２のピッチＤｓ’が目標値Ｄｓと略同じになるように、補正レンズ４８およびマルチビームユニット１００を組み合わせて筐体４０Ａに固定する。具体的には、例えば、Ａグループの補正レンズ４８を筐体４０Ａに固定する場合には、同じＡグループのマルチビームユニット１００を筐体４０Ａに固定する。
【００５１】
以上のような製造方法によれば、ズレ量（β’／β）に応じて分類される補正レンズ４８と、ズレ量（Ｐｓ’／Ｐｓ）に応じて分類されるマルチビームユニット１００とを組み合わせて筐体４０Ａに固定するだけで、感光面上の複数の像Ｉ１，Ｉ２のピッチＤｓ’を簡単に目標値Ｄｓと略同じにすることができるので、キャビティ精度の違いによる走査線の間隔のずれを簡易な方法で抑制することができる。
【００５２】
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、以下に例示するように様々な形態で利用できる。以下の説明においては、前記実施形態と略同様の構造となる部材には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００５３】
前記実施形態では、マルチビームユニット１００と入射光学系を別々に構成したが、本発明はこれに限定されず、例えば、図７に示すように、マルチビームユニット１００とコリメートレンズ４２（入射光学系の少なくとも一部）とを一体化して１つの入射光学系モジュール４００にしてもよい。この場合には、複数の発光点の副走査方向におけるピッチがキャビティ毎のズレ量の分類に応じた値となる複数種類の入射光学系モジュール４００を予め用意しておき、各発光点から感光面上に結像された複数の像のピッチが目標値となるように、補正レンズ４８および入射光学系モジュール４００を組み合わせて筐体４０Ａに固定すればよい。
【００５４】
この場合であっても、ズレ量に応じて分類される補正レンズ４８と、ズレ量に応じて分類される入射光学系モジュール４００とを組み合わせて筐体４０Ａに固定するだけで、感光面上の複数の像のピッチを簡単に目標値にすることができるので、キャビティ精度の違いによる走査線の間隔のずれを簡易な方法で抑制することができる。さらに、この場合には、マルチビームユニット１００とコリメートレンズ４２とを一体化して１つの入射光学系モジュール４００にするので、筐体４０Ａに対して光学系部品を組み付ける作業をより容易にすることができる。
【００５５】
前記実施形態では、マルチビーム光源４１の発光点Ｌ１，Ｌ２を２つとしたが、本発明はこれに限定されず、３つ以上であってもよい。
【００５６】
前記実施形態では、マルチビーム光源４１を支持フレーム１１０に回転可能に支持させたが、本発明はこれに限定されず、例えば、回転方向に調整したマルチビーム光源を単に接着剤で支持フレームに固定してもよい。
【００５７】
前記実施形態では、偏向器として、回転する反射面でレーザ光を反射して主走査方向に偏向および走査させるポリゴンミラー４５を例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、揺動（振動）する反射面でレーザ光を反射して主走査方向に偏向および走査させるＭＥＭＳミラーやガルバノミラーなどの振動ミラーを採用してもよい。また、偏向器の数は、２つ以上であってもよい。
【００５８】
前記実施形態では、走査レンズとして補正レンズ４８を例示したが、本発明はこれに限定されず、例えば前記実施形態におけるｆθレンズ４６と補正レンズ４８の機能を併せ持つ１つの走査レンズであってもよい。
【００５９】
前記実施形態で示した各レンズや反射ミラーなどの光学部品の配置は一例であり、前記実施形態の配置に限定されるものではない。光学部品の配置は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更が可能である。
【符号の説明】
【００６０】
１０    金型
４０    光走査装置
４０Ａ  筐体
４１    マルチビーム光源
４２    コリメートレンズ
４３    反射ミラー
４４    シリンドリカルレンズ
４５    ポリゴンミラー
４６    ｆθレンズ
４７    反射ミラー
４８    補正レンズ
５１    感光ドラム
１００  マルチビームユニット
１１０  支持フレーム
４００  入射光学系モジュール
Ｃ１    キャビティ
Ｉ１，Ｉ２  像
Ｌ１，Ｌ２  発光点
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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