(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体、および、該透明支持体上に形成され該透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備えた防眩層を含む防眩フィルムであって、
前記微細凹凸表面のＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に従う最大断面高さ（Ｒｔ）が０．４７μｍ〜０．９４μｍであり、
内部ヘイズが１％以下であり、表面ヘイズが０．４％以上２．７％以下であり、かつ、
前記微細凹凸表面の標高を測定した際の平均より求められる平均面である前記微細凹凸表面の平均面に垂直な主法線方向に、透明支持体側から防眩層側に入射し、前記微細凹凸表面のうち標高が最も高い点を含み、前記微細凹凸表面の平均面に平行な仮想的な平面である最高標高面から出射する波長５５０ｎｍの平面波について、
前記最高標高面における複素振幅を前記微細凹凸表面の標高と防眩層の屈折率から計算し、
該複素振幅の一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．０３２μｍ-1以上０．０６４μｍ-1以下の範囲内において、２つの変曲点を有し、
前記変曲点は、前記複素振幅の一次元パワースペクトルの空間周波数に関する二階導関数が０となる空間周波数に対応した一次元パワースペクトルのグラフ上の点であり、
前記複素振幅の一次元パワースペクトルが、空間周波数０．０１μｍ-1において下に凸であり、空間周波数０．０２μｍ-1において下に凸であり、空間周波数０．０３μｍ-1以上において上に凸であり、空間周波数０．０６４μｍ-1以上の範囲で単調減少している形状を有し、
前記複素振幅の一次元パワースペクトルが、空間周波数０．００８μｍ-1毎の離散関数に変換したものであり、
前記複素振幅の一次元パワースペクトルの空間周波数に関する二階導関数が空間周波数０．０２４μｍ-1において正であることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項２】
前記微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１０％未満である、請求項１に記載の防眩フィルム。
【請求項３】
透明支持体、および、該透明支持体上に形成され該透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備えた防眩層を含む防眩フィルムを製造する方法であって、
一次元パワースペクトルが、空間周波数が０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下の範囲において極大値を持たず、かつ、空間周波数が０．０４μｍ-1より大きく０．０８μｍ-1以下の範囲において極大値を持つパターンを用いて凹凸表面を有する金型を製造し、得られた金型の凹凸面を前記透明支持体上に形成した光硬化性樹脂層に転写して防眩層とし、該防眩層および前記透明支持体を前記金型から剥がすことを特徴とする防眩フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防眩性に優れた防眩（アンチグレア）フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、反射光を利用して表示を行う携帯電話などにおいては、従来から画像表示装置の表面に外光の映り込みを防止するために防眩フィルムが使用されている。
【０００３】
このような防眩フィルムとして、例えば、特開２００６−５３３７１号公報（特許文献１）には、基材を研磨し、サンドブラスト加工を施した後、無電解ニッケルめっきを施すことによって、表面に微細な凹凸を有するロールを製造し、かかるロールの凹凸面をＴＡＣフィルム上に形成された光硬化性樹脂層に押し付けながら硬化して作製された防眩フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−５３３７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
防眩フィルムには、防眩性が求められる他、画像表示装置の表面に配置した際に良好なコントラストを示すこと、画像表示装置の表面に配置した際に散乱光によって表示面全体が白っぽくなり、表示が濁った色になる、いわゆる「白ちゃけ」の発生を抑制すること、及び、画像表示装置の表面に配置した際に画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸形状とが干渉し、結果として輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」現象の発生を抑制することが要望されている。しかしながら、特許文献１に記載された防眩フィルムは、サンドブラスト加工によって凹凸形状を形成した金型を使用して作製されるため凹凸形状の精度の点で充分でなく、特に、５０μｍ以上の周期を持つ比較的大きな凹凸形状を有する場合があるため、「ギラツキ」が発生しやすかった。そこで、本発明の目的は、優れた防眩性を示しながら、良好なコントラストを発現し、「白ちゃけ」や「ギラツキ」の発生による視認性の低下を防止しうる防眩フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、透明支持体、および、該透明支持体上に形成され該透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備えた防眩層を含む防眩フィルムであって、
内部ヘイズが１％以下であり、表面ヘイズが０．４％以上４．３％以下であり、かつ、
上記微細凹凸表面の標高を測定した際の平均より求められる平均面である上記微細凹凸表面の平均面に垂直な主法線方向から入射し、上記微細凹凸表面のうち標高が最も高い点を含み、上記微細凹凸表面の平均面に平行な仮想的な平面である最高標高面から出射する波長５５０ｎｍの平面波について、
上記最高標高面における複素振幅を上記微細凹凸表面の標高と防眩層の屈折率から計算し、
該複素振幅の一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．０３２μｍ-1以上０．０６４μｍ-1以下の範囲内において、２つの変曲点を有することを特徴とする防眩フィルムを提供する。
【０００７】
上記複素振幅の一次元パワースペクトルの空間周波数に関する二階導関数は、空間周波数０．０２４μｍ-1において正であることが好ましい。
【０００８】
上記微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１０％未満であることが好ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の防眩フィルムは、優れた防眩性を示しながら、良好なコントラストを発現し、「白ちゃけ」や「ギラツキ」の発生による視認性の低下を防止したものとなる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の防眩フィルムの表面を模式的に示す斜視図である。
【図２】微細凹凸表面の標高ｈ（ｘ，ｙ）と標高基準面および最高標高面との関係を示す模式図である。
【図３】標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。
【図４】本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表した図である。
【図５】二次元パワースペクトルΨ2（ｆx，ｆy）を周波数空間における原点からの距離ｆで平均化する方法を説明する模式図である。
【図６】図３に示した二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）から計算された複素振幅を離散フーリエ変換して得られた一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）を示す図である。
【図７】複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）を線形補間する状態を示す模式図である。
【図８】図６の複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）を線形補間することによって、０．００８μｍ-1毎の離散関数として得られた一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）を示す図である。
【図９】図８の複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の二階導関数ｄ2Ψ2（ｆ）／ｄｆ２を示す図である。
【図１０】空間周波数０．０３μｍ-1の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の強度と反射鮮明度との関係を表す図である。
【図１１】ギラツキ評価用パターンのユニットセルを示す平面図である。
【図１２】ギラツキ評価の状態を示す断面模式図である。
【図１３】空間周波数０．０２μｍ-1の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の強度とギラツキの評価結果の関係を表す図である。
【図１４】微細凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。
【図１５】防眩フィルムの微細凹凸表面の微小面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。
【図１６】本発明の防眩フィルムを作製するために用いたパターンである画像データを模式的に示す図である。
【図１７】図１６に示したパターンを離散フーリエ変換して得られたパワースペクトルＧ2（ｆ）を示す図である。
【図１８】本発明の防眩フィルムの製造に好ましく用いられる金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。
【図１９】本発明の防眩フィルムの製造に好ましく用いられる金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。
【図２０】実施例４の金型作製の際に使用したパターンを示す図である。
【図２１】比較例１の金型作製の際に使用したパターンを示す図である。
【図２２】実施例２の金型作製の際に使用したパターンを示す図である。
【図２３】図２０〜２２に示したパターンのパワースペクトルＧ2（ｆ）を示す図である。
【図２４】実施例１〜４の防眩フィルムの標高より計算された複素振幅の一次元パワースペクトルの二階導関数ｄ2Ψ2（ｆ）／ｄｆ2を示す図である。
【図２５】比較例１〜３の防眩フィルムの標高より計算された複素振幅の一次元パワースペクトルの二階導関数ｄ2Ψ2（ｆ）／ｄｆ2を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
＜防眩フィルム＞
以下、本発明の好適な実施形態について、詳細に説明する。
【００１２】
本発明の防眩フィルムは、透明支持体、および、該透明支持体上に形成され該透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備えた防眩層を含む防眩フィルムであって、その内部ヘイズは１％以下であり、表面ヘイズは０．４％以上４．３％以下である。
【００１３】
さらに、本発明の防眩フィルムは、微細凹凸表面の平均面（上記微細凹凸表面の標高を測定した際の平均より求められる平均面）に垂直な主法線方向から照射され、上記透明支持体側から入射して防眩層側から出射する波長５５０ｎｍの平面波について、
上記微細凹凸表面のうち標高が最も高い点を含み、上記微細凹凸表面の平均面に平行な仮想的な平面である最高標高面における複素振幅を、上記微細凹凸表面の標高と防眩層の屈折率から計算し、
該複素振幅の一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．０３２μｍ-1以上０．０６４μｍ-1以下の範囲内において、２つの変曲点を有することを特徴とする。
【００１４】
これまでに防眩フィルムの微細凹凸表面の周期についてはＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に記載される粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ、断面曲線要素の平均長さＰＳｍ、およびうねり曲線要素の平均長さＷＳｍなどで評価されていた。しかしながら、このような従来の評価方法では、微細凹凸表面に含まれる複数の周期を正確に評価することができなかった。よって、ギラツキと微細凹凸表面との相関および防眩性と微細凹凸表面との相関についても正確に評価することができず、ギラツキの抑制と十分な防眩性能を兼備する防眩フィルムを作製することが困難であった。
【００１５】
本発明者らは、透明支持体、および、該透明支持体上に形成され該透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備えた防眩層を含む防眩フィルムにおいて、微細凹凸表面の標高と防眩層の屈折率から計算される上記最高標高面における上記平面波の複素振幅が特定の空間周波数分布を示すようにすれば、十分な防眩効果を発現しつつ、ギラツキが十分に防止されることを見出した。すなわち、本発明によれば、防眩フィルムの微細凹凸表面の形状を、上記複素振幅の一次元パワースペクトルの変曲点が特定の範囲内に位置するような形状とすることで、優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が防止され、また、高精細の画像表示装置の表面に配置したときに、ギラツキを発生させずに高いコントラストを発現する防眩フィルムが提供される。
【００１６】
まず、防眩フィルム（防眩層）の微細凹凸表面の標高について説明する。図１は、本発明の防眩フィルムの表面を模式的に示す斜視図である。図１に示されるように、本発明の防眩フィルム１は、その表面に微細な凹凸２が形成された微細凹凸表面を有する防眩層を備える。
【００１７】
本発明でいう「微細凹凸表面の標高」とは、防眩フィルム１表面の任意の点Ｐと、微細凹凸表面の標高を測定した際に最低の標高を有する点を含む上記微細凹凸表面の平均面（微細凹凸表面の標高を測定した際の平均より求められる平均面）に平行な仮想的な平面である標高基準面（標高は基準として０μｍ）との間の、上記主法線方向（微細凹凸表面の平均面に垂直な方向）における直線距離を意味する。図１に示すように、微細凹凸表面の平均面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示した場合、座標（ｘ，ｙ）における微細凹凸表面の標高をｈ（ｘ，ｙ）とする。図１には、防眩フィルム１全体の面を投影した平面である投影面３を表示している。
【００１８】
微細凹凸表面の標高は、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。測定機に要求される水平分解能は、少なくとも５μｍ以下、好ましくは２μｍ以下であり、また垂直分解能は、少なくとも０．１μｍ以下、好ましくは０．０１μｍ以下である。この測定に好適な非接触三次元表面形状・粗さ測定機としては、Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ  ５０００シリーズ（Ｚｙｇｏ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製、日本ではザイゴ（株）から入手可能）、三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）などを挙げることができる。測定面積は、複素振幅の二次元パワースペクトルの分解能が０．００８μｍ-1以下である必要があるため、少なくとも１２５μｍ×１２５μｍ以上とするのが好ましく、より好ましくは、５００μｍ×５００μｍ以上である。
【００１９】
図２に微細凹凸表面の標高ｈ（ｘ，ｙ）と、標高基準面２０（微細凹凸表面の標高を測定した際に最低の標高を有する点を含む微細凹凸表面の平均面に平行な仮想的な平面）および最高標高面２１（上記微細凹凸表面のうち標高が最も高い点を含み、上記微細凹凸表面の平均面に平行な仮想的な平面）との関係を模式的に示した。ここで、最高標高面２１の標高をｈmax（μｍ）とする。
【００２０】
座標（ｘ，ｙ）における標高基準面２０と最高標高面２１との間の光路長ｄ（ｘ，ｙ）は、標高に関する二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を用いて式（１）で表すことが出来る。
【００２１】
【数１】
0006049980.tif 000002
【００２２】
ここでｎAGは防眩層の屈折率であり、ｎairは空気の屈折率である。ここで空気の屈折率ｎairを１で近似すると、式（１）は式（２）で表すことが出来る。
【００２３】
【数２】
0006049980.tif 000003
【００２４】
次に、単一波長λの平面波が、フィルムの主法線方向５（微細凹凸表面の平均面に垂直な方向）から照射され、透明支持体側（標高基準面２０側）から入射し、防眩層側（最高標高面２１側）に出射する場合における、該平面波の複素振幅について説明する。複素振幅とは、波動の振幅を複素表示した場合において、時間の要素を含まない部分をいう。単一波長λの平面波の振幅は、一般的に以下の式（３）で複素表示することが出来る。
【００２５】
【数３】
0006049980.tif 000004
【００２６】
ここでＡは平面波の最大振幅、πは円周率、ｉは虚数単位、ｚはｚ軸方向（主法線方向５）の座標（原点からの光路長）、ωは角周波数、ｔは時間、φ0は初期の位相である。
【００２７】
式（３）において時間に依存しない項が複素振幅である。したがって、式（３）で表される平面波についての最高標高面２１の座標（ｘ，ｙ）における複素振幅ψ（ｘ，ｙ）は、式（３）の時間に依存しない項において、ｚに上記光路長ｄ（ｘ，ｙ）を代入した以下の式（４）で表すことが出来る。
【００２８】
【数４】
0006049980.tif 000005
【００２９】
さらに、式（４）において平面波の最大振幅Ａおよび初期の位相φ0は座標（ｘ，ｙ）に依存せず、座標（ｘ，ｙ）での微細凹凸表面の形状の分布を規定しようとする本発明において定数となるため、以下ではＡ＝１およびφ0＝０とする。また、上記式（２）を代入すると、複素振幅ψ（ｘ，ｙ）は、以下の式（５）で表すことが出来る。なお、本発明においてはλ＝５５０ｎｍを基準とする。
【００３０】
【数５】
0006049980.tif 000006
【００３１】
次に、複素振幅のパワースペクトルを求める方法について説明する。まず、式（５）で表される二次元関数ψ（ｘ，ｙ）より、式（６）で定義される二次元フーリエ変換によって二次元関数Ψ（ｆx，ｆy）を求める。
【００３２】
【数６】
0006049980.tif 000007
【００３３】
ここでｆxおよびｆyはそれぞれｘ方向およびｙ方向の空間周波数であり、長さの逆数の次元を持つ。得られた二次元関数Ψ（ｆx，ｆy）を二乗することによって、複素振幅の二次元パワースペクトルΨ2（ｆx，ｆy）を求めることができる。この二次元パワースペクトルΨ2（ｆx，ｆy）は防眩フィルムの微細凹凸表面の標高から計算される複素振幅の空間周波数分布を表している。
【００３４】
以下、防眩フィルムの微細凹凸表面の標高から計算される複素振幅の二次元パワースペクトルを求める方法をさらに具体的に説明する。上記の共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡などによって実際に測定される表面形状の三次元情報は一般的に離散的な値、すなわち、多数の測定点に対応する標高として得られる。図３は、標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。図３に示すように、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、フィルム投影面３上にｘ軸方向にΔｘ毎に分割した線およびｙ軸方向にΔｙ毎に分割した線を破線で示すと、実際の測定では微細凹凸表面の標高はフィルム投影面３上の各破線の交点毎の離散的な標高値として得られる。
【００３５】
得られる標高値の数は測定範囲とΔｘおよびΔｙによって決まり、図３に示すようにｘ軸方向の測定範囲をＸ＝（Ｍ−１）Δｘとし、ｙ軸方向の測定範囲をＹ＝（Ｎ−１）Δｙとすると、得られる標高値の数はＭ×Ｎ個である。
【００３６】
図３に示すようにフィルム投影面３上の着目点Ａの座標を（ｊΔｘ，ｋΔｙ）（ここでｊは０以上Ｍ−１以下であり、ｋは０以上Ｎ−１以下である。）とすると、着目点Ａに対応するフィルム面上の点Ｐの標高はｈ（ｊΔｘ，ｋΔｙ）と表すことができる。
【００３７】
ここで、測定間隔ΔｘおよびΔｙは測定機器の水平分解能に依存し、精度良く微細凹凸表面を評価するためには、上述したとおりΔｘおよびΔｙともに５μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。また、測定範囲ＸおよびＹは上述したとおり、ともに１２５μｍ以上が好ましく、ともに５００μｍ以上がより好ましい。
【００３８】
このように実際の測定では、微細凹凸表面の標高を表す関数は、Ｍ×Ｎ個の値を持つ離散関数ｈ（ｘ，ｙ）として得られる。測定によって得られた離散関数ｈ（ｘ，ｙ）から式（５）で表される複素振幅ψ（ｘ，ｙ）が求まり、この複素振幅ψ（ｘ，ｙ）と式（７）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ψ（ｆx，ｆy）が求まり、離散関数Ψ（ｆx，ｆy）を二乗することによって二次元パワースペクトルの離散関数Ψ2（ｆx，ｆy）が求められる。式（７）中のｌは−Ｍ／２以上Ｍ／２以下の整数であり、ｍは−Ｎ／２以上Ｎ／２以下の整数である。また、ΔｆxおよびΔｆyはそれぞれｘ方向およびｙ方向の周波数間隔であり、式（８）および式（９）で定義される。
【００３９】
【数７】
0006049980.tif 000008
【００４０】
【数８】
0006049980.tif 000009
【００４１】
【数９】
0006049980.tif 000010
【００４２】
ここで、図４に示したように、本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面は凹凸がランダムに形成されているため、周波数空間（空間周波数領域）における二次元パワースペクトルΨ2（ｆx，ｆy）は原点（ｆx＝０，ｆy＝０）を中心に対称となる。よって、二次元関数Ψ2（ｆx，ｆy）は、周波数空間における原点からの距離ｆ（単位：μｍ-1）を変数とする一次元関数Ψ2（ｆ）に変換することが出来る。本発明の防眩フィルムは、この一次元関数Ψ2（ｆ）から求められる一次元パワースペクトルが一定の特徴を有するものである。
【００４３】
具体的には、まず、図５に示すように周波数空間において、原点Ｏ（ｆx＝０，ｆy＝０）から（ｎ−１／２）Δｆ以上（ｎ＋１／２）Δｆ未満の距離に位置する全ての点（図５中の黒丸の点）の個数Ｎnを計算する。図５に示した例ではＮn＝１６個である。次に、原点Ｏから（ｎ−１／２）Δｆ以上（ｎ＋１／２）Δｆ未満の距離に位置する全ての点のΨ2（ｆx，ｆy）の合計値Ψ2n（図５中の黒丸の点におけるΨ2（ｆx，ｆy）の合計値）を計算し、式（１０）に示すように、その合計値Ψ2nを点の個数Ｎnで割ったものをΨ2（ｆ）の値とした。
【００４４】
【数１０】
0006049980.tif 000011
【００４５】
ここで、Ｍ≧Ｎの場合、ｎは０以上Ｎ／２以下の整数であり、Ｍ＜Ｎの場合、ｎは０以上Ｍ／２以下の整数である。なお、ＭおよびＮは、図３に示されるように、それぞれｘ軸方向の測定点の数およびｙ軸方向の測定点の数を意味する。また、Δｆは（Δｆx＋Δｆy）／２とした。
【００４６】
図６に、このようにして得られた複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）を示す。図６に示した一次元パワースペクトルは雑音を含んでおり、一次元パワースペクトルの変曲点を求めるのに際して、この雑音の影響を除くため、線形補間によって０．００８μｍ-1毎の離散関数に変換し、雑音を低減する。図７に、線形補間によって一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）を０．００８μｍ-1毎の離散関数に変換する状態を示した。図７の例では、空間周波数０．０１６μｍ-1の値を線形補間しており、空間周波数０．０１６μｍ-1より小さい空間周波数の中で最も大きい空間周波数である０．０１５３μｍ-1のΨ2（ｆ）の値１７．７９１５と、０．０１６μｍ-1より大きい空間周波数の中で最も小さい空間周波数である０．０１６４μｍ-1のΨ2（ｆ）の値１６．１５８１とから、空間周波数０．０１６μｍ-1の値１６．８１３５を計算している。図６の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）を空間周波数０．００８μｍ-1毎の離散関数に変換した結果を図８に示した。空間周波数０．００８μｍ-1毎の離散関数に変換した一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）は雑音が少ないことが分かる。
【００４７】
複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の変曲点は、この空間周波数０．００８μｍ-1毎の離散関数に変換した一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の二階導関数から計算することが出来る。具体的には、式（１１）の差分法によって二階導関数を計算することが出来る。
【００４８】
【数１１】
0006049980.tif 000012
【００４９】
図９に、図８の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の二階導関数を示した。図９から明らかなように、二階導関数ｄ2Ψ2（ｆ）／ｄｆ2は空間周波数０．０３２μｍ-1以上０．０６４μｍ-1以下で二回、横軸（ｄ2Ψ2（ｆ）／ｄｆ2＝０）と交差しており、空間周波数０．０３２μｍ-1以上０．０６４μｍ-1以下の範囲内において、２つの変曲点を有することが明らかである。なお、複素振幅の一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフにける「変曲点」とは、一般的用語と同じ意味であるが、一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の二階導関数ｄ2Ψ2（ｆ）／ｄｆ2が０となる空間周波数に対応した一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）のグラフ上の点である。
【００５０】
また、本発明の防眩フィルムにおいては、ギラツキを効果的に防止し、十分な防眩効果を得るために、複素振幅の一次元パワースペクトルの二階導関数ｄ2Ψ2（ｆ）／ｄｆ2は空間周波数０．０２４μｍ-1において正であることが好ましい。すなわち、複素振幅の一次元パワースペクトルが空間周波数０．０２４μｍ-1において下に凸の形状を有していることが好ましい。
【００５１】
次に、微細凹凸表面の標高と防眩層の屈折率から計算される複素振幅の一次元パワースペクトルと、防眩フィルムの防眩効果およびギラツキとの関係について説明する。
【００５２】
（防眩効果の評価）
防眩フィルムの防眩効果は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に規定される方法に準じて測定される反射鮮明度によって評価することが出来る。この規格では、反射鮮明度は、暗部と明部の幅の比が１：１で、その幅が０.１２５ｍｍ、０.５ｍｍ、１.０ｍｍ及び２.０ｍｍである４種類の光学くしを用いて、光の入射角４５°で測定される像鮮明度（単位：％）の和として規定されている。ただし、幅０.１２５ｍｍの光学くしを用いた場合、本発明で規定する防眩フィルムにおいては、その像鮮明度の測定誤差が大きくなることから、本発明における反射鮮明度には、幅０.１２５ｍｍの光学くしを用いた場合の像鮮明度は加えないこととし、幅が０.５ｍｍ、１.０ｍｍ及び２.０ｍｍである３種類の光学くしを用いて測定された像鮮明度の和をもって反射鮮明度と呼ぶことにする。したがって、このように定義された反射鮮明度の最大値は３００％である。この反射鮮明度が小さいほど、防眩フィルムの防眩効果が高いことを示す。
【００５３】
色々な微細凹凸表面を有する防眩フィルムについて、空間周波数０．００２４〜０．３μｍ-1の範囲における各空間周波数毎の複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の強度と、反射鮮明度との相関について解析した。その結果、空間周波数０．０３μｍ-1におけるΨ2（ｆ）の強度が増加することによって、反射鮮明度が効果的に減少し、防眩効果が高くなることが分かった。図１０に、空間周波数０．０３μｍ-1におけるΨ2（ｆ）の強度と反射鮮明度との関係を示す。これより、防眩フィルムの防眩効果を高めるためには、空間周波数０．０３μｍ-1における複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の強度を高める必要があることが分かった。
【００５４】
（ギラツキの評価）
一方、防眩フィルムのギラツキは次の方法で評価した。すなわち、まず図１１に平面図で示すようなユニットセルのパターンを有するフォトマスクを用意した。この図において、ユニットセル４０は、透明な基板上に、線幅１０μｍでカギ形のクロム遮光パターン４１が形成され、そのクロム遮光パターン４１の形成されていない部分が開口部４２となっている。ここでは、ユニットセルの寸法が２１１μｍ×７０μｍ（図の縦×横）、したがって開口部の寸法が２０１μｍ×６０μｍ（図の縦×横）のものを用いた。図示するユニットセルが縦横に多数並んで、フォトマスクを形成する。
【００５５】
そして、図１２に模式的な断面図で示すように、フォトマスク４３のクロム遮光パターン４１を上にして、ライトボックス４５上の拡散板５０の上に置き、ガラス板４７に粘着剤で防眩フィルム１をその凹凸面が表面となるように貼合したサンプルをフォトマスク４３上に置く。ライトボックス４５の中には、光源４６が配置されている。この状態で、サンプルから約３０ｃｍ離れた位置４９で目視観察することにより、ギラツキの程度を７段階で官能評価した。レベル１はギラツキが全く認められない状態、レベル７はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル４はごくわずかにギラツキが観察される状態である。
【００５６】
色々な微細凹凸表面を有する防眩フィルムについて、空間周波数０．００２４〜０．３μｍ-1の範囲における各空間周波数毎の複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の強度と、前述のギラツキの評価結果との相関について解析したところ、空間周波数０．０２μｍ-1における強度が増加することによって、ギラツキの程度が増加することが分かった。図１３に、空間周波数０．０２μｍ-1におけるΨ2（ｆ）の強度と反射鮮明度との関係を示す。これより、防眩フィルムのギラツキを防止するためには、空間周波数０．０２μｍ-1における複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の強度を小さくする必要があることが分かった。
【００５７】
上述したように、本発明の防眩フィルムは、微細凹凸表面の標高から計算される複素振幅の一次元パワースペクトルが、空間周波数０．０３２μｍ-1以上０．０６４μｍ-1以下の範囲内において、２つの変曲点を有することを特徴とする。また、複素振幅の一次元パワースペクトルの空間周波数に関する二階導関数が空間周波数０．０２４μｍ-1において正であることが好ましい。このような周波数分布（一次元パワースペクトル）を示す本発明の防眩フィルムは、空間周波数０．０２μｍ-1近傍では複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）が下に凸である形状を有し、空間周波数０．０３μｍ-1以降では複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）が上に凸である形状を有し、かつ、空間周波数０．０１μｍ-1近傍では複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）は下に凸である形状を有する。この結果、ギラツキ発生の原因となる空間周波数０．０２μｍ-1における複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の強度を小さくするとともに、防眩効果に寄与する空間周波数０．０３μｍ-1における複素振幅の一次元パワースペクトルΨ2（ｆ）の強度を高めることが出来る。また、防眩性に効果的に寄与せず、微細凹凸表面に入射した光を散乱させて白ちゃけの原因となる０．１μｍ-1以上の高空間周波数成分も低減することが出来る。
【００５８】
また、本発明者らは、防眩フィルムにおいて、微細凹凸表面を構成する各微小面が特定の傾斜角度分布を示すようにすれば、優れた防眩性能を示しつつ、白ちゃけを効果的に防止するうえで一層有効であることを見出した。すなわち、本発明の防眩フィルムは、微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１０％未満であることが好ましい。微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１０％を上回ったりすると、凹凸表面の傾斜角度が急峻な微小面が多くなって、周囲からの光を集光し、表示面が全体的に白くなる白ちゃけが発生しやすくなる。このような集光効果を抑制し、白ちゃけを防止するためには、微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が小さければ小さいほどよく、５％未満であることが好ましく、２％未満であることがより好ましい。
【００５９】
ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の微小面の傾斜角度」とは、図１に示す防眩フィルム１表面の任意の点Ｐにおいて、後述するような点Ｐを含む微小面の凹凸を加味した局所的な法線６とフィルムの主法線方向５とのなす角度θを意味する。微細凹凸表面の傾斜角度についても標高と同様に、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。
【００６０】
図１４は、微細凹凸表面の微小面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。具体的な傾斜角度の決定方法を説明すると、図１４に示すように、点線で示される仮想的な平面ＦＧＨＩ上の着目点Ａを決定し、そこを通るｘ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＢおよびＤを、また点Ａを通るｙ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＣおよびＥをとり、これらの点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応するフィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔを決定する。なお図１４では、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、フィルム厚み方向の座標をｚで表示している。平面ＦＧＨＩは、ｙ軸上の点Ｃを通るｘ軸に平行な直線、および同じくｙ軸上の点Ｅを通るｘ軸に平行な直線と、ｘ軸上の点Ｂを通るｙ軸に平行な直線、および同じくｘ軸上の点Ｄを通るｙ軸に平行な直線とのそれぞれの交点Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉによって形成される面である。また図１４では、平面ＦＧＨＩに対して、実際のフィルム面の位置が上方にくるように描かれているが、着目点Ａのとる位置によって当然ながら、実際のフィルム面の位置が平面ＦＧＨＩの上方にくることもあるし、下方にくることもある。
【００６１】
そして、得られる表面形状データの傾斜角度は、着目点Ａに対応する実際のフィルム面上の点Ｐと、その近傍にとられた４点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する実際のフィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔの合計５点により張られるポリゴン４平面、すなわち、四つの三角形ＰＱＲ，ＰＲＳ，ＰＳＴ，ＰＴＱの各法線ベクトル６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを平均して得られる局所的な法線（ベクトル）６の極角（図１において、フィルムの主法線方向５とのなす角度θ）を求めることにより、得ることができる。各測定点（微小面）について傾斜角度を求めた後、ヒストグラムが計算される。
【００６２】
図１５は、防眩フィルムの微細凹凸表面の微小面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。図１５に示すグラフにおいて、横軸は傾斜角度であって、０．５°刻みで分割してある。例えば、一番左の縦棒は、傾斜角度が０〜０．５°の範囲にある集合の分布を示し、以下、右へ行くにつれて角度が０．５°ずつ大きくなっている。図では、横軸の２目盛毎に値の上限値を表示しており、例えば、横軸で「１」とある部分は、傾斜角度が０．５〜１°の範囲にある微小面の集合の分布を示す。また、縦軸はその集合の全体に対する割合を表し、合計すれば１になる値である。この例では、傾斜角度が５°以上である微小面の割合は略０である。
【００６３】
また、本発明の防眩フィルムの表面ヘイズは０．４％以上４．３％以下であり、内部ヘイズは１％以下である。ここで、防眩フィルムの表面ヘイズおよび内部ヘイズは、次のようにして測定される。すなわち、まず、防眩層を透明支持体上に形成した後、透明支持体の防眩層が形成されていない側が接合面となるように、該防眩フィルムとガラス基板とを、透明粘着剤を用いて貼合し、ガラス基板側から光を入射してＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に準拠してヘイズを測定する。このようにして測定されるヘイズは、防眩フィルムの全ヘイズに相当する。次に、防眩層の微細な凹凸形状の表面に、ヘイズがほぼ０であるトリアセチルセルロースフィルムをグリセリンを用いて貼合し、再度ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に準拠してヘイズを測定する。当該ヘイズは、この微細な凹凸形状に起因する表面ヘイズがこの表面凹凸上に貼合されたトリアセチルセルロースフィルムによってほぼ打ち消されていることから、防眩フィルムの「内部ヘイズ」とみなすことができる。したがって、防眩フィルムの「表面ヘイズ」は、下記式（１２）：
表面ヘイズ＝全ヘイズ−内部ヘイズ          式（１２）
より求められる。
【００６４】
防眩フィルムの表面ヘイズは、白ちゃけを抑制する観点から、４．３％以下とされる。一方、表面ヘイズは十分な防眩性を得るために０．４％以上とされ、１％以上であることが好ましい。また、内部ヘイズは本発明の防眩フィルムを画像表示装置の表面に配置したときに、高いコントラストを効果的に発現し得る観点から、１％以下とされる。
【００６５】
従来の防眩フィルムは微粒子を分散させた樹脂溶液を透明支持体上に塗布し、塗布膜厚を調整して微粒子を塗布膜表面に露出させることでランダムな凹凸をシート上に形成する方法などによって製造されている。このような微粒子を分散させることにより製造された防眩フィルムは、ギラツキを解消するために、バインダー樹脂と微粒子との間に屈折率差を設けて光を散乱させて、意図的に内部ヘイズを付与していることが多い。そのような防眩フィルムを画像表示装置の表面に配置した際には、微粒子とバインダー樹脂界面における光の散乱によって、コントラストが低下する。これに対して、本発明の防眩フィルムにおいては、上述したように微細凹凸表面の標高より計算される複素振幅の周波数分布（一次元パワースペクトル）を適切に設計しているため、光を散乱させてギラツキを解消する必要がない。従って、コントラストの低下の原因となる内部ヘイズは小さければ小さいほど好ましい。
【００６６】
＜防眩フィルムの製造方法＞
本発明の防眩フィルムは、上記した複素振幅の周波数分布（一次元パワースペクトル）を精度よく得るために、一次元パワースペクトルが、空間周波数が０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下の範囲において極大値を持たず、かつ、空間周波数が０．０４μｍ-1より大きく０．０８μｍ-1以下の範囲において極大値を持つパターンを用いて作製することが好ましい。ここで、「パターン」とは、本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面を形成するための画像データや透光部と遮光部を有するマスクなどを意味する。
【００６７】
パターンの二次元パワースペクトルは、たとえばパターンが画像データである場合、画像データを２階調の二値化画像データに変換した後、画像データの階調を二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）で表し、得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）をフーリエ変換して二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を計算し、得られた二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を二乗することによって求められる。ここで、ｘおよびｙは画像データ面内の直交座標を表し、ｆxおよびｆyはｘ方向の周波数およびｙ方向の周波数を表している。
【００６８】
防眩層の微細凹凸表面の複素振幅の二次元パワースペクトルを求める場合と同様に、パターンの二次元パワースペクトルを求める場合についても、階調の二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）は離散関数として得られる場合が一般的である。その場合は、複素振幅の二次元パワースペクトルを求める場合と同様に、離散フーリエ変換によって、二次元パワースペクトルを計算すれば良い。パターンの一次元パワースペクトルは、パターンの二次元パワースペクトルから、複素振幅の一次元パワースペクトルと同様にして求められる。
【００６９】
図１６は、本発明の防眩フィルムを作製するために用いたパターンである画像データの一部を表わした図である。図１６に示したパターンである画像データは３３ｍｍ×３３ｍｍの大きさで、１２８００ｄｐｉで作成した。
【００７０】
図１７は、図１６に示した階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られた二次元パワースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）を複素振幅の一次元パワースペクトルと同様に原点からの距離ｆの関数として表した図である。これより図１６に示したパターンは空間周波数０．０６３μｍ-1に極大値を持つが、空間周波数が０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下の範囲には極大値を持たないことが分かる。
【００７１】
防眩フィルム（防眩層）を作製するためのパターンの一次元パワースペクトルが０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下に極大値を持つ場合には、結果として得られる防眩フィルムの複素振幅の一次元パワースペクトルが空間周波数０．０２μｍ-1付近において下に凸の形状を有さない虞がある。また、パターンの一次元パワースペクトルが０．０４μｍ-1より大きく０．０８μｍ-1以下に極大値を持たない場合には、結果として得られる防眩フィルムの複素振幅の一次元パワースペクトルが空間周波数０．０３μｍ-1以降において上に凸の形状を有さない虞がある。よって、ギラツキの解消と十分な防眩性を兼備することができない。
【００７２】
一次元パワースペクトルが０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下には極大値を持たず、かつ、０．０４μｍ-1より大きく０．０８μｍ-1以下に極大値を持つパターンを作成するためには、１０μｍ以上２０μｍ未満の径を有するドットをランダムかつ均一に配置すればよい。ランダムに配置するドットの径は１種類でも良いし、複数種類でも良い。また、このようにドットをランダムに配置して作成したパターンから、より効果的に空間周波数０．０４μｍ-1以下の成分を除去するために、０．０４μｍ-1以下である特定の空間周波数以下の成分を除去するハイパスフィルターを通過させて得られたパターンを用いて、防眩フィルム作製用のパターンとしても良い。さらに、ドットをランダムに配置して作成したパターンから、より効果的に空間周波数０．０４μｍ-1以下の成分を除去し、かつ、０．０４μｍ-1より大きく０．０８μｍ-1以下に極大値を有するパターンを作成するために、０．０４μｍ-1より大きい特定の空間周波数以下の成分と０．０８μｍ-1以下である特定の空間周波数以上の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて得られたパターンを用いて、防眩フィルム作製用のパターンとしても良い。ハイパスフィルターやバンドパスフィルターなどを通過させる手法を用いてパターンを作成する場合には、フィルターを通過させる前のパターンとして、乱数もしくは計算機によって生成された擬似乱数により濃淡を決定したランダムな明度分布を有するパターンを用いることも出来る。
【００７３】
本発明の防眩フィルムにおいては、上述したように防眩層の微細凹凸表面の空間周波数分布を適切に形成することが好ましい。よって、本発明の防眩フィルムは、上述したパターンを用いて微細凹凸表面を有する金型を製造し、製造された金型の凹凸面を透明支持体上の光硬化性樹脂層等に転写し、次いで凹凸面が転写された防眩層と透明支持体とを金型から剥がすことによって、防眩フィルムを製造することを特徴とするエンボス法によって製造されることが好ましい。
【００７４】
ここで、エンボス法としては、光硬化性樹脂を用いるＵＶエンボス法、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法が例示され、中でも、生産性の観点から、ＵＶエンボス法が好ましい。
【００７５】
ＵＶエンボス法は、透明支持体の表面に光硬化性樹脂層を形成し、その光硬化性樹脂層を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることで、金型の凹凸面が光硬化性樹脂層に転写される方法である。具体的には、透明支持体上に紫外線硬化型樹脂を塗工し、塗工した紫外線硬化型樹脂を金型の凹凸面に密着させた状態で透明支持体側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、その後金型から、硬化後の紫外線硬化型樹脂層が形成された透明支持体を剥離することにより、金型の形状を紫外線硬化型樹脂に転写する。
【００７６】
ＵＶエンボス法を用いる場合、透明支持体としては、実質的に光学的に透明なフィルムであればよく、たとえばトリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。
【００７７】
また、ＵＶエンボス法を用いる場合における紫外線硬化型樹脂の種類は特に限定されないが、市販の適宜のものを用いることができる。また、紫外線硬化型樹脂に適宜選択された光開始剤を組み合わせて、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂を用いることも可能である。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどの多官能アクリレートをそれぞれ単独で、あるいはそれら２種以上を混合して用い、それと、イルガキュアー９０７（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）などの光重合開始剤とを混合したものを好適に用いることができる。
【００７８】
一方、ホットエンボス法は、熱可塑性樹脂で形成された透明支持体を加熱状態で金型に押し付け、金型の表面形状を透明支持体に転写する方法である。ホットエンボス法に用いる透明支持体としては、実質的に透明なものであればいかなるものであってもよく、たとえば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどを用いることができる。これらの透明樹脂フィルムはまた、上で説明したＵＶエンボス法における紫外線硬化型樹脂を塗工するための透明支持体としても好適に用いることができる。
【００７９】
＜防眩フィルム製造用の金型の製造方法＞
以下では、本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型を製造する方法について説明する。本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型の製造方法については、上述したパターンを用いた所定の表面形状が得られる方法であれば、特に制限されないが、微細凹凸表面を精度よく、かつ、再現性よく製造するために、〔１〕第１めっき工程と、〔２〕研磨工程と、〔３〕感光性樹脂膜塗布工程と、〔４〕露光工程と、〔５〕現像工程と、〔６〕第１エッチング工程と、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程と、〔８〕第２エッチング工程と、〔９〕第２めっき工程とを基本的に含むことが好ましい。図１８は、本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図１８には各工程での金型の断面を模式的に示している。以下、図１８を参照しながら、本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型の製造方法の各工程について詳細に説明する。
【００８０】
〔１〕第１めっき工程
本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型の製造方法ではまず、金型に用いる基材の表面に、銅めっきまたはニッケルめっきを施す。このように、金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施すことにより、後の第２めっき工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を向上させることができる。これは、銅めっきまたはニッケルめっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金型用基材の微小な凹凸や鬆などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。これらの銅めっきまたはニッケルめっきの特性によって、後述する第２めっき工程においてクロムめっきを施したとしても、基材に存在していた微小な凹凸や鬆に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきまたはニッケルめっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減される。
【００８１】
第１めっき工程において用いられる銅またはニッケルとしては、それぞれの純金属であることができるほか、銅を主体とする合金、またはニッケルを主体とする合金であってもよく、したがって、本明細書でいう「銅」は、銅および銅合金を含む意味であり、また「ニッケル」は、ニッケルおよびニッケル合金を含む意味である。銅めっきおよびニッケルめっきは、それぞれ電解めっきで行っても無電解めっきで行ってもよいが、通常は電解めっきが採用される。
【００８２】
銅めっきまたはニッケルめっきを施す際には、めっき層が余り薄いと、下地表面の影響が排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であるのが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コストなどとのからみから、一般的には５００μｍ程度までで十分である。
【００８３】
なお、本発明の金型の製造方法において、基材の形成に好適に用いられる金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄などが挙げられる。さらに取扱いの利便性から、軽量なアルミニウムがより好ましい。ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属であることができるほか、アルミニウムまたは鉄を主体とする合金であってもよい。
【００８４】
また、基材の形状は、当分野において従来より採用されている適宜の形状であれば特に制限されず、平板状であってもよいし、円柱状または円筒状のロールであってもよい。ロール状の基材を用いて金型を作製すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができるという利点がある。
【００８５】
〔２〕研磨工程
続く研磨工程では、上述した第１めっき工程にて銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する。本発明の金型の製造方法では、当該工程を経て、基材表面を、鏡面に近い状態に研磨することが好ましい。これは、基材となる金属板や金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、銅めっきまたはニッケルめっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあるし、また、めっきした状態で、表面が完全に平滑になるとは限らないためである。すなわち、このような深い加工目などが残った表面に後述する工程を施したとしても、各工程を施した後に形成される凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。図１８（ａ）には、平板状の金型用基材７が、第１めっき工程において銅めっきまたはニッケルめっきをその表面に施され（当該工程で形成した銅めっきまたはニッケルめっきの層については図示せず）、さらに研磨工程によって鏡面研磨された表面８を有するようにされた状態を模式的に示している。
【００８６】
銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する方法については特に制限されるものではなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。また、研磨工程において切削工具を用いて鏡面切削することによって、金型用基材表面７を鏡面としてもよい。その際の切削工具の材質や形状などは特に制限されるものではなく、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイトなどを使用することが出来るが、加工精度の観点からダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。研磨後の表面粗度は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１の規定に準拠した中心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的な金型表面の凹凸形状に研磨後の表面粗度の影響が残る可能性があるので好ましくない。また、中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されず、加工時間や加工コストの観点から、おのずと限界があるので、特に指定する必要性はない。
【００８７】
〔３〕感光性樹脂膜塗布工程
続く感光性樹脂膜塗布工程では、上述した研磨工程によって鏡面研磨を施した基材７の表面８に、感光性樹脂を溶媒に溶解した溶液として塗布し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜を形成する。図１８（ｂ）には、基材７の表面８に感光性樹脂膜９が形成された状態を模式的に示している。
【００８８】
感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができる。たとえば、感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては分子中にアクリル基またはメタアクリル基を有するアクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物などを用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としてはフェノール樹脂系やノボラック樹脂系などを用いることができる。また、感光性樹脂には、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤などの各種添加剤を配合してもよい。
【００８９】
これらの感光性樹脂を基材７の表面８に塗布する際には、良好な塗膜を形成するために、適当な溶媒に希釈して塗布することが好ましく、セロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、高極性溶媒などを使用することができる。
【００９０】
感光性樹脂溶液を塗布する方法としては、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、リングコートなどの公知の方法を用いることができる。塗布膜の厚さは乾燥後で１〜６μｍの範囲とすることが好ましい。
【００９１】
〔４〕露光工程
続く露光工程では、上記した一次元パワースペクトルが０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下には極大値を持ず、かつ、０．０４μｍ-1より大きく０．０８μｍ-1以下に極大値を持つパターンを、上述した感光性樹脂膜塗布工程で形成された感光性樹脂膜９上に露光する。露光工程に用いる光源は塗布された感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、たとえば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、高圧水銀灯のｈ線（波長：４０５ｎｍ）、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍなど）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマーレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマーレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマーレーザ（波長：１５７ｎｍ）等を用いることができる。
【００９２】
本発明の金型の製造方法において表面凹凸形状を精度良く形成するためには、露光工程において、上述したパターンを感光性樹脂膜上に精密に制御された状態で露光することが好ましい。本発明の金型の製造方法においては、上述したパターンを感光性樹脂膜上に精度よく露光するために、コンピュータ上でパターンを画像データとして作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することが好ましい。レーザー描画を行うに際しては印刷版作成用のレーザー描画装置を使用することができる。このようなレーザー描画装置としては、たとえばＬａｓｅｒ  Ｓｔｒｅａｍ  ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）などが挙げられる。
【００９３】
図１８（ｃ）には、感光性樹脂膜９にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜をネガ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１０は露光によって樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。よって、現像工程において露光されていない領域１１が現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ基材表面上に残りマスクとなる。一方、感光性樹脂膜をポジ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１０は露光によって樹脂の結合が切断され、後述する現像液に対する溶解性が増加する。よって、現像工程において露光された領域１０が現像液によって溶解され、露光されていない領域１１のみ基材表面上に残りマスクとなる。
【００９４】
〔５〕現像工程
続く現像工程においては、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域１１は現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ金型用基材上に残存し、続く第１エッチング工程においてマスクとして作用する。一方、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域１０のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域１１が金型用基材上に残存して、続く第１エッチング工程におけるマスクとして作用する。
【００９５】
現像工程に用いる現像液については従来公知のものを使用することができる。たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水などの無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミンなどの第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミンなどの第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニウム塩、ピロール、ピヘリジンなどの環状アミン類などのアルカリ性水溶液、キシレン、トルエンなどの有機溶剤などを挙げることができる。
【００９６】
現像工程における現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法を用いることができる。
【００９７】
図１８（ｄ）には、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行った状態を模式的に示している。図１８（ｃ）において露光されていない領域１１が現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ基材表面上に残りマスク１２となる。図１８（ｅ）には、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行った状態を模式的に示している。図１８（ｃ）において露光された領域１０が現像液によって溶解され、露光されていない領域１１のみ基材表面上に残りマスク１２となる。
【００９８】
〔６〕第１エッチング工程
続く第１エッチング工程では、上述した現像工程後に金型用基材表面上に残存した感光性樹脂膜をマスクとして用いて、主にマスクの無い箇所の金型用基材をエッチングする。
図１９は、本発明の金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。
図１９（ａ）には第１エッチング工程によって、主にマスクの無い領域１３の金型用基材７がエッチングされる状態を模式的に示している。マスク１２の下部の金型用基材７は金型用基材表面からはエッチングされないが、エッチングの進行とともにマスクの無い領域１３からのエッチングが進行する。よって、マスク１２とマスクの無い領域１３の境界付近では、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされる。このようなマスク１２とマスクの無い領域１３の境界付近において、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされることを、以下ではサイドエッチングと呼ぶ。
【００９９】
第１エッチング工程におけるエッチング処理は、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ3）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ2）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ3）4Ｃｌ2）などを用いて、金属表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した際の金型用基材に形成される凹形状は、下地金属の種類、感光性樹脂膜の種類およびエッチング手法などによって異なるため、一概にはいえないが、エッチング量が１０μｍ以下である場合には、エッチング液に触れている金属表面から略等方的にエッチングされる。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られる基材の厚みである。
【０１００】
第１エッチング工程におけるエッチング量は好ましくは１〜５０μｍであり、より好ましくは２〜１０μｍである。エッチング量が１μｍ未満である場合には、金属表面に凹凸形状がほとんど形成されずに、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。また、エッチング量が５０μｍを超える場合には、金属表面に形成される凹凸形状の高低差が大きくなり、得られた金型を使用して作製した防眩フィルムが白ちゃけることとなるため好ましくない。第１エッチング工程におけるエッチング処理は１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。
【０１０１】
〔７〕感光性樹脂膜剥離工程
続く感光性樹脂膜剥離工程では、第１エッチング工程でマスクとして使用した残存する感光性樹脂膜を完全に溶解し除去する。感光性樹脂膜剥離工程では剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解する。剥離液としては、上述した現像液と同様のものを用いることができて、ｐＨ、温度、濃度および浸漬時間などを変化させることによって、ネガ型の感光性樹脂膜を用いた場合には露光部の、ポジ型の感光性樹脂膜を用いた場合には非露光部の感光性樹脂膜を完全に溶解して除去する。感光性樹脂膜剥離工程における剥離方法についても特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法を用いることができる。
【０１０２】
図１９（ｂ）は、感光性樹脂膜剥離工程によって、第１エッチング工程でマスクとして使用した感光性樹脂膜を完全に溶解し除去した状態を模式的に示している。感光性樹脂膜によるマスク１２とエッチングによって、第１の表面凹凸形状１５が金型用基材表面に形成される。
【０１０３】
〔８〕第２エッチング工程
第２エッチング工程では、感光性樹脂膜をマスクとして用いた第１エッチング工程によって形成された第１の表面凹凸形状１５を、エッチング処理によって鈍らせる。
この第２エッチング処理によって、第１エッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状１５における表面傾斜が急峻な部分がなくなり、得られた金型を用いて製造された防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化する。図１９（ｃ）には、第２エッチング処理によって、金型用基材７の第１の表面凹凸形状１５が鈍化し、表面傾斜が急峻な部分が鈍らされ、緩やかな表面傾斜を有する第２の表面凹凸形状１６が形成された状態が示されている。
【０１０４】
第２エッチング工程のエッチング処理も、第１エッチング工程と同様に、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ3）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ2）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ3）4Ｃｌ2）などを用い、表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した後の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、エッチング手法、および第１エッチング工程により得られた凹凸のサイズと深さなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、エッチング量である。ここでいうエッチング量も、第１エッチング工程と同様に、エッチングにより削られる基材の厚みである。エッチング量が小さいと、第１エッチング工程により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、エッチング量が大きすぎると、凹凸形状がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。そこで、エッチング量は１〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、４〜２０μｍの範囲内であることがより好ましい。第２エッチング工程におけるエッチング処理についても、第１エッチング工程と同様に、１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。
【０１０５】
〔９〕第２めっき工程
続いて、クロムめっきを施すことによって、第２の表面凹凸形状１６を鈍らせるとともに、金型表面を保護する。図１９（ｄ）には、上述したように第２エッチング工程のエッチング処理によって形成された第２の表面凹凸形状１６にクロムめっき層１７を形成し、クロムめっき層の表面１８を鈍らせた状態が示されている。
【０１０６】
本発明では、平板やロールなどの表面に、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与え得るクロムめっきを採用する。クロムめっきの種類は特に制限されないが、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきを用いることが好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行われ、そのめっき浴としては、無水クロム酸（ＣｒＯ3）と少量の硫酸を含む水溶液が用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっきの厚みを制御することができる。
【０１０７】
なお、第２めっき工程において、クロムめっき以外のめっきを施すことは好ましくない。何故なら、クロム以外のめっきでは、硬度や耐摩耗性が低くなるため、金型としての耐久性が低下し、使用中に凹凸が磨り減ったり、金型が損傷したりする。そのような金型から得られた防眩フィルムでは、十分な防眩機能が得られにくい可能性が高く、また、フィルム上に欠陥が発生する可能性も高くなる。
【０１０８】
また、めっき後の表面を研磨することも、やはり本発明では好ましくない。研磨することにより、最表面に平坦な部分が生じるため、光学特性の悪化を招く可能性があること、また、形状の制御因子が増えるため、再現性のよい形状制御が困難になることなどの理由による。
【０１０９】
このように本発明では、クロムめっきを施した後、表面を研磨せず、そのままクロムめっき面を金型の凹凸面として用いることが好ましい。微細表面凹凸形状が形成された表面にクロムめっきを施すことにより、凹凸形状が鈍らせられるとともに、その表面硬度が高められた金型が得られるためである。この際の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、第１エッチング工程より得られた凹凸のサイズと深さ、まためっきの種類や厚みなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御するうえで最も大きな因子は、やはりめっき厚みである。クロムめっきの厚みが薄いと、クロムめっき加工前に得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、めっき厚みが厚すぎると、生産性が悪くなるうえに、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥が発生してしまうため好ましくない。そこで、クロムめっきの厚みは１〜１０μｍの範囲内であるのが好ましく、３〜６μｍの範囲内であるのがより好ましい。
【０１１０】
当該第２めっき工程で形成されるクロムめっき層は、ビッカース硬度が８００以上となるように形成されていることが好ましく、１０００以上となるように形成されていることがより好ましい。クロムめっき層のビッカース硬度が８００未満である場合には、金型使用時の耐久性が低下するうえに、クロムめっきで硬度が低下することはめっき処理時にめっき浴組成、電解条件などに異常が発生している可能性が高く、欠陥の発生状況についても好ましくない影響を与える可能性が高いためである。
【実施例】
【０１１１】
以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す％および部は、特記ない限り重量基準である。また、以下の例における金型または防眩フィルムの評価方法は、次のとおりである。
【０１１２】
〔１〕防眩フィルムの表面形状の測定
（表面の標高の測定）
三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて、防眩フィルムの表面の標高を測定した。サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定の際、対物レンズの倍率は１０倍として測定を行った。水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに１．６６μｍであり、測定面積は１２７０μｍ×９５０μｍであった。
【０１１３】
（複素振幅のパワースペクトル）
上で得られた測定データの中央部から５１２個×５１２個（測定面積で８５０μｍ×８５０μｍ）のデータをサンプリングし、防眩フィルムの微細凹凸表面の標高を二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）として求めた。得られた二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より複素振幅を二次元関数ψ（ｘ，ｙ）として計算した。複素振幅を計算する際の波長λは５５０ｎｍとした。この二次元関数ψ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して二次元関数Ψ（ｆx，ｆy）を求めた。二次元関数Ψ（ｆx，ｆy）を二乗して二次元パワースペクトルの二次元関数Ψ2（ｆx，ｆy）を計算し、原点からの距離ｆの関数である一次元パワースペクトルの一次元関数Ψ2（ｆ）を計算した。この一次元関数Ψ２（ｆ）を線形補間することによって０．００８μｍ-1毎の離散関数とした。この０．００８μｍ-1毎の離散関数であるΨ2（ｆ）の二階導関数より、複素振幅の一次元パワースペクトルの変曲点を計算した。
【０１１４】
（微細凹凸表面の傾斜角度）
上で得られた測定データをもとに、前述のアルゴリズムに基づいて計算し、凹凸面の傾斜角度のヒストグラムを作成し、そこから傾斜角度毎の分布を求め、傾斜角度が５°以上である面の割合を計算した。
【０１１５】
（微細凹凸表面の表面粗さパラメータ）
ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に準拠した（株）ミツトヨ製の表面粗さ測定機サーフテストＳＪ−３０１を用いて、防眩フィルムの表面粗さパラメータを測定した。サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。
【０１１６】
〔２〕防眩フィルムの光学特性の測定
（ヘイズ）
防眩フィルムの全ヘイズは、防眩フィルムを光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層形成面とは反対側の面でガラス基板に貼合し、該ガラス基板に貼合された防眩フィルムについて、ガラス基板側から光を入射させ、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に準拠した（株）村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ−１５０」型を用いて測定した。また、内部ヘイズは防眩層の凹凸表面に、ヘイズがほぼ０であるトリアセチルセルロースフィルムをグリセリンを用いて貼合し、再度ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に準拠して測定した。表面ヘイズは、上記式（１２）に基づいて算出した。
【０１１７】
（透過鮮明度）
ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に準拠したスガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの透過鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層の微細な凹凸形状面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。この状態でガラス側から光を入射させ、測定を行なった。ここでの測定値は、暗部と明部との幅がそれぞれ０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の透過鮮明度の最大値は４００％となる。
【０１１８】
（反射鮮明度）
ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に準拠したスガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの反射鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層の微細な凹凸形状面が表面となるように黒色アクリル基板に貼合してから、測定に供した。この状態で凹凸形状面側から光を４５°で入射させ、測定を行なった。ここでの測定値は、暗部と明部との幅がそれぞれ０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の反射鮮明度の最大値は３００％となる。
【０１１９】
〔３〕防眩フィルムの機械特性の測定
（鉛筆硬度）
防眩フィルムの鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠した電動鉛筆引っかき硬度試験機（（株）安田精機製作所製）を用いて荷重５００ｇで測定した。
【０１２０】
〔４〕防眩フィルムの防眩性能の評価
（映り込み、白ちゃけの目視評価）
防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの有無、白ちゃけの程度を目視で評価した。映り込みおよび白ちゃけは、それぞれ１から３の３段階で次の基準により評価した。
【０１２１】
映り込み  １：映り込みが観察されない。
２：映り込みが少し観察される。
【０１２２】
３：映り込みが明瞭に観察される。
白ちゃけ  １：白ちゃけが観察されない。
【０１２３】
２：白ちゃけが少し観察される。
３：白ちゃけが明瞭に観察される。
【０１２４】
（ギラツキの評価）
ギラツキは次の手順で評価した。すなわち、まず図１１に平面図で示すようなユニットセルのパターンを有するフォトマスクを用意した。この図において、ユニットセル４０は、透明な基板上に、線幅１０μｍでカギ形のクロム遮光パターン４１が形成され、そのクロム遮光パターン４１の形成されていない部分が開口部４２となっている。ここでは、ユニットセルの寸法が２１１μｍ×７０μｍ（図の縦×横）、したがって開口部の寸法が２０１μｍ×６０μｍ（図の縦×横）のものを用いた。図示するユニットセルが縦横に多数並んで、フォトマスクを形成する。
【０１２５】
そして、図１２に模式的な断面図で示すように、フォトマスク４３のクロム遮光パターン４１を上にしてライトボックス４５に置き、ガラス板４７に粘着剤で防眩フィルム１をその凹凸面が表面となるように貼合したサンプルをフォトマスク４３上に置く。ライトボックス４５の中には、光源４６が配置されている。この状態で、サンプルから約３０ｃｍ離れた位置４９で目視観察することにより、ギラツキの程度を７段階で官能評価した。レベル１はギラツキが全く認められない状態、レベル７はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル４はごくわずかにギラツキが観察される状態である。
【０１２６】
〔５〕防眩フィルム製造用のパターンの評価
作成したパターンデータを２階調の二値化画像データとし、階調を二次元の離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表した。離散関数ｇ（ｘ，ｙ）の水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに２μｍとした。得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して、二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を求めた。二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を二乗して二次元パワースペクトルの二次元関数Ｇ2（ｆx，ｆy）を計算し、原点からの距離ｆの関数である一次元パワースペクトルの一次元関数Ｇ2（ｆ）を計算した。
【０１２７】
＜実施例１＞
（防眩フィルム製造用の金型の作製）
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図１６に示すパターン(ランダムな明度分布を有するパターンから、０．０３５μｍ-1以下の低空間周波数成分と０．１５μｍ-1以上の高空間周波数成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した)を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像した。レーザ光による露光、および現像はＬａｓｅｒ  Ｓｔｒｅａｍ  ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行った。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用した。
【０１２８】
その後、塩化第二銅液で第１のエッチング処理を行った。その際のエッチング量は３μｍとなるように設定した。第１のエッチング処理後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再度、塩化第二銅液で第２のエッチング処理を行った。その際のエッチング量は６μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行い、金型Ａを作製した。このとき、クロムめっき厚みが４μｍとなるように設定した。
【０１２９】
（防眩フィルムの形成）
以下の各成分が酢酸エチルに固形分濃度６０％で溶解されており、硬化後に １.５３の屈折率を示す紫外線硬化性樹脂組成物Ａを入手した。
【０１３０】
ペンタエリスリトールトリアクリレート                              ６０部
多官能ウレタン化アクリレート                                      ４０部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応性生物）
ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド  ５部
【０１３１】
この紫外線硬化性樹脂組成物Ａを厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、乾燥後の塗布厚みが７μｍとなるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型Ａの凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ2の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ2となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。この後、ＴＡＣフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な防眩フィルムＡを作製した。
【０１３２】
＜実施例２＞
第２のエッチング処理のエッチング量を８μｍとなるように設定したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｂを作製し、金型Ｂを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＢを作製した。
【０１３３】
＜実施例３＞
第２のエッチング処理のエッチング量を１０μｍとなるように設定したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｃを作製し、金型Ｃを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＣを作製した。
【０１３４】
＜実施例４＞
図２０に示すパターン(ランダムな明度分布を有するパターンから、０．０３３μｍ-1以下の低空間周波数成分と０．１５μｍ-1以上の高空間周波数成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した)を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、第１のエッチング処理のエッチング量は４μｍとなるように設定し、第２のエッチング処理のエッチング量は８μｍとなるように設定したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｄを作製し、金型Ｄを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＤを作製した。
【０１３５】
＜比較例１＞
図２１に示すパターン(ランダムな明度分布を有するパターンから、０．０２３μｍ-1以下の低空間周波数成分と０．１５μｍ-1以上の高空間周波数成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した)を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、第１のエッチング処理のエッチング量は４μｍとなるように設定し、第２のエッチング処理のエッチング量は１０μｍとなるように設定したこと以外は実施例４と同様にして金型Ｅを作製し、金型Ｅを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＥを作製した。
【０１３６】
＜比較例２＞
図２２に示すパターン(ランダムな明度分布を有するパターンから、０．０４３μｍ-1以下の低空間周波数成分と０．１５μｍ-1以上の高空間周波数成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した)を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光したこと以外は実施例３と同様にして金型Ｆを作製し、金型Ｆを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＦを作製した。
【０１３７】
＜比較例３＞
直径３００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面を鏡面研磨し、研磨されたアルミ面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、ジルコニアビーズＴＺ−ＳＸ−１７（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を、ブラスト圧力０．１ＭＰａ（ゲージ圧、以下同じ）、ビーズ使用量８ｇ／ｃｍ2（ロールの表面積１ｃｍ2あたりの使用量、以下同じ）でブラストし、表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つきアルミロールに対し、無電解ニッケルめっき加工を行い、金型Ｇを作製した。このとき、無電解ニッケルめっき厚みが１５μｍとなるように設定した。得られた金型Ｇを用いたこと以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムＧを作製した。
【０１３８】
結果を表１に示す。また、図１７に防眩フィルムＡ〜Ｃの作製に使用したパターンより得られた一次元パワースペクトルを示し、図２３に防眩フィルムＤ〜Ｆの作製に使用したパターンより得られた一次元パワースペクトルＧ2（ｆ）を示した。図１７および図２３より防眩フィルムＡ〜Ｄの作製に使用したパターンの一次元パワースペクトルは空間周波数が０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下に極大値を持たず、０．０４μｍ-1より大きく０．０８μｍ-1以下に極大値を持つことが分かる。一方、防眩フィルムＥの作製に使用したパターンは０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下に極大値を持ち、防眩フィルムＦの作製に使用したパターンは０．０４μｍ-1より大きく０．０８μｍ-1以下に極大値を持たないことが分かる。図２４には防眩フィルムＡ〜Ｄの標高より計算された複素振幅の一次元パワースペクトルの二階導関数ｄ2Ψ2（ｆ）／ｄｆ2を示し、図２５には防眩フィルムＥ〜Ｇの標高より計算された複素振幅の一次元パワースペクトルの二階導関数ｄ2Ψ2（ｆ）／ｄｆ2を示した。
【０１３９】
図２４および図２５より防眩フィルムＡ〜ＤおよびＦの標高より計算される複素振幅のパワースペクトルは、空間周波数０．０３２μｍ-1以上０．０６４μｍ-1以下の範囲内において２つの変曲点を有するが、防眩フィルムＥおよびＧの標高より計算される複素振幅の一次元パワースペクトルは、空間周波数０．０３２μｍ-1以上０．０６４μｍ-1以下の範囲内において２つの変曲点を有するものではないことが分かる。
【０１４０】
【表１】
0006049980.tif 000013
【０１４１】
表１に示す結果から、本発明の要件を全て満たす防眩フィルムＡ〜Ｄは、ギラツキがほぼ発生せず、十分な防眩性を示し、白ちゃけもほぼ発生しなかった。また、内部ヘイズも低いため、画像表示装置に配置した際にもコントラストの低下を引き起こすことが無い。一方、防眩フィルムＥおよびＧは、図２５に示したように標高より計算される複素振幅の一次元パワースペクトルが、空間周波数０．０３２μｍ-1以上０．０６４μｍ-1以下の範囲内において、２つの変曲点を有するものではないことから、ギラツキが発生する傾向を示した。防眩フィルムＦは、複素振幅の一次元パワースペクトルは本発明の要件を満たすものの表面ヘイズが本発明の要件を満たさないため、映り込みが観察された。
【符号の説明】
【０１４２】
１  防眩フィルム、２  フィルム表面に形成された凹凸、３  フィルムの投影面、５  フィルムの主法線方向、６  局所的な法線、６ａ〜６ｄ  ポリゴン面の法線ベクトル、７  金型用基材、８  研磨工程によって研磨された基材の表面、９  感光性樹脂膜、１０  露光された領域、１１  露光されていない領域、１２  マスク、１３  マスクの無い領域、１５  第１の表面凹凸形状（第１エッチング工程後の金型用基材表面の凹凸形状）、１６  第２の表面凹凸形状（第２エッチング工程後の金型用基材表面の凹凸形状）、１７  クロムめっき層、１８  クロムめっき層の表面、２０  標高基準面、２１  最高標高面、４０  フォトマスクのユニットセル、４１  フォトマスクのクロム遮光パターン、４２  フォトマスクの開口部、４３  フォトマスク、４５  ライトボックス、４６  光源、４７  ガラス板、４９  ギラツキの観察位置、５０  拡散板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図４】
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【図１６】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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