(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸版と版胴とアニロックスロールとインキ供給ユニットを具備する凸版印刷装置であって、前記アニロックスロールは、版胴に装着された前記凸版の凸部に接触してインキを供給する機能を有し、また前記インキ供給ユニットは前記アニロックスロールにインキを供給する機能を有するものであり、かつ、前記インキ供給ユニットには、インキ溜め構造を有するインキチャンバーと、その中にインキチャンバー径よりも径が小さいインキングロールを具備し、前記インキングロール径が前記アニロックスロール径よりも小さく、前記アニロックスロールと前記インキングロールは直接接触せずに隙間を有し、前記アニロックスロールと前記インキングロールの間には、前記インキングロールがインキに浸された状態で回転することにより前記インキングロール上部にインキ液面が形成され、前記インキングロール上部に形成されたインキ液面と前記アニロックスロールとが接触することにより前記アニロックスロールにインキを供給し、前記アニロックスロールとインキ液面との接触位置の直後で、アニロックスロール回転方向側にインキングされた過剰なインキを除去するドクターが前記アニロックスロールに対して設置されることを特徴とする凸版印刷装置。
【請求項２】
前記インキングロールの表面張力がインキの表面張力に比べて大きい、もしくは同等であることを特徴とする請求項１に記載の凸版印刷装置。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機機能性材料をインキとして用いて高精細なパターン形成をする凸版印刷装置と、それを使用して作製した有機機能性素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子部材の薄層軽量化やフレキシブル化を目指した、有機機能性材料を用いた有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子や有機太陽電池、有機薄膜トランジスタなどの有機機能性素子の開発が盛んに行われている。これらの有機機能性素子は、一般に数ｎｍから数μｍ程度の膜厚を有する有機機能層を基板上にパターン形成する必要がある。
【０００３】
有機ＥＬ素子を一例として詳しく述べる。有機ＥＬ素子は二つの対向する電極間に有機ＥＬ材料を有する有機発光層が形成された構造をもつ発光素子であり、電圧の印加により発光するものである。
【０００４】
有機ＥＬ層に用いられる有機ＥＬ材料は、低分子系材料と高分子系材料に区分されており、有機ＥＬ層の形成方法は材料の種類によって異なる。
【０００５】
一般に低分子系材料は、基板に抵抗加熱蒸着法（真空蒸着法）等によって薄膜形成される。この方法は、均一な薄膜形成には優れており、膜厚コントロールに有利な方法であるが、基板が大型になるとパターン精度を保ち難くなるという問題がある。
【０００６】
一方、高分子系材料では、有機発光材料を溶剤に溶解あるいは分散させてインキ化し、ウェットコーティング法によって薄膜を形成する。ウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、パターニングや色の塗り分けに用いることは困難であり、高精細なパターニング等を行うには、インキジェット法や印刷法等によるパターン印刷を用いることが必要となる。
【０００７】
例えば、（特許文献１）に開示されているようなインキジェット法によるパターン形成方法では、インキジェットノズルから溶剤に溶かした有機ＥＬ材料を基板上に噴出させ、基板上で乾燥させることでパターンを形成する。しかしながら、ノズルから噴出されたインキ液滴は球状をしている為、基板上に着弾する際にインキが円形状に広がり、形成されたパターンの形状が直線性に欠けたり、あるいは着弾精度が悪くなってパターンの直線性が得られなかったりするという問題点がある。
【０００８】
また、印刷法によるパターン形成方法には様々な種類があるが、基板としてガラス基板を用いることが多い有機ＥＬ素子については、ゴム製の印刷用ブランケットを用いたオフセット印刷法や、ゴムやその他の樹脂を主成分とした感光性樹脂版を用いる凸版印刷法等が適正な印刷法と考えられる。実際に、オフセット印刷によるパターン印刷方法（特許文献２）、凸版印刷によるパターン印刷方法（特許文献３）などが提唱されている。中でも、特に凸版印刷による方法はパターン形成精度や膜厚均一性などに優れ、印刷による有機ＥＬ素子の製造方法として最も適している。
【０００９】
凸版印刷法による有機ＥＬ膜を形成する工程の一例を説明する。図１に凸版印刷法を用いて有機ＥＬ素子の製造に用いられる一例の印刷装置の概略図を示した。インキチャンバー内に充填した有機ＥＬ材料を溶剤に溶解あるいは分散させたインキ５を、微細な孔を有するアニロックスロール６を浸漬させることで表面に塗布する。次に、ロール表面の余分なインキをドクター４で掻き取るによって、アニロックスロールの単位面積あたりのインキの塗布量を均一にする。そして、有機ＥＬ素子の画素の形状に対応して設けられている画像形成部を有する印刷用凸版８の画像形成部にアニロックスロール上のインキを転移させ、最後にこの印刷版の画像形成部上のインキ薄膜を基板２上に転移させることで転写パターン９（有機ＥＬ膜）を形成する。
【００１０】
アニロックスロールセル内インキを印刷用凸版に転写すると、インキチャンバー内のインキにアニロックスロールを浸漬し、セル中にインキを補充することが必要になる。しかしながら、その際にロールの回転速度が速い、浸漬時間が短い等といった条件によってはインキの補充、循環が十分に行われず、転写の履歴が印刷物に現れてしまう現象（ゴースト）が起きる。ゴーストを防ぐためには、アニロックスロールの円周を印刷用凸版の転写パターン長より長くし、一回の転写がアニロックスロール一周以内で完了できるようにすることが好ましく、転写後には十分にアニロックスロールセル内のインキをインキチャンバー内のインキと循環させることが必要である。
【００１１】
インキに用いられる有機ＥＬ材料は一般的に高価なものが多く、できる限り使用量を少なく抑える必要がある。そのため、ダイコート、スプレーコート方式等を用いて直接アニロックスロールにインキを塗工する直接塗工方式によって少液化を目指した技術が開発されている。
【００１２】
連続して多くの枚数を印刷する場合、ゴーストやアニロックスロール上のインキ乾燥による濃度ムラがより発生し易くなる。アニロックスロールをインキに浸漬する方式ではアニロックスロール上のインキがインキチャンバー内のインキと混ざり循環することでインキ濃度上昇の影響をほとんど無い状態に緩和することが可能であるが、直接塗工方式では毎回のアニロックスロール洗浄が必要となり、洗浄液の大量消費や工程の煩雑化などが起きる。
【００１３】
これらより、安定した印刷を行うために、アニロックスロール径を大きし、アニロックスロールセル中のインキ濃度を安定させるためにアニロックスロール上のインキを十分に浸漬する必要があるが、使用するインキ量は削減したいといった問題を抱えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開平１０−１２３７７号公報
【特許文献２】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献３】特開２００１−１５５８５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は有機機能性材料からなるインキを少ない量用いて、高精細、高品質、低コストな有機機能性素子を形成できる凸版印刷装置、及びそれを用いて作製した機機能性素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上述のような課題を解決するために検討を行った結果、次のような手段が有効であることを見出した。
【００１７】
本発明の請求項１記載の発明は、凸版と版胴とアニロックスロールとインキ供給ユニットを具備する凸版印刷装置であって、前記アニロックスロールは、版胴に装着された前記凸版の凸部に接触してインキを供給する機能を有し、また前記インキ供給ユニットは前記アニロックスロールにインキを供給する機能を有するものであり、かつ、前記インキ供給ユニットには、インキ溜め構造を有するインキチャンバーと、その中にインキチャンバー径よりも径が小さいインキングロールを具備し、前記インキングロール径が前記アニロックスロール径よりも小さく、前記アニロックスロールと前記インキングロールは直接接触せずに隙間を有し、前記アニロックスロールと前記インキングロールの間には、前記インキングロールがインキに浸された状態で回転することにより前記インキングロール上部にインキ液面が形成され、前記インキングロール上部に形成されたインキ液面と前記アニロックスロールとが接触することにより前記アニロックスロールにインキを供給し、前記アニロックスロールとインキ液面との接触位置の直後で、アニロックスロール回転方向側にインキングされた過剰なインキを除去するドクターが前記アニロックスロールに対して設置されることを特徴とする凸版印刷装置である。 
【００１９】
本発明の請求項２記載の発明は、前記インキングロールの表面張力がインキの表面張力に比べ、大きいもしくは同等であることを特徴とする請求項１記載の凸版印刷装置である。
【００２０】
本発明の請求項４記載の発明は、請求項1〜３のいずれかに記載の凸版印刷装置を使用して作製されたことを特徴とする有機機能性素子である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の請求項１、２、３によれば、アニロックスロールにインキを供給するために、インキ溜め構造を有するインキチャンバーと、その中に設置されたインキングロールを具備するインキ供給ユニットを備えることにより、前記インキングロールがインキに浸された状態で回転することにより形成されるインキングロール上部のインキ液面と、前記アニロックスロールとが接触することによりアニロックスロールにインキを供給することができ、この時、アニロックスロールとインキングロールは直接接触することがないのでそれぞれが接触による損傷を受けることがない。また、アニロックスロール径よりもインキングロール径を小さくすることで、従来のアニロックスロールが直接インキ溜りに浸される構造に比べて、小さいインキチャンバーを使用することができ、著しく少量のインキ量で、連続して安定したパターン形成することができる。
また、この凸版印刷装置を使用することにより、使用インキ量を削減した状態で、発光ムラの無い有機ＥＬ素子などの有機機能素子を印刷法によって製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】従来の凸版印刷装置の一実施例を示す概略図である。
【図２】本発明の凸版印刷装置の一実施例を示す概略図である。
【図３】図２の拡大概略図である。
【図４】本発明で製造される有機ＥＬ素子の一実施例を示す断面図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ素子の製造に用いるアクティブマトリックス方式の基板の一実施例の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、本発明はこれに限るものではない。
【００２４】
本発明は、有機材料からなる発光層と発光補助層からなる有機ＥＬ層のうち少なくとも１層を、有機ＥＬ材料を溶媒に溶解、または分散させたインキを用い、基材上に樹脂からなる凸部パターンを有する樹脂凸版を印刷版とした凸版印刷法により形成する際に適用することができる。発光補助層としては、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層等を積層させて用いる。以降、本発明において、有機ＥＬ材料を溶媒に溶解、または分散させた有機ＥＬ材料インキを用いた場合について示す。
【００２５】
図１に一般的な印刷物の製造に用いられる凸版印刷装置の一例の概略図を、図２に本発明による凸版印刷装置の一例の概略図を示した。どちらもステージ１には被印刷基板２が固定されており、凸版８は版胴７に固定され、凸版８はドクター４を備えたアニロックスロール６と接している。
【００２６】
一般的な凸版印刷装置では、アニロックスロール６の一部がインキチャンバー３に満たされたインキ５に浸漬することでアニロックスロールセル内にインキ５が補充される。本発明の凸版印刷装置では、インキングロール９をインキチャンバー３のインキ５に浸漬させ、インキングロール９表面にインキ液膜を形成する。インキ液膜とアニロックスロール６とを接触させることで、アニロックスロールセル内にインキ５の補充を行う。
【００２７】
アニロックスロール６に供給されたインキ５のうち余剰なインキ５は、ドクター４により除去され、アニロックスロール６には形成されたセル構造により均一にインキを保持する。余剰なインキの除去が適切に行われるのであれば、ドクター４にはドクターブレード、ドクターロール等どのようなものを選択してもよい。
【００２８】
インキングロール９表面に十分なインキ液膜を作成するため、インキングロール９の表面張力はインキの表面張力に比べて大きい、もしくは同等であることが望ましい。インキングロール９の表面張力がインキの表面張力に比べて小さい場合においても、アニロックスロール６に塗工可能な量のインキ液膜をインキングロール９表面上に形成可能であれば、本発明に用いることは可能である。
【００２９】
本発明ではアニロックスロール６とインキングロール９とは直接接触せず、間に一定間隔の隙間を設ける。図３にアニロックスロール６とインキングロール９を接触させた場合のインキング状態について、接触した部分周辺を拡大した概略図を示す。アニロックスロール６とインキングロール９を接触させた場合、インキングされた過剰なインキ５がアニロックスロールとインキングロールとの間にインキが滞留する（インキ溜まり１０）。長時間の印刷を行うとインキ溜まり部分のインキ濃度が上昇し、印刷物のムラや印刷膜厚のズレなどを引き起こす。また、インキングロール９が削れることで異物数の増加が起きる。
【００３０】
インキングロール９の材質の一例としては、ＳＵＳ材などで作製された芯ロールに、ニトリルゴム、シリコーンゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムなどを巻きつけて作成したゴムロール等を使用することができる。これらゴム材は、インキとして使用する溶剤に対する耐性から選定される。
【００３１】
本発明では、アニロックスロール６とインキングロール９とを接触させないため、インキングロールの材質や硬度等を原則問わない。そのため、表面をナイロン、ポリエステル、ポリウレタン、ＡＢＳ、塩化ビニル等の樹脂でコーティングした樹脂ロールや、求められる濡れなど条件が合えば金属製のロールを使用することも可能である。
【００３２】
本発明では、インキングロールはアニロックスロールとは独立して回転する機構を有している必要がある。インキングロールが回転する際に、アニロックスロールと回転速度を揃える必要はなく、インキング性の観点から独立して設定して構わない。また、回転方向についても、インキング性、インキの循環性、インキ垂れ具合等の観点から独立して設定して構わない。
【００３３】
なお、図１は１枚毎に被印刷基板にインキパターンを形成する枚葉式の凸版印刷装置であるが、被印刷基板が対応する場合には、ロール・トゥー・ロール方式の凸版印刷装置を
用いることもできる。
【００３４】
本発明に係る凸版８に用いられる版材において、凸パターンが形成される版基材としては、印刷に対する機械的強度を有すれば良く、合成樹脂、金属、またはそれらの積層体を用いることができ、中でも寸法安定性を保持するものが望ましい。
【００３５】
前記凸版８の凸パターンを形成する樹脂の一成分となるポリマーは、合成樹脂やそれらの共重合体、セルロースなどの天然高分子などから一種類以上を選択することができるが、有機発光材料などといった塗工液を塗布する場合、有機溶剤に対する耐溶剤性の観点から、フッ素系樹脂が望ましい。
【００３６】
また、少なくとも、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリウレタン、酢酸セルロースコハク酸エステル、部分ケン化ポリ酢酸ビニル、カチオン型ピペラジン含有ポリアミドやこれらの誘導体といった水溶性溶剤に可溶なものを一種類以上含有することによっても耐溶剤性を付与することが可能となるため、これらの内から一つ以上を選択し用いることも望ましい。
【００３７】
凸版８の樹脂層による凸パターンは、フォトリソグラフィー法、印刷法等の種々のパターン成型法を用いることができるが、パターンの高精細さの観点から、感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法が望ましい。
【００３８】
感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法を凸パターンの形成方法として適用する場合、基材層、感光性樹脂層が順次積層されている板状感光性樹脂積層体から凸版８の凸パターンを形成することが最も望ましい。感光性樹脂層の成型方法は、公知の方法を用いることができる。
【００３９】
前記板状感光性樹脂積層体の成型方法を示す。基材上に反射防止層等を形成する場合には、ウェットコーティング法もしくはドライコーティング法により成膜し、積層体とする。次に積層体または基材に感光性樹脂層を公知の方法で成膜し、板状感光性樹脂積層体とする。
【００４０】
形成された板状感光性樹脂積層体に対してフォトリソグラフィー法を用い、公知の露光、現像の工程を経て、目的とする凸パターンを形成する。
【００４１】
次に、隔壁基板を用いた有機ＥＬ素子の製造工程の一例を説明する。図４に有機ＥＬ素子、図５に隔壁基板の説明断面図を示す。なお、本発明による製造工程はこれに限るものではない
【００４２】
基板上に薄型トランジスタ（ＴＦＴ）３０を形成することで、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子用の基板とすることが可能である。本発明の駆動方式はアクティブマトリックスに限るものではない。
【００４３】
ＴＦＴや、その上層は支持体２１で支持される。支持体としては機械的強度や、寸法安定性に優れていることが好ましい。支持体としては、絶縁性を有する基板であればいかなる基板も使用することができる。この支持体側から光を取り出すボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子とする場合には、支持体として透明なものを使用する必要がある。
【００４４】
例えば、ガラス基板や石英基板が支持体として使用できる。また、フレキシブル性を求める場合などにはプラスチックフィルムやシートを用いても良い。これらに水分等の侵入を防ぐことを目的として、金属酸化物薄膜や高分子樹脂膜等を積層してもよい。
【００４５】
支持体上に設けるＴＦＴは、公知の薄膜トランジスタを用いることができる。具体的には、主として、ソース／ドレイン領域及びチャネル領域が形成される活性層、ゲート絶縁膜及びゲート電極から構成される薄膜トランジスタが挙げられる。薄膜トランジスタの構造としては、特に限定されるものではない。
【００４６】
隔壁基板としては、ＴＦＴに平坦化層２７が形成してあるとともに、平坦化層上に有機ＥＬ素子の下部電極（第一電極１３）が設けられており、かつ、ＴＦＴと第一電極とが平坦化層に設けたコンタクトホール２８を介して電気接続してあることが好ましい。このように構成することにより、ＴＦＴと、有機ＥＬ素子との間で、優れた電気絶縁性を得ることができる。
【００４７】
活性層２２は、特に限定されるものではなく、例えば、非晶質シリコン、多結晶シリコン等の無機半導体材料やチオフェンオリゴマー等の有機半導体材料により形成することができる。
【００４８】
ゲート絶縁膜２３としては、通常、ゲート絶縁膜として使用されているものを用いることができ、例えば、ＰＥＣＶＤ法、ＬＰＣＶＤ法等により形成されたＳｉＯ２、ポリシリコン膜を熱酸化して得られるＳｉＯ２等を用いることができる。
【００４９】
ゲート電極２４としては、通常、ゲート電極として使用されているものを用いることができ、例えば、アルミ、銅、チタン、タンタル、タングステン、ポリシリコン、シリサイド、ポリサイド等が挙げられる。
【００５０】
表示装置は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が有機ＥＬ素子のスイッチング素子として機能するように接続されている必要があり、トランジスタのドレイン電極２６と有機ＥＬ素子の画素電極（第一電極）が電気的に接続されている。
【００５１】
ＴＦＴとドレイン電極と有機ＥＬ素子の画素電極（第一電極）との接続は、平坦化膜を貫通するコンタクトホール内に形成された接続配線を介して行われる。
【００５２】
平坦化膜の材料についてはＳｉＯ２、スピンオンガラス、ＳｉＮ（Ｓｉ３Ｎ４）、ＴａＯ（Ｔａ２Ｏ５）等の無機材料、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、フォトレジスト材料、ブラックマトリックス材料等の有機材料等を用いることができる。形成方法については、材料に合わせて選択する。
【００５３】
基板上には第一電極が設けられる。第一電極を陽極とした場合、その材料としては、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）等の金属複合酸化物や金、クロムなどの金属材料を単層または積層したものをいずれも使用できる。第一電極の形成方法は、材料に応じて選択される。
【００５４】
低抵抗であること、溶剤耐性があること、また、ボトムミッション方式としたときには透明性が高いことなどからＩＴＯが好ましく使用できる。ＩＴＯはスパッタ法によりガラス基板上に形成され、フォトリソ法によりパターニングされて第一電極１３となる。
【００５５】
第一電極を形成後、第一電極縁部を覆うようにして隔壁１２が形成される。隔壁は絶縁性を有する必要があり、感光性材料等を用いることができる。感光性材料としては、ポジ型であってもネガ型であってもよく、光ラジカル重合系、光カチオン重合系の光硬化性樹脂、あるいはアクリロニトリル成分を含有する共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ノボラック樹脂、ポリイミド樹脂、及びシアノエチルプルラン等を用い
ることができる。また、隔壁形成材料として、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等を用いることもできる。
【００５６】
隔壁形成材料が感光性材料の場合、形成材料溶液をスリットコート法やスピンコート法により全面コーティングしたあと、露光、現像といったフォトリソ法によりパターニングがおこなわれる。感光性材料を用いてフォトリソ法により隔壁を形成する場合、その形状は露光、現像条件により制御可能である。
【００５７】
また、隔壁形成材料がＳｉＯ２、ＴｉＯ２の場合、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった乾式成膜法で形成可能である。この場合、隔壁のパターニングはマスクやフォトリソ法により行うことができる。
【００５８】
次に、発光層及び発光補助層からなる有機ＥＬ層を形成する。電極間に挟まれる有機ＥＬ層としては、発光層単独から構成されたものでもよいし、発光層に正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層といった発光補助層を加えた積層構造としてもよい。なお、発光補助層の有無は、必要に応じて適宜選択される。それぞれ用いられる材料は、特性に応じて選択ができる。
【００５９】
有機ＥＬ材料とそれを溶解または分散する溶媒は、それぞれインキ化が可能な組み合わせであればどれを用いてもよく、特性に応じて単独又は混合して用いる。また、溶媒には必要に応じて界面活性剤、粘度調整剤等を添加してもよい。
【００６０】
次に、第二電極１８を形成する。第二電極を陰極とした場合、その材料としては電子注入効率の高い物質を用いる。形成方法としては、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法等の乾式成膜法を用いることができる。また、第二電極をパターンとする必要がある場合には、マスク等によりパターニングすることができる。なお、本発明では第一の電極を陰極、第二の電極を陽極とすることも可能である。
【００６１】
有機ＥＬ素子としては電極間に発光層を挟み、電流を流すことで発光させることが可能であるが、有機ＥＬ材料や電極形成材料の一部は大気中の水分や酸素によって容易に劣化してしまうため通常は外部と遮断するための封止体を設ける。
【００６２】
封止体は、例えば第一電極、発光層、発光補助層、第二電極が形成された基板に対して、凹部を有するガラスキャップ、金属キャップを用いて、第一電極、有機ＥＬ層、第二電極上空に凹部があたるようにして、その周辺部についてキャップと基板とを接着剤１９を介して接着させることにより封止がおこなわれる。パッシベーション膜として、ＣＶＤ法等を用いて、窒化珪素膜等を成膜することで、無機薄膜による封止体とすることも可能であり、またこれらを組み合わせることも可能である。
【００６３】
上記の工程を行うことによって、本発明を用いて有機ＥＬ素子を作製することができる。
【実施例】
【００６４】
本発明の実施例について述べる。なお、本発明は実施例に限定されるものではなく、本発明を達成できる範囲での改良・変形等は、本発明の趣旨を逸脱するものではない。
【００６５】
＜実施例１＞
（感光性樹脂凸版の作製）
厚さ２５０μｍの４２ニッケル材を凸版の版基材として、この基材の上に黒色顔料を混錬したアクリルバインダー樹脂溶液を乾燥膜厚が１０μｍになるように塗布して乾燥し、
反射防止層を形成した。
【００６６】
水溶性ポリアミドを主成分とし、ラジカル重合性モノマーとしてとしてジペンタエリスリトールヘキサキスアクリレート、光重合開始剤として２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）を混錬した感光性樹脂組成物が、基材の表面に版材の総厚が３１０μｍとなるように溶融塗工したものを感光性樹脂層とし、ポリビニルアルコール溶液を乾燥膜厚１μｍになるように塗布したポリエチレンテレフタレートフィルム（フィルム厚み１２５μｍ：帝人デュポンフィルム社製）をラミネートした。
【００６７】
合成石英基材のクロムマスクを樹脂凸版パターンの原版とし、このマスクをプロキシミティ露光装置にセットしたものを用いて樹脂凸版を露光し、ストライプパターンの凸版を作製した。作製した凸パターンの幅は２５μｍ、凸パターンのピッチは１５０μｍである。
【００６８】
（被印刷基板の作製）
被印刷基板として、支持体上に設けられたスイッチング素子として機能する薄膜トランジスタと、その情報に形成された平坦化層と、平坦化層状にコンタクトホールによって前記薄膜トランジスタと導通が図られている画素電極とを備えたアクティブマトリクス基板を用いた。画素サイズの１辺は、１５０μｍ角であり、ＲＧＢのサブピクセルのサイズは５０×１５０μｍである。
【００６９】
このアクティブマトリクス基板の上に設けられている画素電極の端部を被覆し画素を区画するような形状で隔壁を形成した。この隔壁の形成は、日本ゼオン社製ポジレジストＺＷＤ６２１６−６をスピンコータにてアクティブマトリクス基板の全面に乾燥厚みが２μｍであるように塗布した後、フォトリソグラフィーによって各隣接するサブピクセルの短辺方向に線幅２５μｍ、長辺方向に線幅７５μｍの隔壁を形成した。
【００７０】
画素電極の上にスピンコート法により正孔輸送層として、ポリ−（３，４）−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）１．５ｗｔ％水溶液が１００ｎｍの膜厚で成膜した。さらに、この成膜されたＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ薄膜は、減圧下１００℃で１時間乾燥することで、被印刷基板を作製した。
【００７１】
（有機発光層形成用のインキの作製）
有機発光材料であるポリフェニレンビニレン誘導体を濃度２％になるようにアニソールに溶解させた有機発光インキを用意した。用意したインキは、粘度６０ｍＰａ・ｓ、表面張力３４ｍＮ／ｍである。
【００７２】
（印刷工程）
凸版印刷装置としては、図２に示す形のものを使用した。上記で作製した凸版を前記凸版印刷装置の版胴に固定した。次に、上記の有機発光インキをインキチャンバーに供給し、インキングロールの一部をインキに浸漬、インキングロール上のインキ液膜をアニロックスロールに接触させて、アニロックスロールセル内にインキ供給を行った。アニロックスロール上の過剰なインキをドクターでかき取った後、インキを凸版の凸部にインキングした。この際、インキングロールとアニロックスロールとの間は、０．５ｍｍになるようにセッティングした。
【００７３】
インキングロールとして、ＳＵＳ材などで作成された芯ロールにウレタンゴムを巻きつけた、φ２０ｍｍのゴムロールを使用した。ロールの表面張力は４０ｍＮ／ｍである。
【００７４】
アニロックスロールとして、φ８０ｍｍのクロムメッキロールを用いた。形成されるパターンは１辺６５μｍの正方形セルが、７２．５μｍピッチで形成されるスクエアパターンであり、これらのパターンはロール水平線より６０°傾いて形成されている。
【００７５】
インキングされた凸版は被印刷基板に押し当てて転動され被印刷基板の上にストライプパターンを印刷した。印刷は連続して行い、計２０個の有機ＥＬ素子を作製した。印刷をおこなった後、オーブン内にて１３０℃で１時間乾燥を行った。
【００７６】
乾燥の後、印刷により形成した有機発光層の上にカルシウムを１０ｎｍ成膜し、さらにその上に銀を３００ｎｍ真空蒸着し、最後にガラスキャップを用い封止をおこない有機ＥＬ素子を作製した。
【００７７】
＜実施例２＞
インキングロールがクロムメッキされたロールを使用し、インキングロールとアニロックスロールとの間隔を０．２ｍｍにしたこと以外は、実施例１と同様に素子を作製した。
【００７８】
＜比較例１＞
インキングロールを用いずアニロックスロールをインキチャンバー内のインキに浸漬することでセル内へのインキの補充を行ったこと以外は、実施例１と同様に素子を作製した。
【００７９】
＜比較例２＞
アニロックスロールとインキングロールが接触していること以外は、実施例１と同様に素子を作製した。
【００８０】
＜比較例３＞
アニロックスロール径とインキングロール径が共に８０ｍｍのものを使用したこと以外は、実施例１と同様に素子を作製した。
【００８１】
＜評価＞
実施例１及び２と比較例１〜３で使用したインキ量、及び作製した素子の異物数とパネル発光ムラの評価を行った。評価結果を以下の表１に示す。なお、異物数の評価は、２０枚目のパネル面中の０．５μｍ以上の異物数の観察による。
【００８２】
【表１】
0006035807.tif 000002
【００８３】
＜比較結果＞
実施例１と比較例１、３の比較から本発明のインキングロールを使用し、インキングロール径を小さくすることで、作製する素子の発光ムラ・塗工ムラがなく、また、使用するインキ量が削減できる結果が得られた。
【００８４】
また、実施例１と比較例２の比較から、アニロックスロールとインキングロールを接触させないことで、連続した印刷でもアニロックスロール上でのインキの循環を安定的に行うことができ、異物数も少なく抑えることが可能であることがわかった。
【００８５】
また、実施例1及び２より、インキングロール表面の材質は樹脂又はゴム、金属どれであっても本発明の効果が得られることがわかった。
【符号の説明】
【００８６】
１・・・ステージ
２・・・基板
３・・・インキチャンバー
４・・・ドクター
５・・・インキ
６・・・アニロックスロール
７・・・版胴
８・・・凸版
９・・・インキングロール
１０・・・インキ溜まり
１２・・・隔壁
１３・・・第一電極
１４・・・正孔輸送層
１５・・・赤色発光層
１６・・・緑色発光層
１７・・・青色発光層
１８・・・第二電極
１９・・・接着剤
２０・・・ガラスキャップ
２１・・・支持体
２２・・・活性層
２３・・・ゲート絶縁膜
２４・・・ゲート電極
２５・・・トランジスタ絶縁膜
２６・・・ドレイン電極
２７・・・平坦化層
２８・・・コンタクトホール
２９・・・走査線
３０・・・ＴＦＴ
【図１】
0006035807.tif 000003
【図２】
0006035807.tif 000004
【図３】
0006035807.tif 000005
【図４】
0006035807.tif 000006
【図５】
0006035807.tif 000007