(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（２）
【化１９】
0006001267.tif 000019
（式中、Ｒｆは炭素数１以上のペルフルオロ有機基を、ｍ、ｐ、ｑは２以上の整数を、ｎは1以上の整数を表し、Ｒｆはその表示各位において同一である必要はない。）で示される炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。
【請求項２】
ペルフルオロ有機基が炭素数４〜２０のペルフルオロアルキル基、ペルフルオロポリエーテル基、またはペルフルオロエーテル基で、ｎが１、ｍが２、ｐ＝ｑでｐが２〜８である請求項１記載の炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。
【請求項３】
請求項１または２に記載の炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグを利用して化合物をフルオラス溶媒に抽出する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグに関する。より詳しくは、フルオラス鎖を３本有し、フルオラス基と官能基の間が全て炭素−炭素結合構造であり、官能基の隣に少なくとも1つ以上のメチレン基を有する炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグに関する。
【背景技術】
【０００２】
フルオラス合成法は液相合成法でありながら、固相合成法に匹敵する迅速な分離精製手法として、有機合成の分野で注目されている。これはぺルフルオロカーボンが有機溶媒や水に溶解せず、三者が互いに分液できることに着目し、多フッ素化した誘導体のみをペルフルオロカーボン層に抽出させ、化合物の精製を容易にかつ安全に行うという方法である。この手法を用いて種々の化合物を合成するためには、目的の化合物の構造に適した多フッ素化された基を導入する必要がある。
【０００３】
フルオラス合成用のフルオラスタグは、目的物質をフルオラス溶媒中に抽出するために十分な量のフッ素含量が必要であるために、フルオラスタグ分子内に複数本のフルオラス鎖を有している必要がある。このようにフルオラスタグ１分子内に複数本のフルオラス鎖を有しているフルオラスタグは、固相抽出用に用いられるフルオラス鎖１本のフルオラスタグが「ライトフルオラスタグ」と呼ばれるのに対して「ヘビーフルオラスタグ」と呼ばれている。ヘビーフルオラスタグの中でも特にフルオラス鎖を３本有するヘビーフルオラスタグは合成の容易さもあり、多くの報告例がある（非特許文献１−３）。
【０００４】
このような従来型のフルオラス鎖３本を有するヘビーフルオラスタグは主に炭素−ケイ素結合や炭素−酸素−炭素（エーテル結合）骨格で構成されている。しかし炭素−ケイ素結合は塩化アルミニウムのような酸（非特許文献４）やｍ−ＣＰＢＡのような酸化剤存在下（非特許文献５）、または超臨界水中（特許文献１）で容易に切断されることが知られている。また、エーテル結合も三臭化ホウ素などの酸性条件下で容易に切断されることも知られている（非特許文献６）。
【０００５】
従って様々な有機合成反応に適応できるヘビーフルオラスタグとして、フルオラス基とリンカーを導入する官能基の間がすべて炭素−炭素結合で構成される、化学的に非常に安定なヘビーフルオラスタグの開発が求められている。
【０００６】
既に炭素−炭素結合骨格から成る、不斉炭素を有さない３級のヘビーフルオラスアルコールと、それを原料としたヘビーフルオラスタグの合成例が報告されている（非特許文献7）。該文献中で報告されているヘビーフルオラスアルコールはフルオラス鎖３本が同一炭素上に結合している３級アルコールのために水酸基に対する立体障害が非常に大きいことから有機合成に必要な様々なリンカーの導入が非常に困難である。従って該文献中では芳香族への求電子置換反応を用いたベンジル型リンカーの導入によるベンジル型フルオラスタグの応用に限定されている。このように導入できるのがベンジル型リンカーに限定されてしまうと、合成工程で接触水素化還元やバーチ還元等、ベンジル基が脱離する条件を用いることができなくなるばかりでなく、有機合成において汎用性のあるベンジル基を保護基として使用することも制限されてしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−３２３４３６号公報
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Ａ．  Ｓｔｕｄｅｒら、Ｓｃｉｅｎｃｅ  Ｖｏｌ．  ２７５，  ８２３  （１９９７）
【非特許文献２】Ｄ．  Ｐ．  Ｃｕｒｒａｎら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，  Ｖｏｌ．  ３９，  ４９３７  （１９９８）
【非特許文献３】Ｍ．  Ｍｉｚｕｎｏら、Ｊ．  Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｈｅｍ．，  Ｖｏｌ１２９，  ９５５  （２００８）
【非特許文献４】Ｄ．  Ａ．  Ａｒｍｉｔａｇｅ，  Ｉｎ  Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  Ｖｏｌ．  ２，  Ｃｈａｐｔｅｒ  ９．１．，  （１９８２）
【非特許文献５】Ｇ．  Ｒ．  Ｊｏｎｅｓら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  Ｖｏｌ．  ５２，  ７５９９  （１９９６）
【非特許文献６】Ｍ．  Ｄｅｍｕｙｎｃｋら、Ｊ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．，  Ｖｏｌ．  ４４，  ４８６３  （１９７９）
【非特許文献７】Ｙ．  Ｎａｋａｍｕｒａら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  Ｖｏｌ．  ５７，  ５５６５  （２００１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、フルオラス鎖を３本有し、フルオラス基と官能基の間が全て炭素−炭素結合構造で、様々なリンカーを容易に導入できるように官能基の隣に少なくとも1つ以上のメチレン基を有するヘビーフルオラスタグを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を鋭意検討した結果、本発明者らはフルオラス鎖を３本有し、同一炭素上に３本のフルオラス基が炭素−炭素結合で結合しており、しかもフルオラス基と末端の官能基までの間が全て炭素−炭素結合構造であり、官能基の隣に少なくとも1つ以上のメチレン基を有する炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグの合成に成功して、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下の通りである。
＜１＞  一般式（１）
【００１１】
【化１】
0006001267.tif 000002
【００１２】
（式中、Ｒｆは炭素数１以上のペルフルオロ有機基を、Ｙは存在するか存在せず、存在する場合には炭化水素基を、Ｚは官能基を、ｎは1以上の整数を表し、Ｒｆ、Ｙはその表示各位において同一である必要はない。）で示される炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。
＜２＞  Ｙが存在して炭化水素基が飽和炭化水素基である、＜１＞記載の炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。
＜３＞  一般式（２）
【００１３】
【化２】
0006001267.tif 000003
【００１４】
（式中、Ｒｆは炭素数１以上のペルフルオロ有機基を、ｍ、ｐ、ｑは０以上の整数を、ｎは1以上の整数を表し、Ｒｆはその表示各位において同一である必要はない。）で示される炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。
＜４＞  ペルフルオロ有機基が炭素数４〜２０のペルフルオロアルキル基、ペルフルオロポリエーテル基、またはペルフルオロエーテル基で、ｎが１、ｍが２、ｐ＝ｑでｐが２〜８である＜３＞記載の炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。
【００１５】
＜５＞  ＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグより誘導される化合物。
＜６＞  化合物が糖質誘導体である＜５＞記載の化合物。
＜７＞  ＜５＞または＜６＞に記載の炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグより誘導される化合物を利用して化合物をフルオラス溶媒に抽出する方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明で提供される新規な炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグは、既存のヘビーフルオラスタグと比べ化学的に非常に安定であり、かつ既存のヘビーフルオラスタグでは分解してしまう強酸性条件下や酸化反応等でも使用することができるため、反応の種類に制限を受けることなくフルオラス合成法を行うことができることから、工業的にも非常に有用なヘビーフルオラスタグである。
【００１７】
しかも、官能基の隣に少なくとも1つ以上のメチレン基を有するため、フルオラス鎖３本の立体障害を減じることから、有機合成に必要な様々なリンカーを容易に導入できる。
さらに、反応終了後のヘビーフルオラスタグは容易に再生することができ、何度でも再利用が可能であることから、廃棄物削減の観点からも環境に優しく、経済的にも優れたフルオラス合成用のヘビーフルオラスタグを提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグは、フルオラス基と官能基との間がすべて炭素−炭素結合骨格である。
【００１９】
【化３】
0006001267.tif 000004
【００２０】
一般式（１）において、Ｒｆはペルフルオロ有機基である。ここで有機基とは、Ｃ−Ｈ部分を必須とする基をいう。有機基としては、飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有飽和炭化水素基が好ましい。
Ｒｆの炭素数は１以上であって、１〜２０が好ましく、特に４〜１２が好ましい。
Ｒｆの構造は直鎖構造であっても、分岐構造であっても、環構造であっても、または部分的に環構造を有する構造であってもよいが、原料となるペルフルオロ有機化合物の入手のしやすさの点から直鎖構造、または分岐構造であるのが好ましい
Ｒｆの具体例としては次の例が挙げられる。
【００２１】
【化４】
0006001267.tif 000005
【００２２】
一般式（１）において、Ｙは存在するか存在せず、存在する場合には２価の炭化水素基であって、好ましくは飽和炭化水素基であり、特に好ましくはアルキレン基である。
Ｙが炭化水素基である場合の炭素数は、１〜３０が好ましく、特に２〜１２が好ましい。
Ｙが炭化水素基である場合の構造は、直鎖構造であっても、分岐構造であっても、環構造であっても、または部分的に環構造を有する構造であっても、または構造中に直鎖構造や分岐構造や環構造が混在する構造であっても、また環構造が複数連結した構造であってもよいが、原料となる炭化水素化合物の入手のしやすさの点から直鎖構造、または環構造であるのが好ましく、特に直鎖構造が好ましい。
Ｙが炭化水素基である場合の具体例としては、次の例が挙げられる。
【００２３】
【化５】
0006001267.tif 000006
【００２４】
一般式（１）において、Ｚは官能基である。官能基の種類としては水酸基、ペルオキシ基、アルデヒド基、ケトン基、カルボキシル基、アミド基、イミド基、シアノ基、オキシム基、チオール基、スルホニル基、ケテン基、ジイミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、アミノ基、イミノ基、アゾ基、アジド基、ニトロ基などが挙げられるが、水酸基、アルデヒド基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基、アジド基が好ましく、特に水酸基が好ましい。
【００２５】
一般式（１）で表される炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグの合成は、如何なる方法によってもよい。具体的な合成例として、一般式（２）で表される炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグの合成例を示す。すなわち、合成ラジカル開始剤存在下、以下の一般式（３）
【００２６】
【化６】
0006001267.tif 000007
【００２７】
（式中、ｍ、ｐ、ｑは２以上の整数を、ｎは1以上の整数を表し、Ｒｆはその表示各位において同一である必要はない。）で表される、末端に不飽和２重結合を有するオレフィン化合物と、一般式（４）
Ｒｆ−Ｘ    （４）
（式中、Ｒｆは炭素数１以上のペルフルオロ有機基を表し、Ｘはヨウ素または臭素を表す。）で表わされるペルフルオロ有機ハロゲン化物を反応させ、一般式（５）
【００２８】
【化７】
0006001267.tif 000008
【００２９】
（式中、Ｒｆは炭素数１以上のペルフルオロ有機基を、ｍ、ｐ、ｑは２以上の整数を、ｎは1以上の整数を表し、Ｒｆはその表示各位において同一である必要はない。）で表される、目的物質の中間体であるハロゲン付加体が得られる。
【００３０】
本発明において使用されるラジカル開始剤としては、ラジカルを発生させるものであれば特に制限されない。代表的なラジカル開始剤としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物、過酸化ベンゾイル、ジｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド等のペルオキシド化合物、トリメチルボラン、トリエチルボラン等のトリアルキルボランが挙げられる。
ラジカル開始剤の使用量に特に制限はないが、ペルフルオロ有機ハロゲン化物に対して０．０１〜１モル当量が好ましく、さらに好ましくは０．０５〜０．３モル当量が好ましい。
【００３１】
反応は、無溶媒で実施しても、溶媒の存在下に実施してもよい。溶媒を用いる場合は、該反応において不活性な溶媒の１種または２種以上を用いうる。溶媒としては、シクロヘキサン、イソオクタン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロヘプタン、ペルフルオロオクタン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、ペルフルオロ−１，２−ジメチルシクロヘキサン、ペルフルオロデカリン、３Ｍ社のフロリナート（登録商標）シリーズなどのペルフルオアルキル系溶媒、ＤｕＰｏｎｔ社のＫｒｙｔｏｘ（登録商標）シリーズや、ダイキン工業社のデムナム（登録商標）シリーズ、ソルベイソレクシス社のガルデン（登録商標）シリーズなどのペルフルオロポリエーテル系溶媒が用いられる。また用いる溶媒の量に特に制限はない。
【００３２】
反応の圧力は、減圧下、大気圧下、または加圧下のいずれであってもよい。
反応時間には何ら制限はないが、３０分〜７２時間が好ましい。
反応温度は使用するラジカル開始剤がアゾ化合物の場合は、分解してラジカルを発生する温度が好ましいため、アゾ化合物の種類により適宜変更しうるが、４０℃〜２００℃が好ましい。アゾ化合物以外のラジカル開始剤の場合は反応温度には何ら制限はないが、０℃〜２００℃が好ましい。
【００３３】
一般式（５）のハロゲン付加体の脱ハロゲン化を行うことで、目的物である一般式（１）のヘビーフルオラスアルコールが得られる。
脱ハロゲン化の工程としては、還元反応による１工程の反応で一般式（５）から目的物である一般式（１）を得ることもできる。
還元反応としては水素化アルミニウムリチウム、水素化トリブチルスズ、パラジウム（０）などの還元剤を用いる手法、またはニッケルやパラジウム等の金属触媒による接触水素化還元などが挙げられる。
【００３４】
なお、一般式（５）の構造によっては還元反応が進行しにくい場合がある。この場合は塩基処理による脱ハロゲン化を行う。脱ハロゲン化の際にベータ水素脱離が起こるため、一般式（６）
【００３５】
【化８】
0006001267.tif 000009
【００３６】
（式中、式中、Ｒｆは炭素数１以上のペルフルオロ有機基を、ｍ、ｐ、ｑは２以上の整数を、ｎは1以上の整数を表し、Ｒｆはその表示各位において同一である必要はない。）で表されるオレフィン体が生成する。
脱ハロゲン化に用いる塩基としてはルイス塩基でもブレンステッド塩基でもよく、また無機塩基、有機塩基のいずれであっても用いることができる。また塩基の形態は気体、液体、固体のどの形態でもよい。
【００３７】
塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジエチルアミン、ブチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられる。
塩基の使用量に特に制限はないが、一般式（４）のハロゲン付加体に対して３〜２０モル当量が好ましく、さらに好ましくは６〜１０モル当量が好ましい。
この反応における反応温度としては、通常−７８℃〜溶媒の沸点であり、−１０〜６０℃が好ましく、０〜４０℃が特に好ましい。
反応時間には何ら制限はないが、３０分〜７２時間が好ましい。
【００３８】
一般式（６）のオレフィン中間体は還元反応により目的物である一般式（２）を得ることができる。
オレフィン中間体の還元反応としてはニッケルやパラジウム等の金属触媒による接触水素化還元が好ましい。
還元反応における反応温度には何ら制限はないが、０〜４０℃が好ましい。
反応時間には何ら制限はないが、１０分〜４８時間が好ましい。
反応の圧力は、大気圧下、または加圧下のいずれであってもよい。
【００３９】
以上のようにして得られる、本発明化合物である炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグは、例えばリンカーとしてベンジル型リンカーを用いると、ウィリアムソン法によるエーテル化が可能である。更に、接触還元により容易に炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグに再生される。
【実施例】
【００４０】
以下に、本発明を実施例を用いて更に詳細に説明するが、これらの実施例は本発明の具体例を示すもので、本発明を何ら限定するものではない。
【実施例１】
【００４１】
炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグの合成
（１）工程１
アルゴン雰囲気中、テトラヒドロフラン（５ｍＬ）にリチウムジイソプロピルアミド（１．０９Ｍ  テトラヒドロフラン溶液、１３ｍＬ、１４．２ｍｍｏｌ）とヘキサメチルホスホルアミド（２．３ｍＬ，１３．２ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃に冷却した。ここにクロトン酸エチル（１．５ｍＬ，１２．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１ｍＬに溶解させた溶液を加え、−７８℃で１時間攪拌した。さらに５−ブロモペンテン（１．９ｍＬ，１６．１ｍｍｏｌ）を加えたのち、反応温度を室温まで自然昇温させながら一晩攪拌し、得られた溶液を反応溶液Ａとする。
【００４２】
次に、別な反応容器中にアルゴン雰囲気中、テトラヒドロフラン（５ｍＬ）にリチウムジイソプロピルアミド（１．０９Ｍ  テトラヒドロフラン溶液、１３ｍＬ、１４．２ｍｍｏｌ）とヘキサメチルホスホルアミド（２．３ｍＬ，１３．２ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃に冷却した。ここに反応溶液Ａを加え−７８℃で１時間攪拌した。さらに５−ブロモペンテン（１．７ｍＬ，１４．４ｍｍｏｌ）を加えたのち、反応温度を室温まで自然昇温させながら一晩攪拌した。反応温度を０℃にした後、反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させた。反応溶液にｎ−ヘキサンを加えて分配抽出し有機層を分離した後、有機層を２Ｍ  塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１）にて精製し、化合物１を２．０４ｇ（６７％）得た。
【００４３】
【化９】
0006001267.tif 000010
【００４４】
（２）工程２
水素化アルミニウムリチウム（３０９ｍｇ，８．１４ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（１０ｍＬ）に加え反応温度を０℃にした溶液に、実施例１で得られた化合物１（２．０４ｇ，  ８．１４ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル２０ｍＬに溶解させた溶液を加え０℃で攪拌した。２時間後に氷片を加えて反応を停止させた後、さらに３Ｍ  水酸化ナトリウム水溶液を加えた。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝７：１）にて精製し、化合物２を１．６７ｇ（７４％）得た。
【００４５】
【化１０】
0006001267.tif 000011
【００４６】
（３）工程３
工程２で得られた化合物２（１１１ｍｇ，０．５３ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（１ｍＬ）に溶解させ、さらにＣ８Ｆ１７Ｉ（２．４５ｇ，４．４８ｍｍｏｌ）とフロリナート（登録商標）ＦＣ−７２（４ｍＬ）を加えて反応温度を６０℃にし、１Ｍ  トリエチルボラン／ｎ−ヘキサン溶液（０．５ｍＬ）を加えて攪拌した。３時間後と６時間後にそれぞれ１Ｍ  トリエチルボラン／ｎ−ヘキサン溶液（０．５ｍＬ）を加えた。２０時間後に室温まで反応温度を下げた後、溶媒を減圧濃縮し、残渣にＦＣ７２とアセトニトリルを加え、分配抽出後ＦＣ７２層を分離し、溶媒を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製し、化合物３を５５１ｍｇ（５６％）得た。
【００４７】
【化１１】
0006001267.tif 000012
【００４８】
（４）工程４
工程３で得られた化合物３（５５０ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させ、ジアザビシクロウンデセン（０．２７ｍＬ）を加え室温で一晩攪拌した。反応液を濾過して不溶物を除去した後、ろ液に酢酸エチルを加え、有機層を１Ｍ  塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をエタノール（５ｍＬ）−酢酸エチル（５ｍＬ）混合溶媒に溶解させ、水酸化パラジウム／炭素（２６０ｍｇ）と触媒量の酢酸を加え、溶液中に水素ガスをバブリングしながら１８時間攪拌した。反応液を濾過し、ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）にて精製し、化合物４を２６９ｍｇ（６１％）得た。
【００４９】
【化１２】
0006001267.tif 000013
【実施例２】
【００５０】
炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグの安定性の検討
本発明の１級アルコール型の炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグの安定性について、従来のエーテル結合型ヘビーフルオラスタグとの比較実験を行った。１級アルコール型の炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグとしては実施例１で合成した化合物４を、比較例であるエーテル結合型ヘビーフルオラスタグとしては化合物５を用いた。
【００５１】
【化１３】
0006001267.tif 000014
【００５２】
まず、比較例として、化合物５（３５４ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（３．５ｍＬ）に溶解させ、１．０Ｍ  三臭化ホウ素のジクロロメタン溶液（０．７０ｍＬ，０．７０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１７時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製したところ、エーテル結合が１か所切断された化合物６が１３９ｍｇ（５６％）得られた。
【００５３】
【化１４】
0006001267.tif 000015
【００５４】
次に、実施例２として、化合物４（１０２ｍｇ，６９．５μｍｏｌ）を酢酸エチル（１ｍＬ）に溶解させ、三臭化ホウ素の１．０Ｍ  ジクロロメタン溶液（０．２１ｍＬ，０．２１ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製したところ、化合物４がほぼ定量的（１００
ｍｇ、９８％）に回収された。
【００５５】
【化１５】
0006001267.tif 000016
【００５６】
以上の結果から、本発明の炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグは、比較例である従来のエーテル型ヘビーフルオラスタグが分解してしまう反応条件下でも安定であることが明らかとなった。
【実施例３】
【００５７】
炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグを用いた糖鎖合成
化合物４（３１３ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ）、α，α−ジブロモキシレン（２８１ｍｇ，１．０７ｍｍｏｌ）および１５−クラウン−５（０．１３ｍＬ，０．６４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）とノベック（登録商標）ＨＦＥ７１００（０．７５ｍＬ）の混合溶媒に溶解させ、この溶液に水素化ナトリウム（２９ｍｇ，０．６６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌した。反応液に水（０．５ｍｌ）を加え過剰の試薬を分解した後、水（３０ｍｌ）、トルエン（３０ｍＬ）およびペルフルオロカーボン（フロリナート（登録商標）ＦＣ７２）（３０ｍＬ×３）で分配抽出した。ＦＣ７２層に無水硫酸マグネシウムを加え乾燥させた後、乾燥剤を濾別し、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣（３２６ｍｇ）とチオ尿素（１７．８ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）をエタノール（６ｍＬ）に溶解させ、４時間加熱還流した。反応液に０．３５Ｍ  水酸化ナトリウム水溶液（０．９１ｍｌ）を加えさらに２時間加熱還流した。反応液に希硫酸を加えｐＨを２〜３に調製した後、メタノール（２０ｍＬ）とＦＣ−７２（２０ｍＬ×３）で分配抽出し、ＦＣ７２層を減圧濃縮した。得られた残渣（３０４ｍｇ）と２−フタルイミド−２−デオキシ−１，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−Ｄ−グルコース（５０９ｍｇ，１．０７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３ｍＬ）とＨＦＥ７１００（３ｍＬ）の混合溶媒に溶解させ、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．１２ｍＬ，１．０７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２１時間攪拌した。反応液に飽和食塩水を加え、クロロホルムで３回抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧留去した。残渣に９５％メタノール水溶液（２０ｍＬ）を加えＨＦＥ７１００：ＦＣ７２＝２：１のフルオラス混合溶媒（２０ｍＬ×３）で分配抽出した。フルオラス混合溶媒層を分取後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、化合物７を１７５ｍｇ（３工程４１％）得た。
【００５８】
化合物７:  １Ｈ−ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３）：  δ  ＝  １．１２−１．４１  （ｍ，  １２Ｈ），  １．５１−１．６４  （ｍ，  ６Ｈ），  １．８４  （ｓ，  ３Ｈ），  １．８９−２．１０  （ｍ，  ９Ｈ），  ２．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  ３．１１  （ｓ，  ２Ｈ），  ３．７６−３．８０  （ｍ，  １Ｈ），  ４．２７−４．３３（  ｍ，  １Ｈ），  ４．３４−４．６７  （ｍ  ３Ｈ），  ５．１７  （ｔ，  Ｊ  ＝  ８．９  Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．３２  （  ｄ，  Ｊ  ＝  １１．０  Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．７７  （ｔ，  Ｊ  ＝  ８．９  Ｈｚ，  １Ｈ），  ７．１０−７．２４  （ｍ，  ４Ｈ），  ７．７１−７．８７  （ｍ，  ４Ｈ）．
【００５９】
次に、化合物７（１２８ｍｇ，６４．１μｍｏｌ）とメチル＝２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１４９ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下、ジクロロメタン（１ｍＬ）とＨＦＥ７１００（０．５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、モレキュラーシーブス４Ａ（０．２４ｇ）を加え、室温で２時間攪拌した。その後Ｎ−ヨードスクシンイミド（２８．８ｍｇ，１２８μｍｏｌ）およびトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートの０．１Ｍ  ジクロロメタン溶液  （２５６μＬ，２５．６μｍｍｏｌ）を順次加え、室温で２１時間攪拌した。固形物を濾別し、酢酸エチルで洗浄した。濾液は洗液と合わせて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧留去した。残渣に９５％アセトニトリル水溶液（２０ｍＬ）を加えＨＦＥ７１００：ＦＣ７２＝２：１のフルオラス混合溶媒（２０ｍＬ×３）で分配抽出した。有機層を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、目的物質である２糖誘導体の化合物８を１６．９ｍｇ（３０％）得た。一方、フルオラス混合溶媒層を分取後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、化合物９を２７．７ｍｇ（１４％）得た。さらに原料である化合物７を１７５ｍｇ（５６％）回収した。
【００６０】
化合物８：  １Ｈ  ＮＭＲ  （６００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ  ＝  １．８３  （Ｓ，  ３Ｈ），  ２．０３  （Ｓ，  ３Ｈ），  ２．０９  （Ｓ，  ３Ｈ），  ３．１７  （Ｓ，  ３Ｈ），  ３．２３  （ｔ，  Ｊ  ＝  ９．０  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．３８  （ｄｄ，  Ｊ  ＝  ６．２，  ３．５  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６６  （ｄ，  ９．０  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．８１−３．８９  （ｍ，  ２Ｈ），  ４．１０  （ｔ，  Ｊ  ＝  １０．３Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．１７  （ｄｄ，  Ｊ  ＝  ９．６，  ２．１  Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３２  （ｄｄ，  Ｊ  ＝  ７．６，  ４．８  Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３５−４．４２  （ｍ，  ３Ｈ），  ４．５７  （ｄ，  Ｊ  ＝  １２．４  Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．６５  （ｄ，  Ｊ  ＝  １１．０  Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７２  （ｄ，  Ｊ  ＝  １１．７  Ｈｚ  １Ｈ），  ４．８６  （ｄ，  Ｊ  ＝  １１．０  Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．１８  （ｔ，  Ｊ  ＝  １０．３  Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．４３  （ｄ，  Ｊ  ＝  ９．１  Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．７９  （ｔ，  Ｊ  ＝  ９．１  Ｈｚ，  １Ｈ），  ７．００−７．０４  （ｍ，  ２Ｈ），  ７．１９−７．３５  （ｍ，  １５Ｈ），  ７．４６−７．８０  （ｍ，  ２Ｈ）．  
【００６１】
化合物９：  １Ｈ  ＮＭＲ  （６００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ  ＝  １．３１−１．３７  （ｍ，  ２４Ｈ），  １．５０−１．６２  （ｍ，  １２Ｈ），  １．９１−２．０８  （ｍ，  １２Ｈ），  ３．１３  （Ｓ，  ４Ｈ），  ３．６０  （ｓ，  ４Ｈ），  ４．４０  （ｓ，  ４Ｈ），  ７．１１−７．３０  （ｍ，  ８Ｈ）．
【００６２】
【化１６】
0006001267.tif 000017
【実施例４】
【００６３】
炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグの再生
化合物９（２５．５ｍｇ，８０．７μｍｏｌ）をベンゾトリフルオリド（３ｍＬ）に溶解させ、無水酢酸（０．３ｍＬ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．３ｍＬ）を加え、５０℃で３時間攪拌した。反応液に飽和食塩水を加え酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧留去した。残渣をメタノール（２０ｍＬ）とＦＣ−７２）（２０ｍＬ×３）で分配抽出し、ＦＣ−７２層を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（２ｍＬ）とＨＦＥ７１００（２ｍＬ）の混合溶媒に溶解させ、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液（４０μＬ）を加え、室温にて２０時間攪拌した。反応液にＡｍｂｅｒｌｉｔｅ  ＩＲ−１２０（Ｈ＋  ｆｏｒｍ）を加えて中和後、樹脂を濾別し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製し、炭素−炭素結合型ヘビーフルオラスタグ４を２１．９ｍｇ（９０％）得た。
【００６４】
化合物４  ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ  ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ３８Ｈ２７Ｆ５１ＮａＯ５  （Ｍ＋Ｎａ＋）：  １４９１．１、Ｆｏｕｎｄ：  １４９１．１．
【００６５】
【化１７】
0006001267.tif 000018
【産業上の利用可能性】
【００６６】
本発明化合物を用いるフルオラス合成が、医薬や食品添加物、化粧品、液晶、電子材料、高分子材料モノマー、機能性材料、医療材料などのファインケミカルズの製造、ペプチド、糖鎖、核酸などの複雑な天然物やそのアナローグの製造を容易にすることは確実である。また、本発明化合物は化学的に安定な構造を有しており酸化反応や還元反応、ラジカル反応といった工業的に有用な有機合成に広く用いることが可能であり、従って本発明化合物の工業的価値や波及効果は極めて大である。