(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃焼装置により生成された燃焼装置排ガスから水銀酸化後排ガスを生成する水銀酸化装置と、
前記水銀酸化後排ガスから脱硫後排ガスとスラリーとを生成する湿式脱硫装置と、
前記スラリーから石膏と脱硫排水とを生成する分離装置と、
前記脱硫排水を前記燃焼装置に供給する第１脱硫排水供給装置と、
前記脱硫排水を前記湿式脱硫装置に供給する第２脱硫排水供給装置と、
前記スラリーが濾過されることにより生成される濾液に含有されるハロゲンの濃度を測定するハロゲン濃度センサと、
前記脱硫排水が前記湿式脱硫装置に供給される供給量が前記ハロゲン濃度に基づいて変化するように、前記第２脱硫排水供給装置を制御する制御装置と、を備え、
前記燃焼装置は、前記脱硫排水とともに燃料を燃焼させることにより、前記燃焼装置排ガスを生成し、
前記水銀酸化後排ガスは、前記燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンにより酸化された水銀を含有し、前記脱硫排水が混合された吸収液を用いて前記湿式脱硫装置で脱硫され、
前記制御装置は、さらに、前記脱硫排水が前記燃焼装置に供給される供給量が前記ハロゲン濃度に基づいて変化するように、前記第１脱硫排水供給装置を制御する排ガス処理装置。
【請求項２】
前記分離装置は、
前記スラリーを濾過することにより前記濾液と洗浄前石膏とを生成する濾過装置と、
洗浄水を用いて前記洗浄前石膏を洗浄することにより、洗浄排水と前記石膏とを生成する洗浄装置と、
前記洗浄排水と前記濾液とを混合することにより前記脱硫排水を生成する排水容器と、を備え、
前記制御装置は、前記洗浄前石膏の単位量当たりに前記洗浄水が利用される量が前記ハロゲン濃度に基づいて変化するように、前記洗浄装置を制御する請求項１に記載される排ガス処理装置。
【請求項３】
前記水銀酸化装置は、
前記燃焼装置排ガスを脱硝することにより脱硝後排ガスを生成する脱硝装置と、
前記脱硝後排ガスが流れる煙道に前記脱硫排水を供給することにより、ハロゲン塩含有排ガスを生成する無排水化装置と、
前記ハロゲン塩含有排ガスから粉塵を除去することにより、前記水銀酸化後排ガスを生成する集塵装置と、を備え、
前記燃焼装置排ガスに含有される金属水銀は、前記燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンにより前記脱硝装置で酸化され、
前記制御装置は、さらに、前記脱硫排水が前記煙道に供給される供給量が前記ハロゲン濃度に基づいて変化するように、前記無排水化装置を制御する請求項１または請求項２に記載される排ガス処理装置。
【請求項４】
前記脱硫排水にハロゲンを添加するハロゲン供給装置をさらに備え、
前記制御装置は、前記脱硫排水にハロゲンが添加される添加量が前記ハロゲン濃度に基づいて変化するように、前記ハロゲン供給装置を制御する請求項１乃至請求項３のいずれかに記載される排ガス処理装置。
【請求項５】
前記脱硫後排ガスに含有される水銀の濃度を測定する水銀濃度センサをさらに備え、
前記制御装置は、前記水銀濃度にさらに基づいて前記第１脱硫排水供給装置を制御する請求項１乃至請求項４のいずれかに記載される排ガス処理装置。
【請求項６】
前記水銀酸化後排ガスに含有されるハロゲン化水素の濃度を測定するハロゲン化水素濃度センサをさらに備え、
前記制御装置は、前記濃度にさらに基づいて前記第１脱硫排水供給装置を制御する請求項１乃至請求項５のいずれかに記載される排ガス処理装置。
【請求項７】
燃焼装置により生成された燃焼装置排ガスから水銀酸化後排ガスを生成する水銀酸化装置と、
前記水銀酸化後排ガスから脱硫後排ガスとスラリーとを生成する湿式脱硫装置と、
前記スラリーから石膏と脱硫排水とを生成する分離装置と、
前記脱硫排水を前記燃焼装置に供給する第１脱硫排水供給装置と、
前記脱硫排水を前記湿式脱硫装置に供給する第２脱硫排水供給装置と、を備え、
前記燃焼装置は、前記脱硫排水とともに燃料を燃焼させることにより、前記燃焼装置排ガスを生成し、
前記水銀酸化後排ガスは、前記燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンにより酸化された水銀を含有し、前記脱硫排水が混合された吸収液を用いて前記湿式脱硫装置で脱硫される排ガス処理装置を用いて実行される排ガス処理方法であり、
前記スラリーが濾過されることにより生成される濾液にハロゲンが含有されるハロゲン濃度を測定すること、
前記脱硫排水が前記燃焼装置に供給される供給量が前記ハロゲン濃度に基づいて変化するように、前記第１脱硫排水供給装置を制御すること、
前記脱硫排水が前記湿式脱硫装置に供給される供給量が前記ハロゲン濃度に基づいて変化するように、前記第２脱硫排水供給装置を制御すること
を備える排ガス処理方法。
【請求項８】
前記分離装置は、
前記スラリーを濾過することにより前記濾液と洗浄前石膏とを生成する濾過装置と、
洗浄水を用いて前記洗浄前石膏を洗浄することにより、洗浄排水と前記石膏とを生成する洗浄装置と、
前記洗浄排水と前記濾液とを混合することにより前記脱硫排水を生成する排水容器とを備え、
さらに、
前記洗浄前石膏の単位量当たりに前記洗浄水が利用される量が前記ハロゲン濃度に基づいて変化するように、前記洗浄装置を制御すること
を備える請求項７に記載される排ガス処理方法。
【請求項９】
前記水銀酸化装置は、
前記燃焼装置排ガスを脱硝することにより脱硝後排ガスを生成する脱硝装置と、
前記脱硝後排ガスが流れる煙道に前記脱硫排水を供給することにより、ハロゲン塩含有排ガスを生成する無排水化装置と、
前記ハロゲン塩含有排ガスから粉塵を除去することにより、前記水銀酸化後排ガスを生成する集塵装置と、を備え、
前記燃焼装置排ガスに含有される金属水銀は、前記燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンにより前記脱硝装置で酸化され、
さらに、
前記脱硫排水が前記煙道に供給される供給量が前記ハロゲン濃度に基づいて変化するように、前記無排水化装置を制御すること
を備える請求項７または請求項８に記載される排ガス処理方法。
【請求項１０】
前記排ガス処理装置は、前記脱硫排水にハロゲンを添加するハロゲン供給装置をさらに備え、
さらに、
前記脱硫排水にハロゲンが添加される添加量が前記ハロゲン濃度に基づいて変化するように、前記ハロゲン供給装置を制御すること
を備える請求項１１に記載される排ガス処理方法。
【請求項１１】
前記脱硫後排ガスに水銀が含有される水銀濃度を測定することをさらに備え、
前記第１脱硫排水供給装置は、前記水銀濃度にさらに基づいて制御される請求項７乃至請求項１０のいずれかに記載される排ガス処理方法。
【請求項１２】
前記水銀酸化後排ガスに含有されるハロゲン化水素の濃度を測定することをさらに備え、
前記第１脱硫排水供給装置は、前記濃度にさらに基づいて制御される請求項７乃至請求項１１のいずれかに記載される排ガス処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排ガス処理装置および排ガス処理方法に関し、特に、排ガスに含まれる窒素酸化物と水銀とを除去する排ガス処理装置および排ガス処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
脱硝装置と湿式脱硫装置とを用いて排ガスから水銀を除去する排ガス処理装置が知られている。このとき、その脱硝装置は、排ガスに含有される窒素酸化物ＮＯｘを窒素に還元させるとともに、排ガスに含有される塩化水素ＨＣｌを用いて、排ガスに含有される金属水銀を水溶性の水銀に酸化させる。その湿式脱硫装置は、その脱硝された排ガスを脱硫するとともに、その脱硝された排ガスからその酸化された水銀を除去する（特許文献１、特許文献２、特許文献３参照。）。【０００３】
このような排ガス処理装置は、さらに、その湿式脱硫装置が排水する脱硫排水が塩素を含有しているために、その脱硫排水をボイラーの燃料またはボイラーの炉内部に供給することにより、金属水銀を酸化させる塩素を系外から供給する供給量を低減することができ、脱硫排水を系外に排出する排出量を低減することができる。【０００４】
特許文献４には、ボイラーに燃料を供給する経路、ボイラーの炉内部に脱硫排水を直接噴霧する排ガス処理システムが開示されている。【０００５】
特許文献５には、燃焼装置の負荷、使用燃料の種類、排ガスの性状によりあらかじめ算出される吸収液中に吸収される塩素量に応じて吸収液から回収する石膏中の含水率を調整することにより、吸収液中の塩素濃度を所定値以下に抑える湿式排煙脱硫装置が開示されている。【０００６】
特許文献６には、吸収液から生成された石膏スラリーから石膏が分離された母液がその吸収液に合流される排煙脱硫装置が開示されている。【０００７】
特許文献７には、スラリーの上澄み液を塩素ガスあるいは塩化水素ガスに電気分解し、スラリーの塩素濃度を所定の濃度に調整してスラリーを吸収塔に循環する湿式排煙脱硫装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開第２０１０／１４６６７０号
【特許文献２】国際公開第２０１０／１４６６７１号
【特許文献３】国際公開第２０１０／１４６６７２号
【特許文献４】国際公開第２０１１／１０４８４１号
【特許文献５】特開２００２−２２４５３３号公報
【特許文献６】特開平１０−１２８０５５号公報
【特許文献７】特開平０２−２１１２１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このような排ガス処理装置では、排ガスに含まれる水銀を酸化させるのに十分な塩素が脱硝装置に供給されるときに、湿式脱硫装置に排ガスとともに塩化水素が供給され、湿式脱硫装置の吸収液中の塩素の濃度が増加することにより、排ガスを適切に脱硫することできないことがある。【００１０】
本発明の課題は、排ガスを適切に脱硫し、かつ、排ガスから水銀を適切に除去する排ガス処理装置および排ガス処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の態様に係る排ガス処理装置は、水銀酸化装置と湿式脱硫装置と分離装置と第１脱硫排水供給装置と第２脱硫排水供給装置とハロゲン濃度センサと制御装置とを備えている。その水銀酸化装置は、燃焼装置により生成された燃焼装置排ガス中の水銀を酸化する。その湿式脱硫装置は、湿式石灰石膏法を用いた場合、その酸化された水銀を含む排ガスから酸化水銀とともに硫黄酸化物を除去し、石膏スラリーを生成する。その分離装置は、そのスラリーから石膏と脱硫排水とを生成する。その第１脱硫排水供給装置は、その脱硫排水をその燃焼装置に供給する。その第２脱硫排水供給装置は、その脱硫排水をその湿式脱硫装置に供給する。そのハロゲン濃度センサは、そのスラリーが濾過されることにより生成される濾液にハロゲンが含有されるハロゲン濃度を測定する。その制御装置は、その脱硫排水がその湿式脱硫装置に供給される供給量がそのハロゲン濃度に基づいて変化するように、その第２脱硫排水供給装置を制御する。その燃焼装置は、その脱硫排水とともに燃料を燃焼させることにより、その燃焼装置排ガスを生成する。その燃焼装置排ガスは、含有されるハロゲンにより酸化された水銀を含有し、その脱硫排水が混合された吸収液を用いてその湿式脱硫装置で除去される。【００１２】
このような排ガス処理装置は、燃焼装置排ガスに含有される金属水銀をハロゲンにより水銀酸化装置で酸化させることができ、その酸化された水銀を排ガスから湿式脱硫装置で除去することができる。その脱硫排水は、ハロゲンを含有している。このため、このような排ガス処理装置は、脱硫排水を燃焼装置に供給することにより、ハロゲンを水銀酸化装置に供給することができ、系外からハロゲンを水銀酸化装置に別途に供給する供給量を低減することができる。さらに、このような排ガス処理装置は、脱硫排水が湿式脱硫装置に供給される供給量をハロゲン濃度に基づいて変化させることより、湿式脱硫装置の吸収液の中のハロゲンの濃度をより適切に調整することができ、排ガスをより適切に脱硫することができる。【００１３】
前記第１の態様に係る制御装置は、さらに、その脱硫排水がその燃焼装置に供給される供給量がそのハロゲン濃度に基づいて変化するように、その第１脱硫排水供給装置を制御する。【００１４】
このような排ガス処理装置は、脱硫排水が燃焼装置に供給される供給量をハロゲン濃度に基づいて変化させることにより、燃焼装置排ガスの中のハロゲンの濃度を適切に調整することができ、燃焼装置排ガスに含有される金属水銀を適切に酸化させることができ、燃焼装置排ガスから水銀を適切に除去することができる。【００１５】
前記第１の態様に係る分離装置は、そのスラリーを濾過することによりその濾液と洗浄前石膏とを生成する濾過装置と、洗浄水を用いてその洗浄前石膏を洗浄することにより、洗浄排水とその石膏とを生成する洗浄装置と、その洗浄排水とその濾液とを混合することによりその脱硫排水を生成する排水容器とを備えている。その制御装置は、その洗浄前石膏の単位量当たりにその洗浄水が利用される量がそのハロゲン濃度に基づいて変化するように、その洗浄装置を制御する。【００１６】
このような排ガス処理装置は、単位量の洗浄前石膏の洗浄に洗浄水が利用される量をハロゲン濃度に基づいて変化させることにより、石膏とともに系外に排出されるハロゲンの量を制御することができ、系内のハロゲンの量を概ね一定に維持することができる。【００１７】
前記第１の態様に係る水銀酸化装置は、その燃焼装置排ガスを脱硝することにより脱硝後排ガスを生成する脱硝装置と、その脱硝後排ガスが流れる煙道にその脱硫排水を供給することにより、ハロゲン塩含有排ガスを生成する無排水化装置と、そのハロゲン塩含有排ガスから粉塵を除去する集塵装置とを備えている。その燃焼装置排ガスに含有される金属水銀は、その燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンによりその脱硝装置で酸化される。その制御装置は、さらに、その脱硫排水がその煙道に供給される供給量がそのハロゲン濃度に基づいて変化するように、その無排水化装置を制御する。【００１８】
このような排ガス処理装置は、その粉塵とともにハロゲンを系外に排出することができ、その煙道に脱硫排水が供給される供給量をハロゲン濃度に基づいて変化させることにより、ハロゲンが系外に排出される排出量を適切に調整することができ、系内のハロゲンの量を概ね一定に維持することができる。【００１９】
前記第１の態様に係る排ガス処理装置は、その脱硫排水にハロゲンを添加するハロゲン供給装置をさらに備えている。その制御装置は、その脱硫排水にハロゲンが添加される添加量がそのハロゲン濃度に基づいて変化するように、そのハロゲン供給装置を制御する。【００２０】
このような排ガス処理装置は、系内にハロゲンを適切に供給することができ、ハロゲン濃度を概ね一定に維持することができる。【００２１】
前記第１の態様に係る排ガス処理装置は、その脱硫後排ガスに含有される水銀の濃度を測定する水銀濃度センサをさらに備えている。このとき、その制御装置は、その水銀濃度にさらに基づいてその第１脱硫排水供給装置を制御する。
【００２２】
このような排ガス処理装置は、燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンの濃度を変化させることができ、燃焼装置排ガスから水銀をより確実に除去することができる。【００２３】
前記第１の態様に係る排ガス処理装置は、その水銀酸化後排ガスに含有されるハロゲン化水素の濃度を測定する他のハロゲン化水素濃度センサをさらに備えている。このとき、その制御装置は、その濃度にさらに基づいてその第１脱硫排水供給装置を制御する。
【００２４】
このような排ガス処理装置は、燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンの濃度を変化させることができ、燃焼装置排ガスから水銀をより確実に除去することができる。【００２５】
本発明の第２の態様に係る排ガス処理方法は、排ガス処理装置を用いて実行される。その排ガス処理装置は、水銀酸化装置と湿式脱硫装置と分離装置と第１脱硫排水供給装置と第２脱硫排水供給装置とハロゲン濃度センサと制御装置とを備えている。その水銀酸化装置は、燃焼装置により生成された燃焼装置排ガスから酸化された水銀を含有する排ガスを生成する。その湿式脱硫装置は、その排ガスを脱硫し、石膏スラリーを生成する。その分離装置は、そのスラリーから石膏と脱硫排水とを生成する。その第１脱硫排水供給装置は、その脱硫排水をその燃焼装置に供給する。その第２脱硫排水供給装置は、その脱硫排水をその湿式脱硫装置に供給する。その燃焼装置は、その脱硫排水とともに燃料を燃焼させることにより、その燃焼装置排ガスを生成する。その水銀酸化後排ガスは、その燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンにより酸化された水銀を含有し、その脱硫排水が混合された吸収液を用いてその湿式脱硫装置で脱硫される。このとき、本発明による排ガス処理方法は、そのスラリーが濾過されることにより生成される濾液に含有されるハロゲンの濃度を測定すること、その脱硫排水がその湿式脱硫装置に供給される供給量がそのハロゲン濃度に基づいて変化するように、その第２脱硫排水供給装置を制御すること、とを備えている。
【００２６】
このような排ガス処理装置は、燃焼装置排ガスに含有される金属水銀をハロゲンにより水銀酸化装置で酸化させることができ、その酸化された水銀を水銀酸化後排ガスから湿式脱硫装置で除去することができる。その脱硫排水は、ハロゲンを含有している。このため、このような排ガス処理装置は、脱硫排水を燃焼装置に供給することにより、ハロゲンを水銀酸化装置に供給することができ、系外からハロゲンを水銀酸化装置に別途に供給する供給量を低減することができる。このような排ガス処理方法によれば、排ガス処理装置は、脱硫排水が湿式脱硫装置に供給される供給量をハロゲン濃度に基づいて変化させることより、湿式脱硫装置の吸収液の中のハロゲンの濃度をより適切に調整することができ、水銀酸化後排ガスをより適切に脱硫することができる。【００２７】
前記第２の態様に係る排ガス処理方法は、その脱硫排水がその燃焼装置に供給される供給量がそのハロゲン濃度に基づいて変化するように、その第１脱硫排水供給装置を制御することをさらに備えている。【００２８】
このような排ガス処理方法によれば、排ガス処理装置は、脱硫排水が燃焼装置に供給される供給量をハロゲン濃度に基づいて変化させることにより、燃焼装置排ガスの中のハロゲンの濃度を適切に調整することができ、燃焼装置排ガスに含有される金属水銀を適切に酸化させることができ、燃焼装置排ガスから水銀を適切に除去することができる。【００２９】
その分離装置は、そのスラリーを濾過することによりその濾液と洗浄前石膏とを生成する濾過装置と、洗浄水を用いてその洗浄前石膏を洗浄することにより、洗浄排水とその石膏とを生成する洗浄装置と、その洗浄排水とその濾液とを混合することによりその脱硫排水を生成する排水容器とを備えている。このとき、前記第２の態様に係る排ガス処理方法は、さらに、その洗浄前石膏の単位量当たりにその洗浄水が利用される量がそのハロゲン濃度に基づいて変化するように、その洗浄装置を制御することを備えている。【００３０】
このような排ガス処理方法によれば、排ガス処理装置は、単位量の洗浄前石膏の洗浄に洗浄水が利用される量をハロゲン濃度に基づいて変化させることにより、石膏とともに系外に排出されるハロゲンの量を制御することができ、系内のハロゲンの量を概ね一定に維持することができる。【００３１】
その水銀酸化装置は、その燃焼装置排ガスを脱硝することにより脱硝後排ガスを生成する脱硝装置と、その脱硝後排ガスが流れる煙道にその脱硫排水を供給することにより、ハロゲン塩含有排ガスを生成する無排水化装置と、そのハロゲン塩含有排ガスから粉塵を除去する集塵装置とを備えている。その燃焼装置排ガスに含有される金属水銀は、その燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンによりその脱硝装置で酸化される。このとき、前記第２の態様に係る排ガス処理方法は、さらに、その脱硫排水がその煙道に供給される供給量がそのハロゲン濃度に基づいて変化するように、その無排水化装置を制御することを備えている。【００３２】
このような排ガス処理方法によれば、排ガス処理装置は、その粉塵とともにハロゲンを系外に排出することができ、その煙道に脱硫排水が供給される供給量をハロゲン濃度に基づいて変化させることにより、ハロゲンが系外に排出される排出量を適切に調整することができ、系内のハロゲンの量を概ね一定に維持することができる。【００３３】
その排ガス処理装置は、その脱硫排水にハロゲンを添加するハロゲン供給装置をさらに備えている。このとき、前記第２の態様に係る排ガス処理方法は、さらに、その脱硫排水にハロゲンが添加される添加量がそのハロゲン濃度に基づいて変化するように、そのハロゲン供給装置を制御することを備えている。【００３４】
このような排ガス処理方法によれば、排ガス処理装置は、その脱硫排水にハロゲンが添加される添加量をそのハロゲン濃度に基づいて変化させることにより、系内にハロゲンを適切に供給することができ、ハロゲン濃度を概ね一定に維持することができる。【００３５】
前記第２の態様に係る排ガス処理方法は、その脱硫後排ガスに含有される水銀の濃度を測定することをさらに備えている。このとき、その第１脱硫排水供給装置は、その水銀濃度にさらに基づいて制御される。
【００３６】
このような排ガス処理方法は、燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンの濃度を変化させることができ、燃焼装置排ガスから水銀をより確実に除去することができる。【００３７】
前記第２の態様に係る排ガス処理方法は、その水銀酸化後排ガスに含有されるハロゲン化水素の濃度を測定することをさらに備えている。このとき、その第１脱硫排水供給装置は、その濃度にさらに基づいて制御される。
【００３８】
このような排ガス処理方法は、燃焼装置排ガスに含有されるハロゲンの濃度を変化させることができ、燃焼装置排ガスから水銀をより確実に除去することができる。
【発明の効果】
【００３９】
本発明による排ガス処理装置および排ガス処理方法は、脱硫排水に含有されるハロゲンが水銀の酸化に再利用される場合でも、湿式脱硫装置の吸収液の中のハロゲンの濃度をより適切に調整することができ、水銀酸化後排ガスをより適切に脱硫することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明による排ガス処理装置を示す概略構成図である。
【図２】制御装置を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
図面を参照して、本発明による排ガス処理装置の実施の形態が記載される。その排ガス処理装置１０は、図１に示されるように、水銀酸化装置１と湿式脱硫装置２とハロゲン添加装置３と分離装置５と第１脱硫排水供給装置６と第２脱硫排水供給装置７と制御装置８とを備え、ボイラー１１により排気される排ガスを処理することに利用される。
【００４２】
ボイラー１１は、第１脱硫排水供給装置６から供給される脱硫排水が混合された石炭を燃焼させることにより、高圧の水蒸気を生成し、排ガスを排気する。その排ガスは、二酸化炭素ＣＯ２と硫黄酸化物ＳＯｘと窒素酸化物ＮＯｘと金属水銀Ｈｇ０と塩化水素ＨＣｌと粉塵とを含有している。その塩化水素ＨＣｌは、その石炭に含有される塩素から形成され、または、その脱硫排水に含有される塩素から形成されている。その粉塵は、その石炭の燃焼に伴い発生する煤塵を含有している。なお、ボイラー１１は、その石炭が燃焼する雰囲気に第１脱硫排水供給装置６から供給される脱硫排水を噴射することにより、その排ガスに塩化水素を含有させることもできる。このとき、塩化水素ＨＣｌは、その脱硫排水に含まれる塩素がその雰囲気で分解されることにより、生成される。さらに、その石炭は、石炭と異なる他の燃料に置換されることもできる。その燃料としては、重油が例示される。
【００４３】
水銀酸化装置１は、ボイラー１１により排気された排ガスを処理することにより、酸化水銀含有排ガスを生成する。すなわち、水銀酸化装置１は、脱硝装置１４とエアヒータ１５と電気集塵装置１６と無排水化装置１７とを備えている。
【００４４】
脱硝装置１４は、脱硝触媒を備えている。その脱硝触媒は、窒素酸化物ＮＯｘを還元することにより窒素Ｎ２を生成する化学反応を促進させる。その脱硝触媒は、さらに、金属水銀Ｈｇ０を酸化させることにより塩化水銀、酸化水銀ＨｇＯを生成する化学反応を促進させる。脱硝装置１４は、その脱硝触媒を用いてボイラー１１により排気された排ガスを脱硝する。脱硝装置１４により脱硝された排ガスは、二酸化炭素ＣＯ２と硫黄酸化物ＳＯｘと窒素Ｎ２と塩化水銀、酸化水銀Ｈｇ２＋と塩化水素ＨＣｌと粉塵とを含有している。
【００４５】
エアヒータ１５は、脱硝装置１４により脱硝された排ガスを加熱する。
【００４６】
無排水化装置１７は、制御装置８に制御されることにより、分離装置５により分離された脱硫排水を無排水化処理する。すなわち、無排水化装置１７は、脱硫排水供給装置１８と気化装置１９と噴霧装置２０とを備えている。
【００４７】
脱硫排水供給装置１８は、制御装置８に制御されることにより、分離装置５により分離された脱硫排水を気化装置１９と噴霧装置２０とに供給する。
【００４８】
気化装置１９は、熱交換器から形成されている。気化装置１９は、脱硝装置１４により脱硝された排ガスの熱を用いて、脱硫排水供給装置１８から供給された脱硫排水を加熱することにより、脱硫排水を気化させ、その脱硫排水が気化された蒸発残渣を煙道２１に供給する。煙道２１は、エアヒータ１５により加熱された排ガスを電気集塵装置１６に供給する流路を形成している。
【００４９】
噴霧装置２０は、脱硫排水供給装置１８から供給された脱硫排水を煙道２１に噴霧する。煙道２１に噴霧された脱硫排水は、エアヒータ１５により加熱された排ガスにより加熱され、気化する。その脱硫排水が気化された蒸発残渣は、塩化カルシウムＣａＣｌ２を含有している。
【００５０】
電気集塵装置１６は、エアヒータ１５により加熱された排ガスから粉塵を除塵する。電気集塵装置１６により除塵された粉塵は、燃料の燃焼に伴い発生する煤塵を含有し、さらに、無排水化装置１７により無排水化処理された脱硫排水の蒸発残渣に含有される塩化カルシウムＣａＣｌ２を含有している。電気集塵装置１６により除塵された排ガスは、二酸化炭素ＣＯ２と硫黄酸化物ＳＯｘと窒素Ｎ２と塩化水銀、酸化水銀Ｈｇ２＋と塩化水素ＨＣｌとを含有している。電気集塵装置１６により除塵された排ガスは、水銀酸化装置１により生成された酸化水銀含有排ガスに一致している。
【００５１】
湿式脱硫装置２は、貯留槽と吸収剤噴霧スプレーとを備えている。その貯留槽は、スラリーを貯留する。そのスラリーは、吸収液を含有している。その吸収液は、石灰ＣａＯあるいは石灰石ＣａＣＯ3の水溶液から形成されている。その貯留槽は、さらに、第２脱硫排水供給装置７から供給される脱硫排水を、そのスラリーに混合する。その吸収剤噴霧スプレーは、その貯留槽に貯留されるスラリーを噴霧することにより、電気集塵装置１６により除塵された排ガスをそのスラリーに気液接触させ、電気集塵装置１６により除塵された排ガスを脱硫する。その排ガスに気液接触されたスラリーは、その貯留槽に再度貯留される。
【００５２】
湿式脱硫装置２は、電気集塵装置１６により除塵された排ガスをそのスラリーに気液接触させることにより、さらに、その排ガスに含有されている水銀と塩化水素とをそのスラリーに溶解させ、排ガスから水銀と塩化水素とを除去する。このとき、そのスラリーは、湿式脱硫装置２がその排ガスを脱硫することにより、塩化物の濃度が上昇する。湿式脱硫装置２は、そのスラリーの塩化物濃度が上昇することにより、その排ガスを脱硫する性能が劣化することがある。
【００５３】
湿式脱硫装置２は、その脱硫された排ガスを煙突２２に供給することにより、その排ガスを環境に排気する。湿式脱硫装置２は、さらに、その貯留槽に貯留されているスラリーを所定の供給量で分離装置５に供給する。
【００５４】
ハロゲン添加装置３は、制御装置８に制御されることにより、分離装置５に塩化カルシウムＣａＣｌ２を供給する。なお、ハロゲン添加装置３は、塩化カルシウムＣａＣｌ２と異なる他の添加物を分離装置５に供給することもできる。その添加物としては、臭化カルシウムＣａＢｒ２、塩化カルシウムＣａＣｌ２と臭化カルシウムＣａＢｒ２との混合物が例示される。
【００５５】
分離装置５は、湿式脱硫装置２により生成されたスラリーから石膏と脱硫排水とを生成する。すなわち、分離装置５は、ベルトフィルタ２３と洗浄装置２４と排水容器２５とを備えている。
【００５６】
ベルトフィルタ２３は、湿式脱硫装置２から供給されたスラリーを濾過することにより、石膏と濾液とを生成する。その石膏は、硫酸カルシウムＣａＳＯ４から形成され、塩化カルシウムＣａＣｌ２が付着している。その濾液は、塩化カルシウムＣａＣｌ２を含有している。
【００５７】
洗浄装置２４は、制御装置８に制御されることにより、ベルトフィルタ２３により生成された石膏に所定量の洗浄水をかけ、その石膏を洗浄し、洗浄排水を排水する。その洗浄された石膏は、洗浄される前の石膏に比較して、付着している塩化カルシウムＣａＣｌ２の量が小さい。さらに、その洗浄された石膏に付着している塩化カルシウムＣａＣｌ２は、洗浄される前の石膏の単位量当たりに利用される洗浄水の量が大きいほど、小さい。このため、その洗浄排水は、塩化カルシウムＣａＣｌ２を含有している。その洗浄排水が排水される量は、その洗浄水が利用される量が大きいほど、大きい。洗浄装置２４により洗浄された石膏は、分離装置５により生成された石膏に一致している。
【００５８】
排水容器２５は、ベルトフィルタ２３により生成された濾液を貯留する。排水容器２５は、さらに、ハロゲン添加装置３から供給されたＣａＣｌ２と洗浄装置２４から排水される洗浄排水とをその濾液に混合させることにより、脱硫排水を生成する。その脱硫排水が塩素を含有する濃度は、湿式脱硫装置２の吸収液が塩素を含有する濃度より小さい。排水容器２５により生成される脱硫排水は、分離装置５により生成される脱硫排水に一致している。
【００５９】
第１脱硫排水供給装置６は、制御装置８に制御されることにより、分離装置５により生成された脱硫排水をボイラー１１に供給する。
【００６０】
第２脱硫排水供給装置７は、制御装置８に制御されることにより、分離装置５により生成された脱硫排水を湿式脱硫装置２に供給する。
【００６１】
排ガス処理装置１０は、ハロゲン化水素濃度測定装置３１と水銀濃度測定装置３２とハロゲン濃度測定装置３３とをさらに備えている。ハロゲン化水素濃度測定装置３１は、制御装置８に制御されることにより、水銀酸化装置１により生成された酸化水銀含有排ガス、すなわち、電気集塵装置１６により除塵された排ガス中に含有するハロゲン化水素濃度を測定する。水銀濃度測定装置３２は、制御装置８に制御されることにより、湿式脱硫装置２により脱硫された排ガス中に含有する水銀濃度を測定する。ハロゲン濃度測定装置３３は、制御装置８に制御されることにより、ベルトフィルタ２３により生成された濾液中に含有するハロゲン濃度を測定する。
【００６２】
図２は、制御装置８を示している。制御装置８は、コンピュータであり、図示されていないＣＰＵと記憶装置とリムーバルメモリドライブと通信装置とインターフェースとを備えている。そのＣＰＵは、制御装置８にインストールされるコンピュータプログラムを実行して、その記憶装置とリムーバルメモリドライブと通信装置とインターフェースとを制御する。その記憶装置は、そのコンピュータプログラムを記録する。その記憶装置は、さらに、そのＣＰＵにより利用される情報を記録する。そのリムーバルメモリドライブは、コンピュータプログラムが記録されている記録媒体が挿入されたときに、そのコンピュータプログラムを制御装置８にインストールするときに利用される。その通信装置は、通信回線網を介して制御装置８に接続される他のコンピュータからコンピュータプログラムを制御装置８にダウンロードし、そのコンピュータプログラムを制御装置８にインストールするときに利用される。
【００６３】
そのインターフェースは、制御装置８に接続される外部機器により生成される情報をそのＣＰＵに出力し、そのＣＰＵにより生成された情報をその外部機器に出力する。その外部機器は、ハロゲン添加装置３と第１脱硫排水供給装置６と第２脱硫排水供給装置７と無排水化装置１７（脱硫排水供給装置１８）と洗浄装置２４とハロゲン化水素濃度測定装置３１と水銀濃度測定装置３２とハロゲン濃度測定装置３３とを含んでいる。
【００６４】
制御装置８にインストールされるコンピュータプログラムは、制御装置８に複数の機能をそれぞれ実現させるための複数のコンピュータプログラムから形成されている。その複数の機能は、ハロゲン化水素濃度測定部４１と水銀濃度測定部４２とハロゲン濃度測定部４３とハロゲン化水素濃度閾値設定部４４とハロゲン濃度閾値設定部４５と脱硫排水添加量制御部４６と脱硫排水戻り量制御部４７とハロゲン投入量制御部４８と無排水化量制御部４９と洗浄水量制御部５０とを含んでいる。
【００６５】
ハロゲン化水素濃度測定部４１は、水銀酸化装置１により生成された水銀酸化後排ガス、すなわち、電気集塵装置１６により除塵された排ガス中に含有する塩化水素濃度が測定されるように、ハロゲン化水素濃度測定装置３１を制御する。
【００６６】
水銀濃度測定部４２は、湿式脱硫装置２により脱硫された排ガスに含有される水銀の濃度が測定されるように、水銀濃度測定装置３２を制御する。
【００６７】
ハロゲン濃度測定部４３は、ベルトフィルタ２３により生成された濾液に含有される塩素の濃度が測定されるように、ハロゲン濃度測定装置３３を制御する。
【００６８】
ハロゲン化水素濃度閾値設定部４４は、ハロゲン化水素濃度閾値初期値が予め設定され、水銀濃度測定部４２により測定された水銀濃度に基づいて塩化水素濃度閾値を算出する。すなわち、ハロゲン化水素濃度閾値設定部４４は、塩化水素濃度閾値にそのハロゲン化水素濃度閾値初期値が初期的に設定され、水銀濃度測定部４２により測定された水銀濃度が予め設定された水銀濃度閾値より大きいときに、塩化水素濃度閾値を増加させる。
【００６９】
ハロゲン濃度閾値設定部４５は、ハロゲン濃度閾値初期値が予め設定され、ハロゲン化水素濃度測定部４１により測定された塩化水素濃度と水銀濃度測定部４２により測定された水銀濃度とハロゲン化水素濃度閾値設定部４４により算出された塩化水素濃度閾値とに基づいて、塩素濃度閾値を算出する。すなわち、ハロゲン濃度閾値設定部４５は、塩素濃度閾値にそのハロゲン濃度閾値初期値が初期的に設定され、ハロゲン化水素濃度測定部４１により測定された塩化水素濃度がハロゲン化水素濃度閾値設定部４４により算出された塩化水素濃度閾値より大きいときに、塩素濃度閾値を減少させる。ハロゲン濃度閾値設定部４５は、さらに、水銀濃度測定部４２により測定された水銀濃度が予め設定された水銀濃度閾値より大きいときに、塩素濃度閾値を増加させる。
【００７０】
脱硫排水添加量制御部４６は、脱硫排水添加量初期値が予め設定されている。脱硫排水添加量制御部４６は、ハロゲン化水素濃度測定部４１により測定された塩化水素濃度と水銀濃度測定部４２により測定された水銀濃度とハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度とハロゲン化水素濃度閾値設定部４４により算出された塩化水素濃度閾値とハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値とに基づいて第１脱硫排水供給装置６を制御する。すなわち、脱硫排水添加量制御部４６は、分離装置５により生成された脱硫排水がボイラー１１に供給される脱硫排水添加量が脱硫排水添加量初期値に等しくなるように、第１脱硫排水供給装置６を制御する。脱硫排水添加量制御部４６は、さらに、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度がハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値より大きいときに、分離装置５により生成された脱硫排水がボイラー１１に供給される脱硫排水添加量が増加するように、第１脱硫排水供給装置６を制御する。脱硫排水添加量制御部４６は、さらに、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度がハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値より小さいときに、分離装置５により生成された脱硫排水がボイラー１１に供給される脱硫排水添加量が減少するように、第１脱硫排水供給装置６を制御する。
【００７１】
脱硫排水添加量制御部４６は、さらに、ハロゲン化水素濃度測定部４１により測定された塩化水素濃度がハロゲン化水素濃度閾値設定部４４により算出された塩化水素濃度閾値より大きいときに、分離装置５により生成された脱硫排水がボイラー１１に供給される脱硫排水添加量が減少するように、第１脱硫排水供給装置６を制御する。脱硫排水添加量制御部４６は、さらに、水銀濃度測定部４２により測定された水銀濃度が予め設定された水銀濃度閾値より大きいときに、分離装置５により生成された脱硫排水がボイラー１１に供給される脱硫排水添加量が増加するように、第１脱硫排水供給装置６を制御する。
【００７２】
脱硫排水戻り量制御部４７は、脱硫排水添加量初期値が予め設定され、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度とハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値とに基づいて第２脱硫排水供給装置７を制御する。すなわち、脱硫排水戻り量制御部４７は、分離装置５により生成された脱硫排水が湿式脱硫装置２に供給される脱硫排水戻り量が脱硫排水添加量初期値に等しくなるように、第２脱硫排水供給装置７を制御する。脱硫排水戻り量制御部４７は、さらに、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度がハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値より大きいときに、分離装置５により生成された脱硫排水が湿式脱硫装置２に供給される脱硫排水戻り量が減少するように、第２脱硫排水供給装置７を制御する。脱硫排水戻り量制御部４７は、さらに、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度がハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値より小さいときに、分離装置５により生成された脱硫排水が湿式脱硫装置２に供給される脱硫排水戻り量が増加するように、第２脱硫排水供給装置７を制御する。
【００７３】
ハロゲン投入量制御部４８は、ハロゲン投入量初期値が予め設定され、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度とハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値とに基づいてハロゲン添加装置３を制御する。すなわち、ハロゲン投入量制御部４８は、塩化カルシウムＣａＣｌ２が排水容器２５に供給されるハロゲン投入量がハロゲン投入量初期値に等しくなるように、ハロゲン添加装置３を制御する。ハロゲン投入量制御部４８は、さらに、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度がハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値より小さいときに、塩化カルシウムＣａＣｌ２が排水容器２５に供給されるハロゲン投入量が増加するように、ハロゲン添加装置３を制御する。
【００７４】
無排水化量制御部４９は、無排水化量初期値が予め設定され、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度とハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値とに基づいて脱硫排水供給装置１８を制御する。すなわち、無排水化量制御部４９は、分離装置５により生成された脱硫排水が無排水化される無排水化量が無排水化量初期値に等しくなるように、脱硫排水供給装置１８を制御する。無排水化量制御部４９は、さらに、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度がハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値より大きいときに、分離装置５により生成された脱硫排水が無排水化される無排水化量が増加するように、脱硫排水供給装置１８を制御する。
【００７５】
洗浄水量制御部５０は、洗浄水量初期値が予め設定され、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度とハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値とに基づいて洗浄装置２４を制御する。すなわち、洗浄水量制御部５０は、ベルトフィルタ２３により濾過された石膏の洗浄に利用される洗浄水の量が洗浄水量初期値に等しくなるように、洗浄装置２４を制御する。洗浄水量制御部５０は、さらに、ハロゲン濃度測定部４３により測定された塩素濃度がハロゲン濃度閾値設定部４５により算出された塩素濃度閾値より大きいときに、ベルトフィルタ２３により濾過された石膏の洗浄に利用される洗浄水の量が減少するように、洗浄装置２４を制御する。
【００７６】
本発明による排ガス処理方法の実施の形態は、排ガス処理装置１０を用いて制御装置８により実行される。制御装置８は、ボイラー１１から排気される排ガスを排ガス処理装置１０が処理している最中に、まず、第１脱硫排水供給装置６を制御することにより、分離装置５により生成された脱硫排水がボイラー１１に単位時間当たりに供給される脱硫排水添加量初期値に等しくなるように、脱硫排水をボイラー１１に供給する。制御装置８は、第２脱硫排水供給装置７を制御することにより、脱硫排水が湿式脱硫装置２に単位時間当たりに供給される脱硫排水戻り量が脱硫排水添加量初期値に等しくなるように、脱硫排水を湿式脱硫装置２に供給する。制御装置８は、ハロゲン添加装置３を制御することにより、塩化カルシウムＣａＣｌ２が排水容器２５に単位時間当たりに供給されるハロゲン投入量がハロゲン投入量初期値に等しくなるように、塩化カルシウムＣａＣｌ２を排水容器２５に供給する。制御装置８は、無排水化装置１７を制御することにより、分離装置５により生成された脱硫排水が単位時間当たりに無排水化される無排水化量が無排水化量初期値に等しくなるように、脱硫排水を無排水化する。制御装置８は、洗浄装置２４を制御することにより、ベルトフィルタ２３により濾過された石膏の洗浄に単位時間当たりに利用される洗浄水の量が洗浄水量初期値に等しくなるように、石膏を洗浄する。制御装置８は、さらに、塩化水素濃度閾値にハロゲン化水素濃度閾値初期値を設定し、塩素濃度閾値にハロゲン濃度閾値初期値を設定する。
【００７７】
制御装置８は、ハロゲン化水素濃度測定装置３１を制御することにより、電気集塵装置１６により除塵された排ガス中に含有する塩化水素濃度を測定する。制御装置８は、さらに、水銀濃度測定装置３２を制御することにより、湿式脱硫装置２により脱硫された排ガスに含有される水銀の濃度を測定する。制御装置８は、さらに、ハロゲン濃度測定装置３３を制御することにより、ベルトフィルタ２３により生成された濾液に含有される塩素の濃度を測定する。
【００７８】
制御装置８は、水銀濃度測定装置３２により測定された水銀濃度が水銀濃度閾値より大きいときに、塩化水素濃度閾値を増加させ、塩素濃度閾値を増加させる。制御装置８は、ハロゲン化水素濃度測定装置３１により測定された塩化水素濃度が塩化水素濃度閾値より大きいときに、塩素濃度閾値を減少させる。
【００７９】
制御装置８は、ハロゲン濃度測定装置３３により測定された塩素濃度が塩素濃度閾値より大きいときに、第１脱硫排水供給装置６を制御することにより、脱硫排水がボイラー１１に単位時間当たりに供給される脱硫排水添加量を増加させる。制御装置８は、さらに、ハロゲン濃度測定装置３３により測定された塩素濃度が塩素濃度閾値より小さいときに、第１脱硫排水供給装置６を制御することにより、脱硫排水がボイラー１１に単位時間当たりに供給される脱硫排水添加量を減少させる。
【００８０】
制御装置８は、さらに、ハロゲン化水素濃度測定部４１により測定された塩化水素濃度がハロゲン化水素濃度閾値設定部４４により算出された塩化水素濃度閾値より大きいときに、第１脱硫排水供給装置６を制御することにより、脱硫排水がボイラー１１に単位時間当たりに供給される脱硫排水添加量を減少させる。制御装置８は、さらに、水銀濃度測定部４２により測定された水銀濃度が予め設定された水銀濃度閾値より大きいときに、第１脱硫排水供給装置６を制御することにより、脱硫排水がボイラー１１に単位時間当たりに供給される脱硫排水添加量を増加させる。
【００８１】
このような動作によれば、排ガス処理装置１０は、分離装置５により生成された脱硫排水をボイラー１１に供給することにより、ボイラー１１により排気される排ガスに塩化水素を含有させることができる。このため、排ガス処理装置１０は、ボイラー１１により排気される排ガスに含有される水銀を脱硝装置１４で酸化させることができ、ボイラー１１により排気される排ガスから水銀をより適切に除去することができる。排ガス処理装置１０は、分離装置５により生成された脱硫排水をボイラー１１に供給することにより、さらに、脱硫排水と別途に脱硝装置１４に供給されるハロゲンの量を低減することができる。
【００８２】
このような動作によれば、排ガス処理装置１０は、さらに、ボイラー１１に脱硫排水を供給する脱硫排水添加量を増減することにより、ボイラー１１により排気される排ガスに塩化水素が含有される濃度を適切に調整することができる。このため、排ガス処理装置１０は、ボイラー１１により排気される排ガスに含有される金属水銀を適切に酸化させることができ、その排ガスから水銀を適切に除去することができる。
【００８３】
制御装置８は、ハロゲン濃度測定装置３３により測定された塩素濃度が塩素濃度閾値より大きいときに、第２脱硫排水供給装置７を制御することにより、脱硫排水が湿式脱硫装置２に単位時間当たりに供給される脱硫排水戻り量を減少させる。制御装置８は、さらに、ハロゲン濃度測定装置３３により測定された塩素濃度が塩素濃度閾値より小さいときに、第２脱硫排水供給装置７を制御することにより、脱硫排水が湿式脱硫装置２に単位時間当たりに供給される脱硫排水戻り量を増加させる。
【００８４】
このような動作によれば、排ガス処理装置１０は、その脱硫排水が湿式脱硫装置２に供給される脱硫排水戻り量をその脱硫排水の塩素濃度に基づいて増減させることにより、湿式脱硫装置２の吸収液の中の塩素の濃度をより適切に調整することができ、湿式脱硫装置２は、その排ガスをより適切に脱硫することができる。すなわち、このような動作によれば、排ガス処理装置１０は、湿式脱硫装置２の吸収液の中の塩素の濃度を所定の濃度より小さくなるように吸収液を維持することができ、湿式脱硫装置２は、その排ガスをより適切に脱硫することができる。
【００８５】
制御装置８は、ハロゲン濃度測定装置３３により測定された塩素濃度が塩素濃度閾値より小さいときに、ハロゲン添加装置３を制御することにより、塩化カルシウムＣａＣｌ２が排水容器２５に供給されるハロゲン投入量を増加させる。
【００８６】
ベルトフィルタ２３により生成された濾液は、系内の塩素の量が低減したときに、塩素の濃度が低下する。このような動作によれば、排ガス処理装置１０は、系内の塩素の量が低減したときに、系内に塩素を増加させることができる。このため、排ガス処理装置１０は、系内に塩素を増加させることにより、ボイラー１１により排気される排ガスが塩化水素を含有する濃度を増加させることができ、ボイラー１１により排気される排ガスに含有される金属水銀を適切に酸化させることができ、その排ガスから水銀を適切に除去することができる。
【００８７】
制御装置８は、ハロゲン濃度測定装置３３により測定された塩素濃度が塩素濃度閾値より大きいときに、無排水化装置１７を制御することにより、脱硫排水が無排水化される無排水化量を増加させる。
【００８８】
ベルトフィルタ２３により生成された濾液は、系内の塩素の量が増加したときに、塩素の濃度が増加する。このような動作によれば、排ガス処理装置１０は、系内の塩素の量が増加したときに、系内に塩素を減少させることができる。このため、排ガス処理装置１０は、系内に塩素を減少させることにより、湿式脱硫装置２の吸収液の中の塩素の濃度を所定の濃度より小さくなるように吸収液を維持することができ、湿式脱硫装置２は、その排ガスをより適切に脱硫することができる。
【００８９】
制御装置８は、ハロゲン濃度測定装置３３により測定された塩素濃度が塩素濃度閾値より大きいときに、洗浄装置２４を制御することにより、ベルトフィルタ２３により濾過された石膏の洗浄に利用される洗浄水の量を減少させる。
【００９０】
このような動作によれば、排ガス処理装置は、その洗浄水量を増減することにより、その石膏とともに塩素が系外に排出される量を増減させることができる。このため、排ガス処理装置１０は、系内の塩素を増減させることにより、その排ガスから水銀をより適切に除去することができ、その排ガスをより適切に脱硫することができる。たとえば、排ガス処理装置１０は、その洗浄水量を減少させることにより、湿式脱硫装置２の吸収液の中の塩素の濃度を所定の濃度より小さくなるように吸収液を維持することができ、その排ガスをより適切に脱硫することができる。排ガス処理装置１０は、その洗浄水量を増加させることにより、ボイラー１１により排気される排ガスに塩化水素が含有される濃度を増加させることができ、排ガスから水銀を適切に除去することができる。
【００９１】
なお、制御装置８は、その塩化水素濃度と水銀濃度と塩素濃度とに基づく他のアルゴリズムでハロゲン添加装置３と第１脱硫排水供給装置６と第２脱硫排水供給装置７と無排水化装置１７と洗浄装置２４とを制御することもできる。その制御としては、湿式脱硫装置２の吸収液中の塩素濃度が適切になるようにその塩素濃度に基づいてその脱硫排水戻り量が増減するものであり、かつ、系内に塩素が存在する量を所定の範囲に維持するものが適用される。このような制御が適用された排ガス処理装置も、既述の実施の形態における排ガス処理装置１０と同様にして、その排ガスから水銀を適切に除去することができ、その排ガスを適切に脱硫することができる。
【００９２】
なお、排ガス処理装置１０は、分離装置５により生成された脱硫排水がボイラー１１に単位時間当たりに供給される脱硫排水添加量が増減しないように、第１脱硫排水供給装置６を制御することもできる。このような排ガス処理装置は、ボイラー１１に脱硫排水を供給し、かつ、脱硫排水が湿式脱硫装置２に供給される脱硫排水戻り量を増減することにより、既述の実施の形態における排ガス処理装置１０と同様にして、その排ガスから水銀を適切に除去することができ、その排ガスを適切に脱硫することができる。
【００９３】
なお、排ガス処理装置１０は、ベルトフィルタ２３により濾過された石膏の洗浄に単位時間（石膏単位量）当たりに利用される洗浄水の量が増減しないように、洗浄装置２４を制御することもできる。このような排ガス処理装置は、ボイラー１１に脱硫排水を供給し、かつ、脱硫排水が湿式脱硫装置２に供給される脱硫排水戻り量を増減することにより、既述の実施の形態における排ガス処理装置１０と同様にして、その排ガスから水銀を適切に除去することができ、その排ガスを適切に脱硫することができる。
【００９４】
なお、排ガス処理装置１０は、ハロゲン添加装置３を省略することができる。ハロゲン添加装置３が省略された排ガス処理装置は、系内に塩素が十分に存在しているときに適用されることができ、たとえば、塩素を十分に含有している燃料がボイラー１１に供給されるときに好適である。このような排ガス処理装置は、ボイラー１１に脱硫排水を供給し、かつ、脱硫排水が湿式脱硫装置２に供給される脱硫排水戻り量を増減することにより、既述の実施の形態における排ガス処理装置１０と同様にして、その排ガスから水銀を適切に除去することができ、その排ガスを適切に脱硫することができる。
【００９５】
なお、排ガス処理装置１０は、無排水化装置１７を省略することができる。無排水化装置１７が省略された排ガス処理装置は、ボイラー１１に供給される燃料の中の塩素の濃度が極めて小さいときに好適である。このような排ガス処理装置は、ボイラー１１に脱硫排水を供給し、かつ、脱硫排水が湿式脱硫装置２に供給される脱硫排水戻り量を増減することにより、既述の実施の形態における排ガス処理装置１０と同様にして、その排ガスから水銀を適切に除去することができ、その排ガスを適切に脱硫することができる。
【００９６】
なお、ハロゲン化水素濃度測定装置３１により測定される塩化水素濃度は、電気集塵装置１６により除塵された排ガス中のハロゲン化水素濃度に置換されることもできる。ハロゲン濃度測定装置３３により測定される塩素濃度は、ベルトフィルタ２３により生成された濾液中のハロゲン濃度に置換されることもできる。そのハロゲンとしては、フッ素、臭素、ヨウ素が例示される。このような排ガス処理装置も、既述の実施の形態における排ガス処理装置１０と同様にして、その排ガスから水銀を適切に除去することができ、その排ガスを適切に脱硫することができる。
【００９７】
なお、排ガス処理装置１０は、ハロゲン化水素濃度測定装置３１を省略することができる。排ガス処理装置１０は、水銀濃度測定装置３２を省略することができる。このような制御が適用された排ガス処理装置も、湿式脱硫装置２の吸収液中の塩素濃度が適切になるようにその塩素濃度に基づいてその脱硫排水戻り量を増減させ、かつ、系内に塩素が存在する量を所定の範囲に維持させることにより、既述の実施の形態における排ガス処理装置１０と同様にして、その排ガスから水銀を適切に除去することができ、その排ガスを適切に脱硫することができる。
【符号の説明】
【００９８】
１  ：水銀酸化装置
２  ：湿式脱硫装置
３  ：ハロゲン添加装置
５  ：分離装置
６  ：第１脱硫排水供給装置
７  ：第２脱硫排水供給装置
８  ：制御装置
１０：排ガス処理装置
１１：ボイラー
１４：脱硝装置
１５：エアヒータ
１６：電気集塵装置
１７：無排水化装置
１８：脱硫排水供給装置
１９：気化装置
２０：噴霧装置
２１：煙道
２２：煙突
２３：ベルトフィルタ
２４：洗浄装置
３１：ハロゲン化水素濃度測定装置
３２：水銀濃度測定装置
３３：ハロゲン濃度測定装置
【図１】
0005984961.tif 000002
【図２】
0005984961.tif 000003