(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明電極パターンが形成され、前記透明電極パターンが相互に対面する上部導電膜及び下部導電膜で構成された導電膜と、
光の反射防止のため前記導電膜の少なくとも一方の面に形成された複数の反射防止膜と、を含み、
前記複数の反射防止膜は、基底薄膜、第１二酸化チタン薄膜、第１二酸化ケイ素薄膜、第２二酸化チタン薄膜、及び第２二酸化ケイ素薄膜で前記一方の面に順次にコーティングされ、
前記基底薄膜は、一酸化ケイ素及び二酸化ケイ素のうちいずれか一つでコーティングされており、
前記上部導電膜及び前記下部導電膜との間に一定間隔のエアーギャップが形成され維持され、
前記上部導電膜又は前記下部導電膜に形成された複数のエアーギャップの間には外部タッチに反発しやすくなるように前記上部導電膜又は前記下部導電膜に形成されたドットスペーサを含む、
ことを特徴とする、複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜。
【請求項２】
透明電極パターンが形成され、前記透明電極パターンが相互に対面する上部導電膜と下部導電膜で構成された導電膜と、
光の反射防止のため前記導電膜の少なくとも一方の面に形成された複数の反射防止膜と、を含み、
前記複数の反射防止膜は、第１三酸化二アルミニウム薄膜、第１二酸化チタン薄膜、第２三酸化二アルミニウム薄膜、第２二酸化チタン薄膜、及び第３三酸化二アルミニウム薄膜が前記一方の面に順次にコーティングされおり、
前記上部導電膜及び前記下部導電膜との間に一定間隔のエアーギャップが形成され維持され、
前記上部導電膜または前記下部導電膜に形成された複数のエアーギャップの間には外部タッチに反発し易くなるように前記上部導電膜又は前記下部導電膜に形成されたドットスペーサを含む、
ことを特徴とする、複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜。
【請求項３】
前記導電膜は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）薄膜、ＡＴＯ（Ａｎｔｉｍｏｎｙ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）薄膜、及びＡＺＯ（Ａｎｔｉｍｏｎｙ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）薄膜のうちいずれか一つである、請求項１または２に記載の複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜。
【請求項４】
前記のコーティングされた基底薄膜が前記一酸化ケイ素である場合、
前記のコーティングされた基底薄膜の厚さは１１０Å乃至１４０Åであり、
前記のコーティングされた第１二酸化チタン薄膜の厚さは１９０Å乃至２３０Åであり、
前記のコーティングされた第１二酸化ケイ素薄膜の厚さは１３０Å乃至２１０Åであり、
前記のコーティングされた第２二酸化チタン薄膜の厚さは７３０Å乃至８７０Åであり、
前記のコーティングされた第２二酸化ケイ素薄膜の厚さは８９０Å乃至１０１０Åである、
請求項１に記載の複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜。
【請求項５】
前記のコーティングされた基底薄膜が前記二酸化ケイ素である場合、
前記のコーティングされた基底薄膜の厚さは１５９０Å乃至１６７０Åであり、
前記のコーティングされた第１二酸化チタン薄膜の厚さは１３０Å乃至１７０Åであり、
前記のコーティングされた第１二酸化ケイ素薄膜の厚さは３３０Å乃至３８０Åであり、
前記のコーティングされた第２二酸化チタン薄膜の厚さは１１９０Å乃至１２１０Åであり、
前記のコーティングされた第２二酸化ケイ素薄膜の厚さは９６０Å乃至９８０Åである、
請求項１に記載の複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜。
【請求項６】
前記第１三酸化二アルミニウム薄膜の厚さは９７０Å乃至１０３０Åであり、
前記のコーティングされた第１二酸化チタン薄膜の厚さは２２０Å乃至２６０Åであり、
前記のコーティングされた第２三酸化二アルミニウム薄膜の厚さは１９０Å乃至２３０Åであり、
前記のコーティングされた第２二酸化チタン薄膜の厚さは５５０Å乃至６１０Åであり、
前記のコーティングされた第３三酸化二アルミニウム薄膜の厚さは７６０Å乃至８２０Åである、
請求項２に記載の複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜。
【請求項７】
前記のコーティングされた基底薄膜及び前記第１三酸化二アルミニウムの空気に対する相対屈折率は１．４乃至２．１である、請求項１に記載の複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜。
【請求項８】
前記光の波長は４５０ｎｍ乃至６５０ｎｍである、請求項１または２に記載の複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜。
【請求項９】
透明電極パターンが形成され、前記透明電極パターンが相互に対面する上部導電膜及び下部導電膜で構成された導電膜と、
光の反射防止のために前記導電膜の少なくとも一方の面に形成された複数の反射防止膜と、
前記導電膜が下部に形成された前記複数の反射防止膜上に形成された透明粘着フィルムであって、前記導電膜の上部表面に形成された透明粘着フィルムが前記複数の反射防止膜の間に配置されている透明粘着フィルム、または、前記導電膜の上部表面に形成された透明粘着フィルムと、を含み、
前記複数の反射防止膜は、基底薄膜、第１二酸化チタン薄膜、第１二酸化ケイ素薄膜、第２二酸化チタン薄膜及び第２二酸化ケイ素薄膜が前記一方の面に順次にコーティングされており、
前記基底薄膜は、一酸化ケイ素及び二酸化ケイ素のうちいずれか一つでコーティングされたものであるか、
前記複数の反射防止膜は、三酸化二アルミニウム基底薄膜、第１二酸化チタン薄膜、第１三酸化二アルミニウム薄膜、第２二酸化チタン薄膜及び第２三酸化二アルミニウム薄膜が前記一面に順次にコーティングされたものであり、
前記上部導電膜及び前記下部導電膜との間に一定間隔のエアーギャップが形成され維持され、
前記上部導電膜または前記下部導電膜に形成された複数のエアーギャップの間には外部タッチに反発し易くなるように前記上部導電膜または前記下部導電膜に形成されたドットスペーサを含む、
ことを特徴とする、複数の反射防止膜を有する高透過率タッチパネル。
【請求項１０】
前記透明粘着フィルムは、減圧式粘着剤である、請求項９に記載の複数の反射防止膜を有する高透過率タッチパネル。
【請求項１１】
前記複数の反射防止膜、及び前記透明粘着フィルムは、各々複数備えられている、請求項９に記載の複数の反射防止膜を有する高透過率タッチパネル。
【請求項１２】
前記のコーティングされた基底薄膜が前記一酸化ケイ素である場合、
前記のコーティングされた基底薄膜の厚さは１１０Å乃至１４０Åであり、
前記のコーティングされた第１二酸化チタン薄膜の厚さは１９０Å乃至２３０Åであり、
前記のコーティングされた第１二酸化ケイ素薄膜の厚さは１３０Å乃至２１０Åであり、
前記のコーティングされた第２二酸化チタン薄膜の厚さは７３０Å乃至８７０Åであり、
前記のコーティングされた第２二酸化ケイ素薄膜の厚さは８９０Å乃至１０１０Åである、
請求項９に記載の複数の反射防止膜を有する高透過率タッチパネル。
【請求項１３】
前記のコーティングされた基底薄膜が前記二酸化ケイ素である場合、
前記のコーティングされた基底薄膜の厚さは１５９０Å乃至１６７０Åであり、
前記のコーティングされた第１二酸化チタン薄膜の厚さは１３０Å乃至１７０Åであり、
前記のコーティングされた第１二酸化ケイ素薄膜の厚さは３３０Å乃至３８０Åであり、
前記のコーティングされた第２二酸化チタン薄膜の厚さは１１９０Å乃至１２１０Åであり、
前記のコーティングされた第２二酸化ケイ素薄膜の厚さは９６０Å乃至９８０Åである、
請求項９に記載の複数の反射防止膜を有する高透過率タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高透過率導電膜に関し、特に、複数の反射防止膜を形成して反射率を低くして透過率を高めることができる複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜、これを用いたタッチパネル及びそれらの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は、従来のＩＴＯ薄膜及びＩＴＯガラスが形成されたタッチパネルの透過率を表で示した図面である。
【０００３】
ここで、ＩＴＯ薄膜及びＩＴＯガラスが形成されたタッチパネルは、一般にＩＴＯガラスがＩＴＯ薄膜より光透過率（Ｔ％）が高いため、図１に示したような実際の応用範囲の透過率を有することができる。
【０００４】
しかし、ＩＴＯ薄膜の場合、透過率が８５〜８９％の水準であるため、ＩＴＯ薄膜／ＩＴＯ薄膜の組み合わせのタッチパネル構造では、計算上、透過率は８０％に満たず、常用可能な透過率に至らない結果となる。
【０００５】
従って、ＩＴＯ薄膜／ＩＴＯ薄膜の組み合わせのタッチパネル構造でも光透過率が高く、鮮明な画像を得ることができる導電膜及びこれを含んだタッチパネルの必要性が生じる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記のような必要性から案出されたもので、本発明の目的は、導電膜に高屈折率を有する複数の反射防止（ＡＲ：Ａｎｔｉ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ)膜をコーティングして比較的透過率が低いＩＴＯ薄膜の透過率を改善することによって高透過率導電膜、これを用いたタッチパネル及びそれらの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記のような本発明の目的は、透明電極パターンが形成された導電膜と、光の反射防止のために導電膜の少なくとも一方の面に形成された複数の反射防止膜と、を含み、複数の反射防止膜は、基底薄膜、第１二酸化チタン（ＴｉＯ2）薄膜、第１二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）薄膜、第２二酸化チタン薄膜、及び第２二酸化ケイ素薄膜が一方の面に順次にコーティングされたものであり、基底薄膜は、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）及び二酸化ケイ素のうちいずれか一つでコーティングされていることを特徴とする複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜を提供することによって達成できる。
【０００８】
また、透明電極パターンが形成された導電膜と、光の反射防止のために導電膜の少なくとも一方の面に形成された複数の反射防止膜と、を含み、複数の反射防止膜は、第１三酸化二アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3)薄膜、第１二酸化チタン薄膜、第２三酸化二アルミニウム薄膜、第２二酸化チタン薄膜、及び第３三酸化二アルミニウム薄膜が一方の面に順次にコーティングされていることを特徴とする複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜を提供することによって達成できる。
【０００９】
導電膜は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）薄膜、ＡＴＯ（Ａｎｔｉｍｏｎｙ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）薄膜、及びＡＺＯ（Ａｎｔｉｍｏｎｙ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）薄膜のうちいずれか一つであってもよい。
【００１０】
コーティングされた基底薄膜が一酸化ケイ素である場合、コーティングされた基底薄膜の厚さは１１０Å乃至１４０Åであり、コーティングされた第１二酸化チタン薄膜の厚さは１９０Å乃至２３０Åであり、コーティングされた第１二酸化ケイ素薄膜の厚さは１３０Å乃至２１０Åであり、コーティングされた第２二酸化チタン薄膜の厚さは７３０Å乃至８７０Åであり、コーティングされた第２二酸化ケイ素薄膜の厚さは８９０Å乃至１０１０Åであることが好ましい。
【００１１】
また、コーティングされた基底薄膜が二酸化ケイ素である場合、コーティングされた基底薄膜の厚さは１５９０Å乃至１６７０Åであり、コーティングされた第１二酸化チタン薄膜の厚さは１３０Å乃至１７０Åであり、コーティングされた第１二酸化ケイ素薄膜の厚さは３３０Å乃至３８０Åであり、コーティングされた第２二酸化チタン薄膜の厚さは１１９０Å乃至１２１０Åであり、コーティングされた第２二酸化ケイ素薄膜の厚さは９６０Å乃至９８０Åであることが好ましい。
【００１２】
尚、第１三酸化二アルミニウム薄膜の厚さは９７０Å乃至１０３０Åであり、コーティングされた第１二酸化チタン薄膜の厚さは２２０Å乃至２６０Åであり、コーティングされた第２三酸化二アルミニウム薄膜の厚さは１９０Å乃至２３０Åであり、コーティングされた第２二酸化チタン薄膜の厚さは５５０Å乃至６１０Åであり、コーティングされた第３三酸化二アルミニウム薄膜の厚さは７６０Å乃至８２０Åであることが好ましい。
【００１３】
コーティングされた基底薄膜及び第１三酸化二アルミニウムの空気に対する相対屈折率は１．４乃至２．１であることが好ましい。
【００１４】
複数の反射防止膜は、真空蒸着法、スプレー法、及び湿式法のうちのいずれか一つのコーティング法でコーティングされた薄膜であることが好ましい。
【００１５】
光の波長は４５０ｎｍ乃至６５０ｎｍであることが好ましい。
【００１６】
一方、本発明の目的は、透明電極パターンが形成された導電膜と、光の反射防止のため導電膜の少なくとも一方の面に形成された複数の反射防止膜と、複数の反射防止膜を導電膜との間に置いて複数の反射防止膜の上部に形成するか、導電膜を複数の反射防止膜との間に置いて導電膜の上部に形成された透明粘着（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅｓ）フィルムと、を含み、複数の反射防止膜は、基底薄膜、第１二酸化チタン薄膜、第１二酸化ケイ素薄膜、第２二酸化チタン薄膜、及び第２二酸化ケイ素薄膜が一方の面に順次にコーティングされたものであり、基底薄膜は、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、及び三酸化二アルミニウムのうちいずれか一つでコーティングされていることを特徴とする複数の反射防止膜を有する高透過率タッチパネルを提供することによって達成できる。
【００１７】
尚、透明粘着フィルムは、減圧式粘着剤であることが好ましい。
【００１８】
また、導電膜、複数の反射防止膜及び透明粘着フィルムは、各々複数備えられてもよい。
【００１９】
さらに、複数備えられた導電膜は、各々の透明電極パターンが相互に対面する上部導電膜及び下部導電膜を含むことを特徴とする複数の反射防止膜が形成される。
【００２０】
そして、上部導電膜及び下部導電膜との間に一定間隔のエアーギャップが維持されうることを特徴とする複数の反射防止膜が形成される。
【００２１】
また、上部導電膜及び下部導電膜との間に介在して、上部導電膜及び下部導電膜を合着させるスペーサーをさらに含むことを特徴とする複数の反射防止膜が形成される。
【００２２】
さらに、上部導電膜または下部導電膜に形成された複数のドットスペーサーをさらに含むことを特徴とする複数の反射防止膜が形成される。
【００２３】
また、コーティングされた基底薄膜が一酸化ケイ素である場合、コーティングされた基底薄膜の厚さは１１０Å乃至１４０Åであり、コーティングされた第１二酸化チタン薄膜の厚さは１９０Å乃至２３０Åであり、コーティングされた第１二酸化ケイ素薄膜の厚さは１３０Å乃至２１０Åであり、コーティングされた第２二酸化チタン薄膜の厚さは７３０Å乃至８７０Åであり、コーティングされた第２二酸化ケイ素薄膜の厚さは８９０Å乃至１０１０Åであることを特徴とする複数の反射防止膜が形成される。
【００２４】
尚、コーティングされた基底薄膜が二酸化ケイ素である場合、コーティングされた基底薄膜の厚さは１５９０Å乃至１６７０Åであり、コーティングされた第１二酸化チタン薄膜の厚さは１３０Å乃至１７０Åであり、コーティングされた第１二酸化ケイ素薄膜の厚さは３３０Å乃至３８０Åであり、コーティングされた第２二酸化チタン薄膜の厚さは１１９０Å乃至１２１０Åであり、コーティングされた第２二酸化ケイ素薄膜の厚さは９６０Å乃至９８０Åであることを特徴とする複数の反射防止膜が形成される。
【００２５】
一方、本発明の目的は、他のカテゴリーとして、導電膜に透明電極パターンを形成する段階（Ｓ１００）と、複数の反射防止膜を光の反射防止のために導電膜の少なくとも一方の面に形成する段階（Ｓ２００）と、を含み、複数の反射防止膜形成段階（Ｓ２００）は、一酸化ケイ素及び二酸化ケイ素のうちいずれか一つで基底薄膜をコーティングする段階（Ｓ２１０）と、第１二酸化チタン薄膜を基底薄膜上にコーティングする段階（Ｓ２２０）と、第１二酸化ケイ素薄膜を第１二酸化チタン薄膜上にコーティングする段階（Ｓ２３０）と、第２二酸化チタン薄膜を第１二酸化ケイ素薄膜上にコーティングする段階（Ｓ２４０）と、第２二酸化ケイ素薄膜を第２二酸化チタン薄膜上にコーティングする段階（Ｓ２５０）と、を含むことを特徴とする複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の製造方法を提供することによって達成できる。
【００２６】
また、本発明の目的は、導電膜に透明電極パターンを形成する段階（Ｓ３００）と、複数の反射防止膜を光の反射防止のために導電膜の少なくとも一方の面に形成する段階（Ｓ４００）と、透明粘着フィルムを、複数の反射防止膜を導電膜との間に置いて複数の反射防止膜の上部に形成するか、導電膜を複数の反射防止膜との間に置いて導電膜の上部に形成する段階（Ｓ５００）と、を含み、複数の反射防止膜形成段階（Ｓ４００）は、一酸化ケイ素及び二酸化ケイ素のうちいずれか一つで基底薄膜をコーティングする段階（Ｓ４１０）と、第１二酸化チタン薄膜を基底薄膜上にコーティングする段階（Ｓ４２０）と、第１二酸化ケイ素薄膜を第１二酸化チタン薄膜上にコーティングする段階（Ｓ４３０）と、第２二酸化チタン薄膜を第１二酸化ケイ素薄膜上にコーティングする段階（Ｓ４４０）と、第２二酸化ケイ素薄膜を第２薄膜上にコーティングする段階（Ｓ４５０）と、を含むことを特徴とする複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜を用いたタッチパネルの製造方法を提供することによって達成できる。
【発明の効果】
【００２７】
上記のような本発明の一実施形態によると、導電膜に高屈折率または低屈折率を有する複数の反射防止膜をコーティングすることによって、ＩＴＯ薄膜の透過率を改善する効果が得られる。
【００２８】
さらに、ＩＴＯ薄膜／ＩＴＯ薄膜の組み合わせのタッチパネルに適用することによって十分な透過率による鮮明な画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】従来のＩＴＯ薄膜及びＩＴＯガラスが形成されたタッチパネルの透過率を示した図面である。
【図２Ａ】本発明に係る複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の第１実施形態の断面を示した断面図である。
【図２Ｂ】本発明に係る複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の第２実施形態の断面を示した断面図である。
【図２Ｃ】本発明に係る複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の第３実施形態の断面を示した断面図である。
【図３】本発明に係る複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の各実施形態に関する光透過率を示した図面である。
【図４】本発明に係る複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の製造方法の一実施形態を順次に示したフローチャートである。
【図５Ａ】本発明の複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜が形成されたタッチパネルの第１実施形態の断面を示した断面図である。
【図５Ｂ】本発明の複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜が形成されたタッチパネルの第２実施形態の断面を示した断面図である。
【図５Ｃ】本発明の複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜が形成されたタッチパネルの第３実施形態の断面を示した断面図である。
【図６】本発明に係る複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜を利用したタッチパネルの製造方法の一実施形態を順次に示したフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
＜高透過率導電膜＞
図２Ａ乃至図２Ｃは、本発明に係る複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の第１実施形態乃至第３実施形態の断面を示した断面図である。以下、図面を参照して各実施形態について説明する。
【００３１】
＜第１実施形態＞
複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の第１実施形態は、図２Ａに示したように、透明電極パターン１１０が形成された導電膜１０と、導電膜１０上にコーティングされた複数の反射防止膜２０と、を含む。特に、複数の反射防止膜２０は、光の反射防止のために導電膜１０と接する面から順次に形成される第１層薄膜２１０と、第２層薄膜２２０と、第３層薄膜２３０と、第４層薄膜２４０と、第５層薄膜２５０と、を含む。特に、第１実施形態は、透明電極パターン１１０が形成された導電膜１０の前面に複数の反射防止膜２０をコーティングしたものである。
【００３２】
導電膜１０の少なくとも一方の面に形成される複数の反射防止膜２０は、高屈折率のコーティング材と低屈折率のコーティング材を交互に積層して特定の波長帯の光の干渉消滅を誘導することによって反射率を低くして光透過率（Ｔ％）を高める。
【００３３】
導電膜１０は、ＩＴＯ薄膜、ＡＴＯ薄膜、及びＡＺＯ薄膜のうちいずれか一つが用いられ、透明電極パターンは、用いられるタッチパネルのタッチ方式（例えば、静電容量方式または抵抗膜方式）により多様なパターンがエッチング等の工程を介して形成できる。
【００３４】
第１層薄膜２１０は、空気に対する相対屈折率が１．４乃至２．１に該当する基底薄膜であり、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、及び三酸化二アルミニウムでコーティングでき、基底薄膜が一酸化ケイ素または、二酸化ケイ素である場合に、第２層薄膜２２０からは二酸化チタン及び二酸化ケイ素を交互に積層することによって第２層薄膜２２０乃至第５層薄膜２５０をコーティングする。
【００３５】
即ち、第２層薄膜２２０は、第１二酸化チタンでコーティングされ、第３層薄膜２３０は、第１二酸化ケイ素でコーティングされ、第４層薄膜２４０は、第２二酸化チタンでコーティングされ、第５層薄膜２５０は、第２二酸化ケイ素でコーティングされる。ここで、コーティング材に順位（第１及び第２、以下同じ趣旨である）を付したのは、層区分のためであり、コーティング材は同一の材料である。
【００３６】
また、第１層薄膜２１０として、第１三酸化二アルミニウムが用いられる場合には、第２層薄膜２２０からは二酸化チタン及び三酸化二アルミニウムを交互に積層することで、第２層薄膜２２０乃至第５層薄膜２５０をコーティングすることになる。
【００３７】
即ち、第２層薄膜２２０は、第１二酸化チタンでコーティングされ、第３層薄膜２３０は、第２三酸化二アルミニウムでコーティングされ、第４層薄膜２４０は、第２二酸化チタンでコーティングされ、第５層薄膜２５０は、第３三酸化二アルミニウムでコーティングされる。
【００３８】
各々の薄膜層の厚さは、反射防止のための光の波長帯を考慮して決定されるが、ユーザに対する透明性を保障するためのものであるため、反射防止される光の波長帯は、主に可視光線が分布する４５０ｎｍ乃至６５０ｎｍの波長帯に限定される。
【００３９】
透明電極パターン１１０上部とエッチング面１２０上部は、薄膜層の厚さを同じに設定して、同一波長帯の光に対し反射防止を行うことが好ましい。
【００４０】
各々の薄膜層の厚さは実験例に基づいて後述する。
【００４１】
＜第２実施形態＞
複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の第２実施形態は、図２Ｂに示したように、透明電極パターン１１０が形成された導電膜１０と、導電膜１０の透明電極パターン１１０と反対方向にコーティングされた複数の反射防止膜２０と、を含む。
【００４２】
第１実施形態と同様に、複数の反射防止膜２０は、光の反射防止のために導電膜１０と接する面から順次に形成されるが、第１層薄膜２１０、第２層薄膜２２０、第３層薄膜２３０、第４層薄膜２４０、第５層薄膜２５０の順序で構成され、同一層の薄膜に関する図面符号は同一である。
【００４３】
第２実施形態は、複数の反射防止膜２０を透明電極パターン１１０が形成された導電膜１０の裏面に形成したもので、各層薄膜の材質及び各層薄膜の層数、そして後述する各層薄膜の厚さは、第１実施形態と同様である。
【００４４】
＜第３実施形態＞
複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の第３実施形態は、図２Ｃに示したように、前面、裏面共に複数の反射防止膜２０をコーティングすることによって、より反射率を低くして透過率を高める構成である。第３実施形態は、複数の反射防止膜２０を透明電極パターン１１０が形成された導電膜１０の前面及び裏面に形成したもので、各層薄膜の材質及び各層薄膜の数、そして後述する各層薄膜の厚さは、第１、２実施形態と同様である。
【００４５】
＜実施例＞
図３は、本発明に係る複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の各実施形態に対する光透過率を示した図面である。本実施例は、導電膜１０上に透明電極パターン１１０をテストパターンとして形成し、透明電極パターン１１０及びエッチング面１２０が各々３ｃｍ幅を有するように形成した。図３に示したように、下記の表１乃至表６による条件で、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長帯の殆どの光に対して高透過率（Ｔ％）を示していることが分かる。
【００４６】
高透過率導電膜の第１実施形態（導電膜１０の前面コーティングの場合）において、反射防止膜の各層の薄膜の厚さは、導電膜の基底薄膜である第１層薄膜２１０を一酸化ケイ素とした場合において、下記の表１の通りである。ここで、順序は各層薄膜の厚さの変化に基づく実験順序である。
【表１】
0006001533.tif 000002
【００４７】
また、高透過率導電膜の第１実施形態（導電膜１０の前面コーティングの場合）において、反射防止膜の各層の薄膜の厚さは、導電膜の基底薄膜の第１層薄膜２１０を二酸化ケイ素とした場合において、下記の表２の通りである。順序は各層薄膜の厚さの変化に基づく実験順序である。
【表２】
0006001533.tif 000003
【００４８】
そして、高透過率導電膜の第１実施形態（導電膜１０の前面コーティングの場合）において、反射防止膜の各層の薄膜の厚さは、導電膜の基底薄膜の第１層薄膜２１０を三酸化二アルミニウムとした場合において、下記の表３の通りである。順序は各層薄膜の厚さの変化に基づく実験順序である。
【表３】
0006001533.tif 000004
【００４９】
高透過率導電膜の第２実施形態（導電膜１０の裏面コーティングの場合）において、反射防止膜の各層の薄膜の厚さは、導電膜の基底薄膜の第１層薄膜２１０を一酸化ケイ素とした場合において、下記の表４の通りである。順序は各層薄膜の厚さの変化に基づく実験順序である。
【表４】
0006001533.tif 000005
【００５０】
また、高透過率導電膜の第２実施形態（導電膜１０の裏面コーティングの場合）において、反射防止膜の各層の薄膜の厚さは、導電膜の基底薄膜の第１層薄膜２１０を二酸化ケイ素とした場合において、下記の表５の通りである。順序は各層薄膜の厚さの変化に基づく実験順序である。
【表５】
0006001533.tif 000006
【００５１】
そして、高透過率導電膜の第２実施形態（導電膜１０の裏面コーティングの場合）において、反射防止膜の各層の薄膜の厚さは、導電膜の基底薄膜の第１層薄膜２１０を三酸化二アルミニウムとした場合において、下記の表６の通りである。順序は各層薄膜の厚さの変化に基づく実験順序である。
【表６】
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【００５２】
＜高透過率導電膜の製造方法＞
図４は、本発明に係る複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の製造方法の一実施形態を順次に示したフローチャートである。図４を参照すると、まず透明電極パターン１１０を導電膜１０に形成する（Ｓ１００）。
【００５３】
次に、複数の反射防止膜２０を光の反射防止のために導電膜１０の少なくとも一方の面（前面または／及び裏面）に形成することによって（Ｓ２００）、複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜の製造方法が行われる。
【００５４】
但し、複数の反射防止膜２０は、真空蒸着法（スパッタリング法、電子ビーム法）、スプレー法、及び湿式法のうちから選択されたいずれか一つのコーティング方法でコーティングされ、特に真空蒸着法を利用する場合、基板（例えば、ＩＴＯ薄膜）の温度によりコーティング膜の厚さが変わるため注意して行う。
【００５５】
ここで、複数の反射防止膜２０の形成段階（Ｓ２００）は、まず、一酸化ケイ素及び二酸化ケイ素のうちいずれか一つで基底薄膜をコーティングする（Ｓ２１０）。
【００５６】
次に、第１二酸化チタン薄膜を基底薄膜上にコーティングする（Ｓ２２０）。
【００５７】
次に、第１二酸化ケイ素薄膜を第１二酸化チタン薄膜上にコーティングする（Ｓ２３０）。
【００５８】
次に、第２二酸化チタン薄膜を第１二酸化ケイ素薄膜上にコーティングする（Ｓ２４０）。
【００５９】
最後に第２二酸化ケイ素薄膜を第２二酸化チタン薄膜上にコーティングすることによって（Ｓ２５０）、導電膜１０に複数の反射防止膜２０をコーティングする。
【００６０】
＜高透過率タッチパネル＞
図５Ａ乃至図５Ｃは、本発明の複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜が形成されたタッチパネルの第１実施形態乃至第３実施形態の断面を示した断面図である。ここでは、前述した高透過率導電膜の各実施形態のうち一部実施形態だけを利用して製造されたタッチパネルの実施形態を示したため、多様な変形例が可能であることは無論である。即ち、透明粘着フィルム３０が合着される構成は、複数の反射防止膜２０を導電膜１０との間に置いて複数の反射防止膜２０の上部に形成するか、導電膜１０を複数の反射防止膜２０との間に置いて導電膜１０の上部に形成できる。
【００６１】
タッチパネルの第１実施形態の場合、図５Ａに示したように、複数の反射防止膜２０の上部に透明粘着フィルム３０が合着されて、１レイヤーの静電容量方式タッチパネルで構成されてもよい。
【００６２】
もちろん、透明電極パターン１１０は、一方向の軸とこれに直交する方向の軸に形成されてタッチ位置による静電容量変化に基づいて、タッチ位置が分かる。また、透明粘着フィルムは、透明粘着剤であると同時に減圧性粘着剤である。
【００６３】
タッチパネルの第２実施形態の場合、図５Ｂに示したように、一方向の軸とそれに直交する垂直軸で各々の透明電極パターン１１０が導電膜１０上に形成されており、その各々の透明電極パターン１１０の上部で複数の反射防止膜（２１０、２２０、２３０、２４０、２５０）がコーティングされ、透明粘着フィルム３０が合着されて２レイヤーの静電容量方式タッチパネルが構成されてもよい。
【００６４】
タッチパネルの第３実施形態の場合、図５Ｃに示したように、透明電極パターン１１０が形成された導電膜１０が上下でエアーギャップ（Ａ）を置いて対面するように構成して抵抗膜方式のタッチパネルを実現することができる。もちろん、複数の反射防止膜（２１０、２２０、２３０、２４０、２５０）が各々の導電膜１０にコーティングされて光反射防止による高透過率タッチパネルを実現する。
【００６５】
また、透明電極パターン１１０が形成された導電膜１０が、エアーギャップ（Ａ）を維持するように、上部及び下部導電膜１０の間に介在して、上部及び下部導電膜１０を合着させるスペーサー（Ｓ）を含んでもよい。
【００６６】
尚、スペーサー（Ｓ）の細部構成は、銀電極（図示せず）及び両面ＯＣＡ（図示せず）を含んでもよいが、公示された構成であるため、詳しい説明は省略する。
【００６７】
この他にも、導電膜１０に、外部タッチ力によく反発できるように、上部導電膜または、下部導電膜に形成されたドットスペーサー（Ｄ）をさらに追加してもよい。
【００６８】
＜高透過率タッチパネルの製造方法＞
図６は、本発明に係る複数の反射防止膜２０を有する高透過率導電膜を用いたタッチパネル製造方法の一実施形態を順次に示したフローチャートである。図６を参照すると、まず、導電膜１０に透明電極パターン１１０を形成する（Ｓ３００）。
【００６９】
続いて、複数の反射防止膜２０を光の反射防止のため導電膜１０の少なくとも一方の面に形成する（Ｓ４００）。
【００７０】
最後に、透明粘着フィルム３０を、複数の反射防止膜２０を導電膜１０との間に置いて複数の反射防止膜２０の上部に形成するか、導電膜１０を複数の反射防止膜２０との間に置いて導電膜１０の上部に形成することによって（Ｓ５００）、高透過率タッチパネルの製造方法が行われる。
【００７１】
ここで、複数の反射防止膜２０の形成段階（Ｓ４００）は、まず、一酸化ケイ素及び二酸化ケイ素のうちいずれか一つで基底薄膜をコーティングする（Ｓ４１０）。
【００７２】
次に、第１二酸化チタン薄膜を基底薄膜上にコーティングする（Ｓ４２０）。
【００７３】
次に、第１二酸化ケイ素薄膜を第１二酸化チタン薄膜上にコーティングする（Ｓ４３０）。
【００７４】
次に、第２二酸化チタン薄膜を第１二酸化ケイ素薄膜上にコーティングする（Ｓ４４０）。
【００７５】
最後に、第２二酸化ケイ素薄膜を第２二酸化チタン薄膜上にコーティングすることによって（Ｓ４５０）、導電膜１０に複数の反射防止膜２０を形成する。
【００７６】
以上、添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明したが、前述した本発明の技術的構成は、本発明が属する技術分野の当業者が本発明のその技術的思想や必須の特徴を変更せずに、他の具体的な形態で実施できることを理解しなければならない。従って、前述した実施形態は、全ての面で例示的なものであり、限定的なものではないものと理解しなければならない。また、本発明の範囲は、上記詳細な説明よりは後述する特許請求の範囲によって示される。また、特許請求範囲の意味及び範囲、及びそしてその均等物から導かれる全ての変更または、変形された形態が、本発明の範囲に含まれると解釈しなければならない。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明は、ＩＴＯ薄膜の透過率を改善できる導電膜及びタッチパネルを実現することができる。
【図１】
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【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図２ｃ】
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【図３】
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【図４】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図５ｃ】
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【図６】
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