(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(7)：
【化１】
0005984332.tif 000083
の化合物、
から選択される微粉化された不溶性有機UV吸収剤(a)を含んでなる組成物を調製する方法であって、粉砕装置内で、粗い粒子状の不溶性有機UV吸収剤を、以下の群から選択される分散剤：
(b1)  ラウロイル乳酸ナトリウム、および
(b2)  イソステアリン酸イソセチル、および/またはオレイン酸グリコール、
の存在下で粉砕することを含む、該方法。
【請求項２】
得られる微粉化不溶性有機UV吸収剤が、0.01から2.0μｍの範囲の平均粒径d50を有する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
粗い粒子状の不溶性有機UV吸収剤を該吸収剤が微粉化された状態に変換されるまで粉砕装置内で粉砕することによって、微粉化された不溶性有機UV吸収剤を製造する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記粉砕装置が、ジェットミル、ボールミル、振動ミルまたはハンマーミルである、請求項３記載の方法。
【請求項５】
以下の(a)および(b)：
(a)  以下の群：
(b1)  ラウロイル乳酸ナトリウム、および
(b2)  イソステアリン酸イソセチル、および/またはオレイン酸グリコール
から選択される分散剤を含む、0.1〜25重量％の、請求項１で調製された微粉化された不溶性有機UV吸収剤組成物；および、
(b)  化粧品に許容される担体、
を混合することを含む、サンスクリーン組成物の調製方法。
【請求項６】
成分(c)を混合することを更に含み、成分(c)がキサンタンガム、非晶質シリカおよび加工デンプンから選択される、請求項５記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、UV吸収剤の新規製剤を製造するための方法、ならびに、日焼け止め組成物におけるその使用に関するが、この組成物は特に、ヒトの皮膚の保護に有用となるものである。
【背景技術】
【０００２】
地表に到達するUV放射に長期間暴露されると、紅斑を生じ、あるいは日光皮膚疾患となる可能性があり、さらに皮膚癌発生率が上昇し、皮膚の老化が加速される可能性もあることが以前から知られている。
【０００３】
UV放射に対抗することが意図される物質を含有し、その結果、前記の望ましくない皮膚への影響を抑制する、さまざまな日焼け止め製剤が考案されてきた。
【０００４】
日焼け止め製剤のUV防止剤として使用するために、数多くの化合物が提案されたが、特に可溶性有機UV吸収剤および不溶性微粉化無機化合物、中でも酸化亜鉛および二酸化チタンが提示されている。
【０００５】
高比重の不溶性無機化合物、例えば酸化亜鉛および二酸化チタンは、これらを含有する製剤の安定性の低下をもたらす。その上、こうした無機化合物は、光の影響下で有害なラジカルを生じると言われている（「不均一光触媒反応における酸化還元機構（Redox Mechanisms in Heterogeneous Photocatalysis）」、Serponeら、Electrochemistry in Colloids and Dispersions、MackayおよびTexter編、VCH Publishers Inc., NewYork 1992）。
【０００６】
微粉化された不溶性有機UV吸収剤は、日焼け止め製剤に使用されると、優れたUV防止効果を与え、高いSPF等級を有する。その上、微粉化された不溶性有機UV吸収剤は、ヒトの皮膚を傷害する、もしくは過敏にする可能性のあるラジカルを光の影響下で生じる傾向はない。
【発明の概要】
【０００７】
したがって、本発明は、微粉化された不溶性有機UV吸収剤(a)を含んでなる組成物を調製する方法を提供するが、粉砕装置内で、粗い粒子状の不溶性有機UV吸収剤を、以下の群から選択される粉砕助剤(b)の存在下で粉砕することを含む：
(b1)  カルボン酸およびその塩；
(b2)  脂肪酸エステル；
(b3)  リン酸アルキルもしくはリン酸エステル；
(b4)  エトキシ化カルボン酸もしくはポリエチレングリコール(PEG)エステル；
(b5)  脂肪アルコールの脂肪アルコールポリエチレングリコール(PEG)エーテル；
(b6)  飽和もしくは不飽和C4-C28脂肪酸のポリエチレン/ポリプロピレン-グリコールエーテル；
(b7)  エトキシ化アルキルフェノールもしくはエトキシ化アルキルフェニルエーテル；
(b8)  ポリオールのエステルおよびモノ-、ジ-もしくはトリ-グリセリド；
(b9)  脂肪酸とショ糖のエステル；
(b10)  飽和および/もしくは不飽和C6-C22脂肪酸およびエチレンオキシド基のソルビタンモノ-およびジ-エステル；ならびに
(b11)  主として洗剤もしくは洗浄剤として作用する界面活性剤。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
微粉化された不溶性有機UV吸収剤は、下記式(1)の化合物から選択されることが好ましい。
【化１】
0005984332.tif 000002
【０００９】
［式中、
Aは、式(1a)；
【化２】
0005984332.tif 000003
【００１０】
もしくは式(1b)の基であり；
【化３】
0005984332.tif 000004
【００１１】
R1およびR5は、互いに独立して、水素；C1-C18アルキル；もしくはC6-C12アリールであり；
R2、R3およびR4は、互いに独立して、水素；もしくは式(1c)の基であるが、
【化４】
0005984332.tif 000005
【００１２】
このR2、R3およびR4基のうち少なくとも1つは式(1c)の基であって；
R6、R7、R8、R9およびR10は、互いに独立して、水素；ヒドロキシ；ハロゲン；C1-C18アルキル；C1-C18アルコキシ；C6-C12アリール；ビフェニリル；C6-C12アリールオキシ；C1-C18アルキルチオ；カルボキシ；-COOM；C1-C18-アルキルカルボキシル；アミノカルボニル；またはモノ-もしくはジ-C1-C18アルキルアミノ；C1-C10アシルアミノ；-COOHであり；
Mは、アルカリ金属イオンであり；
xは1または2であり；そして
yは2〜10の数である。］
より好ましくは、不溶性UV吸収剤は、下記式(2)の化合物から選択される。
【化５】
0005984332.tif 000006
【００１３】
［式中、R1、R5、R6、R7およびR8は、式(1)と同様に定義されるが、R1およびR5は水素であることが好ましい。］
式(1)および(2)において、好ましくは、R6およびR8は水素であり；そして
R7は、水素；ヒドロキシ；C1-C5アルキル；C1-C5アルコキシ；-COOM；-COOH；またはCOOR10であり；
Mはアルカリ金属イオンであり；そして
R10はC1-C5アルキルである。
【００１４】
本発明の方法において最も好ましいのは、下記式(3)の化合物である。
【化６】
0005984332.tif 000007
【００１５】
さらに、本発明で使用される、微粉化された不溶性UV吸収剤は、下記式(4)の化合物から選択される。
【化７】
0005984332.tif 000008
【００１６】
［式中、
T1はC1-C18アルキルであって、これはフェニルで置換されていてもよいが、より好ましくはC1-C8アルキルである。］
最も好ましいのは、下記の式(5)の微粉化UV吸収剤である。
【化８】
0005984332.tif 000009
【００１７】
さらに、本発明で使用される微粉化不溶性UV吸収剤は、下記式(6)の化合物から選択される。
【化９】
0005984332.tif 000010
【００１８】
［式中、
R11およびR12は、互いに独立して、C1-C20アルキル；C2-C20アルケニル；C3-C10シクロアルキル；C3-C10シクロアルケニルであるか；または、R11およびR12は、結合している窒素原子とともにヘテロ5員環もしくは6員環を形成し；
n1は1〜4の数であり；
n1＝1のとき、
R13は、飽和もしくは不飽和ヘテロ環基；ヒドロキシ-C1-C5アルキル；シクロヘキシル（これは1以上のC1-C5アルキルで置換されていてもよい）；フェニル（これはヘテロ環基、アミノカルボニルもしくはC1-C5アルキルカルボキシで置換されていてもよい）であり；
n1＝2のとき、
R13は、アルキレン、シクロアルキレン、アルケニレンもしくはフェニレン基（これはカルボニルもしくはカルボキシ基で置換されていてもよい）；式 -CH2-C≡C-CH2- の基であるか、またはR13は、A2とともに下記式(1a)の二価基を形成し；
【化１０】
0005984332.tif 000011
【００１９】
［式中、n2は1〜3の数である。］
n1＝3のとき、
R13は、アルカントリイル基であり；
n1＝4のとき、
R13は、アルカンテトライル基であり；
A2は、-O-；もしくは-N(R15)-であり；そして
R15は、水素；C1-C5アルキル；もしくはヒドロキシ-C1-C5アルキルである。］
本発明の方法において、最も好ましいのは、下記式(7)の微粉化不溶性UV吸収剤である。
【化１１】
0005984332.tif 000012
【００２０】
C1-C20アルキルは、直鎖もしくは分岐鎖の、非置換または置換アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、n-ヘキシル、シクロヘキシル、n-デシル、n-ドデシル、n-オクタデシル、エイコシル、メトキシエチル、エトキシプロピル、2-エチルヘキシル、ヒドロキシエチル、クロロプロピル、N,N-ジエチルアミノプロピル、シアノエチル、フェネチル、ベンジル、p-tert-ブチルフェネチル、p-tert-オクチルフェノキシエチル、3-(2,4-ジ-tert-アミルフェノキシ)-プロピル、エトキシカルボニルメチル-2-(2-ヒドロキシエトキシ)エチル、または2-フリルエチルを示す。
【００２１】
C2-C20アルケニルは、例えばアリル、メタリル、イソプロペニル、2-ブテニル、3-ブテニル、イソブテニル、n-ペンタ-2,4-ジエニル、3-メチル-ブタ-2-エニル、n-オクタ-2-エニル、n-ドデカ-2-エニル、イソドデセニル、n-ドデカ-2-エニル、またはn-オクタデカ-4-エニルである。
【００２２】
C3-C10シクロアルキルは、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、またはシクロデシルであるが、好ましくはシクロヘキシルである。これらの基は、例えば1つまたは複数の、同一の、もしくは異なるC1-C4アルキル基、好ましくはメチル、および/またはヒドロキシで置換されていてもよい。シクロアルキル基が、1つもしくは複数の基で置換されている場合、それらは、1、2もしくは4個の、好ましくは1つもしくは2つの、同一の、もしくは異なる基で置換される。
【００２３】
C3-C10シクロアルケニルは、例えばシクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニル、シクロノネニルまたはシクロデセニルであるが、好ましくはシクロヘキセニルである。これらの基は、例えば1つまたは複数の、同一の、もしくは異なるC1-C4アルキル基、好ましくはメチル、および/またはヒドロキシで置換されていてもよい。シクロアルケニル基が、1つもしくは複数の基で置換されている場合、それらは、1、2、3もしくは4個の、好ましくは1つもしくは2つの、同一の、もしくは異なる基で置換されていることが好ましい。
【００２４】
ヒドロキシ置換C1-C5アルキル基は、例えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、もしくはヒドロキシペンチルである。
【００２５】
アルキレン基は好ましくは、C1-C12アルキレン基、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキシレン、またはオクチレンである。
【００２６】
アルキレン基は、場合によって1つもしくは複数のC1-C5アルキル基で置換されていてもよい。
【００２７】
R1およびR2がヘテロ環基である場合、これらは、1、2、3もしくは4個の、同一の、または異なる環員ヘテロ原子を含む。特に好ましいのは、1、2もしくは3個の、特に1もしくは2個の、同一の、または異なるヘテロ原子を含むヘテロ環である。ヘテロ環は単環式もしくは多環式、例えば、単環式、二環式、または三環式とすることができる。ヘテロ環は、好ましくは単環式または二環式であって、特に単環式である。その環は、好ましくは5、6もしくは7個の環員を有する。式(1)または(2)の化合物中に生じる基を誘導することができる、元になる単環式および二環式ヘテロ環系の例は、例えばピロール、フラン、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、1,2,3-トリアゾール、1,2,4-トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピラン、チオピラン、1,4-ジオキサン、1,2-オキサジン、1,3-オキサジン、1,4-オキサジン、インドール、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリンおよびチオモルホリンである。
【００２８】
本発明で使用する難溶性有機化合物は、微粉化された状態で存在し、好ましくは湿式粉砕工程により調製される。
【００２９】
微粉化された難溶性有機化合物を調製するための粉砕装置としては、例えばジェットミル、ボールミル、振動ミル、またはハンマーミルを使用することができるが、高速ミキシングミルが好ましい。さらにもっと好ましいミルは、最新のボールミルである；こうしたタイプのミルの製造業者は、例えばNetzsch (LMZミル)、Drais (DCP-ViscoflowまたはCosmo)、Buhler AG (遠心分離ミル)またはBachhoferである。
【００３０】
本発明で使用する不溶性有機UV吸収剤は、粉砕助剤の存在下で微粉化されることが好ましい。
【００３１】
好ましい有用な粉砕助剤は、分散剤として使用することができる任意の界面活性成分である。こうした界面活性成分は、陰イオン、非イオン、両性、および／もしくは陽イオン界面活性剤、またはそれらの混合物を含み得る。
【００３２】
粉砕助剤は、UV防止組成物の総重量を基準として、0.1〜20重量％、好ましくは1〜15重量％の濃度で使用することが好ましい。
【００３３】
好ましい粉砕助剤は、カルボン酸およびその塩（b1）、例えば直鎖C6-C24脂肪酸（カプリン/カプリル酸、ミリスチン酸、パルミトレイン酸、イソステアリン酸、リノール酸、アラキジン酸、ベヘン酸、エルカ酸）または分岐鎖カルボン酸またはヒドロキシカルボン酸などの有機主成分の石けんである。
【００３４】
最も好ましいのはラウロイル乳酸ナトリウムである。
【００３５】
更なる好ましい粉砕助剤は、脂肪酸エステル（b2）、例えば直鎖C3-C7もしくはC23-C24脂肪アルコールと、アルキル基内に6〜11個の炭素原子もしくは23個以上の炭素原子を有する直鎖脂肪酸とのエステルである。
【００３６】
最も好ましいのは、イソステアリン酸イソセチル、またはオレイン酸グリコールである。
【００３７】
更なる好ましい粉砕助剤（b3）は、リン酸アルキルもしくはリン酸エステル；例えば、オレス-3リン酸DEAである。
【００３８】
更なる好ましい粉砕助剤（b4）は、エトキシ化カルボン酸もしくはポリエチレングリコール（PEG）エステル、例えばPEG-nアシル化物（ただし、ステアリン酸PEG-n、オレイン酸PEG-n、ヤシ油脂肪酸PEG-nを除く）であるが、このカルボン酸は、8〜22個の炭素原子を持つ、エトキシ化された、またはエトキシ化されないアルキル基を有するものであって、例えば、酪酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ミリストレイン酸、パルミチン酸、パルミトレイン酸、リノール酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、エイコサペンタエン酸、エルカ酸、またはドコサヘキサエン酸である。
【００３９】
最も好ましいのは、ラウリン酸PEG-20である。
【００４０】
更なる好ましい粉砕助剤（b5）は、脂肪アルコールの、脂肪アルコールポリエチレングリコール（PEG）エーテルである。
【００４１】
直鎖もしくは分岐鎖脂肪アルコールが8〜22個の炭素原子を有する場合（イソプロピル、エチルヘキシル、カプリル/カプリリル、イソトリデシル、ミリスチル、パルモレイル、イソステアリル、リノイル、リノレニル、アラキジル、ベヘニルもしくはエルシル）。
【００４２】
最も好ましいのは、セテス-10、ラウレス-7、もしくはPEG-10ベヘニルエーテル（ベヘネス-10）である。
【００４３】
更なる好ましい粉砕助剤（b7）は、エトキシ化アルキルフェノールもしくはエトキシ化アルキルフェニルエーテル、例えばPEG-10ノニルフェニルエーテルである。
【００４４】
更なる好ましい粉砕助剤（b8）は、ポリオールのエステルおよびモノ-、ジ-もしくはトリグリセリド、例えばラウリン酸PEG-10ポリグリセリル-2である。
【００４５】
更なる好ましい粉砕助剤（b9）は、脂肪酸とショ糖のエステル、例えばジオレイン酸PEG-120メチルグルコースもしくはジステアリン酸ポリグリセリル-3メチルグルコースである。
【００４６】
更なる好ましい粉砕助剤（b10）は、飽和および／または不飽和脂肪酸のソルビタンモノ-およびジ-エステル、例えばイソステアリン酸PEG-20ソルビタンおよびポリソルベート-80である。
【００４７】
更なる好ましい粉砕助剤（b11）は、一般に洗剤もしくは洗浄剤として作用する界面活性剤である。例を下記に示す。
【００４８】
A. 陰イオン界面活性剤
陰イオン界面活性剤は、負の電荷を帯びた脂肪族基が存在するため、そのように呼ばれる。こうしたイオン化部分は、カルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩もしくはリン酸塩であり得る。
【００４９】
陰イオン界面活性剤の一般式はR X- M+であって、式中
Rは、炭素鎖の長さを規定する；
Xは、負電荷を有する分子種、例えばカルボン酸(RCOO- )、硫酸(ROSO2O- )、スルホン酸(RSO2O- )、もしくはリン酸(ROPO(OH)O- )部分である；
Mは、負電荷を中和する基、例えばナトリウム、アンモニウム、TEAもしくはマグネシウムである。
【００５０】
a. 硫酸エステル；硫酸および塩
最も好ましいのは、ジココイルエチレンジアミンPEG-15硫酸ナトリウムである。
【００５１】
b. スルホン酸エステル；スルホン酸および塩
アシルイセチオン酸塩、例えば、アシルイセチオン酸ナトリウム、ココイルイセチオン酸ナトリウム；アルキルアリールスルホン酸塩、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム；アルキルスルホン酸塩、例えば、アルキルエーテルスルホン酸ナトリウム（C12-15パレス-15スルホン酸ナトリウム）；C14-C16オレフィンスルホン酸ナトリウム、ヒドロキシプロピルスルホン酸ナトリウム／デシルグルコシド、またはヒドロキシプロピルスルホン酸ナトリウム／ラウリルグルコシド。
【００５２】
最も好ましいのはヒドロキシプロピルスルホン酸塩である。
【００５３】
c. スルホコハク酸エステル；スルホコハク酸および塩
最も好ましいのは、スルホコハク酸PEG-nアルキルアミド2ナトリウム（オレアミドMEAスルホコハク酸2ナトリウム）である。
【００５４】
d. リン酸エステル；リン酸および塩
DEAオレス-10リン酸などのPEG-nアルキルリン酸塩、ジラウレス-4リン酸などのジPEG-nアルキルリン酸（ジエステル）。
【００５５】
e. アシルアミノ酸および塩
アシルグルタミン酸塩、例えば、パルミトイルアスパラギン酸2TEA、水添タロウグルタミン酸ナトリウム、ステアロイルグルタミン酸ナトリウム；アシルペプチド、例えば、パルミトイル加水分解乳タンパク、ココイル加水分解ダイズタンパクナトリウム、ココイル加水分解コラーゲンTEA；サルコシン塩もしくはアシルサルコシド、例えば、ミリストイルサルコシン、ラウロイルサルコシンナトリウム、ミリストイルサルコシンナトリウム、ラウロイルサルコシンTEA；タウリン塩およびアシルメチルタウリンナトリウム、例えば、ラウロイルタウリンナトリウム、またはココイルメチルタウリンナトリウム。
【００５６】
B. 非イオン界面活性剤
アミンオキシド
例えば、コカミドプロピルアミンオキシド、もしくはラウラミンオキシドなどである。
【００５７】
C. 両性もしくは双性イオン界面活性剤
強酸性媒体中で正電荷を有し、強塩基性媒体中では負電荷を有し、中間的なpHでは双性イオン種となる界面活性剤。
【００５８】
a. アシル/ジアルキルエチレンジアミン
例としては、アシルアンホジプロピオン酸二ナトリウム、アシルアンホヒドロキシプロピルスルホン酸ナトリウム、アシルアンホ二酢酸二ナトリウム、アシルアンホプロピオン酸ナトリウムがある。
【００５９】
D. 陽イオン界面活性剤
正電荷を有する界面活性剤；コンディショニングおよび静電気防止効果のための主要な興味深いヘアケア。
【００６０】
a. アルキルアミン
ジメチルアルキルアミン（ジメチルラウラミン）、ジヒドロキシエチルアルキルアミン ジオレエート、アシルアミドプロピルジメチルアミンラクテート（コカミドプロピルジメチルアミンラクテート）など。
【００６１】
b. アルキルイミダゾリン
アルキルヒドロキシエチルイミダゾリン、エチルヒドロキシメチルオレイルオキサゾリン、アルキルアミノエチルイミダゾリンなど。
【００６２】
c. 第4級化合物
例えばジアルキルジモニウムクロリド（ヒドロキシエチルセチルジモニウムクロリド）、アルキルアミドプロピルアルキルジモニウムトシレート（コカミドプロピルエチルジモニウムエトサルフェート）などがある。
【００６３】
更なる好ましい粉砕助剤（b12）は、シリコーンもしくは有機置換ポリシロキサン、すなわち本質的に繰り返しの構造単位に基づく、さまざまな分子量の、直鎖もしくは環状の、分岐もしくは架橋構造を有する任意の有機ケイ素ポリマーもしくはオリゴマーであって、ケイ素原子はそれぞれ酸素原子によって連結されており（シロキサン結合SiOSi）、置換可能な炭化水素基は、炭素原子を介して直接ケイ素原子に結合されている。
【００６４】
D. ケイ素含有化合物
a. シラノール化合物もしくはジメチコノール
下記一般式を有する、末端がヒドロキシ基（-OH）のジメチルシロキサン。
【化１２】
0005984332.tif 000013
【００６５】
b. シリコーンエラストマーおよび樹脂
ジメチコンなどのシロキサン構造の架橋結合。
【００６６】
エラストマー：分子の伸長/変形を可能にする密度を持つ、中程度の架橋結合。PEP-修飾ジメチコンクロスポリマーは除外すべきである。
【００６７】
樹脂：分子にある程度の堅さを与える密度を持つ、高度の架橋結合。
【００６８】
c. 補助乳化剤系としてのシリコーンエラストマー
シクロペンタシロキサン中のジメチコンクロスポリマー；DC 9045シリコーンエラストマーブレンド（Dow Corning）；ジメチコン中のジメチコンクロスポリマー；DC 9041シリコーンエラストマーブレンド（Dow Corning）；C3-C20アルキル基と架橋結合したジメチコン（q.v.）のポリマー
ジメチコン/ビニルジメチコンクロスポリマー；DC 9506粉末（Dow Corning）；シクロペンタシロキサン中のジメチコン/ビニルジメチコン クロスポリマー；SFE 839 (GE Silicones) またはKSG 15(Shin-Etsu)；ビニルジメチルポリシロキサンと架橋結合したジメチルポリシロキサンのコポリマー。
【００６９】
d. シリコーン樹脂
例としては、分散剤、例えば、KP-545 (Shin-Etsu)；シクロペンタシロキサン中の（アクリレーツ/ジメチコン コポリマー；アクリル酸、メタクリル酸もしくはそれらの単純エステルのうち1つの1種以上のモノマーおよびジメチコンのコポリマー；シロキシシリケート、例えばトリメチルシロキシシリケート；T樹脂；T単位の分岐ポリマー；Q樹脂；Q単位の分岐ポリマー：
【化１３】
0005984332.tif 000014
【００７０】
被膜形成剤および耐水化剤、例えば、トリメチルシロキシシリケート；SR 399 (GE Silicones) またはWacker-Belsil TMS803 (Wacker Chemie)；Dow Corningから発売されている混合物、例えば、DC 749 cosmetic fluid (シクロペンタシロキサン中のトリメチルシロキシシリケート) またはDC 593 fluid (ジメチコン中のトリメチルシロキシシリケート)；アルキル修飾シロキサン（AMS) がある：AMSは、拡散性および洗い流しにくさを改善する。
【００７１】
無機の日焼け止め剤に用いると、それは粒子の分散性を改善して再凝集を減少させ、肌への長時間持続する効果を向上させる。
【００７２】
下記一般式のアルキルジメチコン。
【化１４】
0005984332.tif 000015
【００７３】
［式中、Rは、-(CH2)n-CH3である。］
例えばビス-フェニルプロピルジメチコン（SF 1555 fluid; GE Silicone）。
【００７４】
下記一般式のアルキルメチコン。
【化１５】
0005984332.tif 000016
【００７５】
［式中、Rは、-(CH2)n-CH3である。］
シリコーンワックス、例えばDC 2503 化粧品用ワックス (Dow Corning)；ステアリルジメチコン；DC 2502 fluid (Dow Corning)；セチルジメチコン；DC AMS-C30 wax (Dow Corning)；C30-C45アルキルメチコン；DC 580 wax (Dow Corning)；ステアロキシトリメチルシランおよびステアリルアルコール。
【００７６】
シメチコンも好適であるが、これは、ジメチルシロキサン単位が200〜300の平均鎖長を有するジメチコンと水素化シリケートの混合物である。さらに、好適な揮発性シリコーンに関するToddらによる詳細な概説を、Cosm. Toil. 91, 27 (1976)に見いだすことができる。
【００７７】
こうしたタイプのエマルションに特に適したシリコーン乳化剤は、下記式に当てはまるものである。
【化１６】
0005984332.tif 000017
【００７８】
［式中、
mは、1〜20の数であり；
nは、0〜500の数であり；そして
pは、0〜50の数であり；
R1は、直鎖もしくは分岐鎖のC1-C30アルキル基またはフェニル基であり；
R2は、-CcH2c(-O-C2H4)a-(-O-C3H6)b-(-O-C4H8)d-R3であり；
R3は、H、-OH；直鎖もしくは分岐鎖C1-C12アルキル、直鎖もしくは分岐鎖C1- C6アルコキシ、または直鎖もしくは分岐鎖C2-C12アシルオキシ；-NHCH2CH2COOM；アミノアルキル基（アミン官能基に置換基が付いていてもよい）；-NHCO(CH2)d-COOM、C1-C30カルボキシアシル基であり；
Mは、H；Na；K；Li；NH4；または有機アミン（これはホスホノ基で置換されていてもよい）；-NHCO(CH2)d OH；NH3Yであり；
Yは、1価の有機もしくは無機アニオン、例えばCl、Br、硫酸、カルボン酸（酢酸、乳酸、クエン酸）であり；
aは、0〜100の数であり；
cは、0〜5の数であり；
bは、0〜50の数であり；そして
dは、0〜10の数である。］
上記化合物は、オキシアルキレン基の付いた有機修飾シリコーンに相当する。他の命名法を使用すると、PEG/PPGジメチコン（ジメチコン コポリオール）またはシリコーンポリエーテルとなるが、これは乳化に必要な界面活性特性を明確に示している。
【００７９】
特に推奨される好ましいシリコーン乳化剤は、下記式に当てはまるものである。
【化１７】
0005984332.tif 000018
【００８０】
［式中、
Rは、直鎖もしくは分岐鎖C1-C30アルキル基またはフェニル基であり；
R2は、-CcH2c-(-O-C2H4)a-(-O-C3H6)b-O(-C4H8)d -R3であり；
nは、1〜500の数であり；そして
R3、a、b、cおよびdは、上記と同じ意味を有する。］
最も好ましいのはジメチコンPEG/PPG - 7/4リン酸である。
【００８１】
UV防止組成物を長期間にわたって安定化するのに役立つレオロジー改質剤（成分(c)）は、場合によって当該組成物に追加する。
【００８２】
レオロジー改質剤の例は、下記の表に記載されるように、陰イオン性、陽イオン性、非イオン性もしくは両性といったそれらのイオン特性にもよるが、合成ポリマー、天然ポリマーおよびそれらの誘導体、無機ポリマーなどである。
【表１】
0005984332.tif 000019
【表２】
0005984332.tif 000020
【００８３】
0005984332.tif 000021
【００８４】
最も好ましいレオロジー改質剤(c)は、キサンタンガム、非晶質シリカ、または加工デンプンである。
【００８５】
微粒子の調製に適した任意の既知の製造工程を用いて、微粉化UV吸収剤を調製することができ、例えば：
-湿式粉砕（ポンプを使用できる分散系向きの低粘度微粉化プロセス）、これは堅い粉砕媒体（例えばボールミル内ではケイ酸ジルコニウムボール）、ならびに、水もしくは適当な有機溶媒中で、保護界面活性剤もしくは保護ポリマーを使用する；
-湿式混練（ポンプを使用できないペースト向きの高粘度微粉化プロセス）、これは連続式もしくは非連続式（バッチ式）混練機を使用する。湿式混練プロセス用には、溶媒(水もしくは化粧品に許容される油)、粉砕助剤（界面活性剤、乳化剤）およびポリマー粉砕助剤を使用することができる。
【００８６】
２つのプロセスはいずれも、好ましく使用することができる。
【００８７】
-好適な溶媒、例えば、水性懸濁液もしくは有機溶媒含有懸濁液、または水、エタノール、ジクロロエタン、トルエンもしくはN-メチルピロリドンなどに溶解した真溶液からの噴霧乾燥；
-1種以上のUVフィルターが溶解した超臨界流体（例えばCO2）のRESSプロセス（Rapid Expansion of Supercritical Solutions（超臨界溶液の急速膨張法））による膨張、または好適な有機溶媒に溶解した1種以上のUVフィルターの溶液と合わせた液体二酸化炭素の膨張；
-超臨界流体を含む好適な溶媒からの再沈殿（GASRプロセス＝Gas Anti-Solvent Recrystallisation（ガス貧溶媒化再結晶法） / PCA プロセス＝Precipitation with Compressed Anti-solvents（圧縮貧溶媒化析出法））。
【００８８】
微粉化有機UV吸収剤を調製するための粉砕装置として、例えばジェットミル、ボールミル、振動ミル、またはハンマーミルを使用することができるが、高速ミキシングミルが好ましい。さらにもっと好ましいミルは、最新のボールミルである；こうしたタイプのミルの製造業者は、例えばNetzsch (LMZミル)、Drais (DCP-ViscoflowまたはCosmo)、Buhler AG (遠心分離ミル)またはBachhoferである。粉砕は、粉砕助剤を用いて行うことが好ましい。
【００８９】
微粉化有機UV吸収剤を調製するための混練機の例は、典型的なシグマブレード（sigma-blade）バッチニーダーであるが、連続バッチニーダー（IKA-Werke）または連続式ニーダー（Continua、Werner und Pfleiderer製）もある。
【００９０】
微粉化UV防止分散系を調製する好ましい例
微粉化されたUV防止分散系の例のそれぞれについて、製造工程は下記のように実施される；
式(7)、(5)もしくは(3)の化合物は、それぞれ、粉砕助剤であるケイ酸ジルコニウムボール（直径0.1〜4 mm）、分散剤（例A1〜A19に記載）、および連続相（水、ポリオールおよび防腐剤系を含む）とともに、平均粒径d50が100nm〜170nmとなるまで（上記のように）ボールミル内で粉砕する。式(7)、(5)もしくは(3)のUV吸収剤の微粒子顔料分散系が得られた後、例A1からA19に記載の濃度に従って増粘剤を組み入れる。
【００９１】
0005984332.tif 000022
【００９２】
0005984332.tif 000023
【００９３】
0005984332.tif 000024
【００９４】
0005984332.tif 000025
【００９５】
0005984332.tif 000026
【００９６】
0005984332.tif 000027
【００９７】
0005984332.tif 000028
【００９８】
0005984332.tif 000029
【００９９】
0005984332.tif 000030
【０１００】
0005984332.tif 000031
【０１０１】
0005984332.tif 000032
【０１０２】
0005984332.tif 000033
【０１０３】
0005984332.tif 000034
【０１０４】
0005984332.tif 000035
【０１０５】
0005984332.tif 000036
【０１０６】
0005984332.tif 000037
【０１０７】
0005984332.tif 000038
【０１０８】
0005984332.tif 000039
【０１０９】
0005984332.tif 000040
【０１１０】
微粉化されたUV防止分散系の、他の好ましい調製を、下記に詳述する：
微粉化されたUV防止分散系の各例について、製造工程は下記のように実施される：
式(7)の化合物を、粉砕助剤であるケイ酸ジルコニウムボール（直径0.1〜4 mm）、分散剤（分散系20-34に記載）、および連続相（水、シメチコン、ならびに場合によってはクエン酸を含む）とともに、平均粒径d50が100nm〜170nmとなるまで（上記のように）ボールミル内で粉砕する。式(7)のUV吸収剤の微粒子顔料分散系が得られた後、分散系20-34に記載の濃度に従って増粘剤（キサンタンガム）を入れる。
【０１１１】
0005984332.tif 000041
【０１１２】
0005984332.tif 000042
【０１１３】
0005984332.tif 000043
【０１１４】
0005984332.tif 000044
【０１１５】
UV吸収剤組成物は好ましくは
(a)  0.1〜25重量％の、本発明の微粉化された不溶性有機UV吸収剤分散系；および、場合によって
(b)化粧品に許容される担体
を含有する。
【０１１６】
本発明のUV吸収剤組成物は、表３および４に記載の1種以上の更なるUV吸収剤を含有することができる。
【０１１７】
本発明の式(1)、(2)もしくは(3)の化合物と、表３および４に記載の任意の更なるUV吸収剤との混合比は、重量比で1:99〜99:1、好ましくは1:95〜95:1、そして最も好ましくは10:90〜90:10を用いることが好ましい。
【０１１８】
とくに興味深いのは20:80〜80:20の混合比であり、最も好ましいのは40:60〜60:40までである。
【表３】
0005984332.tif 000045
【表４】
0005984332.tif 000046
【０１１９】
0005984332.tif 000047
【０１２０】
0005984332.tif 000048
【０１２１】
化粧品もしくは医薬品は、例えば、クリーム、ジェル、ローション、アルコールおよび水/アルコール溶液、エマルション、ワックス/脂肪組成物、スティック状の製品、粉末もしくは軟膏とすることができる。化粧品もしくは医薬品は、上記UVフィルターに加えて、下記の補助剤をさらに含有してもよい。
【０１２２】
水および油含有エマルション（例えば、W/O、O/W、O/W/OおよびW/O/Wエマルション、またはマイクロエマルション）として、製剤は、例えば、組成物の総重量に基づいて0.1〜30重量％、好ましくは0.1〜15重量％、とりわけ0.5〜10重量％の1種以上のUV吸収剤、組成物の総重量に基づいて1〜60重量％、特に5〜50重量％、好ましくは10〜35重量％の少なくとも1種の油成分、組成物の総重量に基づいて0〜30重量％、特に1〜30重量％、好ましくは4〜20重量％の少なくとも1種の乳化剤、組成物の総重量に基づいて10〜90重量％、特に30〜90重量％の水、ならびに0〜88.9重量％、特に1〜50重量％までの化粧品に許容される他の補助剤を含有する。
【０１２３】
本発明の化粧品もしくは医薬品組成物/製品はまた、次のような1種以上の追加化合物を含有することができる：脂肪アルコール、脂肪酸のエステル、グリセリルエステルおよび誘導体を含めた天然もしくは合成トリグリセリド、真珠光沢ワックス、炭化水素油、シリコーンもしくはシロキサン、有機置換された過脂肪化剤、界面活性剤稠度調整剤/増粘剤およびレオロジー改質剤、高分子、生体活性成分、脱臭活性成分、ふけ防止剤、酸化防止剤、ハイドロトロピー剤、防腐剤および細菌抑制剤、香油、着色剤、空間を保持するもの（spa enhancer）としての高分子ビーズもしくは中空球。
【０１２４】
化粧品もしくは医薬品
化粧品もしくは医薬品製剤は、さまざまな化粧品に含まれている。例えば、特に下記の製品が考えられる：
- スキンケア用品、例えば、平板型もしくは液体石けん、石けん分のない洗剤もしくは洗浄ペーストの形態の肌の洗浄および汚れ落とし製品；
- 入浴用品、例えば液体（フォームバス、ミルク、シャワー用品）もしくは固体入浴用品、例えばバスキューブおよびバスソルト；
- スキンケア用品、例えば、肌用乳液、マルチエマルションもしくはスキンオイル；
- 化粧用パーソナルケア用品、例えば、デイクリームもしくはパウダークリームの形態の顔用化粧品、フェイスパウダー（ルースもしくはプレスド（固形））、ルージュもしくはクリーム化粧品；アイケア用品、例えば、アイシャドウ、マスカラ、アイライナー、アイクリームもしくはアイフィックスクリーム；リップケア用品、例えば、リップスティック、リップグロス、リップ輪郭ペンシル；ネイルケア用品、例えば、マニキュア液、除光液、ネイルハードナーもしくはキューティクルリムーバー；
- フットケア用品、例えば、フットバス、フットパウダー、フットクリームもしくはフットバルサム、スペシャルデオドラントおよび制汗剤、またはたこ取り用品；
- 光線防護用品、例えば、サンミルク、ローション、クリームもしくはオイル、サンブロックもしくはトロピカル、プレタンニング（日焼け前）用品もしくはアフターサン（日焼け後）用品；
- 肌用日焼け用品、例えばセルフタンニングクリーム；
- 脱色素用品、例えば、皮膚を脱色する製品もしくは美白製品；
- 虫除け剤、例えば、虫除けオイル、ローション、スプレーもしくはスティック；
- デオドラント（体臭防止剤）、例えばデオドラントスプレー、ポンプ式スプレー、デオドラントジェル、スティックもしくはロールオン；
- 制汗剤、例えば制汗用スティック、クリームもしくはロールオン；
- シミやにきび痕のある肌を洗浄して手入れする製品、例えば、合成洗浄剤（固体もしくは液体）、ピーリングもしくはスクラブ用品もしくはピーリングマスク；
- 化学的に除毛する製品（脱毛剤）、例えば、脱毛パウダー、液体脱毛用品、クリームもしくはペースト状の脱毛用品、ジェル状もしくはエアゾールフォーム状の脱毛用品；
- ひげそり用品、例えば、ひげそり用石けん、泡立つシェービングクリーム、泡立たないシェービングクリーム、フォームおよびジェル、ドライシェービング用プレシェーブ製品、アフターシェーブ剤もしくはアフターシェーブローション；
- 芳香製品、例えば、香水（オーデコロン、オードトワレ、オードパルファム、パルファムドトワレ、パルファム）、香油もしくは練り香水；
- ヘアトリートメント化粧品、例えば、シャンプーおよびコンディショナーとしての洗髪用品、ヘアケア用品、例えば、プレトリートメント剤、ヘアトニック、スタイリングクリーム、スタイリングジェル、ポマード、ヘアリンス、トリートメントパック、集中ヘアトリートメント、毛髪の形態を構築する製品、例えば、毛髪にウェーブをつけるパーマネントウェーブ用品（ホットウェーブ、マイルドウェーブ、コールドウェーブ）、ヘアストレートニング用品、液体ヘアセット用品、ヘアフォーム、ヘアスプレー、脱色用品、例えば、過酸化水素溶液、ライトニングシャンプー、脱色クリーム、脱色パウダー、脱色ペーストもしくはオイル、一時的、半永久的もしくは永久的な毛髪着色剤、酸化染料を含有する製品、または天然毛髪着色剤、例えば、ヘナもしくはカモミール。
【０１２５】
提示形態
記載された最終的な製剤は、さまざまな提示形態、例えば以下の形態で存在し得る：
- W/O、O/W、O/W/O、W/O/WもしくはPITエマルション、およびあらゆるタイプのマイクロエマルションのような液体製剤の形態、
- ジェルの形態、
- オイル、クリーム、乳液もしくはローションの形態、
- パウダー、ラッカー、タブレットもしくはメーキャップの形態、
- スティックの形態、
- スプレー（噴射ガスを用いたスプレーもしくはポンプ式スプレー）またはエアゾールの形態、
- フォームの形態、または
- ペーストの形態。
【０１２６】
肌用化粧品として特に重要であるのは、光線防護用品、例えば、サンミルク、ローション、クリーム、オイル、サンブロックもしくはトロピカル、プレタンニング（日焼け前）用品もしくはアフターサン（日焼け後）用品であるが、肌用日焼け用品、例えばセルフタンニングクリームも重要である。中でも興味深いのは、日焼け止めクリーム、日焼け止めローション、日焼け止め乳液、およびスプレー型の日焼け止め製品である。
【０１２７】
毛髪用化粧品として特に重要であるのは、上記のヘアトリートメント製品、特にシャンプーの形態の洗髪用品、ヘアコンディショナー、ヘアケア用品、例えば、プレトリートメント剤、ヘアトニック、スタイリングクリーム、スタイリングジェル、ポマード、ヘアリンス、トリートメントパック、集中ヘアトリートメント、ヘアストレートニング用品、液体ヘアセット用品、ヘアフォーム、ヘアスプレーである。特に興味深いのは、シャンプーの形態の洗髪用品である。
【０１２８】
シャンプーは、例えば、以下の組成を有する： 0.01〜5重量％の本発明のUV吸収剤組成物、12.0重量％のラウレス-2硫酸ナトリウム、4.0重量％のコカミドプロピルベタイン、3.0重量％の塩化ナトリウム、そして水で100％とする。
【０１２９】
上記製剤中の他の典型的な成分は、防腐剤、殺菌剤および静菌剤、香料、染料、顔料、増粘剤、湿潤剤、保湿剤、脂肪、油、ワックス、または化粧品およびパーソナルケア製品の他の典型的な成分、例えば、アルコール、多価アルコール、高分子、電解質、有機溶媒、シリコン誘導体、エモリエント剤、乳化剤もしくは乳化界面活性剤、界面活性剤、分散剤、酸化防止剤、抗刺激剤、ならびに抗炎症剤などである。
【０１３０】
本発明の化粧品は、日光の有害な影響からヒトの皮膚を非常によく保護することで傑出している。
【０１３１】
UV防御指数の値（SPF）をin vitroで算定する方法
PMMAプレート（Helioplates(登録商標)）上の最終製品の塗布量は1.4 mg/cm2とし、
UV透過率分析は、Labsphere UV-1000S Transmittance Analyserを用いる。
【数１】
0005984332.tif 000049
【０１３２】
［式中、Eλ = 紅斑作用スペクトル；Sλ = 太陽光の分光放射照度、およびTλ = サンプルの分光透過率である。］
UVA防御指数（UVA PF）をin vitroで算定する方法
PMMAプレート（Helioplates(登録商標)）上の最終製品の塗布量は1.2 mg/cm2とし、
UV透過率分析は、Labsphere UV-1000S Transmittance Analyserを用いる。
【０１３３】
（サンケア製品の光安定性を考慮に入れるため）事前照射段階は、Atlas Suntest CPS+などのソーラーシミュレータ（擬似太陽光）による。
【数２】
0005984332.tif 000050
【０１３４】
［式中、Tλ = 波長λでの日焼け止め製品の透過率、ならびにTm = UVA範囲の透過率データの算術平均値である。］
B. 化粧品製剤
0005984332.tif 000051
【０１３５】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDを加える。この混合物を10000rpmで30秒間ホモジナイズする。
【０１３６】
0005984332.tif 000052
【０１３７】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDを加える。次にpHをチェックしてトリエタノールアミンで調整する。
【０１３８】
0005984332.tif 000053
【０１３９】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDを加える。次に、生成したエマルションにパートEを加え、pHをチェックしてトリエタノールアミンで調整する。
【０１４０】
0005984332.tif 000054
【０１４１】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDを加える。次にpHをチェックしてトリエタノールアミンで調整する。
【０１４２】
0005984332.tif 000055
【０１４３】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDを加える。次に、生成したエマルションにパートEを加え、pHをチェックして水酸化ナトリウムで調整する。
【０１４４】
0005984332.tif 000056
【０１４５】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDを加える。次にpHをチェックしてトリエタノールアミンで調整する。
【０１４６】
0005984332.tif 000057
【０１４７】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDを加える。次にpHをチェックして水酸化ナトリウムで調整する。
【０１４８】
0005984332.tif 000058
【０１４９】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDを加える。
【０１５０】
0005984332.tif 000059
【０１５１】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDおよびEを加える。次に香料を混ぜ入れてpHをチェックする。
【０１５２】
0005984332.tif 000060
【０１５３】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDを加える。
【０１５４】
0005984332.tif 000061
【０１５５】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌する。パートDを調製する。室温で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートDに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートCの成分を単独で加える。次にpHをチェックして調整する。
【０１５６】
0005984332.tif 000062
【０１５７】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。混合物を均一化した後ただちに、攪拌しながらパートDを入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートEを加える。次にpHをチェックする。
【０１５８】
0005984332.tif 000063
【０１５９】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートBを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートBに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートCの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートEを加える。次にpHをチェックする。
【０１６０】
0005984332.tif 000064
【０１６１】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌する。パートDを調製する。攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートDに注ぎ入れる。混合物を均一化したらただちに、攪拌しながらパートCを注ぐ。パートBを、連続スプレー系に特有の製法で、この混合物に加える。
【０１６２】
0005984332.tif 000065
【０１６３】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌する。パートCを調製する。室温で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートAをパートCに注ぎ入れる。パートDを、すでに得られた混合物中に中速で攪拌しながら入れる。その後、パートBの成分を単独で加える。次にpHをチェックして調整する。
【０１６４】
0005984332.tif 000066
【０１６５】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌して75℃に加熱する。パートCを調製し、75℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートCをパートAに注ぎ入れる。65℃以下の温度で、パートBの成分を単独で加える。中速で攪拌しながら40℃まで冷却した後、パートDを加える。次にpHをチェックする。
【０１６６】
0005984332.tif 000067
【０１６７】
製造指示書：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌する。パートCを調製し、60℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートCをパートAに注ぎ入れる。その後、パートBの成分を単独で加える。
【０１６８】
0005984332.tif 000068
【０１６９】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌する。パートCを調製し、60℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながらパートCをパートAに注ぎ入れる。その後、パートBの成分を単独で加え、中速で攪拌しながらパートEを加える。
【０１７０】
0005984332.tif 000069
【０１７１】
均一なゲルが生じるまで、中速で攪拌しながら、全成分を水相内に分散、もしくは溶解させる。その後pHをチェックする。
【０１７２】
0005984332.tif 000070
【０１７３】
0005984332.tif 000071
【０１７４】
製造指示：
パートAは全成分を混合することによって調製し、その後、中速で攪拌する。パートBを調製し、40℃に加熱する。この温度で、攪拌スピードを徐々に上げながら、均一なクリームが生じるまでパートAをパートBに注ぎ入れる。本発明の実施形態として以下を挙げることができる。
［１］
微粉化された不溶性有機UV吸収剤(a)を含んでなる組成物を調製する方法であって、粉砕装置内で、粗い粒子状の不溶性有機UV吸収剤を、以下の群から選択される粉砕助剤：
(b1)  カルボン酸およびその塩；
(b2)  脂肪酸エステル；
(b3)  リン酸アルキルもしくはリン酸エステル；
(b4)  エトキシ化カルボン酸もしくはポリエチレングリコール(PEG)エステル；
(b5)  脂肪アルコールの脂肪アルコールポリエチレングリコール(PEG)エーテル；
(b6)  飽和もしくは不飽和C4-C28脂肪酸のポリエチレン/ポリプロピレン-グリコールエーテル；
(b7)  エトキシ化アルキルフェノールもしくはエトキシ化アルキルフェニルエーテル；
(b8)  ポリオールのエステルおよびモノ-、ジ-もしくはトリ-グリセリド；
(b9)  脂肪酸とショ糖のエステル；
(b10)  飽和および/もしくは不飽和C6-C22脂肪酸およびエチレンオキシド基のソルビタンモノ-およびジ-エステル；および
(b11)  主として洗剤もしくは洗浄剤として作用する界面活性剤
の存在下で粉砕することを含む、該方法。
［２］
微粉化された不溶性有機UV吸収剤が下記式(1)の化合物から選択される、［１］記載の方法。
【化１８】
0005984332.tif 000072
［式中、
Aは、式(1a)；
【化１９】
0005984332.tif 000073
もしくは式(1b)の基であり；
【化２０】
0005984332.tif 000074
R1およびR5は、互いに独立して、水素；C1-C18アルキル；もしくはC6-C12アリールであり；
R2、R3およびR4は、互いに独立して、水素；もしくは式(1c)の基であるが、
【化２１】
0005984332.tif 000075
このR2、R3およびR4基のうち少なくとも1つは式(1c)の基であって；
R6、R7、R8、R9およびR10は、互いに独立して、水素；ヒドロキシ；ハロゲン；C1-C18アルキル；C1-C18アルコキシ；C6-C12アリール；ビフェニリル；C6-C12アリールオキシ；C1-C18アルキルチオ；カルボキシ；-COOM；C1-C18-アルキルカルボキシル；アミノカルボニル；またはモノ-もしくはジ-C1-C18アルキルアミノ；C1-C10アシルアミノ；-COOHであり；
Mは、アルカリ金属イオンであり；
xは1または2であり；そして
yは2〜10の数である。］
［３］
微粉化不溶性UV吸収剤が下記式(2)の化合物から選択される、［２］記載の方法。
【化２２】
0005984332.tif 000076
［式中、R1、R5、R6、R7およびR8は［２］と同様に定義される。］
［４］
R1およびR5が水素である、［２］または［３］記載の方法。
［５］
R6およびR8が水素である、［２］〜［４］のいずれか１項記載の方法。
［６］
R7が、水素；ヒドロキシ；C1-C5アルキル；C1-C5アルコキシ；-COOM；-COOH；またはCOOR10であり；
Mがアルカリ金属イオンであり；そして
R10がC1-C5アルキルである、
［２］〜［５］のいずれか１項記載の方法。
［７］
下記式(3)の化合物を使用する、［２］〜［６］のいずれか１項記載の方法。
【化２３】
0005984332.tif 000077
［８］
微粉化不溶性UV吸収剤が下記式(4)の化合物から選択される、［１］記載の方法。
【化２４】
0005984332.tif 000078
［式中、T1はC1-C18アルキルであるが、これはフェニルで置換されていてもよい。］
［９］
T1がC1-C8アルキルである、［８］記載の方法。
［１０］
微粉化不溶性UV吸収剤が下記式(5)に対応する、［８］または［９］記載の方法。
【化２５】
0005984332.tif 000079
［１１］
微粉化不溶性UV吸収剤が下記式(6)の化合物から選択される、［１］記載の方法。
【化２６】
0005984332.tif 000080
［式中、
R11およびR12は、互いに独立して、C1-C20アルキル；C2-C20アルケニル；C3-C10シクロアルキル；C3-C10シクロアルケニルであるか；または、R11およびR12は、結合している窒素原子と共にヘテロ5員環もしくは6員環を形成し；
n1は1〜4の数であり；
n1＝1のとき、
R13は、飽和もしくは不飽和ヘテロ環基；ヒドロキシ-C1-C5アルキル；1以上のC1-C5アルキルで置換されていてもよいシクロヘキシル；これはヘテロ環基、アミノカルボニルもしくはC1-C5アルキルカルボキシで置換されていてもよいフェニルであり；
n1＝2のとき、
R13は、カルボニルもしくはカルボキシ基で置換されていてもよいアルキレン、シクロアルキレン、アルケニレンもしくはフェニレン基；式 -CH2-C≡C-CH2- の基であるか、またはR13は、A2と共に下記式(1a)の二価基を形成し；
【化２７】
0005984332.tif 000081
［式中、n2は1〜3の数である。］
n1＝3のとき、
R13は、アルカントリイル基であり；
n1＝4のとき、
R13は、アルカンテトライル基であり；
A2は、-O-；もしくは-N(R15)-であり；そして
R15は、水素；C1-C5アルキル；もしくはヒドロキシ-C1-C5アルキルである。］
［１２］
微粉化不溶性UV吸収剤が下記式(7)に対応する、［１１］記載の方法。
【化２８】
0005984332.tif 000082
［１３］
粉砕助剤が
(b1)  ラウロイル乳酸ナトリウム、
(b2)  イソステアリン酸イソセチル、および/またはオレイン酸グリコール、
(b3)  DEA-オレス-3リン酸、
(b4)  PEG-20ラウリン酸、
(b5)  セテス-10、ラウレス-7、および/またはPEG-10ベヘニルエーテル（ベヘネス-10）、
(b7)  PEG-10ノニルフェニルエーテル、
(b8)  PEG-10ポリグリセリル-2ラウレート、
(b9)  PEG-120メチルグルコースジオレエート、および/またはポリグリセリル-3メチルグルコースジステアレート、
(b10)  PEG-20ソルビタンイソステアレート、ポリソルベート-80、およびPEG/PPG- 125/30コポリマー、および
(b11)  ジココイルエチレンジアミンPEG-15硫酸ナトリウム、および/またはジメチコンPEG/PPG - 7/4ホスフェート、
から選択される、［１］〜［１２］のいずれか１項記載の方法。
［１４］
得られる微粉化不溶性有機UV吸収剤が、0.01から2.0μの範囲の平均粒径を有する、［１］〜［１３］のいずれか１項記載の方法。
［１５］
粗い粒子状の不溶性有機UV吸収剤を該吸収剤が微粉化された状態に変換されるまで粉砕装置内で粉砕することによって、微粉化された不溶性有機UV吸収剤を製造する、［１］〜［１４］のいずれか１項記載の方法。
［１６］
前記粉砕装置が、ジェットミル、ボールミル、振動ミルまたはハンマーミルである、［１５］記載の方法。
［１７］
［１］〜［１６］のいずれか１項記載の方法で製造された微粉化された不溶性有機UV吸収剤を含有する組成物。
［１８］
以下の(a)および(b)：
(a)  0.1〜25重量％の、［１７］記載の微粉化された不溶性有機UV吸収剤分散系；および、場合によって
(b)  化粧品に許容される担体、
を含有するサンスクリーン組成物。
［１９］
微粉化された不溶性有機UV吸収剤が、ヒトの皮膚をUV放射から保護するために従来から化粧品組成物に使用されている１種以上の更なるUV吸収剤とともに使用する、［１７］または［１８］記載の組成物。
［２０］
レオロジー改質剤(c)を更に使用する、［１７］〜［１９］のいずれか１項記載の組成物。
［２１］
成分(c)がキサンタンガム、非晶質シリカおよび加工デンプンから選択される、［１７］〜［２０］のいずれか１項記載の組成物。
［２２］
前記レオロジー改質剤(c)を組成物の0.1〜10重量％の濃度で使用する、［２０］または［２１］記載の組成物。