(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料の小滴の流れを提供する燃料小滴ジェネレータと、 前記燃料の小滴のうちの少なくとも一部を気化させて放射を生成する少なくとも１つのレーザと、を備える放射源であって、
前記燃料小滴ジェネレータは、駆動空洞と接触している外面を有する供給チャンバを有し、
前記駆動空洞は、前記駆動空洞に動作可能に接続されたバイブレータによる振動を受けて駆動可能とされた液体で満たされるように構成されており、前記振動は、前記液体を通って前記供給チャンバの前記外面から前記供給チャンバ内の前記溶融燃料に伝達可能である、放射源。
【請求項２】
前記燃料小滴ジェネレータは、ノズルと、リザーバと、前記リザーバから前記供給チャンバを通って前記ノズルから前記小滴の流れとして出る溶融状態の燃料流を供給するポンプと、をさらに有する、請求項１に記載の放射源。
【請求項３】
前記供給チャンバは、第１の共振周波数を有し、前記駆動空洞は、第２の共振周波数を有する、請求項１又は２に記載の放射源。
【請求項４】
前記駆動空洞は、前記駆動空洞の前記第２の共振周波数が可変となるようにチューニングデバイスを有する、請求項１から３の何れか一項に記載の放射源。
【請求項５】
前記駆動空洞は、前記供給チャンバの前記外面と直接的に接触する第１の空洞を有し、前記第１の空洞は、連結チューブの内腔を通って第２の空洞と流体連結し、前記第２の空洞は、前記第２の空洞に動作可能に接続されたバイブレータを有し、前記第１の空洞、前記第２の空洞及び前記連結チューブは、前記液体で満たされ、前記第１の空洞は、前記第２の空洞から前記液体を通りかつ前記連結チューブを通る前記振動の音響伝達による振動を受けるように駆動可能である、請求項１から３の何れか一項に記載の放射源。
【請求項６】
前記第２の空洞は、チューニングデバイスを有し、それにより、前記駆動空洞の前記第２の共振周波数は可変となる、請求項５に記載の放射源。
【請求項７】
前記バイブレータは、前記第２の空洞の外壁を振動させて、前記液体が使用中に振動を受けるように前記液体を駆動する、請求項５又は６に記載の放射源。
【請求項８】
前記燃料小滴ジェネレータは、使用中、前記燃料を溶融状態に維持するために必要な温度より低い温度で前記バイブレータを維持する冷却デバイスを有する、請求項１から７の何れか一項に記載の放射源。
【請求項９】
前記燃料小滴ジェネレータは、使用中、前記燃料を溶融状態に維持するために必要な温度より低い温度で前記第２の空洞及び前記バイブレータを維持する冷却デバイスを有する、請求項５から７の何れか一項に記載の放射源。
【請求項１０】
前記冷却デバイスは、前記第２の空洞及び前記バイブレータを取り囲む冷却チャンバである、請求項９に記載の放射源。
【請求項１１】
前記バイブレータは、圧電アクチュエータであり、前記冷却デバイスは、使用中、前記圧電アクチュエータのキュリー温度より低い温度で前記圧電アクチュエータを維持する、請求項８から１０の何れか一項に記載の放射源。
【請求項１２】
前記供給チャンバは、前記ノズルと直接的に流体連結している、請求項２に記載の放射源。
【請求項１３】
前記供給チャンバは、キャピラリチューブであり、前記ノズルは、前記キャピラリチューブの遠位端における狭窄部である、請求項１２に記載の放射源。
【請求項１４】
前記供給チャンバは、実質的に、前記リザーバから音響的に分離されている、請求項２に記載の放射源。
【請求項１５】
前記燃料は、５×１０−６ｍ２より小さい断面積を有する絞り穴を通って前記供給チャンバに入る、請求項１４に記載の放射源。
【請求項１６】
前記液体は、使用中の前記液体の空洞化を抑制するために大気圧を十分に超える圧力で維持される、請求項１から１５の何れか一項に記載の放射源。
【請求項１７】
放射ビームを生成する請求項１から１６の何れか一項に記載の放射源と、
前記放射源を調整する照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備える、
リソグラフィ装置。
【請求項１８】
放射源のための燃料の小滴の流れを提供する燃料小滴ジェネレータであって、
ノズルと、
駆動空洞と接触している外面を有する供給チャンバであって、前記駆動空洞は、前記駆動空洞に動作可能に接続されたバイブレータによる振動を受けるように駆動可能に配置された液体で満たされ、前記振動は、前記供給チャンバの前記外面から前記液体を通って前記供給チャンバ内の前記溶融燃料に伝達可能である、供給チャンバと、
リザーバと、
前記リザーバから前記供給チャンバを通って前記ノズルから小滴の流れとして出る溶融状態の燃料流を供給するポンプと、
を備える、燃料小滴ジェネレータ。
【請求項１９】
リザーバから供給チャンバを通ってノズルから出るように溶融燃料をポンプで注入するステップであって、前記供給チャンバは、液体で満たされた第１の空洞と接触している外面を有する、ステップと、
バイブレータによる振動を受けるように前記第１の空洞を駆動するステップであって、前記振動は、前記液体及び前記供給チャンバの前記外面を通って前記供給チャンバ内の前記燃料に伝達される、ステップと、
前記ノズルから燃料小滴の流れを放出するステップと、
レーザによって前記燃料の小滴のうちの少なくとも一部を気化させて放射を生成するステップと、
を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願への相互参照
[001]  本願は、２０１１年８月５日に出願した米国仮出願第６１／５１５，７１６号の優先権を主張し、その全体を本願に参考として組み込む。
【０００２】
[002]  本発明は、ＥＵＶ放射源、リソグラフィ装置及びデバイスを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
[003]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常、基板のターゲット部分上に付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。その場合、ＩＣの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、マスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いることができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、ダイの一部、又は１つ以上のダイを含む）に転写することができる。通常、パターンの転写は、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層上への結像によって行われる。一般には、単一の基板が、連続的にパターニングされる隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。
【０００４】
[004]  リソグラフィは、ＩＣや他のデバイス及び／又は構造の製造における重要なステップの１つとして広く認識されている。しかしながら、リソグラフィを使用して作られるフィーチャの寸法が小さくなるにつれ、リソグラフィは、小型ＩＣあるいは他のデバイス及び／又は構造を製造できるようにするためのより一層重要な要因になりつつある。
【０００５】
[005]  パターン印刷の限界の理論推定値を、式（１）に示す解像度に関するレイリー基準によって得ることができる。
【数１】
0005952399.tif 000002
上の式で、λは使用される放射の波長であり、ＮＡはパターンを印刷するために使用される投影システムの開口数であり、ｋ１はレイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、ＣＤは印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ（又はクリティカルディメンジョン）である。式（１）から、フィーチャの最小印刷可能サイズの縮小は、以下の３つの方法、露光波長λを短縮することによって、開口数ＮＡを増加させることによって、あるいは、ｋ１の値を低下させることによって、達成することができる、と言える。
【０００６】
[006]  露光波長を短縮するため、したがって、最小印刷可能サイズを縮小させるためには、極端紫外線（ＥＵＶ）放射原を使用することが提案されている。ＥＵＶ放射は、５〜２０ｎｍの範囲内、例えば１３〜１４ｎｍの範囲内、例えば６．７ｎｍ又は６．８ｎｍといったように５〜１０ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射である。可能な放射源としては、例えば、レーザ生成プラズマ源、放電プラズマ源、又は電子蓄積リングによって提供されるシンクロトロン放射に基づく放射源が挙げられる。
【０００７】
[007]  ＥＵＶ放射は、プラズマを用いて生成することができる。ＥＵＶ放射を生成するための放射システムは、プラズマを提供するために燃料を励起するレーザと、プラズマを収容する放射源コレクタモジュールと、を含んでよい。プラズマは、例えば、適切な材料（例えば、スズ）の粒子又は小滴などの燃料にレーザビームを向けることによって、あるいはＸｅガス又はＬｉ蒸気などの適切なガス又は蒸気の流れにレーザビームを向けることによって、生成することができる。結果として生じるプラズマは、出力放射、例えばＥＵＶ放射を放出し、これは、放射コレクタを用いて集光される。
【０００８】
[008]  放射コレクタは、放射を受けて放射をビームに合焦させるミラー法線入射放射コレクタであってよい。放射源コレクタモジュールは、プラズマを支持するために真空環境を提供するように配置された閉鎖構造又はチャンバを含んでよい。そのような放射システムを、通常、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源と呼ぶ。
【０００９】
[009]  放射生成プラズマが作り出される燃料として溶融燃料小滴が使用された場合、第１のレーザビームの前に燃料小滴を予熱するために第２のレーザを設けてもよく、このレーザは、プラズマを生成しその後に放射を生成するために小滴上に入射される。この手法を用いるＬＰＰ源を、デュアルレーザパルス（ＤＬＰ）源と呼ぶことができる。
【００１０】
[0010]  燃料小滴ジェネレータは、溶融燃料の小滴の流れを放射源のプラズマ形成配置に提供するように配置されてよい。
【発明の概要】
【００１１】
[0011]  燃料小滴ジェネレータは、ノズルを含んでよく、このノズルを通って溶融燃料が圧力の下で小滴の流れとしてノズルから噴射するように駆動される。ノズルから噴出する液体の流れの自然な分裂は、レイリー分裂として知られている。ノズルの小滴生成速度に対応するレイリー周波数は、以下の式（２）で表すように、ノズルにおける燃料の平均速度及びノズルの直径に関連する。
【数２】
0005952399.tif 000003
燃料の流れのレイリー分裂は励起無しに生じることもあるが、圧電アクチュエータなどのバイブレータを用いてノズルにおける溶融燃料の圧力を調節又は振動させることによってレイリー分裂を制御することができる。ノズルの中の圧力を調節することは、ノズルからの液体燃料の流出速度を調節し、液体燃料の流れがノズルを出た直後に制御された状態で小滴に分裂することを引き起こす。
【００１２】
[0012]  バイブレータによって適用される振動の周波数がノズルのレイリー周波数に十分に近い場合、燃料の小滴が形成され、この小滴は、燃料ノズルからの平均流出速度及びバイブレータによって適用される振動周波数によって決定される距離によって分離される。バイブレータによって適用される振動周波数がレイリー周波数よりかなり低い場合、燃料小滴の周期的な流れが形成される代わりに燃料の大群が生成され得る。所定の燃料の大群は、比較的高い速度で移動する小滴の群及び比較的低い速度で移動する小滴の群を含んでよい（速度は、ノズルから出る燃料の流れの平均速度に対する速度である）。これらの大群は、合体して単一の燃料小滴を形成する。このように、燃料小滴の周期的な流れは、レイリー周波数よりかなり低い振動周波数をバイブレータに適用することによって生成することができる。小滴間の間隔は依然として平均流出速度及び振動周波数によって支配されるので、小滴間の間隔は振動周波数が減少するとともに拡大する。
【００１３】
[0013]  圧電変換器を、バイブレータとして使用して振動をノズルに適用してもよい。例えば、ノズルは、燃料を供給するように配置された燃料供給チャンバとし作用するキャピラリチューブの形態を有し、燃料は、近位端に接続された燃料リザーバから遠位端に絞り穴として形成されたノズルに供給される。圧電バイブレータが、キャピラリの外面にセメント接合又は接着されたスリーブの形態を有してもよい。溶融スズなどの溶融燃料の使用は、バイブレータをキャピラリの外面に接着するために使用されたセメント又は接着剤が、燃料供給の動作温度において接着性を失わないものであるべきである。
【００１４】
[0014]  長時間使用の際、バイブレータと供給チャンバの外面（例えば、キャピラリの外面）との間の接着性は失われることがあり、バイブレータと供給チャンバ内の溶融燃料との間の透過率の損失（すなわち、悪い音響結合）へと繋がる。
【００１５】
[0015]  さらに、圧電バイブレータは、供給チャンバの外壁との直接接触により溶融燃料の温度又はその直下の温度に近づけられてもよく、これは、圧電バイブレータがそのキュリー温度より高い温度で動作し、低効率へと繋がることを意味し得る。
【００１６】
[0016]  圧電性質を有さないバイブレータは、燃料を溶融状態に維持することを必要とする高い温度で効果的に動作することができない場合がある。
【００１７】
[0017]  本発明の実施形態の一態様は、特に、上記した問題のうちの少なくとも一部を対処又は克服する、リソグラフィ放射源で用いる燃料小滴の流れの生成のための装置及び方法、並びに、そのような流れにおける燃料小滴のサイズ及び離隔を制御する装置及び方法を提供することである。具体的には、本発明の実施形態の一態様は、ノズルにおける燃料供給の振動刺激を引き起こすために使用することができる装置及び方法を提供することであって、そのような装置及び方法は、従来の装置及び方法の代替手段を提供し、ノズルから出る溶融燃料の流れの分裂の効率的な制御を可能にする。
【００１８】
[0018]  本明細書中、「含んでいる」又は「含む」という用語は特定された（１つ以上の）構成要素を含むがその他の存在も除外しないことを意味する。「本質的に〜からなっている」又は「本質的に〜からなる」という用語は、特定された構成要素を含むが、不純物として存在する材料又はその構成要素を提供するために用いられる過程の結果として存在する不可避な材料及び本発明の技術的効果を得る目的以外の目的のために追加された構成要素以外の他の構成要素を除外する。
【００１９】
[0019]  「含む」又は「含んでいる」という用語の使用は、必要に応じて、「本質的に〜からなる」又は「本質的に〜からなっている」の意味を含み、さらに「からなる」又は「からなっている」の意味を含むこともできる。
【００２０】
[0020]  本明細書に述べられた任意及び／又は好ましい特徴は、個別に又は必要に応じて互いに組み合わせて、特に添付の特許請求の範囲に記載されたような組み合わせで使用されてもよい。本明細書中に述べられた本発明の各態様に対する任意及び／又は好ましい特徴は、必要に応じて、本発明の他のあらゆる態様にも適用できる。
【００２１】
[0021]  本発明の一態様は、燃料の小滴の流れを提供するように配置された燃料小滴ジェネレータと、燃料の小滴のうちの少なくとも一部を気化させて放射を生成するように構成された少なくとも１つのレーザと、を備える放射源を提供する。燃料小滴ジェネレータは、ノズルと、供給チャンバと、リザーバと、リザーバから供給チャンバを通ってノズルから小滴の流れとして出る溶融状態の燃料流を供給するように配置されたポンプデバイスと、を備える。供給チャンバは駆動空洞と接触している外面を有し、駆動空洞は液体で満たされ、液体は、駆動空洞に動作可能に接続されたバイブレータによる振動を受けるように駆動可能に配置される。振動は、供給チャンバの外面から液体を通って供給チャンバ内の溶融燃料に伝達可能である。
【００２２】
[0022]  本発明の一態様は、放射ビームを生成するように配置された上記の放射源と、放射源を調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、を備えるリソグラフィ装置を提供する。
【００２３】
[0023]  本発明の一態様は、ノズルから燃料小滴の流れを放出することと、レーザを用いて燃料の小滴のうちの少なくとも一部を気化させて放射を生成することと、を含む方法を提供する。溶融燃料がリザーバからポンプで注入され、供給チャンバを通って小滴の流れとしてノズルから出る。供給チャンバは、液体で満たされた第１の空洞と接触している外面を有する。第１の空洞は、バイブレータによる振動を受けるように駆動し、振動は、液体及び供給チャンバの外面を通って供給チャンバ内の燃料に伝達される。
【００２４】
[0024]  上記した本発明の一態様による放射源は、上記した本発明の一態様の方法を実施するのに特に適している。
【００２５】
[0025]  上記した一態様に従いかつ本発明の他の態様で用いる放射源は、燃料の小滴の流れを提供するように配置された燃料小滴ジェネレータを備える。少なくとも１つのレーザは、燃料の小滴のうちの少なくとも一部を気化させるように構成され、それにより、本発明の一態様の放射源によって放射が生成される。
【００２６】
[0026]  本発明の一態様の放射源の一部を形成する、本明細書中に記載した燃料小滴ジェネレータが、独自に本発明の一態様として独立して考えることができると理解されたい。したがって、本発明の一態様は、放射源のための燃料の小滴の流れを提供する燃料小滴ジェネレータを提供する。燃料小滴ジェネレータは、ノズルと、供給チャンバと、リザーバと、リザーバから供給チャンバを通ってノズルから小滴の流れとして出る溶融状態の燃料流を供給するように配置されたポンプデバイスと、を備える。供給チャンバは駆動空洞と接触している外面を有し、駆動空洞は液体で満たされ、液体は、駆動空洞に動作可能に接続されたバイブレータによる振動を受けるように駆動可能に配置される。振動は、供給チャンバの外面から液体を通って供給チャンバ内の溶融燃料に伝達可能である。
【００２７】
[0027]  本発明の放射源は、通常、ＥＵＶ（極端紫外線）などの放射を生成するように構成される。ＥＵＶ放射は、５〜２０ｎｍの範囲内、例えば１３〜１４ｎｍの範囲内、例えば６．７ｎｍ又は６．８ｎｍといったように５〜１０ｎｍの範囲内の波長を有してもよい。
【００２８】
[0028]  燃料小滴ジェネレータは、ノズルと、供給チャンバと、リザーバと、リザーバから供給チャンバを通ってノズルから小滴の流れとして出る溶融状態の燃料流を供給するように配置されたポンプデバイスと、を備えてよい。ポンプデバイスは、単に、溶融状態の燃料を、リザーバから供給チャンバを通ってノズルの出口オリフィスから小滴の流れとして出させるためにリザーバに適用された圧力ジェネレータであってもよい。
【００２９】
[0029]  供給チャンバは、駆動空洞と接触している外面を有する。駆動空洞は液体で満たされ、液体は、駆動空洞に動作可能に接続されたバイブレータによる振動を受けるように駆動可能に配置される。振動は、使用中、供給チャンバ内の溶融燃料に伝達可能であり、振動は、供給チャンバの外面から液体を通って音波として伝達される。
【００３０】
[0030]  供給チャンバは第１の共振周波数を有し、駆動空洞は第２の共振周波数を有してよい。
【００３１】
[0031]  駆動空洞は、チューニングデバイスを含んでよく、それにより、駆動空洞の第２の共振周波数が可変となることが好適である。
【００３２】
[0032]  駆動空洞は、供給チャンバの外面と直接的に接触する第１の空洞を含んでよく、第１の空洞は、連結チューブの内腔を通って第２の空洞と流体連結し、第２の空洞は、第２の空洞に動作可能に接続されたバイブレータを有し、第１の空洞、第２の空洞及び連結チューブは、液体で満たされ、第１の空洞は、第２の空洞から液体を通りかつ連結チューブを通る振動の音響伝達による振動を受けるように駆動可能である。
【００３３】
[0033]  連結チューブは、（１枚以上の）強固な壁を有するチューブであることが好適であり、その連結チューブを通って第２の空洞から第１の空洞へと音響エネルギーが伝達可能である。
【００３４】
[0034] 第２の空洞はチューニングデバイスを含んでよく、それにより、駆動空洞の第２の共振周波数は可変となる。チューニングデバイスは、例えば、第２の空洞の体積の調整のためのデバイスであってよい。
【００３５】
[0035]  バイブレータは、第２の空洞の外壁を振動させて液体が使用中に振動を受けるように駆動するように配置されることが好適である。したがって、第２の空洞内の液体は振動され、この振動は、音響エネルギーとして連結チューブを通って第１の空洞に伝達されて供給チャンバ内の溶融燃料を駆動することができる。
【００３６】
[0036]  燃料小滴ジェネレータは、バイブレータを、使用中、燃料を溶融状態に維持するために必要な温度より低い温度で維持するように配置された冷却デバイスを含んでよい。
【００３７】
[0037]  例えば、バイブレータは、使用中、１００℃またそれ以下、例えば、約５０℃又はそれ以下、例えば、約３０℃又はそれ以下の温度で維持されてよい。
【００３８】
[0038]  冷却デバイスは、第２の空洞及びバイブレータを、使用中、燃料を溶融状態に維持するために必要な温度より低い温度で維持するように配置された冷却デバイスを含んでよい。冷却デバイスは、第２の空洞及びバイブレータを取り囲む冷却チャンバを含んでよい。
【００３９】
[0039]  バイブレータは圧電アクチュエータであってよく、冷却デバイスは、圧電アクチュエータを、使用中、圧電アクチュエータのキュリー温度より低い温度で維持するように配置されてよい。圧電アクチュエータは、そのキュリー温度より高い温度であっても振動しかつバイブレータとして機能するように効果的であり得るが、圧電材料は、そのキュリー温度より低い温度で動作された場合にかなり効率的である。
【００４０】
[0040]  バイブレータは、屈曲モードで駆動される圧電アクチュエータであることが好適である。
【００４１】
[0041]  供給チャンバは、ノズルと直接的に流体連結していてよい。例えば、供給チャンバはキャピラリチューブであり、ノズルはキャピラリチューブの遠位端における狭窄部であってもよい。
【００４２】
[0042]  供給チャンバは、実質的に、供給リザーバから音響的に分離されていることが望ましい。例えば、燃料は、供給チャンバからリザーバへの音響エネルギーの伝達を最小にするように配置された、例えば、５×１０−６ｍ２より小さい断面積を有する絞り穴を通って供給チャンバに入ることができる。
【００４３】
[0043]  液体は、使用中の液体の空洞化を抑制するために大気圧を十分に超える圧力で維持されてよい。液体は脱ガスされることが好適である。例えば、液体は、大気圧より０．１〜５ＭＰａ多くの圧力で維持されてよい。
【００４４】
[0044]  本発明のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の概略図を参照して以下に説明する。これらの図面において同じ参照符号は対応する部分を示す。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】[0045]  本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。
【図２】[0046]  レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源コレクタモジュールを含む、図１の装置のより詳細な図である。
【図３】[0047]  図１及び図２に示すリソグラフィ装置の一部を形成し得る、本発明の一実施形態による放射源の一部を形成する燃料小滴ジェネレータの第１の実施形態を概略的に示す。
【図４】[0048]  図１及び図２に示すリソグラフィ装置の一部を形成し得る、本発明の一実施形態による放射源の一部を形成する燃料小滴ジェネレータの第２の実施形態を概略的に示す。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
[0049]  図１は、本発明の一実施形態による放射源コレクタモジュールＳＯを含むリソグラフィ装置１００を概略的に示す。このリソグラフィ装置は、放射ビームＢ（例えば、ＥＵＶ放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク又はレチクル）ＭＡを支持するように構築され、かつパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１ポジショナＰＭに連結されたサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構築され、かつ基板を正確に位置決めするように構成された第２ポジショナＰＷに連結された基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付けられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）上に投影するように構成された投影システム（例えば、反射投影システム）ＰＳと、を備える。
【００４７】
[0050]  照明システムとしては、放射を誘導し、整形し、又は制御するために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はその他のタイプの光コンポーネント、あるいはそれらのあらゆる組合せなどのさまざまなタイプの光コンポーネントを含むことができる。
【００４８】
[0051]  サポート構造ＭＴは、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、及び、パターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否かなどの他の条件に応じた態様で、パターニングデバイスＭＡを保持する。サポート構造は、機械式、真空式、静電式又はその他のクランプ技術を使って、パターニングデバイスを保持することができる。サポート構造は、例えば、必要に応じて固定又は可動式にすることができるフレーム又はテーブルであってもよい。サポート構造は、パターニングデバイスを、例えば、投影システムに対して所望の位置に確実に置くことができる。
【００４９】
[0052]  「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分内にパターンを作り出すように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用できるあらゆるデバイスを指していると、広く解釈されるべきである。放射ビームに付けたパターンは、集積回路などのターゲット部分内に作り出されるデバイス内の特定の機能層に対応することができる。
【００５０】
[0053]  パターニングデバイスは、透過型であっても、反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィでは公知であり、バイナリ、レべンソン型(alternating)位相シフト、及びハーフトーン型(attenuated)位相シフトなどのマスク型、並びに種々のハイブリッドマスク型を含む。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型ミラーのマトリックス配列が用いられており、各小型ミラーは、入射する放射ビームを様々な方向に反射させるように、個別に傾斜させることができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリックスによって反射される放射ビームにパターンを付ける。
【００５１】
[0054]  投影システムは、照明システムのように、使われている露光放射にとって、あるいは真空の使用といった他の要因にとって適切な、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はその他のタイプの光コンポーネント、あるいはそれらのあらゆる組合せなどのさまざまなタイプの光コンポーネントを含むことができる。ガスは放射を吸収しすぎることがあるので、ＥＵＶ放射に対しては真空を使用することが望ましい場合がある。したがって、真空壁及び真空ポンプを用いてビームパス全体に真空環境を提供することができる。
【００５２】
[0055]  本明細書に示されているとおり、リソグラフィ装置は、反射型のもの（例えば、反射型マスクを採用しているもの）であってもよい。
【００５３】
[0056]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスクテーブル）を有する型のものであってもよい。そのような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルは並行して使うことができ、又は予備工程を１つ以上のテーブル上で実行しつつ、別の１つ以上のテーブルを露光用に使うこともできる。 
【００５４】
[0057]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源コレクタモジュールＳＯから極端紫外線放射ビームを受ける。ＥＵＶ光を生成する方法としては、材料を、ＥＵＶ範囲内の１つ以上の輝線を有する、例えばキセノン、リチウム又はスズなどの少なくとも１つの元素を有するプラズマ状態に変換することが挙げられるが必ずしもこれに限定されない。そのような一方法では、レーザ生成プラズマ（「ＬＰＰ」）と呼ばれることが多い所要のプラズマを、所要の線発光元素を有する材料の小滴などの燃料をレーザビームで照射することによって生成することができる。放射源コレクタモジュールＳＯは、燃料を励起するレーザビームを提供するためである、図１に図示されていないレーザを含むＥＵＶ放射源の一部分であってもよい。結果として生じるプラズマは、例えばＥＵＶ放射などの出力放射を放出し、これは、放射源コレクタモジュールに配置された放射コレクタを用いて集光される。
【００５５】
[0058]  例えば、燃料励起のためのレーザビームを提供するためにＣＯ２レーザが使用される場合、レーザと放射源コレクタモジュールは、別個の構成要素であってもよい。そのような場合には、放射ビームは、レーザから放射源コレクタモジュールへ、例えば、適切な誘導ミラー及び／又はビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムを使って送られる。レーザ及び燃料供給部（すなわち、燃料小滴ジェネレータ）は、ＥＵＶ放射源を含むとみなされてよい。
【００５６】
[0059]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調節するアジャスタを含むことができる。通常、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側及び／又は内側半径範囲（通常、それぞれσ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。さらに、イルミネータＩＬは、ファセット視野及び瞳ミラーデバイスといったさまざまな他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータを使って放射ビームを調整すれば、放射ビームの断面に所望の均一性及び強度分布をもたせることができる。
【００５７】
[0060]  放射ビームＢは、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ上に保持されているパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ上に入射して、パターニングデバイスによってパターン形成される。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡから反射した後、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームの焦点をあわせる。第２ポジショナＰＷ及び位置センサシステムＰＳ２（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、又は静電容量センサを用いて）を使って、例えば、さまざまなターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置決めするように、基板テーブルＷＴを正確に動かすことができる。同様に、第１ポジショナＰＭ及び別の位置センサＰＳ１を使い、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めすることもできる。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１及びＭ２と、基板アライメントマークＰ１及びＰ２とを使って、位置合わせされてもよい。
【００５８】
[0061]  例示の装置は、以下のモードのうち少なくとも１つのモードで使用できる。 
【００５９】
[0062]  １．ステップモードにおいては、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分Ｃ上に投影する（すなわち、単一静的露光）。その後、基板テーブルＷＴは、Ｘ及び／又はＹ方向に移動され、それによって別のターゲット部分Ｃを露光することができる。
【００６０】
[0063]  ２．スキャンモードにおいては、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する（すなわち、単一動的露光）。サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの（縮小）拡大率及び像反転特性によって決めることができる。
【００６１】
[0064]  ３．別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルＷＴを動かす、又はスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴの移動後ごとに、又はスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００６２】
[0065]  上述の使用モードの組合せ及び／又はバリエーション、あるいは完全に異なる使用モードもまた採用可能である。
【００６３】
[0066]  図２は、放射源コレクタモジュールＳＯ、照明システムＩＬ及び投影システムＰＳを含む装置１００をより詳細に示す。放射源コレクタモジュールＳＯは、放射源コレクタモジュールＳＯの閉鎖構造２２０内で真空環境を維持することができるように構築及び配置される。
【００６４】
[0067]  レーザＬＡは、燃料供給部又は燃料小滴ジェネレータ２００から提供されるキセノン（Ｘｅ）、スズ（Ｓｎ）又はリチウム（Ｌｉ）の燃料小滴などの燃料にレーザビーム２０５を介してレーザエネルギーを堆積させるように配置され、それによって数十ｅＶの電子温度を有する高電離プラズマ２１０を生成する。これらのイオンの逆励起及び再結合中に生成されるエネルギー放射はプラズマから放出され、近法線入射集光系ＣＯによって集光されて合焦される。
【００６５】
[0068]  第２のレーザ（図示せず）が設けられてもよい。この第２のレーザは、燃料にレーザビーム２０５が入射される前にその燃料を予熱するように構成される。この手法を用いるＬＰＰ源を、デュアルレーザパルス（ＤＬＰ）源と呼ぶことができる。
【００６６】
[0069]  集光系ＣＯによって反射された放射は、仮想光源点ＩＦで合焦される。仮想光源点ＩＦを一般的に中間焦点と呼び、放射源コレクタモジュールは、中間焦点ＩＦが閉鎖構造２２０内の開口部２２１に又はその近くに配置されるように構成される。仮想光源点ＩＦは、放射放出プラズマ２１０のイメージである。
【００６７】
[0070]  その後、放射は照明システムＩＬを通り抜け、この照明システムＩＬは、パターニングデバイスＭＡにて放射ビーム２１の所望の角分布並びにパターニングデバイスＭＡにて放射強度の所望の均一性を提供するように配置されたファセット視野ミラーデバイス２２及びファセット瞳ミラーデバイス２４を含んでもよい。パターニングデバイスＭＡにて放射ビーム２１が反射すると、パターン付きビーム２６が形成され、このパターン付きビーム２６は、投影システムＰＳによって反射要素２８及び３０を介して基板テーブルＷＴによって保持された基板Ｗ上に結像される。
【００６８】
[0071]  通常、示されているものよりも多くの要素が照明システムＩＬ及び投影システムＰＳ内に存在してよい。さらに、図示されているものより多くのミラーがあってもよく、例えば、図２に示す投影システムＰＳ内に存在する反射要素より１〜６個多くの反射要素が存在してもよい。
【００６９】
[0072]  図３は、本発明の態様との使用に適した、図２に示す燃料小滴ジェネレータ２００の一実施形態を概略的に示す。この燃料小滴ジェネレータの実施形態は、溶融状態の液体燃料３０４を含有するリザーバ３０３を含む。この燃料は、例えば、溶融スズであってもよい。リザーバは、コネクタ３０２によってキャピラリ３００に接続される。キャピラリ３００は、リザーバ３０３内に燃料液と直接的に接触している近位端及びノズル３０１に形成された遠位端を有する。周期的な小滴３１４の流れがノズル３０１から射出されているのが示されている。
【００７０】
[0073]  第１の閉鎖空間３０５は、キャピラリ３００の一部を囲う第１の空洞３１０を形成し、第１の閉鎖空間３０５とキャピラリ３００との間に液密連結が与えられる。中空の連結チューブ３０６の内腔３０９は、第１の空洞３１０を、第２の閉鎖空間３０７に閉鎖された第２の空洞３０８に接合させて駆動空洞３１６を形成する。
【００７１】
[0074]  本実施形態では、屈曲モードで駆動するように配置された圧電アクチュエータであるバイブレータ３１１は、第２の空洞３０８の外壁３１５でもある第２の閉鎖空間３０７の外壁３１５に固く接続されている。他の実施形態では、バイブレータは、互いの上に設置されて多層スタックを形成しかつ厚みモードで駆動される圧電アクチュエータのスタックなどの別の構成を有してもよい。そのようなスタックは、第２の空洞３０８の外壁３１５と小滴ジェネレータ（図示せず）の外側ハウジングとの間に設置されてもよい。
【００７２】
[0075]  冷却チャンバ３１２は、第２の閉鎖空間及びバイブレータ３１１並びに連結チューブ３０６の一部を囲う。冷蔵ユニットなどの冷却デバイス及び熱交換器（図示せず）は、冷却チャンバ３１２内の温度を、燃料が溶融状態で維持されるために必要である温度より低い温度で維持する。
【００７３】
[0076]  一実施形態では、ノズル３０１はその出口で直径１０ミクロンを有してよい。本発明の実施形態は、直径１０ミクロンを有するノズルに限定されておらず、原理上、５ミクロンや３ミクロンなどのように、あらゆる適切なノズル直径が可能である。キャピラリ３００は、例えば、長さ５０ミリメートルであって、外径１ミリメートル及び壁厚およそ０．１５ミリメートルを有する。キャピラリ３００及びノズル３０１の寸法も単なる例として挙げられておりそれらに限定されるものとみなされない。第１の空洞３１０は、例えば、長さ約１０ｍｍ〜２０ｍｍであってよい。バイブレータ３１１は、所望の変調周波数でＡＡと印付けられた方向に外壁３１５を振動させ、それによって、第１の空洞３１０及び第２の空洞３０８並びに連結チューブ３０６の内腔３０９によって形成された駆動空洞３１６内の液体の圧力を調節できるように構成される。
【００７４】
[0077]  使用中、液体燃料３０４は、リザーバ３０３の中の圧力で保持されノズル３０１に供給される。これは、例えば、リザーバ３００内に配置されたガス（図示せず）をポンプ装置（図示せず）によって加え、それによって、圧力がガスによって溶融燃料に加えられることによって達成することができる。圧力の結果、燃料の流れはノズル３０１から発する。キャピラリ３００によって形成される供給チャンバ内で圧力変動を引き起こす振動がない場合、ノズル３０１から噴出する燃料の流れは、ノズル３０１からある距離（距離は、例えば、ノズルの直径の１００〜１０００倍）を移動した後に自然と分裂し、それによって小滴の流れを形成する。供給チャンバの振動励起なしにこのように生成された小滴は、ノズル３０１の出口直径のおよそ２倍又はこれより僅かに小さい直径を有してよい。この例では、振動励起なしに形成された小滴は、例えば、直径１９ミクロンを有してよい。小滴は、ノズルの直径のおよそ４．５倍である距離によって離されてよい。この例では、振動励起が適用されない場合、小滴は、およそ４５ミクロン離されてよい。この燃料の流れが自然と小滴に分裂することがレイリー分裂として知られている。ノズル３０１の小滴生成速度に対応するレイリー周波数は、本明細書中に述べたノズルにおける燃料の平均速度及びノズルの直径に関連する。
【００７５】
[0078]  燃料液体３１４の流れのレイリー分裂が供給チャンバキャピラリ３００内の圧力の振動刺激なしに生じるが、そのような振動刺激は分裂を制御しかつその自然な性質から修正するために用いられることが好ましい。供給チャンバキャピラリ３００の中の圧力を調節することは、ノズル３０１からの液体燃料の流出速度を調節し、液体燃料の流れがノズルを出た直後に制御された状態で小滴への分裂を引き起こす。適用された振動周波数がレイリー周波数に十分に近い場合、燃料の小滴が形成され、この小滴は、燃料ノズル３０１からの平均流出速度及び適用される振動周波数によって決定される距離によって離される。
【００７６】
[0079]  適用される周波数がレイリー周波数よりかなり低い場合、一連の燃料小滴が形成される代わりに燃料の大群が形成されてよい。所定の燃料の大群は、比較的高い速度で移動する小滴の群及び比較的低い速度で移動する小滴の群を含んでよい（速度は、燃料の大群の平均速度に対する速度である）。これらは合体して単一の燃料小滴を形成する。このように、一連の燃料小滴は、振動周波数をレイリー周波数よりかなり低い供給チャンバに適用することによって生成することができる。小滴の間の間隔は依然として平均流出速度及び振動周波数によって制御されるので、小滴の間の間隔は低下する振動周波数とともに拡大する。
【００７７】
[0080]  バイブレータ３１１からの振動を供給チャンバキャピラリ３００へと運ぶために用いられる駆動空洞３１６内の液体は、通常、溶融状態の燃料３０４を提供するために必要な温度及び冷却チャンバ３１２内の温度の両方の温度における液体である。通常、冷却チャンバ内の温度は約２５℃などの室温であり得る一方、溶融状態の燃料３０４は、例えば、約２４０℃以上の温度であり得る。液体を、駆動空洞３１６を満たす前に真空ポンプなどの従来の方法によって脱ガスできること、又は、液体を、駆動空洞３１６内で脱ガスできることが適切である。音響損失が生成され得る空洞化のリスクを最小にするために使用中に液体に圧力が加えられることが望ましい。例えば、液体は、大気圧より０．１〜５ＭＰａ多くの圧力を受ける。第２の閉鎖空間３０８から第１の空洞３１０に音響エネルギーを伝達させるために液体が導波管として本質的に機能すべきことが望ましい。駆動空洞内のあらゆる気泡の存在は、音響伝達の効率を低下し得る。駆動空洞３１６で使用するのに適した液体は、Ｔｈｅｒｍｉｎｏｌ６６（登録商標）などのテルフェニルベースの流体である。
【００７８】
[0081]  駆動空洞３１６及びその中の流体を通る供給チャンバキャピラリ３００内の圧力の振動駆動の効率を上げるためには、バイブレータは、キャピラリ３００の第１の共振周波数に対応する周波数で作動することができ、この周波数は、基本の振動共振周波数又はその倍音（すなわち、高次振動モード）であり得る。駆動空洞にチューニングデバイスを設けることにより、駆動空洞の第２の共振周波数は、供給チャンバキャピラリ３００の第１の共振周波数と合うように調整されてよい。このように、バイブレータ３１１から供給チャンバキャピラリ３００内の溶融燃料へのエネルギーの最適な伝達を達成してノズル３０１において大きな速度変調を与え、小滴形成のより優れた制御へと繋がる。これは、バイブレータ３１１からの振動駆動周波数がレイリー周波数よりかなり小さい場合に、小滴形成を、高速小滴と低速小滴との合体によって制御したときに特に効果的であり得る。
【００７９】
[0082]  冷却チャンバ３１２の内部がおよそ室内温度で維持される一方、バイブレータ３１１は、キュリー温度よりかなり低い温度で動作するように駆動された圧電アクチュエータであってよく、このバイブレータは、振動を、壁３１５を通って駆動空洞内の液体に移動させるように高効率に動作することができる。バイブレータ３１１が高温の燃料チャンバに対して遠隔に配置されることを可能にする駆動空洞の使用は、バイブレータがより低い温度で動作し、さらに、インターフェースによってバイブレータ３１１と供給チャンバキャピラリ３００の外壁との間の直接的な接触を維持する必要性も取り除く。このインターフェースは、燃料の溶融温度に近づく温度を受けるか、又は、メンテナンス中に供給チャンバキャピラリ３００が周辺温度に冷却された場合に温度の幅広い変動を受ける。代わりに、駆動空洞３１６内の液体は、熱伝達を防止又は減少させながら供給チャンバキャピラリ３００の外壁との音響接触を提供する。第１の空洞を囲う第１の閉鎖空間３０５と供給チャンバキャピラリ３００の外壁との接触が音響エネルギーを伝達することができる直接接触であることは絶対的ではない。
【００８０】
[0083]  図４は、本発明の実施形態との使用に適した図２に示す燃料小滴ジェネレータ２００の一実施形態を概略的に示す。
【００８１】
[0084]  燃料小滴ジェネレータは、導管４１４を通って供給チャンバ４０２に供給される溶融状態の液体燃料（例えば、溶融スズなどの溶融金属）を収容する燃料リザーバ（図示せず）を含む。導管４１４は、絞り穴４０９を通って供給チャンバ４０２に接続されており、この絞り穴４０９によって、供給チャンバ４０２は、導管４１４及び燃料リザーバから実質的に音響的に離されている。供給チャンバ４０２はノズル４０１を有する。示されている小滴４１３の周期的な流れは、ノズル４０１から放出されている。
【００８２】
[0085]  第１の空洞４０５は、供給チャンバ４０２の外面４０３と接触している。中空の連結チューブ４０６の内腔４０８は、第１の空洞４０５を第２の空洞４０７と接合させて駆動空洞を形成する。
【００８３】
[0086]  この実施形態では、屈曲モードで駆動されるように配置された圧電アクチュエータであるバイブレータ４１１は、第２の空洞４１０の外壁４１２に固く接続されている。
【００８４】
[0087]  冷却チャンバ（この実施形態では図示せず）が、第２の空洞４０７及びバイブレータ４１１並びに連結チューブ４０６の一部を囲んでよい。冷蔵ユニットなどの冷却デバイス及び熱交換器（図示せず）は、燃料が溶融状態で維持されるために必要な温度より低い温度でバイブレータ４１１及び第２の空洞４０７の温度を維持することができる。
【００８５】
[0088]  ノズル４０１は、例えば、その出口で直径１０ミクロン、５ミクロン、３ミクロン又はあらゆる適切な値を有してよい。バイブレータ４１１としての圧電アクチュエータは、接着剤又はセメントを用いて外壁４１２に固定されてもよい。バイブレータ４１１は、第２の空洞の外壁４１２を、ＡＡと示された方向に、所望の変調周波数によって振動させ、それによって、第１の空洞４０５及び第２の空洞４１０並びに内腔４０８によって形成される駆動空洞内の液体の圧力を調節できるように構成される。
【００８６】
[0089]  第１の実施形態で示したように、使用中、液体燃料は、リザーバの中に収容されてノズルに供給される。ノズル４０１で生成される溶融燃料の圧力の結果、そこから溶融燃料の流れが放出される。
【００８７】
[0090]  図３に示す実施形態と同様に、この実施形態に対しても、バイブレータ４１１からの振動は、第２の空洞の外壁４１２を通り、さらに駆動空洞内の液体を通って移動され、供給チャンバの外面４０３を振動させ、供給チャンバ４０２内の溶融燃料における振動圧力変動を引き起こし得る。
【００８８】
[0091]  本明細書中に記載された第１の実施形態で既に述べたように、供給チャンバ４０２の中の圧力を調節することは、ノズル４０１からの液体燃料の流出速度を調節し、液体燃料の流れがノズルを出た直後に制御された状態で小滴に分裂することをもたらす。適用される振動周波数がレイリー周波数に十分に近い場合、燃料の小滴が形成され、この小滴は、燃料ノズル４０１からの平均流出速度及び適用される振動周波数によって決定される距離によって分離される。適用される周波数がレイリー周波数よりかなり低い場合、一連の燃料小滴が形成される代わりに燃料の大群が形成され得る。所定の燃料の大群は、比較的高い速度で移動する小滴の群及び比較的低い速度で移動する小滴の群を含んでよい（速度は、燃料の大群の平均速度に対してである）。これらは合体して単一の燃料小滴を形成することができる。このように、一連の燃料小滴は、レイリー周波数よりかなり低い振動周波数を供給チャンバに適用することによって生成され得る。これらの状況の下で小滴間の間隔も平均流出速度及び振動周波数によって支配されるので、小滴間の間隔は振動周波数が減少するとともに拡大する。
【００８９】
[0092]  図３に示す燃料小滴ジェネレータの実施形態に述べた例及び特徴は、図４に示す実施形態にも適用できる。
【００９０】
[0093]  本明細書において、ＩＣ製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的な言及がなされているが、本明細書記載のリソグラフィ装置が、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターン及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド、ＬＥＤ、フォトニックデバイス等の製造といった他の用途を有し得ることが理解されるべきである。当業者にとっては当然のことであるが、そのような別の用途においては、本明細書で使用される「ウェーハ」又は「ダイ」という用語はすべて、それぞれより一般的な「基板」又は「ターゲット部分」という用語と同義であるとみなしてよい。本明細書に記載した基板は、露光の前後を問わず、例えば、トラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、かつ露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツール、及び／又はインスペクションツールで処理されてもよい。適用可能な場合には、本明細書中の開示内容を上記のような基板プロセシングツール及びその他の基板プロセシングツールに適用してもよい。さらに基板は、例えば、多層ＩＣを作るために複数回処理されてもよいので、本明細書で使用される基板という用語は、すでに多重処理層を包含している基板を表すものとしてもよい。
【００９１】
[0094]  光リソグラフィの関連での本発明の実施形態の使用について上述のとおり具体的な言及がなされたが、当然のことながら、本発明は、他の用途、例えば、インプリントリソグラフィに使われてもよく、さらに状況が許すのであれば、光リソグラフィに限定されることはない。インプリントリソグラフィにおいては、パターニングデバイス内のトポグラフィによって、基板上に創出されるパターンが定義される。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に供給されたレジスト層の中にプレス加工され、基板上では、電磁放射、熱、圧力、又はそれらの組合せによってレジストは硬化される。パターニングデバイスは、レジストが硬化した後、レジスト内にパターンを残してレジストの外へ移動される。
【００９２】
[0095]  「レンズ」という用語は、文脈によっては、屈折、反射、磁気、電磁気、及び静電型光コンポーネントを含む様々な種類の光コンポーネントのいずれか１つ又はこれらの組合せを指すことができる。
【００９３】
[0096]  「ＥＵＶ放射」という用語は、５〜２０ｎｍの範囲内、例えば１３〜１４ｎｍの範囲内、あるいは、例えば６．７ｎｍ又は６．８ｎｍなどの５〜１０ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射を包含していると考えられてよい。
【００９４】
[0097]  本発明の具体的な実施形態を上記で説明したが、当然のことながら、説明したもの以外でも本発明を行ってもよい。上記の説明は、制限ではなく例示を意図したものである。したがって、当業者には明らかなように、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本記載の発明に変更を加えてもよい。
【００９５】
[0098]  本明細書における「好ましい」、「好ましくは」、「好まれた」又は「より好ましい」などの用語の使用は、説明した特徴が望ましいことを示唆しているが、必須の特徴ではなく、そのような特徴を欠く実施形態を添付の特許請求の範囲に規定された本発明の範囲内で考察してもよいことが理解されたい。特許請求の範囲に関して、「ａ」、「ａｎ」等の冠詞、「少なくとも一つ」又は「少なくとも一部」などの用語が特徴の前に使用されている場合、請求項において特段明記しない限り請求項をその一つの特徴のみに限定することを意図していない。「少なくとも一部」及び／又は「一部」という用語が使用されている場合、その要素は、特段明記しない限り要素の一部及び／又は要素全体を含むことができる。
【図１】
0005952399.tif 000004
【図２】
0005952399.tif 000005
【図３】
0005952399.tif 000006
【図４】
0005952399.tif 000007