(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物を載置するステージと、
そのステージを間に挟んで互いに対向するように配置された放射線照射手段および放射線検出手段と、
前記放射線照射手段から照射されて前記対象物を透過した放射線を前記放射線検出手段で検出することにより得られた複数の投影画像に基づいて、断層画像を演算する演算手段と
を備えた放射線撮影装置であって、
２つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなり、各々の直進駆動機構によって駆動される被駆動部の合成された軌道が円軌道に準じた軌道となるよう、前記放射線照射手段、前記ステージの少なくとも一方を前記被駆動部として駆動する合成駆動手段と、
その合成駆動手段を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、
反転領域における各々の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量の絶対値を、円軌道のときの反転領域における移動量よりも大きくした正の値を有する所定値以上または“０”にするという条件のもとに、各々の直進駆動機構をそれぞれ制御して前記円軌道に準じた軌道を実現するとともに、
前記円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、前記円軌道の同心円で２倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を前記円軌道に準じた軌道として、前記合成駆動手段を制御することを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項２】
対象物を載置するステージと、
そのステージを間に挟んで互いに対向するように配置された放射線照射手段および放射線検出手段と、
前記放射線照射手段から照射されて前記対象物を透過した放射線を前記放射線検出手段で検出することにより得られた複数の投影画像に基づいて、断層画像を演算する演算手段と
を備えた放射線撮影装置であって、
２つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなり、各々の直進駆動機構によって駆動される被駆動部の合成された軌道が円軌道に準じた軌道となるよう、前記放射線照射手段、前記ステージの少なくとも一方を前記被駆動部として駆動する合成駆動手段と、
その合成駆動手段を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、
単位ステップ当たりの移動量の絶対値を、正の値を有する所定値以上または“０”にするという条件のもとに、各々の直進駆動機構をそれぞれ制御して前記円軌道に準じた軌道を実現するとともに、
前記円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、前記円軌道の同心円で２倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を前記円軌道に準じた軌道として、前記合成駆動手段を制御し、
前記合成駆動手段は直交する２つの直進駆動機構からなるものであり、
前記制御手段は、
単位ステップ当たりの移動量が前記所定値以上である間は前記被駆動部の軌道が前記円軌道そのものとなるよう前記合成駆動手段を制御するとともに、
一方の直進駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、その一方の直進駆動機構の前記単位ステップ当たりの移動量を“０”に設定し、同様に、他方の直進駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、その他方の直進駆動機構の前記単位ステップ当たりの移動量を“０”に設定することによって、前記被駆動部の軌道が前記円軌道に準じた軌道となるよう各々の直進駆動機構をそれぞれ制御することを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項３】
請求項１に記載の放射線撮影装置において、
前記合成駆動手段は直交する２つの直進駆動機構からなるものであり、
前記制御手段は、
前記反転領域以外である間は前記被駆動部の軌道が前記円軌道そのものとなるよう前記合成駆動手段を制御するとともに、
一方の直進駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、その一方の直進駆動機構の前記単位ステップ当たりの移動量を前記所定値以上の固定値に設定し、同様に、他方の直進駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、その他方の直進駆動機構の前記単位ステップ当たりの移動量の絶対値を前記固定値に設定することによって、前記被駆動部の軌道が前記円軌道に準じた軌道となるよう直進駆動機構をそれぞれ制御することを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項４】
請求項１に記載の放射線撮影装置において、
前記合成駆動手段は直交する２つの直進駆動機構からなるものであり、
前記円軌道に準じた軌道は、前記小円軌道から前記大円軌道までの範囲の軌道、かつ四角形軌道であって、
前記制御手段は、前記四角形軌道の一つの辺に対応する駆動をする時には、一方の前記直進駆動機構による前記単位ステップあたりの移動量を前記所定値以上の固定値に設定して駆動するとともに、他方の前記直進駆動機構による前記単位ステップ当たりの移動量を“０”に設定することで、前記四角形軌道を実現することを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項５】
請求項１に記載の放射線撮影装置において、
前記合成駆動手段は直交する２つの直進駆動機構からなるものであり、
前記円軌道に準じた軌道は、前記小円軌道から前記大円軌道までの範囲の軌道、かつ四角形軌道であって、
前記制御手段は、前記四角形軌道の一つの辺に対応する駆動をする時には、一方の前記直進駆動機構による前記単位ステップあたりの移動量の絶対値を前記所定値以上の固定値に設定して駆動するとともに、他方の前記直進駆動機構による前記単位ステップ当たりの移動量の絶対値を前記固定値に設定して駆動することで、前記四角形軌道を実現することを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の放射線撮影装置において、
前記合成駆動手段による前記被駆動部の駆動に同期させて、前記放射線検出手段を駆動する検出用駆動手段を備えることを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項７】
請求項６に記載の放射線撮影装置において、
前記放射線照射手段から照射された放射線が前記対象物の注目点を透過して前記放射線検出手段の中心部分で検出されるように、前記検出用駆動手段は前記放射線検出手段を駆動することを特徴とする放射線撮影装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、複数の投影画像に基づいて断層画像を取得して放射線撮影を行う放射線撮影装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線撮影装置として、Ｘ線検査装置を例に採って説明する。従来、この種のＸ線検査装置は、図７に示すように、対象物Ｏを載置するステージＳと、そのステージＳを間に挟んで互いに対向するように配置されたＸ線管Ｔ（放射線照射手段）およびＸ線検出器Ｄ（放射線検出手段）とを備えている。ステージＳは、回転機構を有する回転ステージとなっており、回転軸Ａｘの軸心周りに回転ステージを回転駆動する。【０００３】
なお、Ｘ線検査の対象物としては、実装基板、多層基板のスルーホール／パターン／はんだ接合部、パレット上に配置された集積回路（IC: Integrated Circuit）のような実装前の電子部品、金属などの鋳物、ビデオデッキのような成型品などがある。【０００４】
特に、Ball Grid Array(BGA)や配線などの非常に微細な構造を有する対象物に対する断層撮影によりＸ線検査を行う際には、拡大率を大きくして撮影する必要がある。しかし、拡大率を大きくするには、Ｘ線管に代表される放射線源と対象物とを近づけて撮影する必要があるので、対象物が平面に広い形状の場合にはＸ線管と対象物とが互いに干渉してしまう恐れがある。その結果、干渉を避けるために拡大率をあまり上げることができない。【０００５】
そこで、図８に示すように、回転ステージＳと、回転ステージＳを回転駆動する回転軸Ａｘに対して一定角度（ラミノ角）傾いた軸方向にＸ線管ＴとＸ線検出器Ｄとを配置する（例えば、特許文献１参照）。図８の場合には、Ｘ線管Ｔを固定で配置し、回転軸Ａｘの軸心周りに回転ステージＳを回転駆動する。データ取得時には、ラミノ角傾いた斜め方向からＸ線管Ｔから照射されて対象物Ｏを透過したＸ線をＸ線検出器Ｄが検出して、それに基づいてＸ線検出器Ｄの検出面に投影された投影画像を取得する。回転ステージＳを回転駆動する度に投影画像を取得することで複数の角度からの投影画像を取得する。【０００６】
このように、ラミノ角傾いた斜め方向にＸ線管とＸ線検出器とを配置して斜め方向から撮影することで、Ｘ線管と、回転ステージひいては対象物とを近づけることができ、Ｘ線管と対象物とが互いに干渉することなく高拡大率の投影画像が得られるという利点がある。しかし、駆動系の自由度の制約があるので、任意の位置から対象物の投影画像を取得するのが難しく、用途がＣＴ(Computed Tomography)に限定されてしまうという欠点がある。【０００７】
そこで、例えば図９に示すように、ステージＳに特別な回転機構を有さない装置で、斜め方向からの撮影を実現する方法が知られている（例えば、特許文献２、３参照）。図９では、対象物ＯとともにステージＳを回転軸Ａｘに垂直な平面（図９では水平面）で円軌道を描くように平行移動（直進移動）させ、ステージＳの移動に同期させて同一の回転軸Ａｘの軸心周りにＸ線検出器Ｄを回転駆動することで、複数の投影画像を取得し、さらには複数の投影画像に基づいて断層画像を取得する。【０００８】
このように、図９における撮影時のＸ線管、対象物およびＸ線検出器の相対的な幾何関係が、図８の場合（対象物および回転ステージが回転軸Ａｘの軸心周りに回転駆動した場合）と同じになるようにそれぞれを同期駆動することで、斜め方向からの撮影を実現している。なお、図９の場合には図８と相違して、ステージＳの向きを一定に固定することができる。また、斜め方向からの撮影を実現する装置構成については、図９以外にも多数あり、例えばステージ（および対象物）を固定して、Ｘ線管およびＸ線検出器を駆動する方法などがある（例えば、特許文献４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−１０６５１５号公報
【特許文献２】特開２０１０−２２２１号公報
【特許文献３】特開２００６−１６２３３５号公報
【特許文献４】特許第４４０９０４３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、図９に示すように、斜め方向からＣＴ撮影する場合には、ＣＴ専用装置においてステージ回転の１自由度のみであるのに比べて駆動系の自由度が多く、各駆動系の駆動精度が重要となる。特に、ステージとＸ線検出器とが互いに独立した駆動機構となっているので、理想的な断層撮影の走査軌道を得るために、高精度な位置決め、同期が可能な機構と制御とが必要になり、高価になるという問題点がある。【００１１】
具体的に説明すると、Ｘ線管とステージとを近づけて高拡大率で撮影するほど、ステージの駆動精度が投影画像に与える影響が大きくなる。このため、高拡大率で斜め方向からＣＴ撮影する場合には、ステージが高精度で円軌道を描くように動作する必要がある。このようなステージの高精度な駆動の実現のためには、メカが高剛性であること、微小な位置制御（位置決め）が可能であることが必要になり、コストが高くなるという問題点がある。【００１２】
また、ステージが円軌道を描くように動作するには、図１０に示すように直交する２軸（直交座標系のＸ軸，Ｙ軸）の駆動系が、９０°位相がずれた正弦波（ｓｉｎ波）となるようにそれぞれの位置の制御をすればよい。図１０中のＰＸはＸ座標値であり、ＰＹはＹ座標値である。しかし、撮影時にある回転角度で等間隔にサンプリングする場合、駆動量はｓｉｎ波のゲインが大きくなる位置（図１０中のＹ座標における角度θが０°，１８０°，３６０°付近、Ｘ座標における角度θが９０°，２７０°付近）で各軸の駆動量が小さくなり、しかも駆動方向が反転する必要がある。このように、駆動方向が反転する位置で微小駆動するので、静止摩擦やバックラッシュの影響が大きくなり、駆動精度の確保が難しくなるという問題がある。【００１３】
これらの問題は、ステージとＸ線検出器とを駆動して斜め方向からＣＴ撮影する場合だけに限らない。例えば、Ｘ線管とＸ線検出器とを駆動して斜め方向からＣＴ撮影する場合でも、高拡大率で斜めＣＴ機能を実現しようとするためには、Ｘ線管が高精度で円軌道を描く必要があるという同じ問題を有している。【００１４】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、低コストで、駆動精度を保つことができる放射線撮影装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、この発明の放射線撮影装置は、対象物を載置するステージと、そのステージを間に挟んで互いに対向するように配置された放射線照射手段および放射線検出手段と、前記放射線照射手段から照射されて前記対象物を透過した放射線を前記放射線検出手段で検出することにより得られた複数の投影画像に基づいて、断層画像を演算する演算手段とを備えた放射線撮影装置であって、２つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなり、各々の直進駆動機構によって駆動される被駆動部の合成された軌道が円軌道に準じた軌道となるよう、前記放射線照射手段、前記ステージの少なくとも一方を前記被駆動部として駆動する合成駆動手段と、その合成駆動手段を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、反転領域における各々の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量の絶対値を、円軌道のときの反転領域における移動量よりも大きくした正の値を有する所定値以上または“０”に設定するという条件のもとに、各々の直進駆動機構をそれぞれ制御して前記円軌道に準じた軌道を実現するとともに、前記円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、前記円軌道の同心円で２倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を前記円軌道に準じた軌道として、前記合成駆動手段を制御することを特徴とするものである。
ここで、本発明における上述の断層画像とは、複数の断層画像を含む３次元断層画像であり、もちろん、1枚の断層画像の場合も含むものである。
【００１６】
２つ以上の直進駆動機構により、もし円軌道を実現する際には、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で必ず微小駆動するので、静止摩擦やバックラッシュの影響が大きくなり駆動精度を保つことができない。そこで、この発明に係る放射線撮影装置によれば、制御手段は、反転領域における各々の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量の絶対値を、円軌道のときの反転領域における移動量よりも大きくした正の値を有する所定値以上または“０”にするという条件のもとに、各々の直進駆動機構をそれぞれ制御して円軌道に準じた軌道を実現する。この制御により、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で微小駆動せずに、当該所定値以上の移動量あるいは“０”の移動量（すなわち停止状態）となる。また、制御手段は、円軌道という制約を外して、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で微小駆動しないという制約の下で、当該円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、当該円軌道の同心円で２倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を当該円軌道に準じた軌道として、放射線照射手段、ステージの少なくとも一方を被駆動部として駆動して制御する。この際、各々の直進駆動機構によって駆動される被駆動部の合成された軌道が（上述した）円軌道に準じた軌道となるように、制御手段は、２つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなる合成駆動手段を制御する。これにより、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で微小駆動することなく、駆動精度を保つことができる。また、２つの直進駆動機構のうち、一方の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量を“０”（すなわち停止状態）に設定して、他方の直進駆動機構のみで動作させて直進駆動するという動きを採り入れた軌道とすることで、各々の直進駆動機構（駆動系）での位置制御が簡易なものとなり、駆動精度も保ちやすくなるという効果がある。また、駆動精度がよくなることでメカ的に必要な剛性の条件が緩和されるので、コストダウンにもつながり、各々の直進駆動機構（駆動系）において低コストを実現することができる。
【００１７】
上述した発明（前者の発明）とは別の発明（後者の発明）は、対象物を載置するステージと、そのステージを間に挟んで互いに対向するように配置された放射線照射手段および放射線検出手段と、前記放射線照射手段から照射されて前記対象物を透過した放射線を前記放射線検出手段で検出することにより得られた複数の投影画像に基づいて、断層画像を演算する演算手段とを備えた放射線撮影装置であって、２つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなり、各々の直進駆動機構によって駆動される被駆動部の合成された軌道が円軌道に準じた軌道となるよう、前記放射線照射手段、前記ステージの少なくとも一方を前記被駆動部として駆動する合成駆動手段と、その合成駆動手段を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、単位ステップ当たりの移動量の絶対値を、正の値を有する所定値以上または“０”にするという条件のもとに、各々の直進駆動機構をそれぞれ制御して前記円軌道に準じた軌道を実現するとともに、前記円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、前記円軌道の同心円で２倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を前記円軌道に準じた軌道として、前記合成駆動手段を制御するものである。
さらに、上述した合成駆動手段は直交する２つの直進駆動機構からなるものであり、単位ステップ当たりの移動量が（正の値を有する）所定値以上である間は被駆動部の軌道が円軌道そのものとなるよう合成駆動手段を制御するとともに、一方の直進駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、その一方の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量を“０”に設定し、同様に、他方の直進駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、その他方の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量を“０”に設定することによって、被駆動部の軌道が円軌道に準じた軌道となるよう各々の直進駆動機構をそれぞれ制御することである。つまり、２つの直進駆動機構のうち、いずれか一方の直進駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、その一方の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量を“０”に設定し、他の領域（すなわち、単位ステップ当たりの移動量が正の値を有する所定値以上である間）では当該円軌道と同じ軌道とすることで、円軌道から外れるときに生じる偽像の影響をできるだけ小さくして、かつ問題となる領域（直進駆動機構の駆動方向が反転する領域）での駆動精度を向上させることができる。なお、前者の発明における所定値は、円軌道のときの反転領域における移動量よりも大きくした正の値を有するのに対して、後者の発明における所定値は、単に正の値であることに留意されたい。
上述した発明（前者の発明）の一例は、上述した合成駆動手段は直交する２つの直進駆動機構からなるものであり、制御手段は、反転領域以外である間は被駆動部の軌道が円軌道そのものとなるよう合成駆動手段を制御するとともに、一方の直進駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、その一方の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量を（円軌道のときの反転領域における移動量よりも大きくした正の値を有する）所定値以上の固定値に設定し、同様に、他方の直進駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、その他方の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量の絶対値を（上述した）固定値に設定することによって、被駆動部の軌道が円軌道に準じた軌道となるよう直進駆動機構をそれぞれ制御することである。つまり、２つの直進駆動機構のうち、いずれか一方の直進駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、その一方の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量，または移動量の絶対値を円軌道のときの反転領域における移動量よりも大きくした正の値を有する所定値以上の固定値に設定することで、図５（ｂ）に示すように、反転する領域のみ頂点を有し、それ以外の領域では円軌道である円頂点はみ出し軌道とし、円軌道から外れるときに生じる偽像の影響をできるだけ小さくして、かつ問題となる領域（直進駆動機構の駆動方向が反転する領域）での駆動精度を向上させることができる。
【００１８】
上述した発明（前者の発明）の他の一例は、上述した合成駆動手段は直交する２つの直進駆動機構からなるものであり、円軌道に準じた軌道は、当該小円軌道から当該大円軌道までの範囲の軌道、かつ四角形軌道であって、制御手段は、四角形軌道の一つの辺に対応する駆動をする時には、一方の直進駆動機構による単位ステップあたりの移動量を（正の値を有する）所定値以上の固定値に設定して駆動するとともに、他方の直進駆動機構による単位ステップ当たりの移動量を“０”に設定することで、当該四角形軌道を実現することである。四角形軌道の一つの辺に対応する駆動をする時には、他方の直進駆動機構を“０”の移動量（すなわち停止状態）に設定し、一方の直進駆動機構による単位ステップあたりの移動量を（正の値を有する）所定値以上の固定値に設定して当該四角形軌道を実現することで位置制御が簡易なものとなり、駆動精度が向上する。また、直進軌道であるので、円軌道よりも短時間で駆動することが可能で、撮影に関するデータ収集時間の短縮が可能となる。
上述した発明（前者の発明）のさらなる他の一例は、上述した合成駆動手段は直交する２つの直進駆動機構からなるものであり、円軌道に準じた軌道は、当該小円軌道から当該大円軌道までの範囲の軌道、かつ四角形軌道であって、制御手段は、四角形軌道の一つの辺に対応する駆動をする時には、一方の直進駆動機構による単位ステップあたりの移動量の絶対値を（正の値を有する）所定値以上の固定値に設定して駆動するとともに、他方の直進駆動機構による単位ステップ当たりの移動量の絶対値を（上述した）固定値に設定して駆動することで、四角形軌道を実現することである。四角形軌道の一つの辺に対応する駆動をする時には、各々の直進駆動機構による単位ステップ当たりの移動量の絶対値を（正の値を有する）所定値以上の固定値にそれぞれ設定することで、図５（ａ）に示すように、直進駆動機構の駆動軸方向に頂点を有する四角形軌道とし、位置制御が簡易なものとなり、駆動精度が向上する。また、直進軌道であるので、円軌道よりも短時間で駆動することが可能で、撮影に関するデータ収集時間の短縮が可能となる。
【００１９】  上述したこれらの発明において、上述の合成駆動手段による当該被駆動部の駆動に同期させて、放射線検出手段を駆動する検出用駆動手段を備えるのが好ましい。放射線検出手段も動作させることで撮影視野を確保することができ、より広い領域の断層画像を算出することができる。【００２０】
検出用駆動手段を備えた場合において、放射線照射手段から照射された放射線が対象物の注目点を透過して放射線検出手段の中心部分で検出されるように、検出用駆動手段は放射線検出手段を駆動するのがより好ましい。注目点を放射線検出手段の中心部分で捉えることで、断層画像を算出する際にほぼ同じ位置（注目点）で再構成（バックプロジェクション）することが可能となり、撮影視野の中心を基準とした十分広い範囲の断層画像を得ることができる。
【発明の効果】
【００２１】
この発明に係る放射線撮影装置（前者および後者の発明）によれば、制御手段は、円軌道という制約を外して、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で微小駆動しないという制約の下で、当該円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、当該円軌道の同心円で２倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を当該円軌道に準じた軌道として、放射線照射手段、ステージの少なくとも一方を被駆動部として駆動して制御して、２つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなる合成駆動手段を制御する。その結果、低コストで、駆動精度を保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施例に係るＸ線検査装置の概略構成図である。
【図２】実施例に係るＸ線検査装置のブロック図である。
【図３】（ａ）は、円軌道の他に、円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道、円軌道の同心円で２倍の大きさを有する大円軌道、円軌道に内接し小円軌道に外接する正三角形および大円軌道に内接し円軌道に外接する正三角形を併せて図示した概略図、（ｂ）は、円軌道および大円軌道の他に、大円軌道に内接する正六角形、正六角形の対角を結び円軌道・大円軌道の中心を通る辺で正六角形を分割した正三角形、正六角形の対角を結び円軌道・大円軌道の中心を通らない辺および当該辺・正三角形の辺・大円軌道の中心を通る辺で形成された直角三角形を併せて図示した概略図である。
【図４】（ａ）は、（ｂ）および（ｃ）の比較のための通常の円軌道および円軌道を実現するときのＸ座標値・Ｙ座標値、（ｂ）は、円軌道をショートカットした軌道およびその軌道を実現するときのＸ座標値・Ｙ座標値、（ｃ）は、四角形軌道およびその軌道を実現するときのＸ座標値・Ｙ座標値である。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は、変形例に係る円軌道に準じた軌道の各形態である。
【図６】（ａ）〜（ｅ）は、変形例に係る斜め撮影を実施するための各駆動形態である。
【図７】従来の撮影の概略図である。
【図８】従来の斜め撮影の概略図である。
【図９】ステージを平行移動させ、ステージの移動に同期させてＸ線検出器を回転駆動させたときの従来の斜め撮影の概略図である。
【図１０】通常の円軌道を実現するときのＸ座標値・Ｙ座標値である。
【発明を実施するための形態】
【実施例】
【００２３】
以下、図面を参照してこの発明の実施例を説明する。図１は、実施例に係るＸ線検査装置の概略構成図であり、図２は、実施例に係るＸ線検査装置のブロック図である。本実施例では、放射線撮影装置として、Ｘ線検査装置を例に採って説明する。【００２４】  図１に示すように、Ｘ線検査装置１は、対象物Ｏを載置するステージ２と、そのステージ２を間に挟んで互いに対向するように配置されたＸ線管３およびＸ線検出器４とを備えている。Ｘ線検出器４については、イメージインテンシファイア（Ｉ．Ｉ）やフラットパネル型Ｘ線検出器（FPD: Flat Panel Detector）などに例示されるように、特に限定されない。本実施例では、Ｘ線検出器４としてフラットパネル型Ｘ線検出器（ＦＰＤ）を例に採って説明する。ステージ２は、この発明におけるステージに相当し、Ｘ線管３は、この発明における放射線照射手段に相当し、Ｘ線検出器４は、この発明における放射線検出手段に相当する。また、ステージ２は、この発明における被駆動部にも相当する。【００２５】
ＦＰＤは、画素に対応して縦横に並べられた複数の検出素子からなり、Ｘ線を検出素子が検出して、検出されたＸ線のデータ（電荷信号）をＸ線検出信号として出力する。このようにして、Ｘ線管３から照射されて対象物Ｏを透過したＸ線をＦＰＤからなるＸ線検出器４が検出してＸ線検出信号を出力し、Ｘ線検出信号に基づく画素値を画素に対応してそれぞれ並べることで、Ｘ線検出器４の検出面に投影された投影画像を取得する。【００２６】
その他に、Ｘ線検査装置１は、図１に示すように、Ｘ線検出器４を矢印Ｒ１周りに回転駆動する検出器回転機構５と、Ｘ線検出器４を矢印Ｒ２方向に傾動させる検出器傾動機構６とを備えている。検出器傾動機構６は、Ｘ線検出器４を支持する円弧状のガイド部６ａ、および回転モータ６ｂ（図２を参照）からなり、回転モータ６ｂが回転駆動することで、ガイド部６ａに沿ってＸ線検出器４が矢印Ｒ２方向に傾動する。検出器回転機構５は、この発明における検出用駆動手段に相当する。【００２７】
検出器回転機構５は、回転モータ５ａ（図２を参照）からなり、回転モータ５ａが検出器傾動機構６のガイド部６ａを矢印Ｒ１周りに回転駆動することで、ガイド部６ａに支持されたＸ線検出器４も矢印Ｒ１周りに回転駆動する。また、本実施例では、検出器回転機構５は、ステージ２の駆動に同期させてＸ線検出器４を矢印Ｒ１周りに回転駆動する。特に、Ｘ線管３から照射されたＸ線が対象物Ｏの注目点を透過して放射線検出器４の中心部分で検出されるように、検出器回転機構５はＸ線検出器４を矢印Ｒ１周りに回転駆動する。【００２８】
その他に、Ｘ線検査装置１は、図２に示すように、ステージ２を直交座標系Ｘ，Ｙ，Ｚ（図１を参照）でそれぞれ直進駆動するステージ駆動機構７と、複数の投影画像に基づいて断層画像を算出して演算する断層画像算出部８と、これらを統括制御するコントローラ９と、断層画像算出部８で得られた断層画像を出力（モニタに表示出力あるいはプリンタに印刷出力）する画像出力部１０とを備えている。ステージ駆動機構７は、ステージ２をＸ方向に直進駆動（ここでは水平駆動）するＸ軸直進モータ７ａ、ステージ２をＹ方向に直進駆動（ここでは水平駆動）するＹ軸直進モータ７ｂ、およびステージ２をＺ方向に直進駆動（ここでは昇降駆動）するＺ軸直進モータ７ｃからなる。本実施例では、各々のＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂによる軌道の合成が円軌道に準じた軌道で、ステージ２を駆動する。円軌道に準じた軌道については、詳しく後述する。ステージ駆動機構７は、この発明における合成駆動手段に相当し、Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂおよびＺ軸直進モータ７ｃは、この発明における直進駆動機構に相当し、断層画像算出部８は、この発明における演算手段に相当し、コントローラ９は、この発明における制御手段に相当する。【００２９】
断層画像算出部８は、複数の投影画像に基づいて断層画像を算出して演算する。コントローラ９は、Ｘ線検査装置１を構成する各部分を統括制御し、特に、検出器回転機構５の回転モータ５ａ、検出器傾動機構６の回転モータ６ｂ、ステージ駆動機構７のＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂおよびＺ軸直進モータ７ｃをそれぞれ制御する。図１ではＸ線管３は固定位置であったが、Ｘ線検出器４の傾動に応じてＸ線管３を傾斜可能にコントローラ９は制御してもよい。コントローラ９による具体的な制御についても、詳しく後述する。上述の断層画像算出部８やコントローラ９は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）などで構成されている。【００３０】
図１に示すように、Ｘ線管３、対象物ＯおよびＸ線検出器４を配置することで、図９と同様に、ラミノ角傾いた斜め方向にＸ線管３とＸ線検出器４とを配置して斜め方向から撮影することができる。そして、Ｘ線管３と、ステージ２ひいては対象物Ｏとを近づけることができ、Ｘ線管３と対象物Ｏとが互いに干渉することなく高拡大率の投影画像を得ることができる。ステージ２を円軌道に準じた軌道で駆動する度に投影画像を取得することで複数の角度からの投影画像を取得し、図２に示す断層画像算出部８は、複数の投影画像に基づいて断層画像を算出して演算する。【００３１】
ここで、円軌道に準じた軌道の範囲について、図３を参照して説明する。図３（ａ）は、円軌道の他に、円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道、円軌道の同心円で２倍の大きさを有する大円軌道、円軌道に内接し小円軌道に外接する正三角形および大円軌道に内接し円軌道に外接する正三角形を併せて図示した概略図であり、図３（ｂ）は、円軌道および大円軌道の他に、大円軌道に内接する正六角形、正六角形の対角を結び円軌道・大円軌道の中心を通る辺で正六角形を分割した正三角形、正六角形の対角を結び円軌道・大円軌道の中心を通らない辺および当該辺・正三角形の辺・大円軌道の中心を通る辺で形成された直角三角形を併せて図示した概略図である。【００３２】
円軌道に準じた軌道は無制限でなく、本明細書では、標準となる円軌道の同心円で半分の大きさを有する円軌道を「小円軌道」、標準となる円軌道の同心円で２倍の大きさを有する円軌道を「大円軌道」とそれぞれ定義づけると、小円軌道から大円軌道までの範囲の軌道を円軌道に準じた軌道とする。したがって、小円軌道よりも内側に描くことなく、かつ大円軌道よりも外側に描くことがない軌道が、円軌道に準じた軌道となる。ここで、小円軌道を（標準となる）円軌道の同心円で半分の大きさを有する円軌道とし、大円軌道を（標準となる）円軌道の同心円で２倍の大きさを有する円軌道としたのは、以下の理由である。【００３３】
（標準となる）円軌道に内接する正多角形を考えると、その正多角形に内接する円が最も小さくなるのは、その正多角形は正三角形であって、その正三角形に内接する円である。逆に、（標準となる）円軌道に外接する正多角形を考えると、その正多角形に外接する円が最も大きくなるのは、その正多角形は正三角形であって、その正三角形に外接する円である。図３（ａ）に示すように、標準となる円軌道をＣとし、（標準となる）円軌道Ｃに内接する正三角形をＴＲ１とし、その正三角形ＴＲ１に内接する円軌道をＣＳとし、（標準となる）円軌道Ｃに外接する正三角形をＴＲ２とし、その正三角形ＴＲ２に外接する円軌道をＣＢとする。【００３４】
（標準となる）円軌道Ｃの径、正三角形ＴＲ２に外接する円軌道ＣＢの径の関係についてのみ着目する。図３（ｂ）に示すように、円軌道ＣＢに内接する正六角形をＨＥＸとし、正六角形ＨＥＸの対角を結び円軌道Ｃ・ＣＢの中心を通る辺で正六角形ＨＥＸを分割した正三角形をＴＲ３とすると、正六角形ＨＥＸが６つの正三角形ＴＲ３に分割される。一方、図３（ｂ）に示すように、正六角形ＨＥＸの対角を結び円軌道Ｃ・ＣＢの中心を通らない辺をＡＢとし、当該辺ＡＢ・正三角形ＴＲ３の辺・円軌道ＣＢの中心を通る辺で形成された直角三角形をＴＲ４とする（図３（ｂ）の太枠を参照）。【００３５】
直角三角形ＴＲ４は、正三角形ＴＲ３の頂点から垂線（辺ＡＢの一部）を下ろした線で二等分された三角形となり、直角三角形ＴＲ４の斜辺の長さが円軌道ＣＢの半径となり、垂線と直交する辺の長さが（標準となる）円軌道Ｃの半径となる。直角三角形ＴＲ４の斜辺の長さ：垂線と直交する辺の長さは２：１の関係である。したがって、図３（ｂ）に示すように、（標準となる）円軌道Ｃの半径をｒとすると、垂線と直交する辺の長さは円軌道Ｃの半径ｒと等しく、直角三角形ＴＲ４の斜辺の長さは２ｒとなり、その結果、円軌道ＣＢの半径は直角三角形ＴＲ４の斜辺の長さ２ｒと等しくなる。【００３６】
つまり、図３（ａ）の正三角形ＴＲ２に外接する円軌道ＣＢの半径は２ｒで、（標準となる）円軌道Ｃの半径ｒの２倍となり、円軌道ＣＢは、円軌道Ｃの同心円で２倍の大きさを有する大円軌道となる。よって、大円軌道ＣＢを（標準となる）円軌道Ｃの同心円で２倍の大きさを有する円軌道とする。同様の理由で、（標準となる）円軌道Ｃを（図３（ａ）の正三角形ＴＲ１に内接する）円軌道ＣＳに置き換え、大円軌道ＣＢを（標準となる）円軌道Ｃに置き換えた場合には、円軌道Ｃは、円軌道ＣＳの同心円で２倍の大きさを有する円軌道となる。言い換えれば、円軌道ＣＳは、円軌道Ｃの同心円で半分の大きさを有する小円軌道となる。【００３７】
次に、具体的な円軌道に準じた軌道の例について、図４を参照して説明する。図４（ａ）は、図４（ｂ）および図４（ｃ）の比較のための通常の円軌道および円軌道を実現するときのＸ座標値・Ｙ座標値であり、図４（ｂ）は、円軌道をショートカットした軌道およびその軌道を実現するときのＸ座標値・Ｙ座標値であり、図４（ｃ）は、四角形軌道およびその軌道を実現するときのＸ座標値・Ｙ座標値である。図４（ａ）〜図４（ｃ）の横軸は、図４（ａ）〜図４（ｃ）中のθを、図４（ａ）〜図４（ｃ）の黒丸が示す始点（θ＝０°）から図４（ａ）〜図４（ｃ）の矢印が示す終点（θ＝３６０°）までとった角度軸であり、図４（ａ）〜図４（ｃ）の縦軸は、Ｘ座標値・Ｙ座標値である。また、図４（ａ）の円軌道を実現するときのＸ座標値・Ｙ座標値は、図１０に示すＸ座標値・Ｙ座標値と同じである。【００３８】
従来の通常の円軌道は、図４（ａ）に示すように、図１０で述べたのと同様にＸ座標値ＰＸ，Ｙ座標値ＰＹが円軌道を描くために正弦波（ｓｉｎ波）となる。したがって、駆動量（単位ステップ当たりの移動量の絶対値）は、ｓｉｎ波のゲインが大きくなる領域（図４（ａ）中のＹ座標における角度θが０°，１８０°，３６０°付近、Ｘ座標における角度θが９０°，２７０°付近）でそれぞれ小さくなって、Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂ（図１を参照）の駆動方向がそれぞれ反転する。したがって、Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂによりステージ２を直進駆動して、もしＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂによる軌道の合成が図４（ａ）に示す円軌道の場合には、上述した静止摩擦やバックラッシュの影響が大きくなり、駆動精度の確保が難しくなる。【００３９】
そこで、図４（ａ）以外の図４に示すように円軌道という制約を外して、軌道の少なくとも一部に直線的な軌道（直進駆動）を採り入れる。そして、円軌道でみられる駆動方向が反転する位置での微小駆動をなくすことが可能な軌道の例は多数存在し、これらの軌道を「円軌道に準じた軌道」とする。なお、標準となる円軌道からあまりにも外れすぎる（例えば短軸の４倍を超えた長さの長軸を有した楕円などの場合）と、外れすぎた場合に得られた複数の投影画像に基づいて断層画像を算出して演算すると、標準となる円軌道で再構成された断層画像に対して正しい値が得られなくなる。これは、極端な例を考えれば、ＣＴと斜めＣＴとの断層画像が異なることからも分かる．【００４０】
そこで、上述したように円軌道に準じた軌道は無制限でなく、円軌道Ｃ（図３（ａ）を参照）の同心円で半分の大きさを有する小円軌道ＣＳ（図３（ａ）を参照）から、円軌道Ｃの同心円で２倍の大きさを有する大円軌道ＣＢ（図３（ａ）を参照）までの範囲の軌道を円軌道に準じた軌道とする。また、図４（ａ）以外の図４に示す各軌道で得られた複数の投影画像に基づいて断層画像を算出して演算すると、標準となる円軌道で再構成された断層画像とほぼ同じ結果になることが確認されている。【００４１】  例えば、図４（ｂ）に示すように、Ｘ座標値ＰＸ，Ｙ座標値ＰＹが円軌道をショートカットした軌道を描く場合には、駆動方向が反転する位置での微小駆動量よりも大きく、正の値を有する所定値を設定する。そして、駆動量（単位ステップ当たりの移動量の絶対値）を、当該所定値以上または“０”にして、コントローラ９（図２を参照）は各々のＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂをそれぞれ制御する。【００４２】  より具体的には、直交座標系でそれぞれ直進駆動する２つのＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂによる軌道の合成が当該円軌道となるような駆動量で当該所定値以上を保ちつつ各々の２つのＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂをそれぞれ制御するとともに、各々のＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂの駆動方向が反転する領域のみ、駆動量を“０”に設定し、Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂの組み合わせからなる合成駆動手段（本実施例ではステージ駆動機構７）を制御する。つまり、各々のＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂの駆動方向が反転する領域のみ、駆動量を“０”に設定して（円軌道をショートカットした）直進軌道として、他の領域（すなわち、単位ステップ当たりの移動量が正の値を有する所定値以上である間）では当該円軌道と同じ軌道とする。したがって、図面の右に示すように、駆動方向が反転する領域のみ“０”となり、他の領域ではｓｉｎ波となる。このように、駆動方向が反転する領域のみ、駆動量を“０”に設定して直進軌道として、他の領域では当該円軌道と同じ軌道とすることで、円軌道から外れるときに生じる偽像の影響をできるだけ小さくして、かつ問題となる領域（Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂの駆動方向が反転する領域）での駆動精度を向上させることができる。【００４３】  また、例えば、図４（ｃ）に示すように、Ｘ座標値ＰＸ，Ｙ座標値ＰＹが四角形軌道（図４（ｃ）では円軌道に内接する正方形軌道）を描く場合には、同様に正の値を有する所定値を設定する。そして、駆動量（単位ステップ当たりの移動量の絶対値）を、当該所定値以上または“０”に設定し、コントローラ９は各々のＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂの組み合わせからなる合成駆動手段（本実施例ではステージ駆動機構７）を制御する。【００４４】  より具体的には、この四角形軌道は、小円軌道ＣＳから大円軌道ＣＢまでの範囲の軌道であり、コントローラ９は、四角形軌道の一つの辺に対応する駆動をする時には、一方の直進駆動機構（一方の直進駆動機構がＸ軸直進モータ７ａの場合には他方の直進駆動機構はＹ軸直進モータ７ｂ，一方の直進駆動機構がＹ軸直進モータ７ｂの場合には他方の直進���動機構はＸ軸直進モータ７ａ）による単位ステップあたりの移動量を（正の値を有する）所定値以上の固定値に設定して駆動するとともに、他方の直進駆動機構による単位ステップ当たりの移動量を“０”に設定することで、当該四角形軌道を実現する。例えば、図面の右に示すように、Ｘ軸直進モータ７ａのみを制御してＸ座標値ＰＸが四角形軌道の一つの辺に対応して変動する（Ｘ方向に直進する）場合には、Ｙ軸直進モータ７ｂでの駆動量を“０”に設定してＹ座標値ＰＹを固定にして停止状態にする。逆に、Ｙ軸直進モータ７ｂのみを制御してＹ座標値ＰＹが四角形軌道の一つの辺に対応して変動する（Ｙ方向に直進する）場合には、Ｘ軸直進モータ７ａでの駆動量を“０”に設定してＸ座標値ＰＸを固定にして停止状態にする。このように、“０”の移動量（すなわち停止状態）に設定し、一方の直進駆動機構（モータ）による単位ステップあたりの移動量を（正の値を有する）所定値以上の固定値に設定して当該四角形軌道を実現することで位置制御が簡易なものとなり、駆動精度が向上する。また、直進軌道であるので、円軌道よりも短時間で駆動することが可能で、撮影に関するデータ収集時間の短縮が可能となる。【００４５】  このように、２つ以上の直進駆動機構（本実施例ではＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂ）により、もし図４（ａ）に示す円軌道を実現する際には、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で必ず微小駆動するので、静止摩擦やバックラッシュの影響が大きくなり駆動精度を保つことができない。そこで、上述の構成を備えた本実施例に係るＸ線検査装置によれば、コントローラ９は、単位ステップ当たりの移動量の絶対値（駆動量）を、正の値を有する所定値以上または“０”にするという条件のもとに、各々の直進駆動機構（Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂ）をそれぞれ制御して円軌道に準じた軌道を実現する。この制御により、直進駆動機構（Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂ）の駆動方向が反転する位置で微小駆動せずに、当該所定値以上の移動量あるいは“０”の移動量（すなわち停止状態）となる。【００４６】  また、コントローラ９は、円軌道という制約を外して、直進駆動機構（Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂ）の駆動方向が反転する位置で微小駆動しないという制約の下で、当該円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、当該円軌道の同心円で２倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を当該円軌道に準じた軌道として、ステージ２を被駆動部として駆動して制御する。この際、各々の直進駆動機構によって駆動される被駆動部の合成された軌道が（上述した）円軌道に準じた軌道となるように、コントローラ９は、２つ以上の直進駆動機構（Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂ）の組み合わせからなる合成駆動手段（ステージ駆動機構７）を制御する。これにより、直進駆動機構（Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂ）の駆動方向が反転する位置で微小駆動することなく、駆動精度を保つことができる。【００４７】  また、２つの直進駆動機構（Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂ）のうち、一方の直進駆動機構の単位ステップ当たりの移動量を“０”（すなわち停止状態）に設定���て、他方の直進駆動機構のみで動作させて直進駆動するという動きを採り入れた軌道とすることで、各々の直進駆動機構（駆動系）での位置制御が簡易なものとなり、駆動精度も保ちやすくなるという効果がある。また、駆動精度がよくなることでメカ的に必要な剛性の条件が緩和されるので、コストダウンにもつながり、各々の直進駆動機構（駆動系）において低コストを実現することができる。【００４８】
本実施例では、好ましくは、ステージ２の駆動に同期させて、Ｘ線検出器４を駆動する検出器回転機構５を備えている。Ｘ線検出器４も動作させることで撮影視野を確保することができ、より広い領域の断層画像を算出することができる。【００４９】
検出器回転機構５を備えた場合において、好ましくは、Ｘ線管３から照射されたＸ線が対象物Ｏの注目点を透過してＸ線検出器４の中心部分で検出されるように、検出器回転機構５はＸ線検出器４を駆動する。注目点をＸ線検出器４の中心部分で捉えることで、断層画像を算出する際にほぼ同じ位置（注目点）で再構成（バックプロジェクション）することが可能となり、撮影視野の中心を基準とした十分広い範囲の断層画像を得ることができる。【００５０】
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。【００５１】
（１）上述した実施例では、放射線撮影装置として、Ｘ線検査装置を例に採って説明したが、複数の投影画像に基づいて断層画像を取得して放射線撮影を行う装置であれば、放射線についてはＸ線に限定されず、Ｘ線以外の放射線（α線、β線、γ線など）であってもよい。【００５２】
（２）対象物については特に限定されない。上述したように実装基板、多層基板のスルーホール／パターン／はんだ接合部、パレット上に配置された集積回路（ＩＣ）のような実装前の電子部品、金属などの鋳物、ビデオデッキのような成型品などに例示されるように、対象物に対する放射線撮影を行うのであればよい。【００５３】  （３）上述した実施例では、円軌道に準じた軌道は、図４（ｂ）や図４（ｃ）に示す軌道であったが、２つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなり、単位ステップ当たりの移動量の絶対値（駆動量）を、正の値を有する所定値以上または“０”に設定して、各々の直進駆動機構をそれぞれ制御するとともに、上述の小円軌道から上述の大円軌道までの範囲の軌道を円軌道に準じた軌道とするのであれば、これらに限定されない。例えば、図５（ａ）に示すように、駆動軸（この場合、Ｘ軸、Ｙ軸）方向に頂点を有する四角形軌道でもよいし、図５（ｂ）に示すように、反転する領域のみ頂点を有し、それ以外の領域では円軌道である円頂点はみ出し軌道であってもよい。その他にも、図５（ｃ）に示すように、円軌道に外接する四角形軌道（図５（ｃ）では正方形軌道）であってもよいし、図５（ｄ）に示すように、円軌道に内接あるいは外接する正三角形軌道であってもよい。【００５４】
（４）上述した実施例では、（水平面に沿った）円軌道に準じた軌道を描くのに、図２に示す２つのＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂをそれぞれ制御したが、ステージを水平姿勢のままで鉛直面に沿った円軌道に準じた軌道を描く、鉛直姿勢にしてもステージに対して（例えば支持部材により）対象物が載置可能、あるいは後述する変形例（８）のように放射線照射手段（実施例ではＸ線管３）の方を駆動するのであれば、図１に示すように水平面をＸＹ平面とし、Ｚ軸を鉛直軸としたときに、鉛直面に沿った円軌道に準じた軌道を描くように、Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｚ軸直進モータ７ｃ（図２を参照）をそれぞれ制御、あるいはＹ軸直進モータ７ｂ，Ｚ軸直進モータ７ｃをそれぞれ制御してもよい。【００５５】
（５）上述した実施例では、円軌道に準じた軌道を描くのに、水平面に沿った円軌道に準じた軌道を描くように、各々の直進駆動機構（実施例では２つのＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂ）をそれぞれ制御したが、上述の変形例（４）のように鉛直面に沿った円軌道に準じた軌道を描くように、各々の直進駆動機構をそれぞれ制御してもよいし、斜面に沿った円軌道に準じた軌道を描くように、各々の直進駆動機構をそれぞれ制御してもよい。【００５６】
（６）上述した実施例では、円軌道に準じた軌道を描くのに、図２に示す２つのＸ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂの組み合わせからなる合成駆動手段（実施例ではステージ駆動機構７）をそれぞれ制御したが、３つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなる合成駆動手段をそれぞれ制御してもよい。円軌道に準じた軌道を描くのに、例えば、Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂの他にＺ軸直進モータ７ｃ（図２を参照）を組み合わせてもよい。また、直交座標系に限定されず、例えば、Ｘ軸直進モータ７ａ，Ｙ軸直進モータ７ｂおよびＺ軸直進モータ７ｃのいずれか少なくとも１つのモータと、これらの軸に対して斜め方向の軸に沿って直進駆動するモータとを組み合わせてもよい。【００５７】
（７）上述した実施例では、図１に示すように、ラミノ角傾いた斜め方向からの放射線照射手段（実施例ではＸ線管３）と放射線検出手段（実施例ではＸ線検出器４）とを配置して斜め方向から撮影したが、各々の図６（ａ）〜図６（ｅ）に示すように放射線照射手段（Ｘ線管３）および放射線検出手段（Ｘ線検出器４）を配置してもよい。また、放射線照射手段を上側に配置し、放射線検出手段を下側に配置してもよい。【００５８】  （８）上述した実施例では、図１に示すように、ステージ２を駆動したが、放射線照射手段（実施例ではＸ線管３）、ステージ２の少なくとも一方を被駆動部として駆動するのであれば、被駆動部はステージ２のみである必要はなく、ステージ２のみの駆動に限定されない。被駆動部は放射線照射手段（Ｘ線管３）であってもよい。例えば、図６（ｂ）あるいは図６（ｅ）に示すように、放射線照射手段（Ｘ線管３）のみを被駆動部として駆動してもよいし、図６（ｃ）に示すように、放射線照射手段（Ｘ線管３）およびステージ２の双方を被駆動部として駆動してもよい。【００５９】
（９）上述した実施例では、図１に示すように、ステージ２の駆動に同期させて、放射線検出手段（実施例ではＸ線検出器４）を駆動したが、図６（ｃ）〜図６（ｅ）に示すように、放射線検出手段（Ｘ線検出器４）を駆動させずに撮影を行ってもよい。この場合には、放射線検出手段（Ｘ線検出器４）に対して特別な駆動機構が不要という効果を奏する。【００６０】
（１０）上述した実施例では、図１に示すように、放射線（実施例ではＸ線）が対象物Ｏの注目点を透過して放射線検出手段（実施例ではＸ線検出器４）の中心部分で検出されるような構造であったが、図６（ｄ）あるいは図６（ｅ）に示すように、放射線検出手段（Ｘ線検出器４）が広大であれば、必ずしも放射線検出手段（Ｘ線検出器４）の中心部分で放射線（Ｘ線）を検出する必要はない。
【符号の説明】
【００６１】
２  …  ステージ
３  …  Ｘ線管
４  …  Ｘ線検出器
５  …  検出器回転機構
７  …  ステージ駆動機構
７ａ  …  Ｘ軸直進モータ
７ｂ  …  Ｙ軸直進モータ
７ｃ  …  Ｚ軸直進モータ
８  …  断層画像算出部
９  …  コントローラ
Ｃ  …  標準となる円軌道
ＣＢ  …  大円軌道
ＣＳ  …  小円軌道
Ｏ  …  対象物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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