(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を吸着して保持する保持面と、
前記保持面内に、前記保持面の中心を取り囲むように分布し、前記保持面に対して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している少なくとも３個の周縁リフトピンと、
前記周縁リフトピンに取り囲まれる位置に配置され、前記周縁リフトピンとは独立して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している内側リフトピンと、
保持すべき基板の反りの方向を検出する反り検出装置と、
前記周縁リフトピン及び前記内側リフトピンの昇降、及び前記保持面による前記基板の吸着を制御するとともに、前記反り検出装置の検出結果に基づいて、基板が上方に向かって凸か下方に向かって凸かを判定し、判定結果に基づいて前記周縁リフトピンと前記内側リフトピンとの吸引動作を制御する制御装置と
を有し、
前記反り検出装置の検出結果に基づいて、基板が上方に向かって凸になるように反っていると判定された場合、
前記制御装置は、
前記内側リフトピンの吸引孔で吸引を行い、前記周縁リフトピンの吸引孔では吸引を行わない状態で、前記内側リフトピン及び前記周縁リフトピンの先端で前記基板を保持し、
前記内側リフトピン及び前記周縁リフトピンを下降させて、前記基板を前記保持面に接触させ、
前記保持面によって前記基板を吸着させる基板保持装置。
【請求項２】
基板を吸着して保持する保持面と、
前記保持面内に、前記保持面の中心を取り囲むように分布し、前記保持面に対して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している少なくとも３個の周縁リフトピンと、
前記周縁リフトピンに取り囲まれる位置に配置され、前記周縁リフトピンとは独立して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している内側リフトピンと、
保持すべき基板の反りの方向を検出する反り検出装置と、
前記周縁リフトピン及び前記内側リフトピンの昇降、及び前記保持面による前記基板の吸着を制御するとともに、前記反り検出装置の検出結果に基づいて、基板が上方に向かって凸か下方に向かって凸かを判定し、判定結果に基づいて前記周縁リフトピンと前記内側リフトピンとの吸引動作を制御する制御装置と、
前記周縁リフトピンの先端を、前記内側リフトピンを中心として外方に変位させる変位機構と
を有し、
前記反り検出装置の検出結果に基づいて、基板が下方に向かって凸になるように反っていると判定された場合、
前記制御装置は、
前記周縁リフトピンで吸引を行っている状態で、前記内側リフトピン及び前記周縁リフトピンの先端で前記基板を保持し、
前記内側リフトピン及び前記周縁リフトピンを下降させて、前記基板を前記保持面に接触させ、
前記変位機構により、前記周縁リフトピンの先端を外方に変位させ、
前記保持面によって前記基板を吸着させる基板保持装置。
【請求項３】
前記変位機構は、前記周縁リフトピンの先端を支持する弾性部材を含み、前記弾性部材が弾性変形することにより、前記周縁リフトピンの先端を外方に変位させる請求項２に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記変位機構は、前記周縁リフトピンを外方に移動させるアクチュエータを含む請求項２に記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記反り検出装置は、前記保持面の上方に配置され、前記保持面上に位置する基板の表面を撮像する撮像装置を含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項６】
基板を吸着して保持する保持面と、
前記保持面内に、前記保持面の中心を取り囲むように分布し、前記保持面に対して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している少なくとも３個の周縁リフトピンと、
前記周縁リフトピンに取り囲まれる位置に配置され、前記周縁リフトピンとは独立して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している内側リフトピンと、
保持すべき基板の反りの方向を検出する反り検出装置と、
前記周縁リフトピン及び前記内側リフトピンの昇降、及び前記保持面による前記基板の吸着を制御するとともに、前記反り検出装置の検出結果に基づいて、基板が上方に向かって凸か下方に向かって凸かを判定し、判定結果に基づいて前記周縁リフトピンと前記内側リフトピンとの吸引動作を制御する制御装置と
を有し、
前記反り検出装置は、前記周縁リフトピンの吸引孔及び前記内側リフトピンの吸引孔内を排気する排気路の圧力検出装置を含み、
前記制御装置は、前記保持面の上方に配置された基板に向けて、前記周縁リフトピンと
前記内側リフトピンとを上昇させ、前記周縁リフトピンの吸引孔内を排気する排気路の圧力が低下する時期と、前記内側リフトピンの吸引孔内を排気する排気路の圧力が低下する時期とを比較することにより、前記基板の反りの状態を判定する基板保持装置。
【請求項７】
基板を吸着して保持する保持面と、
前記保持面内に、前記保持面の中心を取り囲むように分布し、前記保持面に対して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している少なくとも３個の周縁リフトピンと、
前記周縁リフトピンに取り囲まれる位置に配置され、前記周縁リフトピンとは独立して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している内側リフトピンと、
保持すべき基板の反りの方向を検出する反り検出装置と
を有する基板保持装置の前記保持面に基板を保持する方法であって、
前記保持面の上方に基板を配置する工程と、
前記周縁リフトピン及び前記内側リフトピンを上昇させて、前記基板を、前記周縁リフトピン及び前記内側リフトピンの先端で支持する工程と、
前記基板が上方に向かって凸になるように反っている場合には、前記内側リフトピンで前記基板を吸引し、前記周縁リフトピンでは前記基板を吸引しない状態にして、前記基板を前記保持面まで下降させ、前記保持面に吸着させる工程と、
前記基板が下方に向かって凸になるように反っている場合には、前記周縁リフトピンで前記基板を吸引した状態にして、前記基板を前記保持面まで下降させ、前記周縁リフトピンの先端を外方に向かって変位させると共に、前記基板を前記保持面に吸着する工程と
を有する基板保持方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を支持したリフトピンを下降させて、保持面に基板を吸着する基板保持装置及び基板保持方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体プロセスに用いられる露光装置、レーザアニール装置等に、半導体ウエハ（半導体基板）を吸着するステージが用いられる。複数のプロセスを経た基板には、反りが生じている場合が多い。基板に、凹型の反り（下方に向かって凸になる反り）が生じている場合、保持面への吸着時に、吸着領域が中心から外側へ移行する。このため、基板が保持面に密着し、その表面が平面になるように、反りが矯正される。
【０００３】
基板に凸型の反り（上方に向かって凸になる反り）が生じている場合、保持面への吸着時に、吸着領域が外周部分から中心に向かって移行する。このため、基板の中心近傍で基板が保持面に密着することができず、盛り上がった形状になる。
【０００４】
特許文献１に開示された基板保持装置においては、リフトピンが基板の縁に近い位置に設けられる。凸型の反りを有する基板を、縁に近い位置に配置されたリフトピンで支持すると、基板の自重により、基板が凹型に変形する。これにより、基板を保持面に密着させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−４５９４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
基板の寸法及び厚さによっては、凸型の反りを有する基板を、縁の近傍に配置されたリフトピンで支持しても、自重のみでは凹型に変形しない場合がある。
本発明の目的は、基板の自重による変形に依存せず、基板を保持面に密着させることができる基板保持装置及び基板保持方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一観点によると、
基板を吸着して保持する保持面と、
前記保持面内に、前記保持面の中心を取り囲むように分布し、前記保持面に対して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している少なくとも３個の周縁リフトピンと、
前記周縁リフトピンに取り囲まれる位置に配置され、前記周縁リフトピンとは独立して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している内側リフトピンと、
保持すべき基板の反りの方向を検出する反り検出装置と、
前記周縁リフトピン及び前記内側リフトピンの昇降、及び前記保持面による前記基板の吸着を制御するとともに、前記反り検出装置の検出結果に基づいて、基板が上方に向かって凸か下方に向かって凸かを判定し、判定結果に基づいて前記周縁リフトピンと前記内側リフトピンとの吸引動作を制御する制御装置と
を有し、
前記反り検出装置の検出結果に基づいて、基板が上方に向かって凸になるように反っていると判定された場合、
前記制御装置は、
前記内側リフトピンの吸引孔で吸引を行い、前記周縁リフトピンの吸引孔では吸引を行わない状態で、前記内側リフトピン及び前記周縁リフトピンの先端で前記基板を保持し、
前記内側リフトピン及び前記周縁リフトピンを下降させて、前記基板を前記保持面に接触させ、
前記保持面によって前記基板を吸着させる基板保持装置が提供される。
【０００８】
本発明の他の観点によると、
基板を吸着して保持する保持面と、
前記保持面内に、前記保持面の中心を取り囲むように分布し、前記保持面に対して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している少なくとも３個の周縁リフトピンと、
前記周縁リフトピンに取り囲まれる位置に配置され、前記周縁リフトピンとは独立して昇降可能であり、先端に、基板を吸引する吸引孔が開口している内側リフトピンと、
保持すべき基板の反りの方向を検出する反り検出装置と
を有する基板保持装置の前記保持面に基板を保持する方法であって、
前記保持面の上方に基板を配置する工程と、
前記周縁リフトピン及び前記内側リフトピンを上昇させて、前記基板を、前記周縁リフトピン及び前記内側リフトピンの先端で支持する工程と、
前記基板が上方に向かって凸になるように反っている場合には、前記内側リフトピンで前記基板を吸引し、前記周縁リフトピンでは前記基板を吸引しない状態にして、前記基板を前記保持面まで下降させ、前記保持面に吸着させる工程と、
前記基板が下方に向かって凸になるように反っている場合には、前記周縁リフトピンで前記基板を吸引した状態にして、前記基板を前記保持面まで下降させ、前記周縁リフトピンの先端を外方に向かって変位させると共に、前記基板を前記保持面に吸着する工程と
を有する基板保持方法が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
基板が上方に向かって凸か、下方に向かって凸かの判定結果に基づいて、周縁リフトピンと内側リフトピンとの吸引動作を制御する。これにより、基板を保持面に密着させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１Ａは、実施例による基板保持装置の吸着ステージの平面図であり、図１Ｂの一点鎖線１Ｂ−１Ｂにおける概略断面図である。
【図２】図２は、実施例による基板保持装置の共通支持部材の平断面図である。
【図３−１】図３Ａ〜図３Ｃは、凸型の反りを有する基板を、実施例による基板保持方法で吸着する方法を説明するための吸着ステージ、リフトピン、及び基板の断面図である。
【図３−２】図３Ｄ〜図３Ｆは、凸型の反りを有する基板を、実施例による基板保持方法で吸着する方法を説明するための吸着ステージ、リフトピン、及び基板の断面図である。
【図４−１】図４Ａ〜図４Ｃは、凹型の反りを有する基板を、実施例による基板保持方法で吸着する方法を説明するための吸着ステージ、リフトピン、及び基板の断面図である。
【図４−２】図４Ｄ〜図４Ｆは、凹型の反りを有する基板を、実施例による基板保持方法で吸着する方法を説明するための吸着ステージ、リフトピン、及び基板の断面図である。
【図５】図５Ａ及び図５Ｂは、実施例の変形例１による周縁リフトピンの先端部分の正面図である。
【図６】図６は、実施例２の変形例２による基板保持装置の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
図１Ａに、実施例による基板保持装置に用いられる吸着ステージの平面図を示す。ほぼ円形の外形を有する吸着ステージ１０の上面に、保持面１１が画定されている。保持面１１内に、複数の周縁リフトピン１３と少なくとも１つの内側リフトピン１４が分布している。周縁リフトピン１３は、保持面１１の中心を取り囲むように分布する。内側リフトピン１４は、周縁リフトピン１３に取り囲まれる。例えば、周縁リフトピン１３の位置を頂
点とする多角形の内側に、内側リフトピン１４が配置される。図１Ａでは、３本の周縁リフトピン１３を配置した例を示しているが、４本以上の周縁リフトピン１３を配置してもよい。
【００１２】
保持面１１に、複数の吸着孔１２が形成されている。吸着孔１２は、吸着ステージ１０の内部に形成された吸引流路１５により相互に連結されている。排気装置１６が、制御装置２０からの制御を受けて、吸引流路１５内を排気する。吸引流路１５内が排気されることにより、基板を保持面１１に吸着することができる。
【００１３】
図１Ｂに、図１Ａの一点鎖線１Ｂ−１Ｂにおける断面図を示す。吸着ステージ１０の保持面１１に、吸着孔１２が開口している。吸着孔１２は、吸着ステージ１０の内部に形成された吸引流路１５に連結されている。吸着ステージ１０に、厚さ方向に貫通する複数の貫通孔が形成されている。周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４が、これらの貫通孔内に挿入されている。
【００１４】
複数の周縁リフトピン１３は、それぞれ変位機構２６を介して共通支持部材２５に支持されている。変位機構２６には、例えばリニアアクチュエータが用いられる。保持面１１の面内方向に関して、共通支持部材２５と吸着ステージ１０との相対位置は固定されている。変位機構２６は、吸着ステージ１０に対して、周縁リフトピン１３を保持面１１の半径方向に移動させる。
【００１５】
周縁リフトピン昇降機構２７が、共通支持部材２５を吸着ステージ１０に対して昇降させる。共通支持部材２５が昇降することにより、周縁リフトピン１３が吸着ステージ１０に対して昇降する。内側リフトピン昇降機構２８が、内側リフトピン１４を吸着ステージ１０に対して昇降させる。
【００１６】
周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４内に、それぞれ吸引孔１７、１８が形成されている。吸引孔１７、１８は、それぞれ周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４の先端の端面に開口している。周縁リフトピン１３に形成された吸引孔１７内が、吸引路を介して周縁リフトピン用排気装置２１により排気される。内側リフトピン１４に形成された吸引孔１８内が、吸引路を介して内側リフトピン用排気装置２２により排気される。
【００１７】
圧力検出装置２３が、周縁リフトピン用排気装置２１によって排気されている吸引路内の圧力を測定する。他の圧力検出装置２４が、内側リフトピン用排気装置２２によって排気されている吸引路内の圧力を測定する。圧力の測定結果が、制御装置２０に入力される。
【００１８】
制御装置２０が、変位機構２６、周縁リフトピン昇降機構２７、内側リフトピン昇降機構２８、周縁リフトピン用排気装置２１、及び内側リフトピン用排気装置２２を制御する。
【００１９】
図２に、共通支持部材２５の平断面図を示す。共通支持部材２５に、３本の周縁リフトピン１３が支持されている。共通支持部材２５内に、共通排気流路３０が形成されている。共通排気流路３０は、周縁リフトピン１３内に形成された吸引孔１３に連通している。周縁リフトピン用排気装置２１が、共通排気流路３０を介して、吸引孔１７内を排気する。圧力検出装置２３が、共通排気流路３０内の圧力を検出する。周縁リフトピン昇降機構２７が、共通支持部材２５を昇降させる。
【００２０】
図３Ａ〜図３Ｆを参照して、凸型に反った基板を吸着する方法について説明する。
図３Ａに示すように、ロボットアーム３３が基板３２を吸着ステージ１０の上方まで移
送する。周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４は、最も下降した位置に待機している。周縁リフトピン用排気装置２１及び内側リフトピン用排気装置２２は、動作中（「ＯＮ」）である。周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４の吸引孔１７、１８（図１Ｂ）の先端が開放されているため、圧力検出装置２３、２４で検出される吸引路内の圧力は、大気圧状態（「Ｈ」）である。排気装置１６は作動していない（「ＯＦＦ」状態である）。
【００２１】
図３Ｂに示すように、周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４を上昇させる。この動作は、図１Ａ及び図１Ｂに示した制御装置２０が周縁リフトピン昇降機構２７及び内側リフトピン昇降機構２８を制御することにより行われる。基板３２が凸型であるため、内側リフトピン１４に先立って、周縁リフトピン１３の先端が基板３２に接触する。周縁リフトピン１３に形成された吸引孔１７（図１Ｂ）の上端の開口部が基板３２によって塞がれる。このため、周縁リフトピン１３に形成された吸引孔１７（図１Ｂ）の吸引路内の圧力が低下する。これにより、圧力検出装置２３による圧力検出結果が負圧状態（「Ｌ」）になる。内側リフトピン１４用の圧力検出装置２４による圧力検出結果は大気圧状態のままである。内側リフトピン１４用の圧力検出装置２４よりも、周縁リフトピン１３用の圧力検出装置２３の方が、先に負圧状態になることにより、基板３２の反りの向きが凸型であると判定することができる。この判定は、圧力検出装置２３、２４の検出結果に基づいて、制御装置２０（図１Ｂ）が行う。
【００２２】
さらに、周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４を上昇させると、基板３２がロボットアーム３３から浮き上がり、周縁リフトピン１３で支持される。基板３２がロボットアーム３３から浮き上がった後、ロボットアーム３３を、基板３２と吸着ステージ１０との間から引き抜く。
【００２３】
図３Ｃに示すように、周縁リフトピン１３の上昇を停止させ、内側リフトピン１４のみを上昇させる。これにより、内側リフトピン１４の先端が基板３２に接触する。内側リフトピン１４に形成された吸引孔１８（図１Ｂ）の上端の開口部が基板３２によって塞がれる。このため、内側リフトピン１４用の圧力検出装置２４による圧力検出結果が負圧状態（「Ｌ」）になる。
【００２４】
図３Ｄに示すように、周縁リフトピン用排気装置２１の動作を停止させる（「ＯＦＦ」にする）。内側リフトピン用の排気装置２２は動作させたままである。このため、基板３２は、その中心近傍において、内側リフトピン１４により吸着された状態になる。周縁リフトピン１３の先端と基板３２との吸着状態は解除される。
【００２５】
図３Ｅに示すように、周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４を下降させる。基板３２が凸型に反っているため、基板３２の外周部分が吸着ステージ１０に接触する。
【００２６】
図３Ｆに示すように、内側リフトピン１４及び周縁リフトピン１３をさらに下降させる。内側リフトピン１４の先端に基板３２が吸着されているため、基板３２の中央部分が吸着ステージ１０に引き寄せられる。このとき、基板３２が変形して、徐々に平坦に近づく。基板３２は、周縁リフトピン１３の先端に吸着されていないため、基板３２が平坦に近づくに従って、基板３２の外周部分が外方に移動する。内側リフトピン１４の先端に吸着されている基板３２の背面が吸着ステージ１０に接触した時点で、内側リフトピン１４の下降を停止させる。
【００２７】
その後、排気装置１６を動作させ（「ＯＮ」状態にし）、基板３２を保持面１１に吸着する。図３Ｅに示したように凸型に反ったままで、基板３２の外周近傍を吸着ステージ１０に吸着してしまうと、基板３２の内奥部に盛り上がりができてしまう。本実施例におい
ては、図３Ｄに示した段階で、周縁リフトピン１３による吸着が解除されている。基板３２の外周近傍が周縁リフトピン１３に固定されていないため、基板３２の内奥部での盛り上がりを防止することができる。
【００２８】
次に、図４Ａ〜図４Ｆを参照して、凹型に反った基板を吸着する方法について説明する。
図４Ａに示すように、ロボットアーム３３が基板３２を吸着ステージ１０の上方まで移送する。周縁リフトピン１３、内側リフトピン１４、周縁リフトピン用排気装置２１、内側リフトピン用排気装置２２、圧力検出装置２３、２４、及び排気装置１６の動作状態は、図３Ａに示した動作状態と同一である。
【００２９】
図４Ｂに示すように、周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４を上昇させる。図３Ｂに示した場合とは逆に、内側リフトピン１４の先端が周縁リフトピン１３の先端よりも先に基板３２に接触する。これにより、内側リフトピン１４用の圧力検出装置２４の圧力検出結果が負圧状態（「Ｌ」）になる。制御装置２０（図１Ｂ）は、内側リフトピン１４用の圧力検出装置２４が、周縁リフトピン１３用の圧力検出装置２３よりも先に負圧状態になったことを検出したとき、基板３２の反りの状態が凹型であると判定する。内側リフトピン１４用の圧力検出装置２４の検出結果が負圧状態になった時点で、内側リフトピン１４の上昇を停止させる。
【００３０】
図４Ｃに示すように、周縁リフトピン１３のみを上昇させる。周縁リフトピン１３の先端が基板３２に接触すると、周縁リフトピン１３用の圧力検出装置２３の圧力検出結果が負圧状態になる。内側リフトピン１４の先端が基板３２に接触してから、周縁リフトピン１３が基板３２に接触するまでに、周縁リフトピン１３が上昇した距離に基づいて、基板３２の反りの程度を算出することができる。周縁リフトピン１３の先端が基板３２に接触した後、内側リフトピン１４用の排気装置２２の動作を停止させる。
【００３１】
図４Ｄに示すように、周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４を上昇させ、基板３２をロボットアーム３３から浮き上がらせる。その後、ロボットアーム３３を基板３２と吸着ステージ１０との間から引き抜く。
【００３２】
図４Ｅに示すように、周縁リフトピン１３及び内側リフトピン１４を下降させる。基板３２の中央近傍の底面が吸着ステージ１０に接触する。
【００３３】
図４Ｆに示すように、周縁リフトピン１３を下降させると共に、外方に変位させる。これにより、基板３２がほぼ平坦になり、吸着ステージ１０に密着する。周縁リフトピン１３の外方への変位量は、基板３２の反りの程度から決定することができる。基板３２の外周近傍が吸着ステージ１０に密着した後、排気装置１６を動作させる（「ＯＮ」にする）ことにより、基板３２を保持面１１に吸着する。周縁リフトピン１３を吸着ステージ１０の保持面１１に対して垂直な方向に下降させると、基板３２の外周部分が吸着ステージ１０に密着すると同時に、基板３２の内奥部が盛り上がってしまう。周縁リフトピン１３を外方に移動させることにより、基板３２の内奥部の盛り上がりを防止することができる。
【００３４】
さらに、基板３２の外周近傍を、周縁リフトピン１３で吸引して吸着ステージ１０に引き付けるため、吸着ステージ１０の吸引力が弱くても、基板３２の外周を吸着ステージ１０に密着させることができる。
【００３５】
上述の実施例では、周縁リフトピン１３用の圧力検出装置２３及び内側リフトピン１４用の圧力検出装置２４により検出される圧力が大気圧状態から負圧状態に移行するタイミングにより、基板３２の反りが凸型であるか凹型であるかを認識することができる。さら
に、周縁リフトピン１３と内側リフトピン１４との上昇距離の差に基づいて、反りの程度を算出することができる。このように、圧力検出装置２３、２４は、基板３２の反りの方向及び反りの程度を検出するための「反り検出装置」としての役割を担う。
【００３６】
図５Ａ及び図５Ｂに、実施例の変形例１による基板保持装置の周縁リフトピン１３の先端の正面図を示す。周縁リフトピン１３の先端１３Ｂを、弾性部材１３Ａが支持している。吸引孔１７は、弾性部材１３Ａ内を通って先端１３Ｂの上面に開口する。
【００３７】
図５Ａ及び図５Ｂに、それぞれ図４Ｅ及び図４Ｆに示した段階の周縁リフトピン１３の先端を示す。図５Ａから図５Ｂの状態に至るまでに、基板３２が平坦になるように変形するときに、先端１３Ｂが基板３２から外向き（図５Ａ及び図５Ｂにおいて左向き）の力を受ける。この力によって弾性部材１３Ａが弾性変形することにより、周縁リフトピン１３の先端１３Ｂが、基板３２の外方に向かって変位する。このため、アクチュエータを用いることなく、周縁リフトピン１３の先端を外方に変位させることができる。
【００３８】
図６に、実施例の変形例２による基板保持装置の概略図を示す。変形例２においては、吸着ステージ１０の上方に撮像装置３５が配置されている。ロボットアーム３３が基板３２を吸着ステージ１０の上方に保持した状態で、撮像装置３５が基板３２の表面を撮像する。撮像装置３５から制御装置２０に画像データが入力される。制御装置２０は、画像解析を行うことにより、基板３２の反りの向きを判断する。変形例２では、撮像装置３５が、基板３２の反りを検出するための「反り検出装置」としての役割を担う。
【００３９】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【符号の説明】
【００４０】
１０  吸着ステージ
１１  保持面
１２  吸着孔
１３  周縁リフトピン
１４  内側リフトピン
１５  吸引流路
１６  排気装置
１７、１８  吸引孔
２０  制御装置
２１  周縁リフトピン用排気装置
２２  内側リフトピン用排気装置
２３、２４  圧力検出装置
２５  共通支持部材
２６  変位機構
２７  周縁リフトピン昇降機構
２８  内側リフトピン昇降機構
３０  共通排気流路
３２  基板
３３  ロボットアーム
３５  撮像装置
【図１】
0005868228.tif 000002
【図２】
0005868228.tif 000003
【図３−１】
0005868228.tif 000004
【図３−２】
0005868228.tif 000005
【図４−１】
0005868228.tif 000006
【図４−２】
0005868228.tif 000007
【図５】
0005868228.tif 000008
【図６】
0005868228.tif 000009