(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（５）で表される構造を含有するポリイミド。
【化１】
0006010533.tif 000017
（ここで式中のＲ１は、それぞれ独立して脂環式炭化水素構造を有する４価の有機基を表し、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、およびメチル基からなる群より選択され、Ａは、フルオレン骨格を含まない２価の有機基であって、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル,２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン,１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン,１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、および４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルの少なくともいずれか１つのジアミンより由来されており、Ｘおよび１−Ｘはポリイミドを構成するそれぞれの単位構造のモル分率を表し、０．５≦Ｘ＜１．０である。）
【請求項２】
請求項１に記載のポリイミドと有機溶媒を含有するポリイミド溶液。
【請求項３】
前記有機溶媒が、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒及びエーテル系溶媒から選択される少なくとも１つを含んでいることを特徴とする請求項２に記載のポリイミド溶液。
【請求項４】
下記一般式（６）で表される構造を含有するポリアミド酸。
【化２】
0006010533.tif 000018
（ここで式中のＲ１は、それぞれ独立して脂環式炭化水素構造を有する４価の有機基を表し、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、およびメチル基からなる群より選択され、Ａは、フルオレン骨格を含まない２価の有機基であって、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル,２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン,１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン,１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、および４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルの少なくともいずれか１つのジアミンより由来されており、Ｙおよび１−Ｙはポリイミドを構成するそれぞれの単位構造のモル分率を表し、０．５≦Ｙ＜１．０である。）
【請求項５】
前記一般式（６）で表されるポリアミド酸において、一部がイミド化された請求項４に記載のポリアミド酸。
【請求項６】
請求項４または５に記載のポリアミド酸と有機溶媒を含有するポリアミド酸溶液。
【請求項７】
前記有機溶媒が、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒及びエーテル系溶媒から選択される少なくとも１つを含んでいることを特徴とする請求項６に記載のポリアミド酸溶液。
【請求項８】
請求項２または３に記載のポリイミド溶液から得られたことを特徴とするポリイミド膜。
【請求項９】
請求項６または７に記載のポリアミド酸溶液から得られたことを特徴とするポリイミド膜。
【請求項１０】
前記ポリイミド溶液を支持体に塗工して得られたことを特徴とする請求項８に記載のポリイミド膜。
【請求項１１】
前記ポリアミド酸溶液を支持体に塗工して得られたことを特徴とする請求項９に記載のポリイミド膜。
【請求項１２】
前記支持体がガラス基板であることを特徴とする請求項１０または１１に記載のポリイミド膜。
【請求項１３】
膜厚が１０μｍのときの波長４００ｎｍの光透過率が７０％以上であることを特徴とする請求項８〜１２のいずれか一項に記載のポリイミド膜。
【請求項１４】
面内の屈折率のうち最大のものをｎｘ、最小のものをｎｙとし、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ｎｘ−ｎｙ＜０．０００２、且つ、（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ＜０．００５の関係を満たすことを特徴とする請求項８〜１３のいずれか一項に記載のポリイミド膜。
【請求項１５】
ガラス転移温度が２５０℃以上であることを特徴とする請求項８〜１４のいずれか一項に記載のポリイミド膜。
【請求項１６】
請求項８〜１５のいずれか一項に記載のポリイミド膜を含有する基板。
【請求項１７】
請求項８〜１５のいずれか一項に記載のポリイミド膜を含有する光学材料。
【請求項１８】
請求項８〜１５のいずれか一項に記載のポリイミド膜を含有する画像表示装置。
【請求項１９】
請求項８〜１５のいずれか一項に記載のポリイミド膜を含有する電子デバイス材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミド酸溶液、ポリイミド溶液、およびこれらの溶液から得られるポリイミド膜に関する。さらに、そのポリイミド膜を用いた電子デバイス材料、ＴＦＴ基板、フレキシブルディスプレイ基板、カラーフィルター、印刷物、光学材料、液晶表示装置、有機ＥＬ及び電子ペーパー等の画像表示装置、３−Ｄディスプレイ、太陽電池、タッチパネル、透明導電膜基板、現在ガラスが使用されている部分の代替材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶、有機ＥＬ、電子ペーパー等のディスプレイや、太陽電池、タッチパネル等のエレクトロニクスの急速な進歩に伴い、デバイスの薄型化や軽量化、更には、フレキシブル化が要求されている。そこでこれらのデバイスに用いられているガラス基板に代えて、薄型化、軽量化、フレキシブル化が可能なプラスチックフィルム基板が検討されている。【０００３】
これらのデバイスには基板上に様々な電子素子、例えば、薄膜トランジスタや透明電極等が形成されているが、これらの電子素子の形成には高温プロセスが必要である。そのため、プラスチックフィルム基板には高温プロセスに適応できるだけの十分な耐熱性が必要とされる。【０００４】
また、表示素子から発せられる光がプラスチックフィルム基板を通って出射されるような場合（例えば、ボトムエミッション型の有機ＥＬなど）、プラスチックフィルム基板には透明性が必要となる。特に、可視光領域である４００ｎｍ以下の波長領域での光透過率が高いことが要求される。更に、位相差フィルムや偏光板を光が通過する場合は（例えば、液晶ディスプレイ、タッチパネルなど）透明性に加えて、光学的等方性が高いことが必要とされる。【０００５】
これらデバイスの作製プロセスはバッチタイプとロール・トゥ・ロールタイプに分けられる。ロール・トゥ・ロールの作製プロセスを用いる場合には、新たな設備が必要となり、さらに回転と接触に起因するいくつかの問題を克服しなければならない。一方、バッチタイプは、ガラス基板上にコーティング樹脂溶液を塗布、乾燥し、基板形成した後、剥がすというプロセスになる。そのため、バッチタイプは、現行ＴＦＴ等のガラス基板用プロセス設備を利用することができるため、コスト面で優位である。【０００６】
このような背景から、既存のバッチプロセス対応が可能で、耐熱性、透明性、光学的等方性に優れ、さらには汎用有機溶媒に可溶な材料の開発が強く望まれている。【０００７】
上記の要求を満たす材料として、耐熱性に優れる材料として知られているポリイミド系材料が検討されている。透明性の高いポリイミドを得ようとする場合、脂環式モノマーが一般に用いられている（特許文献１、特許文献２）。一方、フルオレン構造を含むポリイミドが可溶性の発現や光学特性の制御、或いは経時的に安定した密着性に有効であるということが知られている（特許文献３、特許文献４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】日本国公開特許公報「特開２０１０−７０７２１号公報（２０１０年４月２日公開）」
【特許文献２】ＷＯ２００８／０１０４９４号公報（２００８年１月２４日公開）
【特許文献３】日本国公開特許公報「特開２０１０−１８０３４９号公報（２０１０年８月１９日公開）」
【特許文献４】日本国公開特許公報「特開２０１０−１８９５７８号公報（２０１０年９月２日公開）」
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１に記載のポリイミドは、脂環式モノマーを用いており耐熱性および透明性には優れるものの有機溶媒への可溶性および光学特性については記載がない。また特許文献２に記載の脂環式モノマーを用いたポリイミドは有機溶媒への可溶性は高くなるものの、透明性や光学特性に関する記載はなく、耐熱性も不十分である。特許文献３に記載のフルオレン構造を含有するポリイミドは、耐熱性、透明性に優れ、有機溶媒にも可溶であるが、厚み方向の位相差が大きく、光学的な等方性を兼ね備えていない。特許文献４に記載のフルオレン構造を有するポリイミドは、フルオレン構造中にカルボキシル基を有しているため、耐熱性が十分ではない可能性がある。【００１０】
上述したように、脂環式モノマーを含有する系やフルオレン構造を含有する材料であっても、耐熱性、透明性、更には有機溶媒への可溶性及び光学的等方性に優れたものはこれまで知られていない。【００１１】
本発明は、上記実情を鑑みて成し遂げられたものであり、透明性および耐熱性、更には有機溶媒への可溶性及び光学的等方性に優れたポリイミド、ポリアミド酸を得ることを目的とする。さらに、当該ポリイミド、ポリアミド酸を用いて耐熱性や透明性の要求の高い製品又は部材を提供することを目的とする。特に、本発明のポリイミド、ポリアミド酸を、ガラス、金属、金属酸化物及び単結晶シリコン等の無機物表面に形成する用途に適用した製品、及び部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題である耐熱性、透明性、更には有機溶媒への可溶性及び光学的等方性に優れたポリイミドを得るためには、脂環式テトラカルボン酸二無水物とフルオレン骨格を有するモノマーを用いることが有効であることを見出した。【００１３】
すなわち、本発明に係るポリイミドは、下記一般式（５）で表される構造を含有することを特徴としている。【００１４】
【化１】
0006010533.tif 000002
【００１５】
（ここで式中のＲ１は、それぞれ独立して脂環式炭化水素構造を有する４価の有機基を表し、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、およびメチル基からなる群より選択され、Ａは、フルオレン骨格を含まない２価の有機基であり、Ｘおよび１−Ｘはポリイミドを構成するそれぞれの単位構造のモル分率を表し、０＜Ｘ＜１．０である。）
また、本発明に係るポリアミド酸は下記一般式（６）で表される構造を含有することを特徴としている。【００１６】
【化２】
0006010533.tif 000003
【００１７】
（ここで式中のＲ１は、それぞれ独立して脂環式炭化水素構造を有する４価の有機基を表し、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、およびメチル基からなる群より選択され、Ａは、フルオレン骨格を含まない２価の有機基であり、Ｙおよび１−Ｙはポリイミドを構成するそれぞれの単位構造のモル分率を表し、０＜Ｙ＜１．０である。）
【発明の効果】
【００１８】
上記本発明に係るポリイミド、ポリアミド酸は、耐熱性、透明性に加えて、光学的等方性を有することから、耐熱性が必要とされる公知の全ての部材用のフィルムや塗膜として好適である。また、本発明に係るポリイミド、ポリアミド酸は種々の有機溶媒に可溶なため、ポリイミド溶液、ポリアミド酸溶液として各種基板へ容易に塗工することができる。本発明のポリイミドは、例えば、ＴＦＴ基板材料、ＩＴＯ基板材料、印刷物、カラーフィルター、フレキシブルディスプレー部材、反射防止膜、ホログラム、光学部材又は建築材料や構造物としての利用が期待される。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下において本発明を詳しく説明する。
【００２０】
本発明で製造されるポリイミドは、下記一般式（５）で表される繰り返し単位を含む。
【００２１】
【化３】
0006010533.tif 000004
【００２２】
一般式（５）中、Ｒ１は、それぞれ独立して脂環式炭化水素構造を有する４価の有機基であれば特に制限されない。かかる有機基は、例えば、単環系の脂環式炭化水素構造を有していてもよいし、橋かけ環を有する脂環式炭化水素構造を有していてもよい。橋かけ環を有する脂環式炭化水素構造としては、二環系の脂環式炭化水素構造であってもよいし、三環系の脂環式炭化水素構造であってもよい。
【００２３】
Ｒ１は、酸二無水物由来の成分であり、かかる酸二無水物としては、例えば、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[２．２．２]オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[２．２．２]オクタン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，４−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−ｎ−ブタンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。またこれらを２種類以上併用することもできる。
【００２４】
また、一般式（５）中、Ｒは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、およびメチル基からなる群より選択される。Ｒは、反応性の観点から、水素原子またはメチル基であることがより好ましく、入手性の観点から水素原子であることがより好ましい。また、溶解性の観点からは、Ｒはメチル基であることが特に好ましい。
【００２５】
また、一般式（５）中のＡは、フルオレン骨格を含まない２価の有機基であれば特に制限されない。中でも、一般式（５）中のＡはエーテル結合を含む２価の有機基であることがより好ましい。このエーテル結合を含む２価の有機基もエーテル結合を含有していれば特に制限されない。Ａはジアミン由来の成分であり、このジアミンの具体例としては、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス[４−（４−アミノフェノキシ）フェニル]プロパン等の２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル等があげられる。
【００２６】
上記一般式（５）中のＸ、１−Ｘは、ポリイミドを構成するそれぞれの単位構造のモル分率を表す。式中のＸは、０＜Ｘ＜１．０であるが、光学的等方性を発現させるという観点から、０．３≦Ｘ＜１．０であることがより好ましく、０．５≦Ｘ＜１．０であることがさらに好ましく、０．６≦Ｘ＜１．０であることがさらに好ましく、０．６５≦Ｘ＜１．０であることが特に好ましく、０．７≦Ｘ＜１．０であることが最も好ましい。また、高分子量体を得られるという観点から０．６≦Ｘ≦０．９であることがより好ましい。因みに、一般式（５）は２つの単位構造の配置を規定するものでなく、各単位構造はポリマー中にランダムに配置されていても、ブロック状に配置されていてもよい。
【００２７】
本発明で製造されるポリイミドの、例えば、具体的な一例は、下記一般式（１）で表される構造を有するポリイミドである。
【００２８】
【化４】
0006010533.tif 000005
【００２９】
上記ポリイミドは１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物より由来する構造を含有する。ここで一般式（１）中のＲ、Ａは、それぞれ独立して、上記ＲおよびＡと同義である。また、上記一般式（１）中のＸ、１−Ｘも、上述したとおりである。
【００３０】
本発明で製造されるポリアミド酸は、下記一般式（６）で表される繰り返し単位を含む。
【００３１】
【化５】
0006010533.tif 000006
【００３２】
ここで、一般式（６）中、Ｒ１およびＲは、それぞれ独立して、上記Ｒ１およびＲと同義である。また式中のＡは上記のＡと同義である。上記一般式（６）中のＹ、１−Ｙは、ポリアミド酸を構成するそれぞれの単位構造のモル分率を表す。式中のＹは、０＜Ｙ＜１．０であるが、光学的等方性を発現させるという観点から、０．３≦Ｙ＜１．０であることがより好ましく、０．５≦Ｙ＜１．０であることがさらに好ましく、０．６≦Ｙ＜１．０であることがさらに好ましく、０．６５≦Ｙ＜１．０であることが特に好ましく、０．７≦Ｙ＜１．０であることが最も好ましい。高分子量体を得られるという観点から０．６≦Ｙ≦０．９であることがより好ましい。因みに、一般式（６）は２つの単位構造の配置を規定するものでなく、各単位構造はポリマー中にランダムに配置されていても、ブロック状に配置されていてもよい。
【００３３】
本発明で製造されるポリアミド酸の、例えば、具体的な一例は、下記一般式（２）で表される構造を有するポリアミド酸である。
【００３４】
【化６】
0006010533.tif 000007
【００３５】
上記ポリアミド酸は１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物より由来する構造を含有する。ここで一般式（２）中のＲ、Ａは、それぞれ独立して、上記ＲおよびＡと同義である。また、上記一般式（２）中のＹ、１−Ｙも、上述したとおりである。
【００３６】
本発明のポリアミド酸は、公知の一般的な方法にて合成することができ、有機溶媒中でジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを反応させることにより得ることができる。より具体的には、例えば、アルゴン、窒素等の不活性雰囲気中において、ジアミンを有機溶媒中に溶解、又はスラリー状に分散させて、ジアミン溶液とする。一方、テトラカルボン酸二無水物は、有機溶媒に溶解、又はスラリー状に分散させた状態とした後、あるいは固体の状態で、上記ジアミン溶液中に添加すればよい。もちろん、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを反応させる方法はこれに限定されるものではなく、添加の方法や順序は適宜選択することができる。
【００３７】
ジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを用いてポリアミド酸を合成する場合、単数または複数のジアミン成分全量のモル数と、単数または複数のテトラカルボン酸二無水物成分全量のモル数とを、実質上等モルに調整することで、ポリアミド酸共重合体を任意に得ることができる。上記ジアミンとテトラカルボン酸二無水物の反応（ポリアミド酸の合成反応）の温度条件は、特に限定されないが、８０℃以下であることが好ましく、より好ましくは０℃以上５０℃以下がよい。８０℃以下であれば、ポリアミド酸が分解しにくく、０℃以上であれば、重合反応の進行が遅くなりにくい。また、反応時間は１０分〜３０時間の範囲で任意に設定すればよい。
【００３８】
さらに、上記ポリアミド酸の合成反応に使用する有機溶媒としては、有機極性溶媒であれば特に限定されるものではない。上記ジアミンとテトラカルボン酸二無水物との反応が進行するにつれてポリアミド酸が生成し、反応液の粘度が上昇する。また、後述するように、ポリアミド酸を合成して得られるポリアミド酸溶液を、減圧下で加熱して、有機溶媒の除去とイミド化を同時に行うことができる。そのため、上記有機溶媒としては、ポリアミド酸を溶解でき、かつ、なるべく沸点の低いものを選択することが工程上有利である。
【００３９】
具体的には、ポリアミド酸の合成反応に使用する有機溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒；γ−ブチロラクトン等のエステル系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル系溶媒等を挙げることができる。
【００４０】
ポリアミド酸の重合に使用する反応溶媒は、使用するテトラカルボン酸二無水物、ジアミン類を溶解することが可能なものが好ましく、更に生成されるポリアミド酸を溶解することが可能なものが好ましい。例えば、テトラメチル尿素、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルウレアのようなウレア系溶媒、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホン、テトラメチルスルフォンのようなスルホキシドあるいはスルホン系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、γ―ブチロラクトン（ＧＢＬ）等のエステル系溶媒、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化アルキル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、フェノール、クレゾールなどのフェノール系溶媒、シクロペンタノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ｐ−クレゾールメチルエーテルなどのエーテル系溶媒が挙げられることができ、通常これらの溶媒を単独で用いるが必要に応じて２種以上を適宜組み合わせて用いて良い。ポリアミド酸の溶解性及び反応性を高めるために、ＤＭＦ、ＤＭＡｃ、ＮＭＰなどのアミド系溶媒が好ましく使用される。
【００４１】
本発明のポリイミドは、その前駆体であるポリアミド酸から得ることができる。上記ポリアミド酸を用いて、ポリイミドを得るために、上記ポリアミド酸をイミド化する方法について説明する。イミド化は、ポリアミド酸を脱水閉環することによって行われる。この脱水閉環は、共沸溶媒を用いた共沸法、熱的手法または化学的手法によって行うことができる。また、ポリアミド酸からポリイミドへのイミド化は、１〜１００％の任意の割合をとることができる。つまり、一部がイミド化されたポリアミド酸を合成してもよい。
【００４２】
熱的手法による脱水閉環は、ポリアミド酸と有機溶媒とを含有するポリアミド酸溶液を加熱して行えばよい。あるいは、ガラス板、金属板、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の支持体に、ポリアミド酸溶液を流延または塗布した後、８０℃〜５００℃の範囲内で熱処理を行えばよい。さらに、フッ素系樹脂によるコーティング等の離型処理を施した容器に直接ポリアミド酸溶液を入れ、減圧下で加熱乾燥することによって、ポリアミド酸の脱水閉環を行うこともできる。このような熱的手法によるポリアミド酸の脱水閉環により、ポリイミドを得ることができる。なお、上記各処理の加熱時間は、脱水閉環を行うポリアミド酸溶液の処理量や加熱温度により異なるが、一般的には、処理温度が最高温度に達してから１分〜５時間の範囲で行うことが好ましい。
【００４３】
また、共沸溶媒を用いた共沸法は、ポリアミド酸溶液にトルエン、キシレン等の水と共沸する溶媒を加え、１７０〜２００℃に昇温して、脱水閉環により生成してくる水を積極的に系外へ除去しながら、１時間〜５時間程度反応させればよい。反応終了後、アルコール等の貧溶媒中にて沈殿させ、必要に応じてアルコール等で洗浄を行ったのち、乾燥を行ってポリイミドを得ることができる。
【００４４】
一方、化学的手法による脱水閉環としては、上記ポリアミド酸溶液に、脱水触媒とイミド化剤とを添加して、反応溶媒中でポリアミド酸のイミド化を完結した後、反応溶媒中に、貧溶媒を投入し、ポリイミドを固形物として得る手法が挙げられる。
【００４５】
上記イミド化剤としては、３級アミンを用いることができる。かかる３級アミンとしては複素環式の３級アミンがさらに好ましい。複素環式の３級アミンの好ましい具体例としてはピリジン、ピコリン、キノリン、イソキノリンなどをあげることができる。脱水触媒としては具体的には無水酢酸、プロピオン酸無水物、ｎ−酪酸無水物、安息香酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物等を好ましい具体例として挙げることができる。
【００４６】
イミド化剤や脱水触媒の添加量としては、ポリアミド酸のアミド基に対して、イミド化剤は０．５〜５．０倍モル当量、さらには０．７〜２．５倍モル当量、特には０．８〜２．０倍モル当量が好ましい。また、脱水触媒は、ポリアミド酸のアミド基に対して、０．５から１０．０倍モル当量、さらには０．７〜５．０倍モル当量、特には０．８〜３．０倍モル当量が好ましい。ポリアミド酸溶液にイミド化剤や脱水触媒を加える際、溶媒に溶かさず直接加えても良いし、溶媒に溶かしたものを加えても良い。直接加える方法ではイミド化剤や脱水触媒が拡散する前に反応が急激に進行しゲルが生成することがある。イミド化剤や脱水触媒を溶媒に溶かし、その溶液をポリアミド酸溶液に混合することがより好ましい。
【００４７】
このように、ポリアミド酸にイミド化剤や脱水触媒を添加し、反応溶媒中でイミド化を完結した後、この溶液をポリイミド溶液として使用してもよいし、反応溶媒中に、貧溶媒を投入し、ポリイミドを固形物としてもよい。この場合、ポリイミド、イミド化剤及び脱水触媒を含有するポリイミド溶液に貧溶媒を投入することで、ポリイミドを固形状態で単離する方法、または固形状態で析出させる方法を用いることができる。ポリイミドは、粉末状、フレーク状、種々の形態を含む固形物状態のものであり、その平均粒径は、５ｍｍ以下であることが好ましく、３ｍｍ以下であることがより好ましく、１ｍｍ以下であることがさらに好ましい。
【００４８】
本発明で用いられるポリイミドの貧溶媒としては、ポリイミドを溶解しない溶媒であって、ポリイミドを溶解している溶媒として使用した有機溶媒と混和するものを用いることができる。例えば、水、メチルアルコール、エチルアルコール、２−プロピルアルコール、エチレングリコール、トリエチレングリコール、２−ブチルアルコール、２−ペンチルアルコール、２−ヘキシルアルコール、シクロペンチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、フェノール、ｔ−ブチルアルコールなどが挙げられる。上記アルコールの中でも２−プロピルアルコール、２−ブチルアルコール、２−ペンチルアルコール、フェノール、シクロペンチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、ｔ−ブチルアルコール等のアルコールが、単離後のポリイミドの安定性やイミド化率が高くなるという観点から好ましく、２−プロピルアルコールが特に好ましい。
【００４９】
ポリイミド、イミド化剤及び脱水触媒を含有するポリイミド溶液を貧溶媒中に投入する際、ポリイミド溶液の固形分濃度は、撹拌が可能な粘度であるならば特に制限されないが、粒径を小さくするという観点から濃度は希薄である方が好ましい。ここで、固形分とは、溶媒以外の全成分であり、固形分濃度とは、全溶液中の固形分の重量％濃度を表す。
【００５０】
ポリイミド溶液の固形分濃度が５％以上であれば、ポリイミドを析出させるための貧溶媒の量が多くなりすぎることがないため好ましく、ポリイミド溶液の固形分濃度が１５％以下、好ましくは１０％以下の状態になるように希釈を行った後に、ポリイミド溶液を貧溶媒に投入することが好ましい。使用する貧溶媒量はポリイミド溶液の等量以上の量を使用することが好ましく、２〜３倍量がより好ましい。ここで得られたポリイミドは、少量のイミド化剤や脱水触媒を含んでいるため、上記貧溶媒、特に２−プロピルアルコール等のアルコール系溶媒で数回洗浄することが好ましい。
【００５１】
こうして得られたポリイミドの乾燥方法は、真空乾燥でも、熱風乾燥でもよい。ポリイミドに含まれる溶媒を完全に乾燥させるためには、真空乾燥が望ましく、乾燥温度は１００〜２００℃の範囲が好ましく、１２０〜１８０℃で行うことが特に好ましい。
【００５２】
本発明のポリアミド酸およびポリイミドの重量平均分子量は、その用途にもよるが、５，０００〜５００，０００の範囲であることが好ましく、１０，０００以上５００，０００以下の範囲であることがより好ましく、１０，０００〜３００，０００の範囲であることがさらに好ましく、２０，０００〜３００，０００の範囲であることがさらに好ましく、３０，０００〜２００，０００の範囲であることが特に好ましい。重量平均分子量が５，０００以上、より好ましくは１０，０００以上であれば、ポリアミド酸およびポリイミドを塗膜又はフィルムとすることが可能となる。一方、重量平均分子量が５００，０００以下であると、粘度の上昇が抑えられ、溶媒に対して十分な溶解性を示すため、後述するポリアミド酸溶液およびポリイミド溶液から表面が平滑で膜厚が均一な塗膜又はフィルムが得られる。
【００５３】
ここで用いている分子量とは、ゲルパーミレーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリエチレングリコール換算の値のことをいう。
【００５４】
本発明のポリイミドからポリイミド膜を得る際は、ポリイミド溶液を経由することがより好ましい。すなわち、ポリアミド酸の膜を形成した後、熱イミド化により得られた膜を使用するよりも、ポリイミドを一旦溶融または有機溶媒に溶解した後に膜を形成する方が、透明性の高いポリイミド膜を得られやすく、得られるポリイミド膜の熱膨張特性や寸法安定性が低下しにくいためより好ましい。
【００５５】
本発明のポリイミド溶液は、上述した方法で得られたポリイミドを、任意の有機溶媒に溶解することで得ることができる。使用する有機溶媒としては特に限定はされないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）及びＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等のアミド系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロペンタノン及びシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，３−ジオキソラン及び１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチルおよびγ―ブチロラクトン（ＧＢＬ）等のエステル系溶媒の少なくとも１つが選択されることが好ましい。本発明のポリイミド溶液の濃度は５〜４０重量％であることが好ましく、５〜２０重量％であることがさらに好ましい。
【００５６】
ポリアミド酸溶液およびポリイミド溶液の粘度は塗工する厚み及び塗工環境に応じて、随時選択されるが、０．１以上５０Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．５以上３０Ｐａ・ｓ以下であることがさらに好ましい。粘度が０．１Ｐａ・ｓ以上である場合、十分な膜厚精度が確保できる。粘度が５０Ｐａ・ｓ以下である場合、膜厚精度が確保できるとともに、塗工後すぐに乾燥する部分が発生せず、ゲル欠陥などの外観欠陥が発生しない。上記粘度は、２３℃における動粘度を、Ｅ型粘度計を用いて測定したものである。
【００５７】
本発明のポリイミド膜は、支持体にポリアミド酸溶液またはポリイミド溶液を塗工し、乾燥することで製造することができる。ここで、ポリアミド酸溶液は、一部がイミド化したポリアミド酸の溶液でもよい。乾燥は空気下で実施してもよいし、窒素雰囲気下で実施してもよい。透明性の観点から窒素雰囲気下で乾燥することが好ましい。
【００５８】
上記ポリアミド酸溶液およびポリイミド溶液を塗工する支持体としては、ガラス基板；ＳＵＳ等の金属基板あるいは金属ベルト；ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエチレンナフタレート及びトリアセチルセルロース等のプラスチックフィルム等が使用されるがこれに限定されるものではない。現行のバッチタイプのデバイス製造プロセスに適応させるためにはガラス基板を用いることがより好ましい。
【００５９】
ポリイミド膜製造時の乾燥温度に関しては、プロセスに合わせた条件を選択することが可能であり、特性に影響を与えない限り、特に制限されない。
【００６０】
ポリイミド膜の透明性は、例えば、ＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１に従った全光線透過率あるいはヘイズで表される。後述する本発明の用途でポリイミド膜を用いる場合、ポリイミド膜の全光線透過率は、８５％以上であることが好ましく、８７％以上であることがより好ましい。また、ヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがより好ましい。本発明の用途においては、全波長領域で透過率が高いことが要求されるが、一般的なポリイミドは短波長側の光を吸収しやすい傾向があり、膜自体が黄色に着色することが多い。本発明の用途に使用するためには、膜厚が１０μｍのとき、波長４００ｎｍでの光透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。また、膜厚が２０μｍのとき、波長４００ｎｍでの光透過率が７０％以上であることが好ましい。波長４００ｎｍでの光透過率は、紫外−可視分光光度計によって測定される。このように透明性を付与することで、ポリイミド膜は、ガラス代替用途などの透明基板として使用することができる。
【００６１】
ガラス転移温度は、耐熱性の観点から高ければ高いほど良い。具体的には、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）または動的粘弾性分析（ＤＭＡ）において、昇温速度１０℃／ｍｉｎの条件で測定したときのガラス転移温度が、２５０℃以上であることが好ましく、プロセス温度が高くても対応できるという観点から、３００℃以上であることがより好ましい。
【００６２】
ポリイミド膜の光学特性は、本発明の用途に用いる場合、光学的等方性が高い方が好ましい。完全に光学的に等方であるということは、ポリイミド膜の面内の屈折率のうち最大のものをｎｘ、最小のものをｎｙとし、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、
ｎｘ＝ｎｙ＝ｎｚ
という関係が成り立つことを意味する。ポリイミド膜は、面内に配向しやすいため、面内方向と厚み方向で屈折率が大きく異なる場合が多い。ポリイミド膜を本発明の用途に用いるためには、
ｎｘ−ｎｙ＜０．０００２、且つ、（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ＜０．００５
を満たすことが好ましく、より光学的等方性が高い方が好ましいために
ｎｘ−ｎｙ＜０．０００１、且つ、（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ＜０．００４
を満たすことがより好ましく、
ｎｘ−ｎｙ＜０．０００１、且つ、（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ＜０．００３５
を満たすことがさらに好ましく、
ｎｘ−ｎｙ＜０．０００１、且つ、（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ＜０．００３
を満たすことが特に好ましく、
ｎｘ−ｎｙ＜０．０００１、且つ、（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ＜０．００２
を満たすことが最も好ましい。
【００６３】
本発明に係るポリアミド酸およびポリイミドは、そのまま製品や部材を作製するためのコーティングや成形プロセスに供してもよいが、フィルム状に成形された成形物にさらにコーティング等の処理を行うための積層物として用いることが出来る。コーティングあるいは成形プロセスに供するために、該ポリアミド酸およびポリイミドを必要に応じて溶媒に溶解又は分散させ、さらに、光又は熱硬化性成分、本発明に係るポリアミド酸およびポリイミド以外の非重合性バインダー樹脂、その他の成分を配合して、ポリアミド酸およびポリイミド組成物を調製してもよい。
【００６４】
本発明に係るポリイミド組成物に加工特性や各種機能性を付与するために、その他に様々な有機又は無機の低分子又は高分子化合物を配合してもよい。例えば、染料、界面活性剤、レベリング剤、可塑剤、微粒子、増感剤等を用いることができる。微粒子には、ポリスチレン、ポリテトラフルオロエチレン等の有機微粒子；コロイダルシリカ、カーボン、層状珪酸塩等の無機微粒子等が含まれ、それらは多孔質や中空構造であってもよい。また、その機能又は形態としては顔料、フィラー、繊維等がある。
【００６５】
本発明に係るポリイミド組成物は、一般式（５）で表されるポリイミドを、ポリイミド組成物の固形分全体に対し、通常、６０〜９９．９重量％の範囲内で含有させる。なお、９９．９重量％とは実質的に全ての意味である。また、その他の任意成分の配合割合は、ポリイミド組成物の固形分全体に対し、０．１重量％〜４０重量％の範囲が好ましい。配合割合が０．１重量％以上であることによって、添加物を添加した効果が発揮されやすい。配合割合が４０重量％以下であることによって、ポリイミド組成物の特性が最終生成物に反映されやすい。なお、ポリイミド組成物の固形分とは溶媒以外の全成分であり、液状のモノマー成分も固形分に含まれる。
【００６６】
本発明に係るポリイミド膜は、その表面に金属酸化物や透明電極等の各種無機薄膜を形成していても良い。これら無機薄膜の製膜方法は特に限定されるものではなく、例えばＣＶＤ法；スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法等が挙げられる。
【００６７】
本発明に係るポリイミド膜は、耐熱性、絶縁性等のポリイミド本来の特性に加えて、高い寸法安定性及び高い有機溶媒への溶解性を有することから、これらの特性が有効とされる分野・製品、例えば、印刷物、カラーフィルター、フレキシブルディスプレー、光学フィルム、液晶表示装置、有機ＥＬ及び電子ペーパー等の画像表示装置、３−Ｄディスプレイ、タッチパネル、透明導電膜基板あるいは太陽電池に使用されることが好ましく、さらには現在ガラスが使用されている部分の代替材料とすることがさらに好ましい。即ち、本発明に係る一般式（５）で表される構造を含有するポリイミドおよび一般式（６）で表されるポリアミド酸、中でも、より好ましくは一般式（１）および（２）において、それぞれ、Ｒが水素原子かつＡが４，４’−ジアミノジフェニルエーテルである下記一般式（３）で表されるポリイミドおよび下記式（４）で表されるポリアミド酸から得られるポリイミド膜は、特に、基板、画像表示装置、光学材料、電子デバイス材料に好適に用いることができる。この基板とは、ＴＦＴ基板、ＩＴＯ基板、フレキシブルディスプレー基板などをいう。この画像表示装置とは、有機ＥＬ、電子ペーパー、タッチパネル等をいう。この光学材料とは、カラーフィルターなどをいう。
【００６８】
【化７】
0006010533.tif 000008
【００６９】
【化８】
0006010533.tif 000009
【００７０】
また、一般式（１）および（２）において、それぞれ、Ｒがメチル基かつＡが４，４’−ジアミノジフェニルエーテルであるポリイミドおよびポリアミド酸から得られるポリイミド膜も、上記用途により好適に用いることができる。
【００７１】
すなわち、本願発明は以下の構成を有するものである。
【００７２】
１．下記一般式（５）で表される構造を含有するポリイミド。
【００７３】
【化９】
0006010533.tif 000010
【００７４】
（ここで式中のＲ１は、それぞれ独立して脂環式炭化水素構造を有する４価の有機基を表し、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、およびメチル基からなる群より選択され、Ａは、フルオレン骨格を含まない２価の有機基であり、Ｘおよび１−Ｘはポリイミドを構成するそれぞれの単位構造のモル分率を表し、０＜Ｘ＜１．０である。）
２．上記一般式（５）中のＡで表される２価の有機基が、エーテル結合を含む２価の有機基であることを特徴とする請求項１に記載のポリイミド。
【００７５】
３．上記一般式（５）に記載のＸの値が０．３≦Ｘ＜１．０であることを特徴とする１または２に記載のポリイミド。
【００７６】
４．１〜３のいずれかに記載の一般式（５）のＡで表される２価の有機基が４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル,２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン,１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン,１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、および４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルのいずれかのジアミンより由来されていることを特徴とするポリイミド。
【００７７】
５．１〜４のいずれかに記載のポリイミドと有機溶媒を含有するポリイミド溶液。
【００７８】
６．上記有機溶媒が、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒及びエーテル系溶媒から選択される少なくとも１つを含んでいることを特徴とする５に記載のポリイミド溶液。
【００７９】
７．下記一般式（６）で表される構造を含有するポリアミド酸。
【００８０】
【化１０】
0006010533.tif 000011
【００８１】
（ここで式中のＲ１は、それぞれ独立して脂環式炭化水素構造を有する４価の有機基を表し、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、およびメチル基からなる群より選択され、Ａは、フルオレン骨格を含まない２価の有機基であり、Ｙおよび１−Ｙはポリイミドを構成するそれぞれの単位構造のモル分率を表し、０＜Ｙ＜１．０である。）
８．上記一般式（６）中のＡで表される２価の有機基が、エーテル結合を含む２価の有機基であることを特徴とする請求項７に記載のポリイミド。
【００８２】
９．上記一般式（６）に記載のＹの値が０．３≦Ｙ＜１．０であることを特徴とする７または８に記載のポリアミド酸。
【００８３】
１０．７〜９のいずれかに記載の一般式（６）のＡで表される２価の有機基が４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル,２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン,１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン,１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、および４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルのいずれかのジアミンより由来されていることを特徴とするポリアミド酸。
【００８４】
１１．上記一般式（６）で表されるポリアミド酸において、一部がイミド化された７〜１０のいずれかに記載のポリアミド酸。
【００８５】
１２．７〜１１のいずれかに記載のポリアミド酸と有機溶媒を含有するポリアミド酸溶液。
【００８６】
１３．上記有機溶媒が、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒及びエーテル系溶媒から選択される少なくとも１つを含んでいることを特徴とする１２に記載のポリアミド酸溶液。
【００８７】
１４．５または６に記載のポリイミド溶液から得られたことを特徴とするポリイミド膜。
【００８８】
１５．１２または１３に記載のポリアミド酸溶液から得られたことを特徴とするポリイミド膜。
【００８９】
１６．前記ポリイミド溶液を支持体に塗工して得られたことを特徴とする１４に記載のポリイミド膜。
【００９０】
１７．前記ポリアミド酸溶液を支持体に塗工して得られたことを特徴とする１５に記載のポリイミド膜。
【００９１】
１８．前記支持体がガラス基板であることを特徴とする１６または１７に記載のポリイミド膜。
【００９２】
１９．膜厚が１０μｍのときの波長４００ｎｍの光透過率が７０％以上であることを特徴とする１４〜１８のいずれかに記載のポリイミド膜。
【００９３】
２０．面内の屈折率のうち最大のものをｎｘ、最小のものをｎｙとし、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ｎｘ−ｎｙ＜０．０００２且つ（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ＜０．００５の関係を満たすことを特徴とする１４〜１９のいずれかに記載のポリイミド膜。
【００９４】
２１．ガラス転移温度が２５０℃以上であることを特徴とする１４〜２０のいずれかに記載のポリイミド膜。
【００９５】
２２．１４〜２１のいずれかに記載のポリイミド膜を含有する基板。
【００９６】
２３．１４〜２１いずれかに記載のポリイミド膜を含有する光学材料。
【００９７】
２４．１４〜２１のいずれかに記載のポリイミド膜を含有する画像表示装置。
【００９８】
２５．１４〜２１のいずれかに記載のポリイミド膜を含有する電子デバイス材料。
【００９９】
或いは本願発明は以下の構成を有するものである。
【０１００】
１．下記一般式（１）で表される構造を含有するポリイミド。
【０１０１】
【化１１】
0006010533.tif 000012
【０１０２】
（ここで式中のＲは、水素原子、フッ素原子、メチル基からなる群より選択される。式中のＡは、エーテル結合を含む２価の有機基である。Ｘは、それぞれの単位構造のモル分率を表す。）
２．上記一般式（１）に記載のＸの値が０．３≦Ｘ＜１．０であることを特徴とする１に記載のポリイミド。
【０１０３】
３．１または２に記載の一般式（１）のＡで表される２価の有機基が４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル,２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン,１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン,１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルのいずれかのジアミンより由来されていることを特徴とするポリイミド。
【０１０４】
４．１〜３のいずれかに記載のポリイミドと有機溶媒を含有するポリイミド溶液。
【０１０５】
５．上記有機溶媒が、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒及びエーテル系溶媒から選択される少なくとも１つを含んでいることを特徴とする４に記載のポリイミド溶液。
【０１０６】
６．下記一般式（２）で表される構造を含有するポリアミド酸。
【０１０７】
【化１２】
0006010533.tif 000013
【０１０８】
（ここで式中のＲは、水素原子、フッ素原子、メチル基からなる群より選択される。式中のＡは、１に記載のものと同義である。Ｙは、それぞれの単位構造のモル分率を表す。）
７．上記一般式（２）に記載のＹの値が０．３≦Ｙ＜１．０であることを特徴とする６に記載のポリアミド酸。
【０１０９】
８．６または７に記載の一般式（２）のＡで表される２価の有機基が４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル,２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン,１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン,１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルのいずれかのジアミンより由来されていることを特徴とするポリアミド酸。
【０１１０】
９．上記一般式（２）で表されるポリアミド酸において、一部がイミド化された６〜８のいずれかに記載のポリアミド酸。
【０１１１】
１０．６〜９のいずれかに記載のポリアミド酸と有機溶媒を含有するポリアミド酸溶液。
【０１１２】
１１．上記有機溶媒が、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒及びエーテル系溶媒から選択される少なくとも１つを含んでいることを特徴とする１０に記載のポリアミド酸溶液。
【０１１３】
１２．４または５に記載のポリイミド溶液から得られたことを特徴とするポリイミド膜。
【０１１４】
１３．１０または１１に記載のポリアミド酸溶液から得られたことを特徴とするポリイミド膜。
【０１１５】
１４．前記ポリイミド溶液を支持体に塗工して得られたことを特徴とする１２に記載のポリイミド膜。
【０１１６】
１５．前記ポリアミド酸溶液を支持体に塗工して得られたことを特徴とする１３に記載のポリイミド膜。
【０１１７】
１６．前記支持体がガラス基板であることを特徴とする１４または１５に記載のポリイミド膜。
【０１１８】
１７．膜厚が１０μｍのときの波長４００ｎｍの光透過率が７０％以上であることを特徴とする１２〜１６のいずれかに記載のポリイミド膜。
【０１１９】
１８．面内の屈折率のうち最大のものをｎｘ、最小のものをｎｙとし、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ｎｘ−ｎｙ＜０．０００１且つ（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ＜０．００３の関係を満たすことを特徴とする１２〜１７のいずれかに記載のポリイミド膜。
【０１２０】
１９．ガラス転移温度が３００℃以上であることを特徴とする１２〜１８のいずれかに記載のポリイミド膜。
【０１２１】
２０．１２〜１９のいずれかに記載のポリイミド膜を含有する基板。
【０１２２】
２１．１２〜１９いずれかに記載のポリイミド膜を含有する光学材料。
【０１２３】
２２．１２〜１９のいずれかに記載のポリイミド膜を含有する画像表示装置。
【０１２４】
２３．１２〜１９のいずれかに記載のポリイミド膜を含有する電子デバイス材料。
【実施例】
【０１２５】
（評価方法）
本明細書中に記載の材料特性値等は以下の評価法によって得られたものである。【０１２６】
（１）ポリイミドの分子量
表１の条件にて重量平均分子量（Ｍｗ）を求めた。評価結果を表２に示す。【０１２７】
【表１】
0006010533.tif 000014
【０１２８】
（２）ポリイミドの有機溶媒への溶解性試験
ポリイミド０．５ｇに対し、有機溶媒９．５ｇ（固形分濃度５％）をサンプル管に入れ、マグネチックスターラーで撹拌した。有機溶媒は、アセトン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ―ブチロラクトン（ＧＢＬ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）を用いた。室温、具体的には２３℃で完全に溶解したものを○、一部溶け残りがあるものを△、不溶なものを×とした。評価結果を表２に示す。【０１２９】
【表２】
0006010533.tif 000015
【０１３０】
（３）ポリイミド膜の透過率
日本分光社製紫外可視近赤外分光光度計（Ｖ−６５０）を用いて、ポリイミドフィルムの２００−８００ｎｍにおける光透過率を測定し、４００ｎｍの波長における光透過率を指標として用いた。また、透過率が０．５％以下となる波長（カットオフ波長）も求めた。【０１３１】
（４）ポリイミド膜のガラス転移温度
セイコー電子（株）社製ＴＭＡ１２０Ｃを用いて（サンプルサイズ  幅３ｍｍ、長さ１０ｍｍ、膜厚を測定し、フィルムの断面積を算出）、荷重３ｇとし１０℃／ｍｉｎで１０〜４００℃まで昇温させたときのフィルム（ポリイミド膜）のひずみの変化量を測定し、この変化量の変曲点の温度をガラス転移温度とした。【０１３２】
（５）ポリイミド膜の全光線透過率
日本電色工業製積分球式ヘイズメーター３００Ａにより、ＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１記載の方法により測定した。【０１３３】
（６）ポリイミド膜のヘイズ
日本電色工業製積分球式ヘイズメーター３００Ａにより、ＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１記載の方法により測定した。【０１３４】
（７）位相差測定
シンテック社製位相差計：ＯＰＴＩＰＲＯにて、正面位相差および厚み位相差の値を測定した。その値を用いて、ｎｘ-ｎｙおよび（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚを算出した。【０１３５】
（合成例１）
＜ポリイミドの重合＞
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、９，９−ビス（３−メチル−４−アミノフェニル）フルオレン（以下、ＢＴＦＬ）１４．４ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＤＭＦ７０．０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物（以下、ＰＭＤＡ−ＨＳ）１２．３ｇを加え、室温（２３℃）で１時間攪拌した。その後、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（以下、４，４’−ＯＤＡ）を３．３ｇ添加して１０時間撹拌し、ポリアミド酸を得た。各モノマーの仕込み比率は、ＰＭＤＡ−ＨＳを１００ｍｏｌ％としたとき、ＢＴＦＬ：７０ｍｏｌ％、４，４’−ＯＤＡ：３０ｍｏｌ％となっていた。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して３０重量％となっていた。【０１３６】
上記溶液にＤＭＦ１００．０ｇ、イミド化触媒としてピリジン８．６ｇを添加して、完全に分散させた。分散させた溶液中に無水酢酸１３．４ｇを添加し１００℃で４時間攪拌した。１Ｌの２−プロピルアルコール（以下、ＩＰＡ）にポリイミド溶液を滴下・析出させ、粉末状のポリイミドを得た。得られた粉末状のポリイミドをＩＰＡで５回洗浄した後、真空乾燥装置で１２０℃１２時間真空乾燥して、ポリイミドを得た。得られたポリイミドの溶解性の評価結果を表２に示す。【０１３７】
（実施例１）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＤＭＡｃを用い、合成例１にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で８０℃で２０分、１５０℃で１時間、２５０℃で２時間乾燥させ、膜厚１５μｍ、１０μｍの２種類のポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１３８】
【表３】
0006010533.tif 000016
【０１３９】
（実施例２）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＤＭＡｃを用い、合成例１にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で８０℃で２０分、窒素雰囲気下で１５０℃で３０分、３５０℃で２時間乾燥させ、膜厚１５μｍ、１０μｍの２種類のポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１４０】
（実施例３）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＧＢＬを用い、合成例１にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で８０℃で２０分、１５０℃で１時間、２５０℃で２時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１４１】
（実施例４）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＧＢＬを用い、合成例１にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で８０℃で２０分、窒素雰囲気下で１５０℃で３０分、３５０℃で２時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１４２】
（合成例２）
＜ポリイミドの重合＞
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン（以下、ＢＡＦＬ）１３．９ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＤＭＦ７０．０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、ＰＭＤＡ−ＨＳ１２．７ｇを加え、室温（２３℃）で１時間攪拌した。その後、４，４’−ＯＤＡ３．４ｇを添加して１０時間撹拌し、ポリアミド酸を得た。各モノマーの仕込み比率は、ＰＭＤＡ−ＨＳを１００ｍｏｌ％としたとき、ＢＡＦＬ：７０ｍｏｌ％、４，４’−ＯＤＡ：３０ｍｏｌ％となっていた。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して３０重量％となっていた。【０１４３】
上記溶液にＤＭＦ１００．０ｇ、イミド化触媒としてピリジン９．０ｇを添加して、完全に分散させた。分散させた溶液中に無水酢酸１４．０ｇを添加し１００℃で４時間攪拌した。１Ｌの２−プロピルアルコール（以下、ＩＰＡ）にポリイミド溶液を滴下・析出させ、粉末状のポリイミドを得た。得られた粉末状のポリイミドをＩＰＡで５回洗浄した後、真空乾燥装置で１２０℃１２時間真空乾燥して、ポリイミドを得た。得られたポリイミドの評価結果を表２に示す。【０１４４】
（実施例５）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＤＭＡｃを用い、合成例２にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で８０℃で２０分、１５０℃で１時間、２５０℃で２時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１４５】
（実施例６）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＤＭＡｃを用い、合成例２にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で８０℃で２０分、窒素雰囲気下で１５０℃で３０分、３５０℃で２時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１４６】
（実施例７）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＧＢＬを用い、合成例２にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で８０℃で２０分、１５０℃で１時間、２５０℃で２時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１４７】
（合成例３）
＜ポリアミド酸の重合＞
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ＢＴＦＬ１４．４ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＤＭＡｃ１７０．０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、ＰＭＤＡ−ＨＳ１２．３ｇを加え、室温（２３℃）で１時間攪拌した。その後、４，４’−ＯＤＡ３．３ｇを添加して１０時間撹拌し、ポリアミド酸を得た。各モノマーの仕込み比率は、ＰＭＤＡ−ＨＳを１００ｍｏｌ％としたとき、ＢＴＦＬ：７０ｍｏｌ％、４，４’−ＯＤＡ：３０ｍｏｌ％となっていた。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して１５重量％となっていた。【０１４８】
（実施例８）
合成例３で重合したポリアミド酸溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で８０℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１４９】
（合成例４）
＜ポリアミド酸の重合＞
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ＢＡＦＬ１３．９ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＤＭＡｃ１７０．０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、ＰＭＤＡ−ＨＳ１２．７ｇを加え、室温（２３℃）で１時間攪拌した。その後、４，４’−ＯＤＡ３．４ｇを添加して１０時間撹拌し、ポリアミド酸を得た。各モノマーの仕込み比率は、ＰＭＤＡ−ＨＳを１００ｍｏｌ％としたとき、ＢＡＦＬ：７０ｍｏｌ％、４，４’−ＯＤＡ：３０ｍｏｌ％となっていた。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して１５重量％となっていた。【０１５０】
（実施例９）
合成例４で重合したポリアミド酸溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で８０℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１５１】
（合成例５）
＜ポリアミド酸の重合＞
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ＢＡＦＬ１３．９ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＧＢＬ１７０．０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、ＰＭＤＡ−ＨＳ１２．７ｇを加え、室温（２３℃）で１時間攪拌した。その後、４，４’−ＯＤＡ３．４ｇを添加して１０時間撹拌し、ポリアミド酸を得た。各モノマーの仕込み比率は、ＰＭＤＡ−ＨＳを１００ｍｏｌ％としたとき、ＢＡＦＬ：７０ｍｏｌ％、４，４’−ＯＤＡ：３０ｍｏｌ％となっていた。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して１５重量％となっていた。【０１５２】
（実施例１０）
合成例５で重合したポリアミド酸溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で８０℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１５３】
（合成例６）
＜ポリアミド酸の重合＞
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ＢＡＦＬ１２．２ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＧＢＬ１２０．０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、ＰＭＤＡ−ＨＳ１３．１ｇを加え、室温（２３℃）で１時間攪拌した。その後、４，４’−ＯＤＡ４．７ｇを添加して１０時間撹拌し、ポリアミド酸を得た。各モノマーの仕込み比率は、ＰＭＤＡ−ＨＳを１００ｍｏｌ％としたとき、ＢＡＦＬ：６０ｍｏｌ％、４，４’−ＯＤＡ：４０ｍｏｌ％となっていた。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して２０重量％となっていた。【０１５４】
＜ポリイミドの合成＞
上記溶液にＧＢＬ１５０．０ｇ、イミド化触媒としてピリジン２３．０ｇを添加して、完全に分散させた。分散させた溶液中に無水酢酸３０．０ｇを添加し室温（２３℃）で１２時間攪拌した。１ＬのＩＰＡにポリイミド溶液を滴下・析出させ、粉末状のポリイミドを得た。得られた粉末状のポリイミドをＩＰＡで５回洗浄した後、真空乾燥装置で１２０℃１２時間真空乾燥して、ポリイミドを得た。得られたポリイミドの評価結果を表２に示す。【０１５５】
（実施例１１）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＧＢＬを用い、合成例６にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し空気中で１００℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１５６】
（実施例１２）
合成例６で重合したポリアミド酸溶液をＧＢＬで希釈して１５重量％として調整した後、ポリアミド酸溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で１００℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１５７】
（合成例７）
＜ポリアミド酸の重合＞
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ＢＡＦＬ１０．５ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＧＢＬ１２０．０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、ＰＭＤＡ−ＨＳ１３．５ｇを加え、室温（２３℃）で１時間攪拌した。その後、４，４’−ＯＤＡ６．０ｇを添加して１０時間撹拌し、ポリアミド酸を得た。各モノマーの仕込み比率は、ＰＭＤＡ−ＨＳを１００ｍｏｌ％としたとき、ＢＡＦＬ：５０ｍｏｌ％、４，４’−ＯＤＡ：５０ｍｏｌ％となっていた。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して２０重量％となっていた。【０１５８】
＜ポリイミドの合成＞
上記溶液にＧＢＬ１５０．０ｇ、イミド化触媒としてピリジン２４．０ｇを添加して、完全に分散させた。分散させた溶液中に無水酢酸３１．０ｇを添加し室温（２３℃）で１２時間攪拌した。１ＬのＩＰＡにポリイミド溶液を滴下・析出させ、粉末状のポリイミドを得た。得られた粉末状のポリイミドをＩＰＡで５回洗浄した後、真空乾燥装置で１２０℃１２時間真空乾燥して、ポリイミドを得た。得られたポリイミドの評価結果を表２に示す。【０１５９】
（実施例１３）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＧＢＬを用い、合成例７にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で１００℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１６０】
（実施例１４）
合成例７で重合したポリアミド酸溶液をＧＢＬで希釈して１５重量％として調整した後、バーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で１００℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１６１】
（合成例８）
＜ポリイミドの重合＞
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに４，４’−ＯＤＡ１４．２ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＤＭＦ７０．０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、ＰＭＤＡ−ＨＳ１５．８ｇを加え、１０時間撹拌し、ポリアミド酸を得た。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して３０重量％となっていた。【０１６２】
上記溶液にＤＭＦ１００．０ｇ、イミド化触媒としてピリジン１１．１ｇを添加して、完全に分散させた。分散させた溶液中に無水酢酸１７．３ｇを添加し１００℃で４時間攪拌した。１ＬのＩＰＡにポリイミド溶液を滴下・析出させ、粉末状のポリイミドを得た。得られた粉末状のポリイミドをＩＰＡで５回洗浄した後、真空乾燥装置で１２０℃１２時間真空乾燥して、ポリイミドを得た。得られたポリイミドの評価結果を表２に示す。【０１６３】
（比較例１）
溶媒としてＤＭＡｃを用い、合成例８にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、８０℃で２０分、１５０℃で１時間、２５０℃で２時間乾燥させ、膜厚１７μｍ、１０μｍの２種類のポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１６４】
（比較例２）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＧＢＬを用い、合成例８にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、８０℃で２０分、１５０℃で１時間、２５０℃で２時間乾燥させ、膜厚１９μｍ、１０μｍの２種類のポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１６５】
（合成例９）
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ＢＴＦＬ１８．８ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＤＭＦ７０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、ＰＭＤＡ−ＨＳ１１．２ｇを加え、１０時間撹拌し、ポリアミド酸を得た。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して３０重量％となっていた。【０１６６】
上記溶液にイミド化触媒としてピリジン７．９ｇを添加して、完全に分散させた。分散させた溶液中に無水酢酸１２．２ｇを添加し１００℃で４時間攪拌した。１ＬのＩＰＡにポリイミド溶液を滴下・析出させ、粉末状のポリイミドを得た。得られた粉末状のポリイミドをＩＰＡで５回洗浄した後、真空乾燥装置で１２０℃１２時間真空乾燥して、ポリイミドを得た。得られたポリイミドの評価結果を表２に示す。【０１６７】
（比較例３）
溶媒としてＤＭＡｃおよびＧＢＬを用い、合成例９にて合成したポリイミドが２０重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、８０℃で２０分、１５０℃で１時間、２５０℃で２時間乾燥させたが、ひび割れが発生し、ポリイミド膜を得ることができなかった。【０１６８】
実施例１〜１４のポリイミド膜は、比較例１、２のポリイミド膜に比べて、高い透明性を有し、カットオフ波長が極めて短波長であり、複屈折が小さく、高いガラス転移温度を有していた。【０１６９】
（合成例１０）
デーンスタークトラップと還流管を具備した三口フラスコ中に、ビシクロ[２．２．２]オクト―７―エン―２，３，５，６―テトラカルボン酸二無水物（以下、ＢＯＤＡと称することがある）１４．４ｇ、ＢＡＦＬ１３．２ｇ、４，４’−ＯＤＡ３．２ｇ、重合溶媒としてＧＢＬ１２０．０ｇ、イミド化触媒として、ピリジン２１．５ｇ、水の共沸溶媒としてトルエン５．０ｇを仕込んだ。各モノマーの仕込み比率は、ＢＯＤＡを１００ｍｏｌ％としたとき、ＢＡＦＬ：７０ｍｏｌ％、４，４’−ＯＤＡ：３０ｍｏｌ％となっていた。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、反応溶液（ただし、イミド化触媒と共沸溶媒は除く）に対して２０重量％となっていた。この溶液を室温（２３℃）で１時間撹拌し、その後撹拌しながら１８０℃、窒素雰囲気下にて、５時間反応させることでポリイミド溶液を得た。１ＬのＩＰＡにこのポリイミド溶液を滴下・析出させ、粉末状のポリイミドを得た。得られた粉末状のポリイミドをＩＰＡで５回洗浄した後、真空乾燥装置で１２０℃１２時間真空乾燥して、ポリイミドを得た。得られたポリイミドの評価結果を表２に示す。【０１７０】
（実施例１５）
溶媒としてＧＢＬを用い、合成例１０にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し空気中で１００℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミドを得た。ポリイミドの評価結果を表３に示す。【０１７１】
（合成例１１）
デーンスタークトラップと還流管を具備した三口フラスコ中に、ＢＯＤＡ１１．８ｇ、ＢＡＦＬ８．３ｇ、２，２−ビス[４−（４−アミノフェノキシ）フェニル]プロパン（以下、ＢＡＰＰと称することがある）９．８ｇ、重合溶媒としてＧＢＬ１２０．０ｇ、イミド化触媒としてピリジン１９．０ｇ、水の共沸溶媒としてトルエン５．０ｇを仕込んだ。各モノマーの仕込み比率は、ＢＯＤＡを１００ｍｏｌ％としたとき、ＢＡＦＬ：５０ｍｏｌ％、ＢＡＰＰ：５０ｍｏｌ％となっていた。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、反応溶液（ただし、イミド化触媒と共沸溶媒は除く）に対して２０重量％となっていた。この溶液を室温（２３℃）で１時間撹拌し、その後撹拌しながら１８０℃、窒素雰囲気下にて、５時間反応させることでポリイミド溶液を得た。１ＬのＩＰＡにこのポリイミド溶液を滴下・析出させ、粉末状のポリイミドを得た。得られた粉末状のポリイミドをＩＰＡで５回洗浄した後、真空乾燥装置で１２０℃１２時間真空乾燥して、ポリイミドを得た。得られたポリイミドの評価結果を表２に示す。【０１７２】
（実施例１６）
溶媒としてＧＢＬを用い、合成例１１にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し空気中で１００℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミドを得た。ポリイミドの評価結果を表３に示す。【０１７３】
（合成例１２）
＜ポリアミド酸の重合＞
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ＢＡＦＬ６．７ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＧＢＬ１２０．０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、ＰＭＤＡ−ＨＳ１４．３ｇを加え、室温（２３℃）で１時間攪拌した。その後、４，４’−ＯＤＡ８．９ｇを添加して１０時間撹拌し、ポリアミド酸を得た。各モノマーの仕込み比率は、ＰＭＤＡ−ＨＳを１００ｍｏｌ％としたとき、ＢＡＦＬ：３０ｍｏｌ％、４，４’−ＯＤＡ：７０ｍｏｌ％となっていた。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して２０重量％となっていた。【０１７４】
＜ポリイミドの合成＞
上記溶液にＧＢＬ１５０．０ｇ、イミド化触媒としてピリジン２５．３ｇを添加して、完全に分散させた。分散させた溶液中に無水酢酸３３．３ｇを添加し室温（２３℃）で１２時間攪拌した。１ＬのＩＰＡにポリイミド溶液を滴下・析出させ、粉末状のポリイミドを得た。得られた粉末状のポリイミドをＩＰＡで５回洗浄した後、真空乾燥装置で１２０℃１２時間真空乾燥して、ポリイミドを得た。得られたポリイミドの評価結果を表２に示す。【０１７５】
（実施例１７）
＜ポリイミド溶液およびポリイミド膜の作製＞
溶媒としてＧＢＬを用い、合成例１２にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で１００℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。【０１７６】
（合成例１３）
デーンスタークトラップと還流管を具備した三口フラスコ中に、ＢＯＤＡ１６．６ｇ、４，４’−ＯＤＡ１３．４ｇ、重合溶媒としてＧＢＬ１２０．０ｇ、イミド化触媒としてピリジン１６．５ｇ、水の共沸溶媒としてトルエン５．０ｇを仕込んだ。なお、この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、反応溶液（ただし、イミド化触媒と共沸溶媒は除く）に対して２０重量％となっていた。この溶液を室温（２３℃）で１時間撹拌し、その後撹拌しながら１８０℃、窒素雰囲気下にて、５時間反応させることでポリイミド溶液を得た。１ＬのＩＰＡにこのポリイミド溶液を滴下・析出させ、粉末状のポリイミドを得た。得られた粉末状のポリイミドをＩＰＡで５回洗浄した後、真空乾燥装置で１２０℃１２時間真空乾燥して、ポリイミドを得た。得られたポリイミドの評価結果を表２に示す。【０１７７】
（比較例４）
溶媒としてＮＭＰを用い、合成例１３にて合成したポリイミドが１５重量％の濃度で含有されているポリイミド溶液を作製した。このポリイミド溶液をバーコーターでガラス板上に塗布し空気中で１００℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミドを得た。ポリイミドの評価結果を表３に示す。【０１７８】
（合成例１４）
＜ポリアミド酸の重合＞
ステンレス製撹拌棒を備えた撹拌機、窒素導入管を備えた、５００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、４，４’−ＯＤＡ１３．３ｇを入れ、重合用溶媒として脱水したＤＭＡｃ１７０．０ｇを仕込み攪拌した後、この溶液に、ビシクロ［２．２．２］オクタン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物（以下、ＢＴＡ−Ｈと称することがある）１６．７ｇを加え、室温（２３℃）で１２時間攪拌した。この反応溶液におけるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して３０重量％となっていた。【０１７９】
（比較例５）
合成例１４で重合したポリアミド酸溶液をＤＭＡｃで希釈して２５重量％として調整した後、バーコーターでガラス板上に塗布し、空気中で１００℃で３０分、窒素雰囲気下で３５０℃で１時間乾燥させ、膜厚１０μｍのポリイミド膜を得た。ポリイミド膜の評価結果を表３に示す。
【産業上の利用可能性】
【０１８０】
上記本発明に係るポリイミド、ポリアミド酸は、耐熱性、透明性、に加えて、光学的等方性を有することから、耐熱性が必要とされる公知の全ての部材用のフィルムや塗膜として好適である。また、本発明に係るポリイミド、ポリアミド酸は種々の有機溶媒に可溶なため、ポリイミド溶液、ポリアミド酸溶液として各種基板へ容易に塗工することができる。本発明のポリイミドは、例えば、ＴＦＴ基板材料、ＩＴＯ基板材料、印刷物、カラーフィルター、フレキシブルディスプレー部材、反射防止膜、ホログラム、光学部材又は建築材料や構造物としての利用が期待される。