(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
略水平姿勢で保持される基板に処理液を用いた処理を行う際に基板の周囲を取り囲むように設けられるカップであって、
前記基板の周囲を取り囲むように配置される上面を有する第１の部材と、
前記基板の周囲を取り囲むように前記第１部材の前記上面の上方に配置される下面を有する第２の部材と、
前記第１および第２の部材の周囲を取り囲むように設けられる第３の部材と、
閉塞部材とを備え、
前記第１および第２の部材は、前記上面と前記下面との間隔が前記基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに前記第１および第２の部材の外周部で前記上面と前記下面との間に間隙が形成されるように構成され、
前記第３の部材は、前記間隙の外方で前記間隙から離間しかつ前記間隙を取り囲むように形成される内面を有し、
前記閉塞部材は、前記間隙より上方で前記第２の部材と前記第３の部材の前記内面との間の隙間を閉塞し、
前記第１の部材の前記上面の内縁部は、前記第２の部材の前記下面の内縁部よりも外方に位置する、カップ。
【請求項２】
前記第３の部材の前記内面は、前記間隙の下端よりも下方から前記間隙の上端よりも上方まで延びるように形成される、請求項１記載のカップ。
【請求項３】
略水平姿勢で保持される基板に処理液を用いた処理を行う際に基板の周囲を取り囲むように設けられるカップであって、
前記基板の外周部よりも外方において前記基板の周囲を取り囲むように配置される上面を有する第１の部材と、
前記基板の外周部よりも外方において前記基板の周囲を取り囲むように前記第１部材の前記上面の上方に配置される下面を有する第２の部材と、
前記第１および第２の部材の周囲を取り囲むように設けられる第３の部材とを備え、
前記第１および第２の部材は、前記上面と前記下面との間隔が前記基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに前記第１および第２の部材の外周部で前記上面と前記下面との間に間隙が形成されるように構成され、
前記第３の部材は、前記間隙の外方で前記間隙から離間しかつ前記間隙を取り囲むように形成される内面を有し、
前記第３の部材の前記内面は、前記第１の部材の外周部よりも下方の位置から前記第２の部材の外周部よりも上方の位置まで連続的に延びるように形成され、
前記第１の部材の外周部における端面および前記第２の部材の外周部における端面が前記第３の部材の前記内面と対向し、
前記第１の部材の外周部における端面および前記第２の部材の外周部における端面と前記第３の部材の前記内面との間に下降流が通過可能な隙間が形成され、
前記第１の部材の前記上面の内縁部は、前記第２の部材の前記下面の内縁部よりも外方に位置する、カップ。
【請求項４】
前記第１の部材の前記上面、前記第２の部材の前記下面、前記間隙および前記第３の部材の前記内面は、共通の軸を中心とする回転対称な形状を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のカップ。
【請求項５】
前記第２の部材の前記下面は、外方に向かって前記基板の上面に対して斜め下方に傾斜するように形成される、請求項１〜４のいずれか一項に記載のカップ。
【請求項６】
前記第２の部材の前記下面は、前記基板の上面に対して５度以上２０度以下の角度をなすように形成される、請求項５記載のカップ。
【請求項７】
前記第１の部材の前記上面の少なくとも内周部側の領域は、外方に向かって前記基板の上面に対して斜め上方に傾斜するように形成される、請求項１〜６のいずれか一項に記載のカップ。
【請求項８】
前記第１の部材の前記上面は、前記基板の上面に対して５度以上２０度以下の角度をなすように形成される、請求項７記載のカップ。
【請求項９】
基板に処理を行う基板処理装置であって、
基板を略水平姿勢で保持して回転させる回転保持部と、
前記回転保持部により保持される基板上に処理液を供給する処理液供給系と、
前記回転保持部により保持される基板の周囲を取り囲むように設けられる請求項１〜８のいずれか一項に記載のカップとを備える、基板処理装置。
【請求項１０】
前記処理液の粘度は、１０ｃＰ以下である、請求項９記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カップおよびそれを備えた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板または光ディスク用ガラス基板等の基板に現像液、洗浄液、リンス液またはフォトレジスト液等の処理液を用いた処理を行うために回転式基板処理装置が用いられる。
【０００３】
回転式基板処理装置においては、基板が回転保持部により水平に支持される。基板が回転保持部により回転されるとともに、その基板の上面中央部に処理液が滴下される。これにより、基板が処理液により処理される。このような基板処理装置では、基板が回転する際の遠心力により処理液の一部が基板の周辺部に飛散することを防止するために、回転保持部の周囲を取り囲むようにカップが設けられる（例えば特許文献１〜３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平９−２２５３７６号公報
【特許文献２】特開平１１−４０４８４号公報
【特許文献３】特開２０１１−１１９５９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１〜３の基板処理装置においては、処理の条件によっては、カップの内面により跳ね返された液体状またはミスト状の処理液が基板に付着する可能性がある。それにより、基板の処理欠陥が発生する場合がある。
【０００６】
本発明の目的は、基板から外方へ飛散した処理液を十分に受け止めることができるとともに、受け止められた処理液が基板まで跳ね返ることを防止することが可能なカップおよび基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（１）第１の発明に係るカップは、略水平姿勢で保持される基板に処理液を用いた処理を行う際に基板の周囲を取り囲むように設けられるカップであって、基板の周囲を取り囲むように配置される上面を有する第１の部材と、基板の周囲を取り囲むように第１の部材の上面の上方に配置される下面を有する第２の部材と、第１および第２の部材の周囲を取り囲むように設けられる第３の部材と、閉塞部材とを備え、第１および第２の部材は、上面と下面との間隔が基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに第１および第２の部材の外周部で上面と下面との間に間隙が形成されるように構成され、第３の部材は、間隙の外方で間隙から離間しかつ間隙を取り囲むように形成される内面を有し、閉塞部材は、間隙より上方で第２の部材と第３の部材の内面との間の隙間を閉塞し、第１の部材の上面の内縁部は、第２の部材の下面の内縁部よりも外方に位置するものである。
【０００８】
このカップにおいては、第１および第２の部材が基板の周囲を取り囲むように配置される。第２の部材は第１の部材の上面の上方に配置される。また、第３の部材が、第１および第２の部材の周囲を取り囲むように設けられる。第１の部材の上面と第２の部材の下面との間隔は、基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに、第１および第２の部材の外周部で上面と下面との間に間隙が形成される。第３の部材の内面は、間隙の外方で間隙から離間しかつ間隙を取り囲むように形成される。第１の部材の上面の内縁部は、第２の部材の下面の内縁部よりも外方に位置する。
【０００９】
この場合、第１の部材の上面と第２の部材の下面との間の間隔は、基板に最も近い位置で最も大きい。そのため、基板から外方へ飛散した処理液は、第１の部材の上面と第２の部材の下面との間に捕集される。捕集された処理液は、第１の部材の上面および第２の部材の下面に沿って外方へ導かれることにより外周部の間隙に集められ、間隙を通過する。間隙を通過した処理液は、第３の部材の内面で受け止められる。第３の部材の内面は間隙から離間している。そのため、第３の部材の内面で跳ね返った処理液は、外方に向かって間隙を通過する処理液の流れにより押し戻される。それにより、一旦外方へ向かって間隙を通過した処理液が再び間隙を通過して第１の部材の上面と第２の部材の下面と間の空間に戻ることが防止される。
【００１０】
また、第１の部材の外周部側の上面と第２の部材の外周部側の下面とにより形成される間隙は、第１の部材の内周部側の上面と第２の部材の内周部側の下面との間の間隔よりも狭い。そのため、第３の部材の内面で跳ね返った処理液が、再び間隙を通過して第１の部材の上面と第２の部材の下面との間の空間に戻ることがより確実に防止される。
【００１１】
これらの結果、基板から外方へ飛散した処理液をカップで十分に受け止めることができるとともに、カップで受け止められた処理液が基板まで跳ね返ることを防止することができる。
さらに、カップは、間隙より上方で第２の部材と第３の部材の内面との間の隙間を閉塞する閉塞部材をさらに備える。第１および第２の部材の外周部の間隙を通過した処理液が第３の部材の内面と第１および第２の部材の外周部との間で浮上した場合でも、その処理液が閉塞部材により受け止められる。それにより、第３の部材の内面と第１および第２の部材の外周部との間で浮上した処理液のミストが第２の部材と第３の部材の内面との間の隙間を通してカップの外部まで拡散することを十分に防止することができる。
【００１２】
（２）第３の部材の内面は、間隙の下端よりも下方から間隙の上端よりも上方まで延びるように形成されてもよい。
【００１３】
この場合、第１および第２の部材の外周部の間隙を通過した処理液が広がる場合でも、第３の部材の内面で処理液を確実に受け止めることができる。
【００１６】
（３）第２の発明に係るカップは、略水平姿勢で保持される基板に処理液を用いた処理を行う際に基板の周囲を取り囲むように設けられるカップであって、基板の外周部よりも外方において基板の周囲を取り囲むように配置される上面を有する第１の部材と、基板の外周部よりも外方において基板の周囲を取り囲むように第１部材の上面の上方に配置される下面を有する第２の部材と、第１および第２の部材の周囲を取り囲むように設けられる第３の部材とを備え、第１および第２の部材は、上面と下面との間隔が基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに第１および第２の部材の外周部で上面と下面との間に間隙が形成されるように構成され、第３の部材は、間隙の外方で間隙から離間しかつ間隙を取り囲むように形成される内面を有し、第３の部材の内面は、第１の部材の外周部よりも下方の位置から第２の部材の外周部よりも上方の位置まで連続的に延びるように形成され、第１の部材の外周部における端面および第２の部材の外周部における端面が第３の部材の内面と対向し、第１の部材の外周部における端面および第２の部材の外周部における端面と第３の部材の内面との間に下降流が通過可能な隙間が形成され、第１の部材の上面の内縁部は、第２の部材の下面の内縁部よりも外方に位置するものである。
【００１７】
このカップにおいては、第１および第２の部材が基板の外周部よりも外方において基板の周囲を取り囲むように配置される。第２の部材は第１の部材の上面の上方に配置される。また、第３の部材が、第１および第２の部材の周囲を取り囲むように設けられる。第１の部材の上面と第２の部材の下面との間隔は、基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに、第１および第２の部材の外周部で上面と下面との間に間隙が形成される。第３の部材の内面は、間隙の外方で間隙から離間しかつ間隙を取り囲むように形成される。また、第３の部材の内面は、第１の部材の外周部よりも下方の位置から第２の部材の外周部よりも上方の位置まで連続的に延びる。第１の部材の上面の内縁部は、第２の部材の下面の内縁部よりも外方に位置する。
この場合、第１の部材の上面と第２の部材の下面との間の間隔は、基板に最も近い位置で最も大きい。そのため、基板から外方へ飛散した処理液は、第１の部材の上面と第２の部材の下面との間に捕集される。捕集された処理液は、第１の部材の上面および第２の部材の下面に沿って外方へ導かれることにより外周部の間隙に集められ、間隙を通過する。間隙を通過した処理液は、第３の部材の内面で受け止められる。第３の部材の内面は間隙から離間している。そのため、第３の部材の内面で跳ね返った処理液は、外方に向かって間隙を通過する処理液の流れにより押し戻される。それにより、一旦外方へ向かって間隙を通過した処理液が再び間隙を通過して第１の部材の上面と第２の部材の下面と間の空間に戻ることが防止される。
また、第１の部材の外周部側の上面と第２の部材の外周部側の下面とにより形成される間隙は、第１の部材の内周部側の上面と第２の部材の内周部側の下面との間の間隔よりも狭い。そのため、第３の部材の内面で跳ね返った処理液が、再び間隙を通過して第１の部材の上面と第２の部材の下面との間の空間に戻ることがより確実に防止される。
これらの結果、基板から外方へ飛散した処理液をカップで十分に受け止めることができるとともに、カップで受け止められた処理液が基板まで跳ね返ることを防止することができる。
さらに、第１および第２の部材の外周部の間隙を通過した処理液が第３の部材の内面と第１および第２の部材の外周部との間で浮上した場合でも、その処理液は下降流により下方に押し戻される。それにより、第３の部材の内面と第１および第２の部材の外周部との間で浮上した処理液のミストが第２の部材と第３の部材の内面との間の隙間を通してカップの外部まで拡散することを十分に防止することができる。
【００１８】
（４）第１の部材の上面、第２の部材の下面、間隙および第３の部材の内面は、共通の軸を中心とする回転対称な形状を有してもよい。この場合、カップを回転式基板処理装置に設けることができる。
【００１９】
基板を回転させつつ基板上に処理液を用いた処理を行う場合に、基板から全方向へ飛散した処理液をカップで確実に受け止めることができるとともに、カップで受け止められた処理液が基板まで跳ね返ることを確実に防止することができる。
【００２０】
（５）第２の部材の下面は、外方に向かって基板の上面に対して斜め下方に傾斜するように形成されてもよい。
【００２１】
この場合、第２の部材の下面に付着した処理液が重力により下面を伝って第１および第２の部材の外周部の間隙に導かれる。これにより、基板から外方へ飛散した処理液は、第１の部材の上面と第２の部材の下面との間の間隙を容易に通過することができる。
【００２２】
（６）第２の部材の下面は、基板の上面に対して５度以上２０度以下の角度をなすように形成されてもよい。
【００２３】
この場合、基板から外方へ飛散した処理液を第１の部材の上面と第２の部材の下面との間の間隙をより確実に通過させることができるとともに、第２の部材の下面に当たった処理液が基板に跳ね返ることを確実に防止することができる。
【００２４】
（７）第１の部材の上面の少なくとも内周部側の領域は、外方に向かって基板の上面に対して斜め上方に傾斜するように形成されてもよい。
【００２５】
この場合、基板から外方へ飛散した処理液を、第１の部材の上面と第２の部材の下面との間に容易に捕集することができる。
【００２６】
（８）第１の部材の上面は、基板の上面に対して５度以上２０度以下の角度をなすように形成されてもよい。
【００２７】
この場合、基板から外方へ飛散した処理液を第１の部材の上面と第２の部材の下面との間の間隙を確実に通過させることができるとともに、第１の部材の上面に当たった処理液が基板に跳ね返ることを確実に防止することができる。
【００２８】
（９）第３の発明に係る基板処理装置は、基板に処理を行う基板処理装置であって、基板を略水平姿勢で保持して回転させる回転保持部と、回転保持部により保持される基板上に処理液を供給する処理液供給系と、回転保持部により保持される基板の周囲を取り囲むように設けられる上記のカップとを備えるものである。
【００２９】
この基板処理装置においては、基板が回転保持部により水平姿勢で保持され回転される。また、処理液供給系により基板上に処理液が供給される。基板の回転により基板から外方へ飛散した処理液は、カップの第１の部材の上面と第２の部材の下面との間に捕集される。捕集された処理液は、第１の部材の上面および第２の部材の下面に沿って外方へ導かれることにより外周部の間隙に集められ、間隙を通過する。間隙を通過した処理液は、第３の部材の内面で受け止められる。第３の部材の内面は間隙から離間している。そのため、第３の部材の内面で跳ね返った処理液は、外方に向かって間隙を通過する処理液の流れにより押し戻される。それにより、一旦外方へ向かって間隙を通過した処理液が再び間隙を通過して第１の部材の上面と第２の部材の下面と間の空間に戻ることが防止される。
【００３０】
また、第１の部材の外周部側の上面と第２の部材の外周部側の下面とにより形成される間隙は、第１の部材の内周部側の上面と第２の部材の内周部側の下面との間の間隔よりも狭い。そのため、第３の部材の内面で跳ね返った処理液が、再び間隙を通過して第１の部材の上面と第２の部材の下面との間の空間に戻ることがより確実に防止される。
【００３１】
これらの結果、基板から外方へ飛散した処理液をカップで十分に受け止めることができるとともに、カップで受け止められた処理液が基板まで跳ね返ることを防止することができる。
【００３２】
（１０）処理液の粘度は、１０ｃＰ以下であってもよい。この場合、処理液はカップの第１の部材の上面と第２の部材の下面との間の間隙を確実に通過することができる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、基板から外方へ飛散した処理液を十分に受け止めることができるとともに、受け止められた処理液が基板まで跳ね返ることを防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】第１の実施の形態に係るカップを備えた回転式基板処理装置の概略断面図である。
【図２】基板が停止している状態における図１のカップのＡ部の拡大断面図である。
【図３】基板が回転している状態における図１のカップのＡ部の拡大断面図である。
【図４】第２の実施の形態に係るカップを備えた回転式基板処理装置の概略断面図である。
【図５】基板が回転している状態における図４のカップのＢ部の拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
［１］第１の実施の形態
（１）基板処理装置
図１は、第１の実施の形態に係るカップを備えた回転式基板処理装置の概略断面図である。図１に示すように、基板処理装置１００は、基板Ｗを水平姿勢で保持して回転する回転保持部１を備える。回転保持部１はモータ３の回転軸２の先端に取り付けられ、鉛直軸の周りで回転駆動される。
【００３６】
回転保持部１に保持された基板Ｗの周囲を取り囲むようにカップ支持部材４および飛散防止用のカップ５が設けられている。カップ支持部材４およびカップ５は、回転軸２に対して回転対称な形状を有する。カップ５はカップ支持部材４により上下動可能に支持される。また、カップ５には支持フレーム１１を介してシリンダ１０が接続されている。このシリンダ１０の動作によりカップ５が上下方向に移動する。
【００３７】
カップ５は、カップ中部５１、カップ下部５２、カップ上部５３、カップ底部５４、側壁部５５および支持部５６，５７からなる。カップ中部５１、カップ下部５２、カップ上部５３、カップ底部５４および支持部５６は略円環形状を有する。カップ中部５１は、基板Ｗの上部空間の周囲を取り囲むように配置される。カップ上部５３は、基板Ｗの上部空間の周囲を取り囲みかつカップ中部５１の上方に位置するように配置される。カップ中部５１の中央部およびカップ上部５３の中央部には円形の開口部５１０，５３０がそれぞれ形成される。カップ下部５２は、基板Ｗの下部空間の周囲を取り囲むように配置される。カップ底部５４は、基板Ｗの下部空間の周囲を取り囲みかつカップ下部５２の下方に位置するように配置される。
【００３８】
側壁部５５は、円筒形状を有し、カップ中部５１、カップ下部５２、カップ上部５３およびカップ底部５４を取り囲むように形成される。カップ上部５３の外周部は、側壁部５５の上端に一体的に固定される。カップ底部５４の外周部は側壁部５５の下端に一体的に固定される。カップ中部５１は、支持部５６により側壁部５５の内周面５５ａに一体的に固定される。カップ下部５２の下端は、複数の棒状の支持部５７により側壁部５５の内周面５５ａに一体的に固定される。
【００３９】
本実施の形態において、支持部５６は、側壁部５５の全周にわたって側壁部５５の内周面５５ａとカップ中部５１の上面の外周部近傍とを接続するように設けられている。それにより、支持部５６は、カップ中部５１の外周部と側壁部５５の内周面５５ａとの間の隙間を、その隙間の上方で閉塞する。一方、複数の支持部５７は、所定の間隔（例えば９０度の間隔）で側壁部５５の内周面５５ａとカップ下部５２の下端とを接続するように設けられている。それにより、カップ下部５２と側壁部５５の内周面５５ａとの間の一部には複数の開口部が形成される。
【００４０】
カップ底部５４には廃液口７および排気口８が設けられている。廃液口７は、工場内の廃液設備に接続される。排気口８は、工場内の排気設備に接続される。回転保持部１の下方には、回転軸２およびモータ３を取り囲むように整流板６が配置されている。整流板６は、カップ底部５４の内周部に固定されている。この整流板６は、外周部に向かって斜め下方に傾斜する傾斜面を有する。
【００４１】
基板Ｗ上に処理液を吐出する処理液ノズル９が、上下動可能かつ基板Ｗの上方位置とカップ５外の待機位置との間で移動可能に設けられている。本実施の形態においては、処理液は例えば現像液である。処理液は、洗浄液であってもよく、リンス液（例えば純水）であってもよく、基板Ｗに反射防止膜を形成するための薬液であってもよく、低粘度のレジスト液であってもよい。処理液は、低い粘度（例えば１０ｃＰ以下）を有することが好ましいが、これに限定されない。
【００４２】
処理液ノズル９は処理液供給管Ｔ１を介して処理液供給源Ｐ１に接続されている。処理液供給管Ｔ１にはバルブＶ１が介挿されている。バルブＶ１が開放されることにより、処理液供給源Ｐ１から処理液供給管Ｔ１を通して処理液ノズル９に処理液が供給される。
【００４３】
基板Ｗは、被処理面が上方に向けられた状態で回転保持部１により水平姿勢で保持される。この状態で、基板Ｗが回転保持部１により回転されるとともに、処理液ノズル９から基板Ｗの被処理面の中央部に処理液が吐出される。それにより、基板Ｗの被処理面の中央部に吐出された処理液が、基板Ｗの回転に伴う遠心力により基板Ｗの被処理面の全体に拡げられる。
【００４４】
基板処理装置１００は、制御部１２を備える。制御部１２は、モータ３の回転速度を制御する。それにより、回転保持部１により保持された基板Ｗの回転速度が制御される。また、制御部１２は、バルブＶ１の開閉を制御する。それにより、処理液の吐出タイミングが制御される。さらに、制御部１２は、シリンダ１０を制御する。それにより、カップ５の上下方向の位置が制御される。
【００４５】
（２）カップの詳細な構成
図２は、基板Ｗが停止している状態における図１のカップ５のＡ部の拡大断面図である。
【００４６】
図２に示すように、カップ中部５１は、外周部に向かって斜め下方に傾斜するように形成された円環状の下面５１ａを有する。水平面に対するカップ中部５１の下面５１ａの傾斜角度はθ１である。本実施の形態において、傾斜角度θ１は、例えば５度以上２０度以下である。カップ中部５１の内周部には、下方に突出する突出縁５１ｂが形成されている。
【００４７】
カップ上部５３は、外周部に向かって斜め下方に傾斜するように形成された円環状の下面５３ａを有する。カップ上部５３の内周部には、下方に突出する突出縁５３ｂが形成されている。
【００４８】
カップ下部５２は、内周部側で外周部に向かって斜め上方に傾斜するように形成された円環状の上面５２ａと、上面５２ａの外側で水平に延びる形成される上面５２ｂとを有する。水平面に対するカップ下部５２の上面５２ａの傾斜角度はθ２である。本実施の形態において、傾斜角度θ２は、例えば５度以上２０度以下である。
【００４９】
カップ中部５１の下面５１ａとカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂとの間隔は、基板Ｗの外周部側から外方に向かって漸次減少する。また、カップ中部５１およびカップ下部５２の外周部で、カップ中部５１の下面５１ａとカップ下部５２の上面５２ｂとの間に円環状の間隙Ｓが形成される。カップ中部５１とカップ下部５２とがそれぞれ独立に上下方向に移動可能に構成されてもよい。この場合、間隙Ｓの上下方向の長さを調整することができる。間隙Ｓの上下方向の長さは、例えば１ｍｍ〜５ｍｍであり、本実施の形態においては、２ｍｍである。
【００５０】
側壁部５５は、カップ中部５１およびカップ下部５２の外周部を取り囲むように形成された内周面５５ａを有する。内周面５５ａは、間隙Ｓから離間しかつ間隙Ｓに対向するように形成される。
【００５１】
（３）効果
図３は、基板Ｗが回転している状態における図１のカップ５のＡ部の拡大断面図である。図３に示すように、基板Ｗが回転されることにより、処理液が、基板Ｗの被処理面（上面）から上下方向に幅をもって、基板Ｗの外周部から外方に飛散する。カップ中部５１の下面５１ａとカップ下部５２の上面５２ａとの間隔は基板Ｗに最も近い位置で最も大きい。それにより、基板Ｗの外周部から外方に飛散した処理液は、カップ中部５１の下面５１ａとカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂとの間に確実に捕集される。
【００５２】
捕集された処理液は、カップ中部５１の下面５１ａおよびカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂに沿って外方へ導かれることにより外周部の間隙Ｓに集められ、間隙Ｓを通過する。間隙Ｓを通過した処理液は、側壁部５５の内周面５５ａで受け止められる。側壁部５５の内周面５５ａで間隙Ｓの方向に跳ね返った処理液は、外方に向かって間隙Ｓを通過する処理液の流れにより押し戻される。それにより、一旦外方へ向かって間隙Ｓを通過した処理液が再び間隙Ｓを通過してカップ中部５１の下面５１ａとカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂと間の空間に戻ることが防止される。押し戻された処理液は、重力によりカップ底部５４に落下し、廃液口７を通して排出される。
【００５３】
また、間隙Ｓは、カップ下部５２の内周部側の上面５２ａ，５２ｂとカップ中部５１の内周部側の下面５１ａとの間の間隔よりも狭い。そのため、側壁部５５の内周面５５ａで跳ね返った処理液が、再び間隙Ｓを通過してカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂとカップ中部５１の下面５１ａとの間の空間に戻ることがより確実に防止される。
【００５４】
これらの結果、基板Ｗから外方へ飛散した処理液をカップ５で十分に受け止めることができるとともに、カップ５で受け止められた処理液が基板Ｗまで跳ね返ることを防止することができる。
【００５５】
また、側壁部５５の内周面５５ａに付着した処理液は、重力によりカップ底部５４に落下し、廃液口７を通して排出される。
【００５６】
また、側壁部５５の内周面５５ａで処理液が上方向に拡がるかまたは浮上した場合でも、その処理液は支持部５６により受け止められる。支持部５６により受け止められた処理液は、重力によりカップ底部５４に落下し、廃液口７を通して排出される。それにより、側壁部５５の内周面５５ａで上方向に拡がるかまたは浮上した処理液のミストがカップ中部５１およびカップ下部５２の外周部と側壁部５５の内周面５５ａとの間の隙間およびカップ上部５３の開口部５３０を通してカップ５の外部まで拡散することが確実に防止される。
【００５７】
したがって、基板処理装置１００内が処理液のミストにより汚染されるが防止される。また、基板処理装置１００に他の基板処理装置が隣接するように配置される場合でも、基板処理装置１００で用いられる処理液のミストにより他の基板処理装置における基板に処理欠陥が発生することが防止される。
【００５８】
また、カップ中部５１の下面５１ａに付着した処理液は、傾斜した下面５１ａを伝ってカップ５の外周部に導かれる。処理液は、カップ下部５２の上面５２ａに付着した処理液は、傾斜した上面５２ａおよび上面５２ｂを伝ってカップ５の外周部に導かれる。
【００５９】
カップ中部５１の下面５１ａは、外方に向かって水平面に対して斜め下方に傾斜するように形成されている。また、カップ下部５２の上面５２ａは、外方に向かって水平面に対して斜め上方に傾斜するように形成されている。それにより、基板Ｗから外方へ飛散した処理液をカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂとカップ中部５１の下面５１ａとの間に容易に捕集することができる。
【００６０】
カップ中部５１の下面５１ａが水平面に対して５度以上２０度以下の角度をなすように形成されている場合、基板Ｗから外方へ飛散した処理液をカップ中部５１の下面５１ａとカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂとの間の間隙Ｓをより確実に通過させることができるとともに、カップ中部５１の下面５１ａに当たった処理液が基板Ｗに跳ね返ることを確実に防止することができる。
【００６１】
カップ下部５２の上面５２ａが水平面に対して５度以上２０度以下の角度をなすように形成されている場合、基板Ｗから外方へ飛散した処理液をカップ中部５１の下面５１ａとカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂとの間の間隙Ｓを確実に通過させることができるとともに、カップ下部５２の上面５２ａに当たった処理液が基板Ｗに跳ね返ることを確実に防止することができる。
【００６２】
［２］第２の実施の形態
第２の実施の形態に係るカップについて、第１の実施の形態に係るカップ５と異なる点を説明する。図４は、第２の実施の形態に係るカップを備えた回転式基板処理装置の概略断面図である。
【００６３】
図４に示すように、本実施の形態に係るカップ５は、図１の支持部５６に代えて複数の支持部５８を有する。複数の支持部５８は、所定の間隔（例えば９０度の間隔）で側壁部５５の内周面５５ａとカップ中部５１の外周部とを接続するように設けられている。それにより、カップ中部５１と側壁部５５の内周面５５ａとの間には下降流（ダウンフロー）が通過可能な複数の隙間が形成される。
【００６４】
本実施の形態において、図４のカップ中部５１の外周部と側壁部５５の内周面５５ａとの間の間隔を図１のカップ中部５１の外周部と側壁部５５の内周面５５ａとの間の間隔よりも大きく設定してもよい。同様に、図４のカップ下部５２の外周部と側壁部５５の内周面５５ａとの間の間隔を図１のカップ下部５２の外周部と側壁部５５の内周面５５ａとの間の間隔よりも大きく設定してもよい。これにより、カップ中部５１の外周部と側壁部５５の内周面５５ａとの間に下降流が十分に通過可能となる。
【００６５】
本実施の形態においては、図４に矢印で示すように、カップ上部５３の上部の開口部５３０から流入した空気が、カップ上部５３とカップ中部５１との間、カップ中部５１と側壁部５５との間、およびカップ下部５２と側壁部５５との間を順に通過してカップ底部５４の排気口８から流出する。
【００６６】
図５は、基板Ｗが回転している状態における図４のカップ５のＢ部の拡大断面図である。第１の実施の形態に係る基板処理装置１００と同様に、基板Ｗが回転されることにより、処理液が、基板Ｗの被処理面（上面）から上下方向に幅をもって、基板Ｗの外周部から外方に飛散する。基板Ｗの外周部から外方に飛散した処理液は、カップ中部５１の下面５１ａとカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂとの間に確実に捕集される。
【００６７】
捕集された処理液は、カップ中部５１の下面５１ａおよびカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂに沿って外方へ導かれることにより外周部の間隙Ｓに集められ、間隙Ｓを通過する。間隙Ｓを通過した処理液は、側壁部５５の内周面５５ａで受け止められる。それにより、本実施の形態においても、第１の実施の形態と同様に、基板Ｗから外方へ飛散した処理液をカップ５で十分に受け止めることができるとともに、カップ５で受け止められた処理液が基板Ｗまで跳ね返ることを防止することができる。
【００６８】
本実施の形態においては、図５に矢印で示すように、カップ中部５１と側壁部５５との間およびカップ下部５２と側壁部５５との間を下降流が通過する。そのため、側壁部５５の内周面５５ａで処理液が上方向に拡がるかまたは浮上した場合でも、その処理液は下降流により下方に押し戻される。下降流により下方に押し戻された処理液は、下降流とともに重力により落下し、廃液口７を通して排出される。それにより、側壁部５５の内周面５５ａで上方向に拡がるかまたは浮上した処理液のミストがカップ中部５１およびカップ下部５２の外周部と側壁部５５の内周面５５ａとの間の隙間およびカップ上部５３の開口部５３０を通してカップ５の外部まで拡散することが確実に防止される。
【００６９】
［３］他の実施の形態
（１）上記実施の形態において、カップ中部５１の下面５１ａは外周部に向かって斜め下方に直線状に傾斜するが、これに限定されない。カップ中部５１の下面５１ａは外周部に向かって斜め下方に曲線状に傾斜していてもよい。また、カップ下部５２の上面５２ａは外周部に向かって斜め上方に直線状に傾斜するが、これに限定されない。カップ下部５２の上面５２ａは外周部に向かって斜め上方に曲線状に傾斜していてもよい。
【００７０】
（２）上記実施の形態において、カップ下部５２の上面５２ｂは水平であるが、これに限定されない。カップ下部５２の上面５２ｂは外周部に向かって斜め上方に直線状または曲線状に傾斜していてもよい。
【００７１】
（３）上記実施の形態において、カップ中部５１、カップ下部５２、カップ上部５３、カップ底部５４および支持部５６は略円環形状を有するが、これに限定されない。カップ中部５１、カップ下部５２、カップ上部５３、カップ底部５４および支持部５６は、多角形状または楕円状等の他の形状を有してもよい。
【００７２】
（４）上記実施の形態において、カップ５にカップ上部５３が設けられるが、これに限定されない。カップ５にカップ上部５３が設けられなくてもよい。また、カップ中部５１に突出縁５１ｂが設けられるが、これに限定されない。カップ中部５１に突出縁５１ｂが設けられなくてもよい。
【００７３】
［４］請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【００７４】
上記実施の形態においては、基板Ｗが基板の例であり、カップ５がカップの例であり、カップ下部５２が第１の部材の例であり、上面５２ａ，５２ｂが上面の例である。カップ中部５１が第２の部材の例であり、下面５１ａが下面の例であり、側壁部５５が第３の部材の例であり、内周面５５ａが内面の例であり、間隙Ｓが間隙の例であり、支持部５６が閉塞部材の例である。基板処理装置１００が基板処理装置の例であり、回転保持部１が回転保持部の例であり、処理液ノズル９が処理液供給系の例である。
【００７５】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明は、種々の基板の処理に有効に利用することができる。
【符号の説明】
【００７７】
１  回転保持部
２  回転軸
３  モータ
４  カップ支持部材
５  カップ
６  整流板
７  廃液口
８  排気口
９  処理液ノズル
１０  シリンダ
１１  支持フレーム
１２  制御部
５１  カップ中部
５１ａ，５３ａ  下面
５１ｂ，５３ｂ  突出縁
５２  カップ下部
５２ａ，５２ｂ  上面
５３  カップ上部
５４  カップ底部
５５  側壁部
５５ａ  内周面
５６〜５８  支持部
１００  基板処理装置
５１０，５３０  開口部
Ｓ  隙間
Ｗ  基板
【図１】
0005913937.tif 000002
【図２】
0005913937.tif 000003
【図３】
0005913937.tif 000004
【図４】
0005913937.tif 000005
【図５】
0005913937.tif 000006