(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
２以上の記録層を備え、
上記２以上の記録層に情報信号を記録するための光が照射される光情報記録媒体の光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層のうちの少なくとも１層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含み、
上記Ｗ酸化物、上記Ｐｄ酸化物、上記Ｃｕ酸化物、および上記Ｚｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．１７≦ｘ2（但し、ｘ2＝（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ）、ａ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＷの原子比率［原子％］、ｂ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＰｄの原子比率［原子％］、ｃ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＣｕの原子比率［原子％］、ｄ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＺｎの原子比率［原子％］）の関係を満たす光情報記録媒体。
【請求項２】
上記Ｗ酸化物、上記Ｐｄ酸化物、上記Ｃｕ酸化物、および上記Ｚｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．３７≦ｘ2の関係を満たす請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
上記Ｗ酸化物、上記Ｐｄ酸化物、上記Ｃｕ酸化物、および上記Ｚｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．３７≦ｘ2≦１．２６の関係を満たす請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
上記光照射面から最も奥側となる記録層以外の全ての記録層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含み、
上記Ｗ酸化物、上記Ｐｄ酸化物、上記Ｃｕ酸化物、および上記Ｚｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．１７≦ｘ2の関係を満たす請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
ｘ2の値が、上記光照射面に近い記録層ほど大きくなる請求項４記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
上記原子比率ａ、上記原子比率ｂ、上記原子比率ｃおよび上記原子比率ｄがそれぞれ、１０≦ａ≦７０、２≦ｂ≦５０、１０≦ｃ≦７０、５≦ｄ≦６０の関係を満たす請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
上記記録層それぞれ毎の両側に隣接して設けられた第１保護層および第２保護層をさらに備え、
上記第１保護層および上記第２保護層が、誘電体層または透明導電層である請求項１記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、光情報記録媒体およびその製造方法、光情報記録媒体用記録層に関する。詳しくは、２層以上の記録層を有する光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまでＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）などが光情報記録媒体の市場を牽引してきた。しかし、近年では、テレビのハイビジョン化やＰＣ（Personal Computer）で取り扱うデータの急激な増大に伴い、光情報記録媒体の更なる大容量化が求められている。この要求に応えるべく、ＢＤ（Blu-ray Disc（登録商標））などの青色レーザに対応した大容量の光情報記録媒体が登場し、新たな大容量の光情報記録媒体の市場が立ち上がりつつある。
【０００３】
記録可能な光情報記録媒体としては、ＣＤ−ＲＷ(Compact Disc-ReWritable)、ＤＶＤ±ＲＷ(Digital Versatile Disc±ReWritable)に代表される書換型の光情報記録媒体と、ＣＤ−Ｒ（Compact Disc-Recordable）やＤＶＤ−Ｒ（Digital Versatile Disc-Recordable）に代表される追記型の光情報記録媒体とがあるが、特に、後者は低価格メディアとして市場の拡大に大きく貢献してきた。したがって、青色レーザに対応した大容量の光情報記録媒体においても、市場を拡大させるためには、追記型の光情報記録媒体の低価格化が必要になると考えられる。さらに光情報記録媒体は、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）やフラッシュメモリなどと比べて、その記録再生原理から保存信頼性が高いと一般的に言われており、重要情報の保管に使われ始めるなどアーカイバルメディアとしての需要が近年高くなっている。
【０００４】
追記型の光情報記録媒体に用いられる記録材料としては、無機材料と有機色素材料とがある。従来の追記型の光情報記録媒体では記録材料として有機色素材料が主に検討されてきたが、近年の大容量の光情報記録媒体では記録材料として無機材料も広く検討されている。
【０００５】
例えば、特許文献１では、酸化Ｉｎおよび酸化Ｐｄを含み、この酸化Ｐｄが一酸化Ｐｄと二酸化Ｐｄを含み、かつ、Ｉｎ原子とＰｄ原子の合計に対するＰｄ原子の比率を６〜６０原子％とする無機記録層が提案されている。また、特許文献２では、Ｉｎおよび／またはＳｎとＰｄとＯとを含む無機記録層が提案されている。
【０００６】
ところで、近年では、記録可能なＤＶＤやＢＤなどの高密度の光情報記録媒体においては、記録容量をさらに増大させるために、記録層を多層化する技術が広く採用されている。多層の光情報記録媒体では、情報読み取り面側から最も奥に位置する記録層に対する情報信号の記録および再生は、その手前側にある記録層を透過したレーザ光を用いて行われることとなる。このため、記録層の層数が増加するほど、最も奥に位置する記録層にレーザ光が到達するまでに透過しなければならない記録層の層数が多くなり、情報読み取り面側から最も奥に位置する記録層以外の記録層では、高い透過率を有することが望まれる。
【０００７】
追記型の光情報記録媒体においても、記録層を多層化し、記録容量をさらに増大する要求が高まっており、この要求に応えるためには、無機記録層の透過率の向上が重要な技術の１つとなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１０−１３７５４５号公報
【特許文献２】特開２０１０−２１８６３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、本技術の目的は、優れた透過特性を有する光情報記録媒体およびその製造方法、光情報記録媒体用記録層を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述の課題を解決するために、第１の技術は、
２以上の記録層を備え、
上記２以上の記録層に情報信号を記録するための光が照射される光情報記録媒体の光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層のうちの少なくとも１層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含み、
上記Ｗ酸化物、上記Ｐｄ酸化物、上記Ｃｕ酸化物、および上記Ｚｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．１７≦ｘ2（但し、ｘ2＝（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ）、ａ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＷの原子比率［原子％］、ｂ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＰｄの原子比率［原子％］、ｃ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＣｕの原子比率［原子％］、ｄ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＺｎの原子比率［原子％］）の関係を満たす光情報記録媒体である。
【００１１】
第２の技術は、
Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含み、
上記Ｗ酸化物、上記Ｐｄ酸化物、上記Ｃｕ酸化物、および上記Ｚｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの割合が、０．１７≦ｘ2（但し、ｘ2＝（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ）、ａ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＷの原子比率［原子％］、ｂ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＰｄの原子比率［原子％］、ｃ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＣｕの原子比率［原子％］、ｄ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＺｎの原子比率［原子％］）の関係を満たす光情報記録媒体用記録層である。
【００１２】
第３の技術は、
光情報記録媒体用ターゲットを用いて、少なくとも酸素との反応性スパッタリングにより金属酸化物記録層を形成する工程を備え、
上記光情報記録媒体用ターゲットは、
Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎを主成分として含み、
上記Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの割合が、０．１７≦ｘ2（但し、ｘ2＝（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ）、ａ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＷの原子比率［原子％］、ｂ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＰｄの原子比率［原子％］、ｃ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＣｕの原子比率［原子％］、ｄ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＺｎの原子比率［原子％］）の関係を満たす光情報記録媒体の製造方法である。
【００１３】
第１の技術において、保護層の厚さは特に限定されるものではなく、保護層には、基板、シート、コーティング層などが含まれる。高密度の光情報記録媒体としては、保護層としてシート、コーティング層などの薄い光透過層を採用し、この光透過層の側から光を照射することにより情報信号の記録および再生が行われる構成を有するものが好ましい。この場合、基板としては、不透明性を有するものを採用することも可能である。情報信号を記録または再生するための光の入射面は、光情報記録媒体のフォーマットに応じて保護層側および基板側の表面の少なくとも一方に適宜設定される。
【００１４】
第１および第２の技術において、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、０．３７≦ｘ1の関係を満たすことが好ましい。
第３の技術において、Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、０．３７≦ｘ1の関係を満たすことが好ましい。
【００１５】
第１および第２の技術において、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、０．３７≦ｘ1≦１．２６の関係を満たすことが好ましい。
第３の技術において、Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、０．３７≦ｘ1≦１．２６の関係を満たすことが好ましい。
【００１６】
第１の技術において、光照射面から最も奥側となる記録層以外の全ての記録層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物を主成分として含み、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、０．１７≦ｘ1の関係を満たすことが好ましい。この場合、ｘ1の値が、光照射面に近い記録層ほど大きくなることが好ましい。
【００１７】
第１の技術において、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合ｘ1が、光照射面に近い記録層のほうが大きい関係を満たすことが好ましい。
【００１８】
第１〜第３の技術において、原子比率ａ、原子比率ｂ、および原子比率ｃがそれぞれ、１０≦ａ≦７０、２≦ｂ≦５０、１０≦ｃ≦７０の関係を満たすことが好ましい。
【００１９】
第１および第２の技術において、光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層のうちの少なくとも１層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含み、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．１７≦ｘ2（但し、ｘ2＝（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ）、ａ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＷの原子比率［原子％］、ｂ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＰｄの原子比率［原子％］、ｃ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＣｕの原子比率［原子％］、ｄ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＺｎの原子比率［原子％］）の関係を満たすことが好ましい。
第３の技術において、光情報記録媒体用ターゲットが、Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎを主成分として含み、Ｗ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．１７≦ｘ2（但し、ｘ2＝（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ）、ａ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＷの原子比率［原子％］、ｂ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＰｄの原子比率［原子％］、ｃ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＣｕの原子比率［原子％］、ｄ：Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＺｎの原子比率［原子％］）の関係を満たすことが好ましい。
【００２０】
第１および第２の技術において、光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層のうちの少なくとも１層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含む場合、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．３７≦ｘ2の関係を満たすことが好ましい。
第３の技術において、光情報記録媒体用ターゲットが、Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎを主成分として含む場合、Ｗ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．３７≦ｘ2の関係を満たすことが好ましい。
【００２１】
第１および第２の技術において、光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層のうちの少なくとも１層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含む場合、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．３７≦ｘ2≦１．２６の関係を満たすことが好ましい。
第３の技術において、光情報記録媒体用ターゲットが、Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎを主成分として含む場合、Ｗ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．３７≦ｘ2≦１．２６の関係を満たすことが好ましい。
【００２２】
第１の技術において、光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層のうちの少なくとも１層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含む場合、光照射面から最も奥側となる記録層以外の全ての記録層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含み、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、０．１７≦ｘ2の関係を満たすことが好ましい。この場合、ｘ2の値が、光照射面に近い記録層ほど大きくなることが好ましい。
【００２３】
第１の技術において、光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層のうちの少なくとも１層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含む場合、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物およびＺｎ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、Ｃｕ及びＺｎの割合ｘ2が、光照射面に近い記録層のほうが大きい関係を満たすことが好ましい。
【００２４】
第１または第２の技術において、光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層のうちの少なくとも１層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物を主成分として含む場合、原子比率ａ、原子比率ｂ、原子比率ｃおよび原子比率ｄがそれぞれ、１０≦ａ≦７０、２≦ｂ≦５０、１０≦ｃ≦７０、５≦ｄ≦６０の関係を満たすことが好ましい。
第３の技術において、光情報記録媒体用ターゲットが、Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎを主成分として含む場合、原子比率ａ、原子比率ｂ、原子比率ｃおよび原子比率ｄがそれぞれ、１０≦ａ≦７０、２≦ｂ≦５０、１０≦ｃ≦７０、５≦ｄ≦６０の関係を満たすことが好ましい。
【００２５】
第１の技術において、記録層の両側に隣接して設けられた第１保護層および第２保護層をさらに備え、第１保護層および第２保護層が、誘電体層または透明導電層であることが好ましい。
【００２６】
本技術では、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が０．１７≦ｘ1の関係を満たすことで、光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層として好適な透過率を得ることができる。
【発明の効果】
【００２７】
以上説明したように、本技術によれば、優れた透過特性を有する光情報記録媒体用記録層、およびそれを備えた光情報記録媒体を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】図１Ａは、本技術の一実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した各情報信号層の一構成例を示す模式図である。
【図２】図２Ａは、試験例１〜１３の光情報記録媒体における変数ｘと透過率との関係を示すグラフである。図２Ｂは、試験例１〜１３の光情報記録媒体を含む透過率と最適記録パワーＰｗｏとの関係を示すグラフである。
【図３】図３は、試験例１〜１３の光情報記録媒体における無機記録層の組成比を示すグラフである。
【図４】図４Ａは、試験例１６〜２７の光情報記録媒体におけるＬ０層のｉ−ＭＬＳＥとＬ０層の反射率との関係を示すグラフである。図４Ｂは、試験例２８〜３９の光情報記録媒体におけるＬ１層の透過率とＬ０層の反射率との関係を示すグラフである。図４Ｃは、試験例４０〜４８の光情報記録媒体におけるＬ１層の透過率とＬ０層のｉ−ＭＬＳＥとの関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本技術の実施形態について図面を参照しながら以下に説明する。
［光情報記録媒体の構成］
図１Ａは、本技術の一実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。この光情報記録媒体１０は、いわゆる追記型の光情報記録媒体であり、図１Ａに示すように、情報信号層Ｌ０、中間層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、中間層Ｓ２、情報信号層Ｌ２、中間層Ｓ３、情報信号層Ｌ３、保護層（カバー層）である光透過層２がこの順序で基板１の一主面に積層された構成を有する。必要に応じて、光透過層２側の表面にハードコート層３をさらに備えるようにしてもよい。必要に応じて、基板１側の表面にバリア層４をさらに備えるようにしてもよい。なお、以下の説明において、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３を特に区別しない場合には、情報信号層Ｌという。
【００３０】
この一実施形態に係る光情報記録媒体１０では、光透過層２側の表面Ｃからレーザ光を各情報信号層Ｌ０〜Ｌ３に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザ光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層２の側から各情報信号層Ｌ０〜Ｌ３に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような光情報記録媒体１０としては、例えばＢＤ−Ｒが挙げられる。以下では、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３に情報信号を記録するためのレーザ光が照射される表面Ｃを光照射面Ｃと称する。
【００３１】
以下、光情報記録媒体１０を構成する基板１、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３、中間層Ｓ１〜Ｓ３、光透過層２、ハードコート層３、およびバリア層４について順次説明する。
【００３２】
（基板）
基板１は、例えば、中央に開口（以下センターホールと称する）が形成された円環形状を有する。この基板１の一主面は、例えば、凹凸面となっており、この凹凸面上に情報信号層Ｌ０が成膜される。以下では、凹凸面のうち凹部をイングルーブＧin、凸部をオングルーブＧonと称する。
【００３３】
このイングルーブＧinおよびオングルーブＧonの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブＧinおよび／またはオングルーブＧonが、例えば、線速の安定化やアドレス情報を付加するためにウォブル（蛇行）されている。
【００３４】
基板１の径（直径）はリジッドなものであれば特に限定されることはないが、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。
【００３５】
基板１の材料としては、例えば、プラスチック材料またはガラスを用いることができ、成形性の観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などを用いることができる。またコストの観点からポリカーボネート系樹脂が用いられることが多い。
【００３６】
（情報信号層）
図１Ｂは、図１Ａに示した各情報信号層の一構成例を示す模式図である。図１Ｂに示すように、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３は、例えば、無機記録層１１と、無機記録層１１の一主面に隣接して設けられた第１保護層１２と、無機記録層１１の他主面に隣接して設けられた第２保護層１３とを備える。このような構成とすることで、無機記録層１１の耐久性を向上することができる。
【００３７】
光照射面Ｃから最も奥側となる情報信号層Ｌ０以外の情報信号層Ｌ１〜Ｌ３のうちの少なくとも１層の無機記録層１１が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物の３元系酸化物を主成分として含んでいる。この３元系酸化物に含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、好ましくは０．１７≦ｘ1、より好ましくは０．３７≦ｘ1、さらに好ましくは０．３７≦ｘ1≦１．２６、最も好ましくは０．５６≦ｘ1≦１．２６の関係を満たしている。これにより、光情報記録媒体の情報信号層として求められる特性を満たしつつ、優れた透過特性を実現できる。ここで、光情報記録媒体の情報信号層として求められる特性としては、良好な信号特性や高記録パワーマージン、高再生耐久性、記録後透過率変化の抑制などが挙げられる。
但し、ｘ1は、ｘ1＝ａ／（ｂ＋０．８ｃ）により定義される変数である。
ａ：Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの合計に対するＷの原子比率［原子％］
ｂ：Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの合計に対するＰｄの原子比率［原子％］
ｃ：Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの合計に対するＣｕの原子比率［原子％］
【００３８】
光照射面Ｃから最も奥側となる情報信号層Ｌ０に到達する光量を増やす観点からすると、情報信号層Ｌ０以外の情報信号層Ｌ１〜Ｌ３が有する無機記録層１１が全て、上述の３元系酸化物を主成分として含んでいることが好ましい。この場合、上述の３元系酸化物に含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、好ましくは０．１７≦ｘ1、より好ましくは０．３７≦ｘ1、さらに好ましくは０．３７≦ｘ1≦１．２６、最も好ましくは０．５６≦ｘ1≦１．２６の関係を満たしている。また、一般的に最奥層に近い情報記録層Ｌほど高い記録感度が必要なために透過率が低くなりやすいことから、光照射面Ｃに近い情報信号層Ｌほど高透過率となるよう設計することが多い。よって、情報信号層Ｌ１〜Ｌ３の無機記録層１１の変数ｘ1の値は、光照射面Ｃに近い情報信号層Ｌのものほど大きな値となることが好ましい。
【００３９】
また、良好な信号特性や高記録パワーマージン、高再生耐久性、記録後透過率変化の抑制の観点からすると、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３が有する無機記録層１１全てが、上述の３元系酸化物を主成分として含んでいることが好ましい。この場合、上述の３元系酸化物に含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、好ましくは０．１７≦ｘ1、より好ましくは０．３７≦ｘ1、さらに好ましくは０．３７≦ｘ1≦１．２６、最も好ましくは０．５６≦ｘ1≦１．２６の関係を満たしている。また、情報信号層Ｌ０〜Ｌ４の無機記録層１１の変数ｘ1の値は、光照射面Ｃに近い情報信号層Ｌのものほど大きな値となることが好ましい。光照射面Ｃに近い情報信号層Ｌほど透過率を高くすることができるからである。
【００４０】
Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの合計に対するＷの原子比率ａは、好ましくは１０原子％以上７０原子％以下、より好ましくは１４．２原子％以上３１．８原子％以下の範囲内である。原子比率ａが１０原子％未満であると、低透過率となる傾向がある。一方、原子比率ａが７０原子％を超えると、記録感度低下となる傾向がある。
【００４１】
Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの合計に対するＰｄの原子比率ｂは、好ましくは２原子％以上５０原子％以下、より好ましくは４．４原子％以上３２．２原子％以下の範囲内である。原子比率ｂが２原子％未満であると、記録パワーマージンが狭くなる傾向がある。一方、原子比率ｂが５０原子％を超えると、低透過率となる傾向がある。
【００４２】
Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの合計に対するＣｕの原子比率ｃは、好ましくは１０原子％以上７０原子％以下、より好ましくは２８．５原子％以上６８．１原子％以下の範囲内である。原子比率ｃが１０原子％未満であると、再生耐久性が弱くなる傾向がある。一方、原子比率ｃが７０原子％を超えると、低透過率となる傾向がある。
【００４３】
光照射面Ｃから最も奥側となる情報信号層Ｌ０以外の情報信号層Ｌ１〜Ｌ３のうちの少なくとも１層の無機記録層１１が、上述の３元系酸化物にさらにＺｎ酸化物を加えた４元系酸化物を主成分として含んでいることが好ましい。この４元系酸化物に含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、好ましくは０．１７≦ｘ2、より好ましくは０．３７≦ｘ2、さらに好ましくは０．３７≦ｘ2≦１．２６、最も好ましくは０．５６≦ｘ2≦１．２６の関係を満たしている。Ｚｎ酸化物を加えることにより、光情報記録媒体の情報信号層として求められる特性を満たしつつ、優れた透過特性を維持しながら、Ｚｎ酸化物以外の総量を低くすることが出来る。つまり、Ｚｎ酸化物を加えることで高価なＰｄ酸化物の割合を小さくでき、コスト低減を実現できる。
但し、ｘ2＝（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ）により定義される変数である。
ａ：Ｗ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの合計に対するＷの原子比率［原子％］
ｂ：Ｗ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの合計に対するＰｄの原子比率［原子％］
ｃ：Ｗ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの合計に対するＣｕの原子比率［原子％］
ｄ：Ｗ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの合計に対するＺｎの原子比率［原子％］
【００４４】
光照射面Ｃから最も奥側となる情報信号層Ｌ０に到達する光量を増やす観点からすると、情報信号層Ｌ０以外の情報信号層Ｌ１〜Ｌ３が有する無機記録層１１が全て、上述の４元系酸化物を主成分として含んでいることが好ましい。この場合、上述の４元系酸化物に含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、好ましくは０．１７≦ｘ2、より好ましくは０．３７≦ｘ2、さらに好ましくは０．３７≦ｘ2≦１．２６、最も好ましくは０．５６≦ｘ2≦１．２６の関係を満たしている。また、情報信号層Ｌ１〜Ｌ３の無機記録層１１の変数ｘ2の値は、光照射面Ｃに近い情報信号層Ｌのものほど大きな値となることが好ましい。光照射面Ｃに近い情報信号層Ｌほど透過率を高くすることができるからである。
【００４５】
また、良好な信号特性や高記録パワーマージン、高再生耐久性、記録後透過率変化の抑制、低コストの観点からすると、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３が有する無機記録層１１全てが、上述の４元系酸化物を主成分として含んでいることが好ましい。この場合、上述の４元系酸化物に含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、好ましくは０．１７≦ｘ2、より好ましくは０．３７≦ｘ2、さらに好ましくは０．３７≦ｘ2≦１．２６、最も好ましくは０．５６≦ｘ2≦１．２６の関係を満たしている。また、一般的に最奥層に近い情報記録層Ｌほど高い記録感度が必要なために透過率が低くなりやすいことから、光照射面Ｃに近い情報信号層Ｌほど高透過率となるよう設計することが多い。よって、情報信号層Ｌ１〜Ｌ３の無機記録層１１の変数ｘ2の値は、光照射面Ｃに近い情報信号層Ｌのものほど大きな値となることが好ましい。
【００４６】
Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＷの原子比率ａは、好ましくは１０原子％以上７０原子％以下、より好ましくは１４．２原子％以上３１．８原子％以下の範囲内である。原子比率ａが１０原子％未満であると、低透過率となる傾向がある。一方、原子比率ａが７０原子％を超えると、記録感度低下となる傾向がある。
【００４７】
Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＰｄの原子比率ｂは、好ましくは２原子％以上５０原子％以下、より好ましくは４．４原子％以上３２．２原子％以下の範囲内である。原子比率ｂが２原子％未満であると、記録パワーマージンが狭くなる傾向がある。一方、原子比率ｂが５０原子％を超えると、低透過率となる傾向がある。
【００４８】
Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＣｕの原子比率ｃは、好ましくは１０原子％以上７０原子％以下、より好ましくは２８．５原子％以上４３．４原子％以下の範囲内である。原子比率ｃが１０原子％未満であると、再生耐久性が弱くなる傾向がある。一方、原子比率ｃが７０原子％を超えると、低透過率となる傾向がある。
【００４９】
Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの合計に対するＺｎの原子比率ｄは、好ましくは５原子％以上６０原子％以下、より好ましくは１７原子％以上４１原子％以下の範囲内である。原子比率ｄが５原子％未満であると、コスト低減効果が弱くなる傾向がある。一方、原子比率ｄが６０原子％を超えると、高温高湿環境下での耐久性が弱くなる傾向がある。
【００５０】
上述の３元系酸化物および４元系酸化物以外の情報信号層Ｌ１〜Ｌ３の材料としては、例えば、Ｉｎ酸化物とＰｄ酸化物の混合物を用いることも可能である。但し、光情報記録媒体の情報信号層Ｌとして優れた透過特性を実現できるが、記録のマーク形成時の泡の発生量が多い影響により記録前後の特性変化が大きくなりやすく、求められる特性の１つである記録後透過率変化が小さくならなので、上述の３元系酸化物または４元系酸化物を用いることが好ましい。
【００５１】
光照射面Ｃから最も奥側となる情報信号層Ｌ０の材料としては、Ｉｎ酸化物とＰｄ酸化物の混合物を用いることも可能である。但し、記録パワーマージン特性の観点からすると、上述の３元系酸化物または４元系酸化物を用いることが好ましい。
【００５２】
無機記録層１１の厚さは、好ましくは２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲内である。２５ｎｍ未満であると、信号特性悪化となる傾向がある。一方、６０ｎｍを超えると、記録パワーマージンが狭くなる傾向がある。
【００５３】
第１保護層１２および第２保護層１３としては、誘電体層または透明導電層を用いることが好ましく、第１保護層１２および第２誘電体層１３のうちの一方として誘電体層を用い、他方として透明導電層を用いることも可能である。誘電体層または透明導電層が酸素バリア層として機能することで、無機記録層１１の耐久性を向上することができる。また、無機記録層１１の酸素の逃避を抑制することで、記録膜の膜質の変化（主に反射率の低下として検出）を抑制することができ、無機記録層１１として必要な膜質を確保することができる。さらに、誘電体層または透明導電層を設けることで、記録特性を向上させることができる。これは、誘電体層または透明導電層に入射したレーザ光の熱拡散が最適に制御されて、記録部分における泡が大きくなりすぎたり、Ｐｄ酸化物の分解が進みすぎて泡がつぶれるといったことが抑制され、記録時の泡の形状を最適化することができるためと考えられる。
【００５４】
第１保護層１２および第２保護層１３の材料としては、例えば、酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、フッ化物またはその混合物が挙げられる。第１保護層１２および第２保護層１３の材料としては、互いに同一または異なる材料を用いることができる。酸化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｃｒ、ＢｉおよびＭｇからなる群から選ばれる１種以上の元素の酸化物が挙げられる。窒化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、ＴａおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物、好ましくはＳｉ、ＧｅおよびＴｉからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物が挙げられる。硫化物としては、例えば、Ｚｎ硫化物が挙げられる。炭化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、ＴａおよびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物、好ましくはＳｉ、Ｔｉ、およびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物が挙げられる。フッ化物としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、ＣａおよびＬａからなる群より選ばれる１種以上の元素のフッ化物が挙げられる。これらの混合物としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｉｎ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＩＺ）、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＣＺ）、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2（ＩＴＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−ＣｅＯ2（ＩＣＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−Ｇａ2Ｏ3（ＩＧＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−Ｇａ2Ｏ3−ＺｎＯ（ＩＧＺＯ）、Ｓｎ2Ｏ3−Ｔａ2Ｏ5（ＴＴＯ）、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2などが挙げられる。
【００５５】
第１保護層１２の厚さは、好ましくは２ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲内である。２ｎｍ未満であると、バリア効果が薄くなる傾向がある。一方、２０ｎｍを超えると、記録パワーマージン減少（悪化）となる傾向がある。
【００５６】
第２保護層１３の厚さは、好ましくは２ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲内である。２ｎｍ未満であると、バリア効果が小さくなる傾向がある。一方、５０ｎｍを超えると、記録パワーマージン減少（悪化）となる傾向がある。
【００５７】
例えば、情報信号層Ｌ０〜Ｌ３としては、以下の構成を有するものを組み合わせて用いることが好ましい。高感度が求められるｘ1やｘ2が小さい組成比となる最奥層に近いＬ１層は、Ｐｄ、Ｃｕが多くなりやすいために記録後透過率変動が大きくなりやすいく、そのため消衰係数が０．０５以上の第１保護層１２と第２保護層１３を用い、透過率変動を抑制することが好ましい。また高透過率が求められるｘ1やｘ2が大きい組成比となるＬ３層は、記録後透過率変化は小さいがパワーマージンが狭くなりやすいので、第１保護層１２や第２保護層１３にＳＩＺやＩＧＺＯを用い、パワーマージンの確保をすることが好ましい。またＬ２層は、Ｌ１層とＬ３の層の組み合わせを用い、これらにより、記録層の材料や求められる感度や透過率が異なっても、パワーマージンや透過率変動抑制の各層の特性の均等化ができる。
【００５８】
以下では、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物の３成分からなる混合物を「ＷＣＰＯ」と適宜称する。また、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、Ｃｕ酸化物、およびＺｎ酸化物の４成分からなる混合物を「ＷＺＣＰＯ」と適宜称する。
【００５９】
（情報信号層Ｌ０）
第１保護層１２：ＩＴＯ
無機記録層１１：ＷＣＰＯ（０．４≦ｘ1≦０．６）、好ましくはＷＺＣＰＯ（０．４≦ｘ2≦０．６）
第２保護層１３：ＩＴＯ
【００６０】
（情報信号層Ｌ１）
第１保護層１２：消衰係数ｋが０．０５以上０．６以下の範囲内の材料、好ましくはＩＴＯ
無機記録層１１：ＷＣＰＯ（０．５≦ｘ1≦０．９）、好ましくはＷＺＣＰＯ（０．５≦ｘ2≦０．９）
第２保護層１３：消衰係数ｋが０．０５以上０．６以下の範囲内の材料、好ましくはＩＴＯ
【００６１】
（情報信号層Ｌ２）
第１保護層１２：消衰係数ｋが０．０５以上０．６以下の範囲内の材料、好ましくはＩＴＯ
無機記録層１１：ＷＣＰＯ（０．８≦ｘ1≦１．２）、好ましくはＷＺＣＰＯ（０．８≦ｘ2≦１．２）
第２保護層１３：ＳＩＺまたはＩＧＺＯ
【００６２】
（情報信号層Ｌ３）
第１保護層１２：ＳＩＺまたはＩＧＺＯ
無機記録層１１：ＷＣＰＯ（０．８≦ｘ1≦１．２）、好ましくはＷＺＣＰＯ（０．８≦ｘ2≦１．２）
第２保護層１３：ＳＩＺまたはＩＧＺＯ
【００６３】
（中間層）
中間層Ｓ１〜Ｓ３はＬ０とＬ１、Ｌ２、Ｌ３とを物理的及び光学的に十分な距離をもって離間させる役割を果たし、その表面には凹凸面が設けられており、同心円若しくは螺旋状のグルーブ（イングルーブＧinおよびオングルーブＧon）を形成している。中間層Ｓ１〜Ｓ３の厚みとしては９μｍ〜５０μｍに設定することが好ましく、例えば、Ｓ１は１５μｍ、Ｓ２は２０μｍ、Ｓ３は１０μｍとされる。中間層Ｓ１〜Ｓ３の材料としては特に限定されるものではないが、紫外線硬化性アクリル樹脂を用いることが好ましいく、また中間層Ｓ１〜Ｓ３は奥層へのデータの記録・再生のためのレーザ光の光路となることから、十分に高い光透過性を有していることが好ましい。
【００６４】
（光透過層）
光透過層２は、例えば、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を硬化してなる樹脂層である。この樹脂層の材料としては、例えば、紫外線硬化型のアクリル系樹脂が挙げられる。また、円環形状を有する光透過性シートと、この光透過性シートを基板１に対して貼り合わせるための接着層とから光透過層２を構成するようにしてもよい。光透過性シートは、記録および再生に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））などを用いることができる。接着層の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂、感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）などを用いることができる。
【００６５】
光透過層２の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれ、例えば５３．５μｍに選ばれる。このような薄い光透過層２と、例えば０．８５程度の高ＮＡ(numerical aperture)化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。
【００６６】
（ハードコート層）
ハードコート層３は、光照射面Ｃに耐擦傷性などを付与するためのものである。ハードコート層３の材料としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、有機無機ハイブリッド系樹脂などを用いることができる。
【００６７】
（バリア層）
バリア層４は、成膜工程において基板１の裏面からの脱ガス（水分放出）を抑制するものである。また、バリア層４は、基板１の裏面における水分の吸収を抑制する防湿層としても機能する。バリア層４を構成する材料としては、基板１の裏面からの脱ガス（水分放出）を抑制することができるものであればよく特に限定されるものではないが、例示するならば、ガス透過性が低い誘電体を用いることができる。このような誘電体としては、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ2、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2などを用いることができる。バリア層４の厚さは、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下に設定することが好ましい。５ｎｍ未満であると、基板裏面からの脱ガスを抑制するバリア機能が低下する傾向がる。一方、４０ｎｍを超えると、脱ガスを抑制するバリア機能がそれ以下の膜厚の場合と殆ど変わらず、また、生産性の低下を招く傾向があるからである。バリア層４の水分透過率は、５×１０-5g/cm2・day以下であることが好ましい。
【００６８】
上述の構成を有する光情報記録媒体１０では、無機記録層１１にレーザ光が照射されると、Ｐｄ酸化物がレーザ光により加熱され、分解して酸素を放出し、レーザ光が照射された部分に気泡が生成される。これにより、情報信号の不可逆的な記録を行うことができる。
【００６９】
［光情報記録媒体の製造方法］
次に、本技術の一実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例について説明する。
【００７０】
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面が形成された基板１を成形する。基板１の成形の方法としては、例えば、射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。
【００７１】
（情報信号層の形成工）
次に、例えばスパッタリング法により、基板１上に、第１保護層１２、無機記録層１１、第２保護層１３を順次積層することにより、情報信号層Ｌ０を形成する。
以下に、第１保護層１２、無機記録層１１、および第２保護層１３の形成工程について具体的に説明する。
【００７２】
（第１保護層の成膜工程）
まず、基板１を、誘電体材料または透明導電材料を主成分として含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、基板１上に第１保護層１２を成膜する。スパッタリング法としては、例えば高周波（ＲＦ）スパッタリング法、直流（ＤＣ）スパッタリング法を用いることができるが、特に直流スパッタリング法が好ましい。直流スパッタ法は高周波スパッタ法に比して成膜レートが高いため、生産性を向上することができるからである。
【００７３】
（無機記録層の成膜工程）
次に、基板１を、無機記録層成膜用のターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、第１保護層１２上に無機記録層１１を成膜する。
【００７４】
ここで、無機記録層成膜用のターゲットは、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物の３元系酸化物を少なくとも主成分として含んでいる。この３元系酸化物に含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、好ましくは０．１７≦ｘ1、より好ましくは０．３７≦ｘ1、さらに好ましくは０．３７≦ｘ1≦１．２６、最も好ましくは０．５６≦ｘ1≦１．２６の関係を満たしている。なお、ｘ1は、上述したように、ｘ1＝ａ／（ｂ＋０．８ｃ）により定義される変数である。
【００７５】
無機記録層成膜用のターゲットは、上述の３元系酸化物にさらにＺｎ酸化物を加えた４元系酸化物を主成分として含んでいることが好ましい。この４元系酸化物に含まれるＷ、Ｐｄ、ＣｕおよびＺｎの割合が、好ましくは０．１７≦ｘ2、より好ましくは０．３７≦ｘ2、さらに好ましくは０．３７≦ｘ2≦１．２６、最も好ましくは０．５６≦ｘ2≦１．２６の関係を満たしている。なお、変数ｘ2は、上述したように、ｘ2＝（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ）により定義される変数である。
【００７６】
無機記録層成膜用のターゲットの３元系酸化物および４元系酸化物としては、無機記録層１１と同様の組成を有するものが好ましい。
【００７７】
また、少なくとも酸素との反応性スパッタリングにより無機記録層１１を形成するようにしてもよい。この場合、光情報記録媒体用ターゲットとしては、Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕを主成分とするＷＣＰ金属ターゲットを用いることが好ましい。Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、好ましくは０．１７≦ｘ1、より好ましくは０．３７≦ｘ1、さらに好ましくは０．３７≦ｘ1≦１．２６、最も好ましくは０．５６≦ｘ1≦１．２６の関係を満たしていることが好ましい。なお、ｘ1は、上述したように、ｘ1＝ａ／（ｂ＋０．８ｃ）により定義される変数である。
【００７８】
また、光情報記録媒体用ターゲットとしては、Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎを主成分とするＷＺＣＰ金属ターゲットを用いることが好ましい。Ｗ、Ｐｄ、Ｃｕ、およびＺｎの割合が、好ましくは０．１７≦ｘ2、より好ましくは０．３７≦ｘ2、さらに好ましくは０．３７≦ｘ2≦１．２６、最も好ましくは０．５６≦ｘ2≦１．２６の関係を満たしている。なお、変数ｘ2は、上述したように、ｘ2＝（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ）により定義される変数である。
【００７９】
（第２保護層の成膜工程）
次に、基板１を、誘電体材料または透明導電材料を主成分として含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、無機記録層１１上に第２保護層１３を成膜する。スパッタリング法としては、例えば高周波（ＲＦ）スパッタリング法、直流（ＤＣ）スパッタリング法を用いることができるが、特に直流スパッタリング法が好ましい。直流スパッタ法は高周波スパッタ法に比して成膜レートが高いため、生産性を向上することができるからである。
以上により、基板１上に情報信号層Ｌ０が形成される。
【００８０】
（中間層の形成工程）
次に、例えばスピンコート法により紫外線硬化樹脂を情報信号層Ｌ０上に均一に塗布する。その後、情報信号層Ｌ０上に均一に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離する。これらにより、スタンパの凹凸パターンが紫外線硬化樹脂に転写され、例えばイングルーブＧinおよびオングルーブＧonが設けられた中間層Ｓ１が情報信号層Ｌ０上に形成される。
【００８１】
（情報信号層および中間層の形成工程）
次に、上述の情報信号層Ｌ０および中間層Ｓ１の形成工程と同様にして、中間層Ｓ１上に、情報信号層Ｌ１、中間層Ｓ２、情報信号層Ｌ２、中間層Ｓ３、情報信号層Ｌ３をこの順序で中間層Ｓ１上に積層する。この際、成膜条件やターゲット組成などを適宜調整することにより、情報信号層Ｌ１〜Ｌ３を構成する第１保護層１２、無機記録層１１、および第２保護層１３の膜厚や組成などを適宜調整するようにしてもよい。また、スピンコート法の条件を適宜調整することにより、中間層Ｓ１〜Ｓ３の厚さを適宜調整するようにしてもよい。
【００８２】
（光透過層の形成工程）
次に、例えばスピンコート法により、紫外線硬化樹脂（ＵＶレジン）などの感光性樹脂を情報信号層Ｌ３上にスピンコートした後、紫外線などの光を感光性樹脂に照射し、硬化する。これにより、情報信号層Ｌ３上に光透過層２が形成される。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
【実施例】
【００８３】
以下、試験例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこの試験例のみに限定されるものではない。
【００８４】
また、多層の光情報記録媒体の情報信号層を、基板側からレーザ光照射面側に向かって順にＬ０層、Ｌ１層、Ｌ２層、・・・・と称する
【００８５】
試験例について以下の順序で説明する。
１．無機記録層の組成
２．２層の光情報記録媒体の透過率範囲
３．４層の光情報記録媒体の透過率範囲
【００８６】
＜１．無機記録層の組成＞
（試験例１〜１５）
まず、射出成形により、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板を成形した。なお、このポリカーボネート基板上には、グルーブを有する凹凸面を形成した。次に、スパッタリング法により、ポリカーボネート基板上に第１保護層、無機記録層、第２保護層を順次積層した。具体的な各層の構成は以下のようにした。
【００８７】
第１保護層
材料：ＳｉＯ2−Ｉｎ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＩＺ）、厚さ：１０ｎｍ
無機記録層
材料：ＷＺＣＰＯ、厚さ：４０ｎｍ
第２保護層
材料：  ＳｉＯ2−Ｉｎ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＩＺ）、厚さ：２５ｎｍ
但し、無機記録層のＷＺＣＰＯ中のＣｕ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｗそれぞれの原子比率ｃ、ｄ、ｂ、ａが表１に示す値となるように、試験例１〜１５ごとにターゲット組成を調製した。
【００８８】
次に、スピンコート法により、紫外線硬化樹脂（ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社製、商品名：ＳＫ８３００）を第２保護層上に均一塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ１００μｍを有する光透過層を形成した。
以上により、目的とする光情報記録媒体を得た。
【００８９】
（透過率評価）
上述のようにして得られた試験例１〜１５の光情報記録媒体の透過率を、分光高度計（日本分光（株）製、商品名：Ｖ５３０）を用いて、記録波長４０５ｎｍに対する透過率を測定した。その結果を表１に示す。
【００９０】
次に、測定した透過率と原子比率ｃ、ｄ、ｂ、ａとを用いて、近似直線を求めた。その結果を図２Ａに示す。図２Ａにおいて、横軸は変数ｘ（＝（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ））を示し、縦軸は透過率を示す。図２Ａに示すように、近似直線は、ｙ＝２５．６４２ｘ＋４５.４４１により表される。ここで、ｙは透過率［％］を示し、ｘは、（０．１ｄ＋ａ）／（ｂ＋０．８ｃ）を示す。前記近似直線の求め方としては、比較的消衰係数の小さいＷ酸化物とＺｎ酸化物の各割合の和を分子に、比較的消衰係数の大きいＰｄ酸化物とＣｕ酸化物の各割合の和を分母と置き、決定係数Ｒ２乗が最も大きくなるように各割合に係数を掛けて各係数を決定した。
【００９１】
（最適記録パワー評価）
ディスクテスタ（パルステック社製、商品名：ＯＤＵ−１０００）を用いて、記録波長４０５ｎｍ、記録線速７．６９ｍ／ｓで１層あたり３２ＧＢ密度の１−７変調データを記録再生して、ｉ−ＭＬＳＥ値が最小となる記録パワーを求め、この記録パワーを最適記録パワーＰｗｏとした。その結果を図２Ｂに示す。ここでｉ−ＭＬＳＥとは、高密度記録再生用の従来のジッタに相当する信号評価指標であり、値が小さいほど良好な信号特性である。
【００９２】
表１は、試験例１〜１５の無機記録層の組成比と変数ｘと透過率とを示す。図３は、試験例１〜１３の無機記録層の組成比を示すグラフである。
【表１】
0005935234.tif 000002
【００９３】
図２Ａに示した近似直線ｙから以下のことがわかる。
透過率を５０％以上とするためには、変数ｘを０．１７以上とすることが好ましい。
透過率を５５％以上とするためには、変数ｘを０．３７以上とすることが好ましい。
透過率を６０％以上とするためには、変数ｘを０．５６以上とすることが好ましい。
透過率を７８％以下とするためには、変数ｘを１．２６以下とすることが好ましい。
なお、多層の光情報記録媒体では、Ｌ１層以上の情報信号層（Ｌ１層、Ｌ２層、Ｌ３層、・・・・）の透過率を５５％以上とすることが好ましい。透過率５５％以上が好ましい理由については、後述する。なお、ＷＺＣＰＯ以外の記録膜組成（ＺｎＳ−ＳｉＯ2−Ｓｂ−ＳｎやＴｅＰｄＯなど）を用いた２層ディスクではＬ０層の反射率を高くできることを考慮すると、Ｌ１層の透過率を５０％以上とすることが好ましい。
【００９４】
図２Ｂに示した近似直線から以下のことがわかる。
最適記録パワーＰｗｏを２０ｍＷ以下とするためには、透過率を７８％以下とすることが好ましいことがわかる。ここで、最適記録パワーＰｗｏ：２０ｍＷは、民生用のドライブ装置の最適記録パワーＰｗｏの上限値である。この上限値を超えると、必要なレーザ量が供給されないことにより、記録時のマークの泡の形成が不十分となり、結果、信号特性が悪化することとなる。
【００９５】
＜２．２層の光情報記録媒体の透過率範囲＞
（試験例１６〜２７）
まず、射出成形により、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板を成形した。なお、このポリカーボネート基板上には、グルーブを有する凹凸面を形成した。
【００９６】
次に、スパッタリング法により、ポリカーボネート基板上に第１保護層、無機記録層、第２保護層を順次積層することにより、Ｌ０層を作製した。ここで、Ｌ０層は、２層の光情報記録媒体用のＬ０層とした。
具体的な各層の構成は以下のようにした。
【００９７】
第１保護層
材料：ＩＴＯ、厚さ：１０ｎｍ
無機記録層
材料：ＷＺＣＰＯ、厚さ：２６ｎｍ〜３０ｎｍ
組成比：ａ＝１０、ｂ＝３０、ｃ＝３０、ｄ＝３０とした。
第２保護層
材料：ＴａＮ、厚さ：６ｎｍ〜１６ｎｍ
但し、無機記録層および第２保護層の厚さが表２に示す値となるように、試験例１６〜２７ごとに成膜条件を調製した。
【００９８】
次に、スピンコート法により、紫外線硬化樹脂（ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社製、商品名：ＳＫ８３００）を第２保護層上に均一塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ１００μｍを有する光透過層を形成した。
以上により、Ｌ０層のみを有する光情報記録媒体を得た。
【００９９】
（ｉ−ＭＬＳＥ評価）
上述のようにして得られた試験例１６〜２７の光情報記録媒体のｉ−ＭＬＳＥを以下のようにして求めた。ディスクテスタ（パルステック社製、商品名：ＯＤＵ−１０００）を用いて、ＮＡ＝０．８５、記録波長４０５ｎｍ、記録線速７．６９ｍ／ｓで１層あたり３２ＧＢ密度の１−７変調データを記録再生して、ｉ−ＭＬＳＥ値を測定した。
【０１００】
（反射率評価）
上述のようにして得られた試験例１６〜２７の光情報記録媒体の反射率を以下のようにして測定した。なお、２層の光情報記録媒体のＬ０層のみを用いて作製された単層の光情報記録媒体の反射率を、Ｌ０層単独の反射率と称する。ディスクテスタ（パルステック社製、商品名：ＯＤＵ−１０００）を用いて、ＮＡ＝０．８５、記録波長４０５ｎｍで反射率を測定した。
【０１０１】
表２は、試験例１６〜２７の光情報記録媒体のｉ−ＭＬＳＥおよび反射率の測定結果を示す。
【表２】
0005935234.tif 000003
【０１０２】
図４Ａは、上述のようにして求めたｉ−ＭＬＳＥと反射率との関係を示すグラフである。図４Ａから、Ｌ０層のｉ−ＭＬＳＥ値を１１％以下にするためには、Ｌ０層の反射率を１４％以下にする必要があることがわかる。ここで、ｉ−ＭＬＳＥ値１１％は、民生用のドライブ装置によりエラー訂正可能と言われている上限値である。反射率を向上させるには、上記膜厚よりも第１保護層、無機記録層、第２保護層いずれか若しくは組み合わせで各々を薄くする方向であったが、いずれも薄くさせるとｉ−ＭＬＳＥ値が悪化した。これは、無機記録層の蓄熱や放熱が変わり結果、記録時の泡の形成が不適切になるために悪化したと推測される。
【０１０３】
（試験例２８〜３９）
上述のようにして求めたＬ０層単独の反射率１４％を前提として、２層の光情報記録媒体のＬ１層の透過率に対するＬ０層の反射率を光学シミュレーションにより求めた。その結果を表３および図４Ｂに示す。ここで、Ｌ０層の反射率をＲ、Ｌ１の透過率をＴとすると、Ｒは下記（１）式により計算することができる。
Ｒ＝１４％（Ｌ０層単独の反射率）×Ｔ2              （１）
【０１０４】
表３は、試験例２８〜３９の光情報記録媒体のＬ０層単独の反射率、Ｌ１層の透過率およびＬ０層の反射率を示す。
【表３】
0005935234.tif 000004
【０１０５】
図４Ｂから、２層の光情報記録媒体のＬ１層の反射率を４％以上にするためには、Ｌ１層の透過率は５５％以上とする必要があることがわかる。ここで、Ｌ１層の反射率４％は、民生用の２層対応ドライブ装置を用いて情報信号を再生するために必要な反射率の下限値である。
【０１０６】
＜３．４層の光情報記録媒体の透過率範囲＞
（試験例４０〜４８）
４層の光情報記録媒体のＬ１層のみの透過率を変化させたときのＬ０層のｉ−ＭＬＳＥを測定した。その結果を表４および図４Ｃに示す。ここで、Ｌ１の記録特性は今回の目的ではないので、Ｌ１層の透過率の調整は下記の条件の通り無機記録層の厚さの調整とした。
【０１０７】
Ｌ１層の具体的な膜構成は下記のとおりである。
第１保護層
材料：ＩＴＯ、厚さ：７ｎｍ
無機記録層
材料：ＷＺＣＰＯ、厚さ：２ｎｍ〜１３０ｎｍ
組成比：ａ＝２５、ｂ＝１０、ｃ＝４０、ｄ＝２５
第２保護層
材料：ＩＴＯ、厚さ：１０ｎｍ
【０１０８】
Ｌ０層の具体的な膜構成は下記のとおりである。
第１保護層
材料：ＩＴＯ、厚さ：８ｎｍ
無機記録層
材料：ＷＺＣＰＯ、厚さ：３０ｎｍ
組成比：ａ＝１０、ｂ＝３０、ｃ＝３０、ｄ＝３０
第２保護層
材料：ＴａＮ、厚さ：１０ｎｍ
【０１０９】
表４は、試験例４０〜４８の光情報記録媒体のＬ０層単独の反射率、Ｌ１層の透過率およびＬ０層のｉ−ＭＬＳＥ値を示す。
【表４】
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【０１１０】
図４Ｃから、Ｌ０層のｉ−ＭＬＳＥ値を１１％以下とするためには、Ｌ１層の透過率を５５％以上とする必要があることがわかる。ここで、ｉ−ＭＬＳＥ値１１％は、民生用のドライブ装置によりエラー訂正可能な上限値である。Ｌ１層の透過率が低い場合には、Ｌ０層の信号量が低下するため、再生するに十分なＳ／Ｎが得られないからであると考えられる。よって、Ｌ１の透過率は高い方がＬ０層の信号特性は良くなる。
【０１１１】
以上により、２層や４層などの多層の光情報記録媒体では、Ｌ１層以上の情報信号層（Ｌ１層、Ｌ２層、Ｌ３層、・・・・）の透過率は、５５％以上とすることが好ましいことがわかる。
【０１１２】
以上、本技術の実施形態について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【０１１３】
例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。
【０１１４】
また、上述の実施形態の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、この発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
【０１１５】
また、上述の実施形態では、情報記録媒体が４層の情報信号層を備える場合を例として説明したが、情報信号層の層数はこれに限定されるものではなく、情報信号層は２層以上の任意の層数とすることが可能である。
【０１１６】
また、上述の実施形態では、基板上に２以上の情報信号層、光透過層がこの順序で積層された構成を有し、この光透過層側からレーザ光を情報信号層に照射することにより情報信号の記録または再生が行われる光情報記録媒体に対して本技術を適用した場合を例として説明したが、本技術はこの例に限定されるものではない。例えば、基板上に２以上の情報信号層、保護層がこの順序で積層された構成を有し、基板側からレーザ光を２以上の情報信号層に照射することにより情報信号の記録または再生が行われる光情報記録媒体、または２枚の基板の間に２以上の情報信号層が設けられた構成を有し、一方の基板の側からレーザ光を情報信号層に照射することにより情報信号の記録または再生が行われる光情報記録媒体に対しても本技術は適用可能である。
【０１１７】
また、上述の実施形態では、スパッタリング法により光情報記録媒体の各層を形成する場合を例として説明したが、成膜方法はこれに限定されるものではなく、他の成膜方法を用いてもよい。他の成膜方法としては、例えば、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、光ＣＶＤなどのＣＶＤ法（Chemical Vapor Deposition（化学蒸着法）：化学反応を利用して気相から薄膜を析出させる技術）のほか、真空蒸着、プラズマ援用蒸着、イオンプレーティングなどのＰＶＤ法（Physical Vapor Deposition（物理蒸着法）：真空中で物理的に気化させた材料を基板上に凝集させ、薄膜を形成する技術）などを用いることができる。
【符号の説明】
【０１１８】
１    基板
２    保護層
３  ハードコート層
４    バリア層
１０  光情報記録媒体
１１    無機記録層
１２    第１保護層
１３    第２保護層
Ｌ０〜Ｌ３    情報信号層
Ｓ１〜Ｓ３    中間層
Ｇin    イングルーブ
Ｇon    オングルーブ
Ｃ  光照射面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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