(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）水酸基及び／又はカルボキシル基を有するポリマー、（Ｂ）ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート、（Ｃ）多官能ブロックイソシアネート化合物、及び（Ｄ）ラジカル重合開始剤を含む光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項２】
前記（Ａ）成分が、下記一般式（１）及び（２）で表される構造単位のうちの少なくとも１種を有し、かつ下記一般式（３）で表される構造単位を有する（メタ）アクリルポリマーを含む請求項１に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【化１】
0005892066.tif 000011
（式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｘ1は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化２】
0005892066.tif 000012
（式中、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、Ｒ3は水素原子又はメチル基を示し、Ｘ2は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化３】
0005892066.tif 000013
（式中、Ｒ4は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ5は炭素数１〜２０の１価の有機基を示す。）
【請求項３】
前記（Ａ）成分が、さらに下記一般式（４）で表される構造単位を有する請求項２に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【化４】
0005892066.tif 000014
（式中、Ｒ6は水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示す。）
【請求項４】
前記（Ｂ）成分が、カルボキシル基及びウレタン結合を有する（メタ）アクリレートを含む請求項１〜３のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項５】
前記（Ｂ）成分が、その分子中に脂環構造、芳香環構造、及び複素環構造からなる群から選ばれた少なくとも１種を有する化合物を含む請求項１〜４のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項６】
前記（Ｃ）成分が、多官能イソシアネート化合物とブロック剤との反応生成物であり、前記多官能イソシアネート化合物が、その分子中に脂環構造及び脂肪族構造からなる群から選ばれた少なくとも１種を有する化合物を含む請求項１〜５のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項７】
前記（Ｄ）成分が、光ラジカル重合開始剤を含む請求項１〜６のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項８】
前記（Ａ）成分の配合量が（Ａ）〜（Ｃ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であり、前記（Ｂ）成分の配合量が（Ａ）〜（Ｃ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であり、前記（Ｃ）成分の配合量が（Ａ）〜（Ｃ）成分の総量に対して１〜４０質量％であり、前記（Ｄ）成分の配合量が（Ａ）〜（Ｃ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である請求項１〜７のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項９】
さらに（Ｅ）ウレタン結合を有さない（メタ）アクリレートを含む請求項１〜７のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項１０】
前記（Ａ）成分の配合量が（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｅ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であり、前記（Ｂ）成分の配合量が（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｅ）成分の総量に対して５〜８０質量％であり、前記（Ｃ）成分の配合量が（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｅ）成分の総量に対して１〜４０質量％であり、前記（Ｄ）成分の配合量が（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｅ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であり、前記（Ｅ）成分の配合量が（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｅ）成分の総量に対して５〜８０質量％である請求項９に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成されてなる光導波路形成用樹脂フィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成されてなるコア部及び／又はクラッド層を有する光導波路。
【請求項１３】
請求項１１に記載の光導波路形成用樹脂フィルムを用いて形成されてなるコア部及び／又はクラッド層を有する光導波路。
【請求項１４】
波長８５０ｎｍの光源における光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１２又は１３に記載の光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路形成用樹脂組成物、光導波路形成用樹脂フィルム、及びこれらを用いた光導波路に関し、特に、透明性、耐熱性、及び強靭性に優れた光導波路形成用樹脂組成物、該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルム、及びこれらを用いた透明性、耐熱性、環境信頼性、及び強靭性に優れた光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子素子間や配線基板間の高速・高密度信号伝送において、従来の電気配線による伝送では、信号の相互干渉や減衰が障壁となり、高速・高密度化の限界が見え始めている。これを打ち破るため電子素子間や配線基板間を光で接続する技術、いわゆる光インターコネクション技術の開発が進められている。光伝送路としては、加工の容易さ、低コスト、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な点からポリマー光導波路が注目を集めている。
ポリマー光導波路の形態としては、光電気混載基板への適用を想定したガラスエポキシ樹脂などの硬い支持基板上に作製するリジッド光導波路や、ボード同士の接続を想定した硬い支持基板を持たないフレキシブル光導波路が好適と考えられている。
さらにフレキシブル配線板と光導波路を一体複合化した光電気複合フレキシブル配線板とすることで、実装の自由度をより一層向上することが可能となる。【０００３】
ポリマー光導波路には、適用される機器の使用環境や部品実装などの観点から、透明性（低光伝搬損失）と共に耐熱性、環境信頼性も要求される。また、光導波路の強度及び取扱い性の観点から、強靭性への要求も高まりつつある。さらに、光導波路作製プロセスに関しては、コアパターンを簡便に形成可能な方法が求められており、その方法の一つとして、プリント配線板製造プロセスで広く用いられている露光現像によるパターン形成法を挙げることができる。このような材料として、（メタ）アクリルポリマーを含む光導波路材料（例えば、特許文献１〜４参照）が知られている。
しかしながら、特許文献１及び２に記載の光導波路材料は露光現像によりコアパターン形成可能で、波長８５０ｎｍにおいて透明性を有し、かつ高温高湿放置試験後の光伝搬損失も良好であるものの、耐熱性の評価、例えば、はんだリフロー試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する具体的な記述はなく、明らかではない。
また、特許文献３に記載の光導波路材料は優れた光伝送損失を示し、耐熱性が良好であるものの、脆く、強靭性が満足できるものではない。
また、特許文献４に記載の光導波路材料は波長８５０ｎｍにおいて透明性を有し、強靭性に優れているものの、耐熱性の評価、例えば、はんだリフロー試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する具体的な記述はなく、明らかではない。同様に、環境信頼性の評価、例えば、高温高湿放置試験や温度サイクル試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する具体的な記述もなく、明らかではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１４６１６２号公報
【特許文献２】特開２００８−３３２３９号公報
【特許文献３】特開２００６−７１８８０号公報
【特許文献４】特開２００７−１２２０２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記した問題に鑑み、透明性、耐熱性、環境信頼性、強靭性に優れる光導波路を生産性及び作業性良く形成できる光導波路用樹脂組成物、光導波路形成用樹脂フィルム及びこれらを用いた光導波路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、水酸基及び／又はカルボキシル基を有するポリマー、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート、多官能ブロックイソシアネート化合物、及びラジカル重合開始剤を含む光導波路形成用樹脂組成物を用いることにより、前記ポリマーの水酸基及び／又はカルボキシル基と、前記多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基とを反応させることによって、上記課題を解決することを見出し、本発明に至った。【０００７】
すなわち、本発明は、（Ａ）水酸基及び／又はカルボキシル基を有するポリマー、（Ｂ）ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート、（Ｃ）多官能ブロックイソシアネート化合物、及び（Ｄ）ラジカル重合開始剤を含む光導波路形成用樹脂組成物、該光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成されてなる光導波路形成用樹脂フィルム、及び下部クラッド層、コア部、上部クラッド層の少なくとも１つを該光導波路形成用樹脂組成物、又は該光導波路形成用樹脂フィルムを用いて形成されてなる、透明性、耐熱性、環境信頼性、及び強靭性に優れた光導波路を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、透明性、耐熱性、強靭性に優れ、高精度な厚膜形成が可能であり、光導波路製造用として有効であって、光導波路を生産するに際して、生産性の高い光導波路形成用樹脂フィルムに有用な光導波路形成用樹脂組成物を提供することができる。また、該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルム、及び透明性、耐熱性、環境信頼性、強靭性に優れた光導波路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の光導波路の形態を説明する断面図である。
【図２】本発明で実施したリフロー試験におけるリフロー炉内の温度プロファイルを示すものである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（光導波路形成用樹脂組成物）
以下、本発明の光導波路形成用樹脂組成物について説明する。
本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、（Ａ）水酸基及び／又はカルボキシル基を有するポリマー、（Ｂ）ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート、（Ｃ）多官能ブロックイソシアネート化合物、及び（Ｄ）ラジカル重合開始剤を含むものである。
以下、（Ａ）〜（Ｄ）成分について説明する。
【００１１】
（（Ａ）水酸基及び／又はカルボキシル基を有するポリマー）
本発明においては、（Ａ）水酸基及び／又はカルボキシル基を有するポリマーを用いる。水酸基及び／又はカルボキシル基を有するポリマーを用いると、加熱により水酸基及び／又はカルボキシル基と（Ｃ）成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基を反応させることによって、新たな架橋構造を形成して、耐熱性及び環境信頼性を向上することができる。
（Ａ）水酸基及び／又はカルボキシル基を有するポリマーとしては、特に制限はなく、例えば、下記（１）〜（１３）で表されるポリマーなどが挙げられる。
【００１２】
（１）分子中に水酸基とエチレン性不飽和基を有する化合物及び分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物のうち少なくとも１種とそれ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるポリマー。
（２）分子中に水酸基とエチレン性不飽和基を有する化合物及び分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物のうち少なくとも１種とそれ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるポリマーの側鎖に、エチレン性不飽和基を部分的に導入して得られるポリマー。
（３）分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるポリマーに、分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られるポリマー。
（４）分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるポリマーに、分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ、生成した水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られるポリマー。
（５）エチレン性不飽和基を有する酸無水物及びそれ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるポリマーに、分子中に水酸基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られるポリマー。
（６）２官能エポキシ樹脂及び２官能フェノール化合物を共重合して得られるポリマー。
（７）２官能エポキシ樹脂及び２官能フェノール化合物を共重合して得られるポリマーの水酸基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるポリマー。
（８）２官能エポキシ樹脂及び２官能カルボン酸化合物を共重合して得られるポリマー。
（９）２官能エポキシ樹脂及び２官能カルボン酸化合物を共重合して得られるポリマーの水酸基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるポリマー。
（１０）２官能オキセタン化合物及び２官能フェノール化合物を共重合して得られるポリマー。
（１１）２官能オキセタン化合物及び２官能フェノール化合物を共重合して得られるポリマーの水酸基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるポリマー。
（１２）２官能オキセタン化合物及び２官能カルボン酸化合物を共重合して得られるポリマー。
（１３）２官能オキセタン化合物及び２官能カルボン酸化合物を共重合して得られるポリマーの水酸基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるポリマー。
【００１３】
これらの中でも、透明性の観点から、前記（１）〜（５）で表される水酸基及び／又はカルボキシル基を有するポリマーが好ましく、下記一般式（１）及び（２）で表される構造単位のうちの少なくとも１種を有し、かつ下記一般式（３）で表される構造単位を有する（メタ）アクリルポリマーがさらに好ましい。
【００１４】
【化１】
0005892066.tif 000002
【００１５】
式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｘ1は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。Ｘ1が示す炭素数１〜２０の２価の有機基としては、特に制限はなく、例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ポリエーテル基、ポリシロキサン基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基などを含む２価の有機基が挙げられ、それらは、さらにハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、アミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の点から、アルキレン基、シクロアルキレン基、フェニレン基、及びビフェニレン基が好ましい。
【００１６】
【化２】
0005892066.tif 000003
【００１７】
式中、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示し、Ｒ3は水素原子又はメチル基を示す。なお、Ｒ2が示す炭素数１〜２０の１価の有機基としては、特に制限はなく、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基（−ＣＯ−Ｒを意味する。ただしＲは炭化水素基である）、エステル基（−ＣＯ−Ｏ−Ｒ又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒを意味する。ただしＲは炭化水素基である）、アミド基（−ＣＯ−ＮＲ２又は−ＮＲ−ＣＯ−Ｒを意味する。ただしＲは水素原子又は炭化水素基である）などの１価の有機基が挙げられ、それらは、さらに水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、アミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。
これらの中でも、透明性、及び耐熱性の点から、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基が好ましい。
また、式中、Ｘ2は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。なお、炭素数１〜２０の２価の有機基としては、前述のＸ1の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
【００１８】
【化３】
0005892066.tif 000004
【００１９】
式中、Ｒ4は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ5は炭素数１〜２０の１価の有機基を示す。なお、炭素数１〜２０の１価の有機基としては、前述のＲ2の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
【００２０】
前記（メタ）アクリルポリマーとは、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、及びこれらの誘導体などの（メタ）アクリロイル基を有する単量体を共重合して得られるポリマーをいう。ここで、（メタ）アクリロイル基とはアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基をいう。さらに、本発明の効果を阻害しない範囲で、前記のモノマーと、必要に応じて（メタ）アクリロイル基以外のエチレン性不飽和基を有する前記以外のモノマーとを含む共重合体であってもよい。また、複数の（メタ）アクリルポリマーの混合物であってもよい。
【００２１】
前記（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（１）で表される構造単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレートが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００２２】
前記（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（２）で表される構造単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テレフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸などが挙げられる。
これらの中でも、透明性、耐熱性、及びアルカリ現像液への溶解性の観点から（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレートであることが好ましい。
また、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸などのエチレン性不飽和基と酸無水物基を有する化合物を原料として用いて、共重合後にメタノール、エタノール、プロパノールなどの適当なアルコールによって開環し、一般式（１）で表される構造単位に変換してもよい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００２３】
前記（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（１）及び（２）で表される構造単位の含有率の総量は、５〜６０モル％であることが好ましい。５モル％以上であると、（Ａ）成分の水酸基及び／又はカルボキシル基と（Ｃ）成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好であり、６０モル％以下であると、強靭性が良好で脆くなることがない。以上の観点から、一般式（１）で表される構造単位の含有率の総量は、１０〜５０モル％であることがさらに好ましく、１５〜４０モル％であることが特に好ましい。
【００２４】
前記（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（３）で表される構造単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２５】
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；前記脂環式（メタ）アクリレート；前記芳香族（メタ）アクリレート；前記複素環式（メタ）アクリレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００２６】
前記（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（３）で表される構造単位の含有率は、４０〜９５モル％であることが好ましい。４０モル％以上であると、強靭性が良好で脆くなることがなく、９５モル％以下であると、（Ａ）成分の水酸基及び／又はカルボキシル基と（Ｃ）成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好となる。以上の観点から、一般式（３）で表される構造単位の含有率は、５０〜９０モル％がさらに好ましく、６０〜８５モル％であることが特に好ましい。
【００２７】
前記（メタ）アクリルポリマーは、耐熱性の観点から、必要に応じてさらに一般式（４）で表されるマレイミド骨格由来の構造単位を有していてもよい。
【００２８】
【化４】
0005892066.tif 000005
【００２９】
式中、Ｒ6は水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基を示す。なお、炭素数１〜２０の１価の有機基としては、前述のＲ2の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
【００３０】
前記（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（４）で表されるマレイミド骨格由来の構造単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−２，２−ジメチルプロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓｅｃ-ブチルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−２−メチル−２−ブチルマレイミド、Ｎ−ペンチルマレイミド、Ｎ−２−ペンチルマレイミド、Ｎ−３−ペンチルマレイミド、Ｎ−ヘキシルマレイミド、Ｎ−２−ヘキシルマレイミド、Ｎ−３−ヘキシルマレイミド、Ｎ−２−エチルヘキシルマレイミド、Ｎ−ヘプチルマレイミド、Ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−ノニルマレイミド、Ｎ−デシルマレイミド、Ｎ−ヒドロキシメチルマレイミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチルマレイミド、Ｎ−２−ヒドロキシプロピルマレイミドなどのアルキルマレイミド；Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−シクロヘプチルマレイミド、Ｎ−シクロオクチルマレイミド、Ｎ−２−メチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−エチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−クロロシクロヘキシルマレイミドなどのシクロアルキルマレイミド；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−２−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−２−エチルフェニルマレイミド、Ｎ−２−クロロフェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミドなどのアリールマレイミドなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓｅｃ-ブチルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミドなどのアルキルマレイミド；前記シクロアルキルマレイミド；前記アリールマレイミドを用いることが好ましく、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−メチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミドであることがさらに好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３１】
前記（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（４）で表されるマレイミド骨格由来の構造単位を有する場合、その含有率は、１〜６０モル％であることが好ましい。その含有率が１モル％以上であると、マレイミド骨格に由来する耐熱性が得られ、６０モル％以下であると、透明性が十分であり、かつ強靭性が良好で脆くなることがない。以上の観点から、一般式（４）で表されるマレイミド骨格由来の構造単位の含有率は、３〜５０モル％がさらに好ましく、５〜４０モル％であることが特に好ましい。
【００３２】
前記（メタ）アクリルポリマーは、必要に応じてさらに一般式（１）〜（４）で表される構造単位以外の構造単位を有していてもよい。
このような構造単位の原料となるエチレン性不飽和基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、α，２−ジメチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、（メタ）アクリロニトリル、ビニルシクロヘキシルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルベンジルエーテル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点からスチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、α，２−ジメチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルカルバゾールが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３３】
前記（メタ）アクリルポリマーは、その合成方法に特に制限はなく、例えば、一般式（１）〜（３）で表される構造単位の原料となる化合物、必要に応じてさらに一般式（４）で表されるマレイミド骨格由来の構造単位の原料となる化合物、及び一般式（１）〜（４）で表される構造単位以外の構造単位の原料となる化合物と、適切な熱ラジカル重合開始剤を用いて、加熱しながら共重合させることにより得ることができる。このとき、必要に応じて有機溶剤及び／又は水を反応溶媒として用いることができる。また、必要に応じて適切な連鎖移動剤、分散剤、界面活性剤、乳化剤などと組み合わせて用いることもできる。
【００３４】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシドなどのケトンパーオキシド；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンなどのパーオキシケタール；ｐ−メンタンヒドロパーオキシドなどのヒドロパーオキシド；α、α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシドなどのジアルキルパーオキシド；オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシドなどのジアシルパーオキシド；ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチルパーオキシカーボネートなどのパーオキシカーボネート；ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウリレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテートなどのパーオキシエステル；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２’−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物が挙げられる。
【００３５】
反応溶媒として用いる有機溶剤としては、前記（メタ）アクリルポリマーを溶解し得るものであれば、特に制限はないが、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどの２官能アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの２官能アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミドなどが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３６】
前記（Ａ）成分の重量平均分子量は、１．０×１０3〜１．０×１０6であることが好ましい。１．０×１０3以上であると、分子量が大きいため強靭性が良好で脆くなることがなく、１．０×１０6以下であると、現像液に対する溶解性や（Ｂ）ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート、（Ｃ）多官能ブロックイソシアネート化合物との相溶性が良好である。以上の観点から、前記（Ａ）成分の重量平均分子量は、３．０×１０3〜５．０×１０5であることがさらに好ましく、５．０×１０3〜３．０×１０5であることが特に好ましい。
なお、本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
【００３７】
前記（Ａ）成分は、後述のアルカリ現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、アルカリ現像液としてアルカリ水溶液からなる水系アルカリ現像液を用いる場合、酸価が３０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると、アルカリ現像液への溶解性が良好であり、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、耐現像液性（現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が良好である。以上の観点から、（Ａ）成分の酸価は、３５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、４０〜１７０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
【００３８】
また、アルカリ現像液としてアルカリ水溶液と１種以上の有機溶剤からなる準水系アルカリ現像液を用いる場合、酸価が２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると、アルカリ現像液への溶解性が良好であり、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、耐現像液性が良好である。以上の観点から、（Ａ）成分の酸価は、２５〜１７０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
【００３９】
前記（Ａ）成分の配合量は、（Ｅ）成分を含まない場合、（Ａ）〜（Ｃ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であることが好ましい。また、必要に応じて（Ｅ）成分を含む場合、前記（Ａ）成分の配合量は、（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｅ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であることが好ましい。（Ａ）成分の配合量が、１０質量％以上であると、（Ａ）成分の水酸基及び／又はカルボキシル基と（Ｃ）成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好であり、８５質量％以下であると、強靭性が良好で脆くなることがない。以上の観点から、（Ａ）成分の配合量は、１５〜８０質量％であることがさらに好ましく、２０〜７５質量％であることが特に好ましい。
【００４０】
（（Ｂ）ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート）
本発明においては、（Ｂ）ウレタン結合を有する（メタ）アクリレートを用いる。ウレタン結合を有する（メタ）アクリレートを用いると、強靭性を向上することができる。
（Ｂ）ウレタン結合を有する（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、下記（１）〜（４）で表されるウレタン（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
（１）２官能アルコール化合物、２官能イソシアネート化合物、及び水酸基を有する（メタ）アクリレートを反応して得られるウレタン（メタ）アクリレート。
（２）２官能アルコール化合物、２官能イソシアネート化合物、及びイソシアネート基を有する（メタ）アクリレートを反応して得られるウレタン（メタ）アクリレート。
（３）多官能イソシアネート化合物及び水酸基を有する（メタ）アクリレートを反応して得られるウレタン（メタ）アクリレート。
（４）多官能アルコール化合物及びイソシアネート基を有する（メタ）アクリレートを反応して得られるウレタン（メタ）アクリレート。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、その分子中に脂環構造、芳香環構造、及び複素環構造からなる群から選ばれた少なくとも１種を有するウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。
【００４１】
２官能アルコール化合物、すなわちジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物、ポリカプロラクトンジオール化合物、前記以外のその他のジオール化合物などが挙げられる。
【００４２】
ポリエーテルジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、イソブテンオキシド、ブチルグリシジルエーテル、ブテン−１−オキシド、３,３−ビスクロロメチルオキセタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、フェニルグリシジルエーテル、安息香酸グリシジルエステルなどの環状エーテル化合物から選ばれる少なくとも１種を開環（共）重合することにより得られるポリエーテルジオール化合物；シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦなどの脂環式ジオール化合物に上記環状エーテル化合物から選ばれる少なくとも１種を開環付加することにより得られるポリエーテルジオール化合物；ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＦ、ビフェノール、フルオレンビスフェノールなどの２官能フェノール化合物に上記環状エーテル化合物から選ばれる少なくとも１種を開環付加することにより得られるポリエーテルジオール化合物などが挙げられる。
【００４３】
ポリエステルジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などの２官能カルボン酸化合物とエチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、ジブタンジオール、ポリブタンジオール、ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノールなどのジオール化合物を共重合して得られるポリエステルポリオール化合物などが挙げられる。
【００４４】
ポリカーボネートジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、ホスゲン、トリホスゲン、ジアルキルカーボネート、ジアリールカーボネートなどとエチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、ジブタンジオール、ポリブタンジオール、ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦなどのジオール化合物を共重合して得られるポリカーボネートジオール化合物などが挙げられる。
【００４５】
ポリカプロラクトンジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、ジブタンジオール、ポリブタンジオール、ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノールなどのジオール化合物と、を共重合して得られるポリカプロラクトンジオール化合物などが挙げられる。
【００４６】
その他のジオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブタンジオール、ジブタンジオール、ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオールなどの脂肪族ジオール化合物；シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦなどの脂環式ジオール化合物；ポリブタジエン変性ジオール化合物、水添ポリブタジエン変性ジオール化合物、ジリコーン変性ジオール化合物などの変性ジオール化合物などが挙げられる。
以上のジオール化合物は、単独又は２種類以上組み合わせて用いることができる。
【００４７】
２官能イソシアネート化合物としては特に制限はなく、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイシシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネートなどの脂肪族２官能イソシアネート化合物；１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、２,５−ビス（イソシアナトメチル）ノルボルネン、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、１，２−ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）エタン、２，２−ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）プロパン、２，２−ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）ヘキサフルオロプロパン、ビシクロヘプタントリイソシアネートなどの脂環式２官能イソシアネート化合物；２，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ナフタレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネートなどの芳香族２官能イソシアネート化合物などが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００４８】
水酸基を有する（メタ）アクリレートとしては特に制限はなく、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの単官能（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；ビス（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートなどの２官能（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；シクロヘキサンジメタノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキノン型エポキシジ（メタ）アクリレート、レゾルシノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、カテコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、フルオレンビスフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸モノアリル型エポキシジ(メタ）アクリレートなどの２官能エポキシ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシポリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸型エポキシトリ(メタ）アクリレートなどの３官能以上のエポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００４９】
ここで、（メタ）アクリレートのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体とは、原料となるアルコール化合物又はフェノール化合物（例えば、単官能（メタ）アクリレート；ＣＨ2＝ＣＨ（Ｒ7）−ＣＯＯ−Ｒ8（Ｒ7は水素原子又はメチル基、Ｒ8は１価の有機基）の場合は、ＨＯ−Ｒ8で示されるもの）の代わりに、前記アルコール化合物又はフェノール化合物に、それぞれ、１以上のエチレンオキシドを付加した構造のアルコール化合物、１以上のプロピレンオキシドを付加した構造のアルコール化合物、又は１以上のエチレンオキシド及びプロピレンオキシドを付加した構造のアルコール化合物を、原料に用いて得られる（メタ）アクリレートを示す（例えば、エトキシ化体の場合はＣＨ2＝ＣＨ（Ｒ7）−ＣＯＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）q−Ｒ8（ｑは１以上の整数、Ｒ7、Ｒ8は前記と同様）で示される）。また、カプロラクトン変性体とは、（メタ）アクリレートの原料となるアルコール化合物をε−カプロラクトンで変性したアルコール化合物を、原料に用いて得られる（メタ）アクリレートを示す（例えば、単官能（メタ）アクリレートのカプロラクトン変性体の場合、ＣＨ2＝ＣＨ（Ｒ7）−ＣＯＯ−（（ＣＨ2）5ＣＯＯ）q−Ｒ8（ｑ、Ｒ7、Ｒ8は前記と同様））で示される）。
【００５０】
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレートとしては特に制限はなく、例えば、Ｎ−（メタ）アクリロイルイソシアネート、（メタ）アクリロイルオキシメチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートなどが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５１】
多官能イソシアネート化合物としては特に制限はなく、例えば、前記２官能イソシアネート化合物；前記２官能イソシアネート化合物のウレトジオン型二量体、イソシアヌレート型、ビウレット型三量体などの多量体などが挙げられる。なお多量体を構成する２つ又は３つの２官能イソシアネート化合物は、同一でも異なっていてもよい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５２】
多官能アルコール化合物としては特に制限はなく、例えば、前記２官能アルコール化合物；トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートなどの３官能以上のアルコール化合物、これらに前記環状エーテル化合物から選ばれる少なくとも１種を開環付加することにより得られる付加体、これらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック、クレゾールノボラックなどの３官能以上のフェノール化合物に前記環状エーテル化合物から選ばれる少なくとも１種を開環付加することにより得られるアルコール化合物、これらのカプロラクトン変性体が挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５３】
前記ウレタン結合を有する（メタ）アクリレートは、耐熱性及びアルカリ現像液への溶解性の観点から、必要に応じてさらにカルボキシル基を含んでいてもよい。
カルボキシル基及びウレタン結合を有する（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、前述のウレタン(メタ)アクリレートを合成する際に、カルボキシル基含有ジオール化合物を前記ジオール化合物と併用して、又は前記ジオール化合物の代わりに用いて得られるウレタン（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
カルボキシル基含有ジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、２，２−ジメチロールブタン酸、２，２−ジメチロールプロピオン酸、２，２−ジメチロール酪酸、２，２−ジメチロールペンタン酸などが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５４】
前記カルボキシル基及びウレタン結合を有する（メタ）アクリレートは、後述のアルカリ現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。酸価は５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると、アルカリ現像液への溶解性が良好であり、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、耐現像液性が良好である。以上の観点から、カルボキシル基及びウレタン結合を有する（メタ）アクリレートの酸価は、１０〜１７０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、１５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
【００５５】
前記（Ｂ）成分の配合量は、（Ｅ）成分を含まない場合、（Ａ）〜（Ｃ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であることが好ましい。この（Ｂ）成分の配合量が、１０質量％以上であると、強靭性が良好で脆くなることがなく、８５質量％以下であると、（Ａ）成分の水酸基及び／又はカルボキシル基と（Ｃ）成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、、耐熱性が良好である。以上の観点から、この（Ｂ）成分の配合量は、１５〜８０質量％であることがさらに好ましく、２０〜７５質量％であることが特に好ましい。
【００５６】
また、必要に応じて（Ｅ）成分を含む場合、前記（Ｂ）成分の配合量は、（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｅ）成分の総量に対して５〜８０質量％であることが好ましい。この（Ｂ）成分の配合量が、５質量％以上であると、強靭性が良好で脆くなることがなく、８０質量％以下であると、（Ａ）成分の水酸基及び／又はカルボキシル基と（Ｃ）成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好である。以上の観点から、この（Ｂ）成分の配合量は、１０〜７５質量％であることがさらに好ましく、１５〜７０質量％であることが特に好ましい。
【００５７】
（（Ｃ）多官能ブロックイソシアネート化合物）
多官能ブロックイソシアネート化合物は、多官能イソシアネート化合物とブロック剤との反応により生成する化合物である。また、ブロック剤由来の基により一時的に不活性化されている化合物であり、所定温度に加熱するとブロック剤由来の基が解離し、イソシアネート基を生成する。多官能ブロックイソシアネート化合物を用いると、加熱により多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基と（Ａ）成分の水酸基及び／又はカルボキシル基を反応させることによって、新たな架橋構造を形成して、耐熱性及び環境信頼性を向上することができる。
【００５８】
ブロック剤と反応し得る多官能イソシアネート化合物としては、特に制限はないが、例えば、２，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ナフタレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネートなどの芳香族多官能イソシアネート化合物；１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、２,５−ビス（イソシアナトメチル）ノルボルネン、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、１，２−ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）エタン、２，２−ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）プロパン、２，２−ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）ヘキサフルオロプロパン、ビシクロヘプタントリイソシアネートなどの脂環式多官能イソシアネート化合物；テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイシシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネートなどの脂肪族多官能イソシアネート化合物などが挙げられる。
多官能イソシアネート化合物としては、透明性及び耐熱性の観点から、その分子中に脂環構造及び脂肪族構造から選ばれる少なくとも１種を含む化合物が好ましく、中でも上記脂環式多官能イソシアネート化合物；上記脂肪族多官能イソシアネート化合物が好ましい。
なお、上記多官能イソシアネート化合物はウレトジオン型二量体、イソシアヌレート型三量体、又はビウレット型三量体などの多量体となっていてもよく、これらを構成する２つ又は３つの多官能イソシアネート化合物は、同一でも異なっていてもよい。また、異なる場合、例えば、脂環式多官能イソシアネート化合物と脂肪族多官能イソシアネート化合物の組合せのように、異なる種類の多官能イソシアネート化合物の組合せでもよい。
以上の多官能イソシアネート化合物は、単独又は２種類以上組み合わせて用いることができる。
【００５９】
ブロック剤としては、活性水素を有しているものが好ましく、例えば、マロン酸ジエステル、アセト酢酸エステル、マロン酸ジニトリル、アセチルアセトン、メチレンジスルホン、ジベンゾイルメタン、ジピバリルメタン、アセトンジカルボン酸ジエステルなどの活性メチレン化合物；アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、ジエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどのオキシム化合物；フェノール、アルキルフェノール、アルキルナフトールなどのフェノール化合物；γ-ブチロラクタム、δ-バレロラクタム、ε−カプロラクタムなどのラクタム化合物などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記活性メチレン化合物；上記オキシム化合物；上記ラクタム化合物が好ましい。
以上のブロック剤は、単独又は２種類以上組み合わせて用いることができる。
【００６０】
前記（Ｃ）成分の配合量は、（Ｅ）成分を含まない場合、（Ａ）〜（Ｃ）成分の総量に対して、１〜４０質量％であることが好ましい。また、必要に応じて（Ｅ）成分を含む場合、前記（Ｃ）成分の配合量は、（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｅ）成分の総量に対して１〜４０質量％であることが好ましい。（Ｃ）成分の配合量が、１質量％以上であると、（Ａ）成分の水酸基及び／又はカルボキシル基と（Ｃ）成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、、耐熱性が良好であり、４０質量％以下であると、強靭性が良好で脆くなることがない。以上の観点から、（Ｃ）成分の配合量は、３〜３５質量％であることがさらに好ましく、５〜３０質量％であることが特に好ましい。
【００６１】
（（Ｄ）ラジカル重合開始剤）
本発明においては、（Ｄ）ラジカル重合開始剤を用いる。（Ｄ）ラジカル重合開始剤を用いると、加熱又は紫外線、可視光線などの活性光線の照射により、（Ｂ）成分のラジカル重合が開始し硬化する。
（Ｄ）ラジカル重合開始剤としては、加熱又は紫外線、可視光線などの活性光線の照射によってラジカル重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば、熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。
【００６２】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、前記（メタ）アクリルポリマーを合成する際に用いられる熱ラジカル重合開始剤と同様のものを好適に挙げることができる。
それらの中でも、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、ジアシルパーオキシド、パーオキシエステル、及びアゾ化合物であることが好ましい。
【００６３】
光ラジカル重合開始剤としては、紫外線、可視光線などの活性光線の照射によってラジカル重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどのベンゾインケタール；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オンなどのα−ヒドロキシケトン；フェニルグリオキシル酸メチル、フェニルグリオキシル酸エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ）エチルなどのグリオキシエステル；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−（４−モルフォリン）−２−イルプロパン−１−オンなどのα−アミノケトン；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ），２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）などのオキシムエステル；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどのホスフィンオキシド；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体などの２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン化合物；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノンなどのキノン化合物；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル；ベンゾイン、メチ��ベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタールなどのベンジル化合物；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９、９’−アクリジニルヘプタン）などのアクリジン化合物：Ｎ−フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。
【００６４】
また、前記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
これらの中でも、硬化性及び透明性の観点から、前記α−ヒドロキシケトン；前記グリオキシエステル；前記オキシムエステル；前記ホスフィンオキシドが好ましい。
以上のラジカル重合開始剤（熱ラジカル重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤など）は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができ、さらに適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００６５】
前記（Ｄ）成分の配合量は、（Ｅ）成分を含まない場合、（Ａ）〜（Ｃ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であることが好ましい。また、必要に応じて（Ｅ）成分を含む場合、（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｅ）成分の総量１００質量部に対して０．０１〜１０質量部であることが好ましい。（Ｄ）成分の配合量が、０．０１質量部以上であると、硬化が十分となり、１０質量部以下であると、透明性が良好である。以上の観点から、（Ｄ）成分の配合量は、０．０５〜７質量部であることがさらに好ましく、０．１〜５質量部であることが特に好ましい。
【００６６】
（（Ｅ）ウレタン結合を有さない（メタ）アクリレート）
本発明においては、必要に応じてさらに（Ｅ）ウレタン結合を有さない（メタ）アクリレートを本発明の効果に悪影響を与えない割合で用いてもよい。
（Ｅ）ウレタン結合を有さない（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、単官能のもの、２官能のもの又は３官能以上のもののいずれも用いることができる。
【００６７】
単官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネートなどの脂肪族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレートなどの脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、イソシアヌル酸モノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
【００６８】
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、その分子中に脂環構造、芳香環構造、及び複素環構造からなる群から選ばれた少なくとも１種を有する化合物が好ましく、具体的にはシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、イソシアヌル酸モノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体が好ましい。なお、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体とは、前記と同様の意味である。
【００６９】
２官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；エチレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレートなどの脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；シクロヘキサンジメタノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレートなどの脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；ヒドロキノンジ（メタ）アクリレート、レゾルシノールジ（メタ）アクリレート、カテコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、ビフェノールジ（メタ）アクリレート、フルオレンビスフェノールジ（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；ヒドロキノン型エポキシジ（メタ）アクリレート、レゾルシノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、カテコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、フルオレンビスフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；ビス（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；イソシアヌル酸モノアリル型エポキシジ(メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレートなどが挙げられる。なお、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体とは、前記と同様の意味である。
【００７０】
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、その分子中に脂環構造、芳香環構造、及び複素環構造からなる群から選ばれた少なくとも１種を有する化合物が好ましく、具体的には前記脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；前記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、ビフェノールジ（メタ）アクリレート、フルオレンビスフェノールジ（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、フルオレンビスフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；前記複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体が好ましい。
【００７１】
３官能以上の（メタ）アクリレートとして、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシポリ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；トリス（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）イソシアヌレートなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；イソシアヌル酸型エポキシトリ(メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）エポキシアクリレートなどが挙げられる。なお、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体とは、前記と同様の意味である。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、その分子中に脂環構造、芳香環構造、及び複素環構造からなる群から選ばれた少なくとも１種を有する化合物が好ましく、具体的には前記芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；前記複素環式（メタ）アクリレート；前記イソシアヌル酸型エポキシ(メタ）アクリレートが好ましい。
以上のウレタン結合を有さない（メタ）アクリレートは、単独又は２種類以上組み合わせて用いることができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて用いることもできる。
【００７２】
前記（Ｅ）成分の配合量は、（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｅ）成分の総量に対して、５〜８０質量％であることが好ましい。（Ｅ）成分の配合量が、５質量％以上であると、（Ｂ）成分と反応して十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好であり、８０質量％以下であると、強靭性が良好で脆くなることがない。以上の観点から、（Ｅ）成分の配合量は、１０〜６０質量％であることがさらに好ましく、１５〜４０質量％であることが特に好ましい。
【００７３】
（その他成分）
さらに、本発明の光導波路形成用樹脂組成物中に、必要に応じてさらに酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割合で添加してもよい。
【００７４】
（有機溶剤）
本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈し、光導波路形成用樹脂ワニスとして使用してもよい。ここで用いる有機溶剤として、該樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に制限はなく、前記（メタ）アクリルポリマーを溶解し得る反応溶媒として用いる有機溶剤と同様のものを好適に挙げることができる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常１０〜８０質量％であることが好ましい。
【００７５】
（光導波路形成用樹脂組成物の調合）
光導波路形成用樹脂組成物を調合する際は、撹拌により混合することが好ましい。撹拌方法には特に制限はないが、撹拌効率の観点からプロペラを用いた撹拌が好ましい。撹拌する際のプロペラの回転速度には特に制限はないが、１０〜１，０００ｒｐｍであることが好ましい。プロペラの回転速度が１０ｒｐｍ以上であると、各成分が十分に混合され、１，０００ｒｐｍ以下であると、プロペラの回転による気泡の巻き込みが少なくなる。以上の観点から、プロペラの回転速度は５０〜８００ｒｐｍであることがさらに好ましく、１００〜５００ｒｐｍであることが特に好ましい。
また、撹拌時間には特に制限はないが、１〜２４時間であることが好ましい。撹拌時間が１時間以上であると、各成分が十分に混合され、２４時間以下であると、調合時間を短縮することができ、生産性が向上する。
【００７６】
調合した光導波路形成用樹脂組成物は、孔径５０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが好ましい。孔径５０μｍ以下のフィルタを用いることで、大きな異物などが除去されて塗布時にはじきなどを生じることがなく、また、光の散乱が抑制されて透明性が損なわれることがない。以上の観点から、孔径３０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのがさらに好ましく、孔径１０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが特に好ましい。
【００７７】
また、調合した光導波路形成用樹脂組成物又は樹脂ワニスは、減圧下で脱泡することが好ましい。脱泡方法には特に制限はないが、例えば、真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置を用いる方法が挙げられる。減圧時の圧力には特に制限はないが、樹脂組成物に含まれる低沸点成分が沸騰しない圧力が好ましい。減圧脱泡時間には特に制限はないが、３〜６０分であることが好ましい。減圧脱泡時間が３分以上であれば、樹脂組成物内に溶解した気泡を取り除くことができ、６０分以下であれば、樹脂組成物に含まれる有機溶剤が揮発することがなく、かつ脱泡時間を短縮することができ、生産性を向上させることができる。
【００７８】
（光導波路形成用樹脂フィルム）
以下、本発明の光導波路形成用樹脂フィルムについて説明する。
本発明の光導波路形成用樹脂フィルムは、前記光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成され、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分、さらに必要に応じて用いる（Ｅ）成分を含有する光導波路形成用樹脂組成物を好適な支持フィルムに塗布することにより容易に製造することができる。また、前記光導波路形成用樹脂組成物が前記有機溶剤で希釈された光導波路形成用樹脂ワニスである場合、樹脂ワニスを支持フィルムに塗布し、有機溶剤を除去することにより製造することができる。
【００７９】
支持フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。
これらの中でも柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００８０】
支持フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、３〜２５０μｍであることが好ましい。支持フィルムの厚みが３μｍ以上であると、フィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、支持フィルムの厚みは、５〜２００μｍであることがさらに好ましく、７〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【００８１】
支持フィルム上に光導波路形成用樹脂組成物を塗布して製造した光導波路形成用樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂層、及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
保護フィルムとしては、特に制限はないが、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンなどが好ましい。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、１０〜２５０μｍであることが好ましい。保護フィルムの厚みが１０μｍ以上であると、フィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、保護フィルムの厚みは１５〜２００μｍであることがさらに好ましく、２０〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【００８２】
本発明の光導波路形成用樹脂フィルムの樹脂層の厚みも、特に制限はないが、乾燥後の厚みで、通常は５〜５００μｍであることが好ましい。該樹脂層の厚み５μｍ以上であると、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は樹脂フィルムの硬化物の強度が十分であり、一方、５００μｍ以下であると、乾燥が十分に行えるため樹脂フィルム中の残留溶剤量が増えることなく、樹脂フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがない。
このようにして得られた光導波路形成用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。また、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【００８３】
以下、本発明の光導波路形成用樹脂フィルムの適用例について説明する。
本発明の光導波路形成用樹脂フィルムからなるコア部形成用樹脂フィルムの製造過程で用いる支持フィルムとしては、コアパターン形成に用いる露光用活性光線が透過するものであれば特に制限はなく、例えば、前述の光導波路形成用樹脂フィルムの支持フィルムの具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
それらの中でも、露光用活性光線の透過率、柔軟性、及び強靭性の観点から、ポリエステル；ポリオレフィンであることが好ましい。さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプな支持フィルムとして、市販のものでは、例えば、東洋紡績（株）製「コスモシャインＡ１５１７」、「コスモシャインＡ４１００」、東レ（株）製「ルミラーＦＢ５０」などが挙げられる。
【００８４】
コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムの厚みは、５〜５０μｍであることが好ましい。支持フィルムの厚みが５μｍ以上であると、支持体としての強度が十分であり、５０μｍ以下であると、コアパターン形成時にフォトマスクとコア部形成用樹脂層のギャップが大きくならず、パターン解像度が良好である。以上の観点から、支持フィルムの厚みは１０〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３０μｍであることが特に好ましい。
【００８５】
本発明の光導波路形成用樹脂フィルムからなるクラッド層形成用樹脂フィルム（上部クラッド層形成用樹脂フィルム，下部クラッド層形成用樹脂フィルム）の製造過程で用いる支持フィルムとしては、クラッド形成に用いる露光用活性光線が透過するものであれば特に制限はなく、例えば、前述の光導波路形成用樹脂フィルムの支持フィルムの具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
それらの中でも、露光用活性光線の透過率、柔軟性、及び強靭性の観点から、ポリエステル；ポリオレフィンであることが好ましい。さらに、露光用活性光線の透過率向上及びクラッドパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプな支持フィルムとして、市販のものでは、例えば、東洋紡績（株）製「コスモシャインＡ１５１７」、「コスモシャインＡ４１００」、東レ（株）製「ルミラーＦＢ５０」などが挙げられる。
【００８６】
クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの厚みは、５〜５０μｍであることが好ましい。支持フィルムの厚みが５μｍ以上であると、支持体としての強度が十分であり、５０μｍ以下であると、クラッドパターン形成時にフォトマスクとクラッド層形成用樹脂層のギャップが大きくならず、パターン解像度が良好である。以上の観点から、支持フィルムの厚みは１０〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３０μｍであることが特に好ましい。
【００８７】
（光導波路）
以下、本発明の光導波路について説明する。
図１の（ａ）に光導波路の断面図を示す。光導波路１は基材５上に形成され、高屈折率であるコア部形成用樹脂組成物からなるコア部２、並びに低屈折率であるクラッド層形成用樹脂組成物からなる下部クラッド層４及び上部クラッド層３で構成されている。
本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び光導波路形成用樹脂フィルムは、光導波路１の下部クラッド層４、コア部２、及び上部クラッド層３のうち、少なくとも１つに用いることが好ましい。
【００８８】
光導波路形成用樹脂フィルムを用いることによって、各層の平坦性、クラッドとコアの層間密着性、及び光導波路コアパターン形成時の解像度（細線又は狭線間対応性）をより向上させることができ、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンの形成が可能となる。
【００８９】
光導波路１において、基材５の材質としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。
【００９０】
光導波路１は、基材５として柔軟性及び強靭性のある基材、例えば、前記光導波路形成用樹脂フィルムの支持フィルムを基材として用いることで、フレキシブル光導波路としてもよく、このとき基材５を光導波路１の保護フィルムとして機能させてもよい。保護フィルムを配置することにより、保護フィルムの柔軟性及び強靭性を光導波路１に付与することが可能となる。さらに、光導波路１が汚れや傷を受けなくなるため、取り扱いやすさが向上する。
以上の観点から、図１の（ｂ）のように上部クラッド層３の外側に保護フィルムとして基材５が配置されていたり、図１の（ｃ）のように下部クラッド層４及び上部クラッド層３の両方の外側に保護フィルムとして基材５が配置されていたりしてもよい。
なお、光導波路１に柔軟性や強靭性が十分に備わっているならば、図１の（ｄ）のように、保護フィルム５が配置されていなくてもよい。
【００９１】
下部クラッド層４の厚みは、特に制限はないが、２〜２００μｍであることが好ましい。２μｍ以上であると、伝搬光をコア内部に閉じ込めるのが容易となり、２００μｍ以下であると、光導波路１全体の厚みが大きすぎることがない。なお、下部クラッド層４の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から下部クラッド層４の下面までの値である。
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの厚みについては、特に制限はなく、硬化後の下部クラッド層４の厚みが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【００９２】
コア部２の高さは、特に制限はないが、１０〜１５０μｍであることが好ましい。コア部の高さが１０μｍ以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが小さくなることがなく、１５０μｍ以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が小さくなることがない。以上の観点から、コア部の高さは、１５〜１３０μｍであることがさらに好ましく、２０〜１２０μｍであることが特に好ましい。なお、コア部形成用樹脂フィルムの厚みについては、特に制限はなく、硬化後のコア部の高さが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【００９３】
上部クラッド層３の厚みは、コア部２を埋め込むことができる範囲であれば特に制限はないが、乾燥後の厚みで１２〜５００μｍであることが好ましい。上部クラッド層３の厚みとして、最初に形成される下部クラッド層４の厚みと同一であっても異なってもよいが、コア部２を埋め込むという観点から、下部クラッド層４の厚みよりも厚くすることが好ましい。なお、上部クラッド層３の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から上部クラッド層３の上面までの値である。
【００９４】
本発明の光導波路において、波長８５０ｎｍの光源における光伝搬損失は０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましく、０．１ｄＢ／ｃｍ以下であることが特に好ましい。
本発明の光導波路において、温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施後の波長８５０ｎｍの光源における光伝搬損失は、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましく、０．１ｄＢ／ｃｍ以下であることが特に好ましい。
なお、温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験とはＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で実施する高温高湿放置試験のことを意味する。
【００９５】
本発明の光導波路において、温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施後の波長８５０ｎｍの光源における光伝搬損失は、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましく、０．１ｄＢ／ｃｍ以下であることが特に好ましい。
なお、温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験とはＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で実施する温度サイクル試験のことを意味する。
【００９６】
本発明の光導波路において、最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の波長８５０ｎｍの光源における光伝搬損失は、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分であれば同時に、リフロープロセスによる部品実装が行えるために、適用範囲が広くなる。以上の観点から、光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましく、０．１ｄＢ／ｃｍ以下であることが特に好ましい。
なお、最高温度２６５℃のリフロー試験とはＪＥＤＥＣ規格（ＪＥＤＥＣ  ＪＥＳＤ２２Ａ１１３Ｅ）に準じた条件で実施する鉛フリーはんだリフロー試験のことを意味する。
【００９７】
本発明の光導波路は、透明性、環境信頼性、及び耐熱性に優れており、光モジュールの光伝送路として用いてもよい。光モジュールの形態として、例えば、光導波路の両端に光ファイバを接続した光ファイバ付き光導波路、光導波路の両端にコネクタを接続したコネクタ付き光導波路、光導波路とプリント配線板と複合化した光電気複合基板、光導波路と光信号と電気信号を相互に変換する光／電気変換素子を組み合わせた光電気変換モジュール、光導波路と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分波器などが挙げられる。
なお、光電気複合基板において、複合化するプリント配線板としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ基板、セラミック基板などのリジッド基板；ポリイミド基板、ポリエチレンテレフタレート基板などのフレキシブル基板などが挙げられる。
【００９８】
（光導波路の製造方法）
以下、本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び／又は光導波路形成用樹脂フィルムを用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明する。
本発明の光導波路１を製造する方法としては、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物及び／又は光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、基材上に光導波路形成用樹脂層を形成して製造する方法などが挙げられる。
本発明に用いられる基材としては、光導波路１における基材５の具体例として記載されたものと同様のものを挙げることができる。
【００９９】
光導波路形成用樹脂層を形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物を用いて、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビアコート法、スクリーンコート法、インクジェットコート法などにより塗布する方法などが挙げられる。
光導波路形成用樹脂組成物が、前記有機溶剤で希釈されて光導波路形成用樹脂ワニスとなっている場合、必要に応じて樹脂層を形成後に、乾燥する工程を入れてもよい。乾燥方法としては、特に制限はなく、例えば、加熱乾燥、減圧乾燥などが挙げられる。また、必要に応じてこれらを併用してもよい。
光導波路形成用樹脂層を形成するその他の方法としては、光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、積層法により形成する方法が挙げられる。
これらの中で、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンを有する光導波路が形成可能という観点から、光導波路形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
【０１００】
以下、光導波路形成用樹脂フィルムを下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層に用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明するが、本発明はこれに何ら制限されるものではない。
まず、第１の工程として、下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に積層する。第１の工程における積層方法としては、特に制限はなく、例えば、ロールラミネータ又は平板型ラミネータを用いて加熱しながら圧着することにより積層する方法などが挙げられる。なお、本発明における平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式ラミネータを好適に用いることができる。ラミネート温度は、特に制限はないが、２０〜１３０℃であることが好ましく、ラミネート圧力は、特に制限はないが、０．１〜１．０ＭＰａであることが好ましい。下部クラッド層形成用樹脂フィルムに保護フィルムが存在する場合、保護フィルムを除去した後に積層する。
【０１０１】
真空加圧式ラミネータを用いて積層する場合、ロールラミネータを用いて、あらかじめ下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性及び追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行っても良い。ラミネート温度は、２０〜１５０℃であることが好ましい。２０℃以上であれば下部クラッド層形成用樹脂フィルムと基材５との密着性が向上し、１５０℃以下であれば樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎることがなく、必要とする膜厚が得られる。以上の観点から、４０〜１３０℃であることがさらに好ましい。ラミネート圧力は、特に制限はないが、０．２〜０．９ＭＰａであることが好ましく、ラミネート速度は、特に制限はないが、０．１〜３ｍ／ｍｉｎであることが好ましい。
【０１０２】
基材５上に積層された下部クラッド層形成用樹脂層を光及び／又は熱により硬化し、下部クラッド層４を形成する。なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去は、硬化前及び硬化後のどちらで行ってもよい。
下部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、特に制限はないが、０．１〜５Ｊ／ｃｍ2とすることが好ましい。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、加熱をしながら活性光線を照射してもよい。なお、光硬化前後の処理として、必要に応じて５０〜２００℃の加熱処理を行ってもよい。
下部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、特に制限はないが、５０〜２００℃とすることが好ましい。
【０１０３】
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムを、光導波路１の保護フィルム５として機能させる場合、下部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層することなく、光及び／又は熱により前記と同様な条件で硬化し、下部クラッド層４を形成してもよい。
なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの保護フィルムは、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。
【０１０４】
第２の工程として、第１の工程と同様な方法で、下部クラッド層４上にコア部形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、コア部形成用樹脂層は下部クラッド層形成用樹脂層より高屈折率であるように設計され、活性光線によりコア部２（コアパターン）を形成し得る感光性樹脂組成物からなることが好ましい。
【０１０５】
第３の工程として、コア部２を露光する。コア部２を露光する方法としては、特に制限はなく、例えば、アートワークと呼ばれるネガ型フォトマスクを通して活性光線を画像状に照射する方法、レーザ直接描画を用いてネガ型フォトマスクを通さずに直接活性光線を画像上に照射する方法などが挙げられる。
活性光線の光源としては、特に制限はなく、例えば、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、水銀蒸気アークランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプなどの紫外線を有効に放射する光源；写真用フラッド電球、太陽ランプなどの可視光線を有効に放射する光源などが挙げられる。
【０１０６】
コア部２を露光する際の活性光線の照射量は、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましい。０．０１Ｊ／ｃｍ2以上であると、硬化反応が十分に進行し、現像によりコア部２が流失することがない。一方、１０Ｊ／ｃｍ2以下であると、露光量過多によりコア部２が太ることがなく、微細なパターンが形成でき好適である。以上の観点から、活性光線の照射量は、０．０３〜５Ｊ／ｃｍ2であることがさらに好ましく、０．０５〜３Ｊ／ｃｍ2であることが特に好ましい。
コア部２の露光は、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して行っても、支持フィルムを除去してから行ってもよい。
また、露光後に、コア部２の解像度及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間は、１０分以内であることが好ましいが、この条件には特に制限はない。露光後加熱温度は４０〜１６０℃であることが好ましく、時間は３０秒〜１０分であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１０７】
第４の工程として、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して露光した場合、これを除去し、現像液を用いて現像する。
現像方法としては、特に制限はなく、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの現像方法を併用してもよい。
現像液としては、特に制限はなく、例えば、有機溶剤、有機溶剤と水からなる準水系現像液、アルカリ水溶液からなる水系アルカリ現像液、アルカリ水溶液と有機溶剤からなる準水系アルカリ現像液などが挙げられる。
また、現像温度は、コア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
【０１０８】
有機溶剤としては、特に制限はなく、例えば、前記光導波路形成用樹脂組成物の希釈に用いる有機溶剤と同様のものを好適に挙げることができる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、有機溶剤中には、表面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
準水系現像液としては、１種類以上の有機溶剤と水からなるものであれば特に制限はない。
有機溶剤の濃度は、５〜９０質量％であることが好ましい。また、準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。
【０１０９】
アルカリ水溶液の塩基としては、特に制限はなく、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩；リン酸カリウム、リン酸ナトリウムなどのアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウムなどのアルカリ金属ピロリン酸塩；四ホウ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどのナトリウム塩；炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウムなどのアンモニウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリンなどの有機塩基などが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
水系アルカリ現像液のｐＨは９〜１４であることが好ましい。また、水系アルカリ現像液には、界面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
【０１１０】
準水系アルカリ現像液としては、アルカリ水溶液と１種類以上の前記有機溶剤からなるものであれば特に制限はない。なお、有機溶剤としては、特に制限はなく、例えば、前記光導波路形成用樹脂組成物の希釈に用いる有機溶剤と同様のものを好適に挙げることができる。
準水系アルカリ現像液のｐＨは、現像が十分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１３であることが好ましく、ｐＨ９〜１２であることがさらに好ましい。
有機溶剤の濃度は、通常、５〜９０質量％であることが好ましい。また、準水系アルカリ現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。
【０１１１】
現像後の処理として、必要に応じて前記有機溶剤、前記準水系洗浄液、又は水を用いて洗浄してもよい。
洗浄方法として、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの洗浄方法を併用してもよい。
前記有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。準水系洗浄液において、有機溶剤の濃度は通常、５〜９０質量％とすることが好ましい。また、洗浄温度はコア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
現像又は洗浄後の処理として、コア部２の硬化性及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光及び／又は加熱を行ってもよい。加熱温度は、特に制限はないが、４０〜２００℃であることが好ましく、活性光線の照射量は、特に制限はないが、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましい。
【０１１２】
第５の工程として、第１及び第２の工程と同様の方法で、下部クラッド層４及びコア部２上に上部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、上部クラッド層形成用樹脂層は、コア部形成用樹脂層よりも低屈折率になるように設計されている。また、上部クラッド形成用樹脂層の厚みは、コア部２の高さより大きくすることが好ましい。
【０１１３】
次いで、第１の工程と同様な方法で上部クラッド層形成用樹脂層を光及び／又は熱により硬化し、上部クラッド層３を形成する。
上部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、特に制限はないが、０．１〜３０Ｊ／ｃｍ2とすることが好ましい。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、必要に応じて加熱をしながら活性光線を照射してもよく、光硬化前後の処理として加熱処理を行ってもよい。活性光線照射中及び／又は照射後の加熱温度は、特に制限はないが、５０〜２００℃であることが好ましい。
上部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、特に制限はないが、５０〜２００℃であることが好ましい。
なお、上部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去が必要な場合、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。
以上の工程で、光導波路１を作製することができる。
【実施例】
【０１１４】
以下の本発明の実施例をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例になんら限定されるものではない。【０１１５】
合成例１
［（メタ）アクリルポリマーＡ−１の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部及び乳酸メチル２３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１６質量部、ベンジルメタクリレート６５質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２９質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）２質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部、及び乳酸メチル２３質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−１溶液（固形分４５質量％）を得た。【０１１６】
［重量平均分子量の測定］
Ａ−１の重量平均分子量（標準ポリスチレン換算）をＧＰＣ（東ソー（株）製「ＳＤ−８０２２」、「ＤＰ−８０２０」、及び「ＲＩ−８０２０」）を用いて測定した結果、３．８×１０4であった。なお、カラムは日立化成工業（株）製「Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ａ１５０−Ｓ」及び「Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ａ１６０−Ｓ」を使用した。【０１１７】
合成例２
［（メタ）アクリルポリマーＡ−２の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部及び乳酸メチル２３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、メチルメタクリレート４７質量部、ブチルアクリレート３３質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１６質量部、メタクリル酸１４質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部、及び乳酸メチル２３質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−２溶液（固形分４５質量％）を得た。
合成例１と同様な方法で、Ａ−２の重量平均分子量を測定した結果、３．９×１０4であった。【０１１８】
［酸価の測定］
Ａ−２の酸価を測定した結果、７９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。なお、酸価はＡ−２溶液を中和するのに要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。【０１１９】
合成例３
［（メタ）アクリルポリマーＡ−３の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部及び乳酸メチル２３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１６質量部、ベンジルメタクリレート５５質量部、メチルメタクリレート１９質量部、メタクリル酸２１質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）２質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部、及び乳酸メチル２３質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−３溶液（固形分４５質量％）を得た。
合成例１及び２と同様な方法で、Ａ−３の重量平均分子量及び酸価を測定した結果、それぞれ３．５×１０4、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。【０１２０】
実施例１
［コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１の調合］
（Ａ）成分として、前記Ａ−１溶液（固形分４５質量％）８９質量部（固形分４０質量部）、（Ｂ）成分として、ポリエステル骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「Ｕ−１０８Ａ」）２５質量部、（Ｅ）成分として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成工業（株）製「ファンクリルＦＡ−３２１Ａ」）２０質量部、（Ｃ）成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液（固形分７５質量％）（住化バイエルウレタン（株）製「スミジュールＢＬ３１７５」）２０質量部（固形分１５質量部）、（Ｄ）成分として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア２９５９」）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア８１９」）１質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１９質量部を攪拌しながら混合した。孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋（株）製「ＰＦ０２０」）を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１を得た。【０１２１】
［コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１の作製］
コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）製「コスモシャインＡ１５１７」、厚み１６μｍ）の非処理面上に、塗工機（（株）ヒラノテクシード製「マルチコーターＴＭ−ＭＣ」）を用いて塗布し、８０℃で１０分、１００℃で１０分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製「ピューレックスＡ３１」、厚み２５μｍ）を貼付け、コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、コア部形成用樹脂フィルムでは５０μｍとなるように調節した。【０１２２】
［強靭性評価］
前記コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１に紫外線露光機（大日本スクリーン株式会社製ＭＡＰ−１２００−Ｌ）を用い、紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射した。支持フィルム（Ａ１５１７）及び保護フィルム（Ａ３１）を除去して、１６０℃で１時間硬化させた後、厚み５０μｍの硬化フィルムを得た。
得られた硬化フィルムを幅１０ｍｍ、長さ７０ｍｍに切出し、引張り試験機（株式会社オリエンテック製  ＲＴＭ−１００）を用いて、引張り試験（つかみ具間距離５０ｍｍ）を温度２５℃、引張り速度５ｍｍ／ｍｉｎの条件で、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に準拠して行い、以下の基準で評価した。その結果を表１に示す。
◎：引張り破断伸び率が２０％以上
○：引張り破断伸び率が１０％以上、２０％未満
△：引張り破断伸び率が５％以上、１０％未満
×：引張り破断伸び率が５％未満
なお、引張り破断伸び率は、以下に示す式により算出した。
引張り破断伸び率（％）＝（破断時のつかみ具間距離（ｍｍ）−初期のつかみ具間距離（ｍｍ））÷初期のつかみ具間距離（ｍｍ）×１００【０１２３】
実施例２
［クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１の調合］
（Ａ）成分として、前記Ａ−２溶液（固形分４５質量％）８４質量部（固形分３８質量部）、（Ｂ）成分として、ポリエステル骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「Ｕ−２００ＡＸ」）３３質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「ＵＡ−４２００」）１５質量部、（Ｃ）成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液（固形分７５質量％）（住化バイエルウレタン（株）製「スミジュールＢＬ３１７５」）２０質量部（固形分１５質量部）、（Ｄ）成分として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア２９５９」）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア８１９」）１質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２３質量部を攪拌しながら混合した。孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋（株）製「ＰＦ０２０」）を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１を得た。【０１２４】
［クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１の作製］
クラッド層形成用樹脂組成物ＣＬＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）製「コスモシャインＡ４１００」、厚み５０μｍ）の非処理面上に、前記塗工機を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製「ピューレックスＡ３１」、厚み２５μｍ）を貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、下部クラッド層形成用樹脂フィルムでは２０μｍ、及び上部クラッド層形成用樹脂フィルムでは６０μｍとなるように調節した。
続いて、上部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を用いて、実施例１と同様な方法で、硬化フィルムの強靭性を評価した。その結果を表１に示す。【０１２５】
実施例３〜６及び比較例１〜４
表１に示す配合比に従って、コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−２〜６及びクラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−２〜４を調合し、実施例１と同様な方法で、コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−２〜６及びクラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−２〜４を作製した。
続いて、これらのコア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−２〜６及びクラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−２〜４を用いて、実施例１と同様な方法で、硬化フィルムの強靭性を評価した。その結果を表１に示す。【０１２６】
【表１】
0005892066.tif 000006
【０１２７】
＊１：合成例１で作製した（メタ）アクリルポリマーＡ−１のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／乳酸メチル溶液（固形分４５質量％）
＊２：合成例２で作製した（メタ）アクリルポリマーＡ−２のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／乳酸メチル溶液（固形分４５質量％）
＊３：合成例３で作製した（メタ）アクリルポリマーＡ−３のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／乳酸メチル溶液（固形分４５質量％）
＊４：ポリエステル骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「ＮＫオリゴＵ−１０８Ａ」）
＊５：ポリエステル骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「Ｕ−２００ＡＸ」）
＊６：ポリプロピレングリコール骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「ＵＡ−４２００」）
＊７：カルボキシル基及びポリエーテル骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「ＵＡ−６２００」）
＊８：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成工業（株）製「ファンクリルＦＡ−３２１Ａ」）
＊９：ポリプロピレングリコールジアクリレート日立化成工業（株）製「ファンクリルＦＡ−Ｐ２４０Ａ」）
＊１０：ビスフェノールＡ型エポキシジアクリレート（新中村化学工業（株）製「ＮＫオリゴＥＡ−１０２０」）
＊１１：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学（株）製「ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ」）
＊１２：ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液（固形分７５質量％）（住化バイエルウレタン（株）製「スミジュールＢＬ３１７５」）
＊１３：イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液（固形分６５質量％）（住化バイエルウレタン（株）製「デスモジュールＢＬ４２６５」）
＊１４：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア２９５９」）
＊１５：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア８１９」）
＊１６：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
＊１７：◎…引張り破断伸び率が２０％以上，○…引張り破断伸び率が１０％以上、２０％未満，△…引張り破断伸び率が５％以上、１０％未満，×…引張り破断伸び率が５％未満【０１２８】
実施例７
［フレキシブル光導波路の作製］
ロールラミネータ（日立化成テクノプラント（株）製「ＨＬＭ−１５００」）を用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去した前記下部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を、表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製「ピューレックスＡ５３」、厚み５０μｍ）上に、圧力０．５ＭＰａ、温度８０℃、速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件で積層した。さらに、真空加圧式ラミネータ（（株）名機製作所製「ＭＶＬＰ−５００／６００」）を用い、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で圧着した。
次に、紫外線露光機（大日本スクリーン（株）製「ＭＡＰ−１２００−Ｌ」）を用い、紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射後、支持フィルム（Ａ４１００）を除去した。その後、１６０℃で１時間加熱硬化することによって、下部クラッド層４を形成した。【０１２９】
続いて、前記ロールラミネータを用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去した前記コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を、下部クラッド層４上に、圧力０．５ＭＰａ、温度８０℃、速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件で積層した。さらに、上記真空加圧式ラミネータを用い、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で圧着した。
次いで、幅５０μｍのネガ型フォトマスクを介し、前記紫外線露光機で紫外線（波長３６５ｎｍ）を１０００ｍＪ／ｃｍ2照射して、コア部２（コアパターン）を露光した。８０℃で５分間露光後加熱を行った後、支持フィルム（Ａ１５１７）を除去し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（７０／３０質量比）を用いて現像した。続いて、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いて洗浄後、さらに２−プロパノールを用いて洗浄した。その後、８０℃で３０分、続いて１００℃で１時間加熱乾燥し、さらに１６０℃で１時間加熱硬化した。【０１３０】
次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去した前記上部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を、コア部２及び下部クラッド層４上に、圧力０．４ＭＰａ、温度１００℃及び加圧時間３０秒の条件で積層した。紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射し、支持フィルム（Ａ４１００）を除去した後、１６０℃で１時間加熱硬化することによって、上部クラッド層３を形成した。その後、前記表面離型処理ＰＥＴフィルム（Ａ５３）を除去し、図１（ｄ）に示す光導波路１を得た。その後、ダイシングソー（（株）ディスコ製「ＤＡＤ−５２２」）を用いて長さ１０ｃｍのフレキシブル光導波路を切り出した。【０１３１】
得られたフレキシブル光導波路について、以下の評価を行った。その結果を表４に示す。
［光伝搬損失測定］
得られたフレキシブル光導波路の光伝搬損失を、光源に波長８５０ｎｍの光を中心波長とするＶＣＳＥＬ（ＥＸＦＯ社製「ＦＬＳ−３００−０１−ＶＣＬ」）、受光センサ（（株）アドバンテスト製「Ｑ８２２１４」）、入射ファイバ（ＧＩ−５０／１２５マルチモードファイバ、ＮＡ＝０．２０）、及び出射ファイバ（ＳＩ−１１４／１２５、ＮＡ＝０．２２）を用いて測定した。光伝搬損失は、光損失測定値（ｄＢ）を光導波路長（１０ｃｍ）で割ることにより算出し、以下の基準で評価した。
◎：０．１ｄＢ/ｃｍ以下
○：０．１ｄＢ/ｃｍより大きく、０．２ｄＢ/ｃｍ以下
△：０．２ｄＢ/ｃｍより大きく、０．３ｄＢ/ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ/ｃｍより大きい【０１３２】
［高温高湿放置試験］
得られたフレキシブル光導波路を、高温高湿試験機（エスペック（株）製「ＰＬ−２ＫＴ」）を用いて、ＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施した。
高温高湿放置試験実施後の光導波路の光伝搬損失を、前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ、及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
◎：０．１ｄＢ/ｃｍ以下
○：０．１ｄＢ/ｃｍより大きく、０．２ｄＢ/ｃｍ以下
△：０．２ｄＢ/ｃｍより大きく、０．３ｄＢ/ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ/ｃｍより大きい【０１３３】
［温度サイクル試験］
得られたフレキシブル光導波路を、温度サイクル試験機（楠本化成（株）製「ＥＴＡＣ  ＷＩＮＴＥＣＨ  ＮＴ１０１０」）を用いて、ＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施した。詳細な温度サイクル試験条件を表２に示す。【０１３４】
【表２】
0005892066.tif 000007
【０１３５】
温度サイクル試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
◎：０．１ｄＢ/ｃｍ以下
○：０．１ｄＢ/ｃｍより大きく、０．２ｄＢ/ｃｍ以下
△：０．２ｄＢ/ｃｍより大きく、０．３ｄＢ/ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ/ｃｍより大きい【０１３６】
［リフロー試験］
得られたフレキシブル光導波路を、リフロー試験機（古河電気工業（株）製「サラマンダＸＮＡ−６４５ＰＣ」）を用いて、ＩＰＣ／ＪＥＤＥＣ  Ｊ−ＳＴＤ−０２０Ｂに準じた条件で最高温度２６５℃のリフロー試験を窒素雰囲気下で３回実施した。詳細なリフロー条件を表３、リフロー炉内の温度プロファイルを図２に示す。【０１３７】
【表３】
0005892066.tif 000008
【０１３８】
リフロー試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
◎：０．１ｄＢ/ｃｍ以下
○：０．１ｄＢ/ｃｍより大きく、０．２ｄＢ/ｃｍ以下
△：０．２ｄＢ/ｃｍより大きく、０．３ｄＢ/ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ/ｃｍより大きい【０１３９】
［強靭性評価］
フレキシブル光導波路の強靭性を、フレキシブル光導波路を半径１ｍｍの棒に巻きつけることによって、以下の基準で評価した。
○：変化なし
×：クラック発生又は破断【０１４０】
実施例８〜１０及び比較例５及び６
コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−２〜４、並びにクラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１〜４を用いて、実施例７と同様な方法で、フレキシブル光導波路を作製した。
続いて、得られたフレキシブル光導波路（長さ１０ｃｍ）の光伝搬損失測定、高温高湿放置試験、温度サイクル試験、及びリフロー試験を実施例７と同様な条件で実施した。
以上の結果を表４に示す。なお、表４中の現像条件については、表５に示す。【０１４１】
【表４】
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＊１：表５参照
＊２：◎：０．１ｄＢ/ｃｍ以下，○：０．１ｄＢ/ｃｍより大きく、０．２ｄＢ/ｃｍ以下，△：０．２ｄＢ/ｃｍより大きく、０．３ｄＢ/ｃｍ以下，×：０．３ｄＢ/ｃｍより大きい
＊３：○：変化なし，×：クラック発生又は破断【０１４２】
【表５】
0005892066.tif 000010
【０１４３】
表１及び表４から、本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、透明性、耐熱性、及び強靭性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、耐熱性、環境信頼性、及び強靭性に優れていることがわかる。一方、比較例１及び２に示した本発明に属さない光導波路形成用樹脂組成物、並びに比較例５に示したこれらを用いて製造した光導波路は、透明性、耐熱性、環境信頼性に優れているものの、強靭性に劣っていることがわかる。また、比較例３及び４に示した本発明に属さない光導波路形成用樹脂組成物、並びに比較例６に示したこれらを用いて製造した光導波路は、透明性、強靭性に優れているものの、耐熱性、環境信頼性に劣っていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１４４】
本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、透明性、耐熱性、及び強靭性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、環境信頼性、耐熱性、及び強靭性に優れたものである。また、該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルムは、光導波路の製造過程において、各層の平坦性、クラッドとコアの層間密着性、及び光導波路コアパターン形成時の解像度（細線又は狭線間対応性）をより向上させ、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンの形成を可能とするものである。
【符号の説明】
【０１４５】
１  光導波路
２  コア部
３  上部クラッド層
４  下部クラッド層
５  基材
【図１】
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【図２】
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