(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上にパターンを形成する、少なくとも３つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち２つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置に生じる第１振動と、前記第１振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第２振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち第１リソグラフィ装置を除くそれぞれのリソグラフィ装置に生じる振動に起因して前記第１リソグラフィ装置に生じる振動を、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて算出する算出部と、
前記算出部で算出される前記第１リソグラフィ装置に生じる振動が許容量以下となるように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置を制御する制御部と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項２】
前記制御部は、前記リソグラフィ装置の前記基板を保持する基板ステージの移動を制御し、前記第１リソグラフィ装置の基板ステージを移動させている期間と重ならないように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項３】
前記制御部は、前記リソグラフィ装置の前記基板を保持する基板ステージの移動を制御し、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージを移動させている期間が重ならないように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項４】
前記制御部は、前記リソグラフィ装置の前記基板を保持する基板ステージを加速させる加速度の大きさを制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項５】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれは、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれに生じる振動を計測する計測部を更に有し、
前記取得部は、前記計測部の計測結果から前記伝達関数を算出することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項６】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれは、梁の上に配置され、
前記制御部は、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の前記基板を保持する基板ステージを前記梁の長手方向と平行な方向に移動させる場合に、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置を制御することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項７】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれは、複数の梁の上に配置され、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置を、前記複数の梁のうち同一の梁の上に配置されたリソグラフィ装置のグループに分類した場合に、前記取得部は、前記分類されたグループのそれぞれについて、当該グループに含まれるリソグラフィ装置について、前記伝達関数を取得することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項８】
基板ステージに保持された基板の上にパターンを形成する、少なくとも３つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち２つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置に生じる第１振動と、前記第１振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第２振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージを移動させてよいかどうかを、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれについて順次判定する判定部と、
を有し、
前記判定部は、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち第１リソグラフィ装置に生じる振動に起因する前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの振動の振動量と、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置にそれぞれ生じる振動に起因する前記第１リソグラフィ装置の振動の振動量とを算出し、前記算出した全ての振動量が許容量以下となる場合に、前記第１リソグラフィ装置の基板ステージの移動を許可することを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項９】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置は、前記基板の上の樹脂とモールドとを接触させて、前記基板の上に前記パターンを形成するインプリント装置であることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１０】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置は、前記基板に荷電粒子線により前記基板の上に前記パターンを形成する荷電粒子線描画装置であることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１１】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置は、前記基板にレチクルのパターンを投影光学系によって投影することで前記基板の上に前記パターンを形成する露光装置であることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１２】
基板ステージに保持された基板の上にパターンを形成する、少なくとも３つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち２つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置の基板ステージの移動によって前記一方のリソグラフィ装置に生じる第１振動と、前記第１振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第２振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち第１リソグラフィ装置を除くそれぞれのリソグラフィ装置の基板ステージの移動に起因して第１リソグラフィ装置に生じる振動を、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて算出する算出部と、
前記算出部で算出される前記第１リソグラフィ装置に生じる振動が許容量以下となるように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御する制御部と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項１３】
前記制御部は、前記第１リソグラフィ装置の基板ステージを加速させている加速期間と重ならないように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの加速を開始する加速開始時刻を制御することを特徴とする請求項１２に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１４】
前記制御部は、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージを加速させている加速期間が重ならないように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの加速を開始する加速開始時刻を制御することを特徴とする請求項１２に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステムを用いて基板の上にパターンを形成するステップと、
前記パターンが形成された前記基板を加工するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィシステム及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インプリント装置は、インプリント技術を利用して、基板（シリコンウエハやガラスプレート）の上の樹脂（インプリント材）にパターン（微細な構造）を有するモールド（原版）を押し付けた状態で樹脂を硬化させてパターンを転写する装置である。
【０００３】
このようなリソグラフィ装置においては、原版と基板との位置合わせが重要となる。例えば、プロセスルールが１００ｎｍ以下となる場合には、リソグラフィ装置に許容される原版と基板との位置合わせ誤差の範囲（許容範囲）は、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度である。
【０００４】
また、リソグラフィ装置、特に、インプリント装置には、転写精度及び転写速度の向上が求められている。インプリント装置は、一般的に、露光装置と比較して１台当たりのコストが低いが、露光装置よりも処理時間がかかり（即ち、転写速度が遅く）、スループットが低い。そこで、近年では、基板を位置決めする（移動させる）ためのステージの高速化やデバイス製造工場に複数のインプリント装置を設置するクラスタ構成が進められている。
【０００５】
一方、転写速度の向上と転写精度の向上とは、一般的に、トレードオフの関係にある。例えば、ステージの高速化は、ステージで発生する反力を増加させてしまうため、かかるステージを備えた装置を振動させるだけではなく、その周囲に設置された装置も振動させてしまう。特に、クラスタ構成では、１つの装置で発生する振動が小さくても、複数の装置のそれぞれで発生する振動（位相や方向成分）が重なり合うことで振動が増幅し、装置が設置された床全体を振動させてしまうことがある。
【０００６】
インプリント装置において、基板の上の樹脂とモールドとを接触させる（即ち、樹脂にモールドを押印する）際には、事前に行われた位置合わせによって、原版と基板との間の位置関係は高精度に維持されている。但し、床からの振動が装置に伝わると、原版と基板との間の位置関係がずれて転写精度が低下してしまう。高価な露光装置であれば、カウンタマスを使用して外部に伝わる振動を除去し、周囲の装置に伝わる振動を抑制することが可能であるが、コストやフットプリントの面で有利なインプリント装置では、カウンタマスの使用は極力避けたい。
【０００７】
そこで、２つのリソグラフィ装置のそれぞれで発生する反力を互いに打ち消すように、各リソグラフィ装置のステージの移動を同期させる技術が提案されている（特許文献１参照）。特許文献１の技術では、各リソグラフィ装置のステージを移動させる際に、加速（又は減速）の開始時刻、及び、加速時間（又は減速時間）と加速度（又は減速度）との力積とが一致し、且つ、両者の力積の符号が互いに逆となるように、ステージを同期させている。このように、特許文献１の技術では、一方で発生する力に対して、逆向きの力を他方から加えて打ち消すカウンタマスの技術思想を用いている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平５−２３４８６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１の技術を実際のリソグラフィ装置に適用すると、ある装置が故障やメンテナンスで稼働を停止した場合、もう一方の装置が稼働可能であったとしても、カウンタマスとして機能する装置がないため、稼働を停止せざるをえない。従って、クラスタ構成において稼働を停止する装置が増加し、全体の稼働率が低下してしまう。
【００１０】
また、２つの装置間において実際に力積を一致させるためには、装置の数や設置位置、各装置で発生する振動の周波数成分なども考慮する必要がある。従って、他の装置に影響を与えない程度に力積を一致させることは非常に困難であり、現実的ではない。
【００１１】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、リソグラフィシステムにおける転写精度の低下の抑制、及び、稼働率の向上に有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのリソグラフィシステムは、基板の上にパターンを形成する、少なくとも３つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち２つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置に生じる第１振動と、前記第１振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第２振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち第１リソグラフィ装置を除くそれぞれのリソグラフィ装置に生じる振動に起因して前記第１リソグラフィ装置に生じる振動を、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて算出する算出部と、前記算出部で算出される前記第１リソグラフィ装置に生じる振動が許容量以下となるように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置を制御する制御部と、を有することを特徴とする。
【００１３】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、例えば、リソグラフィシステムにおける転写精度の低下の抑制、及び、稼働率の向上に有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一側面としてのリソグラフィシステムの構成を示す概略図である。
【図２】基板ステージの加速度プロファイル、及び、リソグラフィ装置の振動量を示す図である。
【図３】基板ステージの加速度プロファイル、及び、リソグラフィ装置の振動量を示す図である。
【図４】リソグラフィ装置に配置される計測部を具体的に説明するための図である。
【図５】本発明の一側面としてのリソグラフィシステムの構成を示す概略図である。
【図６】リソグラフィ装置が設置される床（を構成する梁）を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１７】
図１（ａ）及び図１（ｂ）は、本発明の一側面としてのリソグラフィシステム１の構成を示す概略図である。リソグラフィシステム１は、図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、基板の上にパターンを転写（形成）するリソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃと、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃを管理する管理部２０とを備えている。リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃは、デバイス製造工場の床ＤＦに設置され、基板を保持して移動する基板ステージ（移動体）１１ａ、１１ｂ及び１１ｃをそれぞれ有する。リソグラフィシステム１は、クラスタ構成を採用し、本実施形態では、３つのリソグラフィ装置を備えているが、リソグラフィ装置の数を３つに限定するものではなく、少なくとも３つのリソグラフィ装置を備えていればよい。
【００１８】
基板ステージ１１ａ、１１ｂ及び１１ｃのそれぞれが移動すると、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃが設置された床ＤＦが振動する。そこで、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃのそれぞれには、自身の振動の振動量（又は振動量に比例する物理量）を計測する計測部１２ａ、１２ｂ及び１２ｃが配置されている。計測部１２ａ、１２ｂ及び１２ｃは、例えば、加速度計、速度計、変位計、力検出計などを含む。計測部１２ａ、１２ｂ及び１２ｃは、各リソグラフィ装置内において、除振ユニットに支持された構造体や基板ステージ（即ち、振動を発生させる移動体）の近傍に配置される。また、計測部１２ａ、１２ｂ及び１２ｃは、床ＤＦにおける各リソグラフィ装置の設置場所の近傍に配置してもよく、各リソグラフィ装置の精度に影響する構造物の近傍に配置するとよい。
【００１９】
管理部２０は、取得部２２と、算出部２４と、制御部２６とを含み、リソグラフィシステム１の全体を管理する。取得部２２は、少なくとも３つのリソグラフィ装置、本実施形態では、３つのリソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃのうち２つのリソグラフィ装置の組み合わせのそれぞれについて、かかる２つのリソグラフィ装置間の振動の関係を表す伝達関数を取得する。伝達関数は、一方のリソグラフィ装置の基板ステージの移動によって一方のリソグラフィ装置に生じる振動（第１振動）と、かかる振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって他方のリソグラフィ装置に生じる振動（第２振動）との関係を表す関数である。取得部２２には、例えば、基板ステージ１１ｂが移動したときの計測部１２ｂの計測データと、基板ステージ１１ｂの移動に起因する振動がリソグラフィ装置１０ａに伝達したときの計測部１２ａの計測データとが入力される。取得部２２は、計測部１２ａ及び１２ｂの計測結果に基づいて、計測部１２ａ及び１２ｂの計測データを入出力値とする伝達関数ｆ（１０ａ，１０ｂ）を算出（取得）する。同様に、取得部２２は、リソグラフィ装置１０ａとリソグラフィ装置１０ｃとの間の伝達関数ｆ（１０ａ，１０ｃ）やリソグラフィ装置１０ｂとリソグラフィ装置１０ｃとの間の伝達関数ｆ（１０ｂ，１０ｃ）を算出（取得）する。
【００２０】
また、取得部２２は、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃの構成部材に関する情報やリソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃの設置場所に関する情報などから、シミュレーションによって伝達関数を取得することも可能である。但し、クラスタ構成では、リソグラフィ装置間の距離だけではなく、床ＤＦを構成する梁の位置などによっても伝達関数が変わる。従って、シミュレーションによって伝達関数を取得する場合には、床ＤＦを構成する梁の位置に関する情報なども考慮するとよい。
【００２１】
本実施形態では、厳密な意味での伝達関数を、振動伝達を表す係数で代用することも可能である。振動伝達を表す係数とは、ある特定の周波数における振動の入出力値の大きさの比を表す係数である。
【００２２】
算出部２４は、取得部２２で取得された伝達関数に基づいて、第１リソグラフィ装置（例えば、リソグラフィ装置１０ａ）を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージの移動に起因する第１リソグラフィ装置における振動の振動量を算出する。例えば、算出部２４は、リソグラフィ装置１０ｂ又は１０ｃで振動が生じた場合に、伝達関数ｆ（１０ａ，１０ｂ）又はｆ（１０ａ，１０ｃ）に基づいて、リソグラフィ装置１０ａに伝達される振動（リソグラフィ装置１０ａで生じる振動）の振動量を算出する。
【００２３】
制御部２６は、算出部２４で算出される第１リソグラフィ装置における振動の振動量が許容量以下（許容される振動量以下）となるように、第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージの移動を制御する。３つのリソグラフィ装置１０ａ乃至１０ｃを稼働させる場合を考える。この場合、制御部２６は、算出部２４で算出されるリソグラフィ装置１０ａの振動量が許容量以下となるように、例えば、リソグラフィ装置１０ｂ及び１０ｃに待機時間を設けて、基板ステージ１１ｂ及び１１ｃのそれぞれの加速を開始する加速開始時刻を制御する。本実施形態において、基板ステージの加速とは、基板ステージが加速している（加速度がプラスである）場合だけではなく、基板ステージが減速している（加速度がマイナスである）場合も含む。
【００２４】
クラスタ構成を採用するリソグラフィシステム１においては、制御部２６は、リソグラフィ装置１０ａの振動量を許容量以下とするだけではなく、リソグラフィ装置１０ｂ及び１０ｃの振動量も許容量以下にする必要がある。従って、全てのリソグラフィ装置の振動量を許容量以下に制御するために、リソグラフィシステム１は、図１（ｂ）に示すように、２つのリソグラフィ装置の組み合わせの全てについて伝達関数を取得できるように構成するとよい。一方、あるリソグラフィ装置（例えば、リソグラフィ装置１０ａ）の振動量のみを許容量以下に制御すればよい場合には、図１（ａ）に示すように、かかるリソグラフィ装置の振動量の制御に必要な伝達関数のみを取得できるように構成してもよい。
【００２５】
図２（ａ）は、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃのそれぞれの基板ステージ１１ａ、１１ｂ及び１１ｃの加速度プロファイル、即ち、基板ステージ１１ａ、１１ｂ及び１１ｃの加速度を時系列的に示す図である。図２（ａ）を参照するに、基板ステージ１１ｂを加速させている加速期間と基板ステージ１１ｃを加速させている加速期間とが重なっている。基板ステージ１１ｂ及び１１ｃの移動（加速）に起因する振動がリソグラフィ装置１０ａに伝達される時間が等しいとすると、図２（ｂ）に示すように、それらの振動が重なり合う（共振する）ことになる。従って、リソグラフィ装置１０ａにおける振動の振動量が許容量よりも大きくなってしまう。図２（ｂ）は、基板ステージ１１ｂ及び１１ｃのそれぞれの移動に起因するリソグラフィ装置１０ａの振動量（即ち、計測部１２ａの計測データ、例えば、振幅）を示す図である。
【００２６】
そこで、制御部２６は、基板ステージ１１ｂ及び１１ｃの移動に起因する振動によってリソグラフィ装置１０ａの振動量が許容量よりも大きくなる場合には、図３（ａ）に示すように、基板ステージ１１ｃの加速を開始する加速開始時刻を制御する。具体的には、制御部２６は、基板ステージ１１ｂを加速させている加速期間と基板ステージ１１ｃを加速させている加速期間とが重ならないように、基板ステージ１１ｃの加速を開始する加速開始時刻を変更する。この場合、基板ステージ１１ｂ及び１１ｃの移動に起因する振動がリソグラフィ装置１０ａに伝達させても、図３（ｂ）に示すように、それらの振動が重なり合うことがない。従って、リソグラフィ装置１０ａにおける振動の振動量を許容量以下に抑制することができる。なお、基板ステージ１１ｂを加速させている加速期間と基板ステージ１１ｃを加速させている加速期間とが重ならないように、基板ステージ１１ｂの加速を開始する加速開始時刻を変更してもよい。
【００２７】
また、制御部２６は、基板ステージ１１ｂ及び１１ｃの少なくとも一方の加速開始時刻に加えて、基板ステージ１１ｂ及び１１ｃの少なくとも一方の加速度の大きさを制御することで、リソグラフィ装置１０ａの振動量を許容量以下にしてもよい。図３（ｂ）では、各基板ステージの位相や方向成分の違いを考慮していない。実際には、各基板ステージの位相や方向成分の違いを考慮した上で、リソグラフィ装置１０ａにおける振動が増幅しないように、各基板ステージの移動を制御する必要がある。
【００２８】
このように、本実施形態のリソグラフィシステム１によれば、各リソグラフィ装置の振動量を許容量以下にすることができると共に、あるリソグラフィ装置が稼働を停止した場合であっても他のリソグラフィ装置を稼働させることが可能である。従って、リソグラフィシステム１は、基板に転写されるパターンの転写精度の低下を抑制しながら、稼働率を向上させることができる。
【００２９】
また、制御部２６は、各リソグラフィ装置の基板ステージを加速させる加速期間を制御することも可能である。例えば、制御部２６は、リソグラフィ装置間で振動伝達が大きいリソグラフィ装置に対しては、基板ステージの加速期間を制御することで、他のリソグラフィ装置の基板ステージの加速期間が重なることに起因する振動の増幅を抑制する。一方、制御部２６は、リソグラフィ装置間で振動伝達が小さいリソグラフィ装置に対しては、基板ステージの加速期間を過剰に制御せずに、待機時間を短くするなどして基板ステージの加速開始時刻を制御する。これにより、各リソグラフィ装置の振動量を許容量以下に抑制しながら、稼働させるリソグラフィ装置の最適化を行うことができるため、リソグラフィシステムの稼働率を向上させることができる。
【００３０】
また、各リソグラフィ装置に許容される振動量は、処理工程によって変化する。例えば、基板ステージに保持された基板にパターンを転写する処理や基板ステージに保持された基板を位置決めする処理では高い処理精度が求められるため、処理精度に影響を与える振動の許容量は小さくなる。そこで、全ての処理工程において、制御部２６による基板ステージの制御を行うのではなく、リソグラフィ装置に許容される振動量が小さい処理工程に限定して、制御部２６による基板ステージの制御を行ってもよい。これにより、リソグラフィシステム１の稼働率を更に向上させることができる。
【００３１】
また、多数のリソグラフィ装置を備えたリソグラフィシステムにおいては、各リソグラフィ装置における振動が重なり合う（共振する）可能性が高いため、転写精度の低下の抑制や稼働率の向上などの効果を得やすい。
【００３２】
図４を参照して、伝達関数を取得するために必要なデータ（各リソグラフィ装置の振動量）を計測する計測部１２ａ、１２ｂ及び１２ｃについて具体的に説明する。
【００３３】
計測部１２ａは、除振ユニット１４ａに支持された構造体１５ａに配置された計測器１２１ａと、基板ステージ１１ａの近傍に配置された計測器１２２ａと、リソグラフィ装置１０ａの設置場所の近傍に配置された計測器１２３ａで構成される。同様に、計測部１２ｂは、除振ユニット１４ｂに支持された構造体１５ｂに配置された計測器１２１ｂと、基板ステージ１１ｂの近傍に配置された計測器１２２ｂと、リソグラフィ装置１０ｂの設置場所の近傍に配置された計測器１２３ｂで構成される。同様に、計測部１２ｃは、除振ユニット１４ｃに支持された構造体１５ｃに配置された計測器１２１ｃと、基板ステージ１１ｃの近傍に配置された計測器１２２ｃと、リソグラフィ装置１０ｃの設置場所の近傍に配置された計測器１２３ｃで構成される。計測器１２１ａ乃至１２３ａ、１２１ｂ乃至１２３ｂ及び１２１ｃ乃至１２３ｃのそれぞれは、上述したように、加速度計、速度計、変位計及び力検出計の少なくとも１つを含む。
【００３４】
リソグラフィ装置間で伝達される振動の関係を表す伝達関数は、入力値と出力値とが１対１の関係にある関数でなければならない。例えば、リソグラフィ装置１０ｂにおける振動を入力とし、リソグラフィ装置１０ａにおける振動を出力とする伝達関数を取得する場合を考える。この場合、計測器１２１ｂ乃至１２３ｂのうちの１つの計測データと、計測器１２１ａ乃至１２３ａのうちの１つの計測データとが必要となる。また、リソグラフィ装置１０ａ及び１０ｂにおける振動を計測している間は、基板ステージ１１ｃを静止させておく必要があるため、伝達関数の取得は、デバイスを製造する前に行うとよい。デバイスを製造する前であれば、リソグラフィ装置１０ａ及び１０ｂの振動量の計測を時間の許す限り行うことが可能であるため、計測データを平均化してノイズの影響を低減することができる。また、基板ステージ１１ｂの加速度を大きくすることで計測データのノイズの影響を低減することも可能である。
【００３５】
図５を参照して、リソグラフィシステム１が３つ以上のリソグラフィ装置、具体的には、９つのリソグラフィ装置１０ａ乃至１０ｉを備えている場合について考える。例えば、リソグラフィ装置１０ａの稼働中に、他のリソグラフィ装置も稼働させようとした場合、制御部２６（管理部２０）は、リソグラフィ装置１０ａと共に稼働させるリソグラフィ装置をリソグラフィ装置１０ｂ乃至１０ｉから選択することが可能である。具体的には、制御部２６は、取得部２２で取得された伝達関数に基づいて、振動量が許容量以下となるリソグラフィ装置をリソグラフィ装置１０ｂ乃至１０ｉから選択する。
【００３６】
リソグラフィ装置１０ｂ及び１０ｄはリソグラフィ装置１０ａの近傍に設置されているため、リソグラフィ装置１０ａとリソグラフィ装置１０ｂ又は１０ｄとの間の伝達関数は、一般的に、大きくなる。一方、リソグラフィ装置１０ｃ及び１０ｇはリソグラフィ装置１０ａから離れた場所に設置されているため、リソグラフィ装置１０ａとリソグラフィ装置１０ｃ又は１０ｇとの間の伝達関数は、一般的に、小さくなる。従って、リソグラフィ装置１０ａと共に、リソグラフィ装置１０ｂ及び１０ｄを稼働させると、振動が増幅して、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｄのうちいずれかのリソグラフィ装置の振動量が許容量を超える可能性が高くなる。各リソグラフィ装置の振動量を許容量以下にするためには、リソグラフィ装置１０ａと共に稼働させるリソグラフィ装置の数を減らせばよいが、リソグラフィシステムの稼働率が著しく低下してしまう。
【００３７】
そこで、制御部２６は、リソグラフィ装置１０ａと共に稼働させるリソグラフィ装置として、リソグラフィ装置間の伝達関数が小さいリソグラフィ装置１０ｃ及び１０ｇを選択する。一般的には、リソグラフィ装置間の距離が長い、或いは、リソグラフィ装置を設置した床ＤＦの剛性が高い場合には、リソグラフィ装置間で伝達される振動が減衰されるため、伝達関数が小さくなる。従って、リソグラフィ装置１０ａと共にリソグラフィ装置１０ｂ及び１０ｄを稼働させる場合と比較して、リソグラフ装置の稼働数は同じでありながら、振動の増幅を抑制してリソグラフィ装置１０ａ、１０ｃ及び１０ｇの振動量を許容量以下にすることができる。また、上述したように、振動伝達が大きいリソグラフィ装置に対しては、基板ステージの加速期間を制御することで振動の増幅を抑制することができる。
【００３８】
リソグラフィ装置間で伝達される振動の関係を表す伝達関数は、上述したように、振動の伝達経路である床ＤＦ、詳細には、床ＤＦを構成する梁（の位置）にも依存する。リソグラフィ装置が設置される床ＤＦは、一般的に、図６（ａ）に示す梁ＢＥを、図６（ｂ）及び図６（ｃ）に示すように複数組み合わせて構成される。
【００３９】
図６（ｂ）に示すように、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃが床ＤＦを構成する梁ＢＥの上に配置されている場合を考える。この場合、リソグラフィ装置１０ａ乃至１０ｃのそれぞれの基板ステージが梁ＢＥの長手方向と平行な方向（Ｙ方向）に移動する際に生じる振動は、リソグラフィ装置間を伝達しやすい。一方、リソグラフィ装置１０ａ乃至１０ｃのそれぞれの基板ステージが梁ＢＥの長手方向に直交する方向（Ｘ方向）に移動する際に生じる振動は、リソグラフィ装置間を伝達しにくい。これは、梁ＢＥの長手方向に働く圧縮強度が、梁ＢＥの長手方向に直交する方向に働く曲げ強度よりも大きく、梁ＢＥの長手方向の振動が減衰しにくいからである。そこで、制御部２６は、リソグラフィ装置の基板ステージを梁ＢＥの長手方向と平行な方向に移動させる場合に限定して、基板ステージの移動（基板ステージの加速開始時刻）を制御してもよい。
【００４０】
図６（ｃ）に示すように、多数のリソグラフィ装置１０ａ乃至１０ｉが床ＤＦを構成する梁ＢＥの上に配置されている場合を考える。この場合、全てのリソグラフィ装置に関して伝達関数を取得すると、取得部２２や算出部２４において膨大なデータ（計測データなど）を扱わなければならない。また、全てのリソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御しようとすると、制御部２６による制御が著しく複雑になる。そこで、図６（ｃ）に示すように、リソグラフィ装置１０ａ乃至１０ｉを、同一の梁ＢＥの上に配置されたリソグラフィ装置のグループ（図６（ｃ）では、グループＧＡとグループＧＢ）に分類する。そして、取得部２２は、分類されたグループのそれぞれについて、グループに含まれるリソグラフィ装置のうち２つのリソグラフィ装置の組み合わせの全てを代表する１つの伝達関数を取得する。これにより、取得部２２や算出部２４において扱うデータの量を低減させ、制御部２６による制御が複雑化することを防止することができる。
【００４１】
図６（ｃ）を参照するに、例えば、グループＧＡ及びＧＢに含まれるリソグラフィ装置１０ａを稼働させる場合を考える。この場合、リソグラフィ装置１０ａの基板ステージをＸ方向に移動する際には、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｄ及び１０ｇ間の伝達関数を代表する１つの伝達関数に基づいて、リソグラフィ装置１０ａの基板ステージの移動を制御する。一方、リソグラフィ装置１０ａの基板ステージをＹ方向に移動する際には、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃ間の伝達関数を代表する１つの伝達関数に基づいて、リソグラフィ装置１０ａの基板ステージの移動を制御する。
【００４２】
また、制御部２６が各リソグラフィ装置の基板ステージの移動（加速開始時刻）を制御する方法としては、２つの方法が考えらえる。第１の方法は、各リソグラフィ装置の基板ステージの加速開始時刻をスケジューリングして制御する方法である。各リソグラフィ装置の基板ステージの移動プロファイルが予め決められている場合には、リソグラフィ装置間の伝達関数に基づいて、各リソグラフィ装置における振動の振動量を算出することが可能である。従って、各リソグラフィ装置の振動量が許容量以下となるように、各リソグラフィ装置の基板ステージの加速開始時刻（及び加速期間）をスケジューリングすることが可能である。
【００４３】
第２の方法は、各リソグラフィ装置の基板ステージを移動させてよいか（即ち、加速を開始してよいか）どうかを順次判定する方法である。例えば、図５を参照するに、リソグラフィ装置１０ａを稼働させる場合を考える。リソグラフィ装置１０ａは、稼働準備が完了すると、その旨を制御部２６に通知する。制御部２６は、かかる通知を受けて、取得部２２で取得された伝達関数に基づいて、リソグラフィ装置１０ａの基板ステージの移動に起因するリソグラフィ装置１０ａを除くリソグラフィ装置１０ｂ乃至１０ｉのそれぞれの振動量を算出部２４に算出させる。また、制御部２６は、取得部２２で取得された伝達関数に基づいて、リソグラフィ装置１０ａを除くリソグラフィ装置１０ｂ乃至１０ｉのそれぞれの基板ステージの移動に起因するリソグラフィ装置１０ａの振動量を算出部２４に算出させる。そして、制御部２６は、算出部２４に算出させた全ての振動量が許容量以下となる場合に、リソグラフィ装置１０ａの基板ステージの移動を許可する。なお、算出部２４に算出させた振動量のうち１つでも許容量を超える場合には、リソグラフィ装置１０ａを待機させ、全ての振動量が許容量以下となるタイミングでリソグラフィ装置１０ａの基板ステージの移動を許可する。この場合、制御部２６及び算出部２４は、リソグラフィシステム１に備えられた各リソグラフィ装置の基板ステージを移動させてよいかどうかを、各リソグラフィ装置について順次判定する判定部として機能する。
【００４４】
なお、本実施形態におけるリソグラフィ装置としては、具体的には、インプリント装置、荷電粒子線描画装置、投影露光装置などが考えられる。インプリント装置は、基板の上の樹脂（インプリント材）とモールド（型）とを接触させた状態で樹脂を硬化させ、硬化した樹脂からモールドを剥離することで基板の上に前記パターンを転写するリソグラフィ装置である。荷電粒子線描画装置は、基板に荷電粒子線で描画を行うことで基板の上にパターンを転写するリソグラフィ装置である。投影露光装置は、基板にレチクルのパターンを投影光学系によって投影することで基板の上にレチクルのパターンを転写するリソグラフィ装置である。
【００４５】
このように、本実施形態のリソグラフィシステム１は、転写精度の低下の抑制、及び、稼働率の向上に有利である。従って、リソグラフィシステム１は、高いスループットで経済性よく高品位な半導体デバイス、ＬＣＤ素子、撮像素子（ＣＣＤなど）、薄膜磁気ヘッドなどの物品を提供することができる。物品としてのデバイスの製造方法は、リソグラフィシステム１を用いて基板（ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板等）にパターンを転写するステップを含む。かかる製造方法は、パターンが転写された基板を加工（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）するステップを更に含む。
【００４６】
本実施形態では、全ての期間でリソグラフィ装置の振動が許容量以下となるように、各リソグラフィ装置の基板ステージ（の移動）を制御するリソグラフィシステムについて説明したが、必ずしも全ての期間でなくてもよい。例えば、インプリント装置では、樹脂とモールドとを接触させている期間や位置合わせを行っている期間を制御対象期間として、その期間は振動が許容量以下となるように制御してもよい。
【００４７】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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