(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
単層タッチスクリーンであって、
透明カバーガラスと、
前記透明カバーガラスの一面に配置され、不可視領域に位置する複数本の凹溝を有する透明エンボス接着剤層と、
前記透明エンボス接着剤層に埋め込まれ、可視領域に位置する金属メッシュ層と、
前記複数本の凹溝の表面に堆積する筋目加工層と、
前記筋目加工層に配置されたインク層と、を含むことを特徴とする、単層タッチスクリーン。
【請求項２】
前記金属メッシュ層の材料が、金、銀、銅、アルミニウム及び亜鉛の１つまたはこれらの金属のうち少なくとも２つを含む合金であることを特徴とする、請求項１に記載の単層タッチスクリーン。
【請求項３】
前記金属メッシュ層が、幅０．２μｍ〜５μｍ、厚さ１μｍ〜１０μｍ、隣接する２本の間の距離が５０μｍ〜５００μｍの金属グリッド線で構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の単層タッチスクリーン。
【請求項４】
前記凹溝が、深さが１μｍ〜５μｍであり、幅が１μｍ〜５μｍであり、隣接する２本の間の距離が５０μｍ〜５００μｍであり、前記複数本の凹溝が互いに平行または交差することを特徴とする、請求項１に記載の単層タッチスクリーン。
【請求項５】
前記筋目加工層の厚さが、０．１ｎｍ〜３０ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載の単層タッチスクリーン。
【請求項６】
前記筋目加工層の材料が、スズ、銀、アルミニウムの１つまたはこれらの金属のうちいずれか２つの合金であることを特徴とする、請求項５に記載の単層タッチスクリーン。
【請求項７】
前記インク層の材料がエポキシ樹脂インクまたはＰＭＭＡインクであり、前記インク層の厚さが５μｍ〜５０μｍであることを特徴とする、請求項１に記載の単層タッチスクリーン。
【請求項８】
単層タッチスクリーンの製造方法であって、
透明カバーガラスを提供し、前記透明カバーガラスの一面に表面処理を行うステップと、
前記透明カバーガラスの表面処理が行われた面にエンボス接着剤を塗布して、透明エンボス接着剤層を形成するステップと、
前記透明エンボス接着剤層に、筋目加工層を堆積させるための不可視領域に位置する複数本の凹溝をエンボスして形成するステップと、
前記透明エンボス接着剤層上に、可視領域に位置する金属メッシュ層を形成するステップと、
前記金属メッシュ層を剥離性接着剤でカバーし、次に非導電性真空メタライゼーションを用いて前記剥離性接着剤及び前記複数本の凹溝に一層の非導電性金属層を堆積させ、最後に前記剥離性接着剤を除去して、前記複数本の凹溝の表面に堆積した非導電性金属層が筋目加工層となるステップと、
前記筋目加工層上にインクを塗布して、インク層を形成するステップと、を含むことを特徴とする、単層タッチスクリーンの製造方法。
【請求項９】
金属メッシュ層を形成する前記ステップが、
前記透明エンボス接着剤層に、金属メッシュ層を埋め込むための可視領域に位置するメッシュ溝をエンボスして形成し、前記複数本の凹溝にフォトレジストを充填し、導電性材料を前記メッシュ溝に充填させ、次に前記フォトレジストを除去し、前記メッシュ溝に充填された導電性材料が前記透明エンボス接着剤層に埋め込まれる金属メッシュ層を形成することを特徴とする、請求項８に記載の単層タッチスクリーンの製造方法。
【請求項１０】
前記複数本の凹溝及び前記メッシュ溝は、
前記複数本の凹溝及び前記メッシュ溝に対応するパターンを有するテンプレートで前記透明エンボス接着剤層にそれぞれ不可視領域に位置する前記複数本の凹溝及び可視領域に位置する前記メッシュ溝をエンボスして形成するという操作で得られることを特徴とする、請求項９に記載の単層タッチスクリーンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光電分野に関し、特に単層タッチスクリーン及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチスクリーンは、接触の入力シグナルを受信可能な誘導装置である。タッチスクリーンは情報相互作用に斬新な様相をもたらし、注目されている新規な情報相互作用装置である。タッチスクリーン技術の発展は、国内外の情報メディア業界の注目を集め、タッチスクリーン技術は、既に光電分野の新興先端技術産業になっている。
【０００３】
タッチスクリーンの各領域が透光性を有するかどうかによって、インク層が塗布されたタッチスクリーンの領域は、不可視領域と呼ばれ、インク層が塗布されないその他の領域は、可視領域と呼ばれうる。タッチスクリーンの動作誘導領域は、通常可視領域に設けられている。
【０００４】
現在、ＩＴＯ層は、タッチスクリーンモジュールの不可欠な構成要素である。タッチスクリーンの製造技術が急速に発展しているが、例えば投影型静電容量スクリーンの製造において、ＩＴＯ層の基本的な製造プロセスは、近年、あまり変化していない。ＩＴＯの塗布、ＩＴＯのパターン形成は、常に不可避である。従来のＯＧＳ（Ｏｎｅ  ｇｌａｓｓ  ｓｏｌｕｔｉｏｎ）技術は、ガラスにＩＴＯをめっきし、めっきされたＩＴＯをエッチングすることで必要なＸ、Ｙ方向のセンサーパターンを得て、最後にＭｏＡｌＭｏまたはＩＴＯでブリッジを構築するというプロセスを採用している。
【０００５】
科学技術の発展に伴い、タッチスクリーンメーカは、常にできるだけ人々の注目を集めようとし、筋目加工効果を有するタッチスクリーンは人々に高級かつ金属的な質感効果を与え、製品がより観賞性を持つこととなる。
【０００６】
現在、筋目加工効果を有するタッチスクリーンは、主に筋目加工効果のあるフィルムを結着剤または接着剤によりパネルの一面に貼り付けるプロセスを採用して、筋目加工効果を有するタッチスクリーンを得る。しかし、通常のタッチスクリーンに対して、フィルムと結着剤の追加層を用いて、それによってタッチスクリーンの厚さが増加する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このため、筋目加工線効果を有する、より薄い単層タッチスクリーンを提供することが必要となる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
単層タッチスクリーンは、
【０００９】
透明カバーガラスと、
【００１０】
前記透明カバーガラスの一表面に塗布され、不可視領域に位置する複数本の凹溝を有する透明エンボス接着剤層と、
【００１１】
前記透明エンボス接着剤層に埋め込まれ、可視領域に位置する金属メッシュ層と、
【００１２】
前記複数本の凹溝の表面に堆積される筋目加工層と、
【００１３】
前記筋目加工層に塗布されたインク層と、を含む。
【００１４】
一つの実施形態において、金属メッシュ層の材料は、金、銀、銅、アルミニウム及び亜鉛の１つまたはそれらの金属のうち少なくとも２つを含む合金である。
【００１５】
一つの実施形態において、前記金属メッシュ層は、幅０．２μｍ〜５μｍ、厚さ１μｍ〜１０μｍ、隣接する２本の間の距離が５０μｍ〜５００μｍの金属グリッド線で構成されている。
【００１６】
一つの実施形態において、前記凹溝は、深さが１μｍ〜５μｍであり、幅が１μｍ〜５μｍであり、隣接する２本の間の距離が５０μｍ〜５００μｍであり、複数本が互いに平行または交差する。
【００１７】
一つの実施形態において、前記筋目加工層の厚さは、０．１ｎｍ〜３０ｎｍである。
【００１８】
一つの実施形態において、前記筋目加工層の材料は、スズ、銀、アルミニウムの１つまたはこれらの金属のうちいずれか２つの合金である。
【００１９】
一つの実施形態において、前記インク層の材料は、エポキシ樹脂インクまたはＰＭＭＡインクであり、前記インク層の厚さが５μｍ〜５０μｍである。
【００２０】
単層タッチスクリーンの製造方法は、
【００２１】
透明カバーガラスを提供し、前記透明カバーガラスの一面に表面処理を行うステップと、
【００２２】
前記透明カバーガラスの表面処理が行われた面にエンボス接着剤を塗布して、透明エンボス接着剤層を形成するステップと、
【００２３】
前記透明エンボス接着剤層に、筋目加工層を堆積させるための、不可視領域に位置する複数本の凹溝をエンボスするステップと、
【００２４】
前記透明エンボス接着剤層に、可視領域に位置する金属メッシュ層を形成するステップと、
【００２５】
前記金属メッシュ層を剥離性接着剤でカバーし、次に非導電性真空メタライゼーションを用いることにより前記剥離性接着剤及び前記複数本の凹溝上に一層の非導電性金属層を堆積させ、最後に前記剥離性接着剤を除去して、前記複数本の凹溝の表面に堆積した非導電性金属層が筋目加工層となるステップと、
【００２６】
前記筋目加工層上にインクを塗布して、インク層を形成するステップと、を含む。
【００２７】
一つの実施形態において、金属メッシュ層を形成する前記ステップは、
【００２８】
前記透明エンボス接着剤層に、金属メッシュ層を埋め込むための可視領域に位置するメッシュ溝をエンボスし、前記複数本の凹溝にフォトレジストを充填し、導電性材料を前記メッシュ溝に充填させ、次にフォトレジストを除去し、前記メッシュ溝に充填された導電性材料が前記透明エンボス接着剤層に埋め込まれる金属メッシュ層を形成する。
【００２９】
一つの実施形態において、前記複数本の凹溝及び前記メッシュ溝は、以下の操作によって得られる。
【００３０】
前記複数本の凹溝及び前記メッシュ溝に対応するパターンを有するテンプレートで前記透明エンボス接着剤層をエンボスして前記透明エンボス接着剤層上に前記複数の凹溝及び前記メッシュ溝を形成し、前記複数の凹溝は非可視領域に位置し、前記メッシュ溝は可視領域に位置する。
【００３１】
このような単層タッチスクリーンの筋目加工層が直接透明エンボス接着剤層の複数本の凹溝の表面に堆積し、従来の筋目加工線効果のあるフィルムが結着剤または接着剤によりパネルの一面に貼り付けられることによって得られる筋目加工線効果を有するタッチスクリーンに比較して、フィルムの追加層及び結着剤を用いることがないので、そのような単層タッチスクリーンは厚さが比較的に薄く且つ筋目加工線効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】一つの実施形態における単層タッチスクリーンの部分分解模式図である。
【図２】図１に示す単層タッチスクリーンの断面図である。
【図３】図２に示す単層タッチスクリーンの部分拡大図である。
【図４】一つの実施形態における交差ブリッジ構造の単層タッチスクリーンの金属メッシュ層及び金属グリッド線を示す模式図である。
【図５】一つの実施形態ににおける単層マルチスポット構造の単層タッチスクリーンの金属メッシュ層及び金属グリッド線を示す模式図である。
【図６】図１に示す単層タッチスクリーンの製造方法のフローチャートである。
【図７】図７ａ〜ｇは、図１に示す単層タッチスクリーンの製造プロセスにおける様々な状態の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明の上記目的、特徴、利点がより明らかにするために、以下、添付した図面を参照して本発明の具体的な実施形態を詳細に説明する。以下の説明においては、本発明を完全に理解するように多くの具体的な詳細を述べる。しかし、本発明は、ここで説明するものと異なる多くの他の形態で実施されることができるため、当業者であれば、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、同等の改良を行うことができ、したがって、以下に開示される具体的な実施形態は本発明を限定することをいとされるものではない。
【００３４】
図１に示すように、一つの実施形態における単層タッチスクリーン１００は、透明カバーガラス１０、透明エンボス接着剤層２０、金属メッシュ層３０、筋目加工層４０および筋目加工層４０に塗布されたインク層５０を含む。
【００３５】
図２を参照すると、透明エンボス接着剤層２０は、透明カバーガラス１０の一面に塗布され、金属メッシュ層３０は、透明エンボス接着剤層２０に埋め込まれ、且つ可視領域に位置する。
【００３６】
図３を参照すると、透明エンボス接着剤層２０上に複数本の凹溝２２が形成され、複数本の凹溝２２は、不可視領域に位置し、筋目加工層４０は、複数本の凹溝２２の表面に堆積する。
【００３７】
凹溝２２は、深さが１μｍ〜５μｍであり、幅が１μｍ〜５μｍであり、隣接する溝２２の間の距離が５０μｍ〜５００μｍであり、複数本の凹溝２２が互いに平行または交差する。
【００３８】
透明カバーガラス１０は、アルミノケイ酸塩ガラスまたはソーダ石灰ガラスのシートであってよく、透明カバーガラス１０の厚さが０．３ｍｍ〜１．２ｍｍであってよい。
【００３９】
一つの好ましい実施形態において、透明カバーガラス１０の厚さは０．５ｍｍ〜０．７ｍｍである。
【００４０】
本実施形態において、透明エンボス接着剤層２０の材料は、ＵＶ硬化型接着剤であって、その中の一つの実施形態において透明エンボス接着剤層２０の材料は、無溶剤ＵＶ硬化型アクリル樹脂である。他の実施形態において、当該ＵＶ硬化型接着剤は、他の成分であってもよいが、一般的にプレポリマー、モノマー、光開始剤および補助剤を含み、各成分のモル比が３０〜５０％：４０〜６０％：１〜６％：０．２〜１％である。そのうち、プレポリマーは、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレート及びアクリル樹脂などから選択され、モノマーは、単官能、二官能、三官能及び多官能から選択され、光開始剤は、ベンゾフェノン、デオキシベンゾインなどから選択され、補助剤は任意であり、一般的に結着剤として用いられ、一般的に用いられる補助剤はハイドロキノン、Ｐ−メトキシフェノール、Ｐ−ベンゾキノン及び２，６−ジ−ターシャリー−ブチルクレゾールなどを含む。
【００４１】
透明エンボス接着剤層２０の厚さは、１μｍ〜１０μｍであってよい。
【００４２】
一つの好ましい実施形態において、透明エンボス接着剤層２０の厚さは、２μｍ〜５μｍである。
【００４３】
金属メッシュ層３０の材料は、金、銀、銅、アルミニウム及び亜鉛の１つまたはこれらの金属のうち少なくとも２つを含む合金であってよい。従来のタッチスクリーンと比較して、ＩＴＯは金属メッシュ層に置き換えられ、光透過率及び導電性を確保するとともに、材料コストが低減され、そのため、コストを削減させることができる。本実施形態において、金属メッシュ層３０の材料は、銀であるため、さらに導電性ユニットの導電性を確保する。
【００４４】
金属メッシュ層３０は、金属グリッド線で構成され、視覚的な透明性を満たすために、金属グリッド線は、幅が０．２μｍ〜５μｍであってよく、厚さが１μｍ〜１０μｍであってよく、隣接する２本の間隔が５０μｍ〜５００μｍであってよい。
【００４５】
一つの好ましい実施形態において、金属グリッド線は、幅が０．５μｍ〜２μｍであってよく、厚さが２μｍ〜５μｍであってよい。
【００４６】
金属メッシュ層３０が透明エンボス接着剤層２０の内部に埋め込まれ、透明エンボス接着剤層２０及び金属メッシュ層３０は、共に透明カバーガラス１０の一面に敷設されている。
【００４７】
図４及び図５は、本発明の２つの実施例における単層タッチスクリーンの金属メッシュ層３０及び金属グリッド線を示す模式図である。図４と図５を参照してわかるように、金属メッシュ層３０は、金属グリッド線で構成され、グリッド線を構成する基本的なグリッドは正方形、菱形、正六角形などのような正多角形であり、またはランダムグリッドパターンであってよい。金属メッシュ層３０は、第１の導電群３２及び第２の導電群３４を含み、第１の導電群３２及び第２の導電群３４がそれぞれ誘導電極及び駆動電極を示す。図４を参照すると、Ｘ方向の第１の導電群３２は、誘導電極であり、Ｙ方向の第２の導電群３４は、駆動電極である。図５を参照すると、右側の第１の導電群３２は、誘導電極であり、左側の第２の導電群３４は、駆動電極である。第１の導電群３２及び第２の導電群３４のグリッド線の密度及び幅は、同じであってよく、異なってもよい。
【００４８】
筋目加工層４０の材料は、スズ、銀及びアルミニウムの一つまたはこれらの金属のうちいずれか二つの合金であってよく、筋目加工層４０の厚さが０．１ｎｍ〜３０ｎｍである。一つの好ましい実施形態において、筋目加工層４０の厚さは、１５ｎｍ〜２５ｎｍである。本実施形態において、筋目加工層４０の材料は、スズである。
【００４９】
インク層５０は、遮蔽として機能し、その材料がエポキシ樹脂インクまたはＰＭＭＡインクであってよく、熱硬化型またはＵＶ硬化型であってよい。
【００５０】
インク層５０の厚さは、５μｍ〜５０μｍであり、好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
【００５１】
このような単層タッチスクリーン１００の筋目加工層４０が直接透明エンボス接着剤層２０の複数本の凹溝２２の表面に堆積し、筋目加工効果のあるフィルムを結着剤によりパネルの一面に貼り付けることによって得られる筋目加工効果を有する従来のタッチスクリーンと比較して、フィルムの追加層及び結着剤を用いることがないので、そのような単相タッチスクリーンは厚さが比較的に薄く且つ筋目加工効果を有する。
【００５２】
また、金属メッシュ層３０を用いた単層タッチスクリーン１００は、従来の大型タッチスクリーンがＩＴＯの大きなシート抵抗により引き起こされる遅い応答などの問題を解決することができる。同時に、金属メッシュ層３０が透明エンボス接着剤層２０に埋め込まれるため、金属メッシュ層３０のスクラッチを避けることができる。
【００５３】
図６及び図７ａ〜図７ｇに示す単層タッチスクリーンの製造方法は、以下のステップを含む。
【００５４】
Ｓ１０、透明カバーガラス１０を提供し、透明カバーガラス１０の一面に対して表面処理を行う。
【００５５】
図７ａに示すように透明カバーガラス１０を提供し、透明カバーガラス１０の一面に対して表面処理を行って、図７ｂに示すように透明カバーガラス１０を得る。
【００５６】
透明カバーガラス１０は、アルミノケイ酸塩ガラスまたはソーダ石灰ガラスのシートであってよく、透明カバーガラス１０の厚さが０．３ｍｍ〜１．２ｍｍであってよい。
【００５７】
一つの好ましい実施形態において、透明カバーガラス１０の厚さが０．５ｍｍ〜０．７ｍｍである。
【００５８】
本実施形態において、表面処理プロセスは、プラズマ洗浄装置を用いて透明カバーガラス１０の一面に対してプラズマ処理を行い、エンボス接着剤とガラスとの付着力を増加させる。本実施形態において、透明カバーガラス１０は、厚さ０．７ｍｍのアルミノケイ酸塩強化ガラスである。
【００５９】
Ｓ２０、透明カバーガラス１０の表面処理が行われた表面にエンボス接着剤を塗布して、透明エンボス接着剤層２０を形成する。
【００６０】
透明カバーガラス１０の表面処理が行われた表面にエンボス接着剤を塗布して、図７ｃに示すように透明カバーガラス１０及びエンボス接着剤層２０を得る。
【００６１】
当該エンボス接着剤は、ＵＶ硬化型接着剤であり、その中の一つの実施形態において当該エンボス接着剤は無溶剤ＵＶ硬化型アクリル樹脂である。他の実施形態において、当該ＵＶ硬化型接着剤は、他の成分であってよいが、一般的にプレポリマー、モノマー、光開始剤および補助剤を含み、各成分のモル比が３０〜５０％：４０〜６０％：１〜６％：０．２〜１％である。そのうち、プレポリマーは、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレート及びアクリル樹脂などから選択され、モノマーは、単官能、二官能、三官能及び多官能から選択され、光開始剤は、ベンゾフェノン、デオキシベンゾインなどから選択され、補助剤は任意であり、一般的に結着剤として用いられ、一般的に用いられる補助剤がハイドロキノン、Ｐ−メトキシフェノール、Ｐ−ベンゾキノン及び２，６−ジ−ターシャリー−ブチルクレゾールなどを含む。透明エンボス接着剤層２０の厚さは、１μｍ〜１０μｍである。
【００６２】
一つの好ましい実施形態において、透明エンボス接着剤層２０の厚さは、２μｍ〜５μｍである。
【００６３】
本実施形態において、透明カバーガラス１０の表面処理が行われた表面に厚さ５μｍのＵＶ硬化型接着剤を塗布して、透明エンボス接着剤層２０を形成する。
【００６４】
Ｓ３０、透明エンボス接着剤層に、筋目加工層４０を堆積させるための不可視領域に位置する複数本の凹溝２２をエンボスする。
【００６５】
図７ｄに示すように、透明エンボス接着剤層２０に複数本の凹溝２２をエンボスする。
【００６６】
凹溝２２は、深さが１μｍ〜５μｍであり、幅が１μｍ〜５μｍであり、隣接する２本の間の距離が５０μｍ〜５００μｍであり、複数本が互いに平行または交差する。凹溝２２は、エンボスにより形成されるため、エンボスモールドの調整により上記の深さ、幅及び間隔を達成することができる。
【００６７】
Ｓ４０、透明エンボス接着剤層２０上に、可視領域に位置する金属メッシュ層３０を形成する。
【００６８】
金属メッシュ層３０の材料は、金、銀、銅、アルミニウム及び亜鉛のうちの１つまたはこれらの金属のうち少なくとも２つを含む合金であってよい。従来のタッチスクリーンと比較して、ＩＴＯは金属メッシュ層に置き換えられ、光透過率及び導電性を確保するとともに、材料コストが低減されるため、コストを削減させることができる。本実施形態において、金属メッシュ層３０の材料は、銀であり、さらに導電ユニットの導電性を確保する。
【００６９】
金属メッシュ層３０は、金属グリッド線で構成され、視覚的な透明性を満たすために、金属グリッド線は、幅が０．２μｍ〜５μｍであってよく、厚さが１μｍ〜１０μｍであってよく、隣接する２本の間隔が５０μｍ〜５００μｍであってよい。
【００７０】
一つの好ましい実施形態において、金属グリッド線は、幅が０．５μｍ〜２μｍであり、厚さが２μｍ〜５μｍである。
【００７１】
金属メッシュ層３０が透明エンボス接着剤層２０の内部に埋め込まれるため、透明エンボス接着剤層２０と金属メッシュ層３０は、共に透明カバーガラス１０の一面に敷設されている。
【００７２】
図４及び図５は、本発明の２つの実施例における単層タッチスクリーンの金属メッシュ層３０及び金属グリッド線を示す模式図である。図４及び図５を参照してわかるように、金属メッシュ層３０は、金属グリッド線で構成され、グリッド線を構成する基本的なグリッドが正方形、菱形、正六角形などのような正多角形、またはランダムグリッドパターンであってよい。金属メッシュ層３０は、第１の導電群３２及び第２の導電群３４を含み、第１の導電群３２及び第２の導電群３４がそれぞれ誘導電極と駆動電極を示す。図４を参照すると、Ｘ方向の第１の導電群３２は、誘導電極であり、Ｙ方向の第２の導電群３４は、駆動電極である。図５を参照すると、右側の第１の導電群３２は、誘導電極であり、左側の第２の導電群３４は、駆動電極である。第１の導電群３２及び第２の導電群３４のグリッド線の密度及び幅は、同じであってよく、異なってもよい。
【００７３】
図７ｄ及び図７ｅを参照すると、Ｓ４０において、金属メッシュ層３０を形成するステップは、
【００７４】
透明エンボス接着剤層２０に、金属メッシュ層を埋め込むための可視領域に位置するメッシュ溝３２をエンボスして形成し、複数本の凹溝２２にフォトレジストを充填し、導電性材料をメッシュ溝３２に充填させ、次にフォトレジストを除去し、メッシュ溝３２に充填された導電性材料が透明エンボス接着剤層２０に埋め込まれる金属メッシュ層３０を形成する。
【００７５】
導電性材料は、金、銀、銅、アルミニウム及び亜鉛の１つまたはこれらの金属のうち少なくとも２つを含む合金であってよい。本実施形態において、金属メッシュ層３０の材料が銀であるため、さらに導電性ユニットの導電性を確保する。
【００７６】
フォトレジストは、ＳＵ８フォトレジストであってよい。フォトレジストは、スクリーン印刷の方式で複数本の凹溝２２に充填される。
【００７７】
図７ｄを参照すると、本実施形態のＳ３０及びＳ４０において、複数本の凹溝２２及びメッシュ溝３２は、以下の操作によって得られるものであってよい。
【００７８】
複数本の凹溝２２及びメッシュ溝３２に対応するパターンを有するテンプレート２００で透明エンボス接着剤層２０をエンボスし、複数の凹溝２２は負可視領域に位置し、メッシュ溝３２は可視領域に位置する。
【００７９】
単一のテンプレート２００で複数本の凹溝２２及びメッシュ溝３２をともにエンボスするため、その製造プロセスが簡単で、効率を向上し且つテンプレート２００のコストを削減させることができる。
【００８０】
Ｓ５０、金属メッシュ層３０を剥離性接着剤でカバーし、次に非導電性真空メタライゼーションを用いて剥離性接着剤及び複数本の凹溝２２上に一層の非導電性金属層を堆積させ、最後に剥離性接着剤を除去して、複数本の凹溝２２の表面に堆積した非導電性金属層が筋目加工層４０となる。
【００８１】
筋目加工層４０の材料は、スズ、銀及びアルミニウムのうちの１つまたはこれらの金属のうちいずれか２つの合金であってよく、筋目加工層４０の厚さは、０．１ｎｍ〜３０ｎｍである。１つの好ましい実施形態において、筋目加工層４０の厚さは、１５ｎｍ〜２５ｎｍである。本実施形態において、筋目加工層４０の材料は、スズである。
【００８２】
銀は、全ての金属のうち銀白効果及び導電特性が最も良い金属であるが、その厚さが５ｎｍ以下の場合、導電性でない。これは、金属がナノレベルである場合、Ａｇを例として、塗布層の厚さが５ｎｍ未満であれば、Ａｇ塗布層内のナノ粒子が分離し、連続的に分布せず、互いに接続して導通しないが、色を持つためである。同様に、厚さ３０ｎｍ以下のスズは、連続性がかなり悪いが、銀白色の金属光沢及び大きな電気抵抗が得られる。
【００８３】
剥離性接着剤は、ポリビニルブチラールＵＶ剥離性青色接着剤であってよい。
【００８４】
図７ｆを参照すると、非導電性真空メタライゼーション（Ｎｏｎ  ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  ｖａｃｕｕｍ  ｍｅｔａｌｉｚａｔｉｏｎ、ＮＣＶＭ技術と略称される）により筋目加工層４０を複数本の凹溝２２に堆積させ、筋目加工層４０が堆積した領域が不可視領域である。
【００８５】
Ｓ６０、筋目加工層４０にインクを塗布して、インク層５０を形成する。
【００８６】
図７ｇを参照すると、硬化後のインクは、インク層５０を形成する。
【００８７】
インク層５０は、遮蔽として機能し、インク層５０の材料がエポキシ樹脂インクまたはＰＭＭＡインクであってよく、熱硬化型またはＵＶ硬化型であってよい。
【００８８】
インク層５０の厚さは、５μｍ〜５０μｍであり、好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
【００８９】
このような単層タッチスクリーン１００の製造方法で製造された単層タッチスクリーン１００は、金属グリッド線構造を用いるため、エンボス技術により製造されることができ、ＩＴＯフィルムを導電層として用いる従来技術に比べ、金属グリッド線構造が１つのステップで形成可能であり、技術が簡単で、スパッタリング、蒸着などの高価な装置を必要とせず、歩留り率が高く、大面積、大量生産に適する。同時に、エッチング技術を用いる必要がないため、導電層材料の浪費が生じない。
【００９０】
以上述べた実施形態が本発明のいくつかの実施方式を具体的かつ詳細的に表したのみであり、本発明の特許の範囲を限定するものとして理解すべきではない。本発明分野の一般的な技術者にとって、本発明の主旨から逸脱しない限り、様々な改良及び変形を行うことができ、これらは全て本発明の保護の範囲内に属することに注意すべきである。故に、本発明の特許の保護範囲は、特許請求の範囲に準ずる。
【符号の説明】
【００９１】
１０  透明カバーガラス
２０  透明エンボス接着剤層
２２  凹溝
３０  金属メッシュ層
３２  第１の導電群
３４  第２の導電群
４０  筋目加工層
５０  インク層
１００  単層タッチスクリーン
２００  テンプレート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図６】
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