(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、前記支持体の上に交互に形成された有機層および無機層と、前記支持体の有機層および無機層の形成面と逆面に貼着される粘着層と、この粘着層に貼着される、前記支持体と異なる熱的特性を有する保護材料とを有し、かつ、
前記粘着層と支持体との粘着力が０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍで、前記粘着層と保護材料との粘着力が５〜５０Ｎ／２５ｍｍであることを特徴とする機能性フィルム。
【請求項２】
前記粘着層の厚さが１５〜２５０μｍである請求項１に記載の機能性フィルム。
【請求項３】
前記支持体は、リタデーション値が３００ｎｍ以下である請求項１または２に記載の機能性フィルム。
【請求項４】
前記支持体は、ガラス転移温度が１３０℃以上で、熱収縮率が０．５％以下で、厚さが２０〜１２０μｍであり、
前記保護材料は、ガラス転移温度が６０℃以上で、熱収縮率が０．５％超２％以下で、厚さが１２〜１００μｍである請求項１〜３のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
【請求項５】
０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍの粘着力で支持体と粘着層とが貼着され、かつ、前記粘着層の支持体と逆面に、５〜５０Ｎ／２５ｍｍの粘着力で、前記支持体と熱的特性が異なる保護材料が貼着されてなる、長尺な積層体を作製し、
この積層体を長手方向に搬送しつつ、前記支持体の粘着層と逆面に、塗布法による有機層および気相成膜法による無機層を、交互に形成することを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
【請求項６】
所定数の前記有機層および無機層を形成した後に、前記支持体から、前記粘着層および保護材料を剥離する請求項５に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記粘着層の厚さが１５〜２５０μｍである請求項５または６に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記支持体は、リタデーション値が３００ｎｍ以下である請求項５〜７のいずれか１項に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記支持体は、ガラス転移温度が１３０℃以上で、熱収縮率が０．５％以下で、厚さが２０〜１２０μｍであり、
前記保護材料は、ガラス転移温度が６０℃以上で、熱収縮率が０．５％超２％以下で、厚さが１２〜１００μｍである請求項５〜８のいずれか１項に記載の機能性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機層と無機層との積層構造を有する機能性フィルム、および、この機能性フィルムの製造方法に関する。詳しくは、無機層等の損傷が無い機能性フィルム、および、この機能性フィルムを低コストで製造できる機能性フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学素子、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示装置、各種の半導体装置、太陽電池等の各種装置において防湿性が必要な部位や部品、食品や電子部品等を包装する包装材料などガスバリアフィルムが利用されている。
ガスバリアフィルムは、一般的に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等のプラスチックフィルムを支持体（基板）として、その上に、ガスバリア性を発現するガスバリア層（ガスバリア膜）を形成してなる構成を有する。また、ガスバリアフィルムに用いられるガスバリア層としては、例えば、窒化ケイ素、酸化珪素、酸化アルミニウム等の各種の無機化合物からなる層が知られている。
【０００３】
このようなガスバリアフィルムにおいて、より高いガスバリア性能が得られる構成として、支持体の上に、有機化合物からなる有機層（有機化合物層）と、無機化合物からなる無機層（無機化合物層）とを交互に積層した積層構造を有する、有機／無機積層型のガスバリアフィルム（以下、積層型のガスバリアフィルムとも言う）が知られている。
積層型のガスバリアフィルムにおいても、主にガスバリア性を発現するのは無機層である。積層型のガスバリアフィルムでは、下地となる有機層の上に無機層を形成することにより、有機層によって無機層の形成面を平滑化して、良好な平滑性を有する有機層の上に無機層を形成することにより、ヒビや割れ等のない均一な無機層を形成して、優れたガスバリア性能を得ている。また、この有機層と無機層との積層構造を、複数、繰り返し有することにより、より優れたガスバリア性能を得ることができる。
【０００４】
このような積層型のガスバリアフィルムの製造方法として、いわゆるロール・トゥ・ロール（以下、ＲｔｏＲとも言う）が知られている。ＲｔｏＲとは、長尺な支持体をロール状に巻回してなる支持体ロールから支持体を送り出し、支持体（被成膜材料）を長手方向に搬送しつつ、支持体に有機層や無機層を形成し、有機層や無機層を形成した支持体をロール状に巻回する製造方法である。
ＲｔｏＲを利用することにより、長尺な支持体を搬送しつつ、連続的に有機層や無機層を形成できるので、非常に高い生産性で積層型のガスバリアフィルムを製造できる。
【０００５】
ところで、前述のように、積層型のガスバリアフィルムにおいて、主にガスバリア性を発現するのは、無機層である。従って、無機層が損傷すると、ガスバリア性能が大幅に低下する。
また、積層型のガスバリアフィルムにおいて、有機層は、無機層を適正に形成するための下地層として作用する。従って、有機層が損傷すると、適正な無機層が形成できず、同様に、ガスバリア性能が大幅に低下する。
【０００６】
一方で、積層型のガスバリアフィルムでは、光学特性、重量、コスト等を考慮すると、支持体は薄い方が有利である。
しかしながら、薄い支持体は、いわゆるコシが弱く、ＲｔｏＲによる搬送中に、折れ曲がってしまう等の不都合が生じ易い。有機層や無機層を形成した支持体が、搬送中に折れ曲がると、先に形成した有機層や無機層を損傷してしまう。
【０００７】
また、ＲｔｏＲでは、搬送ローラ対やパスローラ（ガイドローラ）等が有機層や無機層に接触することが避けられない場合がある。しかしながら、このローラの接触によって、有機層や無機層が損傷してしまう場合が有る。
このような不都合を解消するために、ＲｔｏＲを利用する積層型のガスバリアフィルムの製造では、端部の径が大きい、いわゆる段付きローラを用いて、支持体の端部のみを挟持搬送する、非接触搬送を利用することが知られている。
しかしながら、支持体のコシが弱い場合には、このような非接触搬送によって適正な搬送を行うのは、益々、困難になる。
【０００８】
このような不都合を解消するために、特許文献１や特許文献２には、裏面（有機層や無機層の非形成面）に保護材料（ラミネートフィルム）を貼着してなる支持体を用いて、ＲｔｏＲによって有機層や無機層を形成するガスバリアフィルム（機能性フィルム）の製造方法が記載されている。
この方法によれば、支持体の裏面に保護材料を貼着することにより、支持体（支持体を含む積層体）の自己支持性を確保することができ、薄い支持体を用いた場合や、非接触搬送を利用する場合でも、支持体の折れ曲がりを生じることなく、ＲｔｏＲによって適正に有機層や無機層を形成できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１１−１４９０５７号公報
【特許文献２】特開２０１１−１６７９６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、近年では、（有機／無機）積層型のガスバリアフィルムを、携帯電話やディスプレイなどに利用される、トップエミッション方式の有機ＥＬデバイス等に利用することが考えられている。
このような用途に利用される積層型のガスバリアフィルムでは、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）フィルムなど、低レタデーション値や高い光透過性を有する光学特性に優れた支持体を用いる必要が有る。また、ガスバリアフィルムの光学特性という点では、支持体は、薄い方が好ましい。
【００１１】
しかしながら、本発明者らの検討によれば、このようなＣＯＣフィルム等を支持体として用いる積層型のガスバリアフィルムでは、前述の保護材料を用いたＲｔｏＲによる製造を、安価かつ適正に行うことができない。
【００１２】
すなわち、保護材料を利用する積層型のガスバリアフィルムの製造において、保護材料は、製品の一部とはならず、最終的には、剥離されて廃棄される。そのため、保護材料としては、安価なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等が用いられる。
【００１３】
一方、積層型のガスバリアフィルムでは、通常の無機層の形成にはプラズマＣＶＤ等の気相成膜法（気相成膜法）が利用される。また、有機層の形成には、有機層となる有機材料を含有する塗料を、塗布、乾燥して硬化する、塗布法が利用されている。
すなわち、積層型のガスバリアフィルムの製造においては、支持体および保護材料は、無機層の形成では、プラズマＣＶＤ等の気相成膜法による熱に曝され、また、有機層の形成では、塗料の乾燥の際に熱に曝される。さらに、有機層の形成では、塗膜を硬化（架橋）する際に加熱を行う場合も有る。
【００１４】
ところが、ＣＯＣフィルムのような光学特性に優れたフィルムと、ＰＥＴフィルムとでは、熱膨張／熱収縮や、Ｔｇなどの熱的特性が、全く異なる。そのため、加熱を伴うプロセスにおいては、両フィルムは異なる変形を示す。
ＲｔｏＲによる積層型のガスバリアフィルムの製造において、このように支持体と保護材料とで熱的特性が異なるフィルムを用いた場合には、搬送によるストレスや搬送経路の変更による屈曲等も有るため、加熱を伴うプロセスにおける両フィルムの異なる変形によって、支持体と保護材料の剥離や、支持体のシワや折れ等が生じ、これに起因して、無機層が損傷してしまう。
【００１５】
この問題は、支持体と保護材料とで、同じ材料からなるものを用いれば生じない。
しかしながら、ＣＯＣフィルムのような光学特性に優れたフィルムは、ＰＥＴフィルム等に比して、非常に高価である。また、前述のように、保護材料は、最終的には廃棄される材料である。そのため、支持体としてとＣＯＣフィルムのような光学特性に優れたフィルムを用いた場合には、同じ材料から保護材料を用いると、積層型のガスバリアフィルムのコストが、非常に高くなってしまう。
【００１６】
本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、有機層と無機層とを交互に形成してなる有機／無機積層型の機能性フィルムにおいて、有機層および無機層の形成に加熱を伴う場合であっても、低コストで、かつ、無機層の損傷が無い、目的とする性能を安定して発揮する機能性フィルム、および、この機能性フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
この問題点を解決するために、本発明の機能性フィルムは、支持体と、支持体の上に交互に形成された有機層および無機層と、支持体の有機層および無機層の形成面と逆面に貼着される粘着層と、この粘着層に貼着される、支持体と異なる熱的特性を有する保護材料とを有し、かつ、
粘着層と支持体との粘着力が０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍで、粘着層と保護材料との粘着力が５〜５０Ｎ／２５ｍｍであることを特徴とする機能性フィルムを提供する。
【００１８】
このような本発明の機能性フィルムにおいて、粘着層の厚さが１５〜２５０μｍであるのが好ましい。
また、支持体は、リタデーション値が３００ｎｍ以下であるのが好ましい。
さらに、支持体は、ガラス転移温度が１３０℃以上で、熱収縮率が０．５％以下で、厚さが２０〜１２０μｍであり、保護材料は、ガラス転移温度が６０℃以上で、熱収縮率が０．５％超２％以下で、厚さが１２〜１００μｍであるのが好ましい。
【００１９】
また、本発明の機能性フィルムの製造方法は、０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍの粘着力で支持体と粘着層とが貼着され、かつ、粘着層の支持体と逆面に、５〜５０Ｎ／２５ｍｍの粘着力で、支持体と熱的特性が異なる保護材料が貼着されてなる、長尺な積層体を作製し、
この積層体を長手方向に搬送しつつ、支持体の粘着層と逆面に、塗布法による有機層および気相成膜法による無機層を、交互に形成することを特徴とする機能性フィルムの製造方法を提供する。
【００２０】
このような本発明の機能性フィルムの製造方法において、所定数の有機層および無機層を形成した後に、支持体から、粘着層および保護材料を剥離するのが好ましい。
また、粘着層の厚さが１５〜２５０μｍであるのが好ましい。
また、支持体は、リタデーション値が３００ｎｍ以下であるのが好ましい。
さらに、支持体は、ガラス転移温度が１３０℃以上で、熱収縮率が０．５％以下で、厚さが２０〜１２０μｍであり、保護材料は、ガラス転移温度が６０℃以上で、熱収縮率が０．５％超２％以下で、厚さが１２〜１００μｍであるのが好ましい。
【発明の効果】
【００２１】
このような本発明によれば、有機層と無機層とを交互に積層してなる有機／無機積層型の機能性フィルムにおいて、有機層および無機層の形成に加熱を伴う場合であっても、安価な保護材料を用いて、無機層等の損傷が無い、目的とする性能を有する機能性フィルムを、低コストで製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の機能性フィルムの一例を概念的に示す図であり、（Ｄ）は、本発明の機能性フィルムから粘着層および保護材料を剥離した状態の一例を概念的に示す図である。
【図２】本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する製造装置の一例を概念的に示す図であって、（Ａ）は無機層の成膜装置、（Ｂ）は有機層の成膜装置である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。
【００２４】
図１（Ａ）に、本発明の機能性フィルムをガスバリアフィルムに利用した一例を、概念的に示す。
【００２５】
なお、本発明の機能性フィルムは、ガスバリアフィルムに限定はされない。すなわち、本発明は、特定の波長の光を透過するフィルタや光反射防止フィルムなどの各種の光学フィルム等、公知の機能性フィルムに、各種、利用可能である。
本発明の機能性フィルムのように、有機／無機の積層型の機能性フィルムにおいて、主に目的とする機能を発現するのは、無機層である。従って、特定波長の光透過性など、目的とする機能を発現する無機層を選択して、本発明の機能性フィルムを構成すればよい。
【００２６】
しかしながら、本発明によれば、後述する粘着層および保護材料を有することにより、ヒビや割れ等の欠陥の無い無機層を有する機能性フィルムを得ることができる。また、支持体として、リタデーション値が低い等の光学特性に優れる材料からなる物を選択することで、光学特性に優れた機能性フィルムが得られる。
従って、本発明は、高い光学特性を要求される場合が多く、かつ、無機層の損傷による性能劣化が大きいガスバリアフィルムには、より好適に利用される。
【００２７】
本発明の機能性フィルムにかかるガスバリアフィルムは、支持体１２の表面（主面）に、無機層１４と有機層１６とを交互に積層してなる、前述の有機／無機積層型のガスバリアフィルムである。なお、図１においては、構成を明瞭にするために、無機層１４のみにハッチを付している。
図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａは、支持体１２の表面に無機層１４を有し、その上に有機層１６を有し、その上に２層目の無機層１４を有し、その上に、２層目の有機層１６を有する、支持体１２の無機層１４と有機層１６とを交互に２層ずつ形成した、合計４層を積層してなる構成を有する。
また、支持体１２の裏面（無機層１４および有機層１６の形成面と逆面）には、粘着層２０が貼着され、この粘着層２０には、保護材料２４が貼着される。この支持体１２、粘着層２０および保護材料２４によって、本発明における積層体２６が構成される。
【００２８】
なお、本発明のガスバリアフィルム（機能性フィルム）は、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、支持体１２の上に、無機層１４および有機層１６を、この順番で交互に２層ずつ合計４層積層した構成に限定はされない。
例えば、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａにおいて、２層目の有機層１６の上に、さらに、３層目の無機層１４および３層目の有機層１６を積層した、３層ずつの無機層１４および有機層１６を有する、合計６層を有する構成でもい。あるいは、さらに無機層１４および有機層１６を交互に積層した、８層以上を有する構成であってもよい。
後述するが、有機層１６は、無機層１４を適正に形成するための下地層としてとして作用するものであり、下地の有機層１６と無機層１４との組み合わせの積層数が多いほど、優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを得られる。
【００２９】
あるいは、図１（Ｂ）に概念的に示すガスバリアフィルム１０ｂのように、支持体１２の表面に有機層１６を有し、その上に無機層１４を有し、以下、有機層１６と無機層１４とを交互に形成してなる構成でもよい。すなわち、本発明のガスバリアフィルムにおいては、無機層１４と有機層１６との数が異なってもよい。
さらに、図１（Ｃ）に概念的に示すガスバリアフィルム１０ｃのように、最上層が無機層１４であってもよい。
【００３０】
前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａは、支持体１２の上に、無機層１４と有機層１６とを、交互に積層した構成を有する。また、支持体１２の裏面には、粘着層２０および保護材料２４が設けられる。
ここで、粘着層２０および保護材料２４は、最終的には剥離され、図１（Ｄ）に示すような、支持体１２の表面に無機層１４と有機層１６とを交互に有するのみのガスバリアフィルム１０ｄとされる。この点に関しては、図１（Ｂ）に示すガスバリアフィルム１０ｃや図１（Ｃ）に示すガスバリアフィルム１０ｃも同様である。
【００３１】
本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、支持体１２は、ガスバリアフィルムの支持体として利用されている、公知のシート状物が、各種、利用可能である。
支持体１２としては、具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、透明ポリイミドなどの、各種のプラスチック（高分子材料）からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。
なお、支持体１２は、このようなプラスチックフィルムの表面に、保護層、接着層、光反射層、反射防止層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層等の、各種の機能を得るための層（膜）が形成されているものであってもよい。
【００３２】
ここで、本発明において、支持体１２は、リタデーション値(Retardation)が３００ｎｍ以下のシート状物（以下、低リタデーションフィルムとも言う）が好適に利用される。  支持体１２として、リタデーション値が３００ｎｍ以下の低リタデーションフィルムを用いることにより、光学特性に優れたガスバリアフィルム１０ｄを得ることができる。これにより、例えば、本発明のガスバリアフィルム１０ｄを有機ＥＬデバイス等に利用した際に、光のコントラスト低下、外光反射に起因する視認性の低下等を防止できる。
この点を考慮すると、支持体１２のリタデーション値は、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。
さらに、本発明においては、同様の理由で、支持体１２は、全光線透過率が８５％以上であるのが好ましい。
【００３３】
このような低レタデーションフィルムとしては、前述の各種のプラスチックフィルムのうち、ＰＣ、ＣＯＰ、ＣＯＣ、ＴＡＣおよび透明ポリイミド等からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。
【００３４】
本発明において、支持体１２の厚さは、好ましくは２０〜１２０μｍである。
支持体１２の厚さを２０μｍ以上とすることにより、無機層１４および有機層１６の形成によるカールが大きくなることを抑制でき、かつ、これによりロールとして巻き取ることが容易になる、ガスバリアフィルム１０ａ（粘着層２０および保護材料２４を剥離したガスバリアフィルム１０ｄ）に十分な機械的強度を付与できる等の点で好ましい。
また、支持体１２の厚さを１２０μｍ以下とすることにより、光学特性が良好なガスバリアフィルム１０ｄが得られる、薄手化したガスバリアフィルム１０ａ（１０ｄ）が得られる、可撓性の良好なガスバリアフィルム１０ａ（１０ｄ）が得られる、軽量なガスバリアフィルム１０ａ（１０ｄ）が得られる、ガスバリアフィルム１０ｄを利用する製品（有機ＥＬデバイス等）でも軽量化や薄手化を図れる等の点で好ましい。
以上の点を考慮すると、支持体１２の厚さは、２５〜１００μｍがより好ましい。
【００３５】
また、支持体１２は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１３０℃以上であるのが好ましく、１４０℃以上であるのがより好ましい。
前述のように、支持体１２の表面には、無機層１４および有機層１６が形成される。ここで、無機層１４は、通常、プラズマＣＶＤなどの気相成膜法で形成され、有機層１６は、有機層１６となる有機化合物を含有する塗料を塗布、乾燥および硬化する塗布法で形成される。すなわち、ガスバリアフィルム１０ａは、支持体１２の加熱を伴う方法で無機層１４および有機層１６を形成される。
これに対し、支持体１２として、Ｔｇが１３０℃以上のもの（Ｔｇが１３０℃以上の材料からなるもの）を用いることにより、無機層１４および有機層１６の形成における加熱による支持体１２の熱損傷を防止できる。さらに、粘着層２０および保護材料２４を剥離したガスバリアフィルム１０ｄを利用する製品の製造における加熱工程における支持体１２の熱損傷を防止できる等の点でも好ましい。
【００３６】
さらに、支持体１２は、熱収縮率が０．５％以下であるのが好ましい。
支持体１２の熱収縮率を０．５％以下とすることにより、前述の無機層１４および有機層１６の形成における加熱による支持体１２の変形を好適に防止できる。さらに、ガスバリアフィルム１０ｄを利用する製品の製造において、別の材料と貼着された際における加熱による部材の変形を防止できる等の点でも好ましい。
【００３７】
前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、支持体１２の上には、無機層１４と有機層１６とが、交互に形成される。
無機層１４は、無機化合物からなる層（無機化合物を主成分とする層（膜））である。ガスバリアフィルム１０ａにおいて、無機層１４は、目的とするガスバリア性を、主に発現するものである。
【００３８】
無機層１４の形成材料には、限定はなく、ガスバリア性を発現する無機化合物からなる層が、各種、利用可能である。
具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物；  窒化アルミニウムなどの金属窒化物；  炭化アルミニウムなどの金属炭化物；  酸化珪素、酸化窒化珪素、酸炭化珪素、酸化窒化炭化珪素などの珪素酸化物；  窒化珪素、窒化炭化珪素などの珪素窒化物；  炭化珪素等の珪素炭化物；  これらの水素化物；  これら２種以上の混合物；  および、これらの水素含有物等の、無機化合物が、好適に例示される。
特に、窒化珪素、酸化珪素、酸窒化珪素、酸化アルミニウムは、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、ガスバリアフィルムには、好適に利用される。中でも特に、窒化珪素は、優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に利用される。
【００３９】
本発明において、無機層１４の厚さは、好ましくは１０〜２００ｎｍである。
無機層１４の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層１４が形成できる。また、無機層１４は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層１４の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
また、このような点を考慮すると、無機層１４の厚さは、１５〜１００ｎｍにするのが好ましく、特に、２０〜７５ｎｍとするのが好ましい。
【００４０】
なお、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、複数の無機層１４を有する場合には、各無機層１４の厚さは、同じでも、互いに異なってもよい。
同様に、ガスバリアフィルム１０ａのように、複数の無機層１４を有する場合には、各無機層１４の形成材料も、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性や生産コスト等を考慮すれば、全ての無機層１４を同じ材料で形成するのが好ましい。
【００４１】
本発明のガスバリアフィルム１０において、無機層１４は、形成材料に応じた公知の無機層（無機膜）の形成方法で形成（成膜）すればよい。
具体的には、ＣＣＰ−ＣＶＤやＩＣＰ−ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤ、マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリング等のスパッタリング、真空蒸着などの気相成膜法（気相堆積法）が、好適に例示される。
【００４２】
ここで、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａにおいては、支持体１２の表面に無機層１４が形成される。
このような支持体１２の表面に形成される無機層１４は、ガスバリア性を発現するのみならず、支持体１２の保護層としても作用する。
【００４３】
前述のように、有機層１６は、有機化合物を含有する塗料を用いる塗布法によって形成される。この塗料には、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）やメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）有機溶剤が含まれる。
ところが、支持体１２となるプラスチックフィルムは、有機溶剤に対する耐性が低い場合が有り、プラスチックフィルムと有機溶剤との組み合わせによっては、プラスチックフィルムが溶解されてしまう場合が有る。特に、前述のような低レタデーションフィルムは、有機溶剤に対する耐性が低く、溶解されてしまう場合が多い。すなわち、支持体１２の表面に有機層１６を形成すると、支持体１２の形成材料と塗料が含有する有機溶剤との組み合わせによっては、支持体１２の表面が溶解してしまう場合が有る。
このような支持体１２の溶解が生じると、支持体１２のリタデーション値が変化する、光透過率が下がる、ヘイズが上がる等の不都合が生じ、ガスバリアフィルムの光学的な特性が大幅に低減してしまう。
【００４４】
これに対し、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、支持体１２の表面に無機層１４を形成して、その上に、有機層１６と無機層１４とを交互に積層することにより、無機層１４が有機層１６を形成する塗料が含有する有機溶剤に対する保護層として作用する。
そのため、支持体１２の有機溶剤に対する耐性が低い場合でも、塗料による支持体１２の溶解を防止して、支持体１２の光学特性を維持することができ、光学特性に優れるガスバリアフィルムを得ることができる。
【００４５】
ここで、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、支持体１２の表面に無機層１４を有する構成では、無機層１４と支持体１２との間に、支持体１２の形成成分と無機層１４の形成成分とが混合された、混合層のような領域を有してもよい。
このような混合層を有することにより、無機層１４と支持体１２の密着性を向上して、ガスバリアフィルム１０ａの強度を向上できると共に、支持体１２からの無機層１４の剥離に起因するガスバリア性の低下も防止できる。
【００４６】
前述のように、無機層１４は、プラズマＣＶＤ等の気相成膜法で形成するが、この成膜条件を調節することにより、混合層の形成の有無や混合層の厚さ等を調節できる。
例えば、プラズマＣＶＤで無機層１４を形成する際には、投入電力等を調節して生成するプラズマ強度を調節する方法、無機層１４の形成時にかけるバイアスを調節する方法等で、混合層の形成の有無や混合層の厚さ等を調節できる。
【００４７】
他方、前述のように、図１（Ｃ）に示すガスバリアフィルム１０ｃは、最上層が無機層１４である。
このように、最上層を無機層１４とすることにより、その下の有機層１６に起因するアウトガスの排出を防止できる。従って、このように最上層が無機層１４である構成は、例えば、有機層１６と無機層１４との積層構成側に、有機ＥＬデバイス等の不要なガス成分に悪影響を受けやすいデバイスを配置する必要が有る場合に、好適である。
【００４８】
他方、有機層１６は、有機化合物からなる層（有機化合物を主成分とする層（膜））で、基本的に、有機層１６となる有機化合物を、架橋（重合）したものである。
前述のように、有機層１６は、ガスバリア性を発現する無機層１４を適正に形成するための、下地層として機能する。このような下地の有機層１６を有することにより、無機層１４の形成面の平坦化や均一化を図って、無機層１４の形成に適した状態にできる。
下地の有機層１６および無機層１４を積層した積層型のガスバリアフィルムでは、これにより、フィルムの全面に、隙間無く、適正な無機層１４を形成することが可能になり、優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを得ることができる。
【００４９】
ガスバリアフィルム１０ａにおいて、有機層１６の形成材料には、限定はなく、公知の有機化合物（樹脂／高分子化合物）が、各種、利用可能である。
具体的には、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリロイル化合物、などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン、その他の有機珪素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。
【００５０】
中でも、ガラス転移温度や強度に優れる等の点で、ラジカル重合性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン重合性化合物の重合物から構成された有機層１６は、好適である。
【００５１】
中でも特に、上記強度に加え、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマの重合体を主成分とする、ガラス転移温度が１２０℃以上のアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層１６として好適に例示される。
その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ−ＮＯＤ−Ｎ）、１，６ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ−ＨＤ−Ｎ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、（変性）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマー等の重合体を主成分とする、アクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。
【００５２】
有機層１６を、アクリル樹脂やメタクリル樹脂、特に２官能以上のアクリル樹脂やメタクリル樹脂で形成することにより、骨格がしっかりした下地の上に無機層１４を形成できるので、より緻密でガスバリア性が高い無機層１４を形成できる。
【００５３】
有機層１６の厚さは、０．５〜５μｍが好ましい。
有機層１６の厚さを０．５μｍ以上とすることにより、無機層１４の全面を確実に有機層１６で覆い、かつ、有機層１６の表面すなわち無機層１４の形成面を平坦化できる。
また、有機層１６の厚さを５μｍ以下とすることにより、有機層１６が厚すぎることに起因する、有機層１６のクラックや、ガスバリアフィルム１０ａのカール等の問題の発生を、好適に抑制することができる。
以上の点を考慮すると、有機層１６の厚さは、１〜３μｍとするのが、より好ましい。
【００５４】
なお、図１（Ａ）に示す各ガスバリアフィルム１０ａのように、複数の有機層１６を有する場合には、各有機層１６の厚さは、同じでも、互いに異なってもよい。
同様に、ガスバリアフィルム１０ａのように、複数の有機層１６を有する場合には、各有機層１６の形成材料も、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性や生産コスト等を考慮すれば、全ての有機層１６を同じ材料で形成するのが好ましい。
【００５５】
本発明において、有機層１６は、基本的に、無機層１４の下地層として形成されるが、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａや図１（Ｂ）に示されるガスバリアフィルム１０ｂは、最上層に有機層１６を有している。
無機層１４は、緻密であるが故に、固く、脆い。そのため、外部から直接的に衝撃等を受けると、容易に損傷してしまう。前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、主にガスバリア性を発現するのは、無機層１４である。そのため、無機層１４が損傷すると、ガスバリア性が低下する。
これに対し、最上層に有機層１６を有することにより、この有機層１６が無機層１４の保護層として作用するので、無機層１４の損傷を防止できる。
【００５６】
本発明において、有機層１６は、基本的に、塗布法で形成（成膜）される。
すなわち、有機層１６を形成する際には、まず、有機層１６となる有機化合物（モノマー、ダイマー、トリマー、オリゴマー等）、さらには、重合開始剤、シランカップリング剤、界面活性剤、増加粘剤等を有機溶剤に溶解してなる塗料を調節する。次いで、この塗料を保護無機層１４（無機層１４）の表面に塗布し、乾燥する。乾燥後、紫外線照射や電子線照射、加熱等によって、有機化合物を重合（架橋）して、有機層１６を形成する。
【００５７】
本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、支持体１２の裏面には、粘着層２０が貼着され、この粘着層２０には、保護材料２４が貼着される。
前述のように、この支持体１２、粘着層２０および保護材料２４によって、本発明における積層体２６が構成される。
【００５８】
保護材料２４は、前述の特許文献１や特許文献２に記載される例と同様、支持体１２のコシ等が弱く、ロール・トゥ・ロール（ＲｔｏＲ）による各層の形成において、適正な搬送が困難な場合に、裏面側から支持体１２を支持して、自己支持性を確保し、折れ曲がりやシワの形成等の無い安定した搬送を可能にするためのものである。
ここで、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、保護材料２４は、支持体１２とは異なる熱的特性を有するものである。さらに、発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、粘着層２０と支持体１２との粘着力が０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍで、粘着層２０と保護材料２４との粘着力が５〜５０Ｎ／２５ｍｍである。本発明は、これにより、ＣＯＣフィルム等の高価な支持体１２を用いた場合でも、コストを向上することなく、ヒビや割れ等の損傷（欠陥）のない無機層１４を有するガスバリアフィルム１０ａを実現している。
【００５９】
前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、優れた光学特性を実現するために、支持体１２として、ＰＣ、ＣＯＰ、ＣＯＣ、ＴＡＣおよび透明ポリイミド等からなるレタデーション値が３００ｎｍ以下の低レタデーションフィルムを用いるのが好ましい。さらに、支持体１２は、全光線透過率が８５％以上であるのが好ましい。
他方、保護材料２４は、最終的には剥離して廃棄するものであるので、ＰＥＴフィルム等の安価なフィルムを用いるのが好ましい。
【００６０】
ところがＣＯＣフィルム等の低レタデーションフィルムと、ＰＥＴフィルム等とでは、例えば、Ｔｇに大きな差がある、一方が熱膨張して他方が熱収縮する、熱膨張／収縮率が大きく異なるなど、互いの熱的特性が異なる。
このように熱的特性が異なる支持体１２と保護材料２４とを有する積層体２６を用いて、支持体１２の表面にＲｔｏＲによって無機層１４や有機層１６を形成すると、無機層１４を形成する際のプラズマ等による熱や、有機層１６を形成する際の乾燥による熱によって、支持体１２と保護材料２４とが全く異なる変形を示し、搬送によるストレスや搬送経路の変更による屈曲等も有るため、これにより、支持体１２と保護材料２４の剥離や、支持体１２のシワや折れ等が生じてしまう。また、この支持体１２と保護材料２４の剥離や支持体１２のシワ等に起因して、適正な無機層１４が形成できず、さらに、先に形成した無機層１４が損傷して、ガスバリア性が低下してしまう。
【００６１】
保護材料２４として、支持体１２と同じ材料のフィルムを用いれば、このような問題は生じない。
しかしながら、ＣＯＣフィルム等の低レタデーションフィルムなど、光学特性が高いフィルムは、高価であるため、最終的に廃棄する保護材料２４として、低レタデーションフィルムなどの高い光学特性を有するフィルム等を利用すると、ガスバリアフィルム１０ａ（ガスバリアフィルム１０ｄ）のコストが、非常に高くなってしまう。
【００６２】
これに対し、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、粘着層２０と支持体１２との粘着力を０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍとし、粘着層２０と保護材料２４との粘着力を５〜５０Ｎ／２５ｍｍがとする。すなわち、粘着層２０は、支持体１２とは非常に弱い力で貼着され、保護材料２４とは、強固に貼着される。
そのため、ＲｔｏＲによる無機層１４や有機層１６の形成の際の加熱によって、支持体１２と保護材料２４とが全く異なる変形を示すと、貼着力の弱い粘着層２０と支持体１２とが剥離して、次いで、張力によって、再度、貼着されることを繰り返す。
この剥離および貼着の繰り返しによって、支持体１２と保護材料２４との互いに異なる変形が吸収される。その結果、両者の異なる変形に起因する支持体１２と保護材料２４の剥離や、支持体１２のシワ等が生じることがなく、これに起因する無機層１４の損傷や不適正な無機層１４の形成（成膜）を防止できる。
【００６３】
本発明は、保護材料２４として支持体１２と熱的特性が異なるものを用い、かつ、支持体１２および保護材料２４と粘着層２０との貼着力を上記範囲とすることにより、ＲｔｏＲによるガスバリアフィルムの製造において、保護材料２４によって搬送の安定化を図り、かつ、優れた光学特性を有するガスバリアフィルム１０ａを得るために、ＣＯＣフィルムのような高価な低レタデーションフィルムを支持体１２として用いた際に、ＰＥＴフィルムのような安価なものを保護材料２４として用いることを可能にしている。
また、前述のように、ガスバリアフィルム１０ａは、最終的には、粘着層２０および保護材料２４を剥離したガスバリアフィルム１０ｄとされる。ここで、本発明においては、粘着層２０と支持体１２との粘着力が弱いため、保護材料２４を剥離することで、粘着層２０も容易に剥離でき、しかも、無機層１４を損傷することなく剥離を行え、かつ、粘着層２０が支持体１２に残存することも防止できる。
特に、本発明によれば、支持体１２への粘着層２０の残存を防止できるため、低レタデーションフィルム等の光学特性に優れたフィルムを支持体１２として用いることにより、光学特性に優れたガスバリアフィルム１０ｄを得ることができ、携帯電話やディスプレイなどに利用される、トップエミッション方式の有機ＥＬデバイスに用いられるガスバリアフィルムとして、好適に利用可能となる。
【００６４】
本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、粘着層２０と支持体１２との粘着力が０．０１Ｎ／２５ｍｍ未満では、十分な粘着層２０と支持体１２の粘着力が得られない、粘着層２０と支持体１２とが不要に剥離してしまう等の不都合が生じる。
粘着層２０と支持体１２との粘着力が０．１５Ｎ／２５ｍｍを超えると、保護材料２４等を剥離した際に無機層１４を損傷する可能性がある、保護材料２４等を剥離した際に支持体１２に粘着層２０が残ってしまう（糊残りが生じる）等の不都合を生じる。
以上の点を考慮すると、粘着層２０と支持体１２との粘着力は、０．０２〜０．１Ｎ／２５ｍｍが好ましい。
【００６５】
また、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、粘着層２０と保護材料２４との粘着力が５Ｎ／２５ｍｍ未満では、十分な粘着層２０と保護材料２４との粘着力が得られない等の不都合が生じる。
粘着層２０と保護材料２４との粘着力が５０Ｎ／２５ｍｍを超えると、粘着力が強すぎて剛体のようになってしまい、支持体１２の変形抑制の効果を十分に得ることができない
等の不都合を生じる。
以上の点を考慮すると、粘着層２０と保護材料２４の粘着力は、７〜３０Ｎ／２５ｍｍが好ましい。
【００６６】
本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、粘着層２０と支持体１２との粘着力を０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍ（以下、微粘着とも言う）とし、粘着層２０と保護材料２４との粘着力を５〜５０Ｎ／２５ｍｍ（以下、強粘着とも言う）とする方法は、各種の接着剤や接着テープで行われている、公知の方法が利用可能である。
一例として、保護材料２４と強粘着となる接着剤を保護材料２４に塗布し、接着剤に応じた方法で硬化を行うことで、半硬化（完全に硬化していない状態（いわゆるハーフキュアの状態））した状態として、粘着層２０の粘着力を弱くし、その後、粘着層２０に支持体１２を貼着することで、支持体１２と粘着層２０とを微粘着にする方法が例示される。例えば、アクリル系の接着剤を用いる場合であれば、粘着層２０となる接着剤を保護材料２４に塗布し、この接着剤の完全な硬化に必要なＵＶ照射量の１０〜５０％程度のＵＶ照射を行ってハーフキュア状態として重合度を変化させて、その後、支持体１２と粘着層２０とを貼着することで微粘着とする。
あるいは、支持体１２および保護材料２４の両者ともに微粘着となる接着剤を用い、保護材料２４にコロナ放電やプラズマ処理などの易接着処理を施す、保護材料２４に易接着層を形成する等の処理（密着処理）を施すことにより、粘着層２０と保護材料２４との粘着力のみを強粘着にする方法も、利用可能である。
【００６７】
なお、支持体１２と保護材料２４との異なる変形が発生した際に生じる、粘着層２０と支持体１２との剥離および再貼着の繰り返しは、粘着層２０と支持体１２との微粘着と、粘着層２０と保護材料２４との強粘着との差が、ある程度、有る方が好適に発生する。
具体的には、『（粘着層２０と支持体１２との微粘着）／（粘着層２０と保護材料２４との強粘着）』の粘着力の比が、０．０００２〜０．０３となる粘着力が好ましく、この粘着力の比が０．０００７〜０．１４となる粘着力がより好ましい。
粘着層２０と支持体１２との微粘着と、粘着層２０と保護材料２４との強着力との粘着力の比を、上記範囲とすることにより、持体１２と保護材料２４との異なる変形に起因する、粘着層２０と支持体１２との剥離および再貼着の繰り返しが、より好適に生じて、より確実に、支持体１２の変形を抑制して、無機層１４の損傷を抑制できる。
【００６８】
本発明において、粘着層２０は、支持体１２および保護材料２４に応じて、前述の粘着力が得られる各種の接着剤からなるものが利用可能である。
具体的には、アクリル樹脂系の接着剤、エポキシ樹脂系の接着剤、ウレタン樹脂系の接着剤、ビニル樹脂系の接着剤、ゴム系の接着剤等が例示される。
【００６９】
粘着層２０の厚さは、１５〜２５０μｍが好ましい。
粘着層２０の厚さを１５μｍ以上とすることにより、前述の粘着層２０と支持体１２との剥離および貼着の繰り返しによる、支持体１２と保護材料２４との異なる変形を十分に吸収することができ、より好適に、支持体１２と保護材料２４の剥離、支持体１２のシワや折れ、これに起因する無機層１４の損傷等を防止できる等の点で好ましい。
他方、粘着層２０の厚さを２５０μｍ以下とすることにより、後述する無機層１４の形成の際の裏面からの冷却に対して熱伝導性が低下することを防止でき、これにより、形成する無機層１４のガスバリア性を向上できる等の点で好ましい。
以上の点を考慮すると、粘着層２０の厚さは、２５〜１５０μｍがより好ましい。
【００７０】
このような粘着層２０は、利用する接着剤等に応じた公知の方法で形成すればよい。
一例として、接着剤の塗布（乾燥および硬化）によって形成する方法、粘着テープ（接着テープ）を利用して形成する方法が例示される。
【００７１】
一方、保護材料２４は、支持体１２と熱的な特性が異なれば、各種の材料からなるシート状物が利用可能であり、特に、各種のプラスチックフィルムが利用できる。
なお、本発明において、支持体１２と保護材料２４との熱的な特性が異なるとは、一方が熱膨張して他方が熱収縮する場合、両者の形成材料の熱膨張率もしくは熱収縮率の差が０．１％以上である場合、両者の形成材料のＴｇの差が３０℃以上である場合の１以上を満たす場合を言う。
本発明のガスバリアフィルム１０ａは、このように、支持体１２と保護材料２４とが異なる熱的特性を有することにより、前述のように、支持体１２として、保護材料２４によってＲｔｏＲにおける搬送の安定化を図ると共に、ＣＯＣフィルムなどの低レタデーションフィルム等の高価な光学特性に優れたフィルムを用いた際にも、保護材料２４として安価なＰＥＴフィルムを用いることを可能にして、安価で、かつ、無機層１４の損傷が無いガスバリアフィルム１０ａを実現している。
【００７２】
前述のように、保護材料２４は、最終的には剥離して廃棄されるものである。従って、低コストな材料を利用するのが好ましい。
具体的には、ＰＥＴ、ＰＰ、および、ＰＥ等からなるプラスチックフィルムが好適に例示される。
【００７３】
本発明において、保護材料２４の厚さは、１２〜１００μｍが好ましい。
保護材料２４の厚さを１２μｍ以上とすることにより、保護材料２４を設けることの効果を十分に発揮して、ＲｔｏＲによる無機層１４等の形成の際に支持体１２（積層体２６）の安定した搬送が可能になる等の点で好ましい。
また、保護材料２４の厚さを１００μｍ以下とすることにより、無機層１４等の形成の際における保護材料２４の熱変形量を低減できる、後述する無機層１４の形成の際の裏面からの冷却に対して熱伝導性が低下することを防止できる、軽量なガスバリアフィルム１０ａが得られる等の点で好ましい。
以上の点を考慮すると、保護材料２４の厚さは、２５〜７５μｍがより好ましい。
【００７４】
本発明において、支持体１２と保護材料２４との厚さの比は、『保護材料２４／支持体１２』の比で０．１〜５とするのが好ましい。
支持体１２と保護材料２４との厚さの比を、この範囲とすることにより、支持体１２と保護材料２４との熱的特性の違いに起因して、無機層１４や有機層１６等の形成時に保護材料２４が無機層１４等に与えるストレスを低減でき、より高いガスバリア性が得られる等の点で好ましい。
【００７５】
また、保護材料２４は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６０℃以上であるのが好ましく、７０℃以上であるのがより好ましく、８０℃以上であるのが特に好ましい。
前述のように、ガスバリアフィルム１０ｃには、前述の支持体と同様、保護材料２４のＴｇを６０℃以上（Ｔｇが６０℃以上の材料からなるもの）とすることにより、無機層１４および有機層１６の形成の際における加熱による保護材料２４の熱損傷や溶解を防止できる等の点で好ましい。
【００７６】
さらに、保護材料２４は、熱収縮率が０．５％超２％以下であるのが好ましい。
保護材料２４の熱収縮率を０．５％超２％以下とすることにより、加熱時における保護材料２４自身の変形が抑制され、粘着層２０による変形緩和の効果と合せて、支持体１２の変形を最大限抑制できる等の点で好ましい。
【００７７】
図２に、本発明のガスバリアフィルム１０ａ（機能性フィルム）を製造する製造装置の一例を、概念的に示す。
この製造装置は、無機層１４を形成する無機成膜装置３２と、有機層１６を形成する有機成膜装置３０とを有して構成される。
図２において、（Ａ）は無機成膜装置３２であり、（Ｂ）は有機成膜装置３０である。
【００７８】
図２に示す有機成膜装置３０および無機成膜装置３２は、共に、長尺な被形成材料（ウエブ状の被形成材料）を巻回してなるロールから、被形成材料を送り出し、被形成材料を長手方向に搬送しつつ各層の形成（成膜）を行い、各層を形成した被形成材料を、再度、ロール状に巻回する、前述のＲｔｏＲ（ロール・ツー・ロール(Roll to Roll）を利用する装置である。
このようなＲｔｏＲは、高い生産性で、効率の良いガスバリアフィルム１０ａ（機能性フィルム）の製造が可能である。
【００７９】
ここで、図２に示す製造装置は、図１に示すような、長尺な支持体１２の裏面に、粘着層２０を貼着し、この粘着層２０に保護材料２４を貼着してなる積層体２６の支持体１２の表面（粘着層２０と逆面）に、無機層１４と有機層１６とを交互に形成して、ガスバリアフィルム１０ａ等を製造するものである。
従って、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２において被成膜材料Ｚａとなるのは、長尺な積層体２６、および、積層体２６の表面に１以上の層が形成された、表面が有機層１６の材料である。
他方、図２（Ｂ）に示す有機成膜装置において、被成膜材料Ｚｂとなるのは、長尺な積層体２６、および、積層体２６の表面に１以上の層が形成された、表面が無機層１４の材料である。
【００８０】
無機成膜装置３２は、被成膜材料Ｚａの表面に、気相堆積法によって無機層１４を形成する装置で、供給室５６と、成膜室５８と、巻取り室６０とを有する。
なお、無機成膜装置３２は、図示した部材以外にも、搬送ローラ対や、被成膜材料Ｚａの幅方向（搬送方向と直交する方向）の位置を規制するガイド部材、各種のセンサなど、長尺な被形成材料を搬送しつつ気相堆積法による成膜を行なう公知の装置に設けられる各種の部材を有してもよい。
【００８１】
供給室５６は、回転軸６４と、ガイドローラ６８と、真空排気手段７０とを有する。
供給室５６において、積層体２６や有機層１６等を形成された積層体２６である、長尺な被成膜材料Ｚａを巻回した材料ロール６１は、回転軸６４に装填される。
回転軸６４に材料ロール６１が装填されると、被成膜材料Ｚａは、供給室５６から、成膜室５８を通って、巻取り室６０の巻取り軸９２に至る、所定の搬送経路を通される（通紙される）。ＲｔｏＲを利用する無機成膜装置３２は、材料ロール６１からの被成膜材料Ｚａの送り出しと、巻取り軸９２での無機層形成済の被成膜材料Ｚａの巻き取りとを同期して行なって、被成膜材料Ｚａを長手方向に搬送しつつ、成膜室５８において、被成膜材料Ｚａに連続的に無機層を形成する。
【００８２】
供給室５６においては、図示しない駆動源によって回転軸６４を図中時計方向に回転して、材料ロール６１から被成膜材料Ｚａを送り出し、ガイドローラ６８によって所定の経路を案内して、隔壁７２に形成されたスリット７２ａから、成膜室５８に送る。
【００８３】
なお、図示例の無機成膜装置３２には、好ましい態様として、供給室５６に真空排気手段７４を、巻取り室６０に真空排気手段７６を、それぞれ設けている。無機成膜装置３２においては、成膜中は、それぞれの真空排気手段によって、供給室５６および巻取り室６０の圧力を、後述する成膜室５８の圧力（成膜圧力）に応じた、所定の圧力に保つ。これにより、隣接する室の圧力が、成膜室５８の圧力（成膜室５８での成膜）に影響を与えることを防止している。
真空排気手段７０には、特に限定はなく、ターボポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ、ロータリーポンプなどの真空ポンプ等、真空での成膜装置に用いられている公知の（真空）排気手段が、各種、利用可能である。この点に関しては、後述する他の真空排気手段７４および７６も同様である。
【００８４】
成膜室５８は、被成膜材料Ｚａ（積層体２６あるいは有機層１６）の表面に、気相堆積法によって、無機層を形成するものである。図示例において、成膜室５８は、ドラム８０と、成膜手段８２と、前述の真空排気手段７４とを有する。
【００８５】
成膜室５８に搬送された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ８４ａによって所定の経路に案内され、ドラム８０の所定位置に巻き掛けられる。被成膜材料Ｚａは、ドラム８０によって所定位置に位置されつつ長手方向に搬送されて、連続的に無機層１４を形成される。
【００８６】
真空排気手段７４は、成膜室５８内を真空排気して、無機層１４の形成に応じた真空度とするものである。
【００８７】
ドラム８０は、中心線を中心に図中反時計方向に回転する円筒状の部材である。
供給室５６から供給され、ガイドローラ８４ａによって所定の経路に案内され、ドラム８０の所定位置に巻き掛けられた被成膜材料Ｚａは、ドラム８０の周面の所定領域に掛け回されて、ドラム８０に支持／案内されつつ、所定の搬送経路を搬送され、成膜手段８２によって、表面に無機層１４を形成される。
なお、ドラム８０に温度調節手段を内包して、無機層１４の成膜中に積層体２６を例えば冷却してもよい。
【００８８】
成膜手段８２は、気相堆積法によって、被成膜材料Ｚａの表面に無機層１４を形成するものである。
本発明の製造方法において、無機層１４は、前述の特許文献に記載される形成方法等、公知の気相堆積法（気相成膜法）で形成すればよい。従って、成膜手段８２での成膜方法にも、特に限定は無く、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等、公知の成膜方法が、全て、利用可能である。
【００８９】
従って、成膜手段８２は、実施する気相堆積法に応じた、各種の部材で構成される。
例えば、成膜室５８がＩＣＰ−ＣＶＤ法（誘導結合型プラズマＣＶＤ）によって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、誘導磁場を形成するための誘導コイルや、成膜領域に反応ガスを供給するためのガス供給手段等を有して構成される。
成膜室５８が、ＣＣＰ−ＣＶＤ法（容量結合型プラズマＣＶＤ）によって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、中空状でドラム６２に対向する面に多数の小孔を有し反応ガスの供給源に連結される、高周波電極および反応ガス供給手段として作用するシャワー電極等を有して構成される。
成膜室５８が真空蒸着によって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、成膜材料を充填するルツボ（蒸発源）、ルツボを遮蔽するシャッタ、ルツボ内の成膜材料を加熱する加熱手段等を有して構成される。
さらに、成膜室５８が、スパッタリングによって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、ターゲットの保持手段や高周波電極、ガスの供給手段等を有して構成される。
【００９０】
なお、無機層１４の形成条件（成膜条件）は、成膜手段８２の種類、目的とする膜厚や成膜レート等に応じて、適宜、設定すればよい。
【００９１】
ドラム８０に支持／搬送されつつ、無機層１４を形成された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ８４ｂによって所定経路に案内されて、隔壁７５に形成されたスリット７５ａから、巻取り室６０に搬送される。
【００９２】
図示例において、巻取り室６０は、ガイドローラ９０と、巻取り軸９２と、前述の真空排気手段７６とを有する。
巻取り室６０に搬送された成膜済の被成膜材料Ｚａは、巻取り軸９２によってロール状に巻回され、無機層１４を形成された被成膜材料Ｚａを巻回してなる材料ロール９３として有機成膜装置３０に供給され、あるいは、ガスバリアフィルム１０ｃ等を巻回してなる材料ロール９３として次工程に供給される。
【００９３】
図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０は、長尺な被成膜材料Ｚｂを長手方向に搬送しつつ、有機層１６となる塗料を塗布し、乾燥した後、光照射によって塗膜に含まれる有機化合物を架橋して硬化し、有機層１６を形成する装置である。
図示例において、有機成膜装置３０は、一例として、塗布手段３６と、乾燥手段３８と、光照射手段４０と、回転軸４２と、巻取り軸４６と、搬送ローラ対４８および５０とを有する。
なお、有機成膜装置３０は、図示した部材以外にも、搬送ローラ対、被成膜材料Ｚｂのガイド部材、各種のセンサなど、長尺な被形成材料を搬送しつつ塗布による成膜を行なう公知の装置に設けられる各種の部材を有してもよい。
【００９４】
有機成膜装置３０において、積層体２６や無機層１４等を形成された積層体２６である長尺な被成膜材料Ｚｂを巻回してなる材料ロール９３は、回転軸４２に装填される。
回転軸４２に材料ロール９３が装填されると、被成膜材料Ｚｂは、材料ロール６１から引き出され、搬送ローラ対４８を経て、塗布手段３６、乾燥手段３８および光照射手段４０の下部を通過して、搬送ローラ対５０を経て、巻取り軸４６に至る、所定の搬送経路を通される（通紙される）。
【００９５】
ＲｔｏＲを利用する有機成膜装置３０では、材料ロール６１からの被成膜材料Ｚａの送り出しと、巻取り軸４６における有機層を形成した被成膜材料Ｚｂの巻き取りとを同期して行なう。これにより、長尺な被成膜材料Ｚｂを所定の搬送経路で長手方向に搬送しつつ、塗布手段３６によって有機層となる塗料を塗布し、乾燥手段３８によって塗料を乾燥し、光照射手段４０によって硬化することによって、有機層を形成する。
【００９６】
塗布手段３６は、被成膜材料Ｚｂの表面に、予め調製した、有機層１６を形成する塗料を塗布するものである。
この塗料は、有機溶剤に、架橋して重合することによって有機層１６となる有機化合物（モノマーなど）を、有機溶剤に溶解してなるものである。また、好ましくは、この塗料は、有機層１６の密着性を向上するために、シランカップリング剤を含有する。さらに、この塗料には、界面活性剤（表面調節剤）、重合開始剤（架橋剤）、増加粘剤等の必要な成分を、適宜、添加してもよい。
【００９７】
塗布手段３６において、被成膜材料Ｚｂへの塗料の塗布方法には、特に限定は無い。
従って、塗料の塗布は、ダイコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法等の公知の塗料の塗布方法が、全て利用可能である。
中でも、非接触で塗料を塗布できるので被成膜材料Ｚｂ（無機層１４）の表面を損傷しない、ビード（液溜まり）の形成により被成膜材料Ｚｂの表面の凹凸等の包埋性に優れる、等の理由で、ダイコート法は、好適に利用される。
【００９８】
前述のように、被成膜材料Ｚｂは、次いで、乾燥手段３８に搬送され、塗布手段３６が塗布した塗料を乾燥される。
乾燥手段３８により塗料の乾燥方法には、限定はなく、被成膜材料Ｚｂが光照射手段４０に至る前に、塗料を乾燥（有機溶剤を除去）して、架橋が可能な状態にできるものであれば、公知の乾燥手段が全て利用可能である。公知の方法が、各種利用可能である。一例として、ヒータによる加熱乾燥、温風による加熱乾燥等が例示される。
【００９９】
被成膜材料Ｚｂは、次いで、光照射手段４０に搬送される。光照射手段４０は、塗布手段３６が塗布し乾燥手段３８が乾燥した塗料に、紫外線（ＵＶ光）や可視光などを照射して、塗料に含まれる有機化合物（有機化合物のモノマー等）を架橋（重合）して硬化し、有機層１６とするものである。
光照射手段４０による塗膜の硬化時には、必要に応じて、被成膜材料Ｚｂにおける光照射手段４０による光照射領域を、窒素置換等による不活性雰囲気（無酸素雰囲気）とするようにしてもよい。また、必要に応じて、裏面に当接するバックアップローラ等を用いて、硬化時に被成膜材料Ｚｂすなわち塗膜の温度を調節するようにしてもよい。
【０１００】
なお、本発明において、有機層となる有機化合物の架橋は、光重合に限定はされない。すなわち、有機化合物の架橋は、加熱重合、電子ビーム重合、プラズマ重合等、有機層１６となる有機化合物に応じた、各種の方法が利用可能である。
本発明においては、前述のように、有機層１６としてアクリル樹脂やメタクリル樹脂などのアクリル系樹脂が好適に利用されるので、光重合が好適に利用される。
【０１０１】
このようにして有機層１６を形成された被成膜材料Ｚｂは、搬送ローラ対５０に挟持搬送されて巻取り軸４６に至り、巻取り軸４６によって、再度、ロール状に巻き取られ、有機層１６を形成された被成膜材料Ｚｂを巻回してなる材料ロール６１とされる。
この材料ロール６１は、有機層１６を形成した被成膜材料Ｚｂを巻回してなる材料ロール６１として無機成膜装置３２に供給され、もしくは、ガスバリアフィルム１０ａや１０ｂを巻回してなる材料ロール６１として次工程に供給される。
【０１０２】
以下、図２に示す製造装置において、図１（Ａ）に示す無機層１４を２層、有機層１６を２層形成したガスバリアフィルム１０ａおよびガスバリアフィルム１０ｄを作製する際の作用を説明することにより、本発明の製造方法について、より詳細に説明する。
なお、図１（Ｂ）に示すガスバリアフィルム１０ｂ、および、図１（Ｃ）に示すガスバリアフィルム１０ｃ等や、その他の層構成を有するガスバリアフィルムを作製する際にも、形成する無機層１４の数および有機層１６の数や、層構成に応じて、同様の無機層１４および有機層１６の形成を繰り返し行えばよい。
【０１０３】
まず、長尺な支持体１２に粘着層２０を貼着（形成）し、この粘着層２０に保護材料２４を貼着してなる、長尺な積層体２６を作製する。
この積層体２６は、例えば、図２（Ａ）に示す公知の有機層の成膜装置に、材料ロールからの長尺なシート状物の送りだし手段や積層ローラ（積層ローラ対）等の長尺なシート状物に長尺なシート状物を積層する手段を組み込んだ装置を用いる方法など、２つのシート状物を粘着層で貼着してなる長尺な積層体シートを作製する、ＲｔｏＲによる公知の方法で製造すればよい。なお、積層体２６の作製において、粘着層２０の乾燥および硬化が不要な場合には、粘着層２０（塗料）の乾燥部および硬化部は不要である。
【０１０４】
なお、積層体２６は、保護材料２４に粘着層２０を貼着した積層体を形成し、この積層体の粘着層２０に支持体１２を貼着して形成してもよい。あるいは、積層体２６は、支持体１２に粘着層２０を貼着した積層体を形成し、この積層体の粘着層２０に保護材料２４を貼着して形成してもよい。ここで、本発明においては、好ましくは支持体１２として低レタデーションフィルム等を用いるので、保護材料２４に粘着層２０を貼着した積層体を形成し、これに支持体１２を積層する方法が、好適に利用される。
また、この積層体２６の作製の際に、前述のように、粘着層２０の半硬化や保護材料２４の密着処理等を行って、支持体１２と粘着層２０とを微粘着とし、保護材料２４と粘着層２０とを強粘着とする。
【０１０５】
このような積層体２６を巻回してなるロールを作製したら、このロールを材料ロール６１として、無機成膜装置３２の供給室５６の回転軸６４に装填する。
材料ロール６１が回転軸６４に装填されると、被成膜材料Ｚａ（積層体２６）が引き出され、供給室５６から、成膜室５８を経て巻取り室６０の巻取り軸９２に至る所定の経路を通される。
【０１０６】
材料ロール６１から送り出された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ６８によって案内されて成膜室５８に搬送される。
成膜室５８に搬送された、被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ８４ａに案内されてドラム８０に巻き掛けられ、ドラム８０に支持されて所定の経路を搬送されつつ、成膜手段８２によって、例えば、ＣＣＰ−ＣＶＤによって、１層目の無機層１４を形成される。
なお、無機層１４の形成は、形成する無機層１４に応じて、公知の気相堆積法による成膜方法で行えばよい。従って、使用するプロセスガスや成膜条件等は、形成する無機層１４や膜厚等に応じて、適宜、設定／選択すればよい。
【０１０７】
無機層１４を形成された被成膜材料Ｚｂは、ガイドローラ８４ｂに案内されて、巻取り室６０に搬送される。
巻取り室６０に搬送された被成膜材料Ｚｂは、ガイドローラ９０によって巻取り軸９２に案内され、巻取り軸９２によってロール状に巻回され、材料ロール９３とされる。
【０１０８】
１層目の無機層１４を形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール９３は、有機成膜装置３０の回転軸４２に装填される。
回転軸４２に材料ロール９３が装填されると、被成膜材料Ｚｂ（１層目の無機層１４を形成された積層体２６）は、材料ロール９３から引き出され、搬送ローラ対４８を経て、塗布手段３６、乾燥手段３８および光照射手段４０を通過して、搬送ローラ対５０を経て、巻取り軸４６に至る、所定の搬送経路を通される。
【０１０９】
材料ロール９３から引き出された被成膜材料Ｚｂは、搬送ローラ対４８によって塗布手段３６に搬送され、表面に、有機層１６となる塗料が塗布される。前述のように、有機層１６となる塗料は、形成する有機層１６に応じたモノマー等の有機化合物、シランッカップリング剤、重合開始剤等を有機溶剤に溶解してなるものである。
有機層１６となる塗料が塗布された被成膜材料Ｚｂは、次いで、乾燥手段３８によって加熱されて、有機溶剤を除去され塗料が乾燥される。
【０１１０】
塗料が乾燥された被成膜材料Ｚｂは、次いで、光照射部によって紫外線等を照射され、有機化合物が重合（架橋）されて硬化され、１層目の有機層１６が形成される。なお、必要に応じて、有機層１６となる有機化合物の硬化は、窒素雰囲気等の不活性雰囲気で行うようにしてもよい。また、有機層１６となる有機化合物の硬化の際に、積層体２６を加熱してもよい。
【０１１１】
１層目の有機層１６が形成された被成膜材料Ｚｂは、搬送ローラ対５０によって搬送されて、巻取り軸４６によってロール状に巻回され、無機層１４および有機層１６が１層ずつ形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール６１として、再度、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２に供給される。
【０１１２】
無機層１４および有機層１６が１層ずつ形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール６１は、先と同様、無機成膜装置３２の回転軸６４に装填され、材料ロール６１から、１層の無機層１４および有機層１６が形成された積層体２６が被成膜材料Ｚａとしてが引き出されて巻取り軸９２まで通紙され、１層目の有機層１６の上に２層目の無機層１４が形成されて、無機層１４、有機層１６および無機層１４が形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール９３とされ、再度、図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０に供給される。
【０１１３】
無機層１４、有機層１６および無機層１４が形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール９３は、先と同様に、回転軸４２に装填され、無機層１４、有機層１６および無機層１４が形成された積層体２が被成膜材料Ｚｂとして引き出されて巻取り軸４６まで通紙され、２層目の無機層１４の上に、有機層１６となる塗料が塗布、乾燥され、さらに、硬化されて、２層の無機層１４と２層の有機層１６とが形成された、図１（Ａ）に示されるガスバリアフィルム１０ａとされる。
このガスバリアフィルム１０ａは、巻取り軸４６にロール状に巻回され、ガスバリアフィルム１０ａが巻回された材料ロール６１として、製品として出荷あるいは保管され、もしくは、次の工程等に供給される。
【０１１４】
ここで、本発明においては、前述のように、保護材料２４を有するので、支持体１２が薄手でコシが弱くても、ＲｔｏＲによる無機層１４や有機層１６の形成において、安定した被成膜材料ＺａおよびＺｂの搬送が可能である。
また、前述のように、積層体２６は、粘着層２０と支持体１２とが強粘着で、粘着層２０と保護材料２４とが微粘着である。そのため、無機層１４の形成によって加熱され、また、有機層１６の形成において塗料を乾燥するために加熱され、支持体１２と保護材料２４とが異なる変形をしても、粘着層２０と保護材料２４とが剥離および貼着を繰り返すので、ガスバリアフィルム１０ａは、支持体１２と保護材料２４の剥離や支持体１２のシワ等が生じることがなく、これに起因する無機層１４の損傷を防止できる。
【０１１５】
本発明の製造方法においては、必要に応じて、さらに、ガスバリアフィルム１０ａを作製した後、粘着層２０および保護材料２４を剥離して、支持体１２の表面に無機層１４および有機層１６を２層ずつ有し、支持体１２の裏面には何も有さないガスバリアフィルム１０ｄとする。
【０１１６】
支持体１２の剥離は、ＲｔｏＲを利用して、長尺なシート状物から長尺なシート状物を剥離する、公知の方法で行えばよい。
例えば、材料ロール６１からガスバリアフィルム１０ａを送り出し、長手方向に搬送しつつ、剥離ローラ（剥離ローラ対）によって支持体１２を剥離し、剥離ローラよりも下流において、支持体１２を剥離されたガスバリアフィルム１０ｄを製品用の巻取り軸に巻取り、かつ、剥離した保護材料２４を回収のための巻取り軸に巻き取る方法が例示される。
ここで、本発明においては、前述のように、積層体２６は、粘着層２０と支持体１２とが強粘着で、粘着層２０と保護材料２４とが微粘着である。そのため、支持体１２を剥離すれば、容易に、かつ、支持体１２の裏面に粘着層２０が残存することなく、支持体１２から保護材料２４および粘着層２０を剥離できる。
【０１１７】
以上、本発明の機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。
【実施例】
【０１１８】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。
［実施例１］
支持体１２として、幅１０００ｍｍで厚さが５０μｍの長尺なＣＯＣフィルム（グンゼ社製、Ｆ１フィルム）を用意した。この支持体１２の熱収縮は、ＭＤ方向が０．０５％、ＴＤ方向が０．０２％である。
また、保護材料２４として、幅が１０００ｍｍで厚さが５０μｍの長尺なＰＥＴフィルム（東レ社製、ルミラー）を用意した。このＰＥＴフィルムの熱収縮は、ＭＤ方向が１％、ＴＤ方向が０．５％である。
【０１１９】
保護材料２４の一面に、プラズマ処理による易接着処理を施した。
次いで、この保護材料２４の易接着処理を施した面に、粘着層２０として、アクリル樹脂系接着剤（パナック社製、ＰＸ粘着材）を塗布した。なお、接着剤は、硬化後の粘着層２０の厚さが２５μｍとなるように塗布した。
【０１２０】
次いで、接着剤に紫外線を照射して半硬化状態とした。半硬化状態の接着剤に支持体１２（ＣＯＣフィルム）を貼着して、支持体１２、粘着層２０および保護材料２４からなる積層体２６を作製した。
なお、以上の処理は、接着剤の塗布手段および硬化手段、ならびに、長尺なシート状物の積層手段を有する、ＲｔｏＲによる公知の装置を用いて行った。
この積層体２６の支持体１２および保護材料２４と粘着層２０との粘着力を、剥離試験機を用いてＪＩＳ  Ｚ０２３７に準拠して測定したところ、支持体１２と粘着層２０との粘着力が０．０２５Ｎ／２５ｍｍ、保護材料２４と粘着層２０との粘着力が２５Ｎ／２５ｍｍであった。
【０１２１】
この積層体２６（被成膜材料Ｚａ）を巻回してなる材料ロール６１を、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２の回転軸６４に装填して、支持体１２の表面（粘着層２０と逆面）に、厚さ２５ｎｍの無機層１４を形成した。
【０１２２】
成膜ガスは、シランガス(ＳｉＨ4）、アンモニアガス(ＮＨ3）、窒素ガス(Ｎ2）および水素ガス(Ｈ2）を用いた。供給量は、シランガスが１００sccm、アンモニアガスが２００sccm、窒素ガスが５００sccm、水素ガスが５００sccmとした。また、成膜圧力は５０Ｐａとした。
シャワー成膜電極には、高周波電源から、周波数１３．５ＭＨｚで３０００Ｗのプラズマ励起電力を供給した。さらに、ドラム６２には、バイアス電源から、５００Ｗのバイアス電力を供給した。また、成膜中は、ドラム６２の温度を−２０℃に調整した。
【０１２３】
無機層１４の形成を終了したら、供給室５６、成膜室５８および巻取り室６０に清浄化した乾燥空気を導入して大気開放した。
次いで、無機層１４を形成した積層体２６を巻回してなる材料ロール９３を、巻取り室６０から取り出した。
【０１２４】
無機層１４を形成した積層体２６（被成膜材料Ｚｂ）を巻回してなる材料ロール９３を、図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０の回転軸４２に装填して、無機層１４の表面に、厚さ３μｍの有機層１６を形成した。
有機層１６を形成する塗料は、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）に、ＴＭＰＴＡ（ダイセル・サイテック社製）、光重合開始剤（チバケミカルズ社製  Ｉｒｇ１８９）、シランカップリング剤（信越シリコーン社製  ＫＢＭ５１０３）、および、増加粘剤（大成ファインケミカル社製  アクリット８ＢＲ５００）を添加して、調製した。すなわち、有機層１６は、ＴＭＰＴＡを重合してなる層である。
光重合開始剤の添加量は、有機溶剤を除いた濃度で２質量％、シランカップリング剤の添加量は、有機溶剤を除いた濃度で１０質量％、増加粘剤の添加量は、有機溶剤を除いた濃度で１質量％とした（すなわち固形分におけるＴＭＰＴＡは８７質量％）。また、これらの比率で配合した成分をＭＥＫに希釈した塗料の固形分濃度は、１５質量％（すなわちＭＥＫは８５質量％）とした。
【０１２５】
塗布手段３６はダイコータを用いた。乾燥手段３８は、ノズルからの乾燥風を吹き出す装置を用い、乾燥は８０℃で行った。さらに、光照射手段４０からは紫外線を照射して、重合を行った。なお、紫外線による硬化は、紫外線の照射量が積算照射量で約５００ｍＪ／ｃｍ2となるようにして、支持体１２を裏面側から８０℃に加熱しながら行った。
【０１２６】
次いで、無機層１４の上に有機層１６を形成した積層体２６を巻回してなる材料ロール６１を、再度、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２に装填し、先と同様にして、厚さ５０ｎｍの無機層１４を形成して、無機層１４、有機層１６および無機層１４を形成してなる積層体２６を巻回してなる材料ロール９３を得た。
【０１２７】
さらに、この材料ロール９３を、再度、図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０に装填し、先と同様にして、厚さ０．５μｍの有機層１６を形成して、支持体１２、粘着層２０および保護材料２４からなる積層体２６の表面に、無機層１４、有機層１６、無機層１４および有機層１６を形成してなる、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
【０１２８】
［実施例２〜６］
粘着層２０の厚さを１５μｍにした以外（実施例２）；
粘着層２０の厚さを５０μｍにした以外（実施例３）；
粘着層２０の厚さを１００μｍにした以外（実施例４）；
粘着層２０の厚さを１５０μｍにした以外（実施例５）；
粘着層２０の厚さを２００μｍにした以外（実施例６）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
【０１２９】
［実施例７〜９］
保護材料２４（ＰＥＴフィルム)の厚さを３８μｍにした以外(実施例７)；
保護材料２４の厚さを７５μｍにした以外（実施例８）；
保護材料２４の厚さを２０μｍにした以外（実施例９）；
は、実施例１と同様にして図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
【０１３０】
［実施例１０〜１３］
支持体１２（ＣＯＣフィルム）の厚さを２５μｍに変更した以外（実施例１０）；
支持体１２の厚さを２５μｍに変更し、保護材料２４（ＰＥＴフィルム）の厚さを７５μｍに変更した以外（実施例１１）；
支持体１２の厚さを１００μｍに変更した以外（実施例１２）；
支持体１２の厚さを１００μｍに変更し、保護材料２４の厚さを３８μｍに変更した以外（実施例１３）；
は、実施例１と同様にして図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
【０１３１】
［実施例１４〜１６］
支持体１２（ＣＯＣフィルム）の表面にフッ素コートによる離型処理を施した後に、粘着層２０に貼着した以外（実施例１４）；
支持体１２の表面にプラズマ処理による易接着処理を施した後に、粘着層２０に貼着した以外（実施例１５）；
支持体１２の表面にプラズマ処理による易接着処理を施した後に、粘着層２０に貼着した以外（実施例１６）；
は、実施例１と同様にして、４種類の図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。なお、実施例１６は、実施例１５とは異なる条件で易接着処理を行った。
実施例１と同様に支持体１２と粘着層２０との粘着力を測定したところ、
実施例１４が０．０１Ｎ／２５ｍｍ；
実施例１５が０．０５Ｎ／２５ｍｍ；
実施例１６が０．１５Ｎ／２５ｍｍ；  であった。
【０１３２】
［実施例１７〜１９］
保護材料２４（ＰＥＴフィルム）に施す易接着処理（プラズマ処理）の条件を変更した以外（実施例１７）；
保護材料２４に施す易接着処理の条件を変更した以外（実施例１８）；
保護材料２４に施す易接着処理の条件を変更した以外（実施例１９）；
は、実施例１と同様にして、４種類の図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。なお、実施例１７〜１９は、互いに異なる条件で易接着処理を行った。
実施例１と同様に保護材料２４と粘着層２０との粘着力を測定したところ、
実施例１７が１５Ｎ／２５ｍｍ；
実施例１８が５Ｎ／２５ｍｍ；
実施例１９が５０Ｎ／２５ｍｍ；  であった。
【０１３３】
［実施例２０］
支持体１２を厚さ５０μｍのＰＣフィルム（帝人社製  Ｓ１４８）に変更した以外（実施例１４）は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
なお、この支持体１２の熱収縮は、ＭＤ方向が０．３％、ＴＤ方向が０．３％である。
実施例１と同様に支持体１２と粘着層２０との粘着力を測定したところ、０．０２５Ｎ／２５ｍｍであった。
【０１３４】
［比較例１］
支持体１２（ＣＯＣフィルム）の表面にフッ素コートによる離型処理を施した後に、粘着層２０に貼着した以外は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。なお、この離型処理は、実施例１４とは異なるフッ素コートを用いて行った。
実施例１と同様に支持体１２と粘着層２０との粘着力を測定したところ、０．００５Ｎ／２５ｍｍであった。
【０１３５】
［比較例２］
支持体１２（ＣＯＣフィルム）の表面にプラズマ処理による易接着処理を施した後に、粘着層２０に貼着した以外は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。なお、易接着処理の条件は、実施例１５および１６とは異なる条件とした。
実施例１と同様に、支持体１２と粘着層２０との粘着力を測定したところ、２Ｎ／２５ｍｍであった。
【０１３６】
［比較例３］
保護材料２４（ＰＥＴフィルム）に易接着処理を行わず、フッ素コートによる離型処理を行った以外は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
実施例１と同様に、保護材料２４と粘着層２０との粘着力を測定したところ、１Ｎ／２５ｍｍであった。
【０１３７】
［比較例４］
保護材料２４（ＰＥＴフィルム）に施す易接着処理（プラズマ処理）の条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、４種類の図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。なお、易接着処理の条件は、実施例１７〜１９とは異なる条件とした。
実施例１と同様に保護材料２４と粘着層２０との粘着力を測定したところ、６０Ｎ／２５ｍｍであった。
【０１３８】
［評価］
このようにして作製した実施例１〜２０および比較例１〜４のガスバリアフィルム１０ａについて、ガスバリアフィルム１０ａの変形性、保護材料２４を剥離する前のガスバリアフィルム１０ａのガスバリア性、保護材料２４の剥離性、および、保護材料２４を剥離したガスバリアフィルム１０ｄのガスバリア性を評価した。
【０１３９】
＜ガスバリアフィルム１０ａの変形性＞
任意に選択した１ｍ2の領域において、目視による確認によって、作製したガスバリアフィルム１０ａの変形性を、評価した。
全く変形が認められない場合を『ＡＡＡ』；
僅かな変形が１箇所確認できる場合を『ＡＡ』；
僅かな変形が２〜３箇所確認できる場合を『Ａ』；
僅かな変形が４〜５箇所確認できる場合を『Ｂ』；
変形は見られるが、実用上問題にならない場合を『Ｃ』；
大きな変形が有り、実用上も使用できない場合を『Ｄ』；
全面的に大きな変形が有り、実用上も使用できない場合を『Ｅ』；  と評価した。
【０１４０】
＜剥離前のガスバリア性（バリア性）＞
作製したガスバリアフィルム１０ａの水蒸気透過率[g/(m2・day)]を、カルシウム腐食法（特開２００５−２８３５６１号公報に記載される方法）によって、測定した。なお、恒温恒湿処理の条件は、温度４０℃、湿度９０％ＲＨとした。
７×１０-6[g/(m2・day)]未満のものを『ＡＡＡ』；
７×１０-6[g/(m2・day)]以上、９×１０-6[g/(m2・day)]未満のものを『ＡＡ』；
９×１０-6[g/(m2・day)]以上、３×１０-5[g/(m2・day)]未満のものを『Ａ』；
３×１０-5[g/(m2・day)]以上、５×１０-5[g/(m2・day)]未満のものを『Ｂ』；
５×１０-5[g/(m2・day)]以上、９×１０-5[g/(m2・day)]未満のものを『Ｃ』；
９×１０-5[g/(m2・day)]以上、３×１０-4[g/(m2・day)]未満のものを『Ｄ』；
３×１０-4[g/(m2・day)]以上のものを『Ｅ』；  と、評価した。
【０１４１】
＜保護材料２４の剥離性＞
剥離試験機によってガスバリアフィルム１０ａから保護材料２４（および粘着層２０）を剥離して、図１（Ｄ）に示すガスバリアフィルム１０ｄとした。
このガスバリアフィルム１０ｄについて、目視によって、支持体１２の変形および支持体１２への粘着層２０の残存を確認することで、保護材料２４の剥離性を評価した。保護材料２４の剥離性が悪い方が、支持体１２の変形や、支持体１２への粘着層２０の残存が発生し易くなる。
剥離しても、支持体１２の変形が発生せず、かつ、支持体１２への粘着層２０の残存が全く無い場合を『Ａ』；
剥離によって、支持体１２の変形、および、支持体１２への粘着層２０の残存の少なくとも一方が、僅かに発生する場合を『Ｂ』；
剥離によって、支持体１２の変形、および、支持体１２への粘着層２０の残存の少なくとも一方が、剥離方向に断続的に発生する場合を『Ｃ』；
剥離によって、支持体１２の変形、および、支持体１２への粘着層２０の残存の少なくとも一方が、剥離方向に連続的に発生し、実用上も使用できない場合を『Ｄ』；
剥離できない、支持体１２の破断、および、全面的な粘着層２０の残存が認められる、のいずれか１つでも発生した場合を『Ｅ』；  と評価した。
【０１４２】
＜剥離後のガスバリア性（バリア性）＞
剥離前のガスバリア性と同様にして、保護材料２４を剥離したガスバリアフィルム１０ｄの水蒸気透過率[g/(m2・day)]を測定し、同様に評価した。
結果を下記の表に示す。
【０１４３】
【表１】
0005943893.tif 000002
【０１４４】
上記表に示されるように、本発明のガスバリアフィルムは、いずれも、９×１０-5[g/(m2・day)]未満という優れたガスバリア性を有する。
なお、実施例１５および１６は、保護材料２４の剥離性が、他の例よりも、若干、低いため、保護材料２４の剥離時に支持体１２に若干の変形が生じ、これに起因して、無機層１４が、若干、損傷してしまい、その結果、保護材料２４の剥離前に比して、剥離後のガスバリア性が、若干、低下していると考えられる。
【０１４５】
これに対し、支持体１２と粘着層２０との粘着力が０．００５Ｎ／２５ｍｍで、保護材料２４と粘着層２０との粘着力が２５Ｎ／２５ｍｍである比較例１は、支持体１２と粘着層２０との粘着力が弱すぎるため、支持体１２と粘着層２０との剥離が生じて、無機層１４の形成時等に搬送が不安定になってしまい、これに起因して無機層１４に割れやヒビ等が生じて、ガスバリア性が低下したと考えられる。
また、支持体１２と粘着層２０との粘着力が２Ｎ／２５ｍｍで、保護材料２４と粘着層２０との粘着力が２５Ｎ／２５ｍｍである比較例２は、支持体１２と粘着層２０との接着力が強すぎるため、保護材料２４と支持体１２との熱変形の違いに起因する支持体１２の変形を抑制できず、この支持体１２の変形に起因して無機層１４に割れやヒビ等が生じてしまい、ガスバリア性が低下したと考えられる。また、支持体１２と粘着層２０との接着力が強すぎるため、支持体１２から粘着層２０および保護材料２４を剥離する際にも、無機層１４等にダメージを与えていることが考えられる。加えて、この例は、保護材料２４の剥離性が低いため、保護材料２４の剥離時に支持体１２に変形が生じ、これに起因して、無機層１４が損傷してしまい、その結果、保護材料２４の剥離前に比して、剥離後のガスバリア性が低下していると考えられる。
【０１４６】
また、支持体１２と粘着層２０との粘着力が０．０２５Ｎ／２５ｍｍで、保護材料２４と粘着層２０との粘着力が１Ｎ／２５ｍｍである比較例３は、保護材料２４と粘着層２０との粘着力が弱すぎるため、保護材料２４の剥離が生じて、無機層１４の形成時等に搬送が不安定になってしまい、これに起因して無機層１４に割れやヒビ等が生じて、ガスバリア性が低下したと考えられる。また、粘着層２０および支持体１２の粘着力と、粘着層２０および保護材料２４の粘着力との差が小さいため、支持体１２から粘着層２０および保護材料２４を剥離する際にも、無機層１４等にダメージを与えていることが考えられる。加えて、この例は、保護材料２４の剥離性が低いため、保護材料２４の剥離時に支持体１２に破断が生じ、これに起因して、無機層１４が損傷してしまい、その結果、保護材料２４の剥離前に比して、剥離後のガスバリア性が低下していると考えられる。
さらに、支持体１２と粘着層２０との粘着力が０．０２５Ｎ／２５ｍｍで、保護材料２４と粘着層２０との粘着力が６０Ｎ／２５ｍｍである比較例４は、保護材料２４と粘着層２０との接着力が強すぎて剛性が高い状態となってしまったため、支持体１２の変形を抑制できず、この支持体１２の変形に起因して無機層１４に割れやヒビ等が生じてしまい、ガスバリア性が低下したと考えられる。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
【産業上の利用可能性】
【０１４７】
有機ＥＬデバイスの保護フィルム等として、好適に利用可能である。
【符号の説明】
【０１４８】
１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ  ガスバリアフィルム
１２  支持体
１４  無機層
１６  有機層
２０  粘着層
２４  保護材料
２６  積層体
３０  有機成膜装置
３２  無機成膜装置
３６  塗布手段
３８  乾燥手段
４０  光照射手段
４２，６４  回転軸
４６，９２  巻取り軸
４８，５０  搬送ローラ対
５６  供給室
５８  成膜室
６０  巻取り室
６８，８４ａ，８４ｂ，９０  ガイドローラ
７０，７４，７６  真空排気手段
７２，７５  隔壁
８０  ドラム
【図１】
0005943893.tif 000003
【図２】
0005943893.tif 000004