(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
システムを備えるリソグラフィ装置であって、
前記システムは、
第１部と、
前記第１部に対して移動する第２部であって、前記システムは、前記システムの動作モード中に前記第１部と前記第２部との間に位置するギャップを有する、第２部と、
前記システムの動作モード中に前記ギャップの外側に位置する挿入素子と、を備え、
前記挿入素子は、前記システムの故障モード中に前記ギャップに挿入される、リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記システムは、ステータとムーバとを備え、前記第１部を前記第２部に対して移動させるために前記ステータと前記ムーバとの間に力を生じさせる、アクチュエータであり、
前記第１部は、前記ステータを備え、
前記第２部は、前記ムーバを備え、
前記ギャップは、前記ステータと前記ムーバとの間に位置する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記システムの故障モードにおいて前記第１部および前記第２部が互いに衝突する場合に前記第１部と前記第２部との間のエネルギーを吸収するためのエネルギー吸収素子を更に備え、
前記第１部は、第１ボディを備え、
前記ステータは、前記第１ボディに対して移動可能であり、
前記エネルギー吸収素子は、前記ステータと前記第１ボディとの間に接続される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記ステータは、前記ムーバに面する第１側面を備え、
前記エネルギー吸収素子は、前記第１側面以外の前記ステータの側面に接続される、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記エネルギー吸収素子は、前記ステータの前記第１側面と反対側の前記ステータの側面に接続される、請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記リソグラフィ装置は、前記ステータを前記第１ボディに対して誘導して所定方向に移動するための誘導素子を更に備える、請求項３乃至請求項５のうち何れか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記第１部を備えるロングストロークステージと、
前記第２部を備えるショートストロークステージと、を備える、請求項２乃至請求項６のうち何れか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
放射ビームを基板上に投影するための投影システムと、
前記基板を前記投影システムに対して位置決めするための前記システムを備える位置決めデバイスと、を備え、
前記第２部は、前記基板を保持するための基板テーブルを備える、請求項２乃至請求項７のうち何れか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
リソグラフィ装置のアクチュエータを衝突から保護する方法であって、
前記リソグラフィ装置は、第１部と、前記第１部に対して移動する第２部とを備え、
前記リソグラフィ装置は、前記リソグラフィ装置の動作モード中に前記第１部と前記第２部との間に位置するギャップを有しており、
前記方法は、  
前記リソグラフィ装置の動作モード中に前記ギャップの外側に挿入素子を位置決めすることと、
前記リソグラフィ装置の故障モード中に前記挿入素子を前記ギャップに挿入することを含む、方法。
【請求項１０】
システムを備えるリソグラフィ装置であって、
前記システムは、
第１部と、
前記第１部に対して移動する第２部であって、前記システムは、前記システムの動作モード中に前記第１部と前記第２部との間に位置するギャップを有する、第２部と、
前記システムの故障モードにおいて前記第１部および前記第２部が互いに衝突する場合に前記第１部と前記第２部との間のエネルギーを吸収するためのエネルギー吸収素子と、を備え、
前記エネルギー吸収素子は、前記ギャップの外側にあり、
前記システムは、ステータとムーバとを備え、前記第１部を前記第２部に対して移動させるために前記ステータと前記ムーバとの間に力を生じさせる、アクチュエータであり、
前記第１部は、前記ステータを備え、
前記第２部は、前記ムーバを備え、
前記ギャップは、前記ステータと前記ムーバとの間に位置しており、
前記第１部は、第１ボディを備え、
前記ステータは、前記第１ボディに対して移動可能であり、
前記エネルギー吸収素子は、前記ステータと前記第１ボディとの間に接続されており、
前記リソグラフィ装置は、前記第１ボディに対する前記ステータの位置を調整するための調整素子を更に備える、リソグラフィ装置。
【請求項１１】
システムを備えるリソグラフィ装置であって、
前記システムは、
第１部と、
前記第１部に対して移動する第２部であって、前記システムは、前記システムの動作モード中に前記第１部と前記第２部との間に位置するギャップを有する、第２部と、
前記システムの故障モードにおいて前記第１部および前記第２部が互いに衝突する場合に前記第１部と前記第２部との間のエネルギーを吸収するためのエネルギー吸収素子と、を備え、
前記エネルギー吸収素子は、前記ギャップの外側にあり、
前記リソグラフィ装置は、前記リソグラフィ装置が前記故障モードである場合に前記第１部および／または前記第２部に接触するように、前記ギャップに挿入される挿入素子を備える、リソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記リソグラフィ装置は、前記リソグラフィ装置が前記動作モードである場合に前記ギャップの外側の位置で前記挿入素子を保持するため、かつ、前記リソグラフィ装置が前記故障モードである場合に前記挿入素子を解放するための保持素子を備える、請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
システムを備えるリソグラフィ装置であって、
前記システムは、
第１部と、
前記第１部に対して移動する第２部であって、前記システムは、前記システムの動作モード中に前記第１部と前記第２部との間に位置するギャップを有する、第２部と、
前記システムの故障モードにおいて前記第１部および前記第２部が互いに衝突する場合に前記第１部と前記第２部との間のエネルギーを吸収するためのエネルギー吸収素子と、を備え、
前記エネルギー吸収素子は、前記ギャップの外側にあり、
前記リソグラフィ装置は、前記リソグラフィ装置が前記故障モードである場合にエネルギーを吸収するためのガスバッグを更に備える、リソグラフィ装置。
【請求項１４】
リソグラフィ装置のアクチュエータを衝突から保護する方法であって、
前記アクチュエータは、ステータとムーバとの間の力を生じさせるように、前記ステータと前記ムーバとを有し、
前記リソグラフィ装置は、第１部と、前記第１部に対して移動するように構成された第２部とを備え、
前記第１部は前記ステータと、第１ボディと、前記ステータと前記第１ボディとの間のエネルギー吸収素子とを備え、
前記第２部は、前記ムーバを備え、
前記リソグラフィ装置は、動作モードにおいて前記ステータと前記ムーバとの間に位置するギャップを有し、
前記方法は、
故障モードにおいて前記ステータと前記ムーバとを互いに衝突させることと、
前記ステータを前記第１ボディに対して移動させることによって前記エネルギー吸収素子でエネルギーを吸収することと、
前記リソグラフィ装置が衝突している場合に挿入素子を前記ギャップの内側に移動させることと、を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[関連出願の相互参照]
[0001]  本出願は、２０１２年４月２７日に出願された米国仮出願第６１／６３９，５２２号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
[0002]  本発明は、アクチュエータを備えるリソグラフィ装置、およびアクチュエータを保護する方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常、基板のターゲット部分上に付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。そのような場合、ＩＣの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いることができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、ダイの一部、または１つ以上のダイを含む）に転写することができる。通常、パターンの転写は、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層上への結像によって行われる。一般には、単一の基板が、連続的にパターニングされる隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置としては、ターゲット部分上にパターン全体を一度に露光することにより各ターゲット部分を照射する、いわゆるステッパ、および放射ビームによってある特定の方向（「スキャン」方向）にパターンをスキャンすると同時に、この方向に平行または逆平行に基板をスキャンすることにより各ターゲット部分を照射する、いわゆるスキャナが含まれる。パターンを基板上にインプリントすることにより、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００４】
[0004]  リソグラフィ装置は、ステータが設けられた第１部とムーバが設けられた第２部との間の力を及ぼすアクチュエータを有し得る。ステータとムーバとの間にギャップが存在し得る。装置の故障中にムーバがステータに衝突するおそれがある。
【発明の概要】
【０００５】
[0005]  リソグラフィ装置においてシステムに衝突保護部を設けることが望ましい。
【０００６】
[0006]  本発明の一実施形態によれば、システムを備えるリソグラフィ装置が提供される。システムは、第１部と、第２部と、エネルギー吸収素子とを備える。第２部は、第１部に対して移動するように構成される。システムは、システムの動作モード中に、第１部と第２部との間に位置するギャップを有する。エネルギー吸収素子は、システムの故障モードにおいて第１部と第２部が互いに衝突する場合に第１部と第２部との間のエネルギーを吸収するためのものである。エネルギー吸収素子は、ギャップの外側にある。
【０００７】
[0007]  本発明の別の実施形態において、リソグラフィ装置のアクチュエータを衝突から保護する方法が提供される。アクチュエータは、ステータとムーバとの間に力を生じさせるように、ステータおよびムーバを有する。リソグラフィ装置は、第１部と、第１部部に対して移動するように構成された第２部とを備える。第１部は、ステータと、第１ボディと、ステータと第１ボディとの間のエネルギー吸収素子とを備える。第２部は、ムーバを備える。リソグラフィ装置は、動作モードにおいて、ステータとムーバとの間に位置するギャップを有する。当該方法は、故障モードにおいてステータとムーバとを互いに衝突させることと、ステータを第１ボディに対して移動させることによってエネルギー吸収素子でエネルギーを吸収することとを含む。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
[0008]  本発明のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の概略図を参照して以下に説明する。これらの図面において同じ参照符号は対応する部分を示す。
【０００９】
【図１】[0009]  図１は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置を示す。
【図２ａ】[0010]  図２ａは、発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のアクチュエータを示す。
【図２ｂ】[0010]  図２ｂは、発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のアクチュエータを示す。
【図２ｃ】[0010]  図２ｃは、発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のアクチュエータを示す。
【図３】[0011]  図３は、発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のアクチュエータを示す。
【図４ａ】[0012]  図４ａは、発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のアクチュエータを示す。
【図４ｂ】[0012]  図４ｂは、発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のアクチュエータを示す。
【図４ｃ】[0012]  図４ｃは、発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のアクチュエータを示す。
【図４ｄ】[0012]  図４ｄは、発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のアクチュエータを示す。
【図５ａ】[0013]  図５ａは、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のリラクタンスアクチュエータの断面を示す。
【図５ｂ】[0013]  図５ｂは、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のリラクタンスアクチュエータの断面を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
[0014]  図１は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置を概略的に示している。このリソグラフィ装置は、放射ビームＢ（例えば、紫外線または他の適切な放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するように構築され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１位置決めデバイスＰＭに連結されたサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、を含む。また、このリソグラフィ装置は、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構築され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２位置決めデバイスＰＷに連結された基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴまたは「基板サポート」を含む。さらに、リソグラフィ装置は、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付けられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）上に投影するように構成された投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００１１】
[0015]  照明システムとしては、放射を誘導し、整形し、または制御するための、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、またはその他のタイプの光コンポーネント、あるいはそれらのあらゆる組合せなどのさまざまなタイプの光コンポーネントを含むことができる。
【００１２】
[0016]  サポート構造は、パターニングデバイスを支持する、すなわち、パターニングデバイスの重量を支える。サポート構造は、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および、パターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否かなどの他の条件に応じた態様で、パターニングデバイスを保持する。サポート構造は、機械式、真空式、静電式またはその他のクランプ技術を使って、パターニングデバイスを保持することができる。サポート構造は、例えば、必要に応じて固定または可動式にすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。サポート構造は、パターニングデバイスを、例えば、投影システムに対して所望の位置に確実に置くことができる。本明細書において使用される「レチクル」または「マスク」という用語はすべて、より一般的な「パターニングデバイス」という用語と同義であると考えるとよい。
【００１３】
[0017]  本明細書において使用される「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分内にパターンを作り出すように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用できるあらゆるデバイスを指していると、広く解釈されるべきである。なお、留意すべき点として、放射ビームに付与されたパターンは、例えば、そのパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分内の所望のパターンに正確に一致しない場合もある。通常、放射ビームに付けたパターンは、集積回路などのターゲット部分内に作り出されるデバイス内の特定機能層に対応することになる。
【００１４】
[0018]  パターニングデバイスは、透過型であっても、反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィでは公知であり、バイナリ、レベンソン型(alternating)位相シフト、およびハーフトーン型(attenuated)位相シフトなどのマスク型、ならびに種々のハイブリッドマスク型を含む。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型ミラーのマトリックス配列が用いられており、各小型ミラーは、入射する放射ビームを様々な方向に反射させるように、個別に傾斜させることができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリックスによって反射される放射ビームにパターンを付ける。
【００１５】
[0019]  本明細書において使用される「投影システム」という用語は、使われている露光放射にとって、あるいは液浸液の使用または真空の使用といった他の要因にとって適切な、屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁型、および静電型光学系、またはそれらのあらゆる組合せを含むあらゆる型の投影システムを包含していると広く解釈されるべきである。本明細書において使用される「投影レンズ」という用語はすべて、より一般的な「投影システム」という用語と同義であると考えるとよい。
【００１６】
[0020]  本明細書に示されているとおり、リソグラフィ装置は、透過型のもの（例えば、透過型マスクを採用しているもの）である。また、リソグラフィ装置は、反射型のもの（例えば、上述のプログラマブルミラーアレイを採用しているもの、または反射型マスクを採用しているもの）であってもよい。
【００１７】
[0021]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブルまたは「基板サポート」（および／または２つ以上のマスクテーブルまたは「マスクサポート」）を有する型のものであってもよい。そのような「マルチステージ」マシンにおいては、追加のテーブルまたはサポートは並行して使うことができ、または予備工程を１つ以上のテーブルまたはサポート上で実行しつつ、別の１つ以上のテーブルまたはサポートを露光用に使うこともできる。
【００１８】
[0022]  また、リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように、比較的高屈折率を有する液体（例えば水）によって基板の少なくとも一部を覆うことができるタイプのものであってもよい。また、リソグラフィ装置内の別の空間（例えば、マスクと投影システムとの間）に液浸液を加えてもよい。浸漬技術を用いて投影システムの開口数を増加させることができる。本明細書において使用される「液浸」という用語は、基板のような構造物を液体内に沈めなければならないという意味ではなく、単に、露光中、投影システムと基板との間に液体があるということを意味するものである。
【００１９】
[0023]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受ける。例えば、放射源がエキシマレーザである場合、放射源とリソグラフィ装置は、別個の構成要素であってもよい。そのような場合には、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成しているとはみなされず、また放射ビームは、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ、例えば、適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤを使って送られる。その他の場合においては、例えば、放射源が水銀ランプである場合、放射源は、リソグラフィ装置の一体部分とすることもできる。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要ならばビームデリバリシステムＢＤとともに、放射システムと呼んでもよい。
【００２０】
[0024]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調節するように構成されたアジャスタＡＤを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側および／または内側半径範囲（通常、それぞれσ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯといったさまざまな他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータを使って放射ビームを調整すれば、放射ビームの断面に所望の均一性および強度分布をもたせることができる。
【００２１】
[0025]  放射ビームＢは、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ上に保持されているパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ上に入射して、パターニングデバイスによってパターン形成される。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを通り抜けた後、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームの焦点をあわせる。第２位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、または静電容量センサ）を使って、例えば、さまざまなターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置付けるように、基板テーブルＷＴを正確に動かすことができる。同様に、第１位置決めデバイスＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示されていない）を使い、例えば、パターニングデバイスライブラリから機械的に取り出した後またはスキャン中に、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置付けることもできる。通常、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴの移動は、第１位置決めデバイスＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を使って達成することができる。同様に、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の移動も、第２ポジショナＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使って達成することができる。ステッパの場合は（スキャナとは対照的に）、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴは、ショートストロークアクチュエータのみに連結されてもよく、または固定されてもよい。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡおよび基板Ｗは、パターニングデバイスアライメントマークＭ１およびＭ２と、基板アライメントマークＰ１およびＰ２とを使って、位置合わせされてもよい。例示では基板アライメントマークが専用ターゲット部分を占めているが、基板アライメントマークをターゲット部分とターゲット部分との間の空間内に置くこともできる（これらは、スクライブラインアライメントマークとして公知である）。同様に、複数のダイがパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ上に設けられている場合、パターニングデバイスアライメントマークは、ダイとダイの間に置かれてもよい。
【００２２】
[0026]  例示の装置は、以下に説明するモードのうち少なくとも１つのモードで使用できる。
１．ステップモードにおいては、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」および基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」を基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分Ｃ上に投影する（すなわち、単一静的露光）。その後、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」は、Ｘおよび／またはＹ方向に移動され、それによって別のターゲット部分Ｃを露光することができる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光時に結像されるターゲット部分Ｃのサイズが限定される。
２．スキャンモードにおいては、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」および基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」を同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する（すなわち、単一動的露光）。サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の速度および方向は、投影システムＰＳの（縮小）拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光時のターゲット部分の幅（非スキャン方向）が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ（スキャン方向）が決まる。
３．別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」を基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」を動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００２３】
[0027]  上述の使用モードの組合せおよび／またはバリエーション、あるいは完全に異なる使用モードもまた採用可能である。
【００２４】
[0028]  図２ａ〜図２ｃは、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置用のシステム２００を示している。システム２００は、アクチュエータを備え得る。図２ａにおいて、リソグラフィ装置のアクチュエータ２００は、動作モードである。動作モードにおいて、リソグラフィ装置は、リソグラフィプロセスの少なくとも一部を実行可能であり得る。動作モードは、基板を露光することと、リソグラフィプロセスに必要な測定を行うことと、または投影システムに対して基板を位置決めすることと、を含み得る。動作モードは、例えば所望のセットポイントに従って所望の方法でムーバをステータに対して移動させることを含み得る。アクチュエータ２００は、ステータ２０８が設けられた第１部と、ムーバ２０４が設けられた第２部と、エネルギー吸収素子２１０とを備え得る。第１部は、ロングストロークステージ部２０６とすることができ、第２部は、ショートストロークステージ部２０２とすることができる。ステータ２０８は、接触部分２２０を有する第１側面を備え得る。接触部分２２０は、パッドならびに／もしくはセンサおよびフラックスセンサコイルを備え得る。ステータ２０８とムーバ２０４との間にギャップ２１６が形成され得る。エネルギー吸収素子２１０は、（例えば、予張力が加えられた）ばね２１１および／またはダンパ（図２ａ〜図２ｃに示されていない）を備え得る。エネルギー吸収素子２１０は、一時的または永続的にエネルギーを吸収可能なあらゆる適切なタイプの素子であってよい。
【００２５】
[0029]  ロングストロークステージ部２０６は、ショートストロークステージ部２０２に実質的に平行な長手方向に延在し得る。ロングストロークステージ部２０６およびショートストロークステージ部２０２は、第１位置決めデバイスＰＭもしくは第２位置決めデバイスＰＷ、または両方において設けられ得る（図１を参照）。ロングストロークステージ部２０６は、調整素子２３２およびペデスタル２３０を備え得る。調整素子２３２およびペデスタル２３０によって凹み２１２が形成される。
【００２６】
[0030]  ムーバ２０４は、ショートストロークステージ部２０２に取り付けられ得る。ステータ２０８は、ロングストロークステージ部２０６の凹み２１２の内側に部分的に設けられ得る。エネルギー吸収素子２１０は、ステータ２０８の第１側面以外のステータ２０８の側面に取り付けられた１つの端部を有してよく、ペデスタル２３０に取り付けられた他の端部を有してよい。ペデスタル２３０は、第１部の一部であるあらゆるタイプのボディ、例えば、ロングストローク部２０６に取り付けられた別個のボディ、またはロングストローク部２０６と一体化された別個のボディであってよい。エネルギー吸収素子２１０は、ショートストロークステージ部２０２およびロングストロークステージ部２０６に実質的に平行な長手方向に延在し得る。ステータ２０８は、ペデスタル２３０に対して移動できてよく、例えば、誘導素子２４０によって凹み２１２において摺動可能に移動できてよい。あるいは、凹み２１２は、省略されてもよい。ムーバ２０４が特定のスピードでステータ２０８と逆の方向に移動する場合、ペデスタル２３０は、エネルギー吸収素子２１０に対して十分な剛性をもたらし得る。調整素子２３２は、ステータ２０８の第１側面と接触し得る。調整素子２３２は、ステータ２０８に対して十分な剛性をもたらして、ペデスタル２３０に対して所定位置でステータ２０８を保持し得る。調整素子２３２を用いて、ムーバ２０４とステータ２０８との間の公称ギャップを設定し得る。公称ギャップは、アクチュエータが高効率を有するサイズに設定され得る。誘導素子２４０は、ムーバ２０４がステータ２０８に衝突する場合に、エネルギー吸収素子２１０の変形および／または所定方向におけるステータ２０８の移動を誘導し得る。エネルギー吸収素子２１０に加えて、あるいはその代わりに、別個のエネルギー吸収素子を設けてよい（図２ａ〜図２ｃに示されていない）。この別個のエネルギー吸収素子を適切な位置に設けることで、ロングストローク部２０６とショートストローク部２０２が衝突する場合、それらの間のエネルギーを吸収することができる。
【００２７】
[0031]  一実施形態において、誘導素子は、クロスローラガイド、Ｒｚ回転を可能にする１つ以上のストラット、板バネ、接触ボール、および／またはプレテンション能力を有する素子を備え得る。誘導素子は、摺動接触素子であってもよい。ステータ２０８は、摺動接触素子に摺動可能に結合され得る。ムーバ２０４がステータ２０８に衝突すると、ステータ２０８は、摺動接触素子上で摺動可能に移動することができる。あるいは、誘導素子は、ステータがペデスタル２３０に対して回転することを可能にするヒンジを備え得る。
【００２８】
[0032]  一実施形態において、エネルギー吸収素子２１０は、ステータ２０８の第１側面と反対側のステータ２０８の側面に取り付けられ得る。
【００２９】
[0033]  一実施形態において、接触部分２２０は、テフロン（登録商標）で形成され得る。
【００３０】
[0034]  図２ｂにおいて、リソグラフィ装置のアクチュエータ２００は、故障モードである。ムーバ２０４は、ステータ２０８に衝突するまでステータ２０８に向かって移動し得る。衝突は、図２ｂにおいて称されるＦの方向の力Ｆをもたらし得る。ムーバ２０４は、ムーバ２０４とステータ２０８との間の相対移動に起因して、ステータ２０８の接触部分２２０に接触し得る。ステータ２０８は、ムーバ２０４の力Ｆに起因してＦの方向に移動できてよく、例えば、摺動可能に移動できてよい。エネルギー吸収素子２１０のダンパは、衝突の衝撃エネルギーを吸収し得る。ばね２１１は、それに応じて縮んで衝突の衝撃エネルギーを弾性位置エネルギーに変換することができ、それによってステータ２０８の変形および／または損傷のリスクを低減させる。
【００３１】
[0035]  一実施形態において、ばね２１１は、予張力が加えられた形態をとることができ、それによってプレテンション力をステータ２０８に与える。ムーバ２０４がステータ２０８に衝突すると、プレテンション力は、衝突中にステータ２０８に加えられた力Ｆを（部分的に）補償し得る。エネルギー吸収素子２１０は、衝突の衝撃エネルギーを吸収するダンパ以外の追加のエネルギー吸収素子を備え得る。一実施形態において、追加のエネルギー吸収素子は、ショックアブソーバとすることができる。ショックアブソーバは、ロングストロークステージ部２０６上に設けられ得る。ステータ２０８、ばね２１１、調整素子２３２、およびショートストロークステージ部２０２の重心／力の中心（ＣｏＧ／ＣｏＦ）は、Ｆの方向に平行な同一のラインに沿って位置合わせされ得る。
【００３２】
[0036]  図２ｃにおいて、リソグラフィ装置の故障モードの間、エネルギー吸収素子２１０のばね２１１は、衝突によって生じたすべての衝撃エネルギーがばね２１１の位置エネルギーに変換され得るようにある程度まで縮む。従って、リソグラフィ装置の故障モード中のステータ２０８の変形のリスクは低減し得る。エネルギー吸収素子２１０はギャップ２１６の外側に設けられるので、これは、アクチュエータ２００の力効率を向上させる、ギャップ２１６の長さの縮小をもたらし得る。
【００３３】
[0037]  一実施形態において、エネルギー吸収素子２１０は、２つのステータ間、または、ロングストロークステージ部２０６の長手方向に垂直な方向において、ステータ２０８とロングストロークステージ部２０６の凹み２１２との間に置かれ得る。
【００３４】
[0038]  調整素子２３２は、ロングストロークステージ部２０６上の特定の位置でステータ２０８および／またはばね２１１を保持するように構成された保持素子としても機能し得る。
【００３５】
[0039]  図３は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置用のシステム３００を示している。システム３００は、アクチュエータとすることができる。図３において、アクチュエータ３００は、ステータ３０８が設けられた第１部と、ムーバ３０４が設けられた第２部と、エネルギー吸収素子３１０とを備え得る。第１部は、ロングストロークステージ部３０６とすることができ、第２部は、ショートストロークステージ部３０２とすることができる。ステータ３０８は、接触部分３２０を有する第１側面を備え得る。接触部分３２０は、パッド、センサ、および／またはフラックスセンサコイルを備え得る。ステータ３０８とムーバ３０４との間にギャップ３１６が形成され得る。エネルギー吸収素子３１０は、（例えば、予張力が加えられた）ばね３１１および／またはダンパ（図３に示されていない）を備え得る。
【００３６】
[0040]  ロングストロークステージ部３０６は、ショートストロークステージ部３０２に実質的に平行な長手方向に延在し得る。ロングストロークステージ部３０６およびショートストロークステージ部３０２は、図１に示すように、第１位置決めデバイスＰＭもしくは第２位置決めデバイスＰＷ、または両方において設けられ得る。ロングストロークステージ部３０６は、調整素子３３２および堅牢なペデスタル３３０を備え得る。調整素子３３２およびペデスタル３３０によって凹み３１２が形成され得る。
【００３７】
[0041]  ムーバ３０４は、ショートストロークステージ部３０２に取り付けられ得る。エネルギー吸収素子３１０は、ステータ３０８の第１側面以外のステータ３０８の側面に取り付けられた１つの端部を有してよく、ペデスタル３３０に取り付けられた他の端部を有してよい。エネルギー吸収素子３１０は、ショートストロークステージ部３０２およびロングストロークステージ部３０６に実質的に平行な長手方向に延在し得る。ステータ３０８は、移動できてよく、例えば、誘導素子３４０によってロングストロークステージ部３０６上で摺動可能に移動できてよい。ペデスタル３３０は、エネルギー吸収素子３１０に対して十分な剛性をもたらし得る。ステータ３０８は、調整素子３３２と接触した第１側面を有し得る。調整素子３３２は、矩形を有してよく、ロングストロークステージ部３０６に取り付けられ得る。調整素子３３２は、ロングストロークステージ部３０６に沿って第１の所定位置まで摺動可能に移動し得る。ステータ３０８は、それに応じて、ロングストロークステージ部３０６に沿って第２の所定位置まで摺動可能に移動し得る。従って、ギャップ３１６の長さは、調整素子３３２によって所定値まで調整され得る。調整素子３３２は、ステータ３０８に対して十分な剛性をもたらし得る。誘導素子３４０は、ムーバ３０４がステータ３０８に衝突する場合に、エネルギー吸収素子３１０の変形および／または所定方向におけるステータ３０８の移動を誘導し得る。
【００３８】
[0042]  一実施形態において、調整素子３３２は、ステータ３０８の第１側面以外のステータ３０８の側面に接触し得る。
【００３９】
[0043]  一実施形態において、調整素子３３２は、ロングストロークステージ部３０６上の所定位置でステータ３０８を保持するように構成されたクランプを備え得る。クランプは、シヤークランプまたはピンとすることができる。クランプは、衝突中にステータ３０８に加えられた衝突力Ｆを（部分的に）補償し得る摩擦力またはクランプ力をステータ３０８に対して与え得る。調整素子は、回転モータと、主ねじと、接触素子とを備え得る。接触素子は、主ねじを介して回転モータに接続され得る。接触素子は、ステータ３０８に接触し得る。回転モータを回転させることによって、ステータ３０８は、ロングストロークステージ部３０６に沿って所定位置まで摺動可能に移動し得る。調整素子は、主ねじを介して回転モータに接続された層をさらに備え得る。層は、ロングストロークステージ部３０６およびショートストロークステージ部３０２の長手方向に平行である。ステータ、ペデストル、および接触素子は、層上に設けられ得る。ペデストルおよびステータの両方に対してばねが接続され得る。接触素子は、ステータ３０８に接触し得る。回転モータを回転させることによって、ステータ３０８は、層に沿って所定位置まで摺動可能に移動し得る。調整素子は、第１の所定位置と第２の所定位置との間を移動するステータ３０８を誘導する機械的記憶素子を備え得る。調整素子３３２は、ピエゾウォーク型アクチュエータ、慣性スライダ型アクチュエータ、主ねじ型アクチュエータ、減速装置を有する回転型アクチュエータ、磁気制限型アクチュエータ、尺取型アクチュエータなどの異なるタイプのアクチュエータ、またはそれらのあらゆる組合せによって駆動され得る。異なるタイプのアクチュエータは、直列または並列に配置され得る。調整素子３３２の異なるタイプのアクチュエータは、ステータ３０８を所定位置まで駆動し得る。また、該アクチュエータは、ステータ３０８にクランプ力を与え得る。
【００４０】
[0044]  図４ａ〜図４ｄは、本発明のさらなる実施形態に係るリソグラフィ装置のシステム４００を示している。システム４００は、アクチュエータを備え得る。図４ａにおいて、リソグラフィ装置のアクチュエータ４００は、動作モードで作動している。アクチュエータ４００は、ステータ４０８が設けられた第１部と、ムーバ４０４が設けられた第２部と、くさび４１０とを備え得る。第１部は、ロングストロークステージ部４０６とすることができ、第２部は、ショートストロークステージ部４０２とすることができる。ステータ４０８は、接触部分４２０を備え得る。接触部分４２０は、パッド、センサ、および／またはフラックスセンサコイルとすることができる。ステータ４０８とムーバ４０４との間にギャップ４１６が形成され得る。
【００４１】
[0045]  ロングストロークステージ部４０６は、ショートストロークステージ部４０２に平行な長手方向に実質的に延在し得る。ロングストロークステージ部４０６およびショートストロークステージ部４０２は、図１に示すように、第１位置決めデバイスＰＭもしくは第２位置決めデバイスＰＷ、または両方において設けられ得る。ロングストロークステージ部４０６は、凹み４１２を備え得る。リソグラフィ装置が動作モードで作動する場合、くさび４１０は、凹み４１２の内側に位置し得る。
【００４２】
[0046]  ムーバ４０４は、ショートストロークステージ部４０２に取り付けられ得る。ステータ４０８は、ロングストロークステージ部４０６に取り付けられ得る。くさび４１０は、誘導素子４４０を介してショートストロークステージ部４０２およびロングストロークステージ部４０６に実質的に垂直な方向において凹み４１２の縁に沿って移動できてよく、例えば、摺動可能に移動できてよい。リソグラフィ装置のアクチュエータ４００が動作モードである場合、くさび４１０は、保持素子（図４ａに示されていない）によって凹み４１２の内側に保持され得る。
【００４３】
[0047]  図４ｂにおいて、リソグラフィ装置のアクチュエータ４００は、動作モードから故障モードに切り替えられ得る。ムーバ４０４は、ステータ４０８に向かって移動してステータ４０８に衝突し得る。衝突は、図４ｂで示されるＦの方向の力Ｆをもたらし得る。くさび４１０は、リソグラフィ装置のアクチュエータ４００のモード変更によって作動して、ステータ４０８とムーバ４０４との間の位置まで自動的に移動し得る。くさびは、固体材料で形成され得る。くさび４１０のサイズは比較的小さく、故障モードの間のみステータ４０８とムーバ４０４との間に位置するので、ギャップ４１６を設計するための追加の制動パスの必要はなく、従って、ギャップ４１６の長さは、故障モードの間、ムーバ４０４とステータ４０８との間のくさび４１０の長さまで縮小され得る。ステータ４０８とムーバ４０４との間のくさび４１０の介在によって、ムーバ４０４とステータ４０８との間の速度差が衝突後に低減することが確実となる。従って、衝突によって生じた衝突力それに応じて低減する。例えば上述した実施形態に開示されているように、衝突によって生じたエネルギーは、エネルギー吸収素子（図４ａ〜図４ｄに示されていない）によって吸収され得る。例えば、リソグラフィ装置の電源が切れている場合、保持素子およびくさび４１０は、電源故障モードで作動し得る。これにより、リソグラフィ装置のアクチュエータ４００が動作モードから故障モードに切り替わる場合に、ムーバ４０４とステータ４０８との間の予期しない衝突をさらに避けることができる。
【００４４】
[0048]  一実施形態において、くさび４１０は、アクチュエータ４００が動作モードである場合にギャップ４１６の外側に位置してよく、アクチュエータ４００が故障モードである場合にギャップ４１６の内側に位置してよい。くさび４１０は、高いエネルギー吸収特性および／またはくさび４１０が変形後に当初の形態に戻ることを可能にする特性を有する材料から形成され得る。くさび４１０の上部は、三角形状部分を備え得る。三角形状部分のトップアングルは、約１５度とすることができる。
【００４５】
[0049]  図４ｃにおいて、くさび４１０は、凹み４１２の内側に位置する予張力ばね４６０によって移動し得る。ばね４６０は、くさび４１０に取り付けられた１つの端部を有してよく、凹み４１２の底部分に取り付けられた他の端部を有してよい。くさび４１０は、ばね４６０の上方に位置し得る。くさび４１０は、磁気素子４４２を備え得る。ロングストロークステージ部４０６は、磁気素子４４２を円周方向に取り囲む１つ以上のコイル４４４を備え得る。コイル４４４は、保持素子として機能し得る。リソグラフィ装置が動作モードである場合、コイル４４４は、くさび４１０の磁気素子４４２に応じて磁気アクチュエータとして作動し得る。コイル４４４によって保持力がもたらされて、凹み４１２の内側の位置でくさび４１０を保持し得る。リソグラフィ装置が故障モードである場合、装置のいずれの構成要素にも電流を伝達することはできない。コイル４４４の電源は切断されることがあり、くさび４１０はギャップ４１６内に自動的に押し込まれ得る。
【００４６】
[0050]  図４ｄにおいて、くさび４１０は、凹み４１２の内側に位置するプリテンションばね４６０によって移動し得る。ばね４６０は、くさび４１０に取り付けられた１つの端部を有してよく、凹み４１２の底部分に取り付けられた他の端部を有してよい。ロングストロークステージ部４０６は、凹み４１２に隣接して位置するソレノイド素子４５０を備え得る。ソレノイド素子４５０は、くさび４１０に挿入された棒状素子４５２と、棒状素子４５２に接続されたばね４５４と、を備え得る。リソグラフィ装置のアクチュエータ４００が故障モードである場合、装置のいずれの構成要素にも電流を伝達することはできない。従って、棒状素子４５２は、ソレノイド素子４５０によってくさび４１０から後退することがあり、くさび４１０がギャップ４１６内に自動的に押し込まれ得るという結果になる。
【００４７】
[0051]  一実施形態において、アクチュエータ４００は、空圧アクチュエータと、凹みの内側に設けられた予荷重が加えられたばねとを備え得る。くさび４１０は、予荷重が加えられたばねおよび空気圧アクチュエータを介してロングストロークステージ部４０６に接続され得る。空気圧アクチュエータは、リソグラフィ装置のアクチュエータが故障モードから動作モードに切り替わる場合にギャップ４１６からくさびを自動的に後退させる後退アクチュエータとして機能し得る。一実施形態において、くさび４１０は、バイメタルまたは形状記憶合金から形成されたばねを通じてロングストロークステージ部４０６に接続され得る。これにより、設計および／または製造プロセスが簡略化され得る。というのは、くさび４１０を後退させるための追加のアクチュエータが必要とされないからである。
【００４８】
[0052]  一実施形態において、エネルギー吸収素子は、衝突の衝撃エネルギーの一部を吸収するためのアクチュエータギャップの外側に設けられた第１部および第２部をさらに備え得る。エネルギーアブソーバは、ガスバッグ、例えばエアバッグを備え得る。エネルギーアブソーバは、従来のショックアブソーバである、例えば粘弾性の材料またはゴムなどの可撓性材料から形成された素子を備え得る。エネルギーアブソーバは、Ｋｅｖｌａｒ（登録商標）ファイバから形成された素子を備え得る。
【００４９】
[0053]  一実施形態において、リソグラフィ装置は、ムーバおよびステータの相対速度を低減させるように構成された、剪断減粘性流体を有する素子をさらに備え得る。
【００５０】
[0054]  一実施形態において、リソグラフィ装置は、安全ベルトおよび固定リトラクタをさらに備え得る。安全ベルトは、衝突中にショートストロークステージ部に対するムーバのずれを低減させるためにムーバおよび固定リトラクタの両方に接続され得る。従って、ムーバに加えられた衝突力は、衝突中に低減し得る。
【００５１】
[0055]  図５ａ〜図５ｂは、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のシステム５００の断面を示している。システム５００は、アクチュエータとすることができる。図５ａにおいて、アクチュエータ５００は、動作モードで作動し得る。アクチュエータ５００は、ステータが設けられた第１部と、ムーバ（図５ａ〜図５ｂに示されていない）が設けられた第２部とを備え得る。第１部は、ロングストロークステージ部５０６とすることができ、第２部は、ショートストロークステージ部５０２とすることができる。ステータとムーバとの間にギャップが形成され得る。
【００５２】
[0056]  ロングストロークステージ部５０６およびショートストロークステージ部５０２は、図５ａに示すように、Ｙ軸に実質的に平行な長手方向に延在し得る。ロングストロークステージ部５０６およびショートストロークステージ部５０２は、図１に示すように、第１位置決めデバイスＰＭもしくは第２位置決めデバイスＰＷ、または両方において設けられ得る。ロングストロークステージ部５０６は、Ｕ形の断面形状を有し得る。ロングストロークステージ部５０６は、底部分５１８および２つの細長い部分５１０、５１２を備え得る。２つの細長い部分５１０、５１２は、底部分５１８の上方に位置し、ショートストロークステージ部５０２に平行である。底部分５１８および２つの細長い部分５１０、５１２によって凹み５２０が形成され得る。
【００５３】
[0057]  リソグラフィ装置は、ショートストロークステージ部５０２とロングストロークステージ部５０６との間に位置する誘導素子５１３をさらに備え得る。誘導素子５１３は、第１の細長い部分５１４と第２の細長い部分５１６とを備え得る。誘導素子５１３は、Ｕ形の断面形状を有し得る。一実施形態において、誘導素子５１３は、凹み５２０の内側に位置し得る。
【００５４】
[0058]  図５ｂにおいて、アクチュエータ５００は、故障モードで作動し得る。リソグラフィ装置のモードが動作モードから故障モードに切り替わると、ショートストロークステージ部５０２は、図５ｂに示すように、誘導素子５１３を介して、凹み５２０に向かって移動し得る。ショートストロークステージ部５０２は、ロングストロークステージ部５０６の底部分５１８上に接触し得る。誘導素子５１３の第１の細長い部分５１４は、とロングストロークステージ部５０６の細長い部分５１０とショートストロークステージ部５０２との間に挿入され得る。誘導素子５１３の第２の細長い部分５１６は、ロングストロークステージ部５０６の細長い部分５１２とショートストロークステージ部５０２との間に
挿入され得る。ムーバとステータとの間のギャップは、ロングストロークステージ部５０６とショートストロークステージ部５０２との間への誘導素子５１３の挿入によって低減し得る。従って、故障モード中にムーバとステータとの間に生じた衝突力は、低減し得る。
【００５５】
[0059]  本発明の一実施形態において、リソグラフィ装置のアクチュエータを衝突から保護する方法が提供され、アクチュエータは、第１部と、第１部に対して移動するように構成された第２部とを備え、第１部と第２部との間に設けられたギャップは、第１部と第２部との間の距離として定義される長さを有する。該方法は、装置が動作モードである場合にエネルギー吸収素子をギャップの外側に位置決めし、装置が故障モードである場合にエネルギー吸収素子でエネルギーを吸収するという手順を含み得る。第１部は、ロングストロークステージ部と、ロングストロークステージ部上に設けられたステータとを備え得る。第２部は、ショートストロークステージ部と、ショートストロークステージ部上に設けられたムーバとを備え得る。エネルギー吸収素子は、本明細書において上述したエネルギー吸収特性を有する素子を備え得る。
【００５６】
[0060]  一実施形態において、リソグラフィ装置のアクチュエータを衝突から保護する方法は、装置が故障モードである場合に挿入素子をギャップの内側に移動させることを含み得る。
【００５７】
[0061]  一実施形態において、第１部と、第２部と、エネルギー吸収素子とを備えるシステムを備えるリソグラフィ装置が提供される。第２部は、第１部に対して移動するように構成される。システムは、システムの動作モード中、第１部と第２部との間に設けられたギャップを有する。エネルギー吸収素子は、システムの故障モードにおいて第１部と第２部が互いに衝突する場合に第１部と第２部との間のエネルギーを吸収するためのものである。エネルギー吸収素子は、ギャップの外側にある。
【００５８】
[0062]  システムは、ステータとムーバとを備えるアクチュエータとすることができる。アクチュエータは、第１部を第２部に対して移動させるためのステータとムーバとの間の力を生じさせるように構成される。第１部は、ステータを備え得る。第２部は、ムーバを備え得る。ギャップは、ステータとムーバとの間に設けられ得る。
【００５９】
[0063]  第１部は、第１ボディを備えることができ、ステータは、第１ボディに対して移動可能である。エネルギー吸収素子は、ステータと第１ボディとの間に接続され得る。
【００６０】
[0064]  ステータは、ムーバに面する第１側面を備え得る。エネルギー吸収素子は、第１側面以外のステータの側面に接続され得る。エネルギー吸収素子は、ステータの第１側面と反対側のステータの側面に接続され得る。
【００６１】
[0065]  リソグラフィ装置は、ステータを第１ボディに対して誘導するための所定方向に移動する誘導素子をさらに備え得る。
【００６２】
[0066]  リソグラフィ装置は、第１ボディに対するステータの位置を調整するための調整素子をさらに備え得る。
【００６３】
[0067]  リソグラフィ装置は、第１部を備えるロングストロークステージと、第２部を備えるショートストロークステージとを備え得る。
【００６４】
[0068]  リソグラフィ装置は、放射ビームを基板上に投影するための投影システムと、基板を投影システムに対して位置決めするためのシステムを備える位置決めデバイスとを備え得る。第２部は、基板を保持するための基板テーブルを備え得る。
【００６５】
[0069]  リソグラフィ装置は、リソグラフィ装置が故障モードである場合に第１部および／または第２部と接触するように、ギャップに挿入されるように構成された挿入素子を備え得る。
【００６６】
[0070]  リソグラフィ装置は、リソグラフィ装置が動作モードである場合にギャップの外側の位置で挿入素子を保持し、かつ、リソグラフィ装置が故障モードである場合に挿入素子を解放するための保持素子を備え得る。
【００６７】
[0071]  リソグラフィ装置は、リソグラフィ装置が故障モードである場合にエネルギーを吸収するためのガスバッグをさらに備え得る。
【００６８】
[0072]  一実施形態において、リソグラフィ装置のアクチュエータを衝突から保護する方法が提供される。アクチュエータは、ステータとムーバとを有することで、ステータとムーバとの間の力を生じさせる。リソグラフィ装置は、第１部と、第１部に対して移動するように構成された第２部とを備える。第１部は、ステータと、第１ボディと、ステータと第１ボディとの間のエネルギー吸収素子とを備える。第２部は、ムーバを備える。リソグラフィ装置は、動作モードにおいて、ステータとムーバとの間に設けられたギャップを有する。該方法は、故障モードにおいてステータとムーバとを互いに衝突させることと、ステータを第１ボディに対して移動させることによってエネルギー吸収素子でエネルギーを吸収することと、を含む。
【００６９】
[0073]  該方法は、リソグラフィ装置が衝突している場合にギャップの内側に挿入素子を移動させることをさらに含む。
【００７０】
[0074]  本明細書において、ＩＣ製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的な言及がなされているが、本明細書記載のリソグラフィ装置が、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造といった他の用途を有し得ることが理解されるべきである。当業者にとっては当然のことであるが、そのような別の用途においては、本明細書で使用される「ウェーハ」または「ダイ」という用語はすべて、それぞれより一般的な「基板」または「ターゲット部分」という用語と同義であるとみなしてよい。本明細書に記載した基板は、露光の前後を問わず、例えば、トラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、かつ露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツール、および／またはインスペクションツールで処理されてもよい。適用可能な場合には、本明細書中の開示内容を上記のような基板プロセシングツールおよびその他の基板プロセシングツールに適用してもよい。さらに基板は、例えば、多層ＩＣを作るために複数回処理されてもよいので、本明細書で使用される基板という用語は、すでに多重処理層を包含している基板を表すものとしてもよい。
【００７１】
[0075]  光リソグラフィの関連での本発明の実施形態の使用について上述のとおり具体的な言及がなされたが、当然のことながら、本発明は、他の用途、例えば、インプリントリソグラフィに使われてもよく、さらに状況が許すのであれば、光リソグラフィに限定されることはない。インプリントリソグラフィにおいては、パターニングデバイス内のトポグラフィによって、基板上に創出されるパターンが定義される。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に供給されたレジスト層の中にプレス加工され、基板上では、電磁放射、熱、圧力、またはそれらの組合せによってレジストは硬化される。パターニングデバイスは、レジストが硬化した後、レジスト内にパターンを残してレジストの外へ移動される。
【００７２】
[0076]  本明細書で使用される「放射」および「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、または１２６ｎｍの波長、またはおよそこれらの値の波長を有する）、および極端紫外線（ＥＵＶ）（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、ならびにイオンビームや電子ビームなどの微粒子ビームを含むあらゆる種類の電磁放射を包含している。
【００７３】
[0077]  「レンズ」という用語は、文脈によっては、屈折、反射、磁気、電磁気、および静電型光コンポーネントを含む様々な種類の光コンポーネントのいずれか１つまたはこれらの組合せを指すことができる。
【００７４】
[0078]  以上、本発明の具体的な実施形態を説明してきたが、本発明は、上述以外の態様で実施できることが明らかである。
【００７５】
[0079]  上記の説明は、制限ではなく例示を意図したものである。従って、当業者には明らかなように、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本記載の発明に変更を加えてもよい。
【図１】
0006010686.tif 000002
【図２ａ】
0006010686.tif 000003
【図２ｂ】
0006010686.tif 000004
【図２ｃ】
0006010686.tif 000005
【図３】
0006010686.tif 000006
【図４ａ】
0006010686.tif 000007
【図４ｂ】
0006010686.tif 000008
【図４ｃ】
0006010686.tif 000009
【図４ｄ】
0006010686.tif 000010
【図５ａ】
0006010686.tif 000011
【図５ｂ】
0006010686.tif 000012