(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対のワーク回収ステージが両端部に設けられ、中央部に光照射器が設けられ、ワーク回収ステージと光照射器の間であって、光照射器の両端近傍位置に一対のワーク搭載ステージが設けられ、
一方のワーク搭載ステージに搭載された一方のワークの移動に追従するように、他方のワーク搭載ステージに搭載された他方のワークを移動させるようにしたことを特徴とする光配向装置。
【請求項２】
一端部側のワーク搭載ステージ、中央部の光照射器の照射領域、一端部側のワーク回収ステージの順でワークを往復させるとともに、他端部側のワーク搭載ステージ、中央部の光照射器の照射領域、他端部側のワーク回収ステージの順でワークを往復させる搬送機構を備え、
前記搬送機構は、一方のワークが照射領域を通過する際に、他方のワークをワーク搭載ステージから退避させていることを特徴とする請求項１に記載の光配向装置。
【請求項３】
ワーク搭載ステージにワークを搭載するロボット装置を備え、
前記ロボット装置は、２つのワークを保持可能に構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の光配向装置。
【請求項４】
前記搬送機構は、ワークが照射領域を通過する前後でワークの移動速度を変更可能に構成されることを特徴とする請求項２又は３に記載の光配向装置。
【請求項５】
中央部に光照射器が設けられ、光照射器の両端近傍位置に一対のワーク搭載ステージが設けられ、
一端部側のワーク搭載ステージ、中央部の光照射器の照射領域、一端部側のワーク搭載ステージの順でワークを往復させるとともに、他端部側のワーク搭載ステージ、中央部の光照射器の照射領域、他端部側のワーク搭載ステージの順でワークを往復させる搬送機構を備え、
前記搬送機構は、一方のワーク搭載ステージに搭載された一方のワークの移動に追従するように、他方のワーク搭載ステージに搭載された他方のワークを移動させるようにし、一方のワークが照射領域を通過する際に、他方のワークをワーク搭載ステージから退避させていることを特徴とする光配向装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークに偏光光を照射して光配向する光配向装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光源と、偏光子とを備え、この偏光子によって光源からの光を偏光して光配向膜（ワーク）に照射し、光配向膜を光配向する光配向装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この光配向装置では、光配向膜をステージ上に載置して搬送することで、比較的大きな光配向膜を光配向している（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−３５０８５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、光配向装置においては、ワークの処理の工程作業時間を短縮することが望まれている。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、ワークの処理の工程作業時間を短縮可能な光照射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上述した目的を達成するために、本発明の光配向装置は、一対のワーク回収ステージが両端部に設けられ、中央部に光照射器が設けられ、ワーク回収ステージと光照射器の間であって、光照射器の両端近傍位置に一対のワーク搭載ステージが設けられ、一方のワーク搭載ステージに搭載された一方のワークの移動に追従するように、他方のワーク搭載ステージに搭載された他方のワークを移動させるようにしたことを特徴とする。
【０００６】
上述の構成において、一端部側のワーク搭載ステージ、中央部の光照射器の照射領域、一端部側のワーク回収ステージの順でワークを往復させるとともに、他端部側のワーク搭載ステージ、中央部の光照射器の照射領域、他端部側のワーク回収ステージの順でワークを往復させる搬送機構を備え、前記搬送機構は、一方のワークが照射領域を通過する際に、他方のワークをワーク搭載ステージから退避させていてもよい。
【０００７】
上述の構成において、ワーク搭載ステージにワークを搭載するロボット装置を備え、前記ロボット装置は、２つのワークを保持可能に構成されてもよい。
【０００８】
上述の構成において、前記搬送機構は、ワークが照射領域を通過する前後でワークの移動速度を変更可能に構成されてもよい。
【０００９】
また、本発明の光配向装置は、中央部に光照射器が設けられ、光照射器の両端近傍位置に一対のワーク搭載ステージが設けられ、一端部側のワーク搭載ステージ、中央部の光照射器の照射領域、一端部側のワーク搭載ステージの順でワークを往復させるとともに、他端部側のワーク搭載ステージ、中央部の光照射器の照射領域、他端部側のワーク搭載ステージの順でワークを往復させる搬送機構を備え、前記搬送機構は、一方のワーク搭載ステージに搭載された一方のワークの移動に追従するように、他方のワーク搭載ステージに搭載された他方のワークを移動させるようにし、一方のワークが照射領域を通過する際に、他方のワークをワーク搭載ステージから退避させていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、一対のワーク回収ステージが両端部に設けられ、中央部に光照射器が設けられ、ワーク回収ステージと光照射器の間であって、光照射器の両端近傍位置に一対のワーク搭載ステージが設けられているため、ワークの処理の工程作業時間を短縮できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光配向装置を備えた光配向システムを模式的に示す平面図である。
【図２】光配向装置を模式的に示す正面図である。
【図３】偏光子ユニットの構成を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側断面視図である。
【図４】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１及び第２ワークステージに光配向対象物を搭載する状態の構成図を示す。
【図５】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１及び第２ワークステージを移動する状態の構成図を示す。
【図６】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第２ワークステージの移動中に、第１ワークステージから光配向対象物を回収する状態の構成図を示す。
【図７】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第２ワークステージの移動中に、第１ワークステージに光配向対象物を搭載する状態の構成図を示す。
【図８】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１及び第２ワークステージを移動する状態の構成図を示す。
【図９】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１ワークステージの移動中に、第２ワークステージから光配向対象物を回収する状態の構成図を示す。
【図１０】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１ワークステージの移動中に、第２ワークステージに光配向対象物を搭載する状態の構成図を示す。
【図１１】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１及び第２ワークステージを移動する状態の構成図を示す。
【図１２】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第２ワークステージの移動中に、第１ワークステージから光配向対象物を回収する状態の構成図を示す。
【図１３】本発明の第２の実施形態に係る光配向装置を備えた光配向システムを模式的に示す平面図である。
【図１４】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１及び第２ワークステージに光配向対象物を搭載する状態の構成図を示す。
【図１５】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１及び第２ワークステージを移動する状態の構成図を示す。
【図１６】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１及び第２ワークステージを移動する状態の構成図を示す。
【図１７】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第２ワークステージの移動中に、第１ワークステージから光配向対象物を回収及び搭載する状態の構成図を示す。
【図１８】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１及び第２ワークステージを移動する状態の構成図を示す。
【図１９】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１ワークステージの移動中に、第２ワークステージから光配向対象物を回収及び搭載する状態の構成図を示す。
【図２０】光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、（Ａ）は第１及び第２ワークステージの移動状態の説明図、（Ｂ）は第１及び第２ワークステージを移動する状態の構成図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
＜第１の実施形態＞
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図１は第１の実施形態に係る光配向装置を備えた光配向システムを模式的に示す平面図であり、図２は光配向装置を模式的に示す正面図である。
光配向システム１００は、図１及び図２に示すように、光配向装置１と、搬入出装置２０と、上流側ロボット装置３０と、クリーナー４０と、ターンユニット（角度調整装置）５０と、下流側ロボット装置６０と、制御装置（制御部）７０とを備えて構成されている。この光配向システム１００は、例えばクリーンルーム等の比較的異物の少ない環境に配置される。
光配向装置１は、平面視で矩形状に形成された板状もしくは、帯状の光配向対象物（ワーク）Ｗの光配向膜に偏光光を照射して光配向する光照射装置である。この光配向装置１は、ワークステージ（搬送ステージ、支持部材）２と、ステージ搬送架台３と、照射器設置架台４と、光照射器５とを備えている。
【００１３】
ワークステージ２は、例えば略四角形板状のステージであり、ステージ搬送架台３に一対設けられている。ワークステージ２は、上面に下流側ロボット装置６０によって光配向対象物Ｗが載置されて、光配向対象物Ｗを保持する。一対のワークステージ２は同一形状に形成され、各ワークステージ２は光配向対象物Ｗを配置可能な大きさに形成されている。
照射器設置架台４は、ステージ搬送架台３から所定距離離れた上方位置でステージ搬送架台３の幅方向（後述する直動機構の直動方向Ｘに垂直な方向）に横架される門体であり、その両柱がステージ搬送架台３に固定される。照射器設置架台４は、ワークステージ２が出入りする部分以外は遮光壁に形成されている。照射器設置架台４は光照射器５を内蔵し、光照射器５が直下に偏光光を照射する。なお、ワークステージ２の移動に伴う振動と光照射器５の冷却に起因する振動とを分離するために、照射器設置架台４をステージ搬送架台３に固定するのではなく当該ステージ搬送架台３と別置する構成でも良い。ステージ搬送架台３と、照射器設置架台４は防振構造を有しても良い。
【００１４】
ステージ搬送架台３には、制御装置７０の制御の下、直動方向Ｘに沿ってステージ搬送架台３の面上を光照射器５の直下を通過するようにワークステージ２を移送する直動機構（搬送機構）６が内設されている。光配向対象物Ｗの光配向にあっては、ワークステージ２に載置された光配向対象物Ｗが、直動機構６によって直動方向Ｘに沿って移送されて光照射器５の直下を通過し、この通過の際に偏光光に曝露されて光配向膜が配向される。直動機構６は、ワークステージ２を移動する速度を変更可能に構成されている。本実施形態の直動機構６は、例えばリニアモータ式やベルト駆動式として構成されるが、これらに限定されず、各種の機構を用いることが可能である。
【００１５】
光照射器５は、図２に示すように、下面に光出射開口部７Ａを有する筐体７と、この筐体内に配置されるランプ（光源）８及び反射鏡９と、光出射開口部７Ａに配置される偏光子ユニット１０とを備えている。
筐体７は、光配向対象物Ｗから所定距離離れた上方位置で照射器設置架台４に支持されている。ランプ８は、少なくとも光配向対象物Ｗの長手方向の長さと同等以上に延びる直管型（棒状）の紫外線ランプが用いられている。すなわち、ランプ８の長軸Ｌは、直動方向Ｘに直交する方向に一致している。このランプ８は、放電灯であり、制御装置７０の制御に基づいて点灯する。反射鏡９は、断面楕円形、かつランプ８の長手方向に沿って延びるシリンドリカル凹面反射鏡であり、ランプ８の光を集光して光出射開口部７Ａから偏光子ユニット１０に向けて照射する。
【００１６】
光出射開口部７Ａは、ランプ８の直下に形成された平面視で矩形状の開口部であり、長手方向がランプ８の長手方向に一致するように設けられている。また、図示は省略するが、光出射開口部７Ａの内側には、透過する光の波長を選択する波長選択フィルタが設けられ、この波長選択フィルタによって光照射器５は所望の波長の光を照射するようになっている。本実施形態では、波長選択フィルタを設けたが、ランプ８自体で所望の波長の光を出射できる場合には、波長選択フィルタを省略してもよい。
本実施形態では、筐体７は、光配向対象物Ｗと近接して設けられており、光出射開口部７Ａの大きさが照射領域Ｒの大きさに相当する。また、照射領域Ｒの中心軸は、ランプ８の長軸Ｌに一致している。
【００１７】
ステージ搬送架台３には、各ワークステージ２に対応して設けられ、ワークステージ２を回転駆動する回転駆動機構（不図示）が内設されている。この回転駆動機構は、制御装置７０の制御の下、光配向対象物Ｗが、光配向対象物Ｗの一対の辺がランプ８の長軸Ｌに対して一致（平行）し、光配向対象物Ｗの他の一対の辺がランプ８の長軸Ｌに対して直交する正姿勢となるように、ワークステージ２を回転させて、光配向対象物Ｗの角度を微調整する。また、光配向対象物Ｗの照射に必要な偏光光の偏光軸角度がランプ８の長軸Ｌに対して所定の角度の場合、回転駆動機構は、ワークステージ２を所定角度回転させる。
【００１８】
図３は、偏光子ユニット１０の構成を示す図であり、図３（Ａ）は平面図、図３（Ｂ）は側断面視図である。
偏光子ユニット１０は、図４に示すように、複数の単位偏光子ユニット１２と、これら単位偏光子ユニット１２を横並びに一列に整列するフレーム１４とを備えている。フレーム１４は、各単位偏光子ユニット１２を連接配置する板状の枠体である。単位偏光子ユニット１２は、略矩形板状に形成されたワイヤーグリッド偏光子（偏光子）１６を備えている。
本実施形態では、各単位偏光子ユニット１２は、ワイヤーグリッド偏光子１６をワイヤー方向Ａが直動方向Ｘと平行になるように支持し、このワイヤー方向Ａと直交する方向と、ワイヤーグリッド偏光子１６の配列方向Ｂとが一致するようになされている。
【００１９】
ワイヤーグリッド偏光子１６は、直線偏光子の一種であり、基板の表面にグリッドを形成したものである。上述の通り、ランプ８が棒状であることから、ワイヤーグリッド偏光子１６には、さまざまな角度の光が入射するが、ワイヤーグリッド偏光子１６は、斜めに入射する光であっても直線偏光化して透過する。
ワイヤーグリッド偏光子１６は、その法線方向を回動軸にして面内で回動させて偏光軸Ｃ１の方向を微調整できるように単位偏光子ユニット１２に支持されている。すなわち、複数のワイヤーグリッド偏光子１６は、偏光軸Ｃ１の方向を微調整できるように互いに隙間を空けて配置されている。
【００２０】
ステージ搬送架台３には、制御装置７０の制御に基づいて偏光光を検出して偏光光の偏光方向、及び消光比を測定する測定ユニット１８が設けられている。この測定ユニット１８が測定した偏光光の偏光方向に基づいてワイヤーグリッド偏光子１６の偏光軸Ｃ１の方向が調整される。
全ての単位偏光子ユニット１２について、ワイヤーグリッド偏光子１６の偏光軸Ｃ１が所定の照射基準方向に揃うように微調整されることで、偏光子ユニット１０の長軸方向の全長に亘り偏光軸Ｃ１が高精度に揃えられた偏光光が得られ、高品位な光配向が可能となる。偏光軸Ｃ１が調整されたワイヤーグリッド偏光子１６は、単位偏光子ユニット１２の上端、及び下端がねじ（固定手段）１９によってフレーム１４に固定されることで、フレーム１４に固定配置される。
【００２１】
搬入出装置２０は、図１に示すように、ステージ搬送架台３に平行に設けられた本体２１を備え、この本体２１に複数の光配向対象物Ｗを載置する載置台２２を備えている。この載置台２２に外部から光配向対象物Ｗが搬入されるとともに、光配向された光配向対象物Ｗが載置台２２に載置され、この載置台２２から次の処理の装置に搬出される。本実施形態では、４つの載置台２２が設けられているが、載置台２２の数はこれに限定されるものではなく、例えば、搬入用の載置台２２及び搬出用の載置台２２を設けるようにしてもよい。
【００２２】
上流側ロボット装置３０は、ステージ搬送架台３に平行に設けられた定盤３１と、この定盤３１に支持されたロボット３２と、ロボット３２を直動方向Ｘに沿って往復移動する往復駆動機構３３とを備えて構成されている。ロボット３２は、回転及び伸縮可能なアーム３２Ａと、アーム３２Ａに固定され光配向対象物Ｗを保持する保持部３２Ｂとを備えている。アーム３２Ａは、定盤３１に水平面において回転可能に支持されている。本実施形態のアーム３２Ａは、回動自在な複数の関節を有して伸縮自在に構成された多関節アームであるが、アーム３２Ａの構成はこれに限定されるものではない。ロボット３２は、制御装置７０の制御の下、直動方向Ｘに移動するとともにアーム３２Ａを移動して、搬入出装置２０、クリーナー４０及びターンユニット５０との間で光配向対象物Ｗを受け渡す。
【００２３】
クリーナー４０は、上流側ロボット装置３０の定盤３１に平行に且つ隣接して設けられた定盤４１と、光配向対象物Ｗの表面の異物を除去するクリーニングユニット４２と、光配向対象物Ｗをクリーニングユニット４２に向けて移動する移動機構４３とを備えて構成されている。クリーニングユニット４２は、定盤４１の上方に、直動方向Ｘに直交する方向（長軸Ｌの方向）に沿って設けられている。クリーニングユニット４２は、制御装置７０の制御に基づいて、下方から空気等の気体を吹き出し可能に構成されている。移動機構４３は、制御装置７０の制御の下、直動方向Ｘに沿って定盤４１の面上をクリーニングユニット４２の直下を通過するように光配向対象物Ｗを移動する機構であり、例えばベルト式に構成されている。
【００２４】
光配向対象物Ｗは、移動機構４３によって直動方向Ｘに沿って移送されてクリーニングユニット４２の直下を通過し、この通過の際に気体が吹き付けられて、光配向対象物Ｗに付着していた異物が除去される。また、クリーナー４０には、図示は省略するが、静電気を除去する静電気除去器が設けられており、クリーナー４０において、光配向対象物Ｗの静電気も除去される。なお、本実施形態では、クリーナー４０は、移動機構４３を備えていたが、クリーニングユニット４２が光配向対象物Ｗの光配向膜全面に亘って気体を吹き出し可能に構成されていれば、この移動機構４３は省略してもよい。また、光配向対象物Ｗを移動する移動機構４３に代えて、クリーニングユニット４２を直動方向Ｘに移動可能な移動機構（不図示）を設けてもよい。
【００２５】
ターンユニット５０は、上流側ロボット装置３０の定盤３１に隣接して、クリーナー４０と並設して設けられている。ターンユニット５０は、制御装置７０の制御に基づいて光配向対象物Ｗが載置されて光配向対象物Ｗの角度を調整する調整ステージ５１を備えている。ターンユニット５０は、光配向対象物Ｗの一対の辺がランプ８の長軸Ｌに対して一致（平行）し、光配向対象物Ｗの他の一対の辺がランプ８の長軸Ｌに対して直交する正姿勢となるように、光配向対象物Ｗの角度を調整する。
【００２６】
下流側ロボット装置６０は、ステージ搬送架台３に平行に設けられた定盤６１と、この定盤６１に支持されたロボット６２と、ロボット６２を直動方向Ｘに沿って往復移動する往復駆動機構６３とを備えて構成されている。ロボット６２は、回転及び伸縮可能なアーム６２Ａと、アーム６２Ａに固定され光配向対象物Ｗを保持する一対の保持部６２Ｂとを備えている。アーム６２Ａは、定盤６１に水平面において回転可能に支持されている。本実施形態のアーム６２Ａは、回動自在な複数の関節を有して伸縮自在に構成された多関節アームであるが、アーム６２Ａの構成はこれに限定されるものではない。保持部６２Ｂは、複数の保持バー６２Ｂ１を平行に配列して構成され、光配向対象物Ｗはこれらの保持バー６２Ｂ１上に配置されて保持される。一対の保持部６２Ｂは、本実施形態では上下に設けられており、ロボット６２は、２つの光配向対象物Ｗを上下並列で保持可能に構成されている。なお、一対の保持部６２Ｂを水平に並設して設けてもよい。ロボット６２は、制御装置７０の制御の下、直動方向Ｘに移動するとともにアーム６２Ａを移動して、一対のワークステージ及びターンユニット５０との間で光配向対象物Ｗを受け渡す。
【００２７】
光配向装置１のワークステージ２には、下流側ロボット装置６０との間で光配向対象物Ｗを受け渡しするための駆動ピン（不図示）が複数設けられている。これらの駆動ピンは、複数の保持バー６２Ｂ１の間の位置に、光配向対象物Ｗを保持可能な間隔で配置され、ピン駆動機構（不図示）によって上下に移動する。駆動ピンが、ワークステージ２の上面から突出して下流側ロボット装置６０から光配向対象物Ｗを受け取り、その後、ワークステージ２内に収納されることで、光配向対象物Ｗがワークステージ２の上面に載置される。また、駆動ピンがワークステージ２の上面から突出することで、光配向対象物Ｗは、ワークステージ２から離間し、下流側ロボット装置６０によって保持される。これらの駆動ピンにより、ターンユニット５０で調整した光配向対象物Ｗの角度を維持した状態で、ワークステージ２と下流側ロボット装置６０との間で光配向対象物Ｗを受け渡すことができる。
光配向装置１と、搬入出装置２０と、上流側ロボット装置３０と、クリーナー４０及びターンユニット５０と、下流側ロボット装置６０とは、ランプ８の長軸Ｌ方向に互いに並列して配置されている。
【００２８】
制御装置７０は、光配向システム１００全体を制御する制御部であり、直動機構６等の各部を制御する制御プログラムを記憶する記憶部７１と、制御プログラムを実行する実行部７２とを備えている。なお、制御プログラムをコンピュータ読取可能に構成し、制御装置７０は、この制御プログラムを例えばパーソナルコンピュータに実行させることで実施することもできる。
なお、光配向システム１００は、搬入出装置２０及び上流側ロボット装置３０を備えていたが、搬入出装置２０及び上流側ロボット装置３０を光配向システム１００とは別の供給システムとして構成してもよい。この場合、光配向システム１００及び供給システムの制御装置を設けてもよいし、例えば、光配向システム１００及び供給システムの制御装置を個別に設け、各制御装置を協働させてもよい。
【００２９】
次に、一対のワークステージ２に対する光配向対象物Ｗの搭載位置及び回収位置について説明する。
ここで、説明の便宜上、一方のワークステージ２を第１ワークステージ２Ａ、他方のワークステージ２を第２ワークステージ２Ｂと言うものとする。
図１に示すように、第１ワークステージ２Ａへの光配向対象物Ｗの搭載位置（ワーク搭載ステージ）ＰＬ１と、第１ワークステージ２Ａからの光配向対象物Ｗの回収位置（ワーク回収ステージ）ＰＵ１とは、光照射器５の一端Ｅ１側に設定され、それぞれ位置が異なっている。より具体的には、回収位置ＰＵ１と光照射器５の間であって、光照射器５の一端Ｅ１近傍位置に搭載位置ＰＬ１が設定されている。
【００３０】
同様に、第２ワークステージ２Ｂへの光配向対象物Ｗの搭載位置（ワーク搭載ステージ）ＰＬ２と、第２ワークステージ２Ｂからの光配向対象物Ｗの回収位置（ワーク回収ステージ）ＰＵ２とは、光照射器５の他端Ｅ２側に設定され、それぞれ位置が異なっている。より具体的には、回収位置ＰＵ２と光照射器５の間であって、光照射器５の他端Ｅ２近傍位置に搭載位置ＰＬ２が設定されている。
なお、図１では、搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２のワークステージ２を実線で、回収位置ＰＵ１，ＰＵ２のワークステージ２を二点鎖線で示す。また、図４〜図１２では、搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２及び回収位置ＰＵ１，ＰＵ２は、それらの中心に符号を付して示すものとする。
【００３１】
搭載位置ＰＬ１に位置する第１ワークステージ２Ａと照射領域Ｒとの間には、第２ワークステージ２Ｂ上の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを通過する分未満のスペースＳ１が設けられている。
同様に、搭載位置ＰＬ２に位置する第２ワークステージ２Ｂと照射領域Ｒとの間には、第１ワークステージ２Ａ上の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを通過する分未満のスペースＳ１が設けられている。
また、回収位置ＰＵ１に位置する第１ワークステージ２Ａと照射領域Ｒとの間には、第２ワークステージ２Ｂ上の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを通過する分以上のスペースＳ２が設けられている。
同様に、回収位置ＰＵ２に位置する第２ワークステージ２Ｂと照射領域Ｒとの間には、第１ワークステージ２Ａ上の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを通過する分以上のスペースＳ２が設けられている。
【００３２】
クリーナー４０は一端Ｅ１側に配置され、ターンユニット５０は、他端Ｅ２側に、調整ステージ５１上の光配向対象物Ｗの中心が搭載位置ＰＬ２の中心に一致するように配置されている。クリーナー４０及びターンユニット５０の位置は入れ換えてもよく、その場合、ターンユニット５０は、調整ステージ５１上の光配向対象物Ｗの中心が搭載位置ＰＬ１の中心に一致するように配置すればよい。
下流側ロボット装置６０は、ロボット６２を第１ワークステージ２Ａの回収位置ＰＵ１に対応する位置（直動方向Ｘで略同一となる位置）から第２ワークステージ２Ｂの回収位置ＰＵ２に対応する位置まで移動可能な長さに形成されている。
【００３３】
次に、図１、図４〜図１２を参照し、光配向システム１００の動作について説明する。なお、図４〜図１２では、搬入出装置２０及び上流側ロボット装置３０の図示を省略している。
初期状態では、図１及び図４に示すように、第１ワークステージ２Ａ及び第２ワークステージ２Ｂは搭載位置ＰＬ１、ＰＬ２にそれぞれ位置するとともに、ロボット６２は搭載位置ＰＬ２に対応する位置に位置し、ランプ８は点灯されている。なお、以下の説明では、第１ワークステージ２Ａ及び第２ワークステージ２Ｂに対する光配向対象物Ｗの受け取りの際の駆動ピンの動作、及び、第１ワークステージ２Ａ及び第２ワークステージ２Ｂに光配向対象物Ｗを載置した際の回転駆動機構の動作は省略している。また、光配向対象物Ｗを光配向される順に光配向対象物ＷＡ，ＷＢ，ＷＣ，ＷＤ，ＷＥ，ＷＦと言うものとする。また、図４中、符号Ｄ１は第１ワークステージ２Ａの中心移動範囲を、符号Ｄ２は第２ワークステージ２Ｂの中心移動範囲を示す。
【００３４】
まず、ロボット３２は、搬入出装置２０から光配向対象物ＷＡを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＡの異物及び静電気を除去した後、光配向対象物ＷＡをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。この際、ロボット３２は、クリーナー４０とターンユニット５０との間を移動する。
ターンユニット５０が光配向対象物ＷＡを正姿勢にした後、ロボット６２は、ターンユニット５０から光配向対象物ＷＡを受け取り、搭載位置ＰＬ１に対応する位置に移動して、光配向対象物ＷＡを搭載位置ＰＬ１の第１ワークステージ２Ａ上に搭載する。
【００３５】
一方、ロボット３２は、光配向対象物ＷＡをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置した後、搬入出装置２０から次の光配向対象物ＷＢを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＢの異物及び静電気を除去した後、光配向対象物ＷＢをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
また、ロボット６２は、光配向対象物ＷＡを第１ワークステージ２Ａ上に搭載した後、搭載位置ＰＬ２に対応する位置に移動して、ターンユニット５０から次の光配向対象物ＷＢを受け取り、光配向対象物ＷＢを搭載位置ＰＬ２の第２ワークステージ２Ｂ上に搭載する。
【００３６】
直動機構６は、図５に示すように、第１ワークステージ２Ａを他端Ｅ２側に移動し、光配向対象物ＷＡに偏光光が照射される。このとき、直動機構６は、光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒに入るまで第１ワークステージ２Ａを高速で移動し、光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒに入ると第１ワークステージ２Ａを低速で移動する。
また、第１ワークステージ２Ａの往路の移動中、直動機構６は、第２ワークステージ２Ｂを回収位置ＰＵ２まで高速で退避させる。このように、第２ワークステージ２Ｂを回収位置ＰＵ２まで退避させることにより、第１ワークステージ２Ａを光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒを抜けるまで移動しても、光配向対象物ＷＡが光配向対象物ＷＢに干渉することを防止できる。したがって、第１ワークステージ２Ａ上の光配向対象物ＷＡの全面に亘って光配向することができる。
一方、ロボット３２は、光配向対象物ＷＢをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置した後、搬入出装置２０から次の光配向対象物ＷＣを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＣの異物及び静電気を除去した後、光配向対象物ＷＣをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
また、ロボット６２は、光配向対象物ＷＢを第２ワークステージ２Ｂ上に搭載した後、ターンユニット５０から次の光配向対象物ＷＣを受け取る。
【００３７】
光配向対象物ＷＡが往路で照射領域Ｒを抜けると、直動機構６は、図６に示すように、第１ワークステージ２Ａを反転して一端Ｅ１側に移動し、光配向対象物ＷＡに復路でも偏光光が照射される。また、直動機構６は、第１ワークステージ２Ａの復路の移動に追従させて第２ワークステージ２Ｂを一端Ｅ１側に移動し、光配向対象物ＷＢに偏光光が照射される。このとき、直動機構６は、第１ワークステージ２Ａに追いつく（第１ワークステージ２Ａと所定の距離になる）まで第２ワークステージ２Ｂを高速で移動し、第１ワークステージ２Ａに追いつくと第２ワークステージ２Ｂを低速で移動する。また、直動機構６は、光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒを抜けるまで第１ワークステージ２Ａを低速で移動し、光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒを抜けると第１ワークステージ２Ａを回収位置ＰＵ１まで高速で移動する。これにより、第２ワークステージ２Ｂの往路の移動中、第１ワークステージ２Ａを回収位置ＰＵ１まで退避させることができる。したがって、第２ワークステージ２Ｂを光配向対象物ＷＢが照射領域Ｒを抜けるまで移動しても、光配向対象物ＷＢが光配向対象物ＷＡに干渉することを防止できるので、第２ワークステージ２Ｂ上の光配向対象物ＷＢの全面に亘って光配向することができる。
ロボット６２は、回収位置ＰＵ１に対応する位置に移動して、回収位置ＰＵ１の第１ワークステージ２Ａから光配向対象物ＷＡを回収する。このとき、ロボット６２は、２つの光配向対象物ＷＡ，ＷＣを保持している。
一方、ロボット３２は、光配向対象物ＷＣをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置した後、搬入出装置２０から次の光配向対象物ＷＤを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＤの異物及び静電気を除去した後、光配向対象物ＷＤをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
【００３８】
光配向対象物ＷＢが往路で照射領域Ｒを抜けると、直動機構６は、図７に示すように、第２ワークステージ２Ｂを反転して他端Ｅ２側に移動し、光配向対象物ＷＢに復路でも偏光光が照射される。また、直動機構６は、第２ワークステージ２Ｂの復路の移動に追従させて第１ワークステージ２Ａを搭載位置ＰＬ１まで移動する。このとき、直動機構６は、光配向対象物ＷＢが照射領域Ｒを抜けるまで第２ワークステージ２Ｂを低速で移動し、搭載位置ＰＬ１まで第１ワークステージ２Ａを高速で移動する。
ロボット６２は、搭載位置ＰＬ１に対応する位置に移動して、光配向対象物ＷＣを搭載位置ＰＬ１の第１ワークステージ２Ａ上に搭載する。このとき、ロボット６２は、光配向対象物ＷＡを保持している。
また、光配向対象物ＷＤは、ターンユニット５０で待機中である。
一方、ロボット３２は、光配向対象物ＷＤをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置した後、搬入出装置２０から次の光配向対象物ＷＥを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＥの異物及び静電気を除去する。
【００３９】
直動機構６は、図８に示すように、第２ワークステージ２Ｂの復路の移動に追従させて第１ワークステージ２Ａを移動する。このとき、直動機構６は、第２ワークステージ２Ｂに追いつく（第２ワークステージ２Ｂと所定の距離になる）まで第１ワークステージ２Ａを高速で移動する。また、直動機構６は、光配向対象物ＷＢが照射領域Ｒを抜けると第２ワークステージ２Ｂを高速で移動する。
ロボット６２は、搭載位置ＰＬ２に対応する位置に移動して、ターンユニット５０から次の光配向対象物ＷＤを受け取るとともに、光配向対象物ＷＡをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
ターンユニット５０が光配向対象物ＷＡを正姿勢にした後、ロボット３２は、ターンユニット５０から光配向対象物ＷＡを受け取り、光配向対象物ＷＡを搬入出装置２０に戻す。
また、光配向対象物ＷＥは、クリーナー４０で待機中である。
【００４０】
直動機構６は、図９に示すように、第１ワークステージ２Ａをさらに移動し、光配向対象物ＷＣに偏光光が照射される。このとき、直動機構６は、光配向対象物ＷＣが照射領域Ｒを抜けるまで第１ワークステージ２Ａを低速で移動し、光配向対象物ＷＢが照射領域Ｒを抜けると第２ワークステージ２Ｂを回収位置ＰＵ２まで高速で移動する。
ロボット６２は、回収位置ＰＵ２に対応する位置に移動して、回収位置ＰＵ２の第２ワークステージ２Ｂから光配向対象物ＷＢを回収する。このとき、ロボット６２は、２つの光配向対象物ＷＢ，ＷＤを保持している。
一方、ターンユニット５０から光配向対象物ＷＡが取り出された後、ロボット３２は、クリーナー４０から光配向対象物ＷＥを受け取り、光配向対象物ＷＥをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
【００４１】
直動機構６は、図１０に示すように、第１ワークステージ２Ａの復路の移動に追従させて第２ワークステージ２Ｂを搭載位置ＰＬ２まで高速で移動する。このとき、直動機構６は、光配向対象物ＷＣが照射領域Ｒを抜けるまで第１ワークステージ２Ａを低速で移動する。
ロボット６２は、搭載位置ＰＬ２に対応する位置に移動して、光配向対象物ＷＤを搭載位置ＰＬ２の第２ワークステージ２Ｂ上に搭載する。このとき、ロボット６２は、光配向対象物ＷＢを保持している。
また、光配向対象物ＷＥは、ターンユニット５０で待機中である。
一方、ロボット３２は、光配向対象物ＷＥをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置した後、搬入出装置２０から次の光配向対象物ＷＦを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＦの異物及び静電気を除去する。
【００４２】
直動機構６は、図１１に示すように、第１ワークステージ２Ａの復路の移動に追従させて第２ワークステージ２Ｂを移動し、第２ワークステージ２Ｂ上の光配向対象物ＷＤに偏光光が照射される。このとき、直動機構６は、光配向対象物ＷＣが照射領域Ｒを抜けると第１ワークステージ２Ａを高速で移動する。また、直動機構６は、第１ワークステージ２Ａに追いつくまで第２ワークステージ２Ｂを高速で移動する。
ロボット６２は、ターンユニット５０から次の光配向対象物ＷＥを受け取るとともに、光配向対象物ＷＢをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
ターンユニット５０が光配向対象物ＷＢを正姿勢にした後、ロボット３２は、ターンユニット５０から光配向対象物ＷＢを受け取り、光配向対象物ＷＢを搬入出装置２０に戻す。
また、光配向対象物ＷＦは、クリーナー４０で待機中である。
【００４３】
直動機構６は、図１２に示すように、第１ワークステージ２Ａの復路の移動の際に、第１ワークステージ２Ａを回収位置ＰＵ１まで高速で移動する。直動機構６は、光配向対象物ＷＤが照射領域Ｒを抜けるまで第２ワークステージ２Ｂを低速で移動する。
ロボット６２は、回収位置ＰＵ１に対応する位置に移動して、回収位置ＰＵ１の第１ワークステージ２Ａから光配向対象物ＷＣを回収する。このとき、ロボット６２は、２つの光配向対象物ＷＣ，ＷＥを保持している。
一方、ターンユニット５０から光配向対象物ＷＢが取り出された後、ロボット３２は、クリーナー４０から光配向対象物ＷＦを受け取り、光配向対象物ＷＦをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
以降の動作は、図４からの繰り返しとなる。
【００４４】
以上説明したように、本実施形態によれば、光配向装置１は、一対の回収位置ＰＵ１，ＰＵ２が両端部に設けられ、中央部に光照射器５が設けられ、回収位置ＰＵ１，ＰＵ２と光照射器５の間であって、光照射器５の両端Ｅ１，Ｅ２近傍位置に一対の搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２が設けられている構成とした。このように、２つのワークステージ２を設けたため、一のワークステージ２の移動に追従するように、他のワークステージ２を移動することで、光配向対象物Ｗの処理（光配向照射）の工程作業時間を短縮できる。
また、回収位置ＰＵ１，ＰＵ２と光照射器５の間であって、光照射器５の両端Ｅ１，Ｅ２近傍位置に一対の搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２が設けられているため、搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２から光照射器５までの間の距離を短くできる。これにより、光配向対象物Ｗの移動時間を短くでき、その結果、光配向対象物Ｗの処理（光配向照射）の工程作業時間を短縮できる。また、搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２から光照射器５までの間の距離を短くできることから、照射前の光配向対象物Ｗに異物が付着することを抑制できる。
【００４５】
また、本実施形態によれば、一端部側の搭載位置ＰＬ１、中央部の光照射器５の照射領域Ｒ、一端部側の回収位置ＰＵ１の順で光配向対象物Ｗを往復させるとともに、他端部側の搭載位置ＰＬ２、中央部の光照射器５の照射領域Ｒ、他端部側の回収位置ＰＵ２の順でワークを往復させる直動機構６を備え、直動機構６は、一方の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを通過する際に、他方の光配向対象物Ｗを搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２から退避させている構成とした。この構成により、一方の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを抜けるまで移動しても、一方の光配向対象物Ｗが他方の光配向対象物Ｗに干渉することを防止できるので、光配向対象物Ｗの全面に亘って光配向することができる。
【００４６】
また、本実施形態によれば、搭載位置ＰＬ１，ＰＬのワークステージ２に光配向対象物Ｗを搭載する下流側ロボット装置６０を備え、下流側ロボット装置６０は、２つの光配向対象物Ｗを保持可能に構成された。この構成により、次の光配向対象物Ｗを予め保持しておくことができるので、ワークステージ２から光配向対象物Ｗを回収してすぐに光配向対象物Ｗをそのワークステージ２に搭載することができる。その結果、光配向対象物Ｗの処理（光配向照射）の工程作業時間を短縮できる。
【００４７】
また、本実施形態によれば、直動機構６は、光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを通過する前後で光配向対象物Ｗの移動速度を変更可能に構成される。この構成により、光照射器５の両端Ｅ１，Ｅ２近傍位置の搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２に一方の光配向対象物Ｗを搭載しても、当該一方の光配向対象物Ｗを他方の光配向対象物Ｗに追いつかせることができる。その結果、光配向対象物Ｗの搭載を待つ必要がなくなり、光配向対象物Ｗの処理（光配向照射）の工程作業時間を短縮できる。
【００４８】
＜第２の実施形態＞
次に、第２の実施形態について説明する。
図１３は、第２の実施形態に係る光配向装置を備えた光配向システムを模式的に示す平面図である。
上述した第１の実施形態の光配向システム１００では、回収位置ＰＵ１，ＰＵ２と光照射器５の間に搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２が設定されていたが、第２の実施形態の光配向システム２００では、図１３に示すように、回収位置ＰＵ１，ＰＵ２と搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２が同一箇所に設定されている。
より詳細には、搭載位置ＰＬ１（回収位置ＰＵ１）に位置する第１ワークステージ２Ａと照射領域Ｒとの間には、第２ワークステージ２Ｂ上の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを通過する分未満のスペースＳ１が設けられている。
同様に、搭載位置ＰＬ２（回収位置ＰＵ２）に位置する第２ワークステージ２Ｂと照射領域Ｒとの間には、第１ワークステージ２Ａ上の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを通過する分未満のスペースＳ１が設けられている。
【００４９】
ロボット装置２６０は、ロボット６２を第１ワークステージ２Ａの搭載位置ＰＬ１（回収位置ＰＵ１）に対応する位置（直動方向Ｘで略同一となる位置）から第２ワークステージ２Ｂの搭載位置ＰＬ２（回収位置ＰＵ２）に対応する位置まで移動可能な長さに形成されている。
第２の実施形態では、回収位置ＰＵ１，ＰＵ２の位置及びロボット装置２６０の直動方向Ｘの長さ以外は略同一の構成であるため、第１の実施形態と同一部分には同一の符号を付して説明を省略する。
【００５０】
次に、図１３〜図２０を参照し、光配向システム２００の動作について説明する。なお、図１４〜図２０では、搬入出装置２０及び上流側ロボット装置３０の図示を省略している。
初期状態では、図１３及び図１４に示すように、第１ワークステージ２Ａ及び第２ワークステージ２Ｂは搭載位置ＰＬ１、ＰＬ２にそれぞれ位置するとともに、ロボット６２は搭載位置ＰＬ２に対応する位置に位置し、ランプ８は点灯されている。なお、以下の説明では、第１ワークステージ２Ａ及び第２ワークステージ２Ｂに対する光配向対象物Ｗの受け取りの際の駆動ピンの動作、及び、第１ワークステージ２Ａ及び第２ワークステージ２Ｂに光配向対象物Ｗを載置した際の回転駆動機構の動作は省略している。また、光配向対象物Ｗを光配向される順に光配向対象物ＷＡ，ＷＢ，ＷＣ，ＷＤ，ＷＥ，ＷＦと言うものとする。また、図１４中、符号Ｄ１は第１ワークステージ２Ａの中心移動範囲を、符号Ｄ２は第２ワークステージ２Ｂの中心移動範囲を示す。
【００５１】
まず、ロボット３２は、搬入出装置２０から光配向対象物ＷＡを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＡの異物及び静電気を除去した後、光配向対象物ＷＡをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。この際、ロボット３２は、クリーナー４０とターンユニット５０との間を移動する。
ターンユニット５０が光配向対象物ＷＡを正姿勢にした後、ロボット６２は、ターンユニット５０から光配向対象物ＷＡを受け取り、搭載位置ＰＬ１に対応する位置に移動して、光配向対象物ＷＡを搭載位置ＰＬ１の第１ワークステージ２Ａ上に搭載する。
【００５２】
一方、ロボット３２は、光配向対象物ＷＡをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置した後、搬入出装置２０から次の光配向対象物ＷＢを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＢの異物及び静電気を除去した後、光配向対象物ＷＢをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
また、ロボット６２は、光配向対象物ＷＡを第１ワークステージ２Ａ上に搭載した後、搭載位置ＰＬ２に対応する位置に移動して、ターンユニット５０から次の光配向対象物ＷＢを受け取り、光配向対象物ＷＢを搭載位置ＰＬ２の第２ワークステージ２Ｂ上に搭載する。
【００５３】
直動機構６は、図１５に示すように、第１ワークステージ２Ａを他端Ｅ２側に移動し、光配向対象物ＷＡに偏光光が照射される。このとき、直動機構６は、光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒに入るまで第１ワークステージ２Ａを高速で移動し、光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒに入ると第１ワークステージ２Ａを低速で移動する。
また、第１ワークステージ２Ａの往路の移動中、直動機構６は、第２ワークステージ２Ｂを搭載位置ＰＬ２から退避位置ＰＴ２まで高速で退避させる。退避位置ＰＴ２に位置する第２ワークステージ２Ｂと照射領域Ｒとの間には、第１ワークステージ２Ａ上の光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒを通過する分以上のスペースＳ２が設けられている。このように、第２ワークステージ２Ｂを退避位置ＰＴ２まで退避させることにより、第１ワークステージ２Ａを光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒを抜けるまで移動しても、光配向対象物ＷＡが光配向対象物ＷＢに干渉することを防止できる。したがって、第１ワークステージ２Ａ上の光配向対象物ＷＡの全面に亘って光配向することができる。
一方、ロボット３２は、光配向対象物ＷＢをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置した後、搬入出装置２０から次の光配向対象物ＷＣを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＣの異物及び静電気を除去した後、光配向対象物ＷＣをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
【００５４】
光配向対象物ＷＡが往路で照射領域Ｒを抜けると、直動機構６は、図１６に示すように、第１ワークステージ２Ａを反転して一端Ｅ１側に移動し、光配向対象物ＷＡに復路でも偏光光が照射される。また、直動機構６は、第１ワークステージ２Ａの復路の移動に追従させて第２ワークステージ２Ｂを一端Ｅ１側に移動し、光配向対象物ＷＢに偏光光が照射される。このとき、直動機構６は、第１ワークステージ２Ａに追いつく（第１ワークステージ２Ａと所定の距離になる）まで第２ワークステージ２Ｂを高速で移動し、第１ワークステージ２Ａに追いつくと第２ワークステージ２Ｂを低速で移動する。また、直動機構６は、光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒを抜けるまで第１ワークステージ２Ａを低速で移動し、光配向対象物ＷＡが照射領域Ｒを抜けると第１ワークステージ２Ａを退避位置ＰＴ１まで高速で移動する。退避位置ＰＴ１に位置する第１ワークステージ２Ａと照射領域Ｒとの間には、第２ワークステージ２Ｂ上の光配向対象物ＷＢが照射領域Ｒを通過する分以上のスペースＳ２が設けられている。これにより、第２ワークステージ２Ｂの往路の移動中、第１ワークステージ２Ａを退避位置ＰＴ１まで退避させることができる。したがって、第２ワークステージ２Ｂを光配向対象物ＷＢが照射領域Ｒを抜けるまで移動しても、光配向対象物ＷＢが光配向対象物ＷＡに干渉することを防止できるので、第２ワークステージ２Ｂ上の光配向対象物ＷＢの全面に亘って光配向することができる。
一方、ロボット６２は、光配向対象物ＷＢを第２ワークステージ２Ｂ上に搭載した後、ターンユニット５０から次の光配向対象物ＷＣを受け取る。そして、ロボット６２は、搭載位置ＰＬ１に対応する位置に移動する。
また、ロボット３２は、光配向対象物ＷＣをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置した後、搬入出装置２０から次の光配向対象物ＷＤを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＤの異物及び静電気を除去した後、光配向対象物ＷＤをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
【００５５】
光配向対象物ＷＢが往路で照射領域Ｒを抜けると、直動機構６は、図１７に示すように、第２ワークステージ２Ｂを反転して他端Ｅ２側に移動し、光配向対象物ＷＢに復路でも偏光光が照射される。また、直動機構６は、第２ワークステージ２Ｂの復路の移動に追従させて第１ワークステージ２Ａを搭載位置ＰＬ１まで移動する。このとき、直動機構６は、光配向対象物ＷＢが照射領域Ｒを抜けるまで第２ワークステージ２Ｂを低速で移動し、搭載位置ＰＬ１まで第１ワークステージ２Ａを高速で移動する。
ロボット６２は、搭載位置ＰＬ１の第１ワークステージ２Ａから光配向対象物ＷＡを回収するとともに、光配向対象物ＷＣを搭載位置ＰＬ１の第１ワークステージ２Ａ上に搭載する。このとき、ロボット６２は、光配向対象物ＷＡを保持している。
また、光配向対象物ＷＤは、ターンユニット５０で待機中である。
一方、ロボット３２は、光配向対象物ＷＤをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置した後、搬入出装置２０から次の光配向対象物ＷＥを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＥの異物及び静電気を除去する。
【００５６】
直動機構６は、図１８に示すように、第２ワークステージ２Ｂの復路の移動に追従させて第１ワークステージ２Ａを移動し、光配向対象物ＷＣに偏光光が照射される。このとき、直動機構６は、第２ワークステージ２Ｂに追いつく（第２ワークステージ２Ｂと所定の距離になる）まで第１ワークステージ２Ａを高速で移動し、光配向対象物ＷＣが照射領域Ｒを抜けるまで第１ワークステージ２Ａを低速で移動する。また、直動機構６は、光配向対象物ＷＢが照射領域Ｒを抜けると退避位置ＰＴ２まで第２ワークステージ２Ｂを高速で移動する。
ロボット６２は、搭載位置ＰＬ２に対応する位置に移動して、ターンユニット５０から次の光配向対象物ＷＤを受け取るとともに、光配向対象物ＷＡをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
ターンユニット５０が光配向対象物ＷＡを正姿勢にした後、ロボット３２は、ターンユニット５０から光配向対象物ＷＡを受け取り、光配向対象物ＷＡを搬入出装置２０に戻す。
また、光配向対象物ＷＥは、クリーナー４０で待機中である。
【００５７】
直動機構６は、図１９に示すように、第１ワークステージ２Ａの復路の移動に追従させて第２ワークステージ２Ｂを搭載位置ＰＬ２まで移動する。このとき、直動機構６は、光配向対象物ＷＣが照射領域Ｒを抜けるまで第１ワークステージ２Ａを低速で移動し、搭載位置ＰＬ２まで第２ワークステージ２Ｂを高速で移動する。
ロボット６２は、搭載位置ＰＬ２の第２ワークステージ２Ｂから光配向対象物ＷＢを回収するとともに、光配向対象物ＷＤを搭載位置ＰＬ２の第２ワークステージ２Ｂ上に搭載する。このとき、ロボット６２は、光配向対象物ＷＢを保持している。
また、光配向対象物ＷＥは、ターンユニット５０で待機中である。
一方、ターンユニット５０から光配向対象物ＷＡが取り出された後、ロボット３２は、クリーナー４０から光配向対象物ＷＥを受け取り、光配向対象物ＷＥをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
また、ロボット３２は、光配向対象物ＷＥをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置した後、搬入出装置２０から次の光配向対象物ＷＦを受け取り、クリーナー４０によって光配向対象物ＷＦの異物及び静電気を除去する。
【００５８】
直動機構６は、図２０に示すように、第１ワークステージ２Ａの復路の移動に追従させて第２ワークステージ２Ｂを移動し、第２ワークステージ２Ｂ上の光配向対象物ＷＤに偏光光が照射される。このとき、直動機構６は、第１ワークステージ２Ａに追いつくまで第２ワークステージ２Ｂを高速で移動し、光配向対象物ＷＤが照射領域Ｒを抜けるまで第２ワークステージ２Ｂを低速で移動する。また、直動機構６は、光配向対象物ＷＣが照射領域Ｒを抜けると第１ワークステージ２Ａを退避位置ＰＴ１まで高速で移動する。
ロボット６２は、ターンユニット５０から次の光配向対象物ＷＥを受け取るとともに、光配向対象物ＷＢをターンユニット５０の調整ステージ５１上に載置する。
ターンユニット５０が光配向対象物ＷＢを正姿勢にした後、ロボット３２は、ターンユニット５０から光配向対象物ＷＢを受け取り、光配向対象物ＷＢを搬入出装置２０に戻す。
また、光配向対象物ＷＦは、クリーナー４０で待機中である。
以降の動作は、図１４からの繰り返しとなる。
【００５９】
以上説明したように、本実施形態によれば、光配向装置１は、中央部に光照射器５が設けられ、光照射器５の両端Ｅ１，Ｅ２近傍位置に一対の搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２が設けられ、一端部側の搭載位置ＰＬ１、中央部の光照射器５の照射領域Ｒ、一端部側の搭載位置ＰＬ１の順で光配向対象物Ｗを往復させるとともに、他端部側の搭載位置ＰＬ２、中央部の光照射器５の照射領域Ｒ、他端部側の搭載位置ＰＬ２の順で光配向対象物Ｗを往復させる直動機構６を備え、直動機構６は、一方の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを通過する際に、他方の光配向対象物Ｗを搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２から退避させている構成とした。このように、２つのワークステージ２を設けたため、一のワークステージ２の移動に追従するように、他のワークステージ２を移動することで、光配向対象物Ｗの処理（光配向照射）の工程作業時間を短縮できる。
【００６０】
また、光照射器５の両端Ｅ１，Ｅ２近傍位置に一対の搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２が設けられているため、搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２から光照射器５までの間の距離を短くできるので、光配向対象物Ｗの移動時間を短くできる。その結果、光配向対象物Ｗの処理（光配向照射）の工程作業時間を短縮できる。また、搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２から光照射器５までの間の距離を短くできることから、照射前の光配向対象物Ｗに異物が付着することを抑制できる。
さらに、光照射器５の両端Ｅ１，Ｅ２近傍位置に一対の回収位置ＰＵ１，ＰＵ２が設けられているため、光照射器５から回収位置ＰＵ１，ＰＵ２までの間の距離を短くできるので、光配向対象物Ｗの移動時間を短くできる。その結果、光配向対象物Ｗの処理（光配向照射）の工程作業時間を短縮できる。また、光照射器５から回収位置ＰＵ１，ＰＵ２までの間の距離を短くできることから、照射後の光配向対象物Ｗに異物が付着することを抑制できる。
これに加え、光照射器５の両端Ｅ１，Ｅ２近傍位置に一対の搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２及び一対の回収位置ＰＵ１，ＰＵ２が設けられているため、ロボット装置２６０のロボット６２の移動距離を短くできるので、ロボット装置２６０の専有スペースを小さくできる。
【００６１】
また、直動機構６は、一方の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを通過する際に、他方の光配向対象物Ｗを搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２から退避させている構成とした。この構成により、一方の光配向対象物Ｗが照射領域Ｒを抜けるまで移動しても、一方の光配向対象物Ｗが他方の光配向対象物Ｗに干渉することを防止できるので、光配向対象物Ｗの全面に亘って光配向することができる。
【００６２】
なお、本実施形態では、退避位置ＰＴ１，ＰＴ２を搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２の直動方向Ｘ外側に設けたが、退避位置ＰＴ１，ＰＴ２は、搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２に干渉しない位置であればこれに限定されない。退避位置ＰＴ１，ＰＴ２は、例えば、搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２の上方、下方、又は側方（例えば、図１３の紙面上側）に設けてもよい。
【００６３】
但し、上述の実施形態は本発明の一態様であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能であるのは勿論である。
例えば、上述の実施形態では、光配向対象物Ｗを支持するワークステージ２を設けていたが、光配向対象物Ｗを支持する支持部材は、ワークステージ２に限定されるものではなく、例えば、光配向対象物Ｗの下面や側面等を支持するピン等であってもよい。
【００６４】
また、上述の実施形態では、往路と復路の両方で光配向照射したが、往路又は復路の一方のみで光配向照射してもよい。
【００６５】
また、上述の実施形態では、光源をランプ８として説明したが、これに限定されるものではなく、光源は、ＬＥＤや有機ＥＬ等の発光素子であってもよい。この場合、複数の発光素子を直線上に並べることで、長軸（軸線）Ｌを構成すればよい。また、光源が放射する光も、紫外線に限定されるものではない。
【００６６】
また、上述の実施形態では、複数のワイヤーグリッド偏光子１６で偏光子ユニット１０を構成していたが、ワイヤーグリッド偏光子１６は１つであってもよい。
また、上述の実施形態では、偏光子としてワイヤーグリッド偏光子１６を用いたが、偏光子は例えば蒸着膜を用いた偏光子であってもよい。
【００６７】
また、上述の実施形態では、搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２に対して１つの下流側ロボット装置６０，２６０を設けたが、搭載位置ＰＬ１，ＰＬ２にそれぞれ下流側ロボット装置６０，２６０を設けてもよい。
【符号の説明】
【００６８】
１  光配向装置
５  光照射器
６  直動機構（往復機構）
６０，２６０  ロボット装置
１００，２００  光配向システム
Ｅ１  一端
Ｅ２  他端
ＰＵ１，ＰＵ２  回収位置（ワーク回収ステージ）
ＰＬ１，ＰＬ２  搭載位置（ワーク搭載ステージ）
Ｗ  光配向対象物（ワーク）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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