(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検眼の眼底における第１の領域において第１の光を走査する第１の走査手段と、
前記第１の光が照射された前記第１の領域からの戻り光に基づいて、前記第１の領域の画像を撮る第１の撮像手段と、
前記第１の領域よりも狭い前記眼底における第２の領域であって、前記第１の光とは異なる波長を有する第２の光が照射された前記第２の領域からの戻り光に基づいて、前記第２の領域の画像を撮る第２の撮像手段と、
前記第２の領域において前記第１の光が走査されている間には前記第１の光を減光する制御手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記第１の光の前記第１の領域への照射と、前記第２の光の前記第２の領域への照射とが同時であり、
前記制御手段は、前記第２の領域において前記第１の光が走査される間には前記第１の光が前記第２の領域に照射されないように前記第１の光を減光することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第１の光を発する第１の光源と、
前記第２の光を発する前記第１の光源とは異なる第２の光源と、を有し、
前記制御手段は、前記第２の領域において前記第１の光が走査される間には前記第１の光源を消灯するように前記第１の光源を制御することにより、前記第１の光を減光することを特徴とする請求項１又は２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記第２の領域において前記第２の光を走査する第２の走査手段を更に有し、
前記第２の撮像手段は、前記第２の領域において前記第２の光が走査された際の前記第２の領域からの戻り光に基づいて、前記第２の領域の画像を撮ることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記第２の領域の画像は、ＡＯ−ＳＬＯ画像であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記第２の光の前記第２の領域からの戻り光の波面を測定する波面センサと、
前記波面の収差を補正する波面補正デバイスと、を有し、
前記制御手段は、前記測定された波面に応じて前記波面補正デバイスに前記波面の収差を補正させることを特徴とする請求項５に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記第２の領域において得られる画像の解像度は、前記第１の領域において得られる画像の解像度よりも高いことを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項８】
被検眼の眼底における第１の領域において第１の光を走査する工程と、
前記第１の光が照射された前記第１の領域からの戻り光に基づいて、前記第１の領域の画像を撮る工程と、
前記第１の領域よりも狭い前記眼底における第２の領域であって、前記第１の光とは異なる波長を有する第２の光が照射された前記第２の領域からの戻り光に基づいて、前記第２の領域の画像を撮る工程と、
前記第２の領域において前記第１の光が走査されている間には前記第１の光を減光する工程と、
を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項９】
前記第１の光の前記第１の領域への照射と、前記第２の光の前記第２の領域への照射とが同時であり、
前記第２の領域において前記第１の光が走査される間には前記第１の光が前記第２の領域に照射されないように前記第１の光を減光することを特徴とする請求項８に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項１０】
前記撮像装置は、前記第１の光を発する第１の光源と、前記第２の光を発する前記第１の光源とは異なる第２の光源と、を有し、
前記第２の領域において前記第１の光が走査される間には前記第１の光源を消灯するように前記第１の光源を制御することにより、前記第１の光を減光することを特徴とする請求項８又は９に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項１１】
前記第２の領域を撮る工程において、前記第２の領域において前記第２の光が走査された際の前記第２の領域からの戻り光に基づいて、前記第２の領域の画像を撮ることを特徴とする請求項８乃至１０の何れか一項に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項１２】
前記第２の領域の画像は、ＡＯ−ＳＬＯ画像であることを特徴とする請求項８乃至１１の何れか一項に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項１３】
前記第２の光の前記第２の領域からの戻り光の波面を測定する工程と、
前記測定された波面に応じて前記波面の収差を補正させる工程と、を含むことを特徴とする請求項１２に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項１４】
前記第２の領域において得られる画像の解像度は、前記第１の領域において得られる画像の解像度よりも高いことを特徴とする請求項８乃至１３の何れか一項に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項１５】
請求項８乃至１４の何れか一項に記載の撮像装置の制御方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撮像装置及び撮像装置の制御方法に関し、特に、眼底に照射光を走査する事で眼底画像を得る眼底撮像装置及び方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、眼底を撮像する機器として、高解像度あるいは動画を取得する共焦点レーザ走査検眼鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ  Ｏｐｈｔｈａｌｍｏｓｃｏｐｅ：ＳＬＯ）など、照射光を走査して眼底を撮像する眼底撮像装置が盛んに用いられている。このような眼底撮像装置では、眼底の狭い領域を高い倍率で拡大して撮影するため、眼底のどの部位を撮影しているかを検査者が確認できることが重要となっている。（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−２５９５４３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示する構成では、明瞭な眼底画像を撮像するためには、眼底全体を撮像するためのビームと、眼底の狭い領域を撮像するためのビームが同時に被検者に照射されるため、被検者への負荷が大きかった。
本発明は、被検者の負荷を抑えたうえで、検査者が被検者の眼底のどの部分を撮像しているかを確認できる装置及びその方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明に係る撮像装置は、被検眼の眼底における第１の領域において第１の光を走査する第１の走査手段と、
前記第１の光が照射された前記第１の領域からの戻り光に基づいて、前記第１の領域の画像を撮る第１の撮像手段と、
前記第１の領域よりも狭い前記眼底における第２の領域であって、前記第１の光とは異なる波長を有する第２の光が照射された前記第２の領域からの戻り光に基づいて、前記第２の領域の画像を撮る第２の撮像手段と、
前記第２の領域において前記第１の光が走査されている間には前記第１の光を減光する制御手段と、
を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、被検者の負荷を抑えたうえで、検査者が被検者の眼底のどの部分を撮像しているかを確認することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】第一の実施形態における眼底撮像装置の構成の模式図である。
【図２】第一の実施形態における眼底撮像装置の機能模式図である。
【図３】第一の実施形態を説明するフローチャートである。
【図４】第一の実施形態におけるＡＯ−ＳＬＯ撮像領域を説明する図である。
【図５】第一の実施形態におけるスキャナ変位と光源ON/OFF状態を示す図である。
【図６】第一の実施形態における表示装置の表示画像を説明する図である。
【図７】第二の実施形態における眼底撮像装置の構成の模式図である。
【図８】第二の実施形態における眼底撮像装置の機能模式図である。
【図９】第二の実施形態を説明するフローチャートである。
【図１０】第二の実施形態におけるＯＣＴ撮像領域を説明する図である。
【図１１】その他の実施形態における眼底撮像装置の構成の模式図である。
【図１２】その他の実施形態におけるＡＯ−ＳＬＯ撮像領域を説明する図である。
【図１３】その他の実施形態におけるスキャナ変位と光源ON/OFFを示す図である。
【図１４】その他の実施形態における眼底撮像装置の部分的な構成の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明を実施するための実施形態について、図面を用い詳細に説明する。
【０００９】
［第一の実施形態］
以下、本発明の第一の実施形態に係る眼科装置、特に眼底撮像装置について説明する。
本実施形態では、第一の眼底撮像装置として、眼底の広域を撮像する装置（以下：ＷＦ−ＳＬＯ装置、Ｗｉｄｅ  Ｆｉｅｌｄ−ＳＬＯ装置）を用い、第二の眼底撮像装置としてＡＯ（Ａｄａｐｔｉｖｅ  Ｏｐｔｉｃｓ：補償光学）−ＳＬＯ装置を用い、眼底にＷＦ−ＳＬＯビームとＡＯ−ＳＬＯビームを同時に入射・走査し、眼底のどの領域を第二の眼底撮像装置で撮像しているかをＷＦ-ＳＬＯ装置で撮像しているＷＦ−ＳＬＯ画像で確認しながら、安定した高画質なＡＯ−ＳＬＯ画像を取得する例について述べる。
【００１０】
＜装置の全体構成＞
本実施形態の眼底撮像装置の光学概要図について、図１を用いて説明する。
本実施例で用いる眼底撮像装置は、ＷＦ−ＳＬＯ装置、ＡＯ−ＳＬＯ装置と、内部固視灯装置を有している。
【００１１】
ＷＦ-ＳＬＯ装置は、接眼レンズユニット１００、ＷＦ−ＳＬＯ１２０により構成されている。ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１は、半導体レーザやＳＬＤ光源（Ｓｕｐｅｒ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｏｄｅ）が好適に用いることができる。用いる波長は、眼底観察として被検者の眩しさの軽減と分解能維持のために、７００ｎｍ〜１０００ｎｍの近赤外の波長域が好適に用いられる。本実施の形態においては、波長７８０ｎｍの半導体レーザを用いる。ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１は不図示の制御部により、後述するＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）（Ｙ）、及びＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）、（Ｙ）に同期してＯＮ／ＯＦＦ制御される。ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１から出射された光はファイバ１２２を介して、ファイバコリメータ１２３から平行なビーム（計測光）となって出射される。なお、この計測光は、本発明において被検眼に照射される第１のビームに対応し、ＷＦ−ＳＬＯ光源は本発明置ける第１の光源に対応する。
【００１２】
出射された光は、レンズ１２４、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｙ）１２５、リレーレンズ１２６、１２７を経由し、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２８に導かれる。当該ビームは、更に、スキャンレンズ１０１と接眼レンズ１０２を通り、被検眼Ｅに入射される。ここで、本実施形態では、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２８、（Ｙ）１２５としてガルバノスキャナを用いている。これらスキャナは、本発明において第１のビームを被検眼上で走査する第１の走査手段に対応する。ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２８、（Ｙ）１２５は、不図示の制御部から出力される角度信号により、スキャナを構成するミラーの角度が制御される。
以後、本実施形態における座標は、眼軸方向をｚ、眼底画像に対し水平方向をｘ、垂直方向をｙとする。本実施形態ではｘ方向が主走査方向でｙ方向が副走査方向となる。
【００１３】
被検眼Ｅに入射したビームは、被検眼Ｅの眼底Ｅａに点状のビームとして照射される。このビームが、被検眼Ｅの眼底Ｅａで反射あるいは散乱され、同一光路をたどり、リングミラー１２９まで戻る。眼底Ｅａに照射されている光が後方散乱した光のうち、瞳孔周辺部を通った光（反射光）が、リングミラー１２９によって反射され、レンズ１３０を経由しアバランシェ・フォトダイオード（以下、ＡＰＤと記述する）１３１に受光される。
【００１４】
ＡＯ−ＳＬＯ装置は、ＷＦ−ＳＬＯ装置と同様に、接眼ユニット１００とＡＯ機能を有するＡＯ−ＳＬＯユニット１４０から構成されている。ＡＯ−ＳＬＯ光源１４１は、波長８４０ｎｍのＳＬＤ光源を用いている。本実施形態では眼底撮像と波面測定のための光源を共用しているが、それぞれを別光源とし、光路の途中で合波する構成としても良い。
【００１５】
ＡＯ−ＳＬＯ光源１４１から出射された光は、ファイバ１４２を通ってファイバコリメータ１４３により、平行な測定光として照射される。照射された測定光はビームスプリッタ１４４を透過し、補償光学の光学系に導光される。当該光は本発明における第２のビームに対応し、ＡＯ−ＳＬＯ光源は本発明における第２の光源に対応する。
【００１６】
前記補償光学系は、ビームスプリッタ１４５、収差を測定する波面センサ１４６、波面補正デバイス１４８および、それらに導光するための反射ミラー１４７−１〜４から構成される。反射ミラー１４７−１〜４は、少なくとも被検眼Ｅの瞳と波面センサ１４６、波面補正デバイス１４８とが光学的に共役関係になるように設置されている。また、本実施形態では、波面補正デバイス１４８として液晶素子を用いた空間位相変調器を用いている。
【００１７】
測定光は波面補正デバイス１４８に入射・反射し、反射ミラー１４７−３に出射する。同様に、被検眼Ｅの眼底Ｅａから帰ってきた光も波面補正デバイス１４８に入射した後、反射ミラー１４７−２に出射する。また、測定光は、ＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１４９、ＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｙ）１５２によって２次元に走査される。これらスキャナは、本発明において第２のビームを被検眼上で走査する第２の走査手段に対応する。本実施形態ではＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１４９、（Ｙ）１５２としてガルバノスキャナを用いている。ＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１４９、（Ｙ）１５２は、不図示の制御部から出力される角度信号により、スキャナを構成するミラーの角度が制御される。
【００１８】
ＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１４９、（Ｙ）１５２で走査された測定光は、ビームスプリッタ１０４で反射し、スキャンレンズ１０１、接眼レンズ１０２を通り被検眼Ｅに入射する。被検眼Ｅに入射した測定光は、眼底Ｅａで反射あるいは散乱し、同一光路を通り、ビームスプリッタ１４５によって一部は波面センサ１４６に入る。波面センサ１４６はビームの波面を測定するもので、シャックハルトマンセンサを用いている。ビームスプリッタ１４５を透過した反射散乱光は、今度はビームスプリッタ１４４によって一部が反射され、ファイバコリメータ１５３、ファイバ１５４を通して、光電子増倍管であるＰＭ（Ｐｈｏｔｏｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒ  Ｔｕｂｅ）から成る光強度センサ１５５に導光される。
【００１９】
導光された光は光強度センサ１５５で電気信号に変換され、制御部（不図示）によって画像化の処理が行われる。そして制御部が、ＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１４９とＡＯ−ＳＬＯスキャナ１５２を微小角度回転（ＳＬＯ１２０のスキャン角度と比べた場合に小さいとの意味）させると、眼底Ｅａの撮像対象領域からの光強度情報が得られ、眼底画像として画像が構成されて、制御部の制御により表示装置（図２参照）に表示される。
【００２０】
また、波面センサ１４６、波面補正デバイス１４８は制御部に接続されている。制御部は、波面センサ１４６の測定結果によって取得された波面を基に、収差のない波面へと補正するような変調量（補正量）を計算し、波面補正デバイス１４８にその変調を指令する。本実施形態では波面補正デバイス１４８として画素数６００×６００の反射型液晶空間位相変調器を用いた。
【００２１】
内部固視灯１６０は、光源１６１、レンズ１６２で構成される。光源１６１として複数の発光ダイオード（ＬＤ）がマトリックス状に配置されたものを用いる。発光ダイオードの点灯位置は、制御部の制御により撮像したい部位に合わせて変更される。光源１６１からの光は、レンズ１６２を介し、ダイクロイックミラー１０３により被検眼Ｅに導かれる。光源１６１から出射される光は５２０ｎｍで、制御部により所望のパターンが表示される。
【００２２】
＜機能構成＞
本実施形態の機能構成に関して、図２を用い説明する。各機能部材を制御する制御部（ＰＣ）２００は表示装置２１２、ＣＰＵ２０１、記録装置ＨＤＤ２０２と、各装置の制御部である固視灯制御部２０３、ＷＦ−ＳＬＯ制御部２１０とＡＯ−ＳＬＯ制御部２０９から構成されている。ＣＰＵ２０１からの指示の下、固視灯を表示する表示装置２０４（図１の光源１６１に対応する）は固視灯制御部２０３の制御により、ＷＦ−ＳＬＯ装置のＸ，Ｙスキャナ２０５（図１のＷＦ−ＳＬＯスキャナ１２５と１２８に対応する）とＷＦ−ＳＬＯ光源２０６（図１のＷＦ−ＳＬＯ光源１２１に対応する）はＷＦ−ＳＬＯ制御部２１０の制御により、ＡＯ−ＳＬＯ装置のＸ，Ｙスキャナ２０８（図１のＡＯ−ＳＬＯスキャナ１４９と１５２に対応する）とＡＯ−ＳＬＯ光源２０７（図１のＡＯ−ＳＬＯ光源１４１に対応する）はＡＯ−ＳＬＯ制御部２０９の制御により、それぞれ動作する。
【００２３】
また、被検眼Ｅからの信号は、ＡＯ−ＳＬＯの受光部材ＰＭ２１４（図１の光強度センサ１５５に対応する）、ＷＦ−ＳＬＯの受光部材ＡＰＤ２１５（図１のＡＰＤ１３１に対応する）を介して得られる。得られた信号はＣＰＵ２０１で画像化され、表示装置２１２に表示される。
【００２４】
＜フロー＞
以下、第一の眼底撮像装置としてＷＦ−ＳＬＯ装置を用い、第二の眼底撮像装置としてＡＯ−ＳＬＯ装置を用い、ＷＦ−ＳＬＯ画像によりＡＯ−ＳＬＯ撮像領域を確認しながらＡＯ−ＳＬＯ画像を撮像する方法を、図３のフローチャートを基づき説明する。なお、特に記載がない場合は、ＣＰＵ２０１によって実行される処理である。
【００２５】
先ず、固視灯１６１を構成するマトリックス上に配置された複数の発光ダイオードのうち基準となる発光ダイオードを点灯し、被検者に固視灯１６１を固視してもらう。この状態で、ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１からレーザを出力してＡＰＤ１３１で反射光を受光することで眼底の広域を撮像するＷＦ−ＳＬＯ画像を取得する（ステップ３０１：以下、Ｓ３０１）。図４（ａ）は、基準となる発光ダイオードを点灯し、被検者が固視灯１６１を固視した状態で撮像したＷＦ−ＳＬＯ画像である。図４中、４０１は、表示装置２１２上に表示されたＷＦ−ＳＬＯ画像に、ＣＰＵ２０１により付加されたＡＯ−ＳＬＯ撮像領域を表したものである。
【００２６】
次に、検査者である操作者は不図示の入力装置を介して固視灯１６１を構成する複数の発光ダイオードから、所望の発光ダイオードを選択、点灯させる。被検者が点灯された固視灯を固視することにより、ＡＯ−ＳＬＯ画像を撮影したい領域がＷＦ−ＳＬＯ画像の中央にくるようになる。図４（ｂ）は、固視灯の点灯位置を変更することにより、ＡＯ−ＳＬＯ撮像領域が変更したことを示している。次に、操作者は不図示の入力装置を介してＡＯ−ＳＬＯ画像の撮像領域を指定する。図４（ｃ）は、操作者により、初期値よりも大きな領域がＡＯ−ＳＬＯ撮像領域として指定されたことを示している。上記操作によりＡＯ−ＳＬＯ撮像画像の撮像領域、或いは第２のビームによる照射領域が設定される（Ｓ３０２）。
【００２７】
次に、Ｓ３０２で設定したＡＯ−ＳＬＯ撮像領域からある設定範囲がＷＦ−ＳＬＯビーム照射制限領域として設定される（Ｓ３０３）。より詳細には、Ｓ３０２で設定したＡＯ−ＳＬＯ撮像領域の周囲に所定幅を加えた領域をＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域として設定する。ここで、所定幅を加えるのは、ＷＦ−ＳＬＯビームとＡＯ−ＳＬＯビームが眼底上で近接することを回避するためである。具体的には、被検者の負荷を軽減するために、ＷＦ−ＳＬＯビームが眼底を照射するビーム径の2倍程度をＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域として設定すればよい。図４中、４０２はＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域を表したものである。このように、被検眼において第１のビームであるＷＦ−ＳＬＯビームの照射を禁止する若しくは照射されるビームを制限させるＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域は、第２のビームであるＡＯ−ＳＬＯビームの照射範囲に基づいて適宜設定され、当該設定の操作はＣＰＵ２０１においてＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域設定手段として機能するモジュール領域により実行される。
【００２８】
次に、ＷＦ−ＳＬＯ撮像時にＳ３０３で設定されたＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域上をＷＦ−ＳＬＯビームが走査する際には、ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１を消灯し、ＷＦ−ＳＬＯ画像を撮像する（Ｓ３０４）。第１のビームの照射の制限は第１の光源手段であるＷＦ−ＳＬＯ光源によって実行され、当該消灯の指示は制御手段であるＣＰＵ２０１により為される。
【００２９】
図５は、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２８、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｙ）１２５とＷＦ−ＳＬＯ光源１２１の点灯状態を示す図である。図５の横軸は時間である。図５（ａ）、（ｂ）の縦軸は、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２８、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｙ）１２５の変位（回転角）を示している。図５（ｃ）は、ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１の点灯状態を示している。図５に示すように、ｔ1より撮像が開始されると、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２８、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｙ）１２５はそれぞれの周期で回転を開始する。それとともに、ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１も点灯もされる。ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２８、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｙ）１２５がＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域に達すると（図５のｔ2〜ｔ3区間）、ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１は点灯と消灯を繰り返す。ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２８、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｙ）１２５がＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域外に達し、撮像が終了するまで（図５のｔ3〜ｔ4区間）は、ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１は連続点灯とする。
【００３０】
なお、ＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域上をＷＦ−ＳＬＯビームが走査する際にＷＦ−ＳＬＯ光源１２１を消灯したうえでのＷＦ−ＳＬＯ画像の撮像は、ＡＯ−ＳＬＯ画像撮影終了（Ｓ３０４〜Ｓ３０７）まで連続で行われる。このとき、表示装置２１２には、最新のＷＦ−ＳＬＯ画像が更新されて表示される。
【００３１】
ここからは、ＡＯ−ＳＬＯ画像の撮像に移行する。最初に、ＡＯ−ＳＬＯスキャナ１４９と１５２を中央位置に停止した状態で光源１４１を点灯する。被検眼Ｅに照射されたＡＯ−ＳＬＯビームは、被検眼Ｅの眼底Ｅａで反射あるいは散乱され、反射あるいは散乱光として波面センサに入射される。制御部２００では、波面センサに入射された光に基づき、波面補正デバイス１４８を駆動し、波面収差の補正が行われる（Ｓ３０５）。
【００３２】
次に、ＡＯ−ＳＬＯ画像の撮像が開始される。ＡＯ−ＳＬＯスキャナ１４９と１５２は、Ｓ３０２で設定されたＡＯ−ＳＬＯ撮像領域にＡＯ−ＳＬＯビームを走査し、ＡＯ−ＳＬＯ撮像領域からの戻り光は光強度センサ１５５により光電変換され、ＡＯ−ＳＬＯ画像が撮像される（Ｓ３０６）。ＡＯ−ＳＬＯ画像の撮像が正常に終了した場合には、動作を終了とし、ＡＯ−ＳＬＯ画像の撮像を続けたい場合には、Ｓ３０１に戻りＳ３０１からＳ３０６の動作を繰り返し続ければよい（Ｓ３０７）。例えば、波面収差補正動作（Ｓ３０５）、〜ＡＯ−ＳＬＯ画像撮像（Ｓ３０６）までの間に、表示装置２１２に表示されたＷＦ−ＳＬＯ画像が動いたとき、即ち被検眼が動いてしまったときには、再度ＡＯ−ＳＬＯ画像撮像を実施すれば良い。
【００３３】
上記実施例では、ＷＦ−ＳＬＯ画像にＡＯ−ＳＬＯ撮像領域を付加して表示した場合について説明したが、ＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域走査時にＷＦ−ＳＬＯビームを消灯すると、ＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域は黒く撮像されることになる。図６は、表示装置に表示される実際の表示画面を表した図である。図６（ａ）中、６０１はＷＦ−ＳＬＯ画像である。６０３は、ＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域である。図に示したように、ＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域は、眼底にＷＦ−ＳＬＯビームが照射されないため、黒く撮像される。よって、操作者は、ＡＯ−ＳＬＯ撮像領域をＷＦ−ＳＬＯ画像を見るだけで確認できるようになる。６０２は、ＡＯ−ＳＬＯ画像である。操作者は表示画面の様子を観察し、所望の領域のＡＯ−ＳＬＯ画像が撮像されているかを確認することができる。また、ＡＯ−ＳＬＯ撮像領域をより正確に認識したい場合には、図６（ｂ）に示すように、ＷＦ−ＳＬＯ画像上に、ＡＯ−ＳＬＯ撮像領域６０４を付加した画像を表示してもよい。
【００３４】
［第二の実施形態］
以下、本発明の第二の実施形態について説明する。
本実施形態では、第一の眼底撮像装置として、ＷＦ−ＳＬＯ装置を用い、第二の眼底撮像装置としてＯＣＴ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）装置を用い、眼底にＷＦ−ＳＬＯビームとＯＣＴビームを同時に入射・走査し、眼底のどの領域を第二の眼底撮像装置で撮像しているかをＷＦ−ＳＬＯ装置で撮像しているＷＦ−ＳＬＯ画像で確認しながら、安定した高画質なＯＣＴ画像を取得する例について述べる。
【００３５】
＜装置の全体構成＞
本実施形態の眼底撮像装置の光学概要図について、図７を用いて説明する。
第一の眼底撮像装置と内部固視灯装置に関しては、第一の実施形態と同様の構成の為、説明は割愛する。
第二の眼底撮像装置であるＯＣＴ装置１８０は、図7に示すように、光源１８１を有し、光源１８１には、中心波長８４０ｎｍ、波長半値幅４５ｎｍのＳＬＤ光源（Ｓｕｐｅｒ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｏｄｅ）を用いる。ＳＬＤ光源の他に、ＡＳＥ光源（Ａｍｐｌｉｆｉｅｄ Ｓｐｏｎｔａｎｅｏｕｓ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）が好適に用いることができる。
【００３６】
波長は、８５０ｎｍ近傍および１０５０ｎｍ近傍の波長が眼底撮影には好適に用いられる。光源１８１から照射される低コヒーレント光がファイバを経由して、ファイバカプラ１８２に入り、計測光（ＯＣＴビームとも言う）と参照光に分けられる。ここではファイバを用いた干渉計構成を記載しているが、空間光光学系でビームスプリッタを用いた構成としてもかまわない。計測光は、ファイバコリメータ１８３から平行光となって出射される。
【００３７】
計測光は、ＯＣＴスキャナ（Ｙ）１８４、リレーレンズ１８５、１８６を経由し、さらにＯＣＴスキャナ（Ｘ）１８７を通り、ビームスプリッタ１０４、スキャンレンズ１０１、ダイクロイックミラー１０３、そして、接眼レンズ１０２を通り被検眼Ｅに入射する。計測光のビーム径は眼底で２０μｍ程度である。ここで、ＯＣＴスキャナ（Ｘ）１８７および（Ｙ）１８４は、ガルバノスキャナを用いている。
【００３８】
被検眼Ｅに入射した計測光は、眼底Ｅａで反射し、同一光路を通りファイバカプラ１８２に戻る。一方参照光は、ファイバカプラ１８２からファイバコリメータ１８８に導かれ、平行光となり照射される。照射された参照光は、分散補正ガラス１８９を通り、光路長可変ステージ１９０上の参照ミラー１９１により反射される。参照ミラー１９１により反射された参照光は、同一の光路をたどり、ファイバカプラ１８２に戻る。ファイバカプラ１８２で戻ってきた計測光および参照光が合波され、ファイバコリメータ１９２に導かれる。ここでは合波された光を干渉光と呼ぶ。
【００３９】
ファイバコリメータ１９２、グレーティング１９３、レンズ１９４、ラインセンサ１９５によって、分光器が構成されている。干渉光は、分光器によって、波長毎の強度情報となって計測される。ラインセンサ１９５によって計測された波長毎の強度情報は、不図示のＰＣに転送され、被検眼Ｅの眼底Ｅａの断層画像（以下、特記しない際の断層画像とは網膜断層像を示す。）として形成される。
【００４０】
＜機能構成＞
本実施形態機能構成に関して、図８を用い説明する。各機能部材を制御するＰＣ８００は表示装置８１２、ＣＰＵ８０１、記録装置ＨＤＤ８０２と、各装置の制御部である固視灯制御部８０３、ＷＦ−ＳＬＯ制御部８１０とＯＣＴ制御部８０９から構成されている。ＣＰＵ８０１からの指示の下、固視灯表示する表示装置８０４（図７の光源１６１に対応する）は固視灯制御部８０３の制御により、ＷＦ−ＳＬＯ装置のＸ，Ｙスキャナ８０５（図７のＷＦ−ＳＬＯスキャナ１２５、１２８に対応する）とＷＦ−ＳＬＯ光源８０６（ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１に対応する）はＳＬＯ制御部８１０の制御により、ＯＣＴ装置のＸ，Ｙスキャナ８０８（図７のＯＣＴスキャナ１８４、１８７に対応する）とＯＣＴ光源８０７（図７の光源１８１に対応する）はＯＣＴ制御部８０９の制御により、各装置が動作する。
【００４１】
また、被検眼Ｅからの信号は、ＯＣＴの受光部材ラインセンサ８１４（図７のラインセンサ１９５に対応する）、ＷＦ−ＳＬＯの受光部材ＡＰＤ８１５（図７のＡＰＤ１３１に対応する）を介して得られる。得られた信号はＣＰＵ８０１で画像化され、表示装置８１２に表示される。本実施形態においては、第一の画像は眼底断層画像となり、第二の画像が眼底画像となる。
【００４２】
＜フロー＞
以下、第一の眼底撮像装置としてＷＦ−ＳＬＯ装置を用い、第二の眼底撮像装置としてＯＣＴ装置を用い、ＷＦ−ＳＬＯ画像によりＯＣＴ撮像領域を確認しながらＯＣＴ画像を撮像する方法を、図９のフローチャートを基づき説明する。なお、特に記載がない場合は、ＣＰＵ８０１によって実行される処理である。
【００４３】
先ず、固視灯１６１を構成するマトリックス上に配置された複数の発光ダイオードのうち基準となる発光ダイオードを点灯し、被検者に固視灯１６１を固視してもらう。この状態で、ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１からレーザを出力してＡＰＤ１３１で反射光を受光することで眼底の広域を撮像するＷＦ−ＳＬＯ画像を取得する（Ｓ９０１）。図１０（ａ）は、基準となる発光ダイオードを点灯し、被検者が固視灯１６１を固視した状態で撮像したＷＦ−ＳＬＯ画像である。図１０中、１００１は、表示装置８１２上に表示されたＷＦ−ＳＬＯ画像に、ＣＰＵ８０１により付加されたＯＣＴ撮像領域を表したものである。
【００４４】
次に、検査者である操作者は不図示の入力装置を介して固視灯１６１を構成する複数の発光ダイオードから、所望の発光ダイオードを選択、点灯させる。被検者が点灯された固視灯を固視することにより、ＯＣＴ画像を撮影したい領域がＷＦ−ＳＬＯ画像の中央にくるようになり、ＯＣＴ撮像領域が設定される（Ｓ９０２）。図１０（ｂ）は、固視灯の点灯位置を変更することにより、ＯＣＴ撮像領域が変更したことを示している。
【００４５】
次に、Ｓ９０２で設定したＯＣＴ撮像領域からある設定範囲がＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域として設定される（Ｓ９０３）。より詳細には、Ｓ９０２で設定したＡＯ−ＳＬＯ撮像領域の周囲に所定幅を加えた領域をＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域として設定する。ここで、所定幅を加えるのは、ＷＦ−ＳＬＯビームとＯＣＴビームが眼底上で近接することを回避するためである。具体的には、被検者の負荷を軽減するために、ＷＦ−ＳＬＯビームが眼底を照射するビーム径の2倍程度をＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域として設定すればよい。図１０中、１００２はＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域を表したものである。次に、ＷＦ−ＳＬＯ撮像時にＳ９０３で設定されたＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域上をＷＦ−ＳＬＯビームが走査する際には、ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１を消灯し、ＷＦ−ＳＬＯ画像を撮像する（Ｓ９０４）。なお、ＷＦ−ＳＬＯビーム制限領域上をＷＦ−ＳＬＯビームが走査する際に、ＷＦ−ＳＬＯ光源１２１を消灯したうえでのＷＦ−ＳＬＯ画像の撮像は、ＯＣＴ画像撮影終了（Ｓ９０４〜Ｓ９０６）まで連続で行われる。このとき、表示装置８１２には最新のＷＦ−ＳＬＯ画像が更新されて表示される。
【００４６】
次に、ＯＣＴ画像の撮像が開始される。ＯＣＴスキャナ１８４と１８７は、Ｓ９０２で設定されたＯＣＴ撮像領域にＯＣＴビームを走査し、ＯＣＴ撮像領域からの戻り光はランセンサ１９５により光電変換され、ＯＣＴ画像が撮像される（Ｓ９０５）。ＯＣＴ画像の撮像が正常に終了した場合には、動作を終了とし、ＯＣＴ画像の撮像を続けたい場合には、Ｓ９０１に戻りＳ９０１からＳ９０５の動作を繰り返し続ければよい（Ｓ９０６）。例えば、ＯＣＴ画像撮像中（Ｓ９０５）に、表示装置８１２に表示されたＷＦ−ＳＬＯ画像が動いたとき、即ち被検眼が動いてしまったときには、再度ＯＣＴ画像撮像を実施すれば良い。
【００４７】
［その他の実施形態］
上記実施形態１，２では固視灯の点灯位置を変更し、点灯された固視灯を被検者に固視してもらうことにより、常にＡＯ−ＳＬＯ画像撮像領域、及びＯＣＴ撮像領域がＷＦ−ＳＬＯ画像の撮像領域の中央となる構成について説明した。しかし、固視灯は常に一定位置で点灯し、ＡＯ−ＳＬＯ画像撮像領域を移動する方法も可能である。図１１に上記固視灯の点灯位置を固定し、ＡＯ−ＳＬＯ画像撮像領域を移動する装置の構成を示す。図１１の構成と図１の構成の違いは、ＡＯ−ＳＬＯユニット１４０とビームスプリッタ１０４の間にＡＯ−ＳＬＯ撮像領域変更ユニット１７０を設けたことになる。撮像領域変更ユニット１７０には、不図示の制御部により制御されるＸ軸、Ｙ軸に対してそれぞれ回転可能なミラー１７１、１７２が設けられている。ミラー１７１、１７２はそれぞれ回転し、測定光が眼底Ｅａをスキャンする位置を変更することができる。図１２は、ＡＯ−ＳＬＯ撮像領域を中央から移動した状態を示す図である。図１２（ａ）は、ＡＯ−ＳＬＯ撮像領域１２０１がＷＦ−ＳＬＯ画像の中央部にあることを表している。１２０２は、ＷＦ−ＳＬＯ撮像禁止領域である。図１２は制御部により、撮像領域変更ユニット１７０内のミラー１７１、１７２が回転され、中央からずれた位置がＡＯ−ＳＬＯ撮像領域１２０１として設定された状態を示している。図１３は、図１２（ｂ）で示されたＷＦ−ＳＬＯ撮像禁止領域１２０２が設定された場合の、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２８、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｙ）１２５とＷＦ−ＳＬＯ光源１２１の点灯状態を示す図である。図１３は、縦軸、横軸等はすべて図４と同じであるため、説明は割愛する。
【００４８】
上記実施形態１では、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）、（Ｙ）、及びＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）、（Ｙ）はすべてガルバノスキャナを用いる方法について説明した。ここでは、撮像時間を短縮するために、高速での走査が要求される主走査方向のＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）、およびＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）にそれぞれ共振スキャナを用いたときの構成について説明する。ガルバノスキャナは角度制御信号によりミラーの角度が制御されるため、制御部ではスキャナのミラー位置、即ち眼底上のＷＦ−ＳＬＯビームの照射位置、およびＡＯ−ＳＬＯビームの照射位置を把握することができる。しかしながら、共振スキャナではスキャナ自身が共振することによりミラー角度が変化するため、ミラーの位置を制御部が把握することができない。そこで、共振スキャナを用いる場合には、共振スキャナのミラーに別途レーザ等のビームを照射し、その反射光をラインセンサなどの光電変換手段で電気信号に変換し、共振スキャナのミラー角度、即ち眼底上の各ビームの照射位置を把握することが必要となる。図１４を用いて、共振スキャナのミラー角度、即ち眼底上の各ビームの照射位置を把握する方法を説明する。図１４は、図１のスキャナ周辺のユニットのうち、本構成を説明するために必要な部分だけを抜き出して描いたものである。図１４中、図１と同じユニットに関しては説明を割愛する。図１の構成に対して追加されたものは、ＷＦ−ＳＬＯ位置検出光源１８１、ＡＯ−ＳＬＯ位置検出光源１８３であるレーザ光源、レーザ光源の反射光を光電変換するためのラインセンサ１８２、１８４、ＷＦ−ＳＬＯ光源制御部１８５である。ＷＦ−ＳＬＯ位置検出光源１８１から出射されたレーザ光は、ＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２５に照射され、その反射光がＷＦ−ＳＬＯラインセンサ１８２に照射される。ＷＦ−ＳＬＯラインセンサ１８２には不図示の電気回路が接続され、ラインセンサ出力信号を処理することにより、レーザ光源の反射位置、即ちＷＦ−ＳＬＯスキャナのミラー角度を検出する。同様に、ＡＯ−ＳＬＯ位置検出光源１８３から出射されたレーザ光は、ＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１４９に照射され、その反射光がＡＯ−ＳＬＯラインセンサ１８４に照射される。ＡＯ−ＳＬＯラインセンサ１８４には不図示の電気回路が接続され、ラインセンサ出力信号を処理することにより、レーザ光源の反射位置、即ちＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１４９のミラー角度を検出する。検出されたＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１２５、ＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｘ）１４９の角度、および不図示の制御部からのＷＦ−ＳＬＯスキャナ（Ｙ）１２８、ＡＯ−ＳＬＯスキャナ（Ｙ）１５２の角度信号１８６がＷＦ−ＳＬＯ光源制御部１８５に入力される。ＷＦ−ＳＬＯ光源制御部１８５では、入力された各スキャナの角度信号に基づき、ＷＦ−ＳＬＯビームとＡＯ−ＳＬＯビームが眼底上で同時に照射しないようにＷＦ−ＳＬＯ光源１２１に対して制御信号１８７を出力し、ＯＮ／ＯＦＦ制御を行えば良い。
【００４９】
また、本実施例では、ＷＦ−ＳＬＯビームとＡＯ−ＳＬＯビーム、またはＷＦ−ＳＬＯビームとＯＣＴビームが同時に眼底上の同領域に照射されないように、ＷＦ−ＳＬＯ光源を消灯する方法について説明した。しかしながら、ＷＦ−ＳＬＯ光源を消灯するのではなく、シャッターなどでＷＦ−ＳＬＯビームがＡＯ−ＳＬＯビーム、またはＯＣＴビームと同時に眼底上の同領域に照射されないように遮光する構成でも被検者の負担を軽減することは可能である。更には、ＷＦ−ＳＬＯビームとＡＯ−ＳＬＯビーム、またはＷＦ−ＳＬＯビームとＯＣＴビームが同時に眼底上の同領域に照射されるときには、被検者の負担がないレベルまでＷＦ−ＳＬＯ光源の光量を減少させる構成でも、同様な効果を得ることができる。従って、禁止領域或いは制限領域に対する第１のビームの走査は、これら態様も包含し得る第１のビームの減光を伴って行われると規定されることが好ましい。
【００５０】
［その他の実施例］
また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア（プログラム）を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ等）がプログラムを読み出して実行する処理である。
なお、本件は上記の実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々の変形、変更して実施することができる。例えば、上記の実施例では、被測定物が眼の場合について述べているが、眼以外の皮膚や臓器等の被測定物に本発明を適用することも可能である。この場合、本発明は眼科装置以外の、例えば内視鏡等の医療機器としての態様を有する。従って、本発明は眼科装置に例示される検査装置として把握され、被検眼は被検査物の一態様として把握されることが望ましい。
【符号の説明】
【００５１】
Ｅ：被検眼
１２０：ＷＦ−ＳＬＯ装置
１４０：ＡＯ−ＳＬＯ装置
１６０：内部固視灯装置
１８０：ＯＣＴ装置
【図１】
0005997457.tif 000002
【図２】
0005997457.tif 000003
【図３】
0005997457.tif 000004
【図４】
0005997457.tif 000005
【図５】
0005997457.tif 000006
【図６】
0005997457.tif 000007
【図７】
0005997457.tif 000008
【図８】
0005997457.tif 000009
【図９】
0005997457.tif 000010
【図１０】
0005997457.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
0005997457.tif 000013
【図１３】
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【図１４】
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