(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光材料と、
下記一般式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子化合物と、
を含む組成物であって、
−［−（Ｙ）ｎ−Ｚ−］ｍ−        （１）
［式中、
Ｙは、下記一般式（Ｙ−３）、（Ｙ−５）又は（Ｙ−６）で表される２価の基を示す。
Ｚは、下記一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１２）、（Ｚ−１３）、（Ｚ−１４）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）、（Ｚ−１８）、（Ｚ−１９）又は（Ｚ−２０）で表される２価の基を示す。
ｍは４〜１００００の整数、ｎは１〜３の整数を示す。
複数あるＹ、Ｚ及びｎは、各々、同一であっても異なっていてもよい。
なお、Ｙ及びＺが有する水素原子は、Ｒ’で置換されていてもよく、Ｒ’は、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、１価の複素環基及び１価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又はハロゲン原子を示す。Ｒ’が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ’は互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。］
【化１】
0005913959.tif 000189
【化２】
0005913959.tif 000190
［式中、
ＲＸは、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、１価の複素環基及び１価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又は水素原子若しくはハロゲン原子を示す。複数あるＲＸは、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲＸは互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。
Ｒ”は、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。複数あるＲ”は、同一であっても異なっていてもよい。］
前記発光材料が、下記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位の少なくとも１種を有する高分子発光材料である、組成物。
【化３】
0005913959.tif 000191
［式中、
Ａｒ１及びＡｒ５は、それぞれ独立に、アリーレン基、２価の複素環基又は金属錯体構造を有する２価の基を示す。Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を示す。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。Ｘ１は−ＣＲ３＝ＣＲ４−又は−Ｃ≡Ｃ−を示す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。
ａは、０又は１である。］
【請求項２】
前記発光材料が、前記一般式（Ｂ）で表される構成単位を有する請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記Ｚが、前記一般式（Ｚ−１１）、（Ｚ−１５）又は（Ｚ−１７）で表される２価の基である、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記高分子化合物１質量部に対して、前記発光材料を０．１〜１００質量部含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記高分子化合物が、縮合重合で合成されるものであり、
高分子化合物には、前記Ｙで表される基及び前記Ｚで表される基が縮合重合により導入されており、Ｙで表される基及びＺで表される基とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、
高分子化合物における、Ｙ、Ｚ及び任意追加基のモル数をそれぞれＮＹ、ＮＺ及びＮＭとしたときに、ＮＹ、ＮＺ及びＮＭが下記式（２）を満たす、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
３０≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＭ）≦７５      （２）
【請求項６】
前記高分子化合物及び前記発光材料が、それぞれ縮合重合で合成されるものであり、
高分子化合物には、前記Ｙで表される基及び前記Ｚで表される基が縮合重合により導入されており、Ｙで表される基及びＺで表される基とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、
高分子化合物における、Ｙ、Ｚ及び任意追加基のモル数をそれぞれＮＹ、ＮＺ及びＮＭとし、発光材料における、縮合重合により導入される発光材料を構成する化学構造のモル数をＮＬとしたときに、ＮＹ、ＮＺ、ＮＭ及びＮＬが下記式（３）を満たす、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
０．５≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＭ＋ＮＬ）≦３７．５      （３）
【請求項７】
前記高分子化合物の主鎖が前記一般式（１）で表される構成連鎖のみからなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
下記一般式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有し、かつ、発光材料を構成する化学構造を主鎖又は側鎖に有する、ブロック型共重合体であって、
−［−（Ｙ）ｎ−Ｚ−］ｍ−        （１）
［式中、
Ｙは、下記一般式（Ｙ−３）、（Ｙ−５）又は（Ｙ−６）で表される２価の基を示す。
Ｚは、下記一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１２）、（Ｚ−１３）、（Ｚ−１４）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）、（Ｚ−１８）、（Ｚ−１９）又は（Ｚ−２０）で表される２価の基を示す。
ｍは４〜１００００の整数、ｎは１〜３の整数を示す。
複数あるＹ、Ｚ及びｎは、各々、同一であっても異なっていてもよい。
Ｙ及びＺが有する水素原子は、Ｒ’で置換されていてもよく、Ｒ’は、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、１価の複素環基及び１価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又はハロゲン原子を示す。Ｒ’が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ’が互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。］
【化４】
0005913959.tif 000192
【化５】
0005913959.tif 000193
［式中、
ＲＸは、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、１価の複素環基及び１価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又は水素原子若しくはハロゲン原子を示す。複数あるＲＸは、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲＸは互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。
Ｒ”は、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。複数あるＲ”は、同一であっても異なっていてもよい。］
前記発光材料を構成する化学構造が、下記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位の少なくとも１種である、ブロック型共重合体。
【化６】
0005913959.tif 000194
［式中、
Ａｒ１及びＡｒ５は、それぞれ独立に、アリーレン基、２価の複素環基又は金属錯体構造を有する２価の基を示す。Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を示す。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。Ｘ１は、−ＣＲ３＝ＣＲ４−又は−Ｃ≡Ｃ−を示す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。
ａは、０又は１である。］
【請求項９】
前記発光材料を構成する化学構造が、前記一般式（Ｂ）で表される構成単位である、請求項８に記載のブロック型共重合体。
【請求項１０】
前記Ｚが、前記一般式（Ｚ−１１）、（Ｚ−１５）又は（Ｚ−１７）で表される２価の基である、請求項８又は９に記載のブロック型共重合体。
【請求項１１】
前記一般式（１）で表される構成連鎖を１〜３０有する、請求項８〜１０のいずれか一項に記載のブロック型共重合体。
【請求項１２】
前記ブロック型共重合体は、縮合重合で合成されるものであり、
ブロック型共重合体には、前記Ｙで表される基、前記Ｚで表される基及び前記発光材料を構成する化学構造が、縮合重合により導入されており、Ｙで表される基、Ｚで表される基及び発光材料を構成する化学構造とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、
ブロック型共重合体における、Ｙ、Ｚ、任意追加基及び発光材料を構成する化学構造のモル数を、それぞれＮＹ、ＮＺ、ＮＭ及びＮＫとしたときに、ＮＹ、ＮＺ、ＮＭ及びＮＫが下記式（４）を満たす、請求項８〜１１のいずれか一項に記載のブロック型共重合体。
２≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＫ＋ＮＭ）＜４０      （４）
【請求項１３】
前記発光材料を構成する化学構造と前記一般式（１）で表される構成連鎖のみからなる、請求項８〜１２のいずれか一項に記載のブロック型共重合体。
【請求項１４】
一対の電極と、該一対の電極の間に設けられた有機層を有し、該有機層が、請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物を用いてなる、有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１５】
一対の電極と、該一対の電極の間に設けられた有機層を有し、該有機層が、請求項８〜１３のいずれか一項に記載のブロック型共重合体を含む、有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１６】
請求項１４又は１５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有する面状光源。
【請求項１７】
請求項１４又は１５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、組成物及びブロック型共重合体、並びにこれらを用いて得られる有機エレクトロルミネッセンス素子、面状光源及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、次世代ディスプレイとして、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と呼ぶ。）を用いた有機ＥＬディスプレイが注目されている。この有機ＥＬ素子は、発光層、電荷輸送層等の有機層を有する。有機ＥＬ素子は、低分子有機材料を用いて得られる場合と、高分子有機材料を用いて得られる場合とがある。高分子有機材料を主な材料として使用する場合、インクジェットプリント法及びスピンコート法等の塗布法を使用した際に均一な膜を容易に形成することができるため、大型の有機ＥＬディスプレイの作製に有利であり、これまでに高分子有機材料を有機ＥＬ素子に用いることが提案されている（特許文献１及び特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−５６０９０号公報
【特許文献２】国際公開第９９／５４３８５号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の高分子有機材料、特に青色で発光する材料を有機ＥＬ素子の作製に用いる場合、有機ＥＬ素子の輝度寿命が十分であるとは言えなかった。
【０００５】
そこで、本発明は、輝度寿命に優れる有機ＥＬ素子、これを用いた面状光源及び表示装置、並びに、この素子の有機層に用いることのできる、組成物及びブロック型共重合体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
すなわち、本発明は、発光材料と、下記式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子化合物と、を含む組成物を提供する。
−［−（Ｙ）ｎ−Ｚ−］ｍ−        （１）
［式中、Ｙは、下記一般式（Ｙ−１）又は（Ｙ−２）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基を示す。Ｚは、下記一般式（Ｚ−１）、（Ｚ−２）、（Ｚ−３）、（Ｚ−４）、（Ｚ−５）、（Ｚ−６）、（Ｚ−７）又は（Ｚ−８）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基を示す。ｍは４〜１００００の整数、ｎは１〜３の整数を示す。複数あるＹ、Ｚ及びｎは、各々、同一であっても異なっていてもよい。
なお、Ｙ及びＺが有する水素原子は、Ｒ’で置換されていてもよく、Ｒ’は、それぞれ独立に、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、１価の複素環基及び１価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又はハロゲン原子を示す。Ｒ’が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ’が互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。］
【０００７】
【化１】
0005913959.tif 000002
【０００８】
【化２】
0005913959.tif 000003
【０００９】
［式中、Ｘは、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を示す。複数あるＸは、同一であっても異なっていてもよい。但し、Ｘとしての−Ｎ＝の数は、０〜２である。
ＲＸは、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、１価の複素環基及び１価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又は水素原子若しくはハロゲン原子を示す。複数あるＲＸは、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲＸは互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。］
【００１０】
このような組成物を用いて得られる有機ＥＬ素子は、輝度寿命に優れる。
【００１１】
上記発光材料は、高分子発光材料であることが好ましい。発光材料が高分子発光材料であることにより、電荷移動に対する抵抗が小さくなる傾向があるので、電流特性に優れる。
【００１２】
上記高分子発光材料は、輝度寿命が一層優れる傾向、及び／又は、発光効率が向上する傾向があるので、下記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位の少なくとも１種を有することが好ましい。
【化３】
0005913959.tif 000004
［式中、Ａｒ１及びＡｒ５は、それぞれ独立に、アリーレン基、２価の複素環基又は金属錯体構造を有する２価の基を示す。Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を示す。Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又は１価の複素環基を示す。Ｘ１は−ＣＲ３＝ＣＲ４−又は−Ｃ≡Ｃ−を示す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。ａは、０又は１である。］
【００１３】
上記発光材料は、正孔輸送性が向上するので、上記一般式（Ｂ）で表される構成単位を有することがより好ましい。
【００１４】
上記組成物において、Ｙは、それぞれ独立に、下記一般式（Ｙ−３）、（Ｙ−４）、（Ｙ−５）又は（Ｙ−６）で表される２価の基であることが好ましく、下記一般式（Ｙ−３）、（Ｙ−４）又は（Ｙ−５）で表される２価の基であることがより好ましく、下記一般式（Ｙ−３）又は（Ｙ−５）で表される２価の基であることがさらに好ましく、下記一般式（Ｙ−３）で表される２価の基であることが特に好ましい。
【化４】
0005913959.tif 000005
［式中、Ｒ”は、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。複数あるＲ”は、同一であっても異なっていてもよい。］
【００１５】
上記組成物において、Ｚは、下記一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１０）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１２）、（Ｚ−１３）、（Ｚ−１４）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）、（Ｚ−１８）、（Ｚ−１９）又は（Ｚ−２０）で表される２価の基であることが好ましく、下記一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１３）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）又は（Ｚ−１９）で表される２価の基であることがより好ましく、下記一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）又は（Ｚ−１９）で表される２価の基であることがさらに好ましく、下記一般式（Ｚ−１１）、（Ｚ−１５）又は（Ｚ−１７）で表される２価の基であることが特に好ましい。とりわけ好ましくは、下記一般式（Ｚ−１５）で表される２価の基である。
【化５】
0005913959.tif 000006
［式中、Ｒ”は、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。複数あるＲ”は、同一であっても異なっていてもよい。ＲＸは上記と同義である。］
【００１６】
組成物は、上記高分子化合物１質量部に対して、上記発光材料を０．１〜１００質量部含むことが好ましい。
【００１７】
上記組成物の一実施形態では、上記高分子化合物は、縮合重合で合成されるものであり、
高分子化合物には、上記Ｙで表される基及び上記Ｚで表される基が縮合重合により導入されており、Ｙで表される基及びＺで表される基とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、
高分子化合物における、Ｙ、Ｚ及び任意追加基のモル数をそれぞれＮＹ、ＮＺ及びＮＭとしたときに、ＮＹ、ＮＺ及びＮＭが下記式（２）を満たすことが好ましい。
３０≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＭ）≦７５      （２）
【００１８】
上記組成物のその他の実施形態では、上記高分子化合物及び上記発光材料は、それぞれ縮合重合で合成されるものであり、
高分子化合物には、上記Ｙで表される基及び上記Ｚで表される基が縮合重合により導入されており、Ｙで表される基及びＺで表される基とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、
高分子化合物における、Ｙ、Ｚ及び任意追加基のモル数をそれぞれＮＹ、ＮＺ及びＮＭとし、発光材料における、縮合重合により導入される発光材料を構成する化学構造のモル数をＮＬとしたときに、ＮＹ、ＮＺ、ＮＭ及びＮＬが下記式（３）を満たすことが好ましい。
高分子化合物中のＹの数が下記式（２）又は（３）を満たすとき、発光効率が向上する傾向にある。
０．５≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＭ＋ＮＬ）≦３７．５      （３）
【００１９】
上記組成物において、上記高分子化合物は、輝度寿命が一層優れる傾向、及び／又は、発光効率が向上する傾向にあるので、主鎖が上記一般式（１）で表される構成連鎖のみからなることが好ましい。
【００２０】
本発明はまた、下記一般式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有し、かつ、発光材料を構成する化学構造を主鎖又は側鎖に有する、ブロック型共重合体を提供する。
−［−（Ｙ）ｎ−Ｚ−］ｍ−        （１）
［式中、Ｙは、下記一般式（Ｙ−１）又は（Ｙ−２）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基を示す。Ｚは、下記一般式（Ｚ−１）、（Ｚ−２）、（Ｚ−３）、（Ｚ−４）、（Ｚ−５）、（Ｚ−６）、（Ｚ−７）又は（Ｚ−８）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基を示す。ｍは４〜１００００の整数、ｎは１〜３の整数を示す。複数あるＹ、Ｚ及びｎは、各々、同一であっても異なっていてもよい。
Ｙ及びＺが有する水素原子は、Ｒ’で置換されていてもよく、Ｒ’は、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、１価の複素環基及び１価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又はハロゲン原子を示す。Ｒ’が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ’が互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。］
【化６】
0005913959.tif 000007
【化７】
0005913959.tif 000008
［式中、Ｘは、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を示す。複数あるＸは、同一であっても異なっていてもよい。但し、Ｘとしての−Ｎ＝の数は、０〜２である。
ＲＸは、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、１価の複素環基及び１価の複素環チオ基からなる群より選ばれる官能基、又は水素原子若しくはハロゲン原子を示す。複数あるＲＸは、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲＸは互いに結合して環構造を形成していてもよい。前記官能基が有する水素原子は置換基で更に置換されていてもよい。］
【００２１】
このブロック型共重合体を用いて得られる有機ＥＬ素子は、輝度寿命に優れる。
【００２２】
上記ブロック型共重合体において、上記発光材料を構成する化学構造は、輝度寿命が一層優れる傾向、及び／又は、発光効率が向上する傾向があるので、下記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位の少なくとも１種であることが好ましい。
【化８】
0005913959.tif 000009
［式中、Ａｒ１及びＡｒ５は、それぞれ独立に、アリーレン基、２価の複素環基又は金属錯体構造を有する２価の基を示す。Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を示す。Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。Ｘ１は、−ＣＲ３＝ＣＲ４−又は−Ｃ≡Ｃ−を示す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。ａは、０又は１である。］
【００２３】
上記ブロック型共重合体において、上記発光材料を構成する化学構造は、電流特性が向上する傾向があるので、上記一般式（Ｂ）で表される構成単位であることが好ましい。
【００２４】
上記ブロック型共重合体において、Ｙは、下記一般式（Ｙ−３）、（Ｙ−４）、（Ｙ−５）又は（Ｙ−６）で表される２価の基であることが好ましく、下記一般式（Ｙ−３）、（Ｙ−４）又は（Ｙ−５）で表される２価の基であることがより好ましく、下記一般式（Ｙ−３）又は（Ｙ−５）で表される２価の基であることがさらに好ましく、下記一般式（Ｙ−３）で表される２価の基であることが特に好ましい。
【化９】
0005913959.tif 000010
［式中、Ｒ”は、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。複数あるＲ”は、同一であっても異なっていてもよい。］
【００２５】
上記ブロック型共重合体において、Ｚは、それぞれ独立に、下記一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１０）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１２）、（Ｚ−１３）、（Ｚ−１４）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）、（Ｚ−１８）、（Ｚ−１９）又は（Ｚ−２０）で表される２価の基であることが好ましく、下記一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１３）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）又は（Ｚ−１９）で表される２価の基であることがより好ましく、下記一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）又は（Ｚ−１９）で表される２価の基であることがさらに好ましく、下記一般式（Ｚ−１１）、（Ｚ−１５）又は（Ｚ−１７）で表される２価の基であることが特に好ましく、下記一般式（Ｚ−１５）で表される２価の基であることがとりわけ好ましい。
【化１０】
0005913959.tif 000011
［式中、Ｒ”は、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。Ｒ”が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。ＲＸは上記と同義である。］
【００２６】
上記ブロック型共重合体は上記一般式（１）で表される構成連鎖を１〜３０有することが好ましい。
【００２７】
上記ブロック型共重合体の一実施形態では、発光効率が向上する傾向にあるので、縮合重合で合成されるものであり、
ブロック型共重合体には、上記Ｙで表される基、上記Ｚで表される基及び上記発光材料を構成する化学構造が、縮合重合により導入されており、Ｙで表される基、Ｚで表される基及び発光材料を構成する化学構造とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよく、
ブロック型共重合体における、Ｙ、Ｚ、任意追加基及び発光材料を構成する化学構造のモル数を、それぞれＮＹ、ＮＺ、ＮＭ及びＮＫしたときに、ＮＹ、ＮＺ、ＮＭ及びＮＫが下記式（４）を満たすことが好ましい。
２≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＫ＋ＮＭ）＜４０      （４）
【００２８】
上記ブロック型共重合体のその他の実施形態では、発光効率が向上する傾向にあるので、上記発光材料を構成する化学構造と上記一般式（１）で表される構成連鎖のみからなることが好ましい。
【００２９】
本発明はまた、一対の電極と、該一対の電極の間に設けられた有機層を有し、該有機層が、上記組成物を用いてなる、有機ＥＬ素子を提供する。
【００３０】
本発明はまた、一対の電極と、該一対の電極の間に設けられた有機層を有し、該有機層が、上記ブロック型共重合体を含む、有機ＥＬ素子を提供する。
【００３１】
本発明はまた、上記有機ＥＬ素子を有する面状光源及び表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の組成物又はブロック型共重合体を用いることにより、得られる有機ＥＬ素子の輝度寿命を向上させることができる。また、本発明によれば、輝度寿命に優れた有機ＥＬ素子、面状光源及び表示装置、並びに、この素子の有機層に用いることのできる、組成物及びブロック型共重合体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、ｔｅｒｔ−ブチル基を「ｔ−Ｂｕ」、フェニル基を「Ｐｈ」とそれぞれ表記する場合がある。
【００３４】
［用語の説明］
以下、本明細書において共通して用いられる用語について、必要に応じて具体例を挙げて説明する。
【００３５】
「構成単位」という用語は、高分子化合物の分子鎖に存在する原子又は原子団を表し、「構成連鎖」という用語は、１種又は数種の構成単位を一定の順序で含む分子鎖を表す。
【００３６】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
【００３７】
「Ｃｐ〜Ｃｑ」（ｐ、ｑはｐ＜ｑを満たす正の整数である）という用語は、この用語の直後に記載された官能基名に該当する部分構造の炭素原子数が、ｐ〜ｑ個であることを表す。すなわち、「Ｃｐ〜Ｃｑ」の直後に記載された有機基が、複数の官能基名を組み合わせて命名された有機基（例えば、Ｃｐ〜Ｃｑアルコキシフェニル基）である場合、複数の官能基名のうち「Ｃｐ〜Ｃｑ」の直後に記載された官能基名（例えば、アルコキシ）に該当する部分構造の炭素原子数が、ｐ〜ｑ個であることを示す。例えば、「Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基」は炭素原子数が１〜１２個であるアルキル基を示し、「Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル基」は「炭素原子数が１〜１２個であるアルコキシ基」を有するフェニル基を示す。
【００３８】
アルキル基は、置換基を有していてもよく、直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基及び環状アルキル基（シクロアルキル基）のいずれであってもよい。アルキル基としては、直鎖状アルキル基又は環状アルキル基が好ましく、非置換のアルキル基又はハロゲン原子等で置換されたアルキル基が好ましい。
【００３９】
置換基としては、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド化合物残基、酸イミド残基、１価の複素環基、１価の複素環チオ基及びハロゲン原子等が挙げられ、これらの基に含まれる水素原子の一部又は全部は、フッ素原子で置換されていてもよい。また、置換基が炭素鎖を有する場合の置換基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましい（以下、「置換基」と言うときは、特記しない限り、同様の基を例示できる。）。
【００４０】
アルキル基の炭素原子数は、直鎖状アルキル基及び分岐状アルキル基では、好ましくは１〜２０、より好ましくは１〜１５、さらに好ましくは１〜１２であり、環状アルキル基では、好ましくは３〜２０、より好ましくは３〜１５、さらに好ましくは３〜１２である。置換基を有していてもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、３，７−ジメチルオクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、アリールアルキル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基及びパーフルオロオクチル基等が挙げられる。
【００４１】
アリールアルキル基は、置換基を有していてもよく、好ましくは、非置換のアリールアルキル基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールアルキル基である。アリールアルキル基の炭素原子数は、好ましくは７〜６０、より好ましくは７〜４８、さらに好ましくは７〜３０である。置換基を有していてもよいアリールアルキル基としては、フェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、１−ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基及び２−ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基等が挙げられる。
【００４２】
アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、直鎖状アルコキシ基、分岐状アルコキシ基又は環状アルコキシ基（シクロアルコキシ基）のいずれであってもよい。アルコキシ基としては、直鎖状アルコキシ基又は環状アルコキシ基が好ましく、非置換のアルコキシ基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアルコキシ基が好ましい。
【００４３】
アルコキシ基の炭素原子数は、直鎖状アルコキシ基及び分岐状アルコキシ基では、好ましくは１〜２０、より好ましくは１〜１５、さらに好ましくは１〜１２であり、環状アルコキシ基では、好ましくは３〜２０、より好ましくは３〜１５、さらに好ましくは３〜１２である。置換基を有していてもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、アリールアルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロブトキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、メトキシメチルオキシ基及び２−メトキシエチルオキシ基等が挙げられる。
【００４４】
アリールアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールアルコキシ基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールアルコキシ基である。アリールアルコキシ基の炭素原子数は、好ましくは７〜６０、より好ましくは７〜４８、さらに好ましくは７〜３０である。置換基を有していてもよいアリールアルコキシ基としては、フェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基、１−ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基及び２−ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基等が挙げられる。
【００４５】
アルキルチオ基は、置換基を有していてもよく、直鎖状アルキルチオ基、分岐状アルキルチオ基及び環状アルキルチオ基（シクロアルキルチオ基）のいずれであってもよい。アルキルチオ基としては、直鎖状アルキルチオ基又は環状アルキルチオ基が好ましく、非置換のアルキルチオ基、又はハロゲン原子等で置換されたアルキルチオ基が好ましい。
【００４６】
アルキルチオ基の炭素原子数は、直鎖状アルキルチオ基及び分岐状アルキルチオ基では、好ましくは１〜２０、より好ましくは１〜１５、さらに好ましくは１〜１２であり、環状アルキルチオ基では、好ましくは３〜２０、より好ましくは３〜１５、さらに好ましくは３〜１２である。置換基を有していてもよいアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、アリールアルキルチオ基、３，７−ジメチルオクチルチオ基、ドデシルチオ基及びトリフルオロメチルチオ基等が挙げられる。
【００４７】
アリールアルキルチオ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールアルキルチオ基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールアルキルチオ基である。アリールアルキルチオ基の炭素原子数は、好ましくは７〜６０、より好ましくは７〜４８、さらに好ましくは７〜３０である。置換基を有していてもよいアリールアルキルチオ基としては、フェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルチオ基、１−ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルチオ基及び２−ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルチオ基等が挙げられる。
【００４８】
アリール基は、芳香族炭化水素から芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子１個を除いた残りの原子団であり、置換基を有していてもよい。アリール基としては、芳香環のみからなるアリール基、非置換のアリール基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリール基が好ましい。アリール基としては、ベンゼン環を有する基、縮合環を有する基、ベンゼン環及び／又は縮合環が２個以上、単結合又は２価の有機基（例えば、ビニレン基等のアルキレン基）を介して結合した基等が挙げられる。
【００４９】
アリール基の炭素原子数は、好ましくは６〜６０、より好ましくは６〜４８、さらに好ましくは６〜３０である。置換基を有していてもよいアリール基としては、フェニル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、２−フルオレニル基、ペンタフルオロフェニル基、ビフェニリル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシビフェニリル基及びＣ１〜Ｃ１２アルキルビフェニリル基等が挙げられ、中でも、フェニル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル基、ビフェニリル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシビフェニリル基又はＣ１〜Ｃ１２アルキルビフェニリル基が好ましい。
【００５０】
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル基としては、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、イソプロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、イソブチルオキシフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基又はオクチルオキシフェニル基等が挙げられる。
【００５１】
Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル基としては、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、プロピルフェニル基、メシチル基、イソプロピルフェニル基、ブチルフェニル基、イソブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、イソアミルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、デシルフェニル基及びドデシルフェニル基等が挙げられる。
【００５２】
アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールオキシ基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールオキシ基である。
【００５３】
アリールオキシ基の炭素原子数は、好ましくは６〜６０、より好ましくは６〜４８、さらに好ましくは６〜３０である。置換基を有していてもよいアリールオキシ基としては、フェノキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェノキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基及びペンタフルオロフェニルオキシ基等が挙げられ、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェノキシ基又はＣ１〜Ｃ１２アルキルフェノキシ基が好ましい。
【００５４】
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェノキシ基としては、メトキシフェノキシ基、エトキシフェノキシ基、プロピルオキシフェノキシ基、イソプロピルオキシフェノキシ基、ブチルオキシフェノキシ基、イソブチルオキシフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシフェノキシ基、ペンチルオキシフェノキシ基、ヘキシルオキシフェノキシ基及びオクチルオキシフェノキシ基等が挙げられる。
【００５５】
Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェノキシ基としては、メチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、プロピルフェノキシ基、１，３，５−トリメチルフェノキシ基、メチルエチルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ブチルフェノキシ基、イソブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ペンチルフェノキシ基、イソアミルフェノキシ基、ヘキシルフェノキシ基、ヘプチルフェノキシ基、オクチルフェノキシ基、ノニルフェノキシ基、デシルフェノキシ基及びドデシルフェノキシ基等が挙げられる。
【００５６】
アリールチオ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールチオ基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールチオ基である。アリールチオ基の炭素原子数は、好ましくは６〜６０、より好ましくは６〜４８、さらに好ましくは６〜３０である。置換基を有していてもよいアリールチオ基としては、フェニルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニルチオ基、１−ナフチルチオ基、２−ナフチルチオ基及びペンタフルオロフェニルチオ基等が挙げられる。
【００５７】
アルケニル基は、置換基を有していてもよく、直鎖状アルケニル基、分岐状アルケニル基及び環状アルケニル基のいずれであってもよい。アルケニル基の炭素原子数は、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１５、さらに好ましくは２〜１０である。置換基を有していてもよいアルケニル基としては、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、１−オクテニル基及びアリールアルケニル基等が挙げられる。
【００５８】
アリールアルケニル基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールアルケニル基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールアルケニル基である。アリールアルケニル基の炭素原子数は、好ましくは８〜６０、より好ましくは８〜４８、さらに好ましくは８〜３０である。置換基を有していてもよいアリールアルケニル基としては、フェニル−Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル−Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル−Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル基、１−ナフチル−Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル基及び２−ナフチル−Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル基等が挙げられ、中でもＣ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル−Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル基又はＣ１〜Ｃ１２アルキルフェニル−Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル基が好ましい。
【００５９】
アルキニル基は、置換基を有していてもよく、直鎖状アルキニル基、分岐状アルキニル基及び環状アルキニル基のいずれであってもよい。アルキニル基の炭素原子数は、直鎖状アルキニル基及び分岐状アルキニル基では、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１５、さらに好ましくは２〜１０であり、環状アルキニル基では、好ましくは１０〜２０、より好ましくは１０〜１５である。置換基を有していてもよいアルキニル基としては、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、１−ヘキシニル基、２−ヘキシニル基、１−オクチニル基及びアリールアルキニル基等が挙げられる。
【００６０】
アリールアルキニル基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアリールアルキニル基、又はハロゲン原子若しくはアルコキシ基等で置換されたアリールアルキニル基である。アリールアルキニル基の炭素原子数は、好ましくは８〜６０、より好ましくは８〜４８、さらに好ましくは８〜３０である。置換基を有していてもよいアリールアルキニル基としては、フェニル−Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル−Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル−Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル基、１−ナフチル−Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル基及び２−ナフチル−Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル基等が挙げられ、中でもＣ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル−Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル基又はＣ１〜Ｃ１２アルキルフェニル−Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル基が好ましい。
【００６１】
１価の複素環基は、複素環式化合物から複素環を構成する原子に結合した水素原子１個を除いた残りの原子団であり、置換基を有していてもよい。１価の複素環基としては、非置換の１価の複素環基、又はアルキル基等の置換基で置換された１価の複素環基が好ましく、１価の芳香族複素環基が好ましい。１価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めずに、好ましくは４〜６０、より好ましくは４〜３０、さらに好ましくは４〜２０である。複素環式化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する元素として、炭素原子だけでなく、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、リン原子、ホウ素原子、ケイ素原子、セレン原子、テルル原子、ヒ素原子等のヘテロ原子を含むものを言う。置換基を有していてもよい１価の複素環基としては、チエニル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、キノリル基及びイソキノリル基等が挙げられ、チエニル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルチエニル基、ピリジル基又はＣ１〜Ｃ１２アルキルピリジル基が好ましい。
【００６２】
１価の複素環チオ基は、メルカプト基の水素原子が１価の複素環基で置換された基であり、置換基を有していてもよい。１価の複素環チオ基としては、ピリジルチオ基、ピリダジニルチオ基、ピリミジニルチオ基、ピラジニルチオ基及びトリアジニルチオ基等が挙げられる。
【００６３】
アミノ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアミノ基、又はアルキル基、アリール基及び１価の複素環基から選ばれる１又は２個の置換基で置換されたアミノ基（以下、「置換アミノ基」という。）である。該置換基はさらに置換基（以下、官能基の有する置換基が、さらに有する置換基を、「二次置換基」という場合がある。）を有していてもよい。
【００６４】
置換アミノ基の炭素原子数は、二次置換基の炭素原子数を含めずに、好ましくは１〜６０、より好ましくは２〜４８、さらに好ましくは２〜４０である。二次置換基を有していてもよい置換アミノ基としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、３，７−ジメチルオクチルアミノ基、ドデシルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジトリフルオロメチルアミノ基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニルアミノ基、ビス（Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル）アミノ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニルアミノ基、ビス（Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル）アミノ基、１−ナフチルアミノ基、２−ナフチルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、ピリダジニルアミノ基、ピリミジニルアミノ基、ピラジニルアミノ基、トリアジニルアミノ基、フェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキル）アミノ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキル）アミノ基、１−ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルアミノ基及び２−ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルアミノ基等が挙げられる。
【００６５】
シリル基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のシリル基、又はアルキル基、アリール基及び１価の複素環基から選ばれる１〜３個の置換基で置換されたシリル基（以下、「置換シリル基」という。）である。該置換基は二次置換基を有していてもよい。
【００６６】
置換シリル基の炭素原子数は、二次置換基の炭素原子数を含めないで、好ましくは１〜６０、より好ましくは３〜４８、さらに好ましくは３〜４０である。二次置換基を有していてもよい置換シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリ−イソプロピルシリル基、ジメチル−イソプロピルシリル基、ジエチル−イソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、ヘプチルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、２−エチルヘキシル−ジメチルシリル基、ノニルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、３，７−ジメチルオクチル−ジメチルシリル基、ドデシルジメチルシリル基、フェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルシリル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルシリル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルシリル基、１−ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルシリル基、２−ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルシリル基、フェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ−ｐ−キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基及びジメチルフェニルシリル基等が挙げられる。
【００６７】
アシル基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアシル基、又はハロゲン原子等で置換されたアシル基である。アシル基の炭素原子数は、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１８、さらに好ましくは２〜１６である。アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基及びペンタフルオロベンゾイル基等が挙げられる。
【００６８】
アシルオキシ基は、置換基を有していてもよく、好ましくは非置換のアシルオキシ基、又はハロゲン原子等で置換されたアシルオキシ基である。アシルオキシ基の炭素原子数は、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１８、さらに好ましくは２〜１６である。アシルオキシ基としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基及びペンタフルオロベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
【００６９】
イミン残基は、一般式：Ｈ−ＣＲＸ１＝Ｎ−ＲＹ１又は一般式：Ｈ−Ｎ＝Ｃ（ＲＹ１）２の少なくとも一方で表される構造を有するイミン化合物から、上記一般式中の水素原子を除いた残基を意味する。式中、ＲＸ１は水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルケニル基又はアリールアルキニル基を示し、ＲＹ１は、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルケニル基又はアリールアルキニル基を示す。ＲＹ１が２個存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、また、２個のＲＹ１は相互に結合し一体となって２価の基、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基又はヘキサメチレン基等の炭素原子数２〜１８のアルキレン基として環を形成してもよい。このようなイミン化合物としては、例えば、アルジミン、ケチミン又はアルジミン中の窒素原子に結合した水素原子が、アルキル基、アリール基、アリールアルケニル基又はアリールアルキニル基で置換された化合物が挙げられる。イミン残基の炭素原子数は、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１８、さらに好ましくは２〜１６である。イミン残基の具体例としては、以下の構造式で示される基が挙げられる。
【００７０】
【化１１】
0005913959.tif 000012
【００７１】
アミド化合物残基は、一般式：Ｈ−ＮＲＸ２−ＣＯＲＹ２又は一般式：Ｈ−ＣＯ−Ｎ（ＲＹ２）２の少なくとも一方で表される構造を有するアミド化合物から、上記一般式中の水素原子を除いた残基を意味する。式中、ＲＸ２及びＲＹ２は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を表す。アミド化合物残基の炭素原子数は、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１８、さらに好ましくは２〜１６である。アミド化合物残基としては、ホルムアミド基、アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセトアミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基及びジペンタフルオロベンズアミド基等が挙げられる。
【００７２】
酸イミド残基は、一般式：ＲＸ３−ＣＯ−ＮＨ−ＣＯ−ＲＹ３で表される構造を有する酸イミドから、上記一般式中の水素原子を除いた残基を意味する。式中、ＲＸ３及びＲＹ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を表すか、又は、ＲＸ３及びＲＹ３が互いに結合して形成される環構造を表す。酸イミド残基の炭素原子数は、好ましくは４〜２０、より好ましくは４〜１８、さらに好ましくは４〜１６である。酸イミド残基としては、例えば、以下に示す基が挙げられる。
【００７３】
【化１２】
0005913959.tif 000013
【００７４】
アリーレン基は、芳香族炭化水素から芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子２個を除いてなる原子団を意味し、独立したベンゼン環又は縮合環を有する基を含み、置換基を有していてもよい。アリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、好ましくは６〜６０、より好ましくは６〜４８、さらに好ましくは６〜３０、特に好ましくは６〜１８である。該炭素原子数は置換基の炭素原子数を含まない。アリーレン基としては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，２−フェニレン基等のフェニレン基；１，４−ナフタレンジイル基、１，５−ナフタレンジイル基、２，６−ナフタレンジイル基等のナフタレンジイル基；１，４−アントラセンジイル基、１，５−アントラセンジイル基、２，６−アントラセンジイル基、９，１０−アントラセンジイル基等のアントラセンジイル基；２，７−フェナントレンジイル基等のフェナントレンジイル基；１，７−ナフタセンジイル基、２，８−ナフタセンジイル基、５，１２−ナフタセンジイル基等のナフタセンジイル基；２，７−フルオレンジイル基、３，６−フルオレンジイル基等のフルオレンジイル基；１，６−ピレンジイル基、１，８−ピレンジイル基、２，７−ピレンジイル基、４，９−ピレンジイル基等のピレンジイル基；３，９−ペリレンジイル基、及び３，１０−ペリレンジイル基等のペリレンジイル基等が挙げられる。これらのうち、好ましくは、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいフルオレンジイル基である。
【００７５】
２価の複素環基は、複素環式化合物から複素環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に結合した水素原子２個を除いた残りの原子団をいい、置換基を有していてもよい。２価の複素環基としては、非置換の２価の複素環基又はアルキル基等で置換された２価の複素環基が好ましい。
【００７６】
２価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、好ましくは４〜６０、より好ましくは４〜３０であり、さらに好ましくは４〜１２である。２価の複素環基としては、２，５−ピリジンジイル基、２，６−ピリジンジイル基等のピリジンジイル基；２，５−チオフェンジイル基等のチオフェンジイル基；２，５−フランジイル基等のフランジイル基；２，６−キノリンジイル基等のキノリンジイル基；１，４−イソキノリンジイル基、１，５−イソキノリンジイル基等のイソキノリンジイル基；５，８−キノキサリンジイル基等のキノキサリンジイル基；２，１，３−ベンゾチアジアゾール−４，７−ジイル基等の２，１，３−ベンゾチアジアゾールジイル基；４，７−ベンゾチアゾールジイル基等のベンゾチアゾールジイル基；２，７−カルバゾールジイル基、３，６−カルバゾールジイル基等のカルバゾールジイル基；３，７−フェノキサジンジイル基等のフェノキサジンジイル基；３，７−フェノチアジンジイル基等のフェノチアジンジイル基；２，７−ジベンゾシロールジイル基等のジベンゾシロールジイル基等が挙げられる。これらのうち、好ましくは置換基を有していてもよい２，１，３−ベンゾチアジアゾール−４，７−ジイル基、置換基を有していてもよいフェノキサジンジイル基、置換基を有していてもよいフェノチアジンジイル基である。なお、２価の複素環基としては、２価の芳香族複素環基が好ましい。
【００７７】
［組成物］
本実施形態の組成物は、発光材料と高分子化合物とを含む。組成物は、高分子化合物１質量部に対して、発光材料を０．１〜１００質量部含むことが好ましく、高分子化合物１質量部に対して、発光材料を１〜１００質量部含むことが好ましく、高分子化合物１質量部に対して、発光材料を４〜２０質量部含むことが好ましい。上記発光材料と高分子化合物について以下に説明する。
【００７８】
＜高分子化合物＞
高分子化合物は、上記一般式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有する。なお、上記一般式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有し、さらに後述の発光材料を構成する化学構造を有する高分子化合物は、ブロック型共重合体でない限り上記高分子化合物に分類される。
【００７９】
一般式（１）で表される構成連鎖において、ｎ≧２の場合であって、複数あるＹが一般式（Ｙ−１）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基であるときには、複数の一般式（Ｙ−１）で表される構造は同一であっても異なっていてもよいが、好ましくは同一である。
一般式（１）で表される構成連鎖において、ｎ≧２の場合であって、複数あるＹが一般式（Ｙ−１）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基であるときには、複数の一般式（Ｙ−１）で表される構造は、すべてのＸが−ＣＨ＝である構造のみからなっていてもよく、すべてのＸが−ＣＨ＝である構造とＸの内の１つ又は２つが−Ｎ＝であり残りのＸが−ＣＨ＝である構造の両方からなっていてもよく、或いはＸの内１つ又は２つが−Ｎ＝であり残りのＸが−ＣＨ＝である構造のみからなっていてもよいが、好ましくはすべてのＸが−ＣＨ＝である構造のみからなる。
【００８０】
Ｙ及びＺが有する水素原子がＲ’で置換されている場合、Ｒ’は、好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アミノ基及び１価の複素環基からなる群より選ばれる官能基又はハロゲン原子である。Ｒ’は、より好ましくはアルキル基、アリール基及び１価の複素環基からなる群より選ばれる官能基又はハロゲン原子であり、さらに好ましくはアルキル基又はアリール基であり、特に好ましくはアルキル基である。Ｒ’が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ’が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ｒ’が環構造を形成する場合、不飽和結合を持たない環構造であることが好ましく、そのような構造を形成し得るＲ’としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基及びシリル基等が挙げられる。
【００８１】
一般式（１）で表される構成連鎖において、ｎ≧２の場合であって、複数あるＹが一般式（Ｙ−２）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基であるときには、複数の一般式（Ｙ−２）で表される構造は同一であっても異なっていてもよいが、好ましくは同一である。
一般式（１）で表される構成連鎖において、ｎ≧２の場合であって、複数あるＹが一般式（Ｙ−２）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基であるときには、複数の一般式（Ｙ−２）で表される構造は、すべてのＸが−ＣＨ＝である構造のみからなっていてもよく、すべてのＸが−ＣＨ＝である構造とＸの内の１つ又は２つが−Ｎ＝であり残りのＸが−ＣＨ＝である構造の両方からなっていてもよく、或いはＸの内１つ又は２つが−Ｎ＝であり残りのＸが−ＣＨ＝である構造のみからなっていてもよいが、好ましくはすべてのＸが−ＣＨ＝である構造のみからなる。
Ｙ及びＺが有する水素原子がＲ’で置換されている場合の、Ｒ’の好ましい範囲は、上記と同じである。
【００８２】
一般式（１）で表される構成連鎖において、ｍ個ある［−（Ｙ）ｎ−Ｚ−］で表される構造は、各々、同一であっても異なっていてもよい。例えば、ｍ＝４であって、４個あるｎが左の構造から順番に、ｎ＝１、２、１、２である場合、該構成連鎖は、［−Ｙ０１−Ｚ０１−］−［−Ｙ０２−Ｙ０３−Ｚ０２−］−［−Ｙ０４−Ｚ０３−］−［−Ｙ０５−Ｙ０６−Ｚ０４−］と表されるが、ここで、Ｙ０１、Ｙ０２、Ｙ０３、Ｙ０４、Ｙ０５及びＹ０６は、同一であっても異なっていてもよく、Ｚ０１、Ｚ０２、Ｚ０３及びＺ０４は、同一であっても異なっていてもよい。なお、ｍ及びｎが、その他の整数の組み合わせであっても同様である。
【００８３】
一般式（１）で表される構成連鎖において、式（Ｚ−１）、（Ｚ−２）、（Ｚ−３）、（Ｚ−４）、（Ｚ−５）、（Ｚ−６）、（Ｚ−７）及び（Ｚ−８）、並びに、後述の式（Ｚ−９）、（Ｚ−１０）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１２）、（Ｚ−１３）、（Ｚ−１４）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）、（Ｚ−１８）、（Ｚ−１９）及び（Ｚ−２０）に含まれるＲＸは、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基又は１価の複素環基であることが好ましく、アルキル基又はアリール基であることがより好ましく、アリール基であることがさらに好ましい。
また、式(Ｚ−４)、（Ｚ−６）、（Ｚ−８）、（Ｚ−１５）及び（Ｚ−１６）において、２つのＲＸのうち、１つがアルキル基であり、もう１つがアリール基であることが好ましい。
また、式（Ｚ−５）、（Ｚ−１７）及び（Ｚ−１８）において、複数あるＲＸ同士は互いに結合して環構造を形成していることが好ましい。当該環構造は、不飽和結合を持たない環であってもよいし、不飽和結合を持つ環であってもよい。
【００８４】
一般式（１）中、ｍは４〜１００００の整数を示す。ｍは、８〜１００００の整数であることが好ましく、３０〜１００００の整数であることがさらに好ましく、５０〜５０００の整数であることが特に好ましい。一般式（１）中、複数あるｎは同一又は異なり１〜３の整数を示すが、同じ整数を示すことが好ましく、複数あるｎがすべて１、又はすべて２を示すことがさらに好ましい。
【００８５】
一般式（１）中、複数あるＹは、同一又は異なり、上記一般式（Ｙ−３）、（Ｙ−４）、（Ｙ−５）又は（Ｙ−６）で表される２価の基であることが好ましい。
【００８６】
上記一般式（Ｙ−３）、（Ｙ−４）、（Ｙ−５）及び（Ｙ−６）中、Ｒ”は、好ましくは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、より好ましくは水素原子又はアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。
【００８７】
一般式（１）中のＹの好ましい構造としては、下記の基が挙げられる。
【００８８】
【化１３】
0005913959.tif 000014
【化１４】
0005913959.tif 000015
【００８９】
一般式（１）で表される構成連鎖において、Ｚは一般式（Ｚ−１）、（Ｚ−２）、（Ｚ−３）、（Ｚ−４）、（Ｚ−５）、（Ｚ−６）、（Ｚ−７）又は（Ｚ−８）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基を示す。複数あるＺは一般式（Ｚ−１）、（Ｚ−２）、（Ｚ−３）、（Ｚ−４）、（Ｚ−５）、（Ｚ−６）、（Ｚ−７）及び（Ｚ−８）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基のいずれか１つの基のみからなっていてもよく、複数の基からなっていてもよいが、いずれか１つの基のみからなっていることが好ましい。
【００９０】
一般式（１）で表される構成連鎖において、複数あるＺの中の２以上が一般式（Ｚ−１）、（Ｚ−２）、（Ｚ−３）、（Ｚ−４）、（Ｚ−５）、（Ｚ−６）、（Ｚ−７）及び（Ｚ−８）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基のいずれか１つである場合、一般式（Ｚ−１）、（Ｚ−２）、（Ｚ−３）、（Ｚ−４）、（Ｚ−５）、（Ｚ−６）、（Ｚ−７）又は（Ｚ−８）で表される構造は同一であっても異なっていてもよいが、好ましくは同一である。Ｚの中の複数が一般式（Ｚ−１）、（Ｚ−２）、（Ｚ−３）、（Ｚ−４）、（Ｚ−５）、（Ｚ−６）、（Ｚ−７）又は（Ｚ−８）で表される構造から水素原子を２個除いた２価の基である場合、複数の一般式（Ｚ−１）、（Ｚ−２）、（Ｚ−３）、（Ｚ−４）、（Ｚ−５）、（Ｚ−６）、（Ｚ−７）又は（Ｚ−８）で表される構造は、すべてのＸが−ＣＨ＝である構造のみからなっていてもよく、すべてのＸが−ＣＨ＝である構造とＸの内の１つ又は２つが−Ｎ＝であり残りのＸが−ＣＨ＝である構造の両方からなっていてもよく、或いはＸの内１つ又は２つが−Ｎ＝であり残りのＸが−ＣＨ＝である構造のみからなっていてもよいが、好ましくはすべてのＸが−ＣＨ＝である構造のみからなる。
【００９１】
一般式（１）中のＺは、上記一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１０）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１２）、（Ｚ−１３）、（Ｚ−１４）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）、（Ｚ−１８）、（Ｚ−１９）又は（Ｚ−２０）で表される２価の基であることが好ましい。複数あるＺは、同一であっても異なっていてもよい。
【００９２】
Ｚは、これらの中でも、一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１３）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）又は（Ｚ−１９）で表される２価の基であることが好ましく、一般式（Ｚ−９）、（Ｚ−１１）、（Ｚ−１５）、（Ｚ−１６）、（Ｚ−１７）又は（Ｚ−１９）で表される２価の基であることがより好ましく、一般式（Ｚ−１１）、（Ｚ−１５）又は（Ｚ−１７）で表される２価の基であることがさらに好ましく、一般式（Ｚ−１５）で表される２価の基であることが特に好ましい。
【００９３】
一般式（１）中のＺの好ましい構造としては、下記の構造が挙げられる。
【化１５】
0005913959.tif 000016
【化１６】
0005913959.tif 000017
【化１７】
0005913959.tif 000018
【００９４】
一般式（１）中のＹとＺの組み合わせとしては、例えば、式（Ｙ−３）で表される２価の基と式（Ｚ−９）で表される２価の基の組み合わせ（以下、単に「（Ｙ−３）と（Ｚ−９）」のように言う。）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１３）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１９）、（Ｙ−４）と（Ｚ−９）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１３）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１９）、（Ｙ−５）と（Ｚ−９）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１３）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１９）、（Ｙ−６）と（Ｚ−９）、（Ｙ−６）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−６）と（Ｚ−１３）、（Ｙ−６）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−６）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−６）と（Ｚ−１７）又は（Ｙ−６）と（Ｚ−１９）が挙げられ、好ましくは、（Ｙ−３）と（Ｚ−９）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１３）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１９）、（Ｙ−４）と（Ｚ−９）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１３）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１９）、（Ｙ−５）と（Ｚ−９）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１３）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１７）又は（Ｙ−５）と（Ｚ−１９）であり、より好ましくは、（Ｙ−３）と（Ｚ−９）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１９）、（Ｙ−４）と（Ｚ−９）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１９）、（Ｙ−５）と（Ｚ−９）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１７）又は（Ｙ−５）と（Ｚ−１９）であり、さらに好ましくは、（Ｙ−３）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１６）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１６）又は（Ｙ−５）と（Ｚ−１７）であり、特に好ましくは、（Ｙ−３）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−３）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１５）、（Ｙ−４）と（Ｚ−１７）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１１）、（Ｙ−５）と（Ｚ−１５）又は（Ｙ−５）と（Ｚ−１７）である。
【００９５】
一般式（１）で表される構成連鎖において、［−（Ｙ）ｎ−Ｚ−］で表される構造の、好ましい例を下記に示す。
【化１８】
0005913959.tif 000019
【化１９】
0005913959.tif 000020
【化２０】
0005913959.tif 000021
【化２１】
0005913959.tif 000022
（式中、ｘ及びｙは共重合比を表し、ｘ＋ｙ＝１を満たす数である。）
【００９６】
一般式（１）で表される構成連鎖は、例えば、上記式［−（Ｙ）ｎ−Ｚ−］で表される構造を１種又は２種以上組み合わせて合計ｍ個連鎖した構造であってもよい。
【００９７】
一般式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量は、好ましくは１×１０３〜１×１０７であり、より好ましくは１×１０４〜５×１０６である。前記高分子化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは１×１０４〜５×１０７であり、より好ましくは５×１０４〜１×１０７である。
数平均分子量及び重量平均分子量が上記下限を上回る場合は、電荷移動に対する抵抗が小さくなる傾向にあり、かつ、塗布法での成膜性が向上する傾向にあり、上記上限を下回る場合は、塗布法による成膜性が良好となる傾向がある。
【００９８】
＜発光材料＞
本実施形態の発光材料について説明する。本実施形態における発光材料としては、例えば、一般的な発光材料を用いることができる。上記発光材料としては、好ましくは、「有機ＥＬディスプレイ」（時任静士、安達千波矢、村田英幸共著、株式会社オーム社、平成１６年８月２０日第１版第１刷発行）１７〜４８頁、８３〜９９頁又は１０１〜１２０頁に記載の蛍光材料又は三重項発光材料が利用できる。低分子の蛍光材料としては、例えば、ペリレン及びその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系及びシアニン系等の色素類、８−ヒドロキシキノリンの金属錯体、８−ヒドロキシキノリン誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン及びその誘導体並びにテトラフェニルブタジエン及びその誘導体等が挙げられ、より具体的には、特開昭５７−５１７８１号公報、特開昭５９−１９４３９３号公報に記載されているもの等が使用されうる。その他にも、上記発光材料としては、例えば、国際公開第９９／１３６９２号パンフレット、国際公開第９９／４８１６０号パンフレット、独国特許出願公開第２３４０３０４号明細書、国際公開第００／５３６５６号パンフレット、国際公開第０１／１９８３４号パンフレット、国際公開第００／５５９２７号パンフレット、独国特許出願公開第２３４８３１６号明細書、国際公開第００／４６３２１号パンフレット、国際公開第００／０６６６５号パンフレット、国際公開第９９／５４９４３号パンフレット、国際公開第９９／５４３８５号パンフレット、米国特許第５７７７０７０号明細書、国際公開第９８／０６７７３号パンフレット、国際公開第９７／０５１８４号パンフレット、国際公開第００／３５９８７号パンフレット、国際公開第００／５３６５５号パンフレット、国際公開第０１／３４７２２号パンフレット、国際公開第９９／２４５２６号パンフレット、国際公開第００／２２０２７号パンフレット、国際公開第００／２２０２６号パンフレット、国際公開第９８／２７１３６号パンフレット、米国特許第５７３６３６号明細書、国際公開第９８／２１２６２号パンフレット、米国特許第５７４１９２１号明細書、国際公開第９７／０９３９４号パンフレット、国際公開第９６／２９３５６号パンフレット、国際公開第９６／１０６１７号パンフレット、欧州特許出願公開第０７０７０２０号明細書、国際公開第９５／０７９５５号パンフレット、特開２００１−１８１６１８号公報、特開２００１−１２３１５６号公報、特開２００１−３０４５号公報、特開２０００−３５１９６７号公報、特開２０００−３０３０６６号公報、特開２０００−２９９１８９号公報、特開２０００−２５２０６５号公報、特開２０００−１３６３７９号公報、特開２０００−１０４０５７号公報、特開２０００−８０１６７号公報、特開平１０−３２４８７０号公報、特開平１０−１１４８９１号公報、特開平９−１１１２３３号公報若しくは特開平９−４５４７８号公報等に開示されているポリフルオレン、フルオレン誘導体の共重合体、ポリアリーレン、アリーレン誘導体の共重合体、ポリアリーレンビニレン、アリーレンビニレン誘導体の共重合体、芳香族アミン及びその誘導体の（共）重合体が例示される。
なお、発光材料であって、さらに上記一般式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子化合物は、上記高分子化合物又は後述のブロック型共重合体に分類される。
【００９９】
上記発光材料は、好ましくは高分子発光材料であり、より好ましくは共重合体である高分子発光材料である。上記高分子発光材料は、好ましくは上記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位の少なくとも１種を有する。なお、上記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位の少なくとも１種を有していても、上記一般式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子発光材料は、上述の高分子化合物又は後述のブロック型共重合体に分類される。
【０１００】
上記高分子発光材料は正孔輸送性が向上するので、上記一般式（Ｂ）で表される構成単位を有することが好ましい。
【０１０１】
また、電荷（正孔及び電子を意味する。以下、同様。）注入性及び電荷輸送性が向上し、かつ、正孔及び電子の結合による励起エネルギーが効率よく形成されるので、上記一般式（Ａ）で表される構成単位と上記一般式（Ｂ）で表される構成単位とを有する高分子発光材料、上記一般式（Ｂ）で表される構成単位と上記一般式（Ｃ）で表される構成単位とを有する高分子発光材料、又は上記一般式（Ａ）で表される構成単位と上記一般式（Ｂ）で表される構成単位と上記一般式（Ｃ）で表される構成単位とを有する高分子発光材料が好ましく、上記一般式（Ａ）で表される構成単位と上記一般式（Ｂ）で表される構成単位とを有する高分子発光材料がより好ましい。
【０１０２】
高分子発光材料が、上記一般式（Ｂ）で表される構成単位と、上記一般式（Ａ）で表される構成単位及び／又は上記一般式（Ｃ）で表される構成単位とからなる場合、上記一般式（Ｂ）で表される構成単位とその他の構成単位との好ましい含有比（モル比）は、１：９９〜４０：６０であり、より好ましくは３：９７〜３０：７０であり、さらに好ましくは５：９５〜２０：８０である。
【０１０３】
上記高分子発光材料のポリスチレン換算の数平均分子量は、好ましくは１×１０３〜１×１０７であり、より好ましくは１×１０４〜５×１０６である。上記高分子発光材料のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは１×１０４〜５×１０７であり、より好ましくは５×１０４〜１×１０７である。数平均分子量及び重量平均分子量が上記下限を上回る場合は、電荷移動に対する抵抗が小さくなる傾向があり、かつ、塗布法による成膜性が向上する傾向があり、上記上限を下回る場合は、塗布法における成膜性が良好となる傾向がある。
【０１０４】
一般式（Ａ）において、Ａｒ１は、アリーレン基、２価の複素環基又は金属錯体構造を有する２価の基を示し、置換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルコキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、１価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基及びシアノ基等が挙げられ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、置換アミノ基又は１価の複素環基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基又はアリール基がより好ましい。
【０１０５】
一般式（Ａ）おいて、Ａｒ１であるアリーレン基は、上述の［用語の説明］の説明及び例と同じであるが、１，４−フェニレン基、２，７−ビフェニリレン基、１，４−ナフタレンジイル基、１，５−ナフタレンジイル基、２，６−ナフタレンジイル基又は２，７−フルオレンジイル基が好ましく、１，４−フェニレン基、１，４−ナフタレンジイル基、１，５−ナフタレンジイル基、２，６−ナフタレンジイル基又は２，７−フルオレンジイル基がより好ましく、１，４−フェニレン基、２，６−ナフタレンジイル基、２，７−ビフェニリレン基、又は２，７−フルオレンジイル基が更に好ましく、２，７−フルオレンジイル基が特に好ましい。
【０１０６】
一般式（Ａ）おいて、Ａｒ１である２価の複素環基は、上述の［用語の説明］の説明、例、及び、好ましい例と同じである。
【０１０７】
上記一般式（Ａ）中、Ａｒ１で表される置換基を有していてもよい金属錯体構造を有する２価の基としては、イリジウム錯体又は白金錯体から水素原子２個を取り除いた残りの原子団（即ち、イリジウム錯体又は白金錯体の残基）等が挙げられ、以下の式Ｍ−１、Ｍ−２、Ｍ−３、Ｍ−４、Ｍ−５、Ｍ−６、又はＭ−７で表される基が好ましい。式中、Ｒは、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、１価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基又はシアノ基を示す。複数あるＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【化２２】
0005913959.tif 000023
【化２３】
0005913959.tif 000024
【０１０８】
一般式（Ａ）で表される構成単位として２種類以上含む場合、置換基を有していてもよいフルオレンジイル基からなる構成単位、置換基を有していてもよいフェニレン基からなる構成単位、置換基を有していてもよいナフタレンジイル基、及び、置換基を有していてもよい２，７−ビフェニリレン基からなる群から選ばれる基が好ましい。
【０１０９】
一般式（Ａ）で表される構成単位としては、下記一般式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、（Ａ−４）又は（Ａ−５）で表される構成単位が好ましく、（Ａ−２）、（Ａ−４）又は（Ａ−５）で表される構成単位がより好ましい。
【０１１０】
【化２４】
0005913959.tif 000025
【０１１１】
式中、Ｒ５は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルコキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、１価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を示し、ｂは０〜４の整数を示す。これらの基は置換基を有していてもよい。ｂが２以上のとき、複数存在するＲ５は、互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ５は互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【０１１２】
【化２５】
0005913959.tif 000026
【０１１３】
式中、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又は１価の複素環基を示し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ６及びＲ７は互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【０１１４】
Ｒ６及びＲ７は、好ましくはアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくは、アルキル基又はアリール基である。
【０１１５】
【化２６】
0005913959.tif 000027
【０１１６】
式中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、１価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、置換アミノ基、水素原子又はハロゲン原子を示す。これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ８及びＲ９は互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【０１１７】
Ｒ８及びＲ９は、好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、置換アミノ基、アシル基又は１価の複素環基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基又は１価の複素環基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。
【０１１８】
【化２７】
0005913959.tif 000028
【０１１９】
式中、Ｒ２０及びＲ２１は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ２０及びＲ２１は、好ましくは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、より好ましくは、アルキル基又はアリール基である。
【０１２０】
【化２８】
0005913959.tif 000029
【０１２１】
式中、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４及びＲ２５は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示す。これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４及びＲ２５は互いに結合して環構造を形成していてもよい。
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４及びＲ２５は、好ましくは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、より好ましくは、アルキル基又はアリール基である。
【０１２２】
一般式（Ｂ）において、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を示し、置換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、１価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基及びハロゲン原子が挙げられ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、置換アミノ基、アシル基又はシアノ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基又はアリール基がより好ましい。
【０１２３】
一般式（Ｂ）において、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４であるアリーレン基は、上述の［用語の説明］の説明及び例と同じであるが、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、２，７−ビフェニリレン基、１，４−ナフタレンジイル基、２，６−ナフタレンジイル基及び２，７−フルオレンジイル基が好ましい。
【０１２４】
一般式（Ｂ）において、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４である２価の複素環基は、上述の［用語の説明］の説明及び例と同じであるが、２，５−チオフェンジイル基、Ｎ−メチル−２，５−ピロールジイル基、２，５−フランジイル基、４，７−ベンゾ［２，１，３］チアジアゾールジイル基、２，５−ピリジンジイル基及び２，５−ピリミジンジイル基が好ましい。
【０１２５】
Ａｒ２及びＡｒ４は、アリーレン基であることが好ましく、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、２，７−ビフェニリレン基、１，４−ナフタレンジイル基又は２，６−ナフタレンジイル基であることがより好ましく、１，４−フェニレン基、２，７−ビフェニリレン基又は１，４−ナフタレンジイル基であることがさらに好ましく、１，４−フェニレン基であることが特に好ましい。これらの基は置換基を有していてもよい。
【０１２６】
Ａｒ３は、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、２，７−ビフェニリレン基、１，４−ナフタレンジイル基、２，７−フルオレンジイル基又は４，７−ベンゾ［２，１，３］チアジアゾールジイル基であることが好ましく、１，４−フェニレン基、２，７−ビフェニリレン基、１，４−ナフタレンジイル基又は２，７−フルオレンジイル基であることがより好ましく、１，４−フェニレン基又は２，７−ビフェニリレン基であることが特に好ましい。これらの基は置換基を有していてもよい。
【０１２７】
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基であることが好ましく、アルキル基又はアリール基であることがより好ましく、アリール基であることがさらに好ましい。
【０１２８】
一般式（Ｂ）で表される構成単位としては、下記一般式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、（Ｂ−３）、（Ｂ−４）、（Ｂ−５）又は（Ｂ−１１）で表される構成単位が挙げられる。
下記一般式中、Ｒａは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、１価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基又はシアノ基を示す。複数あるＲａは、同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【０１２９】
下記一般式中、Ｒｂは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、１価の複素環基、カルボキシル基、ニトロ基又はシアノ基を示す。複数あるＲｂは、同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ｒｂ同士が互いに結合して構成する環構造は、５員環であることが好ましい。
【０１３０】
【化２９】
0005913959.tif 000030
【０１３１】
一般式（Ｂ）において、ａが１のとき、Ａｒ２とＡｒ３又はＡｒ３とＡｒ４は、それぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。ａが０のとき、Ａｒ２とＡｒ４は、互いに結合して環を形成していてもよい。ここで、Ａｒ２とＡｒ３、Ａｒ３とＡｒ４又はＡｒ２とＡｒ４は、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又は珪素原子を介して結合していてもよく、直接結合していてもよい。
このような一般式（Ｂ）で表される構成単位としては、下記一般式（Ｂ−６）、（Ｂ−７）、（Ｂ−８）、（Ｂ−９）又は（Ｂ−１０）で表される構成単位が好ましい。
【０１３２】
【化３０】
0005913959.tif 000031
【０１３３】
式中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示し、置換基を有していてもよい。Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５及びＸ６は、それぞれ独立に、−（ＣＲ１７Ｒ１８）ｄ−で表される基を示す。Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、好ましくはアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアルキル基又はアリール基であり、さらに好ましくはアリール基である。Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基を示し、置換基を有していてもよい。ｄは０〜２の整数を示し、０又は１が好ましく、１がより好ましい。ｄが２のとき、複数存在するＲ１７は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数存在するＲ１８は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１３４】
一般式（Ｃ）におけるＡｒ５であるアリーレン基、２価の複素環基、及び、金属錯体構造を有する２価の基は、上述のＡｒ１と同様の基である。
【０１３５】
一般式（Ｃ）で表される構成単位としては、下記式（Ｃ−１）、（Ｃ−２）、（Ｃ−３）、（Ｃ−４）、（Ｃ−５）、（Ｃ−６）、（Ｃ−７）、（Ｃ−８）又は（Ｃ−９）で表される構成単位が挙げられる。
【０１３６】
【化３１】
0005913959.tif 000032
【０１３７】
以下に本実施形態の高分子化合物及び高分子発光材料の好ましい製造方法を詳細に説明する。本実施形態の高分子化合物及び高分子発光材料は、例えば、縮合重合により製造することができる。
【０１３８】
上記縮合重合の方法としては、Ｓｕｚｕｋｉ反応により重合する方法（ケミカル  レビュー（Ｃｈｅｍ．  Ｒｅｖ．），第９５巻，２４５７頁（１９９５年））、Ｇｒｉｇｎａｒｄ反応により重合する方法（共立出版、高分子機能材料シリーズ第２巻、高分子の合成と反応（２）、４３２〜４３３頁）、及び山本重合法により重合する方法（プログレッシブ  ポリマー  サイエンス（Ｐｒｏｇ．  Ｐｏｌｙｍ．  Ｓｃｉ．），第１７巻，  １１５３〜１２０５頁，  １９９２年）などが挙げられる。
【０１３９】
上記高分子化合物及び上記高分子発光材料は、縮合重合により合成されることが好ましく、Ｓｕｚｕｋｉ反応により重合する方法により合成されることがより好ましい。
【０１４０】
特に、一般式（１）で表される構成連鎖を含む高分子化合物を重合する場合、［−（Ｙ）ｎ−Ｚ−］ｍの構成単位を一つのユニットとして合成した後、ポリマー主鎖に組み込む方法、及び、Ｓｕｚｕｋｉ反応により重合する方法など、シーケンスを制御できる重合方法で構成連鎖を含むポリマーを重合する方法などが挙げられる。その中でもＳｕｚｕｋｉ反応により重合する方法が好ましいが、構成連鎖を含むポリマーであればその合成方法に制限はない。
【０１４１】
以下、Ｓｕｚｕｋｉ反応により重合する方法について説明する。
高分子化合物において、Ｙ及びＺで表される基並びに一般式（１）で表される構成連鎖は、例えば、下記一般式（Ｍ１）で表される化合物と下記一般式（Ｍ２）で表される化合物とを、又は下記一般式（Ｍ３）で表される化合物と下記一般式（Ｍ４）で表される化合物とを、縮合重合することにより導入することができる。高分子化合物には、Ｙ及びＺで表される基とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよい。
【０１４２】
高分子発光材料が上記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位を有する場合には、上記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位は、例えば、下記一般式（Ｍ５）、（Ｍ６）又は（Ｍ７）で表される化合物を縮合重合することにより導入される。高分子発光材料には、上記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよい。
【０１４３】
Ａ−Ｙ−Ａ        （Ｍ１）
［式中、Ｙは上記と同義である。Ａは、ハロゲン原子を表す。２つのＡは同一であっても異なっていてもよい。］
【０１４４】
Ｂ’−Ｚ−Ｂ’        （Ｍ２）
［式中、Ｚは上記と同義である。Ｂ’は、ホウ酸エステル残基、ホウ酸残基（−Ｂ（ＯＨ）２）、下記式（ａ−１）で表される基、下記式（ａ−２）で表される基、下記式（ａ−３）で表される基、又は下記式（ａ−４）で表される基を表す。２つのＢ’は、同一であっても異なっていてもよい。］
【０１４５】
【化３２】
0005913959.tif 000033
［式中、ＲＴは、アルキル基又はアリール基を表し、置換されていてもよい。ＸＡは、ハロゲン原子を表す。］
【０１４６】
Ａ−Ｚ−Ａ        （Ｍ３）
［式中、Ｚ及びＡは上記と同義である。２つのＡは同一であっても異なっていてもよい。］
【０１４７】
Ｂ’−Ｙ−Ｂ’        （Ｍ４）
［式中、Ｙ及びＢ’は上記と同義である。２つのＢ’は同一であっても異なっていてもよい。］
【０１４８】
Ｃ’−Ａｒ１−Ｃ’        （Ｍ５）
［式中、Ａｒ１は、上記と同義である。Ｃ’は、ハロゲン原子、ホウ酸エステル残基、ホウ酸残基、上記式（ａ−１）で表される基、上記式（ａ−２）で表される基、上記式（ａ−３）で表される基、又は上記式（ａ−４）で表される基を表す。２つのＣ’は、同一であっても異なっていてもよい。］
【０１４９】
【化３３】
0005913959.tif 000034
［式中、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４、Ｒ１、Ｒ２及びＣ’は、上記と同義である。ａは、０又は１である。］
【０１５０】
Ｃ’−Ａｒ５−Ｘ１−Ｃ’        （Ｍ７）
［式中、Ａｒ５、Ｘ１及びＣ’は、上記と同義である。］
【０１５１】
Ａ、Ｃ’及びＸＡで表されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【０１５２】
Ｂ’及びＣ’で表されるホウ酸エステル残基としては、下記式で表される基が挙げられる。
【０１５３】
【化３４】
0005913959.tif 000035
【０１５４】
上記式（ａ−１）中、ＲＴで表される非置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基が挙げられる。ＲＴで表される置換のアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基が挙げられる。
【０１５５】
上記式（ａ−１）中、ＲＴで表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基が挙げられる。
【０１５６】
上記式（ａ−１）で表される基としては、例えば、メタンスルホネート基、トリフルオロメタンスルホネート基、フェニルスルホネート基、４−メチルフェニルスルホネート基が挙げられる。
【０１５７】
上記式（ａ−４）中、ＲＴで表されるアルキル基は、上述の［用語の説明］の記載及び例と同じであるが、非置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基が好ましく、置換のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基が好ましい。
【０１５８】
上記式（ａ−１）中、ＲＴで表されるアリール基は、上述の［用語の説明］の記載及び例と同じであるが、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基が好ましい。
【０１５９】
上記式（ａ−４）で表される基としては、例えば、トリメチルスタナニル基、トリエチルスタナニル基、トリブチルスタナニル基が挙げられる。
【０１６０】
上記一般式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）、（Ｍ４）、（Ｍ５）、（Ｍ６）又は（Ｍ７）で表される化合物は、予め合成し単離して用いることも、反応系中で調製してそのまま用いることもできる。
【０１６１】
上記一般式（Ｍ２）及び（Ｍ４）中のＢ’、並びに（Ｍ５）、（Ｍ６）及び（Ｍ７）中のＣ’は、上記一般式（Ｍ２）、（Ｍ４）、（Ｍ５）、（Ｍ６）及び（Ｍ７）で表される化合物の合成が簡便であり、かつ、取り扱い易いので、ホウ酸エステル残基又はホウ酸残基であることが好ましい。
【０１６２】
上記縮合重合の方法としては、上記一般式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）、（Ｍ４）、（Ｍ５）、（Ｍ６）又は（Ｍ７）で表される化合物を、適切な触媒や適切な塩基を用いて、反応させる方法が挙げられる。
【０１６３】
上記触媒としては、パラジウム［テトラキス（トリフェニルホスフィン）］、［トリス（ジベンジリデンアセトン）］ジパラジウム、パラジウムアセテート等のパラジウム錯体、ニッケル［テトラキス（トリフェニルホスフィン）］、［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］ジクロロニッケル、［ビス（１，４−シクロオクダジエン）］ニッケル等のニッケル錯体等の遷移金属錯体と、必要に応じて、さらにトリフェニルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）、トリシクロヘキシルホスフィン、ジフェニルホスフィノプロパン、ビピリジル等の配位子とからなる触媒が挙げられる。上記触媒は、予め合成して用いることもできるし、反応系中で調製してそのまま用いることもできる。これらの触媒は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１６４】
上記触媒を用いる場合には、上記一般式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）、（Ｍ４）、（Ｍ５）、（Ｍ６）又は（Ｍ７）で表される化合物のモル数の合計に対する触媒の金属原子の量は、０．００００１〜３モル当量であることが好ましく、０．００００５〜０．５モル当量であることがより好ましく、０．０００１〜０．２モル当量であることがさらに好ましく、０．０００１〜０．０１モル当量であることが特に好ましい。
【０１６５】
上記塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム若しくはリン酸三カリウム等の無機塩基、又はフッ化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム若しくは水酸化テトラブチルアンモニウム等の有機塩基が挙げられる。これらの塩基は、１種単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１６６】
上記塩基を用いる場合には、その使用量は、上記一般式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）、（Ｍ４）、（Ｍ５）、（Ｍ６）又は（Ｍ７）で表される化合物のモル数の合計に対して、０．５〜２０モル当量であることが好ましく、１〜１０モル当量であることがより好ましい。
【０１６７】
縮合重合は、通常、有機溶媒等の溶媒の存在下で行われる。
【０１６８】
上記有機溶媒は、上記一般式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）、（Ｍ４）、（Ｍ５）、（Ｍ６）又は（Ｍ７）で表される化合物の種類や反応によって異なるが、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。副反応を抑制するために、これらの溶媒に対して、脱酸素処理をしておくことが望ましい。これらの有機溶媒は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１６９】
上記有機溶媒の使用量は、上記一般式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）、（Ｍ４）、（Ｍ５）、（Ｍ６）又は（Ｍ７）で表される化合物の合計濃度が、通常、０．１〜９０質量％、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは２〜３０質量％となる量である。
【０１７０】
縮合重合の反応温度は、好ましくは−１００〜２００℃であり、より好ましくは−８０〜１５０℃であり、さらに好ましくは０〜１２０℃である。
【０１７１】
上記反応時間は、反応温度等の条件によるが、通常、１時間以上であり、好ましくは２〜５００時間である。
【０１７２】
高分子化合物において、Ｙ、Ｚ及び任意追加基Ｍのモル数をそれぞれＮＹ、ＮＺ及びＮＭとしたときに、ＮＹ、ＮＺ及びＮＭが下記式（２）を満たすことが好ましい。
３０≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＭ）≦７５      （２）
【０１７３】
高分子化合物及び高分子発光材料が、いずれも縮合重合で合成される場合、高分子化合物における、Ｙ、Ｚ及び任意追加基Ｍのモル数をそれぞれＮＹ、ＮＺ及びＮＭとし、縮合重合により導入される高分子発光材料中の発光材料を構成する化学構造のモル数をＮＬとしたときに、ＮＹ、ＮＺ、ＮＭ及びＮＬが下記式（３）を満たすことが好ましい。
０．５≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＭ＋ＮＬ）≦３７．５      （３）
【０１７４】
高分子化合物は、一般式（１）で表される構成連鎖のみからなる共重合体であることが特に好ましい。
【０１７５】
縮合重合の後処理は、メタノール等の低級アルコールに縮合重合で得られた反応液を加えて析出させた沈殿物をろ過、乾燥する方法等の公知の方法で行うことができる。
【０１７６】
上記のようにして得られた高分子化合物及び発光材料は、公知の方法により混合され、組成物とすることができる。
【０１７７】
［ブロック型共重合体］
本発明において、「ブロック型共重合体」とは、「一般式（１）で表される構成連鎖」を主鎖に有し、「発光材料を構成する化学構造」を主鎖又は側鎖に有する共重合体である。このブロック型共重合体は、「一般式（１）で表される構成連鎖」を側鎖に有することができるし、「一般式（１）で表される構成連鎖」及び「発光材料を構成する化学構造」以外の構成連鎖（以下、「その他の構成連鎖」と言う。）、及び／又は、「連結基等の２価の基」を主鎖又は側鎖に有することができる。このブロック型共重合体において、「一般式（１）で表される構成連鎖」、「発光材料を構成する化学構造」、及び、「その他の構成連鎖」は、各々、一種のみ有していても二種以上を組み合わせて有していてもよい。
【０１７８】
本実施形態のブロック型共重合体は、上記一般式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有し、発光材料を構成する化学構造を主鎖又は側鎖に有する。上記ブロック型共重合体は上記一般式（１）で表される構成連鎖を１〜３０有することが好ましい。一般式（１）で表される構成連鎖は、高分子化合物において前述した一般式（１）で表される構成連鎖と同様である。
【０１７９】
発光材料を構成する化学構造としては、例えば、低分子蛍光体を構成する化学構造が挙げられる。低分子蛍光体を構成する化学構造がポリマー鎖中に組み込まれる場合、該低分子蛍光体を構成する化学構造は主鎖に組み込まれていても、側鎖に組み込まれていてもよい。発光材料を構成する化学構造としては、好ましくは、ポリフルオレン、フルオレン誘導体の共重合体、ポリアリーレン、アリーレン誘導体の共重合体、ポリアリーレンビニレン、アリーレンビニレン誘導体の共重合体、芳香族アミン又はその誘導体を構成する化学構造が挙げられる。発光材料を構成する化学構造は、上記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位の少なくとも一種であることが好ましく、上記一般式（Ｂ）で表される構成単位であることがより好ましい。一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位は、発光材料において上述した一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表される構成単位と同様である。但し、発光材料を構成する化学構造には式（１）で表される構成単位は含まない。
また、発光材料を構成する化学構造は、上記式（Ａ）で表される構成単位を一種以上及び上記式（Ｂ）で表される構成単位を一種以上含むことが好ましい。
【０１８０】
ブロック型共重合体において、発光材料を構成する化学構造と上記一般式（１）で表される構成連鎖との結合としては、例えば、直接結合、芳香環を介しての共役結合、又はアルキレン鎖等を介しての非共役結合が挙げられる。これらの中でも、直接結合、又は芳香環を介しての共役結合が好ましい。
【０１８１】
ブロック型共重合体のポリスチレン換算の数平均分子量は、好ましくは１×１０３〜１×１０７であり、より好ましくは１×１０４〜５×１０６である。また、ブロック型共重合体のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは１×１０４〜５×１０７であり、より好ましくは５×１０４〜１×１０７である。数平均分子量及び重量平均分子量が上記下限を上回る場合は、電荷移動に対する抵抗が小さくなりやすく、かつ、塗布法による成膜性が向上しやすく、上記上限を下回る場合は、塗布法による成膜性が良好になりやすい。
【０１８２】
ブロック型共重合体は、縮合重合により合成されるものであることが好ましく、Ｓｕｚｕｋｉ反応により重合する方法など、シーケンスを制御できる重合方法で構成連鎖を含む高分子化合物を重合する方法により合成される共重合体であることがより好ましいが、構成連鎖と発光材料を構成する化学構造とを含む高分子化合物であればその合成方法に制限はない。なお、ブロック型共重合体をＳｕｚｕｋｉ反応により重合する方法により合成する場合には、上述の高分子化合物と同様にブロック型共重合体を合成することができる。
ブロック型共重合体を縮合重合により得る場合、ブロック型共重合体には、Ｙ及びＺで表される基と発光材料を構成する化学構造とが、縮合重合により導入される。当該基及び化学構造とは相違する任意追加基が縮合重合により導入されていてもよい。
【０１８３】
縮合重合の方法としては、上述の高分子化合物又は発光材料と同様の方法が挙げられる。例えば、一般式（１）で表される構成連鎖を有するブロックと、該ブロック以外の発光材料を構成する化学構造を有するブロックとを主鎖に有するブロック型共重合体の製造方法としては、下記の（方法１）、（方法２）又は（方法３）が挙げられる。
【０１８４】
（方法１）
一般式（１）で表される構成連鎖を有するブロックを形成するために必要なモノマーを縮合重合させ、一般式（１）で表される構成連鎖を有する重合体を調製した後、該重合体に発光材料を構成する化学構造を有するブロックを形成するために必要なモノマーを追加して縮合重合させる方法。
（方法２）
発光材料を構成する化学構造を有するブロックを形成するために必要なモノマーを縮合重合させた、発光材料を構成する化学構造を有する重合体を調製した後、該重合体に一般式（１）で表される構成連鎖を有するブロックを形成するために必要なモノマーを追加して縮合重合させる方法。
（方法３）
一般式（１）で表される構成連鎖を有するブロックを形成するために必要なモノマーを縮合重合させ、一般式（１）で表される構成連鎖を有する重合体（ａ）を調製し、別途、発光材料を構成する化学構造を有するブロックを形成するために必要なモノマーを縮合重合させた重合体（ｂ）を調製し、重合体（ａ）と重合体（ｂ）とを縮合重合させる方法。
【０１８５】
（方法１）〜（方法３）で用いられる上記モノマーとしては、上述の高分子化合物又は発光材料と同様の一般式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）、（Ｍ４）、（Ｍ５）、（Ｍ６）又は（Ｍ７）で表される化合物が挙げられる。例えば、（方法１）では、一般式（１）で表される構成連鎖を有する重合体において、一般式（１）で表される構成連鎖は、上記一般式（Ｍ１）で表される化合物と上記一般式（Ｍ２）で表される化合物とを、又は上記一般式（Ｍ３）で表される化合物と上記一般式（Ｍ４）で表される化合物とを、縮合重合することにより導入される。さらに、発光材料を構成する化学構造は、上記一般式（Ｍ５）、（Ｍ６）又は（Ｍ７）で表される化合物を上記重合体に追加して縮合重合することにより導入される。以上のようにして、ブロック型共重合体に、一般式（１）で表される構成連鎖及び発光材料を構成する化学構造が導入される。（方法２）及び（方法３）においても、（方法１）と同様にして、ブロック型共重合体に、一般式（１）で表される構成連鎖及び発光材料を構成する化学構造が導入される。
【０１８６】
縮合重合に用いられる触媒、塩基及び有機溶媒の種類と量、並びに反応温度等の条件は、上述と同様である。
【０１８７】
ブロック型共重合体における、Ｙ、Ｚ、任意追加基Ｍ及び発光材料を構成する化学構造のモル数を、それぞれＮＹ、ＮＺ、ＮＭ及びＮＫしたときに、ＮＹ、ＮＺ、ＮＭ及びＮＫが下記式（４）を満たすことが好ましく、下記式（４−１）を満たすことがより好ましい。
２≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＫ＋ＮＭ）＜４０      （４）
３≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＫ＋ＮＭ）≦３０      （４−１）
【０１８８】
さらに、ブロック型共重合体における、Ｙ、Ｚ及び任意追加基Ｍのモル数を、それぞれＮＹ、ＮＺ及びＮＭとしたときに、ＮＹ、ＮＺ及びＮＭが下記式（５）を満たすことが好ましく、下記式（５−１）を満たすことがさらに好ましい。
２０≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＫ）      （５）
３０≦ＮＹ×１００／（ＮＹ＋ＮＺ＋ＮＫ）      （５−１）
【０１８９】
なお、Ｓｕｚｕｋｉ反応により上述の高分子化合物又はブロック型共重合体を重合する場合、使用するモノマーのモノマー種及びモノマー比を適切に選ぶことが好ましい。
【０１９０】
例えば、モノマーとして、Ｙのジブロモ体（５０ｍｏｌ％）及びＺのジホウ酸体（５０ｍｏｌ％）を準備し、これらをＳｕｚｕｋｉ反応により重合する場合は、Ｙ及びＺの交互共重合体ができるため、下記一般式（１）で表される構成連鎖のみからなるポリマーを重合できる。
［−Ｙ−Ｚ−］ｍ        （１）
【０１９１】
また、Ｙのジブロモ体、Ｚのジホウ酸体及び第３成分のモノマー（Ｊとする）を準備し、Ｙのジブロモ体、Ｚのジホウ酸体及びＪのジブロモ体をそれぞれ３７．５ｍｏｌ％：５０ｍｏｌ％：１２．５ｍｏｌ％のモル比で使用して、これらをＳｕｚｕｋｉ反応により重合して得られる高分子化合物の場合には、下記一般式（１−１）：
…−Ｙ−Ｚ−Ｙ−Ｚ−Ｙ−Ｚ−Ｊ−Ｚ−Ｙ−Ｚ−Ｙ−Ｚ−Ｙ−Ｚ−Ｊ−Ｚ…  （１−１）
のように、ｍが４未満の高分子化合物が重合される可能性がある。一方で、Ｙのジブロモ体が３７．５ｍｏｌ％より大きく、Ｊのジブロモ体が１２．５ｍｏｌ％より小さい場合には必ずｍが４以上の構成連鎖を有する高分子化合物が重合される。例えば、Ｙのジブロモ体、Ｚのジホウ酸体及びＪのジブロモ体を、それぞれ４５ｍｏｌ％：５０ｍｏｌ％：５ｍｏｌ％のモル比で使用して、これらをＳｕｚｕｋｉ反応により重合する場合でも、上記一般式（１）で表される構成連鎖を主鎖に有する高分子化合物又はブロック型共重合体を重合できる。
本実施形態において、上記のようにＹのジブロモ体及びＺのジホウ酸体以外のモノマーを用いて高分子化合物又はブロック共重合体を重合する場合には、必ず上記一般式（１）で表される構成連鎖を含むポリマーとなるように、それぞれのモノマー種及びモノマー比を選ぶことが好ましい。
【０１９２】
上記のように、Ｙのジブロモ体とＺのジホウ酸体に加え、第３成分Ｊのジブロモ体が存在する場合において、Ｙのジブロモ体、Ｚのジホウ酸体及びＪのジブロモ体を、それぞれ５０−ｔ（ｍｏｌ％）：５０（ｍｏｌ％）：ｔ（ｍｏｌ％）の割合で使用したとき、ｔの好ましい範囲としては、０＜ｔ＜１２．５であり、より好ましくは０＜ｔ≦１０、さらに好ましくは０＜ｔ≦５である。ここで、ｔは、０を超え５０未満の数である。
【０１９３】
Ｓｕｚｕｋｉ反応を用いて、上記構成連鎖を含む本実施形態の高分子化合物又はブロック型共重合体を合成する場合、重合するモノマー比によって生じる構成連鎖の平均を、予め下記の［重合シミュレーション］に記載の方法により求めることで、高分子化合物又はブロック型共重合体が上記構成連鎖を含むか否かを判断することができる。
【０１９４】
［重合シミュレーション］
重合シミュレーションは以下の機能を持つプログラムを作成して実施した。
脱離基Ａ（例えば、ホウ酸エステル残基）を２個持つｋ種類（ｋは１以上の整数）のモノマーユニット（以下、「モノマーユニットＡ群」と言う。）をそれぞれ
Ｍ１個、．．．．、Ｍｋ個（Ｍ１、．．．．、Ｍｋは１以上の整数）、
脱離基Ｂ（例えば、臭素原子）を２個持つｖ種類（ｖは１以上の整数）のモノマーユニット（以下、「モノマーユニットＢ群」と言う。）をそれぞれ
Ｎ１個、．．．．、Ｎｖ個（Ｎ１、．．．．、Ｎｖは１以上の整数）
と定義する。そして、次の２つのステップ（［ステップ１］及び［ステップ２］）を、初期に存在する脱離基数（Ｎ0）に対する未反応の脱離基数（ＮＦ）の割合（ＮＦ／Ｎ0）がある特定の値（以下、「Ｒ値」と言う。）に減少するまで繰り返すプログラムを作成した。ここで、未反応の脱離基数とは、下記の２つのステップ（［ステップ１］及び［ステップ２］）を実施した後に残っている脱離基の総数を表す。
［ステップ１］２個の乱数によりモノマーユニットＡ群及びモノマーユニットＢ群のそれぞれから１個ずつモノマーユニットを選ぶステップ。
［ステップ２］ステップ１で選ばれた２個のモノマーユニットの間の結合を登録し、選ばれたモノマーユニットの持つ脱離基の数を１つずつ減じるステップ。
【０１９５】
なお、計算機による乱数の発生については、Ｈｉｒｏｓｈｉ  Ｈａｒａｍｏｔｏ，  Ｍａｋｏｔｏ  Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ、ＩＮＦＯＲＭＳ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｎ  Ｃｏｍｐｕｔｉｎｇ  Ｖｏｌ．  ２０，  Ｎｏ．  ３，  Ｓｕｍｍｅｒ  ２００８，  ｐｐ．  ３８５−３９０）に記載されたプログラムを使用した。
【０１９６】
［平均連鎖長の計算］
平均連鎖長は、以下のとおり、計算した。まず、モノマーユニットＡ群及びモノマーユニットＢ群のそれぞれから１個ずつモノマーユニットを選択し、それらに同一の識別記号Ｐを与えた上で［重合シミュレーション］を実施した。重合によって得られたポリマーの配列をスキャンして、記号Ｐで識別されるモノマーユニットの連鎖（以下、「Ｐ連鎖」と言う。）を構成するＰの個数（以下、「Ｐ連鎖長」と言う。）を記録した。記号Ｐで識別されるモノマーユニットが連鎖を形成せずに存在する場合（すなわち、Ｐが未反応モノマーとして存在する場合）と、Ｐに結合したモノマーユニットがいずれもＰでない場合と、を除外する。換言すれば、Ｐの連鎖が存在しない場合を除外する。そして、Ｐ連鎖を構成するＰの総和（つまり、Ｐ連鎖長の総和）をＰ連鎖の数で除した値を平均連鎖長とした。さらに、上述の［重合シミュレーション］を１つの重合条件に対して、独立に５回実施し、得られた５回分の平均連鎖長を平均して目的の平均連鎖長とした。
【０１９７】
具体的な計算の条件は、以下の設定とした。
（Ｓ１）重合シミュレーション条件（共通）
ｋ＝１、ｖ＝２、Ｒ値＝０．００３、及び、Ｍ１＝５０００とし、モノマーユニットＡ群及びモノマーユニットＢ群ともに１番目の種類のモノマーユニットに識別記号Ｐを与える。
（Ｓ２）個別の重合シミュレーション条件
重合条件１：  Ｎ１＝５００、Ｎ２＝４５００
重合条件２：  Ｎ１＝１０００、Ｎ２＝４０００
重合条件３：  Ｎ１＝１５００、Ｎ２＝３５００
重合条件４：  Ｎ１＝２０００、Ｎ２＝３０００
重合条件５：  Ｎ１＝２５００、Ｎ２＝２５００
重合条件６：  Ｎ１＝３０００、Ｎ２＝２０００
重合条件７：  Ｎ１＝３５００、Ｎ２＝１５００
重合条件８：  Ｎ１＝４０００、Ｎ２＝１０００
重合条件９：  Ｎ１＝４５００、Ｎ２＝５００
計算によって得られた平均連鎖長は以下のとおりである。
重合条件１：  平均連鎖長＝３．２
重合条件２：  平均連鎖長＝３．５
重合条件３：  平均連鎖長＝３．８
重合条件４：  平均連鎖長＝４．３
重合条件５：  平均連鎖長＝５．０
重合条件６：  平均連鎖長＝５．９
重合条件７：  平均連鎖長＝７．６
重合条件８：  平均連鎖長＝１０．７
重合条件９：  平均連鎖長＝１９．８
【０１９８】
ここで、Ｍ１、Ｎ１が、それぞれ上記一般式（１）におけるＺ、（Ｙ）ｎに相当するとした場合、上記の重合条件におけるポリマーでは、上記一般式（１）のｍに相当する値の平均値（ｍ’）は下記のとおりである。
重合条件１：  ｍ’＝１．６
重合条件２：  ｍ’＝１．７５
重合条件３：  ｍ’＝１．９
重合条件４：  ｍ’＝２．１５
重合条件５：  ｍ’＝２．５
重合条件６：  ｍ’＝２．９５
重合条件７：  ｍ’＝３．８
重合条件８：  ｍ’＝５．３５
重合条件９：  ｍ’＝９．９
【０１９９】
なお、上記で求めたｍ’は、好ましくはｍ’≧３．０であり、より好ましくはｍ’≧３．８であり、さらに好ましくはｍ’≧５．３５であり、特に好ましくはｍ’≧９．９である。
【０２００】
一方、上記［重合シミュレーション］の記載にに基づいて合成した高分子化合物及びブロック型共重合体が、上記一般式（１）を満たすか否かは、例えば、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）を用いて判断することができる。
【０２０１】
本実施形態の組成物は、正孔輸送材料及び電子輸送材料からなる群より選ばれる少なくとも１種の材料を含有していてもよい。またブロック型共重合体は、正孔輸送材料及び電子輸送材料からなる群より選ばれる少なくとも１種の材料との組成物としてもよい。以下、これら２種の組成物を総称して、単に、「本実施形態の組成物」と言い、これらについて説明する。正孔輸送材料及び電子輸送材料は、主に電荷（正孔及び電子）バランスの調整の役割を担う。
【０２０２】
正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリシラン及びその誘導体、側鎖又は主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）及びその誘導体、並びにポリ（２，５−チエニレンビニレン）及びその誘導体等が挙げられる。その他にも、特開昭６３−７０２５７号公報、特開昭６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号公報、特開平２−１３５３６１号公報、特開平２−２０９９８８号公報、特開平３−３７９９２号公報、及び特開平３−１５２１８４号公報に記載された正孔輸送材料も挙げられる。
【０２０３】
正孔輸送材料の含有割合は、組成物１００質量部に対して、電荷バランスが良好となるので、好ましくは３〜３０質量部であり、より好ましくは３〜２０質量部であり、特に好ましくは３〜１０質量部である。
また、正孔輸送材料の含有割合は、ブロック型共重合体１００質量部に対して、電荷バランスが良好となるので、好ましくは３〜３０質量部、より好ましくは３〜２０質量部、特に好ましくは３〜１０質量部加えられる。
【０２０４】
電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン及びその誘導体、ベンゾキノン及びその誘導体、ナフトキノン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン及びその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン及びその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体、ポリキノリン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、並びにポリフルオレン及びその誘導体等が挙げられる。その他にも、特開昭６３−７０２５７号公報、特開昭６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号公報、特開平２−１３５３６１号公報、特開平２−２０９９８８号公報、特開平３−３７９９２号公報、及び特開平３−１５２１８４号公報に記載された電子輸送材料も挙げられる。
【０２０５】
電子輸送材料の含有割合は、組成物１００質量部に対して、電荷バランスが良好となるので、好ましくは５〜５０質量部であり、より好ましくは５〜３０質量部であり、特に好ましくは５〜２０質量部である。
また、電子輸送材料の含有割合は、ブロック型共重合体１００質量部に対して、電荷バランスが良好となるので、好ましくは５〜５０質量部、より好ましくは５〜３０質量部、特に好ましくは５〜２０質量部加えられる。
【０２０６】
本実施形態の組成物は有機溶媒を含むことにより、また、本実施形態のブロック型共重合体は有機溶媒と混合することにより、溶液又は分散液（以下、単に「溶液」という。）とすることができる。溶液とすることにより、塗布による成膜を行うことができる。この溶液は、一般的に、インク組成物、液状組成物等と呼ばれる。該溶液には、上述の正孔輸送材料及び／又は電子輸送材料が含まれていてもよい。
【０２０７】
有機溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、クロロベンゼン及びｏ−ジクロロベンゼン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン及びメシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−へプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン及びｎ−デカン等の脂肪族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルベンゾエート及びエチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジメトキシエタン、プロピレングリコール、ジエトキシメタン、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、グリセリン及び１，２−ヘキサンジオール等の多価アルコール及びその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール及びシクロヘキサノール等のアルコール系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、並びに、Ｎ−メチル−２−ピロリドン及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの有機溶媒のうち、ベンゼン環を含む構造を有し、かつ融点が０℃以下、沸点が１００℃以上である有機溶媒を含むと、溶液の粘度が適切な範囲となり、その結果、成膜性が良好となる傾向があるので好ましい。
【０２０８】
有機溶媒の含有割合は、組成物１００質量部に対して、成膜性が良好となるので、好ましくは１０．０〜９９．９質量部であり、より好ましくは２０．０〜９９．８質量部であり、特に好ましくは３０．０〜９９．７質量部である。
また、有機溶媒の含有割合は、ブロック型共重合体１質量部に対して、成膜性が良好となるので、好ましくは１０〜１０００質量部であり、より好ましくは２０〜５００質量部であり、特に好ましくは３０〜１００質量部である。
【０２０９】
本実施形態の組成物が有機溶媒を含む場合、及び、ブロック型共重合体を有機溶媒と併用する場合、組成物を用いてなる薄膜、及び、ブロック型共重合体からなる薄膜を積層・成膜させるには、溶液を塗布した後、乾燥により有機溶媒を除去するだけでよく、製造上非常に有利である。なお、溶液は、５０〜１５０℃に加温して乾燥させてもよく、また、１０−３Ｐａ程度に減圧して乾燥させてもよい。
【０２１０】
積層・成膜には、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、及びノズルコート法等の塗布法を用いることができる。
【０２１１】
本実施形態の組成物が有機溶媒を含む場合、及び／又はブロック型共重合体が有機溶媒を含む場合、溶液の粘度は印刷法によって異なるが、２５℃において０．５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲であることが好ましい。また、インクジェットプリント法等、溶液が吐出装置を経由する方法である場合には、吐出時の目詰まり及び飛行曲がりを防止するために、溶液の粘度は２５℃において０．５〜２０ｍＰａ・ｓの範囲であることが好ましい。
【０２１２】
［薄膜］
上記組成物及び／又はブロック型共重合体は、有機層となる薄膜を作製するのに有用である。このような薄膜は、上述の方法により、上記溶液から容易に製造することができる。そして、このような薄膜は、上記組成物を用いてなるため、或いは、ブロック型共重合体を含有するため、有機ＥＬ素子の発光層として好適であり、当該薄膜を発光層として有する有機ＥＬ素子は輝度寿命が向上する。
【０２１３】
［有機ＥＬ素子］
有機ＥＬ素子は、陽極と陰極とからなる一対の電極、及び該一対の電極の間に設けられた上記有機層を有する。ここで、上記有機層は、発光層として機能する。有機ＥＬ素子は、好ましくは、上記薄膜からなる発光層を有する。
【０２１４】
上記有機ＥＬ素子の構成としては、以下のａ）〜ｄ）の構成が挙げられる。
ａ）陽極／発光層／陰極
ｂ）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
ｃ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
ｄ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（ここで、／は各層が隣接して積層されていることを示す。以下、同様である。）
【０２１５】
なお、発光層とは、発光する機能を有する層である。
正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する層である。
電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する層である。
正孔輸送層と電子輸送層を総称して電荷輸送層と呼ぶ。
【０２１６】
各層の積層・成膜は、溶液から行うことができる。溶液からの積層・成膜には、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、及びノズルコート法等の塗布法を用いることができる。
【０２１７】
発光層の厚さは、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、通常、１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【０２１８】
有機ＥＬ素子が正孔輸送層を有する場合、使用される正孔輸送材料としては、上記と同様の材料が挙げられる。正孔輸送層の成膜は、如何なる方法で行ってもよいが、正孔輸送材料が低分子化合物である場合には、高分子バインダーとの混合溶液から成膜することが好ましい。正孔輸送材料が高分子化合物である場合には、溶液から成膜することが好ましい。溶液からの成膜には、塗布法として例示した方法を用いることができる。
【０２１９】
正孔輸送材料と混合する高分子バインダーは、電荷輸送を極度に阻害しない化合物であって、可視光に対する吸収が強くない化合物が好ましい。高分子バインダーとしては、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル及びポリシロキサン等が挙げられる。
【０２２０】
正孔輸送層の厚さは、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、通常、１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【０２２１】
有機ＥＬ素子が電子輸送層を有する場合、使用される電子輸送材料としては、上記と同様のものが挙げられる。電子輸送層の成膜は、如何なる方法で行ってもよいが、電子輸送材料が低分子化合物である場合には、粉末からの真空蒸着法、溶液又は溶融状態からの成膜による方法が好ましい。電子輸送材料が高分子化合物である場合には、溶液又は溶融状態からの成膜による方法が好ましい。溶液又は溶融状態からの成膜には、高分子バインダーを併用してもよい。溶液からの成膜には、塗布法として例示した方法を用いることができる。
【０２２２】
電子輸送材料と混合する高分子バインダーは、電荷輸送を極度に阻害しない化合物であって、可視光に対する吸収が強くない化合物が好ましい。高分子バインダーとしては、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）及びその誘導体、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）及びその誘導体、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、並びにポリシロキサン等が挙げられる。
【０２２３】
電子輸送層の厚さは、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、通常、１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【０２２４】
電極に隣接して設けた電荷輸送層のうち、電極からの電荷注入効率を改善する機能を有し、素子の駆動電圧を下げる効果を有する層は、特に電荷注入層（正孔注入層、電子注入層）と呼ぶことがある。さらに、電極との密着性向上や電極からの電荷注入の改善のために、電極に隣接して上記の電荷注入層又は絶縁層を設けてもよく、界面の密着性向上や混合の防止等のために電荷輸送層又は発光層の界面に薄いバッファー層を挿入してもよい。なお、積層する層の順番、数、及び各層の厚さについては、発光効率及び素子寿命を勘案して選択すればよい。
【０２２５】
電荷注入層を設けた有機ＥＬ素子の構成としては、以下のｅ）〜ｐ）の構成が挙げられる。
ｅ）陽極／電荷注入層／発光層／陰極
ｆ）陽極／発光層／電荷注入層／陰極
ｇ）陽極／電荷注入層／発光層／電荷注入層／陰極
ｈ）陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電荷注入層／陰極
ｊ）陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電荷注入層／陰極
ｋ）陽極／電荷注入層／発光層／電荷輸送層／陰極
ｌ）陽極／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極
ｍ）陽極／電荷注入層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極
ｎ）陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電荷輸送層／陰極
ｏ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極
ｐ）陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極
【０２２６】
電荷注入層としては、導電性高分子を含む層、陽極と正孔輸送層との間に設けられ、陽極材料と正孔輸送層に含まれる正孔輸送材料との中間の値のイオン化ポテンシャルを有する材料を含む層、陰極と電子輸送層との間に設けられ、陰極材料と電子輸送層に含まれる電子輸送材料との中間の値の電子親和力を有する材料を含む層等が挙げられる。
【０２２７】
電荷注入層が導電性高分子を含む層である場合、該導電性高分子の電気伝導度は、１０−５Ｓ／ｃｍ〜１０３Ｓ／ｃｍであることが好ましく、発光画素間のリーク電流を小さくするためには、１０−５Ｓ／ｃｍ〜１０２Ｓ／ｃｍであることがより好ましく、１０−５Ｓ／ｃｍ〜１０１Ｓ／ｃｍであることがさらに好ましい。かかる範囲を満たすために、導電性高分子に適量のイオンをドープしてもよい。
【０２２８】
ドープするイオンの種類は、正孔注入層であればアニオン、電子注入層であればカチオンである。アニオンとしては、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、樟脳スルホン酸イオン等が挙げられ、カチオンとしては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン等が挙げられる。
【０２２９】
電荷注入層の厚さは、例えば、１〜１００ｎｍであり、２〜５０ｎｍが好ましい。
【０２３０】
電荷注入層に用いる材料としては、電極や隣接する層の材料との関係で選択すればよく、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、ポリフェニレンビニレン及びその誘導体、ポリチエニレンビニレン及びその誘導体、ポリキノリン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体等の導電性高分子、金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等）、並びにカーボン等が挙げられる。
【０２３１】
絶縁層は、電荷注入を容易にする機能を有する層である。この絶縁層の平均厚さは、通常、０．１〜２０ｎｍであり、好ましくは０．５〜１０ｎｍ、より好ましくは１〜５ｎｍである。
絶縁層に用いる材料としては、金属フッ化物、金属酸化物、及び有機絶縁材料等が挙げられる。
【０２３２】
絶縁層を設けた有機ＥＬ素子の構成としては、以下のｑ）〜ａｂ）の構成が挙げられる。
ｑ）陽極／絶縁層／発光層／陰極
ｒ）陽極／発光層／絶縁層／陰極
ｓ）陽極／絶縁層／発光層／絶縁層／陰極
ｔ）陽極／絶縁層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｕ）陽極／正孔輸送層／発光層／絶縁層／陰極
ｖ）陽極／絶縁層／正孔輸送層／発光層／絶縁層／陰極
ｗ）陽極／絶縁層／発光層／電子輸送層／陰極
ｘ）陽極／発光層／電子輸送層／絶縁層／陰極
ｙ）陽極／絶縁層／発光層／電子輸送層／絶縁層／陰極
ｚ）陽極／絶縁層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ａａ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／絶縁層／陰極
ａｂ）陽極／絶縁層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／絶縁層／陰極
【０２３３】
有機ＥＬ素子を形成する基板は、電極及び有機層を形成する際に化学的に変化しない基板であればよく、ガラス、プラスチック、高分子フィルム、及びシリコン等の基板が挙げられる。不透明な基板の場合には、該基板により近い電極と反対側の電極が透明又は半透明であることが好ましい。
【０２３４】
本実施形態において、通常は、陽極及び陰極からなる電極の少なくとも一方が透明又は半透明であり、陽極側が透明又は半透明であることが好ましい。
【０２３５】
陽極の材料としては、導電性の金属酸化物膜、半透明の金属薄膜等が用いられ、具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、若しくはそれらの複合体であるインジウム・スズ・オキサイド（ＩＴＯ）、インジウム・亜鉛・オキサイド等からなる導電性無機化合物を用いて作製された膜、ＮＥＳＡ、金、白金、銀、銅等が用いられる。また、陽極として、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体等の有機の透明導電膜を用いてもよい。また、陽極上に、電荷注入を容易にするために、フタロシアニン誘導体、導電性高分子、又はカーボンからなる層、或いは金属酸化物、金属フッ化物、又は有機絶縁材料からなる層を設けてもよい。
【０２３６】
陽極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、及びメッキ法等が挙げられる。
【０２３７】
陽極の厚さは、光の透過性と電気伝導度とを考慮して選択することができるが、通常、１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは４０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【０２３８】
陰極の材料としては、仕事関数の小さい材料が好ましく、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、若しくはイッテルビウム等の金属、それらのうち２種以上の合金、又はそれらのうち１種以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン及び錫のうち１種以上との合金、或いはグラファイト若しくはグラファイト層間化合物等が用いられる。
【０２３９】
陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、金属薄膜を熱圧着するラミネート法等が用いられる。
【０２４０】
陰極の厚さは、電気伝導度及び耐久性を考慮して選択することができるが、通常、１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【０２４１】
また、陰極と発光層又は陰極と電子輸送層との間に、導電性高分子からなる層、或いは金属酸化物、金属フッ化物、有機絶縁材料等からなる層を設けてもよく、陰極作製後、有機ＥＬ素子を保護する保護層を装着していてもよい。該有機ＥＬ素子を長期安定的に用いるためには、有機ＥＬ素子を外部から保護するために、保護層及び／又は保護カバーを装着することが好ましい。
【０２４２】
保護層としては、樹脂、金属酸化物、金属フッ化物、又は金属ホウ化物等を用いることができる。保護カバーとしては、ガラス板、又は表面に低透水率処理を施したプラスチック板等を用いることができ、該保護カバーを熱硬化樹脂や光硬化樹脂で素子基板と貼り合わせて密閉する方法が好適に用いられる。スペーサーを用いて空間を維持すれば、素子がキズつくのを防ぐことが容易である。該空間に窒素やアルゴン等の不活性なガスを封入すれば、陰極の酸化を防止することができ、さらに酸化バリウム等の乾燥剤を該空間内に設置することにより製造工程で吸着した水分が素子にタメージを与えるのを抑制することが容易となる。
【０２４３】
本実施形態の組成物を用いてなる有機層、又は、ブロック型共重合体を含有する有機層を有する有機ＥＬ素子は、曲面状光源、及び平面状光源等の面状光源（例えば、照明）；セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置（例えば、ドットマトリックスのフラットディスプレイ）、及び液晶表示装置（例えば、液晶表示装置、液晶ディスプレイのバックライト）等の表示装置等に有用である。また、本実施形態の組成物及び／又はブロック型共重合体は、これらの作製に用いられる材料として好適である以外にも、レーザー用色素、有機太陽電池用材料、有機トランジスタ用の有機半導体、導電性薄膜、及び有機半導体薄膜等の伝導性薄膜用材料、蛍光を発する発光性薄膜材料、並びに電界効果トランジスタの材料等としても有用である。
【０２４４】
白色照明の一部として本実施形態の組成物を用いてなる発光層、又は、ブロック型共重合体を含有する発光層を用いる場合は、白色の色純度を得るために青色以外の発光材料を該発光層に含有してもよいし、青色以外の発光材料を有する第二の発光層を有していてもよい。
【０２４５】
本実施形態の組成物及び／又はブロック型共重合体を含有する有機層を有する有機ＥＬ素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。パターン状の発光を得るためには、該面状の有機ＥＬ素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、陽極及び陰極のいずれか一方、又は両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にＯＮ／ＯＦＦできるように配置することにより、数字や文字、簡単な記号等を表示できるセグメント表示装置が得られる。さらに、ドットマトリックス表示装置とするためには、陽極と陰極をともにストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子化合物を塗り分ける方法、又は、カラーフィルター若しくは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス表示装置は、パッシブ駆動も可能であるし、ＴＦＴ等と組み合わせてアクティブ駆動してもよい。これらの表示装置は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、及びビデオカメラのビューファインダー等に用いることができる。
【実施例】
【０２４６】
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【０２４７】
（数平均分子量及び重量平均分子量）
数平均分子量及び重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ、島津製作所製、商品名：ＬＣ−１０Ａｖｐ）により、ポリスチレン換算で、求めた。測定する化合物を、約０．５質量％の濃度になるようテトラヒドロフランに溶解させ、溶液をＧＰＣに３０μＬ注入した。ＧＰＣの移動相にはテトラヒドロフランを用い、０．６ｍＬ／分の流速で流した。カラムには、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｈ（東ソー製）２本とＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨ２０００（東ソー製）１本を直列に繋げたものを用いた。検出器には、示差屈折率検出器（島津製作所製、商品名：ＲＩＤ−１０Ａ）を用いた。
【０２４８】
（ＮＭＲ測定）
化合物のＮＭＲ測定は、以下の条件で行った。
装置          ：  核磁気共鳴装置、ＩＮＯＶＡ３００（商品名）、バリアン社製
測定溶媒      ：  重水素化クロロホルム又は重水素化テトラヒドロフラン
サンプル濃度  ：  約１質量％
測定温度      ：  ２５℃
【０２４９】
（ＬＣ−ＭＳ測定）
ＬＣ−ＭＳの測定は、以下の方法で行った。測定試料を約２ｍｇ／ｍＬの濃度になるようにクロロホルム又はテトラヒドロフランに溶解させて、ＬＣ−ＭＳ（アジレント・テクノロジー製、商品名：１１００ＬＣＭＳＤ）に１μＬ注入した。ＬＣ−ＭＳの移動相には、イオン交換水、アセトニトリル、テトラヒドロフラン又はそれらの混合液を用い、必要に応じて酢酸を添加した。カラムは、Ｌ−ｃｏｌｕｍｎ  ２  ＯＤＳ（３μｍ）（化学物質評価研究機構製、内径：２．１ｍｍ、長さ：１００ｍｍ、粒子径３μｍ）を用いた。
【０２５０】
（重合に用いられる化合物の合成）
＜合成例１：化合物３Ａの合成＞
４口フラスコ内の気体を窒素で置換し、上記フラスコ内で、２，７−ジブロモフルオレノン１６．５質量部をジフェニルエーテルに懸濁させた。懸濁液を１２０℃まで加熱し、２，７−ジブロモフルオレノンを溶解させた後、溶液に水酸化カリウム１５．５質量部を加え、１６０℃まで昇温し、２．５時間撹拌した。溶液を室温まで放冷後、ヘキサンを加えて、ろ過し、得られた固形分をヘキサンで洗浄した。４口フラスコ内の気体を窒素で置換し、上記フラスコ内で、得られた生成物のを脱水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、「ＤＭＦ」という。）に溶解させた。得られた溶液を９０℃に昇温し、反応を追跡しながら合計５３．０質量部のヨウ化メチルを加えた。反応時間は合計１０時間であった。室温まで放冷した溶液を、０℃に冷却した水の中に滴下し、反応生成物をヘキサンで２回抽出した。得られた溶液をシリカゲルを敷いたグラスフィルターでろ過後、ろ液を濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物１Ａを１３．３質量部得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ／ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝３．６８（ｓ，３Ｈ）、７．１５（ｄ，２Ｈ）、７．２０（ｄ，１Ｈ）、７．５２（ｄ，２Ｈ）、７．６５（ｄ，１Ｈ）、８．００（ｂｒｓ，１Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ／ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝５２．６、１２１．８、１２２．２、１３０．１、１３１．６、１３２．３、１３２．４、１３３．２、１３４．７、１３９．４、１４０．６、１６７．８．
【化３５】
0005913959.tif 000036
【０２５１】
３口丸底フラスコに１−ブロモ−４−ｎ−ヘキシルベンゼン７．５質量部及び無水テトラヒドロフランを加え、−７８℃に冷却した。ゆっくりと１．６Ｍのｎ−ブチルリチウム／ヘキサン溶液（１−ブロモ−４−ｎ−ヘキシルベンゼンに対して１モル当量）を加え、−７８℃で２時間撹拌した。温度を保ちながら化合物１Ａ  ４．９５質量部を無水テトラヒドロフランに溶かし、滴下ロートを用いて、該溶液を−７０℃以下に保ちながら滴下した。滴下終了後、−７８℃で２時間撹拌し、ゆっくりと室温まで昇温した。得られた溶液に塩化アンモニウム飽和水溶液を５００ｍＬ加えて撹拌し、分液ロートに移して水層を除去した。得られた有機層を水で２回洗浄し、そこに無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥させた。シリカゲルの層を敷いたグラスフィルターに、乾燥させた有機層を流してろ過し、その溶出液をテトラヒドロフランで洗浄した。得られた溶液を濃縮し乾燥させた。次いで、ヘキサン３００ｍＬに懸濁させて攪拌した後、ろ過することにより、化合物２Ａを６．０質量部得た。
【化３６】
0005913959.tif 000037
【０２５２】
３口フラスコに化合物２Ａ（６．０質量部）及びジクロロメタンを加え、氷浴を用いて０℃に冷却した。得られた溶液に、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（２７質量部）を、滴下ロートを用いて滴下した。溶液を２時間０℃で撹拌した後、該溶液を水と氷を入れたビーカーに注加して反応を停止した。反応液を分液ロートへ移して分液し、ジクロロメタンで抽出した後、有機層を合わせて水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥させた。シリカゲルの層を敷いたグラスフィルターを用いて硫酸ナトリウムをろ過し、ろ液を濃縮した。得られた油状物にトルエンを加えて加熱しながら還流し、７０℃まで冷却後、イソプロピルアルコールを加えて撹拌し、室温まで放置して冷却した。生じた結晶をろ過し、乾燥させた。得られた結晶をナスフラスコに加え、さらにヘキサン及び活性炭を加えて、加熱しながら還流を２時間行った。ラヂオライト（昭和化学工業品）、その上にセライトを敷いたグラスフィルターを、７０℃に加熱しておき、これを用いて、活性炭をろ過して取り除いた。得られたろ液を半量濃縮し、加熱しながら還流した後、室温で１時間撹拌した。さらに氷浴を用いて反応液を冷却しながら２時間撹拌し、生じた結晶をろ過して集めた。目的とする化合物３Ａを５．４質量部得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ／ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝０．８７（ｔ，６Ｈ）、１．２８〜１．３７（ｍ，１２Ｈ）、１．５０〜１．６２（ｍ，４Ｈ）、２．５４（ｔ，４Ｈ）、７．０４（ｓ，８Ｈ）、７．４５（ｄ，２Ｈ）、７．４９（ｓ，２Ｈ）、７．５５（ｄ，２Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ／ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝１４．４、２２．９、２９．４、３１．６、３２．０、３５．８、６５．４、１２１．８、１２２．１、１２８．１、１２８．７、１２９．７、１３１．１、１３８．３、１４１．９、１４２．１、１５３．７．
【化３７】
0005913959.tif 000038
【０２５３】
＜合成例２：化合物４Ａの合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ａ（６．１質量部）及び無水テトラヒドロフランからなる溶液に、−７８〜−７０℃にて２．５Ｍのｎ−ブチルリチウム／ヘキサン溶液（化合物３Ａに対して２．５モル当量）を滴下し、さらに６時間撹拌した。次いで、−７０℃以下にて化合物５Ａ（イソプロピルピナコールボレート）（５．２質量部）を滴下し、室温にて一晩撹拌した。反応混合物に、塩酸・ジエチルエーテル溶液を−３０℃にて滴下した。滴下後に反応液の温度を室温まで戻し、減圧濃縮し、トルエンを加え撹拌した。反応液を、シリカゲルを敷き詰めたろ過器を通じてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し固体を得た。得られた固体をアセトニトリルとトルエンを用いて再結晶を行い、目的とする化合物４Ａを４．５質量部得た。
【化３８】
0005913959.tif 000039
【０２５４】
＜合成例３：化合物２Ｂの合成＞
アルゴン気流下、反応容器に１−ブロモ−３，５−ジ−ｎ−ヘキシルベンゼン（２０．０質量部）とテトラヒドロフランを加え、均一溶液を調製し、該溶液を−６９℃まで冷却した。該溶液に２．７６Ｍのｎ−ブチルリチウム／ヘキサン溶液（１−ブロモ−３，５−ジ−ｎ−ヘキシルベンゼンに対して１モル当量）を−６８℃で１．５時間かけて滴下し、さらに該溶液を−７０℃で１．５時間撹拌した。次いで、化合物１Ｂ−１（９．０質量部）とテトラヒドロフランからなる溶液を−７０℃で１時間かけて滴下し、−７０℃で２時間撹拌した。次いで、該溶液に−７０℃にてメタノール及び蒸留水を加え撹拌した後、室温まで昇温し、室温にて一晩撹拌した。次いで、反応混合物をろ過し、ろ液を濃縮し、ヘプタン及び水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮し、化合物１Ｂを２３．４質量部得た。
【化３９】
0005913959.tif 000040
【０２５５】
アルゴン気流下、反応容器に化合物１Ｂ（４８．０質量部）及びジクロロメタンを加え、均一溶液を調製し、−３０℃に冷却した。該溶液に三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（化合物１Ｂに対して１モル当量）を３０分間かけて滴下し、室温にて一晩撹拌した。次いで、反応混合物を−２０℃に冷却し、蒸留水を加え、１時間撹拌した後、静置して分液した水層を有機層から除去した。次いで、水を加え撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。得られた有機層に１０質量％炭酸水素ナトリウム水溶液を加え撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。該有機層を濃縮し溶媒を除去した。次いで、トルエン及びヘプタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、酢酸ブチルとメタノールを用い再結晶することにより、目的とする化合物２Ｂを２３．２質量部得た。
【化４０】
0005913959.tif 000041
【０２５６】
＜合成例４：化合物３Ｂの合成＞
アルゴン気流下、２Ｌの４口フラスコに化合物２Ｂ（９．５質量部）、化合物３Ｂ−１（６．６質量部）、１，４−ジオキサン、酢酸カリウム（７．０５質量部）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ｄｐｐｆ、０．１質量部）及び１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチレン錯体（ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２、０．１５質量部）を加え、１００〜１０２℃で５時間撹拌した。次いで、得られた反応混合物を室温まで冷却した後、セライト及びシリカゲルを敷き詰めたろ過器でろ過し、得られたろ液を濃縮して溶媒を除去した。次いで、ヘキサンを加えて調製した溶液に、活性炭を加え、ヘキサンが還流する温度にて１時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却後、セライトを敷き詰めたろ過器でろ過し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、トルエン及びアセトニトリルで再結晶を行うことにより、目的とする化合物３Ｂを１０．１質量部得た。
【化４１】
0005913959.tif 000042
【０２５７】
＜合成例５：化合物２Ｃの合成＞
不活性雰囲気下、３口フラスコに、３−ｎ−ヘキシル−５−メチルブロモベンゼン（２６．２質量部）及び無水テトラヒドロフランを加え均一溶液とし、−７０℃に冷却した。得られた溶液に、２．５Ｍのｎ−ブチルリチウム／ヘキサン溶液（３−ｎ−ヘキシル−５−メチルブロモベンゼンに対して０．９３モル当量）を、溶液の温度が−７０℃に保たれるように滴下し、同温度にて４時間撹拌し、溶液（以下、「溶液Ａ」と言う。）を調製した。
別途、２口フラスコに、２−メトキシカルボニル−４，４’−ジブロモビフェニル（１６．０質量部）及び無水テトラヒドロフランを加え、溶液（以下、「溶液Ｂ」と言う。）を調製した。
溶液Ａに溶液Ｂを、溶液Ａの温度が−７０℃に保たれるように滴下し、撹拌した。次いで、反応液を室温にて１５時間撹拌した。次いで、反応液に水を０℃にて加え、撹拌した。次いで、得られた混合液を減圧下で濃縮することにより溶媒を留去し、残留物にヘキサン及び水を加え、撹拌し、静置して生成した水層を除去し有機層を得た。この有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧下で濃縮することにより、下記式で表される化合物１Ｃを白色固体として得た。
【化４２】
0005913959.tif 000043
【０２５８】
不活性雰囲気下、３口フラスコに、化合物１Ｃ（３０．０質量部）及び無水ジクロロメタンを加え、５℃に冷却した。得られた混合物に、温度が０〜５℃の範囲内に保たれるように、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（化合物１Ｃに対して４．２モル当量）を滴下した後、室温にて終夜撹拌した。反応液を、氷水に注意深く注ぎ、３０分撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。この有機層に１０質量％リン酸カリウム水溶液を加え、２時間撹拌した後、静置して生成した水層を有機層から除去した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、濃縮することにより溶媒を留去し、オイル状の液体を得た。このオイル状の液体にメタノールを加え、固体を得た。この固体をｎ−ブチルアセテート及びメタノールから再結晶を行うことにより、下記式で表される化合物２Ｃを２４．０質量部得た。
【化４３】
0005913959.tif 000044
【０２５９】
＜合成例６：化合物３Ｃの合成＞
三口フラスコに、合成例５で合成した化合物２Ｃ（８．０質量部）、ビス（ピナコレート）ジボロン（６．６質量部）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチレン錯体（Ｐｄ（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２、０．１５質量部）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（０．０９９質量部）、無水１，４−ジオキサン及び酢酸カリウム（７．０質量部）を加え、１００℃で２０時間撹拌した。反応液を室温に冷却した後、シリカゲルに通液させ、シリカゲルをトルエンで洗浄し、得られた溶液を濃縮することにより溶媒を留去し、褐色の液体を得た。この液体を、ヘキサンを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。溶出液を濃縮することにより得られた液体にアセトニトリルを加え、固体を得た。この固体をアセトニトリル及びトルエンを用いて再結晶を１回行い、ジクロロメタン及びメタノールを用いて再結晶を１回行い、減圧下で乾燥させることにより、下記式で表される化合物３Ｃを２．９質量部得た。
【化４４】
0005913959.tif 000045
【０２６０】
＜合成例７：化合物２Ｄの合成＞
３口フラスコ内の気体を窒素で置換し、３口フラスコ内で、１−ブロモ−３−ｎ−ヘキシルベンゼン２２．６質量部を、無水テトラヒドロフランに溶解させた。得られた溶液を−７５℃以下に冷却し、２．５Ｍ  ｎ−ブチルリチウム／ヘキサン溶液（１−ブロモ−３−ｎ−ヘキシルベンゼンに対して０．９６モル当量）を滴下し、−７５℃以下に保ちながら５時間撹拌した。そこに、２−メトキシカルボニル−４，４’−ジブロモビフェニル１５．０質量部を無水テトラヒドロフランに溶解させた溶液を−７０℃以下に保ちながら滴下した。得られた溶液を室温までゆっくりと昇温後、終夜撹拌した。反応液を０℃で撹拌しながら、水を滴下した。反応液から溶媒を留去した後、残渣に水を加え、ヘキサンで３回抽出した。得られた有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、水層をヘキサンで再抽出した。得られた有機層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥させた有機層から溶媒を留去したところ、２６．４質量部の化合物１Ｄの粗生成物を得た。
【化４５】
0005913959.tif 000046
【０２６１】
３口フラスコ内で、上記で合成した化合物１Ｄ  ２６．４質量部を、ジクロロメタンに溶解させ、該フラスコ内の気体を窒素で置換した。得られた溶液を０℃以下に冷却し、５℃以下に保ちながら三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（化合物１Ｄに対して５モル当量）を滴下した。室温までゆっくり昇温後、終夜撹拌した。反応液を氷水中に撹拌しながら注ぎ、３０分撹拌した。反応液を分液し、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせ、１０質量％リン酸カリウム水溶液を加えて分液し、有機層を水２回で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥させた有機層から溶媒を留去して得られたオイルをトルエンに溶解させ、シリカゲルを敷いたグラスフィルターに通し、ろ過した。ろ液から溶媒を留去した後、メタノールを加えて激しく撹拌した。得られた結晶をろ過し、メタノールで洗浄した。洗浄した結晶をヘキサンと酢酸ブチルとの混合溶媒で再結晶して、化合物２Ｄを１２．１質量部得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝０．８６（６Ｈ，ｔ）、１．２６（１２Ｈ，ｍ）、１．５２（４Ｈ，ｍ）、２．５１（４Ｈ，ｔ）、６．８７（２Ｈ，ｄ）、７．００（２Ｈ，ｓ）、７．０４（２Ｈ，ｄ）、７．１２（２Ｈ，ｔ）、７．４６（２Ｈ，ｄｄ）、７．４８（２Ｈ，ｄ）、７．５５（２Ｈ，ｄ）．
【化４６】
0005913959.tif 000047
【０２６２】
＜合成例８：化合物３Ｄの合成＞
３口フラスコに化合物２Ｄ  ５．０質量部を加え、該フラスコ内の気体を窒素で置換した。そこに、無水テトラヒドロフランを加え、−７０℃以下に冷却した。得られた溶液を−７０℃以下に保ちながら２．５Ｍ  ｎ−ブチルリチウム／ヘキサン溶液（化合物２Ｄに対して２．２モル当量）を滴下した。滴下後、反応液の温度を保ちながら４時間撹拌した。そこに、２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（化合物２Ｄに対して２．８モル当量）を加えた後、室温までゆっくり昇温し終夜撹拌した。反応液を−３０℃に冷却し、２Ｍ塩酸／ジエチルエーテル溶液を滴下した後、室温まで昇温した。そこから溶媒を留去した後、トルエンを加えて溶解させ、シリカゲルを敷いたグラスフィルターに通してろ過し、得られた溶液の溶媒を留去して、５．０質量部の粗生成物を得た。この粗生成物を、窒素雰囲気下でトルエンとアセトニトリルとの混合溶媒を用いて再結晶し、化合物３Ｄを３．４質量部得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝０．８６（６Ｈ，ｔ）、１．２６−１．２９（１２Ｈ，ｍ）、１．３１（２４Ｈ，ｓ）、１．５２−１．５３（４Ｈ，ｍ）、２．５０（４Ｈ，ｔ）、６．９２（２Ｈ，ｄ）、７．００（２Ｈ，ｄ）、７．０８（２Ｈ，ｔ）、７．１３（２Ｈ，ｓ）、７．７７（２Ｈ，ｄ）、７．８１−７．８２（４Ｈ，ｍ）．
【化４７】
0005913959.tif 000048
【０２６３】
＜合成例９：化合物１Ｅの合成＞
ピレン（８．８質量部）にクロロホルムを加えて調製した溶液に、臭素（１３．４質量部）とクロロホルムからなる溶液を２０〜２５℃にて７時間かけて滴下し、さらに２０〜２５℃にて３時間撹拌した。次いで、反応液を２０〜２５℃にて３時間静置した後、析出した固体をろ過し、クロロホルムで洗浄し、減圧乾燥を行い、固体Ａ９．７質量部を得た。次いで、得られた固体Ａ（４．０質量部）にトルエンを加え３０〜３５℃にて１時間撹拌し、５℃にて１８時間静置した。析出した固体をろ過し、メタノールで洗浄し、減圧乾燥することにより、目的とする化合物１Ｅ（２．６６質量部）を得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＰＩ−ＭＳ（ｐｏｓｉ））：３５８    ［Ｍ］＋
【化４８】
0005913959.tif 000049
【０２６４】
＜合成例１０：化合物４Ｆの合成＞
３口フラスコに、３，５−ジブロモフェノール９．６質量部、３，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルボロン酸３０．９質量部（特開２００５−８２７３０号公報に記載の方法に従って合成した。）及びテトラエチルアンモニウムヒドロキシド９５．０質量部（２０質量％水溶液）を加えた後、フラスコ内の気体を窒素で置換した。そこに、トルエン及びジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．１５質量部を加え、１００℃で８時間加熱した。その後、得られた混合液を放冷すると、結晶が析出した。この結晶を、クロロホルムを加えて溶解させ、得られた溶液に１Ｎ塩酸を加えて酸性にし、分液した。得られた水層をクロロホルムで抽出し、抽出後のクロロホルムを有機層と合わせ、水、飽和食塩水の順番で洗浄した。洗浄後の有機層を、シリカゲルを敷いたグラスフィルターに通してろ過し、溶媒を留去したところ、４１．８質量部の粗生成物を得た。これに、ヘキサンを加え、還流温度まで昇温後、室温までゆっくり放冷し、ろ過し、析出物をヘキサン洗浄を行ったところ、下記式で表される化合物１Ｆを２８．０質量部得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＰＩ−ＭＳ，ｐｏｓｉ）７７５（［Ｍ＋Ｈ］＋、ｅｘａｃｔ  ｍａｓｓ＝７７４）
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝１．３５（３６Ｈ，ｓ），５．１９（１Ｈ，ｓ），７．１５（ｓ，２Ｈ），７．４７（ｄ，８Ｈ），７．５９（ｓ，１Ｈ），７．６０（ｄ，８Ｈ），７．７８（ｓ，６Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝３１．８，３４．９，１１３．９，１１９．６，１２５．２，１２５．７，１２６．２，１２７．４，１３８．６，１４２．１，１４２．６，１４４．０，１５０．９，１５６．６．
【化４９】
0005913959.tif 000050
【０２６５】
４口フラスコ内の気体を窒素で置換し、４口フラスコ内で化合物１Ｆ  ２８．０質量部及びＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン１３．０質量部を脱水ジクロロメタンに溶解させ、０℃に冷却した。そこに、無水トリフルオロメタンスルホン酸２５．０質量部を３０分かけて滴下した。そして、２０分撹拌後、冷浴を外し、１．５時間撹拌を継続した。得られた混合液を、シリカゲルを敷いたグラスフィルターに通し、ろ過し、トルエンで洗浄した。得られた混合液から溶媒を留去したところ、下記式で表される化合物２Ｆを２８．９質量部得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＥＳＩ−ＭＳ，  ｐｏｓｉｔｉｖｅ）９４５（［Ｍ＋Ｋ］＋、ｅｘａｃｔ  ｍａｓｓ＝９０６）
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝１．３８（３６Ｈ，ｓ），７．５２（８Ｈ，ｄ），７．５７（２Ｈ，ｓ），７．６４（８Ｈ，ｄ），７．７７（４Ｈ，ｓ），７．８５（２Ｈ，ｓ），７．９７（１Ｈ，ｓ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝３１．７，３４．９，１１９．３．
【化５０】
0005913959.tif 000051
【０２６６】
４口フラスコ内の気体を窒素で置換し、フェノキサジン６．１質量部を入れ、脱水トルエンに溶解させた。そこに、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム０．７１質量部、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン０．８６質量部及び炭酸セシウム１５．２質量部を加え、１１０℃に加熱した。そこに、化合物２Ｆ  ２８．９質量部を窒素バブリングした脱水トルエンに溶解させた溶液を１時間かけて滴下した。そして、２０時間撹拌後、得られた混合物をシリカゲルを敷いたグラスフィルターで熱時ろ過し、トルエンで洗浄した。得られた混合液から溶媒を留去したところ、３３．０質量部の粗生成物を得た。この粗生成物をトルエンに溶解させ、得られた溶液をメタノール１Ｌ中に滴下し、再沈殿させた。得られた溶液を、ろ過し、メタノール洗浄したところ、５０．０質量部の粗生成物を得た。そこに、トルエンを加え、加熱して溶解させ、エタノールを滴下し、再結晶した。さらに、得られた生成物を、ろ過し、エタノールで洗浄したところ、２４．８質量部の生成物を得た。この生成物を、トルエンとエタノールとの混合溶媒を用いて再結晶したところ、下記式で表される化合物３Ｆを１６．６質量部得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）９４０（［Ｍ＋Ｈ］＋、ｅｘａｃｔ  ｍａｓｓ＝９３９）
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝１．３７（３６Ｈ，ｓ），６．１３−６．１６（２Ｈ，ｍ），６．６２−６．７１（６Ｈ，ｍ），７．５０（８Ｈ，ｄ），７．６４（８Ｈ，ｄ），７．７２（２Ｈ，ｓ），７．８３（６Ｈ，ｓ），８．１１（１Ｈ，ｓ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝３１．７，３４．９，１１３．７，１１５．８，１２１．７，１２３．７，１２５．０，１２６．０，１２６．１，１２６．３，１２７．４，１２８．８，１３４．６，１３８．４，１４０．４，１４１．１，１４２．８，１４４．３，１４５．３，１５１．０．
【化５１】
0005913959.tif 000052
【０２６７】
４口フラスコ内の気体を窒素で置換し、化合物３Ｆ  １６．６質量部を加え、クロロホルムに溶解させた。得られた溶液を０℃に冷却し、そこに、６．３質量部のＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）をＤＭＦに溶解させた溶液を５０分かけて滴下した。そして、１０分撹拌後、冷浴を外し、３時間撹拌を継続した。得られた混合液を、再度０℃に冷却し、そこに、０．１質量部のＮＢＳをＤＭＦに溶解させた溶液を滴下した。そして、室温で１．５時間撹拌した後、そこに、水を滴下し分液した。得られた水層をトルエンで２回抽出し、抽出したトルエンを有機層と合わせ、トルエンを加えた。得られた混合液を、水及び飽和食塩水で洗浄した。洗浄後の混合液を、シリカゲルを敷いたグラスフィルターに通してろ過し、トルエンで洗浄した。得られた混合液から溶媒を留去したところ、下記式で表される化合物４Ｆを２５．１質量部得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）１０９６（［Ｍ＋Ｈ］＋、ｅｘａｃｔ  ｍａｓｓ＝１０９５）
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝１．３７（３６Ｈ，ｓ），５．９９（２Ｈ，ｄ），６．７５（２Ｈ，ｄ），６．８５（２Ｈ，ｂｒｓ），７．５０（８Ｈ，ｄ），７．６１−７．６５（１０Ｈ，ｍ），７．８２（６Ｈ，ｄ），８．１１（１Ｈ，ｓ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝３１．７，３４．９，１１３．３，１１４．９，１１９．０，１２５．０，１２６．２，１２６．７，１２７．３，１２８．２，１２９．３，１３３．５，１３８．３，１３９．６，１４０．７，１４２．９，１４４．５，１４５．６，１５１．１．
【化５２】
0005913959.tif 000053
【０２６８】
＜合成例１１：化合物３Ｇの合成＞
不活性雰囲気下で、３口フラスコに酢酸２２５質量部を入れ、５−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−キシレン２４．３質量部を加えた。続いて臭素３１．２質量部を加えた後、１５〜２０℃で３時間反応させた。反応液を水に加え析出した沈殿をろ過した。この沈澱を水で２回洗浄し、白色の固体である化合物１Ｇを３４．２質量部得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ／ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝１．３（ｓ，９Ｈ）、２．４（ｓ，６Ｈ）、７．１（ｓ，２）
ＭＳ（ＦＤ＋）Ｍ＋    ２４１
【化５３】
0005913959.tif 000054
【０２６９】
不活性雰囲気下で、３口フラスコに脱気した脱水トルエンを入れ、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン０．６３質量部を加えた。次いで、そこに、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム０．４１質量部、上記の化合物１Ｇ  ９．６質量部、ｔｅｒｔ−ブトキシナトリウム５．２質量部及びＮ，Ｎ’−ジフェニル−１，４−フェニレンジアミン４．７質量部を加えた後、１００℃で３時間反応させた。反応液を飽和食塩水に加え、約５０℃に温めたクロロホルムで抽出した。得られた有機層から溶媒を留去したところ、固体が生じたので、トルエンを加えて、固体が溶解するまで加熱した。次いで、得られた溶液を、放冷した後、沈殿をろ過し、白色の固体である化合物２Ｇを９．９質量部得た。
【化５４】
0005913959.tif 000055
【０２７０】
不活性雰囲気下で、３口フラスコに脱水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを入れ、上記の化合物２Ｇ  ５．２質量部を溶解した後、氷浴下でＮ−ブロモスクシンイミド３．５質量部／Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液を滴下し、一昼夜反応させた。反応液に水を加え、析出した沈殿をろ過し、メタノールで２回洗浄し白色の固体である化合物３Ｇを４．４質量部得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ／テトラヒドロフラン−ｄ８）：δ（ｐｐｍ）＝１．３（ｓ，１８Ｈ）、２．０（ｓ，１２Ｈ）、６．６〜６．７（ｄ，４Ｈ）、６．８〜６．９（ｂｒ，４Ｈ）、７．１（ｓ，４Ｈ）、７．２〜７．３（ｄ，４Ｈ）．
ＭＳ（ＦＤ＋）Ｍ＋    ７３８
【化５５】
0005913959.tif 000056
【０２７１】
＜合成例１２：化合物４Ｉの合成＞
アルゴン雰囲気下、反応容器に、１−ブロモ−３，５−ジ−ｎ−ヘキシルベンゼン（５８．４ｇ）およびテトラヒドロフランを加え、均一溶液を調製し、−７５℃まで冷却した。該溶液に２．５Ｍのｎ−ブチルリチウム／ヘキサン溶液（１−ブロモ−３，５−ジ−ｎ−ヘキシルベンゼンに対して１モル当量）（７１．２ｍＬ）を−７５℃で１．５時間かけて滴下し、さらに該溶液を−７０℃で１．５時間撹拌した。次いで、そこに、２，７−ジブロモフルオレノン（５５．２ｇ）とテトラヒドロフランからなる溶液を−７５℃で１時間かけて滴下し、反応液を室温まで昇温させ４時間撹拌した。次いで、該溶液を０℃まで冷却させ、アセトン、２ｍｏｌ％塩酸水溶液をゆっくり加え撹拌した後、室温まで昇温し、室温にて静置した。次いで、反応混合物をろ過し、ろ液を濃縮し、ヘキサン及び水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮し、化合物１Ｉ（３０．２ｇ）を得た。
【化５６】
0005913959.tif 000057
【０２７２】
反応容器をアルゴン気流下とし、化合物１Ｉ（２７．７ｇ）及びトリフルオロ酢酸（３６ｍＬ）を加えた。該溶液にトリメチルシラン（８．４ｍＬ）とヘキサン（２５ｍＬ）の混合溶液を３０分間かけて滴下し、室温にて一晩撹拌した。次いで、該反応液を１０℃に冷却し、ヘキサンと蒸留水を加え、１時間撹拌した後、静置して分液した水層を有機層から除去した。次いで、水を加え撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮した。次いで、ヘキサン及びジクロロメタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、メタノールで洗浄することにより、目的とする化合物２Ｉ（１２．１ｇ）を得た。
【化５７】
0005913959.tif 000058
【０２７３】
アルゴン気流下で、反応容器に、化合物２Ｉ（１２．０ｇ）、ジメチルスルホキシド（６０ｍＬ）、水（２ｍＬ）及び水酸化カリウム（４．８５ｇ）を加えた。該溶液にヨウ化メチル（４．１ｍＬ）を滴下し、室温にて一晩撹拌した。次いで、該反応液を室温にて、ヘキサンと蒸留水を加え、１時間撹拌した後、静置して分液した水層を有機層から除去した。次いで、そこに水を加え撹拌し、反応液を静置して分液した水層を有機層から除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮した。次いで、メタノールと酢酸ブチルを用いて再結晶することにより、目的とする化合物３Ｉ（４．３ｇ）を得た。
【化５８】
0005913959.tif 000059
【０２７４】
アルゴン雰囲気下、反応容器に、化合物３Ｉ（４．２ｇ）、ビス（ピナコラート）ジボロン（４，４，４’，４’，５，５，５’，５’−オクタメチル−２，２’−ビ−１，３，２−ジオキサボロラン）（４．０ｇ）、１，４−ジオキサン（４５ｍＬ）、酢酸カリウム（４．２ｇ）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ｄｐｐｆ、５９ｍｇ）及び１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンジクロロパラジウム（ＩＩ）塩化メチレン錯体（ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２、８８ｍｇ）を加え、１００℃で２０時間撹拌した。次いで、得られた反応混合物を室温まで冷却した後、セライト及びシリカゲルを敷き詰めたろ過器でろ過し、得られたろ液を濃縮して溶媒を除去した。次いで、ヘキサンを加えて調製した溶液に、活性炭を加え、ヘキサンが還流する温度にて１時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却後、セライトを敷き詰めたろ過器でろ過し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、トルエン及びメタノールで再結晶を行うことにより、目的とする化合物４Ｉ（３．９ｇ）を得た。
【化５９】
0005913959.tif 000060
【０２７５】
＜合成例１３：化合物１Ｔの合成＞
１００ｍＬの３口フラスコの内部の気体を窒素で置換し、２−エチルヘキシルマグネシウムブロミド（１．０Ｍジエチルエーテル溶液、２５ｍＬ、２５ｍｍｏｌ）を入れ、還流した。この溶液に２−ブロモアントラセン（５．３４ｇ、２０．８ｍｍｏｌ）とＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２（３３ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）とを５０ｍＬの脱水シクロペンチルメチルエーテルに懸濁させた懸濁液を３５分間で滴下した。１時間還流後、氷浴につけて反応液を冷却し、２Ｍ塩酸（５ｍＬ）を滴下した。そこに、トルエン５０ｍＬを加え、５０ｍＬ、３０ｍＬの水で順番に分液することにより洗浄した。水層を合わせ、トルエンで再抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水３０ｍＬで洗浄した。シリカゲル２０ｇを敷いたグラスフィルターを通して濾過し、トルエンで洗浄した。濾液の溶媒を留去したところ、７．４５ｇの粗生成物を得た。
【０２７６】
５．４０ｇの粗生成物をイソプロピルアルコール（５４ｍＬ）で再結晶を行った。ここで、加熱して粗生成物の溶解を確認した後、放冷したところ、内温６５℃で結晶化が見られ、この温度で２時間保温した。その後、得られた溶液をゆっくり冷却し、室温まで放冷した後、ろ過し、析出物をイソプロピルアルコールで洗浄した。イソプロピルアルコールによる再結晶を更に２回繰り返し、３．８１ｇの２−（２−エチルヘキシル）アントラセン（収率６７．２％）を白色固体として得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＰＩ  ｐｏｓｉｔｉｖｅ）２９１（［Ｍ＋Ｈ］＋、ｅｘａｃｔ  ｍａｓｓ＝２９０）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝０．８７〜０．９４（６Ｈ、ｍ）、１．２７〜１．４８（８Ｈ、ｍ）、１．６８〜１．７５（１Ｈ、ｍ）、２．７１（２Ｈ、ｄ）、７．２９（１Ｈ、ｄ）、７．４０〜７．４６（２Ｈ、ｍ）、７．７１（ｓ、１Ｈ）、７．９１（１Ｈ、ｄ）、７．９５〜７．９８（２Ｈ、ｍ）、８．３２（１Ｈ、ｓ）、８．３６（１Ｈ、ｓ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、７５ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝１１．１、１４．４、２３．４、２５．９、２９．２、３２．８、４０．９、４１．０、１２５．２、１２５．５、１２５．６、１２６．２、１２７．２、１２８．２、１２８．３、１２８．４、１２８．５、１３１．０、１３１．８、１３２．２、１３９．２．
【化６０】
0005913959.tif 000061
【０２７７】
３００ｍＬの４口フラスコの内部の気体を窒素で置換し、２−（２−エチルヘキシル）アントラセン（３．５０ｇ、１２．１ｍｍｏｌ）を取り、１０５ｍＬの脱水ジクロロメタンに溶解させた。氷浴につけて、得られた溶液を冷却し、２０分で臭素（４．１７ｇ、２６．１ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。次いで、４５分攪拌した後、１質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液を５分で滴下し、反応を停止させた。分液し、有機層をクロロホルム１００ｍＬで抽出した。有機層を合わせ、水洗した。シリカゲル２０ｇを敷いたグラスフィルターを通してろ過し、ヘキサンで洗浄した。濾洗液を濃縮し、５．４７ｇの粗生成物を黄色粘性オイルとして得た。
この黄色粘性オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカ１２０ｇ、展開溶媒ヘキサンのみ）にて精製し、４．２６ｇの黄色粘性オイルとして得た。次いでメタノール１Ｌを加え加熱して溶解し、一晩静置して結晶を得た。得られたスラリー溶液を約１５０ｍＬまで濃縮した後、ろ過し、３．９１ｇの淡黄色固体を得た。
【０２７８】
得られた固体をヘキサン（５０ｍＬ）に溶解させ、活性炭１．００ｇを加え、１時間攪拌した。セライト１３ｇを敷いたグラスフィルターを通してろ過、ヘキサンで洗浄し、濾洗液を濃縮した。これにイソプロピルアルコール（１００ｍＬ）を加えて加熱した後、３５℃まで放冷し、種晶を加えた。攪拌後、ろ過し、イソプロピルアルコールで洗浄し、２．７６ｇ（収率５１％）の９，１０ジブロモ−２−（２−エチルヘキシル）アントラセン（化合物１Ｔ）を淡黄色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝０．８６〜０．９７（６Ｈ、ｍ）、１．２０〜１．４０（８Ｈ、ｍ）、１．７２〜１．７７（１Ｈ、ｍ）、２．７８（２Ｈ、ｄ）、７．４３（１Ｈ、ｄ）、７．５５〜７．５９（２Ｈ、ｍ）、８．２８（１Ｈ、ｓ）、８．４６（１Ｈ、ｄ）、８．５１〜８．５４（２Ｈ、ｍ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、７５ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝１１．２、１４．５、２３．３、２５．９、２９．１、３２．７、４０．７、４０．９、１２２．８、１２３．６、１２７．２、１２７．３、１２７．６、１２８．３、１２８．４、１２８．５、１３０．３、１３０．８、１３１．４、１４１．７．
【化６１】
0005913959.tif 000062
【０２７９】
＜合成例１４：化合物３Ｐの合成＞
窒素雰囲気下、１，５−ナフチルビス（トリフルオロメタンスルホネート）（化合物１Ｐ、２５．０ｇ）と、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）ジクロロメチレン付加体（０．２４ｇ）と、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（４１０ｍＬ）を仕込み、１０℃以下で、２−エチルヘキシルマグネシウムブロマイド（１ｍｏｌ／Ｌ  ジエチルエーテル溶液１７３ｍＬ）を滴下し、室温にて４時間攪拌した。反応終了後、水と２Ｎ塩酸の混合液に反応液を注加し、水層を酢酸エチルにより抽出した。次いで、得られた有機層を塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。洗浄した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ヘキサン）により精製を行い、化合物２Ｐを淡黄色油状物として２１．３ｇ得た。
ＭＳ（ＥＳＩ、ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋］３５３
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝０．７５−１．００（１２Ｈ，ｍ），１．１０−１．５０（１６Ｈ，ｍ），１．６９−１．８５（２Ｈ，ｍ），２．９０−３．０５（４Ｈ，ｍ），７．２４−７．３８（３Ｈ，ｍ），７．３５−７．４４（３Ｈ，ｍ），７．９０−７．９５（３Ｈ，ｍ）．
【化６２】
0005913959.tif 000063
【０２８０】
窒素雰囲気下、化合物２Ｐ（２１．３ｇ）、ビス（ピナコラート）ジボロン（４，４，４’，４’，５，５，５’，５’−オクタメチル−２，２’−ビ−１，３，２−ジオキサボロラン）（４６．０ｇ）、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ジ−μ−メトキシジイリジウム（Ｉ）（０．２４ｇ）（アルドリッチ社製）、４，４’−ジｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ジピリジル（０．１９ｇ）及びジオキサン（１４０ｍＬ）の混合物を、１００℃で３時間攪拌した。得られた混合物を冷却後、ジオキサンを減圧下で留去し、残留物にメタノールを加え、析出した固体をろ取し、乾燥させた。この固体をトルエンに溶解させ、活性白土を加え、６０℃で３０分撹拌した。その後、混合物を、シリカゲルをプレコートしたろ過機にて熱時ろ過し、ろ液を減圧下で濃縮した。得られた濃縮残渣にメタノールを加え、析出した固体をろ取し、乾燥させて、化合物３Ｐを白色粉末固体として２８．０ｇ得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＥＳＩ、ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋］６０５
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝０．８５−０．９５（１２Ｈ，ｍ），１．２４−１．５０（１６Ｈ，ｍ），１．６６−１．８５（２Ｈ，ｍ），２．９０−３．１８（４Ｈ，ｍ），７．６０（２Ｈ，ｓ），８．４７（２Ｈ，ｓ）．
【化６３】
0005913959.tif 000064
【０２８１】
＜合成例１５：化合物６Ｍの合成＞
５Ｌの三つ口フラスコに、マグネシウム（６０．５ｇ、２．４８５ｍｏｌ）、脱水ジエチルエーテル（１５００ｍＬ）、１，２−ジブロモエタン（１ｍＬ、０．０１１５ｍｏｌ）を加え、そこに、２−エチルヘキシルブロミドをゆっくり加え、４０℃にて２時間攪拌し、室温に戻し溶液Ａを調製した。次いで、５Ｌの三つ口フラスコに、３，４−ジブロモチオフェン（１００ｇ、０．４２３３ｍｏｌ）、ビス（ジフェニルフォスフィノプロパン）ニッケル（ＩＩ）及び脱水ジエチルエーテル（１５００ｍＬ）を加えて溶液を調製し、そこに、溶液Ａを室温にて加え、室温で４時間攪拌し、さらに４０℃にて１４時間攪拌した。得られた反応液を、１．５Ｎ塩酸水溶液と氷の混合物に加え攪拌し、得られた有機層を水層と分離した。該有機層を水（１０００ｍＬ）、飽和食塩水（１０００ｍＬ）で洗浄し、濃縮し、乾燥させることにより固化した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的とする化合物１Ｍを得た（１２４ｇ、収率９７％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝０．９６〜１．０３（１２Ｈ、ｍ）、１．１９〜１．３８（１６Ｈ、ｍ）、１．５５〜１．６０（２Ｈ、ｍ）、２．４４（４Ｈ、ｄ）、６．８６（２Ｈ、ｓ）．
【化６４】
0005913959.tif 000065
【０２８２】
５Ｌの三つ口フラスコに、化合物１Ｍ（１２４ｇ、０．４０１８ｍｏｌ）及びジクロロメタン（２．５Ｌ）を加え、そこに攪拌しながらメタクロロ過安息香酸（ｍ−ＣＰＢＡ）をゆっくり加え、室温にて１４時間攪拌した。次いで、ジクロロメタン（１Ｌ）を加え、ＮａＨＳＯ３水溶液（５００ｍＬ）にて２回、ＮａＨＣＯ３水溶液（５００ｍＬ）にて２回、飽和食塩水（５００ｍＬ）にて２回洗浄し、有機層を濃縮し、乾燥させることにより固化して粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、目的とする化合物２Ｍを得た（８０ｇ、収率５９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝０．８６〜０．９２（１２Ｈ、ｍ）、１．２７〜１．３９（１６Ｈ、ｍ）、１．４０〜１．６０（２Ｈ、ｍ）、２．２２（４Ｈ、ｄ）、６．２０（２Ｈ、ｓ）．
【化６５】
0005913959.tif 000066
【０２８３】
２Ｌの三つ口フラスコに、化合物２Ｍ（８０ｇ、０．２３４９ｍｏｌ）、１，４−ナフタレンジオン（６３．１５ｇ、０．３９９３ｍｏｌ）及びジメチルスルホキシド（１６００ｍＬ）を加え、１１０℃にて６０時間攪拌した。次いで、得られた反応液を、室温にて水（１Ｌ）にゆっくり加え攪拌し、ジクロロメタン（２Ｌ）を加え攪拌し、得られた有機層を水層と分離した。該有機層を、水（５００ｍＬ）で２回、飽和食塩水（１０００ｍＬ）で１回洗浄し、濃縮し、乾燥させることにより固化して粗生成物を得た。次いで、該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的とする化合物３Ｍを得た（５１ｇ、収率４９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝０．９２〜０．９９（１２Ｈ、ｍ）、１．２６〜１．３９（１６Ｈ、ｍ）、１．６６〜１．６８（２Ｈ、ｍ）、２．７１（４Ｈ、ｄ）、７．７８（２Ｈ、ｄｄ）、８．０５（２Ｈ、ｓ）、８．３１（２Ｈ、ｄｄ）.
【化６６】
0005913959.tif 000067
【０２８４】
１，４−ジブロモベンゼン（３１．２０ｇ、１３２ｍｍｏｌ）及び脱水ジエチルエーテル（２７９ｍＬ）からなる溶液に、１．６７Ｍのｎ−ブチルリチウム／ｎ−ヘキサン溶液（７９．２ｍＬ、１３２ｍｍｏｌ）を−７８℃にて滴下し、同温度にて１時間攪拌し、溶液Ｂを調製した。次いで、化合物３Ｍ（１４．３１ｇ、３３ｍｍｏｌ）及び脱水ジエチルエーテル（２８ｍＬ）からなる溶液に、溶液Ｂを−７８℃にて滴下し、同温度にて１時間攪拌した。次いで、室温にて３時間攪拌し、０℃にて水（１４０ｍＬ）を加え攪拌した。次いで、酢酸エチルを加え攪拌して得られた有機層を水層と分離した。得られた有機層を濃縮し、乾燥させることにより固化し、目的とする化合物４Ｍを得た（３２．８ｇ）。
【化６７】
0005913959.tif 000068
【０２８５】
化合物４Ｍ（２４．６９ｇ）、酢酸（１６５ｍＬ）、ヨウ化カリウム（１４．２７ｇ）及びＮａＨＰＯ２・Ｈ２Ｏ（３１．５４ｇ）を１２５℃にて３時間攪拌した。得られた反応液を氷水に加え攪拌し、さらにトルエンを加え攪拌し、得られた有機層を水層と分離した。該有機層を濃縮し、乾燥させることにより固化し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物５Ｍを得た（２１．８３ｇ）。
【化６８】
0005913959.tif 000069
【０２８６】
不活性ガス雰囲気下、化合物５Ｍ（１．７０ｇ、２．３９ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラート）ジボロン（４，４，４’，４’，５，５，５’，５’−オクタメチル−２，２’−ビ−１，３，２−ジオキサボロラン）（１．３３ｇ、５．２５ｍｍｏｌ）、１，１−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンジクロロパラジウム（ＩＩ）ジクロロメタン錯体（Ｐｄ（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２、３８ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）、１，１−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（３０ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）、無水１，４−ジオキサン（２０ｍＬ）及び酢酸カリウム（１．４ｇ、１４．３１ｍｍｏｌ）を加え、還流下６時間攪拌した。得られた混合物を室温に戻した後、水及びトルエンを加え攪拌し、得られた有機層を水層と分離し、濃縮し、乾燥させることにより固化し、粗生成物を得た。該粗生成物に、ヘキサン（１００ｍＬ）及び活性炭（０．３ｇ）を加え４０℃にて３０分攪拌し、セライトを敷き詰めたろ過器にてろ過を行い、濃縮し、乾燥させることにより固化し固体を得た。該固体をヘキサンにて再結晶を行い、目的とする化合物６Ｍを得た（０．４３ｇ）。
【化６９】
0005913959.tif 000070
【０２８７】
＜合成例１６：化合物５Ｎの合成＞
まず、化合物１Ｎを用いて下記のとおり化合物２Ｎを合成した。
【化７０】
0005913959.tif 000071
（式中、波線は、当該波線を有する化合物が幾何異性体混合物であることを示す。）
【０２８８】
撹拌器を備えた１Ｌの四つ口フラスコにヘプチルトリフェニルホスホニウムブロミド（１１５．０ｇ）入れ、フラスコ内の気体をアルゴンで置換した。このフラスコ内に、トルエン（３７５ｇ）を入れ、５℃以下に冷却した。カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２９．２ｇ）を入れ、室温まで昇温した後、室温で３時間保温撹拌した。反応液中に生じた赤色スラリーに、化合物１Ｎ（１５．０ｇ）を入れ、室温で１２時間保温撹拌した。反応液に酢酸（１０．０ｇ）を入れて１５分撹拌した後、ろ過し、濾過残渣をトルエンで複数回洗浄した。複数回分のろ液を合わせて濃縮し、ヘキサンを入れたところスラリーが生じたので、このスラリーを５０℃で、１時間保温しながら撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却し、ろ過した。濾過残渣をヘキサンで複数回洗浄し、複数回分のろ液を合わせて濃縮することで粗生成物が得られた。この粗生成物をシリカゲルカラム（展開溶媒  ヘキサン）を用いて精製することで、無色透明液体として化合物２Ｎを２１．７ｇ得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＥＳＩ、ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋Ｋ］＋４９１
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝０．８７（６Ｈ、ｔ）、１．２０〜１．３６（１６Ｈ、ｍ）、１．８２〜１．９７（４Ｈ、ｍ）、２．５７〜２．８１（８Ｈ、ｍ）、５．２０（２Ｈ、ｂｒ）、７．２３〜７．３２（４Ｈ、ｍ）、７．４１〜７．４８（２Ｈ、ｍ）、７．８７〜７．９０（２Ｈ、ｍ）．
【０２８９】
次いで、化合物２Ｎを用いて下記のとおり化合物３Ｎを合成した。
【化７１】
0005913959.tif 000072
（式中、波線は、当該波線を有する化合物が幾何異性体混合物であることを示す。また、式中、＊は、それを付した炭素原子が不斉炭素原子であることを示す。）
【０２９０】
撹拌器を備えた１Ｌの四つ口フラスコに化合物２Ｎ（２１．７ｇ）を入れた後、酢酸エチル（１５２．４ｇ）とエタノール（１５１．６ｇ）を入れ、フラスコ内の気体を窒素で置換した。５質量％Ｐｄ／Ｃ（約５０質量％含水品）（４．３ｇ）を入れた後、フラスコ内の気体を水素で置換し、水素雰囲気下、４０℃で２７時間保温しながら撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却し、セライトをプレコートしたろ過器によりろ過し、残渣を酢酸エチルで複数回洗浄し、複数回分のろ液を合わせて濃縮することにより、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラム（展開溶媒  ヘキサン）を用いて精製することで、無色透明液体として化合物３Ｎを２１．７ｇ得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＰＩ、ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ］＋４５６
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝０．６６〜０．９８（６Ｈ、ｍ）、１．００〜２．２２（３４Ｈ、ｍ）、７．１３〜７．５０（６Ｈ、ｍ）、７．８０〜７．９８（２Ｈ、ｍ）．
【０２９１】
次いで、化合物３Ｎを用いて下記のとおり化合物４Ｎを合成した。
【化７２】
0005913959.tif 000073
（式中、＊は、それを付した炭素原子が不斉炭素原子であることを示す。）
【０２９２】
撹拌器を備えた５００ｍＬの四つ口フラスコに化合物３Ｎ（２１．７ｇ）、クロロホルム（２６１．１ｇ）及びトリフルオロ酢酸（４４ｇ）を入れ、フラスコ内の気体をアルゴンで置換した。四つ口フラスコ全体を遮光し、臭素（１９．０ｇ）とクロロホルム（６５．３ｇ）の混合物を室温で、１５分かけてフラスコ内に滴下し、その後３５℃まで昇温した。
【０２９３】
３５℃で７時間、保温しながら撹拌した後、１５℃以下に冷却した。反応液に１０質量％亜硫酸ナトリウム水溶液（１０９ｇ）入れ、室温まで昇温した。反応液から水層を分離し、有機層を水、５質量％炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過し、ろ液を濃縮することにより、粗生成物を得た。この粗生成物をエタノールとヘキサンの混合液で、２回再結晶を行った。得られた固体をヘキサンに溶解させ、シリカゲルカラム（展開溶媒  ヘキサン）を用いて精製し、得られたヘキサン溶液に活性炭（２．１ｇ）を加え、４５℃で１時間、保温しながら撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却し、セライトをプレコートしたろ過器によりろ過し、残渣をヘキサンで複数回洗浄し、複数回分のろ液を合わせて一部濃縮しヘキサン溶液を得た。このヘキサン溶液にエタノールを加えて、再結晶することにより、化合物４Ｎを白色固体として１８．８ｇ得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＥＳＩ、ｎｅｇａｔｉｖｅ）：［Ｍ＋Ｃｌ］−６４８
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝０．６６〜０．９８（６Ｈ、ｍ）、１．００〜２．２０（３４Ｈ、ｍ）、７．２２〜７．７８（６Ｈ、ｍ）．
【０２９４】
１Ｈ−ＮＭＲの測定結果から、化合物４Ｎが立体化学の異なる異性体（４ａ：４ｂ：４ｃ＝５１：３９：１０）（モル比）の混合物であることを確認した。
【化７３】
0005913959.tif 000074
【０２９５】
次いで、化合物４Ｎを用いて下記のとおり化合物５Ｎを合成した。
【化７４】
0005913959.tif 000075
（式中、＊は、それを付した炭素原子が不斉炭素原子であることを示す。）
【０２９６】
２００ｍＬの４つ口フラスコに、化合物４Ｎ（９．７０ｇ）、ビスピナコレートジボロン（８．８２ｇ）及び酢酸カリウム（９．２５ｇ）を入れた後、フラスコ内の気体を窒素で置換した。そこに、１，４−ジオキサン（９５ｍＬ）、塩化パラジウム（ジフェニルホスフィノフェロセン）ジクロロメタン付加体（ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）（ＣＨ２Ｃｌ２）（０．１９５ｇ）及びジフェニルホスフィノフェロセン（ｄｐｐｆ）（０．１３１ｇ）を加え、１０５℃で７時間攪拌した。得られた溶液を、室温まで冷却した後、セライトをプレコートした漏斗でろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた濃縮物をヘキサンに溶解させた後、活性炭を加えて４０℃で１時間加熱しながら攪拌した。得られた混合物を、室温まで冷却した後、セライトをプレコートした漏斗でろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた固体を、トルエンとアセトニトリルの混合溶媒で再結晶することで白色固体として化合物５Ｎを９．０ｇ得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＥＳＩ、ｐｏｓｉｔｉｖｅ、ＫＣｌ添加）：［Ｍ＋Ｋ］＋７４７
【０２９７】
＜合成例１７：化合物２Ｑの合成＞
下記化合物１Ｑ（３．００ｇ）、ビスピナコレートジボロン（２．８４ｇ）、酢酸カリウム（２．９９ｇ）、１，４−ジオキサン（３０ｇ）、塩化パラジウム（ジフェニルホスフィノフェロセン）ジクロロメタン付加体（ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）（ＣＨ２Ｃｌ２）（８３ｍｇ）及びジフェニルホスフィノフェロセン（ｄｐｐｆ）（５６ｍｇ）を、１０３℃で６時間攪拌した。得られた溶液を、室温まで冷却した後、セライトを敷き詰めた漏斗でろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた濃縮物をヘキサンに溶解させた後、活性炭を加えて４０℃で１時間加熱しながら攪拌した。得られた混合物を、室温まで冷却した後、セライトを敷き詰めた漏斗でろ過した。濾液を減圧濃縮して得られた固体を、トルエンとアセトニトリルの混合溶媒で再結晶することで白色固体として化合物２Ｑを２．６ｇ得た。
【化７５】
0005913959.tif 000076
【０２９８】
＜合成例１８：化合物５Ｒの合成＞
まず、化合物１Ｒを用いて下記のとおり化合物２Ｒを合成した。
【化７６】
0005913959.tif 000077
【０２９９】
撹拌器を備えた５００ｍＬの四つ口フラスコに化合物１Ｒ（４．５ｇ）、エチレングリコール（１８０ｇ）を入れ、フラスコ内の気体をアルゴンで置換した。そこに、ヒドラジン１水和物（３．２ｇ）と水酸化カリウム（４．３ｇ）を入れ、１８０℃に昇温し、その温度で２８時間保温しながら撹拌した。反応液を室温まで冷却し、水を入れたところ、固体が析出した。この固体をろ別回収した後、室温で減圧乾燥させることにより、化合物２Ｒを白色固体として３．９ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝１．３５〜１．７２（４Ｈ、ｍ）、１．８９〜２．２４（８Ｈ、ｍ）、７．１０〜７．４６（６Ｈ、ｍ）、７．９０（２Ｈ、ｄ）．
【０３００】
次いで、化合物２Ｒを用いて下記のとおり化合物３Ｒを合成した。
【化７７】
0005913959.tif 000078
【０３０１】
撹拌器を備えた１００ｍＬの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンで置換し、化合物２Ｒ（３．７ｇ）、クロロホルム（４５ｇ）及びトリフルオロ酢酸（７．５ｍＬ）を入れた。四つ口フラスコ全体を遮光し、臭素（５．７ｇ）とクロロホルム（１１．２ｇ）の混合物を室温で入れた。室温で、２．５時間保温しながら撹拌し、１０質量％亜硫酸ナトリウム水（２０ｇ）を入れた。反応液から水層を分離し、有機層を、水、１０質量％リン酸水素２カリウム水、水の順で洗浄し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過し、ろ液を濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をトルエンとメタノールの混合液で再結晶し、得た固体をクロロホルムに溶解させた後、シリカゲルカラム（展開溶媒  トルエン／ヘキサン）を用いて精製した。得られた溶液を濃縮し、活性炭（３ｇ）を加え、６５℃で０．５時間、保温しながら撹拌した。その温度で、セライトをプレコートしたろ過器によりろ過し、残渣をトルエンで複数回洗浄し、複数回分のろ液を合わせて一部濃縮しトルエン溶液を得た。このトルエン溶液にヘキサンを加えて再結晶することにより、化合物３Ｒを白色固体として３．６ｇ得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＥＳＩ、ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋Ｈ］＋４１７
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝１．３８〜１．７６（４Ｈ、ｍ）、１．８５〜２．２４（８Ｈ、ｍ）、７．３３（２Ｈ、ｄ）、７．５０（２Ｈ、ｓ）、７．７０（２Ｈ、ｄ）．
【０３０２】
次いで、化合物３Ｒを用いて下記のとおり化合物４Ｒを合成した。
【化７８】
0005913959.tif 000079
【０３０３】
撹拌器を備えた５００ｍＬの四つ口フラスコに、Ｎ−フェニル−Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−ブチル）−２，６−ジメチルフェニルアミン（２４．３ｇ）と、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（１．９９ｇ）と、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート（２．５３ｇ）と、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（１２．６ｇ）を入れ、フラスコ内の気体を窒素で置換した。そこに、トルエン（１００ｍＬ）とｔｅｒｔ−ブタノール（９ｍＬ）を入れた後、化合物３Ｒ（１８．２ｇ）とトルエン（１７０ｍＬ）の混合物を滴下した。その後、還流温度まで昇温し、２時間保温しながら撹拌した。
【０３０４】
反応液を室温まで冷却し、水を入れ、セライトをプレコートしたろ過器によりろ過し、残渣をトルエンで洗浄し、ろ液から水層を分離し、有機層を水で洗浄した。得られた有機層を濃縮し、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム（展開溶媒  ヘキサン／トルエン混合液）を用いて精製した。得られた溶液を濃縮し、イソプロパノールとトルエンの混合液で再結晶し、白色固体として化合物４Ｒを３０．６ｇ得た。
【０３０５】
次いで、化合物４Ｒを用いて下記のとおり化合物５Ｒを合成した。
【化７９】
0005913959.tif 000080
【０３０６】
撹拌器を備えた１Ｌの四つ口フラスコ内の気体を窒素で置換し、化合物４Ｒ（３０．１ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３６ｍＬ）、クロロベンゼン（３６０ｍＬ）及びクロロホルム（１００ｍＬ）を入れ、１０℃に冷却した。フラスコ全体を遮光し、１０℃でＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）（１４．２ｇ）を複数回に分けて入れた。その温度で４時間、保温しながら撹拌した後、水を入れ、次いで、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を臭素の色が消えるまで入れた。室温まで昇温後、得られた溶液に、クロロホルムを入れ、水層を分離した。有機層を水で２回洗浄し、濃縮することで粗生成物を得た。粗生成物をトルエンに溶解させ、６５℃に昇温し、シリカゲル（７５ｇ）及び活性炭（２ｇ）を入れ３０分保温しながら撹拌した。シリカゲルをプレコートしたろ過器によりろ過し、残渣をトルエンで洗浄した。得られたトルエン溶液にイソプロパノールを加えて再結晶した後、さらにトルエンとイソプロパノールの混合液で再結晶し、白色固体として化合物５Ｒを２９．８ｇ得た。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ、ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋Ｈ］＋９１９
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝１．１１〜１．６３（２２Ｈ、ｍ）、１．８０〜２．０８（２０Ｈ、ｍ）、６．５３〜６．７０（２Ｈ、ｂｒ）、６．７５〜６．９０（４Ｈ、ｍ）、７．０５〜７．３６（１０Ｈ、ｍ）、７．５０〜７．６６（２Ｈ、ｂｒ）．
【０３０７】
＜合成例１９：化合物３Ｓの合成＞
反応容器をアルゴン雰囲気下とし、３−ｎ−ヘキシルブロモベンゼン（１１１．１ｇ）及びテトラヒドロフランを加え、均一溶液を調製し、−７５℃まで冷却した。該溶液に２．５Ｍのｎ−ブチルリチウム／ヘキサン溶液（１−ブロモ−３，５−ジ−ｎ−ヘキシルベンゼンに対して１モル当量）（１７６ｍＬ）を−７５℃で１．５時間かけて滴下し、さらに該溶液を−７０℃で１．５時間撹拌した。次いで、２，７−ジブロモフルオレノン（１４２ｇ）とテトラヒドロフランからなる溶液を−７５℃で１時間かけて滴下し、反応液を室温まで昇温させ４時間撹拌した。次いで、該溶液を０℃まで冷却させ、アセトン、２ｍｏｌ％塩酸水をゆっくり加え撹拌した後、室温まで昇温し、室温にて静置した。次いで、反応混合物をろ過し、ろ液を濃縮し、ヘキサン、水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮した。次いで、ヘキサン及びジクロロメタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物１Ｓ（１６２ｇ）を得た。
【化８０】
0005913959.tif 000081
【０３０８】
反応容器をアルゴン気流下とし、化合物１Ｓ（１６２ｇ）及びトリフルオロ酢酸（２４５ｍＬ）を加えた。該溶液にトリメチルシラン（１１５ｍＬ）を３０分間かけて滴下し、室温にて一晩撹拌した。次いで、該反応液を１０℃に冷却し、ヘキサンと蒸留水を加え、１時間撹拌した後、静置して分液した水層を有機層から除去した。次いで、水を加え撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮した。次いで、ヘキサン及びジクロロメタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、メタノールで洗浄することにより、目的とする化合物２Ｓ（１３８ｇ）を得た。
【化８１】
0005913959.tif 000082
【０３０９】
反応容器をアルゴン気流下とし、化合物２Ｓ（１３８ｇ）、１−ブロモオクタン（７５．４ｍＬ）、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド（商品名：Ａｌｉｑｕａｔ（登録商標）３３６、アルドリッチ社製）（１．２ｇ）及び４０％水酸化カリウム（６０ｍＬ）を加え、８５℃にて一晩撹拌した。次いで、該反応液を室温に冷却させた後、ジクロロメタンと蒸留水を加え、１時間撹拌した後、静置して分液した水層を有機層から除去した。次いで、水を加え撹拌し、静置して分液した水層を有機層から除去した。該有機層に飽和食塩水を加え撹拌し、静置して分液した有機層から水層を除去した。有機層に硫酸マグネシウムを加え撹拌し、ろ過して得られたろ液を濃縮した。次いで、ヘキサン及びジクロロメタンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、濃縮して溶媒を除去した。次いで、メタノールとジクロロメタンを用いた再沈殿を行うことにより、目的とする化合物３Ｓ（１４５ｇ）を得た。
【化８２】
0005913959.tif 000083
【０３１０】
（重合体の製造）
＜重合例１：重合体１の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｃ（６．５０１ｇ、８．４８ｍｍｏｌ）、化合物２Ｄ（４．４２５ｇ、６．８７ｍｍｏｌ）、化合物４Ｆ（１．８８５ｇ、１．７２ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（６．０ｍｇ）及びトルエン（２０３ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（２８．５ｍＬ）を滴下し、３時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（１０４．７ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（６．１ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（２８．５ｍＬ）を加え、さらに１６時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１（高分子発光材料）  ６．８７ｇを得た。重合体１のポリスチレン換算の数平均分子量は９．３×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．１×１０５であった。
【０３１１】
重合体１は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化８３】
0005913959.tif 000084
で表される構成単位と、下記式：
【化８４】
0005913959.tif 000085
で表される構成単位と、下記式：
【化８５】
0005913959.tif 000086
で表される構成単位とを、５０：４０：１０のモル比で有する共重合体であった。
【０３１２】
＜重合例２：重合体２の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｃ（１３．５５４ｇ、１７．６８ｍｍｏｌ）、下記式：
【化８６】
0005913959.tif 000087
で表される化合物（Ｆ８ＢＥ：３．６３１ｇ、６．８５ｍｍｏｌ）、化合物２Ｄ（１２．５７１ｇ、１９．５０ｍｍｏｌ）、化合物３Ｇ（３．５６４ｇ、４．８２ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１７．２ｍｇ）及びトルエン（５８１ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８６ｍＬ）を滴下し、８時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３００ｍｇ）及びジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１７．１ｍｇ）を加え、さらに１４．５時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２（高分子発光材料）  ２０ｇを得た。重合体２のポリスチレン換算の数平均分子量は８．１×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．５×１０５であった。
【０３１３】
重合体２は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化８７】
0005913959.tif 000088
で表される構成単位と、下記式：
【化８８】
0005913959.tif 000089
で表される構成単位と、下記式：
【化８９】
0005913959.tif 000090
で表される構成単位と、下記式：
【化９０】
0005913959.tif 000091
で表される構成単位とを、３６：１４：４０：１０のモル比で有する共重合体であった。
【０３１４】
＜重合例３：重合体３の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｃ（１３．３８０ｇ、１７．４５ｍｍｏｌ）、化合物Ｆ８ＢＥ（３．７０２ｇ、６．９８ｍｍｏｌ）、化合物２Ｄ（１６．１２１ｇ、２４．９３ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１７．５ｍｇ）及びトルエン（４７８ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８３．７ｇ）を滴下し、４．５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３００ｍｇ）及びジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１７．５ｍｇ）を加え、さらに１４時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体３（高分子発光材料）  １４．７５ｇを得た。重合体３のポリスチレン換算の数平均分子量は６．１×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．１×１０５であった。
【０３１５】
重合体３は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化９１】
0005913959.tif 000092
で表される構成単位と、下記式：
【化９２】
0005913959.tif 000093
で表される構成単位と、下記式：
【化９３】
0005913959.tif 000094
で表される構成単位とを、３６：１４：５０のモル比で有する共重合体であった。
【０３１６】
＜重合例４：重合体４の合成＞
不活性雰囲気下、化合物４Ａ（２．２１８ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、下記式：
【化９４】
0005913959.tif 000095
で表される化合物１Ｈ（：１．００８ｇ、３．０２ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及びトルエン（７５ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、５．５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３６．６ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、さらに１４時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体４  １．３３ｇを得た。重合体４（高分子化合物）のポリスチレン換算の数平均分子量は１．４×１０５であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は３．２×１０５であった。
【０３１７】
重合体４は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化９５】
0005913959.tif 000096
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化９６】
0005913959.tif 000097
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、５０：５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる交互共重合体であった。
【０３１８】
＜重合例５：重合体５の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｂ（２．６９４ｇ、２．９７ｍｍｏｌ）、化合物１Ｈ（１．００８ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（７．３ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及びトルエン（７１ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、６．５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３６．５ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、さらに１６．５時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体５（高分子化合物）  ２．１３ｇを得た。重合体５のポリスチレン換算の数平均分子量は２．９×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は８．６×１０４であった。
【０３１９】
重合体５は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化９７】
0005913959.tif 000098
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化９８】
0005913959.tif 000099
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、５０：５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる交互共重合体であった。
【０３２０】
＜重合例６：重合体６の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｃ（２．３００ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、化合物１Ｈ（１．００８ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及びトルエン（７１ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、３．５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３７．０ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、さらに１６時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体６（高分子化合物）  １．５０ｇを得た。重合体６のポリスチレン換算の数平均分子量は１．３×１０５であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は３．６×１０５であった。
【０３２１】
重合体６は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化９９】
0005913959.tif 000100
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１００】
0005913959.tif 000101
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、５０：５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる交互共重合体であった。
【０３２２】
＜重合例７：重合体７の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｂ（１．７８５ｇ、１．９７ｍｍｏｌ）、化合物１Ｅ（０．７２０ｇ、２．００ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．４ｍｇ）及びトルエン（４７ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（７ｍＬ）を滴下し、４時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（２４．４ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．３ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（７ｍＬ）を加え、さらに１９時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体７（高分子化合物）  １．４１ｇを得た。重合体７のポリスチレン換算の数平均分子量は６．１×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１．５×１０５であった。
【０３２３】
重合体７は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１０１】
0005913959.tif 000102
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１０２】
0005913959.tif 000103
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、５０：５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる交互共重合体であった。
【０３２４】
＜重合例８：重合体８の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｂ（１．８０５ｇ、１．９９ｍｍｏｌ）、下記式：
【化１０３】
0005913959.tif 000104
で表される化合物１Ｊ（１．０２４ｇ、２．００ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（０．５ｍｇ）、トリス（トリ−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）（２．８ｍｇ）及びトルエン（６０ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（７ｍＬ）を滴下し、３時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（２４．４ｍｇ）、酢酸パラジウム（０．５ｍｇ）、トリス（トリ−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）（２．８ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（７ｍＬ）を加え、さらに１８．５時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体８（高分子化合物）  ０．８７ｇを得た。重合体８のポリスチレン換算の数平均分子量は５．６×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は３．１×１０５であった。
【０３２５】
重合体８は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１０４】
0005913959.tif 000105
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１０５】
0005913959.tif 000106
で表される式（１）中の（Ｙ）２に該当する構成単位を含む構造とを、５０：５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝２）のみからなる交互共重合体であった。
【０３２６】
＜重合例９：重合体９の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｂ（２．６８８ｇ、２．９６ｍｍｏｌ）、下記式：
【化１０６】
0005913959.tif 000107
で表される化合物１Ｋ（１．６４０ｇ、１．８０ｍｍｏｌ）、下記式：
【化１０７】
0005913959.tif 000108
で表される化合物（Ｆ８ＢＲ：０．４１１ｇ、０．７５ｍｍｏｌ）、下記式：
【化１０８】
0005913959.tif 000109
で表される化合物１Ｌ（０．２３８ｇ、０．４５ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及びトルエン（６２ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、３時間２０分還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３６．８ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、さらに１６時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体９  ３．１２ｇを得た。重合体９のポリスチレン換算の数平均分子量は８．０×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．６×１０５であった。
【０３２７】
重合体９は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１０９】
0005913959.tif 000110
で表される構成単位と、下記式：
【化１１０】
0005913959.tif 000111
で表される構成単位と、下記式：
【化１１１】
0005913959.tif 000112
で表される構成単位と、下記式：
【化１１２】
0005913959.tif 000113
で表される構成単位とを、５０：３０：１２．５：７．５のモル比で有する共重合体であった。
【０３２８】
＜重合例１０：重合実施例１となる重合体１０の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｃ（１．８０３ｇ、２．３５ｍｍｏｌ）、化合物３Ｇ（０．１３３ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、化合物４Ｆ（０．３２９ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、Ｆ８ＢＲ（０．３２９ｇ、０．６０ｍｍｏｌ）、化合物２Ｄ（０．８５１ｇ、１．３２ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及びトルエン（５３ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、２．５時間還流させた。次いで、化合物３Ｃ（０．４７１ｇ、０．６１ｍｍｏｌ）及び化合物１Ｈ（０．２０２ｇ、０．６０ｍｍｏｌ）を加え、２．５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３６．５ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、さらに１６．５時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１０（ブロック型共重合体）  ２．４９ｇを得た。重合体１０のポリスチレン換算の数平均分子量は９．３×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．５×１０５であった。
【０３２９】
重合体１０は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１１３】
0005913959.tif 000114
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位１０Ａと、下記式：
【化１１４】
0005913959.tif 000115
で表される構成単位１０Ｂと、下記式：
【化１１５】
0005913959.tif 000116
で表される構成単位１０Ｃと、下記式：
【化１１６】
0005913959.tif 000117
で表される構成単位１０Ｄと、下記式：
【化１１７】
0005913959.tif 000118
で表される構成単位１０Ｅと、下記式：
【化１１８】
0005913959.tif 000119
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位１０Ｆとを、５０：３：５：１０：２２：１０のモル比で有し、構成単位１０Ａ、構成単位１０Ｂ、構成単位１０Ｃ、構成単位１０Ｄ及び構成単位１０Ｅの５種類の構成単位からなるブロック１０Ｘと、構成単位１０Ａ及び構成単位１０Ｆの２種類の構成単位からなるブロック１０Ｙとを有し、ブロック１０Ｙは式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる、ブロック型共重合体であった。
【０３３０】
＜重合例１１：重合実施例２となる重合体１１の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｃ（１．８０３ｇ、２．３５ｍｍｏｌ）、化合物３Ｇ（０．１３３ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、化合物４Ｆ（０．３２９ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、Ｆ８ＢＲ（０．３２９ｇ、０．６０ｍｍｏｌ）、化合物２Ｄ（０．８５１ｇ、１．３２ｍｍｏｌ）ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．０ｍｇ）及びトルエン（５３ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、２．５時間還流させた。次いで、化合物３Ｂ（０．５５８ｇ、０．６１ｍｍｏｌ）及び化合物１Ｈ（０．２０１ｇ、０．６０ｍｍｏｌ）を加え、２．５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３６．６ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、さらに１６．５時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１１（ブロック型共重合体）  ２．１３ｇを得た。重合体１１のポリスチレン換算の数平均分子量は９．７×１０4であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は３．２×１０5であった。
【０３３１】
重合体１１は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１１９】
0005913959.tif 000120
で表される構成単位１１Ａと、下記式：
【化１２０】
0005913959.tif 000121
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位１１Ｂと、下記式：
【化１２１】
0005913959.tif 000122
で表される構成単位１１Ｃと、下記式：
【化１２２】
0005913959.tif 000123
で表される構成単位１１Ｄと、下記式：
【化１２３】
0005913959.tif 000124
で表される構成単位１１Ｅと、下記式：
【化１２４】
0005913959.tif 000125
で表される構成単位１１Ｆと、下記式：
【化１２５】
0005913959.tif 000126
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位１１Ｇとを、４０：１０：３：５：１０：２２：１０のモル比で有し、構成単位１１Ａ、構成単位１１Ｃ、構成単位１１Ｄ、構成単位１１Ｅ及び構成単位１１Ｆの５種類の構成単位からなるブロック１１Ｘと、構成単位１１Ｂ及び構成単位１１Ｇの２種類の構成単位からなるブロック１１Ｙとを有し、ブロック１１Ｙは式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる、ブロック型共重合体であった。
【０３３２】
＜重合例１２：重合体１２の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｃ（２．２７４９ｇ、２．９７ｍｍｏｌ）、化合物Ｆ８ＢＲ（０．３２９０ｇ、０．６０ｍｍｏｌ）、化合物２Ｄ（１．２３７５ｇ、１．９２ｍｍｏｌ）、化合物３Ｇ（０．１３３０ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、化合物４Ｆ（０．３２９５ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及びトルエン（７６ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、２時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３７ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）、トルエン（６ｍＬ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍｌ）を加え、さらに１４．５時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、有機層を、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１２  ２．４２ｇを得た。重合体１２のポリスチレン換算の数平均分子量は１．０×１０５であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．９×１０５であった。
【０３３３】
重合体１２は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１２６】
0005913959.tif 000127
で表される構成単位と、下記式：
【化１２７】
0005913959.tif 000128
で表される構成単位と、下記式：
【化１２８】
0005913959.tif 000129
で表される構成単位と、下記式：
【化１２９】
0005913959.tif 000130
で表される構成単位と、下記式：
【化１３０】
0005913959.tif 000131
で表される構成単位とを、５０：１０：３２：３：５のモル比で有する共重合体であった。
【０３３４】
＜重合例１３：重合体１３の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｐ（１．１９６９ｇ、１．９８ｍｍｏｌ）、化合物３Ｓ（１．０７３７ｇ、１．８０ｍｍｏｌ）、化合物４Ｆ（０．２１９７g、０．２０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．４ｍｇ）、及び、トルエン（４７ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（６．６ｍＬ）を滴下し、３．５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルホウ酸（２４ｍｇ）、２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（６．６ｍＬ）、及び、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．４ｍｇ）を加え、１６．５時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。冷却後、反応液を、水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、水で２回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１３を１．１２ｇ得た。重合体１３のポリスチレン換算の数平均分子量は７．５×１０4であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．７×１０5であった。
【０３３５】
重合体１３は、仕込み原料から求めた理論値では、下記式：
【化１３１】
0005913959.tif 000132
で表される構成単位と、下記式：
【化１３２】
0005913959.tif 000133
で表される構成単位と、下記式：
【化１３３】
0005913959.tif 000134
で表される構成単位とが、５０：４５：５のモル比で構成されてなる共重合体であった。
【０３３６】
＜重合例１４：重合体１４の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｂ（８．８８８ｇ、９．８０ｍｍｏｌ）、化合物２Ｂ（０．８１３ｇ、１．００ｍｍｏｌ）、化合物１Ｈ（３．０２４ｇ、９．００ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（７．０ｍｇ）及びトルエン（２０２ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（３３ｍＬ）を滴下し、６時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（１２２ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（７．０ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（３３ｍＬ）を加え、さらに１２時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（１２９ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（１２９ｍＬ）で２回、水（１２９ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（１５６０ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（３２０ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（１５６０ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１４（高分子化合物）  ６．４ｇを得た。重合体１４のポリスチレン換算の数平均分子量は６．９×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．１×１０５であった。
【０３３７】
重合体１４は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１３４】
0005913959.tif 000135
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１３５】
0005913959.tif 000136
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、５５／４５のモル比で有する共重合体であった。この共重合体は、上記の［重合シミュレーション］を用いた場合の重合条件９に該当し、共重合体中に含まれる式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１、ｍ’＝９．９）を含む重合体であった。
【０３３８】
＜重合例１５：重合体１５の合成＞
不活性雰囲気下、化合物４Ｉ（１．７２５ｇ、２．５５ｍｍｏｌ）、化合物１Ｈ（０．８４０１ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及びトルエン（３９ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８．３ｍＬ）を滴下し、２．５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３０．５ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８．３ｍＬ）を加え、さらに１２時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（１８ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（１８ｍＬ）で２回、水（１８ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（２５３ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（５２ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（２５３ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１５（高分子化合物）  ６．４ｇを得た。重合体１５のポリスチレン換算の数平均分子量は１．２×１０５であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は４．８×１０５であった。
【０３３９】
重合体１５は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１３６】
0005913959.tif 000137
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１３７】
0005913959.tif 000138
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、５０／５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる交互共重合体であった。
【０３４０】
＜重合例１６：重合体１６の合成＞
不活性雰囲気下、化合物４Ｉ（１．９９９ｇ、３．０ｍｍｏｌ）、化合物１Ｔ（１．３４５ｇ、３．０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．７ｍｇ）及びトルエン（５５ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、６．５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３７ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．７ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、さらに１２時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（３０ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（３０ｍＬ）で２回、水（３０ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（３６０ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（１２３ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（３６０ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１６（高分子化合物）  １．３７ｇを得た。重合体１６のポリスチレン換算の数平均分子量は９．４×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．６×１０５であった。
【０３４１】
重合体１６は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１３８】
0005913959.tif 000139
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１３９】
0005913959.tif 000140
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、５０／５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる交互共重合体であった。
【０３４２】
＜重合例１７：重合体１７の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｐ（１．７８２ｇ、２．９５ｍｍｏｌ）、化合物１Ｔ（１．３４５ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．７ｍｇ）及びトルエン（５０ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、３．０時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３７ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．７ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、さらに１２時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（２７ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（２７ｍＬ）で２回、水（２７ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（３２３ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（１９９ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（３２３ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１７（高分子化合物）  １．６０ｇを得た。重合体１７のポリスチレン換算の数平均分子量は４．４×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．９×１０５であった。
【０３４３】
重合体１７は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１４０】
0005913959.tif 000141
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１４１】
0005913959.tif 000142
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、５０／５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる交互共重合体であった。
【０３４４】
＜重合例１８：重合体１８の合成＞
不活性雰囲気下、化合物６Ｍ（０．８１７５ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、化合物１Ｔ（０．４７０６ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（０．９ｍｇ）及びトルエン（３６ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（３．５ｍＬ）を滴下し、６時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（１３ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（０．９ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（３．５ｍＬ）を加え、さらに１２時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（１２ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（１２ｍＬ）で２回、水（１２ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（１４９ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（１０２ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（１４９ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１８（高分子化合物）  ０．４９ｇを得た。重合体１８のポリスチレン換算の数平均分子量は４．５×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．２×１０５であった。
【０３４５】
重合体１８は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１４２】
0005913959.tif 000143
で表される式（１）中のＹ及びＺに該当する構成単位を含む構造と、下記式：
【化１４３】
0005913959.tif 000144
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、５０／５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる交互共重合体であった。
【０３４６】
＜重合例１９＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｐ（０．７３００ｇ、１．２１ｍｍｏｌ）、化合物５Ｎ（０．８８５８ｇ、１．２５ｍｍｏｌ）、化合物１Ｔ（１．１２０６ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及びトルエン（４５ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８．３ｍＬ）を滴下し、４時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３１ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８．３ｍＬ）を加え、さらに２０時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（２４ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（２４ｍＬ）で２回、水（２４ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（２９２ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（１２０ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（２９２ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体１９（高分子化合物）  １．２５ｇを得た。重合体１９のポリスチレン換算の数平均分子量は７．０×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は８．０×１０５であった。
【０３４７】
重合体１９は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１４４】
0005913959.tif 000145
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１４５】
0005913959.tif 000146
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１４６】
0005913959.tif 000147
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、２５／２５／５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる共重合体であった。
【０３４８】
＜重合例２０：重合体２０の合成＞
不活性雰囲気下、化合物２Ｑ（１．３４１９ｇ、１．９６０ｍｍｏｌ）、化合物４Ｉ（０．３３８３ｇ、０．５００ｍｍｏｌ）、化合物１Ｔ（１．１２０６ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及びトルエン（４６ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８．３ｍＬ）を滴下し、４時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３１ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８．３ｍＬ）を加え、さらに２０時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（２５ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（２５ｍＬ）で２回、水（２５ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（３０３ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（１２４ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（６７３ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２０（高分子化合物）  １．３６ｇを得た。重合体２０のポリスチレン換算の数平均分子量は７．５×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は３．０×１０５であった。
【０３４９】
重合体２０は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１４７】
0005913959.tif 000148
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１４８】
0005913959.tif 000149
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１４９】
0005913959.tif 000150
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、４０／１０／５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる共重合体であった。
【０３５０】
＜重合例２１：重合体２１の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｐ（０．７３３０ｇ、１．２１３ｍｍｏｌ）、化合物４Ｉ（０．８４５７ｇ、１．２５０ｍｍｏｌ）、化合物１Ｔ（１．１２０６ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及びトルエン（４４ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８．３ｍＬ）を滴下し、５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３１ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８．３ｍＬ）を加え、さらに２０時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（２４ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（２４ｍＬ）で２回、水（２４ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（２８５ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（１１７ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（３８０ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２１（高分子化合物）  １．１４ｇを得た。重合体２１のポリスチレン換算の数平均分子量は８．０×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．６×１０５であった。
【０３５１】
重合体２１は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１５０】
0005913959.tif 000151
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１５１】
0005913959.tif 000152
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１５２】
0005913959.tif 000153
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、２５／２５／５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる共重合体であった。
【０３５２】
＜重合例２２：重合体２２の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｐ（４．９９５５ｇ、８．２６４ｍｍｏｌ）、化合物４Ｉ（１．４２０８ｇ、２．１００ｍｍｏｌ）、化合物１Ｔ（４．７０６４ｇ、１０．５００ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（９．３ｍｇ）及びトルエン（１７７ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（３５ｍＬ）を滴下し、４時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（１２８ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（９．３ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（３５ｍＬ）を加え、さらに２０時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（９６ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（９６ｍＬ）で２回、水（９６ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（１１５８ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（２３７ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（１１５８ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２２（高分子化合物）  ５．０ｇを得た。重合体２２のポリスチレン換算の数平均分子量は７．０×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．６×１０５であった。
【０３５３】
重合体２２は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１５３】
0005913959.tif 000154
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１５４】
0005913959.tif 000155
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位と、下記式：
【化１５５】
0005913959.tif 000156
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位とを、４０／１０／５０のモル比で有し、式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる共重合体であった。
【０３５４】
＜重合例２３：重合体２３の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｂ（２．１３３ｇ、２．３５２ｍｍｏｌ）、化合物Ｆ８ＢＲ（０．０８５ｇ、０．１５０ｍｍｏｌ）、化合物１Ｋ（１．６４０ｇ、１．８００ｍｍｏｌ）、化合物１Ｌ（０．２３８ｇ、０．４５０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及びトルエン（５３ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、２時間還流させた。次いで、化合物３Ｂ（０．５５８ｇ、０．６１５ｍｍｏｌ）、化合物１Ｈ（０．２０２ｇ、０．６００ｍｍｏｌ）を加え、２時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３７ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、さらに１２時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（３９ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（３９ｍＬ）で２回、水（３９ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（４６６ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（９４ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（４６６ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２３（ブロック型共重合体）  ３．１７ｇを得た。重合体２３のポリスチレン換算の数平均分子量は５．９×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１．８×１０５であった。
【０３５５】
重合体２３は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１５６】
0005913959.tif 000157
で表される式（１）中のＺに該当する構成単位２３Ａと、下記式：
【化１５７】
0005913959.tif 000158
で表される構成単位２３Ｂと、下記式：
【化１５８】
0005913959.tif 000159
で表される構成単位２３Ｃと、下記式：
【化１５９】
0005913959.tif 000160
で表される構成単位２３Ｄと、下記式：
【化１６０】
0005913959.tif 000161
で表される式（１）中のＹに該当する構成単位２３Ｅとを、５０／３０／７．５／２．５／１０のモル比で有し、構成単位２３Ａ、構成単位２３Ｂ、構成単位２３Ｃ、構成単位２３Ｄの４種類の構成単位からなるブロック２３Ｘと、構成単位２３Ａ及び構成単位２３Ｅの２種類の構成単位からなるブロック２３Ｙとを有し、ブロック２３Ｙは式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１）のみからなる、ブロック型共重合体であった。
【０３５６】
＜重合例２４：重合体２４の合成＞
不活性雰囲気下、化合物５Ｎ（１．４０３ｇ、１．９８ｍｍｏｌ）、化合物３Ｓ（１．００２ｇ、１．６８ｍｍｏｌ）、化合物３Ｇ（０．０８９ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、化合物４Ｆ（０．２２０g、０．２０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（１．８ｍｇ）、及び、トルエン（４７ｍＬ）を混合し、１０５℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（７．５ｍＬ）を滴下し、２．５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルホウ酸（２５ｍｇ）、２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（７．５ｍＬ）、及び、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（１．８ｍｇ）、トルエン（５ｍＬ）を加え、１７時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。冷却後、反応液を、水（２６ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（２６ｍＬ）で２回、水（２６ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（３１１ｍＬ）に滴下し、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（３２７ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２４を１．１６ｇ得た。重合体２４のポリスチレン換算の数平均分子量は１．２×１０５であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．５×１０5であった。
【０３５７】
重合体２４は、仕込み原料から求めた理論値では、下記式：
【化１６１】
0005913959.tif 000162
で表される構成単位と、下記式：
【化１６２】
0005913959.tif 000163
で表される構成単位と、下記式：
【化１６３】
0005913959.tif 000164
で表される構成単位と、下記式：
【化１６４】
0005913959.tif 000165
で表される構成単位とが、５０：４２：３：５のモル比で構成されてなる共重合体であった。
【０３５８】
＜重合例２５：重合体２５の合成＞
不活性雰囲気下、化合物４Ｉ（１．６６６１ｇ、２．４６３ｍｍｏｌ）、化合物３Ｓ（１．３１２２ｇ、２．２００ｍｍｏｌ）、化合物５Ｒ（０．２３０２ｇ、０．２５０ｍｍｏｌ）、化合物４Ｆ（０．０５４９ｇ、０．０５０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（０．７ｍｇ）及びトルエン（５８ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８．３ｍＬ）を滴下し、８時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３１ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．２ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（８．３ｍＬ）を加え、さらに１２時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（３２ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（３２ｍＬ）で２回、水（３２ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（３８０ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（７８ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（３８０ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２５  １．６１ｇを得た。重合体２５のポリスチレン換算の数平均分子量は８．６×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．４×１０５であった。
【０３５９】
重合体２５は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１６５】
0005913959.tif 000166
で表される構成単位と、下記式：
【化１６６】
0005913959.tif 000167
で表される構成単位と、下記式：
【化１６７】
0005913959.tif 000168
で表される構成単位と、下記式：
【化１６８】
0005913959.tif 000169
で表される構成単位とを、５０／４４／５／１のモル比で有する共重合体であった。
【０３６０】
＜重合例２６：重合体２６の合成＞
不活性雰囲気下、化合物４Ｉ（１．３４３７ｇ、１．９８６ｍｍｏｌ）、化合物３Ｓ（１．０４９８ｇ、１．７６０ｍｍｏｌ）、化合物５Ｒ（０．２２１０ｇ、０．２４０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．４ｍｇ）及びトルエン（４６ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（６．７ｍＬ）を滴下し、５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（２４ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．４ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（６．７ｍＬ）を加え、さらに１２時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（２５ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（２５ｍＬ）で２回、水（２５ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（３０３ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（７５ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（３０３ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２６  １．０８ｇを得た。重合体２６のポリスチレン換算の数平均分子量は８．９×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．３×１０５であった。
【０３６１】
重合体２６は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１６９】
0005913959.tif 000170
で表される構成単位と、下記式：
【化１７０】
0005913959.tif 000171
で表される構成単位と、下記式：
【化１７１】
0005913959.tif 000172
で表される構成単位とを、５０／４４／６のモル比で有する共重合体であった。
【０３６２】
＜重合例２７：重合体２７の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｃ（１．７９８８ｇ、２．３４６ｍｍｏｌ）、化合物３Ｂ（０．５４４０ｇ、０．６００ｍｍｏｌ）、化合物２Ｄ（１．２３７５ｇ、１．９２０ｍｍｏｌ）、化合物３Ｇ（０．１３３０ｇ、０．１８０ｍｍｏｌ）、化合物４Ｆ（０．３２９４ｇ、０．３００ｍｍｏｌ）、化合物１Ｈ（０．２０１６ｇ、０．６００ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及びトルエン（７９ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、７時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（３７ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（２．１ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、さらに１２時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（４３ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（４３ｍＬ）で２回、水（４３ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（５１４ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（１０５ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（５１４ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２７  １．７８ｇを得た。重合体２７のポリスチレン換算の数平均分子量は７．７×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．３×１０５であった。
【０３６３】
重合体２７は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１７２】
0005913959.tif 000173
で表される構成単位と、下記式：
【化１７３】
0005913959.tif 000174
で表される構成単位と、下記式：
【化１７４】
0005913959.tif 000175
で表される構成単位と、下記式：
【化１７５】
0005913959.tif 000176
で表される構成単位と、下記式：
【化１７６】
0005913959.tif 000177
で表される構成単位と、下記式：
【化１７７】
0005913959.tif 000178
で表される構成単位とを、４０／１０／３２／３／５／１０のモル比で有する共重合体であった。
【０３６４】
＜重合例２８：重合体２８の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｂ（１．７９６ｇ、１．９８ｍｍｏｌ）、化合物２Ｂ（０．６５０ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）、化合物１Ｈ（０．４０３ｇ、１．２ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．４ｍｇ）及びトルエン（４７ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（６．６ｍＬ）を滴下し、５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（２４．４ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．４ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（６．６ｍＬ）を加え、さらに２０時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（２６ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（２６ｍＬ）で２回、水（２６ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（３１１ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（６３ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（３１１ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２８  １．７４ｇを得た。重合体２８のポリスチレン換算の数平均分子量は１．１×１０５であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は３．７×１０５であった。
【０３６５】
重合体２８は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１７８】
0005913959.tif 000179
で表される構成単位と、下記式：
【化１７９】
0005913959.tif 000180
で表される構成単位とを、７０／３０のモル比で有する共重合体であった。この共重合体は、上記の［重合シミュレーション］を用いた場合の重合条件６に該当し、共重合体中に含まれる式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１、ｍ’＝２．９５）を含む共重合体であった。
【０３６６】
＜重合例２９：重合体２９の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｂ（１．７９６ｇ、１．９８ｍｍｏｌ）、化合物２Ｂ（０．９７５４ｇ、１．２０ｍｍｏｌ）、化合物１Ｈ（０．２６８８ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（１．８ｍｇ）及びトルエン（３８ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（６．７ｍＬ）を滴下し、３.５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（２４．４ｍｇ）、ジクロロビス（トリス−ｏ−メトキシフェニルホスフィン）パラジウム（１．８ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（６．７ｍＬ）を加え、さらに１２時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（３１ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（３１ｍＬ）で２回、水（３１ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（３７６ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（７７ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（３７６ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体２９  １．６７ｇを得た。重合体２９のポリスチレン換算の数平均分子量は６．１×１０４であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２．４×１０５であった。
【０３６７】
重合体２９は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１８０】
0005913959.tif 000181
で表される構成単位と、下記式：
【化１８１】
0005913959.tif 000182
で表される構成単位とを、８０／２０のモル比で有する共重合体であった。この共重合体は、上記の［重合シミュレーション］を用いた場合の重合条件４に該当し、共重合体中に含まれる式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１、ｍ’＝２．１５）を含む共重合体である。
【０３６８】
＜重合例３０：重合体３０の合成＞
不活性雰囲気下、化合物３Ｂ（１．７９６ｇ、１．９８ｍｍｏｌ）、化合物２Ｂ（１．３０１ｇ、１．６０ｍｍｏｌ）、化合物１Ｈ（０．１３１ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．４ｍｇ）及びトルエン（４７ｍＬ）を混合し、１００℃に加熱した。反応液に２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（６．６ｍＬ）を滴下し、５時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸（２４．４ｍｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．４ｍｇ）及び２０質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液（６．６ｍＬ）を加え、さらに２０時間還流させた。次いで、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を冷却後、水（２６ｍＬ）で２回、３質量％酢酸水溶液（２６ｍＬ）で２回、水（２６ｍＬ）で２回洗浄し、得られた溶液をメタノール（３１１ｍＬ）に滴下、ろ取することで沈殿物を得た。この沈殿物をトルエン（６３ｍＬ）に溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムを順番に通すことにより精製した。得られた溶液をメタノール（３１１ｍＬ）に滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体３０  ２．０７ｇを得た。重合体３０のポリスチレン換算の数平均分子量は１．１×１０５であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は３．４×１０５であった。
【０３６９】
重合体３０は、使用した原料の量比から求めた理論値では、下記式：
【化１８２】
0005913959.tif 000183
で表される構成単位と、下記式：
【化１８３】
0005913959.tif 000184
で表される構成単位とを、９０／１０のモル比で有する共重合体であった。この共重合体は、上記の［重合シミュレーション］を用いた場合の重合条件２に該当し、共重合体中に含まれる式（１）で表される構成連鎖（ｎ＝１、ｍ’＝１．７５）を含む共重合体である。
【０３７０】
（有機ＥＬ素子の製造と評価）
＜実施例１：有機ＥＬ素子１の製造と評価＞
スパッタ法により４５ｎｍの厚みでＩＴＯ膜を付けたガラス基板に、ポリチオフェン・スルホン酸系の正孔注入剤であるＡＱ−１２００（Ｐｌｅｘｔｒｏｎｉｃｓ社製）をスピンコート法により５０ｎｍの厚みで成膜し、ホットプレート上で１７０℃で１５分間乾燥し、有機ＥＬ用基材を作製した。
【０３７１】
次に、キシレン溶媒中に０．７質量％の濃度で溶解させた正孔輸送性重合体（重合体９）の溶液をスピンコートして、約２０ｎｍの厚みに成膜した。その後、窒素雰囲気下においてホットプレート上で１８０℃、６０分間熱処理した。
【０３７２】
次に、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体５の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体５＝５０：３０：２０となるように混合して、組成物１を調製した。
【０３７３】
組成物１をスピンコート法により１２００ｒｐｍの回転速度で上記有機ＥＬ用基材上に成膜した。厚さは約６０ｎｍであった。これを窒素雰囲気下１３０℃で１０分間乾燥した後、陰極としてフッ化ナトリウムを約３ｎｍ、次いでアルミニウムを約８０ｎｍ蒸着して、有機ＥＬ素子１を作製した。なお、真空度が、１×１０−４Ｐａ以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
【０３７４】
得られた有機ＥＬ素子１に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．９Ｖから発光が開始し、最大発光効率は９．２９ｃｄ／Ａであった。
【０３７５】
上記で得られた有機ＥＬ素子１を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は１３６時間後に半減した。
【０３７６】
＜実施例２：有機ＥＬ素子２の製造と評価＞
実施例１における組成物１に代えて、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体４の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体４＝５０：３０：２０となるように混合して、組成物２を調製した以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子２を作製した。得られた有機ＥＬ素子２に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．９Ｖから発光が開始し、最大発光効率は８．２３ｃｄ／Ａであった。
【０３７７】
上記で得られた有機ＥＬ素子２を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は１０９時間後に半減した。
【０３７８】
＜実施例３：有機ＥＬ素子３の製造と評価＞
実施例１における組成物１に代えて、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体６の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体６＝５０：３０：２０となるように混合して、組成物３を調製した以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子３を作製した。得られた有機ＥＬ素子３に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．９Ｖから発光が開始し、最大発光効率は８．７０ｃｄ／Ａであった。
【０３７９】
上記で得られた有機ＥＬ素子３を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は１２３時間後に半減した。
【０３８０】
＜実施例４：有機ＥＬ素子４の製造と評価＞
実施例１における組成物１に代えて、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体７の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体７＝５０：３０：２０となるように混合して、組成物４を調製した以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子４を作製した。得られた有機ＥＬ素子４に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．９Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１０．３４ｃｄ／Ａであった。
【０３８１】
上記で得られた有機ＥＬ素子４を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は１００時間後に半減した。
【０３８２】
＜実施例５：有機ＥＬ素子５の製造と評価＞
実施例１における組成物１に代えて、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体８の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体８＝５０：３０：２０となるように混合して、組成物５を用いた以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子５を作製した。得られた有機ＥＬ素子５に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．９Ｖから発光が開始し、最大発光効率は８．１３ｃｄ／Ａであった。
【０３８３】
上記で得られた有機ＥＬ素子５を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は１３７時間後に半減した。
【０３８４】
＜実施例６：有機ＥＬ素子６の製造と評価＞
実施例１における組成物１に代えて、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体１０の溶液を調製した以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子６を作製した。得られた有機ＥＬ素子６に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１０中のブロック１０Ｘに由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．９Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１１．４５ｃｄ／Ａであった。
【０３８５】
上記で得られた有機ＥＬ素子６を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は１５４時間後に半減した。
【０３８６】
＜実施例７：有機ＥＬ素子７の製造と評価＞
実施例１における組成物１に代えて、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体１１の溶液を調製した以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子７を作製した。得られた有機ＥＬ素子７に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１１中のブロック１１Ｘに由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．９Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１１．７０ｃｄ／Ａであった。
【０３８７】
上記で得られた有機ＥＬ素子７を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は１９２時間後に半減した。
【０３８８】
＜比較例１：有機ＥＬ素子Ｃ１の製造と評価＞
実施例１における組成物１に代えて、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体３の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体３＝５０：３０：２０となるように混合して、組成物６を用いた以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子Ｃ１を作製した。得られた有機ＥＬ素子Ｃ１に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．９Ｖから発光が開始し、最大発光効率は８．６８ｃｄ／Ａであった。
【０３８９】
上記で得られた有機ＥＬ素子Ｃ１を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は７４時間後に半減した。
【０３９０】
＜比較例２：有機ＥＬ素子Ｃ２の製造と評価＞
実施例１における組成物１に代えて、キシレン溶媒中に１．２質量％の濃度で溶解させた重合体１２の溶液を調製した以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子Ｃ２を作製した。得られた有機ＥＬ素子Ｃ２に電圧を印加したところ、この素子から重合体１２に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．９Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１０．３３ｃｄ／Ａであった。
【０３９１】
上記で得られた有機ＥＬ素子Ｃ２を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度は８４時間後に半減した。
【０３９２】
上記の実施例１〜７、並びに比較例１及び２の結果を表１に示す。
【０３９３】
【表１】
0005913959.tif 000185
【０３９４】
＜実施例８：有機ＥＬ素子８の製造と評価＞
実施例１における組成物１に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１４の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体１４＝５０：３０：２０となるように混合して、組成物８を調製した。
【０３９５】
組成物８をスピンコート法により１５００ｒｐｍの回転速度で上記有機ＥＬ用基材上に成膜した。厚さは約６０ｎｍであった。これを窒素雰囲気下１３０℃で１０分間乾燥した後、陰極としてフッ化ナトリウムを約３ｎｍ、次いでアルミニウムを約８０ｎｍ蒸着して、有機ＥＬ素子８を作製した。なお、真空度が、１×１０−５Ｐａ以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
【０３９６】
得られた有機ＥＬ素子８に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は９．３５ｃｄ／Ａであった。
【０３９７】
上記で得られた有機ＥＬ素子８を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１０５時間であった。
【０３９８】
＜実施例９：有機ＥＬ素子９の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１５の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体１５＝５０：３０：２０となるように混合して組成物９を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子８を作製した。得られた有機ＥＬ素子８に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１１．０５ｃｄ／Ａであった。
【０３９９】
上記で得られた有機ＥＬ素子８を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１５８時間であった。
【０４００】
＜実施例１０：有機ＥＬ素子１０の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１６の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体１６＝５０：３０：２０となるように混合して組成物１０を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子１０を作製した。得られた有機ＥＬ素子１０に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．７Ｖから発光が開始し、最大発光効率は９．４１ｃｄ／Ａであった。
【０４０１】
上記で得られた有機ＥＬ素子１０を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１２４時間であった。
【０４０２】
＜実施例１１：有機ＥＬ素子１１の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１７の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体１７＝５０：３０：２０となるように混合して組成物１１を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子１１を作製した。得られた有機ＥＬ素子１１に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は３．０Ｖから発光が開始し、最大発光効率は６．８９ｃｄ／Ａであった。
【０４０３】
上記で得られた有機ＥＬ素子１１を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１１１時間であった。
【０４０４】
＜実施例１２：有機ＥＬ素子１２の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１８の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体１８＝５０：３０：２０となるように混合して組成物１２を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子１２を作製した。得られた有機ＥＬ素子１２に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．８Ｖから発光が開始し、最大発光効率は７．０６ｃｄ／Ａであった。
【０４０５】
上記で得られた有機ＥＬ素子１２を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１０１時間であった。
【０４０６】
＜実施例１３：有機ＥＬ素子１３の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１９の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体１９＝５０：３０：２０となるように混合して組成物１３を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子１３を作製した。得られた有機ＥＬ素子１３に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．８Ｖから発光が開始し、最大発光効率は９．９１ｃｄ／Ａであった。
【０４０７】
上記で得られた有機ＥＬ素子１３を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１３７時間であった。
【０４０８】
＜実施例１４：有機ＥＬ素子１４の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２０の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体２０＝５０：３０：２０となるように混合して組成物１４を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子１４を作製した。得られた有機ＥＬ素子１４に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１０．７１ｃｄ／Ａであった。
【０４０９】
上記で得られた有機ＥＬ素子１４を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１２４時間であった。
【０４１０】
＜実施例１５：有機ＥＬ素子１５の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２１の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体２１＝５０：３０：２０となるように混合して組成物１５を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子１５を作製した。得られた有機ＥＬ素子１５に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．７Ｖから発光が開始し、最大発光効率は９．５６ｃｄ／Ａであった。
【０４１１】
上記で得られた有機ＥＬ素子１５を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１２６時間であった。
【０４１２】
＜実施例１６：有機ＥＬ素子１６の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２２の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体２２＝５０：３０：２０となるように混合して組成物１６を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子１６を作製した。得られた有機ＥＬ素子１６に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．８Ｖから発光が開始し、最大発光効率は９．１６ｃｄ／Ａであった。
【０４１３】
上記で得られた有機ＥＬ素子１６を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１０３時間であった。
【０４１４】
＜実施例１７：有機ＥＬ素子１７の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体３の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体５の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体３：重合体５＝５０：３０：１９：１となるように混合して組成物１７を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子１７を作製した。得られた有機ＥＬ素子１７に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１１．５１ｃｄ／Ａであった。
【０４１５】
上記で得られた有機ＥＬ素子１７を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は７９時間であった。
【０４１６】
＜実施例１８：有機ＥＬ素子１８の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体３の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体５の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体３：重合体５＝５０：３０：１８：２となるように混合して組成物１８を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子１８を作製した。得られた有機ＥＬ素子１８に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１１．４２ｃｄ／Ａであった。
【０４１７】
上記で得られた有機ＥＬ素子１８を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１０５時間であった。
【０４１８】
＜実施例１９：有機ＥＬ素子１９の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体３の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体５の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体３：重合体５＝５０：３０：１５：５となるように混合して組成物１９を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子１９を作製した。得られた有機ＥＬ素子１９に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１０．７０ｃｄ／Ａであった。
【０４１９】
上記で得られた有機ＥＬ素子１９を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１１５時間であった。
【０４２０】
＜実施例２０：有機ＥＬ素子２０の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体３の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体５の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体３：重合体５＝５０：３０：１０：１０となるように混合して組成物２０を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子２０を作製した。得られた有機ＥＬ素子２０に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．７Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１０．５９ｃｄ／Ａであった。
【０４２１】
上記で得られた有機ＥＬ素子２０を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１３８時間であった。
【０４２２】
＜実施例２１：有機ＥＬ素子２１の製造と評価＞
正孔輸送性重合体として、重合体９に代えて重合体２３を用い、さらに、実施例８における組成物８に代えて比較例１の組成物６（重合体１：重合体２：重合体３＝５０：３０：２０）を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子２１を作製した。得られた有機ＥＬ素子２１に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．７Ｖから発光が開始し、最大発光効率は９．８３ｃｄ／Ａであった。
【０４２３】
上記で得られた有機ＥＬ素子２１を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１０７時間であった。
【０４２４】
＜実施例２２：有機ＥＬ素子２２の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２５の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１５の溶液とを質量比で、重合体２５：重合体１５＝８０：２０となるように混合して組成物２１を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子２２を作製した。得られた有機ＥＬ素子２２に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体２５に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．７Ｖから発光が開始し、最大発光効率は８．２４ｃｄ／Ａであった。
【０４２５】
上記で得られた有機ＥＬ素子２２を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１９９時間であった。
【０４２６】
＜実施例２３：有機ＥＬ素子２３の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２６の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１５の溶液とを質量比で、重合体２６：重合体１５＝８０：２０となるように混合して組成物２２を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子２３を作製した。得られた有機ＥＬ素子２３に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体２６に由来する４４５ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．７Ｖから発光が開始し、最大発光効率は６．２９ｃｄ／Ａであった。
【０４２７】
上記で得られた有機ＥＬ素子２３を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は８６時間であった。
【０４２８】
＜実施例２４：有機ＥＬ素子２４の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１３の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１５の溶液とを質量比で、重合体１３：重合体１５＝９０：１０となるように混合して組成物２４を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子２４を作製した。得られた有機ＥＬ素子２４に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１３に由来する４６５ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１１．１ｃｄ／Ａであった。
【０４２９】
上記で得られた有機ＥＬ素子２４を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は３６０時間であった。
【０４３０】
＜実施例２５：有機ＥＬ素子２５の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２４の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１５の溶液とを質量比で、重合体２４：重合体１５＝９０：１０となるように混合して組成物２５を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子２５を作製した。得られた有機ＥＬ素子２５に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体２４に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は１０．０ｃｄ／Ａであった。
【０４３１】
上記で得られた有機ＥＬ素子２５を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１８８時間であった。
【０４３２】
＜比較例３：有機ＥＬ素子Ｃ３の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２７の溶液を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子Ｃ３を作製した。得られた有機ＥＬ素子Ｃ３に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体２７に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．７Ｖから発光が開始し、最大発光効率は７．４５ｃｄ／Ａであった。
【０４３３】
上記で得られた有機ＥＬ素子Ｃ３を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は３３時間であった。
【０４３４】
＜比較例４：有機ＥＬ素子Ｃ４の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２８の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体２８＝５０：３０：２０となるように混合して組成物２８を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子Ｃ４を作製した。得られた有機ＥＬ素子Ｃ４に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．７Ｖから発光が開始し、最大発光効率は７．５３ｃｄ／Ａであった。
【０４３５】
上記で得られた有機ＥＬ素子Ｃ４を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は５８時間であった。
【０４３６】
＜比較例５：有機ＥＬ素子Ｃ５の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２９の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体２９＝５０：３０：２０となるように混合して組成物２９を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子Ｃ５を作製した。得られた有機ＥＬ素子Ｃ５に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は３．０Ｖから発光が開始し、最大発光効率は６．０２ｃｄ／Ａであった。
【０４３７】
上記で得られた有機ＥＬ素子Ｃ５を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は４７時間であった。
【０４３８】
＜比較例６：有機ＥＬ素子Ｃ６の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２の溶液と、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体３０の溶液とを質量比で、重合体１：重合体２：重合体３０＝５０：３０：２０となるように混合して組成物３０を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子Ｃ６を作製した。得られた有機ＥＬ素子Ｃ６に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．７Ｖから発光が開始し、最大発光効率は７．３５ｃｄ／Ａであった。
【０４３９】
上記で得られた有機ＥＬ素子Ｃ６を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は５６時間であった。
【０４４０】
＜比較例７：有機ＥＬ素子Ｃ７の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２５の溶液を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子Ｃ７を作製した。得られた有機ＥＬ素子Ｃ７に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体２５に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は７．２１ｃｄ／Ａであった。
【０４４１】
上記で得られた有機ＥＬ素子Ｃ７を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は７８時間であった。
【０４４２】
＜比較例８：有機ＥＬ素子Ｃ８の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２６の溶液を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子Ｃ８を作製した。得られた有機ＥＬ素子Ｃ８に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体２６に由来する４４５ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は５．２５ｃｄ／Ａであった。
【０４４３】
上記で得られた有機ＥＬ素子Ｃ８を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は２３時間であった。
＜比較例９：有機ＥＬ素子Ｃ９の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体１３の溶液を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子Ｃ９を作製した。得られた有機ＥＬ素子Ｃ９に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体１３に由来する４６５ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は９．１９ｃｄ／Ａであった。
【０４４４】
上記で得られた有機ＥＬ素子Ｃ９を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は１５３時間であった。
＜比較例１０：有機ＥＬ素子Ｃ１０の製造と評価＞
実施例８における組成物８に代えて、クロロベンゼン溶媒中に０．９質量％の濃度で溶解させた重合体２４の溶液を調製した以外は、実施例８と同様にして、有機ＥＬ素子Ｃ１０を作製した。得られた有機ＥＬ素子Ｃ１０に電圧を印加したところ、この素子から主に重合体２４に由来する４６０ｎｍにピークを有するＥＬ発光が得られた。該素子は２．６Ｖから発光が開始し、最大発光効率は９．４６ｃｄ／Ａであった。
【０４４５】
上記で得られた有機ＥＬ素子Ｃ１０を初期輝度が５０００ｃｄ／ｍ２となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度の時間変化を測定した。その結果、輝度半減時間は８０時間であった。
【０４４６】
以下の比較例３〜８の結果を表４に示す。実施例８〜２５の結果を、表２及び表３に示す。比較例３〜１０の結果を、表４に示す。
【０４４７】
【表２】
0005913959.tif 000186
【０４４８】
【表３】
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【０４４９】
【表４】
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