(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
干渉格子を試料上に形成するための装置であって、
波長λの光線を発するレーザと、
前記レーザによって発せられた前記光線を、第１の方向に偏向される第１の光線（１１）と第２の光線（１４）とに分割する光線分割板と、
前記第１の光線を、第１の一定の入射角度θ１で前記試料の点Ｐ上に偏向させるための第１の固定式偏向鏡と、
前記第２の光線を、第２の入射角度θ２で前記試料の前記点Ｐに到達する最終経路（１７）を有する経路に沿って偏向させるための少なくとも１つの第２の固定式偏向鏡であって、それによって干渉格子を、前記第１の入射角度θ１と第２の入射角度θ２との間の角度差θによって決まるピッチで前記試料上に形成する、第２の固定式偏向鏡とを備える装置において、
前記第２の光線の前記経路が、
複数の第１の衝突点（７１）から前記第２の光線を方向付けし偏向させる移動可能な偏向鏡（７、７’）を含み、前記第１の衝突点から、前記第２の光線（１５）は、前記第２の鏡（８、Ｍ２）上の複数の第２の衝突点（８２）に向かって方向付けられており、それによって、第１および第２の衝突点（７１、８２）を各々が備える複数の対を形成し、その各々は、前記角度θ２の異なる値を有する前記第２の光線の前記最終経路（１７）に対応し、それによって前記入射角度θ２の値を変化させ、したがって前記角度差θを変化させることと、
前記第１の衝突点（７１）が、前記試料から遠隔の上流側端部から延びる線形または放物線状経路上に配置され、ここでは、前記線形または放物線状経路は、前記第１の方向とは反対方向に、したがって前記試料（ＥＣＨ）の前記点Ｐと衝突する前記第１の光線の前記セグメント（１２）から外方に、前記レーザによって発せられた前記光線（１０）の方向から離間され、前記線形または放物線状経路は、前記試料（ＥＣＨ）により近くなるように下流端部に向かって進んでいる前記第１の光線の前記セグメント（１２）に向かって凹角をなし、それによって前記角度差θのそれぞれの値に各々が対応する前記第１および第２の衝突点（７１、８２）の前記対に対して前記第２の光線の光学経路長さの変動を、少なくとも部分的に補償することとを特徴とする、装置。
【請求項２】
前記第１の衝突点（７１）が、前記試料から遠隔の上流側端部から延びる線形経路上に配置され、
前記第２の光線の前記第１のセグメント（１４）の前記経路上に偏向鏡の対（６１、６２）を含み、偏向鏡の前記対（６１、６２）から下流の前記第２の光線を、前記第１のセグメント（１４）に対して一定の角度を形成する第２のセグメント（１５）に沿って偏向させることと、
前記移動可能な偏向鏡（７）が、偏向鏡の前記対（６１、６２）から下流に位置し、前記第２のセグメント（１５）に沿って並進式に移動可能である鏡（７）によって構成され、前記第２の光線の前記第２のセグメント（１５）は、前記線形経路に沿って配置された複数の前記第１の衝突点（７１）で前記移動可能な鏡に当たって、前記移動可能な鏡から下流に、前記第２のセグメント（１５）と共に一定の角度を作り出す第３のセグメント（１６）を形成することと、
前記装置が、前記第２の衝突点（８２）において前記二次の偏向鏡に当たる前記第２の測定光線の前記第３のセグメント（１６）を、前記試料（ＥＣＨ）の前記点Ｐに当たる前記最終経路（１７）に沿って偏向させながら、前記第１の測定光線（１１、１２）に対して少なくとも２つの異なる角度θを作り出すように事前配置された少なくとも２つの前記第２の偏向鏡（８１、８２、．．．、８１０）を含むこととを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
回転式に移動可能である鏡（７’）を含み、第１の放物面鏡（Ｍ１）が、第２の光線の経路上および回転式に移動可能である前記鏡（７’）の回転軸上に置かれた焦点（Ｆ１）を有し、
回転式に移動可能である前記鏡（７’）は、前記第２の光線を、前記焦点（Ｆ１）から前記第１の放物面鏡（Ｍ１）上に複数の前記第１の衝突点（７１）で偏向させて、複数の前記第２の衝突点（８２）において第２の放物面鏡（Ｍ２）に当たる前記第２の光線の中間セグメント（１６）を形成し、
前記第１および第２の光線がその上に集束する前記試料（ＥＣＨ）の前記点Ｐが、前記第２の放物面鏡（Ｍ２）の前記焦点（Ｆ２）に位置することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第２の測定光線の前記第１のセグメント（１４）が、前記レーザから生じる前記光線（１０）と同一線上にあることを特徴とする、請求項２または請求項３に記載の装置。
【請求項５】
少なくとも２つの測定点を構成するように前記移動可能な鏡（７、７’）の移動を制御するための制御モジュールを有することを特徴とする、請求項１から４までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
光線の経路上に配置されたλ／２半波長板である、偏光を変化させるための要素を含み、それによって干渉光線を前記試料（ＥＣＨ）上に形成し、または前記試料（ＥＣＨ）を均一な照明にさらすことを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記半波長板がチョッパに結合されることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
偏光を変化させるための要素を含み、前記要素は、干渉格子を前記試料（ＥＣＨ）上に形成すること、または前記試料を均一な照明にさらすことができる回転式偏光板であることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記第１の光線の前記経路上に介在させた電気光学変調器を有することを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
各位置において電流ＩｗおよびＩｗ０の値を測定するための装置を含み、Ｉｗは、前記試料上に形成された干渉格子に対応し、Ｉｗ０は、前記均一な照明にさらされる前記試料に対応することを特徴とする、請求項６から９までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記移動可能な鏡（７，７’）の移動を制御するためのステッパモータを含むことを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記試料（ＥＣＨ）が、光導電素子であることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか一項に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、干渉格子を試料上、たとえば、場合によっては電極を有する光導電素子上に形成するための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
干渉格子を試料上に、特に光導電試料上に形成することにより、試料を光学的に活性化させること、また適宜その特性を測定することが可能になる。
【０００３】
したがって、特許文献１は、光導電素子内の少数キャリヤの拡散距離ＬＤを測定するための技術を説明している。
【０００４】
この技術は、特に、太陽光電池モジュール内に組み込むためのものである薄層の光伝導半導体に適用される。
【０００５】
このパラメータを測定することにより、薄膜の電子品質が、太陽光電池モジュール内に一体化されることに適しているか、すなわちこれが良好な変換効率を得るのに適しているかを確認するために、その電子品質を決定付けることが可能になる。
【０００６】
水素化非晶質シリコンなどの薄膜の光伝導半導体内の少数キャリヤの拡散距離ＬＤを測定することが、レーザ干渉法によって実施される。
【０００７】
試料は、ほぼ透明で断熱性のものであり、たとえば１ミリメートル（ｍｍ）で離間された２つの平行電極がその上に配設される基板上に配設された薄層によって構成される。電気バイアスがこの２つの電極間にかけられる。波長λの垂直に偏光された光のレーザ光線は、２つの光線に分割され、これらの光線は、次いで所与の角度を形成するために試料上で偏向される。
【０００８】
干渉格子が電極間に形成され、格子のピッチは、２つの光線間の角度によって変化する。この照明は、特定のレベルの光電流Ｉｗを生じさせる。
【０００９】
λ／２の半波長板を用いることにより、２つの光線の１つの偏光が切り替えられ、それによって干渉格子を均一である照明によって置き換える。この照明は、特定レベルの光電流Ｉｗ０を生じさせる。
【００１０】
測定された光電流の方向は、格子の縞模様に対して垂直である。その後、格子のピッチの関数としてβ＝Ｉｗ／Ｉｗ０の比の変動がプロットされ、この場合、ピッチは、２つの光線間の角度から知られている方法で算出され、簡単な方程式を用いた対応により、この曲線から少数キャリヤの拡散距離を推定することが可能になる。
【００１１】
βとＬＤの間の結合は以下の通りである。格子のピッチが小さい場合、少数キャリヤの拡散により、測定された電流上に実際に影響を及ぼさない格子が解消される。ここでパラメータβは１に近いものである。格子のピッチが大きい場合、少数のキャリヤ拡散は、もはや格子を解消することはできない。空間電荷および局所電場のアレイが次いで所定位置に置かれ、それによって多数キャリヤ電流が変更され、パラメータβは−１の値に到達することができる。
【００１２】
この同じような空間電荷現象は、太陽電池における電流上の限界の裏側にある。そのような電池では、少数キャリヤが拡散できない場合、少数キャリヤの堆積によって空間電荷が作り出され、この空間電荷は、多数キャリヤの輸送を妨げ、したがって効率性を低減させる。したがって、ＬＤを薄膜上で測定することにより、その膜が、完全な装置を作製する前に、良好な効率性を得る大きな機会を伴って電池内に組み込むのに適しているかを知ることが可能になり、そのため、そのような測定は、薄層ベースの太陽電池のすべての製造者にとって最も有利なものである。
【００１３】
この技術は、特許文献１に説明され、光伝導体および感光性の半導体に適用される。
【００１４】
この文献で説明された実施は手動測定を含み、この手動測定は、干渉格子の異なるピッチに対応する測定の各々のステップが、新しく調整することを含意するため、実施するのが難しく時間がかかるものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】米国特許第４８９１５８２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明の目的は、プロセスの自動化に適合された装置であって、特に上記で述べた用途に対する、干渉格子のピッチを変化させることを可能にする装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
したがって、本発明は、干渉格子を、たとえば光導電素子によって構成された試料上に形成するための装置であって、波長λの光線を発するレーザと、レーザによって発せられた光線を第１と第２の光線に分割する光線分割板と、第１の光線を、第１の一定の入射角度θ１で試料の点Ｐ上に偏向させるための第１の固定式偏向鏡と、第２の光線を、第２の入射角度θ２で試料の前記点Ｐに到達する最終経路に沿って偏向させるための少なくとも１つの第２の固定式偏向鏡であって、それによって干渉格子を、第１の入射角度と第２の入射角度θ１とθ２の間の角度差θによって決まるピッチで試料上に形成する、第２の固定式偏向鏡とを備える装置において、第２の光線の経路が、第２の光線を複数の第１の衝突点から方向付けし偏向させる移動可能な偏向鏡を含み、第１の衝突点から、第２の光線は、前記第２の鏡上の複数の対応する第２の衝突点に向かって方向付けられ、それによって、各々が第１および第２の衝突点を備える衝突点の複数の対を形成し、その各々は、角度θ２の異なる値を有する第２の光線の前記最終経路に対応し、それによって入射角度の値θ２を変化させ、したがって角度差θを変化させることと、第１の衝突点が、試料から遠隔の上流側端部から延びる線形または放物線状経路上に配置され、ここでは、この経路は、試料の前記点Ｐと衝突する第１の光線のセグメントから外方に、レーザによって発せられた光線の方向から離間されており、前記線形または放物線状経路は、試料により近くなるように下流端部に向かって進んでいる第１の光線の前記セグメントに向かって凹角をなし、それによって角度差θのそれぞれの値に各々が対応する第１および第２の衝突点の対に対して第２の光線の光学経路長さの変動を最小限に抑えることとを特徴とする、装置を提供する。
【００１８】
光学経路の長さ変動に対して適切な補償を与えることを可能にする第１の変形形態では、装置は、第２の光線の第１のセグメントの経路上に偏向鏡の対を含んで、偏向鏡の対から下流の第２の測定光線を、第１のセグメントに対して一定の角度を形成する第２のセグメントに沿って偏向させることと、第２の鏡が、偏向鏡の対から下流に位置し、第２のセグメントに沿って並進式に移動可能である鏡によって構成され、第２の光線の第２のセグメントは、複数の前記第１の衝突点で移動可能な鏡に当たって、移動可能な鏡から下流に第２のセグメントと共に一定の角度を作り出す第３のセグメントを形成することと、装置は、前記第２の衝突点において前記二次の偏向鏡に当たる第２の光線の第３のセグメントを偏向させるように事前配置された少なくとも２つの前記第２の偏向鏡を含んで、試料の前記点Ｐに当たる前記最終経路を形成して、第１の光線に対して少なくとも２つの異なる角度θを画定することとを特徴とする。
【００１９】
好ましい変形形態では、方法は、回転式に移動可能である鏡を含み、第１の放物面鏡は、第２の光線の経路上および回転式に移動可能である鏡の回転軸上に置かれた焦点を有し、回転式に移動可能である鏡は、第２の光線を、前記焦点から第１の放物面鏡上に複数の第１の衝突点で偏向させて、複数の第２の衝突点において第２の放物面鏡に当たる中間セグメントを形成し、第１および第２の光線がその上に集束する試料ＥＣＨの前記点Ｐが、第２の放物面鏡の焦点に位置することを特徴とする。
【００２０】
第２の測定光線の第１のセグメントは、好ましくは、レーザから生じる光線と同一線上にある。
【００２１】
装置は、有利には、少なくとも２つの測定点を構成するように移動可能な鏡の移動を制御するための制御モジュールを有することを特徴とする。
【００２２】
装置は、たとえば第１の光線の光の偏光を変化させるための要素を含んでもよく、この装置は、有利には、場合によってチョッパに結合された、回転式に移動可能な要素上に配置され得るλ／２半波長板、または電気光学変調器に選択的に結合された回転式偏光板であり、それによって干渉格子を試料上に形成し、または試料を均一な照明にさらす。
【００２３】
装置は、次いで、各位置において電流ＩｗおよびＩｗ０の値を測定するための装置を含んでもよく、この場合、Ｉｗは、試料上に形成された干渉格子に対応し、Ｉｗ０は、前記均一な照明にさらされる試料に対応する。
【００２４】
装置は、好ましくは、並進式に移動可能である鏡の線形または回転式の移動を制御するためのステッパモータを有する。
【００２５】
本発明の他の特性および利点は、図を参照して以下の説明を読み取ることによってより良好に明らかになる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１ａ】本発明の装置の第１の変形の実施形態を示す図である。
【図１ｂ】本発明の装置の第１の変形の実施形態を示す図である。
【図１ｃ】本発明の装置の第１の変形の実施形態を示す図である。
【図１ｄ】光学経路がどのようにして算出されるかを示す図である。
【図２】本発明の装置の好ましい第２の変形形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
図１に示す装置は、偏光板２によってたとえば縦方向に線形に偏光される光線を発するレーザ１を含む。
【００２８】
主光線１０は光線分割鏡３によって２つに分割され、それによって鏡３によって反射される第１の光線１１と、光線分割鏡３から直接伝送される第２の光線１４とをもたらす。第１の光線は、光線１２を与えるために鏡４上で反射され、この光線は、任意選択で電気光学変調器ＥＯＭおよび回転式偏光板５を通り抜ける。
【００２９】
従来の方法では、場合によっては偏光板に関連付けられる変調器ＥＯＭの機能は、試料ＥＣＨ上の電極の末端から信号を拾い上げる際、また同期検波によって信号を処理する際に測定を実施することをより容易にするために光の強度を変調させることである。変調器ＥＯＭおよび偏光板を備えるこの対は、有利には、チョッパおよびλ／２半波長板によって置き換えられてよい。
【００３０】
反射された光線１２は、点Ｐにおいて、第１の入射角度θ１で、たとえば９０°の角度で試料ＥＣＨの表面と交わる。
【００３１】
第２の光線１４は、２つの偏向鏡６１（光線１４’）および６２によって偏向され、それによって第１の光線１４に対して傾斜された第２の部分１５を形成する。
【００３２】
第２の光線部分１５の軸に沿って線形に移動可能である偏向鏡７は、二次偏向鏡８の１つによって偏向される第３の光線部分１６を形成する働きをし、二次偏向鏡８の１つは、偏向鏡７の各位置において、最終軌跡を構成する第４の光線部分１７が、点Ｐにおいて入射角度θ２で試料ＥＣＨの表面に到達して、第２の光線部分１２と共に、具体的には試料ＥＣＨの垂直線と共に角度θを形成するように選択された傾斜の位置および角度を有し、この角度θは、偏向鏡８ごとに異なり、したがって、光線部分１２と１７との間の角度θを変化させることによって、干渉格子のピッチの値の範囲で走査することが可能になる。
【００３３】
偏向鏡７の各々の位置は、第２の光線が点Ｐに到達するように二次偏向鏡８からの第２の偏向点８２と１対１の関係で対応する第１の偏向点７１を画定する。
【００３４】
特許文献１で説明された測定方法を実施することが望ましい場合、並進式に移動可能である鏡７の各位置において、電流ＩｗおよびＩｗ０の測定が行われる。この目的のために、半波長板５（または回転式偏光板）は、点Ｐで交差する２つの光線１２と１７とが、偏光を有することを可能にするように向けられ、これらの偏光は、平行であり、それによってこれらが表面上に干渉を作り出し、したがって電流Ｉｗを測定することを可能にし、または垂直であり、したがって干渉格子が均一な照明によって置き換えられ、そのため電流Ｉｗ０を測定することを可能にする。
【００３５】
上記で説明された装置は、調整を実施する必要なく光線間の角度θを変更することを可能にしながら、干渉を形成できるように点Ｐにおいて優れた重なりも維持し、したがって異なるピッチの干渉格子を得ることを自動式に可能にし、それによって測定を自動的に実施することが特に可能になる。
【００３６】
モータ駆動の線形キャリヤによって単一の鏡を移動させることにより、約１マイクロメータ（μｍ）の刻み幅で移動をもたらすことが可能になり、それによって、固定式の二次偏向鏡８の正確に規定された位置と組み合わせると、多様な事前調整された角度での正確な偏向を確実にすることが可能になる。
【００３７】
装置は、たとえばλ＝６３３ナノメートル（ｎｍ）の波長を有するレーザを用いて、通常は１μｍから１５μｍまで延びる干渉格子ピッチサイズの範囲で測定を行う働きをする。
【００３８】
偏光は、たとえば、回転式に制御可能である要素上に置かれたλ／２半波長板または回転式偏光板５を介在させることによって変更される。
【００３９】
測定を自動化すること、すなわち線形キャリヤを用いて鏡の移動を制御し、電流を測定し増幅する回転式キャリヤを用いて半波長板（または回転式偏光板）の移動を制御し、次いで測定に関連する算出を引き続き実施すること、たとえば少数キャリヤの拡散距離ＬＤを算出することはすべて、特有のソフトウェアを用い、登録商標Ｌａｂｖｉｅｗとして知られているプログラム言語で開発されたコンピュータによって制御することができる。
【００４０】
２つの光線間の経路長さの相違は、以下のように補正され得る：
比較的安価であり、したがってそれほど大きい可干渉距離を有さないレーザを使用するためには、２つの光線の光学経路長さは、どの偏向鏡８が使用されるか（図１ｂ）に関係なくできるだけ互いに近い値を有することをできるだけ確実にすることが必要である。
【００４１】
図１ｃのレイアウトは、対照的に、補償を有さない簡単なレイアウトを示しており、ここでは、移動可能な鏡７は、光線分割板３から生じる非偏向のセグメント１４に沿って移動する。光線分割板３と光線部分１２および１６が交差する点Ａとの間のセグメント１４および１６の長さは、同じである距離を有するが、同じでない光学経路を有する。光線１２が変調器の液晶を通り抜けることにより、その経路は約５センチメートル（ｃｍ）（液晶長さ×（ｎ−ｌ）であり、式中、ｎは液晶の屈折率である）長くされる。点Ａから試料ＥＣＨに到達するために、光線１６’、１７は、直角三角形の短辺および斜辺に沿って進行し、一方で他方の光線１２は長辺に沿って進行する。したがって、光線１６’、１７は、光線１２のものより長い、点Ａから試料ＥＣＨまでの経路を有する。そうではあるが、これは、光線１２が点Ａに到達する前に進行し得るさらなる５ｃｍを常に補償するとは限らない。
【００４２】
図１ｃの形状が使用される場合、光線１４、１６、１７と光線１１、１２との間の光線分割板３から試料ＥＣＨまでの経路長さの合計の差は、偏向鏡８１の場合の−４．３ｃｍから偏向鏡８１０の場合の＋３．６ｃｍまでの範囲にある。第１の鏡から最後の鏡まで進む２つの光線間の経路長さの差は、したがって±４ｃｍで変化し、これは、短い可干渉距離を有するレーザで実施されたときの実験の良好な作動に有害になり得る。
【００４３】
図１ｂは、部分的な補償を達成するための偏向鏡の配置のより詳細な図を示している。これらの鏡は、８１から８１０で番号付けされる。光線１２は、破線で表され、さまざまな光線１６が、鏡７の位置に応じて示されている。
【００４４】
これらの差を補償するために、鏡Ｍｉは、光線１２に対して平行ではなく、凹角で移動され（図１ａおよび１ｄ）、それによって偏向鏡８１に当たったときには光線１４、１５、１６の経路長さを増大させ、偏向鏡８１０に当たったときには同経路長さを減少させる。この補正は、関係する方程式が線形ではないために部分的のみになり得る。
【００４５】
図１ｄは、この補償を少なくとも部分的にもたらすように適合されたレイアウトを示している。
【００４６】
以下の算出により、この部分的な補償を最適化することが可能になる。
【００４７】
光線１４、１４’、１５、１６、１７が、光線分割板３から試料ＥＣＨに進行し、偏向鏡８１を通過する光学経路長さＣｈＩは、以下の通りに算出される：
【００４８】
【数１】
0005916755.tif 000002
【００４９】
式中、Ｄは、試料ＥＣＨと光線１２および１６が交差する点Ａとの間の距離を指定し、０．７は、偏向鏡を通過することから生じる余分の経路長さ（ｃｍ）を指定する。
【００５０】
変調器ＥＯＭを通り抜けて光線分割板３から試料ＥＣＨに至る他方の光線（１１、１２）の光学経路長さＣｈＩＩは、以下の通りに算出される：
【００５１】
【数２】
0005916755.tif 000003
【００５２】
すべての大きさはｃｍで表される。方程式（２）の最後の５ｃｍは、変調器ＥＯＭ内の追加の経路長さから生じるものである。最後に、以下の方程式が使用される：
【００５３】
【数３】
0005916755.tif 000004
【００５４】
光線１４、１４’、１５、１６、１７が、偏向鏡８１０を通過しながら光線分割板３から試料まで進行する光学経路長さＣｈ’Ｉは、以下の通りに算出される：
【００５５】
【数４】
0005916755.tif 000005
【００５６】
式中、ｄは、点Ｂと試料ＥＣＨとの間の距離であり、８．６は、偏向鏡８１０を通過する際に進行する余分の経路長さである。光線分割光線３から試料ＥＣＨまでの光学経路長さＣｈＩＩは、同じようにして算出される：
【００５７】
【数５】
0005916755.tif 000006
【００５８】
すべての大きさは引き続きｃｍで表される。方程式（５）内の最後の５ｃｍは、上記と同様に、電子光学変調器ＥＯＭを通る追加の経路長さから生じるものである。以下の方程式が、最終的に得られる：
【００５９】
【数６】
0005916755.tif 000007
【００６０】
このとき、方程式（３）および（６）がゼロになるようにｘおよびｙを求めることが可能であり、それによって、たとえば両端の鏡８１と８１０に関して２つの光線間でゼロの経路長さ距離が得られる。言い換えれば、これは以下の解答に達する：
【００６１】
【数７】
0005916755.tif 000008
【００６２】
【数８】
0005916755.tif 000009
【００６３】
冗長的であるが簡単な算出後、ｘ＝３．４６ｃｍおよびｙ＝１２．９ｃｍが与えられる。
【００６４】
この補正は部分的のみであるが、その理由は、光学経路長さの差が、鏡８１および８１０に関してはゼロであるにも関わらず、鏡８４および８７に対して実施された類似の算出が、それぞれ［ＣＨＩ−ＣＨＩＩ］＝−０．７５ｃｍおよび［Ｃｈ’Ｉ−ＣｈＩＩ］＝−０．９７ｃｍを与えるためである。そうではあるが、最大の光学経路長さの差は、センチメートル程度しかないことが分かり、それにより、光信号を事前に処理することなく、比較的短い（数ｃｍ）可干渉距離を有し、したがって比較的安価であるが恐らくレーザダイオードではないレーザを使用することが可能になる。
【００６５】
経路長さの差が、偏向鏡の他の対、たとえば８２および８９または８４および８７に関して２つの光線間でゼロになるようにされる最適化を算出することが可能であることが認められるべきである。
【００６６】
上記の算出はまた、電子光学変調器が使用されない場合にも適用されることが認められるべきである。２つの光線間の経路長さの差は、ここでは、たとえば偏向鏡の対によって補償され得る。
【００６７】
図では、角度θ１＝９０°が選択されている。これは、光学ベンチの調整を容易にするので好ましい実施である。試料が、点Ｐ周りで、図の平面に対して垂直な軸周りを回転しても、角度θは同じままであるため、干渉が形成される方法は変更されないことが容易に分かる。
【００６８】
さらには、セグメント１２および１６は、垂直である必要はない。
【００６９】
正確な補償が、焦点軸が平行の状態で反対方向を向く２つの放物面鏡を用いることによって得られてよい。
【００７０】
試料ＥＣＨの点Ｐは、軸外し放物面鏡Ｍ２の焦点Ｆ２に置かれる（図２）。他方の軸外し放物面鏡Ｍ１の焦点Ｆ１には、平面鏡７’の回転軸が置かれ、平面鏡７’は、回転時、両方の光線を同じ平面内に保ちながら、光線１４が放物面鏡Ｍ１に到達する角度を変更する働きをする。点Ｆ１から試料までの光線の経路は、一定のままである。したがって、２つの光線間の経路長さの差は定数であり、この定数は、鏡９１および９２のシステムを用いて、幾何学的形状に応じて経路の一方または他方を長くすることによって補償され得る。
【００７１】
例として、図２では、補償は光線１２上で実施される（偏向鏡９１および９２）。
【００７２】
利点
ａ／２つの光線間の経路長さの差は、正確にゼロにすることができ、したがって単一モードダイオードである前提でレーザダイオードを使用することを可能にする。
【００７３】
ｂ／試料に当たる光線１７の角度の変動は連続的であり、従来技術として説明した実施形態のように別個のものではなく、この角度の値を、放物面鏡の焦点Ｆ１に位置する鏡上に課された角度から設定することが可能である。
【００７４】
ｃ／調整の不備が発生した場合、試験され再度調整される必要がある鏡の数は、従来技術として説明した実施形態よりもかなり少ないものである。
【００７５】
実施例
異なる軸上の、７．５ｃｍの同じ焦点長さおよび７．５ｃｍの直径を有する２つの放物面鏡は、約６０°を中心とする偏向角度と、放物面の軸と鏡の軸との間に約１０ｃｍのオフセットとを与える。
【００７６】
放物面鏡の一方および／または他方は、一揃えの平面鏡（図２の参照番号ｍ１およびｍ２を参照）によって置き換えられてよく、平面鏡は、このようにして置き換えられた放物面鏡のそれぞれの点７１および／または８２において正接のものであり、それによって衝突点７１および８２の対の数が制限される。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図１ｃ】
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【図１ｄ】
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【図２】
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