(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上に配置された水蒸気バリア層と、を有する水蒸気バリアフィルムの製造方法であって、
ポリシラザン、少なくとも１種の第１の溶媒、および少なくとも１種の第２の溶媒を溶媒の主成分とする第１の塗布液を前記基材上に塗布および乾燥して、第１の塗膜を形成する工程（１）と、
前記第１の塗膜に真空紫外光を照射して水蒸気バリア層を形成する工程（２）と、
を含み、
この際、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした場合に、前記第１の溶媒の蒸発速度が４０以下であり、かつ、前記第２の溶媒の蒸発速度が１００以上であり、
前記第１の溶媒は、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピオン酸−ｎ−ペンチル、酢酸オキソヘキシル、シクロヘキサノールアセテート、γ―ブチロラクトン、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノイソブチレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジイソブチレート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、α―テルピネオール、１，３−ブチレングリコール、イソホロン、３，５，５−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ｐ−シメン、アニソール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジエチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、およびトリプロピレングリコールモノブチルエーテルよりなる群から選ばれてなる少なくとも１種であり、
前記第２の溶媒は、ジブチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、及びトルエンよりなる群から選ばれてなる少なくとも１種であり、
前記第１の塗布液中の前記第１の溶媒が、第１の溶媒および第２の溶媒の総量に対して２０質量％以下である、製造方法。
【請求項２】
前記第１の塗布液の溶媒が、前記第１の溶媒および前記第２の溶媒からなるものである、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記第１の溶媒の蒸発速度が、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした場合に、２０以下である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記水蒸気バリア層の厚さが、５０〜１０００ｎｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記第１の塗膜への真空紫外光の積算光量が、１０００〜１００００ｍＪである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
ポリシロキサンを含む第２の塗布液を前記水蒸気バリア層上に塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程（３）と、
前記第２の塗膜に真空紫外光を照射して保護層を形成する工程（４）と、
をさらに含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記保護層の厚さが、１００〜１００００ｎｍである、請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
前記第２の塗膜への真空紫外光の積算光量が、５００〜１００００ｍＪである、請求項６または７に記載の製造方法。
【請求項９】
前記基材が、線膨張係数５０ｐｐｍ／℃以下であり、かつ、全光線透過率９０％以上である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水蒸気バリアフィルムの製造方法およびこれを利用した電気デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プラスチック基板やフィルムの表面に、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素等の金属酸化物を含む薄膜（ガスバリア層）を形成したガスバリアフィルムが、食品、医薬品等の分野で物品を包装する用途に用いられている。ガスバリアフィルムを用いることによって、水蒸気や酸素等のガスによる物品の変質を防止することができる。
【０００３】
このようなガスバリアフィルムを製造する方法としては、フィルム等の基材上にプラズマＣＶＤ法（Chemical Vapor Deposition：化学気相成長法、化学蒸着法）によって金属を蒸着してガスバリア層を形成する方法、ポリシラザンを主成分とする塗布液を基材上に塗布した後、表面処理してガスバリア層を形成する方法、またはこれらを併用する方法が知られている。
【０００４】
しかしながら、これらの製造方法で形成されたガスバリア層には、基材表面に存在する突起やガスバリア層中への異物混入によって微細孔が生じることがある。また、ガスバリア層の膨張・収縮によって微小なひび割れが生じることがある。さらに、取り扱い時の折り曲げや接触などによって傷が発生することがある。このような欠陥が生じたガスバリア層は、その欠陥箇所を通じてガスが透過することがあり、完全にガスを遮断することができない。
【０００５】
ところで、ガスバリアフィルムは、軽くて割れにくく、フレキシブル性に優れていることから、近年、上記包装用途以外の用途、例えば、太陽電池（ＰＶ）、液晶表示素子（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子等の電子デバイス等にも使用されている。電子デバイスにガスバリアフィルムを適用するためには、高いバリア性とともに、透明性、耐熱性等を有することが必要である。これまでに、電子デバイスへの適用を指向したガスバリアフィルムが報告されている。
【０００６】
例えば、特許文献１には、基材フィルム上に、少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層と、少なくとも１層の捕水層を有するガスバリアフィルム、すなわち、無機層からなるガスバリア層に、捕水層を設けたガスバリアフィルムが記載されている。
【０００７】
また、特許文献２には、基材フィルム上に少なくとも２層の無機ガスバリア層を有する水蒸気バリアフィルムにおいて、２層の無機ガスバリア層の間に少なくとも１層のアルカリ土類金属一酸化物からなる吸湿性層を有することを特徴とする水蒸気バリアフィルムが記載されている。
【０００８】
さらに、特許文献３には、透明基板上に少なくとも１層の金属窒化物膜が形成されてなる透明積層体であって、前記金属窒化物膜が、少なくとも酸素分子及び／又は水分子が存在する雰囲気中において酸化されうるものであることを特徴とする透明積層体が記載されている。
【０００９】
また、特許文献４には、シリカ蒸着層や塩化ビニリデン等をコートした、外部からの水分の侵入を防ぐためのフイルム（防湿層）が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００９−９０６３３号公報
【特許文献２】特開２００６−８２２４１号公報
【特許文献３】特開２００９−２９０７０号公報
【特許文献４】特開平７−１５３５７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、電子デバイスに適用されるガスバリアフィルムは、電子デバイスの製造工程や、電子デバイス使用時において、高温高湿環境にさらされることがある。また、電子デバイス製造時において、純水やアルカリ性溶液による洗浄等が行われることがある。特許文献１〜４に記載のガスバリアフィルムには、このような環境下において、ガスバリア性や透明性が低下（劣化）し、ムラが生じうることが判明した。
【００１２】
そこで本発明は、高温高湿の環境や、純水等に浸漬された場合であっても、ガスバリア性（特に水蒸気バリア性）や透明性に優れ、ムラの発生が抑制される水蒸気バリアフィルムを製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は鋭意研究を行った結果、水蒸気バリアフィルムを所定の方法で製造することにより上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１４】
すなわち、本発明の上記課題は以下の手段により達成される。
【００１５】
１．基材と、前記基材上に配置された水蒸気バリア層と、を有する水蒸気バリアフィルムの製造方法であって、ポリシラザン、少なくとも１種の第１の溶媒、および少なくとも１種の第２の溶媒を含む第１の塗布液を前記基材上に塗布および乾燥して、第１の塗膜を形成する工程（１）と、前記第１の塗膜に真空紫外光を照射して水蒸気バリア層を形成する工程（２）と、を含み、この際、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした場合に、前記第１の溶媒の蒸発速度が４０以下であり、かつ、前記第２の溶媒の蒸発速度が１００以上である、製造方法；
２．前記第１の溶媒の蒸発速度が、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした場合に、２０以下である、１．に記載の製造方法；
３．前記第１の塗布液中の前記第１の溶媒が、第１の溶媒および第２の溶媒の総量に対して２０質量％以下である、１．または２．に記載の製造方法；
４．前記水蒸気バリア層の厚さが、５０〜１０００ｎｍである、１．〜３．のいずれか１つに記載の製造方法；
５．前記第１の真空紫外光の積算光量が、１０００〜１００００ｍＪである、１．〜４．のいずれか１つに記載の製造方法；
６．ポリシロキサンを含む第２の塗布液を前記水蒸気バリア層上に塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程（３）と、前記第２の塗膜に真空紫外光を照射して保護層を形成する工程（４）と、をさらに含む、１．〜５．のいずれか１つに記載の製造方法；
７．前記保護層の厚さが、１００〜１００００ｎｍである、６．に記載の製造方法；
８．前記第２の真空紫外光の積算光量が、５００〜１００００ｍＪである、６．または７．に記載の製造方法；
９．前記基材が、線膨張係数５０ｐｐｍ／℃以下であり、かつ、全光線透過率９０％以上である、１．〜８．のいずれか１つに記載の製造方法；
１０．電子デバイス本体と、１．〜９．のいずれか１つの方法によって製造された水蒸気バリアフィルムと、を含む、電子デバイス；
１１．前記電子デバイス本体が、前記水蒸気バリアフィルムによって封止されてなる、１０．に記載の電子デバイス。
【発明の効果】
【００１６】
本発明により、高温高湿下の環境や、純水等に浸漬された場合であっても、ガスバリア性（特に水蒸気バリア性）や透明性に優れ、ムラの発生が抑制される水蒸気バリアフィルムを製造する方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に用いられる真空紫外光照射装置の一例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
【００１９】
本発明の一実施形態によれば、基材と、前記基材上に配置された水蒸気バリア層と、を有する水蒸気バリアフィルムの製造方法が提供される。この際、前記製造方法は、ポリシラザン、少なくとも１種の第１の溶媒、および少なくとも１種の第２の溶媒を含む第１の塗布液を前記基材上に塗布および乾燥して、第１の塗膜を形成する工程（１）と、前記第１の塗膜に真空紫外光を照射して水蒸気バリア層を形成する工程（２）と、を含む。また前記製造方法は、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした場合に、前記第１の溶媒の蒸発速度が４０以下であり、かつ、前記第２の溶媒の蒸発速度が１００以上であることを特徴とする。
【００２０】
＜工程（１）＞
工程（１）は、ポリシラザン、少なくとも１種の第１の溶媒、および少なくとも１種の第２の溶媒を含む第１の塗布液を基材上に塗布および乾燥して、第１の塗膜を形成する工程である。
【００２１】
［基材］
本発明に係る水蒸気バリアフィルムに用いられる基材は、水蒸気バリア層を保持することができるフィルム状の基材であれば特に限定されないが、可撓性および透過性を有する折り曲げ可能なフィルム基材であることが好ましい。なお、本明細書中において、「ガス透過性を有する」とは、モコン法に従いＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３３（ＭＯＣＯＮ社製）を用いて、ＪＩＳ規格のＫ７１２９法（温度４０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％）に基づいて測定した水蒸気透過率が、０．５ｇ／ｍ２／日以上であることを意味する。
【００２２】
基材の具体例としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ナイロン（Ｎｙ）、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド等の樹脂フィルム；有機無機ハイブリッド構造を有するシルセスキオキサンを基本骨格とした耐熱透明フィルム（シルプラス：新日鐵化学株式会社製）；透明ポリイミドのフィルム（透明ポリイミド系フィルム  タイプＨＭ：東洋紡株式会社製、透明ポリイミド系フィルム  ネオプリムＬ  Ｌ−３４３０：三菱ガス化学株式会社製）等が挙げられる。これらのうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）を用いることが好ましい。また、デバイスを封止する加工工程で高温処理が必要な場合には、耐熱性および透明性の観点から、透明ポリイミドフィルムを用いることが好ましい。これらの基材は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２３】
また、上記の樹脂フィルムを用いた基材は、未延伸フィルムであっても、延伸フィルムであってもよい。
【００２４】
上記の樹脂フィルムを用いた基材は、従来公知の一般的な製法により製造することができる。例えば、樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸フィルムを製造することができる。また、前記未延伸フィルムを一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸等の公知の方法により、基材の流れ（縦軸）方向、または基材の流れ方向と直角（横軸）方向に延伸することにより延伸フィルムを製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することができるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ２〜１０倍であることが好ましい。
【００２５】
本発明に用いる基材の厚さは５〜５００μｍであることが好ましく、２５〜２５０μｍであることがより好ましい。
【００２６】
本発明に用いる基材は、線膨張係数が５０ｐｐｍ／℃以下であることが好ましく、１〜５０ｐｐｍ／℃であることが好ましい。基材の線膨張係数が５０ｐｐｍ／℃以下であると、液晶表示装置（ＬＣＤパネル）等の電子デバイスに水蒸気バリアフィルムを適用した場合、環境温度変化等に対する色ズレの発生や基材の変形を抑制しうることから好ましい。なお、本明細書において「線膨張係数」とは、下記の方法により測定した値を採用するものとする。具体的には、ＥＸＳＴＡＲ  ＴＭＡ／ＳＳ６０００型熱応力歪測定装置（セイコーインスツル株式会社製）を用いて、測定する基材を窒素雰囲気下で５℃／分で３０℃から５０℃まで加熱した後、一時温度を維持する。その後、再度５℃／分で３０〜１５０℃に加熱し、このとき、引張モード（荷重５ｇ）で基材の寸法変化を測定する。当該値から線膨張係数が求められる。
【００２７】
また、本発明に用いる基材の全光線透過率は、９０％以上であることが好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、液晶表示装置（ＬＣＤパネル）等の電子デバイスに水蒸気バリアフィルムを適用した場合、高い輝度が得られうることから好ましい。なお、本明細書において、「全光線透過率」とは、分光光度計（可視紫外線分光光度計  ＵＶ−２５００ＰＣ：株式会社島津製作所製）を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ−１００３規格に準拠して可視光線の入射光量に対する全透過光量を測定して算出される、可視光域における平均透過率を意味する。
【００２８】
上述した基材上には、適宜その他の層（中間層）を形成してもよい。中間層としては、アンカーコート層、平滑層、およびブリードアウト防止層等が挙げられる。
【００２９】
（アンカーコート層）
アンカーコート層は、基材と水蒸気バリア層との密着性を向上させ、かつ、高い平滑性を付与する機能を有する。アンカーコート層は、例えば、アンカーコート剤を基材上に塗布することによって形成されうる。
【００３０】
用いられうるアンカーコート剤としては、特に制限されないが、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコン樹脂、およびアルキルチタネート等が挙げられる。これらのアンカーコート剤は、単独で、または２種以上組み合わせて用いられうる。前記アンカーコート剤には、さらに公知の添加剤、例えば溶剤、希釈剤等を加えてもよい。
【００３１】
アンカーコート剤の基材へのコーティング方法としては、特に制限されないが、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等が挙げられる。基材上にコーティングされたアンカーコート剤中に含まれうる溶剤や希釈剤等を乾燥除去することによって、アンカーコート層が形成されうる。
【００３２】
当該アンカーコート剤は、乾燥状態で０．１〜５ｇ／ｍ２となる塗布量で塗布されることが好ましい。
【００３３】
（平滑層）
平滑層は、通常、基材の一方の面上に形成され、微小な突起等が存在する基材の粗面を平坦化し、基材上に成膜する水蒸気バリア層などにおける凹凸やピンホールの発生を防止する機能を有する。平滑層は、感光性樹脂組成物を基材上に塗布した後、硬化させることによって形成されうる。
【００３４】
前記感光性樹脂組成物は、通常、感光性樹脂、光重合開始剤、および溶媒を含む。
【００３５】
前記感光性樹脂としては、光重合性不飽和結合を分子内に１個以上有する反応性モノマーを含有している感光性樹脂であれば特に制限されないが、ラジカル反応性不飽和結合を有するアクリレート化合物を含有する樹脂、アクリレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物を含有する樹脂、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、グリセロールメタクリレート等の多官能アクリレートモノマーを含有する樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で、または２種以上を混合して用いられうる。
【００３６】
前記光重合開始剤としては、特に制限されないが、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾインベンゾエート、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−（４−モルフォリニル）−１−プロパン、α−アシロキシムエステル、チオキサンソン類等が挙げられるこれらの光重合開始剤は、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられうる。
【００３７】
前記溶媒としては、特に制限されないが、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類；α−またはβ−テルピネオール等のテルペン類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン等のケトン類；トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、２−メトキシエチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、安息香酸メチル等のエステル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類が挙げられる。これらの溶媒は単独で、または２種以上を混合して用いてもよい。
【００３８】
前記感光性樹脂組成物は、必要に応じてさらに酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、無機粒子、感光性樹脂以外の樹脂等の添加剤が添加されていてもよい。
【００３９】
これらのうち、好ましい添加剤の一つは、表面に光重合反応性を有する感光性基が導入された反応性シリカ粒子（以下、単に「反応性シリカ粒子」とも称する）である。前記光重合性を有する感光性基としては、特に制限されないが、例えば（メタ）アクリロイルオキシ基に代表される重合性不飽和基が挙げられる。反応性シリカ粒子が有する光重合性を有する感光性基と、感光性樹脂が有する重合性不飽和基とが反応することによって水蒸気バリア層との密着性が向上しうる。
【００４０】
前記反応性シリカ粒子としては、特に制限されないが、重合性不飽和基修飾加水分解性シランが有する加水分解性シリル基を加水分解することによって、シリカ粒子とシリルオキシ基を生成して得られたもの、すなわち、重合性不飽和基修飾加水分解性シランとシリカ粒子とが化学的に結合したものでありうる。前記加水分解性シリル基としては、特に制限されないが、アルコキシシリル基；アセトキシシリル基等のカルボキシレートシリル基；クロロシリル基等のハロゲン化シリル基；アミノシリル基；オキシムシリル基；ヒドリドシリル基が挙げられる。なお、重合性不飽和基としては、特に制限されないが、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレート基、アクリルアミド基等が挙げられる。
【００４１】
前記反応性シリカ粒子の平均粒子径としては、０．００１〜０．１μｍであることが好ましく、０．００１〜０．０１μｍであることがより好ましい。反応性シリカ粒子が、上記範囲の平均粒子径を有することにより、感光性樹脂組成物に含有されうる後述のマット剤と組み合せて用いることで、防眩性と解像性とをバランスよく満たす光学特性およびハードコート性を有しうる。
【００４２】
前記反応性シリカ粒子を感光性樹脂組成物中に含む場合、反応性シリカ粒子は、２０〜６０質量％で含有されることが好ましい。反応性シリカ粒子が２０質量％以上含有されると、水蒸気バリア層との密着性が向上しうることから好ましい。一方、反応性シリカ粒子が６０質量％以下であると、高温高湿環境下におけるフィルムの変形が抑制され、これに伴うクラックの発生を抑制しうることから好ましい。
【００４３】
また、感光性樹脂組成物はマット剤を含むことが好ましい。マット剤を含有することによって光学特性が調整されうる。
【００４４】
マット剤としては、特に制限されず、シリカ、アルミナ、タルク、クレイ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、二酸化チタン、酸化ジルコニウム等が用いられうる。前記マット剤は、単独で、または２種以上を組み合わせて使用されうる。
【００４５】
マット剤の平均粒子径は、０．１〜１０μｍであることが好ましく、１〜１０μｍであることがより好ましい。マット剤が上記範囲の平均粒子径を有することにより、感光性樹脂組成物に含有されうる上述の反応性シリカ粒子と組み合せて用いることで、防眩性と解像性とをバランスよく満たす光学特性およびハードコート性を有しうる。
【００４６】
感光性樹脂組成物中のマット剤の含有量は、感光性樹脂組成物中の固形分１００質量部に対して、好ましくは２〜２０質量部、より好ましくは４〜１８質量部、さらに好ましくは６〜１６質量部ある。
【００４７】
さらに感光性樹脂組成物は、感光性樹脂以外の樹脂を含むことが好ましい。当該感光性樹脂以外の樹脂としては、特に制限されないが、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂が挙げられる。
【００４８】
熱可塑性樹脂の具体例としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体；酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン等のビニル系樹脂およびこれらの共重合体；ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール系樹脂；アクリル樹脂、メタクリル樹脂等のアクリル系樹脂およびこれらの共重合体；ポリスチレン系樹脂；ポリアミド系樹脂；線状ポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂等が挙げられる。
【００４９】
熱硬化性樹脂の具体例としては、アクリルポリオールとイソシアネートプレポリマーとからなる熱硬化性ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。
【００５０】
電離放射線硬化性樹脂の具体例としては、光重合性プレポリマーもしくは光重合性モノマー等の１または２種以上を混合した電離放射線硬化塗料に、電離放射線（紫外線または電子線）を照射して硬化するものが挙げられる。この際、前記光重合性プレポリマーとしては、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有し、架橋硬化すると３次元網目構造を形成するウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリル系プレポリマーが特に好ましい。また、光重合性モノマーとしては、上述の光感光性樹脂等が使用されうる。
【００５１】
感光性樹脂組成物の基材へのコーティング方法としては、特に制限されないが、スピンコーティング法、スプレー法、ブレードコーティング法、ディップ法等の湿式コーティング法、または蒸着法等の乾式コーティング法が挙げられる。基材上にコーティングされた感光性樹脂組成物中に含まれる溶媒等を乾燥除去することによって平滑層が形成されうる。
【００５２】
平滑層の平滑性は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定される表面粗さで表現される値で、最大断面高さＲｔ（ｐ）が、１０〜３０ｎｍであることが好ましい。Ｒｔが１０ｎｍ以上であると、後述する第１の塗布液を塗布する工程（１）において、ワイヤーバー、ワイヤレスバー等の塗布方式で平滑層表面に塗工手段が接触する場合に、安定した塗布性が得られうることから好ましい。一方、Ｒｔが３０ｎｍ以下であると、後述の工程で得られる水蒸気バリア層の凹凸が平滑化されうることから好ましい。
【００５３】
平滑層の厚さとしては、特に制限されないが、好ましくは１〜１０μｍであり、より好ましくは２〜７μｍである。平滑層の厚さが１μｍ以上であると、上記平滑層としての機能を十分に発揮しうることから好ましい。一方、平滑層の厚さが１０μｍ以下であると、水蒸気バリアフィルムの光学特性のバランスを調整することができ、水蒸気バリアフィルムのカールを抑えうることから好ましい。
【００５４】
（ブリードアウト防止層）
平滑層を有する基剤は、加熱の際に基材中から表面に未反応のオリゴマー等が移行して、基材表面が汚染されうる。ブリードアウト防止層は、当該基材表面の汚染を抑制する機能を有しうる。当該ブリードアウト防止層は、通常、平滑層を有する基材の平滑層とは反対の面に設けられうる。
【００５５】
ブリードアウト防止層は、上記機能を有していれば、平滑層と同じ構成でありうる。すなわち、ブリードアウト防止層は、感光性樹脂組成物を基材上に塗布した後、硬化させることによって形成されうる。
【００５６】
前記感光性樹脂組成物は、感光性樹脂、光重合開始剤、および溶媒を含む。前記感光性樹脂、光重合開始剤、および溶媒は上述の平滑層に記載のものと同様のものが用いられうる。また、前記感光性樹脂組成物は、上述の平滑層と同様に、さらに酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、無機粒子、感光性樹脂以外の樹脂等の添加剤が添加されていてもよい。
【００５７】
ブリードアウト防止層は、平滑層と同様に感光性樹脂組成物を基材上に塗布した後、硬化させることによって形成されうる。具体例としては、各種成分を適宜配合して、所定の希釈溶剤を加えて塗布液を調製し、当該塗布液を基材上に公知の塗布方法によって塗布する。その後、電離放射線を照射して硬化させることによりブリードアウト防止層が形成されうる。なお、電離放射線は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる１００〜４００ｎｍ、好ましくは２００〜４００ｎｍの波長領域の真空紫外光、または走査型やカーテン型の電子線加速器から発せられる１００ｎｍ以下の波長領域の電子線が使用されうる。
【００５８】
ブリードアウト防止層の厚さとしては、好ましくは１〜１０μｍ、より好ましくは２〜７μｍである。ブリードアウト防止層の厚さが１μｍ以上であると、水蒸気バリアフィルムの耐熱性が向上しうることから好ましい。一方、ブリードアウト防止層の厚さが１０μｍ以下であると、水蒸気バリアフィルムの光学特性が好適に調整され、また、水蒸気バリアフィルムのカールを抑制しうることから好ましい。
【００５９】
基材上に、上述のアンカーコート層、平滑層、およびブリードアウト層からなる群から選択される少なくとも１つの中間層が形成される場合、基材および中間層の総膜厚は、５〜５００μｍであることが好ましく、２５〜２５０μｍであることがより好ましい。
【００６０】
［第１の塗布液］
第１の塗布液は、ポリシラザン、少なくとも１種の第１の溶媒、および少なくとも１種の第２の溶媒を含む。
【００６１】
（ポリシラザン）
ポリシラザンとは、ケイ素−窒素結合を有するポリマーであり、Ｓｉ−Ｎ、Ｓｉ−Ｈ、Ｎ−Ｈ等の結合を有するＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、およびこれらの中間固溶体ＳｉＯｘＮｙ等のセラミック前駆体無機ポリマーである。
【００６２】
前記ポリシラザンは、特に制限されないが、比較的低温でセラミック化してシリカに変性する化合物であることが好ましく、例えば、特開平８−１１２８７９号公報に記載の下記一般式（１）で表される単位からなる主骨格を有する化合物であることが好ましい。
【００６３】
【化１】
0005891822.tif 000002
【００６４】
上記一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、またはアルコキシ基を表す。
【００６５】
ポリシラザンは、得られる水蒸気バリア層としての緻密性の観点から、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンであることが特に好ましい。
【００６６】
また、前記一般式（１）において、Ｓｉに結合した水素原子（Ｒ１および／またはＲ２）の一部がメチル基等のアルキル基等で置換されたオルガノポリシラザンは、基材との接着性が改善され、かつ、硬くてもろいポリシラザンによるセラミック膜に靭性を持たせることができ、より膜厚（平均膜厚）を厚くした場合でもクラックの発生が抑えられる利点がある。そこで用途に応じて適宜、パーヒドロポリシラザンとオルガノポリシラザンを選択してよく、混合して使用することもできる。
【００６７】
パーヒドロポリシラザンは、直鎖構造と、６員環および８員環を中心とする環構造が存在した構造と推定されている。その分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で約６００〜２０００（ポリスチレン換算）であり、分子量によって液体または固体でありうる。これらは有機溶媒に溶解した溶液状態で市販されており、市販品をそのままポリシラザン含有塗布液として使用することができる。パーヒドロポリシラザンの市販品としては、アクアミカ  ＮＡＸ１２０−２０、ＮＮ１１０、ＮＮ３１０、ＮＮ３２０、ＮＬ１１０Ａ、ＮＬ１２０Ａ、ＮＬ１５０Ａ、ＮＰ１１０、ＮＰ１４０、ＳＰ１４０（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）等が挙げられる。
【００６８】
低温でセラミック化するポリシラザンの他の例としては、上記一般式（１）で表される単位からなる主骨格を有するポリシラザンに、ケイ素アルコキシドを反応させて得られるケイ素アルコキシド付加ポリシラザン（例えば、特開平５−２３８８２７号公報参照）、グリシドールを反応させて得られるグリシドール付加ポリシラザン（例えば、特開平６−１２２８５２号公報参照）、アルコールを反応させて得られるアルコール付加ポリシラザン（例えば、特開平６−２４０２０８号公報参照）、金属カルボン酸塩を反応させて得られる金属カルボン酸塩付加ポリシラザン（例えば、特開平６−２９９１１８号公報参照）、金属を含むアセチルアセトナート錯体を反応させて得られるアセチルアセトナート錯体付加ポリシラザン（例えば、特開平６−３０６３２９号公報参照）、金属微粒子を添加して得られる金属微粒子添加ポリシラザン（例えば、特開平７−１９６９８６号公報参照）等が挙げられる。
【００６９】
第１の塗布液中のポリシラザン濃度は、目的とするポリシラザン塗膜の膜厚や塗布液のポットライフによっても異なるが、０．２〜３５質量％であることが好ましい。
【００７０】
（第１の溶媒）
第１の溶媒は、当該技術分野において、一般的に基準として用いられる酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした場合に、蒸発速度が４０以下であり、好ましくは２０以下であり、より好ましくは０．１〜１０である。
【００７１】
第１の溶媒としては、特に制限されないが、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピオン酸−ｎ−ペンチル、酢酸オキソヘキシル、シクロヘキサノールアセテート、γ―ブチロラクトン、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノイソブチレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジイソブチレート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート等のエステル類；３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、α―テルピネオール、１，３−ブチレングリコール等のアルコール類；イソホロン、３，５，５−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のケトン類；ｐ−シメン等の芳香族炭化水素類；アニソール等のエーテル類；エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジエチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル等のアルキレングリコールアルキルエーテル類等が用いられうる。
【００７２】
なお、本明細書において、溶媒の蒸発速度は、以下の方法により測定された値を採用するものとする。具体的には、窒素ガスを供給可能にしたフード付き化学天秤２台を用い、両者の天秤皿に濾紙Ｎｏ．５Ｃ（９ｃｍφ）を入れた１０ｃｍφのシャーレをのせる。一方に酢酸ブチル、他方に試料をそれぞれ０．７ｍＬずつとり、２３℃、相対湿度５０％、大気圧下において、窒素ガスを３０ＮＬ／ｍＬの流速で各シャーレへ同時に供給して、酢酸ブチルおよび試料のそれぞれの重量を３０秒経過ごとに同時に測定し、６０秒、９０秒、１２０秒において、酢酸ブチルの減少重量に対する試料の減少重量の百分率をそれぞれ求める。試料の溶媒の蒸発速度は、前記減少重量の百分率の平均値として算出される。
【００７３】
なお、公知の有機溶剤の蒸発速度は「最新コーティング技術」（１９８３年（株）総合技術センター発行）１７〜１９ページの表５等にも記載されており、このような公知の値を適宜採用してもよい。
【００７４】
第１の溶媒は、第１の溶媒および第２の溶媒の総量に対して２０質量％以下であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましい。
【００７５】
（第２の溶媒）
第２の溶媒は、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした場合に、蒸発速度が１００以上であり、好ましくは１００〜２００であり、より好ましくは１００〜１５０である。
【００７６】
第２の溶媒としては、特に制限されないが、ジブチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、トルエン等が用いられうる。
【００７７】
なお、第２の溶媒においても、蒸発速度は、第１の溶媒と同様の方法により測定された値を採用するものとする。また、第２の溶媒の蒸発速度は、適宜公知の値を参酌してもよい。
【００７８】
第２の溶媒は、第１の溶媒および第２の溶媒の総量に対して８０質量％以上であることが好ましく、９０〜９９質量％であることがより好ましい。
【００７９】
第１の塗布液は、さらにアミン、金属、第１および第２の溶媒以外の溶媒等を含んでいてもよい。
【００８０】
（アミンおよび金属）
アミンおよび金属は、後述する工程（２）において、ポリシラザンの酸化ケイ素化合物への転化を促進しうる。第１の塗布液中に特にアミン触媒を０．５〜５質量％の含有量で含むと、塗布性が向上し、転化反応に要する時間が短時間となることから好ましい。
【００８１】
（第１および第２の溶媒以外の溶媒）
第１および第２の溶媒以外の溶媒としては、特に制限されず、公知の溶媒が用いられうる。具体的には、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素溶媒等の炭化水素溶媒；脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル系溶媒等が挙げられる。より詳細には、炭化水素溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターベン、塩化メチレン、トリクロロエタン等が挙げられる。また、エーテル系溶媒としては、ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらの溶媒は単独で、または２種以上を混合して、上述の第１および第２の溶媒とともに用いられうる。
【００８２】
第１の塗布液中の第１および第２の溶媒以外の溶媒の含有量は、後述する塗布液の乾燥速度を考慮して適宜決定されうる。
【００８３】
［第１の塗膜］
第１の塗膜は、上記第１の塗布液を基材上に塗布および乾燥することにより形成される。基材がアンカーコート層、平滑層等の中間層を有する場合には、当該中間層上に第１の塗膜が形成されうる。
【００８４】
第１の塗布液の基材等への塗布方法としては、従来公知の適切な湿式コーティング法が採用されうる。具体的には、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。
【００８５】
第１の塗布液を塗布した後は、第１の塗膜を乾燥させて、第１の塗膜中に含有される有機溶媒を除去する。本発明においては、第１の塗布液中に、２種以上の溶媒、すなわち、第１の溶媒および第２の溶媒を含むことを特徴とする。前記２種の溶媒を含むことにより、塗布した第１の塗布液の乾燥速度が好適に制御される。その結果、基材および中間層が有する凹凸に起因して発生する第１の塗膜の凹凸の発生が低減され、第１の塗膜表面が平坦になりうる。そうすると、後述の工程（２）を経て得られる水蒸気バリア層が、高温高湿の環境や、純水等に浸漬された場合であっても、水蒸気バリア性や透明性に優れ、ムラの発生が抑制されたものとなりうる。なお、第１の塗膜の乾燥時において、第１の塗膜に含有される有機溶媒は、すべてを乾燥させても、一部残存させていてもよい。一部の有機溶媒を残存させる場合であっても、好適な水蒸気バリア層が得られうる。なお、残存する溶媒は工程（２）の過程で除去されうる。
【００８６】
第１の塗膜の乾燥温度は、適用する基材によっても異なるが、５０〜２００℃であることが好ましい。例えば、ガラス転位温度（Ｔｇ）が７０℃のポリエチレンテレフタレート基材を基材として用いる場合には、乾燥温度は、熱による基材の変形等を考慮して１５０℃以下に設定することが好ましい。上記温度は、ホットプレート、オーブン、ファーネスなどを使用することによって設定されうる。乾燥時間は短時間に設定することが好ましく、例えば、乾燥温度が１５０℃である場合には３０分以内に設定することが好ましい。また、乾燥雰囲気は、大気雰囲気下、窒素雰囲気下、アルゴン雰囲気下、真空雰囲気下、酸素濃度をコントロールした減圧雰囲気下等のいずれの条件であってもよい。
【００８７】
第１の塗布液の塗布量は、所望の水蒸気バリア層の厚さに応じて当業者が適宜設定しうる。
【００８８】
＜工程（２）＞
工程（２）は、工程（１）で得た第１の塗膜に真空紫外光を照射して水蒸気バリア層を形成する工程である。
【００８９】
［水蒸気バリア層］
水蒸気バリア層は、水蒸気バリアフィルムに水蒸気バリア性を付与する。
【００９０】
前記水蒸気バリア層は、工程（１）で得た第１の塗膜に真空紫外光（ＶＵＶ）を照射することにより形成される。第１の塗膜に真空紫外光を照射することにより、第１の塗膜中に含まれるポリシラザンが改質されうる。なお、ポリシラザンの改質とは、ポリシラザンが、酸化ケイ素化合物および／または酸窒化ケイ素化合物へ転化することを意味する。なお、本明細書において「真空紫外光」とは、１０〜２００ｎｍの波長を有する電磁波を含む紫外光を意味し、好ましくは１００〜２００ｎｍ、より好ましくは１００〜１８０ｎｍである。
【００９１】
ポリシラザンの改質処理、すなわち、ポリシラザンの置換反応による酸化ケイ素および／または酸窒化ケイ素の形成には４５０℃以上の高温が必要であり、加熱による改質処理は、樹脂フィルムを基材に用いる場合には適用が困難である。そこで、より低温で改質処理をすることができる真空紫外光の照射による改質が適用される。真空紫外光をポリシラザンに照射すると、ポリシラザンがシラノールを経由することなく直接酸化されることから（光量子プロセスと呼ばれる光子の作用）、高密度で欠陥の少ない酸化ケイ素膜および／または酸窒化ケイ素膜が得られうる。また、真空紫外光では、反応雰囲気中に存在する酸素等から高い酸化能力を有するオゾンや活性酸素が生成され、当該オゾンや活性酸素によってもポリシラザンの改質処理を行うことができる。その結果、より緻密な酸化ケイ素膜および／または酸窒化ケイ素膜が得られうる。したがって、真空紫外光の照射によりポリシラザンが改質されて得られる水蒸気バリア層は、高いバリア性を有しうる。
【００９２】
水蒸気バリア層の厚さは、所望の性能に応じて適宜に設定されうる。例えば、水蒸気バ
リア層の厚さは、５０ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましい。水蒸気バリア層の厚さが５０ｎｍ以上であると、十分なバリア性が得られうることから好ましい。一方、膜厚が１μｍ以下であると、高い光線透過性を実現でき、かつ、水蒸気バリア層の形成に際して安定した塗布を行うことができることから好ましい。
【００９３】
［照射条件］
真空紫外光としては、特に限定されず、公知のものが使用されうる。例えば、低圧水銀ランプ、エキシマランプ等が挙げられる。これらのうち、エキシマランプ、特にキセノン（Ｘｅ）エキシマランプを用いることが好ましい。Ｘｅ、Ｋｒ、Ａｒ、Ｎｅ等の希ガスは最外殻電子が閉殻となっているため、化学的に非常に不活性であることから、不活性ガスと呼ばれる。しかし、放電等によりエネルギーを得た希ガス（励起原子）は、他の原子と結合して分子を形成することができる。例えば、希ガスがキセノンの場合には、
ｅ＋Ｘｅ→Ｘｅ＊
Ｘｅ＊＋２Ｘｅ→Ｘｅ２＊＋Ｘｅ
Ｘｅ２＊→Ｘｅ＋Ｘｅ＋ｈν（１７２ｎｍ）
となる。この際、励起されたエキシマ分子であるＸｅ２＊が基底状態に遷移するとき、１７２ｎｍのエキシマ光（真空紫外光）が発光する。上記エキシマランプは前記エキシマ光を利用する。前記エキシマ光を発生させる方法としては、例えば、誘電体バリア放電を用いる方法および無電極電界放電を用いる方法が挙げられる。なお、誘電体バリア放電とは、両電極間に誘電体（エキシマランプの場合は透明石英）を介してガス空間を配し、電極に数１０ｋＨｚの高周波高電圧を印加した場合に、ガス空間に生じる雷に似た非常に細いｍｉｃｒｏ  ｄｉｓｃｈａｒｇｅと呼ばれる放電である。また、無電極電界放電とは、容量性結合による放電であり、別名ＲＦ放電とも呼ばれる。具体的には、誘電体バリア放電と同様にランプや電極等が配置され、前記電極に数ＭＨｚの高周波電圧を印加した場合に得られる空間的・時間的に一様な放電である。
【００９４】
エキシマランプは、エキシマ光が一つの波長に集中し、必要な光以外がほとんど放射されない点に特徴を有し、効率性が高い。また、余分な光が放射されないことから、対象物の温度を低く保つことができる。さらに、始動・再始動に時間を要さないことから、瞬時に点灯点滅が可能となる。特に、Ｘｅエキシマランプは、波長の短い１７２ｎｍの真空紫外光を単一波長で放射することから、発光効率に優れている。当該Ｘｅエキシマランプは、１７２ｎｍと波長が短く、エネルギーが高いことから、有機化合物の結合の切断能が高いことが知られている。また、Ｘｅエキシマランプは、酸素の吸収係数が大きいため、微量な酸素であっても効率よく活性酸素やオゾンを発生させることができる。したがって、例えば、波長１８５ｎｍの真空紫外光を発する低圧水銀ランプと対比すると、Ｘｅエキシマランプは、高い有機化合物の結合切断能を有し、活性酸素やオゾンを効率的に発生させることができ、低温かつ短時間でポリシラザンの改質処理をすることができる。また、Ｘｅエキシマランプは、光の発生効率が高いため、低電力で瞬時に点灯点滅が可能であり、単一の波長を発光できることから、高スループットに伴うプロセス時間の短縮や設備面積の縮小等の経済的観点、および熱によるダメージを受けやすい基材を用いた水蒸気バリアフィルムへの適用等の観点からも好ましい。
【００９５】
真空紫外光の照射は、照射される改質前のポリシラザン層を担持している基材がダメージを受けない範囲で、照射強度や照射時間を設定することが好ましい。例えば、基材にプラスチックフィルムを用いる場合には、２ｋＷ（８０Ｗ／ｃｍ×２５ｃｍ）のランプを用い、基材表面の強度が２０〜３００ｍＷ／ｃｍ２、好ましくは５０〜２００ｍＷ／ｃｍ２になるように基材−真空紫外光照射ランプ間の距離を設定しうる。
【００９６】
真空紫外光照射の時間は、使用する基材やポリシラザン層の組成、濃度等によっても異なるが、通常、０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．５秒〜３分である。
【００９７】
真空紫外光の積算光量としては、特に制限されないが、１０００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１０００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。真空紫外光の積算光量が１０００ｍＪ／ｃｍ２以上であると、十分な改質が行われることにより高いバリア性が得られうることから好ましい。一方、真空紫外光の積算光量が１００００ｍＪ／ｃｍ２以下であると、基材が変形することなく平滑性の高い水蒸気バリア層が形成されうることから好ましい。
【００９８】
真空紫外光の照射温度は、適用する基材によっても異なり、当業者によって適宜決定されうる。真空紫外光の照射温度は、好ましくは５０〜２００℃である。当該温度が前記範囲内であると、基材の変形や強度の劣化等が生じにくく、基材の特性が損なわれないことから好ましい。
【００９９】
また、真空紫外光の照射雰囲気は、特に制限されないが、活性酸素やオゾンを発生させて効率的に改質を行う観点から酸素を含む雰囲気下で行うことが好ましい。真空紫外照射の酸素濃度は３００〜１００００ｐｐｍ（１％）であることが好ましく、５００〜５０００ｐｐｍであることがより好ましい。酸素濃度が上記範囲にあると、バリア性の劣化を防止することができることから好ましい。真空紫外光の照射雰囲気中の酸素以外のガスは、乾燥不活性ガスであることが好ましく、コストの観点から、乾燥窒素ガスであることがより好ましい。なお、酸素濃度は、照射庫内へ導入する酸素ガス、不活性ガス等のガス流量を計測し、流量比を変えることで調整することができる。
【０１００】
発生させた真空紫外光は、照射効率向上と均一な照射を達成する観点から、発生源からの真空紫外光を反射板で反射させてから改質前のポリシラザン層に照射してもよい。また真空紫外光の照射は、バッチ処理にも連続処理にも適用可能であり、使用する基材の形状によって適宜選定されうる。例えば、基材が長尺フィルム状である場合には、これを搬送させながら連続的に真空紫外光を照射して改質を行うことが好ましい。
【０１０１】
本発明の一実施形態において、水蒸気バリアフィルムは、さらに保護層を有していてもよい。当該保護層を有する水蒸気バリアフィルムの製造方法は、ポリシロキサンを含む第２の塗布液を前記水蒸気バリア層上に塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程（３）と、前記第２の塗膜に真空紫外光を照射して保護層を形成する工程（４）と、をさらに含む。
【０１０２】
＜工程（３）＞
工程（３）は、ポリシロキサンを含む第２の塗布液を、工程（２）で得た水蒸気バリア層上に塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程である。
【０１０３】
［第２の塗布液］
第２の塗布液はポリシロキサンを含む。
【０１０４】
（ポリシロキサン）
ポリシロキサンとしては、特に制限されず、公知のものが用いられうる。なかでも下記一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサンを用いることが好ましい。
【０１０５】
【化２】
0005891822.tif 000003
【０１０６】
上記一般式（２）において、Ｒ３〜Ｒ８は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ８の有機基を表す。この際、前記Ｒ３〜Ｒ８の少なくとも１つは、アルコキシ基または水酸基であり、ｍは１以上の整数である。Ｃ１〜Ｃ８の有機基としては、特に制限されないが、γ−クロロプロピル基、３，３，３−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基；ビニル基等のアルケニル基；フェニル基等のアリール基；γ−メタクリルオキシプロピル基等の（メタ）アクリル酸エステル基；γ−グリシドキシプロピル基等のエポキシ含有アルキル基；γ−メルカプトプロピル基等のメルカプト含有アルキル基；γ−アミノプロピル基等のアミノアルキル基；γ−イソシアネートプロピル基等のイソシアネート含有アルキル基；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の直鎖状または分岐状アルキル基；シクロヘキシル基、シクロペンチル基等の脂環状アルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基等の直鎖状または分岐状アルコキシ基；アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、カプロイル基等のアシル基が挙げられる。
【０１０７】
上記一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサンのうち、ｍが１以上、かつ、重量平均分子量（ポリスチレン換算）が１，０００〜２０，０００であるオルガノポリシロキサンを用いることがより好ましい。オルガノポリシロキサンの重量平均分子量が１０００以上であると、形成される保護層に亀裂が生じにくくなり、水蒸気バリア性を維持しうることから好ましい。一方、オルガノポリシロキサンの重量平均分子量が２０，０００以下であると、形成される保護層が十分に硬化され、保護層として十分な硬度が得られうることから好ましい。
【０１０８】
上記第２の塗布液は、さらに溶媒を含有していてもよい。
【０１０９】
（溶媒）
第２の塗布液に含有されうる溶媒としては、特に制限されないが、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン系溶媒等が挙げられる。アルコール系溶媒としては、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ペンタノール、イソペンタノール、２−メチルブタノール、ｓｅｃ−ペンタノール、ｔｅｒｔ−ペンタノール、３−メトキシブタノール、ヘキサノール、２−メチルペンタノール、ｓｅｃ−ヘキサノール、２−エチルブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどが挙げられる。ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、エチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、ジイソブチルケトン、トリメチルノナノン、シクロヘキサノン、２−ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、２，４−ペンタンジオン、アセトニルアセトン、アセトフェノン、フェンコン等のケトン類、およびアセチルアセトン、２，４−ヘキサンジオン、２，４−ヘプタンジオン、３，５−ヘプタンジオン、２，４−オクタンジオン、３，５−オクタンジオン、２，４−ノナンジオン、３，５−ノナンジオン、５−メチル−２，４−ヘキサンジオン、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン、１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ−２，４−ヘプタンジオンなどのβ−ジケトン類などが挙げられる。アミド系溶媒としては、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−エチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−エチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ホルミルモルホリン、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−ホルミルピロリジン、Ｎ−アセチルモルホリン、Ｎ−アセチルピペリジン、Ｎ−アセチルピロリジンなどが挙げられる。エステル系溶媒としては、ジエチルカーボネート、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸−ｓｅｃ−ブチル、酢酸ペンチル、酢酸−ｓｅｃ−ペンチル、酢酸−３−メトキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸−２−エチルブチル、酢酸−２−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸ノニル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノプロピルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ酢酸グリコール、酢酸メトキシトリグリコール、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソアミル、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸アミル、マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチルなどが挙げられる。非プロトン系溶媒としては、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラエチルスルファミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、Ｎ−メチルモルホロン、Ｎ−メチルピロール、Ｎ−エチルピロール、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ−メチル−４−ピペリドン、Ｎ−メチル−２−ピペリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジメチルテトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジノンなどが挙げられる。また、上記溶媒の他、上述した第１の塗布液で用いられうる第１の溶媒および第２の溶媒を用いてもよい。これらのうち、アルコール系溶媒を用いることが好ましい。なお、これらの溶媒は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１０】
［第２の塗膜］
第２の塗膜は、上記第２の塗布液を水蒸気バリア層上に塗布および乾燥することにより形成される。なお、第２の塗膜についても第１の塗膜と同様に、第２の塗膜に含有される有機溶媒をすべて乾燥させても、一部残存させてもよい。一部の有機溶媒を残存させる場合には、残存する溶媒は工程（４）の過程で除去されうる。
【０１１１】
第２の塗布液の水蒸気バリア層への塗布方法としては、従来公知の適切な湿式コーティング法が採用されうる。具体的には、スピンコート、ディッピング、ローラーブレード、スプレー法等が挙げられる。
【０１１２】
第２の塗布液を塗布した後は、第２の塗膜を乾燥させて、第２の塗膜中に残存する有機溶媒を除去する。第２の塗膜の乾燥温度は、適用する基材によっても異なるが、５０〜２００℃であることが好ましい。乾燥温度が５０℃以上であると、十分なバリア性を得ることができることから好ましい。一方、乾燥温度が２００℃以下であると、基材が変形することなく平滑性の高い保護層を形成することができることから好ましい。上記温度は、ホットプレート、オーブン、ファーネスなどを使用することによって設定されうる。乾燥時間は、設定温度に応じて当業者により適宜設定されうるが、短時間に設定することが好ましい。また、乾燥雰囲気としては、大気雰囲気下、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気、真空雰囲気下、酸素濃度をコントロールした減圧雰囲気下などのいずれの条件であってもよい。
【０１１３】
第２の塗布液の塗布量は、所望の保護層の厚さに応じて当業者が適宜設定しうる。
【０１１４】
＜工程（４）＞
工程（４）は、工程（３）で得た第２の塗膜に真空紫外光を照射して保護層を形成する工程である。
【０１１５】
［保護層］
保護層は、水蒸気バリア層を水分等から保護し、水蒸気バリア性を維持する機能を有する。
【０１１６】
保護層は、工程（３）で得た第２の塗膜に真空紫外光（ＶＵＶ）を照射することにより形成される。第２の塗膜を真空紫外光で照射することにより、第２の塗膜中に含まれるポリシロキサンが改質されうる。
【０１１７】
保護層の厚さは、所望の性能に応じて適宜に設定されうる。例えば、保護層の厚さは、１００ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、５０ｎｍ〜１μｍであることがより好ましい。保護層の厚さが１００ｎｍ以上であると、十分なバリア性が得られうることから好ましい。一方、保護層の厚さが１０μｍ以下であると、高い光線透過性を実現でき、かつ、保護層の形成に際して安定した塗布を行うことができることから好ましい。
【０１１８】
保護層の膜密度は、通常、０．３５〜１．２ｇ／ｃｍ３であり、好ましくは０．４〜１．１ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは０．５〜１．０ｇ／ｃｍ３である。膜密度が０．３５ｇ／ｃｍ３以上であると、十分な塗膜の機械的強度を得ることができることから好ましい。一方、膜密度が１．２ｇ／ｃｍ３以下であると、保護層のクラックが生じにくくなることから好ましい。
【０１１９】
［照射条件］
真空紫外光としては、上記工程（１）と同様に、公知のものが使用されうる。例えば、低圧水銀ランプ、エキシマランプ等が挙げられる。これらのうち、エキシマランプ、特にキセノン（Ｘｅ）エキシマランプを用いることが好ましい。
【０１２０】
真空紫外光の照射の時間は、使用する基材やポリシロキサン層の組成、濃度等によっても異なるが、通常、０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．５秒〜３分である。
【０１２１】
真空紫外光の積算光量としては、特に制限されないが、５００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。真空紫外光の積算光量が５００ｍＪ／ｃｍ２以上であると、十分な改質が行われることにより高いバリア性が得られうることから好ましい。一方、真空紫外光の積算光量が１，０００ｍＪ／ｃｍ２以下であると、基材が変形することなく平滑性の高い水蒸気バリア層が形成されうることから好ましい。
【０１２２】
真空紫外光の照射温度は、適用する基材によっても異なり、当業者によって適宜決定されうる。真空紫外光の照射温度は、好ましくは５０〜２００℃である。当該温度が前記範囲内であると、基材の変形や強度の劣化等が生じにくく、基材の特性が損なわれないことから好ましい。
【０１２３】
また、真空紫外光の照射雰囲気は、特に制限されないが、活性酸素およびオゾンを発生させて効率的に改質を行う観点から酸素を含む雰囲気下で行うことが好ましい。真空紫外照射の酸素濃度は３００〜１００００ｐｐｍ（１％）であることが好ましく、５００〜５０００ｐｐｍであることがより好ましい。酸素濃度が上記範囲にあると、バリア性の劣化を防止することができることから好ましい。真空紫外光の照射雰囲気中の酸素以外のガスは、乾燥不活性ガスであることが好ましく、コストの観点から特に乾燥窒素ガスを用いることがより好ましい。なお、酸素濃度は、照射庫内へ導入する酸素ガス、不活性ガス等のガス流量を計測し、流量比を変えることで調整することができる。
【０１２４】
発生させた真空紫外光は、照射効率向上と均一な照射を達成する観点から、発生源からの真空紫外光を反射板で反射させてから改質前のポリシラザン層に照射してもよい。また真空紫外光の照射は、バッチ処理にも連続処理にも適用可能であり、使用する基材の形状によって適宜選定されうる。例えば、基材が長尺フィルム状である場合には、これを搬送させながら連続的に真空紫外光を照射して改質を行うことが好ましい。
【０１２５】
本発明の一実施形態によれば、電子デバイス本体と、上述の方法によって製造された水蒸気バリアフィルムとを含む電子デバイスが提供される。
【０１２６】
＜電子デバイス本体＞
電子デバイス本体としては、特に制限されず、水蒸気バリアフィルムが適用されうる公知の電子デバイス本体が挙げられる。例えば、太陽電池（ＰＶ）、液晶表示素子（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子等が挙げられる。これらの電子デバイス本体の構成についても、特に制限はなく、公知の構成を有しうる。例えば、有機ＥＬ素子は、基板、陰電極、電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽電極等を有しうる。
【０１２７】
＜水蒸気バリアフィルム＞
上述の方法によって製造された水蒸気バリアフィルムは、基材、封止用材料等に使用されうる。基材として、例えば、太陽電池に使用される場合には、水蒸気バリアフィルム上にＩＴＯ等の透明導電性薄膜を透明電極として設けた樹脂支持体として適用することができる。この場合、水蒸気バリアフィルムは、電子デバイス本体に組み込まれている。また、封止用材料として使用される場合には、例えば、液晶表示素子を封止した電子デバイスが得られうる。本発明に係る水蒸気バリアフィルムは、封止用材料として、電子デバイス本体の封止に用いられることが好ましい。
【０１２８】
＜電子デバイスの製造方法＞
電子デバイス本体と、水蒸気バリアフィルムとを含む電子デバイスは、特に制限されず、公知の手法を適宜参照して製造されうる。
【実施例】
【０１２９】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０１３０】
＜中間層を有する基材の作製＞
［中間層（ブリードアウト防止層および平滑層）を有する基材１の作製］
基材として、両面に易接着加工された厚さ１２５μｍのポリエステルフィルムである極低熱収ＰＥＴ  Ｑ８３（熱膨張係数：４０ｐｐｍ、帝人デュポンフィルム株式会社製）を用いた。
【０１３１】
上記基材の一方の面に、感光性樹脂であるＵＶ硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材  ＯＰＳＴＡＲ  Ｚ７５３５（ＪＳＲ株式会社製）を、乾燥後の膜厚が４．０μｍとなるように塗布した。得られた塗膜を、高圧水銀ランプで照射し、硬化させることでブリードアウト防止層を形成した。なお、照射は、空気雰囲気下、照射エネルギー量１．０Ｊ／ｃｍ２で８０℃、３分間行った。
【０１３２】
上記基材の前記ブリードアウト防止層とは反対の面に、感光性樹脂であるＵＶ硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材  ＯＰＳＴＡＲ  Ｚ７５０１（ＪＳＲ株式会社製）を、乾燥後の膜厚が４．０μｍとなるように塗布した。得られた塗膜を、高圧水銀ランプで照射し、硬化させることで平滑層を形成した。なお、照射は、空気雰囲気下、照射エネルギー量１．０Ｊ／ｃｍ２で８０℃、３分間行った。
【０１３３】
このようにして得られた中間層（ブリードアウト防止層および平滑層）を有する基剤１の平滑層について、表面粗さを測定した。前記表面粗さは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定される方法に準拠して測定した。具体的には、装置としてＡＦＭ（原子間力顕微鏡）ＳＰＩ３８００Ｎ  ＤＦＭ（エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製）を用いて、１回の測定範囲を８０μｍ×８０μｍと設定し、測定箇所を変えて３回測定を行った。得られたそれぞれの測定値の平均値を表面粗さ（Ｒｚ）とした。基材１が有する平滑層の表面粗さ（Ｒｚ）は約２５ｎｍであった。
【０１３４】
［中間層（２つの平滑層）を有する基材２の作製]
基材として、両面に易接着加工された厚さ２００μｍの耐熱性透明ポリイミド系フィルムであるネオプリムＬ（熱膨張係数：６５ｐｐｍ、三菱ガス化学株式会社製）を用いた。
【０１３５】
８．０ｇのトリメチロールプロパントリグリシジルエーテル（エポライト１００ＭＦ：共栄社化学株式会社製）、５．０ｇのエチレングリコールジグリシジルエーテル（エポライト４０Ｅ：共栄社化学株式会社製）、１２．０ｇのオキセタニル基を有するシルセスキオキサン（ＯＸ−ＳＱ−Ｈ：東亞合成株式会社製）、３２．５ｇの３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２．２ｇのＡｌ（III）アセチルアセトネート、１３４．０ｇのメタノールシリカゾル（固形分濃度３０質量％：日産化学工業株式会社製）、０．１ｇのＢＹＫ３３３（シリコン系界面活性剤：ビックケミー・ジャパン株式会社製）、１２５．０ｇブチルセロソルブ、および１５．０ｇの０．１ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液を混合して十分に撹拌した。これを室温でさらに静置脱気して感光性樹脂組成物を得た。上記基材の一方の面を定法によりコロナ放電処理を施した後、前記感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が４．０μｍとなる条件で塗布し、８０℃で３分間乾燥した。さらに、１２０℃で１０分間の加熱処理を施して平滑層を形成した。基材のもう一方の面についても同様の方法で平滑層を形成し、中間層（２つの平滑層）を有する基材２を作製した。基材２が有する２つの平滑層の表面粗さは、基材１に記載の方法と同様の方法で測定したところ、ともに約２０ｎｍであった。
【０１３６】
［中間層（２つの平滑層）を有する基材３の作製］
上記基材２で用いた基材を、厚さ１００μｍの有機無機ハイブリッド構造を有するシルセスキオキサンを基本骨格としたフィルムであるシルプラスＨ１００（熱膨張係数：８０ｐｐｍ、新日鐵化学社製）に変更したことを除いては、上記基材２と同様の方法により中間層（２つの平滑層）を有する基材３を作製した。なお、基材３が有する２つの平滑層の表面粗さは、基材１に記載の方法と同様の方法で測定したところ、ともに約２０ｎｍであった。
【０１３７】
＜水蒸気バリアフィルムの製造＞
（実施例１）
工程（１）
２０質量％の無触媒のパーヒドロポリシラザン（アクアミカ  ＮＮ１２０−２０：ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）、および５質量％（固形分）アミン触媒（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，６−ジアミノヘキサン）を含むジブチルエーテル溶液に、ジイソブチルケトン（第１の溶媒、蒸発速度：２０）およびジブチルエーテル（第２の溶媒、蒸発速度：２００）の混液（ジイソブチルケトン：ジブチルエーテル＝５：９５）を添加して、第１の塗布液を調製した。得られた第１の塗布液は、アミン触媒が１質量％（固形分）であった。
【０１３８】
中間層（２つの平滑層）を有する基材２上（平滑層上）に、上記で調製した第１の塗布液を、スピンコーターを用いて、乾燥後の膜厚が２００ｎｍとなるように塗布し、１００℃で２分間乾燥させて、第１の塗膜を得た。
【０１３９】
工程（２）
前記工程（１）で得た第１の塗膜に真空紫外光を照射して水蒸気バリア層を形成して、水蒸気バリアフィルム１を製造した。
【０１４０】
なお、真空紫外光は、図１に断面模式図で示す装置を用いてＸｅエキシマランプを照射することによって行った。図１の装置は、装置チャンバー１内に１７２ｎｍの真空紫外光を照射する二重管構造を有するＸｅエキシマランプ２と外部電極を兼ねるエキシマランプのホルダー３とが設置されている。装置チャンバー１内は、ガス供給口（図示せず）から窒素ガスおよび酸素ガスが供給され、ガス排出口（図示せず）から装置チャンバー１内部のガスを排気することにより、実質的に装置チャンバー１から水蒸気を除去し、かつ、酸素濃度を所定の濃度に維持している。装置チャンバー１には、さらに試料ステージ４が設けられており、試料５は試料ステージ４上に載置される。試料ステージ４は、移動手段（図示せず）により装置チャンバー１内を水平に、所定の速度で往復移動できる。また、試料ステージ４は、加熱手段（図示せず）により、所定の温度に維持することができる。図１の装置では、試料ステージ４は、水平移動して紫外線照射される際に、試料５の塗布層表面と、エキシマランプ２との最短距離が３ｍｍとなるように高さが調整されている。なお、遮光板６は、Ｘｅエキシマランプ２によって生じる真空紫外線が、例えば、エージング中に試料５の塗布層に照射されることを防止している。
【０１４１】
なお、Ｘｅエキシマランプの積算光量は、紫外線積算光量計：Ｃ８０２６／Ｈ８０２５  ＵＶ  ＰＯＷＥＲ  ＭＥＴＥＲ（浜松ホトニクス株式会社製）を用いて照射エネルギーを測定することで調節した。具体的には、図１の装置において、Ｘｅエキシマランプ管面とセンサヘッド（１７２ｎｍ）の測定面との最短距離が３ｍｍとなるようにセンサヘッドを試料ステージ４中央に設置し、かつ、装置チャンバー１内の雰囲気が、真空紫外光照射工程と同一の酸素濃度となるように窒素と酸素とを供給した。Ｘｅエキシマランプ２の照度を安定させるため、Ｘｅエキシマランプ点灯後に１０分間のエージング時間を設けた後、試料ステージ４を０．５ｍ／ｍｉｎの速度で移動させて照射エネルギーの測定を行った。得られた照射エネルギーの値に基づき、試料ステージの移動速度を、積算光量が３，０００ｍＪ／ｃｍ２となるように調整した。なお、真空紫外光照射についても、照射エネルギーを測定時と同様に、１０分間のエージング後に行った。
【０１４２】
（実施例２）
工程（３）
イソプロピルアルコール、メタノール、イソブチルアルコール、ブタノール、およびブチルセロソルブの混液（イソプロピルアルコール：メタノール：イソブチルアルコール：ブタノール：ブチルセロソルブ＝２０：１５：１５：４３：７）の混液に、オルガノポリシロキサン（グラスカＨＰＣ７００３：ＪＳＲ株式会社製）を溶解した（固形分量：１０％）。その後、ジブチルスズビスマレイン酸モノブチルエステルを前記オルガノポリシロキサンの固形分に対して１０：１の割合で添加して第２の塗布液を調製した。
【０１４３】
実施例１に記載の水蒸気バリアフィルム１が有する水蒸気バリア層上に、第２の塗布液をスピンコーターを用いて、乾燥後の膜厚が１２００ｎｍとなるように塗布し、その後、１２０℃で２分間乾燥させて第２の塗膜を得た。
【０１４４】
工程（４）
前記工程（３）で得た第２の塗膜に真空紫外光を照射して保護層を形成して、水蒸気バリアフィルム２を製造した。なお、真空紫外光は、図１の装置を用いて、上記工程（２）と同様の方法により積算光量を１０００ｍＪ／ｃｍ２となるように試料ステージの移動速度を調整して照射した。
【０１４５】
（実施例３〜１９および比較例１〜８）
用いる基材、第１の溶媒の種類および溶媒添加量、工程（２）における真空紫外光の積算光量、第１の塗布液の塗布量、工程（４）における真空紫外光の積算光量、および第２の塗布液の塗布量等を下記表１に示す条件に設定して、実施例１または実施例２と同様の方法で水蒸気バリアフィルム３〜２６を製造した。
【０１４６】
【表１−１】
0005891822.tif 000004
【０１４７】
【表１−２】
0005891822.tif 000005
【０１４８】
【表１−３】
0005891822.tif 000006
【０１４９】
＜水蒸気バリアフィルムの評価＞
上記で製造した水蒸気バリアフィルム１〜２６について、下記の評価を行った。
【０１５０】
［未処理の水蒸気バリアフィルム］
（評価１：水蒸気バリア性の評価）
真空蒸着装置ＪＥＥ−４００（日本電子株式会社製）を用い、製造した水蒸気バリアフィルム１の水蒸気バリア層表面に、マスクを通して１２ｍｍ×１２ｍｍのサイズで水分と反応して腐食する金属である金属カルシウム（粒状）を蒸着させた。その後、真空状態のままマスクを取り去り、シート片側全面に水蒸気不透過性の金属である金属アルミニウム（φ３〜５ｍｍ、粒状）を蒸着させて仮封止をした。次いで、真空状態を解除し、速やかに乾燥窒素ガス雰囲気下に移した。前記仮した金属アルミニウム蒸着面に紫外線硬化樹脂（ナガセケムテックス株式会社製）を介して厚さ０．２ｍｍの石英ガラスを張り合わせ、紫外線を照射して前記紫外線硬化樹脂を硬化させて本封止し、水蒸気バリア性評価試料を作製した。
【０１５１】
得られた水蒸気バリア性評価試料を、恒温恒湿度オーブンＹａｍａｔｏ  Ｈｕｍｉｄｉｃ  ＣｈａｍｂｅｒＩＧ４７Ｍを用いて、８５℃、９０％ＲＨの高温高湿下で保存し、６０時間後の１２ｍｍ×１２ｍｍの金属カルシウム蒸着面積に対する金属カルシウムの腐食面積を百分率（％）で算出し、下記の基準に従って水蒸気バリア性を評価した。
【０１５２】
○：金属カルシウムが腐食した面積が１．０％未満である
△：金属カルシウムが腐食した面積が１．０％以上、５．０％未満である
×：金属カルシウムが腐食した面積が、５．０％以上である。
【０１５３】
（評価２：透明性の評価）
水蒸気バリアフィルムを目視で観察し、下記基準に従って透明性の評価を行った。
【０１５４】
○：実用上問題のないレベル
△：やや懸念のあるレベル
×：明らかに着色しているレベル。
【０１５５】
（評価３：ムラの評価）
水蒸気バリアフィルムを目視で観察し、下記基準に従ってムラの評価を行った。
【０１５６】
○：実用上問題のないレベル
△：やや懸念のあるレベル
×：明らかにムラがあるレベル。
【０１５７】
得られた評価結果を下記表２に示す。
【０１５８】
［加熱曝露した水蒸気バリアフィルム］
水蒸気バリアフィルムを、大気雰囲気下、２２０℃で１０分間加熱環境下に曝露した。この際、水蒸気バリアフィルムの水蒸気バリア層表面には他の部材が接触しないように保持した。加熱処理後、水蒸気バリアフィルムを加熱装置から取り出し、室温まで冷却した。このようにして得られた加熱曝露した水蒸気バリアフィルムについて、上記未処理の水蒸気バリアフィルムと同様の方法で、水蒸気バリア性、透明性、ムラの評価を行った。
【０１５９】
得られた評価結果を下記表２に示す。
【０１６０】
［浸漬曝露した水蒸気バリアフィルム］
水蒸気バリアフィルムを、サーモ機に投入し、１００℃で２４時間放置した後、２５℃の純水で２４時間浸漬曝露した。その後、再度のサーモ機に投入して、１００℃で２４時間放置した。このようにして得られた浸漬曝露した水蒸気バリアフィルムについて、上記未処理の水蒸気バリアフィルムと同様の方法で、水蒸気バリア性、透明性、ムラの評価を行った。
【０１６１】
得られた評価結果を下記表２に示す。
【０１６２】
【表２】
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【０１６３】
表２の未処理の水蒸気バリアフィルムの評価結果からも明らかなように、本発明に係る水蒸気バリアフィルムは、水蒸気バリア性および透明性に優れ、ムラが少ないことが分かる。
【０１６４】
また、加熱処理および浸漬処理した水蒸気バリアフィルムの評価結果からも明らかなように、高温高湿の環境や、純水等に浸漬された場合であっても、優れた水蒸気バリア性や透明性を維持することができ、ムラの発生も抑制されることが分かる。
【符号の説明】
【０１６５】
１  装置チャンバー、
２  Ｘｅエキシマランプ、
３  ホルダー、
４  試料ステージ、
５  試料、
６  遮光板。
【図１】
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