(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を処理するための処理液を供給する処理液供給源と、
前記処理液供給源に供給路を介して接続され、前記処理液を被処理体に吐出する吐出部と、
前記供給路に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ装置と、
前記供給路に設けられたポンプと、
前記フィルタ装置の外側に設けられた流路を含む戻り流路と、
前記ポンプの吸入により前記フィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過した処理液の一部を前記吐出部から吐出するステップと、前記二次側に通過した処理液から前記処理液の一部を除く残りの処理液を前記戻り流路を介して前記フィルタ装置の一次側に戻すステップと、前記フィルタ装置の一次側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充された処理液と共に、前記ポンプによりフィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過させるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする処理液供給装置。
【請求項２】
前記処理液供給源から補充される処理液の補充量は、前記吐出部から吐出された処理液の吐出量に相当する量であることを特徴とする請求項１記載の処理液供給装置。
【請求項３】
気泡をトラップして排出するためのトラップ貯液部が前記フィルタ装置の二次側に設けられ、
前記戻り流路は、前記トラップ貯液部が途中に介在していることを特徴とする請求項１または２に記載の処理液供給装置。
【請求項４】
前記戻り流路は、前記ポンプの吐出側と前記フィルタ装置の一次側との間に接続された第１の戻り流路と、前記フィルタ装置内の流路と、前記フィルタ装置の二次側と当該フィルタ装置の一次側との間に接続された第２の戻り流路と、からなり、
前記制御部は、前記残りの処理液が前記第１の戻り流路、フィルタ装置及び第２の戻り流路を介して前記フィルタ装置の一次側に戻るように制御信号を出力することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項５】
前記供給路におけるフィルタ装置の二次側に設けられた前記ポンプに相当する吐出ポンプと、
前記供給路におけるフィルタ装置の一次側に設けられた供給ポンプと、を備え、
前記制御部は、前記残りの処理液を前記吐出ポンプ及び供給ポンプを用いて前記戻り流路を介して前記フィルタ装置の一次側に戻すと共に、前記処理液供給源からの処理液が前記供給ポンプに補充されるように制御信号を出力することを特徴とする請求項１または２記載の処理液供給装置。
【請求項６】
被処理体を処理するための処理液を供給する処理液供給源と、
前記処理液供給源に供給路を介して接続され、前記処理液を被処理体に吐出する吐出部と、
前記供給路に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ装置と、
前記供給路におけるフィルタ装置の二次側に設けられた吐出ポンプと、
前記供給路におけるフィルタ装置の一次側に設けられた供給ポンプと、
前記吐出ポンプの吐出側から前記供給ポンプの吐出側とフィルタ装置の一次側との間に亘って設けられた第３の戻り流路と、
前記フィルタ装置の二次側と前記吐出ポンプの吸入側との間から前記供給ポンプの吸入側に亘って設けられた第４の戻り流路と、
前記供給ポンプ及び吐出ポンプにより前記フィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過した処理液の一部を前記吐出部から吐出するステップと、前記二次側に通過した処理液から前記処理液の一部を除く残りの処理液を前記吐出ポンプ及び供給ポンプを用いて、前記第３の戻り流路、フィルタ装置内の流路及び前記第４の戻り流路を介して供給ポンプの吸入側に戻すと共に、前記処理液供給源からの処理液を前記供給ポンプに補充するステップと、前記フィルタ装置の一次側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充された処理液と共に、前記供給ポンプ及び吐出ポンプによりフィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過させるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする処理液供給装置。
【請求項７】
被処理体を処理するための処理液を、異物を除去するためのフィルタ装置を通過させた後、被処理体に供給する処理液供給方法において、
前記供給路に設けられたポンプの吸入により、前記フィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過した処理液の一部を前記吐出部から吐出する工程と、
前記二次側に通過した処理液から前記処理液の一部を除く残りの処理液を、前記フィルタ装置の外側に設けられた流路を含む戻り流路を介して前記フィルタ装置の一次側に戻す工程と、
前記フィルタ装置の一次側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充された処理液と共に、前記ポンプによりフィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過させる工程と、を備えたことを特徴とする処理液供給方法。
【請求項８】
前記処理液供給源から補充される処理液の補充量は、前記吐出部から吐出された処理液の吐出量に相当する量であることを特徴とする請求項７記載の処理液供給方法。
【請求項９】
前記戻り流路は、前記ポンプの吐出側と前記フィルタ装置の一次側との間に接続された第１の戻り流路と、前記フィルタ装置内の流路と、前記フィルタ装置の二次側と当該フィルタ装置の一次側との間に接続された第２の戻り流路と、からなり、
前記残りの処理液は、前記第１の戻り流路、フィルタ装置及び第２の戻り流路を介して前記フィルタ装置の一次側に戻ることを特徴とする請求項７または８に記載の処理液供給方法。
【請求項１０】
前記供給路におけるフィルタ装置の二次側に設けられた前記ポンプに相当する吐出ポンプと、
前記供給路におけるフィルタ装置の一次側に設けられた供給ポンプと、を備え
前記残りの処理液は、前記吐出ポンプ及び供給ポンプを用いて前記フィルタ装置の一次側に戻されると共に、前記処理液供給源からの処理液が前記供給ポンプに補充されることを特徴とする請求項７または８記載の処理液供給方法。
【請求項１１】
処理体を処理するための処理液を供給する処理液供給源と、
前記処理液供給源に供給路を介して接続され、前記処理液を被処理体に吐出する吐出部と、
前記供給路に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ装置と、
前記供給路におけるフィルタ装置の二次側に設けられた吐出ポンプと、
前記供給路におけるフィルタ装置の一次側に設けられた供給ポンプと、
前記吐出ポンプの吐出側から前記供給ポンプの吐出側とフィルタ装置の一次側との間に亘って設けられた第３の戻り流路と、
前記フィルタ装置の二次側と前記吐出ポンプの吸入側との間から前記供給ポンプの吸入側に亘って設けられた第４の戻り流路と、を用い、
前記供給ポンプ及び吐出ポンプにより前記フィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過した処理液の一部を前記吐出部から吐出する工程と、前記二次側に通過した処理液から前記処理液の一部を除く残りの処理液を前記吐出ポンプ及び供給ポンプを用いて、前記第３の戻り流路、フィルタ装置内の流路及び前記第４の戻り流路を介して供給ポンプの吸入側に戻すと共に、前記処理液供給源からの処理液を前記供給ポンプに補充する工程と、前記フィルタ装置の一次側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充された処理液と共に、前記供給ポンプ及び吐出ポンプによりフィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過させる工程と、を行うことを特徴とする処理液供給方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理基板表面に処理液を供給する処理液供給装置及び処理液供給方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体デバイスの製造のフォトリソグラフィ技術においては、半導体ウエハやＦＰＤ基板等（以下にウエハ等という）にフォトレジストを塗布し、これにより形成されたレジスト膜を所定の回路パターンに応じて露光し、この露光パターンを現像処理することによりレジスト膜に回路パターンが形成されている。
【０００３】
このようなフォトリソグラフィ工程において、ウエハ等に供給されるレジスト液や現像液等の処理液には、様々な原因によって窒素ガス等の気泡やパーティクル（異物）が混入する虞があり、気泡やパーティクルの混在した処理液がウエハ等に供給されると塗布ムラや欠陥が発生する虞がある。そのため、処理液をウエハ等に塗布する液処理装置には、処理液に混入した気泡やパーティクルを濾過により除去するためのフィルタが設けられている。
【０００４】
処理液に混入した気泡やパーティクルの濾過効率を向上させるための装置として、複数のフィルタを設け、これらのフィルタに通過させた処理液をウエハ等に供給する処理液処置装置が知られている。しかしながら、複数のフィルタを設けた場合、液処理装置が大型化すると共に大がかりな変更を要する。
【０００５】
従来では、薬液（処理液）を貯留する第１の容器および第２の容器と、第１の容器と第２の容器とを繋ぐ第１の配管に設けられ第１の容器に貯留される薬液を第２の容器へ流す第１のポンプと、第１の配管に設けられる第１のフィルタと、第１の容器と第２の容器とを繋ぐ第２の配管と、第２の配管に設けられ第２の容器に貯留される薬液を前記第１の容器へ流す第２のポンプとを備える循環濾過式の薬液供給システムが知られている（特許文献１参照）。
【０００６】
また、一のフィルタを設けた循環濾過式の別の液処理装置として、フォトレジスト塗布液（処理液）のバッファー容器と、バッファー容器からフォトレジスト塗布液の一部を汲み出しフィルタにより濾過した後にバッファー容器に戻す循環濾過装置と、バッファー容器又は循環装置からフォトレジスト塗布装置へフォトレジスト塗布液を送液する配管を具備するフォトレジスト塗布液供給装置が知られている（特許文献２参照）。特許文献３には、フィルタの一次側及び二次側に各々ポンプを配置した構成について挙げられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１１−２３８６６６号公報（特許請求の範囲、図７）
【特許文献２】国際公開２００６／０５７３４５号公報（特許請求の範囲、図４）
【特許文献３】特開２００１−７７０１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１及び特許文献２に記載の液処理装置では、フィルタにより濾過された薬液（処理液）が第１の容器（バッファー容器）に戻され、第１の容器に戻された薬液をウエハに吐出している。そのため、薬液の濾過効率の向上を図るためには、第１の容器に戻された薬液を複数回循環させて濾過を複数回行う必要がある。
【０００９】
この発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、スループットの低下を抑えながら、一のフィルタを用いて処理液の清浄化を図ることのできる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の処理液供給装置は、
被処理体を処理するための処理液を供給する処理液供給源と、
前記処理液供給源に供給路を介して接続され、前記処理液を被処理体に吐出する吐出部と、
前記供給路に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ装置と、
前記供給路に設けられたポンプと、
前記フィルタ装置の外側に設けられた流路を含む戻り流路と、
前記ポンプの吸入により前記フィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過した処理液の一部を前記吐出部から吐出するステップと、前記二次側に通過した処理液から前記処理液の一部を除く残りの処理液を前記戻り流路を介して前記フィルタ装置の一次側に戻すステップと、前記フィルタ装置の一次側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充された処理液と共に、前記ポンプによりフィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過させるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。
他の発明の処理液供給装置は、
被処理体を処理するための処理液を供給する処理液供給源と、
前記処理液供給源に供給路を介して接続され、前記処理液を被処理体に吐出する吐出部と、
前記供給路に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ装置と、
前記供給路におけるフィルタ装置の二次側に設けられた吐出ポンプと、
前記供給路におけるフィルタ装置の一次側に設けられた供給ポンプと、
前記吐出ポンプの吐出側から前記供給ポンプの吐出側とフィルタ装置の一次側との間に亘って設けられた第３の戻り流路と、
前記フィルタ装置の二次側と前記吐出ポンプの吸入側との間から前記供給ポンプの吸入側に亘って設けられた第４の戻り流路と、
前記供給ポンプ及び吐出ポンプにより前記フィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過した処理液の一部を前記吐出部から吐出するステップと、前記二次側に通過した処理液から前記処理液の一部を除く残りの処理液を前記吐出ポンプ及び供給ポンプを用いて、前記第３の戻り流路、フィルタ装置内の流路及び前記第４の戻り流路を介して供給ポンプの吸入側に戻すと共に、前記処理液供給源からの処理液を前記供給ポンプに補充するステップと、前記フィルタ装置の一次側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充された処理液と共に、前記供給ポンプ及び吐出ポンプによりフィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過させるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。
【００１５】
本発明の処理液供給方法は、
被処理体を処理するための処理液を、異物を除去するためのフィルタ装置を通過させた後、被処理体に供給する処理液供給方法において、
前記供給路に設けられたポンプの吸入により、前記フィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過した処理液の一部を前記吐出部から吐出する工程と、
前記二次側に通過した処理液から前記処理液の一部を除く残りの処理液を、前記フィルタ装置の外側に設けられた流路を含む戻り流路を介して前記フィルタ装置の一次側に戻す工程と、
前記フィルタ装置の一次側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充された処理液と共に、前記ポンプによりフィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過させる工程と、を備えたことを特徴とする。
他の発明の処理液供給方法は、
処理体を処理するための処理液を供給する処理液供給源と、
前記処理液供給源に供給路を介して接続され、前記処理液を被処理体に吐出する吐出部と、
前記供給路に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ装置と、
前記供給路におけるフィルタ装置の二次側に設けられた吐出ポンプと、
前記供給路におけるフィルタ装置の一次側に設けられた供給ポンプと、
前記吐出ポンプの吐出側から前記供給ポンプの吐出側とフィルタ装置の一次側との間に亘って設けられた第３の戻り流路と、
前記フィルタ装置の二次側と前記吐出ポンプの吸入側との間から前記供給ポンプの吸入側に亘って設けられた第４の戻り流路と、を用い、
前記供給ポンプ及び吐出ポンプにより前記フィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過した処理液の一部を前記吐出部から吐出する工程と、前記二次側に通過した処理液から前記処理液の一部を除く残りの処理液を前記吐出ポンプ及び供給ポンプを用いて、前記第３の戻り流路、フィルタ装置内の流路及び前記第４の戻り流路を介して供給ポンプの吸入側に戻すと共に、前記処理液供給源からの処理液を前記供給ポンプに補充する工程と、前記フィルタ装置の一次側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充された処理液と共に、前記供給ポンプ及び吐出ポンプによりフィルタ装置の一次側から当該フィルタ装置を介して二次側に通過させる工程と、を行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明は、フィルタ装置を通過する処理液の一部を吐出部から吐出し、残りの処理液をフィルタ装置の一次側に戻している。そして、フィルタ装置の一次側に戻す戻し量について、吐出部からの処理液の吐出量と同じか、あるいは当該吐出量よりも多く設定している。そのため、一のフィルタ装置を設けただけで、スループットの低下を抑えながら、複数のフィルタ装置を設けた場合と同様の濾過効率を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】この発明に係る液処理装置を適用した塗布・現像処理装置に露光処理装置を接続した処理システムの全体を示す概略斜視図である。
【図２】上記処理システムの概略平面図である。
【図３】この発明に係る液処理装置の第１実施形態を示す概略断面図である。
【図４】第１実施形態の液処理装置におけるポンプ吸入動作を示す概略断面図である。
【図５】第１実施形態の液処理装置における処理液吐出動作を示す概略断面図である。
【図６】第１実施形態の液処理装置における処理液循環動作を示す概略断面図である。
【図７】第１実施形態の液処理装置におけるポンプを示す概略断面図である。
【図８】第１実施形態の液処理装置における１回目のポンプ吸入動作時の合成濾過回数を示す概略断面図である。
【図９】第１実施形態の液処理装置における処理液吐出動作時の吐出量を示す概略断面図である。
【図１０】第１実施形態の液処理装置における処理液循環動作時の循環量と合成濾過回数を示す概略断面図である。
【図１１】第１実施形態の液処理装置における２回目のポンプ吸入動作時の合成濾過回数を示す概略断面図である。
【図１２】第１実施形態の液処理装置における一連のポンプ吸入動作、処理液吐出動作、処理液循環動作を示すフローチャートである。
【図１３】レジスト液のウエハへの吐出量と戻り量の比率に対する合成濾過回数を示すグラフである。
【図１４】この発明に係る液処理装置の第２実施形態を示す概略断面図である。
【図１５】第２実施形態の液処理装置におけるポンプ吸入動作を示す概略断面図である。
【図１６】第２実施形態の液処理装置における処理液吐出動作を示す概略断面図である。
【図１７】第２実施形態の液処理装置における処理液循環動作を示す概略断面図である。
【図１８】この発明に係る液処理装置の第３実施形態を示す概略断面図である。
【図１９】第３実施形態の液処理装置におけるポンプ吸入動作を示す概略断面図である。
【図２０】第３実施形態の液処理装置における処理液吐出動作を示す概略断面図である。
【図２１】第３実施形態の液処理装置における処理液循環動作を示す概略断面図である。
【図２２】この発明に係る液処理装置の第３実施形態の一の変形例を示す概略断面図である。
【図２３】この発明に係る液処理装置の第３実施形態の他の変形例を示す概略断面図である。
【図２４】この発明に係る液処理装置の第３実施形態の他の変形例を示す概略断面図である。
【図２５】この発明に係る液処理装置の第３実施形態の他の変形例を示す概略断面図である。
【図２６】この発明に係る液処理装置の第４実施形態を示す概略断面図である。
【図２７】この発明に係る液処理装置の第５実施形態を示す概略断面図である。
【図２８】第５実施形態に用いられるポンプの一例を示す概略断面図である。
【図２９】第５実施形態に用いられるポンプの一例を示す概略断面図である。
【図３０】第５実施形態の液処理装置における処理液吐出動作を示す概略断面図である。
【図３１】第５実施形態の液処理装置における処理液供給動作を示す概略断面図である。
【図３２】第５実施形態の液処理装置における処理液供給動作を示す概略断面図である。
【図３３】第５実施形態の液処理装置における処理液循環動作を示す概略断面図である。
【図３４】この発明に係る液処理装置の第５実施形態の変形例を示す概略断面図である。
【図３５】この発明に係る液処理装置の第６実施形態を示す概略断面図である。
【図３６】第６実施形態の液処理装置における処理液吐出動作を示す概略断面図である。
【図３７】第６実施形態の液処理装置における処理液供給動作を示す概略断面図である。
【図３８】第６実施形態の液処理装置における処理液供給動作を示す概略断面図である。
【図３９】第６実施形態の液処理装置における処理液循環動作を示す概略断面図である。
【図４０】この発明に係る液処理装置の第６実施形態の変形例を示す概略断面図である。
【図４１】この発明に係る液処理装置の第７実施形態を示す概略断面図である。
【図４２】第７実施形態の液処理装置における処理液循環動作を示す概略断面図である。
【図４３】レジスト液のウエハへの吐出量と戻り量の比率に対する合成濾過回数を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、この発明の実施形態について、添付図面に基づいて説明する。ここでは、この発明に係る処理液供給装置（レジスト液処理装置）を塗布・現像処理装置に適用した場合について説明する。
【００１９】
上記塗布・現像処理装置は、図１及び図２に示すように、被処理基板であるウエハＷを複数枚例えば２５枚密閉収納するキャリア１０を搬出入するためのキャリアステーション１と、このキャリアステーション１から取り出されたウエハＷにレジスト塗布，現像処理等を施す処理部２と、ウエハＷの表面に光を透過する液層を形成した状態でウエハＷの表面を液浸露光する露光部４と、処理部２と露光部４との間に接続されて、ウエハＷの受け渡しを行うインターフェース部３とを具備している。
【００２０】
キャリアステーション１には、キャリア１０を複数個並べて載置可能な載置部１１と、この載置部１１から見て前方の壁面に設けられる開閉部１２と、開閉部１２を介してキャリア１０からウエハＷを取り出すための受け渡し手段Ａ１とが設けられている。
【００２１】
インターフェース部３は、処理部２と露光部４との間に前後に設けられる第１の搬送室３Ａ及び第２の搬送室３Ｂにて構成されており、それぞれに第１のウエハ搬送部３０Ａ及び第２のウエハ搬送部３０Ｂが設けられている。
【００２２】
また、キャリアステーション１の奥側には筐体２０にて周囲を囲まれる処理部２が接続されており、この処理部２には手前側から順に加熱・冷却系のユニットを多段化した棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３及び液処理ユニットＵ４，Ｕ５の各ユニット間のウエハＷの受け渡しを行う主搬送手段Ａ２，Ａ３が交互に配列して設けられている。また、主搬送手段Ａ２，Ａ３は、キャリアステーション１から見て前後方向に配置される棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３側の一面部と、後述する例えば右側の液処理ユニットＵ４，Ｕ５側の一面部と、左側の一面をなす背面部とで構成される区画壁２１により囲まれる空間内に配置されている。また、キャリアステーション１と処理部２との間、処理部２とインターフェース部３との間には、各ユニットで用いられる処理液の温度調節装置や温湿度調節用のダクト等を備えた温湿度調節ユニット２２が配置されている。
【００２３】
棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３は、液処理ユニットＵ４，Ｕ５にて行われる処理の前処理及び後処理を行うための各種ユニットを複数段例えば１０段に積層した構成とされており、その組み合わせはウエハＷを加熱（ベーク）する加熱ユニット（図示せず）、ウエハＷを冷却する冷却ユニット（図示せず）等が含まれる。また、ウエハＷに所定の処理液を供給して処理を行う液処理ユニットＵ４，Ｕ５は、例えば図１に示すように、レジストや現像液などの薬液収納部１４の上に反射防止膜を塗布する反射防止膜塗布ユニット（ＢＣＴ）２３，ウエハＷにレジスト液を塗布する塗布ユニット（ＣＯＴ）２４、ウエハＷに現像液を供給して現像処理する現像ユニット（ＤＥＶ）２５等を複数段例えば５段に積層して構成されている。塗布ユニット（ＣＯＴ）２４は、この発明に係る液処理装置５を具備する。
【００２４】
上記のように構成される塗布・現像処理装置におけるウエハの流れの一例について、図１及び図２を参照しながら簡単に説明する。まず、例えば２５枚のウエハＷを収納したキャリア１０が載置部１１に載置されると、開閉部１２と共にキャリア１０の蓋体が外されて受け渡し手段Ａ１によりウエハＷが取り出される。そして、ウエハＷは棚ユニットＵ１の一段をなす受け渡しユニット（図示せず）を介して主搬送手段Ａ２へと受け渡され、塗布処理の前処理として例えば反射防止膜形成処理、冷却処理が行われた後、塗布ユニット（ＣＯＴ）２４にてレジスト液が塗布される。次いで、主搬送手段Ａ２によりウエハＷは棚ユニットＵ１〜Ｕ３の一の棚をなす加熱ユニットで加熱（ベーク処理）され、更に冷却された後棚ユニットＵ３の受け渡しユニットを経由してインターフェース部３へと搬入される。このインターフェース部３において、第１の搬送室３Ａ及び第２の搬送室３Ｂの第１のウエハ搬送部３０Ａ及び第２のウエハ搬送部３０Ｂによって露光部４に搬送され、ウエハＷの表面に対向するように露光手段（図示せず）が配置されて露光が行われる。露光後、ウエハＷは逆の経路で主搬送手段Ａ２まで搬送され、現像ユニット（ＤＥＶ）２５にて現像されることでパターンが形成される。しかる後ウエハＷは載置部１１上に載置された元のキャリア１０へと戻される。
【００２５】
次に、この発明に係る液処理装置５の第１実施形態について説明する。
【００２６】
＜第１実施形態＞
この発明に係る液処理装置５は、図３に示すように、処理液であるレジスト液Ｌを貯留する処理液供給源をなす処理液容器６０と、被処理基板であるウエハにレジスト液（処理液）Ｌを吐出（供給）する吐出部である吐出ノズル７と、処理液容器６０と吐出ノズル７を接続する供給管路５１と、供給管路５１に介設され、レジスト液Ｌを濾過するフィルタ（フィルタ装置）５２と、フィルタ５２の二次側の供給管路５１に介設されるポンプ７０と、フィルタ５２の二次側とポンプ７０の一次側とを接続する供給管路５１に介設されるトラップタンク（トラップ貯液部）５３と、ポンプ７０の吐出側とフィルタ５２の一次側とを接続する戻り流路をなす戻り管路５５と、ポンプ７０のフィルタ５２との接続部、吐出ノズル７との接続部及び戻り管路５５との接続部にそれぞれ設けられる第１，第２及び第３の開閉弁Ｖ１〜Ｖ３と、ポンプ７０及び第１，第２，第３の開閉弁Ｖ１〜Ｖ３を制御する制御部１０１とを具備する。
【００２７】
ここで、ポンプ７０の吐出側とフィルタ５２の一次側とを接続する戻り管路５５とは、第１実施形態においては、ポンプ７０とトラップタンク５３とを接続する第１の戻り管路５５ａと、トラップタンク５３とフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂとを接続する第２の戻り管路５５ｂに相当する。
【００２８】
供給管路５１は、処理液容器６０とこの処理液容器６０から導かれたレジスト液Ｌを一時貯留するバッファタンク６１とを接続する第１の処理液供給管路５１ａと、バッファタンク６１とポンプ７０とを接続する第２の処理液供給管路５１ｂと、ポンプ７０と吐出ノズル７とを接続する第３の処理液供給管路５１ｃとから構成される。第２の処理液供給管路５１ｂにはフィルタ５２が介設され、フィルタ５２の二次側の第２の処理液供給管路５１ｂにはトラップタンク５３が介設されている。また、第３の処理液供給管路５１ｃには吐出ノズル７から吐出されるレジスト液Ｌの供給制御を行う供給制御弁５７が介設されている。また、フィルタ５２及びトラップタンク５３には、レジスト液Ｌ中に発生した気泡を排出するためのドレイン管路５６が介設されている。
【００２９】
処理液容器６０の上部には、不活性ガス例えば窒素（Ｎ２）ガスの供給源６２と接続する第１の気体供給管路５８ａが設けられている。また、この第１の気体供給管路５８ａには、可変調整可能な圧力調整手段である電空レギュレータＲが介設されている。この電空レギュレータＲは、後述する制御部１０１からの制御信号によって作動する操作部例えば比例ソレノイドと、該ソレノイドの作動によって開閉する弁機構とを具備しており、弁機構の開閉によって圧力を調整するように構成されている。また、バッファタンク６１の上部には、バッファタンク６１の上部に滞留する不活性ガス例えば窒素（Ｎ２）ガスを大気に開放する第２の気体供給管路５８ｂが設けられている。
【００３０】
第１の気体供給管路５８ａの電空レギュレータＲと処理液容器６０との間には電磁式の開閉弁Ｖ１１が介設されている。また、第１の処理液供給管路５１ａには電磁式の開閉弁Ｖ１２が介設されている。また、第２の処理液供給管路５１ｂのバッファタンク６１とフィルタ５２との間であって、第２の処理液供給管路５１ｂと第２の戻り管路５５ｂとの接続部の二次側に電磁式の開閉弁Ｖ１３が介設されている。また、第２の戻り管路５５ｂには、電磁式の開閉弁Ｖ１４が介設されている。また、ドレイン管路５６には電磁式の開閉弁Ｖ１５，Ｖ１６が介設されており、フィルタ５２やトラップタンク５３内における気泡を排出する時は、これら開閉弁Ｖ１５，Ｖ１６が開放される。開閉弁Ｖ１１〜Ｖ１６及び電空レギュレータＲは、制御部１０１からの制御信号によって制御されている。
【００３１】
バッファタンク６１には、貯留されるレジスト液Ｌの所定の液面位置（充填完了位置、要補充位置）を監視し、貯留残量を検出する上限液面センサ６１ａ、下限液面センサ６１ｂが設けられている。処理液容器６０からバッファタンク６１にレジスト液Ｌが供給されている場合において、レジスト液Ｌの液面位置が上限液面センサ６１ａによって検知されると、開閉弁Ｖ１１，Ｖ１２が閉じ、処理液容器６０からバッファタンク６１へのレジスト液Ｌの供給が停止する。また、レジスト液Ｌの液面位置が下限液面センサ６１ｂによって検知されると、開閉弁Ｖ１１，Ｖ１２が開き、処理液容器６０からバッファタンク６１へのレジスト液Ｌの供給が開始される。
【００３２】
次に、図７に基づいて、ポンプ７０の詳細な構造について説明する。図７に示されるポンプ７０は可変容量ポンプであるダイヤフラムポンプであり、このダイヤフラムポンプ７０は、可撓性部材であるダイヤフラム７１にてポンプ室７２と作動室７３に仕切られている。
【００３３】
ポンプ室７２には、開閉弁Ｖ１を介して第２の処理液供給管路５１ｂに接続され、第２の処理液供給管路５１ｂ内のレジスト液Ｌを吸入するための一次側連通路７２ａと、開閉弁Ｖ２を介して第３の処理液供給管路５１ｃに接続され、第３の処理液供給管路５１ｃにレジスト液Ｌを吐出する二次側連通路７２ｂと、開閉弁Ｖ３を介して第１の戻り管路５５ａに接続され、第１の戻り管路５５ａにレジスト液Ｌを吐出する循環側連通路７２ｃが設けられている。
【００３４】
作動室７３には制御部１０１からの信号に基づいて作動室７３内の気体の減圧及び加圧を制御する駆動手段７４が接続されている。駆動手段７４は、エアー加圧源７５ａ（以下に加圧源７５ａという）と、エアー減圧源７５ｂ（以下に減圧源７５ｂという）と、流量センサであるフローメータ７７と、電空レギュレータ７８と、圧力センサ７９とを備えている。
【００３５】
作動室７３は、給排切換弁Ｖ４を介して駆動手段７４側に接続する給排路７３ａが設けられており、この給排路７３ａに給排切換弁Ｖ４を介して加圧源７５ａと減圧源７５ｂに選択的に連通する管路７６が接続されている。この場合、管路７６は、作動室７３に接続する主管路７６ａと、この主管路７６ａから分岐され、減圧源７５ｂに接続する排気管路７６ｂと、加圧源７５ａに接続する加圧管路７６ｃとで形成されている。主管路７６ａには流量センサであるフローメータ７７が介設され、排気管路７６ｂに介設される排気圧を調整する圧力調整機構と、加圧管路７６ｃに介設される加圧すなわちエアー圧を調整する圧力調整機構とが電空レギュレータ７８にて形成されている。この場合、電空レギュレータ７８は、排気管路７６ｂと加圧管路７６ｃとを選択的に接続する共通の連通ブロック７８ａと排気管路７６ｂ又は加圧管路７６ｃの連通を遮断する２つの停止ブロック７８ｂ，７８ｃと、連通ブロック７８ａ、停止ブロック７８ｂ，７８ｃを切換操作する電磁切換部７８ｄを備える電空レギュレータ７８にて形成されている。また、電空レギュレータ７８には圧力センサ７９が設けられており、圧力センサ７９によって管路７６が接続する作動室７３内の圧力が検出される。
【００３６】
上記のように構成されるダイヤフラムポンプ７０の作動室７３側に接続される作動エアーの給排部において、駆動手段７４を構成する上記フローメータ７７と圧力センサ７９及び電空レギュレータ７８は、それぞれ制御部１０１と電気的に接続されている。そして、フローメータ７７によって検出された管路７６内の排気流量と、圧力センサ７９によって検出された管路７６内の圧力が制御部１０１に伝達（入力）され、制御部１０１からの制御信号が電空レギュレータ７８に伝達（出力）されるように形成されている。
【００３７】
制御部１０１は記憶媒体である制御コンピュータ１００に内蔵されており、制御コンピュータ１００は、制御部１０１の他に、制御プログラムを格納する制御プログラム格納庫１０２と、外部からデータを読み取る読取部１０３と、データを記憶する記憶部１０４を内蔵している。また、制御コンピュータ１００は、制御部１０１に接続された入力部１０５と、液処理装置５の様々な状態を表示するモニタ部１０６と、読取部１０３に挿着されると共に制御コンピュータ１００に制御プログラムを実行させるソフトウェアが記憶されたコンピュータ読み取り可能な記憶媒体１０７が備えられており、制御プログラムに基づいて上記各部に制御信号を出力するように構成されている。制御プログラム格納庫１０２には、ポンプ７０へのレジスト液Ｌの吸入、ポンプ７０から吐出ノズル７へのレジスト液Ｌの吐出、ポンプ７０から戻り管路５５を介してフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂへのレジスト液Ｌの供給、バッファタンク６１から補充したレジスト液Ｌと戻り管路５５を介して戻るレジスト液Ｌとの合成を行い、合成されたレジスト液Ｌを吐出ノズル７へのレジスト液Ｌの吐出量とポンプ７０から戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻るレジスト液Ｌの戻り量の比率に応じた回数でフィルタ５２による濾過を実行するための制御プログラムが格納されている。
【００３８】
また、制御プログラムは、ハードディスク、コンパクトディスク、フラッシュメモリ、フレキシブルディスク、メモリカード等の記憶媒体１０７に格納され、これら記憶媒体１０７から制御コンピュータ１００にインストールされて使用される。
【００３９】
次に、図４〜図６、図８〜図１３に基づいて、この実施形態における液処理装置５の動作について説明する。まず、制御部１０１からの制御信号に基づいて、第１の気体供給管路５８ａに介設された開閉弁Ｖ１１と第１の処理液供給管路５１ａに介設された開閉弁Ｖ１２が開放し、Ｎ２ガス供給源６２から処理液容器６０内に供給されるＮ２ガスの加圧によってレジスト液Ｌをバッファタンク６１内に供給する。
【００４０】
バッファタンク６１内に所定量のレジスト液Ｌが供給（補充）されると、上限液面センサ６１ａからの検知信号を受けた制御部１０１からの制御信号に基づいて、開閉弁Ｖ１１，Ｖ１２が閉じる。このとき、開閉弁Ｖ１は開き、開閉弁Ｖ２，Ｖ３は閉じている。また、給排切換弁Ｖ４が排気側に切り換わり、この状態で圧力センサ７９によってダイヤフラムポンプ７０の作動室７３内の圧力が検出され、検出された圧力の検出信号が制御部１０１に伝達（入力）される。また、給排切換弁Ｖ４が排気側に切り換わった後に、開閉弁Ｖ１３が開く。
【００４１】
次に、図４に示すように、電空レギュレータ７８が減圧源７５ｂ側に連通して、作動室７３内のエアーを排気する。このとき、フローメータ７７によって排気流量が検出され、検出された排気流量の検出信号が制御部１０１に伝達（入力）される。作動室７３内のエアーの排気を行うことで、第２の処理液供給管路５１ｂから所定量のレジスト液Ｌがポンプ室７２に吸入される（ステップＳ１）。このとき、レジスト液Ｌがフィルタを通過するため、レジスト液Ｌの濾過回数は１回となる（図８参照）。
【００４２】
次に、図５に示すように、開閉弁Ｖ１，Ｖ１３を閉じ、開閉弁Ｖ２及び供給制御弁５７を開く。このとき、給排切換弁Ｖ４を吸気側に切り換え、電空レギュレータ７８を加圧側に連通して、作動室７３内にエアーを供給することで、図９にも示すように、ポンプ室７２に吸入されたレジスト液Ｌの一部（例えば５分の１）が吐出ノズル７を介してウエハに吐出される（ステップＳ２）。
【００４３】
この場合において、ポンプ室７２から排出されるレジスト液Ｌの量は、作動室７３内に供給されるエアーの供給量により調整される。即ち、作動室７３に供給されるエアーの供給量を少なくすることで作動室７３の体積増加が少なくなり、ウエハに吐出されるレジスト液Ｌの吐出量が少なくなる。また、作動室７３に供給されるエアーの供給量を多くすることで作動室７３の体積増加が多くなり、ウエハに吐出されるレジスト液Ｌの吐出量が多くなる。この実施形態では、ポンプ室７２に吸入されているレジスト液Ｌの５分の１がウエハに吐出される。また、作動室７３に供給されるエアーの供給量は、記憶部１０４に記憶されたデータに基づいて定められている。
【００４４】
なお、ポンプ室７２から排出されるレジスト液Ｌの量を調整する方法として、作動室７３内に供給されるエアーの供給量を調整する代わりに、エアーの供給時間を調整してもよく、あるいは、作動室７３内に供給されるエアーの供給を制御部１０１から発信されるパルス信号によって調整してもよい。
【００４５】
次に、図６に示すように、開閉弁Ｖ２を閉じ、開閉弁Ｖ３，Ｖ１４を開き、作動室７３内のエアーの供給量を多くすることで、ポンプ室７２に吸入された残りのレジスト液Ｌ（例えば５分の４）が戻り管路５５ａ，５５ｂを介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻される（ステップＳ３）。この実施形態では、ステップＳ１でポンプ室７２に吸入されたレジスト液Ｌの５分の４が第２の処理液供給管路５１ｂに戻される（図１０参照）。
【００４６】
次に、図１１に示すように、開閉弁Ｖ３，Ｖ１４を閉じ、開閉弁Ｖ１，Ｖ１３を開くことで、第２の処理液供給管路５１ｂに戻されたレジスト液Ｌとバッファタンク６１に補充されているレジスト液Ｌが合成され、ステップＳ１に戻った状態で、合成されたレジスト液Ｌがポンプ室７２に吸入される。このとき、バッファタンク６１からポンプ室７２に供給されるレジスト液Ｌの量は、ウエハへの吐出量と等量となる。即ち、レジスト液Ｌがウエハに吐出された分だけ、ポンプ室７２にレジスト液Ｌが補充される。従って、この実施形態では、ポンプ室７２に吸入されているレジスト液Ｌの５分の１の量のレジスト液Ｌがバッファタンク６１から第２の処理液供給管路５１ｂに補充される。
【００４７】
ここで、戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻ってきたレジスト液Ｌはフィルタ５２により濾過されているが、バッファタンク６１から供給されるレジスト液Ｌはフィルタ５２で濾過されていない。従って、戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻ってきたレジスト液Ｌとバッファタンク６１から補充されるレジスト液Ｌの合成によるレジスト液Ｌの濾過回数をレジスト液Ｌの合成濾過回数として求める場合、レジスト液Ｌの合成濾過回数と、ポンプ７０に吸入されたレジスト液Ｌのウエハへの吐出量と第２の処理液供給管路５１ｂへの戻り量の関係は、次式（１）で示される。
【００４８】
Ａｎ＝（ａ＋ｂ）／ａ−ｂ／ａ×｛ｂ／（ａ＋ｂ）｝ｎ−１  ・・・（１）
ここで、Ａｎはウエハに吐出されるレジスト液Ｌの合成濾過回数であり、式（１）で表わされる合成濾過回数を循環合成濾過回数という。また、ａ，ｂは、ａとｂとの比（ａ：ｂ）によって、レジスト液Ｌのウエハへの吐出量と、戻り管路５５への戻り量と、の比が表される値となっている。即ち、レジスト液Ｌのウエハへの吐出量及び戻り管路５５への戻り量を夫々Ｖａ及びＶｂとすると、これらＶａ及びＶｂを任意の定数ｋで除した値が夫々ａ及びｂとなる。尚、以降の説明において、ａ、ｂを単に「供給量」及び「戻し量」として説明する場合がある。
【００４９】
また、ｎはフィルタ５２にレジスト液Ｌを通過させた回数（処理回数）である。また、レジスト液Ｌの合成濾過回数Ａｎがこの発明の吐出量と戻り量の比率の合成に応じた回数に相当する。上述した式（１）から、合成濾過回数Ａｎは、処理回数ｎを大きくすることにより（ａ＋ｂ）／ａの値に飽和する。このＡｎ，ｎ，ａ，ｂの関係を図１３に示す。
【００５０】
図１３に示すように、ａ＝１，ｂ＝４の場合には、処理回数ｎの増加に従って合成濾過回数Ａｎが５に近づくように収束する。同様に、ａ＝１，ｂ＝２の場合には合成濾過回数Ａｎが３に近づき、ａ＝１，ｂ＝１の場合には合成濾過回数Ａｎが２に近づき、ａ＝２，ｂ＝１の場合には合成濾過回数Ａｎが１．５に近づき、ａ＝５，ｂ＝１の場合には合成濾過回数Ａｎが１．２に近づくように収束する。
【００５１】
この実施形態では、戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻ってきたレジスト液Ｌとバッファタンク６１から供給されるレジスト液Ｌの流量の比は４対１であり、戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻ってきたレジスト液Ｌの濾過回数は１回、バッファタンク６１から供給されるレジスト液Ｌの濾過回数は０回である。この場合には、図１０、図１１に示すように、フィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂに供給されるレジスト液Ｌの合成濾過回数は０．８回となり、このレジスト液Ｌをフィルタ５２に通過させることでレジスト液Ｌの合成濾過回数は１．８回となる。
【００５２】
このようなステップＳ１〜Ｓ３の工程を繰り返すことで、ポンプ７０にレジスト液Ｌを吸入し、ポンプ７０に吸入したレジスト液Ｌの一部（５分の１）をウエハに吐出すると共にポンプ７０に吸入したレジスト液Ｌの残り（５分の４）を第２の処理液供給管路５１ｂに戻し、バッファタンク６１からレジスト液Ｌを補充する工程を繰り返す。一例として、ウエハへの吐出量と第２の処理液供給管路５１ｂに戻る戻り量との比を１対４とした場合は、ａ＝１，ｂ＝４であるため、合成濾過回数を上記式（１）に基づいて計算をすると、ステップＳ１からＳ３を５回繰り返した場合（ｎ＝５）において、合成濾過回数Ａ５は３．３６回となる。
【００５３】
次に、表１に基づいて第１実施形態の効果について説明する。表１には、循環合成濾過と後述する往復合成濾過の合成濾過回数Ａｎに対するステップＳ１〜Ｓ３を行う際にかかる時間（サイクルタイム）と、パーティクル規格化数が示されている。ここで、パーティクル規格化数とは、濾過を行っていないレジスト液Ｌをウエハに吐出した際のパーティクル数、又は濾過を１回行ったレジスト液Ｌをウエハに吐出した際のパーティクル数に対する循環合成濾過又は往復合成濾過を行ったレジスト液Ｌをウエハに吐出した際のパーティクル数の比をいう。
【表１】
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【００５４】
合成濾過回数Ａｎを５回行う循環合成濾過方法では、サイクルタイムは２４．９秒であり、パーティクル規格化数は１７、１回濾過に対するパーティクル規格化数は７７となった。従って、合成濾過回数Ａｎを５回行う循環合成濾過方法では、濾過を１回行う場合とほぼ同じサイクルタイムを実現することができ、濾過されていないレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を１７％に抑え、濾過を１回行ったレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を７７％に抑えることができた。
【００５５】
また、合成濾過回数Ａｎを１０回行う循環合成濾過方法では、サイクルタイムは３５．９秒であり、パーティクル規格化数は７、１回濾過に対するパーティクル規格化数は３２となった。従って、合成濾過回数Ａｎを１０回行う循環合成濾過方法では、濾過されていないレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を７％に抑え、濾過を１回行ったレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を３２％に抑えることができた。また、合成濾過回数Ａｎを５回行う循環合成濾過方法と比較してもパーティクル数を４１％に抑えることができた。
【００５６】
従って、フィルタによる濾過を１回行った場合と同様のスループットを確保しつつ濾過効率を向上させることができるため、装置の大掛かりな変更をすることなく、一のフィルタで複数のフィルタを設けた場合と同様の濾過効率を得ると共に、スループット低下の防止を図ることができる。
【００５７】
＜第２実施形態＞
次に、図１４〜図１７に基づいて、この発明に係る液処理装置の第２実施形態について説明する。なお、第２実施形態において、第１実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
【００５８】
第２実施形態の液処理装置５は、第１実施形態における第２の戻り管路５５ｂと開閉弁Ｖ１４を省いた構成となっており、戻り管路６５はポンプ７０の吐出側とトラップタンク５３を接続する第１の戻り管路６５ａと、トラップタンク５３とフィルタ５２の二次側を接続する第２の処理液供給管路５１ｂとで形成される。
【００５９】
第２実施形態の動作は、第１実施形態で行われる動作を示す図１２のステップＳ１（図１５に示すポンプ室７２へのレジスト液Ｌの吸入），ステップＳ２（図１６に示すウエハＷへのレジスト液Ｌの吐出）については同一であるが、ステップＳ３で異なる。すなわち、図１７に示すように、ポンプ７０に吸入されているレジスト液Ｌをフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂに戻す際のレジスト液Ｌの経路が異なっている。
【００６０】
図１７に示すように、ポンプ７０に流入されているレジスト液Ｌの一部をウエハに吐出した後、開閉弁Ｖ１，Ｖ２が閉じられ、開閉弁Ｖ３，Ｖ１３が開いた状態で、作動室７３内にエアーを供給することで、ポンプ室７２に流入しているレジスト液Ｌが戻り管路６５ａ、フィルタ５２を介してフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂに戻される。そして、第１実施形態と同様に、ウエハＷへの吐出量と等量のレジスト液Ｌがバッファタンク６１から補充される。従って、レジスト液Ｌはポンプ７０への吸入時と第２の処理液供給管路５１ｂへの戻りの時にフィルタ５２により濾過される。
【００６１】
従って、ポンプ７０に吸入されたレジスト液Ｌの一部は、第１の戻り管路６５ａと第２の処理液供給管路５１ｂを通過する過程、換言すれば第２の処理液供給管路５１ｂを往復する過程でフィルタ５２による濾過（以下に、循環往復合成濾過という）が行われる。この場合のウエハに吐出されるレジスト液Ｌの合成濾過回数Ａｎと、ポンプ７０に吸入されたレジスト液Ｌのウエハへの吐出量と第２の処理液供給管路５１ｂへの戻り量の関係は、次式（２）で示される。
【００６２】
Ａｎ＝（ａ＋２ｂ）／ａ−２ｂ／ａ×｛ｂ／（ａ＋ｂ）｝ｎ−１  ・・・（２）
ここで、式（２）で表わされる合成濾過回数を循環往復合成濾過回数という。
【００６３】
一例として、ウエハへの吐出量と第２の処理液供給管路５１ｂに戻る戻り量との比を１対４とした場合は、ａ＝１，ｂ＝４であるため、合成濾過回数を上記式（２）に基づいて計算をすると、ステップＳ１からＳ３を５回繰り返した場合（ｎ＝５）において、合成濾過回数Ａ５は５．７２回となる。
【００６４】
次に、表１に基づいて第２実施形態の効果について説明する。第２実施形態における合成濾過回数Ａｎを５回行う循環往復合成濾過方法では、サイクルタイムは２０．５秒であり、パーティクル規格化数は１８、１回濾過に対するパーティクル規格化数は８２となった。従って、合成濾過回数Ａｎを５回行う循環往復合成濾過方法では、濾過を１回行う場合よりも速いサイクルタイムを実現することができ、濾過されていないレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を１８％に抑え、濾過を１回行ったレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を８２％に抑えることができた。
【００６５】
また、合成濾過回数Ａｎを１０回行う循環往復合成濾過方法では、サイクルタイムは２６．０秒であり、パーティクル規格化数は８、１回濾過に対するパーティクル規格化数は３６となった。従って、合成濾過回数Ａｎを１０回行う循環往復合成濾過方法では、濾過されていないレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を８％に抑え、濾過を１回行ったレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を３６％に抑えることができた。また、合成濾過回数Ａｎを５回行う循環往復合成濾過方法と比較してもパーティクル数を４４％に抑えることができた。
【００６６】
従って、第１実施形態と同様に、フィルタによる濾過を１回行った場合と同様のスループットを確保しつつ濾過効率を向上させることができるため、装置の大掛かりな変更をすることなく、一のフィルタで複数のフィルタを設けた場合と同様の濾過効率を得ると共に、スループット低下の防止を図ることができる。
【００６７】
また、第２実施形態の循環往復合成濾過方法では、レジスト液Ｌを第２の処理液供給管路５１ｂに戻す際にもフィルタ５２を通過させるため、第２実施形態では、第１実施形態と比べてウエハ上に付着するパーティクルの数を減少させることができる。
【００６８】
＜第３実施形態＞
図１８〜図２１に基づいて、この発明に係る液処理装置の第３実施形態を説明する。なお、第３実施形態において、第１，第２実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
【００６９】
第３実施形態の戻り管路８５は、主戻り管路を構成する第１の主戻り管路８５ａ及び第２の主戻り管路８５ｂと、フィルタ５２の二次側とフィルタ５２の一次側を接続する副戻り管路８５ｃとからなる。第１の主戻り管路８５ａはポンプ７０の吐出側とトラップタンク５３とを接続し、第２の主戻り管路８５ｂはトラップタンク５３とフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂとを接続する。この場合、第２の主戻り管路８５ｂは、開閉弁Ｖ１３とフィルタ５２の間の第２の処理液供給管路５１ｂに接続される。また、副戻り管路８５ｃは、フィルタ５２とトラップタンク５３との間の第２の処理液供給管路５１ｂと、バッファタンク６１とフィルタ５２との間の第２の処理液供給管路５１ｂとを接続する。主戻り管路８５ａ、主戻り管路８５ｂによって第１の戻り流路が構成され、副戻り管路８５ｃによって第２の戻り流路が構成される。
【００７０】
フィルタ５２の二次側の第２の処理液供給管路５１ｂと副戻り管路８５ｃとの接続部と、トラップタンク５３との間の第２の処理液供給管路５１ｂには、電磁式の開閉弁Ｖ２１が介設されている。また、第２の主戻り管路８５ｂには電磁式の開閉弁Ｖ２４が介設され、副戻り管路８５ｃには電磁式の開閉弁Ｖ２５が介設されている。これらの開閉弁Ｖ２１，Ｖ２４，Ｖ２５は上記制御部（図示せず）からの制御信号によって制御可能に形成されている。
【００７１】
第３実施形態の動作は、第１実施形態で行われる動作を示す図１２のステップＳ１（図１９に示すポンプ室７２へのレジスト液Ｌの吸入），ステップＳ２（図２０に示すウエハＷへのレジスト液Ｌの吐出）については同一であるが、ステップＳ３で異なる。
【００７２】
すなわち、図２１に示すように、ダイヤフラムポンプ７０に流入されているレジスト液Ｌを戻り管路８５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻す際には、開閉弁Ｖ２を閉じると共に開閉弁Ｖ２４，Ｖ２５を開き、駆動手段７４を駆動させることでダイヤフラムポンプ７０に吸入されているレジスト液Ｌの一部（例えば５分の４）を戻り管路８５に流入させる。
【００７３】
次に、図１９に示すように、開閉弁Ｖ３，Ｖ２４，Ｖ２５を閉じ、開閉弁Ｖ１，Ｖ１３，Ｖ２１を開くことで、第２の処理液供給管路５１ｂに戻されたレジスト液Ｌとバッファタンク６１に補充されているレジスト液Ｌが合成され、ステップＳ１に戻った状態で、合成されたレジスト液Ｌがポンプ室７２に吸入される。
【００７４】
従って、第１実施形態、第２実施形態と同様に、フィルタによるレジスト液の濾過を行っていない場合及び１回濾過した場合と同様のスループットを確保しつつ濾過効率を向上させることができるため、装置の大掛かりな変更をすることなく、一のフィルタで複数のフィルタを設けた場合と同様の濾過効率を得ると共に、スループット低下の防止を図ることができる。
【００７５】
次に、図２２〜図２５を参照して第３実施形態の変形例について説明する。
【００７６】
図２２に示す変形例においては、第３実施形態の戻り管路８６は、ポンプ７０の吐出側とトラップタンク５３とを接続する第１の主戻り管路８６ａと、トラップタンク５３とフィルタ５２の吸入側とを接続する第２の主戻り管路８６ｂと、フィルタ５２の吐出側とフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂを接続する副戻り管路８６ｃとからなる。ここで、第１の主戻り管路８６ａと第２の主戻り管路８６ｂとがこの発明における主戻り管路に相当する。また、第２の主戻り管路８６ｂには電磁式の開閉弁Ｖ２４が介設され、副戻り管路８６ｃには電磁式の開閉弁Ｖ２５が介設され、これらの開閉弁Ｖ２４，Ｖ２５は上記制御部（図示せず）からの制御信号によって制御可能に形成されている。
【００７７】
図２３に示す変形例においては、第３実施形態の戻り管路８７は、ポンプ７０の吐出側とトラップタンク５３とを接続する第１の主戻り管路８７ａと、トラップタンク５３とフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂとを接続する第２の主戻り管路８７ｂと、フィルタ５２の吐出側とフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂを接続する副戻り管路８７ｃとからなる。ここで、第１の主戻り管路８７ａと第２の主戻り管路８７ｂとがこの発明における主戻り管路に相当する。また、第２の主戻り管路８７ｂには電磁式の開閉弁Ｖ２４が介設され、副戻り管路８７ｃには電磁式の開閉弁Ｖ２５が介設され、これらの開閉弁Ｖ２４，Ｖ２５は上記制御部（図示せず）からの制御信号によって制御可能に形成されている。
【００７８】
図２４に示す変形例においては、第３実施形態の戻り管路８８は、ポンプ７０の吐出側とトラップタンク５３とを接続する第１の主戻り管路８８ａと、トラップタンク５３とフィルタ５２の吸入側とを接続する第２の主戻り管路８８ｂと、フィルタ５２の二次側の第２の処理液供給管路５１ｂとフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂに接続する副戻り管路８８ｃとからなる。ここで、第１の主戻り管路８８ａと第２の主戻り管路８８ｂとがこの発明における主戻り管路に相当する。また、第２の主戻り管路８８ｂには電磁式の開閉弁Ｖ２４が介設され、副戻り管路８８ｃには電磁式の開閉弁Ｖ２５が介設され、これらの開閉弁Ｖ２４，Ｖ２５は上記制御部（図示せず）からの制御信号によって制御可能に形成されている。
【００７９】
図２５に示す変形例においては、第３実施形態の戻り管路８９は、ポンプ７０の吐出側とフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂとを接続する主戻り管路８９ａと、フィルタ５２の二次側の第２の処理液供給管路５１ｂとフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂに接続する副戻り管路８９ｂとからなる。また、戻り管路８９ａには電磁式の開閉弁Ｖ２４が介設され、この開閉弁Ｖ２４は図示されていない制御部１０１からの制御信号によって制御可能に形成されている。
【００８０】
図２２〜図２４に示す第３実施形態の変形例の動作は、図１２に示すステップＳ１（図１９に示すポンプ室７２へのレジスト液Ｌの吸入）、ステップＳ２（図２０に示すウエハＷへのレジスト液Ｌの吐出）については同一の動作となるが、ステップＳ３で異なる。
【００８１】
すなわち、ダイヤフラムポンプ７０に流入されているレジスト液Ｌを戻り管路８６を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻す際には、開閉弁Ｖ２を閉じると共に開閉弁Ｖ２４，Ｖ２５を開き、駆動手段７４を駆動させることでダイヤフラムポンプ７０に吸入されているレジスト液Ｌの一部（例えば５分の４）を戻り管路８６に流入させる。また、ダイヤフラムポンプ７０に流入されているレジスト液Ｌを戻り管路８７，８８を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻す際にも、同様に、開閉弁Ｖ２を閉じると共に開閉弁Ｖ２４，Ｖ２５を開き、駆動手段７４を駆動させることでダイヤフラムポンプ７０に吸入されているレジスト液Ｌの一部（例えば５分の４）を戻り管路８７，８８に流入させる。
【００８２】
また、図２５に示す第３実施形態の変形例の動作は、図１９，図２０に示す第３実施形態で行われるステップＳ１，Ｓ２については同一の動作となるが、図２１に示すステップＳ３については、主戻り管路８９ａを流通するレジスト液Ｌがトラップタンク５３を経由することなくフィルタ５２に流入する点で異なっている。従って、図２５の例では、バッファタンク６１から新たに供給されるレジスト液Ｌと、ポンプ７０からフィルタ５２の一次側に戻されるレジスト液Ｌとは、トラップタンク５３において互いに混ざり合わない。そのため、レジスト液Ｌについて、目的の合成回数となるように通流させることができる。
【００８３】
なお、図２２〜図２４の第３の実施形態の変形例において、戻り管路８６，８７，８８に、図２５に示したようにトラップタンク５３を介さない構成を組み合わせてもよい。
【００８４】
従って、第３実施形態の変形例においても、第１実施形態、第２実施形態と同様に、フィルタによるレジスト液の濾過を行っていない場合及び１回濾過した場合と同様のスループットを確保しつつ濾過効率を向上させることができるため、装置の大掛かりな変更をすることなく、一のフィルタで複数のフィルタを設けた場合と同様の濾過効率を得ると共に、スループット低下の防止を図ることができる。
【００８５】
＜第４実施形態＞
図２６に基づいて、この発明に係る液処理装置の第４実施形態を説明する。なお、第４実施形態において、第１実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
【００８６】
第４実施形態では、ダイヤフラムポンプ７０と第３の処理液供給管路５１ｃとの接続部に設けられている開閉弁Ｖ２の代わりに逆止弁（図示せず）が設けられ、流量調整弁Ｖ６が第３の処理液供給管路５１ｃと戻り管路５５との接続部の二次側の第３の処理液供給管路５１ｃに介設される。流量調整弁Ｖ６は、吐出ノズル７に吐出されるレジスト液Ｌの流量を調整可能な開閉弁である。
【００８７】
また、ダイヤフラムポンプ７０と戻り管路５５との接続部に設けられている開閉弁Ｖ３の代わりに、流量調整弁Ｖ５がポンプ７０とトラップタンク５３との間の第１の戻り管路５５ａに介設される。流量調整弁Ｖ５は、第２の処理液供給管路５１ｂに戻るレジスト液Ｌの流量を調整可能な開閉弁である。この流量調整弁Ｖ５，Ｖ６は制御部１０１によって制御される。
【００８８】
また、第４実施形態の戻り管路５５は、第３の処理液供給管路５１ｃとトラップタンク５３とを接続する第１の戻り管路５５ａと、トラップタンク５３とフィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂとを接続する第２の戻り管路５５ｂとからなる。
【００８９】
第４実施形態の動作は、第１実施形態で行われる動作を示す図１２のステップＳ１（ポンプ室７２へのレジスト液Ｌの吸入）については同一であるが、ステップＳ２（ウエハＷへのレジスト液Ｌの吐出）、ステップＳ３（戻り管路５５へのレジスト液Ｌの戻し）で異なる。ダイヤフラムポンプ７０に流入されているレジスト液Ｌを吐出ノズル７を介してウエハＷに吐出する際には、開閉弁Ｖ１，流量調整弁Ｖ５を閉じると共に流量調整弁Ｖ６を開き、駆動手段７４を駆動させることでダイヤフラムポンプ７０に吸入されたレジスト液Ｌの一部（例えば５分の１）の吐出を行う。このとき、第３の処理液供給管路５１ｃを流通するレジスト液Ｌの流量は、給排切換弁Ｖ４によって調整される。
【００９０】
次に、ダイヤフラムポンプ７０に流入されているレジスト液Ｌを戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻す際には、流量調整弁Ｖ６を閉じると共に流量調整弁Ｖ５を開き、駆動手段７４を駆動させることでダイヤフラムポンプ７０に吸入されているレジスト液Ｌの一部（例えば５分の４）を戻り管路５５に流入させる。このとき、第２の処理液供給管路５１ｂを戻るレジスト液Ｌの流量は、流量調整弁Ｖ５によって調整される。
【００９１】
従って、第１実施形態〜第３実施形態と同様に、フィルタによるレジスト液の濾過を行っていない場合及び１回濾過した場合と同様のスループットを確保しつつ濾過効率を向上させることができるため、装置の大掛かりな変更をすることなく、一のフィルタで複数のフィルタを設けた場合と同様の濾過効率を得ると共に、スループット低下の防止を図ることができる。
【００９２】
なお、第４実施形態においては、第１実施形態と同様の構成の第２の処理液供給管路５１ｂとドレイン管路５６に介設されるトラップタンク５３、フィルタ５２、開閉弁Ｖ１３〜Ｖ１６を用いているが、第２実施形態、第３実施形態と同様の構成の第２の処理液供給管路５１ｂ、ドレイン管路５６、トラップタンク５３、フィルタ５２、開閉弁Ｖ１３〜Ｖ１６を用いてもよい。このような構成にしても、装置の大掛かりな変更をすることなく、一のフィルタで複数のフィルタを設けた場合と同様の濾過効率を得ると共に、スループット低下の防止を図ることができる。
【００９３】
以上の第１〜第４実施形態では、フィルタ５２の一次側におけるトラップタンク５３を設けなくても良いし、このトラップタンク５３と共に、あるいはトラップタンク５３に代えて、フィルタ５２とポンプ７０との間に別のトラップタンク５３を設けても良い。更に、フィルタ５２の二次側にポンプ７０を配置することに代えて、フィルタ５２の一次側にポンプ７０を設けても良い。即ち、ポンプ７０の送液力により、レジスト液Ｌがフィルタ５２を通過するようにしても良い。また、このようにフィルタ５２の一次側にポンプ７０を配置する場合には、処理液容器６０とポンプ７０との間、ポンプ７０とフィルタ５２との間、フィルタ５２と吐出ノズル７との間の少なくとも１箇所にトラップタンク５３を配置しても良い。
【００９４】
＜第５実施形態＞
続いて、本発明の第５実施形態について、図２７〜図３３を参照して説明する。この第５実施形態では、既述の第１実施形態にて説明した合成濾過を行うにあたって、図２７に示すように、フィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂ及び二次側における第３の処理液供給管路５１ｃに、供給ポンプ１１１と吐出ポンプ１１２とを夫々配置している。これらポンプ１１１、１１２は、図２８に示すように、例えばダイヤフラムポンプが用いられている。具体的には、各々のポンプ１１１、１１２は、一面側（図２８中手前側）が開口する概略円筒形状の外側部材１１３と、この外側部材１１３の内部にて前記一面側から他面側に向かって進退自在に挿入された円筒形状の進退部材１１４と、によって構成されている。尚、図２７では、既に説明済みの部材と同じ部位については同じ符号を付して説明を省略する。
【００９５】
外側部材１１３の側周面には、レジスト液Ｌを処理液容器６０側から吸引する吸引口１１５と、レジスト液Ｌをウエハ側に供給する供給口１１６と、が互いに対向するように配置されている。また、外側部材１１３において進退部材１１４に対向する先端部には、レジスト液Ｌをフィルタ５２側に戻すための戻し口１１７が形成されており、この戻し口１１７は、後述の戻り流路１１８の開口端をなしている。そして、これら吸引口１１５、供給口１１６及び戻し口１１７から夫々伸びる流路（第２の処理液供給管路５１ｂ、第３の処理液供給管路５１ｃ及び戻り流路１１８）には、開閉弁Ｖ３１、Ｖ３２、Ｖ３３が夫々介設されている。尚、図２８及び図２９では、これら開閉弁Ｖ３１〜Ｖ３３の配置場所について、模式的にポンプ１１１、１１２に近接させて描画している。
【００９６】
進退部材１１４には、例えばステッピングモーターやサーボモーターなどの駆動部１１９が組み合わされて設けられており、当該進退部材１１４は、外側部材１１３の開口端に対して、当該進退部材１１４の端部における周縁部が気密に接触しながら進退できるように構成されている。従って、開閉弁Ｖ３１を開放すると共に、開閉弁Ｖ３２、Ｖ３３を閉止して、進退部材１１４を外側部材１１３から引き抜く方向に後退させると、図２８に示すように、レジスト液Ｌが第２の処理液供給管路５１ｂから吸引口１１５を介して外側部材１１３の内部領域に引き込まれる。
【００９７】
一方、開閉弁Ｖ３１を閉止すると共に、開閉弁Ｖ３２あるいは開閉弁Ｖ３３を開放して、進退部材１１４を外側部材１１３の内部に向かって押し込むと、開閉弁３２（開閉弁Ｖ３３）を介して、第３の処理液供給管路５１ｃ（戻り流路１１８）に向かってレジスト液Ｌが吐出される。各々のポンプ１１１、１１２における液供給量（液の貯留量）は、例えば３０ｍｌとなっている。尚、以下の説明において、進退部材１１４を外側部材１１３の内部に向かって押し込む動作及び進退部材１１４を外側部材１１３の内部から引き抜く動作を夫々「進退部材１１４を前進させる」及び「進退部材１１４を後退させる」として説明する。
【００９８】
続いて、これらポンプ１１１、１１２を備えた液処理装置５の構成の説明に戻ると、図２７に示すように、ポンプ１１１、１１２の間には、既述のフィルタ５２が介設された接続路１２１が配置されている。この接続路１２１は、上流側の開口端が供給ポンプ１１１における供給口１１６として開口すると共に、下流側の開口端が吐出ポンプ１１２における吸引口１１５として開口している。また、ポンプ１１１、１１２の間には、前記接続路１２１とは別の戻り流路１１８が配置されており、ポンプ１１１、１１２における戻し口１１７、１１７同士は、当該戻り流路１１８を介して互いに連通している。
【００９９】
ここで、供給ポンプ１１１における各開閉弁Ｖ３１〜Ｖ３３及び吐出ポンプ１１２における各開閉弁Ｖ３１〜Ｖ３３について、夫々「ａ」及び「ｂ」の添え字を付すと、図２７に示すように、供給ポンプ１１１の開閉弁Ｖ３３ａは、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ３３ｂと共通化されている。また、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ３２ｂは、供給制御弁５７と共通化されている。図２７中１２２は、吐出ポンプ１１２内におけるレジスト液Ｌの圧力を測定するための圧力計である。
【０１００】
次に、ポンプ１１１、１１２を用いた合成濾過の具体的な動作について説明する。ここで、初期状態として、図２７に示すように、供給ポンプ１１１では進退部材１１４が外側部材１１３の内部における奥部まで押し込まれていて、レジスト液Ｌの貯留量がゼロになっているものとする。一方、吐出ポンプ１１２では、進退部材１１４は、前記奥部よりも手前側に引き出されていて、例えば１ｍｌのレジスト液Ｌが貯留されているものとする。また、供給制御弁５７を含む各開閉弁Ｖ３１〜３３は、各々閉止されているものとする。
【０１０１】
このような初期状態に続いて、ウエハへのレジスト液Ｌの吐出動作と、供給ポンプ１１１へのレジスト液Ｌの補充動作とを行う。具体的には、図３０に示すように、供給制御弁５７を開放すると共に、吐出ポンプ１１２における進退部材１１４を前進させると、吐出ポンプ１１２に貯留されていたレジスト液Ｌは、第３の処理液供給管路５１ｃ及び吐出ノズル７を介してウエハに吐出される。一方、供給ポンプ１１１における開閉弁Ｖ３１ａを開放すると共に、供給ポンプ１１１の進退部材１１４を後退させると、処理液容器６０側（詳しくはバッファタンク６１）からレジスト液Ｌが吸引されて、当該供給ポンプ１１１には例えば１０ｍｌのレジスト液Ｌが貯留される。前記吐出動作と前記補充動作とは、同時に行われる。
【０１０２】
ここで、「同時」とは、これらポンプ１１１、１１２の動作開始タイミングと動作終了タイミングとが互いに揃っている場合の他、ポンプ１１１、１１２のうち一方のポンプ１１１（１１２）が動作を開始した後、当該動作を終えるまでの間に、他方のポンプ１１２（１１１）が動作している場合を含む。即ち、レジスト液Ｌの吐出動作とレジスト液Ｌの補充動作とを夫々行っている時間帯同士が互いに重なり合っている場合を含む。尚、図３０では、各ポンプ１１１、１１２におけるレジスト液Ｌの貯留量について、各ポンプ１１１、１１２の下側に併記している。以降の図３１〜図３３も同様である。また、図３０〜図３３では、装置構成について簡略化して描画している。
【０１０３】
次いで、図３１に示すように、供給ポンプ１１１における開閉弁Ｖ３１ａを閉止すると共に、開閉弁Ｖ３２ａを開放する。また、吐出ポンプ１１２における開閉弁Ｖ３１ｂを開放して、供給制御弁５７を閉じる。そして、供給ポンプ１１１の進退部材１１４を前進させると共に、吐出ポンプ１１２の進退部材１１４を後退させると、供給ポンプ１１１内のレジスト液Ｌは、フィルタ５２を通過して異物や気泡が除去された後、吐出ポンプ１１２内に移動する。この時、レジスト液Ｌのフィルトレーション動作に続いて、フィルタ５２に残る気泡の除去作業（ベント）を行う場合には、０．５〜１ｍｌ程度のレジスト液Ｌを供給ポンプ１１１内に残しておく。尚、図３１では、供給ポンプ１１１に残るレジスト液Ｌの残量として、便宜的に０ｍｌと記載している。
【０１０４】
気泡の除去作業は、図３２に示すように、フィルタ５２の上部側における開閉弁Ｖ１５を開放して、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ３１ｂを閉止する。そして、供給ポンプ１１１の進退部材１１４を僅かに（０．５〜１ｍｌ程度のレジスト液Ｌが吐出されるように）前進させると、フィルタ５２に残る気泡がレジスト液Ｌと共に排出される。
【０１０５】
続いて、図３３に示すように、供給ポンプ１１１の開閉弁Ｖ３１ａを開放して、開閉弁Ｖ３２ａを閉止する。また、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ３３ｂを開放すると共に、開閉弁Ｖ１５を閉止する。更に、既述のフィルタ５２における気泡の除去作業を行わなかった場合には、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ３１ｂを閉止する。そして、吐出ポンプ１１２の進退部材１１４を前進させると、当該吐出ポンプ１１２内のレジスト液Ｌは、戻り流路１１８を介して供給ポンプ１１１の内部に通流して行くが、当該供給ポンプ１１１では進退部材１１４が前進しきった状態となっている。
【０１０６】
そのため、戻り流路１１８内のレジスト液Ｌは、供給ポンプ１１１よりも上流側の第２の処理液供給管路５１ｂ内をバッファタンク６１側に向かって通流する。こうして後続のウエハの処理に必要な液量（１ｍｌ）を越えた余分な量（９ｍｌ）が吐出ポンプ１１２から排出されるまで、あるいは任意の量（１ｍｌ〜９ｍｌ）のレジスト液Ｌが吐出ポンプ１１２から排出されるまで、当該吐出ポンプ１１２における進退部材１１４を前進させる。
【０１０７】
ここで、戻り流路１１８内部におけるレジスト液Ｌが通流する部位の容積と、第２の処理液供給管路５１ｂ内部におけるレジスト液Ｌが通流する部位の容積との合計の容積について、吐出ポンプ１１２から供給ポンプ１１１側に戻されるレジスト液Ｌの液量の容積よりも大きくなるようにしている。そのため、吐出ポンプ１１２の進退部材１１４の前進動作によってバッファタンク６１側に戻るレジスト液Ｌは、図３３に示すように、当該バッファタンク６１には到達しない。従って、フィルタ５２を一度通過したレジスト液Ｌと、バッファタンク６１において貯留されているレジスト液Ｌとは、互いに混じり合わない。
【０１０８】
図３３は、既述の図２７における初期状態となっている。従って、その後、供給ポンプ１１１内にレジスト液Ｌを補充すると、第２の処理液供給管路５１ｂ内にて一度フィルタ５２を通過してバッファタンク６１側に戻されていたレジスト液Ｌは、再度フィルタ５２を通過する。従って、第１実施形態で説明した合成濾過が行われる。その後、ウエハへのレジスト液Ｌの吐出動作、吐出ポンプ１１２内のレジスト液Ｌをフィルタ５２の一次側に戻す送り戻し動作、供給ポンプ１１１内へのレジスト液Ｌの引き込み動作及びフィルタ５２へのレジスト液Ｌの通液動作からなる一連の工程を繰り返す。
【０１０９】
このようにフィルタ５２の前後にポンプ１１１、１１２を配置した構成を用いて合成濾過を行うことにより、第１実施形態と同様の効果に加えて、以下の効果が得られる。即ち、フィルタ５２を経由して吐出ポンプ１１２側にレジスト液Ｌを通流させるにあたって、供給ポンプ１１１の吐出圧力を用いることができる。従って、接続路１２１内を陽圧に保つことができるので、当該接続路１２１への気泡の混入を抑制することができ、既述の第１実施形態におけるトラップタンク５３が不要になる。また、フィルタ５２にレジスト液Ｌを通液させるにあたり、供給ポンプ１１１においてレジスト液Ｌを送り出す圧力に加えて、吐出ポンプ１１２においてレジスト液Ｌを吸引する圧力を用いることができる。そのため、フィルタ５２における圧力を容易に調整できる。
更に、例えば図１の構成と比べて、配管構成が簡略化されるので、装置のコストアップ及び配管内における圧力損失を抑制できる。また、ウエハへのレジスト液Ｌの吐出動作と、バッファタンク６１からのレジスト液Ｌの吸引動作とを同時に行うことができるため、後続のウエハに対するレジスト液Ｌの吐出処理を速やかに行うことができる。
【０１１０】
図３４は、第５実施形態の他の例を示しており、フィルタ５２を一度通過したレジスト液Ｌを再度フィルタ５２に通液させるにあたって、既述の第２実施形態と同様に、接続路１２１においてレジスト液Ｌをいわば逆流させる例を示している。この場合には、フィルタ５２に対してレジスト液Ｌを再度通液させる時には、供給ポンプ１１１の開閉弁Ｖ３１ａ、Ｖ３２ａ、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ３１ｂを各々開放すると共に、戻り流路１１８における開閉弁Ｖ３３ｂを閉じる。従って、フィルタ５２の一次側にレジスト液Ｌが戻される時、当該フィルタ５２を通過するため、既述の式（２）で示される循環往復合成濾過の効果が得られる。
【０１１１】
＜第６実施形態＞
第６実施形態は、既述の循環往復合成濾過を行うにあたって、図２７の戻り流路１１８に代えて、第３の戻り流路１３１と、第４の戻り流路１３２とを設けている。具体的には、図３５に示すように、第３の戻り流路１３１について、一端側を吐出ポンプ１１２の戻し口１１７に接続すると共に、他端側をフィルタ５２と供給ポンプ１１１との間における第２の処理液供給管路５１ｂに接続している。また、第４の戻り流路１３２については、一端側をフィルタ５２と吐出ポンプ１１２との間における接続路１２１に接続すると共に、他端側を供給ポンプ１１１の戻し口１１７に接続している。第４の戻り流路１３２には、開閉弁Ｖ４１が介設されている。尚、図３５では、図示の便宜上、供給ポンプ１１１の前後を反転させて描画している。以降の図３６〜図４０についても同様である。
【０１１２】
この構成では、初期状態では、図３５に示すように、供給ポンプ１１１ではレジスト液Ｌの貯留量がゼロに設定され、一方吐出ポンプ１１２ではレジスト液Ｌの貯留量が例えば１ｍｌに設定されている。次いで、図３６に示すように、吐出ポンプ１１２からウエハにレジスト液Ｌを吐出すると共に、供給ポンプ１１１に例えば１０ｍｌのレジスト液Ｌを補充する。続いて、図３７に示すように、供給ポンプ１１１から吐出ポンプ１１２にレジスト液Ｌを通流させて、フィルタ５２において当該レジスト液Ｌに含まれる異物や気泡を除去する。以上の工程では、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ３２ｂ及び第４の戻り流路１３２の開閉弁Ｖ４１は各々閉止されている。尚、図３６及び図３７における各開閉弁Ｖ３１〜Ｖ３３及び供給制御弁５７の開閉動作については、既述の第５実施形態と同様であるため説明を省略する。
【０１１３】
その後、例えばフィルタ５２における気泡の除去作業を行う場合には、図３８に示すように、供給ポンプ１１１に僅かに残っているレジスト液Ｌについて、フィルタ５２の上段における開閉弁Ｖ１５を介して排出する。尚、図３７では、供給ポンプ１１１におけるレジスト液Ｌの残液量について、０ｍｌと記載している。
【０１１４】
そして、吐出ポンプ１１２におけるレジスト液Ｌをフィルタ５２の一次側に戻す時には、図３９に示すように、吐出ポンプ１１２側については、開閉弁３１ｂを閉止して、開閉弁Ｖ３３ｂを開放する。また、供給ポンプ１１１側については、開閉弁Ｖ３１ａを開放して、開閉弁Ｖ３２ａを閉止する。更に、第４の戻り流路１３２における開閉弁Ｖ４１を開放する。こうして吐出ポンプ１１２の進退部材１１４を前進させると、当該吐出ポンプ１１２内のレジスト液Ｌは、第３の戻り流路１３１を介してフィルタ５２を通過して、その後第４の戻り流路１３２を経由して供給ポンプ１１１の一次側に到達する。この例においても、吐出ポンプ１１２から供給ポンプ１１１の一次側に戻るレジスト液Ｌは、バッファタンク６１には到達しない。
以上説明した第６実施形態では、既述の第２実施形態における循環往復合成濾過の効果に加えて、第５実施形態と同様の効果が得られる。
【０１１５】
図４０は、第６実施形態の変形例を示しており、戻り流路１３１、１３２を備えた構成を用いて循環往復合成濾過を行うにあたって、接続路１２１をレジスト液Ｌが逆流するように各開閉弁Ｖ３１〜Ｖ３３、Ｖ４１の状態を設定した例を示している。即ち、吐出ポンプ１１２側については、開閉弁Ｖ３１ｂを開放して、開閉弁Ｖ３３ｂを閉じる。また、供給ポンプ１１１における開閉弁Ｖ３１ａ、Ｖ３２ａを各々開放して、第４の戻り流路１３２における開閉弁Ｖ４１を閉止する。このような例においても、第６実施形態と同様の効果が得られる。
【０１１６】
＜第７実施形態＞
第７実施形態は、図４１に示すように、吐出ポンプ１１２の二次側に、既述のフィルタ５２とは別に更に他のフィルタ２００を設けた例を示している。このフィルタ２００と供給制御弁５７との間における第３の処理液供給管路５１ｃには、戻り流路２０１の一端側が接続されており、この戻り流路２０１の他端側は、開閉弁Ｖ５１を介して、バッファタンク６１と供給ポンプ１１１との間における第２の処理液供給管路５１ｂに接続されている。尚、図４１中２０２はフィルタ２００から気泡を排出するためのベント管、Ｖ５２はこのベント管２０２に設けられた開閉弁である。
【０１１７】
図４１は、第７実施形態において吐出ノズル７からレジスト液Ｌを吐出すると共に、供給ポンプ１１１にレジスト液Ｌをバッファタンク６１から補充する様子を示している。即ち、供給ポンプ１１１ではレジスト液Ｌの貯留量が例えば０ｍｌから１０ｍｌに増加する。一方、吐出ポンプ１１２では、レジスト液Ｌの貯留量が例えば１ｍｌから０ｍｌに減少して、このレジスト液Ｌがフィルタ２００を通過して吐出ノズル７から吐出される。この時、開閉弁Ｖ５１、Ｖ５２は、各々閉じられている。尚、レジスト液Ｌの吐出動作に続いて行われるフィルタ５２へのレジスト液Ｌの通液動作や、各動作における開閉弁Ｖ３１〜Ｖ３３及び供給制御弁５７の開閉の説明については、既述の第５実施形態と重複するため省略する。
【０１１８】
そして、レジスト液Ｌを供給ポンプ１１１の一次側に戻す時には、図４２に示すように、戻り流路２０１の開閉弁Ｖ５１を開放すると共に、他の開閉弁Ｖ３１〜Ｖ３３及び供給制御弁５７を閉止する。この状態において吐出ポンプ１１２の進退部材１１４を前進させると、当該吐出ポンプ１１２内のレジスト液Ｌは、フィルタ２００を通過して、戻り流路２０１を経由してバッファタンク６１の二次側（供給ポンプ１１１の一次側）に到達する。
【０１１９】
第７実施形態では、吐出ノズル７にレジスト液Ｌを通流させる時、レジスト液Ｌがフィルタ２００を通過するので、例えば吐出ポンプ１１２においてパーティクルが発生した場合であっても、このパーティクルを捕集して清浄なレジスト液Ｌをウエハに供給できる。また、吐出ポンプ１１２内のレジスト液Ｌを供給ポンプ１１１の一次側に戻す時も、レジスト液Ｌがフィルタ２００を通過するので、同様に吐出ポンプ１１２にてパーティクルが発生しても、当該パーティクルを捕集できる。
【０１２０】
図４３は、以上説明した合成濾過（フィルタ５２の一次側にレジスト液Ｌを戻す時、当該レジスト液Ｌがフィルタ５２を通過しない場合）と、循環往復合成濾過（フィルタ５２の一次側にレジスト液Ｌを戻すとき、当該レジスト液Ｌがフィルタ５２を通過する場合）と、についての計算結果を示している。即ち、合成濾過については、既述の図１３に記載したように、ウエハへの供給量ａと、フィルタ５２の一次側への戻し量ｂとの比率を１：４に設定（ａ：０．５ｍｌ、ｂ：４ｍｌ）すると、合成濾過回数は、５回に収束する。一方、ａ：ｂの比率について、循環往復合成濾過において同様に１：４に設定した場合には、既述の式（２）に基づいて計算すると、合成濾過回数は、９回に収束する。また、既述の比率を１：２に設定する（ａ：０．５ｍｌ、ｂ：１．０ｍｌ）と、合成濾過及び循環往復合成濾過について、合成濾過回数は、夫々３回及び５回となる。そのため、いずれの場合においても、循環往復合成濾過では、合成濾過と比べて、同程度の所要時間であっても、およそ２倍の濾過回数を稼ぐことができる。
【０１２１】
ここで、本発明では、合成濾過や循環往復合成濾過を行うにあたって、既述の図１３からも分かるように、フィルタ５２の一次側へのレジスト液Ｌの戻し量ｂについて、ウエハへのレジスト液Ｌの供給量ａと同じか、あるいは当該供給量ａよりも多くなるように設定することが好ましい。そして、ウエハへのレジスト液Ｌの供給量ａに対して、フィルタ５２の一次側へのレジスト液Ｌの戻し量ｂが大きすぎると、処理に要する時間が嵩みやすくなり、一方少なすぎるとレジスト液の清浄化の作用が小さくなる。従って、前記比率（ａ：ｂ）は、１：１〜１：２０であり、好ましくは１：１〜１：１０、更に好ましくは１：１〜１：５である。
【０１２２】
以上のように、２つのポンプ１１１、１１２を用いる場合には、処理液容器６０と供給ポンプ１１１との間、供給ポンプ１１１とフィルタ５２との間、フィルタ５２と吐出ポンプ１１２との間、吐出ポンプ１１２と吐出ノズル７との間の少なくとも一箇所に、既述のトラップタンク５３を配置しても良い。
ここで、第５〜第７実施形態における２つのポンプ１１１、１１２のうち、供給ポンプ１１１については送液動作を行わずに、フィルタ５２の二次側の吐出ポンプ１１２だけを用いることにより、いわば第１実施形態〜第４実施形態のようにレジスト液Ｌの吸引及び送液を行っても良い。
【０１２３】
以上説明した各第１〜第７実施形態では、ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）内のレジスト液Ｌをウエハに吐出する吐出動作と、ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）内に残ったレジスト液Ｌの残液をフィルタ５２の一次側に戻す送り戻し動作と、が一組の工程となっている。そして、この一組の工程を繰り返している。そのため、ウエハにレジスト液Ｌを吐出しながら、言い換えると装置がアイドリング状態（待機状態）ではなく運転状態となっていても、レジスト液Ｌに含まれる異物や気泡を除去できる。
【０１２４】
ここで、前記吐出動作と送り戻し動作とを交互に繰り返すことに代えて、例えば吐出動作を複数回行った後、送り戻し動作を一度行い、その後更に吐出動作を複数回行っても良い。具体的には、ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）からフィルタ５２の一次側にレジスト液Ｌを戻す時、ウエハにレジスト液Ｌを吐出する複数回分（例えば２回分）の液量を当該ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）に残しておく。次いで、ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）に残る液量の分だけ複数のウエハに対して連続してレジスト液Ｌを吐出する。その後、フィルタ５２を介してレジスト液Ｌをポンプ７０（吐出ポンプ１１２）に補充する。従って、本発明の特許請求の範囲において、フィルタ５２の一次側に戻されるレジスト液Ｌの液量についての説明である、「残りの処理液」とは、ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）に残っている残液全てを意味する場合の他、前記残液の一部だけの場合も含まれる。
【０１２５】
また、各第１〜第７実施形態では、吐出ノズル７からレジスト液Ｌを吐出させた後、ポンプ７０、１１１にレジスト液Ｌを補充するにあたって、当該吐出ノズル７からの吐出量に対応する分だけ補充したが、前記吐出量とポンプ７０、１１１に補充する補充量とを互いに異なる量に設定しても良い。即ち、ポンプ７０については作動室７３に供給するエアーの供給量を調整することにより、あるいはポンプ１１１については進退部材１１４の進退寸法を調整することにより、ポンプ７０、１１１に引き込むレジスト液Ｌの流量を任意に設定しても良い。
【０１２６】
このように前記吐出量と前記補充量とを互いに異なる量に設定する場合について、具体的に説明する。例えば第ｎ回目における吐出動作では、吐出量、フィルタ５２の一次側に戻すレジスト液Ｌの戻り量及び補充量について、夫々０．５ｍｌ、２．４ｍｌ及び０．６ｍｌに設定する。次いで、第（ｎ＋１）回目における吐出動作では、吐出量、戻り量及び補充量について、夫々０．５ｍｌ、２．６ｍｌ及び０．４ｍｌに設定する。こうして以上の２つのパターンを順番に繰り返しても良い。
以上の第５〜第７実施形態における各ポンプ１１１、１１２の少なくとも一方として、既述の図２８に示す構成に代えて、ポンプ７０を用いても良い。
【符号の説明】
【０１２７】
５  液処理装置
７  吐出ノズル
５１  供給管路
５２  フィルタ
５５，６５，８５  戻り管路
５５ａ，６５ａ  第１の戻り管路
５５ｂ，６５ｂ  第２の戻り管路
６０  処理液容器
７０  ポンプ
８５ａ  第１の主戻り管路８５ａ
８５ｂ  第２の主戻り管路８５ｂ
８５ｃ  副戻り管路８５ｃ
１００  制御コンピュータ
１０１  制御部
Ｌ  レジスト液（処理液）
Ｖ１〜Ｖ３，Ｖ１４  開閉弁
Ｖ５  流量調整弁（第３の開閉弁）
Ｖ６  流量調整弁（第２の開閉弁）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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