(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射面が二次元周期で形成された微細な凹凸を有するアルミニウムにより形成されている防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーにおいて、
前記微細凹凸の周期が使用する光の波長以下であり、
前記反射面の三次元平均表面粗さが1〜５nmであることを特徴とする防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー。
【請求項２】
前記微細凹凸がディンプル形状を有することを特徴とする請求項１に記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー。
【請求項３】
前記微細凹凸の周期が50〜300 nmであることを特徴とする請求項１又は２に記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー。
【請求項４】
表面抵抗が１×103Ω／□以下であり、もって帯電防止性を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー。
【請求項５】
前記アルミニウム層が純度99%以上の高純度アルミニウムからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーの製造方法において、アルミニウムからなる基材の鏡面加工を施された表面を陽極酸化処理し、前記アルミニウム基材の表面に形成されたポーラスアルミナ層を剥離することにより、反射面に二次元周期で形成された微細な凹凸を設けることを特徴とする防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーを具備することを特徴とする光学機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は防塵性及び低散乱性に優れたアルミニウム反射ミラー及びその製造方法、並びにかかる反射ミラーを備えた光学機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
撮像装置や測定装置などの光学機器では、光学系の中に、光の反射を利用する反射ミラーや反射鏡と呼ばれる反射型の光学素子が多く用いられている。反射光学系では、一般的に、金属の表面に鏡面加工を施した反射ミラー（反射鏡）や、鏡面加工を施した基板の表面に金属を成膜した反射ミラー（反射鏡）が使用されている。金属の中でも、広い波長域で均一な反射率を有し、コスト及び加工性で優れたアルミニウムが多く用いられる。
【０００３】
特にカメラ等、民生用の光学機器に用いられる反射ミラーは、通常、塵、埃、粒子等の微小なゴミが多く浮遊した雰囲気中で使用されるため、これらのゴミが反射ミラーの表面に付着する現象が良く見られる。
【０００４】
ミラー表面に異物が付着することにより、光の散乱による反射光量の低減、ノイズの発生、像のコントラストの低下、ゴミが像に映り込んでしまう（あるいは視認されてしまう）など、光学性能の低下が発生してしまうという問題が生じることが知られている。
【０００５】
このように、反射ミラーへの微小なゴミの付着によって、測定装置や撮像装置の機能低下や不具合が発生する場合がある。そのため、素子の性能を維持するためには、ゴミが付着して性能が劣化した場合、ブロアーで送風したり、布や紙で拭いたりしてゴミを除去する必要がある。
【０００６】
しかし、アルミニウムの表面は非常に柔らかく、布や紙で擦るだけで容易に傷がつき性能が劣化してしまうため、布や紙で拭いてゴミを除去することができない。通常、ブロアーを用いて送風することによりクリーニングを行なうが、それでも完全にゴミが除去できるわけではなく、最終的には反射ミラーを交換したり、アルミニウムの膜を再度成膜し直す必要があるため多大な手間やコストが掛かる。
【０００７】
対策として、反射ミラーのアルミニウム表面に酸化セリウム（CeO2），酸化ケイ素（SiO），二酸化ケイ素（SiO2），酸化アルミニウム（Al2O3），フッ化マグネシウム（MgF2）等の誘電体の保護膜を成膜する手法が知られている。例えば特許文献１（特開平2-50104号公報）は、アルミニウム層の表面に酸化ケイ素やフッ化マグネシウムからなる保護層が形成された金属反射膜を開示している。また特許文献２（特開昭60-178402号公報）は、アルミニウムからなる半反射層の表面にフッ化マグネシウム、二酸化ケイ素等が形成されたハーフミラーを開示している。
【０００８】
保護膜の効果により、布や紙で拭いても傷がつきにくくなるため、ゴミが付着して性能が劣化した場合、布や紙で拭いてクリーニングすることが可能になる。しかし、保護膜の付与により、反射膜が低下したり、反射率の波長依存性が大きくなり、可視光領域における平坦な反射特性が損なわれるなど、純粋なアルミニウム表面に由来する良好な光学特性が得られなくなる。またアルミニウムは金属であり、本来、導電性及び帯電防止性を有しているが、アルミニウム表面に誘電体膜を形成することにより、表面の導電性及び帯電防止性が低下するため、ゴミの付着性が高くなってしまうという弊害がある。
【０００９】
特許文献３（特開2008-233878号公報）は、反射面に、アルミナ、亜鉛酸化物又は亜鉛水酸化物からなる微細な凹凸を有する防塵膜が形成され、最表面に撥水性又は撥水撥油性を有する膜が形成された防塵性反射鏡を提案している。微細凹凸を設けることにより、反射鏡表面と塵埃間に働く分子間力を低減させ、塵埃の付着性を弱めることにより防塵性を付与している。すなわち、ゴミの付着性が低下し、ゴミが付着してもブロアーなどによる送風のみでゴミの除去が容易である。またゴミが付着しにくくなるので、ゴミ付着による経時劣化の進行が遅く、メンテナンス性に優れている。
【００１０】
しかし、亜鉛酸化物又は亜鉛水酸化物からなる誘電体膜は、上述の保護膜と同様に、反射率の低下や、反射率の波長依存性が損なわれるなど、純粋なアルミニウム表面に由来する良好な光学特性が得られなくなり、反射特性が劣化してしまう。またアルミニウム表面に誘電体膜を形成することにより、表面の導電性及び帯電防止性が低下するため、ゴミの付着性が高くなってしまうという弊害がある。
【００１１】
そのため、導電性を付与するためには、さらに導電性の下地層等を設ける必要がある。さらに撥水性又は撥水撥油性の膜の形成が必要であるなど、工程が多くなり、かつ複雑になるため、その結果コストが高くなってしまうという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開平2-50104号公報
【特許文献２】特開昭60-178402号公報
【特許文献３】特開2008-233878号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
従って本発明の目的は、反射特性、導電性及び帯電防止性を維持しつつ、高い防塵性を有するアルミニウム反射ミラーを提供することである。
【００１４】
本発明の別の目的は、かかるアルミニウム反射ミラーを製造する方法及びそれを備えた光学機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、アルミニウムの反射面に所定の微細な凹凸を二次元周期で形成することにより、反射特性、導電性及び帯電防止性を維持しつつ、高い防塵性を有するアルミニウム反射ミラーを低コストで得られることを発見し、本発明に想到した。
【００１６】
即ち、本発明の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー及びその製造方法は以下の特徴を有している。
[1]   反射面が二次元周期で形成された微細な凹凸を有するアルミニウムにより形成されている防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーにおいて、前記微細凹凸の周期が使用する光の波長以下であり、前記反射面の三次元平均表面粗さが1〜５nmであることを特徴とする防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー。
[2]  上記[1] に記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーであって、前記微細凹凸がディンプル形状を有することを特徴とする防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー。
[3]  上記[1] 又は[2] に記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーであって、前記微細凹凸の周期が50〜300 nmであることを特徴とする防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー。
[4]  上記[1]〜[3] のいずれかに記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーであって、表面抵抗が１×103Ω／□以下であり、もって帯電防止性を有することを特徴とする防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー。
[5]  上記[1]〜[4] のいずれかに記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーであって、前記アルミニウム層が純度99%以上の高純度アルミニウムからなることを特徴とする防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー。
[6]  上記[1]〜[5] のいずれかに記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーの製造方法において、アルミニウムからなる基材の鏡面加工を施された表面を陽極酸化処理し、前記アルミニウム基材の表面に形成されたポーラスアルミナ層を剥離することにより、反射面に二次元周期で形成された微細な凹凸を設けることを特徴とする防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーの製造方法。
[7]  上記[1]〜[5] のいずれかに記載の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーを具備することを特徴とする光学機器。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、微細凹凸の付与によりゴミの吸着力が低減し、従来のアルミニウム反射ミラーよりも反射面にゴミが付きにくくなるため、ミラーの性能劣化が抑えられ、高い性能を長時間維持することができる。さらに、従来のように紙等で拭いてゴミを除去する必要性が低減することから、ミラーを交換したり、アルミニウムの膜を再度成膜し直すことも少なく、メンテナンス性の向上や、維持コストの低減が図れる。
【００１８】
加えて、アルミニウム反射ミラーの反射面に、別途、保護膜や防塵膜を形成する必要がないため、高い防塵性を得つつ、アルミニウム反射ミラーの本来の反射特性、導電性及び帯電防止性を維持できる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施例による防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーを示す断面図である。
【図２】本発明の別の実施例による防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーを示す断面図である。
【図３】本発明の一実施例による防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーの製造方法を示す図である。
【図４】本発明の一実施例による防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーの反射面を示すSEM写真である。
【図５】本発明の別の実施例による防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーの反射面を示すSEM写真である。
【図６】防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーの分光反射率を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
[1] 防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー
本発明の一実施例による防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１は、図１に示すように、反射面11が二次元周期で形成された複数の微細な凹凸12を有するアルミニウム基材10からなる。アルミニウム基材10の反射面11の反対側の面にも二次元周期で形成された微細凹凸12を設けても良い。
【００２１】
基材10は高純度のアルミニウムからなるのが好ましい。基材10の材料として高純度アルミニウムを用いると、後述する高精度な陽極酸化が可能になる。基材10に用いる高純度アルミニウムの純度は99％以上であるのが好ましい。また反射ミラーがより高精度な微細凹凸形状が要求される場合には、基材10に用いる高純度アルミニウムの純度は99.9％以上であるのがより好ましい。
【００２２】
反射面11の微細凹凸12の面密度の指標である三次元平均表面粗さ（SRa）が大きいほど、反射面11に付着した塵埃粒子の分子間力及び接触帯電付着力を低減する効果が高い。分子間力Fとは、分子と分子が非常に接近した際に発生する引力のことであり、下記一般式(1)：
0006024119.tif 000002
［AはHamaker定数（van der Waals 相互作用の大きさを表す量）であり、D1は塵埃粒子径であり、Zは塵埃粒子と反射面11との間の距離であり、kは反射面11の下記式：k＝k1 + k2（ただしk1及びk2は各々k1＝（1−ν12）／E1及びk2＝（1−ν22）／E2であり、ν1及びν2はミラー表面を構成する物質及び塵埃粒子のPoisson比であり、E1及びE2はそれぞれミラー表面を構成する物質及び塵埃粒子のYoung率である。）により表される係数であり、bは反射面11の三次元平均表面粗さSRaである。］により表すことができる。分子間力Fに影響を与えるパラメータの中で、特にSRaが支配的である。反射面11の三次元平均表面粗さSRaを大きくすることにより、分子間力Fが低減し、塵埃粒子の付着力も低減させることができる。
【００２３】
また均一に帯電した塵埃粒子と反射面11との間の接触帯電付着力F1は、下記一般式(2)： 
0006024119.tif 000003
［ただしε0は真空の誘電率8.85×10-12（F/m）であり、Vcは塵埃粒子と反射面11との接触電位差であり、AはHamaker定数（van der Waals 相互作用の大きさを表す量）であり、kは下記式：k＝k1 + k2（ただしk1及びk2は各々k1＝（1−ν12）／E1及びk2＝（1−ν22）／E2であり、ν1及びν2は反射面11及び塵埃粒子のPoisson比であり、E1及びE2はそれぞれ反射面11及び塵埃粒子のYoung率である。）により表される係数であり、D1は塵埃粒子径であり、Z0は反射面11と塵埃粒子との間の距離であり、bは反射面11のSRaである。］により表され、化学的なポテンシャルの差により発生する。式(2) から明らかなように、b（反射面11のSRa）を大きくすることにより、接触帯電付着力F1も小さくできる。式(1) 及び(2) 中のHamaker定数Aは屈折率の関数で近似され、屈折率が小さいほど小さくなる。
【００２４】
三次元平均表面粗さSRaは、原子間力顕微鏡（AFM）を用いてJIS B0601により求められる中心線平均粗さ（Ra：算術平均粗さ）を三次元に拡張したものであって、下記式(3)： 
0006024119.tif 000004
(ただしXL〜XRは測定面のX座標の範囲であり、YB〜YTは測定面のY座標の範囲であり、S0は測定面がフラットであるとした場合の面積｜XR−XL｜×｜YT−YB｜であり、XはX座標であり、YはY座標であり、F（X,Y）は測定点（X,Y）における高さであり、Z0は測定面内の平均高さである。）により表される。
【００２５】
このように、反射面11の三次元平均表面粗さSRaが大きいほど、ミラー表面に付着した塵埃粒子の分子間力及び接触帯電付着力を低減できる。ミラー表面に凹凸を形成することで表面粗さSRaを大きくし、塵埃（ゴミ）の付着力を低減することにって、塵埃（ゴミ）が付着し難くなる効果や、付着した塵埃（ゴミ）を弱い力で除去できる効果といった、「防塵性」を付与することができる。
【００２６】
三次元平均表面粗さSRaは１〜５nmである。反射面11のSRaが１nm以上であると、反射面11に付着した塵埃粒子の分子間力F及び接触帯電付着力F1が十分に小さく、SRaが５nmを超えると光の散乱が大きくなり、反射ミラーとしては望ましくない。SRaは、微細凹凸12の周期、高さ及び太さを制御することにより、適宜調節することができる。
【００２７】
なお、三次元平均表面粗さSRaは、JIS B0601により求められる中心線平均粗さ（Ra：算術平均粗さ）を三次元に拡張したものであるため、二次元的に測定した算術平均粗さRaでミラー表面の表面状態を評価しても問題はない。SRaと同様、Raは１〜５nmであるのが好ましい。
【００２８】
反射面11の複数の微細凹凸12の周期は、防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１に使用する光の波長以下である。微細凹凸12を使用する光の波長以下の周期で二次元配置すると反射面11の表面での光の散乱の発生を防止することができ、アルミニウム反射ミラー１に防塵性を付与すると同時に、低散乱性が得られる。
【００２９】
反射面11の平均周期pは、使用する光の波長に応じて適宜設定可能であるが、50〜300 nmであるのが好ましく、100〜200 nmであるのがより好ましい。また反射面11の平均周期pと使用する光の波長との比は0.1〜1.0であるのが好ましい。
【００３０】
反射面11の微細凹凸12の平均深さhは、限定的ではないが、５〜
150 nmであるのが好ましく、10〜100 nmであるのがより好ましい。微細凹凸12の平均深さhが５nm未満であると防塵性が不十分であり、平均深さhが150 nm超であると低散乱性及び機械的強度が劣る。微細凹凸12の平均深さはAFM測定やSEMによる形状観察により推定した。
【００３１】
微細凹凸12の周期及び深さを制御することにより、反射面11の三次元平均表面粗さSRa及び光学特性を制御することができるため、良好な防塵性及び低散乱性が得られる。従って、防塵性によりゴミの付着を防ぐとともに、ゴミの除去を容易にし、もしゴミが付着しても送風のみで除去可能であるから拭き傷による光学性能劣化の頻度が少なくなるので、保護膜が無くても光学性能を長期に維持できることから、長寿命・低コストな防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーが得られる。
【００３２】
加えて、アルミニウム基材の反射面11に直接防塵性を付与することができるため、アルミニウム基材の反射面11に別途、防塵膜を設けることなくアルミニウム本来の高い反射特性を維持しつつ、優れた防塵効果が得られる。表面に誘電体などからなる膜が付加されていないため、反射率の低下が無く、反射率の波長依存性も小さいため、広い波長域においてフラットで高い反射特性が得られる。また導電性は膜厚にもよるが、表面抵抗は非常に低く1×103Ω／□以下のいわゆる導電性を示す。良好な導電性に伴う帯電防止性により防塵効果が望める。
【００３３】
本発明の別の実施例による防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１は、図２に示すように、基板30の表面にアルミニウムを成膜することにより、アルミニウム10を形成しても良い。また基材10の反射面11と反対側の面に一般的なガラス基板や樹脂基板、金属基板等の基板30を設けても良い。
【００３４】
防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１の反射面11に、微細凹凸12による防塵性、導電性及び帯電防止性を維持できる範囲で、さらに撥水性や撥水撥油性の膜を薄く成膜しても良い。同様に、耐環境性を向上させるため、誘電体膜などによる保護膜を形成しても問題ない。これらの場合、十分に薄い膜厚とすることにより、撥水性膜、撥水撥油性膜、保護膜等を形成しても、反射面11の形状を反映した微細凹凸による防塵効果を維持することが可能である。
【００３５】
[2] 防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーの製造方法
本発明の一実施例による防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１の製造方法を、図３を用いて以下詳細に説明する。
【００３６】
アルミニウムからなる母材40の表面41を鏡面加工してアルミニウム反射ミラーを作製する（図３(a)）。アルミニウム母材40のアルミニウム純度が99％以上であるのが好ましい。母材40の材料として純度の高いアルミニウムを用いることにより、後述の陽極酸化処理により形成されるポーラスアルミナ層20に局所的に大きな欠陥が生じにくくなるため、周期性の整った微細凹凸構造が得られる。また図２に示すように、一般的なガラス基板や樹脂基板、金属基板等の基板30の表面を鏡面加工し、その鏡面加工された表面にアルミニウム母材40を成膜することにより、アルミニウム反射ミラーを作製しても良い。
【００３７】
アルミニウム母材40を陽極にセットし、電解質に浸漬し、電圧を印加して陽極酸化処理（アルマイト処理）することにより、アルミニウム母材40の表面にポーラスアルミナ層20が形成される（図3(b)）。ポーラスアルミナ層20は、ほぼ均一の幅と均一の厚さを有する円筒状のセル21が２次元周期で配置された構造を有しており、各セル21には細孔22が形成されている。セル21の底面は丸みを帯びた半球状になっている。陽極酸化に用いる電解質としてはシュウ酸、硫酸、リン酸等が挙げられる。このようなアルマイト処理は周知技術のものを用いて良い（例えば、特開2009-287124号公報参照）。
【００３８】
陽極酸化処理をさらに進めると、２次元周期で配置されたセル21が均一の厚さを保ちながら同じ速度で垂直方向に成長する（図3(c)）。陽極酸化処理の後、クロム酸及びリン酸の混合液等の溶解液を用いて、ポーラスアルミナ層20を溶解させる（図3(d)）。この溶解液は、ポーラスアルミナ層20を溶解可能であるが、アルミニウムを溶解することができないものが好ましい。それにより、ポーラスアルミナ層20を溶解させた後、アルミニウム基材10の反射面11が露出される。ポーラスアルミナ層20の各セル21の底面は丸みを帯びた半球状であり、一体的に２次元周期で配置されているため、ポーラスアルミナ層20の溶解後のアルミニウム基材10の反射面11には、ポーラスアルミナ層20のセル21の底面の反転形状を有するディンプル状の微細凹凸12が２次元周期で形成される。
【００３９】
ポーラスアルミナ層20のセル21の厚さ及び周期は陽極酸化処理時の印加電圧、電流、処理時間、電解質の酸の種類、濃度、温度、処理するアルミの表面積等といった製造条件に相関する。そのため、これらの製造条件を調整することにより、ポーラスアルミナ層20のセル21の厚さ及び周期を制御することができる。例えば、陽極酸化時に印加する電圧を高くするとセル21の周期が大きくなり、陽極酸化の処理時間を長くするとセル21の厚さが大きくなる。従って、陽極酸化処理の条件を調整することにより、アルミニウム基材10の反射面11のディンプル状の微細凹凸12の周期及びアルミニウム基材10の厚さを制御することができる。
【実施例】
【００４０】
以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４１】
実施例１
25 mm×25 mm×５mmのガラス（BK7）基板30の１面を反射面として研削・研磨により光学鏡面を形成した。基板30の光学鏡面に純度99.99%の高純度アルミニウムからなる基材10を真空蒸着により約200 nm成膜し、アルミニウム反射ミラーを作製した。得られたアルミニウム反射ミラーを17℃の0.3 Mシュウ酸電解質に浸漬し、陽極に電圧40Vを40秒間印加し、アルミニウム基材10の表面にポーラスアルミナ層20を形成した。陽極酸化処理の後、1.8 wt％クロム酸及び６wt％リン酸の混酸の溶解液に、60℃で15分浸漬した。それにより、ポーラスアルミナ層20を溶解させ、アルミニウム基材10の微細凹凸12が２次元周期で配置された反射面11を露出させ、もって防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１（試料１）を作製した。
【００４２】
比較例１
実施例１と同様の方法で、鏡面研磨したガラス（BK7）基板30の反射面に純度99.99%の高純度アルミニウムからなる基材10を真空蒸着により約100 nm成膜し、比較例１のアルミニウム反射ミラー（試料２）を作製した。
【００４３】
比較例２
比較例１のアルミニウム反射ミラーの反射面に、さらに真空蒸着により酸化シリコン（SiO）からなる保護膜を140 nm成膜し、比較例２のアルミニウム反射ミラー（試料３）を作製した。
【００４４】
(1) 表面状態
実施例１の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１の反射面11のSEM写真をそれぞれ図４及び５に示す。反射面11にディンプル状の周期で微細凹凸12が二次元的に配置されていることが分かった。
【００４５】
(2) 防塵性
実施例１、比較例１及び比較例２のアルミニウム反射ミラー（試料１〜３）の反射面に同一条件で強制的にゴミを付与し、各試料１〜３に付着するゴミの数を調べることにより、ゴミの付着性を評価した。
【００４６】
密閉容器中で試料１を容器底面に垂直に設置した状態で、擬似的なゴミとして粒径分布５〜75μmのけい砂［JIS Z 8901試験用粉体1-2種（社団法人 日本粉体工業技術協会）］を電動ファンを用いて容器中に均一に散布し、その後５分間静置することによって試料１の反射面11にゴミを付着させた。容器から試料１を取り出し、試料１の反射面11の50倍の倍率で拡大画像を顕微鏡写真にて撮影後、画像中の3ヶ所の範囲におけるゴミの数を集計することにより、試料１における単位面積あたりに付着するゴミの数を調べた。この試験を５回繰り返したときの単位面積あたりの付着ゴミの数の平均値を試料１のゴミ付着数とした。試料２及び３についても同様の方法でゴミ付着数を求めた。各試料のゴミ付着数の測定結果を表１に示す。合わせて、各試料の三次元平均表面粗さSRaを表１に示す。
【表１】
0006024119.tif 000005
【００４７】
比較例１及び比較例２（試料２及び３）のゴミ付着数は、比較例２の方がやや多いもののほぼ同じであった。また実施例１のゴミ付着数は、比較例１及び比較例２のゴミ付着数の約１／４と明らかに少なく、反射面11に微細凹凸12を有する実施例１の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１のほうが比較例１及び２のものと比べてゴミが付着しにくい（垂直に保つだけで落下しやすい）ことが分かった。
【００４８】
次に、密閉容器中で各試料１〜３を容器底面に水平に設置した状態で、上記と同じ条件でゴミを散布して各試料１〜３の反射面11にゴミを付着させた後、ゴミが付着した状態の各試料１〜３を同一条件で強制的にゴミを除去させ、その後に残留するゴミの数を調べることにより、防塵効果の評価を行った。すなわち、一般的なカメラクリーニング用ブロアーを用いて、各試料の反射面側上方20 cmの距離から、同一の距離、風量で30回送風してゴミの除去を行った。各試料１〜３の表面の50倍の倍率で拡大画像を顕微鏡写真にて撮影後、上記と同様の方法で各試料１〜３における単位面積あたりに残留するゴミの数の平均値（ゴミ付着数）を求めた。各試料のゴミ付着数の測定結果を表２に示す。
【表２】
0006024119.tif 000006
【００４９】
比較例１及び２（試料２及び３）のゴミ残留数は、比較例１の方がやや多いもののほぼ同じであった。また実施例１のゴミ残留数は、比較例１及び２のゴミ付着数の約１／５と明らかに少なく、反射面11に微細凹凸12を有する実施例１の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１のほうが比較例１及び２のものと比べて優れた防塵性（再吸着し難い）を有することが分かった。
【００５０】
(3) 反射特性
また実施例１、比較例１及び比較例２のアルミニウム反射ミラーの分光反射率を図６に示す。実施例１、比較例１及び比較例２の可視光領域（波長400nm〜700nm）における反射率の平均値を表３に示す。
【表３】
0006024119.tif 000007
【００５１】
図６から分かるように、比較例１のアルミニウム反射ミラーは、可視光領域に渡って平坦な反射率特性を示している。それに対し、比較例２では、可視光領域の短波長側及び長波長側で反射率が低下している。その結果、可視光領域における平均反射率が低下している。このことから、保護膜の形成によりアルミニウム反射ミラーの反射特性が劣化していることが分かる。
【００５２】
実施例１の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１は、比較例１のアルミニウム反射ミラーとほぼ同じ可視光領域における平均反射率を有し、可視光領域の短波長側及び長波長側で反射率の低下も見られなかった。このことから、反射面11に微細凹凸12を有する実施例１の防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー１は、比較例１のアルミニウム反射ミラーとほぼ同等の反射特性を有し、保護膜を有する比較例２のアルミニウム反射ミラーよりも反射特性に優れていることが分かった。
【００５３】
以上の通り、本発明の実施例１の微細凹凸を有する防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラーは、比較例１の微細凹凸を有しないアルミニウム反射ミラーおよび保護膜を有する比較例２のアルミニウム反射ミラーと比べて、十分な反射特性を維持しつつ、優れた防塵性を有することが分かった。
【００５４】
１・・・防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー
10・・・アルミニウム基材
11・・・反射面
12・・・微細凹凸
20・・・ポーラスアルミナ層
21・・・セル
21・・・細孔
30・・・基板
40・・・アルミニウム母材
41・・・反射面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図６】
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【図４】
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【図５】
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