(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）：
【化１】
0006024816.tif 000038
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎは、（−ＳｉＲ１ｎＲ２３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ２が存在し； 
Ｘ１は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表し；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ５は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ７は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、一のＲａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ７２が存在し；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。］
のいずれかで表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項２】
ｃ／ｄ比が、０．２以上０．８５以下である、請求項１に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項３】
ｃ／ｄ比が、０．３以上０．６以下である、請求項１または２に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項４】
ＰＦＰＥにおいて：
−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−が、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ−であり、
−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−が、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ−であり、
−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−が、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−である、
請求項１〜３のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項５】
Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１〜４のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項６】
Ｘ２が、−（ＣＨ２）ｓ−であり、ｓが、０〜２の整数である、請求項１〜５のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項７】
式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、ｋが３であり、Ｒａ中、ｑが３である、請求項１〜６のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項８】
Ｘ１、Ｘ５およびＸ７が、それぞれ独立して：
【化２】
0006024816.tif 000039
［式中、各基において、Ｔのうち少なくとも１つは、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）においてＰＦＰＥに結合する以下の基： 
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
【化３】
0006024816.tif 000040
であり、
別のＴのうち少なくとも１つは、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）において炭素原子またはＳｉ原子に結合する−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基または炭素数１〜６のアルコキシ基であり、
Ｒ４１は水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数１〜６のアルキル基であり、
Ｒ４２は水素原子、またはＣ１−６のアルキル基を表す。］
からなる群から選択される、請求項１〜７のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項９】
式（Ｂ１−４）、（Ｂ２−４）、（Ｃ１−４）および（Ｃ２−４）：
【化４】
0006024816.tif 000041
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ５’は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ７’は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ８２は、単結合または２価の有機基である。］
のいずれかで表される化合物。
【請求項１０】
式（Ｃ１−５）および（Ｃ２−５）：
【化５】
0006024816.tif 000042
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ７’は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ８２は、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ８３は、ハロゲン原子であり；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。］
のいずれかで表される化合物。
【請求項１１】
式（Ｃ１−６）および（Ｃ２−６）：
【化６】
0006024816.tif 000043
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ７’は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ８２は、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ８４は、単結合または２価の有機基であり；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。］
のいずれかで表される化合物。
【請求項１２】
ｋが３である、請求項１０または１１に記載の化合物。
【請求項１３】
請求項９〜１２のいずれかに記載の化合物と、含フッ素オイルおよび／または溶媒とを含んで成る混合物。
【請求項１４】
含フッ素オイルが、式（３）：
Ｒ２１−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒ２２
・・・（３）
［式中：
Ｒ２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１３に記載の混合物。
【請求項１５】
含フッ素オイルが、式（３ａ）または（３ｂ）：
Ｒ２１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−Ｒ２２                ・・・（３ａ）
Ｒ２１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’−（ＯＣＦ２）ｄ’’−Ｒ２２      ・・・（３ｂ）
［式中：
Ｒ２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；
式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’は、それぞれ独立して１以上３００以下の整数であり；
添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’またはｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１３または１４に記載の混合物。
【請求項１６】
請求項１〜８のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物および／または請求項９〜１２のいずれかに記載の化合物を含有する、表面処理剤。
【請求項１７】
パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が、式（Ａ１）および（Ａ２）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物である、請求項１６に記載の表面処理剤。
【請求項１８】
パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が、式（Ｂ１）および（Ｂ２）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物である、請求項１６に記載の表面処理剤。
【請求項１９】
パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が、式（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物である、請求項１６に記載の表面処理剤。
【請求項２０】
含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１６〜１９のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２１】
含フッ素オイルが、式（３）：
Ｒ２１−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒ２２
・・・（３）
［式中：
Ｒ２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項２０に記載の表面処理剤。
【請求項２２】
含フッ素オイルが、式（３ａ）または（３ｂ）：
Ｒ２１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−Ｒ２２                ・・・（３ａ）
Ｒ２１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’−（ＯＣＦ２）ｄ’’−Ｒ２２      ・・・（３ｂ）
［式中：
Ｒ２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；
式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’は、それぞれ独立して１以上３００以下の整数であり；
添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’またはｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項２０または２１に記載の表面処理剤。
【請求項２３】
請求項１〜１４のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比が、４：１〜１：４である、請求項２２に記載の表面処理剤。
【請求項２４】
式（３ａ）で表される化合物が、２，０００〜８，０００の数平均分子量を有する、請求項２２または２３に記載の表面処理剤。
【請求項２５】
式（３ｂ）で表される化合物が、８，０００〜３０，０００の数平均分子量を有する、請求項２２または２３に記載の表面処理剤。
【請求項２６】
含フッ素オイルが、ｃ’’／ｄ’’比が、０．２以上０．９未満である式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項２２〜２５のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２７】
さらに溶媒を含む、請求項１６〜２６のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２８】
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１６〜２７のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２９】
真空蒸着用である、請求項１６〜２８のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項３０】
請求項１６〜２９のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項３１】
基材と、該基材の表面に、請求項１〜８のいずれかに記載の化合物または請求項１６〜２９のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項３２】
基材がガラスまたはサファイアガラスである、請求項３１に記載の物品。
【請求項３３】
ガラスが、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラスおよび石英ガラスから成る群から選択されるガラスである、請求項３２に記載の物品。
【請求項３４】
前記物品が光学部材である、請求項３１〜３３のいずれかに記載の物品。
【請求項３５】
前記物品がディスプレイである、請求項３１〜３３のいずれかに記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（フルオロオキシメチレン基含有パーフルオロポリエーテル変性体）に関する。また、本発明は、かかるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤等にも関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
【０００３】
そのような含フッ素シラン化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている。例えば、特許文献１および２には、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第９７／０７１５５号
【特許文献２】特表２００８−５３４６９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
表面処理層には、所望の機能を基材に対して長期にわたって提供するべく、高い耐久性が求められる。パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されており、とりわけこれらの用途において、摩擦耐久性の一層の向上が要求されている。
【０００６】
しかしながら、上記したような従来のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層では、次第に高まる摩擦耐久性向上の要求に応えるには、もはや必ずしも十分とは言えない。
【０００７】
本発明は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性を有し、かつ、高い摩擦耐久性を有する層を形成することのできる新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供することを目的とする。また、本発明は、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の製造における中間体を提供することを目的とする。さらに、本発明は、かかるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、鋭意検討した結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基におけるメチレン鎖に対するエチレン鎖の割合を、０．２以上０．９未満とすることにより、より優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明の第１の要旨によれば、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）：
【化１】
0006024816.tif 000002
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎは、（−ＳｉＲ１ｎＲ２３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ２が存在し； 
Ｘ１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、一のＲａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ７２が存在し；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。］
のいずれかで表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が提供される。
【００１０】
本発明の第２の要旨によれば、式（Ｂ１−４）、（Ｂ２−４）、（Ｃ１−４）および（Ｃ２−４）：
【化２】
0006024816.tif 000003
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ５’は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ７’は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ８２は、単結合または２価の有機基である。］
のいずれかで表される化合物が提供される。
【００１１】
本発明の第３の要旨によれば、式（Ｃ１−５）および（Ｃ２−５）：
【化３】
0006024816.tif 000004
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ７’は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ８２は、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ８３は、ハロゲン原子であり；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。］
のいずれかで表される化合物が提供される。
【００１２】
本発明の第４の要旨によれば、式（Ｃ１−６）および（Ｃ２−６）：
【化４】
0006024816.tif 000005
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ７’は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ８２は、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ８４は、単結合または２価の有機基であり；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。］
のいずれかで表される化合物が提供される。
【００１３】
本発明の第５の要旨によれば、上記式（Ｂ１−４）、（Ｂ２−４）、（Ｃ１−４）、（Ｃ２−４）、（Ｃ１−５）、（Ｃ２−５）、（Ｃ１−６）および（Ｃ２−６）のいずれかで表される化合物と、含フッ素オイルおよび／または溶媒とを含んで成る混合物が提供される。
【００１４】
本発明の第６の要旨によれば、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物および／または上記式（Ｂ１−４）、（Ｂ２−４）、（Ｃ１−４）、（Ｃ２−４）、（Ｃ１−５）、（Ｃ２−５）、（Ｃ１−６）および（Ｃ２−６）のいずれかで表される化合物を含有する、表面処理剤が提供される。
【００１５】
本発明の第７の要旨によれば、上記表面処理剤を含有するペレットが提供される。
【００１６】
本発明の第８の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物または上記の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が提供される。さらに、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を使用して得られる表面処理剤が提供される。これらを用いることにより、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の化合物について説明する。
【００１９】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
【００２０】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００２１】
本明細書において用いられる場合、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【００２２】
本発明は、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）：
【化５】
0006024816.tif 000006
のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（以下、「本発明の化合物」ともいう）を提供する。以下、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物について説明する。
【００２３】
式（Ａ１）および（Ａ２）：
【化６】
0006024816.tif 000007
【００２４】
上記式中、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、パーフルオロエーテル基またはパーフルオロポリエーテル基（以下、まとめて「パーフルオロ（ポリ）エーテル基」という）に該当する。ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上３０以下、例えば１以上３０以下、好ましくは０以上１０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは１０以上１００以下、より好ましくは２０以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上、好ましくは１０以上、より好ましくは２０以上であり、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下である。添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【００２５】
ＰＦＰＥ中、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【００２６】
好ましい態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−（式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは上記と同意義である）である。例えば、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−（式中、ｃおよびｄは上記と同意義である）であってもよい。
【００２７】
ＰＦＰＥにおいて、ｄに対するｃの比（以下、「ｃ／ｄ比」または「ＥＭ比」という）は、０．２以上０．９未満であり、好ましくは０．２以上０．８５以下であり、より好ましくは０．２以上０．７５未満であり、さらに好ましくは０．２以上０．７０以下であり、さらにより好ましくは０．３以上０．６以下である。ｃ／ｄ比を０．９未満にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性および摩擦耐久性がより向上する。ｃ／ｄ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｃ／ｄ比を０．２以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｃ／ｄ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
【００２８】
上記式中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。
【００２９】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。
【００３０】
上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。
【００３１】
該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【００３２】
上記式中、Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。
【００３３】
上記式中、Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【００３４】
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ２、−ＮＲ２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【００３５】
上記式中、Ｒ１１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子、フッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
【００３６】
上記式中、Ｒ１２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【００３７】
上記式中、ｎは、（−ＳｉＲ１ｎＲ２３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、好ましくは０〜２であり、より好ましくは０である。ただし、式中、すべてのｎが同時に０になることはない。換言すれば、式中、少なくとも１つはＲ２が存在する。
【００３８】
上記式中、Ｘ１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、αを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
【００３９】
上記式中、αは１〜９の整数であり、α’は１〜９の整数である。これらαおよびα’は、Ｘ１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、αおよびα’の和は、Ｘ１の価数と同じである。例えば、Ｘ１が１０価の有機基である場合、αおよびα’の和は１０であり、例えばαが９かつα’が１、αが５かつα’が５、またはαが１かつα’が９となり得る。また、Ｘ１が２価の有機基である場合、αおよびα’は１である。式（Ａ２）においては、αはＸ１の価数から１を引いた値である。
【００４０】
上記Ｘ１は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。
【００４１】
一の態様において、Ｘ１は２〜４価の有機基であり、αは１〜３であり、α’は１である。
【００４２】
別の態様において、Ｘ１は２価の有機基であり、αは１であり、α’は１である。この場合、式（Ａ１）および（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）で表される。
【化７】
0006024816.tif 000008
【００４３】
上記Ｘ１の例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ３１）ｐ’−（Ｘａ）ｑ’−
［式中：
Ｒ３１は、単結合、−（ＣＨ２）ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘａは、−（Ｘｂ）ｌ’−を表し、
Ｘｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−ＣＯＮＲ３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、−ＮＲ３４−および−（ＣＨ２）ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ’は、０または１であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ３１およびＸａ（典型的にはＲ３１およびＸａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００４４】
好ましくは、上記Ｘ１は、−（Ｒ３１）ｐ’−（Ｘａ）ｑ’−Ｒ３２−である。Ｒ３２は、単結合、−（ＣＨ２）ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ３２（典型的にはＲ３２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００４５】
好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ３１−Ｘｃ−Ｒ３２−、または
−Ｘｄ−Ｒ３２−
［式中、Ｒ３１およびＲ３２は、上記と同意義である。］
であり得る。
【００４６】
より好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
−Ｘｄ−、または
−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。
【００４７】
上記式中、Ｘｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−Ｎ（Ｒ３４）−、または
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、Ｒ３３、Ｒ３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘｃは、好ましくは−Ｏ−である。
【００４８】
上記式中、Ｘｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−Ｎ（Ｒ３４）−、または
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。
【００４９】
より好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−、または
−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
【００５０】
さらにより好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−、
−（ＣＨ２）ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、または
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２ −（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣvＨ２v）−
［式中、Ｒ３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。
【００５１】
上記式中、−（ＣvＨ２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−であり得る。
【００５２】
上記Ｘ１基は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００５３】
別の態様において、Ｘ１基としては、例えば下記の基が挙げられる：
【化８】
0006024816.tif 000009
【化９】
0006024816.tif 000010
［式中、Ｒ４１は、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
【化１０】
0006024816.tif 000011
（式中、Ｒ４２は水素原子またはＣ１−６のアルキル基、好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］
【００５４】
上記Ｘ１の具体的な例としては、例えば：
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）６−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
【化１１】
0006024816.tif 000012
などが挙げられる。
【００５５】
さらに別のＸ１基の例として、下記の基が挙げられる：
【化１２】
0006024816.tif 000013
［式中、
Ｒ４１は、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
各Ｘ１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または
【化１３】
0006024816.tif 000014
［式中、Ｒ４２は水素原子、Ｃ１−６のアルキル基、好ましくはメチル基、またはメトキシ基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対側の基に結合する−（ＣＨ２）ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基もしくは紫外線吸収基である。
【００５６】
ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。
【００５７】
紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。
【００５８】
好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、
【化１４】
0006024816.tif 000015
が挙げられる。
【００５９】
別の好ましい態様において、Ｘ１は、式：−（Ｒ１６）ｘ−（ＣＦＲ１７）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−で表される基である。式中、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ、ｙおよびｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【００６０】
上記式中、Ｒ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ２６−（式中、Ｒ２６は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１６は、酸素原子または２価の極性基である。
【００６１】
上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ２７）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ２７−（これらの式中、Ｒ２７は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
【００６２】
上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
【００６３】
この態様において、Ｘ１は、好ましくは、式：−（Ｏ）ｘ−（ＣＦ２）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−（式中、ｘ、ｙおよびｚは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。
【００６４】
上記式：−（Ｏ）ｘ−（ＣＦ２）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−で表される基としては、例えば、−（Ｏ）ｘ’−（ＣＨ２）ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ２）ｚ’’’−Ｏ−］ｚ””、および−（Ｏ）ｘ’−（ＣＦ２）ｙ”−（ＣＨ２）ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ２）ｚ’’’−Ｏ−］ｚ””（式中、ｘ’は０または１であり、ｙ”、ｚ”およびｚ’’’は、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｚ””は、０または１である）で表される基が挙げられる。なお、これらの基は左端がＰＦＰＥ側に結合する。
【００６５】
別の好ましい態様において、Ｘ１は、−Ｏ−ＣＦＲ１３−（ＣＦ２）ｅ−である。
【００６６】
上記Ｒ１３は、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
【００６７】
上記ｅは、それぞれ独立して、０または１である。
【００６８】
一の具体例において、Ｒ１３はフッ素原子であり、ｅは１である。
【００６９】
上記式中、ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１〜６の整数である。別の好ましい態様において、ｔは２〜１０の整数であり、好ましくは２〜６の整数である。
【００７０】
上記式中、Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。Ｘ２は、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基であり、より好ましくは、−（ＣＨ２）ｕ−（式中、ｕは、０〜２の整数である）である。
【００７１】
好ましい式（Ａ１）および（Ａ２）で示される化合物は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）：
【化１５】
0006024816.tif 000016
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎは、０〜２の整数であり、好ましくは０であり；
Ｘ１は、−Ｏ−ＣＦＲ１３−（ＣＦ２）ｅ−であり； 
Ｒ１３は、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり；
ｅは、０または１であり；
Ｘ２は、−（ＣＨ２）ｕ−であり；
ｕは、０〜２の整数であり；
ｔは、１〜１０の整数である。］
で表される化合物である。
【００７２】
上記式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端にヨウ素を導入した後、−ＣＨ２ＣＲ１２（Ｘ２−ＳｉＲ１ｎＲ２３−ｎ）−に対応するビニルモノマーを反応させることにより得ることができる。
【００７３】
式（Ｂ１）および（Ｂ２）：
【化１６】
0006024816.tif 000017
【００７４】
上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ１、Ｒ２およびｎは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
【００７５】
上記式中、Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ５は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ１ｎＲ２３−ｎ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ５は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
【００７６】
上記式中のβは、１〜９の整数であり、β’は、１〜９の整数である。これらβおよびβ’は、Ｘ３の価数に応じて決定され、式（Ｂ１）において、βおよびβ’の和は、Ｘ５の価数と同じである。例えば、Ｘ５が１０価の有機基である場合、βおよびβ’の和は１０であり、例えばβが９かつβ’が１、βが５かつβ’が５、またはβが１かつβ’が９となり得る。また、Ｘ５が２価の有機基である場合、βおよびβ’は１である。式（Ｂ２）において、βはＸ５の価数の値から１を引いた値である。
【００７７】
上記Ｘ５は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
【００７８】
一の態様において、Ｘ５は２〜４価の有機基であり、βは１〜３であり、β’は１である。
【００７９】
別の態様において、Ｘ５は２価の有機基であり、βは１であり、β’は１である。この場合、式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）で表される。
【化１７】
0006024816.tif 000018
【００８０】
上記Ｘ５の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
【００８１】
中でも、好ましい具体的なＸ５は、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）６−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
【化１８】
0006024816.tif 000019
などが挙げられる。
【００８２】
好ましい式（Ｂ１）および（Ｂ２）で示される化合物は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）：
0006024816.tif 000020
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
ｎは、０〜２の整数であり、好ましくは０であり；
Ｘ５は、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−または−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−である］
で表される化合物である。
【００８３】
上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、例えば、下記式（Ｂ１−４）または（Ｂ２−４）：
【化１９】
0006024816.tif 000021
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ５’は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ８２は、単結合または２価の有機基である。］
で表される化合物を、ＨＳｉＭ３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｒ１またはＲ２であり、Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基であり、Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である）と反応させて、必要に応じて、上記ハロゲン原子を、Ｒ１またはＲ２に変換して、式（Ｂ１”）または（Ｂ２”）：
【化２０】
0006024816.tif 000022
［式中、ＰＦＰＥ、Ｒｆ、Ｘ５’、β、β’およびＲ８２は、上記と同意義であり；
ｎは、０〜３の整数である。］
で表される化合物として得ることができる。
【００８４】
一の態様において、Ｒ８２は、単結合または炭素数１〜１０の炭化水素基である。好ましい態様において、Ｒ８２は、−Ｒ８６−Ｒ８７−Ｒ８８−である。式中、Ｒ８６は、単結合またはＣ１−６アルキレン基、好ましくはＣ１−６アルキレン基であり、Ｒ８７は、単結合、−Ｏ−、−ＮＲＣＯ−（式中、ＲはＣ１−６アルキル基である）、−ＣＯＮＲ−（式中、ＲはＣ１−６アルキル基である）、−ＣＯ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（Ｏ）−、好ましくは−Ｏ−であり、Ｒ８８は、単結合またはＣ１−６アルキレン基、好ましくはＣ１−６アルキレン基である。
【００８５】
式（Ｂ１”）または（Ｂ２”）において、Ｘ５’からＲ８２−ＣＨ２ＣＨ２−までの部分が、式（Ｂ１）または（Ｂ２）におけるＸ５に対応する。従って、好ましいＸ５’は、上記した好ましいＸ５から−Ｒ８２−ＣＨ２ＣＨ２−に相当する部分を除いた基である。
【００８６】
式（Ｃ１）および（Ｃ２）：
【化２１】
0006024816.tif 000023
【００８７】
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
【００８８】
上記式中、Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ７は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍ基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ７は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
【００８９】
上記式中のγは、１〜９の整数であり、γ’は、１〜９の整数である。これらγおよびγ’は、Ｘ７の価数に応じて決定され、式（Ｃ１）において、γおよびγ’の和は、Ｘ７の価数と同じである。例えば、Ｘ７が１０価の有機基である場合、γおよびγ’の和は１０であり、例えばγが９かつγ’が１、γが５かつγ’が５、またはγが１かつγ’が９となり得る。また、Ｘ７が２価の有機基である場合、γおよびγ’は１である。式（Ｃ１）において、γはＸ７の価数の値から１を引いた値である。
【００９０】
上記Ｘ７は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
【００９１】
一の態様において、Ｘ７は２〜４価の有機基であり、γは１〜３であり、γ’は１である。
【００９２】
別の態様において、Ｘ７は２価の有機基であり、γは１であり、γ’は１である。この場合、式（Ｃ１）および（Ｃ２）は、下記式（Ｃ１’）および（Ｃ２’）で表される。
【化２２】
0006024816.tif 000024
【００９３】
上記Ｘ７の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
【００９４】
中でも、好ましい具体的なＸ７は、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）６−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
【化２３】
0006024816.tif 000025
などが挙げられる。
【００９５】
上記式中、Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表す。
【００９６】
式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
【００９７】
上記Ｚは、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒａが結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
【００９８】
上記Ｚは、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００９９】
式中、Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表す。Ｒａ’は、Ｒａと同意義である。
【０１００】
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒａにおいて、Ｒ７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒａ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒａ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。
【０１０１】
例えば、下記にＲａ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
【化２４】
0006024816.tif 000026
【０１０２】
上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４およびＳｉ５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
【０１０３】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
【化２５】
0006024816.tif 000027
【０１０４】
一の態様において、Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
【０１０５】
式中、Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【０１０６】
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【０１０７】
好ましくは、Ｒ７２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【０１０８】
式中、Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１０９】
式中、ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ、ｑおよびｒの和は３である。
【０１１０】
好ましい態様において、Ｒａ中の末端のＲａ’（Ｒａ’が存在しない場合、Ｒａ）において、上記ｑは、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
【０１１１】
好ましい態様において、Ｒａの末端部の少なくとも１つは、−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ７２ｑＲ７３ｒ）２または−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ７２ｑＲ７３ｒ）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ７２ｑＲ７３ｒ）３であり得る。式中、（−Ｚ−ＳｉＲ７２ｑＲ７３ｒ）の単位は、好ましくは（−Ｚ−ＳｉＲ７２３）である。さらに好ましい態様において、Ｒａの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ７２ｑＲ７３ｒ）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ７２３）３であり得る。
【０１１２】
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、少なくとも１つのＲ７２が存在する。
【０１１３】
上記式中、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【０１１４】
上記Ｒｂは、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒｃは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【０１１５】
上記式中、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１１６】
式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ、ｌおよびｍの和は、３である。
【０１１７】
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、末端に不飽和結合を有する基を導入し、この不飽和結合を有する基とハロゲン原子を有するシリル誘導体とを反応させ、さらにこのシリル基に末端に水酸基を導入し、導入した不飽和結合を有する基とシリル誘導体とを反応させることにより得ることができる。例えば、以下のようにして得ることができる。
【０１１８】
好ましい式（Ｃ１）および（Ｃ２）で示される化合物は、下記式（Ｃ１”）および（Ｃ２”）：
【化２６】
0006024816.tif 000028
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ７は、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−または−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−を表し；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表し；
Ｚは、Ｃ１−６アルキレン基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数、好ましくは３であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、一のＲａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３である。］
で表される化合物である。
【０１１９】
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、例えば、下記式（Ｃ１−４）または（Ｃ２−４）：
【化２７】
0006024816.tif 000029
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、３以上の整数であり、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ７’は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ８２は、単結合または２価の有機基である。］
で表される化合物を、ＨＳｉＲ８３ｋＲｂｌＲｃｍ（式中、Ｒ８３はハロゲン原子、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子、好ましくは塩素原子であり、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し、ｋは１〜３の整数であり、ｌおよびｍは、それぞれ独立して、０〜２の整数であり、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。）で表される化合物と反応させて、式（Ｃ１−５）または（Ｃ２−５）で表される化合物を得る。
【０１２０】
【化２８】
0006024816.tif 000030
［式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒｂ、Ｒｃ、γ、γ’、Ｘ７’、ｋ、ｌおよびｍは、上記と同意義である。］
【０１２１】
得られた式（Ｃ１−５）または（Ｃ２−５）で表される化合物を、Ｈａｌ−Ｊ−Ｒ８４−ＣＨ＝ＣＨ２（式中、Ｈａｌはハロゲン原子（例えば、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ等）を表し、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｒ８４は単結合または２価の有機基を表す。）で表される化合物と反応させて、式（Ｃ１−６）または（Ｃ２−６）で表される化合物を得る。
【０１２２】
【化２９】
0006024816.tif 000031
［式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ８２、Ｒ８４、Ｒｂ、Ｒｃ、γ、γ’、Ｘ７’、ｋ、ｌおよびｍは、上記と同意義である。］
【０１２３】
一の態様において、Ｒ８４は、単結合または炭素数１〜１０の炭化水素基である。好ましい態様において、上記炭化水素基は、−Ｒ８６’−Ｒ８７’−Ｒ８８’−である。式中、Ｒ８６’は、単結合またはＣ１−６アルキレン基、好ましくはＣ１−６アルキレン基であり、Ｒ８７’は、単結合、−Ｏ−、−ＮＲＣＯ−（式中、ＲはＣ１−６アルキル基である）、−ＣＯＮＲ−（式中、ＲはＣ１−６アルキル基である）、−ＣＯ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（Ｏ）−、好ましくは−Ｏ−であり、Ｒ８８’は、単結合またはＣ１−６アルキレン基、好ましくはＣ１−６アルキレン基である。より好ましい態様において、Ｒ８４は、Ｃ１−６アルキレン基である。
【０１２４】
得られた式（Ｃ１−６）または（Ｃ２−６）で表される化合物を、ＨＳｉＭ３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｒ７２またはＲ７３であり、Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し、Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。）と反応させて、必要に応じて、上記ハロゲン原子を、Ｒ７２またはＲ７３に変換して、式（Ｃ１’’’）または（Ｃ２’’’）：
【化３０】
0006024816.tif 000032
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
で表される化合物を得ることができる。
【０１２５】
式（Ｃ１’’’）または（Ｃ２’’’）において、Ｘ７’からＲ８２−ＣＨ２ＣＨ２−までの部分が、式（Ｃ１）または（Ｃ２）におけるＸ７に対応し、−Ｒ８４−ＣＨ２ＣＨ２−が式（Ｃ１）または（Ｃ２）におけるＺに対応する。従って、好ましいＸ７’は、上記した好ましいＸ７から−Ｒ８２−ＣＨ２ＣＨ２−に相当する部分を除いた基であり、好ましいＲ８４は、上記した好ましいＺから−ＣＨ２ＣＨ２−を除いた基である。
【０１２６】
上記から明らかなように、式（Ｂ１−４）、（Ｂ２−４）、（Ｃ１−４）および（Ｃ２−４）：
【化３１】
0006024816.tif 000033
で表される化合物、
式（Ｃ１−５）および（Ｃ２−５）：
【化３２】
0006024816.tif 000034
で表される化合物、
および
式（Ｃ１−６）および（Ｃ２−６）：
【化３３】
0006024816.tif 000035
で表される化合物は、式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される化合物の製造中間体である。
【０１２７】
本発明は、これらの中間体も提供する。
【０１２８】
これらの中間体は、ｃ／ｄ比が０．２以上０．９未満であるが、ｃ／ｄ比が０．９以上である化合物を含む混合物であってもよい。好ましくは、この混合物において、ｃ／ｄ比が、０．２以上０．９未満である化合物は、ｃ／ｄ比が０．２以上０．９未満である化合物とｃ／ｄ比が０．９以上である化合物の合計に対して、７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上含まれる。
【０１２９】
上記式（Ｂ１−４）、（Ｂ２−４）、（Ｃ１−４）、（Ｃ２−４）、（Ｃ１−５）、（Ｃ２−５）、（Ｃ１−６）および（Ｃ２−６）で表される化合物は、含フッ素オイルおよび／または溶媒との混合物であってもよい。
【０１３０】
従って、本発明は、上記式（Ｂ１−４）、（Ｂ２−４）、（Ｃ１−４）、（Ｃ２−４）、（Ｃ１−５）、（Ｃ２−５）、（Ｃ１−６）および（Ｃ２−６）のいずれかで表される化合物と、含フッ素オイルおよび／または溶媒とを含んで成る混合物も提供する
【０１３１】
含フッ素オイルおよび溶媒の例としては、下記する表面処理剤に用いられるものと同様のものが挙げられる。
【０１３２】
次に、本発明の表面処理剤について説明する。
【０１３３】
本発明の表面処理剤は、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物および／または式（Ｂ１−４）、（Ｂ２−４）、（Ｃ１−４）、（Ｃ２−４）、（Ｃ１−５）、（Ｃ２−５）、（Ｃ１−６）および（Ｃ２−６）のいずれかで表される化合物を含有する。
【０１３４】
好ましい態様において、本発明の表面処理剤は、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する。
【０１３５】
本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。
【０１３６】
一の態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）および（Ａ２）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物である。
【０１３７】
一の態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物である。
【０１３８】
一の態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物である。
【０１３９】
本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば、パーフルオロヘキサン、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦＣ２Ｆ５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＦ３［式中、ｍおよびｎは、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍまたはｎを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍおよびｎの和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択される溶媒が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。
【０１４０】
本発明の表面処理剤は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒などが挙げられる。
【０１４１】
上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ１−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒｆ２        ・・・（３）
式中、Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ１−１６のパーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ１およびＲｆ２は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１−３のパーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【０１４２】
上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−Ｒｆ２                  ・・・（３ａ）
Ｒｆ１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’−（ＯＣＦ２）ｄ’’−Ｒｆ２              ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ１およびＲｆ２は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下、例えば１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【０１４３】
一の態様において、式（３ｂ）で表される化合物において、ｃ’’／ｄ’’比は、０．２以上０．９未満である式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物である。
【０１４４】
上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。
【０１４５】
本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。
【０１４６】
一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。
【０１４７】
一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、４：１〜１：４であることが好ましい。
【０１４８】
好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。
【０１４９】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３−Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ３−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、末端がＣ１−１６パーフルオロアルキル基である上記分子末端に炭素−炭素不飽和結合を有する含フッ素化合物で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
【０１５０】
含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０１５１】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【０１５２】
本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。
【０１５３】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０１５４】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【０１５５】
触媒は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
【０１５６】
本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【０１５７】
次に、本発明の物品について説明する。
【０１５８】
本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。
【０１５９】
まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、サファイアガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。好ましくは、基材は、ガラスまたはサファイアガラスである。
【０１６０】
上記ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。
【０１６１】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【０１６２】
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【０１６３】
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【０１６４】
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【０１６５】
次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。
【０１６６】
本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【０１６７】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【０１６８】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【０１６９】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【０１７０】
湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：Ｃ５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。
【０１７１】
乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【０１７２】
膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【０１７３】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【０１７４】
次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。
【０１７５】
上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。
【０１７６】
前駆体膜に水分が供給されると、本発明の表面処理剤中のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。
【０１７７】
水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【０１７８】
次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【０１７９】
このような雰囲気下では、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と基材との間で結合が形成される。
【０１８０】
上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。
【０１８１】
過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には５００℃以下、例えば３００℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。本発明では、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の分解を抑制する観点から、好ましくは、２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の過熱水蒸気が水分供給および乾燥加熱に用いられる。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。
【０１８２】
以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。
【０１８３】
上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【０１８４】
すなわち本発明はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。
【０１８５】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【０１８６】
本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。
【０１８７】
また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【０１８８】
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜３０ｎｍ、より好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【０１８９】
以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
【実施例】
【０１９０】
本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）および（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の存在順序は任意である。また、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。
【０１９１】
・Ｅ／Ｍ比が０．８５であるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の合成
【０１９２】
合成例１（パーフルオロポリエーテル過酸化物の合成）
１００Ｗ高圧水銀ランプを含有し、循環冷却ジャケットを備えた光合成用の円筒反応器に、パーフルオロヘキサン（２２００ｇ）を加え、−５５℃に冷却した後クロロジフルオロメタン（Ｒ２２）（１６００ｇ）を充填した。
酸素を１２．２Ｌ／ｈで供給を開始、水銀ランプを点灯した。次いで、クロロトリフルオロエチレンを０．１Ｌ／ｈで、また同時にテトラフルオロエチレンを１０．２Ｌ／ｈで供給した。この供給は５時間の反応中常に一定で、温度も−５５℃で一定にした。
５時間の反応後ランプを消灯し、原料供給を停止、クロロジフルオロメタンを蒸発させた。１９Ｆ−ＮＭＲでの分析の結果Ｔ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２ＯＯ）ｐ（ＣＦ２ＯＯ）ｑ−Ｔ（式中ＴはＯＣＦ２Ｃｌ、ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ、ＯＣＦ３、ＯＣＦ２ＣＯＦ、またはＯＣＯＦである）であり、ｎ／ｍ比は０．７２に相当した。
【０１９３】
合成例２（パーフルオロポリエーテル過酸化物の熱処理）
合成例１で得られた粗体を紫外線照射下、熱処理した後、溶媒等の低沸点物を除去し、オイル成分９１ｇを得た。
【０１９４】
合成例３（パーフルオロポリエーテル変性品の合成）
撹拌機、滴下ロート、還流冷却器及び温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコ中にメタノール（２２ｍｌ）と酢酸（２０ｍｌ）、ヨウ化ナトリウム（２５ｇ）を加え、撹拌を開始した。Ｎｏｖｅｃ（商標）７２００（６２３ｇ）に溶解させた、合成例２の生成物（８０ｇ）の溶液を滴下ロートより滴下し、５０℃で３時間加熱撹拌を行うことで、ＣＨ３ＯＣＯＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ’−（ＣＦ２Ｏ）ｎ’−ＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３の構造を持つオイル成分６５ｇを得た。１９Ｆ−ＮＭＲでの分析の結果、ｍ’／ｎ’比は０．８２に相当した。
【０１９５】
合成例４（分子量調整）
上記合成例３で得られたＣＨ３ＯＣＯＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ’−（ＣＦ２Ｏ）ｎ’−ＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３の構造を有するオイル成分６５ｇをパーフルオロヘキサン（２００ｇ）に溶解させ、さらにシリカゲル（３０ｇ）を加えて撹拌した。セライト濾過を行った後、パーフルオロヘキサンで洗浄し、高分子量体を多く含む成分４５ｇを回収した。またＮｏｖｅｃ（商標）７２００／ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ（１：１）で洗浄を行うことでシリカゲルに吸着した低分子量体を多く含む成分１８ｇを分離した。
次いで上記操作で回収したオイル成分（４５ｇ）をパーフルオロヘキサン（１５０ｇ）に溶解させ、さらにシリカゲル（３０ｇ）を加えて撹拌した。セライト濾過を行った後、パーフルオロヘキサンで洗浄し、高分子量体を多く含む成分３０ｇを分離した。またＮｏｖｅｃ（商標）７２００／ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ（１：１）で洗浄を行うことでシリカゲルに吸着した低分子量体を多く含む成分１５ｇを得た。１９Ｆ−ＮＭＲでの分析の結果、ｍ’／ｎ’比は０．８５に相当した。
【０１９６】
合成例５（加水分解反応）
撹拌機、温度センサーを備えたガラス製反応器（３００ｍｌ）に上記合成例４で得られたＣＨ３ＯＣＯＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ’−（ＣＦ２Ｏ）ｎ’−ＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３の構造を有するオイル成分（１５ｇ）とパーフルオロヘキサン（３０ｍｌ）、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）、１ｍｏｌ／ｌ水酸化カリウム水溶液（３３ｍｌ）を加え３時間撹拌を実施した。その後１Ｎ塩酸を３０ｍｌ加え３０分撹拌した。その後、下層分取し、溶媒を留去することでＨＯＯＣＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ’−（ＣＦ２Ｏ）ｎ’−ＣＦ２ＣＯＯＨ１３．５ｇを得た。
【０１９７】
合成例６（Ｆ化反応）
撹拌機、還流冷却器、温度センサ―を備えたガラス製１００ｍｌ反応器に、上記合成例５で得られたＨＯＯＣＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ’−（ＣＦ２Ｏ）ｎ’−ＣＦ２ＣＯＯＨの構造を有するオイル成分１３．５ｇを加えた。
反応器内温が６０℃になるよう加熱を行い、Ｆ２ガス濃度が７．３ｖｏｌ％に調整したＦ２／Ｎ２混合ガスをを３０ｍｌ／ｍｉｎで２００分流通させ、（Ａ）ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２（ＣＦ２Ｏ）２６ＣＦ２ＣＯＯＨ、（Ｂ）ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２（ＣＦ２Ｏ）２６ＣＦ３、（Ｃ）ＨＣＯＯＣＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２（ＣＦ２Ｏ）２６ＣＦ２ＣＯＯＨの混合物を得た。
【０１９８】
合成例７（片末端カルボン酸）
上記合成例６で得られた混合物（１３．４ｇ）をパーフルオロヘキサン（５０ｇ）に溶解させ、さらにシリカゲル（５０ｇ）を加えて３０分撹拌を実施した。シリカゲルを濾過し、パーフルオロヘキサン（２００ｍｌ）で洗浄し上記合成例６の生成物（Ｂ）ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２（ＣＦ２Ｏ）２６ＣＦ３（１．９２ｇ）を得た。次いでＮｏｖｅｃ（商標）７２００／ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ（５：１）の混合溶液（３００ｍｌ）で洗浄を行うことで片末端カルボン酸（Ａ）ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２（ＣＦ２Ｏ）２６ＣＦ２ＣＯＯＨ（７．３５ｇ）を得た。
【０１９９】
合成例８（アルコール体）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた５０ｍｌの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２(ＣＦ２Ｏ)２６ＣＦ２ＣＯＯＨ（ただし、混合物中には（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）および／または（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の繰り返し単位を微量含む化合物も微量含まれ得る）で表されるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体（７ｇ）、ビス（２−メトキシエチル）エーテル（７ｇ）、ＮａＢＨ４（０．１８６ｇ）を仕込み、１１０℃で４８時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、パーフルオロヘキサン（９ｇ）加え、続いて３Ｎ塩酸（９ｇ）を滴下した。その後、不溶物をろ過し、分液ロートで下層のパーフルオロヘキサン相を分取した。続いて、揮発分を留去することにより、末端にアルコールを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アルコール体（Ａ）（６．４４ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アルコール体（Ａ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２(ＣＦ２Ｏ)２６ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ
【０２００】
合成例９（アリルエーテル体）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた５０ｍｌの４つ口フラスコに、合成例８にて合成したパーフルオロポリエーテル変性アルコール体（Ａ）（６ｇ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（４ｇ）およびＮａＯＨ（０．１６ｇ）を仕込み、６５℃で４時間撹拌した。続いて、アリルブロマイド（０．０４８ｇ）を加えた後、６５℃で６時間撹拌した。その後、室温まで冷却し、パーフルオロヘキサン（４ｇ）を加えて不溶物をろ過し、分液ロートで３Ｎ塩酸による洗浄操作を行った。続いて、揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体（Ｂ）（５．７ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体（Ｂ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２(ＣＦ２Ｏ)２６ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２
【０２０１】
合成例１０（トリクロロ体）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた３０ｍｌの４つ口フラスコに、合成例９にて合成したパーフルオロポリエーテル変性アリルオキシ体（Ｂ）（５ｇ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（５ｇ）、トリアセトキシメチルシラン（０．０１５ｇ）およびトリクロロシラン（０．３４３ｇ）を仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液（０．０２５ｍｌ）を加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロ体（Ｃ）（４．７５ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロ体（Ｃ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２(ＣＦ２Ｏ)２６ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３
【０２０２】
合成例１１（トリアリルシラン化合物）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた３０ｍｌの４つ口フラスコに、合成例１０にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロ体（Ｃ）（４．５ｇ）および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（５ｇ）を仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．９ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液（６．２２ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノール（１．７８ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作を行った。続いて、揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリアリルシラン化合物（Ｄ）（４．７４ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリアリルシラン化合物（Ｄ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２(ＣＦ２Ｏ)２６ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３
【０２０３】
合成例１２（トリクロロシラン化合物）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた５００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１１にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有トリアリルシラン化合物（Ｄ）（４．５ｇ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（４．５ｇ）、トリアセトキシメチルシラン（０．０１５ｇ）およびトリクロロシラン（１．１３ｇ）を仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液（０．０４５ｍｌ）を加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）（４．８７ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２(ＣＦ２Ｏ)２６ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３）３
【０２０４】
合成例１３（トリメトキシシラン化合物）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた３０ｍｌの４つ口フラスコに、合成例１２にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有クロロシラン化合物（Ｅ）（４．５ｇ）トリ１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（５ｇ）を加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール（０．２１ｇ）とオルソギ酸トリメチル（９．９６ｇ）の混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリメトキシシラン化合物（Ｆ）（４．４９ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリメトキシシラン化合物（Ｆ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２(ＣＦ２Ｏ)２６ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３
【０２０５】
・Ｅ／Ｍ比が０．６であるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の合成
【０２０６】
合成例１４（パーフルオロポリエーテル過酸化物の合成）
酸素を８．６Ｌ／ｈ、クロロトリフルオロエチレンを０．０８４Ｌ／ｈ、テトラフルオロエチレンを７．２Ｌ／ｈで供給した以外は合成例１と同様に操作し、４００Ｗ高圧水銀ランプを含有し、循環冷却ジャケットを備えた光合成用の円筒反応器にパーフルオロヘキサン（１１００ｇ）を加え、−４０℃に冷却した後クロロジフルオロメタン（Ｒ２２）（２５００ｇ）を充填した。
酸素を２４．５Ｌ／ｈで供給を開始、水銀ランプを点灯した。次いで、クロロトリフルオロエチレンを０．２Ｌ／ｈで、また同時にテトラフルオロエチレンを２０．４Ｌ／ｈで供給した。この供給は５時間の反応中常に一定で、温度も−４０℃で一定にした。
４時間の反応後ランプを消灯し、ガス供給を停止、クロロジフルオロメタンを蒸発させた。１９Ｆ−ＮＭＲでの分析の結果Ｔ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２ＯＯ）ｐ（ＣＦ２ＯＯ）ｑ−Ｔ（式中ＴはＯＣＦ２Ｃｌ，ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ，ＯＣＦ３，ＯＣＦ２ＣＯＦ，ＯＣＯＦである）であり、ｎ／ｍ比は０．５７に相当した。
【０２０７】
合成例１５（パーフルオロポリエーテル過酸化物の熱処理）
合成例１４で得られた化合物を使用した以外は、合成例２と同様に操作し、オイル成分（９０ｇ）を得た。
【０２０８】
合成例１６（パーフルオロポリエーテル変性品の合成）
合成例１５で得られた化合物８０ｇを使用した以外は合成例３と同様に操作し、ＣＨ３ＯＣＯＣＦ２−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ’−（ＣＦ２Ｏ）ｎ’−ＣＦ２ＯＣＯ２ＣＨ３の構造を持つオイル成分６０ｇを得た。１９Ｆ−ＮＭＲｄｅｎｏ分析の結果、ｍ’／ｎ’比は０．６０に相当した。
【０２０９】
合成例１７（分子量調整）
上記合成例１６で得られたＣＨ３ＯＣＯＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ’−（ＣＦ２Ｏ）ｎ’−ＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３の構造を有するオイル成分（５５ｇ）をパーフルオロヘキサン（２００ｇ）に溶解させ、さらにシリカゲル（２７ｇ）を加えて撹拌した。セライト濾過を行った後、パーフルオロヘキサンで洗浄し、高分子量体を多く含む成分３８ｇを回収した。またＮｏｖｅｃ（商標）７２００／ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ（１：１）で洗浄を行うことでシリカゲルに吸着した低分子量体を多く含む成分１５ｇを分離した。
次いで、上記操作で回収したオイル成分（３８ｇ）をパーフルオロヘキサン（１５０ｇ）に溶解させ、さらにシリカゲル（２０ｇ）を加えて撹拌した。セライト濾過を行った後、パーフルオロヘキサンで洗浄し、高分子量体を多く含む成分２２ｇを分離した。またＮｏｖｅｃ（商標）７２００／ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ（１：１）で洗浄を行うことでシリカゲルに吸着した低分子量体を多く含む成分１４ｇを得た。１９Ｆ−ＮＭＲでの測定の結果、ｍ’／ｎ’比は０．６０に相当した。
【０２１０】
合成例１８（加水分解反応）
合成例１７で得られた化合物１４ｇを使用した以外は合成例５と同様に操作し、ＨＯＯＣＯＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ’−（ＣＦ２Ｏ）ｎ’−ＣＦ２ＣＯＯＨの構造を有するオイル成分１２．７ｇを得た。
【０２１１】
合成例１９（Ｆ化反応）
合成例１８で得られた化合物１２ｇを使用した以外は、合成例６と同様に操作し、（Ａ）ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１９（ＣＦ２Ｏ）３１ＣＦ２ＣＯＯＨ、（Ｂ）ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１９（ＣＦ２Ｏ）３１ＣＦ３、（Ｃ）ＨＣＯＯＣＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１９（ＣＦ２Ｏ）３１ＣＦ２ＣＯＯＨの混合物を得た。
【０２１２】
合成例２０（片末端カルボン酸分離）
上記合成例１９で得られた混合物（１２ｇ）をパーフルオロヘキサン（５０ｇ）に溶解させ、さらにシリカゲル（５０ｇ）を加えて３０分撹拌を実施した。その後セライト濾過を実施し、２００ｍｌのパーフルオロヘキサンで洗浄を行うことで上記生成物（Ｂ）ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１９（ＣＦ２Ｏ）３１ＣＦ３（２．１ｇ）を得た。次いでＮｏｖｅｃ（商標）７２００／ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ（５：１）の混合溶液（２５０ｍｌ）で洗浄を行うことで片末端カルボン酸（Ａ）ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１９（ＣＦ２Ｏ）３１ＣＦ２ＣＯＯＨ（７．１ｇ）を得た。
【０２１３】
合成例２１（アルコール体）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた５０ｍｌの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１８(ＣＦ２Ｏ)３０ＣＦ２ＣＯＯＨ（ただし、混合物中には（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）および／または（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の繰り返し単位を微量含む化合物も微量含まれ得る）で表されるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体（７ｇ）、ビス（２−メトキシエチル）エーテル（７ｇ）およびＮａＢＨ４（０．１８７ｇ）を仕込み、１１０℃で４８時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、パーフルオロヘキサン（９．５ｇ）を加え、続いて３Ｎ塩酸（９．５ｇ）を滴下した。その後、不溶物をろ過し、分液ロートで下層のパーフルオロヘキサン相を分取した。続いて、揮発分を留去することにより、末端にアルコールを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アルコール体（Ａ）（６．５２ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アルコール体（Ｇ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１８(ＣＦ２Ｏ)３０ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ
【０２１４】
合成例２２（アリルエーテル体）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた５０ｍｌの４つ口フラスコに、合成例２１にて合成したパーフルオロポリエーテル変性アルコール体（Ｇ）（６．５ｇ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（７ｇ）およびＮａＯＨ（０．１７３ｇ）を仕込み、６５℃で４時間撹拌した。続いて、アリルブロマイド（０．５２ｇ）を加えた後、６５℃で６時間撹拌した。その後、室温まで冷却し、パーフルオロヘキサン（７ｇ）加えて不溶物をろ過し、分液ロートで３Ｎ塩酸による洗浄操作を行った。続いて、揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体（Ｈ）（６．１７ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体（Ｈ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１８(ＣＦ２Ｏ)３０ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２
【０２１５】
合成例２３（トリクロロ体）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた３０ｍＬの４つ口フラスコに、合成例２２にて合成したパーフルオロポリエーテル変性アリルオキシ体（Ｈ）（６ｇ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（６ｇ）、トリアセトキシメチルシラン（０．０１８ｇ）およびトリクロロシラン（０．４１ｇ）を仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液（０．０２８ｍｌ）を加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロ体（Ｉ）５．７ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロ体（Ｉ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１８(ＣＦ２Ｏ)３０ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３
【０２１６】
合成例２４（トリアリルシラン化合物）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた３０ｍｌの４つ口フラスコに、合成例２３にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロ体（Ｉ）（５ｇ）および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（５ｇ）を仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．９ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液（６．９１ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノール（２ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作を行った。続いて、揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリアリルシラン化合物（Ｊ）（５．２６ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリアリルシラン化合物（Ｊ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１８(ＣＦ２Ｏ)３０ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３
【０２１７】
合成例２５（クロロシラン化合物）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた３０ｍｌの４つ口フラスコに、合成例２４にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｊ）（５ｇ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（５ｇ）、トリアセトキシメチルシラン（０．０１６ｇ）およびトリクロロシラン（１．２５ｇ）を仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液（０．０５ｍｌ）を加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｋ）（５．４ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有クロロシラン化合物（Ｋ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１８(ＣＦ２Ｏ)３０ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３）３
【０２１８】
合成例２６（トリメトキシシラン化合物）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた３０ｍｌの４つ口フラスコに、合成例２５にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｋ）（５ｇ）および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（５ｇ）を加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール（０．２３ｇ）とオルソギ酸トリメチル（１１．１ｇ）の混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリメトキシシラン化合物（Ｌ）（５ｇ）を得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリメトキシシラン化合物（Ｌ）：
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１８(ＣＦ２Ｏ)３０ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３
【０２１９】
実施例１
上記合成例１３で得た化合物（Ｆ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤１を調製した。
上記で調製した表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０−３Ｐａとし、まず、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を７ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、化合物（Ｆ）を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを加熱し、表面処理層が形成された。
【０２２０】
実施例２
化合物（Ｆ）に代えて、上記合成例２６で得た化合物（Ｌ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０２２１】
比較例１および２
化合物（Ｆ）に代えて、それぞれ、下記対照化合物１および２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０２２２】
・対照化合物１
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２０(ＣＦ２Ｏ)１５ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ 
・対照化合物２
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１５(ＣＦ２Ｏ)１６ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３
【０２２３】
試験例１
・表面滑り性評価（動摩擦係数の測定）
上記の実施例１、２および比較例１、２にて基材表面に形成された表面処理層について、動摩擦係数を測定した。具体的には、表面性測定機（Ｌａｂｔｈｉｎｋ社製  ＦＰＴ−１）を用いて、摩擦子として紙を使用し、ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠し、動摩擦係数（−）を測定した。具体的には、表面処理層を形成した機材を水平配置し、摩擦紙（２ｃｍ×２ｃｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に２００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状況で摩擦紙を５００ｍｍ／秒の速度で平衡移動させて動摩擦係数を測定した。それぞれ４つの試料を測定した。結果を表１に示す。
【０２２４】
試験例２
・摩擦耐久性評価
上記の実施例１、２および比較例１、２にて基材表面に形成された表面処理層について、消しゴム摩擦耐久試験により、摩擦耐久性を評価した。具体的には、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、消しゴム（コクヨ株式会社製、ＫＥＳＨＩ−７０、平面寸法１ｃｍ×１．６ｃｍ）を表面処理層の表面に接触させ、その上に５００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で消しゴムを２０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数１０００回毎に水の静的接触角（度）を測定した。接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。結果を、表２に示す。
【０２２５】
【表１】
0006024816.tif 000036
【０２２６】
【表２】
0006024816.tif 000037
【０２２７】
表１、２の結果から理解されるように、ＥＭ比が本発明の範囲内である本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いた表面処理剤（実施例１および２）は、優れた表面滑り性（小さい動摩擦係数）に加え、優れた摩擦耐久性を示すことが確認された。一方、ＥＭ比が９．０よりも大きな従来のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いた表面処理剤（比較例１）は、上記本発明の表面処理剤と比較すると、表面滑り性、摩擦耐久性ともに劣っていた。これは、本発明は従来品に比べ、パーフルオロポリエーテル鎖のメチルオキシ鎖の含有比率が大きくなり、より表面の滑り性が向上するため、摩擦耐久性が向上したと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０２２８】
本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。