(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
静磁場を発生するように構成された超伝導マグネットと、
前記超伝導マグネットを遮蔽するように構成された鉄製シールドと、
傾斜磁場を発生するように構成された磁場傾斜コイルアセンブリと、
傾斜磁場により鉄製シールド内に誘導されるうず電流を低減するために鉄製シールド上に配置された１つまたは複数の磁気積層要素と、
を備え、
前記１つまたは複数の磁気積層要素は鉄製シールドの内部表面上に１層または複数層の構成で配置されており、該１層または複数層の少なくとも１つは複数の磁気積層要素を備えており、かつ該少なくとも１つの層内の隣接する磁気積層要素間に１つまたは複数の非磁気ギャップが画定され、
前記少なくとも１つの層内の複数の磁気積層要素は超伝導マグネットが発生する磁束の方向に沿って鉄製シールド上に配置されており、かつ前記１つまたは複数の非磁気ギャップは該磁束の方向に沿って画定されており、
前記複数の磁気積層要素は鉄製シールド上に２層以上の構成で配置されており、かつ上側の層にある少なくとも１つの磁気積層要素は下側の層内に画定された１つまたは複数の非磁気ギャップのうちの少なくとも１つを覆っている、
超伝導マグネットアセンブリ。
【請求項２】
静磁場を発生するように構成された超伝導マグネットと、
前記超伝導マグネットを遮蔽するように構成された鉄製シールドと、
傾斜磁場を発生するように構成された磁場傾斜コイルアセンブリと、
鉄製シールド上に配置させた複数の磁気積層要素と、
超伝導マグネットが発生する磁束の方向に沿って隣接する磁気積層要素の間に画定された１つまたは複数の非磁気ギャップと、
を備え、
前記複数の磁気積層要素は鉄製シールド上に２層以上の構成で配置されており、かつ上側の層にある少なくとも１つの磁気積層要素は下側の層内に画定された１つまたは複数の非磁気ギャップのうちの少なくとも１つを覆っている、
超伝導マグネットアセンブリ。
【請求項３】
磁気共鳴撮像システムに使用されていると共に、前記超伝導マグネットは１つまたは複数の超伝導巻き線コイルを備えている、請求項１または２に記載の超伝導マグネットアセンブリ。
【請求項４】
前記１つまたは複数の磁気積層要素の各々は、１つまたは複数の磁性材料を２層以上備えている、請求項１乃至３のいずれかに記載の超伝導マグネットアセンブリ。
【請求項５】
前記１つまたは複数の磁性材料は、ケイ素鋼、非晶質磁性材料、及びこれらを組み合わせたものを含む、請求項３に記載の超伝導マグネットアセンブリ。
【請求項６】
前記１つまたは複数の非磁気ギャップのそれぞれの内部に配置された１つまたは複数のガラス繊維強化プラスチックをさらに備える請求項１乃至５のいずれかに記載の超伝導マグネットアセンブリ。
【請求項７】
前記１つまたは複数の磁気積層要素の隣接する層間に配置させた１層または複数層のガラス繊維をさらに備える請求項１乃至６のいずれかに記載の超伝導マグネットアセンブリ。
【請求項８】
前記鉄製シールドは超伝導マグネットを収容しており、かつ前記１つまたは複数の磁気積層要素は鉄製シールドの内側表面上に配置されている、請求項１乃至７のいずれかに記載の超伝導マグネットアセンブリ。
【請求項９】
前記鉄製シールドが体部と一対のフランジを備え、
前記１つまたは複数の磁気積層要素が、前記体部と前記一対のフランジのそれぞれの内側表面上に配置されている、請求項１乃至８のいずれかに記載の超伝導マグネットアセンブリ。
【請求項１０】
前記１つまたは複数の磁気積層要素の少なくとも１つは、前記１つまたは複数の磁気積層要素の表面に沿った第１の方向における透磁率が、前記１つまたは複数の磁気積層要素の表面に沿った第２の方向であって、前記第１の方向に直交する前記第２方向における透磁率よりも大きい、請求項１乃至９のいずれかに記載の超伝導マグネットアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、全般的にはマグネットアセンブリ及びその製作方法に関する。さらに詳細には本開示は、磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システム向け並びにセキュリティ及び検査テクノロジーといった用途で使用される低うず電流の超伝導マグネットアセンブリ及びその製作方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＲＩシステムは、組織や骨構造などの部位を撮像するために医療界で広く使用されている。目下の用途において幾つかのＭＲＩシステムは、患者その他の対象物がその内部に配置される強力な均一磁場を発生させるために超伝導マグネットを利用している。超伝導マグネットと協働して所望の画像を作成するために無線周波数コイルなどの磁場傾斜コイルやその他の要素も利用されている。
【０００３】
こうしたＭＲＩシステムにおける超伝導マグネットは、そのマグネットが生成した磁場が超伝導マグネットの近傍に配置させた電子機器と不都合な相互作用（そのうちの幾つかは撮像品質に悪影響を与えかねない）をしないように磁気遮蔽されるのが一般的である。こうしたマグネットを磁気遮蔽するための技法は、能動式及び／または受動式の遮蔽を含む。
【０００４】
幾つかの用途では受動式遮蔽の超伝導マグネットが利用されており、それは受動式遮蔽の方が能動式遮蔽と比べてより費用対効果がよいのが一般的であることによる。受動式遮蔽では一般に、超伝導マグネットの遮蔽のために鉄製シールド（鉄製ヨーク）が利用される。しかしこうしたＭＲＩシステムでは、磁場傾斜コイルが鉄製シールド内に不用なうず電流を誘導するような傾斜磁場を発生させており、これはこうしたＭＲＩシステムにより取り出される画質にとって不都合となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、磁気共鳴撮像システム内のうず電流を減少させた新規で改良型の超伝導マグネットアセンブリ並びにその製作方法に対する必要性が存在する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本システムの一実施形態に従った超伝導マグネットアセンブリを提供する。本超伝導マグネットアセンブリは、静磁場を発生するように構成された超伝導マグネットと、超伝導マグネットを遮蔽するように構成された鉄製シールドと、傾斜磁場を発生するように構成された磁場傾斜コイルアセンブリと、を備える。本超伝導マグネットアセンブリはさらに、傾斜磁場によって鉄製シールド内に誘導されるうず電流を低減するために鉄製シールド上に配置された１つまたは複数の磁気積層要素を備える。
【０００７】
本システムの別の実施形態では超伝導マグネットアセンブリを提供しており、またこれは、静磁場を発生するように構成された超伝導マグネットと、超伝導マグネットを遮蔽するように構成された鉄製シールドと、傾斜磁場を発生するように構成された磁場傾斜コイルアセンブリと、を備える。本超伝導マグネットアセンブリはさらに、鉄製シールド上に配置させた複数の磁気積層要素と、超伝導マグネットが発生させる静磁場の方向に沿って隣接する磁気積層要素の間に画定される１つまたは複数の非磁気ギャップと、を備える。
【０００８】
一実施形態はさらに、静磁場を発生するように構成された超伝導マグネットの製作、超伝導マグネットを遮蔽するように構成された鉄製シールドの提供、傾斜磁場を発生するように構成された磁場傾斜コイルアセンブリの提供、並びに傾斜磁場によって鉄製シールド内に誘導されるうず電流を低減するために鉄製シールド上に配置された１つまたは複数の磁気積層要素の提供のための方法を提供する。
【０００９】
本開示の上述の態様、特徴及び利点並びにその他の態様、特徴及び利点については、添付の図面と関連して記載した以下の詳細な説明を読むことによってさらに明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本システムの一実施形態によるＭＲＩマグネットの超伝導マグネットアセンブリの斜視概要図である。
【図２】本システムの一実施形態による超伝導マグネットアセンブリの断面概要図である。
【図３】鉄製シールド上に配置された磁気積層要素の動作を表した概要図である。
【図４】鉄製シールド上への磁気積層要素の配備に関する斜視概要図である。
【図５】鉄製シールド上への磁気積層要素の配備に関する斜視概要図である。
【図６】鉄製シールド上への磁気積層要素の配備に関する斜視概要図である。
【図７】鉄製シールド上への磁気積層要素の配備に関する斜視概要図である。
【図８】本システムの別の実施形態による超伝導マグネットアセンブリの断面概要図である。
【図９】磁気積層要素及び鉄製シールドの組み上げの概要図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
ここで、本開示の実施形態について添付の図面を参照しながら説明することにする。以下の説明では、本開示が無用な詳細で不明瞭になるのを回避するためよく知られた機能や構成については詳しく記載していない。
【００１２】
図１は、本発明の一実施形態による磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムの超伝導マグネットアセンブリ１０の概要図である。図１に示すように超伝導マグネットアセンブリ１０は、超伝導マグネット１１と、鉄製シールド１２と、磁場傾斜コイルアセンブリ１３と、磁気積層要素１４及び３０（図２参照）と、を備える。
【００１３】
本システムの実施形態では超伝導マグネット１１は、主静磁場などの磁場を生成するための磁場源の役割をすることがある。鉄製ヨークとも呼ばれる鉄製シールド１２は超伝導マグネット１１を収容することがあると共に、超伝導マグネット１１が発生させた磁場が超伝導マグネット１１の近傍に配置された電子機器と不都合な相互作用することやＭＲＩ動作を妨害することを防止するためにこの磁場を捕捉し鉄製シールド１２内部に閉じ込めるための受動式遮蔽の役割をする。
【００１４】
幾つかの配列では、超伝導マグネット１１が超伝導コイルアセンブリを備える共に、超伝導コイルマグネットを通過する中央ボア（ラベル付けなし）を画定することがある。幾つかの用途ではその超伝導コイルアセンブリは１つまたは複数の超伝導ソレノイド巻きコイルを備えることがある。超伝導マグネット１１の超伝導材料の非限定の例は、ニオブチタン（ＮｂＴｉ）、ニオブスズ（Ｎｂ3Ｓｎ）及びホウ化マグネシウム（ＭｇＢ2）ワイヤ、並びにＢｉＳｒＣａＣｕＯ（ＢＳＣＣＯ）及びＹＢａ2Ｃｕ3Ｏ7（ＹＢＣＯ）を含むことがある。
【００１５】
鉄製シールド１２は１つまたは複数の磁性材料を備えることがある。鉄製シールド１２の１つまたは複数の磁性材料の非限定の例には、フェライト、鋼、磁気合金、適当な別の磁性材料、及びこれらの組み合わせを含み得る。
【００１６】
図１に示した配列では鉄製シールド１２は、細長い円筒形状を有すると共に、超伝導マグネット１１を収容するための１つのチェンバ（ラベル付けなし）を画定するように体部１５と該体部１５の相対する端部上に配置された２つの端部部分（フランジ）１６とを備えている。非限定の例ではその体部１５は、複数の別々の電気絶縁プレートまたはセクションなどの複数の体部要素１７で形成されることがあり、かつ多角形の形状を形成している。フランジ１６もまた別々の電気絶縁プレートまたはセクションなどの複数のフランジ要素１８で形成されることがあり、かつ多角円形状を有する。
【００１７】
別法としてその体部１５及び／またはフランジ１６は別の構成を有することがある。例えばその体部１５は単体で形成され、かつ円筒形状を有することがある。フランジ１６の各々もまた、単体で形成されかつリング形状を有することがある。
【００１８】
幾つかの例ではその鉄製シールド１２を超伝導コイル１１と共軸性とすることがある。フランジ１６の各々は、超伝導マグネット１１の中央のボアと連絡するため（例えば、ＭＲＩ用途においてスキャン対象物を受け容れるため）の開口部１９を画定することがある。
【００１９】
幾つかの実施形態ではその磁場傾斜コイルアセンブリ１３は、１つまたは複数の磁場傾斜コイルを備えると共に、高品質の画像の作成を容易にするためにＭＲＩ信号に線形傾斜磁場を供給し空間的位置決め、位相エンコード及び周波数エンコードを実現するように構成されることがある。非限定の一例では、磁場傾斜コイルアセンブリ１３は交番電流（ＡＣ）傾斜磁場を発生させる。図示した例では磁場傾斜コイルアセンブリ１３は、超伝導コイル１１の中央ボアを通過すると共に、スキャン対象の物体を受け容れるために中央ボアと空間的に重複した貫通穴２０を画定している。
【００２０】
動作時において磁場傾斜コイルアセンブリ１３は、鉄製シールド１２内に不用なうず電流を誘導するような傾斜磁場を生成することがある。鉄製シールド１２内に誘導されるこの不用なうず電流を低減するためには図１及び２に示すように、鉄製シールド１２の体部１５とフランジ１６のそれぞれの上に磁気積層要素１４と３０を配置させ、鉄製シールド１２内に磁場傾斜コイルアセンブリ１３により誘導されるうず電流を低減することがある。
【００２１】
図１に示した配列は単なる例示であることに留意すべきである。幾つかの実施形態ではその超伝導マグネットアセンブリ１０はさらに、無線周波数コイル並びに熱シールド、クライオスタットまたは超伝導マグネット１１を冷却するための液体ヘリウムを包含した容器などの冷却用要素（ただし、これらに限らない）を含むその他の要素を備えることがある。説明を容易にするために、無線周波数コイル、熱シールド、冷却用要素などのその他の要素は図示していない。
【００２２】
図１に示したようにある種の用途では、超伝導マグネットアセンブリ１０がさらに鉄製シールド１２を収容する真空容器２１を備えることがあり、またこの真空容器２１の一部は、極低温環境と周辺環境の間の熱遮断のために超伝導マグネット１１、鉄製シールド１２及び冷却用要素などのその他の要素を収容するように鉄製シールド１２と磁場傾斜コイルアセンブリ１３の間に配置されることがある。
【００２３】
図２は、超伝導マグネットアセンブリ１０の断面概要図を表している。図２に示したように、鉄製シールド１２は超伝導マグネット１１を受け容れると共に磁場傾斜コイルアセンブリ１３の周りに配置されている。一例ではその磁場傾斜コイルアセンブリ１３は遮蔽されていない。真空容器２１は鉄製シールド１２を収容すると共に、真空容器２１の一部は鉄製シールド１２と磁場傾斜コイルアセンブリ１３の間に配置されている。
【００２４】
図２に示した配列では、鉄製シールド１２内に磁場傾斜コイルアセンブリ１３により誘導されるうず電流の大きさ及び時定数を低減するために鉄製シールド１２の体部１５と２つのフランジ１６のそれぞれの内側（内部）表面（ラベル付けなし）上に複数の磁気積層要素１４及び３０が配置されている。別の用途ではその磁気積層要素は、鉄製シールド１２の体部１５と２つのフランジ１６のうちの少なくとも１つの上に配置されることがある。非限定の例ではその磁気積層要素１４及び３０は、鉄製シールド上に直接配置されることがある。別法として、磁気積層要素１４及び３０を体部１５及びフランジ１６のそれぞれと結合させるように、接着性樹脂などの１つまたは複数の接着材料を利用することがある。
【００２５】
幾つかの例では、磁気積層要素１４及び３０の各々は１つまたは複数の磁性材料を２層以上備えることがある。磁気積層要素の磁性材料の非限定の例は、ケイ素鋼、非晶質磁性材料、及び／または異方性の透磁率及び／または高い電気抵抗率を有する別の磁性材料を含み得る。ある種の用途ではその磁気積層要素１４と磁気積層要素３０は、有する磁性材料が同じことも異なることもあり、さらにはサイズ、形状及び層の数が異なることがある。非限定の一例ではその磁気積層要素は絶縁性の接着剤で接着させた磁気タイルから製作されている。
【００２６】
幾つかの配列では、磁気積層要素１４及び３０の各々によって、１つまたは複数の磁性材料の２層以上をそれに沿って積層させる積層方向Ａ（図３参照）を画定することがある。さらに体部１５の磁気積層要素１４は、フランジ１６の磁気積層要素３０と比較してサイズ、形状及び材料が異なることがある。図２に示したように各磁気積層要素は、鉄製シールド１２の内側表面上に積層方向と平行な方向で配置されている。例えば、磁気積層要素１４及び３０のうち積層方向と直交する方の表面は、磁気積層要素１４及び３０がそれぞれ鉄製シールド１２上に配置されるようにして鉄製シールド１２の内側表面上に配置されている。
【００２７】
図２に示した例では複数の磁気積層要素１４と３０は、超伝導マグネット１１が発生させる静磁場の方向に沿って体部１５と２つのフランジ１６の上に配備されている。例えば複数の磁気積層要素１４と３０をそれぞれ静磁場の方向に沿って、体部１５上では長手方向にかつフランジ１６上では横断方向に配置させている。非限定の例では、それぞれ体部１５の隣接する磁気積層要素１４の間並びにフランジ１６の隣接する磁気積層要素３０の間で静磁場の方向に沿って、１つまたは複数の非磁気ギャップ２２と１つまたは複数の非磁気ギャップ３１とが画定されることがある。フランジ１６上のギャップ３１は体部１５上のギャップ２２と異なることがある。幾つかの例では、ギャップ２２及び／またはギャップ３０を形成させるための距離を静磁場の方向に沿ったそれぞれの磁気積層要素の長さの５％〜２０％の範囲とすることがある。非限定の例では、磁気積層要素１４または３０の長さを５ｃｍ〜２０ｃｍの範囲とすることがある。
【００２８】
幾つかの実施形態ではその磁気積層要素１４及び／または３０は、積層方向と直交する方向において積層方向と平行な方向と比べてより大きな透磁率を有することがある。図３に示すように磁気積層要素１４は一例として示したものであり、動作時には磁気積層要素１４が存在するために、磁場傾斜コイルアセンブリ１３が発生させる傾斜磁場「Ｂ」が磁気積層要素１４内に入ると、傾斜磁場の少なくとも一部分は磁気積層要素１４によって積層方向と直交する方向に導かれることがある。このため傾斜磁場の少なくとも一部分は鉄製シールド１２から離れるように導かれ鉄製シールド１２内に進入せず、これにより鉄製シールド１２内に誘導されるうず電流の大きさ及び時定数が低減することがある。
【００２９】
さらに幾つかの例ではその磁気積層要素１４及び／または３０は、鉄製シールド１２の電気抵抗率と比べてより大きな電気抵抗率を有するように２層以上の積層式の電気絶縁層を備えることがある一方、磁気積層要素１４及び３０の各々のサイズは鉄製シールド１２のサイズより小さい。したがって、磁気積層要素１４及び／または３０内に誘導されるうず電流の大きさ及び時定数は比較的小さいことがあり、また画像の品質に影響を及ぼさないことがある。
【００３０】
ある種の用途では、静磁場の方向に沿った非磁気ギャップ２２及び３１がそれぞれ隣接する磁気積層要素１４及び３０の間の磁気抵抗を増大させることがあり、これにより磁気積層要素が磁気飽和するのを防止すると共に傾斜磁場を鉄製シールド内に進入させるのを防ぐ磁気積層要素の能力を向上させるために、超伝導マグネット１１が発生させる静磁場の少なくとも一部分が磁気積層要素１４及び３０から鉄製シールド１２に導かれることがある。このため鉄製シールド１２内に誘導される総うず電流を低減することができる。ある種の用途ではその非磁気ギャップ２２及び／または３１をガラス繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）２５（図９参照）あるいは適当な別の非磁性材料で満たすことがある。非限定の例ではそのガラス繊維強化プラスチックは、エポキシ樹脂などの含浸用樹脂によってガラス繊維になるように形成させることがある。
【００３１】
図２の配列は単なる例示であることに留意すべきである。別の用途では、鉄製シールド１２上で少なくとも１つの磁気積層要素１４または３０を利用し、これにより非磁気ギャップ２２または３１を画定させないことがある。さらにある種の用途ではその磁気積層要素１４及び３０のうちの１つまたは幾つかを、鉄製シールド１２の内側表面上で積層方向と直交する方向に配置させることがある。例えば、磁気積層要素１４または３０のうち積層方向と平行な１つの表面は、対応する磁気積層要素１４または３０が鉄製シールド１２上に配置されるようにして鉄製シールド１２のそれぞれの内側表面上に配置される。１つまたは複数の磁気積層要素１４及び３０を有しない超伝導マグネットアセンブリと比較してさらに、鉄製シールド内に誘導されるうず電流の大きさ及び時定数が低減されることがある。
【００３２】
図４〜７は、鉄製シールド１２上における磁気積層要素１４及び３０の配備に関する斜視概要図である。図１に示したように、体部１５とフランジ１６の各々とはプレートやセクションなどの複数の単独の要素を備えており、また磁気積層要素１４及び３０は体部１５とフランジ１６のそれぞれの構成に従って配備させることがある。
【００３３】
図４〜７に示した配列では、体部１５とフランジ１６の各々のうちの１つの要素を代表例として取り上げている。図４及び５に示すように、１つまたは複数の非磁気ギャップ２２及び１つまたは複数の非磁気ギャップ３１がそれぞれの隣接する磁気積層要素１４及び３０の間に画定されるようにして、複数の磁気積層要素１４の１つの縦列と複数の磁気積層要素３０の１つの縦列とが、静磁場の方向に沿って体部要素１７とフランジ要素１８のそれぞれの上に配置されている。別の用途では、１つの縦列内の要素１７及び１８の各々に対して磁気積層要素の１つが利用されることがある。
【００３４】
ある種の用途では、要素１７及び１８の各々に対して２列以上の縦列の磁気積層要素を利用することがある。図６及び７に示すように、２つの縦列の磁気積層要素が利用されていると共に、各縦列内の磁気積層要素は、それぞれの隣接する磁気積層要素の間に１つまたは複数の非磁気ギャップが画定されるようにして静磁場の方向に沿ってそれぞれの要素１７及び１８の各々の上に配置されている。さらに、１つまたは複数のギャップ２３と１つまたは複数のギャップ３２とは２つのそれぞれの縦列内の隣接する磁気積層要素の間に画定されることがある。
【００３５】
図４〜７の配列は単なる例示であることに留意すべきである。幾つかの実施形態では、体部１５及び／またはフランジ１６の各々を一体に形成させることがある。１つまたは複数の磁気積層要素１４は、１つまたは複数の磁気積層要素の１つまたは複数の縦列及び１つまたは複数の横列からなるマトリックスを形成するために利用されることがある。さらにこの１つまたは複数の磁気積層要素３０は１つまたは複数の磁気積層要素１４と同様のマトリックスを有することがある。
【００３６】
図８は、本発明の別の実施形態による超伝導マグネットアセンブリ１０の断面概要図を表している。図８の配列は図２の配列と同様である。図２及び８の２つの配列は、図８の配列が鉄製シールド１２の体部１５とフランジ１６の各々内に２層以上の磁気積層要素を備える点において異なる。非限定の例では、１つの層内に１つまたは複数の磁気積層要素を利用することがある。
【００３７】
図８に示すように、隣接する磁気積層要素の間に静磁場の方向に沿って１つまたは複数の非磁気ギャップ２２が画定されるようにして鉄製シールド１２の内側表面上に磁気積層要素１４の下側層を配置させている。図示したこの実施形態では、磁気積層要素１４’の上側層は磁気積層要素１４の下側層と同様の構成を有すると共に、上側層内の磁気積層要素１４’のうちの少なくとも１つが下側層内の少なくとも１つのそれぞれの非磁気ギャップ２２を覆うような構成で磁気積層要素１４の下側層上に配置されている。磁気積層要素１４’の上側層はそれぞれの要素間にギャップ２２’を有する。磁気積層要素１４及び１４’は形状及び／または構成を同様とすることや、設計基準に応じて様々とさせることがある。同様に、下側層のギャップ２２は上側層上のギャップ２２’と同じとすることも、異ならせることもあり得る。
【００３８】
同様に、磁気積層要素３０と磁気積層要素３０’は、磁気積層要素３０’が上側層にありかつ磁気積層要素３０が下側層にあるような構成でフランジ１６上に配置させている。下側層上の磁気積層要素３０は上側層上の磁気積層要素３０’と比較して、材料、形状及びサイズを同じとすることも、異ならせることもある。同様に、下側層上のギャップ３１は上側層上のギャップ３１’と同じとすることも異ならせることも可能である。
【００３９】
図９に示すようにある種の用途では、磁気積層要素１４、１４’または３０、３０’のうちの複数の層が利用される場合、隣接する層間に樹脂含浸ガラス繊維の層２４を設けている。同様に、それぞれの層内の１つまたは複数の非磁気ギャップ２２、２２’、３１、３１’もまたガラス繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）２５または適当な別の非磁性材料で満たすことがある。１つまたは複数の磁気積層要素の１つまたは複数の層は、エポキシ樹脂を介して接着することや、ボルト２６によって鉄製シールド１２上にねじ留めまたはボルト留めすることがある。
【００４０】
本システムの実施形態による超伝導マグネットアセンブリは１層または複数層の１つまたは複数の磁気積層要素を利用することがある。幾つかの用途では、各層の隣接する磁気積層要素の間にさらに１つまたは複数の非磁気ギャップを画定させることがある。したがって、鉄製シールド上に間隔をおいた１つまたは複数の磁気積層要素が存在するため、ＭＲＩシステムにより取り出される画像の品質を向上させるように鉄製シールド内に磁場傾斜コイルアセンブリにより誘導されるうず電流の大きさ及び時定数を低減することができる。
【００４１】
典型的な実施形態について本開示を図示し説明してきたが、本開示の精神から全く逸脱することなく様々な修正形態や置換形態の実施が可能であるため、提示した詳細に限定する意図ではない。このため当業者にとっては本明細書に示した開示に対するさらなる修正形態や等価形態の実施はルーチンの試み以上のものではなく、またこうした修正形態及び等価形態はすべて添付の特許請求の範囲に規定したような本開示の精神及び趣旨に適うものと考えられる。
【符号の説明】
【００４２】
１０  超伝導マグネットアセンブリ
１１  超伝導マグネット
１２  鉄製シールド
１３  磁場傾斜コイルアセンブリ
１４  磁気積層要素
１４’  磁気積層要素
１５  体部
１６  フランジ
１７  体部要素
１８  フランジ要素
１９  開口部
２０  貫通穴
２１  真空容器
２２  非磁気ギャップ
２２’  非磁気ギャップ
２４  ガラス繊維層
２５  ガラス繊維強化プラスチック
２６  ボルト
３０  磁気積層要素
３０’  磁気積層要素
３１  非磁気ギャップ
３１’  非磁気ギャップ
【図１】
0005855878.tif 000002
【図２】
0005855878.tif 000003
【図３】
0005855878.tif 000004
【図４】
0005855878.tif 000005
【図５】
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【図６】
0005855878.tif 000007
【図７】
0005855878.tif 000008
【図８】
0005855878.tif 000009
【図９】
0005855878.tif 000010