(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、
上記基体上に形成された、凹凸形状の表面を有する形状層と、
を備え、
上記形状層は、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化してなり、
上記形状層の表面には、所定の凹凸パターンを有する単位領域が上記凹凸形状の不整合を生じることなく連続して形成され、
上記基体が備える２以上の不透過層および上記形状層は、顔料を含み、
上記基体が備える２以上の不透過層および上記形状層は、上記エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させるためのエネルギー線に対して不透過性を有し、
上記２以上の不透過層は、互いに異なる吸収特性を有し、
上記凹凸形状は、可視光の波長以下の配置ピッチで配置されている積層体。
【請求項２】
上記基体は、帯状の形状を有し、
上記基体の長手方向に向かって、上記単位領域が連続して形成されている請求項１記載の積層体。
【請求項３】
上記凹凸形状の不整合が、上記所定の凹凸パターンの周期性の乱れである請求項１または２に記載の積層体。
【請求項４】
上記凹凸形状の不整合が、隣接する単位領域間の重なり、隙間、または、未転写部である請求項１または２に記載の積層体。
【請求項５】
上記単位領域間は、上記エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化度に不整合を生じることなく繋がっている請求項１から４のいずれかに記載の積層体。
【請求項６】
上記エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化度の不整合が、重合度の差である請求項５記載の積層体。
【請求項７】
上記凹凸パターンは、凸状または凹状の複数の構造体を１次元配列または２次元配列することにより形成されている請求項１から６のいずれかに記載の積層体。
【請求項８】
上記複数の構造体は、規則的または不規則的に配置されている請求項７記載の積層体。
【請求項９】
上記複数の構造体が、サブ波長構造体である請求項７記載の積層体。
【請求項１０】
上記基体が、少なくとも１つの平面または曲面を有し、
上記平面または曲面に上記形状層が形成されている請求項１から９のいずれかに記載の積層体。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項に記載の積層体を備える成型素子。
【請求項１２】
請求項１から１０のいずれか１項に記載の積層体を備える光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体、成型素子、および光学素子に関する。詳しくは、基体上に形状層を有する積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、基体上に凹凸形状を付与する方法として、熱可塑性材料を用いる方法（以下熱転写方式と称する。）、および光硬化性材料を用いる方法（以下光転写方式と称する。）が用いられている（例えば特許文献１、２参照）。熱転写方式では、ガラス転移温度以上まで加熱した状態の基体に対して原盤をプレスし、冷却した後に、原盤を基体から剥離することにより、基体上に凹凸形状を有する積層体を得ることができる。光転写方式では、基体を加熱する必要がなく、基体上に塗布された未硬化の光硬化性材料に対して原盤を押し当て、原盤または基体を通して光照射を行い、光硬化性材料を硬化させることにより、基体上に凹凸形状を有する積層体を得ることができる。
【０００３】
光硬化方式は、熱転写方式よりもスループットを向上できるという利点を有しているため、近年特に注目されている。光転写方式では、一般的に金属原盤またはガラス原盤が用いられる。金属原盤の作製技術としては、平坦または回転周期的な原盤を作製する技術が報告されているが、原盤側から光を照射できないため、光硬化性材料の硬化に寄与する波長の光を透過する基体だけが使用可能であり、光を透過しない基体（不透過性の基体）は使用することができない。
【０００４】
ガラス原盤では、原盤側から光を照射できるため、光硬化性材料の硬化に寄与する波長の光を透過しない基体を使用して、凹凸形状を有した積層体を得ることが可能である。従来のガラス原盤の作製技術では、数インチサイズの円盤状または板状の大きさが限られた原盤しか作製することができないため、原盤の成形面の面積以上の大きいサイズの積層体を作製する場合には、ステップ＆リピート方式が採用される。しかし、ステップ＆リピート方式では、各ステップにて転写した転写領域の境界部において凹凸形状の不整合が生じてしまう。かかる境界部の不整合は、積層体の種類によっては、積層体の特性の低下を招くことがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２６８７３号公報
【０００６】
【特許文献２】特開２００６−２１６８３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、本発明の目的は、不透過性の基体を有し、かつ、形状層表面の凹凸形状に不整合性のない積層体、成型素子、および光学素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の課題を解決するために、第１の発明は、
基体と、
基体上に形成された、凹凸形状の表面を有する形状層と、
を備え、
形状層は、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化してなり、
形状層の表面には、所定の凹凸パターンを有する単位領域が凹凸形状の不整合を生じることなく連続して形成され、
基体が備える２以上の不透過層および形状層は、顔料を含み、
基体が備える２以上の不透過層および形状層は、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させるためのエネルギー線に対して不透過性を有し、
２以上の不透過層は、互いに異なる吸収特性を有し、
凹凸形状は、可視光の波長以下の配置ピッチで配置されている積層体である。
【０００９】
第２の発明は、
第１の面と、該第１の面とは反対側の第２の面とを有する基体と、
基体の第１の面に形成された第１の形状層と、
基体の第２の面に形成された第２の形状層と
を備え、
第１の形状層は、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化してなり、
第１の形状層および第２の形状層のうち少なくとも第２の形状層は、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させるためのエネルギー線に対して不透過性を有し、
第１の形状層の表面には、所定の凹凸パターンを有する単位領域が凹凸形状の不整合を生じることなく連続して形成される積層体である。
【００１０】
本発明において、エネルギー線硬化性樹脂組成物とは、エネルギー線硬化性樹脂組成物を主成分として含む組成物のことをいう。エネルギー線硬化性樹脂組成物以外の配合成分としては、例えば、熱硬化性樹脂、シリコーン樹脂、有機微粒子、無機微粒子、導電性高分子、金属粉、顔料などの種々の材料を用いることがきるが、これらに限定されるものではなく、所望とする積層体の特性に応じて種々の材料を用いることができる。
また、エネルギー線に対して不透過性とは、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることが困難となる程度の不透過性を意味する。
【００１１】
単位領域は、回転原盤の回転面を１回転することにより形成される転写領域であることが好ましい。回転原盤としては、ロール原盤またはベルト原盤を用いることが好ましいが、凹凸形状が設けられた回転面を有していればよく、これらに限定されるものではない。
【００１２】
構造体の配列は、規則配列、不規則配列、およびそれらの組み合わせであることが好ましい。構造体の配列は、１次元配列または２次元配列であることが好ましい。基体の形状としては、２つの主面を有するフィルム状または板状などの形状、３つ以上の主面を有する多面体形状、球面および自由曲面などの曲面を有する曲面形状、平面および球面を有する多面体形状を用いることが好ましい。これらの基体の有する複数の主面のうちの少なくとも１つに形状層を形成することが好ましい。基体が、少なくとも１つの平面または曲面を有し、平面または曲面に形状層が形成されることが好ましい。
【００１３】
本発明では、単位領域間において不整合を生じることなく、形状層の凹凸形状を繋げているので、単位領域間の不整合に起因する積層体の特性劣化や形状乱れなどがない。したがって、優れた特性や外観を有する積層体を得ることができる。凹凸形状がレンズやサブ波長構造体のパターンなどである場合には、単位領域間においても優れた光学特性を得ることができる。凹凸形状が所定の模様などが繰り替えされるデザインである場合には、不整合部分のない、模様などのデザインを得ることができる。また、基体として、エネルギー線に対して不透過性を有するものを用いることができるので、基体として様々なものを用いることができる。
【発明の効果】
【００１４】
以上説明したように、本発明によれば、形状層表面の凹凸形状に不整合性がないので、優れた特性や外観を有する積層体が得られる。また、基体として様々なものを用いることができるので、積層体を種々の成型素子や光学素子などに適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１Ａは、本発明の第１の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す平面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す斜視図である。図１Ｃは、図１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。図１Ｄは、図１Ｃに示した積層体のトラック延在方向の断面図である。
【図２】図２Ａ〜図２Ｅは、本発明の第１の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第１〜第５の例を示す断面図である。
【図３】図３は、本発明の第１の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。
【図４】図４は、ロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。図４Ｂは、図４Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。
【図５】図５は、ロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。
【図６】図６Ａ〜図６Ｄは、本発明の第１の実施形態に係る積層体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図７】図７Ａ〜図７Ｅは、本発明の第１の実施形態に係る積層体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図８】図８は、本発明の第２の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。
【図９】図９は、本発明の第３の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。
【図１０】図１０は、本発明の第４の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す平面図である。
【図１１】図１１Ａは、本発明の第５の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す断面図である。図１１Ｂは、図１１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。図１１Ｃは、図１１Ｂに示した積層体の断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の第６の実施形態に係る積層体の構成の一例示す斜視図である。
【図１３】図１３Ａ〜図１３Ｅは、本発明の第７の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第１〜第５の例を示す断面図である。
【図１４】図１４Ａ、図１４Ｂは、本発明の第８の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第１、第２の例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
１．第１の実施形態（基体の一主面に複数の構造体が２次元配列された積層体の例）
２．第２の実施形態（積層体をステージにより搬送する転写装置の例）
３．第３の実施形態（円環状のベルト原盤を備えた転写装置の例）
４．第４の実施形態（基体の一主面に複数の構造体が蛇行配列された積層体の例）
５．第５の実施形態（基体の一主面に複数の構造体がランダム配列させた積層体の例）
６．第６の実施形態（基体の一主面に複数の構造体が１次元配列させた積層体の例）
７．第７の実施形態（基体の両主面に複数の構造体が２次元配列させた例）
８．第８の実施形態（不透過性を有する複数の構造体が２次元配列された積層体の例）
【００１７】
＜１．第１の実施形態＞
［積層体の構成］
図１Ａは、本発明の第１の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す断面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す斜視図である。図１Ｃは、図１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。図１Ｄは、図１Ｃに示した積層体のトラック延在方向の断面図である。積層体は、第１の主面および第２の主面を有する基体１と、これらの主面の一方に形成された、凹凸形状を有する形状層２とを備える。以下では、形状層２が形成される第１の面を表面と称し、それとは反対側の第２の面を裏面と称する。
【００１８】
積層体は、シボ表面加工体、デザイン体、機械素子および医療素子などの成型素子、反射防止素子、偏光素子、周期光学素子、回折素子、結像素子および導波素子などの光学素子に対して適用して好適なものである。具体的には、積層体は、ＮＤフィルタ、シャープカットフィルタおよび干渉フィルタなどの各種光量調整フィルタ、偏光板、携帯電話および自動車のインストルメントパネルの前面板、携帯電話などのシボ加工、樹脂成形品、ガラス成形品に適用して好適なものである。
【００１９】
積層体は、例えば、帯状の形状を有し、ロール状に巻回されて、いわゆる原反とされる。積層体は、可撓性を有していることが好ましい。これにより、帯状の積層体をロール状に巻回して原反とすることができ、搬送性や取り扱い性などが向上するからである。
【００２０】
図１Ａに示すように、積層体は、例えば、少なくとも１周期以上の転写領域（単位領域）ＴEを有している。ここで、１周期の転写領域ＴEは、後述するロール原盤を１回転することにより転写される領域である。すなわち、１周期の転写領域ＴEの長さは、ロール原盤の周面の長さに相当する。隣接する２つの転写領域ＴEの境界部において、形状層２の凹凸形状に不整合性が存在しなく、２つの転写領域ＴEがシームレスに接続されていることが好ましい。これにより、優れた特性や外観を有する積層体が得られるからである。ここで、不整合性とは、構造体２１による凹凸形状等の物理的な構成が不連続であることを意味する。不整合性の具体例としては、例えば、転写領域ＴEが有する所定の凹凸パターンの周期性の乱れ、または隣接する単位領域間の重なり、隙間、もしくは未転写部などが挙げられる。
【００２１】
（基体）
基体１の材料は特に限定はされものではなく用途によって適宜選択可能であり、例えば石英、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマーなどのプラスチック、ガラス、金属、セラミックス、磁性体、半導体を用いることができる。基体２の形状としては、例えば、シート状、プレート状、ブロック状を挙げることができるが、特にこれらの形状に限定されるものではない。ここで、シートにはフィルムが含まれるものと定義する。基体１は、全体として帯状の形状を有し、基体１の長手方向に向かって、単位領域としての転写領域ＴEが連続して形成されていることが好ましい。基体１の表面および裏面の形状としては、例えば平面および曲面のいずれも用いることができ、表面および裏面をいずれも平面または曲面とすることも、表面および裏面のうち一方を平面とし、他方を曲面とすることも可能である。
【００２２】
基体１は、形状層２を形成するためのエネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化するためのエネルギー線に対して不透過性を有している。本明細書中にて、エネルギー線とは、形状層２を形成するためのエネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化するためエネルギー線を示すものとする。基体１の表面に対して、例えば、印刷、塗布、真空成膜などにより装飾層または機能層を形成するようにしてもよい。
【００２３】
基体２は、単層構造または積層構造を有している。ここで、積層構造は、２以上の層を積層してなる積層構造であり、積層構造中の少なくとも１層は、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層である。積層体を形成する方法としては、例えば、融着や表面処理などにより層間を直接的に貼合する方法、接着層や粘着層などの貼合層を介して層間を貼合する方法が挙げられるが、特に限定されるものではない。貼合層が、エネルギー線を吸収する顔料などの材料を含むようにしてもよい。また、基体２を積層構造とする場合、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層と、エネルギー線に対して透過性を有する透過層とを組み合わせるようにしてもよい。また、基体が２以上の不透過層を備える場合には、それらが互いに異なる吸収特性を有していてもよい。
【００２４】
透過層の材料としては、例えば、アクリル樹脂コーティング材等の透明な有機膜や、透明な金属膜、無機膜、金属化合物膜またはそれらの積層体を用いることができるが、特に限定されるものではない。不透過層の材料としては、例えば、顔料を含んだアクリル樹脂コーティング材等の有機膜や、金属膜、金属化合物膜またはそれらの積層体を用いることができるが、特に限定されるものではない。顔料としては、例えば、カーボンブラックなどの光吸収性を有する材料を用いることができる。
【００２５】
図２Ａ〜図２Ｅは、基体の第１〜第５の例を示す断面図である。
【００２６】
（第１の例）
図２Ａに示すように、基体１は、単層の構造を有し、基体全体がエネルギー線に対して不透過性を有する不透過層である。
【００２７】
（第２の例）
図２Ｂに示すように、基体１は、２層構造を有し、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層１１ａと、エネルギー線に対して透過性を有する透過層１１ｂとを備える。不透過層１１ａが裏面側に配置され、透過層１１ｂが表面側に配置される。
【００２８】
（第３の例）
図２Ｃに示すように、基体１は、２層構造を有し、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層１１ａと、エネルギー線に対して透過性を有する透過層１１ｂとを備える。不透過層１１ａが表面側に配置され、透過層１１ｂが裏面側に配置される。
【００２９】
（第４の例）
図２Ｄに示すように、基体１は、３層構造を有し、エネルギー線に対して透過性を有する透過層１１ｂと、この透過層１１ｂの両主面に形成された、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層１１ａ、１１ａとを備える。一方の不透過層１１ａが裏面側に配置され、他方の不透過層１１ａが表面側に配置される。
【００３０】
（第５の例）
図２Ｅに示すように、基体１は、３層構造を有し、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層１１ａと、この不透過層１１ａの両主面に形成された、エネルギー線に対して透過性を有する透過層１１ｂ、１１ｂとを備える。一方の透過層１１ｂが裏面側に配置され、他方の透過層１１ｂが表面側に配置される。
【００３１】
（形状層）
形状層２は、所定の凹凸パターンを有する転写領域ＴEが連続して形成された表面を有する。形状層２は、例えば、複数の構造体２１が２次元配列されてなる層であり、必要に応じて複数の構造体２１と基体１との間に基底層２２を備えるようにしてもよい。基底層２２は、構造体３の底面側に構造体３と一体成形された層であり、構造体３と同様のエネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化してなる。基底層２２の厚さは、特に限定されるものではなく、必要に応じて適宜選択することができる。複数の構造体２１が、例えば、基体２の表面において複数列のトラックＴをなすように配列されている。複数例のトラックをなすように配列された複数の構造体２１が、例えば、四方格子状または六方格子状などの規則的な所定の配置パターンをなすようにしてもよい。構造体２１の高さが基体１の表面において規則的または不規則的に変化するようにしてもよい。
【００３２】
構造体２１は、基体１の表面に対して凸状または凹状の形状を有し、基体１の表面に凸状および凹状の構造体２１が両方存在していてもよい。構造体２１の具体的な形状としては、例えば、錐体状、柱状、針状、半球状、半楕円球状、多角形状などが挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、他の形状を採用するようにしてもよい。錐体状としては、例えば、頂部が尖った錐体形状、頂部が平坦な錐体形状、頂部に凸状または凹状の曲面を有する錐体形状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではない。また、錐体状の錐面を凹状または凸状に湾曲させるようにしてもよい。後述するロール原盤露光装置（図５参照）を用いてロール原盤を作製する場合には、構造体２１の形状として、頂部に凸状の曲面を有する楕円錐形状、または頂部が平坦な楕円錐台形状を採用し、それらの底面を形成する楕円形の長軸方向をトラックの延在方向と一致させることが好ましい。
【００３３】
構造体３のピッチは、積層体の種類によって適宜選択される。例えば、積層体が、光の反射防止を目的とするサブ波長構造体などの光学素子である場合には、構造体３は、反射の低減を目的とする光の波長帯域以下の短い配置ピッチ、例えば可視光の波長と同程度の配置ピッチで周期的に２次元配置される。反射の低減を目的とする光の波長帯域は、例えば、紫外光の波長帯域、可視光の波長帯域または赤外光の波長帯域である。ここで、紫外光の波長帯域とは１０ｎｍ〜４００ｎｍの波長帯域、可視光の波長帯域とは４００ｎｍ〜８３０ｎｍの波長帯域、赤外光の波長帯域とは８３０ｎｍ〜１ｍｍの波長帯域をいう。
【００３４】
形状層２は、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化することにより形成される。形状層２は、基体１上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物を、基体１とは反対の側から重合などの硬化反応を進行させることにより形成されていることが好ましい。これにより、基体１としてエネルギー線に対して不透過性を有するものを用いることができるからである。転写領域ＴE間は、エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化度に不整合を生じることなく繋がっていることが好ましい。エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化度の不整合は、例えば、重合度の差である。
【００３５】
エネルギー線硬化性樹脂組成物は、エネルギー線を照射することによって硬化させることができる樹脂組成物である。エネルギー線とは、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線など）、マイクロ波、高周波などのラジカル、カチオン、アニオンなどの重合反応の引き金と成りうるエネルギー線を示す。エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、他の樹脂と混合して用いるようにしてもよく、例えば熱硬化性樹脂などの他の硬化性樹脂と混合して用いてもよい。また、エネルギー線硬化性樹脂組成物は、有機無機ハイブリッド材料であってもよい。また、２種以上のエネルギー線硬化性樹脂組成物を混合して用いるようにしてもよい。エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂を用いることが好ましい。
【００３６】
紫外線硬化樹脂は、例えば、単官能モノマー、二官能モノマー、多官能モノマー、開始剤などからなり、具体的には、以下に示す材料を単独または、複数混合したものである。
単官能モノマーとしては、例えば、カルボン酸類（アクリル酸）、ヒドロキシ類（２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート）、アルキル、脂環類（イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート）、その他機能性モノマー（２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレンクリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ-ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、２−（パーフルオロオクチル）エチル  アクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−パーフルオロオクチルー２−ヒドロキシプロピル  アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル  アクリレート、２−（パーフルオロー３−メチルブチル）エチル  アクリレート）、２，４，６−トリブロモフェノールアクリレート、２，４，６−トリブロモフェノールメタクリレート、２−（２，４，６−トリブロモフェノキシ）エチルアクリレート）、２−エチルヘキシルアクリレートなどを挙げることができる。
【００３７】
二官能モノマーとしては、例えば、トリ（プロピレングリコール）ジアクリレート、トリメチロールプロパン  ジアリルエーテル、ウレタンアクリレートなどを挙げることができる。
【００３８】
多官能モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートなどを挙げることができる。
【００３９】
開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンなどを挙げることができる。
【００４０】
また、エネルギー線硬化性樹脂組成物が、必要に応じてフィラー、機能性添加剤、溶剤、無機材料、顔料、帯電防止剤、増感色素などを含んでいてもよい。フィラーとしては、例えば、無機微粒子および有機微粒子のいずれも用いることができる。無機微粒子としては、例えば、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3などの金属酸化物微粒子を挙げることができる。機能性添加剤としては、例えば、レベリング剤、表面調整剤、吸収剤、消泡剤などを挙げることができる。
【００４１】
［転写装置の構成］
図３は、本発明の第１の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。この転写装置は、ロール原盤１０１と、基体供給ロール１１１と、巻き取りロール１１２と、ガイドロール１１３、１１４と、ニップロール１１５、剥離ロール１１６と、塗布装置１１７と、光源１１０とを備える。
【００４２】
基体供給ロール１１１には、シート状などの基体１がロール状に巻かれ、ガイドロール１１３を介して基体１を連続的に送出できるように配置されている。巻き取りロール１１２は、この転写装置により凹凸形状が転写された形状層２を有する積層体を巻き取りできるように配置されている。ガイドロール１１３、１１４は、帯状の基体１および帯状の積層体を搬送できるように、この転写置内の搬送路に配置されている。ニップロール１１５は、基体供給ロール１１１から送出され、エネルギー線硬化性樹脂組成物が塗布された基体１を、ロール原盤１０１とニップできるように配置されている。ロール原盤１１０は、形状層２を形成するための転写面を有し、その内部には１個または複数個のエネルギー線源１１０を備える。ロール原盤１１０の詳細について後述する。剥離ロール１１６は、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８を硬化することにより得られた形状層２を、ロール原盤１１０の転写面から剥離可能に配置されている。
【００４３】
基体供給ロール１１１、巻き取りロール１１２、ガイドロール１１３、１１４、ニップロール１１５、および剥離ロール１１６の材質は特に限定されるものではなく、所望とするロール特性に応じてステンレスなどの金属、ゴム、シリコーンなどを適宜選択して用いることができる。塗布装置１１７としては、例えば、コーターなどの塗布手段を備える装置を用いることができる。コーターとしては、例えば、塗布するエネルギー線硬化性樹脂組成物の物性などを考慮して、グラビア、ワイヤバー、およびダイなどのコーターを適宜使用することができる。
【００４４】
［ロール原盤の構成］
図４Ａは、ロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。図４Ｂは、図４Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。ロール原盤１０１は、例えば、円筒状の形状を有する原盤であり、その表面に形成された転写面Ｓｐと、それとは反対の内側に形成された内周面である裏面Ｓｉとを有する。ロール原盤１０１の内部には、例えば、裏面Ｓｉにより形成される円柱状の空洞部が形成されており、この空洞部に１個または複数個のエネルギー線源１１０が備えられる。転写面Ｓｐには、例えば、凹状または凸状の複数の構造体１０２が形成され、これらの構造体１０２の形状を基体１上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して転写することにより、積層体の形状層２が形成される。すなわち、転写面Ｓｐには、積層体の形状層２の有する凹凸形状を反転したパターンが形成されている。
【００４５】
ロール原盤１０１は、エネルギー線源１１０から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、エネルギー線源１１０から放射されて裏面Ｓｉに入射したエネルギー線を転写面Ｓｐから放出可能に構成されている。この転写面Ｓｐから放出されたエネルギー線により、基体１上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が硬化される。ロール原盤１０１の材料は、エネルギー線に対して透過性を有するものであればよく特に限定されるものではない。紫外線に対して透過性を有する材料としては、ガラス、石英、透明樹脂、有機無機ハイブリッド材料などを用いることが好ましい。透明樹脂としては、例えば、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などが挙げられる。有機無機ハイブリッド材料としては、例えば、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などが挙げられる。ロール原盤１０１の転写面Ｓｐおよび裏面Ｓｉの少なくとも一方に、透明性を有する金属膜、金属化合物膜または有機膜を形成するようにしてもよい。
【００４６】
１個または複数個のエネルギー線源１１０は、基体１上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に向けてエネルギー線を照射可能にロール原盤１０１の空洞部内に支持されている。ロール原盤１０１が複数個のエネルギー線源１１０を備える場合には、これらのエネルギー線源１１０は、１列または２列以上の列をなすように配置されることが好ましい。エネルギー線源としては、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線など）、マイクロ波、または高周波などエネルギー線を放出可能なものであればよく、特に限定されるものではない。エネルギー線源の形態としては、例えば、点状光源、線状光源を用いることができるが、特に限定されるものではなく、点状光源と線状光源とを組み合わせて用いるようにしてもよい。エネルギー線源として点状光源を用いる場合には、複数の点状光源を直線状に配列するなどして線状光源を構成することが好ましい。線状光源は、ロール原盤１０１の回転軸と平行に配置することが好ましい。紫外線を放出するエネルギー線源としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ショートアーク放電ランプ、紫外線発光ダイオード、半導体レーザー、蛍光灯、有機エレクトロルミネッセンス、無機エレクトロルミネッセンス、発光ダイオード、光ファイバなどが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。また、ロール原盤１０１の内部にスリットをさらに設け、このスリットを介してエネルギー線源１１０から放射されたエネルギー線がエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に対して照射されるようにしてもよい。このとき、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８はエネルギー線を吸収することにより発生する熱によって硬化させても良い。
【００４７】
［ロール原盤露光装置の構成］
図５は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。このロール原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。
【００４８】
レーザー光源２１は、記録媒体としてのロール原盤１０１の表面に着膜されたレジストを露光するための光源であり、例えば波長λ＝２６６ｎｍの記録用のレーザー光１０４を発振するものである。レーザー光源２１から出射されたレーザー光１０４は、平行ビームのまま直進し、電気光学素子（ＥＯＭ：Electro Optical Modulator）２２へ入射する。電気光学素子２２を透過したレーザー光１０４は、ミラー２３で反射され、変調光学系２５に導かれる。
【００４９】
ミラー２３は、偏光ビームスプリッタで構成されており、一方の偏光成分を反射し他方の偏光成分を透過する機能をもつ。ミラー２３を透過した偏光成分はフォトダイオード２４で受光され、その受光信号に基づいて電気光学素子２２を制御してレーザー光１０４の位相変調を行う。
【００５０】
変調光学系２５において、レーザー光１０４は、集光レンズ２６により、ガラス（ＳｉＯ2）などからなる音響光学素子（ＡＯＭ：Acoust-Optic Modulator）２７に集光される。レーザー光１０４は、音響光学素子２７により強度変調され発散した後、レンズ２８によって平行ビーム化される。変調光学系２５から出射されたレーザー光１０４は、ミラー３１によって反射され、移動光学テーブル３２上に水平かつ平行に導かれる。
【００５１】
移動光学テーブル３２は、ビームエキスパンダ３３、および対物レンズ３４を備えている。移動光学テーブル３２に導かれたレーザー光１０４は、ビームエキスパンダ３３により所望のビーム形状に整形された後、対物レンズ３４を介して、ロール原盤１０１上のレジスト層へ照射される。ロール原盤１０１は、スピンドルモータ３５に接続されたターンテーブル３６の上に載置されている。そして、ロール原盤１０１を回転させるとともに、レーザー光１０４をロール原盤１０１の高さ方向に移動させながら、レジスト層へレーザー光１０４を間欠的に照射することにより、レジスト層の露光工程が行われる。形成された潜像は、円周方向に長軸を有する略楕円形になる。レーザー光１０４の移動は、移動光学テーブル３２の矢印Ｒ方向への移動によって行われる。
【００５２】
露光装置は、例えば、図１Ｃに示した六方格子または準六方格子などの２次元パターンに対応する潜像をレジスト層に形成するための制御機構３７を備えている。制御機構３７は、フォマッター２９とドライバ３０とを備える。フォマッター２９は、極性反転部を備え、この極性反転部が、レジスト層に対するレーザー光１０４の照射タイミングを制御する。ドライバ３０は、極性反転部の出力を受けて、音響光学素子２７を制御する。
【００５３】
このロール原盤露光装置では、２次元パターンが空間的にリンクするように１トラック毎に極性反転フォマッター信号と記録装置の回転コントロラーを同期させ信号を発生し、音響光学素子２７により強度変調している。角速度一定（ＣＡＶ）で適切な回転数と適切な変調周波数と適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子または準六方格子パターンを記録することができる。例えば、円周方向の周期を３１５ｎｍ、円周方向に対して約６０度方向（約−６０度方向）の周期を３００ｎｍにするには、送りピッチを２５１ｎｍにすればよい（ピタゴラスの法則）。極性反転フォマッター信号の周波数はロールの回転数（例えば１８００ｒｐｍ、９００ｒｐｍ、４５０ｒｐｍ、２２５ｒｐｍ）により変化させる。例えば、ロールの回転数１８００ｒｐｍ、９００ｒｐｍ、４５０ｒｐｍ、２２５ｒｐｍそれぞれに対向する極性反転フォマッター信号の周波数は、３７．７０ＭＨｚ、１８．８５ＭＨｚ、９．３４ＭＨｚ、４、７１ＭＨｚとなる。所望の記録領域に空間周波数（円周３１５ｎｍ周期、円周方向約６０度方向（約−６０度方向）３００ｎｍ周期）が一様な準六方格子パターンは、遠紫外線レーザー光を移動光学テーブル３２上のビームエキスパンダ（ＢＥＸ）３３により５倍のビーム径に拡大し、開口数（ＮＡ）０．９の対物レンズ３４を介してロール原盤１０１上のレジスト層に照射し、微細な潜像を形成することにより得られる。
【００５４】
［積層体の製造方法］
図６Ａ〜図７Ｅは、本発明の第１の実施形態に係る積層体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【００５５】
（レジスト成膜工程）
まず、図６Ａに示すように、円筒状のロール原盤１０１を準備する。次に、図６Ｂに示すように、ロール原盤１０１の表面にレジスト層１０３を形成する。レジスト層１０３の材料としては、例えば、有機系レジスト、および無機系レジストのいずれを用いてもよい。有機系レジストとしては、例えば、ノボラック系レジスト、化学増幅型レジストなどを用いることができる。また、無機系レジストとしては、例えば、１種または２種以上の遷移金属からなる金属化合物を用いることができる。
【００５６】
（露光工程）
次に、図６Ｃに示すように、ロール原盤１０１の表面に形成されたレジスト層１０３に、レーザー光（露光ビーム）１０４を照射する。具体的には、図５に示したロール原盤露光装置のターンテーブル３６上に載置し、ロール原盤１０１を回転させると共に、レーザー光（露光ビーム）１０４をレジスト層１０３に照射する。このとき、レーザー光１０４をロール原盤１０１の高さ方向（円柱状または円筒状のロール原盤１０１の中心軸に平行な方向）に移動させながら、レーザー光１０４を間欠的に照射することで、レジスト層１０３を全面にわたって露光する。これにより、レーザー光１０４の軌跡に応じた潜像１０５が、可視光波長と同程度のピッチでレジスト層１０３の全面にわたって形成される。
【００５７】
潜像１０５は、例えば、原盤表面において複数列のトラックをなすように配置されるとともに、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを形成する。潜像１０５は、例えば、トラックの延在方向に長軸方向を有する楕円形状である。
【００５８】
（現像工程）
次に、ロール原盤１０１を回転させながら、レジスト層１０３上に現像液を滴下して、図６Ｄに示すように、レジスト層１０３を現像処理する。図示するように、レジスト層１０３をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザー光１０４で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、潜像（露光部）１０５に応じたパターンがレジスト層１０３に形成される。
【００５９】
（エッチング工程）
次に、ロール原盤１０１の上に形成されたレジスト層１０３のパターン（レジストパターン）をマスクとして、ロール原盤１０１の表面をエッチング処理する。これにより、図７Ａに示すように、トラックの延在方向に長軸方向をもつ楕円錐形状または楕円錐台形状の凹部、すなわち構造体１０２を得ることができる。エッチングとしては、例えばドライエッチングやウエットエッチングを用いることができる。
【００６０】
（線源配置工程）
次に、図７Ｂに示すように、ロール原盤１０１内の収容空間（空洞部）に、１または複数のエネルギー線源１１０を配置する。エネルギー線源１１０は、ロール原盤１０１の幅方向Ｄｗまたは回転軸ｌの軸方向と平行に配置することが好ましい。
【００６１】
（転写工程）
次に、必要に応じて、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が塗布される基体１の表面に対して、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、ＵＶ処理、オゾン処理、ブラスト処理などの表面処理を施す。次に、図７Ｃに示すように、長尺の基体１またはロール原盤１０１上にエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８を塗布または印刷する。塗布方法は特に限定されるものではないが、例えば、基体上または原盤上へのポッティング、スピンコート法、グラビアコート法、ダイコート法、バーコート法などを用いることができる。印刷方法としては、例えば、凸版印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法、凹版印刷法、ゴム版印刷法、スクリーン印刷法などを用いることができる。次に、必要に応じて、溶剤除去やプリベークなどの加熱処理を行う。
【００６２】
次に、図７Ｄに示すように、ロール原盤１０１を回転させながら、その転写面Ｓｐをエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に密着させるとともに、ロール原盤１０１内のエネルギー線源１１０から出射されたエネルギー線を、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐの側からエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に対して照射する。これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が硬化し、形状層２が形成される。具体的には、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８の硬化反応が、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐ側から基体１の表面側に向けて順次進行し、塗布または印刷されたエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８の全体が硬化することで、形状層２が形成される。基底層２２の有無、または基底層２２の厚さは、例えば、基体１の表面に対するロール原盤１０１の圧力を調整することにより選択可能である。次に、基体１上に形成された形状層２をロール原盤１０１の転写面Ｓｐから剥離する。これにより、図７Ｅに示すように、基体１の表面に形状層２が形成された積層体が得られる。この転写工程では、上述のようにして、帯状を有する基体１の長手方向をロール原盤１０１の回転進行方向として凹凸形状が転写される。
【００６３】
ここで、図３に示す転写装置を用いた転写工程について具体的に説明する。
まず、基体供給ロール１１１から長尺の基体１を送出し、送出された基体１は、塗布装置１１７の下を通過する。次に、塗布装置１１７の下を通過する基体１上に、塗布装置１１７によりエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８を塗布する。次に、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が塗布された基体１をガイドロール１１３を経てロール原盤１０１に向けて搬送する。
【００６４】
次に、基体１とエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８との間に気泡が入らないように、搬入された基体１をロール原盤１０１とニップロール１１５とにより挟み合わる。その後、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８をロール原盤１０１の転写面Ｓｐに密着させながら、基体１をロール原盤１０１の転写面Ｓｐに沿わせて搬送するとともに、１または複数のエネルギー線源１１０から放射されたエネルギー線を、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐを介してエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に対して照射する。これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が硬化し、形状層２が形成さる。次に、剥離ロール１１６により、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐから形状層２が剥離されて、長尺の積層体が得られる。次に、得られた積層体を、ガイドロール１１４を介して巻き取り１１２に向けて搬送し、長尺の積層体を巻き取りロール１１２により巻き取る。これにより、長尺の積層体が巻回された原反が得られる。
【００６５】
＜２．第２の実施形態＞
図８は、本発明の第２の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。この転写装置は、ロール原盤１０１と、塗布装置１１７と、搬送ステージ１２１とを備える。第２の実施形態において、第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。搬送ステージ１２１は、この搬送ステージ１２１上に載置された基体１を矢印ａの方向に向けて搬送可能に構成されている。
【００６６】
次に、上述の構成を有する転写装置の動作の一例について説明する。
まず、塗布装置１１７の下を通過する基体１上に、塗布装置１１７によりエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８を塗布する。次に、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が塗布された基体１をロール原盤１０１に向けて搬送する。次に、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８をロール原盤１０１の転写面Ｓｐに密着させながら搬送するとともに、ロール原盤１０１内に設けられた１または複数のエネルギー線源１１０から放射されたエネルギー線を、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐを介してエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に対して照射する。これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が硬化し、形状層２が形成さる。次に、搬送ステージを矢印ａの方向に搬送することにより、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐから形状層２を剥離する。これにより、長尺の積層体が得られる。次に、必要に応じて、得られた積層体を所定の大きさまたは形状に裁断する。以上により、目的とする積層体が得られる。
【００６７】
＜３．第３の実施形態＞
図９は、本発明の第３の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。この転写装置は、ロール１３１、１３２、１３４、１３５と、ベルト原盤であるエンボスベルト１３３と、平坦ベルト１３６と、１個または複数個のエネルギー線源１１０と、塗布装置１１７とを備える。第３の実施形態において、第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
【００６８】
エンボスベルト１３３は、ベルト原盤の一例であり、環状の形状を有し、その外周面には複数の構造体１０２が、例えば２次元配列されている。エンボスベルト１３３は、エネルギー線に対して透過性を有している。平坦ベルト１３６は、環状の形状を有し、その外周面は平坦面とされている。エンボスベルト１３３と平坦ベルト１３６との間には、基体２の厚さ程度の間隙が形成され、これらのベルトの間を、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が塗布された基体１が走行可能となっている。
【００６９】
ロール１３１とロール１３２とは離間して配置され、これらのロール１３１とロール１３２とにより、エンボスベルト１３３がその内周面により支持されて、エンボスベルト１３３が細長い長円形状などに形状保持されている。エンボスベルト１３３の内側に配置されたロール１３１とロール１３２とを回転駆動させることにより、エンボスベルト１３３が回転走行されるようになっている。
【００７０】
ロール１３４およびロール１３５はそれぞれ、ロール１３１およびロール１３２に対向して配置されている。これらのロール１３４とロール１３５とにより、平坦ベルト１３６がその内周面により支持されて、平坦ベルト１３６が細長い長円形状などに形状保持されている。平坦ベルト１３６の内側に配置されたロール１３４とロール１３５とを回転駆動させることにより、平坦ベルト１３６が回転走行されるようになっている。
【００７１】
エンボスベルト１３３の内側には、１または複数のエネルギー線源１１０が配置されている。１または複数のエネルギー線源１１０は、エンボスベルト１３３と平坦ベルト１３６との間を走行する基体１に対して、エネルギー線を照射可能に保持されている。線状光源などのエネルギー線源１１０は、エンボスベルト１３３の幅方向と平行に配置することが好ましい。エネルギー線源１１０の配置位置はエンボスベルト１３３の内周面により形成される空間内であればよく特に限定されるものではない。例えば、ロール１３１およびロール１３２の少なくとも一方の内部に配置するようにしてもよい。この場合、ロール１３１およびロール１３２をエネルギー線に対して透過性を有する材料により形成することが好ましい。
【００７２】
次に、上述の構成を有する転写装置の動作の一例について説明する。
まず、塗布装置１１７の下を通過する基体１上に、塗布装置１１７によりエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８を塗布する。次に、回転するエンボスベルト１３３と平坦ベルト１３６との間の間隙に、ロール１３１、１３４の側からエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が塗布された基材１１を搬入する。これにより、エンボスベルト１３３の転写面とエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８とが密着する。次に、この密着状態を維持しながら、エネルギー線源１１０から放射されたエネルギー線を、エンボスベルト１３３を介してエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に対して照射する。これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が硬化され、基体１上に形状層２が形成される。次に、エンボスベルト１３３を形状層２から剥離する。これにより、目的とする積層体が得られる。
【００７３】
＜４．第４の実施形態＞
図１０Ａは、本発明の第４の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す平面図である。図１０Ｂは、図１０Ａに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。第４の実施形態に係る積層体は、構造体３を蛇行するトラック（以下ウォブルトラックと称する。）上に配列している点において、第１の実施形態に係る積層体とは異なっている。基体２上における各トラックのウォブルは、同期していることが好ましい。すなわち、ウォブルは、シンクロナイズドウォブルであることが好ましい。このようにウォブルを同期させることで、六方格子または準六方格子などの単位格子形状を保持し、充填率を高く保つことができる。ウォブルトラックの波形としては、例えば、サイン波、三角波などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。ウォブルトラックの波形は、周期的な波形に限定されるものではなく、非周期的な波形としてもよい。
この第４の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
【００７４】
＜５．第５の実施形態＞
図１１Ａは、本発明の第５の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す断面図である。図１１Ｂは、図１１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。図１１Ｃは、図１１Ｂに示した積層体の断面図である。第４の実施形態に係る積層体は、複数の構造体２１がランダム（不規則）に２次元配列されている点において、第１の実施形態とは異なっている。また、構造体２１の大きさおよび／または高さもランダムに変化させるようにしてもよい。
この第５の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
【００７５】
＜６．第６の実施形態＞
図１２は、本発明の第６の実施形態に係る積層体の構成の一例示す斜視図である。図１２に示すように、第６の実施形態に係る積層体は、基体表面にて一方向に延在された柱状の構造体２１を有し、この構造体２１が基体１上に１次元配列されている点において、第１の実施形態のものとは異なっている。
【００７６】
構造体２１の断面形状は、例えば三角形状、頂部に曲率Ｒが付された三角形状、多角形状、半円形状、半楕円形状、放物線状、トロイダル形状などを挙げることができるが、特に限定されるものではない。また、構造体２１をウォブルさせながら一方向に延在させるようにしてもよい。
この第６の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
【００７７】
＜７．第７の実施形態＞
図１３Ａ〜図１３Ｅは、本発明の第７の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第１〜第５の例を示す断面図である。第７の実施形態に係る積層体は、基体１の両主面に複数の構造体２１が２次元配列されている点において、第１の実施形態に係る積層体とは異なっている。具体的には、第１〜第５の例の積層体はそれぞれ、基体１の両主面に複数の構造体２１が２次元配列されている点以外のことは、上述の第１の実施形態に係る積層体の第１〜第５の例と同様である（図２参照）。
この第７の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
【００７８】
＜８．第８の実施形態＞
図１４Ａは、本発明の第８の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第１の例を示す断面図である。図１４Ｂは、本発明の第８の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第２の例を示す断面図である。第８の実施形態に係る積層体は、構造体２１がエネルギー線に対して不透過性を有している点において、第１の実施形態または第７の実施形態に係る積層体とは異なっている。このような不透過性を有する構造体２１は、例えば、エネルギー線を吸収する顔料などの材料をエネルギー線硬化性樹脂組成物に添加することにより形成することが可能である。
この第８の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
【００７９】
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【００８０】
例えば、上述の実施形態において挙げた構成、工程、方法、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、工程、方法、形状、材料および数値などを用いてもよい。
【００８１】
また、上述の実施形態の各構成、工程、方法、形状、材料および数値などは、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
【符号の説明】
【００８２】
１    基体
２    構造体
１１ａ    不透過層
１１ｂ    透過層
２１    構造体
２２    基底層
１０１    ロール原盤
１０２    構造体
１１０    エネルギー線源
１１８    エネルギー線硬化性樹脂組成物
１３３    エンボスベルト
１３６    平坦ベルト
Ｓｐ    成形面
Ｓｉ    裏面
【図１】
0005895335.tif 000002
【図２】
0005895335.tif 000003
【図３】
0005895335.tif 000004
【図４】
0005895335.tif 000005
【図５】
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【図６】
0005895335.tif 000007
【図７】
0005895335.tif 000008
【図８】
0005895335.tif 000009
【図９】
0005895335.tif 000010
【図１０】
0005895335.tif 000011
【図１１】
0005895335.tif 000012
【図１２】
0005895335.tif 000013
【図１３】
0005895335.tif 000014
【図１４】
0005895335.tif 000015