(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水、アルコール又はアンモニアのいずれかの冷媒の相変化により熱交換する熱交換部と、
前記冷媒を前記熱交換部から流入し、内部の油と融合させるロータリーポンプと、
前記油に融合された冷媒を前記ロータリーポンプから流入し、油と分離させる油冷媒分離機と、を備え、
前記油と分離された冷媒を再び前記熱交換部に循環させることにより冷却機能を有する冷凍サイクルを構成し、
前記熱交換部は、プラズマ処理装置の内部に設けられた載置台、上部電極、デポシールド又は内部にてプラズマ処理が行われる前記プラズマ処理装置の処理容器の少なくともいずれかに設けられ、
前記冷媒を加熱するボイラーを更に備え、
前記加熱された冷媒を前記熱交換部及び前記ボイラーに循環させることにより加熱機能を有する加熱サイクルを構成し、
前記熱交換部は、前記加熱された冷媒を前記ボイラーから流入し、前記熱交換部に設けられた蒸発室にて液化する際に凝縮熱を放出することにより加熱し、
前記冷凍サイクルと前記加熱サイクルとを切り替える切替弁を有することを特徴とする温度制御装置。
【請求項２】
前記ロータリーポンプは、ロータの回転により前記熱交換部に設けられた前記蒸発室の内部を減圧し、
前記熱交換部は、前記冷媒を前記減圧された蒸発室にて気化する際に気化熱を吸収することにより冷却することを特徴とする請求項１に記載の温度制御装置。
【請求項３】
前記油冷媒分離機により分離される冷媒は、前記熱交換部、前記ロータリーポンプ及び前記油冷媒分離機を循環し、
前記油冷媒分離機により分離される油は、前記ロータリーポンプ内に回収されることを特徴とする請求項１又は２に記載の温度制御装置。
【請求項４】
前記油冷媒分離機により分離される冷媒は、前記切替弁にて切り替えて前記冷凍サイクル又は前記加熱サイクルを循環する水であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の温度制御装置。
【請求項５】
内部にてプラズマ処理が行われる処理容器と、
前記処理容器内にガスを供給するガス供給源と、
プラズマを生成するためのパワーを供給し、前記処理容器内にてガスからプラズマを生成するプラズマ源と、
前記処理容器内に設けられた載置台、上部電極、デポシールド又は前記処理容器の少なくともいずれかに設けられ、水、アルコール又はアンモニアのいずれかの冷媒の相変化により熱交換する熱交換部と、
前記冷媒を前記熱交換部から流入し、内部の油に融合させるロータリーポンプと、
前記油に融合された冷媒を前記ロータリーポンプから流入し、油と分離させる油冷媒分離機と、を備え、
前記油と分離された冷媒を再び前記熱交換部に循環させることにより冷却機能を有する冷凍サイクルを構成し、
前記冷媒を加熱するボイラーを更に備え、
前記加熱された冷媒を前記熱交換部及び前記ボイラーに循環させることにより加熱機能を有する加熱サイクルを構成し、
前記熱交換部は、前記加熱された冷媒を前記ボイラーから流入し、前記熱交換部に設けられた蒸発室にて液化する際に凝縮熱を放出することにより加熱し、
前記冷凍サイクルと前記加熱サイクルとを切り替える切替弁を有することを特徴とすることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項６】
温度を制御する対象となる対象物に取り付けられ、前記対象物の温度を制御する温度制御装置を備えた処理装置であって、
前記温度制御装置は、
水、アルコール又はアンモニアのいずれかの冷媒の相変化により熱交換する熱交換部と、
前記冷媒を前記熱交換部から流入し、内部の油と融合させるロータリーポンプと、
前記油に融合された冷媒を前記ロータリーポンプから流入し、油と分離させる油冷媒分離機と、を備え、
前記油と分離された冷媒を再び前記熱交換部に循環させることにより冷却機能を有する冷凍サイクルを構成し、
前記熱交換部は、プラズマ処理装置の内部に設けられた載置台、上部電極、デポシールド又は内部にてプラズマ処理が行われる前記プラズマ処理装置の処理容器の少なくともいずれかに設けられ、
前記冷媒を加熱するボイラーを更に備え、
前記加熱された冷媒を前記熱交換部及び前記ボイラーに循環させることにより加熱機能を有する加熱サイクルを構成し、
前記熱交換部は、前記加熱された冷媒を前記ボイラーから流入し、前記熱交換部に設けられた蒸発室にて液化する際に凝縮熱を放出することにより加熱し、
前記冷凍サイクルと前記加熱サイクルとを切り替える切替弁を有することを特徴とする処理装置。
【請求項７】
水、アルコール又はアンモニアのいずれかの冷媒の相変化により熱交換する熱交換部と、
前記冷媒を前記熱交換部から流入し、内部の油と融合させるロータリーポンプと、
前記油に融合された冷媒を前記ロータリーポンプから流入し、油と分離させる油冷媒分離機と、を備えた温度制御装置を用いた温度制御方法であって、
前記油と分離された冷媒を再び前記熱交換部に循環させ、
前記ロータリーポンプのロータの回転速度と、前記ロータリーポンプと前記熱交換部との連結部分に設けられたバルブの開度と、前記油冷媒分離機と前記熱交換部との連結部分に設けられた空気流入調整弁の開度と、の少なくともいずれかを調整し、
前記空気流入調整弁の開度を制御することにより前記熱交換部に設けられた蒸発室の圧力を調整することを特徴とする温度制御方法。
【請求項８】
入熱源の動作開始に連動して前記バルブを全開に制御し、前記入熱源の動作終了に連動して前記バルブを全閉に制御することにより冷却の開始及び冷却の終了を制御することを特徴とする請求項７に記載の温度制御方法。
【請求項９】
前記入熱源は、プラズマ処理装置に用いられるプラズマ源であることを特徴とする請求項８に記載の温度制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、温度制御装置、プラズマ処理装置、処理装置及び温度制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から冷媒を循環させ、冷媒の相変化にともない周囲から吸収する気化熱や周囲に放出する凝縮熱を利用して対象物を冷却又は加熱する温度制御装置が提案されている。例えば、特許文献１では、冷媒の気化熱を利用して、プラズマリアクタ内部に設けられた静電チャックを冷却する温度制御装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１１６０９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に開示された温度制御装置では、循環する冷媒にオゾン層を破壊するような気体が使用されている。オゾン層破壊性のある気体としては炭化水素系の気体等が挙げられ、そのような物質の廃棄冷媒は地球温暖化の要因となる、という課題を有していた。
【０００５】
また、特許文献１に開示された冷凍サイクルは、熱交換器、圧縮器、凝縮器及び膨張弁を有する。かかる構成の特許文献１では、本来気体であるものを液化させて載置台内の熱交換器にて気体に戻すため、気体と液体との相変化を高圧で制御する必要がある。よって、例えば、特許文献１に開示された冷凍サイクルでは、循環サイクルの内部が１５〜２０気圧程度の高圧になっても耐え得る構造にする必要がある。このため、特許文献１では、熱交換器は高圧下でも変形しないように熱交換器の壁を厚くする等、強度の高い圧力容器で形成する必要が生じる。この結果、熱交換器の熱容量が大きくなり温度の応答性が悪くなる、という課題を有していた。
【０００６】
上記課題に対して、本発明の目的とするところは、冷媒にオゾン層破壊物質を使用せずに温度制御が可能な、温度制御装置、プラズマ処理装置、処理装置及び温度制御方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、冷媒の相変化により熱交換する熱交換部と、前記冷媒を前記熱交換部から流入し、内部の油と融合させるロータリーポンプと、前記油に融合された冷媒を前記ロータリーポンプから流入し、油と分離させる油冷媒分離機と、を備え、前記油と分離された冷媒を再び前記熱交換部に循環させることにより冷却機能を有する冷凍サイクルを構成することを特徴とする温度制御装置が提供される。
【０００８】
前記ロータリーポンプは、ロータの回転により前記熱交換部に設けられた蒸発室の内部を減圧し、前記熱交換部は、前記冷媒を前記減圧された蒸発室にて気化する際に気化熱を吸収することにより冷却してもよい。
【０００９】
前記油冷媒分離機により分離される冷媒は、前記熱交換部、前記ロータリーポンプ及び前記油冷媒分離機を循環し、前記油冷媒分離機により分離される油は、前記ロータリーポンプ内に回収されてもよい。
【００１０】
前記冷媒を加熱するボイラーを更に備え、前記加熱された冷媒を前記熱交換部及び前記ボイラーに循環させることにより加熱機能を有する加熱サイクルを構成し、前記熱交換部は、前記加熱された冷媒を前記ボイラーから流入し、前記蒸発室にて液化する際に凝縮熱を放出することにより加熱してもよい。
【００１１】
前記冷凍サイクルと前記加熱サイクルとを切り替える切替弁を有してもよい。
【００１２】
前記油冷媒分離機により分離される冷媒は、前記切替弁にて切り替えて前記冷凍サイクル又は前記加熱サイクルを循環する水であってもよい。
【００１３】
前記熱交換器は、プラズマ処理装置の内部に設けられた載置台、上部電極、デポシールド又は内部にてプラズマ処理が行われる前記プラズマ処理装置の処理容器の少なくともいずれかに設けられてもよい。
【００１４】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、内部にてプラズマ処理が行われる処理容器と、前記処理容器内にガスを供給するガス供給源と、プラズマを生成するためのパワーを供給し、前記処理容器内にてガスからプラズマを生成するプラズマ源と、前記処理容器内に設けられた載置台、上部電極、デポシールド又は前記処理容器の少なくともいずれかに設けられ、冷媒の相変化により熱交換する熱交換部と、前記冷媒を前記熱交換部から流入し、内部の油に融合させるロータリーポンプと、前記油に融合された冷媒を前記ロータリーポンプから流入し、油と分離させる油冷媒分離機と、を備え、前記油と分離された冷媒を再び前記熱交換部に循環させることにより冷却機能を有する冷凍サイクルを構成することを特徴とするプラズマ処理装置が提供される。
【００１５】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、温度を制御する対象となる対象物に取り付けられ、前記対象物の温度を制御する温度制御装置を備えた処理装置であって、前記温度制御装置は、冷媒の相変化により熱交換する熱交換部と、前記冷媒を前記熱交換部から流入し、内部の油と融合させるロータリーポンプと、前記油に融合された冷媒を前記ロータリーポンプから流入し、油と分離させる油冷媒分離機と、を有し、前記油と分離された冷媒を再び前記熱交換部に循環させることにより冷却機能を有する冷凍サイクルを構成することを特徴とする処理装置が提供される。
【００１６】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、冷媒の相変化により熱交換する熱交換部と、前記冷媒を前記熱交換部から流入し、内部の油と融合させるロータリーポンプと、前記油に融合された冷媒を前記ロータリーポンプから流入し、油と分離させる油冷媒分離機と、を備えた温度制御装置を用いた温度制御方法であって、前記油と分離された冷媒を再び前記熱交換部に循環させ、前記ロータリーポンプのロータの回転速度と、前記ロータリーポンプと前記熱交換部との連結部分に設けられたバルブの開度と、前記油冷媒分離機と前記熱交換部との連結部分に設けられた空気流入調整弁の開度と、の少なくともいずれかを調整することを特徴とする温度制御方法が提供される。
【００１７】
入熱源の動作開始に連動して前記バルブを全開に制御し、入熱源の動作終了に連動して前記バルブを全閉に制御することにより冷却の開始及び冷却の終了を制御してもよい。
【００１８】
前記導入管に設けられた空気流入調整弁の開度を制御することにより前記蒸発室の圧力を調整してもよい。
【００１９】
前記入熱源は、プラズマ処理装置に用いられるプラズマ源であってもよい。
【発明の効果】
【００２０】
以上説明したように本発明によれば、冷媒にオゾン層破壊物質を使用せずに温度制御が可能な、温度制御装置、プラズマ処理装置、処理装置及び温度制御方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る温度制御装置を用いたプラズマ処理装置の全体構成図。
【図２】第１実施形態に係る温度制御装置の全体構成図。
【図３】第１実施形態に係る温度制御装置の熱交換部を説明するための図。
【図４】第１実施形態に係る温度制御装置の動作を示したフローチャート。
【図５】第１実施形態に係る温度制御装置の動作を説明するためのタイムチャート。
【図６】第１実施形態に係る温度制御装置の動作を示したフローチャート。
【図７】第２実施形態に係る温度制御装置の全体構成図。
【図８】第２実施形態に係る温度制御装置の冷凍サイクル時の動作を示した図。
【図９】第２実施形態に係る温度制御装置の冷凍サイクル時の熱交換部を説明するための図。
【図１０】第２実施形態に係る温度制御装置の加熱サイクル時の動作を示した図。
【図１１】第２実施形態に係る温度制御装置の加熱サイクル時の熱交換部を説明するための図。
【図１２】第２実施形態に係る温度制御装置の加熱／冷凍サイクル時の熱交換部を説明するための図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２３】
＜はじめに＞
通常の冷凍サイクルでは、循環する冷媒に炭化水素系の気体のようなオゾン層を破壊するような気体が使用されている。そのような物質の廃棄冷媒は地球温暖化の要因となる。そこで、以下で説明する各実施形態では、オゾン層破壊物質を使わずに温度制御を可能とする温度制御装置を実現する。特に、以下で説明する各実施形態では、循環冷媒に水を使用し、水の気化熱を冷却に利用する。これにより、水の相変化にともない周囲から吸収する気化熱や周囲に放出する凝縮熱を利用して冷却又は加熱する温度制御装置を実現する。
【００２４】
また、各実施形態に係る温度制御装置では熱交換器内を高圧にする必要はなく、むしろ液体を１００℃以下で気化させるために熱交換器内を減圧にする必要がある。よって、特に温度制御装置をプラズマ処理装置に取り付けた場合には、プラズマ処理装置では容器内部を減圧雰囲気にすることは通常行われているため、容易に温度制御装置の所定部分を減圧下に制御できる。また、熱交換器には、熱容量が小さい容器を用いることができるため、温度応答性の良さと省エネを図ることができる。
【００２５】
このように以下に説明する各実施形態に係る温度制御装置では、冷媒にオゾン層破壊物質を使用せずに精度の高い温度制御が可能である。
【００２６】
＜第１実施形態＞
［温度制御装置を用いたプラズマ処理装置の全体構成］
まず、本発明の第１実施形態に係る温度制御装置を用いたプラズマ処理装置の全体構成について、図１を参照しながら説明する。
【００２７】
図１に示したプラズマ処理装置１は、ＲＩＥ型のプラズマ処理装置１として構成されており、たとえばアルミニウムまたはステンレス鋼等の金属製の円筒型チャンバ（処理容器１０）を有している。処理容器１０は接地されている。
【００２８】
処理容器１０内には、被処理体としての半導体ウエハＷ(以下、ウエハＷと称呼する)を載置する載置台１２が設けられている。この状態で、ウエハＷにはプラズマの作用によりエッチング等の微細加工が施される。載置台１２は、たとえばアルミニウムからなり、絶縁性の筒状保持部１４を介して処理容器１０の底から垂直上方に延びる筒状支持部１６に支持されている。筒状保持部１４の上面には、載置台１２の上面を環状に囲むたとえばシリコンや石英からなるフォーカスリング１８が配置されている。
【００２９】
処理容器１０の側壁と筒状支持部１６との間には排気路２０が形成されている。排気路２０には環状のバッフル板２２が取り付けられている。排気路２０の底部には排気口２４が設けられ、排気管２６を介して排気装置２８に接続されている。排気装置２８は真空ポンプを有しており、処理容器１０内の処理空間を所定の真空度まで減圧する。処理容器１０の側壁には、ウエハＷの搬入出口を開閉するゲートバルブ３０が取り付けられている。
【００３０】
載置台１２には、整合器３４および給電棒３６を介してプラズマ生成用の高周波電源３２が電気的に接続されている。高周波電源３２は、たとえば６０ＭＨｚの高周波電力を載置台１２に印加する。このようにして載置台１２は下部電極としても機能する。なお、処理容器１０の天井部には、後述するシャワーヘッド３８が接地電位の上部電極として設けられている。これにより、高周波電源３２からの高周波電圧は載置台１２とシャワーヘッド３８との間に容量的に印加される。高周波電源３２は、プラズマを生成するためのパワーを供給し、前記処理容器内にてガスからプラズマを生成するプラズマ源の一例である。
【００３１】
載置台１２の上面にはウエハＷを静電吸着力で保持するための静電チャック４０が設けられている。静電チャック４０は導電膜からなる電極４０ａを一対の絶縁膜４０ｂ，４０ｃの間に挟み込んだものであり、電極４０ａには直流電源４２がスイッチ４３を介して電気的に接続されている。静電チャック４０は、直流電源４２からの直流電圧により、クーロン力でウエハＷをチャック上に吸着保持する。
【００３２】
静電チャック４０は、温度制御装置７０により冷却される。温度制御装置７０は、熱交換部７１、ロータリーポンプ７３及び油水分離機７４を有している。載置台１２の内部には、熱交換部７１が設けられている。熱交換部７１には、吸気管７２を介してロータリーポンプ７３及び油水分離機７４が連結され、導水管７５を介して熱交換部７１に連結されている。熱交換部７１とロータリーポンプ７３との間の吸気管７２には、バルブ７６が設けられている。熱交換部７１と油水分離機７４との間の導水管７５には、空気流入調整弁７７が設けられている。かかる構成の温度制御装置７０に冷媒を供給することにより載置台１２が冷却される。温度制御装置７０の細かい機能及び動作については後述する。
【００３３】
伝熱ガス供給源５２は、Ｈｅガス等の伝熱ガスをガス供給ライン５４に通して静電チャック４０の上面とウエハＷの裏面との間に供給する。天井部のシャワーヘッド３８は、多数のガス通気孔５６ａを有する電極板５６と、この電極板５６を着脱可能に支持する電極支持体５８とを有する。電極支持体５８の内部にはバッファ室６０が設けられ、バッファ室６０のガス導入口６０ａにはガス供給源６２に連結されるガス供給配管６４が接続されている。これにより、ガス供給源６２から処理容器１０内に所望のガスが供給される。
【００３４】
処理容器１０の周囲には、環状または同心状に延在する磁石６６が配置されている。処理容器１０内において、シャワーヘッド３８と載置台１２との間のプラズマ生成空間には、高周波電源３２により鉛直方向のＲＦ電界が形成される。高周波の放電により、載置台１２の表面近傍に高密度のプラズマが生成される。
【００３５】
制御器６８は、プラズマ処理装置１に取り付けられた各部、たとえば排気装置２８、高周波電源３２、静電チャック用のスイッチ４３、整合器３４、ロータリーポンプ７３、バルブ７６、伝熱ガス供給源５２、ガス供給源６２および空気流入調整弁７７を制御し、ホストコンピュータ（図示せず）等とも接続されている。制御器６８は、図示しないＣＰＵ（Central  Processing  Unit），ＲＯＭ（Read  Only  Memory）、ＲＡＭ（Random  Access  Memory）を有し、ＣＰＵはたとえば記憶部に格納されたレシピに従ってプロセスを実行する。ことにより、ＣＰＵによってエッチングプロセスが制御される。記憶部は、例えば半導体メモリ、磁気ディスク、または光学ディスクなどを用いてＲＡＭ、ＲＯＭとして実現されうる。レシピは、記憶媒体に格納して提供され、図示しないドライバを介して記憶部に読み込まれるものであってもよく、また、図示しないネットワークからダウンロードされて記憶部に格納されるものであってもよい。また、上記各部の機能を実現するために、ＣＰＵに代えてＤＳＰ（Digital  Signal  Processor）が用いられてもよい。なお、制御器６８の機能は、ソフトウエアを用いて動作することにより実現されてもよく、ハードウエアを用いて動作することにより実現されてもよい。
【００３６】
かかる構成のプラズマ処理装置１において、エッチングを行なうには、先ずゲートバルブ３０を開状態にしてウエハＷを処理容器１０内に搬入して、静電チャック４０の上に載置する。そして、ガス供給源６２からエッチングガスを所定の流量および流量比で処理容器１０内に導入し、排気装置２８により処理容器１０内の圧力を設定値にする。さらに、高周波電源３２から所定のパワーの高周波電力を載置台１２に供給する。また、直流電源４２から直流電圧を静電チャック４０の電極４０ａに印加して、ウエハＷを静電チャック４０上に固定する。シャワーヘッド３８からシャワー状に導入されたエッチングガスは、高周波電源３２からの高周波電力により分解され、これにより、上部電極（シャワーヘッド３８）と下部電極（載置台１２）との間のプラズマ生成空間にてプラズマが生成される。生成されたプラズマ中のラジカルやイオンによってウエハＷの主面がエッチングされる。
【００３７】
ウエハＷに精度よくエッチング等の微細加工を施すためには、ウエハＷの温度調整が重要である。このため、図１に示したように、静電チャック４０近傍の載置台１２内には熱交換部７１が設けられていて、静電チャック４０及び載置台１２を冷却する。以下では、熱交換部７１を含む温度制御装置７０の構成及び動作について詳述する。
【００３８】
[温度制御装置]
図２には、温度制御装置７０の全体構成が示されている。温度制御装置７０は、熱交換部７１、ロータリーポンプ７３及び油水分離機７４を有している。熱交換部７１とロータリーポンプ７３との間は、吸気管７２にて連結されている。吸気管７２にはバルブ７６が設けられている。熱交換部７１と油水分離機７４との間は、導水管７５にて連結されている。導水管７５から分岐された管には空気流入調整弁７７が設けられていて、導水管７５を循環する水に流入させる空気量を調整するようになっている。ロータリーポンプ７３と油水分離機７４との間は、油を循環させるための往復の管７８で連結されている。このようにして管状に設けられた温度制御装置７０に水を循環させることにより、温度制御装置７０は熱交換部７１の周囲を冷却する冷凍サイクルとして機能する。
【００３９】
（熱交換部）
熱交換部７１は、水の相変化により周囲と熱交換する。図３を用いて熱交換部７１による熱交換機能について説明する。熱交換部７１は、通常の冷凍サイクルと同様に蒸発室７１ａを室内機として設置する。熱交換部７１は、例えば外部の熱い空気を冷やして冷気に変えたり、周囲の物体から熱を奪って周囲の物体の温度を低下させたりする機能を持つ。導水管７５内を循環した水は蒸発室７１ａに導入される。熱交換部７１は、減圧雰囲気の蒸発室７１ａ内にて水を気化させて水蒸気を生成させる。生成された水蒸気は、吸気管７２側に放出される。熱交換部７１は、このようにして液体の水が気体の水蒸気に相変化する際に外部から吸収する気化熱により熱交換部７１の周囲を冷却する。
【００４０】
水を常圧での沸点である１００℃より低い温度で蒸発させるためには、蒸発室７１ａ内を減圧雰囲気（真空空間）にする必要がある。本実施形態及び第２実施形態では蒸発室７１ａを減圧雰囲気にするためのポンプとして図２に示したロータリーポンプ７３（油ポンプ）を使用する。ロータリーポンプ７３を動作することにより減圧雰囲気となった蒸発室７１ａでは、水が水蒸気（減圧水蒸気）となって拡散した状態となっている。
【００４１】
（ロータリーポンプ）
ロータリーポンプ７３は、ロータ７３ａを有している。ロータ７３ａは、図示しないモータの動力により回転する。図２では、ロータリーポンプ７３の右側上部に水蒸気を流入する流入口７３ｃが設けられ、左側上部に空気を排出する排気口７３ｂが設けられている。ロータリーポンプ７３では、ロータ７１ａを回転させて、内部の空気を排気口７３ｂから装置外に排出する。ロータリーポンプ７３内の下部には油層があって、油層をロータリーポンプ７３内を右側の空間と左側の空間とに分けるシール材として機能させる。これにより、ロータリーポンプ７３の内部空間は２つの空間（図２の紙面上では右側と左側の室）に分離される。ロータリーポンプ７３は、ロータ７３ａを紙面上で時計周りに回転させることにより、右側の室内を減圧状態にする。これにより、ロータリーポンプ７３の右側の室は減圧空間、左側の室は大気空間となる。ロータリーポンプ７３の減圧空間と蒸発室７１ａとは連通していて、ロータリーポンプ７３の右側の空間を減圧空間とすることにより、蒸発室７１ａを減圧空間とすることができる。
【００４２】
ロータリーポンプ７３は、蒸発室２１ａにて生成された減圧水蒸気を流入し、ロータ７３ａの回転により圧縮して内部の油と融合させる。ここでは、減圧水蒸気は、ロータリーポンプ７３内にて油層と分離された水の層という形で油に溶け込む。一度油に溶け込んだ水は通常の液体の水と同様に扱うことができため、油に溶け込んだ水を油水分離機７４のフィルタ７４ａに通し、油と水とに分離する。このようにして熱交換部７１にてガス化され水蒸気になった冷媒を、ロータリーポンプ７３及び油水分離機７４を用いて再度液体の水に戻すことができる。
【００４３】
（油水分離機）
油水分離機７４により油と分離された水は、冷媒として再び導水管７５に戻され、導水管７５、熱交換部７１、吸気管７２、ロータリーポンプ７３及び油水分離機７４を循環する。循環する水は、再び熱交換部７１にて水から水蒸気に相変化する。これにより、対象物が冷却される。
【００４４】
油水分離機７４により分離された油は、管７８からロータリーポンプ７３内に回収される。なお、油水分離機７４は、油に融合された冷媒をロータリーポンプ７３から流入し、油と分離させる油冷媒分離機の一例である。循環冷媒は、水に限られず、水以外でも油と分離できる液体であればよい。例えば、水に替わる冷媒としては、アルコール、アンモニア等が挙げられる。ただし、水の潜熱は大きいため水を冷媒としたときの冷却効果は高い。
【００４５】
（冷凍サイクル）
かかる構成の循環サイクルは、冷凍サイクルとして機能する。つまり、冷媒である水は、熱交換部７１（蒸発室７１ａ）→吸気管７２→ロータリーポンプ７３→油水分離機７４→導水管７５→熱交換部７１（蒸発室７１ａ）と循環する。水は、蒸発室７１ａ内を減圧にすれば例えば１００℃より低い温度（例えば常温下）においても蒸発する。この現象を利用して、熱交換部７１にて例えば５０℃の温度で水が水蒸気に変わる相変化を発生させる。本実施形態にかかる温度制御装置７０では、相変化の際に周囲から気化熱を奪うことにより熱交換部７１の近傍を冷却する。
【００４６】
[温度制御方法]
次に、本実施形態に係る温度制御装置７０を用いた静電チャック４０（ウエハＷ）の温度制御方法について説明する。本実施形態に係る温度制御装置７０では、循環させる水の流量と蒸発室７１ａ内の圧力とを制御することにより、静電チャック４０の温度を制御する。これらの制御は、制御器６８の指令に基づき実行される。
【００４７】
水の流量は、冷却能力そのものを意味する。つまり、単位時間に流れる水の体積に比例して冷却に利用可能な消費カロリーが決定される。よって、何ｋＷの冷却をしたいかにより水の流量は必然的に決まる。したがって、本実施形態では、制御器６８は、予め予測されるプラズマからの入熱に応じた水の流量を循環させるように制御する。これとは別に、熱交換部７１の温度を何℃にしたいかにより調整する蒸発室７１ａ内の圧力が決まる。例えば、１ｋＷの冷却が求められている場合、水の流量は一義的に決まるが、熱交換部７１の温度を５℃にしたい場合と５０℃にしたい場合とでは、調整する圧力値は異なる。制御器６８は、熱交換部７１の温度を５℃にしたい場合には５０℃にしたい場合より蒸発室７１ａ内の圧力を下げるように制御する。
【００４８】
ここで、制御器６８が熱交換部７１内の圧力を制御するときは、以下の（１）〜（３）の少なくともいずれかの制御方法がある。
（１）ロータリーポンプ７３の能力そのものを変える。
（２）ロータリーポンプ７３に流入させる空気量を変える。
（３）熱交換部７１に流入させる空気量を変える。
【００４９】
（１）のロータリーポンプ７３の能力そのものを変える場合には、図示しないモータからの動力を変動させてロータ７３ａの回転速度を変化させる。その他、複数の並列配置されたロータリーポンプの動作数を増減することによって蒸発室７１ａ内の圧力を制御してもよい。（２）のロータリーポンプ７３に流入させる空気量を変える場合には、バルブ７６の開度を変動させてコンダクタンスを変える。（３）の熱交換部７１に流入させる空気量を変える場合には、空気流入調整弁７７の開度を変動させ、外部空気の取り込み量を変える。
【００５０】
このように、制御器６８は、ロータ７３ａの回転速度やバルブ７６の開度や空気流入調整弁７７の開度の少なくともいずれかを制御することにより温度制御装置７０の温度を制御する。ロータ７３ａを駆動するモータ、バルブ７６、空気流入調整弁７７は、制御器６８に接続され、制御器６８の指令に基づき動作する。熱交換部７１には図示しない温度センサが取り付けられていて、制御器６８は、温度センサからの検出結果をフィードバック制御することにより、蒸発室７１ａ内の圧力を調整する。
【００５１】
[温度制御装置の動作]
次に、本実施形態に係る温度制御装置７０の動作について、図４の温度制御処理を示したフローチャートを参照しながら説明する。
【００５２】
本処理が開始されると、まず、制御器６８は、プラズマがオンされたか否かを判定する(ステップＳ４２)。制御器６８は、例えばガスが供給され、高周波電力が印加されたとき、プラズマがオンされたと判定してもよい。制御器６８は、温度センサを用いて載置台１２の温度をモニターし、検出された温度変化からプラズマがオンされたか否かを判定してもよい。プラズマがオンされたと判定された場合、制御器６８は、ロータリーポンプ７３の動作を開始して、プラズマからの入熱に対して冷却に必要な、予め定められた流量の水を温度制御装置７０に循環させる(ステップＳ４４)。
【００５３】
例えば、図５のタイムチャートに示したように、載置台１２の温度Ｔを２５℃にしたい場合であって、プロセス開始前の載置台１２の温度が２５℃である場合には、温度制御装置７０を動作する必要はない。したがって、プラズマがオンされる前の時間ｔ０〜ｔ１の間、制御器６８は、温度制御装置７０の水を循環させない。よって、この間、循環させる水の流量Ｍ０は０である。
【００５４】
プラズマ着火によりプラズマが生成されている間、つまりプラズマがオンしている間、何らかの冷却を施さないと、プラズマからの入熱により載置台１２上の温度が上がってしまい、ウエハＷ上の温度が変化してエッチング処理に悪影響が生じる。よって、プラズマがオンすると直ちに冷凍サイクルを駆動する必要がある。たとえばプラズマがオンしている時間ｔ１〜ｔ２の間、プラズマから１ｋＷ分の入熱がある場合、１ｋＷ分の冷却が必要になる。この場合、制御器６８は、プラズマのオンとともに１ｋＷ分の冷却に必要な流量（約０．０２４ｌ／ｍｉｎ）の水を循環させる(ステップＳ４２，Ｓ４４)。これにより、プラズマの入熱が水の蒸発に消費され、載置台１２の温度上昇を防ぐことができる。
【００５５】
また、熱交換部７１の温度を所望の温度に制御するために蒸発室７１ａ内の圧力を上述した（１）ロータ７３ａの回転速度の制御、（２）バルブ７６の開度制御、（３）空気流入調整弁７７の開度制御、の少なくともいずれかを制御することにより調整する(ステップＳ４６)。このようにしてプラズマがオンされている間、熱交換部７１の温度を所望の温度に制御するように蒸発室７１ａ内の圧力をフィードバック制御する。図５では、制御器６８が、蒸発室７１ａ内の圧力Ｐを圧力Ｐ０（＝０．１ＭＰａ）から圧力ＰＡ（＝０．００１ＭＰａ）まで減圧することにより、熱交換部７１の温度を２５℃に保持している。
【００５６】
次に、制御器６８は、プラズマがオフされたか否かを判定し(ステップＳ４８)、プラズマがオフされるまでステップＳ４４、Ｓ４６、Ｓ４８の処理を繰り返す。制御器６８は、例えばガスの供給が停止され、高周波電力の印加が停止されたとき、プラズマがオフされたと判定してもよい。制御器６８は、温度センサを用いて載置台１２の温度をモニターし、検出された温度変化からプラズマがオフされたか否かを判定してもよい。プラズマがオフされたと判定されたとき、制御器６８は、ロータリーポンプ７３の動作を停止して水の循環を止める(ステップＳ５０)。そして、蒸発室７１ａ内の圧力を水が蒸発できない圧力まで上げる(ステップＳ５２)。これにより、瞬時に水は蒸発できなくなり、その結果、プラズマのオフに合わせて瞬時に冷却は停止される。
【００５７】
たとえば図５に示したように、プラズマがオフした時間ｔ２になると、制御器６８は、水の流量Ｍｂを０に制御し、蒸発室７１ａ内の圧力Ｐを常圧の圧力ＰＢ（＝０．１ＭＰａ）に制御する。これにより、瞬時に静電チャック４０の冷却を停止することができ、載置台１２の温度低下を防ぐことができる。
【００５８】
なお、図５に示したように、プラズマからの入熱が時間ｔ１〜ｔ２で行われたプロセスの半分しかないプロセスが時間ｔ３から開始された場合、制御器６８は、それに見合った、前プロセスより少ない流量Ｍｃの水を循環させ、蒸発室７１ａ内を前プロセスより高めの圧力ＰＣに調整する。このように入熱の状態に応じた制御により、静電チャック４０の温度を調整し、ウエハＷ上を所望の温度にすることができる。
【００５９】
もし、静電チャック４０の温度を上げたければ蒸発室７１ａ内の圧力を上げればよい。逆に、載置台１２の温度を下げたければ蒸発室７１ａ内の圧力を下げればよい。例えば、載置台１２の温度を上げたい場合、制御部６８が蒸発室７１ａ内の圧力を圧力ＰＡより高い圧力ＰＡ'に制御すれば、載置台１２の温度は温度Ｔ'に上昇する。しかしながら、通常はプロセス中、載置台１２の温度は変動させたくない。このため、制御部６８は、蒸発室７１ａ内の圧力を圧力ＰＡ'より低い圧力ＰＡに制御している。
【００６０】
なお、載置台１２には図示しないヒータが埋設されていて、本実施形態に係る温度制御装置７０で静電チャック４０を冷却し、ヒータで静電チャック４０を加熱する。このように制御部６８は、温度制御装置７０による冷却とヒータによる加熱とを制御することにより、載置台１２上のウエハＷの温度調整を行っている。
【００６１】
以上に説明したように、本実施形態に係る温度制御装置７０によれば、水の流量を制御することにより冷却能力を変えられる。また、蒸発室７１ａの圧力を制御することにより、水が気化する温度を変えられる。熱交換部７１では、０℃や５℃等、常温より低い温度で水を気化させる必要がある。たとえば、蒸発室７１ａを５℃程度にして内部で水を気化させたい場合、制御部６８は、蒸発室７１ａ内の圧力を数Ｔｏｒr程度に下げるように空気流入調整弁７７の開度制御を行い、空気の流入量を調整する。たとえば、蒸発室７１ａを５０℃程度にして内部で水を気化させたい場合、制御部６８は、蒸発室７１ａを５℃にする場合の圧力より高い圧力にするように、空気流入調整弁７７の開度を制御する。
【００６２】
これにより、本実施形態にかかる温度制御装置７０によれば、冷媒にオゾン層破壊物質を使用しないため地球温暖化対策を図ることができるとともに、応答性がよく精度の高い温度制御を実現することができる。
【００６３】
（温度制御例）
次に、温度制御装置７０をプラズマ処理装置１に用いた、好適な温度制御方法について、図６の温度制御処理を示したフローチャートを参照しながら説明する。本温度制御例では水の流量を最大限確保することによって温度制御装置７０が持つ冷却能力を最大限発揮可能とすることにより、冷却能力の高い冷凍サイクルを実現する。
【００６４】
まず本処理が開始されると、制御器６８は、プラズマがオンされたか否かを判定し(ステップＳ６２)、プラズマがオンされたと判定された場合、ロータリーポンプ７３の動作を開始し、プラズマからの入熱に対して必要な予め定められた流量の水を温度制御装置７０に循環させ(ステップＳ６４)、バルブ７６を全開に制御する(ステップＳ６６)。
【００６５】
このようにバルブ７６を全開に制御し、吸気管７２のコンダクタンスを最大限大きくすることによって、ロータリーポンプ７３の能力を最大限利用することが可能になる。これにより、冷凍サイクルを循環する水を、求められる冷却能力を達成できる流量で常に循環させることができる。
【００６６】
一方、本温度制御例では、蒸発室７１ａを求められる温度に調整するために、蒸発室７１ａ内の圧力の調整をする際、蒸発室７１ａに流入される空気の量を調整する。つまり、本温度制御例では、蒸発室７１ａ内の圧力調整のためにバルブ７６を用いず、空気流入調整弁７７を用いる。よって、制御器６８は、蒸発室７１ａ内の圧力を予め定められた圧力値に近づくように、空気流入調整弁７７の開度をフィードバック制御する（ステップＳ６８）。これにより、蒸発室７１ａ内の圧力を常に目標値に近づくように制御することができ、蒸発室７１ａの温度を精度よく制御することができる。
【００６７】
次に、制御器６８は、プラズマがオフされたか否かを判定し(ステップＳ７０)、プラズマがオフされるまでステップＳ６４、Ｓ６６、Ｓ６８、Ｓ７０の処理を繰り返す。プラズマがオフされたと判定されたとき、制御器６８は、ロータリーポンプ７３の動作を停止して水の循環を止め(ステップＳ７２)、バルブ７６を全閉に制御する(ステップＳ７４)。
【００６８】
以上に説明したように、本温度制御例では、プラズマがオフになった瞬間に熱交換部７１とロータリーポンプバルブ７３との間にあるバルブ７６を全閉にする。これにより、蒸発室７１ａは、ロータリーポンプ７３の真空空間と連通せず閉塞された状態となる。一方、蒸発室７１ａは常に大気と連通しているため、バルブ７６の全閉とともに蒸発室７１ａの圧力は瞬時に大気圧まで上昇する。この結果、水の蒸発が止まり、瞬時に冷却が停止される。
【００６９】
以上に説明したように、本実施形態にかかる温度制御装置７０を設置したプラズマ処理装置１において、本温度制御例の温度制御方法を実行することにより、ダイナミックな冷却のオン，オフは熱交換部７１とロータリーポンプ７３の間のバルブ７６を用いて制御することができる。すなわち、入熱源である高周波電源３２からの高周波電力の印加が発生したら、瞬時にバルブ７６を全開にすることにより瞬時に冷却を開始し、入熱源からの入熱がなくなったら、瞬時にバルブ７６を全閉にすることにより瞬時に冷却を停止することができる。その結果、温度の応答性を更に高めることができる。また、このようなバルブ７６の制御により、ロータリーポンプ７３の冷却能力を最大限発揮することができる。
【００７０】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態に係る温度制御装置について、図７を参照しながら説明する。第２実施形態に係る温度制御装置７０では、第１実施形態で開示した冷凍サイクルに加熱サイクルの構成が追加されている。また、第２実施形態に係る温度制御装置７０では、冷凍サイクルと加熱サイクルとは切替弁で切り替えて使用する構成になっている。
【００７１】
冷凍サイクルは、熱交換部７１→吸気管７２→ロータリーポンプ７３→油水分離機７４→導水管８１→導水管７５の管状経路により構成される。
【００７２】
一方、加熱サイクルは、熱交換部７１→導水管８３→導水管８４→ボイラー８０→導水管８２→導水管７５の管状経路により構成される。
【００７３】
このように、本実施形態に係る温度制御装置７０では、油水分離機７４にて分離された水が、導水管８１を経由して熱交換部７１に流入される冷凍サイクルの循環経路と、導水管８４を経由してボイラー８０に流入される加熱サイクルとの循環経路とを有する。冷凍サイクルと加熱サイクルとを切り替えるために、切替弁Ｖ１〜Ｖ７が導水管７５、８１，８２、８３、８４のそれぞれに取り付けられている。
【００７４】
加熱サイクルの場合、熱交換部７１にて加熱蒸気を結露させて潜熱を相手に与える熱交換が必要である。このため、本実施形態では加熱蒸気を生成するボイラー８０が追加されている。ボイラー８０は、例えば内蔵するヒータ８０ａからの熱を利用して水を加熱して加熱蒸気を生成する。冷凍サイクルの冷却能力と同様、何ｋｇの蒸気を水に戻すと何ｋＷの熱を出力できるかのデータは、予め制御器６８の記憶部に設定されていて、ボイラー８０にて生成する加熱蒸気の量は制御器６８により制御される。生成される加熱蒸気の量により、加熱能力が決定される。
【００７５】
本実施形態においても、温度センサからの検出結果に基づき現在の温度を目標値に近づけるためのフィードバック制御を行う。このフィードバック制御は、上記冷凍サイクルと加熱サイクルとの切り替えにより両サイクルを用いて実行する。これにより、一つの温度制御装置７０のみを用いて精度の高い温度調整が可能となる。
【００７６】
例えば、載置台１２の温度を２５℃にする場合、まず、制御器６８は、プラズマの入熱に応じて冷凍サイクルを動作させる。図８は冷凍サイクル稼動時の温度制御装置７０の状態及び動作を示している。このとき、冷凍サイクルの経路に設けられた切替弁Ｖ１、Ｖ４、Ｖ６は開いていて、加熱サイクルの経路に設けられた切替弁Ｖ２、Ｖ３、Ｖ５、Ｖ７は閉じている。また、バルブ７６及び空気流入調整弁７７は開度調整可能になっている。
【００７７】
この場合、油水分離機７４から出力された水は、導水管８１を通って熱交換部７１を循環し、水蒸気となってロータリーポンプ７３に流入し、ロータリーポンプ７３内で油に溶け込んで油水分離機７４まで運ばれ、再度油と水に分離する。このようにして水が循環する間、図９に示したように、熱交換部７１にて水が水蒸気になる際に熱交換部７１の周囲から気化熱を奪うため、周囲の空気は冷やされる。これにより、冷却が達成される。
【００７８】
一方、載置台１２の温度が２５℃より低くなった場合、制御器６８は、加熱サイクルを動作させ、載置台１２の温度が２５℃になるようにフィードバック制御させる。図１０は加熱サイクル稼動時の温度制御装置７０の状態及び動作を示している。このとき、加熱サイクルの経路に設けられた切替弁Ｖ２、Ｖ３、Ｖ５、Ｖ７は開いていて、冷凍サイクルの経路に設けられた切替弁Ｖ１、Ｖ４、Ｖ６は閉じている。また、バルブ７６は閉じているが、空気流入調整弁７７は開度調整可能になっている。
【００７９】
この場合、油水分離機７４から出力された水は、導水管８４を通ってボイラー８０に入る。ボイラー８０ではヒータ８０ａにより水が加熱され、加熱蒸気が生成する。生成された加熱蒸気は、導水管８２、７５を通って熱交換部７１を循環し、水となって導水管８３に流入し、再度導水管８４からボイラー８０に運ばれる。このようにして水が循環する間、図１１に示したように、熱交換部７１にて水蒸気が水になる際に熱交換部７１の周囲に凝縮熱を与えるため、周囲の空気は暖められる。これにより、加熱が達成される。
【００８０】
以上に説明したように、本実施形態に係る温度制御装置７０によれば、加熱サイクルにより載置台１２の温度が上がり過ぎたら、制御器６８は、切替弁を切り替えて冷却サイクルを動作させ、載置台１２の温度が下がり過ぎたら、切替弁を再度切り替えて加熱サイクルを動作させ、載置台１２の温度が２５℃になるようにフィードバック制御する。このような動作を繰り返すことにより、図１２に示したように、冷凍サイクル稼動時には熱い空気を冷やし、加熱サイクル稼動時には冷えた空気を暖めて、一つの温度制御装置７０で精度の高い温度調整が可能となる。
【００８１】
なお、加熱サイクル稼働時には、蒸発室７１ａ内は加圧状態にある。例えば加熱サイクル稼働時、蒸発室７１ａ内は０．２ＭＰａの加圧下にあるとする。一方、冷凍サイクル稼働時には、例えば蒸発室７１ａ内は０．００１ＭＰａの減圧下にある。本実施形態においても、蒸発室７１ａ内を加圧状態又は減圧状態にするために、ロータ７３ａの回転速度、バルブ７６の開度、空気流入調整弁７７の開度が調整され得る。
【００８２】
以上に説明したように、各実施形態に係る温度制御装置７０によれば、冷媒にオゾン層破壊物質を使用せずに温度制御が可能となるため、温度制御装置７０を利用する際の地球温暖化対策の一つとすることができる。また、閉じられた回路内で冷凍サイクルまたは加熱サイクルが実現できるため、現在の使用環境に準じた温度制御装置７０の使用が可能となり、システム構築のコストが抑えられ、システム導入が容易になる。
【００８３】
また、各実施形態に係る温度制御装置７０では熱交換器内を高圧にする必要はなく、むしろ液体を１００℃以下で気化させるために熱交換器内を減圧にする必要がある。よって、特に温度制御装置７０をプラズマ処理装置に取り付けた場合には、プラズマ処理装置では容器内部を減圧雰囲気にすることは通常行われているため、容易に温度制御装置７０の所定部分を減圧下に制御できる。また、熱交換器７１には、熱容量が小さい容器を用いることができるため、温度応答性の良さと省エネを図ることができる。
【００８４】
＜おわりに＞
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００８５】
例えば、本発明に係る温度制御装置は、プラズマ処理装置の静電チャック４０だけでなく、上部電極（シャワーヘッド３８）、デポシールド又はプラズマ処理装置の処理容器１０の温度制御のために、載置台１２、上部電極、デポシールド又は処理容器１０の少なくともいずれかに熱交換器７１を設けるようにしてもよい。
【００８６】
また、本発明に係る温度制御装置は、プラズマ処理装置の上記部材を冷却または加熱するために上記部材の近傍に取り付けられるだけでなく、プラズマ処理装置に取り付けるチラー自身の温度制御としても使用することができる。
【００８７】
さらに、本発明に係る温度制御装置を利用可能な処理装置は、プラズマ処理装置に限られない。例えば、本発明に係る温度制御装置は、入熱源からの入熱による温度上昇を抑えるために冷蔵庫を処理容器として冷蔵庫に取り付けて使用することができる。また、本発明に係る温度制御装置は、エアーコンディショナーを処理容器としてエアーコンディショナーに取り付けて使用することもできる。本発明に係る温度制御装置は、いかなる処理容器にも冷却又は加熱するために装着することができる。
【００８８】
そして、どんな処理装置に対しても、図４に示した温度制御だけでなく、図６に示した温度制御を行うことができる。つまり、何らかの入熱源の動作開始に連動して吸気管７２に設けられたバルブ７６を全開に制御し、入熱源の動作終了に連動して同バルブ７６を全閉に制御することにより、ダイナミックに温度を制御することができる。
【００８９】
なお、本発明に係る温度制御装置を取り付ける処理装置がプラズマ処理装置の場合、プラズマ処理装置の種類は、平行平板型のエッチング処理装置に限られず、例えば円筒状のＲＬＳＡ（Ｒａｄｉａｌ  Ｌｉｎｅ  Ｓｌｏｔ  Ａｎｔｅｎｎａ）プラズマ処理装置、ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）プラズマ処理、マイクロ波プラズマ処理装置等いかなるプラズマ処理装置にも使用することができる。また、プラズマ処理装置にて行われる処理もエッチングに限られず、成膜、アッシング、スパッタリング等いかなるプロセスであってもよい。
【符号の説明】
【００９０】
１          プラズマ処理装置
１０        処理容器
１２        載置台（下部電極）
３２        高周波電源
３８        シャワーヘッド(上部電極)
４０        静電チャック
６２        ガス供給源
６８        制御器
７０        温度制御装置
７１        熱交換部
７２        吸気管
７１ａ      蒸発室
７３        ロータリーポンプ
７３ａ      ロータ
７４        油水分離機
７５        導水管
７６        バルブ
７７        空気流入調整弁
８０        ボイラー
Ｖ１〜Ｖ７  切替弁
【図１】
0005947023.tif 000002
【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図３】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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