(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造が式（Ｉ）： 
【化１】
0005947346.tif 000121
に相当する化合物またはこの塩
（Ｒ１は、
【化２】
0005947346.tif 000122
アリールカルボニルおよびヘテロアリールカルボニルからなる群から選択され；
Ｒ８、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は、独立して、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択され；
ｎは、１、２および３からなる群から選択され；
Ｒ１５は、水素、アミノおよびＣ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニルアミノからなる群から選択され；
ｍは、０、１、２および３からなる群から選択され；
Ｒ１６は、水素、アリール、Ｃ１−Ｃ3アルキルおよびＣ１−Ｃ3アルキルオキシカルボニルからなる群から選択され；
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ6アルキルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
（ａ）Ｃ１−Ｃ6アルキルは、任意に、ハロからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、
（ｂ）５から６員ヘテロシクリルは、任意に、Ｃ１−Ｃ6アルキルからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され；
Ｒ３は、Ｃ１−Ｃ6アルキル、Ｃ２−Ｃ6アルケニル、Ｃ１−Ｃ6アルキルオキシ、アミノおよびハロからなる群から選択され；
Ｌは結合であり、およびＲ４は、ナフタレニル、ジヒドロナフタレニル、テトラヒドロナフタレニル、ヘキサヒドロナフタレニル、オクタヒドロナフタレニル、デカヒドロナフタレニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ヘキサヒドロインデニル、オクタヒドロインデニル、ペンタレニル、オクタヒドロペンタレニルおよびヘキサヒドロペンタレニルからなる群から選択される縮合２−環カルボシクリルからなる群から選択され、ここで、Ｒ４は、それぞれ任意に、ＲＥ、ＲＦおよびＲＪからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、
各ＲＥは、独立して、ヒドロキシおよびオキソからなる群から選択され；
各ＲＦは、Ｃ１−Ｃ6アルキルからなる群から選択され、ここで：
Ｃ１−Ｃ6アルキルは、それぞれ任意に、１個以上のアミノ基により置換され、ここで：
アミノは、任意に、Ｃ１−Ｃ6アルキニルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで：
Ｃ１−Ｃ6アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、任意に、Ｃ１−Ｃ6アルキルからなる群から選択される置換基で置換され；
各ＲＪは、Ｃ１−Ｃ6アルキルスルホニルアミノからなる群から選択される。）。
【請求項２】
Ｒ１が、
【化３】
0005947346.tif 000123
である請求項１の化合物または塩。
【請求項３】
ｍが０である請求項１または２の化合物または塩。
【請求項４】
ｍが１である請求項１または２の化合物または塩。
【請求項５】
ｍが２である請求項１または２の化合物または塩。
【請求項６】
ｍが３である請求項１または２の化合物または塩。
【請求項７】
Ｒ１６が水素である請求項１から６のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項８】
Ｒ１６がフェニルである請求項１から６のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項９】
Ｒ１６がＣ１−Ｃ３アルキルである請求項１から６のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項１０】
Ｒ１６がＣ１−Ｃ３アルキルオキシカルボニルである請求項１から６のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項１１】
Ｒ２が、Ｃ１−Ｃ４アルキルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで：
（ａ）Ｃ１−Ｃ４アルキルは、任意に、ハロからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され、および
（ｂ）５から６員ヘテロシクリルは、任意に、Ｃ１−Ｃ6アルキルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている請求項１から１０のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項１２】
Ｒ２が、Ｃ１−Ｃ４アルキルからなる群から選択される請求項１から１０のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項１３】
Ｒ２が、ｔｅｒｔ−ブチル、ペルフルオロエチル、トリフルオロメチル、および任意にメチルで置換されている５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される請求項１から１０のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項１４】
Ｒ２が、フラニル、ピラゾリルおよびチオフェニルからなる群から選択され、ここで、Ｒ２は、それぞれ任意に、メチルで置換されている請求項１から１０のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項１５】
Ｒ３が、Ｃ２−Ｃ３アルケニル、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルキルオキシ、アミノおよびハロからなる群から選択される請求項１から１４のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項１６】
Ｒ３が、メトキシである請求項１から１４のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項１７】
Ｌが結合であり；
Ｒ４が、ナフタレニル、ジヒドロナフタレニル、テトラヒドロナフタレニル、ヘキサヒドロナフタレニル、オクタヒドロナフタレニル、デカヒドロナフタレニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ヘキサヒドロインデニル、オクタヒドロインデニル、ペンタレニル、オクタヒドロペンタレニルおよびヘキサヒドロペンタレニルからなる群から選択される縮合２−環カルボシクリルであり、ここで、各Ｒ４は、それぞれ、ＲＦおよびＲＪからなる群から選択される置換基で置換され；
ＲＦは、アルキルスルホニルアミノアルキルであり；および
ＲＪは、アルキルスルホニルアミノである
請求項１から１６のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項１８】
Ｌは結合であり；
Ｒ４は、ナフタレニル、インデニルおよびジヒドロインデニルからなる群から選択される縮合２−環カルボシクリルであり、ここで、各Ｒ４は、それぞれ、ＲＦおよびＲＪからなる群から選択される置換基で置換され；
ＲＦはアルキルスルホニルアミノアルキルであり；および
ＲＪはアルキルスルホニルアミノである
請求項１から１６のいずれか一項の化合物または塩。
【請求項１９】
以下の化合物：
【表１】
0005947346.tif 000124
0005947346.tif 000125
0005947346.tif 000126
0005947346.tif 000127
0005947346.tif 000128
の群から選択される化合物またはこの塩。
【請求項２０】
請求項１から１９のいずれか１項に記載の化合物および／またはその医薬的に許容される塩を１種以上、並びに任意に追加の治療剤を１種以上含有する医薬組成物。
【請求項２１】
追加の治療剤が、ＨＣＶ阻害剤および抗ＨＩＶ剤のうちの少なくとも１種を含む、請求項２０に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
ＲＮＡウイルスの複製阻害用である、請求項２０に記載の医薬組成物。
【請求項２３】
ＲＮＡウイルスがＨＣＶである、請求項２２に記載の医薬組成物。
【請求項２４】
ＨＣＶ  ＲＮＡポリメラーゼ阻害用である、請求項２０に記載の医薬組成物。
【請求項２５】
ＨＣＶ  ＲＮＡポリメラーゼ阻害により治療し得る疾病の治療用である、請求項２０に記載の医薬組成物。
【請求項２６】
疾病が、Ｃ型肝炎である、請求項２５に記載の医薬組成物。
【請求項２７】
追加の治療剤が、ＨＣＶ阻害剤および抗ＨＩＶ剤のうちの少なくとも１種を含む、請求項２５に記載の医薬組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
この特許出願は、Ｕ．Ｓ．Ｐｒｏｖｉｓｉｏｎａｌ  Ｐａｔｅｎｔ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  Ｎｏ．６１／１６３，１５５（２００９年３月２５日出願）の優先権を主張する。本出願の全内容は、参照によりこの特許出願に組み込まれる。
【０００２】
発明の分野
本発明は、（ａ）特にＣ型肝炎ウィルス（ＨＣＶ）阻害剤として有用な化合物およびこの塩類、（ｂ）該化合物および塩類の製造に有用な中間体、（ｃ）該化合物および塩類を含む組成物、（ｄ）該中間体、化合物、塩類および組成物を製造する方法、（ｅ）該化合物、塩類および組成物を使用する方法、ならびに（ｆ）塩類および組成物を含むキットに関する。
【背景技術】
【０００３】
発明の背景
Ｃ型肝炎は、ＨＣＶと呼ばれる肝臓指向性ウィルスによって引き起こされる、血液媒介伝染性ウィルス性疾患である。今日までに、少なくとも６種類の異なるＨＣＶ遺伝子型（および各遺伝子型内で数種の亜型）が知られている。北アメリカでは、ＨＣＶ遺伝子型１ａが優勢であり、次いで、ＨＣＶ遺伝子型１ｂ、２ａ、２ｂおよび３ａである。米国では、ＨＣＶ遺伝子型１、２および３が最も一般的であり、約８０％のＣ型肝炎患者がＨＣＶ遺伝子型１である。ヨーロッパでは、ＨＣＶ遺伝子型１ｂが優勢であり、次いで、ＨＣＶ遺伝子型２ａ、２ｂ、２ｃおよび３ａである。ＨＣＶ遺伝子型４および５は、ほとんどアフリカのみで見出される。以下で検討するように、患者のＨＣＶ遺伝子型は、治療に対する患者の可能性のある応答および該治療の必要な期間の判定において、臨床的に重要である。
【０００４】
ＨＣＶ感染により、無症状であることが多い肝臓の炎症（肝炎）を引き起こす可能性があるが、これに続く慢性Ｃ型肝炎は、肝硬変（肝臓の線維状瘢痕）、肝臓癌および／または肝不全となる可能性がある。世界保健機構は、世界中で約１億７千万人の人々がＨＣＶに慢性的に感染しており、毎年世界的に約３００から約４００万人の人々が新しく感染すると見積もっている。疾病管理予防センターによれば、米国では約４００万人の人々がＨＣＶに感染している。ヒト免疫不全ウィルス（ＨＩＶ）との共感染が一般的で、ＨＩＶ陽性者群の中でも、ＨＣＶ感染の比率はより高い。
【０００５】
ウィルスが自然に除去されることは少なく、慢性Ｃ型肝炎を患う多くの患者は、治療しなければウィルスは除去されない。治療のための指標として、普通、ＨＣＶ感染が証明されることおよび肝機能試験が常に異常であることが挙げられる。主にＣ型肝炎を治療するために使用される治療計画は２つ存在し、単独療法（「通常の」または長時間作用型ペグ化インターフェロンのどちらかのインターフェロン薬剤を使用する。）、および併用療法（インターフェロン薬剤とリバビリンとを使用する。）である。血流に注射するインターフェロンは、ＨＣＶに対する免疫応答を支持することによって作用し、および経口的に投与されるリバビリンは、ＨＣＶ複製を阻止することによって作用すると考えられる。リバビリンのみを投与しても、ＨＣＶレベルを効果的に抑制しないが、インターフェロン／リバビリン併用によって、インターフェロン単独より効果的になる。普通、Ｃ型肝炎は、ＨＣＶ遺伝子型によって、ペグ化インターフェロンαおよびリバビリンを併用し、２４から４８週間治療される。
【０００６】
治療の目標は一貫したウィルス応答であり、治療が終了した後、血液中でＨＣＶが測定されないことを意味する。ペグ化インターフェロンαとリバビリンとの併用治療の後、遺伝子型２および３を患う人々には、２４週間の治療で、約７５％以上の持続的治癒率（持続的ウィルス応答）が得られ、ＨＣＶ遺伝子型１を患う人々には、４８週間の治療で約５０％、ＨＣＶ遺伝子型４を患う人々には、４８週間の治療で約６５％の持続的治癒率が得られる。
【０００７】
インターフェロンもリバビリンも多くの副作用があるため、治療は、特に薬物またはアルコール乱用の前病歴がある者には、肉体的に過酷であり得る。一般的なインターフェロン関連副作用として、インフルエンザ様症状、倦怠感、吐き気、食欲不振、甲状腺疾患、高血糖値、抜け毛および注射部位での皮膚反応が挙げられる。可能性のある重篤なインターフェロン関連副作用として、神経障害（例えば、自殺行為）、心臓疾患（例えば、心臓発作、低血圧）、その他の内臓の損傷、血液の問題（例えば、血球数が危険なレベルまで降下すること）および新たなまたは悪化した自己免疫疾患（例えば、リウマチ性関節炎）が挙げられる。リバビリン関連副作用として、貧血症、疲労、過敏症、皮膚発疹、鼻閉、副鼻腔炎および咳が上げられる。また、リバビリンは、先天性欠損を起こす可能性もあり、従って、女性の患者および男性患者の女性配偶者の妊娠は、治療中およびその後６ヶ月は、避けなければならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
患者の中には、先に検討した重篤な副作用のために、完全な治療を行わない者もいるが、他の患者（非応答者）は、治療にもかかわらず、ＨＣＶレベルの測定が可能な状態が続き、さらに他の患者（再発者）は、治療の間にウィルスを「除去」するが、治療計画の完了後ウィルスが戻ることもある。従って、Ｃ型肝炎の症状を緩和し、部分的または完全な開放を提供するための、治療の代替の化合物、組成物および方法（インターフェロン薬剤および／またはリバビリンと組合わせて、またはこれらの代わりに使用される。）が必要であることが続いている。本発明は、該必要性に広く対処する化合物（この塩類を含む。）、組成物および方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
発明の要旨
本発明は、構造が式（Ｉ）に相当する化合物に関する。
【００１０】
【化１】
0005947346.tif 000002
式（Ｉ）中、
Ｒ１は、
【００１１】
【化２】
0005947346.tif 000003
アリールカルボニルおよびヘテロアリールカルボニルからなる群から選択され；
【００１２】
【化３】
0005947346.tif 000004
は、炭素−炭素単結合および炭素−炭素二重結合からなる群から選択され；
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は、独立して、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択され；
Ｒ７は、水素およびメチルからなる群から選択され；
Ｒ９はハロであり；
Ｒ１０はハロであり；
ｎは、１、２および３からなる群から選択され；
Ｒ１５は、水素、アミノおよび窒素保護基置換アミノからなる群から選択され；
ｍは、０、１、２および３からなる群から選択され；
Ｒ１６は、水素、アリール、アルキルおよびアルキルオキシカルボニルからなる群から選択され；
Ｒ２は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
（ａ）アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換され、および
（ｂ）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシおよびアルキルスルホニルは、任意に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換され、および
（ｃ）カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換され；
Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アミノ、カルボシクリルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホニルオキシおよびハロからなる群から選択され；
ＬおよびＲ４に関して：
Ｌは結合であり、およびＲ４は、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、置換基は、それぞれ任意に、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、または
Ｌは、Ｃ（ＲＡ）＝Ｃ（ＲＢ）、Ｃ≡Ｃ、Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＣ）、Ｎ（ＲＤ）Ｃ（Ｏ）、Ｃ１−Ｃ２−アルキレン、ＣＨ２Ｏ、ＯＣＨ２、シクロプロピル−１，２−エン、ＣＨ２Ｎ（ＲＬ）、Ｎ（ＲＭ）ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）ＣＨ２およびＣＨ２Ｃ（Ｏ）からなる群から選択され、およびＲ４は、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、置換基は、それぞれ任意に、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され；
ＲＡ、ＲＢ、ＲＬおよびＲＭは、独立して、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルおよびハロからなる群から選択され、ここで：
Ｃ１−Ｃ６アルキルは、任意に、カルボキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、アミノ、シアノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され；
ＲＣは、水素およびアルキルからなる群から選択され；
ＲＤは、水素およびアルキルからなる群から選択され；
各ＲＥは、独立して、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノ、イミノ、アジドおよびアルデヒドからなる群から選択され、ここで：
アミノは、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され；
各ＲＦは、独立して、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され、ここで：
置換基は、それぞれ任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで：
アミノ、イミノ、アミノスルホニル、アミノカルボニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシおよびアルキルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで：
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される置換基で置換され；
ＲＧは、それぞれ独立して、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで：
置換基は、それぞれ任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで：
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され；
ＲＨは、それぞれ独立して、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシおよびアルキニルスルホニルオキシからなる群から選択され、ここで：
置換基は、それぞれ任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで：
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され；
ＲＩは、それぞれ独立して、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から選択され、ここで：
（ａ）アルキルカルボニル、アルケニルカルボニルおよびアルキニルカルボニルは、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、および
（ｂ）アミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシアルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで：
カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、任意に、ハロ、アルキルおよびオキソからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され；
ＲＪは、それぞれ独立して、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノイミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、ここで：
（ａ）置換基のアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される置換基で置換され、ここで：
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジド、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、
（ｂ）置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで：
アミノは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシおよびアルキニルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで：
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換され；
（ｃ）置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジドおよびアミノからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで：
アミノは、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され；および
ＲＫは、それぞれ独立して、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択され、ここで：
（ａ）アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルは、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで：
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され；および
（ｂ）アミノスルホニルは、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【００１３】
また本発明は、本発明の化合物の塩類（医薬的に許容される塩類を含む。）に関する。
【００１４】
また本発明は、１種以上の本発明の化合物および／または塩類と、任意に、１種以上の追加の治療剤とを含む組成物（医薬組成物を含む。）に関する。
【００１５】
また本発明は、１種以上の本発明の化合物および／または塩類と、任意に、１種以上の追加の治療剤とを含むキットに関する。
【００１６】
また本発明は、例えば、ＲＮＡウィルス（ＨＣＶを含む。）の複製を阻害するため、ＨＣＶリボ核酸（ＲＮＡ）ポリメラーゼを阻害することによって治療し得る疾患（Ｃ型肝炎を含む。）を治療するために、本発明の化合物、塩類、組成物および／またはキットを使用する方法に関する。
【００１７】
また本発明は、薬剤を製造するための、１種以上の本発明の化合物および／または塩類の使用に関する。該薬剤は、任意に、１種以上の追加の治療剤を含むこともある。ある実施形態では、該薬剤は、Ｃ型肝炎を治療するために有用である。
【００１８】
本出願のさらなる利点は、この特許出願を読むことにより当業者に明らかになる。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
発明の詳細な記述
この詳細な記述は、他の当業者に、出願人の発明、この原理およびこの実際の応用を、他の当業者が本発明を、数多くの形態の中から、特定の用途の要求に最も適応する形に適合させ、これを使用できるように、知らせることだけを意図するものである。この記述および特定の例示は、本発明の説明のみを目的とする。従って、本発明は、この特許出願に記載された実施形態に限定されず、様々に変更され得る。
【００２０】
Ａ．定義
用語「アルキル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、典型的には１から約２０個の炭素原子、より典型的には１から約８個の炭素原子、さらにより典型的には１から約６個の炭素原子を含む、直鎖または分岐鎖状の飽和ヒドロカルビル置換基を意味する。該置換基の例として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソアミルおよびヘキシルが挙げられる。この定義にあるように、この詳細な説明全体にわたって、出願人は、説明的な例示を載せている。該説明的な例示の提示は、提示した説明的な例示が当業者に使用可能な唯一の選択肢であるように解釈されるべきでない。
【００２１】
用語「アルケニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、１個以上の二重結合と、典型的には２から約２０個の炭素原子、より典型的には約２から約８個の炭素原子、さらにより典型的には約２から約６個の炭素原子とを含む、直鎖または分岐鎖状ヒドロカルビル置換基を意味する。該置換基の例として、エテニル（ビニル）、２−プロペニル、３−プロペニル、１，４−ペンタジエニル、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニルおよび３−ブテニルが挙げられる。
【００２２】
用語「アルキニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、１個以上の三重結合と、典型的には２から約２０個の炭素原子、より典型的には約２から約８個の炭素原子、さらにより典型的には約２から約６個の炭素原子とを含む、直鎖または分岐鎖状ヒドロカルビル置換基を意味する。該置換基の例として、エチニル、２−プロピニル、３−プロピニル、２−ブチニルおよび３−ブチニルが挙げられる。
【００２３】
用語「カルボシクリル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、３から１４個の炭素環原子（「環原子」は、一緒に結合して、環または環状置換基の環を形成する原子である。）を含む、飽和環状（即ち、「シクロアルキル」）、部分的に飽和環状（即ち、「シクロアルケニル」）、または完全不飽和（即ち、「アリール」）ヒドロカルビル置換基を意味する。カルボシクリルは、典型的には３から６個の環原子を含む単環であってもよい。該単環カルボシクリルの例として、シクロプロピル（シクロプロパニル）、シクロブチル（シクロブタニル）、シクロペンチル（シクロペンタニル）、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキシル（シクロヘキサニル）、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニルおよびフェニルが挙げられる。もしくは、カルボシクリルは、互いに縮合した２または３環であってもよく、例えば、ナフタレニル、テトラヒドロナフタレニル（テトラリニル）、インデニル、インダニル（ジヒドロインデニル）、アントラセニル、フェナントレニルおよびデカリニルがある。
【００２４】
用語「シクロアルキル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、３から１４個の炭素環原子を含む、飽和環状ヒドロカルビル置換基を意味する。シクロアルキルは炭素単環でもよく、典型的には、３から６個の炭素環原子を含む。単環シクロアルキルの例として、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルが挙げられる。もしくは、シクロアルキルは、デカリニルのような、互いに縮合した２個または３個の炭素環であってもよい。
【００２５】
用語「アリール」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、６から１４個の炭素環原子を含む芳香族カルボシクリルを意味する。アリールの例として、フェニル、ナフタレニルおよびインデニルが挙げられる。
【００２６】
時には、ヒドロカルビル置換基（例えば、アルキル、アルケニル、アルキニルまたはシクロアルキル）中の炭素原子の数は、接頭辞「Ｃｘ−Ｃｙ」（ここで、ｘは、置換基中の炭素原子の最小数であり、ｙは最大数である。）で表わされることもある。従って、例えば、「Ｃ１−Ｃ６アルキル」は、１から６個の炭素原子を含むアルキル置換基を指す。さらに説明すれば、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルは、３から６個の炭素環原子を含む飽和ヒドロカルビル環を意味する。
【００２７】
用語「水素」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、水素基を意味し、−Ｈと表わされることもある。
【００２８】
用語「ヒドロキシ」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−ＯＨを意味する。
【００２９】
用語「ニトロ」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−ＮＯ２を意味する。
【００３０】
用語「シアノ」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−ＣＮを意味し、−Ｃ≡Ｎと表わされることもある。
【００３１】
用語「ケト」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、オキソ基を意味し、＝Ｏと表わされることもある。
【００３２】
用語「カルボキシ」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−ＯＨを意味する。
【００３３】
用語「アミノ」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−ＮＨ２を意味する。
【００３４】
用語「イミノ」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、＝ＮＨを意味する。
【００３５】
用語「アミノイミノ」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、＝ＮＮＨ２を意味する。
【００３６】
用語「ハロゲン」または「ハロ」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、フッ素基（−Ｆと表わされることもある。）、塩素基（−Ｃｌと表わされることもある。）、臭素基（−Ｂｒと表わされることもある。）、またはヨウ素基（−Ｉと表わされることもある。）を意味する。
【００３７】
置換基が、１個以上の水素原子に結合する炭素または窒素原子を１個以上含む場合、置換基は、「置換可能」である。従って、例えば、水素、ハロゲンおよびシアノは、この定義の中には入らない。さらに、該原子を含むヘテロシクリル中のイオウ原子は、１個または２個のオキソ置換基で置換可能である。
【００３８】
ある置換基が、「置換」と記載されている場合、置換基の炭素または窒素上の水素基の代わりに、非水素基が存在する。従って、例えば、置換アルキル置換基は、アルキル置換基上の水素基の代わりに少なくとも１個の非水素基があるアルキル置換基である。説明のために、モノフルオロアルキルは、１個のフルオロ基で置換されたアルキルであり、ジフルオロアルキルは、２個のフルオロ基で置換されたアルキルである。１つの置換基で複数の置換があれば、各非水素基は、同じでも異なってもよい（他に記載がない限り）ことは認識すべきである。
【００３９】
置換基が、「任意に置換されている」と記載されている場合、置換基は、（１）置換されていなくても、または（２）置換されていてもよい。置換基が、任意に、特定の数までの非水素基で置換されていると記載されている場合、この置換基は、（１）置換されていなくても、または（２）この特定数までの非水素基または最大の数までの置換基上の置換可能な位置のどちらか少ないほうで置換されてもよい。従って、例えば、置換基が、任意に３個までの非水素基で置換されているヘテロアリールと記載されている場合、３個未満の置換可能な位置を有するヘテロアリールはどれも、任意に、ヘテロアリールが有する置換可能な位置の数と同じ数までの非水素基で置換されている。さらなる説明のために、テトラゾリル（これは１個しか置換可能な位置を有していない。）は、任意に、１個までの非水素基で置換されている。さらに説明のために、アミノ窒素が、任意に、２個までの非水素基で置換されていると記載されている場合は、一級アミノ窒素は、任意に、２個までの非水素基で置換され、一方、二級アミノ窒素は、任意に、１個のみの非水素基で置換されていることになる。
【００４０】
本出願は、用語「置換基」および「基」を、互換的に使用する。
【００４１】
接頭辞「ハロ」は、接頭辞が付いている置換基が、独立して選択された１個以上のハロゲン基で置換されていることを示す。例えば、ハロアルキルは、少なくとも１個の水素基が、ハロゲン基で置き換えられているアルキル置換基を意味する。ハロアルキルの例として、クロロメチル、１−ブロモエチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルおよび１，１，１−トリフルオロエチルが挙げられる。置換基が複数のハロゲン基で置換されている場合、これらのハロゲン基は、同じまたは異なってもよい（他に記載がない限り）ことは認識すべきである。
【００４２】
接頭辞「ペルハロ」は、接頭辞が付いている置換基上の水素基全てが、独立して選択されたハロゲン基で置き換えられている、即ち、置換基上のそれぞれの水素基が、ハロゲン基で置換されていることを示す。ハロゲン基が全て同じ場合、接頭辞は、普通、ハロゲン基と同一である。従って、例えば、用語「ペルフルオロ」は、接頭辞が付いている置換基上の水素基は全て、フッ素基で置換されていることを意味する。説明のために、用語「ペルフルオロアルキル」は、各水素基の代わりにフッ素基があるアルキル置換基を意味する。
【００４３】
用語「カルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−を意味する。
【００４４】
用語「アミノカルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ２を意味する。
【００４５】
用語「オキシ」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、エーテル置換基を意味し、−Ｏ−と表わされることもある。
【００４６】
用語「アルキルオキシ」または「アルコキシ」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、アルキルエーテル置換基、即ち、−Ｏ−アルキルを意味する。該置換基の例として、メトキシ（−Ｏ−ＣＨ３）、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシおよびｔｅｒｔ−ブトキシが挙げられる。
【００４７】
用語「アルキルカルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−アルキルを意味する。
【００４８】
用語「アミノアルキルカルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−アルキル−ＮＨ２を意味する。
【００４９】
用語「アルキルオキシカルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−アルキルを意味する。
【００５０】
用語「カルボシクリルカルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−カルボシクリルを意味する。
【００５１】
同様に、用語「ヘテロシクリルカルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−ヘテロシクリルを意味する。
【００５２】
用語「カルボシクリルアルキルカルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−アルキル−カルボシクリルを意味する。
【００５３】
同様に、用語「ヘテロシクリルアルキルカルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−アルキル−ヘテロシクリルを意味する。
【００５４】
用語「カルボシクリルオキシカルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−カルボシクリルを意味する。
【００５５】
用語「カルボシクリルアルキルオキシカルボニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−アルキル−カルボシクリルを意味する。
【００５６】
用語「チオ」または「チア」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、チアエーテル置換基、即ち、エーテル酸素原子の代わりに２価のイオウ原子があるエーテル置換基を意味する。該置換基は、−Ｓ−と表わされることもある。例えば、この「アルキル−チオ−アルキル」は、アルキル−Ｓ−アルキル（アルキル−スルファニル−アルキル）を意味する。
【００５７】
用語「チオール」または「スルフヒドリル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、スルフヒドリル置換基を意味し、−ＳＨと表わされることもある。
【００５８】
用語「（チオカルボニル）」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、酸素原子がイオウで置き換えられているカルボニルを意味する。該置換基は、−Ｃ（Ｓ）−と表わされることもある。
【００５９】
用語「スルホニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｓ（Ｏ）２−を意味する。
【００６０】
用語「アミノスルホニル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＨ２を意味する。
【００６１】
用語「スルフィニル」または「スルホキシド」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、−Ｓ（Ｏ）−を意味する。
【００６２】
用語「ヘテロシクリル」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、合計で３から１４個の環原子を含む飽和（即ち、「ヘテロシクロアルキル」）、部分的に飽和した（即ち、「ヘテロシクロアルケニル」）、または完全に不飽和の（即ち「ヘテロアリール」）環構造を意味する。環原子の少なくとも１個は、ヘテロ原子（即ち、酸素、窒素またはイオウ）であり、残りの環原子は、炭素、酸素、窒素およびイオウからなる群から独立して選択される。
【００６３】
ヘテロシクリルは、単環でもよく、これは、典型的には３から７個の環原子、より典型的には３から６個の環原子、さらにより典型的には５から６個の環原子を含む。単環ヘテロシクリルの例として、フラニル、ジヒドロフラニル、テトラヒドロフラニル、チオフェニル（チオフラニル）、ジヒドロチオフェニル、テトラヒドロチオフェニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、イミダゾリル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキサゾリル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリニル、イソチアゾリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、チオジアゾリル、オキサジアゾリル（１，２，３−オキサジアゾリル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサジアゾリル（フラザニル）または１，３，４−オキサジアゾリルを含む。）、オキサトリアゾリル（１，２，３，４−オキサトリアゾリルまたは１，２，３，５−オキサトリアゾリルを含む。）、ジオキサゾリル（１，２，３−ジオキサゾリル、１，２，４−ジオキサゾリル、１，３，２−ジオキサゾリルまたは１，３，４−ジオキサゾリルを含む。）、オキサチアゾリル、オキサチオリル、オキサチオラニル、ピラニル、ジヒドロピラニル、チオピラニル、テトラヒドロチオピラニル、ピリジニル（アジニル）、ピペリジニル、ジアジニル（ピリダジニル（１，２−ジアジニル）、ピリミジニル（１，３−ジアジニル）またはピラジニル（１，４−ジアジニル）を含む。）、ピペラジニル、トリアジニル（１，３，５−トリアジニル、１，２，４−トリアジニルおよび１，２，３−トリアジニルを含む。）、オキサジニル（１，２−オキサジニル、１，３−オキサジニルまたは１，４−オキサジニルを含む。）、オキサチアジニル（１，２，３−オキサチアジニル、１，２，４−オキサチアジニル、１，２，５−オキサチアジニルまたは１，２，６−オキサチアジニルを含む。）、オキサジアジニル（１，２，３−オキサジアジニル、１，２，４−オキサジアジニル、１，４，２−オキサジアジニルまたは１，３，５−オキサジアジニルを含む。）、モルホリニル、アゼピニル、オキセピニル、チエピニルおよびジアゼピニルが挙げられる。
【００６４】
ヘテロシクリルは、２または３環が互いに縮合していてもよく、例えば、インドリジニル、ピラノピロリル、４Ｈ−キノリジニル、プリニル、ナフチリジニル、ピリドピリジニル（ピリド［３，４−ｂ］−ピリジニル、ピリド［３，２−ｂ］−ピリジニルまたはピリド［４，３−ｂ］−ピリジニルを含む。）およびプテリジニルがある。縮合環ヘテロシクリルの他の例として、ベンゾ縮合ヘテロシクリル、例えば、インドリル、イソインドリル（イソベンズアゾリル、プソイドイソインドリル）、インドレニニル（プソイドインドリル）、イソインダゾリル（ベンズピラゾリル）、ベンズアジニル（キノリニル（１−ベンズアジニル）またはイソキノリニル（２−ベンズアジニル）を含む。）、フタラジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、ベンゾジアジニル（シンノリニル（１，２−ベンゾジアジニル）またはキナゾリニル（１，３−ベンゾジアジニル）を含む。）、ベンゾピラニル（クロマニルまたはイソクロマニルを含む。）、ベンズオキサジニル（１，３，２−ベンズオキサジニル、１，４，２−ベンズオキサジニル、２，３，１−ベンズオキサジニルまたは３，１，４−ベンズオキサジニルを含む。）およびベンゾイソオキサジニル（１，２−ベンゾイソオキサジニルまたは１，４−ベンゾイソオキサジニルを含む。）が挙げられる。
【００６５】
用語「２−縮合環」ヘテロシクリル（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、２個の縮合環を含む、飽和、部分的に飽和した、またはアリールヘテロシクリルを意味する。２−縮合環ヘテロシクリルの例として、インドリジニル、キノリジニル、プリニル、ナフチリジニル、プテリジニル、インドリル、イソインドリル、インドレニニル、イソインダゾリル、フタラジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、ベンゾジアジニル、ベンゾピラニル、ベンゾチオピラニル、ベンズオキサゾリル、アントラニリル、ベンゾジオキソリル、ベンゾジオキサニル、ベンズオキサジアゾリル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズオキサジニルおよびテトラヒドロイソキノリニルが挙げられる。
【００６６】
用語「ヘテロアリール」（単独または他の用語（複数を含む。）との組合わせで）は、５から１４個の環原子を含む芳香族ヘテロシクリルを意味する。ヘテロアリールは、単環、もしくは２または３縮合環であってもよい。ヘテロアリール置換基の例として、６員環置換基、例えば、ピリジル、ピラジル、ピリミジニル、ピリダジニルおよび１，３，５−、１，２，４−または１，２，３−トリアジニル；５員環置換基、例えば、イミダジル、フラニル、チオフェニル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、１，２，３−、１，２，４−、１，２，５−または１，３，４−オキサジアゾリルおよびイソチアゾリル；６／５員縮合環置換基、例えば、ベンゾチオフラニル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、プリニルおよびアントラニリル、ならびに６／６員縮合環、例えば、ベンゾピラニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、キナゾリニルおよびベンズオキサジニルが挙げられる。
【００６７】
多成分置換基に付く接頭辞は、最初の成分にのみ適用される。説明すると、用語「アルキルシクロアルキル」は、アルキルおよびシクロアルキルの２成分を含む。従って、Ｃ１−Ｃ６アルキルシクロアルキルの接頭辞Ｃ１−Ｃ６は、アルキルシクロアルキルのアルキル成分が１から６個の炭素原子を含むことを意味し、接頭辞Ｃ１−Ｃ６は、シクロアルキル成分を示すわけではない。さらに説明すると、ハロアルコキシアルキルの接頭辞「ハロ」は、アルコキシアルキル置換基のアルコキシ成分だけが１個以上のハロゲン基で置換されていることを示す。ハロゲン置換が、代わりにもしくは追加的に、アルキル成分にも起こっている場合、置換基は、「ハロアルコキシアルキル」の代わりに、「ハロゲン置換アルコキシアルキル」と記載される。最後に、ハロゲン置換がアルキル成分にのみ起こっている場合、置換基は、代わりに、「アルコキシハロアルキル」と記載される。
【００６８】
置換基がある群から「独立して選択される」と記載されている場合、各置換基は、他から独立して選択される。従って、各置換基は、他の置換基（複数を含む。）と同じまたは異なってもよい。
【００６９】
用語が置換基を記載するために使用される場合、置換基の一番右に記載された成分は、自由原子価を持つ成分である。
【００７０】
化学式が置換基を記載するために使用されている場合、式の左側のダッシュ記号は、自由原子価を持つ置換基の部分を示している。
【００７１】
化学式が、表わされた化学構造の２つの別々の要素の間の結合要素を記載するために使用されている場合、置換基の一番左のダッシュ記号は、この表わされた構造中の左の要素に結合する置換基の部分を示す。一方、一番右のダッシュ記号は、この表わされた構造の右要素に結合する置換基の部分を示す。説明すると、表わされた化学構造は、Ｘ−Ｌ−Ｙであり、Ｌが−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−と記載されている場合、化学構造は、Ｘ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｙである。
【００７２】
この特許出願（請求項も含む。）中での単語「含む」の使用に関連して、本出願人は、文脈で他のことを要求していない限り、これらの単語は、排他的にではなく、全てを含めて解釈されるべきであるということに基づいておよびこういう明確な理解で使用され、および本出願人は、以下の請求項も含めて、この特許出願の解釈においてこれらの単語のそれぞれをこのように理解するつもりであるということを指摘する。
【００７３】
この特許出願の化合物名を作るために、ケミドローソフトウェアを使用している。
【００７４】
他に記載がない限り、用語「純度」は、通常のＨＰＬＣアッセイに従って化合物の化学純度を意味する。
【００７５】
Ｂ．化合物
先に検討したように、本発明は、一部、構造において式（Ｉ）に相当する化合物に関する。
【００７６】
【化４】
0005947346.tif 000005
【００７７】
Ｂ１．置換基Ｒ１
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【００７８】
【化５】
0005947346.tif 000006
である。
【００７９】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−１：
【００８０】
【化６】
0005947346.tif 000007
に相当する。
【００８１】
該実施形態の中には、Ｒ１が、
【００８２】
【化７】
0005947346.tif 000008
のものもある。
【００８３】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−１Ａ：
【００８４】
【化８】
0005947346.tif 000009
に相当する。
【００８５】
他の該実施形態では、Ｒ１は、
【００８６】
【化９】
0005947346.tif 000010
である。
【００８７】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−１Ｂ：
【００８８】
【化１０】
0005947346.tif 000011
に相当する。
【００８９】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【００９０】
【化１１】
0005947346.tif 000012
である。
【００９１】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−２：
【００９２】
【化１２】
0005947346.tif 000013
に相当する。
【００９３】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【００９４】
【化１３】
0005947346.tif 000014
である。
【００９５】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−３：
【００９６】
【化１４】
0005947346.tif 000015
に相当する。
【００９７】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【００９８】
【化１５】
0005947346.tif 000016
である。
【００９９】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−４：
【０１００】
【化１６】
0005947346.tif 000017
である。
【０１０１】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【０１０２】
【化１７】
0005947346.tif 000018
である。
【０１０３】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−５：
【０１０４】
【化１８】
0005947346.tif 000019
に相当する。
【０１０５】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【０１０６】
【化１９】
0005947346.tif 000020
である。
【０１０７】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−６：
【０１０８】
【化２０】
0005947346.tif 000021
に相当する。
【０１０９】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【０１１０】
【化２１】
0005947346.tif 000022
である。
【０１１１】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−７：
【０１１２】
【化２２】
0005947346.tif 000023
に相当する。
【０１１３】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【０１１４】
【化２３】
0005947346.tif 000024
である。
【０１１５】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−８：
【０１１６】
【化２４】
0005947346.tif 000025
に相当する。
【０１１７】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【０１１８】
【化２５】
0005947346.tif 000026
である。
【０１１９】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−９：
【０１２０】
【化２６】
0005947346.tif 000027
に相当する。
【０１２１】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【０１２２】
【化２７】
0005947346.tif 000028
である。
【０１２３】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−１０：
【０１２４】
【化２８】
0005947346.tif 000029
に相当する。
【０１２５】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【０１２６】
【化２９】
0005947346.tif 000030
である。
【０１２７】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−１１：
【０１２８】
【化３０】
0005947346.tif 000031
に相当する。
【０１２９】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【０１３０】
【化３１】
0005947346.tif 000032
である。
【０１３１】
これらの実施形態では、化合物の構造は、式Ｉ−１２：
【０１３２】
【化３２】
0005947346.tif 000033
に相当する。
【０１３３】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【０１３４】
【化３３】
0005947346.tif 000034
である。
【０１３５】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【０１３６】
【化３４】
0005947346.tif 000035
である。
【０１３７】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、アリールカルボニルである。該実施形態の中には、Ｒ１がフェニルカルボニルのものもある。
【０１３８】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は、ヘテロアリールカルボニルである。
【０１３９】
Ｂ２．置換基Ｒ５
Ｒ５は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択される。
【０１４０】
幾つかの実施形態では、Ｒ５は水素である。
【０１４１】
幾つかの実施形態では、Ｒ５はメチルである。
【０１４２】
幾つかの実施形態では、Ｒ５は、水素およびメチルからなる群から選択される。
【０１４３】
幾つかの実施形態では、Ｒ５は、窒素保護基である。これらの実施形態では、化合物は、式（Ｉ）の化合物の製造のための中間体として有用である。式（Ｉ）の化合物を製造するために適切な窒素保護基は、当業者に公知である。
【０１４４】
Ｂ３．置換基Ｒ６
Ｒ６は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択される。
【０１４５】
幾つかの実施形態では、Ｒ６は水素である。
【０１４６】
幾つかの実施形態では、Ｒ６はメチルである。
【０１４７】
幾つかの実施形態では、Ｒ６は、水素およびメチルからなる群から選択される。
【０１４８】
幾つかの実施形態では、Ｒ６は窒素保護基である。これらの実施形態では、化合物は、式（Ｉ）の化合物の製造のための中間体として有用である。式（Ｉ）の化合物を製造するために適切な窒素保護基は、当業者に公知である。
【０１４９】
Ｂ４．置換基Ｒ７
Ｒ７は、水素およびメチルからなる群から選択される。
【０１５０】
幾つかの実施形態では、Ｒ７は水素である。
【０１５１】
幾つかの実施形態では、Ｒ７はメチルである。
【０１５２】
Ｂ５．置換基Ｒ８
Ｒ８は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択される。
【０１５３】
幾つかの実施形態では、Ｒ８は水素である。
【０１５４】
幾つかの実施形態では、Ｒ８はメチルである。
【０１５５】
幾つかの実施形態では、Ｒ８は、水素およびメチルからなる群から選択される。
【０１５６】
幾つかの実施形態では、Ｒ８は、窒素保護基である。これらの実施形態では、化合物は、式（Ｉ）の化合物の製造のための中間体として有用である。式（Ｉ）の化合物を製造するために適切な窒素保護基は、当業者に公知である。
【０１５７】
Ｂ６．置換基Ｒ９
Ｒ９はハロである。該実施形態の中には、Ｒ９がフルオロのものもある。
【０１５８】
Ｂ７．置換基Ｒ１０
Ｒ１０はハロである。該実施形態の中には、Ｒ１０がフルオロのものもある。
【０１５９】
Ｂ８．置換基Ｒ１１
Ｒ１１は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択される。
【０１６０】
幾つかの実施形態では、Ｒ１１は水素である。
【０１６１】
幾つかの実施形態では、Ｒ１１はメチルである。
【０１６２】
幾つかの実施形態では、Ｒ１１は、水素およびメチルからなる群から選択される。
【０１６３】
幾つかの実施形態では、Ｒ１１は窒素保護基である。これらの実施形態では、化合物は、式（Ｉ）の化合物の製造のための中間体として有用である。式（Ｉ）の化合物を製造するために適切な窒素保護基は、当業者に公知である。
【０１６４】
Ｂ９．置換基Ｒ１２
Ｒ１２は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択される。
【０１６５】
幾つかの実施形態では、Ｒ１２は水素である。
【０１６６】
幾つかの実施形態では、Ｒ１２はメチルである。
【０１６７】
幾つかの実施形態では、Ｒ１２は、水素およびメチルからなる群から選択される。
【０１６８】
幾つかの実施形態では、Ｒ１２は窒素保護基である。これらの実施形態では、化合物は、式（Ｉ）の化合物の製造のための中間体として有用である。式（Ｉ）の化合物を製造するために適切な窒素保護基は、当業者に公知である。
【０１６９】
Ｂ１０．置換基Ｒ１３
Ｒ１３は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択される。
【０１７０】
幾つかの実施形態では、Ｒ１３は水素である。
【０１７１】
幾つかの実施形態では、Ｒ１３はメチルである。
【０１７２】
幾つかの実施形態では、Ｒ１３は、水素およびメチルからなる群から選択される。
【０１７３】
幾つかの実施形態では、Ｒ１３は窒素保護基である。これらの実施形態では、化合物は、式（Ｉ）の化合物の製造のための中間体として有用である。式（Ｉ）の化合物を製造するために適切な窒素保護基は、当業者に公知である。
【０１７４】
Ｂ１１．置換基Ｒ１４
Ｒ１４は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択される。
【０１７５】
幾つかの実施形態では、Ｒ１４は水素である。
【０１７６】
幾つかの実施形態では、Ｒ１４はメチルである。
【０１７７】
幾つかの実施形態では、Ｒ１４は水素およびメチルからなる群から選択される。
【０１７８】
幾つかの実施形態では、Ｒ１４は窒素保護基である。これらの実施形態では、化合物は、式（Ｉ）の化合物の製造のための中間体として有用である。  式（Ｉ）の化合物を製造するために適切な窒素保護基は、当業者に公知である。
【０１７９】
Ｂ１２．置換基Ｒ１５
Ｒ１５は、水素、アミノおよび窒素保護基置換アミノからなる群から選択される。
【０１８０】
幾つかの実施形態では、Ｒ１５は水素である。
【０１８１】
幾つかの実施形態では、Ｒ１５はアミノである。
【０１８２】
幾つかの実施形態では、Ｒ１５は窒素保護基置換アミノである。式（Ｉ）の化合物を製造するために適切な窒素保護基は、当業者に公知である。
【０１８３】
Ｂ１３．置換基Ｒ１６
Ｒ１６は、水素、アリール、アルキルおよびアルキルオキシカルボニルからなる群から選択される。
【０１８４】
幾つかの実施形態では、Ｒ１６は水素である。
【０１８５】
幾つかの実施形態では、Ｒ１６はアリールである。
【０１８６】
幾つかの実施形態では、Ｒ１６はアルキルである。
【０１８７】
幾つかの実施形態では、Ｒ１６はアルキルオキシカルボニルである。
【０１８８】
Ｂ１４．置換基Ｒ２
Ｒ２は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
（ａ）アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換され、
（ｂ）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシおよびアルキルスルホニルは、任意に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換され、および
（ｃ）カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換されている。
【０１８９】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって、単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換されている。
【０１９０】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシおよびアルキルスルホニルは、任意に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換されている。
【０１９１】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換されている。
【０１９２】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
（ａ）アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、任意に、
（１）アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換され、および
（ｂ）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、任意に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換されている。
【０１９３】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、任意に、
（１）アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換されている。
【０１９４】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、任意に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、
（１）アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基、または
（２）アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する２個の置換基で置換されている。
【０１９５】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニル、Ｃ２−Ｃ４アルキニル、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
（ａ）アミノは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、
（ｂ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニルおよびＣ２−Ｃ４−アルキニルは、任意に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、および
（ｃ）Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロおよびアミノからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０１９６】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニル、Ｃ２−Ｃ４アルキニル、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
（ａ）アミノは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、
（ｂ）Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニルおよびＣ２−Ｃ４アルキニルは、任意に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、および
（ｃ）Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロおよびアミノからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０１９７】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
（ａ）Ｃ１−Ｃ４アルキルは、任意に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され、および
（ｂ）Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、任意に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０１９８】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
（ａ）Ｃ１−Ｃ４アルキルは、任意に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（ｂ）Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、任意に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。
【０１９９】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
（ａ）Ｃ１−Ｃ４アルキルは、任意に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から独立して選択される３個までの置換基で置換され、および
（ｂ）Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、任意に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０２００】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、ｔｅｒｔ−ブチル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、任意に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。
【０２０１】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ｔｅｒｔ−ブチル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、任意に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。
【０２０２】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、アルキル、ハロアルキル、カルボキシアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシアルキル、トリメチルシリルアルキニル、アルキルカルボシクリル、カルボシクリル、アルキルヘテロシクリル、ヘテロシクリル、ハロカルボシクリル、アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される。
【０２０３】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される。
【０２０４】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニル、Ｃ２−Ｃ４アルキニル、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ２は、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニル、Ｃ２−Ｃ４アルキニル、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ２は、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニル、Ｃ２−Ｃ４アルキニル、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、フェニルおよび５から６員ヘテロアリールからなる群から選択される。
【０２０５】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニル、Ｃ２−Ｃ４アルキニル、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニル、Ｃ２−Ｃ４アルキニル、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニル、Ｃ２−Ｃ４アルキニル、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、フェニルおよび５から６員ヘテロアリールからなる群から選択される。
【０２０６】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ２は、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ６−カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ２は、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、フェニルおよび５から６員ヘテロアリールからなる群から選択される。
【０２０７】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキル、フェニルおよび５から６員ヘテロアリールからなる群から選択される。
【０２０８】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、ｔｅｒｔ−ブチル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ２は、ハロ、ｔｅｒｔ−ブチル、Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ２は、ハロ、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニルおよび５から６員ヘテロアリールからなる群から選択される。
【０２０９】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ｔｅｒｔ−ブチル、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ２は、ｔｅｒｔ−ブチル、Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ２は、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニルおよび５から６員ヘテロアリールからなる群から選択される。
【０２１０】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ２は、Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ２は、フェニルおよび５から６員ヘテロアリールからなる群から選択される。
【０２１１】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ２は、Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ２は、フェニル、フラニル、ピラゾリルおよびチオフェニルからなる群から選択される。
【０２１２】
上記の実施形態に関する適切なカルボシクリルとして、例えば、シクロプロピルおよびフェニルが挙げられる。
【０２１３】
上記の実施形態のための適切なヘテロシクリルとして、例えば、フラニル、ピラゾリルおよびチオフェニルが挙げられる。
【０２１４】
幾つかの実施形態では、Ｒ２は、ハロ、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される。
【０２１５】
幾つかの実施形態では、Ｒ２はアルキルであり。
【０２１６】
幾つかの実施形態では、Ｒ２はｔｅｒｔ−ブチルである。
【０２１７】
Ｂ１５．置換基Ｒ３
Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アミノ、カルボシクリルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホニルオキシおよびハロからなる群から選択される。
【０２１８】
幾つかの実施形態では、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびハロからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびフルオロからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびフルオロからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびクロロからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびブロモからなる群から選択される。さらなる該実施形態では、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびヨードからなる群から選択される。
【０２１９】
幾つかの実施形態では、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびハロからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびフルオロからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびクロロからなる群から選択される。他の該実施形態では、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびブロモからなる群から選択される。さらなる該実施形態では、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびヨードからなる群から選択される。
【０２２０】
幾つかの実施形態では、Ｒ３は、水素、ヒドロキシおよびアルキルオキシからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ３は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびエトキシからなる群から選択される。
【０２２１】
幾つかの実施形態では、Ｒ３は、水素、アミノ、アルキルおよびアルケニルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、Ｒ３は、水素、メチル、エチル、エテニルおよびアミノからなる群から選択される。
【０２２２】
幾つかの実施形態では、Ｒ３は水素である。
【０２２３】
幾つかの実施形態では、Ｒ３はヒドロキシである。
【０２２４】
幾つかの実施形態では、Ｒ３はアミノである。
【０２２５】
幾つかの実施形態では、Ｒ３はハロである。
【０２２６】
幾つかの実施形態では、Ｒ３はヨードである。
【０２２７】
幾つかの実施形態では、Ｒ３はアルケニルである。
【０２２８】
幾つかの実施形態では、Ｒ３はエテニルである。
【０２２９】
幾つかの実施形態では、Ｒ３はアルキルである。
【０２３０】
幾つかの実施形態では、Ｒ３はメチルである。
【０２３１】
幾つかの実施形態では、Ｒ３はエチルである。
【０２３２】
幾つかの実施形態では、Ｒ５はアルキルオキシである。
【０２３３】
幾つかの実施形態では、Ｒ５はメトキシである。
【０２３４】
幾つかの実施形態では、Ｒ５はエトキシである。
【０２３５】
Ｂ１６．置換基Ｌ
Ｌは、結合、Ｃ（ＲＡ）＝Ｃ（ＲＢ）、Ｃ≡Ｃ、Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＣ）、Ｎ（ＲＤ）Ｃ（Ｏ）、Ｃ１−Ｃ２アルキレン、ＣＨ２Ｏ、ＯＣＨ２、シクロプロピル−１，２−エン、ＣＨ２Ｎ（ＲＬ）、Ｎ（ＲＭ）ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）ＣＨ２およびＣＨ２Ｃ（Ｏ）（ここで、ＲＡ、ＲＢ、Ｒｃ、ＲＤ、ＲＬおよびＲＭは、以下で検討する通りである。）からなる群から選択される。
【０２３６】
幾つかの実施形態では、Ｌは、結合、Ｃ（ＲＡ）＝Ｃ（ＲＢ）、Ｃ≡Ｃ、Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＣ）、Ｎ（ＲＤ）Ｃ（Ｏ）、Ｃ１−Ｃ２アルキレン、ＣＨ２Ｏ、ＯＣＨ２、シクロプロピル−１，２−エン、ＣＨ２Ｎ（ＲＬ）およびＮ（ＲＭ）ＣＨ２からなる群から選択される。
【０２３７】
幾つかの実施形態では、Ｌは、Ｃ（ＲＡ）＝Ｃ（ＲＢ）、エチレンおよびシクロプロピル−１，２−エンからなる群から選択される。
【０２３８】
幾つかの実施形態では、Ｌは、Ｃ（ＲＡ）＝Ｃ（ＲＢ）、Ｃ≡Ｃ、Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＣ）、Ｎ（ＲＤ）Ｃ（Ｏ）、Ｃ１−Ｃ２アルキレン、ＣＨ２Ｏ、ＯＣＨ２、シクロプロピル−１，２−エン、ＣＨ２Ｎ（ＲＬ）、Ｎ（ＲＭ）ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）ＣＨ２およびＣＨ２Ｃ（Ｏ）からなる群から選択される。
【０２３９】
幾つかの実施形態では、Ｌは、Ｃ≡Ｃ、Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＣ）、Ｎ（ＲＤ）Ｃ（Ｏ）、ＣＨ２Ｏ、ＯＣＨ２、ＣＨ２Ｎ（ＲＬ）およびＮ（ＲＭ）ＣＨ２からなる群から選択される。
【０２４０】
幾つかの実施形態では、Ｌは結合である。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ０：
【０２４１】
【化３５】
0005947346.tif 000036
に相当する。
【０２４２】
幾つかの実施形態では、Ｌは、Ｃ（ＲＡ）−Ｃ（ＲＢ）（ＲＡおよびＲＢは、以下で検討する通りである。）である。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ１：
【０２４３】
【化３６】
0005947346.tif 000037
に相当する。
【０２４４】
幾つかの実施形態では、ＬはＣ≡Ｃである。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ２：
【０２４５】
【化３７】
0005947346.tif 000038
に相当する。
【０２４６】
幾つかの実施形態では、ＬはＣ（Ｏ）Ｎ（ＲＣ）（ＲＣは、以下で検討する通りである。）である。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ３：
【０２４７】
【化３８】
0005947346.tif 000039
に相当する。
【０２４８】
幾つかの実施形態では、Ｌは、Ｎ（ＲＤ）Ｃ（Ｏ）（ＲＤは、以下で検討する通りである。）である。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ４：
【０２４９】
【化３９】
0005947346.tif 000040
に相当する。
【０２５０】
幾つかの実施形態では、Ｌは、Ｃ１−Ｃ２アルキレンである。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ５−１（Ｌがメチレンの場合）またはＩ−Ｌ５−２（Ｌがエチレンの場合）：
【０２５１】
【化４０】
0005947346.tif 000041
に相当する。
【０２５２】
幾つかの実施形態では、ＬはＣＨ２Ｏである。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ６：
【０２５３】
【化４１】
0005947346.tif 000042
に相当する。
【０２５４】
幾つかの実施形態では、ＬはＯＣＨ２である。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ７：
【０２５５】
【化４２】
0005947346.tif 000043
に相当する。
【０２５６】
幾つかの実施形態では、Ｌはシクロプロピル−１，２−エンである。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ８：
【０２５７】
【化４３】
0005947346.tif 000044
に相当する。
【０２５８】
幾つかの実施形態では、ＬはＣ（Ｈ）２Ｎ（ＲＬ）である。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ９：
【０２５９】
【化４４】
0005947346.tif 000045
に相当する。
【０２６０】
幾つかの実施形態では、ＬはＮ（ＲＭ）Ｃ（Ｈ）２である。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ１０：
【０２６１】
【化４５】
0005947346.tif 000046
に相当する。
【０２６２】
幾つかの実施形態では、ＬはＣ（Ｏ）ＣＨ２である。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ１１：
【０２６３】
【化４６】
0005947346.tif 000047
に相当する。
【０２６４】
幾つかの実施形態では、ＬはＣＨ２Ｃ（Ｏ）である。これらの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式Ｉ−Ｌ１２：
【０２６５】
【化４７】
0005947346.tif 000048
に相当する。
【０２６６】
Ｂ１７．置換基ＲＡおよびＲＢ
ＲＡおよびＲＢは、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルおよびハロからなる群から独立して選択され、ここで、
Ｃ１−Ｃ６アルキルは、任意に、カルボキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、アミノ、シアノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている。
【０２６７】
幾つかの実施形態では、ＲＡおよびＲＢの１つが水素であり、もう１つがＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルおよびハロからなる群から選択され、ここで、
Ｃ１−Ｃ６アルキルは、任意に、カルボキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、アミノ、シアノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている。
【０２６８】
幾つかの実施形態では、ＲＡおよびＲＢは、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルおよびハロからなる群から独立して選択される。
【０２６９】
上記実施形態の幾つかでは、ＲＡは水素である。他の上記実施形態では、ＲＢが水素である。
【０２７０】
ある実施形態では、ＲＡおよびＲＢの１つが水素であり、もう１つは、水素、メチル、メトキシおよびハロからなる群から選択される。
【０２７１】
幾つかの実施形態では、ＲＡは水素であり、ＲＢは、メチル、メトキシおよびハロからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、ＲＢは、メチル、メトキシおよびフルオロからなる群から選択される。他の該実施形態では、ＲＢは、メチル、メトキシおよびクロロからなる群から選択される。他の該実施形態では、ＲＢは、メチル、メトキシおよびブロモからなる群から選択される。さらなる該実施形態では、ＲＢは、メチル、メトキシおよびヨードからなる群から選択される。さらに該実施形態では、ＲＢは、メチル、メトキシ、クロロおよびフルオロからなる群から選択される。
【０２７２】
幾つかの実施形態では、ＲＢは水素であり、ＲＡは、メチル、メトキシおよびハロからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、ＲＡは、メチル、メトキシおよびフルオロからなる群から選択される。他の該実施形態では、ＲＡは、メチル、メトキシおよびクロロからなる群から選択される。他の該実施形態では、ＲＡは、メチル、メトキシおよびブロモからなる群から選択される。さらなる該実施形態では、ＲＡは、メチル、メトキシおよびヨードからなる群から選択される。さらに該実施形態では、ＲＡは、メチル、メトキシ、クロロおよびフルオロからなる群から選択される。
【０２７３】
幾つかの実施形態では、ＲＡは水素であり、およびＲＢも水素である。
【０２７４】
Ｂ１８．置換基ＲＣ
ＲＣは、水素およびアルキルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、ＲＣは水素およびメチルからなる群から選択される。
【０２７５】
幾つかの実施形態では、ＲＣは水素である。
【０２７６】
幾つかの実施形態では、ＲＣはアルキルである。該実施形態の幾つかでは、ＲＣはメチルである。
【０２７７】
Ｂ１９．置換基ＲＤ
ＲＤは、水素およびアルキルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、ＲＤは水素およびメチルからなる群から選択される。
【０２７８】
幾つかの実施形態では、ＲＤは水素である。
【０２７９】
幾つかの実施形態では、ＲＤはアルキルである。該実施形態の幾つかでは、ＲＤはメチルである。
【０２８０】
Ｂ２０．置換基ＲＬ
ＲＬは、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルおよびハロからなる群から選択され、ここで、
Ｃ１−Ｃ６−アルキルは、任意に、カルボキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、アミノ、シアノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている。
【０２８１】
幾つかの実施形態では、ＲＬは、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルおよびハロからなる群から選択される。
【０２８２】
幾つかの実施形態では、ＲＬは、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシおよびハロからなる群から選択され、ここで、
Ｃ１−Ｃ６アルキルは、任意に、カルボキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、アミノ、シアノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている。
【０２８３】
幾つかの実施形態では、ＲＬは、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシおよびハロからなる群から選択される。
【０２８４】
上記実施形態の幾つかでは、ＲＬはハロである。該実施形態の幾つかでは、ハロはフルオロである。他の該実施形態では、ハロはクロロである。他の該実施形態では、ハロはブロモである。さらなる該実施形態では、ハロはヨードである。
【０２８５】
上記実施形態の幾つかでは、ＲＬは水素である。
【０２８６】
上記実施形態の幾つかでは、ＲＬはＣ１−Ｃ６アルキルである。
【０２８７】
上記実施形態の幾つかでは、ＲＬはＣ１−Ｃ６アルキルオキシである。
【０２８８】
Ｂ２１．置換基ＲＭ
ＲＭは、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルおよびハロからなる群から選択され、ここで、
Ｃ１−Ｃ６アルキルは、任意に、カルボキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、アミノ、シアノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている。
【０２８９】
幾つかの実施形態では、ＲＭは、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルおよびハロからなる群から選択される。
【０２９０】
幾つかの実施形態では、ＲＭは、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシおよびハロからなる群から選択され、ここで、
Ｃ１−Ｃ６アルキルは、任意に、カルボキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、アミノ、シアノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている。
【０２９１】
幾つかの実施形態では、ＲＭは、水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシおよびハロからなる群から選択される。
【０２９２】
上記実施形態の幾つかでは、ＲＭはハロである。該実施形態の幾つかでは、ハロはフルオロである。他の該実施形態では、ハロはクロロである。他の該実施形態では、ハロはブロモである。さらなる該実施形態では、ハロはヨードである。
【０２９３】
実施形態の幾つかでは、ＲＭは水素である。
【０２９４】
実施形態の幾つかでは、ＲＭはＣ１−Ｃ６アルキルである。
【０２９５】
実施形態の幾つかでは、ＲＭはＣ１−Ｃ６アルキルオキシである。
【０２９６】
Ｂ２２．置換基Ｒ４
Ｒ４は、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、該置換基はそれぞれ、任意に、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫ（ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫは、以下に記載する通りである。）からなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている。該実施形態の幾つかでは、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、置換されていない。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から選択され１個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦおよびＲＪからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＦおよびＲＪからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＪで置換されている。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される２個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される２個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦおよびＲＪからなる群から独立して選択される２個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＦおよびＲＪからなる群から独立して選択される２個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６−カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦおよびＲＪからなる群から独立して選択される３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＦおよびＲＪからなる群から独立して選択される３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦおよびＲＪからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＦおよびＲＪからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。
【０２９７】
幾つかの実施形態では、Ｒ４は、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、該置換基はそれぞれ、任意に、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている。該実施形態の幾つかでは、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、置換されていない。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される２個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。
【０２９８】
幾つかの実施形態では、Ｒ４は、任意にＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されているＣ５−Ｃ６−カルボシクリルである。該実施形態の幾つかでは、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルは置換されていない。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される２個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。
【０２９９】
幾つかの実施形態では、Ｒ４は、任意にＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている５から６員ヘテロシクリルである。該実施形態の幾つかでは、５から６員ヘテロシクリルは置換されていない。他の該実施形態では、５から６員ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、５から６員ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される２個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、５から６員ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、５から６員ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。
【０３００】
幾つかの実施形態では、Ｒ４は、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、該置換基はそれぞれ、任意に、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている。該実施形態の幾つかでは、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、置換されていない。他の該実施形態では、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される２個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。
【０３０１】
幾つかの実施形態では、Ｒ４は、任意にＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている縮合２−環カルボシクリルである。該実施形態の幾つかでは、縮合２−環カルボシクリルは置換されていない。他の該実施形態では、縮合２−環カルボシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、縮合２−環カルボシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される２個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、縮合２−環カルボシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、縮合２−環カルボシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。
【０３０２】
幾つかの実施形態では、Ｒ４は、任意にＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている縮合２−環ヘテロシクリルである。該実施形態の幾つかでは、縮合２−環ヘテロシクリルは置換されていない。他の該実施形態では、縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。他の該実施形態では、縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される２個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される３個の置換基で置換されている。さらなる該実施形態では、縮合２−環ヘテロシクリルは、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。
【０３０３】
上記実施形態の幾つかでは、任意に置換されているＣ５−Ｃ６カルボシクリルは、シクロペンチル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニルおよびフェニルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、任意に置換されているＣ５−Ｃ６カルボシクリルは、フェニルである。
【０３０４】
上記実施形態の幾つかでは、任意に置換されているＣ５−Ｃ６カルボシクリルは、Ｃ５カルボシクリルである。Ｃ５カルボシクリルの例として、シクロペンチル、シクロペンテニルおよびシクロペンタジエニルが挙げられる。
【０３０５】
他の上記実施形態では、任意に置換されているＣ５−Ｃ６カルボシクリルは、Ｃ６カルボシクリルである。Ｃ６カルボシクリルの例として、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニルおよびフェニルが挙げられる。
【０３０６】
上記実施形態の幾つかでは、任意に置換されている５から６員ヘテロシクリルは、フラニル、ジヒドロフラニル、テトラヒドロフラニル、チオフェニル（チオフラニル）、ジヒドロチオフェニル、テトラヒドロチオフェニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、オキサゾリル、ジヒドロオキサゾリル、イソオキサゾリル、ジヒドロイソオキサゾリル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、チアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリニル、イソチアゾリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、イミダゾリル、イミダゾリジニル、ピラゾリル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、オキサチオリル、オキサチオラニル、トリアゾリル、オキサジアゾリル、フラザニル、テトラゾリル、オキサトリアゾリル、ジオキサゾリル、オキサチアゾリル、オキサチアゾリジニル、ジヒドロオキサジアゾリル、ジオキサゾリジニル、ピラニル、ジヒドロピラニル、テトラヒドロピラニル、ピリジニル、ジヒドロピリジニル、テトラヒドロピリジニル、ピペリジニル、ジアジニル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ジヒドロピラジニル、テトラヒドロピラジニル、ピペラジニル、トリアジニル、ジヒドロトリアジニル、テトラヒドロトリアジニル、トリアジンアニル、オキサジニル、ジヒドロオキサジニル、モルホリニル、オキサチアジニル、ジヒドロオキサチアジニル、オキサチアジナニル、オキサジアジニル、ジヒドロオキサジアジニル、オキサジアジンアニル、チオピラニル、ジヒドロチオピラニルおよびテトラヒドロチオピラニルからなる群から選択される。
【０３０７】
上記実施形態の幾つかでは、場合によって置換されている５から６員ヘテロシクリルは、５員ヘテロシクリルである。５員ヘテロシクリルの例として、フラニル、ジヒドロフラニル、テトラヒドロフラニル、チオフェニル（チオフラニル）、ジヒドロチオフェニル、テトラヒドロチオフェニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、オキサゾリル、ジヒドロオキサゾリル、イソオキサゾリル、ジヒドロイソオキサゾリル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、チアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリニル、イソチアゾリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、イミダゾリル、イミダゾリジニル、ピラゾリル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、オキサチオリル、オキサチオラニル、トリアゾリル、オキサジアゾリル、フラザニル、テトラゾリル、オキサトリアゾリル、ジオキサゾリル、オキサチアゾリル、オキサチアゾリジニル、ジヒドロオキサジアゾリルおよびヂオキサゾリジニルが挙げられる。
【０３０８】
他の上記実施形態では、任意に置換されている５から６員ヘテロシクリルは、６員ヘテロシクリルである。６員ヘテロシクリルの例として、ピラニル、ジヒドロピラニル、テトラヒドロピラニル、ピリジニル、ジヒドロピリジニル、テトラヒドロピリジニル、ピペリジニル、ジアジニル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ジヒドロピラジニル、テトラヒドロピラジニル、ピペラジニル、トリアジニル、ジヒドロトリアジニル、テトラヒドロトリアジニル、トリアジンアニル、オキサジニル、ジヒドロオキサジニル、モルホリニル、オキサチアジニル、ジヒドロオキサチアジニル、オキサチアジナニル、オキサジアジニル、ジヒドロオキサジアジニル、オキサジアジンアニル、チオピラニル、ジヒドロチオピラニルおよびテトラヒドロチオピラニルが挙げられる。
【０３０９】
上記実施形態の幾つかでは、任意に置換されている縮合２−環カルボシクリルは、ナフタレニル、ジヒドロナフタレニル、テトラヒドロナフタレニル、ヘキサヒドロナフタレニル、オクタヒドロナフタレニル、デカヒドロナフタレニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ヘキサヒドロインデニル、オクタヒドロインデニル、ペンタレニル、オクタヒドロペンタレニルおよびヘキサヒドロペンタレニルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、任意に置換されている縮合２−環カルボシクリルは、ナフタレニルおよびジヒドロインデニルからなる群から選択される。該実施形態の幾つかでは、任意に置換された縮合２−環カルボシクリルは、ナフタレニルである。他の該実施形態では、任意に置換されている縮合２−環カルボシクリルは、ジヒドロインデニルである。さらなる該実施形態では、任意に置換されている  縮合２−環カルボシクリルは、インデニルである。
【０３１０】
上記実施形態の幾つかでは、任意に置換されている縮合２−環ヘテロシクリルは、
【０３１１】
【化４８】
0005947346.tif 000049
からなる群から選択され、
Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、ＮおよびＣ（Ｈ）からなる群から独立して選択され；
Ｘ４は、Ｎ（Ｈ）、ＯおよびＳからなる群から選択され；
Ｘ５、Ｘ６およびＸ７は、ＮおよびＣ（Ｈ）からなる群から独立して選択され；
Ｘ８は、Ｎ（Ｈ）、ＯおよびＳからなる群から選択され；
Ｘ９は、Ｎ（Ｈ）、ＯおよびＳからなる群から選択され；
Ｘ１０、Ｘ１１、Ｘ１２およびＸ１３は、ＮおよびＣ（Ｈ）からなる群から独立して選択され；
Ｘ１４は、Ｎ（Ｈ）、ＯおよびＳからなる群から選択され；
Ｘ１５、Ｘ１６、Ｘ１７およびＸ１８は、ＮおよびＣ（Ｈ）からなる群から独立して選択され；
Ｘ１９、Ｘ２０およびＸ２１の１つ以上はＮであり、残りのもの（複数を含む。）はＣ（Ｈ）であり；
Ｘ２２、Ｘ２３、Ｘ２４およびＸ２５の１つ以上はＮであり、残りのもの（複数を含む。）はＣ（Ｈ）であり；
Ｘ２６、Ｘ２７およびＸ２８の１つ以上はＮであり、残りのもの（複数を含む。）はＣ（Ｈ）であり；
Ｘ２９、Ｘ３０、Ｘ３１およびＸ３２の１つ以上はＮであり、残りのもの（複数を含む。）はＣ（Ｈ）であり；
Ｘ３３、Ｘ３４およびＸ３５の１つ以上はＮであり、残りのもの（複数を含む。）はＣ（Ｈ）であり；
Ｘ３６、Ｘ３７、Ｘ３８およびＸ３９の１つ以上はＮであり、残りのもの（複数を含む。）はＣ（Ｈ）であり；
Ｘ４０、Ｘ４１およびＸ４２は、ＮおよびＣ（Ｈ）からなる群から独立して選択され；
Ｘ４３、Ｘ４４およびＸ４５の１つは、Ｎ（Ｈ）、ＯおよびＳからなる群から選択され、残りの２つはＣ（Ｈ）２であり；
Ｘ４６およびＸ４７の１つは、Ｎ（Ｈ）、ＯおよびＳからなる群から選択され、他の１つはＣ（Ｈ）２であり；
Ｘ４８、Ｘ４９、Ｘ５０およびＸ５１は、ＮおよびＣ（Ｈ）からなる群から独立して選択され；
Ｘ５２、Ｘ５３およびＸ５４は、ＮおよびＣ（Ｈ）からなる群から独立して選択され；
Ｘ５５は、Ｎ（Ｈ）、ＯおよびＳからなる群から選択され；
Ｘ５６、Ｘ５７およびＸ５８は、ＮおよびＣ（Ｈ）からなる群から独立して選択され；
Ｘ５９は、Ｎ（Ｈ）、ＯおよびＳからなる群から選択され；
Ｘ６０は、Ｎ（Ｈ）、ＯおよびＳからなる群から選択され；
Ｘ６１、Ｘ６２、Ｘ６３およびＸ６４は、ＮおよびＣ（Ｈ）からなる群から独立して選択され；
Ｘ６５は、Ｎ（Ｈ）、ＯおよびＳからなる群から選択され；
Ｘ６６、Ｘ６７、Ｘ６８およびＸ６９は、ＮおよびＣ（Ｈ）からなる群から独立して選択され；
Ｘ７０、Ｘ７１およびＸ７２の１つ以上はＮであり、残りのもの（複数を含む。）はＣ（Ｈ）であり；
Ｘ７３、Ｘ７４、Ｘ７５およびＸ７６の１つ以上はＮであり、残りのもの（複数を含む。）はＣ（Ｈ）であり；および
Ｘ７７およびＸ７８の１つはＮ（Ｈ）であり、残りの１つはＣ（Ｈ）２である。
【０３１２】
実施形態の幾つかでは、任意に置換されている縮合２−環ヘテロシクリルは、
【０３１３】
【化４９】
0005947346.tif 000050
からなる群から選択される。
【０３１４】
上記実施形態の幾つかでは、任意に置換されている縮合２−環ヘテロシクリルは、
【０３１５】
【化５０】
0005947346.tif 000051
からなる群から選択される。
【０３１６】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はＣ（Ｈ）である。
【０３１７】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ５、Ｘ６およびＸ７はＣ（Ｈ）である。
【０３１８】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ１０、Ｘ１１、Ｘ１２およびＸ１３はＣ（Ｈ）である。
【０３１９】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ１５、Ｘ１６、Ｘ１７およびＸ１８はＣ（Ｈ）である。
【０３２０】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ１９、Ｘ２０およびＸ２１の１つはＮである。
【０３２１】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ２２、Ｘ２３、Ｘ２４およびＸ２５の１つはＮである。
【０３２２】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ２６、Ｘ２７およびＸ２８の１つはＮであり、Ｘ２９、Ｘ３０、Ｘ３１およびＸ３２の１つはＮである。
【０３２３】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ４０、Ｘ４１およびＸ４２はＣ（Ｈ）である。
【０３２４】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ４８、Ｘ４９、Ｘ５０およびＸ５１はＣ（Ｈ）である。
【０３２５】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ５２、Ｘ５３およびＸ５４はＣ（Ｈ）である。
【０３２６】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ５６、Ｘ５７およびＸ５８はＣ（Ｈ）である。
【０３２７】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ５６、Ｘ５７およびＸ５８はＣ（Ｈ）であり、Ｘ５９はＳである。
【０３２８】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ６１、Ｘ６２、Ｘ６３およびＸ６４はＣ（Ｈ）である。
【０３２９】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ６６、Ｘ６７、Ｘ６８およびＸ６９はＣ（Ｈ）である。
【０３３０】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ７０、Ｘ７１およびＸ７２の１つ以上はＮであり、残りのもの（複数を含む。）はＣ（Ｈ）である。
【０３３１】
上記実施形態の幾つかでは、Ｘ７３、Ｘ７４、Ｘ７５およびＸ７６の１つ以上はＮであり、残りのもの（複数を含む。）はＣ（Ｈ）である。
【０３３２】
Ｂ２３．置換基ＲＥ
各ＲＥは、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノ、イミノ、アジドおよびアルデヒドからなる群から独立して選択され、ここで、アミノは、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３３３】
ある実施形態では、各ＲＥは、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、アミノ、イミノおよびアルデヒドからなる群から独立して選択され、ここで、アミノは、任意に、独立して選択される１個または２個のアルキルで置換されている。
【０３３４】
ある実施形態では、各ＲＥは、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、アミノ、イミノ、アルデヒドおよびアルキルアミノからなる群から独立して選択される。
【０３３５】
ある実施形態では、各ＲＥは、クロロ、フルオロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、アミノ、イミノ、アルデヒドおよびアルキルアミノからなる群から独立して選択される。
【０３３６】
ある実施形態では、各ＲＥは、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノ、イミノおよびアジドからなる群から独立して選択される。該実施形態の幾つかでは、各ＲＥはハロである。他の該実施形態では、各ＲＥはニトロである。他の該実施形態では、各ＲＥはヒドロキシである。他の該実施形態では、各ＲＥはオキソである。他の該実施形態では、各ＲＥはカルボキシである。他の該実施形態では、各ＲＥはシアノである。他の該実施形態では、各ＲＥはアミノである。さらなる該実施形態では、各ＲＥはイミノである。さらなる該実施形態では、各ＲＥはアジドである。
【０３３７】
幾つかの実施形態では、各ＲＥは、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノおよびイミノからなる群から独立して選択される。
【０３３８】
Ｂ２４．置換基ＲＦ
各ＲＦは、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基はそれぞれ、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで、
アミノ、イミノ、アミノスルホニル、アミノカルボニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシおよびアルキルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。
【０３３９】
ある実施形態では、各ＲＦは、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基はそれぞれ、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで、
アミノ、イミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。
【０３４０】
上記実施形態の幾つかでは、各ＲＦは、アルキル、アルキニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択され、ここで、該置換基は、置換されていない。
【０３４１】
幾つかの実施形態では、各ＲＦは、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基はそれぞれ、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノ、イミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、任意に、アルキルで置換されている。
【０３４２】
幾つかの実施形態では、各ＲＦは、独立して選択されたアルキルであって、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される１個の置換基で置換されているアルキルであり、ここで、
アミノ、イミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、任意に、アルキルで置換されている。
【０３４３】
幾つかの実施形態では、各ＲＦは、独立して選択されるアルキルであって、任意に、カルボキシ、ハロ、アミノ、イミノおよびアミノスルホニルからなる群から選択される１個の置換基で置換されているアルキルであり、ここで、
アミノ、イミノおよびアミノスルホニルは、任意に、アルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３４４】
幾つかの実施形態では、各ＲＦは、独立して選択されるアルキルであって、任意に、アミノで置換されているアルキルであり、ここで、アミノは、任意に、アルキルスルホニルで置換されている。
【０３４５】
幾つかの実施形態では、各ＲＦは、独立して選択されるアルキルであって、アミノで置換されているアルキルであり、ここで、アミノは、アルキルスルホニルで置換されている。該実施形態の幾つかでは、各ＲＦは、メチルスルホニルアミノメチルである。
【０３４６】
幾つかの実施形態では、各ＲＦは、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基はそれぞれ、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１、２または３個の置換基で置換されている。
【０３４７】
幾つかの実施形態では、各ＲＦは、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されている、独立して選択されるアルキルである。
【０３４８】
Ｂ２５．置換基ＲＧ
各ＲＧは、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基はそれぞれ、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３４９】
上記実施形態の幾つかでは、各ＲＧは、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択され、該置換基は、置換されていない。
【０３５０】
幾つかの実施形態では、各ＲＧは、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基はそれぞれ、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３５１】
上記実施形態の幾つかでは、カルボシクリルは、Ｃ３−Ｃ６カルボシクリルである。
【０３５２】
上記実施形態の幾つかでは、ヘテロシクリルは、５から６員ヘテロシクリルである。
【０３５３】
Ｂ２６．置換基ＲＨ
各ＲＨは、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシおよびアルキニルスルホニルオキシからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基はそれぞれ、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３５４】
上記実施形態の幾つかでは、各ＲＨは、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシおよびアルキニルスルホニルオキシからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基は置換されていない。
【０３５５】
幾つかの実施形態では、各ＲＨは、アルキルオキシおよびアルキルスルホニルオキシからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基はそれぞれ、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３５６】
幾つかの実施形態では、各ＲＨは、アルキルオキシおよびアルキルスルホニルオキシからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基はそれぞれ、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３５７】
幾つかの実施形態では、各ＲＨは、アルキルオキシおよびアルキルスルホニルオキシからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基はそれぞれ、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３５８】
幾つかの実施形態では、各ＲＨは、独立して選択されるアルキルオキシである。
【０３５９】
幾つかの実施形態では、各ＲＨは、独立して選択されるアルキルスルホニルオキシである。
【０３６０】
Ｂ２７．置換基ＲＩ
各ＲＩは、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）アルキルカルボニル、アルケニルカルボニルおよびアルキニルカルボニルは、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、および
（ｂ）アミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシアルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、任意に、ハロ、アルキルおよびオキソからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３６１】
幾つかの実施形態では、各ＲＩは、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から独立して選択され、ここで、該置換基は、置換されていない。
【０３６２】
幾つかの実施形態では、各ＲＩは、アルキルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）アルキルカルボニルは、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシおよびアミノカルボニルからなる群から選択される１個の置換基で置換され、および
（ｂ）アミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。
【０３６３】
幾つかの実施形態では、各ＲＩは、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択され、ここで、
アミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される１個の置換基で置換されている。
【０３６４】
ある実施形態では、各ＲＩは、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）アルキルカルボニル、アルケニルカルボニルおよびアルキニルカルボニルは、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、および
（ｂ）アミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３６５】
上記実施形態の幾つかでは、各ＲＩは、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択され、ここで、該置換基は置換されていない。
【０３６６】
幾つかの実施形態では、各ＲＩは、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）アルキルカルボニルは、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（ｂ）アミノカルボニルは、任意に、アルキルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換される。
【０３６７】
幾つかの実施形態では、各ＲＩは、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）アルキルカルボニルは、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（ｂ）アミノカルボニルは、任意に、アルキルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３６８】
幾つかの実施形態では、各ＲＩは、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択され、ここで、
アルキルカルボニルは、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３６９】
幾つかの実施形態では、各ＲＩは、独立して選択されるアルキルカルボニルである。
【０３７０】
幾つかの実施形態では、各ＲＩは、独立して選択されるアミノカルボニルである。
【０３７１】
Ｂ２８．置換基ＲＪ
各ＲＪは、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノイミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）該置換基のアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換され、ここで、
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジド、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、
（ｂ）該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシおよびアルキニルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換され、
（ｃ）該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジドおよびアミノからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３７２】
ある実施形態では、各ＲＪは、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）該置換基のアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換され、ここで、
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジド、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、
（ｂ）該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシおよびアルキニルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換され、
（ｃ）該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジドおよびアミノからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで
アミノは、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３７３】
上記実施形態の幾つかでは、各ＲＪは、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から独立して選択され、ここで置換基は、置換されていない。
【０３７４】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）該置換基のアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換され、ここで、
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、
（ｂ）該置換基のアルキル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで
アミノは、任意に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換され、
（ｃ）該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキルから独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３７５】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）該置換基のアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換され、ここで、
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、
（ｂ）該置換基のアルキル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換され、
（ｃ）該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキルから独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３７６】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基のアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換され、ここで、
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換される。
【０３７７】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から独立して選択され、ここで、
アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノのアルキル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換されている。
【０３７８】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３７９】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、カルボシクリルスルホニルアミノおよびヘテロシクリルスルホニルアミノからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３８０】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）該置換基のアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換され、ここで、
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、
（ｂ）該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換されている。
【０３８１】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノであり、ここで、
（ａ）アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換され、ここで、
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、
（ｂ）アルキルスルホニルアミノのアルキル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換されている。
【０３８２】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノであって、ここで、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換され、ここで、
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３８３】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノであり、ここで、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換されている。
【０３８４】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノであり、ここで、
アルキルスルホニルアミノのアルキル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換されている。
【０３８５】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノでり、ここで、
アルキルスルホニルアミノのアルキル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３８６】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノである。該実施形態の幾つかでは、各ＲＪはメチルスルホニルアミノである。
【０３８７】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノイミノであり、ここで、
（ａ）アルキルスルホニルアミノイミノのアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換され、ここで、
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、
（ｂ）アルキルスルホニルアミノイミノのアルキル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換されている。
【０３８８】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノイミノであって、ここで、
アルキルスルホニルアミノイミノのアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換され、ここで、
（１）カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、任意に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（２）アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３８９】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノイミノであって、ここで、
アルキルスルホニルアミノイミノのアミノ部分は、任意に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される１個の置換基で置換されている。
【０３９０】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノイミノであって、ここで、
アルキルスルホニルアミノイミノのアルキル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アミノは、任意に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、ここで、
アルキルは、任意に、１個以上のヒドロキシで置換されている。
【０３９１】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノイミノであって、ここで、
アルキルスルホニルアミノイミノのアルキル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３９２】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、独立して選択されるアルキルスルホニルアミノイミノである。該実施形態の幾つかでは、各ＲＪは、メチルスルホニルアミノイミノである。
【０３９３】
幾つかの実施形態では、各ＲＪは、アルキルカルボニルアミノおよびアルキルオキシカルボニルアミノからなる群から独立して選択され、ここで、
該置換基のアルキル部分は、任意に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３９４】
Ｂ２９．置換基ＲＫ
各ＲＫは、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルは、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、ここで、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（ｂ）アミノスルホニルは、任意に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３９５】
実施形態の幾つかでは、各ＲＫは、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から独立して選択され、ここで、該置換基は置換されていない。
【０３９６】
幾つかの実施形態では、各ＲＫは、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択され、ここで、
（ａ）アルキルスルホニルは、任意に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から独立して選択される１個または２個の置換基で置換され、および
（ｂ）アミノスルホニルは、任意に、アルキルから独立して選択される１個または２個の置換基で置換されている。
【０３９７】
幾つかの実施形態では、各ＲＫは、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルからなる群から独立して選択される。
【０３９８】
Ｃ．式（Ｉ）の化合物の実施形態
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｌ、ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ、ＲＤ、ＲＬ、ＲＭ、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫの種々の実施形態は、上記に検討している。これらの置換基の実施形態は、組合わせて、式（Ｉ）の化合物の種々の実施形態を形成することができる。上記に検討した置換基の実施形態を組合わせることにより形成される式（Ｉ）の化合物の実施形態全ては、出願人の発明の範囲内であり、式（Ｉ）の化合物の構造の説明的な実施形態の幾つかを以下に挙げる。
【０３９９】
幾つかの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式（Ｉ−１）に相当し、式中、
【０４００】
【化５１】
0005947346.tif 000052
は、炭素−炭素単結合および炭素−炭素二重結合からなる群から選択され；
Ｒ５は、水素およびメチルからなる群から選択され；
Ｒ６は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択され；
Ｒ７は水素であり；
Ｒ２は、アルキルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、
（ａ）アルキルは、任意に、１個以上のハロで置換され、および
（ｂ）ヘテロシクリルは、任意に、２個までのアルキル置換基で置換され；
Ｒ３は、アルキル、アルケニル、アルキルオキシ、アミノおよびハロからなる群から選択され；
ＬおよびＲ４に関して、
Ｌは、結合であり、およびＲ４は、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリル、５から６員ヘテロシクリル、縮合２−環カルボシクリルおよび縮合２−環ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、該置換基はそれぞれ、任意に、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され、または
ＬはＣ（ＲＡ）＝Ｃ（ＲＢ）であり、およびＲ４は、Ｃ５−Ｃ６カルボシクリルおよび５から６員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで、該置換基はそれぞれ、任意に、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪおよびＲＫからなる群から独立して選択される１個以上の置換基で置換され；および
ＲＡおよびＲＢは、水素およびＣ１−Ｃ６アルキルからなる群から独立して選択されている。
【０４０１】
幾つかの実施形態では、式（Ｉ）の化合物の構造は、式（Ｉ−１）に相当し、式中、
【０４０２】
【化５２】
0005947346.tif 000053
は、炭素−炭素二重結合であり；
Ｒ５は水素であり；
Ｒ６は水素であり；
Ｒ７は水素であり；
Ｒ２はアルキルであり；
Ｒ３はアルキルオキシであり；
Ｌは結合であり；
Ｒ４は、任意にＲＦで置換されている縮合２−環ヘテロシクリルであり；および
ＲＦは、アミノで置換されているアルキルであり、ここで、アミノは、アルキルスルホニルで置換されている。
【０４０３】
Ｄ．異性体
また、本発明は、部分的に、式（Ｉ）の化合物の構造（およびこれらの塩類）の全ての異性体（即ち、構造的および立体異性体）に関する。構造異性体として、連鎖異性体および位置異性体が挙げられる。立体異性体として、Ｅ／Ｚ異性体（即ち、１個以上の二重結合に関する異性体）、鏡像異性体（即ち、全ての不斉中心で向かい合った配置を有する立体異性体）、およびジアステレオ異性体（即ち、１個以上の不斉中心で同じ配置を有するが、他の不斉中心では異なる配置を有する立体異性体）が挙げられる。
【０４０４】
Ｅ．塩類
また、本発明は、部分的に、式（Ｉ）の化合物の構造の全ての塩類に関する。化合物の塩は、例えば、異なる温度および湿度で製薬的安定性が強化されること、または水または他の溶剤中での安定性が望ましいことのような１つ以上の塩の特性のため、有益である場合がある。塩を患者に投与することを意図する場合（例えば、生体外のことで使用する場合とは対照的に）は、塩は、医薬的に許容されるおよび／または生理的に相溶性のあるものが好ましい。用語「医薬的に許容される」は、本出願では、修飾名詞が医薬製品または医薬製品の一部としての用途に適切であることを形容詞的に意味するために使用される。医薬的に許容される塩類として、アルカリ金属塩類を形成するためにまたは遊離酸または遊離塩基の付加塩類を形成するために通常使用される塩類を含む。一般的に、これらの塩類は、典型的には、従来の方法、例えば、適切な酸または塩基と本発明の化合物とを反応させることによって、製造してもよい。
【０４０５】
式（Ｉ）の化合物の医薬的に許容される酸付加塩は、無機または有機酸から製造することができる。多くの場合適切である無機酸の例として、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、炭酸、硫酸およびリン酸が挙げられる。適切な有機酸として、一般的に、例えば、脂肪酸、脂環式酸、芳香族酸、芳香脂肪族酸、複素環酸、カルボン酸およびスルホン酸の有機酸の群が挙げられる。多くの場合適切である有機酸の具体的な例として、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、ギ酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、グリコール酸塩、グルコン酸塩、ジグルコン酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、酒石酸、クエン酸塩、アスコルビン酸塩、グルクロン酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、ピルビン酸塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩、安息香酸塩、アンスラニル酸、メシル酸塩、ステアリン酸塩、サリチル酸塩、ｐ−ヒドロキシ安息香酸塩、フェニル酢酸塩、マンデル酸塩、エンボネート（パモ酸塩）、エタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、パントテン酸塩、２−ヒドロキシエタンスルホン酸塩、スルファニル酸塩、シクロヘキシルアミノスルホン酸塩、アルギン酸、β−ヒドロキシ酪酸、ガラクタル酸塩、ガラクツロン酸塩、アジピン酸塩、アルギン酸塩、二硫酸塩、酪酸塩、ショウノウ酸塩、カンフルスルホン酸塩、シクロペンタンプロピオン酸塩、ドデシル硫酸塩、グリコヘプタン酸塩、グリセロリン酸塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、ニコチン酸塩、シュウ酸塩、パルモエート、ペクチニン酸塩、２−ナフタレンスルホン酸塩、３−フェニルプロピオン酸塩、ピクリン酸塩、ピバリン酸塩、チオシアン酸塩、トシル酸塩およびウンデカン酸塩が挙げられる。
【０４０６】
式（Ｉ）の化合物の医薬的に許容される塩基付加塩として、例えば、金属塩類および有機塩類が挙げられる。好ましい金属塩として、アルカリ金属（Ｉａ族）塩、アルカリ土類金属（ＩＩａ族）塩、および他の医薬的に許容できる金属塩が挙げられる。該塩は、アルミニウム、カルシウム、リチウム、マグネシウム、カリウム、ナトリウムおよび亜鉛から製造してもよい。好ましい有機塩は、トロメタミン、ジエチルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、クロロプロカイン、コリン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、メグルミン（Ｎ−メチルグルカミン）およびプロカインのようなアミン類から製造することができる。塩基性窒素含有基は、低級アルキル（Ｃ１−Ｃ６）ハライド（例えば、塩化、臭化またはヨウ化メチル、エチル、プロピルおよびブチル）、硫酸ジアルキル（例えば、硫酸ジメチル、ジエチル、ジブチルおよびジアミル）、長鎖ハライド（例えば、塩化、臭化およびヨウ化デシル、ラウリル、ミリスチル、およびステアリル）、アリールアルキルハライド（例えば、臭化ベンジルおよびフェネチル）およびこの他のような薬剤で四級化することができる。
【０４０７】
Ｆ．純度
いかなる水準の純度（純粋なおよび実質的に純粋なものを含む。）を持つ式（Ｉ）の化合物（およびこの塩類）も、出願人の発明の範囲内である。化合物／塩／異性体に関する用語「実施的に純粋」は、化合物／塩／異性体を含む製剤／組成物が、約８５重量％を超える化合物／塩／異性体、好ましくは約９０重量％を超える化合物／塩／異性体、好ましくは約９５重量％を超える化合物／塩／異性体、好ましくは約９７重量％を超える化合物／塩／異性体、および好ましくは約９９重量％を超える化合物／塩／異性体を含むことを意味する。
【０４０８】
Ｇ．組成物
また、本発明は、一部、本発明の１種以上の化合物および／または塩（Ｇ項で検討した結晶性化合物および塩類を含む。）を含む組成物に関する。幾つかの実施形態では、組成物は、上記Ｇ項で検討した、１種以上の実質的に相純粋な結晶性形態（化合物／塩類／溶媒和物／水和物）を含む。組成物は医薬組成物であり得る。
【０４０９】
幾つかの実施形態では、組成物は、さらに、１種以上の追加の治療剤を含む。該治療剤は、追加のＨＣＶ阻害剤を含むことができるが、含まなくてもよい。
【０４１０】
好ましい組成物は、投与に方法に依存し、普通、１種以上の通常の医薬的に許容される担体、補助剤および／またはベヒクル（まとめて、「賦形剤」という）を含む。薬物の処方は、例えば、Ｈｏｏｖｅｒ，Ｊ．，Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ（Ｍａｃｋ  Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ社，１９７５）およびＡｎｓｅｌ’ｓ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｄｏｓａｇｅ  Ｆｏｒｍｓ  ａｎｄ  Ｄｒｕｇ  Ｄｅｌｉｖｅｒｙ  Ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｌｉｐｐｉｎｃｏｔｔ  Ｗｉｌｌｉａｍｓ  ＆  Ｗｉｌｋｉｎｓ，２００５）に一般的に検討されている。
【０４１１】
経口投与用の固形剤形として、例えば、カプセル剤、錠剤、ピル剤、粉末剤および顆粒剤が挙げられる。該固形製剤では、化合物または塩類は、普通、１種以上の賦形剤と組合わせる。経口で投与する場合、化合物または塩類を、例えば、ラクトース、サッカロース、デンプン粉末，アルカン酸のセルロースエステル類、セルロースアルキルエステル類、タルク、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、酸化マグネシウム、リン酸および硫酸のナトリウムおよびカルシウム塩類、ゼラチン、アカシアゴム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドンおよび／またはポリビニルアルコールと混合し、次いで投与に都合がいいように錠剤化またはカプセル化することができる。該カプセル剤または錠剤は、制御放出処方を含み、例えば、化合物または塩のヒドロキシプロピルメチルセルロース分散体で提供できるようなすることもできる。カプセル剤、錠剤およびピル剤の場合、剤形は、クエン酸ナトリウム、もしくは炭酸または炭酸水素マグネシウムまたはカルシウムのような緩衝剤を含むこともできる。錠剤およびピル剤は、さらに、腸溶コーティングで調製することもできる。
【０４１２】
経口投与用の液体剤形として、例えば、業界で通常使用される不活性希釈剤（例えば、水）医薬的に許容される乳剤（水中油乳剤および油中水乳剤の両方を含む。）、溶液（水溶液および非水溶液の両方を含む。）、懸濁液（水性懸濁液および非水性懸濁液の両方を含む。）、シロップおよびエリキシル剤が挙げられる。該組成物は、例えば、湿潤剤、乳化剤、懸濁化剤、香味剤（例えば、甘味剤）および／または芳香剤を含むこともできる。
【０４１３】
非経口投与として、皮下注射、静脈内注射、筋肉内注射、胸骨内注射および点滴が挙げられる。注射製剤（例えば、無菌注射水性または油性懸濁液）は、適切な分散剤、湿潤剤および／または懸濁化剤を使用して、公知の方法に従って調製することができる。許容できるベヒクルおよび溶剤として、例えば、水、１，３−ブタンジオール、リンゲル液、等張塩化ナトリウム溶液、滅菌固定油（例えば、合成モノまたはジグリセリド）、脂肪酸（例えば、オレイン酸）、ジメチルアセトアミド、界面活性剤（例えば、イオン性および非イオン性合成洗剤）および／またはポリエチレングリコールが挙げられる。
【０４１４】
非経口投与のための処方剤は、例えば、経口投与用の処方剤での使用で記載した賦形剤を１種以上有する無菌粉末または顆粒から製造してもよい。本発明の化合物または塩は、水、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、エタノール、トウモロコシ油、綿実油、ピーナッツ油、ごま油、ベンジルアルコール、塩化ナトリウムおよび／または種々の緩衝液に溶解し得る。ｐＨは、必要であれば、適切な酸、塩基または緩衝液で調整してもよい。
【０４１５】
直腸内投与用の坐薬は、例えば、本発明の化合物または塩を、常温では固体であるが、直腸内温度で液体となり、従って直腸内で溶融し薬物が放出する適切な非刺激性賦形剤と混合することにより製造することができる。適切な賦形剤として、例えば、ココナッツバター、合成モノ、ジまたはトリグリセリド、脂肪酸および／またはポリエチレングリコールが挙げられる。
【０４１６】
局所投与として、経皮投与の使用が挙げられ、例えば、経皮パッチまたはイオン浸透療法デバイスがある。
【０４１７】
医薬分野で公知の他の賦形剤および投与の経路も使用してよい。
【０４１８】
化合物または塩の好ましい総一日量（１回または分割した用量で投与される。）は、通常約０．００１から約１００ｍｇ／ｋｇ（即ち、１ｋｇの体重当たりの化合物または塩のｍｇ）、より好ましくは約０．００１から約３０ｍｇ／ｋｇ、さらにより好ましくは約０．０１から約１０ｍｇ／ｋｇである。単位投与量組成物は、該量、または該一日量を作り出す分割された量を含み得る。多くの場合、化合物または塩の投与は、複数回繰り返される。普通、１日当たりの複数投与は、所望の場合、総一日用量を増やして使用してもよい。
【０４１９】
好ましい投与計画に影響する要因として、患者のタイプ、年齢、体重、性別、食事および状態；病態の重症度；病態の重症度；投与の経路；薬理学的考量、例えば、使用される特定の化合物または塩の活性、効率、薬物動態および毒性学的プロフィール；薬物送達システムを利用するかどうか；および化合物または塩を複合製剤の一部として投与するかどうかが挙げられる。従って、実際使用される投与計画は大きく変わる可能性があり、従って、上記に記載した好ましい投与計画から採用することができる。
【０４２０】
Ｈ．キット
また、本発明は、一部、本発明の１種以上の化合物および／または塩を含むキットに関する。キットは、任意に、１種以上の追加の治療剤および／または例えばキットで使用される指示書を含むこともできる。
【０４２１】
Ｉ．使用方法
また、本発明は、一部、ＲＮＡウィルスの複製を阻害する方法に関する。方法は、ウィルスを、本発明の１種以上の化合物および／または塩に曝露することを含む。幾つかの実施形態では、ＲＮＡウィルスの複製をインビトロで阻害する。他の実施形態では、ＲＮＡウィルスの複製を、インビボで阻害する。幾つかの実施形態では、複製が阻害されているＲＮＡウィルスは、１本鎖ポジティブセンスＲＮＡウィルスである。該実施形態の幾つかでは、複製が阻害されているＲＮＡウィルスは、フラビウィルスファミリーからのウィルスである。該実施形態の幾つかでは、複製が阻害されているＲＮＡウィルスは、ＨＣＶである。
【０４２２】
また、本発明は、一部、ＨＣＶ  ＲＮＡポリメラーゼを阻害する方法に関する。方法は、ポリメラーゼを、本発明の１種以上の化合物および／または塩に曝露することを含む。幾つかの実施形態では、ＨＣＶ  ＲＮＡポリメラーゼ活性はインビトロで阻害される。他の実施形態では、ＨＣＶ  ＲＮＡポリメラーゼ活性は、インビボで阻害される。
【０４２３】
用語「阻害する」は、ＲＮＡウィルス複製／ＨＣＶポリメラーゼ活性のレベルを、インビトロまたはインビボのいずれかで減少させることを意味する。例えば、本発明の化合物／塩が、ウィルスが化合物／塩に曝露される前のＲＮＡウィルス複製レベルと比較して、少なくとも約１０％までＲＮＡウィルス複製のレベルを減少させた場合、化合物／塩は、ＲＮＡウィルス複製を阻害している。幾つかの実施形態では、化合物／塩は、ＲＮＡウィルス複製を、少なくとも約２０％、少なくとも約３０％、少なくとも約４０％、少なくとも約５０％、少なくとも約６０％、少なくとも約７０％、少なくとも約８０％、少なくとも約９０％または少なくとも約９５％まで阻害することができる。
【０４２４】
また、本発明は、一部、ＨＣＶ  ＲＮＡポリメラーゼを阻害することによって治療することができる疾患を治療する方法に関する。従って、また、本発明は、一部、該治療を必要とする動物のＣ型肝炎を治療する方法に関する。これらの方法は、本発明の１種以上の化合物および／または塩と、任意に１種以上の追加の治療剤とを、動物に投与することを含む。幾つかの実施形態では、治療的に有効な量の化合物（複数を含む。）および／または塩（複数を含む。）を、動物に投与する。「治療する」は、治療されている疾患のリスクを寛解する、抑制する、根絶する、予防する、軽減するおよび／または発症を遅らせることを意味する。出願人は、用語「治療する」は、将来臓器移植を行う可能性のあるＨＣＶ陰性の患者に本発明の化合物および／または塩を投与することを包含することを特に意図する。該治療方法は、ヒトに対して使用されることが特に適切であるが、他の動物、特に哺乳類に使用してもよい。「治療的に有効な量」または「有効量」は、標的とする状態を治療する目的を達成する量である。
【０４２５】
幾つかの実施形態では、該方法は、本発明の化合物（複数を含む。）および／または塩（複数を含む。）を、第二（さらに、第三、第四、その他）の化合物、例えば、Ｃ型肝炎を治療するために使用される他の治療剤（例えば、インターフェロンまたはインターフェロン／リバビリン混合物、または例えば、ＨＣＶポリメラーゼ阻害剤またはＨＣＶプロテアーゼ阻害剤のようなＨＣＶ阻害剤）とともに、共投与する併用療法を含む。また、本発明の化合物（複数を含む。）および／または塩（複数を含む。）を、Ｃ型肝炎の治療しようされる治療とは別の治療剤（例えば、抗ＨＩＶ剤）と共投与することもできる。これらの共投与実施形態では、本発明の化合物（複数を含む。）および／または塩（複数を含む。）と、第二、その他の治療剤（複数を含む。）とを、実質的に同時の方法で（例えば、もしくはもう１つとは約５分以内に）、連続的な方法で、もしくは両方で投与してもよい。該併用療法は、１つの治療剤を他の治療剤を投与する間に複数回投与することも含まれることが意図されている。各薬剤の投与の間の時間は、数秒（またはこれ未満）から数時間または数日までの幅があり、例えば、各組成物および活性成分の特性（例えば、効力、安定性、バイオアベイラビリティ、半減期および動的プロファイル）、および患者の状態に依存する。また、本発明の化合物（複数を含む。）および／または塩と、第二、その他の治療剤とは、単一処方剤で投与してもよい。
【０４２６】
また、本発明は、一部、本発明の１種以上の化合物および／または塩と、任意に１種以上の追加の治療剤との、薬剤を製造するための用途に関する。幾つかの実施形態では、薬剤は、１種以上の追加の治療剤とともに共投与用である。
【０４２７】
幾つかの実施形態では、薬剤は、ＲＮＡウィルスの複製を阻害するためのものである。
【０４２８】
幾つかの実施形態では、薬剤は、Ｃ型肝炎を治療するためのものである。
【０４２９】
また、本発明は、一部、本発明の１種以上の化合物および／または塩と、任意に１種以上の追加の治療剤との薬剤としての用途に関する。幾つかの実施形態では、薬剤は、ＲＮＡウィルスの複製を阻害するためのものである。他の実施形態では、薬剤はＣ型肝炎を治療するためのものである。
【０４３０】
Ｊ．製造方法
式（Ｉ）および（ＩＩ）の化合物（およびこれらの塩類）の製造に関する追加の情報を、以下の一般的な検討および／または特定の合成例に挙げる。以下の検討中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｌ、ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ、ＲＤ、Ｒ６、ＲＥ、ＲＦ、ＲＧ、ＲＨ、ＲＩ、ＲＪ、ＲＫ、Ｘ１およびＸ２は、他に記載がない限り、上記に検討した意味である。
【０４３１】
【化５３】
0005947346.tif 000054
スキーム１に記載されるように、式（１−４）（式中、Ｒ２およびＲ３は、本発明の概要で記載され、Ｌ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（１−１）の化合物から製造することができる。即ち、式（１−１）の化合物を、式（１−２）のボロン酸と、スズキ反応条件下で反応させ、式（１−３）の化合物を得ることができる。式（１−３）の化合物は、第二スズキ反応を使用してＬ−Ｒ４を導入し、次いで酸加水分解によりウラシル部分を得、式（１−４）の化合物に変換することができる。式（１−４）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４３２】
【化５４】
0005947346.tif 000055
スキーム２に記載されるように、式（２−２）（式中、Ｒ２およびＲ３は、発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールであり、およびＲ１００およびＲ１０１は、任意に、アルキル基である。）の化合物は、式（１−３）の化合物から製造することができる。式（１−３）の化合物は、酸条件下で加水分解し、ウラシル環を除去することができる。ウラシルの窒素は、任意に、この点でアルキル化され、式（２−１）の化合物を得ることができる。式（２−１）の化合物は、スズキ反応を使用してＬ−Ｒ４を導入し、式（２−２）の化合物に変換することができる。式（２−２）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４３３】
【化５５】
0005947346.tif 000056
スキーム３に記載されるように、式（３−３）、（３−６）および（３−９）（式中、Ｒ２およびＲ３は、発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（１−１）の化合物から製造される。式（１−１）の化合物を、式（３−１）、（３−４）および（３−７）の化合物とのスズキ反応に供し、それぞれ、式（３−２）、（３−５）および（３−８）の化合物を得る。式（３−２）および（３−５）の化合物をスズキ反応条件下でＲ４Ｌ−Ｂ（ＯＨ）２と反応させ、次いで加水分解し、それぞれ、式（３−３）および（３−６）の化合物を得ることができる。式（３−８）の化合物は、式（３−９）の化合物に変換することができ、ここでＬ−Ｒ４基は、スズキ反応条件下で導入される。式（３−３）、（３−６）および（３−９）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４３４】
【化５６】
0005947346.tif 000057
スキーム４に記載されるように、式（４−３）および（４−５）（式中、Ｒ２およびＲ３は、発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（４−１）の化合物から製造することができる。式（４−１）の化合物をＣｌＣＨ２ＮＣＯと反応させ、次いで塩基で処理し、式（４−２）の化合物を得ることができる。Ｌ−Ｒ４を導入するスズキ反応により、式（４−３）の化合物を得る。また、式（４−１）の化合物は、ＥｔＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＮＣＯと反応させ、式（４−４）の化合物を得ることもできる。スズキ反応条件下でＬ−Ｒ４を導入し、また、環化も起こり、式（４−５）の化合物を得る。式（４−３）および（４−５）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４３５】
【化５７】
0005947346.tif 000058
スキーム５に記載されるように、式（５−２）および（５−４）（式中、Ｒ２およびＲ５は、発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（４−１）の化合物から製造することができる。式（４−１）の化合物をＣｌ（ＣＨ２）２ＯＣ（Ｏ）Ｃｌと反応させ、次いで塩基で処理し、式（５−１）のオキサゾリジノンを得ることができる。スズキ反応条件下でＬ−Ｒ４を導入し、式（５−２）の化合物を得る。式（４−１）の化合物をＣｌＣＨ２（ＣＨ２）ＰＮＣＯ、次いで塩基で処理すると、類似する変換が起こり、式（５−３）の化合物を得る。式（５−４）の化合物を得る一連の反応が、スズキ反応により完了する。
【０４３６】
また、式（５−５）の化合物からの、式（５−７）（式中、Ｒ２、Ｒ３は、発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物の製造もスキーム５に記載する。式（５−５）の化合物を、Ｃｌ（ＣＨ２）３ＳＯ２Ｃｌ、次いで塩基と反応させ、式（５−６）の化合物を得る。式（５−２）および（５−４）の化合物に関し、記載するようにＬ−Ｒ４を導入し、式（５−７）の化合物を得る。
【０４３７】
式（５−２）、（５−４）および（５−７）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４３８】
【化５８】
0005947346.tif 000059
スキーム６に記載されるように、式（６−２）および（６−４）（式中、ｎ、ｍ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１５およびＲ１５は、本発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（４−１）の化合物から製造することができる。式（４−１）の化合物を、カルボン酸、Ｒ１５（ＣＨ２）ｎＣＯ２Ｈと、アミド結合形成反応条件下で反応させ、式（６−１）の化合物を得ることができる。スズキ反応条件により、Ｌ−Ｒ４が導入され、式（６−２）の化合物を得る。
【０４３９】
式（４−１）の化合物を、式：Ｒ１６（ＣＨ２）ｍＮＣＯのイソシアネートと反応させ、式（６−３）の化合物を得ることができる。また、化合物は、スズキ反応条件下で式（６−４）の化合物に変換する。
【０４４０】
式（６−２）および（６−４）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４４１】
【化５９】
0005947346.tif 000060
スキーム７に記載されるように、式（１−４）（式中、Ｒ２およびＲ３は、発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（７−１）の化合物から製造される。つまり、式（７−１）の化合物は、選択的に式（１−２）のボロン酸とスズキ反応条件化で反応させ、式（７−２）の化合物を得ることができる。式（７−２）の化合物を、第二スズキ反応を使用してＬ−Ｒ４を導入し、次いで酸加水分解を行い、ウラシル部分を得ることにより、式（１−４）の化合物に変換することができる。式（１−４）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４４２】
【化６０】
0005947346.tif 000061
スキーム８に記載されるように、式（８−２）および（８−３）（式中、Ｒ２およびＲ３は、発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（７−１）の化合物から製造される。つまり、式（７−１）の化合物を、銅媒介カップリング反応で２−ピロリドンまたはピリジン−２−オール（これらに限定されない。）のようなヘテロ環状化合物と選択的に反応させ、それぞれ、式（８−１）および（８−３）の化合物を得ることができる。次いで、式（８−１）および（８−３）の化合物を、スズキ反応条件下でＲ４Ｌ−Ｂ（ＯＨ）２で処理し、それぞれ、式（８−２）および（８−４）の化合物を得る。式（８−２）および（８−４）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４４３】
【化６１】
0005947346.tif 000062
スキーム９に示されるように、式（９−４）（式中、Ｒ２およびＲ３は、本発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（７−１）の化合物から製造することができる。式（７−１）の化合物を、スズキ反応条件下で式（９−１）の化合物と反応させ、式（９−２）の化合物を得ることができる。式（９−３）の化合物を得るための式（９−２）の化合物の酸化は、過マンガン酸カリウムのような試薬によって達成することができる。次いで、式（９−３）の化合物をスズキ反応条件下Ｒ４Ｌ−Ｂ（ＯＨ）２で処理し、式（９−４）の化合物を得ることができる。式（９−４）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４４４】
【化６２】
0005947346.tif 000063
スキーム１０で示されるように、式（１−４）（式中、Ｒ２は、アリールまたはヘテロアリールであり、Ｒ３は、本発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（１０−１）の化合物から製造することができる。式（１０−１）の化合物は、２つの連続するスズキ反応により反応させ、式（１０−２）の化合物を得ることができる。次いで、式（１０−２）の化合物のニトロ基を、鉄を使用する還元により対応するアニリンに還元することができる。次いで、該アニリンを、亜硝酸ｔ−ブチルで処理して、該アニリンを対応するジアゾニウム塩に変換し、これをヨウ化物イオンの存在下、対応するヨウ化アリールに変換することができる。式（１−２）の化合物を用いるスズキ反応、次いで酸による処理により、式（１−４）の化合物を得る。式（１−４）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４４５】
【化６３】
0005947346.tif 000064
スキーム１１に示すように、式（１−４）（式中、Ｒ２は、アリールまたはヘテロアリールであり、Ｒ３は、本発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（１０−１）の化合物から、代替の一連の反応を使用して製造することができる。式（１０−１）の化合物のニトロ基は、２段階法で対応するピロリニルジアゼンに変換することができる。ニトロ基のアニリンへの最初の還元は、鉄を用いて達成することができ、次いで、酸条件下での亜硝酸ナトリウムおよびピロリジンを用いる処理により、ピロリニルジアゼンを得る。スズキ反応条件により、Ｌ−Ｒ４基を得る。次いで、ヨウ化物を用いて処理することにより、式（１１−１）のアリールヨウ化物を得る。式（１１−１）の化合物と（１−２）の化合物との間のスズキ反応により、式（１１−２）の化合物を得る。他のスズキ反応によりＲ２を導入し、ウラシルへの酸変換の後、式（１−４）の化合物を得る。式（１−４）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を代表するものである。
【０４４６】
【化６４】
0005947346.tif 000065
スキーム１２に示されるように、式（１−４）（式中、Ｒ２は、アリールまたはヘテロアリールであり、Ｒ３は、本発明の概要に記載され、およびＬ−Ｒ４は、アリール、ヘテロアリール、スチリルアリールまたはスチリルヘテロアリールである。）の化合物は、式（１０−１）の化合物から製造することができる。化学シークエンスは、Ｒ２およびＬ−Ｒ４基の導入の順番が反対であることと、合成シークエンスにおいて、Ｌ−Ｒ４基の導入を後にすることが望まれる場合に有用であることを除いて、スキーム１１で記載したものと本質的に同じである。該シークエンスにより、式（Ｉ）の化合物を代表する式（１−４）が得られる。
【０４４７】
実施例
以下の実施例は、単なる説明的なものであって、いかなる方法でも、この開示に限定されない。
【実施例１】
【０４４８】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−４−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０４４９】
【化６５】
0005947346.tif 000066
パートＡ．１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−２−メトキシベンゼンの調製
２−ブロモ−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヨードフェノール（５．０ｇ、１４．０８ｍｍｏｌ）のアセトン（５０ｍＬ）溶液を、還流しながら１６時間、炭酸カリウム（２．９２ｇ、２１．１３ｍｍｏｌ）および硫酸ジメチル（１．９５ｇ、１５．４９ｍｍｏｌ）で処理し、冷却し、濃縮した。残渣を酢酸エチルに溶解し、水、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮した。粗生成物を、ヘキサン中２％酢酸エチルで溶出する、Ｉｓｃｏ４０ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０４５０】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
２０ｍＬのマイクロ波管で、パートＡの生成物（１８５ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、Ｎ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（１８２ｍｇ、０．５２５ｍｍｏｌ）、１，３，５，７−テトラメチル−６−フェニル−２，４，８−トリオキサ−６−ホスファアダマンタン（４．３８ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（２２３ｍｇ、１．０５０ｍｍｏｌ）およびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（４．５８ｍｇ、５．００μｍｏｌ）を、テトラヒドロフラン（６．０ｍＬ）および水（２．０ｍＬ）中で混合した。管を密封し、混合物に窒素を５分間散布し、次いで４時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルと１ＭのＨＣｌとで分配した。有機層を飽和ＮａＨＣＯ３、ブラインで洗浄し、乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）し、ろ過した。ろ液を３−メルカプトプロピル官能化シリカゲル（アルドリッチカタログ＃５３８０８６）で処理し、珪藻土を通してろ過し、真空濃縮した。粗生成物を、４：１ヘキサン／酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで清々し、標題化合物を得た。
【０４５１】
パートＣ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−４−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
テトラヒドロフラン（３．０ｍＬ）および水（１．０ｍＬ）の溶剤混合物中のパートＢの生成物（０．０５３ｇ、０．１１５ｍｍｏｌ）、実施例２８、パートＢの生成物（０．０３１ｇ、０．１１５ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（０．０４９ｇ、０．２２９ｍｍｏｌ）および１，１’−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）フェロセンパラジウムジクロリド（３．７４ｍｇ、５．７３μｍｏｌ）を、５ｍＬのマイクロ波管に入れた。管を密封し、混合物に窒素を５分間散布し、次いで５０℃で１６時間攪拌した。反応混合物を冷却し、酢酸エチルと１ＭのＨＣｌとで分配した。有機層を、飽和ＮａＨＣＯ３、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過した。ろ液を３−メルカプトプロピル官能化シリカゲルで処理し、珪藻土を通してろ過し、真空濃縮した。粗生成物を、ヘキサン中の３０％酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０４５２】
パートＤ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−４−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＣの生成物（３８ｍｇ、０．０６３ｍｍｏｌ）を、メタノール、濃ＨＣｌおよび水（２．０ｍＬ、１．０ｍＬ、１．０ｍＬ）の混合物で処理し、無色の溶液を得、次いで迅速に白色固体が生成した。混合物を１時間攪拌し、固体をろ過によって集め、水およびジエチルエーテルで洗浄し、恒量になるまで乾燥し、標題化合物を得た。
【０４５３】
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４４（ｓ，９Ｈ）３．０７（ｓ，３Ｈ）３．５５（ｓ，３Ｈ）７．４０（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４７−７．５３（ｍ，２Ｈ）７．５９（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．６９（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．７８（ｄｄ，Ｊ＝８．６４，１．６５Ｈｚ，１Ｈ）７．９１（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９８（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）８．１０（ｓ，１Ｈ）９．９９（ｓ，１Ｈ）１１．０９（ｄｄ，Ｊ＝５．８８，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）１１．３１（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）
【実施例２】
【０４５４】
Ｎ−（（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−３−イル）メチル）−Ｎ−（２，４−ジメトキシベンジル）メタンスルホンアミドの調製
【０４５５】
【化６６】
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パートＡ．５−（３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）−２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ピリミジンの調製
２５ｍＬの丸底フラスコに、テトラヒドロフラン（６．０ｍＬ）および水（２．０ｍＬ）中の実施例１パートＡの生成物（３６ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）、実施例２８パートＢの生成物（２９５ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（４４６ｍｇ、２．１ｍｍｏｌ）、１，３，５，７−テトラメチル−６−フェニル−２，４，８−トリオキサ−６−ホスファアダマンタン（８．７７ｍｇ、０．０３０ｍｍｏｌ）およびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（９．１６ｍｇ、１０．０μｍｏｌ）を入れた。混合物を窒素で５分間パージし、室温で４時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルと０．１ＭのＨＣ１とで分配した。有機層を、飽和ＮａＨＣＯ３、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、ろ液を３−メルカプトプロピル官能化シリカゲルで処理し、ろ過し、真空濃縮した。粗生成物を、酢酸エチル／ヘキサン（０％から５％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０４５６】
パートＢ．Ｎ−（（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−３−イル）メチル）−Ｎ−（２，４−ジメトキシベンジル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（４６．５ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）およびＮ−（２，４−ジメトキシベンジル）−Ｎ−（（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミド（５１．７ｍｇ、０．１００ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＣと同じ方法で、５０℃で２時間反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（１０％から２５％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０４５７】
パートＣ．Ｎ−（（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−３−イル）メチル）−Ｎ−（２，４−ジメトキシベンジル）メタンスルホンアミドの調製
２５ｍＬの丸底フラスコに、ジクロロメタン（４ｍＬ）中のパートＢの生成物（５８ｍｇ、０．０７５ｍｍｏｌ）およびトリフルオロ酢酸（１．０ｍＬ、１２．９８ｍｍｏｌ）を入れた。混合物を室温で１時間攪拌した。溶剤を真空濃縮し、生成物を１％メタノール／ジクロロメタンで粉砕し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４２（ｓ，９Ｈ）２．９５（ｓ，３Ｈ）３．１９（ｓ，３Ｈ）４．４４（ｄ，Ｊ＝６．２５Ｈｚ，２Ｈ）７．３８（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４７（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．６２（ｍ，２Ｈ）７．７０（ｍ，２Ｈ）８．００（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，１Ｈ）８．１３（ｄ，Ｊ＝１．０２Ｈｚ，１Ｈ）１１．１２（ｄｄ，Ｊ＝５．８８，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）１１．２２（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）
【実施例３】
【０４５８】
Ｎ−（（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
【０４５９】
【化６７】
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パートＡ．Ｎ−（（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
実施例２パートＡの生成物（５５．９ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）とＮ−（（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミド（４１．９ｍｇ、０．１２０ｍｍｏｌ）とを、実施例２パートＢと同じ方法で反応させた。粗生成物を、酢酸エチル／ヘキサン（５％から２５％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０４６０】
パートＢ．Ｎ−（（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
２５ｍＬの丸底フラスコに、メタノール（２ｍＬ）および５ＭのＨＣｌ（２ｍＬ）の混合溶剤中のパートＡの生成物（３３ｍｇ、０．０５４ｍｍｏｌ）を入れた。混合物を室温で１時間攪拌し、ろ過し、水、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４１（ｓ，９Ｈ）２．９６（ｓ，３Ｈ）３．２０（ｓ，３Ｈ）３．４６（ｓ，２Ｈ）４．１８（ｄ，Ｊ＝５．１５Ｈｚ，２Ｈ）６．５４（ｓ，１Ｈ）７．３２（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４１（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４９（ｍ，２Ｈ）７．５７（ｄ，Ｊ＝７．７１Ｈｚ，１Ｈ）７．６４（ｓ，１Ｈ）７．６６（ｓ，１Ｈ）１１．０９（ｓ，１Ｈ）１１．１９（ｓ，１Ｈ）
【実施例４】
【０４６１】
（Ｅ）−Ｎ−（４−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシスチリル）フェニル）メタンスルホンアミドの調製
【０４６２】
【化６８】
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パートＡ．（Ｅ）−Ｎ−（４−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシスチリル）フェニル）メタンスルホンアミドの調製
実施例２パートＡの生成物（５５．９ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）と（Ｅ）−４−（メチルスルホンアミド）スチリルボロン酸（２８．９ｍｇ、０．１２０ｍｍｏｌ）とを、実施例２ステップＢと同じ方法で反応させた。粗生成物を、酢酸エチル／ヘキサン（５％から２５％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０４６３】
パートＢ．（Ｅ）−Ｎ−（４−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシスチリル）フェニル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（３９ｍｇ、０．０６７ｍｍｏｌ）を、実施例３ステップＢと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．３８（ｓ，９Ｈ）３．０１（ｓ，３Ｈ）３．７４（ｓ，３Ｈ）７．２１（ｍ，４Ｈ）７．３８（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．６２（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）７．６６（ｍ，２Ｈ）９．８３（ｓ，１Ｈ）１１．１２（ｓ，１Ｈ）１１．２２（ｓ，１Ｈ）
【実施例５】
【０４６４】
５−（３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）ピリミジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオンの調製
【０４６５】
【化６９】
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実施例２パートＡの生成物（５６ｍｇ、０．１２０ｍｍｏｌ）を、実施例２パートＣと同じ方法で反応させ、粗生成物を１％メタノール／ジクロロメタンで粉砕し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．３６（ｓ，９Ｈ）３．８５（ｓ，３Ｈ）７．４４（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．６８（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．７０（ｓ，１Ｈ）１１．１９（ｓ，１Ｈ）１１．２５（ｓ，１Ｈ）
【実施例６】
【０４６６】
Ｎ−（（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（１−メチル−２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）フェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミド
【０４６７】
【化７０】
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パートＡ．１：５−（３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）−１−メチルピリミジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオンおよび２：５−（３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）−１，３−ジメチルピリミジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオンの調製
実施例５の生成物（７５０ｍｇ、２．１２３ｍｍｏｌ）と水酸化ナトリウム（２．３３６ｍＬ、２．３３６ｍｍｏｌ）とを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍＬ）中で混合した。硫酸ジメチル（０．２２３ｍＬ、２．３３６ｍｍｏｌ）を加え、２時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルとＨ２Ｏとで分配した。有機層をブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、粗生成物を得、これを、メタノール／ジクロロメタン（１％から５％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物１および標題化合物２を得た。
【０４６８】
パートＢ．Ｎ−（（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（１−メチル−２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）フェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミド
パートＡの生成物（化合物１）（５５．１ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）とＮ−（（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミド（５２．４ｍｇ、０．１５０ｍｍｏｌ）とを実施例２パートＢと同じ方法で反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（２０％から６０％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４１（ｓ，９Ｈ）２．９６（ｓ，３Ｈ）３．２１（ｓ，３Ｈ）３．３１（ｓ，３Ｈ）３．４７（ｓ，２Ｈ）４．１８（ｄ，Ｊ＝４．７８Ｈｚ，２Ｈ）６．５５（ｓ，１Ｈ）７．３５（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４６（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７５０（ｍ，２Ｈ）７．５８（ｄ，Ｊ＝８．０１Ｈｚ，１Ｈ）７．６４（ｓ，１Ｈ）７．９４（ｓ，１Ｈ）１１．４１（ｓ，１Ｈ）
【実施例７】
【０４６９】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−Ｓ−（１−メチル−２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド
【０４７０】
【化７１】
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実施例６パートＡの生成物（化合物１）（５５．１ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）とＮ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（５２．１ｍｇ、０．１５０ｍｍｏｌ）とを、実施例２パートＢと同じ方法で反応させ粗生成物を得、これをメタノール／ジクロロメタンで粉砕し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４３（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２１（ｓ，３Ｈ）３．３２（ｓ，３Ｈ）７．４１（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４５（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５１（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６８（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．４７Ｈｚ，１Ｈ）７．７２（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．９３（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，１Ｈ）７．９８（ｍ，３Ｈ）１０．０２（ｓ，１Ｈ）１１．４２（ｓ，１Ｈ）
【実施例８】
【０４７１】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（１，３−ジメチル２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド
【０４７２】
【化７２】
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実施例６パートＡの生成物（化合物２）（５７．２ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）とＮ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（５２．１ｍｇ、０．１５０ｍｍｏｌ）とを、実施例２パートＢと同じ方法で反応させ粗生成物を得、これをメタノール／ジクロロメタンで粉砕し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４３（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２２（ｓ，３Ｈ）３．２５（ｓ，３Ｈ）３．３９（ｓ，３Ｈ）７．４１（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４５（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５３（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６９（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．４７Ｈｚ，１Ｈ）７．７２（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．９３（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，１Ｈ）７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）８．００（ｓ，１Ｈ）８．０３（ｓ，１Ｈ）１０．０２（ｓ，１Ｈ）
【実施例９】
【０４７３】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０４７４】
【化７３】
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パートＡ．３−ブロモ−２−ｔｅｒｔ−ブトキシピリジンの調製
３−ブロモ−２−フルオロピリジン（５００ｍｇ、２．８４ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液に、窒素下、２５℃で３０分かけて、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（５４０ｍｇ、４．８ｍｍｏｌ）を分割して加え、２５℃で４時間攪拌を続けた。混合物を真空濃縮し、ジクロロメタン／ヘキサン（５０％から１００％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０４７５】
パートＢ．２−ｔｅｒｔ−ブトキシピリジン−３−イルボロン酸の調製
パートＡの生成物（５４０ｍｇ、２．３４７ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液に、窒素下−７８℃で、ヘキサン中の１．６Ｍのブチルリチウム（１．７６０ｍＬ、２．８２ｍｍｏｌ）を滴下した。溶液を１０分攪拌し、ホウ酸トリブチル（０．８８６ｍＬ、３．２９ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液を滴下し、−７８℃で３時間攪拌し、次いで０℃に暖め、氷浴で反応系を冷却した。反応混合物を、１Ｍの冷ＨＣｌ（２．３５ｍＬ）、次いで氷冷したＨ２Ｏ（５ｍＬ）と反応させ、次いで層分離を行い、水相をジエチルエーテルで抽出した。有機抽出物を、２Ｍの冷ＮａＯＨ水溶液で抽出し、氷浴中で攪拌および冷却しながら、合わせたアルカリ性相を６ＭのＨＣｌ水溶液で約ｐＨ６に中和し、生成物を析出させた。固体をろ過によって集め、乾燥し、標題化合物を得た。
【０４７６】
パートＣ．３−（３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）−２−ｔｅｒｔ−ブトキシピリジンの調製
実施例１パートＡの生成物（１５１ｍｇ、０．４１０ｍｍｏｌ）とパートＢの生成物（８０ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）とを実施例１パートＢと同じ方法で４８時間反応させ粗生成物を得、これをヘキサン中５％酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０４７７】
パートＤ．Ｎ−（６−（５−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシピリジン−３−イル）−３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＣの生成物（１３０ｍｇ、０．３３１ｍｍｏｌ）とＮ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（１１５ｍｇ、０．３３１ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＣと同じ方法で反応させ、粗生成物を得、これをヘキサン中１０％酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０４７８】
パートＥ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＤの生成物（６５ｍｇ、０．１２２ｍｍｏｌ）を実施例１パートＤと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。ｍｐ＞３００℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４４（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２２（ｓ，３Ｈ）６．２９（ｔ，Ｊ＝６．６２Ｈｚ，１Ｈ）７．３４−７．３８（ｍ，１Ｈ）７．４１（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．６２−７．７６（ｍ，５Ｈ）７．９３（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，１Ｈ）７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）８．０２（ｓ，１Ｈ）１０．０１（ｓ，１Ｈ）１１．７４（ｓ，１Ｈ）
【実施例１０】
【０４７９】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（６−オキソ−１，６−ジヒドロピリジン−３−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０４８０】
【化７４】
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標題化合物を、パートＡの３−ブロモ−２−フルオロピリジンに代え５−ブロモ−２−フルオロピリジン（１．０ｇ、５．５７ｍｍｏｌ）を使用して、実施例９の手順に従って調製し、標題化合物を得た。ｍｐ＞３００℃；１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４５（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２０（ｓ，３Ｈ）６．４３（ｄ，Ｊ＝９．５６Ｈｚ，１Ｈ）７．３２−７．４６（ｍ，３Ｈ）７．７０−７．７６（ｍ，３Ｈ）７．８７（ｄｄ，Ｊ＝９．５６，２．９４Ｈｚ，１Ｈ）７．９２（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）８．０８（ｓ，１Ｈ）１０．０２（ｓ，１Ｈ）１１．８５（ｓ，１Ｈ）
【実施例１１】
【０４８１】
Ｎ−（６−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’，４’−ジフルオロ−４−メトキシビフェニル−３−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０４８２】
【化７５】
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パートＡ．３’−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−ジフルオロ−４’−メトキシビフェニルの調製
実施例１パートＡの生成物（０．１８５ｇ、０．５０１ｍｍｏｌ）と、２−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１，５−ジフルオロベンゼン（０．１２０ｇ、０．５０１ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＢと同じ方法で１６時間反応させた。粗生成物を、ヘキサン中の５％酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０４８３】
パートＢ．Ｎ−（６−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’，４’−ジフルオロ−４−メトキシビフェニル−３−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（１４０ｍｇ、０．３９４ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＣと同じ方法で１６時間反応させた。粗生成物を、ヘキサン中の４０％酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ４０ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。ｍｐ２２５−２２８℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４５（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２５（ｓ，３Ｈ）７．１４−７．２３（ｍ，１Ｈ）７．３２（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．３５−７．４５（ｍ，３Ｈ）７．６１−７．７７（ｍ，３Ｈ）７．９０−８．００（ｍ，２Ｈ）８．０６（ｓ，１Ｈ）１０．０３（ｓ，１Ｈ）
【実施例１２】
【０４８４】
５−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（１−オキソ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）フェニル）ピリミジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオンの調製
【０４８５】
【化７６】
0005947346.tif 000077
パートＡ．５−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１−オンの調製
実施例２パートＡ（０．１５０ｇ、０．３２ｍｍｏｌ）および５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１−オン（０．０９２ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）の溶液を、マイクロ波中１００℃で１．５時間および油浴中１００℃で４時間、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンパラジウム（ＩＩ）ジクロリドジクロロメタン複合体を触媒として使用し、実施例５０パートＡと同じ方法で反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（０％から１５％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０４８６】
パートＢ．５−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（１−オキソ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）フェニル）ピリミジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオンの調製
パートＡの生成物（０．０２８ｇ、０．０５４ｍｍｏｌ）の溶液を、室温で、実施例１パートＤと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４１（ｓ，９Ｈ）２．６５−２．７４（ｍ，２Ｈ）３．１２−３．２１（ｍ，２Ｈ）３．２４（ｓ，３Ｈ）７．３７（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５０（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５７−７．６２（ｍ，１Ｈ）７．７２（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，３Ｈ）１１．１３（ｓ，１Ｈ）１１．２３（ｓ，１Ｈ）
【実施例１３】
【０４８７】
５−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（１−ヒドロキシ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）−４−メトキシフェニル）ピリミジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオンの調製
【０４８８】
【化７７】
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パートＡ．５−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）フェニル）−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１−オールの調製
実施例１２パートＡの生成物（０．０８２ｇ、０．１６ｍｍｏｌ）のメタノール（１．５ｍＬ）およびテトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）溶液を室温で、水素化ホウ素ナトリウム（０．０１２ｇ、０．３２ｍｍｏｌ）を用い処理し、１時間攪拌した。溶液を０．１ＭのＨＣｌに注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで脱水し、真空濃縮し、標題化合物を得た。
【０４８９】
パートＢ．５−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（１−ヒドロキシ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）−４−メトキシフェニル）ピリミジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオンの調製
パートＡの生成物（０．０２５ｇ、０．０５ｍｍｏｌ）の溶液を、室温で、実施例１パートＤと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４０（ｓ，９Ｈ）２．００（ｄｄｄ，Ｊ＝１２．９６，８．７３，４．０４Ｈｚ，１Ｈ）２．２７−２．４１（ｍ，Ｊ＝１３．１４，８．００，６．６２，６．４３Ｈｚ，１Ｈ）２．７７−２．９０（ｍ，１Ｈ）２．９６−３．１０（ｍ，１Ｈ）３．２１（ｓ，３Ｈ）４．８２（ｄｄ，Ｊ＝６．２５，４．０４Ｈｚ，１Ｈ）７．２９（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．３５−７．４９（ｍ，４Ｈ）７．６６（ｓ，１Ｈ）１１．１０（ｓ，１Ｈ）１１．１９（ｓ，１Ｈ）
【実施例１４】
【０４９０】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−ウレイオドフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０４９１】
【化７８】
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パートＡ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）尿素の調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（９１５ｍｇ、３．０ｍｍｏｌ）のジオキサン（２０ｍＬ）溶液に、クロロアセチルイソシアネート（０．２５６ｍＬ、３．００ｍｍｏｌ）を０℃で滴下し、溶液を得、これを室温で３時間攪拌した。１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（０．９０４ｍＬ、６００ｍｍｏｌ）を加え、該溶液を１８時間攪拌し、酢酸エチルと１ＭのＨＣｌとの間で分配した。該酢酸エチル層をＨ２Ｏ、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮した。粗生成物を、メタノール／ジクロロメタン（０％から５％）で溶出するＩｓｃｏ４０ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０４９２】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−ウレイオドフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（５２ｍｇ、０．１４９ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で１８時間反応させ、物質を得、これを温テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解し、メルカプトプロピル官能化シリカで３０分処理し、珪藻土プラグを通してろ過した。ろ液を真空濃縮し、標題化合物を得た。ｍｐ＞３００℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．３９（ｓ，９Ｈ）３．０７（ｓ，３Ｈ）３．１４（ｓ，３Ｈ）５．７６（ｓ，２Ｈ）７．１８（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．４０（ｄｄ，Ｊ＝８．６４，２．０２Ｈｚ，１Ｈ）７．４７（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６４（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．７１（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．９１（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９４（ｓ，１Ｈ）７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）８．４９（ｓ，１Ｈ）１０．００（ｓ，１Ｈ）
【実施例１５】
【０４９３】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２−ヒドロキシ−５−オキソ−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０４９４】
【化７９】
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パートＡ．エチル２−（３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）ウレイオド）アセテートの調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（４５８ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）のジオキサン（５ｍＬ）溶液にエチルイソシアナトアセテート（０．１６８ｍＬ、１．５００ｍｍｏｌ）を滴下して溶液を形成し、これを室温で１６時間攪拌した。反応混合物を濃縮し、生成物を９：１ヘキサン／酢酸エチルで粉砕した。得られた固体をろ過によって集め、乾燥し、標題化合物を得た。
【０４９５】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２−ヒドロキシ−５−オキソ−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（８７ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で１８時間反応させた。粗生成物を、メタノール／ジクロロメタン（０．５％から３％）で溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製した。集めた物質を１：１：１メタノール／酢酸エチル／ヘキサンで粉砕し、ろ過し、標題化合物を集めた。ｍｐ２９３−２９５℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４２（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２５（ｓ，３Ｈ）４．０５（ｓ，２Ｈ）７．２７（ｓ，２Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２２１Ｈｚ，１Ｈ）７．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．７３（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．８９−８．０３（ｍ，３Ｈ）８．２９（ｓ，１Ｈ）１０．０３（ｓ，１Ｈ）
【実施例１６】
【０４９６】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソイミダゾリジン−１−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０４９７】
【化８０】
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パートＡ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）イミダゾリジン−２，４−ジオンの調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（９１５ｍｇ、３．０ｍｍｏｌ）とクロロアセチルイソシアネート（０．２５６ｍＬ、３．００ｍｍｏｌ）とを、実施例１４パートＡと同じ方法で反応させ、粗生成物を得、これをメタノール／ジクロロメタン（０％から５％）で溶出するＩｓｃｏ４０ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０４９８】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソイミダゾリジン−１−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（７８ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で１８時間反応させた。粗生成物をメタノール／ジクロロメタン（０．５％から３％）で溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、次いで得られた物質を３：１酢酸エチル／ヘキサンで粉砕し、ろ過し、標題化合物を得た。ｍｐ２８０℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４１（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．１７（ｓ，３Ｈ）４．５２（ｓ，２Ｈ）７．３８−７．４５（ｍ，２Ｈ）７．６２（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６４−７．７４（ｍ，２Ｈ）７．９０−８．０４（ｍ，３Ｈ）１０．０５（ｓ，１Ｈ）１１．１４（ｓ，１Ｈ）
【実施例１７】
【０４９９】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（３−フェニルウレイオド）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５００】
【化８１】
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パートＡ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）−３−フェニル尿素の調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（３０５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）とフェニルイソシアネート（０．１０９ｍＬ、１．０００ｍｍｏｌ）とを、実施例１５パートＡと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。
【０５０１】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（３−フェニルウレイオド）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（８５ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で１８時間反応させた。反応混合物を冷却し、固体をろ過によって集め、繰り返し水洗し、粗生成物を４ｍＬのメタノール中で粉砕し、固体を集め、乾燥し、標題化合物を得た。ｍｐ＞３００℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣＭ６）δｐｐｍ  １．４１（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．１６（ｓ，３Ｈ）６．９５（ｔ，Ｊ＝７．３５Ｈｚ，１Ｈ）７．２１−７．３１（ｍ，３Ｈ）７．３８−７．４７（ｍ，３Ｈ）７．５０（ｄ，Ｊ＝２．９４Ｈｚ，１Ｈ）７．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．７３（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．９２（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９６−８．０２（ｍ，２Ｈ）８．５９（ｓ，１Ｈ）８．６４（ｓ，１Ｈ）１０．０２（ｓ，１Ｈ）
【実施例１８】
【０５０２】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（３−イソプロピルウレイオド）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５０３】
【化８２】
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パートＡ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）−３−イソプロピル尿素の調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（３０５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）とイソプロピルイソシアネートとを、実施例１５パートＡと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。
【０５０４】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（３−イソプロピルウレイオド）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（７８ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で１８時間反応させた。粗生成物を４ｍＬの１：１酢酸エチル／メタノールで粉砕し、固体を集め、乾燥し、標題化合物を得た。ｍｐ＞３００℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．０８（ｄ，Ｊ＝６．６２Ｈｚ，６Ｈ）１．３９（ｓ，９Ｈ）３．０７（ｓ，３Ｈ）３．１４（ｓ，３Ｈ）３．６４−３．８２（ｍ，１Ｈ）５．８８（ｄ，Ｊ＝７．７２Ｈｚ，１Ｈ）７．２０（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．３９（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４２（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６４（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．７１（ｄ，７＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．９０（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９４（ｓ，１Ｈ）７．９７（ｄ，Ｊ＝９．１９Ｈｚ，１Ｈ）８．２６（ｓ，１Ｈ）１０．０１（ｓ，１Ｈ）
【実施例１９】
【０５０５】
ｔｅｒｔ−ブチル２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（６−（メチルスルホンアミド）ナフタレン−２−イル）フェニルアミノ）−２−オキソエチルカルバメートの調製
【０５０６】
【化８３】
0005947346.tif 000084
パートＡ．ｔｅｒｔ−ブチル２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニルアミノ）−２−オキソエチルカルバメートの調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（０．１５３ｇ、０．５ｍｍｏｌ），Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）グリシン（０．０９６ｇ、０．５５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．１７３ｍＬ、１．０００ｍｍｏｌ）およびＯ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート（０．１７７ｇ、０．５５０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（２．５ｍＬ）中で混合し、４８時間攪拌し、酢酸エチルと水との間で分配した。有機層をブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、真空濃縮した。粗生成物を、酢酸エチル／ヘキサン（０％から２５％）で溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５０７】
パートＢ．ｔｅｒｔ−ブチル２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（６−（メチルスルホンアミド）ナフタレン−２−イル）フェニルアミノ）−２−オキソエチルカルバメートの調製
パートＡの生成物（２３０ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で１８時間反応させた。粗生成物を、１５ｍＬの１：１：１ジクロロメタン／メタノール／酢酸エチル中で粉砕し、ろ過し、少量の固体を除去した。次いで、ろ液を濃縮し、この残渣を５ｍＬの４：１ジクロロメタン／メタノール混合物で粉砕し、ろ過し、標題化合物を集めた。ｍｐ２２１−２２３℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．３９（ｓ，９Ｈ）１．４０（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．１６（ｓ，３Ｈ）３．７０（ｄ，Ｊ＝５．８８Ｈｚ，２Ｈ）７．０３（ｔ，７＝６．０７Ｈｚ，１Ｈ）７．４１（ｄｄ，７＝８．８２，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．４６（ｄ，７＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６０−７．６８（ｍ，２Ｈ）７．７２（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．９１（ｓ，１Ｈ）７．９３−８．０２（ｍ，２Ｈ）９．８８（ｓ，１Ｈ）１０．０２（ｓ，１Ｈ）
【実施例２０】
【０５０８】
２−アミノ−Ｎ−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（６−（メチルスルホンアミド）ナフタレン−２−イル）フェニル）アセトアミドの調製
【０５０９】
【化８４】
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実施例１９パートＢの生成物（７０ｍｇ、０．１２６ｍｍｏｌ）を、実施例２パートＣと同じ方法で反応させ、標題化合物を、トリフルオロ酢酸塩として得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４１（ｓ，９Ｈ）３．０９（ｓ，３Ｈ）３．１８（ｓ，３Ｈ）３．６９−３．８３（ｍ，２Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５０（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６０（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６５（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．４７Ｈｚ，１Ｈ）７．７３（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．９１−８．０１（ｍ，３Ｈ）８．０９（ｓ，３Ｈ）１０．０４（ｓ，１Ｈ）１０．４０（ｓ，１Ｈ）
【実施例２１】
【０５１０】
エチル３−（３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（６−（メチルスルホンアミド）ナフタレン−２−イル）フェニル）ウレイオド）プロパノエートの調製
【０５１１】
【化８５】
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パートＡ．エチル３−（３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）ウレイオド）プロパノエートの調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（３０５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）とエチル３−イソシアナトプロピオネートとを、実施例１５パートＡと同じ方法で反応させ、酢酸エチル／ヘキサン（０％から２５％）で溶出するＩｓｃｏ４０ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物（３７３ｍｇ、８３％）を得た。
【０５１２】
パートＢ．エチル３−（３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（６−（メチルスルホンアミド）ナフタレン−２−イル）フェニル）ウレイオド）プロパノエートの調製
パートＡの生成物（１７９ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）を実施例１パートＢと同じ方法で５０℃で１８時間反応させて固体を得、これを１：１ヘキサン／酢酸エチルで粉砕し、ろ過によって集め、標題化合物を得た。ｍｐ＞３００℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．１９（ｔ，Ｊ＝７．１７Ｈｚ，３Ｈ）１．３９（ｓ，９Ｈ）２．４４−２．５４（ｍ，２Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．１４（ｓ，３Ｈ）３．２８−３．３４（ｍ，２Ｈ）４．０８（ｑ，Ｊ＝６．９９Ｈｚ，２Ｈ）６．１５（ｔ，Ｊ＝５．８８Ｈｚ，１Ｈ）７．２２（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．３７−７．４６（ｍ，２Ｈ）７．６４（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．４７Ｈｚ，１Ｈ）７．７２（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．９０（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，１Ｈ）７．９４（ｓ，１Ｈ）７．９７（ｄ，Ｊ＝９．１９Ｈｚ，１Ｈ）８．５４（ｓ，１Ｈ）１０．０１（ｓ，１Ｈ）
【実施例２２】
【０５１３】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（３−エチルウレイオド）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５１４】
【化８６】
0005947346.tif 000087
パートＡ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）−３−（２−クロロエチル）尿素の調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（３０５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）とエチルイソシアネートとを、実施例１５パートＡと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。
【０５１５】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（３−エチルウレイオド）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（１１３ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を実施例１パートＢと同じ方法で７２時間反応させた。生成物を５ｍＬのメタノール中で粉砕し、ろ過によって集め、標題化合物を得た。ｍｐ＞３００℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．０４（ｔ，Ｊ＝７．１７Ｈｚ，３Ｈ）１．３９（ｓ，９Ｈ）３．０３−３．１２（ｍ，２Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．１４（ｓ，３Ｈ）６．００（ｔ，Ｊ＝５．５２Ｈｚ，１Ｈ）７．２３（ｄ，Ｊ＝２．９４Ｈｚ，１Ｈ）７．４１（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４４（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６４（ｄｄ，Ｊ＝８．６４，１．６５Ｈｚ，１Ｈ）７．７２（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．９１（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９４（ｓ，１Ｈ）７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）８．３８（ｓ，１Ｈ）１０．００（ｓ，１Ｈ）
【実施例２３】
【０５１６】
ｔｅｒｔ−ブチル３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（６−（メチルスルホンアミド）ナフタレン−２−イル）フェニルアミノ）−３−オキソプロピルカルバメートの調製
【０５１７】
【化８７】
0005947346.tif 000088
パートＡ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）−３−（２−クロロエチル）尿素の調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（３０５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）とＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−□−アニリン（１８９ｍｇ、１．０００ｍｍｏｌ）とを、実施例１９パートＡと同じ方法で２４時間反応させた。粗生成物を、ジクロロメタン中の３％メタノールで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５１８】
パートＢ．ｔｅｒｔ−ブチル３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（６−（メチルスルホンアミド）ナフタレン−２−イル）フェニルアミノ）−３−オキソプロピルカルバメートの調製
パートＡの生成物（１００ｍｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で１６時間反応させた。粗生成物をジクロロメタンで粉砕し、集めて乾燥した固体として標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．３７（ｓ，９Ｈ）１．４０（ｓ，９Ｈ）２．４４（ｔ，Ｊ＝７．１７Ｈｚ，２Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．１６（ｓ，３Ｈ）３．１７−３．２５（ｍ，２Ｈ）６．８５（ｔ，Ｊ＝５．７０Ｈｚ，１Ｈ）７．４１（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４７（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．５９−７．７３（ｍ，３Ｈ）７．９２（ｄ，Ｊ＝１０．６６Ｈｚ，１Ｈ）７．９４（ｓ，１Ｈ）７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）９．９０（ｓ，１Ｈ）１０．０１（ｓ，１Ｈ）
【実施例２４】
【０５１９】
３−アミノ−Ｎ−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（６−（メチルスルホンアミド）ナフタレン−２−イル）フェニル）プロパンアミドの調製
【０５２０】
【化８８】
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実施例２３の生成物（６０ｍｇ、０．１０５ｍｍｏｌ）を、実施例２パートＣと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｒｆ６）δｐｐｍ  １．４０（ｓ，９Ｈ）２．６８（ｔ，Ｊ＝６．６２Ｈｚ，２Ｈ）３．０２−３．１３（ｍ，２Ｈ）３．０９（ｓ，３Ｈ）３．１７（ｓ，３Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５０（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６０−７．７６（ｍ，５Ｈ）７．８６−８．０４（ｍ，３Ｈ）１０．０３（ｓ，１Ｈ）１０．１３（ｓ，１Ｈ）
【実施例２５】
【０５２１】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソオキサゾリジン−３−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５２２】
【化８９】
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パートＡ．２−クロロエチル−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニルカルバメートの調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（０．３０５ｇ、１．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５．００ｍＬ）溶液に、２−クロロエチルクロロホルメート（０．１４３ｇ、１．０００ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（０．２７９ｍＬ、２．０ｍｍｏｌ）を加え、溶液を得た。混合物を３時間攪拌し、濃縮し、標題化合物を得た。これを精製せずに使用した。
【０５２３】
パートＢ．３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）オキサゾリジン−２−オンの調製
エタノール（５ｍＬ）中のパートＡの生成物（４１２ｍｇ、１ｍｍｏｌ）をナトリウムエトキシド（６８１ｍｇ、２．１００ｍｍｏｌ）で処理し、６０℃で２時間加熱し、冷却し、１ＭのＨＣｌでｐＨ７に中和した。混合物を、水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機物を合わせ、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、濃縮した。残渣を、２：１ヘキサン／酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５２４】
パートＣ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソオキサゾリジン−３−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＢの生成物（９４ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で１６時間反応させた。粗油状物を、ジクロロメタン中の２．５％メタノールで溶出する１２ｇＩｓｃｏシリカカートリッジで精製した。所望の画分を合わせ、３：２ヘキサン／酢酸エチルで溶出する１２ｇＩｓｃｏシリカカートリッジで２回目の精製を行い、標題化合物を得た。ｍｐ２１６−２１８℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４２（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．１８（ｓ，３Ｈ）４．１１（ｔ，Ｊ＝７．９１Ｈｚ，２Ｈ）４．４２（ｔ，Ｊ＝７．９１Ｈｚ，２Ｈ）７．３８（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５７（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．７３（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．９３（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，１Ｈ）７．９６−８．００（ｍ，２Ｈ）１０．０３（ｓ，１Ｈ）
【実施例２６】
【０５２５】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソテトラヒドロピリミジン−１（２Ｈ）−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５２６】
【化９０】
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パートＡ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）−３−（３−クロロプロピル）尿素の調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（３０５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）とエチル３−クロロプロピルイソシアネート（０．１０３ｍＬ、１．０００ｍｍｏｌ）とを実施例１５パートＡと同じ方法で反応させ、標題化合物を得、これを精製することなく使用した。
【０５２７】
パートＢ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）テトラヒドロピリミジン−２（１Ｈ）−オンの調製
テトラヒドロフラン（２ｍＬ）中のパートＡの粗生成物（４２５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）をカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２．２００ｍＬ、２．２００ｍｍｏｌ）で処理し、１８時間攪拌し、酢酸エチルと１ＭのＨＣｌとの間で分配した。酢酸エチル層を飽和ＮａＨＣＯ３、Ｈ２Ｏおよびブラインで洗浄した。有機層を乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮した。粗生成物を、４：１ヘキサン／酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５２８】
パートＣ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソテトラヒドロピリミジン−１（２Ｈ）−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＢの生成物（１１６ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で１８時間反応させ、標題化合物を得た。ｍｐ＞３００℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４０（ｓ，９Ｈ）１．８８−１．９８（ｍ，２Ｈ）３．０７（ｓ，３Ｈ）３．１９（ｓ，３Ｈ）３．１９−３．２７（ｍ，２Ｈ）３．６１−３．６６（ｍ，２Ｈ）６．５１（ｓ，１Ｈ）７．１７（ｄ，Ｊ＝２．７０Ｈｚ，２Ｈ）７．４０（ｄｄ，Ｊ＝９．０１，２０２Ｈｚ，１Ｈ）７．６６（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．４７Ｈｚ，１Ｈ）７．７１（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．８９−７．９９（ｍ，３Ｈ）１０．０１（ｓ，１Ｈ）
【実施例２７】
【０５２９】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソイミダゾリジン−１−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５３０】
【化９１】
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パートＡ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）−３−（２−クロロエチル）尿素の調製
３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシアニリン（３０５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）とエチル２−クロロエチルイソシアネート（０．０８５ｍＬ、１．０００ｍｍｏｌ）とを、実施例１５パートＡと同じ方法で反応させ、標題化合物を得、これを精製することなく使用した。
【０５３１】
パートＢ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）イミダゾリジン−２−オンの調製
パートＡの粗生成物（４１１ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を、実施例２６パートＢと同じ方法で反応させて粗生成物を得、これを４：１ヘキサン／酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５３２】
パートＣ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソイミダゾリジン−１−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＢの生成物（１１２ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で７２時間反応させた。粗生成物を、１：１酢酸エチル／メタノール（５ｍＬ）で粉砕し、固体をろ過によって集め、標題化合物を得た。ｍｐ２８４−２８６℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４１（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．１５（ｓ，３Ｈ）３．３４−３．４３（ｍ，２Ｈ）３．８５−３．９３（ｍ，２Ｈ）６．８７（ｓ，１Ｈ）７．３６（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．４１（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５６（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６６（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．４７Ｈｚ，１Ｈ）７．７２（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．９２（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９７（ｄ，Ｊ＝８０９Ｈｚ，２Ｈ）１０．０１（ｓ，１Ｈ）
【実施例２８】
【０５３３】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５３４】
【化９２】
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パートＡ．５−ブロモ−２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジンの調製
標題化合物を、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ８（１８），４１２１（２００６）の手順に従って、５−ブロモ−２，４−ジクロロピリミジンから調製した。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ  １．６０（ｓ，９Ｈ）１．６５（ｓ，９Ｈ）８．２５（ｓ，１Ｈ）
【０５３５】
パートＢ．２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イルボロン酸の調製
標題化合物を、Ｃｈｅｍｉｃａ  Ｓｃｒｉｐｔａ２６，３０５（１９８６）の手順に従って、パートＡの生成物から調製した。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．５６（ｓ，９Ｈ）１．５９（ｓ，９Ｈ）７．６０（ｓ，２Ｈ）８．３５（ｓ，１Ｈ）
【０５３６】
パートＣ．２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−５−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）ピリミジンの調製
窒素でパージしたフラスコに、１−ｔｅｒｔ−ブチル−３，５−ジヨード−２−メトキシベンゼン（１００ｍｇ、０２４０ｍｍｏｌ）および無水１，２−ジメトキシエタン（０．８ｍＬ）を充填し、溶液に窒素を１５分散布した。テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（８．３３ｍｇ、７．２μｍｏｌ）を、混合物に窒素を１０分間散布した。パートＢの生成物（７０．９ｍｇ、０．２６４ｍｍｏｌ）および１ＭのＮａＨＣＯ３水溶液（０．６ｍＬ、０．６ｍｍｏｌ）を加え、混合物を還流させながら（油浴温度１００℃）２時間加熱した。反応混合物を室温に冷却し、酢酸エチル（５０ｍＬ）で希釈し、Ｈ２Ｏ（２５ｍＬ）およびブライン（２５ｍＬ）で洗浄し、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、粗生成物を得、これを１％酢酸エチル／ジクロロメタンで溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ  １．４１（ｓ，９Ｈ）１．６５（ｓ，１８Ｈ）３．９２（ｓ，３Ｈ）７．４５（ｓ，１Ｈ）７．８２（ｓ，１Ｈ）８．１８（ｓ，１Ｈ）
【０５３７】
パートＤ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＣの生成物（８４．２ｍｇ、０．１６４ｍｍｏｌ）とＮ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（７４．２ｍｇ、０．２１４ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で２時間反応させた。粗生成物を、１０％酢酸エチル／ジクロロメタンで溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４５（ｓ，９Ｈ）１．５９（ｓ，９Ｈ）１．６２（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２３（ｓ，３Ｈ）７．３９−７．４５（ｍ，２Ｈ）７．５１（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．７０−７．７６（ｍ，２Ｈ）７．９３（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．９４Ｈｚ，２Ｈ）８．０６（ｄ，Ｊ＝０．７４Ｈｚ，１Ｈ）８．４０（ｓ，１Ｈ）１０．０１（ｓ，１Ｈ）
【０５３８】
パートＥ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＤの生成物（４０ｍｇ、０．０６６ｍｍｏｌ）のメタノール（０．７ｍＬ）および６ＮのＨＣｌ（０．３５ｍＬ）溶液を、２５℃で２時間攪拌した。反応の間中、生成物が溶液から析出した。混合物を真空でろ過し、集めた固体を少量のメタノールで洗浄し、真空で乾燥した。粗生成物を１：１（ｖ／ｖ）のメタノール／ジメチルスルホキシド（１ｍＬ）に溶解し、９０：１０の０．１％トリフルオロフルオロ酢酸水溶液／アセトニトリルから２５：７５の０．１％のトリフルオロ酢酸水溶液／アセトニトリルへ、１０ｍＬ／分での３０分勾配により溶出するＲＰ−Ｃ１８ＨＰＬＣ（Ｗａｔｅｒｓ  Ｐｒｅｐ  ＬＣ，２５ｍｍ  ＭｏｄｕｌｅおよびＮｏｖａ  Ｐａｋ  ＨＲ  Ｃ１８６μｍ２５×１００ｍｍ  Ｐｒｅｐ  Ｐａｋカートリッジ）で精製した。これにより、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４２（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２０（ｓ，３Ｈ）７．３８−７．５０（ｍ，３Ｈ）７．６７−７．７１（ｍ，１Ｈ）７．７１（ｄｄ，Ｊ＝５．５２，１．８４Ｈｚ，２Ｈ）７．９２（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９７（ｄ，Ｊ＝９．１９Ｈｚ，１Ｈ）８．０１（ｓ，１Ｈ）１０．０１（ｓ，１Ｈ）１１．１２（ｄｄ，Ｊ＝４．０４，１．１０Ｈｚ，１Ｈ）１１．２２（ｓ，１Ｈ）
【実施例２９】
【０５３９】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソピロリジン−１−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５４０】
【化９３】
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パートＡ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）ピロリジン−２−オンの調製
５ｍＬのマイクロ波管に、Ｎ２を流しながら、ジオキサン（２ｍＬ）中の１−ｔｅｒｔ−ブチル−３，５−ジヨード−２−メトキシベンゼン（２０８ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、２−ピロリドン（０．０９２ｍＬ、１．２００ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（２２３ｍｇ、１．０５０ｍｍｏｌ）、（＋／−）−トランス−１，２−ジアミノシクロヘキサン（０．０１２ｍＬ、０．１００ｍｍｏｌ）およびヨウ化銅（Ｉ）（２．３８１ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）を入れた。管を密封し、Ｎ２を１０分間散布し、マイクロ波照射により１１０℃で１時間加熱し、冷却し、酢酸エチルと水との間で分配し、ＨＣｌでｐＨを１に調整した。水層を酢酸エチルで抽出した。有機を合わせ、Ｈ２Ｏおよびブラインで洗浄した。有機を乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、３−メルカプトプロピル官能化シリカとともに０．５時間攪拌し、ろ過し、濃縮した。粗生成物を、４：１のヘキサン／酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５４１】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソピロリジン−１−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（０．０９ｇ、０．２４１ｍｍｏｌ）とＮ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（０．０９２ｇ、０．２６５ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で１８時間反応させ、粗生成物を得、これをメタノール／ジクロロメタン（０％から２％）で溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。ｍｐ２２９−２３０℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４１（ｓ，９Ｈ）２．００−２．１４（ｍ，２Ｈ）２．３８−２．５０（ｍ，２Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．１８（ｓ，３Ｈ）３．８７（ｔ，Ｊ＝６．９９Ｈｚ，２Ｈ）７．４１（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４６（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．６０−７．６９（ｍ，２Ｈ）７．７２（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．８４−８．０１（ｍ，３Ｈ）１０．０２（ｓ，１Ｈ）
【実施例３０】
【０５４２】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソピリジン−１（２Ｈ）−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５４３】
【化９４】
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パートＡ．１−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）ピリジン−２（１Ｈ）−オンの調製
２０ｍＬのマイクロ波管に、ジオキサン（１０ｍＬ）中のピリジン−２−オール（１９０ｍｇ、２ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（７６ｍｇ、０．４００ｍｍｏｌ）、１−ｔｅｒｔ−ブチル−３，５−ジヨード−２−メトキシベンゼン（９９８ｍｇ、２．４００ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（８４９ｍｇ、４．００ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン（０．０８６ｍＬ、０．８００ｍｍｏｌ）を入れた。該管を密封し、混合物にＮ２を１０分散布し、油浴で１１０℃で１６時間加熱した。混合物を冷却し、酢酸エチルに分配した。有機層を飽和ＮａＨＣＯ３、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、ろ液を３−メルカプトプロピル官能化シリカゲルで処理し、珪藻土を通してろ過し、真空濃縮し、粗生成物を得、これを３：２ヘキサン／酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５４４】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−（２−オキソピリジン−１（２Ｈ）−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（１５３ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で１８時間反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（１０％から１００％）で溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。ｍｐ２５８−２６０℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４３（ｓ，９Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２６（ｓ，３Ｈ）６．２６−６．３５（ｍ，１Ｈ）６．４８（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．２７（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．３３（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．４５−７．５４（ｍ，１Ｈ）７．６８−７．８１（ｍ，３Ｈ）７．９６（ｔ，Ｊ＝８．２７Ｈｚ，２Ｈ）８．０４（ｓ，１Ｈ）１０．０３（ｓ，１Ｈ）
【実施例３１】
【０５４５】
Ｎ−（６−（５−ベンゾイル−３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５４６】
【化９５】
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パートＡ．１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヨード−２−メトキシ−５−（１−フェニルビニル）ベンゼンの調製
１−ｔｅｒｔ−ブチル−３，５−ジヨード−２−メトキシベンゼン（４．９４ｇ、１１．８７ｍｍｏｌ）のジメトキシエタン（５０ｍＬ）および水（３０ｍＬ）溶液を、１−フェニルビニルボロン酸（２．２８３ｇ、１５．４３ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．６８６ｇ、０．５９３ｍｍｏｌ）および炭酸水素ナトリウム（２．４９２ｇ、２９．７ｍｍｏｌ）で処理し、次いで１００℃で３時間加熱した。１ＮのＨＣｌを加え、混合物を酢酸エチルで抽出し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、粗生成物を得、これを５０：１のヘキサン／酢酸エチルで溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５４７】
パートＢ．（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ヨード−４−メトキシフェニル）（フェニル）メタノンの調製
パートＡの生成物（１．１０ｇ、２．８０ｍｍｏｌ）をアセトンに溶解し、−７８℃に冷却し、次いで過マンガン酸カリウム（４．４３ｇ、２８．０ｍｍｏｌ）を加え、得られた溶液を−７８℃で２時間攪拌した。溶液をゆっくり室温に温め、さらに３時間攪拌した。イソプロパノール（１０ｍＬ）およびジクロロメタン（２５ｍＬ）を得、混合物を１５分攪拌し、次いでろ過した。ろ液を真空濃縮し、標題化合物を得た。
【０５４８】
パートＣ．Ｎ−（６−（５−ベンゾイル−３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＢの生成物（０．１１５ｇ、０．２９２ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で２４時間反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル中のヘキサンで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４４（ｓ，９Ｈ）、３．０８（ｓ，３Ｈ）、３．３０（ｓ，３Ｈ）、７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．６５（ｍ，２Ｈ）、７．７２（ｍ，２Ｈ）、７．７９（ｍ，３Ｈ）、７．８５（ｍ，１Ｈ）、７．９８（ｍ，２Ｈ）、１０．０３（ｓ，１Ｈ）
【実施例３２】
【０５４９】
（Ｅ）−Ｎ−（４−（５−ベンゾイル−３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシスチリル）フェニル）メタンスルホンアミドの調製
【０５５０】
【化９６】
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（Ｅ）−４−（メチルスルホンアミド）スチリルボロン酸（０．６７３ｇ、０．２７９ｍｍｏｌ）と実施例３１パートＢの生成物（０．１００ｇ、０．２５４ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＣと同じ方法で、６０℃で２４時間反応させて粗生成物を得、これを酢酸メチル中のヘキサンで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．３９（ｓ，９Ｈ）、３．０１（ｓ，３Ｈ）、３．８４（ｓ，３Ｈ）、７．１６（ｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．３０（ｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．６２（ｍ，６Ｈ）７．７８（ｍ，２Ｈ）、７．９１（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ）、９．８５（ｓ，１Ｈ）
【実施例３３】
【０５５１】
Ｎ−（６−（２−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５５２】
【化９７】
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パートＡ．２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヨードアニリンの調製
５００ｍＬの丸底フラスコで、水（５０ｍＬ）中で２−ｔｅｒｔ−ブチルアニリン（７．４６ｇ、５０ｍｍｏｌ）および炭酸水素ナトリウム（７．５６ｇ、９０ｍｍｏｌ）を混合した。混合物を０℃に冷却し、ヨウ素（１２．６９ｇ、５０．０ｍｍｏｌ）を２０分にわたって分割して加えた。混合物を室温で１６時間攪拌し、酢酸エチルと１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液との間で分配し、２０分間激しく攪拌した。酢酸エチル層をブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、暗い油状物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（０％から１０％）で溶出するＩｓｃｏ１２０ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５５３】
パートＢ．２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）アニリンの調製
パートＡの生成物（１３８ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）と実施例２８パートＢの生成物（１３４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＢと同じ方法で、１時間反応させ、粗生成物を得、これをヘキサン中の１５％酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５５４】
パートＣ．２−ブロモ−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジンピリミジン−５−イル）アニリンの調製
パートＢの生成物（１６０ｍｇ、０．４３１ｍｍｏｌ）と１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルイミダゾリジン−２，４−ジオン（６２．２ｍｇ、０．２１７ｍｍｏｌ）とを、クロロホルム（４ｍＬ）中で混合した。反応混合物を１時間攪拌し、チオ硫酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、粗生成物を得、これを９：１ヘキサン／酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５５５】
パートＤ．Ｎ−（６−（２−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＣの生成物（８０ｍｇ、０．１７８ｍｍｏｌ）と、Ｎ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（６１．７ｍｇ、０．１７８ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＣと同じ方法で、５０℃で１６時間反応させ、粗生成物を得、これをメタノール／ジクロロメタン（０％から３％）で溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５５６】
パートＥ．Ｎ−（６−（２−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＤの生成物（７７ｍｇ、０．１３０ｍｍｏｌ）を実施例１パートＤと同じ方法で反応させて固体を得、これをジエチルエーテルで繰り返し洗浄し、恒量になるまで乾燥し、標題化合物を得た。ｍｐ２５４−２６０℃，１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４３（ｓ，９Ｈ）３．０７（ｓ，３Ｈ）７．１８（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．３８−７．４６（ｍ，２Ｈ）７．５１−７．５９（ｍ，２Ｈ）７．７４（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．８６−７．９８（ｍ，３Ｈ）１０．０３（ｓ，１Ｈ）１１．００（ｄｄ，Ｊ＝５．８８，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）１１．１３（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）
【実施例３４】
【０５５７】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−ヨードフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５５８】
【化９８】
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パートＡ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−ヨードフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
１０ｍＬ丸底フラスコに、１，２−ジメトキシエタン（２ｍＬ）中の実施例３３パートＤの生成物（５９ｍｇ、０．１００ｍｍｏｌ）、亜硝酸ｔｅｒｔ−ブチル（０．０１２ｍＬ、０．１００ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（１９．０２ｍｇ、０．１００ｍｍｏｌ）、ヨウ化ナトリウム（１４．９７ｍｇ、０．１００ｍｍｏｌ）およびヨウ素（１２．６７ｍｇ、０．０５０ｍｍｏｌ）を入れた。混合物を６０℃で２時間加熱した。反応混合物を、酢酸エチルおよび１０％チオ硫酸ナトリウムで分配した。有機層をブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、粗生成物を得、これを、酢酸エチル／ヘキサン（５％から２０％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５５９】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−ヨードフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（３０ｍｇ、０．０４３ｍｍｏｌ）を、実施例３パートＢと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．６１（ｓ，９Ｈ）３．０７（ｓ，３Ｈ）７．３９（ｍ，３Ｈ）７．６９（ｍ，３Ｈ）７．８０（ｓ，１Ｈ）７．８８（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９３（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）１０．００（ｓ，１Ｈ）１１．２２（ｓ，１Ｈ）１１．２７（ｓ，１Ｈ）
【実施例３５】
【０５６０】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−ビニルフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド
【０５６１】
【化９９】
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パートＡ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−ビニルフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
５ｍＬのマイクロ波管に、ジメチルスルホキシド（３ｍＬ）中の実施例３４パートＡの生成物（２１０ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）、トリブチル（ビニル）スタンナン（０．１７５ｍＬ、０．６００ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（１３４ｍｇ、０．６３ｍｍｏｌ）、１，３，５，７−テトラメチル−６−フェニル−２，４，８−トリオキサ−６−ホスファアダマンタン（８．７７ｍｇ、０．０３０ｍｍｏｌ）およびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（１３．７４ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）を入れた。混合物を窒素で５分間パージし、１００℃で１時間マイクロ波を照射した。反応混合物を、酢酸エチルと０．１ＭのＨＣｌとで分配した。有機層を飽和ＮａＨＣＯ３、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、ろ液を３−メルカプトプロピル官能化シリカゲルで処理し、ろ過し、真空濃縮し、粗生成物を得、これを、酢酸エチル／ヘキサン（１０％から２０％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５６２】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−ビニルフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（３０ｍｇ、０．０５０ｍｍｏｌ）を実施例３パートＢと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４３（ｓ，９Ｈ）３．０５（ｓ，３Ｈ）４．６３（ｄｄ，Ｊ＝１．７６５，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）５．１２（ｄｄ，Ｊ＝１１．２１，２．０２Ｈｚ，１Ｈ）７．１６（ｄｄ，Ｊ＝１７．８３，１１．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．３７（ｍ，３Ｈ）７．６０（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．６７（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．７４（ｍ，２Ｈ）７．７８（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．８７（ｄ，Ｊ＝９．１９Ｈｚ，１Ｈ）９．９５（ｓ，１Ｈ）１１．１５（ｓ，１Ｈ）１１．２３（ｓ，１Ｈ）
【実施例３６】
【０５６３】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−エチルフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド
【０５６４】
【化１００】
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パートＡ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトシピリミジン−５−イル）−２−エチルフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
１００ｍＬの丸底フラスコに、実施例３５パートＡの生成物（１３２ｍｇ、０．２１９ｍｍｏｌ）、炭素上の１０％パラジウム（２０ｍｇ、０．０１９ｍｍｏｌ）およびメタノール（１０ｍＬ）を入れた。混合物を２４時間水素化し、ろ過し、真空濃縮し、粗生成物を得、これを、酢酸エチル／ヘキサン（１０％から２０％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５６５】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−エチルフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド
パートＡの生成物（９２ｍｇ、０．１５２ｍｍｏｌ）を、実施例３パートＢと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  ０．６９（ｔ，Ｊ＝７．１７Ｈｚ，３Ｈ）１．４６（ｓ，９Ｈ）２．９６（ｑ，Ｊ＝７．１７Ｈｚ，２Ｈ）３．０７（ｓ，３Ｈ）７．１９（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．４１（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４６（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．５４（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．６５（ｓ，１Ｈ）７．７３（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．８１（ｓ，１Ｈ）７．８９（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９３（ｄ，Ｊ＝９．１９Ｈｚ，１Ｈ）９．９８（ｓ，１Ｈ）１１．１０（ｓ，１Ｈ）１１．１９（ｓ，１Ｈ）
【実施例３７】
【０５６６】
Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（ペルフルオロエチル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５６７】
【化１０１】
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パートＡ．Ｎ−（６−（２−メトキシ−５−ニトロ−３−（ペルフルオロエチル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
１−ブロモ−２−メトキシ−５−ニトロ−（３−ペルフルオロエチル）ベンゼン（０．２５ｇ、０．６３０ｍｍｏｌ）と、Ｎ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（０．２１９ｇ、０．６３０ｍｍｏｌ）とを実施例１パートＢと同じ方法で５０℃で１６時間反応させ、粗生成物を得、これを３：１へキサン／酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５６８】
パートＢ．Ｎ−（６−（５−アミノ−２−メトキシ−３−（ペルフルオロエチル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
テトラヒドロフラン、エタノールおよび水３：３：１（１５ｍＬ）の溶剤混合物中のパートＡの生成物（０．２７ｇ、０．５５１ｍｍｏｌ）、鉄（０．１５４ｇ、２．７５ｍｍｏｌ）および塩化アンモニウム（０．０４４ｇ、０．８２６ｍｍｏｌ）の混合物を、９５から１００℃で２時間加熱した。反応混合物を珪藻土のプラグを通してろ過し、テトラヒドロフランで繰り返し濯いだ。ろ液を真空濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、水、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、標題化合物を得、これを精製することなく使用した。
【０５６９】
パートＣ．Ｎ−（６−（５−ヨード−２−メトキシ−３−ペルフルオロエチル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＢの生成物（０．２５ｇ、０．５４３ｍｍｏｌ）を、実施例３４パートＡと同じ方法で３時間反応させ物質を得、これを、酢酸エチル／ヘキサン（５％から３０％）で溶出するＩｓｃｏ４０ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５７０】
パートＤ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（ペルフルオロエチル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＣの生成物（０．１３ｇ、０．２２８ｍｍｏｌ）と実施例２８パートＢの生成物（０．０６４ｇ、０．２３９ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＢと同じ方法で、５０℃で１６時間反応させ、粗生成物を得、これをヘキサン中の１５％酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ４０ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０５７１】
パートＥ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（ペルフルオロエチル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＤの生成物（０．１０ｇ、０．１５０ｍｍｏｌ）を、実施例１パートＤと同じ方法で反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチルで溶出するＩｓｃｏ４ｇシリカカートリッジで精製し、明黄色油状物を得、これを９５：５ジクロロメタン／メタノールで粉砕し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  ３．０９（ｓ，３Ｈ）３．２８（ｓ，３Ｈ）７．４３（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．６７−７．７７（ｍ，２Ｈ）７．８５−８．０３（ｍ，５Ｈ）８．１０（ｓ，１Ｈ）１０．１０（ｓ，１Ｈ）１１．２８（ｓ，１Ｈ）１１．３６（ｓ，１Ｈ）
【実施例３８】
【０５７２】
Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−３−（フラン−３−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５７３】
【化１０２】
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パートＡ．２−ヨード−４−ニトロフェノールの調製
２−ヨードフェノール（５．９４ｇ、２７．０ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（５４ｍＬ）に溶解し、氷浴で冷却した。１：１ｖ／ｖの氷酢酸／７０％硝酸の溶液を滴下し、溶液を氷浴中で３０分攪拌した。反応混合物を５００ｇの氷水に注ぎ入れ、ジクロロメタンで抽出した。合わせた有機抽出物を水およびブラインで洗浄し、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、残渣を残し、これを酢酸エチル／ヘキサン（５％から５０％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５７４】
パートＢ．２−ブロモ−６−ヨード−４−ニトロフェノールの調製
パートＡの生成物（３．５４ｇ、１３．３６ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（６０ｍＬ）に溶解し、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン（２．１ｇ、７．３５ｍｍｏｌ）で処理し、室温で１５時間攪拌した。得られた反応混合物を真空濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解し、水、１０％ＮａＳ２Ｏ３溶液、ブラインで洗浄し、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、固体を残し、これを酢酸エチル／ヘキサン（５％から５０％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５７５】
パートＣ．１−ブロモ−３−ヨード−２−メトキシ−５−ニトロベンゼンの調製
パートＢの生成物（１．９２ｇ、５．５８ｍｍｏｌ）を実施例１パートＡと同じ方法で２０時間反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（０％から５０％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５７６】
パートＤ．Ｎ−（６−（３−ブロモ−２−メトキシ−５−ニトロフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＣの生成物（１．２６ｇ、３．５２ｍｍｏｌ）とＮ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（１．２２ｇ、３．５２ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＢと同じ方法で９６時間反応させ、粗生成物を得、これをメタノール／ジクロロメタン（０％から５％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５７７】
パートＥ．Ｎ−（６−（３−（フラン−３−イル）−２−メトキシ−５−ニトロフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＤの生成物（０．１ｇ、０．２２６ｍｍｏｌ）、フラン−３−イルボロン酸（３２ｍｇ、０．２８２ｍｍｏｌ）、２Ｍの炭酸ナトリウム（０．５２ｍＬ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１３ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ）を混合し、Ｎ２でパージした１，２−ジメトキシエタン（２．３ｍＬ）に溶解し、８０℃で１８時間加熱した。反応混合物を５０ｍＬの酢酸エチルで希釈し、１０％ＨＣｌ、１０％ＮａＨＣＯ３、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）し、ろ過し、真空濃縮し、標題化合物を得た。
【０５７８】
パートＦ．Ｎ−（６−（５−アミノ−３−（フラン−３−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＥの生成物（０．１０１ｇ、０．２３０ｍｍｏｌ）を、実施例３７パートＢと同じ方法で、８０℃で１時間反応させ、粗生成物を得、これを水とジクロロメタンとの間で分配し、水相をジクロロメタンで抽出し、有機を合わせ、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、標題化合物を得、これを単離して次のステップで使用した。
【０５７９】
パートＧ．Ｎ−（６−（３−（フラン−３−イル）−５−ヨード−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＦの生成物（０．１０ｇ、０．２４７ｍｍｏｌ）を、実施例３４パートＡと同じ方法で１時間反応させ、粗残渣を得、これをジクロロメタン／ヘキサンで溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、５−ヨードおよび次のステップで単離して使用するのに適した５−プロチオ化合物の混合物を得た。
【０５８０】
パートＨ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−３−（フラン−３−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＧの生成物混合物（０．０３９ｇ）と実施例２８パートＢの生成物（０．０２１ｇ、０．０７７ｍｍｏｌ）とを実施例１パートＢと同じ方法で１８時間反応させ、粗生成物を得、これを、ジクロロメタン／ヘキサンで溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５８１】
パートＩ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−３−（フラン−３−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＨの生成物（０．０２７ｇ、０．０４４ｍｍｏｌ）を実施例１パートＤと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  ３．０９（ｓ，３Ｈ）３．２５（ｓ，３Ｈ）７．０７（ｄ，Ｊ＝１．４７Ｈｚ，１Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５７（ｄ，Ｊ＝１．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．６９−７．８９（ｍ，５Ｈ）７．９３（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）７．９８（ｄ，Ｊ＝８．８２Ｈｚ，１Ｈ）８．０８（ｓ，１Ｈ）８．２１（ｓ，１Ｈ）１０．０２（ｓ，１Ｈ）１１．２３（ｄ，Ｊ＝５．８８Ｈｚ，１Ｈ）１１．２８（ｓ，１Ｈ）
【実施例３９】
【０５８２】
Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（チオフェン−２−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５８３】
【化１０３】
0005947346.tif 000104
パートＡ．Ｎ−（６−（５−アミノ−３−ブロモ−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
実施例３８パートＤの生成物（０．１０ｇ、０．２２２ｍｍｏｌ）を実施例３８パートＦと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。
【０５８４】
パートＢ．Ｎ−（６−（３−ブロモ−５−ヨード−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（０．０９４ｇ、０．２２２ｍｍｏｌ）を実施例３８パートＧと同じ方法で反応させ、未確定量の対応するデス−ヨード化合物が混入した標題化合物を得た。
【０５８５】
パートＣ．Ｎ−（６−（３−ブロモ−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＢの生成物（０．０５１ｇ、０．０４８ｍｍｏｌ−５０％ヨード類縁体と考えられる。）を実施例３８パートＨと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。
【０５８６】
パートＤ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（チオフェン−２−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＣの生成物（０．０２８１ｇ、０．０４５ｍｍｏｌ）を１，２−ジメトキシエタン（１ｍＬ）の溶液として、室温で、マイクロ波管内で、チオフェン−２−イルボロン酸（８．０１ｍｇ、０．０６３ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（０．０２２ｇ、０．２０６ｍｍｏｌ）、１，１’−ビス（ジ−ｔｅｒｔブチルホスフィノ）フェロセンパラジウムジクロリド（２．３７ｍｇ、０．００３６ｍｍｏｌ）および水（１００μＬ）と混合した。管を密封し、窒素を５分間散布し、次いで全てのガスラインを取り外し、溶液を油浴中、５５℃で１８時間加熱した。管の中身を酢酸エチルとブラインとの間で分配した。水相を酢酸エチルで抽出し、有機を合わせ、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、真空濃縮し、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサンで溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５８７】
パートＥ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（チオフェン−２−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＤの生成物（１８．８ｍｇ、０．０３０ｍｍｏｌ）を実施例１パートＤと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  ３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２５（ｓ，３Ｈ）７．１７（ｄｄ，Ｊ＝５．１５，３．６８Ｈｚ，１Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５６−７．８２（ｍ，４Ｈ）７．８５−８．０５（ｍ，４Ｈ）８．１０（ｓ，１Ｈ）９．９０−１０．２０（ｍ，１Ｈ）１１．３０（ｓ，１Ｈ）
【実施例４０】
【０５８８】
Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−３−（フラン−２−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５８９】
【化１０４】
0005947346.tif 000105
パートＡ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−３−（フラン−２−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
実施例３９パートＣの生成物（０．０５６８ｇ、０．０９０ｍｍｏｌ）とフラン−２−イルボロン酸（０．０１６ｇ、０．１４２ｍｍｏｌ）とを実施例１パートＣと同じ方法で、５５℃で１８時間反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサンで溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０５９０】
パートＢ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−３−（フラン−２−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（０．０４９ｇ、０．０８０ｍｍｏｌ）を実施例１パートＤと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  ３．０９（ｓ，３Ｈ）３．３０（ｓ，３Ｈ）６．６６（ｄｄ，Ｊ＝３．３１，１．８４Ｈｚ，１Ｈ）７．０４（ｄ，Ｊ＝３．３１Ｈｚ，１Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５３（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．６８−７．８８（ｍ，４Ｈ）７．９１−８．０３（ｍ，３Ｈ）８．１１（ｓ，１Ｈ）１０．０３（ｓ，１Ｈ）１１．１７−１１．２５（ｍ，１Ｈ）１１．３０（ｓ，１Ｈ）
【実施例４１】
【０５９１】
Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５９２】
【化１０５】
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パートＡ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
実施例３９パートＣの生成物（０．０５０ｇ、０．０８０ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール（０．０２７６ｍｇ、０．１３３ｍｍｏｌ）とを実施例１パートＣと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。
【０５９３】
パートＢ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（０．０４５ｇ、０．０７２ｍｍｏｌ）を実施例１パートＤと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  ３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２３（ｓ，３Ｈ）３．９１（ｓ，３Ｈ）７．４２（ｄｄ，７＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５０（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．６９−７．８５（ｍ，４Ｈ）７．８９−８．０２（ｍ，３Ｈ）８．０７（ｓ，１Ｈ）８．２０（ｓ，１Ｈ）９．９１−１０．１４（ｍ，１Ｈ）１１．１３−１１．２３（ｍ，１Ｈ）１１．２７（ｓ，１Ｈ）
【実施例４２】
【０５９４】
Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（５−メチルフラン−２−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５９５】
【化１０６】
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パートＡ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（５−メチルフラン−２−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
実施例３９パートＣの生成物（０．０３５ｇ、０．０５５ｍｍｏｌ）と４，４，５，５−テトラメチル−２−（５−メチルフラン−２−イル）−１，３，２−ジオキサボロラン（１５．７２ｍｇ、０．０７２ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＣと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。
【０５９６】
パートＢ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（５−メチルフラン−２−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（１０ｍｇ、０．０１６ｍｍｏｌ）を実施例１パートＤと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  ２．３８（ｓ，３Ｈ）３．０８（ｓ，３Ｈ）３．２９（ｓ，３Ｈ）６．２７（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）６．９２（ｄ，Ｊ＝２．９４Ｈｚ，１Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．４７（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．７１−７．８１（ｍ，３Ｈ）７．８８−８．０２（ｍ，３Ｈ）８．１０（ｓ，１Ｈ）９．８９−１０．１９（ｍ，１Ｈ）１１．１２−１１．２３（ｍ，１Ｈ）１１．２９（ｓ，１Ｈ）
【実施例４３】
【０５９７】
Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（チオフェン−３−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０５９８】
【化１０７】
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パートＡ．３−ブロモ−５−ヨード−４−メトキシアニリンの調製
実施例３８パートＣの生成物（０．３６ｇ、１．０１ｍｍｏｌ）を実施例３７パートＢと同じ方法で、還流しながら９０分反応させ、標題化合物を得た。
【０５９９】
パートＢ．（Ｅ）−１−（（３−ブロモ−５−ヨード−４−メトキシフェニル）ジアゼニル）ピロリジンの調製
パートＡの生成物（０．３２ｇ、１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、氷浴で０℃に冷却し、濃ＨＣｌ（０．１５ｍＬ）を加えた。得られた透明黄色溶液に０．３ｍＬの水中のＮａＮＯ２（９３ｍｇ、１．３５ｍｍｏｌ）を滴下すると、１５分の間に得られた濃厚な溶液は透明になり、次いで再び不透明になり、冷却下攪拌した。この混合物にピロリジン（０．７ｍＬ、８．３ｍｍｏｌ）を加え、混合物を氷浴中で１５分攪拌した。混合物を１００ｍＬの酢酸エチルで処理し、水およびブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮すると、残渣を残し、これを酢酸エチル／ヘキサン（５％から５０％）で溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０６００】
パートＣ．（Ｅ）−Ｎ−（６−（３−ブロモ−２−メトキシ−５−（ピロリジン−１−イルジアゼニル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＢの生成物（０．１０７ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）とＮ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（９１ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）とを実施例１パートＢと同じ方法で１７時間反応させ、標題化合物を得た。
【０６０１】
パートＤ．Ｎ−（６−（３−ブロモ−５−ヨード−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＣの生成物（０．１ｇ、０．１９９ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン（２ｍＬ）に溶解し、Ｉ２（５０ｍｇ、０．１９９ｍｍｏｌ）を加え、得られた反応混合物を密封管内で、８０℃で４時間加熱した。反応混合物を５０ｍＬのジクロロメタンで希釈し、３０％Ｎａ２Ｓ２Ｏ３およびブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮すると、残渣が残り、これを酢酸エチル／ヘキサン（５％から８０％）で溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０６０２】
パートＥ．Ｎ−（６−（３−ブロモ−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＤの生成物（２３ｍｇ、０．０４３ｍｍｏｌ）と２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イルボロン酸（１４ｍｇ、０．０５２ｍｍｏｌ）とを実施例１パートＢと同じ方法で１８時間反応させ、標題化合物を得た。
【０６０３】
パートＦ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（チオフェン−３−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＥの生成物（２５ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）とチオフェン−３−イルボロン酸（６．１ｍｇ、０．０４８ｍｍｏｌ）とを実施例１パートＣと同じ方法で、４０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で１時間加熱し、残渣を得、これをメタノール／ジクロロメタン（１％から３％）で溶出するＩｓｃｏ４ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０６０４】
パートＧ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（チオフェン−３−イル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＦの生成物（１２ｍｇ、０．０１９ｍｍｏｌ）を実施例３パートＢと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  ３．０７（ｓ，３Ｈ）３．２０（ｓ，３Ｈ）７．４１（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，２Ｈ）７．５１−７．７０（ｍ，４Ｈ）７．７２−７．８１（ｍ，２Ｈ）７．８３−８．０３（ｍ，４Ｈ）８．０７（ｓ，１Ｈ）１０．０２（ｓ，１Ｈ）１１．２８（ｓ，１Ｈ）
【実施例４４】
【０６０５】
Ｎ−（（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（５−メチルフラン−２−イル）フェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
【０６０６】
【化１０８】
0005947346.tif 000109
パートＡ．（Ｅ）−１−（（３−ブロモ−４−メトキシ−５−（５−メチルフラン−２−イル）フェニル）ジアゼニル）ピロリジンの調製
１−（（３−ブロモ−５−ヨード４−メトキシフェニル）ジアゼニル）ピロリジン（０．１５ｇ、０．３６６ｍｍｏｌ）と４，４，５，５−テトラメチル２−（５−メチルフラン−２−イル）−１，３，２−ジオキサボロラン（０．０７６ｇ、０．３６６ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＢと同じ方法で１８時間反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（０％から２５％）で溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得る。
【０６０７】
パートＢ．２−（３−ブロモ−５−ヨード−２−メトキシフェニル）−５−メチルフランの調製
パートＡの生成物（０．１０ｇ、０．２７５ｍｍｏｌ）を、溶剤としてアセトニトリルを使用し、実施例４３パートＤと同じ方法で、１００℃で２時間反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（０％から１０％）で溶出するＩｓｃｏ１２ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０６０８】
パートＣ．５−（３−ブロモ−４−メトキシ−５−（５−メチルフラン−２−イル）フェニル）−２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジンの調製
パートＢの生成物（０．０４５ｇ、０．１１４ｍｍｏｌ）と実施例２８パートＢの生成物（００３２ｇ、０１２ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＢと同じ方法で１８時間反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（１０％から２０％）で溶出するＩｓｃｏ４ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。
【０６０９】
パートＤ．Ｎ−（（６−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（５−メチルフラン−２−イル）フェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
パートＣの生成物（０．０３５ｇ、０．０７２ｍｍｏｌ）とＮ−（（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホアミド（０．０２８ｇ、０．０７９ｍｍｏｌ）とを実施例１パートＣと同じ方法で処理し、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（０％から２０％）で溶出するＩｓｃｏ４ｇシリカカートリッジで精製して標題化合物を得た。
【０６１０】
パートＥ．Ｎ−（（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（５−メチルフラン−２−イル）フェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
パートＤの生成物（０．０１５ｇ、０．０２４ｍｍｏｌ）を実施例３パートＢと同じ方法で反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  ２．３８（ｓ，３Ｈ）２．９６（ｓ，３Ｈ）３．２９（ｓ，３Ｈ）３．４７（ｓ，２Ｈ）４．１９（ｄ，Ｊ＝４．７８Ｈｚ，２Ｈ）６．２６（ｄ，Ｊ＝２．９４Ｈｚ，１Ｈ）６．５６（ｓ，１Ｈ）６．９０（ｄ，Ｊ＝３．３１Ｈｚ，１Ｈ）７．３８（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．５０（ｔ，Ｊ＝６．０７Ｈｚ，１Ｈ）７．５８（ｄ，Ｊ＝１．１０Ｈｚ，２Ｈ）７．７４（ｄ，Ｊ＝９．５６Ｈｚ，２Ｈ）７．８６（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）１１．１６（ｓ，１Ｈ）１１．２７（ｓ，１Ｈ）
【実施例４５】
【０６１１】
（Ｅ）−Ｎ’−（（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−（１．１−ジオキシドイソチアゾリジン−２−イル））−２’−メトキシビフェニル４−イル）メチレン）メタンスルホニルヒドラジドの調製
【０６１２】
【化１０９】
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パートＡ．ｔｅｒｔ−ブチル３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル  ４−メトキシフェニルカルバメートの調製
Ｎ−（３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）アセトアミド（２．２ｇ、７．３３ｍｍｏｌ）が入ったフラスコに、６ＮのＨＣｌ（２４．４ｍＬ、１４７ｍｍｏｌ）を加え、溶液を還流しながら２時間加熱した。冷却した溶液を飽和ＮａＨＣＯ３溶液で注意深く塩基性とし、酢酸エチルで抽出し、有機抽出物を合わせ、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、残渣を得、これをテトラヒドロフラン（３６．６ｍＬ）に溶解し、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボネート（１．８７ｍＬ、８．１ｍｍｏｌ）を加え、３時間還流し、冷却し、溶剤を真空除去し、粗生成物を得、これを３０％酢酸エチル／ヘキサンで溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０６１３】
パートＢ．２−（３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）イソチアゾリジン１，１−ジオキサイドの調製
パートＡの生成物（４４２ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍＬ）溶液に、トリフルオロ酢酸（５ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌を続け、溶剤を真空除去し、粗生成物を１：１の酢酸エチル／飽和ＮａＨＣＯ３に溶解した。相分離を行い、水相を酢酸エチルで抽出し、有機抽出物をブラインで洗浄し乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮した。ベンゼン（２．５ｍＬ）、次いでピリジン（０．３７ｍＬ、４．６ｍｍｏｌ）および３−クロロプロパン−１−スルホニルクロリド（０．１５ｍＬ、１．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で６時間攪拌を続けた。溶剤を真空除去し、粗残渣を真空下に１時間置き、２ＭのＮａＯＨ（３．０ｍＬ、６ｍｍｏｌ）を加え、溶液を４５℃で１８時間加熱した。冷却した溶液をＨ２Ｏで希釈し、酢酸エチルで抽出し、有機抽出物をブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、粗生成物を得、これを２５％酢酸エチル／ヘキサンで溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０６１４】
パートＣ．３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−（１．１−ジオキシドイソチアゾリジン−２−イル））−２’−メトキシビフェニル４−カルバルデヒドの調製
エタノール（１ｍＬ）およびトルエン（１ｍＬ）が入っているマイクロ波管に、パートＢの生成物（６５ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、４−ホルミルフェニルボロン酸（３５ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）および１ＭのＮａ２ＣＯ３（０．１８ｍＬ、０．１８ｍｍｏｌ）を加え、溶液をＮ２で１５分間脱ガスした。１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンパラジウム（ＩＩ）ジクロリドジクロロメタン複合体（７．３ｍｇ、９ｍｍｏｌ）を加え、溶液をさらに５分間脱ガスし、管を密閉し、マイクロ波で１００℃で３０分間加熱し、冷却し、１：１酢酸エチル／Ｈ２Ｏで希釈し、珪藻土を通してろ過した。相分離を行い、水相を酢酸エチルで抽出し、有機抽出物をブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、ろ過し、真空濃縮し、標題化合物を得た。
【０６１５】
パートＤ．（Ｅ）−Ｎ’−（（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−（１，１−ジオキシドイソチアゾリジン−２−イル））−２’−メトキシビフェニル４−イル）メチレン）メタンスルホニルヒドラジドの調製
パートＣの生成物（４５ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）のメタノール（０．５ｍＬ）溶液に、メタンスルホノヒドラジド（１３ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を素早く攪拌しながら加えた。３５℃で１時間攪拌した後、溶剤を真空除去し、粗生成物をジエチルエーテルに懸濁し、ろ過し、得られた固体をろ過によって集め、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．３９（ｓ，９Ｈ）２．３１−２．４５（ｍ，２Ｈ）、３．０９（ｓ，３Ｈ）、３．２１（ｓ，３Ｈ）、３．４８（ｔ，Ｊ＝７．５４Ｈｚ，２Ｈ）、３．７６（ｔ，Ｊ＝６．４３Ｈｚ，２Ｈ）、７．０２（ｄ，Ｊ＝２．５７Ｈｚ，１Ｈ）、７．１８（ｄ，Ｊ＝２．９４Ｈｚ，１Ｈ）、７．５８（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．７７（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、８．０５（ｓ，１Ｈ）、１１．１１（ｓ，１Ｈ）
【実施例４６】
【０６１６】
Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２−（１，１−ジオキシドイソチアゾリジン−２−イル））−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０６１７】
【化１１０】
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Ｎ−（６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２−（１，１−ジオキシドイソチアゾリジン−２−イル））−２−メトキシフェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド
実施例４５パートＢの生成物（５２ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）とＮ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（６４．８ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）とを実施例４３パートＣと同じ方法で反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（２０％から３０％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．４１（ｓ，９Ｈ）、２．３０−２．４５（ｍ，２Ｈ）、３．０８（ｓ，３Ｈ）、３．１８（ｓ，３Ｈ）、３．４９（ｔ，Ｊ＝７．５４Ｈｚ，２Ｈ）、３．７７（ｔ，Ｊ＝６．６２Ｈｚ，２Ｈ）、７．１５（ｄｄ，Ｊ＝２９．７８，２．５７Ｈｚ，２Ｈ）、７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．６４，２．０２Ｈｚ，１Ｈ）、７．６１−７．７６（ｍ，２Ｈ）、７．８６−８．０４（ｍ，３Ｈ）、１０．０３（ｓ，１Ｈ）
【実施例４７】
【０６１８】
Ｎ−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（６−（メチルスルホンアミド）ナフタレン−２−イル）フェニル）アセトアミドの調製
【０６１９】
【化１１１】
0005947346.tif 000112
Ｎ−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−５−（６−（メチルスルホンアミド）ナフタレン−２−イル）フェニル）アセトアミド
Ｎ−（３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）アセトアミド（２４ｍｇ、０．０８ｍｍｏｌ）とＮ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（６４ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とを、実施例４３パートＣと同じ方法で反応させ、油浴中、９０℃で１８時間加熱し、粗生成物を得、これを５％メタノール／クロロホルムで溶出するＩｓｃｏ４ｇシリカカートリッジで精製し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  １．３９（ｓ，９Ｈ）、２．０２（ｓ，３Ｈ）、３．０６（ｓ，３Ｈ）、３．１６（ｓ，３Ｈ）、７．３４−７．７６（ｍ，５Ｈ）、７．８４−８．００（ｍ，３Ｈ）、９．９１（ｓ，１Ｈ）
【実施例４８】
【０６２０】
５−（３−ブロモ−４−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル）ピリミジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオンの調製
【０６２１】
【化１１２】
0005947346.tif 000113
パートＡ．４−ヨード−２−（トリフルオロメチル）フェノールの調製
２−トリフルオロメチルフェノール（１０ｇ、６１．７ｍｍｏｌ）のメタノール（１２５ｍＬ）溶液を、水酸化ナトリウム（１３．８７ｇ、９３ｍｍｏｌ）を用い室温で処理し、均質になるまで攪拌した。混合物を氷浴で冷却し、ヨウ化ナトリウム（２．９６ｇ、７４ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで１０％次亜塩素酸ナトリウム（８４ｍＬ、１３６ｍｍｏｌ）を滴下した。これらの試薬は、３回に分け、連続的に３０分間で加えた。次いで、溶液に濃塩酸を滴下することによってｐＨ１に調整し、ブラインに注ぎ入れた。生成物を酢酸エチルで抽出し、真空濃縮し、酢酸エチル／ヘキサン（０％から５％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０６２２】
パートＢ．２−ブロモ−４−ヨード−６−（トリフルオロメチル）フェノールの調製
パートＡの生成物（１５．９ｇ、５５．２ｍｍｏｌ）のクロロホルム（２３０ｍＬ）溶液を、ブロモヒダントイン（８．６８ｇ、３０．４ｍｍｏｌ）を用い室温で処理し、１．５時間攪拌した。反応溶液を水洗し、真空濃縮し、ジクロロメタン／ヘキサン（５０％から１００％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０６２３】
パートＣ．１−ブロモ−５−ヨード−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）ベンゼンの調製
パートＢの生成物（１２．１２ｇ、３３．０ｍｍｏｌ）を実施例１パートＡと同じ方法で、６０℃で７時間反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（０％から２％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０６２４】
パートＤ．５−（３−ブロモ−４−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル）−２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジンの調製
パートＣの生成物（０．４０ｇ、１．０５ｍｍｏｌ）と実施例２８
パートＢの生成物（０．３３８ｇ、１．２６ｍｍｏｌ）とを、実施例１パートＢと同じ方法で反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（２％から５％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０６２５】
パートＥ．５−（３−ブロモ−４−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル）ピリミジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオンの調製
パートＤの生成物（０．０２７ｇ、０．０５８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１ｍＬ）溶液を、ジオキサン（１ｍＬ）中の４ＭのＨＣｌを用いて、室温で２時間処理した。析出物をろ過し、乾燥し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  ３．８８（ｓ，３Ｈ）７．９１（ｓ，１Ｈ）７．９３（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）８．１７（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）１１．３７（ｓ，２Ｈ）
【実施例４９】
【０６２６】
Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
【０６２７】
【化１１３】
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パートＡ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
管中の実施例４８パートＤの生成物（０．０７５ｇ、０．１６ｍｍｏｌ）のトルエン（１ｍＬ）およびエタノール（１ｍＬ）溶液を、Ｎ−（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミド（０．０６０ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）、１Ｍの炭酸ナトリウム溶液（０．２４ｍＬ、０．２４ｍｍｏｌ）、およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．００５５ｇ、０．００４７ｍｍｏｌ）で処理し、次いで窒素で溶液を溶液１５分間バブリングし、その後管を密封し、９０℃で２時間加熱した。溶液を冷却し、０．２５ＭのＨＣｌ溶液に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出し、真空濃縮し、メタノール／ジクロロメタン（０％から２％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０６２８】
パートＢ．Ｎ−（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３−テトラヒドロピリミジン−５−イル−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）フェニル）ナフタレン−２−イル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（０．６２ｇ、０．１０ｍｍｏｌ）の溶液を、実施例２パートＣと同じ方法で１時間反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  ３．０９（ｓ，３Ｈ）３．３２（ｓ，３Ｈ）７．４３（ｄｄ，Ｊ＝８．８２，２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．７４−７．７８（ｍ，２Ｈ）７．９１−８．０２（ｍ，５Ｈ）８．１３（ｓ，１Ｈ）１０．０７（ｓ，１Ｈ）１１．３１（ｄｄ，Ｊ＝６．２５，１．１０Ｈｚ，１Ｈ）１１．３６（ｄ，Ｊ＝１．４７Ｈｚ，１Ｈ）
【実施例５０】
【０６２９】
（Ｅ）−Ｎ−（４−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）スチリル）フェニル）メタンスルホンアミドの調製
【０６３０】
【化１１４】
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パートＡ．（Ｅ）−Ｎ−（４−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）スチリル）フェニル）メタンスルホンアミドの調製
実施例４８パートＤの生成物（０．０７５ｇ、０．１６ｍｍｏｌ）の溶液と（Ｅ）−４−（メチルスルホンアミド）スチリルボロン酸（０．０４２ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）とを実施例４９パートＡと同じ方法で反応させ、粗生成物を得、これをメタノール／ジクロロメタン（０％から２％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０６３１】
パートＢ．（Ｅ）−Ｎ−（４−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）スチリル）フェニル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（０．６４ｇ、０．１１ｍｍｏｌ）の溶液を、実施例２パートＣと同じ方法で１時間反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＣ−ｄ６）δｐｐｍ  ３．０３（ｓ，３Ｈ）３．８１（ｓ，３Ｈ）７．２１−７．４３（ｍ，４Ｈ）７．６５（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）７．８１（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．８９（ｄ，Ｊ＝５．８８Ｈｚ，１Ｈ）８．１３（ｄ，Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）９．９０（ｓ，１Ｈ）１１．３３（ｄ，Ｊ＝５．８８Ｈｚ，１Ｈ）１１．３６（ｄ，Ｊ＝１．１０Ｈｚ，１Ｈ）
【実施例５１】
【０６３２】
【化１１５】
0005947346.tif 000116
Ｎ−（（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）フェニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡ．Ｎ−（（６−（５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）フェニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−３−イル）メチル）−Ｎ−（２，４−ジメトキシベンジル）メタンスルホンアミドの調製
実施例４８パートＤの生成物（０．０９５ｇ、０．１９９ｍｍｏｌ）の溶液とＮ−（２，４−ジメトキシベンジル）−Ｎ−（（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミド（０．１１３ｇ、０．２２ｍｍｏｌ）とを、実施例４９パートＡと同じ方法を用い８５℃で反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（０％から２０％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０６３３】
パートＢ．Ｎ−（（６−（５−（２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）フェニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
パートＡの生成物（０．９７ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）の溶液を実施例２パートＣと同じ方法で１時間反応させ、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ  ２．９５（ｓ，３Ｈ）３．３２（ｓ，３Ｈ）４．４５（ｄ，Ｊ＝５．８８Ｈｚ，２Ｈ）７．６４（ｔ，Ｊ＝６．０７Ｈｚ，１Ｈ）７．７０（ｄｄ，Ｊ＝８．４６，１．４７Ｈｚ，１Ｈ）７．７３（ｓ，１Ｈ）７．８９（ｄ，Ｊ＝２．２１Ｈｚ，１Ｈ）７．９３（ｄｄ，Ｊ＝４．０４，１．８４Ｈｚ，２Ｈ）８．０５（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，１Ｈ）８．２６（ｄ，Ｊ＝１．４７Ｈｚ，１Ｈ）１１．３２（ｄ，Ｊ＝５．８８Ｈｚ，１Ｈ）１１．３６（ｓ，１Ｈ）
【実施例５２】
【０６３４】
Ｎ−（（６−（２−メトキシ−５−（１−（メチルスルホニル）−２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−３−（トリフルオロメチル）フェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
【０６３５】
【化１１６】
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パートＡ．Ｎ−（（６−（Ｓ−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシピリミジン−５−イル）−２−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）フェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
実施例４８パートＤの生成物（０．０８０ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）およびＮ−（（６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミド（０．０６８５ｇ、０．１８２ｍｍｏｌ）の溶液を、実施例４９パートＡと同じ方法で６０℃で３時間反応させ、粗生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキサン（０％から２０％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０６３６】
パートＢ．５−（３−（３−（アミノメチル）−１Ｈ−インデン−６−イル）−４−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル）ピリミジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオン塩酸塩の調製
ジオキサン（４ｍＬ）中のパートＡの生成物（０．０５２ｇ、０．０８ｍｍｏｌ）を、ジオキサン（３ｍＬ）中の４ＭのＨＣｌを用い、室温で４時間で処理し、真空濃縮し、標題化合物を得、これを直ちに次のステップで使用する。
【０６３７】
パートＣ．Ｎ−（（６−（２−メトキシ−５−（１−（メチルスルホニル）−２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−５−イル）−３−（トリフルオロメチル）フェニル）−１Ｈ−インデン−３−イル）メチル）メタンスルホンアミドの調製
氷浴で冷却したパートＢの生成物（０．０３７ｇ、０．０７９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３ｍＬ）溶液に、ジイソプロピルエチルアミン（０．０５５ｍＬ、０．３２ｍｍｏｌ）、次いでメタンスルホニルクロリド（０．００６８ｍＬ、０．０８７ｍｍｏｌ）を加えた。氷浴を取り外し、溶液を室温で２時間攪拌したが、何の反応も見られなかった。さらに０．００５μＬのメタンスルホニルクロリドを加え、溶液をさらに１時間攪拌した。溶液を１ＭのＨＣｌに注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出し、真空濃縮し、粗生成物を、メタノール／ジクロロメタン（０％から５％）で溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  ２．９６（ｓ，３Ｈ）３．３５（ｓ，３Ｈ）３．４９（ｄ，Ｊ＝１．１０Ｈｚ，２Ｈ）３．７４（ｓ，３Ｈ）４．１９（ｄ，Ｊ＝４．７８Ｈｚ，２Ｈ）６．５９（ｓ，１Ｈ）７．５０（ｔ，Ｊ＝６．０７Ｈｚ，１Ｈ）７．５４−７．５９（ｍ，１Ｈ）７．６１−７．６７（ｍ，１Ｈ）７．７２（ｓ，１Ｈ）７．７９（ｓ２Ｈ）８．０１（ｓ，１Ｈ）１２．１７（ｓ，１Ｈ）
【０６３８】
ＨＣＶポリメラーゼ阻害アッセイ
２倍段階希釈物（分別阻害アッセイ）または阻害剤のＩＣ５０を測る狭い範囲の希釈物（タイト結合アッセイ）を、２０ｍＭのｐＨ７．４のＴｒｉｓ−Ｃｌ、２ｍＭのＭｎＣｌ２、１ｍＭのジチオスレイトール、１ｍＭのエチレンジアミン四酢酸酢酸（ＥＤＴＡ）、６０から１２５μＭのＧＴＰおよび２０から５０ｎＭのΔ２１ＮＳ５Ｂ（ＨＣＶ株１Ｂ（ＢＫ，ジーンバンク受託番号Ｍ５８３３５、またはＨ７７、ジーンバンク受託番号ＡＦ０１１７５１））とともに、室温で１５分間温置した。２０μＭのＣＴＰ、２０μＭのＡＴＰ、１μＭの３Ｈ−ＵＴＰ（１０ｍＣｉ／ｕｍｏｌ）、５ｎＭのテンプレートＲＮＡおよび０．１Ｕ／μｌのリボヌクレアーゼ阻害剤（ＲＮａｓｉｎ，Ｐｒｏｍｅｇａ）の添加により反応を開始し、室温で２から４時間続けた。反応系の体積は、５０μＬであった。ｐＨ８．０の１０ｍＭのＴｒｉｓ−Ｃｌ、１ｍＭのＥＤＴＡ中の１体積の４ｍＭのスペルミンの添加により、反応を停止した。室温で少なくとも１５分温置した後、９６ウェルフォーマット中のＧＦ／Ｂフィルター（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ）を通してろ過することにより、析出したＲＮＡを捕獲した。フィルタープレートを、２ｍＭのスペルミン、１０ｍＭのｐＨ８．０のＴｒｉｓ−Ｃｌおよび１ｍＭのＥＤＴＡのそれぞれを２００μＬで３回ずつ、およびエタノールで２回洗浄した。空気乾燥後、３０μＬのＭｉｃｒｏｓｃｉｎｔ２０シンチレーションカクテル（Ｐａｃｋａｒｄ）をそれぞれのウェルに加え、保持ｃｐｍをシンチレーション測定により測定した。ＩＣ５０値を、阻害されていないコントロールおよび完全に阻害されているコントロールサンプルを使用して、２変数非線形回帰方程式で計算し、曲線に関する最小および最大値を求めた。
【０６３９】
タイト結合アッセイは、ＩＣ５０値をより正確に測定するために、分別阻害アッセイにおいて、０．００５μＭ未満のＩＣ５０値を示す化合物に関して行った。保持ｃｐｍを阻害剤濃度に対してプロットし、非線形回帰（ｒｅｆ１）を使用して式１に合わせ、ＩＣ５０値を得た。
【０６４０】
保持ｃｐｍ＝Ａ［ｓｑｒｔ｛（ＩＣ５０＋Ｉｔ−Ｅｔ）Λ２＋４＊ＩＣ５０＊Ｅｔ｝−（ＩＣ５０＋Ｉｔ−Ｅｔ）］（式１）
（式中、Ａ＝Ｖｍａｘ［Ｓ］／２（Ｋｍ＋［Ｓ］）；Ｉｔ＝総阻害剤濃度、およびＥｔ＝酵素の総活性濃度）
【０６４１】
Ｒｅｆ．Ｍｏｒｒｉｓｏｎ，Ｊ．Ｆ．およびＳ．Ｒ．Ｓｔｏｎｅ．１９８５。スローおよびタイト結合阻害剤による酵素の阻害の実験および分析の方法Ｃｏｍｍｅｎｔｓ  Ｍｏｌ．Ｃｅｌｌ．Ｂｉｏｐｈｙｓ２：３４７−３６８。
【０６４２】
使用したテンプレートＲＮＡの配列は以下の通りである。
【０６４３】
【化１１７】
0005947346.tif 000118
上記の方法で試験を行う場合、本発明の化合物は、ＨＣＶポリメラーゼ１Ａおよび／または１Ｂを阻害する。以下の表の記号は、以下の通りである。Ａ−−ＩＣ５０≦０．０１ｕＭ；Ｂ−−０．１ｕＭ≧ＩＣ５０＞０．０１ｕＭ；Ｃ−−１ｕＭ≧ＩＣ５０＞０．１ｕＭ；およびＤ−−ＩＣ５０＞１ｕＭ；ＮＤ−検出されず
表ＩＣ５０
【０６４４】
【表１】
0005947346.tif 000119
【０６４５】
ＨＣＶポリメラーゼ・レプリコン・アッセイ
２種類の安定なサブゲノムのレプリコン細胞系を、細胞培養における化合物の特徴づけのために使用した。１つは遺伝子型１ａ−Ｈ７７に由来し、１つは遺伝子型１ｂ−Ｃｏｎ１に由来する（Ａｐａｔｈ，ＬＬＣ，Ｓｔ  Ｌｏｕｉｓ，ＭＯから入手）。全てのレプリコン構築物は、ＳＣＩＥＮＣＥ２８５  １１０−３（１９９９）に記載されたものと類似のビシストロン性サブゲノムのレプリコンであった。遺伝子型１ａレプリコン構築物は、ＨＣＶ（１ａ−Ｈ７７）のＨ７７株から誘導される領域をコードするＮＳ３−ＮＳ５Ｂを含む（Ｊ．ＶＩＲＯＬ．７７：３１８１−９０（２００３））。また、レプリコンは、ホタル・ルシフェラーゼ・レポーターおよびネオマイシンホスホトランスフェラーゼ（Ｎｅｏ）選択マーカーを有する。ＦＭＤＶ２ａプロテアーゼにより分離されるこれらの２つのコード領域は、ビシストロン性レプリコン構築物の第一シストロンと、適応突然変異Ｅ１２０２Ｇ、Ｋ１６９１Ｒ、Ｋ２０４０ＲおよびＳ２２０４Ｉを付加した領域をコードするＮＳ３−ＮＳ５Ｂを含有する第二シストロンとを含む。１ｂ−Ｃｏｎ１レプリコン構築物は、ＮＳ３−ＮＳ５Ｂをコードする領域が１ｂ−Ｃｏｎ１株に由来すること、および適応突然変異がＥ１２０２Ｇ、Ｔ１２８０ＩおよびＳ２２０４Ｉであること以外は、１ａ−Ｈ７７レプリコンと同じである。レプリコン細胞系を、１０％（ｖ／ｖ）のウシ胎児血清（ＦＢＳ）、１００ＩＵ／ｍＬのペニシリン、１００ｍｇ／ｍＬのストレプトマイシン（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ）および２００ｍｇ／ｍＬのＧ４１８（Ｉｎｂｉｔｒｏｇｅｎ）を含むダルベッコ変法イーグル培地（ＤＭＥＭ）に保持した。
【０６４６】
ＨＣＶ複製に関する化合物の阻害効果を、ルシフェラーゼ・レポーター遺伝子の活性を測定することにより得た。要約すれば、レプリコン含有細胞を、９６ウェルプレートに、５％ＦＢＳを含む１００μＬのＤＭＥＭ中に１ウェル当たり５０００細胞の密度で播種した。１６から２４時間後、化合物を、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）で希釈し、一連の８つのハーフロッグ希釈で２００×ストックを作った。次いで連続希釈物をさらに５％ＦＢＳを含む培地で１００倍希釈した。阻害剤を含む培地を、５％ＦＢＳを持つ１００μＬのＤＭＥＭをすでに含む一晩細胞培養プレートに加えた。ヒト血漿の存在下で阻害活性を測定するアッセイで、一晩細胞培養プレートの培地を、４０％ヒト血漿および５％ＦＢＳを含むＤＭＥＭで置き換えた。細胞を、組織培養恒温槽内に３日間温置し、次いでＲＮＡ抽出のため溶解させた。ルシフェラーゼアッセイに関し、３０μＬのＰａｓｓｉｖｅ  Ｌｙｓｉｓ緩衝駅（Ｐｒｏｍｅｇａ）を各ウェルに加え、次いで、振動させながら細胞を溶解させ、プレートを１５分温置した。ルシフェリン溶液（５０から１００μＬ，Ｐｒｏｍｅｇａ）を各ウェルに加え、ルシフェラーゼ活性をＶｉｃｔｏｒ  ＩＩルミノメータ（Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ）で測定した。ＨＣＶ  ＲＮＡ複製の％阻害を、各化合物濃度に関して計算し、４−パラメータ理論計算式に適した非線形回帰曲線およびＧｒａｐｈＰａｄ  Ｐｒｉｓｍ４ソフトウェアを使用して、ＥＣ５０値を計算した。
【０６４７】
上記方法で試験した場合、本発明の化合物はＨＣＶポリメラーゼ１Ａおよび／または１Ｂを阻害する。以下の表の記号は、以下の通りである。Ａ−−ＥＣ５０≦０．０１μＭ；Ｂ−−０．１μＭ≧ＥＣ５０＞０．０１μＭ；Ｃ−−１μＭ≧ＥＣ５０＞０．１μＭ；およびＤ−−ＥＣ５０＞１μＭ；ＮＤ−検出されず
表ＥＣ５０
【０６４８】
【表２】
0005947346.tif 000120
【０６４９】
先に挙げた全ての参考文献（特許および非特許）は、参照により本特許出願に組み込まれる。これらの参考文献での検討は、単に、その著者による主張をまとめたものである。どの参考文献（または任意の参考文献の部分）も、関連のある従来技術（あらゆる従来技術）であるとすることは許されない。出願人は、引用文献の正確さおよび関連性を問う権利を留保する。