(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を具備し、
前記基板が、前記薄膜蒸着装置に対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、
前記パターニング・スリットシートは、互いに離隔されて配される第１アラインマーク及び第２アラインマークを含み、
前記基板は、互いに離隔されて配される第１アラインパターン及び第２アラインパターンを含み、
前記第１アラインパターンは前記基板の一方の端部に形成され、前記第２アラインパターンは前記基板の他方の端部に形成されることにより、前記第１、第２アラインパターンは前記第２方向に対して互いに離隔しており、
前記薄膜蒸着装置は、前記第１アラインマークと前記第１アラインパターンとを撮影する第１カメラアセンブリと、前記第２アラインマークと前記第２アラインパターンとを撮影する第２カメラアセンブリと、をさらに具備し、
前記第１アラインパターンは、前記第１方向に配列された複数個の第１マークからなり、
前記第２アラインパターンは、前記第１方向に配列された複数個の第２マークからなり、
前記第１アラインパターンと前記第２アラインパターンは、前記第２方向に離隔され、
前記第１カメラアセンブリ及び前記第２カメラアセンブリそれぞれは、前記第１アラインマーク及び第２アラインマークに対応するように、前記基板上に配され、
前記第１カメラアセンブリ及び前記第２カメラアセンブリによって撮影された情報を利用し、前記基板と前記パターニング・スリットシートとのアライン程度を判別する制御部をさらに具備し、
前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインパターンと前記第１アラインマークとの間の第１間隔、及び前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインパターンと前記第２アラインマークとの間の第２間隔を比較し、前記パターニング・スリットシートと前記基板との、前記第１方向に垂直である第２方向へのアラインを判別する
ことを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項２】
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、一体に形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３】
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、前記蒸着物質の移動経路をガイドする連結部材によって結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４】
前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシート間の空間を外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項３に記載の薄膜蒸着装置
【請求項５】
前記複数個の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項６】
前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルは、互いに対向する方向にチルトされていることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項７】
前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、
前記２列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルは、前記パターニング・スリットシートの第２側端部を向くように配され、
前記２列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルは、前記パターニング・スリットシートの第１側端部を向くように配されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項８】
前記第１マークまたは前記第２マークは、多角形になることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項９】
前記第１マークまたは前記第２マークは、三角形になることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１０】
前記第１アラインパターンと前記第２アラインパターンは、歯車状になることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１１】
前記第１カメラアセンブリと前記第２カメラアセンブリとが配列された方向は、前記第１方向に対して垂直であることを特徴とする請求項１ないし請求項１０のいずれか１項に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１２】
前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインマークと、前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインマークと、を比較し、前記第１方向に対して、前記パターニング・スリットシートが傾いているか否かを判別することを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１３】
前記制御部は、前記撮影された第１アラインマークの幅が、前記撮影された第２アラインマークの幅よりさらに広い場合、前記第１方向を基準として、前記第２アラインマーク側に傾いていると判別し、前記撮影された第１アラインマークの幅が、前記撮影された第２アラインマークの幅よりさらに狭い場合、前記第１方向を基準として、前記第１アラインマーク側に傾いていると判別することを特徴とする請求項１２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１４】
前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインパターンと、前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインパターンと、を比較し、前記第１方向に対して、前記基板が傾いているか否かを判別することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１５】
前記制御部は、前記撮影された第１アラインパターンの幅が、前記撮影された第２アラインパターンの幅よりさらに広い場合、前記第１方向を基準として、前記第２アラインパターン側に傾いていると判別し、前記撮影された第１アラインパターンの幅が、前記撮影された第２アラインパターンの幅よりさらに狭い場合、前記第１方向を基準として、前記第１アラインパターン側に傾いていると判別することを特徴とする請求項１４に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１６】
前記制御部によって判別された前記アライン程度によって、前記基板または前記パターニング・スリットシートを移動させ、前記基板と前記パターニング・スリットシートとをアラインさせることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１７】
基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に沿って複数個のパターニング・スリットが配されるパターニング・スリットシートと、
前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板を具備する遮断板アセンブリと、を含み、
前記薄膜蒸着装置は、前記基板と離隔されるように配され、
前記薄膜蒸着装置と前記基板は、互いに相対的に移動し、
前記パターニング・スリットシートは、互いに離隔されて配される第１アラインマーク及び第２アラインマークを含み、
前記基板は、互いに離隔されて配される第１アラインパターン及び第２アラインパターンを含み、
前記第１アラインパターンは前記基板の一方の端部に形成され、前記第２アラインパターンは前記基板の他方の端部に形成されることにより、前記第１、第２アラインパターンは前記第１方向に対して互いに離隔しており、
前記薄膜蒸着装置は、前記第１アラインマークと前記第１アラインパターンとを撮影する第１カメラアセンブリと、前記第２アラインマークと前記第２アラインパターンとを撮影する第２カメラアセンブリと、をさらに具備し、
前記第１アラインパターンは、前記第１方向に垂直である第２方向に配列された複数個の第１マークからなり、
前記第２アラインパターンは、前記第２方向に配列された複数個の第２マークからなり、
前記第１アラインパターンと前記第２アラインパターンは、前記第１方向に離隔され、
前記第１カメラアセンブリ及び前記第２カメラアセンブリのそれぞれは、前記第１アラインマーク及び第２アラインマークに対応するように、前記基板上に配され、
前記第１カメラアセンブリ及び前記第２カメラアセンブリによって撮影された情報を利用し、前記基板と前記パターニング・スリットシートとのアライン程度を判別する制御部をさらに具備し、
前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインパターンと前記第１アラインマークとの間の第１間隔、及び前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインパターンと前記第２アラインマークとの間の第２間隔を比較し、前記パターニング・スリットシートと前記基板との、前記第１方向へのアラインを判別することを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項１８】
前記複数枚の遮断板それぞれは、前記第１方向および前記第２方向と実質的に垂直である第３方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１９】
前記遮断板アセンブリは、複数枚の第１遮断板を具備する第１遮断板アセンブリと、複数枚の第２遮断板を具備する第２遮断板アセンブリと、を含むことを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２０】
前記複数枚の第１遮断板及び前記複数枚の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２１】
前記蒸着源と前記遮断板アセンブリは、互いに離隔されたことを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２２】
前記遮断板アセンブリと前記パターニング・スリットシートは、互いに離隔されたことを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２３】
前記第１マークまたは前記第２マークは、多角形になることを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２４】
前記第１マークまたは前記第２マークは、三角形になることを特徴とする請求項２３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２５】
前記第１アラインパターンと前記第２アラインパターンは、歯車状になることを特徴とする請求項２３に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２６】
前記第１カメラアセンブリと前記第２カメラアセンブリとが配列された方向は、前記第２方向に対して垂直であることを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２７】
前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインマークと、前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインマークと、を比較し、前記第２方向に対して、前記パターニング・スリットシートが傾いているか否かを判別することを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２８】
前記制御部は、前記撮影された第１アラインマークの幅が、前記撮影された第２アラインマークの幅よりさらに広い場合、前記第２方向を基準として、前記第２アラインマーク側に傾いていると判別し、前記撮影された第１アラインマークの幅が、前記撮影された第２アラインマークの幅よりさらに狭い場合、前記第２方向を基準として、前記第１アラインマーク側に傾いていると判別することを特徴とする請求項２１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２９】
前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインパターンと、前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインパターンと、を比較し、前記第２方向に対して、前記基板が傾いているか否かを判別することを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３０】
前記制御部は、前記撮影された第１アラインパターンの幅が、前記撮影された第２アラインパターンの幅よりさらに広い場合、前記第２方向を基準として、前記第２アラインパターン側に傾いていると判別し、前記撮影された第１アラインパターンの幅が、前記撮影された第２アラインパターンの幅よりさらに狭い場合、前記第２方向を基準として、前記第１アラインパターン側に傾いていると判別することを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３１】
前記制御部によって判別された前記アライン程度によって、前記基板または前記パターニング・スリットシートを移動させ、前記基板と前記パターニング・スリットシートとをアラインさせることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置のうち、有機発光表示装置は、視野角が広く、コントラストにすぐれるのみならず、応答速度が速いという長所を有しており、次世代ディスプレイ装置として注目を集めている。
【０００３】
有機発光表示装置は、互いに対向した第１電極及び第２電極間に、発光層及びこれを含む中間層を具備する。このとき、前記電極及び中間層は、さまざまな方法で形成されうるが、そのうちの１つの方法が独立蒸着方式である。蒸着法を利用して、有機発光表示装置を製作するためには、薄膜などが形成される基板面に、形成される薄膜などのパターンと同じパターンを有するファイン・メタルマスク（ＦＭＭ：fine metal mask）を密着させ、薄膜などの材料を蒸着して所定パターンの薄膜を形成する。
【０００４】
しかし、かようなファイン・メタルマスクを利用する方法は、５Ｇ以上のマザーガラス（mother-glass）を使用する大面積化には不適であるという限界がある。すなわち、大面積マスクを使用すれば、自重によってマスクの反り現象が発生するが、この反り現象によるパターンの歪曲が発生しうるためである。これは、パターンに高精細を要求する現在の傾向と背馳するのである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の一側面は、従来のファイン・メタルマスクを利用した蒸着法の限界を克服するためのものであり、大型基板の量産工程にさらに適し、蒸着工程中に、基板と薄膜蒸着装置との精密なアラインが可能な薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を具備し、前記基板が、前記薄膜蒸着装置に対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記パターニング・スリットシートは、互いに離隔されて配される第１アラインマーク及び第２アラインマークを含み、前記基板は、互いに離隔されて配される第１アラインパターン及び第２アラインパターンを含み、前記薄膜蒸着装置は、前記第１アラインマークと前記第１アラインパターンとを撮影する第１カメラアセンブリと、前記第２アラインマークと前記第２アラインパターンとを撮影する第２カメラアセンブリと、をさらに具備する。
【０００７】
本発明において、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、一体に形成されうる。
本発明において、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、前記蒸着物質の移動経路をガイドする連結部材によって結合されて一体に形成されうる。
【０００８】
本発明において、前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシート間の空間を外部から密閉するように形成されうる。
本発明において、前記複数個の蒸着源ノズルは、所定角度チルト（tilt）されるように形成されうる。
【０００９】
本発明において、前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルは、互いに対向する方向にチルトされうる。
本発明において、前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニング・スリットシートの第２側端部を向くように配され、前記２列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニング・スリットシートの第１側端部を向くように配されうる。
【００１０】
本発明において、前記第１アラインパターンは、前記第１方向に配列された複数個の第１マークからなり、前記第２アラインパターンは、前記第１方向に配列された複数個の第２マークからなり、前記第１アラインパターンと前記第２アラインパターンは、前記第２方向に離隔されうる。
【００１１】
本発明において、前記第１マークまたは前記第２マークは、多角形になりうる。
本発明において、前記第１マークまたは前記第２マークは、三角形になりうる。
本発明において、前記第１アラインパターンと前記第２アラインパターンは、歯車状になりうる。
【００１２】
本発明において、前記第１カメラアセンブリと前記第２カメラアセンブリとが配列された方向は、前記第１方向に対して垂直でありうる。
本発明において、前記第１カメラアセンブリ及び前記第２カメラアセンブリそれぞれは、前記第１アラインマーク及び第２アラインマークに対応するように、前記基板上に配されうる。
【００１３】
本発明において、前記第１カメラアセンブリ及び前記第２カメラアセンブリによって撮影された情報を利用し、前記基板と前記パターニング・スリットシートとのアライン（位置合わせ）程度を判別する制御部をさらに具備できる。
【００１４】
本発明において、前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインパターンと前記第１アラインマークとの間の第１間隔、及び前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインパターンと前記第２アラインマートとの間の第２間隔を比較し、前記パターニング・スリットシートと前記基板との、前記第１方向に垂直である第２方向へのアラインを判別できる。
【００１５】
本発明において、前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインマークと、前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインマークと、を比較し、前記第１方向に対して、前記パターニング・スリットシートが傾いているか否かを判別できる。
【００１６】
本発明において、前記制御部は、前記撮影された第１アラインマークの幅が、前記撮影された第２アラインマークの幅よりさらに広い場合、前記第１方向を基準として、前記第２アラインマーク側に傾いていると判別し、前記撮影された第１アラインマークの幅が、前記撮影された第２アラインマークの幅よりさらに狭い場合、前記第１方向を基準として、前記第１アラインマーク側に傾いていると判別できる。
【００１７】
本発明において、前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインパターンと、前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインパターンと、を比較し、前記第１方向に対して、前記基板が傾いているか否かを判別できる。
【００１８】
本発明において、前記制御部は、前記撮影された第１アラインパターンの幅が、前記撮影された第２アラインパターンの幅よりさらに広い場合、前記第１方向を基準として、前記第２アラインパターン側に傾いていると判別し、前記撮影された第１アラインパターンの幅が、前記撮影された第２アラインパターンの幅よりさらに狭い場合、前記第１方向を基準として、前記第１アラインパターン側に傾いていると判別できる。
【００１９】
本発明において、前記制御部によって判別された前記アライン程度によって、前記基板または前記パターニング・スリットシートを移動させ、前記基板と前記パターニング・スリットシートとをアラインさせることができる。
【００２０】
本発明の他の実施形態による薄膜蒸着装置は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に沿って複数個のパターニング・スリットが配されるパターニング・スリットシートと、前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板を具備する遮断板アセンブリと、を含み、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と離隔されるように配され、前記薄膜蒸着装置と前記基板は、互いに相対的に移動し、前記パターニング・スリットシートは、互いに離隔されて配される第１アラインマーク及び第２アラインマークを含み、前記基板は、互いに離隔されて配される第１アラインパターン及び第２アラインパターンを含み、前記薄膜蒸着装置は、前記第１アラインマークと前記第１アラインパターンとを撮影する第１カメラアセンブリと、前記第２アラインマークと前記第２アラインパターンとを撮影する第２カメラアセンブリと、をさらに具備できる。
【００２１】
本発明において、前記複数枚の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延びるように形成されうる。
本発明において、前記遮断板アセンブリは、複数枚の第１遮断板を具備する第１遮断板アセンブリと、複数枚の第２遮断板を具備する第２遮断板アセンブリと、を含むことができる。
【００２２】
本発明において、前記複数枚の第１遮断板及び前記複数枚の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延びるように形成されうる。
本発明において、前記複数枚の第１遮断板及び前記複数枚の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配されうる。
【００２３】
本発明において、前記蒸着源と前記遮断板アセンブリは、互いに離隔されうる。
本発明において、前記遮断板アセンブリと前記パターニング・スリットシートは、互いに離隔されうる。
本発明において、前記第１アラインパターンは、前記第１方向に配列された複数個の第１マークからなり、前記第２アラインパターンは、前記第１方向に配列された複数個の第２マークからなり、前記第１アラインパターンと前記第２アラインパターンは、前記第２方向に離隔されうる。
【００２４】
本発明において、前記第１マークまたは前記第２マークは、多角形になりうる。
本発明において、前記第１マークまたは前記第２マークは、三角形になりうる。
本発明において、前記第１アラインパターンと前記第２アラインパターンは、歯車状になりうる。
【００２５】
本発明において、前記第１カメラアセンブリと前記第２カメラアセンブリとが配列された方向は、前記第１方向に対して垂直でありうる。
本発明において、前記第１カメラアセンブリ及び前記第２カメラアセンブリそれぞれは、前記第１アラインマーク及び第２アラインマークに対応するように、前記基板上に配されうる。
【００２６】
本発明において、前記第１カメラアセンブリ及び前記第２カメラアセンブリによって撮影された情報を利用し、前記基板と前記パターニング・スリットシートとのアライン程度を判別する制御部をさらに具備できる。
【００２７】
本発明において、前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインパターンと前記第１アラインマークとの間の第１間隔、及び前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインパターンと前記第２アラインマークトとの間の第２間隔を比較し、前記パターニング・スリットシートと前記基板との、前記第１方向に垂直である第２方向へのアラインを判別できる。
【００２８】
本発明において、前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインマークと、前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインマークと、を比較し、前記第１方向に対して、前記パターニング・スリットシートが傾いているか否かを判別できる。
【００２９】
本発明において、前記制御部は、前記撮影された第１アラインマークの幅が、前記撮影された第２アラインマークの幅よりさらに広い場合、前記第１方向を基準として、前記第２アラインマーク側に傾いていると判別し、前記撮影された第１アラインマークの幅が、前記撮影された第２アラインマークの幅よりさらに狭い場合、前記第１方向を基準として、前記第１アラインマーク側に傾いていると判別できる。
【００３０】
本発明において、前記制御部は、前記第１カメラアセンブリによって撮影された前記第１アラインパターンと、前記第２カメラアセンブリによって撮影された前記第２アラインパターンと、を比較し、前記第１方向に対して、前記基板が傾いているか否かを判別できる。
【００３１】
本発明において、前記制御部は、前記撮影された第１アラインパターンの幅が、前記撮影された第２アラインパターンの幅よりさらに広い場合、前記第１方向を基準として、前記第２アラインパターン側に傾いていると判別し、前記撮影された第１アラインパターンの幅が、前記撮影された第２アラインパターンの幅よりさらに狭い場合、前記第１方向を基準として、前記第１アラインパターン側に傾いていると判別できる。
【００３２】
本発明において、前記制御部によって判別された前記アライン程度によって、前記基板または前記パターニング・スリットシートを移動させ、前記基板と前記パターニング・スリットシートとをアラインさせることができる。
【００３３】
本発明の一実施形態による有機発光表示装置の製造方法は、基板上に薄膜を形成する薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法において、前記基板が、前記薄膜蒸着装置に対して所定程度離隔されるように配される段階と、前記薄膜蒸着装置と前記基板とのうちいずれか一方が他方に対して相対的に移動しつつ、前記薄膜蒸着装置から放射される蒸着物質が、前記基板上に蒸着される段階と、前記薄膜蒸着装置と前記基板との相対移動中、前記薄膜蒸着装置と前記基板とをアラインさせる段階と、を含むことができる。
【００３４】
本発明において、前記蒸着物質が、前記基板に蒸着される段階は、前記基板が、前記薄膜蒸着装置に対して相対的に移動しつつ、前記薄膜蒸着装置から放射される蒸着物質が、前記基板上に連続的に蒸着されうる。
本発明において、前記アライン段階は、前記基板に配されたアラインマークと、前記薄膜蒸着装置に配されたアラインパターンと、をカメラアセンブリで撮影する段階と、前記撮影されたアラインマークと、前記撮影されたアラインパターンと、を比較し、前記基板と前記薄膜蒸着装置とのアライン程度を判別する段階と、前記アライン程度によって、前記基板または前記薄膜蒸着装置を移動させ、前記基板と前記薄膜蒸着装置とをアラインさせる段階と、を含むことができる。
【発明の効果】
【００３５】
本発明の薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法によれば、製造が容易であり、大型基板量産工程に容易に適用され、製造収率及び蒸着効率が向上し、蒸着物質のリサイクルが容易であり、蒸着工程で、基板と薄膜蒸着装置との精密なアラインが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を含む薄膜蒸着システム構成図である。
【図２】図１の変形例を図示したシステム構成図である。
【図３】本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示した斜視図である。
【図４】図３の薄膜蒸着装置の概略的な側断面図である。
【図５】図３の薄膜蒸着装置の概略的な平断面図である。
【図６】基板とパターニング・スリットシートとの配列を示す平面図である。
【図７】基板とパターニング・スリットシートとが第１方向に沿ってアラインされた場合のアラインパターンとアラインマークとの配列である。
【図８】基板がＸ軸に移動した場合のアラインパターンとアラインマークとの配列である。
【図９】基板がθ方向に位置ずれした場合のアラインパターンとアラインマークとの配列である。
【図１０】本発明の他の実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示した斜視図である。
【図１１】本発明のさらに他の実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示した斜視図である。
【図１２】本発明のさらに他の実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示した斜視図である。
【図１３】図１２の薄膜蒸着装置の概略的な側断面図である。
【図１４】図１２の薄膜蒸着装置の概略的な平断面図である。
【図１５】本発明のさらに他の実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示した斜視図である。
【図１６】本発明による薄膜蒸着装置で製造されうる有機発光表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、添付された図面に図示された本発明の実施形態を参照しつつ、本発明について詳細に説明する。図面での要素の形状及びサイズなどは、さらに明確な説明のために誇張され、図面上の同じ符号で表示される要素は、同じ要素である。
図１は、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を含んだ薄膜蒸着システム構成図であり、図２は、図１の変形例を図示したものである。
【００３８】
図１を参照すれば、本発明の一実施形態による薄膜蒸着システムは、ローディング部７１０、蒸着部７３０、アンローディング部７２０、第１循環部６１０及び第２循環部６２０を含む。
ローディング部７１０は、第１ラック７１２と、導入ロボット７１４と、導入室７１６と、第１反転室７１８と、を含むことができる。
【００３９】
第１ラック７１２には、蒸着がなされる前の基板５００が多数枚積載されており、導入ロボット７１４は、前記第１ラック７１２から基板５００を取って、第２循環部６２０から移送されてきた静電チャック６００に基板５００を載せた後、基板５００が付着された静電チャック６００を導入室７１６に移す。
【００４０】
導入室７１６に隣接するように１反転室７１８が備わり、第１反転室７１８に位置した第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させ、静電チャック６００を蒸着部７３０の第１循環部６１０に装着する。
図１から分かるように、導入ロボット７１４は、静電チャック６００の上面に基板５００を載せ、この状態で、静電チャック６００は、導入室７１６に移送され、第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させることによって、蒸着部７３０では、基板５００が下を向くように位置する。
【００４１】
アンローディング部７２０の構成は、前述のローディング部７１０の構成と反対になされる。すなわち、蒸着部７３０を経た基板５００及び静電チャック６００を、第２反転室７２８で、第２反転ロボット７２９が反転させて搬出室７２６に移送し、搬出ロボット７２４が搬出室７２６から基板５００及び静電チャック６００を取り出した後、基板５００を静電チャック６００から分離して第２ラック７２２に積載する。基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０を介してローディング部７１０に回送される。
【００４２】
しかし、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではなく、基板５００が静電チャック６００に最初固定されるときから、静電チャック６００の下面に基板５００を固定させ、そのまま蒸着部７３０に移送させることもできる。その場合、例えば、第１反転室７１８及び第１反転ロボット７１９、並びに第２反転室７２８及び第２反転ロボット７２９は不要となる。
【００４３】
蒸着部７３０は、少なくとも１つの蒸着用チャンバを具備する。図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は、第１チャンバ７３１を具備し、この第１チャンバ７３１内に、複数の薄膜蒸着装置１００，２００，３００，４００が配される。図１に図示された本発明の望ましい一実施形態によれば、前記第１チャンバ７３１内に、第１薄膜蒸着装置１００、第２薄膜蒸着装置２００、第３薄膜蒸着装置３００及び第４薄膜蒸着装置４００の４つの薄膜蒸着装置が設けられているが、その数は、蒸着物質及び蒸着条件によって可変可能である。前記第１チャンバ７３１は、蒸着が進められる間、真空に維持される。
【００４４】
また、図２による本発明の他の実施形態によれば、前記蒸着部７３０は、互いに連繋された第１チャンバ７３１及び第２チャンバ７３２を含み、第１チャンバ７３１には、第１薄膜蒸着装置１００及び第２薄膜蒸着装置２００が、第２チャンバ７３２には、第３薄膜蒸着蒸着３００及び第４薄膜蒸着装置４００が配されうる。このとき、チャンバの数が追加されうることは言うまでもない。
【００４５】
一方、図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記基板５００が固定された静電チャック６００は、第１循環部６１０によって、少なくとも蒸着部７３０に、望ましくは、前記ローディング部７１０、蒸着部７３０及びアンローディング部７２０に順次移動し、前記アンローディング部７２０で基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０によって、前記ローディング部７１０で送り戻される。
【００４６】
前記第１循環部６１０は、前記蒸着部７３０を通過するとき、前記第１チャンバ７３１を貫通するように備わり、前記第２循環部６２０は、静電チャックが移送されるように備わる。
図３は、本発明の薄膜蒸着装置の一実施形態を概略的に図示した斜視図であり、図４は、図３の薄膜蒸着装置の概略的な側面図であり、図５は、図３の薄膜蒸着装置の概略的な平面図である。
【００４７】
図３ないし図５を参照すれば、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、パターニング・スリットシート１５０、第１カメラアセンブリ１６１及び第２カメラアセンブリ１６２、並びに制御部１７０を含む。
詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５が、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を通過し、基板５００に所望のパターンに蒸着されるために、基本的に、第１チャンバ７３１（図１）内部は、ＦＭＭ（fine metal mask）蒸着法と同じ高真空状態を維持しなければならない。また、パターニング・スリットシート１５０の温度が、蒸着源１１０の温度より十分に低くなければならない（約１００゜以下）。なぜならば、パターニング・スリットシート１５０の温度が十分に低くなってこそ、温度によるパターニング・スリットシート１５０の熱膨張問題を最小化できるからである。
【００４８】
かような第１チャンバ７３１内には、被蒸着体である基板５００が配される。前記基板５００は、平板表示装置用基板になりうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラス（mother-glass）のような大面積基板が適用されうる。
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が、薄膜蒸着装置１００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進められることを一特徴とする。
【００４９】
詳細には、既存のＦＭＭ蒸着法では、ＦＭＭサイズが基板サイズと同一に形成されねばならない。従って、基板サイズが増大するほど、ＦＭＭも大型化され、それによって、ＦＭＭ製作が容易ではなく、ＦＭＭを引っ張って、精密なパターンにアライン（align）させるのも容易ではないという問題点が存在した。
【００５０】
かような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００は、薄膜蒸着装置１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着がなされることを一特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着装置１００と対向するように配された基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着を行う。すなわち、基板５００が、図６の矢印Ａ方向（第１方向）に移動しつつ、スキャニング（scanning）方式で蒸着が行われるのである。
【００５１】
本発明の薄膜蒸着装置１００では、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニング・スリットシート１５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着装置１００の場合、基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ、連続的に、すなわちスキャニング方式で蒸着を行うために、パターニング・スリットシート１５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板５００の長さよりはるかに短く形成できるのである。このように、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニング・スリットシート１５０を設けることができるために、本発明のパターニング・スリットシート１５０は、その製造が容易である。すなわち、パターニング・スリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引っ張り作業及び溶接作業、移動作業及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニング・スリットシート１５０が、ＦＭＭ蒸着法に比べて有利である。またこれは、ディスプレイ装置が大型化されるほどさらに有利になる。
【００５２】
一方、チャンバ内で、前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。前記蒸着源１１０内に収納されている蒸着物質１１５が気化されることによって、基板５００に蒸着がなされる。
詳細には、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１２と、ルツボ１１２を加熱させ、ルツボ１１２内部に充填された蒸着物質１１５を、ルツボ１１２の一側、詳細には、蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるための冷却ブロック１１１と、を含む。冷却ブロック１１１は、ルツボ１１２からの熱が、外部、すなわち第１チャンバ内部への発散を最大限抑制するためのものであり、この冷却ブロック１１１には、ルツボ１１１を加熱させるヒータ（図示せず）が含まれている。
【００５３】
蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０から基板５００に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｙ軸方向、すなわち基板５００のスキャン方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数個の蒸着源ノズル１２１は、等間隔に形成されうる。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、かような蒸着源ノズル部１２０を通過し、被蒸着体である基板５００側に向かうのである。このように、蒸着源ノズル部１２０上に、Ｙ軸方向すなわち基板５００のスキャン方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される場合、パターニング・スリットシート１５０のそれぞれのパターニング・スリット１５１を通過する蒸着物質によって形成されるパターンのサイズは、蒸着源ノズル１２１の１つのサイズにのみ影響を受けるので（すなわち、Ｘ軸方向には、蒸着源ノズル１２１が一つだけ存在する）、陰影（shadow）が発生しない。また、多数個の蒸着源ノズル１２１がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間にフラックス（flux）差が発生しても、その差が相殺され、蒸着均一度が一定に維持されるという効果を得ることができる。
【００５４】
一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備わる。フレーム１５５は、ほぼ窓枠のような形態に形成され、その内側に、パターニング・スリットシート１５０が結合される。そして、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って、複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を通過し、被蒸着体である基板５００側に向かう。このとき、前記パターニング・スリットシート１５０は、従来のＦＭＭ、特にストライプ・タイプ（stripe type）のマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを介して製作されうる。このとき、蒸着源ノズル１２１の総個数より、パターニング・スリット１５１の総個数がさらに多く形成されうる。
【００５５】
一方、前述の蒸着源１１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０）と、パターニング・スリットシート１５０は、互いに一定程度離隔されるように形成され、蒸着源１１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０）と、パターニング・スリットシート１５０は、第１連結部材１３５によって互いに連結されうる。すなわち、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０が、第１連結部材１３５によって連結され、互いに一体に形成されうるのである。ここで、第１連結部材１３５は、蒸着源ノズル１２１を介して排出される蒸着物質を分散させないように、蒸着物質の移動経路をガイドすることができる。図面には、第１連結部材１３５が蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０の左右方向にのみ形成され、蒸着物質のＸ軸方向だけをガイドすると図示されているが、これは、図示の便宜のためのものであり、本発明の思想は、これにのみ制限されるものではなく、第１連結部材１３５がボックス状の密閉型に形成され、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向への移動を同時にガイドすることもできる。
【００５６】
前述のように、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように、薄膜蒸着装置１００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニング・スリットシート１５０は、基板５００から一定程度離隔されるように形成される。
【００５７】
詳細には、従来のＦＭＭ蒸着法では、基板に陰影を生じさせないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、そのように、基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないために、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。従って、ディスプレイ装置が大型化されることによって、マスクのサイズも大きくならなければならないが、かような大型マスクを形成することが容易ではないという問題点が存在した。
【００５８】
かような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００では、パターニング・スリットシート１５０を、被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔されるように配する。
かような本発明によって、マスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着を行うことにより、マスク製作が容易になるという効果を得ることができる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果を得ることができる。また、工程で、基板とマスクとを密着させる時間が不要であるために、製造速度が速まるという効果を得ることができる。
【００５９】
本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００は、基板５００とパターニング・スリットシート１５０とのアラインのために、第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３、第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３、第１カメラアセンブリ１６１及び第２カメラアセンブリ１６２、並びに制御部１７０を具備できる。
【００６０】
第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３は、基板５００の移送方向Ｐに沿って、基板５００上に形成される。第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３は、互いに離隔されて基板５００の両端部に形成されうる。第１アラインパターン５０２は、基板５００の移送方向Ｐに沿って配列された複数個の第１マーク５０２ａからなり、第２アラインパターン５０３は、前記移送方向Ｐに沿って配列された複数個の第２マーク５０３ａからなりうる。第１マーク５０２ａ及び第２マーク５０３ａは、多角形であって、図３に図示されているように、直角三角形でありうる。第１マーク５０２ａ及び第２マーク５０３ａが直角三角形である場合、図３に図示されているように、斜辺が基板５００の外郭部を向くように配されうる。この場合、第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３は、歯車状でありうる。
【００６１】
第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３は、パターニング・スリットシート１５０の両端部に形成されうる。第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３は、前記移送方向Ｐに垂直である方向（第２方向）に互いに離隔されて形成されうる。第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３は、多角形であって、図３に図示されているように、直角三角形でありうる。第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３が直角三角形である場合、図３に図示されているように、斜辺がパターニング・スリット１５１に向かうように形成されうる。
【００６２】
基板５００とパターニング・スリットシート１５０とが正しくアラインされた場合、第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３は、第１アラインパターン５０２と第２アラインパターン５０３との間に位置する。これについては後述する。
【００６３】
第１カメラアセンブリ１６１は、第１アラインマーク１５２に対応するように、基板５００上に配され、第２カメラアセンブリ１６２は、第２アラインマーク１５３に対応するように、基板５００上に配されうる。第１カメラアセンブリ１６１は、基板５００上で、第１アラインパターン５０２と第１アラインマーク１５２とを撮影し、第２カメラアセンブリ１６２は、基板５００上で、第２アラインパターン５０２と第２アラインマーク１５２とを撮影できる。基板５００は、透明であるので、第１カメラアセンブリ１６１及び第２カメラアセンブリ１６２が、基板５００を介して、第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３を撮影することが可能である。第１カメラアセンブリ１６１及び第２カメラアセンブリ１６２が配列された方向は、前記移送方向Ｐに垂直である方向（第２方向）でありうる。
【００６４】
制御部１７０は、第１カメラアセンブリ１６１及び第２カメラアセンブリ１６２によって撮影された情報を分析し、基板５００とパターニング・スリットシート１５０とのアライン程度を判別し、前記アライン程度によって、基板５００またはパターニング・スリットシート１５０を移動させることができる駆動部（図示せず）を制御できる。
図６ないし図９を参照して、基板５００とパターニング・スリットシート１５０とのアラインについて説明する。
【００６５】
図６は、第１カメラアセンブリ１６１及び第２カメラアセンブリ１６２から見た基板５００とパターニング・スリットシート１５０との平面図である。
図６を参照すれば、基板５００は、Ｙ軸方向に移送される。第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３は、基板５００の移送方向であるＹ方向と平行するように形成され、第１アラインパターン５０２と第２アラインパターン５０３は、Ｙ方向に垂直である方向（第２方向）に互いに離隔され、基板５００の両端部に配されうる。
【００６６】
パターニング・スリットシート１５０上に形成された第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３は、前記第２方向に互いに離隔されており、第１アラインパターン５０２と第２アラインパターン５０３との間に配されうる。
図７は、基板５００とパターニング・スリットシート１５０とが正しくアラインされた状態の第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３と、第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３と、を図示している。
【００６７】
図７を参照すれば、第１カメラアセンブリ１６１の撮像素子１６１ａと、第２カメラアセンブリ１６２の撮像素子１６２ａは、前記第２方向（Ｘ軸方向）に沿って配され、第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３と、第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３と、を撮影する。基板５００とパターニング・スリットシート１５０とが正しくアラインされた状態である場合、第１アラインパターン５０２と第１アラインマーク１５２との間隔Ａと、第２アラインパターン５０３と第２アラインマーク１５３との間隔Ａ’とが同一である。また、第１カメラアセンブリ１６１によって撮影された第１アラインパターン５０２の幅Ｂと、カメラアセンブリ１６２によって撮影された第２アラインパターン５０３の幅Ｂ’とが同一である。第１カメラアセンブリ１６１によって撮影された第１アラインマーク１５２の幅Ｃと、カメラアセンブリ１６２によって撮影された第２アラインマーク１５３の幅Ｃ’とが同一である。
【００６８】
図８は、基板５００が−Ｘ軸方向に移動した場合の第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３と、第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３と、を図示している。
図８を参照すれば、基板５００が−Ｘ軸方向に移動した場合、第１アラインパターン５０２と第１アラインマーク１５２との間隔Ａが、第２アラインパターン５０３と第２アラインマーク１５３との間隔Ａ’より狭くなる。しかし、第１カメラアセンブリ１６１によって撮影された第１アラインパターン５０２の幅Ｂと、カメラアセンブリ１６２によって撮影された第２アラインパターン５０３の幅Ｂ’とが同一であり、第１カメラアセンブリ１６１によって撮影された第１アラインマーク１５２の幅Ｃと、カメラアセンブリ１６２によって撮影された第２アラインマーク１５３の幅Ｃ’とが同一である。
【００６９】
基板５００が−Ｘ軸方向に移動した場合、制御部１７０は、基板５００をＸ軸方向に（Ａ’−Ａ）／２の距離ほど移動させるように駆動部（図示せず）を制御する。
図９は、基板５００がθ方向に位置ずれした場合の第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３と、第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３と、を図示している。基板５００がθ方向に位置ずれした場合は、基板５００がＺ軸（図３）を中心に、逆時計回り方向（θ方向）または時計回り方向（−θ方向）に移動した場合を意味する。
【００７０】
図９を参照すれば、基板５００がθ方向（逆時計回り方向）に位置ずれした場合、第１カメラアセンブリ１６１によって撮影された第１アラインマーク１５２の幅Ｃと、カメラアセンブリ１６２によって撮影された第２アラインマーク１５３の幅Ｃ’とが同一であるが、第１カメラアセンブリ１６１によって撮影された第１アラインパターン５０２の幅Ｂは、アセンブリ１６２によって撮影された第２アラインパターン５０３の幅Ｂ’より狭くなる。基板５００の位置ずれ程度は、Ａｒｃｔａｎ（（Ｂ’−Ｂ）／Ａ）に該当する。かような場合、制御部１７０は、基板５００を−θ方向（時計回り方向）にＡｒｃｔａｎ（（Ｂ’−Ｂ）／Ａ）の角度ほど移動させるように、駆動部（図示せず）を制御する。
【００７１】
図面には図示されていないが、パターニング・スリットシート１５０がθ方向に位置ずれした場合、第１カメラアセンブリ１６１によって撮影された第１アラインマーク１５２の幅Ｃが、カメラアセンブリ１６２によって撮影された第２アラインマーク１５３の幅Ｃ’より小さくなるのである。この場合、制御部１７０は、パターニング・スリットシート１５０を−θ方向（時計回り方向）にＡｒｃｔａｎ（（Ｃ’−Ｃ）／Ａ）の角度ほど移動させるように、駆動部（図示せず）を制御する。
【００７２】
このように、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置１００は、基板５００が移送方向に垂直である方向（第２方向）に移動した場合だけではなく、移送方向（第１方向）に対して位置ずれした場合にも、基板５００とアラインパターニング・スリットシート１５０とのアラインを制御できる。
【００７３】
図１０は、本発明の薄膜蒸着装置の他の実施形態を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の他の実施形態による薄膜蒸着装置は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を含む。ここで、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１２と、ルツボ１１２を加熱させてルツボ１１２内部に充填された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０’側に蒸発させるための冷却ブロック１１１と、を含む。一方、蒸着源１１０の一側には、蒸着源ノズル部１２０’が配され、蒸着源ノズル部１２０’には、Ｙ軸方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１’が形成される。一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備わり、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って、複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。そして、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０’及びパターニング・スリットシート１５０は、第１連結部材１３５によって結合される。
【００７４】
本実施形態では、蒸着源ノズル部１２０’に形成された複数個の蒸着源ノズル１２１’が所定角度チルトされて配されるという点で、図３に図示された薄膜蒸着装置と区別される。詳細には、蒸着源ノズル１２１’は、２列の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂからなり、前記２列の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂは、互いに交互に配される。このとき、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂは、ＸＺ平面上で、所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。
【００７５】
本実施形態では、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂが所定角度チルトされて配されるようにする。ここで、第１列の蒸着源ノズル１２１ａは、第２列の蒸着源ノズル１２１ｂに向くようにチルトされ、第２列の蒸着源ノズル１２１ｂは、第１列の蒸着源ノズル１２１ａに向くようにチルトされうる。言い換えれば、左側列に配された蒸着源ノズル１２１ａは、パターニング・スリットシート１５０の右側端部を向くように配され、右側列に配された蒸着源ノズル１２１ｂは、パターニング・スリットシート１５０の左側端部を向くように配されうる。
【００７６】
かような構成によって、基板の中央及び終端部分での成膜厚差が小さくなり、全体的な蒸着物質の厚みが均一になるように制御でき、さらには材料利用効率が上昇する効果を得ることができる。
図１１は、本発明の薄膜蒸着装置のさらに他の実施形態を示す図面である。図面を参照すれば、本発明のさらに他の実施形態による薄膜蒸着装置は、図３ないし図５で説明した薄膜蒸着装置が複数個備わることを一特徴とする。言い換えれば、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、赤色発光層（Ｒ）材料、緑色発光層（Ｇ）材料、青色発光層（Ｂ）材料が一度に放射されるマルチ蒸着源（multi source）を具備できる。
【００７７】
詳細には、本実施形態は、第１薄膜蒸着装置１０１、第２薄膜蒸着装置１０２及び第３薄膜蒸着装置１０３を含む。かような第１薄膜蒸着装置１０１、第２薄膜蒸着装置１０２及び第３薄膜蒸着装置１０３それぞれの構成は、図３ないし図５で説明した薄膜蒸着装置と同一であるので、ここでは、その詳細な説明は省略する。
ここで、第１薄膜蒸着装置１０１、第２薄膜蒸着装置１０２及び第３薄膜蒸着装置１０３の蒸着源には、互いに異なる蒸着物質が備わりうる。例えば、第１薄膜蒸着装置１０１には、赤色発光層（Ｒ）の材料になる蒸着物質が備わり、第２薄膜蒸着装置１０２には、緑色発光層（Ｇ）の材料になる蒸着物質が備わり、第３薄膜蒸着装置１０３には、青色発光層Ｂの材料になる蒸着物質が備わりうる。
【００７８】
すなわち、従来の有機発光ディスプレイ装置の製造方法では、各色相別に別途のチャンバとマスクとを具備することが一般的であったが、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を利用すれば、１つのマルチソースで、赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）及び青色発光層（Ｂ）を一度に蒸着できるのである。従って、有機発光ディスプレイ装置の生産時間が画期的に短縮されると同時に、備わるべきチャンバ数が減少することによって、設備コストもまた顕著に節減されるという効果を得ることができる。
【００７９】
この場合、図面には詳細に図示されていないが、第１薄膜蒸着装置１０１、第２薄膜蒸着装置１０２及び第３薄膜蒸着装置１０３のパターニング・スリットシートは、互いに一定程度オフセット（offset）されて配されることによって、その蒸着領域が重畳されないようにすることができる。言い換えれば、第１薄膜蒸着装置１０１が赤色発光層（Ｒ）の蒸着を担当し、第２薄膜蒸着装置１０２が緑色発光層（Ｇ）の蒸着を担当し、第３薄膜蒸着装置１０３が青色発光層Ｂの蒸着を担当する場合、第１薄膜蒸着装置１０１のパターニング・スリット１５１と、第２薄膜蒸着装置１０２のパターニング・スリット２５１と、第３薄膜蒸着装置１０３のパターニング・スリット３５１とが、互いに同一線上に位置しないように配されることによって、基板上の互いに異なる領域に、それぞれ赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）、青色発光層Ｂを形成させることができる。
【００８０】
ここで、赤色発光層（Ｒ）の材料になる蒸着物質と、緑色発光層（Ｇ）の材料になる蒸着物質と、青色発光層Ｂの材料になる蒸着物質は、互いに気化される温度が異なるので、前記第１薄膜蒸着装置１０１の蒸着源１１０の温度と、前記第２薄膜蒸着装置１０２の蒸着源の温度と、前記第３薄膜蒸着装置１０３の蒸着源の温度とが、互いに異なるように設定されることも可能である。
一方、図面には、薄膜蒸着装置が３個備わると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではない。すなわち、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、薄膜蒸着装置を多数個具備でき、前記多数個の薄膜蒸着装置それぞれに、互いに異なる物質を具備できる。例えば、薄膜蒸着装置を５個具備し、それぞれの薄膜蒸着装置に、赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）、青色発光層（Ｂ）、赤色発光層の補助層（Ｒ’）及び緑色発光層の補助層（Ｇ’）を具備することができる。
【００８１】
このように、複数個の薄膜蒸着装置を具備し、多数個の薄膜層を一度に形成できるようにすることによって、製造収率及び蒸着効率が向上するという効果を得ることができる。また、製造工程が簡単になり、製造コストが節減されるという効果を得ることができる。
図１２は、本発明の薄膜蒸着装置のさらに他の実施形態を概略的に図示した斜視図であり、図１３は、図１２の薄膜蒸着装置の概略的な側断面図であり、図１４は、図１２の薄膜蒸着装置の概略的な平断面図である。
【００８２】
図１２ないし図１４を参照すれば、本発明のさらに他の実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００”は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０”、遮断板アセンブリ１３０及びパターニング・スリット１５１を含む。
ここで、図１２ないし図１４には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１２ないし図１４のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【００８３】
かようなチャンバ内には、被蒸着体である基板５００が、静電チャック６００（図１）によって移送される。前記基板５００は、平板表示装置用基板になりうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着装置１００”に対して相対的に移動するが、望ましくは、薄膜蒸着装置１００”に対して基板５００がＰ方向に移動するようにすることができる。
【００８４】
前述の第１実施形態のように、本発明の薄膜蒸着装置１００”では、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニング・スリットシート１５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着装置１００”の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ、連続的に、すなわちスキャニング方式で蒸着を行うために、パターニング・スリットシート１５０のＸ軸方向への幅、及び基板５００のＸ軸方向への幅のみ実質的に同一に形成されれば、パターニング・スリットシート１５０のＹ軸方向の長さは、基板５００の長さよりはるかに短く形成されても差し支えない。もちろん、パターニング・スリットシート１５０のＸ軸方向への幅が、基板５００のＸ軸方向への幅より短く形成されても、基板５００と薄膜蒸着装置１００との相対的移動によるスキャニング方式によって、十分に基板５００全体に対して蒸着が可能である。
【００８５】
このように、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニング・スリットシート１５０を設けることができるために、本発明のパターニング・スリットシート１５０は、その製造が容易である。すなわち、パターニング・スリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引っ張り作業及び溶接作業、移動作業及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニング・スリットシート１５０がＦＭＭ蒸着法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化されるほどさらに有利になる。
【００８６】
一方、チャンバ内で前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
前記蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１２と、このルツボ１１２を取り囲む冷却ブロック１１１と、が備わる。冷却ブロック１１１は、ルツボ１１２からの熱が外部、すなわち、チャンバ内部に発散されることを最大限抑制するためのものであり、この冷却ブロック１１１には、ルツボ１１１を加熱させるヒータ（図示せず）が含まれている。
【００８７】
蒸着源１１０の一側、詳細には蒸着源１１０から基板５００に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０”が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０”には、Ｘ軸方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１”が形成される。ここで、前記複数個の蒸着源ノズル１２１”は、等間隔で形成されうる。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、かような蒸着源ノズル部１２０”の蒸着源ノズル１２１”を通過し、被蒸着体である基板５００側に向かうのである。
蒸着源ノズル部１２０”の一側には、遮断板アセンブリ１３０が備わる。前記遮断板アセンブリ１３０は、複数枚の遮断板１３１と、遮断板１３１の外側に備わる遮断板フレーム１３２と、を含む。前記複数枚の遮断板１３１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に配されうる。ここで、前記複数枚の遮断板１３１は、等間隔で形成されうる。また、それぞれの遮断板１３１は、図面で見るとき、ＹＺ平面に沿って延びており、望ましくは、長方形で備わりうる。このように配された複数枚の遮断板１３１は、蒸着源ノズル部１２０”とパターニング・スリット１５０との間の空間を、複数個の蒸着空間Ｓ（図１４）に区画する。すなわち、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００”は、前記遮断板１３１によって、図１４から分かるように、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１”別に蒸着空間Ｓが分離される。
【００８８】
ここで、それぞれの遮断板１３１は、互いに隣接している蒸着源ノズル１２１”間に配されうる。これは言い換えれば、互いに隣接している遮断板１３１間に、１つの蒸着源ノズル１２１”が配されるのである。望ましくは、蒸着源ノズル１２１”は、互いに隣接している遮断板１３１間の真ん中に位置しうる。しかし、本発明は、必ずしもそれに限定されるものではなく、互いに隣接している遮断板１３１間に、複数の蒸着源ノズル１２１”が配置しても差し支えない。ただし、その場合にも、複数の蒸着源ノズル１２１”を、互いに隣接している遮断板１３１間の真ん中に位置させることが望ましい。
【００８９】
このように、遮断板１３１が、蒸着源ノズル部１２０”とパターニング・スリットシート１５０との間の空間を複数個の蒸着空間Ｓに区画することによって、１つの蒸着源ノズル１２１”から排出される蒸着物質は、他の蒸着源ノズル１２１”から排出された蒸着物質と混合されず、パターニング・スリット１５１を通過して、基板５００に蒸着されるのである。すなわち、前記遮断板１３１は、各蒸着源ノズル１２１”を介して排出される蒸着物質を分散させずに直進性を維持するように、蒸着物質のＸ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００９０】
このように、遮断板１３１を具備して、蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮めることができ、従って、薄膜蒸着装置１００”と基板５００とを一定程度離隔させることが可能になる。これについては、後に詳細に記述する。
一方、前記複数枚の遮断板１３１の外側には、遮断板フレーム１３２がさらに備わりうる。遮断板フレーム１３２は、複数枚の遮断板１３１の側面にそれぞれ備わり、複数枚の遮断板１３１の位置を固定すると同時に、蒸着源ノズル１２１”を介して排出される蒸着物質をＹ軸方向に分散させないように、蒸着物質のＹ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００９１】
前記蒸着源ノズル部１２０”と遮断板アセンブリ１３０は、一定程度離隔されたことが望ましい。これにより、蒸着源１１０”から発散される熱が、遮断板アセンブリ１３０に伝わることを防止できる。しかし、本発明の思想は、これに制限されるものではない。すなわち、蒸着源ノズル部１２０”と遮断板アセンブリ１３０との間に、適切な断熱手段が備わる場合、蒸着源ノズル部１２０”と遮断板アセンブリ１３０とが結合して接触することが可能である。
【００９２】
一方、前記遮断板アセンブリ１３０は、薄膜蒸着装置１００”から着脱自在に形成されうる。本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００”では、遮断板アセンブリ１３０を利用して、蒸着空間を外部空間と分離したので、基板５００に蒸着されていない蒸着物質は、ほとんど遮断板アセンブリ１３０内に蒸着される。従って、遮断板アセンブリ１３０を、薄膜蒸着装置１００から着脱自在に形成し、長時間の蒸着後に、遮断板アセンブリ１３０に蒸着物質が多くたまれば、遮断板アセンブリ１３０を薄膜蒸着装置１００から分離し、別途の蒸着物質リサイクル装置に入れて蒸着物質を回収できる。かような構成を介して、蒸着物質リサイクル率を高めることによって、蒸着効率が向上し、かつ製造コストが節減されるという効果を得ることができる。
【００９３】
一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備わる。前記フレーム１５５は、ほぼ窓枠のような形態に形成され、その内側に、パターニング・スリットシート１５０が結合される。そして、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って、複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。各パターニング・スリット１５１は、Ｙ軸方向に沿って延びている。蒸着源１１０内で気化されて、蒸着源ノズル１２１を通過した蒸着物質１１５は、パターニング・スリット１５１を通過して、被蒸着体である基板５００方向に向かう。
【００９４】
前記パターニング・スリットシート１５０は、金属薄板から形成され、引っ張られた状態でフレーム１５５に固定される。前記パターニング・スリット１５１は、ストライプ・タイプで、パターニング・スリットシート１５０にエッチングを介して形成される。
ここで、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００”は、蒸着源ノズル１２１”の総個数より、パターニング・スリット１５１の総個数がさらに多く形成される。また、互いに隣接している２枚の遮断板１３１間に配された蒸着源ノズル１２１”の個数より、パターニング・スリット１５１の個数がさらに多く形成される。前記パターニング・スリット１５１の個数は、基板５００に形成される蒸着パターンの個数に対応させることが望ましい。
【００９５】
一方、前述の遮断板アセンブリ１３０と、パターニング・スリットシート１５０は、互いに一定程度離隔されるように形成され、遮断板アセンブリ１３０と、パターニング・スリットシート１５０は、別途の第２連結部材１３３によって互いに連結されうる。詳細には、高温状態の蒸着源１１０”によって、遮断板アセンブリ１３０の温度は、最大１００℃以上上昇するために、上昇した遮断板アセンブリ１３０の温度が、パターニング・スリットシート１５０に伝わらないように、遮断板アセンブリ１３０と、パターニング・スリットシート１５０とを一定程度離隔させるのである。
【００９６】
前述のように、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００”は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように、薄膜蒸着装置１００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニング・スリットシート１５０は、基板５００から一定程度離隔されるように形成される。そして、パターニング・スリットシート１５０と基板５００とを離隔させる場合に発生する陰影問題を解決するために、蒸着源ノズル部１２０とパターニング・スリットシート１５０との間に遮断板１３１を具備し、蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮小させたものである。
【００９７】
従来のＦＭＭ蒸着法では、基板に陰影を生じさせないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触によって、基板にすでに形成されていたパターンが引っかかれるというような不良が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないために、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。従って、ディスプレイ装置が大型化されることによって、マスクのサイズも大きくならなければならないが、かような大型マスクを形成することが容易ではないという問題点が存在した。
【００９８】
かような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００”では、パターニング・スリットシート１５０を、被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔されるように配する。これは、遮断板１３１を具備し、基板５００に生成される陰影を小さくすることによって実現可能になる。
かような本発明によって、パターニング・スリットシートを基板より小さく形成した後、このパターニング・スリットシートを基板に対して相対移動させることによって、従来のＦＭＭ法のように大きいマスクを製作する必要がなくなったのである。また、基板とパターニング・スリットシートとが離隔されているために、相互接触による不良を防止する効果を得ることができる。また工程で、基板とパターニング・スリットシートとを密着させる時間が不要であるために、製造速度が向上するという効果を得ることができる。
【００９９】
図１５は、本発明の薄膜蒸着装置のさらに他の実施形態を概略的に図示した斜視図である。
図１５に図示された実施形態に係わる薄膜蒸着装置１００”’は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０”、第１遮断板アセンブリ１３０、第２遮断板アセンブリ１４０、パターニング・スリットシート１５０を含む。
【０１００】
ここで、図１５には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１５のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
かようなチャンバ（図示せず）内には、被蒸着体である基板５００が配される。そして、チャンバ（図示せず）内で、基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
【０１０１】
蒸着源１１０及びパターニング・スリットシート１５０の詳細な構成は、前述の図１２による実施形態と同一であるので、詳細な説明を省略する。そして、前記第一遮断板アセンブリ１３０は、図１２による実施形態の遮断板アセンブリと同一であるので、やはり詳細な説明は省略する。
本実施形態では、第１遮断板アセンブリ１３０の一側に、第２遮断板アセンブリ１４０が備わる。前記第２遮断板アセンブリ１４０は、複数枚の第２遮断板１４１と、第２遮断板１４１外側に備わる第２遮断板フレーム１４２と、を含む。
【０１０２】
前記複数枚の第２遮断板１４１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に備わりうる。そして、前記複数枚の第２遮断板１４１は、等間隔で形成されうる。また、それぞれの第２遮断板１４１は、図面から分かるように、ＹＺ平面と平行に、言い換えれば、Ｘ軸方向に垂直になるように形成される。
【０１０３】
このように配された複数枚の第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニング・スリットシート１５０との間の空間を区画する役割を行う。すなわち、前記第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に、蒸着空間が分離されることを一特徴とする。
【０１０４】
ここで、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１と一対一で対応するように配されうる。言い換えれば、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１とアラインされ、互いに平行に配されうる。すなわち、互いに対応する第１遮断板１３１と第２遮断板１４１は、互いに同じ平面上に位置するのである。図面には、第１遮断板１３１の幅と、第２遮断板１４１のＸ軸方向の幅とが同じであると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではない。すなわち、パターニング・スリット１５１との精密なアラインが要求される第２遮断板１４１は、相対的に薄く形成される一方、精密なアラインが要求されない第１遮断板１３１は、相対的に厚く形成され、その製造を容易にすることも可能である。
【０１０５】
以上で説明したような薄膜蒸着装置１００”’は、図１から分かるように、第１チャンバ７３１内に複数個が連続して配されうる。この場合、各薄膜蒸着装置１００”’は、互いに異なる蒸着物質を蒸着させることができ、このとき、各薄膜蒸着装置１００”’のパターニング・スリットのパターンが、互いに異なるパターンになるようにして、例えば、赤色、緑色、青色の画素を一括蒸着するような成膜工程を進めることができる。
図１６は、本発明の蒸着装置を利用して製造されたアクティブ・マトリックス型有機発光表示装置の断面を図示したものである。
【０１０６】
図１６を参照すれば、前記アクティブ・マトリックス型の有機発光表示装置は、基板３０上に形成される。前記基板３０は、透明な素材、例えばガラス材、プラスチック材または金属材から形成されうる。前記基板３０上には、全体的にバッファ層のような絶縁膜３１が形成されている。
前記絶縁膜３１上には、図１６から分かるように、ＴＦＴ（thin film transistor）４０と、キャパシタ５０と、有機発光素子６０と、が形成される。
【０１０７】
前記絶縁膜３１の上面には、所定パターンに配列された半導体活性層４１が形成されている。前記半導体活性層４１は、ゲート絶縁膜３２によって埋め込まれている。前記活性層４１は、ｐ型またはｎ型の半導体によって備わりうる。
前記ゲート絶縁膜３２の上面には、キャパシタ５０の第１キャパシタ電極５１；前記活性層４１と対応するところに、ＴＦＴ ４０のゲート電極４２；が形成される。そして、前記第１キャパシタ電極５１と前記ゲート電極４２とを覆うように、層間絶縁膜３３が形成される。前記層間絶縁膜３３が形成された後には、ドライエッチングのようなエッチング工程によって、前記ゲート絶縁膜３２と層間絶縁膜３３とをエッチングしてコンタクトホールを形成させ、前記活性層４１の一部が現れるようにする。
【０１０８】
次に、前記層間絶縁膜３３上に、第２キャパシタ電極５２とソース／ドレイン電極４３とが形成される。前記ソース／ドレイン電極４３は、コンタクトホールを介して露出された活性層４１に接触されるように形成される。前記第２キャパシタ電極５２と前記ソース／ドレイン電極４３とを覆うように、保護膜３４が形成され、エッチング工程を介して、前記ドレイン電極４３の一部が現れるようにする。前記保護膜３４上には、保護膜３４の平坦化のために、別途の絶縁膜をさらに形成することもできる。
【０１０９】
一方、前記有機発光素子６０は、電流の流れによって、赤色、緑色、青色の光を発光させて所定の画像情報を表示するためのものであり、前記保護膜３４上に、第１電極６１を形成する。前記第１電極６１は、ＴＦＴ ４０のドレイン電極４３と電気的に連結される。
そして、前記第１電極６１を覆うように、画素定義膜３５が形成される。この画素定義膜３５に、所定の開口６４を形成した後、この開口６４によって限定された領域内に、有機発光膜６３を形成する。有機発光膜６３上には、第２電極６２を形成する。
【０１１０】
前記画素定義膜３５は、各画素を区画するものであり、有機物によって形成され、第１電極６１が形成されている基板の表面、特に、保護層３４の表面を平坦化する。
前記第１電極６１と第２電極６２は、互いに絶縁されており、有機発光膜６３に互いに異なる極性の電圧を加えて発光させる。
前記有機発光膜６３は、低分子または高分子の有機物が使われうる、低分子有機物を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：hole injection layer）、ホール輸送層（ＨＴＬ：hole transport layer）、発光層（ＥＭＬ：emission layer）、電子輸送層（ＥＴＬ：electron transport layer）、電子注入層（ＥＩＬ：electron injection layer）などが、単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などを始めとして多様に適用可能である。それら低分子有機物は、図１ないし図１６での蒸着装置及び蒸着ソースユニットを利用して真空蒸着の方法で形成されうる。
【０１１１】
まず、画素定義膜３５に開口６４を形成した後、この基板３０を、図１のようにチャンバ内に移送する。そして、第１蒸着ソースと第２蒸着ソースとに目標有機物を収納した後、蒸着する。このとき、ホストとドーパントとを同時に蒸着させる場合には、第１蒸着ソースと第２蒸着ソースとに、それぞれホスト物質とドーパント物質とを収納して蒸着する。
かような有機発光膜を形成した後には、第２電極６２をやはり同じ蒸着工程で形成できる。
【０１１２】
一方、前記第１電極６１は、アノード電極の機能を行い、前記第２電極６２は、カソード電極の機能を行うことができるが、もちろん、それら第１電極６１と第２電極６２との極性は、反対になっても差し支えない。そして、第１電極６１は、各画素の領域に対応するようにパターンされ、第２電極６２は、あらゆる画素を覆うように形成されうる。
【０１１３】
前記第１電極６１は、透明電極または反射型電極として備わりうるが、透明電極として使われるときには、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３によって備わり、反射型電極として使われるときにはＡｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びそれらの化合物で反射層を形成した後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３で透明電極層を形成できる。かような第１電極６１は、スパーッタリング法などによって成膜された後、フォトリソグラフィ法などによって、パターニングされる。
【０１１４】
一方、前記第２電極６２も、透明電極または反射型電極として備わりうるが、透明電極として使われるときには、該第２電極６２がカソード電極として使われるので、仕事関数が小さい金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びそれらの化合物が有機発光膜６３側に向くように蒸着された後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３などで補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われるときには、上記のＬｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びそれらの化合物を全面蒸着して形成する。このとき、蒸着は、前述の有機発光膜６３の場合と同様な方法で行うことができる。
【０１１５】
本発明は、それ以外にも、有機ＴＦＴの有機膜または無機膜などの蒸着にも使用でき、その他、多様な素材の成膜工程に適用可能である。
本発明は、図面に図示された実施形態を参考にして説明したが、それらは例示的なものに過ぎず、本技術分野の当業者であるならば、それらから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解することが可能であろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決まるものである。
【符号の説明】
【０１１６】
３０    基板
３１    絶縁膜
３２    ゲート絶縁膜
３３    層間絶縁膜
３４    保護膜
３５    画素定義膜
４０    ＴＦＴ
４１    活性層
４２    ゲート電極
４３    ソース／ドレイン電極
５０    キャパシタ
５１    第１キャパシタ電極
５２    第２キャパシタ電極
６０    有機発光素子
６１    第１電極
６２    第２電極
６３    有機発光膜
６４    開口
１００，１０１，１０２，１０３，２００，３００，４００    薄膜蒸着装置
１１０    蒸着源
１１１    冷却ブロック
１１２    ルツボ
１１５    蒸着物質
１２０    蒸着源ノズル部
１２１    蒸着源ノズル
１３５    第１連結部材
１５０    パターニング・スリットシート
１５１    パターニング・スリット
１５２    第１アラインマーク
１５３    第２アラインマーク
１５５    フレーム
１６１    第１カメラアセンブリ
１６２    第２カメラアセンブリ
１７０    制御部
５００    基板
５０２    第１アラインパターン
５０２ａ    第１マーク
５０３    第２アラインパターン
５０３ａ    第２マーク
６００    静電チャック
６１０    第１循環部
６２０    第２循環部
７１０    ローディング部
７１２    第１ラック
７１４    導入ロボット
７１６    導入室
７１８    第１反転室
７１９    第１反転ロボット
７２０    アンローディング部
７２２    第２ラック
７２４    搬出ロボット
７２６    搬出室
７２８    第２反転室
７２９    第２反転ロボット
７３０    蒸着部
７３１    第１チャンバ
７３２    第２チャンバ
Ｐ    基板の移送方向
Ｓ    蒸着空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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