(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹面を有する複数の被成膜レンズを保持する複数のレンズ保持部を有する回転自在のレンズホルダと、前記レンズホルダの回転軸に対して相対的に傾斜した方向から被成膜レンズの凹面に成膜材料を放出するターゲットと、を備えた成膜装置において、
前記レンズホルダに複数の被成膜レンズが保持された状態で、前記レンズの凹面側に被せるように設置され、前記ターゲットから放出される成膜材料の凹面への膜厚を調整する複数の貫通孔が形成された被せ部材を備え、
前記複数の貫通孔のそれぞれは、前記複数のレンズ保持部に保持された被成膜レンズの凹面の外縁と同形状の第１開口と、前記被せ部材が前記レンズホルダに設置された際に被成膜レンズと反対側に位置する第２開口と、を有し、前記第１開口から前記第２開口に向かって徐々に広がるように形成され、
前記レンズホルダの前記回転軸から離れた貫通孔ほど、前記レンズ保持部に保持された被成膜レンズの凹面中心上の光軸と、凹面中心と前記被せ部材を前記レンズホルダに設置した際の前記第２開口の外縁とを結ぶ線と、のなす角度が小さくなるように形成された、
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記被せ部材は、前記レンズホルダと一体に組付けされる、
ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記レンズホルダの前記回転軸と前記ターゲットとの少なくとも一方の角度を変更し、それらの相対角度を調整する角度調整機構を備えた、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記ターゲットに電力を供給する電源部と、スパッタガスを供給するガス供給部と、を備え、
前記電源部で前記ターゲットを印加して前記ターゲットをスパッタすることで、被成膜レンズの凹面を成膜する、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の成膜装置により複数の被成膜レンズを成膜する成膜方法において、
前記レンズホルダにおける前記複数のレンズ保持部に前記複数の被成膜レンズを保持し、前記レンズホルダを前記ターゲットに対して相対的に傾斜するように設置する工程と、
前記レンズホルダを回転させつつ前記ターゲットから成膜材料を放出し、前記成膜材料を前記被せ部材により遮蔽すると共に前記複数の貫通孔で前記被成膜レンズの凹面への膜厚を調整しつつ前記複数の被成膜レンズを成膜する工程と、を備える、
ことを特徴とする成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、デジタルカメラ等の光学機器に搭載される凹面を有するレンズの表面に、反射防止膜等の薄膜を蒸着する成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタルカメラの高性能化に伴うレンズの広角化が進み、これらに使用されるレンズにおいては、半開角（レンズの光軸と、有効径におけるレンズ凹面の法線とのなす角度）が４５度以上の凹面を有するレンズが使用されるようになってきている。また、デジタルカメラのレンズにおいては、透過率の向上やゴーストの発生を低減させるために、レンズの表面に反射防止膜等の薄膜を蒸着させることが広く行われており、薄膜は、膜厚と膜厚分布とがその特性上重要な要素となっている。
【０００３】
このような状況で、コストを低減させたレンズを生産するためには、多くのレンズを一括して成膜することによる成膜コストの抑制と、一括して成膜されたレンズの凹面内の膜厚分布を均一化することと、を両立させることが必要となる。
【０００４】
これに対しては、成膜材料を放出するターゲットと成膜されるレンズとの間に膜厚調整マスクを配置し、膜厚調整マスクの位置や形状を変更することでレンズの膜厚分布を均一化させる成膜装置が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０６−１７９９７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、膜厚調整マスクを用いた成膜装置は、複数のレンズを成膜するにあたり、複数のレンズのそれぞれに対する最適なマスク形状を得ることができないため、個々のレンズに対する均一な膜厚分布を得ることができないという問題があった。特に、半開角が４５度以上のレンズは湾曲が大きいため、均一性の高い高精度な膜厚分布を得ることが困難であった。
【０００７】
そこで、本発明は、均一性の高い高精度な膜厚分布が得られる成膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、凹面を有する複数の被成膜レンズを保持する複数のレンズ保持部を有する回転自在のレンズホルダと、前記レンズホルダの回転軸に対して相対的に傾斜した方向から被成膜レンズの凹面に成膜材料を放出するターゲットと、を備えた成膜装置において、前記レンズホルダに複数の被成膜レンズが保持された状態で、前記レンズの凹面側に被せるように設置され、前記ターゲットから放出される成膜材料の凹面への膜厚を調整する複数の貫通孔が形成された被せ部材を備え、前記複数の貫通孔のそれぞれは、前記複数のレンズ保持部に保持された被成膜レンズの凹面の外縁と同形状の第１開口と、前記被せ部材が前記レンズホルダに設置された際に被成膜レンズと反対側に位置する第２開口と、を有し、前記第１開口から前記第２開口に向かって徐々に広がるように形成され、前記レンズホルダの前記回転軸から離れた貫通孔ほど、前記レンズ保持部に保持された被成膜レンズの凹面中心上の光軸と、凹面中心と前記被せ部材を前記レンズホルダに設置した際の前記第２開口の外縁とを結ぶ線と、のなす角度が小さくなるように形成されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、均一性の高い高精度な膜厚分布が得られる成膜装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態に係るスパッタリング装置の全体構造を模式的に示す断面図である。
【図２】図１に示すスパッタリング装置のレンズホルダを示す断面図である。
【図３】図２に示すレンズホルダの部分拡大断面図である。
【図４】本発明の実施例及び比較例に用いられる被成膜レンズを示す断面図である。
【図５】比較例に用いられるレンズホルダを示す断面図である。
【図６】実施例１及び比較例１に係る凹面レンズの膜厚分布を示す図である。
【図７】実施例１に係る嵩部の開き角と、凹面の膜厚分布及び平均膜厚と、の関係を示す図である。
【図８】実施例２及び比較例２に係る凹面レンズの膜厚分布を示す図である。
【図９】実施例２に係る嵩部の開き角と、凹面の膜厚分布及び平均膜厚と、の関係を示す図である。
【図１０】実施例３で用いる凹面レンズの多層膜の膜構成を示す図である。
【図１１】実施例３及び比較例３による凹面レンズの多層膜の反射率波長特性を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態に係る成膜装置について、図面を参照しながら説明する。本実施形態においては、材料源としてのターゲットの裏面にマグネット対を配設して材料放出面に磁界を発生させることで成膜速度を向上させた反応性ＤＣマグネトロンスパッタリング装置（以下、単に「スパッタリング装置」という）を用いて説明する。
【００１２】
まず、本発明の実施形態に係るスパッタリング装置１の構成について、図１を参照しながら説明する。図１は、本発明の実施形態に係るスパッタリング装置１の全体構造を模式的に示す断面図である。
【００１３】
図１に示すように、スパッタリング装置１は、チャンバ２と、プロセスガスを供給するガス供給部３と、凹面１０ａを有する複数の被成膜レンズ１０を保持した状態で回転させる回転装置４と、成膜材料を放出するターゲット５と、を備えている。また、スパッタリング装置１は、ターゲット５に電力を供給する電源部６を備えている。
【００１４】
チャンバ２は、真空室２０と、真空室２０に接続された排気装置２１と、を備えており、真空室２０内に充填されたプロセスガスを排気装置２１から排気させることで、真空室２０内を所定の圧力に調節する。ガス供給部３は、真空室２０に接続されており、真空室２０内にプロセスガスを供給する。このとき、プロセスガスを供給しながら真空室２０内の圧力も調整される。本実施形態においては、ガス供給部３は、スパッタガスとしてのＡｒガスと、反応性ガスとしてのＯ２と、をプロセスガスとして供給可能となっており、Ａｒバルブ３１とＯ２バルブ３２とを調節して、装置本体３０から真空室２０内にＡｒとＯ２と供給する。
【００１５】
回転装置４は、複数の被成膜レンズ１０を保持するレンズホルダ４０と、レンズホルダ４０に接続された回転軸４１と、回転軸４１を回転させる不図示の駆動部と、を備えている。レンズホルダ４０は、真空室２０内に配置されており、駆動部の駆動により回転軸４１が矢印Ａ方向に回転することで、複数の被成膜レンズ１０を保持した状態で矢印Ａ方向に回転する。なお、レンズホルダ４０については、後に詳述する。回転軸４１は、レンズホルダ４０を矢印Ｂ方向に移動可能な不図示の伸縮軸と、矢印Ｃ方向に移動可能な角度調整機構としての揺動軸４２と、を備えており、ターゲット５に対する距離及び相対角度が調整可能となっている。
【００１６】
ターゲット５は、真空室２０内において、レンズホルダ４０の回転軸４１に対して相対的に傾斜した状態でチャンバ２に支持されている。ターゲット５は、第１ターゲット５１と、第１ターゲット５１と材料の異なる第２ターゲット５２と、回転軸５３と、を備えており、回転軸５３を中心に矢印Ｄ方向に回転することで、第１ターゲット５１と第２ターゲット５２とを切り換え可能となっている。また、ターゲット５には、互いに極性方向の異なるマグネット対５４，５５が取り付けられており、マグネット対５４，５５の中間地点で成膜材料が最も放出されるエロージョン５６が形成される。本実施形態においては、中央部にマグネット５４を取り付け、中央部から所定距離離間した位置にマグネット５４と極性の異なる複数のマグネット５５を取り付けることで、エロージョンがリング状（エロージョンリング）に形成される。
【００１７】
なお、本実施形態においては、ターゲット５として、回転軸５３を中心に矢印Ｄ方向に回転自在に支持されると共に、第１ターゲット５１と第２ターゲット５２とをもつ複数ターゲットを用いたが、第１ターゲット５１のみを有する構成であってもよい。
【００１８】
電源部６は、第１ターゲット５１と第２ターゲット５２とに接続されており、第１ターゲット５１と第２ターゲット５２とに放電のための電力を供給（印加）する。
【００１９】
次に、本実施形態に係るレンズホルダ４０について、図２及び図３を参照しながら説明する。図２は、図１に示すスパッタリング装置１のレンズホルダ４０を示す断面図である。図３は、図２に示すレンズホルダ４０の部分拡大断面図である。
【００２０】
図２及び図３に示すように、レンズホルダ４０は、複数の被成膜レンズ１０を保持するホルダ部４３と、ホルダ部４３と一体に組付けた被せ部材としての嵩部４５と、を備えている。ホルダ部４３は、回転軸４１を中心に、径方向に所定間隔で形成された複数のレンズ保持部４６・・・を備えており、複数のレンズ保持部４６は、被成膜レンズ１０の凹面１０ａを露出させた状態で保持する。ホルダ部４３は把持部４４を介し、回転軸４１と接続されており、ホルダ部４３を回転させる。
【００２１】
嵩部４５は、成膜の際にはホルダ部４３のターゲット５側（凹面側）に設けられており、複数のレンズ保持部４６と連通する複数の貫通孔４７・・・を備えている。複数の貫通孔４７のそれぞれは、レンズ保持部４６側に形成された第１開口４７ａと、第１開口４７ａと反対側に形成された第２開口４７ｂと、を有しており、第１開口４７ａから第２開口４７ｂに向けて徐々に広がるように形成されている。
【００２２】
具体的には、第１開口４７ａは、レンズ保持部４６で保持された被成膜レンズ１０の凹面１０ａの外周縁１０ｂと同形状に形成されている。第２開口４７ｂは、第１開口４７ａから徐々に広がるように第１開口４７ａよりも大径に形成されている。また、第２開口４７ｂは、回転軸４１から離れた第２開口４７ｂほど、被成膜レンズ１０の凹面中心上の光軸１０ｄと、凹面中心１０ｃと第２開口４７ｂの外縁とを結ぶ線１１とのなす角度（以下、「開き角」という）θ１が小さくなるように形成されている。つまり、複数の貫通孔４７は、は、第１開口４７ａと第２開口４７ｂとが上述のように形成されることで、回転軸４１から離れるほど、開き角θ１が小さくなるように形成されている。
【００２３】
また、嵩部４５は、回転軸４１から離れるほど、高さが高くなるように形成されている。なお、本実施形態においては、回転軸４１から離れ得るほど嵩部４５の高さを高くしたが、嵩部の高さは、同じ高さに設定してもよい。
【００２４】
次に、本実施形態に係るスパッタリング装置１による被成膜レンズ１０の凹面１０ａへの成膜処理について説明する。まず、上述のように構成されたターゲット５をチャンバ２の真空室２０に設置する。次に、上述のように構成されたレンズホルダ４０の複数のレンズ保持部４６のそれぞれに被成膜レンズ１０を保持させ、回転軸４１がターゲット５に対して傾斜するように、真空室２０に設置する。
【００２５】
レンズホルダ４０を設置すると、チャンバ２の真空室２０内が所定の圧力になるまで排気装置２１で排気した後、Ａｒバルブ３１及びＯ２バルブ３２を調整しながら、真空室２０内の圧力が所定圧力となるように、所定量のＡｒガスとＯ２ガスとを注入する。プロセスガスを注入すると、次に、回転装置４を所定時間回転させつつ、電源部６で第１ターゲット５１又は第２ターゲット５２に所定の電力を供給して、第１ターゲット５１又は第２ターゲット５２をスパッタする。これにより、被成膜レンズ１０の凹面１０ａが成膜される。
【００２６】
以上説明したように、本実施形態においては、回転自在のレンズホルダ４０をターゲット５に対して傾斜した位置に設置し、嵩部４５に形成された複数の貫通孔４７の開き角度θ１を、被成膜レンズ１０の位置に応じて変更している。具体的には、レンズホルダ４０に保持された複数の被成膜レンズ１０のそれぞれの凹面１０ａの外周縁１０ｂに貫通孔４７を有する嵩部４５を設け、回転軸４１からの距離に応じて貫通孔４７の開き角度θ１を変えている。そのため、ターゲット５から被成膜レンズ１０の凹面１０ａへの入射粒子の遮蔽量を調節可能になり、レンズホルダ４０内全体の膜厚分布と凹面１０ａ内の膜厚分布を均一化することが可能となる。
【００２７】
例えば、ターゲット５に対して複数の被成膜レンズ１０を配置したレンズホルダ４０を相対的に傾斜させた状態で回転させて成膜を行うと、凹面１０ａの半開角が大きい場合、凹面１０ａの周辺での膜厚が中心部に比較し小さくなる傾向がある。また、レンズホルダ４０の周辺に向かうに従って、レンズホルダ４０内に配置された個々の被成膜レンズ１０の膜厚が大きくなっていく傾向がある。これに対して、被成膜レンズ１０に複数の貫通孔４７を有する嵩部４５を設け、貫通孔の開口を小さくすることで、凹面１０ａ周辺に比較し、凹面中心近傍の膜厚をより大きく減少させることができる。また、レンズホルダ４０の周辺部に配置された被成膜レンズ１０の膜厚を平均的に小さくできることができる。これにより、凹面１０ａ内の膜厚分布が改善でき、且つ、その際同時に成膜粒子を嵩部４５で遮蔽していることにより、凹面１０ａ内の平均的な膜厚自体の調整も可能となる。
【００２８】
また、嵩部４５をホルダ部４３と一体化して設けることにより、従来の膜厚調整マスクのように、被成膜レンズの形状に合わせたマスク交換の為の機構不要となり、成膜装置の価格を抑制することが可能となる。
【００２９】
また、成膜速度が時間的により安定しているスパッタ方式を採用したスパッタリング装置を用いることで、より膜厚分布の均一性、再現性向上が可能となる。
【００３０】
また、ターゲット５の材料放出面とレンズホルダ４０ホルダ面とのなす角を調整可能な角度調整機構を設けることで、成膜粒子の入射方向や量に関する調整の自由度を改善することができる。更に、高精度なレンズホルダ４０全体の膜厚分布均一化とホルダ部に保持された個々の被成膜レンズ１０の凹面１０ａ内の膜厚分布均一化の両立が可能となる。
【００３１】
また、例えば、従来技術の場合のように、レンズホルダに保持された複数の被成膜レンズに共通の膜厚調整マスクを用いた場合、レンズホルダへの被成膜レンズの充填密度が高くなる程、個々の被成膜レンズに対応した膜厚の制御困難となる。しかし、本実施形態においては、嵩部を設け、嵩部の貫通孔４７の開き角度を調整することで、被成膜レンズの充填密度に関わりなく、均一な成膜を行うことが可能になる。
【００３２】
次に、本発明の成膜装置の実施例及び比較例について、図１に示すスパッタリング装置１を用いて説明する。なお、以下においては、半開角（光軸１０ｄと、凹面１０ａの凹面外径１０ｅに対する光線有効径１０ｆでの法線１２とのなす角度）θ２が４５°以上の図４に示す被成膜レンズ１０を用い、凹面１０ａの開き角をθ３として説明する。また、ターゲット５とレンズホルダ４０との位置関係を示すパラメータとして、ＴＳ距離１３、オフセット距離１４、ターゲット５の材料放出面とレンズホルダ４０の保持面とのなす角度θ３とし、それぞれを用いて説明する。
【００３３】
＜実施例１＞
凹面外径１０ｅが１１．５ｍｍ、光線有効径１０ｆが１１．２ｍｍ、光線有効径１０ｆにおける半開角θ２が７０°、凹面１０ａの開き角度θ３が５２．６°の複数の被成膜レンズ１０を準備した。次に、回転軸４１からレンズ保持部４６に保持された被成膜レンズ１０の凹面中心１０ｃまでの距離が、２０ｍｍ、４０ｍｍ、６０ｍｍとなるレンズホルダ４０を準備し、準備した被成膜レンズ１０をレンズホルダ４０のレンズ保持部４６にそれぞれ取り付けた。
【００３４】
嵩部４５は、２０ｍｍ位置の嵩部４５の貫通孔４７の開き角θ１が５３．５°、４０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１が５２．１°、６０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１が５０．６°となる形状とした。また、嵩部４５の高さは、２０ｍｍ位置の嵩部４５の高さが０．５ｍｍ、４０ｍｍ位置の嵩部４５の高さが０．７５ｍｍ、６０ｍｍ位置の嵩部４５の高さが１．０５ｍｍとなる形状とした。
【００３５】
エロージョンリングの半径（エロージョン半径）が６４ｍｍとなるようにマグネットを取り付けたターゲット５を準備した。ＴＳ距離１３が７８ｍｍ、オフセット距離１４が１０７．２ｍｍ、ターゲット５とレンズホルダ４０とのなす角度θ４が５２．５°となるようにターゲット５とレンズホルダ４０とを配置した。
【００３６】
プロセスガスとして、スパッタガスにＡｒ、反応性ガスにＯ２を用い、ＡｒとＯ２とのガス流入比を１：１として成膜プロセス圧力が０．２５Ｐａとなるように調整し、ターゲット５に１．７５Ｋｗの電力を印加して、ＳｉＯ２の成膜を実施した。
【００３７】
＜比較例１＞
実施例１と同様の被成膜レンズ１０を、図５に示すレンズホルダ１４０のレンズ保持部１４６にそれぞれ取り付け、実施例１と同様の条件で、ＳｉＯ２の成膜を実施した。このときの嵩部４５は、２０ｍｍ位置、４０ｍｍ位置及び６０ｍｍ位置における貫通孔４７の開き角度θ１を５３．５°とし、高さを０．５ｍｍとした。
【００３８】
＜結果＞
図６（ａ）に、実施例１による被成膜レンズ１０の凹面１０ａの光線有効径１０ｆの膜厚分布を示し、図６（ｂ）に、比較例１による被成膜レンズ１０の凹面１０ａの光線有効径１０ｆの膜厚分布を示す。図６において、横軸は、回転軸４１からの距離を示し、縦軸は、最も膜厚が厚くなる凹面１０ａ内での膜厚を基準(１００％)としたときの、凹面１０ａ内のレンズホルダの径方向と、レンズホルダの周方向の膜厚をそれぞれ示している。
【００３９】
図６（ｂ）に示すように、比較例１では、レンズホルダ１４０内に配置された全ての被成膜レンズ１０の凹面１０ａ内の膜厚を評価すると、最大１１．８％の膜厚分布が生じていた。これに対して、実施例１では、図６（ａ）に示すように、レンズホルダ４０内に配置された全ての被成膜レンズ１０の凹面１０ａ内の膜厚を評価すると、膜厚分布を６．９％に改善することができた。
【００４０】
図７は、被成膜レンズ１０の凹面１０ａ内の膜厚の最大膜厚と最小膜厚の平均膜厚を凹面平均膜厚とし、最小膜厚と最大膜厚とを凹面内分布として、嵩部４５の貫通孔４７の開き角θ１に対する傾向をプロットしたものである。図７において、横軸は、凹面平均膜厚を示し、左の縦軸は、凹面内分布を示し、右の縦軸は、凹面平均膜厚を示したものである。凹面平均膜厚は、回転軸４１からの距離が６０ｍｍの位置に配置された被成膜レンズ１０において、貫通孔４７の開き角θ１が５２．６°と凹面１０ａの開き角θ３に等しい場合を、１として規格化しプロットした。
【００４１】
図７に示すように、回転軸４１からの距離が６０ｍｍの位置の被成膜レンズ１０において、貫通孔４７の開き角θ１が５２．６°（＝凹面１０ａの開き角θ３）〜４７°の範囲内で凹面内分布を低下させずに凹面平均膜厚を減少させることができることが確認できる。つまり、回転軸４１からの距離が６０ｍｍの位置に配置された被成膜レンズ１０は、貫通孔４７の開き角θ１が５２．６°〜４７°の範囲内で、凹面内分布を低下させることなく、他の被成膜レンズに対して自由に膜厚のバランス調整が可能となることを示している。
【００４２】
＜実施例２＞
凹面外径１０ｅが９．４ｍｍ、光線有効径１０ｆが９．１ｍｍ、光線有効径１０ｆにおける半開角θ２が４９．８°、凹面１０ａの開き角度θ３が６４．０°の複数の被成膜レンズ１０を準備した。次に、回転軸４１からレンズ保持部４６に保持された被成膜レンズ１０の凹面中心１０ｃまでの距離が、２０ｍｍ、４０ｍｍ、６０ｍｍとなるレンズホルダ４０を準備し、準備した被成膜レンズ１０をレンズホルダ４０のレンズ保持部４６にそれぞれ取り付けた。
【００４３】
嵩部４５は、２０ｍｍ位置の嵩部４５の貫通孔４７の開き角θ１が６４．２°、４０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１が６１．７°、６０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１が５９．４°となる形状とした。また、嵩部４５の高さは、２０ｍｍ位置の嵩部４５の高さが０．４ｍｍ、４０ｍｍ位置の嵩部４５の高さが０．７ｍｍ、６０ｍｍ位置の嵩部４５の高さが１．０ｍｍとなる形状とした。
【００４４】
エロージョンリングの半径（エロージョン半径）が６４ｍｍとなるようにマグネットを取り付けたターゲット５を準備した。ＴＳ距離１３が７５．５ｍｍ、オフセット距離１４が１０６．６ｍｍ、ターゲット５とレンズホルダ４０とのなす角度θ４が５２．４°となるようにターゲット５とレンズホルダ４０とを配置した。
【００４５】
プロセスガスとして、スパッタガスにＡｒ、反応性ガスにＯ２を用い、ＡｒとＯ２とのガス流入比を１：１として成膜プロセス圧力が０．２５Ｐａとなるように調整し、ターゲット５に１．７５Ｋｗの電力を印加して、ＳｉＯ２の成膜を実施した。
【００４６】
＜比較例２＞
実施例２と同様の被成膜レンズ１０を、図５に示すレンズホルダ１４０のレンズ保持部１４６にそれぞれ取り付け、実施例２と同様の条件で、ＳｉＯ２の成膜を実施した。このときの嵩部４５は、２０ｍｍ位置、４０ｍｍ位置及び６０ｍｍ位置における貫通孔４７の開き角度θ１を５９．４°とし、高さを０．４ｍｍとした。
【００４７】
＜結果＞
図８（ａ）に、実施例２による被成膜レンズ１０の凹面１０ａの光線有効径１０ｆの膜厚分布を示し、図８（ｂ）に、比較例２による被成膜レンズ１０の凹面１０ａの光線有効径１０ｆの膜厚分布を示す。図８において、横軸は、回転軸４１からの距離を示し、縦軸は、最も膜厚が厚くなる凹面１０ａ内での膜厚を基準(１００％)としたときの、凹面１０ａ内のレンズホルダの径方向と、レンズホルダの周方向の膜厚をそれぞれ示している。
【００４８】
図８（ｂ）に示すように、比較例２では、レンズホルダ１４０内に配置された全ての被成膜レンズ１０の凹面１０ａ内の膜厚を評価すると、最大１０．７％の膜厚分布が生じていた。これに対して、実施例１では、図８（ａ）に示すように、レンズホルダ４０内に配置された全ての被成膜レンズ１０の凹面１０ａ内の膜厚を評価すると、膜厚分布を４．２％に改善することができた。
【００４９】
図９は、被成膜レンズ１０の凹面１０ａ内の膜厚の最大膜厚と最小膜厚の平均膜厚を凹面平均膜厚とし、最小膜厚と最大膜厚とを凹面内分布として、嵩部４５の貫通孔４７の開き角θ１に対する傾向をプロットしたものである。図９において、横軸は、凹面平均膜厚を示し、左の縦軸は、凹面内分布を示し、右の縦軸は、凹面平均膜厚を示したものである。凹面平均膜厚は、回転軸４１からの距離が６０ｍｍの位置に配置された被成膜レンズ１０において、貫通孔４７の開き角θ１が６４°と凹面１０ａの開き角θ３に等しい場合を、１として規格化しプロットした。
【００５０】
図９に示すように、回転軸４１からの距離が６０ｍｍの位置の被成膜レンズ１０において、貫通孔４７の開き角θ１が６４°〜５２°の範囲内で凹面内分布を低下させずに凹面平均膜厚を減少させることができることを確認できる。つまり、回転軸４１からの距離が６０ｍｍの位置に配置された被成膜レンズ１０は、貫通孔４７の開き角θ１が６４°〜５２°の範囲内で、凹面内分布を低下させることなく、他の被成膜レンズに対して自由に膜厚のバランス調整が可能となることを示している。
【００５１】
＜実施例３＞
凹面外径１０ｅが９．４ｍｍ、凹面１０ａの光線有効径１０ｆが９．１ｍｍ、凹面１０ａの光線有効径１０ｆにおける半開角θ２が４９．８°、凹面１０ａの開き角度θ３が６４．０°の複数の被成膜レンズ１０を準備した。次に、回転軸４１からレンズ保持部４６に保持された被成膜レンズ１０の凹面中心１０ｃまでの距離が、２０ｍｍ、４０ｍｍ、６０ｍｍとなるレンズホルダ４０を準備し、準備した被成膜レンズ１０をレンズホルダ４０のレンズ保持部４６にそれぞれ取り付けた。
【００５２】
嵩部４５は、２０ｍｍ位置の嵩部４５の貫通孔４７の開き角θ１が６４．２°、４０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１が６２．１°、６０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１が６０．５°となる形状とした。また、嵩部４５の高さは、２０ｍｍ位置の嵩部４５の高さが０．４ｍｍ、４０ｍｍ位置の嵩部４５の高さが０．６５ｍｍ、６０ｍｍ位置の嵩部４５の高さが０．８５ｍｍとなる形状とした。
【００５３】
エロージョンリングの半径（エロージョン半径）が６４ｍｍとなるようにマグネットを取り付けたターゲット５を準備した。ＴＳ距離１３が７５．５ｍｍ、オフセット距離１４が１０６．６ｍｍ、ターゲット５とレンズホルダ４０とのなす角度θ４が５２．４°となるようにターゲット５とレンズホルダ４０とを配置した。
【００５４】
プロセスガスとして、スパッタガスにＡｒ、反応性ガスにＯ２を用い、ＡｒとＯ２とのガス流入比を１：１として成膜プロセス圧力が０．２５Ｐａとなるように調整した。第１ターゲット５１に１．７５Ｋｗの電力を印加するＳｉＯ２の成膜と、第２ターゲット５２に２．２５ｋＷの電力を印加するＮｂ２Ｏ５の成膜と、をターゲットを切り替えて交互に行い、図１０に示す膜厚構成となる多層反射防止膜を作成した。なお、図１０に示す多層反射防止膜は、可視波長帯域（４００〜７００ｎｍ）で反射率を低減するように設計したものである。
【００５５】
ここで、実施例３において、レンズホルダ４０の形状を上述のように設定したことに対する補足を以下に述べる。ＳｉＯ２では２０ｍｍ位置の嵩部４５の貫通孔４７の開き角θ１を６４．２°、４０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１を６１．７°、６０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１を５９．４°とし、嵩部４５の高さを０．４ｍｍ、０．７ｍｍ、１．０ｍｍとした。ＳｉＯ２では、この場合に最もレンズホルダ内での分布が改善する。同様に、Ｎｂ２Ｏ５では２０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１を６４．２°、４０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１を６２．５°、６０ｍｍ位置の貫通孔４７の開き角θ１を６１．７°とし、嵩部４５の高さ１３を０．４ｍｍ、０．６ｍｍ、０．７ｍｍとした。Ｎｂ２Ｏ５では、この場合に最もレンズホルダ内での分布が改善する。
【００５６】
しかし、図１０に示す膜設計におけるＳｉＯ２及びＮｂ２Ｏ５のトータル膜厚が１：１の割合に近いことを考慮し、どちらかの材料に合わせた形状のレンズホルダとはせずに、各材料の最適な嵩部の開き角の平均の開き角を適用したレンズホルダの形状とした。
【００５７】
＜比較例３＞
実施例３と同様の被成膜レンズ１０を、図５に示すレンズホルダ１４０のレンズ保持部１４６にそれぞれ取り付け、実施例３と同様の条件で、ＳｉＯ２及びＮｂ２Ｏ５の成膜を実施した。このときの嵩部４５は、２０ｍｍ位置、４０ｍｍ位置及び６０ｍｍ位置における貫通孔４７の開き角度θ１を６４．２°とし、高さを０．４ｍｍとした。
【００５８】
＜結果＞
図１１（ａ）に、実施例３による凹面１０ａの反射率波長特性の結果を示し、図１１（ｂ）に、比較例３による凹面１０ａの反射率波長特性を示す。図１１において、横軸は、波長を示し、縦軸は、反射率を示している。図１１（ｂ）に示すように、比較例３のレンズホルダ１４０では、レンズホルダ１４０内に配置された全ての被成膜レンズ１０の凹面１０ａ内の反射率波長特性を評価すると、可視波長帯域（４００〜７００ｎｍ）において最大１．５％の反射が生じていた。これに対して、実施例３のレンズホルダ４０では、図１１（ａ）に示すように、レンズホルダ４０内に配置された全ての被成膜レンズ１０の凹面１０ａ内の反射率波長特性を評価すると、可視波長帯域において最大０．８５％にまで反射率を改善することができた。
【００５９】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。また、本発明の実施形態に記載された効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、本発明の実施形態に記載されたものに限定されない。
【００６０】
例えば、本実施形態においては、嵩部４５とレンズホルダ４０とを一体に形成したが、本発明においてはこれに限定されない。例えば、嵩部４５は、レンズホルダ４０と別体に形成して、レンズホルダ４０に組み付ける等の構成であってもよい。
【００６１】
また、本実施形態においては、レンズホルダ４０を揺動させてレンズホルダ４０とターゲット５との相対角度を変更したが、本発明においてはこれに限定されない。ターゲット５を移動させて、レンズホルダ４０とターゲット５との相対角度を変更する構成であってもよい。つまり、レンズホルダ４０及びターゲット５の少なくとも一方を移動させて、相対角度を変更する構成であればよい。
【符号の説明】
【００６２】
１    スパッタリング装置
３    ガス供給部
４    回転装置
５    ターゲット
６    電源部
１０    被成膜レンズ
１０ａ    凹面
１０ｃ    凹面中心
１０ｄ    光軸
４０    レンズホルダ
４１    回転軸
４２    揺動軸（角度調整機構）
４５    嵩部（被せ部材）
４６    レンズ保持部
４７    貫通孔
４７ａ    第１開口
４７ｂ    第２開口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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