(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報記録媒体から、浮上高さが２ｎｍ以下で離間して設けられたＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドにより、磁気的に情報を記録又は再生する情報記録装置に備えられる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
原料ガラスを溶融炉で溶融した溶融ガラスから形成したガラス素板を、当該ガラス素板の屈折率と略同一の屈折率を有する液体に浸漬させた状態で、前記ガラス素板に検査光を照射し、照射した検査光の反射光及び散乱光に基づいて、異物欠陥量を測定する検査工程と、
検査後のガラス素板の表面を研磨する研磨工程と、を備え、
前記検査工程が、前記異物欠陥の存在を検出する反射光又は散乱光を測定した位置情報を取得し、取得された位置情報に基づく前記ガラス素板の該当箇所を拡大した光学像、又は該当箇所の輝度情報を光学撮像手段で得て、得られた光学像又は輝度情報によって異物欠陥の種別を判定する工程をさらに備えることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記液体として、屈折率の異なる複数の調整液を混合することによって、前記ガラス素板の屈折率と同一となるように調整したものを用いる請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記検査光として、レーザ光源から出射されたレーザ光を用いる請求項１又は請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記検査工程が、前記ガラス素板に対して前記検査光を照射する位置を移動可能とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記光学撮像手段として、検査される前記ガラス素板の近傍に配置可能な対物レンズを備える撮像手段を用い、
前記対物レンズが、前記液体に浸漬していることにより、前記対物レンズの開口数が１以上である請求項１〜４のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記検査工程で測定される前記異物欠陥量に応じて、前記溶融炉を改修する時期を決定する請求項１〜５のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
情報記録媒体から、浮上高さが２ｎｍ以下で離間して設けられたＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドにより、磁気的に情報を記録又は再生する情報記録装置に備えられる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
原料ガラスを溶融炉で溶融した溶融ガラスから形成したガラス素板を、当該ガラス素板の屈折率と略同一の屈折率を有する液体に浸漬させた状態で、前記ガラス素板に検査光を照射し、照射した検査光の反射光及び散乱光に基づいて、異物欠陥量を測定する検査工程と、
検査後のガラス素板の表面を研磨する研磨工程と、を備え、
前記検査工程で測定される前記異物欠陥量に応じてガラス素板を選別する工程をさらに備え、
前記研磨工程では、選別された異物欠陥量毎に、前記ガラス素板を研磨することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板上に、磁性膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気、光及び光磁気等を利用することによって、情報を情報記録媒体に記録する情報記録装置が知られている。このような情報記録装置としては、代表的なものとして、例えば、ハードディスクドライブ装置等が挙げられる。ハードディスクドライブ装置は、基板上に記録層を形成した情報記録媒体としての磁気ディスク（ハードディスク）に、磁気ヘッドによって磁気的に情報を記録し（書き込み）、記録した情報を再生する（読み出す）装置である。このような情報記録媒体の基材、いわゆるサブストレートとしては、ガラス基板が好適に用いられている。
【０００３】
また、ハードディスクドライブ装置は、磁気ディスクに情報を記録したり、読み出したりする際、磁気ヘッドを磁気ディスクに接触することなく、磁気ディスクに対し浮上させておくものである。そして、磁気ヘッドの浮上量を低減させることによって、記録密度の向上が図れることが知られている。近年は、磁気ディスクの記録密度の高密度化が図られ、磁気ヘッドの浮上量が数ｎｍ程度にまで減少している。このため、情報記録媒体にガラス基板の異物欠陥等に基づく欠陥があると、前記磁気ヘッドの浮上が不安定になり、磁気ヘッドと磁気ディスクとが衝突してしまう、いわゆるヘッドクラッシュとよばれる現象が発生することがある。また、ヘッドクラッシュを起こさない場合であっても、磁気ヘッドの浮上安定性に影響することがある。これらのことから、磁気ヘッドの浮上量をより低減させて、記録密度をより高めるためには、情報記録媒体用ガラス基板に欠陥が少ないこと等が求められる。
【０００４】
そこで、異物欠陥等の欠陥の少ない情報記録媒体用ガラス基板の製造方法としては、例えば、特許文献１及び特許文献２に記載の方法等が挙げられる。
【０００５】
特許文献１には、ガラス基板に混入されたガラス原料を溶解する溶解炉（溶融炉）の構成材料である異物の数量及び大きさと、前記異物が混入したガラス基板を用いて磁気ディスクを製造した際の不具合の発生率との相関関係を管理した前記溶解炉を用いた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が記載されている。そして、その方法は、前記溶解炉から供給された溶融ガラスから板状ガラスを製造する工程と、前記板状ガラスを透明なガラス基板に加工する工程と、加工されたガラス基板中に混入される、前記異物の数量及び大きさを欠陥検査装置で検査する工程と、前記欠陥検査装置の検査結果に対応する前記相関関係の前記不具合の発生率に応じて前記溶解炉の改修タイミングを決定する工程とを具備する方法である。
【０００６】
また、特許文献２には、中心に内孔を有する円板状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、光を照射した検査で欠陥とされた箇所をさらに検査する表面欠陥判断工程と、表面欠陥判断工程の結果に基づいて基板を良品であるか否かを判定する良品判定工程とを含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−１６１４２３号公報
【特許文献２】特開２００９−１６２５７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
また、情報記録媒体用ガラス基板の異物欠陥としては、例えば、ガラス基板の表面に付着している異物（付着異物）だけではなく、ガラス基板の内部に存在する異物（内部異物）によるものもある。このような内部異物は、具体的には、情報記録媒体用ガラス基板を製造する際に用いるガラス素板の状態から内部に存在した異物等が挙げられる。そして、内部異物とは、以下のようなものが挙げられる。ガラス素板は、例えば、ガラス素材を溶融炉で溶融させた溶融ガラスを用いて成形加工することにより得られるものである。そして、この溶融炉の構成成分、例えば、白金等がガラス素板に混入することがある。このように、内部異物としては、例えば、この混入した白金等が挙げられる。
【０００９】
特許文献１によれば、ガラス基板に混入された、ガラス原料を溶解する溶解炉の構成材料である異物の数量及び大きさを検査し、その検査結果に応じて、溶解炉の改修タイミングを決定することから、不具合の発生率が増加する前に溶解炉の改修作業を行うことができることが開示されている。
【００１０】
また、特許文献１では、光学検査装置である、散乱系光学式欠陥解析装置（ＡＯＩ）及び干渉系光学式欠陥解析装置（ＯＤＴ）を用いて、欠陥検査を行うことが開示されている。そして、内部異物は、ＡＯＩで検出されＯＤＴでは検出されないので、付着異物による欠陥（付着欠陥）と、内部異物による欠陥（内部欠陥）とを分けて検査することができると考えられる。
【００１１】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、研磨工程等を施したガラス基板における異物欠陥を、光学検査装置を用いて検査しているので、異物欠陥だけではなく、研磨加工等によって除去できなかった表面の傷や、微小なへこみ（微小ピット）も欠陥として認識される。
【００１２】
また、特許文献１に記載の方法では、研磨工程等を施したガラス基板における異物欠陥を、光学検査装置を用いて検査しているので、小さい欠陥、例えば、１μｍ以下の欠陥を検査しようとすると、付着欠陥と内部欠陥との判別が困難になる場合があった。このことから、溶融炉の改修頻度が必要以上に高くなる傾向があった。
【００１３】
また、光学検査装置を用いて検査しているので、欠陥の個数等に誤差が生じる場合等もあり、良品及び不良品の判別能力にも問題があった。
【００１４】
また、特許文献２によれば、ガラス基板の製造工程で生じる内包物（内部異物）と表面に含まれる凹欠陥及び凸欠陥とを区別することができることが開示されている。
【００１５】
しかしながら、特許文献２に記載の方法は、ＡＯＩ等で、欠陥の位置を測定し、その位置で、他の方法により、その欠陥が表面欠陥であるか否かを判断して、内部異物による欠陥であれば、問題ないとするものである。
【００１６】
また、欠陥が表面欠陥であるか否かの判断を光学顕微鏡等を用いて行っており、検査の効率性が高いものでもなかった。
【００１７】
また、内部欠陥は、情報記録媒体からの磁気ヘッドの浮上高さが比較的大きいとき、例えば、浮上高さが２ｎｍを超える情報記録装置に適用する情報記録媒体用ガラス基板では、異物量を低減させることで、表面に存在する可能性が低いことを考慮すれば製品として使用可能になる場合がある。しかしながら、ＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドで、浮上高さが２ｎｍ以下を実現可能な情報記録装置に適用する情報記録媒体用ガラス基板では、異物欠陥量のさらなる低減が求められ、加工工程や洗浄工程に起因する表面欠陥はもとより、表面近傍に存在し表面品質に影響しうる内部欠陥の量についてもより少ないことが求められる。
【００１８】
このことから、上記のいずれの方法も、研磨工程等を施したガラス基板における異物欠陥を検査するものであり、欠陥の情報が得られた時点では、すでにガラス基板の製造工程が進んでおり、内部欠陥量の多いガラス基板を製造することになってしまう。すなわち、ＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドで、浮上高さが２ｎｍ以下を実現可能な情報記録装置に適用する情報記録媒体用ガラス基板としては、適用困難な不良品を多量に発生させることになってしまう。
【００１９】
本発明は、かかる事情から鑑みたものであって、内部欠陥に関する情報を比較的早い段階で、精度高く得ることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明の一態様に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、情報記録媒体から、浮上高さが２ｎｍ以下で離間して設けられたＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドにより、磁気的に情報を記録又は再生する情報記録装置に備えられる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、原料ガラスを溶融炉で溶融した溶融ガラスから形成したガラス素板を、当該ガラス素板の屈折率と略同一の屈折率を有する液体に浸漬させた状態で、前記ガラス素板に検査光を照射し、照射した検査光の反射光及び散乱光に基づいて、異物欠陥量を測定する検査工程と、検査後のガラス素板の表面を研磨する研磨工程と、を備えることを特徴とする。
【００２１】
このような構成によれば、前記ガラス素板の屈折率と略同一の屈折率を有する液体に、前記ガラス素板を浸漬させた状態で、前記ガラス素板に検査光を照射し、照射した検査光の反射光及び散乱光に基づいて、異物欠陥量を測定する。ガラス素板の屈折率と略同一の屈折率を有する液体に、前記ガラス素板を浸漬させることによって、前記ガラス素板と前記液体との界面で屈折率の変化が非常に小さく、前記ガラス素板の表面で検査光の反射及び散乱を抑制することができるので、内部異物に基づく欠陥（内部欠陥）を検出することができる。よって、照射した検査光の反射光及び散乱光に基づいて測定される異物欠陥は、ガラス素板に研磨工程前から存在する内部欠陥であり、その量を測定することができる。これに対して、前記液体に浸漬させない状態で前記ガラス素板の異物欠陥量を測定すると、前記ガラス素板の表面粗さが大きいため、その表面の凹凸による散乱光が発生するので、内部欠陥のみを検出することが困難である。
【００２２】
以上のことから、内部欠陥に関する情報を、比較的早い段階で精度高く得ることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することができる。すなわち、ＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドで、浮上高さが２ｎｍ以下を実現可能な情報記録装置に適用する情報記録媒体用ガラス基板で特に考慮する必要のある内部欠陥に関する情報を、比較的早い段階で精度高く得ることができる。このことから、ＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドで、浮上高さが２ｎｍ以下を実現可能な情報記録装置に適用可能な情報記録媒体用ガラス基板を好適に製造することができる。
【００２３】
また、内部欠陥に関する情報を精度高く得ることができるので、内部欠陥の主な原因である、溶融炉の構成成分の混入を抑制するための、溶融炉の改修のタイミングを好適に決定することができる。
【００２４】
また、内部欠陥に関する情報を、研磨工程前の比較的早い段階で得ることができるので、不良品の発生を早期に発見することができる。
【００２５】
また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記液体として、屈折率の異なる複数の調整液を混合することによって、前記ガラス素板の屈折率と同一となるように調整したものを用いることが好ましい。
【００２６】
このような構成によれば、前記液体として、屈折率の異なる複数の調整液を混合することによって、前記ガラス素板の屈折率にかかわらず、前記液体の屈折率と前記ガラス素板の屈折率とを容易に同一にすることができる。よって、内部欠陥に関する情報を、比較的早い段階で精度高く得ることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を、より容易に実現することができる。
【００２７】
また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記検査光として、レーザ光源から出射されたレーザ光を用いることが好ましい。
【００２８】
このような構成によれば、検査光を効率よく集光させることができるので、内部欠陥に関する情報をより高精度で得ることができる。
【００２９】
また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記検査工程が、前記ガラス素板に対して前記検査光を照射する位置を移動可能とすることが好ましい。
【００３０】
このような構成によれば、検査光を照射する位置は、内部欠陥を検査する位置であり、この位置を移動可能とすることで、ガラス素板の内部欠陥を検査することができる範囲を広げることができる。よって、内部欠陥に関する情報をより高精度で得ることができる。
【００３１】
また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記検査工程が、前記異物欠陥の存在を検出する反射光又は散乱光を測定した位置情報を取得し、取得された位置情報に基づく前記ガラス素板の該当箇所を拡大した光学像、又は該当箇所の輝度情報を光学撮像手段で得て、得られた光学像又は輝度情報によって異物欠陥の種別を判定する工程をさらに備えることが好ましい。
【００３２】
このような構成によれば、検査光を照射することによって、異物欠陥の存在を検出する反射光又は散乱光を測定した位置の情報を取得し、その箇所に対し、光学顕微鏡等の光学撮像手段で光学像や輝度情報を得て、得られた光学像や輝度情報によって、異物欠陥の種別を判定するので、異物欠陥の種別の情報が詳細に得られる。すなわち、検査光の照射により異物欠陥であると判定されたものの種別が、表面の付着異物、気泡、内部異物、及びノイズ等によるものであったかがわかる。よって、内部欠陥に関する情報を、より高精度で得ることができる。
【００３３】
また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記光学撮像手段として、検査される前記ガラス素板の近傍に配置可能な対物レンズを備える撮像手段を用い、前記対物レンズが、前記液体に浸漬していることにより、前記対物レンズの開口数が１以上であることが好ましい。
【００３４】
このような構成によれば、光学撮像手段に備えられる対物レンズを、ガラス素板の近傍に配置し、液浸することによって、その開口数が１以上であるので、光学撮像手段の撮像分解能を向上させることができる。例えば、光学撮像手段の分解能が、空気中で４００ｎｍ程度であったとしても、液浸での測定時には、２００ｎｍ程度の分解能を実現することが可能となる。よって、内部欠陥に関する情報をより高精度で得ることができる。
【００３５】
また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記検査工程で測定される前記異物欠陥量に応じて、前記溶融炉を改修する時期を決定することが好ましい。
【００３６】
このような構成によれば、内部欠陥の主な原因である、溶融炉の構成成分の混入を抑制するための、溶融炉の改修のタイミングを好適に決定することができる。よって、溶融炉の改修を必要以上に行うことなく、内部異物の混入量の少ない情報記録媒体用のガラス基板を製造することができる。
【００３７】
また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記検査工程で測定される前記異物欠陥量に応じてガラス素板を選別する工程を備え、選別された異物欠陥量毎に、前記ガラス素板を研磨することが好ましい。
【００３８】
このような構成によれば、異物欠陥量毎に分けて、情報記録媒体用ガラス基板が得られる。その結果、情報記録媒体に求められる性能に応じて、異物欠陥量の異なるガラス基板を提供することができるので、ガラス基板の廃棄量を低減することができる。よって、情報記録媒体用ガラス基板を効率よく製造することができる。
【発明の効果】
【００３９】
本発明によれば、内部欠陥に関する情報を、比較的早い段階で精度高く得ることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における検査工程の一例を説明するための概略図である。
【図２】本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における検査工程の他の一例を説明するための概略図である。
【図３】本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における研磨工程で用いる研磨装置の一例を示す概略断面図である。
【図４】本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法で用いられるガラス素板を示す上面図である。
【図５】本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体の一例である磁気ディスクを示す一部断面斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、本発明に係る実施形態について説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００４２】
本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、情報記録媒体から、浮上高さが２ｎｍ以下で離間して設けられたＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドにより、磁気的に情報を記録又は再生する情報記録装置に備えられる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、原料ガラスを溶融炉で溶融した溶融ガラスから形成したガラス素板を、当該ガラス素板の屈折率と略同一の屈折率を有する液体に浸漬させた状態で、前記ガラス素板に検査光を照射し、照射した検査光の反射光及び散乱光に基づいて、異物欠陥量を測定する検査工程と、検査後のガラス素板の表面を研磨する研磨工程と、を備えることを特徴とする。
【００４３】
このような検査工程であれば、原料ガラスを溶融炉で溶融した溶融ガラスから形成したガラス素板を、当該ガラス素板の屈折率と略同一の屈折率を有する液体に浸漬させた状態で、ガラス素板に検査光を照射して検査する。そうすることによって、ガラス素板と液体との界面で、屈折率の変化が非常に小さくなり、ガラス素板の表面で検査光の反射及び散乱が充分に抑制される。このことから、ガラス素板を液体に浸漬させた状態で、照射した検査光の反射光及び散乱光に基づいて、異物欠陥量を測定すると、研磨工程前からガラス素板に存在する内部欠陥の量を測定することができる。
【００４４】
これに対して、液体に浸漬させない状態でガラス素板の異物欠陥量を測定すると、ガラス素板の表面粗さが大きいため、その表面の凹凸による散乱光が発生するので、内部欠陥のみを検出することが困難になる。
【００４５】
以上のことから、研磨工程より前に前記検査工程を施すことによって、内部欠陥に関する情報を比較的早い段階で、精度高く得ることができる。また、内部欠陥に関する情報を精度高く得ることができるので、内部欠陥の主な原因である、溶融炉の構成成分の混入を抑制するための、溶融炉の改修のタイミングを好適に決定することができる。また、内部欠陥に関する情報を、研磨工程前の比較的早い段階で得ることができるので、不良品の発生を早期に発見することができる。すなわち、ＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドで、浮上高さが２ｎｍ以下を実現可能な情報記録装置に適用する情報記録媒体用ガラス基板で特に考慮する必要のある内部欠陥に関する情報を、比較的早い段階で精度高く得ることができる。このことから、ＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドで、浮上高さが２ｎｍ以下を実現可能な情報記録装置に適用可能な情報記録媒体用ガラス基板を好適に製造することができる。
【００４６】
なお、ＤＦＨ機構を有する磁気ヘッドとは、情報記録媒体に情報を読み書きする際に、磁気ヘッドにおける記録再生動作を行うヘッド素子のみを情報記録媒体に近接させることによって、いわゆるＡＢＳ面（ａｉｒ ｂｅａｒｉｎｇ ｓｕｒｆａｃｅ、空気ベアリング面）と情報記録媒体間の距離を低減する動的浮上量制御部（ｄｙｎａｍｉｃ ｆｌｙｉｎｇ ｈｅｉｇｈｔ制御技術、ＤＦＨ制御技術）を備える磁気ヘッドのことである。このような磁気ヘッドを用いることによって、浮上高さ２ｎｍ以下を実現することができる。
【００４７】
また、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、前記検査工程及び前記研磨工程を備えていれば、特に限定されない。具体的には、検査工程及び研磨工程を備えており、その検査工程が、上記のような工程であり、研磨工程が、検査工程の後であること以外、特に限定されず、従来公知の製造方法であればよい。なお、研磨工程は、情報記録媒体用ガラス基板の研磨工程として一般的な工程であればよく、前記検査工程の後に実施されるものであれば、特に限定されない。
【００４８】
まず、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における検査工程について、説明する。
【００４９】
前記検査工程は、上述した検査工程であれば、特に限定されない。すなわち、原料ガラスを溶融炉で溶融した溶融ガラスから形成したガラス素板を液体に浸漬させた状態で、異物欠陥量を測定する。また、異物欠陥量の測定方法は、ガラス素板に検査光を照射し、照射した検査光の反射光及び散乱光に基づいて測定する方法であれば、特に限定されない。具体的には、反射光の強度や角度の変化や、散乱光の存在の有無等により、異物欠陥量を測定する方法等が挙げられる。
【００５０】
また、ガラス素板を浸漬させる液体は、その屈折率がガラス素板の屈折率と略同一である。このような液体にガラス素板を浸漬させた状態で、ガラス素板の異物欠陥量を測定するので、ガラス素板と液体との界面で、屈折率の変化が非常に小さくなり、ガラス素板の表面での検査光の反射及び散乱の発生を抑制することができる。よって、ガラス素板の表面状態にかかわらず、内部異物に基づく異物欠陥（内部欠陥）量を測定することができる。
【００５１】
これに対して、液体に浸漬させない状態でガラス素板の異物欠陥量を測定しようとすると、研磨工程前のガラス素板であるため、ガラス素板の表面粗さが大きく、その表面の凹凸による散乱光が発生する。よって、内部異物に基づく異物欠陥量のみを測定することができない。
【００５２】
このため、ガラス素板を浸漬させる液体としては、その屈折率がガラス素板の屈折率と略同一である液体を用いる。すなわち、液体の屈折率が、ガラス素板の表面での検査光の反射及び散乱の発生を充分に抑制できるほど、ガラス素板の屈折率と同一である液体を用いる。なお、ここでの、液体の屈折率とガラス素板の屈折率とが略同一とは、例えば、それらの屈折率の差が０．０１以内であることを指し、０．００５以内であることが好ましい。
【００５３】
また、前記液体としては、具体的には、屈折率の異なる複数の調整液を用意し、その調整液を混合した液体等が挙げられる。すなわち、その混合比を調整することによって、ガラス素板の屈折率と同一の屈折率となるように調整した液体等が挙げられる。このような液体であれば、ガラス素板の屈折率にかかわらず、ガラス素板の屈折率と同一になるように調整した液体を容易に用意することができる。
【００５４】
また、前記調整液としては、ガラス素板を損傷させることがなく、他の調整液に溶解することができ、複数の調整液を混合することによって、ガラス素板の屈折率と同一の屈折率を実現できるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、マッチングオイル等が挙げられる。
【００５５】
また、前記検査光は、ガラス素板に照射して、その反射光及び散乱光に基づいて、異物欠陥量を測定可能な光線であれば、特に限定されないが、レーザ光であることが好ましい。具体的には、レーザ光源から出射されたレーザ光等が挙げられる。検査光として、レーザ光を用いることによって、検査光を効率よく集光させることができる。よって、異物欠陥量の測定精度を高めることができる。
【００５６】
また、前記検査工程において、ガラス素板に対して検査光を照射する位置を移動可能とすることが好ましい。すなわち、ガラス素板の、検査光が照射される位置が移動可能であることが好ましい。具体的には、検査光を出射する光源、例えば、レーザ光源を、ガラス素板に対して移動可能に構成するものや、ガラス素板を回転させて、異物欠陥量を測定する構成のもの等が挙げられる。そうすることによって、検査光を照射する位置は、内部欠陥を検査する位置であるので、この位置を移動可能とすることで、ガラス素板の内部欠陥を検査することができる範囲を広げることができる。また、レーザ光源を、ガラス素板に対して移動可能に構成するものは、レーザ光源を移動してもよいし、ガラス素板を移動してもよい。また、光源から出射される検査光の集光位置を変更可能に構成するものが挙げられる。そうすることによって、ガラス素板の厚み方向に異物欠陥量を測定可能にすることができる。
【００５７】
また、前記検査工程での検査方法は、上記の方法を実現することができる方法であれば、特に限定されない。具体的には、図１に示す方法等が挙げられる。なお、図１は、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における検査工程の一例を説明するための概略図である。
【００５８】
まず、図１に示すように、ガラス素板１を液体２に浸漬させる。そして、光学照射手段３から出射された検査光８を、レンズ４を通して、液体２に浸漬されたガラス素板１に対して照射する。そして、照射された検査光８の、ガラス素板１で反射した反射光９を、レンズ６を通過させた後、光学検出手段５で検出する。そうすることによって、反射光９の変化を、光学検出手段５で検出することができる。この検出結果を解析することによって、内部欠陥量を測定することができる。
【００５９】
また、検査光８を照射する、ガラス素板１の位置は、最終的に得られるガラス基板になったときに孔が形成される中心部や、加工によって除去される外端部以外の領域とすることが好ましい。また、ここでは、反射光９の変化で内部欠陥量を測定することを記載したが、光学検出手段５で、ガラス素板１で散乱した散乱光を検出し、その有無等で内部欠陥量を測定してもよい。すなわち、本実施形態での検査工程は、照射された検査光８の、ガラス素板１での反射光又は散乱光に基づいて、内部欠陥量を測定するものであればよい。
【００６０】
なお、光学照射手段３は、検査光８を出射させることができるものであれば、特に限定されない。具体的には、レーザ光源等が挙げられる。また、前記レンズ４は検査光８をガラス素板１で集光させるためのものである。また、前記光学検出手段５は、反射光９を検出することができるものであれば、特に限定されない。具体的には、反射光９の反射角度や強度の変化を検出できるもの等が挙げられる。また、前記レンズ６は、前記光学検出手段５で検出するのに好適な光に変換するためのものであれば、特に限定されない。
【００６１】
また、前記検査工程が、さらに、以下の工程を備えるものであることが好ましい。具体的には、異物欠陥の存在を検出するための反射光又は散乱光を測定したガラス基板上の位置情報を取得し、取得された位置情報に基づくガラス素板の該当箇所を拡大した光学像、又は該当箇所の輝度情報を光学撮像手段で得て、得られた光学像や輝度情報によって異物欠陥の種別を判定する工程をさらに備えることが好ましい。
【００６２】
このような工程を備えていれば、検査光を照射することによって、異物欠陥の存在を検出する反射光又は散乱光を測定した位置の情報を取得し、その箇所に対し、光学顕微鏡等の光学撮像手段により光学像や輝度情報を得て、その光学像や輝度情報によって、その異物欠陥の種別を判定するので、異物欠陥の種別の情報が詳細に得られる。検査光の照射により異物欠陥であると判定されたものの種別が、表面の付着異物、気泡、内部異物、及びノイズ等によるものであるかがわかる。よって、内部欠陥に関する情報をより高精度で得ることができる。
【００６３】
このような異物欠陥の種別を判定する工程を備える方法は、この方法を実現することができる方法であれば、特に限定されない。具体的には、図２に示す方法等が挙げられる。なお、図２は、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における検査工程の他の一例を説明するための概略図である。
【００６４】
まず、ガラス素板は、位置検出器であるエンコーダを備えた移載装置（不図示）によって、水平方向（面方向）及び厚さ方向に移動可能に保持されている。このエンコーダによって、ガラス素板の位置情報を取得することができる。よって、光学検出手段５によって異物欠陥を検出されたガラス素板の位置情報を、エンコーダによって取得する。そして、その取得した位置情報に相当する箇所に対し、図２に示すような光学撮像手段７で光学像や輝度情報を取得する。そして、この光学像や輝度情報によって、その異物欠陥の種別を判断する。
【００６５】
また、エンコーダによって取得した位置情報に相当する箇所を、光学撮像手段７で測定する際、その該当箇所が光学撮像手段７まで到達するように、ガラス素板１を回転させる構成としてもよい。このような場合、光学撮像手段７の撮像する箇所が、ガラス素板の半径方向に移動可能であれば、ガラス素板の全ての領域を測定可能である。また、その場合、検査光８を照射する位置と、光学撮像手段７で撮像する位置とを、半径方向で同じ位置とする。そして、検査光８を照射する位置と、光学撮像手段７で撮像する位置とが、ガラス素板の中心を挟んで反対側に配置されていることが好ましい。
【００６６】
また、検査光８を照射する位置と、光学撮像手段７で撮像する位置とを予め決めておくことが好ましい。そうすることによって、光学検出手段５によって異物欠陥が検出されたガラス素板の位置情報をエンコーダによって取得し、その位置が、光学撮像手段７で撮像する位置に到達するまでの、ガラス素板の移動距離を得ることができる。
【００６７】
また、光学撮像手段７は、ガラス素板に存在しうる欠陥の種別を判別できる光学像や輝度情報を撮像することができるものであれば、特に限定されない。具体的には、マイクロスコープ、光学顕微鏡、及びレーザ顕微鏡等が挙げられる。この中でも、高精細な光学像（画像）を取得することができるという点でレーザ顕微鏡が好ましい。
【００６８】
また、光学撮像手段７は、検査されるガラス素板の近傍に配置可能な対物レンズを備えるものが好ましい。そして、その対物レンズを、ガラス素板に近接させ、ガラス素板を浸漬させている液体に浸漬させることにより、開口数が１以上となる対物レンズが好ましい。そうすることによって、光学撮像手段の撮像分解能を向上させることができる。例えば、光学撮像手段の分解能が、空気中で４００ｎｍ程度であったとしても、液浸での測定時には、２００ｎｍ程度の分解能を実現することも可能となる。このように対物レンズを、ガラス素板に近接させ、さらに液浸させることよって、内部欠陥に関する情報を、より高精度に得ることができる。また、前記対物レンズの倍率は、特に限定されないが、例えば、１００〜１５０倍程度のものが好ましい。
【００６９】
また、検査光の照射による検査を行い、それと同時に、ガラス素板の照射位置の情報を取得し、記憶しておくことで、その位置情報に基づく位置が、光学撮像手段で撮像する位置に到達した際に、光学撮像手段７で光学像又は輝度情報を取得することが好ましい。そうすることによって、検査光の照射による検査と光学撮像手段による検査を同時に行うことができる。
【００７０】
以上のような検査工程を備えていれば、上述したように、検査光の照射により異物欠陥であると判定されたものの種別が、表面の付着異物、気泡、内部異物、及びノイズ等によるものであったかがわかる。よって、内部欠陥に関する情報を、より高精度で得ることができる。
【００７１】
また、研磨工程は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における研磨工程であれば、特に限定されない。また、本実施形態においては、研磨工程は、前記検査工程の後に実施されるものであり、後述するように、検査工程と研磨工程との間に、他の工程を備えるものであってもよい。また、前記研磨工程は、１回研磨であってもよいが、例えば、粗研磨工程と精密研磨工程との複数回の工程を行うものであってもよい。また、精密研磨工程も、１回であってもよいが、２回以上行ってもよい。具体的には、例えば、以下のような研磨工程が挙げられる。
【００７２】
前記粗研磨工程（１次研磨工程）は、ガラス素板の表面に粗研磨を施す工程である。例えば、後述するラッピング工程が施されたガラス素板や、成形により得られたガラス素板の表面に粗研磨を施す工程である。この粗研磨は、傷や歪みの除去を目的とするもので、後述する研磨装置を用いて実施する。なお、前記粗研磨工程で研磨する表面は、ガラス素板の面方向に平行な面、すなわち主表面である。
【００７３】
まず、粗研磨工程で用いる研磨装置は、ガラス基板の製造に用いる研磨装置であれば、特に限定されない。具体的には、図３に示すような研磨装置１１が挙げられる。なお、図３は、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における研磨工程で用いる研磨装置の一例を示す概略断面図である。
【００７４】
図３に示すような研磨装置１１は、ガラス素板の主表面の両面を、同時に研磨可能な装置である。また、この研磨装置１１は、装置本体部１１ａと、装置本体部１１ａに研磨液（研磨スラリー）を供給する研磨液供給部１１ｂとを備えている。
【００７５】
研磨本体部１１ａは、互いに対向して配置される２枚の定盤１２，１３を備えている。それぞれの定盤の位置関係は、上下に限定されないが、例えば、２枚の定盤のうち、上側に配置される定盤を、上定盤１２とし、下側に配置される定盤を、下定盤１３と称する。すなわち、研磨本体部１１ａは、円盤状の上定盤１２と円盤状の下定盤１３とを備えており、それらが互いに平行になるように上下に間隔を隔てて配置されている。そして、円盤状の上定盤１２と円盤状の下定盤１３とが、互いに逆方向に回転する。
【００７６】
この円盤状の上定盤１２と円盤状の下定盤１３との対向するそれぞれの面に、ガラス素板１０の表裏の両面を研磨するための研磨パッド１５が貼り付けられている。
【００７７】
また、円盤状の上定盤１２と円盤状の下定盤１３との間には、回転可能な複数のキャリア１４が設けられている。このキャリア１４は、複数の素板保持用孔５１が形成されており、この素板保持用孔５１にガラス素板１０をはめ込んで配置することができる。キャリア１４としては、例えば、素板保持用孔５１が１００個形成されていて、１００枚のガラス素板１０をはめ込んで配置できるように構成されていてもよい。そうすると、１回の処理（１バッチ）で１００枚のガラス素板を処理できる。
【００７８】
研磨パッド１５を介して定盤１２，１３に挟まれているキャリア１４は、ガラス素板１０を保持した状態で、自転しながら、定盤１２，１３の回転中心に対して下定盤１３と同じ方向に公転する。なお、円盤状の上定盤１２と円盤状の下定盤１３とは、別駆動で動作することができる。このように動作している研磨装置１１において、研磨液１６を、上定盤１２とガラス素板１０との間、及び下定盤１３とガラス素板１０との間に、それぞれ供給することによって、ガラス素板１０の研磨を行うことができる。
【００７９】
また、研磨液供給部１１ｂは、液貯留部１１０と液回収部１２０とを備えている。液貯留部１１０は、液貯留部本体１１０ａと、液貯留部本体１１０ａから装置本体部１１ａに延ばされた吐出口１１０ｅを有する液供給管１１０ｂとを備えている。液回収部１２０は、液回収部本体１２０ａと、液回収部本体１２０ａから装置本体部１１ａに延ばされた液回収管１２０ｂと、液回収部本体１２０ａから研磨液供給部１１ｂに延ばされた液戻し管１２０ｃとを備えている。
【００８０】
そして、液貯留部本体１１０ａに入れられた研磨液１６は、液供給管１１０ｂの吐出口１１０ｅから装置本体部１１ａに供給され、装置本体部１１ａから液回収管１２０ｂを介して液回収部本体１２０ａに回収される。また、回収された研磨液１６は、液戻し管１２０ｃを介して液貯留部１１０に戻され、再度、装置本体部１１ａに供給可能とされている。
【００８１】
ここで用いる研磨パッドとしては、粗研磨工程に用いることができる研磨パッドであれば、特に限定されない。具体的には、硬質研磨パッド等が挙げられる。
【００８２】
また、ここで用いる研磨液は、研磨剤を水に分散させた状態の液体、すなわち、スラリー液である。そして、この研磨剤としては、例えば、ＣｅＯ２を含有する研磨剤等が挙げられる。
【００８３】
次に、精密研磨工程について説明する。
【００８４】
前記精密研磨工程は、前記粗研磨工程で得られた平坦平滑な主表面を維持しつつ、例えば、主表面の表面粗さ（Ｒｍａｘ）が０．３ｎｍ程度以下である平滑な鏡面に仕上げる鏡面研磨処理である。この精密研磨工程は、例えば、上記粗研磨工程で使用したものと同様の研磨装置を用い、研磨パッドを硬質研磨パッドから軟質研磨パッドに取り替えて行われる。なお、前記精密研磨工程で研磨する表面は、前記粗研磨工程で研磨する表面と同様、主表面である。なお、軟質研磨パッドとしては、例えば、スエードパッド等が挙げられる。スエードパッドとは、表面部（研磨層）が、軟質発泡ポリウレタン等の軟質発泡樹脂で構成されるスエードタイプの軟質発泡樹脂パッドである。また、スエードパッドは、気泡が表面（パッド面）に開放されており、気泡を仕切る壁が軟らかいものが相対的に多い研磨パッドである。
【００８５】
また、精密研磨工程で用いる研磨剤としては、粗研磨工程で用いた研磨剤より、研磨性が低くても、傷の発生がより少なくなる研磨剤が用いられる。具体的には、例えば、粗研磨工程で用いた研磨剤より、粒子径が低いシリカ系の砥粒（コロイダルシリカ）を含む研磨剤等が挙げられる。このシリカ系の砥粒の平均粒子径としては、２０ｎｍ程度であることが好ましい。そして、本実施形態では、このコロイダルシリカを含む研磨剤が用いられる。
【００８６】
そして、前記研磨剤を含む研磨液（スラリー液）をガラス素板に供給し、研磨パッドとガラス素板とを相対的に摺動させて、ガラス素板の表面を鏡面研磨する。なお、スラリー液は、例えば、上記研磨装置１１の研磨液供給部１１ｂによって循環使用してもよい。
【００８７】
また、前記検査工程で測定される異物欠陥量に応じて、ガラス素板を形成する際に用いる溶融ガラスを得るための溶融炉を改修する時期を決定することが好ましい。すなわち、本実施形態に係る情報記録用ガラス基板の製造方法は、前記検査工程で測定される前記異物欠陥量に応じて、前記溶融炉を改修する時期を決定する決定工程と、前記溶融炉を改修すると決定した時期に、前記溶融炉を改修する改修工程とをさらに備えることが好ましい。上述したように、ガラス素板の内部欠陥は、研磨工程前からガラス素板に存在する内部異物に基づくものであり、その内部異物は、溶融炉の構成成分である白金等の混入によるものが多い。この混入は、溶融炉の使用回数や使用時間等が増加するに従い、増える傾向がある。このことから、内部異物を少なくするためには、溶融炉を改修する必要がある。溶融炉の改修を高頻度で行えば、内部異物の混入が少なくなるが、情報記録媒体用ガラス基板の製造効率が低下してしまう。そこで、上記のように溶融炉の改修時期を決定することによって、異物欠陥量が増えてきたタイミングで、溶融炉を改修することができる。すなわち、内部欠陥の主な原因である、溶融炉の構成成分の混入を抑制するための、溶融炉の改修のタイミングを好適に決定することができる。したがって、溶融炉の改修を必要以上にすることなく、内部異物の混入量の少ない情報記録媒体用のガラス基板を製造することができる。なお、溶融炉の改修方法は、特に限定されず、一般的な改修方法であればよい。
【００８８】
また、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、前記検査工程で測定される異物欠陥量に応じてガラス素板を選別する工程を備え、研磨工程が、選別された異物欠陥量毎に、前記ガラス素板を研磨することが好ましい。すなわち、前記検査工程で測定された異物欠陥量に応じて、ランク分けを行う。例えば、適用する情報記録装置の磁気ヘッドの浮上量に応じて、ランク分けを行う。具体的には、例えば、異物欠陥が発見されなかったガラス素板は、磁気ヘッドの浮上量が２ｎｍ以下の情報記録装置に備えられる磁気ディスク用にランク分けする等である。また、反対に、異物欠陥量が多く、例えば、５個以上発見されたガラス素板は、磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以上の情報記録装置に備えられる磁気ディスク用にランク分けする等である。このように、異物欠陥量毎に分けて、情報記録媒体用ガラス基板が得られる。そうすることによって、情報記録媒体に求められる性能に応じて、異物欠陥量の異なるガラス基板を提供することができるので、ガラス基板の廃棄量を低減することができる。よって、情報記録媒体用ガラス基板を効率よく製造することができる。
【００８９】
以上のように、前記研磨工程の前に、前記検査工程を施すことによって、内部欠陥に関する情報を、比較的早い段階で精度高く得ることができる。また、内部欠陥に関する情報を精度高く得ることができるので、内部欠陥の主な原因である、溶融炉の構成成分の混入を抑制するための、溶融炉の改修のタイミングを好適に決定することができる。また、内部欠陥に関する情報を、研磨工程前の比較的早い段階で得ることができるので、不良品の発生を早期に発見することができる。
【００９０】
また、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法としては、前記検査工程及び前記研磨工程を備えていればよいが、その他の工程を備えていてもよい。例えば、円盤加工工程、検査工程、熱処理工程（アニール工程）、研削工程（ラッピング工程）、内外研削工程、端面研磨工程、化学強化工程、研磨工程（ポリッシング工程）、及び洗浄工程を備える方法等が挙げられる。そして、前記各工程を、この順番で行うものであってもよいし、これらの工程の全てを行わなくてもよいし、これら以外の工程を備える方法であってもよい。例えば、研削工程を行わない場合であってもよいし、研磨工程の後に化学強化工程を行うものであってもよい。また、研磨工程の途中で、化学強化工程を行ってもよい。具体的には、研磨工程として、粗研磨工程、第１精密研磨工程、第２精密研磨工程を備え、第１精密研磨工程と第２精密研磨工程との間に、化学強化工程を行ってもよい。さらに、これら以外の工程を備える方法であってもよい。また、検査工程は、上記検査工程を行うものであり、研磨工程は、上記研磨工程を行うものである。
【００９１】
前記円盤加工工程は、原料ガラスを、図４に示すような、内周及び外周が同心円となるように、中心部に貫通孔１０ａが形成された円盤状のガラス素板１０に加工する工程である。具体的には、原料ガラスを、溶融炉で溶融して、溶融ガラスとするガラス溶融工程と、溶融ガラスを円盤状のガラス素板に形成する成形工程と、形成された円盤状のガラス素板の中心部に貫通孔１０ａを形成するコアリング加工を施し、図４に示すような、円盤状のガラス素板１０に加工するコアリング加工工程等を備える。なお、図４は、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法で用いられるガラス素板を示す上面図である。
【００９２】
前記ガラス溶融工程は、原料ガラスを、溶融炉で溶融して、溶融ガラスとすることができれば、特に限定されない。原料ガラスとしては、特に限定されず、例えば、ＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ、及びＣａＯを主成分とするソーダライムガラス、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、及びＲ１２Ｏ（式中、Ｒ１は、Ｋ、Ｎａ、又はＬｉを示す。）で表される酸化物を主成分とするアルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、Ｌｉ２Ｏ−ＳｉＯ２系ガラス、Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス、Ｒ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス（式中、Ｒ２は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、又はＢａを示す。）等が挙げられる。より具体的には、例えば、ガラス組成が、ＳｉＯ２が５５〜７５質量％、Ａｌ２Ｏ３が５〜１８質量％、Ｌｉ２Ｏが１〜１０質量％、Ｎａ２Ｏが３〜１５質量％、Ｋ２Ｏが０．１〜５質量％、ＭｇＯが０．１〜５質量％、ＣａＯが０．１〜５質量％であるもの等が挙げられる。これらの中でも、アルミノシリケートガラス、及びボロシリケートガラスが、耐衝撃性や耐振動性に優れる点で好ましい。また、原料ガラスの溶融方法としては、特に限定されず、通常は上記ガラス素材を公知の温度、時間にて高温で溶融する方法を採用することができる。
【００９３】
前記成形工程は、溶融ガラスを円盤状のガラス素板に形成することができれば、特に限定されない。具体的には、溶融ガラスをプレス成形により、円盤状のガラス素板を形成するプレス工程等が挙げられる。また、前記成形工程は、プレス工程に限らず、例えば、ダウンドロー法やフロート法等で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して、円盤状のガラス素板を作製する工程であってもよい。なお、フロート法とは、例えば、ガラス素材を溶融させた溶融液を、溶融したスズの上に流し、そのまま固化させる方法である。得られたガラス素板は、一方の面がガラスの自由表面であり、他方の面が、ガラスとスズとの界面であるため、平滑性の高い、例えば、算術平均粗さＲａが０．００１μｍ以下の鏡面を備えたものとなる。また、ガラス素板の厚みとしては、例えば、０．９５ｍｍのものが挙げられる。なお、ガラス素板やガラス基板の表面粗さ、例えばＲａやＲｍａｘは、一般的な表面粗さ測定機を用いて測定することができる。
【００９４】
また、前記コアリング加工工程は、前記成形工程で形成された円盤状のガラス素板の中心部に貫通孔１０ａを形成するコアリング加工を施す工程である。そうすることによって、図４に示すような、中心部に貫通孔１０ａが形成された円盤状のガラス素板１０が得られる。コアリング加工は、ガラス素板の中心部に貫通孔を形成する穴あけ加工であれば、特に限定されない。例えば、カッター部にダイヤモンド砥石等を備えたコアドリルや、円筒状のダイヤモンドドリル等で研削することで、ガラス素板の中心部に貫通孔を形成させる方法等が挙げられる。そうすることで、ガラス素板の中心部に貫通孔を形成され、平面視で円環状のガラス素板が得られる。
【００９５】
前記円盤加工工程によって、例えば、外径ｒ１が２．５インチ（約６４ｍｍ）、１．８インチ（約４６ｍｍ）、１インチ（約２５ｍｍ）、０．８インチ（約２０ｍｍ）等で、厚みが２ｍｍ、１ｍｍ、０．６３ｍｍ等の円盤状のガラス素板が得られる。また、外径ｒ１が２．５インチ（約６４ｍｍ）のときは、例えば、内径ｒ２が０．８インチ（約２０ｍｍ）等に加工される。
【００９６】
前記熱処理工程（アニール工程）は、前記ガラス素板の形状を整えるための工程である。具体的には、ガラス基板熱処理用セッタに、ガラス素板を載置した状態で、加熱炉に収納し、前記ガラス素板を熱処理する工程等が挙げられる。
【００９７】
前記研削工程（ラッピング工程）は、前記ガラス素板を所定の板厚に加工する工程である。具体的には、例えば、ガラス素板の両面を研削（ラッピング）加工する工程等が挙げられる。そうすることによって、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを調整する。また、このラッピング工程は、１回であってもよいし、２回以上であってもよい。例えば、２回行う場合、１回目のラッピング工程（第１ラッピング工程）で、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを予備調整し、２回目のラッピング工程（第２ラッピング工程）で、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを微調整する。また、研削工程を２回行う場合、第１ラッピング工程と第２ラッピング工程とを連続で行ってもよいが、これらの工程の間に、後述する、内外研削工程、及び端面研磨工程を行ってもよい。
【００９８】
また、研削工程で用いる研削装置は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における研削工程で用いる研削装置として用いることができるものであれば、特に限定されない。具体的には、前記研磨工程で用いる研磨装置と同様のものであって、研磨パッドの代わりに、固定砥粒としてダイヤモンドを使用した樹脂シート（研削シート）を用いたものが挙げられる。また、前記第１ラッピング工程としては、ガラス素板の表面全体が略均一の表面粗さとなるようにした工程等が挙げられる。
【００９９】
また、前記第２ラッピング工程としては、大きなうねり、欠け、ひび等の欠陥を除去したガラス素板が得られるようにした工程等が挙げられる。
【０１００】
前記内外研削工程は、ガラス素板の外周端面及び内周端面を研削する工程である。具体的には、鼓状のダイヤモンド砥石等の研削砥石により、ガラス素板の外周端面および内周端面を研削する工程等が挙げられる。
【０１０１】
前記端面研磨工程は、ガラス素板の外周端面及び内周端面を研磨する工程である。具体的には、前記内外研削工程を施したガラス素板を複数枚、例えば、１００枚程度積み重ねて積層し、その状態で外周端面及び内周端面の研磨加工を、端面研磨機を用いて研磨する工程等が挙げられる。
【０１０２】
前記化学強化工程は、特に限定されず、具体的には、ガラス素板を化学強化液（強化処理液）に浸漬して、ガラス素板に化学強化層を形成する工程等が挙げられる。このような工程を施すことによって、ガラス素板の表面、例えば、ガラス素板表面から５μｍの領域に化学強化層を形成することができる。そして、化学強化層を形成することで耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させることができる。
【０１０３】
より詳しくは、化学強化工程は、加熱された化学強化処理液にガラス素板を浸漬させることによって、ガラス素板に含まれるリチウムイオンやナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンに置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みにより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス素板の表面が強化される。すなわち、この化学強化工程により、ガラス素板に強化層が好適に形成されると考えられる。
【０１０４】
化学強化処理液としては、磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における化学強化工程で用いられる化学強化処理液であれば、特に限定されない。具体的には、例えば、カリウムイオンを含む溶融液、及びカリウムイオンやナトリウムイオンを含む溶融液等が挙げられる。
【０１０５】
これらの溶融液としては、例えば、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、炭酸カリウム、及び炭酸ナトリウム等を溶融させて得られた溶融液等が挙げられる。この中でも、硝酸カリウムを溶融させて得られた溶融液と硝酸ナトリウムを溶融させて得られた溶融液とを組み合わせて用いることが、融点が低く、ガラス素板の変形を防止する観点から好ましい。その際、硝酸カリウムを溶融させて得られた溶融液と硝酸ナトリウムを溶融させて得られた溶融液とを、ほぼ同量ずつの混合させた混合液であることが好ましい。
【０１０６】
前記洗浄工程は、ガラス素板を洗浄する工程である。洗浄工程は、各工程の後に適宜行うことが好ましい。また、前記洗浄工程のうち、前記研磨工程により研磨されたガラス基板を洗浄する最終洗浄工程としては、例えば、スクラブ洗浄が挙げられる。スクラブ洗浄とは、湿式の物理洗浄方法であり、ガラス基板の表面に洗浄液を供給しながら、スクラブ部材をガラス基板に押圧した状態で、スクラブ部材とガラス基板とを相対的に移動させる方法である。そうすることで、ガラス基板の表面上の汚れをこすり取ることができる。また、このスクラブ洗浄を行う装置（スクラブ洗浄装置）としては、情報記録媒体用ガラス基板をスクラブ洗浄できる装置であれば、特に限定されない。具体的には、スクラブ部材が円筒形のロールスクラブであるロールスクラブ洗浄装置や、スクラブ部材がカップ型のカップスクラブ洗浄装置等が挙げられる。
【０１０７】
また、この最終洗浄工程等の洗浄工程を施す前のガラス素板やガラス基板は、表面への異物が付着されることを防止するために、ガラス素板やガラス基板を液体と接触させておくことが好ましい。
【０１０８】
また、最終洗浄工程としては、スクラブ洗浄をした後、超音波による洗浄を行うことが好ましい。
【０１０９】
また、最終洗浄後は、ガラス基板を乾燥させる。その乾燥方法としては、例えば、ＩＰＡ蒸気による乾燥、スピン乾燥、及び温水乾燥等が挙げられる。
【０１１０】
次に、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体について説明する。
【０１１１】
図５は、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体の一例である磁気ディスクを示す一部断面斜視図である。この磁気ディスクＤは、円形の情報記録媒体用ガラス基板１０１の主表面に形成された磁性膜１０２を備えている。磁性膜１０２の形成には、公知の常套手段による形成方法が用いられる。例えば、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を情報記録媒体用ガラス基板１０１上にスピンコートすることによって磁性膜１０２を形成する形成方法（スピンコート法）や、情報記録媒体用ガラス基板１０１上にスパッタリングによって磁性膜１０２を形成する形成方法（スパッタリング法）や、情報記録媒体用ガラス基板１０１上に無電解めっきによって磁性膜１０２を形成する形成方法（無電解めっき法）等が挙げられる。磁性膜１０２の膜厚は、スピンコート法による場合では、約０．３〜１．２μｍ程度であり、スパッタリング法による場合では、約０．０４〜０．０８μｍ程度であり、無電解めっき法による場合では、約０．０５〜０．１μｍ程度である。薄膜化および高密度化の観点から、スパッタリング法による膜形成が好ましく、また、無電解めっき法による膜形成が好ましい。
【０１１２】
磁性膜１０２に用いる磁性材料は、公知の任意の材料を用いることができ、特に限定されない。磁性材料は、例えば、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金等が好ましい。より具体的には、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯ等が挙げられる。磁性膜１０２は、ノイズの低減を図るために、非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶ等）で分割された多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａ等）であってもよい。磁性膜１０２に用いる磁性材料は、上記磁性材料の他、フェライト系や鉄−希土類系であってもよく、また、ＳｉＯ２、ＢＮ等からなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子を分散した構造のグラニュラー等であってもよい。また、磁性膜１０２への記録には、内面型および垂直型のいずれかの記録形式が用いられてよい。
【０１１３】
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために、磁性膜１０２の表面には、潤滑剤が薄くコーティングされてもよい。潤滑剤として、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【０１１４】
さらに必要により磁性膜１０２に対し下地層や保護層が設けられてもよい。磁気ディスクＤにおける下地層は、磁性膜１０２に応じて適宜に選択される。下地層の材料として、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉ等の非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。例えば、Ｃｏを主成分とする磁性膜１０２の場合には、下地層の材料は、磁気特性向上等の観点からＣｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。また、下地層は、単層とは限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造であってもよい。このような複数層構造の下地層は、例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層が挙げられる。磁性膜１０２の摩耗や腐食を防止する保護層として、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層等が挙げられる。これら保護層は、下地層および磁性膜１０２と共にインライン型スパッタ装置で連続して形成することができる。また、これら保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一または異種の層からなる複数層構成であってもよい。なお、上記保護層上に、あるいは、上記保護層に代えて、他の保護層が形成されてもよい。例えば、上記保護層に代えて、Ｃｒ層の上にＳｉＯ２層が形成されてもよい。このようなＳｉＯ２層は、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成することによって形成される。
【０１１５】
このような本実施形態における情報記録媒体用ガラス基板１０１を基体とした磁気記録媒体は、情報記録媒体用ガラス基板１０１が上述した組成により形成されるので、情報の記録再生を長期に亘り高い信頼性で行うことができる。
【０１１６】
なお、上述では、本実施形態における情報記録媒体用ガラス基板１０１を磁気記録媒体（磁気ディスク）に用いた場合について説明したが、これに限定されるものではなく、本実施形態における情報記録媒体用ガラス基板１０１は、光磁気ディスクや光ディスク等にも用いることが可能である。
【０１１７】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【０１１８】
前記研磨工程の前に行う前記検査工程について検討した結果を示す。
【０１１９】
まず、改修（メンテナンス）後の使用状況の異なる溶融炉を用いて、原料ガラスを溶融させ、公知の方法より得られた溶融ガラスをプレス成形して円盤状のガラス素板（ブランクス）を５００枚得た。すなわち、使用状況の異なる溶融炉を用いて得られたガラス素板を５００枚用意した。なお、ここで用意したガラス素板は、アモルファスガラスからなるものであって、外径６８ｍｍ、板厚０．９ｍｍであった。そして、そのガラス素板を、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における一般的な最終洗浄工程と同様に、予備洗浄を行った後に、洗剤を用いた洗浄や超音波洗浄を行った。
【０１２０】
その後、洗浄後のガラス素板に対して、前記検査工程における検査を行った。
【０１２１】
具体的には、まず、複数のマッチングオイルを混合して、ガラス素板の屈折率と同一の屈折率になるような混合液を調製した。その後、図１に示すように、その混合液にガラス素板を浸漬させ、その状態で前記ガラス素板に検査光を照射し、照射した検査光の反射光及び散乱光に基づいて異物欠陥量を測定した。その際、最終加工後には、貫通孔が形成される中央部や、除去される外端部以外に、検査光を照射して検査した。なお、この検査は、クリーンルーム内で行った。
【０１２２】
そして、その異物欠陥量である内部異物量が１枚あたり５個未満を良品とし、５個以上を不良品として選別し、それぞれを１００枚用意した。また、前記検査を行わなかったものも、比較品として１００枚用意した。その後さらに、それらのガラス素板に対して、それぞれ公知の方法により、熱処理工程、粗研磨工程、第１精密研磨工程、化学強化工程、第２精密研磨工程、洗浄工程を施し、情報記録媒体用ガラス基板、すなわち、上記磁性膜を形成する前のガラス基板を製造した。
【０１２３】
得られたガラス基板に対して、まず、光学的な検査を施した。具体的には、散乱系光学式欠陥解析装置（ＡＯＩ）を用いて検査した。なお、ＡＯＩはその原理上、付着異物による欠陥（付着欠陥）と、内部異物による欠陥（内部欠陥）との両方を区別なく測定する。その際、まず、２μｍ以上の大きさの欠陥を認識するように検査した場合（検査レベル：２μｍ）、その検査により検出された欠陥個数が３０個程度のものを、良品、不良品、及び比較品から選別した。また、５μｍ以上の大きさの欠陥を認識するように検査した場合（検査レベル：５μｍ）、その検査により検出された欠陥個数が２０個程度のものを、良品、不良品、及び比較品から選別した。
【０１２４】
その選別されたガラス基板について、さらに詳細に検査した。
【０１２５】
具体的には、干渉系光学式欠陥解析装置（ＯＤＴ）を用いて検査した。この検査も、５μｍ以上の大きさの欠陥を認識する検査だけでなく、２μｍ以上の大きさの欠陥を認識する検査も行った。
【０１２６】
なお、ＯＤＴは、その原理上、付着異物による欠陥（付着欠陥）を測定する。よって、ＡＯＩで欠陥と認識された個数と、ＯＤＴで欠陥と認識された個数との差が、ＡＯＩ及びＯＤＴを用いた検査によって、内部欠陥と認識された個数となる。
【０１２７】
さらに、走査型分析電子顕微鏡（ＳＥＭ−ＥＤＸ）を用いて検査した。このＳＥＭ−ＥＤＸを用いて、得られたガラス基板を検査することによって、内部欠陥の個数を誤差なく測定することができる。なお、ＳＥＭ−ＥＤＸに対して、ＡＯＩ及びＯＤＴを用いた検査によって内部欠陥と認識された個数は誤差を含む。したがって、ＡＯＩ及びＯＤＴを用いた検査によって内部欠陥と認識された個数と、ＳＥＭ−ＥＤＸを用いた検査によって内部欠陥と認識された個数との差分は、誤差である。すなわち、ＡＯＩ及びＯＤＴを用いた検査によって、内部欠陥と認識されたが、実際には、付着欠陥であったものとなる。
【０１２８】
これらの結果を表１及び表２に示す。なお、検査レベルが２μｍである場合を表１に示し、検査レベルが５μｍである場合を表２に示す。なお、ＡＯＩ及びＯＤＴを用いた検査によって、内部欠陥と認識された個数を内部欠陥数（ＡＯＩ・ＯＤＴ）（個）と示し、ＳＥＭ−ＥＤＸを用いた検査によって内部欠陥と認識された個数を内部欠陥数（ＳＥＭ）（個）と示す。また、内部欠陥数（ＳＥＭ）と内部欠陥数（ＡＯＩ・ＯＤＴ）（個）との差分を、誤判定と示す。
【０１２９】
【表１】
0006018777.tif 000002
【０１３０】
【表２】
0006018777.tif 000003
【０１３１】
表１からわかるように、検査レベル２μｍの場合、研磨工程前に、液浸による本実施形態に係る検査工程を施して得られたガラス基板（良品及び不良品）は、その検査工程を施していない比較品と比較して、良品、不良品とも、誤判定が少ないことがわかる。
【０１３２】
また、例えば、比較品１のような場合、研磨工程後に光学的な検査を行っても、誤判定により、溶融炉の改修が必要であると判断されうる。この判断に基づき溶融炉の改修が行われると、不必要な改修となってしまう。
【０１３３】
これらのことから、ガラス素板の段階から存在する内部欠陥に関する情報を、研磨工程前という比較的早い段階で、精度高く得ることが有効であることがわかる。
【０１３４】
また、検査レベルが５μｍと、検査精度が高くない場合、表２からわかるように、比較品であっても、誤判定が多くはないが、検査レベルが２μｍのように検査精度を高めた場合には、誤判定が多くなる。このことから、検査精度を高めても、研磨工程前に、液浸による本実施形態に係る検査工程を施して得られたガラス基板（良品及び不良品）は、誤判定が少なく、有効であることがわかる。
【０１３５】
また、例えば、付着欠陥が５個より多い場合を不良品と判定する場合、比較品２は不良品となり、比較品１は良品と判断される。このように、研磨工程前に、液浸による本実施形態に係る検査工程を施して、内部欠陥量に応じて選定しておかないと、このような判定にも不具合が生じうる。
【０１３６】
このことからも、ガラス素板の段階から存在する内部欠陥に関する情報を、研磨工程前という比較的早い段階で、精度高く得ることが有効であることがわかる。
【０１３７】
また、良品、不良品、及び比較品をそれぞれ２０枚用いて、別途、判定を行った。
【０１３８】
検査レベルが２μｍで、ＡＯＩによる欠陥の個数（内部欠陥と付着欠陥との合計）が、５個以下のものを、ガラス基板における良品とした。そして、ＯＤＴによる測定も行い、ＡＯＩ及びＯＤＴを用いた検査によって、内部欠陥と認識された個数が、５個より多いものの枚数を調べた。そして、ＡＯＩ及びＯＤＴを用いた検査によって、内部欠陥と認識された個数が、５個より多いと判定されたものの中で、ＳＥＭ−ＥＤＸを用いた検査によって、内部欠陥と認識された個数が５個以下と判定されたものの枚数を調べた。すなわち、誤判定の枚数を調べた。
【０１３９】
その結果を、表３に示した。まず、ＡＯＩによる欠陥の個数（内部欠陥と付着欠陥との合計）が、５個以下のものの枚数を、「良品判定（枚）」と示し、５個より多いものの枚数を、「不良判定１（枚数）」と示す。また、ＡＯＩ及びＯＤＴを用いた検査によって、内部欠陥と認識された個数が、５個より多いと判定されたものの枚数を、「不良判定２（枚数）」と示す。また、誤判定の枚数を、「誤判定（枚）」と示す。
【０１４０】
【表３】
0006018777.tif 000004
【０１４１】
表３からわかるように、研磨工程前に、液浸による本実施形態に係る検査工程を施して得られたガラス基板は、ガラス素板として不良品と判定されていたとしても、ガラス基板の判定として、誤判定されなかった。これに対して、研磨工程前に、液浸による本実施形態に係る検査工程を施していない場合、誤判定されており、実際の内部異物量が５個以下であるにもかかわらず、光学的な検査では５個以上と、誤判定されたものが発生した。
【０１４２】
また、検査感度を低下させると、付着欠陥を見逃すことになる。また、検査感度を高めて、例えば、検査レベルを２μｍとすると誤判定が生じる。よって、研磨工程前に、液浸による本実施形態に係る検査工程を施すことが有効であることがわかる。
【０１４３】
以上のことから、研磨工程前に、液浸による本実施形態に係る検査工程を施すと、すなわち、ガラス素板の段階で、異物欠陥量に応じてランク分け、例えば、ここでは、良品と不良品とに分けておけば、ガラス基板での判定精度が高まることがわかった。このことにより、溶融炉の改修タイミングをより好適に決定することができることがわかった。また、内部欠陥に関する情報を、研磨工程前の比較的早い段階で得ることができるので、不良品の発生を早期に発見することができる。さらに、内部欠陥に関する情報を、研磨工程前の、比較的早い段階で得ることができるので、最終検査で付着欠陥のみを測定すればよく、誤判定が少なくなる。
【符号の説明】
【０１４４】
１，１０  ガラス素板
２  液体
３  光学照射手段
４，６  レンズ
５  光学検出手段
７  光学撮像手段
８  検査光
９  反射光（散乱光）
１１  研磨装置
１０１  情報記録媒体用ガラス基板
１０２  磁性膜
【図１】
0006018777.tif 000005
【図２】
0006018777.tif 000006
【図３】
0006018777.tif 000007
【図４】
0006018777.tif 000008
【図５】
0006018777.tif 000009