(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）：
【化１】
0005917810.tif 000015
（式中、Ｍは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、ＣｐRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ｒa〜Ｒfは、それぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル基又は水素原子を示し、Ｒa〜Ｒfのうち少なくとも一つが水素原子であり、Ｌは、中性ルイス塩基を示し、ｗは、０〜３の整数を示す）で表されるメタロセン錯体を含む重合触媒組成物の存在下、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンを重合させて得られた、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体において、
共役ジエン化合物に由来する共役ジエン単位の総量に対するシス１，４−結合含量が９２％超であることを特徴とする共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体。
【請求項２】
非共役オレフィンに由来する非共役オレフィン単位の総量の含有量が、５０ｍｏｌ％以下であることを特徴とする請求項１に記載の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体。
【請求項３】
前記共役ジエン化合物に由来する共役ジエン単位の総量に対する共役ジエン化合物の１，２付加体部分（３，４付加体部分を含む）含量が５％以下であることを特徴とする請求項１に記載の共重合体。
【請求項４】
分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１０以下であることを特徴とする請求項１に記載の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体。
【請求項５】
前記非共役オレフィンが、非環状オレフィンであることを特徴とする請求項１に記載の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体。
【請求項６】
前記非共役オレフィンは、炭素数が２〜１０であることを特徴とする請求項１に記載の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体。
【請求項７】
前記非共役オレフィンが、エチレン、プロピレン及び１−ブテンよりなる群から選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項５又は６に記載の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体。
【請求項８】
前記非共役オレフィンが、エチレンであることを特徴とする請求項７に記載の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体。
【請求項９】
前記共役ジエン化合物は、炭素数が４〜８であることを特徴とする請求項１に記載の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体。
【請求項１０】
前記共役ジエン化合物が、１，３−ブタジエン及びイソプレンよりなる群から選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項９に記載の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体。
【請求項１１】
請求項１に記載の共重合体を含むことを特徴とするゴム組成物。
【請求項１２】
ゴム成分１００質量部に対し、補強性充填剤５質量部〜２００質量部と、架橋剤０．１質量部〜２０質量部とを含むことを特徴とする請求項１１に記載のゴム組成物。
【請求項１３】
請求項１１に記載のゴム組成物を架橋して得られたことを特徴とする架橋ゴム組成物。
【請求項１４】
請求項１１に記載のゴム組成物、又は、請求項１３に記載の架橋ゴム組成物を用いたことを特徴とするタイヤ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体、ゴム組成物、架橋ゴム組成物、及びタイヤに関し、特に、耐亀裂成長性、耐熱性、及び耐オゾン性に優れたゴムを製造するのに用いられ、共役ジエン化合物由来部分（共役ジエン部分）にシス１，４結合を含む共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体、該共重合体を含むゴム組成物、該ゴム組成物を架橋して得られた架橋ゴム組成物、及び、前記ゴム組成物又は前記架橋ゴム組成物を用いたタイヤに関する。
【背景技術】
【０００２】
チーグラー・ナッタ触媒に代表される触媒系を用いた配位アニオン重合では、オレフィ
ンやジエンの単独重合が可能であることがよく知られている。しかしながら、このような
重合反応系では、オレフィンとジエンとを効率良く共重合させることは困難であった。
特に、共役ジエンと非共役オレフィンの共重合体を配合ゴムへ適用することで、共重合
体中の共役ジエン化合物由来部分（共役ジエン部分）の二重結合が共役重合体に比べて少なくなるため、耐オゾン性が向上する。また、ゴム組成物を様々な用途（タイヤやベルトコンベア、防振ゴムなど）に適用したときに求められる耐オゾン性以外の要求特性の一つとして耐亀裂成長性を良好にすることが挙げられる。
【０００３】
例えば、特許文献１には、シクロペンタジエン環構造を有する周期律表第ＩＶ族遷移金
属化合物を含む共役ジエン重合用触媒が開示されており、この共役ジエンと共重合可能な
単量体として、エチレン等のα−オレフィンが例示されている。しかしながら、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合については、具体的に記載されていない。当然、シス含量やシス１，４結合含量を９２％超とすることで、耐亀裂成長性、耐熱性、及び耐オゾン性に優れたゴムを製造することについては記載も示唆もされていない。
【０００４】
例えば、特許文献２には、チタン化合物などの遷移金属化合物と助触媒からなるオレフ
ィン重合用触媒が開示されており、α−オレフィンと共役ジエン化合物との共重合体が開
示されている。しかしながら、具体的にその製造と使用が裏づけられるのは、非共役オレ
フィンであるα−オレフィンの含有量は６６．７〜９９．１モル％の範囲だけであった。つまり、シス含量やシス１，４結合含量を９２％超とすることで、耐亀裂成長性、耐熱性、及び耐オゾン性に優れたゴムを製造することについては、特許文献２には記載も示唆もされていない。
【０００５】
また、特許文献３には、特殊な有機金属錯体を触媒成分として用いてエチレンとブタジ
エンを出発原料として合成したエチレンとブタジエンとの共重合体が開示されるものの、
単量体であるブタジエンがトランス−１，２−シクロヘキサンの形態で共重合体中に挿入
され、本発明の共重合体とは構造が異なったものである。また、非共役オレフィンである
エチレン含有量は６９．６〜８９．０モル％の範囲だけ具体的にその製造と使用が裏づけ
られていた。ここで、エチレン含有量は１００ｍｏｌ％から数値が開示されているブタジ
エンから生じる単位のモル含量を引いて求めた。つまり、シス含量やシス１，４結合含量を９２％未満とすることで、耐亀裂成長性、耐熱性、及び耐オゾン性に優れたゴムを製造することについては、特許文献３には記載も示唆もされていない。
【０００６】
また、特許文献４には、シス含有量％が９２％であり、エチレン含有量が３％又は９％のブタジエン重合体が開示されている。しかしながら、シス含量やシス１，４結合含量を９２％超とすることで、耐亀裂成長性、耐熱性、及び耐オゾン性に優れたゴムを製造することについては、特許文献４には記載も示唆もされていない。
【０００７】
更に、特許文献５には、不飽和性オレフィン系共重合体とゴムとからなる不飽和性エラストマー組成物が開示されている。しかしながら、シス含量やシス１，４結合含量を９２％超とすることで、耐亀裂成長性、耐熱性、及び耐オゾン性に優れたゴムを製造することについては、特許文献５には記載も示唆もされていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−１５４２１０号公報
【特許文献２】特開２００６−２４９４４２号公報
【特許文献３】特表２００６−５０３１４１号公報
【特許文献４】特開２０００−８６８５７号公報
【特許文献５】特開平１１−２２８７４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、本発明の目的は、耐亀裂成長性、耐熱性、及び耐オゾン性に優れたゴムを製造するのに用いられ、共役ジエン化合物由来部分（共役ジエン部分）にシス１，４結合を含み、共役ジエン化合物由来部分（共役ジエン部分）のシス１，４−結合含量が９２％超である共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体、該共重合体を含むゴム組成物、該ゴム組成物を架橋して得られた架橋ゴム組成物、及び、前記ゴム組成物又は前記架橋ゴム組成物を用いたタイヤを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、特定の触媒の存在下、共
役ジエン化合物及び非共役オレフィンを重合させ、得られる共役ジエン化合物−非共役オ
レフィン共重合体は、共役ジエン化合物由来部分（共役ジエン部分）のシス１，４−結合含量が９２％超であることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１１】
本発明の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体は、下記式（Ｉ）：
【化１】
0005917810.tif 000002
（式中、Ｍは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、ＣｐRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ｒa〜Ｒfは、それぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル基又は水素原子を示し、Ｒa〜Ｒfのうち少なくとも一つが水素原子であり、Ｌは、中性ルイス塩基を示し、ｗは、０〜３の整数を示す）で表されるメタロセン錯体を含む重合触媒組成物の存在下、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンを重合させて得られ、共役ジエン化合物に由来する共役ジエン単位の総量に対するシス１，４−結合含量が９２％超であることを特徴とする。
ここで、シス１，４−結合含量とは共役ジエン化合物由来部分中の共役ジエン単位における１，４−シス結合の割合を意味する。
【００１２】
このような共重合体においてより好ましくは、非共役オレフィンに由来する非共役オレフィン単位の総量の含有量が、５０ｍｏｌ％以下である。
また、前記共役ジエン化合物に由来する共役ジエン単位の総量に対する共役ジエン化合物の１，２付加体部分（３，４付加体部分を含む）含量が５％以下であることが好ましい。
【００１３】
ところで、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１０以下であることが好ましい。
【００１４】
また好ましくは前記非共役オレフィンが、非環状オレフィンであり、より好ましくは炭
素数が２〜１０であり、さらに好ましくは、エチレン、プロピレン及び１−ブテンよりなる群から選択される少なくとも一種であり、最も好ましくは、エチレンである。
【００１５】
そしてまた好ましくは、前記共役ジエン化合物は、炭素数が４〜８であり、より好まし
くは１，３−ブタジエン及びイソプレンよりなる群から選択される少なくとも一種である
。
【００１６】
本発明のゴム組成物は、本発明の共重合体を含むことを特徴とする。
【００１７】
本発明のゴム組成物は、ゴム成分１００質量部に対し、補強性充填剤５質量部〜２００質量部と、架橋剤０．１質量部〜２０質量部とを含むことが好ましい。
【００１８】
本発明の架橋ゴム組成物は、本発明のゴム組成物を架橋して得られたことを特徴とする。
【００１９】
本発明のタイヤは、本発明のゴム組成物、又は、本発明の架橋ゴム組成物を用いたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係る共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体では、共役ジエン化合物由来部分のシス１，４−結合含量を９２％超とすることにより、耐亀裂成長性、耐熱性、及び耐オゾン性に優れたゴムを製造することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に、本発明を詳細に説明する。
本発明の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体は、共役ジエン化合物由来部分（共役ジエン部分）のシス１，４−結合含量が９２％超であり、好ましくは９５％以上である。
共役ジエン化合物由来部分（共役ジエン部分）のシス１，４−結合含量を９２％超とすることにより、耐亀裂成長性、耐侯性、耐熱性を向上させることが可能となる。
また、耐亀裂成長性、耐侯性、耐熱性の点で、共役ジエン化合物由来部分（共役ジエン部分）のシス１，４−結合含量を９５％以上とすることが有利である。
前記シス−１，４結合量は、前記共役ジエン化合物由来部分中の量であって、共重合体全体に対する割合ではない。
【００２２】
単量体として用いる非共役オレフィンは、共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンで
あり、優れた耐熱性や、共重合体の主鎖中に占める二重結合の割合を減らすとともに、結
晶性を制御することでエラストマーとしての設計自由度を高めることが可能となる。
【００２３】
非共役オレフィン由来部分の含有量としては、、５０ｍｏｌ％以下が好ましく、１０ｍｏｌ％未満であることが好ましい。
非共役オレフィン由来部分の含有量が５０ｍｏｌ％を超えるとフィラーとの混練性や加工性が問題になることがある。
【００２４】
非共役オレフィンとしては、非環状オレフィンであることが好ましく、また、この非共
役オレフィンの炭素数は２〜１０のα−オレフィンであることが好ましい。α−オレフィンはオレフィンのα位に二重結合を有するため、共役ジエンとの共重合を効率よく行うことができる。従って、非共役オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン等のα−オレフィンが好適に挙げられ、これらの中でも、エチレン、プロピレン及び１−ブテンが好ましく、エチレンが更に好ましい。これら非共役オレフィンは、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、オレフィンは、脂肪族不飽和炭化水素で、炭素−炭素二重結合を１個以上有する化合物を指す。
【００２５】
共役ジエン化合物は、炭素数が４〜８であることが好ましい。この共役ジエン化合物と
して、具体的には、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２，３−
ジメチルブタジエン等が挙げられ、これらの中でも、１，３−ブタジエン及びイソプレン
が好ましい。また、これら共役ジエン化合物は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合
わせて用いてもよい。
上述した共役ジエン化合物の具体例のいずれを用いても、同様のメカニズムで本発明の共重合体を調製することができる。
【００２６】
また、非共役オレフィンの単量体単位からなるブロック部分を備える場合には、静的結
晶性を示すため、破断強度等の機械的性質に優れることができる。
【００２７】
このような共重合体は、低分子量化の問題が起こることも無く、その重量平均分子量（
Ｍｗ）は特に限定されるものでもないが、高分子構造材料への適用の観点から、この共重
合体のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は１０，０００〜１０，０００，０００が好ましく、１０，０００〜１，０００，０００がより好ましく、５０，０００〜６００，０００が更に好ましい。Ｍｗが１０，０００，０００を超えると成形加工性が悪化するおそれがある。
【００２８】
本発明の共重合体は、前記共役ジエン化合物由来部分における共役ジエン化合物の１，２付加体部分（３，４付加体部分を含む）含量が５％以下であることが好ましい。更に２％以下が好ましい。
前記共役ジエン化合物由来部分における共役ジエン化合物の１，２付加体部分（３，４付加体部分を含む）含量が５％以下であると、本発明の共重合体は、耐侯性や耐オゾン性をさらに向上することができる。
前記１，２付加体部分(３，４付加体部分を含む）含量は、前記共役ジエン化合物由来部分中の量であって、共重合体全体に対する割合ではない。
なお、前記共役ジエン化合物部分の１，２付加体部分（３，４付加体部分を含む）含量（共役ジエン化合物由来部分の共役ジエン化合物の１，２付加体部分（３，４付加体部分を含む）含量）は、共役ジエン化合物がブタジエンの場合、１，２−ビニル結合量と同じ意味である。
【００２９】
また、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比で表される分子量分布（
Ｍｗ／Ｍｎ）は、１０以下が好ましく、６以下が更に好ましい。分子量分布が１０を超え
ると物性が均質でなくなるためである。
ここで、平均分子量及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（Ｇ
ＰＣ）によりポリスチレンを標準物質として求めることができる。
【００３０】
なお、本発明の共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体では、非共役オレフ
ィンが連続して配置していないことが好ましい。
【００３１】
次に、本発明の共重合体を製造することができる製造方法を詳細に説明する。但し、以下に詳述する製造方法は、あくまで例示に過ぎない。
本発明の共重合体は、下記に示す重合触媒または重合触媒組成物の存在下、共役ジエン
化合物と非共役オレフィンとを重合させることができる。なお、重合方法としては、溶液
重合法、懸濁重合法、液相塊状重合法、乳化重合法、気相重合法、固相重合法等の任意の
方法を用いることができる。また、重合反応に溶媒を用いる場合、用いられる溶媒は重合
反応において不活性であればよく、例えば、トルエン、シクロヘキサン、ノルマルヘキサ
ン、またそれらの混合物等が挙げられる。
【００３２】
上記製造方法によれば、上記重合触媒または重合触媒組成物を用いること以外は、通常
の配位イオン重合触媒による重合体の製造方法と同様にして、単量体である共役ジエン化
合物と非共役オレフィンを共重合させることができる。
【００３３】
＜第一の重合触媒組成物＞
上記重合触媒組成物としては、下記一般式（Ｉ）：
【化１】
0005917810.tif 000003
（式中、Ｍは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、ＣｐＲは、そ
れぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ｒａ〜Ｒｆは、それぞれ独立して
炭素数１〜３のアルキル基又は水素原子を示し、Ｌは、中性ルイス塩基を示し、ｗは、０
〜３の整数を示す）で表されるメタロセン錯体、及び下記一般式（ＩＩ）：
【化２】
0005917810.tif 000004
（式中、Ｍは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、ＣｐＲは、そ
れぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ｘ’は、水素原子、ハロゲン原子
、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数１〜２０の炭化水素基
を示し、Ｌは、中性ルイス塩基を示し、ｗは、０〜３の整数を示す）で表されるメタロセ
ン錯体、並びに下記一般式（ＩＩＩ）：
【化３】
0005917810.tif 000005
（式中、Ｍは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、ＣｐＲ’は、
無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Ｘは、
水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素
数１〜２０の炭化水素基を示し、Ｌは、中性ルイス塩基を示し、ｗは、０〜３の整数を示
し、［Ｂ］−は、非配位性アニオンを示す）で表されるハーフメタロセンカチオン錯体か
らなる群より選択される少なくとも１種類の錯体を含む重合触媒組成物（以下、第一重合
触媒組成物ともいう）が挙げられ、該重合触媒組成物は、更に、通常のメタロセン錯体を
含む重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含んでいてもよい。ここで
、メタロセン錯体は、一つ又は二つ以上のシクロペンタジエニル又はその誘導体が中心金
属に結合した錯体化合物であり、特に、中心金属に結合したシクロペンタジエニル又はそ
の誘導体が一つであるメタロセン錯体を、ハーフメタロセン錯体と称することがある。な
お、重合反応系において、第一重合触媒組成物に含まれる錯体の濃度は０．１〜０．００
０１ｍｏｌ／Ｌの範囲であることが好ましい。
【００３４】
上記一般式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表されるメタロセン錯体において、式中のＣｐＲは
、無置換インデニル又は置換インデニルである。インデニル環を基本骨格とするＣｐＲは
、Ｃ９Ｈ７−ＸＲＸ又はＣ９Ｈ１１−ＸＲＸで示され得る。ここで、Ｘは０〜７又は０〜１１の整数である。また、Ｒはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は１〜２０であることが好ましく、１〜１０であることが更に好ましく、１〜８であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルＧｅ、スタニルＳｎ、シリルＳｉが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。置換インデニルとして、具体的には、２−フェニルインデニル、２−メチルインデニル等が挙げられる。なお、一般式（Ｉ）及び式（ＩＩ）における二つのＣｐＲは、それぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。
【００３５】
上記一般式（ＩＩＩ）で表されるハーフメタロセンカチオン錯体において、式中のＣｐ
Ｒ’は、無置換もしくは置換のシクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルであ
り、これらの中でも、無置換もしくは置換のインデニルであることが好ましい。シクロペ
ンタジエニル環を基本骨格とするＣｐＲ’は、Ｃ５Ｈ５−ＸＲＸで示される。ここで、Ｘ
は０〜５の整数である。また、Ｒはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基
であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は１〜２０であることが好ましく、１
〜１０であることが更に好ましく、１〜８であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル
基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げら
れる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルＧｅ、スタニルＳｎ、シ
リルＳｉが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、
メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタ
ロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。シクロペンタジエニ
ル環を基本骨格とするＣｐＲ’として、具体的には、以下のものが例示される。
【化４】
0005917810.tif 000006
（式中、Ｒは水素原子、メチル基又はエチル基を示す。）
【００３６】
一般式（ＩＩＩ）において、上記インデニル環を基本骨格とするＣｐＲ’は、一般式（
Ｉ）のＣｐＲと同様に定義され、好ましい例も同様である。
【００３７】
一般式（ＩＩＩ）において、上記フルオレニル環を基本骨格とするＣｐＲ’は、Ｃ１３
Ｈ９−ＸＲＸ又はＣ１３Ｈ１７−ＸＲＸで示され得る。ここで、Ｘは０〜９又は０〜１７
の整数である。また、Ｒはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であるこ
とが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は１〜２０であることが好ましく、１〜１０で
あることが更に好ましく、１〜８であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として
、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一
方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルＧｅ、スタニルＳｎ、シリルＳｉ
が挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイ
ド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基
として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。
【００３８】
一般式（Ｉ）、式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）における中心金属Ｍは、ランタノイド元素
、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号５７〜７１の
１５元素が含まれ、これらのいずれでもよい。中心金属Ｍとしては、サマリウムＳｍ、ネ
オジムＮｄ、プラセオジムＰｒ、ガドリニウムＧｄ、セリウムＣｅ、ホルミウムＨｏ、ス
カンジウムＳｃ及びイットリウムＹが好適に挙げられる。
【００３９】
一般式（Ｉ）で表されるメタロセン錯体は、シリルアミド配位子［−Ｎ（ＳｉＲ３）２
］を含む。シリルアミド配位子に含まれるＲ基（一般式（Ｉ）におけるＲａ〜Ｒｆ）は、
それぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル基又は水素原子である。また、Ｒａ〜Ｒｆのう
ち少なくとも一つが水素原子であることが好ましい。Ｒａ〜Ｒｆのうち少なくとも一つを
水素原子にすることで、触媒の合成が容易になり、また、ケイ素まわりのかさ高さが低く
なるため、非共役オレフィンが導入され易くなる。同様の観点から、Ｒａ〜Ｒｃのうち少
なくとも一つが水素原子であり、Ｒｄ〜Ｒｆのうち少なくとも一つが水素原子であること
が更に好ましい。更に、アルキル基としては、メチル基が好ましい。
【００４０】
一般式（ＩＩ）で表されるメタロセン錯体は、シリル配位子［−ＳｉＸ’３］を含む。
シリル配位子［−ＳｉＸ’３］に含まれるＸ’は、下記で説明される一般式（ＩＩＩ）の
Ｘと同様に定義される基であり、好ましい基も同様である。
【００４１】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラー
ト基、アミド基、シリル基及び炭素数１〜２０の炭化水素基からなる群より選択される基
である。ここで、上記アルコキシド基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基
、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の脂
肪族アルコキシ基；フェノキシ基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、２，６
−ジイソプロピルフェノキシ基、２，６−ジネオペンチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−
ブチル−６−イソプロピルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−ネオペンチルフェ
ノキシ基、２−イソプロピル−６−ネオペンチルフェノキシ基等のアリールオキシド基が
挙げられ、これらの中でも、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基が好ましい。
【００４２】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｘが表すチオラート基としては、チオメトキシ基、チオエ
トキシ基、チオプロポキシ基、チオｎ−ブトキシ基、チオイソブトキシ基、チオｓｅｃ−
ブトキシ基、チオｔｅｒｔ−ブトキシ基等の脂肪族チオラート基；チオフェノキシ基、２
，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェノキシ基、２，６−ジイソプロピルチオフェノキシ
基、２，６−ジネオペンチルチオフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−イソプロピ
ルチオフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−チオネオペンチルフェノキシ基、２−
イソプロピル−６−チオネオペンチルフェノキシ基、２，４，６−トリイソプロピルチオ
フェノキシ基等のアリールチオラート基が挙げられ、これらの中でも、２，４，６−トリ
イソプロピルチオフェノキシ基が好ましい。
【００４３】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｘが表すアミド基としては、ジメチルアミド基、ジエチル
アミド基、ジイソプロピルアミド基等の脂肪族アミド基；フェニルアミド基、２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアミド基、２，６−ジイソプロピルフェニルアミド基、２，
６−ジネオペンチルフェニルアミド基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−イソプロピルフェニ
ルアミド基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−ネオペンチルフェニルアミド基、２−イソプロ
ピル−６−ネオペンチルフェニルアミド基、２，４，６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアミ
ド基等のアリールアミド基；ビストリメチルシリルアミド基等のビストリアルキルシリル
アミド基が挙げられ、これらの中でも、ビストリメチルシリルアミド基が好ましい。
【００４４】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｘが表すシリル基としては、トリメチルシリル基、トリス
（トリメチルシリル）シリル基、ビス（トリメチルシリル）メチルシリル基、トリメチル
シリル（ジメチル）シリル基、トリイソプロピルシリル（ビストリメチルシリル）シリル
基等が挙げられ、これらの中でも、トリス（トリメチルシリル）シリル基が好ましい。
【００４５】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｘが表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子又はヨウ素原子のいずれでもよいが、塩素原子又は臭素原子が好ましい。また、
Ｘが表す炭素数１〜２０の炭化水素基として、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ
−ブチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等の直鎖又は分枝鎖の脂肪族炭化
水素基；フェニル基、トリル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基；ベンジル基等のアラ
ルキル基等の他；トリメチルシリルメチル基、ビストリメチルシリルメチル基等のケイ素
原子を含有する炭化水素基等が挙げられ、これらの中でも、メチル基、エチル基、イソブ
チル基、トリメチルシリルメチル基等が好ましい。
【００４６】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｘとしては、ビストリメチルシリルアミド基又は炭素数１
〜２０の炭化水素基が好ましい。
【００４７】
一般式（ＩＩＩ）において、［Ｂ］−で示される非配位性アニオンとしては、例えば、
４価のホウ素アニオンが挙げられる。該４価のホウ素アニオンとして、具体的には、テト
ラフェニルボレート、テトラキス（モノフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（ジフ
ルオロフェニル）ボレート、テトラキス（トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス
（テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
、テトラキス（テトラフルオロメチルフェニル）ボレート、テトラ（トリル）ボレート、
テトラ（キシリル）ボレート、（トリフェニル、ペンタフルオロフェニル）ボレート、［
トリス（ペンタフルオロフェニル）、フェニル］ボレート、トリデカハイドライド−７，
８−ジカルバウンデカボレート等が挙げられ、これらの中でも、テトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレートが好ましい。
【００４８】
上記一般式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式（ＩＩ
Ｉ）で表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、更に０〜３個、好ましくは０〜１個の
中性ルイス塩基Ｌを含む。ここで、中性ルイス塩基Ｌとしては、例えば、テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中
性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記錯体が複数の中
性ルイス塩基Ｌを含む場合、中性ルイス塩基Ｌは、同一であっても異なっていてもよい。
【００４９】
また、上記一般式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式
（ＩＩＩ）で表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、単量体として存在していてもよ
く、二量体又はそれ以上の多量体として存在していてもよい。
【００５０】
上記一般式（Ｉ）で表されるメタロセン錯体は、例えば、溶媒中でランタノイドトリス
ハライド、スカンジウムトリスハライド又はイットリウムトリスハライドを、インデニル
の塩（例えばカリウム塩やリチウム塩）及びビス（トリアルキルシリル）アミドの塩（例
えばカリウム塩やリチウム塩）と反応させることで得ることができる。なお、反応温度は
室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意
であるが、数時間〜数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成
物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンを用いればよい。以下に、一般
式（Ｉ）で表されるメタロセン錯体を得るための反応例を示す。
【化５】
0005917810.tif 000007
（式中、Ｘ’’はハライドを示す。）
【００５１】
上記一般式（ＩＩ）で表されるメタロセン錯体は、例えば、溶媒中でランタノイドトリ
スハライド、スカンジウムトリスハライド又はイットリウムトリスハライドを、インデニ
ルの塩（例えばカリウム塩やリチウム塩）及びシリルの塩（例えばカリウム塩やリチウム
塩）と反応させることで得ることができる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので
、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間〜数十時
間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であるこ
とが好ましく、例えばトルエンを用いればよい。以下に、一般式（ＩＩ）で表されるメタ
ロセン錯体を得るための反応例を示す。
【化６】
0005917810.tif 000008
（式中、Ｘ’’はハライドを示す。）
【００５２】
上記一般式（ＩＩＩ）で表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、例えば、次の反応
により得ることができる。
【化７】
0005917810.tif 000009
【００５３】
ここで、一般式（ＩＶ）で表される化合物において、Ｍは、ランタノイド元素、スカン
ジウム又はイットリウムを示し、ＣｐＲ’は、それぞれ独立して無置換もしくは置換シク
ロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子
、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数１〜２０の炭化水素基
を示し、Ｌは、中性ルイス塩基を示し、ｗは、０〜３の整数を示す。また、一般式［Ａ］
＋［Ｂ］−で表されるイオン性化合物において、［Ａ］＋は、カチオンを示し、［Ｂ］−
は、非配位性アニオンを示す。
【００５４】
［Ａ］＋で表されるカチオンとしては、例えば、カルボニウムカチオン、オキソニウム
カチオン、アミンカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、
遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等が挙げられる。カルボニウムカチオンとして
は、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ（置換フェニル）カルボニウムカチオン等
の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリ（置換フェニル）カルボニルカチオン
として、具体的には、トリ（メチルフェニル）カルボニウムカチオン等が挙げられる。ア
ミンカチオンとしては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチ
オン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン等のトリア
ルキルアンモニウムカチオン；Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムカチオン等の
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウムカチオン；ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシ
クロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる
。ホスホニウムカチオンとしては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ（メチルフ
ェニル）ホスホニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムカチオン等のト
リアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらカチオンの中でも、Ｎ，Ｎ−ジ
アルキルアニリニウムカチオン又はカルボニウムカチオンが好ましく、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルアニリニウムカチオンが特に好ましい。
【００５５】
上記反応に用いる一般式［Ａ］＋［Ｂ］−で表されるイオン性化合物としては、上記の
非配位性アニオン及びカチオンからそれぞれ選択し組み合わせた化合物であって、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニル
カルボニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が好ましい。また、一般
式［Ａ］＋［Ｂ］−で表されるイオン性化合物は、メタロセン錯体に対して０．１〜１０
倍モル加えることが好ましく、約１倍モル加えることが更に好ましい。なお、一般式（Ｉ
ＩＩ）で表されるハーフメタロセンカチオン錯体を重合反応に用いる場合、一般式（ＩＩ
Ｉ）で表されるハーフメタロセンカチオン錯体をそのまま重合反応系中に提供してもよい
し、上記反応に用いる一般式（ＩＶ）で表される化合物と一般式［Ａ］＋［Ｂ］−で表さ
れるイオン性化合物を別個に重合反応系中に提供し、反応系中で一般式（ＩＩＩ）で表さ
れるハーフメタロセンカチオン錯体を形成させてもよい。また、一般式（Ｉ）又は式（Ｉ
Ｉ）で表されるメタロセン錯体と一般式［Ａ］＋［Ｂ］−で表されるイオン性化合物とを
組み合わせて使用することにより、反応系中で一般式（ＩＩＩ）で表されるハーフメタロ
センカチオン錯体を形成させることもできる。
【００５６】
一般式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式（ＩＩＩ）
で表されるハーフメタロセンカチオン錯体の構造は、Ｘ線構造解析により決定することが
好ましい。
【００５７】
上記第一重合触媒組成物に用いることができる助触媒は、通常のメタロセン錯体を含む
重合触媒組成物の助触媒として用いられる成分から任意に選択され得る。該助触媒として
は、例えば、アルミノキサン、有機アルミニウム化合物、上記のイオン性化合物等が好適
に挙げられる。これら助触媒は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用い
てもよい。
【００５８】
上記アルミノキサンとしては、アルキルアミノキサンが好ましく、例えば、メチルアル
ミノキサン（ＭＡＯ）、修飾メチルアルミノキサン等が挙げられる。また、修飾メチルア
ルミノキサンとしては、ＭＭＡＯ−３Ａ（東ソーファインケム社製）等が好ましい。なお
、上記第一重合触媒組成物におけるアルミノキサンの含有量は、メタロセン錯体の中心金
属Ｍと、アルミノキサンのアルミニウム元素Ａｌとの元素比率Ａｌ／Ｍが、１０〜１００
０程度、好ましくは１００程度となるようにすることが好ましい。
【００５９】
一方、上記有機アルミニウム化合物としては、一般式ＡｌＲＲ'Ｒ''（式中、Ｒ及び
Ｒ’はそれぞれ独立してＣ１〜Ｃ１０の炭化水素基又は水素原子であり、Ｒ''はＣ１〜
Ｃ１０の炭化水素基である）で表される有機アルミニウム化合物が好ましい。上記有機ア
ルミニウム化合物としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウ
ムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライ
ド等が挙げられ、これらの中でも、トリアルキルアルミニウムが好ましい。また、トリア
ルキルアルミニウムとしては、例えば、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミ
ニウム等が挙げられる。なお、上記重合触媒組成物における有機アルミニウム化合物の含
有量は、メタロセン錯体に対して２〜５０倍モルであることが好ましく、約１０倍モルで
あることが更に好ましい。
【００６０】
更に、上記重合触媒組成物においては、一般式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表されるメタロ
セン錯体、並びに上記一般式（ＩＩＩ）で表されるハーフメタロセンカチオン錯体をそれ
ぞれ、適切な助触媒と組み合わせることで、シス−１，４結合量や得られる共重合体の分
子量を増大できる。
【００６１】
＜第二の重合触媒組成物＞
また、上記重合触媒組成物としては、
（Ａ）成分：希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物であっ
て、希土類元素と炭素との結合を有さない該希土類元素化合物又は反応物と、
（Ｂ）成分：非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物（Ｂ−１）、アル
ミノキサン（Ｂ−２）、並びにルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物及
び活性ハロゲンを含む有機化合物のうち少なくとも一種のハロゲン化合物（Ｂ−３）より
なる群から選択される少なくとも一種とを含む重合触媒組成物（以下、第二重合触媒組成
物ともいう）を好適に挙げることができ、
該第二重合触媒組成物が、イオン性化合物（Ｂ−１）及びハロゲン化合物（Ｂ−３）の
少なくとも一種を含む場合、該重合触媒組成物は、更に、
（Ｃ）成分：下記一般式（Ｘ）：
ＹＲ１ａＲ２ｂＲ３ｃ  ・・・  （Ｘ）
［式中、Ｙは、周期律表第１族、第２族、第１２族及び第１３族から選択される金属であ
り、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なり、炭素数１〜１０の炭化水素基又は水素原子で、Ｒ
３は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、但し、Ｒ３は上記Ｒ１又はＲ２と同一又は異な
っていてもよく、また、Ｙが周期律表第１族から選択される金属である場合には、ａは１
で且つｂ及びｃは０であり、Ｙが周期律表第２族及び第１２族から選択される金属である
場合には、ａ及びｂは１で且つｃは０であり、Ｙが周期律表第１３族から選択される金属
である場合には、ａ，ｂ及びｃは１である］で表される有機金属化合物を含むことを特徴
とする。
【００６２】
前記共重合体の製造方法に用いる第二重合触媒組成物は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成
分を含むことを要し、ここで、該重合触媒組成物が、上記イオン性化合物（Ｂ−１）及び
上記ハロゲン化合物（Ｂ−３）の少なくとも一種を含む場合には、更に、
（Ｃ）成分：下記一般式（Ｘ）：
ＹＲ１ａＲ２ｂＲ３ｃ  ・・・  （Ｘ）
［式中、Ｙは、周期律表第１族、第２族、第１２族及び第１３族から選択される金属であ
り、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なり、炭素数１〜１０の炭化水素基又は水素原子で、Ｒ
３は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、但し、Ｒ３は上記Ｒ１又はＲ２と同一又は異な
っていてもよく、また、Ｙが周期律表第１族から選択される金属である場合には、ａは１
で且つｂ及びｃは０であり、Ｙが周期律表第２族及び第１２族から選択される金属である
場合には、ａ及びｂは１で且つｃは０であり、Ｙが周期律表第１３族から選択される金属
である場合には、ａ，ｂ及びｃは１である］で表される有機金属化合物を含むことを要す
る。上記イオン性化合物（Ｂ−１）及び上記ハロゲン化合物（Ｂ−３）は、（Ａ）成分へ
供給するための炭素原子が存在しないため、該（Ａ）成分への炭素供給源として、上記（
Ｃ）成分が必要となる。なお、上記重合触媒組成物が上記アルミノキサン（Ｂ−２）を含
む場合であっても、該重合触媒組成物は、上記（Ｃ）成分を含むことができる。また、上
記第二重合触媒組成物は、通常の希土類元素化合物系の重合触媒組成物に含有される他の
成分、例えば助触媒等を含んでいてもよい。
【００６３】
上記第二重合触媒組成物に用いる（Ａ）成分は、希土類元素化合物又は該希土類元素化
合物とルイス塩基との反応物であり、ここで、希土類元素化合物及び該希土類元素化合物
とルイス塩基との反応物は、希土類元素と炭素との結合を有さない。該希土類元素化合物
及び反応物が希土類元素−炭素結合を有さない場合、化合物が安定であり、取り扱いやす
い。ここで、希土類元素化合物とは、周期律表中の原子番号５７〜７１の元素から構成さ
れるランタノイド元素又はスカンジウムもしくはイットリウムを含有する化合物である。
なお、ランタノイド元素の具体例としては、ランタニウム、セリウム、プラセオジム、ネ
オジウム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジス
プロシウム、ホルミニウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウムを挙げ
ることができる。なお、上記（Ａ）成分は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み
合わせて用いてもよい。
【００６４】
また、上記希土類元素化合物は、希土類金属が２価もしくは３価の塩又は錯体化合物で
あることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子及び有機化合物残基から選択される１種又
は２種以上の配位子を含有する希土類元素化合物であることが更に好ましい。更に、上記
希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物は、下記一般式（ＸＩ
）又は（ＸＩＩ）：
Ｍ１１Ｘ１１２・Ｌ１１ｗ  ・・・  （ＸＩ）
Ｍ１１Ｘ１１３・Ｌ１１ｗ  ・・・  （ＸＩＩ）
［式中、Ｍ１１は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、Ｘ１１は
、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド
基、シリル基、アルデヒド残基、ケトン残基、カルボン酸残基、チオカルボン酸残基又は
リン化合物残基を示し、Ｌ１１は、ルイス塩基を示し、ｗは、０〜３を示す］で表される
ことができる。
【００６５】
上記希土類元素化合物の希土類元素に結合する基（配位子）として、具体的には、水素
原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅ
ｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の脂肪族アルコキシ基；フェノキシ基、２，６
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、２，６−ジイソプロピルフェノキシ基、２，６−
ジネオペンチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−イソプロピルフェノキシ基、
２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−ネオペンチルフェノキシ基、２−イソプロピル−６−ネオペ
ンチルフェノキシ基；チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオプロポキシ基、チオｎ−ブ
トキシ基、チオイソブトキシ基、チオｓｅｃ−ブトキシ基、チオｔｅｒｔ−ブトキシ基等
の脂肪族チオラート基；チオフェノキシ基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェノキ
シ基、２，６−ジイソプロピルチオフェノキシ基、２，６−ジネオペンチルチオフェノキ
シ基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−イソプロピルチオフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−６−チオネオペンチルフェノキシ基、２−イソプロピル−６−チオネオペンチルフェ
ノキシ基、２，４，６−トリイソプロピルチオフェノキシ基等のアリールチオラート基；
ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基等の脂肪族アミド基；フ
ェニルアミド基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアミド基、２，６−ジイソプロ
ピルフェニルアミド基、２，６−ジネオペンチルフェニルアミド基、２−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−６−イソプロピルフェニルアミド基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−ネオペンチルフェ
ニルアミド基、２−イソプロピル−６−ネオペンチルフェニルアミド基、２，４，６−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニルアミド基等のアリールアミド基；ビストリメチルシリルアミド基
等のビストリアルキルシリルアミド基；トリメチルシリル基、トリス（トリメチルシリル
）シリル基、ビス（トリメチルシリル）メチルシリル基、トリメチルシリル（ジメチル）
シリル基、トリイソプロピルシリル（ビストリメチルシリル）シリル基等のシリル基；フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。更には、
サリチルアルデヒド、２−ヒドロキシ−１−ナフトアルデヒド、２−ヒドロキシ−３−ナ
フトアルデヒド等のアルデヒドの残基；２’−ヒドロキシアセトフェノン、２’−ヒドロ
キシブチロフェノン、２’−ヒドロキシプロピオフェノン等のヒドロキシフェノンの残基
；アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、プロピオニルアセトン、イソブチルアセトン
、バレリルアセトン、エチルアセチルアセトン等のジケトンの残基；イソ吉草酸、カプリ
ル酸、オクタン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステ
アリン酸、オレイン酸、リノール酸、シクロペンタンカルボン酸、ナフテン酸、エチルヘ
キサン酸、ビバール酸、バーサチック酸［シェル化学（株）製の商品名、Ｃ１０モノカル
ボン酸の異性体の混合物から構成される合成酸］、フェニル酢酸、安息香酸、２−ナフト
エ酸、マレイン酸、コハク酸等のカルボン酸の残基；ヘキサンチオ酸、２，２−ジメチル
ブタンチオ酸、デカンチオ酸、チオ安息香酸等のチオカルボン酸の残基、リン酸ジブチル
、リン酸ジペンチル、リン酸ジヘキシル、リン酸ジヘプチル、リン酸ジオクチル、リン酸
ビス（２−エチルヘキシル）、リン酸ビス（１−メチルヘプチル）、リン酸ジラウリル、
リン酸ジオレイル、リン酸ジフェニル、リン酸ビス（ｐ−ノニルフェニル）、リン酸ビス
（ポリエチレングリコール−ｐ−ノニルフェニル）、リン酸（ブチル）（２−エチルヘキ
シル）、リン酸（１−メチルヘプチル）（２−エチルヘキシル）、リン酸（２−エチルヘ
キシル）（ｐ−ノニルフェニル）等のリン酸エステルの残基；２−エチルヘキシルホスホ
ン酸モノブチル、２−エチルヘキシルホスホン酸モノ−２−エチルヘキシル、フェニルホ
スホン酸モノ−２−エチルヘキシル、２−エチルヘキシルホスホン酸モノ−ｐ−ノニルフ
ェニル、ホスホン酸モノ−２−エチルヘキシル、ホスホン酸モノ−１−メチルヘプチル、
ホスホン酸モノ−ｐ−ノニルフェニル等のホスホン酸エステルの残基、ジブチルホスフィ
ン酸、ビス（２−エチルヘキシル）ホスフィン酸、ビス（１−メチルヘプチル）ホスフィ
ン酸、ジラウリルホスフィン酸、ジオレイルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、ビ
ス（ｐ−ノニルフェニル）ホスフィン酸、ブチル（２−エチルヘキシル）ホスフィン酸、
（２−エチルヘキシル）（１−メチルヘプチル）ホスフィン酸、（２−エチルヘキシル）
（ｐ−ノニルフェニル）ホスフィン酸、ブチルホスフィン酸、２−エチルヘキシルホスフ
ィン酸、１−メチルヘプチルホスフィン酸、オレイルホスフィン酸、ラウリルホスフィン
酸、フェニルホスフィン酸、ｐ−ノニルフェニルホスフィン酸等のホスフィン酸の残基を
挙げることもできる。なお、これらの配位子は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を
組み合わせて用いてもよい。
【００６６】
上記第二重合触媒組成物に用いる（Ａ）成分において、上記希土類元素化合物と反応す
るルイス塩基としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニ
リン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中性のオレフィン類、中性のジオレフィン
類等が挙げられる。ここで、上記希土類元素化合物が複数のルイス塩基と反応する場合（
式（ＸＩ）及び（ＸＩＩ）においては、ｗが２又は３である場合）、ルイス塩基Ｌ１１は
、同一であっても異なっていてもよい。
【００６７】
上記第二重合触媒組成物に用いる（Ｂ）成分は、イオン性化合物（Ｂ−１）、アルミノ
キサン（Ｂ−２）及びハロゲン化合物（Ｂ−３）よりなる群から選択される少なくとも一
種の化合物である。なお、上記第二重合触媒組成物における（Ｂ）成分の合計の含有量は
、（Ａ）成分に対して０．１〜５０倍モルであることが好ましい。
【００６８】
上記（Ｂ−１）で表されるイオン性化合物は、非配位性アニオンとカチオンとからなり
、上記（Ａ）成分である希土類元素化合物又はそのルイス塩基との反応物と反応してカチ
オン性遷移金属化合物を生成できるイオン性化合物等を挙げることができる。ここで、非
配位性アニオンとしては、例えば、テトラフェニルボレート、テトラキス（モノフルオロ
フェニル）ボレート、テトラキス（ジフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（トリフ
ルオロフェニル）ボレート、テトラキス（テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（テトラフルオロメチルフェニル）
ボレート、テトラ（トリル）ボレート、テトラ（キシリル）ボレート、（トリフェニル、
ペンタフルオロフェニル）ボレート、［トリス（ペンタフルオロフェニル）、フェニル］
ボレート、トリデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート等が挙げられる。
一方、カチオンとしては、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウム
カチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有する
フェロセニウムカチオン等を挙げることができる。カルボニウムカチオンの具体例として
は、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ（置換フェニル）カルボニウムカチオン等
の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリ（置換フェニル）カルボニルカチオン
として、より具体的には、トリ（メチルフェニル）カルボニウムカチオン、トリ（ジメチ
ルフェニル）カルボニウムカチオン等が挙げられる。アンモニウムカチオンの具体例とし
ては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピ
ルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン（例えば、トリ（ｎ−ブチル
）アンモニウムカチオン）等のトリアルキルアンモニウムカチオン；Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペ
ンタメチルアニリニウムカチオン等のＮ，Ｎ−ジアルキルアニリニウムカチオン；ジイソ
プロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキル
アンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンの具体例としては、トリフ
ェニルホスホニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムカチオン、トリ（ジ
メチルフェニル）ホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げ
られる。従って、イオン性化合物としては、上述の非配位性アニオン及びカチオンからそ
れぞれ選択し組み合わせた化合物が好ましく、具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が好ましい。また、これらのイオン性化合物は
、１種単独で使用することも、２種以上を混合して用いることもできる。なお、上記第二
重合触媒組成物におけるイオン性化合物の含有量は、（Ａ）成分に対して０．１〜１０倍
モルであることが好ましく、約１倍モルであることが更に好ましい。
【００６９】
上記（Ｂ−２）で表されるアルミノキサンは、有機アルミニウム化合物と縮合剤とを接
触させることによって得られる化合物であり、例えば、一般式：（−Ａｌ（Ｒ’）Ｏ−）
で示される繰り返し単位を有する鎖状アルミノキサン又は環状アルミノキサン（式中、Ｒ
’は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、一部の炭化水素基はハロゲン原子及び／又はア
ルコキシ基で置換されてもよく、繰り返し単位の重合度は、５以上が好ましく、１０以上
が更に好ましい）を挙げることができる。ここで、Ｒ’として、具体的には、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソブチル基等が挙げられ、これらの中でも、メチル基が好まし
い。また、アルミノキサンの原料として用いられる有機アルミニウム化合物としては、例
えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム
等のトリアルキルアルミニウム及びその混合物等が挙げられ、トリメチルアルミニウムが
特に好ましい。例えば、トリメチルアルミニウムとトリブチルアルミニウムとの混合物を
原料として用いたアルミノキサンを好適に用いることができる。なお、上記第二重合触媒
組成物におけるアルミノキサンの含有量は、（Ａ）成分を構成する希土類元素Ｍと、アル
ミノキサンのアルミニウム元素Ａｌとの元素比率Ａｌ／Ｍが、１０〜１０００程度となる
ようにすることが好ましい。
【００７０】
上記（Ｂ−３）で表されるハロゲン化合物は、ルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩
基との錯化合物及び活性ハロゲンを含む有機化合物のうち少なくとも一種からなり、例え
ば、上記（Ａ）成分である希土類元素化合物又はそのルイス塩基との反応物と反応して、
カチオン性遷移金属化合物やハロゲン化遷移金属化合物や遷移金属中心が電荷不足の化合
物を生成することができる。なお、上記第二重合触媒組成物におけるハロゲン化合物の合
計の含有量は、（Ａ）成分に対して１〜５倍モルであることが好ましい。
【００７１】
上記ルイス酸としては、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３等のホウ素含有ハロゲン化合物、Ａｌ（Ｃ６
Ｆ５）３等のアルミニウム含有ハロゲン化合物を使用できる他、周期律表中の第ＩＩＩ，
ＩＶ，Ｖ，ＶＩ又はＶＩＩＩ族に属する元素を含有するハロゲン化合物を用いることもで
きる。好ましくはアルミニウムハロゲン化物又は有機金属ハロゲン化物が挙げられる。ま
た、ハロゲン元素としては、塩素又は臭素が好ましい。上記ルイス酸として、具体的には
、メチルアルミニウムジブロマイド、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニ
ウムジブロマイド、エチルアルミニウムジクロライド、ブチルアルミニウムジブロマイド
、ブチルアルミニウムジクロライド、ジメチルアルミニウムブロマイド、ジメチルアルミ
ニウムクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、ジエチルアルミニウムクロライド
、ジブチルアルミニウムブロマイド、ジブチルアルミニウムクロライド、メチルアルミニ
ウムセスキブロマイド、メチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムセス
キブロマイド、エチルアルミニウムセスキクロライド、ジブチル錫ジクロライド、アルミ
ニウムトリブロマイド、三塩化アンチモン、五塩化アンチモン、三塩化リン、五塩化リン
、四塩化錫、四塩化チタン、六塩化タングステン等が挙げられ、これらの中でも、ジエチ
ルアルミニウムクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウム
ジクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、エチルアルミニウムセスキブロマイド
、エチルアルミニウムジブロマイドが特に好ましい。
【００７２】
上記金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物を構成する金属ハロゲン化物としては
、塩化ベリリウム、臭化ベリリウム、ヨウ化ベリリウム、塩化マグネシウム、臭化マグネ
シウム、ヨウ化マグネシウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、ヨウ化カルシウム、塩
化バリウム、臭化バリウム、ヨウ化バリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化カ
ドミウム、臭化カドミウム、ヨウ化カドミウム、塩化水銀、臭化水銀、ヨウ化水銀、塩化
マンガン、臭化マンガン、ヨウ化マンガン、塩化レニウム、臭化レニウム、ヨウ化レニウ
ム、塩化銅、ヨウ化銅、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩化金、ヨウ化金、臭化金等が挙げ
られ、これらの中でも、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化マンガ
ン、塩化亜鉛、塩化銅が好ましく、塩化マグネシウム、塩化マンガン、塩化亜鉛、塩化銅
が特に好ましい。
【００７３】
また、上記金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物を構成するルイス塩基としては
、リン化合物、カルボニル化合物、窒素化合物、エーテル化合物、アルコール等が好まし
い。具体的には、リン酸トリブチル、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリフェ
ニル、リン酸トリクレジル、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニ
ルホスフィン、ジエチルホスフィノエタン、ジフェニルホスフィノエタン、アセチルアセ
トン、ベンゾイルアセトン、プロピオニトリルアセトン、バレリルアセトン、エチルアセ
チルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸フェニル、マロン酸ジ
メチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジフェニル、酢酸、オクタン酸、２−エチル−ヘキ
サン酸、オレイン酸、ステアリン酸、安息香酸、ナフテン酸、バーサチック酸、トリエチ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、
２−エチル−ヘキシルアルコール、オレイルアルコール、ステアリルアルコール、フェノ
ール、ベンジルアルコール、１−デカノール、ラウリルアルコール等が挙げられ、これら
の中でも、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリクレジル、アセチルアセトン、
２−エチルヘキサン酸、バーサチック酸、２−エチルヘキシルアルコール、１−デカノー
ル、ラウリルアルコールが好ましい。
【００７４】
上記ルイス塩基は、上記金属ハロゲン化物１モル当り、０．０１〜３０モル、好ましく
は０．５〜１０モルの割合で反応させる。このルイス塩基との反応物を使用すると、ポリ
マー中に残存する金属を低減することができる。
上記活性ハロゲンを含む有機化合物としては、ベンジルクロライド等が挙げられる。
【００７５】
上記第二重合触媒組成物に用いる（Ｃ）成分は、下記一般式（Ｘ）：
ＹＲ１ａＲ２ｂＲ３ｃ  ・・・  （Ｘ）
［式中、Ｙは、周期律表第１族、第２族、第１２族及び第１３族から選択される金属であ
り、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なり、炭素数１〜１０の炭化水素基又は水素原子で、Ｒ
３は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、但し、Ｒ３は上記Ｒ１又はＲ２と同一又は異な
っていてもよく、また、Ｙが周期律表第１族から選択される金属である場合には、ａは１
で且つｂ及びｃは０であり、Ｙが周期律表第２族及び第１２族から選択される金属である
場合には、ａ及びｂは１で且つｃは０であり、Ｙが周期律表第１３族から選択される金属
である場合には、ａ，ｂ及びｃは１である］で表される有機金属化合物であり、下記一般
式（Ｘａ）：
ＡｌＲ１Ｒ２Ｒ３  ・・・  （Ｘａ）
［式中、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なり、炭素数１〜１０の炭化水素基又は水素原子で
、Ｒ３は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、但し、Ｒ３は上記Ｒ１又はＲ２と同一又は
異なっていてもよい］で表される有機アルミニウム化合物であることが好ましい。式（Ｘ
）の有機アルミニウム化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウ
ム、トリ−ｎ−プロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチ
ルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｔ−ブチルアルミニウム、トリペ
ンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリシクロヘキシルアルミニウム、ト
リオクチルアルミニウム；水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジ−ｎ−プロピルアルミ
ニウム、水素化ジ−ｎ−ブチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化
ジヘキシルアルミニウム、水素化ジイソヘキシルアルミニウム、水素化ジオクチルアルミ
ニウム、水素化ジイソオクチルアルミニウム；エチルアルミニウムジハイドライド、ｎ−
プロピルアルミニウムジハイドライド、イソブチルアルミニウムジハイドライド等が挙げ
られ、これらの中でも、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、水素化
ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好ましい。以上に述べた（Ｃ
）成分としての有機アルミニウム化合物は、１種単独で使用することも、２種以上を混合
して用いることもできる。なお、上記第二重合触媒組成物における有機アルミニウム化合
物の含有量は、（Ａ）成分に対して１〜５０倍モルであることが好ましく、約１０倍モル
であることが更に好ましい。
【００７６】
＜重合触媒および第三の重合触媒組成物＞
上記重合触媒としては、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの重合用であり、下記
式（Ａ）：
ＲａＭＸｂＱＹｂ  ・・・  （Ａ）
［式中、Ｒはそれぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、該ＲはＭに配位し
ており、Ｍはランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、Ｘはそれぞれ独
立して炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、該ＸはＭ及びＱにμ配位しており、Ｑは周期律表第１３族元素を示し、Ｙはそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基又は水素原子を示し、該ＹはＱに配位しており、ａ及びｂは２である］で表されるメタロセン系複合触媒が挙げられる。
【００７７】
上記メタロセン系複合触媒の好適例においては、下記式（ＸＶ）：
【化８】
0005917810.tif 000010
［式中、Ｍ１は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、ＣｐＲは
、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独
立して炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、該Ｒａ及びＲｂは、Ｍ１及びＡｌにμ配位し
ており、Ｒｃ及びＲｄは、それぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基又は水素原子を
示す］で表されるメタロセン系複合触媒が挙げられる。
【００７８】
また、上記第三の重合触媒組成物は、上記のメタロセン系複合触媒と、ホウ素アニオン
とを含むことを特徴とする。
【００７９】
＜メタロセン系複合触媒＞
以下に、上記メタロセン系複合触媒を詳細に説明する。上記メタロセン系複合触媒は、
ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムの希土類元素と周期律表第１３族元素
とを有し、下記式（Ａ）：
ＲａＭＸｂＱＹｂ  ・・・  （Ａ）
［式中、Ｒはそれぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、該ＲはＭに配位し
ており、Ｍはランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、Ｘはそれぞれ独
立して炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、該ＸはＭ及びＱにμ配位しており、Ｑは周期律表第１３族元素を示し、Ｙはそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基又は水素原子を示し、該ＹはＱに配位しており、ａ及びｂは２である］で表されることを特徴とする。上記メタロセン系重合触媒を用いることで、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体を製造することができる。また、上記メタロセン系複合触媒、例えば予めアルミニウム触媒と複合させてなる触媒を用いることで、共重合体合成時に使用されるアルキルアルミニウムの量を低減したり、無くしたりすることが可能となる。なお、従来の触媒系を用いると、共重合体合成時に大量のアルキルアルミニウムを用いる必要がある。例えば、従来の触媒系では、金属触媒に対して１０当量以上のアルキルアルミニウムを用いる必要があるところ、上記メタロセン系複合触媒であれば、５当量程度のアルキルアルミニウムを加えることで、優れた触媒作用が発揮される。
【００８０】
上記メタロセン系複合触媒において、上記式（Ａ）中の金属Ｍは、ランタノイド元素、
スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号５７〜７１の１
５元素が含まれ、これらのいずれでもよい。金属Ｍとしては、サマリウムＳｍ、ネオジム
Ｎｄ、プラセオジムＰｒ、ガドリニウムＧｄ、セリウムＣｅ、ホルミウムＨｏ、スカンジ
ウムＳｃ及びイットリウムＹが好適に挙げられる。
【００８１】
上記式（Ａ）において、Ｒは、それぞれ独立して無置換インデニル又は置換インデニル
であり、該Ｒは上記金属Ｍに配位している。なお、置換インデニル基の具体例としては、
例えば、１，２，３−トリメチルインデニル基、ヘプタメチルインデニル基、１，２，４
，５，６，７−ヘキサメチルインデニル基等が挙げられる。
【００８２】
上記式（Ａ）において、Ｑは、周期律表第１３族元素を示し、具体的には、ホウ素、ア
ルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等が挙げられる。
【００８３】
上記式（Ａ）において、Ｘはそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、該
ＸはＭ及びＱにμ配位している。ここで、炭素数１〜２０の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。なお、μ配位とは、架橋構造をとる配位様式のことである。
【００８４】
上記式（Ａ）において、Ｙはそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基又は水素原
子を示し、該ＹはＱに配位している。ここで、炭素数１〜２０の炭化水素基としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。
【００８５】
上記式（ＸＶ）において、金属Ｍ１は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリ
ウムである。ランタノイド元素には、原子番号５７〜７１の１５元素が含まれ、これらの
いずれでもよい。金属Ｍ１としては、サマリウムＳｍ、ネオジムＮｄ、プラセオジムＰｒ
、ガドリニウムＧｄ、セリウムＣｅ、ホルミウムＨｏ、スカンジウムＳｃ及びイットリウ
ムＹが好適に挙げられる。
【００８６】
上記式（ＸＶ）において、ＣｐＲは、無置換インデニル又は置換インデニルである。イ
ンデニル環を基本骨格とするＣｐＲは、Ｃ９Ｈ７−ＸＲＸ又はＣ９Ｈ１１−ＸＲＸで示さ
れ得る。ここで、Ｘは０〜７又は０〜１１の整数である。また、Ｒはそれぞれ独立してヒ
ドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は１
〜２０であることが好ましく、１〜１０であることが更に好ましく、１〜８であることが
一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル
基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、
ゲルミルＧｅ、スタニルＳｎ、シリルＳｉが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカル
ビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロ
カルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が
挙げられる。置換インデニルとして、具体的には、２−フェニルインデニル、２−メチル
インデニル等が挙げられる。なお、式（ＸＶ）における二つのＣｐＲは、それぞれ互いに
同一でも異なっていてもよい。
【００８７】
上記式（ＸＶ）において、ＲＡ及びＲＢは、それぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水
素基を示し、該ＲＡ及びＲは、Ｍ１及Ａｌにμ配位している。ここで、炭素数１〜２０の
炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基
、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。な
お、μ配位とは、架橋構造をとる配位様式のことである。
【００８８】
上記式（ＸＶ）において、ＲＣ及びＲＤは、それぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水
素基又は水素原子である。ここで、炭素数１〜２０の炭化水素基としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デ
シル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基
、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。
【００８９】
なお、上記メタロセン系複合触媒は、例えば、溶媒中で、下記式（ＸＶＩ）：
【化９】
0005917810.tif 000011
（式中、Ｍ２は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、ＣｐＲは、
それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、ＲＥ〜ＲＪは、それぞれ独立し
て炭素数１〜３のアルキル基又は水素原子を示し、Ｌは、中性ルイス塩基を示し、ｗは、
０〜３の整数を示す）で表されるメタロセン錯体を、ＡｌＲＫＲＬＲＭで表される有機ア
ルミニウム化合物と反応させることで得られる。なお、反応温度は室温程度にすればよい
ので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間〜数
十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であ
ることが好ましく、例えばトルエンやヘキサンを用いればよい。なお、上記メタロセン系
複合触媒の構造は、１Ｈ−ＮＭＲやＸ線構造解析により決定することが好ましい。
【００９０】
上記式（ＸＶＩ）で表されるメタロセン錯体において、ＣｐＲは、無置換インデニル又
は置換インデニルであり、上記式（ＸＶ）中のＣｐＲと同義である。また、上記式（ＸＶ
Ｉ）において、金属Ｍ２は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムであり、
上記式（ＸＶ）中の金属Ｍ１と同義である。
【００９１】
上記式（ＸＶＩ）で表されるメタロセン錯体は、シリルアミド配位子［−Ｎ（ＳｉＲ３
）２］を含む。シリルアミド配位子に含まれるＲ基（ＲＥ〜ＲＪ基）は、それぞれ独立し
て炭素数１〜３のアルキル基又は水素原子である。また、ＲＥ〜ＲＪのうち少なくとも一
つが水素原子であることが好ましい。ＲＥ〜ＲＪのうち少なくとも一つを水素原子にする
ことで、触媒の合成が容易になる。更に、アルキル基としては、メチル基が好ましい。
【００９２】
上記式（ＸＶＩ）で表されるメタロセン錯体は、更に０〜３個、好ましくは０〜１個の
中性ルイス塩基Ｌを含む。ここで、中性ルイス塩基Ｌとしては、例えば、テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中
性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記錯体が複数の中
性ルイス塩基Ｌを含む場合、中性ルイス塩基Ｌは、同一であっても異なっていてもよい。
【００９３】
また、上記式（ＸＶＩ）で表されるメタロセン錯体は、単量体として存在していてもよ
く、二量体又はそれ以上の多量体として存在していてもよい。
【００９４】
一方、上記メタロセン系複合触媒の生成に用いる有機アルミニウム化合物は、ＡｌＲＫ
ＲＬＲＭで表され、ここで、ＲＫ及びＲＬは、それぞれ独立して炭素数１〜２０の１価の
炭化水素基又は水素原子で、ＲＭは炭素数１〜２０の１価の炭化水素基であり、但し、Ｒ
Ｍは上記ＲＫ又はＲＬと同一でも異なっていてもよい。炭素数１〜２０の１価の炭化水素
基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタ
デシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。
【００９５】
上記有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチル
アルミニウム、トリ−ｎ−プロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリ
−ｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｔ−ブチルアルミニウ
ム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリシクロヘキシルアルミ
ニウム、トリオクチルアルミニウム；水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジ−ｎ−プロ
ピルアルミニウム、水素化ジ−ｎ−ブチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウ
ム、水素化ジヘキシルアルミニウム、水素化ジイソヘキシルアルミニウム、水素化ジオク
チルアルミニウム、水素化ジイソオクチルアルミニウム；エチルアルミニウムジハイドラ
イド、ｎ−プロピルアルミニウムジハイドライド、イソブチルアルミニウムジハイドライ
ド等が挙げられ、これらの中でも、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好ましい。また、
これら有機アルミニウム化合物は、１種単独で使用することも、２種以上を混合して用い
ることもできる。なお、上記メタロセン系複合触媒の生成に用いる有機アルミニウム化合
物の量は、メタロセン錯体に対して１〜５０倍モルであることが好ましく、約１０倍モル
であることが更に好ましい。
【００９６】
＜第三の重合触媒組成物＞
また、上記重合触媒組成物は、上記メタロセン系複合触媒と、ホウ素アニオンとを含む
ことを特徴とし、更に、通常のメタロセン系触媒を含む重合触媒組成物に含有される他の
成分、例えば助触媒等を含むことが好ましい。なお、上記メタロセン系複合触媒とホウ素
アニオンとを合わせて２成分触媒ともいう。上記第三重合触媒組成物によれば、上記メタ
ロセン系複合触媒と同様に、更にホウ素アニオンを含有するため、各単量体成分の共重合
体中での含有量を任意に制御することが可能となる。
【００９７】
上記第三重合触媒組成物において、２成分触媒を構成するホウ素アニオンとして、具体
的には、４価のホウ素アニオンが挙げられる。例えば、テトラフェニルボレート、テトラ
キス（モノフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（ジフルオロフェニル）ボレート、
テトラキス（トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（テトラフルオロフェニル）
ボレート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（テトラフルオ
ロメチルフェニル）ボレート、テトラ（トリル）ボレート、テトラ（キシリル）ボレート
、（トリフェニル、ペンタフルオロフェニル）ボレート、［トリス（ペンタフルオロフェ
ニル）、フェニル］ボレート、トリデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレー
ト等が挙げられ、これらの中でも、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好
ましい。
【００９８】
なお、上記ホウ素アニオンは、カチオンと組み合わされたイオン性化合物として使用す
ることができる。上記カチオンとしては、例えば、カルボニウムカチオン、オキソニウム
カチオン、アミンカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、
遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等が挙げられる。カルボニウムカチオンとして
は、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ（置換フェニル）カルボニウムカチオン等
の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリ（置換フェニル）カルボニルカチオン
として、具体的には、トリ（メチルフェニル）カルボニウムカチオン等が挙げられる。ア
ミンカチオンとしては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチ
オン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン等のトリア
ルキルアンモニウムカチオン；Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムカチオン等の
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウムカチオン；ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシ
クロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる
。ホスホニウムカチオンとしては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ（メチルフ
ェニル）ホスホニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムカチオン等のト
リアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらカチオンの中でも、Ｎ，Ｎ−ジ
アルキルアニリニウムカチオン又はカルボニウムカチオンが好ましく、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルアニリニウムカチオンが特に好ましい。従って、上記イオン性化合物としては、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニル
カルボニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が好ましい。なお、ホウ
素アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物は、上記メタロセン系複合触媒に対して
０．１〜１０倍モル加えることが好ましく、約１倍モル加えることが更に好ましい。
【００９９】
なお、上記第三重合触媒組成物においては、上記メタロセン系複合触媒と上記ホウ素ア
ニオンとを用いる必要があるが、上記式（ＸＶＩ）で表されるメタロセン触媒と有機アル
ミニウム化合物を反応させる反応系に、ホウ素アニオンが存在していると、上記式（ＸＶ
）のメタロセン系複合触媒を合成することができない。従って、上記第三重合触媒組成物
の調製には、該メタロセン系複合触媒を予め合成し、該メタロセン系複合触媒を単離精製
してからホウ素アニオンと組み合わせる必要がある。
【０１００】
上記第三重合触媒組成物に用いることができる助触媒としては、例えば、上述のＡｌＲ
ＫＲＬＲＭで表される有機アルミニウム化合物の他、アルミノキサン等が好適に挙げられ
る。上記アルミノキサンとしては、アルキルアミノキサンが好ましく、例えば、メチルア
ルミノキサン（ＭＡＯ）、修飾メチルアルミノキサン等が挙げられる。また、修飾メチル
アルミノキサンとしては、ＭＭＡＯ−３Ａ（東ソーファインケム社製）等が好ましい。な
お、これらアルミノキサンは、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いて
もよい。
【０１０１】
なお、共重合体の製造方法においては、上述の通り、上記重合触媒または重合触媒組成
物を用いること以外は、通常の配位イオン重合触媒による重合体の製造方法と同様にして
、重合を行うことができる。ここで、共重合体の製造方法は、例えば、（１）単量体とし
て共役ジエン化合物及び該共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンを含む重合反応系中
に、重合触媒組成物の構成成分を別個に提供し、該反応系中において重合触媒組成物とし
てもよいし、（２）予め調製された重合触媒組成物を重合反応系中に提供してもよい。ま
た、（２）においては、助触媒によって活性化されたメタロセン錯体（活性種）を提供す
ることも含まれる。なお、重合触媒組成物に含まれるメタロセン錯体の使用量は、共役ジ
エン化合物及び該共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンの合計に対して、０．０００
１〜０．０１倍モルの範囲が好ましい。
【０１０２】
また、共重合体の製造方法においては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等
の重合停止剤を用いて、重合を停止させてもよい。
【０１０３】
共重合体の製造方法において、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンの重合反応は、
不活性ガス、好ましくは窒素ガスやアルゴンガスの雰囲気下において行われることが好ま
しい。上記重合反応の重合温度は、特に制限されないが、例えば−１００℃〜２００℃の
範囲が好ましく、室温程度とすることもできる。なお、重合温度を上げると、重合反応の
シス−１，４選択性が低下することがある。また、上記重合反応の圧力は、共役ジエン化
合物及び非共役オレフィンを十分に重合反応系中に取り込むため、０．１〜１０．０ＭＰ
ａの範囲が好ましい。また、上記重合反応の反応時間も特に制限されず、例えば１秒〜１
０日の範囲が好ましいが、重合される単量体の種類、触媒の種類、重合温度等の条件によ
って適宜選択することができる。
【０１０４】
前記共重合体の製造方法において、上記共役ジエン化合物と該共役ジエン化合物以外の
非共役オレフィンとの重合の際、該非共役オレフィンの圧力は、０．１ＭＰａ〜１０ＭＰ
ａであることが好ましい。該非共役オレフィンの圧力が０．１ＭＰａ以上であれば、反応
混合物中に非共役オレフィンを効率的に導入することができる。また、非共役オレフィン
の圧力を高くし過ぎても、非共役オレフィンを効率的に導入する効果が頭打ちとなるため
、非共役オレフィンの圧力を１０ＭＰａ以下とするのが好ましい。
【０１０５】
前記共重合体の製造方法において、上記共役ジエン化合物と該共役ジエン化合物以外の
非共役オレフィンとの重合の際、重合開始時における該共役ジエン化合物の濃度（ｍｏｌ
／ｌ）と該非共役オレフィンの濃度（ｍｏｌ／ｌ）とは、下記式：
非共役オレフィンの濃度／共役ジエン化合物の濃度  ≧  １．０
の関係を満たすことが好ましく、更に好ましくは下記式：
非共役オレフィンの濃度／共役ジエン化合物の濃度  ≧  １．３
の関係を満たし、一層好ましくは下記式：
非共役オレフィンの濃度／共役ジエン化合物の濃度  ≧  １．７
の関係を満たす。非共役オレフィンの濃度／共役ジエン化合物の濃度の値を１以上とする
ことで、反応混合物中に非共役オレフィンを効率的に導入することができる。
【０１０６】
（ゴム組成物）
本発明のゴム組成物としては、本発明の共重合体を含む限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、本発明の共重合体以外のゴム成分、無機充填剤、カーボンブラック、架橋剤、などを含むことが好ましい。
【０１０７】
＜共重合体＞
本発明の共重合体のゴム成分中の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３質量％以上が好ましい。
前記共重合体のゴム成分中の含有量が、３質量％未満であると、本発明の特徴が小さかったり、またはその特徴を発揮しなかったりすることがある。
【０１０８】
＜ゴム成分＞
前記ゴム成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の共重合体、天然ゴム、各種ブタジエンゴム、各種スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、イソプレンゴム、ブチルゴム、イソブチレンとｐ−メチルスチレンの共重合体の臭化物、ハロゲン化ブチルゴム、アクリロニトリロブタジエンゴム、クロロプレンゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム、スチレン−イソプレン共重合体ゴム、スチレン−イソプレン−ブタジエン共重合体ゴム、イソプレン−ブタジエン共重合体ゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、アクリルゴム、エピクロルヒドリンゴム、多硫化ゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０９】
前記ゴム組成物には、必要に応じて補強性充填剤を配合することができる。前記補強性充填剤としては、カーボンブラック、無機充填剤、などを挙げることができ、カーボンブラック及び無機充填剤から選択される少なくとも一種が好ましい。
【０１１０】
＜無機充填剤＞
前記無機充填剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シリカ、水酸化アルミニウム、クレー、アルミナ、タルク、マイカ、カオリン、ガラスバルーン、ガラスビーズ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、チタン酸カリウム、硫酸バリウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
なお、無機充填剤を用いる時は適宜シランカップリング剤を使用してもよい。
【０１１１】
前記補強性充填剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ゴム成分１００質量部に対し、５質量部〜２００質量部が好ましい。
前記補強性充填剤の少なくともいずれかの含有量が、５質量部未満であると、補強性充填剤を入れる効果があまりみられないことがあり、２００質量部を超えると前記ゴム成分に補強性充填剤が混ざり込まなくなる傾向があり、ゴム組成物としての性能を低下させることがある。
【０１１２】
＜架橋剤＞
前記架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、硫黄系架橋剤、有機過酸化物系架橋剤、無機架橋剤、ポリアミン架橋剤、樹脂架橋剤、硫黄化合物系架橋剤、オキシム−ニトロソアミン系架橋剤硫黄などが挙げられるが、中でも、タイヤ用ゴム組成物としては硫黄系架橋剤がより好ましい。
【０１１３】
前記架橋剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ゴム成分１００質量部に対し、０．１質量部〜２０質量部が好ましい。
前記架橋剤の含有量が０．１質量部未満では、架橋がほとんど進行しなかったり、２０質量部を超えると一部の架橋剤により混練り中に架橋が進んでしまう傾向があったり、加硫物の物性が損なわれたりすることがある。
【０１１４】
＜その他の成分＞
その他に加硫促進剤を併用することも可能であり、加硫促進剤としては、グアジニン系、アルデヒド−アミン系、アルデヒド−アンモニア系、チアゾール系、スルフェンアミド系、チオ尿素系、チウラム系、ジチオカルバメート系、ザンテート系等の化合物が使用できる。
また必要に応じて、補強剤、軟化剤、充填剤、加硫助剤、着色剤、難燃剤、滑剤、発泡剤、可塑剤、加工助剤、酸化防止剤、老化防止剤、スコーチ防止剤、紫外線防止剤、帯電防止剤、着色防止剤、その他の配合剤など公知のものをその使用目的に応じて使用することができる。
【０１１５】
（架橋ゴム組成物）
本発明の架橋ゴム組成物は、本発明のゴム組成物を架橋して得られたものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記架橋の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、温度１２０℃〜２００℃、加温時間１分間〜９００分間が好ましい。
【０１１６】
（タイヤ）
本発明のタイヤは、本発明のゴム組成物、又は、本発明の架橋ゴム組成物を用いたものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
本発明のゴム組成物、又は、本発明の架橋ゴム組成物のタイヤにおける適用部位としては、例えば、トレッド、ベーストレッド、サイドウォール、サイド補強ゴム及びビードフィラーなどが挙げられるが、これに限定されない。
前記タイヤを製造する方法としては、慣用の方法を用いることができる。例えば、タイヤ成形用ドラム上に未加硫ゴムからなるカーカス層、ベルト層、トレッド層等の通常タイヤ製造に用いられる部材を順次貼り重ね、ドラムを抜き去ってグリーンタイヤとする。次いで、このグリーンタイヤを常法に従って加熱加硫することにより、所望のタイヤを製造することができる。
【０１１７】
（タイヤ以外の用途）
タイヤ用途以外にも、防振ゴム、免震ゴム、ベルト（コンベアベルト）、ゴムクローラ、各種ホース、モランなどに本発明のゴム組成物、又は、本発明の架橋ゴム組成物を使用することができる。
【実施例】
【０１１８】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら
限定されるものではない。
【０１１９】
（実施例１）
十分に乾燥した２Ｌステンレス反応器に、トルエン１５０ｍｌを添加した後、エチレンを０．４ＭＰａで導入した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビス（２−フェニルインデニル）ガドリニウムビス（ジメチルシリルアミド）［（２−ＰｈＣ９Ｈ６）２ＧｄＮ（ＳｉＨＭｅ２）２］１４．５μｍｏｌ、トリフェニルカルボニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（Ｐｈ３ＣＢ（Ｃ６Ｆ５）４）１４．１μｍｏｌ、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド０．８７ｍｍｏｌを仕込み、トルエン５ｍｌに溶解させて触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で１４．１μｍｏｌとなる量をモノマー溶液へ添加し、５０℃で５分間重合を行った。その後、エチレンの導入圧力を０．２ＭＰａ／ｍｉｎの速度で低下させながら、１，３−ブタジエン３．０５ｇ（０．０５６ｍｏｌ）を含むトルエン溶液２０ｍｌを添加した後、さらに１５分間重合を行った。次に、「エチレンの導入圧力を０．８ＭＰａに戻し５分間重合を行い、その後、エチレンの導入圧力を０．２ＭＰａ／ｍｉｎの速度で低下させながら、１，３−ブタジエン６．０９ｇ（０．１１３ｍｏｌ）を含むトルエン溶液４０ｍｌを添加し、その後さらに３０分間重合を行う」という操作を計３回繰り返した。重合後、２，２´−メチレンービス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）（ＮＳ−５）５質量％のイソプロパノール溶液１ｍｌを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、７０℃で真空乾燥し共重合体Ａを得た。得られた共重合体Ａの収量は２０．００ｇであった。
【０１２０】
（実施例２）
実施例１において、最初にエチレンを導入する際の圧力を０．８ＭＰａにすること以外は同様の方法で実験を行ったところ、共重合体Ｂを得た。得られた共重合体Ｂの収量は２４．５０ｇであった。
【０１２１】
（実施例３）
十分に乾燥した２Ｌステンレス反応器に、トルエン１Ｌを添加した後、エチレンを０．８ＭＰａで導入した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビス（２−フェニルインデニル）ガドリニウムビス（ジメチルシリルアミド）［（２−ＰｈＣ９Ｈ６）２ＧｄＮ（ＳｉＨＭｅ２）２］１８．２μｍｏｌ、トリフェニルカルボニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（Ｐｈ３ＣＢ（Ｃ６Ｆ５）４）１８．２μｍｏｌ、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド２．７３ｍｍｏｌを仕込み、トルエン２０ｍｌに溶解させて触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で１６．５μｍｏｌとなる量をモノマー溶液へ添加し、４０℃で１分間重合を行った。その後、エチレンの導入圧力を０．２ＭＰａ／ｍｉｎの速度で低下させながら、１，３−ブタジエン７２ｇ（１．３３ｍｏｌ）を含むトルエン溶液３５０ｍｌを添加した後、エチレンの導入圧力を１．５ＭＰａに上げ、９０分間重合を行った。重合後、２，２´−メチレンービス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）（ＮＳ−５）５質量％のイソプロパノール溶液１ｍｌを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、７０℃で真空乾燥し共重合体Ｃを得た。得られた共重合体Ｃの収量は７６．５０ｇであった。
【０１２２】
（比較例１）
比較例サンプルとして、ブタジエンゴム（ＢＲ０１、ＪＳＲ製）を準備した。
【０１２３】
（比較例２）
特開２０００−８６８５７号公報（特許文献４）の製造例１に示されるように、内容積１５０ｍｌの密封型耐圧ガラスアンプルに、窒素雰囲気下で、トルエン２６．０ｇとメチルアルミノサン６．７ｍｍｏｌのトルエン溶液（東ソー・アクゾ社製）を仕込んだ。エージング温度（２５℃）にアンプルを保持し、２−メトキシカルボニルメチルシクロペンタジエニルトリクロロチタン〔ＭｅＯ（ＣＯ）ＣＨ2ＣｐＴｉＣｌ3〕（ＴｉＥＳ）０．００６７ｍｍｏｌのトルエン溶液を滴下しエージング時間（５分間）保持した。その後、−２５℃としてブタジエン２．０ｇとトルエン６．０ｇの溶液を添加して、この温度にて３０分間重合させた。引き続き、この容器にエチレンで５ｋｇｆ／ｃｍ2の圧力をかけ、約１時間反応させた。その後、少量の酸性メタノール溶液で重合反応を停止し、次いで重合溶液を大量の酸性メタノールに注ぎ込み、析出した白色固体をろ取、乾燥し、共重合体Ｄを得た。
【０１２４】
（比較例３）
室温としてブタジエン２．０ｇとトルエン６．０ｇの溶液を添加して、室温にて３０分間重合させたこと以外は、比較例２と同様に実験を行ったところ、共重合体Ｅを得た。
【０１２５】
（実施例４）
十分に乾燥した４００ｍｌ耐圧ガラス反応器に、トルエン溶液１６０ｍｌを添加した後、エチレンを０．８ＭＰａで導入した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビス（２−フェニルインデニル）ガドリニウムビス（ジメチルシリルアミド）［（２−ＰｈＣ９Ｈ６）２ＧｄＮ（ＳｉＨＭｅ２）２］２８．５μｍｏｌ、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート［Ｍｅ２ＮＨＰｈＢ（Ｃ６Ｆ５）４］３４．２μｍｏｌ、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド１．４３ｍｍｏｌを仕込み、トルエン８ｍｌに溶解させて触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で２８．２μｍｏｌとなる量をモノマー溶液へ添加し、室温で５分間重合を行った。その後、エチレンの導入圧力を０．２ＭＰａ／ｍｉｎの速度で低下させながら、１，３−ブタジエン１５．２３ｇ（０．２８ｍｏｌ）を含むトルエン溶液１００ｍｌを添加した後、さらに９０分間重合を行った。重合後、２，２'−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）（ＮＳ−５）５質量％のイソプロパノール溶液１ｍｌを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、７０℃で真空乾燥し、共重合体Ｆ（ブロック共重合体）を得た。得られた共重合体Ｆの収量は１２．５０ｇであった。
【０１２６】
以上のようにして得られた共重合体Ａ〜Ｆ及びブタジエンゴムについて、重量平均分子量（Ｍｗ）、及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）、１，２−ビニル結合量、シス−１，４結合含量、エチレン含有率を下記の方法で測定・評価した。
【０１２７】
（１）重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー［ＧＰＣ：東ソー製ＨＬＣ−８１２１ＧＰＣ
／ＨＴ、カラム：東ソー製ＧＭＨＨＲ−Ｈ（Ｓ）ＨＴ×２本、検出器：示差屈折率計（Ｒ
Ｉ）］を用いて、測定温度１４０℃で単分散ポリスチレンを基準として、重合体のポリス
チレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を求めた。
（２）ミクロ構造（１，２−ビニル結合量、シス−１，４結合量）
共重合体中のブタジエン部分のミクロ構造（１，２−ビニル結合量）を、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（１００℃、ｄ−テトラクロロエタン標準：６ｐｐｍ）により１，２−ビニル結合成分（５．０ｐｐｍ−５．１ｐｐｍ）と全体のブタジエン結合成分（５ｐｐｍ−５．６ｐｐｍ）の積分比より求め、共重合体中のブタジエン部分のミクロ構造（シス−１，４結合）を、１３Ｃ−ＮＭＲスペクトル（１００℃、ｄ−テトラクロロエタン標準：７３．８ｐｐｍ）によりシス−１，４結合成分（２６．５ｐｐｍ−２７．５ｐｐｍ）と全体のブタジエン結合成分（２６．５ｐｐｍ−２７．５ｐｐｍ＋３１．５ｐｐｍ−３２．５ｐｐｍ）の積分比より求めた。１，２−ビニル結合量（％）、シス−１，４結合量（％）の計算値を表１に示す。
（３）エチレンの含有率
共重合体中のエチレン部分の含有率（ｍｏｌ％）を  １３Ｃ−ＮＭＲスペクトル（１００℃、ｄ−テトラクロロエタン標準：７３．８ｐｐｍ）により全体のエチレン結合成分（２８．５−３０．０ｐｐｍ）と全体のブタジエン結合成分（２６．５−２７．５ｐｐｍ＋３１．５−３２．５ｐｐｍ）の積分比より求めた。エチレン部分の含有率（ｍｏｌ％）を表１に示す。
【０１２８】
【表１】
0005917810.tif 000012
【０１２９】
実施例１〜４および比較例１〜３については表２に示す配合処方のゴム配合物を調製し、１６０℃で２０分間加硫して得た加硫ゴムに対し、下記の方法に従って、耐熱性、耐亀裂成長性（定歪）、耐オゾン性（動的）を測定した。
【０１３０】
【表２】
0005917810.tif 000013
※１：Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−ｐ−フェニレンジアミン、大内新興化学
（株）製、ノックラック６Ｃ
※２：Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、大内新興化学（株
）製、ノクセラーＣＺ−Ｇ
※３：ジベンゾチアジルジスルフィド、大内新興化学（株）製、ノクセラーＤＭ−Ｐ
【０１３１】
《耐熱性》
加硫サンプルを１００℃のオーブン中で４８時間熱劣化させた後、サンプル取り出しＪＩＳ  Ｋ  ６２５１に従って、室温にて引っ張り試験による破断点伸びを測定した。熱劣化を行わないサンプルの引っ張り試験による破断点伸びを１００として、表３に伸び保持率（％）として表示した。保持率（％）が大きい程、耐熱性が良好であることを示す。
【０１３２】
《耐亀裂成長性（定歪）》
ＪＩＳ３号試験片中心部に０．５ｍｍの亀裂を入れ、室温で０〜１００％の一定歪みで繰り返し疲労を与え、サンプルが切断するまでの回数を測定した。比較例１を１００として、それぞれを指数表示した。指数値が大きい程、耐亀裂成長性が良好であることを示す。なお、表中＞２００は比較例１に対し２倍の回数の繰り返し疲労を与えても、サンプル
の切断が起こらなかったことを示す。
【０１３３】
《耐オゾン性》
ＪＩＳ  Ｋ  ６２５９に従って、耐オゾン性を測定した。短冊状試験片を３０％の動的伸長を与えながら、４０℃、オゾン濃度５０ｐｐｈｍ条件で暴露し、２４時間後の試料の状況（亀裂の有無）を目視で判断した。結果を表３に示す。
【０１３４】
【表３】
0005917810.tif 000014