(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直の第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、
前記基板が前記有機層蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、
前記パターニングスリットシートは、互いに離隔して配される第１整列マーク及び第２整列マークを持ち、
前記基板は、互いに離隔して配される第１整列パターン及び第２整列パターンを含み、
前記有機層蒸着装置は、前記第１整列マーク及び前記第１整列パターンを撮影する第１カメラアセンブリーと、前記第２整列マーク及び前記第２整列パターンを撮影する第２カメラアセンブリーと、をさらに備え、
前記カメラアセンブリーに対して前記整列パターンが相対移動する際に、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列パターンの複数の映像が同一であり、前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列パターンの複数の映像が同一であるように、前記基板の移動速度と前記第１カメラアセンブリー及び前記第２カメラアセンブリーの撮影速度とを同期化することを特徴とする、有機層蒸着装置。
【請求項２】
前記第１整列パターンが、前記第１方向に配列された複数の第１マークで形成され、
前記第２整列パターンが、前記第１方向に配列された複数の第２マークで形成され、
前記第１整列パターンと前記第２整列パターンとが、前記第２方向に離隔したことを特徴とする、請求項１に記載の有機層蒸着装置。
【請求項３】
前記第１マークと前記第２マークとが、形態及び大きさが相等しいことを特徴とする、請求項２に記載の有機層蒸着装置。
【請求項４】
前記第１マーク間の間隔と前記第２マーク間の間隔とが、相等しいことを特徴とする、請求項２に記載の有機層蒸着装置。
【請求項５】
前記第１マークまたは前記第２マークが、多角形になっていることを特徴とする、請求項２に記載の有機層蒸着装置。
【請求項６】
前記基板が等速度で前記第１方向に沿って移動し、前記第１カメラアセンブリーと前記第２カメラアセンブリーのそれぞれが、一定の時間間隔で前記第１整列パターン及び前記第２整列パターンを撮影し、前記第１カメラアセンブリーが、同数の前記第１整列パターンが含まれた映像を撮影し、前記第２カメラアセンブリーが、同数の前記第２整列パターンが含まれた映像を撮影することを特徴とする、請求項１に記載の有機層蒸着装置。
【請求項７】
前記第１カメラアセンブリーと前記第２カメラアセンブリーのそれぞれが、前記第１整列マーク及び前記第２整列マークに対応するように、前記基板の上方位置に配されることを特徴とする、請求項１に記載の有機層蒸着装置。
【請求項８】
前記第１カメラアセンブリー及び前記第２カメラアセンブリーにより撮影された情報を用いて、前記基板と前記パターニングスリットシートとの整列程度を判別する制御部をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の有機層蒸着装置。
【請求項９】
前記制御部が、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列パターンと前記第１整列マークとの間の第１間隔、及び前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列パターンと前記第２整列マークとの間の第２間隔を比較して、前記パターニングスリットシートと前記基板との、前記第２方向への整列を判別することを特徴とする、請求項８に記載の有機層蒸着装置。
【請求項１０】
前記制御部が、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列マークと、前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列マークとを比較して、前記第１方向に対して前記パターニングスリットシートが傾いたかどうかを判別することを特徴とする、請求項８に記載の有機層蒸着装置。
【請求項１１】
前記制御部が、撮影された前記第１整列マークと撮影された前記第２整列マークとの前記第１方向における位置差を判別し、撮影された前記第１整列マークを基準として撮影された前記第２整列マークが先立っている場合、前記第１方向を基準として前記第１整列マーク方向に傾いたと判別し、撮影された前記第１整列マークを基準として撮影された前記第２整列マークが後にある場合、前記第１方向を基準として撮影された前記第２整列マーク方向に傾いたと判別することを特徴とする、請求項１０に記載の有機層蒸着装置。
【請求項１２】
前記制御部が、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列パターンと、前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列パターンとを比較して、前記第１方向に対して前記基板が傾いたかどうかを判別することを特徴とする、請求項８に記載の有機層蒸着装置。
【請求項１３】
前記制御部が、撮影された前記第１整列パターンと撮影された前記第２整列パターンとの前記第１方向における位置差を判別し、撮影された前記第１整列パターンを基準として撮影された前記第２整列パターンが先立っている場合、前記第１方向を基準として前記第１整列パターン方向に傾いたと判別し、撮影された前記第１整列パターンを基準として撮影された前記第２整列パターンが後にある場合、前記第１方向を基準として撮影された前記第２整列パターン方向に傾いたと判別することを特徴とする、請求項１２に記載の有機層蒸着装置。
【請求項１４】
前記制御部により判別された前記整列程度によって、前記基板または前記パターニングスリットシートを移動させて、前記基板と前記パターニングスリットシートとを整列させることを特徴とする、請求項８に記載の有機層蒸着装置。
【請求項１５】
前記パターニングスリットシートが、前記第１整列マークから前記第１方向に沿って離隔して配された第３整列マークと、前記第２整列マークから前記第１方向に沿って離隔して配された第４整列マークと、をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の有機層蒸着装置。
【請求項１６】
前記第１整列マークと前記第３整列マークとの間隔が、前記第２整列マークと前記第４整列マークとの間隔と同一であることを特徴とする、請求項１５に記載の有機層蒸着装置。
【請求項１７】
前記第１整列マークと前記第２整列マークとが、前記第２方向に互いに離隔しており、前記第３整列マークと前記第４整列マークとが、前記第２方向に互いに離隔していることを特徴とする、請求項１５に記載の有機層蒸着装置。
【請求項１８】
前記第１整列マークと前記第２整列マークとの間隔が、前記第３整列マークと前記第４整列マークとの間隔と同一であることを特徴とする、請求項１７に記載の有機層蒸着装置。
【請求項１９】
第３カメラアセンブリー及び第４カメラアセンブリーを備え、前記第３カメラアセンブリー及び前記第４カメラアセンブリーのそれぞれが、前記第３整列マーク及び前記第４整列マークに対応するように前記基板の上方位置に配されることを特徴とする、請求項１５に記載の有機層蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、有機層蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置のうち、有機発光表示装置は、視野角が広くてコントラストに優れるだけでなく、応答速度が速いという長所があって、次世代ディスプレイ装置として注目されている。
【０００３】
有機発光表示装置は、互いに対向する第１電極と第２電極との間に発光層及びこれを含む中間層を備える。この時、前記電極及び中間層は、いろいろな方法で形成されるが、そのうち一つが独立蒸着方式である。蒸着方法を用いて有機発光表示装置を製作するためには、有機層などが形成される基板面に、形成される有機層などのパターンと同じパターンを持つファインメタルマスク（ｆｉｎｅ  ｍｅｔａｌ  ｍａｓｋ：ＦＭＭ）を密着させ、有機層などの材料を蒸着して所定パターンの有機層を形成する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の一側面は、従来のＦＭＭを用いた蒸着方法の限界を乗り越えるためのものとして、大型基板の量産工程にさらに適しており、蒸着工程中に基板と有機層蒸着装置との精密な整列の可能な有機層蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一実施形態による有機層蒸着装置は、基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直の第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、前記基板が前記有機層蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記パターニングスリットシートは、互いに離隔して配される第１整列マーク及び第２整列マークを持ち、前記基板は、互いに離隔して配される第１整列パターン及び第２整列パターンを含み、前記有機層蒸着装置は、前記第１整列マーク及び前記第１整列パターンを撮影する第１カメラアセンブリーと、前記第２整列マーク及び前記第２整列パターンを撮影する第２カメラアセンブリーと、をさらに備え、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列パターンの映像が同一であり、前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列パターンの映像が同一であるように、前記基板の移動速度と前記第１カメラアセンブリー及び前記第２カメラアセンブリーの撮影速度とを同期化する。
【０００６】
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートが、一体に形成される。
【０００７】
前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとが、前記蒸着物質の移動経路をガイドする連結部材により結合されて一体に形成される。
【０００８】
前記連結部材が、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成される。
【０００９】
前記複数の蒸着源ノズルが、所定角度だけチルトされるように形成される。
【００１０】
前記複数の蒸着源ノズルが、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを備え、前記２列の蒸着源ノズルが、互いに対向する方向にチルトされている。
【００１１】
前記複数の蒸着源ノズルが、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを備え、前記２列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルが、前記パターニングスリットシートの第２側端部に向かうように配され、前記２列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルが、前記パターニングスリットシートの第１側端部に向かうように配される。
【００１２】
前記第１整列パターンが、前記第１方向に配列された複数の第１マークで形成され、前記第２整列パターンが、前記第１方向に配列された複数の第２マークで形成され、前記第１整列パターンと前記第２整列パターンとが、前記第２方向に離隔している。
【００１３】
前記第１マークと前記第２マークとが、形態及び大きさが相等しい。
【００１４】
前記第１マーク間の間隔と前記第２マーク間の間隔とが、相等しい。
【００１５】
前記第１マーク及び前記第２マークが、十字状になっている。
【００１６】
前記第１マークまたは前記第２マークが、多角形になっている。
【００１７】
前記第１マークまたは前記第２マークが、三角形になっている。
【００１８】
前記第１整列パターン及び前記第２整列パターンが、のこぎり歯状になっている。
【００１９】
前記基板は等速度で前記第１方向に沿って移動し、前記第１カメラアセンブリーと前記第２カメラアセンブリーのそれぞれが、一定の時間間隔で前記第１整列パターン及び前記第２整列パターンを撮影し、前記第１カメラアセンブリーが、同数の前記第１整列パターンが含まれた映像を撮影し、前記第２カメラアセンブリーが、同数の前記第２整列パターンが含まれた映像を撮影する。
【００２０】
前記第１カメラアセンブリーと前記第２カメラアセンブリーのそれぞれが、前記第１整列マーク及び前記第２整列マークに対応するように前記基板上に配される。
【００２１】
前記第１カメラアセンブリー及び前記第２カメラアセンブリーにより撮影された情報を用いて、前記基板と前記パターニングスリットシートとの整列程度を判別する制御部をさらに備える。
【００２２】
前記制御部が、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列パターンと前記第１整列マークとの間の第１間隔、及び前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列パターンと前記第２整列マークとの間の第２間隔を比較して、前記パターニングスリットシートと前記基板との、前記第２方向への整列を判別する。
【００２３】
前記制御部が、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列マークと、前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列マークとを比較して、前記第１方向に対して前記パターニングスリットシートが傾いたかどうかを判別する。
【００２４】
前記制御部が、撮影された前記第１整列マークと撮影された前記第２整列マークとの前記第１方向における位置差を判別し、撮影された前記第１整列マークを基準として撮影された前記第２整列マークが先立っている場合、前記第１方向を基準として前記第１整列マーク方向に傾いたと判別し、撮影された前記第１整列マークを基準として撮影された前記第２整列マークが後にある場合、前記第１方向を基準として撮影された前記第２整列マーク方向に傾いたと判別する。
【００２５】
前記制御部が、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列パターンと、前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列パターンとを比較して、前記第１方向に対して前記基板が傾いたかどうかを判別する。
【００２６】
前記制御部が、撮影された前記第１整列パターンと撮影された前記第２整列パターンとの前記第１方向における位置差を判別し、撮影された前記第１整列パターンを基準として撮影された前記第２整列パターンが先立っている場合、前記第１方向を基準として前記第１整列パターン方向に傾いたと判別し、撮影された前記第１整列パターンを基準として撮影された前記第２整列パターンが後にある場合、前記第１方向を基準として撮影された前記第２整列パターン方向に傾いたと判別する。
【００２７】
前記制御部により判別された前記整列程度によって、前記基板または前記パターニングスリットシートを移動させて、前記基板と前記パターニングスリットシートとを整列させる。
【００２８】
前記パターニングスリットシートが、前記第１整列マークから前記第１方向に沿って離隔して配された第３整列マークと、前記第２整列マークから前記第１方向に沿って離隔して配された第４整列マークと、をさらに備える。
【００２９】
前記第１整列マークと前記第３整列マークとの間隔が、前記第２整列マークと前記第４整列マークとの間隔と同一である。
【００３０】
前記第１整列マークと前記第２整列マークとが、前記第２方向に互いに離隔しており、前記第３整列マークと前記第４整列マークとが、前記第２方向に互いに離隔している。
【００３１】
前記第１整列マークと前記第２整列マークとの間隔が、前記第３整列マークと前記第４整列マークとの間隔と同一である。
【００３２】
前記有機層蒸着装置は、第３カメラアセンブリー及び第４カメラアセンブリーを備え、前記第３カメラアセンブリー及び前記第４カメラアセンブリーのそれぞれが、前記第３整列マーク及び前記第４整列マークに対応するように前記基板上に配される。
【００３３】
本発明の他の実施形態による有機層蒸着装置は、基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが配されるパターニングスリットシートと、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に前記第１方向に沿って配されて、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリーと、を備え、前記有機層蒸着装置が、前記基板と離隔して配され、前記有機層蒸着装置と前記基板とが互いに相対的に移動し、前記基板が、互いに離隔して配される第１整列パターン及び第２整列パターンを含み、前記有機層蒸着装置が、前記第１整列マーク及び前記第１整列パターンを撮影する第１カメラアセンブリーと、前記第２整列マーク及び前記第２整列パターンを撮影する第２カメラアセンブリーと、をさらに備え、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列パターンの映像が同一であり、前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列パターンの映像が同一であるように、前記基板の移動速度と前記第１カメラアセンブリー及び前記第２カメラアセンブリーの撮影速度とを同期化する。
【００３４】
前記複数の遮断板のそれぞれが、前記第１方向に対して垂直の第２方向に沿って延びるように形成される。
【００３５】
前記遮断板アセンブリーが、複数の第１遮断板を備える第１遮断板アセンブリーと、複数の第２遮断板を備える第２遮断板アセンブリーと、を備える。
【００３６】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板のそれぞれが、前記第１方向に対して垂直の第２方向に沿って延びるように形成される。
【００３７】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板のそれぞれが、互いに対応するように配される。
【００３８】
前記第１整列パターンが、前記第１方向に配列された複数の第１マークで形成され、前記第２整列パターンが、前記第１方向に配列された複数の第２マークで形成され、前記第１整列パターン及び前記第２整列パターンが、前記第１方向に対して垂直の第２方向に離隔している。
【００３９】
前記第１マークと前記第２マークとが、形態及び大きさが相等しい。
【００４０】
前記第１マーク間の間隔と前記第２マーク間の間隔とが、相等しい。
【００４１】
前記第１マーク及び前記第２マークが、十字状になっている。
【００４２】
前記第１マークまたは前記第２マークが、多角形になっている。
【００４３】
前記基板が等速度で前記第１方向に沿って移動し、前記第１カメラアセンブリーと前記第２カメラアセンブリーのそれぞれが、一定の時間間隔で前記第１整列パターン及び前記第２整列パターンを撮影し、前記第１カメラアセンブリーが、同数の前記第１整列パターンが含まれた映像を撮影し、前記第２カメラアセンブリーが、同数の前記第２整列パターンが含まれた映像を撮影する。
【００４４】
前記第１カメラアセンブリーと前記第２カメラアセンブリーのそれぞれが、前記第１整列マーク及び前記第２整列マークに対応するように前記基板上に配される。
【００４５】
前記第１カメラアセンブリー及び前記第２カメラアセンブリーにより撮影された情報を用いて、前記基板と前記パターニングスリットシートとの整列程度を判別する制御部をさらに備える。
【００４６】
前記制御部が、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列パターンと前記第１整列マークとの間の第１間隔、及び前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列パターンと前記第２整列マークとの間の第２間隔を比較して、前記パターニングスリットシートと前記基板との、前記第１方向に垂直の第２方向への整列を判別する。
【００４７】
前記制御部が、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列マークと、前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列マークとを比較して、前記第１方向に対して前記パターニングスリットシートが傾いたかどうかを判別する。
【００４８】
前記制御部が、撮影された前記第１整列マークと撮影された前記第２整列マークとの前記第１方向における位置差を判別し、撮影された前記第１整列マークを基準として撮影された前記第２整列マークが先立っている場合、前記第１方向を基準として前記第１整列マーク方向に傾いたと判別し、撮影された前記第１整列マークを基準として撮影された前記第２整列マークが後にある場合、前記第１方向を基準として撮影された前記第２整列マーク方向に傾いたと判別する。
【００４９】
前記制御部が、前記第１カメラアセンブリーにより撮影された前記第１整列パターンと、前記第２カメラアセンブリーにより撮影された前記第２整列パターンとを比較して、前記第１方向に対して前記基板が傾いたかどうかを判別する。
【００５０】
前記制御部が、撮影された前記第１整列パターンと撮影された前記第２整列パターンとの前記第１方向における位置差を判別し、撮影された前記第１整列パターンを基準として撮影された前記第２整列パターンが先立っている場合、前記第１方向を基準として前記第１整列パターン方向に傾いたと判別し、撮影された前記第１整列パターンを基準として撮影された前記第２整列パターンが後にある場合、前記第１方向を基準として撮影された前記第２整列パターン方向に傾いたと判別する。
【００５１】
前記制御部により判別された前記整列程度によって、前記基板または前記パターニングスリットシートを移動させて、前記基板と前記パターニングスリットシートとを整列させる。
【００５２】
前記パターニングスリットシートが、前記第１整列マークから前記第１方向に沿って離隔して配された第３整列マークと、前記第２整列マークから前記第１方向に沿って離隔して配された第４整列マークと、をさらに備える。
【００５３】
前記有機層蒸着装置は、第３カメラアセンブリー及び第４カメラアセンブリーを備え、前記第３カメラアセンブリーと前記第４カメラアセンブリーのそれぞれが、前記第３整列マーク及び前記第４整列マークに対応するように前記基板上に配される。
【発明の効果】
【００５４】
本発明の有機層蒸着装置によれば、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用され、歩留まり及び蒸着効率が向上し、蒸着物質のリサイクルが容易であり、蒸着工程で基板と有機層蒸着装置との精密な整列が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置を備える有機層蒸着システム構成図である。
【図２】図１の変形例を示すシステム構成図である。
【図３】本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置を概略的に示す斜視図である。
【図４】図３の有機層蒸着装置の概略的な側断面図である。
【図５】図３の有機層蒸着装置の概略的な平面図である。
【図６】基板とパターニングスリットシートとの配列を示す平面図である。
【図７】基板と、本発明の他の変形例によるパターニングスリットシートとの配列を示す平面図である。
【図８】カメラアセンブリーにより撮影された整列パターンの映像を示す図面である。
【図９】基板及びパターニングスリットシートが第１方向に沿って整列された場合の整列パターンと整列マークとの配列を示す図面である。
【図１０】基板がＸ軸に移動した場合の整列パターンと整列マークとの配列を示す図面である。
【図１１】パターニングスリットシートがθ方向に回った場合の整列パターンと整列マークとの配列を示す図面である。
【図１２】基板がθ方向に回った場合の整列パターンと整列マークの配列を示す図面である。
【図１３】本発明の他の実施形態に関する有機層蒸着装置を概略的に示す斜視図である。
【図１４】本発明のさらに他の実施形態に関する有機層蒸着装置を概略的に示す斜視図である。
【図１５】本発明のさらに他の実施形態に関する有機層蒸着装置を概略的に示す斜視図である。
【図１６】本発明のさらに他の実施形態に関する有機層蒸着装置を概略的に示す斜視図である。
【図１７】図１６の有機層蒸着装置の概略的な側断面図である。
【図１８】図１６の有機層蒸着装置の概略的な平面図である。
【図１９】本発明のさらに他の実施形態に関する有機層蒸着装置を概略的に示す斜視図である。
【図２０】本発明による有機層蒸着装置で製造できる有機発光表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５６】
以下、添付した図面に示した本発明の実施形態を参照して本発明を詳細に説明する。図面における要素の形状及び大きさはさらに明確な説明のために誇張され、図面上の同じ符号で表示される要素は同じ要素である。
【００５７】
従来のファインメタルマスク（ｆｉｎｅ  ｍｅｔａｌ  ｍａｓｋ：ＦＭＭ）を利用する方法は、第５世代（１１００ｍｍ×１３００ｍｍ）以上のマザーガラスを使用する大面積化には適していないという限界がある。すなわち、大面積マスクを使用すれば、自重によりマスクの反り現象が発生するが、この反り現象によるパターンの歪曲が発生する恐れがあるためである。これは、パターンの高精細を求める現傾向と背馳している。
【００５８】
図１は、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置を備える有機層蒸着システム構成図であり、図２は、図１の変形例を示すものである。
【００５９】
図１を参照すれば、本発明の一実施形態による有機層蒸着システムは、ローディング部７１０、蒸着部７３０、アンローディング部７２０、第１循環部６１０及び第２循環部６２０を備える。
【００６０】
ローディング部７１０は、第１ラック７１２と、導入ロボット７１４と、導入室７１６と、第１反転室７１８と、を備える。
【００６１】
第１ラック７１２には、蒸着される前の基板５００が複数積載されており、導入ロボット７１４は、前記第１ラック７１２から基板５００を取って第２循環部６２０から移送されてきた静電チャック６００に基板５００を載せた後、基板５００が付着された静電チャック６００を導入室７１６に移す。
【００６２】
導入室７１６に隣接して第１反転室７１８が備えられ、第１反転室７１８に位置する第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させて、静電チャック６００を蒸着部７３０の第１循環部６１０に装着する。
【００６３】
図１でみれば、導入ロボット７１４は、静電チャック６００の上面に基板５００を載せ、この状態で静電チャック６００は導入室７１６に移送され、第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させることで、蒸着部７３０では基板５００が下方に向かうように位置する。
【００６４】
アンローディング部７２０の構成は、前述したローディング部７１０の構成と逆に構成される。すなわち、蒸着部７３０を経た基板５００及び静電チャック６００を、第２反転室７２８で第２反転ロボット７２９が反転させて搬出室７２６に移送し、搬出ロボット７２４が搬出室７２６から基板５００及び静電チャック６００を取り出した後、基板５００を静電チャック６００から分離して第２ラック７２２に積載する。基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０を通じてローディング部７１０に回送される。
【００６５】
しかし、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではなく、基板５００が静電チャック６００に最初に固定される時から静電チャック６００の下面に基板５００を固定させ、そのまま蒸着部７３０に移送させてもよい。この場合、例えば、第１反転室７１８及び第１反転ロボット７１９と、第２反転室７２８及び第２反転ロボット７２９と、は不要になる。
【００６６】
蒸着部７３０は、少なくとも一つの蒸着用チャンバを備える。図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は第１チャンバ７３１を備え、この第１チャンバ７３１内に複数の有機層蒸着装置１００、２００、３００、４００が配される。図１に示した本発明の望ましい一実施形態によれば、前記第１チャンバ７３１内に第１有機層蒸着装置１００、第２有機層蒸着装置２００、第３有機層蒸着装置３００及び第４有機層蒸着装置４００の４つの有機層蒸着装置が設けられているが、その数は、蒸着物質及び蒸着条件によって可変になる。前記第１チャンバ７３１は、蒸着が進められる間、真空に保持される。
【００６７】
また、図２による本発明の他の一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は、互いに連係する第１チャンバ７３１及び第２チャンバ７３２を備え、第１チャンバ７３１には第１、第２有機層蒸着装置１００、２００が、第２チャンバ７３２には第３、第４有機層蒸着装置３００、４００が配される。この時、チャンバの数が追加されうるということはいうまでもない。
【００６８】
一方、図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記基板５００が固定された静電チャック６００は、第１循環部６１０により少なくとも蒸着部７３０に、望ましくは、前記ローディング部７１０、蒸着部７３０及びアンローディング部７２０に順次移動し、前記アンローディング部７２０で基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０により前記ローディング部７１０に戻される。
【００６９】
図３は、本発明の有機層蒸着装置の一実施形態を概略的に示す斜視図であり、図４は、図３の有機層蒸着装置の概略的な側面図であり、図５は、図３の有機層蒸着装置の概略的な平面図である。
【００７０】
図３ないし図５を参照すれば、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、パターニングスリットシート１５０、第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２及び制御部１７０を備える。
【００７１】
詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過させて基板５００に所望のパターンで蒸着させるためには、基本的に第１チャンバ７３１の内部は、ＦＭＭ蒸着方法と同じ高真空状態を保持せねばならない。また、パターニングスリットシート１５０の温度が蒸着源１１０の温度より十分に低くなければ（約１００℃以下）ならない。なぜなら、パターニングスリットシート１５０の温度が十分に低くて初めて、温度によるパターニングスリットシート１５０の熱膨張問題を最小化できるためである。
【００７２】
かかる第１チャンバ７３１内には、被蒸着体である基板５００が配される。前記基板５００は平板表示装置用基板になりうるが、複数の平板表示装置を形成できるマザーガラスなどの大面積基板が適用される。
【００７３】
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が有機層蒸着装置１００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進められることを一特徴とする。
【００７４】
詳細には、既存のＦＭＭ蒸着方法では、ＦＭＭの大きさが基板の大きさと同一に形成されねばならない。したがって、基板の大きさが増大するほどＦＭＭも大型化せねばならず、このためＦＭＭ製作が容易でなく、ＦＭＭを引っ張って精密なパターンに整列するのも容易でないという問題点があった。
【００７５】
これらの問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置１００は、有機層蒸着装置１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着されることを一特徴とする。言い換えれば、有機層蒸着装置１００と対向するように配された基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着を行う。すなわち、基板５００が、図６の矢印Ｐ方向（第１方向）に移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われる。
【００７６】
本発明の有機層蒸着装置１００では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を作る。すなわち、本発明の有機層蒸着装置１００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板５００の長さより非常に小さく形成される。このように、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を作ることができるため、本発明のパターニングスリットシート１５０はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート１５０のエッチング作業や、それ以後の精密引っ張り及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小型のパターニングスリットシート１５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。
【００７７】
一方、チャンバ内で前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納されて加熱される蒸着源１１０が配される。前記蒸着源１１０内に収納されている蒸着物質１１５の気化によって基板５００に蒸着される。
【００７８】
詳細には、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が満たされる坩堝１１２と、坩堝１１２を加熱させて坩堝１１２の内部に満たされた蒸着物質１１５を坩堝１１２の一側、詳細には、蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるための冷却ブロック１１１と、を備える。冷却ブロック１１１は、坩堝１１２からの熱が外部、すなわち、第１チャンバの内部に発散されることを最大限抑制するためのものであり、この冷却ブロック１１１には、坩堝１１２を加熱させるヒータ（図示せず）が備えられている。
【００７９】
蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０から基板５００に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｙ軸方向、すなわち、基板５００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル１２１は等間隔で形成される。蒸着源１１０内で気化した蒸着物質１１５は、かかる蒸着源ノズル部１２０を通過して被蒸着体である基板５００側に向かう。このように、蒸着源ノズル部１２０上にＹ軸方向、すなわち、基板５００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１が形成される場合、パターニングスリットシート１５０のそれぞれのパターニングスリット１５１を通過する蒸着物質により形成されるパターンの大きさは、蒸着源ノズル１２１の一つの大きさのみに影響されるので（すなわち、Ｘ軸方向には蒸着源ノズル１２１が一つのみ存在するので）、陰影が発生しなくなる。また、複数の蒸着源ノズル１２１がスキャン方向に存在するので、個別の蒸着源ノズル間のフラックス差が発生しても、その差が相殺されて蒸着均一度が一定に保持される効果を得ることができる。
【００８０】
一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニングスリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備えられる。フレーム１５５は窓枠の形態で形成され、その内側にパターニングスリットシート１５０が結合される。そして、パターニングスリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット１５１が形成される。蒸着源１１０内で気化した蒸着物質１１５は、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過して被蒸着体である基板５００側に向かう。この時、前記パターニングスリットシート１５０は、従来のＦＭＭ、特に、ストライプタイプのマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングで製作される。この時、蒸着源ノズル１２１の総数よりパターニングスリット１５１の総数がさらに多く形成される。
【００８１】
一方、前述した蒸着源１１０（及び、これと結合された蒸着源ノズル部１２０）とパターニングスリットシート１５０とは、互いに一定間隔だけ離隔して形成され、蒸着源１１０（及び、これと結合された蒸着源ノズル部１２０）とパターニングスリットシート１５０とは、第１連結部材１３５によって互いに連結される。すなわち、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０が第１連結部材１３５により連結されて、互いに一体に形成されうる。ここで、第１連結部材１３５は、蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質が分散されないように蒸着物質の移動経路をガイドできる。図面には、第１連結部材１３５が蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０の左右方向のみに形成されて、蒸着物質のＸ軸方向のみをガイドすると図示されているが、これは図示の便宜のためのものであり、本発明の思想はこれに制限されず、第１連結部材１３５がボックス状の密閉型に形成されて、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向の移動を同時にガイドしてもよい。
【００８２】
前述したように、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置１００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように、有機層蒸着装置１００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート１５０は、基板５００から一定間隔だけ離隔して形成される。
【００８３】
詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影が生じないようにするために基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点があった。また、マスクを基板に対して移動させることができないため、マスクが基板と同じ大きさに形成される。したがって、ディスプレイ装置が大型化するにつれてマスクの大きさも大きくならねばならないが、これらの大型マスクの形成が容易でないという問題点があった。
【００８４】
これらの問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置１００では、パターニングスリットシート１５０が被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔して配されるようにする。
【００８５】
このような本発明によってマスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着を行えるようになることで、マスク製作が容易になる効果を得る。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果を得る。また、工程で基板とマスクとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果を得る。
【００８６】
本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置１００は、基板５００とパターニングスリットシート１５０との整列のために、第１及び第２整列パターン５０２、５０３、第１及び第２整列マーク１５２、１５３、第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２、及び制御部１７０を備える。
【００８７】
第１及び第２整列パターン５０２、５０３は、基板５００の移送方向Ｐに沿って基板５００上に形成される。第１及び第２整列パターン５０２、５０３は、互いに離隔して基板５００の両端部に形成される。第１整列パターン５０２は、基板５００の移送方向Ｐに沿って配列された複数の第１マーク５０２ａで形成され、第２整列パターン５０３は、前記移送方向Ｐに沿って配列された複数の第２マーク５０３ａで形成される。第１及び第２マーク５０２ａ、５０３ａは、十字状であってもよい。第１マーク５０２ａ間の間隔は一定であり、第２マーク５０３ａ間の間隔も一定である。また、第１マーク５０２ａ間の間隔と第２マーク５０３ａ間の間隔とは同一である。
【００８８】
第１及び第２整列マーク１５２、１５３は、パターニングスリットシート１５０の両端部に形成される。第１及び第２整列マーク１５２、１５３は、前記移送方向Ｐに垂直の方向（第２方向）に互いに離隔して形成される。第１及び第２整列マーク１５２、１５３は円形であってもよい。本発明はこれに限定されるものではなく、第１及び第２整列マーク１５２、１５３は多角形でありうる。例えば、第１及び第２整列マーク１５２、１５３が直角三角形である場合、斜辺がパターニングスリット１５１に向かうように形成される。
【００８９】
基板５００とパターニングスリットシート１５０とが正しく整列された場合、第１及び第２整列マーク１５２、１５３は、第１整列パターン５０２と第２整列パターン５０３との間に位置する。これについては、後述する。
【００９０】
第１カメラアセンブリー１６１は、第１整列マーク１５２に対応するように基板５００上に配され、第２カメラアセンブリー１６２は、第２整列マーク１５３に対応するように基板５００上に配される。第１カメラアセンブリー１６１は、基板５００上で、第１整列パターン５０２と第１整列マーク１５２とを撮影し、第２カメラアセンブリー１６２は、基板５００上で、第２整列パターン５０３と第２整列マーク１５３とを撮影する。基板５００は透明であるため、第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２が、基板５００を通じて第１及び第２整列マーク１５２、１５３を撮影することができる。第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２が配列された方向は、前記移送方向Ｐに垂直の方向（第２方向）である。
【００９１】
制御部１７０は、第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２により撮影された情報を分析して、基板５００とパターニングスリットシート１５０との整列程度を判別し、前記整列程度によって、基板５００またはパターニングスリットシート１５０を移動させる駆動部（図示せず）を制御できる。
【００９２】
図６ないし図１２を参照して、基板５００とパターニングスリットシート１５０との間の整列を説明する。
【００９３】
図６は、第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２から眺めた、基板５００とパターニングスリットシート１５０との平面図である。
【００９４】
図６を参照すれば、基板５００はＹ軸方向へ移送される。第１及び第２整列パターン５０２、５０３は、基板５００の移送方向であるＹ方向と平行に形成され、第１整列パターン５０２と第２整列パターン５０３とは、Ｙ方向に垂直の方向（第２方向）に互いに離隔して基板５００の両端部に配される。
【００９５】
パターニングスリットシート１５０上に形成された第１及び第２整列マーク１５２、１５３は、前記第２方向に互いに離隔しており、第１整列パターン５０２と第２整列パターン５０３との間に配される。
【００９６】
図７は、本発明の他の変形例による基板とパターニングスリットシートとの配列を示す平面図である。図７を参照すれば、基板５００’は、三角形の第１及び第２整列パターン６０２、６０３を持つ。第１及び第２整列パターン６０２、６０３は、直角三角形の整列マークが連続的に配列されてのこぎり歯状をなす。本発明はこれに限定されるものではなく、第１及び第２整列パターン６０２、６０３は、多角形の整列マークが連続的に配列された形態を持ってもよい。
【００９７】
図８は、カメラアセンブリーにより撮影された整列パターンの映像である。図８を参照すれば、左図は、第１カメラアセンブリー１６１が撮影した第１整列パターン５０２の映像であり、右図は、第２カメラアセンブリー１６２が撮影した第２整列パターン５０３の映像である。第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２の撮影速度と基板５００の移動速度とは同期化され、これにより、第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２は同じ映像の第１及び第２整列パターン５０２、５０３を撮影できる。さらに詳細には、第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２それぞれは、一定の時間間隔で移動する基板５００を撮影できる。第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２の撮影時間中に一定の速度で基板５００が移動するので、第１及び第２カメラアセンブリー１６１、１６２は、図８に示したように、同じ映像の第１及び第２整列パターン５０２、５０３を撮影できる。
【００９８】
図９は、基板５００とパターニングスリットシート１５０とが正しく整列された状態の第１及び第２整列パターン５０２、５０３と、第１及び第２整列マーク１５２、１５３とを図示する。
【００９９】
図９を参照すれば、第１カメラアセンブリー１６１は第１整列マーク１５２上に配され、第２カメラアセンブリー１６２は第２整列マーク１５３上に配され、第１カメラアセンブリー１６１は、第１整列パターン５０２及び第１整列マーク１５２を、図９の左図のように撮影し、第２カメラアセンブリー１６２は、第２整列パターン５０３及び第２整列マーク１５３を、図９の右図のように撮影する。基板５００とパターニングスリットシート１５０とが正しく整列された状態の場合、第１整列パターン５０２と第１整列マーク１５２との間隔Ａと、第２整列パターン５０３と第２整列マーク１５３との間隔Ａ’とが同一である。
【０１００】
図１０は、基板がＸ軸に移動した場合の整列パターンと整列マークとの配列を示す。
【０１０１】
図１０を参照すれば、基板５００がＸ軸方向に移動した場合、第１整列パターン５０２と第１整列マーク１５２との間隔Ｂが、第２整列パターン５０３と第２整列マーク１５３との間隔Ｂ’より狭くなる。
【０１０２】
基板５００がＸ軸方向に移動した場合、制御部１７０は、基板５００をＸ軸方向に（Ｂ’−Ｂ）／２の距離だけ移動させるように駆動部（図示せず）を制御する。
【０１０３】
図１１は、パターニングスリットシートがθ方向に回った場合の整列パターンと整列マークとの配列を示す。パターニングスリットシート１５０がθ方向に回った場合には、パターニングスリットシート１５０が、Ｚ軸を中心として反時計回り方向（θ方向）または時計回り方向（−θ方向）に移動した場合を意味する。
【０１０４】
図１１を参照すれば、パターニングスリットシート１５０がθ方向（反時計回り方向）に回った場合、第２カメラアセンブリー１６２により撮影された第２整列マーク１５３は、第１カメラアセンブリー１６１により撮影された第１整列マーク１５２に比べてＹ軸方向に先立つようになる。すなわち、第１整列マーク１５２を基準とすれば、第２整列マーク１５３のＹ軸座標は、第１整列マーク１５２のＹ軸座標よりｈ１だけ大きくなる。パターニングスリットシート１５０が回った角度は、第１整列マーク１５２と第２整列マーク１５３との距離Ｄ１、そして第１整列マーク１５２と第２整列マーク１５３とのＹ軸座標での差ｈ１で求める。詳細には、パターニングスリットシート１５０が回った角度θ１は、Ａｒｃｔａｎ（ｈ１／Ｄ１）に該当する。このような場合、制御部１７０は、パターニングスリットシート１５０を−θ方向（時計回り方向）にＡｒｃｔａｎ（ｈ１／Ｄ１）の角度だけ移動させるように、駆動部（図示せず）を制御する。
【０１０５】
図１２は、基板がθ方向に回った場合の整列パターンと整列マークとの配列を示す。基板５００がθ方向に回った場合は、基板５００がＺ軸を中心として反時計回り方向（θ方向）または時計回り方向（−θ方向）に移動した場合を意味する。
【０１０６】
図１２を参照すれば、基板５００がθ方向（反時計回り方向）に回った場合、第２カメラアセンブリー１６２により撮影された第２整列パターン５０３は、第１カメラアセンブリー１６１により撮影された第１整列パターン５０２に比べてＹ軸方向に先立つ。すなわち、第１整列パターン５０２を基準とすれば、第２整列パターン５０３のＹ軸座標は、第１整列パターン５０２のＹ軸座標よりｈ２だけ大きくなる。基板５００の回った角度は、第１整列パターン５０２と第２整列パターン５０３との距離Ｄ２、そして第１整列パターン５０２と第２整列パターン５０３とのＹ軸座標での差ｈ２で求める。詳細には、基板５００が回った角度θ２は、Ａｒｃｔａｎ（ｈ２／Ｄ２）に該当する。このような場合、制御部１７０は、基板５００を−θ方向（時計回り方向）にＡｒｃｔａｎ（ｈ２／Ｄ２）の角度だけ移動させるように駆動部（図示せず）を制御する。
【０１０７】
このように、本発明の一実施形態による有機層蒸着装置１００は、基板５００が移送方向の垂直な方向（第２方向）に移動した場合だけでなく、移送方向（第１方向）に対して回った場合にも、基板５００とパターニングスリットシート１５０との整列を制御できる。
【０１０８】
図１３は、本発明の他の実施形態に関する有機層蒸着装置を概略的に示す斜視図である。図１３を参照すれば、本発明の他の実施形態に関する有機層蒸着装置１００ａは、第３整列マーク１５２’、第４整列マーク１５３’、第３カメラアセンブリー１６１’、及び第４カメラアセンブリー１６２’をさらに備えるという点で、図３に示した有機層蒸着装置１００と差がある。
【０１０９】
詳細には、図１３に示した有機層蒸着装置１００ａのパターニングスリットシート１５０’は、第３整列マーク１５２’と第４整列マーク１５３’とをさらに備える。第３整列マーク１５２’は、第１整列マーク１５２から第１方向（Ｙ軸方向）に沿って離隔して配され、第４整列マーク１５３’は、第２整列マーク１５３から第１方向（Ｙ軸方向）に沿って離隔して配される。第１整列マーク１５２と第３整列マーク１５２’との間隔は、第２整列マーク１５３と第４整列マーク１５３’との間隔と同一である。また、第１整列マーク１５２と第２整列マーク１５３とは、第２方向（Ｘ軸方向）に互いに離隔しており、第３整列マーク１５２’と第４整列マーク１５３’も第２方向（Ｘ軸方向）に互いに離隔している。第１整列マーク１５２と第２整列マーク１５３との間隔は、第３整列マーク１５２’と第４整列マーク１５３’との間隔と同一である。
【０１１０】
図１３に示した有機層蒸着装置１００ａは、第３カメラアセンブリー１６１’と第４カメラアセンブリー１６２’とをさらに備える。第１ないし第４カメラアセンブリー１６１、１６２、１６１’、１６２’それぞれは、第１ないし第４整列マーク１５２、１５３、１５２’、１５３’に対応するように基板５００上に配される。第３カメラアセンブリー１６１’及び第４カメラアセンブリー１６２’の撮影速度は、基板５００の移動速度と同期化される。したがって、第３カメラアセンブリー１６１’により撮影される映像は、同じ形態及び大きさを持つ第１整列パターン５０２を持ち、第４カメラアセンブリー１６２’により撮影される映像は、同じ形態及び大きさを持つ第２整列パターン５０３を持つ。
【０１１１】
図１４は、本発明の有機層蒸着装置の他の実施形態を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の他の実施形態による有機層蒸着装置は、蒸着源１１０’、蒸着源ノズル部１２０、及びパターニングスリットシート１５０を備える。ここで、蒸着源１１０’は、その内部に蒸着物質１１５が満たされる坩堝１１２と、坩堝１１２を加熱させて坩堝１１２の内部に満たされた蒸着物質１１５を蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるための冷却ブロック１１１とを備える。一方、蒸着源１１０’の一側には蒸着源ノズル部１２０が配され、蒸着源ノズル部１２０には、Ｙ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１’が形成される。一方、蒸着源１１０’と基板５００との間にはパターニングスリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備えられ、パターニングスリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット１５１ａが形成される。そして、蒸着源１１０’及び蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０とは、第１連結部材１３５によって結合される。
【０１１２】
本実施形態では、蒸着源ノズル部１２０に形成された複数の蒸着源ノズル１２１’が所定角度だけチルトされて配されるという点で、図３に示した有機層蒸着装置と区別される。詳細には、蒸着源ノズル１２１’は、２列の蒸着源ノズル１２１’ａ、１２１’ｂで形成され、前記２列の蒸着源ノズル１２１’ａ、１２１’ｂは、互いに交互に配される。この時、蒸着源ノズル１２１’ａ、１２１’ｂは、ＸＺ平面上で所定角度だけ傾くようにチルトされて形成される。
【０１１３】
本実施形態では、蒸着源ノズル１２１’ａ、１２１’ｂが所定角度だけチルトされて配されるようにする。ここで、第１列の蒸着源ノズル１２１’ａは、第２列の蒸着源ノズル１２１’ｂに向かうようにチルトされ、第２列の蒸着源ノズル１２１’ｂは、第１列の蒸着源ノズル１２１’ａに向かうようにチルトされる。言い換えれば、左側列に配された蒸着源ノズル１２１’ａは、パターニングスリットシート１５０の右側端部に向かうように配され、右側列に配された蒸着源ノズル１２１’ｂは、パターニングスリットシート１５０の左側端部に向かうように配される。
【０１１４】
かかる構成によって、基板の中央と終端部分との成膜厚さの差が低減して、全体的な蒸着物質の厚さが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには、材料利用効率が高くなる効果を得る。
【０１１５】
図１５は、本発明の有機層蒸着装置のさらに他の実施形態を示す図面である。図面を参照すれば、本発明のさらに他の実施形態による有機層蒸着装置は、図４ないし図６で説明した有機層蒸着装置が複数備えられることを一特徴とする。言い換えれば、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置は、赤色発光層Ｒの材料、緑色発光層Ｇの材料、青色発光層Ｂの材料が一回に放射されるマルチ蒸着源を備えることができる。
【０１１６】
詳細には、本実施形態は、第１有機層蒸着装置１００、第２有機層蒸着装置２００及び第３有機層蒸着装置３００を備える。これらの第１有機層蒸着装置１００、第２有機層蒸着装置２００及び第３有機層蒸着装置３００のそれぞれの構成は、図３ないし図５で説明した有機層蒸着装置と同一であるので、ここではその詳細な説明は省略する。
【０１１７】
ここで、第１有機層蒸着装置１００、第２有機層蒸着装置２００及び第３有機層蒸着装置３００の蒸着源には、相異なる蒸着物質が備えられる。例えば、第１有機層蒸着装置１００には赤色発光層Ｒの材料になる蒸着物質が備えられ、第２有機層蒸着装置２００には緑色発光層Ｇの材料になる蒸着物質が備えられ、第３有機層蒸着装置３００には青色発光層Ｂの材料になる蒸着物質が備えられる。
【０１１８】
すなわち、従来の有機発光ディスプレイ装置の製造方法では、各色相別に異なるチャンバ及びマスクを備えることが一般的であったが、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置を用いれば、一つのマルチソースで赤色発光層Ｒ、緑色発光層Ｇ及び青色発光層Ｂを一回に蒸着できる。したがって、有機発光ディスプレイ装置の生産時間が画期的に短縮されると同時に、備えられるべきチャンバ数が低減することで、顕著なコストダウン効果を得ることができる。
【０１１９】
この場合、図面には詳細に図示されていないが、第１有機層蒸着装置１００、第２有機層蒸着装置２００及び第３有機層蒸着装置３００のパターニングスリットシートは、互いに一定程度オフセットされて配されることで、その蒸着領域が重畳しないようにする。言い換えれば、第１有機層蒸着装置１００が赤色発光層Ｒの蒸着を担当し、第２有機層蒸着装置２００が緑色発光層Ｇの蒸着を担当し、第３有機層蒸着装置３００が青色発光層Ｂの蒸着を担当する場合、第１有機層蒸着装置１００のパターニングスリットと、第２有機層蒸着装置２００のパターニングスリットと、第３有機層蒸着装置３００のパターニングスリットとが互いに同一線上に位置しないように配されることで、基板上の相異なる領域にそれぞれ赤色発光層Ｒ、緑色発光層Ｇ及び青色発光層Ｂを形成させることができる。
【０１２０】
ここで、赤色発光層Ｒの材料になる蒸着物質と、緑色発光層Ｇの材料になる蒸着物質と、青色発光層Ｂの材料になる蒸着物質とは、互いに気化する温度が異なるので、前記第１有機層蒸着装置１００の蒸着源１１０の温度と、前記第２有機層蒸着装置２００の蒸着源の温度と、前記第３有機層蒸着装置３００の蒸着源の温度とが互いに異なって設定されてもよい。
【０１２１】
一方、図面には有機層蒸着装置が３つ備えられると図示されているが、本発明の思想はこれらに限定されるものではない。すなわち、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置は、有機層蒸着装置を複数備え、前記複数の有機層蒸着装置それぞれに相異なる物質を備える。例えば、有機層蒸着装置を５つ備え、それぞれの有機層蒸着装置に赤色発光層Ｒ、緑色発光層Ｇ、青色発光層Ｂ及び赤色発光層の補助層Ｒ’と緑色発光層の補助層Ｇ’とを備える。
【０１２２】
このように、複数の有機層蒸着装置を備えて複数の有機層を一回に形成できるようにすることで、歩留まり及び蒸着効率が向上する効果を得る。また、製造工程が簡単になってコストダウンの効果を得る。
【０１２３】
図１６は、本発明の有機層蒸着装置のさらに他の実施形態を概略的に示す斜視図であり、図１７は、図１６の有機層蒸着装置の概略的な側断面図であり、図１８は、図１６の有機層蒸着装置の概略的な平面図である。
【０１２４】
図１６ないし図１８を参照すれば、本発明のさらに他の実施形態に関する有機層蒸着装置１００”は、蒸着源１１０”、蒸着源ノズル部１２０”、遮断板アセンブリー１３０及びパターニングスリット１５１ａを備える。
【０１２５】
ここで、図１６ないし図１８には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１６ないし図１８のあらゆる構成は、適宜な真空度が保持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【０１２６】
これらのチャンバ内には、被蒸着体である基板５００が静電チャック６００により移送される。前記基板５００は平板表示装置用基板になりうるが、複数の平板表示装置を形成できるマザーガラスなどの大面積基板が適用される。
【０１２７】
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が有機層蒸着装置１００”に対して相対的に移動するが、望ましくは、有機層蒸着装置１００”に対して基板５００をＰ方向に移動させることができる。
【０１２８】
前述した第１実施形態のように、本発明の有機層蒸着装置１００”では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を作ることができる。すなわち、本発明の有機層蒸着装置１００”の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向への幅と基板５００のＸ軸方向への幅のみ実質的に同一に形成されれば、パターニングスリットシート１５０のＹ軸方向の長さは、基板５００の長さより非常に小さく形成されてもよい。もちろん、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向への幅が基板５００のＸ軸方向への幅より小さく形成されても、基板５００と有機層蒸着装置１００”との相対的移動によるスキャニング方式で、十分に基板５００全体に対して蒸着可能になる。
【０１２９】
このように、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を作ることができるため、本発明のパターニングスリットシート１５０はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引っ張り及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小さな大きさのパターニングスリットシート１５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これはディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。
【０１３０】
一方、チャンバ内で前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０”が配される。
【０１３１】
前記蒸着源１１０”は、その内部に蒸着物質１１５が満たされる坩堝１１２と、この坩堝１１２を取り囲む冷却ブロック１１１とが備えられる。冷却ブロック１１１は、坩堝１１２からの熱が外部、すなわち、チャンバの内部に発散されることを最大限抑えるためのものであり、この冷却ブロック１１１には、坩堝１１２を加熱させるヒータ（図示せず）が備えられている。
【０１３２】
蒸着源１１０”の一側、詳細には、蒸着源１１０”から基板５００に向かう側には蒸着源ノズル部１２０”が配される。そして蒸着源ノズル部１２０”には、Ｘ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１”が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル１２１”は、等間隔で形成される。蒸着源１１０”内で気化した蒸着物質１１５は、これらの蒸着源ノズル部１２０”の蒸着源ノズル１２１”を通過して被蒸着体である基板５００側に向かう。
【０１３３】
蒸着源ノズル部１２０”の一側には遮断板アセンブリー１３０が備えられる。前記遮断板アセンブリー１３０は、複数の遮断板１３１と、遮断板１３１の外側に備えられる遮断板フレーム１３２と、を備える。前記複数の遮断板１３１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に配される。ここで、前記複数の遮断板１３１は等間隔で形成される。また、それぞれの遮断板１３１は、図面で見た時にＹＺ平面に沿って延びており、望ましくは、長方形に備えられる。このように配された複数の遮断板１３１は、蒸着源ノズル部１２０”とパターニングスリット１５１との間の空間を、複数の蒸着空間Ｓに区切る。すなわち、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置１００”は、前記遮断板１３１によって、図１７に示したように、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１”別に蒸着空間Ｓが分離される。
【０１３４】
ここで、それぞれの遮断板１３１は、互いに隣接している蒸着源ノズル１２１”の間に配される。これは、言い換えれば、互いに隣接している遮断板１３１の間に一つの蒸着源ノズル１２１”が配される。望ましくは、蒸着源ノズル１２１”は、互いに隣接している遮断板１３１の中央に位置できる。しかし、本発明は必ずしもこれに限定されず、互いに隣接している遮断板１３１の間に複数の蒸着源ノズル１２１”が配置してもよい。ただし、この場合にも、複数の蒸着源ノズル１２１”を互いに隣接している遮断板１３１の中央に位置させることが望ましい。
【０１３５】
このように、遮断板１３１が、蒸着源ノズル部１２０”とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切ることで、一つの蒸着源ノズル１２１”から排出される蒸着物質は、他の蒸着源ノズル１２１”から排出された蒸着物質と混合されず、パターニングスリット１５１を通過して基板５００に蒸着される。すなわち、前記遮断板１３１は、各蒸着源ノズル１２１”を通じて排出される蒸着物質が分散されずに直進性を保持するように、蒸着物質のＺ軸方向への移動経路をガイドする役割を行う。
【０１３６】
このように、遮断板１３１を備えて蒸着物質の直進性を確保することで、基板に形成される陰影の大きさを大幅に低減させることができ、したがって、有機層蒸着装置１００”と基板５００とを一定間隔だけ離隔させることができる。これについては、後述する。
【０１３７】
一方、前記複数の遮断板１３１の他側には遮断板フレーム１３２がさらに備えられる。遮断板フレーム１３２は、複数の遮断板１３１の側面にそれぞれ備えられて複数の遮断板１３１の位置を固定させると同時に、蒸着源ノズル１２１”を通じて排出される蒸着物質がＹ軸方向に分散しないように、蒸着物質のＹ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【０１３８】
前記蒸着源ノズル部１２０”と遮断板アセンブリー１３０とは、一定間隔だけ離隔したことが望ましい。これにより、蒸着源１１０”から発散される熱が遮断板アセンブリー１３０に伝導されることを防止できる。しかし、本発明の思想はこれに限定されるものではない。すなわち、蒸着源ノズル部１２０”と遮断板アセンブリー１３０との間に適切な断熱手段が備えられる場合、蒸着源ノズル部１２０”と遮断板アセンブリー１３０とが結合して接触することもある。
【０１３９】
一方、前記遮断板アセンブリー１３０は、有機層蒸着装置１００”から着脱自在に形成される。本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置１００”では、遮断板アセンブリー１３０を用いて蒸着空間を外部空間と分離したので、基板５００に蒸着されていない蒸着物質は、ほとんどが遮断板アセンブリー１３０内に蒸着される。したがって、遮断板アセンブリー１３０を有機層蒸着装置１００”から着脱自在に形成して、長時間蒸着後に遮断板アセンブリー１３０に蒸着物質が多く溜まれば、遮断板アセンブリー１３０を有機層蒸着装置１００”から分離して、別途の蒸着物質リサイクル装置に入れて蒸着物質を回収できる。この構成を通じて、蒸着物質リサイクル率を高めることで蒸着効率が向上してコストダウンできる効果を得る。
【０１４０】
一方、蒸着源１１０”と基板５００との間には、パターニングスリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備えられる。前記フレーム１５５は窓枠状に形成され、その内側にパターニングスリットシート１５０が結合する。そして、パターニングスリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット１５１が形成される。各パターニングスリット１５１はＹ軸方向に沿って延びている。蒸着源１１０内で気化して蒸着源ノズル１２１”を通過した蒸着物質１１５は、パターニングスリット１５１を通過して被蒸着体である基板５００側に向かう。
【０１４１】
前記パターニングスリットシート１５０は金属薄板で形成され、引っ張られた状態でフレーム１５５に固定される。前記パターニングスリット１５１は、ストライプタイプで、パターニングスリットシート１５０にエッチングで形成される。
【０１４２】
ここで、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置１００”は、蒸着源ノズル１２１”の総数よりパターニングスリット１５１の総数がさらに多く形成される。また、互いに隣接している２枚の遮断板１３１の間に配された蒸着源ノズル１２１”の数よりパターニングスリット１５１の数がさらに多く形成される。前記パターニングスリット１５１の数は、基板５００に形成される蒸着パターンの数に対応させることが望ましい。
【０１４３】
一方、前述した遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とは、互いに一定間隔だけ離隔して形成され、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とは、別途の第２連結部材１３３によって互いに連結される。詳細には、高温状態の蒸着源１１０”により遮断板アセンブリー１３０の温度は最大１００℃以上上昇するため、上昇した遮断板アセンブリー１３０の温度がパターニングスリットシート１５０に伝導されないように、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とを一定間隔だけ離隔させる。
【０１４４】
前述したように、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置１００”は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように有機層蒸着装置１００”が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート１５０は、基板５００から一定間隔だけ離隔して形成される。そして、パターニングスリットシート１５０と基板５００とを離隔させる場合に発生する陰影問題を解決するために、蒸着源ノズル部１２０”とパターニングスリットシート１５０との間に遮断板１３１を備えて蒸着物質の直進性を確保することで、基板に形成される陰影の大きさを大幅に低減させた。
【０１４５】
従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影が生じないようにするために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触により基板に既に形成されていたパターンにスクラッチが生じるなどの不良問題が発生するという問題点があった。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じ大きさに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置の大型化につれてマスクの大きさも大きくならねばならないが、これらの大型マスクの形成が容易でないという問題点があった。
【０１４６】
これらの問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置１００”では、パターニングスリットシート１５０を被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔して配する。これは、遮断板１３１を備えて、基板５００に生成される陰影が小さくなることで実現可能になる。
【０１４７】
このような本発明によってパターニングスリットシートを基板より小さく形成した後、このパターニングスリットシートを基板に対して相対移動させることで、従来のＦＭＭ方法のように大きいマスクを製作する必要がなくなる。また、基板とパターニングスリットシートとの間が離隔しているため、相互接触による不良を防止する効果を得る。また、工程で基板とパターニングスリットシートとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果を得る。
【０１４８】
図１９は、本発明の有機層蒸着装置のさらに他の実施形態を概略的に示す斜視図である。
【０１４９】
図１９に示した実施形態に関する有機層蒸着装置１００’’’は、蒸着源１１０”、蒸着源ノズル部１２０”、第１遮断板アセンブリー１３０、第２遮断板アセンブリー１４０及びパターニングスリットシート１５０を備える。
【０１５０】
ここで、図１９には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１９のあらゆる構成は、適当な真空度が保持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【０１５１】
かかるチャンバ（図示せず）内には被蒸着体である基板５００が配される。そして、チャンバ（図示せず）内で基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０”が配される。
【０１５２】
蒸着源１１０”及びパターニングスリットシート１５０の詳細な構成は、前述した図１６による実施形態と同一であるので、詳細な説明を省略する。そして、前記第一遮断板アセンブリー１３０は、図１６による実施形態の遮断板アセンブリーと同一であるので、やはり詳細な説明は省略する。
【０１５３】
本実施形態では、第１遮断板アセンブリー１３０の一側に第２遮断板アセンブリー１４０が備えられる。前記第２遮断板アセンブリー１４０は、複数の第２遮断板１４１と、第２遮断板１４１の外側に備えられる第２遮断板フレーム１４２と、を備える。
【０１５４】
前記複数の第２遮断板１４１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に備えられる。そして、前記複数の第２遮断板１４１は等間隔で形成される。また、それぞれの第２遮断板１４１は、図面で見た時にＹＺ平面と平行に、言い換えれば、Ｘ軸方向に垂直になるように形成される。
【０１５５】
このように配された複数の第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１は、蒸着源ノズル部１２０”とパターニングスリットシート１５０との間の空間を区切る役割を行う。すなわち、前記第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１”別に蒸着空間が分離されることを一特徴とする。
【０１５６】
ここで、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１と一対一に対応するように配される。言い換えれば、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１と整列されて互いに平行に配される。すなわち、互いに対応する第１遮断板１３１と第２遮断板１４１とは、相等しい平面上に位置する。図面には、第１遮断板１３１の長さと第２遮断板１４１のＸ軸方向の幅とが同一であると図示されているが、本発明の思想はこれに限定されるものではない。すなわち、パターニングスリット１５１との精密な整列が要求される第２遮断板１４１は相対的に薄く形成される一方、精密な整列が要求されない第１遮断板１３１は相対的に厚く形成されて、その製造を容易にすることもできるといえる。
【０１５７】
以上説明したような有機層蒸着装置１００’’’は、図１に示したように、チャンバ内に複数が連続して配されてもよい。この場合、各有機層蒸着装置１００、２００、３００、４００は相異なる蒸着物質を蒸着させることができ、この時、各有機層蒸着装置１００、２００、３００、４００のパターニングスリットのパターンを相異なるパターンにして、例えば、赤色、緑色、青色の画素を一括蒸着するなどの成膜工程を進めることができる。
【０１５８】
図２０は、本発明の蒸着装置を用いて製造されたアクティブマトリックス型有機発光表示装置の断面を示すものである。
【０１５９】
図２０を参照すれば、前記アクティブマトリックス型の有機発光表示装置は、基板３０上に形成される。前記基板３０は、透明な素材、例えば、ガラス材、プラスチック材、または金属材で形成される。前記基板３０上には、全体的にバッファ層などの絶縁膜３１が形成されている。
【０１６０】
前記絶縁膜３１上には、図２０に示したようなＴＦＴ４０と、キャパシタ５０と、有機発光素子６０とが形成される。
【０１６１】
前記絶縁膜３１の上面には、所定パターンに配列された半導体活性層４１が形成されている。前記半導体活性層４１は、ゲート絶縁膜３２によって埋め込まれている。前記活性層４１は、ｐ型またはｎ型の半導体で形成されている。
【０１６２】
前記ゲート絶縁膜３２の上面には、キャパシタ５０の第１キャパシタ電極５１と、前記活性層４１と対応する位置にＴＦＴ４０のゲート電極４２とが形成される。そして、前記第１キャパシタ電極５１とゲート電極４２とを覆うように層間絶縁膜３３が形成される。前記層間絶縁膜３３が形成された後には、ドライエッチングなどのエッチング工程によって、前記ゲート絶縁膜３２と層間絶縁膜３３とをエッチングしてコンタクトホールを形成させて、前記活性層４１の一部を露出させる。
【０１６３】
次いで、前記層間絶縁膜３３上に、第２キャパシタ電極５２とソース／ドレイン電極４３とが形成される。前記ソース／ドレイン電極４３は、コンタクトホールを通じて露出された活性層４１に接触するように形成される。前記第２キャパシタ電極５２とソース／ドレイン電極４３とを覆うように保護膜３４が形成され、エッチング工程を通じて前記ドレイン電極４３の一部を露出させる。前記保護膜３４上には、保護膜３４の平坦化のために別途の絶縁膜をさらに形成してもよい。
【０１６４】
一方、前記有機発光素子６０は、電流が流れることによって赤色、緑色又は青色の光を発光して所定の画像情報を表示するためのものであり、前記保護膜３４上に第１電極６１を形成する。前記第１電極６１は、ＴＦＴ４０のドレイン電極４３と電気的に連結される。
【０１６５】
次いで、前記第１電極６１を覆うように画素定義膜３５が形成される。この画素定義膜３５に所定の開口６４を形成した後、この開口６４に限定された領域内に有機発光膜６３を形成する。有機発光膜６３上には第２電極６２を形成する。
【０１６６】
前記画素定義膜３５は各画素を区切るものであって、有機物で形成されて、第１電極６１が形成されている基板の表面、特に、保護膜３４の表面を平坦化する。
【０１６７】
前記第１電極６１と第２電極６２とは互いに絶縁されており、有機発光膜６３に相異なる極性の電圧を加えて発光が行われるようにする。
【０１６８】
前記有機発光膜６３は、低分子または高分子有機物が使われるが、低分子有機物を使用する場合ホール注入層（ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ）、ホール輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ）、発光層（ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ）などが単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様に適用できる。これら低分子有機物は、図１ないし図１９に示す有機層蒸着装置及び有機層蒸着システムを用いて、真空蒸着の方法で形成される。
【０１６９】
まず、画素定義膜３５に開口６４を形成した後、この基板３０を図１のようにチャンバ内へ移送する。そして、第１蒸着源及び第２蒸着源に目標有機物を収納した後、蒸着する。この時、ホストとドーパントとを同時に蒸着させる場合には、第１蒸着源と第２蒸着源とにそれぞれホスト物質とドーパント物質とを収納して蒸着させる。
【０１７０】
かかる有機発光膜を形成した後には、第２電極６２をやはり同じ蒸着工程で形成できる。
【０１７１】
一方、前記第１電極６１はアノード電極の機能を行い、前記第２電極６２はカソード電極の機能を行うが、もちろん、これら第１電極６１と第２電極６２との極性は逆になってもよい。そして、第１電極６１は、各画素の領域に対応するようにパターニングされ、第２電極６２はあらゆる画素を覆うように形成される。
【０１７２】
前記第１電極６１は、透明電極または反射型電極として備えられるが、透明電極として使われる時には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３からなり、反射型電極として使われる時には、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びこれらの化合物で反射層を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３で透明電極層を形成できる。かかる第１電極６１は、スパッタ方法などで成膜された後、フォトリソグラフィ法でパターニングされる。
【０１７３】
一方、前記第２電極６２も透明電極または反射型電極として備えられるが、透明電極として使われる時には、この第２電極６２がカソード電極として使われるので、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びこれらの化合物が有機発光膜６３に向かうように蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などで補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われる時には、前記のＬｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物を全面蒸着して形成する。この時、蒸着は前述した有機発光膜６３の場合と同じ方法で行える。
【０１７４】
本発明はこれ以外にも、有機ＴＦＴの有機層または無機膜などの蒸着にも使用でき、その他に多様な素材の成膜工程に適用できる。
【０１７５】
本発明は、図面に示した実施形態を参考にして説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
【産業上の利用可能性】
【０１７６】
本発明は、有機層蒸着装置関連の技術分野に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１７７】
３０  基板
３１  絶縁膜
３２  ゲート絶縁膜
３３  層間絶縁膜
３４  保護膜
３５  画素定義膜
４０  ＴＦＴ
５０  キャパシタ
６０  有機発光素子
６１  第１電極
６２  第２電極
６３  有機発光膜
６４  開口
１００、２００、３００、４００  有機層蒸着装置
５００  基板
６００  静電チャック
６１０  第１循環部
６２０  第２循環部
７１０  ローディング部
７１２  第１ラック
７１８  第１反転室
７１９  第１反転ロボット
７２２  第２ラック
７２６  搬出室
７２８  第２反転室
７２９  第２反転ロボット
７３０  蒸着部
７３１  第１チャンバ
７３２  第２チャンバ
【図１】
0005992741.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
0005992741.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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