(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の二次元平面内の第１方向に延び、前記第１方向、及び前記二次元平面内で前記第１方向に直交する第２方向に沿った位置を移動可能なガイド部材と、
前記ガイド部材上に設けられ、該ガイド部材に沿って前記第１方向に沿った位置を移動可能、かつ前記ガイド部材と共に前記第２方向に沿った位置を移動可能な移動体と、
前記第１方向に関して前記ガイド部材よりも長い寸法を有し、前記ガイド部材を支持した状態で前記ガイド部材及び前記移動体と共に前記第２方向に沿った位置を移動可能なベース部材と、を備え、
前記ガイド部材は、前記移動体の前記第１方向の位置に応じて前記第１方向に関する位置が位置決めされ移動体装置。
【請求項２】
前記ベース部材に対する前記ガイド部材の前記第１方向への相対移動を制限する制限装置を更に備える請求項１に記載の移動体装置。
【請求項３】
前記移動体は、前記ガイド部材に非接触支持される請求項１又は２に記載の移動体装置。
【請求項４】
前記ガイド部材は、前記移動体の自重を支持する支持装置を介して前記移動体を支持する請求項１〜３のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項５】
前記移動体及び前記支持装置を前記第１方向に沿って誘導する誘導装置を更に備え、
前記ガイド部材は、前記支持装置により前記第１方向に駆動される請求項４に記載の移動体装置。
【請求項６】
前記ガイド部材は、前記支持装置に押圧されることにより、前記支持装置と一体的に前記第１方向に沿った位置を移動する請求項５に記載の移動体装置。
【請求項７】
前記支持装置は、該支持装置の重心高さ位置で前記ガイド部材を押圧する請求項６に記載の移動体装置。
【請求項８】
前記移動体を前記第１方向に沿って誘導する誘導装置を更に備え、
前記ガイド部材は、前記誘導装置により前記第１方向に駆動される請求項１〜４のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項９】
前記ガイド部材は、前記誘導装置に押圧されることにより、前記誘導装置と一体的に前記第１方向に沿った位置を移動する請求項８に記載の移動体装置。
【請求項１０】
前記ガイド部材は、前記移動体により前記第１方向に駆動される請求項１〜４のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項１１】
前記ガイド部材は、前記移動体に押圧されることにより、前記移動体と一体的に前記第１方向に沿った位置を移動する請求項１０に記載の移動体装置。
【請求項１２】
前記移動体は、該移動体の重心高さ位置で前記ガイド部材を押圧する請求項１１に記載の移動体装置。
【請求項１３】
前記ガイド部材を前記移動体とは独立に前記第１方向に駆動するアクチュエータを更に備える請求項１〜４のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項１４】
前記移動体に所定の物体が保持される請求項１〜１３のいずれか一項に記載の移動体装置と、
前記移動体に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備え、
前記物体が前記エネルギビームに対して前記第１方向に沿って駆動されることにより該物体に前記所定のパターンが走査露光される露光装置。
【請求項１５】
前記走査露光時に前記ガイド部材が静止状態とされる請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記物体には、少なくとも前記第１方向に関して複数のパターン形成領域が設けられるとともに、該複数のパターン形成領域に対して前記走査露光が逐次行われ、
前記ガイド部材の前記第１方向に沿った寸法は、ひとつの前記パターン形成領域に前記走査露光を行う際における前記物体の移動距離に基づいて設定される請求項１４又は１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記移動体は、前記走査露光時に所定の一定速度で駆動され、
前記ガイド部材の前記第１方向に沿った寸法は、少なくとも前記移動体が前記一定速度で駆動される際の移動距離よりも長く設定される請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が５００ｍｍ以上である請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
請求項１８又は１９に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項２１】
請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２２】
所定の二次元平面内における第１方向に延びるガイド部材上であって、前記第１方向に関する一側の領域上に移動体を配置することと、
前記第１方向に関して前記ガイド部材よりも長い寸法を有するベース部材上であって、前記ガイド部材及び前記移動体を配置することと、
前記ガイド部材上で前記移動体を前記第１方向に関する他側に向けて移動させることと、
前記ガイド部材の前記他側の領域上に位置した前記移動体と前記ガイド部材とを前記他側に向けて一体的に所定距離移動させることと、
前記ガイド部材上で前記移動体を前記一側に向けて移動させることと、
前記ベース部材と前記ガイド部材と前記移動体とを前記第１方向に交差する前記第２方向に移動させることと、を含む移動体の駆動方法。
【請求項２３】
所定の二次元平面内における第１方向に延びるガイド部材上であって、前記第１方向に関する一側の領域上に移動体を配置することと、
前記第１方向に関して前記ガイド部材よりも長い寸法を有するベース部材上であって、前記ガイド部材及び前記移動体を配置することと、
前記ガイド部材上で前記移動体を前記第１方向に関する他側に向けて移動させることと、
前記ガイド部材の前記他側の領域上に位置した前記移動体と前記ガイド部材とを前記一側に向けて一体的に所定距離移動させることと、
前記ガイド部材上で前記移動体を前記一側に向けて移動させることと、
前記ベース部材と前記ガイド部材と前記移動体とを前記第１方向に交差する前記第２方向に移動させることと、を含む移動体の駆動方法。
【請求項２４】
請求項２２又は２３に記載の移動体の駆動方法を用いて前記移動体を前記第１方向に沿って駆動することと、
前記第１方向に移動する前記移動体に保持された物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを走査露光することと、を含む露光方法。
【請求項２５】
前記走査露光することでは、
前記移動体は、前記第１方向に所定の一定速度で駆動され、
前記ガイド部材は、少なくとも前記移動体が前記一定速度で移動する間、静止状態とされる請求項２４に記載の露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体の駆動方法並びに露光方法に係り、更に詳しくは、移動体を所定の二次元平面に沿って駆動する移動体装置、前記移動体装置を含む露光装置、前記露光装置を用いたフラットパネルディスプレイの製造方法、前記露光装置を用いたデバイス製造方法、及び移動体を所定の二次元平面に沿って駆動する方法並びに前記移動体の駆動方法を用いた露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示素子、半導体素子（集積回路等）等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下、「マスク」と総称する）と、ガラスプレート又はウエハ（以下、「基板」と総称する）とを所定の走査方向（スキャン方向）に沿って同期移動させつつ、マスクに形成されたパターンをエネルギビームを用いて基板上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置が用いられている。
【０００３】
この種の露光装置としては、基板を保持する微動ステージが重量キャンセル装置により下方から支持されるとともに、該重量キャンセル装置のクロススキャン方向への移動をガイドするガイド部材が、重量キャンセル装置と共にスキャン方向に移動可能な基板ステージ装置を有するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
ここで、近年の基板の大型化に伴い、基板ステージ装置は、大型化し、重量が増大する傾向にある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１０／０２６６９６１号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、所定の二次元平面内の第１方向に延び、前記第１方向、及び前記二次元平面内で前記第１方向に直交する第２方向に沿った位置を移動可能なガイド部材と、前記ガイド部材上に設けられ、該ガイド部材に沿って前記第１方向に沿った位置を移動可能、かつ前記ガイド部材と共に前記第２方向に沿った位置を移動可能な移動体と、前記第１方向に関して前記ガイド部材よりも長い寸法を有し、前記ガイド部材を支持した状態で前記ガイド部材及び前記移動体と共に前記第２方向に沿った位置を移動可能なベース部材と、を備え、前記ガイド部材は、前記移動体の前記第１方向の位置に応じて前記第１方向に関する位置が位置決めされ移動体装置である。
【０００７】
これによれば、移動体の第１方向に沿った位置に応じてガイド部材の第１方向に沿った位置が位置決めされるので、ガイド部材の第１方向に沿った寸法を、移動体の第１方向に関する移動可能距離よりも短く設定することができ、装置の小型化、軽量化を図ることができる。
【０００８】
本発明は、第２の観点からすると、前記移動体に所定の物体が保持される本発明の第１の観点にかかる移動体装置と、前記移動体に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備え、前記物体が前記エネルギビームに対して前記第１方向に沿って駆動されることにより該物体に前記所定のパターンが走査露光される露光装置である。
【０００９】
本発明は、第３の観点からすると、本発明の第２の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法である。
【００１０】
本発明は、第４の観点からすると、本発明の第２の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法である。
【００１１】
本発明は、第５の観点からすると、所定の二次元平面内における第１方向に延びるガイド部材上であって、前記第１方向に関する一側の領域上に移動体を配置することと、前記第１方向に関して前記ガイド部材よりも長い寸法を有するベース部材上であって、前記ガイド部材及び前記移動体を配置することと、前記ガイド部材上で前記移動体を前記第１方向に関する他側に向けて移動させることと、前記ガイド部材の前記他側の領域上に位置した前記移動体と前記ガイド部材とを前記他側に向けて一体的に所定距離移動させることと、前記ガイド部材上で前記移動体を前記一側に向けて移動させることと、前記ベース部材と前記ガイド部材と前記移動体とを前記第１方向に交差する前記第２方向に移動させることと、を含む移動体の駆動方法である。
【００１２】
本発明は、第６の観点からすると、所定の二次元平面内における第１方向に延びるガイド部材上であって、前記第１方向に関する一側の領域上に移動体を配置することと、前記第１方向に関して前記ガイド部材よりも長い寸法を有するベース部材上であって、前記ガイド部材及び前記移動体を配置することと、前記ガイド部材上で前記移動体を前記第１方向に関する他側に向けて移動させることと、前記ガイド部材の前記他側の領域上に位置した前記移動体と前記ガイド部材とを前記一側に向けて一体的に所定距離移動させることと、前記ガイド部材上で前記移動体を前記一側に向けて移動させることと、前記ベース部材と前記ガイド部材と前記移動体とを前記第１方向に交差する前記第２方向に移動させることと、を含む移動体の駆動方法である。
【００１３】
本発明は、第７の観点からすると、本発明の第５又は第６の観点にかかる移動体の駆動方法を用いて前記移動体を前記第１方向に沿って駆動することと、前記第１方向に移動する前記移動体に保持された物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを走査露光することと、を含む露光方法である。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】一実施形態に係る液晶露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の液晶露光装置が有する基板ステージ装置の平面図（一部省略）である。
【図３】図２の基板ステージ装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】図２の基板ステージ装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図５】図５（Ａ）及び図５（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１）である。
【図６】図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その２）である。
【図７】図７（Ａ）及び図７（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その３）である。
【図８】図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その４）である。
【図９】図９（Ａ）及び図９（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その５）である。
【図１０】図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その６）である。
【図１１】図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その７）である。
【図１２】図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その８）である。
【図１３】図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その９）である。
【図１４】図１４（Ａ）及び図１４（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１０）である。
【図１５】図１５（Ａ）及び図１５（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１１）である。
【図１６】図１６（Ａ）及び図１６（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１２）である。
【図１７】図１７（Ａ）及び図１７（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１３）である。
【図１８】図１８（Ａ）及び図１８（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１４）である。
【図１９】図１９（Ａ）及び図１９（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１５）である。
【図２０】図２０（Ａ）及び図２０（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１６）である。
【図２１】図２１（Ａ）及び図２１（Ｂ）は、基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１７）である。
【図２２】図２２（Ａ）及び図２２（Ｂ）は、第１の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１）である。
【図２３】図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）は、第１の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図（その２）である。
【図２４】図２４（Ａ）及び図２４（Ｂ）は、第１の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図（その３）である。
【図２５】図２５（Ａ）及び図２５（Ｂ）は、第１の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図（その４）である。
【図２６】図２６（Ａ）〜図２６（Ｄ）は、第２の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図である。
【図２７】図２７（Ａ）〜図２７（Ｄ）は、第３の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図である。
【図２８】第４の変形例に係る基板ステージ装置の断面図である。
【図２９】図２９（Ａ）及び図２９（Ｂ）は、第４の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図（その１）である。
【図３０】図３０（Ａ）及び図３０（Ｂ）は、第４の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図（その２）である。
【図３１】図３１（Ａ）及び図３１（Ｂ）は、第４の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図（その３）である。
【図３２】図３２（Ａ）及び図３２（Ｂ）は、第４の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図（その４）である。
【図３３】図３３（Ａ）及び図３３（Ｂ）は、第４の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図（その５）である。
【図３４】図３４（Ａ）及び図３４（Ｂ）は、第４の変形例に係る基板ステージ装置の動作を説明するための図（その６）である。
【図３５】図３５（Ａ）及び図３５（Ｂ）は、ステップガイド装置の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施形態について、図１〜図２１（Ｂ）に基づいて説明する。
【００１６】
図１には、一実施形態に係る液晶露光装置１０の構成が概略的に示されている。液晶露光装置１０は、例えば液晶表示装置（フラットパネルディスプレイ）などに用いられる矩形（角型）のガラス基板Ｐ（以下、単に基板Ｐと称する）を露光対象物とするステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。
【００１７】
液晶露光装置１０は、照明系１２、回路パターンなどが形成されたマスクＭを保持するマスクステージ１４、投影光学系１６、装置本体１８、表面（図１で＋Ｚ側を向いた面）にレジスト（感応剤）が塗布された基板Ｐを保持する基板ステージ装置２０、及びこれらの制御系等を有している。以下、露光時にマスクＭと基板Ｐとが投影光学系１６に対してそれぞれ相対走査される方向をＸ軸方向とし、水平面内でＸ軸に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１８】
照明系１２は、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。照明系１２は、露光用の照明光ＩＬをマスクＭに照射する。照明光ＩＬとしては、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）などの光（あるいは、上記ｉ線、ｇ線、ｈ線の合成光）が用いられる。
【００１９】
マスクステージ１４は、所定の回路パターンが形成されたマスクＭを、例えば真空吸着により保持している。マスクステージ１４は、例えばリニアモータを含むマスクステージ駆動系（不図示）により走査方向（Ｘ軸方向）に所定の長ストロークで駆動されるとともに、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に適宜微少駆動される。マスクステージ１４のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転量情報を含む）は、不図示のレーザ干渉計を含むマスク干渉計システムにより求められる。
【００２０】
投影光学系１６は、マスクステージ１４の下方に配置され、装置本体１８の一部である鏡筒定盤１８ａに支持されている。投影光学系１６は、例えば米国特許第６，５５２，７７５号明細書に開示された投影光学系と同様に構成されている。すなわち、投影光学系１６は、マスクＭのパターン像の投影領域が千鳥状に配置された複数の投影光学系（マルチレンズ投影光学系）を含み、Ｙ軸方向を長手方向とする長方形状の単一のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。本実施形態では、複数の投影光学系それぞれとしては、例えば両側テレセントリックな等倍系で正立正像を形成するものが用いられている。
【００２１】
このため、照明系１２からの照明光ＩＬによってマスクＭ上の照明領域が照明されると、マスクＭを通過した照明光により、投影光学系１６を介してその照明領域内のマスクＭの回路パターンの投影像（部分正立像）が、基板Ｐ上の照明領域に共役な照明光の照射領域（露光領域）に形成される。そして、マスクステージ１４と基板ステージ装置２０との同期駆動によって、照明領域（照明光ＩＬ）に対してマスクＭを走査方向に相対移動させるとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対して基板Ｐを走査方向に相対移動させることで、基板Ｐ上の１つのショット領域の走査露光が行われ、そのショット領域にマスクＭに形成されたパターンが転写される。すなわち、液晶露光装置１０では、照明系１２及び投影光学系１６によって基板Ｐ上にマスクＭのパターンが生成され、照明光ＩＬによる基板Ｐ上の感応層（レジスト層）の露光によって基板Ｐ上にそのパターンが形成される。
【００２２】
装置本体１８は、鏡筒定盤１８ａ、一対のサイドコラム１８ｂ、基板ステージ架台１８ｃを備えている。鏡筒定盤１８ａは、ＸＹ平面に平行な板状の部材から成り、上記マスクステージ１４、及び投影光学系１６を支持している。一対のサイドコラム１８ｂは、一方が鏡筒定盤１８ａの＋Ｙ側の端部近傍を、他方が鏡筒定盤１８ａの−Ｙ側の端部近傍をそれぞれ下方から支持している。
【００２３】
基板ステージ架台１８ｃは、ＸＹ平面に平行な板状の部材から成り、クリーンルームの床１１上に防振装置１８ｄを介して設置されている。上記一対のサイドコラム１８ｂは、基板ステージ架台１８ｃに下方から支持されている。これにより、装置本体１８（及びマスクステージ１４、投影光学系１６）が、床１１から振動的に分離される。図２に示されるように、基板ステージ架台１８ｃは、Ｘ軸方向に所定間隔で複数（本実施形態では、例えば２つ）配置されている。例えば２つの基板ステージ架台１８ｃそれぞれの上面には、Ｙ軸方向に延びるＹリニアガイド１９ａがＸ軸方向に所定間隔で複数本（例えば３本）固定されている。
【００２４】
基板ステージ装置２０は、複数（本実施形態では、例えば３つ）のベースフレーム２２、一対のＸビーム２４、粗動ステージ２８、微動ステージ３０（図２では不図示。図１参照）、重量キャンセル装置４０、及びステップガイド装置５０を有している。
【００２５】
例えば３つのベースフレーム２２は、それぞれＹ軸方向に延びるＹＺ平面に平行な板状の部材から成り、Ｘ軸方向に所定間隔で互いに平行に配置されている。なお、図面の錯綜を避ける観点から、図１及び図４ではベースフレーム２２の図示が省略されている。例えば３つのベースフレーム２２のうち、第１のベースフレーム２２は、＋Ｘ側の基板ステージ架台１８ｃの＋Ｘ側に、第２のベースフレーム２２は、−Ｘ側の基板ステージ架台１８ｃの−Ｘ側に、第３のベースフレーム２２は、例えば２つの基板ステージ架台１８ｃの間に、それぞれ基板ステージ架台１８ｃに対して所定のクリアランスを介した状態で床１１（図３参照）上に設置されている。複数のベースフレーム２２それぞれの上端面（＋Ｚ側の端部）には、Ｙ軸方向に延びるＹリニアガイド２３ａが固定されている。＋Ｘ側及び−Ｘ側のベースフレーム２２それぞれの両側面には、Ｙ軸方向に配列された複数の永久磁石を含むＸ固定子２１ａが固定されている。
【００２６】
一対のＸビーム２４は、それぞれＸ軸方向に延びるＹＺ断面矩形の部材から成り、Ｙ軸方向に所定間隔で互いに平行に配置されている。一対のＸビーム２４は、長手方向の両端部近傍、及び中央部それぞれがベースフレーム２２に下方から支持されている。一対のＸビーム２４は、図３に示されるように、その下面における長手方向の両端部近傍それぞれにおいて、Ｙキャリッジ２６と称されるＸＺ断面逆Ｕ字状の部材により互いに接続されており、Ｙキャリッジ２６の一対の対向面間には、対応するベースフレーム２２が挿入されている。また、Ｘビーム２４の下面における長手方向の中央部には、スペーサ２６ａが取り付けられている。Ｙキャリッジ２６の天井面、及びスペーサ２６ａの下面それぞれには、上記Ｙリニアガイド２３ａにスライド自在に係合するＹスライド部材２３ｂが固定されている。これにより、一対のＸビーム２４は、複数のベースフレーム２２上でＹ軸方向に直進案内される。
【００２７】
Ｙキャリッジ２６の一対の対向面には、コイルユニットを含むＸ可動子２１ｂが上記Ｘ固定子２１ａに対向して固定されている。一対のＸビーム２４は、上記Ｘ固定子２１ａとＸ可動子２１ｂとを含むＸリニアモータにより、複数のベースフレーム２２上で所定のストロークでＹ軸方向に駆動される。ここで、一対のＸビーム２４の下面のＺ位置は、上記基板ステージ架台１８ｃの上面に固定されたＹリニアガイド１９ａの上端部のＺ位置よりも＋Ｚ側に位置しており、一対のＸビーム２４は、基板ステージ架台１８ｃ（すなわち、装置本体１８）に対して振動的に分離されている。
【００２８】
Ｘビーム２４の上面には、図２に示されるように、Ｘ軸方向に延びるＸリニアガイド２５ａが一対固定されている。また、Ｘビーム２４の上面であって、上記一対のＸリニアガイド２５ａの間の領域には、Ｘ軸方向に配列された複数の永久磁石を含むＸ固定子２７ａが固定されている。
【００２９】
粗動ステージ２８は、平面視（＋Ｚ方向から見て）矩形の板状部材から成り（図１参照）、上記一対のＸビーム２４上に搭載されている。粗動ステージ２８の中央部には、図４に示されるように、開口部２８ａが形成されている。粗動ステージ２８の下面には、上記Ｘリニアガイド２５ａにスライド自在に係合し、該Ｘリニアガイド２５ａと共にＸリニアガイド装置２５を構成するＸスライド部材２５ｂが複数（ひとつのＸリニアガイド２５ａにつき、例えば４つ）固定されている。これにより、粗動ステージ２８は、一対のＸビーム２４上でＸ軸方向に直進案内される。
【００３０】
また、粗動ステージ２８の下面には、上記Ｘ固定子２７ａに対向してＸ可動子２７ｂが取り付けられている。Ｘ可動子２７ｂは、コイルユニットを有し、対応するＸ固定子２７ａとともに粗動ステージ２８を一対のＸビーム２４上でＸ軸方向に駆動するためのＸリニアモータ２７を構成している。また、粗動ステージ２８は、上記Ｘリニアガイド装置２５の作用により、一対のＸビーム２４に対するＹ軸方向への相対移動が制限されており、一対のＸビーム２４と一体的にＹ軸方向へ移動する。すなわち、一対のＸビーム２４と粗動ステージ２８とは、いわゆるガントリ式の２軸ステージ装置を構成している。
【００３１】
図１に戻り、微動ステージ３０は、高さの低い直方体状の部材から成り、粗動ステージ２８の上方に配置されている。微動ステージ３０の上面には、基板ホルダ３２が固定されている。基板ホルダ３２は、その上面に載置された基板Ｐを、例えば真空吸着により吸着保持する。微動ステージ３０の−Ｙ側の側面には、ミラーベース３３を介してＹ軸に直交する反射面を有するＹバーミラー３４ｙが固定されている。また、微動ステージ３０の−Ｘ側の側面には、図３に示されるように、ミラーベース３３を介してＸ軸に直交する反射面を有するＸバーミラー３４ｘが固定されている。
【００３２】
微動ステージ３０は、粗動ステージ２８に固定された固定子と、微動ステージ３０に固定された可動子とから成る複数のボイスコイルモータを含む微動ステージ駆動系により、粗動ステージ２８上で３自由度方向（Ｘ軸、Ｙ軸、θｚ方向）に微少駆動される。複数のボイスコイルモータには、複数（例えば２つ）のＸボイスコイルモータ３６ｘ（図１では不図示）、及び複数（例えば２つ）のＹボイスコイルモータ３６ｙ（図３では不図示。図１参照）が含まれる。なお、図３において、複数のＸボイスコイルモータ３６ｘは、紙面奥行き方向に重なっている。また、図１において、複数のＹボイスコイルモータ３６ｙは、紙面奥行き方向に重なっている。
【００３３】
微動ステージ３０は、上記複数のボイスコイルモータが発生する推力（電磁力）によって、粗動ステージ２８に非接触で誘導され、これにより、その粗動ステージ２８と共にＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に所定のストロークで移動する。また、微動ステージ３０は、複数のボイスコイルモータにより粗動ステージ２８に対して上記３自由度方向に適宜微少駆動される。
【００３４】
また、微動ステージ駆動系は、図１に示されるように、微動ステージ３０をθｘ、θｙ、及びＺ軸方向の３自由度方向に微少駆動するための複数のＺボイスコイルモータ３６ｚを有している。複数のＺボイスコイルモータ３６ｚは、例えば微動ステージ３０の四隅部に対応する箇所に配置されている（図１では、４つのＺボイスコイルモータ３６ｚのうち２つのみが示され、他の２つは紙面奥側に隠れている）。複数のボイスコイルモータを含み、微動ステージ駆動系の構成については、例えば米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書に開示されている。
【００３５】
微動ステージ３０のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転量情報も含む）は、図１に示されるように、装置本体１８に固定されたレーザ干渉計３８を含む基板干渉計システムにより、Ｙバーミラー３４ｙ、及びＸバーミラー３４ｘ（図１では不図示。図３参照）を用いて求められる。なお、基板干渉計システムは、微動ステージ３０のＸ位置情報を求めるためのＸレーザ干渉計、及び微動ステージ３０のＹ位置情報を求めるためのＹレーザ干渉計を備えているが、図１では代表的にＹレーザ干渉計のみが示されている。微動ステージ３０のＺ軸、θｘ、及びθｙ方向の位置（以下、Ｚ・チルト位置と称する）情報は、図４に示されるように、微動ステージ３０の下面に取り付けられた複数のＺセンサ３９により、重量キャンセル装置４０にアーム部材４８を介して取り付けられたターゲット４９を用いて求められる。
【００３６】
重量キャンセル装置４０は、後述するレベリング装置４６と称される装置を介して微動ステージ３０を下方から支持している。重量キャンセル装置４０は、粗動ステージ２８の開口部２８ａ内に挿入されており、ステップガイド装置５０に下方から支持されている。本実施形態の重量キャンセル装置４０は、例えば米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書に開示される重量キャンセル装置と同様の構成、及び機能を有している。すなわち、重量キャンセル装置４０は、筒状の筐体４１、筐体４１内に収容された空気ばね４２、空気ばね４２上に載置されたＺスライド部材４３を含み、空気ばね４２が発生する重力方向上向き（＋Ｚ方向）の力により、微動ステージ３０、基板ホルダ３２などを含む系の重量（重量加速度による下向き（−Ｚ方向）の力）を打ち消し、これにより、微動ステージのＺ・チルト位置制御が行われる際に上記複数のＺボイスコイルモータ３６ｚの負荷を低減する。
【００３７】
重量キャンセル装置４０の筐体４１の下面には、複数のエアベアリング４４が取り付けられている。重量キャンセル装置４０は、上記複数のエアベアリング４４からステップガイド装置５０に対して噴出される加圧気体（例えば空気）の静圧により、ステップガイド装置５０上に所定のクリアランスを介して浮上している。
【００３８】
重量キャンセル装置４０は、その重心のＺ位置とほぼ同じＺ位置（重心高さ）で、粗動ステージ２８に対して複数、例えば４つのフレクシャ装置４５と称される装置を介して機械的に接続されている。本実施形態のフレクシャ装置４５は、例えば米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書に開示されるフレクシャ装置と同様の構成、及び機能を有している。すなわち、フレクシャ装置４５は、例えばＸＹ平面に平行に配置された厚さの薄い帯状の鋼板（あるいはロープ、鎖）と、その鋼板の両端部に設けられた滑節装置（例えばボールジョイント、あるいはヒンジ装置）とを含み、上記鋼板が滑節装置を介して重量キャンセル装置４０と粗動ステージ２８との間に架設されている。
【００３９】
フレクシャ装置４５は、図２に示されるように、重量キャンセル装置４０の＋Ｘ側、−Ｘ側、＋Ｙ側、及び−Ｙ側で重量キャンセル装置４０と粗動ステージ２８とを連結している。これにより、粗動ステージ２８がＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に移動すると、重量キャンセル装置４０は、複数のフレクシャ装置４５の少なくともひとつを介して粗動ステージ２８に牽引されることにより、その粗動ステージ２８と一体的にＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に移動する。
【００４０】
重量キャンセル装置４０は、図４に示されるように、Ｚスライド部材４３の上端部に取り付けられたエアベアリング４７を用いてレベリング装置４６を非接触支持している。レベリング装置４６は、ベース４６ａと、ボール４６ｂとを含む球面軸受け装置であり、微動ステージ３０をθｘ及びθｙ方向に揺動（チルト動作）自在に下方から支持するとともに、微動ステージ３０と一体的にＸＹ平面に沿って移動する。これにより、微動ステージ３０と重量キャンセル装置４０とがＸＹ平面に沿って相対移動可能となっている。なお、レベリング装置として、例えば米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書に開示されるような疑似球面軸受け装置を用いても良い。
【００４１】
ステップガイド装置５０は、一対のＸビーム２４間に挿入され、重量キャンセル装置４０を下方から支持している。ステップガイド装置５０は、第１ステップガイド５２、及び第２ステップガイド５４を有している。
【００４２】
第１ステップガイド５２は、図２に示されるように、Ｘ軸方向に延びるＸＹ平面に平行な板状の部材から成る。第１ステップガイド５２の長手方向の寸法は、微動ステージ３０のＸ軸方向に関する移動ストロークよりも幾分長めに設定されている。第１ステップガイド５２の下面には、図４に示されるように、上記Ｙリニアガイド１９ａにスライド自在に係合するＹスライド部材１９ｂが複数（ひとつのＹリニアガイド１９ａにつき、例えば２つ）固定されている。これにより、第１ステップガイド５２は、複数のＹリニアガイド１９ａに沿ってＹ軸方向に直進案内される。
【００４３】
第１ステップガイド５２の上面には、図２に示されるように、Ｘ軸方向に延びる複数（例えば２本）のＸリニアガイド５３ａがＹ軸方向に所定間隔で互いに平行に固定されている。また、第１ステップガイド５２の上面における＋Ｘ側及び−Ｘ側の端部近傍それぞれには、ショックアブソーバを含むストッパ装置５６ａが取り付けられている。なお、図１では図面の錯綜を避ける観点からストッパ装置５６ａの図示が省略されている。
【００４４】
第１ステップガイド５２の＋Ｘの端部には、接続部材５２ａが固定されている。第１ステップガイド５２は、接続部材５２ａがフレクシャ装置５１を介して一対のＸビーム２４それぞれに接続されている。第１ステップガイド５２の−Ｘ側の端部にも、同様に接続部材５２ａが固定され、該接続部材５２ａを介して第１ステップガイド５２がフレクシャ装置５１により一対のＸビーム２４それぞれに接続されている。
【００４５】
フレクシャ装置５１の構成は、上記重量キャンセル装置４０と粗動ステージ２８とを接続するフレクシャ装置４５と概ね同じである。すなわち、フレクシャ装置５１は、Ｙ軸方向に延びるＸＹ平面に平行な厚さの薄い鋼板と、その鋼板の両端部に設けられた滑節装置（例えばボールジョイント、あるいはヒンジ装置）とを含み、上記鋼板が滑節装置を介して第１ステップガイド５２とＸビーム２４との間に架設されている。従って、第１ステップガイド５２とＸビーム２４とは、Ｙ軸方向に関しては一体的（高剛性）に接続されるのに対し、他の５自由度方向（Ｘ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ）に関しては、振動的に分離される。
【００４６】
第２ステップガイド５４は、Ｘ軸方向に延びるＸＹ平面に平行な板状の部材から成り、第１ステップガイド５２の上方に配置されている。第２ステップガイド５４の長手方向の寸法は、上記第１ステップガイド５２の長手方向寸法の半分程度に（本実施形態では、半分よりも幾分長く）設定されている。第２ステップガイド５４の幅方向（Ｙ軸方向）寸法は、重量キャンセル装置４０のフットプリントよりも幾分広幅に設定されており、第１ステップガイド５２よりも幾分広幅になっている。第２ステップガイド５４の上面は、ＸＹ平面（水平面）と平行になるように平面度が非常に高く仕上げられており、上記重量キャンセル装置４０がＸ軸方向に移動する際にガイド面として機能する。
【００４７】
第２ステップガイド５４の下面には、図３に示されるように、上記Ｘリニアガイド５３ａにスライド自在に係合するＸスライド部材５３ｂが複数（１本のＸリニアガイド５３ａにつきＸ軸方向に所定間隔で、例えば５つ）固定されている。これにより、第２ステップガイド５４は、第１ステップガイド５２上でＸ軸方向に直進案内されると共に、第１ステップガイド５２に対するＹ軸方向の相対移動が制限される。第２ステップガイド５４は、第１ステップガイド５２上における位置に関わらず、第１ステップガイド５２と一体的にＹ軸方向に移動する。
【００４８】
第２ステップガイド５４の長手方向の両端部それぞれには、ＹＺ平面に平行に配置された板状部材から成る当て板５８ａが取り付けられている。当て板５８ａの上端部（＋Ｚ側の端部）は、第２ステップガイド５４の上面よりも＋Ｚ側に突き出ている。なお、図１では図面の錯綜を避ける観点から当て板５８ａの図示が省略されている。上述した重量キャンセル装置４０には、筐体４１の外側面であって、＋Ｘ側を向いた壁面、及び−Ｘ側を向いた壁面それぞれに、押圧部材５８ｂが固定されている。第２ステップガイド５４は、当て板５８ａが重量キャンセル装置４０に押圧部材５８ｂを介して押圧されることにより、その重量キャンセル装置４０と一体的に第１ステップガイド５２上でＸ軸方向に移動するようになっている。
【００４９】
ここで、押圧部材５８ｂのＺ位置は、重量キャンセル装置４０の重心のＺ位置と同じに設定されており、重量キャンセル装置４０が第２ステップガイド５４を押圧する際に、重量キャンセル装置４０にθｙ方向のモーメントが作用しないようになっている。
【００５０】
また、第２ステップガイド５４の下面における長手方向の両端部近傍それぞれには、ストッパブロック５６ｂが固定されている。ストッパブロック５６ｂのＺ位置は、第１ステップガイド５２に取り付けられたストッパ装置５６ａのＺ位置と概ね同じとなっており、第１ステップガイド５２上における第２ステップガイド５４のＸ軸方向に関する移動可能範囲が機械的に規定されている。
【００５１】
基板ステージ装置２０では、基板ＰをＸ軸方向に所定のストロークで駆動するために、粗動ステージ２８がＸ軸方向に駆動されると、重量キャンセル装置４０が粗動ステージ２８に牽引されて第２ステップガイド５４上でＸ軸方向に移動する。重量キャンセル装置４０は、第２ステップガイド５４に非接触支持されていることから、第２ステップガイド５４上を低摩擦、低発塵でＸ軸方向に所定のストロークで移動することができる。また、重量キャンセル装置４０が第２ステップガイド５４上における＋Ｘ側又は−Ｘ側の端部近傍に到達し、押圧部材５８ｂが対応する当て板５８ａに当接した状態では、重量キャンセル装置４０と第２ステップガイド５４とが一体的にＸ軸方向に移動する。
【００５２】
また、基板ＰをＹ軸方向に所定のストロークで駆動するために、一対のＸビーム２４がＹ軸方向に駆動されると、重量キャンセル装置４０が粗動ステージ２８に牽引されてＹ軸方向に移動する。この際、ステップガイド装置５０（第１ステップガイド５２、及び第２ステップガイド５４）も一対のＸビーム２４に牽引されてＹ軸方向に移動する（重量キャンセル装置４０とステップガイド装置５０とがＹ軸方向に相対移動しない）ので、重量キャンセル装置４０がステップガイド装置５０から脱落することがない。
【００５３】
第１ステップガイド５２、及び第２ステップガイド５４の材料は、特に限定されないが、例えばＸ軸方向に長い第１ステップガイド５２を剛性が確保し易く且つ比較的安価な鋳鉄で形成し、長さの短い第２ステップガイド５４を軽量高剛性で高精度加工に向いているセラミックス材などで形成すると良い。また、第２ステップガイド５４も鋳鉄で形成し、その表面にセラミック溶射をし、硬化したセラミックに高精度加工をしても良い。
【００５４】
上述のようにして構成された液晶露光装置１０（図１参照）では、不図示の主制御装置の管理の下、不図示のマスクローダによって、マスクステージ１４へのマスクＭのロードが行われるとともに、不図示の基板ローダによって基板ホルダ３２上への基板Ｐのロードが行なわれる。その後、主制御装置により、不図示のアライメント検出系を用いてアライメント計測が実行され、そのアライメント計測の終了後、基板Ｐ上に設定された複数のショット領域に逐次ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれる。
【００５５】
以下、上記ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行われる際の基板ステージ装置２０（特にステップガイド装置５０）の動作の一例について、図５（Ａ）〜図２１（Ｂ）を用いて説明する。なお、以下の説明では、１枚の基板Ｐ上に４つのショット領域が設定された場合（いわゆる４面採りの場合）を説明するが、１枚の基板Ｐ上に設定されるショット領域の数、及び配置は、適宜変更可能である。また、基板ステージ装置２０の動作を説明するための図である図５（Ａ）〜図２１（Ｂ）では、理解を容易にするため、基板ステージ装置２０を構成する要素の一部の図示が省略、あるいは模式化されている。
【００５６】
露光処理は、一例として、図５（Ｂ）に示されるように、基板Ｐの−Ｙ側かつ−Ｘ側に設定された第１ショット領域Ｓ１、基板Ｐの＋Ｙ側かつ−Ｘ側に設定された第２ショット領域Ｓ２、基板Ｐの＋Ｙ側かつ＋Ｘ側に設定された第３ショット領域Ｓ３、基板Ｐの−Ｙ側かつ＋Ｘ側に設定された第４ショット領域Ｓ４の順番で行われる。基板ステージ装置２０では、図５（Ｂ）に示されるように、第１ショット領域Ｓ１が露光領域ＩＡの＋Ｘ側に位置するように基板Ｐの位置決めがされる。この際、第１ステップガイド５２は、＋Ｙ側のストロークエンドに位置し、第２ステップガイド５４は、＋Ｘ側のストロークエンドに位置している。また、重量キャンセル装置４０は、図５（Ａ）に示されるように、第２ステップガイド５４上の＋Ｘ側の端部近傍上に位置しており、＋Ｘ側の当て板５８ａとは当接していない。
【００５７】
次いで、図６（Ｂ）に示されるように、第１ショット領域Ｓ１の−Ｘ側の端部が露光領域ＩＡと重なる位置まで基板Ｐが−Ｘ方向に加速される。この際、重量キャンセル装置４０は、図６（Ａ）に示されるように、静止状態の第２ステップガイド５４上を移動する。そして、所定の整定期間を経た後、図７（Ａ）に示されるように、基板Ｐが照明光ＩＬに対して−Ｘ方向に等速駆動され、これにより、図７（Ｂ）に示されるように、基板Ｐ上の第１ショット領域Ｓ１にマスクパターンが転写される。重量キャンセル装置４０は、上記加速時と同様に静止状態の第２ステップガイド５４上を移動する。
【００５８】
第１ショット領域Ｓ１への露光処理が終了すると、図８（Ｂ）に示されるように、基板Ｐが減速され、露光領域ＩＡが第１ショット領域Ｓ１の＋Ｘ側に位置する。この際、図８（Ａ）に示されるように、重量キャンセル装置４０は、上記加速時及び等速移動時と同様に静止状態の第２ステップガイド５４上を移動して、第２ステップガイド５４上の−Ｘ側の端部近傍上に位置するが、当て板５８ａ（第２ステップガイド５４）には当接していない。すなわち、ステップガイド装置５０では、第２ステップガイド５４を静止状態にしてひとつのショット領域の露光動作を完了できるように、＋Ｘ側の当て板５８ａと−Ｘ側の当て板５８ａとの間隔が、基板Ｐ上のひとつのショット領域を露光する際の基板Ｐの総移動距離（加速及び整定時の移動距離、等速移動時の移動距離、及び減速時の移動距離の合計）よりも幾分長く設定されている。
【００５９】
次いで、図９（Ｂ）に示されるように、第２ショット領域Ｓ２の露光を行うために基板Ｐが−Ｙ方向に駆動される。これにより、重量キャンセル装置４０、及びステップガイド装置５０（第１ステップガイド５２及び第２ステップガイド５４）が−Ｙ方向に移動する。
【００６０】
この後、図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）に示されるように、第２ショット領域Ｓ２の＋Ｘ側の端部が露光領域ＩＡと重なる位置まで基板Ｐが＋Ｘ方向に加速されるとともに、図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）に示されるように、基板Ｐが照明光ＩＬに対して＋Ｘ方向に等速駆動される。これにより、基板Ｐ上の第２ショット領域Ｓ２にマスクパターンが転写される。この後、図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）に示されるように、基板Ｐが減速され、露光領域ＩＡが第２ショット領域Ｓ２の−Ｘ側に位置する。このときも重量キャンセル装置４０と当て板５８ａとは当接しない。
【００６１】
次いで、図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）に示されるように、第３ショット領域Ｓ３の露光を行うために基板Ｐが−Ｘ方向に駆動される。
【００６２】
ここで、本実施形態では、第３ショット領域Ｓ３に対する露光動作は、第３ショット領域Ｓ３の＋Ｘ側の領域から−Ｘ側の領域に向けて（基板Ｐを照明光ＩＬに対して＋Ｘ方向に移動させることにより）行われることから、第３ショット領域Ｓ３に対する露光動作に先だって、基板Ｐは、第３ショット領域Ｓ３が露光領域ＩＡの−Ｘ側に位置するように位置決めされる。基板ステージ装置２０では、図１２（Ｂ）に示される位置（露光領域ＩＡの＋Ｘ側の位置）から、図１３（Ｂ）に示される位置（露光領域ＩＡの−Ｘ側の位置）まで基板Ｐを移動させるため、基板Ｐが−Ｘ方向に長ストローク（基板ＰのＸ軸方向の寸法よりも長いストローク）で駆動される。
【００６３】
図１２（Ｂ）に示される状態から基板Ｐが−Ｘ方向に駆動されると、重量キャンセル装置４０が静止状態の第２ステップガイド５４上を−Ｘ方向に移動する。これにより、図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）に示されるように、重量キャンセル装置４０が−Ｘ側の当て板５８ａに当接し、その状態で基板Ｐが更に−Ｘ方向に駆動されることにより、第２ステップガイド５４が重量キャンセル装置４０に押圧されて基板Ｐ及び重量キャンセル装置４０と一体的に−Ｘ方向に移動する。
【００６４】
次いで、図１４（Ａ）及び図１４（Ｂ）に示されるように、第３ショット領域Ｓ３の＋Ｘ側の端部が露光領域ＩＡと重なる位置まで基板Ｐが＋Ｘ方向に加速されるとともに、図１５（Ａ）及び図１５（Ｂ）に示されるように、基板Ｐが照明光ＩＬに対して＋Ｘ方向に等速駆動される。これにより、基板Ｐ上の第３ショット領域Ｓ３にマスクパターンが転写される。この後、図１６（Ａ）及び図１６（Ｂ）に示されるように、基板Ｐが減速され、露光領域ＩＡが第３ショット領域Ｓ３の−Ｘ側に位置する。
【００６５】
次いで、図１７（Ｂ）に示されるように、第４ショット領域Ｓ４の露光を行うために基板Ｐが＋Ｙ方向に駆動される。これにより、重量キャンセル装置４０、及びステップガイド装置５０が＋Ｙ方向に移動する。
【００６６】
この後、図１８（Ａ）及び図１８（Ｂ）に示されるように、第４ショット領域Ｓ４の−Ｘ側の端部が露光領域ＩＡと重なる位置まで基板Ｐが−Ｘ方向に加速されるとともに、図１９（Ａ）及び図１９（Ｂ）に示されるように、基板Ｐが照明光ＩＬに対して−Ｘ方向に等速駆動される。これにより、基板Ｐ上の第４ショット領域Ｓ４にマスクパターンが転写される。この後、図２０（Ａ）及び図２０（Ｂ）に示されるように、基板Ｐが減速され、露光領域ＩＡが第４ショット領域Ｓ４の＋Ｘ側に位置する。
【００６７】
第１〜第４ショット領域Ｓ１〜Ｓ４への露光処理が完了すると、基板ステージ装置２０では、図２１（Ａ）及び図２１（Ｂ）に示されるように、基板Ｐを基板ステージ装置２０から外部装置に向けて搬出するために、ステップガイド装置５０の位置が制御される。本実施形態において、基板ステージ装置２０から基板Ｐを搬出する際、微動ステージ３０（図２１（Ｂ）では不図示）は、＋Ｘ側のストロークエンドであって、Ｙ軸方向に関して移動可能範囲のほぼ中央に位置される。このため、図２１（Ｂ）に示されるように、ステップガイド装置５０において、第１ステップガイド５２は、Ｙ軸方向に関する移動可能範囲のほぼ中央位置に位置され、第２ステップガイド５４は、＋Ｘ側のストロークエンドに位置される。基板Ｐは、図２１（Ｂ）に示される基板搬出位置において、基板ステージ装置２０から搬出され、基板ステージ装置２０には、不図示の別の基板が搬入され、以下、その別の基板に対して、図５（Ａ）〜図２０（Ｂ）に示される手順で露光処理が行われる。
【００６８】
以上説明した基板ステージ装置２０によれば、重量キャンセル装置４０が移動する際のガイド面を規定する第２ステップガイド５４の長さが、ひとつのショット領域を露光する際の重量キャンセル装置４０の移動距離（加速時、等速移動時、及び減速時それぞれの移動距離の合計）に対応して設定されているので、仮に微動ステージ３０（重量キャンセル装置４０）のＸ軸方向に関する移動可能距離の全領域をカバーするガイド部材（本実施形態における第１ステップガイド５２と同等の長さの部材）を用いる場合に比べて、ガイド面のＸ軸方向の寸法を短くすることができる。ここで、重量キャンセル装置４０に微動ステージ３０のＺ・チルト位置情報の計測に用いられるターゲット４９が固定されていることから、ガイド面は、該Ｚ・チルト位置情報を計測する際の基準面として機能し、平面度良く加工する必要があるが、本実施形態では、上記ガイド面の面積が狭いので、ガイド面の加工のコストが安く、かつ精度も確保しやすい。
【００６９】
また、基板Ｐの加速中、及び減速中を含み、ひとつのショット領域を露光する際、第２ステップガイド５４は、静止状態とされるので、振動の発生が抑制され、基板Ｐの位置制御を精度良く行うことができる。
【００７０】
以上説明した一実施形態に係る基板ステージ装置２０の構成は、適宜変更が可能である。以下、上記一実施形態の変形例について説明する。なお、以下説明する変形例において、上記実施形態と同様の構成、及び機能を有する要素に関しては、同一の符号を付してその詳細な説明を適宜省略する。
【００７１】
図２２（Ａ）〜図２５（Ｂ）には、上記実施形態の第１の変形例に係る基板ステージ装置２０ａが示されている。なお、図２２（Ａ）〜図２５（Ｂ）では、理解を容易にするため、基板ステージ装置２０ａを構成する要素の一部の図示が省略、あるいは模式化されている。
【００７２】
第１の変形例に係る基板ステージ装置２０ａは、上記実施形態に係る基板ステージ装置２０（図１参照）に比べ、ステップガイド装置５０ａが有する第２ステップガイド５４ａの長手方向（Ｘ軸方向）寸法が幾分短い点が異なる。
【００７３】
具体的に説明すると、上記実施形態において、第２ステップガイド５４（図３参照）の長手方向寸法は、基板Ｐ上のひとつのショット領域を露光する際の基板Ｐの総移動距離（加速及び整定時の移動距離、等速移動時の移動距離、及び減速時の移動距離の合計）に対応して（上記総移動距離よりも幾分長めに）設定されていたのに対し、本第１の変形例において、第２ステップガイド５４ａの長手方向寸法は、基板Ｐ上のひとつのショット領域を露光する際の基板Ｐの加速及び整定時の移動距離と、等速移動時の移動距離との合計に対応して設定されている。すなわち、基板Ｐを減速する際の重量キャンセル装置４０の移動距離の分、上記実施形態よりも第２ステップガイド５４ａのＸ軸方向寸法が短くなっている。
【００７４】
以下、上記実施形態と同様に、一例として、いわゆる４面採りの場合の基板ステージ装置２０ａの動作を説明する。基板Ｐ上に設定された第１ショット領域Ｓ１に対する露光動作開始時における第１ステップガイド５２、及び第２ステップガイド５４ａの位置関係は、上記実施形態と同じである。すなわち、図２２（Ａ）及び図２２（Ｂ）に示されるように、第１ショット領域Ｓ１に対する露光処理が行われる前の状態で、第２ステップガイド５４ａは、移動可能領域の＋Ｘ側のストロークエンドに位置している。また、重量キャンセル装置４０は、第２ステップガイド５４ａ上の＋Ｘ側の端部近傍上に位置しており、＋Ｘ側の当て板５８ａとは当接していない。
【００７５】
次いで、図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）に示されるように、基板Ｐが所望の速度に到達するまで−Ｘ側に加速される。この際の第２ステップガイド５４ａは、静止状態である。そして、図２４（Ａ）及び図２４（Ｂ）に示されるように、第１ショット領域Ｓ１に対する露光処理が行われる。このとき、基板Ｐは、一定速度で−Ｘ方向に移動し、露光終了時には、重量キャンセル装置４０は、第２ステップガイド５４ａ上の−Ｘ側の端部近傍上に位置している。この状態で、重量キャンセル装置４０と−Ｘ側の当て板５８ａとは当接していないが、上記実施形態（図７（Ａ）及び図７（Ｂ）参照）と比べて重量キャンセル装置４０と−Ｘ側の当て板５８ａとの隙間（間隔）が狭くなっている。
【００７６】
この後、図２５（Ａ）及び図２５（Ｂ）に示されるように、基板Ｐが減速されるが、基板ステージ装置２０ａでは、基板Ｐの減速時に重量キャンセル装置４０と−Ｘ側の当て板５８ａとが当接（衝突）し、第２ステップガイド５４ａは、重量キャンセル装置４０に押圧されることにより、重量キャンセル装置４０と一体的に−Ｘ方向に移動する。
【００７７】
ここで、当て板５８ａには、例えばひずみゲージを含むセンサが設けられており、当て板５８ａと重量キャンセル装置４０との衝突時の当て板５８ａの変形量に基づいて、粗動ステージ２８（図３参照）を駆動するためのリニアモータに作用する負荷を検出することが可能となっている。基板ステージ装置２０では、上記センサの出力に基づいて、重量キャンセル装置４０が当て板５８ａ（第２ステップガイド５４）に衝突する際の上記リニアモータに作用する負荷の変動に対応して粗動ステージ２８の位置制御が最適に行われる。なお、衝突時のリニアモータの負荷を検出できれば、センサの構成は、特に限定されてない。また、上記センサは、重量キャンセル装置４０に設けられても良い。また、光センサなどで重量キャンセル装置４０と第２ステップガイド５４との間隔をモニタリングしても良い。
【００７８】
本第１の変形例では、第２ステップガイド５４ａの寸法が上記実施形態に比べて短いので、さらにステップガイド装置５０ａのコストを下げることができる。また、基板ステージ装置２０ａでは、粗動ステージ２８の減速中に重量キャンセル装置４０が第２ステップガイド５４ａに衝突するので、粗動ステージ２８を減速させるためのモータ（Ｘリニアモータ（図３参照）の消費エネルギを抑制できる。また、重量キャンセル装置４０が第２ステップガイド５４ａに衝突するのは、露光動作の終了後（減速時）なので、露光精度にも影響がない。
【００７９】
また、図２６（Ａ）〜図２６（Ｄ）には、上記実施形態の第２の変形例に係る基板ステージ装置２０ｂが示されている。上記実施形態に係る基板ステージ装置２０（図３参照）では、図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）などに示されるように、重量キャンセル装置４０に押圧されることにより第２ステップガイド５４がＸ軸方向に移動したのに対し、図２６（Ａ）〜図２６（Ｄ）に示される基板ステージ装置２０ｂのステップガイド装置５０ａでは、粗動ステージ２８に押圧されることにより第２ステップガイド５４ａがＸ軸方向に移動する点が異なる。なお、図２６（Ａ）〜図２６（Ｄ）では、理解を容易にするため、基板ステージ装置２０ｂを構成する要素の一部の図示が省略、あるいは模式化されている。
【００８０】
図２６（Ａ）に示されるように、粗動ステージ２８の開口部２８ａ内であって、重量キャンセル装置４０の＋Ｘ側、及び−Ｘ側それぞれには、押圧部材５５が挿入されている。押圧部材５５は、ＸＺ断面逆Ｌ字状に形成され、その下端部が粗動ステージ２８の下面よりも−Ｚ側に突き出すように粗動ステージ２８に（ただし、フレクシャ装置４５（図２６（Ａ）では不図示。図２参照）に接触しないように）固定されている。
【００８１】
基板ステージ装置２０ｂでは、上記基板ステージ装置２０ａ（図２２（Ａ）〜図２５（Ｂ）参照）と同様に、基板Ｐの加速時（図２６（Ｂ）参照）、及び基板Ｐの等速移動時（図２６（Ｃ）参照）には、静止状態の第２ステップガイド５４ａ上を重量キャンセル装置４０が移動する。そして、基板ステージ装置２０ｂでは、基板Ｐの減速時に、図２６（Ｄ）に示されるように、押圧部材５５と当て板５８ａとが当接（衝突）し、第２ステップガイド５４ａが粗動ステージ２８に押圧されることにより、粗動ステージ２８と一体的にＸ軸方向に移動する。本第２の変形例も上記第１の変形例と同様の効果を得ることができる。なお、粗動ステージ２８は、重量キャンセル装置４０に比べてθｙ方向の剛性が高いことから、押圧部材５５と当て板５８ａとの衝突位置は、粗動ステージ２８の重心のＺ位置と一致していなくても良い。
【００８２】
また、図２７（Ａ）〜図２７（Ｄ）には、上記実施形態の第３の変形例に係る基板ステージ装置２０ｃが示されている。上記実施形態に係る基板ステージ装置２０（図３参照）では、図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）などに示されるように、重量キャンセル装置４０に押圧されることにより第２ステップガイド５４がＸ軸方向に移動したのに対し、図２７（Ａ）〜図２７（Ｄ）に示される基板ステージ装置２０ｃのステップガイド装置５０ｃでは、微動ステージ３０に押圧されることにより第２ステップガイド５４ａがＸ軸方向に移動する点が異なる。
【００８３】
第２ステップガイド５４ａの長手方向両端部近傍それぞれには、当て板５７が取り付けられている。一対の当て板５７は、図２７（Ａ）〜図２７（Ｄ）で左右対称に配置されている点を除き同じ構成の部材である。当て板５７は、一端が第２ステップガイド５４ａに固定され、他端が第２ステップガイド５４ａ上面から上方（＋Ｚ方向）に突き出している。本実施形態の当て板５７は、粗動ステージ２８（図２７（Ａ）などでは不図示。図３参照）、及び微動ステージ３０と接触（上記衝突時を除く）しないように中間部分の２箇所が曲げて形成されているが、当て板５７の形状は、これに限られない。また、当て板５７と粗動ステージ２８（図２７（Ａ）などでは不図示。図３参照）との接触を避けるため、粗動ステージ２８を一対のＸビーム２４（図２参照）に対応して二分割構成としても良い。当て板５７の他端は、微動ステージ３０の＋Ｘ側（及び−Ｘ側）の側面に所定のクリアランスを介して対向して配置されている。当て板５７の他端には、パッド５７ａが取り付けられており、微動ステージ３０との衝突時の衝撃が吸収される。パッド５７ａのＺ位置は、微動ステージ３０の重心ＣＧのＺ位置とほぼ一致しており、当て板５７（第２ステップガイド５４ａ）と微動ステージ３０とが衝突する際に、微動ステージ３０にθｙ方向のモーメントが作用することが抑制される。
【００８４】
基板ステージ装置２０ｃでは、上記基板ステージ装置２０ａ（図２２（Ａ）〜図２５（Ｂ）参照）と同様に、基板Ｐの加速時（図２７（Ｂ）参照）、及び基板Ｐの等速移動時（図２７（Ｃ）参照）には、静止状態の第２ステップガイド５４ａ上を重量キャンセル装置４０が移動する。そして、基板ステージ装置２０ｃでは、基板Ｐの減速時に、図２７（Ｄ）に示されるように、微動ステージ３０と当て板５７とが当接（衝突）し、第２ステップガイド５４ａが微動ステージ３０に押圧されることにより、微動ステージ３０と一体的に−Ｘ方向に移動する。基板ステージ装置２０ｃでは、微動ステージ３０が減速中に第２ステップガイド５４ａに衝突するので、微動ステージ３０を減速させるためのモータ（Ｘボイスコイルモータ３６ｘ（図３参照））の消費エネルギを抑制できる。
【００８５】
また、図２８には、上記実施形態の第４の変形例に係る基板ステージ装置２０ｄが示されている。上記実施形態に係る基板ステージ装置２０（図３参照）では、図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）などに示されるように、重量キャンセル装置４０に押圧されることにより第２ステップガイド５４がＸ軸方向に移動したのに対し、図２８に示される基板ステージ装置２０ｄでは、ステップガイド装置５０ｄが有するＸリニアモータ５９により第２ステップガイド５４がＸ軸方向に駆動される点が異なる。
【００８６】
Ｘリニアモータ５９は、第１ステップガイド５２の上面に固定されたＸ固定子５９ａ（例えば磁石ユニット）と、第２ステップガイド５４の下面に固定されたＸ可動子５９ｂ（例えばコイルユニット）とを含む。これにより、基板ステージ装置２０ｄでは、第２ステップガイド５４の第１ステップガイド５２上におけるＸ位置を、重量キャンセル装置４０とは独立して制御できるようになっている。第２ステップガイド５４のＸ位置情報は、例えば第１ステップガイドに設けられたスケールと第２ステップガイド５４に設けられた計測ヘッドとを含むリニアエンコーダシステム（不図示）により求められる。
【００８７】
以下、露光動作時の基板ステージ装置２０ｄの動作の一例について、図２９（Ａ）〜図３４（Ｂ）を用いて説明する。なお、図２９（Ａ）〜図３４（Ｂ）では、理解を容易にするため、基板ステージ装置２０ｄを構成する要素の一部の図示が省略、あるいは模式化されている。また、図２９（Ａ）〜図３４（Ｂ）では、第２ステップガイド５４の両端部近傍に当て板５８ａが取り付けられているが、基板ステージ装置２０ｄでは、重量キャンセル装置４０と第２ステップガイド５４ａとが衝突しないので、当て板５８ａがなくても良い。
【００８８】
図２９（Ａ）及び図２９（Ｂ）には、第２ショット領域Ｓ２に対する露光動作が終了した後、基板Ｐが減速、及び停止された状態が示されている（第１ショット領域Ｓ２、及び第２ショット領域Ｓ２へ露光動作については説明を省略する）。第２ステップガイド５４は、移動可能領域の＋Ｘ側のストロークエンドに位置している。また、重量キャンセル装置４０は、第２ステップガイド５４上の＋Ｘ側の端部近傍上に位置している。
【００８９】
ここで、上記実施形態では、図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）に示されるように、露光動作中、静止状態の第２ステップガイド５４上で重量キャンセル装置４０を移動させる必要があることから、予め露光領域ＩＡが基板Ｐの＋Ｘ側に位置するように第２ステップガイド５４、及び重量キャンセル装置４０のＸ位置が制御される。このため、重量キャンセル装置４０は、図１２（Ｂ）及び図１３（Ｂ）から分かるように、第２ショット領域Ｓ２の露光終了後から第３ショット領域Ｓ３の露光開始までに基板Ｐの長さ以上の距離を移動する。これに対し、基板ステージ装置２０ｄでは、図３０（Ａ）及び図３０（Ｂ）に示されるように、重量キャンセル装置４０及び第２ステップガイド５４は、ショット領域ひとつ分に相当する長さ分だけ−Ｘ方向へ駆動される。これにより、露光領域ＩＡは、第３ショット領域Ｓ３の−Ｘ側に位置し、第３ショット領域Ｓ３に対する露光動作は、図３１（Ａ）及び図３１（Ｂ）に示されるように、静止した第２ステップガイド５４上で基板Ｐを−Ｘ方向（上記実施形態とは逆方向）に移動させることにより行うことができる。
【００９０】
以下、図３２（Ａ）及び図３２（Ｂ）に示されるように、第４ショット領域Ｓ４に対する露光動作のためにステップガイド装置５０ｄが＋Ｙ方向に駆動され、次いで、図３３（Ａ）及び図３３（Ｂ）に示されるように、基板Ｐが＋Ｘ方向（上記実施形態とは逆方向）に駆動されることにより第４ショット領域Ｓ４に対する露光動作が行われる。この後、上記実施形態と同様に基板Ｐが基板搬出位置に位置するように、基板Ｐの位置制御が行われる。基板ステージ装置２０ｄでは、第２ショット領域Ｓ２に対する露光動作終了から第３ショット領域Ｓ３に対する露光動作開始までの重量キャンセル装置４０の移動距離、及び、第４ショット領域Ｓ４に対する露光動作終了から基板搬出位置に到達するまでの重量キャンセル装置４０の移動距離、すなわち粗動ステージ２８（図３参照）の総移動距離が上記実施形態に比べて短い。したがって、スループットが向上する。なお、第２ステップガイド５４は、第１ステップガイド５２上において、Ｘリニアモータ５９により駆動されたが、第２ステップガイド５４をＸ軸方向に駆動するアクチュエータの種類は、これに限られず、例えば送りねじ装置、ベルト（あるいはワイヤなど）を用いた牽引装置などであっても良い。また、露光精度に対する影響が無視できる程度に小さい場合には、露光動作時に第２ステップガイド５４をＸ軸方向に駆動しても良い。
【００９１】
また、上記実施形態（その変形例）において、図３５（Ａ）及び図３５（Ｂ）に示されるように、第１ステップガイド５２に対する第２ステップガイド５４のＸ軸方向への相対移動を機械的に制限する制限装置６０を一対有するステップガイド装置５０ｅを用いても良い。ステップガイド装置５０ｅにおいて、第２ステップガイド５４の駆動方式は、特に限定されない。
【００９２】
一対の制限装置６０は、一方が第１ステップガイド５２の＋Ｙ側の側面に、他方が第１ステップガイド５２の−Ｙ側の側面にそれぞれ取り付けられている。一対の制限装置６０の構成は、図３５（Ａ）で上下対称に配置されている点を除き、同じである。制限装置６０は、平面視Ｌ字状のブラケット６２、Ｚ軸に平行な軸線回りに回転可能なローラを含むローラ装置６４、及びローラ装置６４を圧縮コイルばねを介して第２ステップガイド５４に接近及び離間する方向（Ｙ軸方向）に付勢する押圧装置６６を備えている。第２ステップガイド５４は、一対の制限装置６０のローラ装置６４間に挿入されている。
【００９３】
第２ステップガイド５４の＋Ｙ側の側面には、平面視台形状のカム部材６８が複数、本変形例では、例えば４つ固定されている。例えば４つのカム部材６８のうち、２つは、第２ステップガイド５４の＋Ｙ側の側面における＋Ｘ側の端部近傍に隣接して取り付けられ、他の２つは、第２ステップガイド５４の＋Ｙ側の側面における−Ｘ側の端部近傍に隣接して取り付けられている。第２ステップガイド５４の−Ｙ側の側面にも、同様に（図３５（Ａ）で上下対称に）平面視台形状のカム部材６８が複数、本変形例では、例えば４つ固定されている。
【００９４】
ステップガイド装置５０ｅでは、図３５（Ａ）に示される第２ステップガイド５４が−Ｘ側のストロークエンドに位置した状態で、第２ステップガイド５４の＋Ｘ側の端部近傍に取り付けられた２つのカム部材６８の間にローラ装置６４のローラが挿入され、これにより、第１ステップガイド５２と第２ステップガイド５４とのＸ軸方向への相対移動を制限される。また、図３５（Ｂ）に示される第２ステップガイド５４が＋Ｘ側のストロークエンドに位置した状態で、第２ステップガイド５４の−Ｘ側の端部近傍に取り付けられた２つのカム部材６８の間にローラ装置６４のローラが挿入され、これにより、第１ステップガイド５２と第２ステップガイド５４とのＸ軸方向への相対移動を制限される。
【００９５】
したがって、第２ステップガイド５４上で重量キャンセル装置４０が移動する際、第２ステップガイド５４を確実に静止状態としておくことができる。なお、制限装置６０の構成は、これに限られず、第１ステップガイド５２と第２ステップガイド５４とのＸ軸方向への相対移動を制限できれば、圧縮コイルばねに代えて、例えばモータ、エアシリンダなどのアクチュエータを用いても良い。また、機械的な制限装置に代えて、例えば第２ステップガイド５４ａを案内するＸリニアガイド５３ａとＸスライド部材５３ｂ（それぞれ図３参照）との間にある程度の摩擦力や粘性による抵抗力を与えることにより、第２ステップガイド５４の不用意な移動を制限しても良い。
【００９６】
また、上記実施形態（及びその変形例）において、ステップガイド装置５０は、一対のＸビーム２４に牽引されることによりＹ軸方向に移動する構成であったが、例えばリニアモータなどのアクチュエータにより一対のＸビーム２４と独立にＹ位置が制御されても良い。また、微動ステージ３０のＺ・チルト位置情報は、重量キャンセル装置４０に固定されたターゲット４９を用いて求められたが、ターゲット４９は、重量キャンセル装置４０とは別部材に取り付けられても良い。
【００９７】
また、第２ステップガイド５４の長手方向寸法は、少なくとも基板Ｐの露光時（基板Ｐの等速移動時）に、重量キャンセル装置４０が静止状態の第２ステップガイド５４上を移動できるように設定されていれば良い。したがって、第２ステップガイド５４の長手方向寸法を、上記第１〜第３の変形例よりもさらに短くし、基板Ｐの加速時に重量キャンセル装置４０と第２ステップガイド５４とを一体にＸ軸方向に移動させても良い。
【００９８】
また、第２ステップガイド５４、５４ａと重量キャンセル装置４０（あるいは粗動ステージ２８、微動ステージ３０）との当接部分に、磁石の反発力を用いた、あるいはエアベアリングを用いた非接触の押圧装置を設けて発塵を抑制しても良い。また、上記当接部分に発塵を吸引するための吸引装置を設けても良い。また、第２ステップガイド５４、５４ａが＋Ｘ又は−Ｘ側のストロークエンドに達した際、該第２ステップガイド５４、５４ａのＸ軸方向の端部が第１ステップガイド５２のＸ軸方向の端部よりもＸ軸方向に付き出しても（上記実施形態よりも第１ステップガイド５２が短くても）良い。ただし、その突き出し量（オーバーハング量）は、重量キャンセル装置４０が等速移動を開始するまでの距離（加速距離相当）以下であることが望ましい。また、第２ステップガイド５４（あるいは５４ａ）は、重量キャンセル装置４０（あるいは粗動ステージ２８，又は微動ステージ３０）に押圧されることにより、該重量キャンセル装置４０と一体的にＸ軸方向に移動する構成であったが、これに限られず、例えば重量キャンセル装置４０（あるいは粗動ステージ２８，又は微動ステージ３０）に牽引されることによりＸ軸方向に移動する構成としても良い。
【００９９】
また、照明光は、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、照明光としては、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）などを使用しても良い。
【０１００】
また、投影光学系１６は、複数本の投影光学ユニットを備えたマルチレンズ方式の投影光学系であったが、投影光学ユニットの本数はこれに限らず、１本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、例えばオフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。また、上記実施形態では投影光学系１６として、投影倍率が等倍のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は縮小系及び拡大系のいずれでも良い。
【０１０１】
なお、光透過性のマスク基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクが用いられたが、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク）、例えば、非発光型画像表示素子（空間光変調器とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）を用いる可変成形マスクを用いても良い。
【０１０２】
また、物体を所定の二次元平面に沿って移動させる移動体装置（ステージ装置）としては、露光装置に限らず、例えば物体の検査に用いられる物体検査装置など、物体に関して所定の処理を行う物体処置装置に用いても良い。また、露光装置としては、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置、ステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用することができる。
【０１０３】
なお、露光装置としては、サイズ（外径、対角線の長さ、一辺の少なくとも１つを含む）が５００ｍｍ以上の基板、例えば液晶表示素子などのフラットパネルディスプレイ用の大型基板を露光する露光装置に対して適用することが特に有効である。
【０１０４】
また、露光装置の用途としては、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、露光対象物がフラットパネルディスプレイ用の基板である場合、その基板の厚さは特に限定されず、例えばフィルム状（可撓性を有するシート状の部材）のものも含まれる。
【０１０５】
液晶表示素子（あるいは半導体素子）などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマスク（あるいはレチクル）を製作するステップ、ガラス基板（あるいはウエハ）を製作するステップ、上述した各実施形態の露光装置、及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをガラス基板に転写するリソグラフィステップ、露光されたガラス基板を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ガラス基板上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１０６】
以上説明したように、本発明の移動体装置、及び移動体の駆動方法は、移動体を所定の二次元平面に沿って移動させるのに適している。また、本発明の露光装置及び露光方法は、移動体に保持された物体に所定のパターンを形成するのに適している。また、本発明のフラットパネルディスプレイの製造方法は、フラットパネルディスプレイの製造に適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの生産に適している。
【符号の説明】
【０１０７】
１０…液晶露光装置、２０…基板ステージ装置、２４…Ｘビーム、２８…粗動ステージ、３０…微動ステージ、４０…重量キャンセル装置、５０…ステップガイド装置、５２…第１ステップガイド、５４…第２ステップガイド、Ｐ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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