(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）
【化１】
0006015655.tif 000027
〔式中、Ｑ１〜Ｑ３はそれぞれ独立して、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｘは、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２の二価の芳香族基を表す。
Ｙ１〜Ｙ１２はそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ１〜Ｇ４はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及び−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｚ１〜Ｚ４はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａ２〜Ａ７はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の二価の芳香族基を表す。
ｎは０を表す。〕で示される重合性化合物。
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）中、Ａ１が、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基であり、Ａ２〜Ａ７がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、フェニレン基又はナフチレン基である請求項１に記載の重合性化合物。
【請求項３】
前記一般式（Ｉ）中、Ｙ１〜Ｙ１２がそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−である請求項１又は２に記載の重合性化合物。
【請求項４】
前記一般式（Ｉ）中、Ｚ１〜Ｚ４がそれぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−である請求項１〜３のいずれかに記載の重合性化合物。
【請求項５】
前記一般式（Ｉ）中、Ｇ１〜Ｇ４がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜１２の二価の脂肪族基（該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−が２以上隣接して介在する場合を除く。）である請求項１〜４のいずれかに記載の重合性化合物。
【請求項６】
前記一般式（Ｉ）中、Ｘが、置換基を有していてもよい、フェニレン基、ナフチレン基、又はビフェニレン基である請求項１〜５のいずれかに記載の重合性化合物。
【請求項７】
前記一般式（Ｉ）中、Ａ１が、置換基を有していてもよい三価のベンゼン環基であり、Ａ２〜Ａ７がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｙ１〜Ｙ１２がそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｚ１〜Ｚ４がそれぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、Ｇ１〜Ｇ４がそれぞれ独立して、炭素数１〜１２の二価のアルキレン基である請求項１〜６のいずれかに記載の重合性化合物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の重合性化合物を少なくとも１種、及び重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかに記載の重合性化合物、又は請求項８に記載の重合性組成物を重合して得られる高分子。
【請求項１０】
請求項９に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを作製することができる、重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体に関する。【０００２】
フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）は、偏光板や位相差板等の光学フィルムを用いることにより高精細な表示が可能であることから、優れた表示デバイスとしてテレビをはじめとして広く使用されている。【０００３】
位相差板には、直線偏光を円偏光に変換する１／４波長板や、直線偏光の偏光振動面を９０度変換する１／２波長板等がある。これらの位相差板は、ある特定の単色光に対しては正確に光線波長の１／４λあるいは１／２λの位相差に変換可能なものである。
しかしながら、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは、位相差板を構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する合成波である白色光に対して各波長ごとの偏光状態に分布が生じることから、全ての波長領域において正確な１／４λあるいは１／２λの位相差に調整することが不可能であることに起因する。
このような問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている（例えば、特許文献１〜６）。【０００４】
一方、モバイルパソコン、携帯電話等携帯型の情報端末の高機能化及び普及に伴い、フラットパネル表示装置の厚みを極力薄く抑えることが求められてきている。その結果、構成部材である位相差板の薄層化も求められている。
薄層化の方法としては、フィルム基材に低分子重合性化合物を含有する重合性組成物を塗布することにより位相差板を作成する方法が、近年では最も有効な方法とされている。そして、優れた波長分散性を有する低分子重合性化合物又はそれを用いる重合性組成物が種々提案されている（例えば、特許文献７〜２４）。【０００５】
しかしながら、従来の低分子重合性化合物又は重合性組成物は、逆波長分散性が不十分であったり、工業的プロセスにおける加工には適していない高い融点を有し、工業的プロセスにおいて一般に使用される溶媒への溶解度が低いため、フィルムに塗布することが困難であったり、液晶性を示す温度範囲が極端に狭かったり、性能面で多くの課題を有している。また、これらの低分子重合性化合物等は、非常に高価な試薬を用いる合成法を駆使し、多段階で合成されるものであることから、コスト面でも課題を有していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−６８８１６号公報
【特許文献２】特開平１０−９０５２１号公報
【特許文献３】特開平１１−５２１３１号公報
【特許文献４】特開２０００−２８４１２６号公報（ＵＳ２００２０１５９００５Ａ１）
【特許文献５】特開２００１−４８３７号公報
【特許文献６】国際公開第２０００／０２６７０５号
【特許文献７】特開２００２−２６７８３８号公報
【特許文献８】特開２００３−１６０５４０号公報（ＵＳ２００３０１０２４５８Ａ１）
【特許文献９】特開２００５−２０８４１４号公報
【特許文献１０】特開２００５−２０８４１５号公報
【特許文献１１】特開２００５−２０８４１６号公報
【特許文献１２】特開２００５−２８９９８０号公報（ＵＳ２００７０１７６１４５Ａ１）
【特許文献１３】特開２００６−３３０７１０号公報（ＵＳ２００９００７２１９４Ａ１）
【特許文献１４】特開２００９−１７９５６３号公報（ＵＳ２００９０１８９１２０Ａ１）
【特許文献１５】特開２０１０−３１２２３号公報
【特許文献１６】特開２０１１−６３６０号公報
【特許文献１７】特開２０１１−６３６１号公報
【特許文献１８】特開２０１１−４２６０６号公報
【特許文献１９】特表２０１０−５３７９５４号公報（ＵＳ２０１００２０１９２０Ａ１）
【特許文献２０】特表２０１０−５３７９５５号公報（ＵＳ２０１００３０１２７１Ａ１）
【特許文献２１】国際公開第２００６／０５２００１号（ＵＳ２００７０２９８１９１Ａ１）
【特許文献２２】米国特許第６，１３９，７７１号
【特許文献２３】米国特許第６，２０３，７２４号
【特許文献２４】米国特許第５，５６７，３４９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記した従来技術に鑑みてなされたものであり、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、低コストで製造可能で、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができる、重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した。その結果、下記式（Ｉ）で表される重合性化合物、該重合性化合物と重合開始剤を含有する重合性組成物、これらを重合して得られる高分子、及び前記高分子を構成材料とする光学異方体は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。【０００９】
かくして本発明によれば、（１）〜（７）の重合性化合物、（８）の重合性組成物、（９）の高分子、及び（１０）の光学異方体が提供される。
（１）下記一般式（Ｉ）【００１０】
【化１】
0006015655.tif 000002
【００１１】
〔式中、Ｑ１〜Ｑ３はそれぞれ独立して、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｘは、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２の二価の芳香族基を表す。
Ｙ１〜Ｙ１２はそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ１〜Ｇ４はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及び−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｚ１〜Ｚ４はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａ２〜Ａ７はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の二価の芳香族基を表す。
ｎは０又は１を表す。〕で示される重合性化合物。【００１２】
（２）前記一般式（Ｉ）中、Ａ１が、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基であり、Ａ２〜Ａ７がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、フェニレン基又はナフチレン基である（１）に記載の重合性化合物。
（３）前記一般式（Ｉ）中、Ｙ１〜Ｙ１２がそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−である（１）又は（２）に記載の重合性化合物。
（４）前記一般式（Ｉ）中、Ｚ１〜Ｚ４がそれぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−である（１）〜（３）のいずれかに記載の重合性化合物。【００１３】
（５）前記一般式（Ｉ）中、Ｇ１〜Ｇ４がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜１２の二価の脂肪族基（該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−が２以上隣接して介在する場合を除く。）である（１）〜（４）のいずれかに記載の重合性化合物。
（６）前記一般式（Ｉ）中、Ｘが、置換基を有していてもよい、フェニレン基、ナフチレン基、又はビフェニレン基である（１）〜（５）のいずれかに記載の重合性化合物。【００１４】
（７）前記一般式（Ｉ）中、Ａ１が、置換基を有していてもよい三価のベンゼン環基であり、Ａ２〜Ａ７がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｙ１〜Ｙ１２がそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｚ１〜Ｚ４がそれぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、Ｇ１〜Ｇ４がそれぞれ独立して、炭素数１〜１２の二価のアルキレン基である（１）〜（６）のいずれかに記載の重合性化合物。【００１５】
（８）（１）〜（７）のいずれかに記載の重合性化合物の少なくとも１種、及び重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。
（９）（１）〜（７）のいずれかに記載の重合性化合物、又は（８）に記載の重合性組成物を重合して得られる高分子。
（１０）（９）に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の重合性化合物、重合性組成物、及び高分子によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで得ることができる。
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とするため、低コストで得られ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを簡便に形成することができるものである。その具体的な実用例として、偏光板と組み合わせることで反射防止フィルムを作製することができ、産業上、例えばタッチパネルや有機電界発光素子の反射防止に好適に使用することができる。【００１７】
以下、本発明を、１）重合性化合物、２）重合性組成物、３）高分子、及び、４）光学異方体、に項分けして、詳細に説明する。【００１８】
１）重合性化合物
本発明の重合性化合物は、前記式（Ｉ）で表される化合物である。
式（Ｉ）中、Ｑ１〜Ｑ３はそれぞれ独立して、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示す。【００１９】
置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられる。
その置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；等が挙げられ、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
これらの中でも、Ｑ１〜Ｑ３はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。【００２０】
式（Ｉ）中、Ｘは、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２の二価の芳香族基を表す。
Ｘの芳香族基は、単環のものであっても、多環のものであっても、芳香環が結合したものであってもよい。
Ｘとしては、例えば、下記のものが挙げられる。下記式中、「−」は、結合手を表す（以下にて同じ）。【００２１】
【化２】
0006015655.tif 000003
【００２２】
これらの芳香族基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ基（Ｒａは、炭素数１〜６のアルキル基を表す。）；等が挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、フッ素原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１〜３のアルコキシ基；がより好ましい。【００２３】
これらの中でも、Ｘとしては、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、置換基を有していてもよい、フェニレン基、ナフチレン基及びビフェニレン基が好ましく、置換基を有していてもよい、フェニレン基及びナフチレン基がより好ましく、下記式（Ｘ１）及び（Ｘ２）で表される基がさらに好ましく、式（Ｘ１）で表される基が特に好ましい。【００２４】
【化３】
0006015655.tif 000004
【００２５】
式（Ｉ）中、Ｙ１〜Ｙ１２はそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。【００２６】
ここで、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ１の炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられる。
Ｒ１としては、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。【００２７】
これらの中でも、Ｙ１〜Ｙ１２は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であるのが好ましい。【００２８】
式（Ｉ）中、Ｇ１〜Ｇ４はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。
炭素数１〜２０の二価の脂肪族基としては、鎖状構造を有する脂肪族基；飽和環状炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和環状炭化水素（シクロアルケン）構造等の脂環式構造を有する脂肪族基；等が挙げられる。【００２９】
その置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；等が挙げられ、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。【００３０】
また、該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。
これらの中でも、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましい。【００３１】
ここで、Ｒ２は、前記Ｒ１と同様の、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。【００３２】
これらの基が介在する脂肪族基の具体例としては、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＮＲ２−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−等が挙げられる。【００３３】
これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｇ１〜Ｇ４はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜１２の二価の脂肪族基（該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−が２以上隣接して介在する場合を除く。）であるのが好ましく、炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数２〜１２のアルケニレン基等の鎖状構造を有する脂肪族基がより好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等の、炭素数１〜１２のアルキレン基がさらに好ましく、テトラメチレン基〔−（ＣＨ２）４−〕、及び、ヘキサメチレン基〔−（ＣＨ２）６−〕が特に好ましい。【００３４】
式（Ｉ）中、Ｚ１〜Ｚ４はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
該アルケニル基の炭素数としては、２〜６が好ましい。Ｚ１〜Ｚ４のアルケニル基の置換基であるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。【００３５】
Ｚ１〜Ｚ４の、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基の具体例としては、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−、（ＣＨ３）２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２−、（ＣＨ３）２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−等が挙げられる。【００３６】
なかでも、Ｚ１〜Ｚ４としては、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、それぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−であるのが好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−であるのがより好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ−であるのが更に好ましい。【００３７】
式（Ｉ）中、Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。三価の芳香族基としては、三価の炭素環式芳香族基であっても、三価の複素環式芳香族基であってもよい。本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、三価の炭素環式芳香族基が好ましく、下記式に示す三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がより好ましい。なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Ｙ１、Ｙ２を便宜上記載している（Ｙ１、Ｙ２は、前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。）。【００３８】
【化４】
0006015655.tif 000005
【００３９】
なかでも、Ａ１としては、下記に示す式（Ａ１１）〜（Ａ１８）で表される基がさらに好ましく、式（Ａ１１）で表される基が特に好ましい。【００４０】
【化５】
0006015655.tif 000006
【００４１】
Ａ１の、三価の芳香族基は、置換基を有さないものが好ましいが、有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲｂ基；−ＳＯ２Ｒｂ基；等が挙げられる。ここでＲｂは、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を表す。【００４２】
式（Ｉ）中、Ａ２〜Ａ７はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の二価の芳香族基を表す。
Ａ２〜Ａ７の芳香族基は単環のものであっても、多環のものであってもよい。
Ａ２〜Ａ７の芳香族基の具体例としては、下記のものが挙げられる。【００４３】
【化６】
0006015655.tif 000007
【００４４】
これらの芳香族基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲｃ基；等が挙げられる。ここでＲｃは、炭素数１〜６のアルキル基である。これらの中でも、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、フッ素原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１〜３のアルコキシ基；がより好ましい。【００４５】
これらの中でも、Ａ２〜Ａ７としては、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、フェニレン基、ナフチレン基が好ましく、下記式（Ａ２１）及び（Ａ２２）で表される基がより好ましく、式（Ａ２１）で表される基が特に好ましい。【００４６】
【化７】
0006015655.tif 000008
【００４７】
式（Ｉ）中、ｎは０又は１を表し、０であるのが好ましい。【００４８】
本発明の式（Ｉ）で表される重合性化合物としては、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、
（ｉ）式（Ｉ）中、Ａ１が、置換基を有していてもよい三価のベンゼン環基であり、Ａ２〜Ａ７が、置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｙ１〜Ｙ１２がそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｚ１〜Ｚ４がそれぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、Ｇ１〜Ｇ４がそれぞれ独立して、炭素数１〜１２の二価のアルキレン基である重合性化合物が好ましく、【００４９】
（ｉｉ）式（Ｉ）中、ｎが０であり、Ａ１が、置換基を有していてもよい三価のベンゼン環基であり、Ａ２〜Ａ７がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｙ１〜Ｙ１２がそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｚ１〜Ｚ４がそれぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、Ｇ１〜Ｇ４がそれぞれ独立して、炭素数１〜１２の二価のアルキレン基である重合性化合物がより好ましく、【００５０】
（ｉｉｉ）式（Ｉ）中、ｎが０であり、Ａ１が、置換基を有していてもよい三価のベンゼン環基であり、Ａ２〜Ａ７がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｙ１〜Ｙ１２が、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｚ１〜Ｚ４が、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、Ｇ１〜Ｇ４が、炭素数１〜１２の二価のアルキレン基であり、かつ、
式：Ｚ２−Ｙ６−Ｇ２−Ｙ４−Ａ３−Ｙ２−で表される基が、式：Ｚ１−Ｙ５−Ｇ１−Ｙ３−Ａ２−Ｙ１−で表される基と同一、及び／又は、式：Ｚ３−Ｙ９−Ｇ３−Ｙ８−Ａ５−Ｙ７−で表される基が、式：Ｚ４−Ｙ１２−Ｇ４−Ｙ１１−Ａ７−Ｙ１０−で表される基と同一である重合性化合物が特に好ましい。【００５１】
なお、前記一般式（Ｉ）で表される本発明化合物には、炭素−窒素二重結合に基づく立体異性体が存在し得るが、これらはすべて本発明に含まれる。【００５２】
本発明の重合性化合物は、典型的には、炭素−窒素二重結合（−Ｃ＝Ｎ−）、エーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−）、カーボネート結合（−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）及びアミド結合（−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−）の形成反応を任意に組み合わせて、所望の構造を有する複数の公知化合物を適宜結合・修飾することにより製造することができる。【００５３】
本発明の重合性化合物の製造方法の具体例を下記に示す。
なお、以下においては、前記式（Ｉ）中、Ｙ７、Ｙ１０、Ｙ１、及びＹ２が、それぞれ、式：Ｙ７’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基、式：Ｙ１０’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基、式：Ｙ１’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基、式：Ｙ２’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基である化合物の製造方法を例にとって説明するが、本発明化合物は、これらの結合を有する化合物に限定されるわけではない。
〈製造方法１〉【００５４】
【化８】
0006015655.tif 000009
【００５５】
式中、Ａ１〜Ａ７、Ｑ１〜Ｑ３、Ｘ、Ｙ１〜Ｙ６、Ｙ８、Ｙ９、Ｙ１１、Ｙ１２、Ｇ１〜Ｇ４、Ｚ１〜Ｚ４、ｎは、前記と同じ意味を表す。式：Ｙ７’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基は、前記Ｙ７の一種を示し、式：Ｙ１０’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基は、前記Ｙ１０の一種を示す。Ｌは、水酸基、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。【００５６】
製造方法１は、前記式（Ｉ）において、Ｙ７が、式：Ｙ７’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基であり、Ｙ１０が、式：Ｙ１０’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基である式（Ｉ−１）で表される重合性化合物（重合性化合物（Ｉ−１））を製造する方法である。【００５７】
すなわち、式（１）で表されるカルボニル化合物（カルボニル化合物（１））に、式（２）で表される化合物（化合物（２））を、適当な溶媒中、所望により脱水剤の存在下、（カルボニル化合物（１）：化合物（２））のモル比で、１：１〜１：２、好ましくは、１：１〜１：１．５の割合で反応させ、式（３）で表される化合物（化合物（３））を得（ステップ１）、このものを単離した後、式（４）で表される化合物（化合物（４））を、適当な溶媒中、（化合物（３）：化合物（４））のモル比で、１：１〜１：１．２の割合で反応させることにより、式（５）で表される化合物（化合物（５））を製造する（ステップ２）。
このものを単離した後、このものに、式（６）で表される化合物（化合物（６））を、適当な溶媒中、（化合物（５）：化合物（６））のモル比で、１：１〜１：１．５の割合で反応させることにより、目的とする重合性化合物（Ｉ−１）を製造することができる（ステップ３）。
前記ステップ１、及び／又はステップ２の後、単離操作を行わずに粗生成物を用いて次の反応を行い、得られた反応混合物から目的化合物を単離することもできる。【００５８】
〈ステップ１〉
ステップ１の反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；及びこれらの２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。
これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。【００５９】
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、反応に用いる化合物の総質量１ｇに対し、通常１〜１００ｇである。【００６０】
用いる脱水剤としては、例えば塩酸、硫酸、リン酸、硫酸水素カリウム、シュウ酸、p-トルエンスルホン酸、（±）−１０−カンファースルホン酸、三フッ化ホウ素エーテル錯体などの酸性触媒；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基性触媒；等が挙げられる。
脱水剤の使用量は、カルボニル化合物（１）１モルに対して、通常０．０５〜５モルである。【００６１】
反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数十時間である。【００６２】
〈ステップ２〉
化合物（３）と化合物（４）の反応において、化合物（４）が、式（４）中、Ｌが水酸基の化合物（カルボン酸）である場合には、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤の存在下に反応させることにより、目的物を得ることができる。
脱水縮合剤の使用量は、化合物（４）１モルに対し、通常１〜３モルである。【００６３】
また、化合物（４）が、式（４）中、Ｌがハロゲン原子の化合物（酸ハライド）である場合には、塩基の存在下に反応させることにより、目的物を得ることができる。
用いる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
塩基の使用量は、化合物（４）１モルに対し、通常１〜３モルである。
化合物（４）が、式（４）中、Ｌがメタンスルホニルオキシ基、又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基の化合物（混合酸無水物）である場合も、ハロゲン原子の場合と同様である。【００６４】
この反応に用いる溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒；及びこれらの溶媒の２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、化合物（３）１ｇに対し、通常１〜１００ｇである。【００６５】
反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数十時間である。【００６６】
〈ステップ３〉
得られた化合物（５）に化合物（６）を反応させるステップ３の反応は、前記ステップ２の反応と同様にして行うことができる。【００６７】
なお、式：Ｚ３−Ｙ９−Ｇ３−Ｙ８−Ａ５−Ｙ７’−で表される基が、式：Ｚ４−Ｙ１２−Ｇ４−Ｙ１１−Ａ７−Ｙ１０’−で表される基と同一である重合性化合物（Ｉ−２）を製造する場合には、ステップ２において、下記反応式に示すように、化合物（３）と、２倍当量の化合物（４）とを反応させることにより、目的とする重合性化合物（Ｉ−２）を一段階で製造することができる。【００６８】
【化９】
0006015655.tif 000010
【００６９】
〈製造方法２〉【００７０】
【化１０】
0006015655.tif 000011
【００７１】
式中、Ａ１〜Ａ７、Ｑ１〜Ｑ３、Ｘ、Ｙ３〜Ｙ１２、Ｇ１〜Ｇ４、Ｚ１〜Ｚ４、ｎ、Ｌは、前記と同じ意味を表す。式：Ｙ１’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基は、前記Ｙ１の一種を示し、式：Ｙ２’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基は、前記Ｙ２の一種を示す。【００７２】
製造方法２は、前記式（Ｉ）において、Ｙ１が、式：Ｙ１’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基であり、Ｙ２が、式：Ｙ２’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基である式（Ｉ−３）で表される重合性化合物（重合性化合物（Ｉ−３））を製造する方法である。【００７３】
すなわち、式（７）で表されるカルボニル化合物（カルボニル化合物（７））に、式（８）で表される化合物（化合物（８））を、適当な溶媒中、（カルボニル化合物（７）：化合物（８））のモル比で、１：１〜２：１、好ましくは、１：１〜１．５：１の割合で反応させ、式（９）で表される化合物（化合物（９））を得（ステップ１）、このものを単離した後、式（１０）で表される化合物（化合物（１０））を、適当な溶媒中、（化合物（９）：化合物（１０））のモル比で、１：１〜１：１．２の割合で反応させることにより、式（１１）で表される化合物（化合物（１１））を製造する（ステップ２）。
このものを単離した後、このものに、式（１２）で表される化合物（化合物（１２））を、適当な溶媒中、（化合物（１１）：化合物（１２））のモル比で、１：１〜１：１．５の割合で反応させることにより、目的とする重合性化合物（Ｉ−３）を製造することができる（ステップ３）。
前記ステップ１、及び／又はステップ２の後、単離操作を行うことなく、そのまま次のステップに進み、得られた反応混合物から目的化合物を単離してもよい。【００７４】
製造方法２のステップ１は、前記製造方法１のステップ１と同様にして、また、製造方法２のステップ２，３は、製造方法１のステップ２，３と同様にして行うことができる。【００７５】
なお、式：Ｚ１−Ｙ５−Ｇ１−Ｙ３−Ａ２−Ｙ１’−で表される基が、式：Ｚ２−Ｙ６−Ｇ２−Ｙ４−Ａ３−Ｙ２’−で表される基と同一である重合性化合物（Ｉ−４）を製造する場合には、ステップ２において、下記反応式に示すように、化合物（９）と、２倍当量の化合物（１０）とを反応させることにより、目的とする重合性化合物（Ｉ−４）を一段階で製造することができる。【００７６】
【化１１】
0006015655.tif 000012
【００７７】
（式中、Ａ１、Ａ２、Ａ４〜Ａ７、Ｑ１〜Ｑ３、Ｘ、Ｙ１’、Ｙ３、Ｙ５、Ｙ７〜Ｙ１２、Ｇ１、Ｇ３、Ｇ４、Ｚ１、Ｚ３、Ｚ４、ｎ、Ｌは、前記と同じ意味を表す。）
製造方法１、２で用いる、化合物（４）、（６）（１０）、（１２）は、典型的には、エーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−）、カーボネート結合（−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）及びアミド結合（−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−）の形成反応を任意に組み合わせて、所望の構造を有する複数の公知化合物を適宜結合・修飾することにより製造することができる。【００７８】
エーテル結合の形成は、例えば、以下のようにして行うことができる。
（ｉ）式：Ｄ１−ｈａｌ（ｈａｌはハロゲン原子を表す。以下にて同じ。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔ（Ｍｅｔはアルカリ金属（主にナトリウム）を表す。以下にて同じ。）で表される化合物とを混合して縮合させる（ウイリアムソン合成）。なお、式中、Ｄ１及びＤ２は任意の有機基を表す（以下にて同じ。）
（ｉｉ）式：Ｄ１−ｈａｌで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
（ｉｉｉ）式：Ｄ１−Ｊ（Ｊはエポキシ基を表す。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
（ｉｖ）式：Ｄ１−ｏｆｎ（ｏｆｎは不飽和結合を有する基を表す。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔで表される化合物を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して付加反応させる。
（ｖ）式：Ｄ１−ｈａｌで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔで表される化合物とを、銅あるいは塩化第一銅存在下、混合して縮合させる（ウルマン縮合）。【００７９】
エステル結合及びアミド結合の形成は、例えば、以下のようにして行うことができる。
（ｖｉ）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物とを、脱水縮合剤（Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド等）の存在下に脱水縮合させる。
（ｖｉｉ）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物にハロゲン化剤を作用させることにより、式：Ｄ１−ＣＯ−ｈａｌで表される化合物を得、このものと式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させる。
（ｖｉｉｉ）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物に酸無水物を作用させることにより、混合酸無水物を得た後、このものに、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物を反応させる。
（ｉｘ）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物とを、酸触媒あるいは塩基触媒の存在下に脱水縮合させる。【００８０】
製造方法１で用いるカルボニル化合物（１）は、例えば、前記のようにして得られる化合物（１０）等を用い、以下に示す反応により製造することができる。【００８１】
【化１２】
0006015655.tif 000013
【００８２】
（式中、Ｙ１’、Ｙ３、Ｙ５、Ｇ１、Ｚ１、Ａ１、Ａ２、Ｑ１、Ｌは、前記と同じ意味を表す。）
すなわち、化合物（７）と、２倍当量の化合物（１０）を反応させることにより、式（１）中、式：Ｚ２−Ｙ６−Ｇ２−Ｙ４−Ａ３−Ｙ２−で表される基が、式：Ｚ１−Ｙ５−Ｇ１−Ｙ３−Ａ２−Ｙ１−で表される基と同一であり、Ｙ１が、Ｙ１’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基である化合物（１’）を得ることができる。この反応は、前記製造方法１のステップ２の反応と同様にして行うことができる。【００８３】
製造方法１で用いる化合物（２）のうち、ｎが１である化合物（２’）は、例えば、次のようにして製造することができる。【００８４】
【化１３】
0006015655.tif 000014
【００８５】
（式中、Ｑ２、Ｑ３、Ａ４、Ａ６、Ｘは、前記と同じ意味を表す。）
すなわち、式（１４）で表される化合物（化合物（１４））と、２倍当量以上のヒドラジン（１３）とを、適当な溶媒中で反応させることにより、化合物（１５）を製造し、このものと、１倍当量の式（１６）で表される化合物（化合物（１６））とを、適当な溶媒中で反応させることにより、目的とする化合物（２’）を得ることができる。
なお、ヒドラジン（１３）としては、通常、１水和物のものを用いる。ヒドラジン（１３）は、市販品をそのまま使用することができる（以下にて同じ。）。【００８６】
いずれの反応に用いる溶媒も、反応に不活性なものであれば特に限定されず、前記製造方法１のステップ１で用いることができるとして例示したのと同様のものが挙げられる。【００８７】
反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。【００８８】
化合物（２）のうち、ｎが０である化合物（２”）は、下記に示すように、化合物（１６）に、１倍当量のヒドラジン（１３）を反応させることにより得ることができる。【００８９】
【化１４】
0006015655.tif 000015
【００９０】
（式中、Ａ４、Ａ６は、前記と同じ意味を表す。）【００９１】
なお、製造方法２で用いる化合物（８）は、例えば、化合物（２）に、製造方法１のステップ２と同様にして、１倍当量の化合物（４）を反応させた後、さらに、製造方法１のステップ３と同様にして、１倍当量の化合物（６）を反応させることにより製造することができる。【００９２】
〈製造方法３〉
また、式：Ｚ２−Ｙ６−Ｇ２−Ｙ４−Ａ３−Ｙ２’−で表される基、式：Ｚ３−Ｙ９−Ｇ３−Ｙ８−Ａ５−Ｙ７’−で表される基、式：Ｚ４−Ｙ１２−Ｇ４−Ｙ１１−Ａ７−Ｙ１０’−で表される基が、いずれも式：Ｚ１−Ｙ５−Ｇ１−Ｙ３−Ａ２−Ｙ１’−で表される基と同一である、式（Ｉ−５）で表される重合性化合物（重合性化合物（Ｉ−５））は、下記反応式で示すようにして製造することができる。【００９３】
【化１５】
0006015655.tif 000016
【００９４】
（式中、Ｙ１’、Ｙ３、Ｙ５、Ｇ１、Ｚ１、Ａ１、Ａ２、Ａ４、Ａ６、Ｑ１〜Ｑ３、ｎ、Ｘ、Ｌは、前記と同じ意味を表す。）
すなわち、製造方法２のステップ１において、化合物（８）の代わりに、製造方法１で用いる化合物（２）を、化合物（７）と反応させて、式（１７）で表される化合物を得、このものに、製造方法２のステップ２と同様にして、４倍当量以上の化合物（１０）を反応させて、目的とする本発明の重合性化合物（Ｉ−５）を製造することができる。【００９５】
いずれの反応においても、反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、カラムクロマトグラフィー、再結晶法、蒸留法等の公知の分離・精製手段を施すことにより、目的物を単離することができる。【００９６】
目的とする化合物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定することができる。【００９７】
２）重合性組成物
本発明の第２は、本発明の重合性化合物、及び重合開始剤を含有する重合性組成物である。重合開始剤は本発明の重合性化合物の重合反応をより効率的に行う観点から配合される。【００９８】
用いる重合開始剤としては、重合性化合物が有する重合性基の種類に応じて適宜なものを選択して使用すればよい。例えば、重合性基がラジカル重合性であればラジカル重合開始剤を、アニオン重合性の基であればアニオン重合開始剤を、カチオン重合性の基であればカチオン重合開始剤を、それぞれ使用すればよい。【００９９】
ラジカル重合開始剤としては、加熱することにより、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である熱ラジカル発生剤；と、可視光線、紫外線（ｉ線など）、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の露光光の露光により、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である光ラジカル発生剤；のいずれも使用可能であるが、光ラジカル発生剤を使用するのが好適である。【０１００】
光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ−アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、イミドスルホナート系化合物等を挙げることができる。これらの化合物は、露光によって活性ラジカルまたは活性酸、あるいは活性ラジカルと活性酸の両方を発生する成分である。光ラジカル発生剤は、一種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。【０１０１】
アセトフェノン系化合物の具体例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１，２−オクタンジオン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４’−モルフォリノブチロフェノン等を挙げることができる。【０１０２】
ビイミダゾール系化合物の具体例としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。【０１０３】
本発明においては、光重合開始剤としてビイミダゾール系化合物を用いる場合、水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。【０１０４】
メルカプタン系化合物としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。アミン系化合物としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等を挙げることができる。【０１０５】
トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。【０１０６】
Ｏ−アシルオキシム系化合物の具体例としては、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−ヘプタン−１，２−ジオン  ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−オクタン−１，２−ジオン  ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−〔４−（ベンゾイル）フェニル〕−オクタン−１，２−ジオン  ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン  １−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−［９−エチル−６−（３−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン  １−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−（９−エチル−６−ベンゾイル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）−エタノン  １−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）ベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等を挙げることができる。【０１０７】
光ラジカル発生剤は市販品をそのまま用いることもできる。具体例としては、ＢＡＳＦ社製の、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、及び商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＯＸＥ０２、ＡＤＥＫＡ社製の、商品名：アデカオプトマーＮ１９１９等が挙げられる。【０１０８】
前記アニオン重合開始剤としては、アルキルリチウム化合物；ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩又はモノナトリウム塩；ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤；等が挙げられる。【０１０９】
また、前記カチオン重合開始剤としては、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸；三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズのようなルイス酸；芳香族オニウム塩又は芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系；が挙げられる。
これらの重合開始剤は一種単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の重合性組成物において、重合開始剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、０．１〜３０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部である。【０１１０】
また、本発明の重合性組成物には、表面張力を調整するために、界面活性剤を配合するのが好ましい。当該界面活性剤としては、特に限定はないが、通常、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いればよく、例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤、例えば、セイミケミカル（株）製ＫＨ−４０等が挙げられる。本発明の重合性組成物において、界面活性剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．１〜２重量部である。【０１１１】
また、本発明の重合性組成物には、さらに、後述の他の共重合可能な単量体、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等の、その他の添加剤を配合してもよい。本発明の重合性組成物において、その他の添加剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、各々０．１〜２０重量部である。【０１１２】
本発明の重合性組成物は、通常、本発明の重合性化合物、重合開始剤、及び所望によりその他の添加剤の所定量を適当な有機溶媒に混合・溶解させることにより、調製することができる。【０１１３】
用いる有機溶媒としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類；等が挙げられる。【０１１４】
以上のようにして得られる重合性組成物は、後述するように、本発明の高分子や光学異方体の製造原料として有用である。【０１１５】
３）高分子
本発明の第３は、（１）本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子、又は、（２）本発明の重合性組成物を重合して得られる高分子である。
ここで、「重合」とは、通常の重合反応のほか、架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。【０１１６】
（１）本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子
本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子としては、本発明の重合性化合物の単独重合体、本発明の重合性化合物の２種以上からなる共重合体、又は、本発明の重合性化合物と他の共重合可能な単量体との共重合体が挙げられる。【０１１７】
前記他の共重合可能な単量体としては、特に限定されるものではなく、例えば、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−メトキシフェニル、４−（６−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸ビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−３’，４’−ジフルオロフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸ナフチル、４−アクリロイルオキシ−４’−デシルビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−シアノビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−メトキシビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−（４”−フルオロベンジルオキシ）−ビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−プロピルシクロヘキシルフェニル、４−メタクリロイル−４’−ブチルビシクロヘキシル、４−アクリロイル−４’−アミルトラン、４−アクリロイル−４’−（３，４−ジフルオロフェニル）ビシクロヘキシル、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−アミルフェニル）、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−（４’−プロピルシクロヘキシル）フェニル）等が挙げられる。市販品としては、具体的にＬＣ−２４２（商品；ＢＡＳＦ社製）を挙げることができる。【０１１８】
また、上記に例示した単量体以外にも、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基等の重合性不飽和基を複数個有する多官能単量体を使用することができる。
このような多官能単量体としては、１，２−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等のアルカンジオールジアクリレート類；１，２−ブタンジオールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタリレート等のアルカンジオールジメタクリレート類；エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート等のポリエチレングリコールジアクリレート類；プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート等のポリプロピレングリコールジアクリレート類；エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート等のポリエチレングリコールジメタクリレート類；プロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート等のポリプロピレングリコールジメタクリレート類；エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル等のポリエチレングリコールジビニルエーテル類；エチレングリコールジアリルエーテル、ジエチレングリコールジアリルエーテル、トリエチレングリコールジアリルエーテル、テトラエチレングリコールジアリルエーテル等のポリエチレングリコールジアリルエーテル類；ビスフェノールＦエトキシレートジアクリレート；ビスフェノールＦエトキシレートジメタクリレート；ビスフェノールＡエトキシレートジアクリレート；ビスフェノールＡエトキシレートジメタクリレート；トリメチロールプロパントリアクリレート；トリメチロールプロパントリメタクリレート；トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート；トリメチロールプロパンエトキシレートトリメタクリレート；トリメチロールプロパンプロポキシレートトリアクリレート；トリメチロールプロパンプロポキシレートトリメタクリレート；イソシアヌル酸エトキシレートトリアクリレート；グリセロールエトキシレートトリアクリレート；グリセロールプロポキシレートトリアクリレート；ペンタエリスリトールエトキシレートテトラアクリレート；ジトリメチロールプロパンエトキリレートテトラアクリレート；ジペンタエリスリトールエトキシレートヘキサアクリレート等が挙げられる。【０１１９】
本発明の重合性化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等の（共）重合は、必要に応じて、適当な重合開始剤の存在下に行うことができる。重合開始剤の使用割合としては、前記重合性組成物中の重合性化合物に対する配合割合と同様でよい。【０１２０】
本発明の高分子が、本発明の重合性化合物と、その他の共重合可能な単量体との共重合体である場合、本発明の重合性化合物単位の含有量は、特に限定されるものではないが、全構成単位に対して５０重量％以上が好ましく、７０重量％以上がより好ましい。かかる範囲にあれば、高分子のガラス転移温度（Ｔｇ）が高く、高い膜硬度が得られるため好ましい。【０１２１】
前記（１）の高分子は、より具体的には、（Ａ）必要に応じて、適当な重合開始剤の存在下、前記重合性化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等との（共）重合を適当な有機溶媒中で重合反応を行った後、目的とする高分子を単離し、得られる高分子を適当な有機溶媒に溶解して溶液を調製し、この溶液を適当な基板上に塗工して得られた塗膜を乾燥後、所望により加熱することにより得る方法、（Ｂ）前記重合性化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等を、必要に応じて、重合開始剤と共に有機溶媒に溶解した溶液を、公知の塗工法により基板上に塗布した後、脱溶媒し、次いで加熱又は活性エネルギー線を照射することにより重合反応を行う方法等により好適に製造することができる。
用いる重合開始剤としては、前記重合性組成物の成分として例示したのと同様のものが挙げられる。【０１２２】
前記（Ａ）の方法で重合反応に用いる有機溶媒としては、不活性なものであれば、特に制限されず、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素；シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類；等が挙げられる。これらの中でも、取り扱い性に優れる観点から、沸点が６０〜２５０℃のものが好ましく、６０〜１５０℃のものがより好ましい。【０１２３】
（Ａ）の方法による場合、高分子を溶解するための有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶剤；等が挙げられる。【０１２４】
前記（Ｂ）の方法で用いる有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶剤；等が挙げられる。これらの中でも、取り扱いが容易な点から、溶媒の沸点が６０〜２００℃のものが好ましい。【０１２５】
用いる基板としては、有機、無機を問わず、公知慣用の材質のものを使用することができる。例えば、有機材料としてはポリシクロオレフィン〔例えば、ゼオネックス、ゼオノア（登録商標；日本ゼオン社製）、アートン（登録商標；ＪＳＲ社製）、及びアペル（登録商標；三井化学社製）〕、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース、三酢酸セルロース、ポリエーテルスルホン等が挙げられ、無機材料としてはシリコン、ガラス、方解石等が挙げられ、中でも有機材料が好ましい。
また、用いる基板は、単層のものであっても、積層体であってもよい。
基板としては、有機材料が好ましく、この有機材料をフィルムとした樹脂フィルムが更に好ましい。【０１２６】
（Ａ）の方法において高分子の溶液を基板に塗布する方法、（Ｂ）の方法において重合反応用の溶液を基板に塗布する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばカーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法等が挙げられる。【０１２７】
（２）本発明の重合性組成物を重合して得られる高分子
本発明の重合性組成物を重合することにより、本発明の高分子を容易に得ることができる。本発明においては、重合反応をより効率的に行う観点から、前記したような重合開始剤、特に光重合開始剤を含む重合性組成物を用いるのが好ましい。【０１２８】
具体的には、前記（Ｂ）の方法、即ち、本発明の重合性組成物を、基板上に塗布し、重合させることによって、本発明の高分子を得ることが好適である。用いる基板としては、後述する光学異方体の作製に用いられる基板等が挙げられる。【０１２９】
本発明の重合性組成物を基板上に塗布する方法としては、バーコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ダイコーティング、キャップコーティング、ディッピング法等の公知慣用のコーティング法が挙げられる。このとき、塗工性を高めるために、本発明の重合性組成物に公知慣用の有機溶媒を添加してもよい。この場合は、本発明の重合性組成物を基板上に塗布後、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等で有機溶媒を除去するのが好ましい。【０１３０】
本発明の重合性化合物又は重合性組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。【０１３１】
照射時の温度は、３０℃以下とすることが好ましい。紫外線照射強度は、通常、１Ｗ／ｍ２〜１０ｋＷ／ｍ２の範囲、好ましくは５Ｗ／ｍ２〜２ｋＷ／ｍ２の範囲である。【０１３２】
本発明の重合性化合物又は重合性組成物を重合させて得られる高分子は、基板から剥離して単体で使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学フィルムの有機材料等として使用することもできる。【０１３３】
以上のようにして得られる本発明の高分子の数平均分子量は、好ましくは５００〜５００，０００、更に好ましくは５，０００〜３００，０００である。該数平均分子量がかかる範囲にあれば、高い膜硬度が得られ、取り扱い性にも優れるため望ましい。高分子の数平均分子量は、単分散のポリスチレンを標準試料とし、テトラヒドロフランを溶離液としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。【０１３４】
本発明の高分子は、架橋点が分子内で均一に存在すると推定され、架橋効率が高く、硬度に優れている。
本発明の高分子によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで得ることができる。【０１３５】
４）光学異方体
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とするものである。
本発明の光学異方体は、例えば、基板上に配向膜を形成し、該配向膜上に、さらに、本発明の高分子からなる液晶層を形成することによって、得ることができる。【０１３６】
配向膜は、有機半導体化合物を面内で一方向に配向規制するために基板の表面に形成される。
配向膜は、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリマーを含有するものである。配向膜は、このようなポリマーを含有する溶液（配向膜用組成物）を基板上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで、得ることができる。
配向膜の厚さは０．００１〜５μｍであることが好ましく、０．００１〜１μｍであることがさらに好ましい。【０１３７】
本発明においては、配向膜あるいは基板にラビング処理を施すことができる。ラビング処理の方法は、特に制限されないが、例えばナイロン等の合成繊維、木綿等の天然繊維からなる布やフェルトを巻き付けたロールで一定方向に配向膜を擦る方法が挙げられる。ラビング処理した時に発生する微粉末（異物）を除去して配向膜の表面を清浄な状態とするために、ラビング処理後に配向膜をイソプロピルアルコール等によって洗浄することが好ましい。
また、ラビング処理する方法以外に、配向膜の表面に偏光紫外線を照射する方法によっても、配向膜にコレステリック規則性を持つコレステリック液晶層を面内で一方向に配向規制する機能を持たせることができる。【０１３８】
本発明において、配向膜上に本発明の高分子からなる液晶層を形成する方法としては、前記本発明の高分子の項で記載したのと同様の方法が挙げられる。【０１３９】
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料としているので、低コストで製造可能で、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面でも優れたものである。【０１４０】
本発明の光学異方体としては、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等が挙げられる。
【実施例】
【０１４１】
以下、本発明を、実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。【０１４２】
（実施例１）  化合物１の合成【０１４３】
【化１６】
0006015655.tif 000017
【０１４４】
〈ステップ１〉  中間体Ａの合成【０１４５】
【化１７】
0006015655.tif 000018
【０１４６】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド２０ｇ（１４４．８ｍｍｏｌ）、４−（６−アクリロイル−ヘクス−１−イルオキシ）安息香酸（ＤＫＳＨ社製）１０５．８ｇ（３６２．０ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン５．３ｇ（４３．４ｍｍｏｌ）、及びＮ−メチルピロリドン２００ｍｌを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）８３．３ｇ（４３４．４ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃にて１２時間攪拌した。
反応終了後、反応液を水１．５リットルに投入し、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９：１（体積比）)により精製し、白色固体として中間体Ａを７５ｇ得た（収率：７５．４％）。目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。【０１４７】
（中間体Ａの１Ｈ−ＮＭＲデータ）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．２０（ｓ，１Ｈ）、８．１８−８．１２（ｍ，４Ｈ）、７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、７．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、７．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．００−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．６Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０８−４．０４（ｍ，４Ｈ）、１．８８−１．８１（ｍ，４Ｈ）、１．７６−１．６９（ｍ，４Ｈ）、１．５８−１．４２（ｍ，８Ｈ）【０１４８】
〈ステップ２〉  中間体Ｂの合成【０１４９】
【化１８】
0006015655.tif 000019
【０１５０】
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン１水和物３．５１ｇ（７０．０ｍｏｌ）、１−プロパノール１５ｍｌ、及び４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン１.５ｇ（７．００ｍｏｌ）を入れ、全容を７時間還流させた。
反応終了後、反応液を２５℃まで冷却した後、飽和重曹水１００ｍｌに投入し、クロロホルム５０ｍｌで３回抽出した。クロロホルム層を集め、飽和食塩水５０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにてろ液からクロロホルムを減圧留去して、白色固体として中間体Ｂを1．６ｇ得た。得られた固体を乾燥して、精製は行わず、そのまま次の反応に用いた。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。【０１５１】
（中間体Ｂの１Ｈ−ＮＭＲデータ）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：９．６４（ｓ，１Ｈ）、９．３９（ｓ，１Ｈ）、７．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．８６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、５．８２（ｓ，２Ｈ）【０１５２】
〈ステップ３〉  中間体Ｃの合成【０１５３】
【化１９】
0006015655.tif 000020
【０１５４】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ１で合成した中間体Ａ  ２．４ｇ（３．４９ｍｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍｌを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、前記ステップ２で合成した中間体Ｂ  １．０ｇ（４．３８ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸１０ｍｇ（０．４３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３ｍｌに溶解した溶液を、ゆっくりと加えた。その後、全容を２５℃にて２時間撹拌した。
反応終了後、反応液を飽和重曹水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を集め、飽和食塩水１００ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝７０：３０（体積比）)により精製し、黄色固体として中間体Ｃを１．９ｇ得た（収率：６０．７％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。【０１５５】
（中間体Ｃの１Ｈ−ＮＭＲデータ）
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．７０（ｓ，１Ｈ）、８．１１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、８．０９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．４８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．３０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．２７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．９４（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．７５−６．７２（ｍ，４Ｈ）、６．４１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．４０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１２８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１２６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８３３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．８３０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．０３４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．０３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．８５−１．７９（ｍ，４Ｈ）、１．７５−１．６９（ｍ，４Ｈ）、１．５５−１．４２（ｍ，８Ｈ）【０１５６】
〈ステップ４〉  化合物１の合成
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ３で合成した中間体Ｃ  １．０ｇ（１．１１ｍｍｏｌ）、４−（６−アクリロイル−ヘクス−１−イルオキシ）安息香酸（ＤＫＳＨ社製）０．８ｇ（２．７４ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．３４ｇ（２．７４ｍｍｏｌ）、及びＮ−メチルピロリドン２０ｍｌを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、ＷＳＣ  ０．６３ｇ（３．２９ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃にて１４時間攪拌した。
反応終了後、反応液を水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９５：５（体積比）)により精製し、淡黄色固体として化合物１を１．０ｇ得た（収率：６２．３％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。【０１５７】
（化合物１の１Ｈ−ＮＭＲデータ）
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．７０（ｓ，１Ｈ）、８．１７−８．１０（ｍ，８Ｈ）、７．７６−７．７３（ｍ，３Ｈ）、７．４１−７．３８（ｍ，２Ｈ）、７．３４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．２９−７．２７（ｍ，３Ｈ）、７．２３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９９−６．９３（ｍ，８Ｈ）、６．４１０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．４０７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１７．５Ｈｚ）、６．１３１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１２７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．８２２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．２０−４．１７（ｍ，８Ｈ）、４．０７−４．０２（ｍ，８Ｈ）、１．８９−１．８２（ｍ，８Ｈ）、１．７６−１．７０（ｍ，８Ｈ）、１．５８−１．４３（ｍ，１６Ｈ）【０１５８】
〈相転移温度の測定〉
実施例１で得た化合物１、及び、下記に示す比較例１で使用する参考例１の化合物１ｒ（特開２００８−２９１２１８号公報に開示の化合物）、比較例２で使用する参考例２の化合物２ｒ（ＢＡＳＦ社製、商品名：ＬＣ２４２）につき、以下に示す方法で相転移温度を測定した。【０１５９】
【化２０】
0006015655.tif 000021
【０１６０】
【化２１】
0006015655.tif 000022
【０１６１】
すなわち、化合物１、参考例１の化合物１ｒ、及び参考例２の化合物２ｒをそれぞれ１０ｍｇ計量し、固体状態のままで、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板（商品名：配向処理ガラス基板；Ｅ．Ｈ．Ｃ．Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）２枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、５０℃から２００℃まで昇温した後、再び５０℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏光光学顕微鏡（ニコン社製、ＥＣＬＩＰＳＥ  ＬＶ１００ＰＯＬ型）で観察した。
相転移温度の測定結果を下記表１に示す。
表１中、「Ｃ」はＣｒｙｓｔａｌ、「Ｎ」はＮｅｍａｔｉｃ、「Ｉ」はＩｓｏｔｒｏｐｉｃをそれぞれ表す。ここで、Ｃｒｙｓｔａｌとは、試験化合物が固相にあることを、Ｎｅｍａｔｉｃとは、試験化合物がネマチック液晶相にあることを、Ｉｓｏｔｒｏｐｉｃとは、試験化合物が等方性液体相にあることを、それぞれ示す。【０１６２】
【表１】
0006015655.tif 000023
【０１６３】
（実施例２、比較例１、２）
実施例１で得た化合物１、参考例１の化合物１ｒ、及び参考例２の化合物２ｒのそれぞれを１ｇ、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製、アデカオプトマーＮ−１９１９）を３０ｍｇ、界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル社製、ＫＨ−４０）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇをシクロペンタノン２．３ｇに溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物１、１ｒ、及び２ｒをそれぞれ得た。【０１６４】
得られた重合性組成物１、１ｒ、２ｒを、下記の方法にて重合させて高分子を得た。得られた高分子のそれぞれについて、位相差の測定と波長分散の評価を行った。【０１６５】
〈位相差の測定と波長分散の評価〉
（ｉ）配向膜を有する透明樹脂基材の作製
厚み１００μｍの、脂環式オレフィンポリマーからなるフィルム（日本ゼオン社製、商品名：ゼオノアフィルムＺＦ１６−１００）の両面をコロナ放電処理した。当該フィルムの片面に、５％のポリビニルアルコールの水溶液を♯２のワイヤーバーを使用して塗布し、塗膜を乾燥し、膜厚０．１μｍの配向膜を形成した。次いで、当該配向膜をラビング処理し、配向膜を有する透明樹脂基材を作製した。【０１６６】
（ｉｉ）液晶層の形成
上記で得た、配向膜を有する透明樹脂基材の、配向膜を有する面に、重合性組成物１、１ｒ、２ｒを、♯４のワイヤーバーを使用して塗布した。得られた塗膜を表２に示す温度（乾燥温度）で３０秒間乾燥した後、表２に示す温度（配向処理温度）で１分間配向処理し、膜厚約１．５μｍの液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。【０１６７】
（ｉｉｉ）位相差の測定
得られた試料につき、４００ｎｍから８００ｎｍ間の位相差を、エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、ＸＬＳ−１００型）を用いて測定した。【０１６８】
（ｉｖ）波長分散の評価
測定した位相差を用いて、以下のように算出されるα、β値から波長分散を評価した。
逆波長分散性を示す場合、αは１より小となり、βは１より大となり、フラットな波長分散を有している場合、αとβは同程度の値となる。【０１６９】
【数１】
0006015655.tif 000024
【０１７０】
【数２】
0006015655.tif 000025
【０１７１】
【表２】
0006015655.tif 000026
【０１７２】
表２から、実施例１で得られた高分子のαとβは同程度であり、フラットな波長分散を有していることが分かる
これに対し、比較例１及び比較例２で得られた高分子は、αは１よりかなり大きく、αの値とβの値の差が大きいものであった。