(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生する複数の吐出エネルギー発生素子を有する基板と、前記液体を吐出する複数の吐出口からなる吐出口群と該吐出口群に連通する流路とを構成する吐出口形成部材と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（１）前記基板の上に前記吐出口形成部材の材料としての感光性樹脂を配置する工程と、
（２）前記感光性樹脂に紫外光を用いて前記吐出口群の露光パターンを形成する工程と、
を有し、
前記工程（２）において、前記吐出口群の露光パターンは、該吐出口群の長手方向の中央付近で第一の吐出口群の露光パターンと第二の吐出口群の露光パターンとに分けられてそれぞれ、ショットパターンを有するマスクを用いた第一の露光及び第二の露光により形成され、該露光では、前記第一の吐出口群における露光パターンのテレセン性が大きい側と前記第二の吐出口群における露光パターンのテレセン性が大きい側とが対向するように前記第一の吐出口群の露光パターンと前記第二の吐出口群の露光パターンとが形成され、
前記ショットパターンは、前記露光に用いる露光装置のレンズの半径方向に沿って、かつレンズの中央から外周に相当する範囲内に配置されることを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生する複数の吐出エネルギー発生素子を有する基板と、前記液体を吐出する複数の吐出口からなる吐出口群と該吐出口群に連通する流路とを構成する吐出口形成部材と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（１）前記基板の上に前記吐出口形成部材の材料としての感光性樹脂を配置する工程と、
（２）前記感光性樹脂に紫外光を用いて前記吐出口群の露光パターンを形成する工程と、を有し、
前記工程（２）において、前記吐出口群は長手方向において分割されて露光され、該露光は、テレセン性の大きい領域同士が対向するようにそれぞれ行われ、
前記吐出口群の長手方向の断面において、隣接する吐出口間の間隔が、前記テレセン性が大きい領域が対向する位置に近づくに従って狭くなることを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記吐出口群の長手方向の断面において、隣接する吐出口間の間隔が、前記テレセン性が大きい領域が対向する位置に近づくに従って狭くなる請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記吐出口群の長手方向の断面において、隣接する流路間の間隔が、前記テレセン性が大きい領域が対向する位置に近づくに従って狭くなる請求項２又は３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記吐出口群の長手方向の断面において、隣接する前記吐出エネルギー発生素子間の間隔が、前記テレセン性が大きい領域が対向する位置に近づくに従って狭くなる請求項２乃至４に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記吐出口群の長手方向の断面において、前記流路の中心線と、該流路に対応する吐出口の流路と接する部分における中心線と、が一致する請求項２乃至４のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記吐出口群の長手方向の断面において、前記流路の中心線と該流路に対応する吐出口の流路と接する部分における中心線と、該流路に対応する前記吐出エネルギー発生素子の中心線と、が一致する請求項６に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記流路、前記吐出口及び前記吐出エネルギー発生素子のうち少なくとも１種が前記吐出口から吐出される前記液体の着弾位置が均等になるように配置位置が調整されて形成されている請求項１乃至７のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記工程（１）の前に、前記基板の上にポジ型感光性樹脂を用いて前記流路の型材としての流路パターンを形成する工程を有し、
前記工程（１）において、前記感光性樹脂は前記流路パターン及び前記基板の上に配置される請求項１乃至８のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記露光は、縮小光学系の露光装置を用いて行われる請求項１乃至９のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体を吐出する液体吐出ヘッドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液体を吐出する液体吐出ヘッドには、例えば、インクを被記録媒体に吐出して記録を行うインクジェット記録方式が用いられる。
【０００３】
液体吐出ヘッドの製造方法として、投影方式のｉ線露光装置を用いる方法が特許文献１に開示されている。特許文献１における液体吐出ヘッドは、吐出エネルギー発生素子を有する基板と、吐出口と液体流路構成する吐出口形成部材と、を有する。まず、基板上にポジ型感光性樹脂を用いて液体流路の流路パターンを形成する。次に、該流路パターン上に吐出口形成部材の材料としてネガ型感光性樹脂を形成する。そして、該ネガ型感光性樹脂をｉ線を用いて露光し、パターニングすることにより、吐出口を形成する。
【０００４】
このような方法により、良好な円形形状の吐出口を再現良くかつ簡便に得ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−１６６４９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
投影方式のｉ線を用いた露光装置により画角サイズ以上のインクジェット記録ヘッドの吐出口群を形成する場合、吐出口群が画角に収まるように加工するために、分割して露光する方法が一般的に採用されている。つまり、ノズルチップの長手方向に分割して露光する事が行われる。分割して露光する場合、分割した境界部分（以下、つなぎ部とも称す。）を画角における外周側に配置すると、該境界部分付近の吐出口がｉ線露光装置の光学系に起因するテレセントリック性の影響を受けて形成される。テレセントリック性の影響を受けて吐出口が基板垂直方向から傾いて形成されると、つなぎ部近傍の吐出口から吐出される液体が理想の着弾位置から大きくずれて着弾される。したがって、このような吐出口を有するインクジェット記録ヘッドを用いてインクを被記録媒体に吐出して記録を行うと、つなぎ部近傍の吐出口群により形成される画像ドットが着弾位置ずれを起こし、画像品位が低下する。
【０００７】
そこで、本発明は、液体吐出ヘッドの吐出口群を分割して加工する方法において、テレセントリック性の影響を低減可能な液体吐出ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、
液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生する複数の吐出エネルギー発生素子を有する基板と、前記液体を吐出する複数の吐出口からなる吐出口群と該吐出口群に連通する流路とを構成する吐出口形成部材と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（１）前記基板の上に前記吐出口形成部材の材料としての感光性樹脂を配置する工程と、
（２）前記感光性樹脂に紫外光を用いて前記吐出口群の露光パターンを形成する工程と、を有し、
前記工程（２）において、前記吐出口群の露光パターンは、該吐出口群の長手方向の中央付近で第一の吐出口群の露光パターンと第二の吐出口群の露光パターンとに分けられてそれぞれ、ショットパターンを有するマスクを用いた第一の露光及び第二の露光により形成され、該露光では、前記第一の吐出口群における露光パターンのテレセン性が大きい側と前記第二の吐出口群における露光パターンのテレセン性が大きい側とが対向するように前記第一の吐出口群の露光パターンと前記第二の吐出口群の露光パターンとが形成され、
前記ショットパターンは、前記露光に用いる露光装置のレンズの半径方向に沿って、かつレンズの中央から外周に相当する範囲内に配置されることを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。
また、本発明は、
前記工程（２）において、前記吐出口群は長手方向において分割されて露光され、該露光は、テレセン性の大きい領域同士が対向するようにそれぞれ行われ、
前記吐出口群の長手方向の断面において、隣接する吐出口間の間隔が、前記テレセン性が大きい領域が対向する位置に近づくに従って狭くなることを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。
【０００９】
本発明に係る製造方法によって得られる液体吐出ヘッドでは、テレセン性の影響を受けて傾いて形成される吐出口は吐出口群の中央側に配置される。つまり、テレセン性の影響を受けて吐出液の着弾のずれが生じる吐出口が吐出口群の中央側に配置される。吐出口群の中央側の吐出口は、着弾のずれの影響を顕著にうける記録媒体の先端若しくは後端部分に印字する事がない。したがって、本発明に係る製造方法により得られる液体吐出ヘッドは、テレセントリック性の影響による画像品位の低化が軽微な画像を得る事ができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の構成によれば、テレセントリック性の影響を低減可能な液体吐出ヘッドの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１（ａ）は、露光プロセスで使用するマスクの構成例を示す模式的平面図である。図１（ｂ）は、露光プロセスで露光により形成される露光パターンの例を示す模式図である。
【図２】本実施形態における露光工程を説明するための模式的平面図である。
【図３】図２に続き、本実施形態における露光工程を説明するための模式的平面図である。
【図４】一般的なインクジェット記録ヘッドの構成例を示す模式的斜視図である。
【図５】図４におけるＥ−Ｅ線における断面図を示す模式的断面図である。
【図６】紫外光（例えばｉ線）のステッパーを用いて吐出口の露光パターンを形成する工程のイメージをあらわす模式図である。
【図７】本実施形態の製造方法で得られるインクジェット記録ヘッドの構成例を説明するための模式的断面図である。
【図８】ｉ線光の中央部にショットパターンの中央が配置されるように二つに分割した吐出口群のパターンを均等に配置したマスクを示す模式的平面図である。
【図９】図８に示したマスクを用いて作製されたインクジェット記録ヘッドの構成例を示す模式的断面図である。
【図１０】実施形態２で得られるインクジェット記録ヘッドの構成例を示す模式的断面図である。
【図１１】実施形態３で得られるインクジェット記録ヘッドの構成例を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
また、以下の説明では、本発明の適用例として主にインクジェット記録ヘッドを例に挙げて説明するが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものではなく、バイオチップ作製用途や電子回路印刷用途の液体吐出ヘッド等にも適用できる。液体吐出ヘッドとしては、インクジェット記録ヘッドの他にも、例えばカラーフィルター製造ヘッド等も挙げられる。
【００１３】
図４は、一般的なインクジェット記録ヘッドの構成例を示す模式図である。図４において、吐出エネルギー発生素子２は記録素子基板１に所定のピッチで二列に形成されている。記録素子基板１には、シリコンの結晶異方性エッチングにより形成された供給口３が、吐出エネルギー発生素子２の二つの列の間に開口するように形成されている。また、記録素子基板１の上には吐出口形成部材４が形成されている。吐出口形成部材４は、複数の吐出口５からなる吐出口群と該吐出口群に連通する流路６を構成している。吐出口５は、各吐出エネルギー発生素子に対向する位置にそれぞれ形成されている。流路６は、供給口３と吐出口５とに連通する。
【００１４】
図５は、図４におけるＥ−Ｅ線を通り基板に垂直な面による吐出口形成部材４の概略断面図である。吐出口５は、吐出口形成部材４の表面に開口を有し、流路６と連通している。７は吐出口５におけるテーパー形状を有する側面を示している。また、８は、基板面に垂直な方向と該テーパー形状を有する側面との角度（テーパー角）を示す。
【００１５】
吐出口形成部材の形成方法としては、まず、記録素子基板１にポジ型感光性樹脂の層を形成し、フォトリソグラフ工程によりポジ型感光性樹脂をパターニングして、流路の型材となる流路パターンを形成する。次に、流路パターンが形成された記録素子基板１上に、吐出口形成部材４の材料としてのネガ型感光性樹脂の層を形成する。次に、吐出口マスク１０を介して紫外光（例えばｉ線）を用いてパターン露光し、現像処理をおこない、吐出口５を形成する。吐出口５を露光する装置としては、例えば、市販されているｉ線のステッパーを用いられる。
【００１６】
図６は、ｉ線のステッパーを用いて吐出口５のパターンを露光するプロセスのイメージを示す模式図である。１１は、記録素子基板１が複数配置されたウェハーであり、個々の記録素子基板１は後工程でダイサー等で切り出される。吐出口マスクには、吐出口パターン形成領域１２が設けられている。パターンを通過したレーザー光１４は、レンズユニット１３を介してウェハー上に投影され、吐出口のパターンを露光する。
【００１７】
以下に、本発明の実施形態について図を参照して説明する。
【００１８】
（実施形態１）
本実施形態では、紫外光（例えばｉ線）により、吐出口群を分割して露光する。本発明において、ｉ線のステッパーを用いることが好ましいが、特にこれに限定されるものではない。また、本実施形態では縮小光学系の露光装置が用いられる。
【００１９】
本実施形態では、まず、複数の吐出エネルギー発生素子を第一面に有する基板を用意し、該基板の第一面側にポジ型感光性樹脂を用いて流路の型材としての流路パターンを形成する。
【００２０】
次に、流路パターンと基板の上に吐出口形成部材の材料としての感光性樹脂を配置する。該感光性樹脂としては、例えば、ネガ型感光性樹脂を用いることができる。
【００２１】
次に、感光性樹脂に紫外光を用いて吐出口群の露光パターンを形成する。この際、吐出口群は長手方向において分割されて露光され、該露光は、テレセン性の大きい領域同士が対向するようにそれぞれ行われる。
【００２２】
以下に、露光プロセスについて詳細に説明する。
【００２３】
図１（ａ）は、露光プロセスで使用するマスクの構成例を示す模式的平面図である。図１（ｂ）は、露光プロセスで露光により形成される露光パターンの例を示す模式図である。図１において、１５は第一のショットパターンを示し、該第一のショットパターン１５を用いて露光された部分が第一の露光パターン４０ａに相当する。また、１６は第二のショットパターンを示し、該第二のショットパターンを用いて露光された部分が第二の露光パターン４０ｂに相当する。吐出口群に相当する露光パターン４０は、第一の露光パターン４０ａと第二の露光パターン４０ｂとで構成される。
【００２４】
図１（ａ）に示すように、露光プロセスで使用するマスク１０は第一のショットパターン１５と第二のショットパターン１６とを有する。
【００２５】
まず、図２に示すように、第一のショットパターン１５を用いて、１回目の露光（以下、第一の露光とも称す）を行い、吐出口群の下半分の露光パターン（第一の露光パターン４０ａ）を吐出口形成部材の材料としての感光性樹脂に形成する。そして、図３に示すように、第二のショットパターン１６を用いて、２回目の露光（以下、第二の露光とも称す）を行い、吐出口群の上半分の露光パターンを感光性樹脂に形成する。
【００２６】
ここで、図１（ａ）において、第一のショットパターン１５における１７はテレセン性の大きい部分に相当し、１８はテレセン性の小さい部分に相当する。つまり、第一のショットパターン１５を露光する際に、部分１７側はテレセン性の大きい露光位置に配置され、部分１８側をテレセン性の小さい露光位置に配置される。テレセン性の大きい露光位置とは、例えば、レンズの外周側に相当する位置のことであり、テレセン性の小さい露光位置とは、例えば、レンズの中央側に相当する位置のことである。したがって、第一のショットパターンは、露光装置のレンズの中央に相当する位置から外周に相当する位置に向かって、半径方向に配置されることが好ましい。つまり、露光時において、吐出口の露光パターンを形成するためのショットパターンは、レンズの中央から外周に向かう方向（半径方向）に沿って、レンズの中央から外周に相当する範囲内に配置することが好ましい。
【００２７】
また、第二のショットパターン１６における２０はテレセン性の大きい部分に相当し、１９はテレセン性の小さい部分に相当する。つまり、第二のショットパターン１６を露光する際に、部分２０側はテレセン性の大きい露光位置に配置され、部分１９側はテレセン性の小さい露光位置に配置される。
【００２８】
そして、第一の露光パターン４０ａと第二の露光パターン４０ｂとは、テレセン性の大きい部分１７及び２０で露光して形成された領域同士が対向するようにつないで吐出口パターン４０を構成する。一方、第一のショットパターン１５におけるテレセン性の小さい（良い）部分１８と第二のショットパターン１６におけるテレセン性の小さい（良い）部分１９は、それぞれ吐出口群の第一セグメントと最終セグメントに配置される事となる。
【００２９】
図２は、第一の露光により第一の露光パターン４０ａを形成する工程を説明するための模式的平面図である。図２において、２１ａは、第一の露光で用いる第一のマスクシャッターである。第一のマスクシャッター２１ａは、第一の露光の際に、第一のショットパターン１５の領域以外のレーザー光を遮断する。なお、マスクシャッターは第一の露光と第二の露光との切り替え時（ワークステージの移動時でもある。）に移動可能に構成されている。
【００３０】
図３は、第二の露光により第二の露光パターン４０ｂを形成する工程を説明するための模式的平面図である。図３において、２１ｂは、第二の露光で用いる第二のマスクシャッターである。第二のマスクシャッター２１ｂは、第二の露光の際に、第二のショットパターン１６の領域以外のレーザー光を遮断する。
【００３１】
露光装置はマスクパターンを縮小して露光する投影露光装置が用いられるため、吐出口の露光パターンはテレセントリック性の影響をうける。したがって、テレセン性が大きい部分で露光して形成された吐出口のテーパー角は、テレセン性の小さい部分で露光して形成された吐出口のテーパー角と比べて大きい角度となる。
【００３２】
図７は、本実施形態の製造方法により作製された液体吐出ヘッドの構成例を説明するための概略断面図である。図４におけるＥ−Ｅ線を通り基板に垂直な面における断面図である。なお、図７において、本願発明をイメージしやすいように、テーパー角等の構成について誇張して描かれている場合もある。
【００３３】
図７において、２２は、境界部（つなぎ部）である。２３は記録媒体である。２４はインク滴であり、各吐出口５から吐出されて記録媒体２３に着弾した状態を示す。２５は、吐出口群のなかの第一セグメントであり、２６は最終セグメントである。５０ａは、第一の露光により形成された第一の露光パターン４０ａに相当する第一の吐出口群である。５０ｂは、第二の露光により形成された第二の露光パターン４０ｂに相当する第二の吐出口願である。境界部は、吐出口群の中央付近に設けられることが好ましい。なお、境界部は本発明における吐出口群の中央付近を説明するための目安として図示されたものにすぎず、特に材料等が異なる部位を表示するものではない。第一の吐出口群５０ａの吐出口と第二の吐出口群５０ｂの吐出口は、個数の差が１０以下であることが好ましく、５以下であることがより好ましく、１以下であることがさらに好ましく、同じ個数であることが特に好ましい。また、図７において、流路６は等間隔に設けられている。
【００３４】
図７に示すように、本実施形態により形成される吐出口群は、吐出口群の長手方向の境界部２２を有し、該境界部２２で二つの領域（第一の吐出口群５０ａと第二の吐出口群５０ｂ）に分割して形成されている。また、第一の吐出口群５０ａは、境界部２２に近接する吐出口から第一セグメント２５の吐出口に向かって、吐出口のテーパー角８が徐々に小さくなる。また、第二の吐出口群５０ｂは、境界部２２に近接する吐出口から最終セグメント２６の吐出口に向かって、吐出口のテーパー角８が徐々に小さくなる。第一セグメント２５及び最終セグメント２６の吐出口は基板面に対してほぼ垂直方向に形成されることが好ましい。
【００３５】
本実施形態において、吐出口群の露光パターンは、該吐出口群の長手方向の中央付近で第一の吐出口群の露光パターンと第二の吐出口群の露光パターンとに分けられて形成される。そして、第一の吐出口の露光パターンのテレセン性が大きい側と第二の吐出口の露光パターンのテレセン性が大きい側とが対向するように第一の吐出口群の露光パターンと第二の吐出口群の露光パターンが形成される。露光パターンのテレセン性が大きい側とは、露光パターンのうち吐出口の傾きが大きく形成される側のことをいう。例えば、図７において、第一の露光パターンのうちテレセン性が大きい側は、境界部２２側のことを指す。
【００３６】
図７に示すような吐出口群を有する液体吐出ヘッドでは、第一セグメント２５と最終セグメント２６の吐出口からは記録媒体２３に向かってほぼ垂直にインクが吐出される。一方、境界部２２側に近いほど、吐出口はテレセン性の影響を受けて形成され、境界部側に傾いて形成されるため、インク滴２４は内側に向かって吐出される。
【００３７】
実際に図７に示すような吐出口群を有する記録素子基板１を作製し、吐出性能を評価したところ、良好な印字性能が認められた。
【００３８】
一方、比較として、図８のように、ｉ線光の中央部にショットパターンの中央が配置されるように二つに分割した吐出口群のパターンを均等に配置したマスクを用いて、吐出口群を形成した。該吐出口群を有する吐出口部材を用いてインクジェット記録ヘッドを作製した。このインクジェット記録ヘッドでは、記録媒体２３の前後端で画像の劣化がみられた。
【００３９】
また、図９は、図８に示した加工方法による、吐出口部材の断面の模式図である。図７からわかるよう、吐出口群９の第一セグメント２５と最終セグメント２６からのインク滴２４は、記録媒体２３に垂直に着弾しない。
【００４０】
本実施形態の製造方法は、長尺ヘッドのような、つなぎ露光をおこない、吐出口群９を加工する必要のあるインクジェット記録ヘッドを作製する際に有効である。長尺ヘッドのインクジェット記録ヘッドは、一般的に高速での印字が要求される媒体に利用される。長尺ヘッドのインクジェット記録ヘッドは、例えば、面積が広いポスターやバナー紙、旗などの記録媒体の印刷で使用される。このような記録媒体では、記録媒体の端部まで印刷される事は頻繁である。
【００４１】
なお、本実施形態では、図１〜３に示すような構成のマスクやマスクシャッターを用いて吐出口の露光パターンを形成した例を主に説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４２】
（実施形態２）
本実施形態２では、着弾制度を改善する手段について説明する。
【００４３】
本実施形態では、隣接する吐出口間の間隔を、吐出口群の境界部２２（テレセン性が大きい領域が対向する位置）に近づくに従って、暫時狭くなるようにマスク上で補正し、分割して吐出口の加工を行う。実施形態１では、第一セグメント２５と最終セグメント２６は記録媒体２３にほぼ垂直に着弾するが、境界部２２、つまり第一の吐出口群と第二の吐出口群が対向する位置に向かうに従って徐々に広がるように着弾する傾向がある。本実施形態では、この傾向を緩和する手段に関する。
【００４４】
図１０は、本実施形態における補正方法を説明するための吐出口群のイメージ図である。また、図１０において、流路６及び吐出エネルギー発生素子２の配置は図７と同じであり、等間隔に配置されている。５０ａは第一の露光で加工される第一の吐出口群あり、５０ｂは第二の露光で加工される第二の吐出口群である。第一の吐出口群５０ａを加工するための第一のショットパターン１５は、図７の場合と比べて、吐出口が第一セグメント２５側にずれて形成されるように吐出口に相当する開口パターンの配置位置が補正されている。そして、テレセン性の関係より、その補正量は、境界部２２に向かうにつれて大きくなり、第一セグメント２５に近づくにつれて小さくなる。一方、第二の吐出口群５０ｂを加工するための第二のショットパターン１６は、図７の場合と比べて、吐出口が最終セグメント２６側にずれて形成されるように吐出口に相当する開口パターンの配置位置が補正されている。そして、テレセン性の関係より、第一のショットパターンのように、その補正量は、境界部２２に向かうにつれて大きくなり、第一セグメント２５に近づくにつれて小さくなる。隣接する吐出口間の間隔は、例えば、図１０において、吐出口のうち流路と接する部分（流路との境界部分）における中心線と、該吐出口に隣接する吐出口の流路と接する部分における中心線と、の距離である。
【００４５】
上記構成により、テレセン性の影響で着弾のずれる方向を見越し吐出口の位置を補正する事となり、これによってもテレセントリック性の影響による画像品位の劣化が軽微な画像を得る事ができる。
【００４６】
実際にこのような、吐出口群を有する記録素子基板１を組み、インクジェット記録ヘッドにして印字をおこなったところ、良好な印字がえられた。特に、印刷のパス数が少ない場合での画像においては、実施形態１よりも高精細な画像を得ることができた。
【００４７】
（実施形態３）
実施形態２を説明する図１０においては、吐出口群の長手方向の断面における各流路６の中心線２９と、同断面における流路６に対する吐出口５の流路６と接する部位での中心線３０とは一致していない（図１０参照）。
【００４８】
本実施形態３では隣接する吐出口間の間隔を、吐出口群の境界部２２に近づくに従って暫時狭くなるようにマスク上で補正し、分割して吐出口の加工をおこなうと同時に、各吐出口５に対応するように、吐出エネルギー発生素子２と、流路６も補正したものである。図１１は、にその補正方法を説明するためのイメージ図である。３１は吐出口群９の長手方向の断面における吐出エネルギー発生素子２の中心線である。
【００４９】
図１１において、流路６に中心線２９と吐出口５の中心線３０は一致している。インクの飛翔に際する、インク流路６の壁からの抵抗が左右（吐出口群の長手方向）で均一になる。
【００５０】
また、吐出エネルギー発生素子２の中心部に、吐出口５とインク流路６がくるため（図１１における中心線２９と中心線３１が同軸となり、一致している）、吐出エネルギーに与えるインク流路６の影響を左右（吐出口群９の長手方向）で均一化する事ができる。これは、インク滴２４の飛翔を安定化させる。特に、吐出エネルギーとしてヒータを用いた発泡圧をもちいる形態では、その泡の消泡も均一化され吐出口５毎の差がなくなる。故に、発生する残留気泡も減り、吐出の信頼性も高くなる。
【００５１】
実際にこのような、吐出口群を有する吐出口形成部材を用いてインクジェット記録ヘッドを作製し、このインクジェット記録ヘッドで印字をおこなったところ、良好な印字がえられた。実施形態２よりも、高精細な画像を長期にわたり印刷する事ができた。
【００５２】
本実施形態では、実施形態１に対して、吐出エネルギー発生素子２と流路６と吐出口５との位置を補正した形態である。また、吐出エネルギー発生素子２の間隔変調による配線の引き回しが困難な場合は、インク流路６と吐出口５だけでも補正しても良い。また、流路６の間隔変調が、流路６の壁に微妙なひずみを与え、記録素子基板１との接合力に影響を与える場合は、吐出エネルギー発生素子２と吐出口５だけでも補正してもよい。したがって、本実施形態において、流路、吐出口及び吐出エネルギー発生素子のうち少なくとも１種が吐出口から吐出される液体の着弾位置が均等になるように配置位置が調整されて形成されることができる。
【００５３】
本実施形態に示すように、吐出口群に対応した各エネルギー発生素子群は、吐出口群の中央、つまりテレセン性が大きい領域が対向する位置にいくにつれ暫時、狭くなることが好ましい。このような構成により、吐出口に対して適切な基地に吐出エネルギー発生素子を配置する事ができ、効率の良い吐出をおこなう事がきできる。これは、吐出の信頼性を向上させる事にもつながる。隣接する吐出エネルギー発生素子間の間隔は、例えば、図１１において、吐出エネルギー発生素子の中心線と、該吐出エネルギー発生素子に隣接する吐出エネルギー発生素子の中心線と、の距離である。また、隣接する流路間の間隔は、例えば、図１１において、流路の中心線と、該流路に隣接する流路の中心線と、の距離である。
【００５４】
また、本実施形態に示すように、吐出口群の長手方向における断面において、各流路の中心線と、その流路に対応する吐出口の流路と接する部分における中心線とが一致することが好ましい。このような構成により、インク流路に中心位置に、吐出口を配置する事ができ、インクの飛翔に際する、インク流路の壁からの抵抗が左右（吐出口群の長手方向）で均一になる。これにより、吐出口からのインクの飛翔が良好になり、着弾精度をあげると共に、サテライトの発生をも抑制し、良好な画像の取得に寄与する。
【００５５】
また、本実施形態に示すように、吐出口群の長手方向における断面において、各流路の中心線とその流路に対応する吐出口の流路と接する部分における中心線と、その流路に対応するエネルギー発生素子の中心線とが一致することが好ましい。このような構成により、発生した吐出エネルギーに与えるインク流路の影響を左右で均一化（吐出口群の長手方向）する事ができる。これも、インク滴の飛翔を良好にし、良好な画像の取得に寄与する。
【符号の説明】
【００５６】
１・・・・・・・記録素子基板
２・・・・・・・吐出エネルギー発生素子
４・・・・・・・出口形成部材
５・・・・・・・吐出口
６・・・・・・・流路
７・・・・・・・テーパー角
９・・・・・・・吐出口群
１０・・・・・・・吐出口マスク
１４・・・・・・・レーザー光
１５・・・・・・・第一のショットパターン
１６・・・・・・・第二のショットパターン
２１ａ・・・・・・第一のマスクシャッター
２１ｂ・・・・・・第二のマスクシャッター
２２・・・・・・・境界部（つなぎ部）
２３・・・・・・・記録媒体
２４・・・・・・・インク滴
２５・・・・・・・第一セグメント
２６・・・・・・・最終セグメント
２９・・・・・・・流路の中心線
３０・・・・・・・吐出口の中心線
３１・・・・・・・吐出エネルギー発生素子の中心線
４０ａ・・・・・・第一の露光パターン
４０ｂ・・・・・・第二の露光パターン
５０ａ・・・・・・第一の吐出口群
５０ｂ・・・・・・第二の吐出口群
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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