(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（ｉ）、一般式（Ｍ−１）、一般式（Ｌ）および一般式（Ｍ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物のみから構成される化合物群が、液晶組成物全体のうち６８〜１００質量％含有されており、
一般式（ｉ）：
【化１】
0005958662.tif 000385
（上記一般式（ｉ）中、Ｒｉ１およびＲｉ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜１０個のアルキル基、炭素原子数２〜１０個のアルケニル基または炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基であり、前記Ｒｉ１またはＲｉ２の少なくともいずれか一方がアルケニル基である。）
一般式（Ｍ−１）：
【化２】
0005958662.tif 000386
（上記一般式（Ｍ−１）中、Ｒ１は炭素原子数１個〜１０個のアルケニル基を表し、
Ｒ２は、炭素原子数１〜１０個のアルキル基、炭素原子数２〜１０個のアルケニル基、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基、水素原子、フッ素原子、シアノ基、−ＣＦ３または−ＯＣＦ３を表し、
環Ａ、環Ｂは、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）と基（ｂ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ｎは０または１を表す。）
一般式（Ｌ）：
【化３】
0005958662.tif 000387
（上記一般式（Ｌ）中、ＲＬ１及びＲＬ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＯＬは０、１、２又は３を表し、
ＢＬ１、ＢＬ２及びＢＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）と基（ｂ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＬＬ１及びＬＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＯＬが２又は３であってＬＬ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＯＬが２又は３であってＢＬ３が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良いが、前記一般式（ｉ）および前記一般式（Ｍ−１）で表される化合物を除く）
一般式（Ｍ）：
【化４】
0005958662.tif 000388
（上記一般式（Ｍ）中、ＲＭ１は、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
ＣＭ１及びＣＭ２は、それぞれ独立して、
（ｄ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｅ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）と基（ｅ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＫＭ１及びＫＭ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＰＭが２、３又は４であってＫＭ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣＭ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
ＸＭ１及びＸＭ３は、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
ＸＭ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表すが、を除く）
前記一般式（ｉ）で表される化合物の液晶組成物の総質量に対しての含有量が６質量％以上３５質量％以下であり、
前記一般式（Ｍ−１）で表される化合物として、下記一般式（Ｍ−１−１）で表される化合物：
【化７】
0005958662.tif 000389
（上記一般式（Ｍ−１−１）中、Ｒ１は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｒ２は炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
で表される化合物を少なくとも１種以上を含有し、その含有量が９質量％以上５０質量％以下であり、
前記一般式（Ｍ）として一般式（Ｘ）：
【化３】
0005958662.tif 000390
（上記一般式（Ｘ）中、Ｘ１０１からＸ１０４はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ１０はフッ素原子、塩素原子、−ＯＣＦ３を表し、Ｑ１０は単結合または−ＣＦ２Ｏ−を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ａ１０１およびＡ１０２はそれぞれ独立して、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基または
【化４】
0005958662.tif 000391
【化５】
0005958662.tif 000392
【化６】
0005958662.tif 000393
を表すが、１，４−フェニレン基上の水素原子はフッ素原子によって置換されていてもよい。）
におけるＱ１０が−ＣＦ２Ｏ−である化合物を１〜３５質量％含有し、２９５Ｋにおける誘電率異方性が０より大きく５以下であり、
以下の化合物を含有しない液晶組成物。
【化８】
0005958662.tif 000394
【請求項２】
２５℃における屈折率異方性（Δｎ）が０．０８から０．１６であり、ネマチック相−等方性液体相転移温度（Ｔｎｉ）が６０℃から１２０℃であり、２５℃における粘度（η）が５から２０ｍＰａ・ｓである、請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項３】
一般式（Ｍ）：
【化９】
0005958662.tif 000395
（上記一般式（Ｍ）中、ＲＭ１は、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
ＣＭ１及びＣＭ２は、それぞれ独立して、
（ｄ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｅ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）と基（ｅ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＫＭ１及びＫＭ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＰＭが２、３又は４であってＫＭ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣＭ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
ＸＭ１及びＸＭ３は、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
ＸＭ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表すが、前記一般式（ｉ）、前記一般式（Ｍ−１）および一般式（Ｌ）で表される化合物を除く）
で表される少なくとも１種の化合物を０．５〜７０質量％含有する請求項１又は２に記載の液晶組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶組成物を使用した液晶表示素子。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶組成物を使用したことを特徴とするＩＰＳモード、ＯＣＢモード、ＥＣＢモード、ＶＡモード又はＦＦＳモード用液晶表示素子。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の液晶表示素子を使用したことを特徴とする液晶表示ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示材料として有用な誘電率異方性（Δε）が正の値を示すネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、時計、電卓をはじめとして、各種測定機器、自動車用パネル、ワードプロセッサー、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ、時計、広告表示板等に用いられるようになっている。液晶表示方式としては、その代表的なものにＴＮ（ツイステッド・ネマチック）型、ＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）型、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を用いた垂直配向型やＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型またはＦＦＳ（フリンジ・フィールド・スイッチング）型等がある。これらの液晶表示素子に用いられる液晶組成物は水分、空気、熱、光などの外的刺激に対して安定であること、また、室温を中心としてできるだけ広い温度範囲で液晶相を示し、低粘性であり、かつ駆動電圧が低いことが求められる。更に液晶組成物は個々の表示素子にとって誘電率異方性（Δε）や屈折率異方性（Δｎ）等を最適な値とするために、数種類から数十種類の化合物から構成されている。また、ＴＮ型、ＳＴＮ型又はＩＰＳ型やＦＦＳ型等の水平配向型だけでなく垂直配向（ＶＡ）型ディスプレイといった全ての駆動方式において、低電圧駆動、高速応答、広い動作温度範囲を示す液晶組成物が求められている。さらに、Δｎとセルギャップ（ｄ）との積であるΔｎ×ｄを所定値に設定するために、液晶組成物のΔｎをセルギャップに合わせて適当な範囲に調節する必要がある。加えて液晶表示素子をテレビ等へ応用する場合においては高速応答性が重視されるため、回転粘性（γ１）の小さい液晶組成物が要求される。【０００３】
このような高速応答性を志向したｐ型液晶組成物の構成として、例えば、Δεが正の液晶化合物である式（Ａ−１）や（Ａ−２）で表される化合物、及びΔεが中性の液晶化合物である（Ｂ）を組み合わせて使用した液晶組成物の開示がされている。これらの液晶組成物の特徴として、Δεが正の液晶化合物が−ＣＦ２Ｏ−構造を有することやΔεが中性の液晶化合物がアルケニル基を有することは、液晶組成物の分野では広く知られている（特許文献１）。【０００４】
【化１】
0005958662.tif 000002
【０００５】
一方、地球温暖化の原因となる化石燃料の消費により排出されるＣＯ２削減の潮流がテレビ用や車載などの液晶ディスプレイなどにも押し寄せてきていることに起因して低消費電力モデルの液晶表示素子の要求が近年から特に高まっている。また、スマートフォンに代表されるような携帯型タブレットの普及から低消費電力モデルの液晶パネルに対する要求がますます高まってきている。このような低電圧駆動および高速応答性に注目した技術として、例えば特許文献２に示すように、−ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２Ｏ−連結基含有化合物を含む液晶組成物がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−０５２１２０号
【特許文献２】特開２０１３−１１２６２１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記の特許文献１は、組成物における大きな誘電率異方性は素子における低いしきい値電圧、小さな消費電力と大きなコントラスト比に寄与することに注目して、大きな誘電率異方性を示す組成物を提供するものであり、当該特許文献１の実施例では最大のΔεが１２．６など開示している。また、特許文献２では、−ＣＦ２Ｏ−連結基含有化合物および−ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２Ｏ−連結基含有化合物は、構造によっては−ＣＦ２Ｏ−が分解されてしまうことがあるという問題や製造工程の煩雑さがあるため、−ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２Ｏ−連結基含有化合物を含む液晶組成物により、広い温度範囲で高速応答性に優れ低電圧駆動できる性質を有する液晶化合物を提供するものである。【０００８】
しかしながら、液晶層における液晶組成物自体が高い誘電率を有している場合、液晶層の電気容量（ＣＬＣ）とＴＦＴ基板側の電気容量（ＣＳＴ）の和で求められるパネル駆動部分の電気容量（ＣＴＯＴＡＬ）が大きくなってしまうため、ＴＦＴへの電圧書き込み走査においてＣＴＯＴＡＬに相当するコンデンサへの充電時間が無視できない程度に発生し、これが電圧波形のなまりや遅延を引き起こし、ディスプレイとしてはフリーカーや応答速度の悪化といった現象を発生せしめていた。そのため、液晶組成物自体の誘電率が高い場合、ＴＦＴ基板側の電気容量（ＣＳＴ）をある程度低く抑える必要があり、ＩＴＯ電極やＴＦＴの構造、更にＦＦＳモードにおいては絶縁層の材質や厚みについて著しく制約を受ける結果となっていた。また、高い誘電率を有する液晶組成物は一般的に高粘性であり、応答速度の観点から不利であった。そのため、表示品位を高め、さらに高速応答を達成するための手段として液晶層のキャパシタンスを低下させる、すなわちΔεが正でありながら非常に小さい液晶組成物を用いる方法が考えられるが、Δεの小さい液晶組成物は、組成中の大部分が誘電的に中性な成分で占められるため相溶性が低く、実用に耐える低温保存性を確保できないという問題も生じることが確認された。また、相溶性を確保するためには粘性的に不利な化合物を一定量添加する必要があり、応答速度に悪影響を与えていた。すなわちΔεが正で小さく、かつ相溶性が高く、粘性の低い液晶組成物が求められていた。【０００９】
そこで、本発明に係る液晶組成物およびそれを用いた液晶表示素子は、Δεが正の液晶組成物であって、先述の実行電圧がかかるまでの遅延を抑制・防止し、かつ低電圧で駆動するものであり、さらに広い温度範囲の液晶相、粘性が小さい、低温での溶解性が良好、比抵抗や電圧保持率が高いまたは熱や光に対して安定のいずれか一つを少なくとも満たす液晶組成物を提供し、更にこれを用いることで、焼き付きや滴下痕等に起因する表示不良が抑制されて優れた表示品位を呈する液晶表示素子を歩留まりよく提供すること、及びこの液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、一般式（ｉ）：【００１１】
【化２】
0005958662.tif 000003
【００１２】
（上記一般式（ｉ）中、Ｒｉ１およびＲｉ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜１０個のアルキル基、炭素原子数２〜１０個のアルケニル基または炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基であり、前記Ｒｉ１またはＲｉ２の少なくともいずれか一方がアルケニル基である。）
で表される化合物を少なくとも１種以上含有し、２５℃における誘電率異方性が０より大きく５以下である液晶組成物により、上記課題を解決する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、粘性が低く、相溶性が高く、または熱や光による劣化が軽減された、誘電率異方性の比較的小さい液晶組成物およびそれを用いた液晶表示素子の提供が可能となる。【００１４】
本発明に係る液晶組成物は、比較的駆動電圧を高く設定できる液晶ディスプレイ（例えばＴＶやカーナビ等）に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の液晶表示素子の構成の一例を模式的に示す図
【図２】本発明の液晶表示素子の構成の一例を模式的に示す図
【図３】本発明の液晶表示素子の構成の一例を模式的に示す図
【図４】図３における基板２上に形成された電極層３のＩＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図
【図５】図３におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図１に示す液晶表示素子を切断した断面図
【図６】図１における基板２上に形成された電極層３のＩＩ線で囲まれた領域の他の例を拡大した平面図
【図７】図２におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図１に示す液晶表示素子を切断した他の例の断面図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の好ましい例を説明するが、本発明はこれら例に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、及びその他の変更が可能である。本発明の第一は、一般式（ｉ）：
【００１７】
【化３】
0005958662.tif 000004
【００１８】
（上記一般式（ｉ）中、Ｒｉ１およびＲｉ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜１０個のアルキル基、炭素原子数２〜１０個のアルケニル基または炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基であり、前記Ｒｉ１またはＲｉ２の少なくともいずれか一方がアルケニル基である。）で表される化合物を少なくとも１種以上を含有し、２５℃における誘電率異方性が０より大きく５以下である液晶組成物である。
【００１９】
これにより、比較的低い誘電率異方性を備えているためＣＬＣを低く抑えることができ、かつ低粘性、高い相溶性（溶解性）、または熱や光による劣化が軽減のいずれかの作用・効果を奏する。特に、一般式（ｉ）で表される化合物は、０より大きく＋５以下の誘電率異方性を有する液晶組成の構成成分として含有せしめた場合に優れた相溶性を示し、驚くべきこと、一般式（Ｍ−１）で表される誘電的に中性な化合物の一種または二種以上とを組成物中に含有する場合、さらに高い相溶性を示すことが見出された。また、一般式（ｉ）で表される化合物と一般式（Ｍ−１）で表される化合物の併用は、液晶表示素子の表示品位の向上に関係した種々の液晶組成物のパラメーターの改善に貢献する。例えば、一般式（ｉ）を組成物中に多めに含有させた場合には、高い弾性定数、高いΔｎ、低い粘性を達成することができ、一般式（Ｍ−１）を組成物中に多めに含有させた場合には、高い弾性定数、極めて低い粘性を達成することができる。これら一般式（ｉ）及び一般式（Ｍ−１）の配合比率は液晶組成物全体としての相溶性を損なわない範囲で任意に調整することが可能であり、いずれの実施様態においても液晶ディスプレイの透過率を向上させ、応答速度を改善する効果を奏する。
【００２０】
本発明に係る液晶組成物はｐ型の液晶組成物であることが好ましく、当該液晶組成物の誘電異方性は、５以下であることが好ましく、４．５以下であることがより好ましく、４以下であることがさらに好ましく、３．５以下であることがよりさらに好ましく、３以下であることが特に好ましい。
【００２１】
誘電率異方性が５以下であると、比較的低い誘電率異方性を備えているため液晶層の電気容量（ＣＬＣ）を低く抑える事ができ、ＴＦＴへの電圧書き込み走査における電圧波形のなまりや遅延に起因したフリーカーや応答速度の悪化といった現象の抑制に効果的である。
【００２２】
本発明に係る液晶組成物において、一般式（ｉ）で表される化合物を必須に１種以上含み、組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせることができる。本発明に係る液晶組成物に含まれる一般式（ｉ）で表される化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では１〜２種類である。また、本発明の別の実施形態では１〜３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では１〜５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜３種類である。
【００２３】
本発明に係る一般式（ｉ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。例えば、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ｉ）で表される化合物の含有量（合計）は１〜３５質量％であることが好ましい。より好ましい含有量としては、１〜３２質量％、２〜３１質量％、３〜３０質量％、４〜２８質量％、５〜２６質量％および６〜２５質量％の順に好ましい。
【００２４】
本発明に係る一般式（ｉ）で表される化合物において、炭素原子数２〜１０個のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、２−ヘキセニル基等が挙げられ、直鎖状または分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。
【００２５】
本発明に係る「炭素原子数１〜１０個のアルキル基」の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、３−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基などが挙げられる。なお、本明細書中において、アルキル基の例は共通であり、各々のアルキル基の炭素原子数の数によって適宜上記例示から選択される。また、本明細書中において、アルケニル基の例は共通であり、本発明に係る炭素原子数２〜１０のアルケニル基は、直鎖状又は分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。また、本発明に係るより好ましいアルケニル基としては次に記載する式（ｘｉ）（ビニル基）、式（ｘｉｉ）（１−プロペニル基）、式（ｘｉｉｉ）（３−ブテニル基）および式（ｘｉｖ）（３−ペンテニル基）：
【００２６】
【化４】
0005958662.tif 000005
【００２７】
（上記式（ｉ）〜（ｉｖ）中、＊は環構造への結合部位を示す。）
で表される
本発明に係る「炭素原子数１〜１０個のアルキル基」の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、３−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基などが挙げられる。なお、本明細書中において、アルキル基の例は共通であり、各々のアルキル基の炭素原子数の数によって適宜上記例示から選択される。また、本発明に係る炭素原子数１〜１０のアルキル基は、直鎖状又は分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。
【００２８】
さらに、一般式（ｉ）で表される化合物は、例えば式（ｉ．１）〜式（ｉ．２０）で表される化合物であることが好ましく、その中でも、式（ｉ．１）、（ｉ．２）、（ｉ．５）、（ｉ．６）、（ｉ．１１）、（ｉ．１２）で表される化合物であることが好ましい。
【００２９】
【化５】
0005958662.tif 000006
【００３０】
【化６】
0005958662.tif 000007
【００３１】
本発明に係る液晶組成物に含まれる一般式（ｉ）で表される化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では１〜２種類である。また、本発明の別の実施形態では１〜３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では１〜５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜３種類である。
【００３２】
液晶組成物の成分として選ばれる化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、式（ｉ．１）または（ｉ．２）で表される化合物から１種類、式（ｉ．５）または（ｉ．６）で表される化合物から１種類、式（ｉ．１１）または式（ｉ．１２）で表される化合物から１種類をそれぞれ選び、これらを適宜組み合わせることが特に好ましい。
【００３３】
本発明に係る一般式（ｉ）で表される化合物は、２５℃における誘電率異方性が−２．０より大きく＋２．０以下であることが好ましく、２５℃における誘電率異方性が−１．５より大きく＋１．５以下であることがより好ましく、２５℃における誘電率異方性が−１．０より大きく＋１．０以下であることが特に好ましい。
【００３４】
本発明に係る液晶化合物は、一般式（Ｍ−１）：
【００３５】
【化７】
0005958662.tif 000008
【００３６】
（上記一般式（Ｍ−１）中、Ｒ１は炭素原子数１個〜１０個のアルケニル基を表し、
Ｒ２は、炭素原子数１〜１０個のアルキル基、炭素原子数２〜１０個のアルケニル基、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基、水素原子、フッ素原子、シアノ基、−ＣＦ３または−ＯＣＦ３を表し、
環Ａ、環Ｂは、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）と基（ｂ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ｎは０または１を表す。）で表される化合物を少なくとも１種以上含むことが好ましい。
【００３７】
本発明に係る液晶組成物に一般式（ｉ）で表される化合物と一般式（Ｍ−１）で表される化合物とを含むことで、液晶層のキャパシタンスを低下させ、低粘性でかつ他の化合物と高い相溶性（溶解性）の作用・効果を奏する液晶組成物を提供することができる。すなわち、比較的低い誘電率異方性を備えているため液晶層の電気容量（ＣＬＣ）を低く抑える事ができ、ＴＦＴへの電圧書き込み走査における電圧波形のなまりや遅延に起因したフリーカーや応答速度の悪化といった現象の抑制に効果的である。特に、一般式（ｉ）および（Ｍ−１）で表される化合物は、＋５．０以上の誘電率異方性を備えた他の化合物に対して高い相溶性を示す。
【００３８】
本発明に係る一般式（Ｍ−１）で表される化合物は、２５℃における誘電率異方性が−２．０より大きく＋２．０以下であることが好ましく、２５℃における誘電率異方性が−１．５より大きく＋１．５以下であることがより好ましく、２５℃における誘電率異方性が−１．０より大きく＋１．０以下であることが特に好ましい。
【００３９】
本発明に係る液晶組成物は２５℃における誘電率異方性が０より大きく５以下であるため、液晶層の電気容量（ＣＬＣ）を低く抑える事ができ、ＴＦＴへの電圧書き込み走査における電圧波形のなまりや遅延に起因したフリーカーや応答速度の悪化といった現象の抑制に効果的である。また一方で、近年、液晶表示素子の用途が拡大するに至り、その使用方法、製造方法にも大きな変化が見られる。これらの変化に対応するためには、従来知られているような基本的な物性値以外の特性を最適化することが求められるようになっている。すなわち、液晶表示素子の大きさも５０型以上の大型化に伴い、液晶組成物の基板への注入方法も変化し、従来の真空注入法から滴下注入（ＯＤＦ：Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）法が注入方法の主流となっている。しかし、液晶組成物を基板に滴下した際の滴下痕が表示品位の低下を招く問題が表面化している。
【００４０】
またさらに、ＯＤＦ法による液晶表示素子製造工程においては、液晶表示素子のサイズに応じて最適な量を滴下する必要がある。滴下量のずれが最適値から大きくなると、あらかじめ設計された液晶表示素子の屈折率や駆動電界のバランスが崩れ、斑発生やコントラスト不良などの表示不良が生じる。特に、最近流行しているスマートフォンに多用される小型液晶表示素子は、最適な液晶滴下量が少ないために、最適値からのずれを一定範囲内に制御すること自体が難しい。従って、液晶表示素子の製造歩留まりを高く保持するために、液晶組成物には、例えば、液晶滴下時に生じる滴下装置内の急激な圧力変化や衝撃による影響が少なく、長時間にわたって安定的に滴下を継続できることが求められている。そのため、上記の一般式（ｉ）で表される化合物および一般式（Ｍ−１）で表される化合物を含む液晶組成物は、かかる問題を解決することを他の目的とする。
【００４１】
本発明に係る一般式（Ｍ−１）において、Ｒ２は、炭素原子数１〜１０個のアルキル基、炭素原子数２〜１０個のアルケニル基および炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、炭素原子数１〜１０個のアルキル基および炭素原子数２〜１０個のアルケニル基からなる群から選択される少なくとも１種がより好ましい。
【００４２】
本発明に係る一般式（Ｍ−１）において、ｎが１であることが好ましい。
【００４３】
本発明に係る一般式（Ｍ−１）で表される化合物は、環Ａまたは環Ｂの何れか一つがフェニル基であることが好ましい。
【００４４】
さらに、本発明に係る一般式（Ｍ−１）で表される化合物は、例えば一般式（Ｍ−１−１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【００４５】
【化８】
0005958662.tif 000009
【００４６】
（上記一般式（Ｍ−１−１）中、Ｒ１は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｒ２４は炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｍ−１−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、高速応答性、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【００４７】
本発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｍ−１−１）で表される化合物の好ましい含有量は、例えば、本発明の液晶組成物の総質量に対して０．０１〜５０質量％が挙げられる。これらの中でも、例えば、０．０５〜４５質量％、０．０７〜４４質量％、０．１〜４２質量％、０．２〜４０質量％、０．５〜３８質量％、０．７〜３５質量％または１〜３３質量％が好ましい。また、他の実施形態では１．５〜２８質量％、２〜２９質量％、或いは２．５〜４５質量％、３〜４０質量％、４〜３５質量％、５〜２５質量％、６〜２４質量％、７〜４５質量％、８〜５０質量％、９〜２３質量％が好ましい。
【００４８】
さらに、本発明に係る一般式（Ｍ−１−２）で表される化合物は、例えば式（１１．１）から式（１１．９）で表される化合物であることが好ましい。
【００４９】
【化９】
0005958662.tif 000010
【００５０】
【化１０】
0005958662.tif 000011
【００５１】
【化１１】
0005958662.tif 000012
【００５２】
【化１２】
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【００５３】
【化１３】
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【００５４】
【化１４】
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【００５５】
【化１５】
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【００５６】
【化１６】
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【００５７】
【化１７】
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【００５８】
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。式（１１．１）、式（１１．２）が液晶組成物に含まれると、液晶組成物の高速応答に関するパラメーターの向上に貢献する。また、使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。
【００５９】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（１１．１）〜（１１．９）で表される化合物を一つ含有していても、式（１１．１）〜（１１．９）で表される化合物を二つ含有していても、式（１１．１）〜（１１．９）で表される化合物を三つ含有していてもよく、さらに、式（１１．１）で表される化合物を１種含有していても、式（１１．２）で表される化合物を１種含有していても、式（１１．１）で表される化合物と式（１１．２）で表される化合物との両方を含有していても良いし、式（１１．１）から式（１１．３）で表される化合物を全て含んでいても良い。式（１１．１）および／または式（１１．２）で表される化合物を含むことがより好ましく、それぞれの含有量の好ましい範囲は、下記に示すとおりである。
【００６０】
本発明の液晶組成物において、式（１１．１）で表される化合物の各々の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上５５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上３５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２５質量％以下であることが好ましい。これらの中で、１質量％以上２０質量％以下、２質量％以上１９質量％以下、３質量％以上１８質量％以下、３質量％以上１６質量％以下、４質量％以上１５質量％以下が好ましい。
【００６１】
本発明の液晶組成物において、式（１１．２）で表される化合物の各々の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上５５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上３５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２５質量％以下であることが好ましい。これらの中で、１質量％以上２０質量％以下、２質量％以上１９質量％以下、３質量％以上１８質量％以下、３質量％以上１６質量％以下、４質量％以上１５質量％以下が好ましい。
【００６２】
本発明に係る液晶組成物において、式（１１．１）で表される化合物と式（１１．２）で表される化合物との両方を含有する場合は相溶性の観点で好ましい。当該式（１１．１）で表される化合物と当該式（１１．２）で表される化合物との両方を含有する場合は、両方の化合物の合計含有量の好ましい範囲は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、５質量％以上３５質量％以下であることが好ましく、６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、７質量％以上２８質量％以下であることが好ましい。これらの中で、８質量％２７質量％以下、９質量％以上２８質量％以下、１０質量％以上２５質量％以下が好ましい。
【００６３】
本発明に係る液晶組成物において、一般式（Ｍ−１）で表される化合物を必須に１種以上含み、組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせることができる。本発明に係る液晶組成物に含まれる一般式（ｉ）または一般式（Ｍ−１）で表される化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では１〜２種類である。また、本発明の別の実施形態では１〜３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では１〜５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜３種類である。
【００６４】
本発明に係る一般式（Ｍ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。例えば、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ｉ）で表される化合物の含有量（合計）は１〜５０質量％であることが好ましい。より好ましい含有量としては、０．０１〜４５質量％、０．０５〜４２質量％、０．１〜３８質量％、０．７〜３５質量％、１〜３３質量％および１．２〜３２質量％の順に好ましい。
【００６５】
本願発明に係る液晶組成物は、任意成分として以下の一般式（Ｌ）で表される化合物を更に含んでも良く、当該一般式（Ｌ）で表される化合物は、ノンポーラ化合物（誘電異方性が−１．０〜＋１．０）であることが好ましい。
【００６６】
前記一般式（Ｌ）：
【００６７】
【化１８】
0005958662.tif 000019
【００６８】
（上記一般式（Ｌ）中、ＲＬ１及びＲＬ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＯＬは０、１、２又は３を表し、
ＢＬ１、ＢＬ２及びＢＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）と基（ｂ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＬＬ１及びＬＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＯＬが２又は３であってＬＬ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＯＬが２又は３であってＢＬ３が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良いが、前記一般式（ｉ）および前記一般式（Ｍ−１）で表される化合物を除く）で表される化合物を含むことが好ましい。
【００６９】
本発明に係る液晶組成物は、一般式（Ｌ）で表される化合物を１種類以上含有することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類である。さらに、本発明の別の実施形態では７種類である。さらに、本発明の別の実施形態では８種類である。さらに、本発明の別の実施形態では９種類である。さらに、本発明の別の実施形態では１０種類である。さらに、本発明の別の実施形態では１２種類以上である。また、一般式（Ｌ）で表される化合物は１種類〜１５種類含まれていることが好ましく、また、一般式（Ｌ）で表される化合物は３種類〜１４種類含まれていることがより好ましく、一般式（Ｌ）で表される化合物は５種類〜１２種類含まれていることがさらに好ましい。
【００７０】
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｌ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【００７１】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｌ）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては２０〜９８質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０〜９０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０〜８５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４５〜８５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５０〜７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５５〜７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５６〜６５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５〜８５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０〜８０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４７〜７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５３〜７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６０〜９８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６２〜９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５８〜７８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６５〜８５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７０〜９８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４７〜９７．５質量％である。
【００７２】
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を低く上限値が低いことが好ましい。
【００７３】
ＲＬ１及びＲＬ２は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【００７４】
本発明に係る一般式（Ｌ）で表される化合物は、液晶組成物の化学的な安定性が求められる場合には塩素原子をその分子内に有さないことが好ましい。
【００７５】
本発明に係る一般式（Ｌ）で表される化合物は、例えば、一般式（Ｉ）で表される化合物群から選ばれる化合物が好ましい。
【００７６】
【化１９】
0005958662.tif 000020
【００７７】
（上記一般式（Ｉ）中、Ｒ１１およびＲ１２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基または炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中のメチレン基は酸素原子が連続して結合しない限り酸素原子で置換されていてもよく、カルボニル基が連続して結合しない限りカルボニル基で置換されていてもよく、
Ａ１１およびＡ１２はそれぞれ独立して、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基または３−フルオロ−１，４−フェニレン基を表す。）
前記一般式（Ｉ）で表される化合物群において組み合わせることができる化合物の種類は特に制限は無いが、低温での溶解性、粘性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類以上である。
【００７８】
本発明の液晶組成物における一般式（Ｉ）で表されるいわゆる二環の化合物の含有量は、低温での溶解性、粘性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【００７９】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１０〜７５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜７０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜６５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜５９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜５６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜５２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜５１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４３質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３３質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜２９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜２８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２７〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２８〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３１〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３２〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３３〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３４〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３６〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３７〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３９〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４１〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４２〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４４〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４６〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４７〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４８〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４９〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５１〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７〜４５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２７〜２９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３２〜４３質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３４〜３８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３６〜４５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３７〜４８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４２〜５６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜５２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜４４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４４〜４８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４７〜５１質量％である。
【００８０】
本発明に係る液晶組成物において、粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物を提供することができる観点から、一般式（Ｉ）で表される化合物群を含むことが特に好ましい。
【００８１】
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物（群）の含有量の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。
【００８２】
さらに、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【００８３】
【化２０】
0005958662.tif 000021
【００８４】
（上記一般式（Ｉ−１）中、Ｒ１１およびＲ１２は上記一般式（Ｉ）における意味と同じ意味を表す。）
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ−１）で表される化合物として、１〜１０種類、１〜９種類、１〜８種類、１〜７種類、１〜６種類、２〜９種類、２〜８種類、２〜６種類、３〜９種類、３〜７種類、３〜６種類または４〜６種類混合して含有していることが好ましい。
【００８５】
本発明に係る液晶組成物において、粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物を提供することができる観点から、一般式（Ｉ−１）で表される化合物群を含むことが特に好ましい。
【００８６】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−１）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１０〜７０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜５９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜５６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜５２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３３質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜２８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜２０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２１〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２３〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２６〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２７〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３３〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３４〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３６〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３７〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３８〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３９〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４２〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４６〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４７〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４９〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は５０〜６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７〜４５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２１〜２４質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２７〜３８質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２８〜２９質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２３〜４６質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３４〜３８質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３６〜４５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３７〜４８質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４２〜４８質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３８〜４９質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４２〜５６質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４２〜５０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜５２質量％であるまた、本発明の別の実施形態では前記含有量は４６〜４７質量％である。
【００８７】
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。
【００８８】
さらに、前記一般式（Ｉ−１）で表される化合物は、一般式（Ｉ−１−１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【００８９】
【化２１】
0005958662.tif 000022
【００９０】
（上記一般式（Ｉ−１−１）中、Ｒ１２は一般式（Ｉ）における意味と同じ意味を表し、Ｒａ１は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基である）
本発明に係る液晶組成物において、粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物を提供することができる観点から、一般式（Ｉ−１−１）で表される化合物群を含むことが特に好ましい。
【００９１】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−１−１）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜４５質量％である。また、本発明の一つの実施形態としては１〜３５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１３質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は９〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１３質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は９〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜１３質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は９〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２６質量％である。
【００９２】
さらに、前記一般式（Ｉ−１−１）で表される化合物は、式（１．１）から式（１．５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（１．２）または式（１．３）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１．３）で表される化合物であることが好ましい。
【００９３】
【化２２】
0005958662.tif 000023
【００９４】
【化２３】
0005958662.tif 000024
【００９５】
【化２４】
0005958662.tif 000025
【００９６】
【化２５】
0005958662.tif 000026
【００９７】
【化２６】
0005958662.tif 000027
【００９８】
前記式（１．２）または前記式（１．３）で表される化合物がそれぞれ単独で使われる場合は、式（１．２）で表される化合物の含有量は高めであることが応答速度の改善に効果があり、式（１．３）で表される化合物の含有量は下記に示す範囲が応答速度の速く電気的、光学的に信頼性が高い液晶組成物ができるので好ましい。
【００９９】
前記式（１．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜４５質量％である。また、本発明の一つの実施形態としては１〜３５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１８質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１６質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１３質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１２質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜８質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜７質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は９〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜２１質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１３質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜８質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜７質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜１２質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は９〜１２質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜１６質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜１６質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜１６質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜１６質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜１０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜１８質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜１５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜１３質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は９〜１３質量％である。
【０１００】
さらに、本発明に係る一般式（Ｉ−１）で表される化合物は、一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０１０１】
【化２７】
0005958662.tif 000028
【０１０２】
（上記一般式（Ｉ−１−２）中、Ｒ１２は一般式（Ｉ）における意味と同じ意味を表す。）
前記一般式（Ｉ−１−２）として使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。
【０１０３】
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、粘性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０１０４】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜７０質量％である。また、本発明の一つの実施形態としては１〜６５質量％である。さらに、本発明の一つの実施形態としては１〜５５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜５０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２３〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２４〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２８〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３３〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３８〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３９〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４５〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜４４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜２４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜２７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７〜２８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２３〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２４〜４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２８〜３８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０〜３８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５〜３６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２７〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０〜４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５〜４４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５〜４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３３〜４７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３９〜４７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３８〜４５質量％である。
【０１０５】
さらに、一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物は、式（２．１）から式（２．８）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（２．２）から式（２．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（２．２）で表される化合物は本発明の液晶組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（２．３）または式（２．４）で表される化合物を用いることが好ましい。式（２．３）および式（２．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために３０％未満にすることが好ましい。
【０１０６】
【化２８】
0005958662.tif 000029
【０１０７】
【化２９】
0005958662.tif 000030
【０１０８】
【化３０】
0005958662.tif 000031
【０１０９】
【化３１】
0005958662.tif 000032
【０１１０】
本発明の液晶組成物において、式（２．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上６５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上５５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上５０質量％以下であることが好ましくい。これらの中で、９質量％４７質量％以下、９質量％以上１５質量％以下、１１質量％以上４４質量％以下、１５質量％以上３２質量％以下、２０質量％以上３５質量％以下、２３質量％以上２６質量％以下、２４質量％以上４０質量％以下、２５質量％以上３６質量％以下、２８質量％以上３８質量％以下、３０質量％以上４０質量％以下、３０質量％以上３９質量％以下、３０質量％以上３８質量％以下、３３質量％以上４７質量％以下、３５質量％以上４４質量％以下、３５質量％以上４０質量％以下、３８質量％以上４５質量％以下、３９質量％以上４７質量％以下、が好ましい。
【０１１１】
本発明の液晶組成物において、式（２．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、４質量％以上２２質量％以下であることが好ましく、５質量％以上２２質量％以下であることが好ましく、１１質量％以上２２質量％以下であることが好ましく、１３質量％以上２２質量％以下であることが好ましく、４質量％以上１６質量％以下であることが好ましく、４質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、４質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、１３質量％以上１６質量％以下であることが好ましい。
【０１１２】
本発明の液晶組成物において、式（２．４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、４質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１７質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、４質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上１３質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上２４質量％以下であることが好ましく、１７質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。
【０１１３】
本願発明の液晶組成物は、更に、一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物と類似した構造を有する式（２．５）で表される化合物を含有することもできる。
【０１１４】
【化３２】
0005958662.tif 000033
【０１１５】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて式（２．５）であらわされる化合物の含有量を調整することが好ましく、含有量の好ましい範囲は、下記の表に示すとおりである。
【０１１６】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて前記式（２．５）で表される化合物の含有量を調整することが好ましく、この化合物を本発明の液晶組成物の総質量に対して、０〜４０質量％含有することが好ましく、１〜３５質量％含有することが好ましく、１〜３０質量％含有することが好ましく、５〜３０質量％含有することが好ましく、１０〜３０質量％含有することが好ましく、１５〜３０質量％含有することが好ましく、２０〜３０質量％含有することが好ましく、２５〜３０質量％含有することが好ましい。
【０１１７】
さらに、本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０１１８】
【化３３】
0005958662.tif 000034
【０１１９】
（上記一般式（Ｉ−２）中、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ独立して炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。
【０１２０】
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０１２１】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−２）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜３０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜２３質量％である。
【０１２２】
さらに、一般式（Ｉ−２）で表される化合物は、式（３．１）から式（３．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（３．１）、式（３．３）または式（３．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（３．２）で表される化合物は本発明の液晶組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（３．３）または式（３．４）で表される化合物を用いることが好ましい。式（３．３）および式（３．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために２０％未満にすることが好ましい。
【０１２３】
さらに、一般式（Ｉ−２）で表される化合物は、式（３．１）から式（３．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（３．１）、式（３．３）および／または式（３．４）で表される化合物であることが好ましい。
【０１２４】
【化３４】
0005958662.tif 000035
【０１２５】
【化３５】
0005958662.tif 000036
【０１２６】
【化３６】
0005958662.tif 000037
【０１２７】
【化３７】
0005958662.tif 000038
【０１２８】
本発明の液晶組成物において、前記式（３．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく１質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
【０１２９】
さらに、本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物は、一般式（Ｉ−３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０１３０】
【化３８】
0005958662.tif 000039
【０１３１】
（上記一般式（Ｉ−３）中、Ｒ１３は一般式（Ｉ−２）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。
【０１３２】
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ−３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
含有量の好ましい範囲は、下記の表に示すとおりである。
【０１３３】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−３）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３〜３０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜５質量％である。
【０１３４】
低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１３５】
さらに、一般式（Ｉ−３）で表される化合物は、式（４．１）から式（４．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（４．３）で表される化合物であることが好ましい。
【０１３６】
【化３９】
0005958662.tif 000040
【０１３７】
【化４０】
0005958662.tif 000041
【０１３８】
【化４１】
0005958662.tif 000042
【０１３９】
前記式（４．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、８質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１４質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１８質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上２４質量％以下であることが好ましく、２２質量％以上２３質量％以下であることが特に好ましい。
【０１４０】
さらに、本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物は、一般式（Ｉ−０）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０１４１】
【化４２】
0005958662.tif 000043
【０１４２】
（上記一般式（Ｉ−０）中、Ｒ１ｂは一般式（Ｌ）におけるＲ１と同じ意味を表し、Ｒ２ｂはそれぞれ一般式（Ｌ）におけるＲ２と同じ意味を表し、ｎ１ｂは１又は２を表し、Ａ１ｂは一般式（Ｌ）におけるＡ１と同じ意味を表し、Ｚ１ｂは一般式（Ｌ）におけるＺ１と同じ意味を表す。）で表される化合物群の中から少なくとも１種類が選択されることが好ましい。
【０１４３】
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ−０）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上５５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上５０質量％以下であることが好ましくい。これらの中で、９質量％４７質量％以下、９質量％以上１５質量％以下、１１質量％以上４４質量％以下、１５質量％以上３２質量％以下、２０質量％以上３５質量％以下、２３質量％以上２６質量％以下、２４質量％以上４０質量％以下、２５質量％以上３６質量％以下、２８質量％以上３８質量％以下、３０質量％以上４０質量％以下、３０質量％以上３９質量％以下、３０質量％以上３８質量％以下、３３質量％以上４７質量％以下、３５質量％以上４４質量％以下、３５質量％以上４０質量％以下、３８質量％以上４５質量％以下、３９質量％以上４７質量％以下、が好ましい。
【０１４４】
本発明の液晶組成物において、式（２．３）で表される化合物の含有量  は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、４質量％以上２２質量％以下であることが好ましく、５質量％以上２２質量％以下であることが好ましく、１１質量％以上２２質量％以下であることが好ましく、１３質量％以上２２質量％以下であることが好ましく、４質量％以上１６質量％以下であることが好ましく、４質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、４質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、１３質量％以上１６質量％以下であることが好ましい。
【０１４５】
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ−０）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、粘性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０１４６】
特に、後述の一般式（ＩＩ−２）で表される化合物が組成物に含まれると、液晶組成物の応答速度の上昇の観点から好ましい。
【０１４７】
さらに、本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物は、一般式（Ｉ−４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０１４８】
【化４３】
0005958662.tif 000044
【０１４９】
（上記一般式（Ｉ−４）中、Ｒ１１およびＲ１２は一般式（Ｌ）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。
【０１５０】
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ−４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０１５１】
特に、後述の式（５．４）が組成物に含まれると、液晶組成物の応答速度の上昇の観点から好ましい。また、偶奇効果や弾性定数（Ｋ３３）の観点でも好ましい。
【０１５２】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−４）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては２〜３０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、２〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、２〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、２〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、２〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、５〜８質量％である。
【０１５３】
本発明に係る液晶組成物において、前記一般式（Ｉ−４）で表される化合物の組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜１０種類である。あるいは本発明の別の実施形態では１〜８種類である。また、本発明の別の実施形態では１〜５種類である。他の実施形態では１〜３種である。
【０１５４】
高い複屈折率を得る場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、高いＴｎｉを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１５５】
さらに、一般式（Ｉ−４）で表される化合物は、式（５．１）から式（５．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（５．２）から式（５．７）で表される化合物であることがより好ましく、式（５．２）〜式（５．４）ならなる群から選択される化合物を少なくとも１種含むことがさらに好ましい。
【０１５６】
前記一般式（Ｉ−４）で表される骨格の端部の置換基の一方に炭素原子数１〜８個のアルケニル基を含むと液晶組成物の高速応答性の観点で好ましい。
【０１５７】
【化４４】
0005958662.tif 000045
【０１５８】
【化４５】
0005958662.tif 000046
【０１５９】
【化４６】
0005958662.tif 000047
【０１６０】
【化４７】
0005958662.tif 000048
【０１６１】
【化４８】
0005958662.tif 000049
【０１６２】
【化４９】
0005958662.tif 000050
【０１６３】
【化５０】
0005958662.tif 000051
【０１６４】
特に、前記式（５．１）〜（５．７）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましい。これらの中でも、例えば、４質量％以上３０質量％以下、６質量％以上３０質量％以下、８質量％以上３０質量％以下、１０質量％以上３０質量％以下、１２質量％以上３０質量％以下、１４質量％以上３０質量％以下、１６質量％以上３０質量％以下、１８質量％以上３０質量％以下、２０質量％以上３０質量％以下、２２質量％以上３０質量％以下、２３質量％以上３０質量％以下、２４質量％以上３０質量％以下、２５質量％以上３０質量％以下、或いは、４質量％以上６質量％以下、４質量％以上８質量％以下、４質量％以上１０質量％以下、４質量％以上１２質量％以下、４質量％以上１４質量％以下、４質量％以上１６質量％以下、４質量％以上１８質量％以下、４質量％以上２０質量％以下、４質量％以上２２質量％以下、４質量％以上２３質量％以下、４質量％以上２４質量％以下、４質量％以上２５質量％以下、２質量％以上２５質量％以下、２質量％以上２０質量％以下、２質量％以上１５質量％以下が好ましい。
【０１６５】
さらに、本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物は、一般式（Ｉ−５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０１６６】
【化５１】
0005958662.tif 000052
【０１６７】
（上記一般式（Ｉ−５）中、Ｒ１１およびＲ１２は一般式（Ｉ）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。
【０１６８】
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ−５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
含有量の好ましい範囲は、下記の表に示すとおりである。
【０１６９】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−５）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜３０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜１１質量％である。
【０１７０】
低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１７１】
さらに、一般式（Ｉ−５）で表される化合物は、式（６．１）から式（６．６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（６．３）、式（６．４）および式（６．６）で表される化合物であることが好ましい。
【０１７２】
【化５２】
0005958662.tif 000053
【０１７３】
【化５３】
0005958662.tif 000054
【０１７４】
【化５４】
0005958662.tif 000055
【０１７５】
【化５５】
0005958662.tif 000056
【０１７６】
【化５６】
0005958662.tif 000057
【０１７７】
【化５７】
0005958662.tif 000058
【０１７８】
前記式（６．１）〜（６．６）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜３０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜１１質量％である。
【０１７９】
本願発明の液晶組成物は、更に、一般式（Ｉ−５）で表される化合物と類似した構造を有する式（６．７）〜式（６．１１）で表される化合物を含有することもできる。
【０１８０】
【化５８】
0005958662.tif 000059
【０１８１】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて式（６．７）〜式（６．１０）であらわされる化合物の含有量を調整することが好ましい。
【０１８２】
前記式（６．７）〜（６．１０）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜１５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１４質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜１１質量％である。
【０１８３】
さらに、本発明に係る一般式（Ａ）で表される化合物は、一般式（Ｉ−６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０１８４】
【化５９】
0005958662.tif 000060
【０１８５】
（上記一般式（Ｉ−６）中、Ｒ１１およびＲ１２は一般式（Ｉ）における意味と同じ意味を表す。）
前記一般式（Ｉ−６）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、９質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１４質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１８質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上２４質量％以下であることが好ましく、２２質量％以上２３質量％以下であることが好ましい。さらに、一般式（Ｉ−６）で表される化合物は、式（７．１）で表される化合物であることが好ましい。
【０１８６】
【化６０】
0005958662.tif 000061
【０１８７】
さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０１８８】
【化６１】
0005958662.tif 000062
【０１８９】
（式中、Ｒ１１およびＲ１２は一般式（Ｉ）における意味と同じ意味を表す。）
本発明の液晶組成物の総質量に対する前記一般式（Ｉ−７）で表される化合物の含有量は、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
【０１９０】
さらに、一般式（Ｉ−７）で表される化合物は、式（８．１）で表される化合物であることが好ましい。
【０１９１】
【化６２】
0005958662.tif 000063
【０１９２】
さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−８）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０１９３】
【化６３】
0005958662.tif 000064
【０１９４】
（式中、Ｒ１６およびＲ１７はそれぞれ独立して炭素原子数２〜５のアルケニル基を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、１種類から３種類組み合わせることが好ましい。また、前記一般式（Ｉ−８）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて、本発明の液晶組成物の総質量に対して１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１８質量％であることが好ましく、３〜１８質量％であることが好ましく、４〜９質量％であることが好ましく、４〜６質量％であることが好ましい。
【０１９５】
さらに、一般式（Ｉ−８）で表される化合物は、式（９．１）から式（９．１０）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（９．２）、式（９．４）および式（９．７）で表される化合物であることが好ましい。
【０１９６】
【化６４】
0005958662.tif 000065
【０１９７】
【化６５】
0005958662.tif 000066
【０１９８】
【化６６】
0005958662.tif 000067
【０１９９】
【化６７】
0005958662.tif 000068
【０２００】
【化６８】
0005958662.tif 000069
【０２０１】
【化６９】
0005958662.tif 000070
【０２０２】
【化７０】
0005958662.tif 000071
【０２０３】
【化７１】
0005958662.tif 000072
【０２０４】
【化７２】
0005958662.tif 000073
【０２０５】
【化７３】
0005958662.tif 000074
【０２０６】
さらに、本発明に係る一般式（Ｌ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ）で表される化合物から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２０７】
【化７４】
0005958662.tif 000075
【０２０８】
（上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立して、炭素原子数２〜５のアルケニル基、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ａ２は１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を表し、Ｑ２は単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＦ２Ｏ−を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明のさらに別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類以上である。
【０２０９】
本発明の液晶組成物において、一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０２１０】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３〜３５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜１８質量％である。
【０２１１】
さらに、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２１２】
【化７５】
0005958662.tif 000076
【０２１３】
（上記一般式（ＩＩ−１）中、Ｒ２１およびＲ２２は一般式（ＩＩ）における意味と同じ意味を表す。）
一般式（ＩＩ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましい。
含有量の好ましい範囲は、下記の表に示すとおりである。
【０２１４】
前記一般式（ＩＩ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、４質量％以上２４質量％以下が好ましく、８質量％以上１８質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上１４質量％以下であることが更に好ましい。
【０２１５】
さらに、一般式（ＩＩ−１）で表される化合物は、例えば式（１０．１）及び式（１０．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０２１６】
【化７６】
0005958662.tif 000077
【０２１７】
さらに、本発明に係る一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２１８】
【化７７】
0005958662.tif 000078
【０２１９】
（上記一般式（ＩＩ−２）中、Ｒ２３は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｒ２４は炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。
【０２２０】
さらに、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２２１】
【化７８】
0005958662.tif 000079
【０２２２】
（上記一般式（ＩＩ−３）中、Ｒ２５は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ２４は炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１種〜３種類含有することが好ましい。
【０２２３】
一般式（ＩＩ−３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０２２４】
前記一般式（ＩＩ−３）で表される化合物の好ましい含有量は、例えば、本発明の液晶組成物の総質量に対して２〜４５質量％が挙げられる。これらの中でも、例えば、５〜４５質量％、８〜４５質量％、１１〜４５質量％、１４〜４５質量％、１７〜４５質量％、２０〜４５質量％、２３〜４５質量％、２６〜４５質量％、２９〜４５質量％、或いは２〜４５質量％、２〜４０質量％、２〜３５質量％、２〜３０質量％、２〜２５質量％、２〜２０質量％、２〜１５質量％、２〜１０質量％が好ましい。
【０２２５】
さらに、一般式（ＩＩ−３）で表される化合物は、例えば式（１２．１）から式（１２．３）で表される化合物であることが好ましい。
【０２２６】
【化７９】
0005958662.tif 000080
【０２２７】
【化８０】
0005958662.tif 000081
【０２２８】
【化８１】
0005958662.tif 000082
【０２２９】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（１２．１）で表される化合物を含有していても、式（１２．２）で表される化合物を含有していても、式（１２．１）で表される化合物と式（１２．２）で表される化合物との両方を含有していても良い。式（１２．３）で表される化合物は、光学活性化合物であってもよい。
【０２３０】
前記式（１２．１）〜（１２．３）で表される化合物の好ましい含有量は、例えば、本発明の液晶組成物の総質量に対して１〜１５質量％が挙げられる。これらの中でも、例えば、１〜１３質量％、１〜１０質量％、２〜１５質量％、２〜１４質量％、２〜１１質量％、３〜１０質量％が好ましい。
【０２３１】
さらに、本発明に係る一般式（ＩＩ−３）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−３−１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２３２】
【化８２】
0005958662.tif 000083
【０２３３】
（上記一般式（ＩＩ−３−１）中、Ｒ２５は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ２６は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
前記一般式（ＩＩ−３−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、１質量％以上２４質量％以下が好ましく、４質量％以上１８質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１４質量％以下であることが好ましい。
【０２３４】
さらに、一般式（ＩＩ−３−１）で表される化合物は、例えば式（１３．１）から式（１３．４）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１３．３）で表される化合物であることが好ましい。
【０２３５】
【化８３】
0005958662.tif 000084
【０２３６】
【化８４】
0005958662.tif 000085
【０２３７】
【化８５】
0005958662.tif 000086
【０２３８】
【化８６】
0005958662.tif 000087
【０２３９】
さらに、本発明に係る一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２４０】
【化８７】
0005958662.tif 000088
【０２４１】
（上記一般式（ＩＩ−４）中、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立して炭素原子数２〜５のアルケニル基、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
これらの化合物のうち１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる性能に応じて適宜組み合わせることが好ましい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１〜２種類を含有することが好ましく、１〜３種類を含有することがより好ましい。
【０２４２】
前記一般式（ＩＩ−４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、２質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、４質量％以上１２質量％以下であることが好ましく、５質量％以上７質量％以下であることが好ましい。
【０２４３】
さらに、一般式（ＩＩ−４）で表される化合物は、例えば式（１４．１）から式（１４．５）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１４．２）または／および式（１４．５）で表される化合物であることが好ましい。
【０２４４】
【化８８】
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【０２４５】
【化８９】
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【０２４６】
【化９０】
0005958662.tif 000091
【０２４７】
【化９１】
0005958662.tif 000092
【０２４８】
【化９２】
0005958662.tif 000093
【０２４９】
さらに、本発明に係る一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２５０】
【化９３】
0005958662.tif 000094
【０２５１】
（上記一般式（ＩＩ−５）中、Ｒ２５は、炭素原子数２〜５のアルケニル基をまたは炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｙ２６は、水素原子、フッ素原子、ＣＦ３、ＯＣＦ３、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルキル基または炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表し、Ｘ２１およびＸ２２はそれぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子を表す。）
本発明に係る一般式（ＩＩ−５）で表される化合物において、Ｘ２１およびＸ２２のいずれか一方がフッ素原子であることが好ましく、Ｘ２２はフッ素原子であり、かつＸ２１は水素原子であることがより好ましい。
【０２５２】
これらの化合物のうち１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる性能に応じて適宜組み合わせることが好ましい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１〜２種類を含有することが好ましく、１〜３種類を含有することがより好ましい。
【０２５３】
前記一般式（ＩＩ−５）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、２質量％以上２８質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２７質量％以下であることが好ましく、４質量％以上２６質量％以下であることが好ましく、５質量％以上２５質量％以下であることが好ましい。
【０２５４】
さらに、本発明に係る一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２５５】
【化９４】
0005958662.tif 000095
【０２５６】
（上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１およびＲ３２はそれぞれ独立して炭素原子数２〜５のアルケニル基をまたは炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、求められる溶解性や複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上２５質量％以下含有することが好ましく、２質量％以上２０質量％以下含有することが好ましく、２質量％以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、４質量％以上６質量％以下含有することが好ましい。
【０２５７】
さらに、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、例えば式（１５．１）又は式（１５．２）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１５．１）で表される化合物であることが好ましい。
【０２５８】
【化９５】
0005958662.tif 000096
【０２５９】
【化９６】
0005958662.tif 000097
【０２６０】
さらに、前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ−１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２６１】
【化９７】
0005958662.tif 000098
【０２６２】
（上記一般式（ＩＩＩ−１）中、Ｒ３３は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し。Ｒ３２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
前記一般式（ＩＩＩ−１）で表される化合物は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じてその含有量を調整することが好ましい。本発明の液晶組成物の総質量に対して、４質量％以上２３質量％以下が好ましく、６質量％以上１８質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上１３質量％以下であることが好ましい。
【０２６３】
前記一般式（ＩＩＩ−１）で表される化合物は、たとえば式（１６．１）〜式（１６．１０）で表される化合物であることが好ましい。
【０２６４】
【化９８】
0005958662.tif 000099
【０２６５】
【化９９】
0005958662.tif 000100
【０２６６】
【化１００】
0005958662.tif 000101
【０２６７】
【化１０１】
0005958662.tif 000102
【０２６８】
【化１０２】
0005958662.tif 000103
【０２６９】
【化１０３】
0005958662.tif 000104
【０２７０】
【化１０４】
0005958662.tif 000105
【０２７１】
【化１０５】
0005958662.tif 000106
【０２７２】
【化１０６】
0005958662.tif 000107
【０２７３】
【化１０７】
0005958662.tif 000108
【０２７４】
さらに、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２７５】
【化１０８】
0005958662.tif 000109
【０２７６】
（上記一般式（ＩＩＩ−２）中、Ｒ３１は一般式（ＩＩＩ）における意味と同じ意味を表す。）
前記一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、本発明の液晶組成物の総質量に対して、４質量％以上２３質量％以下が好ましく、６質量％以上１８質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上１３質量％以下であることが好ましい。
【０２７７】
さらに、当該一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物は、たとえば式（１７．１）から式（１７．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、特に式（１７．３）で表される化合物であることが好ましい。
【０２７８】
【化１０９】
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【０２７９】
【化１１０】
0005958662.tif 000111
【０２８０】
【化１１１】
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【０２８１】
本発明に係る一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（ＩＶ）で表される群より選ばれることが好ましい。
【０２８２】
【化１１２】
0005958662.tif 000113
【０２８３】
（上記一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１及びＲ４２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｘ４１及びＸ４２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表す。）
当該一般式（ＩＶ）で表される化合物の組み合わせ可能な種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせる。後述の式（１８．１）から式（１８．９）で表される化合物等の一般式（ＩＶ）の構造を備えた化合物を液晶組成物に添加すると、液晶組成物のΔｎや他の液晶組成物を構成する成分との溶解性が向上する。
使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜６種類である。
【０２８４】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＩＶ）で表される化合物の含有量は、例えば一つの実施形態では１〜３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２２質量％である。
【０２８５】
さらに、一般式（ＩＶ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＶ−１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２８６】
【化１１３】
0005958662.tif 000114
【０２８７】
（上記一般式（ＩＶ）中、Ｒ４３、Ｒ４４はそれぞれ独立して炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）
一般式（ＩＶ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０２８８】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＩＶ−１）で表される化合物の含有量は、例えば一つの実施形態では１〜３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２２質量％である。
【０２８９】
さらに、一般式（ＩＶ−１）で表される化合物は、例えば式（１８．１）から式（１８．９）で表される化合物であることが好ましい。
【０２９０】
【化１１４】
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【０２９１】
【化１１５】
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【０２９２】
【化１１６】
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【０２９３】
【化１１７】
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【０２９４】
【化１１８】
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【０２９５】
【化１１９】
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【０２９６】
【化１２０】
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【０２９７】
【化１２１】
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【０２９８】
【化１２２】
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【０２９９】
上記一般式（ＩＶ−１）で表される化合物において、組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種〜３種類含有することが好ましく、１種〜４種類含有することがさらに好ましい。また、一般式（ＩＶ−１）で表される化合物群から選択される化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、式（１８．１）または（１８．２）で表される化合物から１種類、式（１８．４）または（１８．５）で表される化合物から１種類、式（１８．６）または式（１８．７）で表される化合物から１種類、式（１８．８）または（１８．９）で表される化合物から１種類の化合物を選び、これらを適宜組み合わせることが好ましい。その中でも、式（１８．１）、式（１８．３）式（１８．４）、式（１８．６）および式（１８．９）で表される化合物を含むことが好ましい。
【０３００】
さらに、本発明に係る一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（Ｖ）で表される群より選ばれる化合物であることが好ましい。
【０３０１】
【化１２３】
0005958662.tif 000124
【０３０２】
（上記一般式（Ｖ）中、Ｒ５１およびＲ５２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ａ５１およびＡ５２はそれぞれ独立して１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を表し、Ｑ５は単結合または−ＣＯＯ−を表し、Ｘ５１およびＸ５２はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わされる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態において１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類である。更に、本発明の別の実施形態では４種類である。
【０３０３】
本発明に係る液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｖ）で表される化合物の含有量は、例えば一つの実施形態では１〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１質〜５量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜１９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜１９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は９〜１９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜８質量％である。
【０３０４】
さらに、本発明に係る一般式（Ｖ）で表される化合物は、一般式（Ｖ−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０３０５】
【化１２４】
0005958662.tif 000125
【０３０６】
（上記一般式（Ｖ−１）中、Ｒ５１およびＲ５２、Ｘ５１およびＸ５２は一般式（Ｖ）における意味と同じ意味を表す）
さらに、前記一般式（Ｖ−１）で表される化合物は、一般式（Ｖ−１−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０３０７】
【化１２５】
0005958662.tif 000126
【０３０８】
（上記一般式（Ｖ−１−１）中、Ｒ５１およびＲ５２は一般式（Ｖ）における意味と同じ意味を表す。）
前記一般式（Ｖ−１−１）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下含有することが好ましく、１質量％以上１０質量％以下含有することが更に好ましく、３質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上７質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上５質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上４質量％以下含有することが好ましい。
【０３０９】
さらに、前記一般式（Ｖ−１−１）で表される化合物は、式（２０．１）から式（２０．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２０．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０３１０】
【化１２６】
0005958662.tif 000127
【０３１１】
【化１２７】
0005958662.tif 000128
【０３１２】
【化１２８】
0005958662.tif 000129
【０３１３】
【化１２９】
0005958662.tif 000130
【０３１４】
さらに、本発明に係る一般式（Ｖ−１）で表される化合物は、一般式（Ｖ−１−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０３１５】
【化１３０】
0005958662.tif 000131
【０３１６】
（上記一般式（Ｖ−１−２）中、Ｒ５１およびＲ５２は一般式（Ｖ）における意味と同じ意味を表す。）
前記一般式（Ｖ−１−２）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下含有することが好ましく、１質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、１質量％以上７質量％以下含有することが好ましく、１質量％以上５質量％以下含有することが好ましい。
【０３１７】
さらに、前記一般式（Ｖ−１−２）で表される化合物は、式（２１．１）から式（２１．３）で表される化合物であることが好ましく、式（２１．１）で表される化合物であることが好ましい。
【０３１８】
【化１３１】
0005958662.tif 000132
【０３１９】
【化１３２】
0005958662.tif 000133
【０３２０】
【化１３３】
0005958662.tif 000134
【０３２１】
さらに、本発明に係る一般式（Ｖ−１）で表される化合物は、一般式（Ｖ−１−３）で表される化合物であることが好ましい。
【０３２２】
【化１３４】
0005958662.tif 000135
【０３２３】
（上記一般式（Ｖ−１−３）中、Ｒ５１およびＲ５２は一般式（Ｖ）における意味と同じ意味を表す。）
前記一般式（Ｖ−１−３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量％以上１５質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、４質量％以上８質量％以下含有することが好ましい。
【０３２４】
さらに、前記一般式（Ｖ−１−３）で表される化合物は、式（２２．１）から式（２２．３）で表される化合物である。式（２２．１）で表される化合物であることが好ましい。
【０３２５】
【化１３５】
0005958662.tif 000136
【０３２６】
【化１３６】
0005958662.tif 000137
【０３２７】
【化１３７】
0005958662.tif 000138
【０３２８】
さらに、本発明に係る一般式（Ｖ）で表される化合物は、一般式（Ｖ−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０３２９】
【化１３８】
0005958662.tif 000139
【０３３０】
（上記一般式（Ｖ−２）中、Ｒ５１およびＲ５２、Ｘ５１およびＸ５２は一般式（Ｖ）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせされる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。
【０３３１】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｖ−２）で表される化合物の含有量は、例えば一つの実施形態では１〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は５〜１９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は６〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１０〜１９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は４〜８質量％である。
【０３３２】
本発明の液晶組成物が高いＴｎｉの実施形態が望まれる場合は式（Ｖ−２）で表される化合物の含有量を多めにすることが好ましく、低粘度の実施形態が望まれる場合は含有量を少なめにすることが好ましい。
【０３３３】
さらに、本発明に係る一般式（Ｖ−２）で表される化合物は、一般式（Ｖ−２−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０３３４】
【化１３９】
0005958662.tif 000140
【０３３５】
（上記一般式（Ｖ−２）中、Ｒ５１およびＲ５２は一般式（Ｖ）における意味と同じ意味を表す。）
さらに、前記一般式（Ｖ−２−１）で表される化合物は、式（２３．１）から式（２３．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２３．１）または／および式（２３．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０３３６】
【化１４０】
0005958662.tif 000141
【０３３７】
【化１４１】
0005958662.tif 000142
【０３３８】
【化１４２】
0005958662.tif 000143
【０３３９】
【化１４３】
0005958662.tif 000144
【０３４０】
さらに、本発明に係る一般式（Ｖ−２）で表される化合物は、一般式（Ｖ−２−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０３４１】
【化１４４】
0005958662.tif 000145
【０３４２】
（上記一般式（Ｖ−２−２）中、Ｒ５１およびＲ５２は一般式（Ｖ）における意味と同じ意味を表す。）
さらに、前記一般式（Ｖ−２−２）で表される化合物は、式（２４．１）から式（２４．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２４．１）または／および式（２４．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０３４３】
【化１４５】
0005958662.tif 000146
【０３４４】
【化１４６】
0005958662.tif 000147
【０３４５】
【化１４７】
0005958662.tif 000148
【０３４６】
【化１４８】
0005958662.tif 000149
【０３４７】
さらに、本発明に係る一般式（Ｖ）で表される化合物は、一般式（Ｖ−３）で表される化合物であることが好ましい。
【０３４８】
【化１４９】
0005958662.tif 000150
【０３４９】
（上記一般式（Ｖ−３）中、Ｒ５１およびＲ５２は一般式（Ｖ）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わされる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類以上である。
【０３５０】
前記一般式（Ｖ−３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１６質量％以下含有することが好ましく、１質量％以上１３質量％以下含有することが好ましく、１質量％以上９質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上９質量％以下含有することが好ましい。
【０３５１】
さらに、一般式（Ｖ−３）で表される化合物は、式（２５．１）から式（２４．３）で表される化合物であることが好ましい。
【０３５２】
【化１５０】
0005958662.tif 000151
【０３５３】
【化１５１】
0005958662.tif 000152
【０３５４】
【化１５２】
0005958662.tif 000153
【０３５５】
本発明に係る一般式（Ｖ）で表される化合物は、一般式（Ｖ−４）で表される化合物であることが好ましい。
【０３５６】
【化１５３】
0005958662.tif 000154
【０３５７】
（上記一般式（Ｖ−４）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
前記一般式（Ｖ−４）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量％以上１５質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、４質量％以上８質量％以下含有することが好ましい。
【０３５８】
さらに、前記一般式（Ｖ−４）で表される化合物は、式（２５．１１）から式（２５．１３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２５．１３）で表される化合物であることがより好ましい。
【０３５９】
【化１５４】
0005958662.tif 000155
【０３６０】
本発明に係る一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（Ｖ’−５）で表される化合物であることが好ましい。
【０３６１】
【化１５５】
0005958662.tif 000156
【０３６２】
（上記一般式（Ｖ’−５）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
本発明の液晶組成物の総質量に対して前記一般式（Ｖ’−５）で表される化合物を、１質量％以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量％以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、５質量％以上１０質量％以下含有することが好ましい。
【０３６３】
さらに、前記一般式（Ｖ’−５）で表される化合物は、式（２５．２１）から式（２５．２４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２５．２１）及び／又は式（２５．２３）で表される化合物であることがより好ましい。
【０３６４】
【化１５６】
0005958662.tif 000157
【０３６５】
本発明の液晶組成物は、更に、一般式（ＶＩ）で表される化合物および一般式（ＶＩＩ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種類以上含有することが好ましい。また、本発明に係る一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（ＶＩ）で表される化合物および／または一般式（ＶＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。
【０３６６】
【化１５７】
0005958662.tif 000158
【０３６７】
【化１５８】
0005958662.tif 000159
【０３６８】
（上記一般式（ＶＩ）および（ＶＩＩ）中、Ｒ６１Ｒ６２、Ｒ７１およびＲ７２はそれぞれ独立して炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基、炭素原子数１から１０の直鎖アルコキシ基又は炭素原子数２から１０の直鎖アルケニル基を表す。）
前記一般式（ＶＩ）で表される化合物は、具体的には次に挙げる化合物が好適に使用できる。
【０３６９】
【化１５９】
0005958662.tif 000160
【０３７０】
【化１６０】
0005958662.tif 000161
【０３７１】
【化１６１】
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【０３７２】
【化１６２】
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【０３７３】
前記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物は、具体的には次に挙げる化合物が好適に使用できる。
【０３７４】
【化１６３】
0005958662.tif 000164
【０３７５】
上記一般式（ＶＩ）または一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を満たすそれぞれにおいて、それぞれの構造式を満たす化合物の組み合わせ可能な種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、それぞれの式を満たす化合物の中から１〜３種類を配合することが好ましく、１〜４種類を含有することがより好ましく、１〜５種類以上を含有することが特に好ましい。
【０３７６】
前記一般式（ＶＩ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、０〜３５質量％であることが好ましく、０〜２５質量％であることが好ましく、０〜１５質量％であることが好ましい。
【０３７７】
前記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、０〜３５質量％が好ましく、０〜２５質量％がより好ましく、０〜１５質量％が好ましい。
【０３７８】
本発明に係る液晶組成物は、さらに以下の一般式（Ｍ）で表される化合物を含んでも良く、当該一般式（Ｍ）で表される化合物は、ポーラ化合物（誘電異方性が＋５〜＋３０）であることが好ましい。
【０３７９】
本発明に係る一般式（Ｍ）は、
【０３８０】
【化１６４】
0005958662.tif 000165
【０３８１】
（上記一般式（Ｍ）中、ＲＭ１は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中の１個又は非隣接の２個以上の−ＣＨ２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
ＣＭ１及びＣＭ２はそれぞれ独立して、
（ｄ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい。）及び
（ｅ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）、基（ｅ）はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＫＭ１及びＫＭ２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＰＭが２、３又は４であってＫＭ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣＭ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
ＸＭ１及びＸＭ３はそれぞれ独立して水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
ＸＭ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表す。ただし、一般式（Ｌ）で表される化合物を除く。）である。
【０３８２】
第二成分として組み合わせることができる上記一般式（Ｍ）で表される化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、誘電率、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。またさらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類である。さらに、本発明の別の実施形態では７種類以上である。
【０３８３】
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｍ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０３８４】
前記一般式（Ｍ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態としては０．５〜７０質量％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜６５質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜６０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜５５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜５１質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜４７質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜４２質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜４０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３９質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３７質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３３質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３２質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３１質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜２９質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜２５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜２４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜２０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜１９質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜１０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜９質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜８質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は９〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１９〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２０〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２２〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２６〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２８〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２９〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３０〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３１〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３２〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３３〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３９〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４２〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４６〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４８〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５２〜５４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３〜８質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は９〜１０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１９〜２５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２２〜２４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２６〜２９質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２８〜３５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２８〜３３質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３１〜３２質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３２〜３３質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３３〜４２質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３９〜４２質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４２〜４７質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４８〜５１質量％である。
【０３８５】
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
【０３８６】
ＲＭ１は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【０３８７】
本発明に係る一般式（Ｍ）で表される化合物は、液晶組成物の化学的な安定性が求められる場合には塩素原子をその分子内に有さないことが好ましい。更に液晶組成物内に塩素原子を有する化合物が５％以下であることが好ましく、３％以下であることが好ましく、１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが好ましく、実質的に含有しないことが好ましい。実質的に含有しないとは、化合物製造時の不純物として生成した化合物等は意図せず塩素原子を含む化合物のみが液晶組成物に混入することを意味する。
【０３８８】
本発明に係る一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（Ｂ）：
【０３８９】
【化１６５】
0005958662.tif 000166
【０３９０】
（上記一般式（Ｂ）中、Ｒ３は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中のメチレン基は酸素原子が連続して結合しない限り酸素原子で置換されていてもよく、カルボニル基が連続して結合しない限りカルボニル基で置換されていてもよく、
Ａ２はそれぞれ独立して、１，４−シクロヘキシレンシクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、ジオキサン−２，５−ジイル基又はピリミジン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ１が１，４−フェニレン基を表す場合、該１，４−フェニレン基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子に置換されていてもよく、
Ｚ２はそれぞれ独立して単結合、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＦ２Ｏ−を表し、
Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｘ１はフッ素原子、−ＣＮ基又は−ＯＣＦ３基を表し、
ｍ１は、１、２、３又は４を表す。）
で表される化合物であることが好ましい。また、本発明に係る一般式（Ｂ）で表される化合物において、ｍ１が２または３であることが好ましい。ｍ１が２であるとより低い駆動電圧という特性がある。また、ｍ１が３であるとより高い転移温度という特性がある。
【０３９１】
本発明に係る一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（Ｘ）で表される化合物であることが好ましい。
【０３９２】
【化１６６】
0005958662.tif 000167
【０３９３】
（上記一般式（Ｘ）中、Ｘ１０１からＸ１０４はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ１０はフッ素原子、塩素原子、−ＯＣＦ３を表し、Ｑ１０は単結合または−ＣＦ２Ｏ−を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ａ１０１およびＡ１０２はそれぞれ独立して、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基または
【０３９４】
【化１６７】
0005958662.tif 000168
【０３９５】
【化１６８】
0005958662.tif 000169
【０３９６】
【化１６９】
0005958662.tif 000170
【０３９７】
を表すが、１，４−フェニレン基上の水素原子はフッ素原子によって置換されていてもよい。）
前記一般式（Ｘ）で表される化合物において組み合わせることのできる化合物は特に制限されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。更に別の実施形態では３種類である。更にまた別の実施形態では４種類である。更にまた別の実施形態では５種類以上である。
【０３９８】
前記一般式（Ｘ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに適宜調整される。たとえば、前記一般式（Ｘ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜３５質量％、別の実施形態では１〜３０質量％、さらに別の実施形態では１〜２５質量％、またさらに別の実施形態では１〜２４質量％、またさらに別の実施形態では１〜２０質量％、またさらに別の実施形態では１〜１９質量％、またさらに別の実施形態では１〜１６質量％、またさらに別の実施形態では１〜１２質量％、またさらに別の実施形態では１〜１１質量％、またさらに別の実施形態では１〜１０質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１〜９質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１〜８質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１〜７質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１〜３質量％、またさらに別の実施形態では含有量は３〜２４質量％、またさらに別の実施形態では含有量は５〜２４質量％、またさらに別の実施形態では含有量は６〜２４質量％、またさらに別の実施形態では含有量は８〜２４質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１１〜２４質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１３〜２４質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１５〜２４質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１７〜２４質量％、またさらに別の実施形態では含有量は３〜７質量％、またさらに別の実施形態では含有量は５〜１０質量％、またさらに別の実施形態では含有量は６〜９質量％、またさらに別の実施形態では含有量は６〜８質量％、またさらに別の実施形態では含有量は８〜１１質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１１〜１９質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１１〜１２質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１３〜１６質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１５〜１９質量％、またさらに別の実施形態では含有量は１７〜２０質量％である。
【０３９９】
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、焼き付きの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
【０４００】
本発明に係る一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４０１】
【化１７０】
0005958662.tif 000171
【０４０２】
（上記一般式（Ｘ−１）中、Ｘ１０１からＸ１０３およびＲ１０は一般式（Ｘ）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。更に別の実施形態では３種類である。更にまた別の実施形態では４種類である。更にまた別の実施形態では５種類以上である。
【０４０３】
前記一般式（Ｘ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
【０４０４】
たとえば、前記一般式（Ｘ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２０質量％、別の実施形態では１〜１５質量％、さらに別の実施形態では１〜１０質量％、またさらに別の実施形態では１〜９質量％、またさらに別の実施形態では１〜８質量％、またさらに別の実施形態では１〜７質量％、またさらに別の実施形態では１〜６質量％、またさらに別の実施形態では１〜３質量％、またさらに別の実施形態では３〜９質量％、またさらに別の実施形態では４〜９質量％、またさらに別の実施形態では５〜９質量％、またさらに別の実施形態では６〜９質量％、またさらに別の実施形態では８〜９質量％、またさらに別の実施形態では３〜７質量％、またさらに別の実施形態では５〜７質量％、またさらに別の実施形態では６〜７質量％である。
【０４０５】
さらに、本発明に係る一般式（Ｘ−１）で表される化合物は、一般式（Ｘ−１−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４０６】
【化１７１】
0005958662.tif 000172
【０４０７】
（上記一般式（Ｘ−１−１）中、Ｒ１０は一般式（Ｘ）における意味と同じ意味を表す。）
前記一般式（Ｘ−１−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
【０４０８】
前記一般式（Ｘ−１−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２５質量％、別の実施形態では１〜２０質量％、さらに別の実施形態では１〜１５質量％、またさらに別の実施形態では１〜１０質量％、またさらに別の実施形態では３〜１０質量％、またさらに別の実施形態では５〜１０質量％である。
【０４０９】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−１−１）で表される化合物は、具体的には式（３６．１）から式（３６．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３６．１）および／または式（３６．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０４１０】
【化１７２】
0005958662.tif 000173
【０４１１】
【化１７３】
0005958662.tif 000174
【０４１２】
【化１７４】
0005958662.tif 000175
【０４１３】
【化１７５】
0005958662.tif 000176
【０４１４】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−１）で表される化合物は、一般式（Ｘ−１−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０４１５】
【化１７６】
0005958662.tif 000177
【０４１６】
（上記一般式（Ｘ−１−２）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
前記一般式（Ｘ−１−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、６質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１６質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。
【０４１７】
さらに、前記一般式（Ｘ−１−２）で表される化合物は、具体的には式（３７．１）から式（３７．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３７．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０４１８】
【化１７７】
0005958662.tif 000178
【０４１９】
【化１７８】
0005958662.tif 000179
【０４２０】
【化１７９】
0005958662.tif 000180
【０４２１】
【化１８０】
0005958662.tif 000181
【０４２２】
さらに、本発明に係る一般式（Ｘ−１）で表される化合物は、一般式（Ｘ−１−３）で表される化合物であることが好ましい。
【０４２３】
【化１８１】
0005958662.tif 000182
【０４２４】
（上記一般式（Ｘ−１−３）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。
【０４２５】
前記一般式（Ｘ−１−３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、６質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１６質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。
【０４２６】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−１−３）で表される化合物は、具体的には式（３８．１）から式（３８．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３８．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０４２７】
【化１８２】
0005958662.tif 000183
【０４２８】
【化１８３】
0005958662.tif 000184
【０４２９】
【化１８４】
0005958662.tif 000185
【０４３０】
【化１８５】
0005958662.tif 000186
【０４３１】
本発明の液晶組成物に係る一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０４３２】
【化１８６】
0005958662.tif 000187
【０４３３】
（上記一般式（Ｘ−２）中、Ｘ１０２からＸ１０３はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ１０はフッ素原子、塩素原子、−ＯＣＦ３を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。
【０４３４】
さらに、本発明に係る一般式（Ｘ−２）で表される化合物は、一般式（Ｘ−２−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４３５】
【化１８７】
0005958662.tif 000188
【０４３６】
（上記一般式（Ｘ−２−１）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
【０４３７】
前記一般式（Ｘ−２−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１６質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。
【０４３８】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−２−１）で表される化合物は、具体的には式（３９．１）から式（３９．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３９．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０４３９】
【化１８８】
0005958662.tif 000189
【０４４０】
【化１８９】
0005958662.tif 000190
【０４４１】
【化１９０】
0005958662.tif 000191
【０４４２】
【化１９１】
0005958662.tif 000192
【０４４３】
さらに、本発明に係る一般式（Ｘ−２）で表される化合物は、一般式（Ｘ−２−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０４４４】
【化１９２】
0005958662.tif 000193
【０４４５】
（上記一般式（Ｘ−２−２）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。一般式（Ｘ−２−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１６質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。
【０４４６】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−２−２）で表される化合物は、具体的には式（４０．１）から式（４０．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４０．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０４４７】
【化１９３】
0005958662.tif 000194
【０４４８】
【化１９４】
0005958662.tif 000195
【０４４９】
【化１９５】
0005958662.tif 000196
【０４５０】
【化１９６】
0005958662.tif 000197
【０４５１】
本発明に係る一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＩＩｂ）で表される化合物であることが好ましい。
【０４５２】
【化１９７】
0005958662.tif 000198
【０４５３】
（上記一般式（ＩＩｂ）中、Ｒ３ｂは、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中のメチレン基は酸素原子が連続して結合しない限り酸素原子で置換されていてもよく、カルボニル基が連続して結合しない限りカルボニル基で置換されていてもよく、
Ａ２ｂはそれぞれ独立して、１，４−シクロヘキシレンシクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、ジオキサン−２，５−ジイル基又はピリミジン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ２ｂが１，４−フェニレン基を表す場合、該１，４−フェニレン基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子に置換されていてもよく、
Ｚ２ｂはそれぞれ独立して単結合、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、又は−ＣＦ２Ｏ−を表し、
ｍ２ｂは、１、２、３又は４を表し、Ｙ３ｂはそれぞれ独立してフッ素原子又は水素原子を表し、Ｘ１ｂはフッ素原子、−ＣＮ基又は−ＯＣＦ３基を表す。）で表される化合物群の中から少なくとも１種類の化合物が選択されることが好ましく、前記ｍ２ｂは２、３がより好ましい。
【０４５４】
前記一般式（ＩＩｂ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。当該化合物の含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総量に対して０．０１％、別の実施形態では０．０５％、さらに別の実施形態では０．１％、またさらに別の実施形態では０．２％、またさらに別の実施形態では０．３％、またさらに別の実施形態では０．４％、またさらに別の実施形態では０．５％である。また、前記一般式（ＩＩｂ）で表される化合物の含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では１０％、別の実施形態では８％、更に別の実施形態では２％、また更に別の実施形態では１％、また更に別の実施形態では０．８％、また更に別の実施形態では０．７％である。
【０４５５】
上記一般式（ＩＩａ）で表される化合物を液晶組成物に含むと、Δεなどの誘電性を確保できるだけでなく、一般式（Ｌ）との相溶性も損なわれない。
【０４５６】
本発明に係る一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−３）で表される化合物であることが好ましい。
【０４５７】
【化１９８】
0005958662.tif 000199
【０４５８】
（上記一般式（Ｘ−３）中、Ｘ１０２からＸ１０３はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。前記一般式（Ｘ−３）で表される化合物を液晶組成物に含むと、Δεなどの誘電性を確保できるだけでなく、一般式（Ｌ）などの第一成分との相溶性も損なわれない。
【０４５９】
一般式（Ｘ−３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して０．１質量％以上であることが好ましく、０．２質量％以上がより好ましく、０．３質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を８質量％以下にとどめることが好ましく、５質量％以下がさらに好ましく、２質量％以下がより好ましく、１質量％以下が特に好ましい。
【０４６０】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−３）で表される化合物は、一般式（Ｘ−３−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４６１】
【化１９９】
0005958662.tif 000200
【０４６２】
（上記一般式（Ｘ−３−１）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
一般式（Ｘ−３−１）を満たす化合物において、組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。
【０４６３】
一般式（Ｘ−３−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して０．０５質量％以上であることが好ましく、０．２質量％以上がより好ましく、０．３質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を５質量％以下にとどめることが好ましく、３質量％以下がさらに好ましく、２質量％以下がより好ましく、１質量％以下が特に好ましい。
【０４６４】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−３−１）で表される化合物は、具体的には式（４１．１）から式（４１．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４１．２）で表される化合物を含有することが好ましい。前記式（４１．１）から式（４１．４）で表される化合物を液晶組成物に含むと、Δεなどの誘電性を確保できるだけでなく、ノンポーラの第一成分との相溶性も損なわれない。
【０４６５】
【化２００】
0005958662.tif 000201
【０４６６】
【化２０１】
0005958662.tif 000202
【０４６７】
【化２０２】
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【０４６８】
【化２０３】
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【０４６９】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−３）で表される化合物は、一般式（Ｘ−３−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４７０】
【化２０４】
0005958662.tif 000205
【０４７１】
（上記一般式（Ｘ−３−２）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
一般式（Ｘ−３−２）を満たす化合物において、組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。
【０４７２】
一般式（Ｘ−３−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して０．０５質量％以上であることが好ましく、０．２質量％以上がより好ましく、０．３質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を５質量％以下にとどめることが好ましく、３質量％以下がさらに好ましく、２質量％以下がより好ましく、１．５質量％以下が特に好ましい。
【０４７３】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−３−２）で表される化合物は、具体的には式（４１．５）から式（４１．８）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４１．６）で表される化合物を含有することが好ましい。前記式（４１．５）から式（４１．７）で表される化合物を液晶組成物に含むと、Δεなどの誘電性を確保できるだけでなく、ノンポーラの第一成分との相溶性も損なわれない。
【０４７４】
【化２０５】
0005958662.tif 000206
【０４７５】
【化２０６】
0005958662.tif 000207
【０４７６】
【化２０７】
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【０４７７】
【化２０８】
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【０４７８】
更に、一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−４）で表される化合物であることが好ましい。
【０４７９】
【化２０９】
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【０４８０】
（上記一般式（Ｘ−４）中、Ｘ１０２はフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
【０４８１】
さらに、本発明に係る一般式（Ｘ−４）で表される化合物は、一般式（Ｘ−４−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４８２】
【化２１０】
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【０４８３】
（上記一般式（Ｘ−４−１）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
【０４８４】
前記一般式（Ｘ−４−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上であることが好ましく、５質量％以上がより好ましく、１０質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１７質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１３質量％以下が特に好ましい。
【０４８５】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−４−１）で表される化合物は、具体的には式（４２．１）から式（４２．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４２．３）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０４８６】
【化２１１】
0005958662.tif 000212
【０４８７】
【化２１２】
0005958662.tif 000213
【０４８８】
【化２１３】
0005958662.tif 000214
【０４８９】
【化２１４】
0005958662.tif 000215
【０４９０】
更に、本発明に係る一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−５）で表される化合物であることが好ましい。
【０４９１】
【化２１５】
0005958662.tif 000216
【０４９２】
（上記一般式（Ｘ−５）中、Ｘ１０２はフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
【０４９３】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−５）で表される化合物は、一般式（Ｘ−５−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４９４】
【化２１６】
0005958662.tif 000217
【０４９５】
（上記一般式（Ｘ−５−１）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
【０４９６】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−５−１）で表される化合物は、具体的には式（４３．１）から式（４３．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４３．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０４９７】
【化２１７】
0005958662.tif 000218
【０４９８】
【化２１８】
0005958662.tif 000219
【０４９９】
【化２１９】
0005958662.tif 000220
【０５００】
【化２２０】
0005958662.tif 000221
【０５０１】
前記式（４３．１）から式（４３．４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を１８質量％以下にとどめることが好ましく、１５質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。
【０５０２】
本発明に係る一般式（Ｍ）で表される化合物は、以下の一般式（Ｘ−６−１）および（Ｘ−６−２）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【０５０３】
【化２２１】
0005958662.tif 000222
【０５０４】
【化２２２】
0005958662.tif 000223
【０５０５】
（上記一般式（Ｘ−６−１）および（Ｘ−６−２）中、ＲＭ１、ＸＭ１２、ＸＭ１３、ＸＭ１４、ＸＭ１５、ＸＭ１６、ＸＭ１７およびＹＭ１１は、上記一般式（Ｘ−６）と同一である。）
本発明に係る液晶組成物において、上記一般式（Ｘ−６−１）において、組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜５種類である。あるいは本発明の別の実施形態では１〜４種類である。また、本発明の別の実施形態では１〜３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では１〜２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜３種類である。
【０５０６】
本発明に係る液晶組成物において、一般式（Ｘ−６−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総量に対して１％、別の実施形態では３％、さらに別の実施形態では４％、またさらに別の実施形態では５％、またさらに別の実施形態では６％、またさらに別の実施形態では７％、またさらに別の実施形態では８％である。またさらに別の実施形態では９％である。
【０５０７】
また、本発明に係る液晶組成物において、一般式（Ｘ−６−１）で表される化合物の含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３０％、別の実施形態では２８％、更に別の実施形態では２７％、また更に別の実施形態では２６％、また更に別の実施形態では７％、また更に別の実施形態では２５％である。
【０５０８】
上記一般式（Ｘ−６−２）において、組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜５種類である。あるいは本発明の別の実施形態では１〜４種類である。また、本発明の別の実施形態では１〜３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では１〜２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では２〜３種類である。
【０５０９】
一般式（Ｘ−６−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総量に対して１％、別の実施形態では２％、さらに別の実施形態では３％、またさらに別の実施形態では４％、またさらに別の実施形態では５％、またさらに別の実施形態では６％、またさらに別の実施形態では８％である。またさらに別の実施形態では１０％である。
【０５１０】
また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３０％、別の実施形態では２０％、更に別の実施形態では１３％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では７％、また更に別の実施形態では３％である。
【０５１１】
本発明に係る一般式（Ｘ−６−１）で表される化合物の好ましい例示としては、下記の式（ｍ．１）〜（ｍ．２０）からなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
【０５１２】
【化２２３】
0005958662.tif 000224
【０５１３】
【化２２４】
0005958662.tif 000225
【０５１４】
【化２２５】
0005958662.tif 000226
【０５１５】
本発明に係る一般式（Ｘ−６−２）で表される化合物の好ましい例示としては、下記の式（ｍ．２１）〜（ｍ．２８）からなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
【０５１６】
【化２２６】
0005958662.tif 000227
【０５１７】
本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＩＩａ）で表される化合物であることが好ましい。
【０５１８】
【化２２７】
0005958662.tif 000228
【０５１９】
（上記一般式（ＩＩａ）中、Ｒ３ａは、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基を表し、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中のメチレン基は酸素原子が連続して結合しない限り酸素原子で置換されていてもよく、カルボニル基が連続して結合しない限りカルボニル基で置換されていてもよく、
Ａ２ａはそれぞれ独立して、１，４−シクロヘキシレンシクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、ジオキサン−２，５−ジイル基又はピリミジン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ２ａが１，４−フェニレン基を表す場合、該１，４−フェニレン基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子に置換されていてもよく、
Ｚ２ａはそれぞれ独立して単結合、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、又は−ＣＦ２Ｏ−を表し、
ｍ２ａは、１、２、３又は４を表し、Ｙ３ａはそれぞれ独立してフッ素原子又は水素原子を表し、Ｘ１ａはフッ素原子、−ＣＮ基又は−ＯＣＦ３基を表す。）で表される化合物群の中から少なくとも１種類の化合物が選択されることが好ましく、前記一般式（ＩＩａ）で表される化合物から少なくとも２種類の化合物が選択されることがより好ましい。また、前記一般式（ＩＩａ）において、ｍ２ａが２、３又は４であることがより好ましく、ｍ２ａが２又は３であることがさらに好ましく、ｍ２ａが３であることが特に好ましい。
【０５２０】
化学骨格の共通性または化学骨格の特徴性を備えた化合物同士の組み合わせにより、顕著に相溶性が向上することが確認された。
【０５２１】
前記一般式（ＩＩａ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。当該化合物の含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総量に対して２％、別の実施形態では３％、さらに別の実施形態では４％、またさらに別の実施形態では５％、またさらに別の実施形態では６％、またさらに別の実施形態では７％、またさらに別の実施形態では８％である。またその他の実施形態では９％である。その他別の実施形態では１１％、さらに別の実施形態では１５％、またさらに別の実施形態では１８％である。また、前記一般式（ＩＩａ）で表される化合物の含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３０％、別の実施形態では２０％、更に別の実施形態では１３％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では７％、また更に別の実施形態では３％である。
【０５２２】
さらに、一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（ＸＩ）で表される群より選ばれる化合物であることが好ましい。
【０５２３】
【化２２８】
0005958662.tif 000229
【０５２４】
（上記一般式（ＸＩ）中、Ｘ１１１からＸ１１７はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｘ１１１からＸ１１７の少なくとも一つはフッ素原子を表し、Ｒ１１は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｙ１１はフッ素原子または−ＯＣＦ３を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類以上組み合わせることが好ましい。
【０５２５】
一般式（ＸＩ）で表される化合物が液晶組成物に存在すると、高い転移点、大きなΔε誘電率、高いΔｎ、また４環の化合物では低い粘性を示すことが確認された。
【０５２６】
前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して２％、別の実施形態では４％、さらに別の実施形態では５％、またさらに別の実施形態では７％、またさらに別の実施形態では９％、またさらに別の実施形態では１０％、またさらに別の実施形態では１２％である。またさらに別の実施形態では１３％である。またさらに別の実施形態では１５％である。またさらに別の実施形態では１８％である。
【０５２７】
また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３０％、別の実施形態では２５％、更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１５％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では５％である。
【０５２８】
本発明の液晶組成物が、セルギャップの小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また、低温の環境で用いられる液晶表示素子用に用いられる場合は一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。
【０５２９】
なお、本明細書におけるセルギャップは対向する配向層間の平均距離を言い、換言すると液晶組成物が充填された液晶層の平均厚みをいう（例えば、当該厚みは１０点平均などで算出する。）。
【０５３０】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩ−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０５３１】
【化２２９】
0005958662.tif 000230
【０５３２】
（上記一般式（ＸＩ−１）中、Ｒ１１は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、更に別の実施形態では３種類以上組み合わせる。
【０５３３】
また、前記一般式（ＸＩ−１）で表される化合物は、左から２番目のベンゼン環のフッ素が相溶性に特に貢献しているとも考えられており、高い転移点、大きなΔε誘電率、高いΔｎ、また４環の化合物では低い粘性を示すことが確認された。そのため、当該一般式（ＸＩ−１）で表される化合物は、一般式（ｉ）、一般式（Ｍ−１）で示す化合物を含む組成物に対して良好な相溶性を示すことが確認された。
【０５３４】
一般式（ＸＩ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましく、４質量％以上がさらに好ましく、５質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１５質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。
【０５３５】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ−１）で表される化合物は、具体的には式（４５．１）から式（４５．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４５．２）から式（４５．４）で表される化合物を含有することが好ましく、式（４５．２）で表される化合物を含有することがより好ましい。
【０５３６】
【化２３０】
0005958662.tif 000231
【０５３７】
【化２３１】
0005958662.tif 000232
【０５３８】
【化２３２】
0005958662.tif 000233
【０５３９】
【化２３３】
0005958662.tif 000234
【０５４０】
前記式（４５．１）から式（４５．４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、１．５質量％以上がより好ましく、２質量％以上がさらに好ましく、２．５質量％以上がさらに好ましく、３質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を１８質量％以下にとどめることが好ましく、１５質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。
【０５４１】
さらに、一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ）で表される群より選ばれる化合物であることが好ましい。
【０５４２】
【化２３４】
0005958662.tif 000235
【０５４３】
（上記一般式（ＸＩＩ）中、Ｘ１２１からＸ１２６はそれぞれ独立して、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒ１２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｙ１２はフッ素原子または−ＯＣＦ３を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類以上組み合わせることが好ましく、１種から４種類以上組み合わせることがより好ましい。
【０５４４】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０５４５】
【化２３５】
0005958662.tif 000236
【０５４６】
（上記一般式（ＸＩＩ−１）中、Ｒ１２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
【０５４７】
一般式（ＸＩＩ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましく、４質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を１５質量％以下にとどめることが好ましく、１０質量％以下がさらに好ましく、８質量％以下がより好ましく、６質量％以下が特に好ましい。
【０５４８】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ−１）で表される化合物は、具体的には式（４６．１）から式（４６．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４６．２）から式（４６．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０５４９】
【化２３６】
0005958662.tif 000237
【０５５０】
【化２３７】
0005958662.tif 000238
【０５５１】
【化２３８】
0005958662.tif 000239
【０５５２】
【化２３９】
0005958662.tif 000240
【０５５３】
さらに、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０５５４】
【化２４０】
0005958662.tif 000241
【０５５５】
（上記一般式（ＸＩＩ−２）中、Ｒ１２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
【０５５６】
一般式（ＸＩＩ−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上がより好ましく、４質量％以上がさらに好ましく、６質量％以上がさらに好ましく、９質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１７質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１３質量％以下が特に好ましい。
【０５５７】
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ−２）で表される化合物は、具体的には式（４７．１）から式（４７．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４７．２）から式（４７．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０５５８】
【化２４１】
0005958662.tif 000242
【０５５９】
【化２４２】
0005958662.tif 000243
【０５６０】
【化２４３】
0005958662.tif 000244
【０５６１】
【化２４４】
0005958662.tif 000245
【０５６２】
本発明に係る一般式（Ｍ）で表される化合物は、例えば一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０５６３】
【化２４５】
0005958662.tif 000246
【０５６４】
（上記一般式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ８は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ８１からＸ８５はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ８はフッ素原子または−ＯＣＦ３を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用される。使用される化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類以上である。前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物が液晶組成物中に存在すると、高いΔｎを示し、また他の４環化合物との比率調整によって転移点をコントロールしやすいという作用・効果を奏する。
【０５６５】
本発明の液晶組成物において、前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０５６６】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜２５質量％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜２０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜１５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜１０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜７質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜６質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜５質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３〜７質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３〜６質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４〜７質量％である。
【０５６７】
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
【０５６８】
さらに、本発明に係る一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０５６９】
【化２４６】
0005958662.tif 000247
【０５７０】
（上記一般式（ＶＩＩＩ−１）中、Ｒ８は一般式（ＶＩＩＩ）における意味と同じ意味を表す。）
さらに、一般式（ＶＩＩＩ−１）で表される化合物は、具体的には式（２６．１）から式（２６．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２６．１）または式（２６．２）で表される化合物が好ましく、式（２６．２）で表される化合物がさらに好ましい。
【０５７１】
【化２４７】
0005958662.tif 000248
【０５７２】
【化２４８】
0005958662.tif 000249
【０５７３】
【化２４９】
0005958662.tif 000250
【０５７４】
【化２５０】
0005958662.tif 000251
【０５７５】
前記式（２６．１）〜（２６．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下がより更に好ましく、１質量％以上７質量％以下が好ましい。これらの中で、例えば、１質量％以上６質量％以下、１質量％以上５質量％以下、３質量％以上７質量％以下、３質量％以上６質量％以下、４質量％以上７質量％以下、が好ましい。
【０５７６】
さらに、本発明に係る一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０５７７】
【化２５１】
0005958662.tif 000252
【０５７８】
（上記一般式（ＶＩＩＩ−２）中、Ｒ８は一般式（ＶＩＩＩ）における意味と同じ意味を表す。）
一般式（ＶＩＩＩ−２）として組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明の更に別の実施形態では３種類以上である。
【０５７９】
前記一般式（ＶＩＩＩ−２）表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２．５質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、８質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１０質量％２０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上１５質量％以下であることが好ましい。
【０５８０】
さらに、前記一般式（ＶＩＩＩ−２）で表される化合物は、式（２７．１）から式（２７．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２７．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０５８１】
【化２５２】
0005958662.tif 000253
【０５８２】
【化２５３】
0005958662.tif 000254
【０５８３】
【化２５４】
0005958662.tif 000255
【０５８４】
【化２５５】
0005958662.tif 000256
【０５８５】
さらに、本発明に係る一般式（Ｍ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＸ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０５８６】
【化２５６】
0005958662.tif 000257
【０５８７】
（上記一般式（ＩＸ）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ９１及びＸ９２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ９はフッ素原子、塩素原子または−ＯＣＦ３を表し、Ｕ９は単結合、−ＣＯＯ−または−ＣＦ２Ｏ−を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。
【０５８８】
前記一般式（ＶＩＩＩ−３）表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、０．５質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
【０５８９】
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、焼きつきの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
【０５９０】
さらに、本発明に係る一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０５９１】
【化２５７】
0005958662.tif 000258
【０５９２】
（上記一般式（ＩＸ−１）式中、Ｒ９およびＸ９２は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
さらに、本発明に係る一般式（ＩＸ−１）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−１−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０５９３】
【化２５８】
0005958662.tif 000259
【０５９４】
（上記一般式（ＩＸ−１−１）中、Ｒ９は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類以上である。
【０５９５】
前記一般式（ＩＸ−１−１）表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態に応じて適宜調整される。
【０５９６】
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＩＸ−１−１）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜３０質量％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜２５質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３〜２０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は９〜１５質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１２〜２０質量％である。
【０５９７】
さらに、一般式（ＩＸ−１−１）で表される化合物は、式（２８．１）から式（２８．５）で表される化合物であることが好ましく、式（２８．３）または／および式（２８．５）で表される化合物であることが好ましい。
【０５９８】
【化２５９】
0005958662.tif 000260
【０５９９】
【化２６０】
0005958662.tif 000261
【０６００】
【化２６１】
0005958662.tif 000262
【０６０１】
【化２６２】
0005958662.tif 000263
【０６０２】
【化２６３】
0005958662.tif 000264
【０６０３】
さらに、本発明に係る一般式（ＩＸ−１）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−１−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０６０４】
【化２６４】
0005958662.tif 000265
【０６０５】
（上記（ＩＸ−１−２）中、Ｒ９は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類を組み合わせることが好ましく、１種から４種類を組み合わせることがより好ましい。
【０６０６】
前記一般式（ＩＸ−１−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上２５質量％以下が好ましく、８質量％以上２０質量％以下が好ましい。
【０６０７】
さらに、一般式（ＩＸ−１−２）で表される化合物は、式（２９．１）から式（２９．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２９．２）または／および式（２９．４）で表される化合物であることが好ましい。
【０６０８】
【化２６５】
0005958662.tif 000266
【０６０９】
【化２６６】
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【０６１０】
【化２６７】
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【０６１１】
【化２６８】
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【０６１２】
さらに、一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０６１３】
【化２６９】
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【０６１４】
（上記一般式（ＩＸ−２）中、Ｒ９、Ｘ９１およびＸ９２は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
さらに、本発明に係る一般式（ＩＸ−２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０６１５】
【化２７０】
0005958662.tif 000271
【０６１６】
（上記一般式（ＩＸ−２−１）中、Ｒ９は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
例えば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＩＸ−２−１）で表される化合物の含有量は、１〜２５質量％である。別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜２０質量％である。更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜１５質量％である。また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜１０質量％である。また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜５質量％である。また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜４質量％である。
【０６１７】
さらに、前記一般式（ＩＸ−２−１）で表される化合物は、式（３０．１）から式（３０．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３０．１）から式（３０．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０６１８】
【化２７１】
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【０６１９】
【化２７２】
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【０６２０】
【化２７３】
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【０６２１】
【化２７４】
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【０６２２】
さらに、本発明に係る一般式（ＩＸ−２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０６２３】
【化２７５】
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【０６２４】
（上記一般式（ＩＸ−２−２）中、Ｒ９は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
前記一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに適宜調整される。
【０６２５】
本発明の液晶組成物の総質量に対しする前記一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物の含有量は、本発明の一つの実施形態では１〜３０質量％、別の実施形態では１〜２５質量％、さらに別の実施形態では１〜２０質量％、さらに別の実施形態では１〜１７質量％、さらに別の実施形態では１〜１６質量％、さらに別の実施形態では１〜１２質量％、またさらに別の実施形態では１〜１１質量％、またさらに別の実施形態では１〜１０質量％、またさらに別の実施形態では１〜９質量％、またさらに別の実施形態では２〜１７質量％、またさらに別の実施形態では６〜１７質量％、またさらに別の実施形態では８〜１７質量％、またさらに別の実施形態では９〜１７質量％、またさらに別の実施形態では１４〜１７質量％、またさらに別の実施形態では１４〜１６質量％、またさらに別の実施形態では２〜９質量％、またさらに別の実施形態では６〜１０質量％、またさらに別の実施形態では８〜１１質量％、またさらに別の実施形態では９〜１２質量％、である。
【０６２６】
さらに、前記一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物は、式（３１．１）から式（３１．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３１．１）から式（３１．４）で表される化合物であることが好ましい。
【０６２７】
【化２７６】
0005958662.tif 000277
【０６２８】
【化２７７】
0005958662.tif 000278
【０６２９】
【化２７８】
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【０６３０】
【化２７９】
0005958662.tif 000280
【０６３１】
さらに、一般式（ＩＸ−２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２−３）で表される化合物であることが好ましい。
【０６３２】
【化２８０】
0005958662.tif 000281
【０６３３】
（上記一般式（ＩＸ−２−３）中、Ｒ９は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１〜２種類を組み合わせることが好ましい。
【０６３４】
前記一般式（ＩＸ−２−３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下がより好ましく、６質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、８質量％以上１０質量％以下がさらに好ましい。
【０６３５】
さらに、前記一般式（ＩＸ−２−３）で表される化合物は、式（３２．１）から式（３２．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３２．２）および／または式（３２．４）で表される化合物であることが好ましい。
【０６３６】
【化２８１】
0005958662.tif 000282
【０６３７】
【化２８２】
0005958662.tif 000283
【０６３８】
【化２８３】
0005958662.tif 000284
【０６３９】
【化２８４】
0005958662.tif 000285
【０６４０】
さらに、本発明に係る一般式（ＩＸ−２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２−４）で表される化合物であることが好ましい。
【０６４１】
【化２８５】
0005958662.tif 000286
【０６４２】
（上記一般式（ＩＸ−２−４）中、Ｒ９は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
前記一般式（ＩＸ−２−４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２０質量％以下が好ましく、１質量％以上１５質量％以下が好ましく、１質量％以上１２質量％以下が好ましく、５質量％以上１２質量％以下が好ましく、７質量％以上１２質量％以下が好ましい。
【０６４３】
さらに、一般式（ＩＸ−２−４）で表される化合物は、式（３３．１）から式（３３．８）で表される化合物であることが好ましく、式（３３．１）、式（３３．８）、および式（３３．２）〜式（３３．５）で表される化合物であることがより好ましい。
【０６４４】
【化２８６】
0005958662.tif 000287
【０６４５】
【化２８７】
0005958662.tif 000288
【０６４６】
【化２８８】
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【０６４７】
【化２８９】
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【０６４８】
【化２９０】
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【０６４９】
【化２９１】
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【０６５０】
【化２９２】
0005958662.tif 000293
【０６５１】
上記式（３３．８）において、Ｒ２５は、炭素原子数２〜６のアルケニル基であることが好ましい。
【０６５２】
さらに、本発明に係る一般式（ＩＸ−２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物であることが好ましい。
【０６５３】
【化２９３】
0005958662.tif 000294
【０６５４】
（上記一般式（ＩＸ−２−５）中、Ｒ９は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせて使用する。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、更に別の実施形態では３種類、また更に別の実施形態では４種類以上である。
【０６５５】
前記一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに適宜調整される。
【０６５６】
たとえば、前記一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では０．１〜３０質量％、別の実施形態では０．３〜２５質量％、さらに別の実施形態では０．５〜２０質量％、またさらに別の実施形態では１〜１５質量％、またさらに別の実施形態では２〜１４質量％、またさらに別の実施形態では２．５〜１５質量％、またさらに別の実施形態では３〜１２質量％である。
【０６５７】
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、焼きつきの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
【０６５８】
さらに、一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物は、式（３４．１）から式（３４．５）で表される化合物であることが好ましく、式（３４．１）、式（３４．２）、式（３４．３）および／または式（３４．５）で表される化合物であることが好ましい。
【０６５９】
【化２９４】
0005958662.tif 000295
【０６６０】
【化２９５】
0005958662.tif 000296
【０６６１】
【化２９６】
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【０６６２】
【化２９７】
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【０６６３】
【化２９８】
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【０６６４】
【化２９９】
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【０６６５】
【化３００】
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【０６６６】
さらに、本発明に係る一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−３）で表される化合物であることが好ましい。
【０６６７】
【化３０１】
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【０６６８】
（上記一般式（ＩＸ−３）中、Ｒ９、Ｘ９１およびＸ９２は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
さらに、一前記般式（ＩＸ−３）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−３−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０６６９】
【化３０２】
0005958662.tif 000303
【０６７０】
（上記一般式（ＩＸ−３−１）中、Ｒ９は一般式（ＩＸ）における意味と同じ意味を表す。）
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１〜２種類を組み合わせることが好ましい。
【０６７１】
前記一般式（ＩＸ−３−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、３質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、７質量％以上３０質量％以下が好ましく、１３質量％以上２０質量％以下が好ましく、１５質量％以上１８質量％以下が好ましい。
【０６７２】
さらに、一般式（ＩＸ−３−１）で表される化合物は、式（３５．１）から式（３５．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３５．１）および／または式（３５．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０６７３】
【化３０３】
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【０６７４】
【化３０４】
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【０６７５】
【化３０５】
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【０６７６】
【化３０６】
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【０６７７】
更に、本発明に係る一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０６７８】
【化３０７】
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【０６７９】
（上記一般式（ＸＩＩＩ）中、Ｘ１３１からＸ１３５はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ１３は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｙ１３はフッ素原子または−ＯＣＦ３を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種〜２種類含有することが好ましく、１種〜３種類含有することがより好ましく、１種〜４種類含有することが更に好ましい。
【０６８０】
一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して２％、別の実施形態では４％、さらに別の実施形態では５％、またさらに別の実施形態では７％、またさらに別の実施形態では９％、またさらに別の実施形態では１１％、またさらに別の実施形態では１３％である。またさらに別の実施形態では１４％である。またさらに別の実施形態では１６％である。またさらに別の実施形態では２０％である。
【０６８１】
また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３０％、別の実施形態では２５％、更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１５％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では５％である。
【０６８２】
本発明の液晶組成物が、セルギャップの小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また、低温の環境で用いられる液晶表示素子用に用いられる場合は一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。
【０６８３】
さらに、本発明に係る一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩＩ−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０６８４】
【化３０８】
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【０６８５】
（上記一般式（ＸＩＩＩ−１）中、Ｒ１３は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
一般式（ＸＩＩＩ−１）で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上含有することが好ましく、３質量％以上含有することがさらに好ましく、５質量％以上含有することがさらに好ましく、１０質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。
【０６８６】
さらに、一般式（ＸＩＩＩ−１）で表される化合物は、式（４８．１）から式（４８．４）で表される化合物であることが好ましく、式（４８．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０６８７】
【化３０９】
0005958662.tif 000310
【０６８８】
【化３１０】
0005958662.tif 000311
【０６８９】
【化３１１】
0005958662.tif 000312
【０６９０】
【化３１２】
0005958662.tif 000313
【０６９１】
さらに、本発明に係る一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩＩ−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０６９２】
【化３１３】
0005958662.tif 000314
【０６９３】
（上記一般式（ＸＩＩＩ−２）中、Ｒ１３は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種〜２種類以上含有することが好ましい。
【０６９４】
一般式（ＸＩＩＩ−２）で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上含有することが好ましく、６質量％以上含有することがさらに好ましく、８質量％以上含有することがさらに好ましく、１０質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。
【０６９５】
さらに、一般式（ＸＩＩＩ−２）で表される化合物は、式（４９．１）から式（４９．４）で表される化合物であることが好ましく、式（４９．１）または／および式（４９．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０６９６】
【化３１４】
0005958662.tif 000315
【０６９７】
【化３１５】
0005958662.tif 000316
【０６９８】
【化３１６】
0005958662.tif 000317
【０６９９】
【化３１７】
0005958662.tif 000318
【０７００】
さらに、本発明に係る一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩＩ−３）で表される化合物であることが好ましい。
【０７０１】
【化３１８】
0005958662.tif 000319
【０７０２】
（上記一般式（ＸＩＩＩ−３）中、Ｒ１３は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種〜２種類含有することが好ましい。
【０７０３】
一般式（ＸＩＩＩ−３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上含有することが好ましく、４質量％以上含有することが更に好ましく、９質量％以上含有することが更に好ましく、１１質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２０質量％以下が好ましく、１７質量％以下がより好ましく、１４質量％以下がさらに好ましい。
【０７０４】
さらに、一般式（ＸＩＩＩ−３）で表される化合物は、式（５０．１）から式（５０．４）で表される化合物であることが好ましく、式（５０．１）または／および式（５０．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０７０５】
【化３１９】
0005958662.tif 000320
【０７０６】
【化３２０】
0005958662.tif 000321
【０７０７】
【化３２１】
0005958662.tif 000322
【０７０８】
【化３２２】
0005958662.tif 000323
【０７０９】
さらに、本発明に係る一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０７１０】
【化３２３】
0005958662.tif 000324
【０７１１】
（上記一般式（ＸＩＶ）中、Ｒ１４は炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数２〜７のアルケニル基または炭素原子数１〜７のアルコキシ基を表し、し、Ｘ１４１からＸ１４４はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ１４はフッ素原子、塩素原子または−ＯＣＦ３を表し、Ｑ１４は単結合、−ＣＯＯ−または−ＣＦ２Ｏ−を表し、ｍ１４は０または１である。）
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。さらに、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類である。また、本発明のさらに別の実施形態では４種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では５種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では６種類以上である。
【０７１２】
一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して３％、別の実施形態では７％、さらに別の実施形態では８％、またさらに別の実施形態では１１％、またさらに別の実施形態では１２％、またさらに別の実施形態では１６％、またさらに別の実施形態では１８％である。またさらに別の実施形態では１９％である。またさらに別の実施形態では２２％である。またさらに別の実施形態では２５％である。
【０７１３】
また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では４０％、別の実施形態では３５％、更に別の実施形態では３０％、また更に別の実施形態では２５％、また更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１５％である。
【０７１４】
本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。
【０７１５】
さらに、本発明に係る一般式（ＸＩＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０７１６】
【化３２４】
0005958662.tif 000325
【０７１７】
（上記一般式（ＸＩＶ−１）中、Ｒ１４は炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数２〜７のアルケニル基または炭素原子数１〜７のアルコキシ基を表し、Ｙ１４はフッ素原子、塩素原子または−ＯＣＦ３を表す。）
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類組み合わせることが好ましい。
【０７１８】
さらに、一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−１−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０７１９】
【化３２５】
0005958662.tif 000326
【０７２０】
（上記一般式（ＸＩＶ−１）中、Ｒ１４は炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数２〜７のアルケニル基または炭素原子数１〜７のアルコキシ基を表す。）
前記一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上であることが好ましく、４質量％以上がより好ましく、７質量％以上がさらに好ましく、１０質量％以上がさらに好ましく、１８質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を３０質量％以下にとどめることが好ましく、２７質量％以下がさらに好ましく、２４質量％以下がより好ましく、２１質量％未満が特に好ましい。
【０７２１】
さらに、一般式（ＸＩＶ−１−１）で表される化合物は具体的には式（５１．１）から式（５１．４）で表される化合物であることが好ましく、式（５１．１）で表される化合物を含有することがより好ましい。
【０７２２】
【化３２６】
0005958662.tif 000327
【０７２３】
【化３２７】
0005958662.tif 000328
【０７２４】
【化３２８】
0005958662.tif 000329
【０７２５】
【化３２９】
0005958662.tif 000330
【０７２６】
さらに、一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−１−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０７２７】
【化３３０】
0005958662.tif 000331
【０７２８】
（上記一般式（ＸＩＶ−１−２）中、Ｒ１４は炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数２〜７のアルケニル基または炭素原子数１〜７のアルコキシ基を表す。）
一般式（ＸＩＶ−１−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましく、７質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を１５質量％以下にとどめることが好ましく、１３質量％以下がさらに好ましく、１１質量％以下がより好ましく、９質量％未満が特に好ましい。
【０７２９】
さらに、前記一般式（ＸＩＶ−１−２）で表される化合物は、具体的には式（５２．１）から式（５２．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５２．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０７３０】
【化３３１】
0005958662.tif 000332
【０７３１】
【化３３２】
0005958662.tif 000333
【０７３２】
【化３３３】
0005958662.tif 000334
【０７３３】
【化３３４】
0005958662.tif 000335
【０７３４】
さらに、本発明に係る一般式（ＸＩＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０７３５】
【化３３５】
0005958662.tif 000336
【０７３６】
（上記一般式（ＸＩＶ−２）中、Ｒ１４は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ１４１からＸ１４４はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ１４はフッ素原子、塩素原子または−ＯＣＦ３を表す。）
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。さらに、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類である。また、本発明のさらに別の実施形態では４種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では５種類以上である。
【０７３７】
一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して０．１％、別の実施形態では０．５％、さらに別の実施形態では１％、またさらに別の実施形態では１．２％、またさらに別の実施形態では１．５％、またさらに別の実施形態では２％、またさらに別の実施形態では２．５％である。またさらに別の実施形態では３％である。
【０７３８】
また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では２５％、別の実施形態では２０％、更に別の実施形態では１５％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では８％、また更に別の実施形態では７％である。
【０７３９】
本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。
【０７４０】
さらに、本発明に係る一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０７４１】
【化３３６】
0005958662.tif 000337
【０７４２】
（上記一般式（ＸＩＶ−２−１）中、Ｒ１４は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
一般式（ＸＩＶ−２−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましく、７質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を１５質量％以下にとどめることが好ましく、１３質量％以下がさらに好ましく、１１質量％以下がより好ましく、９質量％未満が特に好ましい。
【０７４３】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２−１）で表される化合物は具体的には式（５３．１）から式（５３．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５３．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０７４４】
【化３３７】
0005958662.tif 000338
【０７４５】
【化３３８】
0005958662.tif 000339
【０７４６】
【化３３９】
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【０７４７】
【化３４０】
0005958662.tif 000341
【０７４８】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０７４９】
【化３４１】
0005958662.tif 000342
【０７５０】
（上記一般式（ＸＩＶ−２−２）中、Ｒ１４は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
一般式（ＸＩＶ−２−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％以上であることが好ましく、６質量％以上がより好ましく、９質量％以上がさらに好ましく、１２質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１７質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１４質量％以下が特に好ましい。
【０７５１】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２−２）で表される化合物は具体的には式（５４．１）から式（５４．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５４．２）および／または式（５４．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０７５２】
【化３４２】
0005958662.tif 000343
【０７５３】
【化３４３】
0005958662.tif 000344
【０７５４】
【化３４４】
0005958662.tif 000345
【０７５５】
【化３４５】
0005958662.tif 000346
【０７５６】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−３）で表される化合物であることが好ましい。
【０７５７】
【化３４６】
0005958662.tif 000347
【０７５８】
（上記一般式（ＸＩＶ−２−３）中、Ｒ１４は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
一般式（ＸＩＶ−２−３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上であることが好ましく、９質量％以上がより好ましく、１２質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を３０質量％以下にとどめることが好ましく、２７質量％未満がさらに好ましく、２４質量％以下がより好ましく、２０質量％未満が特に好ましい。
【０７５９】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２−３）で表される化合物は具体的には式（５５．１）から式（５５．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５５．２）および／または式（５５．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０７６０】
【化３４７】
0005958662.tif 000348
【０７６１】
【化３４８】
0005958662.tif 000349
【０７６２】
【化３４９】
0005958662.tif 000350
【０７６３】
【化３５０】
0005958662.tif 000351
【０７６４】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物であることが好ましい。
【０７６５】
【化３５１】
0005958662.tif 000352
【０７６６】
（上記一般式（ＸＩＶ−２−４）中、Ｒ１４は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。さらに、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類以上である。
【０７６７】
一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して０．１％、別の実施形態では０．５％、さらに別の実施形態では０．７％、またさらに別の実施形態では１％、またさらに別の実施形態では１．２％、またさらに別の実施形態では１．８％、またさらに別の実施形態では２％である。またさらに別の実施形態では２．５％である。またさらに別の実施形態では３％である。
【０７６８】
また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では１５％、別の実施形態では１２％、更に別の実施形態では１１％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では８％、また更に別の実施形態では６％である。
【０７６９】
また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３５％、別の実施形態では３０％、更に別の実施形態では２５％、また更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１５％、また更に別の実施形態では１０％である。
【０７７０】
本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。
【０７７１】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物は具体的には式（５６．１）から式（５６．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５６．１）、式（５６．２）および式（５６．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０７７２】
【化３５２】
0005958662.tif 000353
【０７７３】
【化３５３】
0005958662.tif 000354
【０７７４】
【化３５４】
0005958662.tif 000355
【０７７５】
【化３５５】
0005958662.tif 000356
【０７７６】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−５）で表される化合物であることが好ましい。
【０７７７】
【化３５６】
0005958662.tif 000357
【０７７８】
（上記一般式（ＸＩＶ−２−５）中、Ｒ１４は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
一般式（ＸＩＶ−２−５）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１３質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２５質量％以下にとどめることが好ましく、２２質量％未満がさらに好ましく、１８質量％以下がより好ましく、１５質量％未満が特に好ましい。
【０７７９】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２−５）で表される化合物は具体的には式（５７．１）から式（５７．４）で表される化合物である。中でも式（５７．１）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０７８０】
【化３５７】
0005958662.tif 000358
【０７８１】
【化３５８】
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【０７８２】
【化３５９】
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【０７８３】
【化３６０】
0005958662.tif 000361
【０７８４】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−６）で表される化合物であることが好ましい。
【０７８５】
【化３６１】
0005958662.tif 000362
【０７８６】
（式中、Ｒ１４は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。）
一般式（ＸＩＶ−２−６）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２５質量％以下にとどめることが好ましく、２２質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１７質量％未満が特に好ましい。
【０７８７】
さらに、一般式（ＸＩＶ−２−６）で表される化合物は具体的には式（５８．１）から式（５８．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５８．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０７８８】
【化３６２】
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【０７８９】
【化３６３】
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【０７９０】
【化３６４】
0005958662.tif 000365
【０７９１】
【化３６５】
0005958662.tif 000366
【０７９２】
本願発明に使用する化合物は、分子内に過酸（−ＣＯ−ＯＯ−）構造を持たない。また、液晶組成物の信頼性及び長期安定性を重視する場合にはカルボニル基を有する化合物を使用しないことが好ましい。また、ＵＶ照射による安定性を重視する場合、塩素原子が置換している化合物を使用しないことが望ましい。分子内の環構造がすべて６員環である化合物のみであることも好ましい。
【０７９３】
本発明に係る液晶組成物の好ましい実施形態は、一般式（ｉ）：
【０７９４】
【化３６６】
0005958662.tif 000367
【０７９５】
（上記一般式（ｉ）中、Ｒｉ１およびＲｉ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜１０個のアルキル基、炭素原子数２〜１０個のアルケニル基または炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基であり、前記Ｒｉ１またはＲｉ２の少なくともいずれか一方がアルケニル基である。）
で表される化合物を少なくとも１種以上と、
一般式（Ｍ−１）：
【０７９６】
【化３６７】
0005958662.tif 000368
【０７９７】
（上記一般式（Ｍ−１）中、Ｒ１は炭素原子数２個〜１０個のアルケニル基を表し、
Ｒ２は、炭素原子数１〜１０個のアルキル基、炭素原子数２〜１０個のアルケニル基ま、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基、水素原子、フッ素原子、シアノ基、−ＣＦ３または−ＯＣＦ３を表し、
環Ａ、環Ｂは、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）と基（ｂ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ｎは０または１を表す。）
で表される化合物を少なくとも１種以上と、
一般式（Ｉ−１）：
【０７９８】
【化３６８】
0005958662.tif 000369
【０７９９】
（上記一般式（Ｉ−１）中、Ｒ１１およびＲ１２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基または炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中の１つ以上の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、該アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基中のメチレン基は酸素原子が連続して結合しない限り酸素原子で置換されていてもよく、カルボニル基が連続して結合しない限りカルボニル基で置換されていてもよい。）で表される化合物を少なくとも１種以上と、
を含み、かつ２５℃における誘電率異方性が０より大きく５以下である液晶組成物である。
【０８００】
すなわち、本発明に係る液晶組成物において、第一成分として一般式（ｉ）で表される化合物群の中から少なくとも１種類の化合物と、一般式（Ｍ−１）で表される化合物群の中から少なくとも１種類とを選択すると、液晶層のキャパシタンス低下に有効な誘電率異方性の小さい液晶組成物を、液晶ディスプレイ用として好適な物性値、例えば低い粘性、高い相溶性、高いネマチック上限温度範囲等を損なわずに得ることができる。これにより、ＴＦＴへの電圧書き込み走査におけるＣＴＯＴＡＬ相当コンデンサへの充電の影響を小さくでき、電圧波形のなまりや遅延に起因したフリーカーや応答速度の悪化といった現象を発生させないか或いは無視できる程度にしか発生させず、低温安定性に関する問題、滴下痕の問題点または高速応答性に関するいずれかの問題の解決にも効果を奏する。
【０８０１】
また必要に応じて、ノンポーラ成分としては、一般式（Ｉ−４）、一般式（Ｉ−５）、一般式（ＩＩ−２）および一般式（ＩＩ−３）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含んでもよく、ポーラ成分としては、一般式（Ｘ−２）、一般式（Ｘ−３）、一般式（Ｘ−５）、一般式（ＶＩＩＩ）および一般式（ＸＩ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含んでもよい。
【０８０２】
また、一般式（ｉ）及び一般式（Ｍ−１）で表される化合物群の中から少なくともそれぞれ１種類が選択される化合物は、液晶組成物全体のうち１〜８０質量％含有していることが好ましく、２〜７０質量％含有していることがより好ましく、３〜６５質量％含有していることがさらに好ましく、４〜６０質量％含有していることがよりさらに好ましく、５〜５５質量％含有していることが特に好ましい。
【０８０３】
本発明に係る液晶組成物の他の好ましい実施形態は、一般式（ｉ）、一般式（Ｍ−１）および一般式（Ｉ−１）で表される化合物を含む液晶組成物であって、かつ２５℃における誘電率異方性が０より大きく５以下であることが好ましく、２５℃における誘電率異方性が０より大きく４以下であることがより好ましく、２５℃における誘電率異方性が０より大きく３以下であることが特に好ましい。
【０８０４】
本発明に係る液晶組成物における別の好ましい実施形態は、一般式（ｉ）、一般式（Ｍ−１）および一般式（Ｉ−１）で表される化合物を含む液晶組成物であって、この一般式（ｉ）、一般式（Ｍ−１）および一般式（Ｉ−１）で表される化合物を含む組成物の場合、これら３種の化合物が液晶組成物全体のうち１〜９５質量％含有していることが好ましく、３〜９２質量％含有していることがより好ましく、５〜９０質量％含有していることがさらに好ましく、８〜８８質量％含有していることがよりさらに好ましく、１０〜８５質量％含有していることが特に好ましい。
【０８０５】
本発明に係る液晶組成物の好ましい実施形態は、一般式（ｉ）、一般式（Ｍ−１）、一般式（Ｌ）および一般式（Ｍ）で表される化合物群の中から少なくともそれぞれ１種類が選択される化合物は、液晶組成物全体のうち５０〜１００質量％含有していることが好ましく、５５〜９８質量％含有していることがより好ましく、６０〜９５質量％含有していることがさらに好ましく、６５〜９０質量％含有していることがよりさらに好ましく、６８〜８５質量％含有していることが特に好ましい。
【０８０６】
本発明に係る液晶組成物の他の好ましい実施形態は、一般式（ｉ）、一般式（Ｍ−１）および一般式（Ｌ）で表される化合物群の中から少なくともそれぞれ１種類が選択される化合物は、液晶組成物全体のうち４０〜１００質量％含有していることが好ましく、５０〜９３質量％含有していることがより好ましく、５５〜８８質量％含有していることがさらに好ましく、５８〜８５質量％含有していることがよりさらに好ましく、６０〜８２質量％含有していることが特に好ましい。
【０８０７】
本発明に係る液晶組成物の他の好ましい実施形態は、一般式（ｉ）、一般式（Ｍ−１）および一般式（Ｍ）で表される化合物群の中から少なくともそれぞれ１種類が選択される化合物は、液晶組成物全体のうち２０〜９０質量％含有していることが好ましく、３０〜８０質量％含有していることがより好ましく、３５〜７５質量％含有していることがさらに好ましく、４０〜７０質量％含有していることがよりさらに好ましく、４５〜６０質量％含有していることが特に好ましい。
【０８０８】
粘度の改善及びＴｎｉの改善を重視する場合には、水素原子がハロゲンに置換されていてもよい２−メチルベンゼン−１，４−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を少なくすることが好ましく、前記２−メチルベンゼン−１，４−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して１０質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。
【０８０９】
液晶組成物の酸化による劣化を抑えるためには、環構造としてシクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を少なくすることが好ましく、シクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して１０質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。
【０８１０】
本発明の液晶組成物は、２５℃における誘電率異方性（Δε）が０より大きく＋５以下であるが、＋０．５から＋４．０が好ましく、＋１．０から＋３．５が更に好ましく、＋１．５から＋３．０が特に好ましい。
【０８１１】
本発明の液晶組成物は、２５℃における屈折率異方性（Δｎ）が０．０６から０．２０であるが、０．０７から０．１８が更に好ましく、０．０８から０．１６が特に好ましい。更に詳述すると、薄いセルギャップに対応する場合は０．１１から０．１４であることが好ましく、厚いセルギャップに対応する場合は０．０８から０．１１であることが好ましい。
【０８１２】
本発明の液晶組成物は、ネマチック相−等方性液体相転移温度（Ｔｎｉ）が６０℃から１２０℃であるが、７０℃から１１０℃がより好ましく、７０℃から１００℃が特に好ましい。
【０８１３】
本発明の液晶組成物は、２５℃における粘度（η）が５から２０ｍＰａ・ｓであるが、１８ｍＰａ・ｓ以下であることが更に好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下であることが特に好ましい。
【０８１４】
本発明の液晶組成物は、２５℃における回転粘性（γ１）が２０から６０ｍＰａ・ｓであるが、５０ｍＰａ・ｓ以下であることが更に好ましく、４０ｍＰａ・ｓ以下であることが特に好ましい。
【０８１５】
本発明に係る重合性化合物を含有した液晶組成物は、これに含まれる重合性化合物が紫外線照射により重合することで液晶配向能が付与され、液晶組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用されることが好ましい。
【０８１６】
本発明に係る液晶組成物には、ＰＳＡモード又は横電界型ＰＳＡモードなどの液晶表示素子を作製するために、重合性化合物を含有してもよい。使用できる重合性化合物として、光などのエネルギー線により重合が進行する光重合性モノマーなどが挙げられ、構造として、例えば、ビフェニル誘導体、ターフェニル誘導体などの六員環が複数連結した液晶骨格を有する重合性化合物などが挙げられる。更に具体的には、一般式（ＸＸ）で表される二官能モノマーが好ましい。
【０８１７】
【化３６９】
0005958662.tif 000370
【０８１８】
前記一般式（ＸＸ）中、Ｘ２０１及びＸ２０２は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜３個のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基）を表し、
Ｓｐ２０１及びＳｐ２０２は、それぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）Ｓ−（式中、ｓは２〜７の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。）を表し、
Ｚ２０１は、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−（式中、Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、又は、単結合を表し、
Ｍ２０１は、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、単結合または任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い１，４−フェニレン基を表し、
上記一般式（ＸＸ）中の全ての１，４−フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い。
【０８１９】
本発明に係る重合性化合物の好ましい形態は、Ｘ２０１及びＸ２０２が何れも水素原子を表すジアクリレート誘導体、Ｘ２０１及びＸ２０２が何れもメチル基を有するジメタクリレート誘導体の何れも好ましく、一方が水素原子を表しもう一方がメチル基を表す化合物も好ましい。これらの化合物の重合速度は、ジアクリレート誘導体が最も早く、ジアクリレート誘導体が遅く、非対称化合物がその中間であり、その用途により好ましい態様を用いることができる。ＰＳＡ表示素子においては、ジメタクリレート誘導体が特に好ましい。
【０８２０】
Ｓｐ２０１及びＳｐ２０２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−を表すが、ＰＳＡ表示素子においては少なくとも一方が単結合であることが好ましく、共に単結合を表す化合物又は一方が単結合でもう一方が炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−を表す態様が好ましい。この場合炭素原子数１〜４のアルキレン基がより好ましく、ｓは１〜４が好ましい。
【０８２１】
Ｚ２０１は、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、又は、単結合が好ましく、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は、単結合がより好ましく、単結合が特に好ましい。
【０８２２】
Ｍ２０１は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、又は、単結合を表すが、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い１，４−フェニレン基又は単結合が好ましい。Ｍ２０１が単結合以外の環構造を表す場合、Ｚ２０１は単結合以外の連結基が好ましく、Ｍ２０１が単結合の場合、Ｚ２０１は単結合が好ましい。
【０８２３】
これらの点から、一般式（ＸＸ）において、Ｓｐ２０１及びＳｐ２０２の間の環構造は、具体的には次に記載する式（ＸＸａ−１）〜式（ＸＸａ−５）の構造が好ましい。
【０８２４】
前記一般式（ＸＸ）において、Ｍ２０１が単結合を表し、環構造が二つの環で形成される場合において、次の式（ＸＸａ−１）〜式（ＸＸａ−５）を表すことが好ましく、式（ＸＸａ−１）〜式（ＸＸａ−３）を表すことがより好ましく、式（ＸＸａ−１）を表すことが特に好ましい。
【０８２５】
【化３７０】
0005958662.tif 000371
【０８２６】
上記式（ＸＸａ−１）〜式（ＸＸａ−５）において、結合手の両端は、Ｓｐ２０１又はＳｐ２０２に結合するものとする。
【０８２７】
これらの骨格を含む重合性化合物は重合後の配向規制力がＰＳＡ型液晶表示素子に最適であり、良好な配向状態が得られることから、表示ムラが抑制されるか、又は、全く発生しない。
【０８２８】
以上のことから、前記重合性化合物としては、一般式（ＸＸ−１）〜一般式（ＸＸ−４）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物が好ましく、中でも一般式（ＸＸ−２）で表される化合物がより好ましい。
【０８２９】
【化３７１】
0005958662.tif 000372
【０８３０】
前記一般式（ＸＸ−３）及び一般式（ＸＸ−４）中、Ｓｐ２０は炭素原子数２〜５のアルキレン基を表す。
【０８３１】
本発明に係る液晶組成物に重合性化合物を添加する場合において、重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。
【０８３２】
本発明に係る液晶組成物は、更に、一般式（Ｑ）で表される化合物を酸化防止剤として含有することができる。
【０８３３】
【化３７２】
0005958662.tif 000373
【０８３４】
前記一般式（Ｑ）中、ＲＱは炭素原子数１〜２２のアルキル基又はアルコキシ基を表し、該アルキル基中の１つ以上のＣＨ２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−で置換されてよく、ＭＱはトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、又は、単結合を表す。
【０８３５】
前記一般式（Ｑ）中において、ＲＱは炭素原子数１〜２２のアルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、当該アルキル基（前記アルコキシ基におけるアルキル基を含む）は、直鎖状または分岐鎖状であってもよい。また、前記ＲＱは炭素原子数１〜２２の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基又は直鎖もしくは分岐鎖アルコキシ基を表し、該アルキル基（前記アルコキシ基におけるアルキル基を含む）中の１つ以上のＣＨ２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−で置換されてもよい。前記一般式（Ｑ）中においてＲＱは、炭素原子数１〜２０個であって、直鎖アルキル基、直鎖アルコキシ基、１つのＣＨ２基が−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−に置換された直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、分岐アルコキシ基および１つのＣＨ２基が−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−に置換された分岐鎖アルキル基からなる群から選択される少なくとも１つであることが好ましく、炭素原子数１〜１０の直鎖アルキル基、１つのＣＨ２基が−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−に置換された直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、分岐アルコキシ基および１つのＣＨ２基が−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−に置換された分岐鎖アルキル基からなる群から選択される少なくとも１つが更に好ましい。
【０８３６】
ＭＱはトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基又は単結合を表すが、トランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基が好ましい。
【０８３７】
前記一般式（Ｑ）で表される化合物は、下記の一般式（Ｑ−ａ）〜一般式（Ｑ−ｄ）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましく、一般式（Ｑ−ａ）及び／又は（Ｑ−ｃ）で表される化合物であることがより好ましい。
【０８３８】
【化３７３】
0005958662.tif 000374
【０８３９】
前記一般式（Ｑ−ａ）〜式（Ｑ−ｄ）中、ＲＱ１は炭素原子数１〜１０の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基が好ましく、ＲＱ２は炭素原子数１〜２０の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基が好ましく、ＲＱ３は炭素原子数１〜８の直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、直鎖アルコキシ基又は分岐鎖アルコキシ基が好ましく、ＬＱは炭素原子数１〜８の直鎖アルキレン基又は分岐鎖アルキレン基が好ましい。これらの中でも、一般式（Ｑ）で表される化合物は、下記式（Ｑ−ａ−１）及び／又は（Ｑ−ｃ−１）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【０８４０】
【化３７４】
0005958662.tif 000375
【０８４１】
【化３７５】
0005958662.tif 000376
【０８４２】
本願発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｑ）で表される化合物を１種又は２種を含有することが好ましく、１種〜５種を含有することが更に好ましく、その含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、０．００１〜１質量％であることが好ましく、０．００１〜０．１質量％であることが好ましく、０．００１〜０．０５質量％であることが好ましい。
【０８４３】
本発明の第二は、前記一般式（ｉ）で表される化合物を含み、２５℃における誘電率異方性が０より大きく５以下である液晶組成物を備えた液晶表示素子である。
【０８４４】
また、本発明に係る液晶表示素子は、一般式（ｉ）で表される化合物および一般式（Ｍ−１）で表される化合物を含み、２５℃における誘電率異方性が０より大きく５以下である液晶組成物を備えることが好ましい。
【０８４５】
本発明に係る液晶表示素子としては、ＡＭ−ＬＣＤ（アクティブマトリックス液晶表示素子）に有用であり、透過型あるいは反射型の液晶表示素子に用いることができる。
また、本発明に係る液晶表示素子の駆動方式（またはモードとも称する。）としては、ＥＣＢ−ＬＣＤ、ＶＡ−ＬＣＤ、ＶＡ−ＩＰＳ−ＬＣＤ、ＦＦＳ（フリンジ・フィールド・スイッチング）−ＬＣＤ、ＴＮ（ネマチック液晶表示素子）、ＳＴＮ−ＬＣＤ（超ねじれネマチック液晶表示素子）、ＯＣＢ−ＬＣＤ及びＩＰＳ−ＬＣＤ（インプレーンスイッチング液晶表示素子）に有用であるが、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの液晶表示素子が特に好ましい。
【０８４６】
近年スマートフォンに代表される携帯型タブレットに使用する液晶ディスプレイは、急速に開発・普及が進んだＩＰＳモードやＦＦＳモードなどの横電界型液晶ディスプレイでは、低消費電力が重視されることから、主に高Δεの正の誘電異方性を有する液晶組成物が好んで用いられている。その場合、液晶自体の粘性が高くなる傾向にあり、さらに液晶層だけでなくＦＦＳ基板絶縁層（例えば後述の図５、図７では絶縁層１８）へのチャージによるタイムロスも発生し易くなることから、その応答速度は十分ではない。これを改善するために、液晶層のキャパシタンスを低下させる、すなわちΔεが正でありながら非常に小さい液晶組成物を用いることで、液晶層の誘起分極を低減させることができると考えられる。これにより液晶組成物自体の粘性も低下し、ＩＰＳやＦＦＳモードとしては極めて速い応答速度を達成することが可能となる。
【０８４７】
前記液晶表示素子に使用される液晶セルの２枚の基板はガラス又はプラスチックの如き柔軟性をもつ透明な材料を用いることができ、一方はシリコン等の不透明な材料でも良い。透明電極層を有する透明基板は、例えば、ガラス板等の透明基板上にインジウムスズオキシド（ＩＴＯ）をスパッタリングすることにより得ることができる。
【０８４８】
前記カラーフィルタは、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法又は、染色法等によって作製することができる。顔料分散法によるカラーフィルタの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルタ用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の３色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルタ用の画素部を作製することができる。その他、該基板上に、ＴＦＴ、薄膜ダイオード等の能動素子を設けた画素電極を設置してもよい。
【０８４９】
前記基板を、透明電極層が内側となるように対向させる。その際、スペーサーを介して、基板の間隔を調整してもよい。このときは、得られる調光層（液晶層）の厚さが１〜１００μｍとなるように調整するのが好ましい。１．５から１０μｍが更に好ましく、偏光板を使用する場合は、コントラストが最大になるように液晶の屈折率異方性Δｎとセル厚Ｇとの積を調整することが好ましい。又、二枚の偏光板がある場合は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラトが良好になるように調整することもできる。更に、視野角を広げるための位相差フィルムも使用することもできる。スペーサーとしては、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子、フォトレジスト材料などからなる柱状スペーサー等が挙げられる。その後、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させる。
【０８５０】
２枚の基板間に液晶組成物（必要により重合性化合物を含有する）を狭持させる方法は、通常の真空注入法又はＯＤＦ法などを用いることができる。しかし真空注入法においては滴下痕が発生しない代わりに、注入の跡が残るという課題がある。本願発明においては、ＯＤＦ法を用いて製造する表示素子に、より好適に使用することができる。ＯＤＦ法の液晶表示素子製造工程においては、バックプレーンまたはフロントプレーンのどちらか一方の基板にエポキシ系光熱併用硬化性などのシール剤を、ディスペンサーを用いて閉ループ土手状に描画し、その中に脱気下で所定量の液晶組成物を滴下後、フロントプレーンとバックプレーンを接合することによって液晶表示素子を製造することができる。本発明の液晶組成物は、ＯＤＦ工程における液晶組成物の滴下が安定的に行えるため、好適に使用することができる。
【０８５１】
重合性化合物を重合させる方法としては、液晶の良好な配向性能を得るためには、適度な重合速度が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を単一又は併用又は順番に照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、重合性化合物含有液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、更に活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。特に紫外線露光する際には、重合性化合物含有液晶組成物に交流電界を印加しながら紫外線露光することが好ましい。印加する交流電界は、周波数１０Ｈｚから１０ｋＨｚの交流が好ましく、周波数６０Ｈｚから１０ｋＨｚがより好ましく、電圧は液晶表示素子の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する電圧により液晶表示素子のプレチルト角を制御することができる。横電界型ＭＶＡモードの液晶表示素子においては、配向安定性及びコントラストの観点からプレチルト角を８０度から８９．９度に制御することが好ましい。
【０８５２】
照射時の温度は、本発明の液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。室温に近い温度、即ち、典型的には１５〜３５℃での温度で重合させることが好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、液晶組成物の吸収波長域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましく、必要に応じて、紫外線をカットして使用することが好ましい。照射する紫外線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜１００Ｗ／ｃｍ２が好ましく、２ｍＷ／ｃｍ２〜５０Ｗ／ｃｍ２がより好ましい。照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、１０ｍＪ／ｃｍ２から５００Ｊ／ｃｍ２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２から２００Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。紫外線を照射する際に、強度を変化させても良い。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選択されるが、１０秒から３６００秒が好ましく、１０秒から６００秒がより好ましい。
【０８５３】
本発明の液晶組成物を用いた液晶表示素子は高速応答と表示不良の抑制を両立させた有用なものであり、特に、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子に有用であり、ＶＡモード、ＰＳＶＡモード、ＰＳＡモード、ＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）モード、ＶＡ−ＩＰＳモード、ＦＦＳ（フリンジ・フィールド・スイッチング）モード又はＥＣＢモード用液晶表示素子に適用できる。
【０８５４】
以下、図面を参照しつつ、本発明に係る液晶表示素子（液晶ディスプレイの一例）の好適な実施の形態について詳細に説明する。
【０８５５】
図１は、互いに対向する二つの基板と、前記基板間に設けられたシール材と、前記シール材に囲まれた封止領域に封入された液晶とを備えている液晶表示素子を示す断面図である。
【０８５６】
具体的には、第１基板１００上に、ＴＦＴ層１０２、画素電極１０３を設け、その上からパッシベーション膜１０４及び第１配向膜１０５を設けたバックプレーンと、第２基板２００上に、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０３、平坦化膜（オーバーコート層）２０１、透明電極２０４を設け、その上から第２配向膜２０５を設け、前記バックプレーンと対向させたフロントプレーンと、前記基板間に設けられたシール材３０１と、前記シール材に囲まれた封止領域に封入された液晶層３０３とを備え、前記シール材３０１が接する基板面には突起（柱状スペーサー）３０２，３０４が設けられている液晶表示素子の具体的態様を示している。
【０８５７】
前記第１基板又は前記第２基板は、実質的に透明であれば材質に特に限定はなく、ガラス、セラミックス、プラスチック等を使用することができる。プラスチック基板としてはセルロ−ス、トリアセチルセルロ−ス、ジアセチルセルロ−ス等のセルロ−ス誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ−ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、さらにガラス繊維−エポキシ樹脂、ガラス繊維−アクリル樹脂などの無機−有機複合材料などを用いることができる。
【０８５８】
なおプラスチック基板を使用する際には、バリア膜を設けることが好ましい。バリア膜の機能は、プラスチック基板が有する透湿性を低下させ、液晶表示素子の電気特性の信頼性を向上することにある。バリア膜としては、それぞれ、透明性が高く水蒸気透過性が小さいものであれば特に限定されず、一般的には酸化ケイ素などの無機材料を用いて蒸着やスパッタリング、ケミカルベーパーデポジション法（ＣＶＤ法）によって形成した薄膜を使用する。
【０８５９】
本発明においては、前記第１基板又は前記第２基板として同素材を使用しても異素材を使用してもよく、特に限定はない。ガラス基板を用いれば耐熱性や寸法安定性の優れた液晶表示素子を作製することができるので好ましい。またプラスチック基板であれば、ロールツウロール法による製造方法に適し且つ軽量化あるいはフレキシブル化に適しており好ましい。また、平坦性及び耐熱性付与を目的とするならば、プラスチック基板とガラス基板とを組み合わせると良い結果を得ることができる。
【０８６０】
なお後述の実施例においては、第１基板１００又は第２基板２００の材質として基板を使用している。
【０８６１】
バックプレーンには、第１基板１００上に、ＴＦＴ層１０２及び画素電極１０３を設けている。これらは通常のアレイ工程にて製造される。この上にパッシベーション膜１０４及び第１配向膜１０５を設けてバックプレーンが得られる。
【０８６２】
パッシベーション膜１０４（無機保護膜ともいう）はＴＦＴ層を保護するための膜で、通常は窒化膜（ＳｉＮｘ）、酸化膜（ＳｉＯｘ）等を化学的気相成長（ＣＶＤ）技術等により形成する。
【０８６３】
また、第１配向膜１０５は、液晶を配向させる機能を有する膜であり、通常ポリイミドのような高分子材料が用いられることが多い。塗布液には、高分子材料と溶剤からなる配向剤溶液が使われる。配向膜はシール材との接着力を阻害する可能性があるため、封止領域内にパターン塗布する。塗布にはフレキソ印刷法のような印刷法、インクジェットのような液滴吐出法が用いられる。塗布された配向剤溶液は仮乾燥により溶剤が蒸発した後、ベーキングにより架橋硬化される。この後、配向機能を出すために、配向処理を行う。
【０８６４】
配向処理は通常ラビング法にて行われる。前述のように形成された高分子膜上を、レーヨンのような繊維から成るラビング布を用いて一方向にこすることにより液晶配向能が生じる。
【０８６５】
また、光配向法を用いることもある。光配向法は、光感受性を有する有機材料を含む配向膜上に偏光を照射することにより配向能を発生させる方法であり、ラビング法による基板の傷や埃の発生が生じない。光配向法における有機材料の例としては二色性染料を含有する材料がある。二色性染料としては、光二色性に起因するワイゲルト効果による分子の配向誘起もしくは異性化反応（例：アゾベンゼン基）、二量化反応（例：シンナモイル基）、光架橋反応（例：ベンゾフェノン基）、あるいは光分解反応（例：ポリイミド基）のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じる基（以下、光配向性基と略す）を有するものを用いることができる。塗布された配向剤溶液は仮乾燥により溶剤が蒸発した後、任意の偏向を有する光（偏光）を照射することで、任意の方向に配向能を有する配向膜を得ることができる。
【０８６６】
一方のフロントプレーンは、第２基板２００上に、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０３、平坦化膜２０１、透明電極２０４、第２配向膜２０５を設けている。
【０８６７】
ブラックマトリックス２０２は、例えば、顔料分散法にて作製する。具体的にはバリア膜２０１を設けた第２基板２００上に、ブラックマトリックス形成用に黒色の着色剤を均一分散させたカラーレジン液を塗布し、着色層を形成する。続いて、着色層をベーキングして硬化する。この上にフォトレジストを塗布し、これをプリベークする。フォトレジストにマスクパターンを通して露光した後に、現像を行って着色層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、着色層をベーキングしてブラックマトリックス２０２が完成する。
【０８６８】
あるいは、フォトレジスト型の顔料分散液を使用してもよい。この場合は、フォトレジスト型の顔料分散液を塗布し、プリベークしたのち、マスクパターンを通して露光した後に、現像を行って着色層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、着色層をベーキングしてブラックマトリックス２０２が完成する。
【０８６９】
カラーフィルタ２０３は、顔料分散法、電着法、印刷法あるいは染色法等にて作製する。顔料分散法を例にとると、（例えば赤色の）顔料を均一分散させたカラーレジン液を第２基板２００上に塗布し、ベーキング硬化後、該上にフォトレジストを塗布しプリベークする。フォトレジストにマスクパターンを通して露光した後に現像を行い、パターニングする。この後フォトレジスト層を剥離し、再度ベーキングすることで、（赤色の）カラーフィルタ２０３が完成する。作製する色順序に特に限定はない。同様にして、緑カラーフィルタ２０３、青カラーフィルタ２０３を形成する。
【０８７０】
透明電極２０４は、前記カラーフィルタ２０３上に（必要に応じて前記カラーフィルタ２０３上に表面平坦化のためにオーバーコート層（２０１）を設け）を設ける。透明電極２０４は透過率が高い方が好ましく、電気抵抗が小さいほうが好ましい。透明電極２０４はＩＴＯなどの酸化膜をスパッタリング法などによって形成する。
【０８７１】
また、前記透明電極２０４を保護する目的で、透明電極２０４の上にパッシベーション膜を設ける場合もある。
【０８７２】
第２配向膜２０５は、前述の第１配向膜１０５と同じものである。
【０８７３】
以上、本発明で使用する前記バックプレーン及び前記フロントプレーンについての具体的態様を述べたが、本願においては該具体的態様に限定されることはなく、所望される液晶表示素子に応じた態様の変更は自由である。
【０８７４】
前記柱状スペーサーの形状は特に限定されず、その水平断面を円形、四角形などの多角形など様々な形状にすることができるが、工程時のミスアラインマージンを考慮して、水平断面を円形または正多角形にすることが特に好ましい。また該突起形状は、円錐台または角錐台であることが好ましい。
【０８７５】
前記柱状スペーサーの材質は、シール材もしくはシール材に使用する有機溶剤、あるいは液晶に溶解しない材質であれば特に限定されないが、加工及び軽量化の面から合成樹脂（硬化性樹脂）であることが好ましい。一方、前記突起は、フォトリソグラフィによる方法や液滴吐出法により、第一の基板上のシール材が接する面に設けることが可能である。このような理由から、フォトリソグラフィによる方法や液滴吐出法に適した、光硬化性樹脂を使用することが好ましい。
【０８７６】
例として、前記柱状スペーサーをフォトリソグラフィ法によって得る場合について説明する。図２は、フォトマスクパターンとしてブラックマトリックス上に形成する柱状スペーサー作製用パターンを使用した露光処理工程の図である。
【０８７７】
前記フロントプレーンの透明電極２０４上に、柱状スペーサー形成用の（着色剤を含まない）レジン液を塗布する。続いて、このレジン層４０２をベーキングして硬化する。この上にフォトレジストを塗布し、これをプリベークする。フォトレジストにマスクパターン４０１を通して露光した後に、現像を行ってレジン層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、レジン層をベーキングして柱状スペーサー（図１の３０２，３０４）が完成する。
【０８７８】
柱状スペーサーの形成位置はマスクパターンによって所望の位置に決めることができる。従って、液晶表示素子の封止領域内と封止領域外（シール材塗布部分）との両方を同時に作製することができる。また柱状スペーサーは封止領域の品質が低下することがないように、ブラックマトリックスの上に位置するように形成させることが好ましい。このようにフォトリソグラフィ法によって作製された柱状スペーサーのことを、カラムスペーサ又はフォトスペーサと呼ぶことがある。
【０８７９】
前記スペーサーの材質は、ＰＶＡ−スチルバゾ感光性樹脂などのネガ型水溶性樹脂や多官能アクリル系モノマー、アクリル酸共重合体、トリアゾール系開始剤などの混合物が使用される。あるいはポリイミド樹脂に着色剤を分散させたカラーレジンを使う方法もある。本発明においては特に限定はなく、使用する液晶やシール材との相性に従い公知の材質でスペーサーを得ることができる。
【０８８０】
このようにして、フロントプレーン上の封止領域となる面に柱状スペーサーを設けた後、該バックプレーンのシール材が接する面にシール材（図１における３０１）を塗布する。
【０８８１】
前記シール材の材質は特に限定はなく、エポキシ系やアクリル系の光硬化性、熱硬化性、光熱併用硬化性の樹脂に重合開始剤を添加した硬化性樹脂組成物が使用される。また、透湿性や弾性率、粘度などを制御するために、無機物や有機物よりなるフィラー類を添加することがある。これらフィラー類の形状は特に限定されず、球形、繊維状、無定形などがある。さらに、セルギャップを良好に制御するために単分散径を有する球形や繊維状のギャップ材を混合したり、基板との接着力をより強化するために、基板上突起と絡まりやすい繊維状物質を混合しても良い。このとき使用する繊維状物質の直径はセルギャップの１／５〜１／１０以下程度が望ましく、繊維状物質の長さはシール塗布幅よりも短いことが望ましい。
【０８８２】
また、繊維状物質の材質は所定の形状が得られるものであれば特に限定されず、セルロース、ポリアミド、ポリエステルなどの合成繊維やガラス、炭素などの無機材料を適宜選ぶことが可能である。
【０８８３】
シール材を塗布する方法としては、印刷法やディスペンス法があるが、シール材の使用量が少ないディスペンス法が望ましい。シール材の塗布位置は封止領域に悪影響を及ぼさないように通常ブラックマトリックス上とする。次工程の液晶滴下領域を形成するため（液晶が漏れないように）、シール材塗布形状は閉ループ形状とする。
【０８８４】
前記シール材を塗布したフロントプレーンの閉ループ形状（封止領域）に液晶を滴下する。通常はディスペンサーを使用する。滴下する液晶量は液晶セル容積と一致させるため、柱状スペーサーの高さとシール塗布面積とを掛け合わせた体積と同量を基本とする。しかし、セル貼り合わせ工程における液晶漏れや表示特性の最適化のために、滴下する液晶量を適宜調整することもあれば、液晶滴下位置を分散させることもある。
【０８８５】
次に、前記シール材を塗布し液晶を滴下したフロントプレーンに、バックプレーンを貼り合わせる。具体的には、静電チャックのような基板を吸着させる機構を有するステージに前記フロントプレーンと前記バックプレーンとを吸着させ、フロントプレーンの第２配向膜とバックプレーンの第１配向膜とが向きあい、シール材ともう一方の基板が接しない位置（距離）に配置する。この状態で系内を減圧する。減圧終了後、フロントプレーンとバックプレーンとの貼り合せ位置を確認しながら両基板位置を調整する（アライメント操作）。貼り合せ位置の調整が終了したら、フロントプレーン上のシール材とバックプレーンとが接する位置まで基板を接近させる。この状態で系内に不活性ガスを充填させ、徐々に減圧を開放しながら常圧に戻す。このとき、大気圧によりフロントプレーンとバックプレーンが貼り合わされ、柱状スペーサーの高さ位置でセルギャップが形成される。この状態でシール材に紫外線を照射してシール材を硬化することによって液晶セルを形成する。この後、場合によって加熱工程を加え、シール材硬化を促進する。シール材の接着力強化や電気特性信頼性の向上のために、加熱工程を加えることが多い。
【０８８６】
以下、本発明のさらに好ましい液晶表示素子の形態について説明する。
【０８８７】
本発明に係る液晶表示素子の第二の好ましい実施形態は、第一の配向層および薄膜トランジスタを含む電極層を表面に有する第一の基板と、第二の配向層を表面に有する第二の基板とが配向層同士向かい合うよう離間して配置され、当該前記第一の基板と第二の基板との間に液晶組成物を含む液晶層が充填された液晶表示素子であって、前記薄膜トランジスタを含む電極層は、網目状に配置される複数個のゲート配線及びデータ配線と、前記ゲート配線と前記データ配線との各交差部に設けられる薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに接続された画素電極と、前記画素電極と離間して第一の基板上に設けられる共通電極と、を備えることが好ましい。また、前記液晶層に近接して設けられている第一の配向層および第二の配向層は、液晶組成物に対してホモジニアス配向を誘起する配向膜であることが好ましい。
【０８８８】
すなわち、前記液晶表示素子は、第二の偏光板と、第二の基板と、薄膜トランジスタを含む電極層（又は薄膜トランジスタ層とも称する）と、配向膜と、液晶組成物を含む液晶層と、配向膜と、カラーフィルタと、第一の基板と、第一の偏光板と、が順次積層された構成であることが好ましい。
【０８８９】
共通電極と画素電極とを同一の基板（または電極層）上に離間して設けることで、前記共通電極と前記画素電極との間に生じる電界（Ｅ）が平面方向成分を有することができる。そのため、例えば液晶組成物に対してホモジニアス配向を誘起する配向膜を前記配向層に用いると、共通電極と画素電極との間に電圧をかける前は配向膜の配向方向である面方向に配列している液晶分子が光を遮断し、電圧をかけると平面方向にかかる電界（Ｅ）により液晶分子が水平に回転して、当該電界方向に沿って配列することで光を遮断する素子を提供できる。
【０８９０】
また、本発明に係る液晶表示素子の形態としては、いわゆるカラーフィルタオンアレイ（ＣＯＡ）であってもよく、薄膜トランジスタを含む電極層と液晶層との間にカラーフィルタを設けても、または当該薄膜トランジスタを含む電極層と第二の基板との間にカラーフィルタを設けてもよい。すなわち、発明に係る液晶表示素子の構成は、薄膜トランジスタを含む電極層３が形成されている第一の基板と同一の基板側にカラーフィルタ６が形成されていることが好ましい。
【０８９１】
なお、本明細書における「基板上」とは、基板と直接当接するだけでなく間接的に当接する、いわゆる基板に支持されている状態も含む。
【０８９２】
本発明に係る液晶表示組成における第二の実施形態のより好ましい別の形態（ＦＦＳ）は、第一の配向層および薄膜トランジスタを含む電極層を表面に有する第一の基板と、第二の配向層を表面に有する第二の基板とが配向層同士向かい合うよう離間して配置され、当該前記第一の基板と第二の基板との間に液晶組成物を含む液晶層が充填された液晶表示素子であって、前記薄膜トランジスタを含む電極層は、網目状に配置される複数個のゲート配線及びデータ配線と、前記ゲート配線と前記データ配線との各交差部に設けられる薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに接続された画素電極と、前記画素電極と離間して共に第一の基板上に並設されている共通電極と、を備え、近接する前記共通電極と前記画素電極との最短離間距離ｄが前記配向層同士の最短離間距離Ｇより短いことが好ましい。
【０８９３】
なお本明細書において、共通電極と画素電極との最短離間距離ｄが、配向層同士の最短離間距離Ｇより長い条件の液晶表示素子をＩＰＳ方式の液晶表示素子と称し、近接する共通電極と画素電極との最短離間距離ｄが、配向層同士の最短離間距離Ｇより短い条件の素子をＦＦＳと称する。したがって、近接する共通電極と画素電極との最短離間距離ｄが、配向層同士の最短離間距離Ｇより短いことだけがＦＦＳ方式の条件であるため、当該共通電極の表面と画素電極との表面との厚さ方向の位置関係に制限はない。そのため、本発明に係るＦＳＳ方式の液晶表示素子としては、図３〜図７のように、画素電極が共通電極より液晶層側に設けられてもよく、画素電極と共通電極とが同一面上に設けられていても良い。
【０８９４】
本発明に係る液晶組成物は特にＦＦＳ駆動方式（ＦＦＳ−ＬＣＤ）の液晶表示素子に使用すると、液晶層の誘起分極を低減させることができる。また、高速応答、焼き付きの低減の観点で好ましい。
【０８９５】
本発明に係る第二の実施形態のより好ましい実施形態の一例を図３〜図７を用いて以下説明する。図３は、液晶表示素子の一態様の構造を模式的に示す分解斜視図であり、いわゆるＦＦＳ方式の液晶表示素子である。本発明に係る液晶表示素子１０は、第二の偏光板８と、第二の基板７と、薄膜トランジスタを含む電極層（又は薄膜トランジスタ層とも称する）３と、配向膜４と、液晶組成物を含む液晶層５と、配向膜４と、カラーフィルタ６と、第一の基板２と、第一の偏光板１と、が順次積層された構成であることが好ましい。また、図３に示すように、前記第二の基板７および前記第一の基板２は、一対の偏光板１，８により挟持されてもよい。さらに、図３では、前記第二の基板７と配向膜４との間にカラーフィルタ６が設けられている。さらに、本発明に係る液晶層５と近接し、かつ当該液晶層５を構成する液晶組成物と直接当接するよう一対の配向膜４を（透明）電極（層）３に形成してもよい。
【０８９６】
本発明に係る液晶表示素子１０の他の好適な形態としては、いわゆるカラーフィルタオンアレイ（ＣＯＡ）であってもよく、薄膜トランジスタ層３と液晶層５との間にカラーフィルタ６を設けても、または当該薄膜トランジスタ層３と第一の基板２との間にカラーフィルタ６を設けてもよい。
【０８９７】
ＦＦＳ方式の液晶表示素子は、フリンジ電界を利用するものであり、近接する共通電極と画素電極との最短離間距離ｄが、配向層同士の最短離間距離Ｇより短いと、共通電極と画素電極との間にフリンジ電界が形成され、液晶分子の水平方向および垂直方向の配向を効率的に利用することができる。すなわち、ＦＦＳ方式の液晶表示素子の場合は、画素電極２１の櫛歯形を形成するラインに対して垂直な方向に形成される水平方向の電界と、放物線状の電界を利用することができる。
【０８９８】
図４は、図３における基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層３（または薄膜トランジスタ層３とも称する。）のＩＩの領域を拡大した平面図である。ゲート配線２６とデータ配線２５が互いに交差している交差部近傍において、ソース電極２７、ドレイン電極２４およびゲート電極２８を含む薄膜トランジスタ２０が、画素電極２１に表示信号を供給するスイッチ素子として前記画素電極２１と連結して設けられている。当該図４では一例として、櫛歯状の画素電極２１の背面に絶縁層（図示せず）を介して平板体状の共通電極２２が一面に形成されている構成を示す。また、前記画素電極２１の表面には保護絶縁膜及び配向膜層によって被覆されていてもよい。なお、前記複数のゲート配線２６と複数のデータ配線２５とに囲まれた領域にはデータ配線２５を介して供給される表示信号を保存するストレイジキャパシタ２３を設けてもよい。さらに、ゲート配線２６と並行して、共通ライン２９が設けられる。この共通ライン２９は、共通電極２２に共通信号を供給するために、共通電極２２と連結している。
【０８９９】
図５は、図４におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に液晶表示素子を切断した断面図の一例である。配向層４および薄膜トランジスタ２０（１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７）を含む電極層３が表面に形成された第一の基板２と、配向層４が表面に形成された第二の基板７と、が所定の間隔Ｇで配向層同士向かい合うよう離間しており、この空間に液晶組成物を含む液晶層５が充填されている。前記第一の基板２の表面の一部にゲート絶縁膜１２が形成され、さらに当該ゲート絶縁膜１２の表面の一部に共通電極２２が形成されており、更に前記共通電極２２および薄膜トランジスタ２０を覆うよう絶縁膜１８が形成されている。また、前記絶縁膜１８上に画素電極２１が設けられており、当該画素電極２１は配向層４を介して液晶層５と接している。そのため、画素電極と共通電極との最小離間距離ｄは、ゲート絶縁膜１２の（平均）膜厚として調整することができる。また、換言すると、図５の実施形態では、画素電極と共通電極間の基板に水平方向の距離は０になる。画素電極２１の櫛歯状部分の電極幅：ｌ、及び、画素電極２１の櫛歯状部分の間隙の幅：ｍは、発生する電界により液晶層５内の液晶分子が全て駆動され得る程度の幅に形成することが好ましい。
【０９００】
図３〜７で示すように、近接する共通電極と画素電極との最短離間距離ｄが配向層同士の最短離間距離Ｇより短い条件であるＦＦＳ方式の液晶表示素子の場合、長軸方向が、配向層の配向方向と平行になるように配置している液晶分子に電圧を印加すると、画素電極２１と共通電極２２との間に放物線形の電界の等電位線が画素電極２１と共通電極２２の上部にまで形成され、液晶層５内の液晶分子は、形成された電界に沿って液晶層５内を回転してスイッチング素子としての作用を奏する。より詳細には、例えば液晶組成物に対してホモジニアス配向を誘起する配向膜を前記配向層に用いると、共通電極と画素電極との間に電圧をかける前は配向膜の配向方向である面方向に配列している液晶分子が光を遮断し、電圧をかけると共通電極と画素電極とが同一の基板（または電極層）上に離間して設けられていることに起因する平面方向成分の電界と、近接する共通電極と画素電極との最短離間距離ｄが配向層同士の最短離間距離Ｇより短いことにより発生するこれら電極の縁由来の垂直方向成分の電界（フリンジ電界）とが発生するため、低い誘電率異方性を有する液晶分子であっても駆動することができる。そのため、液晶組成物自体の特性が高い誘電率異方性（Δε）を有する化合物の量を極力低減することができるため、液晶組成物自体に低粘度の化合物を多く含有させることが可能になる。
【０９０１】
また、本発明に係る液晶組成物のように低粘度の化合物を多く含有する場合に生じる液晶化合物の析出などの低温安定性に関する問題点についても、一般式（ｉ）と一般式（Ｍ−１）との組み合わせ、より好ましくは一般式（ｉ）と、一般式（Ｍ−１）と、一般式（Ｌ）との組み合わせを採用することによりかかる問題点が解決できるため、本発明に係る液晶組成物をＦＦＳに適用すると最大限にその特性を発揮することができる。
【０９０２】
本発明に係る液晶組成物のΔεが５以下の比較的低い誘電率異方性を有する液晶分子を用いるため、液晶分子の長軸方向が、発生した電界方向に沿って配列するが、ＩＰＳ方式と比べて電極間距離が短いため低電圧駆動が可能という観点でΔεが５以下の比較的低い誘電率異方性を有する液晶分子でも駆動することができる。したがって、大きな誘電率異方性を有する液晶分子を用いたＦＦＳ方式以外の駆動方式の液晶表示素子に比べて、優れた特性を得ることができる。
【０９０３】
本発明に係る液晶表示組成における第二の実施形態のより好ましい別の形態の構成は（ＦＦＳ）、第一の配向層および薄膜トランジスタを含む電極層を表面に有する第一の基板と、第二の配向層を表面に有する第二の基板とが配向層同士向かい合うよう離間して配置され、当該前記第一の基板と第二の基板との間に液晶組成物を含む液晶層が充填された液晶表示素子であって、前記薄膜トランジスタを含む電極層は、共通電極と、網目状に配置される複数個のゲート配線及びデータ配線と、前記ゲート配線と前記データ配線との各交差部に設けられる薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに接続された画素電極と、を備え、かつ前記画素電極が前記共通電極より第二の基板側に突出して設けられていることが好ましい。また、前記液晶層に近接して設けられている第一の配向層および第二の配向層は、液晶組成物に対してホモジニアス配向を誘起する配向膜であることが好ましい。
【０９０４】
図６は、図３における基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層３（または薄膜トランジスタ層３とも称する。）のＩＩの領域を拡大した平面図の別の形態である。ゲート配線２６とデータ配線２５が互いに交差している交差部近傍において、ソース電極２７、ドレイン電極２４およびゲート電極２８を含む薄膜トランジスタ２０が、画素電極２１に表示信号を供給するスイッチ素子として前記画素電極２１と連結して設けられている。また、画素電極２１は少なくとも一つの切欠き部でくり抜かれた構造であってもよく、当該図６にその一例を示す。前記画素電極２１は、四角形の平板体の中央部および両端部が三角形状の切欠き部でくり抜かれ、さらに残る領域を８つの長方形状の切欠き部でくり抜かれた形状であり、かつ共通電極２２が櫛歯体（図示せず）である。また、前記画素電極の表面には保護絶縁膜及び配向膜層によって被覆されていてもよい。なお、前記複数のゲート配線２５と複数のデータ配線２４とに囲まれた領域にはデータ配線２４を介して供給される表示信号を保存するストレイジキャパシタ２３を設けてもよい。なお、上記切欠き部の形状や数などは特に制限されることは無い。
【０９０５】
図７は、図６において、図４と同様のＩＩＩ−ＩＩＩ方向の位置で液晶表示素子を切断した断面図の他の形態の一例である。すなわち、前記図５の液晶表示素子の構造との相違点は、図５に示す液晶表示素子は、共通電極が平板体であり、かつ画素電極が櫛歯体である。一方、上記で説明したように、図７に示す液晶表示素子においては、画素電極２１は、四角形の平板体の中央部および両端部が三角形状の切欠き部でくり抜かれ、さらに残る領域を８つの長方形状の切欠き部でくり抜かれた形状であり、かつ共通電極が櫛歯体の構造である。そのため、画素電極と共通電極との最小離間距離ｄは、ゲート絶縁膜１２の（平均）膜厚以上、かつ配向層離間距離Ｇ未満になる。また、図７では共通電極が櫛歯体の構造であるが、この実施形態でも共通電極を平板体にしてもよい。また、いずれにおいても、本発明に係るＦＦＳ方式の液晶表示素子は、近接する共通電極と画素電極との最短離間距離ｄが配向層同士の最短離間距離Ｇより短い条件を満たしさえすればよい。さらに、図７に示す液晶表示素子の構成では、画素電極２１が保護膜１８で覆われているが、図５に示す液晶表示素子の構成では、画素電極２１が配向層４で被覆されている。本発明においては、画素電極は保護膜または配向膜のいずれにも被覆されてもよい。
【０９０６】
また、図７において、第一の基板２の一方の表面には偏光板が形成され、かつ他方の表面の一部に形成された櫛歯状の共通電極２２を覆うようゲート絶縁膜１２が形成され、当該ゲート絶縁膜１２の表面の一部に画素電極２１が形成されており、更に前記画素電極２１および薄膜トランジスタ２０を覆うよう絶縁膜１８が形成されている。また、前記絶縁膜１８上に配向層４、液晶層５、配向層４、カラーフィルタ６、第二の基板７および偏光板８が積層している。そのため、画素電極と共通電極との最小離間距離ｄは、両電極位置、画素電極２１の櫛歯状部分の電極幅：ｌ、または画素電極２１の櫛歯状部分の間隙の幅：ｍで調整することができる。
【０９０７】
図７のように、前記画素電極が前記共通電極より第二の基板側に突出し、かつ両者とも第一の基板上に並列して設けられていると、前記共通電極と前記画素電極との間で平面方向成分の電界を形成し、かつ画素電極の表面と共通電極の表面との厚み方向の高さが相違するため、厚み方向成分の電界（Ｅ）も同時にかけることができる。
【０９０８】
なお、ＦＦＳ方式の液晶表示素子は、フリンジ電界を利用するものであり、近接する共通電極と画素電極との最短離間距離ｄが、配向層同士の最短離間距離Ｇより短い条件であれば特に制限されることは無いため、例えば、櫛歯状の画素電極の複数の歯部および櫛歯状の共通電極の複数の歯部が離間して噛合した状態で基板上に設けられて構成であってもよい。この場合、共通電極の歯部と画素電極の歯部との離間距離を配向層同士の最短離間距離Ｇより短くすればフリンジ電界を利用することができる。
【０９０９】
本発明の組成物と液晶組成物をＦＦＳ方式の液晶表示素子に使用した場合は、用いる液晶組成物のΔεが低いという観点から高速応答、焼き付きの低減という効果を奏することができる。
【実施例】
【０９１０】
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は「質量％」を意味する。【０９１１】
実施例中、測定した特性は以下の通りである。【０９１２】
Ｔｎｉ  ：ネマチック相−等方性液体相転移温度（℃）
Δｎ  ：２９５Ｋにおける屈折率異方性（別名：複屈折率）
Δε  ：２９５Ｋおける誘電率異方性
η    ：２９５Ｋにおける粘度（ｍＰａ・ｓ）
γ１  ：２９５Ｋにおける回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
ＶＨＲ：周波数６０Ｈｚ，印加電圧５Ｖの条件下で３１３Ｋにおける電圧保持率（％）
焼き付き：
液晶表示素子の焼き付き評価は、表示エリア内に所定の固定パターンを１４４０時間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像のレベルを目視にて以下の４段階評価で行った。【０９１３】
◎残像無し
○残像ごく僅かに有るも許容できるレベル
△残像有り許容できないレベル
×残像有りかなり劣悪
揮発性／製造装置汚染性：
液晶材料の揮発性評価は、真空攪拌脱泡ミキサーの運転状態をストロボスコープで照らしながら観察し、液晶材料の発泡を目視により観察することによって行った。具体的には、容量２．０Ｌの真空攪拌脱泡ミキサーの専用容器に液晶組成物を０．８ｋｇ入れ、４ｋＰａの脱気下、公転速度１５Ｓ−１、自転速度７．５Ｓ−１で真空攪拌脱泡ミキサーを運転し、発泡が始まるまでの時間によって、以下の４段階評価で行った。【０９１４】
◎発泡まで３分以上。揮発による装置汚染の可能性が低い。【０９１５】
○発泡まで１分以上かつ３分未満。揮発による軽微な装置汚染の懸念あり。【０９１６】
△発泡まで３０秒以上かつ１分未満。揮発による装置汚染が起きる。【０９１７】
×発泡まで３０秒以内。揮発による重大な装置汚染の懸念がある。【０９１８】
プロセス適合性  ：
プロセス適合性は、ＯＤＦプロセスにおいて、定積計量ポンプを用いて１回に４０ｐＬずつ液晶を滴下することを１０００００回行い、次の「０〜２００回、２０１〜４００回、４０１〜６００回、・・・・９９８０１〜１０００００回」の各２００回ずつ滴下された液晶量の変化を以下の４段階で評価した。【０９１９】
◎変化が極めて小さい（安定的に液晶表示素子を製造できる）
○変化が僅かに有るも許容できるレベル
△変化が有り許容できないレベル（斑発生により歩留まりが悪化）
×変化が有りかなり劣悪（液晶漏れや真空気泡が発生）
低温での溶解性：
低温での溶解性評価は、液晶組成物を調製後、１ｍＬのサンプル瓶に液晶組成物を０．５ｇ秤量し、これに温度制御式試験槽の中で、次を１サイクル「−２０℃（１時間保持）→昇温（０．２℃／毎分）→０℃（１時間保持）→昇温（０．２℃／毎分）→２０℃（１時間保持）→降温（−０．２℃／毎分）→０℃（１時間保持）→降温（−０．２℃／毎分）→−２０℃」として温度変化を与え続け、目視にて液晶組成物からの析出物の発生を観察し、以下の４段階評価を行った。【０９２０】
◎６００時間以上析出物が観察されなかった。【０９２１】
○３００時間以上析出物が観察されなかった。【０９２２】
△１５０時間以内に析出物が観察された。【０９２３】
×７５時間以内に析出物が観察された。【０９２４】
実施例において化合物の記載について以下の略号を用いる。【０９２５】
（側鎖構造及び連結構造）
−ｎ        −ＣｎＨ２ｎ＋１  炭素原子数ｎの直鎖状アルキル基
−Ｏｎ      −ＯＣｎＨ２ｎ＋１  炭素原子数ｎの直鎖状アルコキシ基
−Ｖ（またはＶ０）        −Ｃ＝ＣＨ２  ビニル基
−Ｖｎ      −Ｃ＝Ｃ−ＣｎＨ２ｎ＋１  炭素原子数（ｎ＋１）の１−アルケン
−Ｆ        −Ｆ      フッ素原子
Ｆ−        −Ｆ      フッ素原子
ｎ−        ＣｎＨ２ｎ＋１−  炭素数ｎの直鎖状のアルキル基
ｎＯ−      ＣｎＨ２ｎ＋１Ｏ−  炭素数ｎの直鎖状のアルコキシル基
Ｖ−        ＣＨ２＝ＣＨ−
−Ｖ１      −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ３
１Ｖ−      ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−
−２Ｖ      −ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ３
Ｖ２−      ＣＨ３＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−
−２Ｖ１      −ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ３
１Ｖ２−      ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２
−ＣＯＯ−    −ＣＯＯ−（エステル基）
−ＣＦ２Ｏ−    −ＣＦ２Ｏ−基
（環構造）【０９２６】
【化３７６】
0005958662.tif 000377
【０９２７】
【表１】
0005958662.tif 000378
【０９２８】
実施例１〜７に示した液晶組成物は、いずれも液晶表示素子用として好適な液晶上限、下限温度範囲、Δｎを有し、粘性（γ１）が低いことがわかる。これら実施例１〜７の組成物をそれぞれガラス製テストチューブ内に封入して−２０℃に設定したフリーザー内で２４０時間の保存試験を行ったところ、いずれの液晶組成物にも結晶成分の析出や固化は見られなかった。【０９２９】
【表２】
0005958662.tif 000379
【０９３０】
実施例８〜１１に示した液晶組成物は、いずれも液晶表示素子用として好適な液晶上限、下限温度範囲、Δｎを有し、粘性（γ１）が低いことがわかる。これら実施例８〜１１の組成物をそれぞれガラス製テストチューブ内に封入して−２０℃に設定したフリーザー内で２４０時間の保存試験を行ったところ、いずれの液晶組成物にも結晶成分の析出や固化は見られなかった。【０９３１】
【表３】
0005958662.tif 000380
【０９３２】
【表４】
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【０９３３】
【表５】
0005958662.tif 000382
【０９３４】
実施例１２〜３０に示した液晶組成物は、いずれも液晶表示素子用として好適な液晶上限、下限温度範囲、Δｎを有し、粘性（γ１）が低いことがわかる。これら実施例１２〜３０の組成物をそれぞれガラス製テストチューブ内に封入して−２０℃に設定したフリーザー内で２４０時間の保存試験を行ったところ、いずれの液晶組成物にも結晶成分の析出や固化は見られなかった。【０９３５】
（比較例）【０９３６】
【表６】
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【０９３７】
【表７】
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【０９３８】
比較例１〜８を表５に示す。これらを選定した理由は、当該組成物の誘電率異方性が５より大きく、本願発明の一般式（ｉ）を含んでおらず、更に本願発明の一般式（Ｍ−１）に相当する化合物を含まないか或いは比較的少ない程度にしか含んでいないからである。本願発明の実施例と比較して、γ１が高く、液晶下限温度範囲が高いことがわかる。比較例１の組成物をガラス製テストチューブ内に封入して−２０℃に設定したフリーザー内で２４０時間の保存試験を行ったところ、７２時間経過時点で微量の結晶成分の析出が見られた。
【符号の説明】
【０９３９】
１００    第１基板
１０２    ＴＦＴ層
１０３    画素電極
１０４    パッシベーション膜
１０５    第１配向膜
２００    第２基板
２０１    平坦化膜（オーバーコート層）
２０２    ブラックマトリックス
２０３    カラーフィルタ
２０４    透明電極
２０５    第２配向膜
３０１    シール材
３０２    突起（柱状スペーサー）
３０３    液晶層
３０４    突起（柱状スペーサー）
４０１    マスクパターン
４０２    レジン層
Ｌ      光
１，８    偏光板
２    第一の基板
３    電極層
４    配向膜
５    液晶層
６    カラーフィルタ
６Ｇ    カラーフィルタ緑
６Ｒ    カラーフィルタ赤
７    第二の基板
１１    ゲート電極
１２    ゲート絶縁膜
１３    半導体層
１４    絶縁層
１５    オーミック接触層
１６    ドレイン電極
１７    ソース電極
１８    絶縁保護層
２１    画素電極
２２    共通電極
２３    ストレイジキャパシタ
２４    ドレイン電極
２５    データ配線
２７    ソース配線
２９    共通ライン
３０    バッファー層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
0005958662.tif 000400
【図６】
0005958662.tif 000401
【図７】
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