(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも構成要素として、保護フィルム、偏光子、λ／４位相差フィルム、中間層、粘着剤層Ａ及び有機エレクトロルミネッセンス素子をこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、前記中間層の平均屈折率が、前記粘着剤層Ａの平均屈折率より０．０１以上高く、前記λ／４位相差フィルムの平均屈折率より０．０１以上低く、かつ前記中間層が、活性線により硬化して形成された硬化層と粘着剤層Ｂを有し、当該硬化層が光酸発生剤を含有し、前記λ／４位相差フィルム及び当該硬化層の間に、当該粘着剤層Ｂを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
前記λ／４位相差フィルムが、ポリカーボネート類を含有することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
前記硬化層の平均屈折率が、１．５４〜１．６０の範囲内であることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項４】
前記粘着剤層Ｂの平均屈折率が、１．５０〜１．５６の範囲内であることを特徴とする請求項１から３までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項５】
前記λ／４位相差フィルム、前記粘着剤層Ｂ、前記硬化層、前記粘着剤層Ａ及び有機エレクトロルミネッセンス素子の構成要素がこの順で隣接して積層され、隣接する当該構成要素間の平均屈折率の差の絶対値が、いずれの層間においても、０．０〜０．１０の範囲内であることを特徴とする請求項１から４までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関し、特に円偏光板を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂フィルムを延伸してなる延伸フィルムは、その光学異方性を利用して、ディスプレイ装置の構成要素の光学材料として用いられている。例えば、液晶表示装置において、該延伸フィルムを着色防止、視野角拡大などの光学補償のための位相差フィルムとして用いたり、当該延伸フィルムと偏光子とを貼り合わせて偏光板として用いたりすることが知られている。
【０００３】
そして近年、前記位相差フィルムは有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ表示装置ともいう。）の表示品質の向上のためにも必要とされてきている。
【０００４】
有機ＥＬ表示装置においては、外光がセルの電極で反射され、画像が白っぽくなるといった問題があった。これを防止するため、可視光の波長の１／４の位相差値を有する位相差フィルム（以後、λ／４位相差フィルムと呼称する。）と偏光子を貼合させた円偏光板を鑑賞側に設けることが試みられている（特許文献１参照）。
【０００５】
特許文献２には、前記λ／４位相差フィルムとしてポリカーボネート類からなるフィルムを使用した円偏光板が記載されている。ポリカーボネート類は、屈折率異方性を付与させやすいためλ／４位相差フィルムの材料として用いることができる。
【０００６】
しかし、特許文献２に記載されている円偏光板を有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子ともいう。）と粘着剤で接着して作製した有機ＥＬ表示装置は、ポリカーボネート類の屈折率が約１．６と高く、有機ＥＬ素子の表面層や粘着剤の屈折率が低いため、有機ＥＬ素子から発せられた光がλ／４位相差フィルムと粘着剤層の界面で反射し、後方散乱が増大し、光取り出し効率が低下するので、表示画像の輝度が低下してしまう。輝度を上昇させるには電力供給量を大きくせねばならないため、結果として有機ＥＬ表示装置の消費電力が小さいという利点を無くしてしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平９−１２７８８５号公報
【特許文献２】特開２００７−１７１７５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、外光反射が防止され、光取り出し効率を向上させて画面の明るさを向上した有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、λ／４位相差フィルムとしてポリカーボネート類のような屈折率の高いフィルムを用いると、λ／４位相差フィルムと屈折率の低い粘着剤層との界面で、有機ＥＬ素子から発せられた光が反射し後方散乱することにより、光取り出し効率が低下することを見出し本発明に至った。
【００１０】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１１】
１．少なくとも構成要素として、保護フィルム、偏光子、λ／４位相差フィルム、中間層、粘着剤層Ａ及び有機エレクトロルミネッセンス素子をこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、前記中間層の平均屈折率が、前記粘着剤層Ａの平均屈折率より０．０１以上高く、前記λ／４位相差フィルムの平均屈折率より０．０１以上低く、かつ前記中間層が、活性線により硬化して形成された硬化層と粘着剤層Ｂを有し、当該硬化層が光酸発生剤を含有し、前記λ／４位相差フィルム及び当該硬化層の間に、当該粘着剤層Ｂを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【００１２】
２．前記λ／４位相差フィルムが、ポリカーボネート類を含有することを特徴とする第１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【００１４】
３．前記硬化層の平均屈折率が、１．５４〜１．６０の範囲内であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【００１６】
４．前記粘着剤層Ｂの平均屈折率が、１．５０〜１．５６の範囲内であることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【００１８】
５．前記λ／４位相差フィルム、前記粘着剤層Ｂ、前記硬化層、前記粘着剤層Ａ及び有機エレクトロルミネッセンス素子の構成要素がこの順で隣接して積層され、隣接する当該構成要素間の平均屈折率の差の絶対値が、いずれの層間においても、０．０〜０．１０の範囲内であることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の上記手段により、外光反射が防止され、光取り出し効率を向上させて画面の明るさを向上した有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することができる。また、有機ＥＬ表示装置の製造における貼合が容易で、画像ムラの無い有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することができる。
【００２０】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
【００２１】
有機ＥＬ素子と偏光板は粘着剤を介して接着させるが、この粘着剤は屈折率が低い。これに対し偏光板の接着される面に使用されているλ／４位相差フィルムの屈折率が高いため、界面で光が反射しやすくなっていると推察している。本発明では、λ／４位相差フィルムと粘着剤層の間に、両者の屈折率の中間の屈折率を有する中間層を設けることにより、隣接する層間の屈折率の差が小さくなり反射を低減できたと推察している。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、少なくとも保護フィルム、偏光子、λ／４位相差フィルム、中間層、粘着剤層Ａ及び有機エレクトロルミネッセンス素子をこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、前記中間層の平均屈折率が、前記粘着剤層Ａの平均屈折率より０．０１以上高く、前記λ／４位相差フィルムの平均屈折率より０．０１以上低く、かつ前記中間層が、活性線により硬化して形成された硬化層と粘着剤層Ｂを有し、当該硬化層が光酸発生剤を含有し、前記λ／４位相差フィルム及び当該硬化層の間に、当該粘着剤層Ｂを有することを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項５までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２４】
本発明の実施態様としては、大きな位相差が得られやすいことから、λ／４位相差フィルムはポリカーボネート類を含有することが好ましい。
【００２５】
さらに、前記硬化層の平均屈折率が１．５４〜１．６０であることが、更に大きな本発明の効果が得られることから、好ましい。
【００２６】
また、λ／４位相差フィルムに中間層用のラジカル重合性組成物を塗布後、活性線により重合性組成物を硬化してλ／４位相差フィルムに中間層を積層したλ／４位相差フィルム積層体を形成する場合、重合性組成物の硬化収縮により、λ／４位相差フィルム席層体に反りが生じる。該反りは、偏光板の反りを引き起こし、更に有機ＥＬ表示装置に反りを引き起こす。この反りは有機ＥＬ表示装置にとって致命的な欠陥ではないが、有機ＥＬ表示装置の外見としては反りがないことが好ましい。
【００２７】
これに対し、ラジカル重合性組成物の代わりに、光酸発生剤で重合可能な硬化収縮の小さな樹脂を使用することにより、反りが抑えられ、反りの無い有機ＥＬ表示装置が得られることを見出した。
【００２８】
しかし、光酸発生剤を用いると、有機ＥＬ表示装置の発光時にムラが生じることが分かった。本発明者等は、この現象は、硬化時に発生した酸がλ／４位相差フィルムに拡散して、λ／４位相差フィルムの光学性能を劣化させたためであることを見出し本発明に至った。
【００２９】
本発明においては、前記中間層が硬化層と粘着剤層Ｂを有し、硬化層が光酸発生剤を含有し、前記λ／４位相差フィルム及び前記硬化層の間に、粘着剤層Ｂを有する。これにより、有機ＥＬ表示装置に反りが無く、かつ表示ムラを生じないといった効果が得られる。
【００３０】
また、高い透明性を保ちながら画像の明るさを向上させる観点から、前記粘着剤層Ｂの平均屈折率は１．５０〜１．５６であることが好ましい。
【００３１】
また、画像の明るさが一層向上することから、前記λ／４位相差フィルムから有機エレクトロルミネッセンス素子の表面層までの各層において、隣接する層間の平均屈折率の差の絶対値が、いずれの層間においても、０．０〜０．１の範囲内であることが好ましい。
【００３２】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００３３】
（中間層）
本発明に係る中間層は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、λ／４位相差フィルムと粘着剤層Ａの間に配置され、粘着剤層Ａの平均屈折率より０．０１以上高く、λ／４位相差フィルムの平均屈折率より０．０１以上低く、かつ前記中間層が、活性線により硬化して形成された硬化層と粘着剤層Ｂを有し、当該硬化層が光酸発生剤を含有し、前記λ／４位相差フィルム及び当該硬化層の間に、当該粘着剤層Ｂを有する。
【００３４】
このことにより、有機ＥＬ素子から発した光の、有機ＥＬ素子と粘着剤層Ａとの界面又はλ／４位相差フィルムと粘着剤層との界面での反射を低減し、後方散乱を低減し、光取り出し効率を増大させることができる。
【００３５】
前記中間層は、界面反射による輝度低下を防止するために好適な屈折率とすることが好ましく、高い屈折率の層を得るために、層を形成後、活性線により硬化された硬化層である。該硬化層としては、アクリレート化合物を光ラジカル重合により硬化した層、エポキシ化合物やオキセタン化合物を光カチオン重合により硬化した層などが挙げられるが、酸素により重合阻害が無く大気中で硬化すること及び効果収縮が小さく硬化後の反りが少ない点から、エポキシ化合物又はオキセタン化合物と光酸発生剤を含有する活性線硬化型樹脂から硬化された硬化層が好ましい。
【００３６】
前記硬化層の平均屈折率は１．５４〜１．６０の範囲内であることが、界面における反射をより減少することができることから好ましい。
【００３７】
（エポキシ化合物）
本発明に用いられるエポキシ化合物は、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有しているものであれば特に制限されるものではない。例えば、ビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、ハロゲン化エポキシ化合物等が挙げられる。
【００３８】
具体的には、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ化合物；フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物などのノボラック型エポキシ化合物；３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３′，４′−エポキシ−６′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシ化テトラベンジルアルコール、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ラクトン変性エポキシ化テトラヒドロベンジルアルコール、シクロヘキセンオキサイド、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテルなどの脂環式エポキシ化合物類；１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどの脂肪族エポキシ化合物；臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテルなどのハロゲン化エポキシ化合物；テトラグリシジルアミノフェニルメタンなどのグリシジルアミン型エポキシ化合物が挙げられる。
【００３９】
また、上記化合物以外に、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノール又はこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油などが挙げられる。
【００４０】
これらエポキシ化合物の中で、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサンといった硬化性に優れた脂環式エポキシ化合物が特に好ましい。
【００４１】
（光酸発生剤）
前記エポキシ化合物の硬化の際に光酸発生剤を用いることも好ましい。光酸発生剤の具体例としては、（４−ｎ−デシロキシフェニル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキシ）フェニル〕フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキシ）フェニル〕フェニルヨードニウムトリフルオロスルホネート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキシ）フェニル〕フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキシ）フェニル〕フェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメチルスルホネート、ジフェニルジスルホン、ジトシルジスルホン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（クロルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（キシリルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニルベンゾイルジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）メタン、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドメチルスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトシルスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドカンファースルホネート、コハク酸イミドフェニルスルホネート、コハク酸イミドトシルスルホネート、コハク酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、コハク酸イミドカンファースルホネート、フタル酸イミドトリフルオロスルホネート、シス−５−ノルボルネン−エンド−２，３−ジカルボン酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、ベンゾイントシラート、１，２−ジフェニル−２−ヒドロキシプロピルトシラート、１，２−ジ（４−メチルメルカプトフェニル）−２−ヒドロキシプロピルトシラート、ピロガロールメチルスルホネート、ピロガロールエチルスルホネート、２，６−ジニトロフェニルメチルトシラート、オルト−ニトロフェニルメチルトシラート、パラ−ニトロフェニルトシラートなどが挙げられる。これらの光酸発生剤は、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４２】
酸発生剤の添加量は、十分に硬化反応が進行する量であれば特に制限されないが、エポキシ化合物１００質量部に対して、通常０．１〜１５質量部、好ましくは１〜１０質量部であることが望ましい。光酸発生剤の添加量が上記下限未満になると硬化反応が十分に進行せず、十分な硬度を有する位相差膜が得られないことがある。また、光酸発生剤の添加量が上記上限を超えると、得られる位相差膜の耐候性や耐熱性が低下することがある。
【００４３】
（アクリレート化合物）
前記硬化層に用いられるアクリレート化合物は、分子内に少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を有している。例えば、単官能（メタ）アクリレート化合物、多官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。これらのうち、多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく、位相差膜形成用組成物の反応性を向上させることができる。
【００４４】
単官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類；フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等のフェノキシアルキル（メタ）アクリレート類；メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、プロポキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のポリエチレングリコール（メタ）アクリレート類；ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート類；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート類；ベンジル（メタ）アクリレート；テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの単官能（メタ）アクリレート化合物は、１種単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。
【００４５】
また、多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート類；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリヒドロキシエチルトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート等のイソシアヌレートのポリ（メタ）アクリレート類；トリシクロデカンジイルジメチルジ（メタ）アクリレート等のシクロアルカンのポリ（メタ）アクリレート類；ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とから得られる（メタ）アクリレート等のビスフェノールＡの（メタ）アクリレート誘導体類；３，３，４，４，５，５，６，６−オクタフルオロオクタンジ（メタ）アクリレート、３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−ジ（メタ）アクリロイルプロパン、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−２，３−ジ（メタ）アクリロイルプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド等の含フッ素（メタ）アクリレート類が挙げられる。これらの多官能（メタ）アクリレート化合物は、１種単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。
【００４６】
これらの多官能（メタ）アクリレート化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートなど、１分子内に含まれるアクリロイル基の数が多く、架橋密度の向上が図れ、優れた膜硬度を与える多官能（メタ）アクリレート化合物が特に好ましい。
【００４７】
（光重合開始剤）
前記アクリレート化合物を硬化させる際に光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の具体例としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２′−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４，４′−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイルプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなどが挙げられる。これらの光重合開始剤（光ラジカル発生剤）は、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４８】
これらの光重合開始剤（光ラジカル発生剤）のうち、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが好ましい。
【００４９】
また、このような光重合開始剤（光ラジカル発生剤）は、市販品を用いることができる。例えば、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オンは、イルガキュア９０７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）として、また、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンは、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）として入手することができる。
【００５０】
光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量は、十分に硬化反応が進行する量であれば特に制限されないが、バインダー（Ｂ）１００質量部に対して、通常０．１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部であることが望ましい。光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量が上記下限未満になるとバインダー（Ｂ）の硬化反応が十分に進行せず、十分高い屈折率を有する位相差膜が得られないことがある。また、光重合開始剤（光ラジカル発生剤）の添加量が上記上限を超えると、位相差膜形成用組成物の保存安定性が低下することがある。
【００５１】
（粘着剤層Ｂ）
本発明に係る中間層が酸発生剤を含有する硬化層を有する場合、中間層を構成する層として、λ／４位相差フィルムと硬化層の間に粘着剤層Ｂを設けることが、有機ＥＬ表示装置の表示ムラを防止できることから好ましい。
【００５２】
粘着剤は一般的に、密度が低いために、屈折率が低く、本発明に係る中間層として適合しないが、高屈折率の化合物を添加することにより、屈折率を向上し前記中間層として使用することができる。
【００５３】
前記高屈折率の化合物は、高い透明性を得るために粘着剤層Ｂの樹脂に微細な状態で分散されることが好ましく、具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ等が好ましく用いられる。
【００５４】
樹脂と微粒子との質量比は、１：０．１〜１：１であることが、粘着剤層Ｂが高い透明性と前記中間層として好適な屈折率を有することから好ましい。
【００５５】
粘着剤層Ｂの樹脂としては、アクリル系樹脂を含有する粘着剤（アクリル系粘着剤）が好ましく用いられる。
【００５６】
アクリル系粘着剤に含有されるアクリル系樹脂は、アクリル酸ブチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソオクチル、及びアクリル酸２−エチルヘキシルのようなアクリル酸アルキルエステルを主要なモノマーとする樹脂である。このアクリル系樹脂には通常、極性モノマーが共重合されている。極性モノマーとは、重合性不飽和結合及び極性官能基を有する化合物であり、ここで重合性不飽和結合は、（メタ）アクリロイル基に由来するものとするのが一般的であり、また極性官能基は、カルボキシ基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基などでありうる。極性モノマーの具体例を挙げると、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートなどがある。
【００５７】
またアクリル系粘着剤には、通常、アクリル系樹脂とともに架橋剤が配合されている。架橋剤の代表例として、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有するイソシアネート化合物を挙げることができる。
【００５８】
粘着剤層Ｂは、粘着剤成分が有機溶剤に溶解してなる粘着剤組成物を調製し、これをλ／４位相差フィルムに直接塗布し、溶剤を乾燥除去する直接塗工法によって、あるいは、離型処理が施された樹脂フィルムからなる基材フィルムの離型処理面に上記の粘着剤組成物を塗布し、溶剤を乾燥除去して粘着剤層とし、これをλ／４位相差フィルムに貼着する転写法によって形成できる。
【００５９】
前者の直接塗工法によって前記λ／４位相差フィルム上に粘着剤層Ｂを形成した場合は、その表面に離型処理が施された樹脂フィルム（剥離シートとも呼ばれる）を貼合し、使用時まで粘着剤層Ｂ表面を仮着保護するのが通例である。有機溶剤溶液である粘着剤組成物の取扱い性の観点などから、後者の転写法が多く採用されており、この場合は、最初に粘着剤層の形成に用いる離型処理された基材フィルムが、λ／４位相差フィルムに貼着した後そのまま剥離シートとなりうる点からも好都合である。
【００６０】
粘着剤層Ｂの屈折率は、前記粘着剤層Ａの平均屈折率より０．０１以上高く、前記λ／４位相差フィルムの平均屈折率より０．０１以上低い。好ましくは、１．５０〜１．５６の範囲である。
【００６１】
（平均屈折率）
アッベ屈折率計（１Ｔ）と分光光源を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５５０ｎｍにおいてフィルム試料の２５点を測定し平均屈折率を測定する。フィルム試料の測定点は、フィルム試料から縦４０ｍｍ、横４０ｍｍの正方形のフィルムを切り出し、更にこれを縦８ｍｍ、横８ｍｍの正方形の形に２５分割する。分割したフィルムを屈折率計の試料台に置き、屈折率を測定する。試料台を１８０°回転させながら、１°ごとの面内屈折率を測定する。面内屈折率の中で最大値をｎｘ、最小値をｎｙとする。また試料の厚さ方向の屈折率ｎｚも測定できるので、これらｎｘ、ｎｙ、ｎｚの平均値を取ることで、平均屈折率計が求められる。２５分割したフィルムそれぞれの平均屈折率を上記のように求めて、２５個の値の平均値を、試料の平均屈折率とする。
【００６２】
硬化層及び粘着剤層の平均屈折率は、硬化層及び粘着剤層を剥離シート上で形成し、剥離した硬化層及び粘着剤層を上記と同様に測定して求める。
【００６３】
（λ／４位相差フィルム）
本発明に係るλ／４位相差フィルムとは、２３℃・５５％ＲＨ環境下、光波長５５０ｎｍで測定した面内リターデーション値Ｒｏが、１００〜１７０ｎｍの範囲内であるフィルムであり、直線偏光を円偏光に変換し、円偏光を直線偏光に変換できる。また、前記λ／４位相差フィルム及び偏光子を積層して形成した偏光板は、有機ＥＬ表示装置に用いることにより外光反射を防止する効果を有する。前記λ／４位相差フィルムのＲｏは、更に優れた外光反射の防止効果が得られることから、１２８〜１４８ｎｍであることが好ましい。
【００６４】
前記Ｒｏは下記の式により求められる。
【００６５】
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘ、ｎｙは、２３℃・５５％ＲＨ、光波長５５０ｎｍで測定した屈折率ｎｘ（フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう。）、ｎｙ（フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率）であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。
【００６６】
前記Ｒｏは自動複屈折率計を用いて測定することができる。自動複屈折率計Ａｘｏｍｅｔｒｉｃ社製のＡｘｏＳｃａｎを用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、上記光波長での複屈折率測定によりＲｏを算出する。
【００６７】
本発明に係るλ／４位相差フィルムに用いる樹脂としては透明性に優れた配向フィルムを形成できる高分子を用いればよく、具体例としては、セルロースエステル、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、ポリスチレンなどの芳香族ビニルポリマー類、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリフェニレンオキサイド、ポリカーボネート類、ポリビニルクロライド、ポリエチレンテレフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルペンテン−１、脂環式ポリオレフィン類（例えばジシクロペンタジエン系ポリオレフィンやノルボルネン系ポリオレフィンなどの環状オレフィンの開環（共）重合体、その水素添加（共）重合体、環状オレフィンと不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体など）、などを挙げることができる。
【００６８】
この中でも、耐熱性、機械特性、透明性等の様々な点において、特にポリカーボネート類が好ましい。このポリカーボネート類とは、炭酸とグリコール又は２価フェノールとのポリエステルであり、通常炭酸と２，２′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン（通称ビスフェノール−Ａ）とを構造単位とする芳香族ポリカーボネートが多用されているが、本発明ではこれに限定されるわけではなく、例えば１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカン、１，１−ビス（３−置換−４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカン、１，１−ビス（３，５−置換−４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類からなる群から選択される少なくとも１種の２価フェノールをモノマー成分とするポリカーボネートのホモポリマー、これらの２価フェノールを１成分とする共重合ポリマー、上記２価フェノールとビスフェノール−Ａとをモノマー成分とする共重合ポリカーボネート、これらのポリマーの混合物が挙げられる。
【００６９】
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカンの具体例としては、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５，５−ジメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチルシクロペンタン等が挙げられる。
【００７０】
１，１−ビス（３−置換−４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカンとしては、炭素数１〜１２のアルキル基、ハロゲン基で置換された１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカン、例えば、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５，５−ジメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチルシクロペンタン等が挙げられる。
【００７１】
１，１−ビス（３，５−置換−４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカンとしては、炭素数１〜１２のアルキル基、ハロゲン基で置換された１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカン、例えば、１，１−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３−エチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチルシクロペンタン等が挙げられる。
【００７２】
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類としては、例えば、下記式（Ｉ）で表される２価フェノール、例えば９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン等が挙げられる。
【００７３】
【化１】
0005919751.tif 000002
さらに、上記以外のビスフェノール成分として、例えば２，２′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノール−Ａ）、４，４′−（α−メチルベンジリデン）ビスフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、３，３′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘブタン、４，４′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）２，５−ジメチルヘブタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）４−フルオロフェニルメタン、２，２′−ビス（３−フルオロー４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジメチル−４ヒドロキシフェニル）メタン、２，２′−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上混合して用いることができる。
【００７４】
本発明に用いるポリカーボネート類としては、特に、下記式（II）で表される繰り返し単位及び下記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネート類が好ましい。このポリカーボネート類は共重合体であっても混合物であってもよい。
【００７５】
【化２】
0005919751.tif 000003
【化３】
0005919751.tif 000004
上記式（II）において、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子及び炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる少なくとも１種の基である。かかる炭化水素基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基が挙げられる。Ｘは下記式
【化４】
0005919751.tif 000005
であり、Ｒ１９及びＲ２０はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子及び炭素数１〜３の炭化水素基から選ばれる少なくとも１種の基である。かかる炭化水素基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基が挙げられる。
【００７６】
上記式（III）において、Ｒ１１〜Ｒ１８はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子及び炭素数１〜２２の炭化水素基から選ばれる少なくとも１種の基である。かかる炭化水素基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基が挙げられる。Ｙは下記式群
【化５】
0005919751.tif 000006
から選ばれる少なくとも１種の基である。ここでＲ２１〜Ｒ２３、Ｒ２５及びＲ２６はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子及び炭素数１〜２２の炭化水素基から選ばれる少なくとも１種の基であり、Ｒ２４及びＲ２７は炭素数１〜２０の炭化水素基から選ばれる少なくとも１種の基である。炭素数１〜２２の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基が挙げられる。炭素数１〜２０の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アリーレン基が挙げられる。
【００７７】
また、Ａｒ１〜Ａｒ３はそれぞれ独立に炭素数６〜１０のアリール基から選ばれる少なくとも１種の基である。かかるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等があげられる。
【００７８】
上記式（II）及び（III）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネート類においては、（II）の含有量が繰り返し単位全体の５０〜７０モル％であることがおおよその逆分散特性を有するために必要な組成比となる。
【００７９】
この中でも、上記式（III）においてビスフェノール−Ａが好適に用いられ、さらに、ビスフェノール−Ａと上記式（１）で表される９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類からなるポリカーボネート共重合体が耐熱性、寸法安定性、透明性において優れている。さらに、ビスフェノール−Ａと９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類との共重合体においては、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類の含有量が６０〜７０モル％であることが好ましく、より好ましくは６０〜６７．５モル％、最も好ましくは６０〜６５モル％である。
【００８０】
十分大きなリターデーションが得られることと加工時のハンドリングのためにはフィルムはある程度厚いことが好ましく、表示装置の薄型化やコストの低減のためにはある程度フィルムは薄いことが好ましい。このため、フィルムの厚みとしては、２０μｍ以上７０μｍ以下が良く、２５μｍ以上６５μｍ以下がさらに好ましく、３０μｍ以上６０μｍ以下が最も好ましい。
【００８１】
（λ／４位相差フィルムの製造法）
本発明係るλ／４位相差フィルムの製造方法について説明する。このフィルムの製造は、フィルムの作製工程と、面方向に配向させる延伸工程により高分子配向フィルムを得る工程よりなる。フィルムの作製方法には、既存のいずれの作製方法を用いてもよい。例えば、溶剤に溶かしキャストする溶剤キャスト法、溶融状態で混練してダイなどから押し出しフィルムにする溶融押し出し成型法、プレスなどでフィルムにするプレス成型法などが挙げられる。これらの中でも、溶剤キャスト法又は押出成型法が好ましい。この中でも、厚み精度に優れている溶剤キャスト法がさらに好ましい。
【００８２】
溶剤キャスト法における溶剤としては、高分子と添加剤とを十分溶解させ、フィルム化できるものであれば制限なく用いることができるが、例えば高分子としてポリカーボネート類、脂環式ポリオレフィン系重合体を用いる場合には、溶媒としてはメチレンクロライド、ジオキソラン等が好適に用いられる。溶液キャストにおける特定の無機化合物の添加は、均一混合の観点から、製膜溶液の作製時に行うことが好ましい。
【００８３】
上記高分子配向フィルムは、ついで延伸等により高分子主鎖を配向させる。かかる延伸方法は、公知のいずれの方法を用いてもよい。例えば、テンター延伸法、ロール間圧縮延伸法などの方法が例示される。厚み方向の屈折率の制御性及びフィルム面内レターデーションの均一性等の点で、ロール間延伸法又は、テンター延伸法により１軸延伸する方法が望ましい。
【００８４】
（偏光板）
電圧の印加によって発光する発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ表示装置において、金属電極により外光が反射されて、反射光が視認されることを防止するために、本発明の有機ＥＬ表示装置は偏光板を有する。本発明に係る偏光板は、偏光子を保護フィルムとλ／４位相差フィルムで挟んだ構造を有し、偏光子に保護フィルムとλ／４位相差フィルムを接着して製造することができる。
【００８５】
また、有機ＥＬ表示装置は、偏光板と有機ＥＬ素子を接着して製造することができ、保護フィルムが視認側、λ／４位相差フィルムが有機ＥＬ素子側に配置される。
【００８６】
このとき、λ／４位相差フィルム及び偏光子は、外部から入射し、金属電極面で反射してきた光を遮蔽する作用を有するため、反射光を視認させないという効果がある。
【００８７】
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、偏光子により直線偏光成分のみが透過し、この直線偏光はλ／４位相差フィルムにより、偏光子と位相差板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
【００８８】
この円偏光は、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極を透過して、λ／４位相差フィルムにより再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光子の偏光方向と直交しているので、偏光子を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【００８９】
前記偏光板は保護フィルム層、偏光子及びλ／４位相差フィルムがこの順に積層された構成を有し、該偏光板と有機ＥＬ素子が接着されて、有機ＥＬ表示装置が形成される。保護フィルムは、有機ＥＬ表示装置において、視認側に位置する光学フィルムである。
【００９０】
（保護フィルム）
前記保護フィルムは、単一の層であっても良いし、複数の層から構成されていても良い。該保護フィルムが複数の層から構成される場合は、視認側の表面にハードコート層が設けられていることが好ましい。
【００９１】
前記保護フィルムは、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を使用することができる。
【００９２】
これらの内、セルロースエステルフィルム、ポリカーボネート系フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、本発明においては、セルロースエステルフィルムが光学特性、生産性、コスト面から好ましい。
【００９３】
前記保護フィルムに用いられるセルロースエステルは、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５であることが好ましく、更に、Ｔ１層用光学フィルムはポリエステル系可塑剤を含有することが好ましい。
【００９４】
前記保護フィルムに用いられるセルロースエステルフィルムとしては、例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＣＺ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、及びＫＣ１２ＵＲ（以上、コニカミノルタオプト（株）製）が使用できる。
【００９５】
また、３Ｄ画像表示用の有機エレクトロルミネセンス表示装置の場合は、偏光子の両面にλ／４位相差フィルムを配置することが表示画像の品質向上に効果を有するため、本発明に係るＴ１層として本発明に係るλ／４位相差フィルムを用いることも好ましい。
【００９６】
（ハードコート層）
前記保護フィルムはハードコート層を有することができる。ハードコート層は高硬度であることが、表示装置の表面における使用や円偏光板化工程において傷が付きにくいことから望まれおり、鉛筆硬度が３Ｈ以上であることが好ましく、より好ましくは４Ｈ以上である。
【００９７】
鉛筆硬度は、作製したハードコート層付の保護フィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。
【００９８】
また、ハードコート層のマルテンス硬さ（ＨＭｓ）が、４００Ｎ／ｍｍ２以上、８００Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましい。
【００９９】
マルテンス硬さ（ビッカース硬さ）とは、ビッカース圧子及び稜線同士の角度が１１５度の三角錐圧子を用いた微小硬度計で、フィルムのハードコート表面を、ハードコート層の膜厚の略１／１０の厚みまで圧子を押し込んだ時の負荷試験力−押し込み深さ曲線において、該負荷試験力−押し込み深さ曲線から求められる最大負荷試験力（Ｆｍａｘ）の５０％値から９０％値までの押し込み深さが負荷試験力の平方根に比例する傾き（ｍ）より、下記式で定義される値をいう。
【０１００】
１ＨＭｓ＝１／（２６．４ｍ２）
前記ハードコート層は、公知のものがそのまま使用することができる。ハードコート層を形成する樹脂バインダーについて説明する。樹脂バインダーとしては、活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。
【０１０１】
活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、特に、紫外線硬化樹脂が機械的膜強度（耐擦性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。
【０１０２】
紫外線硬化樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。
【０１０３】
ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基及び／又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。これらの化合物は、それぞれ単独又は２種以上を混合して用いられる。
【０１０４】
また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。エネルギー活性線硬化性樹脂の添加量は、ハードコート層形成組成物中では、固形分中の１５質量％以上７０質量％未満であることが好ましい。
【０１０５】
また、ハードコート層にはエネルギー活性線硬化性樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤；エネルギー活性線硬化性樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００で含有することが好ましい。
【０１０６】
光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
【０１０７】
ハードコート層には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又はゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを用いることもできる。また、ハードコート層には滑り性や屈折率を調整するために無機化合物又は有機化合物の粒子を含んでもよい。
【０１０８】
前記ハードコート層の視認側には、さらに、反射防止層が設けられることが好ましい。該反射防止層は外光が保護フィルムやハードコート層の表面で反射されることにより画像のコントラストを低下することを防止することができる。
【０１０９】
（偏光子）
前記偏光子としては、目的に応じて任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性ポリマーフィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く特に好ましい。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、１〜８０μｍ程度である。
【０１１０】
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗しても良い。
【０１１１】
ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【０１１２】
（有機エレクトロルミネッセンス表示装置）
図１に、本発明の有機ＥＬ表示装置の構成の一例を示すがこれに限定されるものではない。
【０１１３】
ガラスやポリイミド等を用いた基板１上に順にＴＦＴ２、金属電極３、ＩＴＯ４、正孔輸送層５、発光層６、バッファー層７、陰極８、ＩＴＯ９、絶縁膜１０、粘着剤層Ｃ１１及び封止ガラス（表面層ともいう。）１２を有する有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子ともいう。）Ｅ上に、λ／４位相差フィルム１６に中間層である粘着層Ｂ１５及び硬化層１４が積層されたλ／４位相差フィルム積層体、と保護フィルム１８によって偏光子１７を挟持して形成された偏光板Ｆを、粘着剤層Ａ１３を介して接着し、有機ＥＬ表示装置Ｄを構成する。ここで、硬化層１４が光酸発生剤によるカチオン重合で形成された層である場合は、粘着層Ｂ１５が、硬化層１４からλ／４位相差フィルム１６に酸が拡散してλ／４位相差フィルムが劣化するのを防止する。しかし、硬化層１４が酸発生剤を用いずに形成された層である場合は、λ／４位相差フィルムと中間層との屈折率の差をより小さくできることから粘着剤層Ｂ１５は無い方が好ましい。
【０１１４】
また、保護フィルム１８にはハードコート層１９が積層されていることが好ましい。ハードコート層１９は、有機ＥＬ表示装置の表面のキズを防止するだけではなく、円偏光板による反りを防止する効果を有する。更に、ハードコート層１９上には、反射防止層２０を有していることが好ましい。上記有機ＥＬ素子自体の厚さは１μｍ程度である。
【０１１５】
一般に、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に金属電極と発光層と透明電極とを順に積層して発光体である素子（有機ＥＬ素子）を形成している。ここで、発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、及び電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
【０１１６】
有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物資を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【０１１７】
有機ＥＬ表示装置においては、発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
【０１１８】
一方、金属電極が陽極側に用いられる場合、金属電極は表面が酸化されることにより仕事関数が大きくなるモリブデン、クロム、バナジウム、タングステン、ニッケル、イリジウムを含有することが好ましい。
【０１１９】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、発光層は、厚さ１０ｎｍ程度と極めて薄い膜で形成されている。このため、発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に有機ＥＬ素子の表面層から入射し、透明電極と発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び表面層を透過して表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見える。
【０１２０】
（表面層）
表面層とは有機ＥＬ素子の視認側の表面を形成する層をいう。有機ＥＬ素子の視認側の電極を覆うように絶縁層が設けられ、該絶縁層が有機ＥＬ素子の表面となる場合、絶縁層が本発明に係る表面層である。絶縁層を設ける方法としては、上記素材を蒸着やスパッタリング等の気相法により積層する方法が好ましい。
【０１２１】
前記絶縁層の厚さは、絶縁性、ガスバリア性及び可撓性等を考慮し、５０ｎｍ〜６００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【０１２２】
前記有機ＥＬ素子の絶縁層に使用する素材は、金属酸化物、金属酸窒化物、金属窒化物が好ましく、具体的には、酸化珪素、酸化アルミニウム、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化窒化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等が好ましく挙げられる。より好ましくは、炭素含有量が１ａｔ％〜３０ａｔ％の金属化合物である金属酸化物、金属窒化物又はその複合化合物が好ましい。これらの中で、金属酸化物である酸化珪素（ＳｉＯｘ）が特に好ましい。
【０１２３】
また、外部の衝撃やガスから有機ＥＬ素子を守るために、前記絶縁層上にガラス板を接着して、封止することが好ましい。この場合はガラス板が表面層となる。
【０１２４】
（基板）
図１に示した有機ＥＬ素子に用いることのできる基板１としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。基板１側から光を取り出す場合には、基板１は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。
【０１２５】
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート（ＴＡＣ）、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン（商品名ＪＳＲ社製）あるいはアペル（商品名三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。
【０１２６】
樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が０．０１ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下のバリア性フィルムであることが好ましく、更には、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１０−３ｍｌ／（ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、水蒸気透過度が、１０−５ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。
【０１２７】
バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。
【０１２８】
バリア膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができるが、特開２００４−６８１４３号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。
【０１２９】
不透明な基板としては、例えば、アルミ、ステンレス等の金属板、フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。
【０１３０】
（粘着剤層Ａ）
以上説明した偏光板の有機ＥＬ素子側となる前記中間層上には、粘着剤層Ａが積層される。該粘着剤層Ａは、前記有機ＥＬ素子の視認側に偏光板を貼合するために設けられる。
【０１３１】
前記粘着剤層Ａを形成する粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性、接着性などを包含する粘着特性に優れるものであればよいが、さらに耐久性などに優れるものが好ましく用いられる。具体的には、粘着剤層Ａを形成する粘着剤として、アクリル系樹脂を含有する粘着剤（アクリル系粘着剤）が好ましく用いられる。
【０１３２】
アクリル系粘着剤に含有されるアクリル系樹脂は、アクリル酸ブチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソオクチル、及びアクリル酸２−エチルヘキシルのようなアクリル酸アルキルエステルを主要なモノマーとする樹脂である。このアクリル系樹脂には通常、極性モノマーが共重合されている。極性モノマーとは、重合性不飽和結合及び極性官能基を有する化合物であり、ここで重合性不飽和結合は、（メタ）アクリロイル基に由来するものとするのが一般的であり、また極性官能基は、カルボキシ基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基などでありうる。極性モノマーの具体例を挙げると、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートなどがある。
【０１３３】
またアクリル系粘着剤には、通常、アクリル系樹脂とともに架橋剤が配合されている。架橋剤の代表例として、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有するイソシアネート化合物を挙げることができる。
【０１３４】
粘着剤には、さらに各種の添加剤が配合されていてもよい。好適な添加剤として、シランカップリング剤や帯電防止剤などが挙げられる。シランカップリング剤は、ガラスとの接着力を高めるうえで有効である。帯電防止剤は、静電気の発生を低減又は防止するうえで有効である。一般に、粘着剤層を介して偏光板を有機ＥＬ素子に貼る際には、それまで粘着剤層を覆って仮着保護していた剥離シートを剥がしてから有機ＥＬ素子に貼り合わされるが、その表面保護フィルムを剥がすときに発生する静電気によって、有機ＥＬ表示装置の表示不良をもたらすことがある。このような静電気の発生を低減又は防止する手段として、粘着剤への帯電防止剤の配合は有効である。
【０１３５】
粘着剤層Ａは、以上のような粘着剤成分が有機溶剤に溶解してなる粘着剤組成物を調製し、これを偏光板の前記中間層に直接塗布し、溶剤を乾燥除去する直接塗工法によって、あるいは、離型処理が施された樹脂フィルムからなる基材フィルムの離型処理面に上記の粘着剤組成物を塗布し、溶剤を乾燥除去して粘着剤層とし、これを偏光板の前記中間層上に貼着する転写法によって形成できる。
【０１３６】
前者の直接塗工法によって前記中間層上に粘着剤層Ａを形成した場合は、その表面に離型処理が施された樹脂フィルム（剥離シートとも呼ばれる。）を貼合し、使用時まで粘着剤層Ａ表面を仮着保護するのが通例である。有機溶剤溶液である粘着剤組成物の取扱い性の観点などから、後者の転写法が多く採用されており、この場合は、最初に粘着剤層の形成に用いる離型処理された基材フィルムが、偏光板に貼着した後そのまま剥離シートとなりうる点からも好都合である。
【０１３７】
粘着剤層Ａの屈折率は、一般的に１．４５〜１．５０の範囲内であり、ガラスやシリカの屈折率に近い。有機ＥＬ素子の表面層には、ガラスやシリカを用いることが好ましく、粘着剤層Ａと前記表面層との界面では、反射が起こりにくいと考えられる。
【０１３８】
《有機ＥＬ表示装置の評価方法》
（外光反射）
外光反射は以下の方法によって評価することができる。
【０１３９】
有機ＥＬ表示装置を２３℃・５５％ＲＨの部屋に４８時間保存後、電圧を印加せず、発光していない状態にして、照度１００Ｌｘの環境下に置き、正面から反射色の赤味レベルを視感評価し、その差を比較する。
【０１４０】
（画像の明るさ）
本発明に係る中間層を有しない比較の有機ＥＬ表示装置及び中間層を有する本発明の有機ＥＬ表示装置について、駆動電圧１０Ｖを掛け白色発光させた画面を目視で観察し、比較することによって評価する。
【０１４１】
（表示ムラ）
有機ＥＬ表示装置に駆動電圧１０Ｖを掛け、全面を白色発光させ、ムラを目視で観察し、評価する。
【０１４２】
（反りの評価方法）
有機ＥＬ表示装置を６０℃×９５％ＲＨの条件下で２４０時間通電点灯した後、２３℃・５５％ＲＨの環境下で、画面を上に向け、上から直管型蛍光灯で照明し、蛍光灯の反射像を目視で観察し、その反射像の歪みから反りを評価した。
【実施例】
【０１４３】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０１４４】
（保護フィルム１の作製）
（微粒子分散液１）
微粒子（アエロジル  Ｒ９７２Ｖ  日本アエロジル（株）製）        １１質量部
エタノール                                                      ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、微粒子分散液１を調製した。
【０１４５】
（微粒子添加液１）
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分撹拌しながら、微粒子分散液１をゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液１を調製した。
【０１４６】
メチレンクロライド                                              ９９質量部
微粒子分散液１                                                    ５質量部。
【０１４７】
（エステル化合物１の調製）
１，２−プロピレングリコール２５１ｇ、無水フタル酸２７８ｇ、アジピン酸９１ｇ、安息香酸６１０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１９１ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中２３０℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。１５時間脱水縮合反応させ、反応終了後２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、エステル化合物１を得た。酸価０．１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量４５０であった。
【０１４８】
（保護フィルム１のドープ液の調製）
セルロースアセテート（アセチル基置換度２．８８、重量平均分子量１９，０００）
９０質量部
エステル化合物１                                                １０質量部
チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製）                    ２．５質量部
微粒子添加液１                                                    ４質量部
メチレンクロライド                                            ４３２質量部
エタノール                                                      ３８質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、保護フィルム１のドープ液を調製した。
【０１４９】
（保護フィルム１の製膜）
次に、ベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。セルロースエステルフィルムのウェブを３５℃で溶剤を蒸発させ、１．６５ｍ幅にスリットし、１６０℃の熱をかけながらテンターでＴＤ方向（フィルムの幅手方向）に３０％、ＭＤ方向の延伸倍率は１％延伸した。延伸を始めたときの残留溶剤量は２０％であった。その後、１２０℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．４９ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１５ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、保護フィルム１を作製した。
【０１５０】
上記保護フィルム１の残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍ、巻数は３９００ｍであった。フィルムの配向角θは、王子計測器社製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて測定した結果、フィルム長手方向に対して９０°±１°の範囲にあった。
【０１５１】
（保護フィルム２の作製）
次いで上記作製した保護フィルム１の表面にハードコート層として下記ハードコート層を積層し、さらにハードコート層上に反射防止層として反射防止層を積層して、保護フィルム２を作製した。
【０１５２】
（ハードコート層の形成）
上記フィルム保護フィルム１上に、下記ハードコート層塗布液をダイコートし、８０℃で乾燥した後、１２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を高圧水銀灯で照射して、硬化後の膜厚が１１０ｎｍとなるようにハードコート層を設けた。
【０１５３】
〈粒子分散液Ａの作製〉
メタノール分散アンチモン複酸化物コロイド（固形分６０％、日産化学工業（株）製アンチモン酸亜鉛ゾル、商品名：セルナックスＣＸ−Ｚ６１０Ｍ−Ｆ２）６．０ｋｇにイソプロピルアルコール１２．０ｋｇを攪拌しながら徐々に添加し、粒子分散液Ａを調整した。
【０１５４】
〈ハードコート層塗布液組成〉
ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）              ４０質量部
イソプロピルアルコール                                          ２５質量部
メチルエチルケトン                                              ２５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート                          ０．９質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート                        １．０質量部
ウレタンアクリレート（商品名：Ｕ−４ＨＡ  新中村化学工業社製）０．６質量部
粒子分散液Ａ                                                    ２０質量部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）                                                  ０．４質量部
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モノフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦジャパン社製）                ０．２質量部
１０％ＦＺ−２２０７、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（日本ユニカー社製）                                                          ０．４質量部。
【０１５５】
（反射防止層の塗布）
上記ハードコート層上に、下記の反射防止層塗布液をダイコートし、８０℃で乾燥した後、１２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を高圧水銀灯で照射して膜厚が９２ｎｍになるように反射防止層を設け保護フィルム２を作製した。
【０１５６】
〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製〉
テトラエトキシシラン２３０ｇ（商品名：ＫＢＥ０４、信越化学工業社製）とエタノール４４０ｇを混合し、これに２％酢酸水溶液１２０ｇを添加した後に、室温（２５℃）にて２６時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Ａを調製した。
【０１５７】
（反射防止層塗布液）
プロピレングリコールモノメチルエーテル                        ４３０質量部
イソプロピルアルコール                                        ４３０質量部
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                              １２０質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ５０３、信越化学工業社製）                                                        ３．０質量部
イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル（固形分２０％、触媒化成工業社製シリカゾル、商品名：ＥＬＣＯＭ  Ｖ−８２０９）                          ４０質量部
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート（川研ファインケミカル社製）                                                            ３．０質量部
１０％ＦＺ−２２０７、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（日本ユニカー社製）                                                          ３．０質量部。
【０１５８】
〔参考例１〕
（λ／４位相差フィルム１の作製）
攪拌機、温度計及び還流冷却機を備えた反応装置に水酸化ナトリウム水溶液及びイオン交換水を仕込み、ビスフェノールＡとビスクレゾールフルオレンを、３６：６４（ｍｏｌ％）の比率で溶解させ、少量のハイドロサルファイドを加えた。次に、これに塩化メチレンを加え、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹き込んだ。さらに、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを加えて乳化させ、トリエチルアミンを加えて３０℃で約３時間攪拌して反応を終了させた。反応終了後有機相分取して、塩化メチレンを蒸発させ共重合ポリカーボネートを得た。得られた共重合ポリカーボネートの組成比はモノマー仕込み量とほぼ同等であった。また、このポリマーのガラス転移点温度（Ｔｇ）は２２３℃、光弾性定数は４３ブリュースターであった。
【０１５９】
この共重合ポリカーボネートを塩化メチレンに溶解させて１８質量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液をスチールドラム上に流延し、それを連続的に剥ぎ取って乾燥させ、これをロール延伸機にて２２８℃で縦方向２．２倍の縦一軸延伸加工を行い、λ／４位相差フィルム１を得た。得られたλ／４位相差フィルム１の厚さは５０μｍであり、残留溶媒量は、０．２質量％であった。また、フィルムの光学特性は、Ｒｏ（５５０）＝１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝７０ｎｍ、平均屈折率は１．６３であった。
【０１６０】
＜λ／４位相差フィルム積層体１の作製＞
（硬化層塗布液１〉
ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）                ４０質量部
イソプロピルアルコール                                            ２５質量部
メチルエチルケトン                                                ２５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート                            ０．９質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート                          １．０質量部
ウレタンアクリレート（商品名：Ｕ−４ＨＡ  新中村化学工業社製）  ０．６質量部
粒子分散液Ａ                                                      ２０質量部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）                  ０．４質量部
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モノフォリノプロパン
−１−オン（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦジャパン社製）        ０．２質量部
１０％ＦＺ−２２０７、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液
（日本ユニカー社製）                                            ０．４質量部
なお、上記粒子分散液Ａは、前記（ハードコート層の形成）で用いた粒子分散液Ａと同様の分散液を用いた。
【０１６１】
以上を容器に投入し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、硬化層塗布液１を作製した。
【０１６２】
上記硬化層塗布液１をλ／４位相差フィルム１にダイコートし、８０℃で乾燥した後、１２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を高圧水銀灯で照射して、硬化後の膜厚が１１０ｎｍとなるように硬化層を設け、λ／４位相差フィルム積層体１を得た。硬化層の平均屈折率は１．５９であった。
【０１６３】
〈偏光板１の作製〉
厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。
【０１６４】
これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光子を得た。
【０１６５】
次いで、下記工程１〜６に従って偏光子に上記λ／４位相差フィルム積層体１及び上記保護フィルム２を貼り合わせて円偏光板を作製した。
【０１６６】
工程１：前記保護フィルム２を、６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子とハードコート層、Ｈを設けていない側を鹸化した。
【０１６７】
工程２：前記偏光子を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。
【０１６８】
工程３：工程２で偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理した保護フィルム２の鹸化した面上にのせて配置した。
【０１６９】
工程４：工程３で積層した保護フィルムと偏光子とを圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２で貼合した。
【０１７０】
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で貼合した偏光子と保護フィルム２を投入し、２分間乾燥し、偏光子／保護フィルム積層体を作製した。
【０１７１】
工程６：上記λ／４位相差フィルム積層体１の硬化層が積層されていない面に、下記粘着剤シートＣを用いて、粘着剤層Ｃを転写、積層し、該粘着剤層Ｃに前記偏光子／保護フィルム積層体の偏光子の面を貼合し、硬化層１、λ／４位相差フィルム１、粘着層剤層Ｃ、偏光子及び保護フィルム１がこの順に積層された偏光板１を得た。
【０１７２】
（粘着剤シートＣの作製）
（酸化ジルコニウム透明分散液の作製）
オキシ塩化ジルコニウム８水塩２６１５ｇを純水４０Ｌに溶解させたジルコニウム塩溶液に、２８％アンモニア水３４４ｇを純水２０Ｌに溶解させた希アンモニア水を攪拌しながら加え、酸化ジルコニウム前駆体スラリーを調整した。
【０１７３】
次いで、このスラリーに、硫酸ナトリウム３００ｇを５Ｌの純水に溶解させた硫酸ナトリウム水溶液を攪拌しながら加え、混合物を作製した。このときの硫酸ナトリウムの添加量は、ジルコニウム塩溶液中のジルコニウムイオンの酸化ジルコニウム換算値に対して３０質量％であった。
【０１７４】
次いで、この混合物を、乾燥器を用いて、大気中、１３０℃にて２４時間、乾燥させ、固形物を作製した。
【０１７５】
次いで、この固形物を自動乳鉢により粉砕した後、電気炉を用いて、大気中、５００℃にて１時間焼成した。
【０１７６】
次いで、この焼成物を純水中に投入し、攪拌してスラリー状とした後、遠心分離器を用いて洗浄を行い、添加した硫酸ナトリウムを十分に除去した後、乾燥器にて乾燥させ、酸化ジルコニウム粒子を作製した。
【０１７７】
次いで、この酸化ジルコニウム粒子２０ｇに、分散媒としてトルエン７４ｇ、表面修飾剤としてメトキシ変性シリコーン（信越化学工業社製、屈折率１．５）６ｇを加え、次いで、超音波ホモジナイザーを用いて６０℃に加温しながら表面修飾及び分散処理を行い、酸化ジルコニウム粒子を２０質量％含む酸化ジルコニウム透明分散液を作製した。
【０１７８】
（粘着剤塗布液Ｃの作製）
２−エチルヘキシルアクリレート５ｇ、フェノキシエチルアクリレート５ｇ、アクリル酸１ｇ、及びＡＩＢＮ０．２ｇに、イソシアネート系硬化剤０．１５ｇ及び上記の酸化ジルコニウム透明分散液４０．０ｇを混合攪拌し、酸化ジルコニウム粒子を含む粘着剤塗布液Ｃを作製した。
【０１７９】
（塗布及び剥離シートの貼合）
この粘着剤塗布液Ｃをアプリケーターにて厚さ３８μｍのシリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（剥離シート）上に塗布し、１３０℃で３分間乾燥させて、厚さ２５μｍの粘着剤層Ｃを形成し、該粘着剤層Ｃ上に厚さが３８μｍのシリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（剥離シート）を接着して粘着剤シートＣを得た。得られた粘着剤層Ｃの平均屈折率は１．５５であった。
【０１８０】
《有機ＥＬ表示装置１の作製》
次に、以下の手順で、有機ＥＬ素子を作製した。
【０１８１】
本実施例の有機ＥＬ素子は、ガラス基板上にＴＦＴを設け、その上にスパッタリング法によって厚さ８０ｎｍのクロムからなる反射電極、反射電極上に陽極としてＩＴＯをスパッタリング法で厚さ４０ｎｍに成膜し、陽極上に正孔輸送層としてポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）をスパッタリング法で厚さ８０ｎｍ、正孔輸送層上にシャドーマスクを用いて、ＲＧＢそれぞれの発光層を１００ｎｍの膜厚で形成した。赤色発光層としては、ホストとしてトリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム（Ａｌｑ３）と発光性化合物［４−（ｄｉｃｙａｎｏｍｅｔｈｙｌｅｎｅ）−２−ｍｅｔｈｙｌ−６（ｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｓｔｙｒｙｌ）−４Ｈ−ｐｙｒａｎ］（ＤＣＭ）とを共蒸着（質量比９９：１）して１００ｎｍの厚さで形成した。緑色発光層としては、ホストとしてＡｌｑ３と、発光性化合物クマリン６（Ｃｏｕｍａｒｉｎ６）とを共蒸着（質量比９９：１）して１００ｎｍの厚さで形成した。青色発光層としては、ホストとしてＢＡｌｑと発光性化合物Ｐｅｒｙｌｅｎｅとを共蒸着（質量比９０：１０）して厚さ１００ｎｍで形成した。
【０１８２】
【化６】
0005919751.tif 000007
さらに、発光層上に電子が効率的に注入できるような仕事関数の低い第１の陰極（バッファー層ともいう。）としてカルシウムを真空蒸着法により４ｎｍの厚さで成膜し、第１の陰極上に第２の陰極（単に陰極ともいう。）としてアルミニウムを２ｎｍの厚さで成膜した。ここで、第２の陰極として用いたアルミニウムはその上に形成される透明電極をスパッタリング法により成膜する際に、第１の陰極であるカルシウムが化学的変質をすることを防ぐ役割がある。以上のようにして、有機発光層を得た。次に、陰極上にスパッタリング法によって透明導電膜を８０ｎｍの厚さで成膜した。ここで透明導電膜としてはＩＴＯを用いた。さらに、透明導電膜上にＣＶＤ法によってシリカを２００ｎｍ成膜することで絶縁膜を形成し、その上に、上記偏光板１の作製で用いた粘着剤シートＣを用いて、封止ガラス（厚さ１ｍｍ）を接着し、封止ガラスを表面層とする有機ＥＬ素子を得た。封止ガラスの平均屈折率は１．５１であった。
【０１８３】
上記作製した偏光板１の硬化層側に、下記粘着剤シートＡを用いて粘着剤層Ａを転写し、該粘着剤層Ａに上記で製作した有機ＥＬ素子の表面層側を貼合し、有機ＥＬ表示装置１を作製した。
【０１８４】
（粘着剤シートＡの作製）
（粘着剤塗布液Ａの作製）
冷却管、窒素導入管、温度計、滴下ロート、撹絆装置を備えた反応容器に、２−エチルヘキシルアクリレート４９部（質量部、以下同じ）、フェノキシエチルアクリレート５０部、アクリル酸１部及びＡＩＢＮ０．２部を溶媒と共に入れて室温で窒素還流を１時間行った後、その窒素気流下、温度を６０℃に昇温して４時間反応させついで８０℃に昇温して２時間熟成させてアクリル系共重合体の溶液を得た。
【０１８５】
次に前記のアクリル系共重合体溶液からなる粘着剤に架橋剤としてトリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネートアダクト体（日本ポリウレタン社製、コロネートＬ）を１部（固形）添加して粘着剤塗布液Ａとした。
【０１８６】
（塗布、剥離シートの貼合）
上記粘着剤塗布液２を、アプリケーターにて厚さ３８μｍのシリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（剥離シート）上に塗布し、１３０℃で３分間乾燥させて、厚さ２５μｍの粘着剤層Ａを形成し、その粘着層上に厚さが３８μｍのシリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（剥離シート）を接着して粘着剤シートＡを得た。粘着剤シートＡの粘着剤層Ａの平均屈折率は１．４８であった。
【０１８７】
《有機ＥＬ表示装置の評価》
上記作製した各有機ＥＬ表示装置について、下記の各評価を行った。
【０１８８】
評価結果を表２に示す。
【０１８９】
（外光反射防止）
前記（外光反射）に記載の方法で評価を行い、下記の評価基準で判定した。
【０１９０】
○：作製したＥＬ表示装置を見たときに、自分や背景の画像が余り見えない
×：作製したＥＬ表示装置を見たときに、表示装置の画像と共に自分や背景の画像がはっきり見える。
【０１９１】
（画像の明るさ）
駆動電圧１０Ｖを掛け白色発光させた画面を目視で観察し、下記の評価基準で判定した。
【０１９２】
◎：中間層を有しない後述の比較例７の有機ＥＬ表示装置１６と同時に比較しなくても、比較例９の有機ＥＬ表示装置よりも明るさが向上しているのが分かる
○：中間層を有しない後述の比較例７の有機ＥＬ表示装置１６を１ｍ以上離れた場所に置いて比較すると明るさの差が分からないが、４０ｃｍ以上１ｍ未満の距離で明るさが向上しているのが分かる
△：中間層を有しない後述の比較例７の有機ＥＬ表示装置１６を３０ｃｍ以上離れた場所に置いて比較すると明るさの差が分からないが、隣に置いて比べると明るさが向上しているのが分かる
×：中間層を有しない後述の比較例７の有機ＥＬ表示装置１６を隣に置いて比較しても、画像の明るさの差が分からない。
【０１９３】
（表示ムラ）
駆動電圧１０Ｖで全面を白色発光させ、ムラを目視で観察し、下記の基準で判定した。
【０１９４】
○：画面の正面から観察した場合も、画面の法線から４５°の角度で観察した場合もムラが無い
△：画面の正面から観察したときにはムラが無いが、画面の法線から４５°の角度で観察したときにはムラが観察される
×：どの方向から観察してもムラがある。
【０１９５】
（画面の反り）
前記（反りの評価方法）に記載の方法で観察し、下記の基準で判定した。
【０１９６】
◎：蛍光灯の反射像が真っ直ぐに見えて反りが無い
○：蛍光灯の反射像が曲がって見えるが、間接光で観察すると反りが見られない
×：蛍光灯の反射像が曲がって見え、間接光で観察したときでも、反りが見られる。
【０１９７】
〔参考例２〕
参考例１において、λ／４位相差フィルム１に代えて、縦一軸延伸倍率を２．６倍に変更して作製しＲｏを１６５ｎｍにしたλ／４位相差フィルム２を用いた以外は同様にして有機ＥＬ表示装置２を作製し評価した。λ／４位相差フィルム２の平均屈折率は１．６３であった。
【０１９８】
〔参考例３〕
参考例１において、λ／４位相差フィルム１に代えて、縦一軸延伸倍率を１．６倍に変更して作製しＲｏを１００ｎｍにしたλ／４位相差フィルム３を用いた以外は同様にして有機ＥＬ表示装置３を作製し評価した。λ／４位相差フィルム３の平均屈折率は１．６３であった。
【０１９９】
〔比較例１〕
参考例１において、硬化層塗布液１を下記硬化層塗布液２に変更し、硬化層１に代えて硬化層２を形成する以外は、同様にして有機ＥＬ表示装置を作製し評価した。硬化層２の平均屈折率は１．３８であった。
【０２００】
作製した有機ＥＬ表示装置は、λ／４位相差フィルムと硬化層２との屈折率差が大きいため、界面で表示画像の光が反射したことにより光取り出し効率が低下しており、結果として画像の明るさが低下していた。
【０２０１】
〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製〉
テトラエトキシシラン２３０ｇ（商品名：ＫＢＥ０４、信越化学工業社製）とエタノール４４０ｇを混合し、これに２％酢酸水溶液１２０ｇを添加した後に、室温（２５℃）にて２６時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Ａを調製した。
【０２０２】
（硬化層塗布液２）
プロピレングリコールモノメチルエーテル                        ４３０質量部
イソプロピルアルコール                                        ４３０質量部
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                              １２０質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン    （商品名：ＫＢＭ５０３、信越化学工業社製）                                                    ３．０質量部
イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル（固形分２０％、触媒化成工業社製シリカゾル、商品名：ＥＬＣＯＭ  Ｖ−８２０９）                          ４０質量部
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート（川研ファインケミカル社製）                                                            ３．０質量部
１０％ＦＺ−２２０７、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（日本ユニカー社製）                                                          ３．０質量部。
【０２０３】
〔比較例２〕
参考例１において、硬化層塗布液１を下記硬化層塗布液３に変更し、張り合わせた後の紫外線照射は、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射とし、照射後の膜厚を１０７ｎｍとなるように調整して形成した硬化層３を設けた以外は、同様にして有機ＥＬ表示装置を作製し評価した。硬化層３の平均屈折率は１．７であった。
【０２０４】
作製した有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ素子の封止ガラスと硬化層３との屈折率差が大きいため、界面で表示画像の光が反射することにより光取り出し効率が低下し、結果として画像の明るさが低下したと推定している。
【０２０５】
（硬化層塗布液３の調製）
（二酸化チタン微粒子分散液の調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９Ｃ、石原産業（株）製）を使用した。
【０２０６】
この粒子２５７．１ｇに、常法により合成した下記分散剤３８．６ｇ、及びシクロヘキサノン７０４．３ｇを添加してダイノミルにより分散し、質量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。
【０２０７】
【化７】
0005919751.tif 000008
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してその後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、硬化層塗布液３を調製した。
【０２０８】
（硬化層塗布液３塗布液組成）
二酸化チタン微粒子分散液                                        ６０質量部
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（ＵＶ硬化性樹脂；日本化薬（株）製）  ８．２質量部
イルガキュア９０７（光重合開始剤：ＢＡＳＦジャパン製）      ０．６８質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ（光増感剤：日本化薬（株）製）      ０．２２質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                    ７８質量部
シクロヘキサノン                                              ２４３質量部。
【０２０９】
〔参考例４〕
（硬化層転写シート１の作製）
厚さ３８μｍのシリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（剥離シート）上に参考例１で用いた硬化層塗布液１をダイコートし、８０℃で乾燥した後、１２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を高圧水銀灯で照射して、硬化後の膜厚が１１０ｎｍとなるように硬化層４を設け、硬化層転写シート１を作製した。硬化層４の平均屈折率は１．５９であった。
【０２１０】
（有機ＥＬ表示装置６の作製）
参考例１において、硬化層をλ／４位相差フィルム１に直接塗布する代わりに、λ／４位相差フィルム１に、下記粘着剤シートＢ１を用いて粘着剤層Ｂ１を転写し、該粘着剤層Ｂ１上に上記硬化層転写シート１を用いて硬化層を転写した他は同様にして有機ＥＬ表示装置６を作製し評価した。
【０２１１】
作製した有機ＥＬ表示装置６は、硬化層４及び粘着剤層Ｂ１の平均屈折率が粘着剤層Ａより０．０１以上高く、λ／４位相差フィルム１より０．０１以上低いため表示装置の光取り出し効率が向上し、結果として表示される画像の明るさが向上していたが、参考例１に比べ明るさが若干低下した。
【０２１２】
（粘着剤シートＢ１の作製）
実施例１と同様に、酸化ジルコニウム透明分散液を作製した。
【０２１３】
（粘着層塗布液Ｂ１の作製）
屈折率１．４５、重量平均分子量５００，０００のアクリル系樹脂粘着剤１０ｇに、イソシアネート系硬化剤０．１５ｇ及び上記の酸化ジルコニウム透明分散液４０．０ｇを混合攪拌し、酸化ジルコニウム粒子を含む透明な粘着層塗布液Ｂ１を作製した。
【０２１４】
この粘着剤塗布液をアプリケーターにて厚さ３８μｍのシリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（剥離シート）上に塗布し、１３０℃で３分間乾燥させて、厚さ２５μｍの粘着剤層を形成した。その粘着剤層上に厚さが３８μｍのシリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（剥離シート）を接着して粘着剤シートＢ１を得た。を形成した。得られた粘着層Ｂ１の平均屈折率は１．５４であった。
【０２１５】
〔比較例３〕
参考例４において、λ／４位相差フィルム１を用いる代わりに、λ／４位相差フィルムの作製条件の縦一軸延伸倍率を１．５倍に変更し、Ｒｏ（５５０）を９５ｎｍとしたλ／４位相差フィルム４を用いた以外は同様にして有機ＥＬ表示装置７を作製し評価した。λ／４位相差フィルム４の平均屈折率は１．６３であった。
【０２１６】
〔比較例４〕
参考例４において、λ／４位相差フィルム１を用いる代わりに、λ／４位相差フィルムの作製条件の縦一軸延伸倍率を２．８倍に変更し、Ｒｏ（５５０）を１８０ｎｍとしたλ／４位相差フィルム５を用いた以外は同様にして有機ＥＬ表示装置８を作製し評価した。λ／４位相差フィルム５の平均屈折率は１．６３であった。
【０２１７】
比較例３及び４で作製した有機ＥＬ表示装置を評価したところ、本来の画像に加えて外光による背景が見えた。これは、比較例３及び４で作製されたλ／４位相差フィルムの面内位相差値が、可視光波長の１／４の値からかけ離れているため、反射防止機能フィルムとして機能しなかったためと考えられる。
【０２１８】
〔参考例５〕
参考例４において、硬化層塗布液１に代えて、粒子分散液Ａの添加量を２０質量部から２７質量部に変更して作製した硬化層塗布液４を用い、硬化層４を形成した以外は、参考例４と同様にして、有機ＥＬ表示装置９を作製し評価した。硬化層４の平均屈折率は１．６２であった。
【０２１９】
〔参考例６〕
参考例４において、硬化層塗布液１に代えて、粒子分散液Ａの添加量を２０質量部から９質量部に変更して作製した硬化層塗布液５を用い、硬化層５を形成した以外は、参考例４と同様にして、有機ＥＬ表示装置１０を作製し評価した。硬化層５の平均屈折率は１．５２であった。
【０２２０】
〔参考例７〕
参考例４において、粘着層Ｂ１を有する粘着剤シートＢ１に代えて、下記粘着剤層Ｂ２を有する粘着剤シートＢ２を用いた以外は、参考例４と同様にして有機ＥＬ表示装置１１を作製し評価した。
【０２２１】
（粘着剤シートＢ２の作製）
参考例４の粘着剤塗布液Ｂ１の作製において、重量平均分子量５００，０００のアクリル系樹脂粘着剤を重量平均分子量５００，０００の２−エチルヘキシルアクリレート重合体に代えたほかは参考例４に準じて粘着剤塗布液Ｂ２を得、それを用いて粘着剤層Ｂ２を有する粘着剤シートＢ２を作製した。Ｂ２の粘着剤層Ｂ２の平均屈折率は１．４７であった。
【０２２２】
参考例７で作製された有機ＥＬ表示装置１１は、中間層があるため明るさの改善は認められるが、粘着剤層Ｂ２の屈折率が低いため、明るさのレベルは参考例４には及ばなかった。
【０２２３】
〔比較例５〕
参考例４において、硬化層塗布液１を比較例１で使用した硬化層塗布液２に変更する以外は参考例４と同様にして有機ＥＬ表示装置１２を作製し評価した。
【０２２４】
作製した有機ＥＬ表示装置１２は、光取り出し効率が低下しており、λ／４位相差フィルムと硬化層２との屈折率差が大きいため、λ／４位相差フィルムと硬化層２との間で光が反射することにより結果として画像の明るさが低下したと推定している。
【０２２５】
〔比較例６〕
参考例４において、硬化層塗布液１を比較例２で使用した硬化層塗布液３に変更する以外は参考例４と同様にして有機ＥＬ表示装置１３を作製し評価した。
【０２２６】
作製した有機ＥＬ表示装置１３は、光取り出し効率が低下しており、有機ＥＬ素子表面層・粘着剤層Ａと硬化層３との間の屈折率差が大きいため、有機ＥＬ素子表面層・粘着剤層Ａと硬化層２との間で光が反射することにより結果として画像の明るさが低下したと推定している。
【０２２７】
〔参考例８〕
参考例１において、硬化層塗布液１を下記の硬化層塗布液４に変更する以外は、同様にして有機ＥＬ表示装置１４を作製し評価した。
【０２２８】
〈硬化層塗布液４〉
ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）                ４０質量部
イソプロピルアルコール                                            ２５質量部
メチルエチルケトン                                                ２５質量部
アデカオプトマーＫＲＭ−２１１０（脂環式エポキシ、アデカ製）    ２．５質量部
アデカオプトマーＳＰ−１７０（光酸発生剤、アデカ製）            ０．２質量部
粒子分散液Ａ                                                      ２０質量部
上記硬化層塗布液４により形成された硬化層４の平均屈折率は１．５９であった。
【０２２９】
硬化層塗布液４を用い、参考例８で作製した有機ＥＬ表示装置１４は、反りが見られなかったが、有機ＥＬ表示装置１４の発光時に若干の表示ムラが生じた。
【０２３０】
〔実施例９〕
参考例４において、前記硬化層塗布液１を上記硬化層塗布液４に代えたほかは同様にして、有機ＥＬ表示装置１５を作製し評価した。粘着剤層Ｂ上に、光酸発生剤を含有する上記硬化層塗布液４を塗布して硬化層を形成した有機ＥＬ表示装置１５は、表示ムラが全く見られず、反りも見られなかった。
【０２３１】
〔比較例７〕
参考例１において、硬化層１を設けなかった他は同様にして、有機ＥＬ表示装置１６を作製し評価した。有機ＥＬ表示装置１６は、画像の明るさの評価の基準である。
【０２３２】
〔参考例１０〕
（λ／４位相差フィルム６の作製）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に水酸化ナトリウム水溶液及びイオン交換水を仕込み、これにビスフェノールＡとビスクレゾールフルオレンを３２：６８のモル比で溶解させ、少量のハイドロサルファイトを加えた。次にこれに塩化メチレンを加え、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹き込んだ。さらに、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを加えて乳化させた後、トリエチルアミンを加えて３０℃で約３時間攪拌して反応を終了させた。反応終了後有機相分取し、塩化メチレンを蒸発させてポリカーボネート共重合体を得た。得られた共重合体の組成比はモノマー仕込み量比とほぼ同様であった。
【０２３３】
この共重合体をメチレンクロライドに溶解させ、固形分濃度１９質量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液からキャストフィルムを作製し、温度２３０℃で２倍に一軸延伸しλ／４位相差フィルム６を得た。
【０２３４】
λ／４位相差フィルム６の膜厚は５０μｍであり、平均屈折率は１．５８であり、Ｒｏは１３８ｎｍであった。
【０２３５】
参考例１において、λ／４位相差フィルム１に代えて、λ／４位相差フィルム６を用いた他は同様にして、有機ＥＬ表示装置１７を作製し評価した。
【０２３６】
λ／４位相差フィルム６に積層した硬化層の屈折率を、粘着剤層Ａの平均屈折率より０．０１以上高く、λ／４位相差フィルム６の平均屈折率より０．０１以上低くすることにより、比較例７及び８の有機ＥＬ表示装置１６及び１８に比べ明るさが改善された。
【０２３７】
〔比較例８〕
参考例１０において、硬化層１を設けなかった他は同様にして、有機ＥＬ表示装置１８を作製し評価した。
【０２３８】
有機ＥＬ表示装置１８は、比較例７の有機ＥＬ表示装置１６と同じ明るさであった。
【０２３９】
下記表１に上記有機ＥＬ表示装置の構成、各層の平均屈折率及びＲｏを示す。
【０２４０】
【表１】
0005919751.tif 000009
作製した有機ＥＬ表示装置１４及び１５は、硬化層に酸を発生する光カチオン重合開始剤が、エポキシ樹脂などの硬化収縮が小さい樹脂を使用できるため、反りを生じない。しかし、有機ＥＬ表示装置１４は硬化層とλ／４位相差フィルムとが直接接しており、紫外光硬化させる際に発生する酸によってλ／４位相差フィルムの位相差値が変動してし、若干画像にムラが生じる。有機ＥＬ表示装置１５は硬化層とλ／４位相差フィルムとは直接接していないために画像ムラを生じなかったと推定している。
【０２４１】
上記評価の結果を表２に示す。
【０２４２】
【表２】
0005919751.tif 000010
表２より、本発明の有機ＥＬ表示装置は、外光反射が抑えられ、λ／４位相差フィルムに屈折率の高いポリカーボネート類を使用しても、画像が明るいことが分かる。また、硬化層の平均屈折率が、１．５４〜１．６０の範囲内である場合は特に画面の明るさが向上することが分かる。
【０２４３】
また、硬化層が、光酸発生剤で硬化したエポキシ樹脂で形成された場合には、画面の反りが改善されることが分かる。そして、λ／４位相差フィルム及び前記硬化層の間に、粘着剤層Ｂを有する場合は、表示ムラが改善されることが分かる。これは、粘着剤層Ｂが硬化層からλ／４位相差フィルムに酸が拡散するのを防止したためと推定している。
【符号の説明】
【０２４４】
Ｄ  有機ＥＬ表示装置
Ｅ  有機ＥＬ素子
Ｆ  偏光板
１  基板
２  ＴＦＴ
３  金属電極
４  ＩＴＯ
５  正孔輸送層
６  発光層
７  バッファー層
８  陰極
９  ＩＴＯ
１０  絶縁層
１１  粘着剤層Ｃ
１２  封止ガラス
１３  粘着剤層Ａ
１４  硬化層（中間層）
１５  粘着剤層Ｂ（中間層）
１６  λ／４位相差フィルム
１７  偏光子
１８  保護フィルム
１９  硬化層
２０  反射防止層
【図１】
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