(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース系樹脂１００質量部に対し、下記一般式（Ｉ）で表されるポリケトン化合物の中から選ばれる少なくとも一種を０．１〜２０質量部配合してなることを特徴とするセルロース系樹脂組成物。
0005914059.tif 000025
（式中、Ｒ１は、炭素原子数１〜１０のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素原子数６〜２０の芳香族基、置換基を有してもよいケトンジアリーレン基、または、置換基を有してもよいオキシジアリーレン基を表し、Ｘ１〜Ｘ１０はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基を表す。）
【請求項２】
前記ポリケトン化合物が、下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）で表されるポリケトン化合物である請求項１記載のセルロース系樹脂組成物。
0005914059.tif 000026
0005914059.tif 000027
（式中、Ｘ１〜Ｘ１０はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。）
【請求項３】
前記セルロース系樹脂が、セルロースアシレートである請求項１又は２に記載のセルロース系樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項記載のセルロース系樹脂組成物から得られることを特徴とするフィルム。
【請求項５】
光学補償用途である請求項４記載のフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はセルロース系樹脂組成物及びフィルムに関し、詳しくは、セルロース系樹脂にポリケトン化合物を配合してなる高い光学特性を有するフィルムを製造する事が可能なセルロース系樹脂組成物、及び、該セルロース系樹脂組成物から得られるフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、映像や文字を鮮明に表示できる液晶表示装置を備えたノートパソコンやテレビ等の情報機器が次々と市場に供給されている。これらの情報機器に対する消費者の要望として、高機能性付与の他に、住環境の多様化に応じられるような省スペース化等があり、これらのニーズに応える上で、情報機器の薄型化や軽量化、大画面化に伴う高視野角や高コントラストなどが求められている。
【０００３】
情報機器の薄型化は、情報機器に備えられている液晶表示装置の奥行きを薄くする事に依存する。液晶表示装置は、概略として２枚のガラス基板の間に電極からなる層と液晶物質からなる層とを有する積層構造体から構成される。前記ガラス基板は液晶層とは反対側の面に偏光子が添付されており、この偏光子としては、通常、ポリビニルアルコールからなる偏光子の両面に保護フィルムを貼付したものが使用されている。前記偏光子保護フィルムは、一般的に透明性が高く、適度な強度を有しており、かつポリビニルアルコールとの接着性に優れるものとしてセルロースエステル系樹脂フィルムが使用されている。
【０００４】
一方、液晶表示装置の高視野角化に寄与するために、セルロースエステル系樹脂フィルムに光学補償能を起用することが求められている。しかし、セルロースエステル系樹脂フィルムはそのままでは光学補償フィルムに必須なレターデーション（複屈折性）が十分ではないため、セルロースエステル系樹脂フィルムにレターデーションを付与するさまざまな検討がなされてきている。近年、液晶テレビのさらなる視野角拡大や薄膜化のために、より大きなレターデーションが求められている。
【０００５】
樹脂フィルムのレターデーションを増加させるため、レターデーション上昇剤を添加する方法が知られているが、これまでのレターデーション上昇剤では多量添加が必要となりブリードアウトなどの問題が発生するため、実用化が困難であった。また、セルロースの総アシル基置換度を低下させる方法なども提案されているが、吸湿性が増加したりするなどの問題があって、やはり実用化は難しかった。
【０００６】
例えば、特許文献１には、特定の芳香族化合物からなるレターデーション向上剤を含有するセルロースエステルフィルムからなる位相差板が提案されているが、相溶性が不十分であるため光学特性向上効果が不十分であった。また、特許文献２には、フェノール性水酸基を有する多環芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用してなるセルロースエステルフィルムが提案されているが、上記と同様に相溶性が不十分であるため光学特性向上効果が不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第４６０５９０８号公報
【特許文献２】特開２０１０−２２２４３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで本発明の目的は、光学特性に優れたフィルムを製造する事ができるセルロース系樹脂組成物及び該セルロース系樹脂組成物を含有する光学特性に優れたフィルムを提供することにある。
【０００９】
なお、本発明において光学特性に優れたフィルムとは、大きなレターデーションが付与されたフィルムを意味する。このレターデーションは、フィルムの厚み方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）によって把握することが可能である。
Ｒｔｈは下記式で定義される値である。
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
［式中、ｎｘはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙは前記屈折率が最も大きい方向に直角な方向のフィルム面内の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）を表す。］
上記レターデーション値Ｒｔｈは、例えば、ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器（株）製）やＲＥＴＳ−１００（大塚電子（株）製）などの自動複屈折率計を用いて測定することができる。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等は、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のポリケトン化合物を含有するセルロース系樹脂組成物とすることで上記の目的を達成しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
即ち、本発明のセルロース系樹脂組成物は、セルロース系樹脂１００質量部に対し、下記一般式（Ｉ）で表されるポリケトン化合物の中から選ばれる少なくとも一種を０．１〜２０質量部配合してなることを特徴とするものである。
0005914059.tif 000002
（式中、Ｒ１は、炭素原子数１〜１０のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素原子数６〜２０の芳香族基、置換基を有してもよいケトンジアリーレン基、または、置換基を有してもよいオキシジアリーレン基を表し、Ｘ１〜Ｘ１０はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルカノイルオキシ基、または、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基を表す。）
【００１２】
本発明のセルロース系樹脂組成物は、前記ポリケトン化合物が、下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）で表されるポリケトン化合物であることが好ましい。
0005914059.tif 000003
0005914059.tif 000004
（式中、Ｘ１〜Ｘ１０はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルカノイルオキシ基、または、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。）
【００１３】
また、本発明のセルロース系樹脂組成物は、前記セルロース系樹脂が、セルロースアシレートであることが好ましい。
【００１４】
本発明のフィルムは、上記いずれかのセルロース系樹脂組成物から得られることを特徴とするものである。
【００１５】
本発明のフィルムは、光学補償用途として好適である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のセルロース系樹脂組成物は、光学特性に優れているため、光学補償フィルム、とりわけＶＡ液晶用の位相差フィルムなどに好適に使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明のセルロース系樹脂組成物は、セルロース系樹脂１００質量部に対し、上記一般式（Ｉ）で表されるポリケトン化合物の中から選ばれる少なくとも一種を０．１〜２０質量部を含有することを特徴とするものである。上記一般式（Ｉ）で表されるポリケトン化合物の配合量は、セルロース系樹脂１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。以下、各成分について詳細に説明する。
【００１８】
本発明に用いられるセルロース系樹脂は、セルロース系樹脂であればいずれであってもよいが、セルロースの脂肪酸エステル（セルロースアシレート）であることが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルであることがより好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。セルロースの低級脂肪酸エステルとしては、例えば、セルローストリアセテートなどのセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレートや、特開平１０−４５８０４号公報、特開平８−２３１７６１号公報、米国特許第２，３１９，０５２号明細書等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを挙げることができる。
【００１９】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１がとりうる炭素原子数１〜１０のアルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、１，２−プロピレン、１，３−プロピレン、１，３−ブチレン、１，４−ブチレン、１，５−ペンチレン、１，６−へキシレン、１，７−ヘプチレン、１，８−オクチレン、１，９−ノニレン、１，１０−デシレンなどが挙げられる。
【００２０】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１がとりうる置換基を有してもよい炭素原子数６〜２０の芳香族基における置換基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル、アミル、イソアミル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等の炭素原子数１〜１０のアルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ等の炭素原子数１〜１０のアルコキシ基；メタノイルオキシ、エタノイルオキシ、プロパノイルオキシ等の炭素原子数１〜１０のアルカノイルオキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル等の炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基；メトキシメチレンオキシ、エトキシメチレンオキシ、メトキシエチレンオキシ等の炭素原子数２〜２０のアルコキシアルキレンオキシ基；メトキシカルボニルメチレンオキシ、エトキシカルボニルメチレンオキシ、メトキシカルボニルエチレンオキシ等の炭素原子数３〜２１のアルコキシカルボニルアルキレンオキシ基；クロロ、ブロモ等のハロゲン原子；ヒドロキシ基などが挙げられる。
【００２１】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１がとりうる置換基を有してもよい炭素原子数６〜２０の芳香族基における芳香族基としては、例えば、フェニレン、ナフチレン、フェナントレンジイル、アントラセラニンジイル、ナフタセンジイル、ピレンジイルなどが挙げられる。
【００２２】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１がとりうる置換基を有してもよいケトンジアリーレン基における置換基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル、アミル、イソアミル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等の炭素原子数１〜１０のアルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ等の炭素原子数１〜１０のアルコキシ基；メタノイルオキシ、エタノイルオキシ、プロパノイルオキシ等の炭素原子数１〜１０のアルカノイルオキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル等の炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基；メトキシメチレンオキシ、エトキシメチレンオキシ、メトキシエチレンオキシ等の炭素原子数２〜２０のアルコキシアルキレンオキシ基；メトキシカルボニルメチレンオキシ、エトキシカルボニルメチレンオキシ、メトキシカルボニルエチレンオキシ等の炭素原子数３〜２１のアルコキシカルボニルアルキレンオキシ基；クロロ、ブロモ等のハロゲン原子；ヒドロキシ基などが挙げられる。ケトンジアリーレン基としては、例えば、ケトンジフェニレン基が挙げられる。
【００２３】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１がとりうる置換基を有してもよいオキシジアリーレン基における、置換基としては、前記ケトンジアリーレン基が有してもよい置換基と同様のものを挙げることができる。また、オキシジアリーレン基としては、例えば、オキシジフェニレン基があげられる。
【００２４】
一般式（Ｉ）中、Ｘ１〜Ｘ１０がとりうる炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル、アミル、イソアミル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシルなどが挙げられる。
【００２５】
一般式（Ｉ）中、Ｘ１〜Ｘ１０がとりうる炭素原子数１〜１０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシなどが挙げられる。
【００２６】
一般式（Ｉ）中、Ｘ１〜Ｘ１０がとりうる炭素原子数２〜１０のアルカノイルオキシ基としては、例えば、メタノイルオキシ、エタノイルオキシ、プロパノイルオキシなどが挙げられる。
【００２７】
一般式（Ｉ）中、Ｘ１〜Ｘ１０がとりうる炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル基などが挙げられる。
【００２８】
これらのポリケトン化合物の中でも下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）で表される化合物が優れた光学特性向上効果を示すため好ましい。
【００２９】
0005914059.tif 000005
【００３０】
0005914059.tif 000006
（式中、Ｘ１〜Ｘ１０はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルカノイルオキシ、または、アルコキシカルボニルを表し、ｎは１〜１０の整数を表す。）
【００３１】
一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）中、Ｘ１〜Ｘ１０で表される炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基としては、上記と同様のものを挙げることができる。また、一般式（Ｉ−２）中、ｎは、好ましくは２〜５の整数である。
【００３２】
以下に本発明に使用されるポリケトン化合物を例示するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００３３】
0005914059.tif 000007
【００３４】
0005914059.tif 000008
【００３５】
0005914059.tif 000009
【００３６】
0005914059.tif 000010
【００３７】
0005914059.tif 000011
【００３８】
0005914059.tif 000012
【００３９】
0005914059.tif 000013
【００４０】
0005914059.tif 000014
【００４１】
0005914059.tif 000015
【００４２】
0005914059.tif 000016
【００４３】
0005914059.tif 000017
【００４４】
0005914059.tif 000018
【００４５】
0005914059.tif 000019
【００４６】
0005914059.tif 000020
【００４７】
0005914059.tif 000021
【００４８】
0005914059.tif 000022
【００４９】
本発明のセルロース系樹脂組成物には、可塑剤を任意に使用することができる。可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ブチルヘキシルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルテレフタレートなどのフタレート系可塑剤；ジオクチルアジペート、ジイソノニルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジ（ブチルジグリコール）アジペートなどのアジペート系可塑剤；トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、トリ（イソプロピルフェニル）ホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリ（ブトキシエチル）ホスフェート、オクチルジフェニルホスフェートなどのホスフェート系可塑剤；多価アルコールとして、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールなどと、二塩基酸として、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などとを用い、必要により一価アルコール、モノカルボン酸をストッパーに使用したポリエステル系可塑剤；多価アルコールとして、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどと、一塩基酸として、酢酸、安息香酸、ｐ−第三ブチル安息香酸などを、用いて得られる多価アルコールエステル系可塑剤；その他、テトラヒドロフタル酸系可塑剤、アゼライン酸系可塑剤、セバチン酸系可塑剤、ステアリン酸系可塑剤、クエン酸系可塑剤、トリメリット酸系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、ビフェニレンポリカルボン酸系可塑剤などが挙げられる。
【００５０】
また、本発明のセルロースエステル系樹脂組成物には、さらに各種の添加剤、例えば、リン系、フェノール系または硫黄系抗酸化剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤などを配合することもできる。
【００５１】
上記リン系抗酸化剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ、ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、ビス（２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェニル）・エチルホスファイト、ジフェニルアシッドホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリルホスファイト、ジブチルアシッドホスファイト、ジラウリルアシッドホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、ビス（ネオペンチルグリコール）・１，４−シクロヘキサンジメチルジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、フェニル−４，４’−イソプロピリデンジフェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（Ｃ１２−１５混合アルキル）−４，４’−イソプロピリデンジフェニルホスファイト、ビス［２，２’−メチレンビス（４，６−ジアミルフェニル）］・イソプロピリデンジフェニルホスファイト、水素化−４，４’−イソプロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス（オクチルフェニル）・ビス［４，４’−ｎ―ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノール）］・１，６−ヘキサンジオール・ジホスファイト、テトラトリデシル・４，４’−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）・１，１，３−トリス（２−メチル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン・トリホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２−ブチル−２−エチルプロパンジオール・２，４，６−トリ第三ブチルフェノールモノホスファイトなどがあげられる。
【００５２】
上記フェノール系抗酸化剤としては、例えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、トリデシル・３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルチオアセテート、チオジエチレンビス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２−オクチルチオ−４，６−ジ（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−ｓ−トリアジン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、ビス［３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス［２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル］テレフタレート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノール、３，９−ビス［２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルヒドロシンナモイルオキシ）−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン］、トリエチレングリコールビス［β−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］などがあげられる。
【００５３】
上記硫黄系抗酸化剤としては、例えば、チオジプロピオン酸のジラウリル、ジミリスチル、ミリスチルステアリル、ジステアリルエステルなどのジアルキルチオジプロピオネート類およびペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプトプロピオネート）などのポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類などがあげられる。
【００５４】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−第三ブチル−４’−（２−メタクリロイルオキシエトキシエトキシ）ベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）などの２−ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ドデシル−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−Ｃ７〜９混合アルコキシカルボニルエチルフェニル）トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３、５−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−カルボキシフェニル）ベンゾトリアゾールのポリエチレングリコールエステルなどの２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシロキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキシエトキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどの２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン類；フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，４−ジ第三ブチルフェニル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２，４−ジ第三アミルフェニル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートなどのベンゾエート類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４’−ドデシルオキザニリドなどの置換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレートなどのシアノアクリレート類などがあげられる。
【００５５】
上記ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ビス（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ビス（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／ジブロモエタン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，５，８，１２−テトラキス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル］−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，５，８，１２−テトラキス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル］−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，６，１１−トリス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−ｓ−トリアジン−６−イルアミノ］ウンデカン、１，６，１１−トリス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ−ｓ−トリアジン−６−イルアミノ］ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカンなどがあげられる。
【００５６】
その他、本発明のセルロース系樹脂組成物には、さらに必要に応じてその他添加剤、例えば、充填剤、着色剤、架橋剤、帯電防止剤、プレートアウト防止剤、表面処理剤、滑剤、難燃剤、蛍光剤、防黴剤、殺菌剤、金属不活性化剤、離型剤、顔料、加工助剤、酸化防止剤、光安定剤、発泡剤等を配合することができる。
【００５７】
次に、本発明のセルロース系樹脂組成物からフィルムを製造する方法について説明する。
【００５８】
該フィルムの製造は、セルロース系樹脂組成物を溶剤に溶解させたドープ液を塗布、乾燥して行われる。ドープ液には必要に応じて各種添加剤を混合することができる。ドープ液中のセルロース系樹脂の濃度は、濃い方が支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロース系樹脂の濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これ等を両立する濃度としては、１０〜３０質量％が好ましく、更に好ましくは１５〜２５質量％である。
【００５９】
本発明に係るドープ液の調製に用いる溶剤は、１種単独でもよく、２種以上の併用でもよいが、セルロース系樹脂の良溶剤と貧溶剤とを混合して用いることが生産効率の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が３０〜２質量％である。本発明に用いられる良溶剤、貧溶剤については、使用するセルロース系樹脂を単独で溶解するものを良溶剤、単独では膨潤するのみかあるいは溶解し得ないものを貧溶剤と定義する。そのため、セルロース系樹脂の平均酢化度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えば、アセトンは、平均酢化度５５％のセルロース系樹脂では良溶剤になり、平均酢化度６０％のセルロース系樹脂では貧溶剤となってしまう。このように、良溶剤、貧溶剤はすべての場合に一義的に決まるものではない。本発明において好ましいセルロース系樹脂であるセルローストリアセテートの場合には、良溶剤としては、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類が挙げられ、また、セルロースアセテートプロピオネートの場合にはメチレンクロライド、アセトン、酢酸メチル等が挙げられる。一方、これらの場合、貧溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
【００６０】
上記ドープ液を調製するときのセルロース系樹脂の溶解方法としては、一般的な方法を用いることができるが、加圧下で、溶剤の常圧での沸点以上でかつ溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱し、撹拌しながら溶解する方法が、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止することができるため、好ましい。また、セルロース系樹脂を貧溶剤と混合し、湿潤あるいは膨潤させた後、さらに良溶剤と混合して溶解する方法も好ましく用いられる。さらに、公知の冷却溶解法を用いてもよい。冷却溶解法を用いる場合には、良溶剤として酢酸メチル、アセトンを用いることができる。加圧は、窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱による溶剤の蒸気圧の上昇によって行ってもよい。加熱は、外部から行うことが好ましく、例えば、ジャケットタイプのものは温度コントロールが容易であるため、好ましい。
【００６１】
溶剤を添加した後の加熱温度は、使用溶剤の常圧での沸点以上で、かつ溶剤が沸騰しない範囲の温度が、セルロース系樹脂の溶解度の観点から好ましい。加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり、生産性が悪くなる。好ましい加熱温度の範囲は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０〜１０５℃が更に好ましい。また、圧力は、設定温度で溶剤が沸騰しないように調整する。加熱後は、得られたセルロース系樹脂溶液を濾紙等の適当な濾材を用いて濾過する。濾材としては、不要物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾材の目詰まりが発生しやすいという問題点が生じる。このため、絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲の濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲の濾材が更に好ましい。濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、例えば、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材やステンレス等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく、好ましい。
【００６２】
ドープ液の濾過は通常の方法で行うことができるが、加圧下で、溶剤の常圧での沸点以上でかつ溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾材前後の差圧（以下、濾圧ということがある）の上昇が小さく、好ましい。好ましい濾過の温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃が更に好ましい。濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６×１０６Ｐａ以下であることが好ましく、１．２×１０６Ｐａ以下であることがより好ましく、１．０×１０６Ｐａ以下であることが更に好ましい。
【００６３】
フィルムの膜厚は、薄い方が液晶ディスプレイの薄型化が容易になるため好ましいが、薄過ぎると、透湿度が増大し、引き裂き強度等が不足する。これ等を両立するセルロース系樹脂フィルムの膜厚としては、１０〜１５０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましい。
【実施例】
【００６４】
以下実施例を示して本発明のセルロース系樹脂組成物及びフィルムを更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６５】
実施例１
セルローストリアセテートを１００質量部（酢化度６１．５％、重合度２６０）及び下記の表１記載の添加剤を同表記載の質量部で、メチレンクロライド４００質量部とメチルアルコール１００質量部とからなる混合溶剤に撹拌しながら均一に溶解させ、各種ドープ液を調製した。次いで、得られたドープ液をガラス板上に膜厚が８０μｍになるように流延し、室温で１６時間乾燥させた後、５０℃で１時間乾燥させ、さらに１２０℃で１時間乾燥させた。
【００６６】
（耐ブリード性の評価方法）
得られたフィルムを３０ｍｍ×４０ｍｍの大きさに切り取り、温度８５℃、相対湿度９０％の恒温恒湿中に１２０時間放置した。その後フィルム表面を目視で観察し、ブリードの有無を以下の評価基準にて確認した。
○：ブリード物が観察されなかった。
×：ブリード物が観察された。
【００６７】
（レターデーション測定方法）
得られたフィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り取り、２５℃６０％ＲＨで３時間以上調湿した。その後、下記式に従い自動複屈折率計ＲＥＴＳ−１００（大塚電子（株）製）を用いて、２５℃６０％ＲＨ環境下、波長５９０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を測定した。
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
［式中，ｎｘはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙは前記屈折率が最も大きい方向に直角な方向でのフィルム面内の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）を表す。］
得られた評価結果を下記の表１に示す。
【００６８】
【表１】
0005914059.tif 000023
ＴＰＰ：トリフェニルホスフェート
化合物Ｔ：
0005914059.tif 000024
【００６９】
本発明の実施例から明らかなように、本発明に係るポリケトン化合物を使用したいずれの実施例も相溶性に優れ、また、汎用改質剤であるトリフェニルホスフェートやトリアジン系のレターデーション上昇剤を使用した比較例と比較してレターデーション（Ｒｔｈ）の値が大きく、優れた光学特性を示すことがわかる。また、比較例３から明らかなように、比較化合物をセルロース系樹脂１００質量部に対して２．５質量部配合した場合にはブリードが発生した。それに対して、本発明にかかるポリケトン化合物を使用した実施例においてはブリードは生じず、耐ブリード性に優れることが明らかになった。