(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に、感光層及び保護層が順次積層されており、
前記保護層は、一般式
【化１】
0005974559.tif 000037
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基により置換されていてもよい炭素数が１以上３以下のアルキル基であり、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、１以上５以下の整数である。）
で表される化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とを含む組成物の硬化物と、一般式
【化２】
0005974559.tif 000038
（式中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１以上４以下のアルキル基であり、Ｚ１は、ビニレン基、炭素数が６以上１４以下の２価の芳香族炭化水素基又は２，５−チオフェンジイル基である。）
で表される化合物又は一般式
【化３】
0005974559.tif 000039
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、炭素数が６以上１４以下の１価の芳香族炭化水素基であり、Ｚ２は、炭素数が６以上１４以下の２価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。）
で表される化合物とを含むことを特徴とする感光体。
【請求項２】
前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する前記一般式（２）で表される化合物の質量比又は前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する前記一般式（３）で表される化合物の質量比が０．５％以上１０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の感光体。
【請求項３】
前記ｍ及び前記ｎは、それぞれ独立に、１又は２であり、
前記ｍ及び前記ｎの和は、２又は３であることを特徴とする請求項１又は２に記載の感光体。
【請求項４】
前記組成物は、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物をさらに含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項５】
前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物が１官能のラジカル重合性化合物であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項６】
前記組成物は、フィラーをさらに含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項７】
前記フィラーは、無機フィラーであることを特徴とする請求項６に記載の感光体。
【請求項８】
前記無機フィラーは、酸化ケイ素フィラー、酸化チタンフィラー及び酸化アルミニウムフィラーからなる群より選択される一種以上であることを特徴とする請求項７に記載の感光体。
【請求項９】
導電性支持体上に、感光層及び保護層が順次積層されている感光体を製造する方法であって、
前記導電性支持体上に、前記感光層を形成する工程と、
該感光層が形成された導電性支持体上に、組成物を含む塗布液を塗布する工程と、
該塗布液が塗布された導電性支持体に活性エネルギー線を照射して前記組成物を硬化させることにより前記保護層を形成する工程を有し、
前記組成物は、一般式
【化４】
0005974559.tif 000040
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基により置換されていてもよい炭素数が１以上３以下のアルキル基であり、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、１以上５以下の整数である。）
で表される化合物と、一般式
【化５】
0005974559.tif 000041
（式中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１以上４以下のアルキル基であり、Ｚ１は、ビニレン基、炭素数が６以上１４以下の２価の芳香族炭化水素基又は２，５−チオフェンジイル基である。）
で表される化合物又は一般式
【化６】
0005974559.tif 000042
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、炭素数が６以上１４以下の１価の芳香族炭化水素基であり、Ｚ２は、炭素数が６以上１４以下の２価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。）
で表される化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含むことを特徴とする感光体の製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の感光体と、
該感光体をコロナ帯電させる帯電手段と、
該コロナ帯電した感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、
該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段と、
該感光体に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項１１】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の感光体を有し、
画像形成装置の本体に着脱可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光体、感光体の製造方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機感光体は、良好な性能及び様々な利点から、無機感光体に代わり、複写機、ファクシミリ、レーザープリンター及びこれらの複合機に適用されている。
【０００３】
一般に、有機感光体は、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷による摩耗を抑制するため、表面に保護層が形成されている。
【０００４】
しかしながら、コロナ帯電器を用いて有機感光体を帯電させる画像形成装置を長期間使用し、放置した後、再稼働させると、コロナ帯電器の幅に相当する帯状の画像濃度のムラが発生するという問題がある。
【０００５】
特許文献１には、導電性支持体上に感光層および保護層を有する電子写真感光体が開示されている。このとき、保護層は、特定の硬化型アクリル系モノマーを含有する結着樹脂に導電性金属酸化物微粒子を分散した塗工液を感光層上に塗工、硬化させて形成される。
【０００６】
しかしながら、耐摩耗性と、長期間使用した時の露光部の電位の上昇の抑制を両立させることができないという問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記従来技術が有する問題に鑑み、耐摩耗性に優れ、コロナ帯電器を用いて長期間使用した時の画像濃度のムラの発生及び露光部の電位の上昇を抑制することが可能な感光体並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の感光体は、導電性支持体上に、感光層及び保護層が順次積層されており、前記保護層は、一般式
【０００９】
【化１】
0005974559.tif 000002
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基により置換されていてもよい炭素数が１以上３以下のアルキル基であり、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、１以上５以下の整数である。）
で表される化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とを含む組成物の硬化物と、一般式
【００１０】
【化２】
0005974559.tif 000003
（式中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１以上４以下のアルキル基であり、Ｚ１は、ビニレン基、炭素数が６以上１４以下の２価の芳香族炭化水素基又は２，５−チオフェンジイル基である。）
で表される化合物又は一般式
【００１１】
【化３】
0005974559.tif 000004
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、炭素数が６以上１４以下の１価の芳香族炭化水素基であり、Ｚ２は、炭素数が６以上１４以下の２価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。）
で表される化合物とを含む。
【００１２】
本発明の感光体の製造方法は、導電性支持体上に、感光層及び保護層が順次積層されている感光体を製造する方法であって、前記導電性支持体上に、前記感光層を形成する工程と、該感光層が形成された導電性支持体上に、組成物を含む塗布液を塗布する工程と、該塗布液が塗布された導電性支持体に活性エネルギー線を照射して前記組成物を硬化させることにより前記保護層を形成する工程を有し、前記組成物は、一般式
【００１３】
【化４】
0005974559.tif 000005
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基により置換されていてもよい炭素数が１以上３以下のアルキル基であり、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、１以上５以下の整数である。）
で表される化合物と、一般式
【００１４】
【化５】
0005974559.tif 000006
（式中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１以上４以下のアルキル基であり、Ｚ１は、ビニレン基、炭素数が６以上１４以下の２価の芳香族炭化水素基又は２，５−チオフェンジイル基である。）
で表される化合物又は一般式
【００１５】
【化６】
0005974559.tif 000007
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、炭素数が６以上１４以下の１価の芳香族炭化水素基であり、Ｚ２は、炭素数が６以上１４以下の２価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。）
で表される化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含む。
【００１６】
本発明の画像形成装置は、本発明の感光体と、該感光体をコロナ帯電させる帯電手段と、該コロナ帯電した感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段と、該感光体に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段を有する。
【００１７】
本発明のプロセスカートリッジは、本発明の感光体を有し、画像形成装置の本体に着脱可能である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、耐摩耗性に優れ、コロナ帯電器を用いて長期間使用した時の画像濃度のムラの発生及び露光部の電位の上昇を抑制することが可能な感光体並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の感光体の構造の一例を示す部分断面図である。
【図２】本発明の感光体の構造の他の例を示す部分断面図である。
【図３】本発明の感光体の構造の他の例を示す部分断面図である。
【図４】本発明の画像形成装置の一例を示す模式図である。
【図５】本発明の画像形成装置の他の例を示す模式図である。
【図６】本発明のプロセスカートリッジの一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
次に、本発明を実施するための形態を図面と共に説明する。
【００２１】
本発明の感光体は、導電性支持体上に、感光層及び保護層が順次積層されており、保護層は、一般式（１）で表される化合物と、一般式（２）で表される化合物又は一般式（３）で表される化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含む保護層組成物を硬化させることにより形成されている。これにより、保護層中に電荷トラップが形成されることを抑制することができると考えられる。その結果、耐摩耗性と、コロナ帯電器を用いて長期間使用した時の画像濃度のムラの発生及び露光部の電位の上昇の抑制を両立させることができ、商業印刷に要求される高画質な画像を形成することができる。
【００２２】
このとき、一般式（１）で表される化合物は、２官能であること、嵩高い構造であること等から、反応性に乏しい。このため、感光体の耐摩耗性を向上させるためには、後述する活性エネルギー線の照射量を増大させる必要があるが、一般式（２）又は（３）で表される化合物を添加しないと、露光部の電位が上昇する。これは、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物が分解して電荷トラップとなるためであると考えられる。
【００２３】
そこで、一般式（２）又は（３）で表される化合物を添加すると、活性エネルギー線により励起状態となった電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物と励起状態複合体（Ｅｘｃｉｐｌｅｘ）を形成した後、失活することにより、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の分解を抑制することができると考えられる。
【００２４】
このとき、一般式（２）又は（３）で表される化合物は、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物よりも酸化電位が大きいため、保護層中で電荷トラップにはならない。また、一般式（２）又は（３）で表される化合物は、紫外線の吸収が少なく、硬化反応を阻害しない。さらに、一般式（２）又は（３）で表される化合物は、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物よりも励起ポテンシャルレベルが低く、励起状態複合体（Ｅｘｃｉｐｌｅｘ）を形成しやすい。
【００２５】
以上のことから、一般式（２）又は（３）で表される化合物を添加すると、耐摩耗性と、露光部の電位の上昇の抑制を両立させることができると考えられる。
【００２６】
図１に、本発明の感光体の構造の一例を示す。感光体１０は、導電性支持体１１上に、感光層１２及び保護層１３が順次積層されている。このとき、感光層１２は、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂが順次積層されているが、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂが積層される順序が逆であってもよい。
【００２７】
保護層１３は、一般式（１）で表される化合物と、一般式（２）で表される化合物又は一般式（３）で表される化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含む保護層組成物を硬化させることにより形成されている。
【００２８】
なお、保護層組成物とは、保護層を形成する際に用いられる塗布液に含まれる固形分を意味する。
【００２９】
一般式（１）で表されるラジカル化合物は、ビスフェノールＡ型骨格の嵩高い構造が保護層１３中で三次元網目構造の空隙を塞いで、ガスの遮蔽性を向上させていると考えられる。
【００３０】
一般式（１）で表される化合物は、ガスの遮蔽性を考慮すると、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、１又は２であり、ｍ及びｎの和は、２又は３であるであることが好ましい。
【００３１】
一般式（１）で表される化合物としては、特に限定されないが、化学式（１−１）〜（１−４）で表される化合物等が挙げられる。
【００３２】
【化７】
0005974559.tif 000008
【００３３】
【化８】
0005974559.tif 000009
【００３４】
【化９】
0005974559.tif 000010
【００３５】
【化１０】
0005974559.tif 000011
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する一般式（１）で表される化合物の質量比は、通常、３／７〜７／３であり、４／６〜６／４であることが好ましい。電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する一般式（１）で表される化合物の質量比が３／７未満であると、コロナ帯電器を用いて長期間使用した時に、画像濃度のムラが発生することがあり、７／３を超えると、耐摩耗性と、露光部の電位の上昇の抑制を両立させることが困難になることがある。
【００３６】
保護層組成物中の一般式（１）で表される化合物の含有量は、通常、１０〜９０質量％であり、３０〜８０質量％であることが好ましい。保護層組成物中の一般式（１）で表される化合物の含有量が１０質量％未満であると、コロナ帯電器を用いて長期間使用した時に、画像濃度のムラが発生することがあり、９０質量％を超えると、耐摩耗性と、露光部の電位の上昇の抑制を両立させることが困難になることがある。
【００３７】
一般式（２）で表される化合物のＲ７及びＲ８における炭素数が１〜４のアルキル基としては、特に限定されないが、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
【００３８】
一般式（２）で表される化合物のＺ１における炭素数が６〜１４の２価の芳香族炭化水素基としては、特に限定されないが、ｏ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、１，４−ナフタレンジイル基、２，６−ナフタレンジイル基、９，１０−アントラセンジイル基、１，４−アントラセンジイル基、４，４'−ビフェニルジイル基、４，４'−スチルベンジイル基等が挙げられる。
【００３９】
一般式（３）で表される化合物のＡｒ１及びＡｒ２における炭素数が６〜１４の１価の芳香族炭化水素基としては、特に限定されないが、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基等が挙げられる。
【００４０】
一般式（３）で表される化合物のＺ２における炭素数が６〜１４の２価の芳香族炭化水素基としては、特に限定されないが、ｏ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、１，４−ナフタレンジイル基、２，６−ナフタレンジイル基、９，１０−アントラセンジイル基、１，４−アントラセンジイル基、４，４'−ビフェニルジイル基、４，４'−スチルベンジイル基等が挙げられる。
【００４１】
一般式（２）で表される化合物としては、特に限定されないが、化学式（２−１）〜（２−９）で表される化合物等が挙げられる。
【００４２】
【化１１】
0005974559.tif 000012
【００４３】
【化１２】
0005974559.tif 000013
【００４４】
【化１３】
0005974559.tif 000014
【００４５】
【化１４】
0005974559.tif 000015
【００４６】
【化１５】
0005974559.tif 000016
【００４７】
【化１６】
0005974559.tif 000017
【００４８】
【化１７】
0005974559.tif 000018
【００４９】
【化１８】
0005974559.tif 000019
【００５０】
【化１９】
0005974559.tif 000020
一般式（３）で表される化合物としては、特に限定されないが、化学式（３−１）〜（３−４）で表される化合物等が挙げられる。
【００５１】
【化２０】
0005974559.tif 000021
【００５２】
【化２１】
0005974559.tif 000022
【００５３】
【化２２】
0005974559.tif 000023
【００５４】
【化２３】
0005974559.tif 000024
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する一般式（２）又は（３）で表される化合物の質量比は、通常、０．５〜１０％であり、０．５〜５％であることが好ましい。電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する一般式（２）又は（３）で表される化合物の質量比が０．５％未満であると、露光部の電位が上昇することがあり、１０％を超えると、耐摩耗性が低下することがある。
【００５５】
保護層組成物中の一般式（２）又は（３）で表される化合物の含有量は、通常、０．１〜３０質量％であり、２〜２０質量％であることが好ましい。保護層組成物中の一般式（２）又は（３）で表される化合物の含有量が０．１質量％未満であると、露光部の電位が上昇することがあり、３０質量％を超えると、耐摩耗性が低下することがある。
【００５６】
なお、ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合することが可能なラジカル重合性基を有する化合物である。
【００５７】
ラジカル重合性基としては、特に限定されないが、一般式
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ１−・・・（４）
（式中、Ｘ１は、置換基により置換されていてもよいアリーレン基、置換基により置換されていてもよいアルケニレン基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、一般式
−ＣＯＮＲ−
（式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基である。）
で表される基又はチオ基である。）
で表される基、一般式
ＣＨ２＝Ｃ（Ｙ）−Ｘ２−・・・・（５）
（式中、Ｙは、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基、置換基により置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、一般式
−ＣＯＯＲ
（式中、Ｒは、水素原子、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基又は置換基により置換されていてもよいアリール基である。）
で表される基又は一般式
−ＣＯＮＲ１Ｒ２
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基又は置換基により置換されていてもよいアリール基である。）
で表される基であり、Ｘ２は、置換基により置換されていてもよいアリーレン基、置換基により置換されていてもよいアルケニレン基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、一般式
−ＣＯＮＲ３−
（式中、Ｒ３は、水素原子、アルキル基、アラルキル基又はアリール基である。）
で表される基、チオ基、単結合又はアルキレン基である。ただし、Ｙは、カルボニル基、アルケニレン基又はアリーレン基を含む、又は、シアノ基である、及び／又は、Ｘ２は、カルボニル基、アルケニレン基又はアリーレン基を含む。）
で表される基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基が好ましい。
【００５８】
一般式（４）で表される基のＸ１におけるアリーレン基としては、特に限定されないが、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
【００５９】
一般式（４）で表される基のＲにおけるアルキル基としては、特に限定されないが、メチル基、エチル基等が挙げられる。
【００６０】
一般式（４）で表される基のＲにおけるアラルキル基としては、特に限定されないが、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等が挙げられる。
【００６１】
一般式（４）で表される基のＲにおけるアリール基としては、特に限定されないが、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００６２】
一般式（５）で表される基のＲ１、Ｒ２及びＲ３におけるアルキル基としては、特に限定されないが、メチル基、エチル基等が挙げられる。
【００６３】
一般式（５）で表される基のＲ１、Ｒ２及びＲ３におけるアラルキル基としては、特に限定されないが、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等が挙げられる。
【００６４】
一般式（５）で表される基のＲ１、Ｒ２及びＲ３におけるアリール基としては、特に限定されないが、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００６５】
一般式（５）で表される基のＸ２におけるアリーレン基としては、特に限定されないが、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
【００６６】
なお、Ｘ１、Ｘ２及びＹにおける置換基としては、特に限定されないが、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
【００６７】
一般式（４）で表される基としては、特に限定されないが、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１，３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオ基等が挙げられる。
【００６８】
一般式（５）で表される基としては、特に限定されないが、α‐塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α‐シアノビニル基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノビニリデンフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。
【００６９】
電荷輸送性を有するラジカル重合性化合物としては、特に限定されないが、トリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾール等の正孔輸送性を有する化合物、縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基、ニトロ基等の電子吸引性基を有する芳香族化合物等の電子輸送構造を有する化合物等が挙げられる。中でも、トリアリールアミンが好ましい。
【００７０】
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、露光部の電位を考慮すると、ラジカル重合性基を１個有する、即ち、１官能のラジカル重合性化合物であることが好ましい。
【００７１】
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、一般式
【００７２】
【化２４】
0005974559.tif 000025
（式中、Ｒ１は、水素原子、ハロ基、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基、置換基により置換されていてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、一般式
−ＣＯＯＲ２
（式中、Ｒ２は、水素原子、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基又は置換基により置換されていてもよいアリール基である。）
で表される基、ハロカルボニル基、又は、一般式
−ＣＯＮＲ３Ｒ４
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロ基、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基又は置換基により置換されていてもよいアリール基である。）
で表される基であり、Ａｒ１は、置換基により置換されていてもよい２価の芳香族基であり、Ａｒ２及びＡｒ３は、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよい１価の芳香族基であり、Ｘは、単結合又は一般式
−Ｙ−Ａｒ４−
（式中、Ｙは、単結合、置換基により置換されていてもよいアルキレン基、置換基により置換されていてもよいシクロアルキレン基、置換基により置換されていてもよいアルキレンオキシ基、オキシ基、チオ基又はビニレン基であり、Ａｒ４は、置換基により置換されていてもよい二価の芳香族基である。）
で表される基であり、Ｚは、置換基により置換されていてもよいアルキレン基、置換基により置換されていてもよいアルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基であり、ｎは、０〜３の整数である。）
で表される化合物であることが好ましい。
【００７３】
Ｒ１におけるアルキル基としては、特に限定されないが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
【００７４】
Ｒ１におけるアラルキル基としては、特に限定されないが、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基が挙げられる。さらに、Ｒ１におけるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００７５】
Ｒ１におけるアルコキシ基としては、特に限定されないが、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。
【００７６】
Ｒ１における置換基としては、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
【００７７】
Ｒ１は、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
【００７８】
Ａｒ２及びＡｒ３における一価の芳香族基としては、特に限定されないが、一価の縮合多環式炭化水素基、一価の非縮合環式炭化水素基、一価の複素環基等が挙げられる。
【００７９】
一価の縮合多環式炭化水素基としては、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ−インダセニル基、ｓ−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基等が挙げられる。
【００８０】
一価の縮合多環式炭化水素基は、環を構成する炭素数が１８個以下であることが好ましい。
【００８１】
一価の非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル、ジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物由来の基、ビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、１，１−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、ポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物由来の基、９，９−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物由来の基等が挙げられる。
【００８２】
複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、チアジアゾール等の複素環芳香族化合物由来の基等が挙げられる。
【００８３】
Ａｒ２及びＡｒ３における置換基としては、特に限定されないが、以下の基が挙げられる。
【００８４】
〔１〕ハロ基、シアノ基、ニトロ基
〔２〕アルキル基
アルキル基の炭素数は、通常、１〜１２であり、１〜８が好ましく、１〜４がさらに好ましい。
【００８５】
アルキル基は、フルオロ基、水酸基、シアノ基、炭素数が１〜４のアルコキシ基、フェニル基、又は、ハロ基、炭素数が１〜４のアルキル基若しくは炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されているフェニル基により置換されていてもよい。
【００８６】
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−プロピル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００８７】
〔３〕アルコキシ基
アルコキシ基におけるアルキル基は、〔２〕におけるアルキル基と同様である。
【００８８】
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００８９】
〔４〕アリールオキシ基
アリールオキシ基におけるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００９０】
アリールオキシ基は、炭素数が１〜４のアルコキシ基、炭素数が１〜４のアルキル基又はハロ基により置換されていてもよい。
【００９１】
アリールオキシ基としては、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
【００９２】
〔５〕アルキルメルカプト基又はアリールメルカプト基
アルキルメルカプト基としては、メチルチオ基、エチルチオ基等が挙げられる。
【００９３】
アリールメルカプト基としては、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【００９４】
〔６〕置換基により置換されていてもよいアミノ基
置換基により置換されていてもよいアミノ基は、一般式
−ＮＲ１Ｒ２
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、〔２〕におけるアルキル基又はアリール基であり、Ｒ１及びＲ２は、共同で環を形成してもよい。）
で表される。
【００９５】
Ｒ１及びＲ２におけるアリール基は、炭素数が１〜４のアルコキシ基、炭素数が１〜４のアルキル基又はハロ基により置換されていてもよい。
【００９６】
アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００９７】
置換基により置換されていてもよいアミノ基としては、アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
【００９８】
〔７〕アルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基
アルキレンジオキシ基としては、メチレンジオキシ基等が挙げられる。
【００９９】
アルキレンジチオ基としては、メチレンジチオ基等が挙げられる。
【０１００】
〔８〕その他
置換基により置換されていてもよいスチリル基、置換基により置換されていてもよいβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等が挙げられる。
【０１０１】
Ａｒ１及びＡｒ４における二価の芳香族基としては、Ａｒ２及びＡｒ３における一価の芳香族基から誘導される基が挙げられる。
【０１０２】
Ｙにおけるアルキレン基の炭素数は、通常、１〜１２であり、１〜８が好ましく、１〜４がさらに好ましい。
【０１０３】
アルキレン基は、フルオロ基、水酸基、シアノ基、炭素数が１〜４のアルコキシ基、フェニル基、又は、ハロ基、炭素数が１〜４のアルキル基若しくは炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されているフェニル基により置換されていてもよい。
【０１０４】
アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ｎ−ブチレン基、イソプロピレン基、ｔ−ブチレン基、ｓ−ブチレン基、ｎ−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、２−ヒドロキエチレン基、２−エトキシエチレン基、２−シアノエチレン基、２−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、４−クロロフェニルエチレン基、４−メチルフェニルエチレン基、４−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。
【０１０５】
Ｙにおけるシクロアルキレン基の炭素数は、通常、５〜７である。
【０１０６】
シクロアルキレン基は、フルオロ基、水酸基、炭素数が１〜４のアルキル基、又は、炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されていてもよい。
【０１０７】
シクロアルキレン基としては、シクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、３，３−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。
【０１０８】
Ｙにおけるアルキレンオキシ基としては、化学式
−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−
で表される基、化学式
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−
で表される基、一般式
−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＯ−
（式中、ｎは１〜４の整数である。）
で表される基、化学式
−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）ｍＯ−
（式中、ｍは１〜４の整数である。）
で表される基等が挙げられる。
【０１０９】
アルキレンオキシ基は、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基により置換されていてもよい。
【０１１０】
Ｙにおけるビニレン基としては、一般式
−（Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ）ｎ−
（式中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基（前述の〔２〕におけるアルキル基と同様）、又は、二価の芳香族基（前述のＡｒ２及びＡｒ３における二価の芳香族基と同様）であり、ｎは１又は２である。）
で表される基、一般式
−Ｃ（Ｒ２）＝ＣＨ−（ＣＨ＝ＣＨ）ｍ−
（式中、Ｒ２は、水素原子、アルキル基（前述の〔２〕におけるアルキル基と同様）、又は、二価の芳香族基（前述のＡｒ２及びＡｒ３における二価の芳香族基と同様）であり、ｍは１〜３の整数である。）
で表される基等が挙げられる。
【０１１１】
Ｚにおけるアルキレン基は、Ｙにおけるアルキレン基と同様である。
【０１１２】
Ｚにおけるアルキレンオキシ基は、Ｙにおけるアルキレンオキシ基と同様である。
【０１１３】
Ｚにおけるアルキレンオキシカルボニル基としては、カプロラクトン変性基が挙げられる。
【０１１４】
電荷輸送性構造を有する１官能のラジカル重合性化合物は、一般式
【０１１５】
【化２５】
0005974559.tif 000026
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｚは、単結合、メチレン基、エチレン基、化学式
−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−
で表される基、化学式
−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ−
で表される基、又は、化学式
【０１１６】
【化２６】
0005974559.tif 000027
で表される基であり、ｏ、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１であり、ｓ及びｔは、それぞれ独立に、０〜３の整数である。）
で表される化合物であることが好ましい。
【０１１７】
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基であることが好ましい。
【０１１８】
保護層組成物中の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の含有量は、通常、２０〜８０質量％であり、３５〜６５質量％であることが好ましい。保護層組成物中の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の含有量が２０質量％未満であると、露光部の電位が上昇することがあり、８０質量％を超えると、耐摩耗性が低下することがある。
【０１１９】
保護層組成物は、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物をさらに含むことが好ましい。
【０１２０】
なお、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物が有する３個以上のラジカル重合性基は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【０１２１】
電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物としては、特に限定されないが、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレンオキシ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、エピクロロヒドリン変性グリセロールトリアクリレート、エチレンオキシ変性グリセロールトリアクリレート、プロピレンオキシ変性グリセロールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、エチレンオキシ変性リン酸トリアクリレート、２，２，５，５−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレート等が挙げられ、二種以上を併用してもよい。
【０１２２】
電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物は、官能基当量が３００以上であることが好ましい。
【０１２３】
保護層組成物中の電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物の含有量は、通常、５０質量％以下であり、３０質量％以下であることが好ましい。保護層組成物中の電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物の含有量が５０質量％を超えると、露光部の電位が上昇することがある。
【０１２４】
保護層組成物は、一般式（１）で表される化合物以外の電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性化合物及び／又はラジカル重合性オリゴマーをさらに含んでいてもよい。
【０１２５】
電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性モノマーとしては、特に限定されないが、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等が挙げられる。
【０１２６】
ラジカル重合性オリゴマーとしては、特に限定されないが、エポキシアクリレート系オリゴマー、ウレタンアクリレート系オリゴマー、ポリエステルアクリレート系オリゴマー等が挙げられる。
【０１２７】
保護層組成物中の電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性モノマー及びラジカル重合性オリゴマーの含有量は、通常、５０質量％以下であり、３０質量％以下であることが好ましい。保護層組成物中の電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性モノマー及びラジカル重合性オリゴマーの含有量が５０質量％を超えると、耐摩耗性が低下することがある。
【０１２８】
保護層組成物は、フィラーをさらに含むことが好ましく、無機フィラーを含むことがさらに好ましい。これにより、耐摩耗性を向上させることができる。
【０１２９】
有機フィラーを構成する材料としては、特に限定されないが、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１３０】
無機フィラーを構成する材料としては、特に限定されないが、銅、スズ、アルミニウム、インジウム等の金属、酸化ケイ素、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス等の金属酸化物、チタン酸カリウム、アモルファスカーボン等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、露光部の電位を考慮すると、金属酸化物フィラーが好ましく、酸化ケイ素フィラー、酸化アルミニウムフィラー及び酸化チタンフィラーからなる群より選択される一種以上がさらに好ましい。
【０１３１】
無機フィラーとして、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ等を用いることができる。
【０１３２】
フィラーの平均一次粒径は、通常、０．０１〜０．５μｍである。フィラーの平均一次粒径が０．０１μｍ未満であると、耐摩耗性が低下することがあり、０．５μｍを超えると、保護層１３の光の透過率が低下することがある。
【０１３３】
保護層組成物中のフィラーの含有量は、通常、５〜５０質量％であり、５〜３０質量％であることが好ましい。保護層組成物中のフィラーの含有量が５質量％未満であると、耐摩耗性が低下することがあり、３０質量％を超えると、露光部の電位が上昇したり、保護層１３の光の透過率が低下したりすることがある。
【０１３４】
金属酸化物フィラーは、表面処理剤により表面処理されていてもよい。これにより、保護層１３中のフィラーの分散性を向上させることができる。
【０１３５】
表面処理剤としては、特に限定されないが、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤、高級脂肪酸等が挙げられ、二種以上併用してもよい。このとき、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤、高級脂肪酸と、シランカップリング剤とを併用してもよい。
【０１３６】
表面処理剤により表面処理されている量は、金属酸化物フィラーに対して、通常、３〜３０質量％であり、５〜２０質量％であることが好ましい。表面処理剤により表面処理されている量が、フィラーに対して、３質量％未満であると、保護層１３中のフィラーの分散性が低下することがあり、３０質量％を超えると、露光部の電位が上昇することがある。
【０１３７】
保護層組成物は、光重合開始剤をさらに含んでいてもよい。
【０１３８】
光重合開始剤としては、特に限定されないが、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等のアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤；ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニルエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン等のベンゾフェノン系光重合開始剤；２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１３９】
これら以外の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物等が挙げられる。
【０１４０】
ラジカル重合性化合物に対する重合開始剤の質量比は、通常、０．５〜４０％であり、１〜２０％であることが好ましい。
【０１４１】
保護層組成物は、光重合促進効果を有する化合物をさらに含んでいてもよい。このとき、光重合促進効果を有する化合物は、単独で用いてもよいし、光重合開始剤と併用してもよい。
【０１４２】
光重合促進効果を有する化合物としては、特に限定されないが、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４'−ジメチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１４３】
保護層組成物は、可塑剤、レベリング剤、電荷輸送物質等をさらに含んでいてもよい。
【０１４４】
可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等が挙げられる。
【０１４５】
保護層組成物中の可塑剤の添加量は、通常、２０質量％以下であり、１０質量％以下であることが好ましい。
【０１４６】
レベリング剤としては、特に限定されないが、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル；側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマー等が挙げられる。
【０１４７】
保護層組成物中のレベリング剤の含有量は、通常、３質量％以下である。
【０１４８】
保護層１３の厚さは、通常、１〜３０μｍであり、２〜２０μｍであることが好ましく、３〜１０μｍであることがさらに好ましい。保護層１３の厚さが１μｍ未満であると、耐摩耗性が低下することがあり、３０μｍを超えると、露光部の電位が上昇することがある。
【０１４９】
保護層１３は、保護層組成物が有機溶媒中に溶解又は分散している塗布液を感光層１２上に塗布して、必要に応じて、乾燥させた後、活性エネルギー線を照射して硬化させることにより形成することができる。
【０１５０】
活性エネルギー線としては、特に限定されないが、紫外線、電子線（加速電子線）、α線、β線、γ線、Ｘ線、加速イオン等の放射線等が挙げられる。中でも、紫外線又は電子線が用いられる。
【０１５１】
有機溶媒としては、特に限定されないが、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテル等のエーテル；ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１５２】
ラジカル重合性化合物に対する溶媒の質量比は、通常、３〜１０である。
【０１５３】
保護層組成物を有機溶媒中に溶解又は分散させる方法としては、特に限定されないが、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、振動ミル等の分散メディアを用いて分散させる方法、高速液衝突分散方法等が挙げられる。
【０１５４】
塗布液を塗布する方法としては、特に限定されないが、浸漬塗布法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法等が挙げられる。
【０１５５】
なお、保護層組成物に活性エネルギー線を照射して硬化させる代わりに、保護層組成物を熱硬化させると、耐摩耗性が低下する。
【０１５６】
保護層組成物を紫外線硬化又は電子線硬化させる際には、窒素ガス下で酸素濃度を下げたり、温度の上昇を抑制するために冷却したりすることが好ましい。
【０１５７】
保護層組成物を紫外線硬化させる際に用いられる光源としては、特に限定されないが、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【０１５８】
保護層組成物に照射する紫外線の光量は、通常、５０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２である。保護層組成物に照射する紫外線の光量が５０ｍＷ／ｃｍ２未満であると、保護層組成物を紫外線硬化させる時間が長くなることがあり、１０００ｍＷ／ｃｍ２を超えると、露光部の電位が上昇することがある。
【０１５９】
保護層組成物を紫外線硬化させた後、残留溶媒を低減するために、１００〜１５０℃で１０〜３０分間加熱することが好ましい。
【０１６０】
保護層組成物を電子線硬化させる条件は、例えば、特開２００４−２１２９５９号公報に記載されている。
【０１６１】
電子線の加速電圧は、通常、２５０ｋＶ以下である。
【０１６２】
保護層組成物に照射する電子線の線量は、通常、１〜２０Ｍｒａｄである。
【０１６３】
保護層組成物を電子線硬化させる環境の酸素の濃度は、通常、１００００ｐｐｍ以下である。
【０１６４】
電荷発生層１２ａは、電荷発生物質を含み、バインダー樹脂をさらに含んでいてもよい。
【０１６５】
電荷発生物質としては、無機系材料又は有機系材料を用いることができ、二種以上併用してもよい。
【０１６６】
無機系材料としては、特に限定されないが、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン化合物、セレン−ヒ素化合物等が挙げられる。
【０１６７】
有機系材料としては、特に限定されないが、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料；アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン又はトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン又はナフトキノン系顔料、シアニン又はアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料等が挙げられる。
【０１６８】
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリルアミド等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１６９】
電荷発生層１２ａは、電荷輸送物質又は高分子電荷輸送物質をさらに含んでいてもよい。
【０１７０】
電荷発生層１２ａの厚さは、通常、０．０１〜５μｍであり、０．０５〜２μｍであることが好ましい。
【０１７１】
電荷発生層１２ａは、真空薄膜作製法を用いて形成することができる。
【０１７２】
真空薄膜作製法としては、特に限定されないが、グロー放電重合法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、加速イオンインジェクション法等が挙げられる。
【０１７３】
また、電荷発生層１２ａは、電荷発生物質及びバインダー樹脂が有機溶媒中に溶解又は分散している塗布液を導電性支持体１１上に塗布した後、乾燥させることにより形成することができる。
【０１７４】
有機溶媒としては、特に限定されないが、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロプロパン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、メタノール、エタノールが好ましい。
【０１７５】
電荷発生物質及びバインダー樹脂を有機溶媒中に溶解又は分散させる方法としては、特に限定されないが、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、振動ミル等の分散メディアを用いて分散させる方法、高速液衝突分散方法等が挙げられる。
【０１７６】
塗布液を塗布する方法としては、特に限定されないが、浸漬塗布法、スプレーコート法、ビードコート法等が挙げられる。
【０１７７】
電荷輸送層１２ｂは、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含む。
【０１７８】
電荷輸送物質としては、正孔輸送物質又は電子輸送物質を用いることができ、二種以上併用してもよい。
【０１７９】
正孔輸送物質としては、特に限定されないが、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体等が挙げられる。
【０１８０】
電子輸送物質としては、特に限定されないが、トリニトロフルオレノン、フルオレニリデンメタン誘導体等のフルオレン系化合物；ジフェノキノン、アントラキノン誘導体等のキノン系化合物等が挙げられる。
【０１８１】
電荷輸送層１２ｂは、高分子電荷輸送物質をさらに含んでいてもよい。
【０１８２】
高分子電荷輸送物質としては、特に限定されないが、カルバゾール環を有する重合体、ヒドラゾン構造を有する重合体、ポリシリレン重合体、トリアリールアミン構造を有する重合体、その他の構造を有する重合体等が挙げられる。
【０１８３】
カルバゾール環を有する重合体としては、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、特開昭５０−８２０５６号公報、特開昭５４−９６３２号公報、特開昭５４−１１７３７号公報、特開平４−１７５３３７号公報、特開平４−１８３７１９号公報、特開平６−２３４８４１号公報に開示されている化合物等が挙げられる。
【０１８４】
ヒドラゾン構造を有する重合体としては、特開昭５７−７８４０２号公報、特開昭６１−２０９５３号公報、特開昭６１−２９６３５８号公報、特開平１−１３４４５６号公報、特開平１−１７９１６４号公報、特開平３−１８０８５１号公報、特開平３−１８０８５２号公報、特開平３−５０５５５号公報、特開平５−３１０９０４号公報、特開平６−２３４８４０号公報に開示されている化合物等が挙げられる。
【０１８５】
ポリシリレン重合体としては、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平１−８８４６１号公報、特開平４−２６４１３０号公報、特開平４−２６４１３１号公報、特開平４−２６４１３２号公報、特開平４−２６４１３３号公報、特開平４−２８９８６７号公報に開示されている化合物等が挙げられる。
【０１８６】
トリアリールアミン構造を有する重合体としては、Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−４−アミノポリスチレン、特開平１−１３４４５７号公報、特開平２−２８２２６４号公報、特開平２−３０４４５６号公報、特開平４−１３３０６５号公報、特開平４−１３３０６６号公報、特開平５−４０３５０号公報、特開平５−２０２１３５号公報に開示されている化合物等が挙げられる。
【０１８７】
その他の構造を有する重合体としては、ニトロピレンのホルムアルデヒド縮重合体、特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５６−１５０７４９号公報、特開平６−２３４８３６号公報、特開平６−２３４８３７号公報に開示されている化合物等が挙げられる。
【０１８８】
高分子電荷輸送物質としては、トリアリールアミン構造を有するポリカーボネート、トリアリールアミン構造を有するポリウレタン、トリアリールアミン構造を有するポリエステル、トリアリールアミン構造を有するポリエーテル、特開昭６４−１７２８号公報、特開昭６４−１３０６１号公報、特開昭６４−１９０４９号公報、特開平４−１１６２７号公報、特開平４−２２５０１４号公報、特開平４−２３０７６７号公報、特開平４−３２０４２０号公報、特開平５−２３２７２７号公報、特開平７−５６３７４号公報、特開平９−１２７７１３号公報、特開平９−２２２７４０号公報、特開平９−２６５１９７号公報、特開平９−２１１８７７号公報、特開平９−３０４９５６号公報等に開示されている化合物等を用いてもよい。
【０１８９】
正孔輸送性構造を有する重合体としては、共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体、スターポリマー、特開平３−１０９４０６号公報に開示されている正孔輸送性構造を有する架橋重合体等を用いてもよい。
【０１９０】
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１９１】
なお、電荷輸送層１２ｂは、硬化性を有するバインダー樹脂と硬化性を有する電荷輸送物質の共重合体を含んでいてもよい。
【０１９２】
電荷輸送層１２ｂは、可塑剤、レベリング剤等をさらに含んでいてもよい。
【０１９３】
電荷輸送層１２ｂの厚さは、通常、５〜１００μｍであり、５〜３０μｍであることが好ましい。
【０１９４】
電荷輸送層１２ｂは、電荷輸送物質及びバインダー樹脂が有機溶媒中に溶解又は分散している塗布液を電荷発生層１２ａ上に塗布した後、乾燥させることにより形成することができる。
【０１９５】
有機溶媒としては、特に限定されないが、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロプロパン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、メタノール、エタノールが好ましい。
【０１９６】
電荷輸送物質及びバインダー樹脂を有機溶媒中に溶解又は分散させる方法としては、特に限定されないが、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、振動ミル等の分散メディアを用いて分散させる方法、高速液衝突分散方法等が挙げられる。
【０１９７】
塗布液を塗布する方法としては、特に限定されないが、浸漬塗布法、スプレーコート法、ビードコート法等が挙げられる。
【０１９８】
導電性支持体１１としては、体積固有抵抗が１×１０１０Ω・ｃｍ以下であれば、特に限定されないが、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金等の金属；酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物が、蒸着法又はスパッタリング法により、フィルム状若しくは円筒状のプラスチック又は紙に被覆されているもの；アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス鋼等の金属板；アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス鋼等の金属が押し出し、引き抜き等の工法により素管化された後、切削、超仕上げ、研摩等の表面処理が施されている管；特開昭５２−３６０１６号公報に開示されているエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルト；厚さが５０〜１５０μｍのニッケル箔；厚さが５０〜１５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面にアルミニウムが蒸着されているもの等が挙げられる。
【０１９９】
導電性支持体１１としては、導電性粒子及びバインダー樹脂を含む導電性層が形成されている支持体を用いてもよい。
【０２００】
導電性粒子としては、特に限定されないが、カーボンブラック、アセチレンブラック；アルミニウム粒子、ニッケル粒子、鉄粒子、ニクロム粒子、銅粒子、亜鉛粒子、銀粒子等の金属粒子；導電性酸化スズ粒子、ＩＴＯ粒子等の金属酸化物粒子等が挙げられる。
【０２０１】
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース、エチルセルロース、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等が挙げられる。
【０２０２】
導電性層は、導電性粒子及びバインダー樹脂が有機溶媒中に溶解又は分散している塗布液を支持体上に塗布した後、乾燥させることにより形成することができる。
【０２０３】
有機溶媒としては、特に限定されないが、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエン等が挙げられる。
【０２０４】
導電性粒子及びバインダー樹脂を有機溶媒中に溶解又は分散させる方法としては、特に限定されないが、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、振動ミル等の分散メディアを用いて分散させる方法、高速液衝突分散方法等が挙げられる。
【０２０５】
塗布液を塗布する方法としては、特に限定されないが、浸漬塗布法、スプレーコート法、ビードコート法等が挙げられる。
【０２０６】
導電性支持体１１としては、導電性粒子が分散している熱収縮チューブにより被覆されている円筒状の支持体を用いてもよい。
【０２０７】
熱収縮チューブを構成する樹脂としては、特に限定されないが、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）等が挙げられる。
【０２０８】
図２に、本発明の感光体の構造の他の例を示す。感光体１０'は、感光層１２の代わりに、単層の感光層１２'が形成されている以外は、感光体１０と同一の構成である。
【０２０９】
感光層１２'は、電荷発生物質をさらに含む以外は、電荷輸送層１２ｂと同様である。
【０２１０】
電荷発生物質としては、電荷発生層１２ａと同様のものを用いることができる。
【０２１１】
感光層１２'の厚さは、通常、５〜１００μｍであり、５〜５０μｍであることが好ましい。感光層１２'の厚さが５μｍ未満であると、帯電性が低下することがあり、１００μｍを超えると、感度が低下することがある。
【０２１２】
図３に、本発明の感光体の構造の他の例を示す。感光体１０''は、導電性支持体１１及び感光層１２の間に、下引き層１４が形成されている以外は、感光体１０と同一の構成である。
【０２１３】
下引き層１４は、樹脂を含む。
【０２１４】
樹脂としては、特に限定されないが、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の硬化樹脂等が挙げられる。
【０２１５】
下引き層１４は、金属酸化物粒子、金属硫化物粒子、金属窒化物粒子等をさらに含んでいてもよい。
【０２１６】
金属酸化物粒子としては、特に限定されないが、酸化チタン粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化スズ粒子、酸化インジウム粒子等が挙げられる。
【０２１７】
下引き層１４の厚さは、通常、０．１〜１０μｍであり、１〜５μｍであることが好ましい。
【０２１８】
下引き層１４は、樹脂を溶媒中に溶解させた塗布液を導電性支持体１１上に塗布した後、乾燥させることにより形成することができる。
【０２１９】
下引き層１４は、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を用いて、表面に金属酸化物が存在する導電性支持体１１を表面処理することにより形成することもできる。
【０２２０】
下引き層１４としては、ゾル−ゲル法により形成される金属酸化物層、表面にアルミニウムが存在する導電性支持体１１を陽極酸化することにより形成される酸化アルミニウム層、真空薄膜作製法により形成されるポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物、二酸化スズ、酸化チタン、ＩＴＯ、酸化セリウム等の無機物等を用いることもできる。
【０２２１】
感光層１２'、保護層１３、電荷輸送層１２ｂ、電荷発生層１２ａ、下引き層１４は、感度の低下、露光部の電位の上昇を抑制するために、酸化防止剤をさらに含んでいてもよい。
【０２２２】
図４に、本発明の画像形成装置の一例を示す。画像形成装置１００において、感光体１０は、ドラム状であり、図中、反時計回りに回転駆動される。
【０２２３】
以下、画像形成装置１００を用いて、画像を形成する方法について説明する。まず、除電ランプ１０１により感光体１０の表面を除電した後、コロナ帯電器１０２により感光体１０の表面を帯電させる。次に、露光器（不図示）により、感光体１０の表面に露光光Ｌが照射され、静電潜像が形成された後、現像器１０３により、静電潜像がトナーで現像され、トナー像が形成される。さらに、転写前帯電器１０４により、感光体１０の表面に形成されたトナー像を帯電させた後、転写帯電器１０６により、レジストローラ１０５から供給された記録紙Ｐにトナー像が転写される。次に、分離帯電器１０７により、トナー像が転写された記録紙Ｐを帯電させた後、分離爪１０８により、記録紙Ｐが感光体１０から分離される。一方、クリーニング前帯電器１０９により、感光体１０の表面に残留したトナーを帯電させた後、クリーニングブラシ１１０、クリーニングブレード１１１により、感光体１０の表面に残留したトナーが除去される。
【０２２４】
除電ランプ１０１、露光器（不図示）の光源としては、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等を用いることができる。このとき、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルター等を用いてもよい。
【０２２５】
コロナ帯電器１０２としては、コロトロン、スコロトロン等を用いることができる。
【０２２６】
転写前帯電器１０４、転写帯電器１０６、分離帯電器１０７、クリーニング前帯電器１０９としては、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリッド・ステート・チャージャー）、帯電ローラ等を用いることができる。
【０２２７】
クリーニングブラシ１１０としては、特に限定されないが、ファーブラシ、マグファーブラシ等を用いることができる。
【０２２８】
クリーニングブレード１１１を構成する材料としては、特に限定されないが、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ウレタンエラストマー、シリコーンエラストマー、フッ素エラストマー等が挙げられる。中でも、耐摩耗性、耐オゾン性、耐汚染性の点から、ウレタンエラストマーが好ましい。
【０２２９】
クリーニングブレード１１１の硬度（ＪＩＳ−Ａ）は、通常、６５〜８５度である。
【０２３０】
クリーニングブレード１１１の厚さは、通常、０．８〜３．０ｍｍである。
【０２３１】
クリーニングブレード１１１の突き出し量は、通常、３〜１５ｍｍである。
【０２３２】
トナーとしては、公知のトナー、例えば、バインダー樹脂及び着色剤を含む母体粒子及び流動性向上剤を有するトナーを用いることができる。このとき、母体粒子は、離型剤、帯電制御剤等をさらに含んでいてもよい。
【０２３３】
図５に、本発明の画像形成装置の他の例を示す。画像形成装置１００'において、感光体１０は、ベルト状であり、駆動ローラ１２１、従動ローラ１２２及び１２３により、支持されており、駆動ローラ１２１により、図中、時計回りに回転駆動される。
【０２３４】
以下、画像形成装置１００'を用いて、画像を形成する方法について説明する。まず、除電ランプ１０１によりドラム状の感光体１０の表面を除電した後、コロナ帯電器１０２により感光体１０の表面を帯電させる。次に、露光器（不図示）により、感光体１０の表面に露光光Ｌが照射され、静電潜像が形成された後、現像器１０３により、静電潜像がトナーで現像され、トナー像が形成される。さらに、転写帯電器１０６により、記録紙（不図示）にトナー像が転写された後、クリーニングブラシ１１０、クリーニングブレード１１１により、感光体１０の表面に残留したトナーが除去される。さらに、クリーニングブラシ１２４により、感光体１０の表面に残留したトナーが除去される。
【０２３５】
なお、クリーニングブラシ１２４は、クリーニングブラシ１１０と同一の構成である。
【０２３６】
図６に、本発明のプロセスカートリッジの一例を示す。プロセスカートリッジ２００は、感光体１０、コロナ帯電器１０２、現像器１０４、クリーニングブラシ１１０及びクリーニングブレード１１１を一体に支持し、画像形成装置の本体に着脱可能である。
【実施例】
【０２３７】
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されない。なお、部は、質量部を意味する。
【０２３８】
＜実施例１＞
アルキッド樹脂のベッコライトＭ６４０１−５０（ＤＩＣ社製）６部、メラミン樹脂のスーパーベッカミンＧ−８２１−６０（ＤＩＣ社製）４部、酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業社製）４０部及びメチルエチルケトン５０部を混合し、下引き層用塗布液を得た。
【０２３９】
外径が１００ｍｍのアルミニウム製の導電性支持体上に、下引き層用塗布液を浸漬塗布した後、１３０℃で２０分間乾燥させ、厚さが３．５μｍの下引き層を形成した。
【０２４０】
Ｙ型チタニルフタロシアニン６部、ブチラール樹脂ＢＸ−１（積水化学工業社製）４部及び２−ブタノン（関東化学社製）２００部を混合し、電荷発生層用塗布液を得た。
【０２４１】
下引き層が形成された導電性支持体上に、電荷発生層用塗布液を浸漬塗布した後、１３０℃で２０分間乾燥させ、厚さが０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２４２】
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート１０部、化学式
【０２４３】
【化２７】
0005974559.tif 000028
で表される電荷輸送物質１０部及びテトラヒドロフラン８０部を混合し、電荷輸送層用塗布液を得た。
【０２４４】
電荷発生層が形成された導電性支持体上に、電荷輸送層用塗布液を浸積塗布した後、１３５℃で２０分乾燥させ、厚さが２２μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２４５】
化学式（１−１）で表される化合物ＳＲ３４９（サートマー社製）１０部、化学式
【０２４６】
【化２８】
0005974559.tif 000029
で表される電荷輸送性構造を有する１官能のラジカル重合性化合物１０部、化学式（２−１）で表される化合物０．５部、光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）１部及びテトラヒドロフラン１００部を混合し、保護層用塗布液を得た。
【０２４７】
電荷輸送層が形成された導電性支持体上に、保護層用塗布液を窒素気流中でスプレー塗布した後、１０分間窒素気流中に放置して指触乾燥させた。次に、酸素の濃度が２％以下となるように窒素で置換したブース内で、電力が１６０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプを用いて、保護層用塗布液を指触乾燥した導電性支持体に紫外線を照射した後、１３０℃で２０分間乾燥させ、厚さが８μｍの保護層を形成し、感光体を得た。
【０２４８】
なお、紫外線を照射する際に、照射距離を１２０ｍｍ、照射強度を７００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間を８０秒間とした。
【０２４９】
＜実施例２＞
化学式（２−１）で表される化合物の代わりに、化学式（２−４）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２５０】
＜実施例３＞
化学式（２−１）で表される化合物の代わりに、化学式（２−６）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２５１】
＜実施例４＞
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（１−２）で表される化合物ＳＲ３４８（サートマー社製）を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２５２】
＜実施例５＞
化学式（２−１）で表される化合物の代わりに、化学式（３−１）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２５３】
＜実施例６＞
化学式（２−１）で表される化合物の代わりに、化学式（３−３）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２５４】
＜実施例７＞
化学式（１−１）で表される化合物及び化学式（２−１）で表される化合物の代わりに、それぞれ化学式（１−３）で表される化合物ＳＲ６０１（サートマー社製）及び化学式（２−２）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２５５】
＜実施例８＞
化学式（１−１）で表される化合物及び化学式（２−１）で表される化合物の代わりに、それぞれ化学式（１−４）で表される化合物ＳＲ６０２（サートマー社製）及び化学式（２−９）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２５６】
＜実施例９＞
化学式（２−１）で表される化合物の添加量を０．３部とした以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２５７】
＜実施例１０＞
化学式（２−１）で表される化合物の添加量を１部とした以外は実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２５８】
＜実施例１１＞
化学式（２−１）で表される化合物の添加量を５部とした以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２５９】
＜実施例１２＞
化学式（２−１）で表される化合物の添加量を１０部とした以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２６０】
＜実施例１３＞
化学式（２−１）で表される化合物の添加量を１５部とした以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２６１】
＜実施例１４＞
化学式（Ｂ）で表される電荷輸送性構造を有する１官能のラジカル重合性化合物の代わりに、化学式
【０２６２】
【化２９】
0005974559.tif 000030
で表される電荷輸送性構造を有する１官能のラジカル重合性化合物を用いた以外は、実施例３と同様にして、感光体を得た。
【０２６３】
＜実施例１５＞
化学式（１−１）で表される化合物ＳＲ３４９（サートマー社製）１０部の代わりに、化学式（１−１）で表される化合物８部及び化学式
【０２６４】
【化３０】
0005974559.tif 000031
で表される電荷輸送性構造を有さない４官能のラジカル重合性化合物ＳＲ３５５（サートマー社製）２部を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２６５】
＜実施例１６＞
化学式（１−１）で表される化合物ＳＲ３４９（サートマー社製）１０部の代わりに、化学式（１−１）で表される化合物６部及び化学式（Ｄ）で表される電荷輸送性構造を有さない４官能のラジカル重合性化合物ＳＲ３５５（サートマー社製）４部を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２６６】
＜実施例１７＞
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（１−２）で表される化合物ＳＲ３４８（サートマー社製）を用いた以外は、実施例１５と同様にして、感光体を得た。
【０２６７】
＜実施例１８＞
化学式（１−１）で表される化合物ＳＲ３４９（サートマー社製）１０部の代わりに、化学式（１−１）で表される化合物６部及び化学式
【０２６８】
【化３１】
0005974559.tif 000032
で表される電荷輸送性構造を有さない４官能のラジカル重合性化合物Ａ−ＴＭＭＴ（新中村化学工業社製）４部を用いた以外は、実施例６と同様にして、感光体を得た。
【０２６９】
＜実施例１９＞
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（１−３）で表される化合物ＳＲ６０１（サートマー社製）を用いた以外は、実施例１８と同様にして、感光体を得た。
【０２７０】
＜実施例２０＞
化学式（１−２）で表される化合物ＳＲ３４８（サートマー社製）１０部の代わりに、化学式（１−２）で表される化合物８部及び電荷輸送性構造を有さない６官能のラジカル重合性化合物のウレタンアクリレートＵ−６ＨＡ（新中村化学工業社製）２部を用いた以外は、実施例４と同様にして、感光体を得た。
【０２７１】
＜実施例２１＞
化学式（１−３）で表される化合物ＳＲ６０１（サートマー社製）１０部の代わりに、化学式（１−３）で表される化合物８部及び化学式
【０２７２】
【化３２】
0005974559.tif 000033
で表される電荷輸送性構造を有さない３官能のラジカル重合性化合物ＳＲ３６８（サートマー社製）２部を用いた以外は、実施例７と同様にして、感光体を得た。
【０２７３】
＜実施例２２＞
化学式（１−１）で表される化合物１０部、化学式（Ｃ）で表される電荷輸送性構造を有する１官能のラジカル重合性化合物１０部、化学式（２−６）で表される化合物０．５部、フィラーとしての平均一次粒径が０．３μｍのアルミナ粒子ＡＡ−０３（住友化学工業社製）３部及び不飽和ポリカルボン酸ポリマーＢＹＫ−Ｐ１０４（ＢＹＫケミー社製）０．０６部、光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）１部及びテトラヒドロフラン１００部を混合し、保護層用塗布液を得た。
【０２７４】
得られた保護層用塗布液を用い、照射時間を１００秒間とし、厚さが４μｍの保護層を形成した以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２７５】
＜実施例２３＞
平均一次粒径が０．３μｍのアルミナ粒子ＡＡ−０３（住友化学工業社製）の代わりに、平均一次粒径が０．１μｍのシリカ粒子ＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）を用いた以外は、実施例２２と同様にして、感光体を得た。
【０２７６】
＜実施例２４＞
平均一次粒径が０．３μｍのアルミナ粒子ＡＡ−０３（住友化学工業社製）の代わりに、平均一次粒径が０．２５μｍの酸化チタン粒子ＣＲ−９７（石原産業社製）を用いた以外は、実施例２２と同様にして、感光体を得た。
【０２７７】
＜実施例２５＞
平均一次粒径が０．３μｍのアルミナ粒子ＡＡ−０３（住友化学工業社製）の代わりに、平均一次粒径が０．２５μｍのＰＴＦＥ粒子（三井・デュポンフロロケミカル社製）を用いた以外は、実施例２２と同様にして、感光体を得た。
【０２７８】
＜比較例１＞
化学式（２−１）で表される化合物を用いなかった以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２７９】
＜比較例２＞
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（１−３）で表される化合物を用いた以外は、比較例１と同様にして、感光体を得た。
【０２８０】
＜比較例３＞
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（１−４）で表される化合物を用いた以外は、比較例１と同様にして、感光体を得た。
【０２８１】
＜比較例４＞
化学式（２−１）で表される化合物の代わりに、化学式
【０２８２】
【化３３】
0005974559.tif 000034
で表される紫外線吸収剤を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２８３】
＜比較例５＞
化学式（２−１）で表される化合物の代わりに、化学式
【０２８４】
【化３４】
0005974559.tif 000035
で表される紫外線吸収剤を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２８５】
＜比較例６＞
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（Ｄ）で表される電荷輸送性構造を有さない４官能のラジカル重合性化合物ＳＲ３５５（サートマー社製）を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光体を得た。
【０２８６】
＜比較例７＞
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（Ｅ）で表される電荷輸送性構造を有さない４官能のラジカル重合性化合物Ａ−ＴＭＭＴ（新中村化学工業社製）を用いた以外は、実施例２と同様にして、感光体を得た。
【０２８７】
＜比較例８＞
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、電荷輸送性構造を有さない６官能のラジカル重合性化合物のウレタンアクリレートＵ−６ＨＡ（新中村化学工業社製）を用いた以外は、実施例２と同様にして、感光体を得た。
【０２８８】
＜比較例９＞
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（Ｆ）で表される電荷輸送性構造を有さない３官能のラジカル重合性化合物ＳＲ３６８（サートマー社製）を用いた以外は、実施例２２と同様にして、感光体を得た。
【０２８９】
実施例及び比較例の感光体の露光部の電位、画像濃度のムラ、画像ボケ及び耐摩耗性を評価した。
【０２９０】
＜露光部の電位＞
フルカラープリンタ  ＲＩＣＯＨ  Ｐｒｏ  Ｃ９００（リコー社製）の、事前に２００時間以上放電させたコロナ帯電器を搭載した改造機のブラックステーションに感光体を搭載し、ブラック単色の画像面積率が５％のＡ４サイズのハーフトーンテストチャートを２０万枚出力した後、ブラック単色のベタ画像を５０枚連続で出力した。このとき、４６〜５０枚目の５枚のベタ画像を出力する時の感光体の露光部の電位をそれぞれ測定した後、平均値を算出した。
【０２９１】
＜画像濃度のムラ＞
１５℃、２０％ＲＨの環境下、フルカラープリンタ  ＲＩＣＯＨ  Ｐｒｏ  Ｃ９００（リコー社製）の、事前に２００時間以上放電させたコロナ帯電器を搭載した改造機のブラックステーションに感光体を搭載し、ブラック単色の画像面積率が５％のハーフトーンテストチャートを２００００枚連続出力した後、画像形成装置の本体の電源を切り、２４時間経過させた。次に、画像形成装置の本体の電源を入れた後、１２００ｄｐｉ  ２ｂｙ２のブラック単色の全面ハーフトーン画像を出力して、画像濃度のムラを評価した。なお、コロナ帯電器の幅に相当する帯状の画像濃度のムラが発生しない場合を◎、コロナ帯電器の幅に相当する帯状の画像濃度のムラが僅かに発生するが、実用上許容できるレベルである場合を○、コロナ帯電器の幅に相当する帯状の画像濃度のムラが発生し、許容できないレベルである場合を×として、判定した。
【０２９２】
＜画像ボケ＞
ＮＯｘ暴露試験機（ダイレック社製）を用いて、一酸化窒素及び二酸化窒素をそれぞれ５０ｐｐｍ含む雰囲気下で感光体を７２時間暴露した後、フルカラープリンタ  ＲＩＣＯＨ  Ｐｒｏ  Ｃ９００（リコー社製）の、事前に２００時間以上放電させたコロナ帯電器を搭載した改造機のブラックステーションに搭載し、ブラック単色の全面ハーフトーン画像を出力して、画像ボケを評価した。なお、画像ボケが発生しない場合を◎、画像ボケが僅かに発生するが、実用上許容できるレベルである場合を○、画像ボケが発生し、許容できないレベルである場合を×として、判定した。
【０２９３】
＜耐摩耗性＞
常温常湿の環境下、フルカラープリンタ  ＲＩＣＯＨ  Ｐｒｏ  Ｃ９００（リコー社製）の、事前に２００時間以上放電させたコロナ帯電器を搭載した改造機のブラックステーションに感光体を搭載し、ブラック単色の画像面積率が５％のハーフトーンテストチャートを２０万枚連続出力した。このとき、２０万枚連続出力する前後の膜厚から、保護層の摩耗量を算出した。
【０２９４】
表１に、実施例及び比較例の感光体の露光部の電位、画像濃度のムラ、画像ボケ及び耐摩耗性の評価結果を示す。
【０２９５】
【表１】
0005974559.tif 000036
表２から、実施例１〜２５の感光体は、耐摩耗性に優れ、長期間使用した時の画像濃度のムラの発生及び露光部の電位の上昇を抑制できることがわかる。
【０２９６】
一方、比較例１〜５の感光体は、保護層が一般式（２）で表される化合物又は一般式（３）で表される化合物を含まないため、長期間使用した時に露光部の電位が上昇する。
【０２９７】
比較例６〜９の感光体は、保護層が一般式（１）で表される化合物を含まないため、長期間使用した時に画像濃度のムラが発生する。
【符号の説明】
【０２９８】
１０、１０'、１０''    感光体
１１    導電性支持体
１２、１２'    感光層
１２ａ    電荷発生層
１２ｂ    電荷輸送層
１３    保護層
１００、１００'    画像形成装置
１０２    コロナ帯電器
１０４    現像器
１０６    転写帯電器
２００    プロセスカートリッジ
【先行技術文献】
【特許文献】
【０２９９】
【特許文献１】特開平５−１７３３５０号公報
【図１】
0005974559.tif 000043
【図２】
0005974559.tif 000044
【図３】
0005974559.tif 000045
【図４】
0005974559.tif 000046
【図５】
0005974559.tif 000047
【図６】
0005974559.tif 000048