(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジエンエラストマーと；
下記式Ｉに相当するケトキシモシランと；
【化１】
0005859545.tif 000056
（式（Ｉ）中、Ｂは下記式（ＩＩ）で定義される：
【化２】
0005859545.tif 000057
式（Ｉ）中、Ｄは、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基、またはＡが０もしくは１であるときには水素、または下記式ＩＩＩの構造から選択される；
【化３】
0005859545.tif 000058
式中、ｎおよびｊは、独立して１、２、または３であり、ｍおよびｑは、独立して０または１であり、ｚおよびｔは、独立して０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり、（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、３であり；Ａは、０または１以上であり；Ｒ１およびＲ２は、独立して炭素数１〜炭素数６０の二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが０のときには、Ｒ１とＲ２のうちいずれかは化学結合であってもよく；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、または任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉおよび／またはＰを含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり；Ｒ５およびＲ６は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよく；Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよい）
無機充填剤と、
を含む組成物。
【請求項２】
前記組成物が、揮発性有機化合物を本質的に含まない、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ケトキシモシランが、０．０２〜５ｐｈｒ（ｐｈｒはエラストマー１００部あたりの部を意味する）の量で存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記ケトキシモシランが、ｎ−オクチルジメチルメチルエチルケトキシモシランおよびｎ−オクチルシクロヘキサノンケトキシモジメチルシランから選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記ジエンエラストマーが、スチレン／ブタジエンコポリマー、ポリイソプレン、ポリブタジエン、ブタジエン／イソプレンコポリマー、ブタジエン／イソプレン／スチレンターポリマー、イソプレン／スチレンコポリマー、天然ゴム、ブチルゴム、エチレン−プロピレン−ジエンゴム、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
さらにカップリング剤を前記無機充填剤に対して１重量％〜２０重量％の量で含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
充填剤を被覆する方法であって、
無機充填剤と、下記式ＩまたはＶＩＩＩに相当するケトキシモシランとを混合する工程：
【化４】
0005859545.tif 000059
（式（Ｉ）中、Ｂは下記式（ＩＩ）として定義される：
【化５】
0005859545.tif 000060
式（Ｉ）中、Ｄは、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基、またはＡが０もしくは１であるときには水素、または下記式ＩＩＩの構造から選択される；
【化６】
0005859545.tif 000061
式中、ｎおよびｊは、独立して１、２、または３であり、ｍおよびｑは、独立して０または１であり、ｚおよびｔは、独立して０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり、（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、３であり；Ａは、０または１以上であり；Ｒ１およびＲ２は、独立して炭素数１〜炭素数６０の二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが０のときには、Ｒ１とＲ２のうちいずれかは化学結合であってもよく；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、または任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉおよび／またはＰを含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり；Ｒ５およびＲ６は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよく；Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよい）
【化７】
0005859545.tif 000062
（式中、ｎは、１、２、または３であり、ｍは、０または１であり、ｚは、０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり；ｊは、１以上であり；Ａは、１以上であり；Ｒ１は、二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく；Ｒ５およびＲ６は、独立してＨ、または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み、任意に一緒に環を形成してもよく；Ｒ７は、Ｈ、炭素数１〜炭素数６０の飽和または不飽和アルキル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが１である場合のみ、Ｒ７は、Ｈである）
を含む方法。
【請求項８】
ジエンエラストマーと；
下記式ＩまたはＶＩＩＩに相当するケトキシモシランと；
【化８】
0005859545.tif 000063
（式（Ｉ）中、Ｂは下記式（ＩＩ）として定義される：
【化９】
0005859545.tif 000064
式（Ｉ）中、Ｄは、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基、またはＡが０もしくは１であるときには水素、または下記式ＩＩＩの構造から選択される；
【化１０】
0005859545.tif 000065
式中、ｎおよびｊは、独立して１、２、または３であり、ｍおよびｑは、独立して０または１であり、ｚおよびｔは、独立して０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり、（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、３であり；Ａは、０または１以上であり；Ｒ１およびＲ２は、独立して炭素数１〜炭素数６０の二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが０のときには、Ｒ１とＲ２のうちいずれかは化学結合であってもよく；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、または任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉおよび／またはＰを含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり；Ｒ５およびＲ６は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよく；Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよい）
【化１１】
0005859545.tif 000066
（式中、ｎは、１、２、または３であり、ｍは、０または１であり、ｚは、０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり；ｊは、１以上であり；Ａは、１以上であり；Ｒ１は、二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく；Ｒ５およびＲ６は、独立してＨ、または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み、任意に一緒に環を形成してもよく；Ｒ７は、Ｈ、炭素数１〜炭素数６０の飽和または不飽和アルキル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが１である場合のみ、Ｒ７は、Ｈである）
無機充填剤と、
を混合する工程を含む方法であって、それによってエラストマー組成物が形成される、方法。
【請求項９】
ＶＯＣの発生が本質的にない、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記組成物を加硫する工程であって、当該加硫が、加硫組成物を形成する工程と、当該加硫組成物からタイヤ部材を形成する工程と、をさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
ジエンエラストマーと；
下記式ＩまたはＶＩＩＩに相当するケトキシモシランと；
【化１２】
0005859545.tif 000067
（式（Ｉ）中、Ｂは下記式（ＩＩ）として定義される：
【化１３】
0005859545.tif 000068
式（Ｉ）中、Ｄは、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基、またはＡが０もしくは１であるときには水素、または下記式ＩＩＩの構造から選択される；
【化１４】
0005859545.tif 000069
式中、ｎおよびｊは、独立して１、２、または３であり、ｍおよびｑは、独立して０または１であり、ｚおよびｔは、独立して０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり、（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、３であり；Ａは、０または１以上であり；Ｒ１およびＲ２は、独立して炭素数１〜炭素数６０の二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが０のときには、Ｒ１とＲ２のうちいずれかは化学結合であってもよく；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、または任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉおよび／またはＰを含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり；Ｒ５およびＲ６は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよく；Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよい）
【化１５】
0005859545.tif 000070
（式中、ｎは、１、２、または３であり、ｍは、０または１であり、ｚは、０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり；ｊは、１以上であり；Ａは、１以上であり；Ｒ１は、二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく；Ｒ５およびＲ６は、独立してＨ、または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み、任意に一緒に環を形成してもよく；Ｒ７は、Ｈ、炭素数１〜炭素数６０の飽和または不飽和アルキル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが１である場合のみ、Ｒ７は、Ｈである）
無機充填剤と、
を含む、タイヤ部材。
【請求項１２】
ジエンエラストマーと；
下記式ＶＩＩに相当するケトキシモシランと；
【化１６】
0005859545.tif 000071
（式中、ｊおよびｎは、１、２、または３であり、ｑおよびｍは、０または１であり、ｔおよびｚは、０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）および（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、両方とも３であり；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素、または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み、任意に一緒に環を形成してもよい）
無機充填剤と、
を含む組成物。
【請求項１３】
エラストマーと；
下記式ＶＩＩＩに相当するケトキシモシランと；
【化１７】
0005859545.tif 000072
（式中、ｎは、１、２、または３であり、ｍは、０または１であり、ｚは、０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり；ｊは、１以上であり；Ａは、１以上であり；Ｒ１は、二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく；Ｒ５およびＲ６は、独立してＨ、または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み、任意に一緒に環を形成してもよく；Ｒ７は、Ｈ、炭素数１〜炭素数６０の飽和または不飽和アルキル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが１である場合のみ、Ｒ７は、Ｈである）
無機充填剤と、
を含む組成物。
【請求項１４】
ジエンエラストマーと；
下記式ＩＸに相当するケトキシモシランと；
【化１８】
0005859545.tif 000073
（式中、ｊおよびｎは、１、２、または３であり、ｑおよびｍは、０または１であり、ｔおよびｚは、０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）および（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、両方とも３であり；Ａは、１以上であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立してＨ、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ１０およびＲ１１は、独立してＨ、または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み、任意に一緒に環を形成してもよい）
無機充填剤と、
を含む組成物。
【請求項１５】
ジエンエラストマーと；
補強充填剤と；
下記式Ｖに相当するケトキシム添加剤と；
【化１９】
0005859545.tif 000074
（式中、Ｒ５およびＲ６は、上記のとおりであり、Ｒ１２は、水素、炭素数１〜６０の飽和または不飽和アルキル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓおよび／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、または、Ｒ１２は、下記式ＶIの構造を有する：
【化２０】
0005859545.tif 000075
式中、Ｒ２は、炭素数１〜炭素数６０の二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、Ｒ１０およびＲ１１は、独立してＨ、または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み、任意に一緒に環を形成してもよい）
を含む加硫性ゴム組成物。
【請求項１６】
（ａ）エラストマーとカーボンブラックとを一緒に混合する工程と、
（ｂ）その混合物を前記混合温度未満に冷却する工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた混合物を混合する工程と、
（ｄ）その混合物に硬化剤と促進剤を加える工程であって、前記促進剤が、オキシム部分、ケトキシム部分、またはケトキシモシラン部分を有する化合物を含む工程と、
（ｅ）その混合物を硬化させる工程と、
を上記の順で含む組成物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１０年８月３１日に提出された米国特許仮出願第６１／３７８，５３８号（参照により本明細書に組み込まれる）の優先権に基づく利益を主張するものである。
【０００２】
本発明の技術は広くは、無機充填剤遮蔽剤および無機充填剤カップリング剤、ならびに、補強充填剤として無機充填剤およびカーボンブラックを含む加硫性エラストマー配合物における分散剤および補強剤としての斯かる遮蔽剤およびカップリング剤の使用に関する。
【背景技術】
【０００３】
タイヤ、パワーベルト、または防振ゴム部材等のゴム物品で用いるためのエラストマー組成物を製造する際には、これらのエラストマー組成物が、配合中に加工可能であることが望ましい。また、配合物のムーニー粘度；弾性率；ヒステリシスロス（ｔａｎδ）のような粘弾性特性；および耐摩耗性等の様々な物理特性を向上させるために、シリカおよび／またはカーボンブラック等の補強充填剤が、前記ゴム物品全体に十分に分散することも望ましい。
【０００４】
しかしながら、その表面に極性のシラノール基を含むシリカ粒子は、配合後に自己会合して、広範囲に再凝集する傾向があり、それによって、シリカの分散が不十分となり、配合物の粘度が高くなるため、シリカをゴムストックに混合することに課題がある。強固かつ高度に発達したシリカ充填剤のネットワークが、押し出し作業および硬化作業等の下流工程において加工しにくい、堅い未硬化配合物をもたらす。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この問題を軽減するために、シリカ遮蔽剤およびシリカカップリング剤が開発されてきた。しかしながら、従来のシリカ分散剤の特徴は、ゴム配合物の混合中に、シリカ表面のシラノール基と反応する（シリル化反応）１つ以上のアルコキシシラン基が存在することである。この反応が、アルコールの発生と、環境中へのアルコールの放出を引き起こす。特に、前記混合が高い加工温度で行われると、アルコールが放出され、当該アルコールがゴム配合物の加工中に発生する揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を構成する。より低い加工温度では、その配合された製品は、貯蔵、押し出し、タイヤ構築、および／または硬化中に、シリカおよび水分とさらに反応することが可能なかなりの量の未反応のアルコキシシリル基を保持することがあり、前記配合物の粘度の望ましくない増大、保存可能期間の短縮、および関連した間隙率の問題をもたらす。前記配合された製品中でのこの継続的な反応は、その配合物のさらなる加工と最終製品の品質を損ない得る追加のアルコールを発生する。結果として、得られた配合物の低下した押し出し速度が、確実にその引き延ばされた組成物が仕様に適合するように利用されることがある。加えて、最終製品に形成される間隙を防止するために、硬化中に特別な注意が払われる。ＶＯＣの発生に対処するこれらの方法は、生産量の低下と、付随するコストの増大をもたらす。
【０００６】
ＶＯＣの発生を低減するためのいくつかのアプローチが試みられてきたが、もたらされる遮蔽レベルは、オルガノシロキサンによって得られるレベルほど高くなかった。オルガノシロキサンは、最初の混合工程でゴムと混合すると、その最初に添加した重量の最大で２５％のエタノールを発生させることがあり、その後の硬化段階中には、さらに１５％が、使用中にはさらに１０％が、ゆっくり放出されることがある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
一の実施形態では、組成物は、エラストマー、ケトキシモシラン、および無機充填剤を含む。前記ケトキシモシランは下記式Ｉに相当する：
【化１】
0005859545.tif 000002
式（Ｉ）中、Ｂは、下記式（ＩＩ）として定義される：
【化２】
0005859545.tif 000003
式（Ｉ）中、Ｄは、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基、またはＡが０もしくは１であるときには水素、または下記式ＩＩＩの構造から選択される；
【化３】
0005859545.tif 000004
式中、ｎおよびｊは、独立して１、２、または３であり、ｍおよびｑは、独立して０または１であり、ｚおよびｔは、独立して０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり、（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、３であり；Ａは、０または１以上であり；Ｒ１およびＲ２は、独立して炭素数１〜炭素数６０の二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが０のときには、Ｒ１とＲ２のうちいずれかは化学結合であってもよく；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、または任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉおよび／またはＰを含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり；Ｒ５およびＲ６は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよく；Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよい。
【０００８】
別の実施形態では、シリカ補強系は、無機充填剤カップリング剤と、下記式Ｉに相当するケトキシモシランとを含む。
【化４】
0005859545.tif 000005
式（Ｉ）中、Ｂは、下記式（ＩＩ）として定義される：
【化５】
0005859545.tif 000006
式（Ｉ）中、Ｄは、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基、またはＡが０もしくは１であるときには水素、または下記式ＩＩＩの構造から選択される；
【化６】
0005859545.tif 000007
式中、ｎおよびｊは、独立して１、２、または３であり、ｍおよびｑは、独立して０または１であり、ｚおよびｔは、独立して０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり、（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、３であり；Ａは、０または１以上であり；Ｒ１およびＲ２は、独立して炭素数１〜炭素数６０の二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが０のときには、Ｒ１とＲ２のうちいずれかは化学結合であってもよく；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、または任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉおよび／またはＰを含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり；Ｒ５およびＲ６は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよく；Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成していてもよい。前記ケトキシモシランは、前記無機充填剤カップリング剤に対して約０．１〜約２００重量％の量で存在する。
【０００９】
別の実施形態では、被覆充填剤は、無機充填剤およびケトキシモシランを含む。前記無機充填剤は、下記式Ｉに相当するケトキシモシランによって被覆されている：
【化７】
0005859545.tif 000008
式（Ｉ）中、Ｂは、下記式で定義される：
【化８】
0005859545.tif 000009
式（Ｉ）中、Ｄは、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基、またはＡが０もしくは１であるときには水素、または下記式ＩＩＩの構造から選択される；
【化９】
0005859545.tif 000010
式中、ｎおよびｊは、独立して１、２、または３であり、ｍおよびｑは、独立して０または１であり、ｚおよびｔは、独立して０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり、（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、３であり；Ａは、または１以上であり；Ｒ１およびＲ２は、独立して炭素数１〜炭素数６０の二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが０のときには、Ｒ１とＲ２のうちいずれかは化学結合であってもよく；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、または任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉおよび／またはＰを含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり；Ｒ５およびＲ６は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよく；Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよい。
【００１０】
別の実施形態では、方法は、エラストマーと、下記式Ｉに相当するケトキシモシランと、無機充填剤とを混合する工程を含む：
【化１０】
0005859545.tif 000011
式（Ｉ）中、Ｂは、下記式（ＩＩ）として定義される：
【化１１】
0005859545.tif 000012
式（Ｉ）中、Ｄは、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基、またはＡが０もしくは１であるときには水素、または下記式ＩＩＩの構造から選択される；
【化１２】
0005859545.tif 000013
式中、ｎおよびｊは、独立して１、２、または３であり、ｍおよびｑは、独立して０または１であり、ｚおよびｔは、独立して０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり、（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、３であり；Ａは、０または１以上であり；Ｒ１およびＲ２は、独立して炭素数１〜炭素数６０の二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが０のときには、Ｒ１とＲ２のうちいずれかは化学結合であってもよく；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、または任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉおよび／またはＰを含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり；Ｒ５およびＲ６は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよく；Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよい。それによって、エラストマー組成物が形成される。
【００１１】
別の実施形態では、ケトキシモシラン遮蔽剤およびケトキシモシランカップリング剤は、下記式（ＩＶ）のケトキシモシランを含む：
【化１３】
0005859545.tif 000014
式中、ｎ、ｍ、ｚ、ｋ、Ｒ３，Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、上記のとおりであり、Ｒ７は、水素、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、ただし、Ａが１である場合のみ、Ｒ７は、Ｈである。
【００１２】
一の実施形態では、加硫性ゴム組成物は、ジエンエラストマーと、補強充填剤と、下記式Ｖのケトキシム添加剤とを含む：
【化１４】
0005859545.tif 000015
式中、Ｒ５およびＲ６は、上記のとおりであり、Ｒ１２は、水素、炭素数１〜６０の飽和または不飽和アルキル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓおよび／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、または、Ｒ１２は、下記式ＶIの構造を有する：
【化１５】
0005859545.tif 000016
式中、Ｒ２、Ｒ１０およびＲ１１は、上記のとおりである。
【００１３】
一の実施形態では、組成物の製造方法は、（ａ）約１３０℃〜約２００℃の温度で、添加硬化剤の非存在下にて、エラストマーとカーボンブラックを一緒に混合する工程と、（ｂ）その得られた配合物を工程（ａ）の前記混合温度未満に冷却する工程と、（ｃ）約１２０℃未満の温度で、その得られた配合物と、促進剤を含む硬化剤とを混合する工程であって、前記促進剤が、オキシム部分、ケトキシム部分、またはケトキシモシラン部分を有する化合物を含む工程と、を含む。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、例６〜９（ストック１〜４に相当）の温度掃引により得られたｔａｎデルタ値のグラフである。
【図２】図２は、例６〜９（ストック１〜４に相当）の歪み掃引により得られた６０℃におけるＧ’のグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
驚くべきことに、ＶＯＣをほとんど生成しないか、またはまったく生成しないケトキシモシランが、ＶＯＣを生成するシリカ分散剤の好適な代用物であることが発見された。さらに、ケトキシモシランおよびケトキシムの両方が、ゴム組成物の特定の特性を高めることが見出された。
【００１６】
一の実施形態では、ケトキシモシラン添加剤は、下記一般式（Ｉ）を有する：
【化１６】
0005859545.tif 000017
式（Ｉ）中、Ｂは、下記式（ＩＩ）として定義される：
【化１７】
0005859545.tif 000018
式（Ｉ）中、Ｄは、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基、またはＡが０もしくは１であるときには水素、または下記式ＩＩＩの構造から選択される；
【化１８】
0005859545.tif 000019
式中、ｎおよびｊは、独立して１、２、または３であり、ｍおよびｑは、独立して０または１であり、ｚおよびｔは、独立して０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり、（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、３であり；Ａは、０または１以上であり；Ｒ１およびＲ２は、独立して炭素数１〜炭素数６０の二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが０のときには、Ｒ１とＲ２のうちいずれかは化学結合であってもよく；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、または任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉおよび／またはＰを含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり；Ｒ５およびＲ６は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよく；Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、任意に一緒に結合して環を形成してもよい。一の実施形態では、前記無機充填剤は、前記ケトキシモシランと反応する。
【００１７】
１以上の実施形態では、二価の有機基は、これらに限定されないが、アルキレン基、シクロアルキレン基、置換アルキレン基、置換シクロアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルケニレン基、置換アルケニレン基、置換シクロアルケニレン基、アリーレン基、および置換アリーレン基等のヒドロカルビレン基または置換ヒドロカルビレン基を含んでいてもよく、各基は、１個の炭素原子、または、その基を形成するのに適した最小限の数の炭素原子、最大でも２０個の炭素原子を含むのが好ましい。置換ヒドロカルビレン基は、１以上の水素原子がアルキル基等の置換基によって置換されたヒドロカルビレン基を含む。
【００１８】
所定の実施形態では、前記ケトキシモシランは、下記式ＩＶによって表されるモノケトキシモシランである：
【化１９】
0005859545.tif 000020
式中、ｎは、１、２、または３であり、ｍは、０または１であり、ｚは、０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり；Ｒ３およびＲ４は、独立して水素、または任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉおよび／またはＰを含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり；Ｒ５およびＲ６は、独立して水素、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意に一緒に環を形成してもよく；Ｒ７は、水素、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含む炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、ただし、Ａが１である場合のみ、Ｒ７は、Ｈである。
【００１９】
モノケトキシモシランのさらなる例は、これらに限定されないが、トリヒドロカルビル（ジヒドロカルビルケトキシモ）シラン、ジヒドロカルビル−ビス−（ジヒドロカルビルケトキシモ）シラン、ヒドロカルビル−トリス−（ジヒドロカルビルケトキシモ）シラン、トリヒドロカルビル（シクロアルキルケトキシモ）シラン、ジヒドロカルビル−ビス−（シクロアルキルケトキシモ）シラン、ヒドロカルビル−トリス−（シクロアルキルケトキシモ）シラン、トリアルキル（シクロアルキルケトキシモ）シラン、ジアルキル−ビス−（シクロアルキルケトキシモ）シラン、アルキル−トリス−（シクロアルキルケトキシモ）シラン、トリアルキル（ジアルキルケトキシモ）シラン、ジアルキル−ビス−（ジアルキルケトキシモ）シラン、アルキル−トリス−（ジアルキルケトキシモ）シラン、トリアリール（ジアリールケトキシモ）シラン、ジアリール−ビス−（ジアリールケトキシモ）シラン、アリール−トリス−（ジアリールケトキシモ）シラン、トリアリール（ジアルキルケトキシモ）シラン、ジアリール−ビス−（ジアルキルケトキシモ）シラン、アリール−トリス−（ジアルキルケトキシモ）シラン、トリアリール（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ジアリール−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シランおよびアリール−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シランを含む。
【００２０】
トリアルキル（シクロアルキルケトキシモ）シランの例は、オクタデシルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ドデシルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ウンデシルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、デシルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ノニルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクチルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘプチルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘキシルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ペンチルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ブチルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、プロピルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、エチルジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、トリメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクタデシルジエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ドデシルジエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ウンデシルジエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、デシルジエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ノニルジエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクチルジエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘプチルジエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘキシルジエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ペンチルジエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ブチルジエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、トリエチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクタデシルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ドデシルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ウンデシルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、デシルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ノニルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクチルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘプチルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘキシルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ペンチルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ブチルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、エチルジプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、トリプロピル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクタデシルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ドデシルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ウンデシルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、デシルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ノニルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクチルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘプチルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘキシルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ペンチルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、プロピルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、エチルジブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、トリブチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクタデシルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ドデシルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、デシルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ノニルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクチルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ペンチルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ブチルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、プロピルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、エチルジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、トリメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ドデシルジエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、デシルジエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ノニルジエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクチルジエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ペンチルジエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ブチルジエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、トリエチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ドデシルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、デシルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ノニルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクチルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ペンチルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ブチルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、エチルジプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、トリプロピル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ドデシルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、デシルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ノニルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクチルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ペンチルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、プロピルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、エチルジブチル（シクロペンチルケトキシモ）シランおよびトリブチル（シクロペンチルケトキシモ）シランを含む。
【００２１】
ジアルキル−ビス−（シクロアルキルケトキシモ）シランの例は、オクタデシルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ドデシルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ウンデシルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、デシルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ノニルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクチルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘプチルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘキシルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ペンチルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ブチルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、プロピルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、エチルメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ジメチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクタデシルエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ドデシルエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ウンデシルエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、デシルエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ノニルエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクチルエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘプチルエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘキシルエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ペンチルエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ブチルエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ジエチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクタデシルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ドデシルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ウンデシルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、デシルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ノニルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクチルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘプチルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘキシルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ペンチルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ブチルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、エチルプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ジプロピル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクタデシルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ドデシルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ウンデシルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、デシルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ノニルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクチルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘプチルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘキシルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ペンチルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、プロピルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、エチルブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ジブチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクタデシルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ドデシルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ウンデシルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、デシルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ノニルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクチルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘプチルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘキシルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ペンチルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ブチルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、プロピルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、エチルメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ジメチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクタデシルエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ドデシルエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ウンデシルエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、デシルエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ノニルエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクチルエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘプチルエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘキシルエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ペンチルエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ブチルエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ジエチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクタデシルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ドデシルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ウンデシルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、デシルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ノニルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクチルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘプチルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘキシルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ペンチルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ブチルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、エチルプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ジプロピル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクタデシルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ドデシルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ウンデシルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、デシルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ノニルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクチルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘプチルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘキシルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ペンチルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、プロピルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、エチルブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シランおよびジブチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シランを含む。
【００２２】
アルキル−トリス−（シクロアルキルケトキシモ）シランの例は、オクタデシル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ドデシル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ウンデシル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、デシル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ノニル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクチル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘプチル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ヘキシル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ペンチル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ブチル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、プロピル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、エチル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、メチル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、オクタデシル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ドデシル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ウンデシル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、デシル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ノニル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、オクチル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘプチル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ヘキシル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ペンチル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ブチル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、プロピル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、エチル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シランおよびメチル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シランを含む。
【００２３】
トリアルキル（ジアルキルケトキシモ）シランの例は、オクタデシルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ドデシルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、デシルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ノニルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクチルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ペンチルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ブチルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、プロピルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、エチルジメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、トリメチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ドデシルジエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、デシルジエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ノニルジエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクチルジエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ペンチルジエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ブチルジエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、トリエチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ドデシルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、デシルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ノニルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクチルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ペンチルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ブチルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、エチルジプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、トリプロピル（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ドデシルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、デシルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ノニルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクチルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、ペンチルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、プロピルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、エチルジブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、トリブチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ドデシルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、デシルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ノニルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、オクチルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ペンチルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ブチルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、プロピルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、エチルジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、トリメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ドデシルジエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、デシルジエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ノニルジエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、オクチルジエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ペンチルジエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ブチルジエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、トリエチル（ジメチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、ドデシルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、デシルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、ノニルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、オクチルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、ペンチルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、ブチルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、エチルジプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、トリプロピル（ジメチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ドデシルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ウンデシルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、デシルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ノニルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、オクチルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘプチルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘキシルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、ペンチルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、プロピルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、エチルジブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、トリブチル（ジメチルケトキシモ）シラン、オクタデシルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ドデシルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ウンデシルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、デシルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ノニルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、オクチルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ヘプチルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ヘキシルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ペンチルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ブチルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、プロピルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、エチルジメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、トリメチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、オクタデシルジエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ドデシルジエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ウンデシルジエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、デシルジエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ノニルジエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、オクチルジエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ヘプチルジエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ヘキシルジエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ペンチルジエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ブチルジエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、トリエチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、オクタデシルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ドデシルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ウンデシルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、デシルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ノニルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、オクチルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ヘプチルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ヘキシルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ペンチルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ブチルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、エチルジプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、トリプロピル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、オクタデシルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ドデシルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ウンデシルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、デシルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ノニルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、オクチルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ヘプチルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ヘキシルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、ペンチルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、プロピルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シラン、エチルジブチル（メチルプロピルケトキシモ）シランおよびトリブチル（メチルプロピルケトキシモ）シランを含む。
【００２４】
ジアルキル−ビス−（ジアルキルケトキシモ）シランの例は、オクタデシルメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ドデシルメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ウンデシルメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、デシルメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ノニルメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクチルメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘプチルメチル− ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘキシルメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ペンチルメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ブチルメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、プロピルメチル− ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、エチルメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ジメチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクタデシルエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ドデシルエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ウンデシルエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、デシルエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ノニルエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクチルエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘプチルエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘキシルエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ペンチルエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ブチルエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ジエチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクタデシルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ドデシルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ウンデシルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、デシルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ノニルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクチルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘプチルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘキシルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ペンチルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ブチルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、エチルプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ジプロピル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクタデシルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ドデシルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ウンデシルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、デシルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ノニルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、オクチルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘプチルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ヘキシルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ペンチルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、プロピルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、エチルブチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ジブチル−ビス−（メチルエチルケトキシ���）シラン、オクタデシルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ドデシルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ウンデシルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、デシルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ノニルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、オクチルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘプチルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘキシルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ペンチルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ブチルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、プロピルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、エチルメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ジメチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、オクタデシルエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ドデシルエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ウンデシルエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、デシルエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ノニルエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、オクチルエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘプチルエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘキシルエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ペンチルエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ブチルエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ジエチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、オクタデシルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ドデシルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ウンデシルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、デシルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ノニルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、オクチルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘプチルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘキシルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ペンチルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ブチルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、エチルプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ジプロピル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、オクタデシルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ドデシルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ウンデシルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、デシルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ノニルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、オクチルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘプチルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘキシルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ペンチルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、プロピルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、エチルブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シランおよびジブチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シランを含む。
【００２５】
アルキル−トリス−（ジアルキルケトキシモ）シランの例は、オクタデシル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、ドデシル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、ウンデシル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、デシル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、ノニル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、オクチル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、ヘプチル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、ヘキシル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、ペンチル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、ブチル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、プロピル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、エチル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、メチル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、オクタデシル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ドデシル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ウンデシル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、デシル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ノニル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、オクチル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘプチル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ヘキシル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ペンチル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ブチル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、プロピル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シラン、エチル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シランおよびメチル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シランを含む。
【００２６】
トリアリール（ジアルキルケトキシモ）シランの例は、トリフェニル（メチルエチルケトキシモ）シラン、トリナフチル（メチルエチルケトキシモ）シラン、トリフェニル（ジメチルケトキシモ）シラン、トリナフチル（ジメチルケトキシモ）シラン、トリフェニル（メチルプロピルケトキシモ）シランおよびトリナフチル（メチルプロピルケトキシモ）シランを含む。
【００２７】
トリアリール（ジアリールケトキシモ）シランの例は、トリフェニル（ジフェニルケトキシモ）シラン、トリナフチル（ジフェニルケトキシモ）シランおよびトリフェニル（ジナフチルケトキシモ）シランを含む。
【００２８】
トリアルキル（ジアリールケトキシモ）シランの例は、オクタデシルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ドデシルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ウンデシルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、デシルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ノニルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、オクチルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ヘプチルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ヘキシルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ペンチルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ブチルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、プロピルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、エチルジメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、トリメチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、オクタデシルジエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ドデシルジエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ウンデシルジエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、デシルジエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ノニルジエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、オクチルジエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ヘプチルジエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ヘキシルジエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ペンチルジエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ブチルジエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、トリエチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、オクタデシルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ドデシルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ウンデシルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、デシルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ノニルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、オクチルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ヘプチルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ヘキシルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ペンチルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ブチルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、エチルジプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、トリプロピル（ジフェニルケトキシモ）シラン、オクタデシルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ドデシルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ウンデシルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、デシルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ノニルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、オクチルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ヘプチルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ヘキシルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、ペンチルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、プロピルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シラン、エチルジブチル（ジフェニルケトキシモ）シランおよびトリブチル（ジフェニルケトキシモ）シランを含む。
【００２９】
ジアリール−ビス−（ジアルキルケトキシモ）シランの例は、ジフェニル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ジナフチル−ビス−（メチルエチルケトキシモ）シラン、ジフェニル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ジナフチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シラン、ジフェニル−ビス−（メチルプロピルケトキシモ）シランおよびジナフチル−ビス−（メチルプロピルケトキシモ）シランを含む。
【００３０】
ジアリール−ビス−（ジアリールケトキシモ）シランの例は、ジフェニル−ビス−（ジフェニルケトキシモ）シラン、ジナフチル−ビス−（ジフェニルケトキシモ）シランおよびジフェニル−ビス−（ジナフチルケトキシモ）シランを含む。
【００３１】
アリール−トリス−（ジアルキルケトキシモ）シランの例は、フェニル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、ナフチル−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、フェニル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シランおよびナフチル−トリス−（ジメチルケトキシモ）シランを含む。
【００３２】
トリアリール（シクロアルキルケトキシモ）シランの例は、トリフェニル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、トリナフチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、トリフェニル（シクロペンチルケトキシモ）シランおよびトリナフチル（シクロヘキシルケトキシモ）シランを含む。
【００３３】
ジアリール−ビス−（シクロアルキルケトキシモ）シランの例は、ジフェニル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ジナフチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、ジフェニル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シランおよびジナフチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シランを含む。
【００３４】
アリール−トリス−（シクロアルキルケトキシモ）シランの例は、フェニル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、ナフチル−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、フェニル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シランおよびナフチル−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シランを含む。
【００３５】
所定の実施形態では、前記ケトキシモシランは、下記式ＶＩＩによって表されるビスケトキシモシランである：
【化２０】
0005859545.tif 000021
式中、ｊおよびｎは、１、２、または３であり、ｑおよびｍは、０または１であり、ｔおよびｚは、０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）および（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、両方とも３であり；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立して水素、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ１０およびＲ１１は、独立して水素、または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み、任意に一緒に環を形成してもよい。
【００３６】
ビスケトキシモシランの例は、１，６−ビス−［ジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シリル］ヘキサン、１，６−ビス−［メチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シリル］ヘキサン、１，６−ビス−［トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シリル）］ヘキサン、１，５−ビス−［ジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シリル］ペンタン、１，５−ビス−［メチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シリル］ペンタン、１，５−ビス−［トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シリル）］ペンタン、１，４−ビス−［ジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シリル］ブタン、１，４−ビス−［メチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シリル］ブタン、１，４−ビス−［トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シリル）］ブタン、１，６−ビス−［ジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シリル］ヘキサン、１，６−ビス−［メチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シリル］ヘキサン、１，６−ビス−［トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シリル）］ヘキサン、１，５−ビス−［ジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シリル］ペンタン、１，５−ビス−［メチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シリル］ペンタン、１，５−ビス−［トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シリル）］ペンタン、１，４−ビス−［ジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シリル］ブタン、１，４−ビス−［メチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シリル］ブタン、１，４−ビス−［トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シリル）］ブタン、１，６−ビス−［ジメチル（ジメチルケトキシモ）シリル］ヘキサン、１，６−ビス−［メチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シリル］ヘキサン、１，６−ビス−［トリス−（ジメチルケトキシモ）シリル）］ヘキサン、１，５−ビス−［ジメチル（ジメチルケトキシモ）シリル］ペンタン、１，５−ビス−［メチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シリル］ペンタン、１，５−ビス−［トリス−（ジメチルケトキシモ）シリル）］ペンタン、１，４−ビス−［ジメチル（ジメチルケトキシモ）シリル］ブタン、１，４−ビス−［メチル−ビス−（ジメチルケトキシモ）シリル］ブタン、１，４−ビス−［トリス−（ジメチルケトキシモ）シリル）］ブタン、１，６−ビス−［エチルメチル（エチルメチルケトキシモ）シリル］ヘキサン、１，６−ビス−［メチル−ビス−（エチルメチルケトキシモ）シリル］ヘキサン、１，６−ビス−［トリス−（エチルメチルケトキシモ）シリル）］ヘキサン、１，５−ビス−［エチルメチル（エチルメチルケトキシモ）シリル］ペンタン、１，５−ビス−［メチル−ビス−（エチルメチルケトキシモ）シリル］ペンタン、１，５−ビス−［トリス−（エチルメチルケトキシモ）シリル）］ペンタン、１，４−ビス−［エチルメチル（エチルメチルケトキシモ）シリル］ブタン、１，４−ビス−［メチル−ビス−（エチルメチルケトキシモ）シリル］ブタンおよび１，４−ビス−［トリス−（エチルメチルケトキシモ）シリル）］ブタンを含む。
【００３７】
別の実施形態では、前記ケトキシモシランは、下記式ＶＩＩＩによって表される硫黄含有モノケトキシモシランである：
【化２１】
0005859545.tif 000022
式中、ｎは、１、２、または３であり、ｍは、０または１であり、ｚは、０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）は、３であり；ｊは、１以上であり；Ａは、１以上であり；Ｒ１は、二価の有機基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく；Ｒ５およびＲ６は、独立してＨ、または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み、任意に一緒に環を形成してもよく；Ｒ７は、Ｈ、炭素数１〜炭素数６０の飽和または不飽和アルキル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含んでいてもよく、ただし、Ａが１である場合のみ、Ｒ７は、Ｈである。
【００３８】
硫黄含有モノケトキシモシランの例は、メルカプトアルキルジアルキル（シクロアルキルケトキシモ）シラン、メルカプトアルキルジアルキル（ジアルキルケトキシモ）シラン、メルカプトアルキルジアリール（ジアリールケトキシモ）シランおよびメルカプトアリールジアルキル（ジアリールケトキシモ）シランを含む、（メルカプトヒドロカルビル）ジヒドロカルビル（ジヒドロカルビルケトキシモ）シラン、（メルカプトヒドロカルビル）ヒドロカルビル−ビス−（ジヒドロカルビルケトキシモ）シラン、（メルカプトヒドロカルビル）−トリス−（ジヒドロカルビルケトキシモ）シランを含む。
【００３９】
（メルカプトヒドロカルビル）ジヒドロカルビル（ジヒドロカルビルケトキシモ）シラン、（メルカプトヒドロカルビル）ヒドロカルビル−ビス−（ジヒドロカルビルケトキシモ）シラン、（メルカプトヒドロカルビル）−トリス−（ジヒドロカルビルケトキシモ）シランの例は、（３−メルカプトプロピル）ジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）ジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）ジメチル（エチルメチルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）ジメチル（ジメチルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）ジフェニル（メチルフェニルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）メチル−ビス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）メチル−ビス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）メチル−ビス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）メチル−ビス−（ジメチル−ケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）フェニル−ビス−（メチルフェニルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）−トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シラン、（３−メルカプトプロピル）−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シラン、および（３−メルカプトプロピル）−トリス−（ジメチルケトキシモ）シランを含む。
【００４０】
硫黄含有モノケトキシモシランの他の例は、上記のメルカプタンのメチルチオエーテル、エチルチオエーテル、プロピルチオエーテルおよびブチルチオエーテルを含む。
【００４１】
別の実施形態では、前記ケトキシモシランは、式ＩＸによって表される硫黄含有ビスケトキシモシランである：
【化２２】
0005859545.tif 000023
式中、ｊおよびｎは、１、２、または３であり、ｑおよびｍは、０または１であり、ｔおよびｚは、０または１であり、（ｎ＋ｍ＋ｚ）および（ｊ＋ｑ＋ｔ）は、両方とも３であり；Ａは、１以上であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８およびＲ９は、独立してＨ、炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基またはアルコキシ基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ１０およびＲ１１は、独立してＨ、または炭素数１〜炭素数６０のヒドロカルビル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉ、および／またはＰのヘテロ原子を含み、任意に一緒に環を形成してもよい。
【００４２】
硫黄含有ビスケトキシモシランの例は、ビス−（３−（ジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シリル）プロピル）テトラスルフィド、ビス（３−（ジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シリル）プロピル）テトラスルフィド、ビス（３−ジメチル（ジメチルケトキシモ）シリル）プロピル）テトラスルフィド、ビス（３−ジメチル（エチルメチルケトキシモ）シリル）プロピル）テトラスルフィド、ビス−（３−（ジメチル（シクロヘキシルケトキシモ）シリル）プロピル）ジスルフィド、ビス（３−（ジメチル（シクロペンチルケトキシモ）シリル）プロピル）ジスルフィド、ビス（３−ジメチル（ジメチルケトキシモ）シリル）プロピル）ジスルフィド、ビス（３−ジメチル（エチルメチルケトキシモ）シリル）プロピル）ジスルフィド、ビス−（３−（トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シリル）プロピル）テトラスルフィド、ビス（３−トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シリル）プロピル）テトラスルフィド、ビス（３−トリス−（ジメチルケトキシモ）シリル）プロピル）テトラスルフィド、ビス（３−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シリル）プロピル）テトラスルフィド、ビス−（３−（トリス−（シクロヘキシルケトキシモ）シリル）プロピル）ジスルフィド、ビス（３−（トリス−（シクロペンチルケトキシモ）シリル）プロピル）ジスルフィド、ビス（３−トリス−（ジメチルケトキシモ）シリル）プロピル）ジスルフィドおよびビス（３−トリス−（エチルメチルケトキシモ）シリル）プロピル）ジスルフィドを含む。
【００４３】
一の実施形態では、前記ケトキシモシランは、ゴム組成物中のシリカ等の無機充填剤と反応し、それによって充填剤の分散を向上させる。前記ケトキシモシランは、前記シリカ上で遮蔽剤として作用し、充填剤の凝集を低減し、それによって充填剤の分散形態を維持する。理論に束縛されるものではないが、前記ケトキシモシランのオキシム官能基が、効果的に無機充填剤上の水酸基と交換し、ケトキシモ部分以外の部分が、前記遮蔽効果を与える。これが、より低い配合物のムーニー粘度を有し、また、加工性を向上し、生産性を高める充填剤の凝集の程度がより低い、配合物をもたらす。同時に、アルコキシシランカップリング剤とは異なり、前記ケトキシモシランは、ゴム組成物中で混合したときに、何らＶＯＣを生成しない。その構造のおかげで、ゴム中で混合したときに、何らアルコール副生物を生成しない。
【００４４】
前記ゴム組成物をケトキシモシランでさらに補強するために、カップリング剤を用いてもよい。したがって、シリカ補強系は、シリカ遮蔽剤としてのケトキシモシランと、シリカカップリング剤とを含む。シリカ充填ゴム組成物中にシリカカップリング剤およびケトキシモシランを加えることによって、高い歪み弾性率およびランボーン耐摩耗性を向上させることができるとともに、非常に少ないＶＯＣを保ちながら、０℃でのｔａｎδまたは加工性を犠牲にすることなく、６０℃でのｔａｎδを低下させることができる。例えば、一の実施形態では、０℃でのｔａｎδを犠牲にすることなく、６０℃でのｔａｎδを１０％以上（１５〜３０％または１２〜２５％など）低下させることができる。そのＶＯＣ低減組成物は、環境的に望ましく、同様に、より良い加工性、取扱い性、およびより高い生産効率によって、タイヤ工場の利益にもなる。
【００４５】
一の実施形態では、前記ケトキシモシランは、無機充填剤表面への被覆として提供され、そこで当該無機充填剤は、当該ケトキシモシランと反応する。
【００４６】
理論に束縛されるものではないが、前記ケトキシモシラン遮蔽剤それ自体は、前記エラストマーに結合しない。したがって、いくつかの実施形態では、前記ケトキシモシランを含む組成物は、ケトキシモシランで官能化されたポリマーを含まない。
【００４７】
式（ＶＩＩ）および（ＩＸ）に示される実施形態等のいくつかの実施形態では、前記ケトキシモシランは、前記エラストマーに結合するカップリング剤の形態となり得る。
【００４８】
一の実施形態では、前記ケトキシモシランは、ケトキシム等のオキシム含有化合物を、有機溶媒等の溶媒中で、アルコキシ化合物等のシロキサン化合物と反応させることによって製造され得る。反応を促進するために撹拌および加熱が用いられてもよい。ケトキシムが出発物質の一部である所定の実施形態では、前記反応は、アルコール副生物の発生を引き起こし得る。
【００４９】
いくつかの実施形態では、アルコールが発生し、それによって前記ケトキシモシラン種を単離するため、前記アルコキシ部分のアルキル基は、１〜２個の炭素原子を有する短いアルキル鎖である。いくつかの実施形態では、Ｒ５およびＲ６は、１〜３個または３〜６個等の１〜６個の炭素原子を有するアルキル鎖である。いくつかの実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうち１つ以上は、前記エラストマーに結合する部分を含む。
【００５０】
一の実施形態では、ｎ−オクチルジメチルメチルエチルケトキシモシランは、トルエン等の溶媒中で、２−ブタノンオキシムをｎ−オクチルジメチルメトキシシランと反応させることによって製造される。その混合物は、約１３５℃〜約１５０℃等の高温で、前記発生したメタノールが止まるまで加熱および還流されてもよい。生成物は、残存アルコールおよび溶媒の除去後に得られる。
【００５１】
さらに別の実施形態では、ｎ−オクチルジメチルメチルエチルケトキシモシランは、トルエン等の溶媒中で、２−ブタノンオキシム（過剰）をｎ−オクチルジメチルクロロシランと反応させることによって製造される。その混合物は、約１２０℃〜約１５０℃等の高温で、反応が完了するまで加熱および還流されてもよい。生成物は、前記残存副生成物の除去後に得られる。
【００５２】
加えて、ＮＸＴシラン、ＳＩ３６３シラン、ＡＭＳ（アルコキシ変性シルセスキオキサン）、ｃｏ−ＡＭＳ（２００８年１２月３０日に提出された米国特許出願第１２／３４７，０１７号（参照により本明細書に組み込まれる）に記載））、メルカプトアルキルトリアルコキシシラン、ブロック化メルカプトアルキルトリアルコキシシラン、シリカに結合したメルカプトアルキルシラン、シリカに結合したブロック化メルカプトアルキルシラン、ビス（トリアルコキシシリルオルガノ）テトラスルフィドまたはジスルフィド等の一般的なシリカカップリング剤のアルコキシ部分またはシロキサン部分が、上述したケトキシモシランのオキシム基によって置き換えられ得る。
【００５３】
当業者は、例えば、米国特許第４０３３９９１号（Ｔ．Ｓｈｉｎｏｈａｒａ、Ｍ．Ａｒａｉ、Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ、１９７７年）に記載された方法を用いることによって、斯かる化学種を合成することができる。
【００５４】
一の実施形態では、ケトキシモシランを含む前記ゴム組成物は、無機充填剤カップリング剤、好ましくは、メルカプトアルキルトリアルコキシシラン、ブロック化メルカプトアルキルトリアルコキシシラン、シリカに結合したメルカプトアルキルシラン、シリカに結合したブロック化メルカプトアルキルシラン、ビス（トリアルコキシシリルオルガノ）テトラスルフィドまたはジスルフィドを含む、硫黄含有カップリング剤等のシリカカップリング剤を、前記シリカに対して約０．０５〜約３％の量で含んでいてもよい。シリカに坦持させたメルカプトシランを含む具体的な市販品は、ＣＩＰＴＡＮＥ  ２５５ＬＤまたはＡＧＩＬＯＮとして、ＰＰＧ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから入手可能であり、当該市販品は、シリカに固定化したメルカプトシランであって、実質的にトリアルコキシシランが存在しないメルカプトシランである。この製品が使用される場合、ＣＩＰＴＡＮＥ  ２５５ＬＤまたはＡＧＩＬＯＮ由来の添加シリカに応じて、ゴム配合物中のシリカの量が調節され、所望の総量のシリカとしてもよい。本明細書では、「ブロック化メルカプトアルキルトリアルコキシシラン」という用語を使う際、その用語は、シリカ反応性メルカプトシラン部分に影響を及ぼさないいまま、その分子のメルカプト部分をブロックするブロック部分を含む（すなわち、メルカプト水素原子が別の基（以下「ブロック基」と称する）によって置き換えられる）メルカプトシランシリカカップリング剤と定義される。好ましいブロック化メルカプトシランは、これらに限定されないが、米国特許第６，１２７，４６８号、同第６，２０４，３３９号、同第６，５２８，６７３号、同第６，６３５，７００号、同第６，６４９，６８４号、同第６，６８３，１３５号に記載されているものを含んでいてもよく、これらの開示内容は、記載されている例に関して、参照により本明細書に組み込まれる。本開示の目的上、前記シリカ反応性「メルカプトシラン部分」は、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシランの分子量に等しい分子量と定義される。前記シリカ−シラン反応が起きた後、後の製造工程で、脱ブロッキング剤が添加されて、前記メルカプトシランの硫黄原子をゴムと急速に結合させてもよい。前記脱ブロッキング剤は、脱ブロック化が要求される任意の混合段階の間に、単一の成分として、前記配合工程中、いつでも添加されてもよい。しばしば、配合の硬化段階中に脱ブロック化が要求され、そして、最終混合段階で前記脱ブロッキング剤が添加される。前記脱ブロッキング剤は、硫黄硬化パッケージ中に含まれることがあり、しばしば、特に亜鉛塩との組み合わせで、硬化促進剤として機能し得る。脱ブロッキング剤の例は、当業者にとって周知である。
【００５５】
カップリング剤は、例えば、前記無機充填剤の約１重量％〜約２０重量％（約３％〜約１０％、約１０％〜約１８％、または約５％〜約１５％など）の量で存在してもよい。前記ケトキシモシランおよびカップリング剤は、例えば、前記無機充填剤カップリング剤に対して、ケトキシモシランが、約０．１〜約２００重量％（約２％〜約１００％、約１％〜約５０％、約１０％〜約６０％、約１５％〜約３０％、または約５０％〜約１００％など）の量で存在してもよい。
【００５６】
前記加硫性ゴム配合物は、任意に、非アルコキシシランシリカ遮蔽剤も含んでいてもよい。斯かる遮蔽剤は、物理的にシリカと結びつくが、それに化学的に結合しない。これらの遮蔽剤は、単独では効果的にシリカの分散を保持することや、加熱時の前記充填剤の凝集を抑制することはないかもしれないが、前記ゴム組成物の特性をいくらか高めることがある。非アルコキシシランシリカ遮蔽剤の例は、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール等のグリコール、水素化もしくは非水素化された炭素数５もしくは炭素数６の糖の脂肪酸エステル、水素化もしくは非水素化された炭素数５もしくは炭素数６の糖の脂肪酸エステルのポリオキシエチレン誘導体、およびこれらの混合物、または、以下にさらに詳細に説明されるような追加の無機物充填剤もしくは非無機物充填剤である。非アルコキシシランシリカ遮蔽剤のさらなる例は、米国特許第６，２２１，９４３号、および同第６，３８４，１１７号（これらの両方が、参照により本明細書に組み込まれる）に見出される。
【００５７】
非アルコキシシランシリカ分散助剤として有用な、水素化および非水素化された炭素数５および炭素数６の糖（例えば、ソルボース、マンノース、およびアラビノース）の脂肪酸エステルの例は、これらに限定されないが、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンジオレエート、ソルビタントリオレエート、およびソルビタンセスキオレエート等のソルビタンオレエート、ならびに、ラウレート脂肪酸、パルミテート脂肪酸およびステアレート脂肪酸のソルビタンエステルを含む。水素化および非水素化された炭素数５および炭素数６の糖の脂肪酸エステルは、ＳＰＡＮ（登録商標）という商品名で、ＩＣＩ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（デラウェア州ウィルミントン）から市販されている。代表的な製品は、ＳＰＡＮ（登録商標）６０（ソルビタンステアレート）、ＳＰＡＮ（登録商標）８０（ソルビタンオレエート）、およびＳＰＡＮ（登録商標）８５（ソルビタントリオレエート）を含む。Ａｌｋａｍｕｌ（登録商標）ＳＭＯ；Ｃａｐｍｕｌ（登録商標）０；Ｇｌｙｃｏｍｕｌ（登録商標）Ｏ；Ａｒｌａｃｅｌ（登録商標）８０；Ｅｍｓｏｒｂ（登録商標）２５００；およびＳ−Ｍａｚ（登録商標）８０等として知られているソルビタンモノオレエート等のその他の市販のソルビタンの脂肪酸エステルも入手可能である。これらの任意のシリカ分散助剤の有用な量は、前記シリカの重量基準で、約０．１重量％〜約２５重量％であり、約０．５重量％〜約２０重量％であることが好ましく、前記シリカの重量基準で約１重量％〜約１５重量％も好ましい。
【００５８】
水素化および非水素化された炭素数５および炭素数６の糖の脂肪酸エステルの例示的なポリオキシエチレン誘導体は、これらに限定されないが、各水酸基上にエチレンオキシド基が配置されている点を除き、上記の水素化および非水素化された糖の脂肪酸エステルに類似しているポリソルベートおよびポリオキシエチレンソルビタンエステルを含む。ソルビタンのポリオキシエチレン誘導体の代表的な例は、ＰＯＥ（登録商標）（２０）ソルビタンモノオレエート、Ｐｏｌｙｓｏｒｂａｔｅ（登録商標）８０、Ｔｗｅｅｎ（登録商標）８０、Ｅｍｓｏｒｂ（登録商標）６９００、Ｌｉｐｏｓｏｒｂ（登録商標）Ｏ−２０、およびＴ−Ｍａｚ（登録商標）８０を含む。Ｔｗｅｅｎ（登録商標）の製品は、ＩＣＩ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから市販されている。一般に、これらの任意のシリカ分散助剤の有用な量は、シリカの重量に対して約０．１重量％〜約２５重量％であり、約０．５重量％〜約２０重量％が好ましく、シリカの重量に対して約１重量％〜約１５重量％も好ましい。
【００５９】
ゴム配合物における前記ケトキシモシランの使用は、配合および前記ゴム組成物のさらなる加工中におけるＶＯＣの発生を低減または排除するのみならず、これらの生成物は、シリカ遮蔽剤として十分に機能し、前記ゴム組成物の向上した物理的特性をもたらす。特に、以下の実施例に記載されているように、ケトキシモシランを含み、他のシリカ分散剤を含まないゴム組成物は、ビス（トリアルコキシシリルオルガノ）ジスルフィドを含むか、またはシランを含まない比較組成物よりも、粘度が低く、充填剤の凝集が抑制され、０℃および３０℃でのｔａｎデルタが高く、Ｔ５およびＴｓ２が長く、タイヤ組成物の性能特性の向上を示した。前記比較例と比べると、前記ケトキシモシラン組成物のその他の機械的および動的粘弾性物理的特性は、許容可能であり、その向上した特性が、他の物理的特性に有意な影響を及ぼすことなく得られたことを示した。
【００６０】
以下の実施例に記載されているように、ケトキシモシランおよび追加の無機充填剤カップリング剤を含むゴム組成物は、ビス（トリアルコキシシリルオルガノ）ジスルフィドを含むか、またはシランを含まない比較ゴム組成物よりも、向上した物理的特性を有し、タイヤ用途における性能特性が向上したことを示した。
【００６１】
さらに、前記ケトキシモシラン含有ゴム組成物は、他のシリカ分散剤が前記ケトキシモシランによって置き換えられたときに、当該他のシリカ分散剤の存在によって生じ得るＶＯＣの発生がないか、または本質的にない。これらの実施形態では、前記ケトキシモシランを用いる結果、配合およびさらなる加工中にゴム配合物からＶＯＣとして放出されるアルコールの量は、当該配合物の０〜約０．０５重量％（０〜約０．０１重量％、または０〜約０．００１重量％など）である。
【００６２】
ゴム組成物中で前記ケトキシモシランが無機充填剤カップリング剤と組み合わされている実施形態では、以下の実施例に示されるように、ごく少量の無機充填剤カップリング剤（ＶＯＣを発生させるもの）が良好な結果を達成するのに有効であり得るため、当該ゴム組成物は、ごく少量のＶＯＣを発生させるように調整されてもよい。例えば、ＶＯＣの発生は、前記ゴム配合物の約０．２重量％未満（約０．００１％〜約０．２％、または約０．０５％〜約０．１％など）に制御されてもよい。
【００６３】
前記加硫性ゴム配合物は、前記ケトキシモシランと反応するシリカ等の補強無機充填剤を用いて配合される。前記ケトキシモシラン化合物がアルコキシシラン基を含まないため、それは、ゴム調製工程中にＶＯＣを発生しない。
【００６４】
好ましい無機補強充填剤の例は、これらに限定されないが、沈降非晶質シリカ、湿式シリカ（水和ケイ酸）、乾式シリカ（無水ケイ酸）、ヒュームドシリカ、およびケイ酸カルシウムを含む。その他の好ましい充填剤は、アルミニウム水和物を含む。ケイ酸アルミニウムおよびケイ酸マグネシウムも好ましい場合がある。沈降非晶質湿潤プロセスによる水和シリカが、具体例である。これらのシリカは、水中での化学反応によって製造され、そこから超微細な球状粒子として沈降するため、そのように呼ばれている。これらの一次粒子は強く結び付いて凝集体となり、そしてより弱く結合して凝集粒子となる。ＢＥＴ法により測定した場合の表面積は、様々なシリカの補強特性の最良の尺度となる。上述した斯かる無機充填剤の表面積は、例えば、約３２ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇ（約１００ｍ２／ｇ〜約２５０ｍ２／ｇ、または１５０ｍ２／ｇ〜約２２０ｍ２／ｇなど）であってもよい。前記シリカ充填剤のｐＨは、通常、約５．５〜約６．８等、約５．５〜約７またはこれをわずかに上回る値である。
【００６５】
用いることのできるいくつかの市販のシリカは、これらに限定されないが、ＰＰＧ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（ペンシルベニア州ピッツバーグ）によって製造されたＨｉ−Ｓｉｌ（登録商標）１９０、Ｈｉ−Ｓｉｌ（登録商標）２１０、Ｈｉ−Ｓｉｌ（登録商標）２１５、Ｈｉ−Ｓｉｌ（登録商標）２３３、およびＨｉ−Ｓｉｌ（登録商標）２４３を含む。また、多くの有用な商用グレードの様々なシリカが、Ｄｅｇｕｓｓａ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（例えば、ＶＮ２、ＶＮ３）、Ｒｈｏｎｅ  Ｐｏｕｌｅｎｃ（例えば、Ｚｅｏｓｉｌ（登録商標）１１６５ＭＰ）、およびＪ．Ｍ．Ｈｕｂｅｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能である。
【００６６】
前記ケトキシモシラン化合物は、ＶＯＣを発生するアルコキシシラン基を含まないため、ＶＯＣの発生量を低くないしＶＯＣを発生させない状態を保ちながら、所望に応じて、配合物中に存在するシリカの量を、アルコキシシラン基を有する添加剤を含む配合物に含まれる量に極めて近い量とすることができる。通常、前記シリカは、ゴム１００部あたり約１５部（ｐｈｒ）〜約２００ｐｈｒの量で存在することができる。前記シリカは、約１５ｐｈｒ〜約１５０ｐｈｒ、約１５ｐｈｒ〜約１２０ｐｈｒ、約３０ｐｈｒ〜約９０ｐｈｒ、約６０ｐｈｒ〜約８０ｐｈｒの量でも存在することができる。複数の実施形態では、約８０〜約２００ｐｈｒ、約１００〜１９０ｐｈｒ、または約１２５〜約１８０ｐｈｒのような高充填量のシリカを含んでいてもよい。前記ケトキシモシランは、約０．０１ｐｈｒ〜約１５ｐｈｒ（約０．０２〜約５ｐｈｒ、約０．１〜約４ｐｈｒ、約０．５〜約３．５ｐｈｒ、または約１〜約３ｐｈｒなど）の量で存在することができる。別の言い方をすると、前記ケトキシモシランは、前記シリカに対して約０．０００７重量％〜約１００重量％（シリカに対して０．１重量％〜約２０重量％、約０．２〜約１５重量％、約０．５〜約１０重量％、または約１〜約６重量％など）の量で存在することができる。
【００６７】
別の実施形態では、これまでに開示したケトキシモシランは、カーボンブラックと配合されてもよい。前記カーボンブラックは、約１〜約７０ｐｈｒ（約５〜約５５ｐｈｒまたは１〜１０ｐｈｒなど）の範囲の量で存在することができる。前記カーボンブラックは、表面積（ＥＭＳＡ）が、例えば、少なくとも３５ｍ２／ｇから２００ｍ２／ｇまでまたはそれ以上など、少なくとも２０ｍ２／ｇのカーボンブラック等の一般に入手可能で商業的に製造されているカーボンブラックを含んでいてもよい。本願で用いられる表面積値は、臭化セチルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＢ）法を用いてＡＳＴＭ  Ｄ−１７６５によって決定される。有用なカーボンブラックには、ファーネスブラック、チャンネルブラックおよびランプブラックがある。特に、有用なカーボンブラックの例は、超摩耗ファーネス（ＳＡＦ）ブラック、高摩耗ファーネス（ＨＡＦ）ブラック、高速押し出しファーネス（ＦＥＦ）ブラック、微細ファーネス（ＦＦ）ブラック、中超摩耗ファーネス（ＩＳＡＦ）ブラック、半補強用ファーネス（ＳＲＦ）ブラック、中加工用チャネルブラック、硬質加工用チャネルブラックおよび導電性チャネルブラックを含む。用いることができる他のカーボンブラックは、アセチレンブラックを含む。本明細書に記載の組成物を調製する際には、上記のブラックの２つ以上の混合物を用いることができる。典型的な好ましいカーボンブラックは、ＡＳＴＭ  Ｄ−１７６５−８２ａによって定められるような、Ｎ−１１０、Ｎ−２２０、Ｎ−３３９、Ｎ−３３０、Ｎ−３５１、Ｎ−５５０、Ｎ−６６０である。前記加硫性エラストマー組成物の調製に用いられるカーボンブラックは、ペレット化された形態またはペレット化されていない凝集塊であってもよい。より均一な混合のために、ペレット化されていないカーボンブラックを用いてもよい。一の実施形態では、前記組成物は、有機充填剤と無機充填剤の混合物（カーボンブラックとシリカの混合物など）を含んでいてもよい。
【００６８】
クレー（含水ケイ酸アルミニウム）、タルク（含水ケイ酸マグネシウム）、アルミニウム水和物［Ａｌ（ＯＨ）３］および雲母等の鉱物充填剤、ならびに、尿素および硫酸ナトリウム等の非鉱物充填剤を含む所定の追加の充填剤を用いることができる。いくつかの実施形態では、雲母は、主にアルミナとシリカを含むが、他の既知の変形体も有用である。上記の追加の充填剤は、任意であり、約０．５〜約４０ｐｈｒ、約１〜約２０ｐｈｒ、および約１〜約１０ｐｈｒの量で用いることができる。
【００６９】
これまでに開示したケトキシモシランに加えて、ケトキシムは、カーボンブラック充填ゴム組成物中で驚くべき結果を示し、当該ケトキシムを、シリカ充填組成物で用いてもよい。一の実施形態では、前記ケトキシムは下記式Ｖの構造を有する：
【化２３】
0005859545.tif 000024
式中、Ｒ５およびＲ６は、上記のとおりであり、Ｒ１２は、水素、炭素数１〜６０の飽和または不飽和アルキル基であり、任意にＯ、Ｎ、Ｓおよび／またはＰのヘテロ原子を含み、または、Ｒ１２は、下記式ＶＩの構造を有する：
【化２４】
0005859545.tif 000025
式中、Ｒ２、Ｒ１０およびＲ１１は、上記のとおりである。例えば、このケトキシムは、例えば、シクロヘキサノンオキシム（ＣＨＯＸ）のような環状基中に４〜１６個または６〜１２個の炭素原子を有する環状ケトキシム、および、２−ブタノンオキシム（ＢＴＯＸ）等の非環状ケトキシムであってもよい。一の実施形態では、前記ケトキシムは、ジメチルグリオキシム等のジオキシムまたはトリオキシムであってもよい。
【００７０】
前記ケトキシムは、例えば、前記ゴム組成物中に、約０．０１〜約２０ｐｈｒ、約０．５〜約１０ｐｈｒ、または約０．２５〜約３ｐｈｒの量で存在してもよい。
【００７１】
ケトキシムは、当業者に既知の技法によって合成されてもよい。例えば、ケトンとヒドロキシルアミンとの縮合反応の反応生成物が、ケトキシムである。ケトオキシムは、亜硝酸塩と、酸性水素原子を含む化合物との反応からも得ることができる。
【００７２】
ケトキシムまたはケトキシモシランが添加剤としてカーボンブラック充填配合物に含まれる実施形態では、配合物の引裂強度と強靭性が驚くほど向上した。加えて、いくつかの実施形態では、カーボンブラック充填ゴムの熱老化特性も向上した。
【００７３】
好ましいカーボンブラックは、上記のものである。カーボンブラックは、約２０〜約１５０ｐｈｒ（約４０〜約９０ｐｈｒ、または約５０〜約７５ｐｈｒなど）の範囲の量で存在することができる。一の実施形態では、シリカ等の無機充填剤も前記ケトキシムゴム組成物中に存在してもよい。好ましいシリカおよび無機充填剤は、上記のものである。
【００７４】
一の実施形態では、前記ケトキシモは、例えば、シリカ充填ゴム組成物中で、アルコキシシランまたはメルカプトシランと組み合わせることができる。
【００７５】
前記ケトキシモシラン、ゴム、およびシリカ組成物の製造方法の１つの実施形態では、前記加硫性配合物は、（ａ）添加硫黄および／または硬化剤の非存在下、約１３０℃〜約２００℃の温度（滴下温度）で、エラストマーと、ケトキシモシランと、（シリカもしくはアルミニウム水和物、またはこれらとカーボンブラックとの混合物等の前記ケトキシモシランと反応する）無機充填剤と、任意に無機充填剤カップリング剤とを一緒に混合する工程と、（ｂ）その混合物を工程（ａ）の前記混合温度未満に冷却する工程と、（ｃ）得られた配合物を１以上の硬化剤と混合する工程によって調製される。前記配合物は、約１４０℃〜約２００℃で約５〜約１２０分間硬化されてもよい。所定の実施形態では、混合工程（ａ）の前記滴下温度は、約１４５℃〜約２００℃、または約１５５℃〜約１８０℃とすることができる。
【００７６】
最初の混合工程は、少なくとも２つの副工程を含むことができる。すなわち、最初の混合工程は、（ｉ）約１３０℃〜約２００℃の温度で、前記エラストマーと、前記シリカの少なくとも一部と、前記ケトキシモシランの少なくとも一部と、任意の無機充填剤カップリング剤の少なくとも一部とを、一緒に混合する副工程と、（ｉｉ）その混合物を工程（ａ）の前記混合温度未満に冷却する副工程と、（ｉｉｉ）１３０℃〜約２００℃の温度で、工程（ｉｉ）で得られた混合物を、もしあれば、前記シリカの残りと、もしあれば、前記ケトキシモシランの残りと、もしあれば、前記任意の無機充填剤カップリング剤の残りと、混合する副工程を含んでいてもよい。前記少なくとも２つの副工程によって実現される温度は、上記の温度範囲内において、互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００７７】
１つの実施形態では、前記ケトキシモシランおよびエラストマーは、マスターバッチに別々に加えられる。別の実施形態では、前記ケトキシモシランは、前記任意のカップリング剤が加えられた後に加えられる。
【００７８】
前記方法は、さらにリミル工程を含むことができ、当該リミル工程では、前記配合物の粘度を低下させ、前記シリカ補強充填剤の分散を向上させるために、何らの成分が前記最初の混合物に加えられないか、または、非硬化成分が加えられるかのいずれかである。前記リミル工程の前記滴下温度は、通常、約１３０℃〜約２００℃（約１４５℃〜約１６５℃など）である。
【００７９】
前記混合工程の最終工程は、最終配合物の十分な硬化を達成するための有効量の硫黄等の、１以上の硬化剤を前記混合物に加える工程である。前記配合物の無用な早期硬化を回避するために、最終混合物が混合される温度は、前記加硫温度未満であってもよい。したがって、一の実施形態では、最終混合工程の温度は、約１２０℃以下であり、通常は、約４０℃〜約１２０℃、好ましくは約６０℃〜約１１０℃、特に約７５℃〜約１００℃である。
【００８０】
前記カーボンブラックを充填した、ケトキシムまたはケトキシモシランおよびゴム組成物の製造方法の一実施形態では、前記加硫性配合物は、（ａ）約１３０℃〜約２００℃の温度（滴下温度）で、添加硫黄および硬化剤の非存在下にて、エラストマーと、ケトキシモシランまたはケトキシムと、カーボンブラックとを一緒に混合する工程と、（ｂ）得られた配合物を工程（ａ）の前記混合温度未満に冷却する工程と、（ｃ）得られた配合物を硬化剤と混合する工程によって調製される。前記配合物は、約１４０℃〜約２００℃で約５〜約１２０分間硬化されてもよい。所定の実施形態では、工程（ａ）の前記滴下温度は、約１４５℃〜約２００℃、または約１５５℃〜約１８０℃である。
【００８１】
最初の混合工程は、少なくとも２つの副工程を含むことができる。すなわち、最初の混合工程は、（ｉ）約１３０℃〜約２００℃の温度で、前記エラストマーと、前記カーボンブラックの少なくとも一部と、前記ケトキシモシランまたはケトキシムの少なくとも一部とを一緒に混合する副工程と、（ｉｉ）その混合物を前記混合温度未満に冷却する副工程と、（ｉｉｉ）１３０℃〜約２００℃の温度で、工程（ｉｉ）で得られた混合物を、もしあれば、前記カーボンブラックの残りと、もしあれば、前記ケトキシモシランまたはケトキシムの残りと、混合する副工程を含んでいてもよい。前記少なくとも２つの副工程によって実現される温度は、上記の温度範囲内において、互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００８２】
１つの実施形態では、前記ケトキシモシランまたはケトキシムおよび前記エラストマーは、マスターバッチに別々に加えられる。別の実施形態では、ケトキシムとケトキシモシランの両方が、前記エラストマーと共にマスターバッチに加えられる。
【００８３】
前記方法は、工程（ａ）から得た前記配合物に追加の成分を加えないリミル工程をさらに含むことができる。前記リミル工程の滴下温度は、通常、約１３０℃〜約２００℃（約１４５℃〜約１６５℃など）である。
【００８４】
前記混合工程の工程（ｃ）は、最終配合物の十分な硬化を達成するための有効量の硫黄等の、１以上の硬化剤を前記混合物に加える工程である。前記配合物の無用な早期硬化を回避するために、最終混合物が混合される温度は、前記加硫温度未満であってもよい。したがって、一の実施形態では、最終混合工程の温度は、約１２０℃以下であり、通常は、約４０℃〜約１２０℃、好ましくは約６０℃〜約１１０℃、特に約７５℃〜約１００℃である。
【００８５】
理論に束縛されるものではないが、前記オキシム官能基は、ゴム組成物の最終段階で硬化剤とともに混合されるときに、促進剤として機能すると考えられる。一の実施形態では、前記加硫性配合物は、（ａ）約１３０℃〜約２００℃の温度（滴下温度）で、添加硬化剤の非存在下にて、エラストマーとカーボンブラックとを一緒に混合する工程と、（ｂ）得られた配合物を工程（ａ）の前記混合温度未満に冷却する工程と、（ｃ）得られた配合物を、促進剤を含む硬化剤と混合する工程であって、当該促進剤が、オキシム部分、ケトキシム部分、またはケトキシモシラン部分を有する化合物を含む工程によって調製される。得られた配合物は、約１４０℃〜約２００℃で約５〜約１２０分硬化されてもよい。所定の実施形態では、工程（ａ）の前記滴下温度は、約１４５℃〜約２００℃、または約１５５℃〜約１８０℃である。
【００８６】
最初の混合工程は、少なくとも２つの副工程を含むことができる。すなわち、最初の混合工程は、（ｉ）約１３０℃〜約２００℃の温度で、前記エラストマーと、前記カーボンブラックの少なくとも一部とを一緒に混合する副工程と、（ｉｉ）その混合物を前記混合温度未満に冷却する副工程と、（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で得られた混合物を、前記カーボンブラックの残りと１３０℃〜約２００℃の温度で混合する副工程を含むことができる。前記少なくとも２つの副工程によって実現される温度は、上記の温度範囲内において、互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００８７】
前記方法は、工程（ａ）から得た前記配合物に追加の成分を加えない１以上のリミル工程をさらに含むことができる。前記リミル工程の滴下温度は、通常、約１３０℃〜約２００℃（約１４５℃〜約１６５℃など）である。
【００８８】
前記混合工程の最終工程は、促進剤のオキシム部分、ケトキシム部分、またはケトキシモシラン部分と、最終配合物の十分な硬化を達成するための有効量の硫黄等の硬化剤とを加える工程である。一の実施形態では、ＤＰＧ等の追加の促進剤も含まれる。前記配合物の無用な早期硬化を回避するために、最終混合工程の温度は、前記加硫温度未満であってもよい。したがって、一の実施形態では、最終混合工程の温度は、約１２０℃以下であり、通常は、約４０℃〜約１２０℃、好ましくは約６０℃〜約１１０℃、特に約７５℃〜約１００℃である。
【００８９】
本明細書に記載されている開示内容と以下の実施例に基づいて、ゴム配合分野の当業者は、過度の実験を行うことなく、前記配合物の十分な硬化に要求される硫黄の有効量を決定することができる。硫黄の典型的な量は、１〜１０ｐｈｒ（１．２５〜６ｐｈｒ、または１．５〜４ｐｈｒなど）である。前記硫黄は、可溶性硫黄、不溶性硫黄、もしくは加硫剤として後述する硫黄供与性化合物のいずれか、またはこれらの混合物を含む任意の形態を取ることができる。
【００９０】
本明細書に開示される組成物は、重合性溶液または重合性エラストマーのエマルジョンを含む。例えば、共役ジエンモノマー、モノビニル芳香族モノマー、またはトリエンモノマーは、アニオン重合して、共役ジエンポリマー、または、共役ジエンモノマーとモノビニル芳香族モノマー（例えば、スチレン、αメチルスチレン）とトリエンモノマーのコポリマーもしくはターポリマーを形成することができる。したがって、そのエラストマー生成物は、モノマーＡからのジエンホモポリマー、および、モノマーＡとモノビニル芳香族モノマーＢとのコポリマーを含むことができる。例示的なジエンホモポリマーは、約４〜約１２個の炭素原子を有するジオレフィンモノマーから調製されるものである。例示的なビニル芳香族コポリマーは、約８〜約２０個の炭素原子を有するモノマーから調製されるものである。コポリマーは、合計１００％となる、約９９重量％〜約５０重量％のジエン単位と、約１〜約５０重量％のモノビニル芳香族またはトリエン単位とを含むことができる。本開示のポリマー、コポリマー、およびターポリマーは、ジエン含有量に対して約１０％〜約８０％の範囲の１，２−ミクロ構造含有率を有することがあり、前記ポリマー、コポリマー、またはターポリマーは、ジエン含有量に対して約２５％〜６５％の範囲の１，２−ミクロ構造含有率を有することがある。前記エラストマーコポリマーは、当該技術分野において既知のように、ランダム化剤とともにモノマーＡとＢとを同時に共重合した結果得られるランダムコポリマーであってもよい。
【００９１】
前記ケトキシモシランを含む加硫エラストマー組成物において用いるためのゴムポリマーの例は、スチレン／ブタジエンコポリマー、ポリイソプレン、ポリブタジエン、ブタジエン／イソプレンコポリマー、ブタジエン／イソプレン／スチレンターポリマー、イソプレン／スチレンコポリマー、天然ゴム、ブチルゴム、ハロブチルゴム、エチレン−プロピレン−ジエンゴムおよびこれらの組み合わせを含む。
【００９２】
共役ジエンポリマー、または、共役ジエンモノマーとモノビニル芳香族モノマーとのコポリマーもしくはターポリマーは、トレッドストック配合物中のゴムの１００部として用いることができ、それらは、天然ゴム、合成ゴムおよびこれらのブレンドを含むトレッドストックゴムとブレンドすることができる。斯かるゴムは、合成ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、スチレン−イソプレン−ブタジエンゴム、スチレン−イソプレンゴム、ブタジエン−イソプレンゴム、ポリブタジエン、ブチルゴム、ネオプレン、エチレン−プロピレンゴム、エチレン−プロピレン−ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、シリコーンゴム、フルオロエラストマー、エチレンアクリルゴム、エチレン酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、エピクロロヒドリンゴム、塩素化ポリエチレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴム、水素化ニトリルゴム、テトラフルオロエチレン−プロピレンゴムを含む。加硫性エラストマー組成物が追加のゴムとブレンドされる場合、その量は、ゴムの総重量に対して約１０重量％〜２０重量％を含む下限に応じて幅広く変動することができる。その最小量は、主に所望の物理的特性に依存する。
【００９３】
いくつかの実施形態では、前記加硫性エラストマーは、アルコキシ基または窒素変性アルコキシ基によって官能化されたポリマーのように、前記無機充填剤との反応性を有する部分で官能化されていてもよい。
【００９４】
前記ケトキシモシランまたはケトキシムを含む加硫エラストマー配合物は、上記の方法によって調製される。前記様々な加硫性ポリマーを、硬化剤、活性剤、遅延剤および促進剤、オイルのような加工添加剤、樹脂（粘着付与樹脂を含む）、可塑剤、顔料、追加の充填剤、脂肪酸、酸化亜鉛、ワックス、抗酸化剤、オゾン劣化防止剤、素練り促進剤等の様々な一般に用いられている添加剤物質と混合する等のゴム配合分野において一般に知られた方法により前記ゴム配合物が配合されることが、当業者に容易に理解される。当業者にとって既知なように、硫黄加硫性物質および硫黄加硫物質（ゴム）の目的の用途に応じて、標準的なゴム混合装置および手順を用いて、例えば他の充填剤、可塑剤、抗酸化剤、および硬化剤を含む他の従来のゴム添加剤に加えて、上記の添加剤が、選択され、従来の量で一般的に使用される。
【００９５】
本明細書に開示される組成物は、タイヤ、ならびにパワーベルトおよび防振ゴム等のタイヤ以外の製品を製造するために用いられてもよい。低減した転がり抵抗は、もちろんラジアルタイプおよびバイアスプライタイプ両方の空気入りタイヤの有用な特性であり、本明細書に開示される加硫性ゴム組成物は、斯かるタイヤのトレッドストックを形成するのに利用することができる。空気入りタイヤは、米国特許第５，８６６，１７１号、同第５，８７６，５２７号、同第５，９３１，２１１号、および同第５，９７１，０４６号（これらの開示内容は参照により本明細書に組み込まれる）に開示された説明に従って製造することができる。前記組成物は、サブトレッド、サイドウォール、ボディプライスキン、ビードフィラー、エペックス、チェーファー、サイドウォールインサート、ワイヤーコート、およびインナーライナー等のその他のエラストマータイヤ部材の形成に使用することができる。
【００９６】
粘着付与樹脂を用いる場合、その一般的な量は、約０．５〜約１０ｐｈｒ、通常は約１〜約５ｐｈｒを含む。配合助剤の一般的な量は、約１〜約５０ｐｈｒを含む。斯かる配合助剤は、例えば、芳香族、ナフテン系、および／またはパラフィン系プロセスオイルを含むことができる。抗酸化剤の一般的な量は、約０．１〜約５ｐｈｒを含む。ジフェニル−p−フェニレンジアミン等の好ましい抗酸化剤は、当業者にとって既知である。オゾン劣化防止剤の一般的な量は、約０．１〜約５ｐｈｒを含む。
【００９７】
脂肪酸（ステアリン酸、パルミチン酸、リノール酸または１以上の脂肪酸の混合物を含んでいてもよい）を用いる場合、その一般的な量は、約０．５〜約３ｐｈｒを含む。酸化亜鉛の一般的な量は、約１〜約５ｐｈｒを含む。ワックスの一般的な量は、約１〜約２ｐｈｒを含む。しばしば、マイクロクリスタリンワックスが用いられる。素練り促進剤を用いる場合、その一般的な量は、約０．１〜約１ｐｈｒを含む。一般的な素練り促進剤は、例えば、ペンタクロロチオフェノールおよびジベンズアミドジフェニルジスルフィドであってもよい。
【００９８】
強化ゴム配合物は、約０．１〜１０ｐｈｒの既知の加硫剤を用いて、従来の方法で硬化することができる。好ましい加硫剤の一般的な開示内容については、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，３ｒｄ  ｅｄ．，Ｗｉｌｅｙ  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎ．Ｙ．１９８２，Ｖｏｌ．２０，ｐｐ．３６５−４６８、具体的には“Ｖｕｌｃａｎｉｚａｔｉｏｎ  Ａｇｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ａｕｘｉｌｉａｒｙ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，”ｐｐ．３９０−４０２を参照することができる。加硫剤は、単独で、または組み合わせて用いることができる。
【００９９】
加硫は、硫黄加硫剤の存在下で行われる。好ましい硫黄加硫剤の例は、「ｒｕｂｂｅｒｍａｋｅｒ」の可溶性硫黄；アミンジスルフィド、ポリマー性ポリスルフィドまたは硫黄オレフィン付加体等の硫黄供与性加硫剤；および不溶性ポリマー性硫黄を含む。好ましくは、前記硫黄加硫剤は、可溶性硫黄、または可溶性および不溶性ポリマー性硫黄の混合物である。前記硫黄加硫剤は、約０．１〜約１０ｐｈｒ（約１．５〜約７．５ｐｈｒ、または約１．５〜約５ｐｈｒなど）の範囲の量で用いられる。
【０１００】
加硫に必要な時間および／または温度を制御し、そして前記加硫物の特性を向上させるために、促進剤が使用される。本開示の組成物で用いられる加硫促進剤は、特に限定されない。例は、２−メルカプトベンゾチアゾール（ＭＢＴＳ）、ジベンゾチアジルジスルフィド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド（ＣＢＳ）、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド（ＴＢＢＳ）等のチアゾール加硫促進剤；および、ジフェニルグアニジン（ＤＰＧ）等のグアニジン加硫促進剤を含む。使用される加硫促進剤の量は、約０．１〜約５ｐｈｒ、好ましくは約０．２〜約３ｐｈｒである。
【０１０１】
前記ケトキシモシラン含有またはケトキシム含有硫黄加硫エラストマー配合物から製造された少なくとも１つの部材を含む空気入りタイヤは、その配合物を含まないタイヤに比べて、向上した特性を与える。
【実施例】
【０１０２】
以下の実施例は、代表的なゴム組成物およびケトキシモシランの調製方法を説明するものである。しかしながら、これらの実施例は限定することを意図しておらず、記載されている方法に従って、他のケトキシモシランを調製することができる。さらに、それらの方法は例示的なものに過ぎず、様々な配合組成を含め、前記ケトキシモシラン、およびゴム配合物を調製するための他の方法が、本明細書に開示および特許請求されている開示内容の範囲を逸脱することなく、当業者によって決定され得る。
【０１０３】
（例１）
ｎ−オクチルジメチルメチルエチルケトキシモシラン（ＯＤＭＫＳ）の合成を以下のように行った。２−ブタノンオキシムを、トルエン溶媒中でｎ−オクチルジメチルメトキシシランと反応させた。その混合物を加熱し、メタノールの発生が止まるまで１３５〜１５０℃で還流した。残存メタノールおよび溶媒の除去後、生成物を得た。ＧＣ−ＦＩＤ分析によって、収率９７％でＯＤＭＫＳが形成されたことが明らかになった。アルコール分析によって、ＯＤＭＫＳ中に０．０２％の遊離のメタノールと１．７０％の潜在メタノールが存在することが示された。
【０１０４】
（例２〜５）
ＯＤＭＫＳをシリカ（４５ｐｈｒ）充填ＳＢＲトレッド配合組成で評価した。すべての分量をゴム１００部あたりの部（ｐｈｒ）で示す。マスターバッチ（ＭＢ）は、１５３℃の滴下温度で調製し、４．５ｐｈｒのビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド（「Ｓ２シラン」）または５〜８ｐｈｒのＯＤＭＫＳのいずれか；１００ｐｈｒのＳＢＲ（２３．５％スチレン、ビニル含有率１１％、および−６２℃のＴｇ、Ｆｉｒｅｓｔｏｎｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｕｒａｄｅｎｅ７０６）、各種量のオイル；２ｐｈｒのステアリン酸；ならびに、１ｐｈｒの６ＰＰＤ抗酸化剤を含めた。リミル（ＲＭ１）段階を用いて、１４５℃まで混合し、その混合物をさらに均質化した。最終段階では、１０５℃で２．５ｐｈｒの酸化亜鉛、１．５ｐｈｒのＴＢＢＳ、１．５ｐｈｒのＭＢＴＳ、１．５ｐｈｒのＤＰＧ、および硬化剤としての１〜１．７８ｐｈｒの硫黄の追加を含めた。表１に、充填したＳ２シラン、ＯＤＭＫＳ、およびオイルを示す。各例における対応する液体含有量は、プロセスオイルの充填量を調節することによって得た。例２〜４には、例１と比較した際に不足した硫黄を補うために、さらに硫黄を加えた（ＯＤＭＫＳ中の単一の硫黄原子の代わりに、前記Ｓ２シラン中に２個の硫黄原子が存在するため）。得られたゴムサンプルを１７１℃で１５分間硬化した。
【０１０５】
【表１】
0005859545.tif 000026
【０１０６】
例２〜５の加工性は、配合物のムーニー粘度の分析によって評価した（表２参照）。ムーニー（ＭＬ  １＋４）粘度の測定は、大ローターを用いて１３０℃で行った。ムーニー粘度は、前記ローターを４分間回転させたときのトルクとして記録した。ローターを起動する前に、前記サンプルを１３０℃で１分間予熱した。Ｔ５は、ムーニー粘度およびスコーチタイムの測定中、ムーニー粘度が５単位上昇するのに要する時間である。
【０１０７】
【表２】
0005859545.tif 000027
【０１０８】
ＯＤＭＫＳを含む配合物（例４および５）では、コントロールの例２および３の配合物よりもムーニー粘度（ＭＬ  １＋４）が低く、Ｔ５が長いことが分かった。その結果から、前記ＯＤＭＫＳが、シリカと反応し、遮蔽剤として機能し、低いムーニー粘度（ＭＬ１＋４）と長いＴ５をもたらすと考えられる。
【０１０９】
例２〜５の充填剤の凝集挙動を、１７１℃で１５分間の熱アニール前後の硬化剤を含まない例におけるＰａｙｎｅ効果データ（δ（ΔＧ’））の変化を分析することによって、評価した。（δ（ΔＧ’））は、以下のように定義する。
δ（ΔＧ’）＝ΔＧ’（熱アニール後）−ΔＧ’（熱アニール前）
【０１１０】
前記Ｇ’は、ＲＰＡ２０００  Ｒｕｂｂｅｒ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ａｌｐｈａ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ）を用いて、５０℃、０．１Ｈｚで、歪みを０．２５％から１０００％まで変化させて歪み掃引実験により測定した。損失弾性係数（Ｇ”）、歪み、せん断速度、粘度、およびトルク等のレオロジーデータは、上記と同じ計器で測定した。１７１℃で１５分間の熱アニールによって、加硫中に通常直面する熱履歴をシミュレートした。続いて、そのアニールしたゴム配合物を４０℃まで３０分間で冷却した後、前記ＲＰＡ２０００を用いて歪み掃引実験を開始した。
【０１１１】
測定されたδ（ΔＧ’）は、充填剤の凝集の正味の変化、および、シリカの疎水化の程度の指標である。ゴム中で充填剤が疎水化するほど、加熱時に充填剤は凝集しなくなるため、δ（ΔＧ’）は低くなる。
【０１１２】
表３に示すように、充填剤の凝集が、ＯＤＭＫＳの存在によって大きく抑制されたことが見出された。これらの結果は、例４および５（ＯＤＭＫＳを含む）ではシリカの疎水化の程度が高いことを示唆している。例４および５の低いδ（ΔＧ’）は、シリカ充填ゴム中のＯＤＭＫＳのシリカ遮蔽（疎水化）効果を示している。これらの結果は、例４および５の粘度の向上に関する発見と整合する。
【０１１３】
【表３】
0005859545.tif 000028
【０１１４】
Ｍｏｎｓａｎｔｏ  Ｒｈｅｏｍｅｔｅｒ  ＭＤ２０００を用いて、周波数１．６７Ｈｚ、歪み７％、１６０℃の条件で硬化工程を明らかにした。斯かる測定からＴＳ２およびＴ９０を得た。これらは、トルクが、硬化工程中の総トルク上昇値の２％と９０％まで上昇したときの時間である。
【０１１５】
【表４】
0005859545.tif 000029
【０１１６】
例２〜５の動的粘弾性の機械的特性は、−１００℃〜−２０℃の温度範囲において０．５％の歪み、および−２０℃〜１００℃の温度範囲において２％の歪みで、周波数３１．４ラジアン／秒で行った温度掃引（ｔｍｐ  ｓｗｐ）実験から得た。また、６０℃でのｔａｎδデータは、２％の歪みレベルでの歪み掃引（ｓｔｒ  ｓｗｐ）測定から得た。０．２５％〜１４．７５％の歪み掃引で、３０、６０、および０℃で行った歪み掃引では、周波数３．１４ラジアン／秒を用いた。前記動的圧縮試験を用いて、その他の粘弾特性を測定した。動的圧縮試験で用いたサンプル形状は、直径９．５ｍｍ、長さ１５．６ｍｍの円柱形ボタンである。試験前に、そのサンプルを２ｋｇの静荷重で圧縮した。それが平衡状態に達した後、１．２５ｋｇの動的圧縮荷重、周波数１Ｈｚで試験を開始した。続いて、そのサンプルを動的に圧縮してから伸ばし、得られた変位とヒステリシス（ｔａｎδ）を記録した。
【０１１７】
【表５】
0005859545.tif 000030
【０１１８】
表５は、例４および５が、コントロールの例２に比べて、０℃および３０℃のｔａｎδが高く、２０℃のＧ’が低いことを示している。例５のように、ＯＤＭＫＳの充填量が８ｐｈｒであるとき、その組成物の６０℃のｔａｎδは、例２の組成物（Ｓ２シランを含む）のｔａｎδと同程度である。
【０１１９】
加えて、２５℃でＡＳＴＭ−Ｄ４１２に記載されている標準的な手順を用いて、例２〜５の引張機械的特性を測定した。その結果を表６に示す。試験片の形状は、切り込みの入った、厚み２．５ｍｍ、内径４４ｍｍ、および外径５７．５ｍｍの寸法の円形リングであった。その引張試験では、２５．４ｍｍの特定のゲージ長を用いる。
【０１２０】
【表６】
0005859545.tif 000031
【０１２１】
表６は、例４および５におけるＥｂと強靭性の向上を示している。
【０１２２】
（例６〜９）
例６〜９では、例１で調製したようなＯＤＭＫＳをＳＢＲゴムシリカ充填（４５ｐｈｒ）組成物で評価した。すべての分量をゴム１００部あたりの部（ｐｈｒ）で示す。マスターバッチ（ＭＢ）は、１５３℃の滴下温度で調製し、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン（ＭＰＴＥＳ）とともに、またはＭＰＴＥＳなしで、４．５ｐｈｒのＳ２シランまたは３ｐｈｒのＯＤＭＫＳのいずれかを含めた。例６〜９には、１００ｐｈｒのＳＢＲ（２３．５％スチレン、ビニル含有率１１％、−６２℃のＴｇ、Ｆｉｒｅｓｔｏｎｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｕｒａｄｅｎｅ７０６）、２ｐｈｒのステアリン酸、１ｐｈｒの６ＰＰＤ抗酸化剤、および各種量のオイルも含めた。リミル段階（ＲＭ１）を用いて、１４５℃まで混合し、その混合物をさらに均質化した。最終バッチには、１０５℃で２．５ｐｈｒの酸化亜鉛、１．５ｐｈｒのＴＢＢＳ、１．５ｐｈｒのＭＢＴＳ、１．５ｐｈｒのＤＰＧ、および硬化剤としての１〜１．７８ｐｈｒの硫黄の追加を含めた。表７に変量成分の充填量を示す。各例における対応する液体含有量は、プロセスオイルの充填量を調節することによって得た。例７〜９には、例６と比較した際に不足する硫黄を補うために、さらに硫黄を加えた（ＯＤＭＫＳ中の単一の硫黄原子の代わりに、前記Ｓ２シラン中に２個の硫黄原子が存在するため）。得られたゴムサンプルを１７１℃で１５分間硬化した。
【０１２３】
【表７】
0005859545.tif 000032
【０１２４】
例６〜９の加工性は、配合物のムーニー粘度の分析によって評価した（表８参照）。ムーニー（ＭＬ１＋４）粘度の測定は、大ローターを用いて１３０℃で行った。ムーニー粘度は、前記ローターを４分間回転させたときのトルクとして記録した。ローターを起動する前に、前記サンプルを１３０℃で１分間予熱した。Ｔ５は、ムーニー粘度およびスコーチタイムの測定中、ムーニー粘度が５単位上昇するのに要する時間である。
【０１２５】
ＯＤＭＫＳを含む配合物（例７、８、および９）では、例６の配合物よりもムーニー粘度（ＭＬ１＋４）が低く、Ｔ５が長いことが分かった。ＭＰＴＥＳを加えたところ、配合物のムーニー粘度（ＭＬ１＋４）は上昇したが、コントロールの例６よりも依然として低い程度に過ぎなかった。
【０１２６】
【表８】
0005859545.tif 000033
【０１２７】
グリーン配合物のＶＯＣは、Ｌｉｎ，ｅｔ  ａｌ．，ＲＣ＆Ｔ，Ｖｏｌ．７５，ｐ．２１５，２００２（参照により本明細書に組み込まれる）による既存の文献中の方法に従って測定した。その結果を表９に示す。
【０１２８】
【表９】
0005859545.tif 000034
【０１２９】
例７〜９の潜在アルコールは、コントロールの例６に比べてかなり低減している。潜在エタノール含有量は、例７では検出不可能であった。
【０１３０】
例６〜９の動的粘弾性の機械的特性は、−１００℃〜−２０℃の温度範囲において０．５％の歪み、および−２０℃〜１００℃の温度範囲において２％の歪みで、周波数３１．４ラジアン／秒で行った温度掃引（ｔｍｐ  ｓｗｐ）実験から得た。その測定に２％の歪みを採用した。また、６０℃でのｔａｎδデータは、２％の歪みレベルでの歪み掃引（ｓｔｒ  ｓｗｐ）測定から得た。０．２５％〜１４．７５％の歪み掃引で、３０、６０、および０℃で行った歪み掃引では、周波数３．１４ラジアン／秒を用いた。前記動的圧縮試験を用いて、その他の粘弾特性を測定した。動的圧縮試験で用いたサンプル形状は、直径９．５ｍｍ、長さ１５．６ｍｍの円柱形ボタンである。試験前に、そのサンプルを２ｋｇの静荷重で圧縮した。それが平衡状態に達した後、１．２５ｋｇの動的圧縮荷重、周波数１Ｈｚで試験を開始した。続いて、そのサンプルを動的に圧縮してから伸ばし、得られた変位とヒステリシス（ｔａｎδ）を記録した。
【０１３１】
温度掃引分析の結果を表１０に示す。例６〜９の０℃のｔａｎδはすべて同程度であった。例８および９の６０℃のｔａｎδは、例７よりも２０〜６０％低く、例６よりも１０〜５０％低い。これらの例のｔａｎδの温度依存性を図１に示す。例８および９では強い温度依存性が見出された。すなわち、例８および９では、強いポリマー−充填剤相互作用が示唆される。例７〜９の２０℃のＧ’は、、コントロールの例６に比べて低いことが分かった。
【０１３２】
【表１０】
0005859545.tif 000035
【０１３３】
例６〜９の耐反発性をＺｗｉｃｋの反発弾性テスターで試験した。サンプル形状は、直径１．５０インチ、厚み０．０７５インチの円形である。サンプル片を１／２サイクル変形させた。衝突後に自由に反発する圧子に試験片を衝突させることによって、サンプルを歪ませた。反発弾性は、衝突前後の機械的エネルギーの比として定義される。試験前に、サンプルを６０℃の温度で３０分間予熱した。
【０１３４】
反発試験結果を表１１に示し、例８および９の分析で、高い弾性値が見られた。
【０１３５】
【表１１】
0005859545.tif 000036
【０１３６】
２５℃でＡＳＴＭ−Ｄ４１２に記載されている標準的な手順を用いて、引張機械的特性を測定した。試験片は、切り込みの入った、厚み２．５ｍｍインチ、内径４４ｍｍ、および外径５７．５ｍｍの寸法の円形リングであった。その引張試験では、２５．４ｍｍインチの特定のゲージ長を用いた。
【０１３７】
【表１２】
0005859545.tif 000037
【０１３８】
表１２は、例８のＭ５０およびＭ３００を含む弾性係数が、例７（ＭＰＴＥＳを含まない）よりも向上したことを示している。また、図２に示すように、例８の動的弾性係数Ｇ’は、例７よりも向上した。例８および９のＧ’は、高い歪みで測定したとき、コントロールの例６と同程度である。
【０１３９】
例６〜９の耐摩耗性は、ランボーン試験を用いて評価した。試験相手材は、概算寸法が内径２２．８６ｍｍ、外径４８．２６ｍｍ、厚み４．９５ｍｍである円形ドーナツ形状であった。試験片を軸上に置き、６５％のスリップ率で、駆動磨耗面に対して、ある期間にわたって行った。重量損失（磨耗速度）対時間の傾斜としてデータを取った。コントロールの磨耗速度の、試験サンプルの磨耗速度に対する比から磨耗指数を得た。
摩耗指数が高いサンプルは、より優れた耐摩耗特性を有する。
【０１４０】
【表１３】
0005859545.tif 000038
【０１４１】
（例１０）
ｎ−オクチルジメチルシクロヘキサノンケトキシモシラン（ＯＤＭＣＫＳ）の合成法をスキーム１に示す。冷却器およびＣａＣｌ２乾燥管を備えた３口丸底フラスコに、５．８ｇ（０．２５モル）のナトリウムと２５０ｍｌのトルエンを投入した。続いて、トルエンの還流温度で激しく攪拌して、金属ナトリウムを微粉化した。得られた混合物に、１５０ｍｌのトルエンに溶解した２８．３ｇ（０．２５モル）のシクロヘキサノンオキシムをゆっくり加えた。得られた生成物は、ペースト様のちょう度を有し、次いで室温まで冷却した。フラスコの内容物に、４６．５ｇ（０．２２５モル）のオクチルジメチルクロロシラン（ＯＤＭＳ）をゆっくり加えた。１３０℃で１時間還流後、その混合物を室温まで冷却し、ろ過した。ろ液からトルエンを除去して、液体生成物を得た。この生成物をＧＣ−ＭＳおよび１Ｈ−ＮＭＲによって同定した。
【化２５】
0005859545.tif 000039
【０１４２】
（例１１）
例１１Ａ〜１１Ｇでは、例１０のｎ−オクチルジメチルシクロヘキサノンケトキシモシランを他のシリカカップリング剤とともに、シリカ充填ゴム中で、以下に説明するように評価した。
【０１４３】
１００ｐｈｒのスチレン−ブタジエンゴム（２５％スチレン、−４５℃のＴｇ）を５５ｐｈｒのシリカと混合し、表１４に挙げたシラン、１０ｐｈｒのオイル、２ｐｈｒのステアリン酸、２ｐｈｒのワックス、および１ｐｈｒの６ＰＰＤ抗酸化剤を１５４℃でマスターバッチ（ＭＢ）中で混合した。リミル混合段階（ＲＭ１）を用いて、１４５℃まで混合し、その混合物をさらに均質化した。最終混合段階では、１０５℃で２．５ｐｈｒの酸化亜鉛、０．７ｐｈｒのＴＢＢＳ、２ｐｈｒのＭＢＴＳ、１．４ｐｈｒのＤＰＧおよび硬化剤としての変量の硫黄（表１４に示すような）の追加を含めた。表１４にその硫黄の量を示した。これらの充填量は、例１１Ｂ〜１１Ｄにおいて一定で、例１１Ｅ〜１１Ｇにおいても一定であった。Ｓ２シラン中の余分な硫黄原子を考慮して、例１１Ａの硫黄を少なくした。１７１℃で１５分間、硬化を行った。
【０１４４】
例１０で合成したＯＤＭＣＫＳを例１１Ｄで評価した。Ｓ２シランとの比較を例１１Ａで行った。また、比較目的で、ｎ−オクチルメトキシジメチルシラン（ＯＤＭＳ）とｎ−オクチルトリエトキシシラン（ＯＴＥＳ）を例１１Ｃおよび１１Ｂで用いた。シラン官能基のモル比を一定に保つために、シランの充填量を変えた。
【０１４５】
例１１Ｅ〜１１Ｇでは、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン（ＭＰＳ）とともに、またはＭＰＳなしで、ＯＴＥＳ、ＯＤＭＳ、およびＯＤＭＣＫＳ（例１０のもの）の評価を行った。
【０１４６】
【表１４】
0005859545.tif 000040
【０１４７】
ゴム配合物の加工性は、配合物のムーニー粘度の分析によって評価した。ムーニー粘度（ＭＬ）の測定は、大ローターを用いて１３０℃で行った。ムーニー粘度は、前記ローターを４分間回転させたときのトルクとして記録した。ローターを起動する前に、前記サンプルを１３０℃で１分間予熱した。
【０１４８】
例１１Ａ（Ｓ２シランを含む）と比較すると、試験配合物では、ＭＬは低かった。
【０１４９】
【表１５】
0005859545.tif 000041
【０１５０】
Ｍｏｎｓａｎｔｏ  Ｒｈｅｏｍｅｔｅｒ  ＭＤ２０００を用いて、周波数１．６７Ｈｚ、歪み７％、１６０℃の条件でストック硬化工程を明らかにした。斯かる測定からＴＳ２およびＴ９０を得た。これらは、それぞれ、トルクが、硬化工程中の総トルク上昇値の２％と９０％まで上昇したときの時間である。その結果を表１６に示す。
【０１５１】
【表１６】
0005859545.tif 000042
【０１５２】
表１７に示すように、ｎ−オクチルジメチルシクロヘキサノンケトキシモシラン（ＯＤＭＣＫＳ）は、配合物のムーニー粘度を上昇させることなく、ＯＴＥＳに比べて、２３℃および１００℃の両方でシリカ充填ゴムの強靭性を向上させた。３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン（ＭＰＳ）を加えたところ、全ての遮蔽剤について、Ｍ５０およびＭ３００が向上した。
【０１５３】
【表１７】
0005859545.tif 000043
【０１５４】
表１５および１７に示すように、ｎ−オクチルジメチルシクロヘキサノンケトキシモシラン（ＯＤＭＣＫＳ）は、配合物のムーニー粘度を上昇させることなく、例１１Ｂおよび１１ＥのＯＴＥＳに比べて、２３℃および１００℃の両方で、シリカ充填ゴムの強靭性を向上させた。
【０１５５】
表１８に示すように、（ａ）−１００℃〜−２０℃の温度範囲において０．５％の歪み、−２０℃〜１００℃の温度範囲において２％の歪みを用いて周波数３１．４ラジアン／秒で行った温度掃引（ｔｍｐ  ｓｗｐ）実験；（ｂ）周波数３．１４ラジアン／秒での歪み掃引（ｓｔｒ  ｓｗｐ）測定と０．２５％〜１４．７５％の歪み掃引；および（ｃ）動的圧縮試験による、（１）動的せん断粘弾性の機械的特性によって、配合物の剛性を測定した。動的圧縮試験で用いたサンプル形状は、直径９．５ｍｍ、長さ１５．６ｍｍの円柱形ボタンである。試験前に、そのサンプルを２ｋｇの静荷重で圧縮した。それが平衡状態に達した後、１．２５ｋｇの動的圧縮荷重、周波数１Ｈｚで試験を開始した。続いて、そのサンプルを動的に圧縮してから伸ばし、得られたｔａｎδを記録した。
【０１５６】
【表１８】
0005859545.tif 000044
【０１５７】
（例１２）
上記の例１０のように合成したｎ−オクチルジメチルシクロヘキサノンケトキシモシランとシクロヘキサノンオキシムをカーボンブラック充填ゴム中で、以下のように評価した。
【０１５８】
５０ｐｈｒのカーボンブラック配合組成を配合に用いるとともに、各例におけるオイル含有量は、前記添加剤の存在を考慮して調節した。すべての分量をゴム１００部あたりの部（ｐｈｒ）で示す。ｎ−オクチルジメチルシクロヘキサノンケトキシモシラン（ＯＤＭＣＫＳ）またはシクロヘキサノンオキシム（ＣＨＯＸ）を添加剤として用いた。１００ｐｈｒのスチレン−ブタジエンゴム（２５％スチレン、−４５℃のＴｇ）、各種量のオイル、２ｐｈｒのステアリン酸、および０．９５ｐｈｒの６ＰＰＤを１６５℃までマスターバッチ（ＭＢ）段階で混合した。リミル段階（ＲＭ１）を用いて、１６０℃まで混合し、その混合物をさらに均質化した。最終段階は、１０５℃で２．５ｐｈｒの酸化亜鉛、１．５ｐｈｒのＴＢＢＳ、１．５ｐｈｒのＭＢＴＳ、１．５ｐｈｒのＤＰＧおよび硬化剤としての１．５ｐｈｒの硫黄を追加することから構成した。成分充填量を表１８に示す。１７１℃で１５分間、硬化を行った。コントロールの例１２Ａでは、ＯＤＭＣＫＳまたはＣＨＯＸの添加剤はなかった。
【０１５９】
【表１９】
0005859545.tif 000045
【０１６０】
表１９は、カーボンブラック充填ゴムの引裂強度を示す。
【０１６１】
【表２０】
0005859545.tif 000046
【０１６２】
表２０は、熱老化がある場合とない場合のカーボンブラック充填配合物の機械的特性を示す。表２１は、ＣＨＯＸおよびＯＤＭＣＫＳの熱老化特性を示す。
【０１６３】
【表２１】
0005859545.tif 000047
【０１６４】
（例１３）
また、カーボンブラック充填ゴムでの２−ブタノンオキシム（ＢＴＯＸ）の評価を行った。
【０１６５】
表２１に示すように、各種量のＢＴＯＸおよびオイルを１００ｐｈｒのスチレン−ブタジエン（ＳＢＲ）（２５％スチレン、−４５℃のＴｇ）、４１ｐｈｒのカーボンブラック、２．５ｐｈｒのＺｎＯ、２ｐｈｒのステアリン酸、１ｐｈｒのワックスおよび０．９５ｐｈｒの６ＰＰＤとともに加えた。これらの成分をマスターバッチ段階（ＭＢ）で１６０℃まで混合した。リミル段階（ＲＭ１）を用いて、１５３℃まで混合し、その混合物をさらに均質化した。最終段階には、１０５℃で１．７ｐｈｒのＣＢＳ、様々な量のＤＰＧ、および硬化剤としての１．３ｐｈｒの硫黄の追加を含めた。１７１℃で１５分間、硬化を行った。
【０１６６】
【表２２】
0005859545.tif 000048
【０１６７】
Ｍｏｎｓａｎｔｏ  Ｒｈｅｏｍｅｔｅｒ  ＭＤ２０００を用いて、周波数１．６７Ｈｚ、歪み７％、１６０℃の条件でストック硬化工程を明らかにした。斯かる測定からＴＳ２およびＴ９０を得た。これらは、それぞれ、トルクが、硬化工程中の総トルク上昇値の２％と９０％まで上昇したときの時間である。表２３に示すように、ゴムストックの硬化特性の有意な変化は見られなかった。ＤＰＧを含む例１３Ａは、ＢＴＯＸを含むストック１３Ｆと同様の挙動を見せた。
【０１６８】
【表２３】
0005859545.tif 000049
【０１６９】
また、ＢＴＯＸ含有量の増大によって、ゴムの引裂強度および強靭性が向上し、かつ、結合ゴムの含有量もわずかに増大した。
【０１７０】
【表２４】
0005859545.tif 000050
【０１７１】
（例１４）
１，８−ビス［（メチルエチルケトキシモ）ジメチルシリル］オクタン（ＢＤＭＫＳＯ）の合成をスキーム２に示す。冷却器およびＣａＣｌ２乾燥管を備えた３口丸底フラスコ内で、５７ｇ（０．６６モル）の２−ブタノンオキシムを２００ｍｌのトルエンと混合した。１３０℃で２時間還流後、その反応槽を室温まで冷却し、５０ｇ（０．１６５モル）の１，８−ビス（クロロジメチルシリル）オクタン（ＢＣｌＤＭＳＯ）をその反応槽に投入した。反応混合物を１３０℃で１時間還流し、２層に分離した。上層を分離し、残存溶媒をロータリーエバポレーターによって除去した。蒸留後、生成物を純度９９％で得て、ＧＣ−ＭＳおよび１Ｈ−ＮＭＲによって確認した。
【化２６】
0005859545.tif 000051
【０１７２】
（例１５Ａ〜Ｇ）
前記ＢＤＭＫＳＯをシリカ（４５ｐｈｒ）充填ＳＢＲトレッド配合組成で評価した。すべての分量をゴム１００部あたりの部（ｐｈｒ）で示す。ビス−ケトキシモシラン、（１，８−ビス［（メチルエチルケトキシモ）ジメチルシリル］オクタン（ＢＤＭＫＳＯ）を充填剤補強剤として用いた。また、比較目的で、補強能のないシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシリルシラン（ＯＴＥＳ）を用いた。マスターバッチ（ＭＢ）は、１５３℃の滴下温度で調製し、１００ｐｈｒのＳＢＲ（２５％スチレン、−４５℃のＴｇ）、および様々な量のオイル、２ｐｈｒのステアリン酸、１ｐｈｒの６ＰＰＤ抗酸化剤を含めた。表２５にＯＴＥＳ、ＢＤＭＫＳＯおよびオイルの充填量を示す。リミル（ＲＭ１）を用いて、１４５℃まで混合し、その混合物をさらに均質化した。最終段階は、２．５の酸化亜鉛、１．５のＴＢＢＳ、１．５のＭＢＴＳ、および１．５のＤＰＧ、１．５の硫黄の追加から構成し、１０５℃の最高温度まで混合した。各例における対応する液体含有量は、プロセスオイル充填量を調節することによって得た。１７１℃で１５分間、硬化を行った。ストック１にはシランを加えず、対照ストックとして用いた。
【０１７３】
【表２５】
0005859545.tif 000052
【０１７４】
ゴム配合物の加工性は、配合物のムーニー粘度の分析によって評価した（表２６）。ムーニー粘度（ＭＬ）の測定は、１３０℃で大ローターを用いて行った。ムーニー粘度は、前記ローターを４分間回転させたときのトルクとして記録した。ローターを起動する前に、前記サンプルを１３０℃で１分間予熱した。
【０１７５】
表２６に示すように、ＯＴＥＳまたはＢＤＭＫＳＯを含む配合物は、ＭＬが低いことが分かった。
【０１７６】
【表２６】
0005859545.tif 000053
【０１７７】
表２７に示すように、（ａ）−１００℃〜−２０℃の温度範囲において０．５％の歪み、−２０℃〜１００℃の温度範囲において２％の歪みを用いて周波数３１．４ラジアン／秒で行った温度掃引（ｔｍｐ  ｓｗｐ）実験；（ｂ）周波数３．１４ラジアン／秒での歪み掃引（ｓｔｒ  ｓｗｐ）測定と０．２５％〜１４．７５％の歪み掃引；および（ｃ）動的圧縮試験による、（１）動的せん断粘弾性の機械的特性によって、配合物の剛性を測定した。動的圧縮試験で用いたサンプル形状は、直径９．５ｍｍ、長さ１５．６ｍｍの円柱形ボタンである。試験前に、そのサンプルを２ｋｇの静荷重で圧縮した。それが平衡状態に達した後、１．２５ｋｇの動的圧縮荷重、周波数１Ｈｚで試験を開始した。続いて、そのサンプルを動的に圧縮してから伸ばし、得られた変位Ｋ’およびｔａｎδを記録した。
【０１７８】
【表２７】
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【０１７９】
様々な測定から得られた６０℃でのｔａｎδを表２８に示す。
【０１８０】
【表２８】
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【０１８１】
（例１６）
ビス［３−（ジメチルメトキシシリル）プロピル］ジスルファンの合成は、以下のように行った：室温で、８０ｍｌのメタノール中の５０．１ｇのクロロプロピルジメチルメトキシシランの溶液に、０．５６４ｇのクロロプロピルジメチルクロロシランを滴下した。その反応混合物を８０℃で１時間還流した。その混合物を４０℃まで冷却した後、５．０４ｇの硫黄と１３．５ｇの硫化ナトリウムを加え、８０℃で１．５時間還流した。室温まで冷却した後、沈殿した塩化ナトリウムをろ過によって除去した。残存メタノールをロータリーエバポレーターによって除去した後、生成物を得た。１Ｈ−ＮＭＲおよびＧＣ−ＭＳ分析によって、ビス［３−（ジメチルメトキシシリル）プロピル］ジスルファンの形成を確認した。
【０１８２】
（例１７）
ビス［３−（ジメチルケトキシモシリル）プロピル］ジスルファンの合成は、以下のように行った：丸底フラスコにディーンスタークトラップとＣａＣｌ２乾燥管付き還流冷却器を取り付けた。この中に、２６ｇの２−ブタノンオキシム、４５ｇのビス［３−（ジメチルメトキシシリル）プロピル］ジスルファンおよび２００ｍｌのトルエンを投入した。この混合物を加熱し、メタノールの発生が止まるまで１３５〜１５０℃で還流した。ロータリーエバポレーターによって残存メタノールを除去した後、生成物を得た。１Ｈ−ＮＭＲおよびＧＣ−ＭＳ分析によって、ビス［３−（ジメチルケトキシモシリル）プロピル］ジスルファンの形成を確認した。
【図１】
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【図２】
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