(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１リフレクターと、
第２リフレクターと、
前記第１及び第２リフレクターの間に配置される少なくとも一つの光源と、を含み、
前記第２リフレクターは、正反射領域と乱反射領域を含み、
前記正反射領域は、前記第２リフレクターの全体領域の５％〜５０％を占め、
前記第２リフレクターは、少なくとも一つの変曲点を持つ少なくとも一つの傾斜面を含み、
前記乱反射領域は、
ガウス分布（ｇｕａｓｓｉａｎ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）で反射する光量がランバート分布（ｌａｍｂｅｒｔｉａｎ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）で反射する光量に比べてより多い乱反射特性を有する第１反射シートを含む第１乱反射領域と、
ランバート分布で反射する光量がガウス分布で反射する光量に比べてより多い乱反射特性を有し、前記第１乱反射領域よりも前記正反射領域からより遠く配置されている第２乱反射領域とを有し、
前記第１乱反射領域は、前記正反射領域と前記第２乱反射領域との間に位置する、バックライトユニット。
【請求項２】
前記傾斜面は、少なくとも２個の傾斜面を含み、前記変曲点を中心に隣接する第１及び第２傾斜面の曲率は互いに異なる、請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項３】
前記第２リフレクターから一定空間をおいて配置される光学部材をさらに含み、前記第２リフレクターと前記光学部材との間の空間には、エアーガイドが形成される、請求項１〜２のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項４】
前記第２リフレクターから一定空間をおいて配置される光学部材をさらに含み、前記第２リフレクターと前記光学部材との間の空間には導光板がない、請求項１〜２のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項５】
前記第１乱反射領域の全ての地点は、前記各地点に入射する光の入射角が、前記各地点を通る法線を基準に少なくとも５５°以上であり、
前記第２乱反射領域の全ての地点は、前記各地点に入射する光の入射角が、前記各地点を通る法線を基準に少なくとも６０°以上である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項６】
前記傾斜面に沿って、凹ライン及び凸ラインが交互に配列されるパターンを有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項７】
前記第２リフレクターの正反射領域は、前記光源から遠ざかるほど面積比率が減る、請求項１〜６のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項８】
前記光源に隣接する第２リフレクターの正反射領域は、前記光源から遠く離れた第２リフレクターの乱反射領域に比べて面積がより小さい、請求項１〜７のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項９】
前記第２リフレクターの正反射領域は、前記第２リフレクターの全体領域の２０〜３０％を占める、請求項１〜８のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１０】
前記第２リフレクターの正反射領域と乱反射領域との面積比は、１：１〜２０である、請求項１〜７及び９のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１１】
前記第２リフレクターは、前記正反射領域及び乱反射領域を含む単一層からなる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１２】
前記第２リフレクターは、乱反射層と、前記乱反射層の一部分が露出されるように前記乱反射層上に形成される正反射層と、を含む二重層からなる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１３】
前記第１乱反射領域と前記第２乱反射領域との面積比は、１：１〜５である、請求項５〜１２のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１４】
前記正反射領域と前記第２乱反射領域との面積比は、１：１〜２０である、請求項５〜１３のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１５】
前記第１及び第２乱反射領域は、
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる第１層と、
前記第１層上に形成され、ＴｉＯ２及びＳｉＯ２のうち、少なくとも一粒子からなる第２層と、
を含む、請求項５〜１４のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１６】
前記第２リフレクターの凹ラインは、前記傾斜面から凹んだ曲面であり、前記第２リフレクターの凸ラインは、前記傾斜面から膨らんでいる曲面である、請求項６〜１５のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１７】
前記凹ラインの曲率は、前記凹ラインと傾斜面との接点と前記凹ラインの頂点とをつなぐ直線が前記傾斜面となす角度θが０．０１〜１５°であることを満たし、
前記角度θは、下記方程式１により定義される、請求項６〜１６のいずれか１項に記載のバックライトユニット：
方程式１：  θ＝ｔａｎ−１(ｈ／ｗ)＝０．０１〜１５°
ここで、ｈは、前記凹ラインの最大深さ（前記凹ラインの頂点と前記傾斜面との間の最短距離）であり、ｗは、前記凹ラインの幅（前記凹ラインと傾斜面との接点と、前記凹ラインの頂点と傾斜面とをつなぐ垂直線との間の最短距離）である。
【請求項１８】
前記互いに隣接する凹ライン及び凸ラインの曲率は、互いに異なる、請求項６〜１７のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１９】
前記一つの凹ラインの両側には、第１凸ライン及び第２凸ラインが配置され、前記第１凸ラインの曲率は、隣接する凹ラインの曲率と同一または異なり、前記第２凸ラインの曲率と異なり、
前記一つの凸ラインの両側には、第１凹ライン及び第２凹ラインが配置され、前記第１凹ラインの曲率は、隣接する凸ラインの曲率と同一または異なり、前記第２凹ラインの曲率と異なる、請求項６〜１８のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２０】
前記凹ライン及び凸ラインの長さは、前記光源から遠い領域と前記光源に隣接した領域において互いに同一である、請求項６〜１９のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２１】
前記単一層は、同一の平面上に配列される正反射層及び乱反射層で構成され、前記正反射層と乱反射層は、互いに同一の厚さを有する、請求項１１及び１３〜２０のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２２】
前記単一層は、同一の平面上に配列される正反射層及び乱反射層で構成され、前記正反射層及び乱反射層は、一部分が互いに重なり、前記乱反射層と重なった正反射層の厚さは、前記乱反射層と重ならない正反射層の厚さよりも薄い、請求項１１及び１３〜２０のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２３】
前記乱反射層上に形成される正反射層は、前記乱反射層の一部が露出されるように多数のホール（ｈｏｌｅ）が形成される、請求項１２〜２０のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２４】
前記正反射層に形成されるホールは、前記光源から遠ざかるほど、前記ホールの個数が増加する、請求項２３に記載のバックライトユニット。
【請求項２５】
ディスプレイパネルと、
前記ディスプレイパネルに光を照射するバックライトユニットと、を含み、
前記バックライトユニットは、請求項１乃至２４のいずれか１に記載のバックライトユニットである、ディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
実施例は、バックライトユニット及びこれを用いるディスプレイ装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、大型ディスプレイ装置の代表には、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）などがある。
【０００３】
自発光方式のＰＤＰとは違い、ＬＣＤは、自発光方式のものでないから、必ずバックライトユニットを別に備えなければならない。
【０００４】
ＬＣＤに使用されるバックライトユニットは、光源の位置によって、エッジ（ｅｄｇｅ）方式のバックライトユニットと直下方式のバックライトユニットとに分類される。エッジ方式は、ＬＣＤパネルの左右側面または上下側面に光源を配置し、導光板を用いて光を前面に均一に分散させるので、光の均一性が良好で、パネルの超薄型化が可能である。
【０００５】
直下方式は、通常、２０インチ以上のディスプレイに用いられる技術で、パネルの下部に光源を複数個配置するので、エッジ方式に比べて、光効率が高いという特長から、高輝度を要求する大型ディスプレイに主に使用されている。
【０００６】
既存エッジ方式や直下方式のバックライトユニットの光源には、ＣＣＦＬ（Ｃｏｌｄ  Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｌａｍｐ）を用いてきた。
【０００７】
しかし、ＣＣＦＬを用いたバックライトユニットは、常にＣＣＦＬに電源が印加されるので、相当量の電力が消耗され、ＣＲＴ対比約７０％レベルの色再現率、水銀の添加による環境汚染といった欠点が指摘されている。
【０００８】
上記問題点を解消するための代替品として、現在、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）を用いたバックライトユニットに関する研究が活発に行われている。
【０００９】
ＬＥＤをバックライトユニットとする場合、ＬＥＤアレイの部分的なオン／オフが可能なため、消耗電力を画期的に低減することができ、ＲＧＢ  ＬＥＤは、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）色再現範囲仕様の１００％を上回り、より高画質を消費者に提供することができる。
また、半導体工程で製作されるＬＥＤは、環境に無害である。
【００１０】
現在、上記のような特長を持つＬＥＤを採用したＬＣＤ製品が続々と市場に発表されているが、既存ＣＣＦＬ光源と駆動メカニズムが異なるため、駆動ドライバ、ＰＣＢ基板などが高価である。
したがって、ＬＥＤバックライトユニットはまだ高価のＬＣＤ製品にのみ適用されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
実施例は、正反射領域と乱反射領域を持つリフレクターを用いて、エアーガイド（ａｉｒ  ｇｕｉｄｅ）を持つバックライトユニット及びこれを用いるディスプレイ装置を提供する。
【００１２】
実施例は、凹ラインと凸ラインとが交互に配列される多数のパターンが形成されているリフレクターを用いて、エアーガイドを持つバックライトユニット及びこれを用いるディスプレイ装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
実施例は、第１リフレクター、第２リフレクター、そして、第１及び第２リフレクターの間に配置される少なくとも一つの光源を含み、前記第２リフレクターは、正反射領域と乱反射領域を含み、前記正反射領域は、前記第２リフレクターの全体領域の５〜５０％を占めることができる。
【００１４】
ここで、乱反射領域は、入射光をランパート分布及びガウス分布のうち少なくとも一つで反射し、該乱反射領域の全地点は、これら各地点に入射する光の入射角が、前記各地点を通る法線を基準に、少なくとも５５°以上であればよい。
【００１５】
そして、乱反射領域は、第１及び第２乱反射領域を含み、前記第１及び第２乱反射領域は、入射光をランパート分布及びガウス分布のうち少なくとも一つで反射し、前記第１乱反射領域の全地点は、これら各地点に入射する光の入射角が、前記各地点を通る法線から少なくとも５５°であり、前記第２乱反射領域の全地点は、これら各地点に入射する光の入射角が、前記各地点を通る法線から少なくとも６０°以上であればよい。
【００１６】
ここで、第１乱反射領域は、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多く、第２乱反射領域は、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ランパート分布で反射する光量がより多いと良い。
【００１７】
なお、第１乱反射領域と前記第２乱反射領域との面積比率は、１:１〜５であればよく、正反射領域と前記第１乱反射領域との面積比率は、１:１〜４であればよく、正反射領域と前記第２乱反射領域との面積比率は、１:１〜２０であればよい。
【００１８】
また、第１及び第２乱反射領域は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる第１層と、前記第１層上に形成され、ＴｉＯ２及びＳｉＯ２のうち少なくとも一粒子からなる第２層と、を含むことができる。
【００１９】
そして、第１乱反射領域に含まれる粒子量は、前記第２乱反射領域に含まれる粒子量よりも少ないと良い。
【００２０】
また、第２リフレクターは、少なくとも一つの変曲点を持つ傾斜面を含み、前記傾斜面に沿って、凹ラインと凸ラインが交互に配列されるパターンを有することができる。
【００２１】
また、第２リフレクターの凹ラインは、前記傾斜面から凹んでいる曲面であり、第２リフレクターの凸ラインは、前記傾斜面から膨らんでいる曲面であればよい。
【００２２】
また、凹ラインの曲率は、前記凹ラインと傾斜面との接点と前記凹ラインの頂点とをつなぐ直線か前記傾斜面となす角度θが０．０１〜１５°であることを満足することができる。
【００２３】
そして、角度θは、下記方程式１により定義することができる。
方程式１：  θ＝ｔａｎ−１（ｈ／ｗ）＝０．０１〜１５°
ここで、ｈは、前記凹ラインの最大深さ（前記凹ラインの頂点と前記傾斜面との最短距離）であり、ｗは、前記凹ラインの幅（前記凹ラインと傾斜面との接点と、前記凹ラインの頂点と傾斜面とをつなぐ垂直線との間の最短距離）である。
【発明の効果】
【００２４】
実施例は、正反射領域（ｓｐｅｃｕｌａｒ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ  ａｒｅａ）及び乱反射領域（ｄｉｆｆｕｓｅ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ  ａｒｅａ）を有するようにエアーガイド用のリフレクターを形成することによって、軽量で、安価で、均一の輝度を有するバックライトユニットを提供することができる。
その結果、バックライトユニットの経済性及び信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１Ａ】実施例に係るバックライトユニットを説明するための図である。
【図１Ｂ】実施例に係るバックライトユニットを説明するための図である。
【図２Ａ】第２リフレクターの正反射領域に重なる第１リフレクターを示す図である。
【図２Ｂ】第２リフレクターの正反射領域に重なる第１リフレクターを示す図である。
【図３Ａ】傾斜面と平面を含む第２リフレクターを示す図である。
【図３Ｂ】傾斜面と平面を含む第２リフレクターを示す図である。
【図３Ｃ】傾斜面と平面を含む第２リフレクターを示す図である。
【図４Ａ】多数の傾斜面を含む第２リフレクターを示す図である。
【図４Ｂ】多数の傾斜面を含む第２リフレクターを示す図である。
【図４Ｃ】多数の傾斜面を含む第２リフレクターを示す図である。
【図５】第１実施例に係る単一層構造の第２リフレクターを示す断面図である。
【図６Ａ】光源モジュールから遠ざかるほど正反射領域が減少する第２リフレクターの様々な形状を示す平面図である。
【図６Ｂ】光源モジュールから遠ざかるほど正反射領域が減少する第２リフレクターの様々な形状を示す平面図である。
【図６Ｃ】光源モジュールから遠ざかるほど正反射領域が減少する第２リフレクターの様々な形状を示す平面図である。
【図６Ｄ】光源モジュールから遠ざかるほど正反射領域が減少する第２リフレクターの様々な形状を示す平面図である。
【図７Ａ】光源モジュールとの距離によって面積が異なる正反射領域を持つ第２リフレクターの様々な形状を示す平面図である。
【図７Ｂ】光源モジュールとの距離によって面積が異なる正反射領域を持つ第２リフレクターの様々な形状を示す平面図である。
【図７Ｃ】光源モジュールとの距離によって面積が異なる正反射領域を持つ第２リフレクターの様々な形状を示す平面図である。
【図８】第２実施例に係る単一層構造の第２リフレクターを示す断面図である。
【図９Ａ】図８の重畳領域の様々な形状を示す断面図である。
【図９Ｂ】図８の重畳領域の様々な形状を示す断面図である。
【図９Ｃ】図８の重畳領域の様々な形状を示す断面図である。
【図９Ｄ】図８の重畳領域の様々な形状を示す断面図である。
【図１０Ａ】図８の重畳領域に形成される正反射層の様々な形状を示す平面図である。
【図１０Ｂ】図８の重畳領域に形成される正反射層の様々な形状を示す平面図である。
【図１０Ｃ】図８の重畳領域に形成される正反射層の様々な形状を示す平面図である。
【図１１】図８の重畳領域に形成される正反射層のホールを示す断面図である。
【図１２Ａ】図８の重畳領域に形成される正反射層のホールを示す平面図である。
【図１２Ｂ】図８の重畳領域に形成される正反射層のホールを示す平面図である。
【図１３】二重層構造の第２リフレクターを示す断面図である。
【図１４Ａ】図１３の正反射層の厚さを示す断面図である。
【図１４Ｂ】図１３の正反射層の厚さを示す断面図である。
【図１５Ａ】正反射領域に形成されるホールを示す平面図である。
【図１５Ｂ】正反射領域に形成されるホールを示す平面図である。
【図１６Ａ】正反射領域の第２領域の様々な形状を示す平面図である。
【図１６Ｂ】正反射領域の第２領域の様々な形状を示す平面図である。
【図１６Ｃ】正反射領域の第２領域の様々な形状を示す平面図である。
【図１７Ａ】第２リフレクターの正反射領域の形状による輝度の均一度を説明するための図である。
【図１７Ｂ】第２リフレクターの正反射領域の形状による輝度の均一度を説明するための図である。
【図１７Ｃ】第２リフレクターの正反射領域の形状による輝度の均一度を説明するための図である。
【図１８】光源との距離による輝度を、各実施例別に測定して比較したグラフである。
【図１９】ホールと三角形状を有する正反射領域を示す図である。
【図２０Ａ】ストライプ（ｓｔｒｉｐｅ）形状を有する正反射領域を示す図である。
【図２０Ｂ】ストライプ（ｓｔｒｉｐｅ）形状を有する正反射領域を示す図である。
【図２１】１エッジタイプ（ｏｎｅ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図である。
【図２２】２エッジタイプ（ｔｗｏ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図である。
【図２３】４エッジタイプ（ｆｏｕｒ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図である。
【図２４】４エッジタイプ（ｆｏｕｒ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図である。
【図２５】光学部材を含むバックライトユニットを示す図である。
【図２６】光学部材の形状の一例を示す図である。
【図２７】光の正反射特性と乱反射特性を説明するための図である。
【図２８】図１Ａの乱反射領域で反射される光の分布を示す図である。
【図２９】第２リフレクターの乱反射領域の構成を示す断面図である。
【図３０】乱反射領域の光反射特性を示すグラフである。
【図３１Ａ】光反射特性が異なる多数の乱反射領域を有する第２リフレクターを示す図である。
【図３１Ｂ】光反射特性が異なる多数の乱反射領域を有する第２リフレクターを示す図である。
【図３２Ａ】第１乱反射領域の光反射特性を示すグラフである。
【図３２Ｂ】第２乱反射領域の光反射特性を示すグラフである。
【図３３】２エッジタイプの第２リフレクターを示す図である。
【図３４】４エッジタイプの第２リフレクターを示す図である。
【図３５】４エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図である。
【図３６Ａ】光反射特性が異なる多数の乱反射領域を有する第２リフレクターを示す図である。
【図３６Ｂ】光反射特性が異なる多数の乱反射領域を有する第２リフレクターを示す図である。
【図３７】図３６Ａの凹ライン及び凸ラインを詳細に示す図である。
【図３８】図３６Ａの凹ラインまたは凸ラインの曲率を決定する条件を説明するための図である。
【図３９】凹ラインと凸ラインとの曲率関係を示す様々な実施例を示す図である。
【図４０Ａ】凹ラインと凸ラインとの曲率関係を示す様々な実施例を示す図である。
【図４０Ｂ】凹ラインと凸ラインとの曲率関係を示す様々な実施例を示す図である。
【図４０Ｃ】凹ラインと凸ラインとの曲率関係を示す様々な実施例を示す図である。
【図４０Ｄ】凹ラインと凸ラインとの曲率関係を示す様々な実施例を示す図である。
【図４１Ａ】１エッジタイプの第２リフレクターを示す図である。
【図４１Ｂ】１エッジタイプの第２リフレクターを示す図である。
【図４２Ａ】２エッジタイプの第２リフレクターを示す図である。
【図４２Ｂ】２エッジタイプの第２リフレクターを示す図である。
【図４３】４エッジタイプの第２リフレクターを示す図である。
【図４４】４エッジタイプの第２リフレクターを示す図である。
【図４５Ａ】第２リフレクターの傾斜面を示す図である。
【図４５Ｂ】第２リフレクターの傾斜面を示す図である。
【図４５Ｃ】第２リフレクターの傾斜面を示す図である。
【図４６】第１リフレクターと第２リフレクターとの位置関係を説明するための図である。
【図４７】第２リフレクターの他の実施例を示す図である。
【図４８】第２リフレクターの下部面に形成された補強リブを示す図である。
【図４９】第２リフレクターの上部面に形成された支持ピンを示す図である。
【図５０】実施例に係るバックライトユニットを有するディスプレイモジュールを示す図である。
【図５１】実施例に係るディスプレイ装置を示す図である。
【図５２】実施例に係るディスプレイ装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、添付の図面を参照しつつ実施例を説明する。
【００２７】
本実施例の説明において、各構成要素（ｅｌｅｍｅｎｔ）の“上（上部）または下（下部）（ｏｎ  ｏｒ  ｕｎｄｅｒ）”に形成されるという記載は、ある構成要素が他の構成要素の上（上部の）または下（下部）に直接（ｄｉｒｅｃｔｌｙ）形成される、または、一つ以上の別の構成要素を介在して（ｉｎｄｉｒｅｃｔｌｙ）形成されるということを意味する。
【００２８】
また、“上（上部）または下（下部）”と表現される場合、ある構成要素を基準に、上方を表すこともあり、下方を表すこともある。
【００２９】
図１Ａ及び図１Ｂは、実施例に係るバックライトユニットを説明するための図であり、図１Ａは断面図、図１Ｂは上面斜視図である。
【００３０】
図１Ａ及び図１Ｂに示すように、バックライトユニットは、少なくとも一つの光源１１０を含む光源モジュール１００、第１リフレクター（ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ）２００及び第２リフレクター３００を含むことができる。
【００３１】
ここで、光源１１０を含む光源モジュール１００は、第１リフレクター２００と第２リフレクター３００との間に位置し、第１リフレクター２００または第２リフレクター３００に隣接して配置されることができる。
【００３２】
場合によって、光源モジュール１００は、第１リフレクター２００に接触されると同時に、第２リフレクター３００から一定間隔離れて配置されることもでき、第２リフレクター３００に接触されると同時に、第１リフレクター２００から一定間隔離れて配置されることもできる。
【００３３】
または、光源モジュール１００は、第１リフレクター２００及び第２リフレクター３００から一定間隔離れて配置されることもでき、第１リフレクター２００及び第２リフレクター３００に同時に接触して配置されることもできる。
【００３４】
そして、光源モジュール１００は、電極パターンを有する回路基板及び光を生成する発光素子を含むことができる。
【００３５】
ここで、回路基板は、少なくとも一つの発光素子が実装されればよく、電源を供給するアダプター及び発光素子を連結するための電極パターンが形成されていればよい。
例えば、回路基板の上面には、発光素子及びアダプターを連結するための炭素ナノチューブ電極パターンが形成されればよい。
【００３６】
このような回路基板は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ガラス、ポリカーボネート（ＰＣ）またはシリコン（Ｓｉ）などからなり、複数の光源１００が実装されるＰＣＢ（Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ  Ｂｏａｒｄ）基板であればよく、フィルム形態に形成することができる。
【００３７】
また、基板は、単層ＰＣＢ、多層ＰＣＢ、セラミック基板、メタルコアＰＣＢなどを選択的に使用することができる。
【００３８】
一方、発光素子は、発光ダイオードチップ（ＬＥＤ  ｃｈｉｐ）であればよく、発光ダイオードチップは、ブルーＬＥＤチップまたは紫外線ＬＥＤチップで構成されたり、または、レッドＬＥＤチップ、グリーンＬＥＤチップ、ブルーＬＥＤチップ、イエローグリーン（Ｙｅｌｌｏｗ  ｇｒｅｅｎ）ＬＥＤチップ、ホワイトＬＥＤチップ、ＵＶ ＬＥＤチップから選ばれる少なくとも一つまたはそれ以上を組み合わせたパッケージの形態とすることができる。
【００３９】
そして、ホワイトＬＥＤは、ブルーＬＥＤ上にイエロー燐光（Ｙｅｌｌｏｗ  ｐｈｏｓｐｈｏｒ）を結合したり、ブルーＬＥＤ上にレッド燐光（Ｒｅｄ  ｐｈｏｓｐｈｏｒ）とグリーン燐光（Ｇｒｅｅｎ  ｐｈｏｓｐｈｏｒ）を同時に使って具現しりすることができ、ブルーＬＥＤ上にイエロー燐光 、レッド燐光及びグリーン燐光（Ｇｒｅｅｎ  ｐｈｏｓｐｈｏｒ）を同時に使って具現することもできる。
【００４０】
また、第１リフレクター２００と第２リフレクター３００との間の空間には、既存に使用した導光板を省き、エアーガイド（ａｉｒ  ｇｕｉｄｅ）が形成されるように、第１リフレクター２００と第２リフレクター３００は一定間隔離れて互いに向かい合えばよい。
【００４１】
そして、第１リフレクター２００は、反射コーティングフィルム及び反射コーティング物質層のいずれか一つで形成され、光源モジュール１００から生成された光を、第２リフレクター３００の方向に反射させる役割を果たすことができる。
【００４２】
また、第１リフレクター２００の表面のうち、光源モジュール１００に面する表面上には、鋸歯状の反射パターンが形成され、反射パターンの表面は、平面または曲面であればよい。
【００４３】
第１リフレクター２００の表面に反射パターンを形成する理由は、光源モジュールで生成された光を、第２リフレクター３００の中央領域に反射させることによって、バックライトユニットの中央領域における輝度を増加させるためである。
【００４４】
また、第２リフレクター３００は、正反射領域（ｓｐｅｃｕｌａｒ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ  ａｒｅａ）３００ａ及び乱反射領域（ｄｉｆｆｕｓｅ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ  ａｒｅａ）３００ｂを含む。
【００４５】
ここで、正反射領域３００ａは、入射する光を正反射する役割を果たし、乱反射領域３００ｂは、入射する光を乱反射する役割を果たすことができ、正反射領域３００ａ及び乱反射領域３００ｂの光反射率は、約５０〜９９．９９％であればよい。
【００４６】
そして、正反射領域３００ａは、第２リフレクター３００の全体領域の約５〜５０％を占めることができる。
【００４７】
場合によって、第２リフレクター３００において、正反射領域３００ａは、第２リフレクター３００の全体領域の約２０〜３０％を占めることもできる。
【００４８】
また、第２リフレクター３００において、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比率は、１：１〜２０であればよい。
【００４９】
このように第２リフレクター３００の正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比率を定める理由は、光源１１０に隣接した領域と光源１１０から遠く離れた領域との輝度差を減らすためである。
すなわち、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比率を適切に調節することによって、全体的に均一の輝度を提供することができる。
【００５０】
ここで、第２リフレクター３００は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）などのように高い反射率を有する金属または金属酸化物を含んでなることができる。第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂに形成される物質が互いに異なってもよく、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂの表面粗さが互いに異なってもよい。
【００５１】
すなわち、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａ及び乱反射領域３００ｂが同一物質から形成されると同時に、異なる表面粗さを有することがある。
【００５２】
または、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとが異なる物質から形成されると同時に、異なる表面粗さを有することがある。
【００５３】
そして、光源１１０及び第１リフレクター２００のうち少なくとも一つは、正反射領域３００ａと重なることができる。
すなわち、第１リフレクター２００は、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに一部のみ重なることもでき、完全に重なることもできる。
【００５４】
第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接して位置し、光源１１０から出射された光を、第２リフレクター３００の中央領域に反射させる役割を果たし、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂは、第２リフレクター３００の中央領域に位置し、入射する光を拡散させる役割を果たすことができる。
【００５５】
また、第２リフレクター３００は、少なくとも一つの傾斜面（ｉｎｃｌｉｎｅｄ  ｓｕｒｆａｃｅ）と少なくとも一つの平面（ｆｌａｔ  ｓｕｒｆａｃｅ；すなわち、平坦な面）を含むことができる。
【００５６】
ここで、第２リフレクター３００の傾斜面は、第１リフレクター２００に対して一定角度で傾斜した面であればよく、第２リフレクター３００の平面は、第１リフレクター２００と平行な面であればよい。
【００５７】
そして、第２リフレクター３００の傾斜面は、全体領域が正反射領域であってもよく、一部領域のみが正反射領域であってもよい。また、第２リフレクター３００の傾斜面は、光源１１０及び第１リフレクター２００のうちの少なくとも一つと重なるものでよい。
【００５８】
図２Ａ及び図２Ｂは、第２リフレクターの正反射領域に重なる第１リフレクターを示す図面であり、図２Ａは、第２リフレクターの正反射領域に一部重なる第１リフレクターを示す図であり、図２Ｂは、第２リフレクターの正反射領域に完全に重なる第１リフレクターを示す図である。
【００５９】
図２Ａに示すように、第１リフレクター２００は、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに一部のみ異なっても良い。
【００６０】
ここで、光源１００は、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに一部のみ重なってもよく、完全に重なってもよい。
【００６１】
そして、図２Ｂに示すように、第１リフレクター２００は、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに完全に重なってもよい。
【００６２】
ここで、光源１００は、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに一部のみ重なってもよく、完全に重なってもよい。
【００６３】
図３Ａ乃至図３Ｃは、傾斜面と平面を含む第２リフレクターを示す図である。
【００６４】
図３Ａは、傾斜面が扁平な表面を有し、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに含まれる例を示す。
【００６５】
そして、図３Ｂは、傾斜面が凹んだ曲面を有し、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに含まれる例を示し、図３Ｃは、傾斜面が膨らんでいる曲面を有し、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに含まれる例を示す。
【００６６】
また、図３Ａ乃至図３Ｃに示すように、第１リフレクター２００と平行な第２リフレクター３００の平面は、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂに含まれればよい。
【００６７】
一方、第２リフレクター３００は、少なくとも一つの変曲点を有する少なくとも２個の傾斜面を含み、変曲点を中心に隣接する第１及び第２傾斜面の曲率は互いに異なってもよい。
【００６８】
図４Ａ乃至図４Ｃは、多数の傾斜面を含む第２リフレクターを示す図である。
【００６９】
図４Ａは、互いに隣接する２傾斜面が扁平な表面を有し、一つの傾斜面は第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに含まれ、残りの傾斜面は、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂに含まれればよい。
【００７０】
場合によって、残りの傾斜面は、一部が第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに含まれることもできる。
【００７１】
そして、図４Ｂは、互いに隣接する２傾斜面が凹んだ曲面を有し、２傾斜面の曲率は互いに異なる例であり、図４Ｃは、互いに隣接する２傾斜面が膨らんでいる曲面を有し、２傾斜面の曲率は、互いに異なる例である。
【００７２】
ここで、一つの傾斜面は、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに含まれ、残りの傾斜面は、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂに含まれればよい。
【００７３】
場合によって、残りの傾斜面は、一部が第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに含まれてもよい。
【００７４】
このように、第２リフレクター３００の傾斜面は、凹面（ｃｏｎｃａｖｅ  ｓｕｒｆａｃｅ）、凸面（ｃｏｎｖｅｘ  ｓｕｒｆａｃｅ）、平面（ｆｌａｔ  ｓｕｒｆａｃｅ；すなわち、平坦な面）のうち少なくとも一つであればよい。
【００７５】
一方、第２リフレクター３００は、単一層（ｓｉｎｇｌｅ  ｌａｙｅｒ）であってもよく、二重層（ｄｏｕｂｌｅ  ｌａｙｅｒ）であってもよい。
すなわち、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａ及び乱反射領域３００ｂを含む単一層であってもよく、乱反射層と、乱反射層の一部分が露出されるように乱反射層上に形成される正反射層と、を含む二重層であってもよい。
【００７６】
図５は、第１実施例に係る単一層構造の第２リフレクターを示す断面図であって、図５は、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとが互いに重なっていない構造である。
【００７７】
図５に示すように、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａには正反射層が形成され、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂには乱反射層が形成されればよい。
ここで、正反射層と乱反射層は同一の平面上に配列され、正反射層の厚さｔ１と乱反射層の厚さｔ２は、互いに同一であればよい。
【００７８】
そして、正反射層及び乱反射層は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）などのように、高い反射率を有する金属または金属酸化物を含んでなることができ、正反射層と乱反射層の物質は、互いに同一であってもよく、互いに異なってもよく、また、これらの表面粗さは互いに異なってもよい。
【００７９】
また、正反射層と乱反射層は、モールドボディー（ｍｏｌｄ  ｂｏｄｙ）に反射フィルムが付着された構造であってもよく、正反射面または乱反射面を有するモールドボディー自体であってもよい。
【００８０】
場合によって、正反射層及び乱反射層は、射出成形可能なように、プラスチックなどのような高分子樹脂で製作すればよい。
【００８１】
ここで、反射フィルムは、金属または金属酸化物のうち少なくとも一つを含むことができ、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）または二酸化チタン（ＴｉＯ２）のように、高い反射率を有する金属または金属酸化物を含んでなることができる。
【００８２】
そして、正反射層からなる正反射領域３００ａと乱反射層からなる乱反射領域３００ｂとの境界面には、接着剤または結合部材などが形成され、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとを連結することができる。
【００８３】
また、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、面積比率を減らすことができる。
【００８４】
図６Ａ乃至図６Ｄは、光源モジュールから遠ざかるほど正反射領域が減少する第２リフレクターの様々な形状を示す平面図である。
【００８５】
図６Ａは、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａが三角形状を有し、図６Ｂは、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａが半円形状を有し、図６Ｃは、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａが階段形状を有し、図６Ｄは、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａが斜めの（ｓｌａｎｔ  ｌｉｎｅ）形状を有する例をそれぞれ示す。
【００８６】
図６Ａ乃至図６Ｄに示すように、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、正反射領域の面積が漸次減少すればよい。
【００８７】
これに対し、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、乱反射領域の面積が漸次増加すればよい。
【００８８】
ここで、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、第２リフレクター３００の全体領域の約２０〜３０％を占めればよい。
【００８９】
場合によって、第２リフレクター３００において、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比率は、約１：１〜２０であればよい。
【００９０】
このように、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａが光源モジュール１００から遠ざかるほど面積比率が減るように形成する理由は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの境界に生じうるブラックラインを除去して、均一の輝度が提供できるためである。
【００９１】
また、他の実施例として、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接した第１領域と光源モジュール１００から遠く離れた第２領域とを含むことができ、光源モジュール１００に隣接した第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、光源モジュール１００から遠く離れた第２リフレクター３００の正反射領域３００ａよりも大きい面積とすることができる。
【００９２】
図７Ａ乃至図７Ｃは、光源モジュールからの距離によって面積の異なる正反射領域を有する第２リフレクターの様々な形状を示す平面図である。
【００９３】
図７Ａは、第２領域における正反射領域が三角形状を有し、図７Ｂは、第２領域における正反射領域が半円形状を有し、図７Ｃは、第２領域における正反射領域が直方形状を有する例である。
【００９４】
図７Ａ乃至図７Ｃに示すように、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接した第１領域と光源モジュール１００から遠く離れた第２領域とを含むことができる。
【００９５】
ここで、第２領域における正反射領域３００ａは、第１領域における正反射領域３００ａに比べて面積はより小さく、三角形、半円形、直方形、多角形などのように、様々な形状を有することができる。
【００９６】
すなわち、第２領域における正反射領域３００ａは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、正反射領域の面積が漸次減少すればよい。
反面、第２領域における乱反射領域３００ｂは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、乱反射領域の面積が漸次増加すればよい。
【００９７】
ここで、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、第２リフレクター３００の全体領域の約２０〜３０％を占めることができる。
【００９８】
場合によって、第２リフレクター３００において、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比率は、約１：１〜２０であればよい。
【００９９】
また、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａにおいて、第１領域と第２領域との面積比率は、約１〜１０：０．４であればよい。
【０１００】
また、正反射領域３００ａの第２領域は、正反射領域３００ａの第１領域から約５〜２００ｍｍ距離だけ延在してもよい。
【０１０１】
図８は、第２実施例に係る単一層構造の第２リフレクターを示す断面図であって、図８は、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとが互いに重なる構造である。
【０１０２】
図８に示すように、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａには正反射層が形成され、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂには乱反射層が形成され、第２リフレクター３００の重畳領域には、正反射層と乱反射層とが重なって形成されればよい。
【０１０３】
ここで、重畳領域は、乱反射層上に正反射層が積層された構造であって、重畳領域の全体厚さは、正反射領域３００ａの厚さ及び乱反射領域３００ｂの厚さと実質的に同一であればよい。
【０１０４】
場合によって、重畳領域の全体厚さは、正反射領域３００ａの厚さと乱反射領域３００ｂの厚さのうち少なくとも一つとは異なってもよい。
【０１０５】
また、図示してはいないが、重畳領域は、正反射層上に乱反射層が積層された構造であってもよい。
【０１０６】
このように、第２リフレクター３００の正反射層と乱反射層は、同じ平面上に配列され、正反射層と乱反射層とは一部分が互いに重なることがある。
【０１０７】
図９Ａ乃至図９Ｄは、図８の重畳領域の様々な形状を示す断面図である。
【０１０８】
図９Ａ及び図９Ｄは、重畳領域の正反射層の厚さが一定である実施例であり、図９Ｂ及び図９Ｃは、重畳領域の正反射層の厚さが順次減少する実施例である。
【０１０９】
図９Ａ乃至図９Ｄに示すように、重畳領域は、正反射層と乱反射層とが積層され、乱反射層と重なった正反射層の厚さｔ１１は、乱反射層と重なっていない正反射層の厚さｔ１よりも薄くすればよい。
【０１１０】
より詳細に説明すると、図９Ａに示すように、重畳領域に形成される正反射層の厚さｔ１１は、正反射領域３００ａに形成される正反射層の厚さｔ１よりも小さくし、重畳領域に形成される乱反射層の厚さｔ２２は、乱反射領域３００ｂに形成される乱反射層の厚さｔ２よりも小さくすればよい。
【０１１１】
そして、重畳領域に形成される正反射層の厚さｔ１１は、重畳領域内で一定の厚さを維持し、重畳領域に形成された乱反射層の厚さｔ２２と同一にしてもよい。
【０１１２】
場合によっては、重畳領域に形成される正反射層の厚さｔ１１は、重畳領域に形成された乱反射層の厚さｔ２２より大きいまたは小さくしてもよい。
【０１１３】
そして、図９Ｂに示すように、重畳領域に形成される正反射層の厚さｔ１１，ｔ１２は、正反射領域３００ａに形成される正反射層の厚さｔ１よりも小さくすればよい。
【０１１４】
ここで、重畳領域に形成される正反射層の厚さｔ１１，ｔ１２は、光源モジュールから遠ざかるほど漸次減少すればよい。
【０１１５】
すなわち、重畳領域に形成される正反射層は、光源モジュールに隣接する領域の厚さｔ１１から、光源モジュールから遠く離れた領域の厚さｔ１２と、徐々に減少すればよい。
【０１１６】
また、図９Ｃに示すように、重畳領域に形成される正反射層の厚さｔ１１，ｔ１２は、正反射領域３００ａに形成される正反射層の厚さｔ１よりも小さくすればよい。
【０１１７】
ここで、重畳領域に形成される正反射層の厚さｔ１１，ｔ１２は、光源モジュールから遠ざかるほど段階的に小さくなればよい。
【０１１８】
すなわち、重畳領域に形成される正反射層は、光源モジュールに隣接する領域の厚さｔ１１から、光源モジュールから遠く離れた領域の厚さｔ１２と、減少すればよい。
【０１１９】
また、図９Ｄに示すように、重畳領域に形成される乱反射層が、正反射層間に挿入されてもよい。
【０１２０】
重畳領域において、乱反射層の上部に位置する正反射層の厚さｔ１１と乱反射層の下部に位置する正反射層の厚さｔ１２は、正反射領域３００ａに形成される正反射層の厚さｔ１よりも小さく、重畳領域に形成される乱反射層の厚さｔ２２は、乱反射領域３００ｂに形成される乱反射層の厚さｔ２よりも小さければいい。
【０１２１】
そして、重畳領域に形成される正反射層の厚さｔ１１，ｔ１２は、重畳領域内において一定の厚さを維持し、また、重畳領域に形成された乱反射層の厚さｔ２２と同一にしてもよい。
しかし、場合によって、重畳領域に形成される正反射層の厚さｔ１１，ｔ１２は、重畳領域に形成された乱反射層の厚さｔ２２より大きいまたは小さいものであってもよい。
【０１２２】
図１０Ａ乃至図１０Ｃは、図８における重畳領域に形成される正反射層の様々な形状を示す平面図である。
【０１２３】
図１０Ａは、重畳領域の正反射層が三角形状を有し、図１０Ｂは、重畳領域の正反射層が半円形状を有し、図１０Ｃは、重畳領域の正反射層が直方形状を有する例である。
【０１２４】
図１０Ａ乃至図１０Ｃに示すように、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａの正反射層と乱反射領域３００ｂの乱反射層とが互いに重なる重畳領域を含むことがあり、重畳領域の正反射層は、正反射領域３００ａの正反射層に比べて面積がより小さく、三角形、半円形、直方形、多角形などのように、様々な形状を有することができる。
【０１２５】
すなわち、重畳領域の正反射層は、光源モジュール１００から遠ざかるほど、正反射層の面積が漸次減少することがある。
【０１２６】
反面、重畳領域の乱反射層は、光源モジュール１００から遠ざかるほど、乱反射層の面積が漸次増加することがある。
【０１２７】
ここで、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、第２リフレクター３００の全体領域の約２０〜３０％を占めればよい。
【０１２８】
場合によって、第２リフレクター３００において、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比率は、約１：１〜２０であればよい。
【０１２９】
そして、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａにおいて、重畳領域以外の領域と重畳領域との面積比率は、約１〜１０：０．４であればよい。
【０１３０】
なお、正反射領域３００ａの重畳領域は、正反射領域３００ａから約５〜２００ｍｍ距離だけ延在してもよい。
【０１３１】
また、重畳領域の正反射層は、乱反射層の一部が露出されるように、少なくとも一つのホール（ｈｏｌｅ）を有してもよい。
【０１３２】
図１１は、図８の重畳領域に形成される正反射層のホールを示す断面図であり、図１２Ａ及び図１２Ｂは、図８の重畳領域に形成される正反射層のホールを示す平面図である。
【０１３３】
図１１に示すように、重畳領域において、乱反射層上に形成される正反射層は、乱反射層の一部が露出されるように多数のホール（ｈｏｌｅ）が開けられても良い。
【０１３４】
ここで、正反射層に形成されるホールは、光源モジュールから遠ざかるほどホールの個数が増加すればよい。
【０１３５】
また、正反射層に形成されるホールの大きさは、互いに同一であってもよいが、場合によっては、互いに異なってもよい。
【０１３６】
図１２Ａに示すように、重畳領域に形成されるホールの大きさが互いに同一であってもよく、図１２Ｂに示すように、重畳領域に形成されるホールの大きさが互いに異なってもよい。
【０１３７】
重畳領域に形成されるホールの大きさが互いに異なる場合、光源モジュール１００から遠ざかるほど、ホールの大きさは大きくなればよい。
【０１３８】
そして、重畳領域に形成されるホールは、その大きさにかかわらず、光源モジュール１００から遠ざかるほどホールの個数が増加してもよい。
【０１３９】
このように、第２リフレクターの重畳領域にホールを形成する理由は、光源モジュール１００から遠ざかるほど、正反射領域３００ａの面積比率を減らすことによって、均一の輝度が提供できるわけである。
【０１４０】
そして、第２リフレクターの正反射領域に形成される正反射層及び第２リフレクターの乱反射領域に形成される乱反射層は、モールドボディー（ｍｏｌｄ  ｂｏｄｙ）に反射フィルムが付着された構造であってもよく、正反射面または乱反射面を有するモールドボディー自体であってもよい。
【０１４１】
場合によって、正反射層及び乱反射層は、射出成形可能なように、プラスチックなどのような高分子樹脂で製作すればよい。
【０１４２】
ここで、反射フィルムは、金属または金属酸化物のうち少なくとも一つを含むことができ、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）または二酸化チタン（ＴｉＯ２）のように、高い反射率を有する金属または金属酸化物を含んで構成することができる。
【０１４３】
そして、正反射層からなる正反射領域と乱反射層からなる乱反射領域との間には、接着剤または結合部材などが形成され、正反射領域と乱反射領域とを互いに連結することができる。
【０１４４】
図１３は、二重層構造の第２リフレクターを示す断面図である。
【０１４５】
図１３に示すように、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとが互いに重なる構造である。
【０１４６】
ここで、第２リフレクター３００は、乱反射層と、乱反射層の一部分が露出されるように乱反射層上に形成される正反射層と、を含む二重層（ｄｏｕｂｌｅ  ｌａｙｅｒ）とすればよい。
【０１４７】
すなわち、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、乱反射層上に正反射層が形成された構造であり、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂは、乱反射層が露出された構造である。
【０１４８】
ここで、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、第２リフレクター３００の全体領域の約２０〜３０％を占めることができ、場合によって、第２リフレクター３００において、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比率は、約１：１〜２０であればよい。
【０１４９】
そして、正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接した第１領域と光源モジュール１００から遠く離れた第２領域と、を含むことができ、第２領域は、第１領域に比べて面積がより小さければよい。
【０１５０】
ここで、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａにおいて、第１領域と第２領域との面積比率は、約１〜１０：０．４であればよい。
【０１５１】
また、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａにおいて、第２領域に形成される正反射層の厚さは、第１領域に形成される正反射層の厚さと同一であってもよく、互いに異なってもよい。
【０１５２】
図１４Ａ及び図１４Ｂは、図１３の正反射層の厚さを示す断面図である。
【０１５３】
図１４Ａは、第２領域に形成される正反射層の厚さが、光源モジュール（図示せず）から遠ざかるほど徐々に減少する実施例であり、図１４Ｂは、第２領域に形成される正反射層が、光源モジュール（図示せず）から遠ざかるにつれて、一定の厚さを維持してから徐々に減少する実施例である。
【０１５４】
図１４Ａに示すように、正反射領域３００ａの第２領域に形成される正反射層の厚さｔ１１，ｔ１２は、正反射領域３００ａの第１領域に形成される正反射層の厚さｔ１よりも小さければよい。
【０１５５】
ここで、第２領域に形成される正反射層の厚さｔ１１，ｔ１２は、光源モジュールから遠ざかるほど漸次小さくなることができる。
【０１５６】
すなわち、第２領域に形成される正反射層は、光源モジュールに隣接する領域の厚さｔ１１から、光源モジュールから遠い領域の厚さｔ１２と、徐々に減少できる。
【０１５７】
また、図１４Ｂに示すように、正反射領域３００ａの第２領域に形成される正反射層の厚さｔ１１，ｔ１２は、正反射領域３００ａの第１領域に形成される正反射層の厚さｔ１と同じ厚さを維持してから徐々に減少してもよい。
【０１５８】
すなわち、第２領域に形成される正反射層は、光源モジュールに隣接する領域の厚さｔ１１から、光源モジュールから遠い領域の厚さｔ１２と、減少してもよい。
【０１５９】
このように、第２領域に形成される正反射層の厚さを減少させる理由は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの境界領域において、急な輝度変化を減少させるためである。
【０１６０】
また、乱反射層上に形成される正反射層は、乱反射層の一部が露出されるように多数のホールが開けられてもよい。
【０１６１】
図１５Ａ及び図１５Ｂは、正反射領域に形成されるホールを示す平面図である。
【０１６２】
図１５Ａは、正反射領域３００ａに形成されるホールの個数が、光源モジュール１００から遠ざかるほど増加する実施例であり、図１５Ｂは、正反射領域３００ａに形成されるホールの大きさが、光源モジュール１００から遠ざかるほど増加する実施例である。
【０１６３】
図１５Ａに示すように、正反射領域３００ａにおいて、乱反射層上に形成される正反射層は、乱反射層の一部が露出されるように多数のホールが開けられてもよい。
【０１６４】
ここで、正反射層に形成されるホールは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、ホール個数が増加すればよい。
【０１６５】
また、正反射層に形成されるホールの大きさは、互いに同一であってもよく、場合によっては、互いに異なってもよい。
【０１６６】
すなわち、正反射層に形成されるホールは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、ホールの個数及びホールの大きさが同時に増加してもよい。
【０１６７】
図１５Ｂに示すように、正反射領域３００ａにおいて、乱反射層上に形成される正反射層は、乱反射層の一部が露出されるように多数のホールが開けられればよい。
【０１６８】
ここで、正反射層に形成されるホールは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、ホールの大きさが増加すればよい。
【０１６９】
また、正反射層に形成されるホールの個数は、互いに同一であってもよく、場合によっては、互いに異なってもよい。
【０１７０】
すなわち、正反射層に形成されるホールは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、ホールの個数及びホールの大きさが同時に増加してもよい。
【０１７１】
このように、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａにホールを形成する理由は、光源モジュール１００から遠ざかるほど、正反射領域３００ａの面積比率を減らすことによって、均一の輝度を提供できるからである。
【０１７２】
そして、正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接した第１領域と光源モジュール１００から遠く離れた第２領域とを含むことができ、第２領域は第１領域に比べて面積がより小さければよい。
【０１７３】
図１６Ａ乃至図１６Ｃは、正反射領域における第２領域の様々な形状を示す平面図である。
【０１７４】
図１６Ａは、第２領域における正反射領域が三角形状を有し、図１６Ｂは、第２領域における正反射領域が半円形状を有し、図１６Ｃは、第２領域における正反射領域が直方形状を有する例を示す。
【０１７５】
図１６Ａ乃至図１６Ｃに示すように、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接した第１領域と、光源モジュール１００から遠く離れた第２領域と、を含むことができる。
【０１７６】
ここで、第２領域における正反射領域３００ａは、第１領域における正反射領域３００ａに比べて面積がより小さく、三角形、半円形、直方形、多角形などのように様々な形状を有することができる。
【０１７７】
すなわち、第２領域における正反射領域３００ａは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、正反射領域の面積が漸次減少すればよい。
【０１７８】
反面、第２領域における乱反射領域３００ｂは、光源モジュール１００から遠ざかるほど、乱反射領域の面積が漸次増加すればよい。
【０１７９】
ここで、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａは、第２リフレクター３００の全体領域の約２０〜３０％を占めることができる。
【０１８０】
場合によって、第２リフレクター３００において、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比率は、約１：１〜２０であればよい。
【０１８１】
また、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａにおいて、第１領域と第２領域との面積比率は、約１〜１０：０．４であればよい。
【０１８２】
また、正反射領域３００ａの第２領域は、正反射領域３００ａの第１領域から約５〜２００ｍｍ距離だけ延在してもよい。
【０１８３】
そして、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａに形成される正反射層と第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂに形成される乱反射層は、モールドボディーまたは金属ボディーに反射フィルムが付着された構造であってもよく、正反射面または乱反射面を有するモールドボディーまたは金属ボディー自体であってもよい。
【０１８４】
場合によって、正反射層及び乱反射層は、射出成形可能なように、プラスチックなどのような高分子樹脂で製作すればよい。
【０１８５】
ここで、反射フィルムは、金属または金属酸化物のうち少なくとも一つを含むことができ、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）または二酸化チタン（ＴｉＯ２）のように、高い反射率を有する金属または金属酸化物を含んで構成すればよい。
【０１８６】
そして、正反射層からなる正反射領域３００ａと乱反射層からなる乱反射領域３００ｂとの間には、接着剤または結合部材などが形成され、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとを互いに連結することができる。
【０１８７】
図１７Ａ乃至図１８は、第２リフレクターの正反射領域の形状による輝度の均一度を説明するための図である。
【０１８８】
図１７Ａは、正反射領域の先端に三角形状がない実施例であり、図１７Ｂ及び図１７Ｃは、正反射領域の先端に三角形状が形成された実施例であり、図１８は、図１７Ａ乃至図１７Ｃの実施例による輝度の均一度を比較したグラフである。
【０１８９】
まず、図示してはいないが、正反射領域は有さず、乱反射領域のみを有する第２リフレクターを実施例Ａとし、図１７Ａに示すように、量端間の距離Ｄ１が約１００ｍｍである正反射領域３００ａを有する第２リフレクター３００を実施例Ｂとし、図１７Ｂに示すように、量端間の距離Ｄ１が約１００ｍｍである正反射領域３００ａ内において、量端間の距離Ｄ２（すなわち、三角形状の高さ）が約３０ｍｍである三角形状を有する第２リフレクター３００を実施例Ｃとし、図１７Ｃに示すように、量端間の距離Ｄ１が約１００ｍｍである正反射領域３００ａ内において、量端間の距離Ｄ２（すなわち、三角形状の高さ）が約９０ｍｍである三角形状を有する第２リフレクター３００を実施例Ｄとする。
【０１９０】
そして、図１８は、光源との距離による輝度を、各実施例別に測定して比較したグラフである。
【０１９１】
図１８に示すように、正反射領域を有しない実施例Ａでは、光源に隣接した領域の輝度が高く、光源から遠く離れた領域の輝度は低いことがわかる。
【０１９２】
そして、正反射領域を有する実施例Ｂでは、光源に隣接した領域の輝度が低く、光源から遠い領域の輝度は高いことがわかる。
【０１９３】
また、正反射領域内に三角形状を有する実施例Ｃ及びＤでは、光源に隣接した領域の輝度と光源から遠く離れた領域の輝度が、略均一であることがわかる。
【０１９４】
ここで、三角形状の高さが約９０ｍｍである実施例Ｄは、三角形状の高さが約３０ｍｍである実施例Ｃに比べて、輝度がより高く且つより均一であることがわかる。
【０１９５】
このように、第２リフレクターの正反射領域は、光源に隣接した第１領域と光源から遠く離れた第２領域を含むことができ、正反射領域の第２領域が光源から遠ざかるほど漸次減少する形状を有する場合、均一な輝度を示すことがわかる。
【０１９６】
図１９は、ホールと三角形状を有する正反射領域を示す図である。
【０１９７】
図１９に示すように、正反射領域３００ａの第１領域には、多数のホールを有する正反射層が形成され、正反射領域３００ａの第２領域には、三角形状を有する正反射層が形成されてもよい。
【０１９８】
ここで、第１領域に形成されたホールから、正反射層の下部に位置する乱反射層が露出さればよい。
【０１９９】
図１９の実施例は、正反射領域３００ａの第１領域に形成される正反射層のホールの個数またはホールの大きさと、正反射領域３００ａの第２領域に形成される正反射層の形状を適切に調節することによって、全体的に均一な輝度を提供することができる。
【０２００】
図２０Ａ及び図２０Ｂは、ストライプ（ｓｔｒｉｐｅ）形状を有する正反射領域を示す図である。
【０２０１】
図２０Ａ及び図２０Ｂに示すように、正反射領域３００ａの第１領域には正反射層が形成され、正反射領域３００ａの第２領域には、ストライプ形状を有する正反射層が形成されてもよい。
【０２０２】
ここで、正反射領域３００ａの第２領域に形成された正反射層は、多数本のストライプから構成され、互いに隣接したストライプの幅は、互いに同一であってもよく、互いに異なってもよい。
【０２０３】
図２０Ａは、正反射領域３００ａの第２領域に、同一幅を有する多数のストライプが配列された実施例であり、図２０Ｂは、正反射領域３００ａの第２領域に、異なる幅を有する多数のストライプが配列された実施例である。
【０２０４】
図２０Ｂのストライプのうち、光源モジュール１００に隣接したストライプの幅ｗ１は、光源モジュール１００から遠く離れたストライプの幅ｗ３よりも広くすればよい。
【０２０５】
場合によって、正反射領域３００ａの第１領域に形成された正反射層は、多数のホールを有することもでき、ホールは、正反射層の下部に位置する乱反射層を露出させることができる。
【０２０６】
図２０Ａ及び図２０Ｂの実施例は、正反射領域３００ａの第２領域に形成されるストライプの本数及び幅を適切に調節することによって、全体的に均一な輝度を提供することができる。
【０２０７】
一方、正反射領域と乱反射領域を有する第２リフレクターは、光源モジュールの配置によって様々な形状に製作することができる。
【０２０８】
図２１は、１エッジタイプ（ｏｎｅ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図であり、図２２は、２エッジタイプ（ｔｗｏ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図であり、図２３及び図２４は、４エッジタイプ（ｆｏｕｒ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図である。
【０２０９】
図２１は、１エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図であって、図２１に示すように、１エッジタイプの第２リフレクター３００は、一側に光源モジュール１００が配置され、正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接して配置され、乱反射領域３００ｂは、光源モジュール１００から遠い領域に配置されればよい。
【０２１０】
そして、図２２は、２エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図であって、図２２に示すように、２エッジタイプの第２リフレクター３００は、両側に光源モジュール１００が配置され、正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接して配置され、乱反射領域３００ｂは、光源モジュール１００から遠い領域に配置されればよい。
【０２１１】
また、図２３は、４エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図であって、図２３に示すように、４エッジタイプの第２リフレクター３００は、４側面にそれぞれ光源モジュール１００が配置され、正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接して配置され、乱反射領域３００ｂは、光源モジュール１００から遠い領域に配置されればよい。
【０２１２】
また、図２４は、４エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図であって、図２４に示すように、４エッジタイプの第２リフレクター３００は、４隅部にそれぞれ光源モジュール１００が配置され、正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接して配置され、乱反射領域３００ｂは、光源モジュール１００から遠い領域に配置されればよい。
【０２１３】
また、実施例に係るバックライトユニットは、第２リフレクターから一定の空間をおいて配置される光学部材（ｏｐｔｉｃａｌ  ｍｅｍｂｅｒ）をさらに含むことができ、第２リフレクターと光学部材との空間には、エアーガイドが形成されればよい。
【０２１４】
図２５は、光学部材を含むバックライトユニットを示す図であり、図２６は、光学部材の形状の一例を示す図である。
【０２１５】
図２５に示すように、光学部材６００は、第１リフレクター２００のオープン領域に配置されるもので、多重層にすることができ、最上層またはいずれか一層の表面に凹凸パターン６２０を有することができる。
【０２１６】
場合によって、光学部材６００は、少なくとも一つのシートからなり、拡散シート、プリズムシート、輝度強化シートなどを選択的に含むことができる。
【０２１７】
ここで、拡散シートは、光源から出射された光を拡散させ、プリズムシートは、拡散された光を発光領域にガイドし、輝度拡散シートは、輝度を強化させる役割を果たす。
【０２１８】
このように、光学部材６００は、第１リフレクター２００のオープン領域から出射される光を拡散させるもので、拡散効果を増大させるために、光学部材６００の上面に、凹凸パターン６２０を形成することができる。
【０２１９】
凹凸パターン６２０は、図２６に示すように、光源モジュール１００に沿って配置されるストライプ形状とすればよい。
【０２２０】
ここで、凹凸パターン６２０は、光学部材６００の表面であって、突出部を有し、突出部は、互いに向かい合う第１面及び第２面で構成され、第１面と第２面との角は、鈍角または鋭角であればよい。
場合によって、光学部材６００は、少なくとも一つのシートからなり、拡散シート、プリズムシート、輝度強化シートなどを選択的に含むことができる。
【０２２１】
ここで、拡散シートは、光源から出射された光を拡散させ、プリズムシートは、拡散された光を発光領域にガイドし、輝度拡散シートは、輝度を強化させる役割を果たす。
【０２２２】
一方、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂは、入射する光をランパート分布（ｌａｍｂｅｒｔｉａｎ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）及びガウス分布（ｇａｕｓｓｉａｎ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）のうち少なくとも一つで反射させることができる。
【０２２３】
ここで、乱反射領域３００ｂの全ての地点（ｐｏｉｎｔ）は、各地点に入射する光の入射角が、各地点を通る法線を基準に少なくとも５５°以上の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多いこともあり、ランパート分布で反射する光量がより多いこともある。
【０２２４】
例えば、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａには、正反射特性を有する反射シートを配置し、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂには、乱反射特性を有する反射シートを配置すればよい。
【０２２５】
すなわち、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂには、ランパート分布及びガウス分布で反射する乱反射特性を有する反射シートを配置すればよい。
【０２２６】
ここで、乱反射領域３００ｂに配置される反射シートは、入射する光の入射角が法線を基準に約５５°以上の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多く現れる乱反射特性を有することができる。
【０２２７】
場合によって、乱反射領域３００ｂに配置される反射シートは、入射する光の入射角が法線から約６０°以上の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多く現れる乱反射特性を有することができる。
【０２２８】
すなわち、乱反射領域３００ｂに配置される反射シートは、入射する光の入射角が、法線を基準に約５０〜７０°の時、ランバート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量との比が５：５である反射特性を有してもよい。
【０２２９】
図２７は、光の正反射特性と乱反射特性を説明するための図である。
【０２３０】
図２７に示すように、光は、リフレクター（ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ）の表面特性によって、正反射（ｓｐｅｃｕｌａｒ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）または乱反射（ｄｉｆｆｕｓｅ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）することができる。
【０２３１】
そして、乱反射は、ガウス反射（ｇａｕｓｓｉａｎ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）、ランパート反射（ｌａｍｂｅｒｔｉａｎ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）、及び混合反射（ｍｉｘｅｄ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）を含むことができる。
【０２３２】
一般に、正反射は、光がリフレクターのいずれか一地点に入射する時、該地点を通る法線及び入射光の光軸間の角度と法線及び反射光の光軸間の角度とが同一である反射を意味する。
【０２３３】
そして、ガウス反射は、リフレクターの表面の角による反射光の強度と、法線と反射光の方向間の角が、ガウス関数値によって変わる反射を意味する。
【０２３４】
また、ランパート反射は、リフレクター表面の角による反射光の強度と、法線と反射光の方向間の角が、コサイン関数値によって変わる反射を意味する。
【０２３５】
また、混合反射は、正反射、ガウス反射、及びランパート反射のうち少なくとも一つが混合された反射を意味する。
【０２３６】
したがって、本実施例では、第２リフレクター３００の表面特性を調節することによって、光の反射特性を制御することができる。
【０２３７】
図２８は、図１Ａの乱反射領域から反射される光の分布を示す図である。
【０２３８】
図２８に示すように、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａにおいて、入射光が第１地点に入射する時、入射光の光軸と第１地点を通る法線間の角度θ１は、第１地点から反射される反射光の光軸と法線間の角度θ２と同一であればよい。
【０２３９】
そして、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂにおいて、入射光が第２地点に入射する時、第２地点から反射される反射光は、ランパート分布及びガウス分布で反射することができる。
【０２４０】
ここで、第２地点に入射する入射光の光軸と第２地点を通る法線間の角度θが、約５５°以上の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多ければよい。
【０２４１】
場合によっては、第２地点に入射する入射光の光軸と第２地点を通る法線間の角度θが、約６０°以上の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多くてもよい。
【０２４２】
すなわち、乱反射領域３００ｂに配置される反射シートは、入射する光の入射角が、法線を基準に約５０〜７０°の時、ランバート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量との比が５：５である反射特性を有してもよい。
【０２４３】
このように、光反射特性を有するように第２リフレクター３００を製作する理由は、光源１１０に隣接した領域と光源１１０から遠く離れた領域との輝度差を減らすためである。
【０２４４】
すなわち、光源１１０に隣接した正反射領域３００ａは、光を正反射して、輝度の弱いバックライトの中央領域に送る役割を果たし、光源１１０から遠く離れた乱反射領域３００ｂは、光を乱反射して弱い輝度を補償することができる。
【０２４５】
したがって、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂの光反射特性を適切に調節することによって、全体的に均一な輝度を提供できる。
【０２４６】
ここで、第２リフレクター３００は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）などのように、高い反射率を有する金属または金属酸化物を含んで構成されればよく、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂに形成される物質が互いに異なってもよく、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂの表面粗さが互いに異なってもよい。
【０２４７】
すなわち、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂが同一の物質から形成されるとともに、表面粗さが互いに異なってもよい。
【０２４８】
または、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂが互いに異なる物質から形成されるとともに、表面粗さが互いに異なってもよい。
【０２４９】
例えば、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる第１層と、第１層上に形成され、ＴｉＯ２及びＳｉＯ２のうち少なくとも一粒子からなる第２層と、を含むことができる。
【０２５０】
図２９は、第２リフレクターの乱反射領域の構成を示す断面図である。
【０２５１】
図２９に示すように、第２リフレクターの乱反射領域は、第１層３０２及び第２層３０４が積層された構造であればよい。
【０２５２】
ここで、第１層３０２は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなり、第２層３０４は、ＴｉＯ２及びＳｉＯ２のうち少なくとも一粒子３０４ａからなればよい。
【０２５３】
第２層３０４の粒子３０４ａは、大きさが互いに同一であってもよく、大きさが互いに異なってもよい。
【０２５４】
ここで、第２層３０４の粒子３０４ａは、第１層３０２の全体面積の約２０〜９０％を占めることができる。
【０２５５】
また、粒子３０４ａの大きさは、約５〜５０μｍであればよい。
【０２５６】
そして、第２層３０４上に保護層をさらに形成してもよい。
【０２５７】
このように、第２リフレクターは、乱反射領域の第２層３０４に含まれる粒子量を調節することによって、乱反射領域３００ｂの光反射特性を制御することができる。
【０２５８】
図３０は、乱反射領域の光反射特性を示すグラフである。
【０２５９】
図３０に示すように、乱反射領域に入射する光の入射角が、法線から約５７．５°の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量との比が５：５であることがわかる。
【０２６０】
ここで、第２リフレクターの乱反射領域に含まれるＴｉＯ２及びＳｉＯ２のうち少なくとも一物質の粒子量が、乱反射領域の全体面積の約５０％の時、光の入射角によるランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量は、下記表１のようである。
【０２６１】
【表１】
0005964015.tif 000002
【０２６２】
したがって、上記表１のように、本実施例は、乱反射領域の光反射特性を制御することによって、光の入射角に応じて、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ランパート分布で反射する光量よりもガウス分布で反射する光量が多い乱反射領域を製作することもでき、ガウス分布で反射する光量よりもランパート分布で反射する光量が多い乱反射領域を製作することもできる。
【０２６３】
すなわち、乱反射領域３００ｂに配置される反射シートは、入射する光の入射角が、法線を基準に約５０〜７０°の時、ランバート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量との比が５：５である反射特性を有してもよい。
【０２６４】
一方、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂは、第２リフレクター３００の全体領域の約５０〜９５％を占めることができる。
【０２６５】
場合によって、乱反射領域３００ｂは、第２リフレクター３００の全体領域の約７０〜８０％を占めることができる。
【０２６６】
また、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比は、１：１〜２０であってもよい。
【０２６７】
このように、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比を定める理由は、光源１１０に隣接した領域と光源１１０から遠く離れた領域との輝度差を減らすためである。
【０２６８】
すなわち、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの面積比を適切に調節することによって、全体的に均一な輝度を提供できる。
【０２６９】
また、乱反射領域３００ｂは、異なる光反射特性を有する多数の乱反射領域を含むこともできる。
【０２７０】
図３１Ａ及び図３１Ｂは、光反射特性が異なる多数の乱反射領域を有する第２リフレクターを示す図であり、図３１Ａは断面図、図３１Ｂは上面斜視図である。
【０２７１】
図３１Ａ及び図３１Ｂに示すように、バックライトユニットは、少なくとも一つの光源１１０を含む光源モジュール１００、第１リフレクター２００、及び第２リフレクター３００を含むことができる。
【０２７２】
ここで、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとを含み、乱反射領域３００ｂは、第１乱反射領域３００ｂ１及び第２乱反射領域３００ｂ２を含むことができる。
【０２７３】
ここで、正反射領域３００ａは、入射する光を正反射する役割を果たし、乱反射領域３００ｂは、入射する光を乱反射する役割を果たすことができ、正反射領域３００ａと乱反射領域３００ｂとの光反射率は、約５０〜９９．９９％であればよい。
【０２７４】
そして、第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２は、入射する光をランパート分布及びガウス分布のうち少なくともどれ一つで反射すればよい。
【０２７５】
ここで、第１乱反射領域３００ｂ１の全ての地点は、各地点に入射する光の入射角が、各地点を通る法線から少なくとも約５５°以上の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多ければよい。
【０２７６】
そして、第２乱反射領域３００ｂ２の全ての地点は、各地点に入射する光の入射角が、各地点を通る法線から少なくとも約６０°以上の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多ければよい。
【０２７７】
ここで、第１乱反射領域３００ｂ１は、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多ければよい。
【０２７８】
そして、第２乱反射領域３００ｂ２は、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ランパート分布で反射する光量がより多ければよい。
【０２７９】
例えば、第２リフレクター３００の正反射領域３００ａには、正反射特性を有する反射シートを配置し、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂには、乱反射特性を有する反射シートを配置すればよい。
【０２８０】
すなわち、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂには、ランパート分布及びガウス分布で反射する乱反射特性を有する反射シートを配置すればよい。
【０２８１】
ここで、第１乱反射領域３００ｂ１に配置される反射シートは、入射する光の入射角が法線から約５５°以上の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多い乱反射特性を有することができる。
【０２８２】
そして、第２乱反射領域３００ｂ２に配置される反射シートは、入射する光の入射角が法線から約６０°以上の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多い乱反射特性を有することができる。
【０２８３】
この場合、第１乱反射領域３００ｂ１は、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多い乱反射特性を有することができる。
【０２８４】
そして、第２乱反射領域３００ｂ２は、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ランパート分布で反射する光量がより多い乱反射特性を有することができる。
【０２８５】
すなわち、乱反射領域３００ｂに配置される反射シートは、入射する光の入射角が、法線を基準に約５０〜７０°の時、ランバート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量との比が５：５である反射特性を有してもよい。
【０２８６】
このように、光反射特性を有するように第２リフレクター３００を製作する理由は、光源１１０に隣接した領域と光源１１０から遠く離れた領域との輝度差を減らすためである。
【０２８７】
すなわち、光源１１０に隣接した正反射領域３００ａは、光を正反射して輝度の弱いバックライトの中央領域に送る役割を果たし、光源１１０から遠く離れた第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２は、光を乱反射して弱い輝度を補償することができる。
【０２８８】
したがって、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａ及び第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２の光反射特性を適切に調節することによって、全体的に均一な輝度を提供できる。
【０２８９】
ここで、第２リフレクター３００は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）などのように、高い反射率を有する金属または金属酸化物を含んで構成されればよく、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２に形成される物質が互いに異なってもよく、正反射領域３００ａと第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２の表面粗さが互いに異なってもよい。
【０２９０】
すなわち、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２が同一の物質で形成されるとともに、表面粗さが互いに異なってもよい。
【０２９１】
または、第２リフレクター３００は、正反射領域３００ａと第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２が互いに異なる物質で形成されるとともに、表面粗さが互いに異なってもよい。
【０２９２】
例えば、第２リフレクター３００の乱反射領域３００ｂは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる第１層と、第１層上に形成され、ＴｉＯ２及びＳｉＯ２のうち少なくともどの一粒子らからなる第２層と、を含むことができる。
【０２９３】
ここで、第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２には同一の物質が含まれ、当該物質の粒子量は互いに異なってもよい。
【０２９４】
すなわち、第１乱反射領域３００ｂ１に含まれる物質の粒子量は、第２乱反射領域３００ｂ２に含まれる物質の粒子量よりも少なければよい。
【０２９５】
その理由は、粒子量によって、第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２の表面粗さが変わることがあるためである。
【０２９６】
ここで、第１乱反射領域３００ｂ１に含まれる物質の粒子量は、第１乱反射領域３００ｂ１の全体面積の約２０〜９０％を占めることができる。
【０２９７】
そして、第２乱反射領域３００ｂ２に含まれる物質の粒子量は、第２乱反射領域３００ｂ２の全体面積の約２０〜９０％を占めることができる。
【０２９８】
また、第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２には、互いに同一の物質が同一の量で含まれ、当該物質の粒子大きさは、互いに異なってもよい。
【０２９９】
ここで、第１乱反射領域３００ｂ１に含まれる物質の粒子大きさは、約５〜５０μｍであればよい。
【０３００】
このように、第２リフレクターは、第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２に含まれる物質の粒子量または粒子大きさを調節することによって、第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２の光反射特性を制御できる。
【０３０１】
一方、第１乱反射領域３００ｂ１の面積は、第２乱反射領域３００ｂ２の面積と同一であってもよく、小さくてもよい。
【０３０２】
場合によって、第１乱反射領域３００ｂ１と第２乱反射領域３００ｂ２との面積比は、１：１〜５であればよい。
【０３０３】
そして、正反射領域３００ａの面積は、第１乱反射領域３００ｂ１の面積と同一であってもよく、小さくてもよい。
【０３０４】
場合によって、正反射領域３００ａと第１乱反射領域３００ｂ１との面積比は、１：１〜４であればよい。
【０３０５】
また、正反射領域３００ａの面積は、第２乱反射領域３００ｂ２の面積と同一であってもよく、小さくてもよい。
【０３０６】
場合によって、正反射領域３００ａと第２乱反射領域３００ｂ２との面積比は、１：１〜２０であればよい。
【０３０７】
また、第１乱反射領域３００ｂ１は、正反射領域３００ａと第２乱反射領域３００ｂ２との間に位置することができる。
【０３０８】
そして、正反射領域３００ａと光源１１０との距離は、第１乱反射領域３００ｂ１と光源１１０との距離よりも短くし、第１乱反射領域３００ｂ１と光源１１０との距離は、第２乱反射領域３００ｂ２と光源１１０との距離よりも近くすればよい。
【０３０９】
図３２Ａは、第１乱反射領域の光反射特性を示すグラフであり、図３２Ｂは、第２乱反射領域の光反射特性を示すグラフである。
【０３１０】
図３２Ａに示すように、第１乱反射領域に入射する光の入射角が法線から約５７．５°の時、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量との比が５：５であることがわかる。
【０３１１】
ここで、第２リフレクターの第１乱反射領域に含まれるＴｉＯ２及びＳｉＯ２のうち少なくとも一物質の粒子量が、第１乱反射領域の全体面積の約５０％の時、光の入射角による、ランパート分布で反射する光量及びガウス分布で反射する光量は、下記表２のようである。
【０３１２】
【表２】
0005964015.tif 000003
【０３１３】
・         
そして、図３２Ｂに示すように、第２乱反射領域に入射する光の入射角が法線から約６５．５°のとき、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量との比が５：５であることがわかる。
・   
ここで、第２リフレクターの第２乱反射領域に含まれるＴｉＯ２及びＳｉＯ２のうち少なくとも一物質の粒子量が、乱反射領域の全体面積の約７０％の時、光の入射角による、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量は、下記表３のようである。
【０３１４】
【表３】
0005964015.tif 000004
【０３１５】
したがって、上記表２及び３のように、本実施例は、乱反射領域の光反射特性を制御することによって、光の入射角によって、ランパート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ランパート分布で反射する光量よりもガウス分布で反射する光量が多い乱反射領域を製作することもでき、ガウス分布で反射する光量よりもランパート分布で反射する光量が多い乱反射領域を製作することもできる。
【０３１６】
すなわち、乱反射領域３００ｂに配置される反射シートは、入射する光の入射角が、法線を基準に約５０〜７０°の時、ランバート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量との比が５：５である反射特性を有してもよい。
【０３１７】
また、乱反射領域は、光反射特性の異なる２個の領域に区別してもよいが、場合によっては、光反射特性の異なる３〜１０個の領域に区別してもよい。
【０３１８】
第２リフレクターの乱反射領域は、バックライトユニットの全体大きさ及び構造の変形によって、最適の光反射特性を有するように設計可能である。
【０３１９】
一方、正反射領域と第１及び第２乱反射領域を有する第２リフレクターは、光源モジュールの配置によって様々な形状にすることができる。
【０３２０】
図３１Ａ及び図３１Ｂは、１エッジタイプ（ｏｎｅ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図であり、図３１Ａ及び図３１Ｂに示すように、１エッジタイプの第２リフレクター３００は、一側に光源モジュール１００が配置され、正反射領域３００ａは光源モジュール１００に隣接して配置され、第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２は、光源モジュール１００から遠く離れた領域に配置されればよい。
【０３２１】
そして、図３３は、２エッジタイプ（ｔｗｏ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図であり、図３４及び図３５は。４エッジタイプ（ｆｏｕｒ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図である。
【０３２２】
図３３は、２エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図であって、図３３に示すように、２エッジタイプの第２リフレクター３００は、両側に光源モジュール１００が配置され、正反射領域３００ａは。光源モジュール１００に隣接して配置され、第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２は、光源モジュール１００から遠く離れた領域に配置されればよい。
【０３２３】
また、図３４は、４エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図であって、図３４に示すように、４エッジタイプの第２リフレクター３００は、４側面にそれぞれ光源モジュール１００が配置され、正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接して配置され、第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２は、光源モジュール１００から遠く離れた領域に配置されればよい。
【０３２４】
また、図３５は、４エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図であって、図３５に示すように、４エッジタイプの第２リフレクター３００は、４つの隅部にそれぞれ光源モジュール１００が配置され、正反射領域３００ａは、光源モジュール１００に隣接して配置され、第１及び第２乱反射領域３００ｂ１，３００ｂ２は、光源モジュール１００から遠く離れた領域に配置されればよい。
【０３２５】
また、実施例に係るバックライトユニットは、第２リフレクターから一定の空間をおいて配置される光学部材（ｏｐｔｉｃａｌ  ｍｅｍｂｅｒ）をさらに含むことができ、第２リフレクターと光学部材との間の空間には、エアーガイドが形成されればよい。
【０３２６】
一方、第２リフレクターは、多数のパターンを有することができる。
【０３２７】
図３６Ａ及び図３６Ｂは、光反射特性の異なる多数の乱反射領域を有する第２リフレクターを示す図であり、図３６Ａは断面図、図３６Ｂは上面斜視図である。
【０３２８】
図３６Ａ及び図３６Ｂに示すように、第２リフレクター３００は、少なくとも一つの変曲点Ｐ０を有する傾斜面３１０を含み、傾斜面３１０に沿って、一方向に凹ライン３１２と凸ライン３１４とが交互に配列される多数のパターンを有することができる。
【０３２９】
ここで、第２リフレクター３００の凹ライン３１２は、傾斜面３１０から凹んだ曲面であり、第２リフレクター３００の凸ライン３１４は、傾斜面３１０から膨らんでいる曲面であればよい。
【０３３０】
第２リフレクター３００の傾斜面３１０は、第１リフレクター２００の表面に対して平行な水平面から一定角度で傾斜する傾斜面であればよい。
【０３３１】
例えば、第２リフレクター３００は、少なくとも一つの変曲点Ｐ０を有する少なくとも２個の傾斜面３１０を含むことができ、図３６Ａ及び図３６Ｂに示すように、第２リフレクター３００は、第１曲率Ｒ１を有する第１傾斜面３１０ａと、第２曲率Ｒ２を有する第２傾斜面３１０ｂと、を含むことができる。
【０３３２】
すなわち、第２リフレクター３００において、変曲点Ｐ０を中心に隣接する第１及び第２傾斜面３１０ａ，３１０ｂの曲率Ｒ１及びＲ２は、互いに異なってもよい。
【０３３３】
ここで、光源モジュール１００に隣接して配置される第１傾斜面３１０ａの曲率Ｒ１が、第１傾斜面３１０ａに隣接して配置される第２傾斜面３１０ｂの曲率Ｒ２よりも大きければよい。
【０３３４】
そして、第２リフレクター３００の凹ライン３１２と凸ライン３１４は、第１及び第２傾斜面３１０ａ，３１０ｂに沿って、一方向に交互に配列されればよい。
【０３３５】
凹んだ曲面を有する凹ライン３１２、及び膨らんでいる曲面を有する凸ライン３１４は、光源モジュール１００の光源が配列される方向と同じ方向に配列されればよい。
【０３３６】
ここで、凹ライン３１２と凸ライン３１４は、第１傾斜面３１０ａに沿って配列される第１凹ライン３１２ａ及び第１凸ライン３１４ａを含むことができ、第２傾斜面３１０ｂに沿って配列される第２凹ライン３１２ｂ及び第２凸ライン３１４ｂを含むことができる。
【０３３７】
この場合、第１傾斜面３１０ａに沿って配列される第１凹ライン３１２ａ及び第１凸ライン３１４ａはそれぞれ、第１曲率ｒ１と第２曲率ｒ２を有することができる。
【０３３８】
そして、第２傾斜面３１０ｂに沿って配列される第２凹ライン３１２ｂと第２凸ライン３１４ｂはそれぞれ、第３曲率ｒ３と第４曲率ｒ４を有することができる。
【０３３９】
第１曲率ｒ１、第２曲率ｒ２、第３曲率ｒ３及び第４曲率ｒ４はいずれも同一であればよく、場合によっては、少なくとも一つが異なってもよい。
【０３４０】
例えば、第１傾斜面３１０ａに沿って配列される第１凹ライン３１２ａ及び第１凸ライン３１４ａの第１曲率ｒ１及び第２曲率ｒ２は、第２傾斜面３１０ｂに沿って配列される第２凹ライン３１２ｂ及び第２凸ライン３１４ｂの第３曲率ｒ３及び第４曲率ｒ４と互いに同一であってもよく、互いに異なってもよい。
【０３４１】
ここで、第２リフレクター３００の第１傾斜面３１０ａの曲率Ｒ１が、第２傾斜面３１０ｂの曲率Ｒ２よりも大きく製作する場合、第１傾斜面３１０ａに沿って配列される第１凹ライン３１２ａ及び第１凸ライン３１４ａの第１曲率ｒ１及び第２曲率ｒ２は、第２傾斜面３１０ｂに沿って配列される第２凹ライン３１２ｂ及び第２凸ライン３１４ｂの第３曲率ｒ３及び第４曲率ｒ４よりも大きくても良い。
【０３４２】
これは、第１傾斜面３１０ａに沿って配列される第１凹ライン３１２ａ及び第１凸ライン３１４ａが、光源１１０から発生した光を、第２リフレクター３００の中央領域へと遠く送るように反射させることによって、均一の輝度を提供できるからである。
【０３４３】
図３７は、図３６Ａにおける凹ライン及び凸ラインを詳細に示す図である。
【０３４４】
図３７に示すように、第２リフレクター３００の凹ライン３１２及び凸ライン３１４は、第２リフレクター３００の傾斜面３１０に沿って、交互に配列されればよい。
【０３４５】
ここで、凹ライン３１２は、第１曲率ｒ１を有するように、傾斜面３１０から凹んだ曲面を有することができる。
【０３４６】
すなわち、凹ライン３１２は、凹ライン３１２と傾斜面３１０との接点（ｃｏｎｔａｃｔ  ｐｏｉｎｔ）Ｐ２及び凹ラインの頂点（ｐｅａｋ  ｐｏｉｎｔ）Ｐ３を通る曲面であり、凹ライン３１２の幅Ｗ１は、傾斜面３１０に垂直であり、接点Ｐ２を通る２直線間の距離である。
【０３４７】
そして、凸ライン３１４は、第２曲率ｒ２を有するように、傾斜面３１０から膨らんでいる曲面を有することができる。
【０３４８】
すなわち、凸ライン３１４は、凸ライン３１４と傾斜面３１０との接点Ｐ２及び凸ラインの頂点Ｐ１を通る曲面であり、凸ライン３１４の幅Ｗ２は、傾斜面３１０に垂直であり、接点Ｐ２を通る２直線間の距離である。
【０３４９】
このように形成される凹ライン及び凸ラインの曲率は、所定の方程式により決定すればよい。
【０３５０】
図３８は、図３６Ａの凹ラインまたは凸ラインの曲率を決定する条件を説明するための図である。
【０３５１】
図３８に示すように、凹ライン３１２の曲率ｒ１は、凹ライン３１２と傾斜面３１０との接点Ｐ２と凹ライン３１２の頂点Ｐ３とをつなぐ直線が傾斜面３１０となす角度θが、約０．０１〜１５°であることを満たせばよい。
【０３５２】
角度θは、下記方程式１により定義することができる。
［方程式１］
θ＝ｔａｎ−１（ｈ／ｗ）＝０．０１〜１５°
ここで、ｈは、凹ライン３１２の最大深さであり、凹ライン３１２の頂点Ｐ３と傾斜面３１０との最短距離を表す。
【０３５３】
そして、ｗは、凹ライン３１２の幅であり、凹ライン３１２と傾斜面３１０との接点Ｐ２と、凹ライン３１２の頂点Ｐ３と傾斜面３１０とをつなぐ垂直線との間の最短距離を意味する。
【０３５４】
すなわち、上記方程式１は、下記のような数式により求めることができる。
【０３５５】
図３８に示すように、凹ライン３１２の表面を通る仮想の円４００の中心点Ｏと、凹ライン３１２の頂点Ｐ３とをつなぐ直線の距離をＲとする時、
（Ｒ−ｈ）＾２＋ｗ＾２＝Ｒ＾２
ｈ＝Ｒ＋／−ｓｑｒｔ（Ｒ＾２−ｗ＾２）
となる。
【０３５６】
したがって、Ｒ、ｗ、ｈによる条件により、凹ライン３１２と傾斜面３１０との接点Ｐ２と、凹ライン３１２の頂点Ｐ３とをつなぐ直線が傾斜面３１０となす角度θは、ｔａｎ−１(ｈ／ｗ)であって、約０．０１〜１５であればよい。
【０３５７】
このように、角度θの条件を有する曲率で凹ラインを形成すると、凹ラインに光が入射する時、凹ラインの曲面によりシャドー現象（ｓｈａｄｏｗ  ｅｆｆｅｃｔ）が表れず、外観上ブラック領域（ｂｌａｃｋ  ａｒｅａ）が生じないので、均一の輝度を有するバックライトユニットを製作可能になる。
【０３５８】
また、凸ラインも同様、シャドー現象が表れないように、凹ラインと同様の条件にすればよい。
【０３５９】
すなわち、角度θの条件を含む曲率を有するように凹ラインまたは凸ラインを形成すると、全体的に均一な輝度を有するバックライトユニットの製作が可能になる。
【０３６０】
ここで、曲率ｒ１を有する凹ラインは、光を集める役割を果たすことができ、曲率ｒ２を有する凸ラインは、光を分散する役割を果たすことができる。
結論的に、本実施例は、第２リフレクターを製作する時、傾斜面３１０の曲率、凹ライン３１２の曲率、凸ライン３１４の曲率、凹ライン３１２の幅、凸ライン３１４の幅などのような条件を微小に調整することによって、均一の輝度を有するエアーガイドタイプのバックライトユニットを製作することができる。
【０３６１】
図３９及び図４０Ａ〜図４０Ｄは、凹ライン及び凸ラインの曲率関係を示す様々な実施例であり、図３９は、凹ライン及び凸ラインの曲率が同一である実施例であり、図４０Ａ〜図４０Ｄは、凹ライン及び凸ラインの曲率が異なる実施例である。
【０３６２】
まず、図３９に示すように、凹ライン３１２と凸ライン３１４は、第２リフレクター３００の傾斜面３１０に沿って、交互に配列されればよい。
【０３６３】
ここで、凹ライン３１２は、傾斜面３１０から下方に凹んだ曲面を有し、曲率ｒ１を有することができる。
【０３６４】
すなわち、凹ライン３１２は、傾斜面３１０の接点Ｐ２と凹ラインの頂点Ｐ３を通る曲面である。
【０３６５】
そして、凹ライン３１２の幅Ｗ１は、傾斜面３１０に垂直であり、接点Ｐ２を通る２直線間の距離であり、凹ライン３１２の最大深さｈ１は、頂点Ｐ３と傾斜面３１０間の最小距離である。
【０３６６】
また、凸ライン３１４は、傾斜面３１０から上方に膨らんでいる曲面を有し、曲率ｒ２を有することができる。
【０３６７】
すなわち、凸ライン３１４は、傾斜面３１０の接点Ｐ２及び凸ラインの頂点Ｐ１を通る曲面である。
・   
そして、凸ライン３１４の幅Ｗ２は、傾斜面３１０に垂直であり、接点Ｐ２を通る２直線間の距離であり、凸ライン３１４の最大高さｈ２は、頂点Ｐ１と傾斜面３１０間の最小距離である。
【０３６８】
したがって、実施例は、図３９に示すように、互いに隣接する凹ライン３１２の曲率ｒ１及び凸ライン３１４の曲率ｒ２は、互いに同一であってもよい。
【０３６９】
ここで、凹ライン３１２の幅Ｗ１及び凸ライン３１４の幅Ｗ２は、互いに同一であり、凹ライン３１２の最大深さｈ１及び凸ライン３１４の最大高さｈ２は、互いに同一であればよい。
【０３７０】
しかし、場合によっては、互いに隣接する凹ライン３１２の曲率ｒ１及び凸ライン３１４の曲率ｒ２は、互いに異なってもよい。
【０３７１】
図４０Ａ乃至図４０Ｄは、互いに隣接する凹ライン３１２及び凸ライン３１４の曲率が、互いに異なる様々な実施例を示す図である。
【０３７２】
図４０Ａは、凹ライン３１２が、一側に配置される第１凸ライン３１４ａの曲率とは同じ曲率を有し、他側に配置される第２凸ライン３１４ｂの曲率とは異なる曲率を有する実施例であり、図４０Ｂは、凹ライン３１２が、一側に配置される第１凸ライン３１４ａの曲率及び他側に配置される第２凸ライン３１４ｂの曲率と異なる曲率を有する実施例である。
【０３７３】
そして、図４０Ｃは、凸ライン３１４が、一側に配置される第１凹ライン３１２ａの曲率と同じ曲率を有し、他側に配置される第２凹ライン３１２ｂの曲率とは異なる曲率を有する実施例であり、図４０Ｄは、凸ライン３１４が、一側に配置される第１凹ライン３１２ａの曲率及び他側に配置される第２凹ライン３１２ｂの曲率と異なる曲率を有する実施例である。
【０３７４】
図４０Ａに示すように、一つの凹ライン３１２両側には、第１凸ライン３１４ａ及び第２凸ライン３１４ｂが配置され、第１凸ライン３１４ａの曲率ｒ２ａは、隣接する凹ライン３１２の曲率ｒ１と同一であり、第２凸ライン３１４ｂの曲率ｒ２ｂとは異なってもよい。
【０３７５】
ここで、凹ライン３１２の幅Ｗ１は、第１凸ライン３１４ａの幅Ｗ２ａと同一であり、第２凸ライン３１４ｂの幅Ｗ２ｂと異なればよい。
【０３７６】
また、凹ライン３１２の最大深さｈ１は、第１凸ライン３１４ａの最大高さｈ２ａと同一であり、第２凸ライン３１４ｂの最大高さｈ２ｂと異なればよい。
【０３７７】
また、図４０Ｂに示すように、一つの凹ライン３１２の両側には、第１凸ライン３１４ａと第２凸ライン３１４ｂが配置され、第１凸ライン３１４ａの曲率ｒ２ａは、隣接する凹ライン３１２の曲率ｒ１と異なり、第２凸ライン３１４ｂの曲率ｒ２ｂとも異なってもよい。
【０３７８】
ここで、凹ライン３１２の幅Ｗ１は、第１凸ライン３１４ａの幅Ｗ２ａと異なればよく、第２凸ライン３１４ｂの幅Ｗ２ｂとも異なればよい。
【０３７９】
また、凹ライン３１２の最大深さｈ１は、第１凸ライン３１４ａの最大高さｈ２ａと異なればよく、第２凸ライン３１４ｂの最大高さｈ２ｂとも異なればよい。
【０３８０】
そして、図４０Ｃに示すように、一つの凸ライン３１４の両側には、第１凹ライン３１２ａと第２凹ライン３１２ｂが配置され、第１凹ライン３１２ａの曲率ｒ１ａは、隣接する凸ライン３１４の曲率ｒ２と同一であり、第２凹ライン３１２ｂの曲率ｒ１ｂと異なってもよい。
【０３８１】
ここで、凸ライン３１４の幅Ｗ２は、第１凹ライン３１２ａの幅Ｗ１ａと同一であり、第２凹ライン３１２ｂの幅Ｗ１ｂと異なればよい。
【０３８２】
また、凸ライン３１４の最大高さｈ２は、第１凹ライン３１２ａの最大深さｈ１ａと同一であり、第２凹ライン３１２ｂの最大深さｈ１ｂと異なればよい。
【０３８３】
また、図４０Ｄに示すように、一つの凸ライン３１４両側には第１凹ライン３１２ａと第２凹ライン３１２ｂが配置され、第１凹ライン３１２ａの曲率ｒ１ａは、隣接する凸ライン３１４の曲率ｒ２と異なり、第２凹ライン３１２ｂの曲率ｒ１ｂとも異なってもよい。
【０３８４】
ここで、凸ライン３１４の幅Ｗ２は、第１凹ライン３１２ａの幅Ｗ１ａと異なればよく、第２凹ライン３１２ｂの幅Ｗ１ｂとも異なればよい。
【０３８５】
また、凸ライン３１４の最大高さｈ２は、第１凹ライン３１２ａの最大深さｈ１ａと異なればよく、第２凹ライン３１２ｂの最大深さｈ１ｂとも異なればよい。
【０３８６】
このように、凹ラインと凸ラインが交互に配列された多数のパターンを有する第２リフレクターは、光源モジュールの配置によって様々な形状にすることができる。
【０３８７】
図４１Ａ及び図４１Ｂは、１エッジタイプ（ｏｎｅ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図であり、図４２Ａ及び図４２Ｂは、２エッジタイプ（ｔｗｏ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図であり、図４３及び図４４は、４エッジタイプ（ｆｏｕｒ  ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ）の第２リフレクターを示す図である。
【０３８８】
図４１Ａは、１エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図であり、図４１Ｂは、図４１Ａの断面である。
【０３８９】
図４１Ａ及び図４１Ｂに示すように、１エッジタイプの第２リフレクター３００は、一側に光源モジュール１００が配置され、凹ライン３１２及び凸ライン３１４が、第２リフレクター３００の傾斜面３１０に沿って交互に配列されればよい。
【０３９０】
ここで、第２リフレクター３００の傾斜面は一つの変曲点を有し、変曲点を基準に第１傾斜面と第２傾斜面を有することができる。
【０３９１】
第１傾斜面は、光源モジュール１００に隣接するように配置された傾斜面で、光源モジュール１００と第２傾斜面との間に位置すればいい。
【０３９２】
この時、第１傾斜面に沿って配列される凹ラインと凸ラインの曲率は、第２傾斜面に沿って配列される凹ラインと凸ラインの曲率と互いに同一であってもよいが、場合によって、第１傾斜面に沿って配列される凹ラインと凸ラインの曲率は、第２傾斜面に沿って配列される凹ラインと凸ラインの曲率と互いに異なってもよい。
【０３９３】
ここで、第１傾斜面及び第２傾斜面に配列される凹ライン及び凸ラインはいずれも、同一の長さを有することができる。
【０３９４】
そして、図４２Ａは、２エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図であり、図４２Ｂは、図４２Ａの断面である。
【０３９５】
図４２Ａ及び図４２Ｂに示すように、２エッジタイプの第２リフレクター３００は、両側に光源モジュール１００が配置され、凹ライン３１２及び凸ライン３１４が、第２リフレクター３００の傾斜面３１０に沿って交互に配列されればよい。
【０３９６】
ここで、第２リフレクター３００の傾斜面は、少なくとも２以上の変曲点を有する多数の傾斜面を含むことができる。
【０３９７】
傾斜面は、変曲点を基準に対称に形成されればよく、各傾斜面に沿って配列される凹ラインと凸ラインの曲率は互いに同一であっもよいが、場合によって、少なくとも一つの傾斜面に沿って配列される凹ライン及び凸ラインの曲率は、残りの傾斜面に沿って配列される凹ライン及び凸ラインの曲率と互いに異なってもよい。
【０３９８】
ここで、各傾斜面に配列される凹ライン及び凸ラインはいずれも、同一の長さを有することができる。
【０３９９】
また、図４３は、４エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図である。
【０４００】
図４３に示すように、４エッジタイプの第２リフレクター３００は、４側面に光源モジュール１００が配置され、凹ライン３１２及び凸ライン３１４が第２リフレクター３００の傾斜面に沿って交互に配列されればよい。
【０４０１】
ここで、第２リフレクター３００の傾斜面は、各側面に配置される光源モジュール１００に対応して形成されればよい。
【０４０２】
すなわち、第２リフレクター３００の傾斜面は、第１側面に配置される光源モジュール１００に対応する第１傾斜面、第１側面に向かい合う第２側面に配置される光源モジュール１００に対応する第２傾斜面、第３側面に配置される光源モジュール１００に対応する第３傾斜面、及び第３側面に向かい合う第４側面に配置される光源モジュール１００に対応する第４傾斜面を含むことができる。
【０４０３】
そして、第１、第２、第３及び第４傾斜面は、一つの変曲点を有する２個の傾斜面を含むことができる。
【０４０４】
この場合、各傾斜面の幅は、光源モジュール１００から第２リフレクターの中央領域に向かうにつれて漸次減少することができ、各傾斜面に沿って配列される凹ライン及び凸ラインの長さは、光源モジュール１００から遠い領域に比べて、光源モジュール１００に隣接した領域においてより長ければよい。
【０４０５】
そして、各傾斜面に沿って配列される凹ライン及び凸ラインの曲率は互いに同一であってもよいが、場合によって、少なくとも一つの傾斜面に沿って配列される凹ライン及び凸ラインの曲率は、残りの傾斜面に沿って配列される凹ライン及び凸ラインの曲率と互いに異なってもよい。
【０４０６】
また、図４４は、４エッジタイプの第２リフレクターを示す平面図である。
【０４０７】
図４４に示すように、４エッジタイプの第２リフレクター３００は、４つの隅部に光源モジュール１００が配置され、凹ライン３１２及び凸ライン３１４が第２リフレクター３００の傾斜面に沿って交互に配列されればよい。
【０４０８】
ここで、第２リフレクター３００の傾斜面は、各隅部に配置される光源モジュール１００に対応して形成されれぱよい。
【０４０９】
すなわち、第２リフレクター３００の傾斜面は、第１隅部に配置される光源モジュール１００に対応する第１傾斜面、第１隅部に向かい合う第２隅部に配置される光源モジュール１００に対応する第２傾斜面、第３隅部に配置される光源モジュール１００に対応する第３傾斜面、第３隅部に向かい合う第４隅部に配置される光源モジュール１００に対応する第４傾斜面を含むことができる。
【０４１０】
そして、第１、第２、第３及び第４傾斜面は、一つの変曲点を有する２個の傾斜面を含むことができる。
【０４１１】
ここで、各傾斜面の幅は、光源モジュール１００から第２リフレクターの中央領域に向かうにつれて漸次増加してから減少すればよく、各傾斜面に沿って配列される凹ライン及び凸ラインの長さは、光源モジュール１００に隣接した領域から、光源モジュール１００から遠く離れた領域に向かうにつれて、漸次長くなってから短くなればよい。
【０４１２】
そして、各傾斜面に沿って配列される凹ライン及び凸ラインの曲率は、互いに同一であってもよいが、場合によって、少なくとも一つの傾斜面に沿って配列される凹ライン及び凸ラインの曲率は、残りの傾斜面に沿って配列される凹ライン及び凸ラインの曲率と互いに異なってもよい。
【０４１３】
このように、第２リフレクターの凹ライン及び凸ラインは、光源モジュールの位置による傾斜面の形状によって可変するものであってもよいが、場合によって、第２リフレクターの傾斜面の表面形状によって可変するものであってもよい。
【０４１４】
図４５Ａ乃至図４５Ｃは、第２リフレクターの傾斜面を示す図であり、図４５Ａは、傾斜面が平面である実施例であり、図４５Ｂ及び図４５Ｃは、傾斜面が曲面である実施例である。
【０４１５】
図４５Ａに示すように、第２リフレクター３００の傾斜面３１０は平面であり、凹ライン３１２及び凸ライン３１４は、平面の傾斜面３１０に沿って、交互に並んで配列されればよい。
【０４１６】
そして、図４５Ｂに示すように、第２リフレクター３００の傾斜面３１０は、凹んだ曲面であり、凹ライン３１２及び凸ライン３１４は、凹んだ曲面である傾斜面３１０に沿って、交互に並んで配列されればよい。
【０４１７】
また、図４５Ｃに示すように、第２リフレクター３００の傾斜面３１０は、膨らんでいる曲面であり、凹ライン３１２及び凸ライン３１４は、膨らんでいる曲面である傾斜面３１０に沿って、交互に並んで配列されればよい。
【０４１８】
このように、第２リフレクター３００の傾斜面３１０は、少なくとも一部分の傾斜角が増加してから減少するパターンを有してもよいが、第２リフレクター３００の少なくとも一部分の傾斜角が増加してから一定に保たれ、再び減少するパターンを有してもよい。
【０４１９】
このように、第２リフレクター３００の傾斜面３１０は、凹面、凸面、平面のうち少なくとも一つであればよい。
【０４２０】
一方、第２リフレクターの傾斜面は、第１リフレクターの位置によって傾斜面の面積が変わってもよい。
【０４２１】
図４６は、第１リフレクターと第２リフレクターとの位置関係を説明するための図である。
【０４２２】
図４６に示すように、第１リフレクター２００と第２リフレクター３００との間に光源モジュール１００が配置された構造において、第２リフレクター３００は、変曲点Ｐ０を基準に、曲率Ｒ１を有する第１傾斜面と曲率Ｒ２を有する第２傾斜面を含むことができる。
【０４２３】
ここで、第１傾斜面は、光源モジュール１００に隣接するように配置された傾斜面で、光源モジュール１００と第２傾斜面との間に位置すればよい。
【０４２４】
第１傾斜面は、変曲点Ｐ０を通り、傾斜面に垂直な垂線から、光源モジュール１００の基端までの距離Ｄ１の間に位置し、第１リフレクター２００は、第２リフレクター３００の第１傾斜面と重なるように配置されればよい。
【０４２５】
すなわち、第１リフレクターの先端２１０及び第２リフレクター３００の傾斜面を通る垂線Ｌ１が距離Ｄ１以内に位置しうるように、第１リフレクター２００の長さを調節することができる。
【０４２６】
これは、光の輝度が均一となるように反射させ、バックライトの発光面積を最大化させるためである。
【０４２７】
そして、凹ライン及び凸ラインは、曲率Ｒ１を有する第１傾斜面と曲率Ｒ２を有する第２傾斜面に沿って、交互に並んで配列されればよい。
【０４２８】
このように、第２リフレクター３００の傾斜面は、第１及び第２傾斜面を含むことができ、第１傾斜面は、光源モジュール１００に隣接して配置されればよく、第１傾斜面と第２傾斜面は互いに接触して連続的に配置されればよい。
【０４２９】
そして、第１傾斜面の曲率Ｒ１は、第２傾斜面の曲率Ｒ２よりも大きければよく、第１傾斜面は第１リフレクター２００と重なればよい。
【０４３０】
場合によっては、第１傾斜面及び第２傾斜面は、一定間隔離れて配置され、第１傾斜面と第２傾斜面との間の表面は、第１リフレクター２００と平行な平面であればよい。
【０４３１】
図４７は、第２リフレクターの他の実施例を示す図である。
【０４３２】
図４７に示すように、第２リフレクター３００は、曲率Ｒ１を有する第１傾斜面と、曲率Ｒ２を有する第２傾斜面と、を含むことができ、第１傾斜面と第２傾斜面とは一定間隔はなれて配置されればよい。
【０４３３】
ここで、第１傾斜面と第２傾斜面との間の表面は、第１リフレクターの表面と平行な水平面であればよい。
【０４３４】
ここで、水平面の幅は、曲率Ｒ１を有する第１傾斜面の先端（ｅｎｄ  ｐｏｉｎｔ）ＥＰ１と第２傾斜面の先端ＥＰ２間の距離Ｄ２であればよい。
【０４３５】
そして、曲率Ｒ１を有する第１傾斜面の幅は、光源モジュール１００から第１傾斜面の先端ＥＰ１までの距離Ｄ１であり、曲率Ｒ２を有する第２傾斜面の幅は、第２傾斜面の基端ＥＰ２から第２傾斜面の先端までの距離Ｄ３である。
【０４３６】
ここで、水平面の幅Ｄ１は、曲率Ｒ１を有する第１傾斜面の幅Ｄ２及び曲率Ｒ２を有する第２傾斜面の幅Ｄ３よりも小さく、曲率Ｒ１を有する第１傾斜面の幅Ｄ２は、水平面の幅Ｄ１より大きく、曲率Ｒ２を有する第２傾斜面の幅Ｄ３より小さければよい。
【０４３７】
場合によって、第１リフレクターの表面と平行な水平面は、第１傾斜面と第２傾斜面との間の表面だけでなく、光源モジュール１００と第１傾斜面との間、または第２傾斜面の一部表面に形成されてもよい。
【０４３８】
そして、凹ライン及び凸ラインは、曲率Ｒ１を有する第１傾斜面及び曲率Ｒ２を有する第２傾斜面に沿って、交互に並んで配列されてもよく、水平面に沿って交互に配列されてもよい。
【０４３９】
一方、実施例に係るバックライトユニットは、第２リフレクターから一定間隔で空間をおいて配置される光学部材をさらに含むことができ、第２リフレクターと光学部材との間の空間には、エアーガイドが形成されればよい。
【０４４０】
一方、本実施例は、光源モジュールの光出射面を様々な方向に配置してもよい。
【０４４１】
すなわち、光源モジュールは、光出射面が光学部材と第２リフレクターとの間のエアーガイド方向に向くように配置された直接出射型（ｄｉｒｅｃｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｔｙｐｅ）の構造であってもよく、光出射面が第１リフレクター、第２リフレクター及びカバープレート方向のうちのいずれか一方向に向くように配置される間接出射型の構造であってもよい。
【０４４２】
ここで、間接出射型光源モジュールは、出射された光が、第１リフレクター、第２リフレクター及びカバープレートに反射され、反射された光は、再びバックライトユニットのエアーガイド方向に進むことができる。
【０４４３】
このように、光源モジュールを間接出射型の構造にすると、ホットスポット（ｈｏｔ  ｓｐｏｔ）減少を低減できる。
【０４４４】
また、第２リフレクターの下部面に、多数の補強リブ（ｒｉｂ）を配置することもできる。
【０４４５】
図４８は、第２リフレクターの下部面に形成された補強リブを示す図であり、図４８に示すように、第２リフレクターの下部面に、多数の補強リブ３５０を配置すればよい。
【０４４６】
第２リフレクターが、曲面を有する反射面を有するので、外部環境条件によって変形されることがあり、これを防止するために補強リブ３５０を設置するわけである。
【０４４７】
補強リブ３５０は、第２リフレクターの傾斜面と向かい合う後面に配置される他、第２リフレクターの側面と向かい合う後面にも配置されることができる。
【０４４８】
そして、第２リフレクターの上部面に、光学部材を支持する支持ピンを形成することもできる。
【０４４９】
図４９は、第２リフレクターの上部面に形成された支持ピンを示す図であり、図４９に示すように、第２リフレクター３００の上部面に、光学部材を支持する支持ピン３６０を形成することができる。
【０４５０】
これは、光学部材が第２リフレクター３００から離隔され、その間にはエアーガイドが形成されるので、光学部材の中心領域が下部に垂れることがあるからである。
【０４５１】
ここで、支持ピン３６０は、第２リフレクター３００に接触する下部面の面積を、上部面の面積よりも広くすることが、安定的である。
【０４５２】
一方、第２リフレクターの傾斜面の下部には、光源モジュールを駆動させるための回路装置が配置されればよい。
【０４５３】
第２リフレクターの後面には、傾斜面の間に所定の空間が形成され、該当の空間に回路装置を配置することで、余分の空間を效率的に利用することができる。
【０４５４】
図５０は、実施例に係るバックライトユニットを有するディスプレイモジュールを示す図である。
【０４５５】
図５０に示すように、ディスプレイモジュール２０は、ディスプレイパネル８００及びバックライトユニット７００を含むことができる。
【０４５６】
ディスプレイパネル８００は、均一なセルギャップを保ちつつ相対向して合着されたカラーフィルター基板８１０とＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板８２０とを含み、これら両基板８１０，８２０の間に液晶層（図示せず）を介在すればよい。
【０４５７】
そして、ディスプレイパネル８００の上側及び下側にはそれぞれ、上部偏光版８３０及び下部偏光版８４０が配置されることができ、より詳細には、カラーフィルター基板８１０の上面に上部偏光版８３０が配置され、ＴＦＴ基板８２０の下面に下部偏光版８４０が配置されればよい。
【０４５８】
図示してはいないが、ディスプレイパネル８００の側面には、パネル８００を駆動させるための駆動信号を生成するゲート及びデータ駆動部を備えることができる。
【０４５９】
図５１及び図５２は、実施例に係るディスプレイ装置を示す図である。
【０４６０】
図５１を参照すると、ディスプレイ装置１は、ディスプレイモジュール２０、ディスプレイモジュール２０を取り囲むフロントカバー３０及びバックカバー３５、バックカバー３５に設けられた駆動部５５、及び駆動部５５を覆う駆動部カバー４０で構成することができる。
【０４６１】
フロントカバー３０は、光を透過させる透明な材質の前面パネル（図示せず）を含むことができ、前面パネルは、一定の間隔をおいてディスプレイモジュール２０を保護し、ディスプレイモジュール２０から放出される光を透過させて、ディスプレイモジュール２０で表示される映像を外部から見るようにする。
【０４６２】
バッグカバー３５は、フロントカバー３０と結合してディスプレイモジュール２０を保護することができる。
【０４６３】
バッグカバー３５の一面には駆動部５５が配置されればよい。
【０４６４】
駆動部５５は、駆動制御部５５ａ、メインボード５５ｂ及び電源供給部５５ｃを含むことができる。
【０４６５】
駆動制御部５５ａは、タイミングコントローラであればよく、ディスプレイモジュール２０の各ドライバＩＣの動作タイミングを調節する駆動部であり、メインボード５５ｂは、タイミングコントローラにＶシンク、Ｈシンク及びＲ、Ｇ、Ｂ解像度信号を伝達する駆動部であり、電源供給部５５ｃは、ディスプレイモジュール２０に電源を印加する駆動部である。
駆動部５５は、バッグカバー３５に設けられて、駆動部カバー４０で覆われるとよい。
【０４６６】
バッグカバー３５には複数の孔が形成されており、これら孔を介してディスプレイモジュール２０と駆動部５５とを連結することができ、ディスプレイ装置１を支持するスタンド６０を備えることができる。
【０４６７】
一方、図５２に示すように、駆動部５５の駆動制御部５５ａは、バッグカバー３５に設けられ、メインボード５５ｂ及び電源ボード５５ｃはスタンド６０に設けられてもよい。
【０４６８】
この場合、駆動部カバー４０は、バッグカバー３５に設けられた駆動部５５のみを覆うことができる。
【０４６９】
本実施例では、メインボード５５ｂと電源ボード５５ｃを別に構成したが、これに限定されず、一体の統合ボードとすることもできる。
【０４７０】
以上の実施例に説明された特徴、構造、効果などは、本発明の少なくとも一つの実施例に含まれるもので、一つの実施例にのみ限定されるものではない。なお、各実施例で例示された特徴、構造、効果などは、実施例の属する分野の分野における通常の知識を有する者であれば、様々に組み合わせまたは変形して実施することができる。したがって、それら組み合わせ及び変形に関係する内容はいずれも、本発明の範囲に含まれるものとして解釈すべきである。
【図１Ａ】
0005964015.tif 000005
【図１Ｂ】
0005964015.tif 000006
【図２Ａ】
0005964015.tif 000007
【図２Ｂ】
0005964015.tif 000008
【図３Ａ】
0005964015.tif 000009
【図３Ｂ】
0005964015.tif 000010
【図３Ｃ】
0005964015.tif 000011
【図４Ａ】
0005964015.tif 000012
【図４Ｂ】
0005964015.tif 000013
【図４Ｃ】
0005964015.tif 000014
【図５】
0005964015.tif 000015
【図６Ａ】
0005964015.tif 000016
【図６Ｂ】
0005964015.tif 000017
【図６Ｃ】
0005964015.tif 000018
【図６Ｄ】
0005964015.tif 000019
【図７Ａ】
0005964015.tif 000020
【図７Ｂ】
0005964015.tif 000021
【図７Ｃ】
0005964015.tif 000022
【図８】
0005964015.tif 000023
【図９Ａ】
0005964015.tif 000024
【図９Ｂ】
0005964015.tif 000025
【図９Ｃ】
0005964015.tif 000026
【図９Ｄ】
0005964015.tif 000027
【図１０Ａ】
0005964015.tif 000028
【図１０Ｂ】
0005964015.tif 000029
【図１０Ｃ】
0005964015.tif 000030
【図１１】
0005964015.tif 000031
【図１２Ａ】
0005964015.tif 000032
【図１２Ｂ】
0005964015.tif 000033
【図１３】
0005964015.tif 000034
【図１４Ａ】
0005964015.tif 000035
【図１４Ｂ】
0005964015.tif 000036
【図１５Ａ】
0005964015.tif 000037
【図１５Ｂ】
0005964015.tif 000038
【図１６Ａ】
0005964015.tif 000039
【図１６Ｂ】
0005964015.tif 000040
【図１６Ｃ】
0005964015.tif 000041
【図１７Ａ】
0005964015.tif 000042
【図１７Ｂ】
0005964015.tif 000043
【図１７Ｃ】
0005964015.tif 000044
【図１８】
0005964015.tif 000045
【図１９】
0005964015.tif 000046
【図２０Ａ】
0005964015.tif 000047
【図２０Ｂ】
0005964015.tif 000048
【図２１】
0005964015.tif 000049
【図２２】
0005964015.tif 000050
【図２３】
0005964015.tif 000051
【図２４】
0005964015.tif 000052
【図２５】
0005964015.tif 000053
【図２６】
0005964015.tif 000054
【図２７】
0005964015.tif 000055
【図２８】
0005964015.tif 000056
【図２９】
0005964015.tif 000057
【図３０】
0005964015.tif 000058
【図３１Ａ】
0005964015.tif 000059
【図３１Ｂ】
0005964015.tif 000060
【図３２Ａ】
0005964015.tif 000061
【図３２Ｂ】
0005964015.tif 000062
【図３３】
0005964015.tif 000063
【図３４】
0005964015.tif 000064
【図３５】
0005964015.tif 000065
【図３６Ａ】
0005964015.tif 000066
【図３６Ｂ】
0005964015.tif 000067
【図３７】
0005964015.tif 000068
【図３８】
0005964015.tif 000069
【図３９】
0005964015.tif 000070
【図４０Ａ】
0005964015.tif 000071
【図４０Ｂ】
0005964015.tif 000072
【図４０Ｃ】
0005964015.tif 000073
【図４０Ｄ】
0005964015.tif 000074
【図４１Ａ】
0005964015.tif 000075
【図４１Ｂ】
0005964015.tif 000076
【図４２Ａ】
0005964015.tif 000077
【図４２Ｂ】
0005964015.tif 000078
【図４３】
0005964015.tif 000079
【図４４】
0005964015.tif 000080
【図４５Ａ】
0005964015.tif 000081
【図４５Ｂ】
0005964015.tif 000082
【図４５Ｃ】
0005964015.tif 000083
【図４６】
0005964015.tif 000084
【図４７】
0005964015.tif 000085
【図４８】
0005964015.tif 000086
【図４９】
0005964015.tif 000087
【図５０】
0005964015.tif 000088
【図５１】
0005964015.tif 000089
【図５２】
0005964015.tif 000090