(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる表示色を有する表示画素を複数含み、前記表示画素の表示色に対応して配置された表示色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの検査方法であって、
前記表示色フィルタのうちいずれかの表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する第１照射光を、前記カラーフィルタを介して複数の前記表示画素に照射し、当該照射時における前記複数の表示画素の第１光学像を取得する短波長取得工程と、
前記第１光学像から前記表示色フィルタが配置された表示画素の欠陥部を検出する欠陥検出工程とを含み、
前記欠陥検出工程では、前記第１光学像により測定された輝度値が所定値以上となっている領域を前記欠陥部と判定し、
前記表示色フィルタのうちいずれかの表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す波長は、複数存在し、
前記短波長取得工程では、複数の前記波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第１照射光を前記表示画素に照射する
表示パネルの検査方法。
【請求項２】
赤色表示画素、緑色表示画素及び青色表示画素を含み、各色表示画素に対応して配置された赤色フィルタ、緑色フィルタ及び青色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの検査方法であって、
前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記赤色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す第２波長においてピーク強度を有する第２照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第２光学像を得る赤色短波長取得工程と、
前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記緑色フィルタの可視光波長域に
おける最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第３波長おいてピーク強度を有する第３照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第３光学像を得る緑色短波長取得工程と、
前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記青色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第４波長においてピーク強度を有する第４照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第４光学像を得る青色短波長取得工程と、
前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像から前記各色表示画素の欠陥を検出する欠陥検出工程とを含み、
前記欠陥検出工程では、前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像により測定された輝度値が所定値以上となっている領域を前記欠陥部と判定する
表示パネルの検査方法。
【請求項３】
前記赤色短波長取得工程では、前記第２波長が複数存在する場合には、複数の前記第２波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第２照射光を前記表示画素に照射し、
前記緑色短波長取得工程では、前記第３波長が複数存在する場合には、複数の前記第３波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第３照射光を前記表示画素に照射し、
前記青色短波長取得工程では、前記第４波長が複数存在する場合には、複数の前記第４波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第４照射光を前記表示画素に照射する
請求項２に記載の表示パネルの検査方法。
【請求項４】
前記欠陥検出工程では、前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像の露出量をそれぞれ任意に調整して合成した像から前記各色表示画素の欠陥を検出する
請求項２に記載の表示パネルの検査方法。
【請求項５】
前記各色表示画素は、陰極及び陽極で挟まれた有機エレクトロルミネッセンス発光層を有し、
前記欠陥検出工程では、前記陰極及び前記陽極が短絡された前記欠陥部を検出する
請求項１〜４のうちいずれか１項に記載の表示パネルの検査方法。
【請求項６】
赤色表示画素、緑色表示画素及び青色表示画素を含み、各色表示画素に対応して配置された赤色フィルタ、緑色フィルタ及び青色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルに対し、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記赤色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す第２波長においてピーク強度を有する第２照射光を照射し、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記緑色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す第３波長においてピーク強度を有する第３照射光を照射し、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記青色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す第４波長においてピーク強度を有する第４照射光を照射する照射部と、
前記照射部から前記第２照射光が照射されている間に、前記各色表示画素の第２光学像を取得し、前記照射部から前記第３照射光が照射されている間に、前記各色表示画素の第３光学像を取得し、前記照射部から前記第４照射光が照射されている間に、前記各色表示画素の第４光学像を取得する輝度測定部と、
前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像により測定された輝度値が所定値以上となっている領域を欠陥部と判定する判定部とを備える
表示パネルの検査装置。
【請求項７】
赤色表示画素、緑色表示画素及び青色表示画素を含み、各色表示画素に対応して配置された赤色フィルタ、緑色フィルタ及び青色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの製造方法であって、
表示パネル基板上に、前記赤色表示画素、前記緑色表示画素及び前記青色表示画素をマトリクス状に形成し、前記各色表示画素の上に、前記カラーフィルタを形成する表示画素形成工程と、
前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記赤色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す第２波長においてピーク強度を有する第２照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第２光学像を得る赤色短波長取得工程と、
前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記緑色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第３波長おいてピーク強度を有する第３照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第３光学像を得る緑色短波長取得工程と、
前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記青色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第４波長においてピーク強度を有する第４照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第４光学像を得る青色短波長取得工程と、
前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像により測定された輝度値が所定値以上となっている領域を欠陥部として検出する欠陥検出工程と、
前記欠陥検出工程で検出された前記欠陥部について、リペアを行なうリペア工程とを含む
表示パネルの製造方法。
【請求項８】
異なる表示色を有する表示画素を複数含み、前記表示画素の表示色に対応して配置された表示色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの検査方法であって、
前記表示色フィルタのうちいずれかの表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する第１照射光を、前記カラーフィルタを介して複数の前記表示画素に照射し、当該照射時における前記複数の表示画素の第１光学像を取得する短波長取得工程と、
前記第１光学像から前記表示色フィルタが配置された表示画素の欠陥部を検出する欠陥検出工程とを含み、
前記表示色フィルタのうちいずれかの表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す波長は、複数存在し、
短波長取得工程では、複数の前記波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第１照射光を前記表示画素に照射する
表示パネルの検査方法。
【請求項９】
赤色表示画素、緑色表示画素及び青色表示画素を含み、各色表示画素に対応して配置された赤色フィルタ、緑色フィルタ及び青色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの検査方法であって、
前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記赤色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す第２波長においてピーク強度を有する第２照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第２光学像を得る赤色短波長取得工程と、
前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記緑色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第３波長おいてピーク強度を有する第３照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第３光学像を得る緑色短波長取得工程と、
前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記青色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第４波長においてピーク強度を有する第４照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第４光学像を得る青色短波長取得工程と、
前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像から前記各色表示画素の欠陥を検出する欠陥検出工程とを含み、
前記赤色短波長取得工程では、前記第２波長が複数存在する場合には、複数の前記第２波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第２照射光を前記表示画素に照射し、
前記緑色短波長取得工程では、前記第３波長が複数存在する場合には、複数の前記第３波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第３照射光を前記表示画素に照射し、
前記青色短波長取得工程では、前記第４波長が複数存在する場合には、複数の前記第４波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第４照射光を前記表示画素に照射する
表示パネルの検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネルの製造方法、その検査装置及び検査方法に関し、特にリペア可能な有機ＥＬ素子を有する表示パネルの製造方法、その検査装置及び検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と記載する）を用いた表示パネル（以下、有機ＥＬ表示パネルと記載する）は、低消費電力で明瞭な画像を得られる表示パネルとして研究及び開発が進められている。
【０００３】
有機ＥＬ表示パネルは、複数の有機ＥＬ素子がマトリクス状に配置されることにより表示パネルを構成している。この有機ＥＬ素子は、有機電子材料を一対の電極の間に挟持しており、具体的には、有機電子材料で構成された発光層に正孔と電子とを注入することにより起こるエレクトロルミネッセンス（ｅｌｅｃｔｒｏ  ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）発光現象を利用して表示を行うものである。しかし、表示パネル内の全ての有機ＥＬ素子の発光層を、設計通りの形状（または、パターンという）で形成することは困難であると考えられている。例えば、表示パネルを大面積かつ高精細化させるほど、有機ＥＬ素子の構造が微細化、薄型化されるほど、また、発光画素数が増加するほど、微細加工を必要とする製造工程において、有機ＥＬ素子の短絡や開放といった電気的な不具合が発生してしまう。
【０００４】
そこで、有機ＥＬ素子を製造する工程で、基板上に発光層を形成した後、基板上の発光層パターンの欠陥検査を実施する手段が検討されている。
【０００５】
特許文献１では、カラー液晶ディスプレイに用いられるカラーフィルタの画素欠陥及び突起欠陥を検出する光学検査装置が開示されている。具体的には、可視光源及び短波長光源から出射された光を、プリズムを用いてそれぞれ透過光及び反射光とし、当該透過光及び反射光の照射により得られた光学像により、カラーフィルタの画素欠陥及び突起欠陥を検出する。
【０００６】
また、特許文献２では、カラー液晶パネルの色欠陥を判定する欠陥検査方法が開示されている。具体的には、カラー液晶パネルのバックライト光として赤、緑、青の三原色をそれぞれ照射することにより得られた黒表示画面の３つのモノクロ画像から色欠陥を判定する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−１３２７０４号公報
【特許文献２】特開２００７−１９２６１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
有機ＥＬ表示パネルは、赤色、緑色及び青色で自発光する有機ＥＬ素子が、それぞれ、赤色発光画素、緑色発光画素及び青色発光画素に配置されることにより、所望の画像を表現しているが、各発光画素の色精度を高めるため、発光画素ごとにカラーフィルタが配置される。例えば、赤色発光画素の上部には、可視光の中で赤色に対応する波長のみを通過させる特性を有する赤色カラーフィルタが配置される。
【０００９】
しかしながら、特許文献１に記載された光学検査装置による画素欠陥及び突起欠陥の検出方法では、カラーフィルタの可視光以外の通過特性によっては、短波長照射による反射光の強度が十分得られないことがある。
【００１０】
また、特許文献２に記載された欠陥検査方法では、各画素に配置されたカラーフィルタの通過特性によりバックライト光が減衰することを極力回避するため、当該通過特性において最大透過率を有する波長を中心波長として発光する発光素子をバックライト光の光源としている。そのため、各画素の色欠陥を判定するにあたり、微小異物の検出能力が不十分となる場合がある。また、特に、赤色画素では長波長による特性から分解能が低下しやすい。
【００１１】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタを有する発光画素の欠陥部の検出精度の高い表示パネルの検査方法、その検査方法を含む表示パネルの製造方法、及びその検査方法を実現する検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の一態様である表示パネルの検査方法は、異なる表示色を有する表示画素を複数含み、前記表示画素の表示色に対応して配置された表示色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの検査方法であって、前記表示色フィルタのうちいずれかの表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する第１照射光を、前記カラーフィルタを介して複数の前記表示画素に照射し、当該照射時における前記複数の表示画素の第１光学像を取得する短波長取得工程と、前記第１光学像から前記表示色フィルタが配置された表示画素の欠陥部を検出する欠陥検出工程とを含むことを特徴とする。
【００１３】
また、本発明の一態様である表示パネルの検査方法は、赤色表示画素、緑色表示画素及び青色表示画素を含み、各色表示画素に対応して配置された赤色フィルタ、緑色フィルタ及び青色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの検査方法であって、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記赤色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す第２波長においてピーク強度を有する第２照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第２光学像を得る赤色短波長取得工程と、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記緑色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第３波長おいてピーク強度を有する第３照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第３光学像を得る緑色短波長取得工程と、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記青色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第４波長においてピーク強度を有する第４照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第４光学像を得る青色短波長取得工程と、前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像から前記各色表示画素の欠陥を検出する欠陥検出工程とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
上記構成によれば、カラーフィルタが配置された表示画素に、当該カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長より短く、所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する照射光を照射することにより各表示画素の光学像を得るので、可視光波長域における最大透過率を示す波長をピークに持つ照射光を照射する場合に比べて、欠陥部の検出分解能が向上する。よって、微小欠陥部の高精度な検出が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの検査及びリペアの構成を示す機能ブロック図である。
【図２Ａ】有機ＥＬ表示パネルの有する正常な発光画素の回路構成図である。
【図２Ｂ】有機ＥＬ表示パネルの有する欠陥画素の回路構成図である。
【図３Ａ】本発明の実施の形態に係る表示パネルの断面概略図である。
【図３Ｂ】本発明の実施の形態に係る、異物が混入した発光画素の断面概略図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る表示パネルの製造方法を説明する工程フローチャートである。
【図５Ａ】本発明の実施の形態に係る表示パネルの第１の検査方法を説明する動作フローチャートである。
【図５Ｂ】本発明の実施の形態に係る表示パネルの第２の検査方法を説明する動作フローチャートである。
【図６Ａ】本発明の実施の形態に係る検査方法で用いられる照射光の波長とカラーフィルタの通過特性との関係を表す第１のグラフである。
【図６Ｂ】本発明の実施の形態に係る検査方法で用いられる照射光の波長とカラーフィルタの通過特性との関係を表す第２のグラフである。
【図７Ａ】本発明の実施の形態に係る表示パネルの検査方法により取得された光学像を表す図である。
【図７Ｂ】発光画素に可視光を照射した場合の光学像を表す図である。
【図７Ｃ】発光画素に赤外光を照射した場合の光学像を表す図である。
【図８】レーザーリペア後の点灯確認を表す図である。
【図９Ａ】本発明の実施の形態の第１の変形例に係る発光画素の断面概略図である。
【図９Ｂ】本発明の実施の形態の第２の変形例に係る発光画素の断面概略図である。
【図１０】本発明の製造方法による発光パネルを備えたテレビシステムの外観図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の実施の形態における表示パネルの製造方法、その検査装置及び検査方法について説明する。なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、ステップ、ステップの順序などは、一例であり、本発明を限定する主旨ではない。本発明は、特許請求の範囲によって特定される。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、本発明の課題を達成するのに必ずしも必要ではないが、より好ましい形態を構成するものとして説明される。
【００１７】
本発明の一態様に係る表示パネルの検査方法は、異なる表示色を有する表示画素を複数含み、前記表示画素の表示色に対応して配置された表示色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの検査方法であって、前記表示色フィルタのうちいずれかの表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する第１照射光を、前記カラーフィルタを介して複数の前記表示画素に照射し、当該照射時における前記複数の表示画素の第１光学像を取得する短波長取得工程と、前記第１光学像から前記表示色フィルタが配置された表示画素の欠陥部を検出する欠陥検出工程とを含むことを特徴とする。
【００１８】
本態様によれば、表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって可視光波長域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する第１照射光を、カラーフィルタを介して表示画素に照射する。これにより、可視光波長域における最大透過率を示す波長をピークに持つ照射光を照射する場合に比べて、上記表示色フィルタが配置された表示画素の有する欠陥部の検出分解能が向上する。よって、微小欠陥部の高精度な検出が可能となる。
【００１９】
また、前記表示色フィルタのうちいずれかの表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す波長は、複数存在し、短波長取得工程では、複数の前記波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第１照射光を前記表示画素に照射してもよい。
【００２０】
表示色フィルタの通過特性によっては、可視光領域内の短波長側に副通過帯域を有することがある。このとき、上記所定の透過率の設定値により、可視光波長域内で所定の透過率を示す波長が複数存在する場合がある。この場合には、上記複数の波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する照射光を第１照射光として表示画素に照射する。これにより、主通過帯域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する照射光を照射する場合に比べて、より短波長光を照射できるので、さらに欠陥部の検出分解能が向上する。
【００２１】
本発明の一態様に係る表示パネルの検査方法は、赤色表示画素、緑色表示画素及び青色表示画素を含み、各色表示画素に対応して配置された赤色フィルタ、緑色フィルタ及び青色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの検査方法であって、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記赤色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す第２波長においてピーク強度を有する第２照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第２光学像を得る赤色短波長取得工程と、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記緑色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第３波長おいてピーク強度を有する第３照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第３光学像を得る緑色短波長取得工程と、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記青色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第４波長においてピーク強度を有する第４照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第４光学像を得る青色短波長取得工程と、前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像から前記各色表示画素の欠陥を検出する欠陥検出工程とを含むことを特徴とする。
【００２２】
本態様によると、赤色フィルタ、緑色フィルタ、及び青色フィルタのそれぞれにおいて、可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって可視光波長域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する照射光を、カラーフィルタを介して各色表示画素に照射することにより、全ての表示画素の欠陥部を検査することが可能となる。また、可視光波長域における最大透過率を示す波長をピークに持つ照射光を照射する場合に比べて、欠陥部の検出分解能が向上する。よって、表示パネル全体にわたり微小欠陥部の高精度な検出が可能となる。
【００２３】
また、前記赤色短波長取得工程では、前記第２波長が複数存在する場合には、複数の前記第２波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第２照射光を前記表示画素に照射し、前記緑色短波長取得工程では、前記第３波長が複数存在する場合には、複数の前記第３波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第３照射光を前記表示画素に照射し、前記青色短波長取得工程では、前記第４波長が複数存在する場合には、複数の前記第４波長のうち最短の波長においてピーク強度を有する前記第４照射光を前記表示画素に照射してもよい。
【００２４】
これにより、主通過帯域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する照射光を照射する場合に比べて、より短波長光を照射できるので、さらに欠陥部の検出分解能が向上する。
【００２５】
また、前記欠陥検出工程では、前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像の露出量をそれぞれ任意に調整して合成した像から前記各色表示画素の欠陥を検出してもよい。
【００２６】
設定された所定の透過率などにより、第２光学像、第３光学像及び第４光学像の明るさ及びコントラスト等に差異が生じる場合がある。この場合には、各光学像の露出量を任意に調整することにより、表示画素間で偏りのない高精度な欠陥部の検出が可能となる。
【００２７】
また、前記各色表示画素は、陰極及び陽極で挟まれた有機エレクトロルミネッセンス発光層を有し、前記欠陥検出工程では、前記陰極及び前記陽極が短絡された前記欠陥部を検出してもよい。
【００２８】
本態様によると、陽極及び陰極に挟まれた有機ＥＬ発光層に発生する短絡欠陥部を、高精度に検出することが可能となる。
【００２９】
また、前記欠陥検出工程では、前記第１光学像により測定された輝度値が所定値以上となっている領域を前記欠陥部と判定してもよい。
【００３０】
また、前記欠陥検出工程では、前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像により測定された輝度値が所定値以上となっている領域を前記欠陥部と判定してもよい。
【００３１】
短絡または開放による欠陥部を有する表示画素は、上記第１〜第４照射光の照射により、その反射光または散乱光により当該欠陥部は正常部よりも高輝度となる。よって、取得された光学像により所定値以上の輝度値を有する領域を欠陥部と判定することにより、高精度な欠陥検出が可能となる。
【００３２】
なお、本発明は、このような表示パネルの検査方法として実現できるだけでなく、当該検査方法に含まれる特徴的なステップを実現する表示パネルの検査装置として実現することもできる。
【００３３】
また、本発明は、このような表示パネルの検査方法として実現できるだけでなく、当該検査方法に含まれる特徴的なステップを手段とする表示パネルの製造方法として実現することもできる。
【００３４】
本発明の一態様に係る表示パネルの製造方法は、異なる表示色を有する表示画素を複数含み、前記表示画素の表示色に対応して配置された表示色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの製造方法であって、表示パネル基板上に、前記表示画素をマトリクス状に形成し、前記表示画素の上に、前記カラーフィルタを形成する表示画素形成工程と、前記表示色フィルタのうちいずれかの表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する第１照射光を、前記カラーフィルタを介して複数の前記表示画素に照射し、当該照射時における前記複数の表示画素の第１光学像を取得する短波長取得工程と、前記第１光学像から前記表示色フィルタが配置された表示画素の欠陥部を検出する欠陥検出工程と、前記欠陥検出工程で検出された前記欠陥部について、リペアを行なうリペア工程とを含むことを特徴とする。
【００３５】
また、本発明の一態様に係る表示パネルの製造方法は、赤色表示画素、緑色表示画素及び青色表示画素を含み、各色表示画素に対応して配置された赤色フィルタ、緑色フィルタ及び青色フィルタを含むカラーフィルタを有する表示パネルの製造方法であって、表示パネル基板上に、前記赤色表示画素、前記緑色表示画素及び前記青色表示画素をマトリクス状に形成し、前記各色表示画素の上に、前記カラーフィルタを形成する表示画素形成工程と、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記赤色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で所定の透過率を示す第２波長においてピーク強度を有する第２照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第２光学像を得る赤色短波長取得工程と、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記緑色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第３波長おいてピーク強度を有する第３照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第３光学像を得る緑色短波長取得工程と、前記カラーフィルタを介して前記各色表示画素に、前記青色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって前記可視光波長域内で前記所定の透過率を示す第４波長においてピーク強度を有する第４照射光を照射し、当該照射時における前記各色表示画素の第４光学像を得る青色短波長取得工程と、前記第２光学像、前記第３光学像及び前記第４光学像から前記各色表示画素の欠陥を検出する欠陥検出工程と、前記欠陥検出工程で検出された前記欠陥部について、リペアを行なうリペア工程とを含むことを特徴とする。
【００３６】
これらの製造方法によると、カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長より短い波長においてピーク強度を有する照射光を照射することにより発光画素の微小欠陥部を高精度に検出することが可能となる。この高精度な欠陥部の検出により、欠陥部のリペアを確実に実行することができるので製造歩留まりが向上する。
【００３７】
以下、本発明の好ましい実施の形態を図に基づき説明する。なお、以下では、全ての図を通じて同一又は相当する要素には同じ符号を付して、その重複する説明を省略する。
【００３８】
（実施の形態）
本発明の実施の形態に係る表示パネルの検査装置、検査方法及び製造方法について説明する。
【００３９】
＜システム構成＞
図１は、本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの検査及びリペアの構成を示す機能ブロック図である。同図に記載された有機ＥＬ表示パネルの検査及びリペアの構成は、検査装置１と、表示装置２と、リペア装置３とを備える。なお、本発明の検査方法及び製造方法を実施する対象となるのは表示パネル２２であり、表示装置２が有する制御部２１、データ線駆動回路２３及び走査線駆動回路２４は、構成要素としてなくてもよい。
【００４０】
まず、表示装置２について簡潔に説明する。表示装置２は、制御部２１と、表示パネル２２と、データ線駆動回路２３と、走査線駆動回路２４とを備える。
【００４１】
制御部２１は、外部から入力される映像信号を発光画素の発光を決定する輝度信号に変換して走査順にデータ線駆動回路２３に出力する。また、制御部２１は、データ線駆動回路２３から出力される輝度信号を出力するタイミング、及び、走査線駆動回路２４から出力される走査信号の出力タイミングを制御する。
【００４２】
データ線駆動回路２３は、各データ線へ、輝度信号を出力することにより、映像信号に対応した発光画素の発光を実現する。
【００４３】
走査線駆動回路２４は、各走査線へ走査信号を出力することにより、発光画素の有する回路素子を所定の駆動タイミングで駆動する。
【００４４】
なお、制御部２１、データ線駆動回路２３及び走査線駆動回路２４は、本発明の製造方法において、リペア後の点灯検査用データを表示パネル２２に供給する際に使用される場合がある。
【００４５】
表示パネル２２は、複数の発光画素がマトリクス状に配置されている。複数の発光画素のそれぞれは、赤色を表示する赤色表示画素、緑色を表示する緑色表示画素及び青色を表示する青色表示画素のいずれかであり、各色表示画素には当該各色に対応する表示色フィルタが形成されている。複数の発光画素のそれぞれは、データ線駆動回路２３からの輝度信号、及び、走査線駆動回路２４からの走査信号に応じて発光する。
【００４６】
図２Ａは、有機ＥＬ表示パネルの有する正常な発光画素の回路構成図である。同図に記載された発光画素は、有機ＥＬ素子２２１と、駆動トランジスタ２２２と、選択トランジスタ２２３と、コンデンサ２２４とを備える。また、発光画素列ごとにデータ線２３１が配置され、発光画素行ごとに走査線２４１が配置され、全発光画素に共通して正電源線２５１及び負電源線２６１が配置されている。選択トランジスタ２２３のドレイン電極はデータ線２３１に、選択トランジスタ２２３のゲート電極は走査線２４１に、さらに、選択トランジスタ２２３のソース電極は、コンデンサ２２４及び駆動トランジスタ２２２のゲート電極に接続されている。また、駆動トランジスタ２２２のドレイン電極は正電源線２５１に接続され、ソース電極は有機ＥＬ素子２２１のアノードに接続されている。
【００４７】
有機ＥＬ素子２２１は、例えば、陽極、正孔注入層、有機発光層、電子注入層及び陰極がこの順で積層された構造を有し、陽極側から正孔が、また陰極側から電子が、有機発光層に注入され再結合されることにより励起状態が生成され発光する機能を有する。有機発光層としては、低分子有機材料だけでなく、インクジェットやスピンコートのような湿式成膜法で成膜できる発光性の高分子有機材料も適用される。
【００４８】
この構成において、走査線２４１に走査信号が入力され、選択トランジスタ２２３をオン状態にすると、データ線２３１を介して供給された、発光階調に対応した輝度信号がコンデンサ２２４に書き込まれる。そして、コンデンサ２２４に書き込まれた保持電圧は、１フレーム期間を通じて保持され、この保持電圧により、駆動トランジスタ２２２のコンダクタンスがアナログ的に変化し、発光階調に対応した駆動電流が有機ＥＬ素子２２１のアノードに供給される。さらに、有機ＥＬ素子２２１のアノードに供給された駆動電流は、有機ＥＬ素子２２１のカソードへと流れる。これにより、有機ＥＬ素子２２１が発光し画像として表示される。このとき、有機ＥＬ素子２２１のアノードには、順バイアス電圧が印加されていることになる。
【００４９】
なお、上述した発光画素の回路構成は、図２Ａに記載された回路構成に限定されない。選択トランジスタ２２３、駆動トランジスタ２２２は、輝度信号の電圧値に応じた駆動電流を有機ＥＬ素子２２１に流すために必要な回路構成要素であるが、上述した形態に限定されない。また、上述した回路構成要素に、別の回路構成要素が付加される場合も、本発明に係る表示装置の発光画素回路に含まれる。
【００５０】
アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示パネルでは、発光画素の構造が微細化、薄型化されるほど、また、発光画素数が増加するほど、微細加工を必要とする製造工程において、有機ＥＬ素子のアノード−カソード間の短絡や開放といった電気的な不具合が発生してしまう。
【００５１】
図２Ｂは、有機ＥＬ表示パネルの有する欠陥画素の回路構成図である。同図に記載された回路構成は、有機ＥＬ素子のアノード−カソード間が短絡している状態を表している。つまり、図２Ａに記載された回路構成と比較して、有機ＥＬ素子４２１のアノードとカソードとの間に電気的導通状態を実現する短絡成分４２２が並列接続されている点が異なる。ここで、有機ＥＬ素子４２１が短絡している状態とは、短絡成分４２２の抵抗値が低抵抗状態である場合に、有機ＥＬ素子４２１は短絡状態であると定義する。有機ＥＬ素子４２１のアノード−カソード間が短絡状態である場合の一例としては、有機発光層の膜厚の不均一性により、有機発光層を挟む正孔注入層と電子輸送層とが有機発光層内に生じたピンホールを介して点接触している場合などが想定される。
【００５２】
図２Ｂに記載された、有機ＥＬ素子が短絡状態となっている発光画素が、表示パネル２２の中に存在する場合、有機ＥＬ表示パネルの製造段階で、リペア工程により短絡成分４２２を除去することが可能である。短絡成分４２２を除去するリペア工程として、例えば、短絡成分４２２の存在箇所にレーザーを照射することが挙げられる。このリペア工程については、後述する有機ＥＬ表示パネルの製造方法にて説明する。
【００５３】
次に、本発明の実施の形態に係る検査装置１の構成及び機能について説明する。図１に記載された検査装置１は、照射部１１と、輝度測定部１２と、判定部１３とを備える。検査装置１は、リペア装置３によるリペア作業の前段階において、表示装置２の欠陥画素を特定する機能を有する。
【００５４】
照射部１１は、表示色フィルタのうちいずれかの表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって可視光波長域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する第１照射光を、各発光画素に対して照射する機能を有する。また、照射部１１は、赤色発光画素に配置された赤色カラーフィルタ、緑色発光画素に配置された緑色カラーフィルタ及び青色発光画素に配置された青色カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長より短く、所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する第２照射光、第３照射光及び第４照射光を、それぞれ、各発光画素に対して照射する機能を有する。また、照射部１１は、上記所定の透過率に応じて、各色カラーフィルタに対応した上記照射光ごとに出射光量を調整する機能を有している。照射部１１は、例えば、第１〜第４照射光を出射するレーザー光源を備える。また、照射部１１は、例えば、第１〜第４照射光を出射するＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）光源を備える。
【００５５】
輝度測定部１２は、第１〜第４照射光の照射時における表示パネル２２の第１〜第４光学像を取得し、当該光学像を基に、または、各色カラーフィルタに対応した上記照射光ごとに得られる第２〜第４光学像を合成して得られた像を基に、各発光画素が細分化された領域ごとの発光輝度を測定する機能を有する。輝度測定部１２は、例えば、ＣＣＤカメラを備える。ここで、輝度測定部１２は、上記所定の透過率及び上記光学像ごとの明るさやコントラストの差異に応じて、上記光学像ごとの露出量を調整する機能を有していることが好ましい。
【００５６】
判定部１３は、輝度測定部１２で測定された発光輝度の大きさに基づいて上記領域ごとに欠陥部を判定する機能を有する。
【００５７】
また、判定部１３は、欠陥部を有すると判定した欠陥画素及び当該欠陥部の位置情報をリペア装置３に伝達する。
【００５８】
リペア装置３は、判定部１３から入手した欠陥画素及び欠陥部の位置情報から、リペア作業を実行する。
【００５９】
上述した表示パネル２２の検査装置１の構成及び機能によれば、照射部１１から、上記照射光を照射し、輝度測定部１２にて上記光学像を取得し、当該光学像により各発光画素が細分化された領域ごとの発光輝度を測定し、判定部１３にて欠陥部を判定することにより、可視光波長域における最大透過率を示す波長においてピーク強度を有する照射光を照射する場合に比べて、欠陥部の検出分解能が向上する。よって、微小欠陥部の高精度な検出が可能となる。
【００６０】
次に、表示パネル２２が有する発光画素の構造を説明する。
【００６１】
図３Ａは、本発明の実施の形態に係る表示パネルの断面概略図である。同図に示した表示パネル２２は、陽極、陰極、および当該両極で挟まれた発光層を含む有機層１３０を有する有機機能デバイスである。同図に記載された表示パネル２２は、サブ画素である赤色発光画素２２Ｒ、緑色発光画素２２Ｇ、及び、青色発光画素２２Ｂが隣接配置されて形成された１単位画素が、行列状に配置されている。各サブ画素は、基板１１０の上に、平坦化膜１１１と、陽極１１２と、正孔注入層１１３と、発光層１１４と、隔壁１２３と、電子注入層１１５と、陰極１１６と、薄膜封止層１１７と、封止用樹脂層１１８と、カラーフィルタ１２２と、接着層１１９と透明基板１２０とを備える。カラーフィルタ１２２は、図３Ａでは、赤色発光画素２２Ｒ、緑色発光画素２２Ｇ、及び、青色発光画素２２Ｂに対応して、それぞれ、可視光領域では赤色を優先透過する赤色カラーフィルタ１２２Ｒ、可視光領域では緑色を優先透過する緑色カラーフィルタ１２２Ｇ、及び、可視光領域では青色を優先透過する青色カラーフィルタ１２２Ｂとして表されている。また、赤色カラーフィルタ１２２Ｒ、緑色カラーフィルタ１２２Ｇ、及び、青色カラーフィルタ１２２Ｂの間には、それぞれブラックマトリクス１２１が配置されている。
【００６２】
陽極１１２及び陰極１１６は、それぞれ、本発明における下部電極層及び上部電極層に相当する。また、正孔注入層１１３、発光層１１４及び電子注入層１１５は、本発明における有機層に相当する。
【００６３】
基板１１０及び透明基板１２０は、表示パネル２２の裏面及び発光表面を保護する基板であり、例えば、厚みが０．５ｍｍである透明の無アルカリガラスである。
【００６４】
平坦化膜１１１は、一例として、絶縁性の有機材料からなり、例えば駆動用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）などを含む基板上に形成されている。
【００６５】
陽極１１２は、正孔が供給される、つまり、外部回路から電流が流れ込むアノードであり、例えば、Ａｌ、あるいは銀合金ＡＰＣなどからなる反射電極が平坦化膜１１１上に積層された構造となっている。反射電極の厚みは、一例として１０〜４０ｎｍである。
【００６６】
正孔注入層１１３は、正孔注入性の材料を主成分とする層である。正孔注入性の材料とは、陽極１１２側から注入された正孔を安定的に、または正孔の生成を補助して発光層１１４へ注入する機能を有する材料である。
【００６７】
発光層１１４は、陽極１１２および陰極１１６間に電圧が印加されることにより発光する層であり、例えば、下層としてα−ＮＰＤ（Ｂｉｓ［Ｎ−（１−ｎａｐｈｔｈｙｌ）−Ｎ−ｐｈｅｎｙｌ］ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ）、上層としてＡｌｑ３（ｔｒｉｓ−（８−ｈｙｄｒｏｘｙｑｕｉｎｏｌｉｎｅ）ａｌｕｍｉｎｕｍ）が積層された構造となっている。
【００６８】
電子注入層１１５は、電子注入性の材料を主成分とする層である。電子注入性の材料とは、陰極１１６から注入された電子を安定的に、または電子の生成を補助して発光層１１４へ注入する機能を有する材料である。
【００６９】
陰極１１６は、電子が供給される、つまり、外部回路へ電流が流れ出すカソードであり、例えば、透明金属酸化物であるＩＴＯにより積層された構造となっている。電極の厚みは、一例として１０〜４０ｎｍである。
【００７０】
隔壁１２３は、発光層１１４をサブ画素ごとに分離するための壁であり、例えば、感光性の樹脂からなる。
【００７１】
薄膜封止層１１７は、例えば、窒化珪素からなり、上記した発光層１１４や陰極１１６を水蒸気や酸素から遮断する機能を有する。発光層１１４そのものや陰極１１６が、水蒸気や酸素にさらされることにより劣化（酸化）してしまうことを防止するためである。
【００７２】
封止用樹脂層１１８は、アクリルまたはエポキシ系の樹脂であり、上記の基板上に形成された平坦化膜１１１から薄膜封止層１１７までの一体形成された層と、カラーフィルタ１２２とを接合する機能を有する。
【００７３】
カラーフィルタ１２２は、隔壁１２３で分離された各発光領域を覆うように、透明基板１２０及び接着層１１９の下面に、赤の色調整を行う赤色フィルタである赤色カラーフィルタ１２２Ｒ、緑の色調整を行う緑色フィルタである緑色カラーフィルタ１２２Ｇ、及び、青の色調整を行う青色フィルタである青色カラーフィルタ１２２Ｂで構成されている。
【００７４】
上述した陽極１１２、発光層１１４及び陰極１１６の構成は有機ＥＬ素子の基本構成であり、このような構成により、陽極１１２と陰極１１６との間に適当な電圧が印加されると、陽極１１２側から正孔、陰極１１６側から電子がそれぞれ発光層１１４に注入される。これらの注入された正孔および電子が発光層１１４で再結合して生じるエネルギーにより、発光層１１４の発光材料が励起され発光する。
【００７５】
なお、正孔注入層１１３および電子注入層１１５の材料は、本発明では限定されるものではなく、周知の有機材料または無機材料が用いられる。
【００７６】
また、表示パネル２２の構成として、正孔注入層１１３と発光層１１４との間に正孔輸送層があってもよいし、電子注入層１１５と発光層１１４との間に電子輸送層があってもよい。また、正孔注入層１１３の代わりに正孔輸送層が配置されてもよいし、電子注入層１１５の代わりに電子輸送層が配置されてもよい。正孔輸送層とは、正孔輸送性の材料を主成分とする層である。ここで、正孔輸送性の材料とは、電子ドナー性を持ち陽イオン（正孔）になりやすい性質と、生じた正孔を分子間の電荷移動反応により伝達する性質を併せ持ち、陽極１１２から発光層１１４までの電荷輸送に対して適正を有する材料のことである。また、電子輸送層は、電子輸送性の材料を主成分とする層である。ここで、電子輸送性の材料とは、電子アクセプター性を有し陰イオンになりやすい性質と、発生した電子を分子間の電荷移動反応により伝達する性質を併せ持ち、陰極１１６から発光層１１４までの電荷輸送に対して適正を有する材料のことである。
【００７７】
図３Ｂは、本発明の実施の形態に係る、異物が混入した発光画素の断面概略図である。同図に示した緑色発光画素２２Ｇは、製造工程において、陽極１１２と陰極１１６との間に導電性の異物５０が混入し、異物５０を介して陽極１１２と陰極１１６とが短絡している。本発明の表示パネルの製造方法では、異物５０が判定部１３において欠陥部であると判定された場合には、例えば、異物５０またはその周辺である陰極１１６の一部に対してレーザー照射して高抵抗化することにより、異物５０により短絡された陽極１１２と陰極１１６との間の短絡を解消（リペア）する。短絡した部分のリペア工程については、後に説明する。
【００７８】
＜検査方法及び製造方法＞
次に、本発明の表示パネルの検査方法及び製造方法について説明する。
【００７９】
図４は、本発明の実施の形態に係る表示パネルの製造方法を説明する工程フローチャートである。
【００８０】
まず、基板上に表示パネル２２を形成する（Ｓ１０）。
【００８１】
次に、ステップＳ１０で形成された表示パネル２２の発光画素を検査する（Ｓ２０）。
【００８２】
最後に、ステップＳ２０で特定された欠陥画素をリペアする（Ｓ３０）。
【００８３】
以下、ステップＳ１０〜Ｓ３０を詳細に説明する。
【００８４】
まず、ステップＳ１０での表示パネルの形成工程を説明する。具体的には、図３Ａに示された表示パネル２２を準備する。
【００８５】
まず、ＴＦＴを含む基板１１０上に、絶縁性の有機材料からなる平坦化膜１１１を形成し、その後、平坦化膜１１１上に陽極１１２を形成する。陽極１１２は、例えば、スパッタリング法により、平坦化膜１１１上にＡｌが３０ｎｍ成膜され、その後、フォトリソグラフィ及びウエットエッチングによるパターニング工程を経て形成される。
【００８６】
次に、陽極１１２上に、例えば、ＰＥＤＯＴをキシレンよりなる溶剤に溶かし、このＰＥＤＯＴ溶液をスピンコートすることにより、正孔注入層１１３を形成する。
【００８７】
次に、正孔注入層１１３の上に、例えば、真空蒸着法によりα−ＮＰＤ、Ａｌｑ３を積層し、発光層１１４を形成する。
【００８８】
次に、発光層１１４の上に、例えば、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）を、キシレンまたはクロロホルムよりなる溶剤に溶かしてスピンコートすることにより、電子注入層１１５を形成する。
【００８９】
続いて、電子注入層１１５が形成された基板を大気曝露させることなく、陰極１１６を形成する。具体的には、電子注入層１１５の上に、スパッタリング法によりＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）が３５ｎｍ積層されることにより、陰極１１６が形成される。このとき、陰極１１６は、アモルファス状態になっている。
【００９０】
上記製造工程により、発光素子としての機能をもつ有機ＥＬ素子が形成される。なお、陽極１１２の形成工程と正孔注入層１１３の形成工程との間に、表面感光性樹脂からなる隔壁１２３が所定位置に形成される。
【００９１】
次に、陰極１１６の上に、例えば、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により窒化珪素を５００ｎｍ積層し、薄膜封止層１１７を形成する。薄膜封止層１１７は、陰極１１６の表面に接して形成されるので、特に、保護膜としての必要条件を厳しくすることが好ましく、上記した窒化珪素に代表されるような非酸素系無機材料が好ましい。また、例えば、酸化珪素（ＳｉＸＯＹ）や酸窒化珪素（ＳｉＸＯＹＮＺ）のような酸素系無機材料や、これらの無機材料が複数層形成された構成であってもよい。また、形成方法は、プラズマＣＶＤ法に限らず、アルゴンプラズマを用いたスパッタリング法など、その他の方法であってもよい。
【００９２】
次に、薄膜封止層１１７の表面に、封止用樹脂層１１８を塗布する。その後、塗布された封止用樹脂層１１８上に、カラーフィルタ１２２を形成する。
【００９３】
次に、カラーフィルタ１２２の上に、接着層１１９及び透明基板１２０を配置する。なお、薄膜封止層１１７、封止用樹脂層１１８、接着層１１９及び透明基板１２０は、本発明における保護層に相当する。
【００９４】
最後に、透明基板１２０を上面側から下方に加圧しつつ熱またはエネルギー線を付加して封止用樹脂層１１８を硬化し、透明基板１２０、接着層１１９及びカラーフィルタ１２２と薄膜封止層１１７とを接着する。
【００９５】
上記形成方法により、図３Ａに示す表示パネル２２が形成される。なお、陽極１１２、正孔注入層１１３、発光層１１４、電子注入層１１５及び陰極１１６の形成工程は、本発明により限定されるものではない。
【００９６】
次に、図４の工程フローチャートに戻り、本発明の要部であるステップＳ２０での発光画素の検査工程を説明する。以下、当該工程を具体的に説明するに先立ち、当該工程を得るに至った経緯について説明する。
【００９７】
表示パネル２２の製造工程において、図２Ｂ及び図３Ｂに示されたように、例えば、有機層内に異物５０等が混入し、有機ＥＬ素子が短絡欠陥部を有する場合、当該有機ＥＬ素子に信号電圧に対応した電圧が印加されても、短絡欠陥部に優先的に電流が流れてしまう。そのため、上記有機ＥＬ素子には正常な電流が流れず、滅点化してしまう。従って、有機ＥＬ素子は滅点化を防ぐため、滅点化の原因になる短絡欠陥部を検出し、該当箇所をリペアすることが要求される。
【００９８】
そこで、有機ＥＬ素子内の欠陥部の有無を検出する方法として、表示パネル２２に透明基板１２０側から光を照射し、カラーフィルタ１２２を介して得られる反射光、または散乱光を検出器で撮像することで取得される表示パネル２２の光学像により、有機ＥＬ素子内に欠陥部が存在するかを判別することが挙げられる。
【００９９】
しかしながら、表示パネル２２に照射する光源を可視光とした場合、表示パネル２２に照射される光はカラーフィルタ１２２を透過するので、当該照射光はカラーフィルタ１２２の透過特性に応じて吸収される。
【０１００】
図７Ｂは、発光画素に可視光を照射した場合の光学像を表す図である。同図に示された光学像は、赤色発光画素２２Ｒ、緑色発光画素２２Ｇ及び青色発光画素２２Ｂに対して、カラーフィルタ１２２を介して可視光を照射したときに取得されたものである。図７Ｂに表されたように、各発光画素に可視光を照射した場合、特に青色発光画素２２Ｂでは、欠陥部が検出されていない。ここで、青色を発光する青色発光画素２２Ｂには、青色を透過する青色カラーフィルタ１２２Ｂが配設されている。この青色カラーフィルタ１２２Ｂは、可視光領域では、青色以外の色に応じた光は吸収し透過させない特性を有する。即ち、青色発光画素２２Ｂに白色光（可視光）を照射すると、光学像は青色に応じた波長によって得られる。ここで、一般的に、青色カラーフィルタ１２２Ｂの青色透過率は低く、また、光学像を取得すべき検出器の青色検出強度（感度）は低いことが知られている。よって、図７Ｂに表されたように、各発光画素に可視光を照射した場合、特に青色発光画素２２Ｂでは、欠陥部検出が可能な光学像を得ることは困難である。
【０１０１】
図７Ｃは、発光画素に赤外光を照射した場合の光学像を表す図である。同図に示された光学像は、赤色発光画素２２Ｒ、緑色発光画素２２Ｇ及び青色発光画素２２Ｂに対して、カラーフィルタ１２２を介して赤外光を照射したときに取得されたものである。図７Ｃに表されたように、各発光画素に赤外光を照射した場合、カラーフィルタ１２２を構成する各色フィルタが赤外領域を透過させる特性であれば、各色発光画素において欠陥部が視認できる。しかし、赤外光は可視光に比べて波長が長く、光学像の分解能が低下し散乱光が減少するため、微小欠陥部の検出率が低下する。
【０１０２】
つまり、図７Ｃに示されたように、カラーフィルタ１２２の影響を低減させるために、表示パネル２２に照射する光源を赤外光とすると、微小欠陥部の検出感度が低下する。
【０１０３】
上述した、可視光照射における青色発光画素２２Ｂ及び赤外光照射における微小欠陥部の検出精度低下は、カラーフィルタ１２２を配設した状態で表示パネル２２の欠陥部を検出する場合に特有であり、これまでは検討されていなかった。
【０１０４】
以上の通り、一連の検討を通じ、本発明者は、被検査基板である表示パネル２２に、赤色、緑色または青色カラーフィルタのうちいずれかのカラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長より短く、所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する照射光を照射する検出方法に至った。つまり、赤外光よりも短波長であって、カラーフィルタの最大透過率ではない所定の透過率となる波長のうちの最短波長の単色光源を用いて、上記カラーフィルタが配置された発光画素の欠陥部を検出する。これにより、上記カラーフィルタが配置された発光画素に対して、可視光波長域における最大透過率を示す波長においてピーク強度を有する照射光を照射する場合に比べて、欠陥部の検出分解能が向上するので、微小欠陥部の検出能力が向上する。特に、赤色カラーフィルタでは、ピーク波長が最大透過率である照射光を照射する場合には、長波長による特性から分解能が低下しやすい。なお、上記所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する照射光を照射した場合、上記所定の透過率は最大透過率ではないため、カラーフィルタによる減衰が大きい。よって、光学像において十分な発光強度が得られないことが想定される。しかし、上記照射光の照射により欠陥部を検出する発光画素は、上記カラーフィルタと同色のカラーフィルタが配置された発光画素であるので、上記照射光の出射光量及び光学像の露出量を調整することが可能となり、上記光学像において十分な発光強度を得ることが可能となる。
【０１０５】
また、特定のカラーフィルタが配置された発光画素だけでなく、表示パネル２２の全ての発光画素の欠陥部を検査する方法として、赤色カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長より短く所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する第２照射光、緑色カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長より短く所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する第３照射光、及び、青色カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長より短く所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する第４照射光を、それぞれ、表示パネル２２に照射する。そして、第２照射光照射時に取得される第２光学像における赤色発光画素の光学像、第３照射光照射時に取得される第３光学像における緑色発光画素の光学像、及び、第４照射光照射時に取得される第４光学像における青色発光画素の光学像に対して、それぞれ、露出量を任意調整して合成することにより、全ての発光画素においても、高精度な微小欠陥部の検出が可能となる。
【０１０６】
以下、ステップ２０の検査工程について詳細に説明する。
【０１０７】
図５Ａは、本発明の実施の形態に係る表示パネルの第１の検査方法を説明する動作フローチャートである。
【０１０８】
まず、照射部１１は、赤色、緑色、青色カラーフィルタのうちいずれかのカラーフィルタの可視光領域での最大透過率を示す波長より短く、所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する第１照射光を表示パネル２２に照射する（Ｓ２０１）。このとき、照射部１１は、上記第１照射光の焦点を表示パネル２２の表面に合わせる。ここで、上記第１照射光の波長について、図６を用いて説明する。
【０１０９】
図６Ａは、本発明の実施の形態に係る検査方法で用いられる照射光の波長とカラーフィルタの通過特性との関係を表す第１のグラフである。同図には、赤色カラーフィルタ１２２Ｒ、緑色カラーフィルタ１２２Ｇ、及び青色カラーフィルタ１２２Ｂについての波長−透過率特性の第１例が表されている。赤色カラーフィルタ１２２Ｒ、緑色カラーフィルタ１２２Ｇ、及び青色カラーフィルタ１２２Ｂにおいて、可視光領域（３８０ｎｍ〜８００ｎｍ）において最大透過率を示す波長は、それぞれ、図６ＡにおいてλＰＲ、λＰＧ、及びλＰＢで表されている。ここで、いずれのカラーフィルタにおいても、最大透過率は８０％以上となっているが、例えば、上記所定の透過率を、最大透過率よりも小さい５０％とする。この場合、赤色カラーフィルタ１２２Ｒにおいて、λＰＲより短く所定の透過率である５０％を示す波長は、図６ＡにおいてλＬＲである。以上より、照射部１１は、本ステップにおいて、赤色発光画素の欠陥部を検出する場合には、波長λＬＲにおいてピーク強度を有する単色光を第１照射光として選択する。同様にして、緑色発光画素の欠陥部を検出する場合には、照射部１１は、波長λＬＧにおいてピーク強度を有する単色光を第１照射光として選択する。また、青色発光画素の欠陥部を検出する場合には、照射部１１は、波長λＬＢにおいてピーク強度を有する単色光を第１照射光として選択する。
【０１１０】
これにより、いずれの発光画素の欠陥部を検出する場合においても、可視光波長域における最大透過率を示す波長（λＰＲ、λＰＧまたはλＰＢ）においてピーク強度を有する照射光を照射する場合に比べて、欠陥部の検出分解能が向上するので、高精度な微小欠陥部の検出が可能となる。なお、上記例のように所定の透過率を５０％と設定とした場合には、例えば、λＰＲとλＬＲとの比を基にして、上記比較対象に比べて約３／４の大きさのものまで検出が可能となる。
【０１１１】
図６Ｂは、本発明の実施の形態に係る検査方法で用いられる照射光の波長とカラーフィルタの通過特性との関係を表す第２のグラフである。同図には、赤色カラーフィルタ１２２Ｒ、緑色カラーフィルタ１２２Ｇ、及び青色カラーフィルタ１２２Ｂについての波長−透過率特性の第２例が表されている。図６Ｂに表された波長−透過率特性が、図６Ａに表された第１例の波長−透過率特性と異なる点は、赤色カラーフィルタ１２２Ｒが、４００ｎｍ以下の紫色領域に属する波長λＰＲ２においてサブピークを有している点である。ここで、例えば、上記所定の透過率を、最大透過率よりも小さい２０％とする。この場合、赤色カラーフィルタ１２２Ｒにおいて、最大透過率となる波長λＰＲ１より短く所定の透過率である２０％を示す最短波長は、図６ＢにおいてλＬＲ２である。この場合、照射部１１は、本ステップにおいて、赤色発光画素の欠陥部を検出する場合には、波長λＬＲ２においてピーク強度を有する単色光を第１照射光として選択する。同様にして、緑色発光画素の欠陥部を検出する場合には、照射部１１は、波長λＬＧ２においてピーク強度を有する単色光を第１照射光として選択する。また、青色発光画素の欠陥部を検出する場合には、照射部１１は、波長λＬＢ２においてピーク強度を有する単色光を第１照射光として選択する。
【０１１２】
これにより、いずれの発光画素の欠陥部を検出する場合においても、可視光波長域における最大透過率を示す波長（λＰＲ１、λＰＧまたはλＰＢ）においてピーク強度を有する照射光を照射する場合に比べて、欠陥部の検出分解能が向上するので、高精度な微小欠陥部の検出が可能となる。なお、上記例のように所定の透過率を２０％と設定とした場合には、例えば、λＰＲ１とλＬＲ２との比を基にして、上記比較対象に比べて約１／２の大きさのものまで検出が可能となる。
【０１１３】
なお、上記第１照射光を照射した場合、所定の透過率２０％に応じたカラーフィルタによる減衰が大きいため、次ステップで説明する第１光学像において十分な発光強度が得られないことが想定される。しかし、上記第１照射光の照射により欠陥部を検出するのは、上記カラーフィルタと同色のカラーフィルタが配置された発光画素であるので、第１照射光の出射光量を調整することにより、第１光学像において十分な発光強度を得ることが可能となる。
【０１１４】
次に、輝度測定部１２は、ステップＳ２０１で第１照射光が照射された表示パネル２２の各発光画素の第１光学像を検出器により取得する（Ｓ２０３）。なお、上記検出器は、例えば、ＣＣＤカメラが用いられる。なお、本ステップでは、例えば、赤色カラーフィルタ１２２Ｒに依存する波長λＬＲをピーク波長とする単色光を第１照射光とした場合には、赤色発光画素２２Ｒの欠陥部を検出することを目的として、第１光学像における赤色発光画素２２Ｒの光学像における発光輝度が測定される。輝度測定部１２は、上記発光輝度の測定にあたり、第１光学像の露出量を調整してもよい。また、上記所定の透過率が低く設定された場合には、第１光学像におけるＳ／Ｎ比が低下することが想定される。この場合には、輝度測定部１２は、例えば、高感度の低温ＣＣＤカメラを備えてもよい。ステップＳ２０１及びＳ２０３は、表示色フィルタのうちいずれかの表示色フィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって可視光波長域内で所定の透過率を示す波長においてピーク強度を有する第１照射光を、カラーフィルタを介して複数の表示画素に照射し、当該照射時における複数の表示画素の第１光学像を取得する短波長取得工程に相当する。
【０１１５】
最後に、判定部１３は、第１光学像から、上記第１照射光に対応するカラーフィルタが配置された発光画素の欠陥部を特定する（Ｓ２０５）。なお、本ステップにおける欠陥部の特定方法としては、得られた第１光学像において、所定値以上の輝度値を示す部分を欠陥部と特定してもよい。この欠陥部特定方法は、有機ＥＬ表示素子の陽極と陰極との間に、短絡欠陥部または発光層の膜厚が局部的に厚い欠陥部などが存在し表示パネル２２に第１照射光を照射した場合、当該欠陥部からの反射光または散乱光の輝度が異常に高くなることを利用するものである。ステップＳ２０５は、第１光学像から各色表示画素の欠陥部を検出する欠陥検出工程に相当する。
【０１１６】
図７Ａは、本発明の実施の形態に係る表示パネルの検査方法により取得された光学像を表す図である。図７Ａの（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、それぞれ、波長λＬＲ、λＬＧ、及びλＬＢにおいてピーク強度を有する単色光を表示パネル２２に照射した時に、ステップＳ２０３で取得された第１光学像である。図７Ａの（ａ）〜（ｃ）で観察されるように、各色発光画素において、各色カラーフィルタの通過帯域内における単色光の反射光または散乱光の光学像が得られるので、図７Ｂに示された可視光照射による光学像に比べて、赤色発光画素、緑色発光画素及び青色発光画素ごとの高精度な欠陥部の検査が可能となる。また、図７Ｃに示された赤外光照射、及び、ピーク波長λＰＲ、λＰＧ、及びλＰＢにおいてピーク強度を有する単色光の照射と比べて、短波長光の照射による微小欠陥部の検出精度が向上している。
【０１１７】
なお、上記第１の検査方法では、ステップＳ２０１〜Ｓ２０５での第１照射光の照射による欠陥部検出の前に、各発光画素の自発光による点灯検査を実行してもよい。これにより、正常点灯する発光画素と異常発光画素とを判別しておき、異常発光画素のみについて、ステップＳ２０１〜Ｓ２０５を実行すればよいので、検査効率が向上する。つまり、ステップＳ２０１〜Ｓ２０５では、異常発光画素に配置されたカラーフィルタに対応した第１照射光のみを照射し、取得された第１光学像における異常発光画素の領域のみを輝度測定すればよい。上記第１の検査方法は、特定の発光画素について欠陥部検出をする場合に適している。
【０１１８】
上述した第１の検査方法は、赤色発光画素、緑色発光画素及び青色発光画素のうちいずれかの発光画素の欠陥部を検査する検査方法として適用可能であるが、波長λＬＲ、λＬＧ、及びλＬＢにおいてピーク強度を有する単色光をそれぞれ表示パネル２２に照射して得られた３種類の光学像を合成することにより、全ての発光画素の欠陥部を検査してもよい。以下、第２の検査方法について、第１の検査方法と異なる部分を中心に説明する。
【０１１９】
図５Ｂは、本発明の実施の形態に係る表示パネルの第２の検査方法を説明する動作フローチャートである。
【０１２０】
まず、照射部１１は、赤色カラーフィルタ１２２Ｒの可視光領域での最大透過率を示す波長より短く、所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する第２照射光を表示パネル２２に照射する（Ｓ２０２）。このとき、照射部１１は、上記第２照射光の焦点を表示パネル２２の表面に合わせる。本ステップにおいて、例えば、所定の透過率を５０％と設定した場合には、第２照射光は、図６に示されたλＬＲである。
【０１２１】
なお、上記第２照射光を照射した場合、所定の透過率に応じたカラーフィルタによる減衰が大きいため、次ステップで説明する第２光学像において十分な発光強度が得られないことが想定される。しかし、上記第２照射光の出射光量を任意に調整することにより、第２光学像において十分な発光強度を得ることが可能となる。
【０１２２】
次に、輝度測定部１２は、ステップＳ２０２で第２照射光が照射された表示パネル２２の各発光画素の第２光学像を検出器により取得する（Ｓ２０４）。なお、上記検出器は、例えば、ＣＣＤカメラが用いられる。上記ステップＳ２０２及びＳ２０４は、カラーフィルタを介して各色表示画素に、赤色カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって可視光波長域内で所定の透過率を示す第２波長においてピーク強度を有する第２照射光を照射し、当該照射時における各色表示画素の第２光学像を得る赤色短波長取得工程に相当する。
【０１２３】
次に、照射部１１は、緑色カラーフィルタ１２２Ｇの可視光領域での最大透過率を示す波長より短く、所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する第３照射光を表示パネル２２に照射する（Ｓ２０６）。このとき、照射部１１は、上記第３照射光の焦点を表示パネル２２の表面に合わせる。本ステップにおいて、例えば、所定の透過率を５０％と設定した場合には、第３照射光は、図６に示されたλＬＧである。
【０１２４】
なお、上記第３照射光を照射した場合、所定の透過率に応じたカラーフィルタによる減衰が大きいため、次ステップで説明する第３光学像において十分な発光強度が得られないことが想定される。しかし、上記第３照射光の出射光量を任意に調整することにより、第３光学像において十分な発光強度を得ることが可能となる。
【０１２５】
次に、輝度測定部１２は、ステップＳ２０６で第３照射光が照射された表示パネル２２の各発光画素の第３光学像を検出器により取得する（Ｓ２０８）。なお、上記検出器は、例えば、ＣＣＤカメラが用いられる。上記ステップＳ２０６及びＳ２０８は、カラーフィルタを介して各色表示画素に、緑色カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって可視光波長域内で所定の透過率を示す第３波長においてピーク強度を有する第３照射光を照射し、当該照射時における各色表示画素の第３光学像を得る緑色短波長取得工程に相当する。
【０１２６】
次に、照射部１１は、青色カラーフィルタ１２２Ｂの可視光領域での最大透過率を示す波長より短く、所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する第４照射光を表示パネル２２に照射する（Ｓ２１０）。このとき、照射部１１は、上記第４照射光の焦点を表示パネル２２の表面に合わせる。本ステップにおいて、例えば、所定の透過率を５０％と設定した場合には、第４照射光は、図６に示されたλＬＢである。
【０１２７】
なお、上記第４照射光を照射した場合、所定の透過率に応じたカラーフィルタによる減衰が大きいため、次ステップで説明する第４光学像において十分な発光強度が得られないことが想定される。しかし、上記第４照射光の出射光量を任意に調整することにより、第４光学像において十分な発光強度を得ることが可能となる。
【０１２８】
次に、輝度測定部１２は、ステップＳ２１０で第４照射光が照射された表示パネル２２の各発光画素の第４光学像を検出器により取得する（Ｓ２１２）。なお、上記検出器は、例えば、ＣＣＤカメラが用いられる。上記ステップＳ２１０及びＳ２１２は、カラーフィルタを介して各色表示画素に、青色カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長よりも短い波長であって可視光波長域内で所定の透過率を示す第４波長においてピーク強度を有する第４照射光を照射し、当該照射時における各色表示画素の第４光学像を得る青色短波長取得工程に相当する。
【０１２９】
最後に、判定部１３は、ステップＳ２０４で取得された第２光学像、ステップＳ２０８で取得された第３光学像、及び、ステップＳ２１２で取得された第４光学像から、全ての発光画素を検査し、欠陥部を特定する（Ｓ２１４）。具体的には、判定部１３は、第２光学像、第３光学像及び第４光学像を合成した像から、全ての発光画素についての欠陥部を特定する。このとき、輝度測定部１２または判定部１３は、赤色発光画素、緑色発光画素及び青色発光画素の間における欠陥部の検出精度の差を補正するため、設定された所定の透過率、各光学像の明るさ及びコントラスト等に応じて各光学像の露出量を任意に調整してもよい。
【０１３０】
本ステップにおける欠陥部の特定方法としては、上記第２〜第４光学像において、所定値以上の輝度値を示す部分を欠陥部と特定してもよい。この欠陥部特定方法は、有機ＥＬ表示素子の陽極と陰極との間に、短絡欠陥部または発光層の膜厚が局部的に厚い欠陥部などが存在し表示パネル２２に第２〜第４照射光を照射した場合、当該欠陥部からの反射光または散乱光の輝度が異常に高くなることを利用するものである。ステップＳ２１４は、第１光学像から各色表示画素の欠陥部を検出する欠陥検出工程に相当する。
【０１３１】
図７Ａの（ｄ）は、波長λＬＲ、λＬＧ、及びλＬＢにおいてピーク強度を有する単色光を表示パネル２２にそれぞれ照射して得られた第２〜第４光学像を合成した像である。図７Ａの（ｄ）で観察されるように、各色発光画素において、各色カラーフィルタの通過帯域内における単色光の反射光または散乱光の光学像が得られるので、図７Ｂに示された可視光照射による光学像に比べて、赤色発光画素、緑色発光画素及び青色発光画素ごとの高精度な欠陥部の検査が可能となる。また、図７Ｃに示された赤外光照射、及び、ピーク波長λＰＲ、λＰＧ、及びλＰＢにおいてピーク強度を有する単色光の照射と比べて、短波長光の照射による微小欠陥部の検出精度が向上している。
【０１３２】
以上、本発明の実施の形態に係る表示パネルの第１の検査方法及び第２の検査方法によれば、カラーフィルタを有する発光画素に、可視光波長域における最大透過率を示す波長より短く所定の透過率となる波長においてピーク強度を有する照射光を照射することにより得られた光学像により発光画素の欠陥部を特定する。これにより、可視光波長域における最大透過率を示す波長においてピーク強度を有する照射光を照射する場合に比べて、欠陥部の検出分解能が向上する。よって、微小欠陥部の高精度な検出が可能となる。
【０１３３】
なお、上述した第２の検査方法では、赤色発光画素の欠陥部検出のための第２照射光照射及び第２光学像取得、緑色発光画素の欠陥部検出のための第３照射光照射及び第３光学像取得、青色発光画素の欠陥部検出のための第４照射光照射及び第４光学像取得の順に実行する例を説明したが、３原色間で実行する順は任意である。
【０１３４】
以下、ステップＳ３０のリペア工程について説明する。
【０１３５】
ステップＳ３０では、ステップＳ２０で特定された欠陥画素を、リペア装置３によりリペアする。リペア装置３は、例えば、レーザー発振器と、検出器と、ＣＣＤカメラと、照明と、ステージとを備える。表示パネル２２は、ステージの上に固定配置される。そして、例えば、表示パネル２２の欠陥部付近の陰極１１６にレーザー焦点を合わせて、陰極１１６の一部を高抵抗化させる。ＣＣＤカメラは、ステージの高さ及び平面方向を高精度に調整するため、ステージ上の表示パネル２２の表面を観察するモニタである。これにより、例えば、異物と電気的に短絡している陰極領域、つまり、陰極の一部で囲まれた陰極領域は、他の陰極領域と絶縁され、異物を介して陽極１１２と短絡接続されている。これにより、陽極１１２と陰極１１６との間に流れる電流パスは、陰極の一部で囲まれた陰極領域には発生しないが、当該陰極領域以外の陰極領域には正常に発生するようになる。ステップＳ３０は、ステップＳ２０６またはＳ２０９で検出された欠陥部について、リペアを行なうリペア工程に相当する。
【０１３６】
最後に、上述したレーザーリペアにより、欠陥部を有している発光画素が回復したかを、点灯確認する。
【０１３７】
図８は、レーザーリペア後の点灯確認を表す図である。例えば、異物による短絡欠陥部が存在する発光画素は、所定の信号電圧を供給した場合、当該短絡欠陥部のみが輝点となる。これに対して、レーザーリペアを実施した後では、例えば、上記レーザーリペアにより短絡欠陥部は高抵抗化され黒点となり、当該短絡欠陥部以外の発光領域が発光する。このような発光モードにおける点灯確認により、発光画素の回復の可否を確認することが可能となる。
【０１３８】
以上、本発明の表示パネルの製造方法によれば、カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長より短い波長においてピーク強度を有する照射光を照射することにより発光画素の微小欠陥部を高精度に検出することが可能となる。この高精度な欠陥部の検出により、欠陥部のリペアを確実に実行することができるので製造歩留まりが向上する。
【０１３９】
以上、上記実施の形態に基づいて本発明に係る表示パネルの製造方法、その検査装置及び検査方法を説明してきたが、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではない。実施の形態における任意の構成要素を組み合わせて実現される別の実施の形態や、実施の形態に対して本発明の主旨を逸脱しない範囲で当業者が思いつく各種変形を施して得られる変形例や、本発明に係る表示パネルを内蔵した各種機器も本発明に含まれる。
【０１４０】
上記実施の形態では、検出すべき発光画素の欠陥部として、異物５０が有機層に跨って存在する場合を例示したが、本発明の検査装置及び検査方法により検出される欠陥部はこれに限られない。欠陥部としては、異物５０による短絡欠陥の他、例えば、異物５０が存在しないが陽極１１２と陰極１１６とが有機層を介さずに短絡している態様、または、発光層１１４が局部的に厚い態様、などが挙げられる。以下、上記２態様について図面を用いて説明する。
【０１４１】
図９Ａは、本発明の実施の形態の第１の変形例に係る発光画素の断面概略図である。本変形例に係る緑色発光画素２２Ｇが、図３Ｂに記載された緑色発光画素２２Ｇと異なる点は、陽極１１２と陰極１１６とが導電性の異物５０を介さずに直接接触して短絡している点である。これは、例えば、有機層の形成工程において短絡部分の位置にピンホールが形成され、その後、陰極１１６の形成工程において当該ピンホールに陰極１１６を構成する材料が流入して陰極１１６が形成されたために、このように直接接触したものである。このような態様においても、カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長より短い波長においてピーク強度を有する照射光を照射することにより、欠陥部５１は異常輝点として検出される。そして、欠陥部５１を高抵抗化することにより、短絡された陽極１１２と陰極１１６との短絡を解消することが可能である。
【０１４２】
図８Ｂは、本発明の実施の形態の第２の変形例に係る発光画素の断面概略図である。本変形例に係る緑色発光画素２２Ｇが、図３Ｂに記載された緑色発光画素２２Ｇと異なる点は、発光層１１４が局部的に厚くなっている点である。このような態様においても、カラーフィルタの可視光波長域における最大透過率を示す波長より短い波長においてピーク強度を有する照射光を照射することにより、欠陥部５２は異常輝点として検出される。そして、欠陥部５２を高抵抗化することにより、当該欠陥を解消することが可能である。
【０１４３】
また、上述した実施の形態では、下部電極を陽極、上部電極を陰極とする構成について示したが、下部電極を陰極、上部電極を陽極とする構成であってもよい。また、発光画素の構成である平坦化膜、陽極、正孔注入層、発光層、隔壁、電子注入層、陰極、薄膜封止層、封止用樹脂層、カラーフィルタ、接着層及び透明基板は、上記した実施の形態に示した構成に限らず、材料や構成、形成方法を変更してもよい。例えば、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層があってもよいし、電子注入層と発光層との間に電子輸送層があってもよい。
【０１４４】
また、レーザーリペアにおけるレーザーの照射位置は、上述した実施の形態に限定されず、異物や短絡部分を含む所定の範囲に設定されてもよいし、異物や短絡部分のみに設定されてもよい。また、異物や短絡部分の周囲を囲むように設定されてもよい。また、レーザーの照射は、陰極に限らず陽極に対して行われてもよい。
【０１４５】
また、本発明は、例えば、図１０に示すような、本発明の製造方法による発光パネルを備えた薄型フラットテレビシステムの製造に好適である。
【０１４６】
また、図１に記載された検査装置１は、表示装置２に組み込まれていてもよい。この場合、表示装置２の制御部２１が、照射部１１、輝度測定部１２及び判定部１３を有し、制御部２１が実施の形態で説明した検査方法を実行する。この態様によっても、上述した最大透過率を示す波長より短い波長においてピーク強度を有する照射光を照射し、これにより微小欠陥部を高精度に検出することが可能となり、欠陥部のリペアを確実に実行することができるので製造歩留まりが向上する。
【０１４７】
また、上記実施の形態において、可視光領域とは、波長が３８０ｎｍ〜８００ｎｍである領域である。また、赤色カラーフィルタ１２２Ｒは、赤色領域を主通過帯域とするフィルタである。また、緑色カラーフィルタ１２２Ｇは、緑色領域を主通過帯域とするフィルタである。また、青色カラーフィルタ１２２Ｂは、青色領域を主通過帯域とするフィルタである。ここで、赤色領域とは、波長が６００〜８００ｎｍである領域である。また、緑色領域とは、波長が５００〜６００ｎｍである領域である。また、青色領域とは、波長が３８０〜５００ｎｍである領域である。また赤外光の波長としては、８００ｎｍ〜１μｍである。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
本発明の表示パネルの製造方法、その検査装置及び検査方法は、大画面及び高解像度が要望される薄型テレビ及びパーソナルコンピュータのディスプレイなどの技術分野に有用である。
【符号の説明】
【０１４９】
１    検査装置
２    表示装置
３    リペア装置
１１    照射部
１２    輝度測定部
１３    判定部
２１    制御部
２２    表示パネル
２２Ｂ    青色発光画素
２２Ｇ    緑色発光画素
２２Ｒ    赤色発光画素
２３    データ線駆動回路
２４    走査線駆動回路
５０    異物
５１、５２    欠陥部
１１０    基板
１１１    平坦化膜
１１２    陽極
１１３    正孔注入層
１１４    発光層
１１５    電子注入層
１１６    陰極
１１７    薄膜封止層
１１８    封止用樹脂層
１１９    接着層
１２０    透明基板
１２１    ブラックマトリクス
１２２    カラーフィルタ
１２２Ｂ    青色カラーフィルタ
１２２Ｇ    緑色カラーフィルタ
１２２Ｒ    赤色カラーフィルタ
１２３    隔壁
１３０    有機層
２２１、４２１    有機ＥＬ素子
２２２    駆動トランジスタ
２２３    選択トランジスタ
２２４    コンデンサ
２３１    データ線
２４１    走査線
２５１    正電源線
２６１    負電源線
４２２    短絡成分
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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