(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイヤ製造用の半加工要素の配置を制御する方法であって、
加工対象のタイヤ（１）の少なくとも１つの構成要素上に第１の放射（Ｒ１）を送信するステップであって、前記構成要素（３）が、前記加工対象のタイヤ（１）の半径方向外層（５）を画定する複数の半加工要素（４）によって少なくとも部分的に形成される、ステップと、
前記加工対象のタイヤ（１）の半径方向外面から、対応する第１の反射放射（Ｒ１’）を受信するステップと、
少なくとも前記第１の反射放射（Ｒ１’）の関数として、前記半径方向外層（５）の厚さを表す１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）を決定するステップと、
前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）を、対応する基準値（ＲＥＦ１、ＲＥＦ２）と比較するステップと、
前記比較に応じてアラーム信号（Ｓ）を発生するステップと
を含み、
前記半加工要素（４）は、横並び、または部分的に重畳させた関係で配設されるストリップ状要素であり、
前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）を決定するステップが、
前記加工対象のタイヤ（１）の複数の円周方向位置（ＣＰ）において、前記半径方向外層（５）の厚さを表す複数の値（Ｖ１、Ｖ２）を決定するステップと、
前記値（Ｖ１、Ｖ２）を第１のしきい値（ＴＨ１）および第２のしきい値（ＴＨ２）と比較するステップであって、前記第１のしきい値ＴＨ１は、２つの半加工要素が半径方向で重畳しているところに対応する、前記半径方向外層（５）の厚さを表し、前記第２のしきい値ＴＨ２は、半加工要素が載置されていないところに対応する、前記半径方向外層（５）の厚さを表す、比較するステップと、
前記値（Ｖ１）の何個が前記第１のしきい値（ＴＨ１）よりも高いか、および前記値（Ｖ２）の何個が前記第２のしきい値（ＴＨ２）よりも低いかを決定するステップと、
前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）の第１のパラメータ（Ｐ１）を、前記第１のしきい値（ＴＨ１）よりも高い値（Ｖ１）が連続した個数（Ｎ１）として計算するステップと、
前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）の第２のパラメータ（Ｐ２）を、前記第２のしきい値（ＴＨ２）よりも小さい値（Ｖ２）が連続した個数（Ｎ２）として計算するステップと、を含み、
前記アラーム信号（Ｓ）は、前記第１のパラメータ（Ｐ１）が第１の基準値（ＲＥＦ１）よりも大きい場合、または前記第２のパラメータ（Ｐ２）が第２の基準値（ＲＥＦ２）よりも大きい場合に発生し、
前記第１の基準値（ＲＥＦ１）および前記第２の基準値（ＲＥＦ２）のそれぞれが、形成支持体（２）の円周方向延在に沿って測定した１つの前記半加工要素（４）の幅の１／３以上の長さを表す、
方法。
【請求項２】
前記第１の反射放射（Ｒ１’）が、前記加工対象のタイヤ（１）の半径方向外面と前記反射放射（Ｒ１’）の受信点との間の距離を表す請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１のパラメータ（Ｐ１）に関する第１の基準値（ＲＥＦ１）が、前記形成支持体（２）の円周方向延在に沿って測定した半加工要素（４）の幅の１／２以上の長さを表す請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第２のパラメータ（Ｐ２）に関する第２の基準値（ＲＥＦ２）が、前記形成支持体（２）の円周方向延在に沿って測定した半加工要素（４）の幅の１／２以上の長さを表す請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記円周方向位置（ＣＰ）の少なくとも一部が、前記形成支持体（２）の軸方向中心線平面（Ｘ１）に属する請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の放射（Ｒ１）が、前記加工対象のタイヤ（１）の前記円周方向位置（ＣＰ）に時間的に連続して向けられる少なくとも１つの放射ビーム（Ｆ１）を含む請求項１または５に記載の方法。
【請求項７】
前記円周方向位置（ＣＰ）の一部が、前記軸方向中心線平面（Ｘ１）に実質的に平行な一対の補助平面（Ｘ２、Ｘ３）に属し、各前記補助平面（Ｘ２、Ｘ３）が、前記軸方向中心線平面（Ｘ１）と、前記形成支持体（２）の各軸方向端部（２ａ、２ｂ）との間にそれぞれ位置される請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記補助平面（Ｘ２、Ｘ３）が、前記軸方向中心線平面（Ｘ１）に対して実質的に対称的な位置にある請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の放射（Ｒ１）が、さらに、前記補助平面（Ｘ２、Ｘ３）に属する位置に時間的に連続して向けられる一対の補助放射ビーム（Ｆ２、Ｆ３）を含む請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の反射放射（Ｒ１’）の少なくとも６個の一次高調波成分を除去するように、前記第１の反射放射（Ｒ１’）をフィルタするステップを含む請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記形成支持体（２）の外側形状を検出するステップを含み、前記半径方向外層（５）の厚さを表す前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）が、前記形成支持体（２）の前記形状の関数としても決定される請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記外側形状の検出が、前記半加工要素（４）の配置の前に行われる請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
さらに、前記第１の放射（Ｒ１）が送信された円周方向位置ごとに、
前記加工対象のタイヤ（１）上に向けて、前記第１の放射（Ｒ１）が送信される位置に対して円周方向で離隔された位置に第２の放射（Ｒ２）を送信するステップと、
前記加工対象のタイヤ（１）の半径方向外面から、対応する第２の反射放射（Ｒ２’）を受信するステップと
を含み、
前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）が、前記第２の反射放射（Ｒ２’）の関数としても決定される請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記放射（Ｒ１、Ｒ２）を送信するステップと、前記反射放射（Ｒ１’、Ｒ２’）を受信するステップとが、前記半加工要素の配置中に行われる請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記加工対象のタイヤ（１）の前記構成要素（３）が、前記タイヤの１つまたは複数のカーカスプライを含む請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記加工対象のタイヤ（１）の前記構成要素（３）が、１つまたは複数のベルトストリップを含む請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
タイヤ製造用の半加工要素の配置を制御するための装置であって、
加工対象のタイヤ（１）の少なくとも１つの構成要素上に第１の放射（Ｒ１）を送信するための第１の放出構造（１１０）であって、前記構成要素（３）が、前記加工対象のタイヤ（１）の半径方向外層（５）を画定する複数の前記半加工要素（４）によって少なくとも部分的に形成され、前記半加工要素（４）は、横並び、または部分的に重畳させた関係で配設されるストリップ状要素である、第１の放出構造（１１０）と、
前記加工対象のタイヤ（１）の半径方向外面から、対応する第１の反射放射（Ｒ１’）を受信するための第１の受信構造（１２０）と、
処理ユニット（１３０）と
を含み、前記処理ユニット（１３０）が、
少なくとも前記第１の反射放射（Ｒ１’）の関数として、前記半径方向外層（５）の厚さを表す１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）を決定するように構成された演算モジュール（１３１）と、
前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）を、対応する基準値（ＲＥＦ１、ＲＥＦ２）と比較するように構成された比較モジュール（１３２）と、
前記比較に応じてアラーム信号（Ｓ）を発生するように構成された伝送モジュール（１３３）と
を備え、
前記演算モジュール（１３１）による前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）を決定することが、
前記加工対象のタイヤ（１）の複数の円周方向位置（ＣＰ）において、前記半径方向外層（５）の厚さを表す複数の値（Ｖ１、Ｖ２）を決定することと、
前記値（Ｖ１、Ｖ２）を第１のしきい値（ＴＨ１）および第２のしきい値（ＴＨ２）と比較するステップであって、前記第１のしきい値（ＴＨ１）は、２つの半加工要素が半径方向で重畳しているところに対応する、前記半径方向外層（５）の厚さを表し、前記第２のしきい値（ＴＨ２）は、半加工要素が載置されていないところに対応する、前記半径方向外層（５）の厚さを表す、比較することと、
前記値（Ｖ１）の何個が前記第１のしきい値（ＴＨ１）よりも高いか、および前記値（Ｖ２）の何個が前記第２のしきい値（ＴＨ２）よりも低いかを決定することと、
前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）の第１のパラメータ（Ｐ１）を、前記第１のしきい値ＴＨ１よりも高い値（Ｖ１）が連続した個数（Ｎ１）として計算することと、
前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）の第２のパラメータ（Ｐ２）を、前記第２のしきい値ＴＨ２よりも小さい値（Ｖ２）が連続した個数（Ｎ２）として計算することと、を含み、
前記伝送モジュール（１３３）は、前記第１のパラメータ（Ｐ１）が第１の基準値（ＲＥＦ１）よりも大きい場合、または前記第２のパラメータ（Ｐ２）が第２の基準値（ＲＥＦ２）よりも大きい場合に前記アラーム信号（Ｓ）を発生するように構成され、
前記第１の基準値（ＲＥＦ１）および前記第２の基準値（ＲＥＦ２）のそれぞれが、形成支持体（２）の円周方向延在に沿って測定した１つの前記半加工要素（４）の幅の１／３以上の長さを表す、
装置。
【請求項１８】
前記円周方向位置（ＣＰ）の少なくとも一部が、前記形成支持体（２）の軸方向中心線平面（Ｘ１）に属する請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記第１の放出構造（１１０）が、前記軸方向中心線平面（Ｘ１）内に位置決めされた少なくとも１つの主放出器（１１）を含み、前記第１の受信構造が、前記軸方向中心線平面（Ｘ１）内に位置決めされた少なくとも１つの主センサ（１２１）を含む請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記第１の放出構造（１１０）が、一対の補助放出器（１１２、１１３）を含み、各前記補助放出器（１１２、１１３）が、それぞれ補助平面（Ｘ２、Ｘ３）内に位置決めされる請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記第１の受信構造（１２０）が、一対の補助センサ（１２２、１２３）を含み、各前記補助センサ（１２２、１２３）が、それぞれ補助平面（Ｘ２、Ｘ３）内に位置決めされる請求項１７または２０に記載の装置。
【請求項２２】
前記処理ユニット（１３０）が、前記第１の反射放射（Ｒ１’）の少なくとも６個の一次高調波成分を除去するように前記第１の反射放射（Ｒ１’）をフィルタするためのフィルタリングモジュール（１３４）を含む請求項１７〜２１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２３】
前記演算モジュール（１３１）が、前記半径方向外層（５）の厚さを表す前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）を、前記形成支持体（２）の形状の関数としても決定するように構成される請求項１７〜２２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２４】
前記演算モジュール（１３１）が、前記第１の放出構造（１１０）および前記第１の受信構造（１２０）と協働して、前記形成支持体（２）の前記外側形状を検出するように構成される請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記演算モジュール（１３１）が、前記第１の放射（Ｒ１）が送信された円周方向位置ごとに、前記加工対象のタイヤ（１）の半径方向外面からの第２の反射放射（Ｒ２’）の関数としても前記１つまたは複数のパラメータ（Ｐ）を決定するように構成され、前記第２の反射放射（Ｒ２’）が、前記加工対象のタイヤ（１）上に向けて、前記第１の放射（Ｒ１）が送信された位置に対して円周方向で離隔された位置に送信される第２の放射（Ｒ２）から得られる請求項１７〜２４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２６】
さらに、
前記加工対象のタイヤ（１）上に少なくとも前記第２の放射（Ｒ２）を送信するための第２の放出構造（１４０）と、
前記加工対象のタイヤ（１）の半径方向外面から少なくとも前記第２の反射放射（Ｒ２’）を受信するための第２の受信構造（１５０）と
を含む請求項２５に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タイヤ製造用の半加工要素の配置（deposition）を制御するための方法に関する。また、前記方法は、タイヤ製造用の半加工要素の配置を制御するための装置、およびタイヤ製造用の半加工要素を載置するためのワークステーションに関する。
【発明の概要】
【０００２】
現在使用されているいくつかの技法によれば、車両用のタイヤは、例えば形成ドラムなど構築支持体の周りに半加工要素を配置することによって形成することができる。
【０００３】
使用されるプロセスのタイプに応じて、形成ドラムは、実質的に円環形または実質的に円筒形の形状を有することができる。
【０００４】
半加工要素は、いわゆる「ストリップ状要素」、すなわち、所定のサイズに切断された弾性材料の細長いセクションからなることがあり、これらの細長いセクションは、前記セクションの長手方向で互いに平行に配設された少なくとも２つの織物または金属補強コードを埋め込む。適切には、横並び、または部分的に重畳させた関係で配設されるこれらのストリップ状要素は、様々なタイヤ構成要素を形成する際に協働する。特に、ストリップ状要素は、カーカスプライ、ベルトストリップ、またはタイヤに存在する他の補強構成要素を製造するために使用することができる。
【０００５】
採用されるプロセスのタイプに応じて、様々なタイヤ構成要素を同じ形成支持体上で、または異なる支持体上で製造し、その後、互いに関連付けることができる。
【０００６】
本発明の文脈、および添付の特許請求の範囲において、「加工対象のタイヤ」という用語によって、タイヤ構成要素の少なくとも一部分が支持体自体に載置されているタイヤの形成支持体が意図される。
【０００７】
本説明の趣旨で、および添付の特許請求の範囲において、タイヤの「構成要素」という用語によって、（タイヤでの）一機能またはその一部を実施するように適合された、例えば以下のものから選択される任意の構成要素が意図される。ライナ、アンダーライナ、カーカスプライ、アンダーベルトインサート、互いに交差されたベルトストリップおよびゼロ度でのベルトストリップ、トレッドバンド用の取付スキムコート、ビードコア、ビードフィラー、織物または金属補強インサート、または弾性材料だけから成る補強インサート、耐摩耗性インサート、側壁インサート。
【０００８】
本出願人は、前記半加工要素の配置に関して、特にストリップ状要素に関して、これらの半加工要素が適切に位置決めされない状況が起こり得ることに注目した。
【０００９】
典型的には、以下のことが起こり得る。
−一部のみ重畳すべき（いわゆる適正に「重畳」した状態にすべき）２つのストリップ状要素が、ほぼ完全に重畳される、または
−２つの連続するストリップ状要素の間に、何も置かれていない空いた空間が存在する。これは、一般に、ストリップ状要素が所定の位置で配置されていないためである。
【００１０】
ここで取り上げた状況はどちらも、タイヤ品質を大幅に低下させる可能性がある。実際、２つのストリップ状要素の過剰な重畳により、また加工対象のタイヤに与えることができる半径方向形状または拡張に起因して、そのような重畳位置でタイヤが厚くなりすぎることがある。
【００１１】
他方で、ストリップ状要素がないと、タイヤ内に明らかな構造上の欠如が生じることがあり、タイヤが実質的に使いものにならなくなる。
【００１２】
従来技術で知られている解決策は、採用される形成支持体の周りでのストリップ状要素の適正な位置決めを保証するための有用な情報を提供することができない。
【００１３】
特に、一対のストリップ状要素が過剰に重畳した状態、または２つのストリップ状要素が互いに離れすぎている状態を識別することができる可能性については、指摘または示唆が得られていない。
【００１４】
本出願人は、加工対象のタイヤの円周方向延在（circumferential extension）に沿って、加工対象のタイヤの半径方向外層の厚さ（またはいずれにせよ厚さに関連付けられるパラメータ）を考慮して、ストリップ状要素の適正な配置に関する重要な情報を見出すことができると考えた。
【００１５】
実際、形成支持体の周りでのストリップ状要素の適正な配置後、半径方向外層の厚さは、限度内で所定の形状を有する。
【００１６】
したがって、本出願人は、加工対象のタイヤの半径方向外層に放射（radiation）を送信し、対応する反射放射を検出し、反射放射を処理して、その半径方向外層の厚さを表す１つまたは複数のパラメータを決定することによって、採用される半加工要素の配置の制御を行うことができることを見出した。したがって、そのような１つまたは複数のパラメータをそれぞれのしきい値と比較することによって、半径方向外層の厚さが、提供されるプロファイルに合致しているかどうかを決定し、そうでない場合にはアラーム信号を発生することができる。
【００１７】
第１の態様によれば、本発明は、タイヤ製造用の半加工要素の配置を制御する方法であって、
−加工対象のタイヤの少なくとも１つの構成要素上に第１の放射を送信するステップであって、前記構成要素が、前記加工対象のタイヤの半径方向外層を画定する複数の半加工要素によって少なくとも部分的に形成される、ステップと、
−前記加工対象のタイヤの半径方向外面から、対応する第１の反射放射を受信するステップと、
−前記第１の反射放射の関数として、前記半径方向外層の厚さを表す１つまたは複数のパラメータを決定するステップと、
−前記１つまたは複数のパラメータを、対応する基準値と比較するステップと、
−前記比較に応じてアラーム信号を発生するステップと
を含む方法に関する。
【００１８】
本出願人の見解では、上述した技術的な特徴の組合せにより、載置された半加工要素の配置の起こり得る誤差の有無の検査を正確に高信頼性で行うことができる。特に、一対の連続する半加工要素が過剰に重畳した状態、または２つの連続する半加工要素が互いに離れすぎている状態を識別することができる。これは、受信された放射の処理により、加工対象のタイヤの外側形状の決定が可能になり、したがって、載置された半加工要素の真に適正な配置の決定が可能になることによる。
【００１９】
このようにして、（載置された半加工要素の誤った位置決めがまさに原因となる）構造上の欠如を有するタイヤを識別することができ、したがって、そのようなタイヤがさらに加工されて、タイヤの構築が完了され、その後、市場に供給されるのを防止することができる。
【００２０】
第２の態様によれば、本発明は、タイヤ製造用の半加工要素の配置を制御する装置であって、
−加工対象のタイヤの少なくとも１つの構成要素上に第１の放射を送信するための第１の放出構造であって、前記構成要素が、前記加工対象のタイヤの半径方向外層を画定する複数の半加工要素によって少なくとも部分的に形成される、第１の放出構造と、
−前記加工対象のタイヤの半径方向外面から、対応する第１の反射放射を受信するための第１の受信構造と、
−処理ユニットとを含み、処理ユニットが、
少なくとも前記第１の反射放射の関数として、前記半径方向外層の厚さを表すパラメータを決定するように構成された演算モジュールと、
前記１つまたは複数のパラメータを対応するしきい値と比較するように構成された比較モジュールと、
前記比較に応じてアラーム信号を発生するように構成された伝送モジュールと
を備える、装置に関する。
【００２１】
上記の態様の少なくとも１つにおいて、本発明は、以下の好ましい特徴の少なくとも１つを有することができる。
【００２２】
好ましくは、前記第１の反射放射は、加工対象のタイヤの半径方向外面と前記反射放射の受信点との間の距離を表す。
【００２３】
好ましくは、前記１つまたは複数のパラメータは、前記半加工要素の相互重畳を表す第１のパラメータを含む。
【００２４】
好ましくは、前記１つまたは複数のパラメータは、以下のように決定される。
−前記半径方向外層の厚さを表す複数の値を決定し、
−前記値を第１のしきい値と比較し、
−前記値の何個が前記第１のしきい値よりも高いかを決定する。
【００２５】
好ましくは、前記第１のしきい値よりも高い連続した値の個数が、前記第１のパラメータを定義する。
【００２６】
より好ましくは、前記第１のパラメータが第１の基準値よりも大きい場合に、前記アラーム信号が発生される。このようにして、重畳が過剰であるかどうかを評価することができ、すなわち、２つの半加工要素の互いの重畳の量が適正であるか、それとも過剰であるかを判断することができる。
【００２７】
特に、有利には、載置された半加工要素どうしの重畳の量を評価するために、加工対象のタイヤの円周方向延在に沿った外層の厚さ変動、すなわち載置された半加工要素によって形成された層の厚さ変動が基準として取られる。
【００２８】
好ましくは、前記第１のパラメータに関する第１の基準値は、前記形成支持体の円周方向延在に沿って測定した半加工要素の長さの少なくとも１／３と等しい長さを表す。
【００２９】
特に、前記第１のパラメータに関する第１の基準値は、前記形成支持体の円周方向延在に沿って測定した半加工要素の長さの少なくとも１／２と等しい長さを表す。
【００３０】
好ましくは、前記１つまたは複数のパラメータは、前記半加工要素の相互重畳の不足を表す第２のパラメータを含む。
【００３１】
好ましくは、前記１つまたは複数のパラメータを決定するステップは、
−前記半径方向外層の厚さを表す複数の値を決定するステップと、
−前記値を第２のしきい値と比較するステップと、
−前記値の何個が前記第２のしきい値よりも低いかを決定するステップと
を含む。
【００３２】
好ましくは、前記第２のしきい値よりも小さい連続した値の個数が、前記第２のパラメータを定義する。
【００３３】
より好ましくは、前記第２のパラメータが第２の基準値よりも大きい場合に、前記アラーム信号が発生される。このようにして、重畳の不足の量が評価され、すなわち、２つの半加工要素の間の距離が適正であるか、それとも過剰であるかが判断される。
【００３４】
特に、有利には、２つの半加工要素の重畳の不足を評価するために、加工対象のタイヤの円周方向延在に沿った外層の厚さ変動、すなわち載置された半加工要素によって形成された層の厚さ変動が基準として取られる。
【００３５】
好ましくは、前記第２のパラメータに関する第２の基準値は、前記形成支持体の円周方向延在に沿って測定した半加工要素の長さの少なくとも１／３と等しい長さを表す。
【００３６】
特に、前記第２のパラメータに関する第２の基準値は、前記形成支持体の円周方向延在に沿って測定した半加工要素の長さの少なくとも１／２と等しい長さを表す。
【００３７】
好ましくは、前記半径方向外層の厚さを表す前記複数の値を決定するステップが、前記加工対象のタイヤの複数の円周方向位置で半径方向外層の厚さを決定するステップを含む。
【００３８】
好ましくは、前記円周方向位置の少なくとも一部が、前記形成支持体の軸方向中心線平面に属する。
【００３９】
好ましくは、前記第１の放射は、前記加工対象のタイヤの前記円周方向位置ＣＰに時間的に連続して向けられる少なくとも１つの放射ビームを含む。
【００４０】
好ましくは、前記円周方向位置の一部が、前記軸方向中心線平面に実質的に平行な一対の補助平面に属し、各前記補助平面が、前記軸方向中心線平面と、前記形成支持体の各軸方向端部との間にそれぞれ位置される。
【００４１】
好ましくは、前記補助平面は、前記軸方向中心線平面に対して実質的に対称的な位置にある。
【００４２】
好ましくは、第１の放射は、さらに、前記補助平面に属する位置に時間的に連続して向けられる一対の補助放射ビームを含む。
【００４３】
また、好ましくは、前記第１の反射放射の少なくとも６個の一次高調波成分を除去するように、前記第１の反射放射をフィルタするステップも行われる。特に、前記第１の反射放射の９個の一次高調波成分が除去される。
【００４４】
好ましくは、前記形成支持体の外側形状の検出も行われ、前記半径方向外層の厚さを表す前記１つまたは複数のパラメータが、前記形成支持体の形状の関数としても決定される。
【００４５】
好ましくは、前記外側形状の検出が、前記半加工要素の配置の前に行われる。
【００４６】
このようにすることによって、支持体の外側形状が直接獲得され、この情報を、加工対象のタイヤの外層の半径方向厚さを表すパラメータを決定するために有用に採用することができる。
【００４７】
好ましい一実施形態によれば、前記第１の放射が送信された円周方向位置ごとに、
−前記加工対象のタイヤ上に向けて、前記第１の放射が送信される位置に対して円周方向で離隔された位置に第２の放射を送信するステップと、
−前記加工対象のタイヤの半径方向外面から、対応する第２の反射放射を受信するステップと
が提供され、前記１つまたは複数のパラメータが、前記第２の反射放射の関数としても決定される。
【００４８】
好ましくは、前記放射を送信する操作と、前記反射放射を受信する操作とが、前記半加工要素の配置中に行われる。
【００４９】
好ましくは、前記半加工要素は、ストリップ状要素である。
【００５０】
好ましくは、加工対象のタイヤの前記構成要素が、前記タイヤの１つまたは複数のカーカスプライを含む。
【００５１】
好ましくは、加工対象のタイヤの前記構成要素が、１つまたは複数のベルトストリップを含む。
【００５２】
好ましくは、前記演算モジュールは、
−前記半径方向外層の厚さを表す複数の値を決定し、
−前記値を第１のしきい値と比較し、
−前記値の何個が前記第１のしきい値よりも高いかを決定する
ように構成される。
【００５３】
好ましくは、前記第１のしきい値よりも高い連続した値の個数が、前記第１のパラメータを定義する。
【００５４】
より好ましくは、前記比較モジュールは、前記第１のパラメータを第１の基準値と比較するように構成される。
【００５５】
最も好ましくは、前記伝送モジュールは、前記第１のパラメータが前記第１の基準値よりも大きい場合に前記アラーム信号を発生するように構成される。
【００５６】
好ましくは、前記演算モジュールは、
−前記半径方向外層の厚さを表す複数の値を決定し、
−前記値を第２のしきい値と比較し、
−前記値の何個が前記第２のしきい値よりも小さいかを決定する
ように構成される。
【００５７】
好ましくは、前記第２のしきい値よりも小さい連続した値の個数が、前記第２のパラメータを定義する。
【００５８】
より好ましくは、前記比較モジュールは、前記第２のパラメータを第２の基準値と比較するように構成される。
【００５９】
最も好ましくは、前記伝送モジュールは、前記第２のパラメータが前記第２の基準値よりも大きい場合に前記アラーム信号を発生するように構成される。
【００６０】
好ましくは、前記演算モジュールは、前記加工対象のタイヤの複数の円周方向位置で半径方向外層の厚さを決定することによって、前記半径方向外層の厚さを表す前記複数の値を決定するように構成される。
【００６１】
好ましくは、前記円周方向位置の少なくとも一部が、前記形成支持体の軸方向中心線平面に属する。
【００６２】
好ましくは、前記第１の放出構造が、前記軸方向中心線平面内に位置決めされた少なくとも１つの主放出器を含み、前記第１の受信構造が、前記軸方向中心線平面内に位置決めされた少なくとも１つの主センサを含む。
【００６３】
好ましくは、前記第１の放出構造が、一対の補助放出器を含み、各補助放出器が、それぞれ補助平面内に位置決めされる。
【００６４】
好ましくは、前記第１の受信構造が、一対の補助センサを含み、各補助センサが、それぞれ前記補助平面内に位置決めされる。
【００６５】
好ましくは、前記処理ユニットは、さらに、前記第１の反射放射の少なくとも６個の一次高調波成分を除去するように前記第１の反射放射をフィルタするためのフィルタリングモジュールを含む。
【００６６】
特に、前記フィルタリングモジュールは、前記第１の反射放射の少なくとも９個の一次高調波成分を除去する。
【００６７】
好ましくは、前記演算モジュールが、前記半径方向外層の厚さを表す前記１つまたは複数のパラメータを、前記形成支持体の形状の関数としても決定するように構成される。
【００６８】
特に、前記演算モジュールは、前記第１の放出構造および前記第１の受信構造と協働して、形成支持体の前記外側形状を検出するように構成される。
【００６９】
一実施形態では、前記演算モジュールは、前記第１の放射が送信された円周方向位置ごとに、前記加工対象のタイヤの半径方向外面からの第２の反射放射の関数としても前記１つまたは複数のパラメータを決定するように構成され、第２の反射放射は、前記加工対象のタイヤ上に向けて、前記第１の放射が送信された位置に対して円周方向で離隔された位置に送信される第２の放射から得られる。
【００７０】
また、好ましい一実施形態によれば、
−前記加工対象のタイヤ上に少なくとも前記第２の放射を送信するための第２の放出構造と、
−前記加工対象のタイヤの半径方向外面から少なくとも前記第２の反射放射を受信するための第２の受信構造と
が提供される。
【００７１】
さらなる特徴および利点は、非限定的な例として述べる本発明の好ましい実施形態の詳細な説明からより明らかになろう。
【００７２】
本明細書では以後、やはり非限定的な例として示す添付図面を参照して本発明の説明を行う。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明の方法が適用される加工対象のタイヤの模式的な斜視図である。
【図２】図１で見られる加工対象のタイヤの概略側面図である。
【図２ａ】図２で見られる詳細の拡大図である。
【図３ａ】図１の加工対象のタイヤで使用される半加工要素の相互位置決めの一状態の模式図である。
【図３ｂ】図１の加工対象のタイヤで使用される半加工要素の相互位置決めの別の状態の模式図である。
【図３ｃ】図１の加工対象のタイヤで使用される半加工要素の相互位置決めの別の状態の模式図である。
【図４】本発明による装置を表すブロック図である。
【図５】本発明の好ましい一実施形態に関係付けられるいくつかの要素の軸方向での模式図である。
【図６】本発明の一態様による装置を含むワークステーションのブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００７４】
図面を参照すると、加工対象のタイヤが、全体を参照番号１で表されている。
【００７５】
添付図面では、参照番号２が、加工対象のタイヤの形成支持体を表し、参照番号３が、加工対象のタイヤの構成要素を表す。
【００７６】
形成支持体２は、好ましくは、形成ドラムである。
【００７７】
形成支持体２は、タイヤを製造するために使用される技術に応じて、実質的に円筒形または円環形を有することがある。
【００７８】
構成要素３の少なくとも一部分が、形成支持体２に載置され、それにより、前述の定義による加工対象のタイヤ１を形成する。
【００７９】
好ましい一実施形態によれば、構成要素３は、例えば、タイヤの１つまたは複数のカーカスプライ、あるいは前記タイヤの１つまたは複数のベルトストリップを含む。
【００８０】
タイヤの構成要素３は、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５を画定する複数の半加工要素４によって少なくとも部分的に形成される。好ましくは、半加工要素４は、約５ｍｍ〜約５０ｍｍの間に含まれる断面サイズ、および約０．５ｍｍ〜約３ｍｍの間に含まれる厚さを有するストリップ状要素である。
【００８１】
本発明による方法は、始めに、加工対象のタイヤ１に第１の放射Ｒ１を送信するステップを含む。好ましくは、送信されるこの第１の放射Ｒ１は、レーザ放射である。
【００８２】
有利には、このレーザ放射の波長は、約４６０ｎｍ〜約３１００ｎｍの間に含まれることがあり、例えば約６５０ｎｍであることがある。
【００８３】
次いで、加工対象のタイヤ１の半径方向外面からまさしく反射された第１の反射放射Ｒ１’が受信される。
【００８４】
加工対象のタイヤ１の半径方向外面は、送信される第１の放射Ｒ１が、少なくとも１つの半加工要素が既に載置されている形成支持体の点に当たる場合には、前記半加工要素４によって形成された半径方向外層５からなり、送信される第１の放射Ｒ１が、半加工要素が載置されていない形成支持体の点に当たる場合には、形成支持体２の外面からなることがあることに留意されたい。
【００８５】
第１の反射放射Ｒ１’に応じて、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さを表す１つまたは複数のパラメータＰが決定される。有利には、反射放射Ｒ１’は、加工対象のタイヤ１の半径方向外面と、反射放射Ｒ１’自体の受信点との間の距離を表す。
【００８６】
実際には、使用される放出器および受信機の位置に関係付けられるすべてのパラメータ、ならびに送信される第１の放射Ｒ１と第１の反射放射Ｒ１’の伝播速度に関係付けられるパラメータが先験的に知られていると、放射が反射された加工対象のタイヤ１の半径方向外面の点と、反射放射Ｒ１が受信される点との間の距離を決定することができる。
【００８７】
この操作を複数回行うことによって、以下でより明瞭になるように、加工対象のタイヤ１の外側形状を決定することができる。
【００８８】
反射放射Ｒ１’を検出した後、好ましくは、形成支持体２の形状の起こり得る一様性の欠如の影響がなくされる、または少なくとも減少される。実際、形成支持体２の形状は、同一の長手方向軸の周りにその長手方向軸と平行に配設された複数（例えば８個または２４個）の実質的に矩形のセクションに近付けることによって得ることができる。この構造は、明らかに、正確に円筒形のプロファイルを画定せず、したがってパラメータＰの計算を不正確にする可能性がある。
【００８９】
この欠点を克服するために、有利には、反射放射Ｒ１’に対するフィルタリングが行われる。特に、まず、放射自体の高調波成分への分割が行われ（例えばＦＦＴ（高速フーリエ変換）による）、次いで、少なくとも６個の一次高調波成分が除去される。好ましくは、９個の一次高調波成分が除去され、特に、１２個の一次高調波成分を除去することができる。
【００９０】
追加または代替として、この問題を解決するために、形成支持体２の外側形状の起こり得る非理想性を直接考慮することができるように形成支持体２の外側形状の検出を行うことができる。好ましくは、この検出は、半加工要素４の配置を開始する前に行われる。
【００９１】
有利には、形成支持体２の外側形状の検出は、第１の放射Ｒ１を送信するため、ならびに第１の反射放射Ｒ１’を受信および処理するためのデバイスと同じデバイスを使用して行うことができる。これらのデバイスについては、以下でより詳細に説明する。
【００９２】
形成支持体２の形状の一様性の欠如による関与がなくされた（または減少された）後、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さを表す前記パラメータＰが決定される。
【００９３】
好ましくは、前記１つまたは複数のパラメータＰは、前記半加工要素４の相互重畳を表す少なくとも１つの第１のパラメータＰ１を含む。
【００９４】
図３ａは、適正に重畳した状態での２つの半加工要素４’および４’’を模式的に示す。対照的に、図３ｂは、半加工要素４’と４’’が過剰に重畳した状態を模式的に示す。
【００９５】
好ましくは、第１のパラメータＰ１は、以下のように決定される。まず、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さを表す複数の値Ｖ１が決定される。次いで、これらの値Ｖ１がそれぞれ第１のしきい値ＴＨ１と比較され、これらの値Ｖ１の何個が第１のしきい値ＴＨ１よりも大きいかが決定される。実際には、第１のしきい値ＴＨ１は、２つの半加工要素の半径方向での重畳によって成される厚さに対応する、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の所定の厚さを表すことができる。
【００９６】
第１のパラメータＰ１は、前記第１のしきい値ＴＨ１よりも高い連続した値Ｖ１の個数Ｎ１として計算することができる。好ましくは、前記１つまたは複数のパラメータＰは、半加工要素４の相互重畳の不足を表す第２のパラメータＰ２を含む。
【００９７】
図３ｃは、２つの半加工要素４’と４’’が重畳していない状態を模式的に示す。
【００９８】
好ましくは、第２のパラメータＰ２は、以下のように決定される。まず、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さを表す複数の値Ｖ２が決定される。
【００９９】
値Ｖ２は、第１のパラメータＰ１を参照して計算される値Ｖ１とは無関係に決定することができることに留意されたい。あるいは、値Ｖ２は、事前に計算された値Ｖ１自体からなっていてもよい。言い換えると、第２の仮定では、第１のパラメータＰ１の計算と第２のパラメータＰ２の計算のどちらにも同じ値Ｖ１が使用される。
【０１００】
次いで、これらの値Ｖ２が第２のしきい値ＴＨ２と比較され、これらの値Ｖ２の何個が第２のしきい値ＴＨ２よりも小さいかが決定される。実際には、第２のしきい値ＴＨ２は、半加工要素が載置されていない加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の最小厚さを表すことができる。
【０１０１】
次いで、第２のパラメータＰ２を、第２のしきい値ＴＨ２よりも小さい連続した値Ｖ２の個数Ｎ２として計算することができる。
【０１０２】
上述したように、第１のパラメータＰ１の計算と第２のパラメータＰ２の計算のどちらでも、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さを表す複数の値Ｖ１、Ｖ２が決定される。
【０１０３】
これらの値は、好ましくは、加工対象のタイヤ１の複数の円周方向位置ＣＰで半径方向外層５の厚さを計算することによって決定される。
【０１０４】
値Ｖ１、Ｖ２が、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さを直接的に示すことができることを指摘することができ、この厚さは、形成支持体２の位置、場合によってはさらに形状、ならびに加工対象のタイヤ１の半径方向外面と反射放射Ｒ１’の受信点との間の距離が先験的に知られていることを考慮して、差によって計算される。
【０１０５】
いずれにせよ、値Ｖ１、Ｖ２は、直接的には加工対象のタイヤ１の半径方向外面と反射放射Ｒ１’の受信点との間の距離を示す場合でさえ、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さを表すことができる。実際、この距離は、実質的に一定のパラメータ、またはいかなる場合にも先験的に知られているパラメータによって、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さに関連付けられる。
【０１０６】
好ましくは、第１のパラメータＰ１および／または第２のパラメータＰ２を計算する際、「連続した」値Ｖ１、Ｖ２は、図２および図２ａに模式的に示される円周方向位置ＣＰ１、ＣＰ２、およびＣＰ３など、連続または隣接する円周方向位置ＣＶで決定される加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さの値である。前記１つまたは複数のパラメータＰが計算された後、それらは対応するしきい値と比較され、この比較の結果によってはアラーム信号Ｓを発生することができる。
【０１０７】
アラーム信号Ｓは、例えば、タイヤ製造中の問題の発生に操作者の注意を向けることを目的とした、音響および／または視覚タイプの信号伝達を発生することができる。
【０１０８】
追加または代替として、アラーム信号Ｓは、加工対象のタイヤ１の製造プロセスを中断させることができ、前記加工対象のタイヤ１の取外し、または発生した問題の解決を可能にする。
【０１０９】
より詳細には、アラーム信号Ｓは、第１のパラメータＰ１が第１の基準値ＲＥＦ１よりも大きい場合に発生させることができる。
【０１１０】
好ましくは、第１のパラメータＰ１に関する第１の基準値ＲＥＦ１は、形成支持体２の円周方向延在に沿って測定した半加工要素４の長さの少なくとも１／３、特に少なくとも１／２の長さを表す。
【０１１１】
好ましくは、第１の基準値ＲＥＦ１は、サンプルの最大許容数、すなわち、値Ｖ１が計算される加工対象のタイヤ１の同一軸方向平面に属する円周方向位置ＣＰの数の最大許容数を示すことができ、値Ｖ１は、２つの半加工要素４の重畳領域において最大に検出することができる。例として、図３ａに、半加工要素４’と４’’の重畳領域Ｚ１が示される。
【０１１２】
実際には、円周方向位置ＣＰが等間隔で離隔されているとき、第１のパラメータＰ１は、重畳領域で検出されるサンプルの数として識別可能な測定単位で表現して、２つの半加工要素４の重畳領域の円周方向延在を示す。
【０１１３】
それに対応して、第１の基準値ＲＥＦ１は、重畳領域自体で検出されるサンプルの最大許容数に関して表現して、重畳領域の最大の円周方向延在を示す。
【０１１４】
数値で表現すると、第１の基準値ＲＥＦ１は、形成支持体２の円周方向延在に沿って測定した半加工要素４の長さの少なくとも１／３、特に少なくとも１／２に等しい重畳領域内で検出することができるサンプルの数に等しい。このように第１の基準値ＲＥＦ１を選択することによって、検出された放射の強度の短い予期しないピークなどの擾乱が、実施する処理操作に干渉して処理操作の結果を変えるおそれがあるような状況を避けることができる。
【０１１５】
単に一表記として、以下の数値の例を考えることができる。言及する値は、必ずしも本発明の実際の実施によって確認されているわけではないことを念頭に置かれたい。
【０１１６】
ただ１つの半加工要素４の円周方向に沿って、１２回の検出操作を、１箇所につき１回、１２箇所の円周方向位置ＣＰで行うことができる（すなわち、１２個の値Ｖ１を決定することができる）と仮定することができる。図２ａには、３つの円周方向位置ＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３のみが模式的に示されている。ＲＦ１値は、半加工要素の幅の１／３に対応する場合には、４である。そうではなく、ＲＦ１値は、半加工要素の幅の１／２に対応する場合には、６である。
【０１１７】
ＲＥＦ１が６に固定されると仮定する。しきい値ＴＨ１よりも高い、連続した値Ｖ１の数が６より多い場合（すなわち、それらが、対象の半加工要素と隣接する半加工要素との重畳を表す場合）、２つの半加工要素の重畳領域の円周方向での広がりが過剰であるので、アラーム信号Ｓが発生される。
【０１１８】
逆に、ＴＨ１よりも高い値Ｖ１の数が６以下である場合、アラーム信号は発生されない。
【０１１９】
２つの状況をより良く見るために、図３ｂおよび図３ａを参照することができる。図３ｂでは、ＴＨ１よりも高い値Ｖ１が約９または１０存在し（アラーム信号Ｓが発生される状況）、一方、図３ａでは、ＴＨ１よりも高い値Ｖ１が約３または４存在する（アラーム信号Ｓが発生されない状況）。
【０１２０】
また、アラーム信号Ｓは、第２のパラメータＰ２が第２の基準値ＲＥＦ２よりも大きいときに発生させることもできる。
【０１２１】
好ましくは、第２のパラメータＰ２に関する第２の基準値ＲＥＦ２は、形成支持体２の円周方向延在に沿って測定した半加工要素４の長さの少なくとも１／３、特に少なくとも１／２に等しい長さを表す。
【０１２２】
好ましくは、第２の基準値ＲＥＦ２は、サンプルの最大許容数、すなわち、値Ｖ２が計算される加工対象のタイヤ１の同一軸方向平面に属する円周方向位置ＣＰの数の最大許容数を示すことができ、値Ｖ２は、半加工要素４が載置されていない領域Ｚ２において最大に検出することができる。例として、図３ｃでは、半加工要素４’と４’’の間に「空いた」領域Ｚ２が示されている。実際には、円周方向位置ＣＰが実質的に等間隔で離隔されているとき、第２のパラメータＰ２は、空いた領域で検出されるサンプルの数として識別可能な測定単位で表現して、２つの半加工要素４の間の空いた領域の円周方向延在を示す。
【０１２３】
それに対応して、第２の基準値ＲＥＦ２は、空いた領域自体で検出されるサンプルの最大許容数に関して表現して、空いた領域の最大の円周方向延在を示す。
【０１２４】
数値で表現すると、第２の基準値ＲＥＦ２は、形成支持体２の円周方向延在に沿って測定した半加工要素４の長さの少なくとも１／３、特に少なくとも１／２に等しい空いた領域内で検出することができるサンプルの数に等しい。
【０１２５】
このように第２の基準値ＲＥＦ２を選択することによって、検出された放射の強度の短い予期しないピークなどの擾乱が、実施する処理操作に干渉して処理操作の結果を変えるおそれがあるような状況を避けることができる。
【０１２６】
上述したように、値Ｖ１、Ｖ２は、好ましくは、加工対象のタイヤ１の複数の円周方向位置ＣＰで前記加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さを計算することによって決定される。
【０１２７】
好ましくは、円周方向位置ＣＰの少なくとも一部が、形成支持体の軸方向中心線平面Ｘ１に属する（図１および図２）。
【０１２８】
好ましくは、送信される第１の放射Ｒ１は、加工対象のタイヤ１の前述の円周方向位置ＣＰに時間的に連続して向けられる少なくとも１つの主放射ビームＦ１を含む。
【０１２９】
第１の反射放射Ｒ１’は、好ましくは、少なくとも１つの対応するビームＦ１’を含む。好ましい実施形態では、円周方向位置ＣＰの一部は、前述の軸方向中心線平面Ｘ１に実質的に平行な一対の補助平面Ｘ２、Ｘ３に属する。特に、各補助平面Ｘ２、Ｘ３は、形成支持体２の軸方向中心線平面Ｘ１と各軸方向端部２ａ、２ｂとの間にそれぞれ含まれる。
【０１３０】
好ましくは、補助平面Ｘ２とＸ３は、軸方向中心線平面Ｘ１に対して実質的に対称的な位置にある。
【０１３１】
有利には、送信される第１の放射Ｒ１は、さらに、前記補助平面Ｘ２、Ｘ３に属する位置に時間的に連続して向けられる一対の補助放射ビームＦ２、Ｆ３を含む。
【０１３２】
したがって、第１の反射放射Ｒ１’は、図２に模式的に示される対応する補助ビームＦ２’、Ｆ３’を含む。
【０１３３】
好ましい一実施形態では、送信される第１の放射Ｒ１に加えて、第２の放射Ｒ２が、加工対象のタイヤ１に向けて放出される（図５）。
【０１３４】
特に、第１の放射Ｒ１が送信された円周方向位置ＣＰごとに、第１の放射Ｒ１が送信された位置ＣＰに対して円周方向で離隔された位置に第２の放射Ｒ２が送信される。
【０１３５】
次いで、加工対象のタイヤ１の半径方向外面から反射される対応する第２の反射放射Ｒ２’が受信される。このようにして、パラメータＰは、第２の反射放射Ｒ２’の関数としても決定することができる。
【０１３６】
より詳細には、第２の放射Ｒ２および第２の反射放射Ｒ２’は、それぞれ第１の放射Ｒ１および第１の反射放射Ｒ１’と同様の構造を有することができる。
【０１３７】
第２の放射Ｒ２は、軸方向中心線平面Ｘ１に属する（加工対象のタイヤ１の）円周方向位置ＣＰ’に向けられる少なくとも１つの主ビームＢ１を含むことができる。第２の反射放射Ｒ２’は、対応するビームＢ１’を含む。有利には、ビームＢ１、Ｂ１’は、軸方向中心線平面Ｘ１内に位置することができる。
【０１３８】
第２の放射Ｒ２は、さらに、前記補助平面Ｘ２、Ｘ３に属する円周方向位置に向けられる一対の補助ビームＢ２、Ｂ３を含むことがある。したがって、第２の反射放射Ｒ２’は、対応するビームＢ２’、Ｂ３’を含む。有利には、ビームＢ２、Ｂ２’は平面Ｘ２に属し、ビームＢ３、Ｂ３’は平面Ｘ３に属する。
【０１３９】
好ましい一実施形態では、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の半径方向厚さを表すパラメータを検出した後、統計（例えば平均および分散）パラメータを計算するステップが実施され、これらのパラメータは、アラーム信号Ｓの発生を決定するために考慮することができる。
【０１４０】
特に、計算された平均および分散に鑑みて、加工対象のタイヤ１を表すパラメータが、事前設定された設計データから離れすぎているときに、アラーム信号Ｓを発生することができる。
【０１４１】
好ましい一実施形態では、アラーム信号Ｓはまた、アラーム信号Ｓ自体の発生を引き起こしている異常（半加工要素の間の過剰な重畳または過剰な距離）が検出されている角度位置を識別するデータを組み込むこともできる。これらのデータは、例えば、反射放射において過剰な数の正のピークが検出された（ＴＨ１よりも高い値Ｖ１が多すぎる）角度位置を識別するパラメータ、または過剰な数の負のピークが検出された（ＴＨ２よりも小さい値Ｖ２が多すぎる）角度位置を識別するパラメータを含むことがある。
【０１４２】
上述したように、本発明は、タイヤ製造のための半加工要素の配置を制御するための装置にも言及する。
【０１４３】
参照番号１００で示されるこの装置は、図１に模式的に示され、図４にブロック図によって示される。
【０１４４】
装置１００は、まず、加工対象のタイヤ１に第１の放射Ｒ１を送信するための第１の放出構造１１０を含む。好ましくは、第１の放出構造１１０は、前記軸方向中心線平面Ｘ１上に位置決めされた少なくとも１つの主放出器１１１を含む。
【０１４５】
主放出器１１１は、有利には、軸方向中心線平面Ｘ１内に位置する円周方向位置ＣＰに向けられる主放射ビームＦ１を発生する。実際には、主放出器１１１は、ビームＦ１を適切に向けるために、軸方向中心線平面Ｘ１内に実質的に位置決めすることができる。ビームＦ１は、有利には、軸方向中心線平面Ｘ１内に位置する。
【０１４６】
好ましい一実施形態では、第１の放出構造１１０は、さらに、一対の補助放出器１１２、１１３を含み、各補助放出器１１２、１１３が、それぞれ前記補助平面Ｘ２、Ｘ３に位置決めされる。有利には、補助放出器１１２、１１３は、それぞれ補助ビームＦ２’、Ｆ３’を発生する。
【０１４７】
装置１００は、さらに、第１の反射放射Ｒ１’を受信するための第１の受信構造１２０を含む。好ましくは、第１の受信構造１２０は、少なくとも１つの主センサ１２１を含む。特に、主センサ１２１は、放射ビームＦ１’を受信するために、軸方向中心線平面Ｘ１内に位置決めすることができる。有利には、ビームＦ１’は、軸方向中心線平面Ｘ１内に位置する。
【０１４８】
好ましい一実施形態では、第１の受信構造１２０は、さらに、一対の補助センサ１２２、１２３を含み、各補助センサ１２２、１２３が、それぞれ前記補助平面Ｘ２、Ｘ３に位置決めされる。このようにすると、補助センサ１２２、１２３は、それぞれ補助ビームＦ２、Ｆ３を受信することができる。
【０１４９】
装置１００は、さらに処理ユニット１３０を含み、処理ユニット１３０は、受信された放射に応じて、前記アラーム信号Ｓの発生を行う。特に、処理ユニット１３０は、反射放射の関数として前記パラメータＰを決定するように構成された演算モジュール１３１を含む。特に、演算モジュール１３１は、第１のパラメータＰ１および／または第２のパラメータＰ２を計算するために提供されることができる。
【０１５０】
第１のパラメータＰ１を決定するために、演算モジュール１３１は、反射放射Ｒ１’の関数として値Ｖ１を決定し、これらの値Ｖ１を第１のしきい値ＴＨ１と比較して、値Ｖ１の何個がＴＨ１よりも高いかを決定し、したがって第１のパラメータＰ１を定義する。
【０１５１】
次いで、比較モジュール１３２が、第１のパラメータＰ１を第１の基準値ＲＥＦ１と比較する。第１のパラメータＰ１が第１の基準値ＲＥＦ１よりも大きいとき、伝送モジュール１３３が作動され、前記アラーム信号Ｓを発生する。
【０１５２】
上記のことに鑑みて、伝送モジュール１３３は、２つの半加工要素４の間で過剰に重畳した状態が生じる（第１のパラメータＰ２が第１の基準値ＲＥＦ１よりも高い）ときに、アラーム信号Ｓを発生することができる。
【０１５３】
有利には、演算モジュール１３１は、第２のパラメータＰ２を決定するように構成することもできる。この目的で、演算モジュール１３１は、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さを表す複数の値Ｖ２を計算する。
【０１５４】
上述したように、値Ｖ２は、既に計算された値Ｖ１と同一でよく、または少なくとも反射放射Ｒ１から別個に決定することができる。
【０１５５】
演算モジュール１３３は、値Ｖ２を第２のしきい値ＴＨ２と比較し、これらの値Ｖ２の何個が第２のしきい値ＴＨ２よりも小さいかが決定される。このようにして、第２のパラメータＰ２が決定される。
【０１５６】
次いで、比較モジュール１３２が、第２のパラメータＰ２を第２の基準値ＲＥＦ２と比較する。第２のパラメータＰ２が第２の基準値ＲＥＦ２よりも大きいとき、伝送モジュール１３３が作動され、前記アラーム信号Ｓが発生される。
【０１５７】
上記のことに鑑みて、伝送モジュール１３３は、２つの半加工要素４の間で過剰な相互間隔が生じる（第２のパラメータＰ２が第２の基準値ＲＥＦ２よりも大きい）ときにアラーム信号Ｓを発生することができる。
【０１５８】
有利には、演算モジュール１３１は、加工対象のタイヤ１の上述した円周方向位置ＣＰで、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の厚さを決定することによって、値Ｖ１、Ｖ２を決定するように構成される。
【０１５９】
好ましい実施形態では、処理ユニット１３０は、さらに、前記第１の反射放射Ｒ１’の少なくとも６個の一次高調波成分を除去するように第１の反射放射Ｒ１’をフィルタするためのフィルタリングモジュール１３４を含む。
【０１６０】
特に、フィルタリングモジュール１３４は、第１の反射放射Ｒ１’の９個の一次高調波成分を除去することができ、より特定的には、第１の反射放射Ｒ１’の１２個の一次高調波成分を除去することができる。
【０１６１】
上述したように、このフィルタリング操作は、形成支持体２の形状による非理想性の関与をなくす、または少なくとも減少させることを可能にする。
【０１６２】
フィルタリング操作に加えて、またはその代替として、演算モジュール１３１は、形成支持体２の形状の関数としてもパラメータＶ１、Ｖ２を決定するように構成される。
【０１６３】
この目的で、演算モジュール１３１は、第１の放出構造１１０および第１の受信構造１２０と協働して、半加工要素４の配置前に形成支持体２の外側形状を検出するように構成することができる。このようにすると、値Ｖ１、Ｖ２を決定する際、形成支持体２の形状を直接考慮することができ、値Ｖ１、Ｖ２は、加工対象のタイヤ１の半径方向外層５の（半径方向での）厚さを高信頼性で表すことができる。
【０１６４】
好ましい一実施形態では、演算モジュール１３１は、加工対象のタイヤ１の半径方向外面から反射される第２の放射Ｒ２’の関数としてもパラメータＰを決定するように構成される。
【０１６５】
第２の反射放射Ｒ２’は、加工対象のタイヤ１上に向けて、第１の放射Ｒ１が送信された位置から離隔された円周方向位置に送信された第２の放射Ｒ２から得られる。有利には、この操作は、第１の放射Ｒ１が送信された円周方向位置ＣＰごとに行われる。
【０１６６】
この目的で、装置１００は、加工対象のタイヤ１上に少なくとも第２の放射２を送信するための第２の放出構造１４０と、少なくとも第２の反射放射Ｒ２’を受信するための第２の受信構造１５０とを含む。
【０１６７】
実際には、図５に模式的に示されるように、第１の放出構造１１０が円周方向位置ＣＰに第１の放射Ｒ１を送信する一方で、第２の放出構造１４０によって第２の放射Ｒ２を円周方向位置ＣＰ’に送信することができる。このようにして、処理ユニット１３０は、第１の反射放射Ｒ１’および第２の反射放射Ｒ２’の関数として、加工対象のタイヤの外側形状を決定することができる。
【０１６８】
有利には、第２の放出構造１４０は、好ましくは軸方向中心線平面Ｘ１に位置決めされた主放出器１４１を含むことができる。主放出器１４１は、第２の放射Ｒ２に属する主ビームＢ１を発生することができる。好ましくは、主ビームＢ１は、軸方向中心線平面Ｘ１内に位置する加工対象のタイヤ１の円周方向位置ＣＰ’に向けられる。
【０１６９】
それに対応して、第２の受信構造１５０は、好ましくは軸方向中心線平面Ｘ１に位置決めされた主センサ１５１を含むことができる。主センサ１５１は、第２の反射放射Ｒ２’、特に、加工対象のタイヤ１の半径方向外面上でのビームＢ１の反射によって生成された放射ビームＢ１’を受信するために提供される。
【０１７０】
好ましくは、第２の放出構造１４０は、さらに、第２の放射Ｒ２に属するそれぞれの放射ビームＢ２、Ｂ３を発生するように適合された一対の補助放出器１４２、１４３を含む。
【０１７１】
放射ビームＢ２、Ｂ３は、前記補助平面Ｘ２、Ｘ３上に位置する加工対象のタイヤ１の半径方向外面の円周方向位置ＣＰ’に当たる。
【０１７２】
それに対応して、第２の受信構造１５０は、加工対象のタイヤ１の半径方向外面上でのビームＢ２、Ｂ３の反射によって生成される放射ビームＢ２’、Ｂ３’を受信するように適合された一対の補助センサ１５２、１５３を含むことができる。
【０１７３】
処理ユニット１３０は、第２の受信構造１５０から受信される反射放射Ｒ２’の関数としても、パラメータＰ、特に第１および第２のパラメータＰ１、Ｐ２を決定するために使用される値Ｖ１、Ｖ２を計算することができる。
【０１７４】
図１に模式的に示されるように、装置１００は、有利には、タイヤ製造用の半加工要素の配置のために、ワークステーション２００内で使用することができる。
【０１７５】
ワークステーション２００（図６）は、前記加工対象のタイヤ１を形成するために、形成支持体２と、形成支持体２上に半加工要素４を載置するための１つまたは複数の部材１９０とを含む。
【０１７６】
この趣旨で、装置１００は、半加工要素４の配置を制御するため、特に、隣接し合う半加工要素の間の起こり得る過剰な重畳および／または起こり得る過剰な離隔を検出するために使用される。
【０１７７】
一実施形態では、加工対象のタイヤ１への放射（または放射ビーム）の送信、対応する反射放射の受信、および配置の制御のための反射放射の処理を、半加工要素４の配置中に行うことができ、それにより実質的にリアルタイムで制御技法を行う。
【０１７８】
別の一実施形態では、加工対象のタイヤ１への放射の送信、対応する反射放射の受信、および配置制御のための反射放射の処理は、半加工要素４の配置の最後に行うことができ、その後、加工対象のタイヤ１に構築プロセスの後続の操作を施す。
【０１７９】
タイヤの製造中、形成支持体２は、それ自体の長手方向回転軸Ａの周りで回転することができることに留意すべきである。また、有利には、この運動は、パラメータＰの決定および場合によっては後続のアラーム信号Ｓの発生のために採用される放射Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ２’を放出および受信するための操作の実施中に使用することもできる。実際には、放出構造１１０、１４０および受信構造１２０、１５０が実質的に静止している（すなわち床と実質的に一体である）とき、加工対象のタイヤ１の異なる円周方向位置への放射ビームの送信は、有利には、長手方向回転軸Ａの周りでの加工対象のタイヤ１の前記回転によって実現される。
【図１】
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【図２−２ａ】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図３ｃ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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