(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する第１基板および第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に挟持された液晶と、
前記第１基板と前記第２基板との間において前記液晶を囲む閉じたパターンで形成され、前記液晶を封止するシール材と、
前記シール材に接するように配設され、前記シール材の形成領域における前記第１基板と第２基板との間隔を所定の距離に保持する第１フォトスペーサと、
前記シール材で囲まれた領域内に散在し、前記シール材で囲まれた領域における前記第１基板と第２基板との間隔を前記所定の距離に保持する第２フォトスペーサとを備え、
前記第１フォトスペーサは、前記シール材の内側に沿う閉じたパターンで形成された壁面状スペーサであり、
前記第１フォトスペーサの形成位置と前記第２フォトスペーサの形成位置とで、前記第１および第２基板に垂直方向の断面における前記第１基板と前記第２基板との間の色材層および遮光層を含む積層構造が同じである
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
互いに対向する第１基板および第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に挟持された液晶と、
前記第１基板と前記第２基板との間において前記液晶を囲む閉じたパターンで形成され、前記液晶を封止するシール材と、
前記シール材に接するように配設され、前記シール材の形成領域における前記第１基板と第２基板との間隔を所定の距離に保持する第１フォトスペーサと、
前記シール材で囲まれた領域内に散在し、前記シール材で囲まれた領域における前記第１基板と第２基板との間隔を前記所定の距離に保持する第２フォトスペーサとを備え、
前記第１フォトスペーサの形成位置と前記第２フォトスペーサの形成位置とで、前記第１および第２基板に垂直方向の断面における前記第１基板と前記第２基板との間の色材層および遮光層を含む積層構造が同じである
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に、基板間に液晶を注入する方式として滴下注入方式が用いられる液晶表示パネルの構造並びに製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルの製造において、液晶表示パネルを構成する２枚の基板間に液晶を注入する方式としては、真空注入方式と滴下注入（ＯＤＦ：One Drop Filling）方式のいずれかを用いるのが一般的である。
【０００３】
滴下注入方式では、一方の基板の外周部にシール材を塗布してその内側の領域に液晶を滴下し、それを真空中でもう一方の基板と貼り合わせて、液晶表示パネルが組み立てられる。組み立てられた液晶表示パネルはその後大気中に開放されるが、このときパネルの表面に加わる大気圧によって基板間のシール材が潰れすぎると、パネルの外周部の基板間の間隔（基板間ギャップ）が他の部分よりも小さくなり、表示不良の原因となる。特にシール材が未硬化状態であると、液晶が必要以上の範囲にまで拡がってシール材へ侵入する「シール差し込み」が発生し問題となる。
【０００４】
基板間ギャップが不均一になることで引き起こされる液晶表示パネルの表示不良は、ＩＰＳ（In-Place-Switching）方式やＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式など、横向き（基板に平行な向き）の成分を含む電界を用いて液晶を駆動する、横電界方式のもので顕著に発生する傾向がある。
【０００５】
例えば下記の特許文献１には、基板間ギャップの不均一化およびシール差し込みの問題を解決するための液晶表示パネルが開示されている。特許文献１では、横電界方式の液晶表示パネルにおいて、シール材の形成領域と液晶を滴下する表示領域との間に、表示領域を囲む土手状の突起を設けている。この土手状突起は、液晶表示パネルの外周部における基板間ギャップを保持するスペーサとしても働く。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−８３５２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１の液晶表示パネルでは、液晶滴下後の基板貼り合わせ時に、土手状突起が、パネル外周部の基板間ギャップを保持する。しかし土手状突起はシール材の形成領域よりも内側に、シール材から離れて配設されるため、シール潰れの問題を完全に解決することは困難である。
【０００８】
また土手状突起は、硬化済みの樹脂のように殆ど変形しない部材であるため、基板との間に隙間ができやすく、液晶を封止する能力は弱い。例えば、液晶の滴下量が土手状突起で囲まれた領域に納まる程度であれば、液晶がその領域から土手状突起の外側の領域（土手状突起とシール材との間の領域）へと流れ込み、それに応じて土手状突起で囲まれた領域内に液晶の存在しない気泡（真空泡）が発生する。
【０００９】
また、液晶の滴下量が土手状突起で囲まれた領域から溢れる程度であった場合も、土手状突起とシール材との間の領域に液晶が流れ込む。上記のように、土手状突起はシール材から離れた位置にありシール潰れは完全には解決されないため、土手状突起の外側の領域へ流れ込んだ液晶によりシール差し込みが発生する恐れがある。
【００１０】
このように特許文献１の液晶表示パネルの構成では、パネル外周部におけるシール潰れによる基板間ギャップの不均一化の問題と、滴下注入方式により液晶を注入する際のシール差し込みの問題を同時に防止することは困難である上、気泡の発生など別の問題が発生する可能性がある。
【００１１】
本発明は以上のような課題を解決するためになされたものであり、滴下注入方式を用いて製造される液晶表示パネルにおいて、基板間ギャップの均一化およびシール差し込みの防止を図ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係る液晶表示パネルは、互いに対向する第１基板および第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟持された液晶と、前記第１基板と前記第２基板との間において前記液晶を囲む閉じたパターンで形成され、前記液晶を封止するシール材と、前記シール材に接するように配設され、前記シール材の形成領域における前記第１基板と第２基板との間隔を所定の距離に保持する第１フォトスペーサと、前記シール材で囲まれた領域内に散在し、前記シール材で囲まれた領域における前記第１基板と第２基板との間隔を前記所定の距離に保持する第２フォトスペーサとを備え、前記第１フォトスペーサは、前記シール材の内側に沿う閉じたパターンで形成された壁面状スペーサであり、前記第１フォトスペーサの形成位置と前記第２フォトスペーサの形成位置とで、前記第１および第２基板に垂直方向の断面における前記第１基板と前記第２基板との間の色材層および遮光層を含む積層構造が同じである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の液晶表示パネルは、第１フォトスペーサがシール材に接するように配設されているため、滴下注入方式を用いて製造した際におけるシール材の潰れを防止できる。よってパネルの外周部で基板間ギャップが不均一になることを防止できる。またパネルの外周部における基板間ギャップが一定に保持されるため、液晶の過剰な広がりを防止でき、シール差し込みの発生も抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施の形態１に係る液晶表示パネルの全体構成を示す平面図である。
【図２】実施の形態１に係る液晶表示パネルの外周部の構造を示す断面図である。
【図３】実施の形態１に係る液晶表示パネルの外周部の構造の変更例を示す断面図である。
【図４】実施の形態２に係る液晶表示パネルの全体構成を示す平面図である。
【図５】実施の形態２に係る液晶表示パネルの外周部の構造を示す断面図である。
【図６】実施の形態３に係る液晶表示パネルの全体構成を示す平面図である。
【図７】実施の形態３に係る液晶表示パネルの外周部の構造を示す断面図である。
【図８】実施の形態３に係る液晶表示パネルの壁面状部材の作用を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
＜実施の形態１＞
図１および図２に、本発明の実施の形態１に液晶表示パネル１００の構成を示す。図１は、液晶表示パネル１００の全体構成を概略的に示す平面図であり、図２はその外周部の構造を示す断面図である。
【００１６】
液晶表示パネル１００は、電極基板１０および対向基板２０が互いに対向して配置され、その間に液晶４１が挟持された構成を有している。電極基板１０には、各画素のＴＦＴ（Thin Film Transistor）や画素電極、各ＴＦＴに信号を供給するためのゲート線およびソース線、外部の制御基板を接続するための端子電極などが配設される。対向基板２０には、カラーフィルタを構成する色材層や、ブラックマトリクスを構成する遮光層などが配設される。
【００１７】
通常、液晶表示パネルは、各画素電極との間で液晶を駆動する電界を発生する共通電極を有している。一般的なＴＮ（Twisted Nematic）方式のパネルや垂直配向（ＶＡ：Vertical Alignment）方式のパネルでは、共通電極は対向基板２０側に配設されるが、ＩＰＳ方式やＦＦＳ方式などの横電界方式のパネルの場合、共通電極は電極基板１０側に配設される。電極基板１０の構成は本発明との関連が薄いためその説明は省略するが、図１ではＦＦＳ方式を想定した構成を簡略的に示している。本発明はこれらのどの方式の液晶表示パネルにも適用可能であるが、表示品質が基板間ギャップの影響を受け易い横電界方式のものでより顕著な効果を得ることができる。
【００１８】
また図１では、液晶表示パネル１００のゲート線（駆動信号線）に繋がる端子電極１１、およびソース線（画像信号線）に繋がる端子電極１２に、それぞれ制御基板５１，５２がＦＦＣ（Flexible Flat Cable）５３，５４を介してが接続された構成を示しているが、液晶表示パネル１００の外部に接続されるデバイスの構成は任意でよく、図１の構成に限定されるものではない。
【００１９】
電極基板１０と対向基板２０の間に挟持される液晶４１は、液晶表示パネル１００の外周部、すなわち表示領域４０を囲む領域に形成されたシール材３０によって封止される。本実施の形態の液晶表示パネル１００は、滴下注入方式を用いて製造されるため、シール材３０は平面視で表示領域４０を囲む閉じたパターンで形成される（真空注入方式の場合は液晶注入口が必要なため閉じたパターンとはならない）。
【００２０】
本実施の形態の液晶表示パネル１００において、電極基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）は、表示領域４０に配設された柱状スペーサ３１と、シール材３０の塗布領域に配設された柱状スペーサ３２とによって保持される。柱状スペーサ３１は、表示領域４０内にシール材３０から離間して散在しており、柱状スペーサ３２は、シール材３０の塗布領域のパターンに沿って複数個形成されている。
【００２１】
これら柱状スペーサ３１，３２は、電極基板１０または対向基板２０上の所定の位置に、フォトリソグラフィ技術を用いて形成したいわゆる「フォトスペーサ」である。柱状スペーサ３１，３２は、電極基板１０および対向基板２０のどちら側に形成してもよいが、以下では対向基板２０側に形成されるものとして説明する。
【００２２】
図２を参照して柱状スペーサ３１，３２の詳細を説明する。なお、図２では電極基板１０上に形成されるＴＦＴや画素電極などの図示は省略している。
【００２３】
柱状スペーサ３１は、対向基板２０における表示領域４０の全体に所定の間隔で配置される。対向基板２０の形成位置は任意でよいが、通常は表示品質に影響しないようにブラックマトリクスの遮光層２２と重なる位置に形成される。一方、柱状スペーサ３２は、対向基板２０の外周部におけるシール材３０の塗布領域に配設される。よって柱状スペーサ３２は、塗布されたシール材３０と接することになる。図２では柱状スペーサ３２が完全にシール材３０の内部に配設されているが、柱状スペーサ３２の側面の一部がシール材３０から露出してもよい。
【００２４】
柱状スペーサ３１は、表示領域４０における基板間ギャップを所望の大きさ（距離）に保持するように機能し、柱状スペーサ３２はシール材３０の塗布領域（液晶表示パネル１００の外周部）における基板間ギャップを所望の大きさに保持するように機能する。
【００２５】
柱状スペーサ３２および柱状スペーサ３１は、一般的なフォトスペーサの材料である硬化済みの感光性樹脂材などで構成され、電極基板１０と対向基板２０との貼り合わせ時に殆ど変形（高さ変動）を伴わないものである。これにより基板間ギャップが一定に保持される。
【００２６】
液晶表示パネル１００においては、表示領域４０における基板間ギャップとシール材３０の塗布領域における基板間ギャップは等しくいことが望ましい。例えば図２のように、柱状スペーサ３１が、対向基板２０における色材層２１と遮光層２２とが重ねて形成された部分に配設され、柱状スペーサ３２が、対向基板２０における遮光層２２のみが形成された部分に配設され、且つ、電極基板１０の上面がフラットであるとする。この場合、柱状スペーサ３２の高さを、色材層２１の厚み分だけ柱状スペーサ３１よりも大きくすれば、表示領域４０とシール材３０の塗布領域とで、基板間ギャップが等しくなる。
【００２７】
柱状スペーサ３１および柱状スペーサ３２の形成手法は、従来のフォトスペーサと同じく、公知のフォトリソグラフィ技術を用いる手法でよい。特に、図３のように柱状スペーサ３２の形成位置にも色材層２１を形成して、柱状スペーサ３１の形成位置における縦方向（電極基板１０および対向基板２０に垂直な方向）の断面構造（縦構造）を、柱状スペーサ３２の形成位置の縦構造とを同じにすれば、柱状スペーサ３１，３２の高さは同じでよいため、それらを同一の工程で形成可能となり、製造コストの低減につながる。
【００２８】
図３の場合、柱状スペーサ３１の形成領域に配置する色材層２１は、シール材３０の塗布領域を横切らないように配設すべきであり、柱状スペーサ３１に対応する部分に局所的に形成することが好ましい。カラーレジストなど樹脂製の色材層２１がシール材３０の塗布領域を横切るように形成されると、シール材３０の対向基板２０への接着強度が落ちる上、色材層２１はシール材３０よりも水分が浸透しやすいため、シール材３０で囲まれた領域内（表示領域４０）に水分が浸入する恐れが生じるからである。
【００２９】
なお、図１や図３では遮光層２２がシール材３０の塗布領域を横切っているが、遮光層２２が金属等で形成されていれば、上記の問題は生じない。ただし、遮光層２２を黒い色材層（樹脂）で構成する場合には、遮光層２２もシール材３０の塗布領域を避けて配設することが好ましい。
【００３０】
また電極基板１０および対向基板２０それぞれの製造方法は、柱状スペーサ３１のレイアウトを除いて、従来の電極基板および対向基板の形成手法と同じでよい。但し、本実施の形態では、電極基板１０と対向基板２０との間への液晶の注入は、滴下注入方式によって行われる。
【００３１】
すなわち本実施の形態では液晶表示パネル１００を組み立てる際、まず電極基板１０または対向基板２０の外周部に、平面視で表示領域４０を囲む閉じたパターンでシール材３０を塗布する。そしてシール材３０で囲まれた領域内に液滴状の液晶を多数滴下した後、真空中で電極基板１０と対向基板２０とを貼り合わせる。その後、組み立てられた液晶表示パネル１００を大気中に開放する。
【００３２】
このとき液晶表示パネル１００の表面に外部から大気圧が印加される。本実施の形態の液晶表示パネル１００では、表示領域４０の全体に柱状スペーサ３１が散在しており、且つ、シール材３０の塗布領域に沿って柱状スペーサ３２が複数配設されているので、表示領域４０だけでなく液晶表示パネル１００の外周部においても基板間ギャップが均一に維持される。
【００３３】
特に、柱状スペーサ３２がシール材３０の塗布領域内に配設されていることにより、シール材３０の潰れの発生を確実に防止できる。またこれにより液晶４１が過剰に拡がることが抑制されるため、シール材３０に液晶４１が入り込むシール差し込みの発生も抑制できる。また柱状スペーサ３２がシール材３０に接しており（図１では柱状スペーサ３２がシール材３０の内部に位置している）、柱状スペーサ３１と柱状スペーサ３２との間に隙間が存在しないため、液晶表示パネル１００の組み立て後に液晶４１が移動して液晶４１内に気泡が生じることも防止できる。よって本実施の形態によれば、液晶表示パネル１００の表示品位が向上すると共に、並びに液晶表示パネル１００の製造における歩留まりが向上する。
【００３４】
上記したように本発明は、ＴＮ方式、ＶＡ方式、ＩＰＳ方式、ＦＦＳ方式など各種の液晶表示パネルに適用可能であるが、特に表示品質向上の効果については、表示品質が基板間ギャップの影響を受け易い、ＩＰＳ方式やＦＦＳ方式などの横電界方式のものに対して、より高い効果が期待できる。このことは以下の各実施の形態でも同様である。
【００３５】
なお図１では、柱状スペーサ３２がシール材３０の内部に位置する例を示したが、柱状スペーサ３２がシール材３０に接する位置に配設されていれば、本実施の形態と同様の効果が得られる。つまり柱状スペーサ３２は、シール材３０に隣接した位置に配設されていてもよい。
【００３６】
＜実施の形態２＞
図４は、本発明の実施の形態２に係る液晶表示パネル１００の全体構成を概略的に示す平面図であり、図５はその外周部の構造を示す断面図である。なお図４および図５においては、図１および図２に示したものと同様の機能を有する要素には同一符号を付しているので、ここではそれらの説明は省略する。
【００３７】
図４および図５に示すように、実施の形態２の液晶表示パネル１００は、実施の形態１の構成（図１、図２）に対し、シール材３０に接する柱状スペーサ３２に変えて、壁面状のフォトスペーサ（以下「壁面状スペーサ」と称す）３３を設けたものである。
【００３８】
図４のように壁面状スペーサ３３は、シール材３０と同様に、平面視で表示領域４０を囲む閉じたパターンを有し、且つ、図５のように、シール材３０の内側（表示領域４０側）接するように配設される。
【００３９】
壁面状スペーサ３３は、図１の柱状スペーサ３２と同様に、シール材３０の塗布領域（液晶表示パネル１００の外周部）における基板間ギャップを所望の大きさに維持するように機能する。また図１の柱状スペーサ３２は、シール材３０の潰れを防止した結果として、未硬化のシール材３０に液晶４１が入り込むこと（シール差し込み）を防止するものであるが、壁面状スペーサ３３はそのシール差し込みを積極的に防止している。
【００４０】
壁面状スペーサ３３および柱状スペーサ３１は、一般的なフォトスペーサの材料である硬化済みの感光性樹脂材などで構成され、電極基板１０と対向基板２０との貼り合わせ時に殆ど変形（高さ変動）を伴わないものである。これにより、基板間ギャップが一定に保持される。
【００４１】
例えば図５のように、柱状スペーサ３１と壁面状スペーサ３３の両方が、対向基板２０の色材層２１と遮光層２２とが重ねて形成された部分に配設され、且つ、電極基板１０の上面がフラットであるとする。この場合、柱状スペーサ３１の形成位置の縦構造と壁面状スペーサ３３の形成位置の縦構造とが同じなので、基板間ギャップを表示領域４０とシール材３０の塗布領域とで等しくするのであれば、柱状スペーサ３１，３２の高さは同じでよい。この場合、柱状スペーサ３１と壁面状スペーサ３３を同一の工程で形成可能であり、製造コストの低減につながる。
【００４２】
柱状スペーサ３１の形成位置の縦構造と壁面状スペーサ３３の形成位置の縦構造とが異なる場合は、適宜、柱状スペーサ３１および壁面状スペーサ３３の高さを調整する。この場合は、柱状スペーサ３１と壁面状スペーサ３３とを個別の工程で形成する必要がある。
【００４３】
本実施の形態でも、電極基板１０と対向基板２０との間への液晶の注入は、滴下注入方式によって行われる。すなわち液晶表示パネル１００を組み立てる際、まず電極基板１０または対向基板２０の外周部に、平面視で表示領域４０を囲む閉じたパターンでシール材３０を塗布する。そしてシール材３０で囲まれた領域内に液滴状の液晶を多数滴下した後、真空中で電極基板１０と対向基板２０とを貼り合わせる。その後、組み立てられた液晶表示パネル１００は大気中に開放される。
【００４４】
このとき電極基板１０および対向基板２０の外側の面（互いの対向面の反対側の面）に外部から大気圧が印加される。本実施の形態においても、表示領域４０の全体に柱状スペーサ３１が配設されおり、且つ、シール材３０の塗布領域に壁面状スペーサ３３が配設されているので、表示領域４０だけでなく液晶表示パネル１００の外周部においても電極基板１０と対向基板２０とのギャップが均一に維持される。
【００４５】
本実施の形態では、シール材３０の塗布領域に内接する壁面状スペーサ３３が、液晶４１の拡がりを抑えるため、未硬化のシール材３０に液晶４１が入り込むこと（シール差し込み）が防止される。また壁面状スペーサ３３はシール材３０に接しているため、シール材３０の潰れを確実に防止できる。さらに、シール材３０と壁面状スペーサ３３との間に隙間が無いため、液晶４１が移動して気泡が発生することも防止される。
【００４６】
＜実施の形態３＞
図６は、本発明の実施の形態３に係る液晶表示パネル１００の全体構成を概略的に示す平面図であり、図７はその外周部の構造を示す断面図である。なお図６および図７においては、図１および図２に示したものと同様の機能を有する要素には同一符号を付しているので、ここではそれらの説明は省略する。
【００４７】
図６および図７に示すように、実施の形態３の液晶表示パネル１００は、実施の形態１の構成（図１、図２）に対し、シール材３０の内側（表示領域４０側）に、外力により高さ方向に変形可能な壁面状の部材（以下「壁面状部材」と称す）３４をさらに設けたものである。なお、実施の形態１と同様に、柱状スペーサ３２はシール材３０の内部に形成されている。
【００４８】
壁面状部材３４は、平面視で表示領域４０を囲む閉じたパターンを有しており、液晶４１の過剰な拡がりを防止できるように、上下端が電極基板１０および対向基板２０に接している。壁面状部材３４は、電極基板１０および対向基板２０のどちら側に形成されてもよいが、以下では柱状スペーサ３１および柱状スペーサ３２と共に対向基板２０側に形成されるものとする。
【００４９】
壁面状部材３４は、電極基板１０と対向基板２０とを貼り合わせた後は、図７のように、電極基板１０と対向基板２０（色材層２１）との間の距離と同じ高さになっているが、その貼り付け前は図８の如く、より高いものであった。つまり壁面状部材３４は、電極基板１０と対向基板２０とを貼り合わせる際の圧力で高さ方向に縮められる。よって完成後の液晶表示パネル１００の内部では、壁面状部材３４は、電極基板１０と対向基板２０に隙間なく密着している。
【００５０】
本実施の形態でも、電極基板１０と対向基板２０との間への液晶の注入は、滴下注入方式によって行われる。すなわち液晶表示パネル１００を組み立てる際、まず電極基板１０または対向基板２０の外周部に、平面視で表示領域４０を囲む閉じたパターンでシール材３０を塗布する。そしてシール材３０で囲まれた領域内に液滴状の液晶を多数滴下した後、真空中で電極基板１０と対向基板２０とを貼り合わせる。
【００５１】
このとき電極基板１０と対向基板２０とが近づくに従い、図８に示すように、液晶４１が表示領域４０から外方向へと拡がろうとする。壁面状部材３４は、電極基板１０と対向基板２０の間に隙間なく密着しているため液晶４１を封止する能力が高く、外方向へ拡がろうとする液晶４１の流れを遮断できる。従ってシール材３０に液晶４１が入り込むシール差し込みを防止することができる。よって液晶４１は未硬化のシール材３０までは到達せず、シール材３０におけるシール差し込みは生じない。
【００５２】
その後、組み立てられた液晶表示パネル１００は大気中に開放される。液晶表示パネル１００の周囲が大気圧に近づくと電極基板１０と対向基板２０がさらに近づくため、液晶４１は更に拡がろうとするが、このときも壁面状部材３４によって液晶４１がシール材３０に到達することが防止される。
【００５３】
またこのとき、シール材３０に接するように配設された柱状スペーサ３２は、実施の形態１と同様に、液晶表示パネル１００の外周部における基板間ギャップの均一化やシール材３０の潰れ防止の効果を奏する。つまり本実施の形態では、実施の形態１の効果が得られると共に、さらにシール差し込みを確実に防止できる。
【００５４】
変形可能な壁面状部材３４の材料としては、液晶４１を封止する能力の観点から、電極基板１０および対向基板２０に圧接する弾性材料が好ましいが、電極基板１０と対向基板２０との間に隙間なく密着できれば塑性材料でもよい。弾性材料としては、例えばシリコンゴムなどが挙げられ、塑性材料としては、例えば純アルミニウム（Ａｌ）など比較的柔らかい金属や、硬化度の低い(少し柔らかい)樹脂などが挙げられる。また壁面状部材３４の断面形状は、柔軟性を得るために細い（壁厚の薄い）矩形でもよいし、先端が細い台形（テーパ形状）でもよい。
【００５５】
なお図７においては、壁面状部材３４とシール材３０との間に隙間が存在するが、壁面状部材３４が液晶４１を封止する能力は高いため、液晶４１がその隙間へ移動することはなく、液晶４１内に気泡が発生することは防止されている。もちろん壁面状部材３４を、シール材３０の内側に接するよう設け、壁面状部材３４とシール材３０との間の隙間をなくしてもよい。その場合は、気泡の発生をより確実に防止できる。
【００５６】
［変更例］
図６および図７では、シール材３０の塗布領域に設けるスペーサとして、実施の形態１と同様の柱状スペーサ３２を配設したが、壁面状部材３４がシール差し込みを防止できる。そのため本実施の形態において、シール材３０の塗布領域に設けるスペーサは、基板間ギャップを均一に維持できるものであれば任意のものでよい。例えば実施の形態２に示した壁面状スペーサ３３を配設してもよいし、フォトスペーサ以外のものを用いてもよい。
【００５７】
フォトスペーサ以外の例としては、球状スペーサがある。球状スペーサを用いる場合、球状スペーサを塗布前のシール材３０に混在させておき、それを電極基板１０または対向基板２０の外周部に塗布すればよく、必然的にシール材３０の塗布領域に球状スペーサが配設される。この場合、スペーサの高さは球状スペーサの径に相当する。よって球状スペーサを用いる場合は、液晶表示パネル１００の外周部の基板間ギャップが表示領域４０と等しくなるように、使用する球状スペーサの径を決定する。
【００５８】
また柱状スペーサ３２の代わりのスペーサの他の例としては、棒状スペーサ（マイクロロッド）がある。この場合、スペーサの高さは棒状スペーサの径（太さ）に相当する。よって棒状スペーサを用いる場合は、液晶表示パネル１００の外周部の基板間ギャップが表示領域４０と等しくなるように、使用する棒状スペーサの太さを決定する。
【００５９】
シール材３０の塗布領域に球状スペーサや棒状スペーサを配設する場合も、液晶４１の拡がりを防止する壁面状部材３４は、電極基板１０と対向基板２０の貼り付けの際に変形するように、貼り付け前の状態でスペーサの高さ（径）よりも高い形状にすることが重要である。
【００６０】
また球状スペーサ或いは棒状スペーサでは基板間ギャップを充分に保持できない場合（例えばスペーサの材質が比較的柔らかい場合や、シール材内への混在密度が低い場合）には、壁面状部材３４にもスペーサの役割を持たせてもよい。すなわち壁面状部材３４が、大気圧と釣り合う状態のときに表示領域４０の柱状スペーサ３１と同じ高さとなるように、壁面状部材３４の形成時の高さ（電極基板１０と対向基板２０の貼り合わせ前の高さ）を設定する。それにより、壁面状部材３４は基板間ギャップを保持するスペーサとしても機能できる。
【００６１】
壁面状部材３４は、液晶表示パネル１００の外周部のシール材塗布領域の近傍に、閉じたパターンで形成されるため、スペーサとして機能させれば、実施の形態１，２と同程度に、液晶表示パネル１００の外周部の基板間ギャップの均一化を達成することが期待できる。
【符号の説明】
【００６２】
１０  電極基板、１１  端子電極、１２  端子電極、２０  対向基板、２１  色材層、２２  遮光層、３０  シール材、３１  表示領域の柱状スペーサ、３２  シール材の塗布領域の柱状スペーサ、３３  壁面状スペーサ、３４  壁面状部材、４０  表示領域、４１  液晶、１００  液晶表示パネル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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