(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性粒子を含む気体もしくは導電性粒子のプラズマを収容する容器に取り付けられ、かつ当該容器に対して絶縁された電流導入端子であって、
容器の内外を貫通する電流導入部材と、
前記電流導入部材の周囲全周にわたって設けた開口部を介して前記容器の内部空間に開口する処理空間と、
前記処理空間に配置され、当該処理空間を区画する区画面上を電流導入部材の周囲全周にわたって摺動可能であり、かつ当該区画面に付着した導電性の付着物を、電流導入部材の周囲全周にわたって除去する除去部材と
を備え、前記開口部が、当該開口部を挟んで対峙する導電性付着物間での短絡を生じない幅を有することを特徴とする電流導入端子。
【請求項２】
前記除去部材を、前記区画面に設けた突出部の端面上で摺動させる請求項１記載の電流導入端子。
【請求項３】
前記除去部材を電流導入部材の周囲で周回させる第一駆動源と、電流導入部材の導電部材と真空容器との間の通電量を測定するセンサとを備え、センサで測定した通電量に応じて第一駆動源を駆動可能にした請求項１に記載の電流導入端子。
【請求項４】
除去部材を、対向する二つの区画面と対峙させて配置し、除去部材を何れか一方の区画面上で摺動させる請求項１に記載の電流導入端子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、絶縁破壊防止構造を有する電流導入端子に関する。ここでいう電流導入端子は、導電性粒子を含む気体や導電性粒子のプラズマを収容する容器に取り付けられるものである。
【背景技術】
【０００２】
材料の表面改質や材料表面への成膜に使用されるドライプロセスの一例として、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の物理蒸着や、プラズマＣＶＤ等の化学蒸着が多用されている。これらのドライプロセスを行う容器（通常は真空容器）の内部空間には、原料を蒸発させる、蒸発した原料やその他の気体をプラズマ化する、あるいはイオンを加速する、等の目的で種々の電気部品（電極、コイル等）が配置される。導電性粒子を含む気体や導電性粒子のプラズマを収容する容器の容器壁との間の絶縁性を保持しつつ、容器内部に設けた電気部品と容器外部の電気機器とを電気的に接続するため、図５（ａ）に示すように、真空容器１００には、通常、幾つかの電流導入端子１１０が設置される（特許文献１）。この電流導入端子１１０は、導電部材１１１および絶縁部材１１２からなり、容器壁を貫通した電流導入部材１１３と、電流導入部材１１３を真空容器１００に取り付けるためのフランジ１１４とを有する。
【０００３】
ところで、上記のドライプロセスを行うドライプロセス装置では、表面改質や成膜の対象物のみならず、真空容器の内面にも原料の中性粒子やイオン、熱電子発生系から発生した不純物、あるいは容器内壁から放出される粒子等が付着して被膜が形成される。この被膜は、図５（ｂ）に示すように、真空容器１００内の電流導入端子１１０の周辺にも形成される。すなわち、この被膜１２０は、電流導入部材１１３の導電部材１１１の表面から絶縁部材１１２の表面、さらにフランジ１１４の表面を経て、真空容器１００の内面１００ａに至るまで、容器の内壁に沿って凡そ連続して形成される。特に真空容器内で金属蒸気や金属プラズマを発生させる場合には、被膜１２０が導電性を持つため、被膜１２０が通電経路を構成して、導電部材１１１と真空容器１００との間で絶縁破壊を生じるおそれがある。連続した被膜１２０に成長する前の、粒子が内面１００ａにアイランド状等に付着した段階でも、昇温、イオンの衝突、その他の要因によりプラズマ領域中の自由電子が多くなった際には、火花放電や沿面放電が発生し、同様の絶縁破壊に至るおそれがある。絶縁破壊を生じれば、ドライプロセス装置を即時停止させる必要があるため生産効率が低下する他、冷却された加熱部品の再加熱や真空容器内の再排気を要することになり、稼働コストの高騰や装置の老朽化を早める問題がある。
【０００４】
従来は、真空容器の内面に形成された被膜除去のため、真空容器を大気開放した上で内面上の被膜を手作業で拭き取る、あるいは真空容器内部に設置した内壁保護ボードを交換する等のクリーニング処理を定期的に行うのが通例である。この他、真空容器内にクリーニングガスを導入し、これをプラズマ化することにより、内壁に形成された被膜を腐食させて除去する手法等も知られている（特許文献２）。これらのクリーニング処理を定期的に行って、電流導入端子およびその周辺に形成される被膜や付着物を除去すれば、絶縁破壊を防止することができると考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２９００６号公報
【特許文献２】特開２００９−５７６０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、既存のクリーニング手法は、何れもドライプロセス装置の稼働停止が不可欠となるため、稼働効率の低下を招く。また、クリーニングガスを用いる特許文献１の手法では、電流導入端子周辺に遮蔽物が存在する場合には、十分なクリーニング効果が得られない、という問題がある。また、クリーニングガスの多くは有毒性であるため、使用後のクリーニングガスの処理も問題となる。
【０００７】
さらに、近年では、異種金属同士の接合やコーティング加工時等に、イオン注入により、薄膜界面の任意の位置に任意の原子や分子を任意の量だけ分布させて、薄膜界面における密着性等を向上させる手法の有用性が明らかになっている。しかしながら、この種のイオン注入に際しては、高密度かつ大断面積のイオンビームを発生する大電流金属イオン源が必要となる。大電流金属イオン源の一例として、例えば核融合炉実験装置用に開発された、数十アンペアを超えるようなアーク放電型の金属イオン源が知られているが、このような大電流イオン源では高密度の金属プラズマをソースプラズマとして用いるため、真空容器と電流導入端子との間で絶縁不良が極端に発生し易くなる。この点がイオン注入による表面改質技術の実用化を阻害する一因になっている。
【０００８】
そこで、本発明は、導電性粒子を含む気体あるいは導電性粒子のプラズマを収容する容器に取り付けられた電流導入端子の絶縁破壊を低コストかつ確実に防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題の解決にあたり、本発明者は、導電性粒子を含む気体や導電性粒子のプラズマを収容する空間とは別に、当該空間に通じる処理空間を設け、装置の稼働中に、処理空間を区画する区画面に導電性の付着物を付着させる一方で、処理空間内に配置した除去部材で区画面に付着した付着物を除去することにより、付着物で形成される通電経路を処理空間内で遮断して電流導入端子の絶縁破壊を防止する、という新たな着想を案出した。
【００１０】
かかる着想を具現化した本発明は、導電性粒子を含む気体もしくは導電性粒子のプラズマを収容する容器に取り付けられ、かつ当該容器に対して絶縁された電流導入端子であって、容器の内外を貫通する電流導入部材と、前記電流導入部材の周囲全周にわたって設けた開口部を介して前記容器の内部空間に開口する処理空間と、前記処理空間に配置され、当該処理空間を区画する区画面上を電流導入部材の周囲全周にわたって摺動可能であり、かつ当該区画面に付着した導電性の付着物を、電流導入部材の周囲全周にわたって除去する除去部材とを備え、前記開口部が、当該開口部を挟んで対峙する導電性付着物間での短絡を生じない幅を有することを特徴とするものである。                                                                              
【００１１】
かかる構成では、表面処理装置の稼働中に処理空間の区画面に付着した導電性の付着物により、電流導入部材の導電部材から容器に至る通電経路が形成される。この際、除去部材で区画面上に付着した付着物を電流導入部材の周囲全周にわたって除去することにより、かかる通電経路を電流導入部材側と容器側とに分断することができる。従って、通電経路を遮断して電流導入端子の絶縁破壊を防止することが可能となる。
【００１２】
前記除去部材が、前記区画面上を電流導入部材の周囲全周にわたって摺動して付着物を除去するものであれば、付着物の除去が機械的に行われるため、クリーニングガスを使用する必要はなく、従って、クリーニングガスを使用した場合の問題（遮蔽物や後処理等の問題）を回避することができる。
【００１３】
前記除去部材を、前記区画面に設けた突出部の端面上で摺動させれば、摺動部での接触面圧が高まるため、付着物の除去効果を高めることができる。
【００１４】
前記除去部材を電流導入部材の周囲で周回させる第一駆動源と、電流導入部材の導電部材と容器との間の通電量を測定するセンサとを備え、センサで測定した通電量に応じて第一駆動源を駆動可能にすれば、自動的に付着物の除去作業を行うことが可能となる。
【００１５】
除去部材を、対向する二つの区画面と対峙させて配置し、除去部材を何れか一方の区画面上で摺動させれば、二つの区画面で交互に付着物の除去を行うことができるため、ドライプロセス装置等の稼働中にも連続して付着物の除去作業を行うことが可能となる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の電流導入端子によれば、その絶縁破壊を低コストにかつ確実に防止することができる。従って、高密度かつ大断面積のイオンビームを発生する大電流金属イオン源の使用が可能となり、例えばイオン注入による表面改質技術のさらなる発展に寄与することができる。また、絶縁破壊を防止するために行われる電流導入部材周辺での付着物の除去作業は、ドライプロセス装置等の停止中のみならず、稼働中も行うことができる。従って、ドライプロセス装置等の稼働率を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明にかかる電流導入端子の断面図である。
【図２】被膜で被覆された電流導入端子を示す拡大断面図である。
【図３】付着物の除去作業中の電流導入端子の断面図である。
【図４】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】（ａ）は従来の電流導入端子の取り付け状態を示す断面図であり、（ｂ）は被膜で被覆された従来の電流導入端子を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図１〜図４に基づき、本発明にかかる電流導入端子の一実施形態を説明する。この電流導入端子は、導電性粒子を含む気体（例えば金属蒸気）もしくは導電性粒子のプラズマ（例えば金属プラズマ）を使用するドライプロセス装置やイオン源（例えば導電性粒子のイオンを発生させるもの）等に使用することができる。以下の説明では、ドライプロセス装置に設置された電流導入端子を例に挙げて、その実施形態を説明する。
【００１９】
図１は、ドライプロセス装置１の電流導入端子３の主要部を拡大して示す縦断面図である。ドライプロセス装置１は、図１に示すように、金属蒸気や金属プラズマを収容する容器としての真空容器２と、真空容器２に取り付けられた電流導入端子３とを備えている。
【００２０】
真空容器２は接地された密閉容器で、導電性の金属材料で形成される。真空容器２には、図示しない排気装置が接続されており、この排気装置で真空容器２の内部空間２ａを排気することで、内部空間２ａが真空状態に保持される。真空容器２内には、目的とするドライプロセスを行う上で必要とされる処理を行う電気部品、例えばプラズマ発生用電極やビーム引出系電極等の電極類、抵抗加熱式や電子ビーム式の蒸発源、あるいは高周波励起用のコイル等が必要に応じて配置される。
【００２１】
本発明の電流導入端子３は、真空容器２の内外を貫通する電流導入部材１０と、電流導入部材１０の周囲に形成された処理空間２０と、処理空間２０を区画形成すると共に、電流導入部材１０を支持する区画部材２１と、処理空間２０に配置された除去部材３０と、除去部材３０に固定された軸３１と、軸３１を介して除去部材３０を駆動する第一駆動機構４０および第二駆動機構５０と、これらの駆動機構４０，５０を制御する制御系６０とを主な構成要素として備える。
【００２２】
電流導入部材１０は、導電部材１１および円筒型の絶縁部材１２からなるロッド状の形態を有する。導電部材１１は銅等の導電材料で形成され、絶縁部材１２は樹脂やセラミック等の絶縁材料で形成される。導電性部材１１は、その全周が絶縁部材１２で被覆され、かつ絶縁部材１２に固着された状態にある。導電部材１１の先端は、絶縁部材１２の先端よりも突出しており、かつ真空容器２の容器壁２ｂの内面２ｂ１よりも内部空間２ａ側に配置される。導電部材１１の基端には図示しない電源が接続されている。電流導入部材１０の先端には、真空容器２内に配置された上述の各種電気部品をねじ止め等の手段で電気的に直結することができる。
【００２３】
なお、電流導入部材１０としては、導電部材１１と絶縁部材１２を有する限り、軸対象の断面形状をはじめ、任意の形態のものを採用することができる。
【００２４】
処理空間２０は、区画部材２１に設けられた複数の区画面２１ａ１，２１ａ２，２１ａ３により区画形成される。区画部材２１は、真空容器２の容器壁２ｂに設けられた孔を塞ぐように当該容器壁２ｂに適当なブラケット等を介して取り付けられている。処理空間２０は、大径部分２０ａと、真空容器２の内部空間２ａと大径部分２０ａとの間に介在する小径部分２０ｂとを有する段付きの円筒形状をなし、小径部分２０ｂを介して真空容器２の内部空間２ａに開口している。区画部材２１は樹脂やセラミック等の絶縁体で形成するのが好ましいが、区画面２１ａ１〜２１ａ３を除く部分は、真空容器２に対して絶縁されている限り導電性の材料で形成することもできる。なお、区画部材２１は、図１に示すように一部品で形成する他、複数部品を組み合わせて構成することもできる。
【００２５】
電流導入部材１０は、真空容器２の外部に配置されかつ真空容器２と絶縁された図示しない支持部材に固定されている。この電流導入部材１０は、区画部材２１を貫通すると共に、処理空間２０を通過して内部空間２ａに向けて延びており、その先端は処理空間２０の小径部分２０ｂの中心に配置される。このように処理空間２０の小径部分２０ｂに電流導入部材１０を配置することにより、電流導入部材１０の先端周囲にその全周にわたって環状の開口部２２が形成され、電流導入部材１０の外周面全体が開口部２２を区画する区画面２１ａ３に対して非接触となる。開口部２２の幅（径方向の幅）は、金属蒸気や金属プラズマに由来した、後述の付着物や被膜の形成後も、電流導入部材１０と開口部２２を区画する区画面２１ａ３との間で放電が生じないような寸法に定められる。
【００２６】
なお、図１に示す実施形態では、開口部２２を形成する区画面２１ａ３と絶縁部材１２の外周面との間に環状の開口部２２を形成しているが、図１よりも導電部材１１の先端の露出長さを長くすることにより、区画面２１ａ３と導電部材１１の外周面との間に環状の開口部２２を形成することもできる。
【００２７】
区画部材２１の複数の区画面２１ａ１〜２１ａ３のうち、電流導入部材１０の延びる方向で対向する二つの面２１ａ１，２１ａ２が、除去部材３０によって付着物の除去が行われる被除去面を構成する。本実施形態では、被除去面２１ａ１，２１ａ２のそれぞれに、電流導入部材１０の周囲全周にわたり、除去部材３０への接近方向に突出する突出部２３、２４が形成されている。
【００２８】
除去部材３０は、被除去面２１ａ１，２１ａ２（突出部２３，２４の端面も含む）に付着した付着物を除去する機能を有する。除去部材３０としては、被除去面２１ａ１，２１ａ２上を摺動して付着物をこすり取るものが使用でき、本実施形態では、除去部材３０の一例として円盤状の研削砥石を使用している。円盤状の除去部材３０は、その両端面が、それぞれ被除去面２１ａ１，２１ａ２と対向するように処理空間２０内に配置される。
【００２９】
除去部材３０の内周面には、区画部材２１を貫通する中空円筒状の軸３１が圧入等により固定される。軸３１の内周に電流導入部材１０が配置され、軸３１は、その内周面に圧入固定した軸受４４，４５により、電流導入部材１０に対し、その軸心を中心として回転自在に支持されている。また、軸３１は、区画部材２１の内周面に圧入固定した軸受４６により、区画部材２１に対して回転自在に支持されている。
【００３０】
軸３１を支持する軸受４４，４５，４６としては、オイルレスのすべり軸受を使用するのが好ましい。すべり軸受の軸受隙間は、通常、数μｍ〜数十μｍ程度の微小隙間であるためにプラズマの通過を規制することができる。真空容器２の内部空間２ａの気密性を確保するため、回転軸３１の内周面と電流導入部材１０の外周面との間の隙間、および回転軸３１の外周面と区画部材２１の内周面との間の隙間のそれぞれにＯリング等を配置し、このＯリング等で両隙間をシールするのが好ましい。このようにシールした場合、軸受４４〜４６の軸受隙間は上記の数値範囲よりも大きく設定することができる。
【００３１】
第一駆動機構４０は、軸３１の外周に設けられたドライブギヤ４１と、ドライブギヤ４１に噛み合う一又は複数のギヤを有するギヤボックス４２と、フレーム２５に固定されたモータ等からなる第一駆動源４３とを備える。第一駆動源４３の出力トルクは、ギヤボックス４２内の各ギヤおよびドライブギヤ４１を介して軸３１に伝達され、これにより軸３１、さらには除去部材３０が電流導入部材１０の周囲を周回（回転）する。
【００３２】
また、第二駆動機構５０は、ボールねじ等からなる運動変換機構５１，５２と、フレーム２５に固定されたモータ等からなる第二駆動源５３とを備える。第二駆動源５３を正逆駆動して運動変換機構５１，５２のねじ軸５１を正逆方向に回転させると、ねじ軸５１に螺合したナット５２により回転運動が直線運動に変換され、ナット５２、さらにはナット５２と連結した軸３１が電流導入部材１０の延びる方向に沿って往復スライド移動する。
【００３３】
制御系６０は、電流導入部材１０の導電部材１１と真空容器２との間の通電量を測定するセンサ６１と、センサ６１から出力されたデータの処理並びに第一駆動源４３および第二駆動源５０の制御を行う制御装置６２とを備える。センサ６１としては、例えば絶縁抵抗計等が使用される。
【００３４】
以上の構成により、電流導入端子３の絶縁破壊防止構造が完成する。以下、以上に述べた絶縁破壊防止構造の作動を説明する。
【００３５】
図１に示すように、除去部材３０を何れの突出部２３，２４とも非接触とした中立状態でドライプロセス装置１を稼働させる。真空容器２の内部空間２ａに金属プラズマ（あるいは金属蒸気）を発生させることで、内部空間２ａに配置した対象物に対する成膜処理が行われ、対象物の表面に導電性の被膜（例えばタングステン被膜）が形成される。これに伴い、電流導入部材１０の表面や真空容器２の容器壁２ｂの内面２ｂ１に導電性の付着物が付着し始める。
【００３６】
また、処理空間２０が開口部２２を介して真空容器２の内部空間２ａに開口しているため、ドライプロセス装置１の稼働中は、内部空間２ａで生じた金属プラズマ等が開口部２２を介して処理空間２０内に進入する。そのため、処理空間２０を区画する各区画面２１ａ１〜２１ａ３、および処理空間２０に露出した各構造物（除去部材３０、回転軸３１、軸受４５，４６等）の表面にも導電性の付着物が付着し始める。
【００３７】
ドライプロセス装置１の連続稼働により、上記の付着物が成長すると、図２に示すように、導電性の被膜７０が、電流導入部材１０の導電部材１１の表面から、絶縁部材１２の表面、軸受４５の端面、回転軸３１の端面、除去部材３０の表面、回転軸３１の外周面、軸受４６の端面、区画部材２１の区画面２１ａ１〜２１ａ３（突出部２３，２４の表面も含む）、区画部材２１の内面２１ｂを順次経て、真空容器２の容器壁２ｂの内面２ｂ１に至るまで形成される。これにより、電流導入部材１０の導電部材１１から真空容器２に至る連続した通電経路が形成されるため、この状態を放置すれば絶縁破壊に至る。
【００３８】
これに対し、本発明の電流導入端子３では、図２に示す連続した被膜７０が形成される前に、付着物の除去作業を行う。すなわち、センサ６１で測定した絶縁抵抗値が規定値よりも小さくなった時に制御装置６２からの指令で第二駆動機構５０を起動し、図３に示すように、除去部材３０を図面左側にスライドさせて、除去部材３０の端面を一方の被除去面２１ａ１に形成された突出部２３に当接させる。除去部材３０のスライド時には、回転軸３１の内周面に固定した軸受４４，４５の内周面（軸受面）と電流導入部材１０の外周面（絶縁部材１２の外周面）との間、区画部材２１の内周面に固定した軸受４６の内周面（軸受面）と回転軸３１の外周面との間、さらにドライブギヤ４１とこれに噛み合うギヤボックス４２のギヤとの間にそれぞれ滑りが生じ、除去部材３０と一体となって回転軸３１およびドライブギヤ４１が同方向にスライド移動する。
【００３９】
また、制御装置６２からの指令で第一駆動機構４０が起動し、除去部材３０が電流導入部材１０を中心として回転し、突出部２３の表面と摺動する。これにより、図４に示すように、被除去面２１ａ１のうち突出部２３の端面に付着した導電性の付着物（被膜７０も含む：散点模様で示す）が除去されて付着物のない環状領域γが形成され、付着物で形成される通電経路が電流導入部材１０側の領域αと、真空容器２側の領域βとに分断される。これにより、電流導入部材１０から真空容器２に至る通電経路が遮断される。
【００４０】
一方の被除去面２１ａ１での付着物の除去が完了した後、第二駆動機構５０を反転駆動して除去部材３０を図１の右側にスライドさせ、除去部材３０を他方の被除去面２１ａ２の突出部２４に当接させた状態で第一駆動機構４０により回転させる。これにより、他方の被除去面２１ａ２の突出部２４に付着した導電性の付着物が除去され、通電経路が同様に電流導入部材１０側の領域αと真空容器２側の領域βとに分断される。従って、以上の作動を繰り返すことで、導電性の付着物による通電経路が少なくとも何れか一方の突出部２３，２４の端面で分断されるため、通電経路を電流導入部材１０側と真空容器２側との間で常時遮断することが可能となる。従って、付着物、さらには連続被膜７０の形成による電流導入部材１０と真空容器２の間の絶縁破壊を確実に防止し、絶縁性を持続することが可能となる。
【００４１】
以上の説明では、処理空間２０の対向する二つの被除去面２１ａ１，２１ａ２で交互に付着物の除去を行う場合を例示したが、例えば低密度プラズマを使用する場合のように、付着物の成長が遅い場合には、処理空間２０内にどちらか一方の被除去面のみを設け、センサ６１で測定した絶縁抵抗が所定値を下回った時に限って、当該一つの被除去面の突出部（例えば突出部２３）に除去部材３０を当接させて付着物の除去作業を行うこともできる。
【００４２】
また、以上の説明では、除去部材３０の回転運動とスライド運動をモータ等の駆動源４３，５３で行う場合を例示したが、これらの運動の何れか一方または双方を手動で行うこともできる。
【００４３】
以上に説明した電流導入端子３によれば、除去部材３０による付着物の除去作業は、ドライプロセス装置１の停止中のみならず、稼働中も行うことができる。従って、除去作業時に装置１を停止させる必要はなく、これにより装置１の稼働率を高めることができる。
【００４４】
また、除去部材３０を被除去面２１ａ１，２１ａ２上で摺動させて付着物を機械的に除去するので、クリーニングガスによる付着物の除去作業が不要となる。従って、使用済みクリーニングガスの後処理が不要となり、絶縁破壊の防止を低コストに行うことが可能となる。また、クリーニングガスを使用した場合には、遮蔽物によるクリーニング効果の低下が問題となるが、そのような問題も回避することができる。さらに除去部材３０としては市販の研削砥石等が使用できるので、この点も低コスト化に寄与する。
【００４５】
また、被除去面２１ａ１，２１ａ２に突出部２３，２４を設け、被除去面２１ａ１，２１ａ２のうちで突出部２３，２４の端面の付着物を除去するようにしたので、除去部材３０と摺動する突出部２３，２４の端面での接触面圧を高めることができる。従って、付着物や被膜７０を短時間で確実に除去することが可能となる。
【００４６】
また、本発明によれば、イオン注入により、薄膜界面における密着性等を向上させるために、高密度かつ大断面積のイオンビームを発生する大電流金属イオン源を使用する場合にも、真空容器２と電流導入端子３との間で絶縁破壊を確実に防止することができる。従って、この種のイオン注入法の研究開発の進展を図る上でも有効となる。
【００４７】
本発明において、真空容器２内で行われるプロセスは特に限定されず、本発明の電流導入端子３は、表面改質や成膜を行う真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の物理蒸着（ＰＶＤ）や、プラズマＣＶＤ等の化学蒸着（ＣＶＤ）をはじめ、その他のドライプロセスを行う装置、さらには当該装置に装備されるイオン源に広く用いることができる。また、真空下で蒸着を行う場合のみならず、大気圧下で蒸着を行う場合にも適用することができる。表面改質や成膜を行う対象も特に限定されず、工具、機械部品、医療器具、自動車用部品、半導体基板等から広く選択することができる。表面改質や成膜を行う対象物の材料も有機材料、無機材料を問わない。
【符号の説明】
【００４８】
２      容器（真空容器）
３      電流導入端子
１０    電流導入部材
１１    導電部材
１２    絶縁部材
２０    処理空間
２１    区画部材
２２    開口部
３０    除去部材
３１    軸（回転軸）
４０    第一駆動機構
４３    第一駆動源
５０    第二駆動機構
５３    第二駆動源
６０    制御系
６１    センサ
６２    制御装置
【要約】
【課題】電流導入端子の絶縁破壊を低コストかつ確実に防止する。
【解決手段】真空容器２の内外を貫通する電流導入部材１０の周囲全周にわたって開口部２２を設けると共に、この開口部２２を介して真空容器２の内部空間２ａに開口する処理空間２０を設ける。処理空間２０に除去部材３０を配置し、この除去部材３０で、処理空間２０を区画する区画面２１ａ１，２１ａ２の突出部２３，２４に付着した導電性の付着物を、電流導入部材１０の周囲全周にわたって除去する。
【選択図】図１【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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