(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
最終洗浄工程の前に少なくとも１回のスクラブ洗浄工程を含む、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、
前記スクラブ洗浄工程は、コロイダルシリカを砥粒として水に分散させた研磨剤スラリーを使用した研磨工程の後工程として行うとともに、
このスクラブ洗浄工程では、ロールスクラブ洗浄工程とカップスクラブ洗浄工程とをこの順で備え、
前記ロールスクラブ洗浄工程では、洗浄ブラシの上方から洗浄剤を供給しながらガラス基板を洗浄し、
前記カップスクラブ洗浄工程では、洗浄ブラシの内部から洗浄剤を供給しながらガラス基板を洗浄する、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記研磨工程で用いるコロイダルシリカの平均粒径が２０〜７０ｎｍである、請求項１記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
面記録密度が６３０Ｇｂ／平方インチ以上の記録密度を有する、ＨＤＤ用に用いられるガラス基板を製造する、請求項１または２記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記スクラブ洗浄工程の後に、ガラス基板に４３０〜９５０ｋＨｚの高周波を照射する高周波洗浄工程をさらに備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記高周波洗浄工程において、０．５〜１ｐｐｍの水素水を用いて前記ガラス基板を洗浄する、請求項４記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記高周波洗浄工程において、開口径が０．０２μｍのフィルタを用いる、請求項４または５記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報記録媒体を搭載したディスク装置（たとえばハードディスクドライブ  ＨＤＤ）の高性能化に伴い、使用されるメディアに求められる品質水準が高まっている。
【０００３】
最近では、２．５インチのメディアであって、記録容量が５００ＧＢ以上、すなわち面記録密度が６３０Ｇｂ／平方インチ以上の記録密度を有する大容量のメディアがある。このようなメディアは、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間の距離（フライングハイト）が小さい。一般に、フライングハイトが小さくなるにつれて、ガラス基板の表面欠陥を原因とするヘッドクラッシュが発生しやすくなる。そのため、ＨＤＤ用ガラス基板（以下、単にガラス基板という場合がある）の表面欠陥に関して、大きさおよび個数に対する要求が厳しくなりつつある。
【０００４】
表面欠陥は、たとえば、研磨工程でガラス基板に付与された研磨剤や、研磨時に生じた研磨滓など（以下、研磨剤等という）の微小付着物が、磁性膜形成工程などの製造工程で離脱してガラス基板の主表面に付着することにより生じる。
【０００５】
このような微小付着物は、ガラス基板の研磨加工、洗浄方法を工夫して低減することができる。その１つの方法として、研磨工程により主表面が研磨されたガラス基板に対して、ガラス基板の表面に残存する研磨剤等の微小付着物を、洗浄剤を供給しながら回転する洗浄ブラシ（スクラブパッド）をガラス基板に押し当てて除去する方法（スクラブ洗浄）がある。
【０００６】
後記により詳述するが、スクラブ洗浄の一態様として、ロールスクラブ洗浄やカップスクラブ洗浄が知られている。
【０００７】
ロールスクラブ洗浄は、たとえば、円筒形のスクラブパッドを、円筒の側面を接触面として回転させ、ガラス基板の主表面を擦る洗浄方式である。ロールスクラブ洗浄は、ガラス基板に付着した微小付着物を一方向に掻き出す効果がある。ロールスクラブ洗浄では、スクラブパッドは、円周の一点においてガラス基板と接触するため、単位面積あたりの仕事量が大きい。
【０００８】
カップスクラブ洗浄は、たとえば、円筒形のスクラブパッドを、円筒の断面を接触面として回転させ、ガラス基板を擦る洗浄方式である。カップスクラブ洗浄では、スクラブパッドは、ガラス基板と面接触するため、単位面積あたりの仕事量が小さい。
【０００９】
また、上記いずれの洗浄方式を採用した場合であっても、使用を続けるとガラス基板から除去した微小付着物がスクラブパッドの表面等に蓄積する。そのため、除去した微小付着物が蓄積したスクラブパッドを使用してガラス基板を洗浄すると、微小付着物がガラス基板に押し当てられて再度付着し、表面欠陥の原因となる。この問題は、単位面積あたりの仕事量が大きいロールスクラブ洗浄を実施した場合において特に問題となる。
【００１０】
そこで、ロールスクラブ洗浄を採用する特許文献１には、一定期間ロールスクラブ洗浄を行ったスクラブパッドをガラス基板と非接触状態で高速回転させて、遠心力によりスクラブパッドに蓄積した微小付着物を除去する工程を備えたガラス基板の製造方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００９−１５８０３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特許文献１に記載の製造方法は、スクラブパッドを高速回転させたとしてもスクラブパッド内部に侵入した微小付着物を充分に除去できない、という問題がある。また、非接触状態でスクラブパッドを回転させている間はガラス基板を洗浄できず非効率である、という問題がある。すなわち、従来の技術では、ガラス基板への微小付着物の付着を充分に抑制できておらず、表面欠陥に関する近年の厳しい要求に対応できていない。
【００１３】
本発明は、このような従来の問題に鑑みてなされたものであり、効率よくガラス基板を洗浄することができ、得られるガラス基板に微小付着物が少なく、後発エラーの発生を抑制することができるガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明のガラス基板の製造方法は、最終洗浄工程の前に少なくとも１回のスクラブ洗浄工程を含む、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、前記スクラブ洗浄工程は、ロールスクラブ洗浄工程とカップスクラブ洗浄工程とをこの順で備え、前記ロールスクラブ洗浄工程では、洗浄ブラシの上方から洗浄剤を供給しながらガラス基板を洗浄し、前記カップスクラブ洗浄工程では、洗浄ブラシの内部から洗浄剤を供給しながらガラス基板を洗浄することを特徴とする。
【００１５】
本発明の製造方法によれば、効率よくガラス基板を洗浄することができ、得られるガラス基板に微小付着物が少なく、後発エラーの発生を抑制することができるガラス基板の製造方法を提供することができる。具体的には、洗浄剤を洗浄ブラシの上方から供給するロールスクラブ洗浄工程を行うことにより、ガラス基板から微小付着物を効率よく除去することができる。更に、ロールスクラブ洗浄工程に引き続いて、洗浄ブラシの内部から洗浄剤を供給しながらガラス基板を洗浄するカップスクラブ洗浄工程を備えるため、洗浄ブラシの内部から浸み出した洗浄剤により、微小付着物は洗浄ブラシの表面から洗い流され、洗浄ブラシに蓄積されにくい。その結果、ロールスクラブ洗浄工程を経たガラス基板に、洗浄ブラシにより再度微小付着物が擦り付けられにくくなり、ガラス基板への微小付着物が少なく、後発エラーの発生を抑制することができる。
【００１６】
前記スクラブ洗浄工程の後に、ガラス基板に４３０〜２０００ｋＨｚの高周波を照射する高周波洗浄工程をさらに備えることが好ましい。
【００１７】
スクラブ洗浄工程の後に高周波洗浄工程を行うことにより、高周波による振動加速度により微小付着物などの表面欠陥を高効率で除去することができる。その結果、後発エラーを発生しにくいガラス基板を得ることができる。
【００１８】
前記高周波洗浄工程において、０．５〜１ｐｐｍの水素水を用いて前記ガラス基板を洗浄することが好ましい。
【００１９】
０．５〜１ｐｐｍの水素水を用いて洗浄することにより、純水中の直進性阻害因子である酸素、窒素が除外されるため高周波洗浄の効率がさらに向上する。
【００２０】
前記高周波洗浄工程において、開口径が０．０２μｍのフィルタを用いることが好ましい。
【００２１】
開口径が０．０２μｍのフィルタを用いることにより、除去した微小付着物などの表面欠陥がフィルタに捕捉されやすい。その結果、洗浄槽内は、清浄に保たれ、洗浄工程を長期間行うことができ、製造効率が向上する。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、効率よくガラス基板を洗浄することができ、得られるガラス基板に微小付着物が少なく、後発エラーの発生を抑制することができるＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、本発明の一実施形態のガラス基板をロールスクラブ洗浄工程において洗浄している状態の説明図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態のガラス基板をカップスクラブ洗浄工程において洗浄している状態の説明図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態のカップスクラブ洗浄工程において使用するローラとスクラブパッドとの構成を説明する概略図である。
【図４】図４は、比較例のカップスクラブ洗浄装置を用いて洗浄している状態の説明図である。
【図５】図５は、比較例のロールスクラブ洗浄装置を用いて洗浄している状態の説明図である。
【図６】図６は、比較例のロールスクラブ洗浄工程において使用するローラとスクラブパッドとの構成を説明する概略図である。
【図７】図７は、浮上テストにおける磁気ヘッドと付着物との位置関係を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本実施形態のガラス基板の製造方法について、詳細に説明する。本実施形態のガラス基板の製造方法において、ガラス基板は、たとえばブランクス製造工程、研削工程、コアリング工程、内周研磨工程、外周研磨工程、第一研磨工程（粗研磨工程）、化学強化工程、第二研磨工程（鏡面研磨工程）、スクラブ洗浄工程、最終洗浄工程を経て作製される。以下、本実施の形態の特徴部分であるスクラブ洗浄工程を詳述する。
【００２５】
＜スクラブ洗浄工程＞
スクラブ洗浄工程は、最終洗浄工程の前に少なくとも１回行われる。スクラブ洗浄工程では、ガラス基板の表面に付着した研磨剤等の微小付着物が除去される。スクラブ洗浄工程を行う時期は、最終洗浄工程の前であれば特に限定されない。ガラス基板の製造工程のうち粗研磨工程や鏡面研磨工程ではガラス基板に研磨剤等の微小付着物が付着しやすいため、粗研磨工程の直後や鏡面研磨工程の直後のうち、少なくともいずれか１回はスクラブ洗浄工程を行うことが好ましい。より好ましくは、スクラブ洗浄工程は、粗研磨工程の直後と、鏡面研磨工程の直後であって最終洗浄工程の直前とに行う。このように、粗研磨工程の直後にスクラブ洗浄工程を行うことにより、粗研磨工程で生じた研磨滓等を除去することができる。また、鏡面研磨工程の直後であって最終洗浄工程の直前にスクラブ洗浄工程を行うことにより、鏡面研磨工程で生じた研磨滓等をガラス基板から除去し、あらかじめガラス基板の表面性状を清浄に洗浄した状態で、最終洗浄工程を行うことができる。
【００２６】
本実施形態では、スクラブ洗浄工程は、ロールスクラブ洗浄工程とカップスクラブ洗浄工程とをこの順で備える。以下、それぞれの洗浄工程を説明する。
【００２７】
＜ロールスクラブ洗浄工程＞
ロールスクラブ洗浄工程は、ロールスクラブ洗浄装置を用いてガラス基板を洗浄する工程である。図１は、本実施形態のガラス基板をロールスクラブ洗浄工程において洗浄している状態の説明図である。図１に示すロールスクラブ洗浄装置は一例である。
【００２８】
ロールスクラブ洗浄装置１は、相互に平行に配置されたローラ２と、該ローラ２の表面に巻き付けられたスクラブパッド３とを備える。ガラス基板４は、それぞれのローラ２のスクラブパッド３の間に挟みこまれる。ガラス基板４の端部は、回転支持ローラ５により回転可能に支持されている。矢印Ａ１および矢印Ａ２は、ローラ２の回転方向を示しており、矢印Ａ３は回転支持ローラ５の回転方向を示しており、矢印Ａ４はガラス基板４の回転方向を示している。
【００２９】
ロールスクラブ洗浄工程において、ガラス基板４は、回転支持ローラ５により回転させられた状態で、回転するスクラブパッド３により両主表面が洗浄され、研磨剤等の微小付着物が除去される。
【００３０】
ロールスクラブ洗浄におけるスクラブパッド３（ローラ２）の回転数としては特に限定されないが、回転数が小さすぎると仕事量が小さくなり、回転数が大きすぎると摩擦係数が小さくなるため、５００〜１０００ｒｐｍ程度が好ましい。
【００３１】
スクラブパッド３の材料としては特に限定されず、たとえば、セルローススポンジ、ポリビニルアルコールスポンジ、ウレタンフォーム、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）スポンジ、メラミンフォーム、ポリエチレンフォーム等の樹脂系スポンジ、天然ゴム（ＮＲ）スポンジ、クロロプレンゴム（ＣＲ）スポンジ、エチレン−プロピレンゴム（ＥＰＤＭ）スポンジ、ブタジエン−アクリロニトリルゴムスポンジ等のゴム系スポンジ等で構成することができる。この中でも、スポンジ部分は、樹脂を主材料として構成されているのが好ましい。また、前記樹脂は、ポリウレタン、メラミン樹脂、セルロース、ポリビニルアルコール等の親水性ポリマーであるのが好ましい。これにより、スポンジ部分による微小付着物の保持能力および洗浄剤の担持能力をより優れたものとすることができ、また、ガラス基板４との接触面積も多くなり、より微小付着物の除去能力を向上させることができる。また、スクラブパッド３に過酸化水素水を添加して、表面の親水性を向上させて汚れの除去能力を高めることができる。
【００３２】
また、スクラブパッド３の硬度は、３０〜７０°であるのが好ましく、より好ましくは３５〜５５°である。硬度がこの範囲内の場合、微小付着物の保持能力および洗浄剤の担持能力をより優れたものとすることができる。なお、ここで、硬度とは、ＪＩＳＫ７３１２に準拠して測定された硬度をいう。
【００３３】
スクラブパッド３の形状は特に限定されず、ガラス基板４を回転しながら洗浄できる形状であればよい。スクラブパッド３の形状は、たとえば、円筒形状、円筒の表面に円柱突起が配列されたもの、円筒の軸に平行にスリットが形成されたもの、円筒の軸と斜めにスリットが形成されたもの、とすることができる。図１では、円筒形状のスクラブパッド３を使用し、スクラブパッド３の側面を接触面としてガラス基板４の表面を擦ることができるスクラブパッド３を採用している。
【００３４】
スクラブパッド３の大きさは特に限定されない。図１に示されるように、スクラブパッド３の長手方向の長さがガラス基板４の半径よりも大きい場合、スクラブパッド３は、スクラブパッド３の位置を移動させなくても、ガラス基板４を回転させることによりガラス基板４の主表面の全面を洗浄することができる。ほかにも、スクラブパッド３が長手方向に移動できる場合には、スクラブパッド３の長手方向の長さは、ガラス基板４の半径より小さくてもよい。また、スクラブパッド３の長手方向の長さは、ガラス基板の直径と同程度であってもよい。
【００３５】
本実施形態では、スクラブパッド３の側面とガラス基板４とは点または線で接する。そのため、スクラブパッド３とガラス基板４との接触面積が小さく、接触部位における単位面積当たりの仕事量が大きい。その結果、短時間でガラス基板４から微小付着物を効率よく除去することができる。
【００３６】
本実施形態では、洗浄剤は、スクラブパッド３の上方からかけ流しにより供給される。具体的には、洗浄剤は、ローラ２の上方に設けられた洗浄剤吐出ノズル６からガラス基板４に向けてかけ流される。本実施形態では、このように、洗浄剤をかけ流しによりガラス基板４に供給することにより、スクラブパッド３とガラス基板４との接触部位に直接、洗浄剤を付与できるため、無駄なく短時間で高い洗浄効果を得ることができる。
【００３７】
ロールスクラブ洗浄工程で使用する洗浄剤としては、公知の酸性洗剤やアルカリ洗剤を使用することができる。
【００３８】
ロールスクラブ洗浄工程における洗浄時間は特に限定されず、ガラス基板４の大きさや処理枚数に応じて適宜調整することができる。また、上記のとおり、ロールスクラブ洗浄は、スクラブパッド３の単位面積当たりの仕事量が大きいため、ガラス基板４から一旦除去した微小付着物を、再びガラス基板に擦り付けてしまう可能性がある。そのため、洗浄時間は、たとえば５〜１５秒程度とすることができる。洗浄時間をこの範囲内とすることにより、スクラブパッド３は、ガラス基板４の表面から微小付着物を除去し、かつ、除去した微小付着物が再度ガラス基板に擦り付ける可能性が低い。
【００３９】
ロールスクラブ洗浄工程における洗浄剤の供給量は特に限定されず、ガラス基板４の大きさや処理枚数に応じて適宜調整することができる。洗浄剤の供給量は、たとえば、０．５〜１．５Ｌ／分とすることができる。
【００４０】
本実施形態では、洗浄剤をスクラブパッド３の上方から供給するロールスクラブ洗浄工程を行うことにより、ガラス基板４から微小付着物を効率よく除去することができる。なお、ロールスクラブ洗浄工程を経たガラス基板４には、上記のとおり可能性は低いものの、再度微小付着物が付着する虞がある。そのため、本実施形態では、ロールスクラブ洗浄工程に引き続いて、カップスクラブ洗浄工程を備える。
【００４１】
＜カップスクラブ洗浄工程＞
カップスクラブ洗浄工程は、カップスクラブ洗浄装置を用いてガラス基板を洗浄する工程である。図２は、本実施形態のガラス基板をカップスクラブ洗浄工程において洗浄している状態の説明図である。図２に示すカップスクラブ洗浄装置は一例である。
【００４２】
カップスクラブ洗浄装置７は、相互に平行に配置されたローラ８と、該ローラ８に取り付けられたスクラブパッド９とを備える。ガラス基板４は、それぞれのスクラブパッド９の間に挟みこまれる。ガラス基板４の端部は、回転支持ローラ１０により回転可能に支持されている。矢印Ａ５は、ローラ８（スクラブパッド９）の回転方向を示しており、矢印Ａ６は回転支持ローラ１０の回転方向を示しており、矢印Ａ７はガラス基板４の回転方向を示している。
【００４３】
カップスクラブ洗浄工程において、ガラス基板４は、回転支持ローラ１０により回転させられた状態で、回転するスクラブパッド９（ローラ８）により両主表面が洗浄され、研磨剤等の微小付着物が除去される。
【００４４】
カップスクラブ洗浄におけるローラ８の回転数としては特に限定されないが、回転数が小さすぎると仕事量が小さくなり、回転数が大きすぎると摩擦係数が小さくなるため、１００〜１２０ｒｐｍ程度が好ましい。
【００４５】
スクラブパッド９の形状は特に限定されず、ガラス基板４を回転しながら洗浄できる形状であればよい。スクラブパッド９の形状は、たとえば、円筒形状、円筒形で表面に十字方向のスリットが形成されたもの、円筒形で表面の径方向に突起が形成されたもの、円筒形で表面に小さな円筒状の突起が配列されたものとすることができる。本実施形態では、図２に示されるように、円筒形状のスクラブパッド９を使用している。スクラブパッド９は、底面を接触面としてガラス基板４の表面を擦ることができる。
【００４６】
スクラブパッド９の大きさは特に限定されない。図４に示されるように、スクラブパッド９の底面の半径がガラス基板４の半径よりも大きい場合、スクラブパッド９は、ガラス基板４を回転させることによりガラス基板４の主表面の全面を洗浄することができる。
【００４７】
本実施形態では、スクラブパッド９の底面とガラス基板４とは面で接する。そのため、スクラブパッド９とガラス基板４との接触面積が大きい。そのため、接触部位における単位面積当たりの仕事量が小さく、接触面全体としての仕事量は大きい。その結果、ガラス基板４から除去した微小付着物を充分に除去できるとともに、再度微小付着物をガラス基板４に擦りつける可能性が低い。
【００４８】
本実施形態では、洗浄剤は、スクラブパッド９の内部から浸み出すように構成されている。図３は、ローラ８とスクラブパッド９との構成を説明する概略図である。図３に示されるように、ローラ８は、内部に洗浄剤の供給経路１１を有し、表面に洗浄剤の吐出孔１２を有する。スクラブパッド９は、ローラ８に装着することができる。ローラ８の吐出孔１２から吐出された洗浄剤は、スクラブパッド９の内部（裏面）から表面に浸み出し、ガラス基板４に供給される。
【００４９】
このように、本実施形態では、カップスクラブ洗浄工程において、洗浄剤がスクラブパッド９の内部から表面に浸み出す構成を採用しているため、ガラス基板４とスクラブパッド９との接触部位に直接的に最適量の洗浄剤を供給することができる。また、仮に、スクラブパッド９の表面に、ガラス基板４から除去された微小付着物が一時的に付着したとしても、スクラブパッド９の内部から浸み出した洗浄剤により、当該微小付着物はスクラブパッド９の表面から洗い流され、スクラブパッド９に蓄積されにくい。その結果、ガラス基板４は、スクラブパッド９により再度微小付着物が擦り付けられにくく清浄に維持されやすい。
【００５０】
カップスクラブ洗浄工程で使用する洗浄剤としては、上記したロールスクラブ洗浄工程で使用し得る洗浄剤を使用することができる。
【００５１】
カップスクラブ洗浄工程における洗浄時間は特に限定されず、ガラス基板４の大きさや処理枚数に応じて適宜調整することができ、たとえば５〜１５秒程度とすることができる。洗浄時間をこの範囲内とすることにより、仮にロールスクラブ洗浄工程において、一旦除去された微小付着物が再度ガラス基板４に擦り付けられていた場合であっても、当該微小付着物を充分に除去することができる。
【００５２】
カップスクラブ洗浄工程における洗浄剤の供給量は特に限定されず、ガラス基板４の大きさや処理枚数に応じて適宜調整することができる。洗浄剤の供給量は、たとえば、０．３〜１．０Ｌ／分とすることができる。
【００５３】
以上、本実施形態のスクラブ洗浄工程は、上記したロールスクラブ洗浄工程とカップスクラブ洗浄工程とをこの順で行うことにより、微小付着物を充分に除去することができる。また、本実施形態では、このようにスクラブ洗浄工程においてガラス基板から微小付着物をあらかじめ高効率で除去するため、後続する最終洗浄工程等においてガラス基板の洗浄に要する時間が短縮することができる。その結果、製造工程全体として、洗浄に要する時間を短縮することができる。
【００５４】
＜高周波洗浄工程＞
本実施形態は、上記したスクラブ洗浄工程ののちに、ガラス基板に４３０〜２０００ｋＨｚの高周波を照射する高周波洗浄工程を行うことができる。高周波洗浄工程を行うことにより、高周波による振動加速度により微小付着物などの表面欠陥を高効率で除去することができる。その結果、後発エラーを発生しにくいガラス基板を得ることができる。
【００５５】
高周波洗浄工程は、独立した工程として行ってもよく、最終洗浄工程内の一工程として行ってもよい。以下の説明では、最終洗浄工程の一工程として高周波洗浄工程を行う場合を例に説明する。
【００５６】
＜最終洗浄工程＞
最終洗浄工程は、後述する鏡面研磨工程を経たガラス基板に対して、高周波を照射することによりガラス基板を洗浄し、ガラス基板の主表面および端面の両方に付着した微小付着物を同時に除去して、ガラス基板を清浄に洗浄する工程である。
【００５７】
最終洗浄工程において、ガラス基板は、たとえば数十〜数百枚のガラス基板を１つのホルダに収納した状態で、洗浄槽に浸漬して洗浄される。洗浄槽の数は特に限定されない。ガラス基板は、複数の洗浄槽を用いて洗浄を行う場合にも、ホルダに収容された状態で、各槽を順に移動して洗浄される。複数の洗浄槽を用いる場合、それぞれの槽は、たとえば、第１洗浄槽（アルカリ洗剤を用いた洗浄）、第２洗浄槽（純水洗浄）、第３洗浄槽（中性洗剤を用いた洗浄）、第４洗浄槽（純水洗浄）、第５洗浄槽（イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を用いた洗浄）、第６洗浄槽（ＩＰＡベーパー乾燥）、等に分けられる。本実施形態では、複数の洗浄槽を用いてガラス基板を洗浄する場合において、少なくとも１つの洗浄槽において、後述する高周波洗浄（高周波洗浄工程）を行う場合を例に説明する。たとえば、高周波洗浄は、上記第４洗浄槽において行われる。
【００５８】
本実施の形態において、高周波の周波数は特に限定されず、４３０〜２０００ｋＨｚとすることができる。高周波は、高周波発生器より発生する。
【００５９】
高周波は、ガラス基板の側面方向から照射することができる。このようにガラス基板の側面方向から高周波を照射することにより、上記したスクラブ洗浄工程において除去されずにガラス基板の側面に残存した微小付着物を除去することができる。なお、高周波は、ガラス基板の側面方向だけでなく、主表面方向からも照射してよい。
【００６０】
高周波の照射時間としては特に限定されず、たとえば、１〜７分である。高周波の照射時間が１分未満の場合には、微小付着物を充分に除去できない可能性がある。一方、高周波の照射時間が７分を超える場合には、洗浄効率の向上が認められない可能性がある。
【００６１】
高周波洗浄に際して、同時に溶媒による洗浄を行うことができる。溶媒としては、水素水、水、オゾン水と希フッ酸水溶液、硫酸や有機酸、アルカリ性水溶液、中性水溶液、界面活性剤、キレート剤、蒸留水（純水）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）等を使用することができる。
【００６２】
溶媒として水素水を使用する場合、水素水の溶存水素濃度は、０．５〜１ｐｐｍ（０．５〜１ｍｇ／Ｌ）であることが好ましく、より好ましくは、０．６〜０．８ｐｐｍである。水素水の溶存水素濃度が上記範囲内の場合には、純水中の直進性阻害因子である酸素、窒素が除外されるため高周波洗浄の効率がさらに向上する。水素水の溶存水素濃度が０．５ｐｐｍ未満の場合には、微小付着物を除去するために必要な高周波照射時間が長くなる可能性がある。一方、水素水の溶存水素濃度が１ｐｐｍを超える場合には、水素ガスによるバブリング（気泡）現象が発生しやすく、発生した気泡が高周波の直進性を阻害する可能性があるため、洗浄に要する時間が長くなる傾向がある。
【００６３】
高周波洗浄において、溶媒を循環させながら洗浄を行う場合、循環する溶媒を清浄に維持する観点から、開口径が０．０２μｍのフィルタを用いることが好ましい。これにより、ガラス基板から除去された微小付着物がフィルタに捕捉されるため、微小付着物が洗浄槽内を循環することを防ぐことができる。
【００６４】
次に、本発明において実施し得るその他の工程について説明する。なお、本発明のガラス基板の製造方法は、上記したスクラブ洗浄工程や、好ましくはさらに高周波洗浄工程を有していればよく、その他の工程については特に限定されない。そのため、以下に説明するその他の工程は、例示であり、適宜設計変更を行うことができる。
【００６５】
＜ブランクス製造工程＞
ブランクス製造工程は、ガラス素材を溶融し、溶融したガラス素材からガラスブランクスを得る工程である。
【００６６】
ガラス素材の材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、Ｌｉ２Ｏ−ＳｉＯ２系ガラス、Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス、Ｒ’Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）等を使用することができる。ガラスの溶融方法としては特に限定されず、通常は上記ガラス素材を公知の温度、時間にて高温で溶融する方法を採用することができる。
【００６７】
ガラスブランクスを得る方法としては特に限定されず、たとえば溶融したガラス素材を下型に流し込み、上型によってプレス成型して円板状のガラスブランクスを得る方法を採用することができる。なお、ガラスブランクスは、プレス成型に限られず、たとえばダウンドロー法やフロート法等で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。この成型工程において、ガラスブランクスの表面近傍には、異物や気泡が混入し、あるいはキズがついて、欠陥が発生する。
【００６８】
ガラスブランクスの大きさとしては特に限定されず、たとえば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１インチ、０．８インチ等の種々の大きさのガラスブランクスを作製することができる。ガラス基板の厚みについては特に限定されず、たとえば、２ｍｍ、１ｍｍ、０．８ｍｍ、０．６３ｍｍ等の種々の厚みのガラスブランクスを作製することができる。
【００６９】
プレス成型や切り出しによって作製されたガラスブランクスは、耐熱部材のセッターと交互に積層し、高温の電気炉を通過させることにより、反りの低減やガラスの結晶化を促進させることができる。
【００７０】
＜研削工程＞
研削工程は、ガラスブランクスの両表面を研削加工し、平行度、平坦度および厚みを予備調整する工程である。
【００７１】
研削工程は、ガラスブランクスの主表面を、ラッピング（研削）加工する工程である。ラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行うことができる。具体的には、ラッピング加工は、ガラスブランクスの両主表面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液をガラスブランクスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させる。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラスブランクスを得ることができる。
【００７２】
＜コアリング工程＞
コアリング工程は、ガラスブランクスの中心部に円形の孔（中心孔）を開ける工程である。具体的には、コアリング工程は、たとえば円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ガラスブランクスの中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板を成形する工程である。
【００７３】
＜内周研磨工程＞
内周研磨工程は、ガラスブランクスとスペーサとを１枚ずつ交互に重ねて積層体を作成し、内周端面研磨機により内周端面を研磨する工程である。スペーサとしては特に限定されないが、たとえばポリプロピレン製で厚さ０．３ｍｍ、内径２１ｍｍ、外径６４ｍｍのものを採用することができる。研磨機のブラシ毛は、たとえば直径０．２ｍｍのナイロン繊維を採用することができる。回転ブラシの回転数は、たとえば１００００ｒｐｍとすることができる。内周研磨用研磨液は、たとえばフッ酸系溶剤を含むものを用いることができ、研磨剤としてはたとえば平均一次粒子径３μｍの酸化セリウムを用いることができる。
【００７４】
＜外周研磨工程＞
外周研磨工程は、ガラスブランクスとスペーサとを１枚ずつ交互に重ねて積層体を作成し、外周端面研磨機により外周端面を研磨する工程である。スペーサ、使用する研磨機の研磨条件は、内周研磨工程で採用した条件と同様である。
【００７５】
＜粗研磨工程＞
粗研磨工程（第一研磨工程）は、後述する鏡面研磨工程において最終的に必要とされる面粗さが効率よく得られるように、ガラスブランクスの両主表面を研磨剤スラリーを用いて研磨加工する工程である。この工程で採用される研磨方法としては特に限定されず、両面研磨機を用いて研磨することが可能である。
【００７６】
使用する研磨パッドは、研磨パッドの硬度が研磨による発熱により低下すると研磨面の形状変化が大きくなるため、硬質パッドを使用することができ、たとえば発泡ウレタンを使用することができる。研磨液は、平均一次粒子径が０．６〜２．５μｍの酸化セリウムを使用し、酸化セリウムを溶媒に分散させてスラリー状にしたものが使用できる。溶媒としては特に限定されず、水を使用することができる。また、これら溶媒には、界面活性剤や分散剤を添加することができる。溶媒と酸化セリウムとの混合比率は、１：９〜３：７程度である。平均一次粒子径が０．６μｍ未満の場合には、研磨パッドは、両主表面を良好に研磨できない傾向がある。一方、平均一次粒子径が２．５μｍを超える場合には、研磨パッドは、端面の平坦度を悪化させたり、傷を発生する可能性がある。
【００７７】
研磨剤スラリーの添加量としては特に限定されず、たとえば、１０００〜９０００ｍＬ／分である。
【００７８】
粗研磨工程におけるガラスブランクスの研磨量は、たとえば２５〜４０μｍ程度とすることができる。ガラスブランクスの研磨量が２５μｍ未満の場合には、キズや欠陥が充分に除去されない傾向がある。一方、ガラスブランクスの研磨量が４０μｍを超える場合には、ガラスブランクスは、必要以上に研磨されることになり、製造効率が低下する傾向がある。
【００７９】
粗研磨工程を終えたガラスブランクス（ガラス基板）は、中性洗剤、純水、ＩＰＡ等で洗浄することが好ましい。また、上記のとおり、この時点でスクラブ洗浄工程を行うことができる。
【００８０】
＜化学強化工程＞
化学強化工程は、ガラス基板を強化処理液に浸漬し、ガラス基板の耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させる工程である。
【００８１】
化学強化工程は、ガラス基板に化学強化を施す工程である。化学強化に用いる強化処理液としては、たとえば、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合溶液などを挙げることができる。化学強化においては、強化処理液を３００℃〜４００℃に加熱し、ガラス基板を２００〜３００℃に予熱し、強化処理液中に３〜４時間浸漬することによって行うことができる。この浸漬の際に、ガラス基板の両主表面全体が化学強化されるように、複数のガラス基板の端面を保持するホルダに収納した状態で行うことができる。
【００８２】
なお、化学強化工程後に、ガラス基板を大気中に待機させる待機工程や、水浸漬工程を行い、ガラス基板の表面に付着した強化処理液を除去するとともに、ガラス基板の表面を均質化することができる。このような工程を行うことにより、化学強化層が均質に形成され圧縮歪が均質となり変形が生じ難く平坦度が良好で、機械的強度も良好となる。待機時間や水浸漬工程の水温は特に限定されず、たとえば大気中に１〜６０秒待機させ、３５〜１００℃程度の水に浸漬させることができ、製造効率を考慮して適宜決めればよい。
【００８３】
＜鏡面研磨工程＞
鏡面研磨工程（第二研磨工程）は、ガラス基板の両主表面をさらに精密に研磨加工する工程である。鏡面研磨工程では、粗研磨工程で使用する両面研磨機と同様の両面研磨機を使用することができる。
【００８４】
研磨パッドは、粗研磨工程で使用する研磨パッドよりも低硬度の軟質パッドを使用することができ、例えば発泡ウレタンやスウェードを使用することができる。
【００８５】
研磨剤スラリーとしては、粗研磨工程と同様の酸化セリウム等を含有するスラリーを用いることができる。ガラス基板の表面をより滑らかにするためには、砥粒の粒径がより細かくバラツキが少ない研磨剤スラリーを用いることができる。たとえば、平均粒径が２０〜７０ｎｍのコロイダルシリカを溶媒に分散させてスラリー状にしたものを研磨剤スラリーとして用いることができる。溶媒としては特に限定されず、水を使用することができる。また、これら溶媒には、界面活性材や分散剤を添加することができる。溶媒とコロイダルシリカとの混合比率は、１：９〜３：７程度とすることができる。
【００８６】
研磨剤スラリーの添加量としては特に限定されず、たとえば、１００〜６００ｍＬ／分とすることができる。
【００８７】
鏡面研磨工程での研磨量は、２〜５μｍ程度とすることができる。研磨量をこのような範囲とすることにより、得られるガラス基板は、ガラス基板の表面に発生した微小な荒れやうねり、あるいはこれまでの工程で発生した微小なキズ痕といった微小欠陥が良好に除去される。その結果、本発明のガラス基板の製造方法は、得られるガラス基板の平坦度を向上させることができ、端部領域において磁気ヘッドがより安定して浮上し得るガラス基板を作製することができる。
【００８８】
また、本工程では、鏡面研磨工程の研磨条件を適宜調整することにより、ガラス基板の両主表面の平坦度を３μｍ以下、ガラス基板の両主表面の面粗さＲａを０．１ｎｍまで小さくすることができる。
【００８９】
上記のとおり、鏡面研磨工程を経たガラス基板に対してスクラブ洗浄を行うことができる。
【００９０】
＜スクラブ洗浄工程＞
スクラブ洗浄工程は、すでに上記したとおりである。本実施の形態では、スクラブ洗浄工程において、ロールスクラブ洗浄工程とカップスクラブ洗浄工程とをこの順で行う。また、ロールスクラブ洗浄工程において、洗浄剤をスクラブパッドの上方から供給し、カップスクラブ洗浄工程において、洗浄剤をスクラブパッドの内部から供給する。本実施形態では、このようなスクラブ洗浄工程を行うことにより、効率よくガラス基板を洗浄することができるとともに、微小付着物を効率的に除去することができる。
【００９１】
＜最終洗浄工程＞
最終洗浄工程は、すでに上記したとおりである。本実施の形態では、最終洗浄工程において高周波洗浄を行うことができる。そのため、ガラス基板から微小付着物をより確実に除去できる。その結果、得られるガラス基板は後発エラーを起こしにくい。
【００９２】
最終洗浄工程を経たガラス基板は、キズ、割れ、異物の付着等の有無が検査されたのち、異物等が表面に付着しないように、清浄な環境中で専用収納カセットに収納し、真空パックした後に出荷することができる。
【００９３】
＜磁性膜形成工程＞
磁性膜形成工程は、蒸着装置を用いてガラス基板に磁性膜を形成する工程である。磁性膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。たとえば、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法を採用することができる。スピンコート法での膜厚は約０．３〜１．２μｍ程度、スパッタリング法での膜厚は０．０４〜０．０８μｍ程度、無電解めっき法での膜厚は０．０５〜０．１μｍ程度である。これらの形成方法により磁性膜を成膜する場合、磁性膜の種類によっては、ガラス基板は、１００〜５００℃程度に保持される。
【００９４】
磁性膜に用いる磁性材料としては特に限定されず、従来公知の磁性材料を用いることができる。高い保磁力を得るために、結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などを用いることができる。
【００９５】
また、記録用のメディアを作製する場合には、Ｃｏ−Ｐｔ合金のように、遷移金属元素と貴金属元素とからなる合金であって、遷移金属元素（Ｃｏ）と貴金属元素（Ｐｔ）との原子含有量がほぼ等しい合金や、遷移金属元素（Ｃｏ）と貴金属元素（Ｐｔ）との原子含有量がほぼ等しく、かつ、Ｎｉの原子含有量が０．１％以上５０％以下であるＣｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金や、遷移金属元素（Ｃｏ及びＮｉ）と貴金属元素（Ｐｔ）との原子含有量がほぼ等しいＣｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金や、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金や、Ｆｅ−Ｐｔ合金と、Ｃｕ酸化物とを含有した薄膜を形成することが好ましい。この場合、薄膜の下部には、ソフト磁性層（保磁力の小さな材料、Ｃｏ系アモルファスなど）を積層することができる。
【００９６】
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために、磁性膜の表面に潤滑剤をコーティングしてもよい。
【００９７】
さらに必要に応じて、磁性膜には、下地層や保護層を設けてもよい。下地層および保護層は、磁性膜の種類に応じて選択される。
【００９８】
以上、本実施の形態のガラス基板の製造方法によれば、効率よくガラス基板を洗浄することができ、得られるガラス基板に微小付着物が少なく、後発エラーの発生を抑制することができるＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することができる。
【００９９】
なお、本発明は、ＨＤＤの製造方法に限定されるものではなく、たとえば、光磁気ディスクや光ディスク等の製造方法としても用いることができる。
【０１００】
また、本発明は、必要に応じて、研削工程を２つの工程に分けて順次行ったり、化学強化工程をコアリング工程、研削工程、粗研磨工程、鏡面研磨工程のいずれの工程の後に行ってもよく、適宜設計変更が可能である。
【０１０１】
さらに、本発明は、ガラス基板に生じた傷のエッジ緩和処理として、ガラス基板をフッ化水素浸漬処理に供してもよい。
【実施例】
【０１０２】
以下、本発明のガラス基板の製造方法について実施例により詳述する。なお、本発明のガラス基板の製造方法は、以下に示す実施例になんら限定されるものではない。
【０１０３】
＜実施例１＞
以下の方法によりガラス基板を作製した。
【０１０４】
［ブランクス製造工程］
ガラス素材として、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｒ２Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラスを用い、溶融したガラス素材をプレス成形して、外径が６７ｍｍの円板状のガラスブランクスを作製した。ガラスブランクスの厚みは１．０ｍｍとした。
【０１０５】
［第一研削工程］
ガラスブランクスの両主表面を、両面研磨機（浜井産業（株）製、１６Ｂタイプ）を用いて粗研磨加工した。研磨パッドには平均一次粒子径９μｍのダイヤモンド砥粒が樹脂パッドに埋没された研磨パッド用い、研磨水として水と冷却材を９：１で混合したものを用いた。また、加重は２００ｇ／ｃｍ２とした。研磨剤スラリーの添加量は、４．５Ｌ／分とした。
【０１０６】
［コアリング］
円筒状のダイヤモンド砥石を備えたコアドリルを用いてガラスブランクスの中心部に直径が約１９．６ｍｍの円形の中心孔を開けた。鼓状のダイヤモンド砥石を用いて、ガラスブランクスの外周端面および内周端面を、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍに内・外径加工した。
【０１０７】
［内周研磨・外周研磨工程］
ガラスブランクスを１００枚重ね、この状態で、ガラスブランクスの外周端面および内周端面を、端面研磨機（（株）舘野機械製作所製、ＴＫＶ−１）を用いて研磨加工した。研磨機のブラシ毛として、直径が０．２ｍｍのナイロン繊維を用いた。研磨液は、平均一次粒子径が３μｍの酸化セリウムを砥粒（研磨液成分）として含有するスラリーを用いた。
【０１０８】
［粗研磨工程］
ガラスブランクス（ガラス基板）の両主表面を、両面研磨機（浜井産業（株）製、１６Ｂタイプ）を用いて粗研磨加工した。研磨パッドには発泡ウレタンパッドを、砥粒には平均一次粒子径１μｍの酸化セリウム砥粒を用い、水と酸化セリウムとの混合比率は、８０：２０とした。さらに硫酸を含有する調整液でｐＨを調整した。また、加重は１００ｇ／ｃｍ２とした。研磨剤スラリーの添加量は、８０００ｍＬ／分とした。
【０１０９】
［化学強化工程］
硝酸ナトリウム：硝酸カリウムを３：７混合した強化塩を３００℃にて溶融し、ガラス基板を３０分間浸漬させた。これにより、ガラス基板の内周端面および外周端面のリチウムイオンおよびナトリウムイオンを、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換させ、ガラス基板を強化した。
【０１１０】
［鏡面研磨工程］
ガラス基板の両主表面を、両面研磨機（浜井産業（株）製、１６Ｂタイプ）を用いてさらに精密に研磨加工した。研磨剤スラリーは、平均一次粒子径が２０ｎｍのコロイダルシリカを砥粒として水に分散させてスラリー状にしたものを用い、水とコロイダルシリカとの混合比率は、８０：２０とした。さらに硫酸を含有する調整液でｐＨを調整した。また、加重は１２０ｇ／ｃｍ２とした。研磨剤スラリーの添加量は、５００ｍＬ／分とした。本工程では、ガラス基板１００枚を１バッチとし、５バッチずつ加工した。得られたガラス基板のＲａは２Å以下であった。
【０１１１】
［スクラブ洗浄工程］
スクラブ洗浄工程は、２段階に分けて実施した。
【０１１２】
１段階目として、図１に示されるロールスクラブ洗浄装置を用いてガラス基板をロールスクラブ洗浄した。洗浄剤は濃度３％の酸性洗剤を使用し、スクラブパッドの上方からかけ流した。洗浄剤の供給量は、１．０Ｌ／分とした。ガラス基板の回転数（回転速度）は６００ｒｐｍとした。洗浄時間は、１０秒とした。
【０１１３】
次に、２段階目として、図２に示されるカップスクラブ洗浄装置を用いてガラス基板をカップスクラブ洗浄した。洗浄剤は濃度３％の酸性洗剤を使用し、スクラブパッドの内部から浸み出させた。洗浄剤の供給量は、０．５Ｌ／分とした。ガラス基板の回転数（回転速度）は１１０ｒｐｍとした。洗浄時間は、１０秒とした。
【０１１４】
［最終洗浄工程］
１００枚のガラス基板をホルダに配置した。洗浄は、アルカリ洗剤槽（８０ｋＨｚ）、純水槽（８０ｋＨｚ）、中性洗剤槽（１２０ｋＨｚ）、純水槽（１２０ｋＨｚ）、ＩＰＡ、ＩＰＡベーパー乾燥の順で各洗浄槽に順次浸漬することにより行った。各槽に要した時間は、５分とした。
【０１１５】
通常は、最終洗浄工程を経たガラス基板に磁気薄膜層を成膜して、情報記録媒体（磁気ディスク記録媒体）を作製するが、後述する条件にてグライドテストを実施するために、ガラス基板上にＦ系潤滑層のみを製膜した。潤滑剤としてはモンテジソン社製のＦｏｍｂｌｉｎＺ−ｔｅｔｒａｏｌ２０００ｓを使用した。ディップ法によって膜厚約１．５〜２．０ｎｍの潤滑層を形成した。
【０１１６】
＜実施例２＞
最終洗浄工程において、高周波洗浄工程を行った以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。最終洗浄工程の詳細を以下に示す。
【０１１７】
［最終洗浄工程］
１００枚のガラス基板をホルダに配置した。洗浄は、アルカリ洗剤槽（８０ｋＨｚ）、純水槽（８０ｋＨｚ）、中性洗剤槽（１２０ｋＨｚ）、純水槽（１２０ｋＨｚ）、高周波洗浄槽（純水、４３０ｋＨｚ）、ＩＰＡ、ＩＰＡベーパー乾燥の順で各洗浄槽に順次浸漬することにより行った。高周波は５分間照射した。
【０１１８】
＜実施例３＞
実施例２において上記した工程のうち、高周波洗浄槽において純水の代わりに、純水を脱気した後に水素を０．７ｐｐｍ溶解させた水素水を使用した以外は、実施例２と同様の方法によりガラス基板を作製した。
【０１１９】
＜実施例４＞
実施例３において上記した工程のうち、高周波洗浄槽において口径０．０２μｍのフィルタを介してポンプ循環させた以外は、実施例３と同様の方法によりガラス基板を作製した。
【０１２０】
＜比較例１＞
スクラブ洗浄工程において、カップスクラブ洗浄工程を行わず、実施例１の１段階目で行ったロールスクラブ洗浄を１段階目、２段階目ともに行った以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。
【０１２１】
＜比較例２＞
スクラブ洗浄工程において、ロールスクラブ洗浄を行わず、１段階目、２段階目ともに、図４に示されるカップスクラブ洗浄装置１３を用いて、洗浄剤をかけ流す方法によりガラス基板４に供給してカップスクラブ洗浄を行った以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。洗浄剤の供給量は、１．０Ｌ／分とした。
【０１２２】
＜比較例３＞
スクラブ洗浄工程において、１段階目として比較例２の１段階目で行ったカップスクラブ洗浄を行い、２段階目として実施例１の１段階目で行ったロールスクラブ洗浄を行った以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。
【０１２３】
＜比較例４＞
スクラブ洗浄工程において、１段階目として実施例１の１段階目で行ったロールスクラブ洗浄を行い、２段階目として比較例２の２段階目で行ったカップスクラブ洗浄を行った以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。
【０１２４】
＜比較例５＞
スクラブ洗浄工程において、１段階目として図５に示されるロールスクラブ洗浄装置１４を用いて、洗浄剤を浸み出させる方法によりガラス基板４に供給してロールスクラブ洗浄を行った。図６は、ローラ２とスクラブパッド３との構成を説明する概略図である。図６に示されるように、ローラ２は、内部に洗浄剤の供給経路１５を有し、表面に洗浄剤の吐出孔１６を有する。スクラブパッド３は、ローラ２に装着することができる。ローラ２の吐出孔１６から吐出された洗浄剤は、スクラブパッド３の内部（裏面）から表面に浸み出し、ガラス基板に供給される。このときの洗浄剤の供給量は、０．５Ｌ／分とした。２段階目として実施例１の２段階目で行ったカップスクラブ洗浄を行った以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。
【０１２５】
＜比較例６＞
スクラブ洗浄工程において、１段階目として比較例５の１段階目で行ったロールスクラブ洗浄を行い、２段階目として比較例１の２段階目で行ったカップスクラブ洗浄を行った以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。
【０１２６】
実施例１〜４および比較例１〜６で得られたガラス基板について、グライドテストを行った。試験方法を以下に示すとともに、結果を表１に示す。
【０１２７】
［グライドテスト］
図７に示す機構を採用してグライドテストを実施した。図７に示されるように、磁気ヘッドＭＨはサスペンションＳにより保持されるように構成した。ガラス基板４の上に形成された潤滑層の表面からの磁気ヘッドＭＨの浮上量ｈ（浮上高さ）は約１．５〜２．０ｎｍとした。グライドテストでは、潤滑層を形成したガラス基板の表面とヘッドが接触したときに発生する信号を検出して、規定値以上の信号が検出されたときにエラーとしてカウントした。
【０１２８】
通常はガラス基板４上に磁気薄膜層を成膜して、情報記録媒体（磁気ディスク記録媒体）の状態で試験を行なうが、今回はガラス基板４上に潤滑層のみを形成してグライドテストを実施した。これは、仮に、ガラス基板４上に付着物Ｐが存在している状態で付着物Ｐの上に磁気薄膜層（約１００ｎｍ）を形成すると、付着物Ｐが成膜の過程により徐々に埋没し、過酷な試験とならないためである。本発明の評価方法では、ガラス基板４上には潤滑層（約数ｎｍ）のみを形成してグライドテストを行なったため、より過酷な試験で評価したといえる。
【０１２９】
グライドテストの結果を表１に示す。各実施例および比較例においては、１００枚のガラス基板に対してグライドテストを行ない、エラーを発生した枚数を計数した。
【０１３０】
【表１】
0006034580.tif 000002
【０１３１】
表１に示されるように、実施例１〜４で得られたガラス基板は、スクラブ洗浄工程をロールスクラブ洗浄工程、カップスクラブ洗浄工程の順で行い、ロールスクラブ洗浄工程では、洗浄液をかけ流しにより供給し、カップスクラブ洗浄工程では、洗浄液を浸み出しにより供給したため、ガラス基板を清浄に洗浄できた。そのため、グライドテストにおいて、後発エラーを起こすガラス基板（磁気ディスク）の枚数が１００枚中５枚以下となった。一方、スクラブ洗浄工程における洗浄工程の順序や洗浄剤の供給方法を実施例以外の方法で行った比較例１〜６では、ガラス基板を清浄に洗浄できなかったため、後発エラーを起こすガラス基板の枚数が１００枚中１４〜２０枚となった。
【符号の説明】
【０１３２】
１、１４  ロールスクラブ洗浄装置
２、８  ロール
３、９  スクラブパッド
４  ガラス基板
５、１０  回転支持ローラ
６  洗浄剤吐出ノズル
７、１３  カップスクラブ戦場装置
１１、１５  供給経路
１２、１６  吐出孔
ｈ  浮上量
ＭＨ  磁気ヘッド
Ｐ  付着物
Ｓ  サスペンション
【図１】
0006034580.tif 000003
【図２】
0006034580.tif 000004
【図３】
0006034580.tif 000005
【図４】
0006034580.tif 000006
【図５】
0006034580.tif 000007
【図６】
0006034580.tif 000008
【図７】
0006034580.tif 000009