(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
左眼用映像及び右眼用映像を発生させる映像発生部と、
前記映像発生部の上部に位置し、右眼用映像を通過させる第１の領域及び左眼用映像を通過させる第２の領域を含む３Ｄフィルター層と、
前記映像発生部と３Ｄフィルター層との間に位置し、前記第１の領域と第２の領域との境界部に対応する位置に形成される遮光パターンと、
を含み、
前記遮光パターンが硬化した相変化インク組成物で形成され、前記相変化インク組成物は、活性エネルギー線の照射によって硬化する組成物であって、硬化前の融点が５０℃〜１２０℃であり、硬化後には５０〜２００℃の温度範囲で固状である、立体映像表示装置。
【請求項２】
前記相変化インク組成物は、
相変化物質３〜９３重量部と、
着色剤３〜３０重量部と、
反応性モノマー、オリゴマー又はこれらの混合物３〜９０重量部と、
光重合開始剤、光架橋増感剤又はこれらの混合物０．１〜１０重量部と、
を含む、請求項１に記載の立体映像表示装置。
【請求項３】
前記遮光パターンは、線幅が１０μｍ〜１５０μｍである、請求項１又は２に記載の立体映像表示装置。
【請求項４】
前記遮光パターンは、線高が０．３μｍ〜５μｍである、請求項１から３のいずれか一項に記載の立体映像表示装置。
【請求項５】
前記遮光パターンは、縦横比が１％〜２０％である、請求項１から４のいずれか一項に記載の立体映像表示装置。
【請求項６】
前記遮光パターンは上面に平坦面を含み、前記平坦面の最大粗さＲｍａｘが１００ｎｍ以下である、請求項１から５のいずれか一項に記載の立体映像表示装置。
【請求項７】
前記映像発生部と３Ｄフィルター層との間に接着層をさらに含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の立体映像表示装置。
【請求項８】
（ａ）映像発生部の上部又は３Ｄフィルター層の下部に相変化インク組成物を塗布して、３Ｄフィルター層の第１の領域と第２の領域との境界部に対応する位置に遮光パターンを形成する段階と、
（ｂ）映像発生部の上部に３Ｄフィルター層を積層する段階と、
（ｃ）活性エネルギー線を照射して前記遮光パターンを硬化させる段階と、
を含み、
前記相変化インク組成物は、融点が５０℃〜１２０℃であり、活性エネルギー線の照射によって硬化された後には再加熱しても５０〜２００℃の温度範囲で固状である、立体映像表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記塗布は、前記相変化インク組成物の融点をＴｂとしたとき、Ｔｂ℃〜（Ｔｂ＋１００）℃で行われる、請求項８に記載の立体映像表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記（ａ）段階又は（ｂ）段階の後に前記遮光パターンを加圧する段階をさらに含む、請求項８又は９に記載の立体映像表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記加圧する段階は、前記相変化インク組成物の融点をＴｂとしたとき、（Ｔｂ−２０）℃〜（Ｔｂ＋１５）℃で行われる、請求項１０に記載の立体映像表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記加圧する段階は、０．０１〜５０ＭＰａの圧力で行われる、請求項１０に記載の立体映像表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、相変化インク組成物を用いて形成された遮光パターンを含む立体映像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に３次元を表現する立体感は、両目の視差、即ち、約６５ｍｍ離れている両目間の間隔による両眼視差によって発生する。即ち、人体の左右の目がそれぞれ互いに連関した２次元映像を見るとき、これらの二つの映像が網膜を介して脳に伝達されると、脳はこれらを融合して本来の３次元映像の奥行き感と実在感を再生するようになる。このような能力を立体画法（ｓｔｅｒｅｏｇｒａｐｈｙ）という。
【０００３】
よって、上記のような原理を用いて２次元の画面に３次元立体映像を具現する立体映像表示装置が提案されている。現在提案されている立体映像表示装置は、メガネ方式と無メガネ方式に分けられる。メガネ方式の立体映像表示装置は、一般に左眼用映像と右眼用映像を発生させる映像発生部と、映像発生部で発生した左眼用映像と右眼用映像の偏光方向を変更する３Ｄフィルター層と、を含み、上記３Ｄフィルター層を透過した左眼用映像及び右眼用映像が左眼レンズと右眼レンズでそれぞれ分離されて透過し、視聴者の脳で３次元の映像が認識されることができるようにする。
【０００４】
一方、映像発生部で発生した映像は多様な進行方向に進行するため、一部の左眼用映像が右眼領域に伝達されたり一部の右眼用映像が左眼領域に伝達されて左眼用映像と右眼用映像が重なって見えることがある。これをクロストーク（ｃｒｏｓｓ‐ｔａｌｋ）現象という。クロストーク現象が発生すると、映像が不鮮明に見えてめまいが感じられる可能性があるという問題がある。
【０００５】
よって、クロストーク領域を最小化するために、カラーフィルター基板に形成されるブラックマトリックスが３Ｄフィルター層の左眼領域と右眼領域との境界部に位置するようにカラーフィルター基板と３Ｄフィルター層を配列する方案が提案された。しかしながら、この方法には、カラーフィルターに形成されたブラックマトリックスと３Ｄフィルター層の間に基板が存在することから基板の厚さに該当する光経路誤差が発生し、実際にはカラーフィルターのブラックマトリックスが左眼領域と右眼領域との境界部に正確に位置するように整列することが非常に困難であるという問題がある。
【０００６】
従来は、上記のような問題を解決するためにブラックマトリックスの幅を大きくすることにより、光経路誤差とパターン合わせ誤差を相殺した。しかしながら、この場合、光が遮断される量が増加して映像表示装置の輝度が減少するという問題がある。
【０００７】
また、従来は、ブラックマトリックスを形成するために、フォトリソグラフィー方式又は溶剤、不飽和二重結合を含むモノマー／オリゴマー、顔料又は染料、光開始剤及び添加剤を含む硬化型インクをプリンティングする方式等が主に用いられた。しかしながら、フォトリソグラフィー方式は、不要な材料の消耗が多くて工程が複雑であり、硬化型インクは、広がり性が大きくて基材の表面状態によって線幅の変化が大きく、乾燥時にパターンの中心部と縁部の溶剤の揮発速度の差によって表面が平らでなく凸状又は凹状のパターンが形成されてパターンの線高が一定でないという問題がある。このようにパターンの線幅及び線高が一定でない場合は、優れたクロストーク防止効果を得るのが困難である。また、このような硬化型インク組成物でパターンを形成すると、高縦横比のパターンを形成するのが困難であるため、６０μｍ以下の微細な線を具現するときにパターンの高さが低くなり、その結果、十分な遮光効果を具現することができないという問題もある。
【０００８】
よって、立体映像表示装置の輝度の低下を最小化し且つクロストークを効果的に低減することができる立体映像表示装置の開発が求められている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記のような問題を解決するためのものであり、相変化インク組成物を用いて微細であり且つ精巧な遮光パターンを形成することによりクロストーク（ｃｒｏｓｓ  ｔａｌｋ）現象を改善した立体映像表示装置を提供することを目的とする。
【００１０】
また、本発明は、クロストーク領域を減らすことができる立体映像表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
本発明の課題は上述した内容に限定されない。本発明の課題は本明細書の内容全般にわたって理解されることができるものであり、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者であれば本発明の付加的な課題を理解するのに何の困難もないはずである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明によれば、左眼用映像及び右眼用映像を発生させる映像発生部と、上記映像発生部の上部に位置し、右眼用映像を通過させる第１の領域及び左眼用映像を通過させる第２の領域を含む３Ｄフィルター層と、上記映像発生部と３Ｄフィルター層との間に位置し、上記第１の領域と第２の領域との境界部に対応する位置に形成される遮光パターンと、を含み、上記遮光パターンが相変化インク組成物で形成される立体映像表示装置が提供される。
【００１３】
この際、上記相変化インク組成物は、相変化物質３〜９３重量部と、着色剤３〜３０重量部と、反応性モノマー、オリゴマー又はこれらの混合物３〜９０重量部と、光重合開始剤、光架橋増感剤又はこれらの混合物０．１〜１０重量部と、含み、融点が５０℃〜１２０℃である。
【００１４】
一方、上記相変化インク組成物は、必要に応じて、高分子バインダー、溶剤、分散剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤又は熱重合防止剤等をさらに含むことができる。
【００１５】
また、上記相変化インク組成物は、活性エネルギー線の照射によって硬化された後には再加熱しても５０℃〜２００℃の温度範囲で固状であることが好ましい。
【００１６】
一方、本発明の立体映像表示装置において、上記遮光パターンは線幅が１０〜１５０μｍ程度であることが好ましく、線高は０．３〜５μｍであることが好ましいが、これに限定されるものではない。より具体的には、上記遮光パターンの線幅及び線高は、適用される立体映像表示装置のサイズと解像度等によって変わっても良く、例えば、４０インチ級のＦｕｌｌ‐ＨＤ  ＴＶでは、上記遮光パターンの線幅が５０μｍ程度であり、線高が２μｍ程度であることが好ましい。
【００１７】
上記遮光パターンは、線幅に対する線高の比率（線高／線幅）である縦横比が１％〜２０％程度であることがより好ましい。
【００１８】
また、上記遮光パターンは、上面に平坦面を含むことが好ましく、この際、上記平坦面は、その幅が遮光パターンの線幅に対して５０％〜１００％程度であることが好ましく、その最大粗さＲｍａｘが１００ｎｍ以下、好ましくは０．１ｎｍ〜５０ｎｍ以下である。
【００１９】
一方、上記映像発生部と３Ｄフィルター層との間に接着層をさらに含むことができる。
【００２０】
本発明の他の実施形態によれば、（ａ）映像発生部の上部又は３Ｄフィルター層の下部に相変化インク組成物を塗布して、３Ｄフィルター層の第１の領域と第２の領域との境界部に対応する位置に遮光パターンを形成する段階と、（ｂ）映像発生部の上部に３Ｄフィルター層を積層する段階と、（ｃ）活性エネルギー線を照射して上記遮光パターンを硬化させる段階と、を含む立体映像表示装置の製造方法が提供される。
【００２１】
この際、上記塗布は、上記相変化インク組成物の融点をＴｂとしたとき、Ｔｂ℃〜（Ｔｂ＋１００）℃で行われることが好ましい。
【００２２】
また、上記（ａ）段階及び（ｂ）段階のいずれか一つの段階の後に上記遮光パターンを加圧する段階をさらに含むことが好ましい。
【００２３】
また、上記加圧する段階は、上記相変化インク組成物の融点をＴｂとしたとき、（Ｔｂ−２０）℃〜（Ｔｂ＋１５）℃で行われることが好ましい。
【００２４】
また、上記加圧する段階は０．０１〜５０ＭＰａの圧力で行われることが好ましい。
【００２５】
なお、上述した課題を解決するための手段は、本発明の特徴を全て列挙したものではない。本発明の多様な特徴とそれによる長所と効果は、後述する具体的な実施形態を参照してより詳細に理解されるはずである。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の立体映像表示装置は、相変化インク組成物を用いて微細で且つ均一な線高と線幅を有する遮光パターンを形成することにより、輝度の低下を最小化し且つクロストーク（Ｃｒｏｓｓ  Ｔａｌｋ）現象を効果的に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態による立体映像表示装置を示す図である。
【図２】本発明の他の実施形態による立体映像表示装置を示す図である。
【図３】本発明のさらに他の実施形態による立体映像表示装置を示す図である。
【図４】本発明の一実施形態による遮光パターンの形成方法を示す模式図である。
【図５】実施例５の線パターンをガラス基板に垂直に且つパターンの長さ方向に垂直に切断した断面のプロファイルである。
【図６】実験例４のクロストーク測定結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下では、本発明をより具体的に説明する。
【００２９】
本発明の発明者らは、輝度の低下を最小化し且つ立体映像表示装置のクロストーク現象を改善することができる立体映像表示装置を開発するために研究を重ねた結果、相変化インク組成物を用いた遮光パターンを有する本発明の立体映像表示装置を開発するに至った。
【００３０】
より具体的には、本発明の立体映像表示装置は、左眼用映像及び右眼用映像を発生させる映像発生部と、上記映像発生部の上部に位置し、右眼用映像を通過させる第１の領域及び左眼用映像を通過させる第２の領域を含む３Ｄフィルター層と、上記映像発生部と３Ｄフィルター層との間に位置し、上記第１の領域と第２の領域との境界部に対応する位置に形成される遮光パターンと、を含み、上記遮光パターンが相変化インク組成物で形成されることを特徴とする。
【００３１】
図１〜図３には、本発明の立体映像表示装置の多様な具現例が示されている。以下では、図１〜図３を参照して、本発明による立体映像表示装置の各構成要素をより詳細に説明する。
【００３２】
図１〜図３に示されているように、本発明による立体映像表示装置は、映像発生部２０と、３Ｄフィルター層３０と、遮光パターン４０と、を含み、必要に応じて、映像発生部２０に光を供給するためのバックライトユニット１０をさらに含むことができる。
【００３３】
上記映像発生部２０は、左眼用映像及び右眼用映像を発生させるものである。上記映像発生部２０としては、映像を発生させることができる表示パネル、例えば、ＬＣＤパネル、ＰＤＰパネル、ＯＬＥＤパネル、ＬＥＤ‐アレイパネル、ＦＥＤパネル等を制限なしに用いることができる。例えば、上記映像発生部２０は、図１〜図３に示されているように、上部基板２２、下部基板２１及び上記上部基板２２と下部基板２１との間に配置される液晶セル２３を含む表示パネルであれば良いが、これに限定されるものではない。この際、上記上部基板２２及び下部基板２１はそれぞれカラーフィルター基板及び薄膜トランジスタアレイ基板であれば良い。
【００３４】
上記３Ｄフィルター層３０は、上記映像発生部２０で発生した左眼用映像と右眼用映像の偏光状態を変化させるためのものであり、上記映像発生部２０の上部に位置し、右眼用映像を通過させる第１の領域３１及び左眼用映像を通過させる第２の領域３２を含む。上記第１の領域３１及び第２の領域３２は入射する光の光軸を変更させることにより光の偏光状態を変化させるが、第１の領域３１と第２の領域３２の光軸変更程度が相違することから左眼用映像と右眼用映像が相違した偏光状態を有するようになり、その結果、右眼用映像は右眼レンズのみを透過し、左眼用映像は左眼レンズのみを透過するようになる。このような３Ｄフィルター層によって立体映像が具現される原理は当該技術分野で広く知られているため、その具体的な説明を省略する。
【００３５】
一方、本発明において、上記３Ｄフィルター層３０の上記第１の領域３１及び第２の領域３２は、交互に配列されて形成され、例えば、ストライプパターン又は格子パターン等のように形成されることができる。
【００３６】
一方、上述したように、立体映像表示装置において立体的な映像を認知するためには左眼映像が視聴者の左眼のみに認知されると共に右眼映像が視聴者の右眼のみに認知されるべきであるが、視聴者の左眼に右眼映像が認知されたり視聴者の右眼に左眼映像が認知されたりする場合が発生する。このような現象を映像の混線又はクロストーク（Ｃｒｏｓｓ  Ｔａｌｋ）現象という。これにより、従来の立体映像ディスプレー装置には、左眼映像と右眼映像のクロストーク（Ｃｒｏｓｓ  Ｔａｌｋ）現象によって画質が低下するという問題がある。
【００３７】
本発明は、上記のようなクロストークを防止するために、上記映像発生部２０と３Ｄフィルター層３０との間に遮光パターン４０を含む。この際、上記遮光パターン４０は、ブラックマトリックス（ｂｌａｃｋ  ｍａｔｒｉｘ）又はストライプ（ｓｔｒｉｐｅ）と呼ばれるもの等を含む概念であり、その他に当該技術分野で光の進行を遮断するために通常用いる全ての概念を含む。
【００３８】
一方、本発明において、上記遮光パターン４０は、相変化インク組成物を用いて形成されることを特徴とする。この際、相変化インクとは、常温では固体で存在するが、インクジェット装置の動作温度では液体に変わって液状で噴射されて印刷媒体に付着され、付着後に急速に凝固されてパターンを形成するインクのことである。
【００３９】
上述したように、ブラックマトリックスの形成のために用いられていた既存の硬化型インクの場合、広がり性が高いため、均一な線幅、線高及び高縦横比を有するパターンを形成するのが困難であるという問題があった。しかしながら、相変化インクを用いると、吐出と同時に固化がなされるため、基材の表面状態にかかわらず均一な線幅及び線高を有するパターンを形成することができ、微細な線幅を有し且つ一定レベル以上の線高を均一に維持することができるため、高縦横比のパターンの形成が可能となる。
【００４０】
より具体的には、本発明において使用可能な上記相変化インク組成物は、相変化物質と、着色剤と、反応性モノマー、オリゴマー又はこれらの混合物と、光重合開始剤、光架橋増感剤又はこれらの混合物と、を含むことができる。
【００４１】
この際、上記相変化物質は、相変化インクの全含量に対し、３〜９３重量部程度であることが好ましく、例えば、４〜８０重量部又は１０〜７０重量部程度であれば良い。この際、上記相変化物質の含量が３重量部未満の場合は、相変化特性を有することができず、相変化物質の含量が９３重量部を超える場合は、その結果として黒色を示す材料の使用量が制限されてパターンの光遮断性が十分ではない可能性がある。
【００４２】
一方、上記相変化物質は、特に限定されず、常温で固体である脂肪酸、高級アルコール及びワックス類からなる群から選択された１種以上であれば良く、具体的な例としては、脂肪酸としてデカン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸、ノナデカン酸、エイコサン酸、ヘンエイコサン酸、ドコサン酸、トリコサン酸、テトラコサン酸、ペンタコサン酸、ヘキサコサン酸、ヘプタコサン酸、オクタコサン酸、ノナコサン酸、トリアコンタン酸、ヘントリアコンタン酸、ドトリアコンタン酸、トリトリアコンタン酸、テトラトリアコンタン酸、ペンタトリアコンタン酸、ヘキサトリアコンタン酸；高級アルコールとしてデカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタデカノール、ノナデカノール、エイコサノール、ヘネイコサノール、ドコサノール、トリコサノール、テトラコサノール、ペンタコサノール、ヘキサコサノール、ヘプタコサノール、オクタコサノール、ノナコサノール、トリアコンタノール、ヘントリアコンタノール、ドトリアコンタノール、トリトリアコンタノール、テトラトリアコンタノール、ペンタトリアコンタノール、ヘキサトリアコンタノール；ワックス類として鉱物由来の、パラフィンワックス、微結晶ワックス、バンダルワックス、オゾケライト、セレシン、モンタンワックス、植物由来のカルナウバワックス、オウリキュウリワックス、キャンデリラワックス、木蝋、ココナッツバター、動物由来の蜜蝋、鯨蝋、合成ワックスとしてポリエチレンワックス、ポリオキシエチレングリコールワックス、ハロゲン炭化水素ワックス又はワックスエステル等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００４３】
上記着色剤は、特に限定されず、顔料や染料であれば良く、顔料としては、無機顔料と有機顔料を全て用いることができる。着色剤の具体的な例としては、特に限定されず、１種以上の顔料、染料又はこれらの混合物が挙げられ、使用可能な黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、黒鉛、又は金属酸化物等がある。上記カーボンブラックの例としては、シースト５ＨＩＩＳＡＦ‐ＨＳ、シーストＫＨ、シースト３ＨＨＡＦ‐ＨＳ、シーストＮＨ、シースト３Ｍ、シースト３００ＨＡＦ‐ＬＳ、シースト１１６ＨＭＭＡＦ‐ＨＳ、シースト１１６ＭＡＦ、シーストＦＭＦＥＦ‐ＨＳ、シーストＳＯＦＥＦ、シーストＶＧＰＦ、シーストＳＶＨＳＲＦ‐ＨＳ及びシーストＳＳＲＦ（東海カーボン(株)）；ダイヤブラックＩＩ、ダイヤブラックＮ３３９、ダイヤブラックＳＨ、ダイヤブラックＨ、ダイヤＬＨ、ダイヤＨＡ、ダイヤＳＦ、ダイヤＮ５５０Ｍ、ダイヤＭ、ダイヤＥ、ダイヤＧ、ダイヤＲ、ダイヤＮ７６０Ｍ、ダイヤＬＲ、＃２７００、＃２６００、＃２４００、＃２３５０、＃２３００、＃２２００、＃１０００、＃９８０、＃９００、ＭＣＦ８８、＃５２、＃５０、＃４７、＃４５、＃４５Ｌ、＃２５、＃ＣＦ９、＃９５、＃３０３０、＃３０５０、ＭＡ７、ＭＡ７７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ４０、ＯＩＬ７Ｂ、ＯＩＬ９Ｂ、ＯＩＬ１１Ｂ、ＯＩＬ３０Ｂ及びＯＩＬ３１Ｂ（三菱化学(株)）；ＰＲＩＮＴＥＸ‐Ｕ、ＰＲＩＮＴＥＸ‐Ｖ、ＰＲＩＮＴＥＸ‐１４０Ｕ、ＰＲＩＮＴＥＸ‐１４０Ｖ、ＰＲＩＮＴＥＸ‐９５、ＰＲＩＮＴＥＸ‐８５、ＰＲＩＮＴＥＸ‐７５、ＰＲＩＮＴＥＸ‐５５、ＰＲＩＮＴＥＸ‐４５、ＰＲＩＮＴＥＸ‐３００、ＰＲＩＮＴＥＸ‐３５、ＰＲＩＮＴＥＸ‐２５、ＰＲＩＮＴＥＸ‐２００、ＰＲＩＮＴＥＸ‐４０、ＰＲＩＮＴＥＸ‐３０、ＰＲＩＮＴＥＸ‐３、ＰＲＩＮＴＥＸ‐Ａ、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ‐５５０、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ‐３５０、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ‐２５０、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ‐１００、及びＬＡＭＰ  ＢＬＡＣＫ‐１０１（デグサ(株)）；ＲＡＶＥＮ‐１１００ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ‐１０８０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ‐１０６０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ‐１０４０、ＲＡＶＥＮ‐１０３５、ＲＡＶＥＮ‐１０２０、ＲＡＶＥＮ‐１０００、ＲＡＶＥＮ‐８９０Ｈ、ＲＡＶＥＮ‐８９０、ＲＡＶＥＮ‐８８０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ‐８６０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ‐８５０、ＲＡＶＥＮ‐８２０、ＲＡＶＥＮ‐７９０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ‐７８０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ‐７６０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ‐５２０、ＲＡＶＥＮ‐５００、ＲＡＶＥＮ‐４６０、ＲＡＶＥＮ‐４５０、ＲＡＶＥＮ‐４３０ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ‐４２０、ＲＡＶＥＮ‐４１０、ＲＡＶＥＮ‐２５００ＵＬＴＲＡ、ＲＡＶＥＮ‐２０００、ＲＡＶＥＮ‐１５００、ＲＡＶＥＮ‐１２５５、ＲＡＶＥＮ‐１２５０、ＲＡＶＥＮ‐１２００、ＲＡＶＥＮ‐１１９０ＵＬＴＲＡ、又はＲＡＶＥＮ‐１１７０（コロンビアカーボン(株)）等が挙げられる。
【００４４】
また、染料は、黒色染料であれば良く、上記黒色染料としては、例えば、ＢＡＳＦ社、ＢＡＹＥＲ社又は東洋インキ社製の、Ｃ．Ｉ  ＮＡＭＥでＳＯＬＶＥＮＴ  ＢＬＡＣＫ７、ＳＯＬＶＥＮＴ  ＢＬＡＣＫ３４、ＳＯＬＶＥＮＴ  ＢＬＡＣＫ２７、ＳＯＬＶＥＮＴ  ＢＬＡＣＫ２９、ＡＣＩＤ  ＢＬＡＣＫ１又はＤＹＥ  ＳＡＬＴ  ＢＬＡＣＫ等を用いることができる。
【００４５】
上記着色剤の含量は、特に限定されず、相変化インクの全含量に対し、３〜３０重量部程度であることが好ましく、例えば、４〜２０又は５〜１０重量部程度であれば良い。この際、上記着色剤の量が３０重量部を超えると、染料の場合は十分に溶解されない可能性があり、顔料の場合は分散が困難であるためインクジェットヘッドノズルの出口のサイズより大きい相変化インク組成物の塊が生じる現象が発生して吐出が困難な可能性がある。また、着色剤の量が３重量部より少ないと、光遮断性が十分ではない可能性がある。
【００４６】
一方、上記反応性モノマー又はオリゴマーは、放射線や電子線によって硬化が可能な物質であってエチレン性不飽和結合を有する官能性モノマー又はオリゴマー、開環重合が可能なモノマー又はオリゴマーであれば良いが、特に限定されず、例えば、アクリル誘導体、ビスフェノールＡ誘導体、エポキシ又はオキセタン基を含む物質であれば良い。
【００４７】
より具体的には、本発明は、上記反応性モノマー又はオリゴマーとして、メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ステアリルモノ（メタ）アクリレート、ラウリルモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリルモノ（メタ）アクリレート、ラウリルモノ（メタ）アクリレート、イソデシルモノ（メタ）アクリレート、イソオクチルモノ（メタ）アクリレート、オクチルモノ（メタ）アクリレート、デシルモノ（メタ）アクリレート、トリデシルモノ（メタ）アクリレート、カプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、フェノール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートからなる群から選択された１種以上の単官能性モノマー；１，３‐ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４‐ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６‐ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、メタリックジ（メタ）アクリレート、アクリレートエステル、及びその誘導体のトリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群から選択された１種以上の多官能性モノマー；ウレタン系の多官能性アクリレートであるＵ‐３２４Ａ、Ｕ１５ＨＡ、Ｕ‐４ＨＡ；ビスフェノールＡ誘導体のエポキシアクリレート、ノボラック‐エポキシアクリレート；エポキシ基含有エチレン性不飽和モノマーであるアリルグリシジルエーテル、グリシジル５‐ノルボルネン‐２‐メチル‐２‐カルボキシレート（エンド・エキソ混合物）、１，２‐エポキシ‐５‐ヘキセン、１，２‐エポキシ‐９‐デセン、３，４‐グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルα‐エチル（メタ）アクリレート、グリシジルα‐ｎ‐プロピル（メタ）アクリレート、グリシジルα‐ｎ‐ブチル（メタ）アクリレート、３，４‐エポキシブチル（メタ）アクリレート、４，５‐エポキシペンチル（メタ）アクリレート、５，６‐エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、６，７‐エポキシヘプチルα‐エチルアクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート；オキセタン基を含有する３‐エチル‐３‐（２‐エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン単官能オキセタン；３‐エチル‐３‐フェノキシメチルオキセタンのような芳香族基含有単官能オキセタン、１，４‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシメチル〕ベンゼン、１，４‐ビス〔（３‐エチルオ���セタン‐３‐イル）メトキシ〕ベンゼン、１，３‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ベンゼン、１，２‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ベンゼン、４，４'‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ビフェニル、２，２'‐ビス［（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ビフェニル、３，３'，５，５'‐テトラメチル‐４，４'‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ビフェニル、２，７‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ナフタレン、ビス〔４‐｛（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ｝フェニル〕メタン、ビス〔２‐｛（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ｝フェニル〕メタン、２，２‐ビス〔４‐｛（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ｝フェニル〕プロパン、３（４），８（９）‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシメチル〕‐トリシクロデカン、２，３‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシメチル〕ノルボルナン、１，１，１‐トリス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシメチル〕プロパン、１‐ブトキシ‐２，２‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシメチル〕ブタン、１，２‐ビス〔｛２‐（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ｝エチルチオ〕エタン、ビス〔｛４‐（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メチルチオ｝フェニル〕スルフィド、１，６‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕‐２，２，３，３，４，４，５，５‐オクタフルオロヘキサン、３‐〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕プロピルトリメトキシシラン及び３‐［（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕プロピルトリエトキシシランからなる群から選択される１種以上を用いることができる。
【００４８】
一方、上記反応性モノマー、オリゴマー又はこれらの混合物の含量は、特に限定されず、相変化インクの全含量に対し、３〜９０重量部程度であれば良く、例えば、５〜６０重量部、８〜５０重量部又は１０〜３０重量部程度であれば良い。この際、反応性モノマー、オリゴマー又はこれらの混合物が９０重量部を超える場合は、その結果として相変化物質と着色剤の含量の和が少なくなるため、相変化インク組成物の相変化特性がうまく現れなかったり形成されたパターンが光を十分に遮断しなかったりする可能性がある。
【００４９】
一方、相変化インク組成物は、上記光重合開始剤、光架橋増感剤又はこれらの混合物を含み、この際、上記光重合開始剤としては、特に限定されず、当該分野に知られているラジカル光重合開始剤又は陽イオン系光重合開始剤等を用いることができる。
【００５０】
例えば、上記ラジカル光重合開始剤としては、２，４‐トリクロロメチル‐（４'‐メトキシフェニル）‐６‐トリアジン、２，４‐トリクロロメチル‐（４'‐メトキシスチリル）‐６‐トリアジン、２，４‐トリクロロメチル‐（フィプロニル）‐６‐トリアジン、２，４‐トリクロロメチル‐（３'，４'‐ジメトキシフェニル）‐６‐トリアジン、３‐｛４‐［２，４‐ビス（トリクロロメチル）‐ｓ‐トリアジン‐６‐イル］フェニルチオ｝プロパン酸等のトリアジン化合物；２，２'‐ビス（２‐クロロフェニル）‐４，４'，５，５'‐テトラフェニルビイミダゾール、２，２'‐ビス（２，３‐ジクロロフェニル）‐４，４'，５，５'‐テトラフェニルビイミダゾール等のビイミダゾール化合物；２‐ヒドロキシ‐２‐メチル‐１‐フェニルプロパン‐１‐オン、１‐（４‐イソプロピルフェニル）‐２‐ヒドロキシ‐２‐メチルプロパン‐１‐オン、４‐（２‐ヒドロキシエトキシ）‐フェニル（２‐ヒドロキシ）プロピルケトン、１‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、２，２‐ジメトキシ‐２‐フェニルアセトフェノン、２‐メチル‐（４‐メチルチオフェニル）‐２‐モルホリノ‐１‐プロパン‐１‐オン、２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐（４‐モルホリノフェニル）‐ブタン‐１‐オン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾフェノン、４，４'‐ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４'‐ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６‐トリメチルアミノベンゾフェノン、メチル‐ｏ‐ベンゾイルベンゾエート、３，３‐ジメチル‐４‐メトキシベンゾフェノン、３，３'，４，４'‐テトラ（ｔ‐ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；９‐フルオレノン、２‐クロロ‐９‐フルオレノン、２‐メチル‐９‐フルオレノン等のフルオレノン系化合物；チオキサントン、２，４‐ジエチルチオキサントン、２‐クロロチオキサントン、１‐クロロ‐４‐プロピルオキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；キサントン、２‐メチルキサントン等のキサントン系化合物；アントラキノン、２‐メチルアントラキノン、２‐エチルアントラキノン、ｔ‐ブチルアントラキノン、２，６‐ジクロロ‐９，１０‐アントラキノン等のアントラキノン系化合物；９‐フェニルアクリジン、１，７‐ビス（９‐アクリジニル）ヘプタン、１，５‐ビス（９‐アクリジニル）ペンタン、１，３‐ビス（９‐アクリジニル）プロパン等のアクリジン系化合物；ベンジル、１，７，７‐トリメチル‐ビシクロ［２，２，１］ヘプタン‐２，３‐ジオン、９，１０‐フェナントレンキノン等のジカルボニル化合物；２，４，６‐トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６‐ジメトキシベンゾイル）‐２，４，４‐トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，６‐ジクロロベンゾイル）プロピルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系化合物；メチル４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート、エチル‐４‐（ジメチルアミノ）ベン���エート、２‐ｎ‐ブトキシエチル４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２，５‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）‐４‐メチル‐シクロヘキサノン等のアミン系化合物；３，３'‐カルボニルビニル‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐（２‐ベンゾチアゾリル）‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐ベンゾイル‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐ベンゾイル‐７‐メトキシ‐クマリン、１０，１０'‐カルボニルビス［１，１，７，７‐テトラメチル‐２，３，６，７‐テトラヒドロ‐１Ｈ，５Ｈ，１１Ｈ‐Ｃｌ］‐ベンゾピラノ［６，７，８‐ｉｊ］‐キノリジン‐１１‐オン等のクマリン系化合物；４‐ジエチルアミノカルコン、４‐アジドベンザルアセトフェノン等のカルコン化合物；２‐ベンゾイルメチレン、３‐メチル‐β‐ナフトチアゾリン、又はこれらの混合物を用いることができる。
【００５１】
また、活性エネルギー線の照射によって陽イオン（ｃａｔｉｏｎ）種やルイス酸を作り出す化合物である陽イオン性光重合開始剤、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードアルミニウム塩や芳香族スルホニウム塩のようなオニウム塩、鉄‐アレーン錯体を用いることもできる。
【００５２】
一方、光重合開始剤の効率によって光架橋増感剤を用いることもでき、上記光架橋増感剤は、特に限定されず、例えば、ベンゾフェノン、４，４‐ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４‐ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６‐トリメチルアミノベンゾフェノン、メチル‐ｏ‐ベンゾイルベンゾエート、３，３‐ジメチル‐４‐メトキシベンゾフェノン、３，３，４，４‐テトラ（ｔ‐ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；９‐フルオレノン、２‐クロロ‐９‐フルオレノン、２‐メチル‐９‐フルオレノン等のフルオレノン系化合物；チオキサントン、２，４‐ジエチルチオキサントン、２‐クロロチオキサントン、１‐クロロ‐４‐プロピルオキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；キサントン、２‐メチルキサントン等のキサントン系化合物；アントラキノン、２‐メチルアントラキノン、２‐エチルアントラキノン、ｔ‐ブチルアントラキノン、２，６‐ジクロロ‐９，１０‐アントラキノン等のアントラキノン系化合物；９‐フェニルアクリジン、１，７‐ビス（９‐アクリジニル）ヘプタン、１，５‐ビス（９‐アクリジニルペンタン）、１，３‐ビス（９‐アクリジニル）プロパン等のアクリジン系化合物；ベンジル、１，７，７‐トリメチル‐ビシクロ［２，２，１］ヘプタン‐２，３‐ジオン、９，１０‐フェナントレンキノン等のジカルボニル化合物；２，４，６‐トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６‐ジメトキシベンゾイル）‐２，４，４‐トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系化合物；メチル‐４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート、エチル‐４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２‐ｎ‐ブトキシエチル‐４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート等のベンゾフェノン系化合物；２，５‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）‐４‐メチル‐シクロペンタノン等のアミノシナージスト；３，３‐カルボニルビニル‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐（２‐ベンゾチアゾリル）‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐ベンゾイル‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐ベンゾイル‐７‐メトキシ‐クマリン、１０，１０‐カルボニルビス［１，１，７，７‐テトラメチル‐２，３，６，７‐テトラヒドロ‐１Ｈ，５Ｈ，１１Ｈ‐Ｃ１］‐ベンゾピラノ［６，７，８‐ｉｊ］‐キノリジン‐１１‐オン等のクマリン系化合物；４‐ジエチルアミノカルコン、４‐アジドベンザルアセトフェノン等のカルコン化合物；２‐ベンゾイルメチレン、又は３‐メチル‐ｂ‐ナフトチアゾリン等であれば良い。
【００５３】
一方、上記光重合開始剤、光架橋増感剤又はこれらの混合物の含量は、特に限定されず、相変化インクの全含量に対し、０．１〜１０重量部程度であれば良く、例えば、０．３〜５重量部又は０．５〜３重量部程度であれば良い。この際、上記光重合開始剤、光架橋増感剤又はこれらの混合物は、紫外線硬化を行うときに必要なもので、１０重量部を超えると、相変化インクを加熱するときに光重合開始剤又は光架橋増感剤の昇華によって装備及び周辺環境が汚染する可能性がある。
【００５４】
一方、上記相変化インク組成物は、必要に応じて、高分子バインダーをさらに含み、上記高分子バインダーの一部は、顔料分散剤の形で含まれることができる。この際、上記高分子バインダーは、特に限定されず、相変化物質１００重量部に対して５００重量部以下含まれることが好ましく、例えば、１〜３００又は１００〜２００重量部程度であれば良い。この際、上記高分子物質の含量が相変化物質１００重量部に対して５００重量部を超える場合は、温度を上げたときに液状である相変化インク組成物の粘度が増加して吐出が困難な可能性がある。
【００５５】
この際、上記高分子バインダーは、上記相変化インク組成物に溶ける高分子であれば特に限定されない。例えば、上記高分子バインダーは、ベンジル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ‐ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２‐フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２‐ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２‐ヒドロキシ‐３‐クロロプロピル（メタ）アクリレート、４‐ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、アシルオクチルオキシ‐２‐ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、２‐メトキシエチル（メタ）アクリレート、３‐メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ‐ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ‐ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１，１，１，３，３，３‐ヘキサフルオロイソプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ジシクロフェンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、メチルα‐ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα‐ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα‐ヒドロキシメチルアクリレート、及びブチルα‐ヒドロキシメチルアクリレートからなる群から選択された１種以上の不飽和カルボン酸エステル類；スチレン、α‐メチルスチレン、（ｏ，ｍ，ｐ）‐ビニルトルエン、（ｏ，ｍ，ｐ）‐メトキシスチレン、及び（ｏ，ｍ，ｐ）‐クロロスチレンからなる群から選択された１種以上の芳香族ビニル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、及びアリルグリシジルエーテルからなる群から選択された１種以上の不飽和エーテル類；Ｎ‐フェニルマレイミド、Ｎ‐（４‐クロロフェニル）マレイミド、Ｎ‐（４‐ヒドロキシフェニル）マレイミド、及びＮ‐シクロヘキシルマレイミドからなる群から選択された１種以上の不飽和イミド類；及び無水マレイン酸、無水メチルマレイン酸のような無水マレイン酸類からなる群から選択される１種以上のモノマーのホモポリマー又はコポリマーであれば良い。
【００５６】
一方、本発明の相変化インク組成物は、必要に応じて、溶剤をさらに含み、溶剤は、相変化インク組成物の粘度を調節するか又はパターンとなる固形分の量を調節する用途に用いられることができる。この際、上記溶剤は、特に限定されず、相変化物質１００重量部に対して１０００重量部以下含まれ、例えば、１００〜５００重量部又は２００〜４００重量部程度であれば良い。この際、上記溶剤の含量が相変化物質１００重量部に対して１０００重量部を超える場合は、相変化インク組成物の相変化が円滑でなく、常温で相変化物質の微細な塊が溶剤中に浮遊する現象が発生する可能性がある。
【００５７】
この際、上記溶剤は、特に限定されず、メチル‐３‐メトキシプロピオネート（沸点１４４℃、以下、沸点を括弧内に表示）、エチレングリコールメチルエーテル（１２５℃）、エチレングリコールエチルエーテル（１３５℃）、エチレングリコールジエチルエーテル（１２１℃）、イソプロピルモノエチレングリコール（１４３℃）、ジブチルエーテル（１４０℃）、エチルピルベート（１４４℃）プロピレングリコールメチルエーテル（１２１℃）、ｎ‐ブチルアセテート（１２５℃）、イソブチルアセテート（１１６℃）、イソアミルアセテート（１４３℃）、エチルブチレート（１２０℃）、プロピルブチレート（１４３℃）、メチルラクテート（１４５℃）、メチル‐２‐ヒドロキシイソブチレート（１３７℃）、２‐メトキシエチルアセテート（１４５℃）、エチレングリコールメチルエーテルアセテート（１４５℃）、ジブチルエーテル（１４０℃）、シクロペンタノン（１３１℃）、２‐ヘキサノン（１２７℃）、３‐ヘキサノン（１２３℃）、５‐メチル‐２‐ヘキサノン（１４５℃）、４‐ヘプタノン（１４５℃）、及び１‐メトキシ‐２‐プロパノール（１１８℃）、２‐エトキシエチルエーテル（１８５℃）、ジプロピレングリコールメチルエーテル（１８８℃）、３‐ノナノン（１８８℃）、５‐ノナノン（１８７℃）、２，２，６‐トリメチルシクロヘキサノン（１７９℃）、シクロヘプタノン（１７９℃）、アミルブチレート（１８５℃）、ブチルラクテート（１８６℃）、エチル‐３‐ヒドロキシブチレート（１８０℃）、プロピレングリコールジアセテート（１８６℃）、ジプロピレングリコールメチルエーテル（１８８℃）、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（１７６℃）、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル（１７９℃）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（１８９℃）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（１９４℃）、４‐エチルシクロヘキサノン（１９３℃）、２‐ブトキシエチルアセテート（１９２℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（２０２℃）、ブチロラクトン（２０４℃）、ヘキシルブチレート（２０５℃）、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテート（２０９℃）、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル（２１２℃）、トリプロピルグリコールジメチルエーテル（２１５℃）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（２１６℃）、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート（２１７℃）、ジエチレングリコールブチルエーテルアセテート（２４５℃）、３‐エポキシ‐１，２‐プロパンジオール（２２２℃）、エチル‐４‐アセチルブチレート（２２２℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（２３１℃）、トリプロピルグリコールメチルエーテル（２４２℃）、ジエチレングリコール（２４５℃）、２‐（２‐ブトキシエトキシ）エチルアセテート（２４５℃）、カテコール（２４５℃）、トリエチレングリコールメチルエーテル（２４９℃）又はジエチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等であれば良い。この際、上記溶剤は、相変化インク組成物に添加する相変化物質の相変化温度より沸点が１０℃以上高いことが好ましく、相変化インク組成物の成分を溶解させて相分離されない溶剤であることがより好ましい。
【００５８】
一方、本発明の相変化インク組成物は、必要に応じて、分散剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤及び熱重合防止剤からなる群から選択された１種以上の添加剤をさらに含むことができる。この際、上記添加剤は、特に限定されず、相変化物質１００重量部に対して１００重量部以下含まれ、例えば、１〜５０重量部又は２〜３０重量部程度含まれることができる。添加剤の含量が１００重量部を超える場合は、物性の更なる向上効果が低く、インクの製造コストが増加するため好ましくない。
【００５９】
この際、上記分散剤としては、特に限定されず、例えば、ＢＹＫ  ＣＨｅｍｉｅ社のＤｉｓｐｅｒｂｙｋ製品群、Ｅｖｏｎｉｋ社のＴＥＧＯ（登録商標）ｄｉｓｐｅｒｓ製品群、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ社のＳｏｌｓｐｅｒｓｅ（登録商標）製品群又はその他の多様な会社の製品からなる群から選択された１種以上のものを用いることができる。
【００６０】
この際、上記密着促進剤としては、特に限定されず、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２‐メトキシエトキシ）‐シラン、Ｎ‐（２‐アミノエチル）‐３‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ‐（２‐アミノエチル）‐３‐アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、３‐グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３‐グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２‐（３，４‐エトキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３‐クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３‐クロロプロピルトリメトキシシラン、３‐メタアクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、及び３‐メルカプトプロピルトリメトキシシランからなる群から選択された１種以上のものを用いることができる。
【００６１】
また、上記酸化防止剤としては、例えば、２，２‐チオビス（４‐メチル‐６‐ｔ‐ブチルフェノール）、又は２，６‐ｇ，ｔ‐ブチルフェノール等を用い、上記紫外線吸収剤としては、例えば、２‐（３‐ｔ‐ブチル‐５‐メチル‐２‐ヒドロキシフェニル）‐５‐クロロ‐ベンゾトリアゾール、又はアルコキシベンゾフェノン等を用い、上記熱重合防止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ｐ‐メトキシフェノール、ジ‐ｔ‐ブチル‐ｐ‐クレゾール、ピロガロール、ｔ‐ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４‐チオビス（３‐メチル‐６‐ｔ‐ブチルフェノール）、２，２‐メチレンビス（４‐メチル‐６‐ｔ‐ブチルフェノール）、又は２‐メルカプトイミダゾール等を用いることができるが、これに限定されるものではない。
【００６２】
一方、上記相変化インク組成物は、融点が５０℃〜１２０℃程度であることが好ましく、例えば、６０℃〜１１０℃、８０℃〜１００℃程度であれば良い。相変化インク組成物の融点が５０℃以下の場合は、常温で吐出してパターンを形成するときに液滴が短時間で十分に固まらずに液滴が広がるため、微細なパターンを形成するのが困難な可能性があり、融点が１２０℃以上の場合は、吐出する装置を１３０℃以上に加熱しなければならないが、吐出する装置の耐熱性が十分でないため、作業が困難な可能性がある。
【００６３】
本発明による相変化インク組成物は、加熱された状態では液状であるが、冷却された状態（通常、常温）では固状である。一方、上記相変化インク組成物をインクジェットジェッティングによって塗布する場合は、インク組成物の液滴のサイズが数十ピコメーター程度と非常に小さいため、加熱された液状の相変化インク組成物が常温の基材上に弾着されて数ミリ秒で冷却される。したがって、相変化インク組成物が基材の表面で広がって熱力学平衡接触角を形成する前に凝固するため、基材の表面エネルギーとインクの表面張力に依存しない一定の形状のパターンを形成することができる。
【００６４】
また、本発明による相変化インク組成物は、光重合開始剤を含むため、活性エネルギー線の照射によって硬化された後にはパターンの安定性に優れる。より具体的には、本発明による相変化インク組成物は、活性エネルギー線の照射によって硬化された後には再加熱しても５０〜２００℃の温度範囲では固状を維持する。即ち、２００℃を超える熱分解温度に到達して、熱分解に達する前までは液状とならずに固状を維持するため、安定性に優れるという長所がある。
【００６５】
一方、上記のような相変化インク組成物で形成された遮光パターン４０は、図１〜図３に示されているように、上記映像発生部２０の上部に形成されるか、又は上記３Ｄフィルター層３０の下部に形成されることができる。なお、いずれの側面に形成されても良いが、後述する立体映像表示装置の製造方法上、遮光パターンを形成し加圧するのが容易であるという点で、映像発生部２０の上部基板上に形成されることが好ましい。映像発生部の上部基板は、３Ｄフィルター層に比べて相対的に硬い材質からなる場合が多いため、遮光パターンの加圧工程を行うのが有利である。
【００６６】
上述したように、相変化インク組成物は吐出直後に速やかに冷却されて凝固されて流動性がなくなるため、吐出される面の表面エネルギーにかかわらず一定の幅と高さを有するパターンを形成することができる上、インク組成物の液滴の間隔を調節して多様な線高及び線幅を有するパターンを形成することができるという長所がある。また、相変化インクを用いて遮光パターンを形成する場合、相変化インクを硬化させる前に加熱や加圧等によってパターンの形状を微細に変形させることができるため、パターンの形状をより精密に制御することができるという長所もある。即ち、本発明のように相変化インク組成物を用いて遮光パターンを形成する場合、一種のインクで多様な縦横比を有するパターンを形成することができ、パターンの形状を精密に調節することにより多様なサイズの映像表示装置に最適化した遮光パターンを具現することができる。
【００６７】
一方、本発明において、上記遮光パターンの線幅は、１０μｍ〜１５０μｍであることが好ましく、例えば、２０μｍ〜１００μｍ又は４０μｍ〜６０μｍであれば良い。線幅が１０μｍより小さい場合は、クロストーク現象を抑制するのが困難な可能性があり、線幅が１５０μｍより大きい場合は、光の遮光量が多くなって映像表示装置の輝度が減少し、エネルギー効率が減少する可能性がある。
【００６８】
また、上記遮光パターンの線高は、０．３μｍ〜５μｍであることが好ましく、例えば、０．５μｍ〜３μｍ又は０．８μｍ〜２μｍであれば良い。遮光パターンの線高が０．３μｍより小さい場合は、光の遮断される効果が十分でない可能性があり、５μｍより大きい場合は、３Ｄフィルター層の付着時に遮光パターンと３Ｄフィルター層の間に空気が流入する可能性がある。
【００６９】
また、上記遮光パターンの縦横比（線高／線幅）は、１％〜２０％程度であることが好ましく、例えば、１％〜１０％又は１％〜７％程度であれば良い。遮光パターンの縦横比が上記寸法範囲を満たす場合、遮光性及び３Ｄフィルター層と映像発生部の基板との付着力に優れるという長所がある。
【００７０】
また、上記遮光パターンは、上面に平坦面を含むことが好ましい。遮光パターンの上部表面が平坦でなく凹状又は凸状に形成される場合は、位置によって遮光程度が変わって表示品質が低下する可能性がある。この際、上記平坦面は、表面粗さが低い平坦な表面を意味するもので、最大粗さＲｍａｘが、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは０．１ｎｍ〜５０ｎｍ以下である。この際、上記最大粗さＲｍａｘとは、平坦面の最低点から最高点までの高さを意味する。また、本発明において、上記平坦面の幅は、遮光パターンの線幅に対して５０％〜１００％、好ましくは６０％〜１００％程度である。平坦面の幅及び表面粗さが上記寸法範囲を満たす場合、パターンの全領域にわたって比較的均一な遮光効果が発揮されて優れたクロストーク防止効果及び表面品質が得られる。
【００７１】
また、本発明の立体映像表示装置は、必要に応じて、映像発生部２０に光を供給するためのバックライトユニット１０をさらに含むことができる。上記バックライトユニット１０は、光源１１及び機能性光学シートを含むことができる。この際、上記機能性光学シートは、例えば、導光板、集光フィルム、レンチキュラーレンズフィルム、拡散板等のようなバックライトユニットから映像発生部に進行する光の均一度又は輝度を向上させることができる全ての機能性光学シートを含むことができる。なお、これについては、当該技術分野に広く知られているため、詳細な説明を省略する。
【００７２】
一方、本発明の立体映像表示装置は、上記映像発生部２０と３Ｄフィルター層３０との間に接着層５０をさらに含むことができる。上記接着層５０によって、映像発生部と３Ｄフィルター層との間に介在された遮光パターンは、位置と形状が変わらずに固定されることができる。この際、上記接着層５０の厚さを５０μｍ以内とするのが、光経路差によるクロストーク現象を減らすことができることから好ましい。
【００７３】
この際、上記接着層５０には、代表的に、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂に基づいた透明な樹脂組成物を用いることができるが、これに限定されず、当該技術分野に広く知られている透明で接着力のある物質を用いることもできる。
【００７４】
一方、図２及び図３には、本発明の他の実施形態による立体映像表示装置が示されている。図２及び図３を参照すると、接着層５０をさらに含んでおり、上記接着層は、図２のように映像発生部の上部基板２２上に形成された遮光パターンを含んで形成されることもでき、図３のように３Ｄフィルター層３０上に形成された遮光パターンを含んで形成されることもできるが、図２のように映像発生部の上部基板２２上に形成された遮光パターンを含んでいる形状であることがより好ましい。これは、上述したように映像発生部２０の上部基板２２上に遮光パターンを形成するのが工程上容易であるためである。
【００７５】
一方、本発明の立体映像表示装置は、上記構成以外にも、輝度向上フィルム等、立体映像表示装置の光学的な機能を向上させるための、当該技術分野に広く知られている機能性光学層をさらに含むことができる。
【００７６】
次に、本発明の立体映像表示装置の製造方法について説明する。
【００７７】
本発明の上記立体映像表示装置の製造方法は、（ａ）映像発生部の上部又は３Ｄフィルター層の下部に相変化インク組成物を塗布して、３Ｄフィルター層の第１の領域と第２の領域との境界部に対応する位置に遮光パターンを形成する段階と、（ｂ）映像発生部の上部に３Ｄフィルター層を積層する段階と、（ｃ）活性エネルギー線を照射して上記遮光パターンを硬化させる段階と、を含む。
【００７８】
以下では、本発明の相変化インク組成物を用いて遮光パターンを形成する方法について詳細に説明する。
【００７９】
まず、（ａ）映像発生部の上部又は３Ｄフィルター層の下部に相変化インク組成物を塗布して、３Ｄフィルター層の第１の領域と第２の領域との境界部に対応する位置に遮光パターンを形成する。この際、上記相変化インク組成物は液状で塗布され、周辺の低い温度によって急速に固化されてパターンが形成される。
【００８０】
一方、上述した立体映像表示装置に関する説明のように、クロストーク（Ｃｒｏｓｓ  Ｔａｌｋ）を防止するためには、遮光パターンが３Ｄフィルター層の第１の領域と第２の領域との境界部に対応する位置に形成されることが良い。
【００８１】
一方、上記塗布は、当該技術分野によく知られている相変化インクの塗布方法、例えば、インクジェットプリンティング法等により行われることができる。
【００８２】
一方、上記相変化インク組成物が塗布されるためには液状でなければならないため、上記塗布は相変化インク組成物の融点以上の温度で行われることが好ましい。より具体的には、上記塗布は、上記相変化インク組成物の融点をＴｂとしたとき、Ｔｂ℃〜（Ｔｂ＋１００）℃で行われることが好ましい。このような温度範囲で塗布されるとき、相変化インク組成物が液状で塗布されることができ、その後に基材上に接触する過程ですぐに固化されることができる。塗布がＴｂ℃より低い温度で行われる場合は、相変化インク組成物が完全に溶けずに固状に残って塗布装置の出口を塞ぐ可能性がある。
【００８３】
より具体的には、上記塗布は、５０℃〜１６０℃の温度で行われることが好ましく、例えば、６０℃〜１４０℃、８０℃〜１２５℃の温度で行われることができる。塗布温度は、相変化インク組成物の融点、塗布装置の種類等によって異なるが、装備の価格的な利点を考慮して５０℃〜１６０℃であることが好ましい。
【００８４】
上述したように、相変化インク組成物が塗布されて外部に露出すると、相変化インク組成物の融点が常温の温度より高いことから、基材上に塗布される過程で常温である周囲に熱を奪われて融点以下の温度に低くなって固化される。したがって、本発明のように相変化インク組成物を用いて遮光パターンを形成すると、塗布される基材の表面エネルギー・表面張力を考慮しなくても、基材上で液滴が広がる現象を制御することができるため、従来の問題を解決することができる。
【００８５】
次に、上記過程を経て遮光パターンが形成されたら、（ｂ）映像発生部の上部に３Ｄフィルター層を積層する。（ｂ）段階では未だ遮光パターンが完全に硬化された状態ではないため、３Ｄフィルター層の積層時に遮光パターンが加圧されて遮光パターンの上部表面が平坦化される。
【００８６】
一方、遮光パターンの平坦度をより向上させるために、必要に応じて、上記（ａ）段階及び（ｂ）段階のいずれか一つの段階の後に上記遮光パターンを加圧する段階をさらに行うこともできる。
【００８７】
この際、上記加圧する段階は、上記相変化インク組成物の融点をＴｂとしたとき、（Ｔｂ−２０）℃〜（Ｔｂ＋１５）℃で行われることが好ましく、例えば、（Ｔｂ−１５）℃〜（Ｔｂ＋１０）℃又は（Ｔｂ−１０）℃〜（Ｔｂ＋５）℃で行われることができる。上記温度範囲で加圧が行われる場合、熱によって遮光パターンに若干の柔軟性が付与されるため、平坦化がより精密に行われることができる。（Ｔｂ−２０）℃より低い温度で加圧を行う場合は、柔軟性が十分に付与されないため、均一な平坦面が形成されない可能性があり、（Ｔｂ＋１５）℃より高い温度で加圧を行う場合は、柔軟性が過度に多く付与されるため、遮光パターンの形状が崩れて所望の遮光パターンの形状が得られない可能性がある。
【００８８】
一方、上記加圧する段階は、０．０１〜５０ＭＰａ程度の圧力で行われることが好ましく、例えば、０．０３〜３０、０．０５〜１５ＭＰａ程度の圧力で行われることができる。この際、上記圧力は、設計者が所望の遮光パターンの線幅と線高によって適宜変わっても良い。上記圧力が０．０１ＭＰａ以下の場合は、加わる圧力が弱いため、遮光パターンの平坦度が均一でなく、所望の線幅や線高に到達できない可能性がある。また、圧力が５０ＭＰａ以上の場合は、加わる圧力が大きすぎるため、遮光パターンの上部の平坦度には優れるが、それぞれの遮光パターン同士が連結される問題が生じる可能性がある。
【００８９】
一方、上記加圧する段階は、当該技術分野に広く知られている方法、例えば、加圧ロール、平板等により行われることができるが、これに限定されるものではない。
【００９０】
一例として、上記加圧する段階が加圧ロールによって行われる場合は、映像発生部の上部基板又は３Ｄフィルター層の基材上に相変化インク組成物を塗布して遮光パターンを形成し、上記基材と加圧ロールとが相対的に移動しながら遮光パターンを加圧する方式により行われることができる。この場合にも、上記方式に特別な制限はなく、当該技術分野で広く知られている多様な方法により行われることができる。
【００９１】
また、上記のように加圧ロールによって加圧する段階が行われる場合、上記遮光パターンが形成された基材と加圧ロールとの相対速度は１〜１５０ｍ／ｓ程度の進行速度で行われることが好ましく、例えば、３〜１４０ｍ／ｓ、５〜１３０ｍ／ｓ程度の進行速度で行われることができる。この際、相対速度は、加圧する時間とは関係がなく、パターン形成過程の工程速度と関係があり、工程速度が増加するほど基板が上下に微細に振動する可能性があるため、相対速度に対する制御が必要である。
【００９２】
他の例として、上記加圧する段階が平板によって行われる場合は、パターンが形成された基材面に対向する方向に平板を用いて加圧することができる。
【００９３】
一方、上記加圧する段階は、特に限定されず、遮光パターンの上部に保護フィルム、離型フィルム又はその他のフィルム等を付着又は積層した状態で行われることができる。相変化インク組成物を完全に固化しない状態で加圧する場合は、加圧装置に相変化インク組成物が接着されて遮光パターンの形状が崩れ、加圧装置に相変化インク組成物が接着されて連続的な遮光パターン形成過程で不良をもたらす可能性がある。これに対し、遮光パターンの上部に保護フィルムや離型フィルムを積層して加圧する場合は、相変化インク組成物が加圧装置に接着されることを防止し、連続的な工程でも不良を最小化することができる。
【００９４】
次に、本発明の立体映像表示装置の製造方法は、（ｃ）活性エネルギー線を照射して上記遮光パターンを硬化させる段階を含む。上記（ｃ）段階は、遮光パターンを固定させるためのものである。相変化インク組成物は、温度によって相（ｐｈａｓｅ）が変わる性質があるため、形成された遮光パターンが温度変化に弱くて熱によってパターンの変形が発生する可能性がある。例えば、立体映像表示装置の駆動過程で電子機器による熱が発生し、発生した熱によって立体映像表示装置の内部の温度が相変化インク組成物の融点に近くなり、この場合、遮光パターンが柔軟になったり崩れたりする可能性がある。しかしながら、本発明のように活性エネルギー線を照射して遮光パターンを硬化させる場合、パターンが固定されて温度変化にかかわらず形状を維持することができる。
【００９５】
この際、本発明の上記硬化させる段階は、当該技術分野で広く知られている多様な方法、例えば、紫外線の照射により行われることができるが、これに限定されるものではない。例えば、本発明において、上記（ｃ）段階は、紫外線を露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で５〜１００秒程度照射して行われることができる。この際、紫外線の露光量又は露光時間は、当該技術分野の通常の技術者により適宜変わっても良い。
【００９６】
一方、図４には、本発明の一実施形態による遮光パターンを形成する模式図が示されている。図４に示されているように、本発明の遮光パターンは、インクジェットヘッド２により相変化インク組成物１を基材３の一面に塗布した後、加圧ロール４等のような加圧手段を用いて加圧し、紫外線照射装置５等を用いて活性エネルギー線を照射することにより遮光パターンを硬化させる方法で形成されることができる。図４には連続工程に適合するように加圧ロールを用いて遮光パターンを加圧する工程が示されているが、本発明はこれに限定されるものではない。
【実施例】
【００９７】
以下では、具体的な実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。
【００９８】
実施例１
トリプロピレングリコールジアクリレート５０ｇ、トリメチロールプロパントリアクリレート１７ｇ、テトラデカン酸３０ｇ、ＢＡＳＦ社のイルガキュア３６９（２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐（４‐モルホリノフェニル）‐ブタン‐１‐オン）  ３ｇ、ＳＯＬＶＥＮＴ  ＢＬＡＣＫ２７染料５ｇを入れて８０℃で攪拌し混合して相変化インク組成物Ａを製造した。
【００９９】
上記相変化インク組成物Ａをインクジェット装備のリザーバ内に注入した後、ガラス基板とＰＥＴフィルム上にそれぞれドットピッチ４０μｍの間隔でジェッティングして線パターニングを行った。この際、上記リザーバの温度を７０℃に設定し、ＳＥ‐１２８ヘッド（Ｄｉｍａｃｔｉｘ社）を用いて印加電圧６０Ｖ〜８０Ｖ、１２８個のノズルでジェッティングを行った。その後、印圧（ｃｏｎｔｒａｃｔ  ｐｒｅｓｓｕｒｅ：印刷圧力を加えたときにソフトロールの一地点における変形された長さ）２０μｍの条件（約０．６ＭＰａ）下で上記線パターンを加圧し、５０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１０秒間照射して硬化させた。
【０１００】
実施例２
トリプロピレングリコールジアクリレート１５０ｇ、トリメチロールプロパントリアクリレート５０ｇ、オクタデカノール５００ｇ、ＢＡＳＦ社のイルガキュア８１９（２，４，６‐トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）  ２０ｇ、ブチルカルビトール８０ｇ、ＳＯＬＶＥＮＴ  ＢＬＡＣＫ２９染料であるＢＡＳＦ社のオラゾール２００ｇを入れて８０℃で攪拌し混合して相変化インク組成物Ｂを製造した。
【０１０１】
その後、相変化インク組成物Ａの代わりに相変化インク組成物Ｂを用いた点を除いて実施例１と同じ方法で線パターンを形成した。
【０１０２】
実施例３
カーボンブラック２０重量部がプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに分散された分散液１００重量部にトリメチロールプロパントリアクリレート１００重量部を添加し、回転型蒸発機に入れた後に圧力を下げた状態で５０℃に加熱して揮発性の高いプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを除去してプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを５重量部未満に抑えた顔料分散液を用意した。
【０１０３】
上記顔料分散液２５０ｇにジペンタエリトリトールヘキサアクリレート１００ｇ、ドコサン酸５００ｇ、ＢＡＳＦ社のイルガキュア８１９（２，４，６‐トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）  ５０ｇ、ジエチレングリコールブチルエーテル２５０ｇを８０℃で攪拌し混合して相変化インク組成物Ｃを製造した。
【０１０４】
その後、相変化インク組成物Ａの代わりに相変化インク組成物Ｃを用いた点を除いて実施例１と同じ方法で線パターンを形成した。
【０１０５】
実施例４
実施例３で製造された顔料分散液２５０ｇにジペンタエリトリトールヘキサアクリレート５０ｇ、ジプロピレングリコールジアクリレート５０ｇ、ドコサノール５００ｇ、ＢＡＳＦ社のイルガキュア８１９（２，４，６‐トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）  ５０ｇ、ジエチレングリコールブチルエーテル４５０ｇを８０℃で攪拌し混合して相変化インク組成物Ｄを製造した。
【０１０６】
その後、相変化インク組成物Ａの代わりに相変化インク組成物Ｄを用いた点を除いて実施例１と同じ方法で線パターンを形成した。
【０１０７】
実施例５
実施例３で製造された顔料分散液２５０ｇにジペンタエリトリトールヘキサアクリレート１００ｇ、ドコサノール５００ｇ、ＢＡＳＦ社のイルガキュア３６９（２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐（４‐モルホリノフェニル）‐ブタン‐１‐オン）  ５０ｇ、ジエチレングリコールブチルエーテル４５０ｇを８０℃で攪拌し混合して相変化インク組成物Ｅを製造した。
【０１０８】
その後、相変化インク組成物Ａの代わりに相変化インク組成物Ｅを用いた点を除いて実施例１と同じ方法で線パターンを形成した。
【０１０９】
比較例１
カーボンブラック２０重量部が含有されたプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに分散された顔料分散液３０ｇ、固形分４０重量部の高分子バインダー溶液２０ｇ、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート８ｇ、ＢＡＳＦ社のイルガキュア３６９  ２ｇ、ブチルカルビトール２０ｇを攪拌して相変化物質の含有されていないインク組成物Ｆを製造した。
【０１１０】
上記インク組成物Ｆをインクジェット装備のリザーバ内に注入した後、ガラス基板とＰＥＴフィルム上にそれぞれドットピッチ４０μｍの間隔でジェッティングして線パターンを形成した。この際、上記リザーバの温度を２５℃に設定し、ＳＥ‐１２８ヘッド（Ｄｉｍａｃｔｉｘ社）を用いて印加電圧６０Ｖ〜８０Ｖ、１２８個のノズルでジェッティングを行った。
【０１１１】
比較例２
融点が１３５℃であり、光開始剤が含まれていないＸｅｒｏｘ社のインク組成物Ｇを用意した。
【０１１２】
上記インク組成物Ｇをインクジェット装備のリザーバ内に注入した後、リザーバの温度を７０℃に設定し、ジェッティングを行ったが、インク組成物が吐出されなかったため、パターンを形成することができなかった。
【０１１３】
比較例３
上記実施例３で製造された顔料分散液２５０ｇにジペンタエリトリトールヘキサアクリレート１００ｇ、ドコサン酸５００ｇ、ジエチレングリコールブチルエーテル２５０ｇを８０℃で攪拌し混合して、光開始剤が含まれていないインク組成物Ｈを製造した。
【０１１４】
その後、相変化インク組成物Ａの代わりに相変化インク組成物Ｈを用いた点を除いて実施例１と同じ方法で線パターンを形成した。
【０１１５】
実験例１
実施例１〜５及び比較例１の線パターンの加圧前後の平均線幅及び平均線高を測定して測定結果を下記表１に示した。但し、比較例１の場合、測定された線幅はおおよその値であり、基板の表面の表面エネルギー不均一性の影響を受けたことにより場所によっては線幅の偏差のひどいパターンが形成された。
【０１１６】
【表１】
0005920484.tif 000002
【０１１７】
上記表１を参照すると、実施例１〜５によって形成されたパターンの場合は、基材の種類が変わってもパターンの線幅及び線高が大きく変わらず、相対的に高い縦横比を有することが分かる。これに対し、比較例１の場合は、基材の種類によって線幅及び線高が大きく変わり、縦横比も非常に低いことが分かる。また、比較例１の場合は、同一基材上においても位置によって線幅及び線高が不均一であった。
【０１１８】
実験例２
上記実施例５のガラス基板上に形成された線パターンの３次元形状をナノシステムズ３次元形状測定器を用いて確認した。図５には、上記線パターンをガラスに垂直に且つパターンの長さ方向に垂直に切断した断面のプロファイルが示されている。この際、図５の横（Ｘ軸）はパターンの線幅を示し、長さの単位はｍｍであり、縦（Ｈ）はパターンの線高を示す。
【０１１９】
図５を参照すると、上記線パターンの上部に平坦面が存在し、上記平坦面の最大高さ（Ｒｍａｘ）が１００ｎｍ以下であることが分かる。
【０１２０】
実験例３
実施例１〜５及び比較例３のインク組成物を用いて線パターンが形成されたガラス基板を７０℃の熱板上に載置して１分間加熱した後、パターンの形状を目視で観察した。
【０１２１】
観察結果、実施例１〜５のインク組成物を用いて形成された線パターンの場合は加熱後にもパターンの形状が略変わらないのに対し、比較例３のインク組成物を用いて形成された線パターンの場合はパターンが溶けて広がることが確認できた。
【０１２２】
実施例６
上記実施例３により製造された相変化インク組成物Ｃをインクジェット装備のリザーバ内に注入した後、ＱＳ‐２５６ヘッド（Ｄｉｍａｃｔｒｉｘ社）を用いて４７インチＦｕｌｌ‐ＨＤ  ＬＣＤパネル（映像発生部）基板上に遮光パターンを形成した。この際、リザーバ温度を７０℃に設定し、ドットピッチ３０μｍの条件下で吐出を行った。また、上記遮光パターンはＬＣＤカラーフィルターのブラックマトリックスと完全に一致する位置に配列されるように形成した。その後、上記遮光パターン上に３Ｄフィルター層を加圧しながら付着し、紫外線を照射してパターンを硬化させて立体映像表示装置を製造した。この際に形成されたパターンの幅は約５０μｍ程度であった。
【０１２３】
比較例４
ＬＣＤパネル上に３Ｄフィルターを加圧しながら付着して立体映像表示装置を製造した。
【０１２４】
比較例５
上記比較例１により製造された相変化インク組成物Ｆをインクジェット装備のリザーバ内に注入した後、ＱＳ‐２５６ヘッド（Ｄｉｍａｃｔｒｉｘ社）を用いて４７インチＦｕｌｌ‐ＨＤ  ＬＣＤパネル（映像発生部）基板上に遮光パターンを形成した。この際、リザーバ温度を７０℃に設定し、ドットピッチ３０μｍの条件下で吐出を行った。また、上記遮光パターンはＬＣＤカラーフィルターのブラックマトリックスと完全に一致する位置に配列されるように形成した。その後、上記遮光パターン上に３Ｄフィルター層を加圧しながら付着して立体映像表示装置を製造した。この際に形成されたパターンの幅は約１１０μｍ程度であった。
【０１２５】
実験例４
実施例６、比較例４及び５の立体映像表示装置のクロストークをトプコン社のＢＭ７輝度計を用いて測定した。上下視野角に対してクロストークを測定し、測定結果を図６に示した。
【０１２６】
図６を参照すると、実施例６は正面におけるクロストークが１％未満と非常に低いのに対し、比較例４は４％以上、比較例５は１．５％以上と高いことが分かる。また、クロストークが１０％以下のレベルのときを最適の視聴範囲としたとき、比較例４の場合はクロストークが１０％以下の視野角範囲が約−６度〜６度程度であるのに対し、実施例６及び比較例４の場合は視野角範囲が−１０度〜１０度程度と広いことが分かる。また、図示されてはいないが、比較例５の場合は、前面輝度が実施例６より２０％以上減少してディスプレーに適さなかった。
【符号の説明】
【０１２７】
１  相変化インク組成物
２  インクジェットヘッド
３  基材
４  加圧ロール
５  紫外線照射装置
１０  バックライトユニット
１１  光源
２０  映像発生部
２１  下部基板
２２  上部基板
２３  液晶セル
３０  ３Ｄフィルター層
３１  第１の領域
３２  第２の領域
４０  遮光パターン
５０  接着層
【図１】
0005920484.tif 000003
【図２】
0005920484.tif 000004
【図３】
0005920484.tif 000005
【図４】
0005920484.tif 000006
【図５】
0005920484.tif 000007
【図６】
0005920484.tif 000008