(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を一方向に搬送する搬送手段と、前記基板を保持する基板ホルダーと、前記基板に対向して配置され、前記基板の面積よりも小さい面積の蒸着マスクと、蒸着材料を蒸発させて前記蒸着マスクに設けられた複数の開口パターンを介して前記基板の表面に蒸着し薄膜パターンを形成させる蒸着源と、を備えた蒸着装置であって、
前記蒸着マスクは、前記基板の搬送方向と交差する方向の少なくとも一方端側の縁部領域に、一定形状の開口部を設けてアライメントマークを形成してなり、
前記搬送方向と交差する方向に複数の受光エレメントを一直線に並べて備え、前記蒸着マスクのアライメントマークと、該アライメントマークに対応して前記搬送方向と交差する方向の少なくとも一方端側の前記基板の縁部領域に設けられた前記搬送方向に平行な細線状の追従マークとを同時に撮影して両マークの位置関係を検出可能にした撮像手段と、
前記撮像手段で撮影して検出された前記両マークの位置関係に基づいて、前記基板の搬送中常時、前記基板と前記蒸着マスクとを前記蒸着マスクの面に平行な面内で相対的に移動させて前記基板と前記蒸着マスクとの位置ずれを補正するアライメント手段と、
を備えており、
前記基板ホルダーは、基板の保持面が上向き状態で前記基板の授受を行い、前記保持面が下向き状態で保持された前記基板を前記蒸着マスクと対向させるように一端部が回動可能に前記搬送手段に支持されていることを特徴とする蒸着装置。
【請求項２】
前記蒸着マスクには、前記搬送方向と平行な両端縁部領域に夫々前記アライメントマークが設けられ、
前記基板には、前記搬送方向に平行な両端縁部領域に夫々前記追従マークが設けられ、
前記各アライメントマーク及び前記各追従マークを撮影可能に１対の前記撮像手段を備え、
前記アライメント手段は、前記各撮像手段で検出された前記アライメントマークと前記追従マークとの間の距離が互いに合致するように、前記基板と前記蒸着マスクとを相対的に前記搬送方向と交差する方向に移動し、同方向の位置ずれを補正する、
ことを特徴とする請求項１記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記各追従マークには、夫々一定間隔で交差する細線状の複数の角度調整用マークが設けられており、
前記アライメント手段は、前記各撮像手段で撮影して検出された前記搬送方向両端に対応して位置する前記角度調整用マーク間の位置ずれ量に基づいて前記蒸着マスクと前記基板とを相対的に回動させ、回転方向の位置ずれを補正する、
ことを特徴とする請求項２記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記アライメントマークは、前記搬送方向に平行な２本の細線状開口部と、該２本の細線状開口部間にて前記搬送方向と斜めに交差する１本の斜線状開口部とを組み合わせた形態をなしていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記基板は、透明な基板であり、
前記撮像手段は、前記透明な基板を透過して前記追従マーク及び前記アライメントマークを撮影可能に配置された、
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項６】
前記蒸着マスクと前記蒸着源との間に、前記蒸着マスクの前記アライメントマークの形成位置よりも内側にて前記複数の開口パターンを形成した中央領域の周縁部と、前記蒸着源の周縁部とをつなぐ筒状のフードをさらに設けたことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を一方向に搬送しながら基板よりも面積の小さい蒸着マスクを使用して薄膜パターンを蒸着形成する蒸着装置に関し、特に移動中の基板に対する薄膜パターンの形成位置精度を向上し得るようにした蒸着装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の蒸着装置は、基板と蒸着マスクとを対向させ、蒸着源から、蒸着マスクに設けられた開口パターンを通して基板の表面に蒸着材料を蒸着し、薄膜パターンの形成を行なうものであり、蒸着マスクの面積が基板の面積より小さく、基板を蒸着マスクに対して一方向に相対的に移動させながら蒸着を行なうようになっていた（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許２００３−２９７５６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、このような従来の蒸着装置においては、基板と蒸着マスクとのアライメントを行なうアライメント手段が備えられていないので、基板を保持して搬送させる搬送手段の機械精度により、搬送中に基板がピッチング及びヨーイングした場合、この基板の動きに蒸着マスクを追従させることができなかった。したがって、基板の表面に蒸着形成される薄膜パターンの位置精度を向上することができなかった。
【０００５】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、移動中の基板に対する薄膜パターンの形成位置精度を向上し得るようにした蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明による蒸着装置は、基板を一方向に搬送する搬送手段と、前記基板を保持する基板ホルダーと、前記基板に対向して配置され、前記基板の面積よりも小さい面積の蒸着マスクと、蒸着材料を蒸発させて前記蒸着マスクに設けられた複数の開口パターンを介して前記基板の表面に蒸着し薄膜パターンを形成させる蒸着源と、を備えた蒸着装置であって、前記蒸着マスクは、前記基板の搬送方向と交差する方向の少なくとも一方端側の縁部領域に、一定形状の開口部を設けてアライメントマークを形成してなり、前記搬送方向と交差する方向に複数の受光エレメントを一直線に並べて備え、前記蒸着マスクのアライメントマークと、該アライメントマークに対応して前記搬送方向と交差する方向の少なくとも一方端側の前記基板の縁部領域に設けられた前記搬送方向に平行な細線状の追従マークとを同時に撮影して両マークの位置関係を検出可能にした撮像手段と、前記撮像手段で撮影して検出された前記両マークの位置関係に基づいて、前記基板の搬送中常時、前記基板と前記蒸着マスクとを前記蒸着マスクの面に平行な面内で相対的に移動させて前記基板と前記蒸着マスクとの位置ずれを補正するアライメント手段と、を備えており、前記基板ホルダーは、基板の保持面が上向き状態で前記基板の授受を行い、前記保持面が下向き状態で保持された前記基板を前記蒸着マスクと対向させるように一端部が回動可能に前記搬送手段に支持されているものである。
【０００８】
好ましくは、前記蒸着マスクには、前記搬送方向と平行な両端縁部領域に夫々前記アライメントマークが設けられ、前記基板には、前記搬送方向に平行な両端縁部領域に夫々前記追従マークが設けられ、前記各アライメントマーク及び前記各追従マークを撮影可能に１対の前記撮像手段を備え、前記アライメント手段は、前記各撮像手段で検出された前記アライメントマークと前記追従マークとの間の距離が互いに合致するように、前記基板と前記蒸着マスクとを相対的に前記搬送方向と交差する方向に移動し、同方向の位置ずれを補正するようにするのが望ましい。
【０００９】
より好ましくは、前記各追従マークには、夫々一定間隔で交差する細線状の複数の角度調整用マークが設けられており、前記アライメント手段は、前記各撮像手段で撮影して検出された前記搬送方向両端に対応して位置する前記角度調整用マーク間の位置ずれ量に基づいて前記蒸着マスクと前記基板とを相対的に回動させ、回転方向の位置ずれを補正するようにするのが望ましい。
【００１０】
この場合、前記アライメントマークは、前記搬送方向に平行な２本の細線状開口部と、該２本の細線状開口部間にて前記搬送方向と斜めに交差する１本の斜線状開口部とを組み合わせた形態をなしているのが望ましい。
【００１１】
さらに、前記基板は、透明な基板であり、前記撮像手段は、前記透明な基板を透過して前記追従マーク及び前記アライメントマークを撮影可能に配置されているのが望ましい。
【００１２】
そして、前記蒸着マスクと前記蒸着源との間に、前記蒸着マスクの前記アライメントマークの形成位置よりも内側にて前記複数の開口パターンを形成した中央領域の周縁部と、前記蒸着源の周縁部とをつなぐ筒状のフードをさらに設けるのが望ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の蒸着装置によれば、撮像手段により撮影して得られた蒸着マスクに設けたアライメントマークと基板に設けた細線状の追従マークとの間の位置ずれ情報に基づいて基板又は蒸着マスクの位置を随時調整するようにしているので、搬送手段の機械精度により、搬送中に基板がピッチング及びヨーイングしても、基板の動きに蒸着マスクを追従させて蒸着することができる。したがって、移動中の基板に対しても薄膜パターンの形成位置精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明による蒸着装置の実施形態の要部を示す正面図である。
【図２】図１の左側面図である。
【図３】上記実施形態において使用される基板ホルダーの載荷位置における動作を示す説明図であり、（ａ）は基板の搬入待機状態を示し、（ｂ）は基板搬送時の状態を示している。
【図４】上記実施形態において使用される基板の一構成例を示す平面図である。
【図５】上記実施形態において使用される蒸着マスクの一構成例を示す平面図である。
【図６】上記実施形態における基板と蒸着マスクとの位置合わせについて示す説明図である。
【図７】上記実施形態における基板と蒸着マスクとの間の角度ずれ調整について示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による蒸着装置の実施形態の要部を示す正面図であり、図２は図１の左側面図である。この蒸着装置は、基板を一方向に搬送しながら基板よりも面積の小さい蒸着マスクを使用して薄膜パターンを蒸着形成するもので、真空室内に、搬送手段１と、基板ホルダー２と、蒸着マスク３と、蒸着源４と、撮像手段５と、アライメント手段６とを備えて構成されている。
【００１６】
上記搬送手段１は、基板７を図１に示す矢印Ａ方向に一定速度で搬送するもので、後述の基板ホルダー２を支持して矢印Ａ方向に移動させる例えばリニアモータアクチュエータであり、レール８と可動部９とを備えて構成されている。そして、真空室内に往路及び復路を備えた閉ループに形成され、蒸着が終了した基板ホルダー２をスタート位置まで戻すことができるようになっている。
【００１７】
上記搬送手段１に一端部２ａが回動可能に支持されて基板ホルダー２が設けられている。この基板ホルダー２は、平坦な吸着面２ｂに基板７の裏面を静電吸着して保持するものであり、吸着面２ｂに直流電圧が印加可能に構成されている。そして、図示省略の載荷位置（loading position）において、図３（ａ）に示すように、吸着面２ｂが上を向くように矢印Ｂ方向に回動し、搬入ロボットによって真空室内に搬入された基板７を吸着面２ｂに受けて静電吸着した後、同図（ｂ）に示すように矢印Ｃ方向に反転して吸着面２ｂが下を向くように回動し、基板７を後述の蒸着マスク３に対して対向させるようになっている。また、図示省略の除荷位置（unloading position）においては、吸着面２ｂが上を向くように回動した後、基板７の静電吸着を解除して、搬出ロボットにより蒸着が終了した基板７を真空室外に搬出できるようになっている。なお、図３（ａ）において符号１０は、基板７の周縁領域に設けられた後述の追従マーク１２と矢印Ａで示す基板搬送方向（以下「Ｘ方向」という）とが平行となるように基板７を予め位置合わせするための二次元カメラであり、Ｘ軸に平行に２台が並べて配置されている。
【００１８】
ここで使用する基板７は、図４に示すように、透明基板の表面にて中央領域７ａに、蒸着形成しようとする薄膜パターンに対応したストライプ状の複数のパターン形成領域１１が予め設定されており、上記ストライプ状のパターン形成領域１１の長軸に平行な両端縁部領域７ｂには、夫々、上記パターン形成領域１１の長軸に平行に例えば黒色レジストにより線状の追従マーク１２が互いに一定距離はなれて平行にパターン形成されている。さらに、各追従マーク１２には、夫々一定間隔で交差する短い線状の複数の角度調整用マーク１３が同じく例えば黒色レジストによりパターン形成されている。そして、基板７は、上記基板ホルダー２に上記追従マーク１２が矢印Ａで示す基板７搬送方向に平行となるように保持される。
【００１９】
上記基板ホルダー２と対向するように蒸着マスク３が設けられている。この蒸着マスク３は、基板７上に蒸着形成しようとする薄膜パターンのパターン形成領域１１外の部分を遮蔽するためのもので、図５に示すように、基板７の面積よりも小さい面積を有する金属板の中央領域３ａに、上記薄膜パターンに対応して貫通する複数の開口パターン１４を薄膜パターンの配列ピッチと同じ配列ピッチで並べて形成したものである。より詳細には、蒸着マスク３は、Ｘ方向の長さが基板７の同方向の長さよりも短く、基板搬送方向と交差する方向（以下「Ｙ方向」という）の長さが基板７の同方向の長さと同じかそれよりも長い短冊形状をなしている。そして、Ｙ方向の両端縁部領域３ｂに、一定形状の開口部を設けて１対のアライメントマーク１５が形成されている。なお、蒸着マスクは、熱膨張係数が１０×１０−６／℃以下の金属材料を使用するのが望ましく、好ましくは、熱膨張係数が２×１０−６／℃以下のインバー又は１×１０−６／℃以下のスーパーインバーが望ましい。
【００２０】
上記１対のアライメントマーク１５は、詳細には、夫々、図５に示すように、Ｘ方向に平行な２本の細線状開口部１５ａと、該２本の細線状開口部１５ａ間にてＸ方向と斜めに交差する１本の斜線状開口部１５ｂとを組み合わせたＮ字状の形をなしている。
【００２１】
上記蒸着マスク３の下方には、該蒸着マスク３に対向して蒸着源４が設けられている。この蒸着源４は、基板７に形成しようとする薄膜パターンの蒸着材料を蒸発させるものであり、蒸着マスク３の長軸方向（Ｙ方向）に長細い、上側を開口した箱状のルツボ１６と、ルツボ１６に収納された蒸着材料を加熱して蒸発させるヒータ１７と、ルツボ１６の開口を開閉するシャッタ１８とを備えて構成されている。なお、本実施形態においては、シャッタ１８を蒸着マスク３の下面に近接対向して配置した場合について示しているが、ルツボ１６の開口に近接対向させて設けてもよい。
【００２２】
そして、蒸着マスク３と蒸着源４との間には、図２に示すように、蒸着マスク３のアライメントマーク１５の形成位置よりも内側にて複数の開口パターン１４を形成した中央領域３ａの周縁部と、ルツボ１６の開口周縁部とをつなぐ筒状のフード１９が設けられ、蒸着材料が上記中央領域３ａ外の周辺領域に飛散し、蒸着マスク３のアライメントマーク１５を介して基板７に付着するのを防止している。
【００２３】
上記蒸着マスク３の両端縁部領域３ａの上方には、夫々撮像手段５が設けられている。この撮像手段５は、基板７のＸ軸に平行な両端縁部領域７ｂを透過して基板７の表面に設けられた追従マーク１２及び角度調整用マーク１３と、蒸着マスク３に設けられたアライメントマーク１５とを同時に撮影するものであり、Ｙ方向に複数の受光エレメントを一直線に並べて備えたラインカメラである。なお、撮像手段５の撮影領域を照明可能に図示省略の落射照明が設けられている。
【００２４】
上記蒸着マスク３をマスクの面に平行なＸＹ平面内を微動及び回動可能にアライメント手段６が設けられている。このアライメント手段６は、撮像手段５で撮影して検出されたアライメントマーク１５及び追従マーク１２の位置関係に基づいて、基板７の搬送中常時、蒸着マスク３をＸＹ平面内にてＹ方向に移動させて基板７と蒸着マスク３との位置ずれを補正すると共に、撮像手段５で撮影して検出された、Ｙ方向両端に互いに対応して位置する角度調整用マーク１３間の位置ずれ量に基づいて蒸着マスク３を回動させ、該基板７の角度ずれを補正するもので、図５に矢印ｕ，ｖ，ｗで示す蒸着マスク３の短辺の両端位置の作用点及び長辺の中心位置の作用点に対して蒸着マスク３の面に平行な力を加えるアクチュエータを備えている。この場合、矢印ｕ，ｖの作用点に対する各押し込み量又は引き出し量を調整することにより、蒸着マスク３をＸＹ平面内をＹ方向に移動させたり回動させたりすることができ、矢印ｗの作用点に対する押し込み量又は引き出し量を調整することにより、蒸着マスク３をＸ方向に移動することができる。また、アライメント手段６は、蒸着マスク３の中央領域３ａに対応して貫通する開口部を形成し、蒸着マスク３を基板７面に対して１００μｍ程度のギャップを介して近接対向させて保持する蒸着マスク３のマスクホルダーの役目も果たしている。
【００２５】
次に、このように構成された蒸着装置の動作について説明する。
初期状態においては、基板ホルダー２は、図３（ａ）に示すように、載荷位置で吸着面２ｂを上向きにして基板７が搬入されるまで待機している。
【００２６】
続いて、基板７が搬入ロボットによって搬入されて基板ホルダー２の吸着面２ｂ上に位置づけられる。この状態で基板７の縁部領域７ｂに設けられた追従マーク１２がＸ軸に平行に並べられた２台の２次元カメラ１０により撮像され、両カメラで検出された追従マーク１２が１直線につながるように基板７の角度が調整される。それが終了すると、基板ホルダー２の吸着面２ｂに直流電圧が印加され、基板７はその裏面が基板ホルダー２の吸着面２ｂに静電吸着されて基板ホルダー２に保持される。
【００２７】
次いで、基板ホルダー２は、図３（ｂ）に示すように、搬送手段１に支持された一端部２ａ側を中心に１８０度回動して基板７の表面を下向きにする。同時に、搬送手段１が起動して基板７の搬送が開始される。
【００２８】
基板７が搬送手段１の往路を搬送されて撮像手段５の下側に達すると、撮像手段５により、基板７のＸ方向に平行な両端縁部領域７ｂを透過して基板７の表面に設けられた追従マーク１２及び角度調整用マーク１３と蒸着マスク３に設けられたアライメントマーク１５とが同時に撮影される。
【００２９】
ここで、基板７と蒸着マスク３との位置合わせについて説明する。
ラインカメラからなる撮像手段５を使用して落射照明により基板７の追従マーク１２及び角度調整用マーク１３並びに蒸着マスク３のアライメントマーク１５を撮影すると、黒色パターンからなる追従マーク１２及び角度調整用マーク１３は、図６（ａ）に示すように夫々一つの黒点及び黒い細線として検出される。なお、同図（ａ）は、角度調整用マーク１３を検出した状態を示す。また、アライメントマーク１５は、開口部により形成されているため、同図（ａ）に示すように照明光が透過して３つの黒点として検出され、アライメントマーク１５の周辺は照明光が反射されて明部として検出される。さらに、各マークの検出結果を時間経過で示すと同図（ｂ）に示すようにアライメントマーク１５は３本の平行な黒い直線として表わされ、追従マーク１２は黒い直線として、角度調整用マーク１３は追従マーク１２の黒い直線に一定間隔で交差する黒い細線として表わされる。
【００３０】
初期状態においては、撮像手段５の撮影画像に基づいて検出されたアライメントマーク１５の３つの黒点間の距離Ｌ１，Ｌ２（図６（ａ）参照）が蒸着マスク３のＸ方向の中心軸に対して左右２つのアライメントマーク１５で共に合致するように、アライメント手段６を駆動して蒸着マスク３の図５に矢印ｕ，ｖ，ｗで示す作用点に力が作用され、蒸着マスク３が移動されて上記２つのアライメントマーク１５の中心を結ぶ中心線と撮像手段５の長手中心軸とが合致されている。
【００３１】
蒸着が開始されると、撮像手段５の撮影画像に基づいて検出されたアライメントマーク１５の３つの黒点うち、真中の黒点と追従マーク１２の黒点との間の距離Ｌ３，Ｌ４が計測される。この場合、上記距離Ｌ３，Ｌ４が異なるときには、アライメント手段６を駆動して該距離Ｌ３，Ｌ４が合致するように蒸着マスク３の図５に矢印ｕ，ｖで示す作用点に同じ大きさの力が作用され、基板７のＹ方向への位置ずれが補正される。
【００３２】
また、撮像手段５の撮影画像に基づいて検出される、基板７のＸ方向の中心線を挟んで左右に互いに対応して位置する角度調整用マーク１３の検出時刻ｔ１，ｔ２が図７に示すように異なる場合には、基板７がＸ方向に対して角度θだけ傾いていることを示す。したがって、このときには、左右二つの角度調整用マーク１３の検出時間差（ｔ２−ｔ１）と基板７の搬送速度から、２つの角度調整用マーク１３のＸ方向の距離Ｌ５を演算し、該距離Ｌ５と予めメモリに保存された左右の追従マーク１２間の距離Ｌ６とに基づいてθ＝ｓｉｎ−１（Ｌ５／Ｌ６）を演算して基板７の傾き角度θを求める。そして、蒸着マスク３の図５に矢印ｕ，ｖで示す作用点に対して互いに異なる大きさの力を作用し、蒸着マスク３を回転して蒸着マスク３のＸ方向に対する傾き角度が基板７の傾き角度θに合わされる。これにより、基板７と蒸着マスク３との間の相対的な回転方向の位置ずれが補正される。
【００３３】
なお、基板７のＹ方向への位置ずれ補正及び基板７と蒸着マスク３との間の回転方向の位置ずれ補正は、蒸着実行中常時行われ、ピッチング及びヨーイングしながら移動する基板７に対して蒸着マスク３を追従させることができる。したがって、薄膜パターンを位置精度よく形成することができる。
【００３４】
基板７が搬送されて蒸着マスク３の上方に達すると、蒸着源４のシャッタ１８が一定時間開かれ、ルツボ１６から蒸発した蒸着材料が蒸着マスク３の開口パターン１４を介して基板７上に付着する。こうして、基板７を搬送しながら基板７全面に渡って蒸着が行われ、基板７上のパターン形成領域１１にストライプ状の薄膜パターンが形成される。
【００３５】
蒸着が終了した基板７は、搬送手段１によってさらに後方まで搬送され、除荷位置において停止する。そして、この除荷位置において、基板ホルダー２が図３（ａ）に示すように搬送手段１側の一端部２ａを中心に矢印Ｂ方向に１８０度回動して基板７を上向きにし、この状態で吸着面２ｂに対する直流電圧の印加が解除される。その後、搬出ロボットによって基板７は、真空室外に搬出される。
【００３６】
基板７が搬出されて空となった基板ホルダー２は、図３（ｂ）に示すように搬送手段１側の一端部２ａを中心に矢印Ｃ方向に回動して吸着面２ｂを下向きにした状態で搬送手段１の復路を通ってスタート位置まで戻され、再び、初期状態に戻る。
【００３７】
なお、搬送手段１に複数の基板ホルダー２を備えて随時搬送できるように構成すれば、複数の基板７を連続的に搬送しながら蒸着をすることができ、蒸着工程のタクトを短縮することができる。
【００３８】
また、上記実施形態においては、アライメントマーク１５及び追従マーク１２が夫々１対設けられている場合について説明したが、本発明はこれに限られず、アライメントマーク１５及び追従マーク１２は、Ｘ方向に平行な一方側の縁部領域に互いに対応して１つ設けられていてもよい。この場合、１台の撮像手段５によりアライメントマーク１５と追従マーク１２とを撮影し、両マークが一定の位置関係を有するようにアライメント手段６により蒸着マスク３をＹ方向に移動させればよい。これにより、Ｙ方向に振れながら搬送される基板７に対して蒸着マスク３を位置合わせすることができる。
【００３９】
さらに、上記実施形態においては、基板７と蒸着マスク３との位置合わせを蒸着マスク３側を移動させて行う場合について説明したが、本発明はこれに限られず、基板ホルダー２側を移動させてもよい。この場合、アライメント手段６は、基板ホルダー２側に備えられ、蒸着マスク３は別に設けた蒸着マスクのマスクホルダーに固定的に保持される。
【００４０】
そして、上記実施形態においては、蒸着源４が一つの場合について説明したが、本発明はこれに限られず、一つの真空室内に複数種の蒸着源４及び対応する蒸着マスク３を基板７の搬送方向に並べて備えてもよい。これより、同一基板７上に１回の蒸着工程で複数種の薄膜パターンを形成することができる。
【符号の説明】
【００４１】
１…搬送手段
２…基板ホルダー
２ａ…一端部
２ｂ…保持面
３…蒸着マスク
４…蒸着源
５…撮像手段
６…アライメント手段
７…基板
１２…追従マーク
１３…角度調整用マーク
１４…開口パターン
１５…アライメントマーク
１５ａ…細線状開口部
１５ｂ…斜線状開口部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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