(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
画面部および非画面部を含み、
前記非画面部は、ルータ部、フレキシブルプリント回路基板（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ  ｂｏａｒｄｓ、ＦＰＣＢ）部、前記画面部とルータ部を連結する第１パッド部、前記ルータ部とフレキシブルプリント回路基板部を連結する第２パッド部、およびデコレーション部を含み、
前記画面部は、第１伝導性パターンを含み、
前記ルータ部、第１パッド部および第２パッド部は、各々、第２伝導性パターンを含み、
前記デコレーション部の全領域は、第３伝導性パターン、および前記第３伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記第３伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化パターンまたはカラーパターンを含み、
前記第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンの全ては、伝導性金属線からなることを特徴とするタッチスクリーン。
【請求項２】
前記ルータ部、第１パッド部、第２パッド部およびデコレーション部は、各々独立してダミーパターンをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項３】
前記第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは、互いに同一の線高さを有することを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項４】
前記第１伝導性パターンおよび第２伝導性パターンの少なくとも一部は互いに連結される領域を含み、
前記連結される領域は継ぎ目がないことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項５】
前記第１伝導性パターンのうち電気的に接続されたいずれか１つの領域において、第２伝導性パターンと連結されるいずれか１つの辺から、それに対向する他辺までの最短距離上でのライン抵抗値は、
前記第２伝導性パターンのうち電気的に接続されたいずれか１つの領域において、第１伝導性パターンと連結されるいずれか１つの辺から前記第２伝導性パターンがフレキシブルプリント回路基板部と接する他辺までのライン抵抗値より大きいか同じであることを特徴とする、請求項４に記載のタッチスクリーン。
【請求項６】
前記第１伝導性パターンのうち電気的に接続されたいずれか１つの領域において、画面部のいずれか１つの辺とそれに対向する他辺までの第１伝導性パターンの電気の流れ方向と前記第１伝導性パターンの伝導性ラインの角度が互いに異なることを特徴とする、請求項４に記載のタッチスクリーン。
【請求項７】
前記第１伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは互いに電気的に接続されず、
前記第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは互いに電気的に接続されないことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項８】
前記第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンとダミーパターンは、互いに電気的に接続されないことを特徴とする、請求項２に記載のタッチスクリーン。
【請求項９】
前記第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは、１回の印刷工程によって同時に形成されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項１０】
前記印刷工程は、リバースオフセット印刷（ｒｅｖｅｒｓｅ  ｏｆｆｓｅｔ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程であることを特徴とする、請求項９に記載のタッチスクリーン。
【請求項１１】
前記第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは基材上に備えられ、
前記第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは全て前記基材の同一の面に備えられることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項１２】
前記基材上の少なくとも一面に高硬度ハードコーティング層をさらに含むことを特徴とする、請求項１１に記載のタッチスクリーン。
【請求項１３】
前記基材上のいずれか１つの面には高硬度ハードコーティング層が備えられ、前記基材上の他の一面には第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンが備えられることを特徴とする、請求項１２に記載のタッチスクリーン。
【請求項１４】
前記高硬度ハードコーティング層上に第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンが備えられることを特徴とする、請求項１２に記載のタッチスクリーン。
【請求項１５】
前記第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは、微細断線部を含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項１６】
前記第１伝導性パターンの微細断線部の幅は１５μｍ以下であることを特徴とする、請求項１５に記載のタッチスクリーン。
【請求項１７】
前記第１伝導性パターンの１ｍｍ×１ｍｍの任意の領域において、
前記第１伝導性パターンの開口率が互いに異なる領域を少なくとも１以上含み、
前記開口率の差は０．１〜５％であることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項１８】
前記第２伝導性パターンおよび前記第３伝導性パターンの開口率は０超過であることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項１９】
前記第２パッド部はＦＰＣＢ連結領域をさらに含み、
前記ＦＰＣＢ連結領域の開口率は０であることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項２０】
前記第２パッド部とフレキシブルプリント回路基板部との間に伝導性層をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項２１】
前記画面部は配線領域をさらに含み、
前記第１伝導性パターンの線幅と前記配線領域の幅は下記数学式３の関係を満たすことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン：
［数学式３］
０．８５≦（Ｄ２−Ｘ）２／Ｄ≦０．９９５
前記数学式３において、
Ｘは第１伝導性パターンの線幅（μｍ）であり、Ｄは配線領域の幅（μｍ）である。
【請求項２２】
前記第１伝導性パターンの線幅と前記配線領域の幅は下記数学式４の関係を満たすことを特徴とする、請求項２１に記載のタッチスクリーン：
［数学式４］
０．９≦（Ｄ２−Ｘ）２／Ｄ≦０．９９
前記数学式４において、
Ｘは第１伝導性パターンの線幅（μｍ）であり、Ｄは配線領域の幅（μｍ）である。
【請求項２３】
前記ダミーパターンは、伝導性金属線から形成されたパターンからなることを特徴とする、請求項２に記載のタッチスクリーン。
【請求項２４】
前記伝導性金属線からなるパターンは、直線、曲線、または直線や曲線からなる閉曲線を含むことを特徴とする、請求項２３に記載のタッチスクリーン。
【請求項２５】
前記伝導性金属線は、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属酸化窒化物および金属合金からなる群から選択される１種以上を含むことを特徴とする、請求項２３に記載のタッチスクリーン。
【請求項２６】
前記第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは、各々独立して規則的または不規則的なパターンを含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項２７】
前記第２伝導性パターンの少なくとも一部は、前記第１伝導性パターンと線幅が互いに異なることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項２８】
前記第２伝導性パターンの少なくとも一部と前記第１伝導性パターンの線幅の差は５〜１００μｍであることを特徴とする、請求項２７に記載のタッチスクリーン。
【請求項２９】
前記第３伝導性パターンの少なくとも一部は、前記第１伝導性パターンと線幅が互いに異なることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項３０】
前記第３伝導性パターンの少なくとも一部と前記第１伝導性パターンの線幅の差は５〜１００μｍであることを特徴とする、請求項２９に記載のタッチスクリーン。
【請求項３１】
前記第１伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記第１伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化パターンをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項３２】
前記第２伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記第２伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化パターンをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項３３】
前記非画面部の反射率は５０％以下であることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項３４】
前記暗色化パターンまたはカラーパターンは、第３伝導性パターンにおいて使用者が見る面に備えられることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項３５】
前記タッチスクリーンは使用者がタッチするウィンドウをさらに含み、
前記暗色化パターンまたはカラーパターンは前記ウィンドウの使用者がタッチする面の反対面に直接形成されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項３６】
前記タッチスクリーンは使用者がタッチするウィンドウをさらに含み、
前記暗色化パターンまたはカラーパターンは前記ウィンドウの使用者がタッチする面の反対面と接することを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン。
【請求項３７】
請求項１〜３６のいずれか１項に記載のタッチスクリーンを含むディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は２０１２年１１月３０日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２０１２−０１３８３７５号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。
【０００２】
本出願はタッチスクリーンおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
一般的に、ディスプレイ装置とはＴＶやコンピュータ用モニターなどを総称する言葉であり、画像を形成するディスプレイ素子およびディスプレイ素子を支持するケースを含む。
【０００４】
前記ディスプレイ素子としては、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ、ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）、電気泳動ディスプレイ（Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ  ｄｉｓｐｌａｙ）および陰極線管（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ、ＣＲＴ）が挙げられる。ディスプレイ素子には、画像実現のためのＲＧＢ画素パターンおよび追加の光学フィルタが備えられても良い。
【０００５】
前記光学フィルタは、外部から入射した外光が再び外部へ反射することを防止する反射防止フィルム、リモコンのような電子機器の誤作動の防止のためにディスプレイ素子から発生した近赤外線を遮蔽する近赤外線遮蔽フィルム、色調節染料を含み、色調を調節することによって色純度を高める色補正フィルム、およびディスプレイ装置の駆動時にディスプレイ素子から発生する電磁波の遮蔽のための電磁波遮蔽フィルムのうち少なくとも１つを含むことができる。ここで、電磁波遮蔽フィルムは、透明基材および基材上に備えられた金属メッシュパターンを含む。
【０００６】
一方、ディスプレイ装置と関連し、ＩＰＴＶの普及が加速化するにつれ、リモコンなどの別途の入力装置無しで人の手が直接に入力装置となるタッチ機能に対する必要性が益々大きくなっている。また、特定ポイントの認識だけでなく、筆記が可能なマルチタッチ（ｍｕｌｔｉ−ｔｏｕｃｈ）機能も求められている。
【０００７】
前記のような機能をするタッチスクリーンは、信号の検出方式に応じて次のように分類することができる。
【０００８】
すなわち、直流電圧を印加した状態で圧力によって押された位置を電流または電圧値の変化を通じて検知する抵抗膜方式（ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｔｙｐｅ）と、交流電圧を印加した状態で容量結合（ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ）を用いる静電容量方式（ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  ｔｙｐｅ）と、磁界を印加した状態で選択された位置を電圧の変化として検知する電磁誘導方式（ｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ  ｔｙｐｅ）などがある。
【０００９】
この中、最も普遍化した抵抗膜および静電容量方式のタッチスクリーンは、ＩＴＯフィルムのような透明導電膜を用いて電気的な接触や静電容量の変化によってタッチ有無を認識する。しかし、前記透明導電膜は１００ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ以上の高抵抗であるので大型化時に感度が低下し、スクリーンの大きさが大きくなるほどＩＴＯフィルムの価格が急増するという問題のために商用化が容易ではない。それを克服するために伝導度の高い金属パターンを用いた方式で大型化を実現しようとする試みがなされている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本出願は、タッチスクリーンの製造工程を改善してタッチスクリーンの製造原価を節減することができ、タッチスクリーンの軽量化、薄型化などを向上させようとする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本出願は、
画面部および非画面部を含み、
前記非画面部は、ルータ部、フレキシブルプリント回路基板（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ  ｂｏａｒｄｓ、ＦＰＣＢ）部、前記画面部とルータ部を連結する第１パッド部、前記ルータ部とフレキシブルプリント回路基板部を連結する第２パッド部、およびデコレーション部を含み、
前記画面部は、第１伝導性パターンを含み、
前記ルータ部、第１パッド部および第２パッド部は、各々、第２伝導性パターンを含み、
前記デコレーション部は、第３伝導性パターン、および前記第３伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記第３伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化パターンまたはカラーパターンを含むことを特徴とするタッチスクリーンを提供する。
【００１２】
また、本出願は前記タッチスクリーンを含むディスプレイ装置を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本出願の一具体例によれば、タッチスクリーンの製造工程を改善してタッチスクリーンの製造原価を節減することができ、タッチスクリーンの軽量化、薄型化などを向上させることができる。
【００１４】
また、本出願の一具体例によれば、タッチスクリーンの画面部、ルータ部、前記画面部とルータ部を連結する第１パッド部、前記ルータ部とフレキシブルプリント回路基板部を連結する第２パッド部、およびデコレーション部の伝導性パターンを１回の印刷工程によって同時に形成することができる。
【００１５】
なお、本出願の一具体例によれば、タッチスクリーンのデコレーション部を金属を含む伝導性パターンを用いて形成することができるため、従来のデコレーション部を形成してラミネーションする工程のような追加の工程を排除することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来のタッチスクリーンを概略的に示す図である。
【図２】従来のタッチスクリーンを概略的に示す図である。
【図３】従来のタッチスクリーンを概略的に示す図である。
【図４】従来のタッチスクリーンの画面部、ルータ部、前記画面部とルータ部を連結する第１パッド部、前記ルータ部とフレキシブルプリント回路基板部を連結する第２パッド部、およびデコレーション部の伝導性パターンを概略的に示す図である。
【図５】本出願の一具体例として、タッチスクリーンの画面部、ルータ部、前記画面部とルータ部を連結する第１パッド部、前記ルータ部とフレキシブルプリント回路基板部を連結する第２パッド部、およびデコレーション部の伝導性パターンを概略的に示す図である。
【図６】本出願の一具体例として、タッチスクリーンの画面部、ルータ部、前記画面部とルータ部を連結する第１パッド部、前記ルータ部とフレキシブルプリント回路基板部を連結する第２パッド部、およびデコレーション部の伝導性パターンを概略的に示す図である。
【図７】本出願の一具体例として、タッチスクリーンの画面部、ルータ部、前記画面部とルータ部を連結する第１パッド部、前記ルータ部とフレキシブルプリント回路基板部を連結する第２パッド部、およびデコレーション部の伝導性パターンを概略的に示す図である。
【図８】本出願の一具体例として、ＦＰＣＢ連結領域を含むタッチスクリーンを概略的に示す図である。
【図９】本出願の一具体例として、ＦＰＣＢ連結領域に対応する部分にスクリーン印刷層を含むタッチスクリーンを概略的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本出願について詳細に説明する。
【００１８】
従来のタッチスクリーンの製造工程の場合は、タッチセンサーを形成した後、これをカバーウィンドウに付着する方式で製造されるタッチスクリーンが主をなしている。このためには、タッチセンサー部とデコレーションが形成されているカバーウィンドウを各々形成した後、それをラミネーションする方式が主をなしている。このような従来のタッチスクリーンを図１に概略的に示す。
【００１９】
このような工程の問題点を解決するために、カバーウィンドウに該当する強化ガラスに直接タッチ回路を形成するＧ１構造、Ｇ２構造などが現在のところ主に開発されているが、この場合にもカバーウィンドウにタッチスクリーンの配線部の隠蔽およびＬＣＭ（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｍｏｄｕｌｅ）の光漏れ現象を防ぐためのデコレーション印刷は必須の工程として導入されている。前記Ｇ１構造のタッチスクリーンを図２に概略的に示し、前記Ｇ２構造のタッチスクリーンを図３に概略的に示す。
【００２０】
すなわち、前述した従来のＧ１構造、Ｇ２構造などはカバーガラスの内側面にブラック印刷物質をコーティングし、カバーガラスをタッチパネルの上部に位置させる時にアラインメントが必要となり、その整列誤差に応じて左右に一定のマージンを与えている。しかし、このようなマージンにより、タッチパネルのデッド領域と判断されるブラック印刷物質の対応領域が増加するという問題点がある。また、上述したブラック印刷物質の内側端とタッチパネルのルータ部の最内側も整列誤差を考慮して離隔させるが、離隔された領域はデッド領域と判断され、ベゼル領域を増やすという問題があるため、ナローベゼル（ｎａｒｒｏｗ  ｂｅｚｅｌ）が不可であるという問題がある。
【００２１】
また、このようなデコレーション印刷の場合、収率面で他工程に比べて非常に低い収率を有しているために価格上昇の原因となる。また、後続工程において不良を誘発する原因として作用することによって多くの問題点を引き起こしている。また、強化ガラスにスクリーン印刷などを通じて形成するデコレーション部は、主に無機粒子を含む有／無機複合物からなる素材を用いることにより、それに起因する質感においても製品の高級さと距離があるので、デザイン的な側面の多くの制約を含んでいる状況である。
【００２２】
そこで、本出願は、従来のタッチスクリーンの製造工程とは異なり、タッチスクリーンの画面部の伝導性パターン、非画面部であるルータ部、第１パッド部、第２パッド部およびデコレーション部の伝導性パターンを１回の印刷工程によって同時に形成することにより、従来の製造工程を画期的に縮小することができる。また、フィルムおよびプラスチックウィンドウのような低温工程を必要とする基材に導入が可能であり、それによってタッチスクリーンの製造原価を節減することができ、タッチスクリーンの軽量化、薄型化などを達成することができる。
【００２３】
本出願の一具体例によるタッチスクリーンは、画面部および非画面部を含み、前記非画面部は、ルータ部、フレキシブルプリント回路基板（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ  ｂｏａｒｄｓ、ＦＰＣＢ）部、前記画面部とルータ部を連結する第１パッド部、前記ルータ部とフレキシブルプリント回路基板部を連結する第２パッド部、およびデコレーション部を含み、前記画面部は、第１伝導性パターンを含み、前記ルータ部、第１パッド部および第２パッド部は、各々、第２伝導性パターンを含み、前記デコレーション部は、第３伝導性パターン、および前記第３伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記第３伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化パターンまたはカラーパターンを含むことを特徴とする。
【００２４】
本出願の一具体例によるタッチスクリーンにおいて、前記ルータ部、第１パッド部および第２パッド部は、各々、第２伝導性パターンおよびダミーパターンを含むことができる。
【００２５】
また、本出願の一具体例によるタッチスクリーンにおいて、前記第２パッド部は、ＦＰＣＢボンディング時、第２パッド部の損傷を最小化するためのＦＰＣＢ連結領域をさらに含むことができる。
【００２６】
従来のタッチスクリーンの画面部、ルータ部、前記画面部とルータ部を連結する第１パッド部、前記ルータ部とフレキシブルプリント回路基板部を連結する第２パッド部、およびデコレーション部の伝導性パターンを図４に概略的に示す。より具体的に、図４は、従来の一般的なタッチスクリーンのルータ部、第１パッド部、第２パッド部、およびデコレーション部の伝導性パターンを互いに隠蔽していない状態でプラスチック基板上に形成した金属メッシュパターン基板のタッチスクリーンを示すものである。
【００２７】
図４に示すように、ルータ部、第１パッド部、第２パッド部およびデコレーション部の伝導性パターン間の開口率差によって領域の区分が大きく目立つことを確認することができ、このような形態の場合は、ルータ部、第１パッド部、第２パッド部などの光漏れ現象の問題によってタッチスクリーンへの適用が難しくなる。
【００２８】
そこで、本出願においては、タッチスクリーンのルータ部、第１パッド部および第２パッド部の伝導性パターンの空いた空間を任意に充填した形態のデザインを考案し、すなわち、ルータ部、第１パッド部および第２パッド部の空いた空間にダミーパターンを導入した。本出願の一具体例として、ルータ部、第１パッド部および第２パッド部の伝導性パターンの空いた空間にダミーパターンを導入したタッチスクリーンを図５に概略的に示す。
【００２９】
図５に示すように、ルータ部、第１パッド部および第２パッド部の空いた空間にダミーパターンを導入することにより、タッチスクリーンの全体的な透過率の均一性を確保することができる。
【００３０】
また、本出願においては、他の形態の局部的な導入により、このような部分がモジュール状態で取り付けられる場合に目に見える現象を改善するために、従来のルータ部の形成とは全く異なる形態の配線の形成方法を導入した。
【００３１】
このために、１次的に、本出願においては、全体タッチウィンドウの外郭線を画面部領域まで微細な断線幅で断線させた微細パターンを形成し、その後、このような微細パターンの領域にルータ部を導入した。その後、フレキシブルプリント回路基板部の結合のためのパッド部の領域区分のための部分を微細な断線を導入することによって形成した。最終的に、このような方式で形成されたタッチスクリーンの各位置別の形状を図７に概略的に示す。
【００３２】
この時、ルータ部および第１パッド部の各線の電気的な断線は初期に導入された微細パターンを通じて形成することによってルータ部および第１パッド部の認知性を最小化し、第２パッド部のデザインも従来の微細パターンを最大限に維持させることによって隠蔽性を極大化することができる。図７に表示された緑色線は各画面部、第１パッド部およびルータ部の伝導性パターン間の電気的な接続を示す。
【００３３】
本出願の一具体例として、ルータ部、第１パッド部、第２パッド部およびデコレーション部が微細パターンを含むタッチスクリーンを図６に概略的に示す。
【００３４】
特に、本出願によれば、前記画面部、ルータ部、第１パッド部、第２パッド部およびデコレーション部の伝導性パターンを１回の印刷工程によって同時に形成することができるため、従来の製造工程を画期的に縮小できるという特徴がある。
【００３５】
本出願において、前記第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは互いに同一の線高さを有しても良い。
【００３６】
また、前記第１伝導性パターンおよび第２伝導性パターンの少なくとも一部は互いに連結される領域を含み、前記連結される領域は継ぎ目がなくても良い。
【００３７】
本出願において、継ぎ目がないということは、物理的に連結された伝導性パターンに人為的に繋がった痕跡がないことを意味する。通常、画面部とルータ部のパターン形状および規模が異なるので、従来には前記画面部とルータ部を互いに異なる方法で形成したため、これらのパターンが連結される部分には継ぎ目が形成されるしかなかった。しかし、本発明においては、１つの工程を利用して画面部、パッド部、ルータ部などを形成することができるため、継ぎ目がなく、それらの線高さが同一な特徴を有することができる。
【００３８】
本出願において、線高さが同一であるということは、線高さの標準偏差が１０％未満、好ましくは５％未満、または、より好ましくは２％未満であることを意味する。
【００３９】
本発明において、前記第１伝導性パターンのうち電気的に接続されたいずれか１つの領域において、第２伝導性パターンと連結されるいずれか１つの辺から、それに対向する他辺までの最短距離上でのライン抵抗値は、前記第２伝導性パターンのうち電気的に接続されたいずれか１つの領域において、第１伝導性パターンと連結されるいずれか１つの辺から前記第２伝導性パターンがフレキシブルプリント回路基板部と接する他辺までのライン抵抗値より大きいか同じでも良い。前記のようなライン抵抗値に応じ、前記第１伝導性パターンのうち電気的に接続されたいずれか１つの領域において、第２伝導性パターン部と連結されるいずれか１つの辺から、それに対向する他辺までの最短距離上でのライン抵抗値に対応する第１伝導性パターンの線幅は、前記第２伝導性パターンのうち電気的に接続されたいずれか１つの領域において、第１伝導性パターンと連結されるいずれか１つの辺から前記第２伝導性パターンがフレキシブルプリント回路基板部と接する他辺までのライン抵抗値に対応する第２伝導性パターンの線幅より小さくても良い。また、これにより、第１伝導性パターンおよび第２伝導性パターン間の電気的な流れ特性をさらに向上させることができる。
【００４０】
本出願において、前記第１伝導性パターンおよび第２伝導性パターンの少なくとも一部は互いに電気的に接続されることができる。これにより、画面部、第１パッド部、ルータ部および第２パッド部を介して内部または外部の電気的信号を検知することができる。
【００４１】
また、前記電気的な断線を通じて、前記デコレーション部を構成する第３伝導性パターンは第１伝導性パターンと互いに電気的に接続されなくても良く、前記第３伝導性パターンは第２伝導性パターンと互いに電気的に接続されなくもて良い。
【００４２】
また、前記電気的な断線を通じて、前記第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンとダミーパターンは互いに電気的に接続されなくても良い。
【００４３】
すなわち、前記電気的な断線を通じて、前記第１伝導性パターン、前記第２伝導性パターン、第３伝導性パターンおよびダミーパターンは微細断線部を含むことができる。
【００４４】
前記第１伝導性パターンは微細断線部を含み、前記微細断線部の幅は１５μｍ以下であっても良いが、これのみに限定されるものではない。
【００４５】
本出願において、前記第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは基材上に備えられ、前記第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンは全て前記基材の同一の面に備えられることができる。
【００４６】
前記基材上の少なくとも一面には、高硬度ハードコーティング層をさらに含むことができる。この時、前記基材上のいずれか１つの面には高硬度ハードコーティング層が備えられ、前記基材上の他の一面には第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンが備えられることができるが、これのみに限定されるものではない。また、前記高硬度ハードコーティング層上に第１伝導性パターン、第２伝導性パターンおよび第３伝導性パターンが備えられることができるが、これのみに限定されるものではない。
【００４７】
前記高硬度ハードコーティング層は３〜６官能性アクリレート系単量体を含むバインダー用単量体；無機微粒子；光開始剤；および有機溶媒を含み、前記バインダー用単量体、前記無機微粒子および前記光開始剤を含む固形分に対し、前記固形分：前記有機溶媒の重量比が７０：３０〜９９：１のハードコーティング組成物を用いて形成することができる。
【００４８】
また、前記高硬度ハードコーティング層は、３〜６官能性アクリレート系単量体を含むバインダー用単量体；無機微粒子；および光開始剤を含む無溶剤（ｓｏｌｖｅｎｔ−ｆｒｅｅ）形態のハードコーティング組成物を用いて形成することができる。
【００４９】
前記ハードコーティング組成物に関する具体的な内容は下記の通りである。
【００５０】
前記アクリレート系とは、アクリレートだけでなく、メタクリレート、またはアクリレートやメタクリレートに置換基が導入された誘導体を全て意味する。
【００５１】
前記３〜６官能性アクリレート系単量体は、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ＴＭＰＥＯＴＡ）、グリセリンプロポキシル化トリアクリレート（ＧＰＴＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）、またはジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）などが挙げられる。前記３〜６官能性アクリレート系単量体は、単独でまたは互いに異なる種類を組み合わせて用いることができる。
【００５２】
本発明の一実施例によれば、前記バインダー用単量体は、１〜２官能性アクリレート系単量体をさらに含むことができる。
【００５３】
前記１〜２官能性アクリレート系単量体は、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）、ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）、ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）、またはトリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ）、エチレングリコールジアクリレート（ＥＧＤＡ）などが挙げられる。前記１〜２官能性アクリレート系単量体も、単独でまたは互いに異なる種類を組み合わせて用いることができる。
【００５４】
本発明の一実施例によれば、前記バインダー用単量体は、前記バインダー用単量体、前記無機微粒子および前記光開始剤を含む固形分１００重量部に対し、約３５〜約８５重量部、または約４５〜約８０重量部で含まれることができる。前記バインダー用単量体が前記範囲である時、高硬度を示し、優れた加工性でカールまたはクラックの発生が少ないハードコーティングフィルムを形成することができる。
【００５５】
また、前記バインダー用単量体が１〜２官能性アクリレート系単量体をさらに含む時、前記１〜２官能性アクリレート系単量体および前記３〜６官能性アクリレート系単量体の含量比は特に制限されないが、本発明の一実施例によれば、前記１〜２官能性アクリレート系単量体および前記３〜６官能性アクリレート系単量体が約１：９９〜約５０：５０、または約１０：９０〜約５０：５０、または約２０：８０〜約４０：６０の重量比となるように含まれることができる。前記重量比で１〜２官能性アクリレート系単量体および３〜６官能性アクリレート系単量体を含む時、カール特性や耐光性などの他の物性を低下させることなく高硬度および柔軟性を付与することができる。
【００５６】
本発明の他の一実施例によれば、前記バインダー用単量体は、光硬化性の弾性重合体をさらに含むことができる。
【００５７】
本明細書の全体にかけて、前記光硬化性の弾性重合体とは、紫外線の照射によって架橋重合される官能基を含み、弾性を示す高分子物質を意味する。
【００５８】
本発明の一実施例によれば、前記光硬化性の弾性重合体は、ＡＳＴＭ  Ｄ６３８によって測定した時に約１５％以上、例えば、約１５〜約２００％、または約２０〜約２００％、または約２０〜約１５０％の伸び率（ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎ）を有することができる。
【００５９】
本発明のハードコーティング組成物が光硬化性の弾性重合体をさらに含む時、前記光硬化性の弾性重合体は、前記３〜６官能性アクリレート系単量体と架橋重合され、硬化後ハードコーティング層を形成し、形成されるハードコーティング層に柔軟性および耐衝撃性を付与することができる。
【００６０】
前記バインダー用単量体が光硬化性の弾性重合体をさらに含む時、前記光硬化性の弾性重合体および前記３〜６官能性アクリレート系単量体の含量比は特に制限されないが、本発明の一実施例によれば、前記光硬化性の弾性重合体および前記３〜６官能性アクリレート系単量体が約５：９５〜約２０：８０の重量比となるように含まれることができる。前記重量比で３〜６官能性アクリレート系単量体および光硬化性の弾性重合体を含む時、カール特性や耐光性などの他の物性を低下させることなく高硬度および柔軟性を付与し、特に外部の衝撃による損傷を防止して優れた耐衝撃性を確保することができる。
【００６１】
本発明の一実施例によれば、前記光硬化性の弾性重合体は、重量平均分子量が約１，０００〜約６００，０００ｇ／ｍｏｌ、または約１０，０００〜約６００，０００ｇ／ｍｏｌの範囲のポリマーまたはオリゴマーであっても良い。
【００６２】
前記光硬化性の弾性重合体は、例えば、ポリカプロラクトン、ウレタンアクリレート系ポリマー、およびポリロタキサンからなる群から選択される１種以上であっても良い。
【００６３】
前記光硬化性の弾性重合体として使用できる物質中、ポリカプロラクトンはカプロラクトンの開環重合によって形成され、柔軟性、耐衝撃性、耐久性などの物性に優れる。
【００６４】
前記ウレタンアクリレート系ポリマーはウレタン結合を含み、弾性および耐久性に優れた特性を有する。
【００６５】
前記ポリロタキサン（ｐｏｌｙｒｏｔａｘａｎｅ）は亜鈴型の分子（ｄｕｍｂｂｅｌｌ  ｓｈａｐｅｄ  ｍｏｌｅｃｕｌｅ）と環状化合物（ｍａｃｒｏｃｙｃｌｅ）が構造的に嵌められている化合物を意味する。前記亜鈴型の分子は一定の線形分子および該線形分子の両末端に配置された封鎖基を含み、前記線形分子が前記環状化合物の内部を貫通し、前記環状化合物が前記線形分子に沿って移動することができ、前記封鎖基によって離脱が防止される。
【００６６】
本発明の一実施例によれば、末端に（メタ）アクリレート系化合物が導入されたラクトン系化合物が結合された環状化合物；前記環状化合物を貫通する線形分子；および前記線形分子の両末端に配置され、前記環状化合物の離脱を防止する封鎖基を含むロタキサン化合物を含むことができる。
【００６７】
この時、前記環状化合物は、前記線形分子を貫通または囲める程度の大きさを有するものであれば特に制限されることなく用いることができ、他の重合体や化合物と反応できる水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基またはアルデヒド基などの官能基を含むこともできる。このような環状化合物の具体的な例として、α−シクロデキストリンおよびβ−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリンまたはこれらの混合物が挙げられる。
【００６８】
また、前記線形分子としては、一定以上の分子量を有するものであれば、直鎖状を有する化合物は特に制限されることなく用いることができるが、ポリアルキレン系化合物またはポリラクトン系化合物を用いることができる。具体的には、炭素数１〜８のオキシアルキレン繰り返し単位を含むポリオキシアルキレン系化合物または炭素数３〜１０のラクトン系繰り返し単位を有するポリラクトン系化合物を用いることができる。
【００６９】
一方、前記封鎖基は製造されるロタキサン化合物の特性に応じて適切に調節することができ、例えば、ジニトロフェニル基、シクロデキストリン基、アダマンタン基、トリチル基、フルオレセイン基およびピレン基からなる群から選択された１種または２種以上を用いることができる。
【００７０】
前記のようなポリロタキサン化合物は優れた耐擦傷性を有し、スクラッチまたは外部の損傷が発生した場合に自己治癒能力を発揮することができる。
【００７１】
本発明のハードコーティング組成物は無機微粒子を含む。この時、前記無機微粒子は、前記バインダー用単量体に分散した形態で含まれることができる。
【００７２】
本発明の一実施例によれば、前記無機微粒子として粒径がナノスケールの無機微粒子、例えば、粒径が約１００ｎｍ以下、または約１０〜約１００ｎｍ、または約１０〜約５０ｎｍのナノ微粒子を用いることができる。また、前記無機微粒子としては、例えば、シリカ微粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化チタニウム粒子、または酸化亜鉛粒子などを用いることができる。
【００７３】
前記無機微粒子を含むことによってハードコーティングフィルムの硬度をさらに向上させることができる。
【００７４】
本発明の一実施例によれば、前記無機微粒子は、前記バインダー用単量体、前記無機微粒子および前記光開始剤を含む固形分１００重量部に対し、約１０〜約６０重量部、または約２０〜約５０重量部で含まれることができる。前記無機微粒子を前記範囲で含むことにより、物性を低下させない範囲内で無機微粒子の添加によるハードコーティングフィルムの硬度の向上効果を達成することができる。
【００７５】
本発明のハードコーティング組成物は光開始剤を含む。
【００７６】
本発明の一実施例によれば、前記光開始剤としては１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−メチル−１−プロパノン、メチルベンゾイルホルマート、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、２−ベンゾイル−２−（ジメチルアミノ）−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノン、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィンオキシド、またはビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシドなどが挙げられるが、これらのみに制限されるものではない。また、現在市販されている商品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ５００、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ６５１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７、Ｄａｒｏｃｕｒ  １１７３、Ｄａｒｏｃｕｒ  ＭＢＦ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ８１９、Ｄａｒｏｃｕｒ  ＴＰＯ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＩＰ  １００Ｆなどが挙げられる。これらの光開始剤は、単独でまたは互いに異なる２種以上を混合して用いることができる。
【００７７】
本発明の一実施例によれば、前記光開始剤は、前記バインダー用単量体、前記無機微粒子および前記光開始剤を含む固形分１００重量部に対し、約０．５〜約１０重量部、または約１〜約５重量部で含まれることができる。前記光開始剤が前記範囲にある時、ハードコーティングフィルムの物性を低下させることなく十分な架橋光重合を達成することができる。
【００７８】
一方、本発明のハードコーティング組成物は、前述したバインダー用単量体、無機微粒子および光開始剤の他に、界面活性剤、黄変防止剤、レベリング剤、防汚剤など、本発明が属する技術分野で通常用いられる添加剤をさらに含むことができる。また、その含量は、本発明のハードコーティング組成物の物性を低下させない範囲内で多様に調節することができるので特に制限されないが、例えば、前記固形分１００重量部に対し、約０．１〜約１０重量部で含まれることができる。
【００７９】
本発明の一実施例によれば、例えば、前記ハードコーティング組成物は添加剤として界面活性剤を含むことができ、前記界面活性剤は１〜２官能性のフッ素系アクリレート、フッ素系界面活性剤またはシリコン系界面活性剤であっても良い。この時、前記界面活性剤は、前記架橋共重合体内に分散または架橋している形態で含まれることができる。
【００８０】
また、前記添加剤として黄変防止剤を含むことができ、前記黄変防止剤としてはベンゾフェノン系化合物またはベンゾトリアゾール系化合物などが挙げられる。
【００８１】
本発明のハードコーティング組成物は有機溶媒を含む。
【００８２】
本発明の一実施形態によるハードコーティング組成物において、前記有機溶媒は、前記バインダー用単量体、前記無機微粒子、および前記光開始剤を含む固形分に対し、固形分：有機溶媒の重量比が約７０：３０〜約９９：１の範囲で含まれることができる。上記のように本発明のハードコーティング組成物が固形分を高含量で含むことによって高粘度の組成物が得られ、それによって厚膜コーティング（ｔｈｉｃｋ  ｃｏａｔｉｎｇ）が可能となって高い厚さ、例えば、５０μｍ以上のハードコーティング層を形成することができる。
【００８３】
本発明の一実施例によれば、前記有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールのようなアルコール系溶媒、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノールのようなアルコキシアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン系溶媒、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチルグリコールモノエチルエーテル、ジエチルグリコールモノプロピルエーテル、ジエチルグリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール−２−エチルヘキシルエーテルのようなエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族溶媒などを単独でまたは混合して用いることができる。
【００８４】
本発明の一実施例によれば、前記ハードコーティング組成物の粘度は、適切な流動性および塗布性を有する範囲であれば特に制限されないが、相対的に固形分の含量が高くて高粘度を示すことができる。例えば、本発明のハードコーティング組成物は、２５℃の温度で約１００〜約１，２００ｃｐｓの粘度、または約１００〜約１，２００ｃｐｓ、または約１５０〜約１，２００ｃｐｓ、または約３００〜約１，２００ｃｐｓの粘度を有することができる。
【００８５】
上述した成分を含む本発明の溶剤タイプまたは無溶剤タイプのハードコーティング組成物は、支持基材に塗布後に光硬化させることによってハードコーティング層を形成することができる。
【００８６】
移動通信端末やタブレットＰＣなどのカバーとして用いられるためのハードコーティングフィルムにおいては、ハードコーティングフィルムの硬度をガラスを代替できるレベルに向上させることが重要であり、ハードコーティングフィルムの硬度を向上させるためには、基本的に一定厚さ以上、例えば、５０μｍ、または７０μｍ、または１００μｍ以上にハードコーティング層の厚さを増加させなければならない。しかし、ハードコーティング層の厚さが増加するにつれて硬化収縮によるカール現象も増加して付着力が減少し、ハードコーティングフィルムが現像が発生し易い。そこで、支持基材を平坦化する工程をさらに行うことができるが、このような平坦化過程でハードコーティング層に亀裂が生じるので好ましくない。
【００８７】
本発明によるハードコーティング組成物は、高硬度のハードコーティング層を形成するために支持基材上に高い厚さで塗布および光硬化してもカールやクラックの発生が少なく、高透明度および高硬度を有するハードコーティング層を形成することができる。例えば、本発明のハードコーティング組成物を用いて厚さが約５０μｍ以上、例えば、約５０〜約１５０μｍ、または約７０〜約１００μｍの厚さを有するハードコーティング層を形成することができる。
【００８８】
本発明のハードコーティング組成物を用いてハードコーティング層を形成する場合、本発明が属する技術分野で用いられる通常の方法によって形成することができる。
【００８９】
例えば、先ず、支持基材の一面に本発明によるハードコーティング組成物を塗布する。この時、組成物を塗布する方法は、本技術が属する技術分野で利用できるものであれば特に制限されず、例えば、バーコーティング方式、ナイフコーティング方式、ロールコーティング方式、ブレードコーティング方式、ダイコーティング方式、マイクログラビアコーティング方式、コンマコーティング方式、スロットダイコーティング方式、リップコーティング方式、または溶媒キャスト（ｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｃａｓｔｉｎｇ）方式などを利用することができる。
【００９０】
前記ハードコーティング組成物を塗布した後、選択的に前記ハードコーティング組成物の塗布面を安定化するステップを行うことができる。前記安定化ステップは、例えば、前記ハードコーティング組成物が塗布された支持基材を一定の温度で処理することによって行うことができる。それによって塗布面を平坦化し、前記ハードコーティング組成物に含まれた揮発性の成分を揮発させることによって塗布面をさらに安定化することができる。
【００９１】
次に、塗布されたハードコーティング組成物に対して紫外線を照射して光硬化することによってハードコーティング層を形成することができる。
【００９２】
本発明のハードコーティング組成物を用いて支持基材の両面にハードコーティング層を形成する場合、先ず、支持基材の一面に第１ハードコーティング組成物を第１塗布および第１光硬化した後、支持基材の他面、すなわち、背面に再び第２ハードコーティング組成物を第２塗布および第２光硬化する２段階の工程によって形成することができる。
【００９３】
前記第２光硬化ステップにおいては紫外線照射が第１ハードコーティング組成物が塗布された反対側で行われるため、第１光硬化ステップにおいて硬化収縮によって発生したカールを反対方向に相殺して平坦なハードコーティングフィルムを得ることができる。したがって、追加の平坦化過程が不要である。
【００９４】
本発明のハードコーティング組成物を用いて形成したハードコーティング層を含むフィルムは、５０℃以上の温度および８０％以上の湿度で７０時間以上露出させた後に平面に位置させた時、前記フィルムの各コーナーまたは１辺が平面から離隔する距離の最大値が約１．０ｍｍ以下、または約０．６ｍｍ以下、または約０．３ｍｍ以下であっても良い。より具体的には、５０〜９０℃の温度および８０〜９０％の湿度で７０〜１００時間露出させた後に平面に位置させた時、前記フィルムの各コーナーまたは１辺が平面から離隔する距離の最大値が約１．０ｍｍ以下、または約０．６ｍｍ以下、または約０．３ｍｍ以下であっても良い。
【００９５】
本発明のハードコーティング組成物を用いて形成したハードコーティング層を含むフィルムは、優れた高硬度、耐擦傷性、高透明度、耐久性、耐光性、光透過率などを示しており、様々な分野に有用に用いられることができる。
【００９６】
例えば、本発明のハードコーティング組成物を用いて形成したハードコーティング層を含むフィルムは、１ｋｇ荷重での鉛筆硬度が７Ｈ以上、または８Ｈ以上、または９Ｈ以上であっても良い。
【００９７】
本出願において、前記高硬度ハードコーティング層は基材のいずれか１つの面にのみ備えられても良く、基材の両面に全て備えられても良い。
【００９８】
本出願において、前記第１〜第３伝導性パターンは各々独立して伝導性金属線からなるパターンを含むことができる。前記伝導性金属線からなるパターンは、直線、曲線、または直線や曲線からなる閉曲線を含むことができる。
【００９９】
前記第１〜第３伝導性パターンは規則的なパターンであっても良く、不規則的なパターンであっても良い。
【０１００】
前記規則的なパターンとしてはメッシュパターンなどの当技術分野のパターン形状が用いられることができる。前記メッシュパターンは、三角形、四角形、五角形、六角形および八角形のうち１つ以上の形状を含む規則的な多角形パターンを含むことができる。
【０１０１】
本出願において、前記第１〜第３伝導性パターンは規則的なパターンであり、伝導性パターンを構成する線のうち任意の複数の線が交差して形成される交差点を含み、この時、このような交差点の数は３．５ｃｍ×３．５ｃｍ面積で３，０００〜１２２，５００個であっても良く、１３，６１１〜３０，６２５個であっても良く、１９，６００〜３０，６２５個であっても良い。また、本出願によれば、ディスプレイに装着時、４，０００〜１２３，０００個である場合がディスプレイの光学特性を大きく害しない光特性を示すことを確認した。
【０１０２】
また、本出願によれば、前記第１〜第３伝導性パターンは不規則的なパターンであり、伝導性パターンを構成する線のうち任意の複数の線が交差して形成される交差点を含み、この時、このような交差点の数は３．５ｃｍ×３．５ｃｍ面積で６，０００〜２４５，０００個であっても良く、３，０００〜１２２，５００個であっても良く、１３，６１１〜３０，６２５個であっても良く、１９，６００〜３０，６２５個であっても良い。また、本出願によれば、ディスプレイに装着時、４，０００〜１２３，０００個である場合がディスプレイの光学特性を大きく害しない光特性を示すことを確認した。
【０１０３】
前記第１〜第３伝導性パターンのピッチは６００μｍ以下であっても良く、２５０μｍ以下であっても良いが、これは、当業者が所望する透過度および伝導度に応じて調整することができる。
【０１０４】
本出願に用いられる第１〜第３伝導性パターンは、比抵抗１×１０６オーム・ｃｍ〜３０×１０６オーム・ｃｍの物質が好適であり、７×１０６オーム・ｃｍ以下であることがより好ましい。
【０１０５】
本出願において、前記第１〜第３伝導性パターンは不規則的なパターンであっても良い。
【０１０６】
前記不規則的なパターンは、連続して連結された閉鎖図形の輪郭構造を含み、前記不規則的な任意の単位面積（１ｃｍ×１ｃｍ）内で同一形態の閉鎖図形は存在せず、前記閉鎖図形の頂点数は、前記閉鎖図形と同一の個数の四角形の頂点数と異なっても良い。より具体的には、前記閉鎖図形の頂点数は、前記閉鎖図形と同一の個数の四角形の頂点数と比較した時により多くても良く、１．９〜２．１倍さらに多くても良いが、これのみに限定されるものではない。
【０１０７】
前記閉鎖図形は互いに連続して連結されたものであり、例えば、前記閉鎖図形が多角形である場合は、互いに隣り合う閉鎖図形が少なくとも１つの辺を共有する形態であっても良い。
【０１０８】
前記不規則的なパターンは、連続して連結された閉鎖図形の輪郭構造を含み、前記不規則的なパターンは、任意の単位面積（１ｃｍ×１ｃｍ）内で同一形態の閉鎖図形は存在せず、前記閉鎖図形の頂点数は、前記閉鎖図形の各々の重心間の最短距離を連結して形成した多角形の頂点数と異なっても良い。より具体的には、前記閉鎖図形の頂点数は、前記閉鎖図形の各々の重心間の最短距離を連結して形成した多角形の頂点数と比較した時により多くても良く、１．９〜２．１倍さらに多くても良いが、これのみに限定されるものではない。
【０１０９】
前記不規則的なパターンは、連続して連結された閉鎖図形の輪郭構造を含み、前記不規則的なパターンは、任意の単位面積（１ｃｍ×１ｃｍ）内で同一形態の閉鎖図形は存在せず、前記閉鎖図形は、下記数学式１の値が５０以上であっても良い。
【０１１０】
［数学式１］
（頂点間の距離の標準偏差／頂点間の距離の平均）×１００
【０１１１】
前記数学式１の値は伝導性パターンの単位面積内で計算されることができる。前記単位面積は伝導性パターンが形成される面積であっても良く、例えば、３．５ｃｍ×３．５ｃｍなどであっても良いが、これのみに限定されるものではない。
【０１１２】
本出願において、前記頂点は、伝導性パターンの閉鎖図形の輪郭を構成する線が互いに交差する点を意味するものとして定義することにする。
【０１１３】
前記不規則的なパターンは、規則的に配列された単位ユニットセル内に各々任意の点を配置した後、各々の点が他の点からの距離に比べて最も近くにある点と連結してなった閉鎖図形の輪郭構造の形態であっても良い。
【０１１４】
この時、前記規則的に配列された単位ユニットセル内に任意の点を配置する方式にランダムネスを導入する場合に、前記不規則的なパターンが形成されることができる。例えば、前記ランダムネスを０として付与する場合は、単位ユニットセルが正方形であれば伝導性パターンは正方形のメッシュ構造が形成され、単位ユニットセルが正六角形であれば伝導性パターンはハニカム（ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）構造が形成されることになる。すなわち、前記不規則的なパターンは、前記ランダムネスが０でないパターンを意味する。
【０１１５】
本出願による不規則パターン形状の伝導性パターンにより、パターンをなす線の偏り現象などを抑制することができ、ディスプレイから均一な透過率を得るようにすると同時に単位面積に対する線密度を同一に維持させることができ、均一な伝導度を確保できるようになる。
【０１１６】
本出願において、前記第１〜第３伝導性パターンの材料は特に限定されないが、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属酸化窒化物および金属合金からなる群から選択される１種以上を含むことが好ましい。前記第１〜第３伝導性パターンの材料は、伝導度に優れ、エッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）が容易な材料であるほど好ましい。
【０１１７】
本出願においては、全反射率７０〜８０％以上の材料を用いる場合にも、全反射率を下げ、伝導性パターンの視認性を下げ、コントラスト特性を維持または向上させることができる。
【０１１８】
前記第１〜第３伝導性パターンの材料の具体的な例としては、金、銀、アルミニウム、銅、ネオジム、モリブデン、ニッケルまたはこれらの合金を含む単一膜または多層膜が好ましい。ここで、前記第１〜第３伝導性パターンの厚さは特に限定されないが、０．０１〜１０μｍであることが伝導性パターンの伝導度および形成工程の経済性の面で好ましい。
【０１１９】
本出願において、前記第１伝導性パターンは線幅が１０μｍ以下であっても良く、７μｍ以下であっても良く、５μｍ以下であっても良く、４μｍ以下であっても良く、２μｍ以下であっても良く、０．１μｍ以上であっても良い。より具体的には、前記第１伝導性パターンは線幅が０．１〜１μｍ、１〜２μｍ、２〜４μｍ、４〜５μｍ、５〜７μｍなどであっても良いが、これらのみに限定されるものではない。
【０１２０】
また、前記第１伝導性パターンの線幅は１０μｍ以下および厚さは１０μｍ以下であっても良く、前記第１伝導性パターンの線幅は７μｍ以下および厚さは１μｍ以下であっても良く、前記第１伝導性パターンの線幅は５μｍ以下および厚さは０．５μｍ以下であっても良い。
【０１２１】
より具体的には、本出願において、前記第１伝導性パターンの線幅は１０μｍ以下であり、前記第１伝導性パターンは３．５ｃｍ×３．５ｃｍの面積内で閉鎖図形の頂点数が６，０００〜２４５，０００個であっても良い。また、前記第１伝導性パターンの線幅は７μｍ以下であり、前記伝導性パターンは３．５ｃｍ×３．５ｃｍの面積内で閉鎖図形の頂点数が７，０００〜６２，０００個であっても良い。また、前記第１伝導性パターンの線幅は５μｍ以下であり、前記第１伝導性パターンは３．５ｃｍ×３．５ｃｍの面積内で閉鎖図形の頂点数が１５，０００〜６２，０００個であっても良い。
【０１２２】
前記第１伝導性パターンの開口率、すなわち、パターンによって覆われない面積比率は７０％以上であっても良く、８５％以上であっても良く、９５％以上であっても良い。また、前記第１伝導性パターンの開口率は９０〜９９．９％であっても良いが、これのみに限定されるものではない。
【０１２３】
また、前記第１伝導性パターンの１ｍｍ×１ｍｍの任意の領域において、前記第１伝導性パターンの開口率が互いに異なる領域を少なくとも１以上含み、前記開口率の差は０．１〜５％であっても良いが、これのみに限定されるものではない。
【０１２４】
また、前記第２および第３伝導性パターンの線幅は１５０μｍ以下であっても良く、１００μｍ以下であっても良く、５０μｍ以下であっても良く、３０μｍ以下であっても良く、１０μｍ以下であっても良く、０．１μｍ以上であっても良いが、これらのみに限定されるものではない。
【０１２５】
本出願において、前記第２伝導性パターンおよびダミーパターンの少なくとも一部は、前記第１伝導性パターンと線幅が互いに異なっても良い。この時、前記第２伝導性パターンおよびダミーパターンの少なくとも一部と前記第１伝導性パターンの線幅の差は５〜１００μｍであっても良く、５〜３０μｍであっても良く、５〜１５μｍであっても良いが、これらのみに限定されるものではない。
【０１２６】
また、前記第３伝導性パターンの少なくとも一部は、前記第１伝導性パターンと線幅が互いに異なっても良い。この時、前記第３伝導性パターンの少なくとも一部と前記第１伝導性パターンの線幅の差は５〜５００μｍであっても良く、５〜１００μｍであっても良く、５〜１５μｍであっても良いが、これらのみに限定されるものではない。
【０１２７】
前記第２伝導性パターン、ダミーパターンおよび第３伝導性パターンの開口率、すなわち、パターンによって覆われない面積比率は各々独立して３０％以下であっても良く、２５％以下であっても良く、５％以下であっても良い。また、前記第２伝導性パターン、ダミーパターンおよび第３伝導性パターンの開口率は各々独立して０．１〜１０％であっても良いが、必ず０を超過するべきであることを特徴とする。これは、デコレーション部の第３伝導性パターンとルータ部およびパッド部の第２伝導性パターンを１つの空間内で一致させることによる必須の部分として、従来の発明と明らかに差別化される部分であると言える。
【０１２８】
また、本発明において、前記第２パッド部はＦＰＣＢ連結領域をさらに含むことができ、前記ＦＰＣＢ連結領域の開口率は０であっても良い。前記ＦＰＣＢ連結領域はスクリーン印刷法によって形成することができるが、これのみに限定されるものではない。
【０１２９】
また、前記第２パッド部とフレキシブルプリント回路基板部との間に伝導性層をさらに含むことができる。
【０１３０】
この他に、近来の単一層を用いた１−Ｌａｙｅｒ  Ｓｅｎｓｏｒ構造によれば、従来の１−Ｌａｙｅｒ構造とは異なり、画面部内に配線に該当する領域の導入が可能である。すなわち、この場合を本発明とつなぎ合わせる場合においては、画面部内に任意の１ｍｍ×１ｍｍの領域において開口率を観察した時、開口率の差が０．１％以上の差を示す領域が少なくとも１区間以上存在するべきであることを特徴とする。
【０１３１】
このような現象は、１−Ｌａｙｅｒ構造を単一層内に形成するためには、断線領域および電気的に接続されていない孤立になった伝導体領域が必ず含まれるべきであり、これは、画面部に全ての電気的な回路をパターンの断線を通じて実現するためである。このようなパターンの断線において、本発明においては、断線の幅が１５μｍ以下、好ましくは１２μｍ以下である場合が断線を人の目で認知するにおいて最も有利であるということを発見した。
【０１３２】
本発明において、１−Ｌａｙｅｒ構造を通じてパターンを形成する場合においては、画面部内に配線領域（タッチができず、タッチ検知区域と第２パッド部を連結する領域）が導入される場合が存在し、このような領域は第１伝導性パターン領域を電気的に断線を通じて作らなければならないため、断線した領域をつなげて作られた配線領域の幅をＤとする時、線幅Ｗを有する線あるいはその線の延長線上に囲まれた図形の面積をＡとし、特性長さＬをＬ＝（Ａ）１／２と定義すれば、（Ｌ）１／２≦Ｄを満たすと同時に、０．８５≦（Ｌ−Ｘ）２／Ｌ２≦０．９９５の場合が電気的なパターン設計において最も有利な場合であることを確認した。
【０１３３】
すなわち、本発明において、前記画面部は配線領域をさらに含み、前記第１伝導性パターンの線幅と前記配線領域の幅は下記数学式３の関係を満たすことができる。
【０１３４】
［数学式３］
０．８５≦（Ｄ２−Ｘ）２／Ｄ≦０．９９５
【０１３５】
前記数学式３において、
Ｘは第１伝導性パターンの線幅（μｍ）であり、Ｄは配線領域の幅（μｍ）である。
【０１３６】
また、前記第１伝導性パターンの線幅と前記配線領域の幅は下記数学式４の関係を満たすことができる。
【０１３７】
［数学式４］
０．９≦（Ｄ２−Ｘ）２／Ｄ≦０．９９
【０１３８】
前記数学式４において、
Ｘは第１伝導性パターンの線幅（μｍ）であり、Ｄは配線領域の幅（μｍ）である。
【０１３９】
本出願においては、第１〜第３伝導性パターンを形成するために、印刷法を利用することによって、透明基材上に線幅が薄く精密な第１〜第３伝導性パターンを形成することができる。前記印刷法は、伝導性パターン材料を含むペーストあるいはインクを目的とするパターン形状で透明基材上に転写した後に焼成する方式で行われることができる。前記印刷法は特に限定されず、オフセット印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、ナノインプリントなどの印刷法が利用されることができ、これらのうち１種以上の複合方法が利用されることができる。前記印刷法は、ロール・ツー・ロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）方法、ロール・ツー・プレート（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｐｌａｔｅ）、プレート・ツー・ロール（ｐｌａｔｅ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）またはプレート・ツー・プレート（ｐｌａｔｅ  ｔｏ  ｐｌａｔｅ）方法を利用することができる。
【０１４０】
本出願においては、精密な伝導性パターンを実現するためにリバースオフセット印刷法を応用することが好ましい。このために、本出願においては、ブランケットと呼ばれるシリコン系ゴム上にエッチング時にレジストの役割を行うことができるインクを全面積にかけてコーティングした後、これを１次クリシェと呼ばれるパターンが彫られた凹版を通じて必要のない部分を除去し、２次でブランケットに残っている印刷パターンを金属などが蒸着されたフィルムあるいはガラスのような基材に転写した後、これを焼成およびエッチング工程を経て所望のパターンを形成する方法を行うことができる。このような方法を利用する場合、金属が蒸着された基材を用いることによって全領域での線高さの均一性が確保されることで厚さ方向の抵抗を均一に維持できるという長所を有する。この他にも、本出願においては、前述したリバースオフセット印刷方法を利用してＡｇインクのような伝導性インクを直接印刷した後に焼成することによって所望のパターンを形成する直接印刷方式を含むことができる。この時、パターンの線高さは押す印圧によって平坦化され、伝導度の付与はＡｇナノ粒子の相互の表面融着による連結を目的とする熱焼成工程やあるいはマイクロウェーブ焼成工程／レーザ部分焼成工程などによって付与することができる。
【０１４１】
本出願において、前記ダミーパターンは、前述した伝導性パターンと同一の材料および同一の製造方法によって形成することができる。
【０１４２】
本出願において、前記画面部は第１伝導性パターンを含み、前記第１伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記第１伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化パターンをさらに含むことができる。
【０１４３】
本出願において、前記タッチスクリーンは、前記第２伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記第２伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化パターンをさらに含むことができる。
【０１４４】
本出願において、前記タッチスクリーンは、前記ダミーパターンの少なくとも一面に備えられ、前記ダミーパターンに対応する領域に備えられた暗色化パターンをさらに含むことができる。
【０１４５】
本出願において、前記デコレーション部は第３伝導性パターンを含み、前記第３伝導性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記第３伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化パターンを含むことができる。
【０１４６】
本出願において、前記画面部の暗色化パターンが可視になる一面に点光源から出てきた光を照射して得た反射型回折イメージの反射型回折強度が、前記伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化パターンを含まないことを除いては同一の構成を有するタッチスクリーンに比べて６０％以上減少したものであっても良い。ここで、前記反射型回折強度が、前記伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化パターンを含まないことを除いては同一の構成を有するタッチスクリーンに比べて６０％以上減少したものであっても良く、７０％以上減少したものであっても良く、８０％以上減少したものであっても良い。例えば、６０〜７０％減少したものであっても良く、７０〜８０％減少したものであっても良く、８０〜８５％減少したものであっても良い。
【０１４７】
本出願において、前記画面部の暗色化パターンが可視になる一面に周辺光（Ａｍｂｉｅｎｔ  ｌｉｇｈｔ）を仮定した全反射率測定装置を用いて測定した全反射率（ｔｏｔａｌ  ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）が、前記伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化パターンを含まないことを除いては同一の構成を有するタッチスクリーンに比べて２０％以上減少したものであっても良い。ここで、前記全反射率が、前記伝導性パターンがＡｌからなり、暗色化パターンを含まないことを除いては同一の構成を有するタッチスクリーンに比べて２０％以上減少したものであっても良く、２５％以上減少したものであっても良く、３０％以上減少したものであっても良い。例えば、２５〜５０％減少したものであっても良い。
【０１４８】
本出願において、前記画面部の暗色化パターンは第１伝導性パターンの上面および下面に備えられても良く、第１伝導性パターンの上面および下面だけでなく、側面の少なくとも一部分に備えられても良く、第１伝導性パターンの上面、下面および側面の全体に備えられても良い。
【０１４９】
本出願において、前記画面部の暗色化パターンは第１伝導性パターンの全面に備えられることにより、前記第１伝導性パターンの高い反射率による視認性を減少させることができる。この時、前記暗色化パターンは、伝導層のような高い反射率を有する層と結合時、特定の厚さ条件下で相殺的干渉および自体的な吸光性を有するため、暗色化パターンによって反射される光と暗色化パターンを経て第１伝導性パターンによって反射される光の量を互いに類似するように合わせると同時に特定の厚さ条件で２つの光間の相互の相殺的干渉を誘導することによって第１伝導性パターンによる反射率を下げる効果を示すようになる。
【０１５０】
この時、本出願による画面部の暗色化パターンが見える面から測定した、暗色化パターンと伝導性パターンとからなるパターン領域の色範囲は、ＣＩＥ  ＬＡＢ色座標を基準にＬ値は２０以下、Ａ値は−１０〜１０、Ｂ値は−７０〜７０であっても良く、Ｌ値は１０以下、Ａ値は−５〜５、Ｂ値は０〜３５であっても良く、Ｌ値は５以下、Ａ値は−２〜２、Ｂ値は０〜１５であっても良い。
【０１５１】
また、本出願による画面部の暗色化パターンが見える面から測定した、暗色化パターンと第１伝導性パターンとからなるパターン領域の全反射率は、外部光５５０ｎｍを基準とする時、１７％以下であっても良く、１０％以下であっても良く、５％以下であっても良い。
【０１５２】
ここで、全反射率（ｔｏｔａｌ  ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）とは、拡散反射率（ｄｉｆｆｕｓｅ  ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）および鏡面反射率（ｓｐｅｃｕｌａｒ  ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）を全て考慮した反射率を意味する。前記全反射率は、反射率を測定しようとする面の反対面をブラックペースト（Ｂｌａｃｋ  ｐａｓｔｅ）またはテープ（ｔａｐｅ）などを用いて反射率を０にした後、測定しようとする面の反射率だけを測定して観察した値であり、この時に入ってくる光源は周辺光（ａｍｂｉｅｎｔ  ｌｉｇｈｔ）条件と最も類似する拡散（ｄｉｆｆｕｓｅ）光源を導入した。また、この時、反射率を測定する測定位置は、積分球の半円の垂直線から約７度傾いた位置を基本とした。
【０１５３】
本出願において、前記暗色化パターンは前記第１〜第３伝導性パターンと同時にまたは別途にパターン化されても良いが、各々のパターンを形成するための層は別途に形成される。しかし、伝導性パターンと暗色化パターンが正確に対応する面に存在するためには、伝導性パターンと暗色化パターンを同時に形成することが最も好ましい。
【０１５４】
このようにパターンを形成することによって暗色化パターン自体の効果を最適化および最大化しつつ、タッチスクリーンに求められる微細な伝導性パターンを実現することができる。タッチスクリーンにおいて、微細な伝導性パターンを実現できない場合、抵抗などタッチスクリーンに求められる物性を達成することができない。
【０１５５】
本出願において、前記暗色化パターンと前記第１伝導性パターンは別途のパターン層が積層構造をなすという点で、吸光物質の少なくとも一部が伝導性パターン内に陥没または分散している構造や単一層の導電層が表面処理によって表面側の一部が物理的または化学的な変形がなされた構造とは差別される。
【０１５６】
また、本出願によるタッチスクリーンにおいて、前記暗色化パターンは接着層または粘着層を介在せず、直接前記基材上にまたは直接前記第１伝導性パターン上に備えられる。接着層または粘着層は耐久性や光学物性に影響を及ぼし得る。また、本出願によるタッチスクリーンに含まれる積層体は、接着層または粘着層を用いる場合と比較する時、製造方法が全く異なる。さらに、接着層や粘着層を用いる場合に比べて、本出願では基材または第１伝導性パターンと暗色化パターンの界面特性に優れる。
【０１５７】
本出願において、前記暗色化パターンの厚さは、前述した物理的性質である相殺的干渉特性と吸収係数特性を有すれば、光の波長をλとし、暗色化パターンの屈折率をｎと定義する時、λ／（４×ｎ）＝Ｎ（ここで、Ｎは奇数）の厚さ条件を満たすのであれば、いかなる厚さであっても良い。但し、製造工程中、伝導性パターンとのエッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）特性を考慮する場合、１０ｎｍ〜４００ｎｍの間から選択することが好ましいが、用いられる材料および製造工程に応じて好ましい厚さは異なり、本出願の範囲が前記数値範囲によって限定されるものではない。
【０１５８】
前記暗色化パターンは単一層からなっても良く、２層以上の複数層からなっても良い。
【０１５９】
前記暗色化パターンは無彩色系の色に近いことが好ましい。但し、必ずしも無彩色である必要はなく、色を有していても低い反射率を有する場合であれば導入可能である。この時、無彩色系の色とは、物体の表面に入射する光が選択吸収されす、各成分の波長に対して均一に反射吸収される時に現れる色を意味する。本出願において、前記暗色化パターンは、可視光領域（４００ｎｍ〜８００ｎｍ）において全反射率の測定時、各波長帯別の全反射率の標準偏差が５０％内の材料を用いることができる。
【０１６０】
前記暗色化パターンの材料は、吸光性材料として、好ましくは、全面層を形成した時、前述した物理的特性を有する金属、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物からなる材料であれば、特に制限されることなく用いることができる。
【０１６１】
例えば、前記暗色化パターンは、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｃｒなどを用いて、当業者が設定した蒸着条件などに応じて酸化物膜、窒化物膜、酸化物−窒化物膜、炭化物膜、金属膜またはこれらの組み合わせであっても良い。
【０１６２】
具体的な例として、前記暗色化パターンはＮｉおよびＭｏを同時に含むことができる。前記暗色化パターンはＮｉ  ５０〜９８原子％およびＭｏ  ２〜５０原子％を含むことができ、その他の金属、例えば、Ｆｅ、Ｔａ、Ｔｉなどの原子を０．０１〜１０原子％さらに含むことができる。ここで、前記暗色化パターンは、必要な場合、窒素０．０１〜３０原子％または酸素および炭素４原子％以下をさらに含むこともできる。
【０１６３】
また１つの具体的な例として、前記暗色化パターンはＳｉＯ、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２およびＳｉＮｘ（ｘは１以上の整数）から選択される誘電性物質およびＦｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ａｌ、Ｃｕ、ＡｕおよびＡｇのうちから選択される金属を含むことができ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ａｌ、Ｃｕ、ＡｕおよびＡｇのうちから選択される２以上の金属の合金をさらに含むことができる。前記誘電性物質は外部光が入射する方向から遠くなるほど次第に減少するように分布しており、前記金属および合金成分はその逆に分布していることが好ましい。この時、前記誘電性物質の含量は２０〜５０重量％、前記金属の含量は５０〜８０重量％であることが好ましい。前記暗色化パターンが合金をさらに含む場合、前記暗色化パターンは、誘電性物質１０〜３０重量％、金属５０〜８０重量％および合金５〜４０重量％を含むことが好ましい。
【０１６４】
また１つの具体的な例として、前記暗色化パターンは、ニッケルとバナジウムの合金、ニッケルとバナジウムの酸化物、窒化物または酸窒化物のうちいずれか１つ以上を含む薄膜からなることができる。この時、バナジウムは２６〜５２原子％で含まれることが好ましく、ニッケルに対するバナジウムの原子比は２６／７４〜５２／４８であることが好ましい。
【０１６５】
また１つの具体的な例として、前記暗色化パターンは、２以上の元素を有し、１つの元素組成比率が外光が入射する方向に沿って１００オングストローム当たりに最大約２０％ずつ増加する遷移層を含むことができる。この時、１つの元素はクロム、タングステン、タンタル、チタン、鉄、ニッケルまたはモリブデンのような金属元素であっても良く、金属元素以外の元素は酸素、窒素または炭素であっても良い。
【０１６６】
また１つの具体的な例として、前記暗色化パターンは第１酸化クロム層、金属層、第２酸化クロム層およびクロムミラーを含むことができ、この時、クロムの代わりに、タングステン、バナジウム、鉄、クロム、モリブデンおよびニオブのうちから選択された金属を含むことができる。前記金属層は１０〜３０ｎｍの厚さ、前記第１酸化クロム層は３５〜４１ｎｍの厚さ、前記第２酸化クロム層は３７〜４２ｎｍの厚さを有することができる。
【０１６７】
また具体的な１つの例として、前記暗色化パターンとしては、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）層、クロム酸化物（Ｃｒ２Ｏ３）層およびクロム（Ｃｒ）層の積層構造を用いることができる。ここで、前記アルミナ層は反射特性の改善および光拡散の防止特性を有し、前記クロム酸化物層は鏡面反射率を減少させてコントラスト特性を向上させることができる。
【０１６８】
本出願において、前記暗色化パターンは、前記第１〜第３伝導性パターンに対応する領域に備えられる。ここで、伝導性パターンに対応する領域とは、前記伝導性パターンと同一形状のパターンを有することを意味する。但し、暗色化パターンのパターン規模が前記伝導性パターンと完全に同一である必要はなく、暗色化パターンの線幅が伝導性パターンの線幅に比べて狭いか広い場合も本出願の範囲に含まれる。例えば、前記暗色化パターンは、前記伝導性パターンが備えられた面積の８０％〜１２０％の面積を有することが好ましい。
【０１６９】
前記暗色化パターンは、前記伝導性パターンの線幅と同一であるか大きい線幅を有するパターン形状を有することが好ましい。
【０１７０】
前記暗色化パターンが前記伝導性パターンの線幅より大きい線幅を有するパターン形状を有する場合、使用者が見る時、暗色化パターンが伝導性パターンを遮る効果をより大きく与えることができるため、伝導性パターン自体の光沢や反射による効果を効率的に遮断できるという長所がある。しかし、前記暗色化パターンの線幅が前記伝導性パターンの線幅と同一であっても本出願が目的とする効果を達成することができる。前記暗色化パターンの線幅は、伝導性パターンの線幅より下記数学式２による値だけさらに大きい幅を有することが好ましい。
【０１７１】
［数学式２］
Ｔｃｏｎ×ｔａｎｇｅｎｔΘ３×２
【０１７２】
前記数学式２において、
Ｔｃｏｎは伝導性パターンの厚さであり、
Θ３は、タッチスクリーンの使用者の視覚が位置したところから入射した光が前記伝導性パターンおよび前記暗色化パターンのコーナーを通過する時、光が基材表面に対する法線となす角度である。
【０１７３】
Θ３は、タッチスクリーンの使用者の視覚と基材がなす角度（Θ１）が基材の屈折率および前記暗色化パターンと伝導性パターンが配置された領域の媒質、例えば、タッチスクリーンの粘着剤の屈折率によってスネルの法則に従って変化した角度である。
【０１７４】
一例として、見る人がΘ３の値が約８０度の角度をなすように前記積層体を見ると仮定し、伝導性パターンの厚さが約２００ｎｍであると仮定すれば、暗色化パターンが伝導性パターンに対比して、線幅が、側面を基準とする時、約２．２４μｍ（２００ｎｍ×ｔａｎ（８０）×２）だけ大きいことが好ましい。しかし、前述したように、暗色化パターンが伝導性パターンと同一の線幅を有する場合にも本出願が目的とする効果を達成することができる。
【０１７５】
本出願において、前記ダミーパターンまたは第２伝導性パターンの少なくとも一面に備えられる暗色化パターンに関する内容は、前述した第１伝導性パターンの少なくとも一面に備えられる暗色化パターンに関する内容と同様である。
【０１７６】
また、前記第３伝導性パターンの少なくとも一面に備えられる暗色化パターンは、前述した第１伝導性パターンの少なくとも一面に備えられる暗色化パターンの材料を用いることができるだけでなく、タッチスクリーンの用途、審美的な効果を示すために適切な色をさらに含むことができる。
【０１７７】
なお、本出願において特徴なところは、前記第１伝導性パターンと第２伝導性パターンが連結された領域において、ＦＰＣＢ連結領域をさらに含むことができ、前記ＦＰＣＢ連結領域の開口率は０であっても良い。前記ＦＰＣＢ連結領域が０超過の開口率を有する場合は、ＦＰＣＢボンディング（ｂｏｎｄｉｎｇ）後、使用者が見る面にＦＰＣＢのＣｕ銅箔が映れるためであり、さらに、このようなことを予防するためにＦＰＣＢ連結領域およびＦＰＣＢの外郭と対応する部分は開口率が０であることが好ましい（図８参照）。
【０１７８】
また、現在のＦＰＣＢボンディング（ｂｏｎｄｉｎｇ）技術中、ＡＣＦを用いてボンディング（Ｂｏｎｄｉｎｇ）を行う場合においては、ＦＰＣＢ連結領域に対応する部分には追加のスクリーン印刷を行うことができる。これは、スクリーン印刷を行うことによって、ＦＰＣＢボンディング（ｂｏｎｄｉｎｇ）時、圧痕によるデコレーション部の暗色化パターンの損傷を最小化できるためである。
【０１７９】
図９は、このようなスクリーン印刷を通じたデコレーション部の暗色化パターンの損傷最小化を図式的に示すものである。
【０１８０】
本出願において、前記非画面部の反射率は５０％以下であっても良いが、これのみに限定されるものではない。
【０１８１】
本出願において、前記暗色化パターンまたはカラーパターンは、第３伝導性パターンにおいて使用者が見る面に備えられることができる。
【０１８２】
また、前記タッチスクリーンは使用者がタッチするウィンドウをさらに含み、前記暗色化パターンまたはカラーパターンは前記ウィンドウの使用者がタッチする面の反対面に直接形成されることができる。
【０１８３】
なお、前記タッチスクリーンは使用者がタッチするウィンドウをさらに含み、前記暗色化パターンまたはカラーパターンは前記ウィンドウの使用者がタッチする面の反対面と接する形態で備えられることができる。
【０１８４】
本出願の一具体例によれば、タッチスクリーンの製造工程を改善してタッチスクリーンの製造原価を節減することができ、タッチスクリーンの軽量化、薄型化などを向上させることができる。
【０１８５】
また、本出願の一具体例によれば、タッチスクリーンの画面部、ルータ部、第１パッド部、第２パッド部およびデコレーション部の伝導性パターンを１回の印刷工程あるいはフォト工程によって同時に形成することができる。
【０１８６】
なお、本出願において、第１伝導性パターン領域と連結された第２伝導性パターン領域を除いた残りの領域において、アンテナのような追加の電気的な機能をする領域をさらに備えることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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