(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚みが１０〜３００μｍの範囲内である樹脂支持体上の光入射側に、
銀層と、該銀層の反入射光側に、厚みが５ｎｍ以上５０μｍ以下であり、波長３２０ｎｍにおける光の反射率が３９％以上の一種の金属から構成される金属層とを積層させてなる反射層を有し、
前記樹脂支持体の反入射光側に、他の基材を前記樹脂支持体に貼り合わせるための粘着層を有する構造であることを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項２】
前記金属層がＡｌ，Ｎｉ，Ｒｈ，Ｐｔ，ＣｒまたはＺｎから選択された金属からなる層であることを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項３】
請求項１または２に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを製造する方法であって、前記反射層を、蒸着により形成することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
【請求項４】
請求項１または２に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを、前記他の基材である金属支持体上に前記粘着層を介して貼り合せてなることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規の太陽熱発電用フィルムミラーとその製造方法及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わるエネルギーとしては現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー、太陽エネルギー等の自然エネルギーの検討がなされているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、且つ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられている。しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であること等が問題となると考えられる。【０００３】
太陽エネルギーの上記課題に対し、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題に対しては、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決する方法が提案されている。反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは、環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損すること、あるいは重いため、ミラーを設置する架台に強度を持たせる必要があり、その結果、プラントの建設費がかさむといった問題があった。【０００４】
上記問題を解決する手段としては、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換える方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、ガラス製ミラーを単に樹脂製反射シート（以下、フィルムミラーともいう）に置き換えただけでは、太陽光反射用ミラーとして採用することは困難である。太陽光反射用ミラーとしては、高い反射率だけではなく、高い耐久性や高い正反射率が求められる為である。【０００５】
まず、高反射率を達成する目的で、可視光領域に高い反射特性を有する銀を反射層として用いることが考えられる。しかしながら、銀反射層を用いたフィルムミラーにおいては、フィルムミラーを支持体に貼り付けるために設けられる粘着層が劣化を起こし、粘着層の剥離や歪みが生じてしまうことが判明した。フィルムミラーは樹脂基材を用いる為、ガラス製ミラーと比較して剛性が低く、粘着層の剥離や歪みにより正反射率が顕著に低下する為、問題となった。【０００６】
一方、太陽光を集光する目的において、高い反射率と耐光性を得るという観点から、銀反射層よりも入射光側に位置している樹脂層に、ベンズトリアゾール系の紫外線吸収剤（以下、ＵＶ吸収剤ともいう）を多量に添加することで、樹脂のＵＶ光による光劣化で生じる変色による樹脂層の光透過率低下の抑制を行う方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、太陽光を集光する目的に上記のミラーを用いた場合には、その耐光性は十分ではなく、上述の正反射率の低下を抑制することが困難であった。【０００７】
また、特許文献３においては、銀層の下層に銀層防食層として銅層を積層して、銀腐食による反射率低下の抑制を行う方法が開示されている。【０００８】
しかしながら、やはり特許文献３に記載の技術を用いても粘着層の剥離や歪みによるフィルムミラーの正反射率の低下は十分に抑制できず、しいては発電効率の低下につながるため、早急な改良が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−５９３８２号公報
【特許文献２】米国特許出願公開第７，５０７，７７６Ｂ２明細書
【特許文献３】特表２００９−５２０１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、反射層の下、即ち光入射側とは反対側に設けられた粘着層の劣化による正反射率の低下を防止すると共に、軽量で柔軟性があり、耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー、とその製造方法及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは上記課題に関し鋭意検討を行った結果、太陽熱発電用フィルムミラーを構成する粘着層の劣化は、粘着層に含まれる樹脂の低分子量成分、残留重合開始剤また残留モノマーの紫外線による分解が起因であることが判明した。更には、上記各成分を分解させる紫外光としては、とりわけ２９０〜３３０ｎｍの領域の光線であることが分かった。【００１２】
このような課題は特に、反射層として銀を用いた場合に顕在化する。銀は、可視光における反射率がアルミニウム等の金属に対して優れているものの、とりわけ波長２９０〜３３０ｎｍの領域の光を反射できず、透過してしまう性質がある。従って、従来は紫外線による劣化を考慮する際には、反射層の光入射側の層の劣化を考慮すればよかったが、銀反射層を用いた場合は、それでは十分ではなく、銀反射層を透過した２９０〜３３０ｎｍの波長領域の光線による反射層の反対側の層の劣化抑制も必要になることがわかった。【００１３】
そして、更なる検討を進めた結果、波長２９０〜３３０ｎｍの領域の光線をカットするには、有機ＵＶ吸収剤や銀の下に銅層を設ける方法では不十分であることが判明した。また、有機ＵＶ吸収剤に波長２９０〜３３０ｎｍの領域の光線に対して吸収性を持たせた場合、有機ＵＶ吸収剤自体が劣化することで、次第にＵＶ吸収機能が低下して、上記の粘着層の分解を引き起こして正反射率を低下させる問題を引き起こすだけではなく、有機ＵＶ吸収剤自体の変質による着色やＵＶ吸収剤の添加された層の変形等により反射率の低下を引き起こすことが明らかになった。【００１４】
そこで、更なる検討を行った結果、銀を主成分とし、波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の、典型金属元素もしくは遷移金属元素を０．１質量％以上含む銀合金反射層、または、銀層、および銀層の反入射光側に、波長３２０ｎｍの光の反射率が３９％以上の、典型金属元素もしくは遷移金属元素からなる層を５ｎｍ以上積層させてなる反射層を設けた場合には、波長２９０〜３３０ｎｍの領域の紫外線に対して、十分な反射性を持たせることが可能となり、粘着層の劣化を抑えることができ、結果として正反射率の低下を抑制するとともに、発電効率の向上に寄与することができるということを見出し、本発明に至った次第である。【００１５】
本発明の上記目的は以下の手段により達成される。【００１６】
１．厚みが１０〜３００μｍの範囲内である樹脂支持体上の光入射側に、
銀層と、該銀層の反入射光側に、厚みが５ｎｍ以上５０μｍ以下であり、波長３２０ｎｍにおける光の反射率が３９％以上の一種の金属から構成される金属層とを積層させてなる反射層を有し、
前記樹脂支持体の反入射光側に、他の基材を前記樹脂支持体に貼り合わせるための粘着層を有する構造であることを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
【００１８】
２．前記金属層がＡｌ，Ｎｉ，Ｒｈ，Ｐｔ，ＣｒまたはＺｎから選択された金属からなる層であることを特徴とする前記１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【００２３】
３．前記１または２に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを製造する方法であって、前記反射層を、蒸着により形成することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
【００２４】
４．前記１または２に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを、前記他の基材である金属支持体上に前記粘着層を介して貼り合せてなることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００２５】
本発明により、非常に過酷な環境下で太陽熱発電用フィルムミラーとして用いられた場合であっても、粘着層が劣化することなく、高い正反射率を長期間にわたり維持することが可能な太陽熱発電用フィルムミラーとなる。これは、銀を主成分とし、波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の典型金属元素もしくは遷移金属元素を０．１質量％以上、１０．０質量％以下含む銀合金反射層、または、銀層の反入射光側に波長３２０ｎｍの光の反射率が３９％以上の典型金属元素もしくは遷移金属元素からなる層を５ｎｍ以上、５０μｍ以下積層させてなる反射層を設けたことで得られた効果であると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】参考例の発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。
【図３】金属膜の反射率−波長の関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２８】
本発明者らは鋭意検討の結果、銀を主成分とし、波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の典型金属元素、もしくは遷移金属元素を０．１質量％以上、１０．０質量％以下含む銀合金反射層、または、銀層、および該銀層の反入射光側に波長３２０ｎｍの光の反射率が３９％以上の典型金属元素もしくは遷移金属元素からなる層を５ｎｍ以上、５０μｍ以下積層させてなる反射層、を有し、該銀合金反射層または積層金属反射層に対し反入射光側に、支持体に貼り合わせるための粘着層を有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーにより、粘着層の剥離やゆがみに起因するフィルムミラーの正反射率の低下という課題は解決されることが判明した。
【００２９】
これは、銀に混合させた金属または銀（反射）層に積層した金属（反射）層が、波長２９０〜３３０ｎｍの領域の紫外線を反射し、粘着層樹脂の低分子量成分、残留重合開始剤また残留モノマーの分解を抑制したことに起因するものと考えられる。
【００３０】
銀層（銀膜）はこの領域における反射率が高くないので、金属層の光反射率をみたとき波長３２０ｎｍにおける光の反射率が少なくとも３９％以上ある金属層を選択して銀と混合して合金層とする、またこの金属層を銀層と積層することで、波長２９０〜３３０ｎｍの領域の紫外線をよく反射できるため、銀合金反射層、または、銀層に金属（反射）層を積層した反射層により、粘着層樹脂の低分子量成分、残留重合開始剤また残留モノマーの分解を抑制することができる。
【００３１】
なお、典型金属あるいは遷移金属の反射率とは、目的の典型金属または遷移金属を真空蒸着により平板ガラス（ＢＫ７）上に１００ｎｍの膜厚で成膜した試料の５度正反射率である。
【００３２】
図３にこの方法で測定した金属膜の反射率−波長の関係を示すグラフを示す。銀の反射率はこの波長領域において高くない。
【００３３】
この方法により測定した、３２０ｎｍにおける光の反射率が少なくとも３９％以上ある金属層を構成する典型金属元素としては、後述するものを挙げることができ、Ａｌが好ましい。また、遷移金属元素として、やはり後述するものを挙げることができ、Ｎｉ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｃｒ，Ｚｎ等が好ましい。
【００３４】
これらの金属（反射）層を銀層に積層させて反射層を構成するか、または、銀にこれらの典型金属元素または遷移金属元素を含有させて（０．１質量％以上）、銀合金反射層とすればよい。
【００３５】
混合して銀合金反射層とする場合、用いる金属元素によって好ましい混合量は変化するが、最低でも０．１質量％以上１０質量％以下の量、混合して波長３２０ｎｍの光に対する反射率を向上させればよい。本発明において、「銀を主成分として」とは、銀の含有率が少なくとも９０質量％以上９９．９質量％以下であることをいう。銀を主成分とすることで、銀本来の特性である高い可視光反射率を保ちながら混合される金属により、３２０ｎｍ前後の光の反射率を高めることが可能となる。
【００３６】
以下、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの具体的な構成例について、図を用いて説明する。
【００３７】
図１には、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの代表的な構成の一例を断面図で示す。
【００３８】
図１に記載の太陽熱発電用フィルムミラーは、銀合金反射層を有する銀合金反射層タイプの太陽熱発電用フィルムミラーであり、入射光側からハードコート層１、ＵＶ吸収層２、接着層３、腐食防止層４、銀合金反射層５、樹脂支持体層６、粘着層７がこの順で積層された構成を有している。
【００３９】
図２には、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの他の代表的な構成の一例である金属積層反射層タイプの断面構成を示しており、入射光側からハードコート層１、ＵＶ吸収層２、接着層３、腐食防止層４、銀反射層９、金属反射層１０、樹脂支持体層６、粘着層７がこの順で積層されている。
【００４０】
なお、図１、２において８はもう一つの基材であり、太陽熱発電用反射装置として用いる場合、例えば、金属支持体等の基材上に本発明の太陽熱発電用フィルムミラーを粘着層によって貼り付けて用いる。
【００４１】
以下、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの各構成要素の詳細について説明する。
【００４２】
〔ハードコート層〕
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、最外層として、ハードコート層を設けることができる。本発明に係るハードコート層は、傷防止のために設けられる。
【００４３】
本発明に係るハードコート層は、バインダーとして、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。更に、硬化性、可撓性及び生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂を適用することが好ましい。
【００４４】
活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【００４５】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
【００４６】
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【００４７】
市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、例えば、三菱レイヨン株式会社製の「ダイヤビームシリーズ」、長瀬産業株式会社製の「デナコールシリーズ」、新中村株式会社製の「ＮＫエステルシリーズ」、ＤＩＣ株式会社製の「ＵＮＩＤＩＣシリーズ」、東亞合成株式会社製の「アロニックスシリーズ」、日本油脂株式会社製の「ブレンマーシリーズ」、日本化薬株式会社製の「ＫＡＹＡＲＡＤシリーズ」、共栄社化学株式会社製の「ライトエステルシリーズ」、「ライトアクリレートシリーズ」等を挙げることができる。
【００４８】
本発明に係るハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、ＵＶ吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤などを用いることができる。
【００４９】
レベリング剤は、特に、ハードコート層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば、東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【００５０】
〔ＵＶ吸収層〕
本発明に係るＵＶ吸収層は、樹脂中または無機酸化物中にＵＶ吸収剤を含有させた構成のものである。
【００５１】
また、本発明に係るＵＶ吸収層は、有機ＵＶ吸収剤を含有した層であってもよいし、無期ＵＶ吸収剤を含有した層であってもよいし、無機ＵＶ吸収剤と有機ＵＶ吸収剤の両者を含有した層であってもよいし、無機ＵＶ吸収剤を含む無機ＵＶ吸収剤含有層と有機ＵＶ吸収剤を含有する有機ＵＶ吸収剤含有層とが、それぞれ個別に独立して存在する構成であってもよい。
【００５２】
〈ＵＶ吸収剤含有のバインダー樹脂〉
本発明に係るＵＶ吸収層の他の形態としては、従来公知の種々の樹脂中にＵＶ吸収剤粒子を分散させたフィルムを挙げることができる。基材となる樹脂フィルムとしては、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
【００５３】
特に、アクリルフィルムを用いることが好ましい。また溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【００５４】
〈無機酸化物〉
本発明に係るＵＶ吸収層の１つの形態としては、ＵＶ吸収剤粒子が無機酸化物中に分散された構成である。無機酸化物としては、有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものを用いることが好ましい。したがって、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であることが好ましい。
【００５５】
例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等であり、好ましくは、酸化ケイ素である。
【００５６】
本発明において、有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法及びポリシラザンを塗布する方法を用いることが好ましい。
【００５７】
〈有機ＵＶ吸収剤〉
有機ＵＶ吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系ＵＶ吸収剤等が挙げられるがこれに限定されるものではない。
【００５８】
ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００５９】
ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００６０】
サリチル酸フェニル系ＵＶ吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系ＵＶ吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【００６１】
トリアジン系ＵＶ吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【００６２】
〈無機ＵＶ吸収剤〉
本発明に係る無機ＵＶ吸収剤とは、主には金属酸化物顔料であり、アクリル樹脂に２０質量％以上の濃度で分散させて、６μｍ厚のフィルムを形成し、ＵＶ−Ｂ域（２９０〜３２０ｎｍ）域における光線透過率を１０％以下にする機能を備えた化合物である。本発明に適用可能な無機ＵＶ吸収剤としては、特に、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化セリウムまたはこれらの混合物から選択されることが好ましい。
【００６３】
また、無機ＵＶ吸収剤含有層の透明性を向上させる点から、平均粒径が５ｎｍと５００ｎｍとの間の平均基本粒子径であるものが好ましく、特に好ましくは１０ｎｍと１００ｎｍとの間の平均基本粒子径であって、粒径分布の最大粒径が１５０ｎｍ以下の金属酸化物粒子である。この種の被覆または非被覆金属酸化物顔料は、より詳細に、欧州特許出願公開第０５１８７７３号明細書に記載されている。
【００６４】
また、本発明においては、無機酸化物の光触媒能による隣接樹脂の酸化劣化作用を抑える観点から、無機ＵＶ吸収剤が、表面被覆した平均粒径が、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の無機ＵＶ吸収剤微粒子であることが好ましい。また、表面被覆には無機ＵＶ吸収剤粒子の分散性を向上させる効果もあるため、なお好ましい。ここでいう表面被覆された無機ＵＶ吸収剤とは、アミノ酸、蜜蝋、脂肪酸、脂肪アルコール、陰イオン界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩、鉄塩またはアルミニウム塩、金属アルコキシド（チタンまたはアルミニウムの）、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲン、エラスチン）、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物あるいはヘキサメタリン酸ナトリウムのような化合物により、化学的、電子工学的、メカノケミストリー的または機械的な特質の１つまたは複数の手段により表面処理を受けた無機ＵＶ吸収剤である。
【００６５】
ＵＶ吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記のＵＶ吸収剤を使用する場合は、ＵＶ吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
【００６６】
通常のＵＶ吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【００６７】
ＵＶ吸収剤の使用量は、０．１〜２０質量％、好ましくは１〜１５質量％、さらに好ましくは３〜１０質量％である。２０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、０．１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
【００６８】
（接着層）
本発明に用いられる接着層は銀合金反射層または金属積層反射層と樹脂基材（樹脂フィルム）、または樹脂層との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。従って、当該接着層は、樹脂基材（樹脂フィルム）と金属反射層とを密着する密着性、金属反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【００６９】
当該接着層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００７０】
当該接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００７１】
接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００７２】
〔腐食防止層（防食層）〕
本発明に係る腐食防止層の構成としては、腐食防止剤のみから形成される層または腐食防止剤を含有した樹脂からなる層を挙げることができるが、腐食防止剤を含有した樹脂層であることが好ましい。さらに好ましくは、腐食防止剤が０．０１質量％から１０質量％含有した樹脂層を用いるのがよい。
【００７３】
さらに、腐食防止層に用いる樹脂は、接着剤層としても機能を有するものがよく、銀合金反射層または金属積層反射層と樹脂基材層（樹脂フィルム）との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。従って、腐食防止層に用いる樹脂は、樹脂基材（樹脂フィルム）と反射層とを密着する密着性、反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【００７４】
本発明に係る腐食防止層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性及び平滑性の条件を満足するものであれば、特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００７５】
本発明に係る腐食防止層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００７６】
腐食防止層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００７７】
（腐食防止剤）
銀反射層の腐食防止を目的とする本発明に係る腐食防止層に用いられる腐食防止剤としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。
【００７８】
ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか、若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【００７９】
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーでは、接着層が酸化防止剤を含有し、かつ銀反射層の上部隣接層として、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している腐食防止層（防食層）を設ける態様であることが好ましい。
【００８０】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００８１】
〈銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤〉
本発明に適用可能な銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、例えば、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【００８２】
アミン類及びその誘導体としては、例えば、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００８３】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００８４】
トリアゾール環を有する化合物としては、例えば、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００８５】
ピラゾール環を有する化合物としては、例えば、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００８６】
チアゾール環を有する化合物としては、例えば、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００８７】
イミダゾール環を有する化合物としては、例えば、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００８８】
インダゾール環を有する化合物としては、例えば、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００８９】
銅キレート化合物類としては、例えば、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９０】
チオ尿素類としては、例えば、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９１】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、例えば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９２】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【００９３】
〔反射層〕
（銀合金反射層の作製）
本発明に係る金属反射層の形成方法としては、乾式法を好ましく適用することができる。
【００９４】
乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的な方法を例示するとすれば、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などが挙げられる。前記蒸着法により銀合金反射層を積層させるには、銀と、銀と合金を形成させたい金属との共蒸着を行うか、あらかじめ準備しておいた銀合金を蒸着させることで積層させることができる。また、スパッタ法により銀合金反射層を積層させるには、銀と、銀合金を形成させたい金属とをスパッタ・ターゲットとした共スパッタを行うか、あらかじめ準備しておいた銀合金スパッタ・ターゲットを用いてスパッタを行うことで積層させることができる。とりわけ、本発明においては、連続的に成膜するロールツーロール方式を適用することが可能な共蒸着法が好ましく用いられる。さらに、本発明においては、銀合金の組成均一性の観点からあらかじめ準備しておいた銀合金を蒸着させる方法が好ましく用いられる。
【００９５】
本発明の薄膜製造用銀合金であるスパッタ・ターゲットや蒸着源は、薄膜製造原料から形成することができる。この原料の成分組成は、形成したい銀合金薄膜の成分組成と同様にすればよい。本発明の薄膜製造用銀合金は、粉末冶金法や溶解鋳造法などの公知の合金製造方法により、適当な塑性加工条件、加熱条件などで製造することができる。
【００９６】
本発明に係る銀合金反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【００９７】
〔銀と典型金属または遷移金属積層反射層の作製〕
本発明に係る金属積層反射層の形成方法としては、乾式法を好ましく適用することができる。
【００９８】
乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的な方法を例示するとすれば、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などが挙げられる。前記蒸着法により金属積層反射層を積層させるには、銀層と、銀層に積層させる典型金属または遷移金属を順に蒸着させることで金属積層反射層を得ることができる。
【００９９】
本発明において銀層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。また、銀層に積層させる典型金属層または遷移金属層の厚さは、反射率の観点から５ｎｍ以上であり、また、厚さの上限はロール巻き性の観点から５０μｍ以下である。
【０１００】
（銀と合金反射層または銀層と積層して反射層を形成する金属）
本発明において、銀と合金反射層を形成させるための金属および銀と積層して反射層を形成させるための金属としては、波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の典型金属元素、または遷移金属元素があてはまる。ここで、典型金属とは、Ｂｅ（ベリリウム）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｃａ（カルシウム）、Ｓｒ（ストロンチウム）、Ｉｎ（インジウム）又はＢａ（バリウム）、Ｓｎ（錫）、Ｓｂ（アンチモン）、Ｂｉ（ビスマス）である。
【０１０１】
また、遷移金属とは、Ｔｉ（チタン）、Ｖ（バナジウム）、Ｃｒ（クロム）、Ｍｎ（マンガン）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｏ（コバルト）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｕ（銅）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｙ（イットリウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｒｈ（ロジウム）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｈｆ（ハフニウム）、Ｔａ（タンタル）、Ｗ（タングステン）、Ｒｅ（レニウム）、Ｉｒ（イリジウム）、Ｐｔ（白金）、Ａｕ（金）、Ｌａ（ランタン）、Ｃｅ（セリウム）、Ｐｒ（プラセオジウム）、Ｎｄ（ネオジウム）、Ｐｍ（プロメチウム）、Ｓｍ（サマリウム）、Ｅｕ（ユウロピウム）、Ｇｄ（ガドリニウム）、Ｄｙ（ジスプロシウム）、Ｈｏ（ホルミウム）、Ｅｒ（エルビウム）、Ｔｍ（ツリウム）、Ｙｂ（イッテルビウム）又はＬｕ（ルテチウム）である。
【０１０２】
前記、波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の典型金属元素または遷移金属元素を、０．１質量％以上含む銀合金反射層は、また、波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の、典型金属元素または遷移金属元素からなる金属反射層は、波長２９０〜３３０ｎｍの領域の紫外線を反射し、粘着層樹脂の低分子量成分、残留重合開始剤また残留モノマーの分解を抑制し、反射率の低下を抑制する。さらに、銀よりもイオン化傾向の高い金属元素で銀合金層を作製した場合、犠牲防食効果が発現し、銀の腐食による反射率の低下を抑制する。ここで、波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の典型金属元素または遷移金属元素とは、前述の如く、当該金属単独で構成される薄膜において波長３２０ｎｍでの反射率が３９％以上である金属のことをいう。
【０１０３】
〔樹脂支持体（層）〕
本発明に係る樹脂支持体層に用いる基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
【０１０４】
中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１０５】
樹脂支持体の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。
【０１０６】
例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、更に好ましくは３０〜１００μｍである。
【０１０７】
〔粘着層〕
本発明に係る粘着層の構成としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
【０１０８】
例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。
【０１０９】
ラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１１０】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１１１】
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーと貼り合せられる他の基材としては、銀反射層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングして金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。
【０１１２】
貼り合わせフィルム又はシートの厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１１３】
また、これらの他基材は本発明の太陽熱発電用フィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。
【０１１４】
〔太陽熱発電用フィルムミラーの厚さ〕
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの全体の厚さは、ミラーのたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、７５〜２５０μｍが好ましく、更に好ましくは９０〜２３０μｍ、特に好ましくは１００〜２２０μｍである。
【０１１５】
〔太陽熱発電用反射装置〕
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。太陽熱発電用フィルムミラー単体で太陽光集光ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他の基材、特に金属支持体上に、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーを貼り付けて、本発明の太陽熱発電用反射装置として用いることである。
【０１１６】
太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーが特に好適に用いられる。
【０１１７】
〈金属支持体〉
本発明の太陽熱発電用反射装置に用いられる金属支持体としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。
【０１１８】
本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
【実施例】
【０１１９】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。【０１２０】
《太陽熱発電用反射装置の作製》
〔試料１の作製：参考例１〕
９９．９９原子％の純度を有する塊状のＡｇ（銀）と、９９．９９原子％の純度を有する塊状のＡｌ（アルミニウム）を９９．９：０．１の質量比で配合し、真空溶解炉で鋳塊を溶製した。この鋳塊について熱間圧延した後に冷間圧延と焼純を繰り返すことにより、アルミニウムを０．１質量％含有する銀・アルミニウム合金からなる蒸着源を得た。
【０１２１】
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、前記銀・アルミニウム合金蒸着源を用いて真空蒸着法により銀・アルミニウム合金反射層を８０ｎｍの膜厚で形成し、この反射層上に、ポリエステル系樹脂とトルエンジイソシアナート系樹脂とを、樹脂固形分比率（質量比）で１０：２に混合した樹脂中に、腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗設量が０．３ｇ／ｍ２となる量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの防食層を形成した。【０１２２】
続いて、接着層としてアクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、接着層の上にＵＶ吸収層としてＵＶ吸収剤を含有するアクリル樹脂フィルム（ＫＯＲＡＤ  ＣＬＲＡＲ０５００５，ポリマー・エクスクルーディドプロダクト社製）５０μｍを積層させた。続いてＵＶ吸収層の上にハードコート層として、オプスターＺ７５３０（ＪＳＲ製）をグラビアコートによりウエット膜厚５０μｍで塗布し、ＵＶコンベア（光源；高圧水銀ランプ、照度；１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いてＵＶ照射することによりハードコート層を設けることで太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。【０１２３】
さらに、基材樹脂に粘着層としてアクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板（住友軽金属社製）上に、上記サンプルを、粘着層を介して貼り付け、太陽熱発電用反射装置である試料１を作製した。【０１２４】
なお、別途、添加する金属について、真空蒸着法により、ガラス基板（ＢＫ７）上に１００ｎｍの膜厚で、各金属の真空蒸着膜を作成し、測定サイズの２．５ｃｍ角に切り出し、３２０ｎｍにおける反射率について、島津製作所社製の分光光度計ＵＶ２６５に、積分球反射付属装置を取り付けたものを用いて測定した。反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、入射した光の反射光を積分球に導き５度正反射率を測定し、当該金属の波長３２０ｎｍにおける反射率とした（表１、２記載）。【０１２５】
〔試料２の作製：参考例２〕
上記試料１の作製において、蒸着源作製時、Ａｌ（アルミニウム）塊の代わりにＲｈ（ロジウム）塊を用いることにより同様に太陽熱発電用反射装置である試料２を作製した。
【０１２６】
〔試料３の作製：参考例３〕
上記試料１の作製において、蒸着源作製時Ａｌ（アルミニウム）塊の代わりにＰｔ（プラチナ）塊を用いることにより太陽熱発電用反射装置である試料３を作製した。
【０１２７】
〔試料４の作製：参考例４〕
上記試料１の作製において、蒸着源作製時Ａｌ（アルミニウム）塊の代わりにＣｒ（クロム）塊を用いることにより太陽熱発電用反射装置である試料４を作製した。
【０１２８】
〔試料５の作製：参考例５〕
上記試料１の作製において、蒸着源作製時Ａｌ（アルミニウム）塊の代わりにＮｉ（ニッケル）塊を用いることにより太陽熱発電用反射装置である試料５を作製した。
【０１２９】
〔試料６の作製：参考例６〕
上記試料１の作製において、蒸着源作製時Ａｌ（アルミニウム）塊の代わりにＺｎ（亜鉛）塊を用いることにより太陽熱発電用反射装置である試料６を作製した。
【０１３０】
〔試料７の作製：参考例７〕
上記試料１の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ａｌ（アルミニウム）塊を９８：２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料７を作製した。
【０１３１】
〔試料８の作製：参考例８〕
上記試料２の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｒｈ（ロジウム）塊を９８：２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料８を作製した。
【０１３２】
〔試料９の作製：参考例９〕
上記試料３の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｐｔ（プラチナ）塊を９８：２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料９を作製した。
【０１３３】
〔試料１０の作製：参考例１０〕
上記試料４の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｃｒ（クロム）塊を９８：２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料１０を作製した。
【０１３４】
〔試料１１の作製：参考例１１〕
上記試料５の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｎｉ（ニッケル）塊を９８：２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料１１を作製した。
【０１３５】
〔試料１２の作製：参考例１２〕
上記試料６の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｚｎ（亜鉛）塊を９８：２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料１２を作製した。
【０１３６】
〔試料１３の作製：参考例１３〕
上記試料１の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ａｌ（アルミニウム）塊を９０：１０の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料１３を作製した。
【０１３７】
〔試料１４の作製：参考例１４〕
上記試料２の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｒｈ（ロジウム）塊を９０：１０の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料１４を作製した。
【０１３８】
〔試料１５の作製：参考例１５〕
上記試料３の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｐｔ（プラチナ）塊を９０：１０の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料１５を作製した。
【０１３９】
〔試料１６の作製：参考例１６〕
上記試料４の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｃｒ（クロム）塊を９０：１０の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料１６を作製した。
【０１４０】
〔試料１７の作製：参考例１７〕
上記試料５の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｎｉ（ニッケル）塊を９０：１０の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料１７を作製した。
【０１４１】
〔試料１８の作製：参考例１８〕
上記試料６の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｚｎ（亜鉛）塊を９０：１０の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料１８を作製した。
【０１４２】
〔試料２９の作製：実施例１９〕
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、Ａｌ（アルミニウム）を蒸着源として真空蒸着法によりＡｌ（アルミニウム）層を５０μｍの膜厚で形成し、続いてＡｇ（銀）を蒸着源として真空蒸着法によりＡｇ（銀）層を８０ｎｍの膜厚で形成することにより反射層を設けた。【０１４３】
この反射層上に、ポリエステル系樹脂とトルエンジイソシアナート系樹脂とを、樹脂固形分比率（質量比）で１０：２に混合した樹脂中に、腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗設量が０．３ｇ／ｍ２となる量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの防食層を形成した。続いて、接着層としてアクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、接着層の上にＵＶ吸収層としてＵＶ吸収剤を含有するアクリル樹脂フィルム（ＫＯＲＡＤ  ＣＬＲＡＲ０５００５，ポリマー・エクスクルーディドプロダクト社製）５０μｍを積層させた。【０１４４】
続いてＵＶ吸収層の上にハードコート層として、オプスターＺ７５３０（ＪＳＲ製）をグラビアコートによりウエット膜厚５０μｍで塗布し、ＵＶコンベア（光源；高圧水銀ランプ、照度；１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いてＵＶ照射することによりハードコート層を設けることで太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。さらに、基材樹脂に粘着層としてアクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板（住友軽金属社製）上に、上記サンプルを、粘着層を介して貼り付け、太陽熱発電用反射装置である試料２９を作製した。【０１４５】
〔試料３０の作製：実施例２０〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＲｈ（ロジウム）を蒸着源として、Ｒｈ（ロジウム）層を５０μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料３０を作製した。【０１４６】
〔試料３１の作製：実施例２１〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＰｔ（プラチナ）を蒸着源として、Ｐｔ（プラチナ）層を５０μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料３１を作製した。【０１４７】
〔試料３２の作製：実施例２２〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＣｒ（クロム）を蒸着源として、Ｃｒ（クロム）層を５０μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料３２を作製した。【０１４８】
〔試料３３の作製：実施例２３〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＮｉ（ニッケル）を蒸着源として、Ｎｉ（ニッケル）層を５０μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料３３を作製した。【０１４９】
〔試料３４の作製：実施例２４〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＺｎ（亜鉛）を蒸着源として、Ｚｎ（亜鉛）層を５０μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料３４を作製した。【０１５０】
〔試料３５の作製：実施例２５〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）層を５ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料３５を作製した。【０１５１】
〔試料３６の作製：実施例２６〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＲｈ（ロジウム）を蒸着源として、Ｒｈ（ロジウム）層を５ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料３６を作製した。【０１５２】
〔試料３７の作製：実施例２７〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＰｔ（プラチナ）を蒸着源として、Ｐｔ（プラチナ）層を５ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料３７を作製した。【０１５３】
〔試料３８の作製：実施例２８〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＣｒ（クロム）を蒸着源として、Ｃｒ（クロム）層を５ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料３８を作製した。【０１５４】
〔試料３９の作製：実施例２９〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＮｉ（ニッケル）を蒸着源として、Ｎｉ（ニッケル）層を５ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料３９を作製した。【０１５５】
〔試料４０の作製：実施例３０〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＺｎ（亜鉛）を蒸着源として、Ｚｎ（亜鉛）層を５ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料４０を作製した。【０１５６】
〔試料１９の作製：比較例１〕
上記試料１の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ａｌ（アルミニウム）塊を８８：１２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料１９を作製した。【０１５７】
〔試料２０の作製：比較例２〕
上記試料２の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｒｈ（ロジウム）塊を８８：１２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料２０を作製した。【０１５８】
〔試料２１の作製：比較例３〕
上記試料３の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｐｔ（プラチナ）塊を８８：１２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料２１を作製した。【０１５９】
〔試料２２の作製：比較例４〕
上記試料４の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｃｒ（クロム）塊を８８：１２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料２２を作製した。【０１６０】
〔試料２３の作製：比較例５〕
上記試料５の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｎｉ（ニッケル）塊を８８：１２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料２３を作製した。【０１６１】
〔試料２４の作製：比較例６〕
上記試料６の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｚｎ（亜鉛）塊を８８：１２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料２４を作製した。【０１６２】
〔試料２５の作製：比較例７〕
上記試料１の作製において、蒸着源作製時Ａｌ（アルミニウム）塊の代わりにＣｕ（銅）塊を用いることにより太陽熱発電用反射装置である試料２５を作製した。【０１６３】
〔試料２６の作製：比較例８〕
上記試料２５の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｃｕ（銅）塊を９８：２の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料２６を作製した。【０１６４】
〔試料２７の作製：比較例９〕
上記試料２５の作製において、蒸着源作製時にＡｇ（銀）塊：Ｃｕ（銅）塊を９０：１０の質量比で配合することにより太陽熱発電用反射装置である試料２７を作製した。【０１６５】
〔試料２８の作製：比較例１０〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）層の積層過程を省くことにより太陽熱発電用反射装置である試料２８を作製した。【０１６６】
〔試料４１の作製：比較例１１〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）層を１ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料４１を作製した。【０１６７】
〔試料４２の作製：比較例１２〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＲｈ（ロジウム）を蒸着源として、Ｒｈ（ロジウム）層を１ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料４２を作製した。【０１６８】
〔試料４３の作製：比較例１３〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＰｔ（プラチナ）を蒸着源として、Ｐｔ（プラチナ）層を１ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料４３を作製した。【０１６９】
〔試料４４の作製：比較例１４〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＣｒ（クロム）を蒸着源として、Ｃｒ（クロム）層を１ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料４４を作製した。【０１７０】
〔試料４５の作製：比較例１５〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＮｉ（ニッケル）を蒸着源として、Ｎｉ（ニッケル）層を１ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料４５を作製した。【０１７１】
〔試料４６の作製：比較例１６〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＺｎ（亜鉛）を蒸着源として、Ｚｎ（亜鉛）層を１ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料４６を作製した。【０１７２】
〔試料４７の作製：比較例１７〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）層を５５μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料４７を作製した。【０１７３】
〔試料４８の作製：比較例１８〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＲｈ（ロジウム）を蒸着源として、Ｒｈ（ロジウム）層を５５μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料４８を作製した。【０１７４】
〔試料４９の作製：比較例１９〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＰｔ（プラチナ）を蒸着源として、Ｐｔ（プラチナ）層を５５μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料４９を作製した。【０１７５】
〔試料５０の作製：比較例２０〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＣｒ（クロム）を蒸着源として、Ｃｒ（クロム）層を５５μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料５０を作製した。【０１７６】
〔試料５１の作製：比較例２１〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＮｉ（ニッケル）を蒸着源として、Ｎｉ（ニッケル）層を５５μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料５１を作製した。【０１７７】
〔試料５２の作製：比較例２２〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＺｎ（亜鉛）を蒸着源として、Ｚｎ（亜鉛）層を５５μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料５２を作製した。【０１７８】
〔試料５３の作製：比較例２３〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＣｕ（銅）を蒸着源として、Ｃｕ（銅）層を５０μｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料５３を作製した。【０１７９】
〔試料５４の作製：比較例２４〕
上記試料２９の作製において、Ａｌ（アルミニウム）の代わりにＣｕ（銅）を蒸着源として、Ｃｕ（銅）層を５ｎｍの膜厚で積層することにより、太陽熱発電用反射装置である試料５４を作製した。【０１８０】
〔試料５５の作製：比較例２５〕
上記試料２９の作製において、Ｃｕ（銅）層の膜厚を１ｎｍとすることにより太陽熱発電用反射装置である試料５５を作製した。【０１８１】
《各試料の評価》
上記作製した各太陽熱発電用反射装置について、下記の方法に従って耐光性の評価（正反射率安定性）及び粘着層（膜剥がれ）の耐候性の評価を行った。【０１８２】
〔耐光性の評価：正反射率安定性〕
各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行ったのち、正反射率を測定し、紫外線照射後の正反射率の平均値を算出し、下記の基準に従って、耐光性を評価した。【０１８３】
正反射率測定は島津製作所社製の分光光度計ＵＶ２６５に、積分球反射付属装置を取り付けたものに改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、各試料について劣化処理後の反射角５°での正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。【０１８４】
◎：正反射率の平均値が、８５％以上である
○：正反射率の平均値が、８０％以上８５％未満である
△：正反射率の平均値が、７５％以上、８０％未満である
×：正反射率の平均値が、７５％未満である
〔耐硫化性の評価：正反射率安定性〕
各試料を、１０％硫化アンモニウム水溶液中に４８時間浸漬を行ったのち、正反射率を測定し、硫化処理後の正反射率の平均値を算出し、下記の基準に従って、耐光性を評価した。【０１８５】
正反射率測定は島津製作所社製の分光光度計ＵＶ２６５に、積分球反射付属装置を取り付けたものに改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、各試料について劣化処理後の反射角５°での正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。【０１８６】
◎：正反射率の平均値が、８５％以上である
○：正反射率の平均値が、８０％以上８５％未満である
△：正反射率の平均値が、７５％以上、８０％未満である
×：正反射率の平均値が、７５％未満である
〔粘着層の耐候性（膜剥がれ）の評価〕
岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行ったのち、粘着層の密着性の評価を、ＪＩＳ  Ｋ５４００の碁盤目セロハンテープ剥離試験に従って評価した。即ち、強制劣化後のサンプル表面にカッターナイフで１ｍｍ間隔の碁盤目状に切り込みを入れ、セロハンテープ（ニチバン社製）を貼り付けた後に剥離し、剥離部の割合を測定し、下記の基準に従って、接着層の耐候性を評価した。【０１８７】
○：劣化試験後に膜剥離部の割合が２．０％未満
△：劣化試験後に膜剥離部の割合が２．０％以上、３．０％未満
×：劣化試験後に膜剥離部の割合が３．０％以上
〔ロール巻き性の評価〕
各試料について、粘着層を介してアルミ基材に張り付ける前の太陽熱発電用フィルムミラーの状態でのロール巻き性を評価した。ロール外径１５０ｍｍ、幅５０ｃｍのＡＢＳ樹脂コアに太陽熱発電用フィルムミラー５ｍを巻き取り、１週間放置した際に金属層に割れまたはヒビが出るかを目視評価した。【０１８８】
○：１週間放置後に金属層膜割れまたはヒビなし
×：１週間放置後に金属層膜割れまたはヒビ有り
〔技術的特徴の実証結果〕
上記方法に従って、各試料について評価した結果を、各太陽熱発電用反射装置（太陽熱発電用フィルムミラー）の構成技術の効果が判定できる組み合わせにて、以下順次説明する。【０１８９】
銀を主成分とし、波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の典型金属元素、または遷移金属元素を０．１質量％以上含む銀合金反射層を設けることによる効果の実証結果について、銀合金反射層を有するフィルムミラーを用いて耐候性評価を行った結果を表１に示す。【０１９０】
また、銀層の下に波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の典型金属層または遷移金属層を積層させた反射層を有するフィルムミラーを用いて耐候性評価を行った結果を表２に示す。【０１９１】
【表１】
0005920211.tif 000002
【０１９２】
表１に記載の結果より明らかな様に、参考例の発明で規定する波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の典型金属元素、または遷移金属元素を０．１質量％以上１０質量％以下含む銀合金反射層を有する試料１〜１８（参考例１〜１８）は、比較例である試料１９〜２８に対し、耐光性（正反射率安定性）および粘着層の耐候性（密着性）に優れていることが明かである。
【０１９３】
これは、参考例の発明の試料が、波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の典型金属元素、または遷移金属元素を０．１質量％以上１０質量％以下含む銀合金反射層を用いることで粘着層劣化の原因である波長２９０〜３３０ｎｍの光線を効果的に反射し、同波長領域の光の粘着層への露光を効果的に抑制できていることを示す結果である。一方で、比較例である試料１９〜２０の場合、波長３２０ｎｍのＣｕ（銅）の反射率が十分でないため、粘着層を劣化させる２９０〜３３０ｎｍの光線を透過させてしまい、耐光性（正反射率安定性）および粘着層の耐候性（密着性）が劣ったと考えられる。また、比較例である試料１９〜２４の場合、銀合金における銀含有量が十分でなく、初期状態も劣化処理後も反射率が劣る結果となった。また、耐硫化性試験においてはＡｇ（銀）／Ａｌ（アルミニウム）合金およびＡｇ（銀）／Ｚｎ（亜鉛）合金を反射層に用いた場合に高い硫化耐性を有していることがわかる。
【０１９４】
【表２】
0005920211.tif 000003
【０１９５】
表２に記載の結果より明らかな様に、本発明で規定する銀層の反入射光側に波長３２０ｎｍの光の反射率が３９％以上の典型金属元素、または遷移金属元素からなる５ｎｍ以上５０μｍ以下の層を有する試料２９〜４０（本発明  実施例１９〜３０）は、比較例である試料４１〜４６に対し、耐光性（正反射率安定性）および粘着層の耐候性（密着性）に優れていることが明かである。【０１９６】
これは、本発明の試料が、波長３２０ｎｍの反射率が３９％以上の典型金属元素、または遷移金属元素を銀層の反入射光側に膜厚５ｎｍ以上５０μｍ以下積層させた反射層を用いることで、銀層を透過した波長２９０〜３３０ｎｍの光線を、前記典型金属または遷移金属層が効果的に反射し、同波長領域の光の粘着層への露光を効果的に抑制できていることを示す結果である。【０１９７】
一方で、比較例である試料４１〜４６の場合、銀下の金属層の膜厚が十分に厚くないため、粘着層を劣化させる２９０〜３３０ｎｍの光線を透過させてしまったため、耐光性（正反射率安定性）および粘着層の耐候性（密着性）が劣ったと考えられる。【０１９８】
また、耐硫化性試験においてはＡｌ（アルミニウム）またはＺｎ（亜鉛）を銀層の反入射光側に積層させた場合に高い硫化耐性を有していることがわかる。【０１９９】
また、比較例である試料４７〜５２の場合、銀下の金属層の膜厚が厚く、剛性が強くなりすぎたため太陽熱発電用フィルムミラーの状態でのロール巻き性が悪い結果になったと考えられる。
【符号の説明】
【０２００】
１  ハードコート層
２  ＵＶ吸収層
３  接着層
４  腐食防止層
５  銀合金反射層
６  樹脂支持体層
７  粘着層
８  基材
９  銀反射層
１０  金属反射層
【図１】
0005920211.tif 000004
【図２】
0005920211.tif 000005
【図３】
0005920211.tif 000006