(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物の合計質量に対して、
ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）から構成されるポリ（フェニレンエーテル）を４０超〜９４．８質量％と、
重合スチレン残基を５〜５９．８質量％と、
重合アクリロニトリル残基を０．２〜１．５質量％未満と、
２〜２５質量％の難燃剤と、を含む組成物であって、
前記重合アクリロニトリル残基は、スチレン−アクリロニトリルコポリマーの形態で存在し、
第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下であることを特徴とする組成物。
【請求項２】
前記重合スチレン残基の少なくとも一部と前記重合アクリロニトリル残基の少なくとも一部は、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供されることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記重合アクリロニトリル残基は、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供されることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記ホモポリスチレンは、アタクチックホモポリスチレンを含むことを特徴とする請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリ（フェニレンエーテル）は、未使用のポリ（フェニレンエーテル）を含むことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
以下の構造を有する０．１〜５質量％の重合１−ブテン残基をさらに含むことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の組成物。
【化１】
0005986291.tif 000014
【請求項７】
２５℃のクロロホルム中で測定した固有粘度が０．３５〜０．６ｄＬ／ｇのポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）を含むポリ（フェニレンエーテル）を６０〜８０質量％と、
前記重合スチレン残基を５〜１５質量％と、
以下の構造を有する重合１−ブテン残基を０．４〜２質量％と、
【化２】
0005986291.tif 000015
有機リン酸エステルを含む難燃剤を１０〜２０質量％と、
前記重合アクリロニトリル残基を０．２〜１．２質量％と、を含み、
第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の組成物を含むことを特徴とする物品。
【請求項９】
組成物の合計質量に対して、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）から構成されるポリ（フェニレンエーテル）を４０超〜９４．８質量％と、ホモポリスチレンを５〜５９．８質量％と、重合アクリロニトリル残基０．２〜１．５質量％未満を供給するに十分な量のアクリロニトリルホモポリマーおよびまたはコポリマーと、２〜２５質量％の難燃剤と、を含む溶融混合成分を混合して形成され、
第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下であることを特徴とする組成物の形成方法。
【請求項１０】
重合アクリロニトリル残基のすくなくとも一部は、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供されることを特徴とする請求項９に記載の組成物の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
ポリ（フェニレンエーテル）は、優れた耐水性、寸法安定性、固有の難燃性、高酸素透過性および酸素／窒素選択性で知られたプラスチックの一種である。強度、剛性、耐薬品性および耐熱性などの特性は、ポリ（フェニレンエーテル）を他の種々のプラスチックと混合することによって調整でき、例えば、衛生器具、配電盤、自動車部品およびワイヤーやケーブル用の絶縁体などの広範な消費財の要件を満たすことができる。
【０００２】
ポリ（フェニレンエーテル）とポリスチレンとのブレンドは市販されており、電化製品や家庭用電子機器の筐体などの射出成形物品に使用されている。廃棄物の低減とエネルギー節約のために、ポリ（フェニレンエーテル）とポリスチレンとのブレンドを再利用ポリスチレン材料を用いて調製することは望ましいであろう。Ｓｃｏｂｂｏらの米国特許第５，２６４，４８７号には、ポリ（フェニレンエーテル）とポリスチレンを含み、さらに、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーと、エチレンなどのオレフィンとグリシジルメタクリレートなどのエポキシ化合物とのコポリマーと、を含むプラスチック組成物が記載されている。該ポリ（フェニレンエーテル）、ポリスチレンおよびアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーは、混合されたリサイクル流れの形態で供給され得る。しかしながら、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーのポリ（フェニレンエーテル）とポリスチレンに対する相溶性が低いために、相溶化剤としてオレフィン−エポキシコポリマーを使用しなければならない。こうした相溶化剤の使用に伴う煩雑さとコストが回避できれば望ましいであろう。
【０００３】
Ｋｏらの米国特許第７，９６４，６７５号には、再利用ポリ（フェニレンエーテル）と、特にアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーであってもよい別の再利用プラスチックと、を含むプラスチック組成物が記載されている。該組成物では、プラスチック組成物形成中に分解し揮発性成分を形成し得る再利用プラスチックは、いずれも最小化または除去されている。Ｋｏらの組成物では、再利用原料を最大限利用しているが、しかしながら、その衝撃強度は、一部の射出成形用途では十分ではない。
【０００４】
従って、再利用プラスチック原料を利用しながらも、未使用樹脂で調製したブレンドが有する衝撃強度を大部分維持する、ポリ（フェニレンエーテル）とポリスチレンとのブレンドが求められている。
【発明の概要】
【０００５】
一実施形態は、特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、ポリ（フェニレンエーテル）を４０超〜９４．８質量％と、重合スチレン残基を５〜５９．８質量％と、重合アクリロニトリル残基を０．２〜１．５質量％未満と、を含む組成物であって、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下の組成物である。
【０００６】
別の実施形態は、特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、２５℃のクロロホルム中で測定した固有粘度が０．３５〜０．６ｄＬ／ｇのポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）を６０〜８０質量％と、重合スチレン残基を５〜１５質量％と、重合１−ブテン残基を０．４〜２質量％と、有機リン酸エステルを含む難燃剤を１０〜２０質量％と、重合アクリロニトリル残基を０．２〜１．２質量％と、を含む組成物であって、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下の組成物である。
【０００７】
別の実施形態は、上記の組成物を含む物品である。
【０００８】
別の実施形態は、特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、ポリ（フェニレンエーテル）を４０超〜９４．８質量％と、ホモポリスチレンを５〜５９．８質量％と、重合アクリロニトリル残基０．２〜１．５質量％未満を供給するに十分な量のアクリロニトリルホモポリマーおよびまたはコポリマーと、を含む成分を混合して形成され、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下の組成物を形成するステップを備える組成物の形成方法である。
【０００９】
これらおよびその他の実施形態について以下詳細に説明する。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本明細書で開示される範囲はすべて終点（ｅｎｄｐｏｉｎｔｓ）を含むものであり、該終点は互いに独立に組み合わせることができる。本明細書で開示される範囲はそれぞれ、この開示範囲内の任意の点またはサブ範囲の開示を構成する。
【００１１】
本発明を記述するための文脈（特に以下の請求項の文脈）における単数表現は、本明細書で別途明示がある場合または文脈上明らかに矛盾する場合を除き、単数および複数を含むものと解釈される。また、本明細書で用いられる、「第１の」「第２の」などの用語は、いかなる順序や量あるいは重要度を表すものではなく、ある成分と他の成分とを区別するために用いられるものである。量に関連して用いられる「約」は、記載された数値を含むものであり、文脈上決定される意味（例えば、特定の量の測定に関連した誤差の程度を含む）を有するものである。
【００１２】
本発明者らは、ポリ（フェニレンエーテル）と再利用ホモポリスチレンを利用したホモポリスチレンとのブレンドを調査する中で、再利用ホモポリスチレンには、かなりの量のアクリロニトリルコポリマー不純物が含まれていることが多いことを見出した。これらの不純物が高濃度になると、ポリマーブレンドの衝撃強度が著しく低下し得る。本発明者らは、アクリロニトリルコポリマー不純物に伴う重合アクリロニトリル残基の量に特定の制限を設けることによって、ポリ（フェニレンエーテル）と再利用ホモポリスチレンを利用したホモポリスチレンとのブレンドであって、未使用の樹脂から調製された対応するブレンドの所望の特性を大部分保持するブレンドを提供できることを見出した。該組成物は、Ｓｃｏｂｂｏらの米国特許第５，２６４，４８７号の相溶化オレフィン−エポキシコポリマーなどの相溶化剤を必要としない。
【００１３】
従って、一実施形態は、特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、ポリ（フェニレンエーテル）を４０超〜９４．８質量％と、重合スチレン残基を５〜５９．８質量％と、重合アクリロニトリル残基を０．２〜１．５質量％未満と、を含む組成物であって、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下の組成物である。
【００１４】
該組成物はポリ（フェニレンエーテル）を含む。好適なポリ（フェニレンエーテル）としては、下式の繰り返し構造単位を含むものが挙げられる：
【化１】
0005986291.tif 000002
式中、Ｚ１はそれぞれ独立に、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである。本明細書において、「ヒドロカルビル」は、単独であるいは別の用語の接頭辞、接尾辞またはフラグメントとして使用されたとしても、炭素と水素だけを含む残基を指す。該残基は、脂肪族または芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和または不飽和であってもよい。それはまた、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和および不飽和炭化水素部分の組み合わせを含んでいてもよい。しかしながら、該ヒドロカルビル残基が置換であると記載された場合、それは任意に、該置換残基の炭素と水素員上にヘテロ原子を含んでいてもよい。従って、置換であると特定的に記載された場合、該ヒドロカルビル残基は、１個または複数個のカルボニル基、アミノ基、水酸基なども含み得、あるいは、ヒドロカルビル残基の骨格内にヘテロ原子を含み得る。一例として、Ｚ１は、３，５−ジメチル−１，４−フェニル基と酸化重合触媒のジ−ｎ−ブチルアミン成分との反応で形成されたジ−ｎ−ブチルアミノメチル基であってもよい。
【００１５】
一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）の固有粘度は、２５℃のクロロホルム中で測定して０．２〜１ｄＬ／ｇである。この範囲内で、ポリ（フェニレンエーテル）の固有粘度は、０．２５〜０．８ｄＬ／ｇであり得、より具体的には０．２５〜０．７ｄＬ／ｇであり得、さらにより具体的には０．３〜０．６５ｄＬ／ｇであり得、さらにより具体的には０．３５〜０．６ｄＬ／ｇであり得る。
【００１６】
一部の実施形態では、該組成物の調製に用いられるポリ（フェニレンエーテル）は、再利用ポリ（フェニレンエーテル）、すなわち、かなりの熱処理を受けたポリ（フェニレンエーテル）とは対照的に、製造されたままであることを意味する「未使用」ポリ（フェニレンエーテル）で構成される。未使用ポリ（フェニレンエーテル）における架橋生成物や分岐生成物などのポリ（フェニレンエーテル）転位生成物の濃度は、再利用ポリ（フェニレンエーテル）と比較して一般に低くなるであろう。例えば、未使用ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）における下記の構造の架橋フラグメント量は一般に、１００質量ｐｐｍ未満であろう：
【化２】
0005986291.tif 000003
別の例として、未使用ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）における下記の構造の分岐フラグメント量は一般に、１００質量ｐｐｍ未満であろう：
【化３】
0005986291.tif 000004
これらのフラグメントは、炭素核磁気共鳴分光法で同定および定量できる。
【００１７】
一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）は、組み込まれたジフェノキノン残基を本質的に含まない。この文脈において、「本質的に含まない」とは、ジフェノキノンの残基を含むポリ（フェニレンエーテル）分子が１質量％未満であることを意味する。Ｈａｙの米国特許第３，３０６，８７４号に記載されているように、  一価フェノールの酸化重合によるポリ（フェニレンエーテル）の合成では、所望のポリ（フェニレンエーテル）だけでなく、ジフェノキノンも副生成物として生成される。例えば、一価フェノールが２，６−ジメチルフェノールの場合、３，３’，５，５’−テトラメチルジフェノキノンが生成される。該ジフェノキノンは典型的には、前記重合反応混合物を加熱して末端または内部ジフェノキノン残基を含むポリ（フェニレンエーテル）を生成することによって、ポリ（フェニレンエーテル）内に「再平衡される」（すなわち、ジフェノキノンがポリ（フェニレンエーテル）構造内に取り込まれる）。例えば、ポリ（フェニレンエーテル）を２，６−ジメチルフェノールの酸化重合で調製してポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）と３，３’，５，５’−テトラメチルジフェノキノンを生成する場合、反応混合物の再平衡によって、取り込まれたジフェノキノンの末端および内部残基を有するポリ（フェニレンエーテル）が生成され得る。しかしながら、こうした再平衡によって、ポリ（フェニレンエーテル）の分子量が低減する。従って、より高分子量のポリ（フェニレンエーテル）が望ましい場合、該ジフェノキノンをポリ（フェニレンエーテル）鎖へ再平衡させずに、ポリ（フェニレンエーテル）から分離することが望ましいものであり得る。こうした分離は、例えば、ポリ（フェニレンエーテル）は不溶だがジフェノキノンが可溶の溶媒または溶媒混合物に、ポリ（フェニレンエーテル）を沈殿させることによって実現される。例えば、トルエン中の２，６−ジメチルフェノールの酸化重合によってポリ（フェニレンエーテル）を調製して、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）と３，３’，５，５’−テトラメチルジフェノキノンとを含むトルエン溶液を生成する場合、ジフェノキノンを本質的に含まないポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）は、該トルエン溶液１容積とメタノールまたはメタノール／水混合物約１〜約４容積とを混合することによって得られる。あるいは、酸化重合中に生成されるジフェノキノン副生成物の量は、（例えば、１０質量％未満の一価フェノールの存在下で酸化重合を開始し、少なくとも５０分の間に少なくとも９５質量％の一価フェノールを添加することによって）最小化でき、およびまたは、ポリ（フェニレンエーテル）鎖へのジフェノキノンの再平衡は、（例えば、酸化重合終了後２００分以内にポリ（フェニレンエーテル）を単離することによって）最小化できる。これらの方法は、Ｄｅｌｓｍａｎらの米国特許第８，０２５，１５８Ｂ２号に記載されている。トルエン中のジフェノキノンの温度依存性の溶解度を利用する代替方法では、ジフェノキノンとポリ（フェニレンエーテル）とを含むトルエン溶液の温度を、ジフェノキノンはほとんど不溶だがポリ（フェニレンエーテル）���可溶である約２５℃に調整して、不溶のジフェノキノンを固液分離（例えばろ過）によって除去できる。
【００１８】
一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）は、２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位あるいはこれらの組み合わせを含む。一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）はポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）である。一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）は、２５℃のクロロホルム中で測定した固有粘度が０．２５〜０．８ｄＬ／ｇの、具体的には０．２５〜０．７ｄＬ／ｇの、より具体的には約０．３〜約０．６５ｄＬ／ｇの、さらにより具体的には０．３５〜０．６ｄＬ／ｇのポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）を含む。
【００１９】
該ポリ（フェニレンエーテル）は、典型的にはヒドロキシル基に対してオルト位置に存在するアミノアルキル含有末端基（類）を有する分子を含み得る。該ポリ（フェニレンエーテル）は、ホモポリマー、コポリマー、グラフトコポリマー、イオノマー、ブロックコポリマー、あるいはこれらのものを少なくとも１つ含む組合せの形態であり得る。
【００２０】
該組成物は、その合計質量に対して、４０超〜９４．８質量％のポリ（フェニレンエーテル）を含む。この範囲内で、ポリ（フェニレンエーテル）の量は、少なくとも４１質量％であり得、少なくとも４３質量％であり得、少なくとも４５質量％であり得、あるいは少なくとも５０質量％であり得る。また、この範囲内で、ポリ（フェニレンエーテル）の量は、最高９０質量％であり得、最高８５質量％であり得、最高８０質量％であり得、あるいは最高７５質量％であり得る。
【００２１】
該組成物は、ポリ（フェニレンエーテル）に加えて、重合スチレン残基を含む。組成物調製時には、重合スチレン残基は、ホモポリスチレンの形態で供給できる。本明細書でのホモポリスチレンは、スチレンのホモポリマーを指す。従って、スチレン以外のいかなるモノマーの残基も該ホモポリスチレンには含まれない。該ホモポリスチレンは、アタクチック、シンジオタクチックまたはアイソタクチックであってもよい。一部の実施形態では、該ホモポリスチレンは、アタクチックホモポリスチレンで構成される。一部の実施形態では、該ホモポリスチレンのメルトボリュームフローレートは、ＩＳＯ１１３３に準拠し、温度２００℃、荷重５ｋｇで測定して、１．５〜５ｃｍ３／１０分である。
【００２２】
該組成物は、その合計質量に対して、５〜５９．８質量％の重合スチレン残基を含む。この範囲内で、重合スチレン残基の量は、７〜５０質量％であり得、具体的には９〜４０質量％であり得、より具体的には１１〜３０質量％であり得、さらにより具体的には１１〜２０質量％であり得る。重合スチレン残基の量は、組成物の形成に用いられる成分に対して算出される。あるいは、重合スチレン残基の量は、炭素核磁気共鳴分光法によって決定できる。
【００２３】
該組成物は、ポリ（フェニレンエーテル）と重合スチレン残基に加えて、重合アクリロニトリル残基を含む。重合アクリロニトリル残基の量は、組成物の合計質量に対して、０．２〜１．５質量％未満であり得る。この範囲内で、重合アクリロニトリル残基の量は、０．４〜１．４質量％であり得、具体的には０．６〜１．３質量％であり得、より具体的には０．６〜１．２質量％であり得、さらにより具体的には０．６〜１質量％であり得る。重合アクリロニトリル残基の量は、炭素核磁気共鳴分光法、勾配ポリマー溶離クロマトグラフィ、あるいは透過フーリエ変換赤外分光（透過ＦＴＩＲ）分光法によって決定できる。
【００２４】
透過ＦＴＩＲ分光法による組成物中の重合アクリロニトリル残基を決定する具体的な手順は以下のとおりである。ＦＴＩＲ測定には、Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  ＳＰＥＣＴＲＵＭ（登録商標）１００分光計を使用する。ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）とゴム変性ポリスチレンのブレンド中に０〜２．８質量％の重合アクリロニトリルを含む４つの校正標準を調製する。組成物中の重合アクリロニトリルは、３１．６質量％の重合アクリロニトリルと、６８．４質量％の重合スチレンと、を含むスチレン−アクリロニトリルコポリマーの取り込みから得られる。校正組成物をプラークに射出成形し、次にこのプラークから、Ｓｐｅｃａｃ定厚フィルム作製システムを用い、以下の条件で厚みが約５０μｍのフィルムを調製する：サンプルサイズ：１００ｍｇ、２５０℃、予熱時間：２分、プレス時間：３０秒、Ａ−リングスペーサ、およびプレスしたフィルムの両側にアルミホイル。フィルムを透過ＦＴＩＲを用い、４０００〜４００ｃｍ−１の間９スキャンして分析した。２７３６ｃｍ−１のポリ（フェニレンエーテル）吸収を用いて、サンプル間のフィルム厚差を補正する。２２５２．０〜２２２４．０ｃｍ−１間の吸収と２２３９．０ｃｍ−１の最大吸収を用いて、アクリロニトリルを定量する。線形回帰を用いて、アクリロニトリルＦＴＩＲ吸収強度を組成物中の重合アクリロニトリル残基に関連付ける一次方程式を得る。その後、プラークを成形し、それからフィルムを形成し、フィルムの厚み調整済みのアクリロニトリル吸収を測定し、校正式を用いてアクリロニトリル吸収から重合アクリロニトリル残基を算出することによって、ポリ（フェニレンエーテル）／ゴム変性ポリスチレン組成物の未知であった重合アクリロニトリル残基を同様に求める。
【００２５】
一部の実施形態では、重合スチレン残基の少なくとも一部と重合アクリロニトリル残基の少なくとも一部は、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供される。一部の実施形態では、重合アクリロニトリル残基の実質的にすべては、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供される。こうした使用済み再利用汎用ポリスチレン（ＰＣＲ  ＧＰＰＳ）材料は、例えばＥｖｅｒｇｒｅｅｎ社からＧＰ−ＲＮとして市販されている。別の使用済み再利用汎用ポリスチレンは、再利用冷蔵庫トレイから得られ、Ｈｙｐｅｒ  Ｃｙｃｌｅ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社から入手できる。ホモポリスチレンが使用済み再利用材料として提供される場合、組成物中のホモポリスチレンの量によって、この再利用材料の純度が決定されるであろう。例えば、組成物が純度９０％の使用済み再利用ゴム変性ポリスチレンを６０質量％含む場合、該組成物は、ホモポリスチレンを５４％含むことになる。
【００２６】
該組成物は、Ｓｃｏｂｂｏらの米国特許第５，２６４，４８７号の相溶化オレフィン−エポキシコポリマーを必要としない。その結果、該組成物は、Ｓｃｏｂｂｏの相溶化コポリマーのエポキシ基の反応時に形成される第２級脂肪族ヒドロキシル基を含む必要はない。具体的には、一部の実施形態では、該組成物における第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度は１２０質量ｐｐｍ以下であり、具体的には１００質量ｐｐｍ以下である。一部の実施形態では、該組成物は、第２級脂肪族ヒドロキシル基を含まない。第２級脂肪族ヒドロキシル基残基の量は、炭素核磁気共鳴分光法によって決定できる。
【００２７】
一部の実施形態では、該組成物は、その合計質量に対して、０．７質量％以下の重合ブタジエン残基を含む。「重合ブタジエン残基」は、下記の構造を有するブタジエン１，２−付加の残基と、
【化４】
0005986291.tif 000005
下記の構造を有するブタジエン１，４−付加の残基と、
【化５】
0005986291.tif 000006
を含むものと理解されるであろう。一部の実施形態では、重合ブタジエン残基の質量％は０．６質量％以下であり、具体的には０．５質量％以下であり、より具体的には０．３質量％以下であり、さらにより具体的には０．１質量％以下である。一部の実施形態では、該組成物は重合ブタジエン残基を含まない。重合ブタジエン残基の量は、炭素核磁気共鳴分光法によって決定できる。
【００２８】
一部の実施形態では、該組成物はさらに、その合計質量に対して、０．５〜１８質量％の重合ブタジエン残基を含む。この範囲内で、重合ブタジエン残基の量は、１〜１４質量％であり得、具体的には２〜９質量％であり得、より具体的には３〜６質量％であり得る。重合ブタジエン残基は、ゴム変性ポリスチレン、スチレンとブタジエンのブロックコポリマーおよびこれらの組み合わせを含む種々の形態で提供できる。
【００２９】
一部の実施形態では、該組成物はさらに、その合計質量に対して、０．１〜５質量％の重合１−ブテン残基を含む。この範囲内で、重合１−ブテン残基の量は、０．２〜４質量％であり得、具体的には０．５〜３質量％であり得、より具体的には０．４〜２質量％であり得る。本明細書での「重合１−ブテン残基」は、下記の構造を有する残基を指す。
【化６】
0005986291.tif 000007
重合１−ブテン残基は、ポリ（１−ブテン）、ポリ（エチレン−ｃｏ−１−ブテン）、ポリスチレン−ポリ（エチレン−ｃｏ−１−ブテン）ジブロックコポリマー（ＳＥＢ）、ポリスチレン−ポリ（エチレン−ｃｏ−１−ブテン）−ポリスチレントリブロックコポリマー（ＳＥＢＳ）およびこれらの混合物を含むポリマーの形態で組成物に供給できる。一部の実施形態では、重合１−ブテン残基は、ポリスチレン−ポリ（エチレン−ｃｏ−１−ブテン）−ポリスチレントリブロックコポリマー（ＳＥＢＳ）の形態で組成物に供給される。重合１−ブテン残基を含むポリマーの量は、組成物の合計質量に対して、１〜２０質量％であり得、具体的には２〜１５質量％であり得、より具体的には３〜１０質量％であり得、さらにより具体的には４〜８質量％であり得る。
【００３０】
一部の実施形態では、該組成物は難燃剤をさらに含む。難燃剤は、熱可塑性組成物の難燃性を向上させる化合物または化合物の混合物である。好適な難燃剤としては、有機リン酸エステル、金属ジアルキルホスフィネート、窒素含有難燃剤、金属水酸化物およびこれらの混合物が挙げられる。
【００３１】
一部の実施形態では、該難燃剤は有機リン酸エステルを含む。典型的な有機リン酸エステル難燃剤としては、フェニル基、置換フェニル基あるいはこれらの組み合わせを含むリン酸エステルと、例えばレゾルシノールビス（ジフェニールホスフェート）などのレゾルシノール系および、例えばビスフェノールＡビス（ジフェニールホスフェート）などのビスフェノール系ビス−アリールリン酸エステルと、が挙げられる。一部の実施形態では、該有機リン酸エステルは、トリス（アルキルフェニル）ホスフェート（例えば、ＣＡＳ登録番号第８９４９２−２３−９号または同第７８−３３−１号）、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）（ＣＡＳ登録番号第５７５８３−５４−７号）、ビス−フェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）（ＣＡＳ登録番号第１８１０２８−７９−５号）、トリフェニルホスフェート（ＣＡＳ登録番号第１１５−８６−６号）、トリス（イソプロピルフェニル）ホスフェート（例えば、ＣＡＳ登録番号第６８９３７−４１−７号）およびこれらの混合物から選択される。
【００３２】
一部の実施形態では、該有機リン酸エステルは、下式の構造を有するビス−アリールホスフェートを含む：
【化７】
0005986291.tif 000008
式中、Ｒはそれぞれ独立に、Ｃ１−Ｃ１２アルキレン基であり；Ｒ５およびＲ６はそれぞれ独立に、Ｃ１−Ｃ５アルキル基であり；Ｒ１、Ｒ２およびＲ４は独立に、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル基であり；Ｒ３はそれぞれ独立に、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル基であり；ｎは１〜２５であり；ｓ１とｓ２はそれぞれ独立に、０、１または２の整数である。一部の実施形態では、ＯＲ１、ＯＲ２、ＯＲ３およびＯＲ４は独立に、フェノール、モノアルキルフェノール、ジアルキルフェノールまたはトリアルキルフェノールから誘導される。
【００３３】
該ビス−アリールホスフェートは、ビスフェノールから誘導され得る。典型的なビスフェノールとしては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（所謂ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）メタンおよび１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンが挙げられる。一部の実施形態では、該ビスフェノールはビスフェノールＡを含む。
【００３４】
一部の実施形態では、該難燃剤は金属ジアルキルホスフィネートを含む。本明細書での「金属ジアルキルホスフィネート」は、少なくとも１つの金属カチオンと少なくとも１つのジアルキルホスフィネートアニオンを含む塩を指す。一部の実施形態では、該金属ジアルキルホスフィネートは下式の構造を有する：
【化８】
0005986291.tif 000009
式中、ＲａおよびＲｂはそれぞれ独立にＣ１−Ｃ６アルキルであり；Ｍは、カルシウム、マグネシウム、アルミニウムまたは亜鉛であり；ｄは２または３である。ＲａおよびＲｂの例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルおよびフェニルが挙げられる。一部の実施形態では、ＲａとＲｂはエチルであり、Ｍはアルミニウムであり、ｄは３（すなわち、該金属ジアルキルホスフィネートはアルミニウムトリス（ジエチルホスフィネート）である。
【００３５】
一部の実施形態では、該金属ジアルキルホスフィネートは微粒子状である。該金属ジアルキルホスフィネート粒子の中央粒径（Ｄ５０）は４０μｍ以下であり得、より具体的にはＤ５０は３０μｍ以下であり得、さらにより具体的にはＤ５０は２５μｍ以下であり得る。また、該金属ジアルキルホスフィネートを、ポリ（フェニレンエーテル）、ホモポリスチレンあるいはこれらの組み合わせなどのポリマーと組み合わせるとマスターバッチが形成できる。金属ジアルキルホスフィネートマスターバッチにおける金属ジアルキルホスフィネートの濃度は、全体として、熱可塑性組成物におけるその濃度より高い。該組成物中の他の成分に該金属ジアルキルホスフィネートを添加するマスターバッチの採用によって添加が容易となり、金属ジアルキルホスフィネートの分散が向上する。
【００３６】
一部の実施形態では、該難燃剤は、窒素含有複素環塩基と、リン酸、ピロリン酸またはポリリン酸と、を含む窒素含有難燃剤を含む。一部の実施形態では、該窒素含有難燃剤は下式の構造を有する：
【化９】
0005986291.tif 000010
式中、ｇは１〜約１０，０００であり、ｆ対ｇの比率は０．５：１〜１．７：１であり、具体的には０．７：１〜１．３：１であり、より具体的には０．９：１〜１．１：１である。この式が、１個または複数個のプロトンがホスフェート基（類）からメラミン基（類）に移動した種を含むことは理解されるであろう。ｇが１の場合、該窒素含有難燃剤はリン酸メラミン（ＣＡＳ登録番号第２０２０８−９５−１号）である。ｇが２の場合、該窒素含有難燃剤はピロリン酸メラミン（ＣＡＳ登録番号第１５５４１−６０−３号）である。ｇが平均で３以上の場合、該窒素含有難燃剤はポリリン酸メラミン（ＣＡＳ登録番号第５６３８６−６４−２号）である。一部の実施形態では、該窒素含有難燃剤は、ピロリン酸メラミン、ポリリン酸メラミンあるいはこれらの混合物である。該窒素含有難燃剤がポリリン酸メラミンである一部の実施形態では、ｇの平均値は２超〜１０，０００であり、具体的には５〜１，０００であり、より具体的には１０〜５００である。リン酸メラミン、ピロリン酸メラミンおよびポリリン酸メラミンの調製方法は当分野で既知であり、また、それらはすべて市販されている。例えば、ポリリン酸メラミンを、例えば、Ｋａｓｏｗｓｋｉらの米国特許第６，０２５，４１９号に記載されるように、ポリリン酸とメラミンとの反応によって、あるいは、Ｊａｃｏｂｓｏｎらの米国特許第５，９９８，５０３号に記載されるように、窒素雰囲気下、２９０℃で、ピロリン酸メラミンを恒量に達するまで加熱することによって調製できる。一部の実施形態では、該窒素含有難燃剤はメラミンシアヌレートを含む。
【００３７】
該窒素含有難燃剤は低揮発性であってもよい。例えば、一部の実施形態では、該窒素含有難燃剤を昇温速度２０℃／分で２５℃から２８０℃まで、具体的には２５℃から３００℃まで、より具体的には２５℃から３２０℃まで加熱時の、熱質量分析による該難燃剤の質量損失は１％未満である。
【００３８】
一部の実施形態では、該難燃剤は金属水酸化物を含む。好適な金属水酸化物としては、難燃性を付与できるものすべて、およびそれらの組み合わせが挙げられる。典型的な金属水酸化物としては、水酸化マグネシウム（例えばＣＡＳ登録番号第１３０９−４２−８号）、水酸化アルミニウム（例えばＣＡＳ登録番号第２１６４５−５１−２号）、水酸化コバルト（例えばＣＡＳ登録番号第２１０４１−９３−０号）およびこれらの複数のものの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、該金属水酸化物は水酸化マグネシウムを含む。一部の実施形態では、該金属水酸化物の平均粒径は１０μｍ以下であり、およびまたはその純度は９０質量％以上である。一部の実施形態では、例えば、１２０℃×１時間の乾燥時の質量損失が１質量％未満であることで証明されるように、該金属水酸化物が実質的に水分を含まないことが望ましい。一部の実施形態では、該金属水酸化物は、例えばステアリン酸あるいは他の脂肪酸で被覆され得る。
【００３９】
該難燃剤が組成物中に存在する場合、その量は、組成物の合計質量に対して、２〜２５質量％である。この範囲内で、難燃剤の量は５〜２２質量％であり得、具体的には１０〜２０質量％であり得る。
【００４０】
該組成物は、必要なものまたは任意なものとしてここに記載されていないポリマーは任意に除外し得る。例えば、一部の実施形態では、該組成物は１質量％以下のポリアミドを含む。ポリアミドの量は、０．５質量％以下であり得、具体的には０．１質量％以下であり得る。一部の実施形態では、該組成物はポリアミドを含まない。一部の実施形態では、該組成物は、１質量％以下のポリオレフィンを含む。ポリオレフィンの量は、０．５質量％以下であり得、具体的には０．１質量％以下であり得る。一部の実施形態では、該組成物はポリオレフィンを含まない。
【００４１】
非常に特定的な実施形態では、該組成物は、特に明記されない限りその合計質量に対して、２５℃のクロロホルム中で測定した固有粘度が０．３５〜０．６ｄＬ／ｇのポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）を６０〜８０質量％と、重合スチレン残基を５〜１５質量％と、重合１−ブテン残基を０．４〜２質量％と、有機リン酸エステルを含む難燃剤を１０〜２０質量％と、重合アクリロニトリル残基を０．２〜１．２質量％と、を含み、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下である。一部の実施形態では、該組成物は、０．７質量％以下の重合ポリブタジエン残基を含む。
【００４２】
本発明は該組成物の調製方法に及ぶ。従って、一実施形態は、特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、ポリ（フェニレンエーテル）を４０超〜９４．８質量％と、ホモポリスチレンを５〜５９．８質量％と、重合アクリロニトリル残基０．２〜１．５質量％未満を供給するに十分な量のアクリロニトリルホモポリマーおよびまたはコポリマーと、を含む成分を混合して形成され、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下の組成物を形成するステップを備える組成物の形成方法である。４０質量％超〜９４．８質量％の範囲内で、ポリ（フェニレンエーテル）量は４１質量％超であり得、４３質量％超であり得、４５質量％超であり得、あるいは５０質量％超であり得；また、最高９０質量％であり得、最高８０質量％であり得、最高７０質量％であり得、最高６５質量％であり得、あるいは最高６０質量％であり得る。５〜５９．８質量％の範囲内で、ホモポリスチレンの量は、１０〜５０質量％であり得、具体的には１５〜４０質量％であり得、より具体的には１５〜３０質量％であり得る。０．２〜１．５質量％未満の範囲内で、重合アクリロニトリル残基の量は、０．４〜１．４質量％であり得、具体的には０．６〜１．３質量％であり得、より具体的には０．６〜１．２質量％であり得、さらにより具体的には０．６〜１質量％であり得る。上限が１２０質量ｐｐｍ以下範囲内で、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度は１００質量ｐｐｍ以下であり得、あるいは５０質量ｐｐｍ以下であり得る。一部の実施形態では、該組成物は、０．７質量％以下の重合ポリブタジエン残基を含む。上限が０．７質量％以下の範囲内で、重合ブタジエンの量は０．６質量％以下であり得、０．５質量％以下であり得、０．３質量％以下であり得、あるいは０．１質量％以下であり得；あるいは、該組成物は、重合ブタジエン残基を実質的に含まなくてもよい。一部の実施形態では、重合アクリロニトリル残基の少なくとも一部は、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供される。一部の実施形態では、重合アクリロニトリル残基の実質的にすべては、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供される。該組成物の文脈で上記した組成上の変形はすべて、該組成物の形成方法にも同様に当てはまる。
【００４３】
本発明はさらに、該方法で調製または得られる組成物に及ぶ。
【００４４】
組成物は、物品、特に射出成形物品の形成に有用である。具体的な物品としては、例えば、継電ボックス、電気ソケット、電気コネクタ、テレビ偏向ヨーク、テレビ裏面、テレビベゼル、照明器具、住宅および商業用電気配線器具、電気メータおよび充電筐体が挙げられる。一部の実施形態では、射出成形条件は、バレル温度：２５０〜３５０℃、具体的には２７０〜３１０℃、金型温度：５０〜１００℃、具体的には５５〜９０℃である。実例となる射出条件については、後述の実施例で説明する。
【００４５】
本発明は少なくとも以下の実施形態を含む。
【００４６】
実施形態１：特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、ポリ（フェニレンエーテル）を４０超〜９４．８質量％と、重合スチレン残基を５〜５９．８質量％と、重合アクリロニトリル残基を０．２〜１．５質量％未満と、を含む組成物であって、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下の組成物。
【００４７】
実施形態２：前記重合スチレン残基の少なくとも一部と前記重合アクリロニトリル残基の少なくとも一部は、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供される実施形態１に記載の組成物。
【００４８】
実施形態３：前記重合アクリロニトリル残基の実質的にすべては、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供される実施形態１に記載の組成物。
【００４９】
実施形態４：前記ホモポリスチレンは、アタクチックホモポリスチレンを含む実施形態３に記載の組成物。
【００５０】
実施形態５：前記ポリ（フェニレンエーテル）は、未使用のポリ（フェニレンエーテル）を含む実施形態１乃至実施形態４のいずれかに記載の組成物。
【００５１】
実施形態６：０．７質量％以下の重合ブタジエン残基を含む実施形態１乃至実施形態５のいずれかに記載の組成物。
【００５２】
実施形態７：０．５〜１８質量％の重合ブタジエン残基をさらに含む実施形態１乃至実施形態５のいずれかに記載の組成物。
【００５３】
実施形態８：０．１〜５質量％の重合１−ブテン残基をさらに含む実施形態１乃至実施形態７のいずれかに記載の組成物。
【００５４】
実施形態９：２〜２５質量％の難燃剤をさらに含む実施形態１乃至実施形態８のいずれかに記載の組成物。
【００５５】
実施形態１０：前記難燃剤は、有機リン酸エステルを含む実施形態９に記載の組成物。
【００５６】
実施形態１１：１質量％以下のポリアミドを含む実施形態１乃至実施形態１０のいずれかに記載の組成物。
【００５７】
実施形態１２：１質量％以下のポリオレフィンを含む実施形態１乃至実施形態１１のいずれかに記載の組成物。
【００５８】
実施形態１３：２５℃のクロロホルム中で測定した固有粘度が０．３５〜０．６ｄＬ／ｇのポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）を含むポリ（フェニレンエーテル）を６０〜８０質量％と、前記重合スチレン残基を５〜１５質量％と、重合１−ブテン残基を０．４〜２質量％と、有機リン酸エステルを含む難燃剤を１０〜２０質量％と、前記重合アクリロニトリル残基を０．２〜１．２質量％と、を含み、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下である請求項１に記載の組成物。
【００５９】
実施形態１３ａ：特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、２５℃のクロロホルム中で測定した固有粘度が０．３５〜０．６ｄＬ／ｇのポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）を６０〜８０質量％と、重合スチレン残基を５〜１５質量％と、重合１−ブテン残基を０．４〜２質量％と、有機リン酸エステルを含む難燃剤を１０〜２０質量％と、重合アクリロニトリル残基を０．２〜１．２質量％と、を含む組成物であって、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下の組成物。
【００６０】
実施形態１４：実施形態１乃至実施形態１３のいずれかに記載の組成物を含む物品。
【００６１】
実施形態１５：特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、ポリ（フェニレンエーテル）を４０超〜９４．８質量％と、ホモポリスチレンを５〜５９．８質量％と、重合アクリロニトリル残基０．２〜１．５質量％未満を供給するに十分な量のアクリロニトリルホモポリマーおよびまたはコポリマーと、を含む溶融混合成分を混合して形成され、第２級脂肪族ヒドロキシル基の濃度が１２０質量ｐｐｍ以下の組成物を形成するステップを備える組成物の形成方法。
【００６２】
実施形態１６：前記重合アクリロニトリル残基のすくなくとも一部は、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供される実施形態１５に記載の方法。
【００６３】
実施形態１７：前記重合アクリロニトリル残基の実質的にすべては、ホモポリスチレンと、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたアクリロニトリルコポリマーと、を含む使用済み再利用材料の形態で提供される実施形態１５に記載の方法。
【００６４】
以下の非限定的実施例によって、本発明をさらに例証する。
【００６５】
（実施例１〜４、参考例５〜７、比較実施例１〜９）
これらの実施例によって、ポリ（フェニレンエーテル）とホモポリスチレンを含む組成物にアクリロニトリルコポリマーを添加時の特性結果を例証する。再利用ポリスチレン中のスチレン−アクリロニトリルコポリマー不純物の影響をシミュレーションするために、スチレン−アクリロニトリルコポリマーを使用する。
【００６６】
表１に記載の成分を用いて組成物を調製した。発明的実施例および比較実施例を表２に示す。成分量の単位は質量％である。表２において、「ＰＳ中のＳＡＮ％」行は、１００×（ＳＡＮ質量％）／（ＰＳ質量％＋ＳＡＮ質量％）により算出したものである。「ＰＳの中のＳＡＮ％」は、再利用ホモポリスチレン原料中の対応するＳＡＮ質量％の代理となるものである。内径５３ｍｍの東芝ＴＥＭ５０Ａ二軸押出機をスクリュー回転数２８０ｒｐｍ、スループット約８０ｋｇ／ｈで操作して、組成物を混合した。押出機では、１２の温調ゾーンと温調ダイを用いた。実施例１、２および比較実施例１、２では、供給口からダイまでの温度を、３００℃／３００℃／３００℃／３００℃／３００℃／３００℃／３００℃／３００℃／３００℃／３００℃／３００℃／３００℃／３２０℃とした。実施例３、参考例５、６、および比較実施例３〜６では、供給口からダイまでの温度を、１５０℃／２７０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２９０℃とした。参考例７および比較実施例７〜９では、供給口からダイまでの温度を、２５０℃／２７０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／２８０℃／３００℃とした。難燃剤以外の成分はすべて供給口で添加し、難燃剤レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）とビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）はゾーン２の射出口で添加した。押出品は水浴中で冷却してペレット化し、９０℃×２時間で乾燥させた後試験物品の成形に用いた。
【００６７】
【表１】
0005986291.tif 000011
【００６８】
物性試験用の試験物品は、東洋機械金属（株）のＴｏｙｏ  Ｐｌａｓｔｅｒ  Ｔｉ−８０Ｇ２射出成形機で射出成形した。実施例１、２および比較実施例１、２の物性試験用の試験物品は、バレル温度：２８０℃、金型温度：６０℃で成形し、実施例３、４、参考例５〜７および比較実施例３〜９のそれは、バレル温度：２００℃、金型温度：５０℃で成形した。
【００６９】
ヘイズ値は、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠し、村上色彩研究所のＨＭ−１５０ヘイズメータと、ポリスチレンとポリアクリロニトリルのブレンド（他の成分なし）をバレル温度：２２０℃、金型温度：５０℃で成形した３．２ｍｍ厚のプレートと、を用いて測定した。
【００７０】
ノッチ付アイゾッド衝撃強度値（ｋｇ−ｃｍ／ｃｍ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ２５６−１０に準拠し、温度：２３℃、ハンマーエネルギー：２Ｊ、横断面寸法：３．２×１２．７ｍｍおよび長さ：６．４ｃｍの試験サンプル、ノッチ角：４５°、ノッチ下の材料深さ：１０．１６ｍｍ、１組成物当たり５試験片を用いて測定した。
【００７１】
ノッチ付アイゾッド衝撃強度保持率（％）は、ＳＡＮ添加なしの対応するサンプルに対して求めた。例えば、発明的な実施例２のノッチ付アイゾッド衝撃強度保持率は、比較実施例１の値に対し、１００×２１．４／２３．５＝９１％として算出した。さらに、実施例３のノッチ付アイゾッド衝撃強度保持率は、比較実施例３の値に対し、１００×１７／１７＝１００％として算出した。
【００７２】
これらの結果から、ポリスチレンとＳＡＮの組み合わせで作られ、許容できるヘイズ値（すなわち、９８％以下）を有する組成物は、重合アクリロニトリル残基量が１．５質量％以下であれば、許容できるノッチ付アイゾッド衝撃強度保持率（すなわち、少なくとも８５％の衝撃強度保持率）を有することがわかる。
【００７３】
【表２−１】
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【表２−２】
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