(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスク作製におけるパドル現像によるレジスト現像工程で使用する平面状の現像ノズルであって、
現像液の噴出口が被現像物であるフォトマスク基板側の平面に２次元配置されており、
現像液を噴出するための噴出口が集合して形成された単位ノズルが、現像ノズルの被現像物側で、正四角形の頂点に等間隔に配置されていることを特徴とする現像ノズル。
【請求項２】
請求項１に記載の現像ノズルを用いたパドル現像装置であって、少なくとも、平板状の被現像物を載置し固定するためのチャックと、前記チャックと前記現像ノズルのいずれか一方か両方を駆動するための駆動機構と、現像液を前記被現像物に噴出させるための平面状の現像ノズルと、を備えていることを特徴とするパドル現像装置。
【請求項３】
チャックを被現像物の平面と平行な面内で回転させることと、縦方向に揺動させることと、横方向に揺動させることと、をそれぞれの動作を独立またはいずれか２つの組合せで連動して実施させることができることを特徴とする請求項２に記載のパドル現像装置。
【請求項４】
請求項２に記載のパドル現像装置を用いたパドル現像方法であって、少なくとも、前記現像装置のチャックに被現像物を載置する載置工程と、前記載置工程完了後、現像ノズルと前記被現像物とを、その相互の距離が均一になるように、それぞれ予め設定した位置に配置する配置工程と、前記配置工程が完了後、現像ノズルから現像液を噴出する現像工程と、前記現像工程を開始してから、予め設定した時間が経過した後、前記現像液の噴出を停止し、リンス液を被現像物に噴出するリンス工程と、から構成されており、前記配置工程において予め設定した位置における前記ノズルと前記被現像物との距離が０ｍｍより大きく、１０ｍｍ以内であることを特徴とするパドル現像方法。
【請求項５】
現像工程において、現像ノズルの単位ノズルが含まれる平面Ａと被現像物の現像される面が含まれる平面Ｂの距離が一定で、且つ前記現像ノズルと前記被現像物とが相対的に縦方向の揺動と横方向の揺動と回転の全てまたはいずれか２つを組合せた動作をすることによって現像処理を実施することを特徴とする請求項４に記載のパドル現像方法。
【請求項６】
現像工程において、縦方向の揺動および横方向の揺動の最大振幅が、現像ノズルに配置された各単位ノズル間の間隔と同じであることを特徴とする請求項４または５に記載のパドル現像方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクの製造工程の重要な製造工程の１つであるレジストの現像工程に関し、更にはパターン寸法の面内バラツキの抑制と現像のローディング効果を抑制する現像ノズル、現像装置および現像方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトマスク基板の現像処理方法として、フォトマスク基板を回転し、現像液をスプレーノズルにてフォトマスク基板上に噴霧することで現像処理を行うスプレー現像という方法がある。
【０００３】
また、フォトマスク基板に対して現像ノズルを平行移動させながら、現像ノズルから供給される現像液を前記基板上に液盛りし、静止状態で現像処理を行うパドル現像という方法もある。
【０００４】
スプレー現像ではフォトマスク基板面内に現像液を一様に行き届かせるためにフォトマスク基板を回転させるため、フォトマスク面内でのレジストパターン寸法に同心円状に現像の進み具合の変化が生じてしまう（以後、同心円傾向と呼ぶ。）。同心円傾向とは、フォトマスク基板を回転させて現像することにより、レジストパターン寸法のバラツキに同心円状の傾向が見られるものである。
【０００５】
また、パドル現像では現像液を基板上に液盛りするため、フォトマスク基板面内におけるレジストパターン寸法の同心円傾向は抑制されるが、スプレー現像に比べて現像液の置換が不十分となり、パターン形状やパターン密度の差異によって現像速度等が変化し、現像ローディング効果が生じるため、パターン密度差によるレジストパターンの寸法不均一性が問題となっている。
【０００６】
例えば、特許文献１には、現像ノズルが一方向に長く、基板全面を覆わない形状のものを用いて、且つフォトマスク基板を静止した状態で、現像ノズルをスキャンして現像液をフォトマスク基板上に液盛りする技術が開示されている。この技術では、フォトマスク面内のレジストパターン寸法の同心円傾向は抑制できるが、スキャンの方向および回転によってフォトマスク基板のいずれか一辺に偏った傾向が生じる場合があり、描画機による面内寸法補正が困難になる問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−０８６０３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで本発明は、平面状の現像ノズルを用いて現像液の液盛りを行うことで、レジストの現像工程の要因によるパターン寸法の面内におけるバラツキの抑制と現像のローディング効果を抑制する現像ノズル、現像装置および現像方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決する手段として、本発明の請求項１に記載の発明は、
フォトマスク作製におけるパドル現像によるレジスト現像工程で使用する平面状の現像ノズルであって、
現像液の噴出口が被現像物であるフォトマスク基板側の平面に２次元配置されており、
現像液を噴出するための噴出口が集合して形成された単位ノズルが、現像ノズルの被現像物側で、正四角形の頂点に等間隔に配置されていることを特徴とする現像ノズルである。
【００１８】
請求項２に記載の発明は、
請求項１に記載の現像ノズルを用いたパドル現像装置であって、少なくとも、平板状の被現像物を載置し固定するためのチャックと、前記チャックと前記現像ノズルのいずれか一方か両方を駆動するための駆動機構と、現像液を前記被現像物に噴出させるための平面状の現像ノズルと、を備えていることを特徴とするパドル現像装置である。
【００１９】
請求項３に記載の発明は、
チャックを被現像物の平面と平行な面内で回転させることと、縦方向に揺動させることと、横方向に揺動させることと、をそれぞれの動作を独立またはいずれか２つの組合せで連動して実施させることができることを特徴とする請求項２に記載のパドル現像装置である。
【００２０】
請求項４に記載の発明は、
請求項２に記載のパドル現像装置を用いたパドル現像方法であって、少なくとも、前記現像装置のチャックに被現像物を載置する載置工程と、前記載置工程完了後、現像ノズルと前記被現像物とを、その相互の距離が均一になるように、それぞれ予め設定した位置に配置する配置工程と、前記配置工程が完了後、現像ノズルから現像液を噴出する現像工程と、前記現像工程を開始してから、予め設定した時間が経過した後、前記現像液の噴出を停止し、リンス液を被現像物に噴出するリンス工程と、から構成されており、前記配置工程において予め設定した位置における前記ノズルと前記被現像物との距離が０ｍｍより大きく、１０ｍｍ以内であることを特徴とするパドル現像方法である。
【００２１】
請求項５に記載の発明は、
現像工程において、現像ノズルの単位ノズルが含まれる平面Ａと被現像物の現像される面が含まれる平面Ｂの距離が一定で、且つ前記現像ノズルと前記被現像物とが相対的に縦方向の揺動と横方向の揺動と回転の全てまたはいずれか２つを組合せた動作をすることによって現像処理を実施することを特徴とする請求項４に記載のパドル現像方法である。
【００２２】
請求項６に記載の発明は、
現像工程において、縦方向の揺動および横方向の揺動の最大振幅が、現像ノズルに配置された各単位ノズル間の間隔と同じであることを特徴とする請求項４または５に記載のパドル現像方法である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、レジストの現像工程の要因によるパターン寸法の面内バラツキの抑制と現像のローディング効果を抑制する現像ノズル、現像方法および現像装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】（ａ）は本発明の実施形態の一例を示した鳥瞰図、（ｂ）は本発明の現像ノズルの形状および配置状態の一例を示した上面図である。
【図２】（ａ）および（ｂ）は本発明の現像ノズルの形状および配置状態の一例を示した上面図である。
【図３】本発明の実施形態の一例を示した鳥瞰図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
現像ノズル１２、１３は、現像液などを噴出するための噴出口が集合して形成された単位ノズル２１を複数設けることで形成される。実施例中で示す、現像装置用ノズルの噴出口の形状、大きさ、構成、配置の記載は、この単位ノズル２１の形状、大きさ、構成、配置を指す。また、個々の単位ノズルの間隔とは、隣り合う単位ノズル間の間隔を指す。
【００２６】
この単位ノズル２１は現像液の他に、純水などの液体、現像後のフォトマスク基板を乾燥するための乾燥空気や窒素、その他の不活性ガスなどの気体を供給し、噴出させることができる。単位ノズル２１に上記の液体や気体を供給することで、現像ノズル１２や１３から上記の液体や気体を噴出させることが可能である。
【００２７】
単位ノズル２１への液体や気体を、現像ノズル１２、１３に設置される全ての単位ノズル２１に一括して供給することができる。また、現像ノズル１２、１３に設置される個々の単位ノズル２１毎に独立して気体や液体を供給することもできる。
【００２８】
さらに別の方法として、現像ノズル１２、１３に設置される単位ノズル２１をいくつかのグループに分け、そのグループ毎に独立して気体や液体を供給することもできる。
【００２９】
このようにすることで、単位ノズル２１毎や単位ノズル２１のグループ毎に異なる流量、濃度の現像液などの液体や気体、また異なる混合比率の液体や気体を個別に独立して供給することが可能となる。個別の単位ノズル２１毎や単位ノズル２１のグループ毎に、液体、気体を別々に供給することも可能である。
【００３０】
図１および図３に示した現像ノズル１２は、フォトマスク基板の一辺以上の長さを有しており、平面状に複数の単位ノズルがフォトマスク基板と面する側に、且つ均一に２次元配置されている。図１（ｂ）は、正四角形の頂点に単位ノズルが配置されている場合である。現像ノズル１２をフォトマスク基板の一辺以上の長さとし、フォトマスク基板より大きいものとすることで、フォトマスク基板面内各所における現像液の供給量がより均一になり、上下・左右傾向と言った現像（上下・左右で現像後のパターンの寸法が太くなるとか、細くなるという傾向が表れる現象）によるレジストの面内傾向を効果的に抑制することが可能となる。現像ノズルにある現像液の単位ノズルを平面状に配置するには、単位ノズルを平面板に直接形成して単位ノズルを形成しても良いし、噴出口を固定する平面板に個別に単位ノズルを複数個取り付けても良い。使用する板の材質については、洗浄時に洗浄液やフォトマスク基板と反応しないもの、洗浄時や取扱時にフォトマスク基板の欠陥を発生させない材質のものを適宜使用できる。特にフォトマスクに傷をつけたり、粒子等を発生したりしないものが好ましく用いられる。
【００３１】
図２（ａ）に示した現像ノズル１２は、平面状であり、且つその面内に配置されている単位ノズルの列が、フォトマスク基板と面する側に、前記単位ノズルの列に配置された各単位ノズル間の間隔の半分だけ互いにずらして配列されている現像ノズルである。このように単位ノズルを互い違いに配置することで、上下・左右傾向と言った現像によるレジストの面内傾向を抑制し、且つ面内の現像によるスジ状のムラの発生を防ぐことが可能である。この単位ノズルの配置の仕方は、正三角形の頂点に等間隔に配置するのと同じである。
【００３２】
また、図１（ｂ）と図２（ａ）を合せて、単位ノズルが正多角形の頂点に等間隔に配置されている現像ノズルとすることができる。
【００３３】
図２（ｂ）に示した現像ノズル１３は、平面状であり、且つその面内に複数の単位ノズルが、フォトマスク基板と面する側に前記現像ノズル１３の中心部より外周部にかけて放射状に配列され、且つ前記現像ノズル１３の中心部より内周部と外周部での単位ノズルの密度が可能な限り均一になるように、外周部の単位ノズルが疎な箇所に単位ノズルを補完している現像ノズルである。単位ノズルの密度を一定に保った配置にすることで現像液の供給量が均一になり、現像によるレジストの面内バラツキを効率よく抑制することが可能である。
【００３４】
また、図１および図３に示した平面状現像ノズル１２において、単位ノズルの各所における現像液流量の調節をフォトマスク面内各所のパターン密度に応じて行うことで、各パターン密度の現像速度の差をなくし、各々のパターンにおける効果的な現像ローディング効果の抑制および制御が可能である。
【００３５】
また、図１および図３に示した平面状現像ノズル１２において、単位ノズルの各所において噴出させる現像液の濃度の調節を行うことで、各パターン密度の現像速度の差をなくし、任意に面内におけるレジストパターン寸法の制御が可能である。
【００３６】
図３（ａ）および（ｂ）に示したフォトマスク基板１１を、可動方向１４のように回転または揺動させることで、面内各所に均一に現像液を液盛りすることができるため、フォトマスク面内のレジストパターン寸法の均一性を実現することができる。これはフォトマスク基板１１の代わりに平面状ノズル１２を回転または揺動させることでも同様の効果が得られる。縦方向の揺動および横方向の揺動の最大振幅を、現像ノズルに配置された各単位ノズル間の間隔と同じとすることで、より効果的にフォトマスク面内のレジストパターン寸法の均一性を実現することが可能となる。
【００３７】
以上のような現像ノズルを備えた現像装置としては、少なくとも、被現像物である露光
済のフォトマスク基板１１を載置し、保持するチャックと、平板状の現像ノズルと、チャックと現像ノズルのいずれか一方か両方を駆動するための駆動機構を備えたものを使用することができる。また、チャックの駆動機構は、被現像物の平面と平行な面内で回転させることができ、また、縦方向および横方向に揺動させることが可能である。また、それらの動作は、独立または連動して行うことが可能である。更に具体的には、チャックの回転だけを行い、揺動させないことも可能であり、逆に揺動させて、回転させないことも可能である。またいずれかの組合せで動作させることも可能である。このような動作を可能とするには、チャックの回転機構を制御する制御装置とチャックの縦方向および横方向の揺動機構を制御する制御装置が、それぞれ個別に備えられていることによって可能となる。
【００３８】
また、この現像装置を用いた現像方法としては、少なくも、被現像物である露光済のフォトマスク基板を現像装置のチャックに載置し保持する載置工程と、その次の工程として、チャックに保持された露光済のフォトマスク基板の上方に現像ノズルを移動させ、予め設定されたフォトマスク基板と現像ノズルの相互の距離を均一になるような位置に配置する配置工程と、その次の工程として、現像ノズルから現像液を噴出させて現像する現像工程と、予め設定した現像時間が経過した後、リンス液をフォトマスク基板に噴出し、現像を停止するリンス工程と、リンス工程が終了後、リンス液を除去、乾燥する乾燥工程を備えている。
【００３９】
また、配置工程においては、現像ノズルとフォトマスク基板の距離を予め設定しておくが、その距離は１０ｍｍ以下であることが好ましい。１０ｍｍを超えると、現像されたレジストパターンの寸法バラツキのレンジが大きくなるからである。
【００４０】
また、現像工程においては、縦方向の揺動と横方向の揺動の最大振幅が、現像ノズルに配置された各単位ノズル間の間隔と同じであることが好ましい。各単位ノズル間の間隔より大きい最大振幅であっても、レジストパターンの寸法バラツキのレンジは本質的には変わらないが、振幅が大きくなり現像ノズルの端部に近づくと、寸法バラツキが悪化するためである。
【実施例１】
【００４１】
本発明の実施形態の一例を下記に示す。
（被現像物）
露光済のレジストが形成されている縦６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×横６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×厚さ２．３ｍｍのフォトマスクブランク（現像装置用ノズルの形状、大きさ）
形状                    ：正方形
大きさ                  ：９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）×９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）
（現像装置用ノズルの噴出口の形状、大きさ、配置）
形状                    ：円形
大きさ                  ：直径１．０ｍｍ
配置                    ：升目状に均等配置、各噴出口間の距離２ｍｍ（現像装置用ノズルと被現像物間の距離）
３ｍｍ
（現像条件）
現像液温度              ：２３℃（現像液タンク内の現像液管理温度）
現像液供給量            ：１０ｃｍ３／秒
現像時間                ：６０秒
レジスト                ：化学増幅型ポジ型レジスト
レジスト膜厚            ：１５００Å
【００４２】
図１（ａ）は本発明の実施形態を説明するための鳥瞰図および（ｂ）は上面図である。フォトマスク基板には、レジストが塗布され、且つ電子ビーム描画機にてパターン露光されたフォトマスク基板を用いて上記条件にて現像処理を行った。
【００４３】
描画データ上、同一寸法および同一密度のパターンがフォトマスクブランクの面内に均一に配置・描画されたレジストパターン寸法のバラツキのレンジが、従来スプレー現像では７ｎｍに対して、上記条件では３．５ｎｍと改善が見られた。
【００４４】
また、現像ローディング効果による疎密パターン寸法の平均値差が、従来パドル現像での６ｎｍに対して、上記条件では４ｎｍと改善が見られた。
【実施例２】
【００４５】
本発明の実施形態の一例を下記に示す。
実施例１との違いは、被現像物を現像用ノズルが配置されている面に平行な面内で回転させていること、および現像用ノズルと被現像物との距離を５ｍｍにした点である。
（被現像物）
露光済のレジストが形成されている縦６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×横６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×厚さ２．３ｍｍのフォトマスクブランク
（現像装置用ノズルの噴出口の形状、大きさ、配置）
形状                    ：円形
大きさ                  ：直径１．０ｍｍ
配置                    ：升目状に均等配置、各噴出口間の距離２ｍｍ
（現像装置用ノズルの形状、大きさ）
形状                    ：正方形
大きさ                  ：９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）×９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）
（現像装置用ノズルと被現像物間の距離）
５ｍｍ
（現像条件）
現像液温度              ：２３℃（現像液タンク内の現像液管理温度）
現像液供給量            ：１０ｃｍ３／秒
現像時間                ：６０秒
レジスト                ：化学増幅型ポジ型レジスト
レジスト膜厚            ：１５００Å
マスク回転速度          ：２０回転／分
【００４６】
図３は実施例２の実施形態を説明するための鳥瞰図である。レジストが塗布され、且つ電子描画機にてパターン描画されたフォトマスク基板を上記条件にて現像処理を行った。
【００４７】
描画データ上同一寸法および同一密度のパターンがフォトマスク基板面内に均一に配置・描画されたレジストパターン寸法のバラツキのレンジが、従来のスプレー現像では７ｎｍに対して、上記条件では２ｎｍと改善が見られ、且つ面内におけるパターン寸法に同心円または非対称といった傾向は見られなかった。
【００４８】
また、現像ローディング効果による疎密パターン寸法の平均値差が、従来パドル現像で
の６ｎｍに対して、上記条件では２．５ｎｍと改善が見られた。
【実施例３】
【００４９】
本発明の実施形態の一例を下記に示す。
（被現像物）
露光済のレジストが形成されている縦６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×横６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×厚さ２．３ｍｍのフォトマスクブランク
（現像装置用ノズルの形状、大きさ）
形状                    ：正方形
大きさ                  ：９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）×９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）
（現像装置用単位ノズルの噴出口の形状、大きさ、構成、現像ノズル上の配置）
形状                    ：円形
大きさ                  ：直径０．１ｍｍ
構成                    ：直径０．１ｍｍの円形の噴出口を直径１ｍｍの円周上に等間隔で６個配置
現像ノズル上の配置      ：格子状（正四角形の頂点に等間隔に配置）に配置、各単位ノズル間の間隔２ｍｍ
（現像装置用ノズルと被現像物間の距離）：３ｍｍ
（現像条件）
現像液温度              ：２３℃（現像液タンク内の現像液管理温度）
現像液供給量            ：１０ｃｍ３／秒
現像時間                ：６０秒
（レジスト）              ：ＦＥＰ１７１（富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）
（レジスト膜厚）          ：２０００Å
【００５０】
同一寸法および同一密度のパターンが、フォトマスクブランクの面内に均一に配置された描画データを用いて描画されたレジストパターンの寸法バラツキのレンジが、従来のスプレー現像では７ｎｍだったのに対して、上記の条件で現像した結果、５ｎｍと改善が見られた。
【００５１】
また、現像ローディング効果による疎密パターン寸法の平均値差が、従来のパドル現像では６ｎｍに対して、上記の条件では４ｎｍと改善が見られた。
【実施例４】
【００５２】
本発明の実施形態の他の例を下記に示す。
（被現像物）
露光済のレジストが形成されている縦６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×横６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×厚さ２．３ｍｍのフォトマスクブランク
（現像装置用ノズルの形状、大きさ）
形状：正方形
大きさ：９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）×９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）
（現像装置用単位ノズルの噴出口の形状、大きさ、構成、現像ノズル上の配置）
形状                    ：円形
大きさ                  ：直径０．１ｍｍ
構成                    ：直径０．１ｍｍの円形の噴出口を直径１ｍｍの円周上に等間隔で６個配置
配置                    ：単位ノズルの列が、単位ノズルの列に配置された各単位ノズル間の間隔の半分だけずらして配置（正三角形の頂点に等間隔に配置）、各単位ノズル間の間隔２ｍｍ
（現像装置用ノズルと被現像物間の距離）：３ｍｍ
（現像条件）
現像液温度              ：２３℃（現像液タンク内の現像液管理温度）
（現像液供給量）          ：１０ｃｍ３ ／秒
（現像時間）              ：６０秒
（レジスト）              ：ＦＥＰ１７１（富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）
（レジスト膜厚）          ：２０００Å
【００５３】
描画データ上、同一寸法および同一密度のパターンがフォトマスクブランクの面内に均一に配置・描画されたレジストパターン寸法のバラツキのレンジが、従来のスプレー現像では７ｎｍ、実施例１に記載の現像方法では５ｎｍであったのに対して、上記条件では３．５ｎｍと更に改善が見られ、且つ面内の現像によるスジ状のムラは確認されなかった。
【００５４】
また、現像ローディング効果による疎密パターン寸法の平均値差が、従来のパドル現像での６ｎｍに対して、上記条件では４ｎｍと改善が見られた。
【実施例５】
【００５５】
本発明の実施形態の他の例を下記に示す。
（被現像物）
露光済のレジストが形成されている縦６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×横６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×厚さ２．３ｍｍのフォトマスクブランク
（現像装置用ノズルの単位ノズルの形状、大きさ、配置）
形状                    ：円形
大きさ                  ：直径０．１ｍｍ
構成                    ：直径０．１ｍｍの円形の噴出口を直径１ｍｍの円周上に等間隔で６個配置
配置                    ：単位ノズルの列が、単位ノズルの列に配置された各単位ノズル間の間隔の半分だけずらして配置（正三角形の頂点に等間隔に配置）、各噴出口間の間隔２ｍｍ
（現像装置用ノズルの形状、大きさ）
形状                    ：正方形
大きさ                  ：９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）×９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）
（現像装置用ノズルと被現像物間の距離）：５ｍｍ
（現像条件）
現像液温度              ：２３℃（現像液タンク内の現像液管理温度）
現像液供給量            ：１０ｃｍ３／秒
現像時間                ：６０秒
レジスト                ：ＦＥＰ１７１（富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）
レジスト膜厚            ：２０００Å
被現像物回転速度        ：２０回転／分
【００５６】
描画データ上同一寸法および同一密度のパターンがフォトマスク基板面内に均一に配置・描画されたレジストパターン寸法のバラツキのレンジが、従来のスプレー現像では７ｎｍ、実施例２記載の現像方法では３．５ｎｍであったのに対して、上記条件では２ｎｍと更に改善が見られ、且つ面内におけるパターン寸法に同心円または非対称といった傾向は見られなかった。
【００５７】
また、現像ローディング効果による疎密パターン寸法の平均値差が、従来のパドル現像での６ｎｍに対して、上記条件では２．５ｎｍと更に改善が見られた。
【００５８】
また実施例３の形態のうち、被現像物の代わりに現像ノズルを回転させてもよい。
【００５９】
また実施例３の形態のうち、現像装置用ノズルと被現像物間の距離を１０ｍｍ、且つ単位ノズルから供給される現像液の流量を強めることで、実施例３と同様の効果が得られる。
【実施例６】
【００６０】
本発明の実施形態の他の例を下記に示す。
（被現像物）
露光済のレジストが形成されている縦６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×横６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×厚さ２．３ｍｍのフォトマスクブランク
（現像装置用ノズルの単位ノズルの形状、大きさ、構成、配置）
形状                    ：円形
大きさ                  ：直径０．１ｍｍ
構成                    ：直径０．１ｍｍの円形の噴出口を直径１ｍｍの円周上に等間隔で６個配置
配置                    ：正四角形の頂点に等間隔に配置、各単位ノズル間の間隔４ｍｍ
（現像装置用ノズルの形状、大きさ）
形状                    ：正方形
大きさ                  ：９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）×９ｉｎｃｈ（２２８．６ｍｍ）
（現像装置用ノズルと被現像物間の距離）：５ｍｍ
（現像条件）
現像液温度              ：２３℃（現像液タンク内の現像液管理温度）
現像液供給量            ：１０ｃｍ３／秒
現像時間                ：６０秒
レジスト                ：ＦＥＰ１７１（富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）
レジスト膜厚            ：２０００Å
被現像物揺動方向        ：横方向
被現像物揺動範囲        ：２ｍｍ（各単位ノズル間の間隔と同等）
【００６１】
描画データ上同一寸法および同一密度のパターンがフォトマスク基板面内に均一に配置・描画されたレジストパターン寸法のバラツキのレンジが、従来のスプレー現像では７ｎｍ、実施例２記載の現像方法では３．５ｎｍであったのに対して、上記条件では２ｎｍと更に改善が見られた。
【００６２】
また、現像ローディング効果による疎密パターン寸法の平均値差が、従来パドル現像での６ｎｍに対して、上記条件では３ｎｍと改善が見られた。
【００６３】
また実施例６の形態のうち、被現像物揺動方向を縦方向、または縦方向および横方向としてもよい。
【００６４】
また実施例６の形態のうち、被現像物の代わりに現像ノズルを揺動させてもよい。
【符号の説明】
【００６５】
１１…フォトマスク基板
１２…現像ノズル
１３…現像ノズル
１４…フォトマスク基板の回転方向
２１…単位ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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