(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記中屈折率層が（Ａ）平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子、（Ｂ）不飽和二重結合を３つ以上有する化合物、及び（Ｃ）下記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体（Ｃ）が前記組成物中の全固形分に対して１．０〜２．０質量％であり、前記有機又は無機粒子（Ａ）が、前記組成物中の全固形分に対して３０〜６０質量％である、反射防止フィルム。
一般式１
【化１】
0005933353.tif 000026
上記一般式１において、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ１２）−を表す。Ｒ１２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒｆは−ＣＦ３又は−ＣＦ２Ｈを表す。
ｍは１〜６の整数を表す。
ｎは１〜１１の整数を表す。
【請求項２】
前記一般式１において、Ｒｆは−ＣＦ３を表す請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子（Ａ）がジルコニア粒子である、請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記不飽和二重結合を３つ以上有する化合物（Ｂ）の分子量の数値を、官能基数で除した値である、分子量／官能基数が１００以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムである偏光板。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム、又は請求項６に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【請求項８】
透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有し、各層それぞれが塗布、乾燥及び硬化の工程を行うことで形成される反射防止フィルムの製造方法であって、前記中屈折率層が（Ａ）平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子、（Ｂ）不飽和二重結合を３つ以上有する化合物、（Ｃ）下記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体（Ｃ）が前記組成物中の全固形分に対して１．０〜２．０質量％であり、前記有機又は無機粒子（Ａ）が、前記組成物中の全固形分に対して３０〜６０質量％である、反射防止フィルムの製造方法。
一般式１
【化２】
0005933353.tif 000027
上記一般式１において、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ１２）−を表す。Ｒ１２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒｆは−ＣＦ３又は−ＣＦ２Ｈを表す。
ｍは１〜６の整数を表す。
ｎは１〜１１の整数を表す。
【請求項９】
前記一般式１において、Ｒｆは−ＣＦ３を表す請求項８に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記塗布、乾燥及び硬化の工程の後、さらに鹸化処理を行う、請求項８又は９に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、その製造方法、該反射防止フィルムを用いた偏光板、及び該反射防止フィルム又は該偏光板をディスプレイの最表面に用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）などの画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、反射率を低減するようディスプレイの最表面に配置される。そのため、反射防止フィルムには高い反射防止性能の他に、指紋や皮脂などの油脂成分に対する高い防汚性、及び高い物理強度（耐擦傷性など）、高い透過率、耐薬品性、耐候性（耐湿熱性、耐光性）が要求される。
そのような反射防止フィルムとして、単層の光学干渉層を有するフィルムが知られている。また、更なる低反射化を達成する観点から、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層などの複数の光学干渉層を有する多層型の反射防止フィルムも開発されているのが現状である。
例えば、特許文献１〜４には、多官能硬化性化合物を含有する組成物を塗布及び硬化させて各層を形成し、屈折率の調整のため、中屈折率層、高屈折率層に、酸化チタン等の微粒子を含有させてなる多層型の反射防止フィルムが記載されている。
このような多層型の反射防止フィルムは、低反射化を達成し得る反面、各層の膜厚や屈折率が変動すると反射色が変化してしまうことがある。
そこで、各層の膜厚の変動を抑える観点から、例えば、低屈折率層の塗布に際し、レベリング剤を含有させ、膜厚ムラを抑えることが知られている（例えば、特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−２８３７３０号公報
【特許文献２】特開平１０−３００９０２号公報
【特許文献３】特開２００３−７５６０３号公報
【特許文献４】特開２００１−３１８７１号公報
【特許文献５】特開２０１２−３６３９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、中屈折率層、高屈折率層などの中間層にレベリング剤を含有させた場合、レベリング剤を含有させた層の上に積層を行うと、界面にレベリング剤が偏在することで上層との密着性（界面結合性）が悪化し、界面が剥がれやすく（傷になりやすく）なり、耐擦傷性に劣る問題が発生する。また、得られた多層型の反射防止フィルムから更に偏光板を製造する際に鹸化処理を行うと、バインダーが有する結合基の分解が起こるため、界面が剥がれやすく（傷になりやすく）なり、耐擦傷性に劣る問題がさらに顕著となってくる。このような観点から中屈折率層にレベリング性が高いレベリング剤を含有させることや保護フィルム（ラミネートフィルム）無しでの鹸化処理をすることは行われてこなかった。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点に鑑み、鹸化処理した後であっても耐擦傷性に優れ、鹸化処理において保護フィルム（ラミネートフィルム）を要することがなく、また、色味ムラのない反射防止フィルム、前記反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、中屈折率層中の有機又は無機粒子の平均１次粒子径１０ｎｍ未満とすることで前記層中に占める前記粒子の含有量を変化させること無く粒子の表面積を増やすことにより、特定の疎水的なレベリング剤（一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体）を中屈折率層表面に偏在、濃縮しやすくするとともに層表面近傍のバインダー（不飽和二重結合を３つ以上有する化合物）の結合基濃度を増加させ得るものと考えられる。それにより上層との結合性を向上させ、鹸化処理後においても良好な耐擦傷性を達成し得ることを見出した。上記知見に基づき、本発明を完成するに至った。
＜１＞
透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記中屈折率層が（Ａ）平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子、（Ｂ）不飽和二重結合を３つ以上有する化合物、及び（Ｃ）下記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体（Ｃ）が前記組成物中の全固形分に対して１．０〜２．０質量％であり、前記有機又は無機粒子（Ａ）が、前記組成物中の全固形分に対して３０〜６０質量％である、反射防止フィルム。
一般式１
【化１０１】
0005933353.tif 000002
上記一般式１において、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ１２）−を表す。Ｒ１２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒｆは−ＣＦ３又は−ＣＦ２Ｈを表す。
ｍは１〜６の整数を表す。
ｎは１〜１１の整数を表す。
＜２＞
前記一般式１において、Ｒｆは−ＣＦ３を表す＜１＞に記載の反射防止フィルム。
＜３＞
前記平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子（Ａ）がジルコニア粒子である、＜１＞又は＜２＞に記載の反射防止フィルム。
＜４＞
前記不飽和二重結合を３つ以上有する化合物（Ｂ）の分子量の数値を、官能基数で除した値である、分子量／官能基数が１００以下である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
＜５＞
前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムである、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
＜６＞
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルムである偏光板。
＜７＞
＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルム、又は＜６＞に記載の偏光板を有する画像表示装置。
＜８＞
透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有し、各層それぞれが塗布、乾燥及び硬化の工程を行うことで形成される反射防止フィルムの製造方法であって、前記中屈折率層が（Ａ）平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子、（Ｂ）不飽和二重結合を３つ以上有する化合物、（Ｃ）下記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体（Ｃ）が前記組成物中の全固形分に対して１．０〜２．０質量％であり、前記有機又は無機粒子（Ａ）が、前記組成物中の全固形分に対して３０〜６０質量％である、反射防止フィルムの製造方法。
一般式１
【化１０２】
0005933353.tif 000003
上記一般式１において、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ１２）−を表す。Ｒ１２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒｆは−ＣＦ３又は−ＣＦ２Ｈを表す。
ｍは１〜６の整数を表す。
ｎは１〜１１の整数を表す。
＜９＞
前記一般式１において、Ｒｆは−ＣＦ３を表す＜８＞に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜１０＞
前記塗布、乾燥及び硬化の工程の後、さらに鹸化処理を行う、＜８＞又は＜９＞に記載の反射防止フィルムの製造方法。
なお、本発明は上記＜１＞〜＜１０＞に関するものであるが、参考のためその他の事項（下記〔１〕〜〔７〕に記載した事項等）についても記載した。
【０００６】
〔１〕
透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記中屈折率層が（Ａ）平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子、（Ｂ）不飽和二重結合を３つ以上有する化合物、及び（Ｃ）下記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体（Ｃ）が前記組成物中の全固形分に対して０．２〜２．０質量％であり、前記有機又は無機粒子（Ａ）が、前記組成物中の全固形分に対して３０〜６０質量％である、反射防止フィルム。
一般式１
【０００７】
【化１】
0005933353.tif 000004
【０００８】
上記一般式１において、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ１２）−を表す。Ｒ１２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒｆは−ＣＦ３又は−ＣＦ２Ｈを表す。
ｍは１〜６の整数を表す。
ｎは１〜１１の整数を表す。
〔２〕
前記平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子（Ａ）が酸化ジルコニウム粒子である、〔１〕に記載の反射防止フィルム。
〔３〕
前記不飽和二重結合を３つ以上有する化合物（Ｂ）の分子量の数値を、官能基数で除した値である、分子量／官能基数が１００以下である、〔１〕又は〔２〕に記載の反射防止フィルム。
〔４〕
前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムである、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
〔５〕
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の反射防止フィルムである偏光板。
〔６〕
〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の反射防止フィルム、又は〔５〕に記載の偏光板を有する画像表示装置。
〔７〕
透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有し、各層それぞれが塗布、乾燥及び硬化の工程を行うことで形成される反射防止フィルムの製造方法であって、前記中屈折率層が（Ａ）平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子、（Ｂ）不飽和二重結合を３つ以上有する化合物、（Ｃ）下記式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体（Ｃ）が前記組成物中の全固形分に対して０．２〜２．０質量％であり、前記有機又は無機粒子（Ａ）が、前記組成物中の全固形分に対して３０〜６０質量％である、反射防止フィルムの製造方法。
一般式１
【０００９】
【化２】
0005933353.tif 000005
【００１０】
上記一般式１において、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ１２）−を表す。Ｒ１２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒｆは−ＣＦ３又は−ＣＦ２Ｈを表す。
ｍは１〜６の整数を表す。
ｎは１〜１１の整数を表す。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の反射防止フィルムは、鹸化処理した後であっても耐擦傷性に優れるため、鹸化処理において保護フィルム（ラミネートフィルム）を要することがなく、製造コストを下げることができる。また、膜厚ムラが少ないため、色味ムラの無い良好な反射防止フィルムを得ることができる。
本発明の反射防止フィルムによれば、鹸化処理した後であっても耐擦傷性に優れ、色味ムラのない偏光板及び画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の反射防止フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について説明する。ただし、本発明は以下の記載により制限されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリロイル基」、「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００１４】
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記中屈折率層が（Ａ）平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子、（Ｂ）不飽和二重結合を３つ以上有する化合物、及び（Ｃ）下記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体（Ｃ）が前記組成物中の全固形分に対して０．２〜２．０質量％であり、前記有機又は無機粒子（Ａ）が、前記組成物中の全固形分に対して３０〜６０質量％である。
一般式１
【００１５】
【化３】
0005933353.tif 000006
【００１６】
上記一般式１において、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。
Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ１２）−を表す。Ｒ１２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒｆは−ＣＦ３又は−ＣＦ２Ｈを表す。
ｍは１〜６の整数を表す。
ｎは１〜１１の整数を表す。
【００１７】
＜（Ａ）平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機ナノ粒子＞
本発明において、前記中屈折率層を形成する組成物（以下、単に「中屈折率層形成用組成物」ともいう）が平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機粒子（Ａ）を含有し、前記有機又は無機粒子（Ａ）が、前記組成物中の全固形分に対して３０〜６０質量％である。
【００１８】
（無機粒子）
上記無機粒子としては、金属（例えば、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ）の酸化物が好ましく、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ２）又は酸化チタン粒子（ＴｉＯ２）であることがより好ましく、酸化チタン粒子を平均１次粒子径１０ｎｍ未満にすると光活性が強まり、周囲の有機物を分解し易くなり得る観点と後述の屈折率の観点とから、酸化ジルコニウム粒子（ジルコニア粒子）が最も好ましい。
【００１９】
（有機粒子）
有機粒子としては、例えば、トリアジン、ポリスチレン、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物等の球状ポリマーが好ましく、トリアジンの球状ポリマーがより好ましい。
【００２０】
前記中屈折率層中の有機又は無機粒子の平均１次粒子径は、１〜８ｎｍであることが好ましく、２〜７ｎｍであることがより好ましい。この範囲内で、前記層中に占める前記粒子の含有量を変化させること無く、粒子の表面積を増やすことにより、層表面近傍のバインダー（不飽和二重結合を３つ以上有する化合物）の結合基濃度を増加させ上層との密着性が良好となり、好ましい。
本発明において、平均１次粒子径は、無作為に選択された粒子を電子顕微鏡で観察することで算出することができる。本発明では、中屈折率層に含有される任意の粒子を４００個選択し、これらの粒子の粒径分布（粒子径に対する粒子数分布）を求め、その粒子数がピークとなる粒径を平均１次粒子径と定義する。
【００２１】
本発明における有機又は無機粒子は、屈折率が１．７０〜２．８０であることが好ましく、１．７５〜２．８０であることがさらに好ましく、１．８０〜２．８０であることが最も好ましい。前記屈折率は酸化ジルコニウム粒子を用いることにより好適に達成し得る。また、中屈折率層の屈折率は、前記粒子の量を変化させることなどで所定の屈折率に調整することができる。
前記有機又は無機粒子（Ａ）の含有量は、前記組成物中の固形分に対し、３０〜６０質量％であり、３５〜５５質量％が好ましく、４０〜５０質量％が更に好ましい。３０質量％よりも少ないと粒子数が少なくなりレベリング剤を層表面に濃縮できなくなり、耐擦傷性が悪化してしまう。６０質量％よりも多いと層中のバインダー濃度が下がり、隣接する層との結合性が下がり、耐擦傷性が悪化してしまう。
【００２２】
有機又は無機粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ２／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ２／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ２／ｇであることが最も好ましい。
【００２３】
有機又は無機粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するシランカップリング剤による処理が特に有効である。無機微粒子の化学的表面処理剤、溶媒、触媒、および分散物の安定剤は特開２００６−１７８７０号公報の［００５８］〜［００８３］に記載されている。
【００２４】
＜（Ｂ）不飽和二重結合を３つ以上有する化合物＞
本発明において、前記中屈折率層を形成する組成物は、不飽和二重結合を３つ以上有する化合物を含有する。
不飽和二重結合を３つ以上有する化合物はバインダーとして機能することができ、硬化性の観点、及び塗膜の強度や耐擦傷性を向上させる観点から、不飽和二重結合は４つ以上であることが好ましい。
【００２５】
不飽和二重結合を３つ以上有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和二重結合を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【００２６】
重合性の不飽和二重結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【００２７】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００２８】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、同ＰＥＴ−３０、新中村化学工業（株）ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ、同Ａ−ＴＭＰＴ等を挙げることができる。
ウレタン（メタ）アクリレート類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）製Ｕ−４ＨＡ、ダイセル・サイテック（株）製ＥＢ５１２９等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【００２９】
本発明において、硬化性の観点、及び塗膜の強度や耐擦傷性を向上させる観点から、前記不飽和二重結合を３つ以上有する化合物（Ｂ）の分子量の数値を、官能基数で除した値である、分子量／官能基数が１００以下であることが好ましく、９０以下であることがより好ましい。化合物（Ｂ）の分子量／官能基数の下限値としては特に制限はないが、７０以上であることが好ましい。
【００３０】
本発明に係る中屈折率層形成用組成物中の不飽和二重結合を３つ以上有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、中屈折率層形成用組成物中の全固形分に対して、４０〜７０質量％が好ましく、５０〜６０質量％がより好ましい。
【００３１】
＜（Ｃ）一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体＞
本発明において、前記中屈折率層を形成する組成物が前記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体（以下、単に「フッ素系ポリマー」ともいう）を含有し、前記重合体（Ｃ）が前記組成物中の全固形分に対して０．２〜２．０質量％である。
前記一般式１で表されるモノマー（フルオロ脂肪族基含有モノマー）に相当する繰り返し単位を含有する重合体（Ｃ）は、フッ素系レベリング剤として膜厚ムラ防止作用を有する。
【００３２】
前記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体としては、下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）の重合体、又は下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）及び下記（ｉｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体等が挙げられる。このような単量体としては、ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２，Ｐａｇｅ  １〜４８３記載のものを用いることが出来る。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【００３３】
（ｉ）下記一般式１で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
【００３４】
一般式１
【化４】
0005933353.tif 000007
【００３５】
上記一般式１において、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基が好ましい。Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ１２）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ１２）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ１２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。Ｒｆは−ＣＦ３又は−ＣＦ２Ｈを表す。
一般式１中のｍは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい。
一般式１中のｎは１〜１１の整数を表し、１〜９がより好ましく、１〜６が更に好ましい。Ｒｆは−ＣＦ２Ｈが好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式１で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される重合単位が２種類以上構成成分として含まれていても良い。
【００３６】
（ｉｉ）上記（ｉ）と共重合可能な下記一般式２で示されるモノマー
一般式２
【００３７】
【化５】
0005933353.tif 000008
【００３８】
上記一般式２において、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ１５）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ１５）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ１５は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。
Ｒ１４は、炭素数１〜６０の直鎖、分岐状、あるいは環状のアルキル基、又は芳香族基（例えば、フェニル基又はナフチル基）を表す。該アルキル基はポリ（アルキレンオキシ）基を含んでも良い。更に、炭素数１〜２０の直鎖、分岐状あるいは環状のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜１０の直鎖、分岐状のアルキル基が極めて好ましい。
【００３９】
好ましいフッ素系ポリマーの製造に用いられる上記一般式１で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの単量体全量に基づいて、１０質量％以上であり、好ましくは２５質量％以上であり、より好ましくは４０〜９０質量％の範囲である。
【００４０】
以下、好ましいフッ素系ポリマーの具体的な構造例を示すがこの限りではない。
なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【００４１】
【化６】
0005933353.tif 000009
【００４２】
【化７】
0005933353.tif 000010
【００４３】
【化８】
0005933353.tif 000011
【００４４】
【化９】
0005933353.tif 000012
【００４５】
【化１０】
0005933353.tif 000013
【００４６】
【化１１】
0005933353.tif 000014
【００４７】
前記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体の好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜８０，０００がより好ましい。
更に、前記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体の好ましい含有量は、前記組成物中の全固形分に対して０．５〜１．５質量％であることが好ましい。前記一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体の含有量が少なすぎると膜厚ムラ低減効果が不十分であり、また多すぎると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能（例えば反射率、耐擦傷性）に悪影響を及ぼすことがある。
【００４８】
（重合開始剤）
本発明において、前記中屈折率層を形成する組成物が重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤としては、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
【００４９】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製のカヤキュア（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，１２７，５００，９０７，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など）、サートマー社製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等が挙げられる。
【００５０】
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（Ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，１２７，９０７）等が挙げられる。
【００５１】
光重合開始剤は、不飽和二重結合を３つ以上有する化合物１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）などが挙げられる。
光重合反応は、中屈折率層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
【００５２】
（溶媒）
溶媒としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。具体的には、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等が挙げられる。中でもトルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが好ましく、特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。
上記溶媒の使用量は、中屈折率層に関して、塗布組成物の固形分濃度が１〜２０質量％となるように使用するのが好ましく、２〜１５質量％となるように使用するのが更に好ましい。
【００５３】
以下、本発明の反射防止フィルムについて説明する。
（反射防止フィルムの層構成）
本発明の反射防止フィルムは、耐久性、光学特性、コストや生産性等の観点から、ハードコート層を有する透明支持体上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有する。例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
本発明の反射防止フィルムの層構成について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の反射防止フィルムを模式的に示す断面図である。
図１に示す反射防止フィルムは、優れた反射防止性能を有する３層薄膜干渉型反射防止フィルムであり、透明支持体１と、該透明支持体１の一方の面に位置する低屈折率層５と、低屈折率層５と該透明支持体１の間に、低屈折率層より高屈折率の高屈折率層４とを薄膜層として有する。さらに、高屈折率層４と透明支持体１との間には薄膜層（以下、単に「薄膜層」という場合にはこれらの低屈折率層、高屈折率層及び中屈折率層を指す）としての中屈折率層３が設けられている。また、中屈折率層３及び透明支持体１の間にはハードコート層２が設けられている。
そして、本発明において、透明支持体１、中屈折率層３、高屈折率層４および低屈折率層５は、以下の関係を満足する屈折率を有することが好ましい。
【００５４】
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。
【００５５】
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層がこの順に透明支持体側から積層されており、
該中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．５７〜１．６２であり、該中屈折率層の厚さが５５.０ｎｍ〜７５.０ｎｍであり、
該高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、該高屈折率層の厚さが１２５.０ｎｍ〜１４５.０ｎｍであり、
該低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、該低屈折率層の厚さが９０.０ｎｍ〜１００.０ｎｍである
ことが好ましい。
【００５６】
本発明の反射防止フィルムは、上記構成の中でも、以下に示す構成であることが特に好ましい。
構成：
中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．５９〜１．６０であり、中屈折率層の厚さが６０.０ｎｍ〜７０.０ｎｍであり、
高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、高屈折率層の厚さが１３０.０ｎｍ〜１４０.０ｎｍであり、
低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、低屈折率層の厚さが９０.０ｎｍ〜１００.０ｎｍを有する低屈折率層である反射防止フィルム。
【００５７】
各層の屈折率と厚みを上記範囲内とすることで視角を振った際の反射色の変動をより小さくできる。
【００５８】
各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を３〜５μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定することができる。本明細書では、「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ  部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用することができる。
各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）や、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、ＴＥＭによる膜厚測定が望ましい。その場合は、１０箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。
【００５９】
次に、本発明の反射防止フィルムを構成する透明支持体及び各層について詳細に説明する。
［透明支持体］
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、透明基材フィルムが好ましい。透明基材フィルムとしては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちセルロースアシレートフィルム、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にセルロースアシレートフィルムが好ましい。
透明支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、３０μｍ〜９０μｍであることがより好ましい。
透明支持体の幅は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることがさらに好ましい。透明支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常１００ｍ〜５０００ｍ、好ましくは５００ｍ〜３０００ｍのものである。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることがさらに好ましい。
透明支持体については、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１６３］〜［０１６９］に記載されており、本発明においても同様である。
【００６０】
［ハードコート層］
本発明の反射防止フィルムにおけるハードコート層は、フィルムの物理的強度を付与することができる。これにより鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くすることができる。
本発明において、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
【００６１】
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６０である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。
【００６２】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。さらに、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【００６３】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む重合性組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和二重結合等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。具体的には下記不飽和二重結合を有する多官能モノマーで挙げた化合物を好ましく用いることができる。
【００６４】
（不飽和二重結合を有する化合物）
本発明に係るハードコート層用組成物には、不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。
不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。該重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。
【００６５】
不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【００６６】
重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例、好ましい例としては、本発明における中屈折率層を形成する組成物が含有する不飽和二重結合を３つ以上有する化合物（Ｂ）について前述した具体例、好ましい例と同様のものが挙げられる。
【００６７】
本発明に係るハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、４０〜９８質量％が好ましく、６０〜９５質量％がより好ましい。
【００６８】
［光重合開始剤］
本発明に係るハードコート層用組成物は、光重合開始剤を含有することができる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【００６９】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【００７０】
本発明に係るハードコート層用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【００７１】
（溶剤）
ハードコート層形成用組成物は種々の有機溶剤を含有してもよい。
本発明においては、親水性溶媒を含んでいることが好ましい。親水性溶媒としては、アルコール系溶媒、カーボネート系溶媒、エステル系溶媒などが挙げられ、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−エチル−１−ヘキサノール、２−メチル−１ヘキサノール、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、ジアセトンアルコール、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルｎ−プロピルカーボネート、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、アセトン、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７２】
また、上記以外の溶剤を用いてもよい。例えば、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７３】
本発明に係るハードコート層用組成物中の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、最も好ましくは４０〜７０質量％である。
【００７４】
（界面活性剤）
本発明に係るハードコート層用組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制することができる。
【００７５】
界面活性剤としては、具体的にはフッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。
【００７６】
界面活性剤を添加すると、塗布された液膜の表面に界面活性剤が速やかに移動して偏在化し、膜乾燥後も界面活性剤がそのまま表面に偏在することになるので、界面活性剤を添加したハードコート層の表面エネルギーは、界面活性剤によって低下する。ハードコート層の膜厚不均一性やハジキ、ムラを防止するという観点からは、膜の表面エネルギーが低いことが好ましい。
【００７７】
好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業（株）製の“Ｘ−２２−１７４ＤＸ”、“Ｘ−２２−２４２６”、“Ｘ２２−１６４Ｃ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、（以上商品名）；チッソ（株）製の、“ＦＭ−７７２５”、“ＦＭ−５５２１”、“ＦＭ−６６２１”、（以上商品名）；Ｇｅｌｅｓｔ製の“ＤＭＳ−Ｕ２２”、“ＲＭＳ−０３３”（以上商品名）；東レ・ダウコーニング（株）製の“ＳＨ２００”、“ＤＣ１１ＰＡ”、 “ＳＴ８０ＰＡ”、“Ｌ７６０４”、“ＦＺ−２１０５”、“Ｌ−７６０４”、“Ｙ−７００６”、“ＳＳ−２８０１”、（以上商品名）；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“ＴＳＦ４００”（商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
前記界面活性剤は、ハードコート層用塗布組成物の全固形分中に０．０１〜０．５質量％含有されることが好ましく、０．０１〜０．３質量％がより好ましい。
【００７８】
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。
【００７９】
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマーまたは無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。屈折率を制御するための無機微粒子としてはシリカ微粒子を用いることが支持体とハードコート層の干渉による色味ムラを抑制するという観点から好ましい。
【００８０】
（導電性化合物）
本発明におけるハードコート層は、帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。本発明に用いられる導電性化合物は、特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に基材側領域に偏在させる観点から、４級アンモニウム塩基を有する化合物（カチオン系化合物）が好適である。
【００８１】
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができ、特開２０１０−０８４４２５、特許第４６００６０５号公報などに記載の化合物を好ましく用いることができる。
【００８２】
［中屈折率層］
本発明における中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．５７〜１．６２であることが好ましく、１．５８〜１．６０であることがさらに好ましい。
中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
【００８３】
［高屈折率層］
本発明における高屈折率層の屈折率は、１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。高屈折率層の形成方法は中屈折率層の形成方法として前述したものと同様である。
【００８４】
上記高屈折率層は、無機微粒子、３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂（以下、「バインダー」と称する場合もある）、溶媒および重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性樹脂や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱および／または電離放射線による重合反応により硬化性樹脂を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる高屈折率層が形成できる。
【００８５】
（無機微粒子）
上記無機微粒子としては、金属（例Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ）の酸化物が好ましく、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムの微粒子が最も好ましい。ただし、導電性の観点からは、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｓｎのうちの少なくとも１種類の金属の酸化物を主成分とする無機微粒子を用いることが好ましい。無機微粒子の量を変化させることで所定の屈折率に調整することができる。層中の無機微粒子の平均粒径は、酸化ジルコニウムを主成分として用いた場合、１〜１２０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１〜６０ｎｍ、２〜４０ｎｍがさらに好ましい。この範囲内で、ヘイズを抑え、分散安定性、表面の適度の凹凸による上層との密着性が良好となり、好ましい。
【００８６】
本発明における酸化ジルコニウムを主成分とする無機微粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０であることが好ましく、２．１０〜２．８０であることがさらに好ましく、２．２０〜２．８０であることが最も好ましい。
無機微粒子の添加量は、高屈折率層全体の固形分に対し、４０〜９０質量％であり、５０〜８５質量％が好ましく、６０〜８０質量％が更に好ましい。
【００８７】
無機微粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
無機微粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ２／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ２／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ２／ｇであることが最も好ましい。
【００８８】
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するシランカップリング剤による処理が特に有効である。無機微粒子の化学的表面処理剤、溶媒、触媒、および分散物の安定剤は特開２００６−１７８７０号公報の［００５８］〜［００８３］に記載されている。
【００８９】
（硬化性樹脂）
硬化性樹脂としては、重合性化合物によって形成される硬化性樹脂であることが好ましく、重合性化合物としては電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが好ましく用いられる。これらの化合物中の官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００９０】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類等を挙げることができる。
【００９１】
さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【００９２】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
硬化性樹脂の使用量は、上述の各層の屈折率を満たす範囲で調整することができる。
【００９３】
（重合開始剤）
重合開始剤としては、中屈折率層塗布組成物についての重合開始剤の具体例、好ましい例として前述したものと同様のものが挙げられる。
【００９４】
光重合開始剤は、硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）などが挙げられる。
光重合反応は、高屈折率層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
【００９５】
高屈折率層には、前記の成分（無機微粒子、硬化性樹脂、重合開始剤、光増感剤など）以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子、などを添加することもできる。
【００９６】
（溶媒）
上記溶媒としては、中屈折率層塗布組成物についての溶媒の具体例、好ましい例として前述したものと同様のものが挙げられる。
上記溶媒の使用量は、高屈折率層塗布組成物の固形分濃度が２〜３０質量％となるように使用するのが好ましく、３〜２０質量％となるように使用するのが更に好ましい。
【００９７】
本発明に用いる高屈折率層および中屈折率層は、分散媒体中に無機微粒子を分散した分散液に、さらにマトリックス形成に必要なバインダー前駆体である硬化性樹脂（例えば、前述の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）、光重合開始剤等を加えて高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、硬化性樹脂の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。
【００９８】
さらに、高屈折率層および中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時または塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
このようにして作製した高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機微粒子を含有する高屈折率層および中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
【００９９】
高屈折率層及び中屈折率層の形成において、硬化性樹脂の架橋反応、又は、重合反応は、酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層を酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、高屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性、更には、高屈折率層及び中屈折率層と高屈折率層及び中屈折率層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が６体積％以下の雰囲気で硬化性樹脂の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。
【０１００】
［低屈折率層］
本発明に好適に用いられる低屈折率層は、屈折率が１．３３〜１．３８であることが望ましく、更に望ましくは１．３４〜１．３７が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、後述する低屈折率層形成溶塗布用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。低屈折率層中には無機微粒子が含有されるのが好ましく、無機微粒子のうちの少なくとも１種は中空粒子であることが好ましく、シリカを主成分とする中空粒子（以下、中空シリカ粒子）が特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、９０.０〜１００.０ｎｍであることが好ましく、９５.０〜１００.０ｎｍであることがさらに好ましい。
低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
【０１０１】
（無機微粒子）
低屈折率層中に用いることのできる無機微粒子としては、中空粒子であることが好ましい。
中空粒子は屈折率が１．１７〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１７〜１．３５、最も好ましくは１．１７〜１．３３である。中空粒子としては、中空シリカ粒子が好ましく、以下、中空シリカ粒子を例にとって記載する。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表わすものではない。この時、粒子内の空孔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、下記式（７）で表される空隙率ｘは、好ましくは１０〜６０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
式（７）  ：  ｘ＝（４πａ３／３）／（４πｂ３／３）×１００
中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から上記の範囲の屈折率の粒子が好ましい。
なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定をおこなうことができる。
中空シリカ粒子の製造方法は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報や特開２００２−７９６１６号公報に記載されている。
中空シリカ粒子としては、市販品を用いることもできる。
【０１０２】
中空シリカ粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。この範囲内で、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が良好で、低屈折率層表面に微細な凹凸ができることを防ぎ、黒の締まりなどの外観や積分反射率を良好に維持することができる。
中空シリカ粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１５０％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。
即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、中空シリカ粒子の粒径は３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
粒径を上記の範囲とすることで、空孔部の割合を充分に保ち、屈折率を充分に低下し、低屈折率層表面に微細な凹凸ができることを防ぎ、黒の締まりといった外観、積分反射率を良好に維持できる。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、中空シリカ粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【０１０３】
本発明においては、中空シリカ粒子と併用して空孔のないシリカ粒子を用いることができる。空孔のないシリカの好ましい粒子サイズは、５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、更に好ましくは１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、最も好ましくは１５ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満であるシリカ微粒子（「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）の少なくとも１種を上記の粒径のシリカ微粒子（「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
【０１０４】
中空粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するシランカップリング剤による処理が特に有効である。中空粒子の化学的表面処理剤、溶媒、触媒、および分散物の安定剤は特開２００６−１７８７０号公報の［００５８］〜［００８３］に記載されている。
【０１０５】
上記低屈折率層が、膜形成性の溶質と１種類以上の溶媒とを含有する塗布組成物を塗布し、該溶媒を乾燥した後、加熱、電離放射線照射又は両手段の併用による硬化により形成されたものであるのが好ましい。
上記溶質は、熱または電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂を含有する組成物、あるいは有機シリル化合物の加水分解物およびその部分縮合物のいずれかであるのが好ましい。
含フッ素硬化性樹脂を含有する組成物を用いることがより好ましく、有機シリル化合物の加水分解物およびその部分縮合物を補助的に用いる態様がより好ましい。補助的に用いる有機シリル化合物の加水分解物およびその部分縮合物の添加量は、含フッ素硬化性樹脂の１０〜４０質量％である。
【０１０６】
（含フッ素硬化性樹脂）
上記含フッ素硬化性樹脂（以下、「含フッ素ポリマー」ともいう）としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。特に、本発明の低屈折率層は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分とする共重合体の硬化皮膜によって形成されるのが好ましい。低屈折率化と皮膜硬度の両立の観点から多官能（メタ）アクリレート等の硬化剤を併用することも好ましい。該含フッ素ポリマーと該多官能（メタ）アクリレートの混合比には特に制限はないが、乾燥後の被膜で両者が相分離を起こさない混合比にすることが望ましい。また、当然、どちらか一方だけを用いることもできる。多官能（メタ）アクリレートとしては、高屈折率層に記した光重合性多官能モノマーが具体例として挙げられる。
【０１０７】
以下に本発明の低屈折率層に用いられる好ましい含フッ素硬化性樹脂の例を説明する。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＭ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。含フッ素ビニルモノマーの組成比は上記の範囲とすることで、屈折率を充分に低くするとともに、皮膜強度も維持することができる。
【０１０８】
上記低屈折率層に用いられる含フッ素硬化性樹脂は架橋反応性基を有することが好ましい。架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシ基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしての共重合体は、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分として有するのが好ましい。含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位の種類によっても異なるが、一般に（メタ）アクリロイル基含有繰返し単位は５〜９０質量％を占めることが好ましく、３０〜７０質量％を占めることがより好ましく、４０〜６０質量％を占めることが特に好ましい。これらの（メタ）アクリロイル基含有繰返し単位の組成比を高めれば皮膜強度は向上するが屈折率も高くなり、好ましい。
【０１０９】
本発明に有用な共重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、透明支持体への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５ｍｏｌ％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０ｍｏｌ％の範囲であることがより好ましく、０〜３０ｍｏｌ％の範囲であることが特に好ましい。
【０１１０】
併用可能なビニルモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。
【０１１１】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
【０１１２】
本発明に用いられる含フッ素硬化性樹脂の好ましい形態として下記一般式ＩＩＩのものが挙げられる。
【０１１３】
【化１２】
0005933353.tif 000015
【０１１４】
一般式ＩＩＩ中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ２）２−ＮＨ−＊＊，＊−（ＣＨ２）４−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ２）６−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−＊＊，＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊，＊−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−＊＊，＊−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊（＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表わす。
【０１１５】
一般式ＩＩＩ中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【０１１６】
一般式ＩＩＩ中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、透明支持体への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。
【０１１７】
好ましいビニルモノマーの例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【０１１８】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。
【０１１９】
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式ＩＶが挙げられる。
【０１２０】
【化１３】
0005933353.tif 000016
【０１２１】
上記一般式ＩＶにおいてＸ、ｘ、ｙは一般式ＩＩＩにおけるＸ、ｘ、ｙと同義であり、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表し、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式ＩＩＩにおけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表し、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。但し、ｘ＋ｙ＋ｚ１＋ｚ２＝１００である。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。
【０１２２】
一般式ＩＩＩ又はＩＶで表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。
【０１２３】
以下に本発明で有用な共重合体の好ましい例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２４】
【化１４】
0005933353.tif 000017
【０１２５】
【化１５】
0005933353.tif 000018
【０１２６】
【化１６】
0005933353.tif 000019
【０１２７】
【化１７】
0005933353.tif 000020
【０１２８】
本発明に用いられる含フッ素硬化性樹脂としての共重合体の合成は、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって（メタ）アクリロイル基を導入することにより行うことができる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行うことができる。
【０１２９】
重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版（日刊工業新聞社刊、１９７１）や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和４７年刊、１２４〜１５４頁に記載されている。
【０１３０】
上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールのような種々の有機溶剤の単独あるいは２種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒としても良い。
【０１３１】
重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり０℃以下から１００℃以上まで可能であるが、５０〜１００℃の範囲で重合を行うことが好ましい。
【０１３２】
反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、０．０９８〜９．８ＭＰａ（１〜１００ｋｇ／ｃｍ２）、特に、０．０９８〜２．９４ＭＰａ（１〜３０ｋｇ／ｃｍ２）程度が望ましい。反応時間は、５〜３０時間程度である。
【０１３３】
得られたポリマーの再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
含フッ素硬化性樹脂としては、市販品を用いることもできる。
このようにして得られる含フッ素硬化性樹脂の使用量は、低屈折率層塗布組成物の全固形分中１０〜９８質量％とするのが好ましく、３０〜９５質量％とするのが更に好ましい。特に無機微粒子を併用する場合は、３０〜８０質量％とするのが好ましく、４０〜７５質量％とするのが更に好ましい。
【０１３４】
（低屈折率層形成用塗布組成物）
低屈折率層形成用塗布組成物は、通常、液の形態をとり、好ましくは前記無機微粒子及び含フッ素硬化性樹脂を含有し、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤を適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には０．０１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１〜２０質量％程度である。
【０１３５】
ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、あるいは光の作用によりラジカルを発生するもののいずれの形態も可能である。
【０１３６】
熱の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロペルオキシド、ブチルヒドロペルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【０１３７】
光の作用によりラジカル重合を開始する化合物を使用する場合は、電離放射線の照射によって皮膜の硬化が行われる。
このような光ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。これらの光ラジカル重合開始剤と併用して増感色素も好ましく用いることができる。
【０１３８】
熱または光の作用によってラジカル重合を開始する化合物の添加量としては、炭素−炭素二重結合の重合を開始できる量であれば良く、低屈折率層形成組成物中の全固形分に対して０．１〜１５質量％が好ましく、０．５〜１０質量％であることがより好ましく、２〜５質量％であることが特に好ましい。
【０１３９】
（溶媒）
低屈折率層用塗布液組成物に含まれる溶媒としては、含フッ素硬化性樹脂が沈殿を生じることなく、均一に溶解または分散されるものであれば特に制限はなく２種類以上の溶剤を併用することもできる。好ましい例としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、水などを挙げることができる。
【０１４０】
（低屈折率層形成用塗布組成物に好適に含まれるその他の化合物）
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０〜５質量％の場合である。
【０１４１】
低屈折率層は、無機フィラー、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。特に、無機微粒子、シランカップリング剤、滑り剤を含有することが好ましい。
【０１４２】
シランカップリング剤としては、好ましいのは、水酸基、メルカプト基、カルボキシ基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するシランカップリング剤であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイル）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）を含有するシランカップリング剤である。
【０１４３】
特に好ましいのは、架橋又は重合性官能基として（メタ）アクリロイル基を有する化合物であり、例えば、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１４４】
前記滑り剤としては、ジメチルシリコーンなどのシリコーン化合物等、及びポリシロキサンセグメントが導入された含フッ素化合物が好ましい。
【０１４５】
（低屈折率層の形成）
低屈折率層は、中空粒子、含フッ素硬化性樹脂、有機シリル化合物その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、または塗布・乾燥後に電離放射線照射（例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。）や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が６体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。
【０１４６】
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に少なくとも１層の低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層が、前記重合性組成物から形成される。
【０１４７】
［反射防止フィルムのその他の層］
反射防止フィルムには、以上に述べた以外の層を設けてもよい。例えば、接着層、シールド層、滑り層や光拡散性層、防眩性層を設けてもよい。シールド層は電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
【０１４８】
［反射防止フィルムの製造方法等］
本発明は反射防止フィルムの製造方法に関するものでもある。
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、透明支持体上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有し、各層それぞれが塗布、乾燥及び硬化の工程を行うことで形成される反射防止フィルムの製造方法であって、前記中屈折率層が（Ａ）平均１次粒子径１０ｎｍ未満の有機又は無機ナノ粒子、（Ｂ）不飽和二重結合を３つ以上有する化合物、（Ｃ）前記式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を有する重合体を含有する組成物から形成され、前記重合体（Ｃ）が前記組成物中の全固形分に対して０．２〜２．０質量％であり、前記有機又は無機粒子（Ａ）が、前記組成物中の全固形分に対して３０〜６０質量％である。
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法により、各層の塗布液を透明支持体上に塗布することにより形成することができる。
これらの塗布方式のうち塗布膜の均一性を高くするためには、グラビアコート法またはダイコート法を用いることが好ましい。
グラビアコート法の中でもマイクログラビア法がより好ましい。ダイコート法は全計量方式のため膜厚制御が比較的容易であり、さらに塗布部における溶剤の蒸散が少ないため、特に好ましい。多層を連続的に形成する場合には、タンデム方式を採用することができる。
ダイコート法では２層以上を同時に塗布することが可能である。ダイコート法による同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載があり、これらを用いることができる。
ダイコート法では、エクストルージョン型またはスライド型のダイを単独であるいは組み合わせて用いることができる。これらの中ではエクストルージョン型のダイ（スロットダイとも言う）が好ましい。ダイの設計については、特開２００３−２１１０５２号公報、及び特開２００６−１２２８８９号公報の段落番号０３４４〜０４２７に詳細に記載されているオーバーバイト方式を用いることが好ましい。
【０１４９】
（硬化処理）
上記のようにして支持体上に各層を形成するための組成物を塗布した後、熱及び光照射の少なくともいずれかの手段による硬化処理を行う。このように塗布と硬化処理とを各層について繰り返して、支持体上にハードコート層や中屈折率層等を積層していく。また、同時重層塗布後に重層塗布した全層を同時に硬化させても良い。
透明支持体の着色や分解、変形を抑えるために、加熱硬化処理する場合は１５０℃以下、光照射する場合には１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。更には、加熱硬化処理後に光硬化処理したり、光硬化処理の後半で加熱処理することも好ましい。特に低屈折率層においては、加熱硬化処理後に光硬化処理をするか、光硬化処理の後半で加熱処理することが好ましい。
また、上層と下層との間の層間密着性を上げるために、反射防止能に影響が出ない範囲で下層をハーフキュアし、上層塗布後にフルキュアすることが好ましい。
ハーフキュア条件としては、例えば、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１０〜１５０ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射することで達成することができる。
ハーフキュア後のフルキュア条件としては、例えば、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２００〜８００ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射することで達成することができる。
【０１５０】
［偏光板用保護フィルム］
本発明の反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１５１】
反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、透明支持体としては、セルロースアシレートフィルム（例えば、トリアセチルセルロースフィルム）を用いることが特に好ましい。
【０１５２】
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、（１）予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の反射防止フィルムを構成する各層を塗設する手法、（２）透明支持体の一方の面に反射防止層を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理する手法、（３）透明支持体の一方の面に反射防止層の一部を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理した後に残りの層を塗設する手法、の３手法があげられるが、（１）は反射防止層を塗設するべき面まで親水化され、透明支持体と反射防止層との密着性の確保が困難となるため、（２）の手法が特に好ましい。
【０１５３】
［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が前記本発明の反射防止フィルムである。
【０１５４】
反射防止フィルムの透明支持体が、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
【０１５５】
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
【０１５６】
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記反射防止フィルムを用いて形成されており、該偏光板の反射防止フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
【０１５７】
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
【０１５８】
また、本発明の画像表示装置は、前記本発明の反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする。
【実施例】
【０１５９】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによっていささかも限定して解釈されるものではない。
【０１６０】
〔反射防止フィルムの作製〕
下記に示す通りに、各層形成用の塗布液を調製し、各層を形成して、反射防止フィルムＮｏ．１〜２０を作製した。
【０１６１】
（（ａ）４級アンモニウム塩基を有する化合物の合成）
イオン伝導性化合物を、特許第４６００６０５号の合成例１と同様に実施し、帯電防止性共重合体（Ａ−１）と同じＡＮ−１（３０質量％エタノール溶液）を合成した。
（ハードコート層用塗布液の調製）
下記表１に記載のハードコート層用塗布液ＨＣ−１の組成となるように各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して帯電防止性ハードコート層塗布液ＨＣ−１（固形分濃度５０質量％）とした。
【０１６２】
【表１】
0005933353.tif 000021
【０１６３】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
ＡＮ−１：前記４級アンモニウム塩基を有する化合物ＡＮ−１
Ｉｒｇ．１８４：光重合開始剤、イルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製）
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）ＮＫエステル）
ＦＰ１：下記式で示されるフッ素含有レベリング剤
【０１６４】
【化１８】
0005933353.tif 000022
【０１６５】
上記構造式中、６０：４０は質量比を表す。
（中屈折率層用塗布液Ａの調製）
ＺｒＯ２微粒子メチルエチルケトン分散液（ナノユース  ＯＺ−Ｓ３０Ｋ［商品名、固形分濃度：３０質量％、酸化ジルコニウム微粒子の平均１次粒子径：７ｎｍ、日産化学工業（株）社製］）６．６７質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製  ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ）２．８６質量部、レベリング剤（下記式Ａで表されるフッ素含有レベリング剤ＭＦ、固形分濃度３０質量％  メチルエチルケトン溶媒）０．１７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０９質量部、メチルエチルケトン６１.７２質量部、メチルイソブチルケトン９．５０質量部及びシクロヘキサノン１９.００質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ａを調製した。
式Ａ
【０１６６】
【化１９】
0005933353.tif 000023
【０１６７】
上記式Ａ中、４０：６０は質量比を表す。
（中屈折率層用塗布液Ｂの調製）
ＺｒＯ２微粒子メチルエチルケトン分散液ＳＺＲ−Ｋ［商品名、固形分濃度：３０質量％、酸化ジルコニウム微粒子の平均１次粒子径：４ｎｍ、溶剤組成：メチルエチルケトン／メタノール＝９／１（質量比）、堺化学工業（株）製］７．５０質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製  ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ）２．６２質量部、レベリング剤（前記式Ａで表されるフッ素含有レベリング剤ＭＦ、固形分濃度３０質量％  メチルエチルケトン溶媒）０．１７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０８質量部、メチルエチルケトン６１.１３質量部、メチルイソブチルケトン９．５０質量部及びシクロヘキサノン１９.００質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
【０１６８】
（中屈折率層用塗布液Ｃの調製）
トリアジン系ポリマー粒子［固形分濃度：１５質量％、トリアジン系ポリマー粒子の平均１次粒子径：７ｎｍ、溶剤組成：シクロヘキサノン、日産化学工業（株）製］５．８３質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製  ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ）１．５５質量部、レベリング剤（前記式Ａで表されるフッ素含有レベリング剤ＭＦ、固形分濃度３０質量％  メチルエチルケトン溶媒）０．０８質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、メチルエチルケトン６８．１９質量部、メチルイソブチルケトン９．７５質量部及びシクロヘキサノン１４．５４質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ｃを調製した。
【０１６９】
（中屈折率層用塗布液Ｄの調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤オプスターＫＺ６６６６［商品名、固形分濃度：５０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均１次粒子径：２０ｎｍ、溶剤組成：メチルエチルケトン／２−ブタノール／キシレン＝３５／５／２．５（質量比）、ＪＳＲ（株）製］４．５０質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製  ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ）２．６２質量部、レベリング剤（前記式Ａで表されるフッ素含有レベリング剤ＭＦ、固形分濃度３０質量％  メチルエチルケトン溶媒）０．１７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０８質量部、メチルエチルケトン６４．１３質量部、メチルイソブチルケトン９．５０質量部及びシクロヘキサノン１９．００質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ｄを調製した。
【０１７０】
（中屈折率層用塗布液Ｅの調製）
ＴＹＴ８０［商品名、固形分濃度：２５質量％、酸化チタン微粒子含量：６０質量％（対固形分）、酸化チタン微粒子の平均１次粒子径：３０ｎｍ、溶剤組成：プロピレングリコールモノメチルエーテル／メチルイソブチルケトン／シクロヘキサノン＝１０/４５/１５（質量比）、東洋インキ製造（株）製］１０.００質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製  ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ）２．３８質量部、レベリング剤（前記式Ａで表されるフッ素含有レベリング剤ＭＦ、固形分濃度３０質量％  メチルエチルケトン溶媒）０．１７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０８質量部、メチルエチルケトン５８.８８質量部、メチルイソブチルケトン９．５０質量部及びシクロヘキサノン１９．００質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ｅを調製した。
【０１７１】
（中屈折率層用塗布液Ｆの調製）
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（Ａ−ＴＭＭＴ）を１、４−ブタンジオールジアクリレート［商品名Ｖ＃１９５、大阪有機化学工業（株）製］に変更した以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｆを調製した。
（中屈折率層用塗布液Ｇの調製）
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（Ａ−ＴＭＭＴ）をポリエチレングリコールジアクリレート［商品名Ａ−４００、新中村化学工業（株）製］に変更した以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｇを調製した。
【０１７２】
（中屈折率層用塗布液Ｈの調製）
前記レベリング剤ＭＦを使用しなかった以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｈを調製した。
（中屈折率層用塗布液Ｉの調製）
前記レベリング剤ＭＦを前記レベリング剤ＳＰ-１５に変更した以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｉを調製した。
（中屈折率層用塗布液Ｊの調製）
前記レベリング剤ＭＦを前記レベリング剤ＦＰ-４９に変更した以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｊを調製した。
【０１７３】
（中屈折率層用塗布液Ｋの調製）
前記レベリング剤ＭＦの使用量を０．２質量％（対固形分）に変更した以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｋを調製した。
（中屈折率層用塗布液Ｌの調製）
前記レベリング剤ＭＦの使用量を２．０質量％（対固形分）に変更した以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｌを調製した。
（中屈折率層用塗布液Ｍの調製）
前記レベリング剤ＭＦの使用量を３．０質量％（対固形分）に変更した以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｍを調製した。
【０１７４】
（中屈折率層用塗布液Ｎの調製）
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（Ａ−ＴＭＭＴ）をジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）に変更した以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｎを調製した。
（中屈折率層用塗布液Ｏの調製）
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（Ａ−ＴＭＭＴ）をウレタンアクリレート（商品名ＥＢ５１２９、ダイセル・サイテック（株）製）に変更した以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｏを調製した。
（中屈折率層用塗布液Ｐの調製）
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（Ａ−ＴＭＭＴ）をウレタンアクリレート（商品名Ｕ−４ＨＡ、新中村化学工業（株）製）に変更した以外は中屈折率用塗布液Ａと同様にして中屈折率層用塗布液Ｐを調製した。
【０１７５】
（中屈折率層用塗布液Ｑの調製）
ＺｒＯ２微粒子メチルエチルケトン分散液（ナノユース  ＯＺ−Ｓ３０Ｋ［商品名、固形分濃度：３０質量％、酸化ジルコニウム微粒子の平均１次粒子径：７ｎｍ、日産化学工業（株）社製］）３．３３質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製  ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ）３．８３質量部、レベリング剤（前記式Ａで表されるフッ素含有レベリング剤ＭＦ、固形分濃度３０質量％  メチルエチルケトン溶媒）０．１７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．１２質量部、メチルエチルケトン６４．０５質量部、メチルイソブチルケトン９．５０質量部及びシクロヘキサノン１９.００質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ｑを調製した。
【０１７６】
（中屈折率層用塗布液Ｒの調製）
ＺｒＯ２微粒子メチルエチルケトン分散液（ナノユース  ＯＺ−Ｓ３０Ｋ［商品名、固形分濃度：３０質量％、酸化ジルコニウム微粒子の平均１次粒子径：７ｎｍ、日産化学工業（株）社製］）１０.００質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製  ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ）１．８９質量部、レベリング剤（前記式Ａで表されるフッ素含有レベリング剤ＭＦ、固形分濃度３０質量％  メチルエチルケトン溶媒）０．１７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０６質量部、メチルエチルケトン５９.３８質量部、メチルイソブチルケトン９．５０質量部及びシクロヘキサノン１９.００質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ｒを調製した。
【０１７７】
（中屈折率層用塗布液Ｓの調製）
ＺｒＯ２微粒子メチルエチルケトン分散液（ナノユース  ＯＺ−Ｓ３０Ｋ［商品名、固形分濃度：３０質量％、酸化ジルコニウム微粒子の平均１次粒子径：７ｎｍ、日産化学工業（株）社製］）１１.６７質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製  ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ）１．４１質量部、レベリング剤（前記式Ａで表されるフッ素含有レベリング剤ＭＦ、固形分濃度３０質量％  メチルエチルケトン溶媒）  ０．１７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、メチルエチルケトン５８.２２質量部、メチルイソブチルケトン９．５０質量部及びシクロヘキサノン１９.００質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ｓを調製した。
【０１７８】
（高屈折率層用塗布液Ａの調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（オプスターＫＺ６６６６［屈折率１．７２、固形分濃度：５０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：メチルエチルケトン／２-ブタノール／キシレン＝３５／５／２.５（質量比）、ＪＳＲ（株）製］）１４.１０質量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製  ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ）０．４１質量部、レベリング剤（前記式Ａで表されるフッ素含有レベリング剤ＭＦ、固形分濃度３０質量％  メチルエチルケトン溶媒）０．１１質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０１質量部、メチルエチルケトン４８.３７質量部、シクロヘキサノン３７.００質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【０１７９】
（低屈折率層用塗布液の調製）
（パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１の合成）
特開２０１０−１５２３１１号公報に記載のパーフルオロオレフィン共重合体（１）と同様の方法で、パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１を調製した。得られたポリマーの屈折率は１．４２２であった
【０１８０】
【化２０】
0005933353.tif 000024
【０１８１】
上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
【０１８２】
（中空シリカ分散液Ａ−１の調製）
特開２００７−２９８９７４号公報に記載の分散液Ａ−１と同様の方法を用いて条件を調整し、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ粒子の屈折率１．３１の中空シリカ粒子分散液Ａ−１（固形分濃度１８．２質量％）を調製した。
【０１８３】
（低屈折率層形成用組成物Ａ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、低屈折率層形成用組成物Ａ−１（固形分濃度５質量％）とした。
パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１                    １４．８質量部
エチルメチルケトン                                    １５７．７質量部
ＤＰＨＡ                                                  ３．０質量部
中空シリカ粒子分散液Ａ−１                              ２１．２質量部
イルガキュア１２７                                        １．３質量部
Ｘ２２−１６４Ｃ                                          ２．１質量部
【０１８４】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
・Ｘ２２−１６４Ｃ：反応性シリコーン（信越化学（株）製）
・イルガキュア１２７：光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製）
【０１８５】
（ハードコート層Ａの作製）
層厚４０μｍの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ４０ＵＬ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液ＨＣ−１をグラビアコーターを用いて塗布した。６０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層をハーフキュアさせ、厚さ１０μｍのハードコート層Ａを形成した。
【０１８６】
ハードコート層Ａの上に、それぞれ所望の屈折率となるように調整した、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。なお、各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約４μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定した。「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ  部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。
【０１８７】
各層の膜厚は、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層後に反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用した。
【０１８８】
中屈折率層の乾燥条件は９０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射しハーフキュアさせ、厚さ６３ｎｍの中屈折率層を形成した。
【０１８９】
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射しハーフキュアさせ、厚さ１３６ｎｍの高屈折率層を形成した。
【０１９０】
（低屈折率層の作製）
低屈折率層の乾燥条件は６０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射し硬化させ、厚さ９８ｎｍの低屈折率層を形成し、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層の４層連続で塗布・硬化（フルキュア）して反射防止フィルムを作製した。
【０１９１】
反射防止フィルムの透明支持体を特開２０１１−２３７７６４の実施例１に記載のものと同様の糖エステル化合物含有セルロースアシレートフィルムに変更した以外はＮｏ.１と同様にして反射防止フィルムＮｏ.２０を作製した。
【０１９２】
〔反射防止フィルムの評価〕
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表２に示す。
【０１９３】
（反射防止フィルムの鹸化処理）
作製した各反射防止フィルムについて鹸化処理済みの反射防止フィルムも準備しスチールウール耐傷性について試験した。
１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの反射防止フィルムを作製した。
【０１９４】
（１）スチールウール耐傷性（ＳＷ耐性）評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
こすり速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：２００ｇ／ｃｍ２、
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
Ａ  ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
Ｂ  ：傷はないが、僅かに色味が変化している。
Ｃ  ：数本の傷が見える。
Ｄ  ：数本より多くの傷が見える。
【０１９５】
（２）膜厚ムラ
実施例で作製した反射防止フィルムについて、幅１３４０ｍｍのロール状に巻きつけたサンプルを幅方向の両端１２０ｍｍを除き１１００ｍｍ幅に調整し、幅方向に１００ｍｍピッチで膜厚を１２点測定し、さらに長手方向１００ｍごとに１１回同様な膜厚の測定を行い、全１３２点の測定点の膜厚の平均値ｄ（平均値）と最小値ｄ（最小値）と最大値ｄ（最大値）より、下記数式（Ｉ）により膜厚分布を算出した。
数式（Ｉ）：（最大値ｄ―最小値ｄ）×１００／平均値ｄ
なお、膜厚は、反射防止フィルムの裏面を紙やすりで擦った後に、黒マジックで塗り、裏面の反射を無くした状態で表面から測定した３８０〜７８０ｎｍの波長域の反射特性を光学的にフィッティングすることで算出した。
Ａ：３％未満
Ｂ：３％以上５％未満
Ｃ：５％以上
【０１９６】
評価結果を表２に示す。
Ｎｏ．１１の反射防止フィルムは、「本発明」とあるのを「参考例」と読み替えるものとする。
【０１９７】
【表２】
0005933353.tif 000025
【０１９８】
表２に示した結果から明らかなように、中屈折率層に含有させる粒子の平均一次粒子径が１０ｎｍ以上の比較例の反射防止フィルム４及び５は鹸化後のＳＷ耐性に劣ることがわかる。不飽和二重結合を有する化合物の不飽和二重結合が３つに満たない比較例の反射防止フィルム６及び７は未鹸化、鹸化後いずれもＳＷ耐性に劣ることがわかる。一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体（レベリング剤）を含有させていない比較例の反射防止フィルム８は、膜厚ムラに劣ることがわかる。一般式１で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含有する重合体の含有量が中屈折率層形成用組成物中の全固形分に対して２．０質量％を超える比較例の反射防止フィルム１３は、未鹸化、鹸化後いずれもＳＷ耐性に劣ることがわかる。
中屈折率層に含有させる粒子の含有量が３０〜６０質量％から外れる比較例の反射防止フィルム１７、１９は、鹸化後のＳＷ耐性に劣ることがわかる。
一方、実施例の反射防止フィルム１〜３、９〜１２、１４〜１６、１８及び２０は、未鹸化、鹸化後いずれもＳＷ耐性に優れ、膜厚ムラもないことがわかる。
【符号の説明】
【０１９９】
１  透明支持体
２  ハードコート層
３  中屈折率層
４  高屈折率層
５  低屈折率層
【図１】
0005933353.tif 000028