(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルプレートの液滴吐出面に撥液層が被覆された液滴吐出ヘッドと、
前記液滴吐出ヘッドをヘッド支持体に固定する固定板と、
前記液滴吐出ヘッドとの相対移動により前記液滴吐出面を払拭するワイピング部材と、
を有し、
前記撥液層は、前記液滴吐出面と前記ノズルプレートの端面との境界を越えて、該端面まで連続して被覆され、
前記固定板は、少なくとも前記ワイピング部材による払拭の始点側に位置する前記ノズルプレートの端部では前記液滴吐出面に重ならずに前記液滴吐出ヘッドを前記ヘッド支持体に固定し、
前記端面は、前記液滴吐出面の裏面に連接する第１端面と、前記第１端面に連接して液滴吐出面に平行である第２端面と、を備え、
前記撥液層は、前記液滴吐出面から前記第２端面まで連続して被覆されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記端面において、前記撥液層が被覆された部分と被覆されていない部分の境界は、前記液滴吐出面の裏面よりも前記液滴吐出面に近いことを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記第２端面は、前記液滴吐出面と平行な面に沿っており、
前記端面は、前記液滴吐出面と前記第２端面との間に前記液滴吐出面および前記第２端面に連接する第３端面を備えていることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記第２端面は、前記液滴吐出面および前記第１端面の双方に対して傾斜する斜面からなることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記第２端面は、凹状湾曲面からなることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出ヘッドの液滴吐出面を払拭するワイピング部材を備えた液滴吐出装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
インクジェットプリンター等の液滴吐出装置は、記録時の騒音が極めて小さいこと、高速印字が可能であること、インクの自由度が高く安価な普通紙を使用できること等、多くの利点を有する。かかる液滴吐出装置に用いられる液滴吐出ヘッドは、例えば、図１５に示すように、インク滴を吐出する複数のノズル孔１１が形成されたノズルプレート１を有しており、ノズルプレート１の液滴吐出面１ａには、耐液保護層１６やインクに対する撥液性を備えた撥液層１７が形成されている。
【０００３】
ノズルプレート１は、大型の基板の状態で撥液層１７が形成された後、単品サイズのノズルプレート１に切断される（特許文献１参照）。このため、ノズルプレート１の端面１０１、１０２には、耐液保護層１６や撥液層１７が形成されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２４０８５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図１５に示すように、ノズルプレート１の端面１０１、１０２には撥液層１７が形成されていないため、液滴吐出装置において液滴吐出ヘッド１０の液滴吐出面１ａを払拭するワイピング部材４を設けると、ワイピング部材４が撥液層１７の縁に当たった際に撥液層１７が剥離するおそれがある。そこで、液滴吐出ヘッド１０をヘッド支持体に固定する固定板１８によってノズルプレート１の端部１０６、１０７を覆うことによって、ワイピング部材４が撥液層１７の縁に当接しないようにする必要がある。
【０００６】
しかしながら、固定板１８によってノズルプレート１の端部１０６、１０７を覆うには、ノズルプレート１のサイズを大きくする必要があるので、ノズルプレート１のコストが増大する等の問題点がある。
【０００７】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、ノズルプレートの端部で液滴吐出面を固定板によって覆わなくても撥液層の剥離を防止することのできる液滴吐出装置、および液滴吐出装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明に係る液滴吐出装置は、ノズルプレートの液滴吐出面に撥液層が被覆された液滴吐出ヘッドと、前記液滴吐出ヘッドをヘッド支持体に固定する固定板と、前記液滴吐出ヘッドとの相対移動により前記液滴吐出面を払拭するワイピング部材と、を有し、前記撥液層は、前記液滴吐出面と前記ノズルプレートの端面との境界を越えて、該端面まで連続して被覆され、前記固定板は、少なくとも前記ワイピング部材による払拭の始点側に位置する前記ノズルプレートの端部では前記液滴吐出面に重ならずに前記液滴吐出ヘッドを前記ヘッド支持体に固定していることを特徴とする。
【０００９】
本発明において、撥液層は、液滴吐出面からノズルプレートの端面の厚さ方向の途中位置まで連続して形成されている。このため、ワイピング部材がノズルプレートに当接する際、ワイピング部材が撥液層の縁に当接しない。それ故、ワイピング部材による払拭の始点側に位置するノズルプレートの端部であっても、ノズルプレートの液滴吐出面が固定板に重なっている構造にする必要がないので、ノズルプレートのサイズを小さくすることができる。それ故、ノズルプレートのコストを低減することができる。
【００１０】
本発明では、前記端面において、前記撥液層が被覆された部分と被覆されていない部分の境界は、前記液滴吐出面の裏面よりも前記液滴吐出面に近い構成を実現することができる。かかる構成によれば、液滴吐出面の側から撥液層を形成することによって、撥液層が液滴吐出面からノズルプレートの端面の厚さ方向の途中位置まで連続して形成されている構成を実現することができる。
【００１１】
本発明において、前記端面は、前記液滴吐出面の裏面に連接する第１端面と、前記第１端面に連接して液滴吐出面に平行である第２端面と、を備え、前記撥液層は、前記液滴吐出面から前記第２端面まで連続して被覆されている構成を採用することができる。かかる構成によれば、液滴吐出面の側から撥液層を形成することによって、撥液層が液滴吐出面からノズルプレートの端面の厚さ方向の途中位置まで連続して形成されている構成を確実に実現することができる。
【００１２】
本発明において、前記第２端面は、例えば、前記液滴吐出面と平行な面に沿っており、前記端面は、前記液滴吐出面と前記第２端面との間に前記液滴吐出面および前記第２端面に連接する第３端面を備えている。
【００１３】
本発明において、前記第２端面は、前記液滴吐出面および前記第１端面の双方に対して傾斜する斜面からなる構成を採用してもよい。
【００１４】
本発明において、前記第２端面は、凹状湾曲面からなる構成を採用してもよい。
【００１５】
本発明に係る液滴吐出装置の製造に適した方法は、以下の構成を有することを特徴とする。すなわち、本発明は、ノズルプレートの液滴吐出面に撥液層が被覆された液滴吐出ヘッドと、前記液滴吐出ヘッドをヘッド支持体に固定する固定板と、前記液滴吐出ヘッドとの相対移動により前記液滴吐出面を払拭するワイピング部材と、を有する液滴吐出装置の製造方法であって、基板にノズル孔を形成するノズル孔形成工程と、前記基板の一方の主面に、複数の溝を形成する溝形成工程と、前記主面に前記撥液層を被覆する撥液層被覆工程と、前記複数の溝に沿って前記基板を切断して複数のノズルプレートの個片を得る切断工程と、を行うことを特徴とする。
【００１６】
本発明では、基板の一方面に対してノズルプレートが切り出される領域に沿って溝を形成した後、基板の一方面に撥液層を形成し、しかる後に、溝に沿って基板を切断してノズルプレートを得る。このため、撥液層が液滴吐出面からノズルプレートの端面の厚さ方向の途中位置まで連続して形成されている構成を容易に実現することができる。
【００１７】
本発明において、前記ノズル孔形成工程および前記溝形成工程では、前記基板に前記ノズル孔と前記溝とを同時に形成することが好ましい。かかる構成によれば、工程数を削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の実施の形態１に係る液滴吐出装置の説明図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る液滴吐出装置に用いたヘッドアセンブリの説明図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る液滴吐出装置に用いた液滴吐出ヘッドの分解斜視図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る液滴吐出装置に用いた液滴吐出ヘッドの断面図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドのノズルプレートおよびその周辺を主走査方向で切断した様子を拡大して示す断面図である。
【図６】図５に示すノズルプレートの製造に用いた基板の平面図である。
【図７】図５に示すノズルプレートの製造方法を示す工程断面図である。
【図８】図７に続いて行うノズルプレートの製造方法を示す工程断面図である。
【図９】本発明の実施の形態２に係る液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドのノズルプレートの説明図である。
【図１０】本発明の実施の形態３に係る液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドのノズルプレートの説明図である。
【図１１】本発明の実施の形態４に係る液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドのノズルプレートおよびその周辺を主走査方向で切断した様子を拡大して示す断面図である。
【図１２】図１１に示すノズルプレートの製造方法を示す工程断面図である。
【図１３】図１２に続いて行うノズルプレートの製造方法を示す工程断面図である。
【図１４】図１３に続いて行うノズルプレートの製造方法を示す工程断面図である。
【図１５】本発明に対する参考例に係る液滴吐出ヘッドの説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明では、本発明を適用した液滴吐出装置としてインクジェットプリンターを例示する。また、以下の説明では、図１５を参照して説明した構成との対応が分かりやすいように、対応する部分には同一の符号を付して説明する。また、以下の説明では、主走査方向（ノズル孔の列方向に直交する方向）をＸ方向とし、副走査方向（ノズル孔の列方向）をＹ方向としてある。
【００２０】
［実施の形態１］
（液滴吐出装置の全体構成）
図１は、本発明の実施の形態１に係る液滴吐出装置の説明図である。図１において、本形態の液滴吐出装置２００は、記録紙等の記録媒体Ｓの表面に液体状のインクを吐出して画像等の記録を行うインクジェットプリンターである。液滴吐出装置２００は、複数の液滴吐出ヘッド１０を備えたヘッドアセンブリ１１０、ヘッドアセンブリ１１０が取り付けられるキャリッジ３、キャリッジ３を主走査方向Ｘに移動可能に支持するキャリッジ軸５、記録媒体Ｓを副走査方向Ｙに移送するプラテン８等を備えている。インクは、インクカートリッジ２に貯留されており、インクカートリッジ２は、ヘッドアセンブリ１１０とともに、キャリッジ３に搭載されている。なお、インクカートリッジ２が液滴吐出装置２００の本体２０１側に配置され、インクカートリッジ２からインク供給チューブを通じて液滴吐出ヘッド１０に供給される構成を採用することもできる。キャリッジ３は、タイミングベルト７に接続されており、タイミングベルト７はＤＣモーター等のパルスモーター６により駆動される。従って、パルスモーター６が作動すると、キャリッジ３は、キャリッジ軸５に案内されて、主走査方向Ｘ（記録媒体Ｓの幅方向）に往復移動する。
【００２１】
ここで、キャリッジ３のホームポジションに対応する位置、すなわち、キャリッジ軸５の一方の端部近傍には、液滴吐出ヘッド１０の液滴吐出面を封止するキャップ部材９が設けられている。キャップ部材９には、その内部を吸引する吸引手段（図示なし）が接続されている。本実施形態では、キャップ部材９は、液滴吐出ヘッド１０の数に対応して複数設けられている。キャップ部材９は、液滴吐出ヘッド１０の液滴吐出面を封止することにより、液滴吐出ヘッド１０のノズル孔近傍でインクが乾燥することを防止する。また、キャップ部材９は、ノズル孔からインク滴を噴射させるフラッシング動作、あるいは所定のタイミングで吸引手段によってキャップ部材９の内部を吸引してノズル孔からインク等を強制的に排出させる吸引動作を行った際のインク受けとして機能する。
【００２２】
また、本形態では、キャップ部材９に隣接して、液滴吐出ヘッド１０の液滴吐出面を払拭するクリーニングブレード等からなるワイピング部材４が設けられている。従って、所定のタイミングでキャリッジ３を移動させることにより、液滴吐出ヘッド１０の液滴吐出面にワイピング部材４の先端部を摺接させれば、液滴吐出面を払拭するクリーニング動作を実行することができる。
【００２３】
（液滴吐出ヘッド１０の構成）
図２は、本発明の実施の形態１に係る液滴吐出装置２００に用いたヘッドアセンブリ１１０の説明図であり、図２（ａ）は、ヘッドアセンブリ１１０の斜視図、およびヘッドアセンブリ１１０の分解斜視図である。図３は、本発明の実施の形態１に係る液滴吐出装置２００に用いた液滴吐出ヘッド１０の分解斜視図である。図４は、本発明の実施の形態１に係る液滴吐出装置２００に用いた液滴吐出ヘッド１０の断面図である。
【００２４】
図２に示すように、本形態の液滴吐出装置２００では、複数の液滴吐出ヘッド１０がヘッドアセンブリ１１０としてキャリッジ３に搭載されている。ヘッドアセンブリ１１０は、概ね、ヘッド支持体としてのケース１５０、複数の液滴吐出ヘッド１０、および固定板１８により構成されている。ケース１５０は、内部に液滴吐出ヘッド１０を収容する箱体状部材であり、上面側に針ホルダ１９０が形成されている。針ホルダ１９０は、インク導入針２０を取り付けるための板状部材であり、本形態においては、インクカートリッジ２のインク色に対応させて８本のインク導入針２０が針ホルダ１９０に横並びに配設されている。インク導入針２０は、インクカートリッジ２内に挿入される中空針状の部材であり、先端部に設けられた導入孔（図示せず）からインクカートリッジ２内に貯留されたインクをケース１５０内の集束流路を通じて液滴吐出ヘッド１０に導入するようになっている。
【００２５】
ケース１５０の底面側には、４つの液滴吐出ヘッド１０が、主走査方向Ｘに横並びに位置決めされた状態で配置されており、４つの液滴吐出ヘッド１０は各々、主走査方向Ｘに長辺を向けている。かかる４つの液滴吐出ヘッド１０は、金属製の固定板１８によってケース１５０に固定されている。固定板１８は、液滴吐出ヘッド１０に対応する位置に４つの開口部１８０が形成された底板部１８１と、底板部１８１の外縁から直角に折れ曲がった側板部１８２とを有しており、液滴吐出ヘッド１０と側板部１８２とが接着剤等により固定されている。
【００２６】
図３および図４に示すように、液滴吐出ヘッド１０は、概ね、ノズルプレート１、流路基板２３、共通液室基板２４、およびコンプライアンス基板２５から構成されており、これらの部材を積層した状態でユニットケース２６に取り付けられている。
【００２７】
ノズルプレート１は、ドット形成密度に対応したピッチで複数のノズル孔１１を副走査方向Ｙに配列したシリコン単結晶基板からなり、その一方側の面によって液滴吐出面１ａが構成されている。本形態では、１８０ｄｐｉのピッチで１８０個のノズル孔１１を列設することでノズル列が２列構成されている。ここで、ノズルプレート１は、長方形の板材であり、長辺が主走査方向Ｘに向いている。従って、ノズル孔１１は、副走査方向Ｙに配列してノズル列を構成し、かかるノズル列は、主走査方向Ｘで並列している。本形態において、ノズルプレート１の厚さは、例えば６５μｍ程度である。
【００２８】
流路基板２３は、ノズルプレート１と同様、シリコン単結晶基板によって作製されている。流路基板２３の上面（共通液室基板２４側の面）には二酸化シリコンからなる薄い弾性膜３０が熱酸化によって形成されている。かかる流路基板２３には、異方性エッチング処理によって、複数の隔壁で区画された圧力室３１が各ノズル孔１１に対応して複数形成されている。この流路基板２３における圧力室３１の列の外側には、各圧力室３１の共通のインクが導入される室としての共通液室３２の一部を区画する連通空部３３が形成されている。この連通空部３３は、インク供給路３４を介して各圧力室３１と連通している。
【００２９】
流路基板２３の上面（ノズルプレート１側とは反対側の面）の弾性膜３０上には、圧電素子３５が圧力室３１毎に設けられており、かかる圧電素子３５は、金属製の下電極膜と、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）等からなる圧電体層と、金属からなる上電極膜とが順次積層された構造になっている。圧電素子３５は、所謂撓みモードの圧電振動子であり、圧力室３１の上部を覆うように形成されている。
【００３０】
圧電素子３５が形成された流路基板２３上には、厚さ方向に貫通した貫通空部３６を有する共通液室基板２４が配置される。共通液室基板２４は、流路基板２３やノズルプレート１と同様、シリコン単結晶基板を用いて作製されている。共通液室基板２４における貫通空部３６は、流路基板２３の連通空部３３と連通して共通液室３２の一部を区画するようになっている。共通液室基板２４の上面（流路基板２３とは反対側の面）には、各圧電素子３５を駆動するための駆動ＩＣ３８が設けられている。この駆動ＩＣ３８の各端子は、図示しないボンディングワイヤー等を介して各圧電素子３５の個別電極から引き出された引き出し配線と接続されている。そして、駆動ＩＣ３８の各端子は、フレキシブルプリントケーブル（ＦＰＣ）等の外部配線３９を介して液滴吐出装置２００の制御部（図示せず）と電気的に接続され、この外部配線３９を介して制御部側からの印刷信号等の各種信号が供給されるようになっている。
【００３１】
共通液室基板２４の上面側には、コンプライアンス基板２５が配置される。このコンプライアンス基板２５における共通液室基板２４の貫通空部３６に対向する領域には、インク導入針２０側からのインクを共通液室３２に供給するためのインク導入口４０が厚さ方向に貫通して形成されている。また、このコンプライアンス基板２５の貫通空部３６に対向する領域のインク導入口４０以外の領域は、極薄く形成された可撓部４１となっており、この可撓部４１によって貫通空部３６の上部開口が封止されることで共通液室３２が区画形成される。かかる可撓部４１は、共通液室３２内のインクの圧力変動を吸収するコンプライアンス部として機能するようになっている。
【００３２】
ユニットケース２６は、インク導入口４０に連通してインク導入針２０側（図２（ｂ）参照）から導入されたインクを共通液室３２側に供給するためのインク導入路４２が形成されるとともに、可撓部４１に対向する領域にこの可撓部４１の膨張を許容する凹部４３が形成された部材である。ユニットケース２６の中心部、具体的には、共通液室基板２４上に設けられた駆動ＩＣ３８に対向する領域には、厚さ方向に貫通した空部４４が開設されており、外部配線３９がこの空部４４を挿通して駆動ＩＣ３８と接続されるようになっている。
【００３３】
これらのノズルプレート１、流路基板２３、共通液室基板２４、コンプライアンス基板２５、およびユニットケース２６は、接着剤や熱溶着フィルム等を間に配置して積層した状態で加熱することで相互に接合され、液滴吐出ヘッド１０を構成している。
【００３４】
このように構成された液滴吐出ヘッド１０は、ヘッドアセンブリ１１０の状態で、ノズル孔１１の列方向が副走査方向Ｙと一致するようにキャリッジ３に取り付けられる。そして、各液滴吐出ヘッド１０は、インクカートリッジ２からのインクをインク導入路４２およびインク導入口４０を介して共通液室３２側に取り込み、共通液室３２からノズル孔１１に至るインク流路（液体流路の一種）をインクで満たす。そして、駆動ＩＣ３８からの駆動信号を圧電素子３５に供給してこの圧電素子３５を撓み変形させることによって対応する圧力室３１内のインクに圧力変動を生じさせ、このインクの圧力変動を利用してノズル孔１１からインクの液滴を吐出する。
【００３５】
（ノズルプレート１およびその周辺の構成）
図５は、本発明の実施の形態１に係る液滴吐出装置２００の液滴吐出ヘッド１０のノズルプレート１およびその周辺を主走査方向Ｘで切断した様子を拡大して示す断面図である。なお、図５では、ノズルプレート１の両面うち、液滴吐出面１ａを上向きに図示してある。
【００３６】
図５に示すように、本形態の液滴吐出装置２００の液滴吐出ヘッド１０において、ノズルプレート１には、液滴吐出面１ａおよびその反対側の裏面１ｂに、シリコン酸化膜等からなる耐液保護層１６が形成されており、耐液保護層１６は、ノズル孔１１の内面にも形成されている。また、ノズルプレート１には、液滴吐出面１ａにフッ素を含有する撥液層１７が形成されており、撥液層１７はノズル孔１１の内面にも形成されている。かかる撥液層１７は、ワイピング部材４によるクリーニング動作の際、インクによる汚れ等を除去しやすくする機能を担っている。
【００３７】
かかる液滴吐出ヘッド１０において、矢印−Ｘで示すように、キャリッジ３がホームポジションに移動する際、ワイピング部材４は、液滴吐出ヘッド１０の液滴吐出面１ａを一方側Ｘ１から他方側Ｘ２に向けて摺動し、インクによる汚れを除去する。その際、ノズルプレート１において端面１０２が位置する一方側Ｘ１の端部１０７が払拭の始点となる。これに対して、矢印＋Ｘで示すように、キャリッジ３がホームポジションから移動する際、ワイピング部材４は、一点鎖線で示すように、液滴吐出ヘッド１０の液滴吐出面１ａを一方側Ｘ１から他方側Ｘ２に向けて摺動する。その際、ノズルプレート１において端面１０２が位置する他方側Ｘ２の端部１０７が払拭の始点となる。
【００３８】
このようなクリーニング動作を行う際、ワイピング部材４との接触によって、撥液層１７が縁から剥離することがないように、本形態では、ノズルプレート１では、端面１０１、１０２を含めて４つの端面がいずれも、以下に説明する構成になっている。なお、ノズルプレート１の４つの端面は、いずれも同一の構成になっているので、以下の説明では、端面１０１、１０２の構成を説明し、他の端面の説明は省略する。
【００３９】
まず、ノズルプレート１の端面１０１には、液滴吐出側に向く段部が形成されており、その結果、端面１０１には、液滴吐出面１ａとは反対側の裏面１ｂに対して直角に連接する第１端面１０１ａと、第１端面１０１ａより内側において第１端面１０１ａと液滴吐出面１ａとの間で液滴吐出側に向く第２端面１０１ｂとが形成されている。ここで、第２端面１０１ｂは、液滴吐出面１ａに平行に形成されており、液滴吐出面１ａと第２端面１０１ｂとの間には液滴吐出面１ａ、第２端面１０１ｂおよび裏面１ｂに対して直角な第３端面１０１ｃが形成されている。また、第２端面１０１ｂおよび第３端面１０１ｃには、耐液保護層１６および撥液層１７が液滴吐出面１ａから液滴吐出面１ａと端面１０１との境界を越えて連続して形成されており、それ故、液滴吐出面１ａと第３端面１０１ｃとの角部分には、耐液保護層１６および撥液層１７が形成されている。これに対して、裏面１ｂおよび第１端面１０１ａには、耐液保護層１６および撥液層１７が形成されておらず、それ故、裏面１ｂと第１端面１０１ａとの角部分には、耐液保護層１６および撥液層１７が形成されていない。従って、耐液保護層１６および撥液層１７は、液滴吐出面１ａから端面１０１の厚さ方向の途中位置まで連続して形成されている。本形態において、端面１０１において、撥液層１７が被覆された部分と被覆されていない部分の境界は、液滴吐出面１ａの裏面１ｂと液滴吐出面１ａとの略中間の位置にある。但し、端面１０１において、撥液層１７が被覆された部分と被覆されていない部分の境界は、液滴吐出面１ａの裏面１ｂより液滴吐出面１ａに近い位置にあることが好ましく、かかる構成によれば、後述する溝１２を浅く形成すればよいという利点がある。
【００４０】
また、ノズルプレート１の端面１０２でも、端面１０１と同様、液滴吐出側に向く段部が形成されており、その結果、端面１０２には、液滴吐出面１ａとは反対側の裏面１ｂに対して直角に連接する第１端面１０２ａと、第１端面１０２ａより内側において第１端面１０２ａと液滴吐出面１ａとの間で液滴吐出側に向く第２端面１０２ｂとが形成されている。ここで、第２端面１０２ｂは、液滴吐出面１ａに平行に形成されており、液滴吐出面１ａと第２端面１０２ｂとの間には液滴吐出面１ａ、第２端面１０２ｂおよび裏面１ｂに対して直角な第３端面１０２ｃが形成されている。また、第２端面１０２ｂおよび第３端面１０２ｃには、耐液保護層１６および撥液層１７が液滴吐出面１ａから連続して形成されており、それ故、液滴吐出面１ａと第３端面１０２ｃとの角部分には、耐液保護層１６および撥液層１７が形成されている。これに対して、裏面１ｂおよび第１端面１０２ａには、耐液保護層１６および撥液層１７が形成されておらず、それ故、裏面１ｂと第１端面１０２ａとの角部分には、耐液保護層１６および撥液層１７が形成されていない。従って、耐液保護層１６および撥液層１７は、液滴吐出面１ａから端面１０２の厚さ方向の途中位置まで連続して形成されている。
【００４１】
また、本形態では、固定板１８の底板部１８１は、端面１０１、１０２が位置する端部１０６、１０７ではノズルプレート１の液滴吐出面１ａ（液滴吐出ヘッド１０の液滴吐出面１ａ）に重なっていない。なお、本形態では、液滴吐出ヘッド１０と固定板１８の側板部１８２とが接着剤等により固定されているため、固定板１８の底板部１８１は、ノズルプレート１のいずれの端部でも、液滴吐出面１ａに重ならずに、液滴吐出ヘッド１０をケース１５０に固定している。
【００４２】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の液滴吐出ヘッド１０において、撥液層１７は、液滴吐出面１ａからノズルプレート１の端面１０１、１０２の厚さ方向の途中位置まで連続して形成されている。このため、ワイピング部材４がノズルプレート１に当接する際、ワイピング部材４が撥液層１７の縁に当接しない。それ故、ワイピング部材４による払拭の始点側に位置するノズルプレート１の端部１０６、１０７であっても、ノズルプレート１の液滴吐出面１ａが固定板１８に重なっている構造にする必要がないので、ノズルプレート１のサイズを小さくすることができる。それ故、ノズルプレート１のコストを低減することができる。
【００４３】
（液滴吐出ヘッド１０の製造方法）
図６〜図８を参照して、図１に示す液滴吐出ヘッド１０の製造方法の一例を説明する。図６は、図５に示すノズルプレート１の製造に用いた基板１００の平面図である。図７は、図５に示すノズルプレート１の製造方法を示す工程断面図である。図８は、図７に続いて行うノズルプレート１の製造方法を示す工程断面図である。なお、図７および図８では、基板１００の２つの主面（第１面１００ａおよび第２面１００ｂ）のうち、ノズルプレート１を形成した際に液滴吐出面１ａとなる主面（第１面１００ａ）を上向きに図示してある。
【００４４】
図１に示す液滴吐出ヘッド１０のノズルプレート１を製造するには、まず、図６に示す基板１００を用意する。基板１００は、例えば、厚さが２８０μｍのシリコン基板であり、ノズルプレート１を複数取りすることができる大型のシリコン基板である。従って、本形態では、以下に説明する各工程を実施して、一点鎖線Ｌ１で示すダイシングラインで囲まれた複数の領域の各々にノズル孔１１等を形成した後、ダイシングラインに沿って基板１００を切断し、複数のノズルプレート１を製造する。
【００４５】
本形態では、まず、図７（ａ）、（ｂ）に示す溝形成工程において、基板１００の第１面１００ａに対してノズルプレート１が切り出される領域に沿って溝１２を形成する。より具体的には、図７（ａ）に示すように、フォトリソグラフィー技術を利用して基板１００の第１面１００ａにレジストマスクからなるエッチングマスク５１を形成する。次に、エッチングマスク５１の開孔部５１ａを介して基板１００の第１面１００ａにエッチングを行い、図７（ｂ）に示すように、溝１２を形成した後、硫酸洗浄等によりエッチングマスク５１を除去する。かかるエッチングとして、本形態では、ＩＣＰドライエッチング装置（図示せず）により、基板１００の第１面１００ａに異方性ドライエッチングを行い、溝１２を第１面１００ａに対して垂直に形成する。この場合のエッチングガスとしては、Ｃ4Ｆ8ガスおよびＳＦ6ガスを使用し、これらのエッチングガスを交互に使用する。ここで、Ｃ4Ｆ8ガスは、溝１２の側面にエッチングが進行しないように側面を保護するために使用し、ＳＦ6ガスは、基板１００の垂直方向へのエッチングを促進させるために使用する。
【００４６】
次に、図７（ｃ）、（ｄ）に示すノズル孔形成工程において、基板１００の第１面１００ａにノズル孔１１に対応する位置に凹部１３を形成する。より具体的には、図７（ｃ）に示すように、フォトリソグラフィー技術を利用して基板１００の第１面１００ａにレジストマスクからなるエッチングマスク５２を形成する。次に、エッチングマスク５２の開孔部５２ａを介して基板１００の第１面１００ａにエッチングを行い、凹部１３を形成した後、硫酸洗浄等によりエッチングマスク５２を除去する。かかるエッチングとして、本形態では、ＩＣＰドライエッチング装置（図示せず）により、基板１００の第１面１００ａに異方性ドライエッチングを行い、凹部１３を第１面１００ａに対して垂直に形成する。この場合のエッチングガスとしては、Ｃ4Ｆ8ガスおよびＳＦ6ガスを使用し、これらのエッチングガスを交互に使用する。ここで、Ｃ4Ｆ8ガスは、凹部１３の側面にエッチングが進行しないように側面を保護するために使用し、ＳＦ6ガスは、基板１００の垂直方向へのエッチングを促進させるために使用する。
【００４７】
次に、図７（ｅ）に示す薄板化工程では、基板１００の第２面１００ｂ側から基板１００を約６５μｍ程度にまで薄板化し、凹部１３を貫通させてノズル孔１１を形成する。かかる薄板化工程を行うにあたって、本形態では、基板１００の第２面１００ｂ側に研削加工や研磨加工を行った後、洗浄を行う。例えば、基板１００の第２面１００ｂにバックグラインダー（図示せず）によって研削加工する。なお、薄板化工程では、ポリッシャー、ＣＭＰ装置によって第２面１００ｂを研磨して基板１００を薄くしてもよい。また、エッチングによって基板１００を薄くしてもよい。
【００４８】
次に、図８（ｆ）に示す耐液保護層形成工程においては、ノズル孔１１の内壁を含む基板１００の表面全体に、耐インク性を有する耐液保護層１６を形成する。本形態では、基板１００を熱酸化炉に投入し、基板１００の表面全体に例えば膜厚が０．１μｍの熱酸化膜（ＳｉＯ2膜）を耐液保護層１６として形成する。
【００４９】
次に、基板１００に対してインクに対する撥液性を持たせるための撥液処理を行う。具体的には、図８（ｇ）に示す撥液層被覆工程において、フッ素原子を含むケイ素化合物を主成分とする撥液性材料を基板１００の第１面１００ａに蒸着等の方法で成膜し、基板１００の第１面１００ａの全体に撥液層１７を形成する。このとき、ノズル孔１１および溝１２の内壁にも撥液層１７が形成される。なお、撥液層１７としては、フッ素を含む金属アルコキシドの分子膜を成膜した後、乾燥処理、アニール処理等を経て形成してもよい。
【００５０】
しかる後には、切断工程において、基板１００の第１面１００ａあるいは第２面１００ｂにダイシングテープを貼付した後、基板１００を溝１２に沿ってレーザーを照射し、図８（ｈ）に示すように、個々のノズルプレート１（個片）に分離し、ノズルプレート１をダイシングテープから剥離してノズルプレート１を得る。その結果、第１端面１０１ａ、１０２ａ、第２端面１０１ｂ、１０２ｂ、および第３端面１０１ｃ、１０２ｃを備えた端面１０１、１０２を有するノズルプレート１が形成され、かかるノズルプレート１では、液滴吐出面１ａから第２端面１０１ｂ、１０２ｂまで耐液保護層１６および撥液層１７が連続して形成された構造になっている。
【００５１】
このようにして製造したノズルプレート１を用いての液滴吐出ヘッド１０を製造するには、図３および図４を参照して説明したように、ノズルプレート１に流路基板２３、共通液室基板２４、コンプライアンス基板２５、およびユニットケース２６等を重ね、液滴吐出ヘッド１０を構成する。このように構成された液滴吐出ヘッド１０は、ノズル孔１１の列方向が副走査方向と一致するように、図１に示すキャリッジ３にヘッドアセンブリ１１０として取り付けられる。
【００５２】
［実施の形態２］
図９は、本発明の実施の形態２に係る液滴吐出装置２００の液滴吐出ヘッド１０のノズルプレート１の説明図であり、図９（ａ）、（ｂ）は、液滴吐出ヘッド１０のノズルプレート１およびその周辺を主走査方向Ｘで切断した様子を拡大して示す断面図、および基板１００に溝１２を形成した様子を示す説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。また、図９では、ノズルプレート１の両面うち、液滴吐出面１ａを上向きに図示してある。
【００５３】
図９（ａ）に示すように、本形態の液滴吐出装置２００の液滴吐出ヘッド１０においても、実施の形態１と同様、ノズルプレート１には、液滴吐出面１ａおよび裏面１ｂに耐液保護層１６が形成されており、耐液保護層１６は、ノズル孔１１の内面にも形成されている。また、ノズルプレート１には、液滴吐出面１ａに撥液層１７が形成されており、撥液層１７はノズル孔１１の内面にも形成されている。
【００５４】
本形態において、ノズルプレート１の端部１０６、１０７では、液滴吐出面１ａ側の角が斜めに面取りされた形状になっている。このため、端面１０１には、裏面１ｂに対して直角に連接する第１端面１０１ａと、第１端面１０１ａより内側において第１端面１０１ａと液滴吐出面１ａとの間で液滴吐出側に向く傾斜面からなる第２端面１０１ｂとが形成されている。また、端面１０２には、端面１０１と同様、裏面１ｂに対して直角に連接する第１端面１０２ａと、第２端面１０２ａより内側において、第１端面１０２ａと液滴吐出面１ａとの間で液滴吐出側に向く傾斜面からなる第２端面１０２ｂとが形成されている。
【００５５】
また、第２端面１０１ｂ、１０２ｂには、耐液保護層１６および撥液層１７が液滴吐出面１ａから液滴吐出面１ａと端面１０１、１０２との境界を越えて連続して形成されている。但し、第１端面１０１ａ、１０２ａには、耐液保護層１６および撥液層１７が形成されておらず、端面１０１において、撥液層１７が被覆された部分と被覆されていない部分の境界は、液滴吐出面１ａの裏面１ｂより液滴吐出面１ａに近い位置にある。
【００５６】
また、本形態でも、実施の形態１と同様、端部１０６、１０７では、固定板１８の底板部１８１とノズルプレート１とが重なっていない。
【００５７】
このように、本形態の液滴吐出ヘッド１０においても、実施の形態１と同様、撥液層１７は、液滴吐出面１ａからノズルプレート１の端面１０１、１０２の厚さ方向の途中位置まで連続して形成されている。このため、図１に示すワイピング部材４がノズルプレート１に当接する際、ワイピング部材４が撥液層１７の縁に当接しない。それ故、ワイピング部材４による払拭の始点側に位置するノズルプレート１の端部１０６、１０７であっても、ノズルプレート１の液滴吐出面１ａが固定板１８に重なっている構造にする必要がないので、ノズルプレート１のサイズを小さくすることができる。それ故、ノズルプレート１のコストを低減することができる。
【００５８】
かかる構成のノズルプレート１は、図７（ａ）、（ｂ）を参照して説明した溝形成工程において溝１２を形成する際、ウェットエッチング、エッチングマスク５１も同時にエッチングするドライエッチング、あるいはウェットエッチングとドライエッチングとの組み合わせ等を利用して、図９（ｂ）に示す断面Ｖ字形状の溝１２を形成することにより、実現することができる。
【００５９】
［実施の形態３］
図１０は、本発明の実施の形態３に係る液滴吐出装置２００の液滴吐出ヘッド１０のノズルプレート１の説明図であり、図１０（ａ）、（ｂ）は、液滴吐出ヘッド１０のノズルプレート１およびその周辺を主走査方向Ｘで切断した様子を拡大して示す断面図、および基板１００に溝１２を形成した様子を示す説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。また、図１０では、ノズルプレート１の両面うち、液滴吐出面１ａを上向きに図示してある。
【００６０】
図１０（ａ）に示すように、本形態の液滴吐出装置２００の液滴吐出ヘッド１０においても、実施の形態１と同様、ノズルプレート１には、液滴吐出面１ａおよび裏面１ｂに耐液保護層１６が形成されており、耐液保護層１６はノズル孔１１の内面にも形成されている。また、ノズルプレート１には、液滴吐出面１ａに撥液層１７が形成されており、撥液層１７はノズル孔１１の内面にも形成されている。
【００６１】
本形態において、ノズルプレート１の端部１０６、１０７では、液滴吐出面１ａ側の角が湾曲した凹状に切り欠かれた形状になっている。このため、端面１０１には、裏面１ｂに対して直角に連接する第１端面１０１ａと、第１端面１０１ａより内側において第１端面１０１ａと液滴吐出面１ａとの間で液滴吐出側に向く凹状湾曲面からなる第２端面１０１ｂとが形成されている。また、端面１０２にも、端面１０１と同様、裏面１ｂに対して直角に連接する第１端面１０２ａと、第２端面１０２ａより内側において第１端面１０２ａと液滴吐出面１ａとの間で液滴吐出側に向く凹状湾曲面からなる第２端面１０２ｂとが形成されている。また、第２端面１０１ｂ、１０２ｂには、耐液保護層１６および撥液層１７が液滴吐出面１ａから連続して形成されている。但し、第１端面１０１ａ、１０２ａには、耐液保護層１６および撥液層１７が形成されていない。
【００６２】
また、本形態でも、実施の形態１と同様、端部１０６、１０７では、固定板１８の底板部１８１とノズルプレート１とが重なっていない。
【００６３】
このように本形態でも、実施の形態１と同様、撥液層１７は、液滴吐出面１ａからノズルプレート１の端面１０１、１０２の厚さ方向の途中位置まで連続して形成されている。このため、図１に示すワイピング部材４がノズルプレート１に当接する際、ワイピング部材４が撥液層１７の縁に当接しない。それ故、ワイピング部材４による払拭の始点側に位置するノズルプレート１の端部１０６、１０７であっても、ノズルプレート１の液滴吐出面１ａが固定板１８に重なっている構造にする必要がないので、ノズルプレート１のサイズを小さくすることができる。それ故、ノズルプレート１のコストを低減することができる。
【００６４】
かかる構成のノズルプレート１は、図７（ａ）、（ｂ）を参照して説明した溝形成工程において溝１２を形成する際、ウェットエッチング、あるいはウェットエッチングとドライエッチングとの組み合わせ等を利用して、図１０（ｂ）に示す断面Ｕ字形状の溝１２を形成することにより、実現することができる。
【００６５】
［実施の形態４］
（ノズルプレート１等の構成）
図１１は、本発明の実施の形態４に係る液滴吐出装置２００の液滴吐出ヘッド１０のノズルプレート１およびその周辺を主走査方向Ｘで切断した様子を拡大して示す断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。また、図１１では、ノズルプレート１の両面うち、液滴吐出面１ａを上向きに図示してある。
【００６６】
実施の形態１において、ノズル孔１１は略同一の内径をもってノズルプレート１を貫通していたが、本形態では、図１１に示すように、ノズル孔１１は、径の異なる２段の円筒状に形成されたノズル部を有している。より具体的には、ノズル孔１１は、先端が液滴吐出面１ａで開口する小径の第１ノズル部（噴射口部分の小径孔）１１ａと、第１ノズル部１１ａに対して裏面１ｂ側で連通して裏面１ｂで開口する大径の第２ノズル部（導入口部分の大径孔）１１ｂとから構成されている。第１ノズル部および第２ノズル部１１ｂは、基板面に対して垂直に設けられ、かつ、同軸状に形成されている。このため、インク滴の吐出方向をノズル孔１１の中心軸方向に揃えることができるので、安定したインク吐出特性を発揮する。本形態において、第１ノズル部１１ａの内径は、例えば１５〜３０μｍであり、第２ノズル部１１ｂの内径は、第１ノズル部１１ａの内径の約１．５倍である。
【００６７】
かかる構成のノズルプレート１においても、実施の形態１と同様、ノズルプレート１には、液滴吐出面１ａおよび裏面１ｂに耐液保護層１６が形成されており、耐液保護層１６は、ノズル孔１１の内面にも形成されている。また、ノズルプレート１には、液滴吐出面１ａに撥液層１７が形成されており、撥液層１７はノズル孔１１の内面にも形成されている。
【００６８】
本形態において、ノズルプレート１の端面１０１、１０２には、実施の形態１と同様な段部が形成されている。このため、ノズルプレート１の端面１０１には、裏面１ｂに対して直角に連接する第１端面１０１ａと、第１端面１０１ａより内側において第１端面１０１ａと液滴吐出面１ａとの間で液滴吐出側に向く第２端面１０１ｂとが形成されている。また、第２端面１０１ｂは、液滴吐出面１ａに平行に形成されており、液滴吐出面１ａと第２端面１０１ｂとの間には液滴吐出面１ａ、第２端面１０１ｂおよび裏面１ｂに対して直角な第３端面１０１ｃが形成されている。また、ノズルプレート１の端面１０２も、端面１０１と同様、反対側の裏面１ｂに対して直角に連接する第１端面１０２ａと、第１端面１０２ａより内側において第１端面１０２ａと液滴吐出面１ａとの間で液滴吐出側に向く第２端面１０２ｂとが形成されている。また、第２端面１０２ｂは、液滴吐出面１ａに平行に形成されており、液滴吐出面１ａと第２端面１０２ｂとの間には液滴吐出面１ａ、第２端面１０２ｂおよび裏面１ｂに対して直角な第３端面１０２ｃが形成されている。ここで、第２端面１０１ｂ、１０２ｂ、および第３端面１０１ｃ、１０２ｃには、耐液保護層１６および撥液層１７が液滴吐出面１ａから液滴吐出面１ａと端面１０１、１０２との境界を越えて連続して形成されている。但し、第１端面１０１ａ、１０２ａには、耐液保護層１６および撥液層１７が形成されていない。ここで、端面１０１、１０２では、撥液層１７が被覆された部分と被覆されていない部分の境界は、液滴吐出面１ａの裏面１ｂと液滴吐出面１ａとの略中間の位置にある。但し、端面１０１、１０２において、撥液層１７が被覆された部分と被覆されていない部分の境界は、液滴吐出面１ａの裏面１ｂより液滴吐出面１ａに近い位置にあることが好ましく、かかる構成によれば、後述するノズル部形成用の第１凹部１３ａや溝１２を浅く形成すればよいという利点がある。
【００６９】
また、本形態でも、実施の形態１と同様、端部１０６、１０７では、固定板１８の底板部１８１とノズルプレート１とが重なっていない。
【００７０】
このように本形態でも、実施の形態１と同様、撥液層１７は、液滴吐出面１ａからノズルプレート１の端面１０１、１０２の厚さ方向の途中位置まで連続して形成されている。このため、図１に示すワイピング部材４がノズルプレート１に当接する際、ワイピング部材４が撥液層１７の縁に当接しない。それ故、ワイピング部材４による払拭の始点側に位置するノズルプレート１の端部１０６、１０７であっても、ノズルプレート１の液滴吐出面１ａが固定板１８に重なっている構造にする必要がないので、ノズルプレート１のサイズを小さくすることができる。それ故、ノズルプレート１のコストを低減することができる。なお、本形態では、実施の形態１をベースにノズル孔１１を多段構造としたが、実施の形態２、３をベースにノズル孔１１を多段構造としてもよい。
【００７１】
（ノズルプレート１の製造方法）
図１２〜図１４を参照して、図１１に示すノズルプレートの製造方法の一例を説明する。図１２は、図１１に示すノズルプレート１の製造方法を示す工程断面図である。図１３は、図１２に続いて行うノズルプレート１の製造方法を示す工程断面図である。図１４は、図１３に続いて行うノズルプレート１の製造方法を示す工程断面図である。なお、図１２および図１４では、基板１００の第１面１００ａおよび第２面１００ｂのうち、ノズルプレート１を形成した際に液滴吐出面１ａとなる側を上向きに図示してあり、図１３では、基板１００の第１面１００ａおよび第２面１００ｂのうち、ノズルプレート１を形成した際に液滴吐出面１ａとなる側を下向きに図示してある。
【００７２】
本形態では、以下に説明するように、ノズル孔１１を形成する工程の一部を利用して溝１２を形成する製造方法の一例である。より具体的には、まず、図１２（ａ）、（ｂ）に示す第１凹部形成工程（ノズル孔形成工程）において、基板１００の第１面１００ａに第１エッチングマスク５３を形成した状態で基板１００の第１面１００ａをエッチングして第１ノズル部形成用の第１凹部１３ａを形成するとともに、溝１２を形成する。より具体的には、図１２（ａ）に示すように、フォトリソグラフィー技術を利用してレジストマスクからなるエッチングマスク５３を形成する。次に、エッチングマスク５３の開孔部５３ａを介して基板１００の第１面１００ａにエッチングを行い、図１２（ｂ）に示すように、第１ノズル部形成用の第１凹部１３ａ、および溝１２を同時形成した後、硫酸洗浄等によりエッチングマスク５３を除去する。かかるエッチングとして、本形態では、ＩＣＰドライエッチング装置（図示せず）により、基板１００の第１面１００ａに異方性ドライエッチングを行い、第１凹部１３ａおよび溝１２を第１面１００ａに対して垂直に形成する。この場合のエッチングガスとしては、Ｃ4Ｆ8ガスおよびＳＦ6ガスを使用し、これらのエッチングガスを交互に使用する。
【００７３】
次に、図１２（ｃ）に示すように、基板１００の全面に保護膜１４を形成する。より具体的には、基板１００を熱酸化装置（図示せず）にセットして酸化温度１０７５℃、酸化時間４時間、酸素と水蒸気の混合雰囲気中の条件で基板１００に熱酸化処理を行い、基板１００の表面全体に膜厚が１μｍのＳｉＯ2膜からなる保護膜１４を形成する。
【００７４】
次に、図１２（ｄ）に示す薄板化工程では、基板１００の第２面１００ｂ側から基板１００を薄板化する。かかる薄板化工程を行うにあたって、本形態では、基板１００の第２面１００ｂ側に研削加工や研磨加工を行った後、洗浄を行う。なお、薄板化工程では、エッチングによって基板１００を薄くしてもよい。
【００７５】
次に、図１３（ｅ）、（ｆ）に示す第２凹部形成工程（ノズル孔形成工程）において、基板１００の第２面１００ｂにエッチングマスク５４を形成した状態で基板１００をエッチングして、第１凹部１３ａに平面視で重なる領域に第１凹部１３ａより大径の第２ノズル部形成用の第２凹部１３ｂを形成する。より具体的には、図１３（ｅ）に示すように、フォトリソグラフィー技術を利用して、基板１００の第２面１００ｂにレジストマスクからなるエッチングマスク５４を形成する。次に、エッチングマスク５４の開孔部５４ａを介して基板１００の第２面１００ｂにエッチングを行い、図１３（ｆ）に示すように、第２ノズル部形成用の第２凹部１３ｂを形成した後、硫酸洗浄等によりエッチングマスク５４を除去する。かかるエッチングとして、本形態では、第１凹部形成工程と同様、ＩＣＰドライエッチング装置（図示せず）により、基板１００の第２面１００ｂに異方性ドライエッチングを行い、第２凹部１３ｂを第２面１００ｂに対して垂直に形成する。この場合のエッチングガスとしては、Ｃ4Ｆ8ガスおよびＳＦ6ガスを使用し、これらのエッチングガスを交互に使用する。
【００７６】
次に、図１３（ｇ）に示すように、フッ酸水溶液等により保護膜１４にウェットエッチングを行い、保護膜１４を除去する。その結果、基板１００には、小径の第１ノズル部１１ａと大径の第２ノズル部１１ｂとが連通したノズル孔１１が形成されることになる。
【００７７】
次に、図１４（ｈ）に示す耐液保護層形成工程において、ノズル孔１１の内壁を含む基板１００の表面全体に、耐インク性を有する耐液保護層１６を形成する。本形態では、基板１００を熱酸化炉に投入し、基板１００の表面全体に例えば膜厚が０．１μｍの熱酸化膜（ＳｉＯ2膜）を耐液保護層１６として形成する。
【００７８】
次に、図１４（ｉ）に示す撥液層被覆工程において、フッ素原子を含むケイ素化合物を主成分とする撥液性材料を基板１００の第１面１００ａに蒸着等の方法で成膜し、基板１００の第１面１００ａの全体に撥液層１７を形成する。このとき、ノズル孔１１の内壁にも撥液層１７が形成される。
【００７９】
しかる後には、切断工程において、基板１００の第１面１００ａあるいは第２面１００ｂにダイシングテープを貼付した後、基板１００を溝１２に沿ってレーザーを照射し、図１４（ｊ）に示すように、個々のノズルプレート１に分離し、ノズルプレート１をダイシングテープから剥離してノズルプレート１を得る。その結果、第１端面１０１ａ、１０２ａ、第２端面１０１ｂ、１０２ｂ、および第３端面１０１ｃ、１０２ｃを備えた端面１０１、１０２を有するノズルプレート１が形成され、かかるノズルプレート１では、液滴吐出面１ａから第２端面１０１ｂ、１０２ｂまで耐液保護層１６および撥液層１７が連続して形成された構造になっている。
【００８０】
［他の実施の形態］
上記実施の形態では、ノズルプレート１の全ての端部で固定板１８の底板部１８１が液滴吐出面１ａと重なっていなかったが、固定板１８によって液滴吐出ヘッド１０を固定するにあたって、ノズルプレート１の端部１０６，１０７以外の端部では固定板１８の底板部１８１が液滴吐出面１ａと重なっている構成を採用してもよい。かかる構成でも、ノズルプレート１の端部１０６，１０７以外の端部は短辺に相当するので、ノズルプレート１のサイズは小さいままである。それ故、ノズルプレート１の全ての端部で固定板１８の底板部１８１が液滴吐出面１ａと重なっていない構成と同様、ノズルプレート１のコストを低減することができる。
【００８１】
上記実施の形態では、図７（ａ）〜（ｄ）に示す工程において、ノズル孔形成用の凹部１３と、溝１２とを別のエッチング工程で形成したが、実施の形態４と同様、ノズル孔形成用の凹部１３のエッチング工程を利用して溝１２を形成してもよい。
【００８２】
上記実施の形態では、圧電素子に用いた液滴吐出装置２００の液滴吐出ヘッド１０を例示したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術思想の範囲内で種々変更することができる。駆動手段として、静電力を駆動手段や発熱素子等に利用した液滴吐出ヘッド１０に本発明を適用してもよい。また、ノズル孔１１より吐出される液状材料を変更することにより、インクジェットプリンター以外の液滴吐出装置に本発明を適用することができる。
【符号の説明】
【００８３】
１・・ノズルプレート、１ａ・・液滴吐出面、１ｂ・・裏面、１０・・液滴吐出ヘッド、１１・・ノズル孔、１１ａ・・第１ノズル部、１１ｂ・・第２ノズル部、１２・・溝、１３・・凹部、１３ａ・・第１凹部、１３ｂ・・第２凹部、１００・・基板、１００ａ・・第１面、１００ｂ・・第２面、１０１、１０２・・端面、１０１ａ、１０２ａ・・第１端面、１０１ｂ、１０２ｂ・・第２端面、１０１ｃ、１０２ｃ・・第３端面、１０６、１０７・・端部、１５０・・ケース（ヘッド支持部材）、２００・・液滴吐出装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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