【事件の表示】
　特願２００２−２２２５４０「カラーフィルタの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　２月２６日出願公開、特開２００４−　６２００３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１４年７月３１日にされた出願である。原審において、平成２０年６月２日付けで拒絶理由が通知され、これに対して同年８月８日付けで手続補正がされるとともに意見書が提出された。その後、平成２１年１月３０日付けで最後の拒絶理由が通知され、これに対して同年４月３日付けで手続補正がされるとともに意見書が提出されたものの、同年５月２９日付けで、平成２１年４月３日付けの手続補正の却下の決定がされるとともに拒絶査定がされた。
　上記拒絶査定に対し、平成２１年９月２日に、本件の拒絶査定不服審判の請求がされるとともに手続補正がされた。その後、前置報告書の内容について、審判請求人の意見を求めるために平成２２年８月１１日付けで審尋がされ、同年１０月１４日付けで回答書が提出された。
　
　
第２　本願発明
　本願の請求項１に係る発明は、平成２１年９月２日付け手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである（下記参照）。以下、請求項１に係る発明を「本願発明」という。
＜本願発明＞
「カラーフィルタの形成面に染料含有ポジ型フォトレジストを塗布する工程と、
　前記染料含有ポジ型フォトレジストの塗布膜にパターン露光を行う工程と、
　前記パターン露光を行った塗布膜を第１の現像液により前記塗布膜の露光部分を選択的に除去する現像を行う工程と、
　前記第１の現像液による現像処理で除去できない現像残りを第２の現像液により除去する工程と、
　前記第２の現像液中に溶解している色素および感光剤を前記第２の現像液とともに第３の現像液によりリンスする工程と、
　前記第３の現像液を純水でリンスする工程とを備え、
　前記第３の現像液は、前記ポジ型フォトレジストを構成するポジ型感光性組成物に対する溶解速度が前記第１の現像液と同等以上であり、且つ前記第２の現像液よりも小さい
　カラーフィルタの製造方法。」
　
　
第３　刊行物及び各刊行物の記載事項並びに引用発明の認定
１　引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である、特開平１１−１４２６４２号公報（以下「引用例１」という。）には、図面とともに、以下の事項の記載がある（下記「２　引用発明の認定」において特に関連する部分に下線を引いた。）。
（１）【特許請求の範囲】の欄
「【特許請求の範囲】
【請求項１】  
カラーフィルターの形成面に、染料含有ポジ型フォトレジストを塗布する工程と、
該染料含有ポジ型フォトレジストの塗布膜に、パターン露光を行う露光工程と、
現像工程と、
リンス処理工程と、
洗浄工程とを有し、
上記現像工程において、第１の現像液を用い、
上記リンス処理工程において、第２の現像液を用いることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【請求項２】  
上記第１の現像液が、体積比で１．０〜３．０％の濃度のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液であり、
上記第２の現像液が、体積比で０．５〜２．０％の濃度のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液に対し、体積比で０．０１〜５．０％の濃度のノニオン系界面活性剤が含有されている溶液であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルターの製造方法。
　
（２）【発明の詳細な説明】の欄
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電荷結合素子いわゆるＣＣＤ（チャージ・カプルド・デバイス）による固体撮像素子等に適用するカラーフィルターの製造方法に係わる。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ＣＣＤによる固体撮像素子等においては、これらを構成するカラーフィルターは、露光、現像処理によって、パターン形成が行われる。
…（中略）…
【０００４】また、この固体撮像素子の上面には、受光部５上に受光窓１１ｗが開口されたＡｌ層等よりなる遮光膜１１がほぼ全面的に被着形成される。更に、この遮光膜１１上に、光透過性の平坦化膜１２が全面的に被着形成され、カラーフィルター１３が形成される。
【０００５】このカラーフィルター１３は、例えば図２にその配置パターンの一例を示すように、例えばシアンのフィルター素体Ｃｙ、マゼンタのフィルター素体Ｍｇ、イエローのフィルター素体Ｙｌ、グリーンのフィルター素体Ｇがモザイク状にそれぞれ対応する受光部５上に配置されて成る。
【０００６】このカラーフィルター１３は、例えば染料含有ポジ型フォトレジストによって形成する。このカラーフィルター１３は、染料含有ポジ型フォトレジストを公知のフォトレジスト法で、各色スピンコート後、露光、現像処理、ベーク処理を行うことによって形成することができる。
【０００７】カラーフィルター１３として、薄膜で充分な分光特性を発現させるためには、上記染料含有ポジ型フォトレジスト中の染料を１０〜５０％程度含有させる必要がある。またカラーフィルター１３に、充分な耐熱性、耐光性を持たせ、かつ１０〜５０％程度の高濃度の染料の含有を可能にするためには、染料を構成する材料の化学式においては、−ＳＯ2 ＮＨＲ基、あるいは−ＳＯ2 ＮＲＲ’基（Ｒ、Ｒ’は炭素数３〜１２のアルキル基、置換アルキル基、アリル基、置換アリル基を表す。）を有することが望ましい。
【０００８】しかし、−ＳＯ2 ＮＨＲ基、あるいは−ＳＯ2 ＮＲＲ’基を有する染料は、アルカリ溶液に対して充分な溶解性を持っていないため、いわゆる現像スカム、すなわちフォトレジストの現像残渣を生じる場合が多い。
【０００９】すなわち、カラーフィルター１３の形成においては、図３および図４に示すように、現像不良によって、カラーフィルター素体Ｃｙ、Ｍｇ、Ｙｌ、Ｇのパターンの近傍やこれら素体間において、現像残渣１５を生じる場合がある。
【００１０】図３に示すように、カラーフィルター素体間全面に渡って現像残渣が残った場合には、先ず第１色目のカラーフィルターを形成した後に第２色目のカラーフィルターを形成するときに、混色が起こり、最終的に得られるカラーフィルターを用いた固体撮像素子においては、色再現不良の原因となる。
【００１１】また、図４に示すように、カラーフィルター素体のパターンの近傍やこれら素体間に点状に現像残渣が残った場合には、これが最終的に得られるカラーフィルターを用いた固体撮像素子においては、画像欠陥の原因となり、歩留りを低下させる。
【００１２】この現像残渣を取り除くためにカラーフィルター１３の作製工程において、純水洗浄を行うことによって除去する方法が採られていた。（表１）に従来におけるカラーフィルターの一例の現像処理および洗浄工程を示す。
【００１３】
【表１】
　
【００１４】（表１）に示すように、工程１において、基板を例えば１０００ｒｐｍの高速回転させ、３秒間の現像液吐出を行って、基板全体に現像液を行き渡らせる。ここで基板とは、カラーフィルター１３を形成する例えば前述した平坦化膜１２が形成された固体撮像素子基板、あるいはガラス基板等である。この現像液には、例えばＴ−３現像液（住友化学社製商品名）を使用することができる。
【００１５】次に、工程２において現像液を吐出させた状態で基板の回転数を５０ｒｐｍに落として、１秒間保持し、その後、工程３において現像液の吐出および回転を停止して、６０秒間現像する。
【００１６】この現像処理後、工程４において、基板の回転数を１５００ｒｐｍとして、純水を用いて２０秒間の純水洗浄を行うことによって、現像残渣を物理的に除去する。さらに工程５において、基板を３０００ｒｐｍの高速回転で１５秒間回転させ、純水を振り切るいわゆるスピンドライ工程を行う。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記（表１）に示したようなカラーフィルター１３の作製方法においては、カラーフィルター素体のパターンの近傍やこれら素体間に生じた現像残渣を充分に除去することはできない。
【００１８】また、カラーフィルター素体のパターンの近傍やこれら素体間に生じた現像残渣を除去するために、表面をライトアッシング等によるディスカム処理を行う場合もあるが、この場合には、工程数が増加し、加工精度劣化を引き起こす原因にもなる。また、現像残渣を除去するために、オーバー露光を行う場合もあるが、この場合には、スループットの低下、加工精度劣化等の問題が生じている。
【００１９】そこで、本発明においては、現像処理後に生じた現像残渣の除去を効果的に行うことのできるカラーフィルターの製造方法を提供する。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルターの作製方法においては、カラーフィルターの形成面に、染料含有ポジ型フォトレジストを塗布し、染料含有ポジ型フォトレジストの塗布膜に、パターン露光を行った後、第１の現像液を用いて現像し、その後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液に対し、所定の濃度のノニオン系界面活性剤が含有されている第２の現像液を用いてリンス処理を行い、その後純水洗浄を行って、最終的にカラーフィルターを作製する。
【００２１】本発明によれば、カラーフィルターの形成工程において、カラーフォトレジストの現像処理後の残渣が生じることを効果的に回避することができ、カラーフィルターの剥離を回避することができた。
【００２２】また、カラーフィルターの現像後の残渣の低減、カラーフィルターの剥離を回避することによって、このカラーフィルターが用いられて成る固体撮像素子等の歩留りの向上、画質の向上を図ることができた。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態について説明する。本発明は、固体撮像素子を構成するカラーフィルターを染料含有型フォトレジストで形成する際に、特に、現像残渣の問題を改善するためのカラーフィルターの製造方法に関するものである。
【００２４】次に、本発明を前述したＣＣＤ型固体撮像素子に適用する場合の例を説明するが、本発明はこの例に限定するものではなく、液晶表示素子にも同様に適用することができる。
…（中略）…
【００２６】また、この固体撮像素子の上面には、受光部５上に受光窓１１ｗが開口されたＡｌ層等よりなる遮光膜１１がほぼ全面的に被着形成される。更に、この遮光膜１１上に、光透過性の平坦化膜１２が全面的に被着形成される。この平坦化膜１２は、熱硬化型アクリル樹脂、例えばオプトマーＳＳ２２１１Ｓ（日本合成ゴム社製）を適用することができ、例えば、熱硬化型アクリル樹脂の溶液をスピンコートし、２３０℃で１２０秒間ベークすることにより、１μｍ程度の厚さに形成する。
【００２７】この透明平坦化膜１２の表面処理を行った後、この上に染料含有型フォトレジストによりカラーフィルター１３を形成する。カラーフィルター１３は、例えば図２にその配置パターンの一例を示すように、例えばシアンのフィルター素体Ｃｙ、マゼンタのフィルター素体Ｍｇ、イエローのフィルター素体Ｙｌ、グリーンのフィルター素体Ｇがモザイク状にそれぞれ対応する受光部５上に配置する。
【００２８】このカラーフィルター１３を形成する材料として、例えば以下に示す３種類の染料含有型フォトレジストを適用することができる。なお、これらのフォトレジストが塗布され、カラーフィルターを形成した状態では、染料の含有率が染料含有型フォトレジストの乾燥重量比で１０〜５０％になるような染料含有型フォトレジストを選定する。
…（中略）…
【００３６】上記に示した染料含有型フォトレジストを用いてカラーフィルターのパターンを作製する工程について以下に説明する。図６に示すように、上述したように平坦化膜１２の形成後、平坦化膜１２の面上に、第１色目、例えばシアン染料を含有するフォトレジストをスピンコートし、１００℃で６０秒間ベークし、１μｍの厚さのレジスト層２０を形成する。
【００３７】次に、ｉ線ステッパー（３６５ｎｍ）でパターン露光を行い、現像し、その後１８０℃で１２０秒間ポストベークを行い、図７に示すように平坦化膜１２上に所定のパターンにフィルター素体２１を形成する。
【００３８】次に、図８に示すように、第２色目、例えばマゼンタ染料を含有するフォトレジストを用いて、上述した第１色目と同様の工程により、平坦化膜１２上に所定のパターンにフィルター素体２２を形成する。
【００３９】また、第３色目の染料を含有するフォトレジストを用いて上述した第１色目と同様の工程により、平坦化膜１２上に所定のパターンにフィルター素体を形成する。
【００４０】（表２）に本発明におけるカラーフィルターの一例の現像処理、リンス処理、および洗浄工程を示す。なお、本発明のカラーフィルターの製造方法が、以下に示す工程に限定されるものではなく、種々の材料、各工程の時間を変更することができる。
【００４１】
【表２】
　
【００４２】
ここで、（表２）中、第１の現像液には、体積比で１．０〜３．０％、例えば３．０％の濃度のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液、例えば住友化学社製Ｔ−３現像液を用いることができる。同じく（表２）中、第２の現像液には、体積比で０．５〜２．０％、例えば１．０％の濃度のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液に対し、体積比で０．０１〜５．０％、例えば０．５％の濃度のノニオン系界面活性剤、例えば和光純薬工業社製のＮＣＷ−６０１Ａが添加された溶液を用いることができる。
【００４３】ここで、ノニオン系界面活性剤の濃度を、０．０１〜５．０％としたのは、濃度が０．０１％以上であると、現像残渣を著しく低減させることができるからであり、一方、５．０％を越えると、フォトレジストの膜べりが多くなり、カラーフィルターのプロファイルが損なわれ、また、現像液を洗浄する工程において界面活性剤を完全に除去することが困難になるからである。
【００４４】次に、染料含有型フォトレジストの現像工程等について説明する。図９に、カラーフィルターの現像処理および洗浄処理等を行う現像処理装置の概略図を示す。この現像処理装置は、現像および洗浄等がなされる処理室９０を有する。この処理室９０には、回転基台９１が配置され、これの上に、被処理基板９２、すなわち例えば図１で説明した撮像素子が形成され平坦化膜１２が形成された半導体基板、あるいは、ガラス基板等の、カラーフィルターを形成する基板９２が載置される。この処理室９０には、その底部に後述する現像液、洗浄液、界面活性剤含有現像液等を排出する排出口が設けられる。
【００４５】また、第１および第２のタンク６１および６２が設けられ、これらタンク６１と６２に、それぞれ第１の現像液６１ａと第２の現像液６２ａが収容される。これら第１および第２のタンク６１および６２には、それぞれ窒素ガス供給部１１０からの窒素ガスが、フィルター６３および６４を通じてバルブ６５および６６によりその流量が制御されて供給され、窒素ガスにより加圧された各現像液６１ａおよび６２ａが、処理室９０の上部に配置された第１および第２の現像液吐出ノズル８１および８２に、第１および第２の現像液供給管７１および７２により、それぞれフィルター７３および７４を通じてバルブ７５および７６によりその流量が制御されて供給されるようになされる。
【００４６】また、その処理室９０の上方に、純水吐出ノズル１０１が配置され、この純水吐出ノズル１０１には、純水供給部１００からの純水がフィルター１０２を介して、バルブ１０３によって流量制御されて供給される。
【００４７】図９において示した現像処理装置を用いて、カラーフィルターの現像処理、リンス処理、および洗浄処理の工程について、上記において示した（表２）を用いて以下に説明する。
【００４８】（表２）に示すように、工程１において、基板を１０００ｒｐｍで高速回転させ、３秒間上記第１の現像液を吐出して、基板全体に現像液を行き渡らせる。
【００４９】次に、工程２において上記第１の現像液を吐出させた状態で基板の回転数を５０ｒｐｍに落として、１秒間保持し、その後、工程３において基板の回転を停止し、かつ上述した第１の現像液の吐出を停止して、６０秒間現像する。
【００５０】この現像処理後、工程４において、基板の回転数を７００ｒｐｍ回転とし、上述した第２の現像液を基板上に吐出させ、５秒間のリンス処理を行う。
【００５１】
このリンス処理後、工程５において、基板を１５００回転として、純水を用いて２０秒間の純水洗浄を行う。
【００５２】上述した実施例においては、第２の現像液を用いてリンス処理を行う場合に、基板を所定の回転数で回転させたが、本発明は、この例に限定されるものではなく、第２の現像液を塗布するのみで、基板を回転させないでリンス処理を行う場合についても適用することができる。
【００５３】本発明において使用する第２の現像液に含有されているノニオン系界面活性剤には、例えばポリエチレン２級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシプロピレンアルキルエーテル、脂肪酸アルカノールアミド、アルキルアミンオキサイド等を単一で、もしくは混合して適用することもできる。
【００５４】
【発明の効果】本発明のカラーフィルターの製造方法によれば、カラーフィルターの形成工程において、
現像処理後のカラーフォトレジストの残渣の除去を効果的に行う
【００５５】また、カラーフィルターの現像後の残渣の低減、カラーフィルターの剥離を回避することによって、このカラーフィルターが用いられて成る固体撮像素子等の歩留りの向上、画質の向上を図ることができた。
【００５６】また、カラーフィルターを形成するカラーフォトレジスト中の染料の材料の化学式において、−ＳＯ2 ＮＨＲ基、あるいは−ＳＯ2 ＮＲＲ’基を有する場合にも、現像処理後のカラーフォトレジストの残渣を充分に低減することができた。」
　
　
２　引用発明の認定
　上記「１　引用例１」に摘記した記載及び図面を含む引用例１全体の記載並びに当業者の技術常識を総合的に勘案すると、引用例１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
＜引用発明＞
「カラーフィルターの形成面に、染料含有ポジ型フォトレジストを塗布する工程と、  　
　該染料含有ポジ型フォトレジストの塗布膜に、パターン露光を行う露光工程と、　
　現像工程と、　
　リンス処理工程と、　
　純水洗浄を行う洗浄工程とを有し、　
　上記現像工程において、第１の現像液を用い、　
　上記リンス処理工程において、第２の現像液を用いるカラーフィルターの製造方法であって、　
　上記第１の現像液が、体積比で３．０％の濃度のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液であり、　
　上記第２の現像液が、体積比で１．０％の濃度のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液に対し、和光純薬工業社製のＮＣＷ−６０１Ａが添加されることにより、体積比で０．５％の濃度のノニオン系界面活性剤が含有されている溶液であり、現像処理後のカラーフォトレジストの残渣の除去を効果的に行うことができるカラーフィルターの製造方法。」
　
　
３　引用例２
　同じく原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である、特開平９−３１１２１４号公報（以下「引用例２」という。）には、図面とともに、以下の事項の記載がある。
（１）【特許請求の範囲】
「【請求項１】  顔料を分散させてなる感光性樹脂をガラス基板に塗布し、加熱処理し、露光した後、現像液と接触させて現像処理するカラーフィルター用基板の製造方法において、該現像処理後、該ガラス基板上に付着した現像液を、水で２〜２００倍に希釈した希薄現像液で置換処理する工程および該希薄現像液を更に水で置換処理する工程を有することを特徴とするカラーフィルター用基板の製造方法。」
　
（２）【発明の詳細な説明】の欄
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶ディスプレイ、またはその他のカラー液晶表示装置に使用されるカラーフィルター用基板の製造方法に関し、特に、基板上のレジスト残のない現像法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルターの製造プロセスには、印刷法、顔料分散法、染色法等の種々のプロセスが開発されている。しかし、工業的にはコスト的に顔料分散法が有利であり、この方法によるプロセス開発がさかんに行われている。顔料分散法においての一般的なカラーフィルターのパターン形成プロセスは、まず、透明支持体上にスピン塗布・ロールコーター法等の種々の塗布機を用いて顔料を分散させた感光性樹脂液を所定の膜厚に塗布する。次いで、塗布された感光性樹脂液中の溶媒除去、及び該樹脂と透明支持体との密着性を向上させるために、オーブン、ヒーター等を用いて所定の温度に加熱処理を行う。この後、該基板を放冷、又は種々の装置を用いて冷却処理を行う。冷却後の支持体に対して、感光性樹脂に応じた所定の照射量で所定波長域の電磁波、例えば紫外線或いは所定エネルギーの電子線等を選択的に照射し潜像を形成させる。次いで、露光後の感光性樹脂膜を例えばアルカリ性の現像液で現像処理することにより、ポジ型の感光性樹脂の場合は露光部が、ネガ型感光性樹脂の場合は非露光部が選択的に溶解除去される。この後、リンス処理、乾燥処理を施すことにより所望のパターンを形成してカラーフィルター用基板が製造される。これらの工程を色の異なる顔料を分散させた感光性樹脂液で繰り返し実施することで、カラーフィルターのパターンが形成される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のネガ型感光性樹脂の現像処理方法においては、未露光部に顔料粒子又は感光性樹脂の現像残りが生じる、又は現像液中に溶解・分散した感光性樹脂成分・顔料粒子の基板上への再付着が生じるという問題があった。又、未露光部の現像残りを少なくするため現像時間を長くすると、過剰現像となりパターン部の剥離を生じてしまい精細なパターンを製造することが出来なくなってしまう。」
…（中略）…
【０００６】又、上記の方法は、どれも現像後の現像液中に溶解・分散した顔料粒子・感光性樹脂成分の再付着に関しては、何等解決されていない。又、現像ムラ防止のために現像前に予備現像を実施する方法（特開昭５８−４１４４、特開昭６２−２２５４、特開昭６３−８４０２７）、膨潤によるパターンの変形防止のためにリンスで除去しながら現像を実施する方法（特開昭６３−１６４２１７）等、種々の現像方法が開発されているが、元々これらの方法は目的が異なるため、上記問題点の解決には至っていない。
【０００７】本発明は、上記問題に着目してなされたものであり、顔料粒子・感光性樹脂の現像残りがなく、又、現像液中に溶解・分散された顔料粒子・感光性樹脂成分の再付着もない、高精細なカラーフィルター基板を製造する方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、現像処理後にガラス基板上に残留・付着している現像液を、水で２〜２００倍に希釈した希薄現像液で置換処理し、更に、該希薄現像液を水で置換処理することにより現像残りおよび再付着の問題なく、高精度なカラーフィルター用基板を容易に製造し得ることを見出し、本発明に到達した。
【０００９】即ち、本発明の要旨は、顔料を分散させてなる感光性樹脂をガラス基板に塗布し、加熱処理し、露光した後、現像液と接触させて現像処理するカラーフィルター用基板の製造方法において、該現像処理後、該ガラス基板上に付着した現像液を、水で２〜２００倍に希釈した希薄現像液で置換処理する工程および該希薄現像液を更に水で置換処理する工程を有することを特徴とするカラーフィルター用基板の製造方法に存する。
…（中略）…
【００１９】現像液を水で希釈した希薄現像液で置換処理を実施するが、この濃度が高いと露光部の感光性樹脂を溶解してしまいパターンに与えるダメージも大きくなり、又、現像液中に溶解・分散された顔料粒子・感光性樹脂成分の再付着が生じてしまう。又、濃度が低いとほとんど水で置換した状態に近くなり現像残り・再付着共に悪くなる。この為、本発明においては、希薄現像液は現像液を水で２〜２００倍希釈したものを使用するが、パターンにダメージを与えずに顔料粒子・感光性樹脂の現像残り、再付着をより一層少なくするには、希釈倍率を４〜６０倍とすることが好ましい。
…（中略）…
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は次のような効果を奏するものである。カラーフィルター用基板の画素パターンにダメージを与えることなく、基板上の画素部内又は非画素部の顔料粒子の現像残りを除去し、欠陥の無いカラーフィルター用基板を工業的有利に製造することが出来る。」
　
　
第４　本願発明と引用発明の対比
　本願発明と引用発明を対比する。
（１）引用発明における「『第１の現像液』を用いる『現像工程』」は、「カラーフィルターの形成面に、染料含有ポジ型フォトレジストを塗布する工程」及びその後の「 該染料含有ポジ型フォトレジストの塗布膜に、パターン露光を行う露光工程」を行った後に行われる工程であるから、これが本願発明における「前記パターン露光を行った塗布膜を第１の現像液により前記塗布膜の露光部分を選択的に除去する現像を行う工程」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（２）引用発明における「『第２の現像液』を用いる『リンス処理工程』」は、「第２の現像液」として、「体積比で１．０％の濃度のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液に対し、和光純薬工業社製のＮＣＷ−６０１Ａが添加されることにより、体積比で０．５％の濃度のノニオン系界面活性剤が含有されている溶液」を用い、「現像処理後のカラーフォトレジストの残渣の除去を効果的に行うことができる」のであるから、これが本願発明における「前記第１の現像液による現像処理で除去できない現像残りを第２の現像液により除去する工程」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（３）引用発明における「純水洗浄を行う洗浄工程」が、本願発明における「純水でリンスする工程」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（４）上記（１）ないし（３）を踏まえると、
　本願発明と引用発明は、
「カラーフィルタの形成面に染料含有ポジ型フォトレジストを塗布する工程と、
　前記染料含有ポジ型フォトレジストの塗布膜にパターン露光を行う工程と、
　前記パターン露光を行った塗布膜を第１の現像液により前記塗布膜の露光部分を選択的に除去する現像を行う工程と、
　前記第１の現像液による現像処理で除去できない現像残りを第２の現像液により除去する工程と、
　純水でリンスする工程とを備えるカラーフィルタの製造方法。」
の点で一致し、次の点で相違する。
＜相違点＞
　本願発明においては、純水でリンスする工程の前に第２の現像液中に溶解している色素及び感光剤を第２の現像液とともに第３の現像液によりリンスする工程を有し、したがって、純水でリンスする工程により第３の現像液がリンスされ、第３の現像液は、ポジ型フォトレジストを構成するポジ型感光性組成物に対する溶解速度の値が第１の現像液と同等以上であり、かつ、第２の現像液よりも小さいのに対して、
　引用発明においては、第３の現像液によりリンスする工程を有しておらず、したがって、純水でリンスする工程により第２の現像液がリンスされ、第１の現像液より第２の現像液の方がポジ型フォトレジストを構成するポジ型感光性組成物に対する溶解速度の値が大きいのか否かの点が明確でない点。
　
　
第５　相違点の検討・判断
　上記相違点について検討する。
（１）引用発明における第２の現像液の材料について
　引用発明の「第２の現像液」である「体積比で１．０％の濃度のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液に対し、和光純薬工業社製のＮＣＷ−６０１Ａが添加されることにより、体積比で０．５％の濃度のノニオン系界面活性剤が含有されている溶液」の材料について検討すると、「和光純薬工業社製のＮＣＷ−６０１Ａ」は、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの３０重量％水溶液である（特開２００１−１８５５２３号公報（特に【段落０００９】）、特開２０００−７７３８２号公報（特に【段落０００７】）及び特開平９−２４６２５４号公報（特に【段落００１３】）参照）。したがって、引用発明の第２の現像液は、「体積比で１．０％の濃度のＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）の水溶液に対し、体積比で０．５％の濃度のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルが含有されている溶液」である。
　
（２）引用発明における第１の現像液と第２の現像液の溶解速度の大小関係について
　引用発明における「第１の現像液」と「第２の現像液」の（未露光部の）ポジ型感光性組成物に対する溶解速度（以下単に「溶解速度」という。）について以下検討する。
　引用発明における各現像液の溶解速度を本願発明における各現像液の溶解速度と対比させて検討するために、本願の明細書の段落【００２６】ないし【００２８】を参酌すると、下記のように記載されている。
「現像液Ａ：３．０ｗｔ％のＴＭＡＨ水溶液、
現像液Ｂ：２．０ｗｔ％のＴＭＡＨ水溶液に０．０５ｗｔ％のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルを添加したもの、
現像液Ｃ：０．２ｗｔ％のＴＭＡＨ水溶液に０．０５ｗｔ％のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルを添加したもの、
…（中略）…
また、各現像液について、上記赤色フィルタ形成用感光性樹脂の未露光部の溶解速度を測定した。シリコン基板上に上記赤色フィルタ形成用感光性樹脂を塗布し、各現像液が未露光部を溶解する速度を測定したところ、以下のようになった。
現像液Ａ：０．６ｎｍ／ｓ、
現像液Ｂ：５．４ｎｍ／ｓ、
現像液Ｃ：０．４ｎｍ／ｓ」
　本願の明細書には、「１．０ｗｔ％のＴＭＡＨ水溶液に０．０５ｗｔ％のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルを添加したもの（以下「現像液Ｂ’」という。）」の溶解速度の値は記載されていない。低濃度においては溶解速度は濃度に比例することを踏まえて、現像液Ｂ’の溶解速度を現像液Ｃの溶解速度を用いて見積もると、２．０ｎｍ／ｓ（＝　０．４ｎｍ／ｓ×１．０ｗｔ％／０．２ｗｔ％）となる。また、現像液Ｂの溶解速度を用いて見積もると、２．７ｎｍ／ｓ（＝　５．４ｎｍ／ｓ×１．０ｗｔ％／２．０ｗｔ％　＞　２．０ｎｍ／ｓ）となる。したがって、少なくとも、現像液Ｂの濃度までの領域においては、溶解速度は濃度の増加に対して、飽和傾向にはなく、単純な比例よりも増大する傾向にあるということができる。そうすると、現像液Ｂ’の溶解速度の値は小さめに見積もっても、２．０ｎｍ／ｓはあると推測され、この値は現像液Ａの溶解速度の値である０．６ｎｍ／ｓの３倍の値よりも大きい。
　ここで引用発明の第１の現像液と現像液Ａを比較すると、体積濃度と重量濃度の差はあるものの、どちらも３．０％のＴＭＡＨ水溶液である。また、引用発明の第２の現像液と現像液Ｂ’は、体積濃度と重量濃度の差はあるものの、いずれも１．０％のＴＭＡＨ水溶液にノニオン系界面活性剤であるポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルを添加したものである。引用発明の第２の現像液に添加されたポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの体積濃度は０．５％であり、現像液Ｂ’の濃度である０．０５ｗｔ％の１０倍もあるが、前記界面活性剤の添加は現像液の溶解速度の値を大きくするために添加されるものである。これらの点及び前記の現像液Ｂ’の溶解速度の値の見積もりを考慮すれば、引用発明の第２の現像液の溶解速度の値は第１の現像液の溶解速度の値に対して、十分に大きいことが理解される。
　また、引用発明においては第１の現像液の溶解速度の値と第２の現像液の溶解速度の値の大小関係が不明であるが、第１の現像液がポジ型感光性組成物の露光部分を選択的に除去するものであり、第２の現像液が主に染料からなる現像残査を除去することにあるという機能・目的からして、当該機能・目的を達成するために各現像液の濃度を調節する結果として、第２の現像液の溶解速度の値が第１の現像液の溶解速度の値よりも十分に大きな値となることは、当然のことでもある。
　すなわち、現像液の溶解速度について解説した部分である本願明細書の段落【００２４】を参酌すると、「第１の現像液の目的は、ポジ型感光性組成物の露光部分を選択的に除去することであり、未露光部分の溶解速度はできるだけ遅いことが必要である。一方、第２の現像液の目的は主に染料からなる現像残査を除去することにある。染料を溶解するための現像液の有機物溶解性を高める必要があるが、このことは、未露光部の溶解速度を高めることと同意であり、有効な染料溶解性を得るためには、少なくとも未露光部の溶解速度が第１現像液よりも速い必要がある。」と記載されており、また、第１の現像液がポジ型感光性組成物の露光部分を選択的に除去するものであり、第２の現像液が主に染料からなる現像残査を除去するものであることは、引用発明と本願発明で共通することである。第２の現像液は、第１の現像液で除去できなかった染料からなる現像残査を除去するのであるから、第２の現像液は第１の現像液に比較して染料に対する溶解速度が大きくなるべきところ、前記本願明細書の段落【００２４】の記載によれば、染料を溶解するための現像液の有機物溶解性を高めることは、未露光部の溶解速度を高めることと同意であるのであるから、第２の現像液の溶解速度は第１の現像液の溶解速度より大きくなることとなる。したがって、引用発明においては第１の現像液の溶解速度の値と第２の現像液の溶解速度の値の大小関係が不明であるものの、第１の現像液と第２の現像液の機能・目的を達成するために第１現像液と第２現像液の濃度を調節する結果として、第２の現像液の溶解速度の値が第１の現像液の溶解速度の値より大きくなるのであって、第２の現像液の溶解速度の値を第１の現像液の溶解速度の値より大きくすることは、当業者の当然の配慮事項の結果にほかならない。
　
（３）第３の現像液によりリンスする工程を設けることについて
　引用例２の記載事項を参酌すると、カラーフィルターにおける現像工程において、現像後の現像液中に溶解・分散した顔料粒子・感光性樹脂成分が再付着することを防止するために、現像液の純粋での置換工程の前に、ガラス基板上に付着した現像液を、水で２〜２００倍に希釈した希薄現像液で置換処理する工程を設けることが記載されている。してみれば、引用発明においても、第２の現像液中に溶解した色素（染料）及び感光剤が再付着することを防止するために、引用例２の記載を踏まえて、純水でリンスする工程の前に第２の水溶液を水で希釈した希薄現像液（以下「希薄現像液」という。）で置換してリンスする工程を設け、その後に希薄溶液を純水でリンスするようにすることは、当業者が容易に想到し得たものと認められる。この場合、第３の現像液に相当する希薄現像液は、第２の現像液より濃度が薄いのであるから、溶解速度が第２の現像液より遅くなることは明らかである。すなわち、第３の現像液に相当する希薄現像液は、ポジ型フォトレジストを構成するポジ型感光性組成物に対する溶解速度が、第２の現像液よりも小さくなることは明らかである。
　
（４）第１の現像液と希薄現像液の溶解速度の関係について
　引用例２の段落【００１９】を参酌すると、現像液を水で希釈した希薄現像液の濃度が高いと露光部の感光性樹脂を溶解してしまいパターンに与えるダメージも大きくなり、また現像液中に溶解・分散された顔料粒子・感光性樹脂成分の再付着が生じてしまうこと、また逆に、濃度が低いと再付着を防ぎにくくなることを考慮して、希薄現像液の希釈倍率を好適化する旨記載されている。したがって、引用発明に引用例２に記載された事項に基づいて希薄溶液でリンスする工程を設けるに際して、前記の観点から希薄溶液の濃度を好適な範囲に調節すること（このことは、希薄現像液の溶解速度を好適な範囲に調節することになる。）は、当業者の当然の配慮事項にすぎない。
　また、本願の明細書に実施例として記載された、実施例１及び実施例３においては、第３の現像液の溶解速度の値は第１の現像液の溶解速度の値より小さいところ、本願の明細書の段落【００４８】及び【００５４】を参酌すると、いずれの場合にも現像むらは観察されず、色シェーディングの発生も認められなかった旨記載されている（実施例１の第１の現像液及び第３の現像液はそれぞれ現像液Ａ及び現像液Ｃであるから（本願明細書の段落【００２９】参照）、実施例１の第１の現像液及び第３の現像液の溶解速度（単位［ｎｍ／ｓ］）はそれぞれ０．６及び０．４となり（本願明細書の段落【００２８】参照）、後者は前者より小さい。また、実施例３の第１の現像液及び第３の現像液はそれぞれ現像液Ｆ及び現像液Ｅであるから（本願明細書の段落【００５１】参照）、実施例３の第１の現像液及び第３の現像液の溶解速度（単位［ｎｍ／ｓ］）はそれぞれ０．８及び０．６となり（本願明細書の段落【００２８】参照）、後者は前者より小さい。）。したがって、本願の明細書の記載に基づいては、第３の現像液の溶解速度の値を第１の現像液の溶解速度と同等以上とすることの作用効果を認めることはできない。したがって、第３の現像液について、ポジ型フォトレジストを構成するポジ型感光性組成物に対する溶解速度の値が第１の現像液と同等以上であるとすることは、単なる選択以上の技術上の意義を認めることはできない。
　
（５）請求人の主張する作用効果について
ア　請求人は、審判請求書において、次の点を主張している。
　ｉ）請求項１は、「染料を析出させることなくカラーフィルタの形成面の外に染料を溶解させた第２の現像液を洗い流すことが可能であるとともに、未露光部の溶解速度が第１の現像液よりも低く抑えられてカラーフィルタのパターン形状を確保することが可能である。」といった特有の作用効果を奏することが可能である。 
 ｉｉ）ポジ型感光性組成物に対する溶解速度が、「第１の現像液の溶解速度」≦「第３の現像液の溶解速度」＜「第２の現像液の溶解速度」となる、第３の現像液によって純粋供給前の処理を行う構成としたことにより、上記特有の作用効果を奏することからすれば、このような濃度設定は単なる設計事項などではなく、格別の技術的な意義を有することが明らかである。
　
イ　請求人の主張について検討すると、請求人の主張する作用効果のうち、「染料を析出させることなくカラーフィルタの形成面の外に染料を溶解させた第２の現像液を洗い流すことが可能である」との作用効果は、引用例２に記載された技術的事項の目的とする作用効果であるから、引用発明及び引用例２に記載された事項から技術常識を踏まえて当業者が予測できる範囲を超えるような作用効果であるとは認められない。
　そして、請求人の主張する作用効果のうち、「未露光部の溶解速度が第１の現像液よりも低く抑えられてカラーフィルタのパターン形状を確保することが可能である」との作用効果は、「『第１の現像液の溶解速度』≦『第３の現像液の溶解速度』」との関係からどのようにして導かれるのか、技術常識を踏まえても、理解することができず、前記溶解速度の関係を設定したことに起因する作用効果であるとは認められない。
　したがって、請求人の主張を参酌しても、本願発明が、出願時の技術水準に照らしてみて顕著な作用効果を奏する、すなわち、本願発明が、引用発明及び引用例２に記載された事項から技術常識を踏まえて当業者が予測できる範囲を超えるような作用効果を奏するとは、認められない。
　
（６）小括
　以上検討のとおり、相違点は、引用発明に引用例２に記載された技術的事項を適用するとととも必要な好適化及び選択の作業を行って、当業者が容易に到達し得る事項である。そして、本願発明が奏する作用効果は、引用発明及び引用例２に記載された事項から技術常識を踏まえて当業者が予測できる範囲を超えるものではない。
　したがって、本願発明は、引用発明及び引用例２に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
第６　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び引用例２に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。