【事件の表示】
　特願２００３−３７４６６４「研磨用組成物」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　６月　２日出願公開、特開２００５−１３８１９７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件出願は、平成１５年１１月４日の出願であって、原審での平成２０年６月１２日付拒絶理由通知に対して同年８月２０日付手続補正書により特許請求の範囲と明細書とが補正された後、平成２１年８月２０日付で拒絶査定がなされた。これに対して、平成２１年１１月２５日に拒絶査定の取消しを求める審判が請求されるとともに、同日付で特許請求の範囲と明細書を補正対象書類とする手続補正（以下、「本件補正」という。）がなされた。その後、当審による平成２２年７月２２日付審尋に対し、同年９月２１日付で回答書が提出されたものである。　
　
２．本件補正についての補正却下の決定　
【補正却下の決定の結論】　
　　本件補正を却下する。　
【理由】　
2.1　本件補正の内容　
　本件補正により補正される前後の特許請求の範囲を、補正箇所に下線を付して示すと、以下のとおりである。　
＜補正前＞　
「【請求項１】　
ガラス基板の研磨に用いられ、二酸化ケイ素、酸及び水を含有し、前記酸は、塩酸、リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸
、酢酸、
、コハク酸、
、リンゴ酸、
、乳酸、
、
、及びグリシン
【請求項
２
ｐＨが０．５〜６である請求項１に記載の研磨用組成物。
【請求項３】　請求項１又は２に記載の研磨用組成物を含有する研磨液を用いてガラス基板に研磨を施す研磨方法。
＜補正後＞　
「　【請求項１】　
ガラス基板の研磨に用いられ、二酸化ケイ素、酸及び水を含有し、前記酸は、塩酸、リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸
、
、
、
、
及び
から
　　
【請求項２】前記酸は、塩酸、リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、酒石酸、マレイン酸、マロン酸、メタンスルホン酸、ＨＥＤＰ、ＮＴＭＰ、及びＰＢＴＣから選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の研磨用組成物。
　　【請求項
３
ｐＨが０．５〜６である請求項１
又は請求項２
　
2.2　補正の適否の判断
　本件補正により、請求項１については、補正前の請求項１の発明の発明特定事項である「酸」の選択肢から、「酢酸」、「コハク酸」、「リンゴ酸」、「乳酸」及び「グリシン」が削除された。　
　請求項２については、補正前の請求項１の発明の発明特定事項である「酸」の選択肢から、「酢酸」、「コハク酸」、「リンゴ酸」、「乳酸」及び「グリシン」に加え、「イタコン酸」、「クエン酸」、「グリコール酸」、「ギ酸」、「グルコン酸」、「ホウ酸」及び「アラニン」がさらに削除された。　
　また、補正前の請求項３は削除され、補正前の請求項２が新たに請求項３となった。　
　
　請求項１及び２の補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下、「改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下、「補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。　
　
2.3　補正発明
　補正発明は、2.1の＜補正後＞の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものと認める。
　また、本件出願の明細書には、酸が二酸化ケイ素の表面に作用してこれを活性化することにより研磨材である二酸化ケイ素の機械的研磨力が強まると推察される旨の記載がある。　
　
2.4　刊行物記載の発明　
　本件出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された次の刊行物には、以下の事項が記載されていると認める。　
　
　刊行物：　特開２００２−１６７５７５号公報　
　
ａ．（特許請求の範囲、【請求項１】）　
「下記の（ａ）〜（ｄ）の各成分を含んでなることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物。　
（ａ）水、（ｂ）ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンポリオキシプロピレンコポリマーからなる群から選択される少なくとも１種の化合物、（ｃ）硝酸、亜硝酸、硫酸、塩酸、モリブデン酸、スルファミン酸、グリシン、グリセリン酸、マンデル酸、マロン酸、アスコルビン酸、グルタミン酸、グリオキシル酸、リンゴ酸、グリコール酸、乳酸、グルコン酸、コハク酸、酒石酸、マレイン酸およびクエン酸、ならびにそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１種の化合物、および（ｄ）酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および炭化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも１種の研磨材。」　
ｂ．（発明の詳細な説明、段落【０００２】）　
「さらに詳しくは、本発明は、Ｎｉ−Ｐディスク、Ｎｉ−Ｆｅディスク、アルミニウムディスク、ガラスディスク、ボロンカーバイドディスク、およびカーボンディスク等に代表されるメモリーハードディスクに使用されるディスク基盤（以下、サブストレートという）の研磨における、好適な研磨用組成物およびそれを使用した研磨方法に関するものであり、従来の研磨用組成物で研磨されたサブストレートに比べて、その外周部（以下、「エッジ部」という）の端面ダレを悪化させることなく研磨でき、より高容量かつ高記憶密度の磁気ディスク装置を製造することを可能とするものである。」　
ｃ．（同、段落【０００９】）　
「従って、磁性媒体を形成させる前工程、すなわち、研磨加工工程においてサブストレート表面の粗さを小さくすることが極めて重要であると同時に、微小突起やピット、およびその他の表面欠陥を効果的に、かつ高効率で除去する必要がある。」
ｄ．（同、段落【００５４】）　
「【実施例】＜研磨用組成物の調製＞　まず、研磨材として、平均粒子径が０．８μｍである酸化アルミニウムを撹拌機を用いてそれぞれ水に分散させて、研磨材濃度が研磨用組成物全量の重量に対して２０重量％になるよう調製した。一方、有機酸または無機酸水溶液にポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンポリオキシプロピレンコポリマーを添加して、実施例１〜２０を、また、無添加品及び各種のグリコール類を添加した比較例１〜７の試料を調製した。」　
ｅ．（同、段落【００５５】、【表１】）　
　【表１】には、「比較例２」及び「比較例３」として、「グリコール酸」及び「マレイン酸」を酸化合物として含有する研磨用組成物が示されている。　
ｆ．（同、段落【００５６】）　
「＜研磨試験＞次に、上記の研磨用組成物でサブストレートを用いて研磨試験を行った。条件は下記の通りである。
研磨条件：
被加工物　　　　３．５インチ無電解Ｎｉ−Ｐメッキサブストレート
加工枚数　　　　１５枚
研磨機　　　　　両面研磨機（定盤径７００ｍｍ）
研磨パッド　　　Ｋａｎｅｂｏ　００４８（鐘紡製）
加工圧力　　　　１００ｇ／ｃｍ2　
上定盤回転数　　２４ｒｐｍ
下定盤回転数　　１６ｒｐｍ
組成物希釈率　　１：３純水
研磨用組成物供給量　１５０ｃｃ／ｍｉｎ
加工量　　　　　取り代にして３μｍ（両面）
　（予備テストを行い、取代が一定となるよう各々の研磨時間を設定した）」　
　
　摘記事項ａにおいて、「硝酸、亜硝酸、硫酸、塩酸、モリブデン酸、スルファミン酸、グリシン、グリセリン酸、マンデル酸、マロン酸、アスコルビン酸、グルタミン酸、グリオキシル酸、リンゴ酸、グリコール酸、乳酸、グルコン酸、コハク酸、酒石酸、マレイン酸およびクエン酸」が「酸」であることは、当業者にとって明らかである。　
　そこで、上記摘記事項を補正発明の記載に沿って整理すると、刊行物には次の発明が記載されていると認められる。　
　
「Ｎｉ−Ｐメッキサブストレートの研磨に用いられ、酸化アルミニウムからなる研磨材、酸及び水を含有し、前記酸は、グリコール酸及びマレイン酸から選ばれる少なくとも一種である研磨用組成物。」（以下、「刊行物記載発明」という。）　
　
2.5　対比
　補正発明と刊行物記載発明とを比較すると、後者の「Ｎｉ−Ｐメッキサブストレート」は、ハードディスクに用いられる基板である限りにおいて、前者の「ガラス基板」と共通し、また、後者の「酸化アルミニウム」は研磨材である限りにおいて前者の「二酸化ケイ素」と共通するから、両者は次の諸点において一致及び相違するものと認められる。　
【一致点】　
「基板の研磨に用いられ、研磨材、酸及び水を含有し、前記酸は、マレイン酸及びグリコール酸から選ばれる少なくとも一種である研磨用組成物。」である点。　
【相違点１】　
　前者はガラス基板を研磨対象とし、研磨材として二酸化ケイ素を含有するのに対し、後者はＮｉ−Ｐメッキサブストレートを研磨対象とし、酸化アルミニウムを研磨材として含有する点。　
【相違点２】　
　研磨用組成物に酸を含有させる効果が、前者では二酸化ケイ素の表面に作用してこれを活性化し、二酸化ケイ素の機械的研磨力を強めることにあるのに対し、後者では酸を含有する効果が明確でない点。　
　
2.6　判断　
　以下、上記各相違点について検討する。　
　
2.6.1　【相違点１】について　
　刊行物には、摘記事項ａに示したように研磨材として酸化アルミニウムのみならず、二酸化ケイ素を含有することが記載され、また、摘記事項ｂに示したように、研磨用組成物をＮｉ−Ｐディスクのみならず、Ｎｉ−Ｆｅディスク、アルミニウムディスク、ガラスディスク、ボロンカーバイドディスク、およびカーボンディスク等の基盤の研磨に使用することも記載されている。
　そうしてみると、刊行物記載発明の研磨材、酸及び水を含有する研磨用組成物を、研磨材として二酸化ケイ素を用い、ガラスディスク、すなわちガラス基板の研磨にも適用することは、このことを妨げる記載が刊行物中に見当たらないため、上記記載に接した当業者であれば普通に試みるものである。
　
2.6.2　【相違点２】について　
　【一致点】で述べたとおり、補正発明と刊行物記載発明とは同一の成分を含有するため、刊行物記載発明の研磨用組成物に含有される酸も、補正発明の酸と同様に、二酸化ケイ素の表面を活性化して機械的研磨力を高める作用を生じるものと考えるべきである。
　したがって、【相違点２】は実質的な相違ではない。
　
2.7　まとめ
　補正発明には、刊行物記載発明に基いて普通に予測される範囲を超える格別の作用効果を見出すこともできないため、本件補正発明は刊行物記載発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許出願の際に独立して特許を受けることができないものである。
　したがって、本件補正は、改正前特許法第１７条の２第５項で準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、改正前特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本件出願発明について
3.1　本件出願発明
　平成２１年１１月２５日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項１に係る発明は、平成２０年８月２０日付手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、上記2.1の＜補正前＞の請求項１に示したとおりである。
　
3.2　刊行物記載の発明
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物とその記載事項は、上記2.4に記載したとおりである。
　
3.3　対比・判断
　本件発明は、前記２．で検討した補正発明に対し、発明特定事項である「酸」について、選択肢の数を増加したものに該当する。
　そうすると、本件発明の構成を全て含む補正発明が、上記2.7に記載したとおり、刊行物記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も同じく、刊行物記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　なお、請求人の平成２２年９月２１日付回答書には、補正案として請求項１に係る発明において、「酸」の選択肢からさらに「ＨＥＤＰ」、「ＮＴＭＰ」、「ＰＢＴＣ」を削除する内容の補正案が示されているので、ここでこの補正案についても検討しておく。
　補正案のとおりに補正した本件出願の請求項１に係る発明と刊行物記載発明との一致点及び相違点は、上記2.5に示したものと変わるところがない。
　したがって、補正案を採用したとしても、請求項１に係る発明が刊行物記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとの判断に変わりはない。
　
3.4　むすび
　以上のとおり、本件出願の請求項１に係る発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、請求項２及び３に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。
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