【事件の表示】
　特願２００３−　４６６３０「レチクルを保護する２部分カバーを用いるシステムおよび方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　９月１２日出願公開、特開２００３−２５７８５２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　
　本願は、平成１５年２月２４日の出願（パリ優先権主張：平成１４年２月２２日）であって、平成１９年５月２３日に手続補正書が提出され、同年７月６日付けで拒絶理由が通知され、これに対して、同年１１月１２日に手続補正書が提出され、さらに同年１２月４日付けで最後の拒絶理由が通知され、平成２０年３月６日付けで手続補正書が提出されたが、同年４月１５日付けで当該手続補正の補正の却下の決定がなされるとともに、同日付で拒絶査定がなされた。これに対し、同年７月１１日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同日付で手続補正がなされ、その後、平成２１年５月８日付けで、審判請求人に前置報告書の内容を示し意見を求めるための審尋をおこなったところ、同年８月１１日付けで回答書が提出されたものである。
　
第２　平成２０年７月１１日付けの手続補正の補正の却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２０年７月１１日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１．補正後の請求項１に記載された発明
　平成２０年７月１１日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）により、明細書の特許請求の範囲の請求項１は、特許請求の範囲の減縮を目的として、以下のように補正された。
　
　「レチクルを保護するカバーを備え、該カバーで正面が保護されている反射型レチクルを、露光ポジションに位置するステージまで搬送させ、背面がステージ側を向くようにステージに取り付けるシステムであって、
　前記カバーは、フレームおよび該フレームに取り付けかつ再配置可能なパネルを備え、
　前記カバーの前記フレームは、前記カバーを前記レチクルに結合させかつ前記レチクルの少なくとも一部を支持し、前記カバーを前記ステージに取り付けるように構成され、
　前記カバーの前記パネルは、少なくとも露光ポジションに搬送するまでの間前記レチクルを保護するように構成され、前記カバーが前記フレームを介して前記ステージに取り付けられることにより前記レチクルが前記ステージに取り付けられるまでの間、前記フレームへの取り付け状態が維持され、前記取り付け後露光プロセスの間、前記レチクルが前記フレームに結合されたまま前記フレームから取り外されて、前記レチクルに光が直接的にアクセスすることを可能にする、
システム。」
　
　そこで、本願の補正後の上記請求項１に記載された発明（以下「補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下に検討する。 
　
２．引用刊行物及び各刊行物に記載された事項
（１）原査定の拒絶の理由に引用され、本願出願前に頒布された刊行物である、特開平９−３２０９３５号公報（以下「引用文献１」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　
（１ａ）「【００１４】本発明は、上記したような従来の技術が有する問題点を解決するためになされたものであり、搬送や露光等の取り扱い時に損傷することなく、マスクパターンへの異物の付着を防止できる保護手段を備えたＸ線マスクを提供することを目的とする。」
　
（１ｂ）「【００２７】本実施例のＸ線マスク１が使用される露光装置には、シンクロトロン放射光を光源としたプロキシミティギャップ型等倍露光装置を用いる。Ｘ線マスク１、Ｘ線マスク１が搭載されるマスクステージ、ウェハ及びウェハステージ、およびＸ線の照射を制御するシャッター等の装置は減圧ヘリウムの雰囲気中に配置され、Ｘ線窓によって真空中に配置される光学系と隔てられている。このため、露光装置にはＸ線マスク１を露光装置内に搬入するときに雰囲気を置換する予備排気室が設けられている。」
　
（１ｃ）「【００３７】本実施例で使用するＸ線マスク１１は、ＳｉＣからなる基板１２上にＣｒ−Ｃ多層膜の反射層１３が形成され、その上にＸ線を吸収するＡｕ層が所望の形状でパターニングされたマスクパターン１４を有する反射型マスクである。」
　
（１ｄ）「【００３９】マスクパターン保護部材１６は帯電防止処理が施された厚さ１ｍｍのプラスチックで形成され、上面を除く側面の３面にそれぞれ通気口１７（図３では下面のみ図示）が設けられている。このマスクパターン保護部材１６が装着されることでマスクパターン１４およびアライメントマーク１５が保護される。」
　
（１ｅ）「【００４２】なお、Ｘ線マスク１１は、第１実施例と同様に欠陥検査の後、マスクパターン保護部材１６が装着され、マスクパターン保護部材１６が装着されたままマスクカセット内に収納されて運搬、保管されている。」
　
（１ｆ）「【００４５】予備排気室内が所定の真空度に到達した後、露光装置と予備排気室との真空隔壁を開き、マスクキャリアによって、マスクパターン保護部材１６を装着したＸ線マスク１１を露光装置の所定の位置に搬送する。
【００４６】マスクパターン保護部材１６は、マスクを固定するマスクチャック機構によってＸ線マスク１１が固定されるまで装着され、Ｘ線マスク１１の搬送時に異物が付着するのを防止する。
【００４７】一方、露光装置内にはマスクパターン保護部材１６を露光光路より退避させるための移動手段が設けられ、Ｘ線マスク１１の固定後、マスクパターン保護部材１６を露光光路から退避させる。このとき、アライメント調整用の光路についても妨げることがないようにマスクパターン保護部材１６を退避させる。
【００４８】マスクパターン保護部材１６が退避したら、露光装置はアライメント光Ｌ２を用いてアライメント調整を行い、アライメント調整終了後、露光光Ｌ１を用いて露光を行う（図３（ｂ））。
【００４９】アライメント調整および露光が終了した後、上記移動手段によってマスクパターン保護部材１６が再びＸ線マスク１１に装着され、そのままマスクキャリアに戻されてマスクスロット内に収納される。なお、Ｘ線マスク１１は露光装置内の搬送時もマスクパターン保護部材１６によって異物の付着が防止される。」
　
（１ｇ）「【００５１】したがって、本実施例のＸ線マスク１１は、露光装置外だけでなく、排気や給気による装置内雰囲気の流れによって異物が付着する露光装置内でも、マスクパターン保護部材１６が装着されているため、異物の付着が大幅に低減される。」
　
（１ｈ）図３（ａ）から、マスクパターン１４及びアライメントマーク１５が、反射型マスクの同一面上に形成されること、並びに、当該面がマスクパターン保護部材により保護されていることが見て取れる。
　
　これらの記載事項及び図面を含む引用文献１全体の記載並びに当業者の技術常識によれば、引用文献１には、以下の発明が記載されている。
　
「異物の付着を防止するマスクパターン保護部材を備え、該マスクパターン保護部材を装着することによりマスクパターンおよびアライメントマークが形成されている面が保護されている反射型マスクを、露光装置の所定の位置に搬送させ、マスクチャック機構に固定する露光装置であって、
　前記反射型マスクが前記マスクチャック機構に固定されるまで前記反射型マスクへ装着されている前記マスクパターン保護部材を、前記固定後に露光光路から退避させ、露光終了後に再び前記反射型マスクに装着させる移動手段を有する露光装置。」（以下「引用発明」という。）
　
（２）原査定の拒絶の理由に引用され、本願出願前に頒布された刊行物である、特開昭５６−２４３３５号公報（以下「引用文献２」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　
（２ａ）「マスクはできるだけ清潔に保たれなければならない。わずかなダストが付着しても大きな欠陥が生じる。しかるに、ダストはマスクの貯蔵中でも投影機への出し入れのさいにも付着しやすいものである。それゆえ、本発明の課題は、貯蔵中も投影機への出し入れ時もマスクを清潔に保つ装置を提供することにある。」（第３頁右下欄第１８行〜第４頁左上欄第４行）
　
（２ｂ）「支持体１２は特に第３図から判るように方形の形状を有し、底部両角隅が丸く面取りされ、上部角隅の一方が斜め面取部２０を備えている。支持体１２は一方の面（第３図で見て上面）にほぼ方形の凹設部２２を備えており、同凹設部２２は第１２図及び第１３図から判るように支持体の厚さのほぼ半分ほどの深さを有している。これによつて、投影マスク１４のための環状の支持面２４が形成されている。」（第４頁右上欄第１０〜１８行）
　
（２ｃ）「投影マスク１４は例えばほぼ３インチ平方の面積及び１／４インチの厚さを有し（１インチ＝約２．５４ｃｍ）、凹設部２２内に取付けられる。その場合、投影マスク１４の縁部が支持面２４と、支持体１２から凹設部２２内へ突出した突出肩部３０とに支持される。さらに投影マスク１４はこの位置で３つの舌片３２によつて固定される。」（第４頁左下欄第３〜１０行）
　
（２ｄ）「カバーを固定するための２つの孔４０が支持体１２の、第３図でみて窓２８の両側の各主要面にそれぞれ１つずつ設けられている。」（第４頁左下欄第１７〜２０行）
　
（２ｅ）「カバー１６，１８は著しく薄い板から成り、支持体１２の外輪郭に合致した形状を有している。各カバー１６，１８の内面からは１対の固定ピン５８（第１３図参照）が突起しており、この固定ピン５８は支持体１２の孔４０内に係合する。」（第４頁右下欄第１０〜１５行）
　
（２ｆ）「投影機で使用されるべき投影マスク１４はマスクカセツト１０内に貯蔵されている。同マスクカセツト１０は支持体１２と、これに取付けたカバー１６，１８とから成る。」（第６頁左下欄第４〜７行）
　
（２ｇ）「この動作の結果、両方のカバー１６，１８が第１４図に示すように支持体１２から取外され、支持体１２及び投影マスクだけがスリツト１３１及び搬送鎖１２８の真上で水平基板１０４上に残される。」（第６頁右下欄第１７行〜第７頁左上欄第１行）
　
（２ｈ）「その後に、右方向への翼１４２の引続く走行によつて、支持体１２は第１５図に示す位置に達する。そのさいカバー１６，１８は後方に残されたままである。次いで支持体１２及び投影マスクは、マスククランプローラ２００が斜め面取部２０に係合することによつて所定位置でロツクされる。
　投影作業が終了したのち、逆の作業手順で支持体が操作される。」（第７頁左上欄第１１〜１９行）
　
（２ｉ）「支持体１２がこの出発位置に位置する間に、レバー腕１５４，１５６の短い部分１５４ｂ、１５６ｂが押し開かれ、これによつて長い部分１５４ａ，１５６ａがカバー１６，１８を支持体１２の各側へ戻し、シールストリツプ１０２を第１２図に示すように押圧する。次いで、真空ノズル１８４を介して、開いた弁を通つてマスクカセツト１０内に真空が負荷される（第１０図）。この真空によつて、カバー１６，１８はその他のクランプ手段又はロツク手段なしに支持体１２に密着する。」（第７頁右上欄第３〜１３行）
　
３．対比
　
　補正発明と引用発明を比較すると、引用発明の「反射型マスク」は補正発明の「反射型レチクル」に相当する。引用発明の「マスクパターン保護部材」は反射型マスクに装着されることにより該反射型マスクへの異物の付着を防止し、露光中は露光光路から退避させられ、露光終了後に再び反射型マスクへ装着させられるものであるから、補正発明における「再配置可能なパネル」に相当する部材を有することは明らかである。また、補正発明における「カバー」と引用発明の「マスクパターン保護部材」とは、レチクルを保護する保護部材である点において共通する。そして、引用発明においても、補正発明においても、当該保護部材がレチクルに結合していることは明らかである。
　また、引用発明における「露光装置の所定の位置」とは、反射型マスクがマスクチャック機構に固定され露光がおこなわれる位置のことであるから、補正発明における「露光ポジション」に相当する。そして、引用文献１には別の実施例に、Ｘ線マスクをマスクステージに搭載することが記載されていること（上記２．（１）の（１ｂ）参照）、及び、露光装置においてマスクステージを設けることが当業者の技術常識であること等を考慮すると、引用発明の「露光装置の所定の位置」には、ステージが存在していることは明らかである。
　また、補正発明においてレチクルの「正面」とは、露光プロセスの間光が直接アクセスする側の面であるから、引用発明の反射型マスクにおいて「マスクパターン及びアライメントマークが形成されている面」が、補正発明の「正面」に相当する。そして当該面と逆側の面が、補正発明における「背面」に相当し、引用発明において露光光の照射を妨げないように、ステージが反射型マスクの前記背面側に設けられていることは明らかである。
　また、引用発明においてマスクパターン保護部材を露光光路から退避させることにより、反射型マスクに露光光が直接的にアクセスできることは明らかである（引用文献１の図３（ｂ）を参照）。
　そして、引用発明の露光装置やそこで用いられている反射型マスク及び該反射型マスクに装着されるマスクパターン保護部材、並びに、露光装置外の搬送機構や保管機構等は、全体としてシステムを構築しているといえる。
　
　そこで、両者は、
　
　「レチクルを保護する保護部材を備え、該保護部材で正面が保護されている反射型レチクルを、露光ポジションに位置するステージまで搬送させ、背面がステージ側を向くようにステージに取り付けるシステムであって、
　前記保護部材は、再配置可能なパネルを備え、
　前記保護部材を前記レチクルに結合させるように構成され、
　前記保護部材の前記パネルは、少なくとも露光ポジションに搬送するまでの間前記レチクルを保護するように構成され、前記レチクルが前記ステージに取り付けられるまでの間、取り付け状態が維持され、前記取り付け後露光プロセスの間、取り外されて、前記レチクルに光が直接的にアクセスすることを可能にする、
システム。」
　
の点で一致し、次の点で相違している。
　
＜相違点＞
　補正発明では、保護部材がフレームとパネルとを有するカバーで構成され、該フレームがレチクルを支持するとともに、カバーがフレームを介してステージに取り付けられ、その結果、露光時にはレチクルがフレームに結合されたまま、パネルがフレームから取り外されるのに対して、引用発明では、保護部材がそのようなフレームを有していない点。
　
４．判断
　上記相違点について検討する。
　
＜相違点について＞
　マスクへの異物の付着を防止するために、マスク表面を保護部材で覆うように構成するに際して、保護部材をフレームのような支持部材を介して装着すること、及び、マスクを支持部材ごと露光部に固定することは、引用文献２に見られるとおり周知の技術である（引用文献２の「投影マスク１４」、「カバー１６，１８」、「支持体１２」を参照）。
　したがって、引用発明のマスクパターン保護部材とマスクとの間に、上記周知の支持部材を介在させ、相違点に係る構成を採用することは、当業者が容易になし得る事項である。
　
　そして、補正発明全体の効果も、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
　
　なお、審判請求書において請求人は、引用文献１の発明は反射型マスクのマスクパターンが形成された一方の面を保護するためにマスクパターン保護部材を設けているのに対し、引用文献２の発明はマスクの両面側にカバーを設けているから、両発明は構成上大きく相違するものであり、その組み合わせに困難性が存在すると主張する。しかし、引用文献２に記載された上記周知技術は、反射型マスクと透過型マスクとに係わりなく適用できるものであるから、出願人の上記主張は採用できない。
　
　したがって、補正発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 
　
　また、平成２１年８月１１日付け回答書で提示された補正案を参酌しても、上記判断に変わりはない。
　すなわち、上記回答書で提示された補正案は、補正発明に、フレームについての「開口部を有」するとの限定事項、及び、パネルについての「前記レチクルの正面側の目視検査および識別を可能にするよう可視光を透過させる材料を有する」との限定事項を付加したものである。しかし、前者の限定事項は、引用文献２に記載された「支持体」も有する構成である。また、引用文献１の【００２４】段落には、後者の限定事項と同様の事項が記載されている。
　よって、前記補正案による発明も、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５．むすび 
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項の規定において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　
　よって、上記［補正の却下の決定の結論］のとおり、決定する。
　
第３　本願発明について 
　
　平成２０年７月１１日付けの手続補正は上記のとおり却下されたから、本願の請求項１に係る発明は、平成１９年１１月１２日付けの手続補正で補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　
　「レチクルを保護するカバーを備え、該カバーは、
　　前記カバーを前記レチクルに結合させ、かつ前記レチクルの少なくとも一部を支持するフレームと、
　　少なくとも露光ポジションに搬送するまでの間前記レチクルを保護するように構成され、露光プロセスの間前記レチクルに光が直接的にアクセスすることを可能にするように前記レチクルが前記露光ポジションに位置するときには前記レチクルから離される、再配置可能なパネルと、
　を有し、
　前記フレームは、前記露光プロセスの間前記レチクルに結合されているシステム。」（以下「本願発明」という。）
　
１．引用刊行物及び各刊行物に記載された事項
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願出願前に頒布された刊行物である、上記引用文献１の記載事項及び該文献に記載された発明、並びに、上記引用文献２の記載事項については、上記「第２」の「２．」に記載のとおりである。
　
２．対比・判断
　本願発明は、前記補正発明から、システムについての「該カバーで正面が保護されている反射型レチクルを、露光ポジションに位置するステージまで搬送させ、背面がステージ側を向くようにステージに取り付ける」との限定事項、パネルについての「フレームに取り付け」られ、「前記レチクルが前記ステージに取り付けられるまでの間、前記フレームへの取り付け状態が維持され」、「前記取り付け後」「フレームから取り外され」るとの限定事項、及び、フレームについての「前記カバーを前記ステージに取り付けるように構成され」るとの限定事項を省いたものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、更に、他の発明特定事項を付加したものに相当する補正発明が、前記「第２」の「４．」に記載したとおり、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様に、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
３．むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶されるべきものである。 
　
　よって、結論のとおり審決する。