【事件の表示】
　特願２００５−３１８４９９「リソグラフィシステムおよびリソグラフィシステムによるリソグラフィ方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　５月２５日出願公開、特開２００６−１３５３２４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
特許出願　　　　：平成１７年１１月　１日
（優先日　平成１６年１１月２日　アメリカ合衆国）
拒絶理由　　　　：平成２０年１０月１０日（起案日）
意見及び手続補正：平成２１年　４月１４日
拒絶査定　　　　：平成２１年　８月２７日（起案日）
審判請求　　　　：平成２１年１２月２２日
手続補正　　　　：平成２１年１２月２２日
審尋　　　　　　：平成２２年１１月　４日（起案日）
回答書　　　　　：平成２３年　２月　４日
　
第２　本願発明
　本願の請求項１及び３に係る発明（以下，それぞれ「本願発明１」及び「本願発明３」という。）は，下記のとおりのものである。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　
【請求項１】
　光源からの光をパターンによりパターニングし，そのパターン光を表面へ投影するリソグラフィシステムにおいて，
　放射の投影ビームを形成する照明系と，
　所望のパターンにしたがって前記投影ビームをパターニングするパターニングデバイスと，
　前記パターン化されたビームを基板のターゲット部分へ投影する投影系と，
　前記照明系と前記表面とのあいだに配置された可変偏光素子と
　を有し，
　前記可変偏光素子は少なくとも３つのモード，すなわち第１の直線偏光，これに直交する第２の直線偏光，及び円偏光のうち，選択された１つのモードで駆動され，
　前記偏光は，投影される像の配向に基づいて選択される，リソグラフィシステム。
　
【請求項３】
　前記可変偏光素子が，第１の１／４波プレート及び第２の１／４波プレートを含む，請求項１又は２に記載のシステム。
　
第３　引用発明
　原査定の拒絶の理由に引用され，本願の優先日前に頒布された刊行物である国際公開第２００４／０５１７１７号（以下「引用例」という。）には，各図とともに以下の事項が記載されている（引用箇所の表示に際しては，各葉の上部中央の数字をページ番号と見たてた。また，行は空白行を除いて数えた。）。
　
記載事項ア　
「技術分野
　本発明は照明光学装置，露光装置および露光方法に関し，特に半導体素子，撮像素子，液晶表示素子，薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に関する。」（１ページ３ないし６行）
　
記載事項イ　
「　第１図は，本発明の実施形態にかかる照明光学装置を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。第１図において，感光性基板であるウェハＷの法線方向に沿ってＺ軸を，ウェハ面内において第１図の紙面に平行な方向にＹ軸を，ウェハ面内において第１図の紙面に垂直な方向にＸ軸をそれぞれ設定している。なお，第１図では，照明光学装置が輪帯照明を行うように設定されている。
　本実施形態の露光装置は，露光光（照明光）を供給するためのレーザ光源１を備えている。レーザ光源１として，たとえば２４８ｎｍの波長の光を供給するＫｒＦエキシマレーザ光源や１９３ｎｍの波長の光を供給するＡｒＦエキシマレーザ光源などを用いることができる。レーザ光源１からＺ方向に沿って射出されたほぼ平行な光束は，Ｘ方向に沿って細長く延びた矩形状の断面を有し，一対のレンズ２ａおよび２ｂからなるビームエキスパンダ２に入射する。各レンズ２ａおよび２ｂは，第１図の紙面内（ＹＺ平面内）において負の屈折力および正の屈折力をそれぞれ有する。したがって，ビームエキスパンダ２に入射した光束は，第１図の紙面内において拡大され，所定の矩形状の断面を有する光束に整形される。
　整形光学系としてのビームエキスパンダ２を介したほぼ平行な光束は，折り曲げミラー３でＹ方向に偏向された後，位相部材１０，デポラライザ（非偏光化素子）２０，および回折光学素子４を介して，アフォーカルズームレンズ５に入射する。位相部材１０およびデポラライザ２０の構成および作用については後述する。一般に，回折光学素子は，基板に露光光（照明光）の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され，入射ビームを所望の角度に回折する作用を有する。具体的には，回折光学素子４は，矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に，そのファーフィールド（またはフラウンホーファー回折領域）に円形状の光強度分布を形成する機能を有する。
　したがって，回折光学素子４を介した光束は，アフォーカルズームレンズ５の瞳位置に円形状の光強度分布，すなわち円形状の断面を有する光束を形成する。回折光学素子４は，照明光路から退避可能に構成されている。アフォーカルズームレンズ５は，アフォーカル系（無焦点光学系）を維持しながら所定の範囲で倍率を連続的に変化させることができるように構成されている。アフォーカルズームレンズ５を介した光束は，輪帯照明用の回折光学素子６に入射する。アフォーカルズームレンズ５は，回折光学素子４の発散原点と回折光学素子６の回折面とを光学的にほぼ共役に結んでいる。そして，回折光学素子６の回折面またはその近傍の面の一点に集光する光束の開口数は，アフォーカルズームレンズ５の倍率に依存して変化する。
　輪帯照明用の回折光学素子６は，平行光束が入射した場合に，そのファーフィールドにリング状の光強度分布を形成する機能を有する。回折光学素子６は，照明光路に対して挿脱自在に構成され，且つ４極照明用の回折光学素子６０や円形照明用の回折光学素子６１やＸ方向２極照明用の回折光学素子６２やＹ方向２極照明用の回折光学素子６３と切り換え可能に構成されている。４極照明用の回折光学素子６０，円形照明用の回折光学素子６１，Ｘ方向２極照明用の回折光学素子６２，およびＹ方向２極照明用の回折光学素子６３の構成および作用については後述する。
　回折光学素子６を介した光束は，ズームレンズ７に入射する。ズームレンズ７の後側焦点面の近傍には，マイクロレンズアレイ（またはフライアイレンズ）８の入射面が位置決めされている。マイクロレンズアレイ８は，縦横に且つ稠密に配列された多数の正屈折力を有する微小レンズからなる光学素子である。一般に，マイクロレンズアレイは，たとえば平行平面板にエッチング処理を施して微小レンズ群を形成することによって構成される。
　ここで，マイクロレンズアレイを構成する各微小レンズは，フライアイレンズを構成する各レンズエレメントよりも微小である。また，マイクロレンズアレイは，互いに隔絶されたレンズエレメントからなるフライアイレンズとは異なり，多数の微小レンズ（微小屈折面）が互いに隔絶されることなく一体的に形成されている。しかしながら，正屈折力を有するレンズ要素が縦横に配置されている点でマイクロレンズアレイはフライアイレンズと同じ波面分割型のオプティカルインテグレータである。
　上述したように，回折光学素子４を介してアフォーカルズームレンズ５の瞳位置に形成される円形状の光強度分布からの光束は，アフォーカルズームレンズ５から射出された後，様々な角度成分を有する光束となって回折光学素子６に入射する。すなわち，回折光学素子４は，角度光束形成機能を有するオプティカルインテグレータを構成している。一方，回折光学素子６は，平行光束が入射した場合に，そのファーフィールドにリング状の光強度分布を形成する光束変換素子としての機能を有する。したがって，回折光学素子６を介した光束は，ズームレンズ７の後側焦点面に（ひいてはマイクロレンズアレイ８の入射面に），たとえば光軸ＡＸを中心とした輪帯状の照野を形成する。
　マイクロレンズアレイ８の入射面に形成される輪帯状の照野の外径は，ズームレンズ７の焦点距離に依存して変化する。このように，ズームレンズ７は，回折光学素子６とマイクロレンズアレイ８の入射面とを実質的にフーリエ変換の関係に結んでいる。マイクロレンズアレイ８に入射した光束は二次元的に分割され，マイクロレンズアレイ８の後側焦点面には，第２Ａ図に示すように，入射光束によって形成される照野と同じ輪帯状の多数光源（以下，「二次光源」という）が形成される。
　マイクロレンズアレイ８の後側焦点面に形成された輪帯状の二次光源からの光束は，コンデンサー光学系９の集光作用を受けた後，所定のパターンが形成されたマスクＭを重畳的に照明する。マスクＭのパターンを透過した光束は，投影光学系ＰＬを介して，感光性基板であるウェハＷ上にマスクパターンの像を形成する。こうして，投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと直交する平面（ＸＹ平面）内においてウェハＷを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより，ウェハＷの各露光領域にはマスクＭのパターンが逐次露光される。」（１７ページ４行ないし１９ページ２５行）
　
記載事項ウ　
「　第４図は，第１図の位相部材およびデポラライザの構成を概略的に示す図である。第４図を参照すると，位相部材１０は，光軸ＡＸを中心として結晶光学軸が回転自在に構成された１／２波長板により構成されている。一方，デポラライザ２０は，楔形状の水晶プリズム２０ａと，この水晶プリズム２０ａと相補的な形状を有する楔形状の石英プリズム２０ｂとにより構成されている。水晶プリズム２０ａと石英プリズム２０ｂとは，一体的なプリズム組立体として，照明光路に対して挿脱自在に構成されている。レーザ光源１としてＫｒＦエキシマレーザ光源またはＡｒＦエキシマレーザ光源を用いている場合，これらの光源から射出される光の偏光度は典型的には９５％以上の偏光度を有するため，１／２波長板１０にはほぼ直線偏光の光が入射する。
　１／２波長板１０の結晶光学軸が入射する直線偏光の偏光面に対して０度または９０度の角度をなすように設定された場合，１／２波長板１０に入射した直線偏光の光は偏光面が変化することなくそのまま通過する。また，１／２波長板１０の結晶光学軸が入射する直線偏光の偏光面に対して４５度の角度をなすように設定された場合，１／２波長板１０に入射した直線偏光の光は偏光面が９０度だけ変化した直線偏光の光に変換される。さらに，水晶プリズム２０ａの結晶光学軸が入射する直線偏光の偏光面に対して４５度の角度をなすように設定された場合，水晶プリズム２０ａに入射した直線偏光の光は非偏光状態の光に変換（非偏光化）される。
　本実施形態では，デポラライザ２０が照明光路中に位置決めされたときに水晶プリズム２０ａの結晶光学軸が入射する直線偏光の偏光面に対して４５度の角度をなすように構成されている。ちなみに，水晶プリズム２０ａの結晶光学軸が入射する直線偏光の偏光面に対して０度または９０度の角度をなすように設定された場合，水晶プリズム２０ａに入射した直線偏光の光は偏光面が変化することなくそのまま通過する。また，１／２波長板１０の結晶光学軸が入射する直線偏光の偏光面に対して２２．５度の角度をなすように設定された場合，１／２波長板１０に入射した直線偏光の光は，偏光面が変化することなくそのまま通過する直線偏光成分と偏光面が９０度だけ変化した直線偏光成分とを含む非偏光状態の光に変換される。
　本実施形態では，上述したように，レーザ光源１からの直線偏光の光が１／２波長板１０に入射するが，以下の説明を簡単にするために，Ｐ偏光（第１図中で１／２波長板の位置においてＺ方向に偏光面を持つ直線偏光，以下Ｚ方向偏光と称する）の光が１／２波長板１０に入射するものとする。デポラライザ２０を照明光路中に位置決めした場合，１／２波長板１０の結晶光学軸が入射するＰ偏光（Ｚ方向偏光）の偏光面に対して０度または９０度の角度をなすように設定すると，１／２波長板１０に入射したＰ偏光（Ｚ方向偏光）の光は偏光面が変化することなくＰ偏光（Ｚ方向偏光）のまま通過して水晶プリズム２０ａに入射する。水晶プリズム２０ａの結晶光学軸は入射するＰ偏光（Ｚ方向偏光）の偏光面に対して４５度の角度をなすように設定されているので，水晶プリズム２０ａに入射したＰ偏光（Ｚ方向偏光）の光は非偏光状態の光に変換される。
　水晶プリズム２０ａを介して非偏光化された光は，光の進行方向を補償するためのコンペンセータとしての石英プリズム２０ｂを介して，非偏光状態でマスクＭ（ひいてはウェハＷ）を照明する。一方，１／２波長板１０の結晶光学軸が入射するＰ偏光（Ｚ方向偏光）の偏光面に対して４５度の角度をなすように設定すると，１／２波長板１０に入射したＰ偏光（Ｚ方向偏光）の光は偏光面が９０度だけ変化し，Ｓ偏光（第１図中で１／２波長板の位置においてＸ方向に偏光面を持つ直線偏光，以下Ｘ方向偏光と称する）の光になって水晶プリズム２０ａに入射する。水晶プリズム２０ａの結晶光学軸は入射するＳ偏光（Ｘ方向偏光）の偏光面に対しても４５度の角度をなすように設定されているので，水晶プリズム２０ａに入射したＳ偏光（Ｘ方向偏光）の光は非偏光状態の光に変換され，石英プリズム２０ｂを介して，非偏光状態でマスクＭを照明する。
　これに対し，デポラライザ２０を照明光路から退避させた場合，１／２波長板１０の結晶光学軸が入射するＰ偏光（Ｚ方向偏光）の偏光面に対して０度または９０度の角度をなすように設定すると，１／２波長板１０に入射したＰ偏光（Ｚ方向偏光）の光は偏光面が変化することなくＰ偏光（Ｚ方向偏光）のまま通過し，Ｐ偏光（Ｚ方向偏光）状態の光でマスクＭを照明する。一方，１／２波長板１０の結晶光学軸が入射するＰ偏光（Ｚ方向偏光）の偏光面に対して４５度の角度をなすように設定すると，１／２波長板１０に入射したＰ偏光の光は偏光面が９０度だけ変化してＳ偏光の光になり，Ｓ偏光（Ｘ方向偏光）状態の光でマスクＭを照明する。
　以上のように，本実施形態では，デポラライザ２０を照明光路中に挿入して位置決めすることにより，非偏光状態でマスクＭを照明することができる。また，デポラライザ２０を照明光路から退避させ且つ１／２波長板１０の結晶光学軸が入射するＰ偏光（Ｚ方向偏光）の偏光面に対して０度または９０度の角度をなすように設定することにより，Ｐ偏光（Ｙ方向偏光）状態でマスクＭを照明することができる。さらに，デポラライザ２０を照明光路から退避させ且つ１／２波長板１０の結晶光学軸が入射するＰ偏光（Ｚ方向偏光）の偏光面に対して４５度をなすように設定することにより，Ｓ偏光（Ｘ方向偏光）状態でマスクＭを照明することができる。
　換言すれば，本実施形態では，１／２波長板１０とデポラライザ２０とからなる偏光状態切換手段の作用により，被照射面としてのマスクＭ（ひいてはウェハＷ）を照明する光の偏光状態を直線偏光状態と非偏光状態との間で切り換えることができ，直線偏光の光で照明する場合にはＰ偏光状態とＳ偏光状態との間（互いに直交する偏光状態の間）で切り換える（直線偏光の偏光面を可変とする）ことができる。その結果，本実施形態では，マスクＭのパターン特性に応じて光量損失を抑えつつ照明光の偏光状態を変化させて適切な照明条件を実現することができるので，マスクＭのパターン特性に応じて実現された適切な照明条件のもとで良好な露光を行うことができる。特に，直線偏光の光で照明する場合には，光源１からの直線偏光を偏光状態切換手段において実質的に光量損失することなく被照射面へ導くことができる。」（２２ページ１５行ないし２５ページ１０行）
　
記載事項エ　
「　次に，具体的にどのようなマスクパターンに対してどのような偏光状態の光でマスクを照明することにより，投影光学系の結像性能（焦点深度や解像力など）を向上させて良好で忠実な転写を行うことができるかという点について例示的に説明する。まず，たとえば２極照明（一般には間隔を隔てた２つの光強度分布が高い領域を瞳面またはその近傍に形成する照明）の場合，第１４図に示すように，マスクに形成されたライン・アンド・スペース・パターン１４１のピッチ方向（ｘ方向：マスク上のＸ方向に対応）に沿って間隔を隔てた２つの面光源１４２ａおよび１４２ｂを形成し，２つの面光源１４２ａと１４２ｂとが間隔を隔てている方向（ｘ方向：瞳面上のＸ方向に対応）と直交する方向（ｙ方向：瞳面上のＺ方向に対応）に偏光面（図中両方向矢印Ｆ１で示す）を有する直線偏光状態の光でマスクを照明することにより，マスクパターン１４１に対して投影光学系の結像性能の向上を図ることができる。ちなみに，縦方向パターンと横方向パターンとが混在するような二次元マスクパターンに対しては，たとえば非偏光状態の光でマスクを照明することにより，縦方向パターンと横方向パターンとの間に線幅異常を発生させることなくパターン転写を高スループットで行うことができる。」（３７ページ２６行ないし３８ページ１２行）
　
記載事項オ　
「　以上説明したように，本発明の照明光学装置では，たとえば１／２波長板とデポラライザ（非偏光化素子）とからなる偏光状態切換手段の作用により，被照射面を照明する光の偏光状態を特定の偏光状態（たとえば直線偏光状態）と非偏光状態との間で切り換えることができる。したがって，たとえば露光装置に本発明の照明光学装置を搭載した場合，マスクのパターン特性に応じて光量損失を抑えつつ照明光の偏光状態を変化させて適切な照明条件を実現することができる。」（５９ページ２０ないし２５行）
　
　これら記載事項及び各図を考慮して引用例に記載された発明を分説して記載すると，下記のとおりとなる（以下，この発明を「引用発明」といい，また，分説された構成を「構成要件Ａ」などという。）。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　
Ａ　露光光（照明光）を供給するためのレーザ光源（１）を備え，レーザ光源（１）からＺ方向に沿って射出されたほぼ平行な光束は，一対のレンズ（２ａおよび２ｂ）からなるビームエキスパンダ（２），折り曲げミラー（３），位相部材（１０），デポラライザ（２０），回折光学素子（４），アフォーカルズームレンズ（５），輪帯照明用の回折光学素子（６），ズームレンズ（７），マイクロレンズアレイ（８），及び，コンデンサー光学系（９）を介して，所定のパターンが形成されたマスク（Ｍ）を重畳的に照明し，
Ｂ　マスク（Ｍ）のパターンを透過した光束は，投影光学系（ＰＬ）を介して感光性基板であるウェハ（Ｗ）上にマスクパターンの像を形成し，投影光学系（ＰＬ）の光軸（ＡＸ）と直交する平面（ＸＹ平面）内においてウェハ（Ｗ）を二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行う露光装置において，
Ｃ　位相部材（１０）は，光軸（ＡＸ）を中心として結晶光学軸が回転自在に構成された１／２波長板により構成され，
Ｄ　デポラライザ（２０）は，楔形状の水晶プリズム（２０ａ）と，この水晶プリズム（２０ａ）と相補的な形状を有する楔形状の石英プリズム（２０ｂ）とにより構成され，
Ｅ　デポラライザ（２０）を照明光路中に挿入して位置決めすることにより，非偏光状態でマスク（Ｍ）を照明することができ，デポラライザ（２０）を照明光路から退避させ且つ１／２波長板（１０）の結晶光学軸が入射するＰ偏光（Ｚ方向偏光）の偏光面に対して０度または９０度の角度をなすように設定することにより，Ｐ偏光（Ｙ方向偏光）状態でマスク（Ｍ）を照明することができ，デポラライザ（２０）を照明光路から退避させ且つ１／２波長板（１０）の結晶光学軸が入射するＰ偏光（Ｚ方向偏光）の偏光面に対して４５度をなすように設定することにより，Ｓ偏光（Ｘ方向偏光）状態でマスクＭを照明することができ，
Ｆ　たとえば２極照明の場合，マスクに形成されたライン・アンド・スペース・パターン（１４１）のピッチ方向（ｘ方向：マスク上のＸ方向に対応）に沿って間隔を隔てた２つの面光源（１４２ａ）および（１４２ｂ）を形成し，２つの面光源（１４２ａ）と（１４２ｂ）とが間隔を隔てている方向（ｘ方向：瞳面上のＸ方向に対応）と直交する方向（ｙ方向：瞳面上のＺ方向に対応）に偏光面を有する直線偏光状態の光でマスクを照明することにより，マスクパターン（１４１）に対して投影光学系の結像性能の向上を図ることができ，縦方向パターンと横方向パターンとが混在するような二次元マスクパターンに対しては，たとえば非偏光状態の光でマスクを照明することにより，縦方向パターンと横方向パターンとの間に線幅異常を発生させることなくパターン転写を高スループットで行うことができ，
Ｇ　たとえば１／２波長板（１０）とデポラライザ（２０）とからなる偏光状態切換手段の作用により，被照射面を照明する光の偏光状態を特定の偏光状態（たとえば直線偏光状態）と非偏光状態との間で切り換えることができ，マスク（Ｍ）のパターン特性に応じて光量損失を抑えつつ照明光の偏光状態を変化させて適切な照明条件を実現することができる，露光装置。
　
　また，引用例には「偏光面が変化することなくそのまま通過する直線偏光成分と偏光面が９０度だけ変化した直線偏光成分とを含む非偏光状態の光」（記載事項ウ）と記載されている。したがって，引用発明でいう「非偏光状態」とは，「光が非偏光である状態」に限られるものではなく，例えば「光がＸＹ方向との関係において依存性がない状態」をも含む広い概念である。
　
第４　周知例
１　周知例１
　特開２００４−１１１５００号公報（平成１６年４月８日公開，以下「周知例１」という。）には，以下のとおり記載されている。
「【００７２】・・・円偏光変換部３００Ａは，例えば，１／４波長板３１０Ａと，駆動部３２０Ａとを有し，直線偏光の偏光特性を有する光を円偏光に変換する。１／４波長板３１０Ａは，駆動部３２０Ａに駆動可能に保持され，入射した直線偏光の光を円偏光に変換して出射する。駆動部３２０Ａは，１／４波長板３１０Ａを保持し，光源部１００Ａから出射する光の偏光面に対して正確に円偏光が１／４波長板３１０Ａから出射されるように回転させる。」
　
「【００８０】・・・図８は，微小開口４３２Ａと円偏光の露光光との関係を示す概略平面図である。本実施形態では，露光光に円偏光の光を用いることにより，露光光に全ての偏光成分が含まれることになり，微小開口４３２Ａの長手方向に対する角度依存性がなくなる。」
　
２　周知例２
　特開平８−２０３８０６号公報（平成８年８月９日公開，以下「周知例２」という。）には，以下のとおり記載されている。
「【００３８】このラインアンドスペース等が格子状の構造を有しているとき，偏光の方向依存性をなくすため，偏光状態を円偏光にする。円偏光は，どの方向に対してもどのパターンに対しても空間的に電気ベクトルの振幅が等しいので，露光部８TE，８TMでは，図４（ｂ）に示すように，それぞれ方向に依存しない同じ解像度が得られる。直線偏光を円偏光に変換するには，例えば１／４波長板２を用いればよい。」
　
３　周知例３
　特開平５−２４１３２４号公報（平成５年９月２１日公開，以下「周知例３」という。）には，以下のとおり記載されている。
「【００３３】・・・ラインアンドスペースパターンでは，上述したようにパターンの辺と平行な方向に振動する直線偏光によって結像することが望ましいが，円形や正方形等の等方的なパターンについては，対称性の良いランダム偏光（非偏光状態）又は円偏光で結像する方が良い。」
「【００４０】・・・方向性のないＥの部分では，１／４波長板に相当する偏光膜１６を設けることで，直線偏光である照明光を円偏光に変換している。」
　
４　周知例４
　特開２００４−１７９１７２号公報（平成１６年６月２４日公開，以下「周知例４」という。）には，以下のとおり記載されている。
「【００７７】ところで，上述した実施の形態においては，レチクル１８にＸ方向に平行な偏光方向を主成分とする照明光Ｉ４を照射するようにしたが，露光するパターンによっては，レチクル１８上に照射される照明光の偏光状態を非偏光（自然光）又は円偏光ないし楕円偏光とすることが好ましい場合もある。そこで，本実施の形態において，偏光制御素子５を，着脱可能な構成とし，あるいは照明光の進行方向を回転軸として回転可能な構成とすることが望ましい。
【００７８】例えば，光源１が概ね直線偏光の光束を発するレーザー光源であり，偏光制御素子５として１／２波長板を使用する場合には，図６に示すように，偏光制御素子５を２枚の１／４波長板５１，５２から構成し，照明光Ｉ０の進行方向を回転軸としたそれぞれの回転によって，射出される光束Ｉ１を直線偏光としたり円偏光としたりすることができる。
【００７９】即ち，射出光Ｉ１を直線偏光とする場合には，１／４波長板５１，５２の互いの長軸方向を揃えると共に，その方向を入射光Ｉ０の偏光方向と射出光Ｉ１の所望の偏光方向の中間の方向に設定すれば良く，射出光Ｉ１を円偏光とするには，光源側の１／４波長板５１の長軸方向を入射光Ｉ０の偏光方向と一致させ，他方の１／４波長板５２の長軸方向を，上記偏光方向に対して４５度回転した方向に設定すれば良い。」
　
第５　本願発明
１　対比
　事案にかんがみて，本願発明３と引用発明を対比すると，以下のとおりとなる。
　
(1)　照明系
　構成要件Ａからみて，引用発明の「レーザ光源（１）」から「コンデンサー光学系（９）」に至る構成と本願発明３の「照明系」は，「放射の投影ビームを形成する照明系」の点で一致する。
　
(2)　パターニングデバイス
　構成要件Ａ及びＢからみて，引用発明の「マスク（Ｍ）」と本願発明３の「パターニングデバイス」は，「所望のパターンにしたがって前記投影ビームをパターニングするパターニングデバイス」の点で一致する。
　
(3)　投影系
　構成要件Ｂからみて，引用発明の「投影光学系（ＰＬ）」と本願発明３の「投影系」は，「前記パターン化されたビームを基板のターゲット部分へ投影する投影系」の点で一致する。
　
(4)　可変偏光素子
　本願の明細書の発明の詳細な説明には「光源と処理表面とのあいだの任意の位置に偏光制御装置を配置して偏光を制御するアプローチは本発明の範囲に含まれる。例えば偏光制御装置を投影光学系内または照明源の機構内に設けることができる。」（段落００３２）と記載されているから，本願発明３の可変偏光素子は照明系の一部をなす光源と処理表面とのあいだに配置されているものである。そうしてみると，構成要件Ａ，Ｂ及びＧからみて，引用発明の「偏光状態切換手段」（１／２波長板（１０）とデポラライザ（２０）とからなるもの）と本願発明３の「可変偏光素子」は「前記照明系と前記表面とのあいだに配置された可変偏光素子」の点で一致する。
　また，構成要件Ｅからみて，引用発明の「偏光状態切換手段」と本願発明３の「可変偏光素子」は，「前記可変偏光素子は少なくとも３つのモード」「のうち，選択された１つのモードで駆動され」という構成の点で共通する。
　
(5)　リソグラフィシステム
　構成要件ＡないしＧ及び(1)ないし(4)の対比結果からみて，引用発明の「露光装置」と本願発明３の「リソグラフィシステム」は，「光源からの光をパターンによりパターニングし，そのパターン光を表面へ投影するリソグラフィシステム」の点で一致する。
　
　そうしてみると，本願発明３と引用発明は，
「　光源からの光をパターンによりパターニングし，そのパターン光を表面へ投影するリソグラフィシステムにおいて，
　放射の投影ビームを形成する照明系と，
　所望のパターンにしたがって前記投影ビームをパターニングするパターニングデバイスと，
　前記パターン化されたビームを基板のターゲット部分へ投影する投影系と，
　前記照明系と前記表面とのあいだに配置された可変偏光素子と
　を有し，
　前記可変偏光素子は少なくとも３つのモードのうち，選択された１つのモードで駆動される，
　リソグラフィシステム。」
の点で一致し，以下の点で，一応，相違する。
　
（相違点１）
　本願発明３の「３つのモード」は，「第１の直線偏光，これに直交する第２の直線偏光，及び円偏光」の３つのモードであり，また，３つのモードをなす「前記偏光は，投影される像の配向に基づいて選択される」のに対して，引用発明の偏光状態及び偏光は，この構成を備えるか否か明らかではない点。
　
（相違点２）
　本願発明３の「可変偏光素子」は「第１の１／４波プレート及び第２の１／４波プレートを含む」のに対して，引用発明の「偏光状態切換手段」は，これとは異なる点。
　
２　判断
（相違点１及び２について）
　引用発明の「Ｐ偏光（Ｙ方向偏光）状態」，「Ｓ偏光（Ｘ方向偏光）状態」は，それぞれ，本願発明３の「第１の直線偏光」のモード，「これに直交する第２の直線偏光」のモードに相当するから，３つのモードのうち２つのモードについては相違点ではない。
　また，引用発明でいう「非偏光状態」とは「光がＸＹ方向との関係において依存性がない状態」をも含む概念であるところ，方向依存性のない偏光状態として非偏光の他に円偏光が存在すること，及び，露光光の方向依存性を解消するために直線偏光を円偏光に変換する手段として１／４波長板を用いることができることは，原理的に見て明らかであり，しかも，露光装置の当業者に周知かつ慣用されていることである（必要ならば，周知例１ないし４を参照。）。
　そうしてみると，引用発明の１／２波長板（１０）とデポラライザ（２０）とからなる偏光状態切換手段を第１の１／４波プレート及び第２の１／４波プレートを含む偏光状態切換手段に変更して引用発明の「非偏光状態」を「円偏光状態」とすることは当業者が容易に出来ることである。そして，引用発明の構成要件Ｆ及びＧにかんがみると，このように変更してなるものにおける偏光は「投影される像の配向に基づいて選択される」ものといえる。
　
　また，本願発明３の作用効果は，引用発明から当業者が予測できる範囲内のものである。
　
３　小括
　以上のとおりであるから，本願発明３は，引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり特許法第２９条第２項の規定に違反するから，特許を受けることができない。
　
第６　結論
　したがって，本願は拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。