【事件の表示】
　特許第６２２８５３１号発明「超純水製造装置及び超純水製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６２２８５３１号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第６２２８５３１号の請求項１〜２に係る特許についての出願は、平成２６年１２月１９日を出願日とする出願であって、平成２９年１０月２０日に特許権の設定登録がされ、同年１１月　８日にその特許公報が発行され、その後、平成３０年　５月　８日に特許異議申立人南雲　嘉明により特許異議の申立てがされたものである。  
第２　本件発明
　特許第６２２８５３１号の請求項１〜２に係る発明（以下「本件発明１」〜「本件発明２」といい、まとめて「本件発明」という。）は、それぞれ、その特許請求の範囲の請求項１〜２に記載された、次の事項により特定されるとおりのものである。 
  
「【請求項１】
　前処理システムと、一次純水システムと、サブシステムとを備え、
　該一次純水システムが、高圧型逆浸透膜分離装置と、脱気装置と、紫外線酸化装置と、イオン交換装置とをこの順で備え、
　該高圧型逆浸透膜分離装置が、膜面有効圧力２．０ＭＰａ、２５℃条件下において０．６〜１．３ｍ３／ｍ２／ｄａｙの純水透過流束を有し、
　前記一次純水システムの出口における被処理水の水質が、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度２μｇ／Ｌ以下、ホウ素（Ｂ）濃度１ｎｇ／Ｌ以下、及びシリカ（ＳｉＯ２）濃度０．１μｇ／Ｌ以下であり、
　該イオン交換装置が、ア）強酸性カチオン交換樹脂が充填されたカチオン交換塔と、強塩基性アニオン交換樹脂が充填されたアニオン交換塔とを直列に接続した２床２塔式再生型イオン交換装置、イ）強酸性カチオン交換樹脂と強塩基性アニオン交換樹脂とが別々の異なる層となるように１つの塔内に該強酸性カチオン交換樹脂と該強塩基性アニオン交換樹脂とを充填した２床１塔式再生型イオン交換装置又はエ）電気再生式脱イオン装置を１段又は複数段直列に接続した再生型イオン交換装置である、超純水製造装置。
【請求項２】
　原水を前処理システムによって処理した被処理水を一次純水システム及びサブシステムの順によって処理し、
　該一次純水システムによる処理方法が、高圧型逆浸透膜分離装置に該被処理水を通水する工程と、該通水された被処理水中のガスを脱気する工程と、該脱気された被処理水中の有機物を紫外線酸化装置によって分解する工程と、該有機物が分解された被処理水を、イオン交換装置によって処理する工程とを含み、
　該イオン交換装置によって処理された被処理水の水質が、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度２μｇ／Ｌ以下、ホウ素（Ｂ）濃度１ｎｇ／Ｌ以下、及びシリカ（ＳｉＯ２）濃度０．１μｇ／Ｌ以下であり、
　該イオン交換装置が、ア）強酸性カチオン交換樹脂が充填されたカチオン交換塔と、強塩基性アニオン交換樹脂が充填されたアニオン交換塔とを直列に接続した２床２塔式再生型イオン交換装置、イ）強酸性カチオン交換樹脂と強塩基性アニオン交換樹脂とが別々の異なる層となるように１つの塔内に該強酸性カチオン交換樹脂と該強塩基性アニオン交換樹脂とを充填した２床１塔式再生型イオン交換装置又はエ）電気再生式脱イオン装置を１段又は複数段直列に接続した再生型イオン交換装置である、超純水製造方法。」  
第３　異議申立理由の概要
１　特許法第２９条第２項（進歩性）について
（１）各甲号証
　本件特許異議申立における各甲号証は、以下のとおりである。
　甲第１号証：特開平１０−１８０２５４号公報
　甲第２号証：特開２０１２−２４５４３９号公報
　甲第３号証：特開２０１３−２５５８６４号公報
　甲第４号証：特開２００３−２６６０９７号公報
　甲第５号証：特開平７−４７３６４号公報
　甲第６号証：特開平１０−８５７４０号公報
　甲第７号証：谷口　雅英、ＲＯ膜を使った海水淡水化技術の現状と今後の展望、日本海水学会誌（２００９）Ｖｏｌ．６３Ｎｏ．４、ｐ．２１４−２２０
　甲第８号証：佐々木崇夫ら、海水淡水化用ＲＯ膜、膜（ＭＥＭＢＲＡＮＥ）（２０１１）Ｖｏｌ．３６Ｎｏ．２、ｐ．７９−８１
　甲第９号証：S.Goekem Oenerら、A comparative study for the removal of boron and silica from geothermal water by cross-flow flat sheet reverse osmosis method、Desalination（２０１１）ｖｏｌ．２８３、ｐ．１０−１５
　甲第１０号証：特開平７−１２４５９４号公報
　甲第１１号証：特開平９−２３４４６６号公報
　甲第１２号証：特開２００４−５７９３５号公報
（２）甲第１号証を主引用例とする場合について（異議申立書２１頁１５行〜４７頁下から３行、５８頁５行〜１１行、５８頁２０行〜５９頁２行。）
　本件発明１、２は、甲第１号証に記載される発明から出発して、甲第１号証〜甲第６号証に記載の技術事項を適用し、あるいは参照して、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　また、本件発明１、２の先行技術に対する技術上の意義（作用効果）についても、甲第２号証〜甲第１２号証に記載の技術事項を参酌して、また、本件特許出願時の技術水準に基づき、当業者が容易に予測し、到達する範囲のものに過ぎない。
（２）甲第２号証を主引用例とする場合について（異議申立書４７頁下から２行〜５８頁１行、５８頁１２行〜１８行、５９頁３行〜９行。）
　本件発明１、２は、甲第２号証に記載される発明から出発して、甲第１号証〜甲第６号証に記載の技術事項を適用し、あるいは参照して、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　また、本件発明１、２の先行技術に対する技術上の意義（作用効果）についても、甲第２号証，甲第３号証、及び甲第７号証〜甲第１２号証に記載の技術事項を参酌して、また、本件特許出願時の技術水準に基づき、当業者が容易に予測し、到達する範囲のものに過ぎない。
第４　各甲号証の記載事項
１　甲第１号証の記載事項
　本件出願日前に公知となった甲第１号証（特開平１０−１８０２５４号公報）には、以下の記載がある（当審注：下線は当審が付与した。また、「・・・」は記載の省略を表す。）。
（１−ａ）「【特許請求の範囲】
【請求項１】  被処理水を加圧下に逆浸透膜装置または限外濾過膜装置に供給して濾過操作を行う工程を含む純水の製造方法において、前記被処理水の圧力を制御して処理水の流量を増減することを特徴とする純水の製造方法。
・・・
【請求項７】  被処理水供給系と、被処理水を加圧するポンプと、逆浸透膜装置または限外濾過膜装置と、これらを順に連結する配管系と、前記逆浸透膜装置または限外濾過膜装置の下流側の配管内の流量を測定する流量計と、前記流量計の流量信号により前記ポンプの回転数を制御する制御装置とを有することを特徴とする純水の製造装置。」
（１−ｂ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、純水（本明細書では超純水を含む意味で用いる）の製造方法及び純水製造装置に係り、
【０００２】
【従来の技術】
従来から純水製造プラントにおいては、常圧脱気装置、逆浸透膜装置、フィルタ装置、真空脱気装置、紫外線照射有機物分解装置、イオン交換装置、限外濾過膜装置などを用いて、被処理水の溶存成分や微粒子成分を除去して、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ１ｐｐｂ以下、０．０５μｍ粒径の微粒子数個／ｃｃ程度までに純度を高めることが行われている。
（１−ｃ）「【００１７】逆浸膜透装置内での沈殿物の析出を確実に防止して長期にわたる処理能力の維持を可能とするために、逆浸透膜装置へ供給する被処理水のｐＨを６〜９、好ましくは６．５〜８．０にするとよい。・・・逆浸透膜装置は、被処理水のＴＯＣ濃度に応じて２段以上としてもよい。例えば、ＴＯＣ濃度が０．５ｐｐｍ〜３ｐｐｍの場合には、逆浸透膜装置を２段に設けることが好ましい。
・・・
【００１９】本発明においては、ポンプは複数設置してもよく、
特に、逆浸透膜装置を使用する一次処理系と限外濾過膜装置を使用する二次処理系とを貯水槽を介して連結してなる系では、
（１−ｄ）「【００２７】
【実施例１】図１は、本発明の第１の実施例の構成を示すブロック図である。
【００２８】
同図において、タンク１には例えば市水のような原水が収容されており、この原水は第１の交流ポンプ２により逆浸透膜装置３に圧送されるようになっている。
【００２９】
真空脱気装置６は、真空度３５Ｔｏｒｒ以下において、窒素ガスのような不活性ガスを被処理水の体積基準にして０．００１〜１１．０、好ましくは０．０１〜０．０５の体積流量比で送入しながら真空脱気して溶存揮発成分を除去する。紫外線照射装置７は、１８０〜１９０ｎｍの波長を有する紫外線酸化用低圧紫外線ランプであり、この紫外線の照射により、被処理水中に溶存する有機物は有機酸あるいは二酸化炭素にまで分解される。
【００３０】
イオン交換装置８は、例えば、アニオン交換樹脂として強塩基性アニオン交換樹脂デュオライトＡ−１１３Ｐｌｕｓ（ローム＆ハース杜）と、カチオン交換樹脂として強酸性カチオン交換樹脂デュオライトＣ−２０（ローム＆ハース社）とを使用し、これらを予め再生してＯＨ型とＨ型とに変換した後に混合充填した混床式イオン交換装置が好適に使用される。
（１−ｅ）「【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の主要部を示す機器構成図。
・・・
【符号の説明】
１……第１の貯水槽、２……第１の交流ポンプ、３……逆浸透膜装置、４……第１の超音波流量計、５……第１のインバータ制御装置、６……真空脱気塔、７……第１の紫外線照射装置、８……第１のイオン交換装置、９……第２の貯水槽、１０……第２の配管系、１１……レベル計、１２……第２の超音波流量計、１３……第２の交流ポンプ、１４……第２のインバータ制御装置、  １５……第２の紫外線照射装置、１６……イオン交換装置、１７……限外濾過膜装置、１８……ユースポイント」
（１−ｆ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（ア）上記（１−ａ）、（１−ｂ）によれば、甲第１号証には純水製造装置に係る発明が記載されており、上記（１−ｃ）〜（１−ｆ）によれば、上記純水製造装置は、逆浸透膜装置３、真空脱気装置６、第１の紫外線照射装置７、第１のイオン交換装置８をこの順で備える一次処理系と、第２の紫外線照射装置１５、イオン交換装置１６、限外濾過膜装置１７等を備える二次処理系を備えるものといえる。
（イ）また、上記（１−ｄ）によれば、第１の紫外線照射装置７は、紫外線酸化用低圧紫外線ランプであり、イオン交換装置１６は、強塩基性アニオン交換樹脂と強酸性カチオン交換樹脂とを使用し、予め再生して混合充填した混床式イオン交換装置である。
（ウ）そうすると、甲第１号証には、
「一次処理系と、二次処理系とを備え、
　該一次処理系が、逆浸透膜装置と、真空脱気装置と、紫外線酸化用低圧紫外線ランプである紫外線照射装置と、イオン交換装置とをこの順で備え、
　該イオン交換装置が、強塩基性アニオン交換樹脂と強酸性カチオン交換樹脂とを使用し、予め再生して混合充填した混床式イオン交換装置である、純水製造装置。」（以下「甲１ａ発明」という）が記載されていると認める。
（エ）一方、上記（１−ａ）、（１−ｂ）によれば、甲第１号証には純水製造方法に係る発明が記載されており、上記（１−ｄ）〜（１−ｆ）によれば、上記純水製造方法は、被処理水を、逆浸透膜装置３、真空脱気装置６、第１の紫外線照射装置７、第１のイオン交換装置８にそれぞれ通水して処理する一次処理系と、第２の紫外線照射装置１５、イオン交換装置１６、限外濾過膜装置１７にそれぞれ通水して処理する二次処理系を備えるものといえる。
（オ）また、上記（１−ｄ）によれば、逆浸透膜装置３による工程は、逆浸透膜装置に被処理水を通水する工程といえ、真空脱気装置６による工程は、通水された被処理水を真空脱気して溶存揮発成分を除去する工程といえ、第１の紫外線照射装置７による工程は、該脱気された被処理水中に溶存する有機物を有機酸あるいは二酸化炭素にまで分解する工程といえ、第１のイオン交換装置８による工程は、該有機物が分解された被処理水を、イオン交換装置によって処理する工程といえ、これらは、該一次処理系による処理であり、更に、上記第１のイオン交換装置８は、強塩基性アニオン交換樹脂と強酸性カチオン交換樹脂とを使用し、予め再生して混合充填した混床式イオン交換装置であるものである。
（カ）そうすると、甲第１号証には、
「被処理水を一次処理系及び二次処理系の順によって処理し、
　該一次処理系による処理方法が、逆浸透膜装置に該被処理水を通水する工程と、該通水された被処理水を真空脱気して溶存揮発成分を除去する工程と、該脱気された被処理水中に溶存する有機物を有機酸あるいは二酸化炭素にまで分解する工程と、該有機物が分解された被処理水を、イオン交換装置によって処理する工程とを含み、
　該イオン交換装置が、強塩基性アニオン交換樹脂と強酸性カチオン交換樹脂とを使用し、予め再生して混合充填した混床式イオン交換装置である、純水製造方法。」（以下「甲１ｂ発明」という）が記載されていると認める。
２　甲第２号証の記載事項
　本件出願日前に公知となった甲第２号証（特開２０１２−２４５４３９号公報）には、以下の記載がある。
（２−ａ）「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　
一次純水システムと、該一次純水システムの処理水を処理するサブシステムとを備え、少なくとも該一次純水システムに逆浸透膜分離装置が設けられている超純水製造装置において、該一次純水システムに設置された逆浸透膜分離装置が高圧型逆浸透膜分離装置であり、且つ単段にて設置されていることを特徴とする超純水製造装置。
【請求項２】
　請求項１において、前記高圧型逆浸透膜分離装置は、標準運転圧力５．５２ＭＰａ以上、標準運転圧力における純水フラックス０．５ｍ３／ｍ２・Ｄ以上、ＮａＣｌ除去率９９．５％（ＮａＣｌ３２０００ｍｇ／Ｌ）以上の特性を有することを特徴とする超純水製造装置。」
（２−ｂ）「【０００１】
　本発明は超純水製造装置に係り、特に逆浸透膜分離装置（ＲＯ装置）を有する一次純水システムを備えた超純水製造装置に関する。」
（２−ｃ）「【０００９】
　
しかしながら、このように逆浸透膜分離装置を２段に設置すると、設置スペースが増大すると共に、装置運転管理が煩雑化する。
【００１０】
　
本発明は、上記従来の問題点を解決し、逆浸透膜分離装置の設置数が少ない超純水製造装置を提供することを目的とする。
（２−ｄ）「【００１６】
　本発明では、この高圧型逆浸透膜分離装置を超純水製造装置の一次純水システムに単段（１段）に設置する。・・・一方、電子産業分野における一般的なＲＯ膜に適用する原水の塩類濃度は低く、ＴＤＳ（全溶解性物質）が１５００ｍｇ／Ｌ以下である。このような原水においては、浸透圧が低く、膜面有効圧力わずか２〜３ＭＰａ程度で十分な透過水量を得、かつ上述のごとく透過水の水質は、従来の逆浸透膜（超低圧ＲＯ膜、低圧ＲＯ膜）に比べ格段と向上する。
【００１７】
　
このように一次純水システムに高圧型逆浸透膜分離装置を単段設置することにより、逆浸透膜分離装置の設置数が従来の２段設置の場合に比べて半分となり、逆浸透膜分離装置の設置スペースが半減すると共に、設備コスト、運転管理コストもほぼ半減する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の超純水製造装置の実施の形態の一例を示す系統図である。
【図２】従来の超純水製造装置を示す系統図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
　以下に、本発明の超純水製造装置の実施の形態を詳細に説明する。
【００２０】
　
本発明においては、図１に示すように、原水を好ましくは前処理システム、一次純水システム及びサブシステムで順次処理して超純水を製造するに当たり、一次純水システムに逆浸透膜分離装置（ＲＯ装置）として高圧型逆浸透膜分離装置を単段にて設置する。
【００２１】
　高圧型逆浸透膜分離装置は、従来、海水淡水化に用いられている逆浸透膜分離装置であり、標準運転圧力５．５２ＭＰａ以上であり、標準運転圧力において、純水フラックス０．５ｍ３／ｍ２・Ｄ以上、ＮａＣｌ除去率９９．５％（ＮａＣｌ３２０００ｍｇ／Ｌ）以上の特性を有する。・・・
【００２２】
　この高圧型逆浸透膜は、従来の超純水製造装置の一次純水システムに用いられている低圧又は超低圧型逆浸透膜に比べて膜表面のスキン層が緻密となっている。そのため、高圧型逆浸透膜は低圧型又は超低圧型逆浸透膜に比べて単位操作圧力当りの膜透過水量は低いものの有機物除去率は極端に高い。ＴＤＳ（全溶解性物質）１５００ｍｇ／Ｌ以下の塩類濃度の給水を逆浸透膜処理する場合においては、回収率９０％時の運転条件下で逆浸透膜にかかる浸透圧は最大１．０ＭＰａ程度である。従って、ＴＤＳ１５００ｍｇ／Ｌ以下の給水の処理に高圧型逆浸透膜分離装置を用いた場合、好ましくは１５〜３ＭＰａ、特に好ましくは２〜３ＭＰａ程度の膜面有効圧力（１次側と２次側との圧力差）で、低圧型又は超低圧型逆浸透膜と同程度の水量を確保することが可能となる。その結果、１段ＲＯ膜処理のみで従来の２段ＲＯと同等の処理水水質・処理水量を得ることが可能となり、それに伴い膜本数、ベッセル、配管が削減でき低コスト、省スペース化が可能となる。」
（２−ｅ）「【実施例】
【００２５】
＜実験例１＞
　電子デバイス工場排水（電気伝導率１００ｍＳ／ｍ、ＴＤＳ６００ｍｇ／Ｌ、ＴＯＣ１０ｍｇ／Ｌ）を１段のみ設置された高圧型逆浸透膜分離装置（ＲＯ膜はＳＷＣ４＋：日東電工製。運転圧力５．５２ＭＰａにおけるフラックス２４．６ｍ３／ｍ２・Ｄ、ＮａＣｌ除去率９９．８％（ＮａＣｌ３２０００ｍｇ／Ｌ））に回収率７３％の条件で通水した。その結果、透過水のＴＯＣは０．８５ｍｇ／Ｌとなった。膜面有効圧力は２．０ＭＰａであった。
【００２６】
＜実験例２＞
　実験例１と同じ電子デバイス工場排水を、超低圧ＲＯ膜（ＥＳ−２０：日東電工製）を充填した２段ＲＯ装置に前段ＲＯ回収率７５％、後段ＲＯ回収率９０％、全体水回収率７３％の条件（後段ＲＯ濃縮水は前段ＲＯ給水に合流）で通水した。その結果、第１段目ＲＯ透過水のＴＯＣ濃度は１．３５ｍｇ／Ｌ、第２段目ＲＯ透過水のＴＯＣ濃度は０．９ｍｇ／Ｌとなった。膜面有効圧力は１段目０．５ＭＰａ、２段目０．７５ＭＰａであった。」
（２−ｆ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（ア）上記（２−ａ）〜（２−ｃ）によれば、甲第２号証には超純水製造装置に係る発明が記載されており、上記（２−ｄ）〜（２−ｆ）によれば、上記超純水製造装置は、前処理システム、一次純水システム及びサブシステムで順次処理して超純水を製造するものであって、該一次純水システムは、高圧型逆浸透膜分離装置と、イオン交換装置と、脱気装置とをこの順で備えるものといえる。
（イ）また、上記（２−ａ）、（２−ｄ）によれば、上記高圧型逆浸透膜分離装置は、標準運転圧力５．５２ＭＰａ以上、標準運転圧力における純水フラックス０．５ｍ３／ｍ２・Ｄ以上、ＮａＣｌ除去率９９．５％（ＮａＣｌ３２０００ｍｇ／Ｌ）以上の特性を有するものである。
（ウ）そうすると、甲第２号証には、
「前処理システムと、一次純水システムと、サブシステムとを備え、
　該一次純水システムが、高圧型逆浸透膜分離装置と、イオン交換装置と、脱気装置とをこの順で備え、
　該高圧型逆浸透膜分離装置が、標準運転圧力５．５２ＭＰａ以上、標準運転圧力における純水フラックス０．５ｍ３／ｍ２・Ｄ以上、ＮａＣｌ除去率９９．５％（ＮａＣｌ３２０００ｍｇ／Ｌ）以上の特性を有する、超純水製造装置」（以下「甲２ａ発明」という）が記載されていると認める。
（エ）一方、上記（２−ａ）〜（２−ｃ）によれば、甲第２号証に記載される超純水製造装置により超純水を製造する工程は、純水製造方法といえるものであって、上記（２−ｄ）〜（２−ｆ）によれば、上記純水製造方法は、原水を前処理システムによって処理した被処理水を一次純水システム及びサブシステムの順によって処理するものといえる。
（オ）また、上記（２−ｄ）によれば、高圧型逆浸透膜分離装置による工程は、高圧型逆浸透膜分離装置に被処理水を通水する工程といえ、イオン交換装置による工程は、該通水された被処理水をイオン交換装置によって処理する工程といえ、脱気装置による工程は、イオン交換装置によって処理された被処理水中のガスを脱気する工程といえ、これらは、該一次純水システムによる処理である。
（カ）そうすると、甲第２号証には、
「原水を前処理システムによって処理した被処理水を一次純水システム及びサブシステムの順によって処理し、
　該一次純水システムによる処理方法が、高圧型逆浸透膜分離装置に被処理水を通水する工程と、該通水された被処理水をイオン交換装置によって処理する工程と、イオン交換装置によって処理された被処理水中のガスを脱気する工程とを含む、超純水製造方法。」（以下「甲２ｂ発明」という）が記載されていると認める。
３　甲第４号証の記載事項
　本件出願日前に公知となった甲第４号証（特開２００３−２６６０９７号公報）には、以下の記載がある。
（４−ａ）「【００１９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、シリカ、ホウ素等の弱電解物質において、高い水質を要求される半導体等の分野に好適な、一次純水システムにおいてこれらを高度に除去することができる超純水製造装置を提供することを目的とする。
（４−ｂ）「【００４６】実施例１
原水を、活性炭装置→ＲＯ膜分離装置→脱ガス装置→電気脱イオン装置→低圧ＵＶ酸化装置→非再生型イオン交換装置の順で処理して一次純水を得、得られた一次純水の水質を表５に示した。
・・・
【００５６】
【表５】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（４−ｃ）「【００５８】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の超純水製造装置によれば、脱ガス装置、ＲＯ膜分離装置、電気脱イオン装置、ＵＶ酸化装置及び非再生型イオン交換装置の装置構成の一次純水システムにおいて、シリカ、ホウ素等の弱電解物質を高度に除去することができ、後段のサブシステムへの負荷を軽減することができる。」
（４−ｄ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
４　甲第１０号証の記載事項
　本件出願日前に公知となった甲第１０号証（特開平７−１２４５９４号公報）には、以下の記載がある。
（１０−ａ）「【００１５】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明の低濃度有機性廃水の処理装置は、０．５〜３ｐｐｍのＴＯＣ濃度の低濃度有機廃水をＴＯＣ濃度が１ｐｐｂ以下の超純水に再生する低濃度有機性廃水の処理装置であって、０．５〜３ｐｐｍのＴＯＣ濃度の低濃度有機廃水を６０〜２００ｐｐｂの低濃度有機性廃水にする逆浸透膜装置と真空度が３５Ｔｏｒｒ以下の下で被処理水の体積を基準にして０．００１〜１．０の体積流量比の不活性ガスが塔内に送入される真空脱気塔からなる第１の処理系と、１８４．９ｎｍの紫外線を照射する低圧紫外線分解装置とイオン交換装置とを順に配置した組を少なくとも１組有する第２の処理系とを流路に沿って順に配設してなることを特徴としている。
（１０−ｂ）「【００２１】本発明では、第１の処理系の出口のＴＯＣ濃度が低くなるほどＴＯＣ除去の効率が向上する。第１の処理系の出口のＴＯＣ濃度を低くするには、逆浸透膜装置と真空脱気装置のＴＯＣ除去率を高めればよい。しかしながら、逆浸透膜装置のＴＯＣ除去率を高めるには逆浸透膜装置を多段に設置しなければならないためイニシャルコスト、ランニングコストが高くなる。したがって、コストアップをできるだけ抑えるためには、真空脱気装置の除去率を高くすることが望ましい。」
（１０−ｃ）「【００２３】第２の処理系では、低圧紫外線照射装置でＴＯＣの分解により生じた有機酸その他のイオン性物質はイオン交換装置により除去されるが、低圧紫外線照射装置を複数台連結して使用する場合には、イオン交換装置との連結方法がＴＯＣの除去率に影響を与える。」
（１０−ｄ）「【００３３】
【実施例】図面は、本発明の実施例の構成図である。
【００３４】
この実施例の第１の処理系は、逆浸透膜装置（ＳＵ−７１０（東レ株式会社製）×１２）１、逆浸透膜装置（ＮＴＲ−７５９・ＵＰ（日東電工株式会社製）×９）２及びＮ
２
ガス混入方式の真空脱気装置（直径２５０ｍｍ、充填層高２ｍ）３を接続して構成されている。
【００３５】
また、第２の処理系は、低圧紫外線照射装置（１８４．９ｎｍ・照射量０．５ｋＷ・ｈ／ｍ
３
、ＴＤＦＬ−４千代田工販株式会社製（電子安定器付））４ａと混床式イオン交換装置５ａ及びこれらと同一仕様の低圧紫外線照射装置４ｂと混床式イオン交換装置５ｂとを接続して構成されている。
・・・
【００３７】以上の処理装置を使用して、供給水として超純水（ＴＯＣ濃度０．２２〜０．２３ｍｇＣ／ｌ、比抵抗１７．０ＭΩ・ｃｍ、水温２５℃）にイソプロパノールをＴＯＣ濃度で約１ｐｐｍとなるよう添加したものを用いて処理を行った。
・・・
【００３９】
表から明らかなように処理された超純水は出口で１ｐｐｂ以下であり、ＴＯＣ濃度を非常に低濃度にすることができる。
【００４０】
　　　　　　　図での位置　　　ＴＯＣ　　　　　　除去率［％］
被処理水　　　　(a)　　　　　1.1×10３ ppb　　　　　−
２段R/O出口　　(b)　　　　　　　80　　　　　　　　92.7
真空脱気出口　　(c)　　　　　　　60　　　　　　　　25.0
TOC-UV+MB1st　　(d)　　　　　　　11　　　　　　　　81.7
TOC-UV+MB2st　　(e)　　　　　0.6 〜0.8 　　　　　　　93.6」
（１０−ｅ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
５　甲第１２号証の記載事項
　本件出願日前に公知となった甲第１２号証（特開２００４−５７９３５号公報）には、以下の記載がある。
（１２−ａ）「【０００２】
【従来の技術】
従来の超純水製造システムは、図３に示す如く、一般的には前処理部、一次純水システム、サブシステム、及び端末配管部で構成されている。前処理部では、後段の装置が安定して運転を行えるよう、不溶解性物質の除去を主目的として、凝集、沈殿、濾過、軟化、除鉄、除マンガン、吸着などの処理が行われる。一次純水システムは、前処理部とサブシステムとの中間に位置し、前処理水を処理して一次純水を製造するものであり、主にイオン交換装置、脱気装置、逆浸透（ＲＯ）膜装置で構成されている。最近では、環境保全の観点から、再生薬品を用いることなく連続採水が可能な電気脱イオン装置が、イオン交換装置に変わる脱塩装置の主流になりつつある。」
（１２−ｂ）「【００１３】
図１の超純水製造システムでは、前処理部１は、除濁装置１１と活性炭吸着装置１２とで構成され、超純水製造部２は、前処理水をタンク２１に受け、このタンク２１内の水をポンプＰ１によりＲＯ膜装置２２、脱気装置２３、電気脱イオン装置２４に順次通水して処理し、電気脱イオン装置２４の処理水をポンプＰ２で昇圧した後濾過膜装置２５で処理して超純水を得る。
（１２−ｃ）「【００１７】
また、脱気装置２３としては、真空脱気装置、窒素脱気装置、膜脱気装置等を用いることができ、特に制限されるものではないが、超純水製造部２からの不純物溶出の防止、及びコンパクト性を考慮すると、膜脱気装置が好ましい。また、濾過膜装置２５の濾過膜は、精密濾過（ＭＦ）膜、限外濾過（ＵＦ）膜、逆浸透（ＲＯ）膜のいずれでも良いが、現在の超純水水質を満足させるためにはＵＦ膜又はＲＯ膜が好ましい。」
（１２−ｄ）「【００２３】
前述の如く、本発明の超純水製造システムの超純水製造部に設置される電気脱イオン手段の処理水は、得られる超純水の水質に直接影響し、この電気脱イオン手段の処理水の比抵抗値は１８ＭΩ・ｃｍ以上、シリカ濃度は１ｐｐｂ以下であることが好ましいことから、このような処理水が得られるように、本発明では、電気脱イオン手段として、本出願人より、特開２００１−１１３２８１に提案した、電気脱イオン装置を複数段直列に接続し、最前段の電気脱イオン装置（以下、「第１電気脱イオン装置」と称す。）として、ｐＨ８．５以下の原水をアルカリ薬剤を添加することなしに処理したときに、該原水のｐＨよりも１．０以上高いｐＨの処理水が得られるように、脱塩室厚みが７ｍｍ以上で、セルあたりの操作電圧が１〜５０Ｖ／ｃｅｌｌ、ＳＶが３０〜１５０／ｈｒである装置を用い、２段目以降の電気脱イオン装置（以下、「第２以降電気脱イオン装置」と称す。）として、脱塩室内が区画部材によって多数の小室に区画されており、各小室に臨む区画部材の少なくとも一部は該脱塩室内の平均的な水の流れ方向に対し傾斜しており、該区画部材の少なくとも傾斜した部分は、水を通過させるがイオン交換体の通過を阻止するものを用いることが好ましい。
・・・
【００２５】
このような電気脱イオン手段において、第１電気脱イオン装置は、ｐＨ８．５以下の被処理水（電気脱イオン装置の給水）にアルカリ薬剤を添加することなく処理した場合において、被処理水よりもｐＨが１．０以上、好ましくは１．３〜３．０程度高い処理水（脱イオン水）を得ることができるものであり、電気脱イオン装置内において、水のｐＨが上昇することにより、シリカやホウ素等の弱電解物質及び硬度成分が効率よく除去される。」
（１２−ｅ）「【００３６】
このような処理効率を得るためには、特に上記構成において、脱塩室厚みが１０〜２０ｍｍであり、脱塩室にアニオン交換体とカチオン交換体との混床が充填され、イオン交換体は混合層とし、通水ＳＶが５０〜１００／ｈｒであり、印加電圧が１０〜３０Ｖ／ｃｅｌｌであると、被処理水中の硬度成分を５０％以上、ホウ素、シリカ等の弱電解物質を９０％以上除去できる。」
（１２−ｆ）「【００５９】
実施例１
図１に示す本発明の超純水製造システムにより、市水を原水として超純水の製造を行い、得られた超純水の水質を表１に示した。
・・・
【００６６】
【表１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
第５　本件特許明細書の記載事項
　本件特許明細書には，以下の記載がある。
（ａ）「【０００１】
　本発明は、超純水製造装置及び超純水製造方法に関する。」
（ｂ）「【００１３】
　
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、要求水質を充分に満足した高純度の超純水を、フットプリントを軽減させて、かつ、安価に製造することができる超純水製造装置及び超純水製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
　
本発明者らは、超純水装置に備えられる一次純水システムに、適切な装置を、適切な順番に設置することによって、構成ユニット数を低減し、要求水質を充分に満足した高純度の超純水を安価に製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
（ｃ）「【００２２】
　＜一次純水システム＞
　
本発明に係る実施形態の超純水製造装置に備えられる一次純水システムは、高圧型逆浸透膜分離装置と、脱気装置と、紫外線酸化装置と、イオン交換装置とをこの順で備える、僅か４ユニット構成のシステムである。
そして、一次純水システムが僅か４ユニット構成であるにもかかわらず、本発明に係る実施形態の超純水製造装置によって製造された超純水の水質は、例えば、上記で述べた（Ａ）〜（Ｃ）の一次純水システムのように逆浸透膜分離装置及び／又はイオン交換装置（塔）を複数段に設置した一次純水システムを備える超純水製造装置によって製造された超純水の水質に対して同等以上の水質を示す。
【００２３】
　
本発明に係る実施形態の超純水製造装置によって製造された超純水が、要求水質を充分に満足するかどうかは、原水(工業用水、水道水、井水、電子デバイス製造工程から排出される使用済みの超純水等)を前処理システムによって処理した被処理水が、本発明に係る実施形態の超純水製造装置に備えられる一次純水システムによって処理することで、被処理水の水質（一次純水システムの出口における水質）が、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度２μｇ／Ｌ以下、ホウ素（Ｂ）濃度１ｎｇ／Ｌ以下、シリカ（ＳｉＯ
２
）濃度０．１μｇ／Ｌ以下を示すかどうかで判断することができる。
（ｄ）「【００３７】
　（実施例１）
　電気伝導率３０ｍＳ／ｍ, ＴＯＣ２ｍｇ／Ｌ、ＳｉＯ２１０ｍｇ／Ｌ及びＢ３０μｇ／Ｌを含む工業用水、凝集ろ過水をｐＨ６の条件にて高圧型逆浸透膜(ＳＷＣ４Ｍａｘ、膜面有効圧力２．０ＭＰａ、温度２５℃における純水透過流束０．７８ｍ３／ｍ２／ｄａｙ；有効圧２．０ＭＰａ、温度２５℃、ＮａＣｌ濃度３２０００ｍｇ／ＬにおけるＮａＣｌ除去率９９．８％、日東電工製)（回収率８５％）に通水した後、脱気装置（脱気膜、Ｘ−５０ポリポア社製)、紫外線酸化装置(ＪＰＷ、日本フォトサイエンス製)、次いで１塔内でカチオン交換樹脂層、及びアニオン交換樹脂層を分離したＤＢＰ（Ｄｏｕｂｌｅ−ＢｅｄＰｏｌｉｓｈｅｒ、栗田工業製)に通水した。」
（ｅ）「【００４０】
　（比較例３）
　上記の実施例１で用いた原水を、高圧型逆浸透膜装置（ＳＷＣ４Ｍａｘ、日東電工製)（回収率８５％）、紫外線酸化装置（ＪＰＷ、日本フォトサイエンス製)、脱気装置（脱気膜、Ｘ−５０ポリポア社製)、１塔内でカチオン交換樹脂層及びアニオン交換樹脂層を分離したＤＢＰ（Ｄｏｕｂｌｅ−Ｂｅｄ Ｐｏｌｉｓｈｅｒ、栗田工業製)の順として処理した以外は実施例１と同条件にて通水した。
【００４１】
　（比較例４）
　上記の実施例１で用いた原水を、脱気装置（脱気膜、Ｘ−５０ポリポア社製)、高圧型逆浸透膜装置（ＳＷＣ４Ｍａｘ、日東電工製)（回収率８５％）、紫外線酸化装置（ＪＰＷ、日本フォトサイエンス製)、１塔内でカチオン交換樹脂層及びアニオン交換樹脂層を分離したＤＢＰ（Ｄｏｕｂｌｅ−Ｂｅｄ Ｐｏｌｉｓｈｅｒ、栗田工業製)の順として処理した以外は実施例１と同条件にて通水した。」
（ｆ）「【００４５】
　一次純水システムによって処理された、実施例１及び比較例３〜４の被処理水のＴＯＣ値の経時変化を図１に示す。
【００４６】
　
図１から明らかなように、比較例３の被処理水は実施例１の被処理水に比べＴＯＣの値は０．５μｇ／Ｌ程度高い傾向を示した。これは紫外線酸化装置におけるＴＯＣ分解効率が脱気装置の設置順（位置）により異なることを示している。また、図１から明らかなように、比較例４の被処理水は通水開始時こそ実施例１の被処理水と同等の水質を得ていたものの日数の増加に伴い水質が悪化する傾向が観測された。これは脱気装置が原水由来物質により汚染され脱気効率が低下し、それに伴い紫外線酸化分解効率が低下したものと考えられる。
（ｇ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
第６　当審の判断
１　甲第１号証を主引用例とする場合について
（１）本件発明１について
（１−１）対比
（ア）本件発明１と甲１ａ発明とを対比すると、上記第４の１（１−ｂ）によれば、甲１ａ発明は「超純水製造装置」といえるものであって、甲１ａ発明の「一次処理系」、「二次処理系」は、それぞれ、本件発明１の「一次純水システム」、「サブシステム」に相当する。
　また、甲１ａ発明の「真空脱気装置」は本件発明１の「脱気装置」に相当し、甲１ａ発明の「紫外線照射装置」は本件発明１の「紫外線酸化装置」に相当する。
（イ）そうすると、本件発明１と甲１ａ発明とは、
「一次純水システムと、サブシステムとを備え、
　該一次純水システムが、逆浸透膜装置と、脱気装置と、紫外線酸化装置と、イオン交換装置とをこの順で備える、超純水製造装置。」の点で一致し、以下の点で相違している。
相違点１ａ−１：本件発明１は、超純水製造装置が前処理システムを備えるのに対して、甲１ａ発明は、前処理システムを備えない点。
相違点１ａ−２：本件発明１は、一次純水システムが高圧型逆浸透膜分離装置を備え、該高圧型逆浸透膜分離装置が、膜面有効圧力２．０ＭＰａ、２５℃条件下において０．６〜１．３ｍ３／ｍ２／ｄａｙの純水透過流束を有するのに対して、甲１ａ発明の逆浸透膜装置は、高圧型逆浸透膜分離装置であるか否かが不明であり、膜面有効圧力２．０ＭＰａ、２５℃条件下における純水透過流束も不明である点。
相違点１ａ−３：本件発明１は、一次純水システムの出口における被処理水の水質が、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度２μｇ／Ｌ以下、ホウ素（Ｂ）濃度１ｎｇ／Ｌ以下、及びシリカ（ＳｉＯ２）濃度０．１μｇ／Ｌ以下であるのに対して、甲１ａ発明の一次純水システムの出口における被処理水の水質は不明である点。
相違点１ａ−４：本件発明１は、イオン交換装置が、ア）強酸性カチオン交換樹脂が充填されたカチオン交換塔と、強塩基性アニオン交換樹脂が充填されたアニオン交換塔とを直列に接続した２床２塔式再生型イオン交換装置、イ）強酸性カチオン交換樹脂と強塩基性アニオン交換樹脂とが別々の異なる層となるように１つの塔内に該強酸性カチオン交換樹脂と該強塩基性アニオン交換樹脂とを充填した２床１塔式再生型イオン交換装置又はエ）電気再生式脱イオン装置を１段又は複数段直列に接続した再生型イオン交換装置であるのに対して、甲１ａ発明においては、イオン交換装置が混床式イオン交換装置である点。
（１−２）判断
（ア）事案に鑑み、上記相違点１ａ−３から検討する。
　上記第５の（ａ）、（ｂ）によれば、本件発明は、超純水製造装置及び超純水製造方法に関するものであって、要求水質を充分に満足した高純度の超純水を、フットプリントを軽減させて、かつ、安価に製造することができる超純水製造装置及び超純水製造方法を提供することを課題とするものであり、超純水装置に備えられる一次純水システムに、適切な装置を、適切な順番に設置することによって、構成ユニット数を低減し、要求水質を充分に満足した高純度の超純水を安価に製造することができるものである。
（イ）上記第５の（ｃ）によれば、本件発明に係る超純水製造装置に備えられる一次純水システムは、具体的には、高圧型逆浸透膜分離装置と、脱気装置と、紫外線酸化装置と、イオン交換装置とをこの順で備える４ユニット構成のシステムであって、一次純水システムが僅か４ユニット構成であるにもかかわらず、本件発明に係る超純水製造装置によって製造された超純水の水質は、従来の超純水製造装置によって製造された超純水の水質に対して同等以上の水質を示すものであり、ここで、上記超純水が要求水質を充分に満足するかどうかは、原水(工業用水、水道水、井水、電子デバイス製造工程から排出される使用済みの超純水等)を前処理システムによって処理した被処理水の水質が、上記一次純水システムによって処理することで、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度２μｇ／Ｌ以下、ホウ素（Ｂ）濃度１ｎｇ／Ｌ以下、シリカ（ＳｉＯ２）濃度０．１μｇ／Ｌ以下を示すかどうかで判断することができるものである。
　そして、上記第５の（ｄ）〜（ｇ）によれば、上記高圧型逆浸透膜分離装置、脱気装置、紫外線酸化装置、イオン交換装置の設置順が本件発明と異なると、ＴＯＣ分解効率が低下するものである。
（ウ）上記（ア）〜（イ）の検討によれば、本件発明１は、一次純水システムを、高圧型逆浸透膜分離装置と、脱気装置と、紫外線酸化装置と、イオン交換装置とをこの順で備える４ユニット構成のシステムとして、一次純水の水質を上記相違点１ａ−３に係る発明特定事項を満足するものとすることにより、要求水質を充分に満足した高純度の超純水を、フットプリントを軽減させて、かつ、安価に製造することができる超純水製造装置を提供する、という上記課題を解決するものといえる。
（エ）ところが、甲第１号証〜甲第１２号証には、一次純水システムを、高圧型逆浸透膜分離装置と、脱気装置と、紫外線酸化装置と、イオン交換装置とをこの順で備えるものとして、一次純水の水質を上記相違点１ａ−３に係る発明特定事項を満足できるようにすることは、記載も示唆もされていない。
（オ）特に、上記相違点１ａ−３に係る発明特定事項のうち、「ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度２μｇ／Ｌ以下」についてみると、上記第４の３（４−ａ）〜（４−ｅ）によれば、甲第４号証には、原水を、活性炭装置→ＲＯ膜分離装置→脱ガス装置→電気脱イオン装置→低圧ＵＶ酸化装置→非再生型イオン交換装置の順で処理して得られた一次純水のＴＯＣ濃度が、５ｐｐｂ未満であることが記載されている。
　また、上記第４の４（１０−ａ）〜（１０−ｅ）によれば、甲第１０号証には、逆浸透膜装置（ＳＵ−７１０（東レ株式会社製）×１２）、逆浸透膜装置（ＮＴＲ−７５９・ＵＰ（日東電工株式会社製）×９）及びＮ２ガス混入方式の真空脱気装置（直径２５０ｍｍ、充填層高２ｍ）を接続して構成されている第１の処理系と、低圧紫外線照射装置（１８４．９ｎｍ・照射量０．５ｋＷ・ｈ／ｍ３、ＴＤＦＬ−４千代田工販株式会社製（電子安定器付））と混床式イオン交換装置及びこれらと同一仕様の低圧紫外線照射装置と混床式イオン交換装置とを接続して構成されている第２の処理系により処理を行った超純水のＴＯＣ濃度は、出口で１ｐｐｂ以下となることが記載されている。
　そして、上記第４の５（１２−ａ）〜（１２−ｆ）によれば、甲第１２号証には、ＲＯ膜装置、脱気装置、電気脱イオン装置に順次通水して処理し、電気脱イオン装置の処理水をポンプＰ２で昇圧した後濾過膜装置で処理して得られた超純水のＴＯＣ濃度が５μｇ／Ｌ未満となることが記載されている。
（カ）そこで検討するに、甲第４号証及び甲第１２号証には、一次純水のＴＯＣ濃度が５ｐｐｂ未満、５μｇ／Ｌ未満となることが記載されているが、このことから、甲第４号証及び甲第１２号証に記載される一次純水のＴＯＣ濃度が２μｇ／Ｌ以下となっていると直ちにはいえないし、甲第４号証、甲第１２号証に記載される一次純水システムは、いずれも、高圧型逆浸透膜分離装置と、脱気装置と、紫外線酸化装置と、イオン交換装置とをこの順で備える、４ユニット構成のシステムではない。
　また、甲第１０号証には、一次純水のＴＯＣ濃度が２μｇ／Ｌ以下となることが開示されているといえるが、甲第１０号証に記載される一次純水システムは、上記４ユニット構成のシステムではなく、更に多数のユニット構成からなるシステムである。
（キ）そうすると、甲第４号証、甲第１０号証、甲第１２号証には、高圧型逆浸透膜分離装置と、脱気装置と、紫外線酸化装置と、イオン交換装置とをこの順で備える４ユニット構成のシステムにより、一次純水システムの出口における被処理水のＴＯＣ濃度を２μｇ／Ｌ以下にできることが記載も示唆もされていない。
　また、そのほかの各甲号証には、一次純水システムの出口におけるＴＯＣ濃度については記載されていないから、甲１ａ発明の一次純水システムが、逆浸透膜装置と、脱気装置と、紫外線酸化装置と、イオン交換装置とをこの順で備える４ユニット構成のものであるとしても、甲１ａ発明において、一次純水システムを上記４ユニット構成としたまま、当該一次純水システムの出口における被処理水のＴＯＣ濃度を２μｇ／Ｌ以下とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るとはいえない。
（ク）してみれば、甲１ａ発明において、一次純水システムの出口における被処理水の水質のうち、少なくとも、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度を２μｇ／Ｌ以下とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るとはいえないので、甲１ａ発明において、上記相違点１ａ−３に係る本件特許発明１の発明特定事項とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るともいえない。
（ケ）したがって、ほかの相違点について検討するまでもなく、本件発明１は、甲１ａ発明と、甲第１号証〜甲第１２号証に記載される事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
（２）本件発明２について
（２−１）対比
（ア）本件発明２と甲１ｂ発明とを対比すると、上記第４の１（１−ｂ）によれば、甲１ｂ発明は「超純水製造方法」といえるものであって、甲１ｂ発明の「被処理水を一次処理系及び二次処理系の順によって処理」する、との発明特定事項は、本件発明２の「被処理水を一次純水システム及びサブシステムの順によって処理」する、との発明特定事項に相当する。
　また、甲１ｂ発明の「該通水された被処理水を真空脱気して溶存揮発成分を除去する工程」は、本件発明２の「該通水された被処理水中のガスを脱気する工程」に相当し、甲１ｂ発明の「該脱気された被処理水中に溶存する有機物を有機酸あるいは二酸化炭素にまで分解する工程」は、本件発明２の「該脱気された被処理水中の有機物を紫外線酸化装置によって分解する工程」に相当する。
（イ）そうすると、本件発明２と甲１ｂ発明とは、
「被処理水を一次純水システム及びサブシステムの順によって処理し、
  該一次純水システムによる処理方法が、逆浸透膜分離装置に該被処理水を通水する工程と、該通水された被処理水中のガスを脱気する工程と、該脱気された被処理水中の有機物を紫外線酸化装置によって分解する工程と、該有機物が分解された被処理水を、イオン交換装置によって処理する工程とを含む、超純水製造方法。」の点で一致し、以下の点で相違している。
相違点１ｂ−１：本件発明２は、超純水製造方法が、原水を前処理システムによって処理した被処理水とするものであるのに対して、甲１ｂ発明は、原水を前処理システムによって処理した被処理水とするものではない点。
相違点１ｂ−２：本件発明２は、超純水製造方法の一次純水システムによる処理方法が、高圧型逆浸透膜分離装置に該被処理水を通水する工程を備えるのに対して、甲１ｂ発明の逆浸透膜装置は、高圧型逆浸透膜分離装置であるか否かが不明である点。
相違点１ｂ−３：本件発明２は、イオン交換装置によって処理された被処理水の水質が、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度２μｇ／Ｌ以下、ホウ素（Ｂ）濃度１ｎｇ／Ｌ以下、及びシリカ（ＳｉＯ２）濃度０．１μｇ／Ｌ以下であるのに対して、甲１ｂ発明のイオン交換装置によって処理された被処理水の水質は不明である点。
相違点１ｂ−４：本件発明２は、超純水製造方法におけるイオン交換装置が、ア）強酸性カチオン交換樹脂が充填されたカチオン交換塔と、強塩基性アニオン交換樹脂が充填されたアニオン交換塔とを直列に接続した２床２塔式再生型イオン交換装置、イ）強酸性カチオン交換樹脂と強塩基性アニオン交換樹脂とが別々の異なる層となるように１つの塔内に該強酸性カチオン交換樹脂と該強塩基性アニオン交換樹脂とを充填した２床１塔式再生型イオン交換装置又はエ）電気再生式脱イオン装置を１段又は複数段直列に接続した再生型イオン交換装置であるのに対して、甲１ｂ発明においては、イオン交換装置が混床式イオン交換装置である点。
（２−２）判断
（ア）事案に鑑み、上記相違点１ｂ−３から検討すると、甲１ａ発明において、超純水製造装置の一次純水システムの出口における被処理水の水質のうち、少なくとも、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度を２μｇ／Ｌ以下とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るとはいえないので、甲１ａ発明において、上記相違点１ａ−３に係る本件特許発明１の発明特定事項とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るとはいえないことは、上記（１）（１−２）（ク）に記載のとおりである。
（イ）そして、イオン交換装置によって処理された被処理水の水質とは、要するに、一次純水システムの出口における被処理水の水質のことであるから、上記相違点１ｂ−３は、実質的に上記相違点１ａ−３と同一のものである。
　そうすると、上記（１）（１−２）（ク）に記載したのと同様の理由により、甲１ｂ発明において、上記相違点１ｂ−３に係る本件特許発明２の発明特定事項とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るともいえない。
（ウ）したがって、ほかの相違点について検討するまでもなく、本件発明２は、甲１ｂ発明と、甲第１号証〜甲第１２号証に記載される事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
２　甲第２号証を主引用例とする場合について
（１）本件発明１について
（１−１）対比
（ア）本件発明１と甲２ａ発明とを対比すると、甲２ａ発明の「前処理システム」、「一次純水システム」、「サブシステム」は、それぞれ、本件発明１の「前処理システム」、「一次純水システム」、「サブシステム」に相当し、甲２ａ発明の「高圧型逆浸透膜分離装置」は、本件発明１の「高圧型逆浸透膜分離装置」に相当する。
（イ）そうすると、本件発明１と甲２ａ発明とは、
「前処理システムと、一次純水システムと、サブシステムとを備え、
　該一次純水システムが、高圧型逆浸透膜分離装置を備える、超純水製造装置。」の点で一致し、以下の点で相違している。
相違点２ａ−１：本件発明１は、一次純水システムが、高圧型逆浸透膜分離装置と、脱気装置と、紫外線酸化装置と、イオン交換装置とをこの順で備えるのに対して、甲２ａ発明は、一次純水システムが、高圧型逆浸透膜分離装置と、イオン交換装置と、脱気装置とをこの順で備える点。
相違点２ａ−２：本件発明１は、高圧型逆浸透膜分離装置が、膜面有効圧力２．０ＭＰａ、２５℃条件下において０．６〜１．３ｍ３／ｍ２／ｄａｙの純水透過流束を有するのに対して、甲２ａ発明の高圧型逆浸透膜分離装置は、上記純水透過流束を有するか否かが不明である点。
相違点２ａ−３：本件発明１は、超純水製造装置の一次純水システムの出口における被処理水の水質が、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度２μｇ／Ｌ以下、ホウ素（Ｂ）濃度１ｎｇ／Ｌ以下、及びシリカ（ＳｉＯ２）濃度０．１μｇ／Ｌ以下であるのに対して、甲２ａ発明の一次純水システムの出口における被処理水の水質は不明である点。
相違点２ａ−４：本件発明１は、超純水製造装置のイオン交換装置が、ア）強酸性カチオン交換樹脂が充填されたカチオン交換塔と、強塩基性アニオン交換樹脂が充填されたアニオン交換塔とを直列に接続した２床２塔式再生型イオン交換装置、イ）強酸性カチオン交換樹脂と強塩基性アニオン交換樹脂とが別々の異なる層となるように１つの塔内に該強酸性カチオン交換樹脂と該強塩基性アニオン交換樹脂とを充填した２床１塔式再生型イオン交換装置又はエ）電気再生式脱イオン装置を１段又は複数段直列に接続した再生型イオン交換装置であるのに対して、甲２ａ発明においては、イオン交換装置の構成が不明である点。
（１−２）判断
（ア）事案に鑑み、上記相違点２ａ−３から検討すると、甲１ａ発明において、超純水製造装置の一次純水システムの出口における被処理水の水質のうち、少なくとも、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度を２μｇ／Ｌ以下とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るとはいえないので、甲１ａ発明において、上記相違点１ａ−３に係る本件特許発明１の発明特定事項とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るとはいえないことは、上記１（１）（１−２）（ク）に記載のとおりである。
（イ）そして、上記相違点２ａ−３は、実質的に上記相違点１ａ−３と同じものであるから、同様の理由により、甲２ａ発明において、上記相違点２ａ−３に係る本件特許発明１の発明特定事項とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るともいえない。
（ウ）したがって、ほかの相違点について検討するまでもなく、本件発明１は、甲２ａ発明と、甲第１号証〜甲第１２号証に記載される事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
（２）本件発明２について
（２−１）対比
（ア）本件発明２と甲２ｂ発明とを対比すると、甲２ｂ発明の「原水を前処理システムによって処理した被処理水を一次純水システム及びサブシステムの順によって処理」する、との発明特定事項は、本件発明２の「原水を前処理システムによって処理した被処理水を一次純水システム及びサブシステムの順によって処理」する、との発明特定事項に相当する。
　また、甲２ｂ発明の「高圧型逆浸透膜分離装置に被処理水を通水する工程」は、本件発明２の「高圧型逆浸透膜分離装置に被処理水を通水する工程」に相当する。
（イ）そうすると、本件発明２と甲２ｂ発明とは、
「原水を前処理システムによって処理した被処理水を一次純水システム及びサブシステムの順によって処理し、
　該一次純水システムによる処理方法が、高圧型逆浸透膜分離装置に被処理水を通水する工程を含む、超純水製造方法。」の点で一致し、以下の点で相違している。
相違点２ｂ−１：本件発明２は、一次純水システムによる処理方法が、高圧型逆浸透膜分離装置に通水された被処理水中のガスを脱気する工程と、該脱気された被処理水中の有機物を紫外線酸化装置によって分解する工程と、該有機物が分解された被処理水を、イオン交換装置によって処理する工程とを含むのに対して、甲２ｂ発明の一次純水システムによる処理方法は、高圧型逆浸透膜分離装置に被処理水を通水する工程と、該通水された被処理水をイオン交換装置によって処理する工程と、イオン交換装置によって処理された被処理水中のガスを脱気する工程とを含むものである点。
相違点２ｂ−２：本件発明２は、イオン交換装置によって処理された被処理水の水質が、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ（ＴｏｔａｌＯｒｇａｎｉｃＣａｒｂｏｎ）濃度２μｇ／Ｌ以下、ホウ素（Ｂ）濃度１ｎｇ／Ｌ以下、及びシリカ（ＳｉＯ２）濃度０．１μｇ／Ｌ以下であるのに対して、甲２ｂ発明のイオン交換装置によって処理された被処理水の水質は不明である点。
相違点２ｂ−３：本件発明２は、超純水製造方法におけるイオン交換装置が、ア）強酸性カチオン交換樹脂が充填されたカチオン交換塔と、強塩基性アニオン交換樹脂が充填されたアニオン交換塔とを直列に接続した２床２塔式再生型イオン交換装置、イ）強酸性カチオン交換樹脂と強塩基性アニオン交換樹脂とが別々の異なる層となるように１つの塔内に該強酸性カチオン交換樹脂と該強塩基性アニオン交換樹脂とを充填した２床１塔式再生型イオン交換装置又はエ）電気再生式脱イオン装置を１段又は複数段直列に接続した再生型イオン交換装置であるのに対して、甲２ｂ発明においては、イオン交換装置の構成が不明である点。
（２−２）判断
（ア）事案に鑑み、上記相違点２ｂ−２から検討すると、甲２ａ発明において、上記相違点２ａ−３に係る本件特許発明１の発明特定事項とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るとはいえないことは、上記（１）（１−２）（イ）に記載のとおりである。
（イ）そして、イオン交換装置によって処理された被処理水の水質とは、要するに、一次純水システムの出口における被処理水の水質のことであるから、上記相違点２ｂ−２は、実質的に上記相違点２ａ−３と同一のものである。
　そうすると、上記（１）（１−２）（イ）に記載したのと同様の理由により、甲２ｂ発明において、上記相違点２ｂ−２に係る本件特許発明２の発明特定事項とすることを、甲第１号証〜甲第１２号証の記載事項に基づいて当業者が容易になし得るともいえない。
（ウ）したがって、ほかの相違点について検討するまでもなく、本件発明２は、甲２ｂ発明と、甲第１号証〜甲第１２号証に記載される事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
第７　むすび  
　以上のとおり、特許異議申立書に記載された申立理由によっては、本件請求項１〜２に係る特許を取り消すことはできない。 
　また、他に本件請求項１〜２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成３０年７月６日（２０１８．７．６）