【手続補正書】
【提出日】平成23年10月28日(2011.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学粒子計数器の較正状態を検証するための較正検証システムであって、
予め規定されたサイズ分布を有する粒子を光学粒子計数器に提供するための粒子発生器と、
前記予め規定されたサイズ分布を有する前記粒子に関するパルス高さ分布を測定するための、前記光学粒子計数器に動作可能に接続されたパルス高さ分析器と、
前記パルス高さ分析器から前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布を取得し、前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布に基づいて１つの較正検証パラメータ又は１組の較正検証パラメータ（ここで、前記較正検証パラメータは、前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布の中央値と、前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布の幅と、前記光学粒子計数器のノイズフロアの傾き、前記光学粒子計数器のゼロ計数不良点と、前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の中央値と前記光学粒子計数器のゼロ計数不良点との比に等しい信号対雑音比とからなる群から選択される）を決定し、前記１つの較正検証パラメータ又は１組の較正検証パラメータを１つ又は複数の基準値と比較することによって前記パルス高さ分布を分析するための、前記パルス高さ分析器に動作可能に接続された較正検証分析器と
を具備し、
前記較正検証システムは前記光学粒子計数器の一体型構成要素である、
較正検証システム。
【請求項２】
前記粒子発生器が、ネブライザを備える請求項１に記載の較正検証システム。
【請求項３】
前記ネブライザが、振動メッシュ式ネブライザである請求項２に記載の較正検証システム。
【請求項４】
前記１つ又は複数の基準値が、
予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の中央値と、
予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の幅と、
予め較正された光学粒子計数器に関するノイズフロアの傾きと、
予め較正された光学粒子計数器に関するゼロ計数不良点と、
予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布の前記中央値と予め較正された光学粒子に関するノイズフロアの前記傾きを使用して決定されたゼロ計数不良点との比に等しい信号対雑音比とからなる群から選択される請求項１に記載の較正検証システム。
【請求項５】
さらに、前記較正検証パラメータ、前記１つ又は複数の基準値、又は前記較正検証パラメータと前記１つ又は複数の基準値との両方を記憶するためのメモリシステムを具備する請求項１に記載の較正検証システム。
【請求項６】
前記光学粒子計数器が、エアロゾル光学粒子計数器である請求項１に記載の較正検証システム。
【請求項７】
光学粒子計数器の較正状態を検証するための方法であって、
一体型構成要素として較正検証システムを有する光学粒子計数器を用意するステップと、
予め規定されたサイズ分布を有する粒子を前記光学粒子計数器に通すステップと、
前記予め規定されたサイズ分布を有する前記粒子に対応するパルス高さ分布を測定するステップと、
前記予め規定されたサイズ分布を有する前記粒子に関する前記パルス高さ分布に基づいて１つの較正検証パラメータ又は１組の較正検証パラメータ（ここで、前記較正検証パラメータは、前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布の中央値と、前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布の幅と、前記光学粒子計数器のノイズフロアの傾き、前記光学粒子計数器のゼロ計数不良点と、前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の中央値と前記光学粒子計数器のゼロ計数不良点との比に等しい信号対雑音比とからなる群から選択される）を決定することによって前記パルス高さ分布を分析するステップと、
前記１つの較正検証パラメータ又は１組の較正検証パラメータを１つ又は複数の基準値と比較し、それにより光学粒子計数器の較正状態を検証するステップと
を含む方法。
【請求項８】
さらに、前記光学粒子計数器の較正状態を使用者に表示するステップを含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
さらに、前記１つの較正検証パラメータ又は前記１組の較正検証パラメータを前記光学粒子計数器のメモリシステムに記憶するステップを含む請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記１つ又は複数の基準値が、
前記予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の中央値と、
前記予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の幅と、
前記予め較正された光学粒子計数器に関するノイズフロアの傾きと、
前記予め較正された光学粒子計数器に関するゼロ計数不良点と、
前記予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布の前記中央値と前記予め較正された光学粒子計数器に関するゼロ計数不良点との比に等しい信号対雑音比と
からなる群から選択される請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記比較ステップが、前記光学粒子計数器に関する前記パルス高さ分布の中央値を、前記予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の中央値と比較するサブステップを含み、
当該方法が、さらに、
前記光学粒子計数器に関する前記パルス高さ分布の中央値が前記予め較正された光学粒子計数器に関する前記パルス高さ分布の中央値の１０％以内である場合に、前記光学粒子計数器の良好な較正状態を示すステップと、
前記光学粒子計数器に関する前記パルス高さ分布の中央値が前記予め較正された光学粒子計数器に関する前記パルス高さ分布の中央値の１１０％よりも大きい又は９０％未満である場合に、前記光学粒子計数器の不良の較正状態を示すステップと
を含む請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記比較ステップが、前記光学粒子計数器に関する前記パルス高さ分布の幅を、前記予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の幅と比較するサブステップを含み、
当該方法がさらに、
前記光学粒子計数器に関する前記パルス高さ分布の幅が前記予め較正された光学粒子計数器に関する前記パルス高さ分布の幅の１５％以内である場合に、前記光学粒子計数器の良好な較正状態を示すステップと、
前記光学粒子計数器に関する前記パルス高さ分布の幅が前記予め較正された光学粒子計数器に関する前記パルス高さ分布の幅の１１５％よりも大きい又は８５％未満である場合に、前記光学粒子計数器の不良の較正状態を示すステップと
を含む請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記比較ステップが、前記光学粒子計数器に関するノイズフロアの傾きを、前記予め較正された光学粒子計数器に関するノイズフロアの傾きと比較するサブステップを含み、
当該方法が、さらに、
前記光学粒子計数器に関する前記ノイズフロアの傾きが前記予め較正された光学粒子計数器に関するノイズフロアの傾きの１０％以内である場合に、前記光学粒子計数器の良好な較正状態を示すステップと、
前記光学粒子計数器に関する前記ノイズフロアの傾きが前記予め較正された光学粒子計数器に関するノイズフロアの傾きの１１０％よりも大きい又は９０％未満である場合に、前記光学粒子計数器の不良の較正状態を示すステップと
を含む請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
前記比較ステップが、前記光学粒子計数器に関するゼロ計数不良点を、前記予め較正された光学粒子計数器に関するゼロ計数不良点と比較するサブステップを含み、
当該方法が、さらに、
前記光学粒子計数器に関する前記ゼロ計数不良点が前記予め較正された光学粒子計数器に関するゼロ計数不良点の１０％以内である場合に、前記光学粒子計数器の良好な較正状態を示すステップと、
前記光学粒子計数器に関する前記ゼロ計数不良点が前記予め較正された光学粒子計数器に関するゼロ計数不良点の１１０％よりも大きい又は９０％未満である場合に、前記光学粒子計数器の不良の較正状態を示すステップと
を含む請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
前記比較ステップが、前記光学粒子計数器に関する信号対雑音比を、前記予め較正された光学粒子計数器に関する信号対雑音比と比較するサブステップを含み、
当該方法が、さらに、
前記光学粒子計数器に関する前記信号対雑音比が前記予め較正された光学粒子計数器に関する信号対雑音比の１０％以内である場合に、前記光学粒子計数器の良好な較正状態を示すステップと、
前記光学粒子計数器に関する前記信号対雑音比が前記予め較正された光学粒子計数器に関する信号対雑音比の１１０％よりも大きい又は９０％未満である場合に、前記光学粒子計数器の不良の較正状態を示すステップと
を含む請求項７に記載の方法。
【請求項１６】
電磁放射のビームを発生するためのビーム発生源と、
前記ビームに通される予め規定されたサイズ分布を有する粒子を発生し、それにより前記粒子によって散乱される電磁放射を発生するための粒子発生器と、
前記粒子によって散乱された前記電磁放射を検出し、前記粒子によって散乱された前記電磁放射の強度に対応する出力信号を発生するための光検出器と、
前記光検出器に動作可能に接続された一体型のパルス高さ分析器であって、前記光検出器からの前記出力信号を受信し、前記予め規定されたサイズ分布を有する前記粒子に関するパルス高さ分布を測定する一体型のパルス高さ分析器と、
前記予め規定されたサイズ分布を有する前記粒子に関する前記パルス高さ分布に基づいて１つの較正検証パラメータ又は１組の較正検証パラメータ（ここで、前記較正検証パラメータは、前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布の中央値と、前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布の幅と、前記光学粒子計数器のノイズフロアの傾き、前記光学粒子計数器のゼロ計数不良点と、前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の中央値と前記光学粒子計数器のゼロ計数不良点との比に等しい信号対雑音比とからなる群から選択される）を決定し、前記１つの較正検証パラメータ又は１組の較正検証パラメータを１つ又は複数の基準値と比較することによって前記パルス高さ分布を分析するための、前記パルス高さ分析器に動作可能に接続された較正検証分析器と
を具備する光学粒子計数器。
【請求項１７】
前記１つ又は複数の基準値が、
予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の中央値と、
予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関するパルス高さ分布の幅と、
予め較正された光学粒子計数器に関するノイズフロアの傾きと、
予め較正された光学粒子計数器に関するゼロ計数不良点と、
前記予め較正された光学粒子計数器に関する前記予め規定されたサイズ分布を有する粒子に関する前記パルス高さ分布の前記中央値と予め較正された光学粒子計数器に関するノイズフロアの前記傾きを使用して決定されたゼロ計数不良点との比に等しい信号対雑音比と
からなる群から選択される請求項１６に記載の光学粒子計数器。
【請求項１８】
前記粒子発生器が、ネブライザである請求項１６に記載の光学粒子計数器。
【請求項１９】
前記ネブライザが、振動メッシュ式ネブライザである請求項１８に記載の光学粒子計数器。
【請求項２０】
さらに、前記較正検証パラメータ及び前記１つ又は複数の基準値を記憶するためのメモリ記憶システムを具備する請求項１６に記載の光学粒子計数器。
【請求項２１】
さらに、前記粒子を電磁放射の前記ビームに通すためのフローセルを具備し、前記フローセルが、前記光源と光学的に連絡して提供される請求項１６に記載の光学粒子計数器。
【請求項２２】
前記光学粒子計数器が、エアロゾル光学粒子計数器である請求項１６に記載の光学粒子計数器。
【請求項２３】
前記光学粒子計数器が、液体粒子計数器である請求項１６に記載の光学粒子計数器。
【請求項２４】
前記予め規定されたサイズ分布は、単分散サイズ分布である、請求項１に記載の較正検証システム。
【請求項２５】
前記予め規定されたサイズ分布は、単分散サイズ分布である、請求項７に記載の方法。
【請求項２６】
前記予め規定されたサイズ分布は、単分散サイズ分布である、請求項１６に記載の光学粒子計数器。
【請求項２７】
前記予め規定されたサイズ分布は、複数の単分散サイズ分布を含む、請求項２４に記載の較正検証システム。
【請求項２８】
前記予め規定されたサイズ分布は、複数の単分散サイズ分布を含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２９】
前記予め規定されたサイズ分布は、複数の単分散サイズ分布を含む、請求項２６に記載の光学粒子計数器。
【請求項３０】
前記予め規定されたサイズ分布の標準偏差は既知である、請求項１に記載の較正検証システム。
【請求項３１】
前記予め規定されたサイズ分布の中央値は既知である、請求項１に記載の較正検証システム。
【請求項３２】
前記予め規定されたサイズ分布の粒子は、較正標準粒子である、請求項１に記載の較正検証システム。
【請求項３３】
前記予め規定されたサイズ分布の標準偏差は既知である、請求項７に記載の方法。
【請求項３４】
前記予め規定されたサイズ分布の中央値は既知である、請求項７に記載の方法。
【請求項３５】
前記予め規定されたサイズ分布の粒子は、較正標準粒子である、請求項７に記載の方法。
【請求項３６】
前記予め規定されたサイズ分布の標準偏差は既知である、請求項１６に記載の光学粒子計数器。
【請求項３７】
前記予め規定されたサイズ分布の中央値は既知である、請求項１６に記載の光学粒子計数器。
【請求項３８】
前記予め規定されたサイズ分布の粒子は、較正標準粒子である、請求項１６に記載の光学粒子計数器。