【手続補正書】
【提出日】平成23年5月2日(2011.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２７４】
表１３についての備考：ＭＡ＝メチルアセテート；ＥＴ＝メタノール；ＭＣ＝塩化メチレン；ＡＣ＝アセトン；米国特許第６，５０３，５８１号によって定義される通り
本発明は以下の態様を有する。
［１］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度０．４０〜２．００のセルロースアセテート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；および
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテート、該可塑剤および該有機溶媒の総質量基準であり、そして、
フィルムが非延伸である、フィルム。
［２］  ｎｘ＝ｎｙ、およびｎｘ＞ｎｚ、およびｎｙ＞ｎｚである、上記［１］に記載のフィルム。
［３］  ヒドロキシル基の置換度が、０．６５〜２．００の範囲である、上記［１］に記載のフィルム。
［４］  ヒドロキシル基の置換度が、０．９５〜２．００の範囲である、上記［１］に記載のフィルム。
［５］  ヒドロキシル基の置換度が、１．０１〜２．００の範囲である、上記［１］に記載のフィルム。
［６］  ６３３ｎｍにおける複屈折Δｎ633が、０未満から約−０．０１０である、上記［１］に記載のフィルム。
［７］  ６３３ｎｍにおける複屈折Δｎ633が、−０．００１またはそれ未満から約−０．０１０の範囲である、上記［１］に記載のフィルム。
［８］  フィルムが厚み３ミクロン〜３００ミクロンを有する、上記［１］に記載のフィルム。
［９］  フィルム厚みが３００ミクロン超〜１０００ミクロンの範囲である、上記［１］に記載のフィルム。
［１０］  可塑剤が、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジベンジルフタレート、トリエチルシトレート、アセチルトリメチルシトレート、アセチルトリブチルシトレート、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート（ＥＰＥＧ）、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート、ブチルオレエート、メチルアセチルリシノレエート、ジブチルセバケート、トリアセチン、グルコースペンタプロピオネート、グルコースペンタイソブチレート、グルコースペンタブチレート、フルクトースペンタプロピオネート、フルクトースペンタイソブチレート、フルクトースペンタブチレート、キシローステトラプロピオネート、キシローステトライソブチレート、キシローステトラブチレート、キシリトールペンタプロピオネート、キシリトールペンタイソブチレート、キシリトールペンタブチレート、マンニトールヘキサプロピオネート、マンニトールヘキサイソブチレート、マンニトールヘキサブチレートおよびこれらの混合物からなる群から選択される、上記［１］に記載のフィルム。
［１１］  有機溶媒が、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール，１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、メチルアセテート、エチルアセテート、アミルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、エチルホルメート、ニトロエタン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルアミルケトン（ＭＡＫ）、メチルイソアミルケトン（ＭＩＡＫ）、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、酢酸、プロピオン酸、酪酸およびこれらの混合物からなる群から選択される、上記［１］に記載のフィルム。
［１２］  上記［１］に記載の少なくとも１つのフィルムを含む、液晶ディスプレイ。
［１３］  上記［１］に記載の少なくとも１つのフィルムを含む、液晶ディスプレイ用の偏光板。
［１４］  上記［１］に記載の少なくとも１つのフィルムを含む、液晶ディスプレイ用の波長板。
［１５］  上記［１］に記載のフィルムを含む、単層補償シート。
［１６］  上記［１］に記載の少なくとも１つのフィルムを含む、複層補償シート。
［１７］  ＬＣＤ部品用基板として、および液晶ディスプレイにおける補償シートとしての両者で機能する、上記［１］に記載のフィルム。
［１８］  少なくとも１つの層の多機能フィルムを含み、液晶ディスプレイ部品用の基板または保護層として機能し、そして補償を与える、上記［１］に記載のフィルム。
［１９］  フィルム厚みが約３ミクロン〜約１０００ミクロンの範囲である、上記［１］に記載のフィルム。
［２０］  ０〜３０質量パーセントの、艶消し剤、ＵＶ吸収剤、酸化防止剤、および色素を含む群から選択される添加剤を含む、上記［１］に記載のフィルム。
［２１］  添加剤が、液晶化合物、ディスコティック化合物、および／または棒状化合物からなる群から選択される複屈折増強物質である、上記［２０］に記載のフィルム。
［２２］  上記［１］に記載のフィルムおよび別の基板層を含み、該第２の基板が、ＴＡＣフィルム、ＤＳOHが０〜０．３９９の間のＣＡＰフィルム、ＤＳOHが０〜０．３９９の間のＣＡＢフィルム、または環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムを含む、液晶ディスプレイ用の偏光子。
［２３］  上記［１］に記載のフィルムおよびポリマー層を含み、該フィルムが該ポリマー層の上にラミネートされている、液晶ディスプレイ。
［２４］  上記［１］に記載のフィルムおよび第２の層を含み、該フィルムが該第２の層の上に溶媒キャストされている、液晶ディスプレイ。
［２５］  第１および第２の上記［１］に記載のセルロースアセテートフィルム、ならびに第１および第２の表面を有するポリビニルアルコールフィルムを含み、該第１および第２のセルロースアセテートフィルムが該ポリビニルアルコールフィルムの該第１および第２の表面に接触し、該第１および第２の上記［１］に記載のセルロースアセテートフィルムが鹸化されていない、液晶ディスプレイ用の偏光子。
［２６］  第１および第２の上記［１］に記載のセルロースアセテートフィルム、ならびに第１および第２の表面を有するポリビニルアルコールフィルムを含み、該第１および第２のセルロースアセテートフィルムが該ポリビニルアルコールフィルムの該第１および第２の表面に接触し、該第１および第２の上記［１］に記載のセルロースアセテートフィルムが鹸化されている、液晶ディスプレイ用の偏光子。
［２７］  フィルム厚みが約３ミクロン〜約１０００ミクロンの範囲である、上記［２］に記載のフィルム。
［２８］  ０〜３０質量パーセントの、艶消し剤、ＵＶ吸収剤、酸化防止剤、および色素からなる群から選択される添加剤を含む、上記［２］に記載のフィルム。
［２９］  添加剤が、液晶化合物、ディスコティック液晶化合物、および棒状液晶化合物からなる群から選択される複屈折増強物質である、上記［２８］に記載のフィルム。
［３０］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度０．５０〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜２．５９、およびプロピオニル基の置換度０．０１〜２．５９、そしてアセチル基、プロピオニル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートプロピオネート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；ならびに
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートプロピオネート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準である、フィルム。
［３１］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度０．６５〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜２．３４、およびプロピオニル基の置換度０．０１〜２．３４、そしてアセチル基、プロピオニル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートプロピオネート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；ならびに
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートプロピオネート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準である、フィルム。
［３２］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度０．９５〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜２．０４、およびプロピオニル基の置換度０．０１〜２．０４、そしてアセチル基、プロピオニル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートプロピオネート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；ならびに
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートプロピオネート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準である、フィルム。
［３３］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度１．０１〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜１．９９、およびプロピオニル基の置換度０．０１〜１．９９、そしてアセチル基、プロピオニル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートプロピオネート；
０〜３０質量パーセントの、可塑剤または複数種の可塑剤の組合せ；ならびに
０〜３０質量パーセントの、有機溶媒または複数種の有機溶媒の混合物；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートプロピオネート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準である、フィルム。
［３４］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度０．４０〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜２．５９、およびブチリル基の置換度０．０１〜２．５９、そしてアセチル基、ブチリル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートブチレート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；ならびに
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートブチレート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準である、フィルム。
［３５］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度０．６５〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜２．３４、およびブチリル基の置換度０．０１〜２．３４、そしてアセチル基、ブチリル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートブチレート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；ならびに
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートブチレート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準である、フィルム。
［３６］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度０．９５〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜２．０４、およびブチリル基の置換度０．０１〜２．０４、そしてアセチル基、ブチリル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートブチレート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；ならびに
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートブチレート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準である、フィルム。
［３７］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度１．０１〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜０．９８、およびブチリル基の置換度０．０１〜０．９８、そしてアセチル基、ブチリル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートブチレート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；ならびに
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートブチレート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準である、フィルム。
［３８］  ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって評価した場合の、セルロースアセテートの数平均分子量（Ｍｎ）が、１，５００〜２００，０００の範囲である、上記［１］に記載のフィルム。
［３９］  セルロースアセテートのインヘレント粘度（ＩＶ）が、０．０５０〜３．０デシリットル／グラムの範囲である、上記［１］に記載のフィルム。
［４０］  高ＤＳOHフィルムを製造する方法であって、
アシル基の置換度が２．６〜３．０の範囲であるセルロースエステルを、該セルロースエステルを酸性または塩基性の鹸化剤と接触させることによって加水分解して加水分解セルロースエステルを生成すること、および、
該加水分解されたセルロースエステルからフィルムを形成すること
を含み、該フィルムの６３３ｎｍにおける複屈折Δｎ633が、加水分解されていないセルロースエステルから形成されたフィルムと比べて負である、方法。
［４１］  セルロースエステルを、有機溶媒中に溶解させ、そして約０℃〜約１００℃の範囲の温度まで水および鹸化触媒の存在下で加熱する、上記［４０］に記載の方法。
［４２］  鹸化剤を中和することをさらに含む、上記［４０］に記載の方法。
［４３］  有機溶媒が、有機カルボン酸を含む、上記［４１］に記載の方法。
［４４］  有機溶媒が、酢酸、プロピオン酸、酪酸、またはこれらの混合物を含む、上記［４３］に記載の方法。
［４５］  鹸化剤が、鉱酸を含む、上記［４０］に記載の方法。
［４６］  鹸化剤が硫酸を含む、上記［４５］に記載の方法。
［４７］  鹸化剤が塩酸を含む、上記［４５］に記載の方法。
［４８］  鹸化剤が塩基を含む、上記［４０］に記載の方法。
［４９］  鹸化剤が固体である、上記［４０］に記載の方法。
［５０］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度１．２３超〜２．００のセルロースアセテート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；および
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテート、該可塑剤および該有機溶媒の総質量基準であり、そして、
フィルムが延伸されている、フィルム。
［５１］  二軸延伸されている、上記［５０］に記載のフィルム。
［５２］  一軸延伸されている、上記［５０］に記載のフィルム。
［５３］  面延伸されている、上記［５０］に記載のフィルム。
［５４］  フィルムのＴｇよりも高い温度で延伸されている、上記［５０］に記載のフィルム。
［５５］  Ｒthが−２４０から−３００の間であり、そして延伸後に６０ミクロン厚である、上記［５０］に記載のフィルム。
［５６］  Ｒthが−３００を超え（すなわちこれよりも負であり）、そして延伸後に６０ミクロン厚である、上記［５０］に記載のフィルム。
［５７］  ７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度１．０１超〜２．００のセルロースアセテート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；および
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテート、該可塑剤および該有機溶媒の総質量基準であり、そして、
フィルムが延伸されている、フィルム。
［５８］  二軸延伸されている、上記［５７］に記載のフィルム。
［５９］  一軸延伸されている、上記［５７］に記載のフィルム。
［６０］  面延伸されている、上記［５７］に記載のフィルム。
［６１］  フィルムのＴｇよりも高い温度で延伸されている、上記［５７］に記載のフィルム。
［６２］  ６０ミクロン厚であり、そしてＲthが−２４０から−３００の間である、上記［５７］に記載のフィルム。
［６３］  ６０ミクロン厚であり、そしてＲthが−３００を超える（すなわちこれよりも負である）、上記［５７］に記載のフィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度０．４０〜２．００のセルロースアセテート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；および
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテート、該可塑剤および該有機溶媒の総質量基準であり、そして、
フィルムが非延伸である、光学フィルム。
【請求項２】
７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度０．８０〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜２．１９、およびプロピオニル基の置換度０．０１〜２．１９、そしてアセチル基、プロピオニル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートプロピオネート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；ならびに
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートプロピオネート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準であり、そして、
フィルムが非延伸である、光学フィルム。
【請求項３】
７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度１．０１〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜１．９９、およびプロピオニル基の置換度０．０１〜１．９９、そしてアセチル基、プロピオニル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートプロピオネート；
０〜３０質量パーセントの、可塑剤または複数種の可塑剤の組合せ；ならびに
０〜３０質量パーセントの、有機溶媒または複数種の有機溶媒の混合物；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートプロピオネート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準であり、そして、
フィルムが非延伸である、光学フィルム。
【請求項４】
７０〜１００質量パーセントの、ヒドロキシル基の置換度０．４０〜２．００、アセチル基の置換度０．０１〜２．５９、およびブチリル基の置換度０．０１〜２．５９、そしてアセチル基、ブチリル基およびヒドロキシル基の置換度の合計が３．０であるセルロースアセテートブチレート；
０〜３０質量パーセントの可塑剤；ならびに
０〜３０質量パーセントの有機溶媒；
を含み、該質量パーセントが、該セルロースアセテートブチレート、該可塑剤および該有機溶媒の総量基準であり、そして、
フィルムが非延伸である、光学フィルム。
【請求項５】
ｎｘ＝ｎｙ、およびｎｘ＞ｎｚ、およびｎｙ＞ｎｚである、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルム。
【請求項６】
６３３ｎｍにおける複屈折Δｎ633が、−０．００１またはそれ未満から−０．０１０の範囲である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルム。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の少なくとも１つのフィルムを含む、液晶ディスプレイ。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の少なくとも１つのフィルムを含む、補償シート。
【請求項９】
フィルム厚みが３ミクロン〜１０００ミクロンの範囲である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルム。
【請求項１０】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルムおよび第２の層を含み、該フィルムが該第２の層の上に溶媒キャストされている、液晶ディスプレイ。
【請求項１１】
ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって評価した場合の、セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）が、１，５００〜２００，０００の範囲である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルム。
【請求項１２】
セルロースエステルのインヘレント粘度（ＩＶ）が、０．０５０〜３．０デシリットル／グラムの範囲である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルム。
【請求項１３】
高ＤＳOHフィルムを製造する方法であって、
アシル基の置換度が２．６〜３．０の範囲であるセルロースエステルを、該セルロースエステルを酸性または塩基性の鹸化剤と接触させることによって加水分解して加水分解セルロースエステルを生成すること、および、
該加水分解されたセルロースエステルからフィルムを形成すること
を含み、該フィルムの６３３ｎｍにおける複屈折Δｎ633が、加水分解されていないセルロースエステルから形成されたフィルムと比べて負である、方法。
【請求項１４】
フィルムが延伸されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルム。
【請求項１５】
フィルム厚みが３ミクロン〜１０００ミクロンである、請求項１４に記載のフィルム。
【請求項１６】
セルロースアセテートプロピオネートのヒドロキシル基の置換度が１．０１〜１．５であり、そしてフィルムが延伸されている、請求項２に記載のフィルム。