【事件の表示】
　特願２００４−１５５９００「真空処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１２月　８日出願公開、特開２００５−３４０４２５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、平成１６年５月２６日の出願であって、同２１年８月２５日付けで拒絶の理由が通知され、同年１０月２８日に手続補正がなされ、平成２２年３月３０日付けで最後の拒絶の理由が通知され、同年６月４日に手続補正がなされ、同年１１月８日付けで同年６月４日の手続補正を却下するとともに拒絶査定がされ、これに対し、平成２３年１月１９日に拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。
　
第２．原審における補正却下の決定について
１．却下された手続補正
　請求人は、原審における補正却下の決定について、審判請求理由の（５−２）で、不服を申し立てているので、以下、検討する。
　却下された手続補正の内容は、以下のとおり請求項１を補正するとともに、関連する発明の詳細な説明を補正するものである。
　
【請求項１】
　基板を真空処理する１ライン上に連結された複数の真空処理室と、前記基板を載置して搬送する基板キャリアと、前記基板を載置した基板キャリアを大気側と前記真空処理室間で搬入、搬出する予備室とを具備し、前記基板を略直立させた状態で真空処理を行う縦型方式の真空処理装置において、
　
前記
　前記基板キャリアが、前記真空処理室から前記予備室に搬送される復路となり且つ、前記基板キャリアを１台収容する第２の搬送経路の２つの搬送経路がそれぞれ設けられるとともに、
　前記基板キャリアを
持ち上げて
横方向に
前記複数の真空処理室のいずれかに
　
２．補正却下の決定の内容
　決定の内容は、以下のとおりである。
　
［補正却下の決定］
（補正の目的）
　請求項１についての補正は、願書に最初に添付した特許請求の範囲、明細書または図面に記載の範囲でなされたものである。
　請求項１についての補正は限定的減縮を目的としている。
　この場合、補正後の請求項１に係る発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものでなければならない。
　
（独立特許要件の検討）
　請求項１について
　・引用文献
　１．特開２００２−２０３８８５号公報
　（平成２２年３月３０日付け拒絶理由通知書に記載した「引用文献１」）
　２．特開平１１−１３１２３２号公報
　（平成２２年３月３０日付け拒絶理由通知書に記載した「引用文献２」）
　３．特開２００２−３０９３７２号公報
　（平成２２年３月３０日付け拒絶理由通知書に記載した「引用文献３」）
　
　引用文献１には、
「基板を真空処理する１ライン上に連結された複数の真空処理室と、前記基板を載置して搬送する基板キャリアと、前記基板を載置した基板キャリアを大気側と前記真空処理室間で搬入、搬出する予備室とを具備し、前記基板を略直立させた状態で真空処理を行う縦型方式の真空処理装置において、前記複数の真空処理室内には、各真空処理室内に前記基板キャリアを２台収容できるように、前記基板キャリアが、前記予備室から前記複数の真空処理室に搬送される往路となり且つ、前記基板キャリアを１台収容する第１の搬送経路と、前記基板キャリアが、前記真空処理室から前記予備室に搬送される復路となり且つ、前記基板キャリアを１台収容する第２の搬送経路の２つの搬送経路がそれぞれ設けられるとともに、前記基板キャリアを持ち上げて前記搬送経路に対して横移動させて、前記往路となる第１の搬送経路から、前記復路となる第２の搬送経路に横方向に移載する移載機構を、備えている真空処理装置。」
が記載されている。
　一方、引用文献２及び３にも記載されているとおり、複数の真空処理室のいずれかに移載機構を設けることは周知の技術にすぎない。
　引用文献１に記載の真空処理装置に上記周知技術を適用し、本願の請求項１に係る発明のような構成とすることは、当業者であれば容易になし得る程度の事項にすぎない。
　
　したがって、当該補正後の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
　なお、出願人は意見書において、「しかし、今回の補正により、本願請求項１の発明は、縦型方式の真空処理装置において、基板キャリアを持ち上げて搬送経路に対して横移動させて、往路となる第１の搬送経路から、復路となる第２の搬送経路に横方向に移載する移載機構を、複数の真空処理室のいずれかに備えた真空処理装置に限定された。従って、本願では、真空処理室が移載機構を備えていることを条件に、いずれからの真空処理室からも、基板キャリアを持ち上げて往路から復路に移載出来るものとなった。これにより、本願請求項１の真空処理装置では、移載のための横移動軌道が不要になると共に、基板キャリアの搬送経路が設計された搬送経路に拘束されないものとなっている。」と主張しているが、当該技術思想については願書に最初に添付した特許請求の範囲、明細書又は図面に記載されているものではなく、本願の請求項１の「移載機構を、前記複数の真空処理室のいずれかに備えている」なる記載は、「移載機構を、複数の真空処理室のうちいずれか一つの真空処理室のみに備えている」ものを包含するものであり、当該主張の作用効果を奏する構成として限定されているものでもない。
　
（まとめ）
　よって、この補正は同法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第５３条第１項の規定により上記結論のとおり決定する。
　
３．検討
　補正却下の決定の根拠は、補正後の請求項１に係る発明（以下「補正発明」という。）が、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないというものであるから、これについて検討する。
　
（１）補正発明
　補正発明は、上記第２の１．の請求項１のとおりと認める。
　
（２）刊行物記載の発明
　補正却下の決定に引用され、本願出願前に頒布された刊行物である特開２００２−２０３８８５号公報（以下「刊行物１」という。）には、以下が記載されている。
　
ア．段落００１４〜００１９
「【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態（以下、実施形態）について説明する。まず、図１を使用して、実施形態の基板処理装置の全体の構成について説明する。図１は、実施形態の基板処理装置の平面概略図である。図１に示す基板処理装置は、内部で基板９に所定の処理を施す処理チャンバー２１，２２，２３を含む複数の真空チャンバーを気密に接続した構造である。そして、装置は、複数の真空チャンバーに順次基板９を搬送する搬送系（図１中不図示）を有している。
【００１５】複数の真空チャンバーのうちの二つは、大気側との間の基板９の出し入れの際に基板９が一時的に滞留するロードロックチャンバー１１Ｌ，１１Ｒとなっている。二つのロードロックチャンバー１１Ｌ，１１Ｒは、図１に示すように装置の同じ側に配置されている。従って、装置の同じ側で基板の搬入搬出を行うようになっている。
【００１６】二つのロードロックチャンバー１１Ｌ，１１Ｒは、横に並べて設けられている。そして、縦設された三つの処理チャンバー２１，２２，２３と並設された二つのロードロックチャンバー１１Ｌ，１１Ｒとの間には、中間チャンバー７が設けられている。また、中間チャンバー７から最も遠い側の処理チャンバー２３に対しては、反転チャンバー８が接続されている。中間チャンバー７や反転チャンバー８も気密な真空チャンバーである。
【００１７】これらのチャンバー１１Ｌ，１１Ｒ，２１，２２，２３，７，８は、図１中不図示の排気系を備えている。排気系は、ターボ分子ポンプやクライオポンプにより、１０−３Ｐａ〜１０−５Ｐａ程度まで排気できる構成とされる。各チャンバー１１Ｌ，１１Ｒ，２１，２２，２３，７，８は、ゲートバルブ１０を介して気密に接続されている。ロードロックチャンバー１１Ｌ，１１Ｒの外側には、基板保持具に未処理の基板９を搭載したり、処理済みの基板９を基板保持具から回収したりする場所である不図示のロードステーションが設けられている。
【００１８】図２及び図３を使用して、図１に示す装置が有する搬送系の構成について説明する。本実施形態では、基板９を垂直又は垂直に近い角度で保持して搬送及び処理するようになっている。具体的には、搬送系は、基板９をその板面が水平に対して４５度以上９０度以下の保持角度になるよう立てて保持する基板保持具と、基板保持具を水平方向に移動させて基板９を搬送する水平移動機構とを有している。
【００１９】本実施形態では、若干構成の異なる二種類の基板保持具を用いている。二種類の基板保持具は、搬送の向きに対して互いに異なる側に基板を保持する点が異なるのみであり、それ以外の構成は同じである。以下、説明の都合上、必要に応じて、搬送の向きに対して左側に基板を保持する基板保持具を「左用基板保持具」と呼び、右側に基板を保持する基板保持具を右用基板保持具と呼ぶ。図２は、左用基板保持具の斜視概略図、図３は右用基板保持具の斜視概略図である。」
　
イ．段落００２４
「【００２４】上述した左用基板保持具９２及び右用基板保持具９３を水平移動させる水平移動機構は、水平な面内に設定された搬送ラインに沿って設けられている。水平移動機構は、処理チャンバー２１，２２，２３の縦設方向（以下、縦方向）に沿って基板保持具９２，９３を移動させる縦移動機構と、縦方向に垂直で水平な方向である横方向に基板保持具９２，９３を移動させる横移動機構とを含んでいる。」
　
ウ．段落００３７〜００４０
「【００３７】次に、上述した構成の搬送系による搬送ラインについて、再び図１を使用して説明する。本実施形態の装置は、装置内で基板９が反転して同じ側に戻ってくるインターバック型の装置である。以下の搬送ラインの説明において、反転箇所までの搬送ラインを往路搬送ラインと呼び、反転箇所から戻ってくる搬送ラインと復路搬送ラインと呼ぶ。
【００３８】図１に示すように、往路搬送ライン９４は一つであるが、復路搬送ラインは反転チャンバーにおいて左右に分岐している。以下、分岐した左側の復路搬送ラインを左側復路搬送ライン９５Ｌとし、右側の復路搬送ラインを右側復路搬送ライン９５Ｒとする。図１に示すように、往路搬送ライン９４と二つの復路搬送ライン９５Ｌ，９５Ｒは平行である。また、復路搬送ライン９５Ｌ，９５Ｒ同士も互いに平行である。そして、三つの搬送ライン９４，９５Ｌ，９５Ｒは、三つの縦設された処理チャンバー２１，２２，２３を通して設定されている。
【００３９】本実施形態では、左用基板保持具９２と右用基板保持具９３は、同じ往路搬送ライン９４を通って反転箇所まで移動するが、左用保持具９２は左側復路搬送ライン９５Ｌを通って中間チャンバー７に戻り、右用基板保持具９３は右側復路搬送ライン９５Ｒを通って中間チャンバー７に戻るようになっている。
【００４０】図６は、図１に示す搬送ライン９４，９５Ｌ，９５Ｒに沿った基板保持具９２，９３の移動について説明する図である。図６中（１）は、左用基板保持具９２の移動について示し、（２）は右用基板保持具９３の移動について示している。まず、図６（１）を使用して左用基板保持具９２の移動について説明する。左用基板保持具９２は、装置内では基本的に同じ搬送ラインを通って搬送されるが、大気側と中間チャンバー７との間では、二通りの搬送ラインがある。即ち、図６（１）中に実線で示すように、左側ロードロックチャンバー１１Ｌを経由して搬入搬出を行う搬送ラインと、点線で示すように右側ロードロックチャンバー１１Ｒを通って搬入搬出を行う搬送ラインである。」
　
エ．段落００５１〜００５５
「【００５１】次に、上記構成に係る本実施形態の装置の全体の動作について、図８を使用して説明する。図８は、実施形態の装置の動作について説明する図である。図８中、（１）〜（４）の順で動作が進むことを示している。本実施形態の装置は、上述した説明から解るように、基板保持具９２，９３に基板９を搭載し、この基板保持具９２，９３を各チャンバー１１Ｌ，１１Ｒ，７，２１，２２，２３，８に順次搬送することにより処理を行う。以下の説明では、図８（１）に示す状態を初期状態として説明する。
【００５２】図８（１）に示す状態では、第一処理チャンバー２１内では、左側復路搬送ライン９５Ｌ上に左用基板保持具９２が、右側復路搬送ライン９５Ｒ上に右用基板保持具９３が位置し、往路搬送ライン９４上に左用基板保持具９２が位置している。第二処理チャンバー２２内では、左側復路搬送ライン９５Ｌ上に左用基板保持具９２が、右側復路搬送ライン９５Ｒ上に右用基板保持具９３が位置し、往路搬送ライン９４上に右用基板保持具９３が位置している。第三処理チャンバー２２内では、左側復路搬送ライン９５Ｌ上に左用基板保持具９２が、右側復路搬送ライン９５Ｒ上に右用基板保持具９３が位置し、往路搬送ライン９４上に左用基板保持具９２が位置している。
【００５３】また、中間チャンバー７内では、左寄りの位置において左用基板保持具９２が位置しており、右寄りの位置に右用基板保持具９３が位置している。これら中間チャンバー７内に位置する基板保持具９２，９３は、未処理の基板９を保持している。
【００５４】図８（１）に示す状態で、各処理チャンバー２１，２２，２３内で基板９に対して処理が行われる。即ち、左側復路搬送ライン９５Ｌ上の各左用基板保持具９２に保持された基板９及び右側復路搬送ライン９５Ｒ上の各右用基板保持具９３に保持された基板９が各処理チャンバー２１，２２，２３で同時に処理される。この際、特徴的なことは、同時に、往路搬送ライン９４上の三つの基板保持具９２，９３に保持された基板９に対しては、ヒータ２０４により加熱処理が行われる。
【００５５】１タクトタイムが経過すると、装置は、図８（２）に示す状態となる。即ち、第三処理チャンバー２３内の往路搬送ライン９４上にあった左用基板保持具９２は、反転チャンバー８に移動して左に折れ、反転チャンバー８内の左寄りの位置に停止する。また、第二処理チャンバー２２内の往路搬送ライン９４上にあった右用基板保持具９３は、第三処理チャンバー２３を経由して反転チャンバー８に達し、右に折れて反転チャンバー８内の右寄りの位置に停止する。」
　
オ．段落００７２〜００７４
「【００７２】尚、本願の特許請求の範囲には含まれないが、単に復路搬送ライン９５Ｌ，９５Ｒが往路搬送ライン９４と異なる経路である構成であっても、処理工程の数を増やすという効果が得られる。例えば、図１に示す構成において、右側復路搬送ライン９５Ｒを無くし、全ての基板が左側復路搬送ライン９５Ｌを通って戻ってくるようにしても良い。そして、この場合、全て左用基板保持具９２を使用する。
【００７３】また、往路搬送ライン９４と復路搬送ライン９５Ｌ，９５Ｒとが平行である構成は、チャンバーのレイアウトを整然とさせ、横方向の占有面積の不必要な増大を抑制する技術的意義がある。同様に、分岐した復路搬送ライン９５Ｌ，９５Ｒが互いに平行である点も、チャンバーのレイアウトを整然とさせ、横方向の占有面積の不必要な増大を抑制する技術的意義がある。とはいえ、往路搬送ライン９４と復路搬送ライン９５Ｌ，９５Ｒとを非平行としたり、分岐させた往路搬送ライン９４又は復路搬送ライン９５Ｌ，９５Ｒを非平行とすることを、本願発明は除外するものではない。
【００７４】また、本実施形態では、前述した通り、往路搬送ライン９４と復路搬送ライン９５Ｌ，９５Ｒとが同じ処理チャンバー２１，２２，２３内を通るよう設定されており、往路搬送ライン９４上では加熱処理が行われるようになっている。この構成は、チャンバーの数の増大を抑制して装置の構造の複雑化を避ける技術的意義がある。」
　
　上記オ．の段落００７２の「右側復路搬送ライン９５Ｒを無くし、全ての基板が左側復路搬送ライン９５Ｌを通って戻ってくる」構造を採用した上で、上記エ．の段落００５２、図６、図８を参照すると、各処理チャンバー２１，２２，２３内に、左用基板保持具９２を２台収容できるように、往路となり且つ、左用基板保持具９２を１台収容する往路搬送ライン９４と、復路となり且つ、左用基板保持具９２を１台収容する左側復路搬送ライン９５Ｌとが設けられていることは明らかである。
　
　これらを、図面を参照しつつ、技術常識を踏まえ、補正発明に照らして整理すると、刊行物１には、以下の発明（以下、「刊行物１発明」という。）が記載されていると認められる。
　
「基板９を真空処理する１ライン上に連結された複数の処理チャンバー２１，２２，２３と、前記基板９を載置して搬送する左用基板保持具９２と、前記基板９を載置した左用基板保持具９２を大気側と前記処理チャンバー２１，２２，２３間で搬入、搬出する左側ロードロックチャンバー１１Ｌとを具備し、前記基板９を垂直又は垂直に近い角度で保持して真空処理を行う縦型方式の真空処理装置において、
　前記複数の処理チャンバー２１，２２，２３内には、各処理チャンバー２１，２２，２３内に前記左用基板保持具９２を２台収容できるように、前記左用基板保持具９２が、前記左側ロードロックチャンバー１１Ｌから前記複数の処理チャンバー２１，２２，２３に搬送される往路となり且つ、前記左用基板保持具９２を１台収容する往路搬送ライン９４と、
　前記左用基板保持具９２が、前記真空処理室から前記予備室に搬送される復路となり且つ、前記左用基板保持具９２を１台収容する左側復路搬送ライン９５Ｌの２つの搬送経路がそれぞれ設けられるとともに、
　前記左用基板保持具９２を前記搬送ラインに対して横移動させて、前記往路となる往路搬送ライン９４から、前記復路となる左側復路搬送ライン９５Ｌに横方向に移載する横移動機構を、反転チャンバー８に備えている真空処理装置。」
　
　同じく特開２００２−３０９３７２号公報（以下「刊行物２」という。）には、以下が記載されている。
　
カ．段落０００１
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に成膜処理を施すインライン式成膜装置、及び該インライン式成膜装置を用いた成膜方法、及び液晶素子に関する。」
　
キ．段落００３７〜００３９
「【００３７】
【発明の実施の形態】（インライン式成膜装置）以下に本発明の具体的な実施の形態を図面を用いて詳細に説明するが、本発明はこれに制限されるものではない。
【００３８】図１は本発明のインライン式成膜装置の一実施形態の構成を示す概略図である。図１において、１及び２はそれぞれ第１仕込み室及び第２仕込み室であり、３は成膜室、４は本発明の特徴の一つである移送室、５は本発明に特徴的な、真空に保たれ、且つ成膜処理された基板上の薄膜の結晶化を促進する熱処理を行うための加熱手段を備えているリターン室、６及び７はそれぞれ第１取り出し室及び第２取り出し室、８はゲートバルブ、９は移送手段、１０は本発明に特徴的な配置をされたスパッタリングターゲット、１１は加熱手段、１２はターボ分子ポンプ、１３はキャリヤー、１４はメインラインである。
【００３９】本発明の特徴を有するリターン室５は、成膜室３において成膜の終了した基板をメインライン１４に戻すだけでなく、本発明においては、真空に保たれ、且つ成膜処理された基板上の薄膜の結晶化を促進する熱処理を行うための加熱手段を備えており、さらに成膜室３とリターン室５とは真空状態を保つ形態で連設されている。リターン室５はターボ分子ポンプなどを用いて真空に保つ。・・・。」
　
ク．段落００４２
「【００４２】移送室４については、図１に示す形態では、移送室４と、成膜室３及びリターン室５との間にゲートバルブ８を設けた形態を示している。このような構成によれば、成膜室３とリターン室５の雰囲気を変えることができるため好ましい。しかし、本発明においては、移送手段９などによって成膜室３からリターン室５に基板を移送する事ができれば、成膜室３とリターン室５とは、上記のような移送室４を介さずに直に連設されていても構わない。但し、この場合には必然的に、成膜室３の雰囲気とリターン室５の雰囲気とは同一となる。移送室４に備えられた、成膜の終了した基板をリターン室５に搬送するための移送手段９は、リターン室５での熱処理における基板の向きは基板が所定の温度に加熱されれば良いため、基板を平行移動するトラバーサや基板を半回転させるテーブルやアームなどの機構から、適宜選択すればよい。」
　
　これら記載を、図面を参照しつつ、技術常識を踏まえ、整理すると、刊行物２には、以下の事項（以下、「刊行物２事項」という。）が記載されていると認められる。
「基板上に成膜処理を施すインライン式成膜装置であって、成膜室３とリターン室５とを移送室４を介さずに直に連設し、基板を平行移動するトラバーサや基板を半回転させるテーブルやアームなどの機構から適宜選択された移送手段により、成膜室３からリターン室５に基板を移送するもの。」
　
　請求人は、不服申し立ての理由で、「引例３（当審注、上記刊行物２）では、往路から復路への移載は、はリターン室のみで行われ、引例１同様、基板キャリアの搬送経路は設計軌道に拘束され、『基板キャリアを持ち上げて前記搬送経路に対して横移動させる』旨の記載は一切無く、何ら想定されていない」と主張するが、上記のとおり、「移送室４を介さずに直に連設」する点が記載されているから、請求人の主張は根拠がない。
　
（３）対比
　補正発明と刊行物１発明とを対比する。
　刊行物１発明の「処理チャンバー２１，２２，２３」は補正発明の「真空処理室」に相当し、同様に、「左用基板保持具９２」は「基板キャリア」に、「左側ロードロックチャンバー１１Ｌ」は「予備室」に、「垂直又は垂直に近い角度で保持して」は「略直立させた状態で」に、「往路搬送ライン９４」は「第１の搬送経路」に、「左側復路搬送ライン９５Ｌ」は「第２の搬送経路」に、「搬送ライン」は「搬送経路」に、相当する。
　刊行物１発明の「横移動機構」と補正発明の「移載機構」とは「移載手段」である限りにおいて一致する。
　
　したがって、両者は、以下の点で一致する。
「基板を真空処理する１ライン上に連結された複数の真空処理室と、前記基板を載置して搬送する基板キャリアと、前記基板を載置した基板キャリアを大気側と前記真空処理室間で搬入、搬出する予備室とを具備し、前記基板を略直立させた状態で真空処理を行う縦型方式の真空処理装置において、
　前記複数の真空処理室内には、各真空処理室内に前記基板キャリアを２台収容できるように、前記基板キャリアが、前記予備室から前記複数の真空処理室に搬送される往路となり且つ、前記基板キャリアを１台収容する第１の搬送経路と、
　前記基板キャリアが、前記真空処理室から前記予備室に搬送される復路となり且つ、前記基板キャリアを１台収容する第２の搬送経路の２つの搬送経路がそれぞれ設けられるとともに、
　前記基板キャリアを前記搬送経路に対して横移動させて、前記往路となる第１の搬送経路から、前記復路となる第２の搬送経路に横方向に移載する移載手段を備えている真空処理装置。」
　
　そして、以下の点で相違する。
　相違点１：移載手段について、補正発明では、基板キャリアを「持ち上げ」るものであり、「複数の真空処理室のいずれか」に設けられる「移載機構」であるが、刊行物１発明では、「反転チャンバー８」に設けられる「横移動機構」である点。
　
（４）判断
　相違点１について検討する。
　刊行物２事項は、上記のとおり、「アーム」により「移送室４を介さずに」「成膜室３からリターン室５に基板を移送するもの」であり、移送のためのスペースが不要になることが期待される。
　また、アームは、一般に対象物を「持ち上げて」搬送するものである。
　刊行物１発明、刊行物２事項、いずれも、基板の処理という同一分野に属するものであるところ、刊行物２事項により、スペースの効率化が期待されるから、刊行物１発明に、刊行物２事項の適用を試みることは、必要に応じてなしうる設計的事項にすぎない。
　その際、アームにより「持ち上げて」搬送するものである以上、「複数の真空処理室」のいずれに設けるかについて特段の制約はなく、当業者の選択に委ねられる事項である。
　
　したがって、補正発明は、刊行物１発明、刊行物２事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、出願の際独立して特許を受けることができない。
　
４．むすび
　以上のとおり、本件補正は、改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に適合しないものであり、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　すなわち、補正却下の決定に誤りはない。
　
第３．本願発明について
１．本願発明
（１）平成２１年１０月２８日に補正された請求項１
　補正却下の決定に誤りはないので、本願の請求項１に係る発明は、平成２１年１０月２８日に補正された以下のとおりである（以下、「本願記載発明」という。）。
　
「基板を真空処理する１ライン上に連結された複数の真空処理室と、前記基板を載置して搬送する基板キャリアと、前記基板を載置した基板キャリアを大気側と前記真空処理室間で搬入、搬出する予備室とを具備し、前記基板を略直立させた状態で真空処理を行う縦型方式の真空処理装置において、
　前記予備室内及び前記複数の真空処理室内には、各真空処理室内に前記基板キャリアを２台収容できるように、前記基板キャリアが、前記予備室から前記複数の真空処理室に搬送される往路となり且つ、前記基板キャリアを１台収容する第１の搬送経路と、
　前記基板キャリアが、前記真空処理室から前記予備室に搬送される復路となり且つ、前記基板キャリアを１台収容する第２の搬送経路の２つの搬送経路がそれぞれ設けられるとともに、
　前記基板キャリアを前記搬送経路に対して横移動させて、前記往路となる第１の搬送経路から、前記復路となる第２の搬送経路に移載する移載機構を備えていることを特徴とする真空処理装置。」
　
（２）原審における第３６条の拒絶理由
　これに対し、原審では、請求項１に対して、以下の第３６条の拒絶理由を通知した。
「１）『
前記予備室内及び
２）『移載機構』がどの装置内に設けられているのか不明りょう。」
　
　請求人は、補正を行うとともに、意見書において、以下のとおり主張した。
「今回の補正では、『前記予備室又は前記複数の真空処理室内』を『前記複数の真空処理室内』に限定し、『前記予備室』部分の削除を行い、上記審査官殿の認定は解消されている。」
「今回の補正では、『移載機構を、複数の真空処理室のいずれかに備えている』ものに限定する補正を行い、『移載機構』が設けられている装置が明瞭となり、上記審査官殿の認定は解消されている。」
　
（３）明確化された本願発明
　上記第３６条の拒絶理由は妥当と認められるところ、本願の請求項１に係る発明は、上記請求人の主張を踏まえ、以下のとおりと認める（以下、「本願発明」という。下線部は「本願記載発明」との変更点である。）。
　
「基板を真空処理する１ライン上に連結された複数の真空処理室と、前記基板を載置して搬送する基板キャリアと、前記基板を載置した基板キャリアを大気側と前記真空処理室間で搬入、搬出する予備室とを具備し、前記基板を略直立させた状態で真空処理を行う縦型方式の真空処理装置において、
　
前記
　前記基板キャリアが、前記真空処理室から前記予備室に搬送される復路となり且つ、前記基板キャリアを１台収容する第２の搬送経路の２つの搬送経路がそれぞれ設けられるとともに、
　前記基板キャリアを前記搬送経路に対して横移動させて、前記往路となる第１の搬送経路から、前記復路となる第２の搬送経路に移載する移載機構を、
前記複数の真空処理室のいずれかに
　
２．刊行物記載の発明
　本願出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物は、補正却下の決定に引用された刊行物と同一であり、その記載事項は、上記第２．の３．（２）のとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明は、上記第２．で検討した補正発明から、移載機構について、「持ち上げて」、「横方向に」なる事項が削除されたものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、さらに他の発明特定事項を付加したものに相当する補正発明が、上記第２．の３．（４）に記載したとおり、刊行物１発明、刊行物２事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１発明、刊行物２事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明を検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。