【事件の表示】
　特願２００４−１０５７３５「印刷インクを溜めるためにグラビア印刷用に限定された圧胴の表面に直接セルを彫刻する方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　９月　８日出願公開、特開２００５−２３８８１２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本願発明
（１）手続の経緯
　本願は、平成１６年３月３１日（パリ条約による優先権主張２００４年２月２７日、欧州特許庁）の出願であって、平成２０年７月２２日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１０月２８日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同年１１月２７日付けで手続補正がなされたものである。
　なお、請求人は、当審における平成２１年１２月２４日付け審尋に対しての回答書を平成２２年４月２３日付けで提出している。
　
（２）本願発明
　本願の請求項１に係る発明は、平成２０年１１月２７日付け手続補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項によって特定されるものであるところ、その明細書及び図面の記載からみて、「画素（１３）」及び「平面要素（１５）」は、それぞれ「画素（１１）」及び「平面要素（１３）」の誤記であることが明らかであるから、次のとおりのものであると認める。
　
「印刷インクを溜めるためにグラビア印刷用に限定された圧胴の表面に直接セル（１０）を彫刻する方法において、
　セル（１０）が所定の数の彫刻された画素（１１）から形成されるように彫刻プロセスを実行し、その際、画素（１１）の平面要素（１３）の広さが同じ場合でも、前記画素（１１）の彫刻深度（１２）を種々に異ならせて形成できるようにしたことを特徴とする方法。」（以下「本願発明」という。）
　
２　刊行物の記載事項
（１）原査定の拒絶の理由に引用された「本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平５−２４１７０号公報（以下「引用例」という。）」には、図とともに次の事項が記載されている（下線は審決で付した。）。
　ア　「【０００９】即ち、版胴１には
レーザビームが
照射され、
【００１０】半導体レーザ１０から出射されるレーザビーム１１は図６に示す様に微小な活性層領域１０ａから放出され、発光点に近い位置での光束断面は略矩形で、その大きさは幅２００μｍ×厚み１μｍ程度でありレーザブロック１４内のコリメート光学系１２及び焦点レンズ１３を介して版２上に投影されるレーザビームスポット１０ｂの断面は略矩形でその大きさは幅１２０μｍ×厚さ１μｍ程度である。
【００１１】この様な断面矩形状のレーザビームスポット１０ｂを厚さ方向に移動させて、版２上に所定の画像データの濃淡に応じた窪み１５を形成する様になされている。即ち、半導体レーザ１０には上記した様に、映像入力信号１６で変調されたオン，オフ信号に基づいて図７Ａの如き電流Ｉが流され、オン期間ｔ１，ｔ２，ｔ３のデュレーションによって、図７Ｂの平面図及び図７Ｃの一部断面図に示す様に
版２上に画像データに対応した窪み１５が所定の面積Ｓ及び所定の深さｄとなる様に形成
【００１２】図７Ａ，Ｂ，Ｃから解る様に半導体レーザ１０に流される電流は一定の電流値Ｉであって、オン，オフ信号のオン時に版２に形成される窪み１５の深さｄは駆動電流Ｉに依存し一定であり、濃淡表現は主に窪み１５の面積Ｓによって決定する様に成されている。
【００１３】更に、図８Ａに示す様に半導体レーザ１０の
照射時間ｔ
１
＝ｔ
２
＝ｔ
３
１画素分の長さ
画素平面
画素の一部側断面
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】上述の半導体レーザ１０にオン時に流す駆動電流Ｉは寿命を考慮して半導体レーザのフルパワの７〜９割程度が出力出来る適度の電流を流し、オフ時には全く電流を流さないか、レーザ保護のため少量の電流を流す程度であった。この様な図７Ａ，Ｂ，Ｃに示すような駆動電流で画像データの濃淡に応じてオン，オフ期間ｔ１ｔ２，ｔ３を変えると共に
版胴１を一定速度で回転させ
グラビア印刷の特徴であるインクの厚み方向による階調表現が出来
【００１５】更に図８Ａ，Ｂ，Ｃに示す様に
半導体レーザに流す電流値をＩ
１
，Ｉ
２
，Ｉ
３
と変化させ、照射時間即ち、オン時間ｔ
１
＝ｔ
２
＝ｔ
３
を一定にした場合には深さｄ
１
，ｄ
２
，ｄ
３
を変えられるが面積Ｓが一定である
　
　イ　「【００１６】本発明は叙上の如き問題点を解決するためになされたもので、その
目的
グラビアの版の窪みの深さ方向及び照射時間に変化を持たせ、印刷時にインクの厚み方向と画素面積に変化を持たせて階調表現出来る
　
　ウ　「【００２７】データＲＡＭ３８にはイメージスキャナ等で取り込んだデジタル画像データ４１が格納されている。ＣＰＵ３２は製版すべき画素の画像データ４１をデータＲＡＭ３８より読みだし、これをグレースケール変換回路４２に送る。グレースケール変換回路４２は画像の濃淡をレーザ照射時間の長短に変換する役割を持つ。このグレースケール変換回路４２の出力によりレーザドライバ４３を介して半導体レーザ１０を駆動する。
【００２８】グレースケール変換回路４２には予め用意された半導体レーザ１０のオン時に流す電流値テーブルを有する。この電流値テーブルは例えば
画像データ４１の値が階調で２５５で表される時は１．５Ａ、同様に１２８で表せる時には１．０Ａ等と画像データの値に応じた定められた電流値
【００２９】同様にグレースケール変換回路４２は半導体レーザ１０の照射時間の長短に変換する照射時間テーブルを有するこの照射時間テーブルは例えば
画像データ４１の値が階調で２５５で表されるときは２００パルス、同様に１２８で表されるときには１５０パルス等と画像データ４１の値に応じて照射時間値（パルス数＝パルス幅）
【００３０】グレースケール変換回路４２の出力は上述の記憶手段４４からの電流値を読み出し、この電流値をレーザドライバ４３を介して半導体レーザ１０に流す様な電流値設定回路４５に供給される。即ち、電流値設定回路４５では電流値テーブルの値の半導体レーザ駆動電流を作り出す様になされる。
【００３１】又、グレースケール変換回路４２からのオンオフ信号は照射時間テーブル４６から、例えば
画像データの値が階調で２５５の時の１．５Ａの電流値でパルス数が２００となり、階調が１２８の時、１．０Ａでパルス数が１５０となる様にオン時間のパルス数が変えられ
【００３２】上述の構成の系統図での本例の動作を図３及び図４を用いて説明する。上述の１Ｗ程度のレーザパワを出力するための例えば、ＳＬＤ−３０４（ソニー製半導体レーザ）の駆動電流（ｍＡ）とレーザバワ出力（ｍＷ）との特性曲線図は図４に示す如き特性を示している。即ち駆動電流が２００ｍＡ程度或はレーザパワ出力は零であり、駆動電流２５０ｍＡ程度から徐々に出力が立ち上る特性を示している。この半導体レーザの特性曲線４６から解る様に駆動電流を２５０ｍＡ乃至２０００ｍＡ範囲まで変化させれば、パワ出力は０乃至１０００ｍＡ程度まで変化出来る。
【００３３】そこで、本例ではグレースケール変換回路４２にＣＰＵ３２から供給された画像データ４１の濃淡に応じて記憶手段４４の電流値テーブルから、その濃淡に対応した電流値を読み出して、電流値設定回路４５に供給する。電流値設定回路４５では図３Ａに示す様に、半導体レーザ１０に流す電流をＩ１，Ｉ２，Ｉ３‥‥の様に作り出して、レーザドライバ４３を介して、オン期間の一画素分の時間ｔ３，ｔ１，ｔ２だけ半導体レーザ１０に供給して、電流Ｉ１，Ｉ２，Ｉ３を流すこのＩ１，Ｉ２，Ｉ３の電流値に対すにオン期間のｔ３，ｔ１，ｔ２のデュレーションは照射時間テーブル４６からグレースケール変換回路４２が読み出してレーザドライバ４３にオン信号として供給するので、この
パルス数とこの電流値に対応したパワ出力のレーザビーム１１が版胴１に巻回した版２の表面に照射されて、窪み１５が図３Ｂ及び図３Ｃに示す様に形成される。
電流値Ｉ
３
の様に電流が大きく照射時間ｔ
２
の様に長い所では版２に形成される窪み１５の深さｄ
２
は深く
　
　エ　「【００３４】上述では画素毎に半導体レーザに流す電流を変えたが１つの画素内では電流値を一定にした例を説明したが、図３Ｄ，Ｅ，Ｆに示す様に１つの画素内で電流値を変化させる様にしてもよい。例えば１５Ａで示す窪み１５（図３Ｅの平面図及び図３Ｆの側断面図参照）では、図３Ｄに示す様に
１画素内で電流Ｉ
３
とＩ
５
の様に電流値を変化させた
　
　オ　「【００３５】本例の半導体レーザ製版装置によれば版２に窪み１５の深さ方向並に面積Ｓに変化を持たせることが出来るため、本例で
製作した版を用い
グラビア印刷を行なった印刷物はグラビア印刷本来のインキの厚みに変化を持たせた階調表現と面積階調表現の両方に変化を持たせることが可能
　
　カ　図８から、各画素（幅１２０μｍ、長さｔ１＝ｔ２＝ｔ３）の面積Ｓは同じであり、各窪み１５がそれぞれ１つの画素に対応していることが見て取れる。
　
　キ　図３の記載から、次の（ア）及び（イ）のことが見て取れる。
（ア）各画素の幅は１２０μｍで一定であるが、各画素の長さは、パルス数に比例しており、各窪み１５の面積Ｓすなわち各画素の面積Ｓは、１２０μ×１パルスに相当する長さからなる画素の要素（以下「画素要素」という。）を１単位として、この画素要素の面積に、各窪み１５を形成するレーザービームのパルス数を乗算した積であること。
（イ）各画素要素の面積は同じであるが、各画素要素に対応するパルスの電流値の大きさに応じて各画素要素に対応する窪み部分の深さは深くなっていること。
（ウ）複数の窪み１５は、いずれも、レーザービームの１パルスで１画素要素に対応する窪み部分を形成し、これをパルス数だけ繰り返して形成されていること。
　
（２）上記（１）のア及びカからみて、引用例には、
「版胴を一定速度で回転させ、レーザビームを照射して、版上に画像データの各画素にそれぞれ対応した複数の窪みを所定の面積Ｓ及び所定の深さｄとなる様に形成する方法であって、
　照射時間を一定にして前記面積Ｓを一定となし、半導体レーザに流す電流値を変化させて前記深さｄを変えられるようにして、グラビア印刷の特徴であるインクの厚み方向による階調表現が出来るようにした、版上に窪みを形成する方法。」の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。
　
（３）上記（１）のイないしオ及びキからみて、引用例には、
「レーザビームを版胴に巻回した版の表面に照射して、窪み１５を形成するグラビア印刷用の版の製作方法において、
　画像データの階調値に応じてそれぞれ予め決められているパルス数及び電流値に対応したパワー出力のレーザビームを用いて、
　レーザービームの１パルスで１画素要素に対応する窪み部分を形成し、これをパルス数だけ繰り返して前記窪み１５を形成して、各窪み１５の面積Ｓすなわち各画素の面積Ｓが、単位面積である１画素要素の面積に、各窪み１５を形成するレーザービームのパルス数を乗算した積となるようにするとともに、各画素要素の面積は同じでも電流値が大きいレーザービームのパルスが照射された画素要素の所では版に形成される窪み部分の深さｄが深くなるようにすることにより、
　グラビア印刷を行なった印刷物にグラビア印刷本来のインキの厚みに変化を持たせた階調表現及び面積階調表現の両方に変化を持たせることを可能にするグラビア印刷用版の製作方法。」の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されているものと認められる。
　
３　本願発明と引用発明１との対比・判断
　本願発明と引用発明１とを対比する。
（１）引用発明１の「インク」、「グラビア印刷」、「版胴」、「版上」、「窪み」、「版上に窪みを形成する方法」、「画素」、「各画素にそれぞれ対応した複数の窪み」、「レーザビームを照射」、「『窪み』が対応する『所定の面積Ｓ』の『画素』」、「前記面積Ｓを一定となし」及び「所定の深さｄ」は、それぞれ、本願発明の「印刷インク」、「グラビア印刷」、「圧胴」、「圧胴の表面」、「セル（１０）」、「直接セル（１０）を彫刻する方法」、「画素（１１）」、「彫刻された画素（１１）」、「彫刻プロセスを実行」、「画素（１１）の平面要素（１３）」、「広さが同じ」及び「画素（１１）の彫刻深度（１２）」に相当する。
　
（２）引用発明１において、「半導体レーザに流す電流値を変化させて前記深さｄを変えられるようにし」ているのは、「グラビア印刷の特徴であるインクの厚み方向による階調表現が出来るように」するためであるから、所定の面積Ｓ及び所定の深さｄとなる様に形成する「各画素にそれぞれ対応した複数の窪み」には、グラビア印刷する際にインクが溜まることが明らかである。
　したがって、引用発明１の「セル（窪み）」と本願発明の「セル（１０）」とは、「印刷インクを溜めるためにグラビア印刷用に限定された圧胴の表面に直接」彫刻されるものである点で一致する。
　
（３）引用発明１において、複数の窪みはそれぞれ各画素に対応しているから、引用発明１の「セル（窪み）」は、１つの「彫刻された画素」から形成されているといえ、また、引用発明１の「画素」は、面積Ｓの「平面要素」を１つ有しているといえる。
　したがって、引用発明１の「直接セルを彫刻する方法（版上に窪みを形成する方法）」は、「セル（窪み）」が１つの「彫刻された画素」から形成されるように「彫刻プロセス（レーザビームの照射）」を実行し、その際、「画素の平面要素の広さが同じ（前記面積Ｓが一定）」場合でも、前記「画素の彫刻深度（前記深さｄ）」を種々に異ならせて（変えられるようにして）形成できるものであるといえる。
　
（４）上記（１）ないし（３）からみて、本願発明と引用発明１とは、
「印刷インクを溜めるためにグラビア印刷用に限定された圧胴の表面に直接セルを彫刻する方法において、
　セルが所定の数の彫刻された画素から形成されるように彫刻プロセスを実行し、その際、画素の平面要素の広さが同じ場合でも、前記画素の彫刻深度を種々に異ならせて形成できるようにした方法。」である点で一致し、相違するところはない。
　
（５）まとめ
　以上のとおり、本願発明は引用発明１と同一の発明であるから、本願発明は引用例に記載された発明である。
　
４　本願発明と引用発明２との対比・判断
　本願発明と引用発明２とを対比する。
（１）引用発明２の「インキ」、「グラビア印刷」、「版胴」、「版胴に巻回した版の表面」、「窪み１５」、「『レーザビーム』を照射して、『窪み１５を』形成するグラビア印刷用の版の製作方法」、「画素要素」、「１画素要素に対応する窪み部分」、「レーザービームの１パルスで１画素要素に対応する窪み部分を形成し、これをパルス数だけ繰り返して前記窪み１５を形成」、「画素の『単位面積である』面積の『画素要素』」、「各画素要素の面積は同じ」及び「『画素要素に対応する窪み部分』の『深さｄ』」は、それぞれ、本願発明の「印刷インク」、「グラビア印刷」、「圧胴」、「圧胴の表面」、「セル（１０）」、「直接セル（１０）を彫刻する方法」、「画素（１１）」、「彫刻された画素（１１）」、「彫刻プロセスを実行」、「画素（１１）の平面要素（１３）」、「広さが同じ」及び「画素（１１）の彫刻深度（１２）」に相当する。
　
（２）引用発明２の「直接セルを彫刻する方法（レーザビームを照射して、窪み１５を形成するグラビア印刷用の版の製作方法）」は、グラビア印刷を行なった印刷物にグラビア印刷本来のインキの厚みに変化を持たせた階調表現及び面積階調表現の両方に変化を持たせることを可能にするためのものであるから、印刷インクを溜めるために「セル（窪み１５）」を「彫刻」するものである点で、本願発明の「直接セルを彫刻する方法」と一致する。
　
（３）引用発明２のグラビア印刷用版の製作方法では、レーザービームの１パルスで１画素要素に対応する窪み部分を形成し、これをパルス数だけ繰り返して前記窪み１５を形成しているから、「セル（窪み１５）」がパルス数だけの「彫刻された画素（１画素要素に対応する窪み部分）」から形成されるように「彫刻プロセスを実行」しているといえる。
　したがって、引用発明２の「パルス数だけの彫刻された画素」が本願発明の「所定の数の彫刻された画素」に相当し、引用発明２の「各画素要素の面積は同じでも電流値が大きいレーザービームのパルスが照射された画素要素の所では版に形成される窪み部分の深さｄが深くなるようにする」ことが、本願発明の「画素（１１）の平面要素（１３）の広さが同じ場合でも、前記画素（１１）の彫刻深度（１２）を種々に異ならせて形成できるようにした」ことに相当する。
　
（４）上記（１）ないし（３）からみて、本願発明と引用発明２とは、
「印刷インクを溜めるためにグラビア印刷用に限定された圧胴の表面に直接セルを彫刻する方法において、
　セルが所定の数の彫刻された画素から形成されるように彫刻プロセスを実行し、その際、画素の平面要素の広さが同じ場合でも、前記画素の彫刻深度を種々に異ならせて形成できるようにした方法。」である点で一致し、相違するところはない。
　
（５）まとめ
　以上のとおり、本願発明は引用発明２と同一の発明であるから、本願発明は引用例に記載された発明である。
　
５　むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。