【事件の表示】
　特願２００６−３００７８５「マルチビーム露光装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　４月２６日出願公開、特開２００７−１０８７６６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成９年９月２２日に出願した特願平９−２５７３５０号（以下「原出願」という。）の一部を平成１８年１１月６日に新たな特許出願としたものであって、平成２１年４月６日に手続補正がなされたが、平成２２年６月１０日付けで拒絶査定がなされ、これに対して同年９月１５日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同時に手続補正がなされたものである（以下、平成２２年９月１５日になされた手続補正を「本件補正」という。）。
　
　
第２　本件補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
　
［理由］
１　本件補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１について、補正前（平成２１年４月６日になされた手続補正後のもの。なお、請求項１は、この手続補正によって補正されていない。）の
「　ｍ（ｍは、２以上の整数）個の発光点を有するｎ（ｎは、２以上の整数）群であって、像面で副走査方向にそれぞれｎドットの間隔の複数の光ビームを提供可能な光源と、この光源により提供されるｍ×ｎ本の光ビームの像面での副走査方向ビーム間隔を上記ｍ本のビーム毎に一括して調整するｎ組の機構と、少なくともｎ−１組の、上記ｍ本毎の光ビームの像面でのビーム位置を一括して調整する機構と、ｎ−１個設けられ、上記ｍ本×ｎ群の光ビームを、概ね同一の光路を通過する１つの光束にまとめる所定の割合を反射し、所定の割合を透過する第１の合成用ミラーと、を含む第１の光学手段と、
　回転可能に形成された反射面を有し、上記反射面を所定速度で回転させることにより、前記第１の光学手段からの光ビームを所定方向に偏向する偏向手段と、
　この偏向手段により偏向された上記ｍ×ｎ本の光ビームを連続して像面に結像する第２の光学手段と、を有するマルチビーム露光装置。」
を、補正後の
「　ｍ（ｍは、２以上の整数）個の発光点を有するｎ（ｎは、２以上の整数）群であって、像面で副走査方向にそれぞれｎドットの間隔の複数の光ビームを提供可能な光源と、この光源により提供されるｍ×ｎ本の光ビームの像面での副走査方向ビーム間隔を上記ｍ本のビーム毎に一括して調整するｎ組の機構と、少なくともｎ−１組の、上記ｍ本毎の光ビームの像面でのビーム位置を一括して調整する機構と、ｎ−１個設けられ、上記ｍ本×ｎ群の光ビームを、概ね同一の光路を通過する１つの光束にまとめる、光ビームの所定の割合を反射し、所定の割合を透過するハーフミラーと、を含む第１の光学手段と、
　回転可能に形成された反射面を有し、上記反射面を所定速度で回転させることにより、前記第１の光学手段からの光ビームを所定方向に偏向する偏向手段と、
　この偏向手段により偏向された上記ｍ×ｎ本の光ビームを連続して像面に結像する第２の光学手段と、を有するマルチビーム露光装置。」
に補正する内容を含むものである。
　
　上記の補正の内容は、補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「第１の合成用ミラー」を、「ハーフミラー」に限定するとともに、該ミラーが反射する「所定の割合」が、「光ビーム」についてのものであることを明らかにするものであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
２　独立特許要件
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（１）引用刊行物記載の発明
　原出願の出願前に頒布された刊行物である実願昭５９−１８２０３１号（実開昭６１−９９１２１号）のマイクロフィルム（以下「引用刊行物」という。）には、図とともに以下の事項が記載されている（下線は審決で付した。）。
　
　ア　「２．実用新案登録請求の範囲
　感光体上を複数の光ビームにより同時に走査するようにしたレーザプリンタにおいて、それぞれアレイ状に配列された半導体レーザよりなり一群の光ビームを出射する複数のレーザ光源と、入射する光ビームをその入射角や偏光方向などに応じて反射または透過し前記複数のレーザ光源から出射された光ビームを光軸の接近した一方向の光ビームに合成する光合成素子と、この光合成素子により合成された光ビームを反射し感光体上に投影するポリゴンミラーとを具備してなるレーザプリンタ。」（第１頁４行〜１５行）
　
　イ　「〔産業上の利用分野〕
　本考案は、レーザ光源から出射された光ビームスポットを感光体上で水平走査させ、記録すべき画像をドット（画素）の集合で表示、記録するようにしたレーザプリンタに関するものである。
　更に詳しくは、半導体レーザよりなる複数のレーザ光源から出射された一群の光ビームにより感光ドラム上を同時に走査するようにしたマルチビーム形のレーザプリンタの改良に関するものである。」（第１頁１７行〜第２頁６行）
　
　ウ　「〔考案が解決しようとする問題点〕
　・・・また、レーザ光源の配列状態がその製造プロセスにより決ってしまうので、その寸法精度の良否が感光ドラム上に投影されるレーザビームスポットの配列に直接影響し、レーザ光源の素子数が増えるほど、所望のスポット間隔を得ることが難しくなってしまう。
　本考案は、上記のような従来装置の欠点をなくし、レーザ光源間の熱的結合が少ないとともに、出射される光ビーム間の干渉が少なく、しかも、感光ドラム上に投影されるレーザビームスポットの間隔を任意に調節することのできるレーザプリンタを簡単な構成により実現することを目的としたものである。」（第３頁１行〜第４頁１行）
　
　エ　「〔問題点を解決するための手段〕
　本考案のレーザプリンタは、それぞれアレイ状に配列された半導体レーザよりなる複数のレーザ光源から出射された光ビームを、偏光プリズムなどの光合成素子を使用して光軸の接近した一方向の光ビームに合成するとともに、この一群の光ビームにより感光ドラム上を同時に走査するようにし、しかも、光合成素子の角度を変えることによりレーザビームスポットの間隔を任意に変化させるようにしたものである。
〔作　用〕
　このように、それぞれアレイ状に配列された半導体レーザよりなる複数のレーザ光源から出射された光ビームを、偏光プリズムなどの光合成素子を使用して光軸の接近した一方向の光ビームに合成するようにすると、各々のレーザ光源として素子数の少ない半導体レーザアレイを使用することができ、熱的結合を弱くして、光源部の温度上昇を低くおさえることができるとともに、出射された光ビーム間の干渉を少なくすることができる。また、光合成素子の角度を変えるだけでレーザビームスポットの間隔を調節することができるので、簡単な機構により高い画像精度を維持することができる。」（第４頁２行〜第５頁５行）
　
　オ　「〔実施例〕
　以下、図面を用いて本考案のレーザプリンタを説明する。
　第１図は本考案のレーザプリンタの一実施例を示す構成図である。図において、１1、１2は例えば２つの半導体レーザがアレイ状に配列されたレーザ光源、２1、２2はこのレーザ光源１1、１2から出射された光ビームB1、B2およびB3、B4を感光体上に結像させるための結像レンズ、３は偏光プリズム、４はポリゴンミラー、５は感光ドラムであり、レーザ光源１1から出射された光ビームB1、B2は結像レンズ２1を介して偏光プリズム３に入射し、レーザ光源１2から出射された光ビームB3、B4は結像レンズ２2を介して偏光プリズム３に入射している。ここで、偏光プリズム３は入射する光ビームをその偏波面の向きに応じて反射または透過するもので、この場合、光ビームB1、B2における偏波面の向きが偏光プリズム３を透過する向きであり、光ビームB3、B4における偏波面の向きが偏光プリズム３により反射される向きであったとすると、この４つの光ビームB1〜B4は偏光プリズム３により光軸の接近した一方向の光ビームに合成される。
　・・・
　このようにして合成された光ビームB1〜B4はポリゴンミラー４により反射され、感光ドラム５上に投影される。また、偏光プリズム３により合成された４つの光ビームB1〜B4の光軸は所望のレーザビ―ムスポットの間隔程度に接近しており、レーザビームスポットは主走査方向に対して一定の関係で配列されている。ここで、感光ドラム５上に得られる４つのレーザビームスポットの配列状態のうち、光ビームB1とB2およびB3とB4の間隔はレーザ光源１1、１2における光源間の寸法精度により決まるが、光ビームB1、B2とB3、B4の間隔は偏光プリズム３の角度により任意に調節することができるものである。したがって、周囲温度の変化や経時変化などによりレーザ光源１1、１2の出射方向が変化した場合にも、偏光プリズム３の角度を調節することにより、レーザビームスポットの間隔を常に一定に維持することができる。
　６はレーザビームスポットの走査範囲の一部に配置され、レーザビームスポットの間隔を検出するスポット位置検出器である。スポット位置検出器６は例えばＣＣＤラインセンサやフォトダイオードアレイなどにより構成されるもので、４つのレーザビームスポットの間隔を常時、または始動時などに検出し、その出力信号はレーザ光源１1、１2を駆動するタイミングの制御や偏光プリズム３の角度の調節などに利用される。」（第５頁６行〜第８頁１行）
　
　カ　「　第２図はレーザ光源１1、１2の傾きと感光ドラム５上に得られるレーザビームスポットの配列状態との関係を示す説明図である。図に示すように、レーザ光源１1、１2における光源の配列方向が、走査水平面に対して一定の傾きθを持っていたとすると、感光ドラム５上に投影されるレーザビームスポットも主走査方向に対してθの傾きを持って並ぶようになり、この角度および結像レンズ２1、２2の倍率に応じて各レーザビームスポットによる走査線の間隔が変化する。このため、レーザ光源１1、１2の配置角度を変化させることにより、走査線の間隔を変え、分解能を調節することができる。この時、レーザ光源１1、１2を駆動するタイミングは、スポット位置検出器６の出力をもとに決定される。また、レーザ光源１1,１2の配置角度に応じて、光ビームB1〜B4の偏波面の方向が問題となる時には、その光路中にλ／２板等を適宜挿入する。」（第８頁１６行〜第９頁１２行）
　
　キ　「　第３図はレーザビームスポットの配列状態の他の例を示す説明図で、一方のレーザ光源（１1）による走査線の間を他方のレーザ光源（１2）による走査線で補間するようにしたものである。このように、片方のレーザ光源によるレーザビームスポットを補間用として使用すれば、斜めのドット間を補間ドットにより連続させるなどして、より高品質の記録を得ることができる。」（第９頁１３行〜末行）
　
　ク　「　なお、上記の説明においては、レーザ光源１1、１2としてそれぞれ２つの素子数を有するレーザ光源を使用した場含を例示したが、使用するレーザ光源の数およびその素子数は上記に限られるものではない。また、結像レンズ２1、２2を含む光学系は、結像レンズ２1、２2をポリゴンミラー４の後に配置した光学系であってもよい。さらに、光ビームB1〜B4を含成する光含成素子として偏光プリズム３を例示したが、これは偏光プリズム３に限られるものではなく、例えばハーフミラーのようなものであってもよい。」（第１０頁１行〜１１行）
　
　ケ　上記キを踏まえて第３図を見ると、一方のレーザ光源１1からの光ビームB1とB2のレーザビームスポットによる走査線の間に、他方のレーザ他方のレーザ光源１2からの光ビームB3のレーザビームスポットによる走査線があり、B1とB2による走査線の間隔は、２走査線分であることが見て取れる。
　
　上記アないしケを総合すると、引用刊行物には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
「　感光体上を複数の光ビームにより同時に走査するようにしたレーザプリンタであって、
　２つの半導体レーザがアレイ状に配列された一群の光ビームを出射する２つのレーザ光源と、
　前記２つのレーザ光源から出射された一群の光ビームを感光体上に結像させるための２つの結像レンズと、
　光合成素子としての１つの偏光プリズムと、
　光合成素子により合成された光ビームを反射し感光体上に投影するポリゴンミラーと、
　感光ドラムと、を有し、
　各レーザ光源から出射された一群の光ビームは、対応した結像レンズを介して偏光プリズムに入射し、
　一方のレーザ光源からの一群の光ビームにおける偏波面の向きが偏光プリズムを透過する向きであり、他方のレーザ光源からの一群の光ビームにおける偏波面の向きが偏光プリズムにより反射される向きであり、これらの４つの光ビームは偏光プリズムにより光軸の接近した一方向の光ビームに合成され、
　合成された４つの光ビームはポリゴンミラーにより反射され、感光ドラム上に投影され、
　感光ドラム上に得られる４つのレーザビームスポットの配列状態のうち、一方のレーザ光源からの一群の光ビームと他方のレーザ光源からの一群の光ビームの間隔は偏光プリズムの角度により任意に調節することができ、
　各レーザ光源の配置角度を変化させることにより、走査線の間隔を変え、分解能を調節することができ、
　一方のレーザ光源による走査線の間を他方のレーザ光源による走査線で補間するようにされており、一方のレーザ光源による２つの走査線の間隔は、２走査線分であり、
　前記２つの結像レンズを含む光学系は、結像レンズをポリゴンミラーの後に配置した光学系であってもよい、
レーザプリンタ。」
　
（２）対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　
　ア　引用発明の「レーザプリンタ」は、「感光体上を複数の光ビームにより同時に走査するようにした」ものであるから、本願補正発明の「マルチビーム露光装置」に相当する。
　
　イ　引用発明の「（２つの）レーザ光源」は、「２つの半導体レーザがアレイ状に配列された一群の光ビームを出射する」ものであり、「感光ドラム上に得られる４つのレーザビームスポットの配列状態として、一方のレーザ光源による走査線の間を他方のレーザ光源による走査線で補間するようにされており、一方のレーザ光源による２つの走査線の間隔は、２走査線分であ」るから、
（ア）引用発明の各「半導体レーザ」が、本願補正発明の「発光点」に相当し、
（イ）引用発明の「感光ドラム上」が、本願補正発明の「像面」に相当し、
（ウ）引用発明の「（一方のレーザ光源による２つの走査線の）間隔」が、本願補正発明の「『像面』での『副走査方向』の『複数の光ビームの』『間隔』」に相当し、
（エ）引用発明の「（２つの）レーザ光源」は、本願補正発明の「ｍ（ｍは、２以上の整数）個の発光点を有するｎ（ｎは、２以上の整数）群であって、像面で副走査方向にそれぞれｎドットの間隔の複数の光ビームを提供可能な光源」と、「ｍ＝２」及び「ｎ＝２」である場合に一致する。
　
　ウ　引用発明は、「感光ドラム上に得られる４つのレーザビームスポットの配列状態のうち、一方のレーザ光源からの一群の光ビームと他方のレーザ光源からの一群の光ビームの間隔は偏光プリズムの角度により任意に調節することができ」るものであるから、
　引用発明は、本願補正発明の「少なくともｎ−１組の、上記ｍ本毎の光ビームの像面でのビーム位置を一括して調整する機構」を備えるものといえる。
　
　エ　引用発明は、「各レーザ光源の配置角度を変化させることにより、走査線の間隔を変え、分解能を調節することができ」るから、
　引用発明は、本願補正発明の「この光源により提供されるｍ×ｎ本の光ビームの像面での副走査方向ビーム間隔を上記ｍ本のビーム毎に一括して調整するｎ組の機構」を備えるものといえる。
　
　オ　引用発明の「光合成素子としての１つの偏光プリズム」は、「各レーザ光源から出射された一群の光ビームは、対応した結像レンズを介して偏光プリズムに入射し」、「一方のレーザ光源からの一群の光ビームにおける偏波面の向きが偏光プリズムを透過する向きであり、他方のレーザ光源からの一群の光ビームにおける偏波面の向きが偏光プリズムにより反射される向きであり、これらの４つの光ビームは偏光プリズムにより光軸の接近した一方向の光ビームに合成され」るものであるから、
　引用発明の「光合成素子としての１つの偏光プリズム」は、「ｎ−１個設けられ、上記ｍ本×ｎ群の光ビームを、概ね同一の光路を通過する１つの光束にまとめる、合成用ミラー」である点で、本願補正発明の「ｎ−１個設けられ、上記ｍ本×ｎ群の光ビームを、概ね同一の光路を通過する１つの光束にまとめる、光ビームの所定の割合を反射し、所定の割合を透過するハーフミラー」と一致する。
　
　カ　上記イないしオを踏まえると、引用発明は、本願補正発明の「第１の光学手段」を備えるものといえる。
　
　キ　引用発明は、「感光体上を複数の光ビームにより同時に走査するようにしたレーザプリンタ」であるところ、この光ビームの走査が「ポリゴンミラー」によりなされることは明らかであるから、
　引用発明の「（光合成素子により合成された光ビームを反射し感光体上に投影する）ポリゴンミラー」は、本願補正発明の「回転可能に形成された反射面を有し、上記反射面を所定速度で回転させることにより、前記第１の光学手段からの光ビームを所定方向に偏向する偏向手段」に相当する。
　
　ク　引用発明の「結像レンズを含む光学系」は、「２つのレーザ光源から出射された一群の光ビームを感光体上に結像させる」ものであって、「結像レンズをポリゴンミラーの後に配置した光学系であってもよい」ものであるから、
　引用発明の「結像レンズを含む光学系」は、本願補正発明の「この偏向手段により偏向された上記ｍ×ｎ本の光ビームを連続して像面に結像する第２の光学手段」に相当する。
　
　以上によると、本願補正発明と引用発明とは、
「　ｍ（ｍは、２以上の整数）個の発光点を有するｎ（ｎは、２以上の整数）群であって、像面で副走査方向にそれぞれｎドットの間隔の複数の光ビームを提供可能な光源と、この光源により提供されるｍ×ｎ本の光ビームの像面での副走査方向ビーム間隔を上記ｍ本のビーム毎に一括して調整するｎ組の機構と、少なくともｎ−１組の、上記ｍ本毎の光ビームの像面でのビーム位置を一括して調整する機構と、ｎ−１個設けられ、上記ｍ本×ｎ群の光ビームを、概ね同一の光路を通過する１つの光束にまとめる、合成用ミラーと、を含む第１の光学手段と、
　回転可能に形成された反射面を有し、上記反射面を所定速度で回転させることにより、前記第１の光学手段からの光ビームを所定方向に偏向する偏向手段と、
　この偏向手段により偏向された上記ｍ×ｎ本の光ビームを連続して像面に結像する第２の光学手段と、を有するマルチビーム露光装置。」
である点で一致し、次の点で相違する。
　
［相違点］
　合成用ミラーが、本願補正発明では、「光ビームの所定の割合を反射し、所定の割合を透過するハーフミラー」であるのに対して、引用発明では、「偏光プリズム」である点。
　
（３）判断
　相違点について検討する。
　
　上記（１）クに示したように、引用刊行物には、光合成素子として、偏光プリズム以外にもハーフミラーのようなものであってもよいことが示唆されており、また、レーザプリンタなどのマルチビーム露光装置において、複数の光ビームを１つの光束にまとめる光合成素子として、光ビームの所定の割合を反射し所定の割合を透過するハーフミラーを用いることは、原出願の出願当時における慣用技術である（必要であれば、特開平２−１６６４１３号公報、特開昭６１−１５１１８号公報等参照。）。
　してみると、引用発明において、光合成素子として、偏光プリズムに代えて、光ビームの所定の割合を反射し所定の割合を透過するハーフミラーを採用し、相違点に係る本願補正発明の特定事項となすことに、何ら困難性は認められない。
　
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明、引用刊行物の記載及び慣用技術から、当業者が予測し得る程度のものである。
　
　よって、本願補正発明は、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（４）小括
　以上のとおり、本願補正発明は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。　
　
３　むすび
　以上のとおりであって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、平成２１年４月６日になされた手続補正後の特許請求の範囲の請求項１ないし９に記載された事項によって特定されるものであるところ、その請求項１の記載は、上記第２の１（１）において、補正前のものとして示したとおりのものである（以下、補正前の請求項１に係る発明を「本願発明」という。）。
　
２　引用刊行物記載の発明
　本願の優先日前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された引用刊行物の記載事項及び引用発明は、上記第２の２（１）に示したとおりである。
　
３　判断
　上記第２の１によれば、本願補正発明は、本願発明を減縮したものと認められる。そして、上記第２の２（２）ないし（３）で検討したとおり、本願発明に係る特許請求の範囲を減縮したものである本願補正発明が、引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである以上、減縮前の本願発明も、本願補正発明と同様の理由により、引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおりであって、本願発明は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。　
　
　よって、結論のとおり審決する。