Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月6日(2011.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の症状を示す指標値を発生させる装置であって、この装置が、
患者の２つ以上の測定パラメータであって、これらの測定パラメータが１つ以上の検出装置から生じるようにするこれらの測定パラメータを受けるようになっているポートと、
（ａ）第１の基準値に対する患者の第１の測定パラメータの比較に基づいて患者のこの第１の測定パラメータを特徴づけ、（ｂ）第２の基準値に対する患者の第２の測定パラメータの比較に基づいて患者のこの第２の測定パラメータを特徴づけ、（ｃ）特徴づけられた患者の前記第１及び第２の測定パラメータの各々と関連する値に基づいて指標値を計算し、特徴づけられた前記第２の測定パラメータと関連する値に与えられる重みが、患者の前記第１の測定パラメータの特徴により影響されるようにするように構成されているプロセス論理と
を具える装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、指標値を計算する前記プロセス論理が、医療専門家の検討事項、文献、臨床上のデータ及び医療経験の何れか又はこれらの任意の組み合わせを反映する数学的モデルを適用するようになっている装置。
【請求項３】
請求項１に記載の装置において、前記プロセス論理が、ファジー論理、ベイジアンネットワーク、決定木、ニューラルネットワーク、動径基底関数、線形回帰モデル、非線形回帰モデル及び専門家システムの何れか又はこれらの任意の組み合わせを適用するようになっている装置。
【請求項４】
請求項１に記載の装置において、前記プロセス論理は、患者の測定パラメータをある期間に亘って平均化するようになっている装置。
【請求項５】
請求項４に記載の装置において、前記ある期間は予め決定されるようになっている装置。
【請求項６】
請求項４に記載の装置において、前記ある期間は、１つ以上の患者の特性に基づいて、又は患者の１つ以上の測定パラメータの安定性に基づいて、或いはこれらの双方に基づいて決定されるようになっている装置。
【請求項７】
請求項１に記載の装置において、患者の前記２つ以上の測定パラメータが、ＣＯ2 関連パラメータと、ＣＯ2 関連パラメータ、呼吸数、Ｏ2 関連パラメータ、心拍数、心電図（ＥＣＧ）、脳波図（ＥＥＧ）、血圧及び肺活量で構成されるグループから選択された１つ以上の測定パラメータとを有するようにした装置。
【請求項８】
請求項７に記載の装置において、前記ＣＯ2 関連パラメータが、ＣＯ2 波形関連パラメータ、呼気ＣＯ2 濃度及び呼吸数の何れか又はこれらの任意の組み合わせを有するようにした装置。
【請求項９】
請求項８に記載の装置において、前記ＣＯ2 波形関連パラメータが、ＥｔＣＯ2 、ＥｔＣＯ2 の変化、ＣＯ2 濃度の増大勾配、ＣＯ2 濃度の増大勾配の変化、ＣＯ2 濃度の最大値の予め決定した割合までの上昇時間、ＣＯ2 濃度の最大値の予め決定した割合までの上昇時間の変化、ＣＯ2 濃度の最大値の予め決定した割合までの上昇角度、ＣＯ2 濃度の最大値の予め決定した割合までの上昇角度の変化、呼吸と呼吸との相関関係、呼吸と呼吸との相関関係の変化、ＣＯ2 デューティサイクル及びＣＯ2 デューティサイクルの変化の何れか又はこれらの任意の組み合わせを有するようにした装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の装置において、前記プロセス論理は、前記指標値の信頼性を高める学習プロセスを適用するようになっている装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の装置において、前記学習プロセスが、ニューラルネットワーク方法、サポートベクタマシン（ＳＶＭ）、遺伝的アルゴリズム、模擬アニーリング、期待値最大化（ＥＭ）及び事例に基づく推論の何れか又はこれらの任意の組み合わせを有している装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の装置において、前記プロセス論理が更に、患者の２つ以上の測定パラメータ及び患者の１つ以上の特性に基づいて指標値を計算するようになっている装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の装置において、患者の１つ以上の前記特性には、年齢、体重、性別、病状、医薬品、換気状態、酸素供給状態、臨床検査結果、血圧、病歴及び挿管状態の何れか又はこれらの任意の組み合わせが存在するようにした装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の装置において、前記病歴には、喫煙、心臓病、肺病、睡眠時無呼吸及びペースメーカーの何れか又はこれらの任意の組み合わせが存在するようにした装置。
【請求項１５】
請求項１に記載の装置において、前記指標値を１〜１０の範囲内とした装置。
【請求項１６】
請求項１に記載の装置において、前記指標値の増大が患者の症状の改善を表すようにした装置。
【請求項１７】
請求項１に記載の装置において、前記指標値の減少が患者の症状の悪化を表すようにした装置。
【請求項１８】
請求項１に記載の装置において、前記プロセス論理は、少なくとも１つのパラメータの医学的意義に応じて前記指標値を決定するようにした装置。
【請求項１９】
請求項１に記載の装置において、前記プロセス論理は更に、前記指標値の動向を計算するようにした装置。
【請求項２０】
請求項１に記載の装置において、前記プロセス論理は更に、前記指標値の信頼度指数を計算するようになっている装置。
【請求項２１】
請求項１に記載の装置において、前記プロセス論理は更に、医療上の提言を提供するようになっている装置。
【請求項２２】
請求項１に記載の装置において、この装置が更に、前記指標値のグラフィックディスプレイを具えている装置。
【請求項２３】
請求項１に記載の装置において、この装置が更に、患者自己調節鎮痛（ＰＣＡ）ポンプ、ドーズ量管理装置及び換気装置の何れか又はこれらの任意の組み合わせに関連する少なくとも１つのパラメータを調節するようになっているコントローラを有している装置。
【請求項２４】
請求項１に記載の装置において、前記指標値が肺疾患の指標値である装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月31日(2011.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のヘッドセットであって、各ヘッドセットが複数の視聴者のうちの一視聴者によって装着され、各ヘッドセットが少なくとも１つのセンサーおよび送信機を含み、前記複数の視聴者がメディアインスタンスを視聴しており、各ヘッドセットが、対応する視聴者からの生理的データを受信する複数のヘッドセットと、
複数の信号収集デバイスであって、各信号収集デバイスが、前記複数の視聴者のうちの１組の視聴者の対応するヘッドセットによって送信された前記生理的データを受信する複数の信号収集デバイスと、
前記複数の信号収集デバイスから前記生理的データを受信する処理モジュールであって、前記生理的データから、前記メディアインスタンスに対する前記複数の視聴者の複数の生理的反応を取り出す処理モジュールと、
を備えるシステム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年9月27日(2011.9.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸引プロセスで吸引された液体試料量が、少なくとも所望量と同程度であることを判定するための方法であって、
前記吸引プロセスを表す吸引圧力曲線の短縮された最後の部分のプロファイルを判定することと、
吸引圧力曲線の短縮された最後の部分の第１の数学的表現を算出することと、
十分な量であると分かっている試料の吸引圧力曲線の短縮された最後の部分の第２の数学的表現を算出することと、
短縮された最後の部分のプロファイルと、短縮された最後の部分の第１の数学的表現との間の差の残差の標準偏差が、限定部分のプロファイルと、第２の数学的表現との間の差の残差の標準偏差と少なくとも同じ大きさであると判定することと、
それによって、吸引された液体試料量が、少なくとも所望量と同じ大きさであることを確証することと、
を含む方法。
【請求項２】
吸引圧力曲線の前記短縮された最後の部分が、吸引終了の直前の部分である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
吸引圧力曲線の前記短縮された最後の部分が、全吸引プロセスのおよそ２０％程度である、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記第２の数学的表現が、傾きがゼロの線形数学的表現である、請求項１記載の方法。
【請求項５】
吸引プロセスで吸引された液体試料が、所望量よりも少ない体積を有することを判定するための方法であって、
前記吸引プロセスを表す吸引圧力曲線の短縮された最後の部分のプロファイルを判定することと、
吸引圧力曲線の短縮された最後の部分の第１の数学的表現を算出することと、
十分な量であると分かっている試料の吸引圧力曲線の短縮された最後の部分の第２の数学的表現を算出することと、
短縮された最後の部分のプロファイルと、第１の数学的表現との間の差の残差の標準偏差が、限定部分のプロファイルと、第２の数学的表現との間の差の標準偏差よりも小さいと判定することと、
それによって、吸引された液体試料が、所望量よりも少ないことを結論づけることと、
を含む方法。
【請求項６】
吸引圧力曲線の前記短縮された最後の部分が、吸引終了の直前の部分である、請求項５記載の方法。
【請求項７】
吸引圧力曲線の前記短縮された最後の部分が、全吸引プロセスのおよそ２０％程度である、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記第２の数学的表現が、傾きがゼロの線形数学的表現である、請求項５記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月7日(2011.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスターツールからシートを形成するための方法であって、
微小レンズの第１のアレイ及び前記微小レンズの第１のアレイに隣接した光重合性の第１の材料層を含む第１のシートを用意する工程と、
前記第１の材料層中に複数の重合した第１の構造領域を有するマスターツールを形成すべく、前記第１のシートを放射光源に曝露する工程であって、前記第１の構造領域の少なくとも一部が他の第１の構造領域の少なくとも一部と共通の部分形状を有し、第１の構造領域のそれぞれが前記微小レンズの第１のアレイの１つと関連付けられる、工程と、
複数の複製された構造領域を有する第２の材料層を形成すべく、前記複数の第１の構造領域を、前記複数の構造領域に形状適合する物質を用いて複製する工程と、を含む方法。
【請求項２】
前記第２の材料層を微小レンズの第２のアレイと関連付けることによって第２のシートを形成する工程を更に含み、
個々の複製された構造領域が前記微小レンズの第２のアレイの個々の微小レンズと関連付けられ、
前記微小レンズの第２のアレイのそれぞれが前記第２の材料層の位置に光を透過させる屈折面を有することによって、前記第２の材料層内に形成された前記複製された構造領域から反射光又は透過光によって合成画像が生成され、前記合成画像が前記第２のシートの上又は下に浮遊して見える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記合成画像の一部分が前記第２のシートの上に浮遊して見え、前記合成画像の異なる一部分が前記第２のシートの下に浮遊して見える、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記構造領域の少なくとも１つが、前記マスターツールの平面より上方に少なくとも１マイクロメートル突出するか、又は前記マスターツールの平面より下方に少なくとも１マイクロメートル陥凹する寸法を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記光重合性材料が、２つ以上の光子が同時に吸収されるような条件に曝露されることにより重合する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記複製された構造領域が少なくとも２つの部分的に完全な構造を含み、前記部分的に完全な構造のそれぞれが前記合成画像と共通する少なくとも１つの部分を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
シートの上又は下に浮遊する合成画像を有するシートを形成するためのマスターツールであって、
前記マスターツールは、微小レンズの第１のアレイ、及び前記微小レンズの第１のアレイに隣接した光重合した第１の材料層を有する第１のシートを有し、
光重合した材料が、２つ以上の光子が同時に吸収されるような条件に曝露されることにより重合し、
前記第１のシートが前記第１の材料層中に複数の重合した構造領域を有し、前記構造領域の少なくとも一部が他の構造領域の少なくとも一部と共通の部分形状を有し、構造領域のそれぞれが前記微小レンズの第１のアレイの１つと関連付けられる、マスターツール。
【請求項８】
マスターツールを使用してシートを形成する方法であって、
微小レンズの第１のアレイ、及び前記微小レンズの第１のアレイに隣接した光重合性の第１の材料層を有する第１のシートを用意する工程であって、光重合性の材料が、２つ以上の光子が同時に吸収されるような条件に曝露されることにより重合する、工程と、
前記第１の材料層に複数の重合した第１の構造領域を有するマスターツールを形成すべく、前記第１のシートを放射光源に曝露する工程であって、前記第１の構造領域の少なくとも一部が他の第１の構造領域の少なくとも一部を有し、第１の構造領域のそれぞれが前記微小レンズの第１のアレイの１つと関連付けられる、工程と、
多数の複製された構造領域を有する第２の材料層を形成すべく、前記複数の第１の構造領域を、前記複数の構造領域に形状適合する物質を用いて複製する工程と、を含む方法。
【請求項９】
複数の微小レンズの第１のアレイと、
複数の構造体の規則的なアレイと、を備えるマスターツールであって、
各構造体が前記微小レンズの１つと関連付けられ、
前記構造体の少なくとも一部が、他の構造体の少なくとも一部と共通の部分形状を有し、
前記構造体間に実質平坦な領域が存在し、前記実質平坦な領域内における形状物の高さの変化が１００ナノメートル以下である、マスターツール。
【請求項１０】
可視又は赤外放射光を使用するフォトリソグラフィープロセスであって、
微小レンズの第１のアレイ、及び前記微小レンズに隣接した光重合性の第１の材料層を用意する工程と、
前記第１の材料層を、可視又は赤外放射光を含む放射光源に曝露する工程と、
前記第１の材料層に複数の重合した第１の構造領域を有するマスターツールを形成すべく、前記光重合性の第１の材料層を現像する工程と、を含み、
前記第１の構造領域の少なくとも一部が他の第１の構造領域の一部と共通の部分形状を有し、
前記第１の構造領域のそれぞれが前記微小レンズの第１のアレイの１つと関連付けられ、
前記複数の第１の構造領域の少なくとも１つの形状物の寸法が１００ナノメートル以下である、フォトリソグラフィープロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月24日(2011.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
別の実施形態として、テキスタイルコンポジット材料を壊れて開く時間を減らすための方法が提供される。図2に示される一つの実施態様を参照すればわかるとおり、可燃性又は難燃性のどちらかでよい溶融性材料を有する外側のテキスタイル(10)を含むテキスタイルコンポジット材料(2)が提供される。熱的に安定である対流バリア(30)が、外側のテキスタイル(10)の内側(11)に更に提供され、そして、それらの間に、熱反応性材料(20)が提供される。1つの方法において、本明細書において述べられるHorizontal Flame Testの方法にしたがって試験された場合に、熱反応性材料を導入していない実質的に同一の材料から構成されたテキスタイルコンポジット材料に対して、少なくとも２０秒分増加した、壊れて開く時間を有してテキスタイルコンポジット材料(2)は形成される。テキスタイルコンポジット材料を含む実施形態は本明細書において述べられる方法にしたがって作成されてよく、溶融性材料及び熱反応性材料(20)を含む外側のテキスタイル(10)を有し、本明細書において述べられるHorizontal Flame Testの方法にしたがって試験された場合に、テキスタイルコンポジット材料は、約３０秒超である増加分の壊れて開く時間を有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
積層体実施例3:
実質的に図2に示されるように積層体を調製し、Spartanburg,SCに在る、Milliken Corporationから市販されている130gsmのナイロン6,6ニットの外側のテキスタイル(10)(STYLE 755133)、及び熱的に安定である対流バリア1(30)を用いて作製された。熱的に安定である対流バリア1(30)上に、ポリマー樹脂と延伸可能なグラファイトとの混合物1から構成される別個独立のドットを印刷することによってその積層体は構成され、その後、ニップを用いて、130gsmのナイロン６,６の円形状のニットの外側のテキスタイル(10)を熱的に安定である対流バリア1(30)に接着した。グラビア積層方法は積層体の実施例1で述べられたように実行された。結果として得られた積層体は、熱的に安定である対流バリアと、ポリマー樹脂と延伸可能なグラファイトとの混合物のドットによって結合されたナイロンニットの溶融性面のテキスタイル層との2つの層の積層体であった。積層体は、引っ張られた状態でスチール製のドラム上に持ち上げられた。そして、約50%超の相対湿度で約48時間、その積層体を硬化させた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
実施例15:
図8に示されるように、ポリマー樹脂と延伸可能なグラファイトとの混合物1(20)の別個独立のドットを、実施例10の熱的に安定である対流バリア1(30)の曝露された面に印刷した。熱的に安定である対流バリア1(30´)の追加的な層を、ニップで層を結び付けることによって2層積層体の対流バリア面に接着させた。グラビア積層体は積層体の実施例1で述べられたものと同様な方法で実質的に実行された。第二対流バリア1(30")の結果として得られた曝露された面は、PR1(40)の別個独立のドットで印刷され、60gsmのアラミドニットバッカーテキスタイル(50)に接着された。結果として得られた積層体は4層の積層体であり、その4層積層体を約50%超の相対湿度で約48時間で硬化させた。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月20日(2011.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁内の流体の流れを増大するための装置であって、
流路を有する弁箱と、
内面および外面を備えた壁を有し、前記流路に設けられている弁ケージとを備え、
前記内面は軸線を有するケージ孔を形成しており、
前記壁は複数の貫通開口部が設けられた少なくとも一つの流れゾーンを有しており、
各貫通開口部は隣接する貫通開口部から間隔をおいて並ぶように設けられており、
各貫通開口部は前記外面と前記内面と間に延設されて前記壁を貫通する開口部の軸線を規定しており、
各開口部の軸線は、前記ケージ孔の前記軸線に対して直角な基準面に対して非直角な角度で配置されているか、又は、前記ケージ孔の前記軸線に対して直角な基準面に対して湾曲している若しくは非平面であり、
さらに、前記ケージ孔内で軸方向に摺動可能な弁体を備えてなる、装置。
【請求項２】
前記非直角な角度が約４５度である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記非直角な角度が約５〜８５度の範囲内にある、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記複数の貫通開口部のうちの少なくとも一つが前記弁ケージの前記外面に拡大した領域を有してなる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記複数の貫通開口部のうちの少なくとも一つが前記弁ケージの前記外面に面取り部を有してなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記複数の貫通開口部のうちの少なくとも一つがスロット形状を有してなる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記複数の貫通開口部が所定のパターンに従って配置されてなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
前記各貫通開口部が円形状の流路である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記各貫通開口部が横長形状の流路である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月11日(2011.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミノ酸201-432を含み、天然風疹E1抗原のアミノ酸143-164および454-481に対応する配列を欠き、2つのジスルフィド架橋を含有する風疹E1抗原であって、
1つのジスルフィド架橋はCys 225およびCys 235（C13-C14）の間で形成されており、もう1つのジスルフィド架橋はCys 349およびCys 352（C17-C18）の間で形成されている、風疹E1抗原。
【請求項２】
抗原がペプチジル-プロリル-イソメラーゼクラスのシャペロンに融合されている、請求項１記載の風疹E1抗原。
【請求項３】
請求項１記載の風疹E1抗原をコードするヌクレオチド配列を含んでなる、風疹E1抗原をコードする組換えDNA分子。
【請求項４】
請求項３記載の風疹E1抗原をコードする組換えDNA分子であって、その上流に、ペプチジル-プロピル-イソメラーゼクラスのシャペロンをコードする少なくとも1つのヌクレオチド配列が存在する、組換えDNA分子。
【請求項５】
機能しうる形で連結された、請求項３記載の組換えDNA分子を含んでなる発現ベクター。
【請求項６】
請求項５記載の発現ベクターで形質転換された、宿主細胞。
【請求項７】
可溶性かつ免疫反応性風疹E1抗原融合タンパク質の製造方法であって、
a）請求項６記載の宿主細胞を培養し、
b）該融合タンパク質を発現させ、
c）該融合タンパク質を精製し、
d）該融合タンパク質を可溶性かつ免疫反応性コンホメーションへリフォールディングさせる工程を含んでなる製造方法。
【請求項８】
a）体液サンプルを請求項１または２記載の風疹E1抗原と混合することにより免疫反応混合物を形成させ、
b）該体液サンプル中に存在する該風疹E1抗原に対する抗体が該風疹E1抗原と免疫反応して免疫反応産物を形成するのを可能にするのに十分な時間にわたり、該免疫反応混合物を維持し、
c）免疫反応産物の存在を検出することを含んでなる、単離されたサンプルにおける風疹に特異的な抗体の検出方法。
【請求項９】
単離されたサンプルにおける風疹に対する抗体の検出方法における、請求項１または２記載の風疹E1抗原の使用。
【請求項１０】
請求項１または２記載の風疹E1抗原を含有する、風疹に対する抗体の検出のための試薬キット。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月27日(2011.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
目的の異種タンパク質を細胞中で産生させる方法であって、
ａ）ＳＥＣ１／Ｍｕｎｃ１８群のタンパク質（ＳＭタンパク質）からのタンパク質をコードする少なくとも１つの遺伝子の発現を増加させること、及び
ｂ）目的の異種タンパク質の発現に影響をもたらすこと
を含む方法。
【請求項２】
工程ｂ）において、目的の異種タンパク質の発現を増加させ、好ましくは工程ｂ）において、目的の異種タンパク質の分泌を増加させる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
請求項１又は２記載の方法であって、
Ａ）工程ａ）における１つの遺伝子が、３つのＭｕｎｃ１８アイソフォーム、Ｍｕｎｃ１８ａ、ｂ又はｃの１つをコードするか、または
Ｂ）工程ａ）における１つの遺伝子が、Ｓｌｙ−１（配列番号４１）をコードする、
方法。
【請求項４】
工程ａ）における前記の少なくとも1つの遺伝子が、Ｍｕｎｃ１８ｃ（配列番号３９）をコードする、請求項１〜３記載の方法。
【請求項５】
請求項１〜４記載の方法であって、工程ａ）がＳＭタンパク質をコードする少なくとも２つの遺伝子の発現を増加させることを含み、ＳＭタンパク質が小胞輸送の２つの異なる工程に関与する： 
ａ）１つの遺伝子がＳＭタンパク質をコードし、それが小胞と細胞膜との融合を調節し、
ｂ）第２の遺伝子がＳＭタンパク質をコードし、それが小胞とゴルジ複合体との融合を調節する、
方法。
【請求項６】
Ｍｕｎｃ１８ｃ（配列番号３９）及びＳｌｙ−１（配列番号４１）の発現が、増加される、請求項５記載の方法。
【請求項７】
請求項１又は２記載の方法であって、工程ａ）が、
ｉ）ＳＭタンパク質ファミリーのメンバーをコードする第１の遺伝子の発現を増加させること、
ｉｉ）ＳＭタンパク質ファミリーの別のメンバーをコードする第２の遺伝子の発現を増加させること、及び
ｉｉｉ）ＸＢＰ−１をコードする第３の遺伝子の発現を増加させること、
を含む、方法。
【請求項８】
細胞を操作する方法であって、
ａ）細胞中に、少なくとも２つのポリペプチドをコードする核酸配列を含む１つ又は複数のベクターシステムを導入することであって、ここで、
ｉ）少なくとも１つの第１の核酸配列がＳＭタンパク質をコードし、及び
ｉｉ）第２の核酸配列が目的のタンパク質をコードする、
ｂ）目的のタンパク質及び少なくとも１つのＳＭタンパク質を発現させること、
を含む、方法。
【請求項９】
請求項８記載の方法であって
Ａ）ＳＭタンパク質が、Ｍｕｎｃ−１８アイソフォームのいずれか１つ、又はＳｌｙ−１（配列番号４１）であるか、または
Ｂ）請求項８の工程ａ）ｉ）において、２つのＳＭタンパク質が組み合わせで使用され、ＳＭタンパク質が小胞輸送の２つの異なる工程に関与する、
方法。
【請求項１０】
工程ａ）ｉ）において、２つのＳＭタンパク質がＸＢＰ−１との組み合わせで使用される、請求項８又は９記載の方法。
【請求項１１】
細胞が、哺乳動物細胞である、請求項１〜１０のいずれか一項記載の方法。
【請求項１２】
ａ）少なくとも１つのポリペプチドがＳＭタンパク質であり、及び
ｂ）第２のポリペプチドが目的のタンパク質である、
少なくとも２つのポリペプチドをコードする発現ユニットを含む発現ベクター。
【請求項１３】
目的のタンパク質が、治療用タンパク質である、請求項１２記載の発現ベクター。
【請求項１４】
目的のタンパク質が、抗体又は抗体フラグメントである、請求項１２記載の発現ベクター。
【請求項１５】
請求項１２〜１４記載の発現ベクターであって
ａ）ＳＭタンパク質が、Ｍｕｎｃ−１８ｃ（配列番号３９）であるか、または
ｂ）ＳＭタンパク質が、Ｓｌｙ−１（配列番号４１）であるか、または
ｃ）少なくとも２つのＳＭタンパク質が、組み合わせて使用される
発現ベクター。
【請求項１６】
少なくとも２つのＳＭタンパク質がＸＢＰ−１と組み合わせて使用される、請求項１２〜１５記載の発現ベクター。
【請求項１７】
少なくとも２つの異種遺伝子：
ａ）ＳＭタンパク質をコードする少なくとも１つの遺伝子及び
ｂ）目的のタンパク質をコードする別の遺伝子
を発現する細胞。
【請求項１８】
請求項１２〜１６記載の発現ベクターのいずれかを含む、請求項１７記載の細胞。
【請求項１９】
細胞が、哺乳動物細胞である、請求項１７又は１８記載の細胞。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月1日(2011.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
酵素EIIIは、クロモバクテリウム・ビオラセウムDSM30191由来のω−トランスアミナーゼCV2025である、請求項２から６までのいずれか１項に記載の細胞。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
細胞内では、ω−アミノカルボン酸エステルを相応するω−アミノカルボン酸にする反応を触媒する酵素EIVの発現が増大されている、請求項１から７までのいずれか１項に記載の細胞。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
細胞内では、ω−アミノカルボン酸を相応するラクタムにする反応を触媒する酵素EVの発現が増大されている、請求項１から９までのいずれか１項に記載の細胞。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月16日(2011.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テレビ用リモコンデバイスの（１つまたは複数の）動き（motions）を、ユーザーによって開始された（initiated）ときに感知する（sensing）ステップと、
前記１つまたは複数の動きをリモコン指令（command）に変換するステップであって、異なったリモコン指令に対応する異なった動き（motions）が、テレビ用クライアントデバイスによって実行されるべき、異なったデバイスの動作（action）を引き起こすようにされるものと、
前記リモコン指令を前記テレビ用クライアントデバイスに通信して、前記異なったデバイスの動作の１つを開始するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記１つまたは複数の動きによる前記リモコン指令が赤外線信号に変換され、前記赤外線信号として前記テレビ用クライアントデバイスに通信される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
リモコンボタンのユーザー開始の選択を探知する一方で、前記テレビ用リモコンデバイスの前記１つまたは複数の動きを感知して、前記１つまたは複数の動きを前記リモコン指令に変換するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記１つまたは複数の動きを変換するステップが、前記１つまたは複数の動きを電子信号に翻訳するステップ、および前記電子信号を、前記リモコン指令として前記テレビ用クライアントデバイスに通信される赤外線信号に変換するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記リモコン指令が前記テレビ用クライアントデバイスに通信されてテレビ制御動作を開始する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記リモコン指令が前記テレビ用クライアントデバイスに通信されてプログラム・ガイド・メニュー動作を開始する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記リモコン指令が前記テレビ用クライアントデバイスに通信されて記録済みメディアコンテンツ動作を開始する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記テレビ用リモコンデバイスの動きを感知するよう構成された１つまたは複数のセンサーと、
前記１つまたは複数のセンサーから前記動きに対応する動き信号を受信するよう構成され、前記動き信号をリモコン指令に変換するようさらに構成された集積回路であって、異なった動き信号（motion signals）が異なったリモコン指令に対応し、異なったリモコン指令が、テレビ用クライアントデバイスによって実行され得る異なったデバイスの動作（action）に対応するものと、
前記集積回路によって起動し、前記テレビ用クライアントデバイスに対しデバイス動作の開始を求める前記リモコン指令を赤外線信号として通信するよう構成された光源と
を備えるテレビ用リモコンデバイス。
【請求項９】
選択されたときに前記テレビ用リモコンデバイスの前記動きを感知する前記１つまたは複数のセンサーを始動するリモコンボタンさらに備える、請求項８に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【請求項１０】
ユーザーの選択により、前記動き信号が受信されたときに前記動き信号を前記リモコン指令に変換する前記集積回路を始動するよう構成された第１のリモコンボタンと、
ユーザーの選択により、前記動き信号が受信されたときに前記動き信号を異なるリモコン指令に変換する前記集積回路を始動するよう構成された第２のリモコンボタンと
をさらに備える、請求項８に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【請求項１１】
前記リモコン指令がテレビ制御動作として生成される、請求項８に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【請求項１２】
前記リモコン指令が記録済みメディアコンテンツ動作として生成される、請求項８に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【請求項１３】
前記１つまたは複数のセンサーが前記テレビ用リモコンデバイスの追加的動きを感知するようさらに構成され、前記集積回路が
前記１つまたは複数のセンサーから前記追加的動きに対応する追加的動き信号を受信し、
前記動き信号および前記追加的動き信号を合わせて異なるリモコン信号に変換する
ようさらに構成された、請求項８に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【請求項１４】
前記集積回路が、前記動き信号を、前記テレビ用クライアントデバイスに通信される前記赤外線信号に変換される２進法のリモコン指令に翻訳するようさらに構成された、請求項８に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【請求項１５】
前記テレビ用リモコンデバイスの動きを感知するよう構成された１つまたは複数のセンサーと、
プロセッサーで実行して前記動きをリモコン指令に翻訳するよう構成され、テレビ用クライアントデバイスに対しデバイス動作の開始を求める前記リモコン指令の通信を開始するようさらに構成されたコンピューター実行可能命令であって、異なった動き（motions）が、デバイスによって実行されるべき異なったデバイスの動作（actions）を惹起するように構成された異なったリモコン指令に対応し、異なった動き（motions）が、少なくとも部分的にデバイスのタイプ（type）に基づいてデバイスによって実行されるべき異なった動作（actions）に対応するものと、
を備えるテレビ用リモコンデバイス。
【請求項１６】
選択されたときに前記テレビ用リモコンデバイスの前記動きを感知する前記１つまたは複数のセンサーを始動するリモコンボタンさらに備える、請求項１５に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【請求項１７】
ユーザーの選択により、前記動きをリモコン指令に翻訳する前記コンピューター実行可能命令を開始するよう構成された第１のリモコンボタンと、
ユーザーの選択により、前記動きを異なるリモコン指令に翻訳する前記コンピューター実行可能命令を開始するよう構成された第２のリモコンボタンと
をさらに備える、請求項１５に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【請求項１８】
前記リモコン指令がテレビ制御動作として生成される、請求項１５に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【請求項１９】
前記リモコン指令が記録済みメディアコンテンツ動作として生成される、請求項１５に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【請求項２０】
前記１つまたは複数のセンサーが前記テレビ用リモコンデバイスの追加的動きを感知するようさらに構成され、前記コンピューター実行可能命令が
前記１つまたは複数のセンサーから追加的動きを受信し、
前記動きおよび前記追加的動きを合わせて異なるリモコン指令に変換する
ようさらに構成された、請求項１５に記載のテレビ用リモコンデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月1日(2011.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
オンラインゲームサービスで感知されるサービス品質を決定する方法であって、
測定可能な複数のゲームパラメータおよび複数の転送パラメータに基づき感知されるゲーム品質を決定するステップを備えることを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記決定される、感知されるゲーム品質ではオンラインゲームの複数の異なるフェーズが考慮されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記感知されるゲーム品質を決定するとき、オンラインゲームの複数の異なるフェーズを考慮する手段を備えることを特徴とする請求項６から８のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
請求項１から５のいずれか１項に記載の方法をコンピュータに実行させる複数のセグメントを備えるコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月10日(2011.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
衝突する光を受ける表面と、表面と対向する裏面とを有する半導体層（２９）と、
表面上で電流を集めるフロントコンタクト（２３）と、
表面上で集められた電流のための、デバイスの裏のリアバスバー（３３）と、
半導体層を通り、フロントコンタクトとリアバスバーとを接続する導電性経路を有するバイア（２５）と、
半導体層の裏面上の誘電体層（３９）と、
誘電体層を通って半導体層まで延びる、半導体層の裏面のためのバックコンタクト（３１）と、を有し、
誘電体層はバイアの内面も覆い、導電性経路を半導体層から絶縁する光起電デバイス。
【請求項２】
半導体層は、拡散領域（２０）を有し、拡散領域は、バイアの近傍の半導体層中に深く延びないように、表面から拡散により形成された請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
誘電体層は、ＡＰＣＶＤ酸化物、熱酸化物、スピンオン酸化物、スプレーオン酸化物、ディップ酸化物、シリコン酸化物、ＴｉＯ２、ゾルゲルで堆積されたＴｉＯ２、またはＡｌ２Ｏ３／ＴｉＯ２疑似２元系合金（ＰＢＡｓ）のいずれか１つを含む低品質酸化層を含む請求項１または２に記載のデバイス。
【請求項４】
誘電体層の上に、裏側のパッシベーション層（２８）を有する請求項３に記載のデバイス。
【請求項５】
裏側のパッシベーション層は、少なくとも一部がバイア中に延びた請求項４に記載のデバイス。
【請求項６】
裏側のパッシベーション層は、水素添加のＳｉＮを含む請求項５に記載のデバイス。
【請求項７】
水素添加のＳｉＮ層は、１００ｎｍより大きな膜厚を有する請求項６に記載のデバイス。
【請求項８】
誘電体層は、パターニングやバイアへのアラインメント無しに、バイアの周りの裏面上に延びる請求項１〜７のいずれかに記載のデバイス。
【請求項９】
衝突する光を受ける表面と、表面と対向する裏面とを有する半導体層とを有する光起電デバイスの製造方法であって、
半導体層を通るバイアを形成する工程と、
半導体層の裏面上に、バイアの内面も覆うように誘電体層を形成する工程と、
表面から電流を収集し、誘電体層により半導体層から絶縁された、バイアを通る導電性経路を形成する工程と、
デバイスの裏にリアバスバーを形成し、バイアを通る導電性経路に接続する工程と、
誘電体層を通って半導体層まで延びる、半導体層の裏面のバックコンタクトを形成する工程と、を含む方法。
【請求項１０】
バイアの近傍の半導体層中に深く延びないように、表面からの拡散により、半導体層中に拡散領域（２０）を形成する工程を有する請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
誘電体を形成する工程は、ＡＰＣＶＤ酸化物、熱酸化物、スピンオン酸化物、スプレーオン酸化物、ディップ酸化物、シリコン酸化物、ＴｉＯ２、ゾルゲルで堆積されたＴｉＯ２、またはＡｌ２Ｏ３／ＴｉＯ２疑似２元系合金（ＰＢＡｓ）のいずれか１つを含む酸化層を堆積する工程を含む請求項９または１０に記載の方法。
【請求項１２】
誘電体層の上に裏側のパッシベーション層（２８）を形成する工程を有する請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
裏側のパッシベーション層は、バイアの少なくとも一部に延びる請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
誘電体層は、パターニングやバイアへのアラインメント無しに、バイアの周りの裏面上に延びるように形成された請求項９〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
バックコンタクトは、誘電体層とパッシベーション層との中に孔を形成する工程と、その孔を電気的に導電性のコンタクト材料で埋める工程により形成される請求項９〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
デバイスを焼成して、バックコンタクトを形成する工程を含む請求項９〜１５のいずれかに記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年8月9日(2011.8.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子素子において、
第１の電極と、
前記第１の電極と電気的に接続された活性層と、
前記活性層と電気的に接続され、細孔を含み、前記活性層への経路を提供する第２の電極と、
前記第２の電極上に形成され、前記細孔を被覆し、前記活性層を前記素子の周囲の環境から密封する閉じ込め層と
を有し、
前記第１及び第２の電極は、Ｃ、Ｔｉ、Ｔａ又はＭｏを有する素子。
【請求項２】
前記第１及び第２の電極は、Ｎをさらに含む請求項１記載の素子。
【請求項３】
前記活性層は、相変化物質、カルコゲニド材料、プニクタイド材料及び閾値スイッチング材料のグループから選択された請求項１記載の素子。
【請求項４】
前記活性層は、Ｔｅ又はＳｅを含む請求項１記載の素子。
【請求項５】
前記活性層は、Ｇｅ及びＳｂをさらに含む請求項４記載の素子。
【請求項６】
前記閉じ込め層は、絶縁体である請求項１記載の素子。
【請求項７】
前記閉じ込め層は、酸化物又は窒化物である請求項６記載の素子。
【請求項８】
前記閉じ込め層は、Ｓｉを含む請求項７記載の素子。
【請求項９】
前記閉じ込め層は、伝導層である請求項１記載の素子。
【請求項１０】
前記第１の電極上に形成された絶縁層をさらに含み、前記絶縁層は、開口を有し、前記開口は、前記第１の電極の一部を暴露し、前記活性層は、前記開口内に形成された部分を有する請求項１記載の素子。
【請求項１１】
前記第２の電極は、前記開口を覆う請求項１０記載の素子。
【請求項１２】
前記第１電極と前記活性層との間に形成されたブレークダウン層を含む請求項１記載の素子。
【請求項１３】
前記閉じ込め層は、前記第１の電極を覆う請求項１記載の素子。
【請求項１４】
前記閉じ込め層は、前記第２の電極を覆う請求項１３記載の素子。
【請求項１５】
前記閉じ込め層は、前記第２の電極の表面に浸透する請求項１記載の素子。
【請求項１６】
前記閉じ込め層は、前記細孔を塞ぐ請求項１記載の素子。
【請求項１７】
前記閉じ込め層は、前記第２の電極と電気的に接続された請求項１記載の素子。
【請求項１８】
前記第２の電極は、前記活性層と直接に接触する請求項１記載の素子。
【請求項１９】
前記第１の電極は、前記活性層と直接に接触する請求項１８記載の素子。
【請求項２０】
前記閉じ込め層は、前記第２の電極と直接に接触する請求項１９記載の素子。
【請求項２１】
前記活性層は、第１のくぼみを有する請求項１記載の素子。
【請求項２２】
前記第２の電極は、前記第１のくぼみを占める請求項２１記載の素子。
【請求項２３】
前記第２の電極は、第２のくぼみを有し、前記第２のくぼみは、前記第２のくぼみを覆う請求項２２記載の素子。
【請求項２４】
前記閉じ込め層は、前記第２のくぼみを覆う請求項２３記載の素子。
【請求項２５】
前記活性層は、前記第１の電極の前記暴露された一部と直接に接触する請求項１０記載の素子。
【請求項２６】
前記第２の電極は、前記開口内に形成された前記活性層の前記一部を覆う請求項２５記載の素子。
【請求項２７】
前記閉じ込め層は、前記開口を覆う請求項２６記載の素子。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月16日(2011.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−ポンピングシステム（２）に接続される真空処理チャンバ（１）と、
−少なくとも１つの反応性ガスタンク（１３）に接続される少なくとも１つの反応性ガス入口（１２）と、
−アノード（１０）および層状カソード（１１）を有する少なくとも１つのＰＶＤコーティング源（８、２１）と、
−複数の基板（７）を受ける基板担持体（６）と、
−前記真空処理チャンバ（１）に配置され、前記チャンバに前記基板担持体（６）を搭載するためのゲート（４）と、
−前記ゲート（４）を介して前記基板担持体（６）を移送し、それを、前記真空処理チャンバ（１）において、前記層状カソード（１１）の領域において、間隔をおいて位置決めするための移送装置（５）と、
−前記ＰＶＤコーティング源（８、２１）に接続される電源（１６、１８）とを含み、
前記基板担持体（６）は、少なくとも２つのＰＶＤコーティング源の間に位置決めされ、かつ、前記ユニット内において前記基板担持体（６）にいくつかの扁平な基板（７）を供給した後、前記基板の表面（Ａ）の法線が前記カソードの表面の法線に対して実質的に垂直であるように、構成されることにおいて特徴付けられる、真空コーティングユニット。
【請求項２】
前記基板（７）を受けるよう移動装置（２６、２７、３０）が設けられ、前記移動装置は、前記基板担持体（６）において、ある面において配置され、好ましくは、前記基板（７）のための回転構成を形成することにおいて特徴付けられる、請求項１に記載のコーティングユニット。
【請求項３】
前記基板担持体（６）は、前記基板（７）が供給された後、静止状態で位置決めされて配置されるように、形成される、請求項１に記載のコーティングユニット。
【請求項４】
前記基板担持体（６）は基板受部（２４）を含み、前記基板受部は、前記扁平な基板（７）を受けるよう複数の開口（２５）を設けられ、構成は、好ましくは、格子構造、たとえばワイヤグリッド（２５′）として形成され、包囲枠（２３）によって保持され、そのような格子は好ましくは導電性材料を含むことにおいて特徴付けられる、請求項１〜３のいずれかに記載のコーティングユニット。
【請求項５】
前記基板担持体（６）は、少なくとも３０個の基板（７）、好ましくは最大で１０００個の基板（７）、好ましくは少なくとも２００個から最大６００個の基板（７）を受けることができることにおいて特徴付けられる、請求項１〜４のいずれかに記載のコーティングユニット。
【請求項６】
前記基板担持体（６）は、前記ＰＶＤコーティング源（８、２１）に関する周期的な相対的移動のために移動装置（２２）に接続され、前記移動装置（２２）は好ましくは水平方向移動装置であることにおいて特徴付けられる、請求項１〜５のいずれかに記載のコーティングユニット。
【請求項７】
複数の扁平な基板（７）を硬質材料層で同時コーティングするための方法であって、
−ポンピングシステム（２）に接続される、排気のための真空処理チャンバ（１）と、
−少なくとも１つの反応性ガスタンク（１３）に接続され、処理ガスを導入するための、少なくとも１つの反応性ガス入口（１２）と、
−アノード（１０）および層状カソード（１１）を有し、前記基板（７）をコーティングするための、少なくとも１つのＰＶＤコーティング源（８、２１）と、
−複数の基板（７）が配置される基板担持体（６）と、
−前記真空処理チャンバ（１）に配置され、前記チャンバに前記基板担持体（６）を搭載するためのゲート（４）と、
−前記ゲート（４）を介して前記基板担持体（６）を移送し、それを、前記真空処理チャンバ（１）における、前記層状カソード（１１）の領域内に、間隔をおいて位置決めするための移送装置（５）と、
−前記ＰＶＤコーティング源（８、２１）を動作させるための電源（１６、１８）とを含み、
前記基板担持体（６）は、少なくとも２つのＰＶＤコーティング源の間に位置決めされ、前記ユニット内において前記基板担持体（６）にいくつかの扁平な基板（７）を供給した後、前記基板の表面（Ａ）の法線が前記カソードの表面の法線に対して実質的に垂直であるように、構成されることにおいて特徴付けられる、方法。
【請求項８】
前記基板（７）は移動装置（２６、２７、３０）に結合され、前記基板（７）は共に、前記基板担持体（６）上において、ある面において、好ましくは前記基板（７）が回転するように移動されるように配置されることにおいて特徴付けられる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記基板担持体（６）は、前記扁平の基板（７）が中に配置される複数の開口（２５）を有する基板受部（２４）とともに形成され、構成は、好ましくは、格子構造、たとえばワイヤグリッドとして形成され、包囲枠（２３）によって保持され、この格子は好ましくは導電性材料を含むことにおいて特徴付けられる、請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】
コーティング源の対（８、２１）の２つのカソード（１１）はパルス状の高電流源（１７）に接続されて動作され、少なくとも１つのコーティング源の対（８、２１）はアーク気化器源で動作されることにおいて特徴付けられる、請求項７〜９の１つに記載の方法。
【請求項１１】
実質的に扁平の、好ましくは板形状の基板（７）を５ｍｍ〜６０ｍｍの範囲における程度で利用し、好ましくは、交換可能刃先をコーティングすることにおいて特徴付けられる、請求項７〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記基板担持体（６）には、同時コーティングのために、少なくとも３０個の基板（７）、好ましくは最大で１０００個の基板（７）、好ましくは少なくとも２００個から最大６００個の基板（７）が配置されることにおいて特徴付けられる、請求項７〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記基板担持体（６）と前記ＰＶＤコーティング源（８、２１）との間には、相対的な移動が、移動装置（２２）を介して生じ、前記移動装置（２２）は好ましくは水平方向移動装置であり、好ましくは前記基板担持体（６）を移動させることにおいて特徴付けられる、請求項７〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記処理中の切刃（Ｅ′）の側面上の前記基板（７）上には、層が、０．１μｍ〜５０μｍの範囲の層の厚みで堆積されることにおいて特徴付けられる、請求項７〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記ＰＶＤコーティング源の構成を伴う、前記基板担持体における前記基板（７）は、
前記基板（７）の少なくとも前記処理中の切刃（Ｅ′）が継続して途切れなく露出することを確実にし、前記源から前記基板への材料の流れが全コーティングの持続期間中において妨げられず、材料の流れの±３０％の最大変動、好ましくは最大で±２０％、および特に好ましくは最大で±１０％の最大変動が維持されることにおいて特徴付けられる、請求項７〜１４のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月13日(2011.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記二ホウ化チタン層の層厚が０．１μｍ〜１５μｍの範囲内である請求項１に記載の被覆物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
請求項１ないし９のいずれか１つに記載の被覆物品を製造するための方法において、被覆が７００℃〜９５０℃の範囲内の温度で熱ＣＶＤ法によって製造されるものであり、前記二ホウ化チタン層の製造に２．５〜５０容量％の水素、０．１〜１０容量％のＴｉＣｌ4、０．２〜２０容量％のＢＣｌ3、残り希ガスから成る混合ガスが使用される方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
５〜２０容量％の水素、０．２〜１容量％のＴｉＣｌ4、０．４〜２容量％のＢＣｌ3及び残り希ガスの組成を有する混合ガスが前記二ホウ化チタン層の製造に使用され、被覆が標準圧力のもとで行われる請求項１１に記載の被覆物品製造方法。