【手続補正書】
【提出日】平成23年3月25日(2011.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子が付着する表面を有するウエハーを準備する工程と、
内部に一つあるいは複数の分散結合体を懸濁させた洗浄媒体を前記表面上に供給する工程と、
前記洗浄媒体に音響エネルギーを印加して、前記洗浄媒体内部に周期的せん断応力を発生させる工程と、
を備える洗浄方法であって、
前記周期的せん断応力により、前記一つあるいは複数の結合体のうち少なくとも一つの結合体上で力を作用させ、この結果、前記一つあるいは複数の結合体のうち少なくとも一つの結合体と前記粒子との間に相互作用を生じさせて、前記表面から前記粒子を除去する、
洗浄方法。
【請求項２】
請求項１記載の洗浄方法であって、
前記洗浄媒体に音響エネルギーを印加する前記工程は、メガソニック、超音波処理、圧電駆動、圧電音響駆動、キャビテーション、蒸発技術のうち一つあるいは複数を用いて、前記音響エネルギーを印加する、
洗浄方法。
【請求項３】
請求項２記載の洗浄方法であって、
前記ウエハーを介して前記洗浄媒体に前記音響エネルギーを印加し、前記ウエハーは前記印加された音響エネルギーを前記洗浄媒体に移動させる、
洗浄方法。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか記載の洗浄方法であって、
前記音響エネルギーが、約５０Ｈｚから約１００ＫＨｚの周波数域の超音波エネルギーである、
洗浄方法。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか記載の洗浄方法であって、
前記相互作用が、前記一つあるいは複数の結合体のうち少なくとも一つの結合体と前記粒子との間の機械的結合、化学的結合、静電結合のうちのいずれか一つあるいは複数により実現される、
洗浄方法。
【請求項６】
請求項５記載の洗浄方法であって、
前記機械的結合が、前記一つあるいは複数の結合体のうち少なくとも一つの結合体と前記粒子との間の接着により実現され、前記一つあるいは複数の結合体のうち少なくとも一つの結合体と共に、前記粒子が前記表面から離昇する、
洗浄方法。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか記載の洗浄方法であって、
前記力が、抗力、運動量、あるいはその組み合わせである、
洗浄方法。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれか記載の洗浄方法であって、
前記洗浄媒体が、
液体成分と気体成分と固体成分、あるいは、
液体成分と固体成分
のいずれかを含む洗浄方法。
【請求項９】
請求項８記載の洗浄方法であって、
前記固体成分が、前記一つあるいは複数の分散結合体に対応する、
洗浄方法。
【請求項１０】
請求項９記載の洗浄方法であって、
前記固体成分が、脂肪族酸、カルボン酸、パラフィン、ワックス、高分子、ポリスチレン、ポリペプチド、脂肪酸、粘弾性材料のいずれか一つである、
洗浄方法。
【請求項１１】
請求項８または請求項９記載の洗浄方法であって、
前記気体成分が、
オゾン（Ｏ3）と酸素（Ｏ2）と塩化水素酸（ＨＣｌ）とフッ化水素酸（ＨＦ）と窒素（Ｎ2）とアルゴン（Ａｒ）とを含む気体混合物、
オゾン（Ｏ3）と窒素（Ｎ2）とを含む気体混合物、
オゾン（Ｏ3）とアルゴン（Ａｒ）とを含む気体混合物、
オゾン（Ｏ3）と酸素（Ｏ2）と窒素（Ｎ2）とを含む気体混合物、
オゾン（Ｏ3）と酸素（Ｏ2）とアルゴン（Ａｒ）とを含む気体混合物、
オゾン（Ｏ3）と酸素（Ｏ2）と窒素（Ｎ2）とアルゴン（Ａｒ）とを含む気体混合物、
酸素（Ｏ2）とアルゴン（Ａｒ）と窒素（Ｎ2）とを含む気体混合物、
のいずれか一つである、
洗浄方法。
【請求項１２】
請求項８ないし請求項１１のいずれか記載の洗浄方法であって、
前記液体成分が、水性あるいは非水性である、
洗浄方法。
【請求項１３】
請求項２記載の洗浄方法であって、
密閉源から前記洗浄媒体に、前記音響エネルギーを直接印加する、
洗浄方法。
【請求項１４】
請求項１ないし請求項３または請求項１３のいずれか記載の洗浄方法であって、
前記音響エネルギーが、約６００ＫＨｚから約３ＭＨｚの周波数域の高周波メガソニック音響エネルギーである、
洗浄方法。
【請求項１５】
請求項５記載の洗浄方法であって、
前記機械的結合が、前記一つあるいは複数の結合体のうち少なくとも一つの結合体と前記粒子との間の物理的衝突により実現され、前記一つあるいは複数の結合体のうち少なくとも一つの結合体から前記粒子へのエネルギー移動により、前記粒子が前記表面から離昇する、
洗浄方法。
【請求項１６】
請求項５記載の洗浄方法であって、
前記化学的結合が、前記一つあるいは複数の結合体のうち少なくとも一つの結合体と前記粒子との間の物理的接触および化学的適合性により実現され、前記物理的接触により、前記一つあるいは複数の結合体のうち少なくとも一つの結合体と前記粒子との間の化学的接着が促進される、
洗浄方法。
【請求項１７】
請求項５記載の洗浄方法であって、
前記静電結合が、前記一つあるいは複数の結合体のうち少なくとも一つの結合体と前記粒子との間の引力相互作用あるいは反発相互作用により実現する、
洗浄方法。
【請求項１８】
粒子が付着する表面を有するウエハーを保持する保持体と、
基部と前記基部から伸長する一つあるいは複数の側壁とにより規定される空洞を有するタンクで、前記ウエハーを浸すための所定量の洗浄媒体で、内部に一つあるいは複数の分散結合体を懸濁させた洗浄媒体を前記空洞内に収容するように構成されたタンクと、
前記一つあるいは複数の側壁のうち少なくとも一つの側壁あるいは前記基部に接続される一つあるいは複数のトランスデューサで、前記洗浄媒体に音響エネルギーを印加する一つあるいは複数のトランスデューサと、
を備える洗浄システムであって、
前記音響エネルギーは、前記洗浄媒体内部に周期的せん断応力を発生させ、
前記周期的せん断応力により、前記一つあるいは複数の分散結合体のうち少なくとも一つの分散結合体上で力を作用させ、この結果、前記一つあるいは複数の分散結合体のうち少なくとも一つの分散結合体と前記粒子との間に相互作用を生じさせて、前記表面からの前記粒子の除去を促進する、
システム。
【請求項１９】
請求項１８記載のシステムであって、
前記トランスデューサが、メガソニック・トランスデューサあるいは超音波トランスデューサである、
システム。
【請求項２０】
請求項１９記載のシステムであって、
前記トランスデューサがメガソニック・トランスデューサで、前記音響エネルギーの周波数が約６００ＫＨｚから約３ＭＨｚの範囲である、
システム。
【請求項２１】
請求項１９記載のシステムであって、
前記トランスデューサが超音波トランスデューサで、前記音響エネルギーの周波数が約５０Ｈｚから約１００ＫＨｚの範囲である、
システム。
【請求項２２】
洗浄システムであって、
保持体を備える処理チャンバで、粒子が付着するウエハー表面を露出させるように、前記保持体が前記処理チャンバ内にウエハーを保持可能な処理チャンバと、
音響エネルギーを発生させるように構成された噴出部で、内部に一つあるいは複数の分散結合体を懸濁させた洗浄媒体が前記噴出部の流路を流れる際に、前記露出したウエハー表面に前記洗浄媒体を供給する前に、前記洗浄媒体に前記発生させた音響エネルギーを印加することにより、前記音響エネルギーが前記各分散結合体の物理的特性を変化させ、前記噴出部の噴流による流体運動が、前記物理的特性を変化させた一つあるいは複数の分散結合体のうち少なくとも一つの分散結合体上で力を作用させて、この結果、前記物理的特性を変化させた一つあるいは複数の分散結合体のうち少なくとも一つの分散結合体と前記粒子との間に相互作用を生じさせ、前記露出したウエハー表面から前記粒子を除去する噴出部と、
を備えるシステム。
【請求項２３】
請求項２２記載のシステムであって、
前記物理的特性を変化させた各結合体は、前記露出したウエハー表面からの前
記粒子の除去を促進する、
システム。
【請求項２４】
請求項２２記載のシステムであって、
前記物理的特性を変化させた各結合体のサイズ分布は、広くなる、狭くなる、あるいは、より小さな平均サイズにシフトする、
システム。
【請求項２５】
請求項２２記載のシステムであって、
前記各結合体の前記物理的特性は、サイズと形状の一つあるいは複数である、
システム。
【請求項２６】
洗浄システムであって、
保持体を備える処理チャンバで、粒子が付着するウエハー表面を露出させるように、前記保持体が前記処理チャンバ内にウエハーを保持可能な処理チャンバと、
内部に一つあるいは複数の分散結合体を懸濁させた洗浄媒体を前記表面に供給するように構成された流体供給部と、
音響エネルギーを発生可能なエネルギー源で、前記発生した音響エネルギーを前記洗浄媒体の表面に印加することにより、前記洗浄媒体内部に周期的せん断応力を発生させて、前記周期的せん断応力により、前記一つあるいは複数の分散結合体のうち少なくとも一つの分散結合体上で力を作用させ、この結果、前記一つあるいは複数の分散結合体のうち少なくとも一つの分散結合体と前記粒子との間に相互作用を生じさせて、前記表面から前記粒子を除去するエネルギー源と、
を備えるシステム。
【請求項２７】
裏面と前記裏面の反対側で粒子が付着する表面とを備えるウエハーの前記裏面の近傍で、音響エネルギーを発生可能なトランスデューサと、
前記ウエハーの前記裏面と前記トランスデューサとの間に液体層を供給可能な第１流体供給部と、
内部に一つあるいは複数の分散結合体を懸濁させた洗浄媒体を前記ウエハーの前記表面上に供給可能な第２流体供給部と、
を備える洗浄システムであって、
前記音響エネルギーが、前記トランスデューサから、前記液体層と前記ウエハーとを介して、前記ウエハーの前記表面上の前記洗浄媒体に移動することにより、前記洗浄媒体内部に周期的せん断応力を発生させて、前記周期的せん断応力により、前記一つあるいは複数の分散結合体のうち少なくとも一つの分散結合体上で力を作用させ、この結果、前記一つあるいは複数の分散結合体のうち少なくとも一つの分散結合体と前記粒子との間に相互作用を生じさせて、前記表面から前記粒子を除去する、
システム。
【請求項２８】
請求項２７記載のシステムであって、
前記トランスデューサが、メガソニック・トランスデューサあるいは超音波トランスデューサである、
システム。
【請求項２９】
請求項２８記載のシステムであって、
前記トランスデューサがメガソニック・トランスデューサで、前記音響エネルギーの周波数が約６００ＫＨｚから約３ＭＨｚの範囲である、
システム。
【請求項３０】
請求項２８記載のシステムであって、
前記トランスデューサが超音波トランスデューサで、前記音響エネルギーの周波数が約５０Ｈｚから約１００ＫＨｚの範囲である、
システム。
【請求項３１】
請求項２７記載のシステムであって、
前記液体層が、脱イオン水、アンモニア‐過酸化水素混合物（ＡＰＭ）、界面活性剤溶液、非水性液体のいずれか一つである、
システム。