Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月13日(2010.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハニカムであって、前記ハニカムの面を形成するエッジを有するセルを含み、前記面は、複数の点で画定され、かつ曲率のある領域を有し、前記点の少なくとも２つが、異なる接平面に位置しており、前記セルの壁が、
ａ）融点が１２０℃〜３５０℃の５〜５０重量部の熱可塑性材料と、
ｂ）１デニール当たり６００グラム（１ｄｔｅｘ当たり５５０グラム）以上の弾性率を有する５０〜９５重量部の高弾性率繊維と
を、前記壁中の熱可塑性材料と高弾性率繊維との総量に基づいて含み、
前記曲率のある領域の２５パーセント未満のハニカムセルが、１８０度を超える凹角を有するハニカム。
【請求項２】
請求項１に記載のハニカムを含む物品。
【請求項３】
請求項１に記載のハニカムを含む空力構造。
【請求項４】
請求項１に記載のハニカムと、前記ハニカムの面に取り付けられたフェースシートとを含むパネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
コア厚さを１０回曲げる半径を有する湾曲したハニカムを形成するには、コアを、低熱質量金属モールドに置いて、コアセルがモールド表面と直接接触するようにする。ばね荷重金網をコアの上部に適用して、コアをモールドの適所に保持する。モールドとコアを１９０℃に予熱したホットエア対流式オーブンに入れる。モールドが１８２℃に達したら、オーブンに６０分間保持する。モールドを取り外し、強制空気冷却を３０分間適用して、コアを周囲温度に戻す。モールドを開き、成型したコアを取り出す。コアに、１８０°を超える凹角の破壊されたセルがあるか検査する。曲率のある領域の一面にある破壊されたセルの合計数は、曲率のある領域にあるセルの合計数の２５パーセント未満である。
次に、本発明の態様を示す。
1.  ハニカムであって、前記ハニカムの面を形成するエッジを有するセルを含み、前記面は、複数の点で画定され、かつ曲率のある領域を有し、前記点の少なくとも２つが、異なる接平面に位置しており、前記セルの壁が、
ａ）融点が１２０℃〜３５０℃の５〜５０重量部の熱可塑性材料と、
ｂ）１デニール当たり６００グラム（１ｄｔｅｘ当たり５５０グラム）以上の弾性率を有する５０〜９５重量部の高弾性率繊維と
を、前記壁中の熱可塑性材料と高弾性率繊維との総量に基づいて含み、
前記曲率のある領域の２５パーセント未満のハニカムセルが、１８０度を超える凹角を有するハニカム。
2.  前記高弾性率繊維が約６０〜８０重量部の量で存在している上記１に記載のハニカム。
3.  前記熱可塑性材料が２０〜４０重量部の量で存在している上記１に記載のハニカム。
4.  前記高弾性率繊維がパラ−アラミドポリマーを含む上記１に記載のハニカム。
5.  前記パラ−アラミドポリマーがポリ（パラフェニレンテレフタルアミド）である上記４に記載のハニカム。
6.  前記高弾性率繊維が炭素繊維である上記１に記載のハニカム。
7.  前記高弾性率繊維が、ポリベンズアゾール繊維、ポリピリダゾール繊維およびこれらの混合物の群から選択される上記１に記載のハニカム。
8.  前記熱可塑性材料がポリエステルポリマーを含む上記１に記載のハニカム。
9.  前記ポリエステルポリマーが液晶ポリマーである上記８に記載のハニカム。
10.  前記熱可塑性材料が、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド−イミド、ポリエーテル−イミド、ポリフェニレンスルフィドおよびこれらの混合物からなる群から選択される上記１に記載のハニカム。
11.  前記熱可塑性材料が繊維の形態にある上記１に記載のハニカム。
12.  前記熱可塑性材料がフィブリドの形態にある上記１に記載のハニカム。
13.  前記熱可塑性材料が、粒子、フレークまたは粉末の形態にある上記１に記載のハニカム。
14.  熱硬化性マトリックス樹脂をさらに含む上記１に記載のハニカム。
15.  上記１に記載のハニカムを含む物品。
16.  上記１に記載のハニカムを含む空力構造。
17.  上記１に記載のハニカムと、前記ハニカムの面に取り付けられたフェースシートとを含むパネル。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月25日(2010.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飲料水処理のために１つ又はそれ以上のフィルタセクションを有するとともに、前記フィルタセクションにより処理された飲料水と、バイパスセクションを経由し前記フィルタセクションを回避して導かれた処理されていない又は他の態様により処理された飲料水との間の混合比率を設定する調節メカニズムを有する、飲料水フィルタを備え、前記調節メカニズム（１）と接触している液体（６）と、前記調節メカニズム（１）を通過して流れた液体（６）とのうちの少なくとも一方により、量及び構造のうちの少なくとも一方が変化する調節媒体（５）を設けられた水フィルタ装置であって、
前記調節メカニズム（１）は、独立した、通過可能な要素及び閉鎖した要素のうちの少なくとも一方の形で構成されること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項２】
請求項１記載の水フィルタ装置であって、
前記調節媒体は、健康促進栄養剤と、食料用サプリメントと、飲料水添加剤とのうちの少なくとも１つとして適切であること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の水フィルタ装置であって、
前記調節媒体として、ビタミンＣ、ライムストーン、ドロマイト岩、調味料、食料ベースの材料、シリリン酸塩(siliphosphate)、リン酸塩化合物、又はポリリン酸塩が設けられていること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の水フィルタ装置であって、
前記調節媒体は、粉、顆粒、結晶、又は凝縮体の形で設けられていること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の水フィルタ装置であって、
前記調節媒体の、異なる三次元幾何学的構造が設けられていること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項６】
請求項１記載の水フィルタ装置であって、
混合比率の制御を支援するための還元要素（３４）が設けられていること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の水フィルタ装置であって、
前記調節メカニズム（１）は、フィルタ装置（２０）の、流入部（２３）上及び流出部（２４）上のうちの少なくとも一方に配置されること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の水フィルタ装置であって、
前記調節メカニズムは、少なくとも、前記水フィルタ装置の初期動作中及びそれに続く期間中のうちの少なくとも一方では、フィルタされるべき水の水質と、対応する適用対象とに依存する混合比率を設定すること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項９】
請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の水フィルタ装置であって、
前記水フィルタ装置の外部でフィルタされるべき物質が前記調節要素として設けられていること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項１０】
請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の水フィルタ装置であって、
少なくともさらに１つの、液体流を制御するための調節メカニズムが設けられていること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項１１】
請求項１記載の水フィルタ装置であって、
前記フィルタ媒体が減少した程度を表示する手段が設けられていること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項１２】
請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載の水フィルタ装置であって、
フィルタ装置（２０）が吸引フィルタの形で設計されていること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項１３】
請求項１〜請求項１２のいずれか１項に記載の水フィルタ装置であって、
前記フィルタ装置（２０）は、重量比較フィルタ装置の形で設計されていること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項１４】
請求項１〜請求項１３のいずれか１項に記載の水フィルタ装置であって、
フィルタ挿入機の挿入のためのフィルタヘッド（５０）が設けられていること
を特徴とする水フィルタ装置。
【請求項１５】
挿入可能なフィルタカートリッジを備えた水タンクであって、
前記フィルタカートリッジ（２０、４７）は、請求項１〜請求項１４のいずれか１項に記載の水フィルタ装置の形で設計されていること
を特徴とする水タンク。
【請求項１６】
水タンクを備えた機器であって、
前記水タンク（４４）は、請求項１５記載のように設計されていること
を特徴とする機器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月16日(2010.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明の対象は、基材上での疎水性透明皮膜の製造方法である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の対象は、基材上での疎水性透明皮膜の製造方法であって、以下の工程：
−  式：
Ｘｍ−Ｍｅ−（ＯＲ）ｎ−ｍ  （Ｉ）
［式中、Ｍｅはケイ素であり；ｎはＭｅの原子価であり；
ＸはＲ１又はＯＲ１であり、ここでＲ１はＲと等しい又は異なり、ｍはゼロ又は３以下の整数であり；
Ｒ及びＲ１は炭素数１２以下の炭化水素基である］
に対応する１種又は複数種のアルコキシドの溶媒中での溶液の製造工程；
−  得られた溶液の触媒の存在下での加水分解工程；
−  疎水化剤の添加工程
−  場合により紫外線吸収特性を有する化合物の添加工程
−  場合により疎水化剤の添加工程
−  場合により帯電防止剤及び反射低減剤の添加工程
−  場合により光触媒特性を有する化合物の添加工程
−  場合により増粘剤としてのポリマーの添加工程
−  場合により抗細菌性を有する化合物の添加工程
−  当該基材上でのゾルの付着工程；
−  皮膜の最終的な乾燥及び硬化工程；
を含む基材上での疎水性透明皮膜の製造方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本方法は式：
Ｘｍ−Ｍｅ−（ＯＲ）ｎ−ｍ
[式中、Ｍｅはケイ素であり、ｎはＭｅの原子価であり
ＸはＲ１又はＯＲ１であり、ここでＲ１はＲと同じか又は異なり、ｍはゼロ又は３以下の整数のいずれかの整数であり、
Ｒ及びＲ１は、炭素鎖長が１２以下の原子を有する炭化水素部である］
を有する１種又は複数種のアルコキシドの溶液中でのゾルの製造に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
既に引用された米国特許第６，０１７，３８９号に記載された方法とは異なり、得られた溶液は１．５時間還流されず、数分間だけ撹拌されており、更にモル比ＴＥＯＳ：エタノールは通常は１．２より大きいのに対して、引用された特許ではこれより小さい。同特許では、シリカの多孔層が２種の異なる溶媒に関係がある２段階の工程で得られることが特許請求されている。本発明者らが本明細書で報告している工程もまた、米国特許第３９８６９９７号（実施例６）で報告されたものとは異なる。該米国特許では、１より大きいモル比のＴＥＯＳ／エタノールを用いてゾルを製造するための多段階の工程が報告されたことに対して、本発明者らはＴＥＯＳよりもエタノールを多く使用することを示唆している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
最終工程は、既に基材表面上のゾルの硬化又は乾燥である。硬化温度は７０℃より高く、有利には８０〜１２０℃であることが重要である。硬化は、高い効率で空気が吹き込まれる炉で又はＩＲランプの下で又はポリマー被膜を硬化させるために使用された任意の工業的方法でのいずれかによって行うことができる。そのため、温度は基材に適合されるべきである。即ち、ＰＭＭＡの場合、８０℃を有することがより望ましいが、ＰＣの場合、１１０℃を有することがより望ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上での疎水性透明皮膜の製造方法であって、以下の工程：
−  式：
Ｘｍ−Ｍｅ−（ＯＲ）ｎ−ｍ  （Ｉ）
［式中、Ｍｅはケイ素であり；ｎはＭｅの原子価であり；
ＸはＲ１又はＯＲ１であり、ここでＲ１はＲと等しい又は異なり、
ｍはゼロ又は３以下の整数のいずれかであり；
Ｒ及びＲ１は炭素数１２以下の炭化水素基である］
に対応する１種又は複数種のアルコキシドの溶媒中での溶液の製造工程；
−  得られた溶液の触媒の存在下での加水分解工程；
−  疎水化剤の添加工程
−  場合により紫外線吸収特性を有する化合物の添加工程；
−  場合により帯電防止剤及び反射低減剤の添加工程；
−  場合により光触媒特性を有する化合物の添加工程；
−  場合により増粘剤としてのポリマーの添加工程；
−  場合により抗細菌性を有する化合物の添加工程；
−  当該基材上でのゾルの付着工程；
−  皮膜の最終的な乾燥及び硬化工程；
を含む基材上での疎水性透明皮膜の製造方法。
【請求項２】
疎水化剤がテトラフルオロクチルトリエトキシ−シランである、請求項１記載の透明皮膜の製造方法。
【請求項３】
アルコキシドがテトラメチル−オルトシラン、テトラエチルオルトシラン、テトラエトキシオルトシリケート、テトラプロピルオルトシリケート、テトラブチルオルトシリケート、エチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、又はそれらの混合物から選択される、請求項１記載の透明皮膜の製造方法。
【請求項４】
アルコキシドの有機溶媒溶液はアセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン及びエタノールから選ばれる、請求項１記載の透明皮膜の製造方法。
【請求項５】
紫外線吸収特性を有する化合物が、ベンゾトリアゾール類、s-トリアジン類、オキサニリド類、サリチラート類、ヒドロキシベンゾフェノン類、ベンゾアート類及びα-シアノアクリラート類並びにＴｉＯ２及びＺｎＯの群からの無機分子の群から選択される、請求項１記載の透明皮膜の製造方法。
【請求項６】
帯電防止特性及び反射低減特性を有する化合物が、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アンチモンスズ及び酸化チタンの群から選択される、請求項１記載の透明皮膜の製造方法。
【請求項７】
増粘特性を有するポリマーが、３００〜１２０００の分子量を有するポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリエチレングリコールの群から選択される、請求項１記載の透明皮膜の製造方法。
【請求項８】
光触媒特性を有する化合物が二酸化チタン、酸化亜鉛の群から選択される、請求項１記載の透明皮膜の製造方法。
【請求項９】
抗細菌性を有する化合物がＡｇＯである、請求項１記載の透明皮膜の製造方法。
【請求項１０】
溶媒中のアルコキシド溶液又は混合物が２０質量％〜６０質量％である、請求項１記載の皮膜の製造方法。
【請求項１１】
アルコキシドの加水分解が制御された量の水の添加によって行われる、請求項１記載の皮膜の製造方法。
【請求項１２】
モル比Ｈ２Ｏ／Ｍｅが０．３〜６である、請求項１１記載の皮膜の製造方法。
【請求項１３】
触媒が０．１〜３のＫａを有する鉱酸及び有機酸から選択された酸である、請求項１記載の皮膜の製造方法。
【請求項１４】
乾燥温度が６０〜２００℃である、請求項１記載の皮膜の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月6日(2010.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
さらに、電極の電荷と同じ電荷を有するイオン（以下、「同一電荷のイオン」（similarly charged ions）という）は電極の多孔質材料の細孔体積内に存在する。充電工程の間、電圧を印加すると、これらの同一電荷のイオンの一部が電極から追い出され、フィード流に加えられる。細孔体積イオンのこの望ましくない移動は余計な電流を消費し、フィード流の不純度を増加する。このような場合、細孔体積から追い出されるイオンを超える過剰量のフィードイオンが電極に吸着されるときだけ、フィード流の精製が起こりうる。反対に、放電工程の間、反対電荷のイオン（oppositely charged ions）の多孔質電極からフィード流への脱着のほかに、フィード流中の同一電荷のイオンの一部も細孔体積中に吸着される。しかしながら、同一電荷のイオンの吸着はあらゆる濃度で起こるが、濃度が高いほど悪くなる。
【特許文献１】米国特許第６６３１０７３号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月21日(2010.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペルフルオロポリマーまたはポリクロロトリフルオロエチレンポリマーを含む部品を形成するための方法であって、
（ａ）ペルフルオロポリマーを含む第１の部品の平坦な表面と、ペルフルオロポリマーまたはポリクロロトリフルオロエチレンポリマーのいずれかを含む第２の部品の平坦な表面とを接触させるステップであって、前記第１および第２の部品が、前記平坦な表面の面と本質的に平行に配向された繊維を含むステップと、
（ｂ）前記第１および第２の部品の間に十分な摩擦熱を生じさせるために、前記第１の部品および前記第２の部品を互いに対して動かしながら、前記第１および第２の部品の前記平坦な表面の間の接触を保持し、それによって、前記第１および第２の部品のそれぞれの平坦な表面を溶融および／または軟化させるステップと、
（ｃ）前記第１および第２の部品の平坦な表面を冷却して互いに接着させるのに十分な時間、前記平坦な表面の間の接触を保持しながら、前記第１および第２の部品の運動を停止させるステップと
を含む方法。
【請求項２】
前記運動が反復運動であり、約１５０Ｈｚ〜約３００Ｈｚの振動数で行われる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記運動が反復運動であり、約１５ｋＨｚ〜約５０ｋＨｚの振動数で行われる請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記繊維が、部品中の前記フルオロポリマーおよび繊維の全重量を基準として、部品の約５重量パーセント〜約５０重量パーセントである請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の部品のペルフルオロポリマーおよび／または前記第２の部品のペルフルオロポリマーが、テトラフルオロエチレンのコポリマーまたはテトラフルオロエチレンのホモポリマーである請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記コポリマーが、テトラフルオロエチレンから誘導される少なくとも８０重量パーセントの繰返し単位を含有する請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第１および第２の部品が、約０．３ｃｍ以上の最小断面寸法を有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記繊維が、ガラス、炭素、またはアラミド繊維のうちの１つまたは複数である請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記第２の部品がペルフルオロポリマーを含む請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の部品のペルフルオロポリマーが、前記第２の部品のペルフルオロポリマーと同一である請求項９に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
実施例９
溶接サイクルを、３．３８ＭＰａ（４９０ｐｓｉ）で１４秒と、６７６ｋＰａ（９８ｐｓｉ）で１０秒とに分けたことを除いて、実施例８を繰り返した。溶接線は良好な外観であり、生じたフラッシュの量は２．５重量％に低下した。この実施例は、振動時間／圧力サイクルが一定に保持される場合には溶接時間は部品面積の大きさに無関係であることを示す。部品の比重は１．９７であった。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．  ペルフルオロポリマーまたはポリクロロトリフルオロエチレンポリマーを含む部品を形成するための方法であって、
（ａ）ペルフルオロポリマーを含む第１の部品の平坦な表面と、ペルフルオロポリマーまたはポリクロロトリフルオロエチレンポリマーのいずれかを含む第２の部品の平坦な表面とを接触させるステップであって、前記第１および第２の部品が、前記平坦な表面の面と本質的に平行に配向された繊維を含むステップと、
（ｂ）前記第１および第２の部品の間に十分な摩擦熱を生じさせるために、前記第１の部品および前記第２の部品を互いに対して動かしながら、前記第１および第２の部品の前記平坦な表面の間の接触を保持し、それによって、前記第１および第２の部品のそれぞれの平坦な表面を溶融および／または軟化させるステップと、
（ｃ）前記第１および第２の部品の平坦な表面を冷却して互いに接着させるのに十分な時間、前記平坦な表面の間の接触を保持しながら、前記第１および第２の部品の運動を停止させるステップと
を含む方法。
２．前記運動が反復運動であり、約１５０Ｈｚ〜約３００Ｈｚの振動数で行われる前記１．に記載の方法。
３．前記運動が反復運動であり、約１５ｋＨｚ〜約５０ｋＨｚの振動数で行われる前記１．または２．に記載の方法。
４．前記繊維が、部品中の前記フルオロポリマーおよび繊維の全重量を基準として、部品の約５重量パーセント〜約５０重量パーセントである前記１．〜３．のいずれか一項に記載の方法。
５．前記繊維が、少なくとも約０．６ｃｍの長さである前記１．〜４．のいずれか一項に記載の方法。
６．前記第１の部品のペルフルオロポリマーおよび／または前記第２の部品のペルフルオロポリマーが、テトラフルオロエチレンのコポリマーまたはテトラフルオロエチレンのホモポリマーである前記１．〜５．のいずれか一項に記載の方法。
７．前記コポリマーが、テトラフルオロエチレンから誘導される少なくとも８０重量パーセントの繰返し単位を含有する前記６．に記載の方法。
８．前記コポリマーが、ペルフルオロ化アルキルビニルエーテルまたはペルフルオロ化オレフィンを含有する１つまたは複数コポリマーである前記６．に記載の方法。
９．前記第１および第２の部品が、約０．３ｃｍ以上の最小断面寸法を有する前記１．〜８．のいずれか一項に記載の方法。
１０．前記繊維が、ガラス、炭素、またはアラミド繊維のうちの１つまたは複数である前記１．〜９．のいずれか一項に記載の方法。
１１．前記第２の部品がペルフルオロポリマーを含む前記１．〜１０．のいずれか一項に記載の方法。
１２．前記第１の部品のペルフルオロポリマーが、前記第２の部品のペルフルオロポリマーと同一である前記１１．に記載の方法。
１３．前記１．〜１２．のいずれか一項に記載の方法によって形成された部品。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月29日(2010.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体出射型印刷装置に流体を供給する流体供給システムであって、
画像の形成、保護又はその双方に役立つ流体を蓄えうるよう構成された流体貯留器と、
データ保存デバイス装着先として上記流体貯留器から突設されたペデスタルと、
を備え、上記ペデスタルが、上記流体貯留器を支持体に装着したときその支持体の表面開口内又は表面開口越しに突出するよう構成された流体供給システム。
【請求項２】
請求項１記載の流体供給システムであって、ペデスタル突出部又はその近傍に装着されており複数個の電極を有する上記データ保存デバイスを備える流体供給システム。
【請求項３】
画像の形成、保護又はその双方に役立つ流体を蓄えうるよう構成された流体貯留器と、
上記流体貯留器に固定されており少なくとも貯留器内流体残量関連データが保存されるデータ保存デバイスと、
少なくとも上記流体貯留器が装着される支持体と、
保存データ用電極及び制御回路コネクタを有し少なくとも上記支持体が装着されるキャリッジと、
上記制御回路コネクタに接続された制御回路と、
を備え、
上記保存データ用電極は、上記支持体への流体貯留器装着及び上記キャリッジへの支持体装着により、単一の着脱可能な接続箇所のみを介して上記データ保存デバイスに接続され、
上記制御回路が、少なくとも（ａ）上記制御回路の上記制御回路コネクタとの接続と、（ｂ）上記データ保存デバイスの上記保存データ用電極との接続と、によって、上記データ保存デバイスに通信接続されている流体出射型印刷装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月3日(2010.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルから液体の連続ストリームを放出する液体滴放出器を使って、受け媒体上に液体パターン・データに従って液体パターンを形成する方法であって、前記液体の連続ストリームは滴形成エネルギー・パルスの印加によって所定の諸体積の滴に分解され、当該方法は：
前記記録媒体のあるピクセル領域を、ノズルおよび該ノズルから射出された複数の流体滴が前記記録媒体の前記ピクセル領域に衝突できる時間期間と関連付け；
前記時間期間を複数の部分期間に分割し；
前記複数の部分期間を諸ブロックにまとめ；
各ブロックを、印刷ブロックまたは非印刷ブロックとして定義し；
相続くブロックの各対の間に滴形成エネルギー・パルスを関連付け；
各印刷ブロックの部分期間どうしの間に滴形成エネルギー・パルスを関連付け；
各非印刷ブロックの各部分期間どうしの間には滴形成エネルギー・パルスは関連付けず；
前記関連付けられた滴形成エネルギー・パルスのシーケンスに基づいて前記ノズルから滴を放出させることを含み、前記液体パターンが印刷ブロックに関連付けられた部分期間中に放出された液体からなる印刷滴によって前記受け手の上に形成され、非印刷ブロックに関連付けられた部分期間中に放出された液体は非印刷滴に形成されて、前記受け媒体に到達する前に捕捉される、
方法。
【請求項２】
ノズルから液体の連続ストリームを放出する液体滴放出器を使って、受け媒体上に液体パターン・データに従って液体パターンを形成する方法であって、前記液体の連続ストリームは滴形成エネルギー・パルスの印加によって所定の諸体積の滴に分解され、前記滴は、実質的に等しい体積V0をもつ印刷滴と、Mを2以上の整数、QをMより大きな整数としてMV0≦Vnp≦QV0となる滴体積Vnpをもつ非印刷滴とを含み、当該方法は：
前記記録媒体のあるピクセル領域を、ノズルおよび該ノズルから射出された複数の流体滴が前記記録媒体の前記ピクセル領域に衝突できる時間期間と関連付け；
前記時間期間を複数Nの実質的に等しい部分期間に分割し、ここで、１部分期間中に放出される液体体積は実質的にV0に等しく；
各部分期間についての部分期間液体パターン・データを、前記ピクセル領域についての前記液体パターン・データから導出し；
第一段階において、各部分期間を、前記部分期間液体パターン・データおよび二値イメージング・プロセスに従って印刷部分期間または非印刷部分期間として定義し；
第二段階において、第一段階で印刷部分期間または非印刷部分期間として定義された各部分期間を、非印刷部分期間として定義されるあらゆる部分期間がM個以上の部分期間の連続シーケンスで生起することを要求する非印刷滴規則に従って定義し直し；
最大非印刷滴規則に従って各部分期間後に滴形成エネルギー・パルスを関連付けて、印刷部分期間として定義された各部分期間の前および後に滴形成エネルギー・パルスがあるようにし、非印刷部分期間の連続するシーケンスは、滴形成エネルギー・パルスによって、少なくともM個の非印刷部分期間でありかつQ個を超えない非印刷部分期間のグループに分割されるようにし；
前記関連付けられた滴形成エネルギー・パルスのシーケンスに基づいて前記ノズルから滴を放出させることを含み、前記液体パターンが印刷ブロックに関連付けられた部分期間中に放出された液体からなる印刷滴によって前記受け手の上に形成され、非印刷ブロックに関連付けられた部分期間中に放出された液体は非印刷滴に形成されて、前記受け媒体に到達する前に捕捉される、
方法。
【請求項３】
諸入力ピクセル画像領域をもちいくつかの可能な量子化された入力レベルとして表された液体パターン・データを処理して、液体滴放出器による印刷のための、前記入力ピクセル領域に対応する出力ピクセル領域をもつ出力デジタル画像を形成する方法であって、前記出力デジタル画像の各出力ピクセル領域は、液体滴が印刷されない非印刷レベルおよび少なくとも一つの液体滴が印刷される印刷レベルに対応する少なくとも二つの可能な量子化された出力レベルをもち、当該方法が：
ａ）各出力ピクセル領域について量子化された出力レベルを決定するために前記入力液体パターン・データ中のピクセル画像領域についての前記入力レベルを閾値処理し；
ｂ）前記量子化された出力レベルが非印刷レベルに対応する出力ピクセル領域については、少なくとも一つの他の隣接する出力ピクセル領域についての量子化された出力レベルを強制的に非印刷レベルに設定し；
ｃ）入力ピクセル領域の量子化された入力レベルと対応する出力ピクセル領域の量子化された出力レベルとの間の差を表す誤差値を決定し；
ｄ）前記誤差値に、一組の誤差重みによって重み付けし、まだ処理されていない近隣のピクセル領域について対応する量子化された入力レベルを調整し；
ｅ）前記液体パターン・データの複数の入力ピクセル領域についてステップａ）〜ｄ）を繰り返す、
ことを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月30日(2010.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ提供部品を印刷装置の画像形成材料リザーバに固定するように構成され、前記データ提供部品が少なくとも前記リザーバの動作の監視を容易にするためにデータ処理システムに情報を提供するように構成された固定メカニズムであって、
少なくとも前記データ提供部品を保持するように構成され、前記データ提供部品が前記引出し式支持機構内に挿入されるときにそれぞれが少なくとも前記データ提供部品の側面と相互作用するように構成された対向する２つの案内領域を有する引出し式支持機構と、
前記データ提供部品が前記固定メカニズムから離脱するのを防止するように構成された、前記引出し式支持機構の開放端にある係合保持機構と、
を備える固定メカニズム。
【請求項２】
画像形成材料リザーバと、
データ提供部品と、
前記データ提供部品を前記リザーバに固定する固定メカニズムであって、
（ａ）内部に前記データ提供部品が保持される引出し式支持機構、および
（ｂ）前記引出し式支持機構の開放端にある係合保持機構
を有する固定メカニズムと、
通信接続部を介して前記データ提供部品に通信接続され、少なくとも前記リザーバの動作を監視するように構成されたデータ処理システムと、
を備える印刷装置。
【請求項３】
データ提供部品を印刷装置の画像形成材料リザーバに固定するための方法であり、前記データ提供部品が少なくとも前記リザーバの動作の監視を容易にするためにデータ処理システムに情報を提供するように構成されている、方法であって、
前記データ提供部品を、前記リザーバに取り付けられた固定メカニズムの引出し式支持機構内に挿入するステップと、
前記挿入ステップの後、前記引出し式支持機構の係止端部が前記データ提供部品の一端に係合して前記データ提供部品が前記固定メカニズムから離脱するのを防止するように、前記引出し式支持機構の係止端部を係合させるステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月2日(2010.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキソ印刷版に彫刻するためのシステムであって、
実質的に同じ強度を持つ放射を各々放出する、第１のグループの１つ以上の放射源と、
前記第１のグループの１つ以上の放射源から放出された放射をフレキソ印刷版上に結像するために前記第１のグループの１つ以上の放射源に結合された、第１の１つ以上の光学要素と、
実質的に同じ強度を持つ放射を各々放出する、第２のグループの１つ以上の放射源と、
前記第２のグループの１つ以上の放射源から放出された放射を前記フレキソ印刷版上に結像するために前記第２のグループの１つ以上の放射源に結合された、第２の１つ以上の光学要素と、を備え、
前記第１のグループの１つ以上の放射源の強度およびスポットサイズが、前記第２のグループの１つ以上の放射源の強度およびスポットサイズと異なり、さらに、前記第１および第２のグループの放射源が同時に作動することを特徴とするシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、
前記第１のグループの１つ以上の放射源が、レーザダイオード、多エミッタレーザダイオード、レーザバー、レーザスタック、またはファイバレーザであることを特徴とするシステム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムであって、
前記第２のグループの１つ以上の放射源が、レーザダイオード、多エミッタレーザダイオード、レーザバー、レーザスタック、またはファイバレーザであることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月1日(2010.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体吐出マーキング機器のターンオンエネルギーの校正を助けるための方法であって、
前記流体吐出マーキング機器により第一のエネルギーレベルで基準オブジェクトを印刷するステップで、前記基準オブジェクトが第一の種類の基板上に印刷されるステップと、
前記流体吐出マーキング機器により異なるエネルギーレベルで複数のテストオブジェクトを印刷するステップで、前記複数のテストオブジェクトが前記第一の種類の１つまたは複数の基板上に印刷されるステップと、
前記複数のテストオブジェクトから、前記基準オブジェクトと近似する１つまたは複数のテストオブジェクトを特定して、選択されたテストオブジェクトを提供するステップと、
前記選択されたテストオブジェクトを印刷するために用いられたエネルギーレベルまたはエネルギーレベルに関するデータを特定するステップと、
少なくとも前記特定されたエネルギーレベルに基づいて前記流体吐出マーキング機器のターンオンエネルギーに関するデータを計算し、前記計算されたデータを出力するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
流体吐出マーキング機器のターンオンエネルギーの校正を助けるためのシステムであって、
流体吐出マーキング機器であって、
（ａ）前記流体吐出マーキング機器により基準オブジェクトを第一のエネルギーレベルで印刷し、前記基準オブジェクトが前記流体吐出マーキング機器によって第一の種類の基板上に印刷されるようにし、
（ｂ）複数のテストオブジェクトを異なるエネルギーレベルで前記第一の種類の１つまたは複数の基板上に印刷する流体吐出マーキング機器と、
少なくとも、前記流体吐出マーキング機器が前記複数のテストオブジェクトの印刷に使用したエネルギーレベルを特定するデータを保持する（以下、「保持されたデータ」という）データ記憶システムと、
少なくとも、前記流体吐出マーキング機器によって印刷された前記基準オブジェクトと前記複数のテストオブジェクトのうちの少なくともいくつかを走査する走査機器と、
データ処理システムであって、
（ａ）前記走査機器からの走査情報を受け取り、前記スキャンデータは前記走査機器が前記基板の走査から入手した情報を説明し、
（ｂ）少なくとも前記走査情報に基づいて、前記複数のテストオブジェクトのうち前記基準オブジェクトに近似する１つまたは複数のテストオブジェクトを特定し（以下、「選択されたテストオブジェクト」という）、
（ｃ）前記データ記憶システムによって保持されたデータを利用して、前記選択されたテストオブジェクトの印刷に用いられたエネルギーレベルまたはエネルギーレベルに関するデータを判断し（以下、「特定されたエネルギーレベル」という）、
（ｄ）少なくとも前記特定されたエネルギーレベルに基づいて、前記流体吐出マーキング機器のターンオンエネルギーに関するデータを計算し（以下、「計算されたデータ」という）、
（ｅ）前記計算されたデータを出力する、データ処理システムと、
を備えることを特徴とする流体吐出マーキング機器。
【請求項３】
前記基準オブジェクトと前記複数のテストオブジェクトがそれぞれスウォッチであることを特徴とする請求項１に記載の方法または請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記基準オブジェクトが第一のパターン密度で印刷され、前記複数のテストオブジェクトがそれぞれ、前記第一のパターン密度より高い所望の第二のパターン密度で印刷されることを特徴とする請求項１に記載の方法または請求項２に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月8日(2010.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の粒子及び非表面改質ナノ粒子を含む組成物であって、前記非表面改質ナノ粒子が、ナノ粒子を含まない組成物に比較して、前記組成物のフラッディング性又は流動性のうちの少なくとも１つを向上するのに少なくとも十分な量で前記組成物に存在する、組成物。
【請求項２】
前記複数の粒子が、ポリマー粒子、ガラス粒子、セラミック気泡、又はセラミック微小球のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記非表面改質ナノ粒子が、前記複数の粒子の表面と実質的に会合している、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
複数の粒子及び非表面改質ナノ粒子を含む組成物であって、前記非表面改質ナノ粒子が、組成物に実質的に自由な流動性を付与するのに少なくとも十分な量で前記組成物中に存在する、組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月25日(2010.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨表面を有し、第１の表面と、該第１の表面と対向する第２の表面と、少なくとも１つのバインダーによって前記第１の表面に固着された複数の研磨粒子と、前記研磨表面から多孔質研磨層の前記第２の表面まで延びている複数の開口とを有する基材を含む、多孔質研磨層と、
第１の表面、及び該第１の表面に対向する第２の表面を有する第１の濾材であって、該第１の濾材の第１の表面は、前記多孔質研磨層の第２の表面に隣接し、第１の濾材は、複数のチャネル側壁によって形成される複数の別個のチャネルを含み、該チャネルは、第１の濾材の第１の表面から第１の濾材の第２の表面まで延びており、第１の濾材は、０．５〜１０ミリメートルの範囲の高さを有する、第１の濾材と、
第１の表面、及び該第１の表面に対向する第２の表面を有する第２の濾材であって、該第２の濾材の第１の表面は、前記第１の濾材の第２の表面に隣接している、第２の濾材と、
第１の表面、及び該第１の表面に対向する第２の表面を有する第３の濾材であって、該第３の濾材の第１の表面は、前記第２の濾材の第２の表面に隣接し、第３の濾材は、複数のチャネル側壁によって形成される複数の別個のチャネルを含み、該チャネルは、第３の濾材の第１の表面から第３の濾材の第２の表面まで延びており、第３の濾材は、０．５〜１０ミリメートルの範囲の高さを有する、第３の濾材と、
第１の表面、及び該第１の表面と対向する第２の表面を有する第４の濾材であって、第４の濾材の第１の表面は、前記第３の濾材の第２の表面に隣接している、第４の濾材と、を含む研磨物品。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月1日(2010.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定研磨物品であって、
前記研磨物品に固定された複数個の三次元の研磨複合体を含み、
前記磨剤複合体が、マトリックス材料中に５００ナノメートル（ｎｍ）未満の体積平均径を有する複数個の研磨粒子を含み、
前記マトリックス材料が、ポリマー結合剤と２００ナノメートル以下の体積平均径を有する複数個の無機充填剤粒子とを含む、固定研磨物品。
【請求項２】
前記無機充填剤粒子が、２５ｎｍ以下の体積平均径を有する、請求項１に記載の固定研磨物品。
【請求項３】
前記研磨粒子が、アルミナ、セリア、シリカ、ジルコニア、炭化ホウ素、窒化ケイ素、立方晶窒化ホウ素、ダイヤモンド類、又はそれらの組み合わせを含む、請求項１に記載の固定研磨物品。
【請求項４】
２００ナノメートル以下の体積平均径を有する前記無機充填剤粒子をポリマー結合剤中に分散させ前記マトリックス材料を形成する工程と、
５００ｎｍ未満の体積平均径を有する前記研磨粒子を前記マトリックス材料中に分散させる工程と、
前記マトリックス材料中に分散した前記研磨粒子を含む前記複数個の三次元の研磨複合体を形成する工程と、を含む、請求項１に記載の前記固定研磨物品を作製する方法。
【請求項５】
固定研磨物品であって、前記研磨物品に固定された複数個の三次元の研磨複合体を含み、
前記研磨複合体が、マトリックス材料中に複数個の非セリア研磨粒子を含み、
前記マトリックス材料が、ポリマー結合剤と１，０００ｎｍ以下の体積平均径を有する複数個の無機充填剤粒子とを更に含み、
マトリックス材料の量と非セリア研磨粒子の量の比率が、体積基準で少なくとも２：１である、固定研磨物品。
【請求項６】
非セリア研磨粒子の前記量と無機充填剤粒子の前記量の比率が、体積基準で多くて３：１であり、ポリマー結合剤の前記量と非セリア研磨粒子の前記量の比率が、体積基準で少なくとも２：１である、請求項５に記載の固定研磨物品。
【請求項７】
前記非セリア研磨粒子が、多くて４０マイクロメートルの体積平均径を有する、請求項５に記載の固定研磨物品。
【請求項８】
前記無機充填剤粒子が、２００ｎｍ以下の体積平均径を有する、請求項５に記載の固定研磨物品。
【請求項９】
前記無機充填剤粒子が、シラン類、チタン酸塩類、ジルコン酸塩類、有機リン酸塩類、有機スルホン酸塩類、及びそれらの組み合わせから選択される表面処理剤を有する、請求項１または５に記載の固定研磨物品。
【請求項１０】
固定研磨物品であって、前記研磨物品に固定された複数個の三次元の研磨複合体を含み、
前記研磨複合体が、マトリックス材料中に複数個の非セリア研磨粒子を含み、
前記マトリックス材料が、ポリマー結合剤と１，０００ｎｍ以下の体積平均径を有する複数個の無機充填剤粒子とを更に含み、
非セリア研磨粒子の前記量と無機充填剤粒子の前記量の比率が、体積基準で３：１以下である、固定研磨物品。
【請求項１１】
マトリックス材料の前記量と非セリア研磨粒子の前記量の比率が、体積基準で少なくとも２：１であり、ポリマー結合剤の前記量と非セリア研磨粒子の前記量の比率が、体積基準で少なくとも２：１である、請求項１０に記載の固定研磨物品。
【請求項１２】
前記非セリア研磨粒子が、１，０００ｎｍ以下の体積平均径を有する、請求項１０に記載の固定研磨物品。
【請求項１３】
前記無機充填剤粒子が、２００ｎｍ以下の体積平均径を有する、請求項１０に記載の固定研磨物品。
【請求項１４】
前記非セリア研磨粒子が、アルミナ、シリカ、ジルコニア、炭化ホウ素、窒化ケイ素、立方晶窒化ホウ素、ダイヤモンド類、又はそれらの組み合わせを含む、請求項９または１０に記載の固定研磨物品。
【請求項１５】
前記無機充填剤粒子が、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、ガラス、又はそれらの組み合わせを含む、請求項１、５、１０のうちいずれか１項に記載の固定研磨物品。
【請求項１６】
裏材、接着剤、及びサブパッドの１つ以上を更に含む、請求項１、５、１０のうちいずれか１項に記載の固定研磨物品。
【請求項１７】
１，０００ナノメートル以下の体積平均径を有する前記無機充填剤粒子を前記ポリマー結合剤中に分散させ前記マトリックス材料を形成する工程と、
前記非セリア研磨粒子を前記マトリックス材料中に分散させ、非セリア研磨粒子の前記量と無機充填剤の前記量の比率が体積基準で３：１以下である工程と、
前記マトリックス材料中に分散した前記非セリア研磨粒子を含む複数個の三次元の研磨複合体を形成する工程と、を含む、請求項５または１０に記載の前記固定研磨物品を作製する方法。
【請求項１８】
加工物を提供する工程と、
前記加工物を請求項１、５、１０のうちいずれか１項に記載の固定研磨物品と接触させる工程と、
所望により液体媒質の存在下で前記加工物及び前記固定研磨物品を相対的に移動させる工程と、を含む、
請求項１、５、１０のうちいずれか１項に記載の前記固定研磨物品を使用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月18日(2010.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
裏材に固定される研磨材層を含む、コーティングされた研磨材ディスクであって、
前記裏材は、
少なくともその一部の上に配置される、構成成分（ａ）〜（ｆ）の総重量に基づいて：（ａ）エピクロロヒドリンとビスフェノールＡ又はビスフェノールＦの少なくとも一方との反応により調製される、５０〜９０重量％の少なくとも１つのエポキシ樹脂；（ｂ）１〜２０重量％の、少なくとも１つの多官能性（メタ）アクリレート；（ｃ）１〜１０％の少なくとも１つのノボラック樹脂、並びに有効量の（ｄ）イミダゾールエポキシ硬化触媒、（ｅ）ジシアンジアミド、及び（ｆ）光開始剤、を含む硬化性プレサイズ前駆体の反応生成物を含むプレサイズを備える第１の主表面、及び、前記第１の主表面と反対側の第２の主表面を有し、少なくともその一部に配置される裏サイズを有する、合成織布と、
少なくとも部分的に架橋した含浸剤の浸透したガラス織布と、
前記合成織布の前記第２主表面と前記ガラス織布との間に配置される熱可塑性積層接着剤であって、前記合成織布を前記ガラス織布に固定する、熱可塑性積層接着剤と、を含み、
ここで前記研磨材層は、メイク層、サイズ層、及び研磨材粒子を含み、前記プレサイズの少なくとも一部と重なる、コーティングされた研磨材ディスク。
【請求項２】
コーティングされた研磨材ディスクを作製する方法であって、前記方法は、
少なくともその一部の上に配置される、構成成分（ａ）〜（ｆ）の総重量に基づいて：（ａ）エピクロロヒドリンとビスフェノールＡ又はビスフェノールＦの少なくとも一方との反応により調製される、５０〜９０重量％の少なくとも１つのエポキシ樹脂；（ｂ）１〜２０重量％の、少なくとも１つの多官能性（メタ）アクリレート；（ｃ）１〜１０％の少なくとも１つのノボラック樹脂、並びに有効量の（ｄ）イミダゾールエポキシ硬化触媒、（ｅ）ジシアンジアミド、及び（ｆ）光開始剤を含む、硬化性プレサイズ前駆体の反応生成物を含むプレサイズを備える第１の主表面、及び、前記第１の主表面と反対側の第２の主表面を有する合成織布を提供する工程と、
前記第２主表面の少なくとも一部の上に裏サイズを配置する工程と、
前記プレサイズの少なくとも一部の上に硬化性メイク層前駆体を重ねる工程と
研磨材粒子を、前記硬化性メイク層前駆体に塗布する工程と、
前記硬化性メイク層前駆体を十分に硬化してメイク層をもたらす工程と、
硬化性サイズ層前駆体を、前記メイク層及び研磨材粒子の少なくとも一部の上に重ねる工程と、
前記硬化性サイズ層前駆体を十分に硬化してサイズ層をもたらす工程と、
少なくとも部分的に架橋された含浸剤の浸透したガラス織布をもたらす工程と、
前記合成織布を、前記合成織布の前記第２主表面と前記ガラス織布との間に配置される熱可塑性積層接着剤で、前記ガラス織布に固定する工程と、を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月14日(2010.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
難燃紙を含むセルを有するハニカムであって、
前記紙が、
ａ）融点が１２０℃〜３５０℃の熱可塑性材料５〜５０重量部と、
ｂ）１デニール当たり６００グラム（１ｄｔｅｘ当たり５５０グラム）以上の弾性率を有する高弾性率繊維５０〜９５重量部とを、前記紙中の熱可塑性材料と高弾性率繊維の総量に基づいて含み、
前記熱可塑材の限界酸素指数が、少なくとも２６である、ハニカム。
【請求項２】
請求項１に記載のハニカムを含む物品。
【請求項３】
請求項１に記載のハニカムを含む空力構造物。
【請求項４】
請求項１に記載のハニカムと、前記ハニカムの面に取り付けられたフェースシートとを含むパネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
樹脂を含浸した後、ハニカムを浴から取り出し、まず、８２℃のホットエアにより１５分間、次に、１２１℃で１５分間、そして、１８２℃で６０分間乾燥炉にて乾燥させて、溶剤を除去し、フェノール樹脂を硬化する。樹脂浴での含浸工程および乾燥炉での乾燥工程を、５回繰り返し、ハニカムのセル壁が、７３０グラムの強化樹脂で被覆および含浸されるようにする。ハニカムを保持しているフレームを取り外す。
次に、本発明の態様を示す。
１.  難燃紙を含むセルを有するハニカムであって、
前記紙が、
ａ）融点が１２０℃〜３５０℃の熱可塑性材料５〜５０重量部と、
ｂ）１デニール当たり６００グラム（１ｄｔｅｘ当たり５５０グラム）以上の弾性率を有する高弾性率繊維５０〜９５重量部とを、前記紙中の熱可塑性材料と高弾性率繊維の総量に基づいて含み、
前記熱可塑材の限界酸素指数が、少なくとも２６である、ハニカム。
２.  前記紙の燃焼性分類が、ＵＬ−９４−Ｖ−０以上である上記１に記載の難燃性ハニカム。
３.  前記熱可塑材が、異方性溶融ポリエステル、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（アクリロニトリルブタジエンスチレン）、ポリ塩化ビニル、ポリスルホン、ポリ（エーテル−エーテル−ケトン）、ポリ（エーテル−ケトン−ケトン）、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリフェニルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミド−イミドおよびこれらの混合物からなる群から選択される上記１に記載のハニカム。
４.  前記熱可塑材が、難燃ナイロン、難燃ポリエステル、難燃ポリオレフィンおよびこれらの混合物からなる群から選択される上記１に記載のハニカム。
５.  前記高弾性率繊維が、パラ−アラミド繊維を含む上記１に記載のハニカム。
６.  前記パラ−アラミド繊維が、ポリ（パラフェニレンテレフタルアミド）繊維である上記５に記載のハニカム。
７.  前記高弾性率繊維が、炭素繊維、ポリベンズアゾール繊維、ポリピリダゾール繊維およびこれらの混合物からなる群から選択される上記１に記載のハニカム。
８.  前記熱可塑性材料が、２０〜４０重量部の量で存在している上記１に記載のハニカム。
９.  前記高弾性率繊維が、約６０〜８０重量部の量で存在している上記１に記載のハニカム。
１０.  熱硬化性マトリックス樹脂をさらに含む上記１に記載のハニカム。
１１.  無機粒子をさらに含む上記１に記載のハニカム。
１２.  上記１に記載のハニカムを含む物品。
１３.  上記１に記載のハニカムを含む空力構造物。
１４.  上記１に記載のハニカムと、前記ハニカムの面に取り付けられたフェースシートとを含むパネル。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月14日(2010.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリックス樹脂と紙とを含むハニカムであり、前記紙が、１デニール当たり６００グラム（１ｄｔｅｘ当たり５５０グラム）以上の弾性率を有する繊維状材料５０〜８０重量部と、０〜５０重量部の粉末無機材料と、２０重量部以上の熱可塑性繊維とを含むハニカムであって、
前記熱可塑性繊維が、前記紙のためのバインダーであって、
ｉ）前記マトリックス樹脂の硬化温度より高い融点と、
ｉｉ）１００℃を超えるガラス転移温度と
を有し、
前記熱可塑性繊維中の熱可塑性ポリマーの重量平均分子量が、融点で１０分間維持された後に２０％以下変化することを改良点とする、ハニカム。
【請求項２】
請求項１に記載のハニカムを含む物品。
【請求項３】
請求項１に記載のハニカムを含む空力構造物。
【請求項４】
請求項１に記載のハニカムと、前記ハニカムの面に取り付けられたフェースシートとを含むパネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
実施例１に記載されたようにしてハニカムを作製する。しかしながら、温水による膨張後、穴、壁の薄い領域と厚い領域、壁から突き出たパラ−アラミド繊維をはじめとする数多くの欠陥がセル構造にある。結果として、使用できるハニカムは得られない。
次に、本発明の態様を示す。
１.  マトリックス樹脂と紙とを含むハニカムであり、前記紙が、１デニール当たり６００グラム（１ｄｔｅｘ当たり５５０グラム）以上の弾性率を有する繊維状材料５０〜８０重量部と、０〜５０重量部の粉末無機材料と、２０重量部以上の熱可塑性繊維とを含むハニカムであって、
前記熱可塑性繊維が、前記紙のためのバインダーであって、
ｉ）前記マトリックス樹脂の硬化温度より高い融点と、
ｉｉ）１００℃を超えるガラス転移温度と
を有し、
前記熱可塑性繊維中の熱可塑性ポリマーの重量平均分子量が、融点で１０分間維持された後に２０％以下変化することを改良点とする、ハニカム。
２.  前記熱可塑性繊維が２０〜４０重量部の量で存在する上記１に記載のハニカム。
３.  前記高弾性率繊維状材料がパラ−アラミド繊維を含む上記１に記載のハニカム。
４.  前記パラ−アラミド繊維がポリ（パラフェニレンテレフタルアミド）繊維である上記３に記載のハニカム。
５.  前記高弾性率繊維が、ポリベンズアゾール繊維、ポリピリダゾール繊維、炭素繊維およびこれらの混合物からなる群から選択される上記１に記載のハニカム。
６.  前記熱可塑性繊維がポリエチレンナフタレートを含む上記１に記載のハニカム。
７.  前記熱可塑性繊維がポリアミドを含む上記１に記載のハニカム。
８.  前記熱可塑性繊維が、ポリオレフィン、ポリイミド、ポリエーテルケトン、ポリアミド−イミド、ポリエーテル−イミドおよびこれらの混合物からなる群から選択される上記１に記載のハニカム。
９.  前記粉末無機材料が、マイカ、バーミキュライト、シリカまたはガラスである上記１に記載のハニカム。
１０.  上記１に記載のハニカムを含む物品。
１１.  上記１に記載のハニカムを含む空力構造物。
１２.  上記１に記載のハニカムと、前記ハニカムの面に取り付けられたフェースシートとを含むパネル。