【手続補正書】
【提出日】平成23年7月7日(2011.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シクロヘキシルベンゼンの製造方法であって、ベンゼン及び水素をヒドロアルキル化条件下で触媒と接触させてシクロヘキシルベンゼンを含む流出物を生成することを含み、その触媒がモレキュラーシーブ、前記モレキュラーシーブとは異なる無機酸化物及び少なくとも一種の水素化金属の複合材料を含み、前記水素化金属の少なくとも50質量％が該無機酸化物で担持されていることを特徴とする、シクロヘキシルベンゼンの製造方法。
【請求項２】
水素化金属の少なくとも75質量％が該無機酸化物で担持されている、請求項１記載の方法。
【請求項３】
該無機酸化物がモレキュラーシーブと複合化される前に、少なくとも一種の水素化金属が該無機酸化物に施される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
触媒が、少なくとも一種の水素化金属を該無機酸化物に付着させ、次いで金属含有無機酸化物及びモレキュラーシーブの混合物を同時ペレット化することにより生成される、請求項３記載の方法。
【請求項５】
触媒が、少なくとも一種の水素化金属を無機酸化物に付着させ、次いで金属含有無機酸化物及びモレキュラーシーブの混合物を同時押出することにより生成される、請求項３記載の方法。
【請求項６】
モレキュラーシーブがゼオライトベータ、ゼオライトＸ、ゼオライトＹ、モルデナイト及びMCM-22ファミリーのモレキュラーシーブから選ばれる、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
モレキュラーシーブがMCM-22、MCM-49、MCM-56及びこれらのあらゆる二種以上の組み合わせから選ばれる、請求項６記載の方法。
【請求項８】
モレキュラーシーブがアルミノシリケートであり、かつモレキュラーシーブ中のアルミニウム対水素化金属のモル比が1.5から1500までである、請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも一種の水素化金属又はその一種がパラジウムを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
流出物がまたジシクロヘキシルベンゼンを含み、かつそのジシクロヘキシルベンゼンの少なくとも一部をトランスアルキル化条件下でベンゼンと接触させて更なるシクロヘキシルベンゼンを生成する、請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
フェノール及びシクロヘキサノンの同時製造方法であって、その方法がシクロヘキシルベンゼンを請求項１から２１のいずれかに記載の方法により製造し、シクロヘキシルベンゼンを酸化してシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドを生成し、そのシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドを開裂してフェノール及びシクロヘキサノンを製造することを特徴とする、前記製造方法。
【請求項１２】
シクロヘキサノンを脱水素して更なるフェノールを製造することを更に含む、請求項１１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
表１から見られるように、触媒Ｂの性能は触媒Ａのそれよりも優れている。触媒Ｂの転化率は触媒Ａについての36.9質量％と較べて43.5質量％である。更に、シクロヘキシルベンゼン及びジシクロヘキシルベンゼンについての全転化率は触媒Ｂについてほぼ88質量％であり、これは触媒Ａにより示される85％の選択率よりも有意に高い。その表は無機酸化物上に水素化金属を有することの重要性を説明する。
本発明が特別な実施態様を参照して記載され、説明されたが、当業者は本発明が必ずしも本明細書に説明されていない変化に適合することを認めるであろう。この理由のために、本発明の真の範囲を決める目的のために特許請求の範囲のみが参考にされるべきである。
次に、本発明の態様を示す。
1.  シクロヘキシルベンゼンの製造方法であって、ベンゼン及び水素をヒドロアルキル化条件下で触媒と接触させてシクロヘキシルベンゼンを含む流出物を生成することを含み、その触媒がモレキュラーシーブ、前記モレキュラーシーブとは異なる無機酸化物及び少なくとも一種の水素化金属の複合材料を含み、前記水素化金属の少なくとも50質量％が該無機酸化物で担持されていることを特徴とする、シクロヘキシルベンゼンの製造方法。
2.  水素化金属の少なくとも75質量％が該無機酸化物で担持されている、上記１記載の方法。
3.  水素化金属の実質的に全てが該無機酸化物で担持されている、上記２記載の方法。
4.  該無機酸化物がモレキュラーシーブと複合化される前に、少なくとも一種の水素化金属が該無機酸化物に施される、上記１から３のいずれかに記載の方法。
5.  触媒が、少なくとも一種の水素化金属を該無機酸化物に付着させ、次いで金属含有無機酸化物及びモレキュラーシーブの混合物を同時ペレット化することにより生成される、上記４記載の方法。
6.  触媒が、少なくとも一種の水素化金属を無機酸化物に付着させ、次いで金属含有無機酸化物及びモレキュラーシーブの混合物を同時押出することにより生成される、上記４記載の方法。
7.  混合物が更にバインダーを含む、上記６記載の方法。
8.  モレキュラーシーブが少なくとも７Åの平均細孔サイズを有する、上記１から７のいずれかに記載の方法。
9.  モレキュラーシーブがゼオライトベータ、ゼオライトＸ、ゼオライトＹ、モルデナイト及びMCM-22ファミリーのモレキュラーシーブから選ばれる、上記１から８のいずれかに記載の方法。
10.  モレキュラーシーブがMCM-22ファミリーのものであり、かつ12.4±0.25、6.9±0.15、3.57±0.07及び3.42±0.07 Åにd-間隔最大を含むＸ線回折パターンを有する、上記９記載の方法。
11.  モレキュラーシーブがMCM-22、PSH-3、SSZ-25、ERB-1、ITQ-1、ITQ-2、MCM-36、MCM-49、MCM-56、UZM-8、及びこれらのあらゆる二種以上の組み合わせから選ばれる、上記９又は１０記載の方法。
12.  モレキュラーシーブがMCM-22、MCM-49、MCM-56及びこれらのあらゆる二種以上の組み合わせから選ばれる、上記１１記載の方法。
13.  モレキュラーシーブがアルミノシリケートであり、かつモレキュラーシーブ中のアルミニウム対水素化金属のモル比が1.5から1500までである、上記１から１２のいずれかに記載の方法。
14.  モレキュラーシーブ中のアルミニウム対水素化金属のモル比が100から300までである、上記１３記載の方法。
15.  無機酸化物が元素の周期律表の２族、４族、13族及び14族の少なくとも一種の元素の酸化物を含む、上記１から１４のいずれかに記載の方法。
16.  無機酸化物がアルミナ及び／又はチタニア及び／又はジルコニアを含む、上記１５記載の方法。
17.  前記少なくとも一種の水素化金属又はその一種がパラジウム、ルテニウム、ニッケル、亜鉛、スズ、及びコバルトから選ばれる、上記１から１６のいずれかに記載の方法。
18.  前記少なくとも一種の水素化金属又はその一種がパラジウムを含む、上記１７記載の方法。
19.  前記接触における水素対ベンゼンのモル比が0.15:1〜15:1の範囲である、上記１から１８のいずれかに記載の方法。
20.  ヒドロアルキル化条件が100℃から400℃までの温度及び／又は100kPaaから7000kPaaまでの圧力を含む、上記１から１９のいずれかに記載の方法。
21.  流出物がまたジシクロヘキシルベンゼンを含み、かつそのジシクロヘキシルベンゼンの少なくとも一部をトランスアルキル化条件下でベンゼンと接触させて更なるシクロヘキシルベンゼンを生成する、上記１から２０のいずれかに記載の方法。
22.  フェノール及びシクロヘキサノンの同時製造方法であって、その方法がシクロヘキシルベンゼンを上記１から２１のいずれかに記載の方法により製造し、シクロヘキシルベンゼンを酸化してシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドを生成し、そのシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドを開裂してフェノール及びシクロヘキサノンを製造することを特徴とする、前記製造方法。
23.  シクロヘキサノンを脱水素して更なるフェノールを製造することを更に含む、上記２２記載の方法。