【事件の表示】
　特願２００３−３０５４３３「ダイポール照明技術とともに用いる配向依存遮蔽」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　４月３０日出願公開、特開２００４−１３３４２７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１５年７月２５日（パリ条約による優先権主張　２００２年７月２６日、２００３年３月２５日、米国）の出願であって、平成１５年９月２５日付けで特許請求の範囲、明細書、図面等の翻訳文が提出され、同年１０月３日付けで手続補正書（明細書の補正）が提出され、平成２０年１１月２６日付けで通知された拒絶理由に対して、平成２１年２月１９日付けで意見書が提出されたが、同年３月１８日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年６月１７日付けで審判請求がなされるとともに、同日付けで手続補正書が提出され、その後、当審の審尋に対して平成２２年１０月１８日付けで回答書が提出されたものである。
　
　
第２　平成２１年６月１７日付けの手続補正の却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成２１年６月１７日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１．補正後の本願発明
　本件補正には、特許請求の範囲の請求項１を次のように補正しようとする事項が含まれている。
　
（補正前）
　「【請求項１】
　ダイポール照明を利用して、垂直配向フィーチャおよび水平配向フィーチャを有するパターンを基板上に印刷するためのマスクを生成する方法であって、
　前記パターンに含まれる背景領域を識別する段階と、
　前記背景領域中の解像不可能な水平配向フィーチャを含む垂直構成要素マスクを生成する段階と、
　前記背景領域中の解像不可能な垂直配向フィーチャを含む水平構成要素マスクを生成する段階とを含む方法。」
　なお、これは、平成１５年９月２５日付けの翻訳文提出書により提出された特許請求の範囲（外国語特許請求の範囲の翻訳文）に記載されたものである。
　
（補正後）
　「【請求項１】
　ダイポール照明を利用して、垂直配向フィーチャおよび水平配向フィーチャを有するパターンを基板上に印刷するためのマスクを生成する方法であって、
　前記パターンに含まれる背景領域を識別する段階と、
　前記背景領域中の解像不可能な水平配向フィーチャを含む垂直構成要素マスクを生成する段階と、
　前記背景領域中の解像不可能な垂直配向フィーチャを含む水平構成要素マスクを生成する段階と
、
み、
　
前記解像不可能なフィーチャが、連続的な線を含む、
方法。」
　
　この補正事項は、補正前の発明特定事項である「解像不可能な水平配向フィーチャ」「解像不可能な垂直配向フィーチャ」について、「連続的な線を含む」との限定を付すものである。
　
　また、本願補正は、請求項９，１９，２５についても、請求項１と同様な補正を行っており、いずれも補正前の発明特定事項に限定を付すものである。
　
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当する。
　
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかについて以下に検討する。
　
　
２．引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された、
　特開２００１−１２６９８３号公報（原査定の引用文献１。以下、「刊行物１」という。）、
　特開平４−１７５７４６号公報（原査定の周知技術の例示文献。以下、「周知例１」という。）、
　特開平４−２１８０４６号公報（原査定の周知技術の例示文献。以下、「周知例２」という。）、
　特開平６−３１３９６４号公報（原査定の周知技術の例示文献。以下、「周知例３」という。）
　には、次の事項が記載されている。なお、下線は当審で付した。
　
（１）刊行物１
　（１ａ）「【請求項１】  
エネルギー感受性材料層を備えた基材上にパターンを結像させる方法
前記パターンを部分的に結像させるために、第１感光を行う
前記パターンを部分的に結像させるために、第２感光を行う
前記第１と第２の感光を行う段階のうちの少なくとも一方が、実質的に双極強度分布を有する照明モードを使用して行われる、エネルギー感受性材料層を備えた基材上にパターンを結像する方法。
【請求項２】  前記第１と第２の感光を行う段階のうちの他方が、実質的に、双極、４極、環状、およびディスク状のうちの１つの強度分布を有する照明モードを使用して行われる、請求項１に記載された方法。
【請求項３】  
前記各第１と第２の感光を行う段階によって形成される影像の輪郭を鮮明にするために、異なるマスクが使用される
【請求項４】  前記第１と第２の感光を行う段階の間にマスク交換段階を有する、請求項３に記載された方法。
【請求項５】  少なくとも２つのサブパターンを有するマスクが、前記第１と第２の感光を行う段階に使用され、前記サブパターンのうちの第１のサブパターンが、前記第１感光を行う段階により形成された影像の輪郭を鮮明にするために使用され、該サブパターンのうちの前記第２のサブパターンが、第２感光を行う段階により形成された影像の輪郭を鮮明にするために使用される、請求項１または請求項２に記載された方法。
【請求項６】  前記双極照明モードまたは
該各双極照明モードが、該双極モードのそれぞれの２つの極を結ぶ軸に対し実質的に直角に配向されたパターンの線形の造作を結像させるために用いられる
【請求項７】  前記双極照明モードまたは
該各双極照明モードの感光で使用されるそれぞれのマスク
が
該各双極モードの２つのそれぞれの極を結ぶ軸に対して実質的に直角に配向されたパターンの造作のみの輪郭を実質的に鮮明にする
【請求項８】  前記双極照明モードまたは該各双極照明モードの強度分布が、２つの比較的高い強度の極を有し、更に比較的弱い中心極、２つの比較的弱い別の極、全体的に比較的弱い背景強度のうちの１つ以上を有する、請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載された方法。
【請求項９】  前記方法が、更に前記極の半径方向位置、寸法、前記第１と第２の感光を行う段階の強度のうちの少なくとも１つを変更する段階を含む、請求項１から請求項８までのいずれか１項に記載された方法。
【請求項１０】  
前記第１と第２の感光を行う段階が、いずれも双極照明モードを用いて行われ、２つの前記双極モードの軸が互いに実質的に直角である
　
　（１ｂ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特にマイクロリソグラフィーの感光方法および感光装置に関するものである。より具体的に言えば、本発明は、投影放射ビームを供給するための放射システムと、マスクを保持するための第１対象テーブルと、基板を保持するための第２対象テーブルと、基板のターゲット部分に、照射されたマスク部分を結像させるための投影システムとを有するリソグラフィー投影装置への、上記方法の適用に関するものである。」
　
　（１ｃ）「【００１０】図２（ｃ）は、４極照明モードの強度分布を示し、この照明モードの使用によって、概して、環状またはディスク状のモード使用時より優れた結像成績が得られる。従来、このような４極構成を使用するさいは、投影されるマスクパターンは、ｘ軸とｙ軸に沿った直角の線を含み、照明は、４極のそれぞれが、ｘ軸およびｙ軸と両軸の交点とにより定められる４分円の各１つ内に位置するように方向づけられる。しかし、より優れた性能は、双極照明モードを使用することで得られることが判明し、本発明では、この事実が利用される。
図２（ｄ）は、双極照明モードの場合の照明強度分布の一例を示している
図２（ｄ）に示した２つの極は、ｘ軸に沿って位置するとされ、ｙ軸と平行な線、すなわち２つの極を結ぶ軸に対して直角の線の結像に最適である
　
　図２（ｄ）は次のとおり。　
　（１ｄ）「【００１３】実施例２
本発明の好適実施例は、
２つの直角の各双極パターンを使用して２回の感光を行う
第１感光は、第１方向と平行のマスク造作を結像するのに使用し
他方の双極照明モードを用いる第２感光は、第１方向と直角方向のマスク造作の結像に使用する
特殊な一実施例では、２つの異なるマスクを使用し、各感光に１つのマスクが使用され、２つのマスクの影像を重ねることで単一の回路パターンを製造する
　
　（１ｅ）刊行物１には、マスクの生成方法について直接的な記載はないが、上記（１ａ）〜（１ｄ）の記載を総合すると、互いに直交する２つのパターンのうち、一方のパターンを含むマスクと、他方のパターンを含むマスクを準備することが実質的に記載されており、これから、各パターンを含む２つのマスクの生成する方法を把握することができる。
　
　したがって、これら記載によれば、刊行物１には、次の発明（以下、「刊行物１記載の発明」という。）が実質的に記載されているものと認められる。
　
　「２つの極を結ぶ軸が互いに実質的に直角である、２つの双極照明モードを利用し、２つの双極照明モードそれぞれの上記軸に対して実質的に直角に配向された２つのパターンを有するマスクを使用して、２回の感光を行いエネルギー感受性材料層を備えた基材上にパターンを結像させる方法に用いられる、マスクの生成方法であって、
　上記２つのパターンのうち、一方のパターンを含むマスクを生成する段階と、
　上記２つのパターンのうち、他方のパターンを含むマスクを生成する段階と、
　を含む、マスクの生成方法。」
　
（２）周知例１
　（２ａ）「［産業上の利用分野］
　本発明は、マスク、特に高い解像力を得るのに好適なマスク、その製造方法及びそれを用いた像形成方法に関する。」（第２頁右上欄第１６〜１９行）
　
　（２ｂ）「さらに１９９０秋季応用物理学会講演予講集、第４９０頁、２７ｐ−ＺＧ−１には、
遮光膜を含まない透明位相シフタを光学系の解像限界以下の微細な繰り返しパターンとし、遮光領域として作用させたマスク
　
　（２ｃ）「マスクの一例の概観の平面図を
第１１図
光透過部２３の外側の遮光部２２は、転写すべき像でない遮光パターンであり
　本発明のマスクの一は、上記遮光部２２をクロム等の遮光材からなる遮光パターンにより構成し、光透過部２３内の
転写すべきパターン
この透明薄膜の前記解像限界以下の寸法のパターンの領域を遮光領域として作用させる
　本発明のマスクの
他の一は、上記遮光部に遮光材を用いることなく、この部分にも透明薄膜の前記解像限界以下の寸法のパターンを形成した
　
　第１１図は次のとおり。　
　
　（２ｄ）「［作用］
　マスク基板上の透明薄膜がある部分と無い部分とを透過する照明光は、互いに位相が反転するので、従来の技術と同じように、位相差を導入することによって解像力が向上する。また、透明薄膜が形成されているパターンの寸法が、像が転写される第２の基板上の寸法に換算して
パターン転写装置の解像限界より小さい寸法の部分は、パターン転写装置を通して転写されることはないので、みかけ上遮光領域として作用する
　
　（２ｅ）「
第１図
領域３ｂと３ｄは、使用する投影露光装置では解像しないような微細な寸法を有する透明薄膜のパタ−ンが複数個設けられた領域
細い線状のパターンであればよい
第２図に示すように光透過領域３ａと光透過領域３ｃの境界の方向と平行でもよいし
第３図に示した他の例の平面図の領域３ｂのように、光透過領域３ａと光透過領域３ｃの境界の方向と垂直でもよい
　
　（２ｆ）「これらのパターンの一例として、
第４図に示すパターンを持つマスク
領域３ｂや領域３ｄに設けるパターン
この周期パターンのスペクトルは解像限界を越えていて前記投影光学系を通らないので、遮光部と同じ効果を与えている
　
　（２ｇ）第１〜５図は、次のとおり。     
　
（３）周知例２
　（３ａ）「【特許請求の範囲】
【請求項１】光学的に透明な基板上に、入射光の位相に位相差を与える透明膜パターンが形成されたホトマスク。
【請求項２】光学的に透明な基板上に、入射光の位相に位相差を与える透明膜パターンが形成され、前記透明膜パターンの膜厚ｔが、入射光の波長をλ、前記透明膜パターンの屈折率をｎとして、ｔ＝λ／２・（ｎ−１）であるホトマスク。
【請求項３】光学的に透明な基板上に、入射光の位相に対して１８０度、或はその奇数倍となるような位相差を与える透明膜パターンを形成されたホトマスク。
【請求項４】光学的に透明な基板上に、入射光の位相に位相差を与える透明膜パターンが形成され、前記透明膜パターンのエッジで前記入射光の強度が最小となるホトマスク。
【請求項５】光学的に透明な基板上に、入射光の位相に対して１８０度、或はその奇数倍となるような位相差を与える透明膜パターンを形成されており、ｋ１を定数、λを前記入射光の波長、ＮＡを光学系のレンズの開口数としたとき、Ｒ＝ｋ１・λ／ＮＡの関係が成立ち、前記ｋ１の値が約０．３５となるホトマスク。
【請求項６】光学的に透明な基板上に、透明膜パターンによって光を遮光する領域を設けたホトマスク。
【請求項７】光学的に透明な基板上に、
透明膜パターンによって光を遮光する領域が、投影光学系の解像限界以下のピッチを持つパターンで形成されているホトマスク
　
　（３ｂ）「【０１４８】
図１４（ｃ）に示すホトマスク
【０１４９】
換言すると、ホトマスク基板１上に形成されたストライプ形状の位相シフタ２の両側に突起部を設けている
【０１５０】
このようにシフタ端に微細な繰り返しパターンを設けた場合、その微細な繰り返しパターンすなわち第２のストライプ状の位相シフタ２は、照射される光に対して遮光部として働く
【０１５１】このような位相シフタ２の形状を持つ透過型位相シフトマスクを用いて露光すると、レジスト上に転写されたレジストパターン７は図１４（ｄ）に示すように線幅が広くなる。」
　
　図１４の（ｃ）（ｄ）は次のとおり。　
　
（４）周知例３
　（４ａ）「【特許請求の範囲】
【請求項１】  光源の主な部分を光軸からずれた位置に配置することにより解像度や焦点深度を向上させる斜入射照明方式に用いるマスクにおいて、このマスクは少なくとも一箇所に透過率が０でなくかつ光透過部との位相差が０でない透過率と位相差を設定した半透過型位相シフトマスクからなり、かつ
目的とするパタン以外に解像不能な補助パタンを備えている
【請求項２】  請求項１記載のマスクにおいて、目的とするパタンの配置が周期性を有する場合、その周期性を保存するように解像不能な補助パタンまたは補助パタン群を形成したことを特徴とするマスク。
【請求項３】〜【請求項６】（略）
【請求項７】  位相シフトマスクであって、透過部と、透過率が０より大きく前記透過部の透過率以下で前記透過部に対して０より大きい位相差を有する半透過部を少なくとも一箇所に有し、前記半透過部全体または一部に目的パタン以外の補助パタンを少なくとも一箇所有することを特徴とするマスク。
【請求項８】  請求項７記載のマスクにおいて、
補助パタンが解像不能な線パタンである
【請求項９】  請求項７記載のマスクにおいて、補助パタンが解像不能な市松模様あるいは格子パタンであることを特徴とするマスク。」
　
　（４ｂ）「【００１６】
【作用】解像不能な補助パタンにより目的パタンの周期性が助長される、または周期性が付与されることにより、結像パタン露光強度プロファイルの歪が低減し、コントラスト向上が図られる。これにより、より微細で、精度の高いパタン形成が可能となる。
半透過型シフトマスクは、半透過部に解像不能な補助パタンを配置
半透過領域内に解像不能なパタン寸法を有する微細パタンを配置することにより、レチクル回折光の回折角を大きくしてこの部分の光が結像面に到達しないようにする
　
　（４ｃ）「【００２５】次に、本発明を２次元適パタンに実施した場合ついて説明する。
図９
遮光用補助パタン
パタン以外の地の部分が半透過部（通常遮光部に相当する）
【００２６】図９はマスクパタンの一部について２次元的な配置例を示し、
３１はホールパタンに相当する目的パタン
３２，３３は線の目的パタン
３４は線形状の補助パタン
　
　図９は次のとおり。　
　
　
３．対比・判断
　本願補正発明と刊行物１記載の発明とを対比すると、
　刊行物１記載の発明の「双極照明モードを利用し」「２つの双極照明モードそれぞれの上記軸に対して実質的に直角に配向された２つのパターン」「エネルギー感受性材料層を備えた基材上にパターンを結像させる」は、
　それぞれ、本願補正発明の「ダイポール照明を利用して」「垂直配向フィーチャおよび水平配向フィーチャを有するパターン」「パターンを基板上に印刷する」に実質的に相当する。
　
　また、刊行物１記載の発明の「上記２つのパターンのうち、一方のパターンを含むマスク」「上記２つのパターンのうち、他方のパターンを含むマスク」において、「一方のパターン」と「他方のパターン」は、互いに実質的に直角に配向されているといえ、「一方のパターン」を垂直に配置する場合には、「他方のパターン」は水平に配置されるから、
　刊行物１記載の発明の「一方のパターン」、「他方のパターン」は、それぞれ、本願補正発明の「垂直配向フィーチャ」のパターン、「水平配向フィーチャ」のパターンに実質的に相当するといえ、
　そして、刊行物１記載の発明の「上記２つのパターンのうち、一方のパターンを含むマスク」、「上記２つのパターンのうち、他方のパターンを含むマスク」は、それぞれ、本願補正発明の「垂直構成要素マスク」、「水平構成要素マスク」に実質的に相当するといえる。
　
　そうすると、両者の一致点、相違点は次のとおりと認められる。
　
［一致点］
　「ダイポール照明を利用して、垂直配向フィーチャおよび水平配向フィーチャを有するパターンを基板上に印刷するためのマスクを生成する方法であって、
　垂直構成要素マスクを生成する段階と、
　水平構成要素マスクを生成する段階と、
　を含む方法。」
　
［相違点］
　本願補正発明は、
　前記パターンに含まれる背景領域を識別する段階を含み、
　また、垂直構成要素マスクは、前記背景領域中の解像不可能な水平配向フィーチャを含み、水平構成要素マスク前記背景領域中の解像不可能な垂直配向フィーチャを含み、
　前記解像不可能なフィーチャが、連続的な線を含むものであるのに対して、
　刊行物１記載の発明は、それらが特定されていない点。
　
　そこで、相違点について検討する。
　
　まず、刊行物１記載の発明には、「パターンに含まれる背景領域」という記載はないが、何らかの背景領域は当然に存在しており、また、一般にマスクにおける何らかの背景領域（パターン自体以外の部分は、多くが背景領域といえる）を遮光することは、文献を示すまでもなく周知技術であるから、刊行物１記載の発明でも、遮光された背景領域が設けられているか、あるいは、そうでなくても、遮光される背景領域を設けることに困難性はないといえる。
　
　一方、遮光部を形成する手段としては、クロム等の遮光材を用いることが通常なされているが、これに換えて、解像不可能なフィーチャ（解像限界以下の微細パターン）を形成して遮光作用を持たせることは、周知の技術である（周知例１〜３を参照）。
　
　しかも、周知例１の（２ｃ）には、転写すべきパターン以外の部分や遮光部に、解像不可能なフィーチャ（解像限界以下の微細パターン）を設けて、遮光領域として作用させる旨が記載され、また、周知例３の（４ｃ）には、「パタン以外の地の部分が半透過部（通常遮光部に相当する）と」され、半透過領域内に解像不能なパタン寸法を有する微細パタンを配置して実質的に遮光する旨の記載がある。これらは、パターンに含まれる何らかの背景領域について、解像不可能なフィーチャ（解像限界以下の微細パターン）により遮光する旨を意味している。
　
　なお、周知例１〜３は、位相シフトマスクに関するものであるが、マスク一般に適用可能な、解像不可能なフィーチャ（解像限界以下の微細パターン）を形成して遮光作用を持たせる技術として把握することが可能であり、また、ダイポール照明を利用するマスクにおいて、背景領域を遮光するための手段として、その技術を適用することに困難性はないものである。
　
　そうすると、刊行物１記載の発明において、パターンに含まれる背景領域を識別するとともに、垂直構成要素マスク（基板上に印刷する垂直配向フィーチャを有する）及び水平構成要素マスク（基板上に印刷する水平配向フィーチャを有する）に対して、それらの背景領域中に遮光作用を有する解像不可能なフィーチャを設けることは、当業者が容易になし得ることである。
　
　また、その際、刊行物１には、双極照明モードでは、その２つの極を結ぶ軸に対して実質的に
直角に
沿って（平行に）
　解像不可能なフィーチャの遮光作用を確実なものとするために、基板上に印刷する「垂直配向フィーチャ」のパターン（垂直構成要素マスクにおけるパターン）及び「水平配向フィーチャ」のパターン（水平構成要素マスクにおけるパターン）に対して、「解像不可能なフィーチャ」を
直角
沿って（平行に）
　　
　また、周知例３の図９をみると、ホールパタンの目的パタン３１を囲む、線形状の補助パタン３４は、四角形を描いており、「連続的な線を含むもの」といえる。これも参照して、「解像不可能なフィーチャが、連続的な線を含む」ようになすことは、当業者が適宜なし得ることである。　
　
　したがって、刊行物１記載の発明において、周知技術を適用して、本願補正発明のごとくなすことは、当業者が容易になし得ることである。
　
　また、本願補正発明によってもたらされる効果として、審判請求書にて、請求人は、
　「イ：マスク・パターンの背景部分に付加される解像不可能なフィーチャを採用するため、所望のパターンを印刷するために必要なマスクの数を増加させることなくウェハに入射する背景光を減少させることができ、レンズ・フレアに関連する悪影響を軽減することができる。 
 　ロ：マスクにおける補助フィーチャの配置または使用に影響を及ぼさない形で、背景遮蔽を実現することができる。 
 　ハ：連続的な線を解像不可能なフィーチャとして使用するため、マスクに関連するデータ量が減少するという利点がある。」
　の３点を主張する。
　しかし、「イ」の効果は、解像不可能なフィーチャを採用することにより、必然的にもたらされるものであり、解像不可能なフィーチャを採用することが容易である以上、格別なものとはいえない。
　「ロ」の効果は、本願補正発明では、補助フィーチャの存在が必須のものとして規定されておらず、補助フィーチャを含まない態様においては意味がないので、格別なものとはいえない。
　「ハ」の効果は、当業者が予測し得る程度のものである。
　
　なお、請求人は、回答書で、「解像不可能なフィーチャの幅及びピッチは、フレアを最小限に抑えるように調整される」点を加える補正案を示しているが、解像不可能なフィーチャは、遮光作用を持つ以上、フレア抑制に寄与するものであり、必要とする遮光の程度を考慮して解像不可能なフィーチャの幅、ピッチを設定することは、当業者が適宜なし得ることである。
　
（まとめ）
　よって、本願補正発明は、刊行物１記載の発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
４．むすび
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３　本願発明について
１．本願の請求項１に係る発明
　平成２１年６月１７日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜３０に係る発明は、平成１５年９月２５日付けの翻訳文提出書により提出された特許請求の範囲（外国語特許請求の範囲の翻訳文）に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、次のとおりである。
　
　「【請求項１】
　ダイポール照明を利用して、垂直配向フィーチャおよび水平配向フィーチャを有するパターンを基板上に印刷するためのマスクを生成する方法であって、
　前記パターンに含まれる背景領域を識別する段階と、
　前記背景領域中の解像不可能な水平配向フィーチャを含む垂直構成要素マスクを生成する段階と、
　前記背景領域中の解像不可能な垂直配向フィーチャを含む水平構成要素マスクを生成する段階とを含む方法。」
　
２．引用刊行物の記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、
　特開２００１−１２６９８３号公報（原査定の引用文献１。上記「第２　２．」の「刊行物１」）、
　特開平４−１７５７４６号公報（原査定の周知技術の例示文献。同「周知例１」）、
　特開平４−２１８０４６号公報（原査定の周知技術の例示文献。同「周知例２」）、
　特開平６−３１３９６４号公報（原査定の周知技術の例示文献。同「周知例３」）
　の記載事項は、上記「第２　２．」に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明１は、本願補正発明から、「前記解像不可能なフィーチャが、連続的な線を含む」という限定事項を省いたものに相当する。
　そうすると、本願発明１の構成要件を全て含み、更に他の要件を付加したものに相当する本願補正発明が、上記「第２　３．」に記載したとおり、刊行物１記載の発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明１も、同様の理由により、刊行物１記載の発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、他の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。