【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年4月7日(2011.4.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非平面状基体を被覆する方法であって、該方法が、
一つ以上の静止した膨張熱プラズマ源からプラズマを発生させる工程と、
前記プラズマ中に第一組の気化した試薬を注入して基体上に第一被覆を形成する工程と、
前記プラズマ中に第二組の気化した試薬を注入して前記第一被覆上に一つ以上の被覆を形成する工程とを有しており、
前記プラズマがイオンフラックスを決定するアルゴン流れとアーク電流を有しており、
均一な被覆特性を与えるように前記イオンフラックスを調節する工程をさらに有している、方法。
【請求項２】
前記均一な被覆特性が被覆の厚さである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記均一な被覆特性が被覆の耐摩耗性である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記耐摩耗性被覆がプラズマ重合した有機珪素である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記有機珪素は、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメチルジシロキサン、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン、ビニルトリメチルシラン及びジメチルジメトキシシランからなる群から選択される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記耐摩耗性被覆が二つ以上の層として蒸着される、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
第一層が他の層の酸素含有量よりも低い酸素含有量を有する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
第一層以外の層が同じ組成を有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記耐摩耗性被覆の層が３００ｎｍで約０．０２μｍ−１の有機ＵＶ吸収剤を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記プラズマを発生させる工程及び気化試薬を注入する工程が、１．６５〜２．５ｓｌｍのアルゴン流、０．３〜２ｓｌｍの酸素流、０．１９ｓｌｍ以下のオクタメチルシクロテトラシロキサン流、７０アンペア以下のアーク電流と共に行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項の方法によって形成された非平面状製品。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
本発明は、更に、非平面状基体を被覆するための方法に関する。その方法は、一つ以上の静止した膨張熱プラズマ（ＥＴＰ）源［ｓｔａｔｉｏｎａｒｙ  ｅｘｐａｎｄｉｎｇ  ｔｈｅｒｍａｌ  ｐｌａｓｍａ（ＥＴＰ）ｓｏｕｒｃｅ］からプラズマを発生させ、第一組の気化試薬をプラズマ中に注入し、基体上に第一層を形成し、そして第二組の気化試薬をプラズマ中に注入し、前記第一層を覆って二つ以上の被覆層を形成することを含む。プラズマのイオンフラックスは、プラズマ源から基体までの作用距離（ｗｏｒｋｉｎｇ  ｄｉｓｔａｎｃｅ）（ＷＤ）の範囲に亙って実質的に均一な性質を与えるように調節する。作用距離は、アノードと基体との間の距離として定義される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
被覆場所１０は、その被覆場所１０の両側上にＥＴＰ源１４の配列体のみならず、付随する試薬マニホルド、酸素マニホルドを含む。ＥＴＰ源１４の配列体と基体１２の表面との間の、対称面１５（又は被覆場所１０の両側に位置する一対のＥＴＰ源を通る対称線）に沿って測定した距離を、作用距離（ＷＤ）と定義し、対称面１５と基体の局部表面との角度を、入射角（ＡＯＩ）として定義する。被覆場所１０には、基体が被覆場所に入る前にそれを加熱するため、被覆場所の上流に位置する一つ以上のヒーターを伴っていてもよい。更にプラズマ被覆能力を与えるように、被覆場所１０の下流に追加の被覆場所を配置してもよく、その場合付加的ヒーターを、それらの場所の間に配置していてもよい。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
下に記載するように、サイエンティフィック・システムズ社（Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｌｔｄ）からスマートプローブ（ＳｍａｒｔＰｒｏｂｅ）（商標名）のような市販プローブを用いた。これは、オート・リニアー・ドライブ（ａｕｔｏ  ｌｉｎｅａｒ  ｄｒｉｖｅ）を含む自動化ラングミュアー・プローブ装置で、それは広い範囲のプラズマパラメーターについての空間的或は時間的に解析された測定値を与えた。プローブは、プラズマジェットを横切って走査することができるリニアー・ドライブ上、アークに対し垂直に配置された。イオンフラックスは、プラズマ源から約２５ｃｍの所、即ち、平均ＷＤと同じ位置で測定した。ラングミュアー・プローブの活性部分は、１本のタングステンワイヤーであり、それをプラズマ中へ挿入し、ＤＣバイアスを掛けてプラズマからの電流を引き出す。プローブ先端の電圧（バイアス電圧）を変化させ、プラズマから引き出された電流を測定することにより、特性電流・電圧（Ｉ−Ｖ）曲線を得る。このＩ−Ｖ曲線から、種々のプラズマパラメーターを誘導することができる。後の計算で用いられるＩ−Ｖ曲線から得られる重要な測定パラメーターは、ｍＡ／ｃｍ２で測定された不正確なイオンフラックスＰｉである。アークを特徴付けるため、未調整イオンフラックスを、与えられたＷＤで膨張熱プラズマを横切る半径方向の距離の関数として測定する。得られたデーターをガウス分布に適合させ、曲線の下の面積（Ａｒ）と、この適合から得られた幅（Ｗｒ）から、
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
として全イオンフラックスを計算することができる。全イオンフラックスは、この与えられたＷＤの所にある無限大平面を通過するアルゴンイオン及び電子の数を表し、アンペア［Ａ］の単位で表されるであろう。この全イオンフラックスを、このガウス分布の幅と一緒にして、膨張熱プラズマ処理条件を記述し、比較するのに用いることにする。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
被覆用試薬及び酸素は、夫々のマニホルドに分布したオリフィスにより蒸気状態にして室中に注入する。接着性耐摩耗性層を形成するためにプラズマ中に注入することができる材料の例には、有機珪素の外、エチルベンゼンのような炭化水素及びブタンのような直鎖炭化水素が含まれる。ここで用いられる「有機珪素（ｏｒｇａｎｏｓｉｌｉｃｏｎ）」とは、少なくとも一つの炭素原子に少なくとも一つの珪素原子が結合した有機化合物を包含していることを意味し、シリコーン材料のみならず、一般にシラン、シロキサン、シラザン、及び有機シリコーンと呼ばれている材料が含まれる。本発明の方法及び物品に適した有機珪素の多くは、Ｋ．サウンダーズ（Ｓａｕｎｄｅｒｓ）による「有機重合体の化学」（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）〔チャップマン・アンド・ホール（Ｃｈａｐｍａｎ  ａｎｄ  Ｈａｌｌ  Ｌｔｄ．）、１９７３〕に記載されている。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５７】
【図１】図１は、膨張熱プラズマ源を具えた被覆場所の上面図である。
【図２】図２は、基体設定の前面図である。
【図３】図３は、同じ入射角にした２つの基体の側面図である。
【図４】図４において、図４Ａは、２つの異なった入射角度で取付けた４つの基体の上面図であり、図４Ｂは、図４Ａの４つの基体の前面図である。
【図５】図５は、膨張熱プラズマ源に対し異なった角度で取付けた６つの基体の側面図である。