【手続補正書】
【提出日】平成23年9月20日(2011.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式
【化１】
2010540426.tif 000001
〔式中、
-Aは、フェニルであり、
-Q1-は、共有結合であり、
-RNは、-Hであり、かつ
-RB-は、-CH=CH-である〕
で示される化合物ならびにその塩、水和物、および溶媒和物から選択される化合物の合成方法であって、
順次、以下の工程、すなわち、
（AAA）
（i）：順次、以下の工程、すなわち、
（ACAEA-1）式（E）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（C）で示される化合物を式（D）で示される化合物と反応させる工程、
【化２】
2010540426.tif 000002
（PURE）場合により、式（E）で示される該化合物を精製する工程、および
（CAD-1）式（F）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（E）で示される該化合物を反応させる工程、
【化３】
2010540426.tif 000003
〔式中、
-X2は、-Brであり、
-REは、-Me、-Et、-nPr、-iPr、-nBu、-iBu、-sBu、-tBu、-Ph、または-CH2-Phである〕
または（ii）：以下の工程、すなわち、
（ACAA-1）式（F）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（C）で示される化合物を式（D'）で示される化合物と反応させる工程、
【化４】
2010540426.tif 000004
〔式中、-X2は、-Brである〕
のいずれかを含む工程、
（PURF）場合により、式（F）で示される該化合物を精製する工程、
（HAF-1）式（G）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（F）で示される該化合物を反応させる工程、および
【化５】
2010540426.tif 000005
（PURG）場合により、式（G）で示される該化合物を精製する工程、
を含む、上記方法。
【請求項２】
以下の式
【化６】
2010540426.tif 000006
〔式中、
-Aは、フェニルであり、
-Q1-は、共有結合であり、
-RNは、-Hであり、かつ
-RB-は、-CH=CH-である〕
で示される化合物ならびにその塩、水和物、および溶媒和物から選択される化合物の合成のための、請求項１に記載の方法であって、
順次、以下の工程、すなわち、
（AAA）順次、以下の工程、すなわち、
（ACAEA-1）式（E）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（C）で示される化合物を式（D）で示される化合物と反応させる工程、
【化７】
2010540426.tif 000007
（PURE）場合により、式（E）で示される該化合物を精製する工程、および
（CAD-1）式（F）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（E）で示される該化合物を反応させる工程、
【化８】
2010540426.tif 000008
〔式中、
-X2は、-Brであり、
-REは、-Me、-Et、-nPr、-iPr、-nBu、-iBu、-sBu、-tBu、-Ph、または-CH2-Phである〕
を含む工程、
（PURF）場合により、式（F）で示される該化合物を精製する工程、
（HAF-1）式（G）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（F）で示される該化合物を反応させる工程、および
【化９】
2010540426.tif 000009
（PURG）場合により、式（G）で示される該化合物を精製する工程、
を含む、上記方法。
【請求項３】
以下の式
【化１０】
2010540426.tif 000010
〔式中、
-Aは、フェニルであり、
-Q1-は、共有結合であり、
-RNは、-Hであり、かつ
-RB-は、-CH=CH-である〕
で示される化合物ならびにその塩、水和物、および溶媒和物から選択される化合物の合成のための、請求項１に記載の方法であって、
順次、以下の工程、すなわち、
（SAF-1）式（C）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（A）で示される化合物を式（B）で示される化合物と反応させる工程、
【化１１】
2010540426.tif 000011
〔式中、
-X1は、-Cl、-Br、または-Iである〕
（PURC）場合により、式（C）で示される該化合物を精製する工程、
（AAA）
（i）：順次、以下の工程、すなわち、
（ACAEA-1）式（E）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（C）で示される該化合物を式（D）で示される化合物と反応させる工程、
【化１２】
2010540426.tif 000012
（PURE）場合により、式（E）で示される該化合物を精製する工程、および
（CAD-1）式（F）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（E）で示される該化合物を反応させる工程、
【化１３】
2010540426.tif 000013
〔式中、
-X2は、-Brであり、
-REは、-Me、-Et、-nPr、-iPr、-nBu、-iBu、-sBu、-tBu、-Ph、または-CH2-Phである〕
または（ii）：以下の工程、すなわち、
（ACAA-1）式（F）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（C）で示される該化合物を式（D'）で示される化合物と反応させる工程、
【化１４】
2010540426.tif 000014
〔式中、
-X2は、-Brである〕
のいずれかを含む工程、
（PURF）場合により、式（F）で示される該化合物を精製する工程、
（HAF-1）式（G）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（F）で示される該化合物を反応させる工程、および
【化１５】
2010540426.tif 000015
（PURG）場合により、式（G）で示される該化合物を精製する工程、
を含む、上記方法。
【請求項４】
以下の式
【化１６】
2010540426.tif 000016
〔式中、
-Aは、フェニルであり、
-Q1-は、共有結合であり、
-RNは、-Hであり、かつ
-RB-は、-CH=CH-である〕
で示される化合物ならびにその塩、水和物、および溶媒和物から選択される化合物の合成のための、請求項１に記載の方法であって、
順次、以下の工程、すなわち、
（SAF-1）式（C）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（A）で示される化合物を式（B）で示される化合物と反応させる工程、
【化１７】
2010540426.tif 000017
〔式中、
-X1は、-Cl、-Br、または-Iである〕
（AAA）順次、以下の工程、すなわち、
（ACAEA-1）式（E）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（C）で示される該化合物を式（D）で示される化合物と反応させる工程、
【化１８】
2010540426.tif 000018
（PURE）場合により、式（E）で示される該化合物を精製する工程、および
（CAD-1）式（F）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（E）で示される該化合物を反応させる工程、
【化１９】
2010540426.tif 000019
〔式中、
-X2は、-Brであり、
-REは、-Me、-Et、-nPr、-iPr、-nBu、-iBu、-sBu、-tBu、-Ph、または-CH2-Phである〕
を含む工程、
（PURF）場合により、式（F）で示される該化合物を精製する工程、
（HAF-1）式（G）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（F）で示される該化合物を反応させる工程、および
【化２０】
2010540426.tif 000020
（PURG）場合により、式（G）で示される該化合物を精製する工程、
を含む、上記方法。
【請求項５】
以下の式
【化２１】
2010540426.tif 000021
の化合物ならびにその塩、水和物、および溶媒和物から選択される化合物の合成のための、請求項１に記載の方法であって、
順次、以下の工程、すなわち、
（i）：順次、以下の工程、すなわち、
式（5）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（3）で示される化合物を式（4）で示される化合物と反応させる工程、
【化２２】
2010540426.tif 000022
場合により、式（5）で示される該化合物を精製する工程、および
式（6）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（5）で示される該化合物を反応させる工程、
【化２３】
2010540426.tif 000023
または（ii）：以下の工程、すなわち、
式（6）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（3）で示される化合物を式（4'）で示される化合物と反応させる工程、
【化２４】
2010540426.tif 000024
のいずれか、
場合により、式（6）で示される該化合物を精製する工程、
式（7）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（6）で示される該化合物を反応させる工程、および
【化２５】
2010540426.tif 000025
場合により、式（7）で示される該化合物を精製する工程、
を含む、上記方法。
【請求項６】
以下の式
【化２６】
2010540426.tif 000026
の化合物ならびにその塩、水和物、および溶媒和物から選択される化合物の合成のための、請求項５に記載の方法であって、
順次、以下の工程、すなわち、
式（5）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（3）で示される化合物を式（4）で示される化合物と反応させる工程、
【化２７】
2010540426.tif 000027
場合により、式（5）で示される該化合物を精製する工程、
式（6）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（5）で示される該化合物を反応させる工程、
【化２８】
2010540426.tif 000028
場合により、式（6）で示される該化合物を精製する工程、
式（7）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（6）で示される該化合物を反応させる工程、および
【化２９】
2010540426.tif 000029
場合により、式（7）で示される該化合物を精製する工程、
を含む、上記方法。
【請求項７】
以下の式
【化３０】
2010540426.tif 000030
の化合物ならびにその塩、水和物、および溶媒和物から選択される化合物の合成のための、請求項５に記載の方法であって、
順次、以下の工程、すなわち、
式（3）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（1）で示される化合物を式（2）で示される化合物と反応させる工程、
【化３１】
2010540426.tif 000031
場合により、式（3）で示される該化合物を精製する工程、
（i）：順次、以下の工程、すなわち、
式（5）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（3）で示される化合物を式（4）で示される化合物と反応させる工程、
【化３２】
2010540426.tif 000032
場合により、式（5）で示される該化合物を精製する工程、および
式（6）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（5）で示される該化合物を反応させる工程、
【化３３】
2010540426.tif 000033
または（ii）：以下の工程、すなわち、
式（6）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（3）で示される化合物を式（4'）で示される化合物と反応させる工程、
【化３４】
2010540426.tif 000034
のいずれか、
場合により、式（6）で示される該化合物を精製する工程、
式（7）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（6）で示される該化合物を反応させる工程、および
【化３５】
2010540426.tif 000035
場合により、式（7）で示される該化合物を精製する工程、
を含む、上記方法。
【請求項８】
以下の式
【化３６】
2010540426.tif 000036
の化合物ならびにその塩、水和物、および溶媒和物から選択される化合物の合成のための、請求項５に記載の方法であって、
順次、以下の工程、すなわち、
式（3）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（1）で示される化合物を式（2）で示される化合物と反応させる工程、
【化３７】
2010540426.tif 000037
場合により、式（3）で示される該化合物を精製する工程、
式（5）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（3）で示される化合物を式（4）で示される化合物と反応させる工程、
【化３８】
2010540426.tif 000038
場合により、式（5）で示される該化合物を精製する工程、および
式（6）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（5）で示される該化合物を反応させる工程、
【化３９】
2010540426.tif 000039
場合により、式（6）で示される該化合物を精製する工程、
式（7）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（6）で示される該化合物を反応させる工程、および
【化４０】
2010540426.tif 000040
場合により、式（7）で示される該化合物を精製する工程、
を含む、上記方法。
【請求項９】
工程（SAF-1）の反応が、存在する場合、塩基の存在下で行われる、請求項１〜８のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１０】
工程（SAF-1）の反応が、存在する場合、その工程（SAF-1）の反応後、以下の追加の工程、すなわち、
（SAF-2）工程（SAF-1）で生成された反応混合物を酸でクエンチする工程、
を行う、請求項１〜９のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１１】
工程（SAF-1）の反応が、存在する場合、有機溶媒中で行われ、かつその工程（SAF-1）の反応後、順次、以下の追加の工程、すなわち、
（SAF-2）工程（SAF-1）で生成された反応混合物を酸でクエンチする工程、ただし、工程(SAF-2)での該酸は水性酸である、
（SAF-3）工程（SAF-2）で生成された反応混合物を分離して有機画分を提供する工程、および
（SAF-4）工程（SAF-3）で生成された有機画分を塩基で処理する工程、
を行う、請求項１〜８のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１２】
場合により行いうる工程（PURC）が、挙げられた場合、行われ、かつ
式（C）で示される化合物を濾過により精製する工程、
式（C）で示される化合物を沈殿により精製する工程、および
式（C）で示される化合物を再結晶により精製する工程、
から選択される１以上の工程を含む、請求項１〜１１のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１３】
工程（ACAEA-1）の反応がパラジウム(0)触媒の存在下で行われる、請求項１〜１２のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１４】
工程（ACAEA-1）が、
（ACAEA-1a）パラジウム(0)触媒を形成するのに好適な条件下で、式（C）で示される化合物を含む反応混合物にパラジウム(II)化合物とホスフィンまたはホスフィットとを添加すること、および続いて
（ACAEA-1b）式（E）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（D）で示される化合物を工程（ACAEA-1aa）で生成された反応混合物に添加すること、
を含む、請求項１〜１２のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１５】
工程（ACAEA-1）が、
（ACAEA-1aa）パラジウム(0)触媒を形成するのに好適な条件下で、式（C）で示される化合物を含む反応混合物にパラジウム(II)化合物とホスフィンまたはホスフィットと補助塩基とを添加すること、および続いて
（ACAEA-1b）式（E）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（D）で示される化合物を工程（ACAEA-1aa）で生成された反応混合物に添加すること、
を含む、請求項１〜１２のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１６】
前記パラジウム(II)化合物が酢酸パラジウム(II)であり、ホスフィンがトリフェニルホスフィンまたはトリ(トリル)ホスフィンであり、前記補助塩基が、存在する場合、トリ(C1〜4アルキル)アミンである、請求項１４または１５に記載の方法。
【請求項１７】
場合により行いうる工程（PURE）が、挙げられた場合、行われ、かつ
式（E）で示される前記化合物を濾過により精製する工程、
式（E）で示される前記化合物を沈殿により精製する工程、
式（E）で示される前記化合物を炭素による処理により精製する工程、および
式（E）で示される前記化合物を再結晶により精製する工程、
から選択される１以上の工程を含む、請求項１〜１６のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１８】
工程（CAD-1）の反応が、式（F）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（E）で示される化合物を脱エステル化剤と反応させることを含み、前記脱エステル化剤が塩基を含む、請求項１〜１７のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１９】
工程（CAD-1）の反応が、式（F）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（E）で示される化合物を脱エステル化剤と反応させ、続いて、反応混合物を脱エステル化酸で酸性化することを含み、前記脱エステル化剤が塩基を含み、前記脱エステル化酸が無機酸である、請求項１〜１７のいずれか1項に記載の方法。
【請求項２０】
工程（ACAA-1）の反応が、存在する場合、パラジウム(0)触媒の存在下で行われる、請求項１〜１２のいずれか1項に記載の方法。
【請求項２１】
工程（ACAA-1）が、
（ACAA-1a）パラジウム(0)触媒を形成するのに好適な条件下で、式（C）で示される化合物を含む反応混合物にパラジウム(II)化合物とホスフィンまたはホスフィットとを添加すること、および続いて
（ACAA-1b）式（F）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（D'）で示される化合物を工程（ACAA-1aa）で生成された反応混合物に添加すること、
を含む、請求項１〜１２のいずれか1項に記載の方法。
【請求項２２】
工程（ACAA-1）が、
（ACAA-1aa）パラジウム(0)触媒を形成するのに好適な条件下で、式（C）で示される化合物を含む反応混合物にパラジウム(II)化合物とホスフィンまたはホスフィットと補助塩基とを添加すること、および続いて
（ACAA-1b）式（F）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、式（D'）で示される化合物を工程（ACAA-1aa）で生成された反応混合物に添加すること、
を含む、請求項１〜１２のいずれか1項に記載の方法。
【請求項２３】
前記パラジウム(II)化合物が酢酸パラジウム(II)であり、前記ホスフィンがトリフェニルホスフィンまたはトリ(トリル)ホスフィンであり、前記補助塩基が、存在する場合、トリ(C1〜4アルキル)アミンである、請求項２１または２２に記載の方法。
【請求項２４】
場合により行いうる工程（PURF）が、挙げられた場合、行われ、かつ
式（F）で示される化合物を濾過により精製する工程、
式（F）で示される化合物を沈殿により精製する工程、および
式（F）で示される化合物を再結晶により精製する工程、
から選択される１以上の工程を含む、請求項１〜２３のいずれか1項に記載の方法。
【請求項２５】
工程（HAF-1）が、順次、以下の工程、すなわち、
式（G）で示される化合物を形成するのに好適な条件下で、
（HAF-1a）式（F）で示される前記化合物をチオニルクロリド（SOCl2）またはオキサリルクロリド（C2O2Cl2）と反応させる工程、
（HAF-1b）工程（HAF-1a）の生成物をヒドロキシルアミン（NH2OH）と反応させる工程、
を含む、請求項１〜２４のいずれか1項に記載の方法。
【請求項２６】
場合により行いうる工程（PURG）が、挙げられた場合、行われ、かつ
式（G）で示される化合物を濾過により精製する工程、
式（G）で示される化合物を沈殿により精製する工程、および
式（G）で示される化合物を再結晶により精製する工程、
から選択される１以上の工程を含む、請求項１〜２５のいずれか1項に記載の方法。
【請求項２７】
以下の式
【化４１】
2010540426.tif 000041
〔式中、
-Aは、フェニルであり、
-Q1-は、共有結合であり、
-RNは、-Hであり、
-RB-は、-CH=CH-であり、かつ
-REは、-Etである〕
で示される化合物またはその塩、水和物、もしくは溶媒和物。