【事件の表示】
　特願２００４−１０２３３６「投影システム及びその使用方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１２月　２日出願公開、特開２００４−３４３０７５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１６年（２００４年）３月３１日（パリ条約による優先権主張、平成１５年４月１４日、欧州特許庁）の出願（特願２００４−１０２３３６号）であって、平成１８年１０月４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成１９年１月１８日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同年２月１９日付けで手続補正がなされた。
　その後、当審において、平成２２年１月１５日付けで拒絶理由の通知をし、これに対して同年４月１９日付けで意見書が提出され、同日付けで手続補正がなされ、さらに、同年７月２７日付けで拒絶理由の通知をし、これに対して同年１０月２７日付けで意見書が提出され、同日付けで手続補正がなされた。
　
第２　本願発明  
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）、及び、本願の請求項２に係る発明（以下、「本願発明２」という。）は、それぞれ、平成２２年１０月２７日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項に特定される次のとおりのものである。
　
「【請求項１】
　第１物体（ＭＡ）から来る投影ビーム（ＰＢ）を受け取り、かつその投影ビームを第２物体（Ｗ）に投影するように構成された複数の投影装置（１０）と、
　前記複数の投影装置（１０）の空間配向をそれぞれ測定するための複数のセンサ（１１）と、
　前記第１物体（ＭＡ）及び前記第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を測定するための少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）と、
　前記複数のセンサ（１１）及び前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）と連絡するように構成されている少なくとも１つの処理ユニット（４０）と、
　前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）と連絡するように構成され、かつ前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように構成された位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）と
を備える投影システム（ＰＬ）において、
　前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に、測定された前記複数の投影装置（１０）の空間配向のそれぞれに対して所定の重み付けすることで得られた出力を加算した結果に基づいて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように、前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御するようにさらに構成され、
　前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記複数の投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記複数の投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置された別の位置決め装置（１２）と連絡するようにさらに構成され、
　前記処理ユニット（４０）が、前記複数の投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記複数の投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置され、
　前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）が、前記複数の投影装置（１０）の空間配向が調整された後の残差誤差に基づいて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するようにさらに構成されていることを特徴とする、投影システム。」
　
「【請求項２】
　第１物体（ＭＡ）から来る投影ビーム（ＰＢ）を受け取り、かつその投影ビームを第２物体（Ｗ）に投影するように構成された少なくとも１つの投影装置（１０）と、
　前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を測定するための少なくとも１つのセンサ（１１）と、
　前記第１物体（ＭＡ）及び前記第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を測定するための少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）と、
　前記少なくとも１つのセンサ（１１）及び前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）と連絡するように構成されている少なくとも１つの処理ユニット（４０）と、
　前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）と連絡するように構成され、かつ前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように構成された位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）と
を備える投影システム（ＰＬ）において、
　前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つのセンサ（１１）及び前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に基づいて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように、前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御するようにさらに構成され、
　前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つの投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置された別の位置決め装置（１２）と連絡するようにさらに構成され、　　前記処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つの投影装置（１０）の測定誤差を表す時間信号を振動数成分に変換し、前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整することによって所定の振動数範囲を補償し、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整することによって他の振動数範囲を補償することを特徴とする、投影システム。」
　
第３　特許法第２９条第２項（発明の進歩性）の要件の違反について
１　引用例
（１）引用例１
　当審が通知した、平成２２年１月１５日付けの拒絶理由、及び、同年７月２７日付けの拒絶理由の両者に引用した、特開２００１−３５１８５５号公報（以下「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。（下線は、下記「（２）引用例１に記載された発明」において直接引用した箇所に付したものである。） 
 　 
「【請求項１】
リソグラフィ投影装置であって：放射線の投影ビーム（ＰＢ）を供給するように配置構成された照明システム（ＩＬ）；マスク（ＭＡ）を保持するように配置構成された第１物体テーブル（ＭＴ）；基板（Ｗ）を保持するように配置構成された第２物体テーブル（ＷＴ）；および前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分（Ｃ）上に結像するように配置構成された投影システム（ＰＬ）を含む投影装置において、前記照明システムおよび前記投影システムの少なくとも１つが１つ以上の反射性光学素子（１０）と該反射性光学素子の１つ以上の位置および配向のいずれか一方または両方を動的に制御するための位置決め手段（２０）を含む装置。
【請求項２】請求項１による装置において、
更に、上記反射性光学素子（１０）の１つ以上の位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定し、並びにそれを示す１つ以上に位置信号を出力するように配置構成された検知手段（４０）を含み；前記位置決め手段（２０）が：駆動制御信号に応じて前記反射性光学素子の１つ以上の位置および配向のいずれか一方または両方を変えるように配置構成された駆動手段（３０）；および前記反射性光学素子の１つ以上の位置および配向のいずれか一方または両方の測定した前記変化を補正するように、前記駆動制御信号を発生するために１つ以上の前記位置信号に反応する制御器（５０）を含む装置。
　
「【０００１】 
【発明の属する技術分野】本発明は、リソグラフィ投影装置であって：放射線の投影ビームを供給するための照明システム；マスクを保持するための第１物体テーブル；基板を保持するるための第２物体テーブル；および上記マスクの被照射部分を上記基板の目標部分上に結像するための投影システムを含む投影装置に関する。 
【０００２】簡単のために、投影システムを、以後“レンズ”と呼称し得るが；この用語は、例えば、屈折性光学素子、反射性光学素子、および反射屈折性光学素子を含む、種々の型式の投影システムを包含するように広く解釈すべきである。照明システムもこれらの原理の何れかに従って放射線の投影ビームを指向し、付形しまたは制御するために作用する素子を含んでもよく、そのような素子も以下で集合的または単独に“レンズ”と呼称し得る。その上、この第１および第２物体テーブルを、それぞれ、“マスクテーブル”および“基板テーブル”と呼ぶかも知れない。その中に結像すべきパターンが形成されるかまたは形成し得る、一般的にはマスクと称呼される、他の構造体または装置を保持し得るか保持する何れかの構造体または装置として、マスクテーブルは使用されるべきである。更に、このリソグラフィ装置は、二つ以上のマスクテーブルおよび２つ以上の基板テーブルのいずれか一方または両方を有する型式のものでもよい。そのような“多段”装置では、追加のテーブルを並列に使ってもよく、または準備工程を１つ以上のステージ（ｓｔａｇｅｓ）で実施し、一方、１つ以上の他のステージを露出用に使ってもよい。」 
 　 
 「【０００７】 
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、放射線または投影システムのミラーを正確且つ動的に配置するために改良した位置決めシステムを有するリソグラフィ投影装置を提供することである。 
【０００８】 
【課題を解決するための手段】本発明の第１態様によれば、リソグラフィ投影装置であって：放射線の投影ビームを供給するように配置構成された照明システム；マスクを保持するように配置構成された第１物体テーブル；基板を保持するように配置構成された第２物体テーブル；および上記マスクの被照射部分を上記基板の目標部分上に結像するように配置構成された投影システムを含む投影装置において、上記照明システムおよび上記投影システムの少なくとも１つが１つ以上の反射性光学素子並びに上記反射性光学素子の１つ以上の位置および配向のいずれか一方または両方を動的に制御するための位置決め手段を含む装置が提供される。 
【０００９】 
【発明の実施の形態】１つ以上の反射性光学素子は、ミラー、反射性格子、反射性フィルタ等のような単一素子、またはそのような素子と他の種類の素子との若しくは他の種類の素子のない組合せを含んでもよい。本発明では、反射性光学系の位置を装置の動作中連続的にまたは繰返し制御し、それによって振動および機械的衝撃、並びに熱的および機械的ドリフトの影響を軽減できる。」 
 　 
「【００１８】本明細書でＩＣの製造における本発明による装置の使用を特別に参照してもよいが、そのような装置には、他の多くの可能な用途があることを明確に理解すべきである。例えば、それを集積光学システム、磁気領域（ｍａｇｎｅｔｉｃ　ｄｏｍａｉｎ）メモリ用誘導検出パターン、液晶ディスプレイパネル、薄膜磁気ヘッド等の製造に使ってもよい。当業者は、そのような代替用途の関係では、本明細書で使う“レチクル”、“ウエハ”または“ダイ”という用語の何れも、それぞれ、より一般的な用語“マスク”、“基板”および“目標領域”で置換えられると考えるべきであることが分るだろう。 
【００１９】本文書で、“放射線”および“ビーム”という用語は、例えば、紫外放射線、ＥＵＶおよびＸ線を含む、あらゆる種類の電磁放射線を包含するために使用する。“ミラー”および“反射器”という用語も同義に使い、文脈が別に決めなければ、完全に、部分的にまたは選択的に反射性であろうが、何か他の光学的、例えば、屈折または回折の、特性があろうがなかろうが、何れの反射性素子をも包含する意図である。文脈が容認する場合、この用語は、散乱板のような非鏡面反射器にも適用してよい。位置という用語は、Ｘ、ＹおよびＺ位置並びに回転位置Ｒｘ、ＲｙおよびＲｚの何れかまたは全てを指すと広く解釈すべきである。」 
 　 
「【００２１】 
【実施例１】図１は、本発明によるリソグラフィ投影装置を概略的に描く。この装置は：放射線（例えば、ＵＶまたはＥＵＶ線）の投影ビームＰＢを供給するための放射線システムＬＡ、ＩＬ；マスクＭＡ（例えば、レチクル）を保持するためのマスクホルダを備え、このマスクを部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第１位置決め手段ＰＭに連結された第１物体テーブル（マスクテーブル）ＭＴ；基板Ｗ（例えば、レジストを塗被したシリコンウエハ）を保持するための基板ホルダを備え、この基板を部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第２位置決め手段ＰＷに連結された第２物体テーブル（基板テーブル）ＷＴ；マスクＭＡの被照射部分を基板Ｗの目標領域、または部分Ｃ上に結像するための投影システム（“レンズ”）ＰＬ（例えば、反射または反射屈折システム）を含む。
【００２２】放射線システムは、放射線のビームを作る放射源ＬＡ（例えば、Ｈｇランプ、エキシマレーザ、レーザ若しくは放電プラズマ源、または貯蔵リング若しくはシンクロトロンの電子ビームの経路の周りに設けたアンジュレータ）を含む。このビームは出来たビームＰＢが入射瞳およびマスクに所望の照度分布を与えるような方法で収集されるように、照明システムＩＬに含まれる種々の光学部品に通される。 
【００２３】ビームＰＢは、次に、マスクテーブルＭＴ上のマスクホルダに保持されているマスクＭＡに入射する。マスクＭＡによって選択的に反射されてから、ビームＰＢは、レンズＰＬを通過し、それがビームＰＢを基板Ｗの目標領域Ｃ上に集束する。
干渉計変位測定手段ＩＦおよび第２位置決め手段ＰＷの助けをかりて、基板テーブルＷＴは、例えば、異なる目標領域ＣをビームＰＢの経路に配置するように、正確に動くことができる。同様に、この干渉計変位測定手段ＩＦおよび第１位置決め手段ＰＭを使ってマスクＭＡをビームＰＢの経路に関して正確に配置することができる。
【００２４】図示する装置は、二つの異なるモードで使うことができる：１．ステップモードでは、マスクテーブルＭＴを本質的に固定して保持し、全マスク像を目標領域Ｃ上に一度に（即ち、単一“フラッシュ”で）投影する。次に基板テーブルＷＴをｘおよび／またはｙ方向に移動して異なる目標領域ＣをビームＰＢで照射できるようにする；２．走査モードでは、与えられた目標領域Ｃが単一“フラッシュ”では露出しないことを除いて、本質的に同じシナリオを適用する。その代りに、マスクテーブルＭＴが与えられた方向（所謂“走査方向”、例えば、ｘ方向）に速度ｖで動き得て、それで投影ビームＰＢがマスク像の上を走査せしめられ；同時に、基板テーブルＷＴが同時に同じまたは反対方向に速度Ｖ＝Ｍｖで動かされ、このＭはレンズＰＬの倍率（典型的には、Ｍ＝１／４または１／５）である。この様にして、比較的大きい目標領域Ｃを、解像度について妥協する必要なく、露出できる。
【００２５】本実施例は反射性マスクを使うが、本発明を透過性マスクを有するリソグラフィ装置にも使えることが直ちに判るだろう。図示する実施例は、放射線および投影システムにも反射性素子を使うが、しかし、幾つかの屈折性素子を使ってもよい。 
【００２６】図２は、照明光学系ＩＬまたは投影光学系ＰＬに含まれるミラー１０の一つおよびその関連する位置決めシステム２０を示し、このシステムは、駆動システム３０、位置検知システム４０および制御システム５０を含む。ミラー１０は、明確さのために、入射放射線ＰＢに対して鋭角の平坦ミラーセットとして示す。しかし、ミラー１０は、視射角ミラーでもよく、および放射線ビームＰＢの所望の成形または集束を行うために顕微鏡を必要とせずにあるいは顕微鏡を使用して付形してもよい。 
【００２７】図２に示すように、ミラー１０は、駆動装置３１、３２に取付けてあり、それらの装置が位置決めシステム３０の一部を形成し、それが今度はベースフレームＢＦに取付けてある。ベースフレームＢＦは、非常に堅固であるのが望ましく、例えば、リソグラフィ装置１のベースプレートＢＰに取付けるか、その一部であってもよい。駆動装置３１、３２は、ミラーの位置、および特に配向を正確に制御するために使う。明確にするために、図２には二つの駆動装置しか示さないが、６自由度の何れかまたは全てでミラーの位置を制御するためにそれより多くのまたは少ない駆動装置を設けてもよいことが判るだろう。 
【００２８】本実施例では、駆動装置３１、３２がローレンツ力モータを含み、その一般的作動原理は、例えば、ヨーロッパ特許出願ＥＰ１００１５１２およびそれに相当する米国特許出願ＵＳ０９／４３５，６３８に記載されていて、それらを参考文献として本明細書に援用する。低剛性並びに必要な反応性および出力を有する、その他の適当なアクチュエータまたはモータも使ってよい。 
【００２９】検知システム４０は、絶対センサ４１、４２および相対センサ４３、４４を含み、それらは全て基準フレームＲＦ上に取り付けてある。基準フレームＲＦは、空気マウント、ばね、またはその他の防振手段によって支持された非常に堅いフレームで、装置の座標系の基準となる。基準フレームＲＦは、装置の他の部分で使う基準フレームの一部でも、それに連結してもよい。基準フレームＲＦを、例えば、駆動装置３１、３２の作動によって誘起するかも知れない、ベースフレームＢＦの振動から絶縁することが重要である。 
【００３０】絶対センサ４１、４２は、各使用前に較正する必要なく、１以上の自由度のミラー１０の絶対位置を測定する。装置の最初の製造でのおよび定期保守での較正が必要または望ましいかも知れないが、これらの絶対センサは、較正なしに製作運転中または一連の運転中作動できるべきである。本実施例では、これらの絶対センサが既知の種類の容量センサまたは誘導センサである。明快さの目的で二つの絶対センサを図示するが、所望の自由度で位置情報を提供するために必要に応じてより多くまたは少なく使ってもよい。
【００３１】相対センサ４３、４４は、ミラーの運動、即ち、位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定し、それで較正を要し、ミラーの絶対位置を測定するために使用可能である前に、このミラーを所定の位置に正確に設定することが必要である。本実施例では、相対センサ４３、４４がミラー１０に取り付けたそれぞれの基準格子４５、４６の位置を測定する、干渉計をベースとするセンサである。絶対センサ同様、必要に応じて２つより多いまたは少ないセンサを使ってもよい。 
【００３２】干渉計センサ４３、４４は、容量または誘導センサ４１、４２より高い感度および／または帯域幅および／または範囲でミラーの運動を測定することができ、従って装置の作動中継続的に相対位置信号を供給するために使う。絶対センサ４１、４２は、装置の初期セットアップ中、および投影すなわち照明システムが作動していないとき、どんな期間の経過後でも装置を再初期化するときに絶対位置信号を提供するために使う。それらは、干渉計センサ４３、４４を検定または較正するために定期的に使ってもよい。
【００３３】絶対センサ４１、４２および相対センサ４３、４４からの生信号を、制御システム５０の一部を形成する、それぞれの第１および第２信号処理回路５１、５２へ供給する。これらの信号処理回路５１、５２は、センサが提供する信号の適切な処理および検定を行い、それらを必要に応じて出力するために適当な座標系に変換する。ミラー１０の絶対位置を表す、第１信号処理回路５１からの処理した位置信号は、これらの相対位置信号を較正するために第２信号処理回路５２へ供給してもよい。モータ制御回路５３が信号処理回路５１、５２からの処理した位置信号および設定点回路５４からの設定点データも受け、適当な駆動信号を決め、それらをモータ３１、３２に提供してミラー１０を望む通りに配置しおよび何れの振動の影響をも相殺する。 
【００３４】本実施例の制御システムは、ミラーの位置の測定および所望の位置からの偏差の相殺に基づくフィードバック制御戦略を使う。制御システムは、その上、フィードフォワード制御を行うために、その他のセンサまたはリソグラフィ装置の全体的制御システムからの情報を使ってもよい。設定点回路５４が与える設定点は、もし、ミラー１０がこの光学系の静的構成部品であれば一定位置でもよく、またはもし、ミラー１０がこのリソグラフィ装置の何れかの可変ビーム成形または位置決め機能に於いて一役を果たすならば可変位置でもよい。 
【００３５】 
【実施例２】本発明の第２実施例では、第１実施例用に説明したような位置検知システム４０だけが投影光学系ＰＬの中の、ミラー１０のような、反射性光学素子の各々と関連する。この位置決め検知システムの代替実施例は、絶対センサだけ、または相対センサだけを含んでもよい。そうすると、種々のミラーの位置および配向のいずれか一方また両方の変化を作動中に測定でき、そのような変化による基板レベルでの仮想誤差を導出できる。それは、種々のミラーの位置および配向がそのような導出に対して十分正確に知ることができるからである。 
【００３６】導出した仮想結像誤差を補正するために、この投影システムのミラーの１つ（またはそれ以上）を第１実施例用に説明したような駆動システム３０に連結する。投影光学系ＰＬの全てのミラーの種々の位置および／または回転誤差をそれらが関連する位置検知システム４０が測定する通りに補正するために、制御システムがその関連するミラーの位置および配向のいずれか一方または両方の必要な変化を導出する。このため、種々の位置検知システム４０からの生位置信号を制御システムに供給する。制御システム内の信号処理回路がこれらの信号の適切な処理を行い、それらを必要に応じて、駆動システム３０に連結した１つ（またはそれ以上）のミラー１０のために適当な座標系に変換する。 
【００３７】投影システムに含まれる反射性素子の中で位置および配向のいずれか一方または両方が最も厳しい反射性素子に駆動システムを設けることを選択してもよい。更に、位置および配向が厳しくない反射性素子用の位置検知システムを不要にしてもよい。 
【００３８】第２実施例の代りの実施例は、マスクから基板の方へ（または逆に）投影システムＰＬの種々の反射性素子を通過する光のビーム、好ましくはレーザビームを供給する検知システムを含む。これらの種々の反射性素子の位置および／または配向偏差は、レーザビームが投影システムを通過したときその位置に変化を生じ、それを四象限検出器（四セル）、２次元位置検知装置またはＣＣＤカメラのような適切な２次元検出器を使って検出できる。継続的フィードバックの可能性をもたらすために、２次元検出器を投影システムに関して基準フレームＲＦ上に固定して取り付けることができ、またレーザビームがこのマスク上のそのマスクパターンのすぐ次の位置から反射されるかも知れず、その場合はこの２次元検出器を投影ビームの外に取り付けることができる。 
【００３９】第１実施例、第２実施例および上記代替実施例の場合のような、反射素子の位置および回転偏差の継続的フィードバックは、高、中および低周波領域での位置および／または回転変化を補正する可能性を提供する。例えば、ミラーマウントの機械的クリープによって起る場合のような、低周波領域での偏差および補正にしか関心がない場合は、基板テーブルに取付けた２次元検出器を使い、結像工程中の選択した時点でレーザビームの位置をチェックすることが選択肢である。
これらの反射性素子の位置および／または回転偏差によって起る位置誤差は、マスクおよび／または基板テーブルの位置決めでそれらを補償することによって補正してもよい。
【００４０】上に本発明の特別の実施例を説明したが、本発明を説明したのとは別の方法で実施してもよいこと、およびこの説明が本発明を限定することを意図しないことが判るだろう。本発明の位置決めシステムをリソグラフィ投影装置のミラーに適用するものとして説明した。しかし、本発明は、基板（ウエハ）またはマスク（レチクル）段階のような、リソグラフィ装置の他の部品に、または正確な動的位置決めが必要な他の装置の部品にも適用してよい。」 
　
「【図１】（本発明によるリソグラフィ投影装置を描いた図）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
「【図２】（本発明の第１実施例によるミラー用位置決めシステムの線図）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
（２）引用例１に記載された発明 
　引用例１の【００２３】の「干渉計変位測定手段ＩＦおよび第２位置決め手段ＰＷの助けをかりて、基板テーブルＷＴは、例えば、異なる目標領域ＣをビームＰＢの経路に配置するように、正確に動くことができる。同様に、この干渉計変位測定手段ＩＦおよび第１位置決め手段ＰＭを使ってマスクＭＡをビームＰＢの経路に関して正確に配置することができる。」の記載から、引用例１のリソグラフィ投影装置には、干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いて基板（Ｗ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第２位置決め手段（ＰＷ）及び干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いてマスク（ＭＡ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第１位置決め手段（ＰＭ）を制御する制御手段を備えることは明らかである。
　したがって、上記記載事項（図面の記載も含む）を総合勘案すると、引用例１には、
「リソグラフィ投影装置であって：放射線の投影ビーム（ＰＢ）を供給するように配置構成された照明システム（ＩＬ）；マスク（ＭＡ）を保持するように配置構成された第１物体テーブル（ＭＴ）；基板（Ｗ）を保持するように配置構成された第２物体テーブル（ＷＴ）；および前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分（Ｃ）上に結像するように配置構成された投影システム（ＰＬ）を含むリソグラフィ投影装置において、
　前記投影装置は、前記照明システムおよび前記投影システムが複数の反射性光学素子（１０）と該反射性光学素子の位置および配向のいずれか一方または両方を動的に制御するための位置決め手段（２０）を含み、
　前記投影装置は、更に、上記反射性光学素子（１０）の位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定し、並びに位置信号を出力するように配置構成された検知手段（４０）を含み、
　前記位置決め手段（２０）が、駆動制御信号に応じて前記反射性光学素子の位置および配向のいずれか一方または両方を変えるように配置構成された駆動手段（３０）；および前記反射性光学素子の位置および配向のいずれか一方または両方の測定した前記変化を補正するように、前記駆動制御信号を発生するために前記位置信号に反応する制御器（５０）を含み、
　また、干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いて基板（Ｗ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第２位置決め手段（ＰＷ）及び干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いてマスク（ＭＡ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第１位置決め手段（ＰＭ）を制御する制御手段を備え、
　上記反射性光学素子（１０）の位置および／または回転偏差によって起る位置誤差は、マスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）の位置決めでそれらを補償することによって補正する投影システム（ＰＬ）を含むリソグラフィ投影装置。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
 　 
（３）引用例２の記載事項 
 　当審が通知した、平成２２年１月１５日付けの拒絶理由に引用した、特開２００１−２３０１９３号公報（以下、「引用例２」という。）には、次の事項が記載されている。
 　 
 「【０００１】 
 【発明の属する技術分野】本発明は、マスク上のパターンを投影光学系を介して感光性の基板に転写する、半導体素子を製造する等のリソグラフィ工程で使用される投影光学系の波面収差測定方法及び投影露光装置に関するものである。」 
 　 
 「【００３６】図１は本発明の実施形態１の投影露光装置の要部概略図である。同図において２は原板のレチクル（フォトマスク）で、該レチクル２上の回路パターンが投影光学系（縮小投影レンズ）１によって、保持手段であるＸＹＺステージ４上のウエハー３上に縮小されて結像し、露光が行われる。　 
 【００３７】投影光学系１は入射側及び出射側で共にテレセントリックになっている。ＸＹＺステージ４は縮小投影レンズ１の光軸方向（Ｚ方向）及び光軸方向に直交する面内（Ｘ−Ｙ面）で移動可能で、ステージ駆動ユニット５により制御されている。　 
 【００３８】ウエハー回路パターンを転写するとき、照明光学系からの光束ＩＬがレチクル２の回路パターンの転写が行われる画面領域内を照明する。 
 【００３９】１０１は収差制御用の光学部材であり、２枚の光学くさび４３，４４を全体として平行平面板となるように対向配置し、平行平面板としたときの光入射面と光射出面が光軸ＡＸと直交するように配置している。 
 【００４０】この２つの光学くさび４３，４４は相対的に投影光学系１の光軸ＡＸと直交する方向に移動可能であり、光軸方向の厚さが可変になっている。光学部材１０１の詳細については後述する。 
 【００４１】図１では、ウエハー３に隣接する位置にウエハー３の上面と高さがほぼ一致した面を持つ光強度検出装置（光強度検出手段）８が配置されている。光強度検出装置８により計測されたウエハー面上の像面光強度分布データを波面収差演算装置（波面収差測定手段）１１を用いて計算することにより、投影光学系１の波面が後述の算出アルゴリズムで算出される。 
 【００４２】５２及び５３は光強度検出手段８の面やウエハー３面の光軸ＡＸ方向の位置を検出する面位置検出光学系を構成する要素を示している。このうち５２は光学系（投光光学系）であり、同図では光強度検出装置８の面の光軸ＡＸに対する傾きをチェックする為、複数個の光束を投光する。 
 【００４３】投光光学系５２より投光される各光束は非露光光からなり、ウエハー３上のフォトレジストを感光させない光よりなっている。そして、この複数の光束は光強度検出装置８の所定面（またはウエハー面３）上に各々集光されて反射される。 
 【００４４】光強度検出装置８の面で反射された光束は検出光学系５３に入射する。検出光学系５３内には各反射光束に対応させて複数個の位置検出用の受光素子５３ａが配置されており、各位置検出用の受光素子５３ａの受光面と光強度検出装置８の面での各光束の反射点が検出光学系内の光学系によりほぼ共役となるように構成されている。 
 【００４５】光強度検出装置８における所定面の縮小投影レンズ１の光軸ＡＸ方向の位置ずれは検出光学系５３内の位置検出用の受光素子５３ａ上での入射光束の位置ずれとして計測される。 
 【００４６】この検出光学系５３により計測された光強度検出装置８のフォーカス基準位置からのＺ方向（光軸ＡＸ方向）のずれが位置検出用の受光素子からの出力信号に基づいて面位置検出装置８０により面位置情報として算出される。 
 【００４７】この結果、実際にＴＴＬで計測されるフォーカス位置からのずれに対する信号が収差測定・制御ユニット６１に入力される。 
 【００４８】収差測定・制御ユニット（制御手段）６１は光強度検出装置８が固設されたＸＹＺステージ４を駆動する為のステージ駆動ユニット５に信号線を介して司令信号を与える。また、投影レンズ１の波面収差を測定するときには収差測定・制御ユニット６１によりステージ制御ユニット５に指令を与え、光強度検出装置８が所定の装置の基準位置の近傍で投影レンズ１の光軸方向（Ｚ方向）に上下に変位するようにＸＹＺステージ４を駆動する。 
 【００４９】ここで、像面（ウエハ面）上の特定パターンの光強度分布を測定する光強度検出装置８としては、ＣＣＤカメラ等の撮像素子が適用できるが、この他ウエハ面と同一面上に設けたスリット、又は、ナイフエッジをＸ及びＹ方向にスキャンさせ、その際の透過光量を受光手段で検知することで、像面での特定パターンの光強度分布を計測することも可能である。 
 【００５０】また、特定パターンをレチクル２の任意の位置に複数個所配置しておき、光強度検出装置８の配設されたステージ４をＸ及びＹ方向に駆動させ、任意の複数の位置でのパターン強度を計測することにより、投影レンズ１の各画角に依存する光学特性（倍率・像面湾曲・ディストーション・コマ収差・非点収差、等）を計測している。」 
 　 
 「【００７８】〈光学特性の制御方法〉上記位相回復法により求めた収差は、以下の方法により制御することが可能である。それぞれの方法について、以下に詳述する。 
 【００７９】（ア−１）図１に示される２枚１組の光学くさび４３，４４よりなる光学部材１０１により収差を制御する方法。 
 【００８０】これら２枚の光学くさび４３，４４はそれぞれ左右方向に駆動する為の不図示のアクチュエーターがついている。これらを駆動することにより、光束に対する平行平板としての板厚を変化させて、縮小投影レンズ１の球面収差を制御している。さらに、この光学部材１０１を傾けることによりコマ収差を制御している。 
 【００８１】また、この時同時に縮小投影レンズ１のピント位置も変化してしまうので、ＸＹＺステージ４を縮小投影レンズ１の光軸方向に移動させてピントを制御している。 
 【００８２】（ア−２）縮小投影レンズ１内のレンズをレンズ駆動ユニット９０を用いて光軸方向に駆動させる方法。または、互いに厚さの異なる平行平面板をレンズ駆動ユニット９０を用いて光路中で切り替える方法。 
 【００８３】（ア−３）縮小投影レンズ１内の光学部材間の密閉空気内の気体の屈折率を変化させる方法。 
 【００８４】この時、気体の屈折率を変化させる手段としては、圧力制御、混合気体の混合比制御等がある。 
 【００８５】（ア−４）縮小投影レンズ１の一部又は全部を加熱、冷却する方法。加熱、冷却することで縮小投影レンズ１内の光学部材の物理的変形や、屈折率を生じさせて球面収差を変化させる。 
 【００８６】（ア−５）投影露光装置の照明光学系の光源から放射される光の波長を変えることで、縮小投影レンズ１の色収差補正された波長からずらすことによって色球面収差を変化させる。光源として狭帯域化されたエキシマレーザー等の放射光の波長を可変とすることができるものを用いたときに最適な方法である。 
 【００８７】（ア−６）投影露光装置の照明光学系で用いる光束の波長幅を変化させる方法。 
 【００８８】波長幅を変えることで、縮小投影レンズ１の軸上色収差によってピントずれの広がりが変化し球面収差を変化させる。光源が狭帯域化されたエキシマレーザー等の放射光の波長幅を可変とすることができるものを用いたときに最適な方法である。 
 【００８９】（ア−７）縮小投影レンズ１の瞳位置に所定の球面収差を発生させる回転対称な非球面を切り替える方法。 
 【００９０】上記（ア−１）〜（ア−７）の方法を用いて球面収差を変化させると、多くの場合、球面収差以外の光学性能も同時に変化してしまうのでそれを制御する必要がある。また、球面収差以外の光学性能も所望の値に制御する必要のある時もある。（例：Ｍｉｘ＆Ｍａｔｃｈの場合に倍率を制御する。）これらの場合、縮小投影レンズ内の球面収差の制御に使っていないところの光学部材を移動したり、光学部材間の気体の屈折率を変化させたりして、球面収差以外で制御したい光学性能（例：球面収差、アス、コマ、倍率、ディストーション等）を制御する。 
 【００９１】また、制御する光学性能と制御手段の関係は、近似的に線形結合であるので両者の数は一致する。このようにして、球面収差のみならず、諸収差（例：球面収差、アス、コマ、倍率、ディストーション等）を制御することが可能となる。また、同様にして波面収差を制御することも可能である。 
 【００９２】〈像シフトの制御〉上記（ア−１）〜（ア−７）の方法にあるようなレンズ駆動や部材挿入出等による収差制御に伴い、画面全体（ショット全体）の像シフトが発生する場合がある。　 
 【００９３】ここで、予め収差制御部材の駆動量に対する像シフトの変化量を実験的に、又は、計算によって求めておけば、アライメント情報に（特にベースライン量にオフセットとして）フィードバックさせることができる。オフセット量に従ってＸＹステージ位置を補正する事で露光中の収差制御に伴うアライメントズレを発生させること無く、精度よく重ねあわせ焼きを行なうことができる。　 
 【００９４】一方、収差制御材の駆動量に対する像シフト変化量を予め求めておく方法とは別に、収差計測駆動毎に、同時にベースライン量を計測し、ベースライン量を直接書き換えても良い。ベースライン計測については、不図示の専用アライメント検出系で専用マークを検出することで計測しても良い。 
 【００９５】又、波面収差計測時と同様に特定パターン光強度分布を検出することで収差を算出し制御する場合、収差制御部材を駆動後、画面共通シフト成分を再計測・算出し、その値を直接ベースライン量にフィードバックする方法でも良い。 
 【００９６】この方法では、駆動に伴う予期しないシフト成分を直接計測する事でリアルタイムに、かつ、精度よく、アライメント情報にフィードバックすることができる。」
　
「【図１】（本発明の実施形態１を説明する図）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
３　本願発明１についての当審の判断
（１）本願発明１と引用発明との対比 
ア　引用発明の「マスク（ＭＡ）」、「基板（Ｗ）」、「放射線の投影ビーム（ＰＢ）」及び「反射性光学素子（１０）」が、それぞれ、本願発明１の「第１物体（ＭＡ）」、「第２物体（Ｗ）」、「投影ビーム（ＰＢ）」及び「投影装置（１０）」に相当するから、引用発明の「放射線の投影ビーム（ＰＢ）を供給するように配置構成された照明システム（ＩＬ）；マスク（ＭＡ）を保持するように配置構成された第１物体テーブル（ＭＴ）；基板（Ｗ）を保持するように配置構成された第２物体テーブル（ＷＴ）；および前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分（Ｃ）上に結像するように配置構成された投影システム（ＰＬ）を含むリソグラフィ投影装置」であって「反射性光学素子（１０）」を含む「投影システム（ＰＬ）を含むリソグラフィ投影装置」が、本願発明１の「第１物体（ＭＡ）から来る投影ビーム（ＰＢ）を受け取り、かつその投影ビームを第２物体（Ｗ）に投影するように構成された複数の投影装置（１０）」を備えた「投影システム（ＰＬ）」に相当する。  
 　  
 イ　引用発明の「上記反射性光学素子（１０）の位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定」する「検知手段（４０）」が、本願発明１の「複数の投影装置（１０）の空間配向をそれぞれ測定するための複数のセンサ（１１）」に相当する。  
 　  
 ウ　引用発明の「基板（Ｗ）」及び「マスク（ＭＡ）」を「正確に配置する」ための「干渉計変位測定手段（ＩＦ）」が、本願発明１の「前記第１物体（ＭＡ）及び前記第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を測定するための少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）」に相当する。 
 　 
 エ　引用発明の「干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いてウエハ（Ｗ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第２位置決め手段（ＰＷ）及び干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いてマスク（ＭＡ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第１位置決め手段（ＰＭ）を制御する制御手段を備え、上記反射性光学素子（１０）の位置および／または回転偏差によって起る位置誤差は、マスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）の位置決めでそれらを補償する」の特定事項から、引用発明の上記制御手段は「反射性光学素子（１０）の１つ以上の位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定」する「検知手段（４０）」（少なくとも１つのセンサユニット）及び「干渉計変位測定手段（ＩＦ）」（少なくとも１つの別のセンサ）と連絡するように構成されていることは明らかである。 
 　すなわち、引用発明の上記「制御手段」が、本願発明１の「複数のセンサ（１１）及び前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）と連絡するように構成されている少なくとも１つの処理ユニット（４０）」に相当する。 
 　  
 オ　引用発明の「制御手段」によって制御される「干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いて基板（Ｗ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第２位置決め手段（ＰＷ）及び干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いてマスク（ＭＡ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第１位置決め手段（ＰＭ）」が、本願発明１の「少なくとも１つの処理ユニット（４０）と連絡するように構成され、かつ前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように構成された位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）」に相当する。 
 　 
 カ　引用発明の「制御手段」が「干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いて基板（Ｗ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第２位置決め手段（ＰＷ）及び干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いてマスク（ＭＡ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第１位置決め手段（ＰＭ）を制御する」ことと、本願発明１の「前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に、測定された前記複数の投影装置（１０）の空間配向のそれぞれに対して所定の重み付けすることで得られた出力を加算した結果に基づいて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように、前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御するようにさらに構成され」ることとは、「前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果を用いて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように、前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御するようにさらに構成され」る点で一致する。  
 　  
 キ　引用発明の「反射性光学素子の位置および配向のいずれか一方または両方を動的に制御するための位置決め手段（２０）」が、本願発明１の「複数の投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記複数の投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置された別の位置決め装置（１２）」に相当する。 
　また、引用発明の「制御器（５０）」は、「投影システム（ＰＬ）を含むリソグラフィ投影装置」の１つの「処理ユニット」であるといえるから、引用発明の「制御器（５０）」と、本願発明１の「少なくとも１つの処理ユニット（４０）」は、「投影システム」の１つの「処理ユニット」（以下、「投影システム内処理ユニット」という。）である点で一致する。
 　よって、引用発明の「前記位置決め手段（２０）が、駆動制御信号に応じて前記反射性光学素子の位置および配向のいずれか一方または両方を変えるように配置構成された駆動手段（３０）；および前記反射性光学素子の位置および配向のいずれか一方または両方の測定した前記変化を補正するように、前記駆動制御信号を発生するために前記位置信号に反応する制御器（５０）を含」むことと、本願発明１の「前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記複数の投影装置（１０）の測定された空間配向に基いて前記複数の投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置された別の位置決め装置（１２）と連絡するようにさらに構成され、前記処理ユニット（４０）が、前記複数の投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記複数の投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置され」ることとは、「投影システム内処理ユニットが、前記複数の投影装置（１０）の測定された空間配向に基いて前記複数の投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置された別の位置決め装置（１２）と連絡するようにさらに構成され、投影システム内処理ユニットが、前記複数の投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記複数の投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置され」る点で一致する。 
　
（２）一致点 
　すると、本願発明１と引用発明は、  
「第１物体（ＭＡ）から来る投影ビーム（ＰＢ）を受け取り、かつその投影ビームを第２物体（Ｗ）に投影するように構成された複数の投影装置と、
　前記複数の投影装置の空間配向をそれぞれ測定するための複数のセンサと、
　前記第１物体（ＭＡ）及び前記第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を測定するための少なくとも１つの別のセンサと、
　前記複数のセンサ及び前記少なくとも１つの別のセンサと連絡するように構成されている少なくとも１つの処理ユニットと、
　前記少なくとも１つの処理ユニットと連絡するように構成され、かつ前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように構成された位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）と
を備える投影システム（ＰＬ）において、
　前記少なくとも１つの処理ユニットが、前記少なくとも１つの別のセンサの測定結果を用いて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように、前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御するようにさらに構成され、
　投影システム内処理ユニットが、前記複数の投影装置の測定された空間配向に基づいて前記複数の投影装置の空間配向を調整するように配置された別の位置決め装置と連絡するようにさらに構成され、
　投影システム内処理ユニットが、前記複数の投影装置の測定された空間配向に基づいて前記複数の投影装置の空間配向を調整するように配置される投影システム。」の発明である点で一致し、以下の各点で相違する。  
 　  
（３）相違点
ア　相違点１
　本願発明１においては、「（複数の投影装置の空間配向を調整する）投影システム内処理ユニット」が「（位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御する）少なくとも１つの処理ユニット」と同じものである、すなわち、「複数の投影装置の空間配向を調整する投影システム内処理ユニット」と「位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御する処理ユニット」が１つの処理ユニットで構成されているのに対して、引用発明においてはその点が明確でない点。
　
イ　相違点２
　位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御して第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するにあたり、本願発明１においては、「少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に、測定された前記複数の投影装置（１０）の空間配向のそれぞれに対して所定の重み付けすることで得られた出力を加算した結果に基づいて」調整するとともに、「複数の投影装置（１０）の空間配向が調整された後の残差誤差に基づいて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整する」のに対して、引用発明においてはその点の限定がない点。
　
（４）各相違点についての検討 
 　上各記相違点について検討する。 
　
ア　相違点１について
　一般に、装置が、複数の箇所の位置決めなどに対応した複数の処理ユニット（制御部）を有するときに、ＣＰＵを効率的に使用することなどを目的として、複数の処理ユニットをまとめて１つの処理ユニットとすることは、種々の技術分野において用いられている周知の技術である。
　引用発明においても、上記の周知技術を適用して、「複数の投影装置の空間配向を調整する投影システム内処理ユニット」と「位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御する処理ユニット」を１つの処理ユニットで構成することとして、上記相違点１に係る本願発明１の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得たことである。
　
イ　相違点２について
　相違点２は、第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するに際して、「少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に、測定された前記複数の投影装置（１０）の空間配向のそれぞれに対して所定の重み付けすることで得られた出力を加算した結果に基づいて」調整することと、「複数の投影装置（１０）の空間配向が調整された後の残差誤差に基づいて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整する」ことを特定するものであるが、両者（の関係）について、本願の発明の詳細な説明には次のように記載されている。
　
「【００４１】
　しかし、外乱が大きすぎれば、及び／又は位置帯域幅が十分に高くなければ、光学要素１０の残差位置誤差が、適切に結像するには大きすぎる恐れがある。位置決め装置ＰＭ（マスク・テーブル）及び／又はＰＷ（ウェーハ・テーブル）の一方に光学要素１０の残差誤差を供給することによって、ウェーハＷ上に投影されるマスクＭＡの結像の質を高めることが可能である。本明細書ではこのような方法を光学要素からの誤差フィードスルーと呼ぶ。
【００４２】
　この方法を実施するためには、ウェーハＷ上の結像に対する、各光学要素１０のそれぞれに関する位置誤差の寄与率を知らねばならない。このような情報、すなわち、位置誤差の関数である結像誤差のいわゆる感度は、較正工程によって事前に入手することができる。光学システムが、６ＤＯＦで制御される５つの能動型ミラーを有する場合は、処理装置４０に格納された３０の個別入力と６つの出力を有する感度マトリックスが得られる。入力は光学要素１０の個別の位置誤差である。出力はウェーハ・テーブルＷＴの位置及び／又はマスク・テーブルＭＴの位置に関する補正である。その場合に感度マトリックスは、ウェーハＷ上の結像誤差に対する位置誤差の感度を形成する、５×６×６＝１８０の利得を含む。３０の入力と６つの出力は、入力／出力データを濾過する場合もあるが、濾過しない場合もある。次いで重み付けされかつ濾過された出力は、ウェーハ・テーブルＷＴ及び／又はマスク・テーブルＭＴの位置センサ信号に加算される。」
　
　上記【００４１】及び【００４２】段落には、「位置決め装置ＰＭ（マスク・テーブル）及び／又はＰＷ（ウェーハ・テーブル）の一方に光学要素１０の残差誤差を供給する」方法を実施するための手法として、「光学要素１０の個別の位置誤差」に対して重み付けされかつ濾過された出力を「ウェーハ・テーブルＷＴ及び／又はマスク・テーブルＭＴの位置センサ信号に加算」することが記載されているといえるから、本願発明１における上記の「少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に、測定された前記複数の投影装置（１０）の空間配向のそれぞれに対して所定の重み付けすることで得られた出力を加算した結果に基づいて」調整することと、「複数の投影装置（１０）の空間配向が調整された後の残差誤差に基づいて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整する」ことは、別の調整を行うものと解することはできず、両者は同じことを異なる表現で（重ねて）特定したものであるといえる。
　すなわち、上記の【００４１】及び【００４２】段落の記載を参酌すれば、上記相違点２に係る本願発明１の発明特定事項は、より具体化して特定した「少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に、測定された前記複数の投影装置（１０）の空間配向のそれぞれに対して所定の重み付けすることで得られた出力を加算した結果に基づいて調整する」ことに集約されるといえる。
　そして、これは、「少なくとも１つの別のセンサの測定結果を用いて」なされる「前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置」の「制御」において、「投影装置の空間配向」の影響を補償するため、「少なくとも１つの別のセンサの測定結果」に「投影装置の空間配向のそれぞれに対して所定の重み付けすることで得られた出力」をフィードバックしたものであるといえる。
　
　これに対して、引用発明においては、「反射性光学素子（１０）の位置および／または回転偏差によって起る位置誤差は、マスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）の位置決めでそれらを補償する」ことが特定されており、これは、技術常識から、「マスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）の位置決め」のために「マスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）」の「位置センサ」が当然に備えられ、「マスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）の位置センサ」の「測定結果」に「反射性光学素子（１０）の位置および／または回転偏差によって起る位置誤差」がフィードバックされる（加算される）ことを意味しているといえるから、引用発明の上記特定事項と、本願発明１の「少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に、測定された前記複数の投影装置（１０）の空間配向のそれぞれに対して所定の重み付けすることで得られた出力を加算した結果に基づいて調整する」こととは、「少なくとも１つの別のセンサの測定結果に、測定された前記複数の投影装置の空間配向」の影響が「加算された」結果に基づいて調整する点で共通しており、本願発明１と引用発明との上記相違点２は、次の点にさらに集約される。
・集約された相違点２；
　フィードバックされる「複数の投影装置の空間配向の影響」が、本願発明１が、「投影装置（１０）の空間配向のそれぞれに対して所定の重み付けすることで得られた出力」であるのに対して、引用発明はその点の限定がない点。
　
　上記の、集約された相違点２に関し、引用例２には、収差制御部材としての縮小投影レンズ内のレンズの駆動量に対する像シフトの変化量を予め求めておき、縮小投影レンズ内のレンズ駆動量をＸＹステージ上のウエハの位置の補正にフィードバックすることが記載されている（【００８２】【００９２】【００９３】段落参照。）。すなわち、引用例２には、ＸＹステージ上のウエハの位置にフィードバックされる「複数の投影装置の空間配向の影響」が、予め求められたレンズの駆動量に対する像シフトの変化量の関係で重み付けされて得られた出力であることが示唆されているといえる。
　よって、引用発明に，上記引用例２に記載（示唆）された技術的事項を適用し、上記の集約された相違点２に係る本願発明１の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得たことである。
　
　そして、本願発明１によってもたらされる効果は、引用発明、引用例２に記載された技術的事項及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　したがって、本願発明１は、引用発明、引用例２に記載された技術的事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明することができたものである。 
　
（５）むすび 
 　以上のとおり、本願発明１は、引用発明、引用例２に記載された技術的事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。 
 　 
４　本願発明２についての当審の判断
（１）本願発明２と引用発明との対比 
ア　引用発明の「マスク（ＭＡ）」、「基板（Ｗ）」、「放射線の投影ビーム（ＰＢ）」及び「反射性光学素子（１０）」が、それぞれ、本願発明２の「第１物体（ＭＡ）」、「第２物体（Ｗ）」、「投影ビーム（ＰＢ）」及び「投影装置（１０）」に相当するから、引用発明の「放射線の投影ビーム（ＰＢ）を供給するように配置構成された照明システム（ＩＬ）；マスク（ＭＡ）を保持するように配置構成された第１物体テーブル（ＭＴ）；基板（Ｗ）を保持するように配置構成された第２物体テーブル（ＷＴ）；および前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分（Ｃ）上に結像するように配置構成された投影システム（ＰＬ）を含むリソグラフィ投影装置」であって「反射性光学素子（１０）」を含む「投影システム（ＰＬ）を含むリソグラフィ投影装置」が、本願発明２の「第１物体（ＭＡ）から来る投影ビーム（ＰＢ）を受け取り、かつその投影ビームを第２物体（Ｗ）に投影するように構成された少なくとも１つの投影装置（１０）」を備えた「投影システム（ＰＬ）」に相当する。  
 　  
 イ　引用発明の「上記反射性光学素子（１０）の位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定」する「検知手段（４０）」が、本願発明２の「少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向をそれぞれ測定するための少なくとも１つのセンサ（１１）」に相当する。  
 　  
 ウ　引用発明の「基板（Ｗ）」及び「マスク（ＭＡ）」を「正確に配置する」ための「干渉計変位測定手段（ＩＦ）」が、本願発明２の「前記第１物体（ＭＡ）及び前記第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を測定するための少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）」に相当する。 
 　 
 エ　引用発明の「干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いてウエハ（Ｗ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第２位置決め手段（ＰＷ）及び干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いてマスク（ＭＡ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第１位置決め手段（ＰＭ）を制御する制御手段を備え、上記反射性光学素子（１０）の位置および／または回転偏差によって起る位置誤差は、マスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）の位置決めでそれらを補償する」の特定事項から、引用発明の上記制御手段は「反射性光学素子（１０）の１つ以上の位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定」する「検知手段（４０）」（少なくとも１つのセンサユニット）及び「干渉計変位測定手段（ＩＦ）」（少なくとも１つの別のセンサ）と連絡するように構成されていることは明らかである。 
 　すなわち、引用発明の上記「制御手段」が、本願発明２の「少なくとも１つのセンサ（１１）及び前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）と連絡するように構成されている少なくとも１つの処理ユニット（４０）」に相当する。 
 　  
 オ　引用発明の「制御手段」によって制御される「干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いて基板（Ｗ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第２位置決め手段（ＰＷ）及び干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いてマスク（ＭＡ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第１位置決め手段（ＰＭ）」が、本願発明２の「少なくとも１つの処理ユニット（４０）と連絡するように構成され、かつ前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように構成された位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）」に相当する。 
 　 
 カ　引用発明の「制御手段」が「干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いて基板（Ｗ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第２位置決め手段（ＰＷ）及び干渉計変位測定手段（ＩＦ）の測定結果に基いてマスク（ＭＡ）を投影ビーム（ＰＢ）の経路に正確に配置する第１位置決め手段（ＰＭ）を制御する」ことと、本願発明２の「前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つのセンサ（１１）及び前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に基づいて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように、前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御するようにさらに構成され」ることとは、「前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果を用いて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように、前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御するようにさらに構成され」る点で一致する。  
 　  
 キ　引用発明の「反射性光学素子の位置および配向のいずれか一方または両方を動的に制御するための位置決め手段（２０）」が、本願発明２の「少なくとも１つの投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置された別の位置決め装置（１２）」に相当する。 
　また、引用発明の「制御器（５０）」は、「投影システム（ＰＬ）を含むリソグラフィ投影装置」の１つの「処理ユニット」であるといえるから、引用発明の「制御器（５０）」と、本願発明２の「少なくとも１つの処理ユニット（４０）」は、「投影システム」の１つの「処理ユニット」（以下、「投影システム内処理ユニット」という。）である点で一致する。
 　よって、引用発明の「前記位置決め手段（２０）が、駆動制御信号に応じて前記反射性光学素子の位置および配向のいずれか一方または両方を変えるように配置構成された駆動手段（３０）；および前記反射性光学素子の位置および配向のいずれか一方または両方の測定した前記変化を補正するように、前記駆動制御信号を発生するために前記位置信号に反応する制御器（５０）を含」むことと、本願発明２の「前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つの投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置された別の位置決め装置（１２）と連絡するようにさらに構成され」ることとは、「投影システム内処理ユニットが、前記少なくとも１つの投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置された別の位置決め装置（１２）と連絡するようにさらに構成され」る点で一致する。 
　
（２）一致点 
　すると、本願発明２と引用発明は、  
「第１物体（ＭＡ）から来る投影ビーム（ＰＢ）を受け取り、かつその投影ビームを第２物体（Ｗ）に投影するように構成された少なくとも１つの投影装置と、
　前記少なくとも１つの投影装置の空間配向を測定するための少なくとも１つのセンサと、
　前記第１物体（ＭＡ）及び前記第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を測定するための少なくとも１つの別のセンサと、
　前記少なくとも１つのセンサ及び前記少なくとも１つの別のセンサと連絡するように構成されている少なくとも１つの処理ユニットと、
　前記少なくとも１つの処理ユニットと連絡するように構成され、かつ前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように構成された位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）と
を備える投影システム（ＰＬ）において、
　前記少なくとも１つの処理ユニットが、前記少なくとも１つの別のセンサの測定結果を用いて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように、前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御するようにさらに構成され
　投影システム内処理ユニットが、前記少なくとも１つの投影装置の測定された空間配向に基づいて前記少なくとも１つの投影装置の空間配向を調整するように配置された別の位置決め装置と連絡するようにさらに構成される投影システム。」の発明である点で一致し、以下の各点で相違する。  
 　  
（３）相違点
ア　相違点１
　本願発明２においては、「（少なくとも１つの投影装置の空間配向を調整する）投影システム内処理ユニット」が「（位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御する）少なくとも１つの処理ユニット」と同じものである、すなわち、「少なくとも１つ投影装置の空間配向を調整する投影システム内処理ユニット」と「位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御する処理ユニット」が１つの処理ユニットで構成されているのに対して、引用発明においてはその点が明確でない点。
　
イ　相違点２
　本願発明２が、「処理ユニット（４０）が、少なくとも１つの投影装置（１０）の測定誤差を表す時間信号を振動数成分に変換し、前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整することによって所定の振動数範囲を補償し、第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整することによって他の振動数範囲を補償する」のに対して、引用発明においてはその点についての限定がない点。
　
ウ　相違点３
　第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置の調整において、本願発明２が、「少なくとも１つのセンサ（１１）及び少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に基づいて」調整されるのに対して、引用発明においてはその点についての限定がない点。
　
（４）各相違点についての検討 
 　上各記相違点について検討する。 
　
ア　相違点１について
　一般に、装置が、複数の箇所の位置決めなどに対応した複数の処理ユニット（制御部）を有するときに、ＣＰＵを効率的に使用することなどを目的として、複数の処理ユニットをまとめて１つの処理ユニットとすることは、種々の技術分野において用いられている周知の技術である。
　引用発明においても、上記の周知技術を適用して、「少なくとも１つの投影装置の空間配向を調整する投影システム内処理ユニット」と「位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御する処理ユニット」を１つの処理ユニットで構成することとして、上記相違点１に係る本願発明２の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得たことである。
　
イ　相違点２について
　引用例１の【００３９】段落には、「第１実施例、第２実施例および上記代替実施例の場合のような、反射素子の位置および回転偏差の継続的フィードバックは、高、中および低周波領域での位置および／または回転変化を補正する可能性を提供する。例えば、ミラーマウントの機械的クリープによって起る場合のような、低周波領域での偏差および補正にしか関心がない場合は、基板テーブルに取付けた２次元検出器を使い、結像工程中の選択した時点でレーザビームの位置をチェックすることが選択肢である。」と記載されており、低周波領域での補正は、テーブルの位置調整によって行い、他の高、中周波領域での補正と分けて行うことが示唆されているといえる。 
　すなわち、引用例１には、ある部分の調整によって所定の振動数範囲を補償し、テーブルの位置調整によって他の振動数範囲の補償することが示唆されており、上記の「ある部分の調整」として「少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向の調整」を選択することは当業者が容易になし得る事項であるから、「少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整することによって所定の振動数範囲を補償し、第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整することによって他の振動数範囲を補償する」として、上記相違点２に係る本願発明２の発明特定事項を得ることは、当業者にとって容易に想到し得ることである。 
 　 
ウ　相違点３について
　引用発明は、「反射性光学素子（１０）の位置および／または回転偏差によって起る位置誤差は、マスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）の位置決めでそれらを補償する」ものであり、これは、反射性光学素子（１０）の位置および／または回転偏差のフィードバックによる制御で取り除けなかった位置誤差をマスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）の位置決めでそれらを補償することである。
　したがって、引用発明も、反射性光学素子（１０）の位置および／または回転を検出する検出器の出力（測定結果）によって制御（位置決め）するとともに、マスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）の位置検出器の出力（測定結果）で補償（位置決め）するものであるから、「反射性光学素子（１０）の位置および／または回転を検出する検出器（本願発明２の「少なくとも１つのセンサ（１１）」に相当）」及び「マスクおよび／または基板テーブル（ＭＴ／ＷＴ）の位置検出器（本願発明２の「少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）」に相当）」の測定結果に基づいて位置決めするものであるといえる。したがって、上記相違点３は実質的な相違点ではない。
　
　そして、本願発明２によってもたらされる効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。  
 　  
　したがって、本願発明２は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明することができたものである。  
 　  
 （５）むすび  
 　以上より、本願の請求項２に係る発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。  
 　  
第４　特許法第３６条第６項第１号（請求項の記載要件）の違反について
１　当審が通知した拒絶の理由
（１）平成２２年７月２７日付けの拒絶理由において、当審は、特許法第３６条第６項第１号の違反について次の拒絶理由を通知した。
　
「本願の請求項１の「前記処理ユニット（４０）が、第１の振動数範囲内にある前記少なくとも１つの投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整し、かつ第２振動数範囲内にある前記少なくとも１つの投影装置（１０）の測定された空間配向に基づいて前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整するように配置されている」（この特定事項を、以下、「振動範囲による補正の特定事項」という。）について、 
（１）本願明細書の発明の詳細な説明において、【００１１】段落に「投影システムは、１０と１００Ｈｚの間の懸架振動数を有する、中間軟式取付け装置を使用して（典型的には３０Ｈｚの取付け装置を使用する）固定世界に、例えば、メトロフレームに装着されている。これは、投影ビームを安定させ、かつメトロフレームの環境から生じる振動及び外乱、ならびに隣接システムからの外乱から投影ビームを切り離すために行われる。このように取り付けた結果として３０Ｈｚを超える望ましくない高い振動数の外乱をほとんど完全に取り除く。しかし、約３０Ｈｚの振動数を有する外乱は、この取付け装置によって防止できず、増幅する場合すらある。」と記載され、また、【００１２】段落に「本発明の１つの目的は、振動及び外乱に対する感度がより低い投影システムを提供することである。」と記載されている。 
 　上記記載によれば、従来技術の問題点は、「約３０Ｈｚの振動数を有する外乱は、この取付け装置によって防止できない」ことにあり、これを解決するために「振動及び外乱に対する感度がより低い投影システムを提供する」ことが本願発明の技術課題であるといえる。 
 　すなわち、本願発明が着目する外乱による振動数は「３０Ｈｚ」という１つの振動数範囲である。このことと、上記請求項１の振動範囲による補正の特定事項において「第１の振動数範囲内」「第２振動数範囲内」に分けて調整することがどのような関係にあるのか、発明の詳細な説明の記載を参酌しても不明であり、上記請求項１の振動範囲による補正の特定事項が技術的にどのような意味を持つのかについて理解できない。すなわち、請求項の記載は明確でないとともに、発明の詳細な説明の記載によってサポートされているということもできない。 
（２）本願の請求項１に係る発明は、「前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）が、前記別の位置決め装置（１２）によって前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向が調整された後の残差誤差に基づいて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するようにさらに構成されて」いるものである（この特定事項を、以下、「残差誤差による補正の特定事項」という。）ところ、そのことと、上記の請求項１における振動範囲による補正の特定事項との関係が不明である。 
 　すなわち、残差誤差による補正の特定事項においては、振動数範囲に関係なく「別の位置決め装置（１２）によって前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向が調整」され、そして、残差誤差についても振動範囲とは無関係と認められる。 
 　そうすると、請求項１に係る発明においては、振動範囲に無関係の補正（残差誤差による補正）と、振動範囲によって分けられた補正（振動範囲による補正）が同時に行われていることになるが、これが、具体的にどのように行われているかについては、発明の詳細な説明の記載を参酌しても不明であり、すなわち、請求項の記載が明確でないとともに、発明の詳細な説明の記載によってサポートされているということもできず、また、そのため、実際に上記２つの補正を同時に行うことが可能であるのかも不明であり、発明を技術的観点から理解することができない。」
　
２　請求人の主張
　これに対して、請求人は、平成２２年１０月２７日付けの手続補正により特許請求の範囲を補正するとともに（請求項１，２につき上記「第２　本願発明」参照。）、同日付けの意見書において次の主張をしている。
「（２）理由（２）（特許法第３６条第６項第１号及び第２号、並びに同条第４項第１号に基づく拒絶理由）について
ア．　審判官殿は、拒絶理由（２）（１）として、旧請求項１に記載は、明確でないとともに、発明の詳細な説明の記載によってサポートされているということもできない、と認定されています。
　これに対して出願人は、上記手続補正書によって、当該拒絶理由の原因となった記載について新請求項１からは削除する補正を行いました。
　これによって、当該拒絶理由（２）（１）は解消されたものと思量致します。
　なお、新請求項２に係る発明は、旧請求項１に係る発明が備えていた振動数範囲に関連する特徴を備えていますが、新請求項２に記載の当該特徴は、出願当初明細書の段落［００５２］等の記載に沿ったものであるため、明確であってかつ発明の詳細な説明の記載によってサポートされているものと思量致します。
イ．　審判官殿は、拒絶理由（２）（２）として、旧請求項１における、残差誤差に関する特徴部分と、振動数範囲に関する特徴部分とが無関係なものであり、旧請求項１に係る発明を技術的観点から理解することができないと認定されています。
　これに対して出願人は、上記手続補正書によって、残差誤差に関する特徴部分のみを新請求項１に残し、振動数範囲に関する特徴部分を備える新請求項２を新設するよう、特許請求の範囲を補正致しました。
　これによって、新請求項１及び２に係る発明は、それぞれ技術的観点から明確に理解可能な発明となっていると思量致します。
ウ．　以上の理由から、本願に対する拒絶理由（２）は解消されたものと思量致します。」
　
３　当審の判断
（１）請求人が述べているとおり、「振動範囲による補正の特定事項」に関連する事項は、平成２２年１０月２７日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項２に係る発明が受け継いでいるものといえる。
　そして、請求項２に係る発明における本願明細書の発明の詳細な説明の「振動範囲による補正の特定事項」に関連する事項、具体的には、
「前記処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つの投影装置（１０）の測定誤差を表す時間信号を振動数成分に変換し、前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整することによって所定の振動数範囲を補償し、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整することによって他の振動数範囲を補償する」
という事項について、発明の詳細な説明には、【００５２】段落に、
「測定誤差を表す時間信号を構成し、このような時間信号をその振動数成分に変換することも可能である。投影装置１０の空間配向を調整することによって幾つかの振動数範囲を補償し、ウェーハ・テーブルＷＴ及び／又はマスク・テーブルＭＴの位置を調整することによって他の振動数範囲を補償することができる。」
と説明されているだけである。
　そうすると、上記の当審が通知した拒絶理由で指摘した、本願発明が着目する外乱による振動数は「３０Ｈｚ」という１つの振動数範囲であるという本願発明の技術課題と、請求項２に係る発明において、補償する振動数の範囲を「少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整する」ことと「第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整する」ことに分けることがどのような関係にあるのか、発明の詳細な説明の記載を参酌しても不明であり、上記請求項２の上記の特定事項が技術的にどのような意味を持つのかについて理解できない。すなわち、請求項の記載は明確でないとともに、発明の詳細な説明の記載によってサポートされているということもできないから、上記の（１）の拒絶理由は解消されていない。 
　
（２）また、請求項２に係る発明は、上記の
「前記処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つの投影装置（１０）の測定誤差を表す時間信号を振動数成分に変換し、前記少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整することによって所定の振動数範囲を補償し、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整することによって他の振動数範囲を補償する」という特定事項とともに、
「前記少なくとも１つの処理ユニット（４０）が、前記少なくとも１つのセンサ（１１）及び前記少なくとも１つの別のセンサ（４７，４８）の測定結果に基づいて、前記第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整するように、前記位置決め装置（ＰＷ、ＰＭ）を制御するようにさらに構成され」るという特定事項も備えたものである。
　そうすると、「第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置」の「調整」は、「投影装置（１０）」におけるセンサである「少なくとも１つのセンサ（１１）」の測定結果の影響を受けていることになる。
　したがって、請求項２に係る発明において、補償する振動数の範囲を「少なくとも１つの投影装置（１０）の空間配向を調整する」ことと「第１物体（ＭＡ）及び第２物体（Ｗ）の少なくとも一方の位置を調整する」ことに分けていることになり、両者には、「少なくとも１つのセンサ（１１）」の測定結果が反映されていることになるが、これが具体的にどのように行われているかについて、発明の詳細な説明を参酌しても不明である。
　すなわち、請求項２に係る発明は、発明全体との関係において、振動範囲によって分けられた点の特定事項が技術的にどのような位置づけにあるのかについても、また、それが、具体的にどのように行われているのかについても、発明の詳細な説明を参酌しても不明であり、請求項２に係る発明が発明の詳細な説明の記載によってサポートされているということもできないから、上記の（２）の拒絶理由は解消されていない。
　
　したがって、本願発明２は、発明の詳細な説明に記載されたものではなく、本願は、特許法第３６条第６項第１号に違反するから、拒絶すべきものである。
　
　
第５　むすび
　以上より、本願の請求項１に係る発明は、引用例１に記載された発明、引用例２に記載された技術的事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　また、本願の請求項２に係る発明は、引用例１に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　さらに、本願の請求項２に係る発明は、発明の詳細な説明に記載されたものではないから、本願は、特許法第３６条第６項第１号に違反し、拒絶すべきものである。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。