【手続補正書】
【提出日】平成22年11月11日(2010.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１１より多い元素を含む非晶質金属製の複合材料を含むことを特徴とする皮膜。
【請求項２】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、１２以上の合金元素および２０以下の合金元素を含有する鉄あるいはニッケル系非晶質金属を含むことを特徴とする請求項１に記載の皮膜。
【請求項３】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｂ、Ｃ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｏ、およびＮからなる群から選択される２０以下の合金元素を含有する鉄あるいはニッケル系非晶質金属を含むことを特徴とする請求項１に記載の皮膜。
【請求項４】
前記非晶質金属は基材を有する合金を含み、Ｆｅ、Ｃｏ、ＮｉおよびＭｎが前記合金の前記基材として使われることを特徴とする請求項１に記載の皮膜。
【請求項５】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、ガラス形成を促進するために加えられるＢ、ＰおよびＣを含むことを特徴とする請求項１に記載の皮膜。
【請求項６】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、耐食性を向上させるためにＣｒ、Ｍｏ、ＷおよびＳｉを含むことを特徴とする請求項１に記載の皮膜。
【請求項７】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、酸性環境において耐食性をさらに向上させるためにＴａおよびＮｂを含むことを特徴とする請求項１に記載の皮膜。
【請求項８】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、比較的低重量を維持しつつ強化のためにＡｌ、ＴｉおよびＺｒを含むことを特徴とする請求項１に記載の皮膜。
【請求項９】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、当該非晶質金属の冷却速度を下げるためにＹを含むことを特徴とする請求項１に記載の皮膜。
【請求項１０】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、中性子の吸収のためにＢおよびＧｄを含むことを特徴とする請求項１に記載の皮膜。
【請求項１１】
１１より多い元素を含む非晶質金属源を提供するステップと、１１より多い元素を含む前記非晶質金属を表面にスプレーで塗布するステップとを含むことを特徴とする表面被膜方法。
【請求項１２】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、１２以上の合金元素および２０以下の合金元素を含有する鉄あるいはニッケル系非晶質金属を含むことを特徴とする請求項１１に記載の表面被膜方法。
【請求項１３】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｂ、Ｃ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｏ、およびＮからなる群から選択される２０以下の合金元素を含有する鉄あるいはニッケル系非晶質金属を含むことを特徴とする請求項１１に記載の表面被膜方法。
【請求項１４】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属を表面にスプレーで塗布するステップは、１１より多い元素を含む前記非晶質金属を堆積によって表面に塗布させるステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の表面被膜方法。
【請求項１５】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属を表面にスプレーで塗布するステップは、１１より多い元素を含む前記非晶質金属を電気化学析出によって表面に塗布させるステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の表面被膜方法。
【請求項１６】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属を表面にスプレーで塗布するステップは、１１より多い元素を含む前記非晶質金属をスパッタ堆積によって表面に塗布させるステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の表面被膜方法。
【請求項１７】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属を表面にスプレーで塗布するステップは、１１より多い元素を含む前記非晶質金属を溶射堆積によって表面に塗布させるステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の表面被膜方法。
【請求項１８】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属を表面にスプレーで塗布するステップは、１１より多い元素を含む前記非晶質金属をコールドスプレー堆積によって表面に塗布させるステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の表面被膜方法。
【請求項１９】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属を表面にスプレーで塗布するステップは、電気化学析出、スパッタ堆積、蒸発、融解紡糸、アーク溶解およびドロップキャスティング、ガス噴霧法、元素の低温共粉砕（ｃｒｙｏｇｅｎｉｃ  ｃｏ−ｍｉｌｌｉｎｇ  ｏｆ  ｅｌｅｍｅｎｔｓ）、溶射堆積、コールドスプレー堆積、誘導加熱コールドスプレー・ジェット（Ｉｎｄｕｃｔｉｏｎ−ｈｅａｔｅｄ  Ｃｏｌｄ−ｓｐｒａｙ  Ｊｅｔｓ）を含むことを特徴とする請求項１１に記載の表面被膜方法。
【請求項２０】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、中性子吸収体となるホウ素を含むことを特徴とする請求項１１に記載の表面被膜方法。
【請求項２１】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属は、カーバイドを含むことを特徴とする請求項１１に記載の表面被膜方法。
【請求項２２】
堆積室と、第１の堆積スプレーを生成する、１１より多い元素を含む非晶質金属製の複合材料を含む第１の堆積源、および第２の堆積スプレーを生成する、１１より多い元素を含む非晶質金属製の複合材料を含む第２の堆積源を含む、前記堆積室内の堆積源と、構造物に前記第１の堆積スプレーを向け、前記構造物に前記第２の堆積スプレーを向ける系と、を含むことを特徴とする、構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。
【請求項２３】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属製の複合材料を含む前記第１の堆積源は、１２以上の合金元素および２０以下の合金元素を含有する鉄あるいはニッケル系非晶質金属を含むことを特徴とする、請求項２２に記載の構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。
【請求項２４】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属製の複合材料を含む前記第１の堆積源は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｂ、Ｃ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｏ、およびＮからなる群から選択される２０以下の合金元素を含有する鉄あるいはニッケル系非晶質金属を含むことを特徴とする、請求項２２に記載の構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。
【請求項２５】
前記非晶質金属製の複合材料を含む前記第２の堆積源は、基材を有する合金を含み、Ｆｅ、Ｃｏ、ＮｉおよびＭｎが前記合金の前記基材として使われることを特徴とする、請求項２２に記載の構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。
【請求項２６】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属製の複合材料を含む前記第２の堆積源は、ガラス形成を促進するために加えられるＢ、ＰおよびＣを含むことを特徴とする、請求項２２に記載の構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。
【請求項２７】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属製の複合材料を含む前記第２の堆積源は、耐食性を向上させるためにＣｒ、Ｍｏ、ＷおよびＳｉを含むことを特徴とする、請求項２２に記載の構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。
【請求項２８】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属製の複合材料を含む前記第２の堆積源は、酸性環境において耐食性をさらに向上させるためにＴａおよびＮｂを含むことを特徴とする、請求項２２に記載の構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。
【請求項２９】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属製の複合材料を含む前記第２の堆積源は、比較的低重量を維持しつつ強化のためにＡｌ、ＴｉおよびＺｒを含むことを特徴とする、請求項２２に記載の構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。
【請求項３０】
１１より多い元素を含む前記非晶質金属製の複合材料を含む前記第２の堆積源は、中性子の吸収のためにＢおよびＧｄを含むことを特徴とする、請求項２２に記載の構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。