【手続補正書】
【提出日】平成22年12月28日(2010.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
本出願では、以下の態様が提供される。
１．  可撓性ポリマー支持体上に伝導性フィルムを形成する方法であって、ａ）前記可撓性ポリマー支持体上に酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化スズ、又は混合した酸化物若しくはドープした酸化物を含むこれらの混合物を含有するシード層を形成する工程と、ｂ）前記シード層上に延伸性で可視光線透過性金属層を付着させる工程と、を含む、方法。
２．  前記支持体と前記シード層との間に有機支持体コーティングを形成する工程を更に含む、態様１に記載の方法。
３．  前記シード層が酸化亜鉛を含有する、態様１に記載の方法。
４．  前記シード層が酸化亜鉛：アルミナ、酸化インジウム：酸化亜鉛、酸化インジウム：酸化スズ、酸化インジウム：酸化スズ：酸化亜鉛、インジウム：亜鉛、インジウム：スズ、酸化インジウムガリウム亜鉛、Ｚｎ（１−ｘ）ＭｇｘＯ：Ａｌ又はＭｇＩｎ２Ｏ（４−ｘ）を含有するスパッタリングターゲットを用いて形成される、態様１に記載の方法。
５．  前記金属層が銀を含有する、態様１に記載の方法。
６．  ｃ）前記金属層上に酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化スズ、又は混合した酸化物若しくはドープした酸化物を含むこれらの混合物を含有する第２のシード層を形成する工程と、ｄ）前記第２のシード層上に第２の延伸性で可視光線透過性金属層を付着させる工程と、を更に含む、態様１に記載の方法。
７．  前記金属層の間に高分子スペーシング層を形成して、赤外線排除性ファブリ・ペロー積み重ね体を提供する工程を更に含む、態様６に記載の方法。
８．  前記シード層の物理的厚さが０超過かつ約５ｎｍ未満であり、前記金属層の物理的厚さが約５〜約５０ｎｍである、態様１に記載の方法。
９．  前記フィルムが少なくとも約７０％の可視光線透過率を有し、約２０オーム／スクエア未満のシート抵抗率を有する、態様１に記載の方法。
１０．  可撓性ポリマー支持体と、前記支持体の上に酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化スズ、又は混合した酸化物若しくはドープした酸化物を含むこれらの混合物を含有するシード層と、前記シード層の上に延伸性で可視光線透過性金属層と、を備える伝導性フィルム。
１１．  前記支持体と前記シード層との間に有機支持体コーティングを更に備える、態様１０に記載のフィルム。
１２．  前記シード層が酸化亜鉛を含有する、態様１０に記載のフィルム。
１３．  前記酸化亜鉛がアルミニウム又は酸化アルミニウムでドープされている、態様１２に記載のフィルム。
１４．  前記シード層が酸化インジウム：酸化亜鉛、酸化インジウム：酸化スズ、酸化インジウムガリウム亜鉛、Ｚｎ（１−ｘ）ＭｇｘＯ：Ａｌ又はＭｇＩｎ２Ｏ（４−ｘ）を含有する、態様１０に記載のフィルム。
１５．  前記金属層の上に第２のシード層、前記第２のシード層の上に第２の金属層を更に備える、態様１０に記載のフィルム。
１６．  前記金属層が、高分子スペーシング層により分離され、赤外線排除性ファブリ・ペロー積み重ね体を提供する、態様１５に記載のフィルム。
１７．  前記第２の金属層の上に第３、第４、第５、又は第６のシード層と、第３、第４、第５、又は第６の金属層とを更に備え、前記金属層が高分子スペーシング層により分離され、赤外線排除性ファブリ・ペロー積み重ね体を提供する、態様１５に記載のフィルム。
１８．  前記シード層の物理的厚さが０超過かつ約５ｎｍ未満であり、前記金属層の物理的厚さが約５〜約５０ｎｍである、態様１０に記載のフィルム。
１９．  前記フィルムが少なくとも約７０％の可視光線透過率を有し、約２０オーム／スクエア未満のシート抵抗率を有する、態様１０に記載のフィルム。
２０．  前記フィルムが約７．５〜約１５オーム／スクエアのシート抵抗率を有する、態様１０に記載のフィルム。
２１．  態様１０に記載の前記フィルムを備える電子デバイス。
２２．  グレージング物品の製造方法であって、ａ）グレージング材料の層と、可撓性ポリマー支持体、及び前記支持体の上に酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、又はこれらの混合物を含有するシード層と、前記シード層の上に延伸性で可視光線透過性金属層を備えるフィルムと、を組み立てる工程と、ｂ）前記グレージング材料及びフィルムを共に接着して一体型物品にする工程と、を含む、グレージング物品の製造方法。
２３．  前記グレージング材料がガラスを含有し、前記グレージング物品が前記フィルムと前記ガラスとの間にエネルギー吸収層を更に備える、態様２２に記載の方法。
２４．  前記シード層が酸化亜鉛、酸化インジウム：酸化亜鉛、酸化インジウム：酸化スズ、Ｚｎ（１−ｘ）ＭｇｘＯ：Ａｌ、ＭｇＩｎ２Ｏ（４−ｘ）又は酸化インジウムガリウム亜鉛を含有する、態様２２に記載の方法。
２５．  前記金属層の上に少なくとも第２のシード層と、前記第２のシード層の上に少なくとも第２の金属層と、を更に備え、前記金属層が高分子スペーシング層により分離されて、赤外線排除性ファブリ・ペロー積み重ね体を提供し、前記シード層の物理的厚さが０超過かつ約５ｎｍ未満であり、前記金属層の物理的厚さが約５〜約５０ｎｍである、態様２２に記載の方法。
本願明細書に記載の参考文献はその全文が参照することにより本明細書に組み込まれる。本開示の例示的実施形態を検討するとともに、本開示の範囲内の可能な変形例を参照してきた。本開示の範囲から逸脱することのない、本開示のこれらの及び他の変形及び修正が当業者には明らかであり、本開示及び以下に示す請求の範囲は本明細書に記載した例示的実施形態に限定されるものではないことを理解すべきである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性ポリマー支持体上に伝導性フィルムを形成する方法であって、
ａ）前記可撓性ポリマー支持体上に酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化スズ、又は混合した酸化物若しくはドープした酸化物を含むこれらの混合物を含有するシード層を形成する工程と、
ｂ）前記シード層上に延伸性で可視光線透過性金属層を付着させる工程と、を含む、方法。
【請求項２】
ｃ）前記金属層上に酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化スズ、又は混合した酸化物若しくはドープした酸化物を含むこれらの混合物を含有する第２のシード層を形成する工程と、
ｄ）前記第２のシード層上に第２の延伸性で可視光線透過性金属層を付着させる工程と、を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
可撓性ポリマー支持体と、前記支持体の上に酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化スズ、又は混合した酸化物若しくはドープした酸化物を含むこれらの混合物を含有するシード層と、前記シード層の上に延伸性で可視光線透過性金属層と、を備える伝導性フィルム。
【請求項４】
グレージング物品の製造方法であって、
ａ）グレージング材料の層と、可撓性ポリマー支持体、及び前記支持体の上に酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、又はこれらの混合物を含有するシード層と、前記シード層の上に延伸性で可視光線透過性金属層を備えるフィルムと、を組み立てる工程と、
ｂ）前記グレージング材料及びフィルムを共に接着して一体型物品にする工程と、を含む、グレージング物品の製造方法。