【手続補正書】
【提出日】平成23年6月23日(2011.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスストリームを液化するためのプロセスであって、前記プロセスは、
（ａ）供給ガスストリームとして６００ｐｓｉａ〜１，０００ｐｓｉａ（４１３７ｋＰａ〜６８９５ｋＰａ）の圧力で前記ガスストリームを供給するステップと、
（ｂ）１，０００ｐｓｉａ（６８９５ｋＰａ）未満の圧力で冷媒を供給するステップと、（ｃ）圧縮された冷媒を製造するために１５００ｐｓｉａ〜５０００ｐｓｉａ（１０３５２ｋＰａ〜３４４７４ｋＰａ）の圧力で前記冷媒を圧縮するステップと、
（ｄ）前記圧縮された冷媒を冷却液との間接熱交換によって冷却するステップと、
（ｅ）膨張され、冷却された冷媒を製造するために、前記圧縮された冷媒を冷却する（ｄ）ステップの前記圧縮された冷媒を１００ｐｓｉａ（６８９ｋＰａ）以上１，０００ｐｓｉａ（６８９５ｋＰａ）以下の圧力で膨張させるステップと、
（ｆ）前記膨張され、冷却された冷媒を第１の熱交換領域に送るステップと、
（ｇ）圧縮された供給ガスストリームを製造するために、（ａ）の供給ガスストリームを１，２００ｐｓｉａ（８，２７４ｋＰａ）以上４，５００ｐｓｉａ（３１０２６ｋＰａ）以下の圧力に圧縮するステップと、
（ｈ）前記圧縮された供給ガスストリームを外部の冷却液との間接熱交換によって冷却するステップと、
（ｉ）圧縮され、さらに冷却された供給ガスストリームを製造するために、少なくともその一部を間接熱交換によって冷却するための、前記圧縮された供給ガスストリームを前記第１の熱交換領域に通過させるステップと、を含むプロセス。
【請求項２】
請求項１のプロセスにおいて、追加冷却のために、ステップ（ｉ）の前記圧縮され、さらに冷却された供給ガスストリームを第２の熱交換領域を通過させるステップ（ｊ）をさらに含むプロセス。
【請求項３】
請求項２のプロセスにおいて、膨張され、冷却されたガスストリームを製造するために、（ｊ）の前記圧縮され、さらに冷却された供給ガスストリームを膨張させて、前記ストリームの圧力を５０ｐｓｉａ（３４５ｋＰａ）以上４５０ｐｓｉａ（３１０３ｋＰａ）以下に下げるステップ（ｋ）をさらに含むプロセス。
【請求項４】
請求項３のプロセスにおいて、減圧されたガスストリームを製造するために、（ｋ）の前記膨張され、冷却されたガスストリームの５０％を超えない部分を引き込み、減圧バルブで約３０ｐｓｉａ〜２００ｐｓｉａ（２０７ｋＰａ〜１３７９ｋＰａ）の範囲の圧力に減圧し、前記減圧されたガスストリームを冷却ガスストリームとして（ｊ）の前記第２の熱交換領域を通過させることをさらに含むプロセス。
【請求項５】
請求項４のプロセスにおいて、前記圧縮された供給ガスストリームの冷却を支援するために前記冷却ガスストリームを前記第１の熱交換領域に通過させることをさらに含むプロセス。
【請求項６】
請求項５のプロセスにおいて、外部の冷却ユニットとの間接熱交換によって前記冷却ガスストリームをその後に一回以上、圧縮冷却し、請求項１のステップ（ｇ）の前記供給ガスストリームを圧縮する前に前記冷却ガスストリームを請求項１のステップ（ａ）の前記供給ガスストリームに追加することをさらにを含むプロセス。
【請求項７】
請求項３のプロセスにおいて、前記膨張され、圧縮されたガスストリームの少なくとも一部を膨張させ、
前記膨張され、圧縮されたガスストリームを分離タンクへ送り、そこから液化天然ガスを回収し、残留ガス状蒸気をフラッシュガスとして引き込むことをさらに含み、
前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域には、窒素ガス、窒素を含むガス、または前記液化供給ガスストリームから最終的に分離された前記フラッシュガスを含む過冷却エキスパンダループ冷却ストリームが供給されるプロセス。
【請求項８】
ガス状供給ストリームを取り扱うシステムであって、
（ａ）ガス状供給ストリームと、
（ｂ）圧縮され、冷却された冷媒ストリームを製造するように構成された、冷媒ストリーム、第一の圧縮ユニット、および第一の冷却器を含む第一の冷却ループと、
（ｃ）圧縮されたガス状供給ストリームを形成するために、前記ガス状供給ストリームを１，０００ｐｓｉａ（６８９５ｋＰａ）より大きい圧力で圧縮するように構成された第二の圧縮ユニットと、
（ｄ）圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームを形成するために、前記圧縮されたガス状供給ストリームを冷却するように構成された第二の冷却器と、ここで前記第２の冷却器は外部の冷却液を利用し、
（ｅ）過冷却され、圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームを製造するために、前記圧縮され、冷却された冷媒ストリームとの間接熱交換によって、前記圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームの少なくとも一部をさらに冷却させるように構成された第一の熱交換領域と、を含むシステム。
【請求項９】
請求項８のシステムにおいて、
（ｆ）液体フラクションおよび残留蒸気フラクションを含む生成物ストリームを形成するために、前記過冷却され、圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームを膨張させるように構成された第一のエキスパンダと、
（ｇ）前記液体フラクションと前記残留蒸気フラクションとを分離するように構成された液体分離容器と、
をさらにを含むシステム。
【請求項１０】
請求項９のシステムにおいて、
少なくとも前記過冷却され、圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームをさらに冷却するように構成された第二の熱交換領域をさらに含み、
（ｈ）窒素ガス、窒素を含むガス、および前記残留蒸気フラクションからなる群から選択されるガスを含む過冷却エキスパンダループ冷却ストリームをさらに含み、前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームは閉ループ中を流れ、
前記閉ループは、
（ｉ）圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを形成するために、前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域を通過後に、前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを圧縮するように構成された第３の圧縮機と、
（ｊ）さらに冷却され、圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを形成するために、前記圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームをさらに冷却するよう構成された第３の冷却器と、
（ｋ）前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域に供給する前に、前記さらに冷却され、圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを膨張させるように構成された第２のエキスパンダと
をさらに含むシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
上述した本願の明細書の記載は、本発明を説明する目的で、本発明の特定の実施形態を対象にしたものである。しかしながら、当業者であれば、本明細書に記載の実施形態に対して多くの変更および変形が可能であることが明らかである。それらの全ての明らかな変更および変形は添付の特許請求の範囲で定義されているように、本発明の範囲内で意図されたものである。
【表２】
2010537151.tif 000001
【表３】
2010537151.tif 000002
次に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  ガスストリームを液化するためのプロセスであって、前記プロセスは、
（ａ）供給ガスストリームとして６００ｐｓｉａ〜１，０００ｐｓｉａ（４１３７ｋＰａ〜６８９５ｋＰａ）の圧力で前記ガスストリームを供給するステップと、
（ｂ）１，０００（６８９５ｋＰａ）ｐｓｉａ未満の圧力で冷媒を供給するステップと、（ｃ）圧縮された冷媒を製造するために１５００ｐｓｉａ〜５０００ｐｓｉａ（１０３５２ｋＰａ〜３４４７４ｋＰａ）の圧力で前記冷媒を圧縮するステップと、
（ｄ）前記圧縮された冷媒を冷却液との間接熱交換によって冷却するステップと、
（ｅ）膨張され、冷却された冷媒を製造するために、前記圧縮された冷媒を冷却する（ｄ）ステップの前記圧縮された冷媒を１００ｐｓｉａ（６８９ｋＰａ）以上１，０００ｐｓｉａ（６８９５ｋＰａ）以下の圧力で膨張させるステップと、
（ｆ）前記膨張され、冷却された冷媒を第１の熱交換領域に送るステップと、
（ｇ）圧縮された供給ガスストリームを製造するために、（ａ）の供給ガスストリームを１，２００ｐｓｉａ（８，２７４ｋＰａ）以上４，５００ｐｓｉａ（３１０２６ｋＰａ）以下の圧力に圧縮するステップと、
（ｈ）前記圧縮された供給ガスストリームを外部の冷却液との間接熱交換によって冷却するステップと、
（ｉ）圧縮され、さらに冷却された供給ガスストリームを製造するために、少なくともその一部を間接熱交換によって冷却するための、前記圧縮された供給ガスストリームを前記第１の熱交換領域に通過させるステップと、を含むプロセス。
２．  上記１のプロセスにおいて、（ａ）の前記供給ガスストリームはステップ（ｇ）において１，５００ｐｓｉａから３，５００ｐｓｉａ（１０３４２ｋＰａから２４１３２ｋＰａに）の範囲に圧縮されるプロセス。
３．  上記１のプロセスにおいて、（ａ）の前記供給ガスストリームはステップ（ｇ）において２，５００ｐｓｉａから３，５００ｐｓｉａ（１７２３７から２４１３２ｋＰａ）の範囲に圧縮されるプロセス。
４．  上記３のプロセスにおいて、追加冷却のために、ステップ（ｉ）の前記圧縮され、さらに冷却された供給ガスストリームを第２の熱交換領域を通過させるステップ（ｊ）をさらに含むプロセス。
５．  上記４のプロセスにおいて、膨張され、冷却されたガスストリームを製造するために、（ｊ）の前記圧縮され、さらに冷却された供給ガスストリームを膨張させて、前記ストリームの圧力を５０ｐｓｉａ（３４５ｋＰａ）以上４５０ｐｓｉａ（３１０３ｋＰａ）以下に下げるステップ（ｋ）をさらに含むプロセス。
６．  上記５のプロセスにおいて、減圧されたガスストリームを製造するために、（ｋ）の前記膨張され、冷却されたガスストリームの５０％を超えない部分を引き込み、減圧バルブで約３０ｐｓｉａ〜２００ｐｓｉａ（２０７ｋＰａ〜１３７９ｋＰａ）の範囲の圧力に減圧し、前記減圧されたガスストリームを冷却ガスストリームとして（ｊ）の前記第２の熱交換領域を通過させることをさらに含むプロセス。
７．  上記６のプロセスにおいて、前記圧縮された供給ガスストリームの冷却を支援するために前記冷却ガスストリームを前記第１の熱交換領域に通過させることをさらに含むプロセス。
８．  上記７のプロセスにおいて、外部の冷却ユニットとの間接熱交換によって前記冷却ガスストリームをその後に一回以上、圧縮冷却し、上記１のステップ（ｇ）の前記供給ガスストリームを圧縮する前に前記冷却ガスストリームを上記１のステップ（ａ）の前記供給ガスストリームに追加することをさらにを含むプロセス。
９．  上記５のプロセスにおいて、前記膨張され、圧縮されたガスストリームの少なくとも一部を膨張させ、
前記膨張され、圧縮されたガスストリームを分離タンクへ送り、そこから液化天然ガスを回収し、残留ガス状蒸気をフラッシュガスとして引き込むことをさらに含むプロセス。
１０．  上記９のプロセスにおいて、前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域には、窒素ガス、窒素を含むガス、または前記液化供給ガスストリームから最終的に分離された前記フラッシュガスを含む過冷却エキスパンダループ冷却ストリームが供給されるプロセス。
１１．  上記１０のプロセスにおいて、前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域を通過後に前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを圧縮し、少なくとも一つの外部冷媒冷却ユニットを用いて冷却し、前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域に供給される前に前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを膨張させることを含む閉ループの中を前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームが流れるプロセス。
１２．  上記１１のプロセスにおいて、前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームは窒素または窒素を含むガスを含むプロセス。
１３．  上記１１のプロセスにおいて、前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームは前記フラッシュガスの一部を含み、残留部分は、燃料源として使用されるために送られる前に前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域のいずれか一つまたは両方を冷却液ストリームとして通過するプロセス。
１４．  上記１のプロセスにおいて、前記冷媒は前記供給ガスストリームのサイドストリームからなるプロセス。
１５．  ガス状供給ストリームを取り扱うシステムであって、
（ａ）ガス状供給ストリームと、
（ｂ）圧縮され、冷却された冷媒ストリームを製造するように構成された、冷媒ストリーム、第一の圧縮ユニット、および第一の冷却器を含む第一の冷却ループと、
（ｃ）圧縮されたガス状供給ストリームを形成するために、前記ガス状供給ストリームを１，０００ｐｓｉａ（６８９５ｋＰａ）より大きい圧力で圧縮するように構成された第二の圧縮ユニットと、
（ｄ）圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームを形成するために、前記圧縮されたガス状供給ストリームを冷却するように構成された第二の冷却器と、ここで前記第２の冷却器は外部の冷却液を利用し、
（ｅ）過冷却され、圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームを製造するために、前記圧縮され、冷却された冷媒ストリームとの間接熱交換によって、前記圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームの少なくとも一部をさらに冷却させるように構成された第一の熱交換領域と、を含むシステム。
１６．  上記１５のシステムにおいて、
（ｆ）液体フラクションおよび残留蒸気フラクションを含む生成物ストリームを形成するために、前記過冷却され、圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームを膨張させるように構成された第一のエキスパンダと、
（ｇ）前記液体フラクションと前記残留蒸気フラクションとを分離するように構成された液体分離容器と、
をさらにを含むシステム。
１７．  上記１６のシステムにおいて、前記ガス状供給ストリームはステップ（ｃ）において１，５００ｐｓｉａから３，５００ｐｓｉａ（１０３４２ｋＰａから２４１３２ｋＰａ）の範囲に圧縮されるシステム。
１８．  上記１６のシステムにおいて、前記ガス状供給ストリームはステップ（ｃ）において２，５００ｐｓｉａから３，０００ｐｓｉａ（１７２３７ｋＰａから２０６８４ｋＰａ）の範囲に圧縮されるシステム。
１９．  上記１６のシステムにおいて、前記第１の冷却器は外部の冷却液を利用するシステム。
２０．  上記１６のシステムにおいて、前記冷媒ストリームは前記ガス状供給ストリームのサイドストリームからなるシステム。
２１．  上記１６のシステムにおいて、少なくとも前記過冷却され、圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームをさらに冷却するように構成された第二の熱交換領域をさらに含むシステム。
２２．  上記２１のシステムにおいて、
（ｈ）窒素ガス、窒素を含むガス、および前記残留蒸気フラクションからなる群から選択されるガスを含む過冷却エキスパンダループ冷却ストリームをさらに含み、前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームは閉ループ中を流れ、
前記閉ループは、
（ｉ）圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを形成するために、前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域を通過後に、前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを圧縮するように構成された第３の圧縮機と、
（ｊ）さらに冷却され、圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを形成するために、前記圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームをさらに冷却するよう構成された第３の冷却器と、
（ｋ）前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域に供給する前に、前記さらに冷却され、圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを膨張させるように構成された第２のエキスパンダと
をさらに含むシステム。
２３．  上記２２のシステムにおいて、前記第１の圧縮機、前記第２の圧縮機、並びに前記第３の圧縮機のぞれぞれ、および、前記第１の冷却器、前記第２の冷却器、並びに前記第３の冷却器のぞれぞれは、海上環境で利用するために充分に小型の装置になるように構成されたシステム。