【事件の表示】
　特許第６０９５６１３号発明「クロロシランの精製方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６０９５６１３号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり訂正後の請求項〔１，２，４，６〕及び〔３，５，７〕について訂正することを認める。
　特許第６０９５６１３号の請求項１ないし７に係る特許を維持する。
【理　由】
第１．手続の経緯
　特許第６０９５６１３号は、平成２６年　７月１０日に出願された特願２０１４−１４２２０８号について、平成２９年　２月２４日に設定登録がされたものであり、その後、その請求項１〜６に係る特許に対し、平成２９年　９月　７日付けで特許異議申立人　星　正美により特許異議の申立てがされ、平成２９年１１月２８日付けで取消理由が通知され、その指定期間内である平成３０年　１月２４日付けで意見書の提出及び訂正の請求があり、その訂正の請求に対して、特許異議申立人に意見を求めたものの応答がなかったものである。
第２．訂正の適否についての判断
１．訂正の内容
　平成３０年　１月２４日付け訂正請求書による訂正（以下「本件訂正」という。）の内容は、次の訂正事項１〜４よりなる。
（ア）訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１に、「下記工程Ａにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガスを前記クロロシランに接液させて該不活性ガス中に含まれる水分を溶け込ませ、」とあるのを、「下記工程Ａにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガスであって、露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍの不活性ガスを前記クロロシランに接液させて該不活性ガス中に含まれる水分を溶け込ませ、」に訂正する。
（イ）訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項６に「請求項１〜５の何れか１項に記載のクロロシランの精製方法。」とあるのを、「請求項１、２、４の何れか１項に記載のクロロシランの精製方法。」に訂正する。
（ウ）訂正事項３
　特許請求の範囲の請求項３に「下記工程Ｄにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガスを前記クロロシランに接液させて該不活性ガス中に含まれる水分を溶け込ませ、」とあるのを、「下記工程Ｄにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガスであって、露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍの不活性ガスを前記クロロシランに接液させて該不活性ガス中に含まれる水分を溶け込ませ、」に訂正する。
（エ）訂正事項４
　訂正事項２に伴い、請求項６において請求項１，２，４との引用関係を解消させた部分を新たな請求項７とし、「前記クロロシランは、ＳｉＣｌ４、ＳｉＨＣｌ３、ＳｉＨ２Ｃｌ２、ＳｉＨ３Ｃｌ、ＳｉＨ４のうちの何れかの単一組成のもの、若しくは、前記組成のものが複数混合されたものである、請求項３または５に記載のクロロシランの精製方法。」に訂正する。
２．訂正の適否
（ア）訂正事項１について
　訂正事項１は、請求項１の「下記工程Ａにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガスを前記クロロシランに接液させて該不活性ガス中に含まれる水分を溶け込ませ、」なる記載を「下記工程Ａにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガスであって、露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍの不活性ガスを前記クロロシランに接液させて該不活性ガス中に含まれる水分を溶け込ませ、」なる記載に訂正するものであり、訂正前の請求項１の記載では、クロロシランに接液させる不活性ガスが露点管理されたものであることが明らかである一方、当該不活性ガスの露点および水分濃度が具体的に特定されていないのに対し、訂正後の請求項１の記載は、上記クロロシランに接液させる不活性ガスの露点が−７０〜−８０℃であり、水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍであることを明らかにすることで、特許請求の範囲を減縮しようとするものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書き第１号に規定されている特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、当該訂正事項１は、本件特許明細書の段落【００５１】の「一般的に用いられるプロセスガスとしての不活性ガスは、露点が−７０〜−８０℃であり、水分濃度は、０．５〜２．５ｐｐｍであり、この水分が接液によりクロロシラン中に溶け込み、シラノールやシロキサン化合物を生成させる。」との記載に基づくものであり、本件特許明細書に記載した事項の範囲内においてしたものであるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第５項の規定に適合するものである。
　さらに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第６項の規定に適合するものである。
（イ）訂正事項３について 
　訂正事項３は、請求項３の「下記工程Ｄにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガスを前記クロロシランに接液させて該不活性ガス中に含まれる水分を溶け込ませ、」なる記載を、「下記工程Ｄにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガスであって、露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍの不活性ガスを前記クロロシランに接液させて該不活性ガス中に含まれる水分を溶け込ませ、」なる記載に訂正するものであり、訂正前の請求項３の記載では、クロロシランに接液させる不活性ガスが露点管理されたものであることが明らかである一方、当該不活性ガスの露点および水分濃度が具体的に特定されていないのに対し、訂正後の請求項３の記載は、上記クロロシランに接液させる不活性ガスの露点が−７０〜−８０℃であり、水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍであることを明らかにすることで、特許請求の範囲を減縮しようとするものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書き第１号に規定されている特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、当該訂正事項３は、本件特許明細書の段落【００５１】の「一般的に用いられるプロセスガスとしての不活性ガスは、露点が−７０〜−８０℃であり、水分濃度は、０．５〜２．５ｐｐｍであり、この水分が接液によりクロロシラン中に溶け込み、シラノールやシロキサン化合物を生成させる。」との記載に基づくものであり、本件特許明細書に記載した事項の範囲内においてしたものであるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第５項の規定に適合するものである。
　さらに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第６項の規定に適合するものである。
（ウ）訂正事項２，４について
　訂正事項２は、請求項６に「請求項１〜５の何れか１項に記載のクロロシランの精製方法。」とあるのを、「請求項１、２、４の何れか１項に記載のクロロシランの精製方法。」に訂正するものであり、訂正前の請求項６記載の特許発明は請求項１〜５の何れか１項に従属する関係にあったものの、請求項１〜５のうちの、請求項３（独立項）および５（請求項３の従属項）との引用関係を解消させ、請求項１、２、４の何れか１項に従属することを明らかにするためのものであり、また、訂正事項４は、訂正事項２に伴い、訂正前の請求項６において請求項１（独立項）、２（請求項１の従属項）、４（請求項１の従属項）との引用関係を解消させた部分を新たな請求項７とし、「前記クロロシランは、ＳｉＣｌ４、ＳｉＨＣｌ３、ＳｉＨ２Ｃｌ２、ＳｉＨ３Ｃｌ、ＳｉＨ４のうちの何れかの単一組成のもの、若しくは、前記組成のものが複数混合されたものである、請求項３または５に記載のクロロシランの精製方法。」に訂正するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書き第４号に規定されている他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすることを目的とするものである。
　そして、当該訂正事項２，４は、本件特許明細書に記載した事項の範囲内においてしたものであるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第５項の規定に適合するものである。
　さらに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第６項の規定に適合するものである。
３．一群の請求項について
　訂正事項１に係る訂正前の請求項１を、訂正前の請求項２，４，６は直接的または間接的に引用しているものであって、請求項１に連動して訂正されるものである。
　また、訂正事項３に係る訂正前の請求項３を、訂正前の請求項５，６は直接的または間接的に引用しているものであって、請求項３に連動して訂正されるものである。
　ただし、訂正後の請求項６，７は、引用関係の解消を目的とする訂正であって、請求項１，３とは別途訂正することを求めるものである。
　したがって、本件訂正は、特許法第１２０条の５第４項に規定する一群の請求項〔１，２，４，６〕及び〔３，５，７〕について請求するものと認める。
４．むすび
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号及び第４号に掲げる事項を目的とし、同法第１２０条の５第４項及び第９項の規定によって準用する第１２６条第５項及び第６項に適合するので、訂正後の請求項〔１，２，４，６〕及び〔３，５，７〕について訂正を認める。
第３．特許異議の申立てについて
１．本件発明
　本件訂正請求により訂正された訂正請求項１〜７に係る発明（以下「訂正発明１」〜「訂正発明７」という。）は、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲の請求項１〜７に記載された事項により特定される次のとおりのものと認められる。
「【請求項１】
　下記の工程Ａ〜Ｃによりクロロシラン中のボロン含有化合物を除去してクロロシランを精製する方法であって、
　下記工程Ａにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガスであって、露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍの不活性ガスを前記クロロシランに接液させて該不活性ガス中に含まれる水分を溶け込ませ、吸着剤ないし添加剤を用いることなく該クロロシランの一部の加水反応により前記シラノールおよびシロキサン化合物の少なくとも一方を生成させる、ことを特徴とする方法。
　クロロシラン中にシラノールおよびシロキサン化合物の少なくとも一方を生成させる工程Ａ：
　前記クロロシランに含まれるボロン含有化合物と前記シラノール若しくはシロキサン化合物を反応させて前記ボロン含有化合物をボロン酸化物とする工程Ｂ：
　前記クロロシランを蒸留して前記ボロン酸化物を除去する工程Ｃ：
【請求項２】
　前記工程Ｂは前記クロロシランに含まれる金属含有化合物を前記ボロン酸化物に吸着させて付加化合物とする工程でもあり、前記工程Ｃは前記付加化合物を除去する工程でもある、請求項１に記載のクロロシランの精製方法。
【請求項３】
　下記の工程Ｄ〜Ｆによりクロロシラン中の金属含有化合物を除去してクロロシランを精製する方法であって、
　下記工程Ｄにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガスであって、露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍの不活性ガスを前記クロロシランに接液させて該不活性ガス中に含まれる水分を溶け込ませ、吸着剤ないし添加剤を用いることなく該クロロシランの一部の加水反応により前記シラノールおよびシロキサン化合物の少なくとも一方を生成させる、ことを特徴とする方法。
　クロロシラン中にシラノールおよびシロキサン化合物の少なくとも一方を生成させる工程Ｄ：
　前記クロロシランに含まれる金属含有化合物を前記シラノール若しくはシロキサン化合物に吸着させて付加化合物とする工程Ｅ：
　前記クロロシランを蒸留して前記付加化合物を除去する工程Ｆ：
【請求項４】
　前記ボロン含有化合物は、ボロン塩化物またはボロン水素化物の少なくとも一方の化合物である、請求項１に記載のクロロシランの精製方法。
【請求項５】
　前記金属含有化合物は、鉄、クロム、ニッケル、銅、亜鉛、アルミニウム、カルシウム、マグネシウムの何れかの塩化物のうちの少なくともひとつの塩化物である、請求項３に記載のクロロシランの精製方法。
【請求項６】
　前記クロロシランは、ＳｉＣｌ４、ＳｉＨＣｌ３、ＳｉＨ２Ｃｌ２、ＳｉＨ３Ｃｌ、ＳｉＨ４のうちの何れかの単一組成のもの、若しくは、前記組成のものが複数混合されたものである、請求項１、２、４の何れか１項に記載のクロロシランの精製方法。
【請求項７】
　前記クロロシランは、ＳｉＣｌ４、ＳｉＨＣｌ３、ＳｉＨ２Ｃｌ２、ＳｉＨ３Ｃｌ、ＳｉＨ４のうちの何れかの単一組成のもの、若しくは、前記組成のものが複数混合されたものである、請求項３または５に記載のクロロシランの精製方法。」
２．取消理由について
（１）訂正前の請求項１〜６に係る特許に対して、平成２９年１１月２８日付けで特許権者に通知した取消理由の要旨は、次のとおりである。
　
　請求項１〜６に係る発明は、クロロシランに接液させる不活性ガスの水分濃度が特定されていないことからして、下記の場合を含み、湿分を含まない不活性ガスの場合、クロロシランの加水分解は起こらないか不十分なレベルにとどまり、シラノールやシロキサンの生成が起こらず、本件発明の課題を解決できないことが想定され、また、湿分を多量に含む露点の高い不活性ガスの場合、クロロシランが多量に加水分解し、本件発明の課題を解決できないことが想定されることから、請求項１〜６に係る発明は、発明の詳細な説明に記載された発明とはいえず、同発明に係る特許は、特許法第３６条第６項第１号の規定する要件を満たしていない特許出願についてされたものであるから、取り消されるべきものである。
（２）クロロシランに接液させる不活性ガスの水分濃度について通知した取消理由に対し、平成３０年　１月２４日付けで行われた訂正の請求により、訂正発明１〜７のクロロシランに接液させる不活性ガスは「露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍ」であることが特定され、クロロシランの精製において、低コストで且つ高効率にボロン不純物および金属不純物を分離除去する課題を解決できるものであることが明らかとなった。
　よって、訂正発明１〜７は、発明の詳細な説明に記載された発明である。
（３）取消理由についてのまとめ
　以上のとおりであるから、本件特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものでない。
３．取消理由通知において採用しなかった特許異議申立理由について
（１）申立理由の概要
　申立人は、上記取消理由の他に、甲第１〜２号証（以下、「甲１〜２」という。）を提出し、訂正前の請求項１〜６に係る発明は、甲１に記載された発明であるか、甲１，２に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第１項第３号または第２項の規定に違反してされたものであると主張している（以下、「申立理由」という。）。
甲第１号証：特開２０１２−１５８５１５号公報
甲第２号証：特表２０１１−５２４３２８号公報
（２）申立理由について
　甲１の請求項５，６、【００５５】、【００５６】、実施例３，４、【図１】には、ＤＣＳを含むホウ素濃度が高められた塔頂流（６ａ）を第４の塔（７）に供給し、その際にＨ２Ｏ　１ｐｐｍｖより少ない残留水分を有する不活性ガスを供給し、前記第４の塔（７）からのホウ素濃度が高められたＤＣＳを含む塔頂流（７ａ）を搬出し、前記第４の塔（７）からの塔底流（７ｂ）を、分離塔に返送し、排ガスを含む二次流を（７ｃ）を第４の塔（７）から廃棄する、クロロシランを蒸留により精製する方法が記載されているものと認められる。
　しかしながら、甲１には、露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍの不活性ガスをクロロシランに接液させることや、該不活性ガスをクロロシランに接液させることによって、低沸点化合物であるボロン含有化合物を高沸点化合物であるボロン酸化物にすることは記載も示唆もされておらず、むしろ、甲１に記載された発明は、【００９５】〜【００９７】に記載されているように、不活性ガスの供給によって、塔の排ガス量を高め、ボロン化合物を排ガス流７ｃ中に濃縮することを目的としているものであるから、訂正発明１と異なるものである。
　また、甲２においても、「露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍの不活性ガスをクロロシランに接液させること」については、記載も示唆もされていない。
　してみれば、訂正発明１，３は、甲１，２に記載された発明でも、甲１，２に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
　また、訂正発明２，４〜７についても同様である。
　したがって、この申立理由には理由がない。
第４．むすび
　以上のとおりであるから、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては、本件請求項１〜７に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜７に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成３０年３月２９日（２０１８．３．２９）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　下記の工程Ａ〜Ｃによりクロロシラン中のボロン含有化合物を除去してクロロシランを精製する方法であって、
　下記工程Ａにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガス
であって、露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍの不活性ガス
　クロロシラン中にシラノールおよびシロキサン化合物の少なくとも一方を生成させる工程Ａ：
　前記クロロシランに含まれるボロン含有化合物と前記シラノール若しくはシロキサン化合物を反応させて前記ボロン含有化合物をボロン酸化物とする工程Ｂ：
　前記クロロシランを蒸留して前記ボロン酸化物を除去する工程Ｃ：
　【請求項２】
　前記工程Ｂは前記クロロシランに含まれる金属含有化合物を前記ボロン酸化物に吸着させて付加化合物とする工程でもあり、前記工程Ｃは前記付加化合物を除去する工程でもある、請求項１に記載のクロロシランの精製方法。
　【請求項３】
　下記の工程Ｄ〜Ｆによりクロロシラン中の金属含有化合物を除去してクロロシランを精製する方法であって、
　下記工程Ｄにおいて、湿分付与されることなく露点管理された不活性ガス
であって、露点が−７０〜−８０℃で水分濃度が０．５〜２．５ｐｐｍの不活性ガス
　クロロシラン中にシラノールおよびシロキサン化合物の少なくとも一方を生成させる工程Ｄ：
　前記クロロシランに含まれる金属含有化合物を前記シラノール若しくはシロキサン化合物に吸着させて付加化合物とする工程Ｅ：
　前記クロロシランを蒸留して前記付加化合物を除去する工程Ｆ：
　【請求項４】
　前記ボロン含有化合物は、ボロン塩化物またはボロン水素化物の少なくとも一方の化合物である、請求項１に記載のクロロシランの精製方法。
　【請求項５】
　前記金属含有化合物は、鉄、クロム、ニッケル、銅、亜鉛、アルミニウム、カルシウム、マグネシウムの何れかの塩化物のうちの少なくともひとつの塩化物である、請求項３に記載のクロロシランの精製方法。
　【請求項６】
　前記クロロシランは、ＳｉＣｌ４、ＳｉＨＣｌ３、ＳｉＨ２Ｃｌ２、ＳｉＨ３Ｃｌ、ＳｉＨ４のうちの何れかの単一組成のもの、若しくは、前記組成のものが複数混合されたものである、請求項
１、２、４
　【請求項７】
　前記クロロシランは、ＳｉＣｌ４、ＳｉＨＣｌ３、ＳｉＨ２Ｃｌ２、ＳｉＨ３Ｃｌ、ＳｉＨ４のうちの何れかの単一組成のもの、若しくは、前記組成のものが複数混合されたものである、請求項３または５に記載のクロロシランの精製方法。