【手続補正書】
【提出日】平成23年8月17日(2011.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７６】
紫外線照射の後、ＰＥＴカバーからグラフト済みの架橋されたＰＰサンプルを外し、トレイに入れた水に浸し、きれいな水に３回交換してサンプルを洗浄した。サンプルをフレーム上に取り付け、オーブン中６０℃で１／２時間加熱することにより乾燥した。得られた親水性多孔質フィルムサンプルは水滴で瞬時湿潤した。最終製品の平均孔径０．５６マイクロメートルと比較して、最初のフィルムの平均孔径は０．５１マイクロメートルであったことから、グラフト化プロセスによる孔の目詰まりが起こらなかったことが示される。（ごくわずかに孔径が拡張したが、十分に実験誤差及びフィルムのばらつきの範囲内である。）
フレームに付けたＰＰサンプルを１２１℃、３時間半のサイクルで蒸気オートクレーブ処理し、曝露後も更に瞬時水湿潤であることがわかった。４７ｍｍのディスクを切り出し、流動性時間は本質的に変わらず４８秒と測定された。次いで、グラフト化親水性ＰＰディスクを０．６２５Ｎ  ＮａＯＨで満たした４０ｍＬのバイアル瓶に入れ、６０℃で３００分間加熱した。サンプルをバイアル瓶から取り出し、水で十分に洗浄して乾燥した。サンプルは、まだ水滴に対する瞬時湿潤性を示した。本発明の実施態様の一部を以下に列記する。
［１］
官能化基材の製造法であって、
１）間隙表面及び外側表面を有する多孔質ベース基材を提供する工程と、
２）前記多孔質ベース基材に第１溶液を吸収させて、吸収した多孔質ベース基材を形成する工程であって、前記第１溶液が（ａ）アクリレート基及び光開始剤基を有する少なくとも１つのグラフトモノマーと、（ｂ）少なくとも１つのアクリレート基及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する１つ以上のモノマーと、任意に（ｃ）少なくとも１つのエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーと、を含み、（ｂ）又は（ｃ）のモノマーのうち少なくとも１つが親水性である工程と、
３）前記多孔質ベース基材の前記表面に結合したグラフト化光開始剤基を含む第１官能化基材を形成するために、前記吸収した多孔質ベース基材を調整された量の電子ビーム照射に曝露する工程と、
４）残存するエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を架橋するために、グラフト化光開始剤基を含む前記多孔質ベース基材を調整された量の紫外線に曝露する工程と、を含む、方法。
［２］
前記多孔質ベース基材が微小多孔性である、［１］に記載の方法。
［３］
前記多孔質ベース基材が、多孔質膜、多孔質不織布ウェブ又は多孔質繊維から選択される、［１］に記載の方法。
［４］
前記モノマー（ｂ）がポリ（アルキレンオキシド）ジ（メタ）アクリレートを含む、［１］に記載の方法。
［５］
２つ以上のフリーラジカル重合性基を有する前記モノマー（ｂ）が、前記多孔質ベース基材にグラフトするための第１アクリレート基と、続く紫外線架橋のための第２メタクリレート基と、を含む、［１］に記載の方法。
［６］
前記第１溶液が、（ｃ）フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーを含む、［１］に記載の方法。
［７］
前記微小多孔性ベース基材が、熱誘起相分離（ＴＩＰＳ）法により形成されている、［２］に記載の方法。
［８］
前記微小多孔性ベース基材が、熱誘起相分離（ＴＩＰＳ）法により形成されたプロピレンポリマー膜を含む、［７］に記載の方法。
［９］
前記調整された量の電子ビーム照射曝露が、照射線量を１０ｋＧｙ未満とすることを含む、［１］に記載の方法。
［１０］
官能化基材の製造法であって、
１）間隙表面及び外側表面を有する多孔質ベース基材を提供する工程と、
２）前記多孔質ベース基材に第１溶液を吸収させて、吸収した多孔質ベース基材を形成する工程であって、前記第１溶液が（ａ）アクリレート基及び光開始剤基を有する少なくとも１つのグラフトモノマーと、（ｂ）少なくとも１つのアクリレート基及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する１つ以上のモノマーと、任意に（ｃ）少なくとも１つのエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーと、を含み、（ｂ）又は（ｃ）のモノマーのうち少なくとも１つが親水性である工程と、
３）前記吸収した多孔質ベース基材を取り外し可能なキャリア層と取り外し可能なカバー層の間に配置して、多層構造体を形成する工程と、
４）前記取り外し可能なキャリア層と前記取り外し可能なカバー層との間に位置する官能化基材を形成するために、前記多層構造体を調整された量の電子ビーム照射に曝露する工程であって、前記官能化基材が前記多孔質ベース基材の前記表面に結合したグラフト化光開始剤基を含む工程と、
５）前記多層構造体を紫外線に暴露して、グラフト化していないエチレン性不飽和基の重合を開始する工程と、
６）前記多層構造体から前記キャリア層及び前記カバー層を除去する工程と、を含む、方法。
［１１］
間隙表面及び外側表面を有する多孔質ベース基材と、前記多孔質ベース基材の前記表面から延在するグラフト化光開始剤基と、を含む、物品。
［１２］
前記多孔質ベース基材の前記表面から延在するグラフト化エチレン性不飽和基を更に含む、［１１］に記載の物品。
［１３］
前記多孔質ベース基材の前記表面から延在するグラフト化親水性基を更に含む、［１１］に記載の物品。
［１４］
（ｂ）少なくとも１つのアクリレート基及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する１つ以上のモノマーと、任意に（ｃ）少なくとも１つのエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーとの重合反応生成物を更に含み、（ｂ）又は（ｃ）のモノマーのうち少なくとも１つが親水性である、［１１］に記載の物品。
［１５］
前記グラフト化エチレン性不飽和基が、少なくとも１つのアクリレート基及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する１つ以上のモノマーに由来する、［１２］に記載の物品。
［１６］
ポリ（アルキレンオキシド）ジ（メタ）アクリレートから得られる、［１４］に記載の物品。
［１７］
前記多孔質ベース基材が微小多孔性である、［１１］に記載の物品。
［１８］
前記多孔質ベース基材が、多孔質膜、多孔質不織布ウェブ、又は多孔質繊維を含む、［１１］に記載の物品。
［１９］
前記多孔質ベース基材が、微小多孔性の熱誘起相分離膜を含む、［１１］に記載の物品。
［２０］
前記熱誘起相分離膜が、プロピレンポリマーを含む、［１９］に記載の物品。
［２１］
前記グラフト化光開始剤が、電子ビーム照射への曝露による、アクリレート基及び光開始剤基を有するモノマーの反応生成物を含む、［１１］に記載の物品。
［２２］
前記グラフト化エチレン性不飽和基が、電子ビームへの曝露による、ジ（メタ）アクリレートポリ（アルキレンオキシド）と前記多孔質ベース基材の前記表面との反応生成物を含む、［１１］に記載の物品。
［２３］
前記物品が、電子ビーム照射への曝露による、（ａ）フリーラジカル重合性基及び光開始剤基を有するモノマーの反応生成物を含む第１グラフト化種と、（ｂ）部分的にアクリレート化したポリオールの反応生成物を含む第２グラフト化種と、を含む、［１１］に記載の物品。
［２４］
紫外線への曝露による、未反応のエチレン性不飽和基の架橋反応生成物を含む、［１１］に記載の物品。
［２５］
官能化基材の製造法であって、
１）間隙表面及び外側表面を有する多孔質ベース基材を提供する工程と、
２）前記多孔質ベース基材に第１溶液を吸収させて、吸収した多孔質ベース基材を形成する工程であって、前記第１溶液が（ａ）アクリレート基及び光開始剤基を有する少なくとも１つのグラフトモノマーを含む工程と、
３）前記多孔質ベース基材の前記表面に結合したグラフト化光開始剤基を含む第１官能化基材を形成するために、前記吸収した多孔質ベース基材を調整された量の電子ビーム照射に曝露する工程と、
４）グラフト化光開始剤基を含む前記第１官能化基材に、（ｂ）少なくとも１つのアクリレート基及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する１つ以上のモノマーと、任意に（ｃ）少なくとも１つのエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーと、を含む第２吸収溶液を吸収させる工程であって、（ｂ）又は（ｃ）のモノマーのうち少なくとも１つが親水性である工程と、
５）残存するエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を架橋するために、グラフト化光開始剤基を含む前記吸収した多孔質ベース基材を調整された量の紫外線に曝露する工程と、を含む、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
官能化基材の製造法であって、
１）間隙表面及び外側表面を有する多孔質ベース基材を提供する工程と、
２）前記多孔質ベース基材に第１溶液を吸収させて、吸収した多孔質ベース基材を形成する工程であって、前記第１溶液が（ａ）アクリレート基及び光開始剤基を有する少なくとも１つのグラフトモノマーと、（ｂ）少なくとも１つのアクリレート基及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する１つ以上のモノマーと、任意に（ｃ）少なくとも１つのエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーと、を含み、（ｂ）又は（ｃ）のモノマーのうち少なくとも１つが親水性である工程と、
３）前記多孔質ベース基材の前記表面に結合したグラフト化光開始剤基を含む第１官能化基材を形成するために、前記吸収した多孔質ベース基材を調整された量の電子ビーム照射に曝露する工程と、
４）残存するエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を架橋するために、グラフト化光開始剤基を含む前記多孔質ベース基材を調整された量の紫外線に曝露する工程と、を含む、方法。
【請求項２】
前記モノマー（ｂ）がポリ（アルキレンオキシド）ジ（メタ）アクリレートを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
２つ以上のフリーラジカル重合性基を有する前記モノマー（ｂ）が、前記多孔質ベース基材にグラフトするための第１アクリレート基と、続く紫外線架橋のための第２メタクリレート基と、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１溶液が、（ｃ）フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記調整された量の電子ビーム照射曝露が、照射線量を１０ｋＧｙ未満とすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
間隙表面及び外側表面を有する多孔質ベース基材と、前記多孔質ベース基材の前記表面から延在するグラフト化光開始剤基と、を含む、物品。
【請求項７】
前記多孔質ベース基材の前記表面から延在するグラフト化エチレン性不飽和基を更に含む、請求項６に記載の物品。
【請求項８】
前記多孔質ベース基材の前記表面から延在するグラフト化親水性基を更に含む、請求項６に記載の物品。
【請求項９】
（ｂ）少なくとも１つのアクリレート基及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する１つ以上のモノマーと、任意に（ｃ）少なくとも１つのエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーとの重合反応生成物を更に含み、（ｂ）又は（ｃ）のモノマーのうち少なくとも１つが親水性である、請求項６に記載の物品。
【請求項１０】
ポリ（アルキレンオキシド）ジ（メタ）アクリレートから得られる、請求項９に記載の物品。
【請求項１１】
前記グラフト化光開始剤が、電子ビーム照射への曝露による、アクリレート基及び光開始剤基を有するモノマーの反応生成物を含む、請求項６に記載の物品。
【請求項１２】
前記物品が、電子ビーム照射への曝露による、（ａ）フリーラジカル重合性基及び光開始剤基を有するモノマーの反応生成物を含む第１グラフト化種と、（ｂ）部分的にアクリレート化したポリオールの反応生成物を含む第２グラフト化種と、を含む、請求項６に記載の物品。
【請求項１３】
官能化基材の製造法であって、
１）間隙表面及び外側表面を有する多孔質ベース基材を提供する工程と、
２）前記多孔質ベース基材に第１溶液を吸収させて、吸収した多孔質ベース基材を形成する工程であって、前記第１溶液が（ａ）アクリレート基及び光開始剤基を有する少なくとも１つのグラフトモノマーを含む工程と、
３）前記多孔質ベース基材の前記表面に結合したグラフト化光開始剤基を含む第１官能化基材を形成するために、前記吸収した多孔質ベース基材を調整された量の電子ビーム照射に曝露する工程と、
４）グラフト化光開始剤基を含む前記第１官能化基材に、（ｂ）少なくとも１つのアクリレート基及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する１つ以上のモノマーと、任意に（ｃ）少なくとも１つのエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーと、を含む第２吸収溶液を吸収させる工程であって、（ｂ）又は（ｃ）のモノマーのうち少なくとも１つが親水性である工程と、
５）残存するエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を架橋するために、グラフト化光開始剤基を含む前記吸収した多孔質ベース基材を調整された量の紫外線に曝露する工程と、を含む、方法。