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　特願２００７−３１４９２６「塗布装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　６月２５日出願公開、特開２００９−１３９５６８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１９年（２００７年）１２月５日に出願された特願２００７−３１４９２６号であって、平成２１年１１月１９日付けで拒絶理由が通知され、平成２２年２月１２日付けで手続補正がなされ、同年３月１２日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年７月２日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同日付けで手続補正がなされたものである。
　その後、当審において平成２３年４月１２日付けで審尋を行い、同年６月３０日付けで回答書が提出された。
　
第２　平成２２年７月２日付けの手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２２年７月２日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正について
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、平成２２年２月１２日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載の、
　
「基板上においてバンクにより規定された塗布膜形成予定領域にインクジェット方式により塗布液を供給して塗布膜を形成し、その後その塗布膜を軟化させて流動させることにより、該塗布膜を前記薄膜形成予定領域に充填させる塗布装置であって、
　基板に対して塗布前の前処理を行う前処理ユニット群と、
　基板上の前記塗布膜形成予定領域に対してインクジェット方式により前記塗布膜形成予定領域に隙間が形成されるように前記塗布膜を形成する塗布ユニットと、
　塗布膜が塗布された基板に対し有機溶剤雰囲気で前記塗布膜を軟化させ、前記塗布膜形成予定領域に形成されていた隙間が埋められるようにリフローさせるリフローユニットと、
　基板を処理の順に前記各ユニットに搬送する搬送機構と
　を具備し、
　前記各ユニットは処理の順に配列され、前記搬送機構は配列された前記各ユニットに対して基板を順次搬送することを特徴とする塗布装置。」が　
　
「基板上においてバンクにより規定された
薄膜
　基板に対して塗布前の前処理を行う前処理ユニット群と、
　基板上の前記薄膜形成予定領域に対してインクジェット方式により前記
薄膜
の全面には広がらず
　塗布膜が塗布された基板に対し有機溶剤雰囲気で前記塗布膜を軟化させ、
前記薄膜形成予定領域の全面に広げ
薄膜
　基板を処理の順に前記各ユニットに搬送する搬送機構と
　を具備し、
　前記各ユニットは処理の順に配列され、前記搬送機構は配列された前記各ユニットに対して基板を順次搬送することを特徴とする塗布装置。」と補正された。（下線は補正箇所を示す。）
　
　そして、この補正は、
（１）「塗布膜形成予定領域」を「薄膜形成予定領域」とする補正事項、及び、
（２）塗布膜の形成について、塗布したときは「全面には広がらず」軟化によって「全面に広げ」ることを特定して限定する補正事項
からなり、特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とする補正であるといえる。
　すなわち、本件補正における請求項１に係る発明の補正は、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる事項を目的とするものである。
　
２　独立特許要件違反についての検討
　そこで、次に、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものか（特許法第１７条の２第６項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反しないか）について検討する。
　
（１）本願補正発明
　本願補正発明は、平成２２年７月２日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定されるものである。（上記の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
（２）引用例
ア　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００７−２０６６８６号公報（以下「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。（なお、下記「イ　引用例１に記載された発明の認定」において直接引用した記載に下線を付した。）
　
「【０００１】
　本発明は、
カラーフィルタ製造
　
「【０００７】
　しかし、上記のようなカラーフィルタの製造方法では、液状インク層３０を乾燥する過程でブラックマトリックス２０の性質、インクの特性、乾燥速度などによって、ピクセルの内部で多様な物質流動が発生するため、ピクセルの内部に形成される乾燥されたインク層３１の厚さは、図１Ｂに示すように非常に不均一になる。また、カラーフィルタのピクセル位置によって乾燥条件も異なるため、ピクセル内に形成される乾燥されたインク層３１の形状も互いに異なる。このように、ピクセル内の乾燥されたインク層３１の厚さが不均一になると、ピクセルから光が漏れる現象（光漏れ現象）や画像に染みが生じる現象が引き起こされて、カラーフィルタの色特性が低下する。
【０００８】
　そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、ピクセル内に充填されたインク層の厚さを均一にしてカラーフィルタの色特性を向上させることが可能な、新規かつ改良されたカラーフィルタ製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
　上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、基板上に複数のピクセルを形成するブラックマトリックスを形成する段階と、ピクセルの内部に液状のインク層を形成した後、液状のインク層を乾燥させる段階と、乾燥されたインク層の表面が流動性を有するように、乾燥されたインク層の表面に溶媒蒸気を浸透させる段階と、流動性を有するインク層の表面を乾燥させる段階と、を含むカラーフィルタ製造方法が提供される。」
　
「【００２０】
　図２Ａ〜図２Ｆは、本発明の実施形態によるカラーフィルタの製造方法を説明するための断面図である。
【００２１】
　まず、図２Ａに示すように、
基板１１０上にブラックマトリックス１２０を形成する。
ブラックマトリックス１２０によって、基板１１０上には複数のピクセル１５０が形成される。
【００２２】
　次いで、図２Ｂに示すように、
ピクセル１５０の内部に液状インク層１３０を形成する。液状インク層１３０は、インクジェットプリンティング方式によって形成されることが望ましい。この場合、液状インク層１３０は、インクジェットヘッド（図示せず）のノズルから所定色相のインク液滴をピクセル１５０の内部に吐出させることによって形成されることができる。
【００２３】
　次いで、図２Ｃに示すように、ピクセル１５０の内部に充填された
液状インク層１３０を乾燥させる。
【００２４】
　次いで、図２Ｄに示すように、上述したのような不均一な厚さを有する
乾燥されたインク層１３１が形成された基板１１０を溶媒蒸気１７０で充填されたチャンバ１６０内に入れる。
【００２５】
　上述のように、溶媒蒸気１７０で充填されたチャンバ１６０内に乾燥されたインク層１３１が形成された
基板１１０を入れると、溶媒蒸気１７０は、乾燥されたインク層１３１の表面に浸透してインク層１３１の表面を溶解させる。これにより、乾燥されたインク層１３１の表面は、流動性を有するようになる。次いで、流動性を有する乾燥されたインク層１３２の表面は、表面エネルギーと重力とによって安定した形態に再形成される。
【００２６】
　最後に、流動性の表面を有する
均一な形状のインク層１３２を乾燥させる。
ピクセル１５０の内部には、図２Ｆに示すように、均一な厚さを有するインク層１３３が形成される。
　
　
「【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図２Ｄ】
【図２Ｅ】
【図２Ｆ】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
イ　引用例１に記載された発明の認定
　引用例１のカラーフィルタが装置によって製造されることは当然であり、そして、液状インク層１３０を形成し、乾燥させて乾燥されたインク層１３１を形成する装置（以下「インク層形成ユニット」という。）、及び、乾燥されたインク層１３１の表面に流動性を与える装置(以下「流動化ユニット」という。）を備えているといえることも踏まえると、上記記載（図面の記載も含む）から、引用例１には、
「基板１１０上にブラックマトリックス１２０を形成し、
　ブラックマトリックス１２０によって、基板１１０上には複数のピクセル１５０が形成され、
　インク層形成ユニットにおいて、ピクセル１５０の内部に、インクジェットプリンティング方式によって、インクジェットヘッドのノズルから所定色相のインク液滴をピクセル１５０の内部に吐出させることによって、液状インク層１３０を形成し、液状インク層１３０を乾燥させて乾燥されたインク層１３１を形成し、
　流動化ユニットにおいて、乾燥されたインク層１３１が形成された基板１１０を溶媒蒸気１７０で充填されたチャンバ１６０内に入れ、溶媒蒸気１７０は、乾燥されたインク層１３１の表面に浸透してインク層１３１の表面を溶解させ、これにより、乾燥されたインク層１３１の表面は、流動性を有するようになり、次いで、流動性を有する乾燥されたインク層１３２の表面は、表面エネルギーと重力とによって安定した形態に再形成され、
　均一な形状のインク層１３２を乾燥させ、ピクセル１５０の内部に均一な厚さを有するインク層１３３を形成するカラーフィルタ製造のための装置。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
ウ　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００１−３３６１４号公報（以下「引用例２」という。）には、次の事項が記載されている。
　
「【００６６】次に、図１０は、図１に示したカラーフィルタの一連の製造工程を実行するための製造ラインの構成を示す図である。
【００６７】図１０において、２００はブラックマトリクス２が形成されたガラス基板１を洗浄するための洗浄装置であり、ガラス基板１を洗剤により洗浄する洗浄部２００ａと、洗浄したガラス基板１を乾燥させる乾燥部２００ｂとを備えている。洗浄装置２００では、図１（ａ）に対応する洗浄作業が行われる。
【００６８】２０１は、ガラス基板１上に有機材料の薄い均一層（インク受容層３）を形成するための塗布装置で一般的に使われるスピンコーターで膜厚を均一に塗布している。また塗布装置はスピンコーターに限ったわけでなく、ロールコーターやその他の方式でも均一に有機材料が塗布できる装置ならどれでもよい。なお、インク受容層３を形成する有機材料は、例えば２３０°Ｃ程度で硬化するものを使用する。
【００６９】２０２は、塗布された有機材料を乾燥させるホットプレート方式の加熱装置である。加熱装置はホットプレートに限ったわけでなく、熱風式のオーブン炉でもかまわない。本実施形態では、前後装置を直結してライン化しているので、ホットプレート式の加熱装置を用いている。なお、有機材料（インク受容層３）の乾燥は、有機材料が硬化する温度より低い温度、例えば５０°Ｃ程度で行われる。塗布装置２０１及び加熱装置２０２では、図１（ｂ）に対応する作業が行われる。
【００７０】２０３は、塗布乾燥された有機材料（インク受容層３）を紫外線で部分的に露光する露光装置である。露光装置での位置決めは、予めガラス基板１に形成されているマークを高倍率の顕微鏡で光学的に位置検出することで精度良く行うことができる。
【００７１】２０４は、露光工程後に続いて加熱するホットプレート式の加熱装置である。インク受容層３を形成する有機材料は、紫外線を照射させただけではインクを吸収しにくい性質にはならず、紫外線照射後さらに熱を加えることにより反応を開始し、インクを吸収しにくい性質、即ち疎水性を生ずる。この紫外線照射後の加熱はＰＥＢ（Post Exposure Bake）と呼ばれ、有機材料が硬化しない温度、例えば１２０°Ｃ程度の温度で行われる。露光装置２０３及び加熱装置２０４では、図１（ｃ）に対応する作業が行われる。
【００７２】２０５は、インクジェット方式によりインク受容層３を部分的にインクで着色するための着色部である。この着色部で行われる着色工程は、他の工程に比較して最も時間がかかるので、本実施形態では３台の着色装置を並行に運転させて、他の工程の処理時間とのバランスをとるようにしている。なお、ここで用いられる着色装置は、既に図７で説明した着色装置９０を用いる。この着色装置９０では、インクを吐出させるヘッドはインクジェット方式のヘッド５５であり、多数の吐出ノズルを有している。図１１は、インクジェットヘッド５５の部分を拡大して示した図であり、インクジェットヘッド５５は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色に対応して３つの吐出ヘッド５５ａ,５５ｂ,５５ｃを持つ構成となっている。着色装置の加工時間を短縮するために３つ以上の吐出ヘッドを持つ構成としてもよい。着色装置９０は露光装置２０３と同様の位置合わせ機構を備えており（図示せず）ガラス基板１に形成されたマークに対し位置決めが出来るようになっている。インクジェットヘッド５５は着色装置本体に固定されており、ガラス基板１をのせたＸＹθステージ５２が高精度に移動する。インクジェットヘッド５５にはインクの供給機構（図示せず）が備わっており、また吐出ノズルの目詰まりを回復させる機構（図示せず）が一定間隔毎に回復動作するようになっている。
【００７３】２０６は、着色されたガラス基板１の着色欠陥を検査するための検査装置である。また、２０７は、検査装置２０６により不良と判定されたガラス基板１を排出する装置で、ガラス基板１が搬送されるコンベアの側方に不良品を収納するカセットを持つ。コンベアの下には基板搬送用のロボットが待機している。各装置は図示しないネットワークで結合されており、例えば２０６の検査装置で判定された情報がネットワークを通じて不良排出装置２０７へ送られ、不良排出装置２０７は、その情報に基づいてガラス基板１を排出するか（不良品）、後工程に流すか（良品）の動作を行う。また、検査装置２０６には、ガラス基板１が不良と判断されたときに、その旨を作業者に知らせるための不図示の警報装置が備えられている。なお、検査装置２０６による不良検査は、インクがインク受容層３中に十分拡散した後に行うことが好ましい。なぜならば、インクが十分拡散されていない状態では白抜け等の不良があっても、インクが十分拡散された後には、このような白抜け等の不良がなくなる可能性があるからである。
【００７４】２０８は、着色されたガラス基板１のインクを乾燥させる乾燥装置でガラス基板を１枚ごとに投入できる構成のオーブン炉になっている。この乾燥装置では、インクを乾燥させることが目的であるので、加熱温度はインク受容層３の硬化温度よりも低い温度、例えば９０°Ｃ程度に設定されている。着色部２０５、乾燥装置２０８では、図１（ｄ）に対応する作業が行われる。
【００７５】２０９は、着色された部分を有するインク受容層３を硬化するための加熱装置で乾燥装置２０８と同様に基板を１枚ごとに投入できる構成のオーブン炉になっている。この加熱装置２０９では、ガラス基板１を例えば２３０°Ｃで加熱し、インク受容層３を完全に硬化させる。加熱装置２０９では図１（ｅ）に対応する作業が行われる。このように、インク受容層３を硬化させるのは、その後の仕上げ洗浄の工程でインクが流れ落ちてしまわないようにするためと、保護膜の形成工程で使用する有機溶媒によってインクが流れ落ちたり変色してしまったりすることを防止するためである。」
　
「【図１０】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
（３）本願補正発明と引用発明との対比
ア　対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「基板１１０」、「ブラックマトリックス１２０」、「ピクセル１５０（の内部）」、「インク液滴」及び「乾燥されたインク層１３１」が、それぞれ、本願補正発明の「基板」、「バンク」、「薄膜形成予定領域」、「塗布液」及び「塗布膜」に相当し、引用発明の「基板１１０上にブラックマトリックス１２０を形成し、ブラックマトリックス１２０によって、基板１１０上には複数のピクセル１５０が形成され、ピクセル１５０の内部に、インクジェットプリンティング方式によって、インクジェットヘッドのノズルから所定色相のインク液滴をピクセル１５０の内部に吐出させることによって、液状インク層１３０を形成し、液状インク層１３０を乾燥させて乾燥されたインク層１３１を形成」することが、本願補正発明の「基板上においてバンクにより規定された薄膜形成予定領域にインクジェット方式により塗布液を供給して塗布膜を形成」することに相当する。
　
　引用発明の「乾燥されたインク層１３１が形成された基板１１０を溶媒蒸気１７０で充填されたチャンバ１６０内に入れ、溶媒蒸気１７０は、乾燥されたインク層１３１の表面に浸透してインク層１３１の表面を溶解させ、これにより、乾燥されたインク層１３１の表面は、流動性を有するように」なることが、本願補正発明の「その後その塗布膜を軟化させて流動させる」ことに相当する。
　
　引用発明の「流動性を有する乾燥されたインク層１３２の表面は、表面エネルギーと重力とによって安定した形態に再形成され、均一な形状のインク層１３２を乾燥させ、ピクセル１５０の内部に均一な厚さを有するインク層１３３を形成する」ことが、本願補正発明の「塗布膜を前記薄膜形成予定領域に充填させる」ことに相当する。
　
　引用発明の「インクジェットプリンティング方式によって」、「液状インク層１３０を形成」する「カラーフィルタ製造のための装置」が、本願補正発明の「塗布装置」に相当する。
　
　引用発明の「ピクセル１５０の内部に、インクジェットプリンティング方式によって、インクジェットヘッドのノズルから所定色相のインク液滴をピクセル１５０の内部に吐出させることによって、液状インク層１３０を形成し、液状インク層１３０を乾燥させて乾燥されたインク層１３１を形成」する「インク層形成ユニット」と、本願補正発明の「基板上の前記薄膜形成予定領域に対してインクジェット方式により前記薄膜形成予定領域の全面には広がらず、隙間が形成されるように前記塗布膜を形成する塗布ユニット」とは、「基板上の薄膜形成予定領域に対してインクジェット方式により塗布膜を形成する塗布ユニット」である点で一致する。
　
　引用発明の「乾燥されたインク層１３１が形成された基板１１０を溶媒蒸気１７０で充填されたチャンバ１６０内に入れ、溶媒蒸気１７０は、乾燥されたインク層１３１の表面に浸透してインク層１３１の表面を溶解させ、これにより、乾燥されたインク層１３１の表面は、流動性を有するようになり、次いで、流動性を有する乾燥されたインク層１３２の表面は、表面エネルギーと重力とによって安定した形態に再形成され、均一な形状のインク層１３２を乾燥させ、ピクセル１５０の内部に均一な厚さを有するインク層１３３を形成」する「流動化ユニット」と、本願補正発明の「塗布膜が塗布された基板に対し有機溶剤雰囲気で前記塗布膜を軟化させ、前記薄膜形成予定領域の全面に広げ、前記薄膜形成予定領域に形成されていた隙間が埋められるようにリフローさせるリフローユニット」とは、「塗布膜が塗布された基板に対し有機溶剤雰囲気で前記塗布膜を軟化させ、前記薄膜形成予定領域の全面に広げるようにリフローさせるリフローユニット」である点で一致する。
　
イ　一致点
　よって、本願補正発明と引用発明は、
「基板上においてバンクにより規定された薄膜形成予定領域にインクジェット方式により塗布液を供給して塗布膜を形成し、その後その塗布膜を軟化させて流動させることにより、該塗布膜を前記薄膜形成予定領域に充填させる塗布装置であって、
　基板上の前記薄膜形成予定領域に対してインクジェット方式により前記塗布膜を形成する塗布ユニットと、
　塗布膜が塗布された基板に対し有機溶剤雰囲気で前記塗布膜を軟化させ、前記薄膜形成予定領域の全面に広げるようにリフローさせるリフローユニットと、
　を具備する塗布装置。」の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
ウ　相違点
（ア）相違点１；
　本願補正発明が、「基板に対して塗布前の前処理を行う前処理ユニット群」と「基板を処理の順に前記各ユニットに搬送する搬送機構」とを具備し、また、「前記各ユニットは処理の順に配列され、前記搬送機構は配列された前記各ユニットに対して基板を順次搬送する」のに対して、引用発明においては、それらの点の限定がない点。
　
（イ）相違点２；
　本願補正発明は、塗布膜の形成の工程（リフローの工程の前の時点）において「薄膜形成予定領域の全面には広がらず、隙間が形成されるように前記塗布膜を形成」し、また、リフロー(流動化）の工程において「前記薄膜形成予定領域に形成されていた隙間が埋められる」のに対して、引用発明においては、その点が明確でない点。
　
（４）当審の判断
ア　上記各相違点について検討する。
（ア）相違点１について
　引用例２には、インクジェット方式によりガラス基板に着色する着色工程（【００７２】）を含む一連のカラーフィルタ製造工程において、洗浄工程（【００６７】）や加熱・乾燥工程（【００６９】）等の「前処理を行う前処理装置（ユニット）群」と「基板を処理の順に前記各処理装置（ユニット）に搬送する搬送機構」（【図１０】）を具備し、「各処理装置（ユニット）は処理の順に配列され」、「搬送機構は配列された前記各処理装置（ユニット）に対して基板を順次搬送する」（【００６６】〜【００７５】及び【図１０】）ことが記載されている。
　引用発明を効率的に実施すべく、引用発明に、引用例２に記載された発明を適用し、上記相違点１に係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
（イ）相違点２について
　リフロー（流動化）工程前の塗布膜の形成について、当該「塗布膜」が「薄膜（塗布膜）形成予定領域」のどれだけの面積を覆うかについては、リフロー工程後の最終的に形成される膜の厚さ（すなわち、必要とされる塗布液の量）や、塗布液の粘度、基板表面に対する濡れ性等の塗布液自体の特性によって決まるものであり、これらの要件をどのように設定するかは、当業者が適宜決定し得る設計的事項である。そして、リフロー（流動化）工程前の塗布膜の形成について、当該「塗布膜」が「薄膜（塗布膜）形成予定領域」の全面には広がらず、隙間が形成されるように前記塗布膜を形成」した場合に、リフロー(流動化）の工程において「前記薄膜形成予定領域に形成されていた隙間が埋められる」ようにすることはリフローの工程を設ける趣旨からして当然のことに過ぎない。
　したがって、上記相違点２に係る本願補正発明の発明特定事項は、上記のような設計的事項を規定することによって当業者が容易になし得ることに過ぎない。
　なお、リフロー（流動化）工程前の塗布膜の形成について、当該「塗布膜」が「薄膜（塗布膜）形成予定領域の全面には広がらず、隙間が形成されるように前記塗布膜を形成」し、リフロー(流動化）工程において「前記薄膜形成予定領域に形成されていた隙間が埋められる」こと自体は、例えば、２００３−１４２２６１号公報（【図１】(b)(c)参照）にも示唆されているように周知の技術的事項である。
　
イ　本願補正発明の奏する作用効果
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明及び引用例２に記載された発明から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　まとめ
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明及び引用例２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
３　むすび
　したがって、本願補正発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるということができないから、本件補正は、特許法第１７条の２第６項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
 第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２２年７月２日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２２年２月１２日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記「第２　平成２２年７月２日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例の記載事項及び引用発明については、上記「第２　平成２２年７月２日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　上記「第２　平成２２年７月２日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」に記載したように、本願発明に対して、（１）「塗布膜形成予定領域」を「薄膜形成予定領域」とする補正事項、及び、（２）塗布膜の形成について、塗布したときは「全面には広がらず」軟化によって「全面に広げ」ることを特定して限定する補正事項を特定して限定したものが本願補正発明である。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、本願発明をさらに限定しものに相当する本願補正発明が、上記「第２　平成２２年７月２日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（３）本願補正発明と引用発明との対比」及び「（４）当審の判断」において記載したとおり、引用発明及び引用例２に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様に、引用発明及び引用例２に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、引用発明及び引用例２に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。