【事件の表示】
　特願２００２−３３４９７６「位相差フィルムの製造方法、および位相差フィルム」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　６月１７日出願公開、特開２００４−１７０５９５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件は、平成１４年１１月１９日の出願であって、平成２１年１月１４日付で拒絶査定がなされ、これに対して同年２月１６日に拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。
　
２．本願発明
　本願発明は、平成２０年１２月１６日付手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載から見て、その明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至５に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、そのうち、請求項１に係る発明(以下「本願発明」という。)は、以下のとおりである。
　
「【請求項１】　光照射や加熱により分子運動を生じ、それに基づく分子配向により複屈折を誘起する複屈折誘起材料に、光照射操作および加熱冷却操作を加え作製する位相差フィルムの製造方法であって、
　少なくとも 前記複屈折誘起材料の光吸収波長域と異なる波長域に光吸収性を有し、かつ光吸収により励起したエネルギを前記複屈折誘起材料に転移可能なエネルギ転移材料を、あらかじめ前記複屈折誘起材料に添加することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。」
　
３．引用例の記載
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開２００２-２０２４０９号公報（原査定における引用文献１。以下「引用例１」という。）には、以下の記載がある。なお、下線は当審にて付与した。
　
（１ａ）「【請求項１】　
感光性の重合体と低分子化合物の混合体に光照射する操作を含む工程で作製され
位相差フィルムおよびその製造方法
【請求項２】　請求項１において
感光性の重合体が液晶性を有する
【請求項３】　請求項１および請求項２において
感光性の重合体が少なくとも１つ化学式１から化学式９で表される構造を少なくとも１つ有する共に、化学式１０で表される主鎖が炭化水素、アクリレート、メタクリレート、マレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、シロキサンなどである感光性の単独重合体または共重合体であり、低分子化合物が、化学式１１または化学式１２で表される分子構造を有する
（
化学式は省略
【請求項４】　請求項１、請求項２および請求項３において照射する光が、直線偏光または完全偏光成分と非偏光成分が混在している位相差フィルムおよびその製造方法。
【請求項５】　請求項１、請求項２、請求項３および請求項４において感光性の重合体と低分子化合物の混合体のフィルムに表裏面両方向から光照射する操作を含む工程で作製されることを特徴とする、位相差フィルムおよびその製造方法。
【請求項６】　請求項１、請求項２、請求項３、請求項４および請求項５に記載の位相差フィルムおよびその製造方法において、
加熱、および／または冷却する工程
位相差フィルムおよびその製造方法
【請求項７】　請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５および請求項６に記載の位相差フィルムおよびその製造方法において、該フィルムを構成する感光性の重合体ないしは低分子化合物が架橋する工程を含むことを特徴とする位相差フィルムおよびその製造方法。」
　
（１ｂ）「【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、
感光性の重合体と低分子化合物の混合体の膜に、直線偏光性の紫外線ないしは、完全偏光成分と非偏光成分が混在する紫外線または、非偏光性の紫外線を照射する（以下、露光という）ことによって、分子配向させ該高分子材料内に位相差と光軸方向を任意に発現させた位相差フィルム
　
（１ｃ）「【０００５】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の詳細を説明する。前述の感光性の重合体は、
液晶性高分子のメソゲン成分として多用されているビフェニル、ターフェニル、フェニルベンゾエート、アゾベンゼンなどの置換基
感光性基を結合した構造を含む側鎖を有し
炭化水素、アクリレート、メタクリレート
シロキサンなどの構造を主鎖に有する高分子
混合する低分子化合物も、メソゲン成分として多用されているビフェニル、ターフェニル、フェニルベンゾエート、アゾベンゼンなどの置換基を有し、該メソゲン成分とアリル、アクリレート、メタクリレート、桂皮酸基（または、その誘導体基）などの官能基を、屈曲性成分を介してまたは、介さず結合した結晶性または、液晶性を有する化合物
　該感光性の重合体と低分子化合物の混合溶液を基材上に塗布（スピンコートないしはキャスト）した塗布膜（フィルム）を形成する。該膜は、製膜時には等方性であり、感光性の重合体の側鎖部および低分子化合物は特定方向を向いていない。
偏光露光した場合
　塗布膜２０中では、長楕円で示される感光基を有し照射偏光紫外線Ｌの振動方向ｍかつ照射光進行方向に対し垂直方向に対応した向きにある感光性の高い配置の側鎖２ａと感光性の乏しい配置の側鎖２ｂおよび円柱で示される液晶性化合物２ｃが無秩序に共存している。該
膜を偏光露光すると、照射光の電界振動方向かつ進行方向に対し垂直方向に対応した向きにある配置の側鎖２ａの光反応が優先的に進行する。この光反応を進めるには、化学式１から化学式９の感光性基の部分が反応し得る波長の光の照射を要する
【０００６】図３は、図２の膜２０に光照射し反応が進行した後の膜３０を示す。
偏光露光後の分子運動により、図３に示すように、光反応を起こさなかった重合体の側鎖３ｂ（２ｂ）と低分子化合物３ｃ（２ｃ）は再配向する。即ち、偏光の電界振動方向と照射光進行方向の双方に対し垂直方向に向いていなかったため、光反応を起こさなかった重合体の側鎖３ｂ（２ｂ）と低分子化合物３ｃ（２ｃ）は、光反応した側鎖３ａ（２ａ）と同じ方向に再配向する。その結果、塗布膜全体において、照射した直線偏光の電界振動方向かつ照射光進行方向に対し垂直方向に重合体の側鎖と低分子化合物の分子が配向し、複屈折が誘起され位相差フィルム
基板を加熱することにより促進される
【０００７】低分子化合物は、適量ならば曇り度を抑制する効果がある反面、過剰に添加すると曇り度の増加、配向性の低下を引き起こす。このような観点から、感光性の重合体または低分子化合物の種類にもよるが、低分子化合物を０．１ｗｔ％〜８０ｗｔ％添加しても位相差フィルムは製造可能であるが、好ましくは５ｗｔ％〜５０ｗｔ％であることが望ましい。ここで、感光性の重合体と低分子化合物の相溶性が十分でない場合には、製膜時ないしは露光後の基板の加熱によって相分離や可視光の散乱を誘起しうる大きさの結晶を生成し曇り度の増加の原因となる。この相分離や微結晶の生成を抑制するためには、重合体と低分子化合物の相溶性を調節する必要がある。この相溶性の尺度としてＰｏｌｙｍｅｒ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　ａｎｄ　Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｖｏｌ．７，Ｎｏ．２，１４７（１９７４）に記載されているような蒸発エネルギー（ΔEｖ）と分子容（V）から計算式（１）をもって算出される溶解性パラメーター（σ）を便宜的に利用でき、重合体と低分子化合物の溶解性パラメーター（σ）の比：ｚが、０．９３＜ｚ＜１．０６の範囲である場合に相分離や微結晶の生成を効果的に抑制できることが実験により判明している。
　　　　　　　　　　σ＝（ΔEｖ／Ｖ）1/2　　　　　　　計算式（１）
【０００８】膜厚を厚くしより大きな位相差を得る手法として、膜を積層する方法が挙げられる。この場合、先に製膜し露光した膜上に材料溶液を塗布し積層するが、この先に形成された膜の破壊を防ぐために、溶解性を下げた溶媒に重合体および低分子化合物を溶解し用いることが有効である。また、感光性の重合体と低分子化合物の混合体の膜に表裏面から露光することによって、複屈折がより効率よく発現するようになる。この場合、感光性の重合体と低分子化合物の混合体は支持体上に塗布するなどして製膜され、露光は膜面に直接または支持体を介してもよい。支持体を介する場合には、支持体は感光性の重合体の反応しうる波長の光の透過性を有している限りどのような材料でも良いが、光透過率が高い程、露光量が少なくて済み、製造工程上有利となる。また、剥離性の支持体上で感光性の重合体と低分子化合物の混合体を製膜し、剥離後、膜の表裏面より露光することもできる。
【０００９】感光性の側鎖型液晶性高分子の原料化合物および低分子化合物に関する合成方法を以下に示す。
（単量体１）４，４’−ビフェニルジオールと２−クロロエタノールを、アルカリ条件下で加熱することにより、４−ヒドロキシ−４’−ヒドロキシエトキシビフェニルを合成した。この生成物に、アルカリ条件下で１，６−ジブロモヘキサンを反応させ、４−（６−ブロモヘキシルオキシ）−４’−ヒドロキシエトキシビフェニルを合成した。次いで、リチウムメタクリレートを反応させ、４−ヒドロキシエトキシ−４’−（６’−ビフェニルオキシヘキシル）メタクリレートを合成した。最後に、塩基性の条件下において、塩化シンナモイルを加え、化学式１３に示されるメタクリル酸エステルを合成した。
【化１３】（省略）
【００１０】（単量体２）４，４’−ビフェニルジオールと２−クロロヘキサノールを、アルカリ条件下で加熱することにより、４−ヒドロキシ−４’−ヒドロキシエトキシビフェニルを合成した。この生成物に、アルカリ条件下で１，６−ジブロモヘキサンを反応させ、４−（６−ブロモヘキシルオキシ）−４’−ヒドロキシエトキシビフェニルを合成した。次いで、リチウムメタクリレートを反応させ、４−ヒドロキシエトキシ−４’−（６’−ビフェニルオキシヘキシル）メタクリレートを合成した。最後に、塩基性の条件下において、４−メトキシ塩化シンナモイルを加え、化学式１４に示されるメタクリル酸エステルを合成した。
【化１４】（省略）
【００１１】（重合体１）単量体１をテトラヒドロフラン中に溶解し、反応開始剤としてAIBN（アゾビスイソブチロニトリル）を添加して重合することにより重合体１を得た。この重合体１は、４７−７５℃の温度領域において、液晶性を呈した。
【００１２】（重合体２）単量体２をテトラヒドロフラン中に溶解し、反応開始剤としてAIBNを添加して重合することにより重合体２を得た。この重合体２も液晶性を呈した。
【００１３】（低分子化合物１）４，４’−ビフェニルジオールと１，６−ジブロモヘキサンを、アルカリ条件下で反応させ、４，４’− ビス（６−ブロモヘキシルオキシ）ビフェニルを合成した。次いで、リチウムメタクリレートを反応させ、生成物をカラム精製することにより化学式１５に示される低分子化合物１を合成した。
【化１５】（省略）
【００１４】（低分子化合物２）４，４’−ビフェニルジオールと２−クロロエタノールを、アルカリ条件下で反応させ、４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ビフェニルを合成した。次いで、塩基性の条件下において、塩化シンナモイルを加え反応させ、生成物をカラム精製することにより化学式１６に示される低分子化合物２を合成した。
【化１６】（省略）
【００１５】（低分子化合物３）４，４’−ビフェニルジオールと６−ブロモヘキサノールを、アルカリ条件下で反応させ、４，４’−ビス（６−ブロモヘキシルオキシ）ビフェニルを合成した。次いで、塩基性の条件下において、塩化シンナモイルを加え反応させ、生成物をカラム精製することにより化学式１７に示される低分子化合物３を合成した。
【化１７】（省略）
【００１６】（低分子化合物４）４，４’−ビフェニルジオールと６−ブロモヘキサノールを、アルカリ条件下で加熱することにより、４−ヒドロキシエトキシ−４’−ヒドロキシヘキシルオキシビフェニルを合成した。この生成物に、アルカリ条件下で１，６−ジブロモヘキサンを反応させ、４−（６−ブロモヘキシルオキシ）−４’−ヒドロキシヘキシルオキシビフェニルを合成した。次いで、リチウムメタクリレートを反応させ、生成物をカラム精製することにより４−（６−メタクリロイルヘキシルオキシ）−４’−ヒドロキシヘキシルオキシビフェニルを合成した。最後に、塩基性の条件下において、塩化シンナモイルを加え反応させ、化学式１８に示される低分子化合物４を合成した。
【化１８】（省略）」
　
（１ｄ）「【００１９】【実施例】図１には、本発明の位相差フィルムを直線偏光性の紫外光を露光することにより作製する場合の製造方法（装置）の例を示す。但し、本発明の位相差フィルムの製造方法はこれに限定されるものではない。電源１２によって励起された紫外線ランプ１１で発生した無秩序光１６は、光学素子１３（例えば、グランテーラープリズム）をもって直線偏光性の紫外線１７に変換され、基材１５上に塗布（コート）された感光性の側鎖型液晶性高分子と液晶性化合物の膜１４を照射する。実施例１から１２は、本発明の製造法により、光軸の傾いた位相差フィルムを作製した実施例である。
【００２０】（実施例１）３．７５重量％の重合体１および１．２５重量％の低分子化合物１をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して４５度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で１００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から６７°傾いており、基板面内の位相差は３１ｎｍであり、曇り度は殆どなく実用に十分耐えうるものであった。
【００２１】（実施例２）３．７５重量％の重合体１および１．２５重量％の低分子化合物２をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して４５度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で４００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から６８°傾いており、基板面内の位相差は４ｎｍであった。
【００２２】（実施例３）３．７５重量％の重合体１および１．２５重量％の低分子化合物３をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して４５度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で４００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から６７°傾いており、基板面内の位相差は２５ｎｍであった。
【００２３】（実施例４）３．７５重量％の重合体１および１．２５重量％の低分子化合物４をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して４５度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で２００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から６７°傾いており、基板面内の位相差は４３ｎｍであった。
【００２４】（実施例５）３．７５重量％の重合体１および１．２５重量％の単量体１をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して４５度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で２００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から６９°傾いており、基板面内の位相差は３５ｎｍであった。
【００２５】（実施例６）３．７５重量％の重合体２および１．２５重量％の低分子化合物１をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して４５度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で１００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から６７°傾いており、基板面内の位相差は２５ｎｍであった。
【００２６】（実施例７）３．７５重量％の重合体２および１．２５重量％の低分子化合物２をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して４５度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で４００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から６７°傾いており、基板面内の位相差は３ｎｍであった。
【００２７】（実施例８）３．７５重量％の重合体２および１．２５重量％の低分子化合物３をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して４５度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で４００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から６５°傾いており、基板面内の位相差は２３ｎｍであった。
【００２８】（実施例９）３．７５重量％の重合体２および１．２５重量％の低分子化合物４をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して４５度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で２００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から６８°傾いており、基板面内の位相差は３９ｎｍであった。
【００２９】（実施例１０）３．７５重量％の重合体２および１．２５重量％の単量体１をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して４５度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で２００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から６７°傾いており、基板面内の位相差は３０ｎｍであった。
【００３０】（実施例１１）３．７５重量％の重合体１および１．２５重量％の低分子化合物１をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して２０度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で２００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から８１°傾いており、基板面内の位相差は２９ｎｍであった。
【００３１】（実施例１２）３．７５重量％の重合体１および１．２５重量％の低分子化合物４をジクロロエタンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約１μｍの厚さでスピンコートした。該基板を水平面に対して２０度傾くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で２００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、１００℃に加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板は、光軸が基板の法線方向から８０°傾き、基板面内の位相差は３９ｎｍであった。」
　
　上記の各事項から、引用例１には以下の発明（以下、「引用例発明」という。）が記載されている。
「加熱、光の照射により分子が配向し複屈折が誘起される感光性の重合体と低分子化合物の混合体に、光の照射する操作を含む工程、加熱する工程を含む位相差フィルムの製造方法であって、
化学式１から化学式９の感光性基の部分が反応し得る波長の光を照射し偏光露光すると、照射光の電界振動方向かつ進行方向に対し垂直方向に対応した向きにある配置の側鎖２ａの光反応が優先的に進行し、偏光露光後の分子運動により、振動方向と照射光進行方向の双方に対し垂直方向に向いていなかったため、光反応を起こさなかった重合体の側と低分子化合物は、光反応した側鎖と同じ方向に再配向する位相差フィルムの製造方法」
　
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開２００１−１０００２８号公報（原査定における引用文献２。以下「引用例２」という。）には、以下の記載がある。
　
（２ａ）「【００１７】固定化は、
一般式(I)で表されるディスコティック液晶性分子に導入した重合性基の重合反応により実施することが好ましい。重合は、光線（本発明では、紫外線）を照射して、光重合反応によって行う
そのため、ディスコティック液晶性分子を含む塗布液中には、光重合開始剤を含む
ディスコティック液晶性分子の側鎖に含まれるシンナモイル基は、光線に対して活性である
ディスコティック液晶性分子の副反応を伴う
光重合開始剤の紫外線極大吸収波長とディスコティック液晶性分子の紫外線極大吸収波長との差が１５ｎｍ以上である光重合開始剤を使用する方法
　
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開２０００−３５２６２０号公報（原査定における周知文献１。以下、「周知例１」という）には、以下の記載がある。
（３ａ）「【０１２８】又
上記光反応開始剤も光増感剤としても使用出来る
　
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開２００２−２６５６３６号公報（原査定における周知文献２。以下、「周知例２」という）には、以下の記載がある。
（４ａ）「【０３１６】　又
上記光反応開始剤も光増感剤としても使用出来る
　
４．対比
　引用例発明の「加熱、光の照射により分子が配向し複屈折が誘起される感光性の重合体と低分子化合物の混合体」は、本願発明の「光照射や加熱により分子運動を生じ、それに基づく分子配向により複屈折を誘起する複屈折誘起材料」に相当する。
　引用例発明の「光の照射する操作を含む工程、加熱する工程を含む位相差フィルムの製造方法」は、本願発明の「光照射操作および加熱冷却操作を加え作製する位相差フィルムの製造方法」に相当する。
　引用例発明の「化学式１から化学式９の感光性基の部分が反応し得る波長の光を照射し偏光露光すると、照射光の電界振動方向かつ進行方向に対し垂直方向に対応した向きにある配置の側鎖２ａの光反応が進行」することは、本願発明の「光吸収により励起したエネルギを複屈折誘起材料に転移」することと、「光吸収により」「複屈折材料に」「エネルギ」を与え「励起」させたことで共通する。
　
　したがって、本願発明と引用例発明とは、
「光照射や加熱により分子運動を生じ、それに基づく分子配向により複屈折を誘起する複屈折誘起材料に、光照射操作および加熱冷却操作を加え作製する位相差フィルムの製造方法であって、
　光吸収により複屈折材料にエネルギを与え励起させた位相差フィルムの製造方法。」で一致し、
以下の点で相違する。
　
（相違点）
　本願発明では、光吸収により複屈折材料にエネルギを与え励起させるために、「複屈折誘起材料の光吸収波長域と異なる波長域に光吸収性を有し、かつ光吸収により励起したエネルギを前記複屈折誘起材料に転移可能なエネルギ転移材料を、あらかじめ前記複屈折誘起材料に添加」しているのに対して、引用例発明では、「化学式１から化学式９の感光性基の部分が反応し得る波長の光を照射し偏光露光すると、」「感光性の重合体と低分子化合物の混合体」の「照射光の電界振動方向かつ進行方向に対し垂直方向に対応した向きにある配置の側鎖２ａの光反応が進行」しており、「光吸収により励起したエネルギを前記複屈折誘起材料に転移可能なエネルギ転移材料を、複屈折誘起材料」に「添加」して利用していない点。
　
５．判断
５−１．相違点について
　光学補償シート（位相差板）に関する技術に関する引用例２には、「ディスコティック液晶性分子の副反応」を防止するために「ディスコティック液晶性分子を含む塗布液中に」「光重合開始剤の紫外線極大吸収波長とディスコティック液晶性分子の紫外線極大吸収波長との差が１５ｎｍ以上である光重合開始剤を使用する」ことが記載されている。
　ここで、光重合開始剤が光増感剤として使用できることは、従来周知である（上記（３ａ）（４ａ）参照）。
　したがって、引用例発明において、「複屈折誘起材料の光吸収波長域と異なる波長域に光吸収性を有し、かつ光吸収により励起したエネルギを前記複屈折誘起材料に転移可能なエネルギ転移材料を、あらかじめ前記複屈折誘起材料に添加」することに、格別の困難性はない。
　
５−２．請求人の主張について
（１）光と加熱による配向
　審判請求人は、光照射によって配向させている点について、平成２０年９月１７日付意見書で、以下のように主張する。
『引用文献２では、ディスコティック液晶材料は加熱前にあらかじめ配向膜によって分子が特定方向に配向させられており、これに加えられた光重合開始剤が加熱を受けてラジカルを発生し、配向した分子間を架橋して配向状態を固定するものです。すなわち、引用文献２の光重合開始材は、液晶材料の配向を促進させる役割は果たしていません。』
　さらに、平成２１年３月１６日付手続補正書でも、以下のように主張する。
『（本願発明の説明）
 本発明の「複屈折誘起材料」は、平成２０年１２月１６日付け手続補正書で補正した請求項１に定義のように、「光照射と加熱により分子運動を生じ、それに基づく分子配向により複屈折を誘起する複屈折誘起材料」です。この材料は、偏光照射による光反応の異方性を利用して配向制御する、一般的に「光配向技術」と言われる技術に関連するもので、本発明の「複屈折誘起材料」もこの光配向技術によるものです。
 この複屈折誘起材料は、偏光性の紫外光照射により、膜中に光反応（＝架橋点）が異方的に生じ、この架橋点に基づく分子配向（＝複屈折）を誘起する材料です。配向を誘起する因子は異方的な光反応です。
・・・
（引用発明の説明）
 これに対し、従来技術は、液晶性分子を配向膜上で配向させるものであり、例えば、予めラビング処理（液晶表示装置の製造において、液晶セル中の液晶分子を配向させるのに用いられる一般的な配向処理方法）などの方法により物理的異方性を付与した膜（一般的に配向膜を呼ばれるものです）上に液晶分子を塗布接触させ配向膜に付与された物理的異方性によって塗布した液晶分子の配向を配向膜上で誘起するものです。配向を誘起するする因子は、配向膜に付与された物理的異方性です。
 従来技術の引用文献２でも、（段落００１６、３５行目、発明実施の形態）において、
「光学的異方性層は、ディスコティック液晶性分子を含む塗布液を透明支持体上の塗布し（好ましくは、垂直配向膜（２２）上に塗布する）、塗布層を形成し、配向処理して配向液晶性分子層とした後、該配向液晶性分子層に光線を照射して重合させることによって、配向状態を保持させながら該液晶性分子の配向を固定して形成する。」と記載がある。
また、（段落００７７）以降には「垂直配向膜」に関する記載、（段落００９６、３４行目）には、「配向膜の形成において、ラビング処理を実施することが好ましい。ラビング処理は、上記ポリアクリル酸共重合体（またはポリメタクリル酸共重合体）を含む膜の表面を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施する。配向膜を用いて液晶性分子を実質垂直に配向させてから、・・・」の記載があり、引用文献２における、配向を誘起する因子は配向膜の物理的異方性を利用しているものです。続く紫外線照射は、配向膜によって誘起された配向を固定するためのもので、配向を誘起させる作用を有しているものではありません。
また、引用文献２のディスコティック液晶分子は、配向膜による物理的異方性により配向することにより、複屈折を誘起する材料と言えますので、本発明の請求項１に定義する「光照射と加熱により分子運動を生じ、それに基づく分子配向により複屈折を誘起する複屈折誘起材料」とは異とする材料です。』
　
　確かに、引用例２における配向は、配向膜によって液晶性分子の配向を誘起させている。しかしながら、引用例発明では、「膜を偏光露光すると、照射光の電界振動方向かつ進行方向に対し垂直方向に対応した向きにある配置の側鎖２ａの光反応が優先的に進行する」（上記１ｃ【０００５】参照）とともに、「偏光露光後の分子運動により、図３に示すように、光反応を起こさなかった重合体の側鎖３ｂ（２ｂ）と低分子化合物３ｃ（２ｃ）は再配向する。即ち、偏光の電界振動方向と照射光進行方向の双方に対し垂直方向に向いていなかったため、光反応を起こさなかった重合体の側鎖３ｂ（２ｂ）と低分子化合物３ｃ（２ｃ）は、光反応した側鎖３ａ（２ａ）と同じ方向に再配向する。その結果、塗布膜全体において、照射した直線偏光の電界振動方向かつ照射光進行方向に対し垂直方向に重合体の側鎖と低分子化合物の分子が配向し、複屈折が誘起され位相差フィルムとなる」（上記１ｃ【０００６】参照）のであるから、引用例発明でも光開始剤によって開始した反応を伴わないものの、「光の照射と加熱によって」進行した光反応によって「分子配向」を促進しているものと認められる。
　
（２）光照射の偏光面
　さらに、審判請求人は、光照射の偏光面（異方性）について、平成２１年３月１６日付手続補正書で以下のように主張する。
『また、本発明のエネルギ転移材料は、明細書（段落０００５、下から６行）に、「偏光した光を照射したときに誘起する光照射による励起エネルギは、その異方性を保ったまま複屈折誘起材料にエネルギ転移する」と記載するように、光反応が異方性（偏光照射光の電界振動方向に並行）を以って増感される点でこれまでの従来技術と相違するものです。
　本発明は上記の「複屈折誘起材料」と「エネルギ転移材料」を組み合わせることによって成し遂げられたもので、エネルギ転移材料を用いた場合でも、配向を誘起する因子である異方的な光反応が、異方性を保ったまま増感されることを見出し本発明に至ったものです。』
　
　本願発明においては、「複屈折誘起材料」の「分子配向」の基となる「分子運動を生じる」原因は「光照射や加熱」であって、「複屈折誘起材料の光吸収波長域と異なる波長域に光吸収性を有し、かつ光吸収により励起したエネルギを前記複屈折誘起材料に転移可能なエネルギ転移材料」は、「予め添加する」ものであって、「分子配向」の基となる「分子運動を生じる」原因ものであることは規定されていない。しかしながら、もし、引用例発明において、「エネルギ転移材料」すなわち「光開始剤」によって開始した反応を伴わせたとしても、その「分子配向」を促進する効果は、引用例発明において光反応によって優先的に進行する側鎖の反応がさらに強化されるという、光開始剤が添加されることで当然付随する程度のものに過ぎない。
　
　以上のことから、審判請求人の上記主張は採用できない。
　
５−３．まとめ
　以上のことから、本願発明は、引用例発明及び引用例２に記載された技術的事項及び従来周知の技術から、当業者が容易に想到し得たものである。
　
６．むすび
　したがって、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、この特許出願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。