【事件の表示】
　特願２００５−　４７１７５「リソグラフィ装置用の搬送システム及びデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　９月　８日出願公開、特開２００５−２４４２３２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　
　本願は、パリ条約に基づく優先権主張（米国、優先権主張の日：平成１６年２月２４日）を伴って、平成１７年２月２３日に出願された特願２００５−４７１７５号であって、平成１９年１２月３日付けで拒絶理由が通知され、それに対して平成２０年３月３日付けで意見書ならびに手続補正書が提出され、さらに平成２０年３月１７日付けで拒絶理由が通知され、それに対して同年６月１９日付けで意見書ならびに手続補正書が提出されたものの、同年７月３日付けで拒絶査定がされた。
　
　本件は、前記拒絶査定を不服として平成２０年１０月３日に請求された拒絶査定不服審判事件であって、同日付けで手続補正がなされ、その後、当審において平成２２年２月２４日付けで審尋がなされ、同年５月２４日付けで回答書が提出されている。
　
２．本願発明
　
　平成２０年１０月３日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）は、特許請求の範囲を補正するものであって、その請求項１についての補正は、補正前（平成２０年６月１９日付け手続補正によって補正。以下、同じ。）の請求項１を削除して、補正前の従属形式の請求項８を独立形式の請求項として新たな請求項１とするものであるから、当該補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第１号の請求項の削除を目的とする適法な補正であることは明らかである
　　
　したがって、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された次の事項により特定されるとおりのものと認める。
　
「【請求項１】
　放射ビームを供給するように構成された照明装置と、
　パターン形成デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン形成デバイスが前記ビームの断面にパターンを与えるように構成されている支持構造と、
　基板を保持するように構成された基板テーブルと、
　前記パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムとを備えるリソグラフィ装置と、
　１つ又は複数の処理デバイスを備えるトラックと、
　前記トラックと前記リソグラフィ装置との間の搬送装置通路に沿って、前記基板を搬送するように構成された搬送システムとを備え、
　前記搬送システムは、所望の形に形成可能であり、
　前記搬送システムは、それ自体のミニ環境を備え、
　前記トラック及び前記リソグラフィ装置は、それぞれの長手方向の少なくとも一部に沿って並列に配置され、前記搬送システムは、前記トラック及び前記リソグラフィ装置の短手方向の少なくとも一部に沿って進む、リソセル。」
　
３．引用例
　
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平５−２５１３３７号公報（以下，「引用例」という。）には，図面と共に以下の事項が記載されている（下線は当審で付した）。
　
ａ．「【０００２】
【従来の技術】
ホトリソグラフィ技術
　
ｂ．「【０００６】次に、ホトレジスト膜に露光処理が施され、回路パターンに対応したレジストパターンが形成される。露光処理に用いられる露光装置としては、例えば以下のものがある。
露光に用いる光として紫外線や遠紫外線を用いるものとして、縮小プロジェクションアライナ（ステッパ）、反射プロジェクションアライナ、反射縮小プロジェクションアライナ等があり、電子線を用いるものとして、ＥＢ露光機（電子ビーム露光機）があり、そのほかＸ線やイオンビームを用いるものが知られている
　
ｃ．「【００２７】図１において、本発明の第１の実施例を説明する。この実施例では、図３の従来例の各ユニットの数と同数としてある。１２台の露光装置本体１ａ〜１ｌおよび１２台の制御ラック２ａ〜２ｌは、環状に配置され、その内側にはインターフェイスユニット３がやはり環状に配置されている。このインターフェイスユニット３は１２台の露光装置本体１ａ〜１ｌと自由にウエハの受渡しができるインターフェイス機能と搬送機能とを備えている。」
　
ｄ．「【００３１】図６において、本発明の第３の実施例を説明する。本発明の第３の実施例においては、露光装置本体１ａ〜１ｌと、ホトレジストコーティング処理ユニット５ａ〜５ｌおよび現像処理ユニット７ａ〜７ｌの設置エリアを完全に分離した例である。インターフェイスユニット３の一方の端部の両側に露光装置本体１ａ〜１ｆと露光装置本体１ｇ〜１ｌを配置し、インターフェイスユニット３の他方の端部の片側にホトレジストコーティング処理ユニット５ａ〜５ｌとベーク処理ユニット６ａ〜６ｌを配置し、さらに他の片側に現像処理ユニット７ａ〜７ｌとベーク処理ユニット８ａ〜８ｌを配置してなる。」
　
ｅ．「【００３３】図８において、本発明の第５の実施例を説明する。
本発明の第５の実施例において、１つのインターフェイスユニット３に沿ってホトレジスト塗布処理のホトレジストコーティング処理ユニット５ａ〜５ｌとベーク処理ユニット６ａ〜６ｌ、露光処理の露光装置本体１ａ〜１ｌとラック２ａ〜２ｌ、および現像処理の現像処理ユニット７ａ〜７ｌおよびベーク処理ユニット８ａ〜８ｌが処理の順に配置されて構成される。それぞれの処理ユニットはインターフェイスユニット３の片側に配置されたものであり，装置の設置距離が長くなるものの、処理の順に装置が配置されているので保守が容易となっている
　
ｆ．図１
　　
　　
ｇ．図６
　　
　　
ｈ．図８
　　
　　
〔摘記事項からの認定事項〕
　上記摘記事項ｃ．〜ｈ．によれば、引用例には、保守性等を考慮して、露光装置本体や各種処理ユニットの配置の仕方を様々に変形できることが示されており、そのような露光装置本体や各種処理ユニットの配置の仕方に応じて、インターフェイスユニット３の形状が形成されていることが示されているといえる。
　　
　これらの記載事項及び認定事項を総合すると,引用例には，次の発明（以下，「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　　
「縮小プロジェクションアライナ（ステッパ）、反射プロジェクションアライナ、反射縮小プロジェクションアライナ、ＥＢ露光機（電子ビーム露光機）、そのほかＸ線やイオンビームを用いる露光装置本体と、
　ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットと、
　露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットに沿って配置され、自由にウエハの受渡しができるインターフェイス機能と搬送機能とを備えたインターフェイスユニットとを備え、
　露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットの配置の仕方に応じて、インターフェイスユニットの形状が形成されており、
　露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットが並列に配置されているホトリソグラフィの装置。」
　
　
４．本願発明と引用発明との対比
　
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
＜対応関係Ａ＞
　引用発明の「ウエハ」、「ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニット」および「ホトリソグラフィの装置」は、それぞれ本願発明の「基板」、「１つ又は複数の処理デバイスを備えるトラック」および「リソセル」に相当する。
　
＜対応関係Ｂ＞
　引用発明の「露光装置本体」は、露光のためのものであるから、引用発明における露光のための手段（照明装置、支持構造、基板テーブル、投影システム等）を備える「リソグラフィ装置」に相当する。
　
＜対応関係Ｃ＞
　引用発明の「インターフェースユニット」は、露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットに沿って配置され、かつ、自由にウエハの受渡しをなし得る搬送機能を有するものであるから、技術常識を踏まえると、露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットに沿ってウエハを運ぶための搬送用の通路を含むことは明らかであるので、本願発明の「前記トラックと前記リソグラフィ装置との間の搬送装置通路に沿って、前記基板を搬送するように構成された搬送システム」に相当する。
　
＜対応関係Ｄ＞
　引用発明において、「露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットの配置の仕方に応じて、インターフェイスユニットの形状が形成」されることと、本願発明における「搬送システムは、所望の形に形成可能」であることとは、「搬送システムは、所定の形に形成」される点で共通する。
　
＜対応関係Ｅ＞
　引用発明において、「露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットが並列に配置」されており、かつ、「インターフェースユニット」が露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットに沿って配置され搬送を行うということは、技術常識を踏まえれば、上記＜対応関係Ｃ＞で述べた搬送用の通路を移動する搬送用の装置が有ることは明らかであるから、本願発明における「前記トラック及び前記リソグラフィ装置は、それぞれの長手方向の少なくとも一部に沿って並列に配置され、前記搬送システムは、前記トラック及び前記リソグラフィ装置の短手方向の少なくとも一部に沿って進む」ことと、「トラックおよびリソグラフィ装置は、それぞれの少なくとも一部に沿って並列に配置され、搬送システムは、トラックおよびリソグラフィ装置の少なくとも一部に沿って進む」点で共通する。
　
　そうしてみると、本願発明と引用発明とは、
　
「リソグラフィ装置と、
　１つ又は複数の処理デバイスを備えるトラックと、
　前記トラックと前記リソグラフィ装置との間の搬送装置通路に沿って、基板を搬送するように構成された搬送システムとを備え、
　前記搬送システムは、所定の形に形成され、
　前記トラックおよび前記リソグラフィ装置は、それぞれの少なくとも一部に沿って並列に配置され、前記搬送システムは、前記トラックおよび前記リソグラフィ装置の少なくとも一部に沿って進む、リソセル。」の点で一致し、以下の点で相違する。
　　
（相違点１）
　「リソグラフィ装置」に関して、本願発明は「放射ビームを供給するように構成された照明装置と、パターン形成デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン形成デバイスが前記ビームの断面にパターンを与えるように構成されている支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムとを備える」という構成を有するのに対して、引用発明は当該構成を有することが明示されていない点。
　
（相違点２）
　「搬送システム」の形状について、本願発明は「所望の形に形成可能」であるのに対して、引用発明のインターフェースユニットは、露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットの配置の仕方に応じて形成される点。
　
（相違点３）
　「搬送システム」の環境に関して、本願発明は「それ自体のミニ環境を備え」るのに対して、引用発明のインターフェースユニットは、そのような構成を採用していない点。
　　
（相違点４）
　「トラック」と「リソグラフィ装置」とを並列配置する際の関係について、本願発明は「それぞれの長手方向」に沿って並列配置しているのに対して、引用発明はそのような限定がない点。
　
（相違点５）
　「搬送システム」の進行方向について、本願発明は「トラック」と「リソグラフィ装置」の「短手方向」に沿った方向であるのに対して、引用発明はそのような限定がない点。
　　
　　
５．検討・判断
　
　上記各相違点について検討する。
　
（１）相違点１について
　
　縮小プロジェクションアライナ（ステッパ）、反射プロジェクションアライナ、反射縮小プロジェクションアライナ、ＥＢ露光機（電子ビーム露光機）、そのほかＸ線やイオンビームを用いる露光装置において、光源や電子源等の照明装置、マスク等のパターン形成デバイス、当該マスク等の支持構造、ウエハ等の基板を保持する基板テーブル、ウエハの目標部分に露光パターンを投影する投影システムを設けることは、例示するまでもない慣用手段に過ぎない。
　そうすると、引用発明において、「露光装置本体」に当該慣用手段を採用し、相違点１に係る構成を得ることは、当業者にとって何ら創意を必要としないことである。
　
（２）相違点２について
　　
　引用発明において、露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットの配置は、当業者が必要に応じて適宜に定めることのできる設計的事項であり、引用例には様々な配置が示されている。
　そうすると、そのような配置に応じて形成されるインターフェースユニットの形状も、当業者が適宜に決定し得たものであるといえるから、当該形状は当業者が「所望の形に形成可能」なものといえる。
　また、本願発明の「搬送システム」は「トラック」および「リソグラフィ装置」に対して「前記トラック及び前記リソグラフィ装置は、それぞれの長手方向の少なくとも一部に沿って並列に配置され」という所定の配置関係を有することを発明特定事項とするから、本願発明においても「所望の形」が完全に任意の形状ということは有り得ず、本願発明も引用発明と同様、「搬送システム」の基本的な形状は「トラック」および「リソグラフィ装置」の配置に応じて決定されてしまうものである。
　そうすると、本願発明の「搬送システムは、所望の形に形成可能」であることと、引用発明において露光装置本体や各ユニットの配置に応じてインターフェースユニットの形状が形成されることとの間に、格別の技術的相違が認められず、この点は実質的な相違点ではない。
　
（３）相違点３について
　　
　本願発明において、「それ自体のミニ環境を備え」るという事項が意味するものは必ずしも明りょうであるとはいえないが、ここでは、本願明細書の
「【０００９】
  １つの実施例では、搬送システムはそれ自体のミニ環境を有する。１つ又は複数のミニ環境は、いくつかのミニ環境の大きさであるかもしれないクリーン・ルーム全体よりも、清浄に維持し保つのが遥かに簡単でかつ安価である。ミニ環境は、そこに含まれるシステムの要求に依存して、異なる条件に保つこともできる。」
「【００４２】
  搬送システムは、ミニ環境中のプロセス群の間で基板４０を搬送する。このプロセス群は、リソグラフィ装置及びトラック又は同じ環境を使用する任意の他の処理装置及び／又は計測装置のような、計測装置と処理装置の組合せであることができる。ミニ環境は、搬送システムのまわりにケースを導入して形成される。このケースは、一般に、１つ又は複数のＨＥＰＡフィルタ及び１つ又は複数のファンを備えて、この１つ又は複数のフィルタを通過するガス（例えば、空気）が搬送システムのまわりに清浄ガスの層流を形成するようにすることができる。」
等の記載事項を参酌して、搬送システムの周囲を清浄に保つための手段を有するという意味であると認める。
　　　
　そして、基板処理装置の技術分野において、基板搬送中に基板にパーティクル等が付着しないように、基板搬送用の通路を清浄な環境を保つためのフィルタやファン等の手段を設けることは周知の技術に過ぎない。例えば、特開２００３−１００６２０号公報（【００１９】および図２等）を参照されたい。
　そうすると、引用発明に当該周知の技術を付加することで、相違点３に係る構成を得ることは、当業者であれば容易になし得ることである。
　　
（４）相違点４，５について
　
　複数の装置で製造ラインが構成される場合、前記複数の装置の配置レイアウトは当業者が適宜に決定し得る設計的事項に過ぎない。
　また、製造ラインを構成する複数の装置を基板等の搬送効率や空間の利用効率がよくなるように配置することは、当業者であれば当然に考慮すべき技術常識といえる事項である。
　そうすると、引用発明において、基板等の搬送効率や空間の利用効率を考慮して、製造ラインの長さが不必要に長くならないように、インターフェースユニットに沿って配置される露光装置本体、ホトレジストコーティング処理ユニット、ベーク処理ユニットおよび現像処理ユニットのそれぞれについて、平面視した場合の短辺がインターフェースユニットに沿うように配置させることは当業者であれば容易に想到することである。
　したがって、引用発明において上記のような配置レイアウトにすることで、相違点４，５に係る相違点を得ることは、当業者であれば容易になし得ることである。
　
　
　そして、本願発明が奏する作用効果も、引用発明および周知の技術から、当業者が予測できる範囲のものである。
　
　よって、本願発明は、引用発明および周知の技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
　６．　むすび
　
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。