【事件の表示】
　特願２００２−５７９７８４「不良検出システムの改良」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年１０月１７日国際公開、ＷＯ０２／８２０６４、平成１６年　８月１２日国内公表、特表２００４−５２４５３８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１４年４月３日（パリ条約による優先権主張外国庁受理　平成１３年４月６日、同日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成１９年１１月１９日付け拒絶理由通知に対し、平成２０年５月２６日付け手続補正がなされ、同年８月２５日付け最後の拒絶理由通知に対し、平成２１年３月２日付け手続補正がなされたが、同年同月２４日付けで、同年同月２日付け手続補正に対する補正却下の決定がされ、同日付けで拒絶査定がされ、これに対し、同年６月２９日に拒絶査定不服の審判が請求されるとともに、同年７月２９日付けで手続補正されたものである。
　
第２　平成２１年７月２９日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２１年７月２９日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正後の本願発明
　本件補正により特許請求の範囲の請求項２１は、次のとおり補正された。
　　
「【請求項２１】表面上の異常を検出するための表面検査装置において、
　表面を走査するための光線を供給する供給源と、
　表面から表面に垂直な線に対して略対称に散乱する光線を集束する集束器と、
　前記線またはそれに対応する方向に対して異なる方位角の光学経路を含む光学系であって、前記集束器は、前記線に対する集束光の相対的方位角位置に関する情報を保存するように経路に集束光を供給し、前記経路は、前記線に対して異なる方位角の表面によって散乱した光線が異なる経路を搬送されるように配設され、前記光学系は、経路を互いに分離してクロストークを軽減するセパレータを含み、さらに集束光の一部を前記経路に方向転換する手段も含み、前記装置は、さらに集束光の別の部分を検出して単一の出力を生成する検出器を含む、光学系と、
　前記経路の少なくとも一部によって搬送され
濾波され
　前記信号から表面の内部もしくは表面上の異常の有無を判定するプロセッサと、
　を備えることを特徴とする表面検査装置。」（下線は補正された箇所である。）
　
　すると、本件補正は、本件補正前の請求項２１に記載した発明に対して、「複数の検出器」において変換される「経路の少なくとも一部によって搬送された収束光」として、「濾波され」たものと限定したものを含むものである。
  　
　したがって、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前（以下、「平成１８年法改正前」とする。）の特許法１７条の２第４項２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　
　そこで、本件補正後における特許請求の範囲に記載されている事項により構成される発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法改正前の特許法１７条の２第５項において準用する同法１２６条５項の規定に適合するか）否かを、請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）について以下に検討する。
　　
２　引用例
（１）原査定の拒絶理由通知で引用され、本願の優先権主張の日前に頒布された米国特許第６２７１９１６号明細書（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに以下の技術事項が記載されている。なお、原文とともに、当審による翻訳文を示す。
　　
（１−ア）「14. An apparatus for detecting different size anomalies of surfaces, comprising:
optics focusing a light beam along a path towards a spot on a surface, causing a specular reflection, said spot having dimensions less than 50 microns;
an instrument causing rotational and translational movement of the surface, so that the beam scans the surface along a spiral path;
a first detector located to detect light scattered by the surface within a first range of collection angles and a second detector located to detect light scattered by the surface within a second range of collection angles, said second range being at smaller angles to a line normal to the surface than the first range;
an ellipsoidal mirrored surface defining an input aperture positioned proximate to the surface to receive scattered light therethrough from the surface and an exit aperture, said mirrored surface being substantially rotationally symmetric about a line normal to the surface, so that the mirrored surface reflects and focuses rotationally symmetrically about such line light that passes through the input aperture to the first detector for detecting small anomalies; and
a lens assembly to collect light passing through the input aperture, defining collected light, said lens assembly focusing the collected light substantially to the second detector for detecting anomalies of sizes larger than the small anomalies.」（特許請求の範囲）
　　
（訳文）「１４．表面の異なるサイズの異常を検出するための装置であって次の構成からなる：
表面のスポット位置への光路に反って光ビームをフォーカスする光学系であり、鏡面反射を起こすものであり、前記スポットは直径が５０μｍ未満であるものであり；
表面に対して回転及び並進動作を行う手段であり、ビームが螺旋の経路に沿って走査するものであり；
第１検出器は、第１の集束角範囲における表面からの散乱光を検出するために配置され、第２検出器は、第２の集束角範囲における表面からの散乱光を検出するために配置され、前記第２の集束角範囲は、第１の集束角範囲よりも表面に対する法線に対して小さな角度を有するものであり；
表面からの散乱光を受けるために表面近傍に配置された入力開口部及び出力開口部を規定する楕円状の鏡面であって、前記鏡面は、表面の法線に対して実質的に線対称であり、前記鏡面は、入力開口部を通過して小さな異常を検出するための第１検出器へ向かう線状の光のように回転対称的に、反射し、フォーカスするものであり；
集束光を規定し、開口部を通過した光を集束するためのレンズ集合体であって、小粒子より大きなサイズでの異常を検出するための第２検出器への実質的な集束光をフォーカスするものである。」
　　　
（１−イ）「PRIOR ART
   For the type of inspection described above, so-called laser scanners are particularly suitable. An important feature of these is their high sensitivity to very small defects and the ability to determine the presence of these, and their high throughput.」（２欄５〜１１行）
　　
（訳文）「先行技術
　上述の検査方式に対しては、所謂レーザ走査が特に優れている。この重要な特徴は、小さな欠陥に対する高い感度、その有無を決定する能力、及び、高い処理能力にある。」
  　　
（１−ウ）「As shown in FIG. 7, the surface inspection system 1010 may be used for inspecting anomalies on a surface 1012. Surface 1012 is illuminated by a substantially stationary illumination device portion of system 1010 comprising a laser beam from a laser source (not shown). The laser beam 1014 is passed through polarizing optics 1016 of the device portion to cause the laser beam to have the desired polarization state when used to illuminate surface 1012. Laser beam 1014 is then passed through a beam expander and aperture 1018 and beam-forming optics 1020 to expand and focus the beam 1014'. The beam 1014' is then reflected by a beam folding component 1022 and a beam deflector 1024 to direct the beam 1014 towards surface 1012 for illuminating the surface. In the preferred embodiment, beam 1014 is substantially normal or perpendicular to surface 1012, it being understood that this is not required and many of the advantages of the invention described herein are equally applicable where beam 1014 is at an oblique angle to surface 1012.
   In the preferred embodiment, beam 1014 is substantially perpendicular or normal to surface 1012 and beam deflector 1024 reflects the specular reflection of the beam from surface 1012 towards component 1022, thereby acting as a shield to prevent the specular reflection from reaching the detectors. The direction of the specular reflection is along line SR normal to surface 1012. In the preferred embodiment where beam 1014 is normal to surface 1012, this line SR coincides with the direction of illuminating beam 1014, where this common reference line or direction is referred to herein as the axis of system 1010. Where beam 1014 is at an oblique angle to surface 1012, the direction of specular reflection SR would not coincide with the incoming direction of beam 1014; in such instance, the line SR indicating the direction of the surface normal is referred to as the principal axis of the collection portion of system 1010.
   Light scattered by small particles are collected by mirror 1038 and directed towards aperture 1040 and detector 1044. Light scattered by large particles are collected by lenses 1032 and directed towards aperture 1036 and detector 1042. Large particles will also, of course, scatter light that is collected and directed to detector 1044, and small particles will also scatter light that is collected and directed to detector 1042 but such light is of relatively low intensity compared to the intensity of scattered light the respective detector is designed to detect.」（１２欄１〜４５行）
　　
（訳文）「図７に示されるように、表面検査システム１０１０は、表面１０１２上の異常を検査するために用いることができる。表面１０１２は、レーザ源（図示なし）からのレーザビームを有する実質的に固定されたシステム１０１０の照明デバイス部により照らされる。レーザビーム１０１６は、表面１０１２を照らすときに所望の偏光角となるようにされて前記デバイス部の偏光光学系１０１６を通過する。次に、レーザビーム１０１４は、ビーム拡大器及び開口部１０１８と、ビーム１０１４’を拡大したり焦点合わせするビーム形成光学系１０２０を通過する。そして、ビーム１０１４’は、照明のために表面１０１２方向にビーム１０１４’’を向けられるように、ビームフォールディング部品１０２２及びビーム偏向器１０２４により反射される。好ましい実施形態では、ビーム１０１４’’は、実質的に表面１０１２に対して法線または垂直の関係であり、このことは必須な要件ではないことは理解されうるものの、本明細書における発明の優れた点の多くは、ビーム１０１４’’が表面１０１２に対して傾斜角を有している場合でも等しく適用されるものである。
　好ましい実施形態では、ビーム１０１４’’は、実質的に表面１０１２に対して法線または垂直の関係であり、ビーム偏向器１０２４は、表面１０１２から部材１０２２方向にビームを鏡面反射する。その結果、（ビーム偏向器１０２４は、）鏡面反射したものが、検出器に到達することを防ぐ役割を有している。鏡面反射の方向は、線ＳＲに沿って表面１０１２の法線方向となる。ビーム１０１４’’が表面１０１２の法線方向である好ましい実施形態では、この線ＳＲは、照明ビーム方向に一致し、この共通の参照線または参照方向は、本明細書では、システム１０１０の光軸とみなされる。ビーム１０１４’’が表面１０１２に対して傾斜しているときは、鏡面反射ＳＲの方向は、ビーム１０１４’’の入射方向とは一致しない。この場合には、表面に対する法線方向を示す線ＳＲは、システム１０１０の収集部の主軸とみなされる。
　小粒子により散乱された光は、ミラー１０３８で集光され、開口部１０４０及び検出器１０４４方向に向けられる。大粒子により散乱された光は、レンズ１０３２で集光され、開口部１０３６及び検出器１０４２方向に向けられる。また、大粒子は、当然ながら、集光され、検出器１０４４に向けられる光も散乱させ、小粒子も、集光され、検出器１０４２に向けられる光も散乱させるが、こうした光は、検出できるように設計された各々の検出器への散乱光の強度に比べ相対的に低い強度の光である。」
　　
（１−エ）「To illustrate the preferred embodiment of the invention, FIG. 8 shows graphical plots of the scattered light intensity (1050) from a silicon surface, that (1054) from a small PSL sphere of the order of 100 nanometers (nm) diameter placed on the surface and that (1052) from a large PSL sphere of the order of 1 micron diameter placed on the surface. In reference to FIG. 7, the polar angle of FIG. 8 indicates the collection angle of the scattered light away from the axis SR of system 1010. Thus, the intensity at a polar angle of zero degrees would indicate the intensity of light reflected or scattered by surface 1012 or the PSL sphere along the axis SR of system 1010 as shown in FIG. 7. As shown by curve 1050, in FIG. 8, the light scattered by the silicon surface falls off rapidly away from the polar angle zero, where specular reflection occurs. The light scattered by the silicon surface away from the specular reflection direction is frequently due to haze; as shown in FIG. 8, light scattering due to haze falls off rapidly with increasing collection angles to the axis of the system. Specular reflection as well as scattered light at collection angles up to about 5.degree. are deflected by deflector 1024 and does not reach any one of the two detectors 1042 or 1044. Light scattered at collection angles within the range of 5-20.degree. from the axis SR of system 1010 are collected by lenses 1032 and deflected by beam deflector 1034 towards an aperture 1036, so that the portion of the beam that passes aperture 1036 is detected by detector 1042. Light scattered at collection angles in the range of about 25 to about 70 degrees are collected by mirror 1038 and focused towards an aperture 1040 so that the light that passes through the aperture is detected by detector 1044.
   The angular distribution of light scattered by the small size PSL sphere is shown as the solid line curve 1054 in FIG. 8. As shown in FIG. 8, small particles preferentially scatter at higher angles than a silicon surface. It is also known that small particles scatter at higher angles than larger particles. Whereas the intensity of scattering peaks at around 30-40.degree. for a 100 nanometer PSL sphere, the scattered light intensity typically peaks at much lower scattering angles for large size spheres (about 1 micron diameter and greater). See curve 1052 in FIG. 8. The device portion of system 1010 for collecting and detecting scattered light from anomalies such as large particles is comprised of lenses 1032, a folding mirror 1034, aperture 1036, and detector 1042. Mirror 1038, aperture 1040, and detector 1044 are adapted to detect scattered light from smaller particles, and form the device portion of system 1010 for collecting and detecting scattered light from anomalies such as small particles and defects. Since larger particles typically scatter light at higher intensities compared to smaller particles, the detectors 1042, 1044 can be optimized separately, with detector 1042 optimized for detecting large particles and detector 1044 optimized to detect smaller particles. By using two different detectors for detecting scattered light within two different ranges of collection angles, each detector can be optimized for detecting the respective types of particles and the user is not forced to choose optimization for detecting one type of particle versus the other. Instead both detectors can be optimized to detect their respective types of particles simultaneously.」（１２欄４６行〜１３欄３７行）
　
（訳文）「本発明の好ましい実施形態として、図８が、シリコン表面からの散乱光強度（１０５０）をプロットしたものを表している。ここで、（１０５４）は、表面上にある直径１００ｎｍオーダーのポリスチレンラテックス球の小粒子からのものであり、（１０５２）は、表面上にある直径１μｍオーダーのポリスチレンラテックス球の大粒子からのものである。図７を参照すると、図８にある極角は、システム１０１０の軸ＳＲから遠ざかるほうへ散乱光の集束角を示している。こうして、極角０度の位置での強度は、図７に示されたシステム１０１０の軸ＳＲに沿って表面１０１２またはポリスチレンラテックス球により反射または散乱された光強度を表している。曲線１０５０に示されるように、図８では、シリコン表面での散乱光は、極角０度から遠ざかると鏡面反射がおこるあたりで急激に低下する。鏡面反射方向から離れたほうへのシリコン表面での散乱光は、かすみによるものが頻繁にある。図８に示されるように、かすみによる散乱光は、システムの光軸に対する集束角の増加に伴い、急激に減少する。約５度までの収束角で散乱光と同様に、鏡面反射は、偏向器１０２４により偏向され、２つの検出器１０４２，１０４４の何れにも届かない。システム１０１０の軸ＳＲから５〜２０度の範囲での集束角の散乱光は、レンズ１０３２により収束し、開口部１０３６方向へ偏向器１０３４により偏向される。そこで、開口部１０３６を通過したビームの一部は、検出器１０４２により検出される。約２５〜７０度の範囲での集束角での散乱光は、ミラー１０３８で集束され、開口部１０４０方向で焦点が合う、そこで、開口部を通過した光は、検出器１０４４で検出される。
　小さなサイズのポリスチレンラテックス球による散乱光の角度分布は、図８の実曲線１０５４として表される。図８に示されるように、小粒子は、シリコン表面よりも大きな角度で優先的に散乱する。また、大粒子よりも大きな角度で小粒子は散乱することが知られている。一方で、散乱強度は、約３０〜４０度でピークを示す。１００ｎｍのポリスチレンラテックス球では、一般的には、散乱光強度は、大きなサイズの球（直径約１μｍ以上）ではより小さな散乱角でピークを有する。図８の曲線１０５２参照。大粒子のような異常部からの散乱光を集束し、検出するためのシステム１０１０のデバイス部は、レンズ１０３２、フォールディングミラー１０３４、開口部１０３６及び検出器１０４２から構成される。ミラー１０３８、開口部１０４０及び検出器１０４４は、小粒子からの散乱光を検出するのに適したものであり、小粒子や欠陥のような異常部からの散乱光を集束し、検出するためのシステム１０１０のデバイス部を構成している。一般的に、大粒子は、消臭しに比べて、強い強度で光を散乱するので、検出器１０４２、１０４４は、独立して最適化されるようになっており、検出器１０４２は、大粒子を検出するように最適化され、検出器１０４４は、小粒子を検出するように最適化される。集束角において２つの異なる範囲における散乱光を検出するための２つの異なる検出器によって、各々の検出器は、各々の粒子の大きさのものを検出するのに最適化され、使用者は、一方の種類の粒子を検出するための最適化を他方に対して選択的に行うようなことはしない。代わりに、両方の検出器は、各々の種類の粒子を同時に検出するよう最適化される。」
　　　
（１−オ）「Fig. 6 shows the function of two lenses 39 and 40 in connection with the ellipsodial mirror 42 and the separate rays L3, L4, L5 and L6 that indicate beams of diffused light.・・・（中略）・・・
   With the introduction of locally resolved measurements, for example by the use of detector arrays instead of a simple photodetector 7, the signal-to-noise ratio can be further improved, because the effect of haze is equally powerful on all the detectors but the light-point defect (LPD) produces a greater response in some detectors than in others.
   To ensure that the photodetector operates in its optimum working range when the substrate subject to inspection produces substantial diffusion, it may be necessary to use attenuators 79 between diaphragm 6 and photodetector 7 to increase the dynamic range of the photodetector.
   As already described, the use of combined spherical and cylindrical lenses 36', instead of a simple cylindrical lens 36 in a state-of-the-art assembly, can be useful to adjust the size and shape of the light beam projected to the illuminated spot 24.
   Because the brightness of the reflected light that appears in the image 26 is increased by the means described above, angle-resolved measurement also becomes possible, for example by the use of light guides fitted between the collection diaphragm 6 and the photosensor 7, in order to eliminate certain angels of diffusion.」（１０欄５９行〜１１欄５４行）
　
（訳文）「図６は、楕円ミラー４２と接続した２つのレンズ３９、４０の機能と、独立した拡散光であるＬ３、Ｌ４、Ｌ５及びＬ６を示している。・・・（中略）・・・
単純な光検出器７の代わりに検出器アレイを利用するような、局所的な分解測定を導入することにより、信号対雑音比をさらに向上させられる。かすみの影響は、全検出器において等しく影響を及ぼすが、光点の欠陥は、いくつかの検出器では、他に比べて大きな影響を及ぼすものである。
　光検出器が検査対象の基板がかなりの拡散光を発するときに、最適化作業を確実に行うために、光検出器のダイナミックレンジを増加させるためにダイアフラム６と光検出器７との間に減衰器７９の利用が必要となる。
　既に述べたように、最新の集合体における単純な円柱レンズ３６の代わりに、球レンズと円柱レンズとからの組合せレンズ３６’を利用することは、照明スポット２４へ投射される光ビームの大きさと下達を調整するのに有益である。
　像２６に現れる反射光の明るさは、上述の手段によりに増加させられるので、角度分解測定も可能になる。例えば、拡散光の所定の角度のものを排除するために、ダイアフラム６と光センサー７との間に配置したライトガイドの利用が挙げられる。」
  　
（１−カ）「While the invention has been described above by reference to the preferred embodiment, it will be understood that various changes and modifications may be made without departing from the scope of the invention which is to be defined only by the appended claims. For example, while only one detector has been shown for each of the two detectors 1042, 1044, it will be understood that an array of detectors may be used for each of the two detector locations 1042, 1044. 」（１５欄３４〜４２行）
（訳文）「本発明は、好ましい実施形態を参考に上述してきたが、請求項を追加するだけのように本発明の範囲から離れることのない範囲で、多様な変更や改良がなされることは理解できよう。例えば、２つの検出器１０４２、１０４４の各々に対し、１つの検出器を提示したが、検出器アレイが、２つの検出器の位置１０４２、１０４４の各々に対して利用できる。」
　　　
　上記摘記事項（１−ア）の記載事項からみて、上記摘記事項（１−イ）〜（１−カ）に記載された各システムは、表面の異常である欠陥の有無が決定されるためのものであることが読み取れる。
　
　上記摘記事項（１−オ）及び（１−カ）の記載事項からみて、上記摘記事項（１−ア）〜（１−エ）に記載された各システムにおいて、検出器を、単純な光検出器、つまり、単一の光検出器、または、分解測定のための検出器アレイで構成することができること、及び、ダイアフラム６に相当する各開口部と検出器との間にライトガイドを配置可能であることが読み取れる。
　
　これらの記載事項によると、引用例１には、以下の発明（以下、「引用例１発明」という。）が記載されていると認められる。 
    
「表面の異常を検査するための表面検査システム１１００において、
レーザービームを発するレーザ源と、
ビームが螺旋の経路に沿って走査するための、表面に対して回転及び並進動作を行う手段と、
表面からの散乱光を受けるために表面近傍に配置された入力開口部及び出力開口部を規定する楕円状のミラー１０３８’であって、前記ミラーは、表面の法線に対して実質的に線対称であり、
システム１０１０の軸ＳＲから５〜２０度の範囲での集束角の散乱光は、レンズ１０３２により収束し、開口部１０３６方向へ偏向器１０３４により偏向され、開口部１０３６を通過したビームの一部は、検出器１０４２により検出され、
約２５〜７０度の範囲での集束角での散乱光は、ミラー１０３８で集束され、開口部１０４０方向で焦点が合い、開口部を通過した光は、検出器１０４４で検出され、
各検出器は、単一の光検出器、または、分解測定のための検出器アレイで構成されており、
前記検出器と前記開口部との間にライトガイドを配置可能であり、
表面の異常である欠陥の有無が決定される表面検査システム」
  　
（２）原査定の最後の拒絶理由通知で引用され、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である特開平７−８３８４０号（以下、「引用例２」という。）には、図面とともに以下の技術事項が記載されている。
  　
（２−ア）「【００１９】また、フーリエ変換レンズ３１の実効中心がウエハ１の表面１ａから焦点距離ｆの１倍の位置に来るように、フーリエ変換レンズ３１が設置されている。フーリエ変換レンズ３１の光軸ＡＸ１は、ｘｙ平面に垂直なｚ軸に平行である。光束２９Ａの照射により被検点Ｐから発生する光束３２はフーリエ変換レンズ３１に入射し、フーリエ変換レンズ３１を通過した光束３２Ａにより、フーリエ変換レンズ３１の後側焦点面（フーリエ変換面）３３上に、ウエハ１上の被検点Ｐの回路パターンの選択的にフィルタリング可能なフーリエ変換パターン（フーリエスペクトル）が形成される。
【００２０】また、光束２９Ａの照射によりウエハ１の表面１ａでそのまま反射された光束２９Ｂは、再びフーリエ変換レンズ３１に入射し、ミラー３０で反射された平行光束２９と断面形状が一致する光束２９Ｃとなる。光束２９Ｃは、後側焦点面３３上において、点Ｑを中心とした円形スペクトルを形成する。点Ｑは０次光成分の位置でもある。その後側焦点面３３上に、回転式の空間フィルタ３４を設置する。回転式の空間フィルタ３４は円板状であり、回転軸３５を介して回転部３６に接続されている。回転部３６は、回転軸３５を介して空間フィルタ３４を後側焦点面３３内において点Ｑを中心に回転する。空間フィルタ３４は、ウエハ１の回転運動と同期して、且つ同一の角速度で回転する。回転の方向は、ウエハ１及び空間フィルタ３４共にそれぞれ常に同一方向であればよく、両者の相対的な回転方向は同一又は逆のどちらでもよい。
【００２１】回転式の空間フィルタ３４は、ウエハ１の表面の回路パターンに欠陥が無い場合の無誤り回路パターン中の直線部分に光束２９Ａが照射された場合に、その直線部分から発生する光束による後側焦点面３３上のフーリエ変換パターンの明部と一致する部分が不透明部分となり、それ以外の部分が透明部分となっている。即ち、空間フィルタ３４は、無誤り回路パターン中の直線部分のフーリエ変換パターン（フーリエスペクトル）を阻止するものである。
【００２２】空間フィルタ３４の一例は、例えば図１０に示すように、ガラス基板上に４５°間隔で帯状の遮光帯５３Ａ〜５３Ｄを形成したものである。本例ではその空間フィルタ３４を、種々の回路パターンに対して共通に使用する。これにより、検査対象とする回路パターン毎に空間フィルタ３４を製作する必要が無い。空間フィルタ３４を、例えば液晶表示素子（ＬＣＤ）、又はエレクトロクロミック素子（ＥＣＤ）等のＳＬＭ素子を用いて構成することもできる。これらを用いる場合、空間フィルタ３４に書き込む不透明部分のパターンは例えば図１０のパターンと同様である。空間フィルタ３４は、より簡単には、透明のフィルムに周知のコンピュータ用のプロッターを用いて所定のパターンを描画することでも製作できる。
【００２３】図１において、移動回転部２３の動作によりウエハ１は、回転軸２２を中心に回転しながらｙ方向に移動する。この動作により、光束２９Ａによる被検点Ｐ上の円形の照明スポット光が、ウエハ１上を相対的にスパイラル状に回転走査し、ウエハ１の表面の全面の欠陥検査が高速に実行される。本実施例ではウエハ１を回転走査した場合に後側焦点面３３上に形成されるフーリエスペクトルの０次光成分の位置Ｑを中心として、ウエハ１の回転に同期して空間フィルタ３４を回転させることにより、ウエハ１を回転させながらフーリエスペクトルのフィルタリングを行って欠陥検査を行うようにしている。従って、空間フィルタ３４を通過する光束には、ウエハ１上の被検点Ｐ上に２次元的に配列された回路パターンに対応するフーリエ変換パターンと、回路パターンの欠陥に関与する光情報とが含まれている。
【００２４】本例では、空間フィルタ３４の上面に近接して、且つフーリエ変換レンズ３１により形成されるフーリエ変換パターンの領域を覆うように、１組の光ファイバ・バンドル３８1,３８2,…，３８N(Ｎは所定の整数）のそれぞれの一方の端面を配置し、これら光ファイバ・バンドル３８1 〜３８N を保持具３９で束ねる。そして、これら光ファイバ・バンドル３８1,３８2,…，３８N の他方の端面をそれぞれ光電変換素子４０1,４０2,…，４０N の受光面に密着させる。光電変換素子４０1 〜４０N としては、例えばフォトマルチプライア又はＰＩＮ型のシリコンフォトダイオード等が使用される。
【００２５】空間フィルタ３４を通過する光束は、光ファイバ・バンドル３８1 〜３８N の各受光端により波面分割され、それぞれ光ファイバ・バンドル３８1 〜３８N の内部を通過して光電変換素子４０1 〜４０N の受光面に入射する。光電変換素子４０1 〜４０N はそれぞれ受光した光を光電変換して検出信号Ａ１〜ＡＮを出力する。これら検出信号Ａ１〜ＡＮは図２の信号処理回路に供給されて、欠陥の有無の弁別が行われる。」
　　
３　対比・判断
　本願補正発明と引用例１発明とを対比する。
  　
（１）引用例１発明の「レーザービームを発するレーザ源と、ビームが螺旋の経路に沿って走査するための、表面に対して回転及び並進動作を行う手段」は、「回転及び並進動作を行う手段」の動作により「レーザ源」が、表面を走査するための光線が供給される機能を実質的に果たしているから、本願補正発明の「表面を走査するための光線を供給する供給源」に相当する。
　
（２）引用例１発明の「表面からの散乱光を受けるために表面近傍に配置された入力開口部及び出力開口部を規定する楕円状のミラー１０３８’であって、前記ミラーは、表面の法線に対して実質的に線対称であ」ることは、（ア）「鏡面」の楕円形状や形状の有する機能からみて、本願補正発明の「表面から表面に垂直な線に対して略対称に散乱する光線を集束する集束器」に相当し、（イ）「鏡面」で反射した光が、検出器までの光路を通過すること、及び、技術常識からみて、「分解測定のための検出器アレイ」で検出される光を反射するもの、即ち、角度に係る分解能を有する測定に用いられるものであるから、「鏡面」は、散乱した光線の相対的方位角位置に関する情報が判別できるように反射する機能を有しているといえるから、本願補正発明の「集束器は、前記線に対する集束光の相対的方位角位置に関する情報を保存するように経路に集束光を供給し」に相当する。
　　
（３）引用例１発明の「システム１０１０の軸ＳＲから５〜２０度の範囲での集束角の散乱光は、レンズ１０３２により収束し、開口部１０３６方向へ偏向器１０３４により偏向され、開口部１０３６を通過したビームの一部は、検出器１０４２により検出され」る光路、及び、「約２５〜７０度の範囲での集束角での散乱光は、ミラー１０３８で集束され、開口部１０４０方向で焦点が合い、開口部を通過した光は、検出器１０４４で検出され」る光路からなるものは、２つの異なる方位角の光学経路を含んでいる機能・構成からみて、本願補正発明の「線またはそれに対応する方向に対して異なる方位角の光学経路」、及び、「前記経路は、前記線に対して異なる方位角の表面によって散乱した光線が異なる経路を搬送されるように配設され」ることに相当する。
　
（４）引用例１発明の「検出器１０４２」、及び、「検出器１０４４」は、
「各検出器は、単一の光検出器、または、分解測定のための検出器アレイで構成」されているから、各々が単一の光検出器で構成されるものとすると、機能・構成からみて、本願補正発明の「集束光の別の部分を検出して単一の出力を生成する検出器」との間で、「集束光を検出して単一の出力を生成する検出器」という点で共通する。
　　
（５）引用例発明の「第１光路」、「第２光路」からなるものは、機能・構成からみて、本願補正発明の「光学系」に相当する。
　
（６）引用例１発明の「表面の異常である欠陥の有無が決定される表面検査システム」ことは、各光検出器からの信号を処理して異常を決定しているから、技術常識からみて、当然に、システム内に前記処理を行うプロセッサを具備しているといえるから、本願補正発明の「前記信号から表面の内部もしくは表面上の異常の有無を判定するプロセッサに相当する。
　
（７）引用例１発明の「表面の異常を検査するための表面検査システム１１００」は、機能・構成からみて、本願補正発明の「表面上の異常を検出するための表面検査装置」に相当する。
   　
　以上、（１）〜（７）の考察から、両者は、
　　
（一致点）
「表面上の異常を検出するための表面検査装置において、
　表面を走査するための光線を供給する供給源と、
　表面から表面に垂直な線に対して略対称に散乱する光線を集束する集束器と、
　前記線またはそれに対応する方向に対して異なる方位角の光学経路を含む光学系であって、前記集束器は、前記線に対する集束光の相対的方位角位置に関する情報を保存するように経路に集束光を供給し、前記経路は、前記線に対して異なる方位角の表面によって散乱した光線が異なる経路を搬送されるように配設され、前記光学系は、前記装置は、さらに集束光を検出して出力を生成する検出器を含む、光学系と、
　前記信号から表面の内部もしくは表面上の異常の有無を判定するプロセッサと、
　を備えることを特徴とする表面検査装置。」
である点で一致し、次の点で相違する。
 　　
（相違点１）
　光学系が、本願補正発明では、「経路を互いに分離してクロストークを軽減するセパレータを含み、さらに集束光の一部を前記経路に方向転換する手段も含み、前記装置は、さらに集束光の別の部分を検出して単一の出力を生成する検出器を含む、光学系と、前記経路の少なくとも一部によって搬送され濾波された集束光を、前記線に対して異なる方位角で散乱した光線を表すそれぞれの信号に変換する複数の検出器」を有し、即ち、「単一の出力を生成する検出器」の他に、「方向転換する手段」と「セパレータ」を介して「複数の検出器」への検出光路を有する構造を有しているのに対し、
引用例１発明では、「各検出器は、単一の光検出器、または、分解測定のための検出器アレイで構成されており、前記検出器と前記開口部との間にライトガイドを配置可能」であり、単一の検出器、検出器アレイの何れかを用いる構成であるものの、双方の検出器を同時に具備するような構造までは示唆されていない点。
  　　
４　当審の判断
（１）上記（相違点１）について検討する。
　上記「２（１）」の摘記事項（１−オ）及び（１−カ）に記載されているように、表面検査装置において、検出器の種類として、単一の検出器や検出器アレイを用いることは、優先権主張の日前に周知の技術であり、また、上記「２（２）」の摘記事項（２−ア）からみて、欠陥検出器に用いる検出器アレイの具体的構造として、光ファイバー束から空間フィルタを通じて濾波された光を光電変換素子のアレイで検出する技術が、引用例２に記載されている。
　ここで、光ファイバの技術常識からみて、一般的にクラッドとコアから形成されており、光ファイバー束で光を伝達する場合には、ファイバ間の伝送漏れであるクロストークが、ファイバーの構造からみて低減されている点、及び、本願補正発明の「経路を互いに分離してクロストークを軽減するセパレータ」が、本願補正発明を更に限定した特許請求の範囲の請求項２２において、光ファイバの「クラッド」がセパレータである旨の限定を行っていることからみて、上記引用例２記載の光ファイバ束も、本願補正発明の「経路を互いに分離してクロストークを軽減するセパレータ」に相当するといえる。
　
　そして、表面検査装置を含む各種測定・検査装置において、２つの検出系をプリズム等の光を分岐する手段を介して２つの光路に分けて２つの検出系を配置する技術は、本願の優先権主張の日前に常套の技術である。
　表面検査装置における例として、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である特開平１１−３０４７１５号には、
「【００４２】図５に示すレーザ顕微鏡は、試料からの反射像及び透過像を同時に撮像することができるので、これらの反射光及び透過光を利用して欠陥検査装置としても用いることができる。すなわち、第１及び第２の光検出器４４及び４７の出力信号を信号処理回路に供給し、例えばこれらの信号の極性を互いに反転しレベル調整を行ってから加算することにより試料に形成されたパターンの欠陥を検出することができる。例えば、試料の表面にレジストのかすが残存している場合、光検出器４４に入射する試料からの反射光の光量が低下するため、加算された出力信号のレベルが基準のレベルよりも低下し、欠陥の存在を検出することができる。また、遮光パターンの膜厚が基準値よりも薄い場合透過光のレベルが基準値よりも高くなり、この結果加算された出力信号のレベルが基準レベルよりも上昇し、同様に欠陥の存在を検出することができる。勿論、上述した欠陥検査に加えて、試料からの反射光だけによる欠陥検査及び透過光だけによる欠陥検査も併せて同時に行うことができる。従って、本例の場合３種類の欠陥検査を行うことができる。さらに、本例においても、図４に示す実施例と同様にノマルスキープリズムを光路中に配置して差分干渉像を形成し、表面の高さの差による欠陥情報や透過光の位相差による欠陥情報を得ることもできる。従って、本例の欠陥検査装置は１個の検査装置で多種多様な欠陥検査を行うことができる利点が達成される。」と記載されており、
      　
同特開平７−２７０３２９号には、
「【０００９】【実施例】図１は、この発明の一実施例における構成図である。検査装置は、レーザ光源２、集光レンズ３、異物検出部４と、パターンフィルタ部６と、ＭＰＵ７１、メモリ７２およびプリンタ（ＰＲＴ）７３等よりなる演算処理装置７と、駆動回路８１、ＸＹ移動機構８２および載置テーブル８３よりなる走査部８とを備えている。さらに、ここでは、散乱光パターン受像部５が設けられている。散乱光パターン受像部５は、載置テーブル８３に載置されたウエハ１と集光レンズ３との間の適当な位置に設けられたミラー５１と、その反射方向に設けられた二次元イメージセンサとしてのＴＶカメラ５２、そして二値化回路５３とによりなる。
【００１０】これにより、ウエハ上に形成されたパターンからの散乱光をカメラ５２で受けて二値化してＭＰＵ７１にデジタル化したデータとして送出する。ＣＰＵ７１は、二値化された二次元のイメージパターンをメモリ７２の所定の領域に記憶するとともに、後述するプログラムを起動してパターンマッチングを行い、そのウエハの製造工程の判定を行う。なお、ミラー５１は、実線と点線とにより示すように、集光レンズ３の光路から排除できる構成になっていて、受光パターンデータを採取するときに、実線の光路の位置に挿入される。異物検査の際には自動的にこの光路から退避して点線の位置に配置される。なお、このミラー５１をハーフミラーとして常時実線の位置に配置するようにしてもよい。
【００１１】パターンフィルタ部６は、異物検査の際に使用され、ＣＣＤセンサ４１の手前に形成されるフーリェ変換面の位置に設けた液晶フィルタ６１と、これに共通パターンを設定するパターン発生回路６２により構成される。検査位置や検査対象に応じてパターンからの散乱光を遮断するパターンが液晶フィルタ６１により形成される。そのパターンデータは、ＭＰＵ７１の制御の下にパターン発生回路６２から送出される。
【００１２】ここで、レーザ光源２の投射角ψは、異物検査のときには、点線で示すように、ウエハの表面側からみて仰角が５゜程度の低い照射にされ、受光パターンデータを採取して製造工程の判定を行うこときには、仰角が２０゜以上の高い投射角（≒６０゜）にされる。これによりパターンからの散乱光を多く採取することができる。
【００１３】メモリ７２には、受光パターン採取プログラム７２a と、パターンマッチング判定プログラム７２b 、異物検査プログラム７２c 、半導体工程対応に判定基準となるパターンデータを記憶するパターンテーブル７２d 等が記憶されている。受光パターン採取プログラム７２a は、ＭＰＵ７１により実行されて、レーザ光源２を実線の高照射状態に設定してミラー５１を実線の光路の位置に挿入し、例えば、メモリセルの領域に対物レンズ３を位置付けてＸＹ走査をしてウエハ１からの散乱光をカメラ５２により採取して演算処理装置７に取込む。そして、メモリ７２の所定の領域にこのパターンを受光パターンデータとして記憶する処理を行う。」と記載され、
同特開平１０−１２３０６２には、
「【００２１】前記上側の絞り１２０とカメラ１３０との間には、ＮＡ及びコヒーレンシを観察するための補助レンズ１２２が設けられており、さらに前記対物レンズ１１２を通過して前記チューブレンズ１１４で結像された光をモニタのような補助出力器（図示せず）を用いて観察し得るよう可視光観察用のＣＣＤカメラ１１５が設けられる。」と記載されている。
　
　したがって、引用例１に記載された１種類の検出系を有する表面検査システムにおいて、引用例２に記載されたような光ファイバと空間フィルタとからなる検出器アレイを、複数検出系を設けるための常套技術である光分岐手段を介して付加し、本願補正発明のように構成することは、当業者であれば、容易になし得たことである。
　　
　そして、本願補正発明の奏する効果について、引用例１及び２の記載事項及び周知技術から当業者が予測し得る範囲内のものである。
　　
（３）請求人の主張について
　請求人は、平成２２年７月２７日付け回答書において、
（ア）「請求項２１に「集束光の別の部分を検出して単一の出力を生成する検出器」という追加の限定も加えている。前に説明したように、このような特徴により、パターンを形成しているウェハだけではなくパターンを形成していないウェハでも欠陥を検出するために同じ装置を使用することができる。このような組み合わせは当業者にとって自明なものではない。引用文献１，４のシステムは本願のシステムとはたいへん異なっているため、請求項２１のようなシステムに到達するためにこれらシステムをどのように組み合わせるのかを思い描くことは困難であると言わざるをえない。」、及び、 
（イ）「前述したように、異なる方位角で散乱された光を別個に検出することの示唆も、欠陥の検出と分類のために別個に検出された光を信号に変換することの示唆も引用文献１にはまったくない。」なる主張と共に、請求項２１に係る補正案を示している。
　
　しかしながら、（ア）に関しては、複数の検出系での測定が引用例１に示唆されており、複数の検出系を同一光路から分岐して配置する技術が常套のものである以上、上記検討のとおり、複数の検出系を付加することは、当業者であれば容易に想到し得たことである。そして、（イ）に関しては、引用例１において、異なる方位角範囲のものを複数検出器で検出することや、角度分解を有する検出器で測定することが記載されていることから、引用例１に記載の範囲のことといえる。
　また、請求項２１に係る補正案は、上記本願補正発明と実質的に同一の内容であることからみて、上記検討と同様の理由により、進歩性を有するとはいえない。
　よって、上記主張は採用できない。
　
（６）小括
　したがって、本願補正発明は、引用例１発明、引用例２に記載された事項、及び、周知の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により独立して特許を受けることができない。
　　　
５　本件補正についての結び
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２１年７月２９日付けの手続補正は上記のとおり却下されることとなったので、本願の請求項１乃至６４に係る発明は、平成２０年５月２６日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至６４に記載された事項により特定されたとおりのものであるところ、請求項２１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
　　
「【請求項２１】表面上の異常を検出するための表面検査装置において、
　表面を走査するための光線を供給する供給源と、
　表面から表面に垂直な線に対して略対称に散乱する光線を集束する集束器と、
　前記線またはそれに対応する方向に対して異なる方位角の光学経路を含む光学系であって、前記集束器は、前記線に対する集束光の相対的方位角位置に関する情報を保存するように経路に集束光を供給し、前記経路は、前記線に対して異なる方位角の表面によって散乱した光線が異なる経路を搬送されるように配設され、前記光学系は、経路を互いに分離してクロストークを軽減するセパレータを含み、さらに集束光の一部を前記経路に方向転換する手段も含み、前記装置は、さらに集束光の別の部分を検出して単一の出力を生成する検出器を含む、光学系と、
　前記経路の少なくとも一部によって搬送された集束光を、前記線に対して異なる方位角で散乱した光線を表すそれぞれの信号に変換する複数の検出器と、
　前記信号から表面の内部もしくは表面上の異常の有無を判定するプロセッサと、
　を備えることを特徴とする表面検査装置。」
　　
２　引用例記載の発明
　原査定の拒絶の理由で引用された引用例１及び２は、前記「第２［理由］２」に記載したとおりである。
　　
３　対比・判断
　本願発明は、上記「第２［理由］」で検討した本願補正発明から、
  本件補正前の請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項に関し、「複数の検出器」において変換される「経路の少なくとも一部によって搬送された収束光」として、「濾波され」たものと限定したものとの限定を除いたものである。
　　
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、更に他の限定的な発明特定事項を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「第２［理由］４」に記載したとおり、引用例１発明、引用例２に記載された事項、及び、周知の技術に基づいて当業者が容易に発明することができたものである以上、本願発明も同様の理由により、当業者が容易に発明をすることができたものである。
   　
４　むすび
　以上のとおり、本願の請求項２１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、本願は、その他の請求項について検討するまでもなく、拒絶されるべきものである。
　　
　よって、結論のとおり審決する。