【手続補正書】
【提出日】平成23年1月28日(2011.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高圧ガスを受け取り、該ガスを冷却するのに適した開放サイクルジュール−トムソン冷却装置と、
ジュール−トムソン冷却装置と流動的につながるように配置されたジュール−トムソン冷却装置からの濃縮ガスの少なくとも一部を受け取るのに適した、リザーバー（３０）と、
熱管理アセンブリ（１２）と熱的につながるように配置されたレーザー利得アセンブリ（１１）と、を備え、
リザーバー（３０）が、該レーザー利得アセンブリ（１１）と熱管理アセンブリ（１２）との熱交換の結果として気化したガスを放出するのに適している、
熱管理アセンブリ（１２）を備えるレーザー熱管理システム。
【請求項２】
ジュール−トムソン冷却装置と流動的につながるように配置された高圧ガスタンク（４０）をさらに備える請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
レーザー利得アセンブリ（１１）がさらにレーザー利得媒体（８６）を備える請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
レーザー利得アセンブリ（１１）がさらに一又は複数のレーザーポンプダイオード（７０）を備える請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
レーザー利得媒体（８６）が熱管理アセンブリ（１２）と熱的につながるように配置された請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
一又は複数のポンプダイオード（７０）が熱管理アセンブリ（１２）と熱的につながるように配置された請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
レーザー利得媒体（８６）がリザーバー（３０）と熱的につながるように配置された請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
一又は複数のポンプダイオード（７０）がリザーバー（３０）と熱的につながるように配置された請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
熱管理アセンブリ（１２）が、
リザーバー（３０）と熱的につながるように配置された第１熱交換器（９８）、
第２熱交換器（９９）、及び、
第１熱交換器（９８）及び第２熱交換器（９９）の間に流動的につながり２つの該熱交換機の間で流体を再循環動作可能であるポンプ（７８）、  
をさらに備え、
ポンプ（７８）並びに第１及び第２熱交換器（９８／９９）が閉じた流動循環ループ内でつながる請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
レーザー利得媒体（８６）が第２熱交換器（９９）と熱的につながるように配置された請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
一又は複数のポンプダイオード（７０）が第２熱交換器（９９）と熱的につながるように配置された請求項９に記載のシステム。
【請求項１２】
高圧ガスタンク（４０）が、少なくとも１、０００ｐｓｉの圧力のガスを含む請求項２に記載のシステム。
【請求項１３】
高圧ガスタンク（４０）が、窒素、アルゴン、エタン、ペンタン、及びハロンＴＭからなるグループから選択されるガスを含む請求項２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記高圧ガスタンク（４０）が、主に窒素、エタン、及びペンタンからなるガス混合物を含む請求項２に記載のシステム。
【請求項１５】
レーザー利得媒体（８６）が、Ｎｄ３＋、Ｙｂ３＋、Ｈｏ３＋、Ｔｍ３＋＋、Ｅｒ３＋、及びＴｉ３＋からなるグループから選択されるｌａｓａｎｔｉｏｎｓを含む請求項３に記載のシステム。
【請求項１６】
レーザー利得媒体（８６）が、ロッド、ディスク、及びスラブからなるグループから選択される形状に成形される請求項３に記載のシステム。
【請求項１７】
レーザーシステムから熱を除去する方法であって、
高圧ガスを開放サイクルのジュールトムソン冷却器に受け取ること、
該ジュールトムソン冷却器によって該ガスを冷却し、その一部を濃縮すること、
該濃縮ガスの少なくとも一部を該レーザーシステムの熱管理アセンブリ（１２）のリザーバー（３０）へ受け取ること、
該レーザーシステムのレーザー利得アセンブリ（１１）と熱管理アセンブリ（１２）との熱交換の結果として気化したガスをリザーバー（３０）から放出することを含み、
レーザー利得アセンブリ（１１）が熱管理アセンブリ（１２）と熱的につながるように配置された、レーザーシステムから熱を除去する方法。
【請求項１８】
ガスの冷却及び部分的濃縮の前に、湿気及び粒子を除去するフィルター及びドライヤー（３４）を通じて前記高圧ガスを供給することをさらに含む請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
熱管理アセンブリ（１２）のリザーバー（３０）によって、レーザー利得アセンブリ（１１）から生じる熱を交換することをさらに含み、レーザー利得アセンブリ（１１）はリザーバー（３０）と熱的につながるように配置された、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
熱管理アセンブリ（１２）のリザーバー（３０）と熱的につながるように配置された第１熱交換器（９８）内の流体を冷却すること、
第１熱交換機と第２熱交換機と（９８，９９）を接続する閉じたループを介して、ポンプ（７８）によって、冷却された流体を、該レーザー利得媒体と熱的につながるように配置された第２熱交換器（９９）へ送り込むこと、
第２熱交換器（９９）で該レーザー利得アセンブリ（１１）を冷却すること、及び、
該ポンプ（７８）によって、該閉じたループを介して、該レーザー利得アセンブリ（１１）との熱的接触によって温められた流体第１熱交換器（９８）へ戻すことをさらに含む請求項１７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
上記の実施形態は、本開示を説明するが限定はしない。本開示の原理に従い、数々の変更が可能であることもまた理解されるべきである。従って、本開示の範囲は以下の請求の範囲のみによって定義される。
また、本発明は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
高圧ガスを受け取り、該ガスを冷却するのに適した開放サイクルジュール−トムソン冷却装置と、
ジュール−トムソン冷却装置と流動的につながる、ジュール−トムソン冷却装置からの濃縮ガスの少なくとも一部を受け取るのに適した、リザーバー（３０）と、
熱管理アセンブリ（１２）と熱的に良好につながるレーザー利得アセンブリ（１１）と、を備え、
リザーバー（３０）が、該レーザー利得アセンブリ（１１）と熱管理アセンブリ（１２）との熱交換の結果として気化したガスを放出するのに適している、
熱管理アセンブリ（１２）を備えるレーザー熱管理システム。
（態様２）
ジュール−トムソン冷却装置と流動的につながる高圧ガスタンク（４０）をさらに備える態様１に記載のシステム。
（態様３）
レーザー利得アセンブリ（１１）がさらにレーザー利得媒体（８６）を備える態様１に記載のシステム。
（態様４）
レーザー利得アセンブリ（１１）がさらに一又は複数のレーザーポンプダイオード（７０）を備える態様３に記載のシステム。
（態様５）
レーザー利得媒体（８６）が熱管理アセンブリ（１２）と熱的に良好につながる態様１に記載のシステム。
（態様６）
一又は複数のポンプダイオード（７０）が熱管理アセンブリ（１２）と熱的に良好につながる態様１に記載のシステム。
（態様７）
リザーバー（３０）と熱的に良好につながるレーザー利得媒体（８６）をさらに備える態様１に記載のシステム。
（態様８）
リザーバー（３０）と熱的に良好につながる一又は複数のポンプダイオード（７０）をさらに備える態様１に記載のシステム。
（態様９）
熱管理アセンブリ（１２）が、
リザーバー（３０）と熱的に良好につながる第１熱交換器（９８）、
第２熱交換器（９９）、及び、
第１熱交換器（９８）及び第２熱交換器（９９）と流動的につながるポンプ（７８）、
をさらに備え、
ポンプ（７８）、第１及び第２熱交換器（９８／９９）が閉じた流動循環ループないでつながる態様１に記載のシステム。
（態様１０）
レーザー利得媒体（８６）が第２熱交換器（９９）と熱的に良好につながる態様９に記載のシステム。
（態様１１）
一又は複数のポンプダイオード（７０）が第２熱交換器（９９）と熱的に良好につながる態様９に記載のシステム。
（態様１２）
高圧ガスタンク（４０）が、少なくとも１、０００ｐｓｉの圧力のガスを含む態様２に記載のシステム。
（態様１３）
高圧ガスタンク（４０）が、窒素、アルゴン、エタン、ペンタン、及びハロンＴＭからなるグループから選択されるガスを含む態様２に記載のシステム。
（態様１４）
前記高圧ガスタンク（４０）が、主に窒素、エタン、及びペンタンからなるガス混合物を含む態様２に記載のシステム。
（態様１５）
レーザー利得媒体（８６）が、Ｎｄ３＋、Ｙｂ３＋、Ｈｏ３＋、Ｔｍ３＋＋、Ｅｒ３＋、及びＴｉ３＋からなるグループから選択されるｌａｓａｎｔｉｏｎｓを含む態様３に記載のシステム。
（態様１６）
レーザー利得媒体（８６）が、ロッド、ディスク、及びスラブからなるグループから選択される形状に成形される態様３に記載のシステム。
（態様１７）
高圧ガスを受け取り、該ガスを冷却し、その一部を濃縮すること、
濃縮ガスの少なくとも一部を熱管理アセンブリ（１２）のリザーバー（３０）へ受け取ること、
レーザー利得アセンブリ（１１）と熱管理アセンブリ（１２）との熱交換の結果として気化したガスをリザーバー（３０）から放出することを含み、
レーザー利得アセンブリ（１１）が熱管理アセンブリ（１２）と熱的に良好につながる、レーザーシステムから熱を除去する方法。
（態様１８）
ガスの冷却及び部分的濃縮の前に、湿気及び粒子を除去するフィルター及びドライヤー（３４）を通じて高圧ガスを供給することをさらに含む態様１７に記載の方法。
（態様１９）
熱管理アセンブリ（１２）のリザーバー（３０）によって、レーザー利得アセンブリ（１１）から生じる熱を交換することをさらに含み、レーザー利得アセンブリ（１１）はリザーバー（３０）と熱的に良好につながる、態様１７に記載の方法。
（態様２０）
熱管理アセンブリ（１２）のリザーバー（３０）と熱的に良好につながる第１熱交換器（９８）内の流体を冷却すること、
閉じたループを介して、ポンプ（７８）によって冷却された流体を第２熱交換器（９９）へ送り込むこと、
第２熱交換器（９９）と熱的に良好につながるレーザー利得アセンブリ（１１）を冷却すること、及び、
閉じたループポンプ（７８）を介して、レーザー利得アセンブリ（１１）との熱的接触によって温められた流体第１熱交換器（９８）へ戻すことをさらに含む態様１７に記載の方法。