【事件の表示】
　特願２００４−２７１９６６「放射線画像変換パネル」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　４月２８日出願公開、特開２００５−１１４７２１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件は、特許法第４１条の規定による優先権主張（優先権主張の日　平成１５年９月１８日）をともなって平成１６年９月１７日に出願された特願２００４−２７１９６６号（以下「本願」という。）に係り、平成２１年８月１７日付けで拒絶査定がなされたため、これを不服として同年１１月５日に請求された拒絶査定不服審判事件であって、前記請求と同日付けで手続補正がなされたところ、特許法第１６２条の規定によってされた審査官による審査（以下「前置審査」という。）により、平成２２年３月５日付けで拒絶理由（いわゆる最初の拒絶理由。以下「前置拒絶理由」という。）が通知され、平成２２年４月２１日付けで意見書および手続補正書が提出されたものの、本願発明は依然として特許を受けることができないとして前記前置審査の結果が報告された。
　その後、当審において、平成２２年１０月５日付けで前記前置審査の結果について、審判請求人の意見を事前に求めるための審尋を行ったところ、同年１２月９日付けで回答書が提出され、また、当審で求めた技術説明に対し、平成２３年４月２０日にＦＡＸによる回答がされた。
　
第２　本願の請求項に係る発明について
１　本願発明
　本願の請求項１，２に係る発明は、平成２２年４月２１日付け手続補正書によって適法に補正された特許請求の範囲の請求項１，２に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は次のとおりである。
「　真空容器と、この真空容器内に設けられて支持体を回転支持する支持体回転機構と、この支持体回転機構に支持されながら回転させられた前記支持体に対して蒸発させた蛍光体を堆積させる蒸発源とを備える蒸着装置を使用して、気相堆積法により支持体上に形成された前記蛍光体の蒸着膜からなる少なくとも一層の蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、
　前記蛍光体層は、Ｘ線回折装置によりＸ線入射角１０°から７０°までの範囲で測定したときのＸ線回折パターンにおいて第２ピーク強度Ｉ２と第１ピーク強度Ｉ１との比Ｉ２／Ｉ１が０．３＜Ｉ２／Ｉ１≦１であり、
　第１ピークが示す結晶格子面が（ｘ ０ ０）（ｘ＝１，２，３のいずれか）であって、
　前記蛍光体層を形成する際の真空度Ｐが１．０Ｅ−３Ｐａ＜Ｐ≦５．０Ｅ−１Ｐａであることを特徴とする放射線画像変換パネル。」
　
２　刊行物 
　前置拒絶理由に引用された、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である特開２００１−２４９１９８号公報（以下「引用例」という。）には、以下の技術的事項が記載されている。
（ａ）「【請求項４】　ＣｓＸ：Ｅｕ刺激可能蛍リン光体を含有し、ここでＸはＢｒ及びＣｌより成る群から選ばれるハライドを示し、スクリーンが：
−該ＣｓＸを、Ｘ’がＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩより成る群から選ばれるハライドであるＥｕＸ’2、ＥｕＸ’3及びＥｕＯＸ’より成る群から選ばれる１０-3〜５モル％のユウロピウム化合物と混合し、
−該混合物を蒸着のための条件下に置き、
−物理蒸着、熱蒸着、化学蒸着、電子ビーム蒸着、高周波蒸着及びパルストレーザー蒸着より成る群から選ばれる方法により該混合物を基質上に蒸着させる段階を含んでなる方法により製造される請求項１又は２に従う無結合剤保存蛍リン光体スクリーン。
【請求項５】　−アルカリ金属保存蛍リン光体を得、
−該蛍リン光体を基質上に真空蒸着させる
段階を含んでなり、該真空蒸着の段階の間、該基質を５０℃≦Ｔ≦３００℃であるような温度Ｔに保ち、該真空蒸着を最高で３ＰａのＡｒ−圧を有するＡｒ−雰囲気下で行うことを特徴とする無結合剤保存蛍リン光体スクリーンの製造法。」
（ｂ）「【００１４】図７は、ＸＲＤ−スペクトルをＴＥＳＴ　Ａに従って測定すると、Ｉ100／Ｉ110≧１であるような強度Ｉ100を有する（１００）回折線及び強度Ｉ110を有する（１１０）回折線を持つＸＲＤ−スペクトルを示すアルカリ金属保存蛍リン光体を含む無結合剤保存蛍リン光体スクリーンを製造するために有用な真空蒸着装置の略図を示している。そのような装置は真空容器（１）を含み、その中に蒸着源（２）が基質（４）と向き合って配置され、基質は好ましくは軸（３）の回りで回転する。……（以下略）」
（ｃ）「【００２５】
【実施例】蛍リン光体の製造
ＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの熱蒸着を介してＣｓＢｒ：Ｅｕスクリーンを製造した。この目的のために、ＣｓＢｒをＥｕＯＢｒと混合し、真空蒸着室内の容器中に入れた。蛍リン光体を１．５ｍｍの厚さ及び４０ｍｍの直径を有するガラスの円板上に蒸着させた。容器と基質の間の距離は１０ｃｍであった。蒸発の間、基質を１２ｒｐｍで回転させた。出発材料を有する容器を７５０℃の温度まで加熱した。蒸発の開始の前に、室を４．１０−５ミリバールの圧力まで排気した。蒸発過程の間、Ａｒを室内に導入した。蒸着過程における変数は基質温度及びＡｒガス圧であった。表１に挙げる条件下で種々のスクリーンを製造した。蒸発させたスクリーンにおけるＥｕ−濃度をＸ−線蛍光を用いて測定し、それは８００ｐｐｍの大きさのものであった。走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を介し、蒸着された蛍リン光体層の形態学を決定した。すべての蛍リン光体層は針形結晶で構成されていた。図１は蛍リン光体層の端において垂直にとられた典型的蛍リン光体層のＳＥＭ図を示す。針様構造が存在することが明らかである。
【００２６】
【表１】
　
」
（ｄ）「【００２７】
結晶配向の測定：ＴＥＳＴ　Ａ
設定
　　　入射ビーム：発散スリット(Ｄｉｖｅｒｇｅｎｃｅ ｓｌｉｔ)
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：固定　１／８°
　　　入射ビーム：抗散乱スリット(Ａｎｔｉ ｓｃａｔｔｅｒ ｓｌｉｔ)
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：固定　１／４°
　　　入射ビーム：固定ビームマスク：１０ｍｍ
測定
パラメーター
　　　　　　　ステップサイズ：０．０５°
　　　　　　　ステップ当たりの時間：０．６０秒
　　　　　　　二次ビーム路(ｓｅｃｏｎｄａｒｙ ｂｅａｍ ｐａｔｈ)
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：低(ｌｏｗｅｒ)
　　　　　　　走査軸：２Θ
　　　　　　　走査モード：連続
　　　　　　　合計時間：１５分３６秒
　　　　　　　ゴニオ角：２．０°
　　　　　　　回転：なし
図２は比較実施例１のＸＲＤスペクトルを示す。約２１°の２Θにおいて非常に強い［１００］回折線が示されており、約２９°の２Θにおいてさらに強い［１１０］回折線が示されており、強い［２００］回折線も約４２°の２Θにおいて示されている。
【００２８】図３〜６はそれぞれ本発明の実施例１、２、３及び４のＸＲＤ−スペクトルを示している。これらのスペクトルにおいては、約２９°の２Θにおける［１１０］回折線はほとんど見えないが、約２１°の２Θにおける［１００］回折線及び約４２°の２Θにおける［２００］回折線は非常に強いままである。」
（ｅ）【図５】は下図のとおりであって、同図から、最も強度の大きい回折線である約４２°における回折線、および、２番目に強度の大きい回折線である約２１°における回折線のカウント／秒の値が約９０００、および、約３６００であることがわかる。
　
」
　
　上記（ｄ）の【００２８】の記載からして、上記（ｅ）の【図５】は、上記（ｃ）の表１に示されている実施例３に関するＸＲＤ−スペクトルであることが明らかであるから、引用例の上記記載からして、引用例には以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているといえる。
「真空容器を含み、その中に蒸着源が基質と向き合って配置され、基質は好ましくは軸の回りで回転する真空蒸着装置を用いて、
物理蒸着、熱蒸着、化学蒸着、電子ビーム蒸着、高周波蒸着及びパルストレーザー蒸着より成る群から選ばれる方法によりＣｓＢｒ：Ｅｕ刺激可能蛍リン光体を含有する混合物を基質上に蒸着させて製造される蛍リン光体スクリーンであって、
蒸発の開始の前に、室を４．１０−５ミリバールの圧力まで排気し、蒸発過程の間、Ａｒガス圧を０として製造した前記蛍リン光体スクリーンにおいて、
蒸着された針形結晶における結晶のユニットセルの配向を、２Θ：２．００°から８０．００°までのＸＲＤスペクトルの測定したときのスペクトルパターンが、
最も強度の大きい回折線である約４２°における回折線、および、２番目に強度の大きい回折線である約２１°における回折線のカウント／秒の値が約９０００、および、約３６００であり、
前記約４２°における回折線が［２００］回折線である、蛍リン光体スクリーン。」
　
３　本願発明と引用発明の対比
　本願発明と引用発明を対比する。
ア　引用発明の「真空容器を含み、その中に蒸着源が基質と向き合って配置され、基質は好ましくは軸の回りで回転する真空蒸着装置を用いて、
物理蒸着、熱蒸着、化学蒸着、電子ビーム蒸着、高周波蒸着及びパルストレーザー蒸着より成る群から選ばれる方法によりＣｓＢｒ：Ｅｕ刺激可能蛍リン光体を含有する混合物を基質上に蒸着させて製造される蛍リン光体スクリーン」という事項が、本願発明の「真空容器と、この真空容器内に設けられて支持体を回転支持する支持体回転機構と、この支持体回転機構に支持されながら回転させられた前記支持体に対して蒸発させた蛍光体を堆積させる蒸発源とを備える蒸着装置を使用して、気相堆積法により支持体上に形成された前記蛍光体の蒸着膜からなる少なくとも一層の蛍光体層を有する放射線画像変換パネル」に相当することは、当業者の技術常識からして明らかである。
イ　引用発明の「蒸着された針形結晶における結晶のユニットセルの配向を、２Θ：２．００°から８０．００°までのＸＲＤスペクトルの測定したときのスペクトルパターンが、
最も強度の大きい回折線である約４２°における回折線、および、２番目に強度の大きい回折線である約２１°における回折線のカウント／秒の値が約９０００、および、約３６００であり」という事項と、本願発明の「前記蛍光体層は、Ｘ線回折装置によりＸ線入射角１０°から７０°までの範囲で測定したときのＸ線回折パターンにおいて第２ピーク強度Ｉ２と第１ピーク強度Ｉ１との比Ｉ２／Ｉ１が０．３＜Ｉ２／Ｉ１≦１」という事項を対比する。
　ここで、本願発明の「Ｘ線入射角１０°から７０°までの範囲」の意味は、Ｘ線回折の技術常識を踏まえて本願の【図２】の図示内容を参酌すると、「２θが１０°から７０°までの範囲」という意味であることは明らかである。また、本願発明の「第１ピーク強度Ｉ１」および「第２ピーク強度Ｉ２」が、それぞれ、Ｘ線回折パターンにおいて、「最大強度を示すピークの強度」および「第２番目の強度を示すピーク強度」を意味していることは本願明細書の【００１７】の記載から明らかであるから、引用発明の「スペクトルパターンが、最も強度の大きい回折線である約４２°における回折線」および「（スペクトルパターンが）２番目に強度の大きい回折線である約２１°における回折線」が、それぞれ、本願発明の「第１ピーク」および「第２ピーク」に相当し、したがって、引用発明の「スペクトルパターンが、最も強度の大きい回折線である約４２°における回折線、および、２番目に強度の大きい回折線である約２１°における回折線のカウント／秒の値が約９０００、および、約３６００」であるという事項は、本願発明における「第２ピーク強度Ｉ２と第１ピーク強度Ｉ１との比Ｉ２／Ｉ１」が０．４であることに相当する。
　そうすると、両者は、「前記蛍光体層は、Ｘ線回折装置によりＸ線入射角１０°から７０°までの範囲で測定したときのＸ線回折パターンにおいて第２ピーク強度Ｉ２と第１ピーク強度Ｉ１との比Ｉ２／Ｉ１が０．４」である点で一致している。
ウ　引用発明の「前記約４２°における回折線が［２００］回折線である」という事項と、本願発明の「第１ピークが示す結晶格子面が（ｘ ０ ０）（ｘ＝１，２，３のいずれか）であって」を対比すると、引用発明の「約４２°における回折線が」、本願発明の「第１ピーク」に相当することは上述のとおりであるから、両者は、「第１ピークが示す結晶格子面が（２ ０ ０）」である点で一致する。
エ　引用発明の「蒸発の開始の前に、室を４．１０−５ミリバールの圧力まで排気し、蒸発過程の間、Ａｒガス圧を０として製造した前記蛍リン光体スクリーン」という事項と、本願発明の「前記蛍光体層を形成する際の真空度Ｐが１．０Ｅ−３Ｐａ＜Ｐ≦５．０Ｅ−１Ｐａである」を対比する。
　引用発明の「蒸発の開始の前に、室を４．１０−５ミリバールの圧力まで排気」という事項は、当業者の技術常識に照らすと、「蒸発の開始の前に、室を４×１０−５ミリバールの圧力まで排気」の意味であることは明らかであるといえるから、引用発明の蛍リン光体スクリーンは、「室を４×１０−３Ｐａまで排気し、蒸発過程の間、Ａｒガス圧を０として製造」されたものであるといえる。
　そうすると、両者は、「前記蛍光体層を形成する際の真空度Ｐが４．０Ｅ−３Ｐａである」点で一致している。
　
　そうすると本願発明と引用発明は、
「真空容器と、この真空容器内に設けられて支持体を回転支持する支持体回転機構と、この支持体回転機構に支持されながら回転させられた前記支持体に対して蒸発させた蛍光体を堆積させる蒸発源とを備える蒸着装置を使用して、気相堆積法により支持体上に形成された前記蛍光体の蒸着膜からなる少なくとも一層の蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、
　前記蛍光体層は、Ｘ線回折装置によりＸ線入射角１０°から７０°までの範囲で測定したときのＸ線回折パターンにおいて第２ピーク強度Ｉ２と第１ピーク強度Ｉ１との比Ｉ２／Ｉ１がＩ２／Ｉ１＝０．４であり、
　第１ピークが示す結晶格子面が（２ ０ ０）であって、
　前記蛍光体層を形成する際の真空度Ｐが４．０Ｅ−３Ｐａである放射線画像変換パネル。」の点で一致し、両者に相違点はない。
　
５　請求人の主張の検討
　請求人は、平成２２年４月２１日付けで意見書、平成２２年１２月９日付けで回答書、および、平成２３年４月２０日のＦＡＸ回答において、引用例と本願発明とは蛍光体層を形成する際の真空度が相違する旨主張する。しかしながら、引用例の実施例３の真空度は、４×１０−３Ｐａまで排気し、蒸発過程の間、Ａｒガス圧を０としたもの、すなわち、４×１０−３Ｐａと認められることは上述（上記「３」の「エ」参照）とおりであり、当該真空度は本願発明の範囲内のものであるから、請求人の前記主張を採用することはできない。
　
６　小括
　以上検討のとおり、本願発明と、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である引用例に記載された発明である引用発明は、何ら相違しない。
　
第３　むすび
　上記のとおり、本願の請求項１に係る発明は、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である引用例に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に規定する発明に該当し、特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。