【手続補正書】
【提出日】平成23年2月14日(2011.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効量の式（Ｉ）：
【化１】
2010522181.tif 000001
［式中、
式（Ｉ）における位置２−３および位置３ａ−８ａの間の点線はＸ１Ｒ１が存在する時の存在する２つの二重結合の各々に関する位置を表し、
式（Ｉ）における位置３−３ａおよび位置８ａ−１の間の点線はＸ２Ｒ２が存在する時の存在する２つの二重結合の各々に関する位置を表し、
式（Ｉ）における位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線は二重結合に関する位置を表し、
Ｘ１は不存在であるかまたは低級アルキレンであり、
Ｘ２は不存在であるかまたは低級アルキレンであり、
ここでＸ１Ｒ１およびＸ２Ｒ２の１つだけが存在し、
Ｘ３は不存在であるか、低級アルキレン、低級アルキリデンまたは−ＮＨ−であり、
位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が不存在である時には、Ｘ４は不存在であるか、または低級アルキレンであり、
位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が存在する時には、Ｘ４は不存在であり、
Ｘ５は不存在であるかまたは低級アルキレンであり、
Ｒ１は水素、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくは低級アルコキシにより置換されていてもよい）、低級アルキル−スルホニル、アリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルから選択され、ここでアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルは各々場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、アミノスルホニル、低級アルキル−アミノスルホニル、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくは低級アルコキシにより置換されていてもよい）、ヒドロキシまたは低級アルコキシ（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンもしくはヒドロキシにより置換されていてもよい）により置換されていてもよく、
Ｒ２は水素、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくは低級アルコキシにより置換されていてもよい）、低級アルキル−スルホニル、アリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルから選択され、ここでアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルは各々場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、アミノスルホニル、低級アルキル−アミノスルホニル、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくは低級アルコキシにより置換されていてもよい）、ヒドロキシまたは低級アルコキシ（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンもしくはヒドロキシにより置換されていてもよい）により置換されていてもよく、
Ｒ３は−Ｃ（Ｏ）−Ｚ１（Ｒ６）、−ＳＯ２−ＮＲ７−Ｚ２（Ｒ８）または−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ９−Ｚ３（Ｒ１０）であり、
位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が不存在である時には、Ｘ４は不存在であるかまたは低級アルキレンでありそしてＲ４はヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン、アリール、Ｃ
３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルであり、ここでアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルは各々場合により１つもしくはそれ以上の位置でヒドロキシ、オキソ、低級アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくは低級アルコキシにより置換されていてもよい）、低級アルコキシ（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンもしくはヒドロキシにより置換されていてもよい）またはハロゲンにより置換されていてもよく、
位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が存在する時には、Ｘ４は不存在でありそしてＲ４はＣＨ−アリールまたはＣＨ−ヘテロシクリルであり、ここでアリールまたはヘテロシクリルは各々場合により１つもしくはそれ以上の位置でヒドロキシ、オキソ、低級アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくは低級アルコキシにより置換されていてもよい）、低級アルコキシ（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンもしくはヒドロキシにより置換されていてもよい）またはハロゲンにより置換されていてもよく、
Ｒ５は水素、ヒドロキシ、オキソ、ハロゲン、アミノ、低級アルキル−アミノ、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくは低級アルコキシにより置換されていてもよい）、低級アルコキシ（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンもしくはヒドロキシにより置換されていてもよい）、カルボキシ、カルボニルアルコキシ、カルバモイル、カルバモイルアルキル、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシまたはヘテロシクリルであり、
Ｒ６は各々場合により１個もしくはそれ以上のヒドロキシ、オキソ、ハロゲン、アミノ、低級アルキル−アミノ、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくは低級アルコキシにより置換されていてもよい）、低級アルコキシ（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンもしくはヒドロキシにより置換されていてもよい）、カルボキシ、カルボニルアルコキシ、カルバモイル、カルバモイルアルキル、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシまたはヘテロシクリルにより置換されていてもよいアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルであり、
Ｒ７は水素または低級アルキルであり、
Ｒ８は水素、アリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルであり、ここでアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルは各々場合により１個もしくはそれ以上のヒドロキシ、オキソ、ハロゲン、アミノ、低級アルキル−アミノ、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくは低級アルコキシにより置換されていてもよい）、低級アルコキシ（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンもしくはヒドロキシにより置換されていてもよい）、カルボキシ、カルボニルアルコキシ、カルバモイル、カルバモイルアルキル、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシまたはヘテロシクリルにより置換されていてもよく、
Ｒ９は水素または低級アルキルであり、
Ｒ１０は水素、アリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルであり、ここでアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルは各々場合により１個もしくはそれ以上のヒドロキシ、オキソ、ハロゲン、アミノ、低級アルキル−アミノ、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくは低級アルコキシにより置換されていてもよい）、低級アルコキシ（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンもしくはヒドロキシにより置換されていてもよい）、カルボキシ、カルボニルアルコキシ、カルバモイル、カルバモイルアルキル、アミノスルホニル、低級アルキル−アミノスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシまたはヘテロシクリルにより置換されていてもよく、
Ｚ１およびＺ２は各々不存在であるかまたはアルキルであり、そして
Ｚ３は不存在であるか、−ＮＨ−、−ＳＯ２−またはアルキル（ここでアルキルは場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルボキシもしくはカルボニルアルコキシにより置換されていてもよい）である］
の化合物またはその形態を含んでなる、被験体におけるＣＢ２受容体介在疼痛を処置、緩和または予防するための医薬組成物。
【請求項２】
Ｘ１が不存在でありそしてＲ１が水素、アルキル、低級アルキル−スルホニル、アリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルから選択され、ここでアリールまたはヘテロシクリルが各々場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、アミノスルホニルまたはアルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンにより置換されていてもよい）により置換されていてもよい、請求項１の組成物。
【請求項３】
Ｒ３が−ＳＯ２−ＮＲ７−Ｚ２（Ｒ８）であり、Ｘ３が不存在であるかまたは低級アルキリデンであり、Ｒ７が水素または低級アルキルであり、Ｚ２が不存在であるかまたはアルキルであり、そして、Ｒ８がアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルである、請求項１の組成物。
【請求項４】
Ｒ３が−ＳＯ２−ＮＨ−Ｚ２（Ｒ８）であり、Ｘ３が不存在であるかまたは低級アルキリデンであり、Ｚ２が不存在であるかまたはアルキルであり、そして、Ｒ８がアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルである、請求項１の組成物。
【請求項５】
Ｒ３が−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ９−Ｚ３（Ｒ１０）であり、Ｘ３が不存在であるかまたは低級アルキリデンであり、Ｒ９が水素または低級アルキルであり、Ｚ３が不存在であるか、−ＳＯ２−またはアルキル（ここでアルキルが場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくはカルボニルアルコキシにより置換されていてもよい）であり、そして、Ｒ１０が水素、アリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルであり、ここでアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルが各々場合により１個もしくはそれ以上のヒドロキシ、ハロゲン、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンにより置換されていてもよい）、アルコキシ、カルボキシ、カルボニルアルコキシ、カルバモイルアルキルまたはアミノスルホニルにより置換されていてもよい、請求項１の組成物。
【請求項６】
Ｒ３が−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｚ３（Ｒ１０）であり、Ｘ３が不存在であるかまたは低級アルキリデンであり、Ｚ３が不存在であるか、−ＳＯ２−またはアルキル（ここでアルキルが場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくはカルボニルアルコキシにより置換されていてもよい）であり、そして、Ｒ１０が水素、アリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルであり、ここでアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルが各々場合により１個もしくはそれ以上のヒドロキシ、ハロゲン、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンにより置換されていてもよい）、アルコキシ、カルボキシ、カルボニルアルコキシ、カルバモイルアルキルまたはアミノスルホニルにより置換されていてもよい、請求項１の組成物。
【請求項７】
Ｒ３が−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｚ３（Ｒ１０）であり、Ｘ３が不存在であるかまたは低級アルキリデンであり、Ｚ３が不存在であるか、−ＳＯ２−またはアルキル（ここでアルキルが場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくはカルボニルアルコキシにより置換されていてもよい）であり、そしてＲ１０が場合により１個もしくはそれ以上のヒドロキシ、ハロゲン、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンにより置換されていてもよい）、アルコキシまたはアミノスルホニルにより置換されていてもよいアリールである、請求項１の組成物。
【請求項８】
Ｒ３が−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｚ３（Ｒ１０）であり、Ｘ３が不存在であるかまたは低級アルキリデンであり、Ｚ３が不存在であるか、−ＳＯ２−またはアルキル（ここでアルキルが場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくはカルボニルアルコキシにより置換されていてもよい）であり、そして、Ｒ１０が水素またはＣ３−Ｃ１
２シクロアルキルであり、ここでＣ３−Ｃ１２シクロアルキルが場合により１個もしくはそれ以上のヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、カルボキシ、カルボニルアルコキシまたはカルバモイルアルキルにより置換されていてもよい、請求項１の組成物。
【請求項９】
Ｒ３が−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｚ３（Ｒ１０）であり、Ｘ３が不存在であるかまたは低級アルキリデンであり、Ｚ３が不存在であるか、−ＳＯ２−またはアルキル（ここでアルキルが場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくはカルボニルアルコキシにより置換されていてもよい）であり、そして、Ｒ１０が水素またはヘテロシクリルであり、ここでヘテロシクリルが場合により１個もしくはそれ以上のカルボニルアルコキシにより置換されていてもよい、請求項１の組成物。
【請求項１０】
位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が不存在であり、Ｘ４が不存在であるかまたは低級アルキレンでありそしてＲ４が場合により１つもしくはそれ以上の位置で低級アルキルまたはハロゲンにより置換されていてもよいアリールである、請求項１の組成物。
【請求項１１】
位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が存在し、Ｘ４が不存在でありそしてＲ４がＣＨ−アリールまたはＣＨ−ヘテロシクリルであり、ここでアリールまたはヘテロシクリルが各々場合により１つもしくはそれ以上の位置で低級アルコキシまたはハロゲンにより置換されていてもよい、請求項１の組成物。
【請求項１２】
Ｘ５が不存在でありそしてＲ５が水素である、請求項１の組成物。
【請求項１３】
化合物が式（Ｉａ）
【化２】
2010522181.tif 000002
［式中、Ｘ１は不存在であるかまたは低級アルキレンであり、Ｘ３は不存在であるかまたは低級アルキリデンであり、位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が不存在である時にはＸ４は不存在であるかまたは低級アルキレンであり、位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が存在する時にはＸ４は不存在であり、Ｒ１は水素、アルキル、低級アルキル−スルホニル、アリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルから選択され、ここでアリールまたはヘテロシクリルは各々場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、アミノスルホニルまたはアルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンにより置換されていてもよい）により置換されていてもよく、Ｒ３は−Ｃ（Ｏ）−（Ｒ６）、−ＳＯ２−ＮＨ−Ｚ２（Ｒ８）または−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｚ３（Ｒ１０）であり、位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が不存在である時には、Ｒ４はアリールであり、ここでアリールは場合により１つもしくはそれ以上の位置で低級アルキルまたはハロゲンにより置換されていてもよく、位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が存在する時には、Ｒ４はＣＨ−アリールまたはＣＨ−ヘテロシクリルであり、ここでアリールまたはヘテロシクリルは各々場合により１つもしくはそれ以上の位置で低級アルコキシまたはハロゲンにより置換されていてもよく、Ｒ６は場合により１個もしくはそれ以上のアリールまたはヘテロシクリルにより置換されていてもよいヘテロシクリルであり、Ｚ２は不存在であるかまたはアルキルであり、Ｒ８はアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルであり、Ｚ３
は不存在であるか、−ＳＯ２−またはアルキル（ここでアルキルは場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくはカルボニルアルコキシにより置換されていてもよい）であり、そして、Ｒ１０は水素、アリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルであり、ここでアリール、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキルまたはヘテロシクリルは各々場合により１個もしくはそれ以上のヒドロキシ、ハロゲン、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンにより置換されていてもよい）、アルコキシ、カルボキシ、カルボニルアルコキシ、カルバモイルアルキルまたはアミノスルホニルにより置換されていてもよい］
の化合物またはその塩、異性体、プロドラッグ、代謝産物もしくは多形相から選択される、請求項１の組成物。
【請求項１４】
Ｘ１が不存在であり、Ｘ３が不存在であるかまたは低級アルキリデンであり、位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が不存在である時にはＸ４が低級アルキレンであり、位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が存在する時にはＸ４が不存在であり、Ｒ１が水素またはアルキルから選択され、Ｒ３が−ＳＯ２−ＮＨ−Ｚ２（Ｒ８）または−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｚ３（Ｒ１０）であり、位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が不存在である時には、Ｒ４がアリールであり、ここでアリールが場合により１つもしくはそれ以上の位置で低級アルキルまたはハロゲンにより置換されていてもよく、位置８およびＸ４Ｒ４の間の点線が存在する時には、Ｒ４がＣＨ−アリールまたはＣＨ−ヘテロシクリルであり、ここでアリールまたはヘテロシクリルが各々場合により１つもしくはそれ以上の位置で低級アルコキシまたはハロゲンにより置換されていてもよく、Ｚ２が不存在であるかまたはアルキルであり、Ｒ８がアリールまたはヘテロシクリルであり、Ｚ３がアルキル（ここでアルキルが場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲン、ヒドロキシもしくはカルボニルアルコキシにより置換されていてもよい）であり、そして、Ｒ１０がアリールまたはヘテロシクリルであり、ここでアリールまたはヘテロシクリルが各々場合により１個もしくはそれ以上のヒドロキシ、ハロゲン、アルキル（場合により１つもしくはそれ以上の位置でハロゲンにより置換されていてもよい）、アルコキシ、カルボキシ、カルボニルアルコキシ、カルバモイルアルキルまたはアミノスルホニルにより置換されていてもよい、請求項１の組成物。
【請求項１５】
化合物が
８−（３−クロロ−ベンジル）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−フェニル−エチル］−アミド、
（８Ｒ＊）−８−（３−クロロ−ベンジル）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−フェニル−エチル］−アミド、
（８Ｒ＊）−８−（３−クロロ−ベンジル）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−フェニル−エチル］−アミド、
（８Ｓ＊）−８−（３−クロロ−ベンジル）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−フェニル−エチル］−アミド、
（２Ｅ）−２−［（８Ｒ＊）−８−（３−フルオロ−ベンジル）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−イル］−エテンスルホン酸［（１Ｓ）−１−フェニル−エチル］−アミド、
（８Ｅ）−８−（４−クロロ−ベンジリデン）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−フェニル−エチル］−アミド、
（２Ｅ，８Ｅ）−２−［８−（４−クロロ−ベンジリデン）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−イル］−エテンスルホン酸［（１Ｓ）−１
−フェニル−エチル］−アミド、
（８Ｅ）−（２Ｓ）−２−｛［８−（４−クロロ−ベンジリデン）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボニル］−アミノ｝−３−（４−フルオロ−フェニル）−プロピオン酸メチルエステル、
（８Ｅ）−８−（３−クロロ−ベンジリデン）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−フェニル−エチル］−アミド、
（８Ｅ）−（２Ｓ）−２−｛［８−（３−クロロ−ベンジリデン）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボニル］−アミノ｝−３−（４−フルオロ−フェニル）−プロピオン酸メチルエステル、
（８Ｅ）−（２Ｓ）−２−｛［８−（３−フルオロ−ベンジリデン）−１−メチル−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボニル］−アミノ｝−３−（４−フルオロ−フェニル）−プロピオン酸メチルエステル、
（８Ｅ）−８−（３−フルオロ−ベンジリデン）−１−メチル−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−フェニル−エチル］−アミド、
（８Ｅ）−（２Ｓ）−８−（３−フルオロ−ベンジリデン）−１−メチル−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［１−ヒドロキシメチル−２−（４−ヒドロキシ−フェニル）−エチル］−アミド、
（８Ｅ）−（２Ｒ）−２−｛［８−（３−クロロ−ベンジリデン）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボニル］−アミノ｝−３−（４−フルオロ−フェニル）−プロピオン酸メチルエステル、
（８Ｅ）−（２Ｒ）−２−｛［８−（４−クロロ−ベンジリデン）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボニル］−アミノ｝−３−（４−フルオロ−フェニル）−プロピオン酸メチルエステル、
（８Ｅ）−８−（３−フルオロ−ベンジリデン）−１−メチル−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｒ）−３−ヒドロキシ−１−フェニル−プロピル］−アミド、
（８Ｅ）−８−（３−クロロ−ベンジリデン）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｒ）−３−ヒドロキシ−１−フェニル−プロピル］−アミド、
（８Ｒ＊）−（３−クロロ−ベンジル）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｓ）−２−メトキシ−１−フェニル−エチル］−アミド、
（８Ｓ＊）−（３−クロロ−ベンジル）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｓ）−２−メトキシ−１−フェニル−エチル］−アミド、
（８Ｓ＊）−（３−クロロ−ベンジル）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｒ）−２−メトキシ−１−フェニル−エチル］−アミド、および
（８Ｒ＊）−（３−クロロ−ベンジル）−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−シクロヘプタピラゾール−３−カルボン酸［（１Ｒ）−２−メトキシ−１−フェニル−エチル］−アミド
から選択される、請求項１の組成物。
【請求項１６】
ＣＢ２受容体介在疼痛が慢性または急性である、請求項１の組成物。
【請求項１７】
ＣＢ２受容体介在疼痛が手術後、炎症性もしくは神経障害性であるかまたは損傷もしくは年令の結果である、請求項１６の組成物。
【請求項１８】
ＣＢ２受容体介在疼痛が別のやり方で特性づけを不可能とし且つＣＢ２受容体アゴニストを用いる処置から利点を受けるであろう中枢または末梢経路介在疼痛症状である、請求項１６の組成物。
【請求項１９】
ＣＢ２受容体介在疼痛が変形性関節症、慢性関節リウマチ、頭痛、片頭痛、歯痛、分娩、月経困難症、間質性膀胱炎、末梢神経炎、粘膜炎、外科疼痛、運動損傷疼痛、外傷、癌疼痛、線維筋痛、膵臓炎、腸炎、蜂巣炎、骨折、手術後腸仙痛、過敏性腸症候群、炎症性腸疾病に起因する疼痛、クローン病、潰瘍性大腸炎、胆嚢炎、火傷、日焼け、毒性の蛇噛み傷、蜘蛛噛み傷または昆虫刺し傷に起因する疼痛および非毒の蛇噛み傷、蜘蛛噛み傷または昆虫刺し傷に起因する疼痛よりなる群から選択される炎症性疼痛である、請求項１７の組成物。
【請求項２０】
ＣＢ２受容体介在疼痛が化学療法性神経障害、エイズ−関連神経障害、糖尿病性神経障害および肝炎後神経痛よりなる群から選択される神経障害疼痛である、請求項１７の組成物。
【請求項２１】
請求項１の化合物の有効量が約０．００１ｍｇ／ｋｇ／日〜約３００ｍｇ／ｋｇ／日である、請求項１の組成物。
【請求項２２】
請求項１３の化合物の有効量が約０．００１ｍｇ／ｋｇ／日〜約３００ｍｇ／ｋｇ／日である、請求項１の組成物。
【請求項２３】
請求項１４の化合物の有効量が約０．００１ｍｇ／ｋｇ／日〜約３００ｍｇ／ｋｇ／日である、請求項１の組成物。
【請求項２４】
被験体に有効量の請求項１の化合物および治療剤を含んでなる組み合わせ製品および／または療法を投与することをさらに含んでなる、請求項１の組成物。
【請求項２５】
ＣＢ２受容体介在疼痛の処置、緩和または予防を必要とする被験体においてＣＢ２受容体介在疼痛を処置、緩和または予防するための薬品の製造における請求項１の化合物の使用。
【請求項２６】
ＣＢ２受容体介在疼痛が慢性または急性である、請求項２５の使用。
【請求項２７】
ＣＢ２受容体介在疼痛が手術後、炎症性もしくは神経障害性であるかまたは損傷もしくは年令の結果である、請求項２５の使用。
【請求項２８】
ＣＢ２受容体介在疼痛が別のやり方で特性づけを不可能とし且つＣＢ２受容体アゴニストを用いる処置から利点を受けるであろう中枢または末梢経路介在疼痛症状である、請求項２５の使用。
【請求項２９】
ＣＢ２受容体介在疼痛が変形性関節症、慢性関節リウマチ、頭痛、片頭痛、歯痛、分娩、月経困難症、間質性膀胱炎、末梢神経炎、粘膜炎、外科疼痛、運動損傷疼痛、外傷、癌疼痛、線維筋痛、膵臓炎、腸炎、蜂巣炎、骨折、手術後腸仙痛、過敏性腸症候群、炎症性腸疾病に起因する疼痛、クローン病、潰瘍性大腸炎、胆嚢炎、火傷、日焼け、毒性の蛇噛み傷、蜘蛛噛み傷または昆虫刺し傷に起因する疼痛および非毒の蛇噛み傷、蜘蛛噛み傷または昆虫刺し傷に起因する疼痛よりなる群から選択される炎症性疼痛である、請求項２７の使用。
【請求項３０】
ＣＢ２受容体介在疼痛が化学療法性神経障害、エイズ−関連神経障害、糖尿病性神経障
害および肝炎後神経痛よりなる群から選択される神経障害疼痛である、請求項２７の使用。