【事件の表示】
　特願２００４−３０５３５７「組立体、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　５月１９日出願公開、特開２００５−１２９９４０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件出願（以下「本願」と記す。）は、平成１６年１０月２０日（パリ条約による優先権主張２００３年１０月２１日、欧州特許庁）の出願であって、平成１９年１２月４日付けで拒絶理由が通知され、これに対し、平成２０年３月４日付けで手続補正がなされ、その後同年３月２１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年６月２３日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年７月２２日付けで手続補正がなされ、これに対し平成２１年９月４日付けで審尋がなされ、これに対し、平成２１年１２月３日付けで回答がなされ、これに対し、当審にて平成２２年６月９日付けで平成２０年７月２２日付け手続補正の却下の決定がなされるとともに最後の拒絶理由が通知され、これに対し、同年９月９日付けで手続補正がなされたものである。さらに、平成２２年１０月５日付けの応対記録の通り、請求人から釈明を受けた。
　
２．平成２２年９月９日付けの手続補正について
　平成２２年９月９日付けの手続補正により、特許請求の範囲が補正された。その補正内容は、特許請求の範囲の請求項１を、平成２０年３月４日付け手続補正により補正された特許請求の範囲（以下「補正前」と記す。）の請求項１を引用する請求項３を引用した請求項６に変更し、請求項２を、補正前の請求項１を引用する請求項３を引用する請求項４を引用した請求項６に変更し、請求項３を、補正前の請求項１を引用する請求項３を引用する請求項５を引用した請求項６に変更し、請求項４を、補正前の請求項７のうち引用する請求項を「請求項１乃至３のうち何れか１項」に変更し、請求項５を、補正前の請求項８のうち引用する請求項を「請求項１乃至４のうち何れか１項」に変更し、請求項６を、補正前の請求項１０のうち引用する請求項を「請求項１乃至５のうち何れか１項」に変更したものである。
　上記補正は、請求項の削除を目的とするものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第１号に規定された請求項の削除を目的とするものに該当する。
　
３．本願発明について
　平成２２年９月９日付けの手続補正は上記のとおり適法であるので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定された以下のとおりのものである。
「【請求項１】
　放射線の投影ビームを提供するための照明系と、
　パターン形成手段を支持するための支持構造であって、パターン形成手段が投影ビームの断面にパターンを与えるように働く支持構造と、
　基板を保持するための基板テーブルと、
　所定の機能を有し、第２の要素に対して固定して配置される第１の要素を有する、パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分の上に投影するための投影光学系組立体であって、前記第１の要素及び前記第２の要素が間隔をおいた関係で支持フレーム上に配置される投影光学系組立体と、を備え、
　前記支持フレームが、前記第１の要素を受け入れるように前記支持フレームの上又は中に形成されたインターフェース面を備え、前記インターフェース面が、前記第２の要素に対する前記第１の要素の位置を決定し、かつ前記第１の要素を前記第２の要素に対して少なくとも３自由度で位置決めすることができるように前記所定の機能に従って適合され、
　前記投影光学系組立体が、前記インターフェース面と前記第１の要素の間に配置されたインターフェース要素を更に有し、
　前記インターフェース要素が、前記自由度の少なくとも１つについて前記インターフェース要素の動きを制約するように適合させた１つ又は複数の取り付け要素により、前記インターフェース面に取り付けられるようになっている、リソグラフィ装置。」
　
４．引用刊行物記載の発明
　これに対して、当審の拒絶理由に引用された，本願の優先日前である平成１５年５月３０日に頒布された刊行物である「特開２００３−１５８０７０号公報」（以下「引用例」という。）には、図面とともに、以下の技術事項が記載されている。
　
（ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、放射線の投影ビームを供給するための放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームにパターン付けするように働くパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、前記パターンを付けられたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、複数の前記投影システムの光学要素および／またはセンサの構成要素を支持するフレームとを備えるリソグラフィ投影装置に関する。」
　
（ｂ）「【００２１】
【発明の実施の形態】（実施形態１）図１は、本発明のある特定の実施形態によるリソグラフィ投影装置を概略的に示す。この装置は、以下のものを備える。
（１）放射線（例えばＥＵＶ放射線）の投影ビームＰＢを供給するための放射システムＥｘ、ＩＬ。この特定の場合には、放射線源ＬＡも備える。
（２）マスクＭＡ（例えば焦点板）を保持するためのマスク・ホルダを備え、アイテムＰＬに対してマスクを正確に位置決めするための第１の位置決め手段ＰＭに接続された第１のオブジェクト・テーブル（対象物テーブルまたはマスク・テーブル）ＭＴ。
（３）基板Ｗ（例えばレジスト被覆シリコン・ウェハ）を保持するための基板ホルダを備え、アイテムＰＬに対して基板を正確に位置決めするための第２の位置決め手段ＰＷに接続された第２のオブジェクト・テーブル（対象物テーブルまたは基板テーブル）ＷＴ。
（４）複数の光学要素すなわちミラーを使用して、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つまたは複数のダイを備える）にマスクＭＡの照射部分を結像するための投影システム（「レンズ」）ＰＬ（例えば、ミラー系）。本明細書で示すように、この装置は、反射性タイプの（例えば反射性マスクを有する）ものである。しかし一般には、例えば透過性タイプの（例えば、透過性マスクを有する）ものであってもよい。別法として、この装置は、上で言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなど別の種類のパターニング手段を使用することができる。
【００２２】放射線源ＬＡ（例えば、レーザ発生または放電プラズマ源）は放射線ビームを発生する。このビームは、直接的に、または例えばビーム拡大器Ｅｘなどの調整手段を横切った後に、照明システム（照明器）ＩＬに供給される。照明器ＩＬは、ビームの強度分布の外側および／または内側放射範囲（一般にそれぞれσ外側およびσ内側と呼ばれる）を設定するための調節手段ＡＭを備えることができる。さらに、一般には、積分器ＩＮや集光レンズＣＯなど様々な他の構成要素も備える。このようにして、マスクＭＡに衝突するビームＰＢが、その断面で所望の均一性および強度分布を有するようにする。
【００２３】図１に関して、放射線源ＬＡは（例えば放射線源ＬＡが水銀ランプであるときにしばしばそうであるように）リソグラフィ投影装置のハウジング内部にある場合があり、しかしリソグラフィ投影装置から離れていて、生成する放射線ビームが（例えば適切な方向付けミラーによって）装置内に導かれる場合もあることに留意されたい。この後者のシナリオは、放射線源ＬＡがエキシマ・レーザであるときにしばしばそうである。本発明および特許請求の範囲はこれら両方のシナリオを包含する。
【００２４】ビームＰＢはその後、マスク・テーブルＭＴ上に保持されているマスクＭＡに交差する。ビームＰＢは、マスクＭＡを横切ると、レンズＰＬを通過し、レンズＰＬが、基板Ｗのターゲット部分ＣにビームＰＢの焦点を合わせる。第２の位置決め手段ＰＷ（および干渉計測定手段ＩＦ）によって、基板テーブルＷＴを、例えばビームＰＢの経路内に様々なターゲット部分Ｃを位置決めするように正確に移動することができる。同様に、第１の位置決め手段ＰＭを使用して、例えばマスク・ライブラリからマスクＭＡを機械的に検索した後、またはスキャン中に、ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、オブジェクト・テーブルＭＴ、ＷＴの移動は、図１には明示していない長ストローク・モジュール（粗い位置決め）と短ストローク・モジュール（精密位置決め）とを用いて実現される。しかし（ステップ・アンド・スキャン装置と異なり）、ウェハ・ステッパの場合には、マスク・テーブルＭＴを短ストローク・アクチュエータにのみ接続すること、または固定することができる。
【００２５】図示した装置は、２つの異なるモードで使用することができる。
１．ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴが本質的に静止して保たれ、マスク・イメージ全体が、ターゲット部分Ｃに１度に（すなわちただ１回の「フラッシュ」で）投影される。次いで、基板テーブルＷＴがｘおよび／またはｙ方向にシフトされ、それにより別のターゲット部分ＣをビームＰＢによって照射することができる。
２．スキャン・モードでは、所与のターゲット部分Ｃがただ１回の「フラッシュ」で露光されない点を除き、本質的に同じシナリオが適用される。１回のフラッシュで露光するのではなく、マスク・テーブルＭＴが速度ｖで所与の方向（いわゆる「スキャン方向」、例えばｙ方向）に移動可能であり、それにより投影ビームＰＢがマスク・イメージ全体にわたってスキャンするようになっている。それと並行して、基板テーブルＷＴが、速度Ｖ＝Ｍｖで同方向または逆方向に同時に移動される。ここでＭはレンズＰＬの倍率である（典型的にはＭ＝１／４または１／５）。このようにすると、分解能を損なわずに、比較的大きなターゲット部分Ｃを露光することができる。
【００２６】投影システムＰＬの光学要素が、図２に例示されるフレーム１０に取り付けられる。」
　
（ｃ）「【００３５】フレーム１０は、任意の適切な様式で構成することができる。好ましい実施形態では、フレーム１０が、中心の第１のプレート１００と、２つのさらなるプレート１１０、１２０とを含む３つの概して平行なプレートからなり、２つのさらなるプレート１１０、１２０は、中心の第１のプレート１００に対して離隔された関係で位置決めされており、主面の一方が中心の第１のプレート１００の主面に面している。」
　
（ｄ）「【００３８】フレーム１０を光学要素の支持に関連して説明してきたが、フレーム１０は、光学要素の位置を検出するための様々なセンサの構成要素を支持していてもよい。しかし、本発明は、上述した投影システムの支持フレームから離隔された光学要素の位置を検出するための様々なセンサ構成要素を支持する、投影システムのいわゆる「基準フレーム」にも同様に適用可能である。」
　
　上記引用例の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
「放射線の投影ビームＰＢを供給するための放射システムＥｘ、ＩＬと、
　マスクＭＡを保持するためのマスク・ホルダを備え、アイテムＰＬに対してマスクを正確に位置決めするための第１の位置決め手段ＰＭに接続された第１のオブジェクト・テーブルＭＴと、
　基板Ｗを保持するための基板ホルダを備え、アイテムＰＬに対して基板を正確に位置決めするための第２の位置決め手段ＰＷに接続された第２のオブジェクト・テーブルＷＴと、
　複数の光学要素すなわちミラーを使用して、基板Ｗのターゲット部分ＣにマスクＭＡの照射部分を結像するための投影システムＰＬと、を備え、
　投影システムＰＬの光学要素が、フレーム１０に取り付けられ、フレーム１０は、光学要素の支持及び光学要素の位置を検出するための様々なセンサの構成要素を支持する、
リソグラフィ投影装置。」
　
５．対比
　本願発明と、引用発明を対比する。
　引用発明における「放射線の投影ビームＰＢを供給するための放射システムＥｘ、ＩＬ」は、本願発明における「放射線の投影ビームを提供するための照明系」に相当する。
　引用発明における「マスクＭＡ」は、本願発明における「パターン形成手段」に相当する。
　引用発明における「アイテムＰＬ」及び「基板Ｗのターゲット部分ＣにマスクＭＡの照射部分を結像するための投影システムＰＬ」は、マスクＭＡの照射部分からのビームを投影システムＰＬを介して基板Ｗのターゲット部分Ｃに投影しているので、本願発明における「パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分の上に投影するための投影光学系組立体」に相当する。
　引用発明における「マスクＭＡを保持するためのマスク・ホルダを備え、アイテムＰＬに対してマスクを正確に位置決めするための第１の位置決め手段ＰＭに接続された第１のオブジェクト・テーブルＭＴ」は、本願発明における「パターン形成手段を支持するための支持構造であって、パターン形成手段が投影ビームの断面にパターンを与えるように働く支持構造」に相当する。
　引用発明における「基板Ｗを保持するための基板ホルダを備え、アイテムＰＬに対して基板を正確に位置決めするための第２の位置決め手段ＰＷに接続された第２のオブジェクト・テーブルＷＴ」は、本願発明における「基板を保持するための基板テーブル」に相当する。
　引用発明における「投影システムＰＬ」内にある「複数の光学要素すなわちミラー」は、本願発明における「投影光学系組立体」内にある「第２の要素」に相当する。
　引用発明における「投影システムＰＬ」内にある「光学要素の位置を検出するための様々なセンサの構成要素」は、光学要素すなわちミラーの位置を検出するという機能を有するセンサであり、かつ位置の変化する光学要素すなわちミラーに対してプレート１０に支持された位置で観測するものであるから、本願発明における「投影光学系組立体」内にある「所定の機能を有し、第２の要素に対して固定して配置される第１の要素」に相当する。
　引用発明における「フレーム１０」は、投影システムＰＬ内で光学要素及び光学要素の位置を検出するための様々なセンサの構成要素を支持しているので、本願発明における「前記第１の要素及び前記第２の要素が間隔をおいた関係で」「上に配置される」「支持フレーム」に相当する。
　
　すると、本願発明と、引用発明とは、次の点で一致する。
＜一致点＞
　放射線の投影ビームを提供するための照明系と、
　パターン形成手段を支持するための支持構造であって、パターン形成手段が投影ビームの断面にパターンを与えるように働く支持構造と、
　基板を保持するための基板テーブルと、
　所定の機能を有し、第２の要素に対して固定して配置される第１の要素を有する、パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分の上に投影するための投影光学系組立体であって、前記第１の要素及び前記第２の要素が間隔をおいた関係で支持フレーム上に配置される投影光学系組立体と、を備え、
ているリソグラフィ装置。
　
　一方で、両者は、次の各点で相違する。
＜相違点１＞
　本願発明では、「前記支持フレームが、前記第１の要素を受け入れるように前記支持フレームの上又は中に形成されたインターフェース面を備え、前記インターフェース面が、前記第２の要素に対する前記第１の要素の位置を決定し、かつ前記第１の要素を前記第２の要素に対して少なくとも３自由度で位置決めすることができるように、前記所定の機能に従って適合され」るのに対し、引用発明では、フレーム１０がどのように光学要素及び光学要素の位置を検出するための様々なセンサの構成要素を支持しているのかについて不明である点。
＜相違点２＞
　本願発明では、「前記投影光学系組立体が、前記インターフェース面と前記第１の要素の間に配置されたインターフェース要素を更に有し、前記インターフェース要素が、前記自由度の少なくとも１つについて前記インターフェース要素の動きを制約するように適合させた１つ又は複数の取り付け要素により、前記インターフェース面に取り付けられるようになっている」のに対し、引用発明では、フレーム１０と光学要素の位置を検出するための様々なセンサの構成要素の間にインターフェース要素が無い点。
　
６．当審の判断
　上記各相違点について検討する。
＜相違点１について＞
　引用発明では、光学要素であるミラーの位置を測定するセンサをフレーム１０で支持しているが、フレーム１０でセンサを支持する際に、光学要素であるミラーの位置を正確に測定できるように位置や向きを調整してフレーム１０に固定することは、測定技術としてごく普通のことである。そして、センサを位置や向きを調整して固定する際に面を用いて３自由度で位置決めすることは、周知の調整及び位置決め手法に過ぎない（必要ならば特開２０００−２２９０７号公報の【００２７】−【００２９】及び【図３】に開示された、センサーアレイ１３４を取り付けたブラケット１４０を台板１４２の面に対し押しネジ１６４，１６６，１６８で３自由度で位置調整を行う手法を参照のこと。）。さらに、フレーム１０のどの面にセンサを取り付けるかを決定する際に、フレーム１０の上又は中に面を形成してその面にセンサを取り付けるようにすることは、当業者が適宜設定しうる設計的事項に過ぎない。
　よって、引用発明における光学要素であるミラーの位置を測定するセンサをフレーム１０に取り付ける際に、フレーム１０の上又は中に形成されたインターフェース面に３自由度で位置決めして固定することは、当業者が適宜なし得る設計変更に過ぎない。
＜相違点２について＞
　本願発明における「インターフェース要素が、前記自由度の少なくとも１つについて前記インターフェース要素の動きを制約するように適合させた１つ又は複数の取り付け要素により、前記インターフェース面に取り付けられるようになっている」という発明特定事項は、請求人から「第１の要素の位置決めの３自由度のうちの１つの方向で、インターフェース要素が取り付け要素によりインターフェース面に固定されて、インターフェース要素の動きの自由度はない」ということであるとの釈明を受け（平成２２年１０月５日付け応対記録参照。）、そして、センサを支持構造物のある面にインターフェース要素を介して取り付ける技術及びその取り付けの際に、前記インターフェース要素を一つの方向で取り付け要素により前記インターフェース面に固定してインターフェース要素を自由度なく固定する技術は、位置決め技術における慣用手段である（特開２０００−２２９０７号公報の【００２７】−【００２９】及び【図２】−【図７】にも、センサーアレイ１３４の取り付けられたブラケット１４０を台板１４２を間に介してキャリッジ１１４に取り付けること、及び台板１４２はキャリッジ１１４にボルト３２０，３２２，３２４で固定されることは開示されている。）から、引用発明において、光学要素であるミラーの位置を測定するセンサをフレーム１０のある面にインターフェース要素を介して取り付け、センサの位置決めの３自由度のうちの１つの方向で、インターフェース要素が取り付け要素によりインターフェース面に固定されて、インターフェース要素の動きの自由度がないようにすることは、当業者が適宜なし得る設計変更に過ぎない。
　そして、上記＜相違点１について＞及び＜相違点２について＞で述べた設計変更を行った場合の作用効果も当業者が予測しうる範囲のものである。
　
７．むすび
　したがって、本願発明は、引用刊行物に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。