【事件の表示】
　特願２００１−３３４５７６「制御信号部及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　７月３１日出願公開、特開２００２−２１４６３８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１３年１０月３１日（パリ条約による優先権主張　２０００年１０月３１日、大韓民国）の特許出願であって、平成２０年３月２７日付け及び平成２１年２月１６日付けで手続補正がなされたところ、同年１０月１９日付けで前記平成２１年２月１６日付けの手続補正が却下されるとともに同日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２２年２月２５日に拒絶査定不服審判請求がなされるとともに、これと同時に手続補正がなされたものである。
　
　
第２　平成２２年２月２５日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成２２年２月２５日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１　補正の内容
　平成２２年２月２５日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）は、本願明細書の特許請求の範囲の請求項１につき、補正前（平成２０年３月２７日付け手続補正後のもの。）の
「　基板と、
　前記基板上に形成される信号配線と、
　前記信号配線を覆う絶縁膜と、
　前記信号配線を露出させ、側辺の長さが幅より大きくなるように前記側辺が前記信号配線の長さ方向に突出している突出形状を有し、前記信号配線の側辺を露出させる接触孔と、
　前記接触孔を通じて露出された前記信号配線と連結される信号配線補助パッドと、を含む制御信号部。」
を、
「　基板と、
　前記基板上に形成され、下層の金属層及び上層の金属層からなる信号配線と、
　前記信号配線を覆う絶縁膜と、
　前記絶縁膜を貫通して前記信号配線の一部分の下層の金属層を露出する接触孔と、
　前記接触孔を介して下層の金属層が露出している部分、露出した下層の金属層上で前記上層の金属層がアンダーカットしている部分、及び前記絶縁膜の一部分を覆うように連続に形成され、前記信号配線の下層の金属層及び前記絶縁膜と連結される信号配線補助パッドと、を含み、
　前記接触孔は、
　露出している下層の金属層の長軸方向の長さが、露出している下層の金属層の短軸方向の長さよりも長くなるように前記長軸方向の側に突出して形成されている、制御信号部。」
に補正する内容を含むものである。
　
２　当審の判断 
　上記補正の内容は、
（ａ）補正前の請求項１の「前記信号配線の側辺を露出させる接触孔」との発明特定事項から、「前記信号配線の側辺を露出させる」との限定事項を削除すること、
とともに、
（ｂ）「接触孔」に関して、補正前の「側辺の長さが幅より大きくなるように前記側辺が前記信号配線の長さ方向に突出している突出形状を有し」との特定事項を、「露出している下層の金属層の長軸方向の長さが、露出している下層の金属層の短軸方向の長さよりも長くなるように前記長軸方向の側に突出して形成されている」と変更すること、
を含むものである。
　上記の補正（ａ）は、補正前の請求項に係る発明の限定事項を削除するものであるから、特許請求の範囲を拡張するものである。また、上記の補正（ｂ）について、補正後の「露出している下層の金属層の長軸方向の長さが、露出している下層の金属層の短軸方向の長さよりも長くなるように」との事項は、補正前の「側辺の長さが幅より大きくなるように」との事項を概念的に下位にしたものともいえないから、当該補正（ｂ）は、補正前の請求項に記載した発明を特定するために必要な事項を限定するものとはいえない。
　してみると、本件補正は、平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものには該当しない。
　また、本件補正は、請求項の削除、誤記の訂正、明りようでない記載の釈明、のいずれにも該当しない。 
　したがって、本件補正は、平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３　付言
　なお、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）は、以下で検討するとおり、特許を受けることができないものであるので、本件補正を受け入れる余地はない。 
　
　本願補正発明は、「接触孔」に関して、「露出している下層の金属層の長軸方向の長さが、露出している下層の金属層の短軸方向の長さよりも長くなるように前記長軸方向の側に突出して形成されている」との記載事項を備える。
　しかしながら、「長軸」及び「短軸」は、通常、楕円の両軸の長い方及び短い方を指すものであるところ、「『長軸方向の長さが』『短軸方向の長さよりも長（い）』」との表現は、同じことを表わすことばの無用な繰り返しにすぎず、これによって、「露出している下層の金属層」がどのように限定されるのか明らかではない。また、「露出している下層の金属層の長軸方向の長さが、露出している下層の金属層の短軸方向の長さよりも長くなる」ことと、「前記長軸方向の側に突出して形成されている」こととの対応関係も明らかではない。
　そして、本願明細書の発明の詳細な説明には、上記「長軸方向」及び「短軸方向」がどのような方向を示すものか、それら各方向の「長さ」が具体的にどのような長さを示すものか、それらの「長さ」と「長軸方向の側に突出して形成されている」こととの対応関係等、上記特定事項については何ら記載されていない。
　してみると、本願補正発明の上記記載事項が、どのような技術的事項を特定しようとするものか、またどのような技術的意味を有するものであるのか、本願明細書の発明の詳細な説明を参酌しても、明らかであるとはいえない。
　したがって、本願補正発明は明確であるとはいえないから、本願は、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。
　
　
第３　本願発明について
　
１　本願発明
　本件補正は上記第２のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、平成２０年３月２７日付け手続補正後の特許請求の範囲の請求項１〜５に記載された事項によって特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記第２の１に補正前のものとして示したとおりのものである。
　
２　刊行物記載の発明
（１）引用刊行物１及び引用発明
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平９−１９７４３３号公報（以下「引用刊行物１」という。）には、図とともに以下の事項が記載されている）。 
　
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】  薄膜トランジスタ部及びパッド部を有する液晶表示装置の製造方法において、
基板上に第１金属膜及び第２金属膜を順番に積層した後、１次写真蝕刻して前記薄膜トランジスタ部及びパッド部にゲート電極及びゲートパッドをそれぞれ形成する段階と、
前記ゲート電極及びゲートパッドの形成された基板の全面に絶縁膜及び半導体膜を順番に形成する段階と、
前記半導体膜を２次写真蝕刻して前記薄膜トランジスタ部に半導体膜パターンを形成する段階と、
前記半導体膜パターンの形成された基板の全面に第３金属膜を形成する段階と、
前記第３金属膜を３次写真蝕刻して前記薄膜トランジスタ部にソース電極及びドレイン電極を形成する段階と、
前記ソース電極及びドレイン電極の形成された基板の全面に保護膜を形成する段階と、
前記保護膜及び絶縁膜を４次写真蝕刻して前記ドレイン電極の表面と、前記ゲートパッドの表面を露出させるコンタクトホールを形成し、前記ゲートパッドより内側にオープンされるように前記保護膜及び絶縁膜を蝕刻する段階と、
前記コンタクトホールの形成された基板の全面に透明導電膜を形成する段階と、
前記透明導電膜を５次写真蝕刻して前記ドレイン電極及びゲートパッドと接続される画素電極を形成する段階とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】  前記第１金属膜はアルミニウムあるいはアルミニウム合金から形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】  前記第２金属膜は耐火性金属から形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】  前記画素電極を形成する段階は、
前記画素電極は前記パッド部の保護膜及び絶縁膜のオープンされた部分より大きく形成する段階からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。」
　
　イ　「【００３８】図７は本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を説明するための概略平面図であり、パッド部を示す。参照符号Ｐ１はパッド電極を形成するためのマスクパターンを、Ｐ２は絶縁膜及び保護膜を蝕刻して画素電極とパッド電極とを連結するコンタクトホールを形成するためのマスクパターンを、Ｐ３は画素電極をパターニングするためのマスクパターンをそれぞれ示す。」
　
　ウ　「【００５０】図１２は本発明の第３実施例による液晶表示装置の概略レイアウト図であり、パッド部のみを示す。
【００５１】保護膜及び絶縁膜がゲートパッドパターンより大きくオープンされるようにレイアウトされており、ＩＴＯ膜は前記保護膜及び絶縁膜がオープンされる部分より大きく形成されるようにレイアウトされている。従って、ゲートパッドパターン以外の部分の基板は最小限に蝕刻される一方、Ｃ部位のみのアルミニウムあるいはアルミニウム合金膜を露出させる。
【００５２】図１３Ａ乃至図１５は本発明の第３実施例による液晶表示装置の製造方法を説明するために工程の手順により示した断面図である。
【００５３】図１３Ａを参照すると、まず透明な基板９０上に例えばクロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）あるいはチタン（Ｔｉ）のような耐火金属を蒸着して第１金属膜９２を形成した後、前記第１金属膜９２上にアルミニウムあるいはアルミニウム合金を蒸着して第２金属膜９４を形成する。次いで、前記第２金属膜及び第１金属膜を１次写真蝕刻してＴＦＴ部及びパッド部にゲート電極及びゲートパッドを形成する。
【００５４】図１３Ｂを参照すると、ゲート電極が形成された前記基板の全面に、例えば窒化膜を蒸着して絶縁膜９６を形成する。次いで、窒化膜が形成された基板の全面に非晶質シリコン膜９８と不純物のドーピングされた非晶質シリコン膜１００から構成された半導体膜を形成する。次に、前記半導体膜を２次写真蝕刻してＴＦＴ部に活性領域として用いられる半導体膜パターンを形成する。
【００５５】図１４Ｃを参照すると、半導体膜パターンの形成された基板の全面にクロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）などの金属を蒸着して第３金属膜を形成した後、前記第３金属膜を３次写真蝕刻してＴＦＴ部にソース電極１０２ａとドレイン電極１０２ｂを形成する。この際、ゲート電極の上部の不純物のドーピングされた非晶質シリコン膜１００も一緒に蝕刻されてその下部の非晶質シリコン膜９８の表面が露出される。
【００５６】図１４Ｄを参照すると、前記ソース電極１０２ａとドレイン電極１０２ｂの形成された基板の全面に窒化膜を蒸着して保護膜を形成した後、４次写真蝕刻して保護膜パターン１０４を形成する。この際、ＴＦＴ部のドレイン電極１０２ｂ上の保護膜が一部蝕刻されてドレイン電極１０２ｂの一部が露出され、パッド部に位置したゲートパッド、即ち第２金属膜９４の絶縁膜が蝕刻されてゲートパッドの表面が露出される。
【００５７】図１５を参照すると、画素電極とゲートパッド間のコンタクト抵抗を減らすためにパッド部に位置する前記保護膜パターン１０４によりオープンされた第２金属膜９４を蝕刻する。次いで、第２金属膜９４の一部が蝕刻された結果物の全面に透明導電膜のＩＴＯ膜を形成した後、前記ＩＴＯ膜を５次写真蝕刻して画素電極１０６を形成する。従って、ＴＦＴ部にはドレイン電極１０２ｂと画素電極１０６が連結され、パッド部には第１金属膜９２及び第２金属膜９４から構成されたゲートパッドと画素電極１０６が連結される。
【００５８】前述した本発明の第３実施例によると、５枚のマスクのみを以って液晶表示装置を製造することができる。かつ、耐火金属膜とその上部に積層されるアルミニウム膜あるいはアルミニウム合金膜の二重膜構造からゲート電極を形成することにより、アルミニウム膜のヒールロック成長を抑制することができる。なお、パッド部に画素電極を形成する前にゲートパッドを構成するアルミニウム膜を蝕刻することにより後続工程で形成される画素電極とアルミニウム膜間の接触抵抗を減らすことができる。更に、保護膜及び絶縁膜を各ゲートパッドパターンより大きくオープンさせることによりゲートパッドのパターニング時に基板の蝕刻が最少化され、前記保護膜及び絶縁膜がオープンされる部位より大きく画素電極を形成することによりオープン部位のゲートパッドが保護される。」
　
　エ　「【００５９】図１６は本発明の第４実施例による液晶表示装置の製造方法を説明するための概略平面図である。ゲートパッドの一側を図示されたように複数の配線から形成することにより、保護膜及び絶縁膜がオープンされてアルミニウムと画素電極が接触される部分を最少化することができ、その上に冗長配線として活用できる。」
　
　オ　上記イ及び図７に照らせば、図１０において、参照符号Ｐ１はパッド電極を形成するためのマスクパターンを、Ｐ２は絶縁膜及び保護膜を蝕刻して画素電極とパッド電極とを連結するコンタクトホールを形成するためのマスクパターンを、Ｐ３は画素電極をパターニングするためのマスクパターンをそれぞれ示すものであると認められる。
　そして、上記ウ（【００５０】〜【００５１】）を踏まえて図１０を見ると、液晶表示装置のパッド部において、保護膜及び絶縁膜がオープンされるようにレイアウトされるコンタクトホールを形成するためのマスクパターン（Ｐ２）は、図面上、左右に長い長方形であって、その上、下、左の３辺は、ゲートパッドパターン（Ｐ１）の対応する辺より外側にあって、保護膜及び絶縁膜がゲートパッドパターンより大きくオープンされるようにレイアウトされており、その右辺（「Ｃ部位」）において、アルミニウムあるいはアルミニウム合金膜を露出させること、そして、ＩＴＯ膜（画素電極）は、保護膜及び絶縁膜がオープンされる部分（Ｐ２）より大きく形成されるようにレイアウト（Ｐ３）されていること、が見てとれる。
　さらに、上記エ及び図１６に照らせば、ゲートパッドパターン（Ｐ１）の長方形の中央部から左右に延びる線状の領域は、ゲートパッドが延長された配線であると認められる。
　
　カ　上記ウ及び図１２ないし図１５によれば、引用刊行物１には、上記アの「薄膜トランジスタ部及びパッド部を有する液晶表示装置の製造方法」の実施例の方法（第３実施例）によって製造される「薄膜トランジスタ部（ＴＦＴ部）及びパッド部を有する液晶表示装置」に関する発明が記載されているものと認められる。
　
　以上の摘記事項の記載を総合すると、引用刊行物１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている、と認められる。 
　
「薄膜トランジスタ部（ＴＦＴ部）及びパッド部を有する液晶表示装置において、
　透明な基板９０上に例えばクロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）あるいはチタン（Ｔｉ）のような耐火金属を蒸着して第１金属膜９２を形成した後、前記第１金属膜９２上にアルミニウムあるいはアルミニウム合金を蒸着して第２金属膜９４を形成し、次いで、前記第２金属膜及び第１金属膜を１次写真蝕刻してＴＦＴ部及びパッド部にゲート電極及びゲートパッドを形成する工程と、
　ゲート電極が形成された前記基板の全面に、例えば窒化膜を蒸着して絶縁膜９６を形成し、次いで、窒化膜が形成された基板の全面に非晶質シリコン膜９８と不純物のドーピングされた非晶質シリコン膜１００から構成された半導体膜を形成し、次に、前記半導体膜を２次写真蝕刻してＴＦＴ部に活性領域として用いられる半導体膜パターンを形成する工程と、
　半導体膜パターンの形成された基板の全面にクロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）などの金属を蒸着して第３金属膜を形成した後、前記第３金属膜を３次写真蝕刻してＴＦＴ部にソース電極１０２ａとドレイン電極１０２ｂを形成する工程と、
　前記ソース電極１０２ａとドレイン電極１０２ｂの形成された基板の全面に窒化膜を蒸着して保護膜を形成した後、４次写真蝕刻して保護膜パターン１０４を形成する工程であって、この際、パッド部に位置したゲートパッド、即ち第２金属膜９４の絶縁膜が蝕刻されてゲートパッドの表面が露出される工程と、
　画素電極とゲートパッド間のコンタクト抵抗を減らすためにパッド部に位置する前記保護膜パターン１０４によりオープンされた第２金属膜９４を蝕刻し、次いで、第２金属膜９４の一部が蝕刻された結果物の全面に透明導電膜のＩＴＯ膜を形成した後、前記ＩＴＯ膜を５次写真蝕刻して画素電極１０６を形成する工程であって、パッド部には第１金属膜９２及び第２金属膜９４から構成されたゲートパッドと画素電極１０６が連結される工程と、
により製造された液晶表示装置であって、
　前記パッド部において、保護膜及び絶縁膜がオープンされるようにレイアウトされるコンタクトホールを形成するためのマスクパターン（Ｐ２）は、左右に長い長方形であって、その上、下、左の３辺は、ゲートパッドパターン（Ｐ１）の対応する辺より外側にあって、保護膜及び絶縁膜がゲートパッドパターンより大きくオープンされるようにレイアウトされており、その右辺において、アルミニウムあるいはアルミニウム合金膜を露出させること、そして、ＩＴＯ膜（画素電極）は、保護膜及び絶縁膜がオープンされる部分（Ｐ２）より大きく形成されるようにレイアウト（Ｐ３）されており、さらに、ゲートパッドから左右に延びる配線を備える、
　液晶表示装置。」
　
（２）引用刊行物２
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１１−２５８６２７号公報（以下「引用刊行物２」という。）には、図とともに以下の事項が記載されている。 
　
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板と、
前記基板上に形成された第１の配線と、
前記第１の配線を覆う絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成された第２の配線と、
前記絶縁膜に形成されて前記第１の配線の端部と前記第２の配線とを電気的に接続するコンタクトホールとを有し、
前記コンタクトホールは、前記第１の配線の先端側が楔形であることを特徴とする薄膜デバイス。
・・・
【請求項４】  前記第１の配線は金属からなり、前記第２の配線はＩＴＯ（インジウム酸化スズ）からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の薄膜デバイス。」
　
　イ　「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル等の薄膜デバイスに関し、特に外部の駆動回路に接続される接続端子を有する薄膜デバイスに関する。」
　
　ウ　「【０００７】
【発明が解決しようとする課題】液晶表示パネルでは、上述の如く、駆動回路接続用端子３５，３６がＩＴＯにより形成されている。これは、ＩＴＯの硬度が高いために製造工程及び検査工程等で端子３５，３６が傷付くことを防止できること、ＩＴＯは導電性を有する酸化物であるので、金属のように酸化によって導電率が変動することがないこと、ＩＴＯは耐薬品性が優れており、製造工程及び検査工程等における品質の変動が極めて少ない等の利点があるためである。
【０００８】しかし、ＩＴＯは、ゲートバスライン３１及びドレインバスライン３２の材料である金属（Ｃｒ又はＡｌ等）に比べて抵抗率が高い。このため、液晶表示パネルの製造工程や試験工程で発生する静電気により、ＩＴＯからなる端子と金属からなる配線（ゲートバスライン及びドレインバスライン）との間に急激な大電流が流れると、コンタクトホール４４ｂ（４４ｃ）の縁部の引出配線３５ａ，３６ａ（図８，図９に矢印Ｄで示す部分）が焼失することがある。
【０００９】本発明は、静電気等に起因する大電流によってコンタクトホールの縁部の配線が焼失してしまうことを回避できて、信頼性が高い薄膜デバイスを提供することを目的とする。」
　
　エ　「【００１０】
【課題を解決するための手段】上記した課題は、基板と、前記基板上に形成された第１の配線と、前記第１の配線を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された第２の配線と、前記絶縁膜に形成されて前記第１の配線の端部と前記第２の配線とを電気的に接続するコンタクトホールとを有し、前記コンタクトホールは、前記第１の配線の先端側が楔形であることを特徴とする本願第１発明の薄膜デバイスにより解決する。
・・・
【００１２】以下、本発明の作用について説明する。本願第１発明においては、第１の配線の端部と第２の配線とを電気的に接続するコンタクトホールを有し、前記コンタクトホールは、前記第１の配線の先端側が楔形に形成されている。第２の配線がＩＴＯ等のように比較的抵抗率が高い材料により形成され、第１の配線が金属等の比較的抵抗率が低い材料により形成されている場合、電流パスはコンタクトホールの一方の縁部に集中する。従って、コンタクトホールの縁部の長さが短いと、コンタクトホールの縁部が抵抗発熱して高温になり、第２の配線が焼失する。しかし、本願第１発明において、コンタクトホールは、その第１の配線の先端側の縁が楔状に形成されているので、コンタクトホールの縁部の長さが長くなり、電流パスが分散される。これにより、コンタクトホールの縁部における発熱が抑制され、第２の配線の焼失が回避される。」
　
３　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。 
　
（１）引用発明の「液晶表示装置」における「パッド部」は、本願発明の「制御信号部」に相当する。
　
（２）引用発明の「ゲートパッド」及び「ゲートパッドから左右に延びる配線」は、「透明な基板９０上に」形成された「第２金属膜及び第１金属膜」からなるものと認められるから、本願発明の「前記基板上に形成される信号配線」に相当する。
　
（３）引用発明の、「『ゲート電極が形成された前記基板の全面に』形成された『絶縁膜９６』」及び「『前記ソース電極１０２ａとドレイン電極１０２ｂの形成された基板の全面に窒化膜を蒸着して保護膜を形成した後、４次写真蝕刻して』形成された『保護膜パターン１０４』」は、本願発明の「前記信号配線を覆う絶縁膜」に相当する。
　
（４）引用発明の、「パッド部において、保護膜及び絶縁膜がオープンされるようにレイアウトされる」「マスクパターン（Ｐ２）」によって形成される「コンタクトホール」は、「パッド部に位置したゲートパッド、即ち第２金属膜９４の絶縁膜が蝕刻されてゲートパッドの表面が露出される工程」によって形成されるものであるから、引用発明の「パッド部」における「コンタクトホール」は、本願発明の「前記信号配線を露出させ」る「接触孔」に相当する。
　そして、引用発明の「パッド部」において、「保護膜及び絶縁膜がオープンされるようにレイアウトされるコンタクトホールを形成するためのマスクパターン（Ｐ２）は、左右に長い長方形であって、その上、下、左の３辺は、ゲートパッドパターン（Ｐ１）の対応する辺より外側にあって、保護膜及び絶縁膜がゲートパッドパターンより大きくオープンされるようにレイアウトされて」いるから、ゲートパッド（本願発明の「信号配線」に相当。）の側辺は、少なくとも上下の２辺において露出しているといえるから、引用発明の「コンタクトホール」は、「前記信号配線を露出させ、前記信号配線の側辺を露出させる接触孔」である点で、本願発明の「前記信号配線を露出させ、側辺の長さが幅より大きくなるように前記側辺が前記信号配線の長さ方向に突出している突出形状を有し、前記信号配線の側辺を露出させる接触孔」と一致する。
　
（５）引用発明の、「パッド部」において「第１金属膜９２及び第２金属膜９４から構成されたゲートパッドと「連結される」「画素電極１０６」は、本願発明の「前記接触孔を通じて露出された前記信号配線と連結される信号配線補助パッド」に相当する。
　
　よって、本願補正発明と引用発明の「パッド部」とは、 
「　基板と、
　前記基板上に形成される信号配線と、
　前記信号配線を覆う絶縁膜と、
　前記信号配線を露出させ、前記信号配線の側辺を露出させる接触孔と、
　前記接触孔を通じて露出された前記信号配線と連結される信号配線補助パッドと、を含む制御信号部。」
である点で一致し、以下の点で相違する。 
　 
［相違点］
　接触孔が、本願発明では、「側辺の長さが幅より大きくなるように前記側辺が前記信号配線の長さ方向に突出している突出形状を有し」との特定を有するのに対して、引用発明の「パッド部」では、そのような事項を有しているものか明らかではない点。
　
４　判断
　上記相違点について検討する。
　引用刊行物２には、上記２（２）に示した事項が記載され、液晶表示パネル等の、基板上に形成された金属からなる第１の配線と、前記第１の配線を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成されたＩＴＯからなる第２の配線と、前記絶縁膜に形成されて前記第１の配線の端部と前記第２の配線とを電気的に接続するコンタクトホールとを有した薄膜デバイスにおいて、前記コンタクトホールは、その第１の配線の先端側の縁が楔状に形成されていることにより、コンタクトホールの縁部の長さが長くなり、電流パスが分散され、これにより、コンタクトホールの縁部における発熱が抑制できる技術が開示されている。
　引用発明と、引用刊行物２に記載された技術的事項は、いずれも、液晶表示装置等の電極接続部（「パッド部」、「接続端子」）に関するものである点で共通し、その構造も共通するものであるから、引用発明の「パッド部」において、引用刊行物２に記載された、第１の配線（引用発明における「ゲートパッド」に相当。）の先端側の縁が楔状に形成されたコンタクトホールの形状を採用することは、当業者が容易になし得ることである。そして、上記のコンタクトホール形状を引用発明に採用したものは、上記相違点に係る本願発明の特定事項である「側辺の長さが幅より大きくなるように前記側辺が前記信号配線の長さ方向に突出している突出形状を有し」たものであると認められる。
　したがって、引用発明の「パッド部」において、引用刊行物２に記載の技術的事項を採用し、上記相違点に係る本願発明の特定事項とすることは、当業者が容易になし得たことである。
　
５　むすび
　以上のとおりであって、本願発明は、引用刊行物１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。