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　特願２０００−　３７３９９「透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　８月２１日出願公開、特開２００１−２２５４２４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、平成１２年２月１６日の出願であって、平成２１年８月２１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１１月２０日に拒絶査定を不服として審判請求がなされたものである。
　
２　本願発明
　本願の特許請求の範囲の請求項１〜６に係る発明は、平成２１年７月２３日付け手続補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜６に記載されたとおりものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、以下のとおりである。
　
　「２軸延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に、その組成として、体積比で、少なくとも、蒸着用モノマ−ガスを３〜５％の範囲、酸素ガスを７５〜９０％の範囲、および、不活性ガスを８〜２０％の範囲で含有し、かつ、酸素ガス／蒸着用モノマ−ガスの含有比が、１０以上〜３０以下の範囲である蒸着用混合ガス組成物を使用し、更に、上記のような蒸着用混合ガス組成物を原料供給ノズルを通して真空チャンバ−内に導入し、冷却・電極ドラムに、チャンバ−外に配置されている電源から、電流値１０ｋＷ未満の範囲で電流を流し、グロ−放電プラズマによって、温和な条件でプラズマ化学蒸着を行い、膜厚５０Å〜１００Åの無機酸化物の蒸着連続薄膜からなる耐蒸着保護膜層を形成し、
次いで、上記で形成した耐蒸着保護膜層の上に、物理蒸着法により、膜厚１５０Å〜２００Åからなる無機酸化物の蒸着膜を形成することを特徴とする透明バリア性フィルムの製造法。」
　
３　引用発明
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された本願の出願前に頒布された刊行物である特開平９−１２３３３４号公報（以下、「引用例１」という。）及び特開平１１−３２２９８１号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の事項及び各引用発明が記載されている。
　
３．１　引用例１
（１）「【請求項１】樹脂フィルムの片面に低温プラズマＣＶＤ法によりシリコン化合物の薄膜を形成させ、その薄膜上に物理蒸着法により金属または金属化合物の薄膜を積層させてなることを特徴とするバリアー性積層体。」
　
（２）「【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、バリアー性積層体に関する上記のような問題点を除去するためになされ、樹脂フィルムと金属蒸着薄膜との密着性が良く、かつ、ガスバリアー性に優れたバリヤー性積層体とその製造方法を提供することを目的とする。」
　
（３）「【００１８】
【作用】上記のように本発明によれば、樹脂フィルム上に形成される低温プラズマＣＶＤ法によるシリコン化合物薄膜の作用は、その薄膜内部での強固な−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合をすると共に、基板となる樹脂フィルムとの間でも強固な化学結合を形成し、十分な密着性を発揮する。また、低温プラズマＣＶＤ法によるシリコン化合物の薄膜と物理蒸着法による金属または金属化合物の薄膜との間でも、−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−Ｍ（金属）のような強固な化学結合を形成するため十分な密着性を発揮する。プラズマＣＶＤシリコン化合物の薄膜は、物理蒸着法による金属または金属化合物の薄膜は内部応力、熱膨張係数等近似しているため両者の層間に生じる歪みが小さいことからも強い密着性が得られる。
【００１９】さらに、プラズマＣＶＤシリコン化合物は膜質が緻密で架橋が進んでいること、ドライ加工であるために粉塵等の異物の混入が少なく、ピンホールが非常に少ないことから、自身の膜でも良好なガス遮断性があると同時に、その薄膜上に物理蒸着法にて金属または金属化合物の薄膜を形成する際の膜形成ポイントが非常に多くなること、残留溶剤、脱ガスがなく蒸発粒子の付着に妨害を与えない等から、金属または金属化合物の薄膜の膜質も緻密化しバリアー性能が向上する。（中略）
【００２０】プラズマＣＶＤシリコン化合物膜は強い硬度を持ち、耐熱性が良好であり、ウェットコーティング膜程厚みを必要とせず、しかも膜厚制御性も良好である。これは加工性、生産性に非常に有利である。従って、プラズマＣＶＤシリコン化合物膜は、物理蒸着法による金属または金属化合物の薄膜に対するアンカーコート層、トップコート層として従来のウェットコート層より非常に有効である。」
　
（４）「【００２２】樹脂フィルム（１）は、シート状またはフィルム状のものであって、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、（中略）など通常包装材料として用いられるものが使用できる。これら樹脂フィルム（１）は用途に応じて上記材料から適宜選択される。必要に応じて二軸延伸フィルムを使用できる。（中略）
【００２４】低温プラズマＣＶＤシリコン化合物薄膜（２）は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2 などシリコン酸化膜（ＳｉＯx ）、Ｓｉ3 Ｎ4 などシリコン窒化膜（ＳｉＮy ）、ＳｉＯx Ｎy などシリコン酸化窒化膜等である。（中略）
【００２５】低温プラズマＣＶＤシリコン化合物薄膜（２）の膜厚は、１０〜５０００Åの範囲で良く、好ましくは５０〜５００Åの範囲である。（中略）
【００２６】金属あるいは金属化合物蒸着薄膜（３）には、アルミニウム、シリカ、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、マグネシウム、錫、銅、鉄などの金属やこれらの金属の酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物など、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3 ）一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）、酸化チタニウム（ＴｉＯ2 ）、酸化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）、酸化錫（ＳｎＯ2 ）、酸化銅（ＣｕＯ）、酸化鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）などが用いられる。（中略）
【００２７】金属あるいは金属化合物蒸着薄膜（３）の膜厚は５０〜５０００Åの範囲で良く、好ましくは２００〜１５００Åの範囲である。（中略）
【００２８】低温プラズマＣＶＤシリコン化合物薄膜（２）と金属あるいは金属化合物蒸着薄膜（３）は、図２に示す同一の真空蒸着兼低温プラズマＣＶＤ発生装置（１０）内でそれぞれ別々の部屋（２２−１、２２−２と２３）に分かれてコントロールされ、連続的に順次積層される。」
　
（５）「【００４５】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、樹脂フィルム上で金属、金属化合物蒸着膜間、または金属、金属化合物蒸着膜上に、低温プラズマＣＶＤ法によるシリコン化合物薄膜を設けることにより、積層体のガスバリアー性および積層体の密着性が向上する。また、低温プラズマＣＶＤ法によるシリコン化合物薄膜層は耐熱性、熱寸法安定性、硬度に優れることから、蒸着、印刷、ラミネート、製袋等の積層体製造工程における機械的ストレス、熱的ストレスからくる歪みによるクラック、ピンホールが発生しにくく、バリアー性劣化が起き難い。」
　
　以上の記載事項によると、引用例１には次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。
　
　「二軸延伸ポリプロピレンフィルムの片面に、低温プラズマＣＶＤ発生装置を用いて、低温プラズマＣＶＤ法により膜厚５０〜５００ÅのＳｉＯ、ＳｉＯ2 などのシリコン酸化物（ＳｉＯx）の薄膜を形成し、その薄膜上に物理蒸着法により膜厚２００〜１５００Åの酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）の薄膜を積層させるバリアー性積層体の製造法。」
　
３．２　引用例２
（１）「【請求項１】  ２軸延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に、少なくとも、蒸着用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含む蒸着用混合ガス組成物であり、更に、その蒸着用混合ガス組成物の組成において酸素ガス量を７５％以上の範囲内で含有している蒸着用混合ガス組成物を供給し、プラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着薄膜を設けたことを特徴とする透明バリア性フィルム。
（中略）
【請求項３】  蒸着用混合ガス組成物が、少なくとも、蒸着用モノマ−ガスを３〜５％の範囲、酸素ガスを７５〜９０％の範囲、および、不活性ガスを８〜２０％の範囲で含有している蒸着用混合ガス組成物であることを特徴とする上記の請求項１または２に記載する透明バリア性フィルム。
（中略）
【請求項５】　無機酸化物の蒸着薄膜が、プラズマ化学蒸着法による酸化ケイ素の蒸着連続薄膜であることを特徴とする上記の請求項１、２、３または４に透明バリア性フィルム。
（中略）
【請求項１０】  酸化ケイ素の蒸着連続薄膜が、４００Å以下の膜厚からなることを特徴とする上記の請求項５、６、７、８または９に記載する透明バリア性フィルム。」
　
（２）「【０００９】・・・本発明においては、上記のプラズマ化学蒸着法（ＣＶＤ法）において、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等からなる蒸着用混合ガス組成物を原料供給ノズルを通して真空チャンバ−内に導入する際に、その蒸着用混合ガス組成物の組成において、酸素ガスの含有量を上げ、他方、蒸着用モノマ−ガスの含有量を低くすると、形成される蒸着薄膜の極性部分の割合が増加し、その結果、基材フィルムと蒸着薄膜、すなわち、２軸延伸ポリプロピレンフィルムと酸化ケイ素等の無機酸化物の蒸着薄膜との密着性が向上し、而して、そのように両者の密着性が向上することにより、酸素ガスバリア性も向上するものである。更に、本発明において、上記のように酸素ガスの含有量を上げ、他方、蒸着用モノマ−ガスの含有量を低くしてプラズマ化学蒸着を行うと、酸化ケイ素等の無機酸化物の蒸着薄膜の場合には、該酸化ケイ素の蒸着薄膜が、式ＳｉＯX で表される酸化ケイ素の蒸着連続薄膜からなり、更に、Ｘの値を増加させることができ、極めて透明性に優れた蒸着薄膜を形成することができるものである。（中略）
【００１３】（中略）本発明においては、酸素ガス／蒸着用モノマ−ガスの含有比が１０以上〜３０以下位が好ましいものである。（中略）
【００１４】次に、本発明において、上記のような蒸着用混合ガス組成物を原料供給ノズルを通して真空チャンバ−内に導入し、グロ−放電プラズマによって、酸化ケイ素等の無機酸化物の蒸着薄膜を、２軸延伸ポリプロピレンフィルムの上に形成し製膜化することが好ましいものであるが、その際に、冷却・電極ドラムに、チャンバ−外に配置されている電源から、電流値１０ｋＷ未満の範囲で電流を流し、温和な条件でプラズマ化学蒸着を行い、無機酸化物の蒸着連続薄膜を有する透明バリア性フィルムを製造することが望ましいものである。」
　
（３）「【００３５】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明は、基材フィルムとして、２軸延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、該２軸延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に、プラズマ化学蒸着法を利用して酸化ケイ素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成するに際し、少なくとも、蒸着用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含む蒸着用混合ガス組成物を、その蒸着用混合ガス組成物の組成において酸素ガス量を７５％以上の範囲内、また、蒸着用モノマ−ガスを５％以下の範囲内で含有し、更に、酸素ガス／蒸着用モノマ−ガスの含有比を１０以上に上げて、酸素ガスの含有量を高め、他方、蒸着用モノマ−ガスの含有量を低めた構成からなる蒸着用混合ガス組成物を使用し、これを供給して、プラズマ化学蒸着を行って透明バリア性フィルムを製造して、プラズマ照射時において２軸延伸ポリプロピレンフィルムの衝撃を緩和し、その黄変、劣化等を防止し、更に、薄膜であり、かつ、透明性に優れ、更に、屈曲性に富み、また、酸素ガスバリア性、水蒸気バリア性等に優れた酸化ケイ素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成することができ、他の樹脂のフィルム、あるいは、紙基材等の包装用材料と積層し、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、洗剤、その他等の種々の物品の充填包装に適する包装用容器等を製造するに有用な透明バリア性フィルムを製造し得ることができるというものである。」
　
　以上の記載事項によると、引用例２には次の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。
　
　「２軸延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に、少なくとも、蒸着用モノマ−ガスを３〜５％の範囲、酸素ガスを７５〜９０％の範囲、および、不活性ガスを８〜２０％の範囲で含有し、かつ、酸素ガス／蒸着用モノマ−ガスの含有比が１０以上〜３０以下の範囲である蒸着用混合ガス組成物を使用し、更に、上記のような蒸着用混合ガス組成物を原料供給ノズルを通して真空チャンバ−内に導入し、冷却・電極ドラムに、チャンバ−外に配置されている電源から、電流値１０ｋＷ未満の範囲で電流を流し、グロ−放電プラズマによって、温和な条件でプラズマ化学蒸着を行い、膜厚が４００Å以下の酸化ケイ素の蒸着連続薄膜を形成する透明バリア性フィルムの製造法。」
　
４　対比
　本願発明と引用発明１とを対比すると、引用発明１における「二軸延伸ポリプロピレンフィルム」は、本願発明における「２軸延伸ポリプロピレンフィルム」に相当する。
　また、本願発明における「その組成として、体積比で、少なくとも、蒸着用モノマ−ガスを３〜５％の範囲、酸素ガスを７５〜９０％の範囲、および、不活性ガスを８〜２０％の範囲で含有し、かつ、酸素ガス／蒸着用モノマ−ガスの含有比が、１０以上〜３０以下の範囲である蒸着用混合ガス組成物を使用し、更に、上記のような蒸着用混合ガス組成物を原料供給ノズルを通して真空チャンバ−内に導入し、冷却・電極ドラムに、チャンバ−外に配置されている電源から、電流値１０ｋＷ未満の範囲で電流を流し、グロ−放電プラズマによって、温和な条件でプラズマ化学蒸着を行」うことと、引用発明１における「低温プラズマＣＶＤ発生装置を用いて、低温プラズマＣＶＤ法」を行うこととは、「プラズマ化学蒸着を行」う限りにおいて一致し、
引用発明１における「ＳｉＯ、ＳｉＯ2 などのシリコン酸化物（ＳｉＯx）」は、本願発明における「無機酸化物」に対応し、本願発明における「耐蒸着保護層」とは、発明の詳細な説明の段落【００１１】、【００２２】に記載されているように、「物理蒸着法による無機酸化物の蒸着膜を製膜化する際の蒸着条件に対し２軸延伸ポリプロピレンフィルムを保護し、例えば、その黄変、劣化ないし収縮、あるいは、フィルム表層ないし内層等における凝集破壊等を抑制し、更に、その無機酸化物の蒸着膜が良好に製膜化され、かつ、２軸延伸ポリプロピレンフィルム表面との密接着性に優れた蒸着膜を製膜化すべく、２軸延伸ポリプロピレンフィルムの表面の平滑性を付与する機能を有するもの」であり、一方、引用発明１における「ＳｉＯ、ＳｉＯ2 などのシリコン酸化物（ＳｉＯx）の薄膜」は、上記「３．１」の「（３）」及び「（５）」のとおり、「低温プラズマＣＶＤ法」により形成される「薄膜」であって、耐熱性等に優れ、かつその上に形成される物理蒸着法による金属酸化物の薄膜との強い密着性を有するため、物理蒸着法による金属酸化物の薄膜に対するアンカーコート層として非常に有効なものであるから、引用発明１における「ＳｉＯ、ＳｉＯ2 などのシリコン酸化物（ＳｉＯx）の薄膜」は、本願発明における「無機酸化物の蒸着連続薄膜からなる耐蒸着保護膜層」に対応し、
「無機酸化物の蒸着連続薄膜」の「膜厚」に関し、引用発明１における下限値「５０Å」は、本願発明における「５０Å〜１００Å」の範囲に含まれ、
引用発明１における「物理蒸着法」により「積層」させた「酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）の薄膜」は、本願発明における「物理蒸着法」により「形成」された「無機酸化物の蒸着膜」に対応し、
「無機酸化物の蒸着膜」の「膜厚」に関し、引用発明１における下限値「２００Å」は、本願発明における「１５０Å〜２００Å」の範囲に含まれ、
本願発明における「透明バリア性フィルム」と引用発明１における「バリアー性積層体」とは「バリア性フィルム」である点で一致する。
　したがって、両者は
　
「２軸延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に、プラズマ化学蒸着を行い、膜厚５０Å〜１００Åの無機酸化物の蒸着連続薄膜からなる耐蒸着保護膜層を形成し、次いで、上記で形成した耐蒸着保護膜層の上に、物理蒸着法により、膜厚１５０Å〜２００Åからなる無機酸化物の蒸着膜を形成するバリア性フィルムの製造法。」
　
である点で一致し、以下の各点で相違する。
　
　［相違点１］
　本願発明における「プラズマ化学蒸着」は、「その組成として、体積比で、少なくとも、蒸着用モノマ−ガスを３〜５％の範囲、酸素ガスを７５〜９０％の範囲、および、不活性ガスを８〜２０％の範囲で含有し、かつ、酸素ガス／蒸着用モノマ−ガスの含有比が、１０以上〜３０以下の範囲である蒸着用混合ガス組成物を使用し、更に、上記のような蒸着用混合ガス組成物を原料供給ノズルを通して真空チャンバ−内に導入し、冷却・電極ドラムに、チャンバ−外に配置されている電源から、電流値１０ｋＷ未満の範囲で電流を流し、グロ−放電プラズマによって、温和な条件」で行われるのに対し、引用発明１における「低温プラズマＣＶＤ法」は、「低温プラズマＣＶＤ装置」を用いて行われる点。
　
　［相違点２］
　本願発明における「バリア性フィルム」は「透明」である点。
　
５　判断
　上記各相違点について検討する。
５．１　相違点１
　引用発明１と引用発明２とは、いずれも２軸延伸ポリプロピレンフィルムと無機酸化物の蒸着連続薄膜との密着性を良くすることを目的とし、２軸延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に、プラズマ化学蒸着法により無機酸化物の蒸着連続薄膜を形成するものであるから、引用発明１における「ＳｉＯ、ＳｉＯ2 などのシリコン酸化物（ＳｉＯx）の薄膜」を、引用発明２における「少なくとも、蒸着用モノマ−ガスを３〜５％の範囲、酸素ガスを７５〜９０％の範囲、および、不活性ガスを８〜２０％の範囲で含有し、かつ、酸素ガス／蒸着用モノマ−ガスの含有比が１０以上〜３０以下の範囲である蒸着用混合ガス組成物を使用し、更に、上記のような蒸着用混合ガス組成物を原料供給ノズルを通して真空チャンバ−内に導入し、冷却・電極ドラムに、チャンバ−外に配置されている電源から、電流値１０ｋＷ未満の範囲で電流を流し、グロ−放電プラズマによって温和な条件」でプラズマ化学蒸着を行い形成することにより、「２軸延伸ポリプロピレンフィルム」と「ＳｉＯ、ＳｉＯ2 などのシリコン酸化物（ＳｉＯx）の薄膜」との密着性を良くし、「バリア性積層体」のラミネート強度を高めることは、当業者であれば容易になし得たものであって、格別の効果を奏するものでもない。
　
　なお、本願の発明の詳細な説明には、本願発明に係る「耐蒸着保護層」を設けた例である実施例１〜２と、該「耐蒸着保護層」を設けていない例である実施例３及び比較例１〜２について、酸素透過度、色評価等を測定した実験結果が記載されているが、これらの実験結果からは、本願発明に係る「条件」にてプラズマ化学蒸着を行うことによる顕著な効果、及び、本願発明に係る「耐蒸着保護層」上に物理蒸着法により無機酸化物の蒸着膜を形成することによる顕著な効果は、いずれも認められない。すなわち、上記実施例１〜２と上記実施例３及び比較例２とでは、物理蒸着法の蒸着条件の一つである無機酸化物の蒸着膜の膜厚が異なるため、これらの実験結果より「耐蒸着保護層」の「耐蒸着保護」の機能を評価することはできず、また、上記実施例１〜３及び比較例１は、プラズマ化学蒸着の蒸着条件のうち、「膜厚」のみを変化させた例であって、その他の条件は同一であるから、これらの実験結果より、本願発明に係る上記「条件」のうち、膜厚以外の条件による「２軸延伸ポリプロピレンフィルム」及び「透明バリア性フィルム」への影響を評価することはできない。
　
　また、請求人は、平成２１年１１月２０日付け審判請求書の「３．（４）（ヘ）．」において
「引用文献１に引用文献２を組み合わせる技術的必然性、技術的動機、その他等は、一体、何があるのでしょうか。
　前述のよう、本願の請求項１−６に係る発明は、引用文献２に記載された発明と、その技術的思想において全く相違し、その課題、構成要件、作用効果等を全く別異にするものであることから、引用文献１に引用文献２を組み合わせたとしても、本願の請求項１−６に係る発明の『２軸延伸ポリプロピレンフィルム』を基材フィルムとして使用する場合の
　『耐蒸着保護膜層』
を設けるという技術的思想は、どこからでてくるのてしょうか。
　引用文献１に引用文献２を組み合わせたとしても、本願の請求項１−６に係る発明に、どのうよな技術的思想を基にして本願の請求項１−６に係る発明に到達し得るというのでしょうか、到底に、到達し得ないことであると思料する次第です。
　すなわち、引用文献２に記載の発明は、単に、
　『プラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着薄膜』
の一層からなることを必須の構成要件とする技術的思想しか開示していないものであり、そして、引用文献２に記載の発明は、（中略）、特に、本願の請求項１−６に係る発明の『（Ａ）』からなる構成要件、すなわち、
　『（Ａ）．・・・、膜厚５０Å〜１００Åの無機酸化物の蒸着連続薄膜から
　なる耐蒸着保護膜層・・・』
からなる構成要件についても全く何ら記載／示唆していないものである。
　してみれば、単に、引用文献１に引用文献２を組み合わせたとしても、本願の請求項１−６に係る発明に到達し得ないことは、明白であると思料する次第です。」
と主張している。
　しかし、「『２軸延伸ポリプロピレンフィルム』を基材フィルムとして使用する場合の『耐蒸着保護膜層』を設けるという技術的思想」、及び「耐蒸着保護層」の「膜厚」については、上記「４」で述べたように、引用例１に記載されており、「引用発明１と引用発明２とを組み合わせる技術的必然性、技術的動機」等については、上述したとおりであるから、「引用発明１に引用発明２を組み合わせたとしても、本願の請求項１〜６に係る発明に到達し得ない」とする上記出願人の主張は失当である。
　
５．２　相違点２
　物理蒸着法により形成される酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）の薄膜が「透明」であることは、本願出願前によく知られたことである。
　そして、引用例２には、「２軸延伸ポリプロピレンフィルム」に「無機酸化物の蒸着薄膜」を形成するに際し、「少なくとも、蒸着用モノマ−ガスを３〜５％の範囲、酸素ガスを７５〜９０％の範囲、および、不活性ガスを８〜２０％の範囲で含有し、かつ、酸素ガス／蒸着用モノマ−ガスの含有比が１０以上〜３０以下の範囲である蒸着用混合ガス組成物を使用し、更に、上記のような蒸着用混合ガス組成物を原料供給ノズルを通して真空チャンバ−内に導入し、冷却・電極ドラムに、チャンバ−外に配置されている電源から、電流値１０ｋＷ未満の範囲で電流を流し、グロ−放電プラズマによって、温和な条件でプラズマ化学蒸着を行い、膜厚が４００Å以下の酸化ケイ素の蒸着連続薄膜を形成する」ことにより、「２軸延伸ポリプロピレンフィルムの表面の黄変、劣化等を防止し」、「透明性に優れ」た「透明バリア性フィルムを製造し得る」ことが記載されている。
　したがって、引用発明１における「ＳｉＯ、ＳｉＯ2 などのシリコン酸化物（ＳｉＯx）の薄膜」を、引用発明２における「少なくとも、蒸着用モノマ−ガスを３〜５％の範囲、酸素ガスを７５〜９０％の範囲、および、不活性ガスを８〜２０％の範囲で含有し、かつ、酸素ガス／蒸着用モノマ−ガスの含有比が１０以上〜３０以下の範囲である蒸着用混合ガス組成物を使用し、更に、上記のような蒸着用混合ガス組成物を原料供給ノズルを通して真空チャンバ−内に導入し、冷却・電極ドラムに、チャンバ−外に配置されている電源から、電流値１０ｋＷ未満の範囲で電流を流し、グロ−放電プラズマによって温和な条件」でプラズマ化学蒸着を行い形成することにより、「透明」な「バリアー性積層体」が製造できることは、当業者であれば容易に想到し得たことである。
　
６　むすび
　したがって、本願発明は、引用例１〜２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項に該当し、特許を受けることができないものであるから、本願は、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶をすべきものである。
　よって、原査定は妥当であり、結論のとおり審決する。