【事件の表示】
　特願２００３−２７５３０５「光学素子及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　２月１０日出願公開、特開２００５−　３７７３６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１５年（２００３年）年７月１６日の出願（特願２００３−２７５３０５号）であって、平成２１年８月２４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２１年１２月１日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同日付けで手続補正がなされたものである。
　その後、平成２２年９月１５日付けで当審から審尋がなされ、これに対して、同年１０月１２日付けで回答書が提出された。
　
第２　平成２１年１２月１日付けの手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２１年１２月１日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正について
　本件補正により、特許請求の範囲は、願書に最初に添付した特許請求の範囲の、
　
「【請求項１】
　ストライプ状の位相差消失領域が複数配列形成された位相差フィルムを有する光学素子であって、
　上記位相差消失領域は、加熱部材に形成された凸部先端による選択的な加熱により位相差が消失されていることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
　立体映像表示装置において、右目用表示部と左目用表示部が混在する映像を現出させるために用いられることを特徴とする請求項１記載の光学素子。
【請求項３】
　所定形状の複数の凸部を有する加熱部材を位相差フィルムの表面に接触させ、前記凸部の先端で位相差フィルムを選択的に加熱することによって、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を複数配列形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項４】
　上記加熱部材は複数のストライプ状の凸部を有する加熱板であり、当該凸部の配列ピッチが上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しいことを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
　上記加熱部材は複数のストライプ状の凸部を有する加熱板であり、当該凸部の配列ピッチが上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチの整数倍とされていることを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
　上記加熱板の位置をずらしながら位相差フィルムの表面に複数回接触させ、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を順次形成することを特徴とする請求項５記載の光学素子の製造方法。
【請求項７】
　上記加熱部材は、周面に複数の帯状の凸部を有する円筒状のロールであることを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】
　上記加熱部材の温度を、２２０℃〜３００℃とすることを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項９】
　上記加熱部材は、低膨張合金からなることを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項１０】
　予め上記位相差フィルムの延伸方向に沿ってスリットを位相差フィルムに形成しておき、当該スリットと同方向にストライプ状の位相差消失領域を形成することを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項１１】
　上記位相差消失領域の境界線に沿って上記スリットを形成しておくことを特徴とする請求項１０記載の光学素子の製造方法。
【請求項１２】
　上記位相差フィルムの上記加熱部材が接触する面とは反対側の面に支持層を形成した状態で位相差消失領域を形成することを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。」が　
　
「【請求項１】
　ストライプ状の位相差消失領域が複数配列形成された位相差フィルムを有する光学素子であって、
　上記位相差消失領域は、複数のストライプ状の凸部を有する加熱板の位置がずらされながら前記凸部が前記位相差フィルムの表面に複数回接触されることで、前記凸部の先端による選択的な加熱により位相差がストライプ状に消失されていることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
　立体映像表示装置において、右目用表示部と左目用表示部が混在する映像を現出させるために用いられることを特徴とする請求項１記載の光学素子。
【請求項３】
　複数のストライプ状の凸部を有する加熱板を位相差フィルムの表面に位置をずらしながら複数回接触させ、前記凸部の先端で前記位相差フィルムを選択的に加熱することによって、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を複数配列形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項４】
　上記加熱板の当該凸部の配列ピッチは、上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しいことを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
　上記加熱板の当該凸部の配列ピッチは、上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチの整数倍とされていることを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
　上記加熱板の温度を、２２０℃〜３００℃とすることを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項７】
　上記加熱板は、低膨張合金からなることを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】
　予め上記位相差フィルムの延伸方向に沿ってスリットを位相差フィルムに形成しておき、当該スリットと同方向にストライプ状の位相差消失領域を形成することを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。
【請求項９】
　上記位相差消失領域の境界線に沿って上記スリットを形成しておくことを特徴とする請求項８記載の光学素子の製造方法。
【請求項１０】
　上記位相差フィルムの上記加熱板が接触する面とは反対側の面に支持層を形成した状態で位相差消失領域を形成することを特徴とする請求項３記載の光学素子の製造方法。」と補正された。
　
２　新規事項追加の違反についての検討
（１）本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項４に係る発明（以下、「本願補正発明４」という。）について検討する。本願補正発明４は、請求項３を引用していることから、
「複数のストライプ状の凸部を有する加熱板を位相差フィルムの表面に位置をずらしながら複数回接触させ、前記凸部の先端で前記位相差フィルムを選択的に加熱することによって、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を複数配列形成する光学素子の製造方法であって、
　上記加熱板の当該凸部の配列ピッチは、上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい光学素子の製造方法。」を発明特定事項とする発明である。
　そこで、上記の本願補正発明４の発明特定事項である「複数のストライプ状の凸部を有する加熱板を位相差フィルムの表面に位置をずらしながら複数回接触させ、前記凸部の先端で前記位相差フィルムを選択的に加熱する」（以下、「本願補正発明４の複数回接触の事項」という。）ものであり、かつ、「上記加熱板の当該凸部の配列ピッチは、上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」（以下、「本願補正発明４の配列ピッチの事項」という。）ものが、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものであるか否かについて検討する。
　
（２）ア　願書に最初に添付した明細書の発明の詳細な説明又は図面には、光学素子（分割波長板フィルター）の製造方法に関し、「加熱板（加熱部材）の凸部の配列ピッチ」と「加熱板を位相差フィルムの表面に位置をずらしながら複数回接触させる」ことについて、次の記載が認められる。
　
「【００１８】
（第１の実施形態）
　先ず、本実施形態の光学素子の説明に先立って、この光学素子を用いた立体映像表示装置の構成及び動作原理について説明する。
　本実施形態の光学素子は、例えばノート型コンピュータの液晶パネルに取り付けて使用され、極めて簡単な構造で立体映像の表示を可能とするものである。図１は、本発明の光学素子（分割波長板フィルター）１のノート型コンピュータ２の液晶パネル部３への装着状態を示すものである。」
　
「【００２９】
　以下、上述のような構成の分割波長板フィルターの製造方法について説明する。本実施形態では、図４に示すような加熱部材２５を用いる。この加熱部材２５は、平板状のプレス板であり、位相差フィルム２２に形成する位相差消失領域２２ｂと略同形状の複数の帯状の凸部２６を有する。すなわち、加熱部材２５の凸部２６は、位相差フィルム２２に最終的に形成される位相差消失領域２２ｂの本数と同数とする。
【００３０】
　先ず、図５（ａ）に示すように、位相差フィルム２２を接着剤２３を介して支持体２１に貼り付けたものを用意し、位相差フィルム２２上の所定の位置に加熱部材２５を配し、加熱部材２５の凸部２６を位相差フィルム２２に対して接触させる。そして、図５（ｂ）に示すように、加熱部材２５に取り付けられたヒータ２７等を介して位相差フィルム２２を選択的に加熱する。
【００３１】
　このとき、加熱部材２５の凸部２６が接触した領域の位相差フィルム２２においては、熱が加わることによって位相差が消失し、偏光方向を回転させる機能が失われ、位相差消失領域２２ｂとなる。一方で、加熱部材２５の凸部２６が接触しない領域、すなわち加熱部材２５の凹部に対応する領域では、位相差フィルム２２に熱が加えられないため、位相差フィルム２２の偏光方向を変化させる機能はそのまま維持されて、位相差領域２２ａとなる。」
　
「【００３５】
　加熱部材２５の凸部２６の配列ピッチは、例えば、分割波長板フィルターが取り付けられる液晶パネルの水平画素ラインの１ラインおきのピッチと一致させ、その幅は、前記水平画素の１ラインに相当する幅とする。また、加熱部材２５の凸部２６の高さ（溝の深さ）を高くするほど、位相差フィルム２２と加熱部材２５との間にこもる熱の影響を抑えることができるが、逆に、加熱部材２５の加工が困難となる。例えば、加熱部材２５の凸部２６の高さは、例えば２００μｍ以上とすることが好ましい。また、位相差フィルム２２と接触する凸部２６の幅は、位相差消失領域２２ｂを形成するために必要なサイズとし、通常の液晶パネルの場合、１５０μｍ〜２５０μｍ程度とし、例えば２００μｍとすることができる。」
　
「【００３８】
（第２の実施形態）
　次に、本発明の第２の実施形態について説明する。第２の実施形態は、加熱部材の凸部を第１の実施形態に比べて減らした場合の例である。なお、ここでの分割波長板フィルターの構造は、上述の第１の実施形態と同様であるため、詳細な説明を省略する。
【００３９】
　加熱部材が帯状の凸部を複数有する平板状のプレス板である場合、凸部の間隔は、例えば液晶パネルの水平画素ラインの１ラインおきのピッチと同ピッチであることが理想的である。しかしながら、液晶パネルの水平画素は極めて挟ピッチであるため、これと同じ間隔の凸部を有する加熱部材で位相差消失領域を形成しようとすると、位相差フィルムと加熱部材の凹部とがなす微細な空間に閉じこめられた空気が加熱されて、この加熱された空気によって位相差フィルムの意図しない領域までもが加熱され、位相差フィルムがＴｇ以上になり、位相差が変化するおそれがある。
【００４０】
　そこで、第２の実施形態では、図６に示すような、位相差フィルム２２に形成すべき位相差消失領域２２ｂのピッチの整数倍、例えば１つおきの位相差消失領域２２ｂに対応するよう２倍のピッチで形成された凸部３２を有する加熱部材３１を用いる。加熱部材３１の凸部３２同士の間隔は、この場合、例えば６００μｍである。
【００４１】
　この加熱部材３１を用いて分割波長板フィルターを作製する場合には、先ず、第１実施形態と同様に、位相差フィルム２２上に加熱部材３１を配し（図７（ａ））、次に、所定の条件で凸部３２を接触させるとともに、加熱部材３１に取り付けられたヒータ２７等を介して位相差フィルム２２を選択的に加熱する。これにより、位相差フィルム２２に、位相差消失領域２２ｂが形成される（図７（ｂ））。ここまでで、最終的に形成される位相差消失領域２２ｂのうち半分が形成される。
【００４２】
　次に、加熱部材３１を位相差フィルム２２から離し、前の工程で形成された位相差消失領域２２ｂの間に加熱部材３１の凸部３２が位置するように加熱部材３１を移動させ、位置をずらす（図７（ｃ））。そして、再び加熱部材３１の凸部３２を位相差フィルム２２に接触させるとともに加熱することによって、残り半分の位相差消失領域２２ｂを形成する（図７（ｄ））。
【００４３】
　この後、必要に応じて紫外線硬化樹脂等の保護層２４を設けることにより、図３に示すような分割波長板フィルターが完成する。
　本実施形態によれば、凸部３２同士の間隔が広くされた加熱部材３１を用い、２回に分けて位相差消失領域２２ｂを形成する。これによって、加熱部材３１と位相差フィルム２２とで閉じこめられた空気の温度上昇が抑制され、位相差フィルム２２の所望の領域のみを確実に加熱することができる。
【００４４】
　なお、加熱部材３１としては、最終的に形成される位相差消失領域２２ｂに対して１つおきに対応するような凸部３２を有するものを例に挙げて説明したが、例えば２つおき、又はそれ以上間隔をあけた凸部を有する加熱部材を用いるとともに、２回以上に分けて位相差消失領域を形成してもよい。」
　
「【図４】（第１実施形態の光学素子の製造工程で用いる加熱部材の概略断面図）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
「【図５】（第１実施形態の光学素子の製造工程を示す概略断面図、（ａ）は加熱部材の対向配置状態、（ｂ）は加熱状態）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
「【図６】（第２実施形態の光学素子の製造工程で用いる加熱部材の概略断面図）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
「【図７】（第２実施形態の光学素子の製造工程を示す図、（ａ）は加熱部材の初期配置状態を示す概略断面図、（ｂ）は１回目の位相差消失領域形成工程を示す概略断面図、（ｃ）は加熱部材移動工程を示す概略断面図、（ｄ）は２回目の位相差消失領域形成工程を示す概略断面図）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
イ　願書に最初に添付した特許請求の範囲には、光学素子（分割波長板フィルター）の製造方法に関し、「加熱板（加熱部材）」の「凸部の配列ピッチ」については、請求項４，５に、「加熱板を位相差フィルムの表面に位置をずらしながら複数回接触させる」ことについては、請求項６に記載されている（上記「１　本件補正について」の記載参照）。
　
（３）上記の明細書の発明の詳細な説明及び図面並びに特許請求の範囲の記載から、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面には、第１の実施形態及び請求項４に係る発明として、分割波長板フィルターの製造方法において、「加熱板の凸部の配列ピッチが位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」ものが記載されているといえる。そして、上記【００２９】段落の「加熱部材２５の凸部２６は、位相差フィルム２２に最終的に形成される位相差消失領域２２ｂの本数と同数とする。」、及び、【図５】の記載からして、第１の実施形態及び請求項４に係る発明においては、「加熱板」と「位相差フィルムの表面」の接触を１回で行うことは明らかである。したがって、第１の実施形態及び請求項４に係る発明として、分割波長板フィルターの製造方法において、加熱板の凸部の配列ピッチが位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しいものであって、「加熱板」と「位相差フィルムの表面」の接触を１回で行う技術的事項が把握できる。
　また、第２の実施形態及び請求項６に係る発明として、分割波長板フィルターの製造方法において、「加熱板を位相差フィルムの表面に位置をずらしながら複数回接触させる」ものが記載されているといえる。そして、上記【００３８】〜【００４４】段落、及び、【図７】の記載から、第２の実施形態及び請求項６に係る発明は、「位相差フィルムと加熱部材の凹部とがなす微細な空間に閉じこめられた空気が加熱され」ることによる弊害を取り除くため、第１の実施形態（「加熱板の凸部の配列ピッチが位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」もの）に比べて加熱部材の凸部同士の間隔を広くしたものであることからして、「加熱板の凸部の配列ピッチ」が「位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチ」よ大きいものであって、かつ、「加熱板の凸部」を「ずらせる」量（距離）は、当該「加熱板の凸部の配列ピッチ」より小さい量（距離）であるものが技術的事項として把握される。なお、【００４０】段落には、上記凸部のピッチについて「位相差消失領域２２ｂのピッチの整数倍、例えば１つおきの・・・」と記載され、また、請求項６が引用している請求項５には「当該凸部の配列ピッチが上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチの整数倍とされている」と記載されているが、上記のように、第２の実施形態及び請求項６に係る発明においては「加熱板の凸部の配列ピッチ」が「位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチ」より大きいものが想定されているといえるのであるから、上記【００４０】段落及び請求項５に記載の「整数（倍）」には「１（倍）」は含まれないものと解される。したがって、第２の実施形態及び請求項６に係る発明として、分割波長板フィルターの製造方法において、加熱板を位相差フィルムの表面に加熱板の凸部の配列ピッチより小さい量だけ位置をずらしながら複数回接触させるものであり、かつ、当該凸部の配列ピッチが上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチの整数倍であって、位相差消失領域の配列ピッチより大きいものが技術的事項として把握される。
　第３の実施例形態及び請求項７に係る発明として、加熱部材として、ロールを用いることが技術的事項として把握される。第４の実施形態及び請求項１０、１１に係る発明として、位相差フィルムにスリットを形成しておくことが技術的事項として把握される。第５の実施形態及び請求項１２に係る発明として位相差フィルムの加熱部材と接触する面とは反対側に支持層を形成することが技術的事項として把握される。
　　願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項は、以上のとおりである。
　
（４）これに対して、本件補正により導入された技術的事項である本願補正発明４の発明特定事項は、「複数のストライプ状の凸部を有する加熱板を位相差フィルムの表面に位置をずらしながら複数回接触させ、前記凸部の先端で前記位相差フィルムを選択的に加熱する」ものであり、かつ、「上記加熱板の当該凸部の配列ピッチは、上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」のであるから、
ａ　「加熱板の凸部」を「ずらせる」量（距離）が、当該「加熱板の凸部の配列ピッチ」より大きい量（距離）であって、上記の「位置をずらしながら複数回接触」は、加熱板の凸部の配列ピッチが位相差消失領域の配列ピッチと等しい加熱板を最初に接触して加熱した領域から完全に離れた領域に接触させて加熱することを意味しているか、又は、
ｂ　「加熱板の凸部」を「ずらせる」量（距離）が、当該「加熱板の凸部の配列ピッチ」のちょうど２倍の量（距離）であって、上記の「位置をずらしながら複数回接触」は、加熱板の凸部を、隣の凸部が前回接触して加熱した領域に再度接触させて加熱することを意味していると解さざるを得ない。
　
（５）そうすると、本願補正発明４は、（３）で述べた、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、実質的に「加熱板の凸部の配列ピッチが位相差消失領域の配列ピッチと等しい加熱板を最初に接触して加熱した領域から完全に離れた領域に接触させて加熱する」、又は、「加熱板の凸部を、隣の凸部が前回接触して加熱した領域に再度接触させて加熱する」という、いずれにしても、新たな技術的事項を導入するものといえる。
　したがって、本件補正による特許請求の範囲の補正は、願書に最初に添付した特許請求の範囲、明細書又は図面に記載された範囲内においてなされたものということができないから、本件補正は特許法第１７条の２第３項の規定に違反する。
　
３　独立特許要件違反についての検討
（１）上記のように本件補正は新規事項を追加する補正であるが、念のため、本件補正が新規事項を追加する補正ではないとした場合についての検討も行う。
　この場合、本願補正発明４は、願書に最初に添付した特許請求の範囲の請求項６に係る発明が引用する請求項５における「整数（倍）」を「１（倍）」と限定するものであるから、本件補正は、特許請求の範囲について、いわゆる限定的に減縮することを目的とする補正、すなわち、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とする補正を含むものである。
　そこで、本願補正発明４が特許出願の際独立して特許を受けることができるものか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反しないか）について検討する。
　
（２）本願補正発明４
　本願補正発明４は、平成２１年１２月１日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項４に記載されている事項により特定されるものである（上記「２　新規事項追加の違反についての検討」の「（１）」の記載参照）。
　
（３）特許法第３６条第６項第１号の規定（「特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載したものであること。」）の違反について
　本願明細書の発明の詳細な説明には、光学素子（分割波長板フィルター）の製造方法に関して、第１ないし第５の実施形態が記載されている（第１及び第２の実施形態の記載については、「２　新規事項追加の違反についての検討」の「（２）」参照）。
　第１の実施形態は、「加熱板の凸部の配列ピッチが位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」ものであるといえる。しかしながら、上記【００２９】段落の「加熱部材２５の凸部２６は、位相差フィルム２２に最終的に形成される位相差消失領域２２ｂの本数と同数とする。」、及び、【図５】の記載からして、第１の実施形態においては、「加熱板」と「位相差フィルムの表面」の接触を１回で行うことは明らかであり、「加熱板を位相差フィルムの表面に位置をずらしながら複数回接触させる」ものではないといえる。したがって、第１の実施形態の記載は、「本願補正発明４の複数回接触の事項」及び「本願補正発明４の配列ピッチの事項」（「２　新規事項追加の違反についての検討」の「（１）」参照）の両者を備えた本願補正発明４について記載したものではない。
　また、第２の実施形態として、「加熱板を位相差フィルムの表面に位置をずらしながら複数回接触させる」ものが記載されているといえる。しかしながら、上記【００３８】〜【００４４】段落、及び、【図７】の記載から、第２の実施形態としては、「加熱板の凸部の配列ピッチが位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」ものではなく、特に、「位相差フィルムと加熱部材の凹部とがなす微細な空間に閉じこめられた空気が加熱され」ることによる弊害を取り除くため、第１の実施形態（「加熱板の凸部の配列ピッチが位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」もの）に比べて加熱部材の凸部同士の間隔を広くしたものであることからして、「加熱板の凸部の配列ピッチが位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」ものは記載されていないといえる。なお、【００４０】段落には、上記凸部のピッチについて「位相差消失領域２２ｂのピッチの整数倍、例えば１つおきの・・・」と記載されているが、上記のように、第２の実施形態においては「加熱板の凸部の配列ピッチが位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」ものは記載されていないといえるのであるから、上記【００４０】段落の「整数（倍）」には「１（倍）」は含まれないものと解される。すなわち、特許請求の範囲における「整数（倍）」の記載には「１（倍）」が含まれると解し得たとしても、上記の理由から、第２の実施形態に関する記載における「整数（倍）」には「１（倍）」は含まれると解することはできない。仮に「整数（倍）」に「１（倍）」が含まれるとしても、如何なる課題を解決するものであるのか当業者に理解できない。したがって、第２の実施形態の記載は、上記の「本願補正発明４の複数回接触の事項」及び「本願補正発明４の配列ピッチの事項」の両者を備えた発明について記載したものではない。
　さらに、加熱部材としてロールを用いる例である第３の実施形態、並びに、クラックを防止する技術に関する第４及び第５の実施形態の記載においては、「本願補正発明４の複数回接触の事項」及び「本願補正発明４の配列ピッチの事項」についての言及がなく、発明の詳細な説明の第１ないし第５の実施形態の記載箇所以外の箇所においても、上記の「本願補正発明４の複数回接触の事項」及び「本願補正発明４の配列ピッチの事項」の両者を備えたものは記載されていない。
　したがって、本願補正発明４は発明の詳細な説明に記載したものではないから、本願は特許法第３６条第６項第１号の規定に違反し、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
（５）特許法第２９条第２項（発明の進歩性）の規定の違反について
　最後に，念のため、本願補正発明４が、発明の進歩性を有するものかについて検討する。
ア　引用例
（ア）原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平８−３３４６１８号公報（以下「引用例」という。）には、次の事項が記載されている。（後述の「（イ）引用例に記載された発明の認定」において発明の認定に直接関係する記載に下線を付した。）
　
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、位相差が部分的に相違して光アイソレータの如き偏光変調素子などとして好適な位相差フィルム、及びその製造方法、並びに当該フィルムを用いた積層偏光板に関する。」
　
「【０００８】
【実施例】本発明の
位相差フィルムは、分子配向度の部分的相違に基づいて位相差が部分的に相違する２種以上の位相差の分布特性を示す単層の連続延伸フィルムからなる
【０００９】本発明の
位相差フィルムの製造は、例えば延伸フィルムにガラス転移温度以上の熱を部分的に付与して分子の配向度を部分的に低下させ、位相差を部分的に相違させる方法
【００１０】延伸フィルムは、例えば高分子フィルムを一軸又は二軸等の適宜な方式で延伸処理することにより得ることができる。位相差制御の点などよりは、分子が可及的に均一に配向するなどして位相差の均一性に優れる延伸フィルムが好ましく用いうる。従って従来の位相差フィルムのいずれも用いうる。延伸フィルムを形成する高分子フィルムとしては、透明なプラスチックからなる適宜なフィルムを用いることができ、特に限定はない。
【００１１】ちなみに前記高分子フィルムの例としては、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレートやポリエチレンテレフタレートの如きポリエステル系高分子、ポリイミド系高分子、ポリスルホン系高分子、ポリエーテルスルホン系高分子、ポリスチレン系高分子、ポリエチレンやポリプロピレンの如きポリオレフィン系高分子、ポリビニルアルコール系高分子、酢酸セルロース系高分子、ポリ塩化ビニル系高分子、ポリメチルメタクリレート系高分子等の熱可塑性ポリマーなどからなるフィルムがあげられる。また液晶ポリマーからなるフィルムなどもあげられる。
【００１２】延伸フィルムにおける分子配向度の低下操作は、ガラス転移温度（熱変形温度）以上の熱を付与する方式、又は溶解若しくは膨潤させうる薬液を施与する方式にて行うことができる。熱の付与方式や薬液の施与方式については特に限定はなく、熱源を介した加熱方式や放電を介した熱の付与方式、あるいは延伸フィルムを溶解又は膨潤させうる有機溶剤等の施与方式などの適宜な方式を採ることができ、熱の付与と薬液の施与の両方式を併用することもできる。
【００１３】位相差が変化した領域からなるパターン、特に微細パターンの効率的形成の点などよりは、熱転写式プリンタやインクジェット式プリンタなどの適宜な加熱式又は薬液噴射式のプリンタにて熱の付与又は薬液の施与を行う方式が好ましい。またレーザ光線による加熱方式や
スタンプ式等のプレス加熱方式
にても微細パターン等の所望のパターンを効率的に形成することができる。
【００１４】位相差を変化させる領域は、目的とするパターンの領域であってもよいし、目的とするパターン以外の領域、すなわち目的とするパターンの領域は元の延伸フィルムにおける分子配向度で残存し、そのパターン以外の領域が分子配向度の低下した領域であってもよい。後者の分子配向度の低下操作は、例えば目的とするパターン領域をレジスト等でマスキングして熱又は薬液で処理する方式などにより行うことができる。
【００１５】本発明の位相差フィルムは、分子配向度を部分的に相違させてその相違により位相差が部分的に相違する２種以上の位相差の分布特性をもたせたものである。
その位相差の分布状態は
ストライプ状
分布状態にあってよい
　
　
「【図１】（位相差フィルム例の断面図）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
（イ）引用例に記載された発明の認定
　上記記載（図面の記載を含む）から、引用例には、
「分子配向度の部分的相違に基づいて位相差が部分的に相違する２種の位相差の分布特性を示す単層の連続延伸フィルムからなる位相差フィルムの製造方法であって、
　上記の位相差フィルムの製造は、連続延伸フィルムからなる位相差フィルムにガラス転移温度以上の熱をスタンプ式のプレス加熱方式で部分的に付与して分子の配向度を部分的に低下させ、位相差を部分的に相違させ、複数のストライプ状のパターンを形成する方法。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
イ　本願補正発明４と引用発明の対比
（ア）対比
　本願補正発明４と引用発明を対比する。
　
　引用発明の「スタンプ式のプレス加熱方式」は、「スタンプ」の加熱された接触面を、相手方（被熱付与体）に接触させ、スタンプの接触面に形成されたパターン形状（加熱パターン）の熱を相手方に与えるものであり、技術常識を踏まえると、スタンプ式の加熱方式で熱を部分的に付与する場合、付与する加熱パターンとスタンプの接触面に設けられた加熱パターンは同じパターンであると認められるから、引用発明の「連続延伸フィルムからなる位相差フィルムにガラス転移温度以上の熱をスタンプ式のプレス加熱方式で部分的に付与して」、「複数のストライプ状のパターンを形成」することと、本願補正発明４の「複数のストライプ状の凸部を有する加熱板を位相差フィルムの表面に位置をずらしながら複数回接触させ」ることとは、「複数のストライプ状の加熱パターンを有する加熱板を位相差フィルムの表面に接触させ」る点で一致する。
　
　引用発明の「連続延伸フィルムからなる位相差フィルムにガラス転移温度以上の熱をスタンプ式のプレス加熱方式で部分的に付与して分子の配向度を部分的に低下させ、位相差を部分的に相違させ、複数のストライプ状のパターンを形成する」ことと、本願補正発明４の「前記凸部の先端で前記位相差フィルムを選択的に加熱することによって、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を複数配列形成する」こととは、「前記加熱パターンの接触部で前記位相差フィルムを選択的に加熱することによって、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を複数配列形成する」ことで一致する。
　
　引用発明の「スタンプ式のプレス加熱方式で部分的に熱を付与」する場合、相手方が付与される加熱パターンとスタンプに設けられた加熱パターンは同じ、すなわち、加熱パターンがストライプ状のパターンであれば、相手方が付与される加熱パターンの配列ピッチとスタンプに設けられた加熱パターンの配列ピッチがおなじであるといえる。この点を勘案すれば、引用発明の「位相差フィルムにガラス転移温度以上の熱をスタンプ式のプレス加熱方式で部分的に付与して分子の配向度を部分的に低下させ、位相差を部分的に相違させ、複数のストライプ状のパターンを形成する」ことが、本願補正発明４の「加熱板の当該凸部の配列ピッチは、上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」点を備えるといえる。
　
　引用発明の「位相差フィルム」が本願補正発明４の「位相差フィルム」から形成される「光学素子」に相当する。
　
（イ）一致点
　したがって、本願補正発明４と引用発明とは、
「複数のストライプ状のパターンを有する加熱板を位相差フィルムの表面に接触させ、前記パターンの接触部で前記位相差フィルムを選択的に加熱することによって、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を複数配列形成する光学素子の製造方法であって、
　上記加熱板の当該パターンの配列ピッチは、上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい光学素子の製造方法。」の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
（ウ）相違点
ａ　相違点１
　加熱パターンである複数のストライプ状のパターンの接触部が、本願補正発明４においては「凸部」で形成されるのに対して、引用発明においてはその点が明確でない点。
　
ｂ　相違点２
　複数のストライプ状のパターンを有する加熱板を位相差フィルムの表面に接触させ、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を複数配列形成するに当たり、本願補正発明４は「位置をずらしながら複数回接触させ」るのに対して、引用発明においてはその点の限定がない点。
　
ウ　当審の判断
（ア）上記各相違点について検討する。
ａ　相違点１について
　スタンプ式のプレス加熱方式の場合、一般的には、スタンプの接触面に設けられる加熱パターンは、凸部で形成されるものと認められるから、引用発明においても加熱パターンである複数のストライプ状のパターンは「凸部」で形成されることが記載されているに等しいといえる。よって、上記相違点１は実質的な相違点ではない。
　仮に、引用発明における「スタンプ式のプレス加熱方式」の特定のみでは、加熱パターンである複数のストライプ状のパターンは「凸部」で形成されることが明確でないとしても、加熱パターンを与えるパターンを「凸部」で形成することは、例えば、特開平３−２４９９７７号公報、特開平９−２１１３８９号公報、特開昭５５−２５０５０号公報、特開平１０−２３２２１５号公報にも記載されているように周知の技術である。そして、引用発明に上記周知技術を適用して、上記相違点１に係る本願補正発明４の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
ｂ　相違点２について
　上記相違点２は、「加熱パターンの配列ピッチが上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」ことを前提として、上記加熱パターンを与える凸部を「位置をずらしながら複数回接触させ」ることを意味する。
　すると、「加熱パターンの配列ピッチが上記位相差フィルムの位相差消失領域の配列ピッチと等しい」ことから、ずらす位置は、初めに接触させた領域から完全に外れた領域であり、それは、大きな領域のストライプ状の位相差消失領域を形成するに当たり、複数の分割された小さな領域に分けて形成することを意味することになる。少なくとも、上記相違点２に係る本願補正発明４の発明特定事項である「位置をずらしながら複数回接触させ」ることは、上記の「複数の分割された小さな領域に分けて形成すること」を含むものであるといえる。
　そうであれば、大きな領域のパターンの作成を小さな領域に分けて行うことは、各種の技術分野において用いられている周知の技術であるといえるから、引用発明に上記周知技術を適用して、上記相違点２に係る本願補正発明４の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
（イ）本願補正発明４の奏する作用効果
　そして、本願補正発明４によってもたらされる効果は、引用発明１及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
（ウ）まとめ
　したがって、本願補正発明４は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
（６）小括
　以上のとおりであるから、本願は特許法第３６条第６項第１号の規定に違反し、特許出願の際独立して特許を受けることができず、また、本願補正発明４は、特許法第２９状第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるということができない。
　
４　むすび
　よって、本件補正は、特許法第１７条の２第３項の規定に違反する、もしくは、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
 第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２１年１２月１日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲の請求項１ないし１２に係る発明は、願書に最初に添付した特許請求の範囲の請求項１ないし１２に記載された事項により特定されるとおり（上記「第２　平成２１年１２月１日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」の記載参照。）のものであるところ、本願の請求項３に係る発明（以下、「本願発明」という。）についての検討する。
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例の記載事項及び引用発明については、上記「第２　平成２１年１２月１日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「３　独立特許要件違反についての検討」の「（５）特許法第２９条第２項（発明の進歩性）の規定の違反について」の「ア　引用例」に記載したとおりである。
　
３　対比
（１）本願発明と引用発明を対比する。
　
　引用発明の「スタンプ式のプレス加熱方式」は、「スタンプ」の加熱された接触面を、相手方（被熱付与体）に接触させ、スタンプの接触面に形成されたパターン形状（加熱パターン）の熱を相手方に与えるものであり、スタンプ式の加熱方式で熱を部分的に付与する場合、付与する加熱パターンとスタンプの接触面に設けられた加熱パターンは同じパターンであると認められるから、引用発明の「連続延伸フィルムからなる位相差フィルムにガラス転移温度以上の熱をスタンプ式のプレス加熱方式で部分的に付与して」、「複数のストライプ状のパターンを形成」することと、本願発明の「所定形状の複数の凸部を有する加熱部材を位相差フィルムの表面に接触させ」ることとは、「所定形状の複数の加熱パターンを有する加熱部材を位相差フィルムの表面に接触させ」る点で一致する。
　
　引用発明の「連続延伸フィルムからなる位相差フィルムにガラス転移温度以上の熱をスタンプ式のプレス加熱方式で部分的に付与して分子の配向度を部分的に低下させ、位相差を部分的に相違させ、複数のストライプ状のパターンを形成する」ことと、本願発明の「前記凸部の先端で位相差フィルムを選択的に加熱することによって、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を複数配列形成する」こととは、「前記加熱パターンの接触部で位相差フィルムを選択的に加熱することによって、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を複数配列形成する」ことで一致する。
　
　引用発明の「位相差フィルム」が本願発明の「位相差フィルム」から形成される「光学素子」に相当する。
　
（２）一致点
　したがって、本願発明と引用発明とは、
「所定形状の複数の加熱パターンを有する加熱部材を位相差フィルムの表面に接触させ、前記加熱パターンの接触部で位相差フィルムを選択的に加熱することによって、位相差を消失させたストライプ状の位相差消失領域を複数配列形成することを特徴とする光学素子の製造方法。」の発明である点で一致し、次の点で一応相違する。
　
（３）相違点
　加熱パターンである複数のストライプ状のパターンの接触部が、本願発明においては「凸部」で形成されるのに対して、引用発明においてはその点が明確でない点。
　
４　当審の判断
（１）上記相違点について検討する。
ア　スタンプ式のプレス加熱方式の場合、一般的には、スタンプの接触面に設けられる加熱パターンは、凸部で形成されるものと認められるから、引用発明においても加熱パターンである複数のストライプ状のパターンは「凸部」で形成されることが記載されているに等しいといえる。よって、上記相違点は実質的な相違点ではない。
イ　仮に、引用発明における「スタンプ式のプレス加熱方式」の特定のみでは、加熱パターンである複数のストライプ状のパターンは「凸部」で形成されることが明確でないとしても、加熱パターンを与えるパターンを「凸部」で形成することは、例えば、特開平３−２４９９７７号公報、特開平９−２１１３８９号公報、特開昭５５−２５０５０号公報、特開平１０−２３２２１５号公報にも記載されているように周知の技術である。そして、引用発明に上記周知技術を適用して、上記相違点に係る本願補正発明４の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
（２）したがって、本願発明と引用発明は実質的に相違するところがなく、本願発明は実質的に引用発明であるといえる。
　また、仮に、本願発明が引用に記載された発明ではないとしても、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５　回答書における請求人の回答について
　平成２２年１０月１２日付けで提出された回答書において、請求人は、
「審査官殿により請求項１乃至８及び１０について進歩性が欠如していると指摘されていることから、本件審判請求人は、請求項３を、該請求項３に従属した請求項８、及び該請求項８に従属した請求項９により限定した上で、その補正後の請求項３を新たな請求項１とする補正を行う意志を有しております。」
と述べている。
　しかしながら、本願は、原査定の拒絶理由において、上記引用例を示した上で、上記の本願発明である請求項３に係る発明に対して、
「引用文献２（当審注：上記引用例）の特許請求の範囲【００３１】【００１７】【００２５】図１には、熱転写式プリンタやスタンプ式のプレス加熱により複数の凸部を有する加熱部材を位相差フィルムの表面に接触させ、前記凸部の先端で位相差フィルムを選択的に加熱することによって選択的に位相差が消失された位相差消失領域を複数配列形成することが記載されている。」
「よって、本願請求項１、３に係る発明と引用文献１，２は、構成上の差異はないか、仮に有していたとしても想到容易である。」
として、引用例（引用文献２）が、「複数の凸部を有する加熱部材を位相差フィルムの表面に接触させ」るものであるから、本願の請求項３に係る発明が引用文献２に記載された発明であると述べた上で、さらに加えて
「＜拒絶の理由を発見しない請求項＞　請求項１０、１１に係る発明については、現時点では、拒絶の理由を発見しない。拒絶の理由が新たに発見された場合には拒絶の理由が通知される。」
として、平成２１年１２月１日付け手続補正書の請求項８，９に相当する請求項について拒絶の理由が存在しないことを示し、上記拒絶理由に対する応答期間において、手続補正により特許請求の範囲や明細書等を請求人が「補正を行う意志を有する」とした請求項とする補正をする機会が与えられていたにも関わらず、何らの補正をすることもなく、原査定を受けたものであり、さらに、本件審判請求時における補正の機会においても、上記拒絶理由に対応すべく補正を行わなかったものであるから、現時点にける上記の「補正を行う意志」に答えることが必ずしも審判における公平・公正な手続であるということもできない。
　
６　結び
　以上のとおり、本願の請求項３に係る発明は実質的に引用例に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。また、仮に、本願の請求項３に係る発明が引用に記載された発明ではないとしても、本願の請求項３に係る発明は引用に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。