Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月7日(2011.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記構造：
【化１】
2010539089.tif 000001
又は、その薬学的に許容可能な塩を有する化合物であって：
Ｒ１がＨ又はリン酸塩であり、二重結合がＮ１とＣ１との間又はＮ２とＣ１との間に存在し；
Ｒ２が親油性陽イオン、ポリアルギニン又はポリリジンであり；
Ｒ３がアルキル基、アルキルアリール基、アルキルヘテロアリールスペーサ基、又は開裂可能なリンカー基であるか、あるいは存在せず；
Ｒ４がＨ、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であり；かつ
Ｒ５がアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であるか；
あるいは、
Ｎ１とＣ１とＮ３とが少なくとも５つの原子を含む複素環を相互に形成し、
Ｎ１とＮ３とＲ１ないしＲ５とが上に定義された通りであるか、又は
Ｎ３とＲ５とが少なくとも４つの原子を含む複素環を相互に形成する；
ことを特徴とする化合物。
【請求項２】
前記親油性陽イオンがトリフェニルホスホニウムを含むことを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記スペーサ基が開裂可能な結合を含むことを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
前記開裂可能な結合がエステル結合であることを特徴とする請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
下記構造：
【化２】
2010539089.tif 000002
を有することを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
下記構造：
【化３】
2010539089.tif 000003
を有することを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項７】
請求項１に記載の化合物が、（トリフェニルホスホニオ）メチルＮ−［アミノ（イミニオ）メチル］−Ｎ−メチルグリシナート又はその薬学的に許容可能な塩であることを特徴とする化合物。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の化合物と薬学的に許容可能な補形薬とを含むことを特徴とする医薬組成物。
【請求項９】
親油性陽イオン、ポリアルギニン又はポリリジンからなる群より選択されるミトコンドリアを標的とする部位に作用可能に結合されたミトコンドリア代謝産物を含有する接合体を含む医薬組成物であって、
前記ミトコンドリア代謝産物は、葉酸塩／葉酸、スクシナート、オロテート、ウリジン、シチジン、ピルベート、ビタミンＡ／レチン酸、ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤ＋）、ＮＡＤＨ、ニコチンアミドアデニンジヌクレオチドリン酸（ＮＡＤＰ＋）、ＮＡＤＰＨ、アスコルビン酸、葉酸、アデノシン、アデノシン二リン酸（ＡＤＰ）、アデノシン三リン酸（ＡＴＰ）、アデノシン一リン酸（ＡＭＰ）、グリセロール、ノノエート、ｓ−アデノシルメチオニン（ＳＡＭ）、サイクリックグアノシン一リン酸（ｃＧＭＰ）、サイクリックアデノシン一リン酸（ｃＡＭＰ）、パルミチン酸塩、アセチル−ｌ−カルニチン、カルディオリピン、コレステロール、アセチルＣｏＡ、アセチルＣｏＡ−ＳＨ、マロニルＣｏＡ、グルタメート、メチレンブルー、アスコルビン酸塩、亜硝酸塩、α−ケトグルタル酸、酢酸塩、アセトアルデヒド、リポ酸塩、グルタチオン、グリセルアルデヒド３−リン酸塩、リンゴ酸塩、オキサロ酢酸塩、フマラート、エルゴカルシフェロール、コレカルシフェロール、ビオチン、バルプロエート／バルプロ酸、ホスホエノールピルベート、グルコース、グルコース６−リン酸塩、フルクトース、フルクトース−６−リン酸、フルクトース１，６−ビスリン酸塩、グリコーゲン、ＵＤＰ−グルコース、グルコース１−リン酸塩、グルタミン、グルコサミン及び類似化合物からなる群より選択され、前記接合体がミトコンドリア代謝産物を調節(modulate)するのに有効な含量で存在することを特徴とする医薬組成物。
【請求項１０】
前記親油性陽イオンがトリフェニルホスホニウムイオンであることを特徴とする請求項９に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月8日(2011.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像光ビームを、投射領域における画像の表示のために前記投射領域上に投射する手段と、
アンビエント光ビームを生成する手段であって、
アンビエント光を生成するアンビエント光源、
前記アンビエント光ビームを供給するようにアンビエント光を受け取るコリメータ又は光ガイド、及び
前記アンビエント光ビームを、前記画像に隣接するアンビエント光領域を得るように前記投射領域に向かって反射するリフレクタ、
を有する手段と、
を有するシステムにおいて、
前記画像光ビームを投射する手段は、投射レンズを有しており、前記アンビエント光ビームを生成する手段が少なくとも部分的に前記投射レンズの周りに配されている、
システム。
【請求項２】
前記アンビエント光を生成する手段は、前記コリメータを有しており、前記アンビエント光源、前記コリメータ及び前記リフレクタの配置は、前記アンビエント光源が前記投射レンズに最も近くにあると共に、前記コリメータは前記アンビエント光源と前記リフレクタとの中間にあるように、配されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記コリメータ及び前記リフレクタが前記画像に隣接して前記アンビエント光領域の境界において鋭いカットオフを得るように設計されている、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記アンビエント光ビームを生成する手段は、前記投射レンズの平面と平行に又は前記投射レンズの平面内に配されており、前記平面は、前記画像光ビームに対して実質的に垂直に延在している、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記画像光ビームを投射する手段は、ミラーを有しており、前記画像光ビームは、前記投射領域に向かって前記ミラーの前方平面によって反射され、前記アンビエント光ビームを生成する手段は、少なくとも部分的に前記ミラーの後方平面に配されている前記光ガイドを有している、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記光ガイドは、後方平面と平行に配されていると共に、少なくとも部分的に前記後方平面の後ろからの突出部分によって突出しており、前記突出部分は、出力窓を有しており、前記光ガイドは、前記リフレクタに前記アンビエント光ビームを供給するように前記アンビエント光源によって発される前記アンビエント光を受け取るように配されており、前記リフレクタは、前記投射領域に向かって前記出力窓を介して前記アンビエント光ビームを反射するように配されている、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記光ガイドの長さが、前記ミラーの後方平面の長さと実質的に同一である、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記光ガイドは、後方平面に平行であると共に前記アンビエント光源から前記リフレクタに向かって延在している方向に垂直な方向において及び／又は前記後方平面に垂直な方向において、規定されている増大する幅を有するように成形されている、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】
前記アンビエント光源は、複数の異なる有色光の発光体を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記画像の中央に対して前記アンビエント光領域の位置を調整する調節手段を更に有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記調節手段が、前記コリメータ、前記光ガイド、前記リフレクタ及び前記アンビエント光源の、何れか１つを別個に又は何らかの組み合わせを傾斜する、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記アンビエント光ビームを生成する手段が、前記前方プロジェクタの一体部分である、請求項１に記載のシステムを有する前方プロジェクタ。
【請求項１３】
前記アンビエント光ビームを生成する手段は、前記前方プロジェクタに対して別個のアクセサリである、請求項１に記載のシステムを有する前方プロジェクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月15日(2011.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
規定の形態を有しており、
付着を低減する化学修飾された表面層（３ａ，６ａ）を有する樹脂成形材料を含んでおり、
前記表面層はテフロン化合物を有することを特徴とする、
光学コンポーネント。
【請求項２】
前記表面層（３ａ，６ａ）は、前記コンポーネントと同じ前記樹脂成形材料から成形されており、該表面層の樹脂成形材料は化学修飾されている、請求項１記載の光学コンポーネント。
【請求項３】
前記表面層（３ａ，６ａ）は、フッ素化されている、請求項１または２記載の光学コンポーネント。
【請求項４】
前記表面層（３ａ，６ａ）は、塵埃の粒子に対して付着低減性である、請求項１から３のいずれか１項記載の光学コンポーネント。
【請求項５】
前記コンポーネントは、放射に対して透過性または反射性である、請求項１から４のいずれか１項記載の光学コンポーネント。
【請求項６】
前記コンポーネントは注型材料（３）として成形されている、請求項１から５のいずれか１項記載の光学コンポーネント。
【請求項７】
前記コンポーネントはレンズ（６）として成形されている、請求項１から５のいずれか１項記載の光学コンポーネント。
【請求項８】
前記樹脂成形材料には、シリコーン樹脂と、エポキシ樹脂と、シリコーン基および／またはエポキシ基を有する複合樹脂とを含有するグループから選択される材料が含まれている、請求項１から７のいずれか１項記載の光学コンポーネント。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項記載の光学コンポーネントの製造方法において、
Ａ）樹脂成形材料を準備するステップと、
Ｂ）前記樹脂成形材料を成形して光学コンポーネントを形成するステップと、
Ｃ）前記光学コンポーネント上に前記樹脂成形材料の付着を低減する表面層（３ａ，６ａ）を形成するステップ
とを含んでいることを特徴とする、
製造方法。
【請求項１０】
ステップＢ）において、前記樹脂成形材料はレンズ（６）または注型材料（３）として成形される、請求項９記載の製造方法。
【請求項１１】
ステップＣ）において、付着を低減する前記表面層（３ａ，６ａ）を形成するために前記樹脂成形材料の表面層は化学修飾される、請求項９または１０項記載の製造方法。
【請求項１２】
ステップＣ）において、前記表面層（３ａ，６ａ）を化学修飾するために前記樹脂成形材料はフッ素含有化合物を含むプラズマにさらされる、請求項９から１１のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１３】
放射を放出または放射を受容する半導体積層体と、放出または受容される放射の放射路にある請求項１から８のいずれか１項記載の光学コンポーネントとが設けられていることを特徴とする、
光電子素子。
【請求項１４】
前記光学コンポーネントは、レンズ（６）として成形されている、請求項１３記載の光電子素子。
【請求項１５】
前記光学コンポーネントは、注型材料（３）として成形されている、請求項１３記載の光電子素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
注型材料またはレンズとしてコンポーネントを成形することができる。それ故に、このコンポーネントは例えば光電子素子内の光学コンポーネントとして使用されるのに適している。このコンポーネントが注型材料として成形されている場合には、例えば半導体積層体用の注型材料としてコンポーネントを使用することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
さらに本発明は、放射を放出するまたは放射を受容する半導体積層体と、上述の特性を備えた光学コンポーネントとが設けられている光電子素子にも関する。この場合、光学コンポーネントは放出または受容される放射の放射路に配置されている。光電子素子は、レンズとして成形されている光学コンポーネントを含むことができる。さらにこの光電子素子は、注型材料として成形されている光学コンポーネントも含むことができる。この光電子素子は半導体積層体を含むことができ、この場合、注型材料によって半導体積層体が封入されている。この半導体積層体は、例えば発光ダイオード（ＬＥＤ）であってもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図１ａには、光電子素子の概略側面図が示されている。この光電子素子には、半導体積層体１が設けられており、これは例えばＬＥＤであってもよく、直接でもボンディングワイヤ２を介してでもその都度導電ストリップ４と電子的にコンタクトされている。半導体積層体並びにボンディングワイヤは、ケーシング５内にある注型材料３に囲まれている。ケーシング５には斜めにされた側面を設けることができ、この側面は、送出される放射の反射の改善に役立つ。注型材料３は、エポキシ樹脂と、シリコーン樹脂と、シリコーン基および／またはエポキシ基を有する複合樹脂とを含有する樹脂成形材料から成形することができ、例えばフッ素含有化合物を含むプラズマで処理されている。これによって、注型材料３には、例えば塵埃粒子のような汚染物質に対して付着を低減する表面層３ａが含まれている。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月8日(2011.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連結装置であって、前記連結装置は、
支持構造体のスロット付受口と前記連結装置とをスライド係合するためのスロット係合部分と、前記スロット係合部分と一体的に形成されたカメラ係合部分とを備え、前記カメラ係合部分はカメラとの前記連結装置の固定された取り付けを許すように形成され、
前記連結装置は、これによって前記カメラが前記カメラ係合部分に取り付けられた時且つ支持構造体の前記スロット係合部材の端部が前記スロット付受口と係合した時に、前記支持構造体に対する前記カメラの回転を可能とするように構成されることを特徴とする連結装置。
【請求項２】
前記支持構造体をさらに備える請求項１記載の連結装置であって、
前記支持構造体がクリップを含み、該クリップは、
前記スロット付受口を定義する第１側面と、
前記クリップを着用者のベルトへと取付けることを可能にする第２側面とを備えることを特徴とする請求項１記載の連結装置。
【請求項３】
前記支持構造体がホルスターを備え、該ホルスターは、
前記スロット付受口を定義する正面本体部分において開口部を有するホルスター本体部と、
取付クリップを支持するためのホルスター背面本体部分と、
前記ホルスターを着用者のベルトに取り付けるための前記取付クリップとを含むことを特徴とする請求項１記載の連結装置。
【請求項４】
前記スロット係合部分が一端に形成されたノブを有するピンを含み、該ノブがスライド挿入及び前記スロット付受口からの除去のために形成されることを特徴とする請求項１記載の連結装置。
【請求項５】
カメラ支持組立体であって、
前記カメラ支持組立体はホルスターを備え、前記ホルスターがスロット付受口により特徴づけられたチャネルを形成する本体部分と、カメラ操作者との前記本体部分の着用を許すために、前記本体部分から延びるクリップ部分とを備え、
前記カメラ支持組立体は連結ピースを備え、前記連結ピースが前記ホルスターの前記スロット付受口と係合するためのスロット係合部分と、カメラと前記連結ピースとを固定するためのカメラ係合部分とを備え、
前記連結ピースは、前記カメラがカメラ係合部分に固定された時且つ前記係合部分が前記ホルスターのスロット付受口と係合された時に、前記カメラを前記ホルスターに対して回転可能とするように構成されることを特徴とするカメラ支持組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月16日(2010.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポインティング装置において、
マークをモニタ画面に出力するマーク出力部と、
前記マークを撮影するカメラと、
前記カメラによって撮影された映像を映像処理してマークを認識し、ポインティング座標を算出する映像処理部と、を含むことを特徴とするカメラとマーク出力とによるポインティング装置。
【請求項２】
前記マークは、画面に出力されるポインティングカーソルアイコンであり、
前記映像処理部は、カメラで撮影した映像から前記マークを認識し、マークが撮影された映像の中心から外れた方向と距離とを出力し、
前記マーク出力部は、映像処理部から出力されたマークが映像の中心から外れた方向と反対方向に当該マークを移動させて、モニタ画面に出力するとともに、そのマークの移動距離は当該マークが映像の中心から外れた距離に比例するようにしていることを特徴とする請求項１に記載のカメラとマーク出力とによるポインティング装置。
【請求項３】
前記映像処理部は、マークの回転方向を検出し、カメラのマークに対する回転角度を算出して出力することを特徴とする請求項２に記載のカメラとマーク出力とによるポインティング装置。
【請求項４】
前記映像処理部は、マークのサイズを検出し、カメラとマークとの距離を算出して出力することを特徴とする請求項２に記載のカメラとマーク出力とによるポインティング装置。
【請求項５】
前記映像処理部は、マークのゆがんだ形態を検出し、カメラとマークとの方向を算出して出力することを特徴とする請求項２に記載のカメラとマーク出力とによるポインティング装置。
【請求項６】
前記マークは、モニタ画面に出力中である画面全体映像であり、
前記マーク出力部は、モニタ画面に出力中である画面全体映像を映像処理部に伝達するモニタ映像伝達部を含み、
前記映像処理部は、撮影された映像から、前記モニタ映像伝達部から受信した画面全体映像に対応する部分を検出し、その対応する部分の位置から、ポインティング座標値を算出することを特徴とする請求項１に記載のカメラとマーク出力とによるポインティング装置。
【請求項７】
前記マーク出力部は、空白映像のフレームと正常映像のフレームとを続けて反復して出力し、
前記映像処理部は、以前フレームを撮影した映像と現在フレームを撮影した映像との差分映像を求め、差分映像の画素値が０ではない領域を検出することによってモニタ画面領域を認識し、ポインティング座標を算出することを特徴とする請求項６に記載のカメラとマーク出力とによるポインティング装置。
【請求項８】
前記マーク出力部は、
マーク映像と正常映像とを続けて反復して出力し、
前記映像処理部は、マーク映像を撮影した映像からマークを認識し、前記マークの位置によって決定されるポインティング座標を算出することを特徴とする請求項１に記載のカメラとマーク出力とによるポインティング装置。
【請求項９】
前記マーク出力部は、
マーク映像、マーク映像を白黒反転または補色反転した映像、及び正常映像を続けて反復して出力し、
前記映像処理部は、マーク映像を撮影した映像からマークを認識し、前記マークの位置によって決定されるポインティング座標を算出することを特徴とする請求項１に記載のカメラとマーク出力とによるポインティング装置。
【請求項１０】
前記マーク映像は、二次元ｘｙ座標値を表すパターンが、二次元マトリックス状に配列された映像であることを特徴とする請求項８または請求項９に記載のカメラとマーク出力とによるポインティング装置。
【請求項１１】
モニタ画面に出力されているマークを撮影した映像を映像処理して前記マークを認識し、認識されたマークのポインティング座標値を算出する映像処理部を含むことを特徴とするポインティング装置。
【請求項１２】
前記マークは、モニタ画面に出力されるポインティングカーソルアイコンであることを特徴とする請求項１１に記載のポインティング装置。
【請求項１３】
前記マークは、モニタ画面に出力中である画面全体映像であり、
前記映像処理部は、前記モニタ画面に出力中である画面全体映像を受信し、撮影された映像から、前記モニタ画面に出力中である画面全体映像に対応する部分を検出し、前記検出された部分の位置によって、その対応する部分のポインティング座標値を算出することを特徴とする請求項１１に記載のポインティング装置。
【請求項１４】
マークをモニタ画面に出力する段階と、
前記モニタ画面に出力されているマークを撮影する段階と、
前記撮影されたマークの映像を映像処理して前記マークを認識し、認識されたマークからポインティング座標値を算出する段階とを含むことを特徴とするポインティング方法。
【請求項１５】
マークをモニタ画面に出力する段階と、
前記モニタ画面に出力されているマークを撮影する段階と、
前記撮影されたマークの映像を映像処理して前記マークを認識し、認識されたマークからポインティング座標値を算出する段階とを含むポインティング方法を実行するためのプログラムが記録されたコンピュータで読み取り可能な記録媒体。
【請求項１６】
モニタ画面に出力されているマークを撮影した映像を映像処理して前記マークを認識し、認識されたマークからポインティング座標値を算出する段階を含み、
前記マークは、モニタ画面に出力されるポインティングカーソルアイコンであり、
前記ポインティング座標値を算出する段階は、撮影された映像の中心からポインティングカーソルアイコンが外れた方向と距離とを検出し、検出された距離に比例して、前記検出された方向と反対方向にポインティングカーソルアイコンを移動させる段階を含むことを特徴とするポインティング方法を実行するためのプログラムが記録されたコンピュータで読み取り可能な記録媒体。
【請求項１７】
モニタ画面に出力されているマークを撮影した映像を映像処理して前記マークを認識し、認識されたマークからポインティング座標値を算出する段階を含み、
前記マークは、モニタ画面に出力中である画面全体映像であり、
前記ポインティング座標値を算出する段階は、前記モニタ画面に出力中である画面全体映像を受信し、前記撮影された映像から、前記モニタ画面に出力中である画面全体映像に対応する部分を検出し、前記検出された部分の位置によって、前記対応する部分のポインティング座標値を算出する段階を含むことを特徴とするポインティング方法を実行するためのプログラムが記録されたコンピュータで読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月10日(2011.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】完全に不定値許容性であって非常に高スキャン圧縮なスキャンテストシステム及び技術
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月13日(2011.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の耐荷重部材及び第２の耐荷重部材から成る耐荷重アセンブリを備える負荷インジケータであって、前記第１の耐荷重部材に加えられる横方向負荷を支持すべく前記第１及び第２の耐荷重部材が互いに接続される負荷インジケータにおいて、
前記第１の耐荷重部材は、指標負荷を上回った際に該第１の耐荷重部材が脆くなるように、前記第２の耐荷重部材と共にキャビティを形成し、
前記キャビティは、前記第１の耐荷重部材が前記負荷によって破断された際に前記キャビティから漏れる流動性指標を収容し、
前記第１の耐荷重部材が、管状であるとともに、その内部に前記第２の耐荷重部材を受け、もって、前記第１及び第２の耐荷重部材が、両端でランドを介して係合し、中央領域で離間されて前記キャビティを形成する、負荷インジケータ。
【請求項２】
前記第１の耐荷重部材の一部は厚みが減少されており、もって、当該部分が脆くなると共に、前記キャビティを形成するようになっている、請求項１に記載の負荷インジケータ。
【請求項３】
前記第１及び第２の耐荷重部材が同軸に配置された円筒部材を備える、請求項２に記載の負荷インジケータ。
【請求項４】
前記キャビティが、前記第２の耐荷重部材内に内容積を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の負荷インジケータ。
【請求項５】
２つの部品を接続すると耐荷重ピンであり、前記２つの部品間に加えられる負荷を支持するための耐荷重ピンとして構成される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の負荷インジケータ。
【請求項６】
前記流動性指標が指標液体である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の負荷インジケータ。
【請求項７】
２つの部品と、請求項２〜５のいずれか一項に記載の耐荷重ピンとして構成される負荷インジケータとから成るアセンブリであって、
前記ピンが、ランドと整列された状態で前記部品の一方における一対のラグと係合するとともに、前記２つのラグ間に位置する前記部品の他方のものにおけるラグと係合し、もって、前記２つの部品に圧縮負荷又は引張負荷がかけられるときに横方向負荷を受けるようになっている、アセンブリ。
【請求項８】
前記２つの部品が航空機のランディングギアの部品を備える、請求項７に記載のアセンブリ。
【請求項９】
前記２つの部品が、サイドステイ、関節結合部又は曳航接続部の部材を備える、請求項８に記載のアセンブリ。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の負荷インジケータを使用して航空機のハードランディングを検出する方法。
【請求項１１】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の負荷インジケータを使用して航空機を曳航する際の過負荷力を検出する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月27日(2011.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ処理システムであって、
複数の汎用レジスタと、
１つ以上の命令を実行するためのプロセッサ回路と
を備え、前記１つ以上の命令は、少なくとも２つの内積を同時に実行するためのベクトル内積命令を含み、前記ベクトル内積命令は、前記複数の汎用レジスタから第１のソースレジスタと第２のソースレジスタとを特定し、前記第１のソースレジスタと前記第２のソースレジスタとの各々は、複数のベクトル要素を格納するためのものであり、
前記少なくとも２つの内積のうちの第１の内積は、前記第１のソースレジスタのベクトル要素の第１のサブセットと、前記第２のソースレジスタのベクトル要素の第１のサブセットとの間で実行され、
前記少なくとも２つの内積のうちの第２の内積は、前記第１のソースレジスタのベクトル要素の第２のサブセットと、前記第２のソースレジスタのベクトル要素の第２のサブセットとの間で実行され、
前記第２のソースレジスタの前記第１および第２のサブセットは異なっており、
前記第２のソースレジスタの前記第１および第２のサブセットの少なくとも２つのベクトル要素が重複している、データ処理システム。
【請求項２】
前記第１のソースレジスタの前記第１および第２のサブセットが同じサブセットである、請求項１に記載のデータ処理システム。
【請求項３】
前記ベクトル内積命令は、前記第１のソースレジスタのどのベクトル要素を前記第１のソースレジスタのベクトル要素の第１のサブセットに含ませるべきかを少なくとも示すために使用するオフセットをさらに示す、請求項１に記載のデータ処理システム。
【請求項４】
複数の汎用レジスタと、
１つ以上の命令を実行するためのプロセッサ回路と
を備え、前記１つ以上の命令は、少なくとも２つの内積を同時に実行するためのベクトル内積命令を含み、前記ベクトル内積命令は、前記複数の汎用レジスタから第１のソースレジスタと第２のソースレジスタとを特定し、前記第１のソースレジスタと前記第２のソースレジスタとの各々は、複数のベクトル要素を格納するためのものであり、
前記少なくとも２つの内積のうちの第１の内積は、前記第１のソースレジスタの５つのベクトル要素の第１のサブセットと、前記第２のソースレジスタの５つのベクトル要素の第１のサブセットとの間で実行され、
前記少なくとも２つの内積のうちの第２の内積は、前記第１のソースレジスタの５つのベクトル要素の第２のサブセットと、前記第２のソースレジスタの５つのベクトル要素の第２のサブセットとの間で実行され、
前記第２のソースレジスタの前記第１および第２のサブセットの４つのベクトル要素が重複している、データ処理システム。
【請求項５】
同時内積演算を実行するための方法であって、
複数の汎用レジスタを提供すること、
１つ以上の命令を実行するためのプロセッサ回路を提供すること
を備え、前記１つ以上の命令は、少なくとも２つの内積を同時に実行するためのベクトル内積命令を含み、前記ベクトル内積命令は、前記複数の汎用レジスタから第１のソースレジスタと第２のソースレジスタとを特定し、前記第１のソースレジスタと前記第２のソースレジスタとの各々は、複数のベクトル要素を格納するためのものであり、
前記少なくとも２つの内積のうちの第１の内積は、前記第１のソースレジスタのベクトル要素の第１のサブセットと、前記第２のソースレジスタのベクトル要素の第１のサブセットとの間で実行され、
前記少なくとも２つの内積のうちの第２の内積は、前記第１のソースレジスタのベクトル要素の第２のサブセットと、前記第２のソースレジスタのベクトル要素の第２のサブセットとの間で実行され、
前記第２のソースレジスタの前記第１および第２のサブセットは異なっており、
前記第２のソースレジスタの前記第１および第２のサブセットの少なくとも２つのベクトル要素が重複している、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月12日(2011.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル画像を操作するためのユーザインタフェースシステムであって、
少なくとも一つのデジタル画像をディスプレイするように構成されたディスプレイを含み、
上記少なくとも一つのデジタル画像は、前側と、ユーザにディスプレイ可能な少なくとも一つの反対側を有し、前側と、反対側の各々は、少なくとも一つの検出部分を有し、
上記検出部分は、ユーザにより操作リクエストを検出し、該操作リクエストが検出されると、ディスプレイされている側が視界から回転して少なくとも一つの反対側がディスプレイされるルーティンを開始するように構成されている
ユーザインタフェースシステム。
【請求項２】
上記検出部分は、上記前面と上記反対側の各々のうちの一つの規定された部分である
請求項１に記載のユーザインタフェースシステム。
【請求項３】
操作リクエストがルーティンの実行の間にユーザに維持される場合のみ、回転が維持される
請求項１又は２に記載のユーザインタフェースシステム。
【請求項４】
ルーティンがルーティンの実行の間にユーザにフィードバックを与える
請求項１乃至３のうちのいずれか一に記載のユーザインタフェースシステム。
【請求項５】
フィードバックが画像の回転のアニメーションである
請求項４に記載のユーザインタフェースシステム。
【請求項６】
アニメーションが、表面に直交する軸に関して、画像の回転を描く
請求項５に記載のユーザインタフェースシステム。
【請求項７】
操作リクエストが、ユーザインタフェースシステムにインプットされる、手のジェスチャ、及び、スタイラス、ペン、若しくは電子周辺機器の動作のうちの、一つ若しくはそれ以上のものを含むユーザインプットを含む
請求項１乃至６のうちのいずれか一に記載のユーザインタフェースシステム。
【請求項８】
操作リクエストが、ユーザにより実施される回転動作である
請求項７に記載のユーザインタフェースシステム。
【請求項９】
上記反対側の各々はデジタルオブジェクトの表現をディスプレイできる
請求項１乃至８のうちのいずれか一に記載のユーザインタフェースシステム。
【請求項１０】
デジタルオブジェクトがオーディオファイルである
請求項９に記載のユーザインタフェースシステム。
【請求項１１】
上記表現がデジタルオブジェクトと関連するアイコンである
請求項１０に記載のユーザインタフェースシステム。
【請求項１２】
デジタル画像を操作するための方法であって、
ディスプレイ上に少なくとも一つのデジタル画像をディスプレイするステップ、
上記少なくとも一つのデジタル画像に、前側と、少なくとも一つの反対側を備えさせるステップ、
上記ディスプレイ上に上記前面をディスプレイするステップ、
上記前側と、上記反対側の各々に、少なくとも一つの検出部分を配置するステップ、
上記検出部分を用いてユーザにより操作リクエストを検出するステップ、及び、
リクエストが検出されると、ディスプレイされている側が視界から回転して少なくとも一つの反対側がディスプレイされるルーティンを開始するステップ
を含む方法。
【請求項１３】
上記検出部分は、上記画面に関して、上記前面と上記反対側の各々のうちの一つの規定された部分である
請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
操作リクエストがルーティンの実行の間にユーザに維持される場合のみ、回転が維持される
請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
ルーティンによりルーティンの実行の間にユーザにフィードバックが与えられる
請求項１２又は１４に記載の方法。
【請求項１６】
フィードバックが画像の回転のアニメーションである
請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
アニメーションが、表面に直交する軸に関して、画像の回転を描く
請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
操作リクエストが、一つ若しくはそれ以上の手のジェスチャを含むユーザのインプット、及び、ユーザインタフェースシステムに対するスタイラス、ペン、若しくは電子周辺インプットの動作を含む
請求項１２乃至１７のうちのいずれか一に記載の方法。
【請求項１９】
操作リクエストが、ユーザインプットにより実施される回転動作により開始される
請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
上記反対側の各々はデジタルオブジェクトの表現をディスプレイできる
請求項１２乃至１９のうちのいずれか一に記載の方法。
【請求項２１】
デジタルオブジェクトがオーディオファイルである
請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
デジタルオブジェクトが画像ファイルである
請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
上記表現がデジタルオブジェクトと関連するアイコンである
請求項２１又は２２に記載の方法。
【請求項２４】
請求項１乃至１１のうちのいずれか一に記載のユーザインタフェースシステムを実装するコンピュータユニットを含む
デジタル画像を操作するためのシステム。
【請求項２５】
請求項１乃至１１のうちのいずれか一に係る方法を実装するコンピュータシステムを制御するための少なくとも一つの命令を含む
コンピュータプログラム。
【請求項２６】
請求項１２乃至２３のうちのいずれか一に記載の方法を実装するコンピュータシステムを制御するための少なくとも一つの命令を含む
コンピュータプログラム。
【請求項２７】
請求項２５に係るコンピュータプログラムを格納するコンピュータ読み取る可能媒体。
【請求項２８】
請求項２６に係るコンピュータプログラムを格納するコンピュータ読み取る可能媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月14日(2011.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程を有する、処理又は改良されたポリマーの製造方法：
（Ｉ）液体、添加剤及びポリマーを含む混合液であって、前記添加剤が前記液体中に分散している混合液を用意する工程；及び
（ＩＩ）前記添加剤を該ポリマーに接着させるために、前記工程（Ｉ）で得られた混合液を加熱して前記ポリマーの表面を軟化させる工程。
【請求項２】
前記ポリマーが粉末又はペレットの形状であることを特徴とする、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記添加剤が、前記液体に不溶性であり、且つ、好ましくはカーボンブラック、グラファイト、膨張黒鉛、酸化黒鉛、炭素短繊維、ホウ素繊維、カーボンナノチューブ、金属粒子、ＴｉＯ2、ＭｇＯ2、ガラス短繊維、無機充填剤、セラミック粒子若しくは繊維、天然のモンモリロナイト、粘土、及びこれらの組み合わせから選択されることを特徴とする、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記添加剤が、フォトクロミック添加剤、ＵＶ劣化防止添加剤、又は導電性添加剤であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項５】
前記液体が、水、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びクロロホルムから選択されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記液体における前記添加剤の分散が、超音波分散を用いて行われることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記ポリマーが、ナイロン、ポリエチレン、ポリビニルクロリド、ポリカプロラクトン、ポリメチルメタクリレート、スチレン−ビニルアセタートジブロックコポリマー、ポリプロピレン及びこれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記ポリマーと前記添加剤の質量割合が、約８５：１５〜約９９：１（ポリマー：添加剤）であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記工程（ＩＩ）において、前記混合液が前記ポリマーの融点よりも約０．１〜約１０℃低い温度に加熱されることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記工程（ＩＩ）が約２分〜約６０分間行われることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記工程（ＩＩ）の後に、前記混合液を冷却する工程を更に有することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法により得られる、改良ポリマー。
【請求項１３】
前記添加剤が好ましくはカーボンブラック、カーボンナノチューブ又は膨張黒鉛を含む、導電性又は半導体性の請求項１２に記載のポリマー。
【請求項１４】
ポリエチレン、ポリビニルクロリド又はナイロンを含むことを特徴とする、請求項１２又は１３に記載のポリマー。
【請求項１５】
ＵＶ劣化防止添加剤を含み、且つ好ましくは二酸化チタン及びポリビニルクロリドのうち少なくとも１つを含むことを特徴とする、請求項１２に記載のポリマー。
【請求項１６】
可逆性フォトクロミック添加剤を含み、且つ好ましくはポリメチルメタクリレート又はポリカプロラクトンを含むことを特徴とする、請求項１２に記載のポリマー。
【請求項１７】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法により得られるポリマーを含む製品。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月9日(2011.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナフテン酸腐食抑制に対する新規添加剤であって、
腐食抑制量のオレフィンリン硫黄化合物Ａと、化合物Ｂ及び化合物Ｃを含めた腐食抑制量のチオリン酸硫黄化合物のうちどれか１つとの化学混合物を含み、
前記オレフィンリン硫黄化合物Ａは、触媒作用量の硫黄の存在下で前記オレフィンを五硫化リンと反応させることによって生成され、前記オレフィン対前記五硫化リンのモル比が１：０．０５から１：１．５、好ましくは１：１で反応混合物を巧みに形成し、
前記化合物Ｂが、化学式４のチオリン酸エステル等のチオリン酸化合物であり、
【化４】
2010539278.tif 000001
式中、Ｘは、独立して硫黄又は酸素であり、少なくとも１つのＸは硫黄であり、Ｒ１及びＲ２は、水素又は５から１８個の炭素原子を有した炭化水素であり、モノ、ジ、その混合物を含み、
【化５】
2010539278.tif 000002
化学式５の前記化合物Ｃは、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、及び、ブチレンオキシドからなる群から選択されるオキシドと前記化合物Ｂを反応させることによって得られ、化学式５は、前記化合物Ｂと前記エチレンオキシドとの反応後に得られた結果として生じる化合物Ｃを含み、モノ、ジ、その混合物を含む、新規添加剤。
【請求項２】
前記オレフィンは高反応性又は正常なポリイソブチレンである、請求項１に記載の新規添加剤。
【請求項３】
前記ポリイソブチレンリン硫黄化合物は、窒素ガスパージの下、反応の間に形成されるＨ２Ｓガスを取り除きながら、ポリイソブチレンと、五硫化リンと、硫黄パウダーとの前記反応混合物を撹拌し、さらに、約１６０℃の温度まで加熱し、前記反応混合物を約１時間から約２時間約１６０℃から約１８０℃に維持し、前記反応混合物の温度を約１８５℃から約２５０℃、好ましくは、約１９０℃から約２３０℃、より好ましくは、約２１０℃から約２２５℃まで上げ、約１から約２４時間、好ましくは、約６から約１０時間、上げられた温度で前記反応混合物を維持し、前記反応量を１００℃まで冷却し、窒素ガスを反応容器内にパージして硫化水素ガスを追い出して、その結果、前記組成物を生じることによって得られる、請求項１又は２に記載の新規添加剤。
【請求項４】
前記オレフィンは１０から１０００個の炭素原子を有する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の新規添加剤。
【請求項５】
前記オレフィンは２００から１００００の分子量を有する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の新規添加剤。
【請求項６】
前記オレフィンは約９５０から約１３００の分子量を有する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の新規添加剤。
【請求項７】
高温ナフテン酸腐食抑制のために原油に添加されるべきである前記化合物Ａと前記化合物Ｂとの前記混合物の量は、約１ｐｐｍから約５０００ｐｐｍ、好ましくは、約１ｐｐｍから約３００ｐｐｍである、請求項１に記載の新規添加剤。
【請求項８】
重量による前記化合物Ａ対前記化合物Ｂの比は、約１：１から約４：１である、請求項７に記載の新規添加剤。
【請求項９】
高温ナフテン酸腐食抑制のために原油に添加されるべきである前記化合物Ａと前記化合物Ｃとの前記混合物の量は、約１ｐｐｍから約５０００ｐｐｍ、好ましくは、約１ｐｐｍから約３００ｐｐｍである、請求項１に記載の新規添加剤。
【請求項１０】
重量による前記化合物Ａ対前記化合物Ｃの比は、約１：１から約４：１である、請求項９に記載の新規添加剤。
【請求項１１】
炭化水素処理装置のうちいずれかの金属表面におけるナフテン酸腐食抑制及び／又は硫黄腐食抑制の方法であって、前記処理装置は、蒸留コラム、蒸留塔、トレイ、ポンプ周辺の導管、及び関連機器を含み、前記２つの化合物Ａ及びＢの混合物、並びに、請求項１に記載の前記２つの化合物Ａ及びＣの混合物を含む群から選択される抑制剤組合せ化合物も使用し、当該方法は：
（ａ）ナフテン酸及び／又は硫黄化合物を含有した炭化水素を加熱して前記炭化水素の一部を蒸発させるステップ；
（ｂ）前記炭化水素の蒸気の一部を濃縮し、前記炭化水素処理装置を通過させて濃縮した蒸留物を生成するステップ；
（ｃ）前記濃縮した蒸留物が前記炭化水素処理装置に戻るか、又は、生成物として回収される前に、約１ｐｐｍから約５０００ｐｐｍ、好ましくは、約１ｐｐｍから３００ｐｐｍの前記抑制剤組合せ化合物を前記蒸留物に添加するステップであり、重量による前記化合物Ａ対前記化合物Ｂの比は、約１：１から約４：１であり、前記化合物Ａ対前記化合物Ｃの比は、約１：１から約４：１である、ステップ；
（ｄ）前記抑制剤組合せ化合物を含有した前記濃縮した蒸留物が、前記炭化水素処理装置の前記金属表面に接触して前記表面上に保護膜を形成し、それによって、各表面が腐食を阻止するのを可能にするステップ；並びに
（ｅ）前記濃縮した蒸留物が前記炭化水素処理装置に戻るか、又は、前記生成物として回収されるのを可能にするステップ；
を含む、方法。
【請求項１２】
前記オレフィンは高反応性又は正常なポリイソブチレンである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ポリイソブチレンリン硫黄化合物は、窒素ガスパージの下、反応の間に形成されるＨ２Ｓガスを取り除きながら、ポリイソブチレンと、五硫化リンと、硫黄パウダーとの前記反応混合物を撹拌し、さらに、約１６０℃の温度まで加熱し、前記反応混合物を約１時間から約２時間約１６０℃から約１８０℃に維持し、前記反応混合物の温度を約２２０℃から、好ましくは、約１９０℃から約２３０℃、より好ましくは、約２１０℃から約２２５℃まで上げ、約１から約２４時間、好ましくは、約６から約１０時間、上げられた温度で前記反応混合物を維持し、前記反応量を１００℃まで冷却し、窒素ガスを反応容器内にパージして硫化水素ガスを追い出して、その結果、前記組成物を生じることによって得られる、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月31日(2011.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３６】
【化１１】
2010539236.tif 000001
ＡｃｔＲＩＩａ−ｈＦｃおよびＡｃｔＲＩＩａ−ｍＦｃはどちらも、組換え発現を著しく受けやすい。図１に示すように、タンパク質は、タンパク質の単一の明確なピークとして精製された。Ｎ末端配列決定によって、-ＩＬＧＲＳＥＴＱＥ（配列番号１１）の単一配列が明らかになった。精製は、例えば、次のもの：タンパク質Ａクロマトグラフィー、Ｑセファロースクロマトグラフィー、フェニルセファロースクロマトグラフィー、サイズ排除クロマトグラフィー、およびカチオン交換クロマトグラフィーの３個以上を任意の順序で含む、一連のカラムクロマトグラフィーステップによって達成できる。精製はウイルス濾過および緩衝液交換によって完了できる。ＡｃｔＲＩＩａ−ｈＦｃタンパク質は、サイズ排除クロマトグラフィーによって決定されたように＞９８％の、およびＳＤＳ  ＰＡＧＥによって決定されたように９５％の純度まで精製した。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月2日(2011.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2010539237.tif 000001
の化合物の塩（ここで、塩は、臭化水素酸塩、ベシル酸塩、エシル酸塩、エジシル酸塩、メシル酸塩、ナプシル酸塩、硫酸塩及びトシル酸塩からなる群から選択される。）を含む固形。
【請求項２】
溶媒を更に含む、請求項１記載の固形。
【請求項３】
水を更に含む、請求項１記載の固形。
【請求項４】
式（Ｉ）：
【化２】
2010539237.tif 000002
の化合物のビス−ＨＣｌ塩を含む固形。
【請求項５】
溶媒を更に含む、請求項４記載の固形。
【請求項６】
水を更に含む、請求項４記載の固形。
【請求項７】
実質的に溶媒を含まない、請求項４記載の固形。
【請求項８】
実質的に水を含まない、請求項４記載の固形。
【請求項９】
無水物である、請求項４記載の固形。
【請求項１０】
式（Ｉ）の化合物のビス−ＨＣｌ塩のＢ体結晶形態である、請求項４記載の固形。
【請求項１１】
銅−Ｋａ線を用いて分析した場合に、およそ６．９８、１０．７、２０．８２及び２７．６°２θでのピークを含むＸＲＰＤパターンを有する、請求項４記載の固形。
【請求項１２】
銅−Ｋａ線を用いて分析した場合に、およそ１５．７８、１８．４８、２２．６２及び２７．０８°２θでのピークを更に含む、ＸＲＰＤパターンを有する、請求項１１記載の固形。
【請求項１３】
銅−Ｋａ線を用いて分析した場合に、およそ１３．０４、１８．８、２４．３８及び２６．１６°２θでのピークを更に含む、ＸＲＰＤパターンを有する、請求項１２記載の固形。
【請求項１４】
図１３ａで示されるＸＲＰＤパターンと一致するＸＲＰＤパターンを有する、請求項４記載の固形。
【請求項１５】
図１３ｂで示されるＸＲＰＤパターンと一致するＸＲＰＤパターンを有する、請求項４記載の固形。
【請求項１６】
開始温度およそ２６０℃での吸熱現象を含むＤＳＣサーモグラムを有する、請求項４記載の固形。
【請求項１７】
下記の概算の単位格子パラメーター：ａ＝１５．６０８９Å、ｂ＝１１．９４４３Å、ｃ＝１６．９４４８Å、β＝１０１．２４９°、Ｖ＝３０９８．５Å３及びＺ＝４と一致する単位格子パラメーターを有する、請求項４記載の固形。
【請求項１８】
約７５％ＲＨ、およそ外気温で、物理的に安定である、請求項４記載の固形。
【請求項１９】
実質的に純粋である、請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０のいずれか一項に記載の固形。
【請求項２０】
化学的な不純物が実質的に含まれない、請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０のいずれか一項に記載の固形。
【請求項２１】
物理的な不純物が実質的に含まれない、請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０のいずれか一項に記載の固形。
【請求項２２】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０のいずれか一項に記載の固形を含む、医薬組成物。
【請求項２３】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０のいずれか一項に記載の固形を含む、上皮性悪性腫瘍、非上皮性悪性腫瘍、白血病、骨髄腫、炎症性疾患又は感染性疾患の治療のための医薬組成物。
【請求項２４】
下記式：
【化３】
2010539237.tif 000003
の化合物又はその医薬上許容される塩を含む、アモルファス形態。
【請求項２５】
下記式：
【化４】
2010539237.tif 000004
の化合物を含む結晶形態であって；
ａ．ＨＣｌ塩のＡ体；
ｂ．ＨＣｌ塩のＢ体；
ｃ．ＨＣｌ塩のＣ体；
ｄ．ＨＣｌ塩のＤ体；
ｅ．ＨＣｌ塩のＥ体；
ｆ．ＨＣｌ塩のＦ体；
ｇ．ＨＣｌ塩のＧ体；
ｈ．ＨＣｌ塩のＨ体；
ｉ．ＨＣｌ塩のＩ体；
ｊ．ＨＣｌ塩のＪ体；
ｋ．ＨＣｌ塩のＫ体；
ｌ．ＨＣｌ塩のＬ体；
ｍ．ＨＣｌ塩のＮ体；
ｎ．ＨＣｌ塩のＯ体；
ｏ．ＨＢｒ塩のＡ体；
ｐ．硫酸塩のＡ体；
ｑ．硫酸塩のＢ体；
ｒ．硫酸塩のＣ体；
ｓ．メシル酸塩のＡ体；
ｔ．メシル酸塩のＢ体；
ｕ．エシル酸塩のＡ体；
ｖ．エシル酸塩のＢ体；
ｗ．エシル酸塩のＣ体；
ｘ．エジシル酸塩のＡ体；
ｙ．べシル酸塩のＡ体；
ｚ．べシル酸塩のＢ体；
ａａ．トシル酸塩のＡ体；
ｂｂ．トシル酸塩のＢ体；
ｃｃ．トシル酸塩のＣ体；
ｄｄ．ナプシル酸塩のＡ体；及び
ｅｅ．ナプシル酸塩のＢ体
からなる群から選択される、結晶形態。
【請求項２６】
請求項２５記載の結晶形態を含む、医薬組成物。
【請求項２７】
請求項２５記載の結晶形態を含む、上皮性悪性腫瘍、非上皮性悪性腫瘍、白血病、骨髄腫、炎症性疾患又は感染性疾患の治療のための医薬組成物。