【事件の表示】
　特願２００３−　２８８０８「高低パターン層形成体の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　８月２６日出願公開、特開２００４−２４０１３６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１５年２月５日の出願であって、平成２１年４月１日付で拒絶査定がなされたものであり、これに対して同年７月６日に拒絶査定に対する審判請求が成されるとともに、同日付で手続補正がなされたものである。
　その後、当審における審尋に対して、平成２２年１０月１日に回答書が提出されたものである。
　
２．平成２１年７月６日付手続補正についての補正却下の決定
　
【補正却下の決定の結論】
　
　平成２１年７月６日付手続補正を却下する。
　
【理由】
２−１．補正内容　
　平成２１年７月６日付手続補正（以下、『本件補正』という。）は、補正前の明細書の特許請求の範囲の請求項１を
　
（１）「基板と、前記基板上に形成され、高さが異なるパターンが組み合わされてなる高低パターン層とを有し、前記高低パターン層がフォトリソグラフィー法により同一材料で同時に製造される高低パターン層形成体の製造方法であって、
　光硬化型樹脂組成物を前記基板上に塗布し、感光層を形成する感光層形成工程と、
　光の透過を遮る遮光層と、前記高低パターン層のパターンに沿って形成された開口部とを有し、顔料または染料から成る色材を含む感光性樹脂またはフィルムから構成され、２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するフィルターが、前記開口部の一部に配置されているマスクを用い、前記マスクを介して、前記感光層を露光する露光工程と、
　前記露光された感光層を現像することにより、前記マスクの開口部のうちフィルターが配置されている領域に該当する感光層が低部となる高低パターン層を形成する高低パターン層形成工程と、
を有することを特徴とする高低パターン層形成体の製造方法。」
　
を
　
（２）「基板と、前記基板上に形成され、高さが異なるパターンが組み合わされてなる高低パターン層とを有し、前記高低パターン層がフォトリソグラフィー法により同一材料で同時に製造される高低パターン層形成体の製造方法であって、
　光硬化型樹脂組成物を前記基板上に塗布し、感光層を形成する感光層形成工程と、
　光の透過を遮る遮光層と、前記高低パターン層のパターンに沿って形成された開口部とを有し、顔料または染料から成る色材を含む感光性樹脂またはフィルムから構成される
フィルターが
　
前記フィルターが２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するもののみであり
　前記マスクを介して、前記感光層を露光する露光工程と、
　前記露光された感光層を現像することにより、前記マスクの開口部のうちフィルターが配置されている領域に該当する感光層が低部となる高低パターン層を形成する高低パターン層形成工程と、
を有することを特徴とする高低パターン層形成体の製造方法。」
　
と補正しようとする補正事項が含まれている。（下線は補正箇所）
　
　本件補正は、補正前の請求項１記載の「２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するフィルター」を「
フィルターが
前記フィルターが２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するもののみ
　
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
２−２．引用例
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された，本願出願前に頒布された特開２００２−２３６３７１号公報（原査定の引用文献１。以下「引用例１」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　なお、以下の下線は当審にて付与した。
　
（１ａ）「【請求項１】
基板上に
互いに高さが異なる２種以上の層状パターンが組み合わされてなる凹凸パターン層をフォトリソグラフィ法により同時に製造する方法であって
（ａ）最表面にネガ型のフォトレジストが塗布された基板を準備する工程と
（ｂ）
該フォトレジストが塗布された表面に、所定の切り欠きパターンからなる複数の開口部を有するフォトマスクを介して、一定の露光量で露光する工程と
（ｃ）該露光後に、前記フォトマスクを、（ｂ）工程で露光した領域と、露光されるべき次の開口部とが部分的に重なるように、所定のスライド方向に平行移動する工程と、
（ｄ）前記（ｂ）および（ｃ）工程をこの順序でさらに複数回繰り返し、その結果、基板上に塗布されたフォトレジストに、露光回数がｎ回（ｎは２以上の整数）の部位、露光回数が（ｎ−１）回以下の部位、および所望により全く露光されない部位、を生じさせる工程と、
（ｅ）前記露光済の基板表面を現像液で現像処理して、前記露光回数に応じた膜厚を生じさせて、前記凹凸パターン層を得る工程と、
を含んでなる、製造方法。」
　
（１ｂ）「【００３０】これらアクリル基を有する成分のうち、比較的低分子量の多官能アクリル分子としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、テトラメチルペンタトリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）などが挙げられる。また、高分子量の多官能アクリル分子としては、スチレン−アクリル酸−ベンジルメタクリレート共重合体の一部のカルボン酸基部分に、スペーサーを介してアクリル基を導入したポリマー等が挙げられる。このような紫外線硬化型樹脂の好ましい例としては、カルボン酸基などの酸性基をもつアクリル系ネガ型レジストが挙げられ、形状安定性の点で、特開２０００−１７１８０４号公報の実施例１に記載される感光性樹脂がより好ましく例示される。これにより、ネガ型レジストを電極層上に塗布しておき、その後紫外線を照射するという、極めて簡便な操作により効率良く配向制御突起およびスペーサを形成できるので、生産性が高いという利点がある。」
　
（１ｃ）「【００９４】（ａ）基板の準備工程
本発明の製造方法においては、まず、最表面に、顔料などの色素を含んでなるネガ型のフォトレジストが塗布された基板を準備する。本発明においてフォトレジストが塗布される基板とは、カラーフィルタを製造する場合にあっては、透明な支持基板と、必要に応じて支持基板上にブラックマトリックスを有してなる基板である。そして、これらの基板上に、色素としての顔料を含んでなるネガ型のフォトレジストが、スピンコート法などの公知の手法により塗布される。
【００９５】本発明において用いるネガ型のフォトレジストは、特に限定されないが、アクリル系の紫外線硬化型樹脂を用いるのが
透過部と反射部の高さの差分を大きく得ることができ、高さ制御をしやすい点で好ましい
透過部と反射部を同一材料でかつ同時に形成することを可能としたものである
【００９６】（ｂ）露光工程
本発明の製造方法においては、（ａ）工程で得られたフォトレジストが塗布された表面に、前記反射部および透過部形成用の複数の第一開口部、および第一開口部よりも小さいサイズを有する透過部形成用の複数の第二開口部を有するフォトマスクを介して、一定の露光量で露光する。そして、その際の露光量を、透過部を形成させるために必要とされる露光量の１／ｎ（ｎは２以上の整数）であるが、前記ネガ型フォトレジストを完全に硬化させない程度の露光量とする。
【００９７】すなわち、本発明の製造方法においては、透過部の高さを反射部よりも高く設定する必要があるため、透過部を形成しようとする部分に、反射部を形成しようとする部分よりも多くの露光量を付与する必要がある。その一方、図１および図２に示されるようなフォトレジスト特性によれば、露光量が一定量Ｅを超えた範囲においては、レジストが完全に硬化してしまうため、露光量を変化させても現像後の高さが変化せず、結果として透過部および反射部の形成が困難になる。
【００９８】そこで、
１回の露光量を、透過部を形成させるために必要とされる露光量Ｅtotalのｎ分の１（すなわちＥtotal／ｎ）とし
先ずは反射部に必要量の露光量を付与し、透過部には必要量の１／ｎの露光量だけを付与する
透過部には、後述する（ｃ）および（ｄ）工程において、さらにＥtotal／ｎずつｎ−１回露光が施されることで、最終的に透過部の形成に必要とされる露光量Ｅtotalが付与されることになる
【００９９】本発明の好ましい態様によれば、
前記透過部を形成させるために必要とされる露光量を、ネガ型フォトレジストを完全に硬化させる程度の露光量とする
【０１００】また、上記ｎの値は、２以上の整数であれば特に限定されるものではないが、現像時において透過部と反射部とで、溶解速度が有意に異なるような値に設定することが、現像時間を短縮できる点で好ましい。その一方、溶解速度の差があまりにも大きすぎると、透過部と反射部とで高低差の誤差が大きくなる可能性がある。また、生産性の点から繰り返しの露光工程が増加するとタクトタイムの低下につながる。したがって、好ましいｎの値は２もしくは３である。
【０１０１】図２に示されるように、ネガ型のフォトレジストは、それぞれ固有な露光量と現像速度の関係を有している。本発明によれば、例えば、十分な露光量Ｅを透過部に照射した場合の、反射部の照射量を、Ｅ／２、Ｅ／３、Ｅ／４、…となるように、適宜ｎの値を設定することにより、現像時の溶解速度差を最適な値に調整することが可能である。
　そして、そのためには、反射部には１回分の露光量のみ、透過部にはｎ回分の露光量を付与するように、フォトマスクを設計する。そして、かかるフォトマスクを、（ｃ）平行移動工程および（ｄ）繰り返し工程と組み合わせつつ露光を行うことで、反射部（１回露光部分）の露光量と、透過部（ｎ回露光部分）の露光量格差を大きくすることができる。それによって、現像時の溶解速度差を適宜調整し、最終的に（ｅ）現像工程において、透過部および反射部をそれぞれ目的とする高さ、すなわち透過部を反射部の約２倍の高さに形成させることができる。」
　
（１ｄ）「【図１】
」
　
（１ｅ）「【図２】
」
　
　以上の事項から、引用例１には以下の発明（以下「引用例発明」という。）が記載されていると認められる。
「基板上に、互いに高さが異なる２種以上の層状パターンが組み合わされてなる凹凸パターン層をフォトリソグラフィ法により同一材料でかつ同時に製造する方法であって、
（ａ）最表面にネガ型のフォトレジストが塗布された基板を準備する工程と、
（ｂ）該フォトレジストが塗布された表面に、所定の切り欠きパターンからなる複数の開口部を有するフォトマスクを介して、一定の露光量で露光する工程と、
（ｃ）該露光後に、前記フォトマスクを、（ｂ）工程で露光した領域と、露光されるべき次の開口部とが部分的に重なるように、所定のスライド方向に平行移動する工程と、
（ｄ）前記（ｂ）および（ｃ）工程をこの順序でさらに複数回繰り返し、その結果、基板上に塗布されたフォトレジストに、露光回数がｎ回（ｎは２以上の整数）の部位、露光回数が（ｎ−１）回以下の部位、および所望により全く露光されない部位、を生じさせる工程と、
（ｅ）前記露光済の基板表面を現像液で現像処理して、前記露光回数に応じた膜厚を生じさせて、前記凹凸パターン層を得る工程と、
を含んでなる、製造方法。」
　
（２）引用例２
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された特開平１１−２９５８７６号公報（原査定の引用文献２。以下「引用例２」という。）には、以下の記載がある。
　
（２ａ）「【０００７】従来の精密フォトマスクの製造法は、非透光性の金属薄膜を有したガラス基板上にフォトレジストを塗布して露光させ、必要とするパターンを基板上に転写し、最後にエッチング方式で金属層を取り除いてフォトマスクの製造を完了する。この種のフォトマスクは、２種類の光透過率すなわち１００％と０％しかない。一方、
多階層フォトマスクには、１００％と０％の間に６０％、４０％、２０％など光透過率が様々な階層がいくつか設けられている
　
（２ｂ）「【００１０】本発明による多階層フォトマスクの製造法は、
（ａ）光透過性の基板上に、紫外光透過率が０％のマスク層を形成する段階と；
（ｂ）このマスク層のパターンを設計し、紫外光透過率が１００％と０％のフォトマスクパターンを形成する段階と；
（ｃ）光透過性の基板上に、紫外光吸収組成物を含有した露光層を塗布する段階と；および
（ｄ）
この露光層のパターンを設計し、光透過性の基板上に、紫外光透過率が０〜１００％の間にあるフォトマスクパターンを形成する段階
【００１１】段階（ａ）における光透過性の基板は一般に石英ガラスからなり、マスク層は一般に金属膜からなるものであって、スパッタリング、ＣＶＤ、真空蒸着または吹き付けにより形成することができる。
【００１２】段階（ｃ）の露光層材料として現像機能を有するフォトレジストを使用する場合、段階（ｄ）では現像工程を使用して露光層から必要なパターンを作り出すことができる。もし、段階（ｃ）でフォトレジスト機能を有さない露光層材料を使用するならば、段階（ｄ）では、先ず露光層材料を基板上に塗布して焼成工程を経たのち、フォトレジスト工程でエッチング方式を使用して必要なパターンを製作し、最後にフォトレジストを取り除いて必要なパターンを得る。
【００１３】このほか、光透過率の制御は、紫外光吸収物質の組成や濃度、あるいは露光層の厚さを変化させることにより必要な紫外光透過率を得ることができる。ここで、紫外光吸収組成物は、染料、顔料、金属粒子、紫外光吸収剤から選択され、これらは単独で使用してもよいし、またはこれらのうち２種類もしくは２種類以上の混合物であってもよい。　
【００１４】本発明はまた、新規な多階層フォトマスクを提供する。この新規なフォトマスクは、光透過性の基板上に、フォトマスクとして使用する、パターンと
紫外光透過率が様々に異なる露光層
【００１５】以上より、本発明による多階層フォトマスクは、
光透過性の基板と、この光透過性の基板上に設けられ、パターンを有するマスク層と、光透過性の基板上の、マスク層で覆われていない任意の区域に設けられ、紫外光吸収組成物を含有する複数個の露光区域とからなり、上述した露光区域は、紫外光透過率が０〜１００％の間で、フォトマスクを構成するための多階層パターンを１種類または１種類以上有する
　
（２ｃ）「【００２３】
【発明の効果】図６ａの６０は、本発明の実施例でえられた４階層フォトマスクの断面図である。図中示されているように、多数回現像できるポジ型フォトレジスト６４を、
４階層フォトマスク６０を通して露光すると、露光程度が区域ごとに様々であるため、点線で示されるような潜在パターンが形成される。このため、第１回目の現像後には、図６ｂに示されるような、膜の厚さが様々なパターン６４ａがえられる
　
（２ｄ）「【図３】
」
　
（２ｅ）「【図５】
」
　
（２ｆ）「【図６】
　
」
　
２−３．対比
　引用例発明の「基板」「互いに高さが異なる２種以上の層状パターンが組み合わされてなる凹凸パターン層」「凹凸パターン層をフォトリソグラフィ法により同一材料でかつ同時に製造する方法」「ネガ型のフォトレジスト」「フォトレジストが塗布された表面」「フォトマスク」「現像液で現像処理」は、本願補正発明の「基板」「高さが異なるパターンが組み合わされてなる高低パターン層」「フォトリソグラフィー法により同一材料で同時に製造される高低パターン層形成体の製造方法」「光硬化型樹脂組成物」「感光層」「マスク」「現像」に相当する。
　引用例発明の「（ａ）最表面にネガ型のフォトレジストが塗布された基板を準備する工程」は、本願補正発明の「光硬化型樹脂組成物を前記基板上に塗布し、感光層を形成する感光層形成工程」に相当する。
　引用例発明の「（ｂ）該フォトレジストが塗布された表面に、所定の切り欠きパターンからなる複数の開口部を有するフォトマスクを介して、一定の露光量で露光する工程」は、本願補正発明の「光の透過を遮る遮光層と、前記高低パターン層のパターンに沿って形成された開口部とを有しているマスクを用い、前記マスクを介して、前記感光層を露光する露光工程」に相当する。
　引用例発明の「露光済の基板表面を現像液で現像処理して、凹凸パターン層を得る工程」は、本願補正発明の「露光された感光層を現像することにより、高低パターン層を形成する高低パターン層形成工程」に相当する。
　以上のことから、引用例発明と本願補正発明とは、
「基板と、前記基板上に形成され、高さが異なるパターンが組み合わされてなる高低パターン層とを有し、前記高低パターン層がフォトリソグラフィー法により同一材料で同時に製造される高低パターン層形成体の製造方法であって、
　光硬化型樹脂組成物を前記基板上に塗布し、感光層を形成する感光層形成工程と、
　光の透過を遮る遮光層と、前記高低パターン層のパターンに沿って形成された開口部とを有しているマスクを用い、前記マスクを介して、前記感光層を露光する露光工程と、
　前記露光された感光層を現像することにより、高低パターン層を形成する高低パターン層形成工程と、
を有する高低パターン層形成体の製造方法。」
で一致し、以下の点で相違する。
　
（相違点１）
「高低パターン層を得る」ために
　本願補正発明では
「顔料または染料から成る色材を含む感光性樹脂またはフィルムから構成される」「２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するもののみであるフィルターが」「マスクの開口部の一部に配置され」「マスクの開口部のうちフィルターが配置されている領域に該当する感光層が低部となる」のに対して、
　引用例発明では、
「（ｂ）該フォトレジストが塗布された表面に、所定の切り欠きパターンからなる複数の開口部を有するフォトマスクを介して、一定の露光量で露光する工程と、
（ｃ）該露光後に、前記フォトマスクを、（ｂ）工程で露光した領域と、露光されるべき次の開口部とが部分的に重なるように、所定のスライド方向に平行移動する工程と、
（ｄ）前記（ｂ）および（ｃ）工程をこの順序でさらに複数回繰り返し、その結果、基板上に塗布されたフォトレジストに、露光回数がｎ回（ｎは２以上の整数）の部位、露光回数が（ｎ−１）回以下の部位、および所望により全く露光されない部位、を生じさせる工程と、
（ｅ）前記露光済の基板表面を現像液で現像処理して、前記露光回数に応じた膜厚を生じさせて」いる点。
　
２−４．判断
　引用例２には、引用例１と同様にフォトマスクを用いたフォトレジストの露光技術が記載されている。そして、引用例２では、紫外光透過率が０〜１００％の間にあるフォトマスクパターンを基板上に形成し、フォトレジストを露光させたときに、膜の厚さが様々なパターンが得られることが記載（上記２ｂ、２ｃ、２ｆ参照。）されている。
　このような多階層マスクにおいては、様々な光透過率を有するフィルターが配置される（上記２ａ参照。）から、どの程度の紫外光透過率を選択するかは、当業者が適宜なし得たことである。
　してみると、引用例発明において、「高低パターン層を得る」ために
「顔料または染料から成る色材を含む感光性樹脂またはフィルムから構成される」「２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するもののみであるフィルター」を「マスクの開口部の一部に配置」することは、当業者にとって格別困難なことではない。
　また、厚さが様々なものが得られるという引用例２の記載（上記２ｃ２ｆ参照）からみて、本願補正発明の「本発明のマスクを用いることにより、露光量に影響されることなく高低パターン層の高低差を制御する」という作用効果は、当然予測される程度のものと言える。
　
２−５．請求人の主張
　請求人は、平成２１年８月１２日付手続補正書中の請求理由において、以下のように主張している。
「一方、引用文献２には、上記光透過率が４０％以上であるフィルターを有するフォトマスクについては開示されていますが、これらのフォトマスクは上記光透過率が４０％に満たないフィルターも同一のフォトマスク内に配置されるものであります。したがって、発明特定事項Ｄについては引用文献２には一切開示されていません。
　また、引用文献２に開示されたフォトマスクは、同一フォトマスク内に、上記光透過率が４０％以上であるフィルターと上記光透過率が４０％に満たないフィルターとを有するものであります。したがって、引用文献２におけるマスクを用いて、高低パターン層形成体のパターニングを行った場合は、上記光透過率が４０％に満たないフィルターを介して露光された部分の膜厚を制御することが困難となるため、高低パターン層を所望の膜厚差で形成することは困難であります。」
　また、平成２２年１０月１日付の回答書において、以下のように主張している。
「　しかしながら、例えば引用文献２の明細書（０００７）段落に「一方、多階層フォトマスクには、１００％と０％の間に６０％、４０％、２０％など光透過率が様々な階層がいくつか設けられている。」と記載されていますように、このような多階層マスクにおきましては、当然のことながら４０％未満の光透過率を有するフィルターが配置されるものであることは明らかであります。 
　本発明におきましては、そのような状況の中で、４０％未満のフィルターが配置された多階層マスクでは、露光量によっては、露光された部分の膜厚を一定のものに制御することが困難であることを見出し、２００ｎｍ〜５００ｎｍの光の透過率が４０％以上であるフィルターのみを配置することにより、上述したような不具合がなく、露光量に影響されることなく高低パターン層の高低差を制御することが可能となるといった作用効果を得たものであります。
　また、この範囲の透過率を有するフィルターであれば、フィルターを介さずに露光を行った部分とフィルターを介して露光を行った部分との膜厚差を、露光量に関わらず、ほぼ一定のものとすることができるといった利点を有することも見出されており、これにより、さらに高低パターン層の高低差の制御をより高精度で行うことができるものであります。 
　このように、本発明の発明特定事項Ｄは上述したような特有の作用効果を奏するものでありますので、審査官殿がご指摘されるような当業者が適宜なし得た事項ではありません。また、上述した作用効果は、必然的に得られるものでないことも明らかであります。」
　しかしながら、引用例２において光透過率が４０％以上であるフィルタと４０％に満たないフィルターとを同一のフォトマスク内に配置するものであるとしても、様々な透過率のフィルターを選択できることを示唆しているのは、明らかである。したがって、上記主張は採用できない。
　
２−６．まとめ
　上述したとおり、引用例発明において、相違点１に係る構成を有するものとすることは、当業者が容易になし得たことである。
　また、相違点１に係る構成を組み合わせたことにより、当業者が予期できない格別の効果が奏せられるものとすることもできない。
　
　したがって、本願補正発明は、引用例発明、及び、引用例２記載の技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
２−７．むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
３−１．本願の請求項１に係る発明
　平成２１年７月６日付の手続補正は前記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜７に係る発明は、平成２０年１１月１３日付の手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜５に記載されたとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、前記「２−１．（１）」のとおりである。
　
３−２．引用例の記載事項
　引用例には、前記「２−２」に記載したとおりの事項が記載されている。
　
３−３．対比
　本願発明は、
　本願補正発明（前記「２−１（２）」参照）の
「フィルター」について元の「２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するフィルター」という限定事項にし、「フィルターが、前記フィルターが２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するもののみ」という限定事項を省いたものに相当する。
　してみると、本願発明と引用例発明を対比すると、両者は、以下の点で相違する。
　
（相違点１’）
「高低パターン層を得る」ために
　本願補正発明では
「顔料または染料から成る色材を含む感光性樹脂またはフィルムから構成され、２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するフィルターが」「マスクの開口部の一部に配置され」「マスクの開口部のうちフィルターが配置されている領域に該当する感光層が低部となる」のに対して、
　引用例発明では、
「（ｂ）該フォトレジストが塗布された表面に、所定の切り欠きパターンからなる複数の開口部を有するフォトマスクを介して、一定の露光量で露光する工程と、
（ｃ）該露光後に、前記フォトマスクを、（ｂ）工程で露光した領域と、露光されるべき次の開口部とが部分的に重なるように、所定のスライド方向に平行移動する工程と、
（ｄ）前記（ｂ）および（ｃ）工程をこの順序でさらに複数回繰り返し、その結果、基板上に塗布されたフォトレジストに、露光回数がｎ回（ｎは２以上の整数）の部位、露光回数が（ｎ−１）回以下の部位、および所望により全く露光されない部位、を生じさせる工程と、
（ｅ）前記露光済の基板表面を現像液で現像処理して、前記露光回数に応じた膜厚を生じさせて」いる点。
　
３−４．判断
（相違点１’について）
　引用例２には、引用例１と同様にフォトマスクを用いたフォトレジストの露光技術が記載されている。そして、引用例２では、紫外光透過率が０〜１００％の間にあるフォトマスクパターンを基板上に形成し、フォトレジストを露光させたときに、膜の厚さが様々なパターンが得られることが記載（上記２ｂ、２ｃ、２ｆ参照。）されている。
　このような多階層マスクにおいては、様々な光透過率を有するフィルターが配置される（上記２ａ参照。）から、どの程度の紫外光透過率を選択するかは、当業者が適宜なし得たことである。
　してみると、引用例発明において、「高低パターン層を得る」ために
「顔料または染料から成る色材を含む感光性樹脂またはフィルムから構成される」「２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の波長を４０％以上吸収するフィルター」を「マスクの開口部の一部に配置」することは、当業者にとって格別困難なことではない。
　また、厚さが様々なものが得られるという引用例２の記載（上記２ｃ２ｆ参照）からみて、本願補正発明の「本発明のマスクを用いることにより、露光量に影響されることなく高低パターン層の高低差を制御する」という作用効果は、当然予測される程度のものと言える。
　
（まとめ）
　上述したとおり、引用例発明において、相違点１’に係る構成を有するものとすることは、当業者が容易になし得たことである。また、相違点１’に係る構成を組み合わせたことにより、当業者が予期できない格別の効果が奏せられるものとすることもできない。
　したがって、本願発明は、引用例発明、及び、引用例２記載の技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のことから、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、他の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。