Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月27日(2011.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部分的に包埋されたパッケージ半導体デバイスであって、
露出した上面と前記露出した上面に対して実質的に垂直な複数の屈曲部とを備える上部クリップと、
複数の分離領域を有し、前記複数の屈曲部の全てが前記分離領域のうちの１つのみに接続されているリードフレーム構造と、
前記上部クリップと前記リードフレーム構造とに取り付けられた半導体デバイスと、を含むことを特徴とするパッケージ半導体デバイス。
【請求項２】
前記上部クリップは、包埋材により充填された１つ以上の上側端上に１つ以上の切り取り領域を有することを特徴とする請求項１に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項３】
前記半導体デバイスは、前記上部クリップに取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項４】
前記リードフレーム構造は、ソース領域とゲート領域とドレイン領域とに分かれていることを特徴とする請求項１に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項５】
前記半導体デバイスは、前記上部クリップに取り付けられたドレイン端子と、前記リードフレーム構造のソース領域に取り付けられたソース端子と、前記リードフレーム構造のゲート領域に取り付けられたゲート端子と、を有するＭＯＳＦＥＴであることを特徴とする請求項４に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項６】
前記ソース端子及び前記ゲート端子は半田バンプを有し、前記リードフレーム構造の前記ゲート領域及び前記ソース領域にそれぞれフリップチップ取り付けされていることを特徴とする請求項５に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項７】
部分的に包埋された半導体パッケージの製造方法であって、制御領域と、第１高電流領域と、第２高電流領域との３つの分離された領域を有する共面リードフレーム構造を提供するステップと、
前記制御領域と第１高電流領域とに半導体デバイスを取り付けるステップと、
前記共面リードフレーム構造の反対側にある前記半導体デバイスの側面に、前記第２高電流領域に取り付けられた複数の屈曲部を有するクリップを取り付けるステップと、
前記共面リードフレーム構造と、前記半導体デバイスと、前記クリップとをパッケージ形成のためにモールド材で部分的に包埋するステップと、を含むことを特徴とする半導体パッケージの製造方法。
【請求項８】
前記３つの領域の各々は、厚い部分と薄い部分とから成ることを特徴とする請求項７に記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項９】
前記クリップの前記屈曲部の各々は分岐端を有することを特徴とする請求項７に記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項１０】
前記分岐端の各々は丸み部で終端することを特徴とする請求項９に記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項１１】
前記クリップは、ハーフエッチングされていることを特徴とする請求項７に記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項１２】
前記クリップは、切り取り領域を有するように形成されていることを特徴とする請求項７に記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項１３】
前記モールド材は、前記切り取り領域を充填していることを特徴とする請求項１２に記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項１４】
前記モールド材は、前記クリップの上面を覆っていないことを特徴とする請求項７に記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項１５】
前記モールド材は、前記３つの領域の前記厚い部分の底面を覆っていないことを特徴とする請求項８に記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項１６】
部分的に包埋された半導体パッケージであって、
制御領域と第１高電流領域と第２高電流領域とを含む共面領域を有するリードフレーム構造と、
前記制御領域と前記第１高電流領域とに取り付けられた半導体デバイスと、
前記リードフレーム構造の反対側にある前記半導体デバイスの側面に取り付けられ、前記第２高電流領域に取り付けられた複数の屈曲部を有するハーフエッチングクリップと、
前記リードフレーム構造と、前記半導体デバイスと、前記クリップとをパッケージ形成のためにモールド材で部分的に包埋する包埋材と、を含むことを特徴とするパッケージ半導体デバイス。
【請求項１７】
前記制御領域と第１高電流領域と第２高電流領域とは、厚い部分と薄い部分とから成ることを特徴とする請求項１６に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項１８】
前記ハーフエッチングクリップの前記屈曲部の各々は、分岐端を有することを特徴とする請求項１６に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項１９】
前記分岐端の各々は、丸み部で終端することを特徴とする請求項１８に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項２０】
前記ハーフエッチングクリップは、切り取り領域を有するように形成されていることを特徴とする請求項１６に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項２１】
前記包埋材は、前記切り取り領域を充填していることを特徴とする請求項２０に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項２２】
前記包埋材は、前記ハーフエッチングクリップの上面を覆っていないことを特徴とする請求項１６に記載のパッケージ半導体デバイス。
【請求項２３】
前記包埋材は、前記３つの領域の前記厚い部分の底面を覆っていないことを特徴とする請求項１６に記載のパッケージ半導体デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月30日(2011.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎ型領域とｐ型領域との間に配される光放射層と、半導体構造の面内又は面上に形成される屈折率の変動部であって、光結晶である屈折率の前記変動部とを有する前記半導体構造と、前記光放射層により放射される光の通路に配される、波長変換物質を有するセラミック層とを有する、デバイス。
【請求項２】
前記セラミック層が剛性の凝集蛍光体粒子を有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記デバイスの半導体層の全体の厚さが約１μｍより小さい、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記セラミック層の面が加工されている、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
ホスト基板を更に有する請求項１に記載のデバイスであって、前記半導体構造が前記ホスト基板に取り付けられ、前記セラミック層が前記ホスト基板とは反対側の前記半導体構造の面近くに配される、デバイス。
【請求項６】
前記半導体構造と前記セラミック層との間に配される光バルブを更に有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
前記光バルブが誘電体積層、配布されたブラッグリフレクタ、ダイクロイックフィルタ、２次元光結晶及び３次元光結晶のうちの一つを有する、請求項６に記載のデバイス。
【請求項８】
屈折率の前記変動部が、あらかじめ決められた角度放射プロフィール内の光を放射し、前記光バルブが、前記あらかじめ決められた角度放射プロフィール内で放射されて前記光バルブに入射する主要な部分の光を透過する、請求項６に記載のデバイス。
【請求項９】
前記半導体構造から出る光の６０％より多い光が前記半導体構造の主表面に対する法線から円錐４５°内で放射され、前記円錐４５°内で放射される光の９０％より多い光が前記光バルブにより透過される、請求項８に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記セラミック層により放射される光の１０％より少ない光が前記光バルブにより透過される、請求項９に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記光放射層により放射される光の通路に配される誘電体集光器を更に有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記誘電体集光器がガラスレンズである、請求項１１に記載のデバイス。
【請求項１３】
屈折率の前記変動部が、あらかじめ決められた放射プロフィール内で光を放射し、前記誘電体集光器は、前記あらかじめ決められた放射プロフィール内で放射される主要な光が前記誘電体集光器へ放射されるように構成されている、請求項１１に記載のデバイス。
【請求項１４】
反射層を更に有する請求項１に記載のデバイスであって、前記セラミック層が前記反射層と前記半導体構造との間に配される、デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月14日(2011.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
相変化材料含有基材を研磨するための化学的機械的研磨（ＣＭＰ）組成物であって、
（ａ）粒子状研磨剤、
（ｂ）リシン、及び
（ｃ）それらのための水性キャリヤー、
を含む組成物。
【請求項２】
粒子状研磨剤が０．００１から６重量パーセントの範囲内の濃度で存在する、請求項１に記載のＣＭＰ組成物。
【請求項３】
リシンが、０．０１から５重量パーセントの範囲内の濃度で存在する、請求項１に記載のＣＭＰ組成物。
【請求項４】
粒子状研磨剤が、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、及びα−アルミナからなる群から選択される、請求項１に記載のＣＭＰ組成物。
【請求項５】
酸化剤をさらに含む、請求項１に記載のＣＭＰ組成物。
【請求項６】
酸化剤が、０．０１から６重量パーセントの範囲内の濃度で存在する、請求項５に記載のＣＭＰ組成物。
【請求項７】
酸化剤が、過酸化水素、過硫酸塩、過ヨウ素酸塩及びそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１つの酸化剤を含む、請求項５に記載のＣＭＰ組成物。
【請求項８】
酸化剤が過酸化水素を含む、請求項５に記載のＣＭＰ組成物。
【請求項９】
酸化剤の存在下に請求項１のＣＭＰ組成物で基材表面を研磨することを含む、相変化材料含有基材を研磨するための化学的機械的研磨（ＣＭＰ）方法。
【請求項１０】
相変化材料含有基材を研磨するための化学的機械的研磨（ＣＭＰ）方法であって、
（ａ）酸化剤の存在下に、基材表面を、研磨パッド並びに、請求項１〜４のいずれか１項に記載の水性ＣＭＰ組成物と接触させる工程、並びに
（ｂ）研磨パッドと基材との間に相対運動を起こさせて、その間、基材から相変化材料の少なくとも一部を研磨するのに十分な時間、ＣＭＰ組成物の一部がパッドと基材との間の表面と接触するように保つ工程、
を含む方法。
【請求項１１】
酸化剤が、過酸化水素、過硫酸塩、過ヨウ素酸塩、及びそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む、請求項１０に記載のＣＭＰ方法。
【請求項１２】
酸化剤が過酸化水素を含む、請求項１０に記載のＣＭＰ方法。
【請求項１３】
酸化剤が、０．０１から６重量パーセントの範囲内の濃度で存在する、請求項１０に記載のＣＭＰ方法。
【請求項１４】
基材が、(a)ゲルマニウム−アンチモン−テルル（ＧＳＴ）合金の表面層を含む、又は（ｂ）基材がインジウムアンチモナイト（ＩｎＳｂ）を含む、請求項１０に記載のＣＭＰ方法。
【請求項１５】
基材が、i)表面層の下にライナー材料をさらに含む、および／又はii) 前記ライナー材料が、Ｔｉ、ＴｉＮ、及びそれらの組合せからなる群から選択される、およびiii) 前記ＧＳＴ合金及びライナー材料が、各々研磨されて、研磨が二酸化ケイ素層で終了される、請求項１４に記載のＣＭＰ方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月17日(2011.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板を処理するための方法であって、
処理チャンバの処理領域に基板を位置決めするステップと、
前記チャンバに配置された前記基板の表面を酸素含有ガスに暴露して、表面上に第一酸素含有層を形成するステップと、
前記基板の表面の少なくとも一部を暴露するために、前記第一酸素含有層の少なくとも一部を除去するステップと、
前記基板の表面を酸素含有ガスに暴露して、表面上に第二酸素含有層を形成するステップと、
を備える方法。
【請求項２】
前記第一酸素含有層を形成するステップ、前記第一酸素含有層の少なくとも一部を除去するステップ、及び前記第二酸素含有層を形成するステップが全て前記処理チャンバで実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記基板の表面を暴露するために、前記第二酸素含有層の少なくとも一部を除去するステップと、
暴露された前記基板の表面の少なくとも一部にエピタキシャル層を堆積するステップと、
をさらに備える、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記第一酸素含有層を形成するステップ、前記第一酸素含有層の少なくとも一部を除去するステップ、前記第二酸素含有層を形成するステップ、及び前記第二酸素含有層の少なくとも一部を除去するステップが全て、前記基板を前記処理チャンバから除去する前に実施される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記基板を処理領域に位置決めする前に、前記処理チャンバの処理領域に配置されたチャンバコンポーネントの表面上にゲッタリング層を形成するステップをさらに備える、請求項１ないし４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記ゲッタリング層が、シリコン及びゲルマニウムからなる群から選択された材料を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記酸素含有ガスが、二原子酸素（Ｏ２）を含む、請求項１ないし６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記酸素含有ガスが、オゾン（Ｏ３）を含む、請求項１ないし６のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記第一酸素含有層を形成するステップ又は前記第二酸素含有層を形成するステップが、前記基板を紫外線（ＵＶ）光に暴露するステップを備える、請求項１ないし７のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月22日(2011.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
携帯電話のような電子通信装置であって、該装置を動作させるプロセッサを備え、前記プロセッサは、前記通信装置を、第１の動作モードにおいては、（ａ）空気品質の監視を生じさせ、空気品質のレベルを所定のレベルに対して評価し、（ｂ）所定のレベルの許容可能なカテゴリが識別される場合に前記通信装置へのおよび前記通信装置からの通信が駆動されるように動作させ、前記通信装置は該装置と一体となった周囲空気品質監視センサを有し、第２の動作モードにおいては、（ａ）前記空気品質の監視を生じさせ、空気品質のレベルを所定のレベルに対して評価し、（ｂ）周囲空気品質のレベルがユーザの注意が必要と評価されると、前記プロセッサは前記第１の動作モードの前記通信をインタラプトするように動作させ、（ｃ）アラームルーチンが起動されることを特徴とする電子通信装置。
【請求項２】
前記通信装置は、個人の性別、体重、年齢、身体活動レベル及び健康状態を含む群から選択された特性を表わす信号を入力する通信インタフェース及びこれらの特性に対応する複数の所定の動作モードを更に備え、前記通信装置の空気品質の評価は特定のユーザに合うように調整されることを特徴とする請求項１記載の電子通信装置。
【請求項３】
前記通信装置は、（ａ）検出された空気品質のレベル及び（ｂ）有害レベルに到達するまでの時間評価を表示するディスプレイを更に備えることを特徴とする請求項１または２に記載の電子通信装置。
【請求項４】
前記通信装置は、前記プロセッサに前記検出された空気品質を表わす信号を複数の時点で取得させる手段、複数のアラーム信号を記憶する手段、及び前記検出された空気品質を表わす前記信号の通し時間評価に基づいて空気品質レベルの指示を選択する手段を更に備えることを特徴とする請求項１−３の何れかに記載の電子通信装置。
【請求項５】
前記通信装置は、将来の動作モードをトリガする信号を入力する通信インタフェース、及び所定の時刻の到達に応じて動作モードをトリガするトリガ手段を更に備えることを特徴とする請求項１−４の何れかに記載の電子通信装置。
【請求項６】
前記通信装置は、該装置の状態を表わす信号を無線受信機に送信する無線送信機を備えることを特徴とする請求項１−５の何れかに記載の電子通信装置。
【請求項７】
前記通信装置は、高度、大気、圧力、湿度及び／又は温度センサのうちの一つ以上を更に含み、前記空気品質センサから得られる値に加えて前記センサから得られる値に応じて空気品質のレベルの評価を調整する手段を更に備えることを特徴とする請求項１−６の何れかに記載の電子通信装置。
【請求項８】
前記通信装置は、該装置のそばでオペレータが睡眠中に知覚し得るアラームをトリガするのに適した第１のアラームルーチンと、該装置のそばでオペレータが活動中に知覚しうるアラームをトリガするのに適した第２のアラームルーチンとを組み込むことを特徴とする請求項１−７の何れかに記載の電子通信装置。
【請求項９】
前記通信装置は、荷造りすべき一つ以上の物品に特有の警告信号をユーザに通信する手段と、ユーザに物品を荷造りすることを思い出させるためにユーザの位置変化前の期間中に前記警告信号のユーザへの通信をトリガするプロセッサとを更に備えることを特徴とする請求項１−８の何れかに記載の電子通信装置。
【請求項１０】
前記通信装置は、該装置の位置を検出する手段及び位置に応じて警告信号発生のタイミングを制御する手段を備えることを特徴とする請求項９に記載の電子通信装置。
【請求項１１】
前記通信装置は、受信機と受信した信号に応答するアラームとを含む周辺装置に前記信号を送る手段を備え、前記受信機は受信信号に可聴的に、可視的に及び／又は知覚可能に瞬時に応答することを特徴とする請求項１−１０の何れかに記載の電子通信装置。
【請求項１２】
周囲空気を監視するように構成された空気品質監視センサが組み込まれた携帯電話。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月20日(2011.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所与の色空間において、実際のソース色域を有するソースカラーデバイスのソース色を、前記実際のソース色域とは異なる実際のターゲット色域を有するターゲットカラーデバイスのターゲット色にマッピングする方法であって、前記実際のソース色域と前記実際のターゲット色域の少なくとも１つは、非凸であり、前記ソース色は、前記実際のソース色域内であり、該方法は、
前記実際のソース色域を表すために、ソース凸色域境界記述を作成し、およびこの実際のソース色域が非凸である場合は前記ソース凸色域境界記述に含まれるソース非凸色域境界記述を作成するステップと、
前記実際のターゲット色域を表すために、ターゲット凸色域境界記述を作成し、およびこの実際のターゲット色域が非凸である場合は前記ターゲット凸色域境界記述に含まれるターゲット非凸色域境界記述を作成するステップと、
マッピングすべき各ソース色について、
１−前記実際のソース色域が非凸であり、および前記ソース色が前記ソース非凸色域境界記述の外部にある場合、前記ソース色を前記ソース非凸色域境界記述の内部にあるプレマッピングされたソース色にプレマッピングするステップと、
２−プレマッピングされていないときには前記ソース色を、または前記プレマッピングされたソース色を、前記ターゲット凸色域境界記述の内部にあるターゲット色にメインマッピングするステップと、
３−前記実際のターゲット色域が非凸であり、および少なくとも前記メインマッピングされたターゲット色が前記ターゲット非凸色域境界記述の外部にある場合、前記メインマッピングされたターゲット色を、前記ターゲット非凸色域境界記述の内部にある最終的なターゲット色にポストマッピングするステップと、
を含むマッピングする方法。
【請求項２】
マッピングすべき各ソース色は、前記ソース凸色域境界記述の内部にあることを特徴とする請求項１に記載のマッピングする方法。
【請求項３】
前記色域境界記述の各々は、ＨＤＭＩ標準との互換性を有するバイナリ形式で記憶されることを特徴とする請求項１または２に記載のマッピングする方法。
【請求項４】
ソースカラーデバイスのデバイス依存のソース色を、ターゲットカラーデバイスのデバイス依存のターゲット色に変換する方法であって、
前記ソースカラーデバイスに関連付けられたソースカラーデバイスモデルを使用することによって、デバイス依存のソース色をデバイス非依存のソース色に変換するステップと、
請求項１乃至３のいずれか１つに従ってデバイス非依存のソース色をデバイス依存のターゲット色にマッピングするステップと、
前記ターゲットカラーデバイスに関連付けられたターゲットカラーデバイスを使用することによって、デバイス非依存のターゲット色をデバイス依存のターゲット色に変換するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月25日(2011.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
色空間内において、実色域を、「色域インスタンス」（ＧＩ）と呼ばれる少なくとも１つの色域境界記述によって記述する方法であって、
それぞれの色域インスタンス（ＧＩ）が、それぞれが１つの色域ハル（ＧＨ）の閉じた表面を境界とする体積（１つまたは複数）の合併によって形成されるように、少なくとも２つの色域ハル（ＧＨ）を、ある体積の境界をなす閉曲面として定義することと、
それぞれの色域ハル（ＧＨ）が、いくつかのコネックス色域コンポーネント（ＧＣ）の連結によって形成されるように、複数の色域コンポーネント（ＧＣ）を定義することであって、色域コンポーネント（ＧＣ）はそれぞれが曲面を表す、複数の色域コンポーネント（ＧＣ）を定義することと
を含み、
前記複数の色域コンポーネント（ＧＣ）のうちの少なくとも１つの色域コンポーネントは、少なくとも２つの異なる色域ハル（ＧＨ）の前記の構成のために使用される
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
複数の色域ハルを定義することを含む請求項１に記載の方法において、同じ色域インスタンスを定義するために使用される前記複数の前記色域ハル（ＧＨ）のうちの少なくとも２つの色域ハルの体積は、空でない交わりを有することを特徴とする方法。
【請求項３】
少なくとも１つの色域インスタンスは非凸であり、たとえ非凸の色域インスタンスであっても色域インスタンスを定義するために使用される全ての色域ハルは凸であることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
複数の色域ハルを定義することを含む請求項１から３のいずれかに記載の方法において、前記複数の色域ハル（ＧＨ）のうちの少なくとも１つの色域ハルは、少なくとも２つの異なる色域インスタンス（ＧＩ）を定義するために使用されることを特徴とする方法。
【請求項５】
複数の色域インスタンス（ＧＩ）を定義することを含む請求項１から４のいずれかに記載の方法において、前記複数の色域インスタンス（ＧＩ）はそれぞれ、カラーデバイスの同じ色空間内の同じ色域を異なる形で記述する
ことを特徴とする方法。
【請求項６】
少なくとも１つの色域インスタンスは凸であり、少なくとも１つの他の色域インスタンスは非凸であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記複数の色域インスタンスのうちの一部の色域インスタンスは、実色域の異なる色百分率を含むことを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
前記複数の色域インスタンスのうちの一部の色域インスタンスは、前記実色域について同じ形状を該形状の異なる詳細度で記述することを特徴とする請求項５から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
それぞれの色域コンポーネント（ＧＣ）がいくつかのコネックス基本多角形の連結によって形成されるように、基本多角形、特に三角形を定義することを含む、ことを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
所与の色空間内において、ソース実色域からターゲット実色域へ色を色域マップする方法であって、請求項１から９のいずれかに記載の方法によって、ソース実色域またはターゲット実色域、あるいはその両方を記述することを含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月21日(2011.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラムとしてシーンを再構成する方法であって、
前記シーンは、ソフトウェア手段によって平行なセクション層により物点に分割され、
前記物点は、前記セクション層内の規定の格子に従って選択され、システム制御器手段により物点のグループを形成するように組み合わされ、
計算機生成ホログラム（ＣＧＨ）は、物点のグループ毎に計算され、光源手段により放射されるコヒーレント光により照明される光変調器手段上で符号化され、
再構成手段は、物点のグループの各ＣＧＨから再構成を生成し、個々の前記ＣＧＨを加算することにより前記生成された再構成をインコヒーレントに重畳し、それにより前記シーンの単一のホログラフィック再構成が観察者の眼の位置の平面において可視になり、
前記システム制御器手段は、前記物点のデータ記録を格納する格納手段を備え、
前記システム制御器手段は、前記格子に従い前記セクション層内の物点を選択することと、前記シーンの前記再構成の可視解像度に基づいて物点のグループを形成するように物点を組み合わせることとの双方を実行し、
前記システム制御器手段は、
−前記眼の位置から異なる距離に前記セクション層を生成し、前記物点が互いに近接して位置するため、それらの相互距離がそのセクション層に対する前記シーンの前記再構成の前記可視解像度より小さい格子をセクション層の各々の内部に規定し、
−物点のグループを形成するために、相互距離が前記シーンの前記再構成の前記可視解像度より大きい前記セクション層の各々の物点を組み合わせ、前記可視解像度及び前記物点の複素値を特徴付ける前記グループの前記物点間の横方向距離を含む前記データ記録から前記物点のグループの前記ＣＧＨを計算する
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記システム制御器手段内の計算ユニットは、
実際の前記眼の位置から前記シーンの前記セクション層の各々までの距離と、観察者の実際の眼の瞳孔の直径とに基づいて、前記セクション層内の前記物点のピッチを判定するための物点密度を計算することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
個々の前記再構成をインコヒーレントに重畳する処理は順次実行され、これにより、前記観察者の眼は、前記個々の再構成の強度の和にわたり前記再構成の前記強度を時間的に平均化することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
個々の前記再構成をインコヒーレントに重畳する処理は同時に実行され、
複数の光変調器及び複数の再構成手段は、複数の再構成を同時に生成し、前記観察者の眼の位置においてそれらをインコヒーレントに重畳する
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記シーンの前記再構成の前記可視解像度は、前記光変調器手段の分解能に適応されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ホログラムとしてカラーシーンを再構成する方法であって、
前記カラーシーンは、前記システム制御器手段内のソフトウェア手段により異なる色成分に分割され、
前記カラーの再構成は、前記光の異なる波長の少なくとも２つの異なる単色再構成から構成され、
物点への前記シーンの分割と、物点のグループを形成するための前記物点の組み合わせと、前記単色ＣＧＨの計算とが、色成分毎に別個に実行される
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
３原色の波長毎に異なる格子ピッチが規定され、異なる最小距離が前記物点の前記データ記録において前記計算ユニットにより前記物点のグループに対して規定されるか、または、
同一の格子ピッチが３原色の波長毎に規定され、同一の最小距離が前記物点の前記データ記録において前記計算ユニットにより前記物点のグループに対して規定される
ことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記シーンの前記物点の前記ピッチが前記計算ユニットにより小さく規定されるため、前記３原色の前記波長に対して、前記物点はそれ以上別個の点として分解されないことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
物点のグループ内の前記物点の前記距離が前記計算ユニットにより大きく規定されるため、前記３原色の前記波長に対して、前記物点は別個の点として分解されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記分割されたシーンの各物点は、前記物点のグループのうちの１つに対して一度だけ選択されることを特徴とする請求項１又は６に記載の方法。
【請求項１１】
前記シーンの前記再構成の前記可視解像度は、前記再構成手段の結像特性に適応されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記再構成手段の前記結像特性は、シミュレーションによるか又は測定曲線に基づいて求められることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記物点のグループは、前記光変調器手段上で１次元又は２次元のいずれかに符号化されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
ホログラムとしてシーンを再構成する装置であって、
光源手段により放射されるコヒーレント光を用いて照明され、前記シーンの物点のグループの計算機生成ホログラム（ＣＧＨ）が符号化される光変調器手段と、
物点のグループの各ＣＧＨから再構成を生成し、個々の前記ＣＧＨを加算することにより前記生成された再構成をインコヒーレントに重畳し、前記シーンの単一のホログラフィック再構成を観察者の眼の位置の平面において可視にする再構成手段と、
セクション層により、当該セクション層内の規定の格子に従って選択され、物点のグループを形成するために組み合わされる物点に前記シーンを分割し、前記物点のデータ記録を格納するための格納手段を具備するシステム制御器手段と
を備え、
前記システム制御器手段は、
−前記物点が互いに近接するため、それらの相互距離が前記セクション層の各々に対する前記シーンの前記再構成の前記可視解像度より小さい格子を常に用いて、前記眼の位置から異なる距離に前記セクション層を生成し、
−物点のグループを形成するために、相互距離が前記シーンの前記再構成の前記可視解像度より大きい前記セクション層の各々のそれら物点を組み合わせ、前記可視解像度及び前記物点の複素値を特徴付けるそのグループの前記物点間の横方向距離を含む前記データ記録から各物点のグループの前記ＣＧＨを計算するように更に設計される
ことを特徴とする装置。
【請求項１５】
少なくとも１人の観察者の実際の眼の位置に関する情報と、その観察者の眼の瞳孔の実際の大きさに関する情報と、を検出する位置ファインダを備えることを特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
再構成される前記シーンの実際の輝度値又は再構成空間内の周辺光の実際の輝度値を検出するセンサを具備する位置ファインダを備え、前記輝度値は前記眼の瞳孔の実際の直径を判定するために使用されることを特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項１７】
請求項１から１３のいずれか１項に記載の方法を実行するホログラムとしてシーンを再構成する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月26日(2011.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路のメモリを作動させるステップであって、該メモリを作動させることが供給電圧でメモリに給電することを含むことを特徴とするステップと、
前記メモリを作動させながら、同時に、集積回路のテストメモリをテストするステップであって、前記テストメモリおよび前記メモリの各々が、第１のビットセル構成タイプのビットセルを包含することを特徴とするステップと、
前記テストメモリのテストに基づいて、前記メモリを作動させながら、供給電圧の電圧レベルを調節するステップと、
を有することを特徴とするメモリに給電する方法。
【請求項２】
前記テストするステップが、前記テストメモリがテストをパスするテストメモリに給電するための最小の電圧レベルを判断するステップを含み、
前記調節するステップが、前記最小の電圧レベルを判断するステップに基づいた電圧レベルで供給電圧を給電することを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
作動電圧レベルで集積回路のメモリに給電するステップと、
前記集積回路のテストメモリを最初にテストするステップと、
前記最初のテストに基づいて第１の調節された作動電圧レベルに作動電圧レベルを調節するステップと、
最初の調節の後、第１の調節された作動電圧レベルでメモリに給電するステップと、
前記テストメモリを２回目にテストするステップと、
前記２回目のテストに基づいて第２の調節された作動電圧レベルに前記第１の調節された作動電圧レベルを調節するステップと、
前記第１の調節された作動電圧レベルを調節した後、第２の調節された作動電圧レベルでメモリに給電するステップと、
を有することを特徴とするメモリに給電するための方法。
【請求項４】
前記最初にテストするステップが、複数の電圧レベルで前記テストメモリに給電し、前記テストでパスを示す複数の電圧レベルのうち第１の最も低い電圧レベルを求めながら、前記テストメモリをテストするステップを含み、前記第１の調節された作動電圧レベルが、前記第１の最も低い電圧レベルに基づいており、
前記２回目にテストするステップが、複数の電圧レベルで前記テストメモリに給電し、前記テストでパスを示す複数の電圧レベルのうち２番目に低い電圧レベルを求めながら、前記テストメモリをテストするステップを含み、前記第２の調節された作動電圧レベルが、前記２番目に低い電圧レベルに基づいている、
ことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
集積回路のメモリであって、前記メモリが作動供給電圧を受ける供給端末を含むことを特徴とするメモリと、
集積回路のテストメモリであって、前記テストメモリが、前記テストメモリに給電するためのテスト供給電圧を受けるためのテスト供給端末を含み、前記テストメモリと前記メモリとが、第１のビットセル構成タイプのビットセルを各々含むことを特徴とするテストメモリと、
前記テストメモリの性能を決定し、テストするためのテストメモリに結合されたテスト回路であって、前記テスト回路が、前記テストメモリがテストをパスするテスト供給端末で受けられた最も低いテスト供給電圧レベルを見つけるために作動することを特徴とするテスト回路と、
を有し、
前記メモリの供給端末が、前記テスト回路によって求められたテストメモリの性能に基づいたメモリ作動中に調節可能な作動供給電圧を受けるように構成される、
ことを特徴とするシステム。
【請求項６】
前記テスト回路が、第１の電圧レベルで作動供給電圧に基づいている第１のテスト電圧レベルで供給されているテスト供給端末を備えたテストメモリをテストし、
作動供給電圧が、第１のテスト電圧レベルで供給されている間、テストメモリがテストをパスする判断に基づいて第２の電圧レベルに対して低いことを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月11日(2011.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
TREM-1リガンド又はその誘導体を提供する工程、及び、
被験化合物が：
a) 該リガンド又はその誘導体のTREM-1受容体への若しくはその誘導体への結合；及び/又は
b)TREM-1リガンドのTREM-1受容体への結合により調節された活性；に、影響を及ぼすかどうかを決定する工程を含む、スクリーニング方法。
【請求項２】
前記リガンドが、CD177であるか、又はTREM-1受容体に結合することが可能であるその断片若しくは誘導体である、請求項1記載の方法。
【請求項３】
1種以上の前炎症性サイトカイン又はケモカインの放出により特徴付けられる障害を治療するための医薬品の製造における、TREM-1リガンドのTREM-1受容体への結合を遮断又は減少させることが可能である化合物の使用。
【請求項４】
TREM-1リガンドのTREM-1受容体への結合を遮断又は減少させることが可能である化合物を含有する、医薬組成物。
【請求項５】
TREM-1受容体への結合又はTREM-1リガンドへの結合に関して多価である、化合物。
【請求項６】
野生型動物と比べ、TREM-1リガンドの発現を低下するように遺伝子修飾されている、非ヒト動物。
【請求項７】
TREM-1リガンドのTREM-1受容体への結合を妨害するか又はそのような結合の効率を低下させる、TREM-1リガンドに結合する抗体。
【請求項８】
1種以上の前炎症性サイトカイン又はケモカインのインビボ放出により特徴付けられる障害を診断するためのキットであり、ここで該キットが、TREM-1リガンドへ若しくは該リガンドをコードしている核酸へ結合する化合物を備えているか、又はここで該キットが、TREM-1受容体に結合するTREM-1リガンド若しくはその誘導体を備えている、前記キット。
【請求項９】
TREM-1リガンドの変異型の存在を同定するためのキットであり、ここで該キットが、該リガンドの野生型よりも該変異型により強力に結合する抗体を備えているか、又はここで該キットが、該野生型をコードしている核酸よりも該変異型をコードしている核酸へより強力にハイブリダイズする核酸を備えている、前記キット。
【請求項１０】
TREM-1リガンド又はその誘導体を提供する工程、及び非ヒト宿主において抗体を産生するためにこれを使用する工程を含む、抗-TREM-1リガンド抗体を得るための方法。
【請求項１１】
細胞の表面上にTREM-1リガンド又はその誘導体を提示する細胞を提供する工程、及び非ヒト宿主において抗体を産生するためにこれらを使用する工程を含む、抗-TREM-1リガンド抗体を得るための方法。
【請求項１２】
a)TREM-1リガンド又はその誘導体を提供する工程；
b)非ヒト宿主において抗-TREM-1リガンド抗体を産生するB細胞を作出するために該リガンド又は誘導体を使用する工程；
c)ハイブリドーマを作製するために、該B細胞を腫瘍細胞と融合する工程：を含む、抗-TREM-1リガンド抗体を産生するハイブリドーマを得るための方法。
【請求項１３】
前記抗体が、請求項7記載のものである、抗-TREM-1リガンド抗体を作製するハイブリドーマ。
【請求項１４】
キメラ抗体の鎖をコードしている核酸分子を1種以上提供する工程、及び好適な発現系において該キメラ抗体を発現する該核酸分子を1種以上使用する工程を含む、TREM-1リガンドに対するキメラ抗体を作製する方法。
【請求項１５】
前記TREM-1リガンドがCD177である、請求項3記載の使用。
【請求項１６】
前記TREM-1リガンドがCD177である、請求項4記載の組成物。
【請求項１７】
前記TREM-1リガンドがCD177である、請求項5記載の化合物。
【請求項１８】
前記TREM-1リガンドがCD177である、請求項7記載の抗体。
【請求項１９】
前記TREM-1リガンドがCD177である、請求項13記載のハイブリドーマ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月22日(2011.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被分析物を分析する方法（２００）であって、
前記被分析物を含有する液体サンプルに励起電圧を印加するステップ（２１０）と、
前記励起電圧を印加した後の第１の時間セグメントの間に第１の電流を測定するステップ（２２０）と、
を含んで構成され、
前記励起電圧を印加した後の第２の時間セグメントの間に第２の電流を測定するステップ（２５０）と、
測定された前記第１の電流と、前記第１の時間セグメントに関連する第１の較正データ群と、に基づいて、複数の第１の被分析物濃度を算出するステップ（２８０）と、
測定された前記第２の電流と、前記第２の時間セグメントに関連する第２の較正データ群と、に基づいて、複数の第２の被分析物濃度を算出するステップ（２８０）と、
前記第１の被分析物濃度のうち少なくとも１つと、前記第２の被分析物濃度のうち少なくとも１つと、に基づいて、最終被分析物濃度を決定するステップ（２９０）と、
を更に含んで構成され、
前記第１の較正データ群及び前記第２の較正データ群は、それぞれ、異なるヘマトクリット値に関連する、分析方法。
【請求項２】
前記第１の時間セグメントは、前記印加の約２秒後以前から約１０秒後までの期間であり、前記第２の時間セグメントは、前記印加の約２秒後以降から約１０秒後までの期間である、請求項１記載の分析方法。
【請求項３】
前記励起電圧を印加した後の第３の時間セグメントの間に第３の電流を測定するステップと、
測定された前記第３の電流と、前記第３の時間セグメントに関連する第３の較正データ群と、に基づいて、複数の第３の被分析物濃度を算出するステップと、
前記第１の被分析物濃度及び前記第２の被分析物濃度のうち少なくとも１つと、前記第３の被分析物濃度のうち少なくとも１つと、に基づいて、最終被分析物濃度を決定するステップと、
を更に含んで構成される、請求項１記載の分析方法。
【請求項４】
前記液体サンプルは、グルコースオキシダーゼ及びグルコースデヒドロゲナーゼの少なくとも一方を含む酵素と、フェリシアン化カリウム及びヘキサアンミンルテニウムの少なく一方を含むメディエータと、を含有する、請求項１記載の分析方法。
【請求項５】
液体中の被分析物を分析するシステム（１００）であって、
前記被分析物を含有する液体サンプルに励起電圧を印加するように構成される電極群（２２，２４）と、
前記励起電圧を印加した後の第１の時間セグメントの間に第１の電流を測定する（２２０）ように構成されるプロセッサと、
を含んで構成され、
前記プロセッサは、
前記励起電圧を印加した後の第２の時間セグメントの間に第２の電流を測定し（２５０）、
測定された前記第１の電流と、前記第１の時間セグメントに関連する複数の第１の較正曲線と、に基づいて、複数の第１の被分析物濃度を算出し（２８０）、
測定された前記第２の電流と、前記第２の時間セグメントに関連する複数の第２の較正曲線と、に基づいて、複数の第２の被分析物濃度を算出し（２８０）、かつ、
前記第１の被分析物濃度のうち少なくとも１つと、前記第２の被分析物濃度のうち少なくとも１つと、に基づいて、最終被分析物濃度を決定する（２９０）
ように更に構成され、
前記複数の第１の較正曲線及び前記複数の第２の較正曲線は、それぞれ、異なるヘマトクリット値に関連する、分析システム。
【請求項６】
前記分析システムは、前記最終被分析物濃度を表す値を表示するように更に構成される、請求項５記載の分析システム。
【請求項７】
前記励起電圧を印加した後の第３の時間セグメントの間に第３の電流を測定し、
測定された前記第３の電流と、前記第３の時間セグメントに関連する複数の第３の較正曲線と、に基づいて、複数の第３の被分析物濃度を算出し、かつ、
前記第１の被分析物濃度及び前記第２の被分析物濃度のうち少なくとも１つと、前記第３の被分析物濃度のうち少なくとも１つと、に基づいて、最終被分析物濃度を決定する
ように構成されるプロセッサを、
更に含んで構成される、請求項５記載の分析システム。
【請求項８】
前記被分析物はグルコースであり、前記液体サンプルは血液を含む、請求項５記載の分析システム。
【請求項９】
前記液体サンプルは、グルコースオキシダーゼ及びグルコースデヒドロゲナーゼの少なくとも一方を含む酵素と、フェリシアン化カリウム及びヘキサアンミンルテニウムの少なく一方を含むメディエータと、を含有する、請求項５記載の分析システム。
【請求項１０】
前記電極群がテストストリップ（１０）に収容された、請求項５記載の分析システム。
【請求項１１】
前記プロセッサが測定器に収容された、請求項５記載の分析システム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月24日(2011.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の製造プロセスラインでウェブに複数の作業を行う工程と、
前記製造プロセスラインのそれぞれでデジタル情報を提供するために前記ウェブの連続部分を撮像する工程と、
前記製造プロセスラインのそれぞれの局所異常情報を生成するためにデジタル情報を処理する工程であって、前記製造プロセスラインのそれぞれの局所異常情報は、異常を含む前記ウェブ上の一連の領域の位置データを含む、デジタル情報処理工程と、
集合異常情報を生成するために前記複数の製造プロセスラインの局所異常情報の位置データを登録する工程と、
前記異常のいずれが前記ウェブに実際の欠陥をもたらすかを判定するために、前記集合異常情報の少なくとも一部分を解析する工程と、
変換制御計画を出力する工程と、を含む方法。
【請求項２】
前記位置データ登録工程が、前記製造ラインのそれぞれが処理を行った前記ウェブ上の区間に関して、前記複数の製造ラインから集められた前記位置データの間で、特定された許容誤差内での対応を作成する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記デジタル情報処理工程が、
（ｉ）前記製造プロセスラインの第１のラインで前記ウェブに１つ以上の作業を行うときに、前記異常を第１の座標系内に位置付けるために前記第１の製造プロセスに関連する前記デジタル情報から検知された前記異常の位置データを含むように第１の局所異常情報を生成する、工程と、
（ｉｉ）前記製造プロセスラインの第２のラインで前記ウェブに１つ以上の作業を行うときに、前記異常を第２の座標系内に位置付けるために前記第１の製造プロセスに関連する前記デジタル情報から検知された前記異常の位置データを含むように第２の局所異常情報を生成する工程と、を含み、
前記位置データ登録工程が、前記異常を前記第２の座標系から前記第１の座標系内の位置に再配置するために、前記第２の局所異常情報の位置データを変換する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月2日(2011.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料のウェブであって、
前記ウェブの位置情報を識別するための複数の基準マークを含み、
前記複数の基準マークの少なくとも１つは、製造データを表すための第１マークと前記基準マークを独自に識別するための第２マークとを有する合成基準マークである、材料のウェブ。
【請求項２】
前記製造データが、前記合成基準マークを適用した製造プロセスラインを示すシステム識別子（ＩＤ）と前記合成基準マークが適用されたときを示す年及び通日とのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の材料のウェブ。
【請求項３】
第１製造プロセス中に基準マークのセットをウェブに適用する工程と、
前記ウェブに適用されたとき、前記基準マークのそれぞれに関する位置を記録する工程と、
第２製造プロセス中に前記基準マークを検出する工程と、
前記第２製造プロセス中に基準マークを再適用して、現在の及びこれに続く製造プロセスに関する空間的位置合わせを可能にする工程と、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月1日(2011.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１セットの基準マークをウェブに適用する工程と、
複数の作業を前記ウェブ上で実施する工程と、
前記少なくとも１セットの基準マークを使用して第１座標系に従って、第１作業に関する第１セットのデジタル情報を生成する工程であって、前記第１セットのデジタル情報が、前記ウェブ上の第１セットの領域に関する位置データを含む、工程と、
前記少なくとも１セットの基準マークを使用して第２座標系に従って、第２作業に関する第２セットのデジタル情報を生成する工程であって、前記第２セットのデジタル情報が、前記ウェブ上の第２セットの領域に関する位置データを含む、工程と、
前記第１セットの領域の前記位置データと前記第２セットの領域に関する位置データとを位置合わせして集合データを作成する工程と、
変換制御計画を出力する工程と、を含む方法であって、
前記生成する工程が、Ｘ線、超音波、紫外線（ＵＶ）カメラ、ＵＶセンサ、赤外線（ＩＲ）カメラ、ＩＲセンサ、マシンビジョンシステム、β線厚さ計、物理的接触式センサ、超音波、スペクトル計器、スペクトルカメラ、静電容量測定器、干渉計センサ、ヘイズ測定、三次元（３Ｄ）表面測定装置、又はデジタル撮像装置のうちの少なくとも１つを使用してデジタル情報を生成することを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月22日(2011.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被分析物(210)を含有する液体サンプルに、励起電圧を印加するステップ、
複数の時点で前記励起電圧と関連する電流を測定するステップ、及び、
前複数の時点で前記励起電圧と関連する電流を測定するステップ、を含む被分析物の濃度を測定する方法(200)であって、
第１時間セグメントで測定した電流値を第１目標範囲と関連する電流値と比較するステップと、
前記第１測定電流値が前記第１目標範囲内にあるときは、前記第１測定電流値及び第１較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定するステップと、
前記第１測定電流値が前記第１目標範囲外にあるときは、第２較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定するステップと、
を含んで構成されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１測定電流値が前記第１目標範囲外にあるときは、第２時間セグメントで測定された電流値を第２目標範囲と関連する電流値と比較するステップと、
前記第２測定電流値が前記第２目標範囲内であるときは、前記第２測定電流値及び第２較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定するステップ（250）と、
前記第２測定電流値が前記第２目標範囲外にあるときは、第３較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定するステップ（270）と、
をさらに含んで構成される、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２測定電流値が前記第２目標範囲外にあるときは、第３分割時点で測定された電流値を第３目標範囲と関連する電流値と比較するステップ（260）と、
前記第３測定電流値が第３目標範囲内であるときは、前記第３測定電流値及び第３較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定するステップ（270）と、
前記第３測定電流値が前記第３目標範囲外にあるときは、第４分割時点で測定された電流値を第４目標範囲と関連する電流値と比較し、第４測定電流値及び第４較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定するステップと、
をさらに含んで構成される、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記液体サンプルは、酵素及びメディエータを含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記酵素は、グルコースオキシダーゼ及びグルコースデヒドロゲナーゼの少なくとも１つであり、前記メディエータは、フェリシアン化カリウム及びヘキサアンミンルテニウムの少なくとも１つである請求項４に記載の方法。
【請求項６】
液体サンプル中の被分析物の濃度を測定するシステム（100）であって、
前記被分析物を含有する液体サンプルに励起電圧を印加するよう形成された１組の電極（22,24）と、
前記プロセッサと、
を含んで構成され、
前記プロセッサは、
複数の時点で前記励起電圧と関連する電流を測定し（210）、
第１時間セグメントで測定した電流値を第１目標範囲と関連する電流値と比較し（220）、
前記第１測定電流値が前記第１目標範囲内にあるときは、前記第１測定電流値及び第１較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定し（230）、一方、前記第１測定電流値が前記第１目標範囲外にあるときは、第２較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定する（250,270）
ように構成される、
システム。
【請求項７】
前記プロセッサは、さらに、
前記第１測定電流値が前記第１目標範囲外にあるときは、第２時間セグメントで測定された電流値を第２目標範囲と関連する電流値と比較し（240）、
前記第２測定電流値が前記第２目標範囲内であるときは、前記第２測定電流値及び第２較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定し、一方、前記第２測定電流値が前記第２目標範囲外にあるときは、第３較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定する
ように構成される、
請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記プロセッサは、さらに、
前記第２測定電流値が前記第２目標範囲外にあるときは、第３分割時点で測定された電流値を第３目標範囲と関連する電流値と比較し、
前記第３測定電流値が第３目標範囲内であるときは、前記第３測定電流値及び第３較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定し、一方、前記第３測定電流値が前記第３目標範囲外にあるときは、第４分割時点で測定された電流値を第４目標範囲と関連する電流値と比較し、第４測定電流値及び第４較正曲線に基づいて被分析物濃度を決定する
ように構成される、
請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記液体サンプルは、酵素及びメディエータを含む請求項６に記載のシステム。
【請求項１０】
前記酵素は、グルコースオキシダーゼ及びグルコースデヒドロゲナーゼの少なくとも１つであり、前記メディエータは、フェリシアン化カリウム及びヘキサアンミンルテニウムの少なくとも１つである請求項９に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月19日(2011.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記レーザ照射源の反復周波数が１０Ｈｚ〜５０Ｈｚの範囲内にあることを特徴とする請求項４記載のリアルタイム分析装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
前記核放射測定のための核放射センサはシリコンドリフト検出器から成ることを特徴とする請求項２記載のリアルタイム分析装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記評価アルゴリズムに従って危険物質の存在の有無を判定する際に、
イオン化の発生を事象Ａとし、蛍光の発生を事象Ｂとし、後方散乱の発生を事象Ｃとするとき、
事象Ａ、事象Ｂ、及び事象Ｃが存在するならば、全種類の危険物質が存在するものと判定し、
事象Ａ及び事象Ｂが存在するならば、バクテリア胞子が存在するものと判定し、
事象Ａ及び事象Ｃが存在するならば、浮遊する有毒物質が存在するものと判定し、
事象Ａが存在するならば、無機物質の粒子が存在するものと判定し、
事象Ｂ及び事象Ｃが存在するならば、有毒有機揮発性化合物が存在するものと判定し、
事象Ｂが存在するならば、ウイルスが存在するものと判定し、
事象Ｃが存在するならば、有機及び無機揮発性化合物が存在するものと判定する、
ことを特徴とする請求項１３記載の分析方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2010534847.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月3日(2011.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記供給・評価部(10a) は、前記送信機(22)に電流パルスを供給し、前記受信機の信号を、訂正された位置座標に変換し、該位置座標をインターフェースを介して制御部(21)に出力するように構成されていることを特徴とする請求項３に記載の漏れ検出器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記プローブ(12)の本体(14)内に配置された前記位置決定システム(20)の前記受信機(17)は、前記プローブ(12)の本体(14)の位置及び方向の決定を可能にする複数のセンサを含んでおり、前記プローブの先端(16)の位置が、前記プローブ(12)の本体の位置及び方向に関するデータに基づいて得られることを特徴とする請求項３又は４に記載の漏れ検出器。