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【手続補正書】
【提出日】平成22年11月16日(2010.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板の上に設けられた絶縁膜層をエッチングするための装置であって、
チャンバ壁と、
前記チャンバ壁の中にエッチャントガスを供給するエッチャントガスソースと、
前記チャンバ壁の中に設けられプラズマ領域を取り囲む複数の閉じ込めリングであって、それぞれが互いに間隔を開けて設けられ前記チャンバ壁から離れてプラズマ領域を閉じ込める閉じ込めリングと、
前記エッチャントガスを活性化させ、局所プラズマを生成する局所プラズマデバイスと
を備える絶縁膜エッチングチャンバと、
前記絶縁膜チャンバに接続し、前記絶縁膜エッチングチャンバの内部に反応物質を供給する遠隔プラズマソースと
を備える装置。
【請求項２】 請求項１に記載の装置であって、
前記エッチャントガスはフッ化炭素を備える装置。
【請求項３】 請求項２に記載の装置であって、
前記エッチャントガスはさらに酸素を備える装置。
【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の装置であって、
前記遠隔プラズマソースは、
遠隔プラズマガスソースと、
前記遠隔プラズマガスソースからの前記ガスを活性化させ、プラズマを生成する遠隔プラズマ活性化デバイスと
を備える装置。
【請求項５】 請請求項４に記載の装置であって、
前記遠隔プラズマガスソースからの前記ガスは、酸素、窒素、および水素からのものである装置。
【請求項６】 請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の装置であって、さらに、
前記チャンバ壁を８０度から３００度の範囲の温度まで加熱するためのヒータを備える装置。
【請求項７】 請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の装置であって、さらに、
前記チャンバ壁を１２０度から２００度の範囲の温度まで加熱するためのヒータを備える装置。
【請求項８】 請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の装置であって、さらに、
前記チャンバ壁を１５０度に加熱するためのヒータを備える装置。
【請求項９】  基板の上に設けられた絶縁膜層を少なくとも部分的にエッチングするための方法であって、前記絶縁膜層は、エッチングマスクの下に設けられた部分と、前記エッチングマスクの下に設けられていない部分とを有し、
前記基板をエッチングチャンバの中に配置する工程と、
エッチャントガスを前記エッチングチャンバに流し込む工程と、
前記エッチングチャンバの中で前記エッチャントガスから局所プラズマを生成する工程と、
前記エッチングマスクの下に設けられていない部分の絶縁膜層をエッチングして除去する工程と、
遠隔プラズマソースの中で遠隔プラズマを生成する工程と、
前記遠隔プラズマを前記エッチングチャンバに流し込む工程と、
前記遠隔プラズマを使用し、前記基板が前記エッチングチャンバの中にある状態で、前記エッチングマスクを剥離する工程と、
前記基板を前記エッチングチャンバから取り出す工程と
を備える方法。
【請求項１０】  請求項９に記載の方法であって、さらに、
前記基板を前記エッチングチャンバから取り出す工程の後に、前記エッチングチャンバを洗浄するプラズマを供給する工程を備える方法。
【請求項１１】  請求項９または請求項１０に記載の方法であって、
前記エッチャントガスはさらに酸素を備える方法。
【請求項１２】  請求項９ないし請求項１１のいずれかに記載の方法であって、さらに、
前記遠隔プラズマを前記エッチングチャンバに流し込む工程の前に、前記エッチングチャンバへの前記エッチャントガスの流れを中断させる工程を備える方法。
【請求項１３】  請求項９ないし請求項１２のいずれかに記載の方法であって、
前記遠隔プラズマソースで生成された前記遠隔プラズマは、酸素、窒素、および水素よりなる群からのガスである方法。
【請求項１４】  請求項１０に記載の方法であって、
前記エッチングチャンバをプラズマ洗浄する工程は、エッチングチャンバ壁を８０度を超える温度まで加熱する工程を備える方法。
【請求項１５】  請求項１４に記載の方法であって、
前記エッチングチャンバを洗浄するためにプラズマを準備する工程は、さらに、
前記遠隔プラズマソースの中で遠隔プラズマを生成する工程と、
前記遠隔プラズマを前記エッチングチャンバに流し込む工程と、
前記遠隔プラズマを使用し、前記加熱されたチャンバ壁から残留物を除去する工程と
を備える方法。
【請求項１６】  請求項１０、請求項１４、および請求項１５のいずれかに記載の方法であって、さらに、
前記プラズマを閉じ込めリングの中に閉じ込める工程を備え、
前記エッチングチャンバをプラズマ洗浄する工程は、
前記エッチャントガスを前記エッチングチャンバに流し込む工程と、
前記エッチングチャンバの中で前記エッチャントガスから局所プラズマを生成する工程と、
前記エッチャントガスからの前記局所プラズマを使用し、前記閉じ込めリングから残留物を除去する工程と
を備える方法。
【請求項１７】 請求項１０および請求項１４ないし請求項１６のいずれかに記載の方法であって、
前記エッチングチャンバを洗浄するためにプラズマを準備する工程は、
エッチングチャンバ壁を８０度に加熱する工程と、
遠隔プラズマソース内に遠隔プラズマを発生させる工程と、
前記エッチングチャンバに前記遠隔プラズマを導く工程と、
前記遠隔プラズマを使用し、前記加熱されたチャンバ壁から残留物を除去する工程と
を含む方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年7月7日(2011.7.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  アルカリ金属水酸化物、酸化亜鉛及びアルカリ金属フッ化物又はフッ化水素から水相でアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を製造する方法において、
ａ）微粒子状のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を製造するために、アルカリ金属水酸化物と酸化亜鉛を混合して懸濁液を作りかつフッ化水素を加える、又は
ｂ）中間微粒子状のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を製造するために、フッ化水素と酸化亜鉛を相互に混合しかつアルカリ金属水酸化物を加える、又は
ｃ）粗粒子状のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を製造するために、フッ化水素と酸化亜鉛を相互に混合しかつアルカリ金属フッ化物を加える
ことを特徴とする、アルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩の製造方法。
【請求項２】  アルカリ金属水酸化物を酸化亜鉛と水相で混合して懸濁液とし、かつ該懸濁液をフッ化水素と反応させ、その際微粒子状のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を形成する、微粒子状アルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を製造するための請求項１記載の方法。
【請求項３】  ＨＦ２０〜４０質量％の濃度を有するフッ化水素酸としてフッ化水素を使用することを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】  フルオロ亜鉛酸カリウムを製造しかつ水酸化カリウムから出発する、請求項１から３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】  中間微粒子状のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を製造し、水酸化物との反応を７０〜９０℃の範囲内の温度で行う請求項４記載の方法。
【請求項６】  水酸化カリウムを水酸化カリウム水溶液として使用する、請求項１記載の方法。
【請求項７】  粗粒子状のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を製造し、２５〜４０質量％の範囲内の濃度を有するアルカリ金属フッ化物の水溶液を使用する請求項１記載の方法。
【請求項８】  粗粒子状のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を製造し、アルカリ金属フッ化物を７０〜９０℃の温度で添加する請求項１記載の方法。
【請求項９】  Ｋ：Ｚｎの原子比が１：１±０．０５でありかつ（Ｋ＋Ｚｎ）：Ｆの原子比が１：３±０．０５の範囲内にある、請求項１記載の方法。
【請求項１０】  形成されたアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を分離しかつ乾燥する、請求項１記載の方法。
【請求項１１】  アルカリ金属水酸化物及び酸化亜鉛からなる懸濁液の製造を１５〜８５℃の範囲内の温度で実施しかつ中間生成物とフッ化水素との反応を９０℃までの温度で実施する、請求項２記載の方法。
【請求項１２】  全ての粒子の５０％が直径＜５μｍを有する、レーザー回折により測定された粒子スペクトルを有する、請求項１から１１までのいずれか１項記載の方法に基づき得られた、微粒子状アルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩。
【請求項１３】  アルカリ金属がカリウムである、請求項１２記載のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩。
【請求項１４】  フルオロ亜鉛酸カリウムであり、全ての粒子の５０％が直径＜３．８μｍを有する、レーザー回折により測定された粒子スペクトルを有する、請求項１３記載のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩。
【請求項１５】  粒子の５０％が＜１１μｍの直径を有する、レーザー回折により測定された粒子スペクトルを有する、請求項１記載の方法に基づき得られた、中間微粒子状アルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩。
【請求項１６】  全ての粒子の５０％が＞１１μｍの直径を有する、レーザー回折により測定された粒子スペクトルを有する、請求項１記載の方法に基づき得られた、粗粒子状アルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩。
【請求項１７】  請求項１２から１６までのいずれか１項記載のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩の、アルミニウムろう付けの際のろう付け融剤として又はろう付け融剤添加物としての使用。
【請求項１８】  静電気塗布（湿式フラクシング）のための、請求項１７記載の微粒子状又は中間微粒子状のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩の使用。
【請求項１９】  乾式フラクシングの際の静電気塗布のための、請求項１７記載の中間微粒子状又は粗粒子状のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩の使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
粗粒子状のアルカリ金属フルオロ亜鉛酸塩を製造するための第３の変法は、まずフッ化水素を酸化亜鉛を反応させ、かつ次いでアルカリ金属フッ化物を加える。この場合も、アルカリ金属は有利にはカリウムを表す。フッ化水素を、有利には水溶液中で使用し、有利な濃度は第１の変法と同じである。アルカリ金属フッ化物は同様に有利には水溶液中で使用される。有利な濃度は、２５〜４０質量％、特に２８〜３２質量％の範囲内にある。第１の反応工程の温度は、第１変法及び第２変法と同じ範囲内にある。次いで、アルカリ金属フッ化物の添加は、有利には７０〜９０℃の温度で行う。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
粒度：ｘ５０＝９．４７μｍ
ｘ９０＝２５．７５μｍ
実施例３：
粗粒子状生成物
実施例１と同様に製造したが、但しこの場合にはバッチ１をＨＦ溶液と酸化亜鉛との反応により製造し、バッチ２は水中のＫＦからなる溶液である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年3月16日(2011.3.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
示されているように、ミラー１の前面においては、傾斜前面がない場合には好ましくない反射が通常起こる。この場合、ここで反射されるビームは、ミラー１の多層構造２、３において反射されるビームと干渉する。この干渉は、反射性及びミラーの相特性の明らかなひずみをもたらす。これらの干渉効果を避けるために、上述のように前面５を他の複数の界面６に対して傾斜させて配置し、それによってそれぞれミラー１の前面５又は５’で反射されたビーム９が、それぞれ前面５又は５’の傾斜αの２倍の角度で反射する。この様式では、この斜めに反射したビーム９が、少なくとも比較的短い距離では全く干渉要素とはならない。これは、それぞれ前面５又は５’の傾斜角、及び入射ビーム７の直径に依存して、ビーム９が、数センチメートル程度の比較的短い距離の伝播で、有益なビーム７及び８から完全に分離され、それによってこの距離から、相を乱す干渉効果がもはや起こらないことによる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月19日(2010.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象を画像化するための方法であって、該方法は、
ａ．空間的配向が変化するビームで該対象を照射するように、別個のカーボンナノチューブＸ線供給源のアレイを所定の時間的パターンで起動することと、
ｂ．該対象との相互作用後に該ビームのＸ線を検出し、検出器信号を生成することと、
ｃ．該検出器信号の時間変化に基づいて、該対象の画像を構築することと
を包含する、方法。
【請求項２】
前記別個のカーボンナノチューブＸ線供給源のアレイを移動させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記別個のカーボンナノチューブＸ線供給源のアレイを１つの軸の周りで回転させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記別個のカーボンナノチューブＸ線供給源のアレイを平行移動させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記別個のカーボンナノチューブＸ線供給源のアレイは、アレイ軸を特徴とし、前記アレイを平行移動させるステップは、該アレイ軸を実質的に横断する方向に該アレイを平行移動させることを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記所定の時間的パターンは、アダマール符号を構成する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記対象との相互作用後にＸ線を検出するステップは、該対象によって散乱されたＸ線を検出することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記別個のカーボンナノチューブＸ線供給源を起動するステップは、電界放出供給源を起動することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記別個のカーボンナノチューブＸ線供給源を起動するステップは、複数の電界放出供給源を起動することを含み、それぞれの電界放出供給源は反射標的を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記別個のカーボンナノチューブＸ線供給源を起動するステップは、複数の電界放出供給源を起動することを含み、それぞれの電界放出供給源は伝送標的を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
対象を検査するための検査システムであって、該検査システムは、
ａ．複数の別個のカーボンナノチューブ透過性放射線供給源の線形アレイと、
ｂ．該検査される対象により散乱される透過性放射線の検出に基づいて、散乱信号を生成するように構成される少なくとも１つの散乱検出器と、
ｃ．該散乱信号を受信し、該対象の画像を生成するためのプロセッサと
を備えている、検査システム。
【請求項１２】
対象を検査するための方法であって、該方法は、
ａ．複数の別個のカーボンナノチューブ透過性放射線供給源の線形アレイにより該対象を照射することと、
ｂ．該検査される対象により散乱される透過性放射線の検出に基づいて、散乱信号を生成することと、
ｃ．該対象の画像を生成するために該散乱信号を処理することと
を包含する、方法。
【請求項１３】
前記複数の線形アレイによる照射の際、前記対象を移動させることをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
上述の全ての本発明の実施形態は、単に例示を意図したものであり、多くの変形および修正が当業者にとって明白である。全てのこのような変形および修正は、添付の特許請求の範囲のいずれかに定義されるように、本発明の範囲内であるものと意図される。
例えば、本発明は、以下の項目を提供する。
（項目１）
対象を画像化するための方法であって、該方法は、
ａ．空間的配向が変化するビームで該対象を照射するように、離散Ｘ線供給源のアレイを所定の時間的パターンで起動するステップと、
ｂ．該対象との相互作用後に、該ビームのＸ線を検出して検出信号を生成するステップと、
ｃ．該検出信号の時間変化に基づいて、該対象の画像を構築するステップと
を包含する、方法。
（項目２）
上記離散Ｘ線供給源のアレイを移動させるステップをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目３）
上記離散Ｘ線供給源のアレイを１つの軸の周囲で回転させるステップをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目４）
上記離散Ｘ線供給源のアレイを平行移動させるステップをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目５）
上記離散Ｘ線供給源のアレイは、アレイ軸を特徴とし、上記アレイを平行移動させるステップは、該アレイ軸を実質的に横断する方向に該アレイを平行移動させるステップを含む、項目４に記載の方法。
（項目６）
上記所定の時間的パターンは、アダマール符号を構成する、項目１に記載の方法。
（項目７）
上記対象との相互作用後に上記Ｘ線を検出するステップは、該対象によって散乱されたＸ線を検出するステップを含む、項目１に記載の方法。
（項目８）
上記離散Ｘ線供給源を起動するステップは、電解放出供給源を起動するステップを含む、項目１に記載の方法。
（項目９）
上記離散Ｘ線供給源を起動するステップは、複数の電解放出供給源を起動するステップを含み、それぞれの電解放出供給源は反射標的を含む、項目８に記載の方法。
（項目１０）
上記離散Ｘ線供給源を起動するステップは、複数の電解放出供給源を起動するステップを含み、それぞれの電解放出供給源は伝送標的を含む、項目８に記載の方法。
（項目１１）
対象を検査するための検査システムであって、該検査システムは、
ａ．複数の離散透過性放射線供給源の線形アレイと、
ｂ．該検査される対象により散乱される透過性放射線の検出に基づいて、散乱信号を生成するように構成される少なくとも１つの散乱検出器と、
ｃ．該散乱信号を受信して該対象の画像を生成するためのプロセッサと
を備える、検査システム。
（項目１２）
上記離散透過性放射線供給源は、カーボンナノチューブＸ線供給源である、項目１１に記載の検査システム。
（項目１３）
対象を検査するための方法であって、該方法は、
ａ．複数の離散透過性放射線供給源の線形アレイにより該対象を照射するステップと、
ｂ．該検査される対象により散乱される透過性放射線の検出に基づいて、散乱信号を生成するステップと、
ｃ．該対象の画像を生成するために該散乱信号を処理するステップと
を包含する、方法。
（項目１４）
上記複数の線形アレイによる照射の際、上記対象を移動させるステップをさらに含む、項目１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月18日(2011.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリア基板（１）と、
キャリア基板（１）と部品構造（５０）との間の付着に介在する中間層（２）と、
を備え、
前記部品構造（５０）は、放射を起こすための活性層（５）と、前記中間層（２）と前記活性層（５）との間に配置された有用層（３）と、を含み、
前記有用層（３）は、前記キャリア基板（１）から離れた分離領域（４）を有し、
前記分離領域（４）は、前記部品構造（５０）でエピタキシャル成長される、
ことを特徴とする光電子半導体部品。
【請求項２】
前記中間層（２）は、電気的に絶縁されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の光電子半導体部品。
【請求項３】
前記中間層（２）は、前記有用層（３）を形成する材料の屈折率よりも低い屈折率を有する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項４】
前記中間層（２）は、前記キャリア基板（１）と前記部品構造（５０）との電気的なコンタクトに介在する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項５】
前記中間層（２）は、前記活性層（５）で発生した電磁放射に対して、少なくとも部分的に伝達性を有する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項６】
前記中間層（２）は、透明な導電性酸化物を含む、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項７】
前記中間層（２）の屈折率は、前記有用層（３）を形成する材料の屈折率、及び／又は前記キャリア基板（１）を形成する材料の屈折率にほぼ等しい、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項８】
前記中間層（２）は、誘電性ミラーを含む、又は誘電性ミラーである、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項９】
前記中間層（２）は、ブラッグミラーを含む、又はブラッグミラーである、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項１０】
前記中間層（２）は、少なくともＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＨｆＯ２の１つを含む、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項１１】
前記中間層（２）は、ボンディング層である、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項１２】
前記中間層（２）から離れた前記部品構造（５０）の他側に配置された分離ミラー（１３）を備える、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項１３】
前記中間層（２）と前記分離ミラー（１３）との距離は、最大でも１０μｍである、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項１４】
透明な導電性酸化物を含むコンタクト層（７）が、前記部品構造（５０）と前記分離ミラー（１３）との間に配置される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電子半導体部品。
【請求項１５】
ｄを前記コンタクト層（７）の厚さ、λを前記活性層（５）で発生した電磁放射の波長、ｎＫＳを前記コンタクト層（７）の材料の屈折率、ｍを自然数とするとき、次の関係、
ｄ＝（ｍλ／２）／ｎＫＳ
を満足する、
ことを特徴とする請求項１４に記載の光電子半導体部品。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月16日(2010.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
剤が、甘味閾値以上の濃度の、知られたまたは事前に決定された甘味物質と、甘味閾値の近傍または僅かに下の濃度で混合された場合に、前記剤と前記知られたまたは事前に決定された甘味物質との混合物の甘味を、前記甘味物質のみまたは前記剤のみ含有する混合物の甘味と比較して相加的以上に増強する剤であって、
前記剤が、前記剤の存在下での味覚受容体の活性アッセイによって生成されるシグナルと前記剤の非存在下での味覚受容体の活性アッセイによって生成されるシグナルとを比較して同定可能であり、
前記味覚受容体の活性アッセイが、味覚受容体のビーナスフライトラップドメインに結合する剤を除外しながら、味覚受容体の膜貫通ドメインに結合する剤を同定することを含む、前記剤。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月16日(2010.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペリラルチンと結合でき、ペリラルチンにより活性化され得るＴ１Ｒ２−ＴＭＤ甘味受容体であって、１または２以上の
配列番号２と実質的に相同なポリペプチド、
配列同一性によって決定される、配列番号1に記載のヌクレオチド配列と実質的に相同なヌクレオチド配列によってコードされるポリペプチド、
ハイブリダイゼーションによって決定される、配列番号２に記載のポリペプチドをコードするヌクレオチド配列と実質的に相同なヌクレオチド配列によってコードされるポリペプチド、
ヌクレオチド配列同一性によって決定される、配列番号２に記載のポリペプチドをコードするヌクレオチド配列に実質的に相同なヌクレオチド配列によってコードされるポリペプチド、
を含み、
ここで、実質的に相同なポリペプチドは少なくとも７４％の配列同一性を有し、
配列同一性によって決定される実質的に相同なヌクレオチドは、少なくとも６５％の配列同一性を有し、および
ハイブリダイゼーションによって決定される実質的に相同なヌクレオチドは、５０％のホルムアミド、５×ＳＳＣ、および１％のＳＤＳからなる溶液中での４２℃の温度、ならびに０．２×ＳＳＣおよび０．１％のＳＤＳからなる溶液中での６５℃での洗浄のストリンジェントなハイブリダイゼーション条件下でハイブリダイズし、
ただし、Ｔ１Ｒ２−ＴＭＤ受容体は１または２以上の
配列番号１０または配列番号１２と相同なポリペプチド、
配列同一性によって決定される、配列番号９または配列番号１１に記載のヌクレオチド配列と相同なヌクレオチド配列によってコードされるポリペプチド、
ハイブリダイゼーションによって決定される、配列番号１０または配列番号１２に記載のポリペプチドをコードするヌクレオチド配列と相同なヌクレオチド配列によってコードされるポリペプチド、
ヌクレオチド配列同一性によって決定される、配列番号１０または配列番号１２に記載のポリペプチドをコードするヌクレオチド配列と相同なヌクレオチド配列によってコードされるポリペプチド、
を含まず、
ここで、配列番号１０または配列番号１２と相同なポリペプチドは少なくとも６０％の配列同一性を有し、
配列同一性によって決定される、配列番号９または配列番号１１に記載のヌクレオチド配列に相同なヌクレオチド配列は、少なくとも５０％の配列同一性を有し、
ハイブリダイゼーションによって決定される、配列番号９または配列番号１１に記載のヌクレオチド配列に相同なヌクレオチド配列は、５０％のホルムアミド、５×ＳＳＣ、および１％のＳＤＳからなる溶液中での４２℃の温度、ならびに０．２×ＳＳＣおよび０．１％のＳＤＳからなる溶液中で４２℃での洗浄の中程度にストリンジェントなハイブリダイゼーション条件下でハイブリダイズする、
前記甘味受容体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月12日(2010.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６４】
（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−３−アミノ−５−（２，６−ジクロロ−プリン−９−イル）−シクロペンタン−１，２−ジオール・トリフルオロアセテート
表題化合物を、（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−３−（ジ−Ｂｏｃ−アミノ）−５−（２，６−ジクロロ−プリン−９−イル）−シクロペンタン−１，２−ジオールから、実施例１の（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，５Ｒ）−３−アミノ−５−（６−アミノ−２−クロロ−プリン−９−イル）−シクロペンタン−１，２−ジオール・トリフルオロアセテートを製造するために用いる方法と類似の方法を用いて製造する。ＭＳ（ＥＳ＋）ｍ／ｅ３０４（ＭＨ＋）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２４８】
実施例４８
９−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２，３−ジヒドロキシ−４−プロピオニルアミノ−シクロペンチル）−６−（２，２−ジフェニル−エチルアミノ）−９Ｈ−プリン−２−カルボン酸［２−（３−ピペリジン−４−イル−ウレイド）−エチル］−アミド
４−［３−（２−｛［９−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２，３−ジヒドロキシ−４−プロピオニルアミノ−シクロペンチル）−６−（２，２−ジフェニル−エチルアミノ）−９Ｈ−プリン−２−カルボニル］−アミノ｝−エチル）−ウレイド］−ピペリジン−１−カルボン酸ベンジルエステル
クロロホルム（５ｍｌ）中、９−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２，３−ジヒドロキシ−４−プロピオニルアミノ−シクロペンチル）−６−（２，２−ジフェニル−エチルアミノ）−９Ｈ−プリン−２−カルボン酸（２−アミノ−エチル）−アミド（０．１ｇ、１７４ｍｍｏｌ）の溶液に、クロロホルム（５ｍｌ）中、４−イソシアネート−Ｚ−ピペリジン（０．０４５ｇ、０．１７４ｍｍｏｌ）を添加する。反応混合物を室温で一晩撹拌し、次いでメタノールを添加して、残りのイソシアネートをクエンチする。溶媒を真空下で除去して、表題化合物を得て、それをさらなる精製なしに次工程に用いる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月17日(2010.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製剤中に存在する少なくとも１つの他成分に伴う毒性を低減させるための、前記製剤中での、式（Ｉ）
ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１Ｒ２  （Ｉ）
の化合物の、使用であって、
式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ２〜６アルケニルまたはＣ３〜６シクロアルキルであるか；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが結合している窒素原子とともに、ピロリジニル環、ピペリジニル環またはアゼパニル環を形成する、使用。
【請求項２】
界面活性剤に伴う毒性を低減するための、請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物の使用。
【請求項３】
前記界面活性剤がラウリル硫酸ナトリウムである、請求項２に記載の式（Ｉ）の化合物の使用。
【請求項４】
農薬製剤における溶媒としての、式（Ｉ）
ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１Ｒ２  （Ｉ）
の化合物の使用であって、
式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素であるか；またはそれぞれがフェニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜５アルコキシ、モルホリニルおよびＮＲ３Ｒ４（Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立してＣ１〜３アルキルである）から独立して選択される３個以下の置換基により場合によって置換されているＣ１〜６アルキル、Ｃ２〜６アルケニルまたはＣ３〜６シクロアルキルであるか；またはＣ１〜３アルキルから独立して選択される３個以下の置換基により場合によって置換されているフェニルであるか；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが結合している窒素原子とともに、それぞれがＣ１〜３アルキルから独立して選択される３個以下の置換基により場合によって置換されているモルホリニル環、ピロリジニル環、ピペリジニル環またはアゼパニル環を形成するが、但し、Ｒ２がメチルであるとき、Ｒ１はメチルではない、使用。
【請求項５】
Ｒ１およびＲ２が、それぞれ独立して、水素、またはＣ１〜６アルキル、Ｃ２〜６アルケニルもしくはＣ３〜６シクロアルキルである、請求項１、２、３または４に記載の式（Ｉ）の化合物の使用。
【請求項６】
Ｒ１がメチルであり、Ｒ２が、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ２〜６アルケニルまたはＣ３〜６シクロアルキルである、請求項５に記載の式（Ｉ）の化合物の使用。
【請求項７】
溶媒としての、式（Ｉ）
ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１Ｒ２  （Ｉ）
の化合物の使用であって、
Ｒ１がメチルであり、Ｒ２が、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ２〜６アルケニルまたはＣ３〜６シクロアルキルである、使用。
【請求項８】
Ｒ１がメチルであり、Ｒ２がＣ１〜４アルキルである、請求項６または７に記載の式（Ｉ）の化合物の使用。
【請求項９】
Ｒ１が水素である、請求項５に記載の式（Ｉ）の化合物の使用。
【請求項１０】
式（Ｉ）
ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１Ｒ２  （Ｉ）
の化合物であって、
式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ２〜６アルケニルまたはＣ３〜６シクロアルキルであるか；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが結合している窒素原子とともに、アゼパニル環を形成するが、
但し、
Ｒ２が水素であるとき、Ｒ１は水素、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｎ−アミル、ｉｓｏ−アミル、ｉｓｏ−ブチレニル、ｎ−ヘキシル、１，３−ジメチルブチル、アリルまたはシクロヘキシルではなく、
Ｒ２がメチルであるとき、Ｒ１はメチルまたはアリルではなく、
Ｒ２がエチルであるとき、Ｒ１はエチルではなく、
Ｒ２がｎ−ブチルであるとき、Ｒ１はｎ−ブチルではなく、
Ｒ２がｉｓｏ−ブチルであるとき、Ｒ１はｉｓｏ−ブチルではなく、
Ｒ２がｎ−アミルであるとき、Ｒ１はｎ−アミルではなく、
Ｒ２がｉｓｏ−アミルであるとき、Ｒ１はｉｓｏ−アミルではなく、
Ｒ２がｎ−へキシルであるとき、Ｒ１はｎ−へキシルではなく、
Ｒ２がアリルであるとき、Ｒ１はアリルではない、
化合物。
【請求項１１】
Ｒ１およびＲ２が、それぞれ独立して、水素、またはＣ１〜６アルキル、Ｃ２〜６アルケニルもしくはＣ３〜６シクロアルキルである、請求項１０に記載の式（Ｉ）の化合物。
【請求項１２】
Ｒ１が水素である、請求項１１に記載の式（Ｉ）の化合物。
【請求項１３】
ラクチドを式（ＩＩ）
ＨＮＲ１Ｒ２  （ＩＩ）
の化合物と反応させるステップを含む
（式中、Ｒ１およびＲ２は、請求項１０に記載のとおりである）
請求項１０に記載の式（Ｉ）の化合物の製造方法。
【請求項１４】
ＯＲ５が離脱基である式（ＩＩＩ）
ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ５  （ＩＩＩ）
の化合物を、
Ｒ１およびＲ２が、請求項１０に記載のとおりである式（ＩＩ）
ＨＮＲ１Ｒ２（ＩＩ）
の化合物と反応させるステップを含む、請求項１０に記載の式（Ｉ）の化合物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月28日(2009.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）組成物重量の約２．５％から約３０％の陽イオン性繊維柔軟剤［但し、陽イオン性繊維柔軟剤が式（Ｉ）を有する
【化１】
2009534544.tif 000001
（式中、各Ｒ１基は、Ｃ１−４アルキル、ヒドロキシアルキルまたはＣ２−４アルケニル基から独立に選択され；各Ｒ２基はＣ８−２８アルキルまたはアルケニル基から独立に選択され；
Ｔは
【化２】
2009534544.tif 000002
であり；
Ｘ−は、ハロゲン化物または硫酸アルキル、例えば、塩化物、硫酸メチルまたは硫酸エチルなどの陽イオン性界面活性剤と相容性の任意の陰イオンであり；ｎは０または１−５の整数である）という条件であり、および各Ｒ１がメチル基である場合、陽イオン性繊維柔軟剤は少なくとも約１０％の量で存在する］；
（ｂ）組成物重量の約０．０５％から約２％の、約５，０００から約１００，０００Ｄａより小さい平均分子量を有する水溶性カルボキシメチルセルロースナトリウム；
を含む、水性リンス剤添加繊維処理組成物。
【請求項２】
陰イオン性および非イオン性界面活性剤からなる群から選択される洗剤用界面活性剤を２％未満含む、請求項１の組成物。
【請求項３】
カルボキシメチルセルロースが、約０．５から約１．５の置換度を有する、請求項１の組成物。
【請求項４】
組成物のｐＨが、約２．５から約４．５の範囲である、請求項１の組成物。
【請求項５】
さらに脂肪酸を含む、請求項１の組成物。
【請求項６】
カルボキシメチルセルロースが、組成物重量の少なくとも０．３％の量で存在する、請求項１の組成物。
【請求項７】
安定な分散体の形態である、請求項１の組成物。
【請求項８】
少なくとも１年間室温において安定である、請求項７の組成物。
【請求項９】
カルボキシメチルセルロースの平均分子量が約１０，０００から約９０，０００Ｄａである、請求項１の組成物。
【請求項１０】
カルボキシメチルセルロースが、約９０，０００Ｄａの平均分子量と約０．７の置換度を有する、請求項１の組成物。
【請求項１１】
蛍光増白剤、色移り防止剤、シクロデキストリン、プロフラグランス、シリコーン、染料固定剤，ＵＶ吸収剤、およびこれらの混合物からなる群から選択される成分をさらに含む、請求項１の組成物。
【請求項１２】
請求項１の組成物を含むリンス溶液を用いて繊維をリンスすることを含む、繊維の洗濯中の汚れ再付着防止の方法。
【請求項１３】
請求項１の組成物を含むリンス溶液を用いて繊維をリンスすることにより、繊維に繊維処理利益を提供する方法。
【請求項１４】
請求項１の組成物を含むリンス溶液を用いて繊維をリンスすることを含む、繊維上への芳香付着を改良する方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年3月14日(2011.3.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４】
前記くぼみ（３１）は、前記バランシングシャフト（１１）の長手方向に関し対称的に構成されるか、あるいは前記軸受（１６，１７）の前記走行面（１８）により羽根車状を形成することを特徴とする請求項１記載のバランシングシャフト。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１４】
前記走行リング（３９）は、前記軸受（１６，１７）の部分的に形成された前記走行面（１８）にプレスされて、形状結合および／または嵌め結合されるか、または、前記走行リング（３９）は、前記軸受（１６，１７）に材料一体化結合されることを特徴とする請求項１３に記載のバランシングシャフト。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１５】
前記軸受（１６，１７）は前記走行リング（３９）を受け、前記走行リング（３９）は縁が開いた状態で、前記軸受（１６，１７）の部分的に構成された前記走行面（１８）を取り囲み、形状結合及び／又は嵌め結合及び／又は材料一体化結合によって配置されることを特徴とする請求項１に記載のバランシングシャフト。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
軸受の更に他の代替実施形態は、軸受の周囲に部分的に延びる走行面により羽根車状の断面を形成するためにくぼみを備える。これは、潤滑液の輸送に極めて有利である。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
保持される軸受位置を取り囲む走行リングが、軸受に対する形状結合及び／又は嵌め結合によって形成されると有利である。これにより、走行リングを追加の操作で軸受に容易に固定することができる。特に嵌め結合の場合は、走行面を確実に受けるために、少なくとも１８０°の周囲角を有する軸受を形成することが好ましい。代替として、走行リング内の軸受の近くに内方を向く突出部を設けてもよく、これにより、１８０°未満の走行面の周囲角で嵌め結合とし、同時に形状結合が可能になる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
本発明の更に他の代替構成によれば、材料一体化結合によって軸受上に保持される走行リングが設けられる。このタイプの材料一体化結合は、はんだ付け又は溶接工程によって作成することができる。材料一体化結合では、走行面の部分的周囲角はほとんど周囲を取り囲むことができず、従って、走行面は、アンバランスの結果として負荷が最も大きくなる周囲角で軸受面に対する支持が容易になるように向けられる。更に、代替として、走行リングは、走行面に対して形状結合及び／又は嵌め結合及び／又は材料一体化結合によって設けられてもよい。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
図１０は、図９の代替実施形態としての軸受１６、１７の概略断面図である。くぼみ３１は、走行面１８と共に、羽根車状の断面を形成し、それにより潤滑剤の巻き込みが強化される。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
図１５から図１７は、図７から図９による前述のバランシングシャフト１１に対するバランシングシャフト１１の更に他の代替実施形態を示す。更に、図７から図９によるバランシングシャフト１１に走行面１８を取り囲む走行リング３９を有する。これにより、エンジンユニットにおいて、バランシングシャフト１１を、滑り軸受、具体的にはころ軸受又は転がり軸受として構成された軸受用に修正することができる。それでも、くぼみ３１のために、軸受１６、１７の重量の減少が実現される。１つの実施形態によれば、走行リング３９は、バランシングシャフト３１の挿入前に走行面１８にプレスされる。この実施形態では、走行面１８の周囲角が１８０°より大きくなるように構成されることが好ましい。代替として、内方に突出し、走行面１８の一部分又は走行面１８の自由端に作用し、従って嵌め結合及び形状結合を生成する突出部を有するように走行リング３９を作成してもよい。後の実施形態では、走行面１８は、１８０°未満のラップ角を有してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月30日(2011.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ある時間間隔中に処理チャンバー内で、少なくとも１つのゾーンを含む基板の温度を制御する方法において、
上記時間間隔の前に上記基板の各ゾーンの温度を測定するステップと、
上記時間間隔に対する各ゾーンの瞬時加熱率を、少なくとも１つの先行する時間間隔における各ゾーンの熱的振舞いに基づいて計算するステップと、
上記瞬時加熱率に基づいて上記時間間隔の終了までに各ゾーンを望ましい温度にもっていくために各ゾーンに対する入力電力を決定するステップと、
各ゾーンに対する上記入力電力を各それぞれのゾーンに印加するステップと、
を備えた方法。
【請求項２】
上記基板の温度は、約５００℃より低く、各ゾーンの温度を測定する上記ステップは、
上記基板の透過率を決定する段階と、
上記基板を透過したエネルギーを要因として除くことによりパイロメータで各ゾーンの温度を測定する段階と、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記基板の温度は、約５００℃より低く、各ゾーンの温度を測定する上記ステップは、ほぼ室温のパイロメトリーを使用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
基板の透過率を決定する上記段階は、
少なくとも１つのゾーンの背面から放射される光を捕獲する工程と、
各ゾーンからの上記捕獲された光を第１光学路及び第２光学路に分割する工程と、
上記第１光学路の光を第１パイロメータへ指向する工程であって、該第１パイロメータが第１帯域路の光を検出するようにフィルタされる工程と、
上記第２光学路の光を第２パイロメータへ指向する工程であって、該第２パイロメータが第２帯域路の光を検出するようにフィルタされ、且つ該第２帯域路が、上記第１帯域路よりも長い周波数の光を含むような工程と、
上記第１パイロメータ及び第２パイロメータにより検出された合計エネルギーを比較する工程と、
を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
基板の透過率を決定する上記段階は、
第１の大きさをもつ電力入力波形を少なくとも１つのゾーンに印加する工程と、
少なくとも１つのゾーンを透過したエネルギーと、少なくとも１つのゾーンの背面から放射されるエネルギーとの和に対応する電力波形であって、第２の大きさをもつ電力波形を測定する工程と、
上記第１の大きさ及び第２の大きさを比較する工程と、
を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
各ゾーンの瞬時加熱率を計算する上記ステップは、更に、
第１の時間間隔中に第１の電力入力から生じる上記ゾーンの第１の温度傾斜率を計算する段階と、
第２の時間間隔中に第２の電力入力から生じる上記ゾーンの第２の温度傾斜率を計算する段階と、
上記ゾーンの上記瞬時加熱率が、時間の一次関数であり入力電力に比例し、該一次関数が一定の勾配及び一定の切片を含むことを仮定する段階と、
上記第１傾斜率、第２傾斜率、第１電力入力及び第２電力入力を使用して、新たな勾配値及び新たな切片値を解く段階と、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
新たな勾配値及び先行する勾配値の重み付けされた平均である勾配の値を使用する段階と、
新たな切片値及び先行する切片値の重み付けされた平均である切片の値を使用する段階と、
を更に含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
上記少なくとも１つのゾーンは、複数の実質的に同心的なゾーンを含み、各ゾーンは、出力電力を発生する対応熱源により実質的に加熱される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
各ゾーンの入力電力及び影響マトリクスに基づいて各熱源に対する出力電力を計算する段階を更に含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
上記影響マトリクスは、上記チャンバー内で決定される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
各熱源は、ランプグループであり、各熱源に対する出力電力を計算する上記段階は、更に、各ランプグループの出力電力にオーバーシュート電力を含ませることによりランプの過渡応答を補償することを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
熱処理中に基板を処理する方法において、
熱処理中に基板の光学的特性の値を決定するステップと、
上記光学的特性の値に基づいてビン型制御アルゴリズムを選択するステップと、
上記ビン型制御アルゴリズムを使用して熱処理の第一部分に対して基板の温度を制御するステップと、
を備えた方法。
【請求項１３】
上記光学的特性は、前面の放射率、前面の反射率及び吸収率より成るグループから選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
光学的特性を決定する上記ステップは、更に、
基板の領域の温度を測定する段階と、
ある時間増分中に上記領域の前面に入力電力を印加する段階と、
上記時間増分の後に上記領域の温度を再測定する段階と、
上記時間増分中の温度上昇に基づいて基板の前面放射率を推定する段階と、
を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
上記前面放射率に基づいて前面反射率を推定する段階を更に含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
上記光学的特性は、前面放射率を含み、光学的特性の値を決定する上記ステップは、
閉ループ制御アルゴリズムを使用して上記熱処理の早期部分中に上記基板の温度を制御する段階と、
上記熱処理の早期部分中に示される電力プロフィールに基づいて上記前面放射率を推定する段階と、
含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
上記基板は、少なくとも１つのゾーンを含み、上記ビン型制御アルゴリズムは、
上記熱処理中に行われるある時間間隔の前に上記基板の各ゾーンの温度を測定し、
上記時間間隔に対する各ゾーンの瞬時加熱率を、少なくとも１つの先行する時間間隔における各ゾーンの熱的振舞いに基づいて計算し、
上記瞬時加熱率に基づいて上記時間間隔の終了までに各ゾーンを望ましい温度にもっていくために各ゾーンに対する入力電力を決定し、更に、
各ゾーンに対する上記入力電力を各それぞれのゾーンに印加する、
ことを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
第１のランプグループ及び少なくとも１つの付加的なランプグループを備えたチャンバー内で熱処理中に基板を処理する方法において、
熱処理中に基板の光学的特性の値を決定するステップと、
上記光学的特性の値に基づいてビン型制御アルゴリズムを選択するステップと、
上記熱処理の一部分に対して基板の温度を制御するステップと、
を備え、温度を制御する上記ステップは、
開ループ制御を使用して上記第１ランプグループの電力出力を制御する段階と、
上記ビン型制御アルゴリズムを使用して少なくとも１つの付加的なランプグループの電力出力を制御する段階と、
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月15日(2010.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のパターニングされた複数の層を動的に整合させる方法であって、
ａ）前記基板の上に第一のパターンを形成するステップと、
ｂ）前記第一のパターンの上に、対応する画像データを有する第二のパターンを形成するステップであって、ゲート手段とクロススキャンコントローラとの間で通信可能な画像データパスに対して前記対応する画像データを供給するステップと、
を含み、前記画像データパスが前記第二のパターンを形成するために、
ｉ）第一の現在領域についての予想される構造位置を取得し、
ｉｉ）前記第一のパターンの第一の部分を含む、前記基板の前記第一の現在領域内の構造の位置を検出し、
ｉｉｉ）前記ｉｉ）で検出された前記構造の位置と前記ｉ）における前記予想される構造位置の情報とから、位置合わせ補正信号を計算し、
ｉｖ）前記位置合わせ補正信号を前記ゲート手段又は前記クロススキャンコントローラに供給することにより、前記第一の現在領域内へ前記画像データの適用を調整し、
ｖ）前記第二のパターンが前記第一のパターンに完全に位置合わせされるまで前記ｉ）及びｉｉ）を繰り返す、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
基板上にパターニングされた複数の層を動的に整合させる方法であって、
第一の層の上に第一のパターンを形成するステップと、
前記第一のパターンの上に第二の層を積層するステップと、
前記第二の層を照明するステップと、
前記第一のパターンからの反射を動的に検出し、第二のパターンを前記第一のパターンに位置合わせするステップと、
前記第二の層の上に前記第二のパターンを形成するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、
さらに、層またはパターンの特徴に基づいて検出を最適化するために照明の波長または強度を調整するステップを含むことを特徴とする方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年5月30日(2011.5.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
ログ・エントリが、開始のログ・エントリではなく、構築中の既存の被マージイベントのＩＤを含んでいる場合（２１４）、そのとき、例外がログ・記録されると、シングルのイベントが送出される（２１５）。例外でない場合、処理は継続されてトークンおよびログ・エントリがマッピング・モジュールに送られ（２２０）、この結果、その情報を被マージイベントに付加することができる。一実施形態では、ＩＤはログ・エントリのシングルフィールドであってもよく、被マージイベントの全てのログ・エントリに共通の値を持つログ・エントリの複数フィールドであってもよい。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５４】
merge[{mergeindex}].timeout
マージング・オペレーションのためにタイムアウトをミリ秒単位で定義する。タイムアウトが到達した場合、マージ・オペレーションは終了するはずであり、イベントは送出されるはずである。これらイベントは異なるスレッドを介して送出されるはずであり、イベントの順番は保証されないということに留意する。
merge[{mergeindex}].id.tokens
複数イベントをグループ化するために使用されるトークンのリストを定義する。このプロパティは必須である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年9月29日(2011.9.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
或いは、ポケット要素１８は、ブレード１６を覆うように折り畳まれた布であり、糸をポケット要素１８の布シートのフラップ（flap）及びブレード１６に形成された縫い穴２２に通すように縫うことができる。この固定方法は、特に、ポケット要素が熱シーリングを行うことができない布（セルロース繊維、コットン、レーヨン等）で作成された場合に好都合である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月13日(2010.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＲＮＡから膜ホーミングポリペプチドを一過性に発現する成熟樹状細胞を含む組成物であって、
前記膜ホーミングポリペプチドがセレクチンであり、
前記樹状細胞が前記セレクチンのリガンドにより被覆された表面においてローリングする能力を有する組成物。
【請求項２】
前記セレクチンがＥ‐セレクチン、Ｌ‐セレクチン、Ｐ‐セレクチン、およびそれらのキメラからなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記セレクチンがＥ／Ｌセレクチンキメラである請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
（ｉ）前記樹状細胞がシアリル‐ルイスＸにより被覆された表面においてローリングする能力を有すること、
（ii）前記樹状細胞が単球由来樹状細胞であること、および
（iii）前記樹状細胞がヒト樹状細胞であること
の少なくともいずれか一つを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記樹状細胞が更に、対象の抗原である少なくとも一種の他の抗原を一過性に発現する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記少なくとも一種の他の抗原が
（ｉ）腫瘍関連抗原であるか、または
（ii）病原体特異的抗原であり、任意に前記病原体がＨＩＶまたはＨＣＶである、
請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
単離された、請求項１〜６のいずれか一項において定義される成熟樹状細胞。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物を含むワクチン。
【請求項９】
癌治療用または病原体感染の治療用の薬剤の製造における、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物の使用。
【請求項１０】
前記薬剤が静脈内投与に適する、請求項９に記載の使用。
【請求項１１】
膜ホーミングポリペプチドを一過性に発現する成熟樹状細胞を産生する方法であって、
エレクトロポレーションを用いて、前記膜ホーミングポリペプチドをコードするＲＮＡにより成熟樹状細胞を一過性にトランスフェクトする工程からなり、
前記エレクトロポレーションは、１００ボルト／ｍｍ〜１５０ボルト／ｍｍの電界強度および０．８ｍｓ〜２ｍｓの矩形波パルス長で実施され、かつ、
膜ホーミングポリペプチドがセレクチンである方法。
【請求項１２】
前記成熟樹状細胞がヒト樹状細胞であること、および
前記セレクチンがＥ‐セレクチン、Ｌ‐セレクチン、Ｐ‐セレクチン、およびそれらのキメラからなる群より選択されること
の少なくともいずれか一方を特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記セレクチンがＥ／Ｌセレクチンキメラである請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
対象の抗原である少なくとも一種の他の抗原をコードするＲＮＡにより前記成熟樹状細胞を一過性にトランスフェクトする工程を更に含む、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも一種の他の抗原が、腫瘍関連抗原または病原体特異的抗原であり、任意に前記病原体特異的抗原がＨＩＶまたはＨＣＶからの抗原である、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月23日(2010.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像化及び押抜きシステムのための温度制御システムであって、
熱を生み出し得る、記録可能な媒体の上に画像を記録するための画像化記録装置と、
前記画像化記録装置からの熱の故に変位可能である、前記画像付き媒体を押し抜くための穿孔装置と位置決め装置とを含む押抜きシステムとを含み、
当該温度制御システムは、
１つ又はそれよりも多くの測定信号を生成する前記押抜きシステムに結合される１つ又はそれよりも多くのセンサを含むセンサシステムと、
１つ又はそれよりも多くの測定信号を収集し、且つ、温度関連情報を記憶し、前記押抜きシステムの温度特性を規制するための温度制御決定を行うコントローラとを含む、
温度制御システム。
【請求項２】
前記温度制御装置が、他の情報と共に温度制御決定を行い得るよう、当該温度制御システムは、前記押抜きシステム及び前記画像化システムの両方に結合されるセンサから導出される温度関連情報を受け取るために、前記画像記録装置に結合される、請求項１に記載の温度制御システム。
【請求項３】
前記温度制御装置は、前記１つ又はそれよりも多くの測定信号に対応する温度が、選択的な範囲内にあるか決定するよう、前記１つ又はそれよりも多くの測定信号を予め選択される温度閾値と比較し、前記温度が前記選択範囲の外側にある決定に応答して場所調節器を調節することによって、前記押抜きシステムの温度特性を規制する、請求項１に記載の温度制御システム。