(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム基材；
前記フィルム基材上に形成された第１の導電性薄膜；
前記第１の導電性薄膜上に形成された第２の導電性薄膜；及び
前記第２の導電性薄膜上に形成された第３の導電性薄膜；を含み、
前記第２の導電性薄膜は、前記第１の導電性薄膜または前記第３の導電性薄膜より導電性の高い材質で形成され、
前記フィルム基材と前記第１の導電性薄膜との間には、
前記フィルム基材と接触して形成された、厚さ１０ｎｍ〜２５ｎｍの第１の誘電体薄膜；及び
前記第１の誘電体薄膜上に形成された、厚さ１５ｎｍ〜１００ｎｍの第２の誘電体薄膜；がさらに含まれることを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項２】
前記第２の導電性薄膜は、スズ（Ｓｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、グラフェン及び亜鉛（Ｚｎ）のうち一つ以上の材質を含んで形成されることを特徴とする、請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項３】
前記第２の導電性薄膜は、１ｎｍ〜１０ｎｍの厚さに形成されることを特徴とする、請求項１又は２に記載の透明導電性フィルム。
【請求項４】
前記第１の導電性薄膜及び前記第３の導電性薄膜は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化カドミウム（ＣｄＯ）及びヨウ化銅（ＣｕＩ）のうち一つ以上の材質を含んで形成されることを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項５】
前記第１の導電性薄膜及び前記第３の導電性薄膜は、透明伝導性酸化物で形成され、前記透明伝導性酸化物は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）またはフッ素がドーピングされたスズ酸化物（ＦＴＯ）であることを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項６】
前記第１の導電性薄膜は、前記第３の導電性薄膜と同一の材質で形成されることを特徴
とする、請求項１〜５の何れか一項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項７】
前記透明導電性フィルムは、前記第１の導電性薄膜、前記第２の導電性薄膜及び前記第３の導電性薄膜の合算厚さが２０ｎｍ〜１００ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜６の何れか一項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項８】
前記第１の誘電体薄膜及び第２の誘電体薄膜は、無機物及び有機物のうち１種以上を含むことを特徴とする、請求項１〜７の何れか一項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項９】
第１の透明導電性フィルムを有する第１のパネル板；
前記第１のパネル板と対向し、前記第１の透明導電性フィルムと直交する第２の透明導電性フィルムを有する第２のパネル板；及び
前記第１の透明導電性フィルムと前記第２の透明導電性フィルムとの間に配置されたスペーサー；を含み、
前記第１の透明導電性フィルムまたは前記第２の透明導電性フィルムは、フィルム基材と、前記フィルム基材上に形成された第１の導電性薄膜と、前記第１の導電性薄膜上に形成された第２の導電性薄膜と、前記第２の導電性薄膜上に形成された第３の導電性薄膜と、を含み、
前記第２の導電性薄膜は、前記第１の導電性薄膜または前記第３の導電性薄膜より導電性の高い材質で形成され、
前記フィルム基材と前記第１の導電性薄膜との間には、
前記フィルム基材と接触して形成された、厚さ１０ｎｍ〜２５ｎｍの第１の誘電体薄膜；及び
前記第１の誘電体薄膜上に形成された、厚さ１５ｎｍ〜１００ｎｍの第２の誘電体薄膜；がさらに含まれる透明導電性フィルムであることを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性フィルムに関し、より詳細には、電気的特性に優れた透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在まで、タッチパネルの製造時に最も重要な部品の一つである透明電極フィルムとしては、全光線透過率が８５％以上で、表面抵抗が４００Ω／ｓｑｕａｒｅ以下であるインジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）フィルムが最も広く使用されている。
【０００３】
一般的な透明電極フィルムは、透明高分子フィルムなどのフィルム基材上にアンダーコート層を形成した後、アンダーコート層上にＩＴＯなどの透明導電性薄膜を積層することによって製作していた。
【０００４】
近年、静電容量方式や抵抗膜方式のタッチパネルの使用が増加するとともに、微細な静電流や微細なタッチを感知するための表面抵抗２００Ω／ｓｑｕａｒｅ未満の低抵抗具現が要求されている。しかし、ＩＴＯ薄膜を用いた透明電極フィルムの場合、導電性を有し得る範囲に限界がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の一つの目的は、電気的特性に優れた透明導電性フィルムを提供することにある。
【０００６】
また、本発明の他の目的は、電気的特性に優れた透明導電性フィルムを用いたタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記の一つの目的を達成するための本発明の実施例に係る透明導電性フィルムは、フィルム基材；前記フィルム基材上に形成された第１の導電性薄膜；前記第１の導電性薄膜上に形成された第２の導電性薄膜；及び前記第２の導電性薄膜上に形成された第３の導電性薄膜；を含み、前記第２の導電性薄膜は、前記第１の導電性薄膜または前記第３の導電性薄膜より導電性の高い材質で形成されることを特徴とする。
【０００８】
前記の他の目的を達成するための本発明の実施例に係るタッチパネルは、第１の透明導電性フィルムを有する第１のパネル板；前記第１のパネル板と対向し、前記第１の透明導電性フィルムと直交する第２の透明導電性フィルムを有する第２のパネル板；及び前記第１の透明導電性フィルムと前記第２の透明導電性フィルムとの間に配置されたスペーサー；を含み、前記第１の透明導電性フィルムまたは前記第２の透明導電性フィルムは、フィルム基材と、前記フィルム基材上に形成された第１の導電性薄膜と、前記第１の導電性薄膜上に形成された第２の導電性薄膜と、前記第２の導電性薄膜上に形成された第３の導電性薄膜とを含み、前記第２の導電性薄膜は、前記第１の導電性薄膜または前記第３の導電性薄膜より導電性の高い材質で形成される透明導電性フィルムであることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る透明導電性フィルムは、第１の導電性薄膜と第３の導電性薄膜との間に形成される第２の導電性薄膜を第１の導電性薄膜または第３の導電性薄膜より導電性の高い
材質で形成することによって、電気的特性を向上させることができる。
【００１０】
また、本発明に係る透明導電性フィルムは、金属材質からなる第２の導電性薄膜をＩＴＯ材質からなる第１の導電性薄膜と第３の導電性薄膜との間に形成する場合、インジウムなどの希金属の使用を減少させる効果を期待することができる。
【００１１】
また、本発明に係るタッチパネルは、電気的特性に優れた透明導電性フィルムを用いることによって、タッチパネルの電気的特性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施例に係る透明導電性フィルムを示した断面図である。
【図２】図１の透明導電性フィルムを用いた第１の実施例に係るタッチパネルを示した断面図である。
【図３】図１の透明導電性フィルムを用いた第２の実施例に係るタッチパネルを示した断面図である。
【図４】図１の透明導電性フィルムを用いた第３の実施例に係るタッチパネルを示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の利点及び特徴、そして、それらを達成する方法は、添付の図面と共に詳細に後述している実施例を参照すれば明確になるだろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施例に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態に具現可能である。但し、本実施例は、本発明の開示を完全にし、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであって、本発明は、請求項の範疇によって定義されるものに過ぎない。明細書全体にわたって同一の参照符号は、同一の構成要素を称する。
【００１４】
以下では、添付の図面を参照して本発明に係る透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネルについて説明する。
【００１５】
図１は、本発明の一実施例に係る透明導電性フィルムを示した断面図である。
【００１６】
図１を参照すると、本発明の一実施例に係る透明導電性フィルム１００は、フィルム基材１０１、フィルム基材１０１上に順次積層された第１の誘電体薄膜１０２、第２の誘電体薄膜１０３、第１の導電性薄膜１０４、第２の導電性薄膜１０５及び第３の導電性薄膜１０６を含むことができる。
【００１７】
フィルム基材１０１は、第１の誘電体薄膜１０２または第１の導電性薄膜１０４の形成面を提供し、透明導電性フィルム１００に機械的強度を提供するためのものであって、ガラスや透明高分子フィルムなどの透明性を有する基材であり得る。例えば、透明高分子フィルムとしては、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエポキシ系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系及びセルロース系などからなる群より選ばれたプラスチックフィルムを使用することができる。
【００１８】
透明高分子フィルムからなるフィルム基材１０１は、表面平坦性と耐熱性を備えるために、透明高分子フィルムにプライマーコーティング処理をした後、ハードコーティング処理をしたものであり得る。
【００１９】
フィルム基材１０１の厚さは、機械的強度などを考慮すると、２０μｍ〜１０００μｍ程度であることが好ましい。フィルム基材１０１の厚さが２０μｍ未満であると、機械的
強度が不足し、第１及び第２の誘電体膜１０２、１０３と第１ないし第３の導電性薄膜１０４、１０５、１０６を連続的に形成する操作が難しくなり得る。その一方、フィルム基材１０１の厚さが１０００μｍを超えると、タッチパネルなどに適用されたとき、打点特性などが悪く、透過率を低下させるという問題がある。
【００２０】
第１の誘電体薄膜１０２及び第２の誘電体薄膜１０３は、第１ないし第３の導電性薄膜１０４、１０５、１０６の下地薄膜であって、透明導電性フィルム１００の透明性、耐擦傷性、耐屈曲性及び耐久性などの特性を向上させるために形成することができる。
【００２１】
例えば、第１の誘電体薄膜１０２及び第２の誘電体薄膜１０３は、ＮａＦ（１．３）、Ｎａ3ＡｌＦ6（１．３５）、ＬｉＦ（１．３６）、ＭｇＦ2（１．３８）、ＣａＦ2（１．４）、ＢａＦ2（１．３）、ＢａＦ2（１．３）、ＳｉＯ2（１．４６）、ＬａＦ3（１．５５）、ＣｅＦ（１．６３）、Ａｌ2Ｏ3（１．６３）などの無機物（括弧内の数値は光の屈折率を示す）や、光の屈折率が１．４〜１．６程度であるアクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマーなどの有機物や、前記無機物と前記有機物との混合物で形成することができる。
【００２２】
前記材料のうち第１の誘電体薄膜１０２の材料は、有機物であるか、または有機物と無機物との混合物であることが好ましい。特に、有機物としては、メラミン樹脂、アルキド樹脂及び有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。
【００２３】
また、第２の誘電体薄膜１０３の材料は、無機物であるか、または有機物と無機物との混合物であることが好ましい。特に、無機物としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3などを好ましく使用することができる。
【００２４】
第１の誘電体薄膜１０２は、１０ｎｍ〜２５ｎｍの厚さ、好ましくは１３ｎｍ〜２０ｎｍの厚さに形成することができる。第２の誘電体薄膜１０３は、１５ｎｍ〜１００ｎｍの厚さ、好ましくは２０ｎｍ〜６０ｎｍの厚さに形成することができる。第１及び第２の誘電体薄膜１０２、１０３の各厚さを前記の範囲にすることによって、透明性、耐擦傷性、耐屈曲性などの特性を両立させやすい。
【００２５】
第１の誘電体薄膜１０２及び第２の誘電体薄膜１０３は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、塗工法などによって形成することができる。
【００２６】
前記透明導電性フィルム１００は、第１及び第２の誘電体薄膜１０２、１０３などの下地薄膜を積層することによって、透明性、耐擦傷性や耐屈曲性が向上するとともに、タッチパネル用としての打点特性の向上に良好な結果を得ることができる。
【００２７】
しかし、第１及び第２の誘電体薄膜１０２、１０３は、必ず形成すべきものではなく、省略可能である。
【００２８】
第１の導電性薄膜１０４及び第３の導電性薄膜１０６は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）などの金属、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸
化カドミウム（ＣｄＯ）などの金属酸化物、ヨウ化銅（ＣｕＩ）などの金属ハロゲン化物及びインジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、フッ素がドーピングされたスズ酸化物（Ｆｌｏｕｒｉｎｅ  ｄｏｐｅｄ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ；ＦＴＯ）などの透明伝導性酸化物などの公知となっている物質で形成することができる。第１の導電性薄膜１０４及び第３の導電性薄膜１０６は、これらから選ばれた１種または２種以上の材質を含んで形成することができる。このとき、第１の導電性薄膜１０４及び第３の導電性薄膜１０６は、透明導電性フィルム１００内の屈折率変化による光学的特性変化
を最小化するために同一の材質で形成されることが好ましい。
【００２９】
また、第１の導電性薄膜１０４及び第３の導電性薄膜１０６は、光透過率及び電気的特性を向上させるために、光透過率が８５％以上で、表面抵抗が４００Ω／ｓｑｕａｒｅ以下であるＩＴＯ材質で形成することが好ましい。
【００３０】
このとき、第３の導電性薄膜１０６は、第２の導電性薄膜１０５によって反射される光を補償する役割をする。
【００３１】
第２の導電性薄膜１０５は、透明導電性フィルム１００の電気的特性を向上させるためのものであって、第１の導電性薄膜１０４及び第３の導電性薄膜１０６のうち一つ以上よりも導電性の高い材質で形成される。
【００３２】
例えば、第２の導電性薄膜１０５は、スズ（Ｓｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、グラフェン、亜鉛（Ｚｎ）などから選ばれた一つ以上の材質を含んで形成することができる。
【００３３】
このような第２の導電性薄膜１０５は、光特性に対する影響を最小限に減少させるために、１ｎｍ〜１０ｎｍの厚さｔ２に形成することができる。第２の導電性薄膜１０５の厚さｔ２が１ｎｍ未満である場合は、透明導電性フィルム１００に対して目標値の電気的特性の向上を期待することができない。その一方、第２の導電性薄膜１０５の厚さｔ２が１０ｎｍを超える場合は、透明性を低下させるので、透明導電性フィルム１００の光学的特性が低下し得る。
【００３４】
好ましくは、第２の導電性薄膜１０５は、透明導電性フィルム１００の透過率及び電気的特性を最適化するために５ｎｍの厚さに形成することができる。
【００３５】
透明導電性フィルム１００は、第１の導電性薄膜１０４の厚さをｔ１、第２の導電性薄膜１０５の厚さをｔ２、第３の導電性薄膜１０６の厚さをｔ３、これらの合算厚さ（ｔ１＋ｔ２＋ｔ３）をｔと定義すると、ｔは２０ｎｍ〜１００ｎｍに形成することができる。
【００３６】
ｔが２０ｎｍ未満である場合は、透明導電性フィルム１００の電気的特性を期待することができない。その一方、ｔが１００ｎｍを超える場合は、透明性を低下させるので、透明導電性フィルム１００の光学的特性が低下し得る。
【００３７】
第１ないし第３の導電性薄膜１０４、１０５、１０６は、当該技術分野でよく知られている通常の導電性薄膜の形成方法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、スプレー熱分解法、化学めっき法、電気めっき法、ウェットコーティング法またはこれらの組み合わせを使用して形成することができる。このうち、特に、導電性薄膜の形成速度や生産性などを考慮すると、第１ないし第３の導電性薄膜１０４、１０５、１０６は、真空蒸着法、スパッタリング法、ウェットコーティング法を使用して形成することが好ましい。
【００３８】
このような構造の透明導電性フィルム１００は、第１の導電性薄膜１０４と第３の導電性薄膜１０６との間にこれらのうち少なくともいずれか一つよりも導電性の高い材質を有する第２の導電性薄膜１０５の形成により、金属物質による光学的特性の影響は微々たるものであるが、薄い膜での電気的特性はより向上し得る。
【００３９】
また、第１の導電性薄膜１０４及び第３の導電性薄膜１０６のうち少なくともいずれか一つがＩＴＯ材質からなる透明導電性フィルム１００である場合、第１の導電性薄膜１０
４と第３の導電性薄膜１０６との間に金属材質の第２の導電性薄膜１０５を挿入することによって、インジウムなどの希金属の使用を減少させる効果を期待することができる。
【００４０】
一方、本発明の透明導電性フィルム１００は、タッチパネル、特に抵抗膜方式のタッチパネルに好ましく適用することができる。
【００４１】
図２は、図１の透明導電性フィルムを用いた第１の実施例に係るタッチパネルを示した断面図で、図３は、図１の透明導電性フィルムを用いた第２の実施例に係るタッチパネルを示した断面図で、図４は、図１の透明導電性フィルムを用いた第３の実施例に係るタッチパネルを示した断面図である。説明の便宜上、図１の透明導電性フィルムを第１の透明導電性フィルムと混用して言及する。
【００４２】
図２を参照すると、タッチパネル２００は、第１の透明導電性フィルム１００を有する第１のパネル板Ｐ１と、第１のパネル板Ｐ１と対向し、第２の透明導電性フィルム１００ａを有する第２のパネル板Ｐ２と、これら二つの第１及び第２の透明導電性フィルム１００、１００ａの間に配置されたスペーサー１３０とを含む。
【００４３】
第１の透明導電性フィルム１００は、粘着剤層（図示せず）によって第１の透明基体１１０と接合し得る。第２の透明導電性フィルム１００ａは、第２の透明基体１２０上に形成することができる。
【００４４】
第１の透明導電性フィルム１００と第２の透明導電性フィルム１００ａは互いに直交し、ラインタイプに形成することができる。第１及び第２の透明基体１１０、１２０は、プラスチックフィルムまたはガラスなどの材質で形成することができる。第２の透明導電性フィルム１００ａは、通常の透明導電性フィルムであり得る。
【００４５】
すなわち、タッチパネル２００は、第１または第２の透明導電性フィルム１００、１００ａを有する一対の第１及び第２のパネル板Ｐ１、Ｐ２を、互いに直交するように形成した第１及び第２の透明導電性フィルム１００、１００ａ同士が対向するようにスペーサー１３０を挟んで対向配置してなる。
【００４６】
前記タッチパネル２００は、加圧する上側の第１のパネル板Ｐ１に図１の透明導電性フィルム１００を使用したものである。このタッチパネル２００は、指やペンなどで上側の第１のパネル板Ｐ１を加圧・打点すると、第１及び第２の透明導電性フィルム１００、１００ａが接触して通電することによって電気回路がオン状態になり、加圧を解除すると、元のオフ状態に戻る透明スイッチ横体として機能する。このとき、第１のパネル板Ｐ１が本発明の電気的特性に優れた透明導電性フィルム１００を採用するので、電気的特性がより向上したタッチパネル２００を具現することができる。
【００４７】
一方、図２のタッチパネル２００は、上部の第１のパネル板Ｐ１のみに本発明の透明導電性フィルム１００を採用するが、これに限定されることはない。
【００４８】
これと異なって、図３に示したように、タッチパネル３００は、下部の第２のパネル板Ｐ２のみに本発明の透明導電性フィルム１００を採用することができる。また、図４に示したように、タッチパネル４００は、上部の第１のパネル板Ｐ１及び下部の第２のパネル板Ｐ２の全てに本発明の透明導電性フィルム１００を採用することができる。これを除いた図３及び図４の内容は図２の内容と同一であるので、重複する内容は省略する。
【００４９】
本発明の第１ないし第３の実施例に係るタッチパネル２００、３００、４００は、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）、プラズマ表示パ
ネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ；ＰＤＰ）、発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ；ＬＥＤ）、有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅｓ；ＯＬＥＤ）または電子紙（Ｅ−Ｐａｐｅｒ）などのディスプレイ装置に装着して使用することができる。
【００５０】
以下、本発明の実施例を比較例と対比して記載し、これについてより具体的に説明する。
【００５１】
透明導電性フィルムの電気的特性は、熱処理前後のキャリア濃度、移動度及び抵抗を測定して評価した。また、透明導電性フィルムの光学的特性は、透過率及び反射率などを測定して評価した。
【実施例】
【００５２】
実施例１
１２５μｍ厚のポリエチルレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムという）からなる透明なフィルム基材の一面上にＤＣスパッタリング法を用いて１０ｎｍ厚の下部ＩＴＯ薄膜、５ｎｍ厚のＳｎ薄膜及び１０ｎｍ厚の上部ＩＴＯ薄膜を順次形成して透明導電性フィルムの試片を製作した。その後、１５０℃の温度で６０分間透明導電性フィルムの試片を熱処理した。
【００５３】
実施例２
上側からＩＴＯ薄膜２０ｎｍ、Ｓｎ薄膜５ｎｍ、ＩＴＯ薄膜２０ｎｍを形成したことを除いては、残りの構成は実施例１と同一である。
【００５４】
実施例３
上側からＩＴＯ薄膜１０ｎｍ、Ｓｎ薄膜１０ｎｍ、ＩＴＯ薄膜１０ｎｍを形成したことを除いては、残りの構成は実施例１と同一である。
【００５５】
実施例４
上側からＡｕ薄膜１０ｎｍ、Ｓｎ薄膜１０ｎｍ、Ａｕ薄膜１０ｎｍを形成したことを除いては、残りの構成は実施例１と同一である。
【００５６】
実施例５
上側からＡｕ薄膜２０ｎｍ、グラフェン薄膜５ｎｍ、Ｃｕ薄膜２０ｎｍを形成したことを除いては、残りの構成は実施例１と同一である。
【００５７】
比較例１
下部ＩＴＯ薄膜を２０ｎｍの厚さに形成し、Ｓｎ薄膜及び上部ＩＴＯ薄膜を形成しないことを除いては、実施例１と同一である。
【００５８】
比較例２
下部ＩＴＯ薄膜を１５ｎｍの厚さに形成し、上部ＩＴＯ薄膜を形成しないことを除いては、実施例１と同一である。
【００５９】
比較例３
下部ＩＴＯ薄膜を２０ｎｍの厚さに形成し、上部ＩＴＯ薄膜を形成しないことを除いては、実施例１と同一である。
【００６０】
＜透明導電性フィルムの電気的特性評価＞
表１は、実施例１〜５及び比較例１〜３による透明導電性フィルムの電気的特性評価結果を示したものである。
【００６１】
【表１】
0005872064.tif 000002
【００６２】
表１を参照すると、実施例３〜４の場合は、相対的に抵抗が低く、実施例１〜２、５の場合は、実施例３〜４に比べて抵抗が少し高かったが、比較例１〜３に比べて抵抗が低かった。
【００６３】
すなわち、実施例１〜５の場合、比較例１〜３に比べて低い抵抗を有するので、優れた電気的特性を示すことを確認することができた。
【００６４】
前記表において、抵抗は、キャリア濃度と移動度の二つの因子によって示される結果であり、キャリアの濃度が高く、移動度が高い場合、抵抗は低くなる。
【００６５】
また、実施例１〜３を通じて、抵抗は、Ｓｎ薄膜の厚さに反比例し、それぞれのＩＴＯ薄膜の厚さに比例することを確認することができた。したがって、相対的に薄い各ＩＴＯ薄膜間にＳｎ薄膜を厚く挿入すると、電気伝導度の向上を通じて優れた電気的特性を示すことができると判断できる。
【００６６】
また、実施例４〜５を通じて、金属のみで層を構成したり、各金属間にグラフェンを挿入して層を構成することによっても、優れた電気的特性を示すことを確認することができた。
【００６７】
＜透明導電性フィルムの光学的特性評価＞
表２は、実施例１〜５及び比較例１〜３の透明導電性フィルムの光学的特性評価結果を示したものである。
【００６８】
【表２】
0005872064.tif 000003
【００６９】
ここで、Ｔは、５５０ｎｍ波長での光透過率を意味し、Ｙ（Ｄ６５）は、５５０ｎｍ波長での全体の透過率または全体の反射率を意味し、ｂ＊は、黄色く見える（ｙｅｌｌｏｗｉｓｈ）程度を意味し、Ｈａｚｅは濁度を意味し、Ｒは、５５０ｎｍ波長での光反射率を意味する。
【００７０】
表２を参照すると、透過率は、実施例１〜２及び比較例１で相対的に高い一方、比較例２では著しく低く、実施例３〜５及び比較例３では、実施例１〜２に比べて少し低い結果を示した。
【００７１】
また、ｂ＊値は、比較例１で最も低く、実施例１〜２では、実施例３〜４及び比較例２〜３に比べて少し低く、実施例５では最も高い結果を示した。
【００７２】
また、濁度は、比較例１、３で相対的に低い一方、実施例４〜５では相対的に高く、実施例１〜３及び比較例２では相対的に中間程度の値を示した。
【００７３】
また、反射率は、実施例４〜５及び比較例２で相対的に高い一方、実施例１〜３及び比較例１、３では相対的に低かった。
【００７４】
これを通じて、実施例１〜３と比較例１の場合、本発明の透明導電性フィルムに要求される光学的特性に好ましい条件であることを確認することができた。
【００７５】
前記の実験結果をまとめると、実施例１〜３の場合、電気的及び光学的側面のいずれにおいても優れた特性を示すことを確認することができた。実施例４〜５の場合、電気的特性に優れる一方、光学的特性は相対的に低下することが分かった。
【００７６】
また、比較例１の場合、光学的特性には最も優れるが、電気的特性は非常に低下し、比較例２〜３の場合、光学的及び電気的側面、特に光学的側面で非常に特性が低下することが分かった。
【００７７】
以上では、本発明の実施例を中心に説明したが、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する技術者の水準で多様な変更や変形を加えることができる。このような変更と変形は、本発明が提供する技術思想の範囲を逸脱しない限り、本発明に属するものと言える。したがって、本発明の権利範囲は、以下で記載する特許請求の範囲によって判断すべきであろう。
【符号の説明】
【００７８】
１００：透明導電性フィルム（または第１の透明導電性フィルム）、１００ａ：第２の透明導電性フィルム、１０１：フィルム基材、１０２：第１の誘電体薄膜、１０３：第２の誘電体薄膜、１０４：第１の導電性薄膜、１０５：第２の導電性薄膜、１０６：第３の導電性薄膜、１１０：第１の透明基体、１２０：第２の透明基体、１３０：スペーサー、２００、３００、４００：タッチパネル、Ｐ１：第１のパネル板、Ｐ２：第２のパネル板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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