【事件の表示】
　特願２００３−　９２２３６「液晶表示装置用基板」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１０月２８日出願公開、特開２００４−３０１９３３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯・本願発明
　本願は、平成１５年３月２８日の特許出願であって、平成２１年４月１６日付けで拒絶理由通知がなされ、同年６月１８日に手続補正がなされたが、同年７月２４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１０月２７日に本件審判請求がなされるとともに、同時に手続補正がなされたものであり、その請求項に係る発明は、本願特許請求の範囲の請求項１ないし４に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１は、次のとおりである。
　
「透明基板と、前記透明基板上に形成された柱状スペーサとを少なくとも有する液晶表示装置用基板であって、
　下記の測定方法により前記柱状スペーサを測定した際に得られる下記初期変形量Ａが０．０４μｍ以上であり、
　かつ下記塑性変形量Ｂが０．７μｍ以下であることを特徴とする液晶表示装置用基板。
・測定方法：２２ｍＰａ／ｓｅｃの荷重付加速度にて、８０ｍＮまで前記柱状スペーサの軸方向に圧縮荷重を付加し、その状態で５秒間保持し、その後２２ｍＰａ／ｓｅｃの荷重除去速度にて、０ｍＮまで荷重を除去し、その状態で５秒間保持する。
・初期変形量Ａ：柱状スペーサの初期高さをＸ、上記荷重付加時における真空プレス時に個々の柱状スペーサが受けると推定される下記式（１）で得られる荷重Ｆ（ｍＮ）を付加した際の高さをＹとした場合、Ｘ−Ｙで得られる圧縮変形量。
　Ｆ＝１９．６／ｎ　　　　（１）
　（１０≦ｎ≦５０、ｎは柱状スペーサの個数密度（個／ｍｍ２）を示す。）
・塑性変形量Ｂ：柱状スペーサの初期高さをＸ、上記荷重を除去し、その状態で５秒間保持した後の高さをＺとした場合、Ｘ−Ｚで得られる残留変形量。」　
　
２．引用例
　これに対して、原査定の拒絶理由に引用された特開２００１−１３５０６号公報（以下「引用例」という。）には、図とともに次の記載がある。
　
ア　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば光シャッタなどに利用される液晶表示素子及びその製造方法に関するものである。」
　
イ　「【００１０】
【発明が解決しようとする課題】従来のＴＮ型液晶表示素子、もしくは、横電界型液晶表示素子で用いられている基板に予め形成されているスペーサーは、遮光部に設けることにより液晶層中のスペーサーの分散密度を見かけ上小さくすることができる。しかし、その反面、温度変化に伴う表示品位の低下という課題がある。以下、図１２を用いて説明する。
【００１１】まず、室温から低温側への変化として、低温発泡の問題がある。液晶表示素子１００が低温下に放置された場合、液晶分子の体積が収縮する。この際、セル厚が、前記液晶分子の体積収縮に追従してセル厚方向に収縮、すなわち、薄くなる必要がある。低温発泡１０８とは、このような液晶分子の体積収縮に対してセル厚が追従できず、液晶層中に真空の泡が発生する現象である。基板にパターニングにより形成されたスペーサー１０５が硬い場合、低温下での液晶１０４の体積収縮に対するセル厚の収縮が上記スペーサー１０５によって妨害されるため、低温発泡１０８が生じ易い。このような低温下でのセル厚の追従性およびざらつき感のない良好な表示品位確保の観点からは、適度に弾性を有するスペーサーが好ましい。
【００１２】また、室温から高温への変化に際しては、表示斑の問題がある。これは、温度上昇によるセル厚のばらつきの増大に起因するものである。液晶表示素子に封入された液晶分子が加熱により膨張する。この液晶分子の温度上昇による膨張の結果、液晶表示素子内の体積は増大する。体積の増大は、基板間の間隙方向の変化すなわちセル厚の変化を引きおこす。この際、従来の液晶表示素子では、柱状スペーサがセル厚の増大に追従できない。このため、セル厚の変化は液晶分子の熱膨張によって支配されるため、セル厚のばらつきが増大し、表示品位の均一性を損なってしまうという課題があった。」
　
ウ　「【００２４】本発明は、上記従来技術の課題に鑑み、柱状スペーサが硬く、弾性が小さいことに起因した表示品位の温度特性を改善し、温度変化による表示品位の劣化の少ない液晶表示素子を提供することを目的とする。」
　
エ　「【００６４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００６５】（実施の形態１）図１は実施の形態１に係る液晶表示素子の簡略化した断面図である。液晶表示素子は、一対のガラス基板１，２と、基板１，２間に配置され基板間隙を一定に保つための柱状スペーサ３と、基板１，２間に封入された液晶層４とを有する。ガラス基板１，２の内側面には、それぞれ透明電極５，６が形成されている。尚、図中、７は基板１，２を固着し液晶層４を封止するためのシール部である。
【００６６】前記スペーサ３は弾性を有しており、液晶表示素子の使用温度範囲（本実施の形態では０°〜８５°）内において、弾性変形状態となっている。」
　
オ　「【００７０】従来の柱状スペーサでは、弾性が小さく、スペーサのばらつきも制御困難であることから、本実施の形態では、以下の方法でスペーサに弾性を付与した。
【００７１】先ず、第一の方法としては、図３に示すような形状のスペーサを現像条件の検討などにより形成した。尚、図３（ａ）は弾性変形した状態のスペーサを示し、図３（ｂ）は弾性変形する前の状態のスペーサを示している。具体的には、予め円錐状３Ａもしくは三角錐状３Ｂもしくは四角錐状３Ｃもしくは多角錐状３Ｄなど基板間で断面が細っていく構造をとるスペーサを形成することにより、押圧した際に、液晶表示素子中のスペーサ３を弾性変形状態とする方法である。
【００７２】第二には、図４に示すようにスペーサ３の内部９の一部もしくは全部を中空状態にすることにより、押圧した際に、液晶表示素子中のスペーサ３を弾性変形状態とする方法である。
【００７３】第三には、レジスト中にゴム系樹脂パウダーやシリコン系樹脂パウダーを混合させることで弾性化させる方法である。樹脂パウダーの混合量は、３％以下で有効であって、弾性変形ができる。尚、樹脂であれば、上記のものに限る必要はない。
【００７４】第四には、レジストの重合度を下げる方法である。レジスト中の架橋剤の濃度を下げることで、弾性化を実現した。
【００７５】第五はスペーサ柱の両端を小さくする方法である。
【００７６】上記のいずれの方法によっても、スペーサに弾性を付与することができる。」
　
カ　「【００７７】以下の例では、上記第一の方法、即ち、四角錐状３Ｃの柱状スペーサ３を用いた場合について説明する。具体的な製造は、フォトリソグラフィー技術によるエッチング工程を繰り返すことにより、底面が一辺５μｍの正方形の四角錐状のスペーサ３を形成した。なお、四角錐状のスペーサの具体的な形状（例えば、底面の面積、自然長等）は、スペーサの形成の密度を考慮し、且つ、使用温度範囲の最大温度および最小温度のいずれの温度においても、弾性変形状態を維持できるような変形量が得られる程度の弾性が付与されるように設定する必要がある。例えば、図５（ａ）に示すように、基板に形成された柱状スペーサの初期の高さをＨ１、基板間で押圧されて所定のセル厚みとなった図５（ｂ）に示す状態での柱状スペーサの高さをＨ２とする（常温状態）。このとき、使用温度範囲の最小温度において、液晶層の熱収縮によるセル厚方向の長さがｍ１となった場合に、柱状スペーサの高さはｍ１に変形され、しかもこの高さはｍ１では柱状スペーサは弾性変形状態であることが必要であり、また、同様に使用温度範囲の最大温度において、液晶層の熱膨張によるセル厚方向の長さがｍ２となった場合に、柱状スペーサの高さはｍ２（但し、ｍ２＜Ｈ１）に変形され、しかもこの高さはｍ２では柱状スペーサは弾性変形状態であることが必要である。一方、スペーサの形成の密度を小さくしすぎると、セル厚の均一性が劣るし、逆に大きすぎるとスペーサに起因した光漏れが大きくなる。従って、このようなスペーサの形成の密度に関連する問題を考慮して、しかも、使用温度範囲の最大温度および最小温度のいずれの温度においても、弾性変形状態を維持できるにように、スペーサの形状を設定することが必要となる。」
　
キ　「【００７８】上記の考え方に基づき、本実施の形態１では、底面が５．００μｍ、スペーサの高さの平均値が４．７０μｍ、ばらつきが大略３％程度、形成の密度が大略３００個／ｍｍ2となるように設定した。しかる後、２００℃の温度でポストベークを行った。次に、一方の基板の周辺部にシール部７を印刷する（図３（ｅ））。次いで、プレス装置を使用して、一対の透明電極５，６付基板１，２を重ね合わせた状態で加圧・加熱して、シール部７を硬化させる（図３（ｆ））。その後、シール部７の一部に設けられた注入口から、一対の基板１，２で形成された隙間に液晶材料を注入し、液晶層４を形成する。
【００７９】次に、セル厚を所定の値とするために、液晶表示素子を押圧する。押圧値Ｆを０．３ｋｇｆ／ｃｍ2とした。この際、スペーサ３は弾性変形の状態に一部ある。
【００８０】上記工程により作製した液晶表示素子のセル厚は平均値４．６５μｍ、ばらつき０．１２μｍを得ることができ、液晶表示装置の視認性やコントラストが大幅に向上した。この際、基板面に形成したスペーサの高さの平均値が４．７０μｍであることから、この状態ではスペーサの一部が弾性変形状態であることがわかる。なお、柱状スペーサは、底面、高さ、形成の密度は、上記の値に限定されるものではなく、底面が、３μｍ以上２０μｍ以下、スペーサの高さの平均値が３μｍ以上２０μｍ以下、スペーサの形成密度が５個／ｍｍ2以上２０００個／ｍｍ2以下であれば、スペーサが温度変化に十分に追従できるという効果を発揮することが本発明者によって確認されている。」　
　
ク　「【００９６】…スペーサ形成密度に関しては、本実施の形態では、大凡３００個／ｍｍ2としたが、大凡１０個／ｍｍ2から大凡２０００個／ｍｍ2までは、同様に実施可能である。」
　
ケ　「【００９７】本実施の形態では、スペーサの一部もしくは全部が弾性変形させるために、液晶材料を基板間に封入する工程において、基板間に均一に０．３ｋｇｆ／ｃｍ2の圧力で押圧しているが、例えば、スペーサの形成密度、弾性などを最適化することにより、０．１ｋｇｆ／ｃｍ2から１．０ｋｇｆ／ｃｍ2までの均一な押圧によっても同様に実施可能である。」
　
　以上の記載によれば、引用例には、
「柱状スペーサが硬く、弾性が小さいことに起因した表示品位の温度特性が改善され、温度変化による表示品位の劣化の少ない液晶表示素子であって、
　一対のガラス基板１，２と、基板１，２間に配置され基板間隙を一定に保つための柱状スペーサ３と、基板１，２間に封入された液晶層４とを有する液晶表示素子において、
　前記柱状スペーサ３は、使用温度範囲の最大温度および最小温度のいずれの温度においても、弾性変形状態を維持できるような変形量が得られる程度の弾性が付与されるように設定され、例えば、基板に形成された柱状スペーサの初期の高さをＨ１、基板間で押圧されて所定のセル厚みとなった柱状スペーサの高さをＨ２とする（常温状態）とき、使用温度範囲の最小温度において、液晶層の熱収縮によるセル厚方向の長さがｍ１となった場合に、柱状スペーサの高さはｍ１に変形され、しかもこの高さはｍ１では柱状スペーサは弾性変形状態であることが必要であり、また、同様に使用温度範囲の最大温度において、液晶層の熱膨張によるセル厚方向の長さがｍ２となった場合に、柱状スペーサの高さはｍ２（但し、ｍ２＜Ｈ１）に変形され、しかもこの高さはｍ２では柱状スペーサは弾性変形状態であることが必要とされるように設定されるものであり、
　スペーサ形成密度は、大凡１０個／ｍｍ2から大凡２０００個／ｍｍ2であり、
　前記柱状スペーサの高さをＨ２とするときの基板間での押圧は、０．１ｋｇｆ／ｃｍ2から１．０ｋｇｆ／ｃｍ2までの均一な押圧である液晶表示素子。」が記載されているものと認められる。
　
　ここで、ガラス基板と柱状スペーサに着目すれば、引用例には、
「高さがＨ１の柱状スペーサが形成されたガラス基板であって、
　前記柱状スペーサのスペーサ形成密度は、大凡１０個／ｍｍ2から大凡２０００個／ｍｍ2であり、
　前記柱状スペーサには、０．１ｋｇｆ／ｃｍ2から１．０ｋｇｆ／ｃｍ2までの均一な押圧力で基板が押圧されたときに高さがＨ２となる弾性が付与されている
　上記液晶表示素子に用いられる基板。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
３．対比
　本願請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）と引用発明を対比する。
　引用発明の「ガラス基板」及び「柱状スペーサ」が本願発明の「透明基板」及び「柱状スペーサ」にそれぞれ相当するところであり、また、引用発明の基板は、「液晶表示素子」に用いられるものであるから、「液晶表示装置用基板」であるといえる。
　
　したがって、本願発明と引用発明は、ともに
「透明基板と、前記透明基板上に形成された柱状スペーサとを少なくとも有する液晶表示装置用基板。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
　本願発明は、
「下記の測定方法により前記柱状スペーサを測定した際に得られる下記初期変形量Ａが０．０４μｍ以上であり、
　かつ下記塑性変形量Ｂが０．７μｍ以下であることを特徴とする液晶表示装置用基板。
・測定方法：２２ｍＰａ／ｓｅｃの荷重付加速度にて、８０ｍＮまで前記柱状スペーサの軸方向に圧縮荷重を付加し、その状態で５秒間保持し、その後２２ｍＰａ／ｓｅｃの荷重除去速度にて、０ｍＮまで荷重を除去し、その状態で５秒間保持する。
・初期変形量Ａ：柱状スペーサの初期高さをＸ、上記荷重付加時における真空プレス時に個々の柱状スペーサが受けると推定される下記式（１）で得られる荷重Ｆ（ｍＮ）を付加した際の高さをＹとした場合、Ｘ−Ｙで得られる圧縮変形量。
　Ｆ＝１９．６／ｎ　　　　（１）
　（１０≦ｎ≦５０、ｎは柱状スペーサの個数密度（個／ｍｍ２）を示す。）
・塑性変形量Ｂ：柱状スペーサの初期高さをＸ、上記荷重を除去し、その状態で５秒間保持した後の高さをＺとした場合、Ｘ−Ｚで得られる残留変形量。」であるのに対し、引用発明がこのようなものであるか不明な点。　
　
４．相違点についての検討
　上記相違点について検討する。
　引用発明において、柱状スペーサの初期の高さであるＨ１と基板が押圧された後の常温状態での高さであるＨ２との差、すなわち、柱状スペーサの圧縮変形量（Ｈ１−Ｈ２）は、温度が常温状態から使用温度範囲の最大温度まで変化したときの液晶層の熱膨張によるセル圧方向の増加分を吸収するだけの大きさ、すなわち、（Ｈ１−Ｈ２）＞（ｍ２−Ｈ２）が必要とされるものであり、その値をどの程度にするかは、前記条件を満たす範囲において適宜決定されるべき設計的事項であると認められるところ、引用例には、上記キにみられるように、実施の形態として、Ｈ１＝４．７０μｍ、Ｈ２＝４．６５μｍ、すなわち、圧縮変形量（Ｈ１−Ｈ２）の値として０．０５μｍが記載されていることからすれば、基板の押圧力として、引用発明が規定する０．１ｋｇｆ／ｃｍ2から１．０ｋｇｆ／ｃｍ2の範囲内であり、真空プレス時における通常の押圧力である０．２ｋｇｆ／ｃｍ2を採用した場合にも、Ｈ１−Ｈ２の値としては、０．０５μｍ程度が採用されるものと考えられるところである。
　そして、基板の押圧力が０．２ｋｇｆ／ｃｍ2ということを各スペーサに印加される力でみれば、スペーサ形成密度がｎ個／ｍｍ2の場合、これは、本願発明が（１）式で規定するＦ＝１９．６／ｎ（ｍＮ）に外ならない。ここで、本願発明は、１０≦ｎ≦５０としているが、引用発明のスペーサ形成密度は、大凡１０個／ｍｍ2から大凡２０００個／ｍｍ2  とされており、１０≦ｎ≦５０とすることに困難性は認められない。
　また、本願発明は、圧縮変形量について、２２ｍＰａ／ｓｅｃの荷重付加速度にて圧縮荷重を付加し、各スペーサに印加される力が上記Ｆ＝１９．６／ｎ（ｍＮ）になったとき（ｎ＝１０でいえば、１．９６ｍＮになったとき）の変形量としているが（なお、本願発明は、加重付加速度を２２ｍＰａ／ｓｅｃとしているが、２２ｍＰａ＝２２ｍＮ／ｍ２＝２２×１０−６ｍＮ／ｍｍ2であり、ｎ＝１０としても、１つのスペーサに印加される加重付加速度は、２２×１０−７ｍＮ／ｓｅｃであり、これが１．９６ｍＮになるには、１０日以上要することになることから、何かの間違いと思われ、本願図面の図１からすると、２２ｍＮ／ｓｅｃのことではないかと思われる。）、引用発明は、温度変化による液晶分子の膨張・収縮に対してセル厚が追従できるようにするものであるから、スペーサの変形も印加される力の変化に充分追従できる必要のあることは明らかであり、上記の加重付加速度において０．２ｋｇｆ／ｃｍ2　に相当する力であるＦ＝１９．６／ｎ（ｍＮ）が印加されたときの変形量についても上記の０．０５μｍ程度が要求されると考えられるところであり、柱状スペーサの弾性について、上記の測定条件における初期変形量Ａが本願発明で規定する０．０４μｍ以上のものとすることに困難性は認められない。
　
　また、引用発明において、局所的に荷重が加わった場合、例えば、指押し試験等の耐圧試験などの場合において、塑性変形量が大きいことによる表示不良が生じては不都合であることは明らかであり、このような場合の塑性変形量を小さいものとしなければならないことは当然の事項である。
　してみれば、局所的に荷重が加わった際の表示品質を評価する試験である指押し試験における荷重程度である８０ｍＮを印加後の塑性変形量が小さいことは、引用発明においても当然に要求される事項であり、この値をどの程度のものとするかは、当業者が適宜決定すべき設計的事項と認められるところ、本願明細書の記載をみても、この値を０．７μｍ以下としたことについて、設計的事項という以上の技術的意義は認められず、塑性変形量Ｂを本願発明で規定する範囲内のものとすることに困難性は認められれない。
　
　さらに、本願発明が奏する効果についても、引用例に記載された事項に基づいて当業者が予測可能なものであって、格別のものとはいえない。
　
５．むすび
　以上のことから、本願発明は、引用例に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものと認められ、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。