【事件の表示】
　特許第５９３９４５０号発明「フェノール性水酸基含有樹脂、その製造方法、感光性組成物、レジスト材料、塗膜、硬化性組成物とその硬化物、及びレジスト下層膜」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第５９３９４５０号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１−１０〕について訂正することを認める。
　特許第５９３９４５０号の請求項１ないし３及び５ないし１０に係る特許を維持する。
　特許第５９３９４５０号の請求項４に係る特許に対する本件異議の申立てを却下する。
【理　由】
第１　手続の経緯・本件異議申立の趣旨
　
１．本件特許の設定登録までの経緯 
　本件特許第５９３９４５０号（以下、単に「本件特許」という。）に係る出願（特願２０１５−５４５９７５号、以下「本願」という。）は、平成２７年５月２８日（優先権主張：平成２６年７月９日、特願２０１４−１４１４１７号）の国際出願日に出願人ＤＩＣ株式会社（以下「特許権者」という。）によりされたものとみなされる国際特許出願であり、平成２８年５月２７日に特許権の設定登録（請求項の数１０）がされたものである。 
　
２．本件異議の申立ての趣旨
　本件特許につき平成２８年１２月１５日付けで特許異議申立人佐藤義光（以下「申立人」という。）により「特許第５９３９４５０号の特許請求の範囲の全請求項に記載された発明についての特許は取り消されるべきものである。」という趣旨の本件異議の申立てがされた。
　
３．以降の経緯
　本件異議申立後の経緯は以下のとおりである。
　平成２９年　３月２４日付け　取消理由通知
　平成２９年　５月２６日　　　意見書（特許権者）・訂正請求書
　平成２９年　６月　５日付け　通知書（申立人あて）
（申立人からの応答はなかった。）
　
第２　申立人が主張する取消理由
　申立人は、本件特許異議申立書（以下「申立書」という。）において、下記甲第１号証ないし甲第７号証を提示し、取消理由として、概略、以下の取消理由１及び２が存するとしている。
　
取消理由１：本件の請求項１ないし３及び５ないし１０に係る発明は、いずれも、甲第１号証、甲第２号証、甲第３号証及び甲第６号証のいずれかに記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができるものではないものであって、それらの発明についての特許は、同法第２９条に違反してされたものであるから、同法第１１３条第２号の規定に該当し、取り消されるべきものである。
取消理由２：本件の請求項１ないし１０に係る発明は、いずれも、甲第１号証ないし甲第７号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであって、それらの発明についての特許は、同法第２９条に違反してされたものであるから、同法第１１３条第２号の規定に該当し、取り消されるべきものである。
　
・申立人提示の甲号証
甲第１号証：国際公開第２００８／０５３９７４号
甲第２号証：Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８９，５４，ｐ．６００３−６００４（写し及び抄訳添付）
甲第３号証：Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９９６，６１，ｐ．８０２−８０４（写し及び抄訳添付）
甲第４号証：特開２０１０−２４８３６８号公報
甲第５号証：特開２０１３−７９３６９号公報
甲第６号証：「フォトレジスト材料開発の新展開」、２００９年８月１２日、株式会社シーエムシー出版（第１刷）発行、第２１５〜２２２頁
甲第７号証：「新しいレジスト材料とナノテクノロジー」、２００２年９月３０日、株式会社シーエムシー出版（第１刷）発行、第４６〜４８頁
（以下、それぞれ「甲１」ないし「甲７」と略していう。）
　
第３　当審が通知した取消理由の概要
　当審が、平成２９年３月２４日付けで通知した取消理由の概要は以下のとおりである。
「第４　当審の判断
　当審は、
申立人が主張する取消理由１及び２により、本件発明１ないし１０についての特許はいずれも取り消すべきもの、
と判断する。」
　
第４　平成２９年５月２６日付け訂正請求の適否
　
１．訂正請求の内容
　上記平成２９年５月２６日付けの訂正請求では、本件特許の特許請求の範囲を、上記訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１ないし３及び５ないし１０については一群の請求項ごとに、請求項４については請求項ごとに訂正することを求めるものであり、以下の（ア）ないし（キ）の訂正事項を含むものである。（なお、下線は、当審が付したもので訂正箇所を表す。）
　
（ア）訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１に、「Ｒ１はアルキル基、アルコキシ基又はアリール基であり、」とあるのを、「Ｒ１はアルキル基
又は
基で
　
（イ）訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項１に、「Ｒ２は水素原子、アルキル基又はアリール基であり、」とあるのを、「Ｒ２は
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基
　
（ウ）訂正事項３
　特許請求の範囲の請求項２に「前記ｎが」とあるのを、「
前記Ｒ
１
がアルキル基であり、前記Ｒ
２
がメチル基であり、
　
（エ）訂正事項４
　特許請求の範囲の請求項３に「Ｒ１はアルキル基、アルコキシ基又はアリール基であり、」とあるのを、「Ｒ１はアルキル基
又は
基で
　
（オ）訂正事項５
　特許請求の範囲の請求項３に「Ｒ２は水素原子、アルキル基又はアリール基であり、」とあるのを、「Ｒ２は
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基
　
（カ）訂正事項６
　特許請求の範囲の請求項１０に「請求項９記載の硬化性組成物を硬化させてなる」とあるのを、「請求項
８
硬化物からなる
　
（キ）訂正事項７
　特許請求の範囲の請求項４を削除する。
　
２．検討
　なお、以下の検討において、この訂正請求による訂正を「本件訂正」といい、本件訂正前の特許請求の範囲における請求項１ないし１０を「旧請求項１」ないし「旧請求項１０」、本件訂正後の特許請求の範囲における請求項１ないし１０を「新請求項１」ないし「新請求項１０」という。
　
（１）訂正の目的要件について
　上記の各訂正事項による訂正の目的につき検討する。
　事案に鑑み、まず、上記訂正事項７は、他の請求項を引用しない旧請求項４を単に削除するものであるから、特許請求の範囲を減縮するものと認められる。
　次に、上記訂正事項１、２、４及び５は、いずれも、旧請求項１又は旧請求項３における構造式（１）に係る「Ｒ１」基及び「Ｒ２」基のそれぞれの並列的選択肢の一部を削除・限定することにより、新請求項１又は３とするものであるから、いずれも特許請求の範囲を減縮するものと認められる。
　上記訂正事項３は、旧請求項３について、構造式（１）に係る「Ｒ１」基及び「Ｒ２」基のそれぞれの限定を付加したものであるから、特許請求の範囲を減縮するものと認められる。
　そして、上記訂正事項６は、旧請求項１０に係る引用関係の不備を単に正したものであるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものと認められる。
　してみると、上記訂正事項１ないし５及び７による訂正により、新請求項１ないし３及び５ないし１０に係る各特許請求の範囲及び新請求項４に係る特許請求の範囲が減縮されていることが明らかであって、いずれも特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　したがって、上記訂正事項１ないし７による訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号又は第３号に規定の目的要件に適合するものである。
　
（２）新規事項の追加及び特許請求の範囲の実質的拡張・変更について
　上記（１）に示したとおり、訂正事項１ないし５及び７による訂正により、新請求項１ないし３及び５ないし１０に係る各特許請求の範囲及び新請求項４に係る特許請求の範囲がいずれも減縮されていることが明らかであって、また、訂正事項６による訂正は、引用関係の不備を単に正したものであるから、上記訂正事項１ないし７による訂正は、いずれも新たな技術的事項を導入しないものであり、また、特許請求の範囲を実質的に拡張又は変更するものではないことが明らかである。
　してみると、上記訂正事項１ないし７による訂正は、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定を満たすものである。
　
（３）一群の請求項について
　旧請求項２、３及び５ないし１０はいずれも旧請求項１を直接的又は間接的に引用するものであって、本件訂正により引用関係に実質的な変動はないから、新請求項１ないし３及び５ないし１０は、特許法第１２０条の５第４項に規定される一群の請求項である。
　
（４）訂正に係る検討のまとめ
　以上のとおり、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項第１号又は第３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第４項及び同条第９項において準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合するので、訂正後の請求項〔１−１０〕について訂正を認める。
　
第５　本件特許に係る発明
　上記第４で説示したとおり、上記本件訂正は適法であるから、本件特許の請求項１ないし１０に係る発明は、訂正された請求項１ないし１０にそれぞれ記載された事項で特定される、以下のとおりのものである。
「【請求項１】
下記構造式（１）
【化１】
　
（式中、Ｒ１はアルキル基
又は
基で
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基
で表される分子構造を有する化合物（Ａ）を含有することを特徴とするフェノール性水酸基含有樹脂。
【請求項２】
前記ｎが４〜６の整数である請求項１記載のフェノール性水酸基含有樹脂。
【請求項３】
下記構造式（１−１）
【化２】
　
（式中、Ｒ１はアルキル基
又は
基で
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基
で表される分子構造を有する化合物（Ａ−１）を含有することを特徴とする請求項１記載のフェノール性水酸基含有樹脂。
【請求項４】（削除）
【請求項５】
請求項１〜３の何れか一つに記載のフェノール性水酸基含有樹脂と感光剤とを含有する感光性組成物。
【請求項６】
請求項５記載の感光性組成物からなるレジスト用組成物。
【請求項７】
請求項５記載の感光性組成物からなる塗膜。
【請求項８】
請求項１〜３の何れか一つに記載のフェノール性水酸基含有樹脂と硬化剤とを含有する硬化性組成物。
【請求項９】
請求項８記載の硬化性組成物を硬化させてなる硬化物。
【請求項１０】
請求項
８
硬化物からなる
（以下、上記請求項１ないし１０に係る各発明につき、項番に従い「本件発明１」ないし「本件発明１０」という。また、併せて「本件発明」ということがある。）
　
第６　当審の判断
　当審は、
　訂正後の本件の請求項１ないし３及び５ないし１０に係る発明についての特許に対して申立人が主張する取消理由１及び２は、いずれも理由がないものであり、
　訂正後の本件請求項４に係る特許に対する本件異議の申立ては却下すべきものである、
と判断する。以下、詳述する。
　
Ｉ．請求項４に係る異議の申立てについて
　本件異議の申立てに係る請求項４に対する申立は、上記第４で示したとおり、適法な訂正により請求項４の全ての内容が削除されたから、不適法なものであり、更にその補正ができないものであって、特許法第１２０条の８第１項で準用する同法第１３５条の規定により、却下すべきものである。
　
ＩＩ．請求項１ないし３及び５ないし１０に係る異議の申立てについて
　
１．各甲号証に記載された事項及び記載された発明
　本件異議の申立てにおいて、申立人が主張する取消理由１及び２はいずれも特許法第２９条に係るものであるから、申立人が提示した甲１ないし甲７に記載された事項の摘示及び甲１ないし３及び６に記載された発明に係る認定を行う。
　
（１）甲１の記載事項及び記載された発明
　
ア．甲１に記載された事項
　甲１には、以下の事項が記載されている。
　
（ａ−１）
「請求の範囲
［１］　
下記式（１）で示される環状化合物。
［化１］
　
（式中、
Ｌは、独立して、単結合、
Ｒ
１
は独立して、炭素数１〜２０のアルキル基、
Ｒ’は独立して、炭素数２〜２０のアルキル基、又は下記式
［化２］
　
で表わされる炭素数６〜２４のアリール基又はこれらの誘導体
［２］　下記式（２）で示される各化合物からなる群から選ばれる請求項１記載の環状化合物。
［化３］
　
（式中、Ｒ７Ａは独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、アルコキシ基またはエステル基である。）
・・（中略）・・
［１１］　
請求項１〜１０のいずれかに記載の環状化合物および溶媒を含む感放射線性組成物。
・・（中略）・・
［１４］　
さらに、
直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤（Ｃ）を含む
［１５］　
さらに、酸架橋剤（Ｇ）を含む
・・（中略）・・
［２６］　環状化合物（Ａ）が、スピンコートによりアモルファス膜を形成することができる請求項１３記載の感放射線性組成物。
・・（中略）・・
［２９］　
請求項１１〜２８のいずれかに記載の感放射線性組成物からなる下層膜形成組成物。
・・（後略）」
（第２１６頁〜第２３７頁「請求の範囲」の欄）
　
（ａ−２）
「［０００１］　本発明は、酸増幅型非高分子系レジスト材料として有用な、特定の化学構造式で示される環状化合物、これを含む感放射線性組成物及び下層膜形成組成物、および該組成物を用いるレジストパターン形成方法、及び下層膜形成方法に関する。」
　
（ａ−３）
「［０００２］　これまでの一般的なレジスト材料は、アモルファス薄膜を形成可能な高分子系材料である。例えば、ポリメチルメタクリレート、酸解離性反応基を有するポリヒドロキシスチレンまたはポリアルキルメタタリレート等の高分子レジスト材料の溶液を基板上に塗布することにより作製したレジスト薄膜に紫外線、遠紫外線、電子線、極端紫外線（ＥＵＶ）、Ｘ線などを照射することにより、４５〜１００ｎｍ程度のラインパターンを形成している。
　しかしながら、高分子系レジストは分子量が１万〜１０万程度と大きく分子量分布も広いため、高分子系レジストを用いるリソグラフィでは、微細パターン表面にラフネスが生じ、パターン寸法を制御することが困難となり、歩留まりが低下する。従って、従来の高分子系レジスト材料を用いるリソグラフィでは微細化に限界がある。より微細なパターンを作製するために、種々の低分子量レジスト材料が開示されている。
　例えば、少なくとも１つのフェノール性水酸基に酸解離性官能基を導入した構造を有する低分子量多核ポリフエノール化合物を主成分として用いるポジ型のレジスト組成物（特許文献１参照）、あるいは低分子量多核ポリフエノール化合物を主成分として用いるアルカリ現像型のネガ型レジスト組成物（特許文献２参照）が提案されているが、これらは耐熱性が十分では無く得られるレジストパターンの形状が悪くなる欠点があった。」
　
（ａ−４）
「［００１１］　以下、本発明を詳細に説明する。
［環状化合物］　
　本発明は、
レジスト材料として有用な環状化合物
・・（後略）」
　
（ａ−５）
「［００２０］　
上記、環状化合物は耐熱性が高ぐアモルファス性を有するため製膜性にも優れ、昇華性を持たず、アルカリ現像性、エッチング耐性等に優れ、レジスト材料、特にレジスト材料の主成分（基材）として好適に用いられる。更に、驚くべきことにベンゼン構造を有しながら１９３ｎｍ光に対する消衰係数は比較的低く、また屈折率は高いという特長を有し、下層膜材料として好適に用いられる。
　また、製造面においても工業的に製造されている芳香族アルデヒドをはじめとする各種アルデヒド類とレゾルシノール、ピロガロール等のフェノール類を原料として、塩酸等の非金属触媒により脱水縮合反応させることにより、高収率で製造できることから、実用性にも極めて優れる。
　更にレジスト溶媒として一般的に使用されているプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に難溶であり、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）やシクロへキサノンに可溶であることから、多層レジストを形成する際にインターミキシングすることも抑えることが出来る。
［００２１］　本発明における環状化合物は、シス体およびトランス体を取りうるが、いずれかの構造若しくは混合物でもよい。感放射線性組成物のレジスト成分として用いる場合は、シス体およびトランス体のいずれかの構造のみを有する方が、純物質化合物となり、レジスト膜中成分の均一性が高いので好ましい。シス体およびトランス体のいずれかの構造のみを有する環状化合物を得る方法は、カラムクロマトや分取液体クロマトグラフィによる分離や製造時における反応溶媒及び反応温度等の最適化等、公知の方法で行うことができる。
・・（後略）」
　
（ａ−６）
「［００２７］　
上記環状化合物は、公知の方法によって製造できる。
芳香族アルデヒド等のカルボニル化合物１モルに対しレゾルシノール、ピロガロール等のフェノール類を各１モル〜過剰量、
及び酸触媒（塩酸、硫酸またはパラトルエンスルホン酸）を使用し、６０〜１５０℃で０．５〜２０時間程度反応させ、反応終了後、反応液にトルエンを加えて６０〜８０℃まで加熱し、０．５〜２時間撹拌を行った後、室温まで冷却した後、濾過を行い分離し、乾燥させることにより得られる。
　
（ａ−７）
「［００８３］　
フェノール性化合物（Ａ２）の例としては、フェノール、カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール等が挙げられ、レゾルシノール、ピロガロールが好ましく、レゾルシノールがより好ましい。フェノール性化合物（Ａ２）は本発明の効果を損ねない範囲で炭素数１〜４の直鎖または分岐アルキル基、シアノ基、水酸基、ハロゲン等を有していても良い。フェノール性化合物（Ａ２）は、単独で又は二種以上組み合わせて使用してもよい。
・・（後略）」
　
（ａ−８）
「［０３７０］　以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に限定はされない。以下の合成例、実施例において、化合物の構造は１Ｈ−ＮＭＲ測定で確認した。
［０３７１］＜合成例１＞　環状化合物（Ａ）の合成
　
ＣＲ−１の合成
　十分乾燥し、窒素置換した滴下漏斗、ジム・ロート氏冷却管、温度計、攪拌翼を設置した四つ口フラスコ（１０００Ｌ）に、窒素気流下で、関東化学社製
レゾルシノール
４−イソプロピルベンズアルデヒド
［０３７２］［化１０５］
　
［０３７３］
ＣＲ−２の合成
　ＣＲ−１の合成例における４−イソプロピルべンズアルデヒドを
４−ノルマルプロピルベンズアルデヒドに代えた
［０３７４］［化１０６］
　
［０３７５］
ＣＲ−３の合成
　
ＣＲ−１の合成例における４−イソプロピルべンズアルデヒドの内、半分ｍｏｌを４−ノルマルプロピルべンズアルデヒドに代えた
［０３７６］［化１０７］
　
［０３７７］
ＣＲ−４の合成
　ＣＲ−１の合成例における
４−イソプロピルべンズアルデヒドの内、１／４ｍｏｌをブロモベンズアルデヒドに代えた
１Ｈ−ＮＭＲのケミカルシフト値から、ＣＲ−４の全構成原子数に対する臭素原子数の割合は０．８％と示唆された。
［０３７８］［化１０８］
　
［０３７９］
ＣＲ−５の合成
　ＣＲ−１の合成例における
４−イソプロピルべンズアルデヒドの内、１／４ｍｏｌをブロモベンズアルデヒドに、１／８ｍｏｌをジメチルアミノべンズアルデヒド代えた
　また得られた生成物の重ジメチルスルホキシド溶媒中での１Ｈ−ＮＭＲのケミカルシフト値（δｐｐｍ，ＴＭＳ基準）は１．１〜１．２（ｍ，３０Ｈ）、２．６〜２．７（ｍ，５Ｈ）、２．９（ｍ，６Η）、５．５（ｍ，８Η）、６．０〜６．８（ｍ，４８Η）、８．４，８．５（ｍ，１６Ｈ）であった。
１Ｈ−ＮＭＲのケミカルシフト値から、ＣＲ−５の全構成原子数に対する臭素原子数の割合は０．８％であり、窒素原子数の割合は０．４％あった。
［０３８０］［化１０９］
　
［０３８１］
ＣＲ−６の合成
　ＣＲ−１の合成例における
４−イソプロピルべンズアルデヒドを２，４−ジメチルベンズアルデヒドに代えた
［０３８２］［化１１０］
　
［０３８３］
ＣＲ−７の合成
　ＣＲ−１の合成例における
４−イソプロピルべンズアルデヒドをイソブチルベンズアルデヒドに代えた
［０３８４］［化１１１］
　
［０３８５］
ＣＲ−８の合成
　ＣＲ−１の合成例における
４−イソプロピルべンズアルデヒドをビフェニルアルデヒドに代えた
［０３８６］［化１１２］
　
［０３８７］
ＣＲ−９の合成
　ＣＲ−１の合成例における
４−イソプロピルべンズアルデヒドを３−ブロモ−４−メチルベンズアルデヒドに代えた
［０３８８］［化１１３］
　
［０３８９］
ＣＲ−１０の合成
　ＣＲ−１の合成例における
４−イソプロピルべンズアルデヒドを５−ブロモ−２，４−ジメチルベンズアルデヒドに代えた
［０３９０］［化１１４］
　
［０３９１］
ＣＰ−１の合成
　
ＣＲ−１の合成例におけるレゾルシノールをピロガロールに代えた
［０３９２］［化１１５］
　
［０３９３］ＣＰ−２の合成
　ＣＲ−１の合成例における
４−イソプロピルべンズアルデヒドを４−ビフェニルアルデヒドに代え、レゾルシノールをピロガロールに代えた
［０３９４］［化１１６］
　
・・（中略）・・
［０４３３］＜合成例２Ａ＞環状ポリフエノール化合物（Ａ）の合成
　十分乾燥し、窒素置換した滴下漏斗、ジム・ロート氏冷却管、温度計、攪拌翼を設置した四つ口フラスコ（１０００Ｌ）に、窒素気流下で、関東化学社製
レゾルシノール
と、合成例１Ａで合成した４−シクロへキシルベンズアルデヒド
［０４３４］［化１２１］
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
イ．甲１に記載された発明
　上記で摘示した記載事項（ａ−１）ないし（ａ−８）（特に下線部）からみて、甲１には、
「下記式（１）で示される環状化合物。
［化１］
　
（式中、Ｌは、独立して、単結合、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数６〜２４のアリーレン基、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｒ５）−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ５）−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−およびこれらの任意の組み合わせからなる群から選択される二価の有機基であり、Ｒ１は独立して、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、シアノ基、ニトロ基、水酸基、複素環基、ハロゲン、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキルシラン、これらの誘導体からなる群から選択される官能基、炭素数２〜２０の置換メチル基、炭素数３〜２０の１−置換エチル基、炭素数４〜２０の１−置換−ｎ−プロピル基、炭素数３〜２０の１−分岐アルキル基、炭素数１〜２０のシリル基、炭素数２〜２０のアシル基、炭素数２〜２０の１−置換アルコキシアルキル基、炭素数２〜２０の環状エーテル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選択される酸解離性官能基、または水素原子であり、Ｒ’は独立して、炭素数２〜２０のアルキル基、又は下記式
［化２］
　
で表わされる炭素数６〜２４のアリール基又はこれらの誘導体であり、Ｒ４は炭素数１〜２０のアルキル基（但し、ｔ−ブチル基を除く）、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、複素環基、ハロゲン、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキルシラン、およびこれらの誘導体からなる群から選択される官能基、又は炭素数２〜２０の置換メチル基、炭素数３〜２０の１−置換エチル基、炭素数４〜２０の１−置換−ｎ−プロピル基、炭素数３〜２０の１−分岐アルキル基、炭素数１〜２０のシリル基、炭素数２〜２０のアシル基、炭素数２〜２０の１−置換アルコキシアルキル基、炭素数２〜２０の環状エーテル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選択される酸解離性官能基であり、Ｒ５は水素又は炭素数１〜１０のアルキル基であり、ｍは１〜４の整数であり、ｐは０〜５の整数である。）」
に係る発明（以下「甲１発明１」という。）、
「甲１発明１の環状化合物、直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤（Ｃ）、酸架橋剤（Ｇ）及び溶媒を含む感放射線性組成物。」
に係る発明（以下「甲１発明２」という。）及び
「甲１発明２の感放射線性組成物からなる下層膜形成組成物。」
に係る発明（以下「甲１発明３」という。）がそれぞれ記載されているものといえる。
　
（２）甲２の記載事項及び記載された発明
　
ア．甲２に記載された事項
　甲２には、以下の事項が記載されている。（括弧内は当審の仮訳である。）
　
（ｂ−１）
「Ｓｕｍｍａｒｙ：　Ｔｈｅ　ｓｔｅｒｉｃａｌｌｙ　ｃｒｏｗｄｅｄ　ｏｃｔａｍｅｔｈｙｌｃａｌｉｘ［４］ａｒｅｎｅ　（２）　ｗａｓ　ｓｙｎｔｈｅｓｉｚｅｄ　ｉｎ　ｏｎｅ　ｓｔｅｐ　ａｎｄ　ｓｈｏｗｎ　ｔｏ　ｅｘｉｔ　ｉｎ　ａ　ｒｅｌａｔｉｖｅｌｙ　ｆｌｅｘｉｂｌｅ“ｂｏａｔ”ｃｏｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ．」（６００３頁左欄第１〜３行）
（要約：立体的に混み合ったオクタメチルカリックス［４］アレーン（２）をワンステップで合成し、比較的柔軟な舟形配置の存在を示した。）
　
（ｂ−２）
「Ｗｅ　ｒｅｐｏｒｔ　ｔｈｅ　（ｓｅｒｅｎｄｉｐｉｔｏｕｓ）ｏｎｅ−ｓｔｅｐ　ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｒｅｖｉｏｕｓｌｙ　ｕｎｋｎｏｗｎ　ｓｔｅｒｉｃａｌｌｙ　ｃｒｏｗｄｅｄ　ｏｃｔａｍｅｔｈｙｌｃａｌｉｘ［４］ａｒｅｎｅ　（２），ａ　ｃｏｍｐｏｕｎｄ　ｗｈｉｃｈ　ｄｉｓｐｌａｙｓ　ｎｏｖｅｌ　ｃｏｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ．　Ｏｕｒ　ｉｎｉｔｉａｌ　ｇｏａｌ　ｗａｓ　ｔｏ　ｓｙｎｔｈｅｓｉｚｅ　３ｉｎ　ｗｈｉｃｈ　ｔｈｅ　ＯＨ　ｇｒｏｕｐｓ　ａｒｅ　ａｒｒａｎｇｅｄ　ｉｎ　ａ　ｅｘｔｒａ−ａｎｎｕｌｌａｒ　ｆａｓｈｉｏｎ　（ｉ．ｅ．ｌｏｃａｔｅｄ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｏｕｔｅｒ　ｐｅｒｉｐｈｅｒｙ）．」（６００３頁左欄第２５行〜右欄図下第２行）
（我々は、以前、未知の立体的に混み合ったオクタメチルカリックス［４］アレーン（２）の（思いがけない）ワンステップ調製法を報告している。（該アレーンは）新規の配置特性を示す化合物である。我々の最初の目標は、ＯＨ基を特別に環形状に配置している（すなわち、（ＯＨ基が）外郭に位置している）３を合成することであった。）
　
（ｂ−３）
「
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（６００３頁右欄最上段右図）
　
（ｂ−４）
「Ｈｏｗｅｖｅｒ，ｗｈｅｎ　ａ　ｓｏｌｕｔｉｏｎ　ｏｆ　２，６−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−４−ｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｙｌ　ａｌｃｏｈｏｌ（４）ｉｎ　ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｅｎｅ　ａｔ　９０℃　ｗａｓ　ｔｒｅａｔｅｄ　ｗｉｔｈ　０．５ｅｑｕｉｖ　ｏｆ　ＡｌＣｌ３　ｉｎｓｔｅａｄ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｅｘｐｅｃｔｅｄ　ｃａｌｉｘａｒｅｎｅ　３，　ｗｅ　ｉｓｏｌａｔｅｄ　ａｎ　ｉｓｏｍｅｒｉｃ　ｃａｌｉｘａｒｅｎｅ　２（ｗｉｔｈ　ｉｎｔｒａ−ａｎｎｕｌａｒ　ＯＨ　ｇｒｏｕｐｓ）ａｓ　ｔｈｅ　ｓｏｌｅ　ｐｒｏｄｕｃｔ　ｉｎ　２８％（ｎｏｔ　ｏｐｔｉｍｉｚｅｄ）ｙｉｅｌｄ．」（６００３頁右欄図下第２行〜第７行）
（しかしながら、９０℃、ニトロベンゼン中で、２，６−ジメチル−４−ヒドロキシベンジルアルコール溶液を、期待されたカリックスアレーン３の代わりに、ＡｌＣｌ３の０．５等量と共に処理することで、２８％の（最適化されていない）収率で、単体として、（内側の環状にＯＨ基を有する）異性体化カリックスアレーン２を分離できた。）
　
（ｂ−５）
「Ｉｎｄｅｅｄ，ｗｈｅｎ　５　ｗａｓ　ｓｕｂｍｉｔｔｅｄ　ｔｏ　ｔｈｅ　ｒｅａｃｔｉｏｎ　ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ，２　ｗａｓ　ｏｂｔａｉｎｅｄ　ｉｎ　ｃａ．　５０％ｙｉｅｌｄ．」（６００３頁右欄図下第１３行〜第１５行）
（実際には、５を反応条件に供すると、２は、およそ５０％の収率で得られた。）
　
イ．甲２に記載された発明
　甲２には、上記（ｂ−１）ないし（ｂ−５）の記載事項からみて、
「以下の式で表されるカリックスアレーン化合物。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
に係る発明（以下「甲２発明」という。）が記載されている。
（３）甲３の記載事項及び記載された発明
　
ア．甲３に記載された事項
　甲３には、以下の事項が記載されている。（括弧内は当審の仮訳である。）
　
（ｃ−１）
「Ｔｈｅ　ｆｉｎａｌ　ｓｔｅｐ　ｉｎｖｏｌｖｅｄ　ｒｅｄｕｃｔｉｖｅ　ｄｅｂｒｏｍｉｎａｔｉｏｎ　ｏｆ　８　ｕｓｉｎｇ　Ｐｄ−Ｃ／ｆｏｒｍｉｃ　ａｃｉｄ　ｉｎ　ＤＭＦ　ｗｈｉｃｈ　ｐｒｏｃｅｅｄｅｄ　ｉｎ　ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ　ｑｕａｎｔｉｔａｔｉｖｅ　ｙｉｅｌｄｓ　ｔｏ　ｐｒｏｄｕｃｅ　３−ｍｅｔｈｙｌｃａｌｉｘ［４］ａｒｅｎｅ（９）．　Ｔｈｅ　ｒｅｇｉｏｉｓｏｍｅｒｉｃ　ｐｕｒｉｔｙ　ｏｆ　９　ｗａｓ　ｃｏｎｆｉｒｍｅｄ　ｂｙ　１Ｈ　ａｎｄ　１３Ｃ　ＮＭＲ　ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ．」（第８０２頁右欄下から第５行〜最下行）
（最終工程では、基本的に定量的収率で進む、ＤＭＦ中、Ｐｄ−Ｃ／ギ酸を使った８の還元性脱臭素を含んで、３−メチルカリックス［４］アレーンを製造する。９の位置異性体の純度は、プロトンおよびカーボンＮＭＲによって確認された。）
　
（ｃ−２）
「
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」（第８０３頁左欄「Ｓｃｈｅｍｅ１」の「９」式）
　
（ｃ−３）
「３−Ｍｅｔｈｙｌｃａｌｉｘ［４］ａｒｅｎｅ（９）．Ａ　ｍｉｘｔｕｒｅ　ｏｆ　７（ｌ．０ｇ，１．２６ｍｍｏｌ）ｉｎ　ｆｏｒｍｉｃ　ａｃｉｄ（８５％，５ｍＬ），１０％Ｐｄ−Ｃ（０．５ｇ，０．４７ｍｍｏｌ），ａｎｄ　ＤＭＦ（２５ｍＬ）ｗａｓ　ｒｅｆｌｕｘｅｄ　ｕｎｄｅｒ　ａｒｇｏｎ　ｆｏｒ　１２ｈ．Ｔｈｅ　ｒｅｓｕｌｔｉｎｇ　ｓｏｌｕｔｉｏｎ　ｗａｓ　ｐｏｕｒｅｄ　ｉｎｔｏ　Ｈ２Ｏ　ａｎｄ　ｅｘｔｒａｃｔｅｄ　ｗｉｔｈ　ＣＨ２Ｃｌ２　（２ｘ５０ｍＬ）．Ｔｈｅ　ｏｒｇａｎｉｃ　ｐｈａｓｅ　ｗａｓ　ｔｈｅｎ　ｓｅｐａｒａｔｅｄ，ｄｒｉｅｄ　ｏｖｅｒ　ＭｇＳＯ４，ａｎｄ　ｅｖａｐｏｒａｔｅｄ　ｉｎ　ｖａｃｕｕｍ．　Ｔｈｅ　ｙｅｌｌｏｗ　ｒｅｓｉｄｕｅ　ｗａｓ　ｒｅｄｉｓｓｏｌｖｅｄ　ｉｎ　ＣＨ２Ｃｌ２　ｅｖａｐｏｒａｔｅｄ　ｏｎｔｏ　ｓｉｌｉｃａ　ｇｅｌ，ａｎｄ　ｔｈｅｎ　ｐｕｒｉｆｉｅｄ　ｂｙ　ｃｏｌｕｍｎ　ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ（ｓｉｌｉｃａ　ｇｅｌ，ＣＨ２Ｃｌ２）ｔｏ　ｇｉｖｅ　０．５９ｇ（９８％）ｏｆ　８　ａｓ　ａ　ｗｈｉｔｅ　ｓｏｌｉｄ」（第８０４頁左欄第１行〜第９行）
（３−メチルカリックス［４］アレーン（９）。ギ酸（８５％，５ｍＬ）中の７（１．０ｇ，１．２６ｍｍｏｌ）、１０％Ｐｄ−Ｃ　（０．５ｇ，０．４７ｍｍｏｌ）およびＤＭＦ（２５ｍＬ）の混合物を、１２時間、アルゴン中で還流した。得られた溶液を水の中に注ぎ、塩化メチレン（２ｘ５０ｍＬ）で抽出した。その後、有機層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥して、真空中で濃縮した。黄色の残分を塩化メチレンで再溶解させ、シリカゲル中で濃縮し、その後、カラムクロマトグラフィ（シリカゲル、ＣＨ２Ｃｌ２）により精製し、白色固体として８の０．５９ｇ（９８％）を得た。）
イ．甲３に記載された発明
　甲３には、上記（ｃ−１）ないし（ｃ−３）の記載事項からみて、
「以下の式で表される３−メチルカリックス［４］アレーン化合物。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
に係る発明（以下「甲３発明」という。）が記載されている。
　
（４）甲４の記載事項
　甲４には、以下の事項が記載されている。
　
（ｄ−１）
「【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
　しかしながら、上記方法で使用する硬化剤は、エポキシ樹脂組成物の構成成分との溶解性が低いため、流動性が低下する等の問題がある。
　本発明の課題は、エポキシ樹脂組成物にした際に溶解性が良好であり、かつ、エポキシ樹脂硬化物に高い耐熱性を付与できるエポキシ樹脂用硬化剤として用いることができる、フェノール誘導体を提供することである。また、本発明の他の課題は、前記エポキシ樹脂用硬化剤を含む流動性及び耐熱性が良好であるエポキシ樹脂組成物及びそれによって封止された素子を備えてなる電子部品装置を提供することである。」
　
（ｄ−２）
「【発明の効果】
【０００７】
　本発明によれば、エポキシ樹脂組成物にした際に溶解性が良好であり、且つエポキシ樹脂硬化物に高い耐熱性を付与できるエポキシ樹脂用硬化剤を提供することができる。また、本発明によれば、前記エポキシ樹脂用硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物及びそれによって封止された素子を備えてなる電子部品装置を提供することができる。」
（ｄ−３）
「【実施例】
【００７３】
　以下、実施例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
〔硬化剤の合成及びその特性評価〕
＜実施例の硬化剤の合成＞
（実施例１）：レゾルシノール／ｍ−クレゾール（５０：５０）混合物とアセトアルデヒドの重縮合物（レゾルシノール／アルデヒド比＝２．０）の合成１
　１０００ｍｌのセパラブルフラスコを用い、レゾルシノールを１１０．１ｇ（１．０ｍｏｌ）、ｍ−クレゾールを１０８．１ｇ（１．０ｍｏｌ）、パラアルデヒドを４４．１ｇ（０．３３ｍｏｌ）、メタノールを１３５ｇ、純水を１７０ｇ、シュウ酸を０．８７ｇ（９．７ｍｍｏｌ）投入し、攪拌棒で攪拌しながら、オイルバスを用いて、約８５℃で６時間加熱還流した。反応終了後、アスピレータ、真空ポンプを用いて減圧し、溶媒であるメタノール及び水を留去することで、濃褐色固体を１３９ｇ得た。
　得られた濃褐色固体についてＧＰＣによる分子量分布の測定を行った結果、図１に示す分子量分布を持つことが分かった。レゾルシノール由来のピークは２１分頃のピークであり、１７分から２０分くらいのピークはレゾルシノール、ｍ−クレゾール及びパラアルデヒドが重縮合して得られたＲ１がメチル基、Ｒ２が水素原子、水酸基に対して一方のメタ位のＲ３がメチル基で他の２つのＲ３が水素原子である一般式（Ｉ−１）で示される環状フェノール化合物及びＲ１がメチル基、Ｒ２が水素原子、水酸基に対して一方のメタ位のＲ３がメチル基で他の２つのＲ３が水素原子である一般式（Ｉ−２）で示される鎖状フェノール化合物の混合物である。パラアセトアルデヒド由来のピークとｍ−クレゾール由来のピークはともに確認されず、濃赤色固体中に含有されていないことが確認できた。
　これらＧＰＣの積分比から求めた結果、レゾルシノール含有量は９％であった（残分：一般式（Ｉ−１）で示される環状フェノール化合物及び一般式（Ｉ−２）で示される鎖状フェノール化合物の混合物）。また、水酸基当量は８１であり、エポキシ樹脂に対する溶解性は、均一（透明）となり良好であった。
【００７４】
（実施例２）：レゾルシノール／ｍ−クレゾール（７５：２５）混合物とアセトアルデヒドの重縮合物（レゾルシノール／アルデヒド比＝２．０）の合成
　１０００ｍｌのセパラブルフラスコを用い、レゾルシノールを１６５．２ｇ（１．５ｍｏｌ）、ｍ−クレゾールを５４．１ｇ（０．５ｍｏｌ）、パラアルデヒドを４４．１ｇ（０．３３ｍｏｌ）、メタノールを１３５ｇ、純水を１７０ｇ、シュウ酸を０．８７ｇ（９．７ｍｍｏｌ）投入し、攪拌棒で攪拌しながら、オイルバスを用いて、約８５℃で６時間加熱還流した。反応終了後、アスピレータ、真空ポンプを用いて減圧し、溶媒であるメタノール及び水を留去することで、濃褐色固体を１９０ｇ得た。
　得られた濃褐色固体についてＧＰＣによる分子量分布の測定を行った結果、図１に示す分子量分布を持つことが分かった。レゾルシノール由来のピークは２１分頃のピークであり、１７分から２０分くらいのピークはレゾルシノール、ｍ−クレゾール及びパラアルデヒドが重縮合して得られたＲ１がメチル基、Ｒ２が水素原子、水酸基に対して一方のメタ位のＲ３がメチル基で他の２つのＲ３が水素原子である一般式（Ｉ−１）で示される環状フェノール化合物及びＲ１がメチル基、Ｒ２が水素原子、水酸基に対して一方のメタ位のＲ３がメチル基で他の２つのＲ３が水素原子である一般式（Ｉ−２）で示される鎖状フェノール化合物の混合物である。パラアセトアルデヒド由来のピークとｍ−クレゾール由来のピークはともに確認されず、濃赤色固体中に含有されていないことが確認できた。
　これらＧＰＣの積分比から求めた結果、レゾルシノール含有量は１７％であった残分：一般式（Ｉ−１）で示される環状フェノール化合物及び一般式（Ｉ−２）で示される鎖状フェノール化合物の混合物）。また、水酸基当量は７５であり、エポキシ樹脂に対する溶解性は均一（透明）となり良好であった。
【００７５】
（実施例３）：レゾルシノール／ｐ−クレゾール（７５：２５）混合物とアセトアルデヒドの重縮合物（レゾルシノール／アルデヒド比＝２．０）の合成
　１０００ｍｌのセパラブルフラスコを用い、レゾルシノールを１６５．２ｇ（１．５ｍｏｌ）、ｐ−クレゾールを５４．１ｇ（０．５ｍｏｌ）、パラアルデヒドを４４．１ｇ（０．３３ｍｏｌ）、メタノールを１３５ｇ、純水を１７０ｇ、シュウ酸を０．８７ｇ（９．７ｍｍｏｌ）投入し、攪拌棒で攪拌しながら、オイルバスを用いて、約８５℃で６時間加熱還流した。反応終了後、アスピレータ、真空ポンプを用いて減圧し、溶媒であるメタノール及び水を留去することで、濃褐色固体を１８２ｇ得た。
　得られた濃褐色固体についてＧＰＣによる分子量分布の測定を行った結果、図１に示す分子量分布を持つことが分かった。レゾルシノール由来のピークは２１分頃のピークであり、１７分から２０分くらいのピークはレゾルシノール、ｐ−クレゾール及びパラアルデヒドが重縮合して得られたＲ１がメチル基、Ｒ２が水素原子、水酸基に対してパラ位のＲ３がメチル基で他の２つのＲ３が水素原子である一般式（Ｉ−１）で示される環状フェノール化合物及びＲ１がメチル基、Ｒ２が水素原子、水酸基に対してパラ位のＲ３がメチル基で他の２つのＲ３が水素原子である一般式（Ｉ−２）で示される鎖状フェノール化合物の混合物である。パラアセトアルデヒド由来のピークとｐ−クレゾール由来のピークはともに確認されず、濃赤色固体中に含有されていないことが確認できた。
　これらＧＰＣの積分比から求めた結果、レゾルシノール含有量は１６％であった。また、水酸基当量は７５であり、エポキシ樹脂に対する溶解性は均一（透明）となり良好であった。
【００７６】
（実施例４）：レゾルシノール／ｍ−クレゾール（５０：５０）混合物とアセトアルデヒドの重縮合物（レゾルシノール／アルデヒド比＝２．０）の合成２
　１０００ｍｌのセパラブルフラスコに、レゾルシノールを６６．０ｇ（０．６０ｍｏｌ）、ｍ−クレゾールを６４．８ｇ（０．６０ｍｏｌ）、メタノールを１００ｍｌ、純水を１００ｍｌ投入し、攪拌棒で攪拌しながら、氷冷下で約１０℃に冷却し、濃塩酸を３０ｍｌ（０．３６ｍｏｌ）滴下した後、パラアルデヒドを２６．４ｇ（０．２０ｍｏｌ）を滴下した。その後、オイルバスを用いて、約８５℃で５時間加熱還流した。反応終了後、分液ロートに移し、メチルイソブチルケトンを約１６０ｇ、純水を約３００ｇ投入し、十分に混合した。水層を捨て、さらにメチルイソブチルケトンを約２４０ｇ、純水を約６００ｇ投入し、十分に混合した後、水層を捨て、有機層を減圧濃縮して濃褐色固体８１．８ｇを得た。
【００７７】
　得られた濃褐色固体についてＧＰＣによる分子量分布の測定を行った結果、図１に示す分子量分布を持つことが分かった。レゾルシノール由来のピークは２１分頃のピークであり、１７分から２０分くらいのピークはレゾルシノール、ｍ−クレゾール及びパラアルデヒドが重縮合して得られたＲ１がメチル基、Ｒ２が水素原子、水酸基に対して一方のメタ位のＲ３がメチル基で他の２つのＲ３が水素原子である一般式（Ｉ−１）で示される環状フェノール化合物及びＲ１がメチル基、Ｒ２が水素原子、水酸基に対して一方のメタ位のＲ３がメチル基で他の２つのＲ３が水素原子である一般式（Ｉ−２）で示される鎖状フェノール化合物の混合物である。パラアセトアルデヒド由来のピークとｍ−クレゾール由来のピークはともに確認されず、濃褐色固体中に含有されていないことが確認できた。
　これらＧＰＣの積分比から求めた結果、レゾルシノール含有量は６％であった。また、水酸基当量は８２であり、エポキシ樹脂に対する溶解性は均一（透明）となり良好であった。
【００７８】
（実施例５）レゾルシノール／ｍ−クレゾール（５０：５０）混合物とアセトアルデヒドの重縮合物（レゾルシノール／アルデヒド比＝１．０）の合成
　１０００ｍｌのセパラブルフラスコに、レゾルシノールを３３．０ｇ（０．３０ｍｏｌ）、ｍ−クレゾールを３２．４ｇ（０．３０ｍｏｌ）、メタノールを１００ｍｌ、純水を１００ｍｌ投入し、攪拌棒で攪拌しながら、氷冷下で約１０℃に冷却し、濃塩酸を３０ｍｌ（０．３６ｍｏｌ）滴下した後、パラアルデヒドを２６．４ｇ（０．２０ｍｏｌ）を滴下した。その後、オイルバスを用いて、約８５℃で４時間加熱還流した。反応終了後、分液ロートに移し、メチルイソブチルケトンを約１６０ｇ、純水を約３００ｇ投入し、十分に混合した。水層を捨て、さらにメチルイソブチルケトンを約２４０ｇ、純水を約６００ｇ投入し、十分に混合した後、水層を捨て、有機層を減圧濃縮して濃褐色固体４０．０ｇを得た。
　得られた濃褐色固体についてＧＰＣによる分子量分布の測定を行った結果、図１に示す分子量分布を持つことが分かった。レゾルシノール由来のピークは確認されず、１６分から２０分くらいのピークはレゾルシノール、ｍ−クレゾール及びパラアルデヒドが重縮合して得られたＲ１がメチル基、Ｒ２が水素原子、水酸基に対して一方のメタ位のＲ３がメチル基で他の２つのＲ３が水素原子である一般式（Ｉ−１）で示される環状フェノール化合物及びＲ１がメチル基、Ｒ２が水素原子、水酸基に対して一方のメタ位のＲ３がメチル基で他の２つのＲ３が水素原子である一般式（Ｉ−２）で示される鎖状フェノール化合物の混合物である。パラアセトアルデヒド由来のピークとｍ−クレゾール由来のピークはともに確認されず、濃褐色固体中に含有されていないことが確認できた。
　これらＧＰＣの積分比から求めた結果、レゾルシノール含有量は０％であった。また、水酸基当量は９１であり、エポキシ樹脂に対する溶解性は、大部分溶解しほぼ良好であった。
【００７９】
＜比較例の硬化剤の合成＞
（合成例１）：カリックスアレーン類１の合成
　３００ｍｌの４つ口フラスコを用い、レゾルシノール３３．０ｇ（０．３ｍｏｌ）をエタノール１２０ｍｌに溶かし、氷冷下、濃塩酸４０ｍｌを加え、約５℃で３０分間攪拌した。これにパラアルデヒド１２．１ｇ（０．１ｍｏｌ）を滴下した後、約３０分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却し、ろ過により生成した固体を得た。得られた固体を水で１回、メタノールで３回洗浄し、メタノールで２回再結晶した後、６０℃で２４時間真空乾燥することにより、白色固体を２０．８ｇ得た。
　得られた白色固体について１Ｈ−ＮＭＲスペクトルの測定、ＩＲスペクトルの測定、マススペクトルの測定、ＧＰＣによる分子量分布の測定を行った結果、下記一般式（１）で示される構造のカリックスアレーン類であることを確認した。なお、一般式（１）で示される構造のカリックスアレーン類は既知の化合物であるため、各種スペクトルの測定結果は省略する。図１には、ＧＰＣチャートを示す。
水酸基当量は構造式（理論値）から６８である。エポキシ樹脂に対する溶解性は、大部分が溶け残り良好ではなかった。
【００８０】
【化３６】
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（５）甲５の記載事項
　甲５には、以下の事項が記載されている。
　
（ｅ−１）
「【０００３】
　一般に、ポジ型フォトレジスト組成物には、ナフトキノンジアジド化合物等のキノンジアジド基を有する感光剤と、アルカリ可溶性樹脂（例えば、ノボラック型フェノ−ル樹脂）が用いられる。このような組成からなるポジ型フォトレジスト組成物は、露光後にアルカリ溶液による現像によって高い解像力を示すことから、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体製造、ＬＣＤ等の液晶表示画面機器の製造及び印刷原版の製造等に利用されている。」
　
（ｅ−２）
「【００５５】
　なお、本実施形態に係るノボラック型フェノール樹脂を用いたフォトレジスト用樹脂組成物をフォトリソグラフィーに使用する際、以下に説明する方法を用いる。
　まず、ノボラック型フェノール樹脂、感光剤および溶剤を混合する。混合して得られたフォトレジスト用樹脂組成物を、フォトリソグラフィーを行う対象物上に塗布してレジストパターンを形成する。なお、本実施形態に係るフォトレジスト用樹脂組成物は、ポジ型レジストである場合、露光しない限り現像液には溶解しない。
　次に、レジストパターンに対し露光を行った後、レジストパターンを現像する。なお、レジストパターンにおいて、露光した箇所では、感光剤が化学変化することによりカルボン酸となる。このため、露光した箇所のみ現像液に溶かすことができる。また、現像液に溶かす際、感光剤の作用により、溶解性に差をつけることも可能であり、これによってコントラストのパターンを形成することができる。
　その後、製造したレジストパターンをマスクとして所定の膜をエッチング加工することにより、液晶デバイスの層構造を形成することができる。」
（６）甲６の記載事項及び記載された発明
　
ア．甲６に記載された事項
　甲６には、以下の事項が記載されている。
（ｆ−１）
「１．２．１　カリックスアレーン類を基盤とする分子レジスト
　ＣＡ類はその分子構造から、高いガラス転移点（Ｔｇ）を持った環状のフェノール樹脂と考えることができる最初の分子レジストである。レゾルシンとアルデヒド類との縮合反応により合成されるＣＡ類としてカリックス［４］レゾルシンアレーン（ＣＲＡ）類がある。ＣＲＡ類は分子構造によってはアモルファス状態で、優れたフィルム形成能を有するために分子レジストして注目されている。」（第２１５頁下から第５行〜第２１６頁第１行）
　
（ｆ−２）
「ＣＡやＣＲＡ誘導体の単独使用ではないが、上田らはＣＲＡ類、架橋剤４，４’−メチレンビス−［２，６−ビス（ヒドロキシメチル）フェノール］（ＭＢＨＰ）、および光酸発生剤ジフェニルヨードニウム９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルフォネート（ＤＩＡＳ）より調製したネガ型レジスト（解像度１μｍ）を報告している。」（第２１６頁第２２行〜第２５行）
　
（ｆ−３）
「西久保らは、高性能の光硬化材料の開発を目的として、これまでメタクリロイル基、プロパルギル基、ビニルエーテル基、エポキシ基、スピロオルトエステル基などを有する様々なＣＡ誘導体を合成し、その光反応特性などを報告（図６）しているが、上記のＣＡ誘導体もネガ型分子レジストヘの展開が可能であると思われる。」（第２１７頁第１行〜第６行）
（ｆ−４）（第２１９頁図内左欄）
「
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
イ．甲６に記載された発明
　甲６には、上記（ｆ−１）ないし（ｆ−４）の記載からみて、
「以下の式で表されるカリックスアレーン化合物。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
に係る発明（以下「甲６発明」という。）が記載されている。
（７）甲７の記載事項
　甲７には、以下の事項が記載されている。
　
（ｇ−１）
「２．３　高解像度ネガ型レジスト
　２０ｎｍ以下の解像度を持つネガ型レジストの一つは、ＮＥＣで開発されているカリックスアレーン系レジストである。カリックスアレーン類は、フェノールとホルムアルデヒドとの縮合反応によって得られる環状オリゴマーであり、その分子構造がキリスト教の聖杯（ｃａｌｉｘ）に似ている芳香族（ａｒｅｎｅ）であるということからこの名称が付けられた。ベンゼン環ユニットの数、ベンゼン環に結合する官能基の種類などによって多くの誘導体が存在する。」（第４６頁第４行〜第９行）
（ｇ−２）
「低感度を補う方法の一つとして、微細な部分をカリックスアレーンで作製し、それ例外をフォトレジストで作製する複合法がある。カリックスアレーンは電子ビームに一旦感光すると、フォトレジストの溶剤や有機溶剤には溶解しない特性をもつ。このことを利用して、カリックスアレーンで微細なパターンを電子ビームで露光した後、フォトレジストでラフパターンを露光して１層のレジストとすることが可能である。」（第４７頁第６行〜第１０行）
　
２．対比・検討
　以下、本件の各発明ごとに、取消理由１及び取消理由２につき併せて検討する。
　
（１）本件発明１について
　
ア．甲１発明に基づく検討
　
（ア）対比
　本件発明１と上記甲１発明１とを対比すると、下記の２点で相違し、その余で一致するものと認められる。
　
相違点１−１：フェノール骨格部分につき、本件発明１では、「Ｒ１はアルキル基又はアルコキシ基であり、・・ｍは１〜３の整数、・・である。ｍが２以上の場合、複数のＲ１はそれぞれ同一でも良いし異なっていても良い。」であり、フェノール性水酸基数が１個であるのに対して、甲１発明１では、「Ｌは、独立して、単結合、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数６〜２４のアリーレン基、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｒ５）−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ５）−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−およびこれらの任意の組み合わせからなる群から選択される二価の有機基であり、Ｒ１は独立して、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、シアノ基、ニトロ基、水酸基、複素環基、ハロゲン、カルボキシル基、炭素数１〜２０のアルキルシラン、これらの誘導体からなる群から選択される官能基、炭素数２〜２０の置換メチル基、炭素数３〜２０の１−置換エチル基、炭素数４〜２０の１−置換−ｎ−プロピル基、炭素数３〜２０の１−分岐アルキル基、炭素数１〜２０のシリル基、炭素数２〜２０のアシル基、炭素数２〜２０の１−置換アルコキシアルキル基、炭素数２〜２０の環状エーテル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選択される酸解離性官能基、または水素原子であり、・・ｍは１〜４の整数であ」る点
相違点１−２：本件発明１では、「Ｒ２はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基であ」るのに対して、甲１発明１では、「Ｒ’は独立して、炭素数２〜２０のアルキル基、又は下記式
［化２］
　
で表わされる炭素数６〜２４のアリール基又はこれらの誘導体であ」る点
　
（イ）検討
　上記相違点１−１及び１−２につき併せて検討すると、甲１発明１の「環状化合物」において、フェノール骨格部分につき、「ｍ」が２以上で、官能基の組合せである「（ＬＲ１）」のうち１個のみが水酸基で、その余がアルキル基又はアルコキシ基であるとともに、連結部の「Ｒ’」が、いずれも炭素数１ないし６のアルキル基である場合には、本件発明１の「化合物（Ａ）」に相当するものといえるが、甲１の記載を更に検討しても、「（ＬＲ１）」が２個以上水酸基であり（レゾルシノール又はピロガロールに由来する）、「Ｒ’」が（置換）アリール基である（（置換）ベンズアルデヒドに由来する）場合のみであり、上記本件発明１の「化合物（Ａ）」の場合に係る具体的開示又は示唆がない。
　そして、本件特許に係る明細書の実施例及び比較例の記載からみて、本件発明１の「化合物（Ａ）を含有するフェノール性水酸基含有樹脂」であればフェノール骨格部分及び連結部の化学構造が異なる他のフェノール性水酸基含有樹脂に比して、レジストを構成した場合におけるアルカリ溶解速度及びエッチング耐性などの改善された効果を奏しているものと認められる。
　してみると、上記相違点１−１及び１−２は、いずれも実質的な相違点であるものと認められ、本件発明１が甲１発明１と同一であるとはいえない。
　また、本件発明１が、甲１発明１又は甲１発明１と他の甲号証に記載された事項との組合せに基づき、当業者が容易に発明をすることができたか否かにつき検討すると、甲１及び他の甲号証には、上記相違点１−１及び１−２に係る事項を具備すべき動機となる事項が存するとは認められないから、本件発明１が、甲１発明１又は甲１発明１と他の甲号証に記載された事項との組合せに基づき、当業者が本件発明１を容易に想到し得るものということはできない。
　したがって、本件発明１が、甲１発明１又は甲１発明１と他の甲号証に記載された事項との組合せに基づいて、当業者が容易に発明することができたものとは認められない。
　
（ウ）小括
　以上のとおりであるから、本件発明１は、甲１に記載された発明と同一であるとはいえず、また、甲１に記載された発明又は甲１に記載された発明と他の甲号証に記載された発明との組合せに基づいて、当業者が容易に発明することができたものとも認められない。
　
イ．甲２発明に基づく検討
　
（ア）対比・検討
　本件発明１と上記甲２発明とを対比すると、下記の点で相違し、その余の点では一致するものと認められる。
　
相違点２：本件発明１では、「Ｒ２はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基であ」るのに対して、甲２発明では、「水素原子」である点
　
　しかるに、上記相違点２は、化学構造上の明らかな差異であり、実質的な相違点であることが明らかである。
　また、甲２の記載及び他の甲号証の記載を検討しても、甲２発明の「化合物」について、メチレン連結基部分を他の１，１−アルキレン連結部（本件発明１のような連結部）とすべき動機となる事項が存するとは認められないから、本件発明１が、甲２発明又は甲２発明と他の甲号証に記載された事項との組合せに基づき、当業者が本件発明１を容易に想到し得るものということはできない。
　してみると、本件発明１は、甲２発明と同一であるとはいえず、また、甲２発明又は甲２発明と他の甲号証に記載された事項との組合せに基づいて、当業者が容易に発明することができたものとは認められない。
　
（イ）小括
　したがって、本件発明１は、甲２に記載された発明と同一であるとはいえず、また、甲２に記載された発明又は甲２に記載された発明と他の甲号証に記載された発明との組合せに基づいて、当業者が容易に発明することができたものとも認められない。
　
ウ．甲３発明に基づく検討
　
（ア）対比・検討
　本件発明１と上記甲３発明とを対比すると、下記の点で相違し、その余の点では一致するものと認められる。
　
相違点３：本件発明１では、「Ｒ２はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基であ」るのに対して、甲３発明では、「水素原子」である点
　
　しかるに、上記相違点３は、化学構造上の明らかな差異であり、実質的な相違点であることが明らかである。
　また、甲３の記載及び他の甲号証の記載を検討しても、甲３発明の「３−メチルカリックス［４］アレーン化合物」について、メチレン連結基部分を他の１，１−アルキレン連結部（本件発明１のような連結部）とすべき動機となる事項が存するとは認められないから、本件発明１が、甲３発明又は甲３発明と他の甲号証に記載された事項との組合せに基づき、当業者が本件発明１を容易に想到し得るものということはできない。
　してみると、本件発明１は、甲３発明と同一であるとはいえず、また、甲３発明又は甲３発明と他の甲号証に記載された事項との組合せに基づいて、当業者が容易に発明することができたものとは認められない。
　
（イ）小括
　したがって、本件発明１は、甲３に記載された発明と同一であるとはいえず、また、甲３に記載された発明又は甲３に記載された発明と他の甲号証に記載された発明との組合せに基づいて、当業者が容易に発明することができたものとも認められない。
　
エ．甲６発明に基づく検討
　
（ア）対比・検討
　本件発明１と上記甲６発明とを対比すると、下記の点で相違し、その余の点では一致するものと認められる。
　
相違点４：本件発明１では、「Ｒ２はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基であ」るのに対して、甲６発明では、「水素原子」である点
　
　しかるに、上記相違点４は、化学構造上の明らかな差異であり、実質的な相違点であることが明らかである。
　また、甲６の記載及び他の甲号証の記載を検討しても、甲６発明の「カリックスアレーン化合物」について、メチレン連結基部分を他の１，１−アルキレン連結部（本件発明１のような連結部）とすべき動機となる事項が存するとは認められないから、本件発明１が、甲６発明又は甲６発明と他の甲号証に記載された事項との組合せに基づき、当業者が本件発明１を容易に想到し得るものということはできない。
　してみると、本件発明１は、甲６発明と同一であるとはいえず、また、甲６発明又は甲６発明と他の甲号証に記載された事項との組合せに基づいて、当業者が容易に発明することができたものとは認められない。
　
（イ）小括
　したがって、本件発明１は、甲６に記載された発明と同一であるとはいえず、また、甲６に記載された発明又は甲６に記載された発明と他の甲号証に記載された発明との組合せに基づいて、当業者が容易に発明することができたものとも認められない。
　
オ．まとめ
　以上のとおりであるから、本件発明１は、甲１、甲２、甲３又は甲６に記載された発明ではなく、本件発明１に対して申立人が主張する取消理由１は理由がない。
　また、本件発明１は、甲１、甲２、甲３又は甲６に記載された各発明又は当該各発明とその他の甲号証に記載された発明との組合せにより、当業者が容易に発明をすることができたものではないから、本件発明１に対して申立人が主張する取消理由２についても理由がない。
　
（２）本件発明２、３及び５ないし１０について
　本件発明２、３及び５ないし１０につき検討すると、上記（１）で説示した理由により、本件発明１につき上記取消理由１及び２がいずれも理由がないのであるから、同一の理由により、本件発明１を直接的又は間接的に引用してなる本件発明２、３及び５ないし１０についても、上記取消理由１及び２につきいずれも理由がない。
　
（３）まとめ
　したがって、本件発明１ないし３及び５ないし１０に係る特許につき、申立人が主張する取消理由１及び２により、取り消すべきものとすることはできない。
　
３．まとめ
　したがって、本件発明１ないし３及び５ないし１０に係る特許につき、申立人が主張する取消理由１及び２により、取り消すべきものとすることはできない。
　
第７　むすび
　以上のとおり、申立人が主張する取消理由１及び２及び当審が通知した取消理由によって、本件の請求項１ないし３及び５ないし１０に係る発明についての特許につき、取り消すことはできない。
　また、ほかに、本件の請求項１ないし３及び５ないし１０に係る発明についての特許につき、取り消すべき理由を発見しない。
　さらに、本件の請求項４に係る発明についての特許に対する本件異議申立は、不適法なものであり、却下すべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成２９年９月２７日（２０１７．９．２７）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
下記構造式（１）
　【化１】
（式中、Ｒ１はアルキル基
又は
基で
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基
で表される分子構造を有する化合物（Ａ）を含有することを特徴とするフェノール性水酸基含有樹脂。
　【請求項２】
前記Ｒ１がアルキル基であり、前記Ｒ２がメチル基であり、
　【請求項３】
下記構造式（１−１）
　【化２】
（式中、Ｒ１はアルキル基
又は
基で
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基
で表される分子構造を有する化合物（Ａ−１）を含有することを特徴とする請求項１記載のフェノール性水酸基含有樹脂。
　【請求項４】（削除）
　【請求項５】
請求項１〜３の何れか一つに記載のフェノール性水酸基含有樹脂と感光剤とを含有する感光性組成物。
　【請求項６】
請求項５記載の感光性組成物からなるレジスト用組成物。
　【請求項７】
請求項５記載の感光性組成物からなる塗膜。
　【請求項８】
請求項１〜３の何れか一つに記載のフェノール性水酸基含有樹脂と硬化剤とを含有する硬化性組成物。
　【請求項９】
請求項８記載の硬化性組成物を硬化させてなる硬化物。
　【請求項１０】
請求項
８
硬化物からなる