【手続補正書】
【提出日】平成23年5月9日(2011.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペンアセンブリおよび多軸アセンブリが、材料を、該ペンアセンブリから、該多軸アセンブリによって位置決めされた基板へと供給するように適合されている、
少なくとも五つのナノポジショニングステージを備える少なくとも一つの前記多軸アセンブリと、
少なくとも一つの前記ペンアセンブリと、
を備え、
少なくとも一つの観察アセンブリと、
少なくとも一つのコントローラと、
を備える装置。
【請求項２】
多軸アセンブリが、少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備える、請求項1記載の装置。
【請求項３】
ナノポジショニングステージが圧電ナノポジショニングステージを含む、請求項1記載の装置。
【請求項４】
多軸アセンブリが、少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備え、前記ステージが圧電機構によって作動される、請求項1記載の装置。
【請求項５】
多軸アセンブリが第6のナノポジショニングステージを備える、請求項1記載の装置。
【請求項６】
ペンアセンブリから基板への材料の供給を、少なくとも20mm×20mmの基板表面積にわたって行なうことができるように、多軸アセンブリが、十分に移動できる、請求項1記載の装置。
【請求項７】
多軸アセンブリが、ペンアセンブリから基板への材料の、20cm/秒またはそれ未満の最大移動速度の供給を可能にする、請求項1記載の装置。
【請求項８】
多軸アセンブリがXY並進ステージ上に配置されている、請求項1記載の装置。
【請求項９】
多軸アセンブリのための筐体を更に備える、請求項1記載の装置。
【請求項１０】
多軸アセンブリが、他の構成要素を装着できるように適合されたテーブルアセンブリを装着するように適合された、ペンアセンブリと対向する開口を備える、請求項1記載の装置。
【請求項１１】
基板を受けるために多軸アセンブリ上に配置されたテーブルアセンブリを更に備える、請求項1記載の装置。
【請求項１２】
ペンアセンブリおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備える、請求項1記載の装置。
【請求項１３】
観察アセンブリが顕微鏡を含む、請求項1記載の装置。
【請求項１４】
供給が直接書き込みナノリソグラフィである、請求項1記載の装置。
【請求項１５】
多軸アセンブリが少なくとも10度の基板の傾斜を可能にする、請求項1記載の装置。
【請求項１６】
ペンアセンブリおよび多軸アセンブリが、材料を、該ペンアセンブリのチップから、該多軸アセンブリによって位置決めされた基板へと供給するように適合されており、
前記多軸アセンブリが、前記ペンアセンブリおよび前記基板を取り囲むための環境チャンバと結合されるように適合され、且つ前記基板が配置される取り外し可能なテーブルアセンブリと共に機能するようにも適合されている、
少なくとも一つの圧電ナノポジショニングXステージ、少なくとも一つの圧電ナノポジショニングYステージ、少なくとも一つの圧電ナノポジショニングZステージ、傾きを与えるための第1の圧電ゴニオメータ、および該第1のゴニオメータの傾きに対して直交する傾きを与えるための第2の圧電ゴニオメータを備える少なくとも一つの前記多軸アセンブリと、
ペンがカンチレバーのアレイを含み、該カンチレバーがその上に配置された前記チップを有する、ペンのアレイを含む少なくとも一つの前記ペンアセンブリと、
を備え、
少なくとも一つの観察アセンブリと、
少なくとも一つのコントローラと、
を備える装置。
【請求項１７】
ペンアセンブリがペンをZ方向に移動させるように適合されている、請求項16記載の装置。
【請求項１８】
供給されるべき材料を保持するためのマイクロ流体デバイスを更に備える、請求項16記載の装置。
【請求項１９】
多軸アセンブリが、少なくとも20mmのX動作、少なくとも20mmのY動作、および少なくとも10mmのZ動作を与える、請求項16記載の装置。
【請求項２０】
多軸アセンブリが、少なくとも40mmのX動作、少なくとも40mmのY動作、および少なくとも20mmのZ動作を与える、請求項16記載の装置。
【請求項２１】
多軸アセンブリが、第1のゴニオメータから少なくとも5度の傾きを与え、且つ第2のゴニオメータから少なくとも5度の傾きを与える、請求項16記載の装置。
【請求項２２】
多軸アセンブリが、第1のゴニオメータから少なくとも10度の傾きを与え、且つ第2のゴニオメータから少なくとも10度の傾きを与える、請求項16記載の装置。
【請求項２３】
多軸アセンブリが少なくとも100nm/秒の移動速度を与える、請求項16記載の装置。
【請求項２４】
多軸アセンブリが10mm/秒以下の移動速度を与える、請求項16記載の装置。
【請求項２５】
多軸アセンブリが少なくとも0.001度の傾きに関する角度分解能を与える、請求項16記載の装置。
【請求項２６】
少なくとも5nm分解能で位置フィードバックを与える少なくとも一つのリニアエンコーダを更に備える、請求項16記載の装置。
【請求項２７】
X、Y、およびZ動作における長さに関する分解能が、少なくとも±5nmである、請求項16記載の装置。
【請求項２８】
X、Y、およびZ動作における長さに関する分解能が、再現可能で、少なくとも±5nmである、請求項16記載の装置。
【請求項２９】
観察アセンブリが少なくとも30mmの移動長を有する顕微鏡を備える、請求項16記載の装置。
【請求項３０】
観察アセンブリが蛍光検出を有する顕微鏡を含む、請求項16記載の装置。
【請求項３１】
ペンのアレイがペンの二次元アレイを含む、請求項16記載の装置。
【請求項３２】
ペンのアレイが、少なくとも55,000個のペンを備えるペンの二次元アレイを含む、請求項16記載の装置。
【請求項３３】
多軸アセンブリが筐体内に収容されている、請求項16記載の装置。
【請求項３４】
多軸アセンブリがXY並進ステージ上に装着されている、請求項16記載の装置。
【請求項３５】
コントローラが多軸アセンブリの動作を制御する、請求項16記載の装置。
【請求項３６】
チップを備えるカンチレバーを含むペンのアレイを設ける工程と、
前記チップ上に材料を配置する工程と、
基板の空間位置および方向が、X方向の動作、Y方向の動作、Z方向の動作、第1の傾きの動作、および該第1の傾きに対して直交する第2の傾きの動作を与える多軸アセンブリによって制御される、前記チップから基板へと材料を供給する工程と、
を含む方法。
【請求項３７】
チップが原子間力顕微鏡チップである、請求項36記載の方法。
【請求項３８】
チップ位置がZ方向で制御される、請求項36記載の方法。
【請求項３９】
ペンのアレイがペンの二次元アレイを含む、請求項36記載の方法。
【請求項４０】
材料が、核酸、タンパク質、またはペプチド材料である、請求項36記載の方法。
【請求項４１】
多軸アセンブリが、Xステージ、Yステージ、Zステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを与える、請求項36記載の方法。
【請求項４２】
ペンから基板への材料の供給を、少なくとも20mm×20mmの基板表面積にわたって行なうことができるように、多軸アセンブリが、十分に移動できる、請求項36記載の方法。
【請求項４３】
多軸アセンブリが、ペンから基板への材料の、最大で20cm/秒の最大移動速度の供給を可能にする、請求項36記載の方法。
【請求項４４】
多軸アセンブリがXY並進ステージ上に配置されている、請求項36記載の方法。
【請求項４５】
多軸アセンブリが手動操作可能なXY並進ステージ上に配置されている、請求項36記載の方法。
【請求項４６】
多軸アセンブリが装置の一部であり、該装置が該多軸アセンブリのための筐体を更に備える、請求項36記載の方法。
【請求項４７】
多軸アセンブリが、基板が配置されたテーブルアセンブリを装着するように適合された、ペンと対向する開口を備える、請求項36記載の方法。
【請求項４８】
多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、基板を受けるために多軸アセンブリ上に配置されたテーブルアセンブリを更に備える、請求項36記載の方法。
【請求項４９】
多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、ペンおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備える、請求項36記載の方法。
【請求項５０】
多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、ペンおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備え、該環境チャンバが、該装置の観察アセンブリによる観察を容易にするための開口を備える、請求項36記載の方法。
【請求項５１】
多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、ペンおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備え、且つ該環境チャンバが、温度、湿度、およびガス組成を制御するように適合されている、請求項36記載の方法。
【請求項５２】
顕微鏡を含む観察アセンブリを用いて基板を観察する工程を更に含む、請求項36記載の方法。
【請求項５３】
蛍光検出を可能にするように適合された顕微鏡を含む観察アセンブリを用いて基板を観察する工程を更に含む、請求項36記載の方法。
【請求項５４】
少なくとも400nmの分解能で構造を観察するように適合された顕微鏡を含む観察アセンブリを用いて基板を観察する工程を更に含む、請求項36記載の方法。
【請求項５５】
材料が核酸またはタンパク質材料を含む、請求項36記載の方法。
【請求項５６】
多軸アセンブリの少なくとも動きを制御するコントローラが使用される、請求項36記載の方法。
【請求項５７】
材料を点または線の形態で基板上に供給できるようにするソフトウェアを備えるコントローラが使用される、請求項36記載の方法。
【請求項５８】
ペンアセンブリおよび多軸アセンブリが、材料を、該ペンアセンブリから、5軸アセンブリによって位置決めされた基板へと供給するように適合されている、
少なくとも五つの一体型圧電ナノポジショニングステージを備える少なくとも一つの前記5軸アセンブリと、
少なくとも一つの前記ペンアセンブリと、
少なくとも一つの観察アセンブリと、
少なくとも一つのコントローラと、
を備え、
前記5軸アセンブリが、少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備える、
装置。
【請求項５９】
5軸アセンブリが、その上に基板を配置できるテーブルアセンブリを備える、請求項58記載の装置。
【請求項６０】
観察アセンブリが、少なくとも30mmの作動距離を有する顕微鏡を含む、請求項58記載の装置。
【請求項６１】
ペンアセンブリを取り囲むための少なくとも一つの環境チャンバ、および供給されるべき材料のための少なくとも一つのマイクロ流体リザーバとを更に備える、請求項58記載の装置。
【請求項６２】
コントローラが、5軸アセンブリのための動作を制御するように適合されている、請求項58記載の装置。
【請求項６３】
ペンアセンブリが直接書き込みナノリソグラフィに適合されている、請求項58記載の装置。
【請求項６４】
ペンアセンブリがナノスケールチップの二次元アレイを含む、請求項58記載の装置。
【請求項６５】
XステージおよびYステージがそれぞれ少なくとも20mmの移動距離を有する、請求項58記載の装置。
【請求項６６】
XステージおよびYステージがそれぞれ少なくとも40mmの移動距離を有する、請求項58記載の装置。
【請求項６７】
5軸アセンブリは、ペンアセンブリのための環境チャンバおよび基板のためのテーブルアセンブリと共に機能するように適合されたハウジングによって取り囲まれる、請求項58記載の装置。
【請求項６８】
請求項1記載の装置を設ける工程と、
材料をペンアセンブリから基板へ供給する工程と、
を含む方法。
【請求項６９】
少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備える、少なくとも五つのナノポジショニングステージを備える少なくとも一つの多軸アセンブリ
を備える装置。
【請求項７０】
レーザベースのフィードバックシステムを更に備える、請求項1記載の装置。
【請求項７１】
少なくとも一つの原子分解能スキャナを更に備える、請求項1記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本明細書において記載される様々な態様のうちの一つまたは複数で見出され得る、一つまたは複数の利点としては、ナノスケール分解能および位置決め精度の保持を伴なってマクロスケールで動作できること（例えばマクロスケールペン移動）、良好な感度、良好な信頼性、安価、良好な汎用性、バイオテクノロジー用途および電子用途の両方で用いる多種多様な付着材料を使用できること、およびコンパクト性（机上で使用できること）が含まれる。特に、例えば核酸アセンブリおよびタンパク質アセンブリを、例えば金属表面上またはガラス表面上に形成するために、ナノメートル分解能を伴ってミリメートルスケール領域にわたって、機器を用いてサブミクロンアレイを形成することができる。抗体およびオリゴマーのナノスケールパターニング、ならびにそれらの生物学的活性のスクリーニングは、アレイ内およびアレイ間における特徴の、優れた均一性および再現性を伴なって達成することができる。プロセスは、例えばゼロに近い僅かな量で表わされる薬剤標的の検査に関連する、かなり少ない量の合成材料および標識材料を必要とし得る。nm分解能を伴なったマクロスケール領域にわたるプログラム可能な多重の付着が提供される。
[請求項1001]
ペンアセンブリおよび多軸アセンブリが、材料を、該ペンアセンブリから、該多軸アセンブリによって位置決めされた基板へと供給するように適合されている、
少なくとも五つのナノポジショニングステージを備える少なくとも一つの前記多軸アセンブリと、
少なくとも一つの前記ペンアセンブリと、
を備え、
少なくとも一つの観察アセンブリと、
少なくとも一つのコントローラと、
を備える装置。
[請求項1002]
多軸アセンブリが、少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1003]
ナノポジショニングステージが圧電ナノポジショニングステージを含む、請求項1001記載の装置。
[請求項1004]
多軸アセンブリが、少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備え、前記ステージが圧電機構によって作動される、請求項1001記載の装置。
[請求項1005]
多軸アセンブリが第6のナノポジショニングステージを備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1006]
ペンアセンブリから基板への材料の供給を、少なくとも20mm×20mmの基板表面積にわたって行なうことができるように、多軸アセンブリが、十分に移動できる、請求項1001記載の装置。
[請求項1007]
ペンアセンブリから基板への材料の供給を、少なくとも40mm×40mmの基板表面積にわたって行なうことができるように、多軸アセンブリが、十分に移動できる、請求項1001記載の装置。
[請求項1008]
多軸アセンブリが、ペンアセンブリから基板への材料の、20cm/秒またはそれ未満の最大移動速度の供給を可能にする、請求項1001記載の装置。
[請求項1009]
多軸アセンブリが、ペンアセンブリから基板への材料の、少なくとも100nm/秒の移動速度の供給を可能にする、請求項1001記載の装置。
[請求項1010]
多軸アセンブリがXY並進ステージ上に配置されている、請求項1001記載の装置。
[請求項1011]
多軸アセンブリのための筐体を更に備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1012]
多軸アセンブリが、他の構成要素を装着できるように適合されたテーブルアセンブリを装着するように適合された、ペンアセンブリと対向する開口を備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1013]
基板を受けるために多軸アセンブリ上に配置されたテーブルアセンブリを更に備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1014]
ペンアセンブリおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1015]
ペンアセンブリおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備え、該環境チャンバが、観察アセンブリによる観察を容易にするための開口を備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1016]
ペンアセンブリおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備え、且つ該環境チャンバが、温度、湿度、およびガス組成を制御するように適合されている、請求項1001記載の装置。
[請求項1017]
ペンアセンブリがペンの一次元アレイを含む、請求項1001記載の装置。
[請求項1018]
ペンアセンブリがペンの二次元アレイを含む、請求項1001記載の装置。
[請求項1019]
ペンアセンブリが、少なくとも55,000個のペンを備えるペンの二次元アレイを含む、請求項1001記載の装置。
[請求項1020]
観察アセンブリが顕微鏡を含む、請求項1001記載の装置。
[請求項1021]
観察アセンブリが、顕微鏡を備え、且つ蛍光検出を可能とするように適合されている、請求項1001記載の装置。
[請求項1022]
観察アセンブリが、少なくとも400nmの分解能で構造を観察するように適合されている顕微鏡を含む、請求項1001記載の装置。
[請求項1023]
材料が生物学的材料を含む、請求項1001記載の装置。
[請求項1024]
コントローラが、多軸アセンブリの少なくとも動きを制御する、請求項1001記載の装置。
[請求項1025]
コントローラが、材料を、点または線の形態で基板上に供給できるようにするソフトウェアを備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1026]
コントローラが、環境チャンバ内のガスの雰囲気を制御するためのソフトウェアを備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1027]
ナノポジショニングステージが静電ナノポジショニングステージを含む、請求項1001記載の装置。
[請求項1028]
ナノポジショニングステージが電磁ナノポジショニングステージを含む、請求項1001記載の装置。
[請求項1029]
供給が直接書き込みナノリソグラフィである、請求項1001記載の装置。
[請求項1030]
多軸アセンブリが少なくとも10度の基板の傾斜を可能にする、請求項1001記載の装置。
[請求項1031]
ペンアセンブリおよび多軸アセンブリが、材料を、該ペンアセンブリのチップから、該多軸アセンブリによって位置決めされた基板へと供給するように適合されており、
前記多軸アセンブリが、前記ペンアセンブリおよび前記基板を取り囲むための環境チャンバと結合されるように適合され、且つ前記基板が配置される取り外し可能なテーブルアセンブリと共に機能するようにも適合されている、
少なくとも一つの圧電ナノポジショニングXステージ、少なくとも一つの圧電ナノポジショニングYステージ、少なくとも一つの圧電ナノポジショニングZステージ、傾きを与えるための第1の圧電ゴニオメータ、および該第1のゴニオメータの傾きに対して直交する傾きを与えるための第2の圧電ゴニオメータを備える少なくとも一つの前記多軸アセンブリと、
ペンがカンチレバーのアレイを含み、該カンチレバーがその上に配置された前記チップを有する、ペンのアレイを含む少なくとも一つの前記ペンアセンブリと、
を備え、
少なくとも一つの観察アセンブリと、
少なくとも一つのコントローラと、
を備える装置。
[請求項1032]
ペンアセンブリがペンをZ方向に移動させるように適合されている、請求項1031記載の装置。
[請求項1033]
供給されるべき材料を保持するためのマイクロ流体デバイスを更に備える、請求項1031記載の装置。
[請求項1034]
多軸アセンブリが、少なくとも20mmのX動作、少なくとも20mmのY動作、および少なくとも10mmのZ動作を与える、請求項1031記載の装置。
[請求項1035]
多軸アセンブリが、少なくとも40mmのX動作、少なくとも40mmのY動作、および少なくとも20mmのZ動作を与える、請求項1031記載の装置。
[請求項1036]
多軸アセンブリが、第1のゴニオメータから少なくとも5度の傾きを与え、且つ第2のゴニオメータから少なくとも5度の傾きを与える、請求項1031記載の装置。
[請求項1037]
多軸アセンブリが、第1のゴニオメータから少なくとも10度の傾きを与え、且つ第2のゴニオメータから少なくとも10度の傾きを与える、請求項1031記載の装置。
[請求項1038]
多軸アセンブリが少なくとも100nm/秒の移動速度を与える、請求項1031記載の装置。
[請求項1039]
多軸アセンブリが10mm/秒以下の移動速度を与える、請求項1031記載の装置。
[請求項1040]
多軸アセンブリが少なくとも0.001度の傾きに関する角度分解能を与える、請求項1031記載の装置。
[請求項1041]
少なくとも5nm分解能で位置フィードバックを与える少なくとも一つのリニアエンコーダを更に備える、請求項1031記載の装置。
[請求項1042]
X、Y、およびZ動作における長さに関する分解能が、少なくとも±5nmである、請求項1031記載の装置。
[請求項1043]
X、Y、およびZ動作における長さに関する分解能が、再現可能で、少なくとも±5nmである、請求項1031記載の装置。
[請求項1044]
観察アセンブリが少なくとも30mmの移動長を有する顕微鏡を備える、請求項1031記載の装置。
[請求項1045]
観察アセンブリが蛍光検出を有する顕微鏡を含む、請求項1031記載の装置。
[請求項1046]
ペンのアレイがペンの二次元アレイを含む、請求項1031記載の装置。
[請求項1047]
ペンのアレイが、少なくとも55,000個のペンを備えるペンの二次元アレイを含む、請求項1031記載の装置。
[請求項1048]
多軸アセンブリが筐体内に収容されている、請求項1031記載の装置。
[請求項1049]
多軸アセンブリがXY並進ステージ上に装着されている、請求項1031記載の装置。
[請求項1050]
コントローラが多軸アセンブリの動作を制御する、請求項1031記載の装置。
[請求項1051]
チップを備えるカンチレバーを含むペンのアレイを設ける工程と、
前記チップ上に材料を配置する工程と、
基板の空間位置および方向が、X方向の動作、Y方向の動作、Z方向の動作、第1の傾きの動作、および該第1の傾きに対して直交する第2の傾きの動作を与える多軸アセンブリによって制御される、前記チップから基板へと材料を供給する工程と、
を含む方法。
[請求項1052]
チップが走査プローブ顕微鏡チップである、請求項1051記載の方法。
[請求項1053]
チップが原子間力顕微鏡チップである、請求項1051記載の方法。
[請求項1054]
チップが固体ナノスケールチップである、請求項1051記載の方法。
[請求項1055]
チップが少なくとも一つの開口を備える、請求項1051記載の方法。
[請求項1056]
チップが作動チップである、請求項1051記載の方法。
[請求項1057]
チップ位置がZ方向で制御される、請求項1051記載の方法。
[請求項1058]
ペンのアレイがペンの二次元アレイを含む、請求項1051記載の方法。
[請求項1059]
材料が生物学的材料である、請求項1051記載の方法。
[請求項1060]
材料が、核酸、タンパク質、またはペプチド材料である、請求項1051記載の方法。
[請求項1061]
多軸アセンブリが、Xステージ、Yステージ、Zステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを与える、請求項1051記載の方法。
[請求項1062]
ペンから基板への材料の供給を、少なくとも20mm×20mmの基板表面積にわたって行なうことができるように、多軸アセンブリが、十分に移動できる、請求項1051記載の方法。
[請求項1063]
ペンから基板への材料の供給を、少なくとも40mm×40mmの基板表面積にわたって行なうことができるように、多軸アセンブリが、十分に移動できる、請求項1051記載の方法。
[請求項1064]
多軸アセンブリが、ペンから基板への材料の、最大で20cm/秒の最大移動速度の供給を可能にする、請求項1051記載の方法。
[請求項1065]
多軸アセンブリがXY並進ステージ上に配置されている、請求項1051記載の方法。
[請求項1066]
多軸アセンブリが手動操作可能なXY並進ステージ上に配置されている、請求項1051記載の方法。
[請求項1067]
多軸アセンブリが装置の一部であり、該装置が該多軸アセンブリのための筐体を更に備える、請求項1051記載の方法。
[請求項1068]
多軸アセンブリが、基板が配置されたテーブルアセンブリを装着するように適合された、ペンと対向する開口を備える、請求項1051記載の方法。
[請求項1069]
多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、基板を受けるために多軸アセンブリ上に配置されたテーブルアセンブリを更に備える、請求項1051記載の方法。
[請求項1070]
多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、ペンおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備える、請求項1051記載の方法。
[請求項1071]
多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、ペンおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備え、該環境チャンバが、該装置の観察アセンブリによる観察を容易にするための開口を備える、請求項1051記載の方法。
[請求項1072]
多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、ペンおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備え、且つ該環境チャンバが、温度、湿度、およびガス組成を制御するように適合されている、請求項1051記載の方法。
[請求項1073]
ペンがペンの一次元アレイの一部である、請求項1051記載の方法。
[請求項1074]
ペンが、少なくとも10,000個のペンを備えるペンの二次元アレイの一部である、請求項1051記載の方法。
[請求項1075]
顕微鏡を含む観察アセンブリを用いて基板を観察する工程を更に含む、請求項1051記載の方法。
[請求項1076]
蛍光検出を可能にするように適合された顕微鏡を含む観察アセンブリを用いて基板を観察する工程を更に含む、請求項1051記載の方法。
[請求項1077]
少なくとも400nmの分解能で構造を観察するように適合された顕微鏡を含む観察アセンブリを用いて基板を観察する工程を更に含む、請求項1051記載の方法。
[請求項1078]
材料が核酸またはタンパク質材料を含む、請求項1051記載の方法。
[請求項1079]
多軸アセンブリの少なくとも動きを制御するコントローラが使用される、請求項1051記載の方法。
[請求項1080]
材料を点または線の形態で基板上に供給できるようにするソフトウェアを備えるコントローラが使用される、請求項1051記載の方法。
[請求項1081]
ペンアセンブリおよび多軸アセンブリが、材料を、該ペンアセンブリから、5軸アセンブリによって位置決めされた基板へと供給するように適合されている、
少なくとも五つの一体型圧電ナノポジショニングステージを備える少なくとも一つの前記5軸アセンブリと、
少なくとも一つの前記ペンアセンブリと、
少なくとも一つの観察アセンブリと、
少なくとも一つのコントローラと、
を備え、
前記5軸アセンブリが、少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備える、
装置。
[請求項1082]
5軸アセンブリが、その上に基板を配置できるテーブルアセンブリを備える、請求項1081記載の装置。
[請求項1083]
観察アセンブリが、少なくとも30mmの作動距離を有する顕微鏡を含む、請求項1081記載の装置。
[請求項1084]
ペンアセンブリを取り囲むための少なくとも一つの環境チャンバ、および供給されるべき材料のための少なくとも一つのマイクロ流体リザーバとを更に備える、請求項1081記載の装置。
[請求項1085]
コントローラが、5軸アセンブリのための動作を制御するように適合されている、請求項1081記載の装置。
[請求項1086]
ペンアセンブリが直接書き込みナノリソグラフィに適合されている、請求項1081記載の装置。
[請求項1087]
ペンアセンブリがナノスケールチップの二次元アレイを含む、請求項1081記載の装置。
[請求項1088]
XステージおよびYステージがそれぞれ少なくとも20mmの移動距離を有する、請求項1081記載の装置。
[請求項1089]
XステージおよびYステージがそれぞれ少なくとも40mmの移動距離を有する、請求項1081記載の装置。
[請求項1090]
5軸アセンブリは、ペンアセンブリのための環境チャンバおよび基板のためのテーブルアセンブリと共に機能するように適合されたハウジングによって取り囲まれる、請求項1081記載の装置。
[請求項1091]
請求項1001記載の装置を設ける工程と、
材料をペンアセンブリから基板へ供給する工程と、
を含む方法。
[請求項1092]
材料が生物学的材料を含む、請求項1091記載の方法。
[請求項1093]
材料が核酸、タンパク質、またはペプチドを含む、請求項1091記載の方法。
[請求項1094]
材料がオリゴヌクレオチドを含む、請求項1091記載の方法。
[請求項1095]
材料が点または線の形態で基板へ供給される、請求項1091記載の方法。
[請求項1096]
ペンアセンブリが、チップを備えるカンチレバーのアレイを含む、請求項1091記載の方法。
[請求項1097]
ペンアセンブリが、ナノスケールチップを備えるカンチレバーのアレイを含む、請求項1091記載の方法。
[請求項1098]
ペンアセンブリが、ナノスケールチップを備えるカンチレバーの二次元アレイを含む、請求項1091記載の方法。
[請求項1099]
供給が少なくとも5mmの距離にわたって行なわれる、請求項1091記載の方法。
[請求項1100]
供給が少なくとも20mmの距離にわたって行なわれる、請求項1091記載の方法。
[請求項1101]
少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備える、少なくとも五つのナノポジショニングステージを備える少なくとも一つの多軸アセンブリ
を備える装置。
[請求項1102]
ナノポジショニングステージが、圧電ナノポジショニングステージ、静電ナノポジショニングステージ、電磁ナノポジショニングステージ、または磁歪ナノポジショニングステージである、請求項1101記載の装置。
[請求項1103]
ナノポジショニングステージが圧電ナノポジショニングステージを含む、請求項1101記載の装置。
[請求項1104]
多軸アセンブリが第6のナノポジショニングステージを備える、請求項1101記載の装置。
[請求項1105]
少なくともXナノポジショニングステージおよびYナノポジショニングステージが、少なくとも20mm直線的に移動できる、請求項1101記載の装置。
[請求項1106]
基板の空間位置および方向がソフトウェアによって更に制御される、請求項1051記載の方法。
[請求項1107]
供給がソフトウェアによって制御される、請求項1091記載の方法。
[請求項1108]
供給がソフトウェアおよびレーザベースのフィードバックシステムによって制御される、請求項1091記載の方法。
[請求項1109]
レーザベースのフィードバックシステムを更に備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1110]
少なくとも一つの原子分解能スキャナを更に備える、請求項1001記載の装置。
[請求項1111]
コントローラが、基板面の画定を可能にするためのソフトウェアを備える、請求項1001記載の装置。