【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年1月5日(2011.1.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
方法であって、
物品のデータを三次元座標系における初期寸法を含めて集める工程（１０００）にして、該物品はセラミック粒子を含む光重合性材料から立体リソグラフィ装置（５００）において生のセラミック物品（３００）として形成される、工程（１０００）と、
該生のセラミック物品（３００）を焼結した時の、該座標系における該生のセラミック物品（３００）の異方性収縮の収縮後寸法を補償するため、少なくとも２つの等しくない倍率（ｓｃａｌｉｎｇｆａｃｔｏｒ）を該初期寸法に適用する工程と、
前記適用する工程の後、該立体リソグラフィ装置（５００）において該生のセラミック物品（３００）を組立てる工程と、
該寸法と実質的に一致する焼結セラミック物品（４５）を形成するため該生のセラミック物品（３００）を加熱する工程とを含む、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、前記適用する倍率はすべてが等しくない、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法において、前記組立てる工程は該光重合性材料からなる複数の層（５０−５３）を形成する工程を含み、
前記方法は、該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の少なくとも１つを、該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の次の層を形成する前に、平坦にする工程をさらに含み、かつ、
前記方法は、該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の該次の層を形成する前に、該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の該少なくとも１つの層（５０−５３）を所定のエネルギ照射量（ａｄｏｓｅ ｏｆ ｅｎｅｒｇｙ）で暴露する工程をさらに含む、方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法において、前記平坦にする工程は、該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の該少なくとも１つの層（５０−５３）の表面を機械的に拭う工程を含む、方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法において、前記機械的に拭う工程は該セラミック粒子の均質性を少なくとも２つの次元にて変化させる、方法。
【請求項６】
請求項４に記載の方法において、前記平坦にする工程は該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の各々を平坦にする工程を含み、
前記方法は該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の各々を所定のエネルギ照射量で暴露する工程をさらに含む、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法において、該立体リソグラフィ装置（５００）は、該三次元座標系における所定の大きさを有する、方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法において、該焼結セラミック物品（４５）はほぼ最終形状（ｎｅｔｓｈａｐｅ）である、方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法において、該焼結セラミック物品（４５）は最終形状である、方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法において、該焼結セラミック物品（４５）は該初期寸法との寸法精度が１．５％以内である、方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法において、該焼結セラミック物品（４５）は該初期寸法との寸法精度が０．５％以内である、方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法において、前記加熱する工程は、該生のセラミック物品（３００）中のポリマーを焼き取る工程を含む、方法。
【請求項１３】
請求項２に記載の方法において、該三次元座標系は、Ｘ軸に対応する第１の軸と、Ｙ軸に対応する第２の軸と、Ｚ軸に対応する第３の軸を含むデカルト座標系であり、
該立体リソグラフィ装置（５００）は該三次元座標系における所定の大きさを有し、
前記組立てる工程は、該光重合性材料から複数の層（５０−５３）を該Ｚ軸方向を組立方向として組立てる工程を含み、
前記方法は、該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の各々の上面を、所定のエネルギ照射量で暴露する前に、他の軸の１つの方向に拭う工程をさらに含む、方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の方法において、該光重合性材料は容積で３５％から６５％の範囲内のセラミック粒子を含む、方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の方法において、前記データを集める工程（１０００）は、電子データ、デジタルデータ、仮想データ、コンピュータファイル、立体模型製作、コンピュータ模型製作、コンピュータ支援製造のいずれかに利用される、方法。
【請求項１６】
請求項１に記載の方法において、前記加熱する工程は１１００°Ｃから１７００°Ｃの範囲内の温度まで加熱する、方法。
【請求項１７】
方法であって、
物品の初期寸法のデータ表示を準備する工程（１０００）と、
セラミック粒子を含む光重合性材料から立体リソグラフィ装置（５００）において該物品を組立てる組立配向を選択する工程にして、該立体リソグラフィ装置（５００）は第１の軸、第２の軸及び第３の軸を備えた三次元座標系における所定の大きさを有する、工程と、
該第１の軸に沿って該物品の初期寸法を増加させるため第１の膨張率を、該第２の軸に沿って該物品の初期寸法を増加させるため第２の膨張率を、かつ該第３の軸に沿って該物品の初期寸法を増加させるため第３の膨張率を適用することにより修正後寸法を得、該初期寸法から該修正後寸法への修正データ表示を形成するため該物品の該データ表示を修正する工程にして、前記膨張率は等しくない、工程と、
該光重合性材料へのエネルギの供給を制御することにより該修正データ表示に一致する生の状態のセラミック物品を形成する工程とを備える、方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法において、前記形成する工程は該光重合性材料から複数の層（５０−５３）を組立てる工程を含み、かつ該光重合性材料はモノマー及び光開始剤を含む、方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法において、該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の各々を平坦にする工程をさらに含み、かつ前記形成する工程は該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の各々を所定のエネルギ照射量で暴露する工程を含む、方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法において、前記形成する工程にて該物品は該第３の軸の方向に組立てられ、前記平坦にする工程は該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の各々の表面をワイパブレードで機械的に拭う工程を含む、方法。
【請求項２１】
請求項１７に記載の方法において、該修正データ表示は、電子データファイル、デジタルデータファイル、仮想データファイル、コンピュータファイル、コンピュータ支援製造ファイル、及びコンピュータ支援設計ファイルの１つであり、該修正データ表示は立体模型製作に利用される、方法。
【請求項２２】
請求項１７に記載の方法において、前記形成する工程後に該生の状態のセラミック物品中のポリマーを焼き取る工程をさらに含み、かつ焼結セラミック物品（４５）を生成するため該生の状態のセラミック物品を焼結する工程をさらに含む、方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の方法において、該焼結セラミック物品（４５）はほぼ最終形状である、方法。
【請求項２４】
請求項２２に記載の方法において、該焼結セラミック物品（４５）は最終形状である、方法。
【請求項２５】
請求項２２に記載の方法において、該物品の該データ表示と該焼結セラミック物品（４５）とを比較すると、寸法精度が１．５％以内である、方法。
【請求項２６】
請求項２２に記載の方法において、該物品の該データ表示と該焼結セラミック物品（４５）とを比較すると、寸法精度が０．５％以内である、方法。
【請求項２７】
請求項１７に記載の方法において、該座標系はデカルト座標系であり、該第１の軸はＸ軸に対応し、該第２の軸はＹ軸に対応し、該第３の軸はＺ軸に対応し、
前記形成する工程は、該光重合性材料から複数の層（５０−５３）を該Ｚ軸方向を組立方向として組立てる工程をさらに含み、
前記方法は該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の各々の上面を硬化前に拭う工程をさらに含む、方法。
【請求項２８】
請求項２７に記載の方法において、該光重合性材料からなる該複数の層（５０−５３）の各々を硬化させる工程をさらに含み、前記各層は少なくとも部分的に硬化される、方法。
【請求項２９】
請求項１７に記載の方法において、該光重合性材料は容積で３５％から６５％の範囲内のセラミック配合量を有する、方法。
【請求項３０】
方法であって、
立体リソグラフィ装置（５００）が配置された三次元座標系を基準にして物品の初期寸法を規定する工程にして、該座標系は第１の方向、第２の方向及び第３の方向を含む、工程と、
該第１の方向における該物品の該初期寸法を増加させるため第１の率（ｆａｃｔｏｒ）を適用する工程と、
該第２の方向における該物品の該初期寸法を増加させるため第２の率を適用する工程と、
該第３の方向における該物品の該初期寸法を増加させるため第３の率を適用する工程とを備え、ここで該率は互いに等しくなく、さらに、
セラミック粒子を含む光重合性樹脂から立体リソグラフィ法により生のセラミック物品（３００）を組立てる工程にして、前記組立てる工程は該生のセラミック物品（３００）の寸法を制御するため前記適用する工程による該増加された寸法を利用する、工程と、
焼結セラミック物品（４５）を形成するため該生のセラミック物品（３００）を焼結する工程とを備え、該焼結セラミック物品（４５）は該物品の該初期寸法と対応した同一の寸法を有する、方法。
【請求項３１】
請求項３０に記載の方法において、前記規定する工程は電子データとして該初期寸法を捕捉する工程を含む、方法。
【請求項３２】
請求項３０に記載の方法において、前記適用する工程の前に、生のセラミック物品（３００）を組立てる組立方向を決める工程をさらに含む、方法。
【請求項３３】
請求項３０に記載の方法において、前記焼結する工程にて該焼結セラミック物品（４５）はほぼ最終形状を有する、方法。
【請求項３４】
請求項３０に記載の方法において、前記焼結する工程にて該焼結セラミック物品（４５）は最終形状を有する、方法。
【請求項３５】
請求項３０に記載の方法において、該焼結セラミック物品（４５）は該初期寸法との寸法精度が１．５％以内である、方法。
【請求項３６】
請求項３０に記載の方法において、該焼結セラミック物品（４５）は該初期寸法との寸法精度が０．５％以内である、方法。
【請求項３７】
請求項３０に記載の方法において、前記組立てる工程は該光重合性樹脂から複数の層（５０−５３）を形成する工程を含み、かつ該光重合性樹脂からなる該複数の層（５０−５３）の各々は硬化される前に可動のワイパブレードによって機械的に平坦にされる、方法。
【請求項３８】
請求項３７に記載の方法において、該複数の層（５０−５３）の各々は少なくとも部分的に硬化される、方法。
【請求項３９】
請求項３０に記載の方法において、該光重合性樹脂は容積で３５％から６５％の範囲内のセラミック配合量を有する、方法。
【請求項４０】
請求項３０に記載の方法において、前記組立てる工程は該光重合性樹脂から複数の層（５０−５３）を形成する工程を含み、
該第３の方向を、該複数の層（５０−５３）の組立方向として決定する工程を含み、
前記方法は該光重合性樹脂からなる該複数の層（５０−５３）の各々の外面を硬化前に拭う工程をさらに含み、
前記三次元座標系は該立体リソグラフィ装置（５００）が配置された三次元座標と一致する、方法。
【請求項４１】
方法であって、
三次元座標系の各軸方向についての第１の基準データに基づいて物品を規定する工程にして、該第１の基準データは、第１の軸方向に沿って得られた第１のＸ成分、第２の軸方向に沿って得られた第１のＹ成分、及び第３の軸方向に沿って得られた第１のＺ成分を含む、工程と、
光硬化性セラミック充填樹脂から該第１の基準データに対応する生のセラミック試験物品を立体リソグラフィ装置（５００）において組立てる工程と、
該三次元座標系における該試験物品を規定する第２の基準データを得るため該生のセラミック試験物品を測定する工程にして、該第２の基準データは、該第１の軸方向に沿って得られた第２のＸ成分、該第２の軸方向に沿って得られた第２のＹ成分、及び該第３の軸方向に沿って得られた第２のＺ成分を含む、工程と、
焼結セラミック試験物品を形成するため該生のセラミック試験物品を焼結する工程と、
該三次元座標系における該焼結セラミック試験物品を規定する第３の基準データを得るため該焼結セラミック試験物品を測定する工程にして、該第３の基準データは、該第１の軸方向に沿って得られた第３のＸ成分、該第２の軸方向に沿って得られた第３のＹ成分、及び該第３の軸方向に沿って得られた第３のＺ成分を含む、工程と、
該第２の基準データ及び該第３の基準データを比較することにより収縮度を計算する工程にして、該収縮度はＸ成分収縮度、Ｙ成分収縮度及びＺ成分収縮度を含む、工程と、
該第１の基準データに該それぞれの収縮度を適用する工程にして、該Ｘ成分収縮度は該第１のＸ成分に適用され、該Ｙ成分収縮度は該第１のＹ成分に適用され、該Ｚ成分収縮度は該第１のＺ成分に適用される、工程とを備える、方法。
【請求項４２】
請求項４１に記載の方法において、該三次元座標系は前記組立てる工程にて利用される立体リソグラフィ装置（５００）が配置される座標系である、方法。
【請求項４３】
請求項４１に記載の方法において、前記組立てる工程は該光硬化性セラミック充填樹脂から複数の層（５０−５３）を組立てる工程を含み、かつ前記光硬化性セラミック充填樹脂はモノマー及び光開始剤を含む、方法。
【請求項４４】
請求項４３に記載の方法において、前記組立てる工程は該光硬化性セラミック充填樹脂を所定のエネルギ照射量で暴露する工程を含み、
前記方法は、該光硬化性セラミック充填樹脂からなる該複数の層（５０−５３）の各々を、該所定のエネルギ照射量で暴露する前に、平坦にする工程をさらに含む、方法。
【請求項４５】
請求項４３に記載の方法において、前記平坦にする工程は該光硬化性セラミック充填樹脂の表面をブレードで拭う工程を含む、方法。
【請求項４６】
方法であって、
三次元座標系の３つの軸方向値からなる第１の初期基準データに基づいて物品を規定する工程にして、該第１の初期基準データは第１のＸ成分、第１のＹ成分及び第１のＺ成分を含む、工程と、
光硬化性セラミック配合樹脂から立体リソグラフィ法により該第１の基準データに対応する生のセラミック試験物品を立体リソグラフィ装置（５００）において組立てる工程と、
焼結セラミック物品（４５）を生成するため該生のセラミック試験物品を焼結する工程と、
該三次元座標系における該焼結セラミック試験物品を規定する第２の収縮後基準データを得るため該焼結試験セラミック物品を測定する工程にして、該第２の基準データは第２のＸ成分、第２のＹ成分及び第２のＺ成分を含む、工程と、
該第１の基準データ及び該第２の基準データを比較することにより収縮度を計算する工程にして、該収縮度はＸ成分収縮度、Ｙ成分収縮度及びＺ成分収縮度を含む、工程と、
該第１の基準データに該それぞれの収縮度を適用する工程にして、該Ｘ成分収縮度は該第１のＸ成分に適用され、該Ｙ成分収縮度は該第１のＹ成分に適用され、該Ｚ成分収縮度は該第１のＺ成分に適用される、工程とを備える、方法。
【請求項４７】
請求項４６に記載の方法において、該座標系は該立体リソグラフィ装置（５００）の座標系と同一の広がりをもつ、方法。
【請求項４８】
請求項４７に記載の方法において、前記組立てる工程は該光硬化性セラミック充填樹脂から複数の層（５０−５３）を組立てる工程を含み、かつ該光硬化性セラミック充填樹脂はモノマー及び光開始剤を含む、方法。
【請求項４９】
請求項４８に記載の方法において、前記組立てる工程は該光硬化性セラミック充填樹脂を所定のエネルギ照射量で暴露する工程を含み、
前記方法は該光硬化性セラミック充填樹脂からなる該複数の層（５０−５３）の各々を、該所定のエネルギ照射量で暴露する前に、平坦にする工程をさらに含む、方法。
【請求項５０】
請求項４９に記載の方法において、前記平坦にする工程は該光硬化性セラミック充填樹脂の表面をブレードで拭う工程を含む、方法。
【請求項５１】
方法であって、
光硬化性セラミック充填材料から立体リソグラフィ装置（５００）において組立てられる物品のデータを用意する工程にして、該データは、第１、第２、第３の軸を有する三次元座標系における基準データに基づいて該物品の形態を規定する、工程と、
焼結した時の生のセラミック物品（３００）の異方性収縮を補償するため該基準データを調整する工程と、
前記調整する工程の後の該基準データを利用して該立体リソグラフィ装置（５００）において該生のセラミック物品（３００）を組立てる工程にして、該生のセラミック物品（３００）は該光硬化性セラミック充填材料から組立てられる、工程と、
該基準データと実質的に寸法が一致する焼結セラミック物品（４５）を生成するため該生のセラミック物品（３００）を焼結する工程とを含む、方法。
【請求項５２】
請求項５１に記載の方法において、前記組立てる工程は該光硬化性セラミック充填材料から複数の層（５０−５３）を組立てる工程を含み、かつ該光硬化性セラミック充填材料はモノマー及び光開始剤を含み、
前記方法は該光硬化性セラミック充填材料からなる該複数の層（５０−５３）の各々を次の層を形成する前に平坦にする工程をさらに含み、かつ前記組立てる工程は該光硬化性セラミック充填材料からなる該複数の層（５０−５３）の各々を所定のエネルギ照射量で暴露する工程を含む、方法。
【請求項５３】
請求項５１に記載の方法において、該焼結セラミック物品（４５）は該基準データとの寸法精度が１．５％以内である、方法。
【請求項５４】
請求項５１に記載の方法において、該焼結セラミック物品（４５）は該基準データとの寸法精度が０．５％以内である、方法。
【請求項５５】
請求項５１に記載の方法において、該光硬化性セラミック充填材料は３５％から６５％の範囲内のセラミック配合量を有する、方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
本発明を適用することにより、物品の設計パラメータと実質的に一致する焼結セラミック物品の生産が可能となる。１つの形態では、設計パラメータに対する焼結セラミック物品の寸法精度は０．０％から１．５％の範囲内、また他の形態では寸法精度は０．０％から０．５％の範囲内である。さらに、本発明はほぼ最終形状（ｎｅｔｓｈａｐｅ）又は最終形状に焼結セラミック物品を形成するのにも適用できる。加えて、他の寸法精度の度合いもここにて考えられる。