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【手続補正書】
【提出日】平成23年2月24日(2011.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
2010530465.tif 000001
を有し、式中、Ｒｆが、フッ素含有基であって、Ｒｆが、一価のペルフルオロアルキル基及びペルフルオロオキシアルキル基、並びに二価のペルフルオロアルキレン基及びペルフルオロオキシアルキレン基から選択されるフッ素含有基を含み、
Ｒ１が、ポリイソシアネートの残基であり、
Ｗが、水溶性基含有部分であり、ｖが、１又は２であり、
Ｒ２が、式：
【化２】
2010530465.tif 000002
を有し、式中、
Ｘ１が、−Ｏ−又は−ＮＲ４−であり、ここで、Ｒ４が、Ｈ又はＣ１〜Ｃ４アルキルであり、
Ｒ３が、多価のアルキレン基若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、前記アルキレン基が、鎖中に１個以上の酸素原子を含有してもよく、
Ｒ５が、二価のアルキレン基であり、前記アルキレン基が、鎖中に１個以上の酸素原子を含有してもよく、
Ｙが、加水分解性基であって、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、又はＣ１〜Ｃ４のアシルオキシ基であり、
Ｒ６が、一価のアルキル基又はアリール基であり、
ｐが、１、２又は３であり、
ｑが、１〜５であり、
ｘ及びｙが、それぞれ独立して少なくとも１であり、ｚが、１又は２である、化合物。
【請求項２】
Ｗが、式Ｗ１−Ｒ７−Ｘ２−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−を有し、ここで、Ｗ１が、水溶性基であり、−Ｘ２が、−Ｓ−、−Ｏ−、又は−ＮＲ４−であり、ここで、Ｒ４が、Ｈ又はＣ１〜Ｃ４アルキルであり、Ｒ７が、二価のアルキレン基若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、前記アルキレン基が、鎖中に１個以上の酸素原子を含有してもよい、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒｆが、
【化３】
2010530465.tif 000003
であり、ここで、
Ｒｆ１が、一価のペルフルオロアルキル基若しくはペルフルオロオキシアルキル基、又は二価のペルフルオロアルキレン基若しくはペルフルオロオキシアルキレン基であり、
Ｑが、共有結合であるか、価数ｚの多価アルキレン基であり、
Ｘ２が、−Ｏ−、−ＮＲ４−、又は−Ｓ−、であり、ここで、Ｒ４が、Ｈ又はＣ１〜Ｃ４のアルキルであり、
ｙが、１又は２であり、
ｚが、１又は２である、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒｆ１が、−（ＣｎＦ２ｎ）−、−（ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ（Ｚ）ＣｎＦ２ｎＯ）−、−（ＣｎＦ２ｎＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、及びこれらの組み合わせ（式中、ｎが、１〜４であり、Ｚが、ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルコキシ基、又はペルフルオロエーテル基である）からなる群から選択されるペルフルオロ反復単位を含むペルフルオロオキシアルキレン基を含む、請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒｆ１が、式
Ｒｆ６−Ｒｆ３−Ｏ−Ｒｆ４−（Ｒｆ５）ｑ−、の基を有し、式中、
Ｒｆ６が、一価のペルフルオロオキシアルキルにおいてはＦであり、二価のペルフルオロオキシアルキレンにおいては開殻価電子（「−」）であり、
Ｒｆ３が、ペルフルオロアルキレン基であり、
Ｒｆ４が、１、２、３又は４個の炭素原子を有するペルフルオロアルキレンオキシ基又はこのようなペルフルオロアルキレンオキシ基の混合物からなるペルフルオロアルキレンオキシ基であり、
Ｒｆ５が、ペルフルオロアルキレン基であり、
ｑが、０又は１である、請求項３に記載の化合物。
【請求項６】
Ｗ１が、カルボキシレート、スルフェート、スルホネート、ホスフェート、ホスホネート、アンモニウム、四級アンモニウム基、及びこれらの混合物から選択される、請求項２に記載の化合物。
【請求項７】
Ｗが、ポリ（オキシアルキレン）基から選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
請求項１に記載の化合物の水性分散液、エマルション又は懸濁液と、アミノシランとを含むコーティング組成物。
【請求項９】
式：
【化４】
2010530465.tif 000004
式中、
Ｒｆが、ペルフルオロ基であり、
Ｒ１が、ポリイソシアネートの残基であり、
Ｘ１が、−Ｏ−又は−ＮＲ４−であり、式中、Ｒ４が、Ｈ又はＣ１〜Ｃ４アルキルであり、
Ｒ３が、二価のアルキレン基若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、前記アルキレン基が、鎖中に１個以上の酸素原子を含有してもよく、
ｚが、１又は２であり、
ｘが、１又は２であり、
ｑが、１〜５である、のウレタン化合物へのチオシランのフリーラジカル付加工程を含み、前記チオシランが、式
【化５】
2010530465.tif 000005
を有し、
式中、
Ｒ５が、二価のアルキレン基であり、前記アルキレン基が、鎖中に１個以上の酸素原子を含有してもよく、
Ｙが、加水分解性基であり、
Ｒ６が、一価のアルキル基又はアリール基であり、
ｐが、１、２又は３である、請求項１に記載の化合物の調製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月3日(2011.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素濃度の高い燃料ガスを用いて、少なくとも１つの圧縮機と、少なくとも１つの燃焼室と、少なくとも１つのタービンとを備えたガスタービン設備を運転するための方法において、
排ガス（１６）の一部が、冷却器（１７）で冷却されて、圧縮機（１）の吸入空気（２）の中へ再循環され、その際、再循環される排ガス質量流量が少なくとも１つの適当な調整機構（４０）によって制御されること、そして、
−この制御の基準値として、排ガスの残留酸素濃度が用いられること、および／または、
−この制御の基準値として、燃焼用空気の酸素濃度が用いられ、その際
−前記酸素濃度の基準値が燃料ガスの組成に依存しており、前記残留酸素濃度の基準値が燃料ガス中の水素濃度に反比例していること、および／または、
−前記酸素濃度の基準値が、ガスタービン設備の運転パラメータに依存していることを特徴とする方法。
【請求項２】
排ガスの排熱を利用するために、排ガスが、ボイラ（１４）の中を通され、そして、ボイラ（１４）から出た後に２つの分流に分割されて、一方の分流が冷却器（１７）でさらに冷却され、前記圧縮機（１）の吸入空気（２）の中へ再循環されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
冷却された排ガスが、燃料ガスを希釈するために、燃焼ガスが燃焼用空気と混合される前に、
−圧縮されて、燃料ガスと混合されること、または、
−中間冷却によって圧縮されて、燃料ガスと混合されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記再循環される排ガス（１６）の冷却時に生じる凝縮水（４１）が、凝縮水分離器（２０）で分離されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項５】
前記分離された凝縮水（４１）が処理されて、冷却および／または中間冷却のために吸入空気（２）の中へ、および／または燃料ガスの希釈用に準備された排ガス（２８、２９）の中へ、霧状に注入されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
燃料ガスとして純水素が用いられ、従って、ＣＯ２の排出を伴わず、ＣＯおよびＵＨＣ（未燃炭化水素）を含まない燃焼が実現されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
−本方法が、ガスタービン設備を始動するために、および／またはガスタービン設備の過渡的な運転の際に、水素濃度の高い燃料ガスを燃焼するための別の公知の方法と組み合わされること、および／または、
−前記酸素濃度の制御が、過渡的な運転のために、再循環率の予制御によって補完されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の方法。
【請求項８】
少なくとも１つの圧縮機と、少なくとも１つの燃焼室と、少なくとも１つのタービンとを備えた、請求項１に記載の方法を実施するためのガスタービン設備において、
排ガス通路における少なくとも１つの流れ分岐部（４０）、この流れ分岐部（４０）から煙道に至る排ガスライン（１５）、および、この流れ分岐部（４０）から圧縮機入口（２４）に至る第２の排ガスライン、ならびに、再循環される排ガス流（１６）を冷却するための少なくとも１つの装置（１７）を備えていることを特徴とするガスタービン設備。
【請求項９】
−前記流れ分岐部（４０）が、可変的に流れの分割を行うための調整可能なフラップであること、または、
−前記流れ分岐部（４０）が、機械的に固定した分割部であり、その後に続いて、調整可能なフラップまたはバルブが、煙道に至る前記送給ライン（１５）および／または前記再循環ライン（１６、２４）の中に配置されていることを特徴とする請求項８に記載のガスタービン設備。
【請求項１０】
−凝縮水分離器（２０）を備えていること、および／または、
−凝縮水処理設備、前記圧縮機入口に至るライン、および、吸気質量流（２）の中へ水を注入するためのポンプ（２１）を備えていることを特徴とする請求項８または９に記載のガスタービン設備。
【請求項１１】
−再循環される排ガスの一部を、燃料ガスに導き入れるのに十分な高さの圧力になるまで圧縮するための少なくとも１つの排ガス圧縮機（２６、２７）、少なくとも１つの燃料ガスシステムに至る排ガスライン（２８、２９）、燃料ガスの希釈のために排ガスを燃料ガスの中に導き入れるための少なくとも１つの装置、および、希釈用質量流量を制御するための少なくとも１つの制御弁（３８、３９）、ならびに、希釈された燃料ガスを少なくとも１つの燃焼器に導くための燃料ガス分配システムを備えていること、および／または、
−凝縮水処理部、前記排ガス圧縮機に至るライン、および、中間冷却のために前記排ガス圧縮機（２６、２７）へ水を注入するためのポンプ（２１）を備えていることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１つに記載のガスタービン設備。
【請求項１２】
−酸素濃度を直接測定するための計測器を備えていること、および／または、
−オンラインガス分析を利用できること、および／または、
−酸素濃度を間接的に決定するための装置、例えば、圧縮機吸気質量流量、排ガス再循環率、燃料ガスの組成および燃料量測定を基にして残留酸素を算定するプロセッサまたは制御部を備えていること、および／または、
−燃料ガスをオンライン分析するための機器を備えていることを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１つに記載のガスタービン設備。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月3日(2011.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
高分子材料で形成された支持構造を備え、工業用ファブリックの表面は前記高分子材料のガラス転位温度を低減させるのに十分な可塑剤で処理されたことを特徴とする多孔質構造の工業用ファブリック。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月25日(2011.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
健康データを管理するためのシステムであって、
健康データ、データ管理ソフトウェア、および初期化プログラムを保存する、データ保存システムであって、前記初期化プログラムは、処理装置上で前記データ管理ソフトウェアを起動し、前記データ管理ソフトウェアは、前記処理装置上で前記健康データを処理する、データ保存システムと、
前記データ保存システムと前記処理装置との間のデータ通信を提供する、データ通信インタフェースと、を備え、
前記データ保存システムと前記処理装置との間の前記データ通信が確立されると、前記初期化プログラムは、前記データ管理ソフトウェアに関連する追加プログラムコンポーネントを前記処理装置上に事前にインストールすることを必要とせずに、前記処理装置上で前記データ管理ソフトウェアを起動する、システム。
【請求項２】
前記データ保存システムは、前記データ保存システム内のメモリの領域のセキュリティレベルを示す、メモリマップに従って設定され、前記セキュリティレベルは、メモリの前記領域内に保存されたデータへのアクセスを決定する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記データ保存システムは、前記データ管理ソフトウェアおよび前記初期化プログラムを保存する、第１の記憶装置と、前記健康データを保存する、第２の記憶装置と、を含み、
前記第１の記憶装置は、ＥＥＰＲＯＭであり、前記第２の記憶装置は、フラッシュメモリである、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記データ保存システム内に保存されるデータを検証する、データチェックシステムをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記データ管理ソフトウェアは、前記データを前記処理装置上に永久に保存することなく、前記健康データを処理する、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記データ管理ソフトウェアは、実行を終了する前に、前記データ管理ソフトウェアに関連する、前記処理装置上のいかなるデータも除去する、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記データ管理ソフトウェアは、前記データ携帯装置と前記処理装置との間の前記データ通信が終了される際に閉じる、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記処理装置は、インタフェースプロトコル設定と互換性があり、これによって前記データ保存システムと前記処理装置との間のデータ通信を確立できるようにし、前記初期化プログラムは、前記データ保存システムを、前記データ管理ソフトウェアに特有のソフトウェア設定に再設定し、これによって前記データ管理ソフトウェアが前記処理装置上で起動されるようにし、前記ソフトウェア設定は、前記インタフェースプロトコル設定とは異なっており、
前記インタフェースプロトコル設定は、ＵＳＢ大容量携帯装置（ＭＳＤ）設定である、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記データ保存システムに保存する個人の健康データを測定する、測定システムと、
前記健康データを表示するために操作することができるユーザインタフェースと、
ローカルプロセッサおよびローカルソフトウェアと、をさらに備え、
前記ローカルプロセッサは、前記健康データを、前記ユーザインタフェースを介して表示されるように処理し、
前記測定システム、前記データ保存システム、前記データ通信インタフェース、前記ユーザインタフェース、および、前記ローカルプロセッサおよびローカルソフトウェアは、筐体に統合される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
セキュリティコンポーネントは、前記処理装置による前記データ保存システム内の前記健康データへのアクセスを制御する、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月17日(2011.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の変位を求める方法であって、
前記基材上に配置された、スケール要素として複数個の全反射プリズムを含むスケールに向けて光を送ることと、
前記全反射プリズムを使用して光を変調することと、
変調された光に基づいて、前記基材の変位を示す信号を生成することと、を含む、方法。
【請求項２】
基材の変位を表示するシステムであって、
スケールを含む基材であって、前記スケールが、前記基材上に配置された全反射プリズムを含み、該全反射プリズムが、前記基材に向けて送られた光を変調するように構成された、基材と、
前記全反射プリズムにより変調された光を検出して、該変調された光に基づいて前記基材の変位を示す信号を生成するように構成された変換器と、を含む、システム。
【請求項３】
パターン構造及び一体型スケールが配置された細長い可撓性のウェブを含むロール製品であって、前記スケールが、前記ウェブに向けて送られた光を変調するよう構成された全反射プリズムを含み、変調された光がウェブの位置を示す、ロール製品。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月16日(2011.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に変位スケールを形成するシステムであって、
ネガ型レリーフの内部全反射プリズム構造を有する、１つ以上のローラと、
前記内部全反射プリズム構造を含む変位スケールが前記基板上に形成されるように、前記ローラを回転すべく構成された駆動機構とを含む、システム。
【請求項２】
基板上に内部全反射プリズム構造を含む変位スケールを形成する方法であって、
基板を、ネガ型レリーフの内部全反射プリズム構造を有する１つ以上のローラと接触又は近接させる工程と、
前記内部全反射プリズム構造を含む変位スケールが前記基板の表面上に形成されるように、前記ローラを前記基板に対して回転させる工程とを含む、方法。
【請求項３】
基板上にスケールを形成するように構成されたツールであって、配置された内部全反射プリズム構造とネガ型レリーフのパターン構造とを有するローラを含んでおり、前記ローラが基板と接触又は近接するときに、前記ローラが、内部全反射プリズム構造を含むスケールとパターン構造とを基板上に同時に形成するように構成される、ツール。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月27日(2011.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
A)被験体から単離された腫瘍試料中のssDNAを含む釣鐘形核の存在、非存在もしくは数またはssDNA単独の存在、非存在もしくは量を決定する工程、ここで該腫瘍は、メタカリオート（metakaryote）腫瘍幹細胞を含み、該腫瘍は、候補薬剤が腫瘍と相互作用するために適切な条件下で候補薬剤との接触を維持される;および
B)候補薬剤と接触した後の腫瘍試料中のssDNAを含む釣鐘形核の存在、非存在もしくは数またはssDNA単独の存在、非存在もしくは量と、対照試料中のssDNAを含む釣鐘形核の存在、非存在もしくは数またはssDNA単独の存在、非存在もしくは量とを比較する工程を含み、
候補薬剤と接触した後の腫瘍試料中のssDNAを含む釣鐘形核の数の減少もしくは非存在またはssDNA単独の量の減少もしくは非存在は、候補薬剤が腫瘍増殖を阻害することを示す、腫瘍増殖を阻害する薬剤の同定方法。
【請求項２】
腫瘍試料が宿主生物への異種移植片から生じた固形腫瘍から得られる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
ssDNAが、試料をアクリジンオレンジで染色し、ssDNAを視覚化することによって検出される、請求項１記載の方法。
【請求項４】
ssDNAを含む釣鐘形核の存在、非存在または数が、複製中間体構造（replicative intermediate configuration）中または複製中間体構造の近傍における１つ以上の腫瘍幹細胞特異的分子の検出によって決定される、請求項１記載の方法。
【請求項５】
A)被験体から単離された腫瘍試料中のssDNAを含む釣鐘形核の存在、非存在もしくは数またはssDNA単独の存在、非存在もしくは量を決定する工程、ここで該腫瘍は、メタカリオート（metakaryote）腫瘍幹細胞を含み、該腫瘍は、候補薬剤が腫瘍と相互作用するために適切な条件下で候補薬剤との接触を維持され、ssDNAの存在、非存在または量は、単離した腫瘍試料を、DNAではなくRNAを分解するためにRNAseで処理した後に決定される;および
B)候補薬剤と接触した後の腫瘍試料中のssDNAを含む釣鐘形核の存在、非存在もしくは数またはssDNA単独の存在、非存在もしくは量と、対照試料中のssDNAを含む釣鐘形核の存在、非存在もしくは数またはssDNA単独の存在、非存在もしくは量とを比較する工程を含み、
候補薬剤と接触した後の腫瘍試料中のssDNAを含む釣鐘形核の数の減少もしくは非存在またはssDNA単独の量の減少もしくは非存在は、候補薬剤が腫瘍増殖を阻害することを示す、腫瘍増殖を阻害する薬剤の同定方法。
【請求項６】
腫瘍試料が宿主生物への異種移植片から生じた固形腫瘍から得られる、請求項５記載の方法。
【請求項７】
ssDNAが、試料をアクリジンオレンジで染色し、ssDNAを視覚化することによって検出される、請求項５記載の方法。
【請求項８】
ssDNAを含む釣鐘形核の存在、非存在または数が、複製中間体構造（replicative intermediate configuration）中または複製中間体構造の近傍における１つ以上の腫瘍幹細胞特異的分子の検出によって決定される、請求項５記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、ヒト胎児/若年性増殖の期間が幹細胞系統の高い割合の変異と関連があること、およびこの系統が以前に検出されていない様式のDNA分離および複製を行うことを示す観察に基づくものである。米国出願番号第2006/0063144号およびPCT/US06/047136に以前に記載された教示は参照によって本明細書に援用され、腫瘍および胎児幹細胞が釣鐘形核と呼ばれる特有の核形態を特徴とする。(釣鐘形核は合胞体にも見られ、本明細書に記載される本発明の方法は、また、合胞体および細胞に存在する釣鐘形核を含むことが理解される)。釣鐘形核を含む腫瘍および胎児幹細胞は、本明細書でメタカリオート（metakaryote）と呼ばれる。本発明は、腫瘍および胎児幹細胞の釣鐘形が特有の形態の複製を起こすという本明細書に記載される最も重要な観察に基づいている。このゲノム複製の特有の形態は、核構造立体配置を有する複製中間体を伴い、釣鐘形核は（「カップからカップへの」分離として）分離し、分離中に、大部分のゲノムは、最初に単鎖DNA(ssDNA)に分離し、その後、ゲノム複製が起こる。この観察は、DNA合成が短い間隔のDNAの反復コピーによって進み、続いて染色分体凝集が起こり、二本鎖DNA(dsDNA)形態における有糸分裂で分離する場合のヒト細胞分裂の以前の観察とは対照的である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月31日(2011.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
織物及び／又はネットを少なくとも殺虫剤と高分子バインダーとを含む製剤で含浸させて乾燥させることにより殺虫剤で処理された織物及び／又はネット材料を製造する方法であって、該製剤が少なくとも
（Ａ）殺虫剤、
（Ｂ）水性製剤中に分散した平均分子量Ｍｎが１５００〜２００００ｇ／ｍｏｌの高分子バインダーで、以下のモノマー：  
（Ｂ１）６０〜９５重量％のエチレン、
（Ｂ２）５〜４０重量％の、以下の群から選ばれる少なくとも一種の不飽和カルボン酸、
（Ｂ２ａ）モノエチレン性不飽和Ｃ3−Ｃ10モノカルボン酸、および
（Ｂ２ｂ）モノエチレン性不飽和Ｃ4−Ｃ10ジカルボン酸、および
（Ｂ３）必要に応じて、０〜３０重量％の、（Ｂ１）と（Ｂ２）とに共重合可能な他のエチレン性不飽和モノマー、
から構成されるもの（ただし、モノマーの量は、いずれの場合も使用する全モノマーの総量に対するものである）、および
水または少なくとも６５重量％の水を含む水系溶媒混合物
を含み、含浸が１５〜５０℃の温度で行われることを特徴とする方法。
【請求項２】
上記含浸が２０〜４０℃の温度で行われる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（Ｂ１）の量が７０〜８０％で、（Ｂ２）の量が２０〜３０％で、（Ｂ３）の量が０〜９％である請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記モノマー（Ｂ２）がメタクリル酸である請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記殺虫剤（Ａ）が、殺虫剤及び／又は防虫剤である請求項１または４に記載の方法。
【請求項６】
前記殺虫剤がアルファシペルメトリン、シフルトリン、デルタメトリン、エトフェンプロクス、ペルメトリン、またはビフェントリンからなる群から選ばれる請求項５に記載の方法。
【請求項７】
少なくとも二種の異なる殺虫剤の混合物が使用される請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記製剤が、さらに保存料、洗剤、フィラー、衝撃改質剤、防曇剤、発泡剤、透明剤、核剤、カップリング剤、導電性付与剤、帯電防止剤、酸化防止剤、難燃剤、離型剤、ＵＶ保護性薬剤、展着剤、粘着防止剤、移行防止剤、泡形成剤、汚染防止剤、増粘剤、バイオサイド剤、界面活性剤、可塑剤、フィルム成形剤、接着剤または抗接着剤、光学増白剤（蛍光白化剤）、顔料や染料からなる群から選ばれる一種以上の助剤成分を含む請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
（Ａ）と（Ｂ）と（Ｄ）の総量に対して、（Ａ）の量が２０〜５０重量％であり、（Ｂ）の量が４０〜９０重量％である請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
（Ａ）と（Ｂ）と（Ｄ）の総量に対して、助剤（Ｄ）の量が０．１〜４０重量％である請求項９に記載の製剤。
【請求項１１】
前記製剤が少なくとも一種の界面活性剤を、前記製剤の全成分の総量に対して０．１〜１５重量％の量で含む請求項１〜１０のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１２】
乾燥が常温で行われる請求項１〜１１のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１３】
少なくとも以下の工程を含む請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
ａ）以下の群から選ばれるいずれかの加工工程により上記水性製剤で織物及び／又はネットを処理する工程：
（ａ１）織物材料またはネットを製剤を通過させる加工工程；または
（ａ２）織物材料またはネットを、製剤に部分的又は完全に浸漬されたローラーに接触させ、ローラーとの接触により織物材料のネットの側に製剤を引き寄せる加工工程、または
（ａ３）材料を製剤中に沈める加工工程；または
（ａ４）製剤を織物材料またはネット上に吹き付ける加工工程；または
（ａ５）織物材料またはネット上に又はその中に製剤をブラシ塗布する加工工程；または
（ａ６）製剤を泡として塗布する加工工程；または
（ａ７）製剤を織物材料またはネット上に塗布する加工工程；
ｂ）必要に応じて、ローラー間でまたはドクターブレードを用いて、材料を絞り、過剰の製剤を除く工程；及び
ｃ）この織物材料またはネットを乾燥する工程。
【請求項１４】
工程ａ１）が、この織物またはネットを上記水性製剤を含む溝槽（トラフ）内で完全に水性製剤中に浸漬して行われるか、この織物またはネットを、水平に配列された二個のローラー間中の保持されている水性製剤中を通過されて行われる請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記処理される材料がネット材料である請求項１から１４のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月16日(2011.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パーソナルケア製品組成物であって、
ａ）式（Ｉ）
【化１】
2010530855.tif 000001
式中、Ｒ１がＨ、ＣＨ２、ＣＨ３、ＯＨおよびＯＣＨ３からなる群から選択される残基であり、
Ｒ２がＨ、ＯＨ、ＯＣＨ３およびＯＣＨ２Ｏからなる群から選択される残基であり、
Ｒ２がＯＣＨ２Ｏである場合、Ｒ１がＣＨ２であり、Ｒ２と結合を形成する、
で表され、ベンズアルデヒド、４−メチルベンズアルデヒド、ヘリオトロピン、バニリン、４−ヒドロキシベンズアルデヒド、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、４−メトキシベンズアルデヒド、３−メトキシベンズアルデヒド、および３−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド（イソバニリン）からなる群から選択される、少なくとも１つのベンズアルデヒドまたはベンズアルデヒド誘導体化合物
；および、
ｂ）式（ＩＩ）
【化２】
2010530855.tif 000002
式中、Ｒ１はＨおよびＯＣＨ３からなる群から選択され、
ｎは０または２から選択され、
Ｒ１がＨの場合ｎは２であり、かつ、Ｃ２によって得られる、芳香環とＣＯＯＨの間に存在するＣ原子が二重結合を形成し、
Ｒ１がＯＣＨ３の場合、ｎは０である
で表される、桂皮酸またはアニス酸からなる群から選択される、少なくとも１つの芳香性の酸；
ここで、少なくとも１つのベンズアルデヒドまたはベンズアルデヒド誘導体化合物  ａ）は、合計濃度０．０５〜０．５％（ｗ／ｗ）で存在し；
少なくとも１つの芳香性の酸  ｂ）は、合計濃度０．０５〜０．５％（ｗ／ｗ）で存在する；
および化粧品として許容可能な基剤を含み、
ただし、該パーソナルケア製品組成物は、ホルムアルデヒドパラホルムアルデヒド、ビフェニル−２−オール（ｏ−フェニルフェノール）およびその塩、ピリチオン亜鉛、無機亜硫酸塩および亜硫酸水素塩、ヨウ素酸ナトリウム、クロロブタノール、４−ヒドロキシ安息香酸およびその塩ならびにエステル、３−アセチル−６−メチルピラン−２，４（３Ｈ）−ジオン（デヒドロ酢酸）およびその塩、ギ酸およびそのナトリウム塩、３，３’−ジブロモ−４，４’−ヘキサメチレンジオキシジベンズアミジン（ジブロモヘキサミジン）およびその塩（イセチオネートを含む）、チオマーサル、フェニル水銀塩（ホウ酸塩を含む）、ヘキセチジン、５−ブロモ−５−ニトロ−１，３−ジオキサン、ブロノポール、２，４−ジクロロベンジルアルコール、トリクロカルバン、４−クロロ−ｍ−クレゾール、４−クロロ−３，５−キシレノール、３，３’−ビス（１−ヒドロキシメチル−２，５−ジオキソイミダゾリジン−４−イル）−１，１’−メチレンジウレア（「イミダゾリジニルウレア」）、ヘキサメチレンテトラミン（メテナミン）、メテナミン３−クロロアリルクロライド、１−（４−クロロフェノキシ）−１−（イミダゾール−１−イル）−３，３−ジメチルブタン−２−オン、１，３−ビス（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメチルイミダゾリジン−２，４−ジオン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６（２，４，４−トリメチルペンチル）２−ピリドンおよびそのモノエタノールアミン塩、１，２−ジブロモ−２，４−ジシアノブタン（メチルジブロモグルタロニトリル）、６，６−ジブロモ−４，４−ジクロロ２，２’−メチレンジフェノール（ブロモクロロフェン）、５−クロロ−２−メチル−イソチアゾール−３（２Ｈ）−オンおよび２−メチルイソチアゾール−３（２Ｈ）−オンと塩化マグネシウムおよび硝酸マグネシウムとの混合物、２−ベンジル−４−クロロフェノール（クロロフェン）、２−クロロアセトアミド、クロルヘキシジンならびにその二グルコン酸塩、二酢酸塩および二塩酸塩、アルキル（Ｃ１２−Ｃ２２）トリメチルアンモニウムブロマイドおよびクロライド、４，４−ジメチル−１，３−オキシザリジン、Ｎ−（ヒドロキシメチル）−Ｎ−（ジヒドロキシメチル−１，３−ジオキソ−２，５−イミダゾリジニル−４）−Ｎ’−（ヒドロキシメチル）ウレア、１，６−ジ（４−アミジノフェノキシ）−ｎ−ヘキサン（ヘキサミジン）およびその塩（イセチオネートおよびｐ−ヒドロキシベンゾエートを含む）、グルタルアルデヒド（ペンタン−１，５−ジアール）、５−エチル−３，７−ジオキサ−１−アザビシクロ［３．３．０］オクタン、３−（ｐ−クロロフェノキシ）−プロパン−１，２ジオール（クロルフェネシン）、二酸化チタンに付着させた塩化銀、塩化ベンゼトニウム、ベンザルコニウムクロライド、ブロマイド、およびサッカリネート、ベンジルヘミホルマール、３−ヨード−２−プロピニルブチルカルバメート、ならびにメチルイソチアゾリノン、からなる群から選択される保存料を本質的に含まない、前記組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月6日(2011.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硫酸アバカビル、並びに硫酸アタザナビルおよび顆粒内滑沢剤を含有する顆粒を含む圧縮錠剤であって、前記顆粒が内部領域および外部表面を有し、顆粒内滑沢剤の少なくとも一部が顆粒の内部領域に存在する圧縮錠剤。
【請求項２】
圧縮錠剤の総重量に基づき、顆粒内滑沢剤を約０.１〜１０％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項３】
圧縮錠剤の総重量に基づき、顆粒内滑沢剤を約０.５〜８％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項４】
顆粒内滑沢剤が、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸、パルミチン酸、フマル酸ステアリルナトリウム、安息香酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、モノステアリン酸グリセリン、パルミトステアリン酸グリセリン、硬化ヒマシ油、硬化植物油、鉱油、カルナウバロウ、ポリエチレングリコールおよびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項５】
圧縮錠剤の総重量に基づき、さらに崩壊剤を約１〜２０％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項６】
圧縮錠剤の総重量に基づき、さらに結合剤を約０.１〜１０％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項７】
圧縮錠剤の総重量に基づき、さらに賦形剤を約５〜９０％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項８】
圧縮錠剤の総重量に基づき、さらに顆粒外滑沢剤を約０.１〜３％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項９】
さらにラミブジンを含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項１０】
硫酸アバカビル、ラミブジン、硫酸アタザナビル、顆粒内滑沢剤、および顆粒外滑沢剤を含む圧縮錠剤であって、硫酸アタザナビルおよび顆粒内滑沢剤を顆粒内で混合し、顆粒外滑沢剤を顆粒外で加えることを特徴とする湿式造粒法によって製造される圧縮錠剤。
【請求項１１】
硫酸アタザナビルが１つの層中にあって、少なくとも１つの硫酸アバカビルまたはラミブジンが別の層中にあることを特徴とする多層錠剤の形態である、請求項９の圧縮錠剤。
【請求項１２】
硫酸アタザナビル、硫酸アバカビルおよびラミブジン並びに他の治療剤が同一の層中にあることを特徴とする一体型（monolith）錠剤の形態である、請求項９の圧縮錠剤。
【請求項１３】
（ｉ）少なくとも１つの硫酸アバカビルまたはラミブジン、（ｉｉ）硫酸アタザナビルおよび（ｉｉｉ）顆粒内滑沢剤を、顆粒内で混合することを特徴とする湿式造粒法によって製造される、請求項９の圧縮錠剤。
【請求項１４】
硫酸アタザナビルおよび顆粒内滑沢剤を顆粒内で混合し、少なくとも１つの硫酸アバカビルまたはラミブジンを顆粒外で加えることを特徴とする湿式造粒法によって製造される、請求項９の圧縮錠剤。
【請求項１５】
請求項１の圧縮錠剤を含むＨＩＶ感染治療剤。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月6日(2011.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラルテグラビル、並びに硫酸アタザナビルおよび顆粒内滑沢剤を含有する顆粒を含む圧縮錠剤であって、前記顆粒が内部領域および外部表面を有し、顆粒内滑沢剤の少なくとも一部が顆粒の内部領域に存在する圧縮錠剤。
【請求項２】
圧縮錠剤の総重量に基づき、顆粒内滑沢剤を約０.１〜１０％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項３】
圧縮錠剤の総重量に基づき、顆粒内滑沢剤を約０.５〜８％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項４】
顆粒内滑沢剤が、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸、パルミチン酸、フマル酸ステアリルナトリウム、安息香酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、モノステアリン酸グリセリン、パルミトステアリン酸グリセリン、硬化ヒマシ油、硬化植物油、鉱油、カルナウバロウ、ポリエチレングリコールおよびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項５】
圧縮錠剤の総重量に基づき、さらに崩壊剤を約１〜２０％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項６】
圧縮錠剤の総重量に基づき、さらに結合剤を約０.１〜１０％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項７】
圧縮錠剤の総重量に基づき、さらに賦形剤を約５〜９０％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項８】
圧縮錠剤の総重量に基づき、さらに顆粒外滑沢剤を約０.１〜３％含む、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項９】
ラルテグラビル、硫酸アタザナビル、顆粒内滑沢剤、および顆粒外滑沢剤を含む圧縮錠剤であって、硫酸アタザナビルおよび顆粒内滑沢剤を顆粒内で混合し、顆粒外滑沢剤を顆粒外で加えることを特徴とする湿式造粒法によって製造される圧縮錠剤。
【請求項１０】
硫酸アタザナビルが１つの層中にあって、ラルテグラビルが別の層中にあることを特徴とする多層錠剤の形態である、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項１１】
硫酸アタザナビルおよびラルテグラビルが同一の層中にあることを特徴とする一体型（monolith）錠剤の形態である、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項１２】
ラルテグラビル、硫酸アタザナビルおよび顆粒内滑沢剤を顆粒内で混合することを特徴とする湿式造粒法によって製造される、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項１３】
硫酸アタザナビルおよび顆粒内滑沢剤を顆粒内で混合し、ラルテグラビルを顆粒外で加えることを特徴とする湿式造粒法によって製造される、請求項１の圧縮錠剤。
【請求項１４】
請求項１の圧縮錠剤を含むＨＩＶ感染治療剤。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月17日(2011.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造式Ｉを有する化合物、またはその医薬上許容し得る塩、溶媒和物もしくはプロドラッグ；
【化１】
2010530897.tif 000001
（Ｉ）
式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１は、水素および重水素からなる群から独立して選択され、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１のうちの少なくとも１つは、重水素であり、
Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１が重水素である場合、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ６のうちの少なくとも一つは重水素である。
【請求項２】
前記化合物は、
【化２】
2010530897.tif 000002
またはその医薬上許容し得る塩、溶媒和物、もしくはプロドラッグからなる群から選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｄとして表される前記位置のそれぞれは、少なくとも９８％の重水素濃縮を有する、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｄとして表される前記位置のそれぞれは、少なくとも９０％の重水素濃縮を有する、請求項２に記載の化合物。
【請求項５】
Ｄとして表される前記位置のそれぞれは、少なくとも５０％の重水素濃縮を有する、請求項２に記載の化合物。
【請求項６】
Ｄとして表される前記位置のそれぞれは、少なくとも１％の重水素濃縮を有する、請求項２に記載の化合物。
【請求項７】
前記化合物は、
【化３】
2010530897.tif 000003
またはその医薬上許容し得る塩、またはその溶媒和物からなる群から選択される、請求項２から６いずれか一項に記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月23日(2011.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
請求項１記載の組成物を有効成分として含有し、モノアミン輸送体及び選択的セロトニン輸送体の阻害剤として機能することを特徴とする精神神経疾患治療用組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
請求項１２記載の組成物において、
前記化合物は、下記構造（式（４））又はその鏡像異性体構造であることを特徴とする組成物。
2010530900.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
請求項１２記載の組成物において、
前記化合物は、下記構造（式（５））又はその鏡像異性体構造であることを特徴とする組成物。
2010530900.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
請求項１２記載の組成物において、
前記化合物は、下記構造（式（６））又はその鏡像異性体構造であることを特徴とする組成物。
2010530900.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
請求項１２記載の組成物において、
前記化合物は、下記構造（式（９））又はその鏡像異性体構造であることを特徴とする組成物。
2010530900.tif 000004
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
請求項１２記載の組成物において、
前記化合物は、薬学上利用可能な塩であることを特徴とする組成物。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
請求項１２記載の組成物において、
前記化合物は、塩酸塩であることを特徴とする組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月13日(2011.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の化合物:
5-{3-フルオロ-4-[(5S)-2-(シス-4-ヒドロキシシクロヘキシル)-1-オキソ-2,7-ジアザスピロ[4.5]デカ-7-イル]フェニル}-N,N-ジメチルピリジン-2-カルボキサミド;
またはその医薬上許容される塩。
【請求項２】
以下の化合物:
5-{3-フルオロ-4-[(5S)-2-(シス-4-ヒドロキシシクロヘキシル)-1-オキソ-2,7-ジアザスピロ[4.5]デカ-7-イル]フェニル}-N-メチルピリジン-2-カルボキサミド;
またはその医薬上許容される塩。
【請求項３】
以下の化合物:
N-エチル-5-{3-フルオロ-4-[(5S)-2-(シス-4-ヒドロキシシクロヘキシル)-1-オキソ-2,7-ジアザスピロ[4.5]デカ-7-イル]フェニル}ピリジン-2-カルボキサミド;
またはその医薬上許容される塩。
【請求項４】
以下の化合物:
5-{3-クロロ-4-[(5S)-2-(シス-4-ヒドロキシシクロヘキシル)-1-オキソ-2,7-ジアザスピロ[4.5]デカ-7-イル]フェニル}-N-エチルピリジン-2-カルボキサミド;
またはその医薬上許容される塩。
【請求項５】
請求項 1 から 4 のいずれか１項の化合物またはその医薬上許容される塩、および少なくとも１つの医薬上許容される担体を含む組成物。
【請求項６】
11βHSD1 を請求項 1 から 4 のいずれか１項の化合物またはその医薬上許容される塩と接触させることを含む、11βHSD1 の活性を阻害する方法。
【請求項７】
細胞を請求項 1 から 4 のいずれか１項の化合物またはその医薬上許容される塩と接触させることを含む、細胞におけるコルチゾンからコルチゾールへの変換を阻害する方法。
【請求項８】
細胞を請求項 1 から 4 のいずれか１項の化合物またはその医薬上許容される塩と接触させることを含む、細胞におけるコルチゾールの産生を阻害する方法。
【請求項９】
肥満; 糖尿病; グルコース不耐性; インスリン抵抗性; 高血糖; 高血圧; 高脂血症; 認知障害; 抑鬱; 認知症; 緑内障; 心血管障害; 骨粗鬆症; 炎症; メタボリックシンドローム; アンドロゲン過剰; または多嚢胞性卵巣症候群(PCOS)を処置するための、請求項 1 から 4 のいずれか１項の化合物またはその医薬上許容される塩を含む医薬組成物。
【請求項１０】
２型糖尿病を処置するための、請求項 1 から 4 のいずれか１項の化合物またはその医薬上許容される塩を含む医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月10日(2011.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を熱再転写シートから物品上へ熱転写印刷するための装置であって、色素転写を引き起こすために加熱ガスの流れを供給するようになっている加熱手段と、加熱ガスを流れの方向に対して横断する方向に方向付けて、色素転写中に物品上にわたって加熱ガスを分配するための揺動ベーン手段とを含む、装置。
【請求項２】
前記揺動ベーン手段が、揺動動作するように装着された１つ又はそれ以上の長尺なベーンを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ベーン又は前記各ベーンが往復動部材に固定される、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記往復動部材がカムによって駆動される、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記揺動ベーン手段によってもたらされる分配に対して横断する方向に加熱ガスを方向付けるように配置されている拡散器アセンブリを更に備える、請求項１から４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
第１の揺動ベーン手段によってもたらされる分配に対して横断する方向に加熱ガスを方向付けるための第２の揺動ベーン手段を更に備える、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記加熱手段がヒータ要素とファンとを備える、請求項１から６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
物品とシートとの間の相対的移動を引き起こして、シートと物品とを接触させるための手段を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
画像を熱再転写シートから物品上へ印刷する方法であって、シートと物品とを接触させることと、シートを加熱ガスの流れに晒すことによって加熱して、シートから物品への色素転写を引き起こすこととを含み、ここで、加熱ガスが流れ方向を横断する方向に揺動態様で方向付けられて色素転写中に物品上にわたって加熱ガスを分配する、方法。
【請求項１０】
ガスが揺動ベーン手段によって方向付けられる、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記揺動ベーン手段がカムによって制御される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
揺動速度が５〜２００ストローク／分の範囲である、請求項９から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
加熱ガスが、第１の方向に対して横断する第２の方向に揺動態様で方向付けられる、請求項９から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
シートを予熱することを更に含む、請求項９から１３のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月13日(2011.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コーティングされた高分子基板であって、
第１の表面を有する高分子基板本体と、
第１の表面上のコーティング
を含み、該コーティングが、
多数対の塗工層を含み、
各々の対が第１に塗布された、内部の塗工層と第２に塗布された、外側の塗工層とを含み、第１の塗工層が第２の塗工層よりも柔らかい、基板。
【請求項２】
第１に塗布された塗工層がポリシロキサンを含む、請求項１に記載の基板。
【請求項３】
第２に塗布された塗工層が、プラズマ助長化学蒸着で塗布された塗工層、又は電子ビーム蒸着された塗工層を含み、第２に塗布された塗工層が第１に塗布された塗工層よりも硬い、請求項１に記載の基板。
【請求項４】
第２に塗布された塗工層がＳｉＯｘＣｙを含み、ｘの範囲が１．０〜１．２であり、ｙの範囲が１．０〜０．８である、請求項１に記載の基板。
【請求項５】
高分子基板本体とコーティングの両方が、人間の視覚の波長領域の光において光学的に透明である、請求項１に記載の基板。
【請求項６】
高分子基板本体が、延伸アクリル又はポリカーボネートを含む航空機のフロントガラスを備える、請求項５に記載の基板。
【請求項７】
第１に塗布した塗工層の厚さが、約４〜５マイクロメータの範囲である、請求項４に記載の基板。
【請求項８】
塗工層の上に、又は塗工層の間に指標層をさらに含み、該指標層によりコーティングの磨耗の兆候が示される、請求項１に記載の基板。
【請求項９】
該指標層が金属製の塗工層又は疎水性の塗工層を含む、請求項８に記載の基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
前述の詳細説明において一以上の例示の実施形態を記載したが、当然ながら膨大な数の変形例が存在する。また当然ながら、例示の実施形態又は複数の例示の実施形態はただの例に過ぎず、いかなる方法においても、説明した実施形態の範囲、適用性、又は構成を限定するように意図したものではない。むしろ、前述の詳細説明は、当業者に記載された例示の実施形態又は複数の例示の実施形態を実行するための便利な手引きを提供するものである。当然ながら、添付の請求項および合法の同等物によって規定された範囲から逸脱することなく、要素の機能及び配置において様々な変更を行うことが可能である。
また、本発明は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
コーティングされた高分子基板であって、
第１の表面を有する高分子基板本体と、
第１の表面上のコーティング
を含み、該コーティングが、
各々の対が第１に塗布された塗工層と第２に塗布された塗工層を含む、一つより多くの対の塗工層
を備える基板。
（態様２）
第１に塗布された塗工層がポリシロキサンを含む、態様１に記載の基板。
（態様３）
第２に塗布された塗工層が、プラズマ助長化学蒸着で塗布された塗工層、又は電子ビーム蒸着された塗工層を含み、第２に塗布された塗工層が第１に塗布された塗工層よりも硬い、態様１に記載の基板。
（態様４）
第２に塗布された塗工層がＳｉＯｘＣｙを含み、ｘの範囲が１．０〜１．２であり、ｙの範囲が１．０〜０．８である、態様１に記載の基板。
（態様５）
高分子基板本体とコーティングの両方が、人間の視覚の波長領域の光において光学的に透明である、態様１に記載の基板。
（態様６）
高分子基板本体の第１の表面上のコーティングの、Ｄ６−８２９４２−１に基づくワイパー磨耗耐久性試験を行った際の１５５０００サイクル後のくもり度の変化が、約１％以下である、態様５に記載の基板。
（態様７）
高分子基板本体の第１の表面上のコーティングの、ＡＳＴＭ１０４４−０５に基づくテーバー磨耗試験を行った際の４００００サイクル後のくもり度の変化が、約５％以下である、態様５に記載の基板。
（態様８）
高分子基板本体の第１の表面上のコーティングの、平均粒径８００ミクロンの砂を約５リットル使用して、ＡＳＴＭ  Ｄ９６８−９３に基づく砂侵食試験を行った際のくもり度の変化が、約１５％以下である、態様５に記載の基板。
（態様９）
高分子基板本体が、延伸アクリル又はポリカーボネートを含む航空機のフロントガラスを備える、態様５に記載の基板。
（態様１０）
第１に塗布した塗工層の厚さが、約４〜５マイクロメータの範囲である、態様４に記載の基板。
（態様１１）
塗工層の上に、又は塗工層の間に指標層をさらに含み、該指標層によりコーティングの磨耗の兆候が示される、態様１に記載の基板。
（態様１２）
該指標層が金属製の塗工層又は疎水性の塗工層を含む、態様１１に記載の基板。
（態様１３）
航空機のフロントガラスのサイズ及び形状に構成され、航空機のフロントガラスの外表面に対応する第１の表面を有する高分子基板本体と、
第１の表面上のコーティングを備え、該コーティングが、
各々の対が第１に塗布された塗工層と第２に塗布された塗工層を含む、一つより多くの対の塗工層と、
塗工層の上に、又は塗工層の間に塗布され、コーティングの磨耗の兆候を示す指標層
を含み、
該コーティングが、除氷液、ジェット燃料、メチルエチルケトン、洗浄用溶剤、アルカリ性洗浄剤、油圧油及び合成洗剤から選択される化学薬品に曝された後に、テーバー磨耗試験ＡＳＴＭ  Ｄ−１０４４−９９にしたがって１００サイクル試験を行った結果、くもり度の変化が約１％以下である、高分子基板。
（態様１４）
第１に塗布された塗工層がポリシロキサンを含む、態様１３に記載の基板。
（態様１５）
第２に塗布された塗工層が、プラズマ助長化学蒸着で塗布された塗工層、又は電子ビーム蒸着された塗工層を含み、第２に塗布された塗工層が第１に塗布された塗工層よりも硬い、態様１３に記載の基板。
（態様１６）
第２に塗布された塗工層がＳｉＯｘＣｙを含み、ｘの範囲が１．０〜１．２であり、ｙの範囲が１．０〜０．８である、態様１３に記載の基板。
（態様１７）
コーティングの、Ｄ６−８２９４２−１に基づくワイパー磨耗耐久性試験を行った際の１５５０００サイクル後のくもり度の変化が、約１％以下である、態様１３に記載の基板。
（態様１８）
コーティングの、平均粒径８００ミクロンの砂を約５リットル使用して、ＡＳＴＭ  Ｄ９６８−９３に基づく砂侵食試験を行った際のくもり度の変化が、約１５％以下である、態様５に記載の基板。
（態様１９）
航空機のフロントガラスを試験する方法であって、
高分子組成を含み、外部表面上にコーティングを有する航空機のフロントガラスを調べるステップを含み、該コーティングが、
各々の対が第１に塗布された塗工層と第２に塗布された塗工層を含む一つよりも多い対の塗工層と、
塗工層の上に、又は塗工層の間に塗布され、コーティングの磨耗の兆候を示す指標層
を含み、
指標層に基づいて、航空機のフロントガラスが整備、交換又は修理を必要としているかどうかを決定するステップ
を含む方法。
（態様２０）
指標層が、疎水性のコーティングを含む、態様１９に記載の方法。
（態様２１）
指標層が、金属製のコーティングを含む、態様１９に記載の方法。