【事件の表示】
　特願２０００−１０１４５６「樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法及び液晶素子」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年１０月１０日出願公開、特開２００１−２８１６９２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１２年４月３日の出願であって、平成２０年６月１６日に手続補正がなされたところ、平成２１年７月２日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月７日に拒絶査定不服審判請求がなされるとともに、これと同時に手続補正がなされ、その後、当審において平成２２年１０月２９日付けで前記平成２１年１０月７日付けの手続補正が却下されるとともに同日付けで最後の拒絶理由が通知され、平成２２年１２月２８日付けで手続補正がなされたものである。
　
　
第２　平成２２年１２月２８日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２２年１２月２８日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１　補正の内容  
　平成２２年１２月２８日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）は、補正前の請求項１を以下のように補正して新たに補正後の請求項１とすることを含むものである。
　
「アクティブマトリクス基板上にネガ型の感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層を、「Ｎ段目の透過率％＝１００／（（１．４１４）∧（Ｎ−１））」となるように形成されたステップウェッジ付露光マスクで評価した際に、クリア段（感光性樹脂層がすべて除去できた段のうちの最小段）＝２／ベタ段（感光性樹脂層が完全に残っている段のうちの最大段）＝１からクリア段＝８／ベタ段＝５の露光量でパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法であって、前記ネガ型の感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）が１．５〜４であり、かつ該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が３０〜１００μｍであることを特徴とする樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法。」
　
　本件補正は、補正前（平成２０年６月１６日付け手続補正後のもの）の請求項１において、「感光性樹脂層」が「ネガ型」であることを限定し、「感光性樹脂層」の「パターン露光」を、「「Ｎ段目の透過率％＝１００／（（１．４１４）∧（Ｎ−１））」となるように形成されたステップウェッジ付露光マスクで評価した際に、クリア段（感光性樹脂層がすべて除去できた段のうちの最小段）＝２／ベタ段（感光性樹脂層が完全に残っている段のうちの最大段）＝１からクリア段＝８／ベタ段＝５の露光量」で行うとの限定を行い、「感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）」として「０．５〜４」とあったものを「１．５〜４」へと限定し、「パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離」として「１６〜１００μｍ」とあったものを「３０〜１００μｍ」へと限定したものであるから、上記補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　
２　独立特許要件 
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
 　 
（１）刊行物記載の発明
　当審において通知した拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平１０−２０６８８８号公報（以下「引用刊行物」という。）には、図とともに以下の事項が記載されている。
　
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】  アクティブマトリクス基板と、このアクティブマトリクス基板に対向配置された対向基板と、アクティブマトリクス基板と対向基板間に介在する液晶層とを備え、アクティブマトリクス基板上に、制御信号を伝送する各ゲート信号線と映像信号を伝送する各ソース信号線を交差させて形成し、これらの信号線の交差部位に各スイッチング素子を割り当ててマトリクス状に配列すると共に、これらの信号線に各スイッチング素子を接続し、各スイッチング素子及び各信号線上に、層間絶縁膜を形成し、この層間絶縁膜上に、各画素電極をマトリクス状に形成した液晶表示装置の製造方法において、
層間絶縁膜として有色有機フィルムを適用し、この有色有機フィルムをラミネート法によって貼着してなる液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】  請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法において、
有色有機フィルムは、感光性を有し、
この有色有機フィルムをラミネート法によって貼着してから、露光及び現像によって該有色有機フィルムのパターニングを行う液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】  請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法において、
有色有機フィルムをラミネート法によって貼着してから、フォトレジストの形成、露光及び現像、この有色有機フィルムのエッチングによって該有色有機フィルムのパターニングを行う液晶表示装置の製造方法。
・・・
【請求項１３】  請求項１乃至１２に記載のいずれかの製造方法によって作製された液晶表示装置。
【請求項１４】  請求項１３に記載の液晶表示装置において、
層間絶縁膜に、コンタクトホールを形成し、画素電極を該コンタクトホールを介してスイッチグ素子に接続した液晶表示装置。
・・・
【請求項１６】  請求項１４に記載の液晶表意装置（審決注：「液晶表示装置」の誤りと認める。）において、
コンタクトホールのテーパー角度は、４５度以下である液晶表示装置。
・・・」
　
　イ　「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、カラー表示を行う液晶表示装置及びその製造方法に関する。」
　
　ウ　「【００１８】・・・この発明は、・・・表示品質の低下を招かずに、層間絶縁膜をブラックマスクやカラーフィルターとして併用することが可能な液層表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。」
　
　エ　「【００５６】図１は、この発明の液晶表示装置の第１実施形態における画素を拡大して示している。また、図２は、図１のＡ’−Ａに沿い破断して示す断面図である。・・・
【００５７】まず、アクティブマトリクス基板１に、ゲート信号線２並びに付加容量電極３を形成し、この上にゲート絶縁膜４を形成する。この後、半導体層５及びチャネル保護層６を形成し、ＴＦＴ７のソース及びドレインとなるｎ＋Ｓｉ層８を形成する。
・・・
【００５９】引き続いて、金属層及びＩＴＯ膜をスパッタ法によって形成し、これらをパターニングすることにより、ドレイン信号線１２及びソース信号線１３を形成する。・・・
【００６０】次に、図３に示すＤＦＬ法による製造工程に従って、層間絶縁膜、つまり有色有機フィルム１４を構成する赤色フィルム片１４Ｒ、緑色フィルム片１４Ｇ、青色フィルム片１４Ｂｌｕｅ、及び遮光性フィルム片１４Ｂｌａｃｋを順次形成する。
【００６１】まず、図３（ａ）に示す様に、ドライフィルムであって、赤色の顔料が分散され、感光性（ネガ型）を有する厚さ３μｍの透過性有機フィルム２１をラミネート法によって貼着し、保護フィルム２２を剥離してから、赤色を表示する画素からコンタクトホール１６及びＴＦＴ７を除いた部分だけを露光し、クッション層２３を現像して、この赤色の透過性有機フィルム２１をアルカリ性の溶液によって現像し、赤色の画素を覆う赤色フィルム片１４Ｒを形成し、２５０℃でベーク処理を施す。
【００６２】ここでは、有色有機フィルム１４の厚みが３μｍ（後で述べる様に少なくとも２μｍ以上を必要とする）に設定されている。また、画素電極１５を形成するＩＴＯ膜がコンタクトホール１６の段差部分で切れ易いので、このコンタクトホール１６のテーパー角度を４５度となる様に制御し、このコンタクトホール１６の内周面を緩やかなテーパー形状にしている。これによって、後で形成される画素電極１５がコンタクトホール１６の段差部位で切れない様にしている。
・・・
【００６４】引き続いて、図３（ｂ）に示す様に、感光性を有する厚さ３μｍの緑色の透過性有機フィルムをラミネート法によって貼着し、保護フィルムを剥離してから、緑色を表示する画素からコンタクトホール１６及びＴＦＴ７を除いた部分だけを露光し、クッション層を現像し、この緑色の透過性有機フィルムをアルカリ性の溶液によって現像し、緑色の画素を覆う緑色フィルム片１４Ｇを形成し、ベーク処理を施す。
【００６５】同様に、図３（ｃ）に示す様に、感光性を有する厚さ３μｍの青色の透過性有機フィルムをラミネート法によって貼着し、保護フィルムを剥離し、露光及び現像を行って、青色の画素を覆う青色フィルム片１４Ｂｌｕｅを形成し、ベーク処理を施す。
【００６６】更に、図３（ｄ）に示す様に、黒色の顔料が分散され、感光性を有する厚さ３μｍの遮光性有機フィルムをラミネート法によって貼着し、保護フィルムを剥離し、各色のフィルム片が配置されておらず、かつ下方に金属膜が配置されていない部分、及びＴＦＴ７の部分を露光し、クッション層を現像し、この遮光性有機フィルムをアルカリ性の溶液によって現像し、黒色の遮光性フィルム片１４Ｂｌａｃｋを形成する。
・・・
【００７７】この後、ＩＴＯ膜をスパッタ法によって形成し、このＩＴＯ膜をパターニングしてなる画素電極１５を形成し、この画素電極１５をコンタクトホール１６を介してドレイン信号線１２に接続する。」
　
　オ　前記エ（【００６１】）を踏まえて図３（ａ）をみると、赤色の顔料が分散され、感光性（ネガ型）を有する透過性有機フィルム２１に対して、赤色を表示する画素からコンタクトホール１６及びＴＦＴ１７を除いた部分だけを紫外線露光する際に、該透過性有機フィルム２１の表面から所定の距離離間した位置にマスクを配置すること、が見て取れる。
　
　カ　前記ア〜エを踏まえて図１〜３をみると、引用刊行物には、「アクティブマトリクス基板１」に「ＴＦＴ７」や「有色有機フィルム１４」等を形成した、液晶表示装置に用いられる「アクティブマトリクス基板」の製造方法、が記載されているといえる。
　
　上記摘記事項の記載を総合すると、引用刊行物には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている、と認められる。
　
「アクティブマトリクス基板１にＴＦＴ７や有色有機フィルム１４等を形成した、液晶表示装置に用いられるアクティブマトリクス基板の製造方法であって、
　まず、アクティブマトリクス基板１に、ゲート信号線２並びに付加容量電極３を形成し、この上にゲート絶縁膜４を形成し、この後、半導体層５及びチャネル保護層６を形成し、ＴＦＴ７のソース及びドレインとなるｎ＋Ｓｉ層８を形成し、
　引き続いて、金属層及びＩＴＯ膜をスパッタ法によって形成し、これらをパターニングすることにより、ドレイン信号線１２及びソース信号線１３を形成し、
　次に、ドライフィルムであって、赤色の顔料が分散され、感光性（ネガ型）を有する厚さ３μｍの透過性有機フィルム２１をラミネート法によって貼着し、保護フィルム２２を剥離してから、前記透過性有機フィルム２１に対して、赤色を表示する画素からコンタクトホール１６及びＴＦＴ７を除いた部分だけを紫外線露光し、その際に、該透過性有機フィルム２１の表面から所定の距離離間した位置にマスクを配置し、クッション層２３を現像して、この赤色の透過性有機フィルム２１をアルカリ性の溶液によって現像し、赤色の画素を覆う赤色フィルム片１４Ｒを形成し、２５０℃でベーク処理を施し、
　ここで、画素電極１５を形成するＩＴＯ膜がコンタクトホール１６の段差部分で切れ易いので、このコンタクトホール１６のテーパー角度を４５度となる様に制御し、このコンタクトホール１６の内周面を緩やかなテーパー形状にし、これによって、後で形成される画素電極１５がコンタクトホール１６の段差部位で切れない様にしている、アクティブマトリクス基板の製造方法。」
　 
（２）対比、判断
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　
　ア　引用発明は、「アクティブマトリクス基板１にＴＦＴ７や有色有機フィルム１４等を形成した、液晶表示装置に用いられるアクティブマトリクス基板の製造方法であって」、「アクティブマトリクス基板１に」、「ゲート絶縁膜４」等を形成した後に、「ドライフィルムであって、赤色の顔料が分散され、感光性（ネガ型）を有する・・・透過性有機フィルム２１をラミネート法によって貼着し、・・・前記透過性有機フィルム２１に対して、赤色を表示する画素からコンタクトホール１６及びＴＦＴ７を除いた部分だけを紫外線露光」し、「この赤色の透過性有機フィルム２１をアルカリ性の溶液によって現像し、赤色の画素を覆う赤色フィルム片１４Ｒを形成」するものであり、該「透過性有機フィルム２１」はパターン露光されてコンタクト部が形成されるといえるから、
　（ア）引用発明の「アクティブマトリクス基板１」、「ドライフィルムであって、赤色の顔料が分散され、感光性（ネガ型）を有する・・・透過性有機フィルム２１」及び「（透過性有機フィルム２１が形成され、液晶表示装置に用いられる）アクティブマトリクス基板の製造方法」は、それぞれ、本願補正発明の「アクティブマトリクス基板」、「（ネガ型の）感光性樹脂層」及び「樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法」に相当し、
　（イ）引用発明は、本願補正発明の「アクティブマトリクス基板上にネガ型の感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層を、「Ｎ段目の透過率％＝１００／（（１．４１４）∧（Ｎ−１））」となるように形成されたステップウェッジ付露光マスクで評価した際に、クリア段（感光性樹脂層がすべて除去できた段のうちの最小段）＝２／ベタ段（感光性樹脂層が完全に残っている段のうちの最大段）＝１からクリア段＝８／ベタ段＝５の露光量でパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法」と、「アクティブマトリクス基板上にネガ型の感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法」である点で一致する。
　
　イ　引用発明は、「透過性有機フィルム２１に対して、赤色を表示する画素からコンタクトホール１６及びＴＦＴ７を除いた部分だけを紫外線露光」する際に、「該透過性有機フィルム２１の表面から所定の距離離間した位置にマスクを配置」するものであるから、
　（ア）引用発明の「マスク」は、本願補正発明の「露光マスク」に相当し、
　（イ）引用発明の「『マスク』と『透過性有機フィルム２１の表面』とが『所定の距離離間し』ている」との事項は、本願補正発明の「該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が３０〜１００μｍである」との事項と、「該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層とが所定の距離離間している」との点で一致する。
　
　したがって、両者は、 
「アクティブマトリクス基板上にネガ型の感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法であって、該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層とが所定の距離離間している樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法。」 
である点で一致し、以下の点で相違する。 
　 
　本願補正発明は、感光性樹脂層をパターン露光する際、「Ｎ段目の透過率％＝１００／（（１．４１４）∧（Ｎ−１））」となるように形成されたステップウェッジ付露光マスクで評価した際に、クリア段（感光性樹脂層がすべて除去できた段のうちの最小段）＝２／ベタ段（感光性樹脂層が完全に残っている段のうちの最大段）＝１からクリア段＝８／ベタ段＝５の露光量とし、ネガ型の感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）が１．５〜４であり、パターン露光時の露光マスクと感光性樹脂層の距離が３０〜１００μｍであるのに対し、引用発明は、感光性樹脂層をパターン露光する際の露光量が明らかでなく、ネガ型の感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）の値が明らかでなく、また、パターン露光時の露光マスクと感光性樹脂層の距離の値が明らかでない点（以下「相違点」という。）。
　
　上記相違点につき検討する。
　引用発明は、「透過性有機フィルム２１」（本願補正発明の「（ネガ型の）感光性樹脂層」に相当。）に対して、その表面から所定の距離離間した位置に配置した「マスク」を介して紫外線露光を行い、「コンタクトホール１６」のテーパー角度を４５度となる様に制御し、この「コンタクトホール１６」の内周面を緩やかなテーパー形状にし、これによって、後で形成される「画素電極１５」が「コンタクトホール１６」の段差部位で切れない様にするものであるところ、引用発明において、「透過性有機フィルム２１」の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）をどの程度とするか、パターン露光時の「マスク」と「透過性有機フィルム２１」の距離をどの程度とするかは、当業者が当該引用発明を実施する上で設計上適宜に定めるべき事項であって、感光性樹脂層として波長３６５ｎｍ付近の光学濃度を２〜３程度としたものは本願の出願時点で周知であり（例えば、特開昭５７−６２０４８号公報（第４頁右下欄第７行〜第５頁左上欄第５行）、特開平６−３２４２９６号公報（【００５６】、【００５７】表２、【００６２】表４に示された、「ｉ線」における各感光性樹脂層の光透過率の値１．０〜０．１％から算出される光学濃度の値は２〜３である。）参照。）、また、パターン露光時のマスクとレジスト膜（感光性樹脂層）との距離を６０〜７０ｎｍ程度とすることは本願の出願時点で周知である（例えば、特開平７−１２８５１９号公報（【００５９】〜【００６２】）、特開平１１−２３８２５号公報（【０００８】）、特開平９−１０１４０８号公報（【００５３】）参照。）ことを踏まえると、引用発明において、「透過性有機フィルム２１」の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）を１．５〜４となし、パターン露光時の「マスク」と「透過性有機フィルム２１」の距離を３０〜１００μｍとなすことが当業者において格別困難なことであるとはいえない。また、引用発明において、「透過性有機フィルム２１」をパターン露光する際に、その露光量をどの程度とするかは、当業者が当該引用発明を実施する上で設計上適宜に定めるべき事項であるところ、本願明細書の記載をみても、本願補正発明において、感光性樹脂層をパターン露光する際の露光量を、「Ｎ段目の透過率％＝１００／（（１．４１４）∧（Ｎ−１））」となるように形成されたステップウェッジ付露光マスクで評価した際に、クリア段（感光性樹脂層がすべて除去できた段のうちの最小段）＝２／ベタ段（感光性樹脂層が完全に残っている段のうちの最大段）＝１からクリア段＝８／ベタ段＝５のものとした点に設計的事項の域を超えるほどの格別の技術的意義があるものとは認められない。
　そして、本願発明の奏する効果が、引用発明及び上記各周知技術から当業者が予測困難な程の格別顕著なものということはできない。
　よって、引用発明において、上記相違点に係る本願補正発明の構成となすことは、当業者が適宜になし得ることである。
　
　したがって、本願補正発明は、引用刊行物に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。  
 　 
（３）むすび  
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、平成２０年６月１６日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項によって特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明は次のとおりのものである。
　
「アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法であって、該感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）が０．５〜４であり、かつ該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が１６〜３００μｍであることを特徴とする樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法。」（以下「本願発明」という。）
　
２　刊行物記載の発明
　当審における拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された引用刊行物及び引用発明は、上記第２の２（１）のとおりである。
　
３　判断
　本願発明は、上記第２の２（２）で検討した本願補正発明において、「感光性樹脂層」が「ネガ型」であるとの限定を省き、「感光性樹脂層」の「パターン露光」を「「Ｎ段目の透過率％＝１００／（（１．４１４）∧（Ｎ−１））」となるように形成されたステップウェッジ付露光マスクで評価した際に、クリア段（感光性樹脂層がすべて除去できた段のうちの最小段）＝２／ベタ段（感光性樹脂層が完全に残っている段のうちの最大段）＝１からクリア段＝８／ベタ段＝５の露光量」で行うとの限定を省き、「感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）」について「１．５〜４」と限定したものを「０．５〜４」へと元に戻し、「パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離」について「３０〜１００μｍ」と限定したものを「１６〜１００μｍ」へと元に戻したものである。そうすると、本願発明を減縮したものである本願補正発明が、上記第２の２（２）で検討したとおり、引用刊行物に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、本願発明も同様の理由により、引用刊行物に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。