【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年5月20日(2011.5.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェーハの表面をエッチングするエッチング・システムにおいて、
予め設定された複数の位置において前記ウェーハの表面上の微細寸法テストフィーチャを測定する測定装置と、
前記ウェーハを保持するチャックと、前記チャック内に配置される複数の発熱体と、を有し、前記測定装置から前記ウェーハを受け取るエッチングチャンバであって、それぞれの前記発熱体は前記ウェーハ上の予め設定された位置のそれぞれに隣接して配置される、エッチングチャンバと、
前記測定装置および前記複数の発熱体に接続された制御装置であって、前記微細寸法テストフィーチャに基づいて、前記ウェーハの表面のエッチング処理中に前記複数の発熱体それぞれの温度を調整して、予め設定された複数の位置の間のエッチング特性のばらつきを低減する制御装置と、を備えることを特徴とするエッチング・システム。
【請求項２】
前記予め設定された複数の位置は、前記ウェーハのほぼ全表面にわたって隣接する複数の領域部にグループ化され、
前記領域部のそれぞれは、前記複数の発熱体のうち１つの発熱体に対応することを特徴とする請求項１に記載のエッチング・システム。
【請求項３】
前記ウェーハの表面は、中央領域部および該中央領域部に隣接する複数の領域部を含むことを特徴とする請求項２に記載のエッチング・システム。
【請求項４】
前記測定装置は、微細寸法（ＣＤ）分光測定システムを含むことを特徴とする請求項１に記載のエッチング・システム。
【請求項５】
前記制御装置に接続された複数のセンサをさらに備え、
前記センサは、前記予め設定された位置のそれぞれに対するウェーハ表面の位置における溝の平均深さを周期的に測定し、
前記制御装置は、前記測定した溝の深さに基づいて、前記予め設定された位置のそれぞれに対する局所的なエッチング速度を計算し、前記ウェーハの表面のエッチング処理中に前記複数の発熱体それぞれの温度を調整して、前記予め設定された複数の位置の間のエッチング速度のばらつきを低減することを特徴とする請求項１に記載のエッチング・システム。
【請求項６】
前記複数のセンサは、干渉計を備えることを特徴とする請求項５に記載のエッチング・システム。
【請求項７】
請求項１に記載の前記エッチング・システムを用いた前記ウェーハの前記表面のエッチング方法において、
前記予め設定された複数の位置において前記測定装置を用いて前記微細寸法テストフィーチャを測定する手順と、
前記複数の発熱体を用いて、前記複数の位置で前記ウェーハの下側を加熱する手順と、
前記微細寸法テストフィーチャに基づいて、前記ウェーハの表面のエッチング処理中に、前記制御装置を用いて前記複数の発熱体それぞれの温度を調整して、前記予め設定された複数の位置の間のエッチング特性のばらつきを低減する手順と、
を含むことを特徴とするエッチング方法。
【請求項８】
前記予め設定された複数の位置は、前記ウェーハのほぼ全表面にわたって隣接する複数の領域部にグループ化され、
前記領域部のそれぞれは、１つの発熱体に対応することを特徴とする請求項７に記載のエッチング方法。
【請求項９】
前記ウェーハの表面は、中央領域部および該中央領域部に隣接する複数の領域部を含むことを特徴とする請求項８に記載のエッチング方法。
【請求項１０】
前記微細寸法テストフィーチャを測定する手順は、微細寸法（ＣＤ）分光測定手順を含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記予め設定された位置のそれぞれに対するウェーハ表面の溝の深さを周期的に測定する手順と、
前記測定した溝の深さに基づいて、前記予め設定された位置のそれぞれに対する局所的な前記エッチング速度を計算する手順と、
前記ウェーハのエッチング処理中に、前記加熱を調整して、前記予め設定された複数の位置の間の局部的なエッチング速度のばらつきを低減し、それによって、前記ウェーハ全体の溝の深さのばらつきを低減する手順と、を有することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
ウェーハの表面をエッチングするエッチング・システムにおいて、
予め設定された複数の位置において前記ウェーハの表面の微細寸法テストフィーチャを測定する測定装置と、
前記ウェーハを保持する温度制御チャックを有し、前記測定装置から前記ウェーハを受け取るエッチングチャンバであって、前記温度制御チャックは流体で満たされた異なる複数の領域部を内包し、前記ウェーハ上の予め設定された位置のそれぞれに隣接して配置され、それぞれの前記領域部の流体が再循環流体温度制御システムによってそれぞれ設定温度まで加熱される、エッチングチャンバと、
前記測定装置および前記温度制御チャックに接続され、前記ウェーハの表面のエッチング処理中に、前記領域部それぞれの流体の温度を調整して、予め設定された複数の位置の間のエッチング特性のばらつきを低減する制御装置と、を備えることを特徴とするエッチング・システム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】発明の名称
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の名称】エッチング・システム及びエッチング方法
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
ウェーハの材質をエッチングするエッチング・システムは、測定装置、エッチングチャンバ、および制御装置を有する。測定装置は、複数の設定位置におけるウェーハのプロファイルに沿って微細寸法テストフィーチャ（ＣＤ）を測定する。エッチングチャンバは、ウェーハを保持するチャックと、該チャック内の各設定位置に隣接して配置される複数の発熱体と、を有し、測定装置からウェーハを受け取る。制御装置は、特定のウェーハの実測されたＣＤを受け取る測定装置および発熱体に接続される。制御装置は、エッチング処理の前のリソグラフィ処理で生じるＣＤばらつきを補正するために、エッチング処理の温度依存であるエッチング特性を用いて、処理中に各発熱体の温度を調整して、複数の設定位置の間の微細寸法のばらつきを低減する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
したがって、エッチング・システム１００は、ウェーハ上の特定の寸法に関する情報を受信した後、各ウェーハの温度プロファイルをリアルタイムで動的に変換する、フィードフォワード・システムを含む。制御装置１１２は、ウェーハ１０４上の設定位置において、処理の前および／または処理中に各発熱体１１０の温度を調整して、ウェーハ１０４上の微細寸法のばらつきを低減する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
したがって、エッチング・システム４００は、干渉計４１６からの情報をもとに、各ウェーハの温度プロファイルをリアルタイムで動的に変換する、フィードバックシステムを含む。制御装置４１２は、処理の前および／または処理中に各発熱体４１０の温度を調整して、局所的にエッチング速度を修正し、これによりウェーハ４０４上の設定位置におけるウェーハ４０４の溝のエッチング深さのばらつきを低減する。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
したがって、エッチング・システム５００は、ウェーハ上の個々の寸法に関する情報を受信した後、各ウェーハの温度プロファイルをリアルタイムで動的に変換する、フィードフォワード・システムを含む。制御装置５１２は、処理の前および／または処理中に各発熱体５１０の温度を調整して、ウェーハ５０４上の設定位置において、ウェーハ５０４上の微細寸法のばらつきを低減する。