【手続補正書】
【提出日】平成23年9月21日(2011.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供試体（Ｐ）、具体的には眼（Ａ）の、軸方向に離間する複数の領域（Ｔ１、Ｔ２）を測定するためのショート・コヒーレンス干渉計装置であって、
複数の個別の測定ビームが通って該供試体上に入射する少なくとも１つの測定ビーム経路と、
該個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）に重ねられて該個別の測定ビームと干渉状態になる参照放射が通って導かれる、光学ビーム経路の距離を有する１つの参照ビーム経路（Ｒ）とを備え、
該個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）が、該供試体（Ｐ）上に入射するとき、軸方向の間隔（ｄ）に適合された量だけ軸方向に互いにオフセットされ、
該干渉計装置（Ｉ）が、該供試体から戻るそれぞれの個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）を、該参照放射と重ねて干渉を引き起こし、かつ、それぞれが検出器（Ｄ１、Ｄ２）に入力する複数の出力（ＩＩＩ、Ｖ）を有する重ね合わせデバイス（Ｋ、Ｋ１、Ｋ２）を有し、
前記参照ビーム経路が単一の光学ビーム経路の距離のみを有し、
該重ね合わせデバイス（Ｋ、Ｋ１、Ｋ２）が、すべての個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）と重ね合わせるための同一の参照放射を受け取り、個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）を該同一の参照放射と干渉させ、各出力（ＩＩＩ、Ｖ）に、該参照放射と重ねられた該複数の個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）の混合光を出力し、
各混合光が、異なる位相調整で該同一の参照放射と重ねられた該個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）の小部分を含む、ショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項２】
測定放射を供給する放射源（Ｑ）が設けられ、該放射源（Ｑ）が、光源ビームを出力し、該光源ビームの一定強度の小部分を前記測定ビーム経路（Ｍ）と前記参照ビーム経路（Ｒ）とに分割する前記重ね合わせデバイス（Ｋ、Ｋ１、Ｋ２）に対して該光源ビームを供給する、請求項１に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項３】
前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）が、各混合光中に基本的に等しい成分を有する、請求項１に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項４】
供試体（Ｐ）、具体的には眼（Ａ）の、軸方向に離間された複数の領域（Ｔ１、Ｔ２）を測定するためのショート・コヒーレンス干渉計装置であって、複数の個別の測定ビームが通って該供試体上に入射する少なくとも１つの測定ビーム経路であって、該個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）が、該供試体（Ｐ）上に入射するとき、軸方向の間隔（ｄ）に合わせた量だけ軸方向に互いにオフセットされる測定ビーム経路を有し、該干渉計装置（Ｉ）が、該個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）のうちの少なくとも２つを互いに重ねて干渉を引き起こす重ね合わせデバイス（Ｋ、Ｋ１、Ｋ２）を有し、
該重ね合わせデバイス（Ｋ、Ｋ１、Ｋ２）が、該２つの個別の測定ビームのそれぞれを、該特定の他の個別の測定ビームに重ねて干渉を引き起こし、かつ２つの重ねられたビームを取得し、次いで、これら２つのビームを関連する検出器（Ｄ１、Ｄ２）へ伝導する、ショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項５】
レンズ・デバイス（８）が、前記測定ビーム経路（Ｍ）に設けられ、該レンズ・デバイス（８）が前記測定放射を前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）へ分割し、かつ前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）を互いに対して遅らせて、前記供試体（Ｐ）へ別々の焦点距離でそれらを合焦する、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項６】
レンズ・デバイス（８）が、前記測定ビーム経路（Ｍ）に設けられ、該レンズ・デバイス（８）が前記測定放射を前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）へ分割し、かつ前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）を互いに対して遅らせて、前記供試体（Ｐ）へ別々の焦点距離でそれらを合焦し、前記レンズ・デバイス（８）が、瞳分割によって前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）を分割し、前記レンズ・デバイス（８）の分離した瞳領域が、光学距離の結像特性の少なくとも１つを有して、それぞれの個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）に関連付けられ、該瞳領域および該瞳領域の拡散が互いに異なる、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項７】
レンズ・デバイス（８）が、前記測定ビーム経路（Ｍ）に設けられ、該レンズ・デバイス（８）が前記測定放射を前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）へ分割し、かつ前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）を互いに対して遅らせて、前記供試体（Ｐ）へ別々の焦点距離でそれらを合焦し、前記レンズ・デバイス（８）が、瞳分割によって前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）を分割し、前記レンズ・デバイス（８）の分離した瞳領域が、光学距離の結像特性の少なくとも１つを有して、それぞれの個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）に関連付けられ、該瞳領域および該瞳領域の拡散が互いに異なり、前記レンズ・デバイス（８）が、ガラス体（１７）であって、２つのレンズ表面（Ｌ１、Ｌ２）と、一方のレンズ面上に穴または別々の屈折率を有する材料を用いる充填とを有し、この穴／充填が、光学軸に沿って該ガラス体（１７）の中へ伸びる前記ガラス体（１７）を含む、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項８】
前記重ね合わせデバイス（Ｋ、Ｋ１、Ｋ２）が、対の個別の測定ビーム経路当り、１つの３×３のファイバ・スプリッタ（Ｋ）または２つの結合された２×２のファイバ・スプリッタ（Ｋ１、Ｋ２）を有する、請求項１乃至７のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項９】
前記重ね合わせデバイス（Ｋ、Ｋ１、Ｋ２）が、元のビームの強度の５０％未満を前記測定ビーム経路（Ｍ）へ伝導し、前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）を重ねてそれらを前記検出器（Ｄ１、Ｄ２）へ中継するとき、前記個別の測定ビームについて５０％未満の強度損失を実現する、請求項１乃至８のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項１０】
前記検出器（Ｄ１、Ｄ２）のうち少なくとも２つが差分解析で読み取られる、請求項１乃至９のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項１１】
前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）の前記重ね合わせの前に、前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）の偏光状態を互いに等しくするために、すべての個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）に対して活動状態である偏光制御器（７、７．１、７．２）が前記測定ビーム経路に設けられるか、あるいは、偏光制御器（７．１、７．２）がそれぞれの個別の測定ビーム経路に設けられる、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項１２】
前記ショート・コヒーレンス干渉計装置が掃引される放射源を使用して、ＳＳ  ＯＣＤＲ向けに実施される、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項１３】
前記個別の測定ビーム（Ｄ１、Ｄ２）の軸方向のオフセットが、前記掃引される放射源によって定義された測定範囲より大きい、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項１４】
前記供試体（Ｐ）と前記個別の測定ビーム（Ｍ１、Ｍ２）の少なくとも１つとの横方向の相対変位によって前記供試体（Ｐ）をスキャンするために、少なくとも１つのスキャン・デバイスが設けられる、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項１５】
前記ショート・コヒーレンス干渉計装置が広帯域の放射源およびスペクトル的に分解する検出器を使用して、ＳＤ  ＯＣＤＲに適合される、請求項１乃至１４のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。
【請求項１６】
前記ショート・コヒーレンス干渉計装置が広帯域の放射源および迅速に変化する光学距離を有する参照アームを使用して、ＴＤ  ＯＣＤＲに適合される、請求項１乃至１５のいずれか１項に記載のショート・コヒーレンス干渉計装置。