【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年5月27日(2011.5.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試験片（ｐａｒｔ）を位置決めする手段と、波面を測定する計器を有する計測システムにて、予め規定された設計（ｄｅｓｉｇｎ  ｐｒｅｓｃｒｉｐｔｉｏｎ）にて基本対称（ｕｎｄｅｒｙｉｎｇ  ｓｙｍｍｅｔｒｙ）を有する表面又は波面を高精度にて測定する方法において、
ａ）前記試験片及び計器の異なる相対的な位置にて複数の測定値を得るステップと、
ｂ-i）予め規定された設計における試験波面の各々の局所的曲率と計器の較正定数とに基づいて前記測定値の各々に対し前記計器の最適な焦点位置を決定するステップと、
b-ii）前記計器と同一の試験状態及び前記測定位置を有する前記測定値を平均化して前記対称に従って平均化することにより、前記測定値のシステム上の計器の波面の誤りを較正し、前記試験片が前記予め規定された設計に完全に適合するならば、前記位置の全てにおける前記計器の測定値が同一であるようにするステップと、
b-iii）試験片の同一の名目的位置であるが、前記測定値の２つ又はそれ以上が前記計器に対して異なる向きを有する位置にて得られた前記測定値を平均化することにより、較正されない誤りを減少させるステップと、
b-iv）前記測定値を共にステッチングし、前記測定値における低空間的周波数の情報が自由補正器により、明示的にフィルタリングされ又は黙示的に補償されるようにすることにより較正されない誤りを減少させるステップとを備える、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
前記方法は、等式  １／（ｏｂ＋ｏｂ＿ｒｅｆ）＋１／（ｉｍ＋ｉｍ＿ｒｅｆ）＝１／ｆに関連する前記計測システムのパラメータを決定するため、
ａ）対物の基準点から前記計器内の第一の主要平面までの偏位である、一定パラメータ「ｏｂ＿ｒｅｆ」を決定するステップと、
ｂ）試験表面から前記対物の基準点までの変位である、「ｏｂ」を測定するステップと、
ｃ）Ｆ軸線の機械的な原点Ｆｏから前記計器内の第二の主要平面までの変位である、一定パラメータ「ｉｍ＿ｒｅｆ」を決定するステップと、
ｄ）前記計器内のＦ軸線の位置である、可変パラメータ「ｉｍ」を決定するステップと、
ｅ）計器の光学系の焦点距離である「ｆ」を決定するステップとを備える、方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、
ｂ）既知の半径と、前記計測システム内のその共焦点位置から既知の変位量とを有する表面を備える試料品を設定するステップと、
ｃ）前記表面が鮮明な焦点にあると観察される迄、前記合焦ステージの位置を調節するステップと、
ｄ）前記既知の対物の基準点に対する前記合焦ステージの位置と前記試験片の位置とから成る、得られる対の共役位置を記録するステップと、
ｅ）ステップｂ）ないしｄ）を反復して異なる複数対の前記共役位置を得るステップと、
ｆ）少なくとも焦点距離と、対物の基準点から第一の主要な平面までの変位と合焦ステージの原点から第二の主要な平面までの変位とを含む、計器の光学系の一定の前記パラメータを解くことにより前記対の共役位置にて適合計算（ｆｉｔｔｉｎｇ  ｃａｌｃｕｌａｔｉｏｎ）を実行するステップとを備える、方法。
【請求項４】
請求項２に記載の方法において、
前記方法は、前記計器が特定の位置にて合焦されるように合焦ステージの位置を決定するため、
ａ）前記試験波面の局所的曲率半径と、対物の基準点及び前記計器の光学系の第一の主要平面に対する前記波面の位置とに基づいて、前記特定の位置の対物の共役位置を計算するステップと、
ｂ）前記対物の共役位置と、前記計器の光学系の既知の焦点距離とに基づいて像の共役位置を計算するステップと、
ｃ）前記像の共役位置と、前記合焦ステージの原点から前記計器の光学系の第二の主要平面までの既知の変位とに基づいて、前記計器が前記特定の位置に合焦される、合焦ステージの位置を計算するステップとを備える、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、
前記方法は、予め規定された設計にて基本対称を有する試験片の特定の表面又は波面を試験するとき、システム上の計器の波面の誤りを推定し且つ較正するため、
ａ）前記表面又は波面の前記対称を識別するステップと、
ｂ）計器の形態及び前記試験片の位置を含む、計器及び較正するための試験片の測定条件を選ぶステップと、
ｃ）前記試験片及び計器の異なる相対的な位置における複数の測定値を得るステップであって、前記測定値は、前記試験条件に適合し、前記位置は前記対称に従い、前記試験片が前記予め規定された設計に完全に適合するならば、前記位置の全てにおける前記計器の測定値が同一であるようにする前記ステップと、
ｄ）前記測定値からシステム上の計器の波面の誤りの較正値を計算するステップとを更に備える、方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、
前記試験片は、軸線の回りにて回転対称であり、
前記複数の測定位置は、前記軸線の回りにてリング上にあり、
前記較正の計算値は前記測定値の平均値である、方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法において、
前記平均値は、単純で且つ加重した値から成る群から選ばれる、方法。
【請求項８】
前記較正の計算は前記測定に関する知識を採用する、請求項５に記載の方法において、
ａ）前記測定値の加重平均値を計算し、前記加重値は測定データの質の推定値により決定されるステップと、
ｂ）所望の空間的帯域に渡って前記試験片の対称と同一の対称を有する特徴を前記平均値から除去するステップとを更に備える、方法。
【請求項９】
請求項５に記載の方法において、前記計器は基本対称を有し、
ａ）前記計器の前記対称を識別するステップと、
ｂ）試験片に対する計器の異なる相対的な向きにて複数の測定値を得るステップであって、前記位置が前記対称に従い、前記試験片が前記予め規定された設計に完全に適合するならば、前記向きの全てにおける前記計器の測定値が同一であるようにする前記ステップと、
ｃ）システム上の計器の波面の誤りに対する計器の対称の寄与分を前記測定値から計算するステップと、
ｄ）システム上の波面の誤りの前記較正における混同した（ｃｏｎｆｏｕｎｄｅｄ）対称の誤りから試験片の寄与分を分離するステップとを備える、方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法において、
前記方法は、試験片から特定の表面又は波面を試験するとき、システム上の計器の波面の誤りの効果を減少させるため、
ａ）測定すべき前記試験片における名目的位置を選ぶステップと、
ｂ）前記名目的位置にて複数の測定値を得るステップであって、該測定値は共通のデータ点を有し、前記測定値の各々は、位置及び向きの少なくとも１つにて前記その他の測定値から相違するようにする前記ステップと、
ｃ）前記異なる測定値における任意の相対的な平行移動（ｔｒａｎｓｌａｔｉｏｎ）を計算しつつ、前記測定値を平均化して共通の座標系を形成するステップとを更に備える、方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法において、
前記方法は、前記表面の複数の重なり合うサブアパーチャーデータのマップから対物の試験表面の完全アパーチャーの数値データのマップを合成するため、
ａ）前記サブアパーチャーデータのマップ内の測定の誤りを減少させる少なくとも１つの方法を選ぶステップと、
ｂ）複数の前記表面領域から前記表面の前記複数のサブアパーチャーの数値データマップを採取して、かかるマップの各々の少なくとも一部分が少なくとも１つの隣接するマップの一部分と重なり合って重なり合うデータ領域を形成するステップと、
ｃ）前記複数の重なり合うデータマップを名目的歪みマップを有する全体的な座標系に投影するステップと、
ｄ）自由な大きさ範囲を有する自由補償器と、前記重なり合うデータ領域内のステッチング誤りを補償するため同一の規制された大きさを有する結合された（ｉｎｔｅｒｌｏｃｋｅｄ）補償器とから成る２つの群の少なくとも一方から複数の誤り補償器を選ぶステップと、
ｅ）前記補償器の線形の組み合わせを通じて前記重なり合う領域内にて前記データマップの各々からデータの不一致を同時に最小にするステップとを更に備える、方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法において、
前記システム上の計器の誤りを減少させる方法は、前記サブアパーチャーのデータをプレフィルタリングするステップを含み、
前記フィルタリングは、前記サブアパーチャーのデータを採取するステップの後であるが、前記不一致を最小にするステップの前に行われ、
前記プレフィルタリングは、前記サブアパーチャーのデータから低空間周波数の形態を除去する、方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の方法において、
前記測定の誤りを減少させる方法は、前記重なり合う測定領域における低空間周波数の偏差を最適化するステップであって、前記低空間周波数の偏差は、算術的基本関数により表現され、前記基本関数は自由補償器により表現される前記ステップを含む、方法。
【請求項１４】
請求項１１に記載の方法において、
前記測定の誤りを減少させる方法は、勾配に依存する誤りを平均化するステップを含み、
前記サブアパーチャーのデータマップは、重なり合うマップにおける同一の点にて異なる局所的勾配のデータを重なり合わせ、前記計器の勾配に依存するシステム上の誤りを平均化するステップを含む、方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
波面計器１２は、計器の像の平面（本明細書にて「Ｆ」軸線と称する合焦ステージ）の位置を設定する機構（可能であらば、コンピュータ制御式）を有することが好ましい。図５には、Ｆ軸線のような軸線を含む一例としてのフィゾー干渉計の形態の詳細が示されている。光源１２ａは、レンズ１２ｂにより合焦される光ビームを発し、その後、その光は、ビームスプリッタ１２ｃにより部分的に反射され（ビームスプリッタ１２ｃを部分的に透過した光は、典型的に無視される）、次に、レンズ１２ｄによりコリメートされる。その後、光は、透過球２８又は透過平坦部３２を通って伝送される。透過球の場合、計器の内部の光軸線３１は、計器の外部の光軸線３４及びＺ軸線の移動方向の双方に対して相互に平行であることが好ましい。基準面２９である、透過球の最後の表面は、その曲率半径がその面における入射波面の曲率半径と適合するように整合される。光の一部は伝送されて点３６に集中する一方、光の他の部分は計器内に反射して戻される（「基準波面」）。伝送された光は、次に、試験面（例えば、参照番号４２、４６ａ又は４６ｂのような）から反射され且つ計器に再入する（「試験波面」）。基準波面及び試験波面の双方は、レンズ１２ｄを通って後方に進み、ビームスプリッタ１２ｃを通って部分的に伝送される（この時点にて、ビームスプリッタ１２ｃから部分反射された光は、典型的に、無視される）。次に、光は、光をコリメートするよう選ばれることが好ましいレンズ１２eを通って進む（像空間内にてシステムをテレセントリック系にする）。平面１２ｉは、全ての光学素子を通った後、試験面に対し名目的に共役する。合焦軸線Ｆは、計器の検出器面１２ｇを光軸線１２ｆに対して名目的に平行な軸線に沿って１２ｉまで動かし、これにより特定の試験面に対する最適な焦点を実現する手段を提供する。計器の検出器平面１２ｇの２つの物理的な例は、ＣＣＤ映像化アレイ（パッケージ体１２ｈ内にその他のビデオ電子機器を含むであろう）と、ディフューザディスク（パッケージ体１２ｈ内に追加的な中継映像化光学素子を含むであろう）とを含む。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
本発明は、計器の光学系の詳細な知識を必要とせず、従って、等式１は「そのまま」利用することはできない。その代わり、本発明にて採用されるモデルは等式２によって与えられる；
等式２    １／（ｏｂ＋ｏｂ＿ｒｅｆ）＋１／（ｉｍ＋ｉｍ＿ｒｅｆ）＝１／ｆ
ここで、「ｏｂ＿ｒｅｆ」は、基準点（基準面２９の頂点又は点３６のように既知）から第一の主要面１２Ｐｌまでの偏位（不明であるが、一定である）である；
「ｏｂ」は、試験表面から対物の基準点までの変位（既知であり、試験片の名目的な局所的曲率半径に依存する）である；
「ｉｍ＿ｒｅｆ」は、Ｆ軸線の機械的な原点Ｆｏから第二の主要面１２Ｐ２までの変位（未知であり且つ一定である）である；
「ｉｍ」は、Ｆ軸線の位置（これは、可変パラメータである、すなわち全体として我々が適正に設定しようとするもの）である；
「ｆ」は、計器の光学系の焦点距離（未知であり、所定の計器光学素子セットに対し一定である）である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
図７ないし図９にて使用した一例としての非球形体は、完全に回転対称であるが、このことは本発明の必ずしも特徴ではない。本発明は、基本対称を有する任意の試験表面又は波面に適用され、唯一の条件は、部分の名目的形状が試験片の表面における多数の位置にて同一であることである（このため、表面の勾配輪郭外形が名目的に同一の領域内にて試験片の誤りの空間的平均化を行うことを許容する）。非球形体の偏心部分は、サブアパーチャーの「アーク」に沿って分配されたサブアパーチャーに亙って平均化を採用することができ、円筒体は、線を採用することができる一方、円環体はリング又はリングの部分の何れかを採用することができる。４点（Ｘ軸線及びＹ軸線の双方に沿った反射対称）のような、より特別な対称とすることも可能であり、この場合、対称とする較正点の各々に対し４つの測定値のみが効果的に寄与することができる（しかし、４つの測定の方が１よりも優れている！）。