【事件の表示】
　特願２００２−３７１０６７「イオンビーム分布検出装置およびこれを用いたイオンビーム配向処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　７月２２日出願公開、特開２００４−２０５２２３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、平成１４年１２月２０日の出願であって、平成２０年７月２２日付けで拒絶理由が通知され、平成２０年１０月２９日付けで手続補正がなされたものの、平成２１年９月１０日付けで拒絶査定がなされた。
　本件は、前記拒絶査定を不服として平成２２年１月５日に請求された拒絶査定不服審判事件である。
　
２　本願発明
　本願の請求項１ないし９に係る発明は、平成２０年１０月２９日付け手続補正によって補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし９に記載された技術的事項により特定されるとおりのものであって、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は次のとおりのものと認める。
「所望の被処理面に照射されるイオンビームの荷電粒子分布を電気的に検出するイオンビーム分布検出装置であって、
　前記イオンビームを遮断する壁面に前記イオンビームを通過させる開口部を設けた遮蔽手段と、
　前記遮蔽手段の開口部を通過した前記イオンビームを捕獲する複数の捕獲手段と、
　前記複数の捕獲手段全体を取り囲むように前記遮蔽手段内に配置される電極枠と、
　前記電極枠に接続され、該電極枠の電位を接地電位よりも低電位にする電源と、
　前記捕獲手段と電気的に接続され、前記捕獲手段で発生した電流を測定する測定手段と、
　を備えたことを特徴とするイオンビーム分布検出装置。」
　
３　本願出願前に頒布された刊行物
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である「K. ISHII、外７名，“AN APPARATUS FOR MEASURING THE BEAM EMITTANCE OF THE TOHOKU AVF CYCLOTRON”，Nuclear Instruments and Methods，NL，North-Holl and Publishing Company，１９８１年，Vol. 185，pp. 1-6」（以下「引用例１」という。）には以下の技術的事項の記載（当審による邦訳）がある。
（１ａ）「ＡＶＦ（方位角方向可変磁場）サイクロトロンビーム用のエミッタンス測定装置が設計、製作されて試験され、サイクロトロンの運転と調整に非常に有用であることが確認された。単一スリット−複数検出器手法に基づき、マイクロコンピュータによって制御されるこの装置は、１分以内にビームの楕円状位相−空間輪郭を与えることができる。引出ビーム特性の例が、２０ＭｅＶ陽子について、サイクロトロンのパラメータの１セットについて示される。」（第１頁第７〜１０行）
（１ｂ）「１．はじめに
　ＫＥＫにおいて、１２ＧｅＶシンクロトロンの７５０ＫｅＶ前段入射器用に用いられているエミッタンス測定装置の基本原理に則って、我々は、ＡＶＦサイクロトロンのエミッタンス測定装置を設計したところ、ビーム品質を知り、最適ビーム輸送を容易に得るために非常に有用であることが確認された。…（中略）…
　装置は、センサー、駆動・制御装置およびデータ処理装置から構成されている。楕円状位相−空間輪郭、および、その位相空間電流密度分布はビデオスクリーンに表示されて容易に理解できる。」（第１頁左欄第１〜２１行）
（１ｃ）「２．検出器とその操作
　ビームエミッタンス測定のために、種々の方法が用いられている。それらの中で、ここでは、単一スリット−複数検出器が採用され、その原理は図１に示されており、検出器はスリットと複数の電流検出器から成っている。電流密度分布は、６３端子の複数電流検出器によって、その広がりとともに測定される。モータによってスリットと複数電流検出器を同時に移動させることにより、位相空間電流密度分布が得られる。
　ＡＶＦサイクロトロンのビームエミッタンスは一般に小さく、例えば我々のサイクロトロンからの４０ＭｅＶ陽子では約３０ｍｍ　ｍｒａｄである。さらに、数十ＭｅＶの陽子ビームの銅中の飛程は数ｍｍである。それ故、スリットと複数電流検出器の間の距離、すなわちドリフトスペースは、０．２ｍｍのスリット幅に対して約８００ｍｍである。複数の電流検出器は、図１に示されているように、幅２０ｍｍの銅とマイラーが交互に形成されて成る。０．２ｍｍ厚の銅板は電気端子として用いられ、すべての銅板は０．０５ｍｍ厚のマイラー箔によって電気的に絶縁されている。端子間の電気的干渉は、０．０５ｍｍ厚の銅板を接地することによって防止される。このような構成を採用することにより、０．２ｍｍ×０．４４ｍｒａｄの精度でエミッタンスを測定することができる。
　スリットを通過したビームの電流分布は、端子からの信号によって観察される。電流は２０，４０もしくは５０ｍｓの期間積分され、サンプルホルダに蓄積される。電流信号は、検出器が次の測定位置に動く前に１２ビットＡＤＣに導かれる。タイミングチャートが図２に示されている。１サイクルの間に、積分されたビーム電流は処理され、検出器は移動されてデータが演算される。位相空間電流密度分布がいつでもモニタリングのために表示できる。」（第１頁左欄第２２行〜第２頁左欄第３行）
（１ｄ）「
図１．エミッタンス測定のための単一スリット−複数検出器方法。Ｉ（ｘ）は空間電流密度分布、ｉ（ｘ，θ）はその位相空間分布。」（第２頁の図１およびその説明文）
（１ｅ）「
図４．４０ＭｅＶ陽子ビームのエミッタンスの表示。（ａ）位相空間電流密度分布；（ｂ）楕円状位相−空間輪郭：水平軸、垂直軸単位はそれぞれｍｒａｄ、ｍｍ」（第４頁の図４およびその説明文）
　
　これらの記載の内容、および、図１には、複数の電流検出器が単一のスリットのビームの進行方向後方に設けられていることが図示されていることからして、引用例１には以下の発明が記載されているといえる。
「ビームの楕円状位相−空間輪郭、および、その位相空間電流密度分布を、ビデオスクリーンに表示することによって容易に理解可能なサイクロトロンビーム用のエミッタンス測定装置であって、
　当該測定装置は、単一スリット−複数検出器の手法、すなわち、単一のスリットとビームの進行方向後方に設けた複数の電流検出器から成るものであって、
　単一のスリットを通過したビームが、ビームの進行方向後方に設けられた、電気端子としても用いられる０．２ｍｍ厚の銅板と０．０５ｍｍ厚のマイラー箔が交互に形成されて成る複数の電流検出器の端子からの信号を処理、演算することによって検出され、
　ビームの電流密度分布がその広がりとともに測定されて表示されるものである、
　サイクロトロンビーム用のエミッタンス測定装置。」（以下「引用発明」という。）
　
４　対比
　本願発明と上記引用発明を対比する。
（１）引用発明の「サイクロトロン」は、荷電粒子すなわちイオンを加速する装置であることは明らかであり、また、引用発明は、「ビーム」は「複数の電流検出器の端子からの信号を処理、演算することによって検出され」るものであることからして、引用発明の装置が電気的な検出を行う装置であることも明らかである。
　そうすると、引用発明の「ビームの楕円状位相−空間輪郭、および、その位相空間電流密度分布を、ビデオスクリーンに表示することによって容易に理解可能なサイクロトロンビーム用のエミッタンス測定装置」は、本願発明の「イオンビームの荷電粒子分布を電気的に検出するイオンビーム分布検出装置」に相当する。
（２）引用発明の「単一のスリット」はビームを通過せしめるものであるから、その前記スリット以外ではビームが遮断されることは明らかである。
　そうすると、引用発明が「単一のスリット」を具備することは、実質的に、本願発明が「イオンビームを遮断する壁面に前記イオンビームを通過させる開口部を設けた遮蔽手段」を具備することに相当する。
（３）引用発明の「単一のスリットとビームの進行方向後方に設けた複数の電流検出器から成るものであって、単一のスリットを通過したビームが、ビームの進行方向後方に設けられた、電気端子としても用いられる０．２ｍｍ厚の銅板と０．０５ｍｍ厚のマイラー箔が交互に形成されて成る複数の電流検出器の端子からの信号を処理、演算することによって検出され」ることが、本願発明の「遮蔽手段の開口部を通過した前記イオンビームを捕獲する複数の捕獲手段」と、「前記捕獲手段と電気的に接続され、前記捕獲手段で発生した電流を測定する測定手段」を具備することに相当することは明らかである。
　
　したがって、本願発明と引用発明は、
「イオンビームの荷電粒子分布を電気的に検出するイオンビーム分布検出装置であって、
　前記イオンビームを遮断する壁面に前記イオンビームを通過させる開口部を設けた遮蔽手段と、
　前記遮蔽手段の開口部を通過した前記イオンビームを捕獲する複数の捕獲手段と、
　前記捕獲手段と電気的に接続され、前記捕獲手段で発生した電流を測定する測定手段と、
　を備えたイオンビーム分布検出装置。」である点で一致し、以下の点で相違する。
〈相違点１〉
　イオンビームが、本願発明は、「所望の被処理面に照射される」ためのものであるのに対し、引用発明はサイクロトロンビームであって、用途について記載がない点。
〈相違点２〉
　本願発明は、「前記複数の捕獲手段全体を取り囲むように前記遮蔽手段内に配置される電極枠と、前記電極枠に接続され、該電極枠の電位を接地電位よりも低電位にする電源と」を備えているのに対し、引用発明はそのいずれも備えていない点。
　
５　相違点についての検討・判断
（１）相違点１について
　引用発明の測定装置は、その測定の結果得られたビームの空間的電流密度分布を、加速器であるサイクロトロンのパラメータ決定に用いて運転と調整に利用するものである（上記３（１）（１ａ）参照）。一方、本願発明の装置は、イオンビーム分布を評価し、イオンビームの照射条件を設定するためにも用いるものであり（本願明細書の段落【００７３】参照）、当該照射条件の設定が荷電粒子加速器のパラメータの設定を意味することは明らかである。
　そうすると、本願発明と同様な目的のために用いられる引用発明の装置を、被処理面への照射を目的とするイオンビームの測定に用いることは、当業者が格別の困難なくなし得る事項である。
（２）相違点２について
　イオンビームの測定装置において、当該イオンビームのイオン検出手段の前段に、イオン検出手段で発生した二次電子の流出を防いだりイオンを封じ込めるために、接地電位よりも低電位とした、いわゆるサプレッサ電極を設けることは、出願人自らが従来技術として提示し、また、原審の拒絶査定時に提示した特開２０００−３１１８６７号公報、あるいは、原審の拒絶査定時に提示した特開平７−２３５２７９号公報、実願平４−４９９号（実開平５−５７７５４号）のＣＤ−ＲＯＭに記載されているように、本願出願前周知の事項である。
　そうすると、引用発明において、単一スリットと複数検出器の間に、電位を接地電位よりも低電位とした電極を設けるとともに、該電極の電位を接地電位よりも低電位にする電源を具備せしめることは、上記周知の事項に基いて当業者が容易になし得る事項である。
　ここで、請求人は、審判請求書において、本願発明が具備する「電極枠」に関し、「本願発明の電極枠は、「前記複数の捕獲手段全体を取り囲む」ものであることにより、例示された文献に記載されている、捕獲手段の前面にのみ負電位の電極が配置されたものに比べて２次電子が逃げるのをより確実に抑制し、結果として、検出精度を向上させることができるという顕著な作用効果が得られる」旨の主張を行っているから、電極が「前記複数の捕獲手段全体を取り囲む電極枠である」点について更に検討する。
　本願明細書の段落【００６９】には、「この発明の実施の形態１，２では、ファラデーカップにおける２次電子の発生を抑制し、または、発生した２次電子を再度ファラデーカップに押し戻す手段として、サプレッサ電極枠を用いた場合を示したが、この発明はこれに限定されるものではなく、サプレッサ電極板を用いた場合に適用することもできる。」と記載されていることに加え、請求人の主張するサプレッサ電極枠を用いた場合の前記作用効果について、本願明細書には何ら記載がない。
　ここで、サプレッサ電極が流出を抑制する二次電子は、イオンがイオン検出手段（捕獲手段）に衝突することによって生じるものであり、また、固体中のイオンの飛程が短いことは技術常識である。
　そうすると、発生した二次電子がイオン検出手段（捕獲手段）の後方等に散逸することは考えにくい上、当業者といえども、後方に散逸した二次電子の流出を抑制することと検出手段による検出精度の向上がどのように関連するのかを理解することはできない。
　してみると、電位を接地電位よりも低電位とした電極を「前記複数の捕獲手段全体を取り囲む電極枠」とすることによって、上記周知の事項からは想定できない、請求人の主張するような格別顕著な効果が奏されるとは到底認められないから、電極を「電極枠」とすることは、上記周知の事項に関する単なる設計変更にすぎない。
　以上のとおりであるから、引用発明において、上記相違点２に係る事項を得ることは、周知の事項に基いて当業者が容易になし得る事項である。
（３）小括
　したがって、本願発明は、引用発明および周知の事項に基いて、当業者が容易に発明することができたものである。
　
６　むすび
　上記のとおり、本願の請求項１に係る発明は、本願出願前に頒布された刊行物である引用例に記載された発明および周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。