【事件の表示】
　特願２００５−１５１５７１「マイクロ・ナノ転写用の均圧装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年１２月　７日出願公開、特開２００６−３３２２０８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成１７年５月２４日に出願されたものであって、原審において平成１９年４月１９日付拒絶理由通知に対して、同年７月２３日付で補正書と意見書が提出された後、平成２０年７月１０日に拒絶査定されたものであり、これに対し、同年１０月１４日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同年１１月１３日に手続補正と審判請求理由の補正がなされ、該補正について平成２１年９月１４日付で前置報告がなされ、該報告に基づく当審からの審尋に対して、回答書が提出されなかったものである。  　 
　　　　
２．平成２０年１１月１３日付手続補正についての補正却下の決定 
［補正却下の決定の結論］ 
 　平成２０年１１月１３日付手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。 
 　 
［理由］ 
（１）本件補正について
・補正前の【請求項１】
「　均一な転写圧力が基板と金型との間の成形材料層に印加されるようにするためのマイクロ・ナノ転写用の均圧装置において、
　弾性膜及び前記弾性膜の内部に充填される流体を備え、前記基板または前記金型のいずれかの一方に、直接、接触する均圧部材と、
　前記均圧部材に隣接する保持部材と、
　転写成形を行うために積載の機能を果たす積載ユニットと、を備えることを特徴とするマイクロ・ナノ転写用の均圧装置。」
　　　　　　
・補正後の【請求項１】
「【請求項１】
　均一な転写圧力が基板と金型との間の成形材料層に印加されるようにするためのマイクロ・ナノ転写用の均圧装置において、
　全体が内部に流体を密封した弾性膜からなり、前記基板または前記金型のいずれかの一方に、直接、接触する均圧部材と、
　前記均圧部材に隣接する保持部材と、
　転写成形を行うために積載の機能を果たす積載ユニットと、を備えることを特徴とするマイクロ・ナノ転写用の均圧装置。」
　　　　　　
・上記したように、本件補正は、マイクロナノ転写用の均圧装置に係る【請求項１】の「均圧部材」について、「弾性膜及び前記弾性膜の内部に充填される流体を備え」とあったところを、明細書２８段落の記載内容及び図１Ａ〜１Ｃを根拠として「全体が内部に流体を密封した弾性膜からなり」 と内部に流体を有する弾性膜に関して、流体を密封した全体構造との限定を加えたものといえる。また、本件補正は、一応、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものといえる。
　したがって、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものに該当する。 
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された次の発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。 
 　 
（２）引用例記載の発明 
（２−１）刊行物１ 
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された特開２００５−１０１２０１号公報（原査定時の「引用文献１」。以下、「刊行物１」という。）には、以下の事項が記載されている。 
　　　　
《１ａ》「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　モールドを被加工物へ押し付けることによって、パターンの転写を行うナノインプリント装置において、
前記モールドの押し付け方向が前記モールドのパターン形成面に対して垂直方向を維持するように制御する制御手段を有することを特徴とするナノインプリント装置。
【請求項２】
　前記制御手段は、前記モールドを保持する部材に備えられたモールド姿勢検出基準面の位置及び／又は姿勢を検出する手段と、該手段の検出結果に基づいて前記モールドの位置及び／又は姿勢の制御を行う手段とを有することを特徴とする請求項１記載のナノインプリント装置。」
　　　　
《１ｂ》「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、予め所望のパターンの雌型を形成した型を樹脂材料に押し付けることによって、所望のパターンを形成する技術（一般にナノインプリント技術と称される）に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体集積回路の高密度、高速化に伴い、集積回路のパターン線幅が縮小され、半導体製造方法にもいっそうの高性能化が求められている。
・・・
【０００４】
上記の二つの課題を解決する手段として、近年非常に微細なパターンを形成可能で、
かつ低コストの露光装置の提案がなされている。その中の技術の一つとして、ナノインプリント技術が注目されている（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００５】
ナノインプリント技術とは、電子ビーム露光等によって、微細なパターンの型を形成したモールド（原盤）を、レジストを塗布したウエハに押し付ける（押印する）ことによって、レジスト上にパターンの型を写し取るものである。・・・
【０００６】
既に１０ｎｍ程度の微細な形状の転写が可能であることが示されており、特に、磁気記録媒体の微細な周期構造の作成手段として注目されており、各地で盛んに研究開発が行われている。
【０００７】
ナノインプリントは、モールドを基板に押印する時にレジストを物理的に移動させることによってパターンを形成するため、モールドと基板との間に気泡が入り込まないように、環境を真空にする場合もある。押印時のレジストの流動が容易になるように、レジストを加熱して、流動性を高めてから押印する方法（熱サイクル法）や、紫外線硬化型の樹脂をレジストとして使用し、透明なモールドで押印した状態で感光、硬化させてからモールドを剥離する方法（光硬化法）などが提案されている。」
　　　　
《１ｃ》「【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
磁気記録媒体の微細形状をパターニングする場合は、モールドと基板との精密な位置合わせは必要としないため（図１３（ａ））、比較的容易にナノインプリントを適用することが可能である。しかし、半導体デバイス、例えば、ＭＰＵ、メモリなどの高集積回路の作成に適用する場合は、微細なパターンを重ねて転写することによりデバイス構造を作成するため、下地の基板とモールドのパターンとの間で精密な位置合わせが必須となる（図１３（ｂ））。１００ｎｍ以下のパターンを形成する場合、モールドと基板との位置合わせは、１０ｎｍ程度の精度が必要となる。
【０００９】
モールドが基板に押し付けられる際、基板とモールドの表面が密着しないとモールドの型が基板のレジストに転写されない。モールド表面（転写パターンが形成されている面）と基板表面（レジストが塗布されている面）との平行度は、インプリント前に装置の姿勢制御機構により、姿勢合わせを行っても、押し付け方向の軸のぶれなどによって、ずれてしまう。そのため、従来のナノインプリント装置は弾性板ばねなどによってモールド表面と基板との姿勢のずれをかわす機構となっている。
【００１０】
上記従来のナノインプリントの装置構成では、図１４に示したように、押印時にモールド先端の一部が片当たりし、最初に当たった位置を支点としてモールドに外力が加わることによって回転してしまい、本来合わせたい位置からモールド位置がずれてしまう。また、大荷重をかけた場合、弾性ばねが変形し横ずれを起こす可能性があるため、荷重にも制限がある。
【００１１】
半導体デバイスの製造には、基板に前工程で形成されているパターンの位置の上に重ねて、次のデバイス構造をパターン転写することが不可欠である。最新の半導体デバイスのパターンの大きさは、１００ｎｍ以下であり、装置に要求されるモールドと基板との位置合わせ精度は、１０ｎｍ以下が必要となる。
【００１２】
上記従来の装置構成では、モールドと基板との、位置と平行度を高精度に保ちつつ、モールドの押し付け動作を行うことは困難であり、結果として、モールド押し付け時のモールドと基板との位置合わせ精度が要求仕様を達成することはできなかった。そのため、高集積のデバイスにナノインプリント法を適用することは難しかった。」
　　　　
《１ｄ》
　転記を省略した図１４（従来のナノインプリント装置の問題点を説明する図）には、上から順に、駆動部／板ばね／下側面に微細凹凸の押印転写パターンをもつモールド　の各部材からなる上部可動型と、
該上部可動型の直下で対向する位置にあり、上から順に、レジスト塗布層／基板／（比較従来例の図１４では図示が省略されている）基板載置面　の各部材からなる下部固定型とから構成される従来からの単純な機構のナノインプリント装置が示されている。
　　
・結局、これら記載によれば、刊行物１には、従来技術として下記のようなものが記載されていると認められる。（以下「刊行物１記載発明」という。）
　　　
「駆動部／板ばね／下側面に微細凹凸の押印転写パターンをもつモールド　の各部材からなる上部可動型と、
該上部可動型の直下で対向する位置にあり、上から順に、レジスト塗布層／基板／基板載置面　の各部材からなる下部固定型とから構成される従来機構のナノインプリント装置では、上部可動型に取り付けられた１０ｎｍ程度の微細凹凸をもつモールド成形面を、基板上のレジストに押し付けて押印して、モールドの微細凹凸パターンをレジスト上に転写してパターン形成する装置では、
押印時にモールドの一部が片当たりしたり、モールドが回転したり位置ずれするので、モールドと基板との位置や平行度を高精度に保ちつつ、均一な圧力でモールドの押し付け動作を行うことが困難であること。」
　　　　　
（２−２）刊行物２ 
　本願の出願前に頒布された特開平０３−１６７０４号公報（原査定時の「引用文献４」。以下、「刊行物２」という。）には、以下の事項が記載されている。 
　　　　
《２ａ》「２．特許請求の範囲
（１）固定型と、この固定型に対して接離自在な可動型とを備え、被成形物成形用の成形面を有し、上記固定型と上記可動型との間に被成形物を介在させ、上記固定型と上記可動型とを組み合わせ、上記成形面を被成形物に押し当てて被成形物を成形する金型において、加圧力伝達手段を封入し、この加圧力伝達手段に加圧する加圧手段を有するとともに、上記可動型にその略全面を接する押圧面を有し、上記加圧力伝達手段に生じた加圧力により上記可動型を押圧し、上記成形面の全体に略均一に押圧力を伝える押圧手段を設けたことを特徴とする金型。」
（特許請求の範囲、第１項）
　　　　　
《２ｂ》「３．発明の詳細な説明
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
　本発明は、例えば、フレネルレンズやブロックレンズを成形する金型に関する。・・・
（発明が解決しようとする課題）
　すなわち、従来の金型１では、フリーシャンク１３を用いてパンチホルダ８を押圧し、ブロック１０の成形面１２が成形前のアクリル板７の形状に沿うようにしていた。しかし、フリーシャンク１３を用いたものでは、フリーシャンク１２の直下に位置する部位から外側の部位にいくにしたがって押圧力が小となるため、このことを原因として、成形されたブロックレンズの板厚が不均一になることがあった。・・・また、成形温度が低いと成形後のアクリル板７の板厚の分布が成形前のアクリル板７の板厚の影響を受けるため、アクリル板７を成形前に均一な厚さに前加工する必要があった。」
（産業上の利用分野欄、発明が解決しようとする課題欄）
　　　　　
《２ｃ》「（実施例）
　以下、本発明の各実施例を第１図〜第３図に基づいて説明する。・・・第１図は、本発明の第１の実施例を示すものである。そして、図中の１は、例えば
フレネルレンズやブロックレンズを成形するための金型を示している。この金型は、固定型２と可動型３とを有している。
　一方、可動型３は、パンチホルダ８、加熱板９およびブロック１０を有している。そして、可動型３は、パンチホルダ８の下面中央部に加熱板９を配置し、固定している。・・・さらに、可動型３は、固定型２のダイホルダ４に垂設され互いに平行に延びる柱状のガイド部材１１、１１により支持されている。・・・そして、可動型３はパンチホルダ８を固定型２のダイホルダ４に略平行に対向させており、図中に矢印Ａ、Ｂで示すように、ガイド部材１１、１１に沿ってスライドし上下動できるようになっている。
　また、
可動型３は、ブロック１０に形成された、ブロックレンズ成形用の成形面１２を有しており、
下降して固定型２と組み合い、成形面１２をアクリル板７の上側の板面に接するようになっている。
押圧装置１６は、シリンダケース１７と加圧手段としてのシリンダ１８とを有している。そして、押圧装置１６は図中に矢印Ａ、Ｂで示すように、可動型３とともに上下動できるようになっている。　上記シリンダケース１７は、矩形断面を有する容器状に成形されている。そして、シリンダケース１７は、パンチホルダ８の上部に配置されている。さらに、シリンダケース１７は押圧面１９を有している。そして、シリンダケース１７は、この押圧面１９をパンチホルダ８に対向させており、さらに、押圧面１９の略全体をパンチホルダ８の上側面８ａの略全体に接している。
　さらに、上記
シリンダーケース１７の内部には加圧力伝達手段としての加圧力伝達用液体(以下、液体と称する)２０が封入されている。この液体２０は、下方に移動しシリンダケース１７に侵入したシリンダ１８により加圧され、液圧をシリンダーケース１７の内壁に伝えるものである。そして、液体２０は、液圧によりシリンダーケース１７に加圧し、シリンダーケース１７の押圧面１９に、可動型２を押圧する力を発生させる。　ここで、シリンダケース１７の肉厚は液圧に耐えられるよう設定されている。
　すなわち、上述の金型１は、移動して可動型３と組み合った可動型３とともに押圧装置１６を下方へ移動させる。そして、シリンダ１８を駆動して液体２０に加圧し、このときの液圧を利用し、シリンダケース１７の押圧面１９で可動型３を固定型２の側へ押圧する。
　そして、
金型１は、押圧装置１６の押圧力を可動型３の成形面１２に伝える。そして、固定型２と可動型３との挟み付ける力に押圧装置１６の押圧力を加えた力で上記成形面１２を、フラットプレート６に載置され成形可能な程度に加熱されたアクリル板７に押し付ける。
　このような金型１は、
液圧によりパンチホルダ８の上側面８ａの略全体を均一に押圧することができる。したがって、アクリル板７に押圧力が不均一に加わることがなく、一様な板厚のブロックレンズを成形することができる
　また、本発明は、ブロックレンズ以外のものを成形する金型、例えば被成形物に模様を転写するための金型等にも適用可能である。」
（実施例欄、第３頁左上欄第７行〜第４頁右上欄第１５行）
　　　　
《２ｄ》
　転記を省略した第１図（本発明の第１の実施例を示す正面図）には、上から順に、シリンダ１８（加圧手段）／矩形容器形状に成形され内部に液体を密封したシリンダケース１７／シリンダケース１７の下側押圧面１９と略全体で接する上側面８ａをもつパンチホルダ８／加熱板９／下側に成形面１２をもつブロック１０／　の各部材からなる上部可動型と、
　該上側可動型の直下で対向する位置にあり、上から順に、被成形物のアクリル板７／加熱板５／フラットプレート６／ダイホルダ４／　の各部材からなる下側固定型とから構成され、樹脂板の精密な加圧成形のできる金型装置が示されている。　
　　　　　　
・結局、これら記載によれば、刊行物２には下記のようなことが記載されていると認められる。
　　　　　　
「駆動部であるシリンダの加圧手段、成形金型ブロックを支持するパンチホルダ等からなる上部可動型と、被成形物のアクリル樹脂板を支持する平板等からなる下部固定型とから構成され、樹脂板から光学レンズを製造する精密転写成形の金型装置に関して、
　上部可動型の駆動部加圧手段と、金型支持パンチホルダとの間に、パンチホルダの上側面と略全体で接する下側押圧面を持ち、矩形容器形状で液密に成形され内部に加圧力伝達用液体を密封収容するシリンダケースからなる押圧手段を介在させると、上部可動型と下部固定型との挟みつける力に加えて、押圧手段の液圧によりパンチホルダの上側面の略全体が均一に押圧され、成形金型ブロック全面が被成形物のアクリル樹脂板を全面にわたって均一な押圧力で押印するので、アクリル板７に押圧力が不均一に加わることがなく、一様な板厚のブロックレンズを成形することができる。」
　　　　　　　
（３）対比・判断など 
（３−１）対比・判断
　そこで、本願補正発明と刊行物１記載発明とを対比すると、 
 刊行物１記載発明の
（ア）「ナノインプリント装置」、
（イ）「レジスト塗布層を上面にもつ基板」、
（ウ）「下側面に微細凹凸の押印転写パターンをもつモールド」、 
（エ）「モールドに隣接する板ばね」、
（オ）「基板載置面」は、
それぞれ、本願補正発明の
（ア）「マイクロ・ナノ転写用の均圧装置」、
（イ）「成形材料層を上面にもつ基板」、
（ウ）「金型」、
（エ）「保持部材」、
（オ）「積載の機能を果たす積載ユニット」に相当する。
　　　　　
　したがって、両者の一致点、相違点は以下のとおりと認められる。 
 ［一致点］ 
「転写圧力が基板と金型との間の成形材料層に印加されるようにするためのマイクロ・ナノ転写用の均圧装置であって、
　金型に隣接する保持部材と、
　転写成形を行うために積載の機能を果たす積載ユニットと、を備えるマイクロ・ナノ転写用の均圧装置。」 
 　 
 ［相違点］
本願補正発明が、
「全体が内部に流体を密封した弾性膜からなり、基板または金型のいずれかの一方に、直接、接触する均圧部材」を備えているのに対して、刊行物１記載の発明では、そのような部材を具備していない点。
　　　　　　
（３−２）相違点の検討
　次に上記相違点について検討する。 
　刊行物２には、サブミクロン（＝１００ｎｍ＝０．１マイクロ）オーダーの精度が必要とされるアクリル樹脂製光学レンズの転写に好適な転写成形の金型装置に関して、上部可動型の駆動部加圧手段と、金型支持ホルダとの間に、ホルダの上側面と略全体で接する下側押圧面を持ち、矩形容器形状で液密に成形され内部に加圧力伝達用液体を密封収容するシリンダケースからなる押圧手段を介在させると、上部可動型と下部固定型との挟みつける力に加えて、押圧手段の液圧によりホルダの上側面の略全体が均一に押圧され、成形金型ブロック全面が被成形物のアクリル樹脂板を全面にわたって均一な押圧力で押印するので、アクリル板７に押圧力が不均一に加わることがなく、一様な板厚のブロックレンズを精密成形することができることが示されている。
　してみると、１０ｎｍ程度の微細凹凸パターンの転写を行う刊行物１記載発明の装置に、１００ｎｍ程度の微細凹凸パターンの転写を行うに好適とされる刊行物２記載の金型装置の押圧力均一化機構を組み込んで、基板上のレジスト押印圧力の均一化を図ることは、当業者が所望に応じて適宜なし得ることと認められる。
　そして、刊行物２記載の押圧力均一化機構の組み込みにあたり、矩形容器形状で液密に成形され内部に加圧力伝達用液体を密封収容するシリンダケースの押圧手段、すなわち、エンプラ等の剛性のある弾性素材で矩形容器形状に成形された液体収容ケースの均一押圧部材を「全体が内部に液体を密封した弾性膜」にしたり、金型支持ホルダを均一押圧部材の保持部材に変更する簡略化をしたりすることで、相違点に係る構成を刊行物１記載発明に導入して、本願補正発明のものを構成することは当業者が適宜容易になし得ることと認められる。
　　　　
（３−３）審判請求人の主張について
　審判請求人は、「全体が内部に液体を密封した弾性膜」としたり、金型支持ホルダを均一押圧部材の保持部材に変更して、均一押圧部材すなわち、均圧部材と金型とを直接接触させる構成変更について、単なる簡略化や構造単純化ではないので、装置製造上の便宜のみならず転写成形品質の改善など産業の運用価値の向上をもたらすものであるから、発明の作用効果として積極的に評価されるべき旨主張している。
（審判請求理由中の【本願発明が特許されるべき理由】など参照）
　そこで、該主張についての検討結果をまとめて、以下に記す。
　　　　
ア．「全体が内部に液体を密封した弾性膜」とする構造単純化について
　「全体が内部に液体を密封した弾性膜」とする構造単純化は装置製造上の便宜をもたらすものの、均一押圧部材（均圧部材）の剛性が弾性膜ゆえ極端に低いので、金型の微細凹凸の押印転写パターンの凸部分布の多い領域では被成形材料をさほど押し込まない状態で押圧力と基材側反力が均衡してしまう一方、金型の微細凹凸の押印転写パターンの凸部分布の少ない領域では被成形材料をかなり押し込んだ状態で押圧力と基材側反力が均衡するので、押印転写の深さが不均一となり、金型の微細凹凸パターンの精密な転写が困難となる問題を生む。例えば、本願明細書第８段落で従来技術の説明として引用されている米国特許公開２００４／２１９２４９号公報のFIG.７Aで図示される様な不都合な結果を生むことが明らかである。
　したがって、産業の運用価値の向上をもたらすものとの積極的な評価はできない。
　　　　　
イ．均圧部材と金型とを直接接触させる等の構成変更について
　均圧部材と金型とを直接接触させる構成とすれば押圧力伝達の経路は単純化され伝達力損出は低減するものの、成形後の離型作業は、金型支持ホルダを活用した機械的作業という訳にはいかず、手作業で金型を剥がして持ち上げる繁雑な作業となるので、折角形成した微細凹凸の精密転写パターンを損なってしまう問題を生じる。
　したがって、これらの構成変更についても、産業の運用価値の向上をもたらすものと積極的に評価することはできない。
　　　　　
（４）むすび
　上記した検討のとおり、本願補正発明は、刊行物１〜２記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。　そして、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
 　 
 ３．本願発明について 
　平成２０年１１月１３日付手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１９年７月２３日付手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲・請求項１に記載された事項により特定される下記のとおりのもの（以下、「本願発明」という。）である。 
 　 
「【請求項１】
【請求項１】
　均一な転写圧力が基板と金型との間の成形材料層に印加されるようにするためのマイクロ・ナノ転写用の均圧装置において、
　弾性膜及び前記弾性膜の内部に充填される流体を備え、前記基板または前記金型のいずれかの一方に、直接、接触する均圧部材と、
　前記均圧部材に隣接する保持部材と、
　転写成形を行うために積載の機能を果たす積載ユニットと、を備えることを特徴とするマイクロ・ナノ転写用の均圧装置。」 
 　 
（１）引用例 
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１、刊行物２の記載事項は上記（２−１）、（２−２）に記載したとおりである。 
 　 
（２）対比・判断 
　本願発明は、上記２．（１）で示したように、本願補正発明から、内部に流体を有する弾性膜に関する「流体を密封した全体構造」の限定を省いたものに相当する。 
　そうすると、本願発明の構成要件の全てを含み、更に他の要件を付加したものに相当する本願補正発明が、上記２．（３）に記載したとおり、刊行物１〜２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、刊行物１〜２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
 　 
（３）むすび 
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 
　よって、結論のとおり審決する。