【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年4月14日(2011.4.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）溶融はんだ浴表面の少なくとも一部の上に液体活性添加剤を主要部として含む単一の液体層を有することによって、溶融はんだ浴中のはんだを純化させ、それによって純化されたはんだを形成すること、
ここで、液体活性添加剤は、（ｉ）溶融はんだ浴の温度で液体であり、それによって（ｉｉ）空気中の酸素が溶融はんだ浴表面に達するのを妨げ、かつ（ｉｉｉ）求核基および／または求電子基を含み、それによって（ｉｖ）浴中の少なくとも１種の金属の酸化物を保持し、それによって純化させて、溶融はんだ浴の粘度を低下させ、
（ｂ）工程（ａ）からの純化されたはんだをはんだ付けがされている区域へと循環すること、ここで循環された純化されたはんだは、液体活性添加剤を含まず、かつ
（ｃ）はんだ付けされる表面を、工程（ｂ）からの循環された純化されたはんだと接触させること、
を含むはんだ付け方法。
【請求項２】
液体活性添加剤が、ダイマー酸またはトリマー酸を含む、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項３】
ダイマー酸が、飽和されている、請求項２に記載のはんだ付け方法。
【請求項４】
ダイマー酸が、２４〜６０の範囲の炭素数を有する、請求項２に記載のはんだ付け方法。
【請求項５】
はんだ付け方法が、波形法、噴水法あるいはカスケード法のはんだ付けであり、かつ循環工程が、表面からの液体活性添加剤が、はんだ付けされる表面と接触する溶融はんだの一部とはならないように、溶融はんだ浴の底部近傍からはんだ付けがされている区域へとはんだをくみ上げることを含む、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項６】
はんだ付けされるべき表面が、プリント回路基板上にある、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項７】
溶融はんだが、無鉛はんだである、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項８】
溶融はんだ浴が、２６０℃以下の温度にある、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項９】
液体活性添加剤の量が、溶融はんだ浴の静止表面の全域に少なくとも分子厚さの液体層が存在する量である、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項１０】
前記の液体活性添加剤が少なくとも２種の求核基または求電子基を含む、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項１１】
液体活性添加剤の、溶融はんだ浴の静止表面上に少なくとも３ｍｍの厚さの層を形成させ得る量が用いられる、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項１２】
工程（ａ）の前に、液体活性添加剤が、溶融はんだ浴上で単一層を形成させ、該単一層が少なくとも４時間は存続することができる液体活性添加剤の量を、溶融はんだ浴に導入することを含む、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項１３】
液体活性添加剤が、有機液体添加剤である、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項１４】
有機液体添加剤が、炭化水素部分に複数の求核基および／または求電子基を含む、請求項１３に記載のはんだ付け方法。
【請求項１５】
有機液体添加剤が、主要部がダイマー酸で構成される、請求項１３に記載のはんだ付け方法。
【請求項１６】
有機液体添加剤が、溶融はんだ浴上で少なくとも４時間は残存し得るような、酸化に対する安定性および蒸気圧を有しているように選択される、請求項１５に記載のはんだ付け方法。
【請求項１７】
液体活性添加剤が、室温で液体である、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項１８】
液体活性添加剤が、溶融はんだ浴の温度で安定である、請求項１に記載のはんだ付け方法。
【請求項１９】
純化の前に、溶融はんだ浴に、液体活性添加剤の単一液体層が形成される量の液体活性添加剤を導入することを含む、請求項１記載のはんだ付け方法。
【請求項２０】
ダイマー酸が不飽和である、請求項２記載のはんだ付け方法。
【請求項２１】
単一液体層の表面上への、消費された液体活性添加剤を含む粘着性物質の経時での形成を更に含む、請求項１記載のはんだ付け方法。
【請求項２２】
粘着性物質を除去することを更に含む、請求項２１記載のはんだ付け方法。
【請求項２３】
除去の後に、溶融はんだ浴の表面上に更に液体活性添加剤が導入される、請求項２２記載のはんだ付け方法。
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれか１項記載の方法における、請求項１で説明した特性を有する液体活性添加剤の使用。
【請求項２５】
溶融はんだ浴の表面の少なくとも１部の上に有機液体活性添加剤の単一層を含む溶融はんだ浴、
ここで、有機液体活性添加剤は、（ｉ）溶融はんだ浴の温度で液体であり、それによって（ｉｉ）空気中の酸素が溶融はんだ浴表面に達するのを妨げ、かつ（ｉｉｉ）求核基および／または求電子基を含み、それによって（ｉｖ）溶融はんだ浴中の少なくとも１種の金属の酸化物を保持し、それによって溶融はんだ浴中のはんだを純化させ、
はんだ付けが起こるはんだ付け領域、ならびに
純化されたはんだを溶融はんだ浴からはんだ付け領域に循環させることができるポンプ、ここで循環する純化されたはんだは液体活性添加剤を含まない、
を含むはんだ付け装置。
【請求項２６】
はんだを浮きかすから回収する方法であって、
（ｉ）はんだ付け装置中のはんだポットから浮きかすを除去すること、
（ｉｉ）浮きかすに有機液体活性添加剤を加えて混合物を形成すること、ここで有機液体活性添加剤は、（ａ）溶融はんだ浴の温度で液体であり、（ｂ）求核基および／または求電子基を含み、かつ（ｄ）浮きかす中の少なくとも１種の金属の酸化物を保持し、ならびに
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）からの混合物をはんだの融点より高く加熱してそれによって浮きかすを液体活性添加剤中に保持し、かつ溶融はんだは浮きかすを除かれること、
を含む方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
この発明を実施するときに使用されるさまざまな波形法はんだ付け、噴水法はんだ付けおよびカスケード法はんだ付けの方法が、ＡＳＭハンドブック、６巻、溶着、ろう付け、およびはんだ付け（Welding, Brazing, and Soldering）に記載され図解される。メタルハンドブックの１０８８ページから拡大複写される図４で図解される典型的な装置は、溶融はんだ１０が望ましいはんだ付け温度に保たれる大きいタンクあるいは「はんだポット」を含む。ポンプ（図示せず）が、溶融はんだ塊の底部近傍からはんだをくみ上げ、そしてそこからはんだが滝のように側面に沿って流れ出る１つ以上のスロットノズル１１を通ってスロットから一方向あるいは両方向のいずれかにはんだを上方へ押し出し、そしてタンクに戻す。流れているはんだの上部面は通常「波面」と呼ばれる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
図４に示されるような装置のつぼ内のはんだの露出した静止表面の全域に層を形成するために十分な活性添加剤が溶融はんだの浴の上に置かれる。好適には、浴の静止表面に、全交代勤務時間以上の頻繁な保守管理が必要とされないように、少なくとも１作業日の全交代勤務時間、あるいは少なくとも４時間ほど存続する層をもたらすために十分な量の活性添加剤が加えられる。はんだが基板および部品の金属表面を濡らし、そしてめっきされた貫通孔を満し、導線を固定し、接するパッドなどを覆うために流れるようにプリント基板（あるいははんだ付けされる他の対象物）が少なくとも溶融はんだの表面と接触させられる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
前記の選別試験は簡単である。はんだの流入が波形法はんだ付け装置のような装置内で始まりそしてはんだの流れが観察される。候補物質の少量をはんだ浴上に加える。候補物質が動作可能であるときは、はんだの流れ特性には視覚的に識別できる速やかな変化がある。あたかも粘度の低下があるように、堰を越えるあるいはスロットを通る「滝」状のはんだはより流動的に見える。波の表面における不規則さは減る。はんだの表面上の浮きかすは１つあるいはいくつかのスラッジの範囲に集まり、前には浮遊の浮きかすを含んでいたはんだ表面の他の領域はつやがありきれいになっているように見える。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
波形法はんだ付け装置のはんだ浴の表面に活性添加剤を添加することによる驚くべき結果は溶融金属の粘度のほとんど即時の低下である。活性添加剤のない、そして恐らくいくつかの目に見える浮きかすのある浴上に活性添加剤が注がれると、波面の高さが速やかに増加する。波形法はんだ付け装置において、波中に流入する金属ははんだ浴の底部の近くから取り出され、そのため浮いている活性添加剤液はポンプを通るはんだの一部ではない。ポンプの圧力には変化がないが、波の高さに全く顕著な変化がある。ＰＣ板の底部を前にはかすめて自動装置中の波を通り越した波は、例えば板の頂部を今は越えてあふれ出るに十分なほど上昇する。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４８】
はんだポットからダイマー酸が明らかに取り除かれそして浮きかすが形成するのが認められた後に試験片ははっきりと２３５℃で濡れが遅らせられることを示した。３個の試験用金属片のいずれにも約２秒前には濡れはなかった。適度の濡れは約４秒後に見つけられた。
珍しいことに、波形法はんだ付け装置等々のはんだ浴の表面に活性添加剤の層を浮遊させることによってはんだ接合表面の外観が変えられる。良質の標準となった鉛―錫合金のはんだ接合は平らな輝く表面を有し、そしてはんだ付けを行うオペレーターは良好な接合があるかどうかを判断するために表面の外観に頼る。錫―銀―銅のような無鉛はんだの表面は許容できる接合が調製されたときでさえも、典型的にはむしろ粗く見えるかあるいはざらざらしている。同様に、表面上の流れ線あるいは順序付けられた不規則さをもつ継ぎ接ぎのように見えるものがあるかも知れない。これらは、定量化されないが裸の目であれ少し拡大してであれ経験を積んだオペレーターにとっては明らかな、接合部の外観の主観的な観察結果である。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
溶融はんだ表面のさらされる領域に形成する浮きかすは活性添加剤層中へ吸収される。はんだ浴で形成される浮きかすは典型的には金属酸化物および活性添加剤の不存在下に浮きかすが形成するときに同伴されるはんだ金属を含む。浮きかすの３／４以上までが、同伴された形態のはんだである可能性がある。この発明の実施において、浮きかす中の金属酸化物部分は添加剤層内に保持されそして浮きかす内に同伴された金属部分（いくらかあれば）は浴に戻され、その結果浮きかす中へ失われるはんだの全量は著しく減らされる。かなりの量の酸化されない金属が活性添加剤内に同伴されるようには見えない。それ故、より少ないはんだがはんだ付けの間に消費され、そしてその結果より少ない廃棄物が出されるのでコストが低減される。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
金属含有の浮きかすは活性添加剤と接触させて加熱し、そして金属酸化物が添加剤内に吸収されるときに浮きかす中に同伴した金属を開放することができるということが見出される。それ故、活性添加剤が使用されない場合は、例えば波形法はんだ付け装置内のはんだポットから除かれた浮きかすは、すくいとられそしてはんだを回収するために処理される。浮きかすは活性添加剤の層の下ではんだの融点より高い温度に加熱されてもよい。接触を促進して処理を速めるために層をかきまぜてよい。活性添加剤の下で溶融はんだの貯留が形成しおよび／または成長し、そして浮きかすの残部は液状添加剤によって吸収される。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５７】
吸収された金属酸化物を有する活性添加剤は錫および他の金属（例えば、銀）の回収のために焙焼してもよい。いくつかの錫鉱石は普通石炭燃料あるいは石油燃料の耐火レンガで覆ったロータリーキルン（あるいは反射炉）内で不純物を除去する準備段階として６５０℃まで焙焼される。添加剤を積んだ金属は、投入燃料として使用してもよくまたは単に鉱石に加えてキルン内で燃やしてもよい。還元焙焼は好ましくない煙の産生があるので酸化焙焼が採用され、そして錫鉱石中では酸化錫が最も一般的な金属の形である。煙霧として回収される錫を銀から分離するために、酸化条件下の塩素化焙焼（ＮａＣｌを用いる）を用いてもよい。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
浮きかすを形成する酸化では、はんだ付けを妨げる浮きかすを形成するには核形成部位が必要とされる。ほとんどの酸化物を除きかつ浮きかすが妨げる位置から酸化物を隔離することによって、核形成部位は減らされそして浮きかすの形成も同様に低減される。言い換えれば、浮きかすは形成され続けるが、低い速度で形成される。浮きかすが形成するものは、活性添加剤によって捕捉されかつ吸収されまた不都合の状態から除かれる。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
劣化した活性添加剤層は高耐熱性「スポンジ」で取り除いてよい。例えば、上述の生産規模運転後に、約７ｘ２０ｃｍの１枚のアラミド繊維（ケブラー、登録商標）の編み物を表面の上に置いた。繊維を詰めて織った生地は約６．５ｍｍの厚さであった。劣化した物質はアラミドを濡らし、繊維中に浸った。浮いている繊維の継ぎ接ぎをポットの端に沿って添加剤を持ち上げるために表面の周りに押圧し、そして持ち上げると、目に見える添加剤層のほとんど全部が次々と一緒に除かれたことが見出された。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７２】
それゆえ、溶融はんだ上のそして連続はんだ付け装置に使用される活性添加剤は金属酸化物を取り除いている過程で次第に劣化する。有機添加剤の末端基と金属酸化物の間には共有結合あるいは供与（配位）結合の可能性がある。多分、活性添加剤のミセルが酸化物を効果的に捕らえる。実際には、多くの有機液体分子が金属酸化物の１分子あるいは分子群を包む。このような金属酸化物の吸収は、粘度は増加されるが、添加剤を液体として残す。金属酸化物は明確な化学量論的分子として吸収されないかもしれないが、そのことは重要ではない。いくつかの明らかに化学量論的分子のゆるい結合を持つ金属酸化物の「オリゴマー」があるかもしれない。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７６】
波内の溶融はんだは浮遊添加剤層のずっと下にある浴の底部から送り込まれるので、活性添加剤は波形法はんだ付け装置内のはんだの波の頂部に存在するとは信じられていない。添加剤は金属中に溶解性でもなく容易に分散してもいない。浴の表面にダイマー酸の層がある場合には波形法はんだ付けされた板の上には添加剤の残渣は見つけられなかった。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８１】
はんだ浴から金属酸化物を掃去する方法は特に無鉛はんだで有効である。その方法は慣用の鉛―錫はんだに適しているが、主観的に利点はあまり提供しないように見える。活性添加剤は鉛―錫はんだ合金浴よりも無鉛はんだ浴の方が効果が大きいことが見出された。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８４】
活性添加剤の使用は錫―銀はんだ及び、例えば銅、ニッケル、ビスマス、アンチモン、亜鉛およびまたはインジウムを添加した錫―銀合金を含めて錫をベースにした三元はんだ合金にとって特に適している。同様に活性添加剤の使用は「純」錫浴にとっても効果的である。知られる限り、このはんだ付け方法は、それが使用されるはんだ装置とは無関係である。