【事件の表示】
　特願２００２−５５０００８「ビーム整形器」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　６月２０日国際公開、ＷＯ０２／４８７５８、平成１６年　８月１９日国内公表、特表２００４−５２５３９６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、２００１年１２月１１日を出願日とする国際出願（パリ条約に基づく優先権主張　２０００年１２月１３日　フィンランド）であり、平成２０年１２月２日付で拒絶査定され、平成２１年３月９日付で拒絶査定に対する不服の審判が請求されるとともに同年４月８日付で手続補正書が提出されたものである。
　その後、当審において審査官により作成された前置報告書について審尋したところ、平成２２年９月１３日付で回答書が提出されたものである。
　
２．平成２１年４月８日付手続補正について
　平成２１年４月８日付手続補正（以下、「本件補正」という。）は、補正前の特許請求の範囲の請求項１において、「バイナリな表面レリーフ型回折パターン」を「表面レリーフ型回折バイナリーパターン」と言い換え、入射した光を案内する用途を「これによって、前記表面レリーフ型回折ブラッグ格子パターンに入射した光ビームのみならず、前記回折ブラッグ格子パターン以外の伝達素子（３，３’）の部位に入射した光ビームを、円化、楕円化、平行化、発散、または集光の前記用途のために案内する」と詳しく明らかにしたものである。
　したがって、上記補正は新規事項を追加するものではない。また、上記補正事項は、いずれも、平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第４号の明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
　したがって、本件補正は適法な補正であると認められる。
　
３．本願発明
　本願の請求項１〜１１に係る発明は、平成２１年４月８日付手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜１１に記載された事項丹より特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、以下のとおりである。
　
「準単色光源（１）とともに使用されるとともに、光ビーム（Ｒ）の円化、楕円化、平行化、発散、または集光の用途のために光の伝播を案内する伝達素子（３）として、実質的に透明な材料から製造されるビーム整形器において、表面レリーフ型回折バイナリパターンを部分的にのみ含む構造を備える光ビーム（Ｒ）を案内する伝達素子（３，３’）を有し、前記回折パターンは、最大の回折効率を供給するブラッグ回折幾何に従って縦方向および横方向、さらにまた光軸についても最適化された局所格子周期を有し、これによって、前記表面レリーフ型回折ブラッグ格子パターンに入射した光ビームのみならず、前記回折ブラッグ格子パターン以外の伝達素子（３，３’）の部位に入射した光ビームを、円化、楕円化、平行化、発散、または集光の前記用途のために案内することを特徴とするビーム整形器。」
　
４．引用例の記載
４−１．引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願優先日前に日本国内または外国において頒布された刊行物である米国特許明細書第５９８６８０７号（原査定における引用文献１。以下、「引用例１」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。（以下、下線は当審にて付与。）
　
（１ａ）「Reference is now made toFfigure FIG. 4, wherein there is illustrated the homogenizing optical system 100 of the present invention. A laser light source 102 emits a coherent light beam 104 of a single wavelength which is incident upon a binary diffractive optical element beam homogenizer 106. The homogenizer 106 diffracts the beam 104 into multiple beams which overlap to recombine as a homogenized light beam 108 which is then incident upon the image plane 110.
　The binary diffractive optical element 106 consists of an optical substrate 112 of SiO2 upon which is a binary surface relief phase grating structure 114.
　Specifically, the binary diffractive optical element beam homogenizer 106 will reprofile diffractively by beam folding the Gaussian intensity profile of the emitted light beam 104 into a more uniform intensity profile of the homogenized light beam 108. More specifically, the bell-shape of the intensity profile will be reprofiled by beam folding into a more rectangular shape of the homogenized beam intensity profile.
訳：
（図４を参照すると、本願発明の均質化光学系１００が描かれている。
レーザー光源１０２は、バイナリ回折光学素子ビーム均質化器１０６に入射する、コヒーレントな単一波長の光ビーム１０４を発光する
均質化器１０６は、ビーム１０４を回折してマルチビームとし
　
バイナリー回折光学素子１０６は、バイナリー表面レリーフ位相格子構造を上部に持つＳｉＯ
２
光学基板から成る
　特に、
バイナリー回折光学素子ビーム均質化器１０６は、ガウシアン強度分布を有する発光光ビーム１０４を、ビーム畳み込みで、より整形された強度分布を持つ均質化光ビーム１０８とする
　
（１ｂ）「【図４】　　
　
」
　
　以上の記載事項から、引用例１には以下の発明（以下、「引用例発明」という。）が記載されている。
「バイナリー表面レリーフ位相格子構造を上部に持つＳｉＯ２光学基板から成るバイナリ回折光学素子ビーム均質化器１０６は、レーザー光源１０２が発光し入射したコヒーレントな単一波長のガウシアン強度分布を有する光ビーム１０４を、回折してマルチビームとし、ビーム畳み込みでより整形された強度分布を持つ均質化光ビーム１０８とするビーム均質化器」
　
４−２．引用例２
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願優先日前に日本国内または外国において頒布された刊行物である国際公開第９８／３６２９７号（原査定における引用文献３。以下「引用例２」という。）には、図面とともに以下の記載がある。
　
（２ａ）「DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 
a) 
description of preferred embodiment of a phase mask according to the invention 
　In other words the said light beam is diffracted by the phase mask into a set of diffraction orders with spatially variable diffraction efficiencies to photoinduce a non-uniform refractive index profile in a photosensitive optical medium by self-interference, more particularly to record Bragg gratings in the core of optical fibers or other waveguides having an apodized profile. 
Referring to  figures 3 ,  4  and  5 , the phase mask ( 15 ) according to the present invention comprises a substrate ( 17 ) having an outer surface provided with a plurality of parallel grating corrugations ( 19 ). The grating corrugations ( 19 ) have a non-uniform relief depth across the outer surface to generate variable diffractive efficiencies, which is necessary to photoinduce a non-uniform refractive index profile in the photosensitive optical medium. The non-uniform relief depth is defined by a variable thin film layer ( 21 ) of variable thickness overlaying the substrate ( 17 ). 
　According to a first preferred embodiment of the present invention, shown in figure 4 , the grating corrugations ( 19 ) of the phase mask ( 15 ) comprise a plurality of grooves ( 23 ) etched into the variable thin film layer ( 21 ). Optionally, in this embodiment the substrate ( 17 ) may comprise an etch stop layer ( 25 ) lying under the variable thin film layer ( 21 ). The purpose of this etch stop layer will be further explained below. 
　Figure 5  shows a second -preferred embodiment of the invention, wherein the grating corrugations ( 19 ) comprise a plurality of grooves ( 23 ) etched directly into the substrate ( 17 ) itself, and wherein the variable thin film layer ( 21 ) is deposited into said grooves ( 23 ). 
　The shape of the variable thin film layer ( 21 ) generates the desired local diffraction efficiency, and may be determined from a calibration curve based on electromagnetic grating diffraction theory such as shown in figure 9 . Preferably, the resulting refractive index profile photoinduced in the optical medium can for example have the shape of a Gaussian, Blackman or Hamming function, or one period of a squared cosine function. The calculated Bragg response of an apodized fiber grating with a Gaussian modulation profile is shown in figure 6 . The non-uniform relief depth of the grating corrugations ( 19 ) is preferably optimized in the center of the phase mask ( 15 ) for a minimization of a zero order of diffraction and a maximization of the self-interference of plus and minus first orders of diffraction of the collimated light beam, when said light beam passes through the phase mask ( 15 ) at a normal angle of incidence. Another variation could be to optimize the non-uniform relief depth of the grating corrugations ( 19 ) for a maximum contrast of the self-interference of a zero order and minus first order of diffraction of the collimated light beam, when said light beam passes through the phase mask ( 15 ) at an oblique angle of incidence. 
訳：
（発明の詳細な説明
ａ）本発明によるフェーズマスクの実施例の説明
  本発明は、通過する平行光線を変調するためのフェーズマスクにある。本願において、「光ビーム」ないしは「光線」という表現は、全ての波長の電磁波を指し、可視光に限定されるものではない。紫外光は、本発明で使用するのに望ましい種類の電磁波である。上記光ビームは、感光性光学媒体に非一様性屈折率プロファイルを光誘起するよう、より詳しく言うと、光ファイバあるいは他の導波路のコアにアポダイズ状プロファイルを有するブラッグ格子を記録するような工夫がなされる。また、本願明細書の記載において「アポダイズ型」あるいは「アポダイズ状」とは、空間的に変化する回折効率を持つことを意味するものである。フェーズマスクとこれによって製造されたブラッグ格子はどちらも類似したアポダイズ状プロファイルを有する。
  言い換えると、上記光ビームはフェーズマスクによって回折させられて空間可変回折効率を有する一組の回折次数に分けられて、自己干渉によって感光性光学媒体に非一様性屈折率プロファイルを光誘起し、より詳しく言うと、アポダイズ状プロファイルを有する光ファイバあるいは他の導波路のコアにブラッグ格子を記録する。
  図３、４及び５において、本発明のフェーズマスク（１５）は、外面に複数の平行格子コルゲーション（１９）が設けられた基板（１７）を具備する。格子コルゲーション（１９）は、外面を横切る方向に一様でないレリーフ深さを有して可変回折効率を生じさせ、この可変回折効率は感光性光学媒体に非一様性屈折率プロファイルを光誘起するために必要である。一様でないレリーフ深さは、基板（１７）に被覆された可変厚さの可変薄膜層（２１）によって決まる。
  図４に示す本発明の第１の実施例によれば、フェーズマスク（１５）の格子コルゲーション（１９）は、可変薄膜層（２１）中にエッチングで形成された複数の溝（２３）を有する。任意の形態として、この実施例においては、基板（１７）は可変薄膜層（２１）の下層のエッチストップ層（２５）を具備してもよい。このエッチストップ層の目的については、以下にさらに説明する。
  図５は本発明の第２の実施例を示し、この実施例においては、格子コルゲーション（１９）は、基板（１７）自体中に直接エッチングで形成された複数の溝（２３）を具備し、かつ可変薄膜層（２１）が該溝（２３）中にディポジションによって形成される。
  
可変薄膜層（２１）の形状が所望の局部回折効率を生じさせ、この形状は図９に示すような電磁格子回折理論に基づく較正曲線から求めることができる
最適化される
格子コルゲーション（１９）の一様でないレリーフ深さを最適化することもできる
　
（２ｂ）「【図４】【図５】
　」
（２ｃ）「【図６】
　」　
　
４−３．引用例３
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願優先日前に日本国内または外国において頒布された刊行物である特表平１１−５０５０２３号公報（原査定における引用文献４。以下「引用例３」という。）には、図面とともに以下の記載がある。
　
（３ａ）「光源１８は光ビーム１５を提供して、センサ１０を光学的に付勢する。光源１８は、図３の実施形態に示すような光ファイバピグテール４２等の受動素子であってもよい。光ファイバピグテール４２は、基板の下側表面２４に通じており、エポキシ４３によって定位置に維持される。ピグテール４２は光学的エネルギーの導管としてのみ機能し、それ故に受動素子なのである。あるいは、
光源１８は、図３Ａに示すようなレーザーダイオード４４等の能動素子
別の実施形態において、光源１８は、基板２０の本体内に集積された、センサから延びるワイヤの電気的接点を持つレーザーダイオードであってもよい
　
（３ｂ）「【図３】
  
　　　　　　　　　　　　　　　Ｆｉｇ．３Ａ
」
　　
５．対比
　引用例発明の「レーザー光源１０２」「光ビーム１０４」「ＳｉＯ２光学基板」は、本願発明の「準単色光源（１）」「光ビーム（Ｒ）」「実質的に透明な材料」に相当する。
　引用例発明の「バイナリー表面レリーフ位相格子構造」は、「光ビーム１０４を」「回折」させるのであるから、本願発明の「表面レリーフ型回折バイナリパターンを含む構造」に相当する。
　引用例発明の「バイナリー表面レリーフ位相格子構造を上部に持つＳｉＯ２光学基板から成るバイナリ回折光学素子ビーム均質化器１０６」は、「ＳｉＯ２光学基板」が「レーザー光源１０２が発光し入射したコヒーレントな単一波長のガウシアン強度分布を有する光ビーム１０４を」通し「バイナリー表面レリーフ位相格子構造」により「回折」させるのであるから、本願発明の「表面レリーフ型回折バイナリパターンを含む構造を備える光ビーム（Ｒ）を案内する伝達素子（３，３’）」「として、実質的に透明な材料から製造されるビーム整形器」に相当する。
　
　したがって、両者は、
「準単色光源（１）を使用し、光ビーム（Ｒ）の光の伝播を案内する伝達素子（３）として、実質的に透明な材料から製造されるビーム整形器において、表面レリーフ型回折バイナリパターンを含む構造を備える光ビーム（Ｒ）を案内する伝達素子（３，３’）を有するビーム整形器。」で一致し、以下の点で相違する。
　
（相違点１）
　本願発明では「伝達素子」の「備える構造」が「表面レリーフ型回折バイナリパターンを部分的にのみ含む」ものであって「回折パターンは、最大の回折効率を供給するブラッグ回折幾何に従って縦方向および横方向、さらにまた光軸についても最適化された局所格子周期を有し、これによって、前記表面レリーフ型回折ブラッグ格子パターンに入射した光ビームのみならず、前記回折ブラッグ格子パターン以外の伝達素子（３，３’）の部位に入射した光ビームを、円化、楕円化、平行化、発散、または集光の前記用途のために案内する」ものであるのに対して、引用例発明では、「ビーム均質化器１０６」の「上部に持つ」「バイナリー表面レリーフ位相格子構造」が部分的ではなく「回折」した光ビームは「マルチビームとし、ビーム畳み込みでより整形された強度分布を持つ均質化光ビーム１０８」となるに過ぎない点。
　
（相違点２）
　本願発明では「ビーム整形器」が「準単色光源（１）とともに使用」されるのに対して、引用例発明では、「ビーム均質化器１０６」は「レーザー光源１０２」と離れている点。
　
６．判断
６−１．相違点１について
　ブラック格子形状がその局部回折効率によって得られる光線が所望のものとなるように最適化されることは、本願優先日前周知（上記（２ａ）（２ｂ）、引用例２参照。）である。
　したがって、引用例発明における「ビーム均質化器１０６」の「上部に持つ」「バイナリー表面レリーフ位相格子構造」において、「ブラッグ格子パターン」を採用し、該「ブラッグ格子パターン」によって得られる光線が「円化、楕円化、平行化、発散、または集光」されるように、該「ブラック格子パターン」が「ブラッグ回折幾何に従って縦方向および横方向、さらにまた光軸についても最適化された局所格子周期」を有するようにしたことは、当業者にとって格別困難なことではない。
　
　また、ブラック格子パターンを一部分のみに設け、他の部位に入射する光に作用させないようにすることは、当業者が適宜なし得た事項である。そして、他の部位に入射する光について、「円化、楕円化、平行化、発散、または集光」することは、当業者が適宜なし得た事項である。、
　
　以上のことから、引用例発明における「ビーム均質化器１０６」の「上部に持つ」「バイナリー表面レリーフ位相格子構造」において、「ブラッグ格子パターン」を「部分的にのみ」採用し、「回折パターンは、最大の回折効率を供給するブラッグ回折幾何に従って縦方向および横方向、さらにまた光軸についても最適化された局所格子周期を有し、これによって、前記表面レリーフ型回折ブラッグ格子パターンに入射した光ビームのみならず、前記回折ブラッグ格子パターン以外の伝達素子（３，３’）の部位に入射した光ビームを、円化、楕円化、平行化、発散、または集光の前記用途のために案内する」ように構成することに、格別の困難性はない。
　
６−２．相違点２について
　光を案内する透明材料とレーザー光源とをともに使用することは、本願優先日前に周知（上記（３ａ）（３ｂ），引用例３参照。）である。
　したがって、引用例発明の「レーザー光源１０２」において、相違点２に掛かる構成を採用することに、格別の困難性はない。
　
６−３．作用効果について
　本願発明に係る効果は、引用例発明及び従来周知の事項から予測できる程度のものであって、格別のものではない。
　
６−４．まとめ
　したがって、本願発明は、引用例発明と従来周知の技術とに基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定より、特許を受けることができない。
　
７．むすび
　以上のとおりであるから、請求項１以外の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　なお、請求人は、平成２１年４月８日付手続補正書のの請求の理由の中で「本件出願について、技術説明のために、審査官殿、審判官殿との電話によるインタビューをさせていただきたくお願い申し上げます。」と要請を提出しているが、これは、単に技術説明を希望することを表明したに過ぎず、電話によるインタビューの際に行う技術説明の具体的な内容が何ら記載されていないうえ、当審においても技術説明のための面接を行う必要性が特に認められないので、請求人の要請には応じられない。
　さらに、請求人は、平成２２年９月１３日付回答書の中で、
「（１）下記の手続補正書（案）によって・・・。
　このような手続補正書、意見書の機会を与えていただきたく、お願い致します。」と、主張している。しかし、本件においては、すでに十分に説明と補正の機会を与えてきたことから、特許法第１７条の２で規定する補正の制限、行政効率及び行政の公平性などの観点からみて妥当でないので上記要望には応じられない。
　
　よって、結論のとおり審決する。