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【手続補正書】
【提出日】平成22年11月17日(2010.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子バラスト用の寿命末期、アーク放電防止、及び無負荷保護の一点検知を促進するシステムであって、
第一及び第二のキャパシタと直列に接続された第一のランプにおけるパルシング事象の発生時に、電流及び電圧の一つ以上における階段状変化を受ける前記第一のキャパシタ、前記第二のキャパシタ、及びダイオードと、
電流及び電圧の一つ以上における前記階段状変化を検出し、前記パルシング事象に対する応答作用を、少なくとも一個のパルスに関連する情報の関数として開始するコントローラと、を備えるシステム。
【請求項２】
更に、関連する一対の直列接続されたコンデンサとダイオードとを有する第二のランプを備え、前記第二のランプ及び前記第一のランプは、互いに対して並列に接続される、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記少なくとも一個のパルスに関連する前記情報は、前記少なく主一個のパルスの幅を表し、前記コントローラは、前記少なくとも一個のパルスの前記幅の関数として、寿命末期状態又はアーク放電状態が存在するかを判断する、請求項１記載のシステム。
【請求項４】
前記コントローラは、寿命末期状態が存在すると判断された際に、前記第一のランプを所定回数停止及び再始動して前記ランプを恒久的に無効化する、請求項３記載のシステム。
【請求項５】
前記コントローラは、アーク放電状態が存在すると判断された際に、前記ランプを停止及び再始動する、請求項４記載のシステム。
【請求項６】
電子バラスト内の事象を検知する方法であって、
前記電子バラストと適切に動作可能に接続されたランプを始動するステップと、
前記バラスト内のインダクタ及び陰極トランスの巻線の少なくとも一方を通過する電流における階段状変化を検出することにより、少なくとも一回のパルシング事象が生じたかを判断するステップと、
前記パルシング事象が前記ランプの寿命末期状態に関連するか、或いは前記ランプの端子におけるアーク放電状態に関連するかを判断するステップと、を備える方法。
【請求項７】
更に、前記パルシング事象が前記ランプの寿命末期状態に関連するか、或いは前記ランプの端子におけるアーク放電状態に関連するかを判断するために、検出されたパルシング事象の少なくとも一個のパルスのパルス幅を分析するステップを備える、請求項６記載の方法。
【請求項８】
更に、前記少なくとも一個のパルスの前記パルス幅を所定の閾値と比較するステップを備える、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記パルス幅が第一の所定閾値より大きい場合には、前記パルス事象が寿命末期状態に関連すると判断し、前記パルス幅が第二の所定閾値より大きい場合には、アーク放電状態に関連すると判断する、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記第二の所定閾値は、前記第一の所定閾値より大きい、請求項８記載の方法。
【請求項１１】
更に、寿命末期状態が存在する場合に、前記少なくとも一回のパルシング事象が所定回数より多く発生したかを判断するステップを備える、請求項９記載の方法。
【請求項１２】
更に、前記少なくとも一回のパルシング事象が前記所定回数より多く発生した場合に、前記ランプを余熱モード又は停止モードに入れるステップを備える、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
更に、前記ランプが交換されたかを検出するステップを備える、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
更に、前記パルシング事象が前記ランプの端子におけるアーク放電状態であると判断された場合に、前記ランプの動作を所定期間に渡って中断するステップを備える、請求項１０記載の方法。
【請求項１５】
ランプ内の危険状態の軽減を促進するシステムであって、
電流レベルの階段状変化が生じたかを検出する手段と、
前記ランプの寿命末期状態及びランプ端子におけるアーク放電状態の少なくとも一方により前記階段状変化が生じたことを、前記階段状変化に関連するパルス幅が示唆するかを判断する手段と、
前記階段状変化が寿命末期状態により生じたと判断された場合、ランプの故障を早める手段と、
前記階段状変化が前記ランプの端子におけるアーク放電状態により生じたと判断された場合、ランプの動作を所定期間に渡って一時中断する手段と、を備えるシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月14日(2010.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路であって、
条件付きのみで起動される能動回路領域の第１の部分と、
集積回路が起動される場合は常に起動される能動回路領域の他の部分と、を備え、
前記第１の部分は、主に第１のタイプである減結合コンデンサを含むが、前記他の部分はそのような減結合コンデンサを含まず、
前記他の部分は、主に第２のタイプである減結合コンデンサを含むが、前記第１の部分はそのような減結合コンデンサを含まず、
前記第１のタイプのコンデンサは、前記第２のタイプのコンデンサよりも高い固有のキャパシタンスおよび領域当たりより高いリーク電流を有する集積回路。
【請求項２】
請求項１記載の集積回路において、
前記第１のタイプのコンデンサおよび前記第２のタイプのコンデンサは、ともに半導体領域を覆う導体および絶縁層を有し、
前記第１のタイプのコンデンサは、前記第２のタイプのコンデンサよりも薄い絶縁層を有する集積回路。
【請求項３】
請求項１記載の集積回路において、
前記第１のタイプのコンデンサおよび前記第２のタイプのコンデンサは、ともにＭＯＳコンデンサである集積回路。
【請求項４】
請求項１記載の集積回路において、
前記第１のタイプのコンデンサおよび前記第２のタイプのコンデンサは、ともに蓄積コンデンサである集積回路。
【請求項５】
請求項１記載の集積回路において、
前記第１のタイプのコンデンサおよび前記第２のタイプのコンデンサは、ともにｎ−ウェルに対するＭＯＳコンデンサである集積回路。
【請求項６】
集積回路であって、
条件付きのみで起動される能動回路領域の第１の部分と、
集積回路が起動される場合は常に起動される能動回路領域の他の部分と、を備え、
前記第１の部分は、主に領域最適化された減結合コンデンサを含むが、前記他の部分はそのような減結合コンデンサを含まず、
前記他の部分は、リーク最適化された減結合コンデンサを主に含むが、前記第１の部分はそのような減結合コンデンサを含まない集積回路。
【請求項７】
請求項６記載の集積回路において、
前記領域最適化されたコンデンサおよび前記リーク最適化されたコンデンサは、ともに半導体領域を覆う導体および絶縁層を有し、
前記領域最適化されたコンデンサは、前記リーク最適化されたコンデンサよりも薄い絶縁層を有する集積回路。
【請求項８】
請求項６記載の集積回路において、
前記領域最適化されたコンデンサおよび前記リーク最適化されたコンデンサは、ともにＭＯＳコンデンサである集積回路。
【請求項９】
請求項６記載の集積回路において、
前記領域最適化されたコンデンサおよび前記リーク最適化されたコンデンサは、ともにｎ−ウェルに対するＭＯＳコンデンサである集積回路。
【請求項１０】
集積回路であって、
条件付きのみで起動される第１の部分と、
チップが電源遮断状態から起動される場合は常に起動される能動回路領域の他の部分と、を備え、
前記第１の部分および前記他の部分は、実質的に同一のゲート構造を有する対応する電界効果トランジスタを含み、
前記第１の部分は、主に蓄積コンデンサであり前記ゲート構造と実質的に同じ薄膜層を使用する減結合コンデンサを含むが、前記他の部分はそのような減結合コンデンサを含まず、
前記他の部分は、主に蓄積コンデンサであり前記ゲート構造と同じ薄膜層を使用しない減結合コンデンサを含むが、前記第１の部分はそのような減結合コンデンサを含まない集積回路。
【請求項１１】
集積回路であって、
ゲート電圧の第１の範囲用に最適化された第１の絶縁ゲートトランジスタを含む第１の領域と、
前記第１の範囲のいずれの部分よりも高い数電圧を含む作動電圧の第２の範囲用に最適化された第２の絶縁ゲートトランジスタを含む第２の領域と、を備え、
前記第１の領域は、条件付きのみで起動されるいくつかの部分と、前記第１の領域が起動される場合は常に起動される他の部分とを含み、
前記条件付きで起動される部分は、主に第１のタイプのものであり、前記第１のトランジスタと同じプロセスによって形成された減結合コンデンサを含み、
前記他の部分は、主に、前記第１のタイプのものではない減結合コンデンサを含む集積回路。
【請求項１２】
請求項１１記載の集積回路において、
前記条件付きで起動される部分は、主に第１のタイプのものであり、前記第１のトランジスタと同じプロセスによって形成された減結合コンデンサを含むが、前記他の部分はそのような減結合コンデンサを含まず、
前記他の部分は、主に、前記第２のトランジスタと同じプロセスによって形成された減結合コンデンサを含む集積回路。
【請求項１３】
請求項１１記載の集積回路において、
前記他の部分は、主に蓄積コンデンサであり、前記ゲート構造と同じ薄膜層を使用しない減結合コンデンサを含むが、前記条件付きで起動される部分はそのような減結合コンデンサを含まない集積回路。
【請求項１４】
請求項１１記載の集積回路において、
前記第２の領域は外部Ｉ／Ｏ回路を含み、前記第１の領域は外部Ｉ／Ｏ回路を含まない集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月15日(2010.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタルラジオ放送信号を受信し処理する方法であって、
コンテンツを含むデジタルラジオ放送信号を受信し、
符号化されたコンテンツを記録し、
記録した符号化コンテンツを論理プロトコルスタックに従って処理することにより、記録した符号化コンテンツを復号して復号済みコンテンツを復元するステップより成るデジタルラジオ放送信号受信処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月30日(2010.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路を初期に被覆する高分子膜の除去により前記集積回路を露出するための方法であって、同一容器（１６）内で実行される、前記集積回路を初期に被覆する前記膜に対するレーザ照射とプラズマとを組み合わせた適用を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項1に記載される方法であって、さらに、最初にレーザ照射を適用するステップ（７２）と、次にプラズマを適用するステップ（７４）とを含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載される方法であって、前記集積回路が依然としてレーザ照射にさらされている間に、前記ステップ（７４）におけるプラズマの適用を開始することを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項２または３に記載される方法であって、前記集積回路の上に残った前記高分子膜の厚さが５０〜２００μｍとなる間まで、前記レーザ照射を適用する前記ステップ（７２）が実行されることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項２ないし４のいずれか１項に記載される方法であって、最初にレーザ照射を適用するステップと、次にプラズマを適用するステップの２つの連続する処理ステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載される方法であって、前記集積回路がプラズマの適用にさらされる間に、前記レーザ照射を適用する前記ステップ（７２）が実行されることを特徴する方法。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載される方法であって、前記集積回路上にある残存粒子を離脱させられるように、前記集積回路の表面に向かう、噴霧化したガスフローを形成するステップを含むことを特徴する方法。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載される方法であって、前記プラズマが減圧プラズマであることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載される方法であって、前記プラズマが大気圧プラズマであることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか１項に記載される方法であって、前記プラズマが酸素と炭素四フッ化物を含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項２ないし８、又は１０のいずれか１項に記載される方法であって、容器（１６）の圧力を減少させる先行するステップを備えるとともに、前記容器（１６）がレーザ照射とプラズマの組み合わせた適用の間、減圧下に保持されることを特徴とする方法。
【請求項１２】
初期に高分子膜が被覆された集積回路の接続導体のせん断試験方法であって、
−請求項１ないし１１のいずれか１項に記載される方法により、前記集積回路と前記接続導体とを露出する最初のステップ（７２，７４）と、
−このように露出した前記導体に対し、せん断試験をするステップとを含むせん断試験方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載される試験方法において、前記プラズマの適用により、残存する前記高分子と前記接続導体上に位置する高分子を取り除くことができることを特徴とする方法。
【請求項１４】
集積回路を初期に被覆する高分子膜の除去により、前記集積回路を露出する装置であって、
−前記集積回路の表面へレーザ照射を適用するための手段（２８）と、
−前記集積回路を初期に被覆する前記膜に対して、前記レーザ照射の適用と組み合わせた、プラズマによるアタックを適用するための手段と、
−上記プロセスの期間中、前記集積回路を支持するためのプレート（１３）と、同一支持プレート上で作用させる、前記レーザ照射のための前記適用手段（２８）と、前記プラズマのための前記適用手段（４６）とを含む装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月14日(2010.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の様々な修正及び変更は、本発明の範囲及び原理から逸脱することなく当業者には明白であり、また、本発明は、本明細書に記載した例示的な実施形態に不当に制限されるものではないと理解すべきである。
以下に、本願発明に関連する発明の実施形態について列挙する。
［実施形態１］
耐久性のある燃料電池ポリマー電解質薄膜を製造する方法であって、
ａ）ポリマー電解質薄膜を用意する工程と、
ｂ）マンガン塩及びセリウム塩からなる群から選択される塩の溶液を用意する工程と、
ｃ）前記ポリマー電解質薄膜の一方の側に溶液を適用する工程と、
を含む製造方法。
［実施形態２］
前記塩がマンガン塩である、実施形態１に記載の方法。
［実施形態３］
前記塩がセリウム塩である、実施形態１に記載の方法。
［実施形態４］
工程ｃ）が、ブラッシング、スプレー、及びスロットダイを使用することからなる群から選択される方法によって行なわれる、実施形態１に記載の方法。
［実施形態５］
工程ｃ）がポリマー電解質薄膜への溶液の定量適用によって行なわれる、実施形態１に記載の方法。
［実施形態６］
工程ｃ）が、スプレーによるか又はスロットダイの使用による電解質薄膜への溶液の定量適用によって行なわれる、実施形態１に記載の方法。
［実施形態７］
前記溶液の適用量は、ポリマー電解質薄膜を飽和させるほどではない、実施形態１に記載の方法。
［実施形態８］
耐久性のある燃料電池ポリマー電解質薄膜を製造する方法であって、
ａ）ポリマー電解質薄膜を用意する工程と、
ｂ）酸化マンガン及び酸化セリウムからなる群から選択される化合物の粒子の懸濁液を用意する工程と、
ｃ）前記ポリマー電解質薄膜の一方の側に懸濁液を適用する工程と、
を含む製造方法。
［実施形態９］
前記化合物が酸化マンガンである、実施形態８に記載の方法。
［実施形態１０］
前記化合物が酸化セリウムである、実施形態８に記載の方法。
［実施形態１１］
工程ｃ）が、ブラッシング、スプレー、及びスロットダイを使用することからなる群から選択される方法によって行なわれる、実施形態８に記載の方法。
［実施形態１２］
工程ｃ）が、前記ポリマー電解質薄膜への前記懸濁液の定量適用によって行なわれる、実施形態８に記載の方法。
［実施形態１３］
工程ｃ）が、スプレーによるか又はスロットダイの使用によるポリマー電解質薄膜への懸濁液の定量適用によって行なわれる、実施形態８に記載の方法。
［実施形態１４］
懸濁液の適用量は、ポリマー電解質薄膜を飽和させるほどではない実施形態８に記載の方法。
［実施形態１５］
ａ）２つの面を有するポリマー電解質薄膜と、
ｂ）前記ポリマー電解質薄膜の一面上の酸化マンガン及び酸化セリウムからなる群から選択される化合物の粒子の層と、
を備える耐久性のある燃料電池ポリマー電解質薄膜。
［実施形態１６］
前記化合物が酸化マンガンである、実施形態１５に記載の耐久性のある燃料電池ポリマー電解質薄膜。
［実施形態１７］
前記化合物が酸化セリウムである、実施形態１５に記載の耐久性のある燃料電池ポリマー電解質薄膜。
［実施形態１８］
実施形態１５に記載の耐久性のある燃料電池ポリマー電解質薄膜を備える、燃料電池薄膜電極組立体。
［実施形態１９］
実施形態１６に記載の耐久性のある燃料電池ポリマー電解質薄膜を備える、燃料電池薄膜電極組立体。
［実施形態２０］
実施形態１７に記載の耐久性のある燃料電池ポリマー電解質薄膜を備える、燃料電池薄膜電極組立体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
耐久性のある燃料電池ポリマー電解質薄膜を製造する方法であって、
ａ）ポリマー電解質薄膜を用意する工程と、
ｂ）マンガン塩及びセリウム塩からなる群から選択される塩の溶液を用意する工程と、
ｃ）前記ポリマー電解質薄膜の一方の側に溶液を適用する工程と、
を含む製造方法。
【請求項２】
耐久性のある燃料電池ポリマー電解質薄膜を製造する方法であって、
ａ）ポリマー電解質薄膜を用意する工程と、
ｂ）酸化マンガン及び酸化セリウムからなる群から選択される化合物の粒子の懸濁液を用意する工程と、
ｃ）前記ポリマー電解質薄膜の一方の側に懸濁液を適用する工程と、
を含む製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月17日(2010.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
視覚的に知覚可能でないスペクトル領域内の少なくとも１つの機械可読光信号を出力する光送信器を備える文書であって、前記文書は前記光送信器が一体化されている文書本体を有し、前記文書は少なくとも１つの部分領域において前記スペクトル領域内で透明であり、前記光送信器が表示装置を有している、文書。
【請求項２】
前記文書本体は前記送信器を完全に囲み、その結果、ユーザーは前記文書内の送信器の存在を補助技術なしでは確認することができない、請求項１に記載の文書。
【請求項３】
前記光送信器は、赤外線（ＩＲ）領域内及び紫外線（ＵＶ）領域内少なくとも一方の前記光信号を放射するように形成されている、請求項１又は２に記載の文書。
【請求項４】
前記光送信器は１つ又は複数の発光ダイオードを含む、請求項１から３の何れか１項に記載の文書。
【請求項５】
前記文書の表面は、前記視覚的に知覚可能でないスペクトル領域内で透明であり且つ前記視覚的に知覚可能なスペクトル領域内で不透明である層によって形成される、請求項１から４の何れか１項に記載の文書。
【請求項６】
前記層は前記文書の表側又は裏側にわたって延在する、請求項５に記載の文書。
【請求項７】
前記表示装置が、セグメントディスプレイまたはマトリクスディスプレイとして形成されており、かつ機械可読の光信号を出力するために、前記表示装置の表示エレメントの１つまたは複数を駆動するためのドライバを有している、請求項１から６の何れか１項に記載の文書。
【請求項８】
前記表示装置は、ＬＥＤ表示器、ＬＣＤ表示器、双安定の表示器、及び準双安定の表示器のうちの少なくとも１つである、請求項１から７の何れか１項に記載の文書。
【請求項９】
前記双安定の表示器は、電気泳動表示器または回転要素表示器である、請求項８に記載の文書。
【請求項１０】
前記準双安定の表示器はエレクトロクロミック表示器である、請求項８に記載の文書。
【請求項１１】
前記視覚的に知覚可能でないスペクトル領域内の放射を通過させるフィルタを備える、請求項１から１０の何れか１項に記載の文書。
【請求項１２】
前記表示装置は、発光型、反射型、又は透過型である、請求項１から１１の何れか１項に記載の文書。
【請求項１３】
人の目が視覚的に知覚することができる信号を出力するさらなる表示装置を備える、請求項１から１２の何れか１項に記載の文書。
【請求項１４】
前記さらなる表示装置は前記部分領域の開口内に配置されている、請求項１３に記載の文書。
【請求項１５】
前記部分領域は、前記文書の前記表側又は裏側である、請求項１４に記載の文書。
【請求項１６】
前記表示装置は、前記視覚的に知覚可能でない領域内で吸収効果を有すると共に液体内に存在する表示要素を有し、前記液体は、前記視覚的に知覚可能でないスペクトル領域内で透明である、請求項７から１５のいずれか一項に記載の文書。
【請求項１７】
重要文書又はセキュリティ文書、例えば証明書、特に身分証明書、パスポート、査証又は社員証、クレジットカード、運転免許証、資格証明書等である、請求項１から１６の何れか１項に記載の文書。
【請求項１８】
請求項１から１７のいずれか一項に記載の文書のための通信方法であって、前記文書の光送信器による視覚的に知覚可能でないスペクトル領域内の機械可読光信号の出力によってデータ出力が行われる、通信方法。
【請求項１９】
前記光信号によって、暗号プロトコルの実施に使用される情報が受信される、請求項１８に記載の通信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月7日(2010.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに固定して配置されたハウジングと、ビームスプリッタと、ミラーとを備えた固定組立体と、
互いに固定して配置されたハウジングと、ミラーと、モータコイルとを備えた可動組立体と、
通過する放射ビームの妨げられない光路を形成する開口を備えた第一フラットスプリングとを有し、可動組立体が第一フラットスプリングを介して固定組立体に対して移動できるように、第一フラットスプリングの第一端部が固定組立体に固定されかつ第一フラットスプリングの第二端部が可動組立体に固定されており、ビームスプリッタと可動組立体のミラーとの間の光学的関係は、可動組立体と固定組立体との間の距離とは無関係に維持されることを特徴とするフーリエ変換赤外線分光用干渉計。
【請求項２】
前記光学的関係を維持するため、可動組立体のミラーを含む平面は、可動組立体と固定組立体との間のそれぞれの距離で可動組立体のミラーを含む全ての平面に対して平行であることを特徴とする請求項１記載のフーリエ変換赤外線分光用干渉計。
【請求項３】
前記ビームスプリッタと可動組立体のミラーとの間の光学的関係は、ビームスプリッタの表面の角度が、可動組立体のミラーの表面の角度に対して維持されるときに満たされることを特徴とする請求項１記載のフーリエ変換赤外線分光用干渉計。
【請求項４】
第二フラットスプリングを更に有し、該第二フラットスプリングは、ｉ）これを通る放射ビームの妨げられない光路、およびｉｉ）可動組立体のミラーおよびモータコイルの少なくとも一方のクリアランスの少なくとも１つを形成し、第二フラットスプリングの第一端部は固定組立体に固定され、第二フラットスプリングの第二端部は可動組立体に固定されていることを特徴とする請求項１記載のフーリエ変換赤外線分光用干渉計。
【請求項５】
前記ビームスプリッタ、固定組立体のミラーおよび可動組立体のミラーは、第一および第二フラットスプリングがそれぞれのフラット状態にある間に、第一フラットスプリングを含む平面と第二フラットスプリングを含む平面との間のスペース内に配置されることを特徴とする請求項４記載のフーリエ変換赤外線分光用干渉計。
【請求項６】
前記第一フラットスプリングを、固定ハウジングおよび可動ハウジングに固定する手段と、前記第二フラットスプリングを、固定ハウジングおよび可動ハウジングに固定する手段と、を更に有し、前記固定組立体のハウジング、可動組立体のハウジング、第一および第二フラットスプリング、第一フラットスプリングを固定する手段および第二フラットスプリングを固定する手段はスチールであることを特徴とする請求項４記載のフーリエ変換赤外線分光用干渉計。
【請求項７】
前記両ミラーは、赤外線範囲内で優れた反射性を得るための金属被膜を有していることを特徴とする請求項１記載のフーリエ変換赤外線分光用干渉計。
【請求項８】
赤外線放射ビームを干渉計の可動ハウジング内に受入れる段階と、
ビームスプリッタ、固定組立体のミラー、及び可動組立体のミラーを、フラット状態にある第一及び第二フラットスプリングを夫々含む平面の間のスペースに配置しながら、干渉計の固定組立体のビームスプリッタと干渉計の可動組立体のミラーとの間の物理的配向の関係を、固定組立体と可動組立体との間のそれぞれの距離で不変に維持し、第一及び第二フラットスプリングは、ビームスプリッター及び可動組立体のミラー夫々の物理的配向の間の関係を、可動組立体と固定組立体との間の距離とは無関係に維持するように、固定組立体及び可動組立体と協働し、ミラーの表面は、可動組立体が固定組立体に対して移動されるとき、実質的に角度をそらすことがない段階と、
サンプルに関連してコード化された放射ビームを発生させるべく、放射ビームを、可動ハウジングからサンプルにおよびサンプルを通して導く段階と、
コード化された放射ビームを検出システムで受入れる段階とを有していることを特徴とするフーリエ変換赤外線分光方法。
【請求項９】
前記維持する段階は、
ビームスプリッタからのビームと可動組立体のミラーの表面との間の所定の角度を維持することを含むことを特徴とする請求項８記載のフーリエ変換赤外線分光方法。
【請求項１０】
前記光学的関係を維持する段階は、
固定組立体と可動組立体との間のそれぞれの距離で、可動組立体のミラーを含む平面を、可動組立体のミラーを含む全ての平面に対して平行に維持する段階を含むことを特徴とする請求項８記載のフーリエ変換赤外線分光方法。
【請求項１１】
前記平面を維持する段階は、
固定組立体に固定された第一フラットスプリングの第一端部を、可動組立体に固定された第一フラットスプリングの第二端部に対して撓ませること、及び、固定組立体に固定された第二フラットスプリングの第一端部を、可動組立体に固定された第二フラットスプリングの第二端部に対して撓ませること、
を含むことを特徴とする請求項８記載のフーリエ変換赤外線分光方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月11日(2011.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
i）入口と、
ii）少なくとも第１および第２の通電構造を含む第１の層であって、前記少なくとも第１および第２の通電構造のそれぞれが複数の歯を備え、前記第１および第２の通電構造の前記歯が、前記第１の通電構造の前記歯が前記第２の通電構造の前記歯の間に配置されるように、場合によりオフセットされる、第１の層と、
iii）前記入口と流体連通しかつ前記第１の層の前記少なくとも第１および第２の通電構造の上方に配置された第１のマイクロ流体チャンバを含む第２の層と、
iｖ）少なくとも第３および第４の通電構造を含む第３の層であって、前記少なくとも第３および第４の通電構造のそれぞれが複数の歯を備え、前記第３および第４の通電構造の前記歯が、前記第３の通電構造の前記歯が前記第４の通電構造の前記歯の間に配置されるように、場合によりオフセットされる、第３の層と
を備えるマイクロ流体混合装置であって、
前記少なくとも第３および第４の通電構造が、前記第１のマイクロ流体チャンバの上方になるように前記第３の層内に配置され、したがって、前記第３の通電構造の前記歯が、前記第１の通電構造の前記歯の上方に実質的に垂直に配置されるか、または前記第１の通電構造の前記歯からオフセットされ、前記第４の通電構造の前記歯が、前記第２の通電構造の前記歯の上方に実質的に垂直に配置されるかまたは前記第２の通電構造の前記歯からオフセットされ、
前記歯の各々が、実質的に楕円形の先端部を有するステムを有する、マイクロ流体装置。
【請求項２】
前記通電構造が、前記第１および第３の層の表面の０．１μｍ〜１０μｍ下方において前記第１および第３の層に埋め込まれる、請求項１に記載のマイクロ流体装置。
【請求項３】
前記第１のマイクロ流体チャンバが、実質的にまっすぐなチャネルであり、該チャネルが、前記入口に近接した大き目の寸法をもつ領域を有する、請求項１または２に記載のマイクロ流体装置。
【請求項４】
前記第１および／または第３の層が、第５の通電構造をさらに含み、該第５の通電構造が、前記入口より遠位にあるように位置する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項５】
前記第１のマイクロ流体チャンバと流体連通する第２のマイクロ流体チャンバをさらに備え、前記第２のマイクロ流体チャンバが、増幅チャンバであり、該増幅チャンバが、多重化ＰＣＲチャンバである、請求項１〜４のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項６】
前記第２のマイクロ流体チャンバと流体連通する第３のマイクロ流体チャンバをさらに備え、前記第３の流体チャンバが、検体の存在を検出するためのセンサを備える、請求項１〜５のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項７】
前記通電構造のそれぞれに電圧を所定の順序で所定の期間にわたって別々に印加するための手段をさらに備える、請求項１〜６のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項８】
前記第１のマイクロ流体チャンバと流体連通し、かつ、当該装置に組み込まれた少なくとも第１の流体貯蔵器をさらに備え、
前記流体が、
（ａ）超常磁性ビーズ
（ｂ）溶解バッファ、および
（ｃ）抗凝血剤
の少なくとも一つを含んでいる、請求項１〜７のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項９】
i）入口と、
ii）複数の歯を備える少なくとも第１の通電構造を含む第１の層と、
iii）前記入口と流体連通しかつ前記第１の層の前記第１の通電構造の上方に配置された第１のマイクロ流体チャンバを含む第２の層と、
iｖ）複数の歯を備える少なくとも第２の通電構造を含む第３の層と
を備えるマイクロ流体装置であって、
前記第２の通電構造が、前記第１のマイクロ流体チャンバの上方になるように前記第３の層内に配置され、したがって、前記第２の通電構造の前記歯が、前記第１の通電構造の前記歯の上方に実質的に垂直に配置されるか、または前記第１の通電構造の前記歯からオフセットされ、
前記歯の各々が、実質的に楕円形の先端部を有するステムを有する、マイクロ流体装置。
【請求項１０】
生体分子を含む試料を調製するためのラボオンチップシステムであって、
ａ）請求項８の前記装置と、
ｂ）前記試料および前記流体を前記第１のマイクロ流体チャンバに導入するための手段
と
を備える、ラボオンチップシステム。
【請求項１１】
前記装置の前記第１、第２、第３および第４の通電構造が、電圧を所定の順序で印加さ
れ、第５の通電構造が、前記第１のマイクロ流体チャンバ内に前記超常磁性粒子を保持するように働く、請求項１０に記載のラボオンチップシステム。
【請求項１２】
前記超常磁性粒子が、５０ｎｍ〜１０μｍの平均直径を有し、かつ、対象の検体に結合するように機能化される、請求項１０または１１に記載のラボオンチップシステム。
【請求項１３】
試料から生体分子を含む検体を分離させるための方法であって、
i）前記試料を請求項１〜８のいずれか一項の前記装置の前記入口に導入するステップと、
ii）超常磁性粒子を含む流体を前記装置の前記第１のマイクロ流体チャンバに導入するステップと、
iii）前記装置の前記第１、第２、第３および第４の通電構造に電圧を所定の順番に印加し、それによって前記装置の前記第１、第２、第３および第４の通電構造に電流を流すステップと
を備え、
ステップi）が、ステップii）の前に、またはステップii）と同時に、またはステップii）の後で実施することができ、前記超常磁性粒子が、対象の前記検体に結合するように機能化され、
ステップiii）が、ステップi）と同時に、またはステップi）の直後に実施され、
前記電流により前記通電構造が非永久的に磁化されるようになり、それによって前記マイクロ流体チャンバ内で前記超常磁性粒子を３次元で磁気作動させることになり、前記超常磁性粒子の前記磁気作動が前記試料と前記流体のカオス的混合を引き起こして、前記機能化された超常磁性粒子が検体と接触する機会を増大させることになる、方法。
【請求項１４】
（ａ）前記装置の前記第１のマイクロ流体チャンバに洗浄溶液を導入するステップ、
（ｂ）前記装置の前記第１のマイクロ流体チャンバに再懸濁溶液を導入するステップ、
（ｃ）前記装置の前記第１のマイクロ流体チャンバに溶出溶液を導入するステップ、または
（ｄ）前記核酸の存在を検出するステップ
をさらに備える、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記電圧が、前記ビーズが前記第１のマイクロ流体チャンバ内の所定の位置に移動でき
るように、前記第１、第２、第３および第４の通電装置のそれぞれに十分長い間印加され
る、請求項１３または１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月10日(2010.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基部、
前記基部に支持される支柱、及び
前記支柱に取り外し可能に取り付けられるパック
を備えるパーツ位置決めアセンブリ。
【請求項２】
前記パックが、概ね細長い楕円形のパック本体と、複数の概ね長形の接触端を有する複数の接触歯とを備えており、前記接触歯の各々が、前記パック本体の縁から前記パック本体の面を越えて延び、且つ互いに離間している、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
互いに離間した、前記パック本体を通る支柱用開口と、前記パック本体から延びるピンとを更に備える、請求項２に記載のアセンブリ。
【請求項４】
前記パック本体から延びて、前記支柱用開口と概ね整列する取り付け用襟部を更に備える、請求項３に記載のアセンブリ。
【請求項５】
前記パックが概ね円筒状のパック本体を有する、請求項１に記載のパーツ位置決めアセンブリ。
【請求項６】
各々が前記パック本体の縁に設けられた概ね長形の接触端を有する複数の接触歯と、
前記パック本体から延びるパックピンとを更に備える、請求項５に記載のアセンブリ。
【請求項７】
前記パックピンが、パックピン本体と、前記パックピン本体によって支持される概ね円形のパックピンプレートと、前記パックピンプレートから延びるピンとを備える、請求項６に記載のアセンブリ。
【請求項８】
前記パックピンが、パックピン本体と、前記パックピン本体上に設けられたパックヘッドとを備える、請求項６に記載のアセンブリ。
【請求項９】
前記基部が、
概ね長形の基部プレートと、前記基部プレートから延びる互いに離間した一対の基部フランジと、前記基部プレート及び前記一対の基部フランジの各々に支持される複数の係合部材とを有する、請求項１記載のパーツ位置決めアセンブリ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
特定の実施例に関連させて本発明について説明したが、この特定の実施例は説明を目的とした非限定的なものであり、当業者であれば他に変形例を考慮することが可能である。
また、本発明は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
基部、
前記基部に支持される支柱、及び
前記支柱に取り外し可能に取り付けられるパック
を備えるパーツ位置決めアセンブリ。
（態様２）
前記パックが、ディスク状のパック本体と、複数の概ね長形の接触端を有する複数の接触歯とを備えており、前記接触歯の各々が、前記パック本体の縁から前記パック本体の面を越えて延び、且つ互いに離間している、態様１に記載のアセンブリ。
（態様３）
カウンタボアを更に備える、態様２に記載のアセンブリ。
（態様４）
前記パック本体から延びて、前記支柱用の開口と概ね整列する取り付け用襟部を更に備える、態様３に記載のアセンブリ。
（態様５）
前記パックが、概ね細長い楕円形のパック本体と、複数の概ね長形の接触端を有する複数の接触歯とを備えており、前記接触歯の各々が、前記パック本体の縁から前記パック本体の面を越えて延び、且つ互いに離間している、態様１に記載のアセンブリ。
（態様６）
互いに離間した、前記パック本体を通る支柱用開口と、前記パック本体から延びるピンとを更に備える、態様５に記載のアセンブリ。
（態様７）
前記パック本体から延びて、前記支柱用開口と概ね整列する取り付け用襟部を更に備える、態様６に記載のアセンブリ。
（態様８）
前記パックが、取り付け用ピン又は取り付け用襟部と、前記取り付け用ピン又は取り付け用襟部から延びる概ねドーム状のパック本体とを備える、態様１に記載のアセンブリ。
（態様９）
基部、
前記基部に支持される支柱、及び
概ね円筒状のパック本体を有し、前記支柱に取り外し可能に取り付けられるパック
を備えるパーツ位置決めアセンブリ。
（態様１０）
各々が前記パック本体の縁に設けられた概ね長形の接触端を有する複数の接触歯を更に備える態様９に記載のアセンブリ。
（態様１１）
前記パック本体から延びるパックピンを更に備える、態様１０に記載のアセンブリ。
（態様１２）
前記パックピンが、パックピン本体と、前記パックピン本体によって支持される概ね円形のパックピンプレートと、前記パックピンプレートから延びるピンとを備える、態様１１に記載のアセンブリ。
（態様１３）
前記ピンの直径が、前記パックピン本体の直径とほぼ等しい、態様１２に記載のアセンブリ。
（態様１４）
前記パックピンが、パックピン本体と、前記パックピン本体上に設けられたパックヘッドとを備える、態様１１に記載のアセンブリ。
（態様１５）
前記パックヘッド上に設けられた肩部を更に備える、態様１４に記載のアセンブリ。
（態様１６）
それぞれが前記パック本体の縁に設けられて複数の概ね長形の接触端を有する複数の接触歯と、前記パック本体を通る支柱用開口と、前記パック本体から延びて、前記支柱用開口と概ね整列する取り付け用襟部とを更に備える、態様９に記載のアセンブリ。
（態様１７）
概ね長形の基部プレートと、前記基部プレートから延びる互いに離間した一対の基部フランジと、前記基部プレート及び前記一対の基部フランジの各々に支持される複数の係合部材とを有する基部、
前記基部に支持される支柱、及び
前記支柱に取り外し可能に取り付けられるパック
を備える、パーツ位置決めアセンブリ。
（態様１８）
前記パックが概ね円筒状のパック本体を備える、態様１７に記載のアセンブリ。
（態様１９）
それぞれが前記パック本体の縁に設けられて複数の概ね長形の接触端を有する複数の接触歯を更に備える、態様１８に記載のアセンブリ。
（態様２０）
前記パックに支持されるパックピンを更に備える、態様１７に記載のアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月8日(2010.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記検査装置を用いての前記マスクレチクルの照明が、前記リソグラフィー装置の照明の光学パラメターに合致した照明のパラメターを用いた前記レチクルの照明を含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３１】
前記処理回路が、前記複数の画像センサの前記複数の出力信号を受けて、前記リソグラフィー装置を通して投影されるマスクレチクルの像に関連する再生画像を得るために前記複数の出力信号を処理するよう構成された回路を含む、請求項３０に記載の検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月14日(2011.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア材からなるコアと、クラッド材からなるクラッドとを含む光ファイバであって、
前記コアのゲルマニウム含有量は、０．１ａｔ％未満であり、
前記光ファイバは、非線形の微小構造光ファイバであり、
前記微小構造光ファイバは、水素と重水素のうちの少なくとも一方によって、前記コア材と、任意で前記クラッド材とをロードするロード工程を含む製造方法によって得られることを特徴とする、光ファイバ。
【請求項２】
前記ロード工程は、ａ）上昇した温度Ｔ、ｂ）上昇した圧力Ｐ、およびｃ）その後に行われる照射のうち少なくとも一つを含むロード条件下で、前記光ファイバを水素と重水素のうちの少なくとも一方に適切に置くことによって行われる、
請求項１記載の光ファイバ。
【請求項３】
前記ロード工程は、水素と重水素のうちの少なくとも一方を前記コア材と前記クラッド材のうちの少なくとも一方に化学的に結合させるように、ロード条件下で前記光ファイバを水素と重水素のうちの少なくとも一方に適切に置くことによって行われる、
請求項１または２記載の光ファイバ。
【請求項４】
前記温度Ｔは、１２０°Ｃ以上であり、
前記圧力Ｐは、９０バール以上である、
請求項２記載の光ファイバ。
【請求項５】
前記ロード工程は、
前記光ファイバの形成前；
前記光ファイバの形成時；
前記光ファイバの形成後；および
前記光ファイバの使用後のうちの少なくとも何れか一つで行われる、
請求項１乃至４何れか一項記載の光ファイバ。
【請求項６】
前記製造方法は、前記ロード工程の後、前記コア材と前記クラッド材をアニールする工程を含む、
請求項１乃至５何れか一項記載の光ファイバ。
【請求項７】
前記コア材と前記クラッド材は、０．１原子パーセントつまり０．１ａｔ％を超える水素と重水素のうちの少なくとも一方を含む、
請求項１乃至６何れか一項記載の光ファイバ。
【請求項８】
請求項１乃至７何れか一項記載の光ファイバと；
供給部と
を含む光学システムであって、
前記供給部は前記光ファイバ内において１００Ｗ／μｍ２以上の最大出力密度のパルスで前記光ファイバを供給するよう構成された、光学システム。
【請求項９】
前記光ファイバは、５ａｔ％未満のＨ２とＨ＋イオンのうちの少なくとも一方を含有する媒質の環境に置かれる、
請求項８記載の光学システム。
【請求項１０】
パルスポンプ光源と；
請求項１乃至７何れか一項記載の光ファイバと
を含むスーパーコンティニューム光源であって、
前記ポンプと前記光ファイバは、少なくとも１０μＷ／ｎｍで１オクターブ上の出力スパンを出力するよう構成された、スーパーコンティニューム光源。
【請求項１１】
前記パルスポンプ光源は、
請求項８または９記載の光学システムである、
請求項１０記載のスーパーコンティニューム光源。
【請求項１２】
コア材からなるコアと、クラッド材からなるクラッドとを含む微細構造光ファイバの製造方法であって、前記光ファイバは、高パルスアプリケーションにおいて延長した寿命を有し、前記製造方法は、
ａ）水素と重水素のうちの少なくとも一方によって、前記コア材と、任意で前記クラッド材とをロードするロード工程と、
ｂ）温度Ｔａｎｎｅａｌで時間ｔａｎｎｅａｌの間、任意でアニールするアニール工程と
を含むことを特徴とする、製造方法。
【請求項１３】
前記ロード工程は、水素と重水素のうちの少なくとも一方を、前記コア材と前記クラッド材のうちの少なくとも一方に化学的に結合させるように、ロード条件下で前記コア材と前記クラッド材を水素と重水素のうちの少なくとも一方に適切に置くことによって行われる、
請求項１２記載の製造方法。
【請求項１４】
前記ロード工程は、ａ）上昇した温度Ｔ、ｂ上昇した圧力Ｐ、およびｃ）その後に行われる照射のうち少なくとも一つを含むロード条件下で、前記コア材と前記クラッド材を水素と重水素のうちの少なくとも一方に適切に置くことによって行われる、
請求項１２または１３記載の製造方法。
【請求項１５】
前記温度Ｔは、１２０°Ｃ以上であり、
前記圧力Ｐは、９０バール以上である、
請求項１４記載の製造方法。
【請求項１６】
コア材からなるコアと、クラッド材からなるクラッドとを含む微細構造光ファイバの再生方法であって、
前記光ファイバは、可視領域で吸収が増加するように高パルスアプリケーションにおいてパルス処理され、
前記再生方法は、
請求項１２乃至１５何れか一項記載の光ファイバの製造方法による水素と重水素のうちの少なくとも一つを光ファイバにロードするロード工程を含む、再生方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月31日(2011.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直に配向された固定構造体に取り付けられる電子ディスプレイシステムにおいて、
電子ディスプレイ装置と、
固定構造体に取り付けられる支持構造体と、
支持構造体に対して動作可能に連結されたチルトヘッドアセンブリであって、電子ディスプレイを受容するディスプレイ装着面を備えるとともに、水平軸を中心に電子ディスプレイ装置をその上縁及び下縁がそれぞれ固定構造体から第１の距離だけ離間する第１の位置と、下縁が固定構造体から第１の距離だけ離間し、かつ上縁が第１の距離よりも長い第２の距離だけ離間する第２の位置との間を傾動させるチルトヘッドアセンブリとからなるシステム。
【請求項２】
前記電子ディスプレイ装置が第１の位置と第２の位置との間において傾動される時、該電子ディスプレイ装置の重心は水平な直線経路に沿って移動することを特徴とする請求項１のシステム。
【請求項３】
前記チルトヘッドアセンブリは支持構造体に対して上下に旋回可能に枢支され、この上下方向において旋回可能に枢支する軸を中心に電子ディスプレー装置が回動することを特徴とする請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記チルトヘッドアセンブリを支持構造体に動作可能に連結し、上下方向において旋回可能に枢支する軸を構成する管状の垂直に延びる支柱を備えることを特徴とする請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記支持構造体は、電子ディスプレイ装置を固定構造体に接近した位置と、固定構造体から離間した位置との間を水平方向に移動させる延長アームアセンブリを備えることを特徴とする請求項1乃至４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項６】
支柱上に設けた揺動制限カムと、他の支柱上に設けた揺動停止部材とが協働して電子ディスプレイ装置の前記枢支する軸を中心とした旋回を所定の角度範囲に制限することを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記電子ディスプレイ装置が延長アームアセンブリによって固定構造体から離間される時、前記所定の角度範囲が増加するように前記揺動制限カムと揺動停止部材とが形成及び配置されていることを特徴とする請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
電子ディスプレイを垂直に配向された面に取り付ける装置であって、
ディスプレイ接合構造体と、
前記ディスプレイ接合構造体に対して動作可能に連結された支持構造体と、
前記電子ディスプレイをディスプレイ接合構造体から前方に離間する水平軸の周りに回転可能に位置させるチルトヘッドアセンブリとを備え、該チルトヘッドアセンブリは前記支持構造体に動作可能に連結される取付部材と、電子ディスプレイの水平軸を中心とした回動の軌跡を、同電子ディスプレイの上縁が垂直に配向された壁から離間するように傾斜するが、電子ディスプレイの下縁は垂直に配向された壁との距離が異なることがないように画定する第１及び第２のガイド構造体とを有し、前記電子ディスプレイは回動の軌跡のいずれの位置においても自己のバランスを保ち、前記支持構造体は取付部材にも連結されていることを特徴とする装置。
【請求項９】
前記上縁は３０度にわたって回動可能であることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１及び第２のガイド構造体は電子ディスプレイが回動軌跡上を回動する時、同電子ディスプレイの重心が水平方向に延びる直線状の軌跡上を移動することを特徴とする請求項８又は９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１及び第２のガイド構造体は楕円状の穴を有することを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか1項に記載の装置。
【請求項１２】
前記チルトヘッドは電子ディスプレイを安定させるための摩擦要素を備えることを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか1項に記載の装置。
【請求項１３】
電子ディスプレイを垂直に配向された面に取り付ける装置であって、
ディスプレイ接合構造体と、
前記電子ディスプレイを鉛直方向に延びる軸を中心に回動可能に支持する支持構造体と、
前記電子ディスプレイを鉛直方向に延びる軸に取り付ける手段とを有し、前記電子ディスプレイは自己のバランスを保ち、前記支持構造体はディスプレイ接合構造体及び電子ディスプレイを鉛直方向に延びる軸に取り付ける手段に連結されていることを特徴とする装置。
【請求項１４】
前記支持構造体は、電子ディスプレイ装置を垂直に配向された面に接近した位置と、同面から離間した位置との間を水平方向に移動させる延長アームアセンブリを備えることを特徴とする請求項1３項に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月19日(2010.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データフィードを受信するステップ；
前記受信されたデータフィードのコンテンツがキーワードを含むか否かを判定するステップ；および
前記コンテンツが前記キーワードを含む場合、ユーザに通知するための信号を生成するステップ；
を有する方法。
【請求項２】
前記信号は、インジケータを機能させる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記受信されたデータフィードにアクセスするための前記ユーザからの入力に応答して、前記インジケータを機能させなくするステップ、をさらに有する請求項２記載の方法。
【請求項４】
当該方法は、ウェブ・ブラウザを含まない装置を使用してインプリメントされる、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記装置は、ベースモジュール、および電話機ハンドセットのうちの少なくとも一つを含む、請求項４記載の方法。
【請求項６】
データフィードを受信するための手段；および
前記受信されたデータフィードのコンテンツがキーワードを含むか否かを判定するための手段；を有する装置であって、
前記コンテンツが前記キーワードを含むと、前記判定するための手段が判定する場合、前記判定するための手段は、ユーザに通知するための信号を生成する装置。
【請求項７】
前記信号は、インジケータを機能させる、請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記判定するための手段は、前記受信されたデータフィードにアクセスするための前記ユーザからの入力に応答して、前記インジケータを機能させなくする、請求項７記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月13日(2010.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
ディスプレイデバイス上にビデオ画像を表示する方法であって、
前記ディスプレイデバイスのディスプレイスクリーン上に前記ビデオ画像を表示するステップと、
前記ディスプレイスクリーン上の前記ビデオ画像の視聴を向上させるために、光又は照明システムの少なくとも１つの光源の支援で照明及び／又は光効果を生成するステップとを有し、
前記少なくとも１つの光源は、前記ディスプレイスクリーンのピクセルエリアと前記光又は照明システムの前部との間のダークエリアを照らし、これにより、パネルリムの前記エリアを照明でカバーする、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月6日(2011.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
画質を向上させ、製品化に要する時間を短縮し、および／または効果的な品質管理を提
供するための、デジタルカメラモジュールを較正するシステムおよび方法が必要とされて
いる。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
【特許文献１】米国特許第５，４１０，１５３号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００４／０２１２６８５号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００４／０２６４５４２号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２００６／０２７４１８８号明細書
【特許文献５】米国特許第４，６９２，８８３号明細書
【特許文献６】米国特許第４，８９８，４６７号明細書
【特許文献７】日本特許第２００３−２１４９５１号明細書
【非特許文献１】Ｂａｙｅｓｉａｎ  ｃｏｌｏｒ  ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ  ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  ｎｏｎ−ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｒｉｃ  ｄｉｇｉｔａｌ  ｉｍａｇｅ  ｓｅｎｓｏｒｓ，Ｚｈａｎｇ，Ｘ．ａｎｄ  Ｂｒａｉｎａｒｄ，Ｄ．Ｈ．，Ｎｏｖｅｍｂｅｒ  ２００４，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  １２ｔｈ  ＩＳ&Ｔ／ＳＩＤ  Ｃｏｌｏｒ  Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，Ｓｃｏｔｔｓｄａｌｅ，ＡＺ，３０８−３１４．
【非特許文献２】Ｕｎｄｅｒｓｔａｎｄｉｎｇ Ｈｏｗ  Ｉｍａｇｅ Ｓｅｎｓｏｒｓ  Ｗｏｒｋ，Ｏｂｔａｉｎｅｄ  Ｍａｒｃｈ  ２３，２００６，ｗｗｗ．ｓｈｏｒｔｃｏｕｒｓｅｓ．ｃｏｍ／ｈｏｗ／ｓｅｎｓｏｒｓ／ｓｅｎｓｏｒｓ．ｈｔｍ．