【手続補正書】
【提出日】平成23年8月3日(2011.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2010535794.tif 000001
（式中、
ｋは１又は２であり、
Ｙは、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2又は−（ＣＨ2）nＲfであり、
Ｘは、水素、−（ＣＨ2）nＲf又は−Ｃ（Ｏ）［ＣＦ（Ａ）］p−Ｂ−Ｒfであり、
Ｂは、共有結合、−Ｏ−および−（ＣＨ2）m−からなる群から選択される２価の基であり、
ｍは１〜約１０の整数であり、
ｐは０又は１の整数であるが、但し、ｐが０のとき、Ｂは共有結合又は−（ＣＨ2）m−であり、
ｎは約３〜約１０の整数であり、
Ａは−Ｆ又は−ＣＦ3であり、
各Ｒfは、独立して、任意に１個以上の酸素で中断されたＣ1〜Ｃ6過フッ素化直鎖又は分岐鎖アルキルであり、
Ｒ0は、Ｒ01であるか、又は、−Ｏ−、−ＯＨ、−ＮＲ−、−Ｎ（Ｒ）2、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ−からなる群から選択される１個以上の親水基で中断若しくは置換された炭素数約１０〜約１００の直鎖若しくは分岐鎖アルキルであり、ａ）親水基、対、炭素原子の比は約１：２〜約１：１０であり、ｂ）各炭素原子には１個以下の親水基が結合しており、ｃ）親水基間の共有結合は存在せず、
Ｒは、水素、又は、Ｃ1〜Ｃ4直鎖若しくは分岐鎖アルキルであり、
Ｒ01は、約５〜約５０個のエーテル酸素で中断された炭素数約１０〜約１００の直鎖又は分岐鎖脂肪族基であり、ａ）エーテル酸素、対、炭素原子の比は約１：２〜約１：３であり、ｂ）各炭素原子には１個以下のエーテル酸素原子が結合しており、ｃ）エーテル酸素原子間の共有結合は存在せず、
但し、
１）Ｙが−（ＣＨ2）nＲfのとき、Ｒ0はＲ01であり、
２）Ｘが水素のとき、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2であり、
３）Ｘが−（ＣＨ2）nＲfであり、Ｙが−（ＣＨ2）nＲfのとき、Ｒ0はＲ01である）
の化合物。
【請求項２】
第一級アミンをヘキサフルオロイソブチレンと接触させて、ヘキサフルオロイソブチル基が前記アミンに共有結合した第二級フルオロアルキルアミンを得る工程を含む、第一級アミンのフルオロアルキル化の方法であって、前記接触させる工程が、任意に、アルコール、アルキルエーテル、アルキルエステル、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、ニトリル、およびアミドからなる群から選択される溶媒の存在下で行われる、方法。
【請求項３】
媒体を式（Ｉ）：
【化２】
2010535794.tif 000002
（式中、
ｋは１又は２であり、
Ｙは、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2又は−（ＣＨ2）nＲfであり、
Ｘは、水素、−（ＣＨ2）nＲf又は−Ｃ（Ｏ）［ＣＦ（Ａ）］p−Ｂ−Ｒfであり、
Ｂは、共有結合、−Ｏ−および−（ＣＨ2）m−からなる群から選択される２価の基であり、
ｍは１〜約１０の整数であり、
ｐは０又は１の整数であるが、但し、ｐが０のとき、Ｂは共有結合又は−（ＣＨ2）m−であり、
ｎは約３〜約１０の整数であり、
Ａは−Ｆ又は−ＣＦ3であり、
各Ｒfは、独立して、任意に１個以上の酸素で中断されたＣ1〜Ｃ6過フッ素化直鎖又は分岐鎖アルキルであり、
Ｒ0は、Ｒ01であるか、又は、−Ｏ−、−ＯＨ、−ＮＲ−、−Ｎ（Ｒ）2、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ−からなる群から選択される１個以上の親水基で中断若しくは置換された炭素数約１０〜約１００の直鎖若しくは分岐鎖アルキルであり、ａ）親水基、対、炭素原子の比は約１：２〜約１：１０であり、ｂ）各炭素原子には１個以下の親水基が結合しており、ｃ）親水基間の共有結合は存在せず、
Ｒは、水素、又は、Ｃ1〜Ｃ4直鎖若しくは分岐鎖アルキルであり、
Ｒ01は、約５〜約５０個のエーテル酸素で中断された炭素数約１０〜約１００の直鎖又は分岐鎖脂肪族基であり、ａ）エーテル酸素、対、炭素原子の比は約１：２〜約１：３であり、ｂ）各炭素原子には１個以下のエーテル酸素原子が結合しており、ｃ）エーテル酸素原子間の共有結合は存在せず、
但し、
１）Ｙが−（ＣＨ2）nＲfのとき、Ｒ0はＲ01であり、
２）Ｘが水素のとき、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2であり、
３）Ｘが−（ＣＨ2）nＲfであり、Ｙが−（ＣＨ2）nＲfのとき、Ｒ0はＲ01である）
の組成物と接触させる工程を含む、媒体の表面張力を低下させる方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
表４のデータから、実施例６の方が比較例Ｃより優れた性能を示したことが分かる。
なお、本発明は、特許請求の範囲を含め、以下の発明を包含する。
１．式（Ｉ）：
【化３】
2010535794.tif 000003
（式中、
ｋは１又は２であり、
Ｙは、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2又は−（ＣＨ2）nＲfであり、
Ｘは、水素、−（ＣＨ2）nＲf又は−Ｃ（Ｏ）［ＣＦ（Ａ）］p−Ｂ−Ｒfであり、
Ｂは、共有結合、−Ｏ−および−（ＣＨ2）m−からなる群から選択される２価の基であり、
ｍは１〜約１０の整数であり、
ｐは０又は１の整数であるが、但し、ｐが０のとき、Ｂは共有結合又は−（ＣＨ2）m−であり、
ｎは約３〜約１０の整数であり、
Ａは−Ｆ又は−ＣＦ3であり、
各Ｒfは、独立して、任意に１個以上の酸素で中断されたＣ1〜Ｃ6過フッ素化直鎖又は分岐鎖アルキルであり、
Ｒ0は、Ｒ01であるか、又は、−Ｏ−、−ＯＨ、−ＮＲ−、−Ｎ（Ｒ）2、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ−からなる群から選択される１個以上の親水基で中断若しくは置換された炭素数約１０〜約１００の直鎖若しくは分岐鎖アルキルであり、ａ）親水基、対、炭素原子の比は約１：２〜約１：１０であり、ｂ）各炭素原子には１個以下の親水基が結合しており、ｃ）親水基間の共有結合は存在せず、
Ｒは、水素、又は、Ｃ1〜Ｃ4直鎖若しくは分岐鎖アルキルであり、
Ｒ01は、約５〜約５０個のエーテル酸素で中断された炭素数約１０〜約１００の直鎖又は分岐鎖脂肪族基であり、ａ）エーテル酸素、対、炭素原子の比は約１：２〜約１：３であり、ｂ）各炭素原子には１個以下のエーテル酸素原子が結合しており、ｃ）エーテル酸素原子間の共有結合は存在せず、
但し、
１）Ｙが−（ＣＨ2）nＲfのとき、Ｒ0はＲ01であり、
２）Ｘが水素のとき、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2であり、
３）Ｘが−（ＣＨ2）nＲfであり、Ｙが−（ＣＨ2）nＲfのとき、Ｒ0はＲ01である）
の化合物。
２．１）ＸがＨであり、Ｙが−ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2である、２）Ｘが−（ＣＨ2）nＲfであり、Ｙが−ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2である、又は３）Ｘが−Ｃ（Ｏ）［ＣＦ（Ａ）］p−Ｂ−Ｒfであり、ＹがＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2である、１に記載の化合物。
３．１）Ｘが−（ＣＨ2）nＲfであり、Ｙが−（ＣＨ2）nＲfであり、Ｒ0がＲ01である、又は２）Ｘが−Ｃ（Ｏ）［ＣＦ（Ａ）］p−Ｂ−Ｒfであり、Ｙが−（ＣＨ2）nＲfであり、Ｒ0がＲ01である、１に記載の化合物。
４．ＲfがＣ3Ｆ7−であり、Ｂが−Ｏ−であり、ｐが１であり、Ａが−ＣＦ3である、２又は３に記載の化合物。
５．第一級アミンをヘキサフルオロイソブチレンと接触させて、ヘキサフルオロイソブチル基が前記アミンに共有結合した第二級フルオロアルキルアミンを得る工程を含む、第一級アミンのフルオロアルキル化の方法であって、前記接触させる工程が、任意に、アルコール、アルキルエーテル、アルキルエステル、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、ニトリル、およびアミドからなる群から選択される溶媒の存在下で行われる、方法。
６．前記接触させる工程が、第三級アルキルアミン、アルカリ金属水酸化物、およびアルカリ金属水素化物からなる群から選択される塩基触媒の存在下で行われる、５に記載の方法。
７．前記第一級アミンが、式Ｒ02（ＮＨ2）q（式中、ｑは１〜約１００の整数であり；Ｒ02は、−Ｏ−、−ＯＨ、−ＮＲ−、−Ｎ（Ｒ）2、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ−からなる群から選択される１個以上の親水基によって中断又は置換された基を含む、炭素数１〜約１００の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基、又は脂環式基、又はこれらの組み合わせとして定義され；但し、１）前記第一級アミン、ｑと親水基の合計が、Ｒ02中の炭素原子の総数以下であり；２）各炭素原子には１個以下の第一級アミン又は親水基が結合しており、３）親水基間の共有結合は存在しない）のモノアミン又はポリアミンである、５に記載の方法。
８．前記第一級アミンを含む親水基、対、炭素原子の比が約１：２〜約１：１０である、７に記載の方法。
９．媒体を式（Ｉ）：
【化４】
2010535794.tif 000004
（式中、
ｋは１又は２であり、
Ｙは、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2又は−（ＣＨ2）nＲfであり、
Ｘは、水素、−（ＣＨ2）nＲf又は−Ｃ（Ｏ）［ＣＦ（Ａ）］p−Ｂ−Ｒfであり、
Ｂは、共有結合、−Ｏ−および−（ＣＨ2）m−からなる群から選択される２価の基であり、
ｍは１〜約１０の整数であり、
ｐは０又は１の整数であるが、但し、ｐが０のとき、Ｂは共有結合又は−（ＣＨ2）m−であり、
ｎは約３〜約１０の整数であり、
Ａは−Ｆ又は−ＣＦ3であり、
各Ｒfは、独立して、任意に１個以上の酸素で中断されたＣ1〜Ｃ6過フッ素化直鎖又は分岐鎖アルキルであり、
Ｒ0は、Ｒ01であるか、又は、−Ｏ−、−ＯＨ、−ＮＲ−、−Ｎ（Ｒ）2、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ−からなる群から選択される１個以上の親水基で中断若しくは置換された炭素数約１０〜約１００の直鎖若しくは分岐鎖アルキルであり、ａ）親水基、対、炭素原子の比は約１：２〜約１：１０であり、ｂ）各炭素原子には１個以下の親水基が結合しており、ｃ）親水基間の共有結合は存在せず、
Ｒは、水素、又は、Ｃ1〜Ｃ4直鎖若しくは分岐鎖アルキルであり、
Ｒ01は、約５〜約５０個のエーテル酸素で中断された炭素数約１０〜約１００の直鎖又は分岐鎖脂肪族基であり、ａ）エーテル酸素、対、炭素原子の比は約１：２〜約１：３であり、ｂ）各炭素原子には１個以下のエーテル酸素原子が結合しており、ｃ）エーテル酸素原子間の共有結合は存在せず、
但し、
１）Ｙが−（ＣＨ2）nＲfのとき、Ｒ0はＲ01であり、
２）Ｘが水素のとき、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）2であり、
３）Ｘが−（ＣＨ2）nＲfであり、Ｙが−（ＣＨ2）nＲfのとき、Ｒ0はＲ01である）
の組成物と接触させる工程を含む、媒体の表面張力を低下させる方法。
１０．前記媒体が、コーティング組成物、ラテックス、ポリマー、床仕上げ剤、インク、乳化剤、発泡剤、離型剤、撥水撥油剤、流れ調整剤、皮膜蒸発抑制剤、湿潤剤、浸透剤、クリーナー、研削剤、電気めっき剤、腐食防止剤、エッチング液、半田剤、分散助剤、微生物剤、パルプ剤、すすぎ助剤、艶出剤、パーソナルケア組成物、乾燥剤、帯電防止剤、床磨き剤、又は結合剤である、９に記載の方法。