【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年6月8日(2011.6.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不導電性固体を穴あけする方法であって、
（ａ）所定波長のマイクロ波放射を発生するステップと、
（ｂ）マイクロ波集中装置を用いて固体の一部を除去するのに十分な熱を発生して穴を形成し、それによって固体に穴を形成するように、マイクロ波放射を固体の小さな領域に集中するステップと、
（ｃ）前記マイクロ波集中装置の少なくとも１つの内部導体を、前記穴の中に、前記穴を深くするように進ませるステップと、を含み、
前記小さな領域が、前記波長より短い少なくとも一つの寸法を有し、
前記マイクロ波集中装置が前記内部導体、前記内部導体を囲む絶縁部、前記絶縁部を囲む外部導電性被覆を有する導波管として形成され、前記外部導電性被覆は開口した終端部を有し、前記内部導体は前記終端部を超えて延びる、ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記絶縁部は、空気層、または固体誘電体の少なくともいずれか一つを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記小さな領域が中心点に対して回転対称である請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記内部導体が中心軸を有し、前記中心軸に直交する方向における寸法が前記波長より短い、請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
前記内部導体が中心軸および端を有し、該端に隣接する位置で前記中心軸に垂直な内部導体を通る断面が非円形を示す請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
前記絶縁部が、誘電体スリーブから構成される、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】    
前記誘電体スリーブが前記終端部を超えて延びる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記誘電体スリーブが前記内部導体と前記外部導電性被覆の間の隙間を満たす、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記内部導体および前記外部導電性被覆が同軸である請求項１または２に記載の方法。
【請求項１０】
前記終端部に隣接する前記外部導電性被覆の少なくとも一部が、前記内部導体の前記終端部を超えて延びる距離が変化するように、前記内部導体に対して伸縮自在に取り付けられる請求項１または２に記載の方法。
【請求項１１】
前記延長距離を増加して穴を深くするために前記内部導体を穴に挿入するように、前記外部導電性被覆を前記内部導体に対して後退させるステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  
前記マイクロ波集中装置を構成する前記内部導体、前記内部導体及び前記誘電体スリーブ、前記外部導電性被覆と一体化されたかんむりのこ、及び前記外部導電性被覆の周囲に設けられたかんむりのこ、のうちのいずれかの回転を発生するステップをさらに含む請求項６に記載の方法。
【請求項１３】
前記マイクロ波集中装置を構成する前記内部導体の外面に、または、前記内部導体及び前記誘電体スリーブの外面に、溶けた材料の穴からの除去を強化するために螺旋状の溝が形成される、請求項６に記載の方法。
【請求項１４】    
固体に形成される穴を広げるように、前記マイクロ波集中装置の前記内部導体の中心軸の延びる方向を変えるステップをさらに含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項１５】
前記内部導体の位置を変えることでマイクロ波放射が集中される領域が穴を深くするように変更される請求項１または２に記載の方法。
【請求項１６】
前記穴を拡大して細長い溝を形成するように、マイクロ波放射の集中の位置を固体を横切って移動させるステップをさらに含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項１７】
前記穴の形成を向上するために前記不導性固体から分離され前記穴の中に残っている材料を前記穴から除去する機械的作業を行う除去ステップをさらに含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項１８】
前記除去ステップがマイクロ波放射の前記発生中に行われる請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記マイクロ波放射の前記発生が前記除去ステップの実施中に中止される請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
不導電性固体を切断、または穴あけするマイクロ波装置であって、
（ａ）所定波長のマイクロ波を放射するマイクロ波源と、
（ｂ）マイクロ波放射を受取るように前記マイクロ波源に結合される集中手段と、を備え、前記集中手段はマイクロ波放射を少なくとも１つの内部導体を介して不導電性材料の小さな領域に集中させるために構成され、前記小さな領域が、前記波長より短い少なくとも一つの寸法を有し、
かつ前記集中手段は前記内部導体、前記内部導体を囲む絶縁部、前記絶縁部を囲む外部導電性被覆を有する導波管として形成され、前記外部導電性被覆は開口した終端部を有し、前記内部導体は前記終端部を超えて延びる、マイクロ波装置。
【請求項２１】
前記絶縁部は、空気層、または固体誘電体の少なくともいずれか一つを含む、請求項２０に記載のマイクロ波装置。  
【請求項２２】
前記集中手段が、不導電性材料に隣接して配置された場合にマイクロ波放射が、直径が前記波長の半分に等しい仮想の円筒内に在る材料の一部に向けられるように構成される請求項２０または２１に記載のマイクロ波装置。
【請求項２３】
前記絶縁部が誘電体スリーブから構成される、請求項２０から２２のいずれかに記載のマイクロ波装置。
【請求項２４】
前記誘電体スリーブが穴の内張りとして材料内に挿入されたままであるように、該誘電体スリーブが前記集中手段から切り離されるように構成される、請求項２３に記載のマイクロ波装置。
【請求項２５】
前記誘電体スリーブが前記終端部を超えて延びる、請求項２３に記載のマイクロ波装置。
【請求項２６】
前記誘電体スリーブが前記内部導体と前記外部導電性被覆の間の隙間を実質上満たす、請求項２３に記載のマイクロ波装置。
【請求項２７】
前記内部導体と前記外部導電性被覆が同軸である請求項２０または２１に記載のマイクロ波装置。
【請求項２８】    
前記終端部に隣接する前記外部導電性被覆の少なくとも一部が、前記内部導体の前記終端部を超えて延びる距離が変化するように、前記内部導体に対して伸縮自在に取り付けられる請求項２０または２１に記載のマイクロ波装置。
【請求項２９】
前記内部導体の一部が材料内に挿入されたままであるように、前記内部導体の一部が前記集中手段から切り離されるように構成される、請求項２０または２１に記載のマイクロ波装置。
【請求項３０】
少なくとも前記内部導体の回転を発生するように、前記集中手段に関連する回転駆動機構をさらに備える請求項２０または２１に記載のマイクロ波装置。
【請求項３１】
前記集中手段の前記内部導体の少なくとも一部に、外面が螺旋状の溝が形成される請求項３０に記載のマイクロ波装置。
【請求項３２】
前記内部導体が中心軸を有し、前記中心軸に直交する方向における寸法が前記波長より短い寸法を有する請求項２０または２１に記載のマイクロ波装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
本発明の別の特徴によれば、開放端に隣接する外部導電性被覆の少なくとも一部が、内部導体の開放端を超えて延びる距離が変化するように、内部導体に対して伸縮自在に取り付けられる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
本発明のさらなる特徴によれば、開放端に隣接する外部導電性被覆の少なくとも一部が、内部導体の開放端を超えて延びる距離が変化するように、内部導体に対して伸縮自在に取り付けられる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
この場合、開放端２６に隣接する外部導電性被覆２４の部分３０が、内部導体２２に対して伸縮自在に取付けられる。これは、開放端２６を越える内部導体２２の延長距離が変えられるのを可能にする。通常、伸縮自在部分３０は最初は前方の位置に配置され、内部導体が穴２０の中に進むにつれて後退するであろう。誘電性スリ−ブ２８もまた、伸縮自在に軸方向に滑ることが可能であり、または、ここに示された場合のように、内部導体２２に対して固定であることがある。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７７】
２つの特定の単一ユニット実施態様が図８Ａおよび８Ｂに示される。図８Ａは、同軸出力５２を備えるマグネトロン源５０が整合用ねじ５８を備える整合同軸導波管５４を通して集中装置５６に接続される同軸構造を示す。図８Ｂは、図４の集中装置に類似の集中装置５６の伸縮自在の変形体を示す。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】図面の簡単な説明
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図面の簡単な説明】
本発明は、例示のみの目的のため、添付図面を参照して、ここに説明される。
【図１】  固体に穴をあけるための、本発明の教示によって構成され操作するマイクロ波装置を示す図である。
【図２】  図１の装置で使用するマイクロ波集中装置の第１の実施態様の断面図である。
【図３】  図１の装置で使用するマイクロ波集中装置の第３の実施態様の断面図である。
【図４Ａ】  図１の装置で使用するマイクロ波集中装置の第４の実施態様の内部導体の側面図である。
【図４Ｂ】  図１の装置で使用するマイクロ波集中装置の第５の実施態様の内部導体の側面図である。
【図４Ｃ】  穴あけプロセスの機械的向上を与えるマイクロ波集中装置の追加の実施態様の断面図である。
【図５Ａ】  本発明によって行われる釘付け応用の結果の断面図である。
【図５Ｂ】  本発明の接合応用によって接合される２つの固体の断面図である。
【図５Ｃ】  本発明によって行われる裏付きの穴応用の結果の断面図である。
【図６】  図１の装置の分割ユニット実施形態のブロック図である。
【図７】  図１の装置の単一ユニット実施形態のブロック図である。
【図８Ａ】  図７の実施形態の第１の実施態様の断面図である。
【図８Ｂ】  伸縮自在の集中装置を用いる図８Ａの実施形態の変形体の部分図である。
【図９】  図７の実施形態の第２の実施態様の断面図である。
【図１０Ａ】  本発明の装置に使用する内部導体に対する多数の代替断面を示す図である。
【図１０Ｂ】  本発明の装置に使用する内部導体に対する多数の代替断面を示す図である。
【図１０Ｃ】  本発明の装置に使用する内部導体に対する多数の代替断面を示す図である。
【図１０Ｄ】  本発明の装置に使用する内部導体に対する多数の代替断面を示す図である。
【図１１】  溝をカットする本発明の応用の等角図である。