【手続補正書】
【提出日】平成22年11月30日(2010.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テトラフルオロホウ酸銀および水素源の存在下で、式６００に相当する３，４−ジヒドロイソキノリンを不斉触媒で処理するステップを含む、式７００に相当する１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリンの調製方法
【化２０】
2010512391.tif 000001
［式中、
Ｒ１およびＲ７は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ１１１であり、
Ｒ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ２１１であり、
Ｒ３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ３１１であり、
Ｒ４は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ４１１であり、
Ｒ５およびＲ６は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ１２１であり、
Ｒ１３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１７は、水素またはアシルであり、
Ｒ１１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ２１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ３１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ４１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ５１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ１２１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルである］。
【請求項２】
Ｒ２が、−ＯＲ２１１であり、
Ｒ２１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｒ３が、−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ４が、−ＯＲ４１１であり、
Ｒ４１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
Ｒ１２が、アルキル、アリル、ベンジルまたはハロである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
Ｒ２１２、Ｒ２１３、Ｒ２１４、Ｒ３１２、Ｒ３１３、Ｒ３１４、Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４が、メチルである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
Ｒ３が、メトキシであり、Ｒ４が、ヒドロキシル、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ３、−ＯＣ（Ｏ）Ｐｈまたは−ＯＳＯ２ＣＨ３であり、Ｒ６が、メトキシであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ１２およびＲ１３が、水素である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
Ｒ２が、−ＯＲ２１１であり、
Ｒ２１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４が、独立に、アルキルまたはアリールであり、
Ｒ３が、−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４が、独立に、アルキルまたはアリールであり、
Ｒ４が、−ＯＲ４１１であり、
Ｒ４１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
Ｒ２１２、Ｒ２１３、Ｒ２１４、Ｒ３１２、Ｒ３１３、Ｒ３１４、Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４が、メチルであり、Ｒ３が、メトキシであり、Ｒ４が、ヒドロキシル、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ３、−ＯＣ（Ｏ）Ｐｈまたは−ＯＳＯ２ＣＨ３であり、Ｒ６が、メトキシであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ１２およびＲ１３が、水素である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
３，４−ジヒドロイソキノリン１当量当たり約０．００５ｇ〜約０．０１５ｇのテトラフルオロホウ酸銀が使用される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
反応混合物の温度が約２０℃〜約３０℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記不斉触媒が、金属または金属源とキラル配位子とを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記金属または金属源が、ルテニウム、ルテニウム錯体、オスミウム、オスミウム錯体、ロジウム、ロジウム錯体、イリジウム、イリジウム錯体およびこれらの組合せから選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記キラル配位子が、式６７０または６８０の構造を有する、請求項１２に記載の方法
【化２１】
2010512391.tif 000002
［式中、
Ｒ６７１、Ｒ６７２およびＲ６７３は、独立に、アルキルまたはアリールであり、
Ｒ６８１は、アルキルまたはアリールである］。
【請求項１５】
前記キラル配位子が、（１Ｓ，２Ｓ）−（＋）−Ｎ−４−トリルスルホニル−１，２−ジフェニルエチレン−１，２−ジアミンである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記水素源がギ酸−トリエチルアミン塩混合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
ギ酸とトリエチルアミンの比が５対２である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
水素源の存在下で式６０１に相当する３，４−ジヒドロイソキノリンを不斉触媒で処理するステップを含む、式７０１に相当するテトラヒドロイソキノリンの調製方法
【化２２】
2010512391.tif 000003
［式中、
Ｒ１およびＲ７は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ１１１であり、
Ｒ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ２１１であり、
Ｒ３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ３１１であり、
Ｒ４は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ４１１であり、
Ｒ５およびＲ６は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ１２１であり、
Ｒ１３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１７は、水素またはアシルであり、
Ｒ１１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ２１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ３１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ４１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１２は、アルキルまたはアリールであり（ただし、Ｒ４１２はメチル以外である）、
Ｒ４１３およびＲ４１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ５１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ１２１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ２、Ｒ３またはＲ４の少なくとも１つは、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ２１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ２１３、−ＯＳＯ２Ｒ２１４、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ３１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ３１３、−ＯＳＯ２Ｒ３１４、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ４１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＯＳＯ２Ｒ４１４である］。
【請求項１９】
Ｒ２が、−ＯＲ２１１であり、
Ｒ２１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４が、独立に、アルキルまたはアリールであり、
Ｒ３が、−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４が、独立に、アルキルまたはアリールであり、
Ｒ４が、−ＯＲ４１１であり、
Ｒ４１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１３およびＲ４１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
Ｒ１２が、アルキル、アリル、ベンジルまたはハロである、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
Ｒ２１３、Ｒ２１４、Ｒ３１２、Ｒ３１３、Ｒ３１４、Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４が、メチルであり、Ｒ３が、メトキシであり、Ｒ４が、ヒドロキシル、−ＯＣ（Ｏ）Ｐｈまたは−ＯＳＯ２ＣＨ３であり、Ｒ６が、メトキシであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ１２およびＲ１３が、水素である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
反応混合物の温度が約２０℃〜約３０℃である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
前記不斉触媒が、金属または金属源とキラル配位子とを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２４】
前記金属または金属源が、ルテニウム、ルテニウム錯体、オスミウム、オスミウム錯体、ロジウム、ロジウム錯体、イリジウム、イリジウム錯体およびこれらの組合せから選択される、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記キラル配位子が、式６７０または６８０の構造を有する、請求項２３に記載の方法
【化２３】
2010512391.tif 000004
［式中、
Ｒ６７１、Ｒ６７２およびＲ６７３は、独立に、アルキルまたはアリールであり、
Ｒ６８１は、アルキルまたはアリールである］。
【請求項２６】
前記キラル配位子が、（１Ｓ，２Ｓ）−（＋）−Ｎ−４−トリルスルホニル−１，２−ジフェニルエチレン−１，２−ジアミンである、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
前記水素源がギ酸−トリエチルアミン塩混合物である、請求項１８に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
他の目的および特徴は、部分的に明らかであろうし、部分的に以下で指摘する。また本発明は以下を提供する：
（項目１）
テトラフルオロホウ酸銀および水素源の存在下で、式６００に相当する３，４−ジヒドロイソキノリンを不斉触媒で処理するステップを含む、式７００に相当する１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリンの調製方法
【化２０】
2010512391.tif 000005
［式中、
Ｒ１およびＲ７は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ１１１であり、
Ｒ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ２１１であり、
Ｒ３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ３１１であり、
Ｒ４は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ４１１であり、
Ｒ５およびＲ６は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ１２１であり、
Ｒ１３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１７は、水素またはアシルであり、
Ｒ１１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ２１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ３１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ４１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ５１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ１２１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルである］。
（項目２）
Ｒ２が、−ＯＲ２１１であり、
Ｒ２１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目１に記載の方法。
（項目３）
Ｒ３が、−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目１または２に記載の方法。
（項目４）
Ｒ４が、−ＯＲ４１１であり、
Ｒ４１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目１から３のいずれか一項に記載の方法。
（項目５）
Ｒ１２が、アルキル、アリル、ベンジルまたはハロである、項目１から４のいずれか一項に記載の方法。
（項目６）
Ｒ２１２、Ｒ２１３、Ｒ２１４、Ｒ３１２、Ｒ３１３、Ｒ３１４、Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４が、メチルである、項目１から５のいずれか一項に記載の方法。
（項目７）
Ｒ３が、メトキシであり、Ｒ４が、ヒドロキシル、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ３、−ＯＣ（Ｏ）Ｐｈまたは−ＯＳＯ２ＣＨ３であり、Ｒ６が、メトキシであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ１２およびＲ１３が、水素である、項目１に記載の方法。
（項目８）
３，４−ジヒドロイソキノリン１当量当たり約０．００５ｇ〜約０．０１５ｇのテトラフルオロホウ酸銀が使用される、項目１から７のいずれか一項に記載の方法。
（項目９）
反応混合物の温度が約２０℃〜約３０℃である、項目１から８のいずれか一項に記載の方法。
（項目１０）
前記不斉触媒が、金属または金属源とキラル配位子とを含む、項目１から９のいずれか一項に記載の方法。
（項目１１）
前記金属または金属源が、ルテニウム、ルテニウム錯体、オスミウム、オスミウム錯体、ロジウム、ロジウム錯体、イリジウム、イリジウム錯体およびこれらの組合せから選択される、項目１０に記載の方法。
（項目１２）
前記キラル配位子が、式６７０または６８０の構造を有する、項目１０または１１に記載の方法
【化２１】
2010512391.tif 000006
［式中、
Ｒ６７１、Ｒ６７２およびＲ６７３は、独立に、アルキルまたはアリールであり、
Ｒ６８１は、アルキルまたはアリールである］。
（項目１３）
前記キラル配位子が、（１Ｓ，２Ｓ）−（＋）−Ｎ−４−トリルスルホニル−１，２−ジフェニルエチレン−１，２−ジアミンである、項目１２に記載の方法。
（項目１４）
前記水素源がギ酸−トリエチルアミン塩混合物である、項目１から１３のいずれか一項に記載の方法。
（項目１５）
ギ酸とトリエチルアミンの比が５対２である、項目１４に記載の方法。
（項目１６）
水素源の存在下で式６０１に相当する３，４−ジヒドロイソキノリンを不斉触媒で処理するステップを含む、式７０１に相当するテトラヒドロイソキノリンの調製方法
【化２２】
2010512391.tif 000007
［式中、
Ｒ１およびＲ７は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ１１１であり、
Ｒ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ２１１であり、Ｒ３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ３１１であり、
Ｒ４は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ４１１であり、
Ｒ５およびＲ６は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ１２１であり、
Ｒ１３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１７は、水素またはアシルであり、
Ｒ１１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ２１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ３１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ４１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１２は、アルキルまたはアリールであり（ただし、Ｒ４１２はメチル以外である）、Ｒ４１３およびＲ４１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ５１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ１２１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ２、Ｒ３またはＲ４の少なくとも１つは、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ２１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ２１３、−ＯＳＯ２Ｒ２１４、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ３１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ３１３、−ＯＳＯ２Ｒ３１４、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ４１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＯＳＯ２Ｒ４１４である］。
（項目１７）
Ｒ２が、−ＯＲ２１１であり、
Ｒ２１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目１６に記載の方法。
（項目１８）
Ｒ３が、−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目１６または１７に記載の方法。
（項目１９）
Ｒ４が、−ＯＲ４１１であり、
Ｒ４１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１３およびＲ４１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目１６から１８のいずれか一項に記載の方法。
（項目２０）
Ｒ１２が、アルキル、アリル、ベンジルまたはハロである、項目１６から１９のいずれか一項に記載の方法。
（項目２１）
Ｒ２１３、Ｒ２１４、Ｒ３１２、Ｒ３１３、Ｒ３１４、Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４が、メチルである、項目１６から２０のいずれか一項に記載の方法。
（項目２２）
Ｒ３が、メトキシであり、Ｒ４が、ヒドロキシル、−ＯＣ（Ｏ）Ｐｈまたは−ＯＳＯ２ＣＨ３であり、Ｒ６が、メトキシであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ１２およびＲ１３が、水素である、項目１６に記載の方法。
（項目２３）
反応混合物の温度が約２０℃〜約３０℃である、項目１６から２２のいずれか一項に記載の方法。
（項目２４）
前記不斉触媒が、金属または金属源とキラル配位子とを含む、項目１６から２３のいずれか一項に記載の方法。
（項目２５）
前記金属または金属源が、ルテニウム、ルテニウム錯体、オスミウム、オスミウム錯体、ロジウム、ロジウム錯体、イリジウム、イリジウム錯体およびこれらの組合せから選択される、項目２４に記載の方法。
（項目２６）
前記キラル配位子が、式６７０または６８０の構造を有する、項目２４または２５に記載の方法
【化２３】
2010512391.tif 000008
［式中、
Ｒ６７１、Ｒ６７２およびＲ６７３は、独立に、アルキルまたはアリールであり、
Ｒ６８１は、アルキルまたはアリールである］。
（項目２７）
前記キラル配位子が、（１Ｓ，２Ｓ）−（＋）−Ｎ−４−トリルスルホニル−１，２−ジフェニルエチレン−１，２−ジアミンである、項目２６に記載の方法。
（項目２８）
前記水素源がギ酸−トリエチルアミン塩混合物である、項目１６から２７のいずれか一項に記載の方法。
（項目２９）
式７０４に相当するテトラヒドロイソキノリンを還元するステップを含む、式８００に相当するヘキサヒドロイソキノリンの調製方法
【化２４】
2010512391.tif 000009
［式中、
Ｒ１およびＲ７は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ１１１であり、
Ｒ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ２１１であり、Ｒ３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ３１１であり、
Ｒ４は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ４１１であり、Ｒ５およびＲ６は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ１２１であり、
Ｒ１３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１７は、水素またはアシルであり、
Ｒ２１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ２１５であり、
Ｒ３１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ３１５であり、
Ｒ４１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ４１５であり、
Ｒ１１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ２１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ２１５は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ３１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３またはＲ３１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ３１５は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ４１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１２は、水素、アルキルまたはアリールであり（ただし、Ｒ４１２はフェニル以外である）、
Ｒ４１３およびＲ４１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、Ｒ４１５は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ５１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ１２１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ１は、ヒドロキシルであり、および／あるいはＲ２、Ｒ３またはＲ４の少なくとも１つは、ヒドロキシル、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ２１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ２１３、−ＯＳＯ２Ｒ２１４、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ３１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ３１３、−ＯＳＯ２Ｒ３１４、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ４１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＯＳＯ２Ｒ４１４である］。
（項目３０）
Ｒ２が、−ＯＲ２１１であり、
Ｒ２１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目２９に記載の方法。
（項目３１）
Ｒ３が、−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目２９または３０に記載の方法。
（項目３２）
Ｒ４が、−ＯＲ４１１であり、
Ｒ４１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１２が、アルキルまたはアリールであり（ただし、Ｒ４１２は、フェニル以外である）、
Ｒ４１３およびＲ４１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目２７から３１のいずれか一項に記載の方法。
（項目３３）
Ｒ１２が、アルキル、アリル、ベンジルまたはハロである、項目２９から３２のいずれか一項に記載の方法。
（項目３４）
Ｒ２１２、Ｒ２１３、Ｒ２１４、Ｒ３１２、Ｒ３１３、Ｒ３１４、Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４が、メチルである、項目２９から３３のいずれか一項に記載の方法。
（項目３５）
Ｒ３が、メトキシであり、Ｒ４が、ヒドロキシル、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ３、−ＯＣ（Ｏ）Ｐｈまたは−ＯＳＯ２ＣＨ３であり、Ｒ６が、メトキシであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ１２およびＲ１３が、水素である、項目２９に記載の方法。
（項目３６）
還元剤が、テトラヒドロイソキノリンをヘキサヒドロイソキノリンに還元し、前記還元剤が、アルカリ金属および／または電子源を含む、項目２９から３５のいずれか一項に記載の方法。
（項目３７）
前記アルカリ金属が、リチウム、ナトリウムおよびカリウムからなる群から選択され、前記電子源が、液体アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、エチレンジアミンおよびこれらの組合せからなる群から選択される、項目３６に記載の方法。
（項目３８）
前記還元剤が、リチウムおよび液体アンモニアを含む、項目３７に記載の方法。
（項目３９）
式７０３に相当する化合物
【化２５】
2010512391.tif 000010
［式中、
Ｒ１およびＲ７は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ１１１であり、
Ｒ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ２１１であり、Ｒ３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ３１１であり、
Ｒ４は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ４１１であり、Ｒ５およびＲ６は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ１２１であり、
Ｒ１３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロまたは−ＯＲ５１１であり、
Ｒ１７は、水素またはアシルであり、
Ｒ１１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ２１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ３１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ４１１は、水素、ヒドロカルビル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１２は、アルキルまたはアリールであり（ただし、Ｒ４１２は、メチルまたはフェニル以外である）、
Ｒ４１３およびＲ４１４は、独立に、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、Ｒ５１１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ１２１は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ２、Ｒ３またはＲ４の少なくとも１つは、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ２１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ２１３、−ＯＳＯ２Ｒ２１４、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ３１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ３１３、−ＯＳＯ２Ｒ３１４、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ４１２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＯＳＯ２Ｒ４１４である］。
（項目４０）
Ｒ２が、−ＯＲ２１１であり、
Ｒ２１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ２１３または−ＳＯ２Ｒ２１４であり、
Ｒ２１２、Ｒ２１３およびＲ２１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目３９に記載の化合物。
（項目４１）
Ｒ３が、−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３１３または−ＳＯ２Ｒ３１４であり、
Ｒ３１２、Ｒ３１３およびＲ３１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目３９または４０に記載の化合物。
（項目４２）
Ｒ４が、−ＯＲ４１１であり、
Ｒ４１１が、水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４１３または−ＳＯ２Ｒ４１４であり、
Ｒ４１３およびＲ４１４が、独立に、アルキルまたはアリールである、項目３９から４１のいずれか一項に記載の化合物。
（項目４３）
Ｒ１２が、アルキル、アリル、ベンジルまたはハロである、項目３９から４２のいずれか一項に記載の化合物。
（項目４４）
Ｒ２１２、Ｒ２１３、Ｒ２１４、Ｒ３１２、Ｒ３１３、Ｒ３１４、Ｒ４１２、Ｒ４１３およびＲ４１４が、メチルである、項目３９から４３のいずれか一項に記載の化合物。
（項目４５）
Ｒ３が、メトキシであり、Ｒ４が、ヒドロキシル、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ３または−ＯＳＯ２ＣＨ３であり、Ｒ６が、メトキシであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ１２、Ｒ１３が、水素である、項目３９に記載の化合物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ジヒドロイソキノリンからのテトラヒドロイソキノリンの調製