【事件の表示】
　特願２０００−６３８６３号「排ガスの処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年９月１１日出願公開、特開２００１−２４６２３０号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯　　
　本願は、平成１２年３月８日の出願であって、平成１８年６月３０日付けの拒絶理由を通知したことに対して、平成１８年９月８日付けで意見書および手続補正書が提出され、平成２０年１月７日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２０年２月１３日付けで拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同年３月１３日付けで手続補正書が提出されたものである。
　　
２．平成２０年３月１３日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］　
　平成２０年３月１３日付けの手続補正を却下する。
［理由］
(2-1)補正事項
　平成２０年３月１３日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）は、特許請求の範囲の請求項１に係る補正を含み、補正前の請求項１および補正後の請求項１は、次のとおりである。
(補正前）
「【請求項１】有機ハロゲン化合物を含有する排ガス、または、無機ハロゲン化合物と有機物とを含有する排ガスを処理する方法において、ガス流れ方向に、以下の前段触媒と後段触媒を配置し、後段触媒層の入口温度を３００℃以下とすることを特徴とする排ガスの処理方法。
　前段触媒：Ａ成分として、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＣｅおよびＷから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を、Ｂ成分としてＰｄ、ＲｈおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を必須成分として含有し、さらにＣ成分としてＶおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有してもよい触媒
　後段触媒：Ｔｉ、Ｗ、ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有する触媒」
　
（補正後）
「【請求項１】有機ハロゲン化合物を含有する排ガス、または、無機ハロゲン化合物と有機物とを含有する排ガスを処理する方法において、ガス流れ方向に、以下の前段触媒とこの前段触媒とは別に設定された以下の後段触媒を配置し、後段触媒層の入口温度を３００℃以下とすることを特徴とする排ガスの処理方法。
　前段触媒：Ａ成分として、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＣｅおよびＷから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を、Ｂ成分として、Ｐｄ、ＲｈおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を必須成分として含有し、さらにＣ成分として、Ｖの酸化物を含有してもよい触媒。
　後段触媒：Ｔｉ、Ｗ、ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有する触媒。」
　
(2-2)補正の範囲及び目的について
　特許請求の範囲の請求項１に係る補正は、
(α)補正前の「以下の前段触媒と後段触媒を配置し」を、補正後の「以下の前段触媒とこの前段触媒とは別に設定された以下の後段触媒を配置し」とし、
(β)補正前の「Ｃ成分としてＶおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物」を、補正後の「Ｃ成分として、Ｖの酸化物」とし、
(γ)補正前の「Ｂ成分としてＰｄ」「よい触媒」「含有する触媒」を、補正後の「Ｂ成分として、Ｐｄ」「よい触媒。」「含有する触媒。」とするものである。
　ここで、
(α)については、請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項である「後段触媒」に関して、これが後述されていることを明らかにする「以下の」との事項を付加すると共に、前段触媒との関係を明確にする「この前段触媒とは別に設定された」との限定事項を付加するものであり、
(β)については、請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項である「Ｃ成分」に関して、選択対象となる酸化物を「Ｖの酸化物」のみに限定し、これに基いた書き換えを行うものであり、
(γ)については、句読点の「、」「。」を単に付加する書き換えを行うものであり、かつ、
　補正後の請求項１に記載された発明は、補正前の請求項１に記載された発明と、産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるので、
　請求項１に係る補正は、平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的にするものである。
　そして、願書の最初に添付した明細書（以下、「当初明細書」という。）には、「【０００８】【発明の実施の形態】本発明では、ガス流れ方向に、前段触媒と後段触媒を配置する。前段と後段とを分けることで、用いる触媒や反応温度や空間速度等の処理条件を別々に設定できる・・・」との記載があり、これからして、請求項１に係る補正は、当初明細書に記載した事項の範囲内においてなされたものであるので、平成１４年法律第２４号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第３項の規定を満足するものである。
　
(2-3)独立特許要件について
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
(2-3-1)本願補正発明
　本願補正発明は、上記(2-1)において示した補正後の請求項１に記載された事項により特定されるものである。
　
(2-3-2)引用例の記載事項
　原査定の拒絶の理由で引用文献１として引用された特公平７−７５６５６号公報（以下、「引用例」という。）には、以下の記載がある。
(a)【特許請求の範囲】の【請求項１】【請求項２】
「【請求項１】焼却炉排ガス等に含まれるポリ塩化ジベンゾダイオキシンまたはポリ塩化ジベンゾフランを、触媒を用いて除去する方法において、その使用温度範囲が250℃以上で、空間速度（SV）が50000以下で、かつ触媒表面積1m２当たりのガス量を250m３/hr（at temp.）以下とすることを特徴とする排ガス処理方法。
【請求項２】触媒が、Ａ成分として、Ti,Si及びZrよりなる群から選択される１種の金属の単独金属系酸化物又は２種以上の金属の複合多元系酸化物群から選ばれる１種以上と、Ｂ成分として、Pt,Pd,Ru,Mn,Cu,Cr及びFeよりなる群から選択される少なくとも１種の金属又はその酸化物を含んでなる触媒組成物である請求項（１）に記載の排ガス処理方法。」
　
(b)第２頁第４欄第８〜１５行
「反応温度は極めて重要な因子であって250℃以上好ましくは250〜500℃とする必要がある。反応温度をこの範囲にすることにより、所謂直燃式処理より優れた処理効果を得ることができる。250℃未満では、除去効率が低いことに加え、排ガス中のHClやSOxによる触媒被毒が大きくなり、劣化促進が著しくなる。一方反応温度が高過ぎると、触媒の変質を招く恐れがあり、長時間の使用が困難となるので500℃以下に抑えることが望まれる。」
　
(c)第２頁第４欄第２６〜４２行
「次に本発明に適用される触媒については特に制限を設けるものではないが、Ａ成分として、Ti,Si及びZrよりなる群から選択される１種の金属の単独金属系酸化物又は２種以上の金属の複合多元系酸化物群よりなる群から選ばれる１種以上と、Ｂ成分として、Pt,Pd,Ru,Mn,Cu,Cr及びFeよりなる群から選択される少なくとも１種の金属又はその酸化物を含んでなる触媒組成物から構成される酸化触媒が特に有効である。これらの触媒はNOx,SOx,HCl,ハロゲンガス,CO等の存在する環境下において前記ダイオキシン等の毒性有機塩素化合物を長期に亘り効率良く分解除去する触媒として特に好ましい。尚上記Ａ成分とＢ成分からなる酸化触媒としては、より好ましくは、TiO２−SiO２若しくはTiO２−ZrO２の２元系複合酸化物あるいはTiO２−SiO２−ZrO２の３元系複合酸化物を基体とし、これにPt,Pd,Ru,Mn,Cu,Cr及びFeよりなる群から選択される少なくとも１種の金属又はその酸化物を担持させたものを挙げることができる。」
　
(d)第６頁第１１欄第１９〜２１行
「また以下の記載において、各略号の意味は次のとおりである。
　PCDD・・・ポリ塩化ジベンゾダイオキシンの総称」
　
(e)第７頁第１４欄第３２〜３７行
「実施例４
Ti:Si＝8.5:1.5（モル比）の複合酸化物よりなる、目開き6mm,壁厚1mmのハニカム成型体に、Pt（1.5g/触媒１ｌ）を担持して形成した完成触媒を用いて、SV＝5400,AV＝23〜29m３/Hの条件下で、温度を種々変更してPCDDを含むガスの分解テストを行なった」
　
(f)第８頁第１５欄第３〜８行
「実施例６
実施例４の触媒担持成型体を収納してなるリアクター（第５図参照）を、第６図に示される焼却プラントの焼却炉１と冷却器３の間の排ガスダクトにガス流通方向に沿って３基連設し、各リアクター出口におけるPCDDの濃度変化を調べたところ第７図に示す結果が得られた。」
　
(g)第８頁第１６欄第１９〜２８行
「【図面の簡単な説明】
・・・第７図は触媒担持成型体を収納したリアクターを３基連設した場合の、PCDD濃度変化を示すグラフ、第８図は３基連設したリアクターにおけるPCDD成分毎の分解率の変化を示すグラフである。」
　
(h)【第７図】には、「No１ないしNo３リアクターをこの順で配置し、これらのリアクターの反応温度が250〜500℃の範囲で順次低くなる」ことの図示がある。
　
　上記(a)ないし(h)の記載事項および図示内容より、引用例には、
「ポリ塩化ジベンゾダイオキシンを含有する排ガスを処理する方法において、ガス流通方向に、以下の触媒を有するNo１ないしNo３リアクターをこの順で配置し、これらの反応温度が250〜500℃の範囲で順次低くなるようにする、排ガスの処理方法であって、
　触媒：Ａ成分として、Ti,Si及びZrよりなる群から選択される１種の金属の単独金属系酸化物又は２種以上の金属の複合多元系酸化物群よりなる群から選ばれる１種以上を、Ｂ成分として、Pt,Pd,Ru,Mn,Cu,Cr及びFeよりなる群から選択される少なくとも１種の金属又はその酸化物を含んでなる触媒組成物から構成される触媒。」の発明（以下、「引用例記載の発明」という。）が開示されている。
　
(2-3-3)対比・判断
　本願補正発明と引用例記載の発明とを対比する。
○引用例記載の発明の「ポリ塩化ジベンゾダイオキシンを含有する排ガス」、「ガス流通方向」は、
　本願補正発明の「有機ハロゲン化合物を含有する排ガス、または、無機ハロゲン化合物と有機物とを含有する排ガス」、「ガス流れ方向」にそれぞれ相当する。
　
○引用例記載の発明の「触媒：Ａ成分として、Ti,Si及びZrよりなる群から選択される１種の金属の単独金属系酸化物又は２種以上の金属の複合多元系酸化物群よりなる群から選ばれる１種以上を、Ｂ成分として、Pt,Pd,Ru,Mn,Cu,Cr及びFeよりなる群から選択される少なくとも１種の金属又はその酸化物を含んでなる触媒組成物から構成される触媒。」は、No３リアクターから見て前段になるNo１、２リアクターの触媒が、Ａ成分として、TiおよびSiから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を、Ｂ成分として、Pd及びPtから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を含有するものであり、No１、２リアクターから見て後段になるNo３リアクターの触媒が、Tiの酸化物を含有するものであるということができることから、本願補正発明の「前段触媒：Ａ成分として、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＣｅおよびＷから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を、Ｂ成分として、Ｐｄ、ＲｈおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を必須成分として含有し、さらにＣ成分として、Ｖの酸化物を含有してもよい触媒。後段触媒：Ｔｉ、Ｗ、ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有する触媒。」に相当する。
　
○引用例記載の発明の「以下の触媒を有するNo１ないしNo３リアクターをこの順で配置し、これらの反応温度が250〜500℃の範囲で順次低くなるようにする」ことは、No３リアクターがNo１、２リアクターから見て後段になり、No１、２リアクターがNo３リアクターから見て前段になると共に、各リアクターの反応温度が順次低くなること自体、各リアクターの設定が別になっているということができることから、「以下の前段触媒とこの前段触媒とは別に設定された以下の後段触媒を配置し、後段触媒層の反応温度を250〜500℃とする」ことであり、このことと本願補正発明の「以下の前段触媒とこの前段触媒とは別に設定された以下の後段触媒を配置し、後段触媒層の入口温度を３００℃以下とする」ことは、「以下の前段触媒とこの前段触媒とは別に設定された以下の後段触媒を配置し、後段触媒層の反応温度を所定温度とする」という点で共通する。
　
　上記より、本願補正発明と引用例記載の発明とは、
「有機ハロゲン化合物を含有する排ガス、または、無機ハロゲン化合物と有機物とを含有する排ガスを処理する方法において、ガス流れ方向に、以下の前段触媒とこの前段触媒とは別に設定された以下の後段触媒を配置し、後段触媒層の反応温度を所定温度にする、排ガスの処理方法。
　前段触媒：Ａ成分として、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＣｅおよびＷから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を、Ｂ成分として、Ｐｄ、ＲｈおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を必須成分として含有し、さらにＣ成分として、Ｖの酸化物を含有してもよい触媒。
　後段触媒：Ｔｉ、Ｗ、ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有する触媒。」という点で一致し、以下の点で相違している。
　
＜相違点＞
　本願補正発明では、「後段触媒層の入口温度を３００℃以下とする」のに対して、
　引用例記載の発明では、「No３リアクター（後段触媒層）の反応温度を250〜500℃とする」点。
　
＜相違点＞について検討する。
　一般に、「有機ハロゲン化合物（ダイオキシン類）を含有する排ガスを処理する方法において、一連の有機ハロゲン化合物処理手段の最終段階としての触媒装置の処理温度を、ダイオキシン類の再合成が生じない１００〜３００℃にする」ことは、本願出願前周知の事項（例えば、平成１７年１月２８日付けの拒絶理由で引用文献５として引用した特開２０００−７０７１２号公報の特に【０００１】【００３８】【図２】参照）であり、また、引用例記載の発明と上記周知の事項は、「有機ハロゲン化合物（ダイオキシン類）を含有する排ガスを処理する方法において、一連の有機ハロゲン化合物処理手段の最終段階としての触媒装置（後段触媒層）の反応温度を所定温度にする」という点で共通している。
　そうすると、引用例記載の発明の「有機ハロゲン化合物（ポリ塩化ジベンゾダイオキシン）を含有する排ガス・・・を処理する方法において、後段触媒層の反応温度を250〜500℃（所定温度）にする」ことについて、上記周知の事項を適用することで、「後段触媒層の反応温度を、ダイオキシン類の再合成が生じない250〜300℃にする」ことは、当業者であれば容易に想到し得ることである。
　そして、後段触媒層の反応温度を250〜300℃にする際、「後段触媒層の入口温度」は、後段触媒層の反応形態に応じて決定されるものであるが、これが「３００℃以下」となる場合のあることは、当業者であれば十分に想起し得ることである。　
　したがって、相違点に係る本願補正発明の発明特定事項とすることは、引用例記載の発明および本願出願前周知の事項に基いて当業者であれば容易になし得ることである。
　また、本願補正発明の作用効果である「後段触媒層の入口温度を３００℃以下とすることで、触媒上でのダイオキシン類の再合成を抑制することができる」（【００１２】）等の作用効果は、引用例記載の発明および本願出願前周知の事項より当業者であれば十分に予測し得ることである。
　よって、本願補正発明は、引用例記載の発明および本願出願前周知の事項から当業者であれば容易に発明をすることができたものである。
　
　次に、回答書の第２頁第７〜１０行に示されている請求人の「請求項１，２の『別に設定された』という表現が、後段触媒を前段触媒とは別に作り定めること、すなわち、『触媒組成を別々のものにすることを意味』するものであることは明確であります。」との主張について検討する。
　一般に、有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを処理する前段触媒と後段触媒の組成を別にすることは、本願出願前周知の事項（例えば、平成１７年１月２８日付けの拒絶理由で引用文献３として引用した特開昭５１−１１０６５号公報の特に、特許請求の範囲の記載、公報第４頁上欄第５行〜同末行、同第６頁下欄第１７行〜同上欄第５行参照）であることから、引用例記載の発明の「有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを処理する前段触媒と後段触媒の組成」について、上記周知の事項を適用することで、組成を別にすることは、当業者であれば容易に想到し得ることである。
　そうである以上、請求人の上記主張を仮に採用したとしても、本願補正発明は、引用例記載の発明および本願出願前周知の事項から当業者であれば容易に発明をすることができたものであるといわざるを得ない。
　
　よって、本願補正発明は、引用例記載の発明および本願出願前周知の事項から当業者であれば容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　
(2-3-4)補正却下についてのむすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、本願補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるので、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反し、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により、却下すべきものである。
　
３．本願発明について
(3-1)本願発明　
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１８年９月８日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、上記２．(2-1)で示したとおりのものである。
　
(3-2)引用例の記載事項 
　引用例の記載事項は、上記２．(2-3-2)で示したとおりである。 
 　 
(3-3)対比・判断 
　上記２．(2-2)で示したように、請求項１に係る補正は、特許請求の範囲の減縮を目的にするものであることから、本願発明は、本願補正発明を包含している。  
　そうすると、本願補正発明が、上記２．(2-3-3)で示したように、引用例記載の発明および本願出願前周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、本願補正発明を包含する本願発明も同じく、引用例記載の発明および本願出願前周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。  
 　  
(3-4)むすび  
　したがって、本願発明は、引用例記載の発明および本願出願前周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。  
　それゆえ、本願は、特許請求の範囲の請求項２ないし５に係る発明について、検討するまでもなく、拒絶すべきものである。  
　よって、結論のとおり審決する。