【事件の表示】
　特願２００３−３９９５８３「エレクトロ・ルミネセンス表示素子とその製造方法及び装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１１月　４日出願公開、特開２００４−３１１４００〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１５年１１月２８日（パリ条約による優先権主張　平成１４年１２月３１日（大韓民国）及び平成１５年３月２０日（大韓民国））の出願である。
　原審において、平成１８年３月１５日付けで拒絶理由が通知され、これに対して同年９月２０日付けで手続補正がされるとともに意見書が提出された。その後、平成２０年２月８日付けで最後の拒絶理由が通知され、これに対して同年５月１３日付けで手続補正がされるとともに意見書が提出されたものの、平成２１年３月２６日付けで、平成２０年５月１３日付けの手続補正の却下の決定がされるとともに拒絶査定がされた。
　上記拒絶査定に対し、平成２１年７月３１日に本件の拒絶査定不服審判の請求がされるとともに手続補正がされた。その後、前置報告書の内容について、審判請求人の意見を求めるために平成２２年７月２１日付けで審尋がされ、同年１０月２６日付けで回答書が提出された。
　
　
第２　平成２１年７月３１日付けの手続補正についての補正の却下の決定
〔補正の却下の決定の結論〕
　平成２１年７月３１日付けの手続補正を却下する。
　
〔理由〕
１　本件補正の目的
（１）本件補正後の特許請求の範囲の請求項１
　平成２１年７月３１日付け手続補正（以下「本件補正」という。）は、本件補正前（平成１８年９月２０日付け手続補正によって補正した。以下、同じ。）の特許請求の範囲の請求項１の記載を以下のとおり補正することを含むものである（下線は補正箇所を示す）。
「基板上に表示領域と非表示領域を持つエレクトロ・ルミネセンス表示素子において、
　前記表示領域に形成される多数個の有機発光層と、
　前記表示領域の両末端部に位置する非表示領域に形成されたダミー有機発光層とを具備し、
　前記表示領域には深さが均一な多数個の有機発光層が形成され、前記非表示領域には前記表示領域の有機発光層に比べ深さが異なるダミー有機発光層が形成され
、前記表示領域に形成された有機発光層は、その深さが均一にされ、その表面が平坦化されている
　
（２）本件補正前の特許請求の範囲の請求項１
　本件補正前の特許請求の範囲の請求項１は、平成１８年９月２０日付けの手続補正により、下記のとおりのものとなっていた。
「基板上に表示領域と非表示領域を持つエレクトロ・ルミネセンス表示素子において、
　前記表示領域に形成される多数個の有機発光層と、
　前記表示領域の両末端部に位置する非表示領域に形成されたダミー有機発光層とを具備し、
　前記表示領域には深さが均一な多数個の有機発光層が形成され、前記非表示領域には前記表示領域の有機発光層に比べ深さが異なるダミー有機発光層が形成されたことを特徴とするエレクトロ・ルミネセンス表示素子。」
　
（３）本件補正の目的について
　請求項１に係る補正は、補正前の「表示領域に形成された有機発光層」について、その深さが均一にされているばかりでなく、その表面が平坦化されていることを限定する補正を内容とするものであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下単に「特許法第１７条の２」という。）第４項第２号に掲げる、特許請求の範囲の減縮を目的とする補正を含むものである。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載されている発明特定事項により特定される発明(以下「本願補正発明」という。)が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か、すなわち、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか否かについて、以下検討する。
　
２　刊行物及び各刊行物の記載事項並びに引用発明の認定
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願優先日前に頒布された刊行物である、特開２００２−２５２０８３号公報（以下「引用例１」という。）には、図面とともに、以下の事項の記載がある（下記「（２）引用発明の認定」において特に関連する部分に下線を引いた。）。
ア　【特許請求の範囲】の欄
「【請求項１】  有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物を複数の電極上に塗布することにより各電極上に、有機エレクトロルミネッセンス層をそれぞれ形成する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記複数の電極が形成される有効光学領域が設けられ、有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物の塗布領域を前記有効光学領域より大きくすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項２】  前記有効光学領域の周囲に塗布領域を設けることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項３】  前記有効光学領域の周囲に設けた塗布領域がダミー領域であり、該ダミー領域にも有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物を塗布して有機エレクトロルミネッセンス層を形成することを特徴とする請求項１又は２記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
…（中略）…
【請求項１２】  
複数の電極を有し、前記複数の電極上にそれぞれ有機エレクトロルミネッセンス層が形成されてなる有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記複数の電極が形成された有効光学領域と、前記有効光学領域の周囲に、前記有機エレクトロルミネッセンス層が形成されてなるダミー領域を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置
　
イ　段落【０００１】〜段落【００３６】
「【０００１】
【発明の属する技術分野】有機エレクトロルミネッセンス（本明細書を通じてＥＬと記す）装置およびその製造方法に関する。
…（中略）…
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】インクジェット法は、直径がμｍオーダーの液滴を高解像度で吐出、塗布することができるため、有機ＥＬ材料の高精細パターニングが可能である。しかしながら、基板上に塗布された微小液体の乾燥は極めて速く、さらに、基板上の塗布領域における端（上端、下端、右端、左端）では、画素領域に塗布された微小液体から蒸発した溶媒分子分圧が低いため、一般的に速く乾きはじめる。また、ＴＦＴ素子によるアクティブ駆動を行う場合、ＴＦＴ素子領域や、配線等の形状、配置の関係上、画素配置がＸ，Ｙ方向ともに等間隔にできない場合があり、各画素上に塗布された液滴の周囲で局所的な蒸発溶媒分子分圧差が生じる。このような画素上に塗布された有機材料液体の乾燥時間の差は、画素内、画素間での有機薄膜の膜厚ムラを引き起こす。このような膜厚ムラは、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラの原因となってしまう。
【０００５】そこで本発明の目的とするところは、電極上に有機ＥＬ材料を吐出、塗布し有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ装置の製造において、画素領域に塗布された有機ＥＬ材料溶液の周囲の環境、乾燥を均一にし、有効光学領域における各画素間および画素内で輝度、発光色のムラの無い、均一な有機ＥＬ装置ならびに有機ＥＬ装置の製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物を複数の電極上に塗布することにより各電極上に有機エレクトロルミネッセンス層をそれぞれ形成する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記複数の電極によって形成される有効光学有効光学領域が設けられ、有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物の塗布領域を前記有効光学領域より大きくすることを特徴とする。
【０００７】上記製造方法により、
有効光学領域において、有効光学領域内に塗布された有機ＥＬ材料液体の周囲の環境、乾燥を均一にし、各画素間及び画素内での膜厚を均一にすることができる。なお、有機エレクトロルミネッセンス層とは、発光に寄与する層を指し、正孔注入層や発光層、電子注入層などを含む。
【０００８】本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、好ましくは、前記有効光学領域の周囲にも塗布領域を設けることを特徴とする。
【０００９】上記製造方法により、有効光学領域において、端の画素内液滴の乾燥が、内側の画素内液滴の乾燥より極端に速くなることを抑えることができ、有効光学画素間での膜厚を均一にすることができる。
【００１０】また、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、好ましくは、前記有効光学領域の周囲に設けた塗布領域がダミー領域であり、該ダミー領域にも有機ＥＬ材料溶液を塗布して有機ＥＬ薄膜層を形成することを特徴とする。
【００１１】尚、前記ダミー領域に、前記電極と同一材料からなる層を形成し、前記層上に、前記有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物を塗布することが好ましい。
【００１２】上記製造方法により、有効光学領域の端の画素においても、塗布された有機ＥＬ材料液体の周囲の環境を均一にし、有効光学領域の端の画素内液滴の乾燥が、内側の画素内液滴の乾燥より極端に速くなることを抑えることができ、有効光学における各画素間での有機ＥＬ薄膜層の膜厚を均一にすることができる。
【００１３】更に、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、好ましくは、基板上に２以上の前記有効光学領域からなる有効光学領域群を設け、各有効光学領域の周囲にダミー領域をそれぞれ設けるとともに、前記有効光学領域群の周囲にも別のダミー領域を設けることを特徴とする。
【００１４】ここでダミー領域とは、表示や照明に関係しない領域である。したがって、ダミー領域に形成される有機ＥＬ層は、発光しなくてもよいが、表示や照明に影響を与えない程度であれば発光してもよい。
…（中略）…
【００２４】次に本発明の有機ＥＬ装置は、好ましくは、複数の電極を有し、前記複数の電極上にそれぞれ有機ＥＬ層が形成されてなる有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記複数の電極によって形成された有効光学領域と、前記有効光学領域の周囲に、前記有機エレクトロルミネッセンス層が形成されてなるダミー領域を含むことを特徴とする。
…（中略）…
【００３６】また本発明によれば、上記の有機ＥＬ装置を具備してなる電子機器が提供される。かかる電子機器によれば、各画素間および画素内で輝度、発光色のムラの無い、均一なＥＬ表示や照明が実現される。」
　
ウ　段落【００３７】〜段落【０１２８】
「【００３７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。なお、有機ＥＬ装置を表示装置として用いた例を示す。
【００３８】インクジェット方式による有機ＥＬ装置の製造方法とは、画素を形成する有機物からなる正孔注入層材料ならびに発光材料を溶媒に溶解または分散させたインク組成物を、インクジェットヘッドから吐出させて透明電極上にパターニング塗布し、正孔注入／輸送層ならびに発光層を形成する方法である。吐出されたインク滴を精度よく所定の画素領域にパターニング塗布する為に、画素領域を仕切る隔壁（以下バンク）を設けるのが通常である。
【００３９】図１はインクジェット方式による有機ＥＬ表示の製造に用いられる基板構造の一例の断面図を示したものである。ガラス基板１０上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１１を有する回路素子部１１’が形成され、この回路素子部１１’上にＩＴＯからなる透明電極１２がパターンニングされている。更に、透明電極１２を区画する領域にＳｉＯ2バンク１３と撥インク性あるいは撥インク化された有機物からなる有機物バンク１４とが積層されている。バンクの形状つまり画素の開口形は、円形、楕円、四角、いずれの形状でも構わないが、インク組成物には表面張力があるため、四角形の角部は丸みを帯びているほうが好ましい。有機物バンク１４の材料は、耐熱性、撥液性、インク溶剤耐性、下地基板との密着性にすぐれたものであれば、特に限定されるものではない。有機物バンク１４は、元来撥液性を備えた材料、例えば、フッ素系樹脂でなくても、通常用いられる、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等の有機樹脂をパターン形成し、ＣＦ4プラズマ処理等により表面を撥液化してもよい。バンクは、上述したような無機物と有機物とが積層されてなるものに限らないが、例えば透明電極１４がＩＴＯからなる場合は、透明電極１４との密着性を上げるために、ＳｉＯ2バンク１３がある方が好ましい。有機物バンク１４の高さは、１〜２μｍ程度あれば十分である。
【００４０】次に、図２を参照して、インクジェット方式による有機ＥＬ装置の製造方法の一例を各工程の断面構造に沿って説明する。
【００４１】図２（Ａ）において、バンク構造を有する画素基板にインクジェット方式により有機ＥＬ材料を含む溶液（インク組成物）をパターン塗布し、有機ＥＬ薄膜を形成する。有機ＥＬ材料インク組成物１５をインクジェットヘッド１６から吐出し、同図（Ｂ）に示すように着弾させ、パターン塗布する。塗布後、真空およびまたは熱処理あるいは窒素ガスなどのフローにより溶媒を除去し、有機ＥＬ薄膜層１７を形成する（同図（Ｃ））。この有機ＥＬ薄膜層１７は、例えば正孔注入層及び発光層からなる積層膜である。
【００４２】この際、有効光学領域（表示に関係する画素が形成された領域）の端の表示画素では周囲にインク滴が塗布されていないため、インク溶媒分子分圧が内側の画素上より低くなって溶媒が速く乾燥し、例えば、図２（Ｃ）に示したような、膜厚差が表示画素間で生じてしまう場合がある。
【００４３】そこで、各画素に塗布された液滴を均一に乾燥するためには、有効光学領域の周囲にもインク組成物を吐出、塗布し、有効光学領域に塗布された各液滴に対して同じ環境をつくることが好ましい。より同じ環境を構築するためには、インクジェットによる有機材料の塗布領域を有効光学領域より大きくし、例えば、有効光学領域の周囲に表示画素と同じ形状のバンク構造を有するダミー領域（表示に関係しないダミー画素が形成された領域）を設置することがより好ましい。
…（中略）… 
【００４６】以下、実施例を参照して本発明を更に、具体的に説明するが、本発明はこれらに制限されるものではない。
【００４７】（実施例１）本実施例に用いた基板は、直径３０μｍ径の円形画素が、Ｘ、Ｙ方向ともに７０．５μｍピッチで配置された2インチＴＦＴ基板である。このＴＦＴ基板は、ガラス基板２５と、このガラス基板上に形成されたＴＦＴ２６を有する回路素子部２６’とから構成されている。図３（Ａ）にＴＦＴ基板右端側の一部の断面図（Ｘ方向）を示す。回路素子部２６’上にＩＴＯからなる透明電極２７が形成され、この透明電極２７を仕切るようにＳｉＯ2バンク２８及びポリイミドバンク２９の２層からなるバンクが回路素子部２６’上に形成されている。ＳｉＯ2バンク２８はＴＥＯＳ（tetraethylorthosilicate）をＣＶＤで１５０ｎｍ形成しフォトエッチングでパターン形成される。更にその上に感光性ポリイミドを塗布し、露光、現像により、膜厚２μｍのポリイミドバンク２９が形成される。なお、このバンクを形成する材料は、非感光性材料を用いてもよい。
【００４８】また、図３において、透明電極２７が形成されている領域が有効光学領域Ａであり、ＳｉＯ2バンク２８及びポリイミドバンク２９により透明電極２７が区画されていない領域がダミー領域Ｂである。
【００４９】インクジェット塗布前に、大気圧プラズマ処理によりポリイミドバンク２９を撥インク処理する。大気圧プラズマ処理の条件は、大気圧下で、パワー３００Ｗ、電極−基板間距離１ｍｍ、酸素プラズマ処理では、酸素ガス流量１００ｍｌ／ｍｉｎ、ヘリウムガス流量１０ｌ／ｍｉｎ、テーブル搬送速度１０ｍｍ/ｓで行い、続けてＣＦ4プラズマ処理では、 ＣＦ4ガス流量１００ｍｌ／ｍｉｎ、ヘリウムガス流量１０ｌ／ｍｉｎ、テーブル搬送速度３ｍｍ/ｓの往復で行う。
【００５０】正孔注入層材料としてバイエル社のバイトロン（登録商標）を用い、極性溶剤であるイソプロピルアルコール，Ｎ−メチルピロリドン，１，３−ジメチルー２−イミダゾリジノンで分散させたインク組成物３０を調製し、Ｘ，Ｙ方向とも７０．５μｍピッチでインクジェットヘッド（エプソン製ＭＪ−９３０Ｃ）から吐出、塗布する。その際、表示画素の周囲に上下、左右３０ラインずつ余計に同じピッチで吐出する。図３（Ｂ）に正孔注入層材料インク組成物３０をパターン塗布した後の、基板右端側の一部の断面図を示す。有効光学領域Ａでは、正孔注入層材料インク組成物３０が透明電極２７上に塗布され、一方ダミー領域Ｂでは、正孔注入層材料インク組成物３０がポリイミドバンク２９上に塗布されている。次に、真空中（１ｔｏｒｒ（133.3Ｐａ））、室温、２０分という条件で溶媒を除去し、その後、窒素中、２００℃（ホットプレート上）、１０分の熱処理により、図３（Ｃ）に示すように正孔注入層３１を形成する。有効光学領域Ａにおいては、膜厚の均一な正孔注入層３１を形成することができる。
【００５１】次に、発光層として、赤色、緑色、青色に発光するポリフルオレン系材料を用いて、赤色発光層用インク組成物３２、緑色発光層用インク組成物３３、青色発光層用インク組成物３４を3種類調製する。インク溶媒としては、シクロヘキシルベンゼンを用いた。図３（Ｃ）に示すように、これらのインク組成物３２、３３、３４をインクジェットヘッドから吐出させ、Ｘ方向に２１１．５μｍピッチ、Ｙ方向には７０．５μｍピッチでパターン塗布した。その際、ダミー領域Ｂに上下、左右２１ラインずつ余計に同じピッチで吐出する。
【００５２】次に、Ｎ2雰囲気中、ホットプレート上８０℃、５分での熱処理により発光層３５，３６，３７が形成される。有効光学領域Ａにおいては、膜厚の均一な発光層３５、３６、３７を形成することができる。
【００５３】発光層形成後、図３（Ｄ）に示すように、陰極３８として、２ｎｍのＬｉＦ層、２０ｎｍのＣａ層及び２００ｎｍのＡｌ層を真空加熱蒸着で積層形成し、最後にエポキシ樹脂３９により封止を行う。
【００５４】こうして、有効光学領域Ａで輝度ムラ、色ムラのない均一な表示の有機ＥＬ装置を得ることができた。
…（中略）…
【００８８】（実施例８）図１０（Ａ）に、本実施例に用いる基板の平面図を示す。図１０（Ｂ）は図１０（Ａ）のＭＭ’線に沿う部分断面図である。図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）に示すように、
この基板１０１は、正孔注入層及び発光層の形成前の基板であり、ガラス基板１０２上に形成された回路素子部１０３と、回路素子部１０３上に形成された発光素子部１０４とから構成されている。発光素子部１０４には、後述する表示画素とダミー画素とが設けられており、更に発光素子部１０４は、表示画素群からなる有効光学領域Ａと、有効光学領域Ａの周囲に配置されたダミー画素群からなるダミー領域Ｂとに区画されている。
【００８９】回路素子部１０３は、ガラス基板１０２上に形成された複数のＴＦＴ素子１０５…と、このＴＦＴ素子１０５…を覆う第１，第２層間絶縁膜１０６，１０７とから構成されている。ＴＦＴ素子１０５…はマトリックス状に配置されており、各ＴＦＴ素子１０５…にはＩＴＯからなる透明電極１０８…が接続されている。透明電極１０８…は第２層間絶縁膜１０７上に形成されると共に、ＴＦＴ素子１０５…に対応する位置に配置されている。なお透明電極１０８は、平面視において略円形、矩形、あるいは四角が円弧状の矩形などの形状で形成されていればよい。
【００９０】尚、ＴＦＴ素子１０５と透明電極１０８は、発光素子部１０４の有効光学領域Ａに対応する位置のみに形成されている。
【００９１】次に、発光素子部１０４の有効光学領域Ａには、ＳｉＯ2バンク１０９とポリイミドバンク１１０とが積層されている。ＳｉＯ2バンク１０９及びポリイミドバンク１１０は、透明電極１０８…の間に設けられており、これにより透明電極１０８を囲む開口部１１１が設けられている。
【００９２】また、発光素子部１０４のダミー領域Ｂには、第２層間絶縁膜１０７上に形成されたＳｉＯ2薄膜１０９’と、ＳｉＯ2薄膜１０９’上に形成されたポリイミドバンク１１０’とが備えられている。ダミー領域Ｂのポリイミドバンク１１０’により、表示画素領域Ａの表示画素１１１とほぼ同一形状のダミー画素１１１’が設けられている。
【００９３】ダミー領域Ｂに設けられるダミー画素１１１’の数については、図１０（Ａ）の図示Ｘ方向に沿う幅Ｘ’の間に、Ｒ・Ｇ・Ｂの３つのダミー画素からなる組が１０組以上設けることが好ましい。また、図１０（Ａ）の図示Ｙ方向に沿う幅Ｙ’の間に、Ｒ・Ｇ・Ｂの多数のダミー画素からなる列が１０列以上設けることが好ましい。さらに好ましくは、幅Ｘ'と幅Ｙ'の大きさが等しくなるようにダミー画素を配置する。こうすることにより、ダミー領域Ｂとの境界付近にある画素における組成物インクの乾燥条件を、有効光学領域Ａの中央付近の画素における乾燥条件に、より一致させることができる。幅Ｘ'と幅Ｙ'の大きさが等しくなるようにするには、例えば、各画素（表示画素、ダミー画素のいずれも）をＸ方向に７０．５μｍピッチ、Ｙ方向に２１１．５μｍピッチで形成した場合、幅Ｘ'の間に、Ｙ方向に平行に３０ライン（Ｒ、Ｇ、Ｂの３つのダミー画素からなる組が１０組分のライン）、且つ、幅Ｙ'の間に、Ｘ方向に平行なラインが１０ライン、のダミー画素が形成されればよい。これによって、Ｙ方向のピッチは、Ｘ方向のピッチの３倍であるため、幅Ｘ'と幅Ｙ'の大きさがほぼ等しくなる。ダミー画素の数はこれに限らないが、ダミー画素１１１’の数が過剰になると、表示に関係しない額縁が大きくなり、すなわち表示モジュールが大きくなるので好ましくない。
【００９４】この基板１０１に対して、実施例１と同様に大気圧プラズマ処理を施してポリイミドバンク１１０，１１０’を撥インク処理し、正孔注入層材料を含むインク組成物をインクジェットヘッドから吐出させて表示画素１１１ならびにダミー画素１１１’にパターニング塗布する。表示画素１１１では、正孔注入層材料インク組成物が透明電極１０８上に塗布され、一方ダミー１１１’では、正孔注入層材料インク組成物がＳｉＯ2薄膜１０９’上に塗布される。
【００９５】尚、正孔注入層材料を含むインク組成物をインクジェットヘッドにより吐出させる際には、例えば、表示素子部１０４幅方向（図示Ｘ方向）と同程度の幅のノズル列を有するインクジェットヘッドを用意し、このインクジェットヘッドを、図１０（Ａ）の下側から図中矢印Ｙ方向に沿って基板１０１上に移動させながら行うことが好ましい。これにより、インク組成物の吐出順序が、図中下側のダミー領域Ｂ、有効光学領域Ａ、図中上側のダミー領域Ｂの順となり、インク組成物の吐出を、ダミー領域Ｂから始めてダミー領域Ｂで終了させることができる。ダミー領域Ｂで組成物インクを吐出させてから有効光学領域Ａで吐出するため、有効光学領域Ａでのインク組成物を均一に乾燥することができる。
【００９６】次に、実施例１と同じ条件で正孔注入層材料インク組成物の溶媒を除去し、更に実施例１同じ条件で熱処理を行い、図１１（Ａ）に示すような正孔注入層１３１を形成する。
【００９７】有効光学領域Ａの外側にはダミー画素１１１’が設けられており、このダミー画素１１１’に対しても表示画素１１１と同様に組成物インクの吐出、乾燥を行うので、ダミー領域Ｂとの境界付近にある表示画素１１１における組成物インクの乾燥条件を、有効光学領域Ａの中央付近の表示画素１１１における乾燥条件にほぼ一致させることができ、これによりダミー領域Ｂとの境界付近にある表示画素１１１でも均一な膜厚の正孔注入層１３１を形成することができる。従って有効光学領域Ａの全体に渡って、膜厚の均一な正孔注入層１３１を形成することができる。
【００９８】次に、実施例１と同様に、赤色、緑色、青色の発光層用インク組成物をインクジェットヘッドから吐出させて表示画素１１１ならびにダミー画素１１１’にパターン塗布し、Ｎ2雰囲気中、ホットプレート上８０℃、５分での熱処理により発光層１３５，１３６，１３７を形成する。有効光学領域Ａにおいては、正孔注入層１３１の場合と同様にして、膜厚の均一な発光層１３５、１３６、１３７を形成することができる。
【００９９】尚、発光層の形成の際には、正孔注入層の場合と同様にしてインクジェットヘッドを図１０（Ａ）の下側から図中矢印Ｙ方向に沿って基板１０１上に移動させながら行い、インク組成物の吐出順序を、図中下側のダミー領域Ｂ、有効光学領域Ａ、図中上側のダミー領域Ｂの順とし、これによりインク組成物の吐出をダミー領域Ｂから始めてダミー領域Ｂで終了させるようにすることが好ましい。これにより、有効光学領域Ａの全体において、発光層を含むインク組成物の乾燥を均一に行うことができた。
【０１００】発光層形成後、図１１（Ｂ）に示すように、陰極１３８として、２ｎｍのＬｉＦ層、２０ｎｍのＣａ層及び２００ｎｍのＡｌ層を真空加熱蒸着で積層形成し、最後にエポキシ樹脂１３９により封止を行う。
【０１０１】こうして、有効光学領域Ａで輝度ムラ、色ムラのない均一な表示の有機ＥＬ装置を得ることができる。
…（中略）…
【０１２８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、インクジェット方式で基板上に有機ＥＬ材料を吐出、塗布し有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ装置の製造において、表示画素領域の周囲に、ダミー吐出、塗布領域を導入し、有効光学領域において、塗布液滴を、同間隔で配置することにより、画素領域に塗布された有機ＥＬ材料溶液の乾燥を均一にし、有効光学領域画素間或いは各画素内で輝度、発光色のムラの無い、均一な表示装置ならびに表示装置の製造方法を提供することが出来る。」
　
エ　【図面の簡単な説明】の欄
「【図２】  本発明に関わるインクジェット方式による有機ＥＬ装置の製造方法の一例を示す断面図。
…（中略）…
【図１０】  参考例８の有機ＥＬ装置の製造方法を説明する図であって、（Ａ）は正孔注入層形成前の基板の平面図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＭＭ’線に沿う部分断面図である。
【図１１】  参考例８の有機ＥＬ装置の製造方法を説明する工程図。」
　
オ　【図２】
　
カ　【図１０】
　
　
キ　【図１１】
　
　
（２）引用発明の認定
ア　段落【００８８】の「この基板１０１は、正孔注入層及び発光層の形成前の基板であり、ガラス基板１０２上に形成された回路素子部１０３と、回路素子部１０３上に形成された発光素子部１０４とから構成されている。発光素子部１０４には、後述する表示画素とダミー画素とが設けられており、更に発光素子部１０４は、表示画素群からなる有効光学領域Ａと、有効光学領域Ａの周囲に配置されたダミー画素群からなるダミー領域Ｂとに区画されている。」との記載から、有効光学領域とダミー領域は基板上の領域であることが理解される。
　
イ　また、段落【０００７】の「有効光学領域において、有効光学領域内に塗布された有機ＥＬ材料液体の周囲の環境、乾燥を均一にし、各画素間及び画素内での膜厚を均一にすることができる。なお、有機エレクトロルミネッセンス層とは、発光に寄与する層を指し、正孔注入層や発光層、電子注入層などを含む。」との記載から、有効光学領域において、各画素間及び画素内での有機エレクトロルミネッセンス層の膜厚が均一であることが記載されていると認められる。
　
ウ　上記ア及びイの点も踏まえて、引用例１の記載を総合すると、引用例１には下記の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
＜引用発明＞
「基板上に複数の電極を有し、前記複数の電極上にそれぞれ有機エレクトロルミネッセンス層が形成されてなる有機エレクトロルミネッセンス装置であって、
　前記基板上の前記複数の電極が形成された有効光学領域と、
　前記基板上の前記有効光学領域の周囲に、前記有機エレクトロルミネッセンス層が形成されてなるダミー領域を含み、
　有効光学領域において、各画素間及び画素内での有機エレクトロルミネッセンス層の膜厚が均一である有機エレクトロルミネッセンス装置。」
　
（３）引用例２
　本願出願前に頒布された刊行物である、特開２００２−５６９８０号公報（以下「引用例２」という。）には、以下の事項の記載がある。
ア　【特許請求の範囲】の欄
「【請求項１】  有機ＥＬ素子の有機層を形成する際に使用される有機ＥＬ層形成用塗液であって、前記塗液がレベリング剤と発光材料または電荷輸送材料とを含有し、前記レベリング剤（Ｌ）の添加量が、
Ｌの粘度（cp）×発光材料または電荷輸送材料に対するＬの添加量（wt％）＜２００
で表される関係式を満たすことを特徴とする有機ＥＬ層形成用塗液。
…（中略）…
【請求項３】  請求項１または２に記載の有機ＥＬ層形成用塗液を用いて、有機ＥＬ素子の有機層をインクジェット法または印刷法で形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。」
　
イ　段落【０００１】〜【０００７】
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、モノクロおよびフルカラー表示可能な有機ＥＬ素子（画素）および有機ＥＬディスプレイを製造するための有機ＥＬ層形成用塗液、それを用いた有機ＥＬ素子および有機ＥＬディスプレイならびにその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、高度情報化に伴い、薄型、低消費電力、軽量の表示素子への要望が高まる中、低電圧駆動、高輝度な有機ＥＬディスプレイが注目を集めている。特に、近年の研究開発によって、有機（高分子）系材料を用いた有機ＥＬ素子の発光効率の向上は著しく、有機ＥＬディスプレイへの実用化が始まっている。
【０００３】有機ＥＬディスプレイを製造するにあたって、高分子材料は塗布によりウエットプロセスで成膜を行うことが可能であることから低コスト化が見込まれ、カラー化に向けての発光層のパターニング方法が重要な研究目的の一つになっており、インクジェット法（特開平１０−１２３７７号およびＩＣＰＡ’９９、ｐ１６０）、印刷法（特開平３−２６９９９５号および特開平１１−２７３８５９号）による発光層のパターン化が報告されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、インクジェット法、印刷法で作製した有機ＥＬディスプレイでは、表面が平滑な膜を形成することが困難なため、発光ムラが生じたり、発光効率や寿命がスピンコート法により形成された膜に比べ低下するといった問題が生じていた。
【０００５】特開平１１−４０３５８号公報および特開平１１−５４２７０号公報には、インクジェット法で有機ＥＬ素子を製造する際に用いる組成物（塗液）が開示され、その塗液にレベリング剤を添加してもよいと記載されている。しかしながら、これらの公報には、具体的にレベリング剤を添加した塗液の実施例の記載はなく、そのレベリング剤の例示もない。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題を鑑み成されたものであり、インクジェット法、印刷法で膜を形成した際に生じる膜の平坦性に起因する発光ムラ、発光効率の低下を解消するために鋭意研究を行った結果、特定量のレベリング剤、特にシリコン系化合物もしくはフッ素系化合物からなるレベリング剤を含有させることにより、意外にも上記の課題が解消できることを見出し、本発明を完成するに到った。
【０００７】本発明のように、塗液中に特定量のレベリング剤、特にシリコン系化合物もしくはフッ素系化合物からなるレベリング剤を含有されていることを特徴とする有機ＥＬ層形成用塗液を用いて、インクジェット法または印刷法により、有機ＥＬ素子中の少なくとも１層の有機層を形成することにより、レベリング剤の含有に起因する発光特性、寿命の低下を引き起こすことがなく、平坦な表面を有する膜を形成することが可能となり、その結果、膜の平坦性に起因する発光ムラが生じたり、発光効率や寿命がスピンコート法により形成された膜に比べ低下するといった問題を解決することが可能となる。」
　
　
３　本願補正発明と引用発明の対比
　本願補正発明と引用発明を対比する。
（１）引用発明における「有機エレクトロルミネッセンス装置」、「有機エレクトロルミネッセンス層」、「有効光学領域」、「ダミー領域」がそれぞれ、本願補正発明における「エレクトロ・ルミネセンス表示素子」、「有機発光層」、「表示領域」及び「非表示領域」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（２）上記（１）を踏まえると引用発明における「基板上に複数の電極を有し、前記複数の電極上にそれぞれ有機エレクトロルミネッセンス層が形成されてなる有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記基板上の前記複数の電極が形成された有効光学領域と、前記基板上の前記有効光学領域の周囲に、前記有機エレクトロルミネッセンス層が形成されてなるダミー領域を含み、」という発明特定事項は、本願補正発明における「基板上に表示領域と非表示領域を持つエレクトロ・ルミネセンス表示素子において、前記表示領域に形成される多数個の有機発光層と、前記表示領域の両末端部に位置する非表示領域に形成されたダミー有機発光層とを具備し」という発明特定事項に相当する。
　
（３）上記（１）及び（２）を踏まえると、引用発明における「有効光学領域において、各画素間及び画素内での有機エレクトロルミネッセンス層の膜厚が均一である」という発明特定事項と、本願補正発明における「前記表示領域には深さが均一な多数個の有機発光層が形成され、前記非表示領域には前記表示領域の有機発光層に比べ深さが異なるダミー有機発光層が形成され、前記表示領域に形成された有機発光層は、その深さが均一にされ、その表面が平坦化されている」という発明特定事項とは、「前記表示領域には深さが均一な多数個の有機発光層が形成され、前記表示領域に形成された有機発光層は、その深さが均一にされている」点で共通する。
　
（４）上記（１）ないし（３）を総合すると、本願補正発明と引用発明は、
「基板上に表示領域と非表示領域を持つエレクトロ・ルミネセンス表示素子において、
　前記表示領域に形成される多数個の有機発光層と、
　前記表示領域の両末端部に位置する非表示領域に形成されたダミー有機発光層とを具備し、
　前記表示領域には深さが均一な多数個の有機発光層が形成され、前記表示領域に形成された有機発光層は、その深さが均一にされているエレクトロ・ルミネセンス表示素子」
の点で少なくとも一致し、文言上下記の点で一応相違があると認められる。
　
＜相違点１＞
　非表示領域に形成されたダミー有機発光層について、本願補正発明においては、表示領域の有機発光層に比べ深さが異なるとの特定がされているのに対して、引用発明においては当該特定がされていない点。
　
＜相違点２＞
　表示領域に形成された有機発光層について、本願補正発明においては、その深さが均一にされているだけでなく、その表面が平坦化されているのとの特定がされているのに対して、引用発明においては、各画素間及び画素内での有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）の膜厚が均一であるとの特定はされているものの、有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）の表面の平坦性については特定がされていない点。
　
　
４　相違点の検討・判断
　上記各相違点について検討する。
（１）相違点１について
　引用発明は、有効光学領域における各画素間及び画素内で輝度、発光色のムラの無い、均一な有機ＥＬ装置を提供することを目的としている（段落【０００５】参照）。そして、各画素間及び画素内で輝度、発光色のムラが生じる要因について、基板上の有機エレクトロルミネッセンス材料の塗布領域における端（上端、下端、右端、左端）では、画素領域に塗布された微小液体から蒸発した溶媒分子分圧が低いため、一般的に速く乾きはじめるところ、塗布された有機材料液体の乾燥時間の差に起因して、画素内、画素間での有機薄膜の膜厚ムラが引き起こされ、このような膜厚ムラが、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラの原因となると解説されている（段落【０００４】参照）。このような点を理解すれば、引用発明においても、ダミー領域の有機エレクトロルミネッセンス層の膜厚が、有効光学領域の有機エレクトロルミネッセンス層の膜厚と異なることは明らかである。
　したがって、上記相違点１は、文言上の相違にすぎず、技術思想としての実質的な相違点とは認められない。
　
（２）相違点２について
　各画素間だけでなく、画素内においても有機エレクトロルミネッセンス層の膜厚が均一であれば、その表面が平坦であることは明らかである。したがって、相違点２は、文言上の相違に過ぎず、技術思想としての実質的な相違点とは認められない。仮に実質的な相違点であったとしても、有機エレクトロルミネッセンス層の表面が平坦であるべきことは、引用例２にも記載されているように、当業者にとって自明の事項にすぎないから、引用発明の有機エレクトロルミネッセンス層の表面を平坦化されているものとすることは、当業者が容易に想到し得たものである。また、相違点２に基づいて当業者の予測を超えるほどの効果を奏するとも認めることはできない。
　
（３）相違点の検討・判断の小括
　以上のとおり、相違点１は実質的な相違点とは認められない。また、相違点２も実質的な相違点とは認められず、仮に実質的な相違点であったとしても、少なくとも進歩性を認めるべきほどの相違点であるとは認めることはできない。
　したがって、本願補正発明は、引用発明と同一、又は、引用発明及び引用例２に記載された当業者に自明な事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５　本件補正についてのむすび
　以上検討したとおり、本願補正発明は、特許法第２９条第１項第３号に該当する、又は、同条第２項の規定に違反するものであって、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　よって、上記結論のとおり決定する。
　
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２１年７月３１日付け手続補正は上記のとおり却下されたから、本願の請求項１ないし請求項１６に係る発明は、本件補正前の、平成１８年９月２０日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし請求項１６に記載された事項により特定されるものである。以下、請求項１に係る発明を「本願発明」という（上記「第２」の「１」の「（２）本件補正前の特許請求の範囲の請求項１」を参照。）。
　
２　刊行物及び各刊行物の記載事項並びに引用発明の認定
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物及び刊行物の記載事項並びに引用発明の認定は、前記「第２」の「２」の「（１）引用例１」及び「（２）引用発明の認定」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願発明は、前記「第２」の「２」ないし「４」で検討した本願補正発明から、表示領域に形成された有機発光層の表面が平坦化されていることの限定を省いたものである（前記「第２」の「１」の「（３）本件補正の目的について」を参照）。
　そうすると、本願発明と引用発明の相違点は、「第２」の「４　相違点の検討・判断」において検討した相違点１のみであり、相違点１は、前述のとおり実質的な相違点とは認められないから、本願発明は引用発明と同一である。
　
４　むすび
　以上検討のとおり、本願発明は、本願優先日前に頒布された刊行物に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。