【手続補正書】
【提出日】平成23年6月14日(2011.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックであって、下記の成分：
ａ）ＳｉＯ２     ５８．０〜７４．０重量パーセント、
ｂ）Ａｌ２Ｏ３    ４．０〜１９．０重量パーセント、
ｃ）Ｌｉ２Ｏ     ５．０〜１７．０重量パーセント、
ｄ）Ｎａ２Ｏ     ４．０〜１２．０重量パーセント、
ｅ）ＺｒＯ２     ０．５〜６．０重量パーセント
を含有することを特徴とするベニアセラミック。
【請求項２】
イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックのための出発ガラスであって、下記の成分：
ａ）ＳｉＯ２     ５８．０〜７４．０重量パーセント、
ｂ）Ａｌ２Ｏ３    ４．０〜１９．０重量パーセント、
ｃ）Ｌｉ２Ｏ     ５．０〜１７．０重量パーセント、
ｄ）Ｎａ２Ｏ     ４．０〜１２．０重量パーセント、
ｅ）ＺｒＯ２     ０．５〜６．０重量パーセント
を含有することを特徴とする出発ガラス。
【請求項３】
結晶粉末、好ましくは、二ケイ酸リチウム粉末をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の出発ガラス。
【請求項４】
ＺｒＯ２に加えて、０．２〜８．０重量パーセントで、ＴｉＯ２をも含むことを特徴とする、請求項１に記載のベニアセラミック、または請求項２もしくは３に記載の出発ガラス。
【請求項５】
下記の成分：
ａ）ＳｉＯ２     ５８．０〜７２．０重量パーセント、
ｂ）Ａｌ２Ｏ３    ４．０〜１８．０重量パーセント、
ｃ）Ｌｉ２Ｏ     ５．０〜１７．０重量パーセント、
ｄ）Ｎａ２Ｏ     ４．０〜１１．０重量パーセント、
ｅ）ＺｒＯ２     ０．５〜５．５重量パーセント、
ｆ）ＴｉＯ２     ０．２〜８．０重量パーセント
を含有することを特徴とする、請求項１もしくは４に記載のベニアセラミック、または請求項２、３、もしくは４のいずれか一項に記載の出発ガラス。
【請求項６】
添加剤Ｌａ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＺｎＯおよびフッ化物を、最大で４．０重量パーセントまでの濃度で互いに独立して含有することを特徴とする、請求項１、４、もしくは５のいずれか一項に記載のベニアセラミック、または請求項２〜５のいずれか一項に記載の出発ガラス。
【請求項７】
下記のさらなる成分：
ａ）Ｌａ２Ｏ３    １．０〜４．０重量パーセント、
ｂ）Ｂ２Ｏ３      ０．０〜２．０重量パーセント、
ｃ）ＭｇＯ      ０．０〜２．０重量パーセント、
ｄ）ＣａＯ      ０．０〜２．０重量パーセント、
ｅ）ＺｎＯ      ０．０〜２．０重量パーセント、
ｆ）ＢａＯ      ０．０〜１．０重量パーセント
ｇ）Ｐ２Ｏ５      ０．０〜２．０重量パーセント、
ｈ）フッ化物    ０．０〜３．０重量パーセント
を含有することを特徴とする、請求項６に記載のベニアセラミック、または請求項６に記載の出発ガラス。
【請求項８】
元素Ｃｅ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｖ、Ｃｒ、Ｉｎの、ならびに希土類Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、ＤｙおよびＥｒの着色もしくは蛍光添加物である酸化物、またはこれらの組み合わせが含有されることを特徴とする、請求項１もしくは４〜７のいずれか一項に記載のベニアセラミック、または請求項２〜７のいずれか一項に記載の出発ガラス。
【請求項９】
ベータ−石英混晶の結晶化を抑制するために他の酸化アルカリが含有されることを特徴とする、請求項１または５のいずれか一項に記載のベニアセラミック。
【請求項１０】
二ケイ酸リチウムに加えて、リチウムチタンオキシドシリケートＬｉ２ＴｉＯＳｉＯ４、ケイ酸リチウムアルミニウム（ベータスポジュメン）、および少量のメタケイ酸リチウムもが含有されることを特徴とする、請求項１または４〜９のいずれか一項に記載のベニアセラミック。
【請求項１１】
イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックのための出発ガラスであって、該出発ガラスは、
７１．１重量パーセント  ＳｉＯ２、
４．９重量パーセント    Ａｌ２Ｏ３、
１４．９重量パーセント  Ｌｉ２Ｏ、
３．０重量パーセント    Ｎａ２Ｏ、
５．０重量パーセント    ＴｉＯ２、および
１．１重量パーセント    ＺｒＯ２
を含有することを特徴とする、出発ガラス。
【請求項１２】
イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックのための出発ガラスであって、該出発ガラスは、
６９．７重量パーセント  ＳｉＯ２、
４．８重量パーセント    Ａｌ２Ｏ３、
１４．６重量パーセント  Ｌｉ２Ｏ、
２．９重量パーセント    Ｎａ２Ｏ、
４．９重量パーセント    ＴｉＯ２、
１．１重量パーセント    ＺｒＯ２、
０．６重量パーセント    ＣａＯ、および
１．４重量パーセント    Ｐ２Ｏ５
を含有することを特徴とする、出発ガラス。
【請求項１３】
イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックのための出発ガラスであって、該出発ガラスは、
７０．５重量パーセント  ＳｉＯ２、
４．９重量パーセント    Ａｌ２Ｏ３、
１４．８重量パーセント  Ｌｉ２Ｏ、
３．０重量パーセント    Ｎａ２Ｏ、
５．０重量パーセント    ＴｉＯ２、
１．１重量パーセント    ＺｒＯ２、および
０．６重量パーセント    ＣａＦ２、
を含有することを特徴とする、出発ガラス。
【請求項１４】
イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物へのベニア形成のための、請求項１もしくは４〜１０のいずれか一項に記載のベニアセラミックの使用または請求項２、４〜７、もしくは１１〜１３のいずれか一項に記載の出発ガラスの使用。
【請求項１５】
請求項１もしくは４〜１０のいずれか一項に記載のベニアセラミック、または請求項２、４〜７、もしくは１１〜１３のいずれか一項に記載の出発ガラスを使用することにより、イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物へのベニア形成方法。
【請求項１６】
請求項１または４〜１０のいずれか一項に記載のベニアセラミックの調製方法であって、ここで、５００℃〜６８０℃の温度範囲で核形成が行われ、そして、８００℃〜９４０℃の温度範囲で溶融および結晶化が行われる、方法。
【請求項１７】
請求項１もしくは４〜１０のいずれか一項に記載のベニアセラミックを使用することにより、請求項１５に記載のイットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物へのベニア形成方法であって、下記の方法ステップ：
ａ）１５３０℃で溶融したガラスを、水中でフリット化するステップと、
ｂ）前記フリット化したガラスを、核形成のため５００℃〜６８０℃の温度で２〜６時間鍛錬するステップと、
ｃ）冷却後、前記鍛錬したガラスを機械的に微粉砕するステップと、
ｄ）前記前処理した粉末を、水の添加によりペーストに変換するステップと、
ｅ）前記ペーストを、イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む前記修復物に塗布するステップと、
ｆ）次いで、８００℃〜９４０℃における熱処理に掛けるステップであり、前記ベニアセラミックにおいて、主結晶相として二ケイ酸リチウムが結晶化されるステップとを特徴とする方法。
【請求項１８】
前記二ケイ酸リチウムに加えて、ケイ酸リチウムアルミニウム、およびリチウムチタンオキシドシリケートＬｉ２ＴｉＯＳｉＯ４も結晶化されることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記フリット化されたガラスに、固相反応により生成された二ケイ酸リチウム微粉砕物を含む結晶性添加物が添加されることを特徴とする、請求項１７または１８に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明は、下記において実施形態例を参照して、より完全に記述されるであろう。また、本発明は以下を提供する：
（項目１）
イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックであって、下記の成分：
ａ）ＳｉＯ２     ５８．０〜７４．０重量パーセント、
ｂ）Ａｌ２Ｏ３    ４．０〜１９．０重量パーセント、
ｃ）Ｌｉ２Ｏ     ５．０〜１７．０重量パーセント、
ｄ）Ｎａ２Ｏ     ４．０〜１２．０重量パーセント、
ｅ）ＺｒＯ２     ０．５〜６．０重量パーセント
を含有することを特徴とするベニアセラミック。
（項目２）
イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックであって、下記の成分：
ａ）ＳｉＯ２     ５８．０〜７２．０重量パーセント、
ｂ）Ａｌ２Ｏ３    ４．０〜１８．０重量パーセント、
ｃ）Ｌｉ２Ｏ     ５．０〜１７．０重量パーセント、
ｄ）Ｎａ２Ｏ     ４．０〜１１．０重量パーセント、
ｅ）ＺｒＯ２     ０．５〜５．５重量パーセント、
ｆ）ＴｉＯ２     ０．２〜８．０重量パーセント
を含有することを特徴とするベニアセラミック。
（項目３）
下記のさらなる成分：
ａ）Ｌａ２Ｏ３    １．０〜４．０重量パーセント、
ｂ）Ｂ２Ｏ３      ０．０〜２．０重量パーセント、
ｃ）ＭｇＯ      ０．０〜２．０重量パーセント、
ｄ）ＣａＯ      ０．０〜２．０重量パーセント、
ｅ）ＺｎＯ      ０．０〜２．０重量パーセント、
ｆ）ＢａＯ      ０．０〜１．０重量パーセント
ｇ）Ｐ２Ｏ５      ０．０〜２．０重量パーセント、
ｈ）フッ化物    ０．０〜３．０重量パーセント
が含有されることを特徴とする、項目１または２に記載のベニアセラミック。
（項目４）
元素Ｃｅ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｖ、Ｃｒ、Ｉｎの、ならびに希土類Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、ＤｙおよびＥｒの着色もしくは蛍光添加物である酸化物が個別にまたは組み合わせて含有されることを特徴とする、前記項目の一項に記載のベニアセラミック。
（項目５）
ベータ−石英混晶の結晶化を抑制するために他の酸化アルカリ、好ましくは酸化ナトリウムが含有されることを特徴とする、項目１または２に記載のベニアセラミック。
（項目６）
項目１または２に記載のベニアセラミックによる、イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物へのベニア形成方法であって、下記の方法ステップ：
ａ）１５３０℃で溶融したガラスを、水中でフリット化するステップと、
ｂ）前記フリット化したガラスを、核形成のため５００℃〜６８０℃の温度で２〜６時間鍛錬するステップと、
ｃ）冷却後、前記鍛錬したガラスを機械的に微粉砕するステップと、
ｄ）前記前処理した粉末を、水の添加によりペーストに変換するステップと、
ｅ）前記ペーストを、イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む前記修復物に塗布するステップと、
ｆ）次いで、８００℃〜９４０℃における熱処理に掛けるステップであり、前記ベニアセラミックにおいて、主結晶相として二ケイ酸リチウムが結晶化されるステップとを特徴とする方法。
（項目７）
前記二ケイ酸リチウムに加えて、ケイ酸リチウムアルミニウム、およびリチウムチタンオキシドシリケートＬｉ２ＴｉＯＳｉＯ４も結晶化されることを特徴とする、項目６に記載の方法。
（項目８）
前記フリット化されたガラスに、固相反応により生成された二ケイ酸リチウム微粉砕物を含む結晶性添加物が添加されることを特徴とする、項目６または７に記載の方法。