【事件の表示】
　特願２００２−３６２８４７「シャワーノズル及び成膜装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　７月　８日出願公開、特開２００４−１９３５０９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
 第１．手続の経緯
　本願は、平成１４年１２月１３日の出願であって、平成１９年１１月　７日付けで、拒絶の理由が通知され、これに対して平成２０年　１月１５日付けで手続補正がなされたが、平成２０年１０月　７日付けで拒絶査定され、前記拒絶査定を不服として、平成２０年１１月１４日付けで審判請求され、同年１２月１５日付けで手続補正がなされが、平成２２年８月２６日付けで、当審より最後の拒絶理由が通知されたところ、同年１１月　１日付けで手続補正がなされたものである。
　
　
第２．平成２２年１１月　１日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２２年１１月　１日付けの手続補正を却下する。
　
［理　由］
１．平成２２年１１月　１日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）の内容
　
　本件補正は、特許請求の範囲において次のとおりに補正しようとする事項を含むものである。
　
「【請求項１】　成膜室内に配置され、多数の孔が形成されている成膜室にガスを導入するためのシャワーノズルにおいて、
幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差す
　
２．補正の適否について
　１）補正の内容
　上記補正の補正事項は、平成２０年１２月１５日付け手続補正により補正された請求項１（以下、「補正前の請求項１」という。）の記載において、補正前の請求項１の「基板表面においてガスが重なる」を、「
幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差す
　
　２）補正の目的
　本件審判請求人は、平成２２年１１月　１日付けの意見書において本件補正の根拠として以下のとおり主張している。
　「（３）補正の根拠
　請求項１の「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差する」は、出願当初の図１、２の記載に基づいて明瞭でない記載を釈明する補正であります（特許法第１７条の２第４項第４号）。
　従いまして、本補正は、いわゆる新規事項を追加する補正ではなく、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たすものであります。」
　
　本件審判請求人は、上記のように補正の根拠を図１，図２に基づく旨主張している。
　
ア．まず、図１及び図２に関連する本願明細書の記載を検討してみると、本願明細書には、下記の記載がある。
　なお、下線は、当審で関連記載箇所を明示したものである。
（本ａ）「【００１５】
【作用】
本発明の作用を本発明をなすに際して得た知見とともに説明する。
【００１６】
本発明者は、
斑点の発生する原因を鋭意探求した
斑点が発生する位置はシャワーノズルの孔に対応する位置である
斑点が生ずる位置は他の位置よりも成膜中には温度が低くなっている
【００１７】
さらに、何故に温度の低下を招くかを探求した。その結果、
シャワーノズルの孔のアスペクト比が大きいため孔から出たガスが拡がりをもたずに基板上に到達してしまいため、ガスが到達した位置が他の点よりも温度が低下してしまうものと推定
シャワーノズルの厚みｌはｌ＝９ｍｍ
孔の径ｄはｄ＝０．７ｍｍ
基板とシャワーノズルとの距離ｈはｈ＝２０ｍｍ程度
すなわち、図２に示すθは小さい。
隣の孔から出たガスとの重なりは無く、その結果、ガスが到達した部分のみにおいて温度の低下が生ずる。
【００１９】
アスペクト比を小さくすると、孔から出るガスは広がりを持つことが可能となり、隣接する孔からのガスと基板において重なり合う。
　
（本ｂ）「【００２０】
【発明の実施の形態】
・・・
【００２２】
前記
孔のアスペクト比は１／２〜１／８であることが好ましい
孔から出たガスは、基板とシャワーノズルとの距離を近づけても基板上で重なり合う。
【００２３】
前記
孔の径は０．３〜２．５ｍｍであることが好ましい。
・・・
【００２７】
シャワーノズルと基板との距離は２０ｍｍ以下とすることができる。
　
　上記本願明細書の【００１９】には、「アスペクト比を小さくすると、孔から出るガスは広がりを持つことが可能」と説明しているものの、本願明細書の作用に関する記載（【００１５】〜【００１９】）及び発明の実施の形態に関する記載（【００２０】〜【００２７】）のいずれにも、アスペクト比と、ガスの広がりに関して具体的な対応関係が説明されておらず、特にガスが「孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線」として広がることは説明されていない。
　また、明細書のその他全体の記載においても、シャワーノズルにおいて、「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差する」ようにすることについて、何らの説明も示唆もなされていない。
　
　また、【００１７】には、図２に関して、概略、
　　ア）シャワーノズルの厚みｌは　　　　　ｌ＝９ｍｍ
　　イ）孔の径ｄは　　　　　　　　　　　　ｄ＝０．７ｍｍ
　　ウ）アスペクト比は　　　　　　　　０．７／９≒１／１３
　　エ）基板とシャワーノズルとの距離ｈは　ｈ＝２０ｍｍ程度
　　オ）かかる場合、孔から出たガスは広がりは小さい。
　　　　すなわち、図２に示すθは小さい。
と説明しているが、明細書には、隣接した孔同士の間隔、アスペクト比に基づく具体的なθの値、ガスの基板上への到達点等具体的な値は記載されていないことから、明細書に記載された数値からでは、隣接する孔同士から出されるガスの状態、基板上でのガスの到達状態を特定できない。
　したがって、明細書の数値からは、シャワーノズルにおいて、「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差する」ようにすることが、特定できず、明細書に記載されていた事項とは言えない。
　
　そこで、図２を参照すると、図２の適宜倍率のものを測定した各部位の長さの比率は概ね以下のとおり。
　　ア）シャワーノズルの厚みｌは　　　　　ｌ＝３２．５
　　イ）孔の径ｄは　　　　　　　　　　　　ｄ＝８．５
　　ウ）アスペクト比は　　　　　　　８．５／３２．５≒１／３．８
　　エ）基板とシャワーノズルとの距離ｈは　ｈ＝２３
　
　したがって、図２の各部位の寸法比率と、明細書の【００１７】に説明された各部位の寸法比率とは、明らかに異なるものであるから、図２の各部位の寸法比率は、明細書の技術内容を表現したものではなく、図２の寸法比率を用いて、明細書に記載された数値から、明細書に記載されていない数値を補間することはできない。
　
イ．上記のように、図２は、明細書の説明と相違しており、明細書の技術内容を表現したものではないが、本件審判請求人が、本件補正の根拠が、図１及び図２である旨主張していることから、まず、図２自体を参照すると、図２には、孔の出口端部から基板へ引かれている直線と、孔の出口の中心と思われる位置から基板にほぼ垂直に降ろされた点線が引かれており、前記基板へ引かれている直線と点線とのなす角をθと図示されていることが看取できる。
　しかしながら、「孔の入り口の中心」には、特段の線が引かれておらず、また、前記基板へ引かれている直線及び基板にほぼ垂直に降ろされた点線も、共に、孔内部は延長されていない。
　結果、基板へ引かれている直線及び基板にほぼ垂直に降ろされた点線両者がその孔内部方向への延長上において、どの場所で交差するかについては図示されておらず不明である。
　上記事項を踏まえれば、点線は、単に広がり角度の説明に用いるための補助線として理解しうるにすぎず、任意の孔の形状に対する当該角度の具体的な決定方法も図２に図示されているとは言えないから、図２には、上記補正事項に係る「孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線」が図示されているとは言えず、従来例として、「孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線」に着目して、隣接する孔からの前記「延長線」が交差していないことを技術思想として表現しているものでもない。
　
ウ．また、図１に関する説明である上記【００２２】、【００２３】、【００２７】の記載においては、幅のある数値を用いて説明しており、なおかつ、隣接した孔同士の間隔、アスペクト比に基づく具体的なθの値、ガスの基板上への到達点等具体的な値は記載されていないことから、図１に関する説明としての数値のみから、隣接する孔同士から出されるガスの状態、基板上でのガスの到達状態を特定することはできない。
　
エ．そこで、本件審判請求人が本件補正の根拠として主張してる、図１自体を参照すると、図１には、孔の出口端部から基板へ引かれている直線と、孔の入口中心と思われる位置から、孔を通り、基板にほぼ垂直に降ろされた点線が引かれており、前記基板へ引かれている直線と点線とのなす角をθと図示されていることが看取できる。
　しかしながら、前記基板へ引かれている直線は、孔内部への延長線が図示されておらず、当該延長線が前記基板にほぼ垂直に降ろされた点線と、どの場所で交差するかについても図示されていない。
　以上から、図１においても、点線は、単に広がり角度の説明に用いられているものにすぎないと理解しうるにすぎず、図１にも、上記補正事項に係る「孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線」自体が図示も示唆もされておらず、また、その点に関する説明が明細書中にもないことから、「孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差する」ように隣接する孔を配置するとの技術事項が図示されていない。
　また、仮に、技術思想として明細書に説明されておらず、図示もされていない仮想線を、事後的に引くことが可能であったとしても、少なくとも、「孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線」が「基板の表面において交差する」こと自体は図示されておらず、また、示唆されているとも言えない。
　
オ．次に、図１，２自体の具体的な各部位の比率等から、孔出口端部から基板に向けて引かれている直線が本件補正に係る、「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線」であるのか否か確認する。
　
　図２において、一つの孔の孔出口両端部から基板に向けて引かれた直線同士が基板に到達した位置間の長さ（Ｄ）は、１８となっている。
　そして、三角形の相似形状から、孔出口端部から基板に引かれた直線の孔内部への延長線と点線の孔内部への延長線との交差点を算出すると、
　孔出口から、孔内部への点線の延長線上との交点までの長さをｌ’とすれば、
　　ｌ’：（ｄ／２）＝（ｈ＋ｌ’）：（Ｄ／２）
なので、
　　ｌ’＝（（ｈ＋ｌ’）／（Ｄ／２））＊（ｄ／２）
　　ｌ’＝ｈ＊（ｄ／Ｄ）＋ｌ’＊（ｄ／Ｄ）
　　ｌ’（１−（ｄ／Ｄ））＝ｈ＊（ｄ／Ｄ）
　　ｌ’＝（ｈ＊（ｄ／Ｄ））／（１−（ｄ／Ｄ））
　　ｌ’＝（２３＊（８．５／１８））／（１−８．５／１８）
　　　　≒２０．６
となり、図２の孔の長さｌ（３２．５）と相違し、孔出口端部から基板に引かれた直線の孔内部への延長線と点線の孔内部への延長線との交差点は、孔入口にまで達しておらず、孔内部となる。
　
　更に、図１についても同様の計算をすると、
　　図１の各部位の長さの比率は概ね以下のとおり。
　　（括弧書きは、本願明細書の発明の実施の形態に記載された値等）
　　　　　Ｄ＝３４．５　　　　（本願明細書に記載なし）
　　　　　ｄ＝１１　　　　　　（０．３〜２．５ｍｍ）
　　　　　ｌ＝１７　　　　　　（ｄおよびアスペクト比から推定すると、
　　　　　　　　　　　　　　　　０．６〜２０ｍｍ）
　　アスペクト比　１１／１７≒１：１．５　（１／２〜１／８）
　　　　　ｈ＝２９．５　　　　（２０ｍｍ以下）
　したがって、
　　ｌ’＝（２９．５＊(１１／３４．５)）／（１−(１１／３４．５)）
　　　　≒１３．８
となり、図１の孔の長さｌ（＝１７）と相違し、図１においても、孔出口端部から基板に向けて引かれた直線の孔内部への延長線と、点線の孔内部への延長線との交差点は、孔入口にまで達しておらず、孔内部となる。
　
　よって、図１，図２から実測した、孔出口端部から基板に引かれた線の孔内部への延長線と点線の孔内部への延長線との交差点は、いずれも、孔入口にまで達していなから、図１，図２には、シャワーノズルにおいて、「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差する」ことは、図示されていない。
　
　カ）したがって、上記のように、明細書の記載を参酌しても、図１，図２から本件補正による補正事項である、シャワーノズルにおいて、「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差する」ことは、図示されていないから、本件補正は、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものではない。
　
　
　
　因みに、本件補正が、上記のように願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものではないことは明らかであるが、仮に、図１及び図２に図示された事項に基づく本件補正事項が、可能であるとすれば、例えば、当審が平成２２年８月２６日付けで通知した拒絶理由通知書の引用刊行物である特開平１１−１２７４２号公報（刊行物１）の図１には、ＣＶＤ装置内に配置され、ＣＶＤ装置内に原料ガスを均一に基板に供給するガス拡散板（本願の請求項１にいうシャワーノズルに相当）と、基板との配置が示されているが、図１を適宜拡大した図を測ると各部位の割合は、概ね下記のようになっている。
　　　孔の径：　　　　　　　　　ｄ　＝　４
　　　ガス拡散板の厚み　　　　　ｌ　＝　３
　　　アスペクト比　　　　　　４／３≒１．３／１
　　　基板とガス拡散板との距離　ｈ　＝１１
　　　孔と孔との間隔（ｄ’）　　ｄ’＝　４
　上記数値は、本願明細書の説明と図面との関係が相違しているように、刊行物１に記載されたアスペクト比１／５〜１／１０（【００１２】に記載に基づく）と図面上のアスペクト比とが相違しているもの、技術事項としての形状に関して、単に本件審判請求人の主張するように図面自体から判断することが可能であるとすれば、この場合、孔の中心の延長線が基板と交差する地点から、孔の入口の中心と孔の出口端部とを結ぶ直線を基板に延長し、基板と交差する地点の距離Ｄ／２と、隣接する孔における距離Ｄ／２とを足した距離が、孔の中心から隣接する孔の中心までの距離よりも長ければ、隣接する孔の入口の中心と孔の出口端部とを結ぶ直線を基板にそれぞれ延長した線が基板に到達する前に交差することになる。
　そこで、
　　　　　ｌ：（ｄ／２）＝（ｌ＋ｈ）：Ｄ／２
から、
　　　　　Ｄ／２＝（（ｌ＋ｈ）＊（ｄ／２））／ｌ
　　　　　　　　＝（（３＋１１）＊（４／２））／３
　　　　　　　　≒９．３
　そして、孔の中心から隣の孔の中心までの距離は、
　　　　　（ｄ／２）＋ｄ’＋（ｄ／２）＝８
であるから、
　　　（Ｄ／２）＊２−（（ｄ／２）＋ｄ’＋（ｄ／２））＝１０．６
となり、孔の中心間距離よりも長いことは明らかである。
　したがって、単に図面の概略的な情報のみから、技術事項を判断する事が可能であるとすれば、上記刊行物１の図面から判断して、本願補正発明は、刊行物１と同一の発明となるから、特許法２９条第１項第３項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものとなる。
　
　
３．まとめ
　したがって、本件補正は、平成１４年法律第２４号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第３項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　また、仮に、本件補正が、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するものではなく、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるとしても、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３．本願発明について　
１．本願発明
　平成２２年１１月　１日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜９のうち、請求項１に係る発明は、平成２０年１２月１５日付け手続補正書により補正されたその特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　
「【請求項１】　成膜室内に配置され、多数の孔が形成されている成膜室にガスを導入するためのシャワーノズルにおいて、
基板表面においてガスが重なるようにしたことを特徴とするシャワーノズル。」（以下、「本願発明」という。）である。
　
２．当審による平成２２年　８月２６日付けの最後の拒絶理由通知（以下、「当審拒絶理由通知」という。）の概要
　
「 １．本件出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前日本国内または外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
 ２．本件出願は、明細書及び図面の記載が下記の点で不備のため、特許法第３６条第４項及び第６項第１号、第２号に規定する要件を満たしていない。　　　　　　　　　　　　　　　記
＊理由の２ 
＊請求項１及び請求項１を直接或いは間接的に引用する請求項２〜９ 
＊備考 
　１）請求項１に記載された「基板表面においてガスが重なるようにした」との技術的内容が図１を参酌しても不明であり、「基板表面においてガスが重なるようにした」「シャワーノズル」を特定できない。 
 　 
　２）シャワーノズルのアスペクト比（請求項４）及び孔の径（請求項５）のみで、その広がり角度を特定できるとの具体的な根拠・実験データが不明であり、・・・シャワーガスと基板との間隔を特定したとしても、ガスを重ねることが可能であるとの根拠が見出せない。 
 　更に、複数の孔同士の間隔、孔の形状（円形、方形）等、の具体的な構造も含めて、図１のガスの重なりを生じさせるための具体的な構成が、実施可能な程度に明細書中に説明されていない。 
 　 ・・・どの様にして、「基板表面においてガスが重なるようにした」「シャワーノズル」を形成できるのか不明である。 
 ＊理由の１ 
 ＊請求項１〜９ 
 ＊刊行物 
 　　刊行物１：特開平１１−１２７４２号公報 
 　　刊行物２：特開平５−１９０４６４号公報 
 　　刊行物３：特開平１０−２５１８５３号公報 
 　　刊行物４：特開平４−３０５１４号公報 
 　　刊行物５：特開平９−３１６６４４号公報 
 ＊備考 
 　刊行物１には、ＭＯＣＶＤ（【０００１】等）において、原料ガス配管１８の接続部を覆うように、かつ支持部材２４によって支持した、ガス拡散板２６が設けられており、当該部分が本願発明のシャワーガスノズルに相当する。 
・・・
 　また、「ガス拡散作用を効果的に生じさせる」ことは、基板上においては、ガスが十分に拡散されていることであることは明らかであるから、本願発明のガスが重なっていることに相当する。 」
　
３．当審の判断　
１）上記当審拒絶理由通知の理由の２について
　ア．本件審判請求人は、上記当審拒絶理由の理由の２に対して、意見書において、次のように主張している。
「（４−１−１）備考１について
　それに対しまして、補正後の請求項１は「基板表面においてガスが重なるようにした」から「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差する」と補正をいたしました。
　補正後の本願請求項１は、幾何学的に、２つの「直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差するようにしたこと」であって、「シャワーノズル」の構成の発明であります。
　そして図１の状態は補正後の本願の構成の具体例であって、上記（２）で示した効果を奏します。
　従って、本願発明は「基板表面においてガスが重なるようにした」ことを発明特定事項ではなく、「ガス」の重なり、「進行」は本願請求項とは直接関係なくなり、拒絶理由１の備考１は解消したものと思料致します。」
　
　「（４−１−２）備考２について
本願発明の「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差する」ことが重要な発明特定事項となります。
その発明特定事項は、シャワーノズルの孔のアスペクト比や孔径（本願の請求項４、５）等の構造とシャワーノズルと被処理基板との距離（本願の請求項８）に影響されます（本願の【００１６】〜【００１９】、図１）。
隣り合った孔の間隔は多少影響されるかもしれませんが、ガス供給量（シャワーノズルの孔から放出される流速）、反応室内の圧力によって影響されません。　
その他の条件は通常（従来）のＭＯＣＶＤ装置による成膜条件であり、本願の出願人が共願人である特願２００２−５５８３３０の実施例６等が参考になると思われます。
「ガスの粘性（温度も依存する）、流速、及び、ガスとシャワーノズルとの材質等による濡れ性、孔の出口部分における角部の処理・形状等」は本願発明を特定するために必要な事項ではありません。
「ガスの粘性（温度も依存する）、流速、及び、ガスとシャワーノズルとの材質等による濡れ性」はガス、金属有機化合物により異なりますが、例えば、請求項６の「溶解液を噴霧化したガス」であるのでキャリアガスの噴射速度は５０〜１００ｍ／secが好ましいと思われます（特願２００２−５５８３３０の実施例６）。
従って、審査官殿のご指摘の条件は、本願発明の特定事項ではなく、本願の出願時には周知な条件もあり、明細書に開示されていなくても、一般的な自明な事項であっても、明細書中に説明で実施可能な程度な記載であります。
また、引用文献１、２のアスペクト比、引用文献２の孔径、引用文献５の基板とシャワープレートとの距離を本願請求項４，５、８で特定した範囲に含まれる数値であっても、「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差する」とは限りません。
即ち、「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差する」ために、それぞれ本願請求項４，５、８のように範囲が特定され、その範囲内における数値の組み合わせにより本願請求項１のように「幾何学的に、」・・・「表面において交差する」ようになります。
従って、「広がり角度」は、本願の「幾何学的に、」等の構成により発明を特定でき、特定方法も明確であるから、シャワーガスノズル自体の発明であります。」
　
　イ．当審拒絶理由通知の備考１）の
　「請求項１に記載された「基板表面においてガスが重なるようにした」との技術的内容が図１を参酌しても不明であり、「基板表面においてガスが重なるようにした」「シャワーノズル」を特定できない。」
との点に対する本件審判請求人の意見書における上記主張は、平成２２年１１月　１日付けの手続補正を根拠としており、当該手続補正が、上記のように却下されたので、上記主張を採用することはできない。
　
　そして、本願の請求項１に記載された「基板表面においてガスが重なるようにした」との文言について、例えば、光の場合、２つの光源から拡散放射された光が交わった場所では、両者の波長が重なったものとして認識しうるが、ガスの場合は、拡散されてきたガスがぶつかった箇所において乱れが生じ、乱流等が発生し乱れながら混じり合っていく或いは、衝突地点で、お互いが交わらずに下方に落ちていくこと等と理解するの一般的であり、お互いがそれぞれの進行方向に進み図１のようにそれぞれが重なった状態で進行することは、技術的にはどの様なことなのか不明である。 
　加えて、ガスが、溶解液を噴霧化したガスである場合（例えば、請求項６）、液を霧状にしたものが、重なり合うとはどの様な現象なのか不明である。 
　更に、基板にガスが衝突した後ガスがどの様に移動するのかも不明であり、基板と衝突した後、上方に拡散乱流が生じたり、特定の方向に流れたりした場合においても、図１の重なった場所の状況も複雑なものとなることは明らかであり、図１の状態が、何を表しているのか不明である。 
　
　したがって、「基板表面においてガスが重なるようにした」との技術的内容は、図１を参酌しても依然として不明であり、「基板表面においてガスが重なるようにした」「シャワーノズル」とは、どのようなものか特定できない。
　
　ウ．当審拒絶理由通知の備考２）の
「シャワーノズルのアスペクト比（請求項４）及び孔の径（請求項５）のみで、その広がり角度を特定できるとの具体的な根拠・実験データが不明であり、・・・シャワーガスと基板との間隔を特定したとしても、ガスを重ねることが可能であるとの根拠が見出せない。 
 　更に、複数の孔同士の間隔、孔の形状（円形、方形）等、の具体的な構造も含めて、図１のガスの重なりを生じさせるための具体的な構成が、実施可能な程度に明細書中に説明されていない。 
 　 ・・・どの様にして、「基板表面においてガスが重なるようにした」「シャワーノズル」を形成できるのか不明である。」
との点に対する、本件審判請求人の意見書における上記主張は、平成２２年１１月　１日付けの手続補正を根拠としており、当該手続補正が、上記のように却下されたので、上記主張を採用することはできない。
　
　そして、孔出口においては、ガスが直線状に出て、基板に到達するまでに、隣接する孔からのガスとぶつかるとしても、孔からガスがどの様に広がるかについては、ガスの粘性（温度も依存する）、流速、及び、ガスとシャワーノズルとの材質等による濡れ性、孔の出口部分における角部の処理・形状等、種々のパラメータが影響していると通常理解される、また、仮に孔の出口から直線的に広がるようにガスが出たとしても、成膜室内のガス圧・ガス種、排気ガスの流れ方、基板までの距離等に応じて、ガスが直線方向から拡散によりさらに広がること，或いは乱流状態になることも十分予想できるものの、そのような条件を何ら特定せずに、図１，図２に示されているような、孔の出口から基板に到達するまで、直線状に広がるガスが形成されることの根拠（そのための条件）が、不明である。
　
　また、仮に、孔から出たガスが、基板まで直線状に流れることが可能であるとしても、そのための条件が不明であり、かつ、ガスの広がり角度については、本願明細書には「【００１９】アスペクト比を小さくすると、孔から出るガスは広がりを持つことが可能となり、隣接する孔からのガスと基板において重なり合う。・・・」旨説明されているものの、任意の条件にかかわらず、アスペクト比とガスの広がり角度との具体的な関係がどのようになるのか明細書中には開示されていない。
　
　更に、隣接孔間の距離についても、具体的な値が開示されておらず、ガスが重なる（ぶつかる）ための、広がり角度を明細書の他の数値から算出することもできない。
　
　ところで、本件審判請求人は、上記のように、
　「その他の条件は通常（従来）のＭＯＣＶＤ装置による成膜条件であり、本願の出願人が共願人である特願２００２−５５８３３０の実施例６等が参考になると思われます。・・・審査官殿のご指摘の条件は、本願発明の特定事項ではなく、本願の出願時には周知な条件もあり、明細書に開示されていなくても、一般的な自明な事項であっても、明細書中に説明で実施可能な程度な記載であります。」
と主張している。
　一方、請求項１に係る発明は、成膜室がどの様な成膜装置における成膜室であるのか特定しておらず、また、本願明細書の【００２６】においては、「本発明のシャワーノズルは各種成膜装置に用いることができる。・・・シャワーノズルを電極とする平行平板型のプラズマ成膜装置にも用いることができる。特に、ＣＶＤ装置、さらにはＭＯＣＶＤ装置に用いる場合により効果的である。」と説明され、任意の成膜装置に使用できる旨記載されているものの、意見書で提示した特定の装置の特定の事例の条件で行うことは何ら説明されていないことから、何をもって、本件審判請求人の言う「周知の条件」というのか特定できないし、種々の成膜装置における任意の環境条件との関係についても特段の説明はなされていない。
　そして、請求項１に係る発明は、「シャワーノズル」の発明であって、成膜装置の発明でもないから、任意の成膜装置に対して、「シャワーノズル」によって、どの様にして、「基板表面においてガスが重なるように」できるのか、依然として不明である。
　
　したがって、上記任意の各種条件によらずに、ガスの広がりを特定する方法が不明であるから、請求項１に記載された発明特定事項である「基板表面においてガスが重なるようにした」「シャワーノズル」は、明細書中に実施可能な程度に記載されていない。
　
２）上記当審拒絶理由通知の理由の１について
　ア．引用刊行物及びその記載事項
　１）当審による上記拒絶理由通知で引用した本願の出願日前に国内において頒布された下記の刊行物１には、次の事項が記載されている。
　
刊行物１：特開平１１−１２７４２号公報
（刊１ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、反応容器内において熱、プラズマ、光またはこれらの併用によって基板上に薄膜を形成する、ＭＯＣＶＤ（有機金属化合物を用いるＣＶＤ）装置その他のＣＶＤ（化学気相成長）装置・・・」
　
（刊１ｂ）「【０００２】
【従来の技術】従来のＣＶＤ装置の一例を図２に示す。この装置は、・・・反応容器２２を有している。
【０００３】反応容器２２内には、成膜しようとする基板３０を保持するホルダ（サセプタとも呼ばれる）３２が設けられている。・・・
【０００４】反応容器２２の天井部には、原料ガス供給装置２からの原料ガス１６を導入する原料ガス配管１８およびクリーニングガス導入手段４４からのクリーニングガス４８を導入するクリーニングガス導入管５２が接続されている。反応容器２２内の天井部付近には、少なくとも上記原料ガス配管１８の接続部を覆うように、かつ支持部材２４によって支持して、ガス拡散板２６が設けられている。このガス拡散板２６は、多数の孔２８を有しており、原料ガス配管１８から導入された原料ガス１６をほぼ均一に拡散して基板３０の近傍に供給する。」
　
（刊１ｃ）「【０００９】成膜時は、弁８、９、１１、２０および４０を開、弁１０および弁５０を閉にして、真空排気装置４２によって反応容器２２内を排気しながら、原料ガス供給装置２から原料ガス１６を送出して反応容器２２内に導入する。導入された原料ガス１６は、ガス拡散板２６によってほぼ均一に拡散されて、ヒータ３４によって加熱された基板３０の表面近傍に達し、基板３０の表面にＣＶＤ反応によって堆積して薄膜が形成される。このとき、ヒータ３４による加熱と併せて、高周波電源５４によってホルダ３２とガス拡散板２６および反応容器２２との間に高周波放電を生じさせて原料ガス１６のプラズマ６０を生成してプラズマＣＶＤによって薄膜を形成しても良い。・・・」
　
（刊１ｄ）「【００１２】
【発明が解決しようとする課題】・・・ガス拡散板２６の背後空間Ｂにはプラズマは生成されない。しかも、ガス拡散板２６に設けられた孔２８は、ガス拡散作用を効果的に生じさせるために通常はアスペクト比（孔の深さ／孔の直径）が５〜１０程度と大きいため、ホルダ３２周りの空間Ａで生成されたプラズマ６０が孔２８の内部の奥まで十分な密度で進入することは不可能である。・・・
【００１３】そこでこの発明は、ホルダ周りの空間に接する面に固着した堆積物だけでなく、ガス拡散板の孔内および背後空間に接する面に固着した堆積物をも効果的に除去することができるクリーニング方法およびＣＶＤ装置を提供することを主たる目的とする。」
　
　
　イ．刊行物１に記載の発明
　上記刊行物１に関する記載事項（刊１ａ）、（刊１ｂ）を整理すると、刊行物１には、
「成膜しようとする基板を保持するホルダが内部に設けられたＣＶＤ装置の反応容器の天井部に、原料ガス供給装置からの原料ガスを導入する原料ガス配管が接続され、反応容器内の天井部付近に、少なくとも上記原料ガス配管の接続部を覆うように、かつ支持部材によって支持された、ガス拡散板であって、
　このガス拡散板は、多数の孔を有しており、原料ガス配管から導入された原料ガスをほぼ均一に拡散して基板の近傍に供給する。」
に関する発明（以下、「刊行物発明」という。）が記載されている。
　
　ウ．対比・判断
　ａ．本願発明と刊行物発明との対比
　　ａ）刊行物発明の「反応容器」は、成膜しようとする基板を保持するホルダが内部に設けられているので、本願発明の「成膜室」に相当する。
　　ｂ）刊行物発明の「ガス拡散板」は、本願発明の「シャワーノズル」に相当する。
　
　そうすると、本願発明と刊行物発明とは、
　「成膜室内に配置され、多数の孔が形成されている成膜室にガスを導入するためのシャワーノズル」
の点で一致し、下記の点で相違する。
　
　相違点：シャワーノズルに関して、本願発明では、「基板表面においてガスが重なるようにした」のに対して、刊行物発明では、そのような点が記載されていない点。
　
　ｂ．上記相違点の検討
　本件審判請求人は、当審拒絶理由通知の理由の１に対して、次のとおりの主張を行っている。
「刊行物1は、アスペクト比（孔の深さ／孔の直径）が５〜１０では「ガス拡散作用を効果的に生じさせる」ことができないので、クリーニングガスのプラズマ生成する方法により孔内の堆積物を効果的に除去することであり、本願のアスペクト比と重複していても孔の径もなく、本願のようなガスの到達を考慮したものではありません。
また、刊行物1の「ガス拡散作用を効果的に生じさせる」ことは、プラズマが孔の内部の奥まで進入して孔内の堆積物を効果的に除去することであり、本願のような局部的な温度低下とは全く関係ありません。
・・・
それ故に、引用文献１〜５と本願発明では目的が相違し、引用文献１〜３の発明を寄せ集めても本願のような「幾何学的に、前記孔の入り口の中心から前記孔の出口を結ぶ直線の延長線が基板に到達前又は基板の表面において交差するようにした」ものではなく、顕著な効果を奏するものではありません。
従って、本願に係る発明は引用文献１〜５から容易に想到し得るものではありません。」
　
　しかしながら、本件審判請求人が主張している、
　「また、刊行物1の「ガス拡散作用を効果的に生じさせる」ことは、プラズマが孔の内部の奥まで進入して孔内の堆積物を効果的に除去することであり、」
との点については、刊行物１の【００１２】には、
　「ガス拡散板２６に設けられた孔２８は、ガス拡散作用を効果的に生じさせるために通常はアスペクト比（孔の深さ／孔の直径）が５〜１０程度と大きいため、ホルダ３２周りの空間Ａで生成されたプラズマ６０が孔２８の内部の奥まで十分な密度で進入することは不可能である。」
と記載されており、これは、「ガス拡散作用を効果的に生じさせるために通常」用いられている「アスペクト比」では、「プラズマ６０が孔２８の内部の奥まで十分な密度で進入することは不可能で」あることを説明しているのであり、刊行物１の【０００４】に記載された「このガス拡散板２６は、多数の孔２８を有しており、原料ガス配管１８から導入された原料ガス１６をほぼ均一に拡散して基板３０の近傍に供給する。」、【０００９】の「導入された原料ガス１６は、ガス拡散板２６によってほぼ均一に拡散されて、ヒータ３４によって加熱された基板３０の表面近傍に達し、基板３０の表面にＣＶＤ反応によって堆積して薄膜が形成される。」との文言を踏まえれば、本件審判請求人の主張する「刊行物1の「ガス拡散作用を効果的に生じさせる」ことは、プラズマが孔の内部の奥まで進入して孔内の堆積物を効果的に除去すること」ではないことは明らかである。
　
　ところで、本願明細書の【００１７】〜【００１８】によれば、隣の孔から出たガスとの重なりが無いと、ガスが到達した部分において温度低下が生じ、ガスに広がりを持たせ、隣接する孔からのガスが基板において重なり合うと局部的な温度低下を招かないものであるから、本願発明における「基板表面においてガスが重なるようにした」ことは、基板表面において、ガスが充分拡散されて混じり合っている状態とさせることも技術的に含んでいるものである。
　そして、刊行物発明は、ガス拡散板によって、「原料ガス配管から導入された原料ガスをほぼ均一に拡散して基板の近傍に供給」し、「ガス拡散作用を効果的に生じさせ」ようとするものであるから、刊行物発明において、基板表面で、ガスが充分拡散されて混じり合っている状態とさせること、即ち、「基板表面においてガスが重なるように」させることは、当業者ならば当然考慮する設計的事項にすぎない。
　
　したがって、本願発明は、刊行物１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
　なお、刊行物１の【０００９】には、「高周波電源５４によってホルダ３２とガス拡散板２６および反応容器２２との間に高周波放電を生じさせて原料ガス１６のプラズマ６０を生成してプラズマＣＶＤによって薄膜を形成しても良い。」とも記載されており、刊行物発明をプラズマＣＶＤに適用した場合は、ガス拡散板から放出された原料ガスがプラズマを生成することになるが、複数の孔から出た原料ガスが基板に到達するまでに、混じり合わずに個別のプラズマを形成することは、特段の説明がないから、各孔からの原料ガスが一体となったプラズマを形成している、あるいは、そのようにすることは当業者ならば、実施化にあたって当然考慮すべき事項である。
　
４．むすび 
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本願の請求項２〜請求項９に係る発明については検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。