(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属基材を準備する段階と、
前記金属基材を陽極酸化させて、前記金属基材の表面に棒形状のナノ繊維構造体と前記棒形状のナノ繊維構造体が集まり形成された山脈形状のマイクロ構造体からなる複合構造体を有するセラミック層を形成する段階と、
前記複合構造体の上に疎水性高分子物質をコーティングして、前記複合構造体と同一の表面形状を有する高分子層を形成する段階と、
を含む極疎水性表面加工方法。
【請求項２】
前記金属基材は、アルミニウム、ニッケル、チタニウム、マグネシウム、及び亜鉛からなる群より選択される少なくとも一つを含む、請求項１に記載の極疎水性表面加工方法。
【請求項３】
前記陽極酸化の初期段階で前記セラミック層に複数のナノホールが形成され、
前記陽極酸化が進行するほど、前記複数のナノホールの大きさが拡張され、前記拡張された複数のナノホールの壁面によって形成された前記ナノ繊維構造体と前記マイクロ構造体からなる前記複合構造体が形成される、請求項１に記載の極疎水性表面加工方法。
【請求項４】
前記陽極酸化時の電解液の温度は０℃乃至４０℃の範囲に属し、前記金属基材と相対電極とに加えられる電圧は２０Ｖ乃至２００Ｖの範囲に属する、請求項３に記載の極疎水性表面加工方法。
【請求項５】
前記金属基材と前記相対電極への電圧印加時間は５分乃至１０分の範囲に属する、請求項４に記載の極疎水性表面加工方法。
【請求項６】
前記高分子層は、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、及びＨＤＦＳ（（ＨＥＰＴＡＤＥＣＡＦＬＵＯＲＯ−１，１，２，２−ＴＥＴＲＡＨＹＤＲＯＤＥＣＹＬ）−ＴＲＩＣＨＬＯＲＯＳＩＬＡＮＥ）からなる群より選択される少なくとも一つを含む、請求項１に記載の極疎水性表面加工方法。
【請求項７】
前記高分子層は単分子層でコーティングされる、請求項３に記載の極疎水性表面加工方法。
【請求項８】
前記高分子層は１Å以上５ｎｍ以下の範囲に属する厚さを有する、請求項７に記載の極疎水性表面加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、極疎水性表面加工方法に関し、より詳しくは、表面強度に優れた極疎水性表面加工方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハスの葉の表面は〜１０μｍサイズのマイクロ突起表面に数百ナノメートルサイズのナノの突起が配置された構造で、極疎水性と自家洗浄機能を有する。表面エネルギーが少ない物質でマイクロ−ナノ複合突起構造を模写して、多様な方法により極疎水性表面を加工する方法が知られている。極疎水性表面は接触角履歴（前進接触角と、後進接触角との差）が小さい長所があって、種々の産業分野に応用することができる。
【０００３】
公知された極疎水性表面加工方法中、微細電子機械システム（ＭＥＭＳ、ｍｉｃｒｏ−ｅｌｅｃｔｒｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  ｓｙｓｔｅｍ）を利用して、ウエハーの上に極疎水性表面を加工する方法がある。しかし微細電子機械システムではウエハーより大きい面積の極疎水性表面を作ることができず、製造値段が非常に高いという短所がある。
【０００４】
このような短所を克服するために提案された方法中、１）金属基材の表面に衝突エネルギーを加えてマイクロ溝を形成し、２）金属基材を陽極酸化してマイクロホールにナノホールを形成し、３）金属基材の表面に高分子物質を塗布後分離させて、金属基材の表面にマイクロ−ナノ複合突起構造を複製する方法がある。この方法はサイズの制限がなく、複製された高分子物質が柔軟であるため、多様な３次元物品に付着可能であるという長所がある。
【０００５】
しかし、上述した方法も陽極酸化と高分子複製工程に相当な時間がかかり、高分子物質だけで極疎水性表面を実現するため、金属表面に比べて表面強度が弱い。また、極疎水性表面を実現しようとする物品の表面に複製された高分子物質を付着しなければならないので、複雑で立体的な物品の表面には適用が困難であるという限界がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、金属表面と類似する表面強度を有すると共に、全体の加工時間を短縮することができる極疎水性表面加工方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一実施例による極疎水性表面加工方法は、金属基材を準備する段階と、金属基材を陽極酸化させて金属基材の表面に棒形状のナノ繊維構造体と前記棒形状のナノ繊維構造体が集まり形成された山脈形状のマイクロ構造体からなる複合構造体を有するセラミック層を形成する段階と、複合構造体の上に疎水性高分子物質をコーティングして、複合構造体と同一の表面形状を有する高分子層を形成する段階とを含む。
【０００８】
金属基材は、アルミニウム、ニッケル、チタニウム、マグネシウム、及び亜鉛からなる群より選択される少なくとも一つを含むことができる。
【０００９】
陽極酸化の初期段階でセラミック層に複数のナノホールが形成され、陽極酸化が進行するほど複数のナノホールの大きさが拡張され、前記拡張された複数のナノホールの壁面によって形成されたナノ繊維構造体とマイクロ構造体からなる複合構造体が形成されることができる。
【００１０】
陽極酸化時の電解液の温度は０℃乃至４０℃の範囲に属し、金属基材と相対電極に加えられる電圧は２０Ｖ乃至２００Ｖの範囲に属することができる。金属基材と相対電極への電圧印加時間は５乃至１０分の範囲に属することができる。
【００１１】
高分子層は、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、及びＨＤＦＳ（（ＨＥＰＴＡＤＥＣＡＦＬＵＯＲＯ−１，１，２，２−ＴＥＴＲＡＨＹＤＲＯＤＥＣＹＬ）−ＴＲＩＣＨＬＯＲＯＳＩＬＡＮＥ）からなる群より選択される少なくとも一つを含むことができる。
【００１２】
高分子層は単分子層でコーティングされ、１Å以上５ｎｍ以下の範囲に属する厚さを有することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本実施例による極疎水性表面は、セラミックと同一の表面剛性を実現するので、外部衝撃及び摩擦に強くて高い耐久性を有し、加工に必要とされる所要時間を効果的に短縮することができる。また、複雑で立体的な物品の表面に極疎水性表面を容易に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施例による極疎水性表面加工方法を示す工程フローチャートである。
【図２】図１に示した各段階別の断面状態を概略的に示す図である。
【図３】図１の第２段階で使用される陽極酸化装置を示す概略図である。
【図４Ａ】第２段階の陽極酸化過程を経たセラミック層表面の走査電子顕微鏡写真である。
【図４Ｂ】図４Ａの部分拡大写真である。
【図５Ａ】陽極酸化時間によるセラミック層の表面変化を示す走査電子顕微鏡写真である。
【図５Ｂ】陽極酸化時間によるセラミック層の表面変化を示す走査電子顕微鏡写真である。
【図５Ｃ】陽極酸化時間によるセラミック層の表面変化を示す走査電子顕微鏡写真である。
【図５Ｄ】陽極酸化時間によるセラミック層の表面変化を示す走査電子顕微鏡写真である。
【図６】比較例によるセラミック層表面の走査電子顕微鏡写真である。
【図７】陽極酸化時間による極疎水性表面の接触角の変化を示すグラフである。
【図８】時間による霜生成量を測定して示すグラフである。
【図９Ａ】本実施例による極疎水性表面の霜除去過程を示す写真である。
【図９Ｂ】図９Ａの模式図である。
【図１０】陽極酸化された一般アルミニウム、一般アルミニウム、疎水性高分子でコーティングされた一般アルミニウム、複製された疎水性高分子層単独で形成された疎水性表面、及び本実施例による極疎水性表面を示す写真である。
【図１１】本発明の一実施例による蒸発器の概略図である。
【図１２】図１１に示した蒸発器の断面図である。
【図１３】本発明の他の一実施例による蒸発器の概略図である。
【図１４】図１３に示した蒸発器の部分拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、添付した図面を参照して、本発明の実施例について、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は種々の異なる形態に実現でき、ここで説明する実施例に限られない。
【００１９】
図１は、本発明の一実施例による極疎水性表面加工方法を示す工程フローチャートであり、図２は、図１に示した各段階別の断面状態を概略的に示す図である。
図１と図２を参照すれば、本実施例による極疎水性表面１００加工方法は、金属基材１１を準備する第１段階（Ｓ１０）と、金属基材１１を陽極酸化させて、金属基材１１の表面にマイクロ構造体とナノ繊維構造体との複合構造体２０を有するセラミック層１２を形成する第２段階（Ｓ２０）と、複合構造体２０の上に疎水性高分子物質をコーティングして、複合構造体２０と同一の表面形状を有する高分子層１３を形成する第３段階（Ｓ３０）とを含む。
【００２０】
高分子層１３は、マイクロ構造体の間、及びナノ繊維構造体の間に空気を含有して、水との接触面積を最小化する。したがって、高分子層１３は水滴が入り込まない極疎水性表面を実現する。このとき、高分子層１３は金属基材１１から分離されて単独で存在せず、陽極酸化によるセラミック層１２（金属酸化層）の上に位置するので、セラミックほど高い表面剛性を示す。
ここで、マイクロスケールは、１μｍ以上１，０００μｍ未満の範囲に属するサイズを意味し、ナノスケールは、１ｎｍ以上１，０００ｎｍ未満の範囲に属するサイズを意味する。
【００２１】
第１段階（Ｓ１０）で、金属基材１１は、陽極酸化が可能な金属であって、アルミニウム、ニッケル、チタニウム、マグネシウム、及び亜鉛などを含むことができる。金属基材１１は特定形状に限定されず、極疎水性表面を実現しようとする全ての金属物品を含む。
図２では平板形状の金属基材１１を例として挙げたが、金属基材１１の形状は示した例に限られない。
【００２２】
図３は、図１の第２段階で使用される陽極酸化装置を示す概略図である。
図３を参照すれば、陽極酸化装置３０は、冷却水が循環する循環式水槽３１と、水槽３１内部の電解液を一定の速度で攪拌する磁石撹拌機３２とを含む。
【００２３】
第２段階（Ｓ２０）の陽極酸化工程は、水槽３１内部の電解液に互いに離隔した状態で金属基材１１と相対電極３３を浸し、金属基材１１と相対電極３３それぞれに陽極電源と陰極電源を印加する過程からなる。電解液は、シュウ酸（Ｃ２Ｈ２Ｏ４）、燐酸（Ｈ３ＰＯ４）、及び硫酸（Ｈ２ＳＯ４）のうちの少なくとも一つを含むことができ、相対電極３３は、アルミニウムまたは白金を含むことができる。
このとき、電解液の温度は０℃乃至４０℃の範囲に属し、金属基材１１及び相対電極３３に加えられる電圧は２０Ｖ乃至２００Ｖの範囲に属することができる。そして、電圧印加時間は５分乃至１０分の範囲に属することができる。この条件を満たすとき、金属基材１１上のセラミック層１２（金属酸化層）の表面にマイクロ構造体とナノ繊維構造体との複合構造体２０を形成することができる。
【００２４】
具体的に、電解液の温度、金属基材１１と相対電極３３との電圧差が上述した範囲を逸脱すれば、セラミック層１２の表面にマイクロ構造体とナノ繊維構造体との複合構造体が形成されない。即ち、上述した条件を満たさなければ、セラミック層１２の表面にマイクロ構造体が形成されず、ナノ繊維構造体も形成されない。電圧印加時間は５分乃至１０分の範囲を満たすとき、接触角が１５０°以上の極疎水性を実現することができる。
本実施例の陽極酸化工程は、セラミック層１２の表面にナノホールを形成した後、これらを拡張させる過程からなる。このことにより。ナノホールの壁面が崩れ始めて、中心に密度の高い壁面だけが残るようになるため、結局ナノ繊維構造体と山脈形状のマイクロ構造体からなる複合構造体２０が完成される。
【００２５】
図４Ａは、第２段階の陽極酸化過程を経たセラミック層表面の走査電子顕微鏡写真であり、図４Ｂは、図４Ａの部分拡大写真である。
図４Ａと図４Ｂを参照すれば、セラミック層１２の表面には細くて長い繊維形状のナノ繊維構造体が形成される。ナノ繊維構造体は密度の高い壁面が残ったものであって、単独で残っておらず、中心に密度の高い壁面が集まって残っている山脈形状のマイクロ構造体を同時に形成する。
【００２６】
ナノ繊維構造体は、ワイヤー形状または棒形状にも表現され、縦横比の大きい薄くて長い形状を通称する。本実施例では、このようなナノ構造体を便宜上「ナノ繊維構造体」と名称する。セラミック層１２は親水性を示し、上述した複合構造体２０の形成によって極親水性を示す。
【００２７】
図５Ａ乃至図５Ｄは、陽極酸化時間によるセラミック層の表面変化を示す走査電子顕微鏡写真である。図５Ａ乃至図５Ｄにおいて、上側写真はセラミック層の表面を示す写真であり、下側写真はセラミック層の断面を示す写真である。
図５Ａ乃至図５Ｄを参照すれば、陽極酸化の初期段階では金属基材１１の表面が酸化しながらセラミック層１２が形成され、セラミック層１２の表面に微細なナノホールなどが形成される（図５Ａ）。陽極酸化が進行するほど、ナノホールのサイズと深さが次第に拡張され（図５Ｂ）、ナノホールの拡張によりナノホール周囲の壁面が崩れ始めながら、中心に密度の高い壁面だけが残るようになる（図５Ｃ及び図５Ｄ）。
したがって、図５Ｄに示したように、ナノホール周囲の残った壁面がナノ繊維構造体とマイクロ構造体を形成して、セラミック層１２の複合構造体２０を完成する。図４Ａ乃至図５Ｄにおいて、金属基材１１はアルミニウムであり、セラミック層１２はアルミナからなる。
【００２８】
図６は、電解液の温度、及び金属基材と相対電極との電圧差が実施例の条件を満たしていない場合、製作された比較例によるセラミック層表面の走査電子顕微鏡写真である。図６を参照すれば、比較例のセラミック層表面には複数のナノホールなどが形成され、本実施例のマイクロ構造体とナノ繊維構造体との複合構造体が形成されないことを確認できる。
【００２９】
さらに図２を参照すれば、第３段階（Ｓ３０）では、複合構造体２０の上に疎水性を有する高分子物質をコーティングする。これにより、セラミック層１２の表面に複合構造体２０と同一の表面形状を有する高分子層１３を形成する。高分子層１３は、ＨＤＦＳ（（ＨＥＰＴＡＤＥＣＡＦＬＵＯＲＯ−１，１，２，２−ＴＥＴＲＡＨＹＤＲＯＤＥＣＹＬ）−ＴＲＩＣＨＬＯＲＯＳＩＬＡＮＥ）、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、及びパーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）のうちの少なくとも一つを含むことができる。
【００３０】
高分子層１３は、材料自体に疎水性を現わし、物質特性上セラミック層１２の表面と結合して単分子形態にコーティングされることにより、セラミック層１２に形成された複合構造体２０と同一のパターンを示す。つまり、高分子層１３にもセラミック層１２の複合構造体２０に対応するナノ繊維構造体とマイクロ構造体とが形成される。高分子層１３は単分子層であって、１Å乃至５ｎｍの範囲に属する厚さを有することができる。
ＨＤＦＳを含む高分子層１３の場合、ＨＤＦＳと核酸を１：１０００の比率で混合し、この混合溶液にセラミック層１２が形成された金属基材１１を１０分以内に浸漬した後、核酸洗浄と水洗浄過程を経れば、セラミック層１２の表面にＨＤＦＳ高分子層１３をコーティングすることができる。
【００３１】
高分子層１３に形成されたマイクロ構造体は、峰に相当する高い部分と、谷間に相当する低い部分とを有し、峰に相当する高い部分が極疎水性を実現するためのマイクロ突起として機能する。そして、高分子層１３に形成されたナノ繊維構造体それぞれは、極疎水性を実現するためのナノ突起として機能する。
このような高分子層１３は、マイクロ構造体の間、及びナノ繊維構造体の間に空気を含有して、水との接触面積を最小化することにより、接触角が１５０°より大きい極疎水性を発揮する。
【００３２】
図７は、陽極酸化時間による極疎水性表面の接触角の変化を示すグラフである。
図７を参照すれば、陽極酸化開始と同時に５分以内では接触角が１５０°より小さい値を現わし、ほぼ５分を超えるときに１５０°より大きい接触角を現わすことを確認できる。反面、陽極酸化時間が１０分を超えても接触角には大きい変化がないので、１５０°以上の極疎水性を実現するために、陽極酸化時間は５分乃至１０分が好ましい。
【００３３】
本実施例によって完成された極疎水性表面１００は、高分子層単独で存在せず、金属基材１１とセラミック層１２をそのまま保有しているので、セラミック層１２とほぼ同一の表面剛性を実現する。したがって、極疎水性表面１００は外部衝撃及び摩擦などが加えられる場合にも、表面形状をそのまま維持するので、高い耐久性を確保できる。
また、陽極酸化に所要される時間は１０分以内であり、高分子層１３を単分子層でコーティングすることにより、コーティングに必要される所要時間も極めて短いので、表面加工時間を効果的に短縮することができる。さらに、高分子層１３を物品の表面に付着せずに、金属で製造された物品自体を表面処理して極疎水性表面１００を実現するので、複雑で立体的な物品の表面に極疎水性表面１００を容易に形成することができる。
【００３４】
図８は、時間による霜生成量を測定して示すグラフである。
図８において、Ａ線は一般アルミニウム表面であり、Ｂ線は疎水性高分子でコーティングされた一般アルミニウム表面であり、Ｃ線は疎水性高分子でコーティングされた本実施例による極疎水性表面を示す。図８では、一般アルミニウム表面（Ａ線）の霜生成量を１とし、Ｂ線とＣ線の霜生成量をＡ線に対する比較値として示した。実験に適用された温度条件は２７℃常温である。
図８を参照すれば、本実施例による極疎水性表面は、一般アルミニウム表面及び疎水性高分子でコーティングされた一般アルミニウム表面に比べ、霜生成が大きく遅れて、同じ時間条件でより少ない霜が表面に生成されたことを確認できる。
【００３５】
図９Ａは、本実施例による極疎水性表面の霜除去過程を示す写真であり、図９Ｂは、図９Ａの模式図である。
図９Ａと図９Ｂを参照すれば、本実施例の極疎水性表面１００において、高分子層１３は、マイクロ構造体とナノ繊維構造体との複合構造体と同一の表面形状を有する。このような極疎水性表面１００にできた霜は、単一層形態を有して表面から剥けるように離れることを確認できる。
したがって、本実施例の極疎水性表面１００は、その上に霜ができても、これを一回に除去することができるので、早くて完ぺきな除霜効果を実現することができる。
【００３６】
図１０は、陽極酸化された一般アルミニウム、一般アルミニウム、疎水性高分子でコーティングされた一般アルミニウム、複製された疎水性高分子層単独で形成された疎水性表面、及び本実施例による極疎水性表面を示す写真である。（ａ）〜（ｅ１）は、表面を垂直に立てて撮影した写真であり、（ｅ２）は、表面を地面と平行にして撮影した写真である。
【００３７】
図１０の（ａ）は、陽極酸化された一般アルミニウム表面であり、（ｂ）は、一般アルミニウム表面であり、（ａ）は、霜が表面を完全に覆っている形状であり、（ｂ）は、表面に水滴がついた状態を示す。図１０の（ｃ）は、疎水性高分子でコーティングされた一般アルミニウム表面であり、（ｄ）は、複製された疎水性高分子層単独で形成された疎水性表面で、マイクロ−ナノ複合突起構造を有する。
図１０の（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）では、霜が完ぺきに除去されずに、表面に水滴として存在することを確認できる。
図１０の（ｅ１）と（ｅ２）は、本実施例による極疎水性表面であって、霜が完ぺきに除去されたことが分かる。また、霜除去後、表面に水滴を滴下したとき、水滴がかたまって極疎水性をそのまま維持していることを確認できる。
このように、本実施例の極疎水性表面１００は、水滴の凝縮による着霜が遅延し、生成された霜は単一層形態で一回に離れる形態を見せているので、早くて完ぺきな除霜効果を実現することができる。
上述した極疎水性表面１００は、各種熱交換機、特に周辺の熱を吸収して周辺温度を低くする蒸発器に有効に適用される。以下、図１１乃至図１４を参照して、蒸発器の構造と極疎水性表面の適用位置について説明する。
【００３８】
図１１は、本発明の一実施例による蒸発器の概略図であり、図１２は、図１１に示した蒸発器の断面図である。図１１に示したチューブ状蒸発器は冷蔵庫などに適用される。
図１１と図１２を参照すれば、蒸発器２００は、内部に冷媒が流れながら周囲に流動する空気と熱交換する冷媒チューブ４０で構成される。冷媒チューブ４０の入口は、膨張バルブ（図示せず）と連結され、冷媒チューブ４０の出口は圧縮器（図示せず）と連結される。冷媒チューブ４０に流入した液状冷媒は冷媒チューブ４０を通過しながら気相冷媒に気化し、周囲空気から熱を奪って周囲空気を冷却させる。
【００３９】
冷媒チューブ４０は、陽極酸化が可能な金属で製造され、上述した陽極酸化の第２段階（Ｓ２０）と高分子コーティングの第３段階（Ｓ３０）とを経て、外側表面を極疎水性表面１００に加工する。即ち、冷媒チューブ４０の外周面は本実施例の極疎水性表面１００からなる。
このような冷媒チューブ４０は外側表面への着霜が遅延し、一応生成された霜は単一層形態に一回に除去されるので、優れた除霜効果を発揮することができる。冷媒チューブ４０の配置構造は、図示した例に限定されず、多様に変形可能である。また、冷媒チューブ４０の外側にプレート形状のピンなどの多様な部材が結合される構成も可能である。
【００４０】
図１３は、本発明の他の一実施例による蒸発器の概略図であり、図１４は、図１３に示した蒸発器の部分拡大図である。図１３に示した蒸発器は自動車用冷房装置などに適用される。
図１３と図１４を参照すれば、蒸発器２１０は互いに離隔して位置する上部ヘッダタンク５１及び下部ヘッダタンク５２と、上部ヘッダタンク５１及び下部ヘッダタンク５２に両端が固定されて、冷媒流路を形成する複数の冷媒チューブ５３と、冷媒チューブ５３と接触して冷媒チューブ５３の間に位置する複数の熱交換ピン５４とを含む。
【００４１】
熱交換ピン５４は冷媒チューブ５３と熱交換し、その表面に接触する空気と熱交換する。
熱交換ピン５４はジグザグパターンで曲がった波形構造に形成されて空気と接触する表面積を最大化する。したがって、熱交換ピン５４は、冷媒チューブ５３の電熱面積を拡大させて、冷媒と空気との熱交換効率を上げる。
熱交換ピン５４は、陽極酸化が可能な金属で製造され、上述した陽極酸化の第２段階（Ｓ２０）と高分子コーティングの第３段階（Ｓ３０）を経て表面全体を極疎水性表面１００に加工する。即ち、熱交換ピン５４の表面全体は本実施例の極疎水性表面１００からなる。
このような熱交換ピン５４は、表面への着霜を遅延させ、優れた除霜効果を発揮する。
【００４２】
上述した蒸発器２００、２１０において、極疎水性表面１００は、冷媒チューブ４０及び熱交換ピン５４のように形状が複雑な３次元構造物に容易に適用される。これは、極疎水性表面１００が従来のように複製された高分子層単独で形成されて物品の表面に付着される形態でないので可能である。
つまり、本実施例では極疎水性特性が必要な物品（冷媒チューブ、熱交換ピンなど）自体を陽極酸化させ、セラミック層１２の複合構造体２０に疎水性高分子をコーティングして極疎水性表面を作るので、複雑な３次元構造物にも極疎水性表面１００を容易に加工することができる。
このような極疎水性表面１００を備えた蒸発器２００、２１０は、表面強度に優れて耐久性が高く、短時間に経済的な方法で極疎水性表面１００を形成することができ、除霜効果に優れて熱交換効率を上げられる。
【００４３】
一方、上記で、本実施例による極疎水性表面１００の適用例は２つのタイプの蒸発器２００、２１０を説明したが、本実施例の極疎水性表面１００は上述した蒸発器２００、２１０以外に、速い除霜効果が要求される各種構造の熱交換機に全て適用される。
【００４４】
以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれに限定されず、特許請求の範囲と発明の詳細な説明及び添付した図面の範囲内で多様に変形して実施することが可能であり、これも本発明の範囲に属する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図５ｃ】
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【図５ｄ】
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【図６】
0005872037.tif 000011
【図７】
0005872037.tif 000012
【図８】
0005872037.tif 000013
【図９Ａ】
0005872037.tif 000014
【図９Ｂ】
0005872037.tif 000015
【図１０】
0005872037.tif 000016
【図１１】
0005872037.tif 000017
【図１２】
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【図１３】
0005872037.tif 000019
【図１４】
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