【事件の表示】
　特願２００４−２２８２５１「複数ステージ多重露光リソグラフィシステム、及び複数ステージ多重露光リソグラフィシステムの処理量を増加させる方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　３月　３日出願公開、特開２００５−　５７２９２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１６年８月４日（パリ条約による優先権主張２００３年８月４日、米国）の出願であって、平成１９年８月８日付けで通知した拒絶の理由に対して、同年１１月９日付けで手続補正書が提出され、その後、平成２０年５月２９日付けで最後の拒絶理由の通知がなされ、これに対して、同年１２月１日付けで手続補正書が提出されたが、平成２１年６月３日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１０月５日付けで審判請求がなされたものである。
　
　本願の請求項１，２に係る発明は、平成２０年１２月１日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１，２に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は次のとおりである。
　
　「【請求項１】
　複数ステージ多重露光リソグラフィシステムにおいて、
　第１のウェーハ対をプロセス処理し、
　第１の期間の間に、第１のウェーハ対のウェーハを交換し、第１のウェーハ対の各ウェーハが第１のレチクルにより逐次的にパターン形成されるようにし、
　第２の期間の間に、第１のレチクルを第２のレチクルと交換し、
　第３の期間の間に、第１のウェーハ対のウェーハを交換し、第１のウェーハ対の各ウェーハが第２のレチクルにより逐次的にパターン形成されるようにし、
　第４の期間の間に、第１のウェーハ対の第１のウェーハを第２のウェーハ対の第１のウェーハと交換し、
　第５の期間の間に、第２のウェーハ対の第１のウェーハをプロセス処理し、
　第６の期間の間に、第２のレチクルを第１のレチクルと交換し、
　第７の期間の間に、第１のウェーハ対の第２のウェーハを第２のウェーハ対の第２のウェーハと交換し、
　第８の期間の間に、第２のウェーハ対の第２のウェーハをプロセス処理し、
　第９の期間の間に、第２のウェーハ対のウェーハを交換し、第２のウェーハ対の各ウェーハが第１のレチクルにより逐次的にパターン形成されるようにし、
　第１０の期間の間に、第１のレチクルと第２のレチクルを交換し、
　第１１の期間の間に、第２のウェーハ対のウェーハを交換し、第２のウェーハ対の各ウェーハが第２のレチクルにより逐次的にパターン形成されるようにした方法。」
　
　
２．引用刊行物の記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された国際公開第０３／０１７３４４号（２００３年２月２７日国際公開。以下、「刊行物１」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。なお、下線は当審で付した。
　
　（ａ）「技術分野
　本発明は、マスク交換方法及び
露光装置
　背景技術
　半導体素子、液晶表示素子等を製造する
リソグラフィ工程
　
　（ｂ）「また、最近では、スループットを向上するとの観点から、
２つのウエハステージを用い、一方のウエハステージ側で露光動作が行われている間に、他方のウエハステージ側でウエハ交換及びウエハアライメントを行う、ダブルウエハステージ方式の露光装置
　本発明は、かかる事情の下になされたもので、その第１の目的は、マスク交換に要する時間を短縮することが可能なマスク交換方法を提供することにある。
　また、本発明の第２の目的は、特にスループットの向上を図ることが可能な露光装置を提供することにある。」（第３頁第２５行〜第４頁第１６行）
　
　（ｃ）「《
第１の実施形態
　以下、本発明の第１の実施形態を図１〜図７Ｃに基づいて説明する。
　図１には、第１の実施形態に係る露光装置１０が、一部破断して示されている。・・・（中略）・・・
　前記露光装置本体３０は、本体チャンバ１２外部に設けられた不図示の光源からのパルス紫外光によりレチクルＲを照明する照明ユニットＩＬＵ、レチクルＲを保持するマスクステージとしてのレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出される照明光（パルス紫外光）を感光物体としてのウエハＷ１，Ｗ２上に投射する投影光学系ＰＬ、及び
ウエハＷ１、Ｗ２をそれぞれ保持するウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２
　
　（ｄ）「本実施形態の露光装置１０では、上述の如くして、レチクル交換が行われ、その際レチクルＲのレチクルステージＲＳＴ上へのロードが行われるが、その後、以下のような動作が行われる。
　すなわち、主制御装置５０は、レチクルＲがロードされた直後（図７Ｃの直後）に、レチクルステージＲＳＴを＋Ｙ方向に駆動して投影光学系ＰＬの上方へ移動する。
　次に、主制御装置５０では、オペレータの指示に応じて一方のウエハステージ（例えば
ウエハステージＷＳＴ１）上のウエハＷ１
　次いで、主制御装置５０は、例えばアライメント系ＡＬＧ１を用いてウエハＷ１のアライメントマークとウエハステージＷＳＴ１の基準マークとをそれぞれ検出した後、
ウエハステージＷＳＴ１をアライメント位置から露光位置まで移動し
ウエハＷ１のファインアライメントが行われる
　なお、レチクルアライメント系及びこれを用いたレチクルアライメントについては、例えば特開平７−１７６４６８号公報及びこれに対応する米国特許第５，６４６，４１３号などに詳細に開示されている。また、これに続くＥＧＡについては、特開昭６１−４４４２９号公報及びこれに対応する米国特許第４，７８０，６１７号等に詳細に開示されている。本国際出願で指定した指定国又は選択した選択国の国内法令が許す限りにおいて、上記各公報並びにこれらに対応する上記各米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
　
このようにして、ウエハＷ１の露光のための準備動作が終了すると
レチクルＲのパターンをウエハＷ１上の各ショット領域に転写する
上記の
ウエハＷ１に対する露光動作が行われているのと並行して
他方のウエハステージＷＳＴ２上でウエハ交換及びアライメント系ＡＬＧ２を用いたファインアライメントを実行し、ウエハステージＷＳＴ２を待機させる
　そして、
ウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１に対するパターン転写が終了すると
ウエハステージＷＳＴ１をウエハ交換位置に移動するとともに
ウエハステージＷＳＴ２を投影光学系ＰＬの下方に移動してウエハステージＷＳＴ２上のウエハＷ２に対して露光を行う
この露光中に、ウエハステージＷＳＴ１上では、ウエハ交換、ウエハアライメントが行われる
　なお、２つのウエハステージ上において並行して行われる本実施形態と同様の並行処理については、例えば特開平１０−２１４７８３号公報及びこれに対応する米国特許第６，３４１，００７号などに詳細に開示されており、本国際出願で指定した指定国又は選択した選択国の国内法令が許す限りにおいて、上記米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
　そして、
レチクル交換の必要性が生じた場合に
連続的にウエハに対する露光動作が行われるのと並行して、前述したレチクル交換のための準備作業が行われる
　これまでの説明から明らかなように、本実施形態では、主制御装置５０によって制御装置及びステージ制御装置が構成されている。しかし、これに限らず、制御装置及びステージ制御装置を主制御装置５０とは別に設けたコントローラによって構成しても良く、さらにはそれぞれを別々のハードウェアによって構成しても勿論良い。
　以上説明したように、本実施形態の露光装置１０によると、レチクルステージＲＳＴが搭載されパターンの転写（露光）が行われる露光装置本体３０を構成する本体ボディ３６と分離された搬送系支持架台７５にレチクル搬送系３２が搭載されるとともに、該レチクル搬送系３２により、レチクルステージＲＳＴに対するレチクルの搬入及びレチクルステージＲＳＴからのレチクルの搬出が行われる。このため、本体ボディ３６を含む露光装置本体３０側でパターンの転写動作、すなわち露光動作が行われている間に、レチクル搬送系３２が前述したレチクル交換のための準備動作を行ったとしても、そのレチクル搬送系３２の動作が、本体ボディ３６の振動要因となるおそれはない。従って、パターン転写精度、すなわち露光精度を維持しつつ、露光動作とレチクル交換のための準備動作との並行処理により露光動作とレチクル交換動作とをシーケンシャルに行う場合に比べてスループットの向上を図ることができる。」（第３１頁第２５行〜第３４頁２０行）
　
　（ｅ）「また、上記
第１の実施形態の露光装置で二重露光を行っても良く
この場合にはロット内の全てのウエハに１枚目のレチクルを用いて露光を行った後でレチクル交換を行い
次に２枚目のレチクルを用いて同一のロット内の全てのウエハに対して二重露光を行うシーケンスを採用する
そのロットに続けて次のロットのウエハを二重露光するときは、レチクルステージに載置されている２枚目のレチクルを用いて最初に露光を行い
その後でレチクル交換を行って１枚目のレチクルを用いて二重露光を行う
　
　これら記載によれば、刊行物１には次の発明（以下、「刊行物１記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
　「２つのウエハステージを用い、一方のウエハステージ側でウエハに対して露光動作が行われている間に、他方のウエハステージ側で別のウエハについてウエハ交換及びウエハアライメントを行う、ダブルウエハステージ方式の露光装置で、二重露光を行う方法であって、
　ロット内の全てのウエハに１枚目のレチクルを用いて露光を行った後でレチクル交換を行い、次に２枚目のレチクルを用いて同一のロット内の全てのウエハに対して二重露光を行い、
　そのロットに続けて次のロットのウエハを二重露光するときは、レチクルステージに載置されている２枚目のレチクルを用いて最初に露光を行い、その後でレチクル交換を行って１枚目のレチクルを用いて二重露光を行う、
　方法。」
　
　
３．対比・判断
　本願発明１と刊行物１記載の発明とを対比すると、
　刊行物１記載の発明の「ロット内の全てのウエハ」「次のロットのウエハ」と、本願発明１の「第１のウェーハ対のウェーハ」「第２のウェーハ対のウェーハ」とは、それぞれ、「第１群のウェーハ」「第２群のウェーハ」の点で共通するといえる。
　
　また、刊行物１記載の発明の「１枚目のレチクル」「２枚目のレチクル」は、それぞれ、本願発明１の「第１のレチクル」「第２のレチクル」に相当する。
　
　さらに、刊行物１記載の発明の「ロット内の全てのウエハに１枚目のレチクルを用いて露光を行った後でレチクル交換を行い、次に２枚目のレチクルを用いて同一のロット内の全てのウエハに対して二重露光を行い、
　そのロットに続けて次のロットのウエハを二重露光するときは、レチクルステージに載置されている２枚目のレチクルを用いて最初に露光を行い、その後でレチクル交換を行って１枚目のレチクルを用いて二重露光を行う」と、
　本願発明１の「第１のウェーハ対をプロセス処理し、
　第１の期間の間に、第１のウェーハ対のウェーハを交換し、第１のウェーハ対の各ウェーハが第１のレチクルにより逐次的にパターン形成されるようにし、
　第２の期間の間に、第１のレチクルを第２のレチクルと交換し、
　第３の期間の間に、第１のウェーハ対のウェーハを交換し、第１のウェーハ対の各ウェーハが第２のレチクルにより逐次的にパターン形成されるようにし、
　第４の期間の間に、第１のウェーハ対の第１のウェーハを第２のウェーハ対の第１のウェーハと交換し、
　第５の期間の間に、第２のウェーハ対の第１のウェーハをプロセス処理し、
　第６の期間の間に、第２のレチクルを第１のレチクルと交換し、
　第７の期間の間に、第１のウェーハ対の第２のウェーハを第２のウェーハ対の第２のウェーハと交換し、
　第８の期間の間に、第２のウェーハ対の第２のウェーハをプロセス処理し、
　第９の期間の間に、第２のウェーハ対のウェーハを交換し、第２のウェーハ対の各ウェーハが第１のレチクルにより逐次的にパターン形成されるようにし、
　第１０の期間の間に、第１のレチクルと第２のレチクルを交換し、
　第１１の期間の間に、第２のウェーハ対のウェーハを交換し、第２のウェーハ対の各ウェーハが第２のレチクルにより逐次的にパターン形成されるようにした」とは、
　「第１群のウェーハの各々に対して、第１のレチクル及び第２のレチクルを用いて二重露光を行い、その後、第２群のウェーハの各々に対して、第１のレチクル及び第２のレチクルを用いて二重露光を行う」の点で共通するといえる。
　
　また、刊行物１記載の発明の「２つのウエハステージを用い、一方のウエハステージ側でウエハに対して露光動作が行われている間に、他方のウエハステージ側で別のウエハについてウエハ交換及びウエハアライメントを行う、ダブルウエハステージ方式の露光装置で、二重露光を行う方法」は、
　複数のウエハステージを用いて多重露光を行うリソグラフィシステムを用いた方法ということができるので、
　本願発明１の「複数ステージ多重露光リソグラフィシステムにおいて・・・方法。」に相当するということができる。
　
　そうすると、両発明の一致点、相違点は次のとおりと認められる。
　
［一致点］
　「複数ステージ多重露光リソグラフィシステムにおいて、第１群のウェーハの各々に対して、第１のレチクル及び第２のレチクルを用いて二重露光を行い、その後、第２群のウェーハの各々に対して、第１のレチクル及び第２のレチクルを用いて二重露光を行う、方法。」
　
［相違点１］
　本願発明１は、「第１群のウェーハ」「第２群のウェーハ」は、それぞれ、「第１のウェーハ対のウェーハ」「第２のウェーハ対のウェーハ」であるのに対して、
　刊行物１記載の発明は、「第１群のウェーハ」「第２群のウェーハ」は、それぞれ、「ロット内の全てのウエハ」「次のロットのウエハ」である点。
　
［相違点２］
　本願発明１は、「第１のウェーハ対のウェーハ」と「第２のウェーハ対のウェーハ」に対する「第１のレチクル」（以下、「Ａ」と略す場合がある）及び「第２のレチクル」（以下、「Ｂ」と略す場合がある）の使用順序が、「第１のウェーハ対のウェーハ」に対して「ＡＡＢＢ」、第２のウェーハ対のウェーハ」に対して「ＡＡＢＢ」であるのに対して、
　刊行物１記載の発明は、「第１のウェーハ対のウェーハ」「第２のウェーハ対のウェーハ」としたとき、「第１のウェーハ対のウェーハ」に対して「ＡＡＢＢ」、第２のウェーハ対のウェーハ」に対して「ＢＢＡＡ」である点。
　なお、上記で、例えば、「第１のウェーハ対のウェーハ」に対して「ＡＡＢＢ」とは、対を構成する第１のウェーハに対してＡ、同第２のウェーハに対してＡ、同第１のウェーハに対してＢ、同第２のウェーハに対してＢ、の順になること（なお、後半の「同第１のウェーハに対してＢ、同第２のウェーハに対してＢ」の順は、逆にして、「同第２のウェーハに対してＢ、同第１のウェーハに対してＢ」の順でもよい。）を意味する。
　
［相違点３］
　本願発明１は、「第１のウェーハ対をプロセス処理し」、その後、「第４の期間の間に、第１のウェーハ対の第１のウェーハを第２のウェーハ対の第１のウェーハと交換し、第５の期間の間に、第２のウェーハ対の第１のウェーハをプロセス処理し、第６の期間の間に、第２のレチクルを第１のレチクルと交換し、第７の期間の間に、第１のウェーハ対の第２のウェーハを第２のウェーハ対の第２のウェーハと交換し、第８の期間の間に、第２のウェーハ対の第２のウェーハをプロセス処理」する手順を踏むのに対して、
　刊行物１記載の発明は、そのような手順が特定されていない点。
　
　そこで、相違点について、検討する。
　
（相違点１について）
　刊行物１記載の発明は、「ロット内の全てのウエハ」とされ、そのウエハの数は、数十枚に及ぶこともあり得るものの、
　刊行物１記載の発明において、ダブルウエハステージ方式が機能するには、２つのウエハステージのそれぞれにウエハが載置（保持）されていることが必要であるところ、そのためには、「ロット内の全てのウエハ」として、最低２枚のウエハがあればよいことは、当業者に自明である。
　したがって、刊行物１記載の発明において、「ロット内の全てのウエハ」「次のロットのウエハ」として、それぞれ２枚のウエハ、すなわち、本願発明１のごとく、「第１のウェーハ対のウェーハ」「第２のウェーハ対のウェーハ」を採用して、露光処理を行うようにすることは、当業者が適宜なし得ることである。
　
（相違点２について）
　刊行物１記載の発明は、ダブルウエハステージ方式と、第１のレチクル及び第２のレチクルを用いた二重露光とを採用したものであるが、
　ダブルウエハステージ方式を用いない、単なる二重露光を行う技術においては、次の２手法（ａ）（ｂ）があることは、周知である。なお、この点は、請求人も、本願明細書の【０００９】【００１０】で背景技術の一つとして認識しているものであり、また、特開平１１−１５００５３号公報（【００４１】等）、国際公開第９９／５４９２２号（原審の第１回拒絶理由の引用文献２。第２９〜３１頁、等）にも記載されており、本願の優先日当時の技術水準として認識されるものである。
　
　（ａ）「Ａ（１枚目１回目）→Ｂ（１枚目２回目）→Ａ（２枚目１回目）→Ｂ（２枚目２回目）」。つまり、各ウエハ（ウェーハ）は、まずマスク（レチクル）Ａから露光する。
　
　（ｂ）「Ａ（１枚目１回目）→Ｂ（１枚目２回目）→Ｂ（２枚目１回目）→Ａ（２枚目２回目）」。つまり、スループットを高めるために、２枚目１回目は、１枚目２回目のマスク（レチクル）Ｂをそのまま使用する。
　
　なお、上記で、例えば「１枚目１回目」は、１枚目のウエハ（ウェーハ）に対する第１回目の露光を意味する。
　
　ここで、（ａ）の手法は、基本となるものであり、（ｂ）の手法は、スループットを高めるために、（ａ）の手法を発展させたものというのが、技術の流れであることは、明らかである。
　
　そして、刊行物１記載の発明と上記（ｂ）の手法とは、ダブルウエハステージ方式の採用の有無の違いはあるものの、スループットを高めるために、レチクルの交換頻度を減らす手法を有する点で共通しており、したがって、上記（ａ）（ｂ）の手法をよく知っている当業者であれば、刊行物１記載の発明のおいても、スループットを高める必要がない等の場合には、上記（ａ）の手法を応用して、「第１のウェーハ対のウェーハ」に対して「ＡＡＢＢ」とし、その後、「第２のウェーハ対のウェーハ」に対して「ＡＡＢＢ」とする態様を想起することに、困難性はないというべきである。
　
　なお、請求人は、審判請求書で、次のように主張している。
　『（２）しかしながら、本願発明のＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンスの二重露光は、ＡＡＢＢＢＢＡＡシーケンスに対して次のとおりの優位性を有しています。
　まず、ＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンスは、例えば第１のウェーハをレチクルＡ（第１のレチクル）、第２のウェーハをレチクルＡ、第１のウェーハをレチクルＢ（第２のレチクル）、第２のウェーハをレチクルＢで順次露光し、次の対のウェーハを同様に露光していくシーケンスであり、一対のウェーハが完全に処理された後ごとにレチクルＡ及びＢが交換され、各ウェーハの露光順序が常に同じになっています。
　そして、ある結像理由により露光順序を固定する必要がある場合、例えば最初のレチクル或いは最後のレチクルのいずれか一方が最も重要である場合では、露光順序つまり最も重要なレチクルを使う順番を同じにすべく、引用文献１に記載のＡＡＢＢＢＢＡＡシーケンスに代わって本願発明のＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンスを使わねばなりません。ＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンスを使うことにより、仮にレチクルＡが最も重要なレチクルであった場合に、例えばレチクルＡによる露光とその露光後のベークとの間の時間が第１のウェーハ対と第２のウェーハ対の間で同じに維持され、よってＣＤ（クリティカルディメンション）の相違を防ぐことができます。
　（３）このような優れた効果は、ＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンスという技術的思想を想到することで初めて見出されるものであって、ＡＡＢＢＢＢＡＡシーケンスからは導き出し得ません。実際にＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンスについて記載した公知文献等がないのであれば、ＡＡＢＢＢＢＡＡシーケンスから容易に想到できるという論理付けの根拠が希薄ではないかと、本出願人及び本出願発明者は考えています。
　ＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンスとＡＡＢＢＢＢＡＡシーケンスは、単にレチクルの交換時機が異なるだけではなく、二重露光において超高速で移動するデュアルステージの移動や露光系とプロセス処理系の動作の制御が全く異なることになり、ＡＡＢＢＢＢＡＡシーケンスが引用刊行物１に記載されているからといって、これらの超緻密制御の相違を克服することを念頭におきつつＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンスを想到することは当業者であってしても容易には為し得ません。
　（４）したがいまして、本出願人は、請求項１−２に係る本願発明は、引用刊行物１記載の発明と比較しても、勿論同じくＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンスとは関係しない引用刊行物２記載の発明と比較しても、十分に進歩性を有する発明であると確信しております。』
　
　請求人は、「露光順序を固定する必要がある場合」をあげて説明をしているが、本願の明細書の【０００９】【００１０】には、“ＡＢ　ＡＢ　ＡＢ”という露光のシーケンスをあげた後で、「通常は、露光の順序は重要ではなく、“ＡＢ　ＢＡ　ＡＢ　ＢＡ”という露光シーケンスを使用してもよい。」と述べているから、審判請求書の説明と明細書の説明をあわせて勘案すると、通常は、「ＡＡＢＢＢＢＡＡシーケンス」でよいが、場合によっては、「ＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンス」が望ましいことがあるという程度のことと理解される。
　そして、上記したように、「露光順序を固定するシーケンス」と「露光順序を変更してレチクル交換頻度を少なくするシーケンス」は、いずれも手法（ａ）（ｂ）としてよく知られていることであるから、ダブルウエハステージ方式において、「ＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンス」を採用することは、当業者が適宜なし得ることである。
　
（相違点３について）
　一般に、レチクルの交換、ウェーハの交換・プロセス処理について、レチクルを交換してからウェーハの交換・プロセス処理をするか、ウェーハの交換・プロセス処理をしてからレチクルを交換するかは、当業者が状況に応じて適宜選択することができる程度のことである。
　したがって、刊行物１記載の発明において、相違点１，２に係る本願発明１のように、「第１のウェーハ対のウェーハ」「第２のウェーハ対のウェーハ」として、「ＡＡＢＢＡＡＢＢシーケンス」を採用した際に、　
　本願発明１のごとく、「第１のウェーハ対をプロセス処理し」、その後、「第４の期間の間に、第１のウェーハ対の第１のウェーハを第２のウェーハ対の第１のウェーハと交換し、第５の期間の間に、第２のウェーハ対の第１のウェーハをプロセス処理し、第６の期間の間に、第２のレチクルを第１のレチクルと交換し、第７の期間の間に、第１のウェーハ対の第２のウェーハを第２のウェーハ対の第２のウェーハと交換し、第８の期間の間に、第２のウェーハ対の第２のウェーハをプロセス処理」する手順を踏むことは、
　当業者が容易になし得ることである。　
　
（相違点全体として）
　全体としてみても、刊行物１記載の発明において相違点１〜３のごとくなすことに、困難性は見いだせない。
　
（効果について）
　そして、本願発明１によってもたらされる効果は、刊行物１記載の事項及び周知技術から当業者であれば予測し得る程度のものであって、格別なものとはいえない。
　
（まとめ）
　したがって、本願発明１は、刊行物１記載の発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
４．むすび　
　以上のとおりのであるから、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないので、他の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。