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【手続補正書】
【提出日】平成23年8月3日(2011.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
くぎ打ち機であって、
モータを収納するハウジング、
くぎを打つためのくぎ打ち装置を含むノズル部、及び
前記モータの回転運動を前記くぎ打ち装置の衝撃運動に変換する該ハウジング内の伝動機構を有し、該伝動機構は前記くぎ打ち装置に対して衝撃運動を付与する衝撃アセンブリを有し、
前記衝撃アセンブリは、更に前記モータにより駆動される回転軸と回転衝撃部材とを有し、前記回転衝撃部材は、前記回転軸に装着され、前記くぎ打ち装置の被衝撃部分と接触する少なくとも一つの衝撃部分を持ち、前記回転軸と前記回転部材上に２つの凹溝がそれぞれ設けられ、前記２つの凹溝に噛合部材が装着され、そして前記ハウジングに蓄エネルギー装置が装着され、前記回転衝撃部材に対して作用するくぎ打ち機。
【請求項２】
前記蓄エネルギー装置は、前記回転軸と前記回転衝撃部材との間に装着され、前記回転衝撃部材に対して作用する、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項３】
前記回転部材は、前記回転軸に対して第一軸位置と第二軸位置とを有し、前記回転部材が前記第一軸位置にあるとき、前記くぎ打ち装置の被衝撃部分は、回転円上の予定位置の衝撃部分に接触可能であり、続いて、前記回転部材の衝撃部分に接触可能であり、前記蓄エネルギー装置は、エネルギー解放状態にあり、そして前記回転衝撃部材が第二軸位置にあるとき、前記衝撃部分は、前記被衝撃部分に接触して、少なくとも一時的に停止され、前記蓄エネルギー装置は、エネルギー蓄積状態である、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項４】
前記モータの出力軸は、前記衝撃アセンブリの回転軸に対して垂直であり且つ前記くぎ打ち装置に対して垂直である、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項５】
前記伝動機構は、前記モータの回転運動を垂直に前記衝撃アセンブリの回転運動に変換するための歯車伝動部分を含む、請求項４記載のくぎ打ち機。
【請求項６】
前記回転軸にはそれぞれがV字状をなす一対の斜溝が設けられ、また、前記回転衝撃部材の円柱内面には、それぞれが一対の斜溝の一方と対向する一対の円弧案内溝が設けられ、前記円弧案内溝の開口方向は、前記V字状の斜溝の開口方向とは逆である、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項７】
前記くぎ打ち装置は、くぎの頭部と接触する打ち部分と、前記衝撃アセンブリの周期的な衝撃運動を受ける被衝撃部分とを含む、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項８】
前記くぎ打ち装置は、前記ハウジングに対して往復運動をするように配置されている往復部材を含む、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項９】
前記往復運動は、直線往復運動である、請求項８記載のくぎ打ち機。
【請求項１０】
直流バッテリーパックが、前記ハウジングの下端に装着され、パワースイッチが、前記ハウジングのグリップ部に装着されている、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項１１】
当該くぎ打ち装置には交流電源によって電力供給される、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項１２】
前記ノズル部は、更に打とうとするくぎの頭部を収納するくぎ収納口を含む、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項１３】
前記くぎ収納口は、少なくとも一つの磁性部材を有する、請求項１２記載のくぎ打ち機。
【請求項１４】
前記回転衝撃部材の衝撃部分が前記くぎ打ち装置の被衝撃部分と衝突し接触するとき、くぎ打ち装置の被衝撃部分上の衝撃部分により、回転軸に垂直方向に衝撃力は与えられる、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項１５】
前記回転衝撃部材の衝撃部分が前記くぎ打ち装置の被衝撃部分と衝突し接触したとき、前記くぎ打ち装置は前記回転軸に垂直方向に移動する、請求項１記載のくぎ打ち機。
【請求項１６】
前記回転衝撃部材の衝撃部分が前記くぎ打ち装置の被衝撃部分と衝突し接触したとき、前記くぎ打ち装置の被衝撃部分と前記衝撃部分との接触面の法線は前記回転軸に対して垂直である、請求項１記載のくぎ打ち機。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月12日(2011.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機ナノ粒子含有メラミン−ホルムアルデヒド縮合物に基づく研磨発泡体の製造方法であって、以下の工程：
（１）製造する発泡体の予備縮合物と無機ナノ粒子、また必要に応じて他の添加成分（Ｚ）を含む溶液または分散液を調製する工程、
（２）無機ナノ粒子を含む発泡体を得るために、工程（１）からの溶液または分散液を少なくとも６０℃の温度へ加熱して予備縮合物を発泡させる工程、また必要に応じて、
（３）工程（２）で得られた発泡体を１２０〜３００℃の温度で加熱処理する工程
を含むことを特徴とする製造方法。
【請求項２】
予備縮合物の発泡工程と発泡体の加熱処理工程が本方法の一工程で行われる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（１）の溶液又は分散液が、さらに少なくとも一種の乳化剤及び／又は少なくとも一種のｐＨ調整成分を含む請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
工程（１）の溶液または分散液が、平均粒度が１０００ｎｍ未満の無機ナノ粒子を含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
工程（１）の溶液または分散液が、平均粒度が１００ｎｍ未満の無機ナノ粒子を含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
工程（１）の溶液または分散液が、二酸化ケイ素や、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、マグネタイト、酸化アルミニウム、アルミニウムケイ酸塩、ランタニド酸化物（ただし、いずれの場合も平均粒度が５〜５０ｎｍである）からなる群の一種以上の化合物から選択される無機ナノ粒子を含む請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
工程（１）の溶液または分散液が、さらに少なくとも一種の発泡剤を含む請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
工程（１）の溶液または分散液が、さらに物理発泡剤の群からの少なくとも一種の発泡剤を含む請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
工程（２）の加熱が、高温ガス及び／又は高周波照射を使用して行われる請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記無機ナノ粒子成分が実質的に二酸化ケイ素からなる請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
工程（１）の溶液または分散中に存在するナノ粒子成分の量が、予備縮合物の質量に対して０．０１〜５０質量％である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
工程（１）の溶液または分散中に存在するナノ粒子成分の量が、予備縮合物の質量に対して１〜１０質量％である請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
工程（１）の溶液または分散液が、少なくとも一種の発泡剤に加えて、乳化剤とｐＨ調整成分、さらに他の添加成分として、着臭剤及び／又は染料を予備縮合物の質量に対して０．０１〜２質量％の量で含む請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法により製造される研磨発泡体。
【請求項１５】
均一に分布している、平均粒度が１００ｎｍ未満の無機ナノ粒子を含む請求項１４に記載の研磨発泡体、
【請求項１６】
請求項１４または１５に記載の研磨発泡体を含む成形体。
【請求項１７】
請求項１４または１５に記載の研磨発泡体を含む研磨材。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月6日(2011.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気相においてＮ２Ｏを窒素と酸素に分解するための触媒であって、酸化マグネシウムまたは少なくとも５０質量％の酸化マグネシウムを含むセラミック混合酸化物を含む多結晶質またはガラス質の無機材料から構成される多孔質担体、これに施用される酸化セリウム機能層、およびこれに施用される酸化物コバルト含有材料の層を含む、前記触媒。
【請求項２】
多孔質担体がセラミック材料を含む、請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
セラミック混合酸化物が、自然汚染としてまたは意図的な添加として、ＭｇＯだけでなく、最大５０質量％の他の無機酸化物を含む、請求項１又は２に記載の触媒。
【請求項４】
セラミック混合酸化物が、自然汚染としてまたは意図的な添加として、ＭｇＯだけでなく、最大２０質量％の他の無機酸化物を含む、請求項３に記載の触媒。
【請求項５】
前記他の無機酸化物が、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯおよび／またはＦｅ２Ｏ３である、請求項３又は４に記載の触媒。
【請求項６】
多孔質担体の開孔率が、多孔質担体の全体積に基づき２０〜６０％の範囲にある、請求項１〜５のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項７】
多孔質担体の開孔率が、多孔質担体の全体積に基づき４０〜５０％の範囲にある、請求項６に記載の触媒。
【請求項８】
触媒が０．５〜１０ｍｍ−１の表面積対体積比を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項９】
触媒が１〜５ｍｍ−１の表面積対体積比を有する、請求項８に記載の触媒。
【請求項１０】
酸化セリウム機能層が、酸化セリウムまたはセリウムイオンの最大５０ｍｏｌ％が他の金属イオンで置き換えられている混合酸化物を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項１１】
酸化物コバルトを含む材料の層が、酸化コバルトまたはコバルト含有混合酸化物を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項１２】
酸化物コバルトを含有する少なくとも１つの化合物がペロブスカイトまたはスピネル構造を有する、請求項１１に記載の触媒。
【請求項１３】
酸化物コバルトを含む材料の層が、少なくとも３０％のＣｏ原子が化学的に三価の状態で存在するコバルト化合物を含む、請求項１１に記載の触媒。
【請求項１４】
酸化物コバルトを含む材料の層が、５０％を超えるＣｏ原子が化学的に三価の状態で存在するコバルト化合物を含む、請求項１３に記載の触媒。
【請求項１５】
嵩密度が０．５〜２ｇ／ｃｍ３である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項１６】
嵩密度が０．７５〜１．５ｇ／ｃｍ３である、請求項１５に記載の触媒。
【請求項１７】
多孔質担体の割合が少なくとも８５重量％であり、酸化セリウム機能層の割合が２〜１４重量％であり、酸化物コバルトを含む材料の層の割合が０．１〜５重量％であり、これらの数値が触媒の全重量に基づいている、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項１８】
処置：
ｉ）酸化マグネシウムまたは少なくとも５０質量％の酸化マグネシウムを含むセラミック混合酸化物を含む多結晶質またはガラス質の無機材料から構成される多孔質担体を、それ自体が公知の方法で未処理体を焼結することにより生産し、
ｉｉ）段階ｉ）で得られた多孔質担体に、溶解したセリウム塩を含有する溶液を１回または複数回含浸させ、
ｉｉｉ）段階ｉｉ）で得られた含浸担体を乾燥および／または焼成して、酸化セリウム機能層または酸化セリウム機能層の前駆体を生産し、
ｉｖ）段階ｉｉｉ）で得られたコーティングされた担体に、溶解したコバルト塩を含有する溶液を１回または複数回含浸させ、そして
ｖ）段階ｉｖ）で得られた含浸担体を乾燥および／または焼成して、酸化物コバルトを含む機能層または酸化物コバルトを含む機能層の前駆体を生産する、
を含む、請求項１に記載の触媒の生産方法。
【請求項１９】
酸化マグネシウムまたは酸化マグネシウムと他の金属酸化物のブレンドを段階ｉ）に用いる、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
酸化マグネシウムまたは酸化マグネシウムと他の金属酸化物のブレンド、またはこの酸化物もしくはこれらの酸化物の前駆体を段階ｉ）に用いる、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
炭酸マグネシウムを酸化マグネシウムの前駆体として用いる、請求項１９または２０に記載の方法。
【請求項２２】
段階ｉ）における未処理体の焼結を１０００〜１３００℃の範囲の温度で実施する、請求項１８〜２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
段階ｉｉ）におけるセリウム塩として硝酸Ｃｅを用いる、請求項１８〜２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
段階ｉｖ）におけるコバルト塩として硝酸Ｃｏまたは酢酸Ｃｏを用いる、請求項１８〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
ガス中の亜酸化窒素を分解するための、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の触媒の使用。
【請求項２６】
排ガスまたはプロセスガス中の亜酸化窒素を分解するための、請求項２５に記載の触媒の使用。
【請求項２７】
請求項２５または２６に記載の使用であって、これを工業生産用プラント、水処理場、廃棄物焼却プラント、ガスタービンまたは自動車において実施する、前記使用。
【請求項２８】
工業生産用プラントが、カプロラクタムを調製するためのプラント、硝酸を調製するためのプラント、または硝酸を用いる酸化により多塩基性カルボン酸を調製するためのプラントである、請求項２７に記載の使用。
【請求項２９】
触媒を、硝酸のプラントまたはカプロラクタムのプラントにおいて第２触媒として８００〜１０００℃の温度で用いる、請求項２８に記載の使用。
【請求項３０】
触媒を、硝酸のプラントまたはカプロラクタムのプラントにおいて第２触媒として８５０〜９５０℃の温度で用いる、請求項２９に記載の使用。
【請求項３１】
触媒を、硝酸のプラントまたはカプロラクタムのプラントにおいて第３触媒として３００〜７００℃の温度で用いる、請求項２５または２６に記載の使用。
【請求項３２】
触媒を、硝酸のプラントまたはカプロラクタムのプラントにおいて第３触媒として４００〜７００℃の温度で用いる、請求項３１に記載の使用。
【請求項３３】
触媒を、硝酸のプラントまたはカプロラクタムのプラントにおいて第３触媒として４５０〜６５０℃の温度で用いる、請求項３２に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月18日(2011.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上にナノ粒子を付着するための方法であって、
−  ナノ粒子のコロイド溶液又は懸濁液を用意する；そして
−  大気プラズマにおいて前記支持体の表面上に前記コロイド溶液又は懸濁液を噴霧する、
工程を含み、前記大気プラズマがプラズマ発生ガスを含む大気非熱的プラズマであり、前記プラズマ中の前記プラズマ発生ガスの巨視的温度が−１０℃〜４００℃の範囲で変化しうる、方法。
【請求項２】
前記支持体の前記表面を大気プラズマに供することによって支持体の表面を活性化する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
支持体の表面の活性化及びコロイド溶液又は懸濁液の噴霧が同時に行われる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
支持体の表面の活性化が前記支持体の前記表面の清浄化後に行われる、請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】
ナノ粒子のコロイド溶液又は懸濁液を噴霧する工程が大気プラズマの放電領域又は後放電領域において達成される、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
プラズマが大気プラズマトーチによって生成される、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
ナノ粒子のコロイド溶液又は懸濁液の噴霧が支持体の表面に実質的に平行な方向で達成される、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
ナノ粒子が金属、金属酸化物、金属合金又はそれらの混合物のナノ粒子である、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
ナノ粒子が少なくとも一種の遷移金属、その対応する酸化物、遷移金属の合金又はそれらの混合物のナノ粒子である、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
支持体が固体支持体、ゲル又はナノ構造材料である、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
支持体が炭素質支持体、カーボンナノチューブ、金属、金属合金、金属酸化物、ゼオライト、半導体、ポリマー、ガラス及び／又はセラミックからなる群から選択される、請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
大気プラズマがアルゴン、ヘリウム、水素、酸素、二酸化炭素、空気又はそれらの混合物からなる群から選択されるプラズマ発生ガスが生成される、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月6日(2010.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
混合バー1の下降と同時に、バー5を動かすことによって、永久磁石4を混合バー１の前端3に向かって滑らせる（移動させる）ことが可能であり、それによってそこで十分な強度の磁場が生成される。永久磁石4は、混合バーが下降されるとき、既に混合バー1の前端3にあってもよい。永久磁石4を混合バー1の前端3に連れて行く方法にかかわらず、混合バー1が混合容器10の底部11に接近した場合、永久磁石は、その時少なくとも断続的に前端3にある。この状態は、図3Bに描かれる。同図に示されるように、混合バー1の前端3は、混合容器の底部11には触らず、底部から、ある程度、通常、定められた距離隔てられることが好ましい。これによって一方では、混合バー1に対する混合容器10の一定範囲の相対的垂直配置が保証される。他方では、例えば、マルチウェルプレートを形成するように組み合わされた、いくつかの混合容器10の並行処理では、個々の混合容器の生産許容度は、特に、一体的に形成される混合容器を持つ、合成材料製プレートにおいて補償することができる。最後に、混合バーが底部にぶつかって、混合容器10を損傷し、混合物の放出を招く可能性を回避することができる。例えば、混合バーは、混合容器の底部11に対し約0.5から2 mmに近づけることが可能である。この距離は、大抵の用途において、混合バーと混合容器の底部と間の衝突を回避するのに十分であることが判明している。底部に対する距離は好ましくは0.1から2 mm、より好ましくは0.3から1 mm、もっとも好ましくは0.5から0.6 mmである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
混合バーの引き上げが、粒子40を付着させた混合バーの前端3が混合物30の中に浸漬したままの状態を可能とするほどの距離である場合、永久磁石4も、バー5によって、カバー2に対して相対的に引き上げられる、すなわち、混合バーの前端3から引き離される。したがって、永久磁石4は、比較的速やかに、例えば、急に（jerkily）引き上げることが可能である。急にとは、磁石が、100 mmの距離を、好ましくは0.05から1 s、より好ましくは0.2から0.4 s、もっとも好ましくは0.25から0.3 sの時間でカバーする速度を有することを意味する。ただし、上に挙げたデータは、速度の説明のためだけに向けられたものであり、方法はさらに、n>0によるn*100を構成することが可能であり、この場合関連する処理時間はn倍される。この手順の目的は、混合バー1の前端3における磁場の作用を、十分速やかに最小化またはスイッチオフし、それによって、粒子が、もはや混合バー1によって牽引されることがないようにすることである。前端3から永久磁石4を取り除くと、磁場は弱められ、もはや粒子40を引き付けるほど十分に強いものではなくなる。そのため、粒子40は解放され、すなわち、粒子の運動方向は、もはや磁場によっては決められない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
第1相61では、カバー2および永久磁石4は、一緒に下方に動かされ、次いで再び一緒に上方に予め規定した高さまで動かされ、その際、永久磁石4は、混合バーの前端区域3に配置される。この持ち上げ運動は、比較的ゆっくり行うことが可能であり、沈殿した粒子40の浮揚を助け、粒子は予め規定した高さに運ばれる。次に、第2相62では、それぞれ、カバー2または混合バー1の前端3から、永久磁石4を速やかに遠ざける動きが起こるが、一方、カバー2も僅かに引き上げることが可能である。前端3から永久磁石4を素早く引き上げることによって、粒子が解放される。続いて第3相63が来る。この相では主にカバー2のみが動かされて、混合運動を発生する。さらに永久磁石4を動かすことも可能である。その際、永久磁石は、混合物30の液体表面に対して十分な距離を持つべきである。この混合運動は、図5において、定期的または周期的に振動する（oscillating）持ち上げ運動によって描かれる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月5日(2011.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自己支持性のある不織布高分子繊維のウェブと該ウェブ中に捕捉された複数の吸着剤粒子とを有する多孔質物品であり、第１表面及び第２表面を有する多孔質物品と、
該多孔質物品を包囲する液体不浸透性ハウジングと、
該第１表面と流体的に連通している入口と、
該第２表面と流体的に連通している出口とを備え、
前記ウェブのガーレー時間が、わずか２秒である、フィルター要素。
【請求項２】
流体供給源とフィルター要素とを備える流体濾過システムであって、該フィルター要素が、
自己支持性のある不織布高分子繊維のウェブと該ウェブ中に捕捉された複数の吸着剤粒子とを有する多孔質物品であり、第１表面及び第２表面を有する多孔質物品と、
該多孔質物品を包囲する液体不浸透性ハウジングと、
該第１表面と流体的に連通している入口と、
該第２表面と流体的に連通している出口とを備え、
前記ウェブのガーレー時間が、わずか２秒である、システム。
【請求項３】
炭素ブロック複合体であり、該ブロック複合体の１０〜９０重量％の範囲の量の活性化媒体及び１０〜９０重量％の範囲の量の結合剤を有する炭素ブロック複合体と、
該炭素ブロック複合体を包囲するウェブであり、自己支持性のある不織布ポリプロピレン繊維と、該ウェブの５０〜９７重量％の範囲の量で該ウェブ中に捕捉された複数の吸着剤粒子とを有するウェブとを備える、フィルター要素。
【請求項４】
互いに添着した複数のディスクを有するフィルター要素であって、該ディスクが、自己支持性のある不織布ポリプロピレン繊維と、該繊維中に捕捉された複数の吸着剤粒子とを有し、前記複数のディスクのガーレー時間が、わずか２秒である、フィルター要素。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月15日(2011.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体の曝気に適した方法であって、
（ｉ）移動液体中に酸素富化空気を含む気泡を引き込んで空気液体混合物を形成するべく、処理されるべき液体を、鉛直パイプの下方へ、５ｃｍ／ｓから１００ｃｍ／ｓの範囲内の所定の速度で流し、鉛直パイプは、１０メートルから９０メートルの範囲の長さを有すると共にリアクタの下に配置されている工程と、
（ｉｉ）空気を溶解させるべく、気泡を、次第に増加する静水圧の下で、５秒と５００秒との間の最短期間、液体に接触した状態で維持する工程と、
（ｉｉｉ）曝気された液体をリアクタに戻す工程
とを有し、
前記鉛直パイプの入口の上方又は近傍にて、液体の表面から５０ｃｍ以内で気泡を発生させ、
気泡のサイズ範囲が直径で０．２−５.００ｍｍであり、静水圧は、鉛直パイプ内での下降流液体速度と空気液体接触時間との積によって規定され、空気−水混合物には、標準大気条件下で３−３０容積％の空気が含まれる方法。
【請求項２】
流体速度は２０ｃｍ／ｓから７５ｃｍ／ｓの範囲内である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
接触時間は１０秒から３００秒の範囲内である前記請求項の何れかに記載の方法。
【請求項４】
気泡を液体表面から５ｃｍ以内で発生させる前記請求項の何れかに記載の方法。
【請求項５】
空気−水混合物には、標準大気条件下で５−２５容積％の空気が含まれている前記請求項の何れかに記載の方法。
【請求項６】
リアクタ(１)内での液体の曝気に使用するのに適した装置であって、
（ｉ）前記リアクタと液体連通したパイプであって、該パイプ内に５ｃｍ/ｓから１００ｃｍ/ｓの間の速度で表面液体が引き込まれる様に配置され、該パイプの長さが、１０メートルから９０メートルの範囲の長さであってリアクタの下に配置され、次第に増加する静水圧下で最短空気液体接触時間を提供するのに十分な長さがある鉛直パイプ(２)と、
（ｉｉ）前記鉛直パイプの入口の上方又は近傍にて、液体の表面の近くで、気泡のサイズ範囲が直径で０．２−５．００ｍｍである気泡を発生させるための手段(３)、
とを具え、更に、
曝気された液体をリアクタ内へ戻すための手段(５)と、
液体を前記パイプの下方へ流すための手段
とを具える装置。
【請求項７】
鉛直パイプの長さは２５メートルから７５メートルの範囲内である請求項６に記載の装置。
【請求項８】
鉛直パイプは、その全体がリアクタ内に沈められている請求項６又は７に記載の装置。
【請求項９】
鉛直パイプは、その全体がリアクタの外側に配置されている請求項６乃至８の何れかに記載の装置。
【請求項１０】
鉛直パイプの底部がリアクタの下に配置されている請求項６乃至請求項８の何れかに記載の装置。
【請求項１１】
気泡を発生させるための手段は、越流堰、回転インペラ、メンブレンディフューザ、コースディフューザ、及び送風機又は圧縮機に連結したノズルを含む群から選択される１又は複数の手段を具えている請求項６乃至１０の何れかに記載の装置。
【請求項１２】
液体を前記パイプの下方へ流すための手段は液体移動装置を具えている請求項６乃至１１の何れかに記載の装置。
【請求項１３】
液体を前記パイプの下方へ流すための手段はマリンインペラ又は螺旋スクリューである請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
１又は複数の生物学的プロセスによる排水処理のための、リアクタでの請求項１乃至５の何れかに記載の方法の使用。
【請求項１５】
１又は複数の生物学的プロセスによる排水処理のための、リアクタとの組み合わせでの請求項６乃至請求項１３の何れかに記載の装置の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月18日(2011.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パンタグラフの状態を評価するためのシステムであって、
パンタグラフの少なくとも１つのイメージを、前記パンタグラフを有した機関車が正常なサービスに従事している際に取り込む線路側パンタグラフ監視ステーションであって、前記パンタグラフに対して下方に、かつある傾斜角度で配置されている第一のイメージキャプチャデバイスを有した線路側パンタグラフ監視ステーションと、 
前記ステーション管理システムを制御し、パンタグラフが損傷および／または摩耗しているか否かを示すためのユーザインターフェイスと
を備えてなる、システム。
【請求項２】
前記監視ステーションが、
データ転送手段と、
機関車が前記監視ステーション内に進入するときに前記機関車を検出するための少なくとも１つの線路側に取り付けられたセンサ（「機関車センサ」）と、
前記監視ステーションにおいて前記パンタグラフの位置を検出するための少なくとも１つの線路側に取り付けられたセンサ（「パンタグラフセンサ」）と、
前記監視ステーションでパンタグラフの少なくとも１つのイメージを取り込む少なくとも１つのイメージキャプチャデバイスと、
これらのセンサから入力を受信し、前記監視ステーションにおいて前記パンタグラフの少なくとも１つのイメージを取り込むように前記少なくとも１つのイメージキャプチャデバイスに命じるセンサインターフェイスと
を有してなる、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記データ転送手段が、センサ、センサインターフェイス、少なくとも１つのイメージキャプチャデバイスおよびステーション管理システムの間の通信を促進するように構成されてなる、請求項２のシステム。
【請求項４】
前記監視ステーションが、少なくとも１つのパンタグラフホーンを有するパンタグラフのイメージを取り込むための第二のイメージキャプチャデバイスを有してなる、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記第一のイメージキャプチャデバイスが、少なくとも１つの炭素集電装置を有したパンタグラフのプロフィールイメージを取り込むように構成されてなる、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記第二のイメージキャプチャデバイスが、前記監視ステーションにおいてパンタグラフの上方に（「上方位置」に）配置されてなる、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
イメージキャプチャデバイスが高解像度ビデオカメラである、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記第一のイメージキャプチャデバイスがバックスクリーンをさらに有してなる、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記バックスクリーンが白色である、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記バックスクリーンが照らされてなる、請求項９のシステム。
【請求項１１】
前記第一のイメージキャプチャデバイスが駆動されると、取り込まれる前記イメージが前記バックスクリーンを背景にした前記パンタグラフのプロフィールであるように、前記バックスクリーンが前記イメージキャプチャデバイスの焦点よりも後側にかつ前記デバイスの視野内に取り付けられてなる、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
センサが赤外線センサである、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記監視ステーションが前記パンタグラフの位置を検出するための２つのセンサを有しており、
前記第一のセンサ（「上方位置センサ」）が、前記パンタグラフが前記上方位置イメージキャプチャデバイスの視野内にあるポイントを識別するように位置決めされており、
前記第二のセンサ（「側面位置センサ」）が、前記パンタグラフが前記側面位置イメージキャプチャデバイスの視野内にあるポイントを識別するように位置決めされてなる、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
パンタグラフが損傷および／または摩耗しているか否かを解析するように構成されたコンピュータシステムであって、
コンピュータと、
前記コンピュータ上で実行されるプログラムと、を備えており、
前記プログラムが、
センサから少なくとも１つの命令の受信し、該少なくとも１つの命令を受信すると、パンタグラフに対して下方にかつある傾斜角度で配置されたイメージキャプチャデバイスを含む少なくとも１つのイメージキャプチャデバイスを起動して監視ステーションにおいてパンタグラフの少なくとも１つのイメージを取り込むタスクと、
前記少なくとも１つのイメージキャプチャデバイスにより取り込まれた少なくとも１つのイメージを、損傷および／または摩耗の兆候の有無を調べるために解析するタスクと、
前記解析の結果を出力手段に提供するタスクと
を実行するように構成されてなる、システム。
【請求項１５】
パンタグラフの状態を自動的に判断するための方法であって、
監視ステーションにおいて機関車の有無を検出するステップと、
前記監視ステーションにおいてパンタグラフの有無を検出するステップと、
前記監視ステーションにおいて機関車およびパンタグラフを同時に検出すると、前記パンタグラフに対して下方に、かつある傾斜角度で配置されているイメージキャプチャデバイスを駆動させることにより前記パンタグラフのイメージを取り込むステップと、
前記パンタグラフのイメージを解析して前記パンタグラフが損傷しているか否かおよび／または構成部品である炭素集電装置が摩耗しているか否かを判断するステップと、
前記解析の結果をエンドユーザに報告するステップと
を有している、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月19日(2011.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記誘導ヘッド（７）の第１部分（７ａ）が、円形断面の管状を呈し、
前記円形断面の管状部分が、前記上昇パイプ（１）から遠く離れた終端部側で、前記誘導ヘッド（７）の第２部分に結合され、
前記第２部分（７ｂ）が、前記第１部分の円形の断面部分からヘリカル及び／又はスパイラル状パイプ（４）の断面部分への移行部分として機能し、
前記第１部分と第２部分が、前記気体及び固体物の混合体を鋭角及び／又は鈍角で方向転換させるように、相互に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記誘導ヘッドの第１部分（７ａ）が、円筒状の周壁を有しているとともに、前記誘導ヘッド（７）の第２部分（７ｂ）が、前記円筒状の周壁の領域に取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記誘導ヘッドの第１部分が、流れ方向に対して横方向または斜め方向に延びる終端壁により流れ方向に閉じられていることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月11日(2011.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属被覆するための準備においてプラスチック表面の表面前処理のための酸洗溶液であって、溶液は
Ｍｎ（ＶＩＩ）イオン源；および
無機酸を含み、
ここで、酸洗溶液はクロム（ＶＩ）イオン、アルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンを実質的に含まない。
【請求項２】
無機酸がリン酸、ペルオキソ一リン酸、ペルオキソ二リン酸、硫酸、ペルオキソ一硫酸およびペルオキソ二硫酸からなる群からの少なくとも１つの酸である請求項１に記載の酸洗溶液。
【請求項３】
Ｍｎ（ＶＩＩ）イオン源が０．００１と０．５ｍｏｌ／Ｌの間の濃度でＭｎ（ＶＩＩ）イオンを提供する請求項１または２に記載の酸洗溶液。
【請求項４】
無機酸が１と１８．５ｍｏｌ／Ｌの間の濃度をもつ請求項１または２に記載の酸洗溶液。
【請求項５】
Ａｇ、Ｂｉ、Ｖ、ＭｏおよびＣｕからなる群から１つあるいはそれ以上の元素のイオンをさらに含む請求項１または２に記載の酸洗溶液。
【請求項６】
Ａｇ、Ｂｉ、Ｖ、ＭｏおよびＣｕからなる群から１つあるいはそれ以上の元素の０．００１と２．０ｍｏｌ／Ｌ間のイオンを含む請求項１または２に記載の酸洗溶液。
【請求項７】
湿潤剤をさらに含む請求項１または２に記載の酸洗溶液。
【請求項８】
消泡剤をさらに含む請求項１または２に記載の酸洗溶液。
【請求項９】
Ｍｎ（ＶＩＩ）イオンがＶＩＩよりも低い酸化段階のＭｎイオンから酸化セルの手段によって得られる請求項１に記載の酸洗溶液。
【請求項１０】
Ｍｎ（ＶＩＩ）イオンの酸化生成のための溶液が酸性溶液である請求項９に記載の酸洗溶液。
【請求項１１】
Ｍｎ（ＶＩＩ）イオンの酸化生成のための溶液が（ＶＩＩ）よりも低い酸化段階のＭｎイオン源としてＭｎＣＯ３、ＭｎＳＯ４、ＭｎＯ、ＭｎＣｌ２、Ｍｎ（ＣＨ３ＣＯＯ）２、Ｍｎ（ＮＯ３）２、Ｍｎ２Ｏ３、ＭｎＰＯ４、ＭｎＯ（ＯＨ）、Ｍｎ（ＣＨ３ＣＯＯ）３およびＭｎＦ３、およびＭｎＯ２の群から選ばれる少なくとも１つのマンガン化合物を含む請求項９に記載の酸洗溶液。
【請求項１２】
Ｍｎ（ＶＩＩ）イオンの酸化生成のための溶液がリン酸、ペルオキソ一リン酸、ペルオキソ二リン酸、硫酸、ペルオキソ一硫酸およびペルオキソ二硫酸からなる群から少なくとも１つの酸を含む請求項９から請求項１１のいずれか１項に記載の酸洗溶液。
【請求項１３】
Ｍｎ（ＶＩＩ）イオンを含みそしてアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンを含まない酸性処理溶液に酸洗されるプラスチック表面を接触させることからなるＡＢＳプラスチック表面を酸洗するためのプロセス。
【請求項１４】
酸洗されるプラスチック表面を請求項１または２の何れかによる酸性処理溶液に接触させることからなるＡＢＳプラスチック表面を酸洗するプロセス。
【請求項１５】
酸洗されるプラスチック表面を請求項１２による酸性処理溶液に接触させることからなるＡＢＳプラスチック表面を酸洗するプロセス。
【請求項１６】
請求項１の酸洗溶液において、
無機酸が、リン酸、ペルオキソ一リン酸、ペルオキソ二リン酸、硫酸、ペルオキソ一硫酸およびペルオキソ二硫酸からなる群からの少なくとも１つの酸であり、
Ｍｎ（ＶＩＩ）イオン源が０．００１と０．５ｍｏｌ／Ｌの間の濃度でＭｎ（ＶＩＩ）イオンを提供し、
無機酸が１と１８．５ｍｏｌ／Ｌの間の濃度をもち、
酸洗溶液がさらに、Ａｇ、Ｂｉ、Ｖ、ＭｏおよびＣｕからなる群から選ばれる１または１以上の元素が０．００１と２．０ｍｏｌ／Ｌの間の濃度で含まれ、
酸洗溶液がさらに、湿潤剤を含む。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月26日(2011.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工具側端部及びそれと反対側のブラインド側端部を含み、貫通ボアが設けられたブラインドリベットと、
ステム及びヘッドを含むマンドレルと、
を備え、前記ステムは、少なくともリベット取り付け前に前記リベットの前記貫通ボア内に配置され、前記マンドレルヘッドは、該ステムから該マンドレルヘッドのブラインド側端部まで横方向に拡大するショルダを含み、少なくとも１つのリブが、少なくともリベット取り付け前に前記マンドレルショルダから突出しており、
前記ブラインドリベットの前記ブラインド側端部は、リベット取り付けの際に前記リブにより破断されない
ことを特徴とするブラインドリベット装置。
【請求項２】
前記マンドレルヘッドは、リベット取り付けの際、前記マンドレルステムから該ヘッドを破断することなく、前記リベットを通って完全に引き抜かれることを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つのリブは少なくとも２つのリブを含み、前記リブは、前記ステムの伸長方向と実質的に一致する方向に細長いことを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項４】
前記リブは、リベット取り付けの際、少なくとも前記ブラインド側端部に隣接した前記リベット本体のボア内に陥凹溝を生成することを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項５】
前記マンドレルショルダは、切頭円錐形のテーパ形状を有することを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項６】
前記マンドレルショルダは、２つの異なる角度の切頭円錐形テーパ状面を含むことを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項７】
前記マンドレルショルダは、該マンドレルの側面から見たときに湾曲したテーパ形状を有することを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項８】
前記ステムとは反対側にある前記マンドレルヘッドの端部が凹面を含むことを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項９】
前記ステムとは反対側にある前記マンドレルヘッドの端部が凸面を含むことを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項１０】
前記リベット及び前記マンドレルは、リベット取り付け前に、
前記マンドレルヘッドの外径が２．９ｍｍ又は３．５ｍｍに等しいか、それらの間にあり、前記リベット本体の前記ブラインド側端部の外径が２．９ｍｍ又は３．０８ｍｍに等しいか、それらの間にある関係を有することを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項１１】
前記ショルダを含まない前記マンドレルヘッドの軸方向厚さは、リベット取り付け前に０．３５ｍｍ又は１．０ｍｍと等しいか、それらの間にあり、該マンドレルショルダの設計上の角度は、リベット取り付け前に該ショルダの一方の側から他方に向けて計測されたときに９０°又は１１０°と等しいか、それらの間にあることを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項１２】
前記ブラインドリベットは、前記工具側端部においてドーム状の横方向に拡大したフランジをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項１３】
前記ブラインドリベットは、前記工具側端部において横方向に拡大したフランジをさら含み、前記フランジは、該フランジの外周部から半径方向内方に延びるスロットを含むことを特徴とする、請求項１に記載のリベット装置。
【請求項１４】
リベット取り付け前に円柱形外面を有する本体と、リベット取り付け前に前記本体に対して横方向に拡大し、かつ、テーパ状外面を含む工具側フランジとを含むブラインドリベットと、
取り付け前に前記リベットを通って延びる細長いステムと、リベット取り付け前に前記ステムより横方向に大きいヘッドと、前記ヘッド上に配置された外方にテーパ状になったショルダとを含むマンドレルと、
を備え、
前記マンドレルの前記ヘッドは、ブラインド側端部にすぐ隣接した位置にあるフランジをさらに含み、前記マンドレルショルダの最大直径部分は、前記マンドレルの前記フランジの前記外径から内方に間隔をおいて配置されることを特徴とするブラインドリベット装置。
【請求項１５】
前記マンドレルショルダは、切頭円錐形のテーパ形状を有することを特徴とする、請求項１４に記載のリベット装置。
【請求項１６】
前記マンドレルショルダは、２つの異なる角度の切頭円錐形テーパ状面を含むことを特徴とする、請求項１４に記載のリベット装置。
【請求項１７】
前記マンドレルショルダは、該マンドレルの側面から見たときに湾曲したテーパ形状を有することを特徴とする、請求項１４に記載のリベット装置。
【請求項１８】
前記マンドレルの前記ヘッドの前記ステムとは反対側にある端部が凹面を含むことを特徴とする、請求項１４に記載のリベット装置。
【請求項１９】
前記マンドレルヘッドは、リベット取り付けの際、前記マンドレルステムから該ヘッドを破断することなく、前記リベットを通って完全に引き抜かれ、前記マンドレルは、該リベットを取り付けた後に廃棄されることを特徴とする、請求項１４に記載のリベット装置。
【請求項２０】
貫通ボアが設けられ、工具側端部に横方向に拡大したフランジを備え、前記フランジの外周部から半径方向内方に延びるスロットを有する、ブラインドリベットと、
ステム及びヘッドを有するマンドレルと、
を含み、
前記ステムは、少なくともリベット取り付け前に前記リベットの前記貫通ボア内に配置されており、
前記マンドレルの前記ヘッドは、前記ステムから前記マンドレルの前記ヘッドのブランインド側端部に向けて横方向に拡大するショルダを含み、
前記マンドレルの前記ヘッドは、リベット取り付けの際、前記マンドレルの前記ステムから破断されず、前記マンドレルは、リベット取り付け後、前記ブラインドリベットから完全に除去される
ことを特徴とするブラインドリベット装置。
【請求項２１】
前記マンドレルショルダは、切頭円錐形のテーパ形状を有することを特徴とする、請求項２０に記載のリベット装置。
【請求項２２】
前記マンドレルショルダは、２つの異なる角度の切頭円錐形テーパ状面を含むことを特徴とする、請求項２０に記載のリベット装置。
【請求項２３】
前記マンドレルショルダは、該マンドレルの側面から見たときに湾曲したテーパ形状を有することを特徴とする、請求項２０に記載のリベット装置。
【請求項２４】
前記ステムとは反対側にある前記マンドレルの前記ヘッドの端部が凹面を含むことを特徴とする、請求項２０に記載のリベット装置。
【請求項２５】
ブラインドリベットの製造方法であって、
（ａ）リベット取り付け前に、本体と、前記本体に隣接した切頭円錐状外面を含む横方向に拡大した工具側フランジとを有するリベットを生成し、
（ｂ）ヘッドと、細長いステムと、前記マンドレルのヘッドと前記マンドレルのステムとの間にある前記ステムより横方向に大きいショルダとを有するマンドレルを生成し、
（ｃ）前記マンドレルの前記ショルダ上に少なくとも１つのリブを生成し、
（ｄ）前記マンドレルの前記ステムを前記リベットに挿入する、
ステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項２６】
前記マンドレルの前記ショルダ及び前記リベットの前記フランジ上に切頭円錐形のテーパ形状を生成するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項２５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月21日(2011.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記ピースは、組成物を平坦なストリップに形成し、前記ストリップを横断して延在する複数の平行な切れ目をもたらすことにより設けられ、
前記ピースは、オフセットスタックを形成するために前記切れ目と平行な方向において互いに対してずらされる、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月29日(2010.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の成分ａ）および／または成分ｂ）を含有する硬化性組成物：
ａ）下記式（Ｉ）および（II）で表される少なくとも２個の末端基を有するポリマーＰ、
−Ａｍ−Ｋ１−ＳｉＲ１ＸＹ      （Ｉ）
−Ａｍ−Ｋ２−ＳｉＲ２ＸＹ      （II）
および／または、
ｂ）２種のポリマーＰ１とＰ２，ポリマーＰ１は下記式（Ｉ）で表される末端基を有する：
−Ａｍ−Ｋ１−ＳｉＲ１ＸＹ      （Ｉ）
およびポリマーＰ２は下記式（II）で表される末端基を有する：
−Ａｍ−Ｋ２−ＳｉＲ２ＸＹ      （II）
［式中、Ａは２価の結合基を示し、
Ｋ１およびＫ２は、それぞれ独立して、主鎖が１〜６の炭素原子を有する２価の脂肪族炭化水素基を示し、Ｋ１およびＫ２の炭化水素基は異なっており、
ＸおよびＹは、それぞれ独立して、ヒドロキシ基または加水分解性基を示し、
Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立して、１〜２０の炭素原子を有する炭化水素残基を示し、ｍは０または１の値を示す。］。
【請求項２】
硬化性組成物の製造方法であって、該方法においては、
ａ）少なくとも２種の末端官能基Ｃを有するポリマー骨格を有するポリマーＰ’；
ｂ）Ｃと反応性を有し、下記一般式（III）および（IV）で表される、官能基Ｄを有する２種の化合物；
Ｄ−Ｋ１−ＳｉＲ１ＸＹ    （III）
Ｄ−Ｋ２−ＳｉＲ２ＸＹ    （IV）
をお互いに反応させるものであって、
上記反応において、物質（III）および（IV）が同時にポリマーＰ’に添加されるか、または、まず化合物（IV）、次いで、短い時間間隔で化合物（III）がポリマーＰ’に添加される、
硬化性組成物の製造方法
［ただし、ＣおよびＤは下記群のうち１つから選択され、
・−ＯＨ、−ＮＨＲ４、−ＮＨ２、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＳＨ、および、
・−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｃｌ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ５
ＣとＤは、同一の群に属さず、
式中、Ｋ１、Ｋ２は、それぞれ独立して、１〜６の炭素原子の主鎖を有する２価の脂肪族炭化水素基を示し、炭化水素基Ｋ１、Ｋ２は異なっており、
Ｘ、Ｙは、それぞれ独立して、ヒドロキシ基または加水分解性基を示し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して、１〜２０の炭素原子を有する炭化水素残基を示す。］。
【請求項３】
硬化性組成物の製造方法であって、該方法においては、
ａ）まず、少なくとも２個の末端官能基Ｃを有するポリマー骨格を有するポリマーＰ’を、下記式（III）で表される化合物と反応させ；
Ｄ−Ｋ１−ＳｉＲ１ＸＹ    （III）
それとは別に、
ｂ）少なくとも２個の末端官能基Ｃを有するポリマー骨格を有するポリマーＰ”を、下記式（IV）で表される化合物と反応させ；
Ｄ−Ｋ２−ＳｉＲ２ＸＹ    （IV）
ｃ）次に、前記工程ａ）および前記工程ｂ）の反応生成物をお互い混合させる、
硬化性組成物の製造方法
［ただし、ＣおよびＤは下記群のうち１つから選択され、
・−ＯＨ、−ＮＨＲ４、−ＮＨ２、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＳＨ、および、
・−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｃｌ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ５
ＣおよびＤは、同一の群に属さず、
式中、Ｋ１、Ｋ２は、それぞれ独立して、１〜６の炭素原子の主鎖を有する２価の脂肪族炭化水素基を示し、炭化水素基Ｋ１、Ｋ２は異なっており、
Ｘ、Ｙは、それぞれ独立して、ヒドロキシ基または加水分解性基を示し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して、１〜２０の炭素原子を有する炭化水素残基を示す。］。
【請求項４】
請求項２または３に記載の方法によって製造可能な組成物。
【請求項５】
請求項１または請求項４に記載の組成物を含有する配合物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月13日(2011.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
反応性のチオール基および／またはチオレート基を有するポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）を線状および／または分枝鎖状の形で、および／または僅かな数のチオール基および／またはチオレート基を有するＰＰＳポリマーとして、チオール基および／またはチオレート基の含有率の高いＰＰＳポリマーに対して９９：１〜１：９９の比率で、および／またはＰＰＳ鎖末端にチオール基１％以下を有する僅かな割合のチオール基および／またはチオレート基を有するＰＰＳポリマーとして、またはＰＰＳ鎖末端にチオール基を１％より多く有するチオール基および／またはチオレート基の高い割合を有するＰＰＳポリマーとして使用する、請求項６記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
請求項１から５までのいずれか１項記載のポリフェニレンスルフィド（ペル）フルオロポリマー材料の、または請求項６から１６までのいずれか１項記載の方法により製造されたポリフェニレンスルフィド（ペル）フルオロポリマー材料の、コンパクト材料として、および／または滑り軸受けもしくは支承の、および／または疎油性および／または疎水性の、もしくは疎油性および／または疎水性を備えた部材もしくはコンパクト材料における、および／または成形部材における添加剤／成分として、および／または（潤滑）膜における表面変性成分として、または被覆として、および／またはブレンド成分として、および／または添加剤として、有利には熱可塑性樹脂溶融物への、および／または反応性材料への、および／または分散液への更なる加工のための添加剤としての使用。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月10日(2011.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）３０〜９８質量％の少なくとも１の熱可塑性芳香族ポリエステル、
Ｂ）０．０１〜１５質量％の
Ｂ１）少なくとも１の高分岐もしくはハイパーブランチポリカーボネート、または
Ｂ２）少なくとも１の高分岐もしくはハイパーブランチポリエステル、
またはこれらの混合物、
Ｃ）１〜２０質量％の、
ｃａ１）成分ａ１）およびａ２）の全質量に対して、４０〜６０質量％の、少なくとも１のコハク酸、アジピン酸、またはセバシン酸、またはこれらのエステル形成誘導体、またはこれらの混合物、
ｃａ２）成分ａ１）およびａ２）の全質量に対して、４０〜６０質量％のテレフタル酸またはこれらのエステル形成誘導体、またはこれらの混合物、
ｃｂ）ジオール成分として、成分ａ１）およびａ２）に対して１００モル％の１，４−ブタンジオールまたは１，３−プロパンジオールまたはこれらの混合物、
ｃｄ１）分岐形成剤として、０〜１質量％の、エステルを形成することができる基を少なくとも３つ有する化合物、
ｃｄ２）鎖長延長剤として、０〜２質量％のジイソシアネート
からなるポリエステル、
Ｄ）０〜６０質量％の他の添加剤
を含有し、成分Ａ）〜Ｄ）の質量百分率の合計が１００％である、ポリエステル混合物。
【請求項２】
Ａ）９０〜９７質量％のポリブチレンテレフタレート、
Ｂ）０．１〜１質量％の
Ｂ１）１〜６００ｍｇ  ＫＯＨ／ｇポリカーボネートのＯＨ価（ＤＩＮ５３２４０、パート２による）を有する、少なくとも１の高分岐もしくはハイパーブランチポリカーボネート、または
Ｂ２）ＡxＢyタイプであって、ｘが少なくとも１．１であり、かつｙが少なくとも２．１である、少なくとも１の高分岐もしくはハイパーブランチポリエステル、
またはこれらの混合物、
Ｃ）１〜１５質量％の、
ｃａ１）成分ａ１）およびａ２）の全質量に対して、４０〜６０質量％の、少なくとも１のコハク酸、アジピン酸、またはセバシン酸、またはこれらのエステル形成誘導体、またはこれらの混合物、
ｃａ２）成分ａ１）およびａ２）の全質量に対して、４０〜６０質量％のテレフタル酸またはこれらのエステル形成誘導体、またはこれらの混合物、
ｃｂ３）ジオール成分として、成分ａ１）およびａ２）に対して１００モル％の１，４−ブタンジオールまたは１，３−プロパンジオールまたはこれらの混合物、
ｃｄ１）分岐形成剤として、０〜１質量％の、エステルを形成することができる基を少なくとも３つ有する化合物、
ｃｄ２）鎖長延長剤として、０〜２質量％のジイソシアネート
からなるポリエステル、
Ｄ）０〜４０質量％の他の添加剤
を含有し、成分Ａ）〜Ｄ）の質量百分率の合計が１００％である、請求項１記載のポリエステル混合物。
【請求項３】
成分Ｂ１）が、１００〜１５０００ｇ／モルの数平均分子量Ｍn、−８０℃〜１４０℃のガラス転移温度Ｔg、および２３℃で５０〜２０００００の粘度（ｍＰａｓ、ＤＩＮ５３０１９による）を有する、請求項１または２記載のポリエステル混合物。
【請求項４】
成分Ｂ２）が、３００〜３００００ｇ／モルの数平均分子量Ｍn、−５０℃〜１４０℃のガラス転移温度Ｔg、０〜６００ｍｇ  ＫＯＨ／ｇポリエステルのＯＨ価（ＤＩＮ５３２４０による）、および０〜６００ｇ  ＫＯＨ／ｇポリエステルのＣＯＯＨ価（ＤＩＮ５３２４０による）を有する、請求項１または２記載のポリエステル混合物。
【請求項５】
成分Ｂ１）：Ｂ２）の比が、１：２０〜２０：１である、請求項１から４までのいずれか１項記載のポリエステル混合物。
【請求項６】
成分Ｄ１）として、２〜８個の炭素原子を有するα−オレフィンをベースとする単一成分もしくは多成分のコポリマー、ＭＢＳゴム、アクリレートゴム、ＴＰＵ（熱可塑性ポリウレタン）、およびＴＰＥＥ（熱可塑性ポリエステルエラストマー）からなる群から選択される耐衝撃性改善剤を１〜１５質量％含有する、請求項１から５までのいずれか１項記載のポリエステル混合物。
【請求項７】
成分Ｄ２）として、ガラス繊維を１０〜４０質量％含有する、請求項１から６までのいずれか１項記載のポリエステル混合物。
【請求項８】
任意の種類の繊維、シートおよび成形体を製造するための請求項１から７までのいずれか１項記載のポリエステル混合物の使用。
【請求項９】
請求項１から７までのいずれか１項記載のポリエステル混合物から得られる任意の種類の繊維、シートおよび成形体。