(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が複数枚収納されたキャリアが搬入されるキャリアブロックと、
前記キャリアブロックに対して横方向に並べて配置され、当該キャリアブロック内のキャリアから取り出された基板に対して薬液を供給して液処理を行う複数の液処理モジュールを備えた処理ブロックと、
前記キャリアブロック及び処理ブロックに対して一列に並ぶように設けられ、前記液処理モジュールに供給される薬液を貯溜した複数の薬液容器を収容するための薬液ブロックと、を備え、
前記薬液ブロックは、
前記キャリアブロック及び処理ブロックの並びの方向に対して直交する方向に前記薬液容器を配置するための複数の配置位置が並べて設けられた容器配置部と、
薬液容器を搬入出するための搬入搬出ポートと、
前記容器配置部の各配置位置と搬入搬出ポートとの間で使用済みの薬液容器と新規な薬液容器との自動交換を行うための共通の容器搬送機構と、を備え、
前記薬液ブロックには、前記キャリアブロック及び処理ブロックの並びの方向に沿って伸びる基板の通路が、当該薬液ブロックの空間内を貫通するように形成されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記基板の通路は、基板の移動方向に伸びる筒状体により囲まれていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記容器搬送機構は、前記基板の通路が伸びる方向と交差する方向に移動する部材に支持され、前記基板の通路には、容器搬送機構を支持する部材を通過させるための切り欠きが形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記容器配置部は、薬液容器の各配置位置を前記基板の通路の周りで周方向に移動させて、前記容器搬送機構との間の薬液容器の受け渡し位置に移動させるための駆動機構を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記薬液ブロックは、前記キャリアブロックと前記処理ブロックとの間に設けられていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記処理ブロックは、基板にレジスト膜を含む塗布膜を形成するために薬液を用いて基板に液処理を行う液処理モジュールと、露光後の基板に対して薬液である現像液により現像を行う液処理モジュールとを備え、
前記処理ブロックから見てキャリアブロックが設けられている向きの反対側には、露光装置に接続され、処理ブロックと露光装置との間の基板の搬送を行うインターフェイスブロックが設けられ、
前記薬液ブロックは、前記処理ブロックと前記インターフェイスブロックとの間に設けられていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記キャリアブロックと前記処理ブロックとの並び方向を前後方向とすると、前記薬液ブロックを囲み、左及び右の少なくとも一方の側壁に薬液容器の搬入出口が形成されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記薬液ブロックを囲む天井部に薬液容器の搬入出口が形成されていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薬液を用いて基板の処理を行う基板処理装置にて、この薬液を貯溜した薬液容器を交換する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程の一つであるフォトレジスト工程においては、基板である半導体ウエハ（以下、ウエハという）の表面にレジストを塗布し、このレジストを所定のパターンで露光した後に現像してレジストパターンを形成している。この処理は、レジストの塗布、現像を行う塗布、現像装置（基板処理装置）に、露光装置を接続したシステムを用いて行われる。
【０００３】
塗布、現像装置は、液処理モジュールを用いてウエハに各種の薬液を順次供給することによってレジスト塗布処理や現像処理など、フォトレジスト工程に係る各種の処理を実行する。このため、塗布、現像装置には、各種の薬液を貯溜した薬液容器の収容領域が設けられ、ここから各液処理モジュールへと薬液が供給される。
【０００４】
多数枚のウエハに対して処理が行われ、薬液容器内の薬液が空になった場合には、使用済みの薬液容器は、例えばオペレータによって収容領域から取り出され、新たな薬液容器と交換される。ところが、塗布、現像装置で用いられる薬液の中には、空気との接触などにより性状が変質するものも存在し、前記収容領域を開放して薬液容器を交換する作業は、ウエハ間で均質な処理を実行する際の不安定要因ともなる。また、薬液容器の交換時に、外部のパーティクルが当該容器内に進入すると、パーティクルの混入した薬液がウエハに供給され、ウエハを汚染してしまうおそれもある。
【０００５】
ここで特許文献１には、液体取り出しパイプが設けられたキャップに対して昇降自在に構成されたテーブル上に、レジスト液などを貯留する容器を載置して、このテーブルを昇降させることによって容器に対して液体取り出しパイプの挿入、抜出を行う液体の連続供給装置が記載されている。また、特許文献２には、レジスト塗布処理や現像処理を行う基板処理装置にて、処理液の収容容器にその内容物の情報を記憶したＩＣタグシールを添付しておき、複数の収容容器を設置可能な設置区画に収容容器が設置された後、ＩＣタグシールから読み取った情報と、各設置区画に配置されるべき収容容器の内容物についての情報とを照合することにより、誤った処理液を収容した収容容器が設置されることを抑制する技術が記載されている。  
しかしながらこれらの特許文献のいずれにおいてもテーブルや設置区画に配置されている使用済みの容器と新しい容器とを交換する際に、液の変質やパーティクルの混入を抑制する技術は言及されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】実開平５−８２８９６号公報：段落０００６〜０００７、図１
【特許文献２】特開２０１０−１７１２５８号公報：請求項１、段落００８２〜００８３、０１３５〜０１３６、図６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、人手を介さずに薬液容器の交換をすることが可能な基板処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の基板処理装置は、基板が複数枚収納されたキャリアが搬入されるキャリアブロックと、
前記キャリアブロックに対して横方向に並べて配置され、当該キャリアブロック内のキャリアから取り出された基板に対して薬液を供給して液処理を行う複数の液処理モジュールを備えた処理ブロックと、
前記キャリアブロック及び処理ブロックに対して一列に並ぶように設けられ、前記液処理モジュールに供給される薬液を貯溜した複数の薬液容器を収容するための薬液ブロックと、を備え、
前記薬液ブロックは、
前記キャリアブロック及び処理ブロックの並びの方向に対して直交する方向に前記薬液容器を配置するための複数の配置位置が並べて設けられた容器配置部と、
薬液容器を搬入出するための搬入搬出ポートと、
前記容器配置部の各配置位置と搬入搬出ポートとの間で使用済みの薬液容器と新規な薬液容器との自動交換を行うための共通の容器搬送機構と、を備え、
前記薬液ブロックには、前記キャリアブロック及び処理ブロックの並びの方向に沿って伸びる基板の通路が、当該薬液ブロックの空間内を貫通するように形成されていることを特徴とする。
【０００９】
前記基板処理装置は、以下の構成を備えていてもよい。
（ａ）前記基板の通路は、基板の移動方向に伸びる筒状体により囲まれていること。 
（ｂ）前記容器搬送機構は、前記基板の通路が伸びる方向と交差する方向に移動する部材に支持され、前記基板の通路には、容器搬送機構を支持する部材を通過させるための切り欠きが形成されていること。または、前記容器配置部は、薬液容器の各配置位置を前記基板の通路の周りで周方向に移動させて、前記容器搬送機構との間の薬液容器の受け渡し位置に移動させるための駆動機構を備えたこと。 
（ｃ）前記薬液ブロックは、前記キャリアブロックと前記処理ブロックとの間に設けられていること。  
（ｄ）前記処理ブロックは、基板にレジスト膜を含む塗布膜を形成するために薬液を用いて基板に液処理を行う液処理モジュールと、露光後の基板に対して薬液である現像液により現像を行う液処理モジュールとを備え、前記処理ブロックから見てキャリアブロックが設けられている向きの反対側には、露光装置に接続され、処理ブロックと露光装置との間の基板の搬送を行うインターフェイスブロックが設けられ、前記薬液ブロックは、前記処理ブロックと前記インターフェイスブロックとの間に設けられていること。  
（ｅ）前記キャリアブロックと前記処理ブロックとの並び方向を前後方向とすると、前記薬液ブロックを囲み、左及び右の少なくとも一方の側壁に薬液容器の搬入出口が形成されていること。また、前記薬液ブロックを囲む天井部に薬液容器の搬入出口が形成されていること。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、薬液容器の自動交換を行う機構を用いて、容器配置部と搬入搬出ポートとの間で使用済みの薬液容器と新規な薬液容器との交換を行う。このため、一列に並んだキャリアブロックや処理ブロックの並び方向と直交する方向に向けて複数の薬液容器が並ぶように容器配置部が配置され、人手による作業が困難な場合であっても薬液容器の交換を実行することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】発明の実施の形態に係る塗布、現像装置の外観斜視図である。
【図２】前記塗布、現像装置の横断平面図である。
【図３】前記塗布、現像装置の縦断側面図である。
【図４】前記塗布、現像装置に設けられている薬液ブロックの縦断正面図である。
【図５】前記薬液ブロックに設けられている容器搬送機構の第１の説明図である。
【図６】前記容器搬送機構の第２の説明図である。
【図７】前記薬液ブロックに設けられている容器配載置モジュールの第１の説明図である。
【図８】前記容器載置モジュールの第２の説明図である。
【図９】薬液ノズルへの薬液供給路を示す説明図である。
【図１０】前記容器搬送機構の他の例を示す平面図である。
【図１１】前記容器搬送機構のさらに他の例を示す正面図である。
【図１２】塗布、現像装置にて薬液ブロックを配置可能な位置を示す模式図である。
【図１３】前記薬液ブロックの第２の配置例を示す外観斜視図である。
【図１４】他の実施の形態に係る薬液ブロックの構成を示す縦断正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明が適用される塗布、現像装置１（基板処理装置）の構成について図１〜図９を参照しながら説明する。図１に示すように、本例の塗布、現像装置１は、キャリアブロックＤ１と、薬液ブロックＤ２と、処理ブロックＤ３と、インターフェイスブロックＤ４と、が一列に並ぶように接続されている。インターフェイスブロックＤ４にはさらに露光装置Ｄ５が接続されている。以下、ブロックＤ１〜Ｄ４の配列方向を前後方向、キャリアブロックＤ１が配置されている一端側を手前側として説明を行う。
【００１３】
キャリアブロックＤ１は、同一ロットのウエハＷを複数枚収容したＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）などからなるキャリアＣと、塗布、現像装置１との間でウエハＷを搬入出する役割を有する。図２に示すようにキャリアブロックＤ１は、キャリアＣの載置台２１と、キャリアＣの蓋の開閉を行う開閉部２２と、キャリアＣからウエハＷを取り出して搬送するための搬送アーム２３とを備えている。
【００１４】
図１、図３に示すように、処理ブロックＤ３は、ウエハＷに液処理を行う第１〜第６の単位ブロックＢ１〜Ｂ６が下から順に積層されている。説明の便宜上ウエハＷに下層側の反射防止膜を形成する処理を「ＢＣＴ」、ウエハＷにレジスト膜を形成する処理を「ＣＯＴ」、露光後のウエハＷにレジストパターンを形成するための処理を「ＤＥＶ」と夫々表現する場合がある。本例では、下からＢＣＴ層Ｂ１、Ｂ２、ＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４、ＤＥＶ層Ｂ５、Ｂ６が２層ずつ積み上げられている。同種の単位ブロックにおいては、互いに並行してウエハＷの搬送及び処理が行われる。
【００１５】
これらの単位ブロックを代表して、図２にはＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４を例示してある。ＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４には、キャリアブロックＤ１からインターフェイスブロックＤ４へ向かう方向に伸びるように搬送領域３１が設けられ、搬送領域３１の一方側（例えば手前側から見て左手）の側方に複数の棚ユニットＵが前後方向に並んで配置されている。また、前記搬送領域３１の他方側（例えば手前側から見て右手）の側方には回転するウエハＷの表面に各種薬液を供給して液処理を行う液処理モジュールであるレジスト膜形成モジュールＣＯＴや保護膜形成モジュールＩＴＣが前後方向に並べて設けられている。
【００１６】
レジスト膜形成モジュールＣＯＴは、ウエハＷにレジストを供給してレジスト膜を形成する。保護膜形成モジュールＩＴＣは、レジスト膜上に所定の処理液を供給し、当該レジスト膜を保護する保護膜を形成する。また各棚ユニットＵは、不図示の加熱モジュールを備え、前記搬送領域３１には、ウエハＷの搬送機構である搬送アームＦ３、Ｆ４が設けられている。
【００１７】
他の単位ブロックＢ１、Ｂ２、Ｂ５及びＢ６は、ウエハＷに供給する薬液が異なることを除き、単位ブロックＢ３、Ｂ４とほぼ同様に構成される。単位ブロックＢ１、Ｂ２は、液処理モジュールとして、レジスト膜形成モジュールＣＯＴや保護膜形成モジュールＩＴＣの代わりに反射防止膜形成モジュールＢＣＴを備え、単位ブロックＢ５、Ｂ６は、現像モジュールＤＥＶを備える。図３では各単位ブロックＢ１〜Ｂ６の搬送アームはＦ１〜Ｆ６と示している。
【００１８】
処理ブロックＤ３における前方側には、各単位ブロックＢ１〜Ｂ６に跨って上下方向に伸びるタワーＴ１と、タワーＴ１に設けられた複数のモジュール間でのウエハＷの受け渡しを行うための昇降自在な受け渡しアーム３２とが設けられている。タワーＴ１には、複数のモジュールが上下方向に互いに積層されて設けられ、これらのモジュールのうち、各単位ブロックＢ１〜Ｂ６の高さに対応して設けられている受け渡しモジュールＴＲＳは、単位ブロックＢ１〜Ｂ６内の搬送アームＦ１〜Ｆ６との間でウエハＷの受け渡しを行う際に用いられる。
【００１９】
タワーＴ１に設けられているモジュールの具体例を挙げると、単位ブロックＢ１〜Ｂ６との間でのウエハＷを受け渡す際に用いられる既述の受け渡しモジュールＴＲＳ、ウエハＷの温度調整を行う温調モジュールＣＰＬ、複数枚のウエハＷを一時的に保管するバッファモジュールＢＵ、ウエハＷの表面を疎水化する疎水化処理モジュールＡＤＨなどがある。説明を簡単にするため、前記疎水化処理モジュールＡＤＨ、温調モジュールＣＰＬ、バッファモジュールＢＵについての図示は省略してある。
【００２０】
インターフェイスブロックＤ４は、単位ブロックＢ１〜Ｂ６に跨って上下方向に伸びるタワーＴ２、Ｔ３、Ｔ４を備えている（図２、図３）。インターフェイスブロックＤ４には、タワーＴ２とタワーＴ３との間でウエハＷの受け渡しを行うための昇降自在なインターフェイスアーム４１と、タワーＴ２とタワーＴ４との間でウエハＷの受け渡しを行うための昇降自在なインターフェイスアーム４２と、タワーＴ２と露光装置Ｄ５との間でウエハＷの受け渡しを行うためのインターフェイスアーム４３とが設けられている。
【００２１】
タワーＴ２は、受け渡しモジュールＴＲＳ、露光処理前の複数枚のウエハＷを格納して滞留させるバッファモジュールＢＵ、露光処理後の複数枚のウエハＷを格納するバッファモジュールＢＵ、及びウエハＷの温度調整を行う温調モジュールＣＰＬなどが互いに積層されて構成されているが、タワーＴ１の場合と同様に、バッファモジュールＢＵ及び温調モジュールＣＰＬの図示は省略する。
【００２２】
また、手前側から見てタワーＴ２の右手に配置されているタワーＴ３には、露光処理後のウエハＷの洗浄処理を行う複数台の露光後洗浄モジュールＰＩＲが上下方向に積層されて配置されている。一方、タワーＴ２の左手に配置されているタワーＴ４には露光装置Ｄ５に搬入される前のウエハＷの裏面洗浄を行う複数台の裏面洗浄モジュールＢＳＴが上下方向に積層されて配置されている。これらのモジュールの記載についても図示は省略してある。
【００２３】
以上に説明した構成を備えた本例の塗布、現像装置１は、液処理モジュールである反射防止膜形成モジュールＢＣＴ、膜形成モジュールＣＯＴ、保護膜形成モジュールＩＴＣや現像モジュールＤＥＶに供給される薬液を貯留した複数の薬液容器５０を収容するための薬液ブロックＤ２を備えている。以下、当該薬液ブロックＤ２の詳細な構成について説明する。
【００２４】
本例の薬液ブロックＤ２は、塗布、現像装置１が配置されている工場内の雰囲気（外部雰囲気）及び他のブロックＤ１、Ｄ３から区画された筐体内に設けられ、キャリアブロックＤ１や処理ブロックＤ３の並び方向に沿って、これらキャリアブロックＤ１と処理ブロックＤ３との間に前後を挟まれるように配置されている。  
薬液ブロックＤ２には、外部から搬入された薬液容器５０がトレー５０に収容された状態で載置されるトレー載置台６９と、各液処理モジュールへ薬液を供給するために薬液容器５０が配置される容器配置部を構成する複数の容器載置モジュール６と、これらトレー載置台６９と各容器載置モジュール６との間で薬液容器５０を搬送する容器搬送機構７と、を備えている。
【００２５】
図４に示すようにトレー載置台６９は、薬液ブロックＤ２の側壁面に形成され、開閉部６４１によって開閉自在に構成された容器搬入出口６４ａと対向する位置に設けられている。なお、本例の容器搬入出口６４ａは、手前側から見て、薬液ブロックＤ２の右側の側壁に設けられているが、左側の側壁に容器搬入出口６４ａを設けてもよいことは勿論である。トレー載置台６９は、オペレータによって容器搬入出口６４ａを介して薬液容器５０の搬入、搬出が行われる位置と、容器搬送機構７との間で薬液容器５０の受け渡しを行う位置との間を横方向に移動することができる。
【００２６】
容器搬送機構７との間で薬液容器５０の受け渡しを行う位置に移動したトレー載置台６９の上方側には、上下方向へ向けて薬液容器５０を搬送するための容器搬入出路６４ｂが形成されている。容器搬入出路６４ｂの上端部（搬入出口）は、薬液ブロックＤ２の天井部に開口し、この開口部は開閉部６４１によって開閉自在に構成されている。一方、本例の塗布、現像装置１が配置されている工場の天井部には、軌道に沿って薬液容器５０を搬送するＯＨＴ（Overhead Hoist Transport）１０１が配置されている。ＯＨＴ１０１は、把持部１０２を降下、上昇させることによって、容器搬入出路６４ｂの搬入出口を介して、その下方位置に移動したトレー載置台６９との間で薬液容器５０の受け渡しを行う。  
トレー載置台６９や容器搬入出口６４ａ、容器搬入出路６４ｂは、本実施の形態の搬入搬出ポートを構成している。
【００２７】
容器搬入出口６４ａや容器搬入出路６４ｂを介して薬液ブロックＤ２内に搬入される薬液容器５０は、トレー５１に収容されている。図２、図５に示すようにトレー５１は、上面が開口した直方体形状の容器であり、薬液を貯留した薬液容器５０の本体がこのトレー５１内に収容される。トレー５１内の底部には、予め設定された位置に薬液容器５０を固定するための容器受部５１１が設けられている。また、トレー５１の側面には、ＯＨＴ１０１の把持部１０２により、トレー５１を把持するための不図示の取手部が設けられている。さらにトレー５１の底部には、後述する容器搬送機構７のアーム７２２を挿入するための切り欠き部５１２が形成されている（図５、図７などを参照）。
【００２８】
薬液容器５０は、例えばプラスチック製やガラス製の細口ビンとして構成され、その開口部（薬液取り出し口）がねじ蓋などからなる蓋部５０１によって密封された状態で薬液ブロックＤ２内に搬入される。薬液容器５０の本体の外面には、薬液容器５０に貯留されている薬液の種類を識別するための識別情報であるバーコード５０２が貼付されている。また、容器搬送機構７との薬液容器５０の受け渡し位置に移動したトレー載置台６９の近傍には、薬液を識別する情報の取得部であるバーコードリーダ８１が配置されている。このバーコードリーダ８１によってバーコード５０２を読み取ることにより、搬入された薬液容器５０内に貯留されている薬液の種類を識別することができる。このバーコード５０２はトレー５１に設けてもよい。  
ここで薬液の種類を識別する識別情報を取得する手法は、バーコード５０２とバーコードリーダ８１との組み合わせに限られるものではない。ＩＣタグを薬液容器５０やトレー５１に設け、このＩＣタグと通信を行って識別情報を取得する通信部をトレー載置台６９の近傍に配置してもよい。
【００２９】
図２、図５などに示すように、薬液容器５０の搬送を行う容器搬送機構７は、本体部７１に、薬液容器５０を保持する２組のアーム（第１アーム７２１及び第２アーム７２２）を設けた構成となっている。第１、第２アーム７２１、７２２は、互いに連結された状態で本体部７１の上面側に設けられ、本体部７１から各アーム７２１、７２２を伸張させて、トレー載置台６９や容器載置モジュール６との間で薬液容器５０の受け渡しを行う位置と、本体部７１上に各アーム７２１、７２２を折り畳んで薬液容器５０の搬送を行う位置との間で伸縮自在に構成されている。さらに第１アーム７２１の伸縮方向の先端部及び後端部には、搬送中におけるトレー５１の位置ずれを防止するために、トレー５１の保持位置を前後から規制するトレーガイド７２３が設けられている。
【００３０】
本体部７１は、回転軸７３を介して支持部７４上に保持され、鉛直軸周りに回転自在に構成されている。この結果、トレー載置台６９との間で薬液容器５０の受け渡しを行う向き（図２に実線で示してある）と、各容器載置モジュール６との間で薬液容器５０の受け渡しを行う向き（同図中に破線で示してある）との間で、各組のアーム７２１、７２２の伸縮方向を変更することができる。
【００３１】
また、図２、図３に示すように、本体部７１を保持する支持部７４は、上下方向に伸びる２本の昇降レール７５１に支持され、さらにこれら昇降レール７５１の上端部及び下端部は、薬液ブロックＤ２の天井部近傍、及び床面近傍に沿って横方向に伸びる移動レール７５２によって支持されている。そして、昇降レール７５１、移動レール７５２に設けられた不図示の駆動機構により、支持部７４が上下方向に昇降自在、昇降レール７５１が左右方向に移動自在に構成されていることにより、薬液ブロックＤ２の内壁面に沿った任意の位置に本体部７１を移動させることができる。そして、前述のトレー載置台６９と各容器載置モジュール６との間で容器搬送機構７（本体部７１）が移動する領域が、薬液容器５０の搬送領域となる。
【００３２】
容器搬送機構７は、第２アーム７２２に設けられた前後のトレーガイド７２３の間に位置するトレー５１の載置領域を、既述の切り欠き部５１２を介してトレー５１の下方側に進入させ、次いで第２アーム７２２を上昇させることによりトレー載置台６９や容器載置モジュール６から薬液容器５０を受け取る（図５）。そして第１、第２アーム７２１、７２２を折り畳み、本体部７１上にトレー５１を配置した状態で薬液容器５０の搬送を行う（図６）。なお、本体部７１には、切り欠き部５１２の左右位置から下方側へ向けて伸びるトレー５１の側壁の下端部との干渉を避けるための溝部が形成されている（例えば、容器搬送機構７の変形例に係わる図１１に記載の溝部７１１参照）。
【００３３】
容器搬送機構７が上下左右に移動する薬液ブロックＤ２の内壁面に対向する領域には、互いに区画された複数の容器載置モジュール６が格子棚状に上下左右に並べて配置された容器配置部である容器棚６０が設けられている。本例では、５個の容器載置モジュール６を横方向に並べてなる棚段が、上下方向に４段積み重ねられて容器棚６０が構成されている。この容器棚６０には、後述するウエハ搬送路６５が配置される位置を除いて合計１９個の容器載置モジュール６が設けられている。図２に示すように容器棚６０は、キャリアブロックＤ１や処理ブロックＤ３の並び方向（前後方向）に対して直交する方向に向けて、各棚段の容器載置モジュール６が手前から見て左右に並ぶように配置されている。
【００３４】
塗布、現像装置１においては、濃度や成分の異なる複数種類のレジスト液が使い分けられる他、露光後のレジスト膜の現像を行う現像液、ウエハの表面でレジスト液を広がり易くするためのシンナー、レジスト膜の上面や下面に形成される反射防止膜や保護膜の原料液など、多種類の薬液が用いられる。容器棚６０内の容器載置モジュール６は、これら各種の薬液を貯留した薬液容器５０が１つずつ配置される配置位置となっている。また、ある薬液容器５０内の薬液が空になった場合に、他の薬液容器５０から継続して液処理モジュールへ薬液を供給できるように、同種の薬液を貯留した薬液容器５０を複数の容器載置モジュール６に配置し、これらの薬液容器５０を切り替えて薬液を供給する場合もある。
【００３５】
図７、図８に示すように、各容器載置モジュール６は、容器搬送機構７に対向する前面が開放され、互いに区画された棚内に設けられ、液処理モジュールへの薬液供給路の基端側を構成する吸引ノズル６１１と、薬液容器５０に対してこの吸引ノズル６１１の着脱を行うノズル着脱機構６１と、薬液容器５０を密封する蓋部５０１の開閉を行う蓋部開閉機構６２と、容器載置モジュール６の空間内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部６３と、を備えている。
【００３６】
ノズル着脱機構６１は、下方側へ向けて伸び出し、下端部が開口した樹脂製や金属製の細管からなる吸引ノズル６１１の上端部を支持し、水平方向に伸びる支持アーム６１２と、前記吸引ノズル６１１の支持位置とは反対側の支持アーム６１２の基端部を支持し、上下方向に伸縮自在に構成された昇降機構６１３と、を備えている。
【００３７】
吸引ノズル６１１は、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入したとき、開口部の形成された下端部が、薬液容器５０の底面近傍まで進入することが可能な長さを備え、薬液容器５０内に貯留されている薬液のほぼ全量を吸引することが可能なストロー管として構成されている。吸引ノズル６１１は、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入したとき、薬液容器５０の開口を上面側から押さえて当該開口を塞ぐ、例えばゴム製の保持部６１４を介して支持アーム６１２に保持されている。昇降機構６１３は、支持アーム６１２を昇降させることにより、吸引ノズル６１１の全体が薬液容器５０の開口部の上方側に抜き出された抜出位置（図７）と、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入した装着位置（図８）との間で、吸引ノズル６１１を移動させる。
【００３８】
蓋部開閉機構６２は、蓋部５０１の開閉を実行する開閉部６２１と、開閉部６２１を保持する支持アーム６２２と、支持アーム６２２を昇降させる昇降機構６２３と、を備えている。  
開閉部６２１は、薬液容器５０を密封する蓋部５０１の外周面に密着して嵌合する開口を備えた部材であり、前記開口を下方側へ向けて支持アーム６２２の先端部に保持されている。開閉部６２１は、支持アーム６２２内に設けられた不図示の駆動機構により、蓋部５０１を開ける方向と、閉じる方向とに、鉛直軸周りに回転自在に構成されている。
【００３９】
本例の支持アーム６２２は、昇降機構６２３に支持された基端側のアームと、開閉部６２１を保持する先端側のアームとが鉛直方向に伸びる回転軸を介して連結されている。これにより、薬液容器５０上端部に開閉部６２１を対向させて蓋部５０１の開閉を行う開閉位置（図７）と、この開閉位置から開閉部６２１を側方に退避させ、ノズル着脱機構６１による吸引ノズル６１１の着脱動作との干渉を避ける退避位置（図８）との間で、開閉部６２１を移動させることができる。また開閉部６２１は、退避位置への移動時に、取り外した蓋部５０１を持った状態で退避位置へと移動する。
【００４０】
また本例の蓋部開閉機構６２において、昇降機構６２３は例えば隣り合う容器載置モジュール６を区画する区画壁の壁面に設けられ、開閉位置に移動させた開閉部６２１を降下させて蓋部５０１に嵌合させる動作や、蓋部５０１の開閉時、蓋部５０１の移動にあわせて開閉部６２１を昇降させる動作を実行する。
【００４１】
不活性ガス供給部６３は、開閉部６２１により蓋部５０１の開閉動作が行われる領域へ開口部を向けて配置された不活性ガス供給管６３１と、この不活性ガス供給管６３１に介設され、容器載置モジュール６に供給される不活性ガス中のパーティクルを除去するフィルタ６３２と、不活性ガス供給管６３１の基端部に設けられ、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスの供給を実行する不活性ガス供給源６３３と、を備えている。
【００４２】
不活性ガス供給管６３１は、蓋部５０１の開閉動作時に、開放された薬液容器５０内への空気の進入を抑制するため、薬液容器５０の開口部へ向けて不活性ガスを供給する。図８に示すように、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入した際、保持部６１４によって薬液容器５０の開口を塞ぐ構成となっている場合には、薬液を払い出すことによって薬液容器５０内が真空雰囲気とならないように、薬液容器５０内に不活性ガスを供給する機構をノズル着脱機構６１に設けてもよい。また、薬液容器５０の開口を密閉せずに、当該開口から周囲の気体を取り込んで薬液容器５０内の圧力を維持する場合には、容器載置モジュール６の前面に開閉扉（シャッタ）を設けて容器載置モジュール６内を密閉可能とし、この区画内に不活性ガスを供給しながら薬液を払い出してもよい。
【００４３】
フィルタ６３２は、フィルタカートリッジ内にＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタなどのガスフィルタを格納した構成となっている。また不活性ガス供給源６３３は、不活性ガスが貯留されたガス貯溜部と、流量調節部とを備え、不活性ガスの給断や流量調節を実行することが可能である。例えば不活性ガス供給源６３３は、各々容器載置モジュール６へ不活性ガスを供給する複数の不活性ガス供給管６３１に対して共通に設けられる。
【００４４】
ここで全ての容器載置モジュール６に対して不活性ガス供給部６３を設けることは必須の要件ではなく、例えば大気との接触に伴う薬液の変質が少なく、不活性ガスを供給する効果が小さい薬液を貯留した薬液容器５０が配置される容器載置モジュール６に対しては、不活性ガス供給部６３を設けなくてもよい。
【００４５】
図９は、吸引ノズル６１１が装着された薬液容器５０から各液処理モジュール３３の薬液ノズル３３６までの薬液供給路３３８を示している。各容器載置モジュール６に配置された薬液容器５０は、薬液供給路３３８に介設されている薬液ポンプ６８１によって薬液容器５０から吸引され、各薬液ノズル３３６に送液される。薬液ポンプ６８１の下流には開閉バルブ６８２が配置され、この開閉バルブ６８２を駆動させることにより、各薬液ノズル３３６への薬液の給断が行われる。各薬液供給路３３８に介設された薬液ポンプ６８１や開閉バルブ６８２は、図３、図４に示すポンプ配置部６８にまとめて配置され、薬液容器５０から払い出された薬液がポンプ配置部６８に設けられた薬液ポンプ６８１によって各層Ｂ１〜Ｂ６の液処理モジュール３３へ向けて供給される。
【００４６】
液処理モジュール３３の概要について説明しておくと、ノズルアーム３３７は、液処理モジュール３３にて実行される液処理の種類に応じて、１種類、または複数種類の薬液の供給を行うために、１本または複数本の薬液ノズル３３６を保持している。そして回転駆動部３３２によって鉛直軸周りに回転するスピンチャック３３１上に１枚ずつ保持されたウエハＷの表面に、薬液ノズル３３６から所定量の薬液を順次、供給することによりウエハＷに対して枚葉毎に液処理が行われる。回転するウエハＷから振り飛ばされた薬液は、スピンチャック３３１の周囲に配置されたカップ体３３３により受け止められて、排液口３３５を介して外部へ排出される。また、カップ体３３３内に流れ込んだ気流は排気口３３４を介して外部へ排出される。
【００４７】
ここで、薬液ブロックＤ２に収容された薬液容器５０からの薬液の供給先は、上述の液処理モジュール３３に加え、例えばウエハＷの表面を疎水化する疎水化処理モジュールＡＤＨに疎水化処理ガスを供給する疎水化処理ガスの発生機構であってもよい。
【００４８】
容器載置モジュール６に載置された薬液容器５０内の薬液の量は、例えば容器載置モジュール６内に設けられた不図示の液面計や薬液供給路３３８に設けられた不図示の流量計などによって監視される。これらの例では、薬液容器５０内の薬液量が予め設定された液面高さを下回った場合や、薬液ポンプ６８１を稼働させ、開閉バルブ６８２を薬液ノズル３３６に連通させても所定の流量が検出されない場合などに、薬液容器５０の交換時期との判断がされる。
【００４９】
また塗布、現像装置１の天井部にはＦＦＵ（Fan Filter Unit）６７が設けられ、塗布、現像装置１の各ブロックＤ１〜Ｄ４内に清浄空気の下降流を形成することができる。そして図３に示すように、ＦＦＵ６７は薬液ブロックＤ２を構成する筐体内に清浄空気の下降流を形成し、この雰囲気内で蓋部５０１の開閉、吸引ノズル６１１の着脱を行うことにより、パーティクルなどの汚染物質の薬液への混入が抑えられる。この観点においてＦＦＵ６７は、本例の清浄気体供給部に相当する。
【００５０】
ここで既述のように、薬液ブロックＤ２は、キャリアブロックＤ１と処理ブロックＤ３との間に前後を挟まれるように配置されている。このためキャリアブロックＤ１にて取り出されたウエハＷや処理ブロックＤ３にて処理を終えたウエハＷは、この薬液ブロックＤ２を通り抜けて搬送先のブロックＤ３、Ｄ１へと搬送される。
【００５１】
一方、各種の薬液を貯留した薬液容器５０の蓋部５０１の開閉が行われる薬液ブロックＤ２内にはこれらの薬液やその溶剤が揮発する可能性があるため、多種の薬液成分が浮遊しているおそれのある雰囲気中に、処理前や処理後のウエハＷを晒すことは好ましくない。また容器搬送機構７に加えて、ブロックＤ３、Ｄ１間でウエハＷを搬送する搬送機構が頻繁に往来することによってパーティクルが発生し、薬液ブロックＤ２内が汚染されることも好ましくない。
【００５２】
そこで図３、図４に示すように、本例の薬液ブロックＤ２には、キャリアブロックＤ１と処理ブロックＤ３とを接続するウエハＷの通路であるウエハ搬送路６５が、薬液ブロックＤ２を水平方向に貫通するように配置されている。このウエハ搬送路６５は、角管状の筒状体によって囲まれた空間に形成され、薬液ブロックＤ２内の雰囲気と、他のブロックＤ１、Ｄ３の雰囲気とが区画されている。ウエハ搬送路６５内にはシャトルアーム６６が配置され、このシャトルアーム６６によって両ブロックＤ１、Ｄ３間のウエハＷの搬送が行われる。シャトルアーム６６は、キャリアブロックＤ１の搬送アーム２３と、処理ブロックＤ３内のタワーＴ１に配置された受け渡しモジュールＴＲＳ０との間でウエハＷの搬送を行う。
【００５３】
ウエハ搬送路６５は、前記受け渡しモジュールＴＲＳ０から、前方のキャリアブロックＤ１へ向けて横方向に伸び出すように設けられている。このため、当該ウエハ搬送路６５が容器棚６０を貫通している位置には、容器載置モジュール６が設けられていない（図４）。  
また、移動レール７５２の伸びる方向に沿って横方向に移動する昇降レール７５１との干渉を避けるため、ウエハ搬送路６５には昇降レール７５１を通過させるための切り欠き部６５１が設けられている（図３）。切り欠き部６５１の幅は、昇降レール７５１を通過させることが可能であり、且つ、薬液ブロックＤ２内、ウエハ搬送路６５内の各々の雰囲気が混じり合うことによって、既述の薬液成分やシャトルアーム６６にて発生したパーティクルによる汚染が問題とならない程度に十分に狭くなっている。また、これらの雰囲気の混じり合いが発生しにくくなるように、切り欠き部６５１を形成するウエハ搬送路６５の切り欠き面の一方側から、他方側へ向けて清浄空気を流してエアカーテンを形成してもよい。
【００５４】
以上に説明した構成を備えた塗布、現像装置１は、図２、図５、図７、図９などに示すように制御部８と接続されている。制御部８はＣＰＵと記憶部とを備えたコンピュータからなり、記憶部には塗布、現像装置１の作用、即ち各ブロックＤ１〜Ｄ４におけるウエハＷの搬送やウエハＷの処理、バーコードリーダ８１にて読み取ったバーコード５０２の情報に基づき、正しい容器載置モジュール６に向けて薬液容器５０を搬送し、使用済みの薬液容器５０と交換する動作についてのステップ（命令）群が組まれたプログラムが記録されている。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカード等の記憶媒体に格納され、そこからコンピュータにインストールされる。
【００５５】
以下、本実施の形態に係る塗布、現像装置１の作用について説明する。なお、説明の便宜上、図示を省略したモジュールにおける処理など、一部の処理の説明を省略する場合がある。  
ウエハＷは、キャリアＣからロット毎に１枚ずつ搬出され、搬送アーム２３により、ウエハ搬送路６５内のシャトルアーム６６に受け渡され、当該ウエハ搬送路６５内を搬送された後、前記受け渡しモジュールＴＲＳ０に載置される。受け渡しモジュールＴＲＳ０のウエハＷは、受け渡しアーム３２により、受け渡しモジュールＴＲＳ１、ＴＲＳ２を介してＢＣＴ層Ｂ１、Ｂ２に振り分けられる。
【００５６】
ＢＣＴ層Ｂ１、Ｂ２内に搬入されたウエハＷは、反射防止膜形成モジュール→加熱モジュール→ＴＲＳ１（ＴＲＳ２）の順に搬送されつつ処理が行われ、続いて受け渡しアーム３２により、各々受け渡しモジュールＴＲＳ３、ＴＲＳ４を介してＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４に振り分けられる。  
ＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４内に搬入されたウエハＷは、レジスト膜形成モジュール→加熱モジュール→保護膜形成モジュールＩＴＣ→加熱モジュール→タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳの順に搬送されつつ処理が行われる。
【００５７】
タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳに搬入されたウエハＷは、不図示のバッファモジュールＳＢＵに搬入された後、インターフェイスアーム４２によってタワーＴ４の裏面洗浄モジュールＢＳＴに搬入され裏面洗浄が行われる。裏面洗浄後のウエハＷは、各インターフェイスアーム４２、４１、４３によりタワーＴ２の温調モジュールＣＰＬ（不図示）を介して露光装置Ｄ５へ搬入される。
【００５８】
露光後のウエハＷは、インターフェイスアーム４３、４１によりタワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ→タワーＴ３の露光後洗浄モジュールＰＩＲに搬入され、洗浄が行われた後、タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ５、ＴＲＳ６を介してＤＥＶ層Ｂ５、Ｂ６に振り分けられる。  
ＤＥＶ層Ｂ５、Ｂ６に搬入されたウエハＷは、加熱モジュール→現像モジュール→加熱モジュール→タワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳの順に搬送されつつ処理が行われ、キャリアブロックＤ１との受け渡し用の受け渡しモジュールＴＲＳ０に移載された後、シャトルアーム６６によってウエハ搬送路６５内を搬送され、搬送アーム２３に受け渡されてキャリアＣに戻される。
【００５９】
上述のウエハＷの搬送、処理動作と並行して、薬液ブロックＤ２では薬液容器５０の搬入出や容器載置モジュール６における薬液容器５０の交換動作が実行される。
図４に示すように容器棚６０の各容器載置モジュール６には薬液容器５０が配置され、各液処理モジュール３３と接続された薬液容器５０から、液処理の進行状況に応じて薬液が供給されている。この際、各容器載置モジュール６における薬液容器５０の薬液の液面などを監視し、使用済みの薬液容器５０があるか否かを検知する。
【００６０】
そして、使用済みの薬液容器５０が検知されたら、塗布、現像装置１の外壁面に設けられた不図示のパネルディスプレイや、工場内の装置を管理するホストコンピュータに薬液容器の交換が必要である旨の情報や、交換する薬液の種類に関する情報が出力される。この結果、オペレータによって容器搬入出口６４ａを介して新たな薬液容器５０が薬液ブロックＤ２に搬入され、または、ホストコンピュータの指示を受けたＯＨＴ１０１によって、容器搬入出路６４ｂを介して新たな薬液容器５０の搬入が行われる。
【００６１】
そして、新しい薬液容器５０が搬入されると、バーコードリーダ８１により薬液容器５０のバーコード５０２を読み取り、薬液容器５０内に貯留されている薬液の種類を識別し、正しい薬液容器５０が搬入されたことを確認する。そして、トレー載置台６９から容器搬送機構７に薬液容器５０を受け取って交換対象の容器載置モジュール６へ向けて搬送する。このとき容器搬送機構７は、図３、図４に示したウエハ搬送路６５との干渉を避けながら目的の容器載置モジュール６へ向けて移動する。
【００６２】
交換対象の容器載置モジュール６においては、使用済みの薬液容器５０から吸引ノズル６１１を抜き出し、蓋部開閉機構６２により当該薬液容器５０に蓋部５０１を取り付けた状態で待機している（図７）。この容器載置モジュール６に移動してきた容器搬送機構７は、薬液容器５０を保持していない第１、第２アーム７２１、７２２を容器載置モジュール６に対向させて、使用済みの薬液容器５０を容器載置モジュール６から受け取る。次いで本体部７１を回転させ、新たに搬入された薬液容器５０を保持している第１、第２アーム７２１、７２２を容器載置モジュール６に対向させ、新しい薬液容器５０を容器載置モジュール６に受け渡す。容器載置モジュール６は、蓋部開閉機構６２により蓋部５０１を取り外して退避位置まで移動させた後、吸引ノズル６１１を装着して薬液容器５０の交換を完了する。  
この後、使用済みの薬液容器５０はトレー載置台６９に搬送され、オペレータやＯＨＴ１０１によって外部へと搬出される。
【００６３】
本実施の形態に係る塗布、現像装置１によれば以下の効果がある。薬液容器の自動交換を行う容器搬送機構７を用いて、容器棚６０（容器配置部）とトレー載置台６９（搬入搬出ポート）との間で使用済みの薬液容器５０と新規な薬液容器５０との交換を行う。このため、一列に並んだキャリアブロックＤ１や処理ブロックＤ３の並び方向と直交する方向に向けて複数の薬液容器５０が並ぶように容器棚６０の棚段が配置され、人手による作業が困難な場合であっても薬液容器５０の交換を実行することができる。この結果、パーティクルなどの汚染物質が薬液容器５０に混入すること避けると共に、容器載置モジュール６に不活性ガスを供給して薬液の変質を低減することもできる。
【００６４】
また、人が入り込むことが難しい、狭い領域に容器棚６０や容器搬送機構７を配置することが可能となり、薬液ブロックＤ２を設けることに伴う塗布、現像装置のフットプリントの増大も抑制できる。この場合には、各容器載置モジュール６や容器搬送機構７などのメンテナンスのため、手前側から見て左右いずれかの方向に向けて薬液ブロックＤ２を引き出すことができるように構成したり、薬液ブロックＤ２からキャリアブロックＤ１や処理ブロックＤ３を取り外すことができるように構成したりしておくとよい。
【００６５】
ここで薬液容器５０を搬送する容器搬送機構７の構成は図２等に示した例に限定されない。例えば図１０、図１１に他の構成例を示す。これらの例において、既述の容器搬送機構７にて説明したものと共通の機能を持つ構成要素には、先に説明した図に付した符号と共通の符号を付してある（以下、後述する塗布、現像装置１ａなどにおいても同じ）。
【００６６】
図１０に示す容器搬送機構７ａは、移動レール７５２の伸びる方向に沿って本体部７１が横方向に移動自在に構成されると共に、各組の第１、第２アーム７２１、７２２が、本体部７１の移動方向と交差する方向、即ち、容器棚６０（容器載置モジュール６）の配置方向（図２、図３参照）へ向けて伸縮する構成となっている。本体部７１を回転させないことにより、容器搬送機構７ａの移動に必要なスペースが小さくなり、薬液ブロックＤ２の設置スペースを小型化できる。この容器搬送機構７ａを用いる場合には、容器搬入出口６４ａの側方や容器搬入出路６４ｂの下方にトレー載置台６９を設けることに替えて、当該位置まで容器搬送機構７ａを移動させ、容器搬送機構７ａとの間で直接、薬液容器５０の搬入出を行ってもよい。
【００６７】
また、図１１に示す容器搬送機構７ｂは、薬液容器５０を上下方向に並べて配置した例を示している。本例では、上下に積み重ねられた搬送棚７１ａ内に、各々第１、第２アーム７２１、７２２が配置されている。そして、これらの搬送棚７１ａ全体を回転軸７３にて回転させてトレー載置台６９や各容器載置モジュール６に対向させ、搬送棚７１ａを昇降させながら薬液容器５０の交換を行う。この例においても搬送棚７１ａの回転半径が小さくなり、薬液ブロックＤ２の設置スペースを小型化することができる。
【００６８】
次いで、薬液ブロックＤ２の配置位置のバリエーションについて説明する。図１２は、薬液ブロックＤ２、Ｄ２ａ〜Ｄ２ｃを配置可能な位置を斜線のハッチで塗り潰して示してある。  
ウエハ搬送路６５を設けることにより、薬液ブロックＤ２内の雰囲気と区画された空間を介してウエハＷの搬送を行う場合には、図３、図４に示した例の他、処理ブロックＤ３におけるタワーＴ１や受け渡しアーム３２の配置領域と、単位ブロックＢ１〜Ｂ６が積層されている領域との間（図１２の薬液ブロックＤ２ａ）、処理ブロックＤ３とインターフェイスブロックＤ４との間（同図の薬液ブロックＤ２ｂ）、インターフェイスブロックＤ４と露光装置Ｄ５との間（同図の薬液ブロックＤ２ｃ）にも薬液ブロックＤ２ａ〜Ｄ２ｃを配置することができる。例えば図１３には、処理ブロックＤ３とインターフェイスブロックＤ４との間に薬液ブロックＤ２ａを配置した例を示してある。この場合には、インターフェイスブロックＤ４に設けられたタワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳと、処理ブロックＤ２の単位ブロックＢ１〜Ｂ６との間の受け渡し位置にてウエハＷの搬送が可能なように、ウエハ搬送路６５及び搬送アーム６６が設けられる。
【００６９】
図１４に他の実施の形態に係る容器配置部の構成を示す。本例の薬液ブロックＤ２ｄは、左右の内壁面、天井面及び床面に沿って張設された搬送ベルト６０１にて容器載置モジュール６を保持することによって容器配置部が構成されている。そして、不図示の駆動機構により搬送ベルト６０１を駆動し、トレー載置台６９との間の受け渡し位置まで各容器載置モジュール６を移動させて、容器搬送機構７ｃによる薬液容器５０の交換が行われる。
【００７０】
各容器載置モジュール６は、可撓性を有する樹脂製の配管部材などからなる薬液供給路３３８を束ねた集合配管６０２を介して薬液ポンプ６８１に接続される。本例ではウエハ搬送路６５と干渉せずに集合配管６０２を動かすことができる範囲が搬送ベルト６０１の駆動範囲となる。  
本例の薬液ブロックＤ２ｄは、容器搬送機構７ｃが移動する空間を設ける必要がないので、薬液ブロックＤ２ｄの前後方向の幅をより狭くすることが可能となる。
【００７１】
さらに、薬液ブロックＤ２（Ｄ２ａ〜Ｄ２ｄ）に設けられるウエハ搬送路６５は、筒状体の内側に形成する場合に限定されない。例えばウエハ搬送路６５の天井面及び床面を構成するプレートを上下に対向するように配置し、薬液ブロックＤ２内の空間に向けて開口している上下のプレートの側方位置にエアカーテンを形成することにより、薬液ブロックＤ２の雰囲気から区画されたウエハ搬送路６５を構成してもよい。
【００７２】
以上に説明した各例において、薬液供給路３３８の基端側を薬液容器５０に対して着脱する機構は、図７、図８に示した吸引ノズル６１１の着脱機構６１の例に限られない。例えば、蓋部５０１に替えて薬液容器５０の開口部に押し込んで取り付けられるゴム部材などからなる蓋部に、薬液供給路３３８の基端側を接続し、この蓋部を薬液容器５０に取り付けた後、薬液容器５０の上下を転動させて薬液の払い出しを行ってもよい。この場合は、薬液供給路３３８と接続された蓋部の着脱を行う機構が前記着脱機構となる。
【００７３】
また、各容器載置モジュール６に蓋部開閉機構６２を設けることに替えて例えば蓋部開閉機構６２と容器搬送機構７との間の薬液容器５０の受け渡し位置に共通の蓋部開閉機構６２を設け、ここで蓋部５０１を取った後、開栓した状態で薬液容器５０を各容器載置モジュール６に搬送してもよい。薬液容器５０から取り外された蓋部５０１は例えば共通の廃棄ボックス等に集められ、別途、廃棄される。また使用済みの薬液容器５０は蓋部５０１を取り外した状態で搬出される。この例の場合には、蓋部５０１を取り外した状態で薬液容器５０が搬送されるので、薬液の変質を防止するため、薬液ブロックＤ２の空間内全体を不活性ガスの雰囲気としていてもよい。
【００７４】
ここで、容器載置モジュール６に開閉扉（シャッタ）を設ける構成は、既述のように薬液容器５０の開口を介して周囲の気体を取り込むために、容器載置モジュール６の区画内に不活性ガスを供給する場合に限定されない。不活性ガスの供給を行わない場合であっても、例えば通常時には開閉扉を閉じておき、薬液容器５０の交換時のみ開閉扉を開くことにより、容器搬送機構７が移動する空間からのパーティクルの進入を抑え、清浄な空間内で薬液の供給を行うことができる。
【００７５】
さらに容器載置モジュール６は、蓋部開閉機構６２を備えることも必須ではない。例えば薬液容器５０として、開口部がゴム膜で覆われたバイアル容器を用いる場合には、蓋部開閉機構６２を用いて蓋部５０１を取り外すことに替えて、前記ゴム膜を突き刺すようにして薬液容器５０内に吸引ノズル６１１を挿入してもよい。
【００７６】
また、容器棚６０を設ける場合、容器載置部（図４の容器棚６０や図１８の容器載置モジュール６の列）において、隣り合う容器載置モジュール６同士を区画する隔壁を設けることは必須ではなく、共通する横長の棚段の予め設定された位置（配置領域）に薬液容器５０を載置してもよい。この場合には、着脱機構６１や蓋部開閉機構６２を複数の薬液容器５０間で移動自在に構成することにより着脱機構６１や蓋部開閉機構６２を共有化してもよい。さらにこの場合は、各薬液容器５０の配置領域の近傍に、薬液供給路３３８の基端部や、蓋部５０１を載置する載置台などを設けるとよい。
【００７７】
この他、薬液容器５０に吸引ノズル６１１や薬液供給路３３８を装着するタイミングは、容器載置モジュール６に薬液容器５０を載置した後に限られない。容器載置モジュール６の区画内に薬液容器５０を搬送した後、容器搬送機構７によって薬液容器５０を保持したまま蓋部５０１を取り外して吸引ノズル６１１等の装着を行い、その後、容器載置モジュール６に薬液容器５０を載置してもよい。
【００７８】
さらには、本発明を適用可能な基板処理装置は、ウエハＷに対してレジストの塗布、現像を行う塗布、現像装置１に限られるものではない。例えば液処理モジュールとして、ウエハＷの表面や裏面にアルカリ性や酸性の薬液を供給して洗浄処理を実行する洗浄モジュールを備え、処理ブロック内にこれらの洗浄モジュールが複数台設けられた洗浄装置にも本発明は適用することができる。
【符号の説明】
【００７９】
Ｗ          ウエハ
Ｄ２、Ｄ２ａ〜Ｄ２ｄ
薬液ブロック
１、１ａ
塗布、現像装置
３３        液処理モジュール
３３６      薬液ノズル
３３８      薬液供給路
５０        薬液容器
５０１      蓋部
５０２      バーコード
５１        トレー
６          薬液配置モジュール
６０        容器棚
６０１      搬送ベルト
６１        ノズル着脱機構
６１１      吸引ノズル
６２        蓋部開閉機構
６３        不活性ガス供給部
６４ａ      容器搬入出口
６４ｂ      容器搬入出路
６５        ウエハ搬送路
６７        ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）
６９        トレー載置台
７、７ａ〜７ｃ
容器搬送機構
８          制御部
８１        バーコードリーダ
【図１】
0005987808.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
0005987808.tif 000006
【図６】
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【図７】
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【図８】
0005987808.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１４】
0005987808.tif 000014
【図１３】
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