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【手続補正書】
【提出日】平成23年8月31日(2011.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着色個別化ホログラムを作製する方法であって、複数の異なった波長の光が発生され、この光が色分解されて個々に立体的に変調され、この変調された光は、この光がホログラフィーマスター（３３）において少なくとも部分的に屈折及び反射の少なくとも一方を行われるように、案内され、ホログラフィー記録材料（３１）には、変調されて屈折及び反射の少なくとも一方を行われない光と重ねられ、多色個別化ホログラムを表す干渉マスターを形成して、多色個別化ホログラムが撮影される方法において、光が複数の空間光モデュレータ（１３−１５）によって色分解されて同時に変調され、光の複数波長の各々が一つの空間光モデュレータに組み込まれていて、空間光モデュレータが対応する波長の単色光線（６’ー８’）を個々に変調し、複数波長の複数の単色変調光線（６”ー８”）がホログラフィーマスター（３３）における屈折及び反射の少なくとも一方の前且つホログラフィー記録材料（３１）における重なりの前に多色の色分解されて個別に変調された露光光線（２０  ）に共線的に合流されて、個別化されたホログラムの各ピクセルには正確に複数波長の一波長が組み込まれるように、空間光モデュレータ（１３−１５）が互いに配置され且つ光線合流が形成されることを特徴とする方法。
【請求項２】
光は多色の縞状或いは列状光線として発生されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
複数波長の光は複数の単色偏光光線（６−８）の共線的に合流された入射光線（１１）として発生されることを特徴とする請求項１或いは２に記載の方法。
【請求項４】
複数の単色光線が二色性光学要素と偏光依存分光器とによって空間光モデュレータ（１３−１５）に案内され共線的に露光光線（２０）に合流されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
光学システム（４１）の並進直線運動が作用されて、対応する空間光モデュレータ（１３−１５）によって単色光線（６’ー８’）の同時走査光線案内を達成させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
光学システム（４１）は、空間光モデュレータ（１３−１５）と、単色光線（６’ー８’）を空間光モデュレータ（１３−１５）へ偏向させ且つ単色変調光線（６”ー８”）を露光光線（２０）に共線的に合流させる供給合流光学機器（２１）とを包含する個別化ユニット（１，１’，１”）を有することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
空間光モデュレータ（１３−１５）の走査が、鏡平面に位置する鏡軸線を中心に回転できる転向鏡（５２）の旋回によって作用されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
転向鏡（５２）と間隔をおいて、補償鏡はその鏡が転向鏡（５２）に対応する面平行配向に比べて転向鏡（５２）の回転軸線で確定相対角度だけ旋回されて、間隔と相対角度の維持の下で転向鏡（５２）と一緒にその鏡軸線を中心に回転され、多色入射光線が転向鏡（５２）、補償鏡と模写レンズを介して個別化ユニット（１，１’，１”）へ偏向され、変調された露光光線が模写レンズ、補償鏡と転向鏡（５２）を介して案内されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
複数の異なった波長の光を準備する光源（２）と、光を色分解して個々に立体的に変調する個別化ユニット（１，１’，１”）とから成り、変調された光は、光がホログラフィーマスター（３３）において少なくとも部分的に屈折及び反射の少なくとも一方を行われ、ホログラフィー記録材料（３１）に変調されて屈折及び反射の少なくとも一方を行われない光が重ねられていて、多色個別化ホログラムを表す干渉マスターを形成し、多色個別化ホログラムが記憶されて、色個別化ホログラムを作製する装置（３０、５０）において、個別化ユニット（１，１’，１”）は、光の複数波長の各々が一つの固有の空間光モデュレータに組み込まれている複数の空間光モデュレータ（１３−１５）と供給合流光学機器とを包含し、供給合流光学機器（２１）は対応する波長ピクセルマスターによる対応する単色光線（６’ー８’）を個々に変調する各波長に組み込まれた空間光モデュレータ（１３−１５）へ単色光線（６’ー８’）を偏向させ且つ単色変調光線（６”ー８”）を露光光線（２０）に共線的に合流させるために形成されていて、空間光モデュレータ（１３−１５）は個別化ホログラムのピクセルの各々に正確に複数波長の一波長が組み込まれるように、光線合流が形成されているよう互いに整合され且つ始動されていることを特徴とする装置。
【請求項１０】
光源（２）は多色縞状或いは列状入射光線（１１）を発生させる多色縞光源であることを特徴とする請求項９に記載の装置（３０、５０）。
【請求項１１】
供給合流光学機器（２１）は二色性光学要素と偏光依存分光器を包含し、特に二つの二色性分光器と二つの偏光する分光器ダイス（１７、１９）と好ましくは二色性Ｘプリズムダイス（２３）を包含することを特徴とする請求項９或いは１０に記載の装置（３０、５０）。
【請求項１２】
供給合流光学機器（２１）は二色性Ｘプリズムダイス（２３）を包含し、空間光モデュレータ（１３−１５）は二色性Ｘプリズムダイス（２３）の側面に配置されていることを特徴とする請求項９或いは１０に記載の装置（３０、５０）。
【請求項１３】
光学システム（４１）を直線的一方向に移動させ、すべての空間光モデュレータ（１３−１５）の走査を対応する単色光線（６’ー８’）によって同時に作用させる並進ユニットを備えることを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか一項に記載の装置（３０、５０）。
【請求項１４】
光学システム（４１）は個別化ユニット（１，１’，１”）を包含し、転向鏡（５２）は個別化ユニット（１，１’，１”）に対して配置され且つホログラフィー記録材料（３１）に配置されていて、ホログラフィー記録材料が鏡平面に位置する鏡軸線（５１）を中心に回転自在に支承されていて、変調されていない光が転向鏡（５２）を介して個別化ユニット（１，１’，１”）へ案内でき、変調された光が転向鏡（５２）を介して模写材料に案内されていて、転向鏡（５２）の回転は空間光モデュレータ（１３−１５）の走査を作用させることを特徴とする請求項１３に記載の装置（３０、５０）。
【請求項１５】
転向鏡（５２）と間隔をおいて、補償鏡はその鏡が転向鏡（５２）に対応する面平行配向に比べて転向鏡（５２）の回転軸線で確定相対角度だけ旋回されて、間隔（６２）と相対角度の維持の下で転向鏡（５２）と一緒にその鏡軸線を中心に回転でき、多色入射光線が転向鏡（５２）、補償鏡と模写レンズ（５３）を介して個別化ユニット（１，１’，１”）へ偏向され、変調された露光光線が模写レンズ（５３）、補償鏡と転向鏡（５２）を介して案内されることを特徴とする請求項１４に記載の装置（３０、５０）。
【請求項１６】
記録材料（３１）が円筒状ドラム（３２）に当接して配置され、ドラム（３２）がホログラフィーマスター（３３）の走査の際にドラム（３２）のドラム軸線を中心に回転させるためにドラム駆動装置と連結されることを特徴とする請求項９乃至１５のいずれか一項に記載の装置（３０、５０）。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月27日(2011.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
システムメモリに記憶された音声メロディに対する伴奏を生成するためのコンピュータ実行方法であって、前記コンピュータは、処理装置および前記システムメモリを備え、
前記処理装置が、前記音声メロディの周波数分析を実施するステップと、
前記処理装置が、前記音声メロディのセグメントごとに、各基本周波数の総継続時間を合計するステップと、
前記処理装置が、前記各セグメントごとに合計した各基本周波数の総継続時間に基づいて、複数の所定の和音ごとの、前記音声メロディのセグメントが発生する確率を計算するステップと、
前記処理装置が、前記計算した確率に基づいて、前記セグメントに対する１組の和音を選択するステップと、
前記処理装置が、前記１組の和音を前記音声メロディに対する伴奏として出力装置に出力するステップと
を備えたことを特徴とするコンピュータ実行方法。
【請求項２】
前記周波数分析を実施するステップは、自己相関法を使用することを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ実行方法。
【請求項３】
前記処理装置が、前記音声メロディの音高をシフトして前記音高を所定の音符と整合させるステップをさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ実行方法。
【請求項４】
前記処理装置が、前記音声メロディにおけるスタッカート音符の継続時間を重み付けまたは拡張するステップをさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ実行方法。
【請求項５】
確率を計算するステップは、幾つかの所定の和音タイプごとに、前記再生される確率を計算するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ実行方法。
【請求項６】
前記１組の和音を選択するステップは、隠れマルコフモデル（ＨＭＭ）を使用するステップを含み、前記１組の和音を選択するステップは、オプションとして、
ビタビアルゴリズムを用いて、前記隠れマルコフモデルの観測結果の尤度を最大化する和音列を計算するステップか、または
少なくとも部分的に、１つまたは複数の音楽のスタイルに関連付けられて前記システムメモリに記憶された１つまたは複数の和音遷移行列から導出される状態遷移確率に基づいて選択するステップであって、前記和音遷移行列は、所定の曲における和音から他の和音への遷移の回数を含む、ステップを含み、オプションとして、
前記隠れマルコフモデルの各隠れノードは、１つのセグメントを表すか、または
前記観測結果は、音高値のヒストグラムを含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ実行方法。
【請求項７】
前記再生される確率を計算するステップは、前記システムメモリに記憶された１つまたは複数の和音基準に基づき、前記１つまたは複数の和音基準は、メジャーの和音基準および／またはマイナーの和音基準を含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ実行方法。
【請求項８】
前記処理装置が、セグメントに対する和音の順位を前記出力装置に出力するステップをさらに備え、前記順位は少なくとも部分的に確率に基づくことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ実行方法。
【請求項９】
前記１組の和音を出力するステップは、オプションとして、セグメントに関連付けられて前記システムメモリに記憶された和音のリストまたは前記音声メロディに対するキーを、前記出力装置に出力するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ実行方法。
【請求項１０】
前記処理装置が、音符情報および和音情報を、前記システムメモリに記憶された音楽データベースから取り出すステップと、
前記処理装置が、前記音符情報および前記和音情報を用いて、隠れマルコフモデルをトレーニングするステップと
をさらに備え、
オプションとして、前記処理装置が、各々が１つまたは複数の音楽のスタイルに関連付けられて前記システムメモリに記憶された１つまたは複数の和音遷移行列を特定するステップであって、前記和音遷移行列は、所定の曲における和音から他の和音への遷移の回数を含む、ステップと
をさらに備え、
前記１組の和音を選択するステップは、前記トレーニングされた隠れマルコフモデルを使用して前記１組の和音を選択するステップを含み、前記１組の和音を選択するステップは、オプションとして、少なくとも部分的に、前記１つまたは複数の和音遷移行列から導出される状態遷移確率に基づいて前記１組の和音を選択するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ実行方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月25日(2011.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
ホスト・コンピュータは、電子機器ボードのマイクロプロセッサ７に命令１０、１１を実行する時間を与える。
例えばこの時間は１０ミリ秒である。その内訳は、ホスト・コンピュータから来る命令１０の実行時間が８ミリ秒であり、診断モジュール６から来る命令１１の実行時間が２ミリ秒である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理ユニットを備える電子機器ボードであって、
診断モジュールからの命令とシミュレーション・システムからの命令を受け取ることができて、
前記シミュレーション・システムからの命令の実行の優先度を前記診断モジュールからの命令の実行の優先度と比較して管理する手段を備える、
ことを特徴とする電子機器ボード。
【請求項２】
前記管理する手段が、前記診断モジュールからの命令の実行よりも前記シミュレーション・システムからの命令の実行を優先させることができる、ことを特徴とする請求項１に記載の電子機器ボード。
【請求項３】
前記シミュレーション・システムからの命令が前記診断モジュールからの命令よりも優先される、ことを特徴とする請求項１または２に記載の電子機器ボード。
【請求項４】
前記シミュレーション・システムからの命令が実行されているときに前記診断モジュールからの命令を前記電子機器ボードに記憶させる手段と、
前記シミュレーション・システムからの命令の実行が終了した段階で前記診断モジュールからの命令を実行する手段と、を備える、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の電子機器ボード。
【請求項５】
前記診断モジュールからの命令が、前記電子機器ボードの１つのパラメータを強制的にある値にする命令である、ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の電子機器ボード。
【請求項６】
前記診断モジュールからの命令が、１つのパラメータの値を記憶する機能を有する、ことを特徴とする、請求項１から５のいずれか１項に記載の電子機器ボード。
【請求項７】
前記診断モジュールからの命令が、優先度のないバックグラウンド・ジョブによって実現される、ことを特徴とする請求項６に記載の電子機器ボード。
【請求項８】
電子機器ボードの診断システムであって、
診断モジュールと、
シミュレーション・システムからの命令の実行の優先度を前記診断モジュールからの命令の実行の優先度と比較して管理する手段と、
を備える、ことを特徴とする電子機器ボードの診断システム。
【請求項９】
診断モジュールからの命令とシミュレーション・システムからの命令の実行を含み、かつ、
前記シミュレーション・システムからの命令の実行の優先度を前記診断モジュールからの命令の実行の優先度と比較して管理するステップを含む、
ことを特徴とする、電子機器ボードを用いたシミュレーション方法。
【請求項１０】
請求項１から７のいずれか１項に記載の電子機器ボードの利用方法であって、請求項９に記載の方法を実施して組み込み式シミュレータに組み込まれた電子機器ボードの不具合を分析する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月19日(2011.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
電気インピーダンス・トモグラフィ（EIT）は、患者の部分の伝導性及び誘電率の画像が、その患者の表面で感知される電気的測定から推測される、既知の医用画像技術である。通常、導電性電極は、その患者の皮膚に、対象の領域を取り囲むパターンで付着される。2、3ナノ・アンペア（nA）から数ミリ・アンペア（mA）の単位の小さな交流電流が、一般的にキロ・ヘルツ（kHz）の範囲の周波数でそれらの電極のいくつか又は全てに印加される。その結果生じる電位は測定され、その過程は、いくつかの異なる印加電流の設定において繰り返される。
【特許文献１】米国特許第６，５９５，２１１号明細書
【特許文献２】米国特許第７，１６２，２９６号明細書
【特許文献３】米国特許出願第２００３−０２１６６６４Ａ１号明細書
【特許文献４】米国特許出願第２００６−０２６０６１１Ａ１号明細書
【特許文献５】米国特許出願第２００４−０２４９３０１Ａ１号明細書
【特許文献６】米国特許第６，３７０，４１５号明細書
【特許文献７】米国特許第６，６５０，９２４号明細書
【特許文献８】米国特許第６，９１５，１５１号明細書
【特許文献９】米国特許第６，０１５，３８９号明細書
【特許文献１０】米国特許第５，３１１，８７８号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月7日(2011.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
かかと領域から土踏まず領域、つま先領域まで延びる長さ、上面および底面を有する概して足形の基板と、
互いに隣接して配置され中底の長さにわたって延びる少なくとも２つの同延の層であって、第１の上側布層、および第１の密度を持つ第２のゲル層を備える、同延の層と、
前記ゲル層に隣接して配置され前記底面の一部分を形成する安定クレードルであって、前記土踏まず領域から前記かかと領域まで延び、前記ゲル層に固定され、前記ゲル層に露出する第１の中足区分ギャップ、および前記ゲル層に露出する第２のかかと区分ギャップを画定する、第２の密度を持つ安定クレードルと、
前記底面の一部分を形成するかかとクッションであって、前記ゲル層に隣接して配置された前記第２のかかと区分ギャップに配置され、その区分に露出した前記ゲル層に固定され、第３の密度を持つかかとクッションと
を備える、３つの密度の取替え式中底。
【請求項２】
前記底面が、前記ゲル層で一体に形成され前記つま先領域に配置された改良緩衝領域をさらに備える、請求項１に記載の取替え式中底。
【請求項３】
前記改良緩衝領域が、前記ゲル層で一体に形成されたハニカム・パターンである、請求項２に記載の取替え式中底。
【請求項４】
前記ハニカム・パターンが、概してユーザの母指球の下に広がるように配置される、請求項３に記載の取替え式中底。
【請求項５】
前記かかとクッションの前記第３の密度が、前記第２のゲル層の前記第１の密度のより軟らかい請求項１に記載の取替え式中底。
【請求項６】
前記第２の密度のゲルが、ハニカム・パターンを一体に形成する、請求項５に記載の取替え式中底。
【請求項７】
前記第１の上側布層および前記第２のゲル層から前記第１の中足区分ギャップ領域で一体に形成された中足土踏まず支持部をさらに備え、前記中足土踏まず領域が、寸法的に前記中底の前記上面から上方向に延びる、請求項１に記載の取替え式中底。
【請求項８】
前記中足土踏まず支持部を潰すことができる、請求項７に記載の取替え式中底。
【請求項９】
前記第２のゲル層が、ＡＳＴＭ  Ｆ１６１４−９５試験基準で試験するときに圧縮歪みが約１１％未満の熱可塑性エラストマー・ゲルである、請求項１に記載の取替え式中底。
【請求項１０】
前記第２ゲル層が、熱可塑性ポリウレタン・エラストマー（「ＴＰＵ」）ゲルおよび熱可塑性ゴム・ゲル（「ＴＰＲ」）ゲルから選択される、請求項１に記載の取替え式中底。
【請求項１１】
前記安定クレードルが、固定された前記中底の領域に剛性をもたらす特徴を有する熱可塑性エラストマー・ゲルを前記安定クレードルが備える、請求項１に記載の取替え式中底。
【請求項１２】
前記底面が、前記ゲル層で一体に形成され前記つま先領域に配置された改良緩衝領域をさらに備える、請求項７に記載の取替え式中底。
【請求項１３】
前記改良緩衝領域が、前記ゲル層で一体に形成されたハニカム・パターンであり、前記ハニカム・パターンが、概してユーザの母指球の下に広がるように配置される、請求項１２に記載の取替え式中底。
【請求項１４】
前記かかとクッションの前記第３の密度が、前記第２のゲル層の前記第１の密度のゲルより軟らかい第２の密度のゲルを備える、請求項７に記載の取替え式中底。
【請求項１５】
前記第２の密度のゲルが、ハニカム・パターンを一体に形成する、請求項１４に記載の取替え式中底。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
第２のゲル層、かかとクッション、およびクレードルは、好ましくは射出成形のプロセスによって形成され互いに固定される。好ましくは、中底を作製するのに使用する型は、２面に輪郭が付いている。それにより、より速い組立てが可能になり、そのため射出成形プロセス中に型を変更する必要がなくなる。型の一方の面でゲル層が成形され、その型の反対側の面でクレードルおよびかかとクッションが成形される。好ましくは標準的な射出成形アセンブリ・ライン・プロセスを利用するが、本明細書で開示した特性および従来知られた特性を有する構造をもたらすどんな成形プロセスも使用することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
好ましい実施形態では、かかとクッションの圧縮歪みは１１％未満である。本発明で使用する適切なゲルを選択するためには、ＡＳＴＭ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ（米国材料試験協会）のＡＳＴＭ  Ｆ１６１４−９５「Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  ｓｈｏｃｋ  Ａｔｔｅｎｕａｔｉｎｇ  Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ  ｏｆ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｓｙｓｔｅｍｓ  ｆｏｒ  Ａｔｈｌｅｔｉｃ  Ｆｏｏｔｗｅａｒ」に従った、圧縮歪みまたは衝撃の測定に使用される試験装置でゲルを試験することができる。例えば、Ｅｘｅｔｅｒ  ＲｅｓｅａｒｃｈによるＣｏｍｐＩＴＳ、すなわちコンピュータ衝撃試験システムは、ＡＳＴＭ  Ｆ１６１４−９５に従って衝撃を試験する標準的な機械である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図１を参照すると、安定クレードル（３）が第２のゲル層（２）に固定されている。この安定クレードル（３）は、第２のゲル層（２）の長さの中央周りから始まり、この実施形態の後方かかと端部（７）まで延びる。安定クレードル（３）の下面に沿って、リブ状の縁部がある。そのリブ状縁部は、クレードルに剛性を加えるのに効果的である。図１で最も良く見られるように、安定クレードル（３）は、２つのギャップ区分、クレードルかかとギャップ［ｃｒａｄｌｅ  ｈｅｅｌ  ｇａｐ］（３２）およびクレードル中足ギャップ［ｃｒａｄｌｅ  ｍｅｔａｔａｒｓａｌ  ｇａｐ］（３３）を画定する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
引き続き図１を参照すると、中底の底面にハニカム先端緩衝領域［ｆｏｒｅｆｒｏｎｔｈｏｎｅｙｃｏｍ  ｃｕｓｈｉｏｎｉｎｇ  ａｒｅａ］（２２）を見ることができる。この領域は、ユーザの足の先端に改良した緩衝をもたらし、所望のパターンで型を提供し緩衝領域を射出成形することによってゲル層で一体に形成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
かかとクッション（４１）は、クレードルかかとギャップ（３２）に配置され、好ましくはハニカム緩衝技術を用いる。この領域は、歩行または走行時にかかとを当てる動作をする際にユーザの体重が足のかかとに置かれるときにユーザのかかとに改良した緩衝をもたらす。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月12日(2011.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光破壊を引き起こすレーザ光線を生成できるレーザ光源と、
前記レーザ光源から患者の標的組織に前記レーザ光線を方向付け、集光する光学モジュールと、
前記レーザ光源を制御して、レーザパルスのパターンを所望の順序で供給し、前記光学モジュールを制御して、前記レーザ光線の方向を調整するレーザ制御モジュールと、
前記患者を保持する患者支持モジュールと、
レーザビーム光路に対する前記患者支持モジュールの向きおよび位置を制御し、組織内のレーザ誘起気泡の経路が、前記レーザ光線の前記レーザビーム光路を遮らないように、前記患者支持モジュールを調整するように動作可能な位置制御モジュールと、
を備えるレーザ手術システム。
【請求項２】
前記標的組織は眼である、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記患者支持モジュールは、レーザ眼科手術において、前記患者を顔面が下向きになるように保持し、
前記光学モジュールは、前記レーザ光線を、重力場の反対方向または重力の反対方向に鋭角を形成する方向の何れかに沿って、上向きに前記眼に入射するように方向付ける、
請求項２記載のシステム。
【請求項４】
前記患者支持モジュールは、レーザ眼科手術において、前記患者を、背臥位で顔面が上を向くように保持し、
前記光学モジュールは、前記レーザ光線を、下向きに前記眼に入射するように方向付け、前記レーザ光線を水平に走査し、前記レーザビーム光路が前記レーザ光線によって生成されるキャビテーション気泡に遮られないようにする、
請求項２記載のシステム。
【請求項５】
前記標的組織は、前記患者の膀胱、腹腔、頭蓋または心臓である、請求項１記載のシステム。
【請求項６】
光破壊を引き起こすレーザ光線を生成できるレーザ光源と、
前記レーザ光源から患者の標的組織に前記レーザ光線を方向付け、集光する光学モジュールと、
前記レーザ光源を制御して、レーザパルスのパターンを所望の順序で供給し、前記光学モジュールを制御して、前記レーザ光線の方向を調整するレーザ制御モジュールと、
前記患者を保持する患者支持モジュールと、
前記レーザ光源および前記光学モジュールを制御するために、前記患者の標的組織をイメージングし、画像をレーザ制御モジュールに供給するイメージングモジュールと、
を備え、
前記レーザ制御モジュールは、
前記標的組織上の所望の手術のパターン、前記標的組織およびその部分の重力に対する相対的位置、レーザビーム光路、並びに前記標的組織の前方または上方の媒質の位置および気泡フロー特性からの特定の情報を利用してレーザパルスの３次元的な連続的順序を決定するレーザパターン生成器を有し、
前記レーザ制御モジュールは、
前記レーザ光源および前記光学モジュールを制御して、前記レーザと全ての手術標的との間の経路が、レーザ誘起気泡によって実質的に遮られないように、前記レーザパルスの３次元的な順序を達成する、
レーザ手術システム。
【請求項７】
前記標的組織は眼である、請求項６記載のシステム。
【請求項８】
前記標的組織は水晶体の前嚢である、請求項７記載のシステム。
【請求項９】
前記標的組織は、前記患者の膀胱、腹腔、頭蓋または心臓である、請求項６記載のシステム。
【請求項１０】
光破壊を引き起こすレーザ光を生成できるレーザ光源と、
前記レーザ光源からのレーザ光線を患者の標的組織に方向付け、集光する光学モジュールと、
前記レーザ光源を制御して、レーザパルスのパターンを所望の順序で供給し、前記光学モジュールを制御して、前記レーザ光線の方向を調整するレーザ制御モジュールと、
前記患者を保持する患者支持モジュールと、
重力場に対するレーザビーム光路の向きおよび位置を制御し、組織内のレーザ誘起気泡の経路が、前記レーザビーム光線のレーザビーム光路を遮らないように、前記ビーム光路を調整する位置制御モジュールと、
を備えるレーザ手術システム。
【請求項１１】
前記標的組織は眼である、請求項１０記載のシステム。
【請求項１２】
前記患者支持モジュールは、レーザ眼科手術において、前記患者を顔面が下向きになるように保持し、
前記光学モジュールは、前記レーザ光線を、重力場の反対の方向または重力の反対の方向に鋭角を形成する方向の何れかに沿って、上向きに前記眼に入射するように方向付ける、
請求項１１記載のシステム。
【請求項１３】
前記患者支持モジュールは、レーザ眼科手術において、前記患者を、背臥位で上を向くように保持し、
前記光学モジュールは、前記レーザ光線を、下向きに前記眼に入射するように方向付け、前記レーザ光線を水平に走査し、前記レーザビーム光路が前記レーザ光線によって生成されるキャビテーション気泡に遮られないようにする、
請求項１１記載のシステム。
【請求項１４】
前記標的組織は、前記患者の膀胱、腹腔、頭蓋または心臓である、請求項１０記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５Ａ】
2010538704.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５Ｂ】
2010538704.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５Ｃ】
2010538704.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５Ｄ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５Ｄ】
2010538704.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月12日(2011.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ手術する眼の圧平のためのデバイスにおいて、
固定端と、光を供給する光学モジュールに係合するように構成されている取付端を有するフレームと、
前記フレームの固定端に取り付けられて眼を保持し、前記光学モジュールから供給される光を透過させるリング開口を有するリングフレームを有する固定リングと、
前記フレームの固定端を前記取付端に連結し、圧平レンズを受け入れるように構成され、前記圧平レンズを前記固定リングの開口に誘導する複数のガイドと、
前記圧平レンズを前記固定リングにロックするロックメカニズムとを備えるデバイス。
【請求項２】
前記固定リングは、吸気動作によって眼を保持する吸気メカニズムを備える請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記固定リングは、眼を保持する固定歯を備える請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記フレーム、前記固定リング及び前記ガイドの少なくとも一部は、使い捨てである請求項１記載の装置。
【請求項５】
手術下の標的組織内に外科的な変化を引き起こす手術用レーザパルスからなる手術用レーザビームを生成する手術用レーザと、
患者インタフェースを前記標的組織に接触するように係合させ、前記標的組織を所定の位置に保持する患者インタフェースマウントと、
前記手術用レーザと前記患者インタフェースとの間に配設され、前記手術用レーザビームを、前記患者インタフェースを介して、前記標的組織に方向付けるように構成された光学モジュールとを備え、前記レーザビーム供給モジュールは、前記標的組織内で所定の手術パターンに沿って前記手術用レーザビームを走査するように動作可能であり、
前記患者インタフェースマウントは、
光を供給する光学モジュールに係合される取付端と、
前記標的組織を保持し、前記光学モジュールから供給された光を透過させるリング開口を含む固定リングを有する固定端と、
前記固定端を前記取付端に連結し、圧平レンズを受け入れるように構造化され、前記圧平レンズを前記固定リングの開口に案内する１つ以上のガイドと、
前記圧平レンズが前記標的組織に直接接触して、レーザ手術のためのインタフェースを形成するように、前記圧平レンズを前記固定リングにロックするロックメカニズムとを備えるレーザ手術システム。
【請求項６】
前記手術用レーザ及び前記光学モジュールを制御して、前記手術用レーザパルスを前記標的組織上の標的位置に集光する制御ユニットを備える請求項５記載の装置。
【請求項７】
前記制御ユニットは、前記手術用レーザ及び前記光学モジュールを制御して、前記手術用レーザパルスを前記眼の角膜に方向付ける請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記制御ユニットは、前記手術用レーザ及び前記光学モジュールを制御して、前記手術用レーザパルスを前記眼の水晶体組織又は水晶体嚢胞組織に方向付ける請求項６記載の装置。
【請求項９】
前記制御ユニットは、前記手術用レーザ及び前記光学モジュールを制御して、前記手術用レーザパルスを前記眼の角膜及び水晶体組織又は水晶体嚢胞組織に方向付け、後の手術の操作のための参照マークを提供する請求項６記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月5日(2011.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
好適には、変換器は、サンプルに対し反転、部分的に反転、又は撹拌を受けるよう適合されている。特に、サンプルチャンバは、サンプルがこぼれるのを防ぐよう封止されている。チャンバは、ふた（lid）で、又は、サンプルチャンバ内の毛細力（capillary force）により、封止されていてもよい。好適には、サンプルチャンバは毛細管である。サンプルチャンバは、好適には５０〜５００μｍ、より好適には１００〜３００μｍの深さと、好適には１〜１０ｍｍ、より好適には５ｍｍで、好適には１０〜５０ｍｍ、より好適には３０ｍｍの長さ／幅を有する。サンプル体積は、好適には１〜１００μＬ、より好適には１０〜５０μＬ、最適には約３０μＬである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプル中の検体を検出する方法であって、
エネルギーの変化を電気的信号に変換することが可能な変換器に、前記サンプルをさらすステップであって、前記変換器は、前記変換器上に又は前記変換器に近接して少なくとも１つの連結試薬を有し、前記少なくとも１つの連結試薬は、前記検体と結合することが可能な結合部位を有する、ステップと、
標識化試薬を前記サンプル中に導入するステップであって、前記標識化試薬は、前記検体用又は前記連結試薬用の結合部位と、エネルギーを生成するよう、放射源により生成された電磁放射を吸収することが可能な標識とを含む、ステップと、
前記標識化試薬を、第１の期間において、前記検体又は前記連結試薬と結合させるステップであって、前記変換器は、前記標識化試薬が、少なくとも部分的に前記変換器上に定着されるよう方向付けられている、ステップと、
続いて、第２の期間において、前記変換器を、前記サンプルに対し反転させる又は部分的に反転させることで、前記標識化試薬を不安定化させるステップと、
前記第１及び第２の期間の間において、前記サンプルに電磁放射を照射するステップと、
前記生成されたエネルギーを電気的信号に変換するステップと、
前記電気的信号を検出するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記標識化試薬は、前記サンプルよりも密度が高く、重力は、前記標識化試薬を少なくとも部分的に前記変換器上に定着させるよう、前記標識化試薬に作用する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記標識化試薬は、前記サンプルよりも密度が低く、浮力は、前記標識化試薬を少なくとも部分的に前記変換器上に定着させるよう、前記標識化試薬に作用する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記変換器は、焦電又は圧電素子及び複数の電極を有する焦電又は圧電変換器である、請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記サンプルには、電磁放射の一連のパルスが照射され、前記方法は更に、前記放射源からの電磁放射の各パルスと前記電気的信号の生成との間の時間遅延を検出するステップを含み、電磁放射の各々のパルスと前記電気的信号の生成との間の前記時間遅延は、前記変換器の表面からの距離の異なる１つ以上の任意の位置での、前記標識の位置に相当する、請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの連結試薬は、抗体であり、前記検体は、抗原であり、前記標識化試薬は、前記少なくとも１つの連結試薬と結合することも可能な標識化抗原、又は前記検体と結合することも可能な標識化抗体である、請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つの連結試薬は、前記変換器上に吸着されている、請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記標識は、１．５から２３ｇ／ｍＬの密度を有する粒子である、請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
ベースライン測定が、前記標識化試薬を前記サンプル中に導入した後であるが、前記標識化試薬を前記変換器上に定着させる前に行われる、請求項１から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
サンプル中の検体を検出する装置であって、
電磁放射を生成するよう適合された放射源と、
エネルギーの変化を電気的信号に変換することが可能な変換器と、
前記変換器上の又は前記変換器に近接した少なくとも１つの連結試薬であって、前記検体と結合することが可能な結合部位を有する少なくとも１つの連結試薬と、
前記サンプルを、流体中に変換器と接して保持するためのチャンバであって、ふたで又は毛細力により封止されたチャンバと、
前記変換器により生成された前記電気的信号を検出することが可能な検出器と、
を備える装置。
【請求項１１】
前記変換器は、焦電又は圧電素子及び複数の電極を有する焦電又は圧電変換器である、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの連結試薬は、前記変換器上に吸着されている、請求項１０又は１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記検体用又は前記連結試薬用の結合部位を有する標識化試薬と、エネルギーを生成するよう、放射源により生成された電磁放射を吸収することが可能な標識は、前記チャンバの複数の表面のうちの１つに解放可能に付着している、請求項１０から１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの連結試薬は、抗体であり、前記検体は、抗原であり、前記標識化試薬は、前記少なくとも１つの連結試薬と結合することも可能な標識化抗原、又は前記検体と結合することも可能な標識化抗体である、請求項１０から１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
前記標識は、１．５から２３ｇ／ｍＬの密度を有する粒子である、請求項１３又は１４に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月26日(2011.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者が、開発薬により誘導された器官損傷を有する或いはそのリスクを有するか否かを同定する方法であって、該方法は、
（ａ）患者から試料を準備するステップと、
（ｂ）該試料中のサイクロフィリンA（CyPA）レベルを同定するステップと、を含み、
サイクロフィリンA（CyPA）レベルの増大は、患者が開発薬により誘導された器官損傷を有する或いはそのリスクを有することを示すことを特徴とする同定方法。
【請求項２】
前記試料中の転写因子レベルを同定するステップを更に含み、
転写因子レベルの増大は、患者が開発薬により誘導された器官損傷を有する或いはそのリスクを有することを示す、請求項１に記載の同定方法。
【請求項３】
前記転写因子は、c-Jun Ｎ末端キナーゼ（JNK）である、請求項２に記載の同定方法。
【請求項４】
前記器官損傷は、１種以上の抗生物質及び／又は抗炎症、解熱薬、鎮痛剤或いは／並びに化学療法剤により誘導される、請求項１〜３のいずれかに記載の同定方法。
【請求項５】
前記器官損傷は、パラセタモール（N（4-ヒドロキシフェニル）エタンアミド）によって誘導される、請求項１〜４のいずれかに記載の同定方法。
【請求項６】
損傷を受けた器官が肝臓である、請求項１〜５のいずれかに記載の同定方法。
【請求項７】
前記試料は、組織試料、生検材料及び／又は全血液から選択される体液、細胞質、血清、リンパ、尿、汗、唾液及び組織或いは／並びに腺分泌物である、請求項１〜６のいずれかに記載の同定方法。
【請求項８】
前記試料は尿である、請求項１〜７のいずれかに記載の同定方法。
【請求項９】
前記試料は、微粒子及び／又はそれ由来のエキソソームを単離し得るプロトコールに処される、請求項１〜８のいずれかに記載の同定方法。
【請求項１０】
同定されたサイクロフィリンA（CyPA）及び／又は転写因子のレベルを、コントロール又は基準試料にて同定されたサイクロフィリンA（CyPA）及び／又は転写因子のレベルと比較するステップを更に含む、請求項１〜９のいずれかに記載の同定方法。
【請求項１１】
前記基準又はコントロール試料は、微粒子／エキソソーム単離プロトコールに処される、請求項１０に記載の同定方法。
【請求項１２】
前記試料内のサイクロフィリンA（CyPA）及び／又は転写因子のレベルを同定するステップにおいて、準備された試料中の核酸レベルを同定する、請求項１〜１１のいずれかに記載の同定方法。
【請求項１３】
前記試料内のサイクロフィリンA（CyPA）及び／又は転写因子のレベルを同定するステップにおいて、免疫学的手法を用いる、請求項１〜１１のいずれかに記載の同定方法。
【請求項１４】
前記核酸は、転写因子c-Jun及び／又はCyPAをコードする、請求項１０に記載の同定方法。
【請求項１５】
患者が、開発中のパラセタモールにより誘導された肝臓損傷を有する或いはそのリスクを有するか否かを同定する方法であって、該方法は、
（ａ）患者から試料を準備するステップと、
（ｂ）該試料中のサイクロフィリンA（CyPA）レベルを同定するステップと、を含み、
サイクロフィリンA（CyPA）レベルの増大は、患者がパラセタモールにより誘導された肝臓損傷を有する或いはその発症リスクを有することを示すことを特徴とする同定方法。
【請求項１６】
前記試料中のc-Jun Ｎ末端キナーゼ（JNK）のレベルを同定するステップを更に含み、
c-Jun Ｎ末端キナーゼ（JNK）のレベルの増大は、患者が開発中のパラセタモールにより誘導された肝臓損傷を有する或いはそのリスクを有することを示す、請求項１５に記載の同定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月29日(2011.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
常温滅菌ガスを凝縮させるための熱力学的な要求を満足させるために、Ｐ２はＰ１より低くなければならない。この要求は、Ｐ１での飽和温度が、Ｐ２での飽和温度より約５℃高くなければならないということである。これは、Ｐ２が、Ｐ１の値に依存して、圧力において約１〜３ｂａｒ（１４．５〜４３．５ｐｓｉ）（１×１０５Ｐａ〜３×１０５Ｐａ）低いということを意味する。例えば、もしＰ１が１０ｂａｒｇ（１０×１０５Ｐａ（ゲージ圧））であるとすると、二つの対応する飽和温度の間で５℃の温度差があるためには、Ｐ２は約６．９ｂａｒｇ（６．９×１０５Ｐａ（ゲージ圧））（３．１ｂａｒ（３．１×１０５Ｐａ）の圧力差）である必要があるだろう。もしＰ１が３ｂａｒｇであるとすると、二つの対応する飽和温度の間で同じく５℃の温度差があるためには、Ｐ２は約１．６ｂａｒｇ（１．６×１０５Ｐａ（ゲージ圧））、つまり１．４ｂａｒ（１．４×１０５Ｐａ）の圧力差である必要があるだろう。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
各々の熱交換器における液体窒素ＬＮの圧力は、対応する常温滅菌ガスＳＷＧの圧力より低くなければならない。この例として、適切な圧力は、Ｐ１＝９ｂａｒｇ（９×１０５Ｐａ（ゲージ圧））、Ｐ２＝６．１ｂａｒｇ（６．１×１０５Ｐａ（ゲージ圧））、及びＰ３＝３．９ｂａｒｇ（３．９×１０５Ｐａ（ゲージ圧））である。これらの圧力差は、各々の熱交換器における飽和温度の間に約５℃の温度差を保証する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図３は、図２に記載された装置に第３のモジュールを追加可能な装置を記載する。最初の二つのモジュールの動作の記載は、図２に関して上述したものと同一である。ライン９を通って第２の熱交換器Ｃ２を出る常温廃ガスＷＧは、圧力Ｐ３でろ過ユニットＦ３に入る。常温滅菌ガスＳＷＧはライン１０を通って第３の熱交換器Ｃ３に入り、圧力Ｐ４でライン１２を通って導入される液体窒素ＬＮと接触して圧力Ｐ３で滅菌液体窒素ＳＬＮを製造する。常温廃ガスＷＧは圧力Ｐ４でライン１３を通って熱交換器Ｃ３を出る一方、ＳＬＮはＰ３でライン１１を通って回収される。図３に描かれた三つのモジュール装置は約０．３３のＦＯＭを有する。ここで適切な動作圧力はＰ１＝９ｂａｒｇ（９×１０５Ｐａ（ゲージ圧））、Ｐ２＝６．１ｂａｒｇ（６．１×１０５Ｐａ（ゲージ圧））、Ｐ３＝３．９ｂａｒｇ（３．９×１０５Ｐａ（ゲージ圧））、及びＰ４＝２．２ｂａｒｇ（２．２×１０５Ｐａ（ゲージ圧））である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月19日(2011.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
油圧駆動アーマチュアの位置表示方法で、アーマチュア(1.1)を駆動させるための調整シリンダ(1.2)を有し、前記調整シリンダは、少なくとも一本の油圧系統−すなわち、油等の圧力伝達媒体が管中を移動して圧力を伝達する圧力伝達系統(2,3)によって、制御バルブ(4.1)と接続され、前記圧力伝達系統は、加圧性前向流−すなわち、油圧系の動作時に生じる流れ（以下、加圧性動作系）と、非加圧性後向流−すなわち、油圧の圧力を解放して復帰させる場合に生じる流れ（以下、非加圧性復帰系）、を切り替わるものであって、
前記圧力伝達系統を通過する流量を、一つのパルスが事前に決定された圧力伝達媒体の単位量に相当するような、電子パルス信号に変換し、その流量を反映したパルス数を、表示装置(6)のプログラムで、圧力伝達系統を非加圧性復帰系に切り替えた場合に予定した調整過程によって生じるパスル数を同定し、圧力伝達系統を加圧性動作系に切り替えた場合に同じ調整過程であると仮定して計算した、ことを特徴とするアーマチュアの位置表示方法。
【請求項２】
請求項１の方法に係わり、各アーマチュアの位置の変位に対して位置表示を自動的に適応させることを特徴とするアーマチュアの位置表示方法。
【請求項３】
請求項２の方法に係わり、アーマチュアの始動毎にプログラムが位置表示装置の検査あるいは適応を行うことを特徴としたアーマチュアの位置表示方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一つの方法に係わり、アーマチュアを第一の終端位置に移動させ、これを初期位置と見なし、アーマチュアを第一の終端位置から第二の終端位置に移動させ、それにより発生するパスル数を計測・データを保存し、アーマチュアを第二の終端位置から第一の終端位置に戻し、それにより発生するパスル数を計測・データを保存し、両者のパスル数を比較して、パスル数の小さい方の数値を、調整過程の全工程に一致するものとして、アーマチュアのさらなる操作のために設定することを特徴とするアーマチュアの位置表示方法。
【請求項５】
請求項１〜３の何れか一つの方法に係わり、圧力伝達系統を加圧性動作系に切り替え、アーマチュアを第一の位置から第二の位置に移動させ、それにより発生するパスル数を計測・データを保存し、その後、圧力伝達系統を非加圧性復帰系に切り替え、圧力伝達媒体の減圧時に生じるパルス数を計測・保存し、第一の位置から第二の位置にアーマチュアを移動させる調整過程に必要なパスル数を得るために、先に決定された値から減算することを特徴とするアーマチュアの位置表示方法。
【請求項６】
油圧駆動アーマチュアの位置表示装置で、アーマチュア(1.1)を駆動させるための調整シリンダ(1.2)を有し、前記調整シリンダは少なくとも一本の圧力伝達系統(2,3)によって、制御バルブ(4.1)と接続され、前記圧力伝達系統は、前向流（加圧性動作系）と後向流（非加圧性復帰系）との間を切り替わるものであって、圧力伝達系統(2)の圧力伝達媒体の流量を、一つのパルスが事前に決定された圧力伝達媒体の単位量に相当するような、電子パルス信号に変換するために、流量センサ(5)を該圧力伝達系統(2)に備え、流量センサ(5)は電子表示装置ユニット(6)に接続され、該ユニットのプログラムでパルスデータを処理することを特徴とするアーマチュアの位置表示装置。
【請求項７】
請求項６の装置に係わり、プログラムで発生するパスルを数え、圧力伝達系統である方向に流れる流量と対応するパスル数と、逆方向に流れる流量に対応するパルス数とを比較することを特徴とするアーマチュアの位置表示方法。
【請求項８】
請求項６の装置に係わり、二系統の圧力伝達系統を介して圧力伝達媒体によりアーマチュアが動作する場合、その一方にのみ流量センサ(5)を設置することを特徴とするアーマチュアの位置表示方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月2日(2011.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に流体を保有する内歯環状歯車、
前記内歯環状歯車内に配置し且つ回転可能に係合させた、少なくとも１個の遊星歯車を備えたブレーキシステムであって、
前記内歯環状歯車内に配置することで、内側に少なくとも１個のコンパートメントを生ずるデバイダであって、前記遊星歯車を前記コンパートメント内に配置する、該デバイダと、
前記デバイダ内に設けた少なくとも１個のチャネルと、
前記チャネルを経る流体の流動を制限することで、前記遊星歯車と前記内歯環状歯車との間の相対的回転運動を制御する、手段と
を備えたことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のブレーキシステムにおいて、前記システム内における前記流体の流動を制限する手段はバルブを備え、前記バルブを閉鎖することで前記システム内における前記流体の流動を制限することができ、これにより前記遊星歯車と前記内歯環状歯車との間の相対的回転運動を制限する構成としたしたことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のブレーキシステムにおいて、さらに、１対のカバープレートを備え、前記カバープレートおよび前記内歯環状歯車がともにブレーキシステム用のハウジングをなす構成としたことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載のブレーキシステムにおいて、
前記コンパートメント内に前記少なくとも１個の遊星歯車を配置することで、前記コンパートメントを少なくとも２個の部分に分割し、
前記チャネルを第１コンパートメント部分と第２コンパートメント部分との間に配置し、
前記流体は、前記チャネル内を流動可能とし、
さらに該ブレーキシステムが、前記チャネル内に配置したバルブを備え、前記バルブを閉鎖することで前記チャネルを経る前記流体の流動を制限することができ、これにより前記遊星歯車と前記内歯環状歯車との間の相対的回転運動を制限する構成としたことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項５】
請求項２又は４に記載のブレーキシステムにおいて、前記バルブを、遊星歯車２つの側部の間、又は一対の遊星歯車の間に配置することを特徴とするブレーキシステム。
【請求項６】
請求項３に記載のブレーキシステムにおいて、１方のカバープレートを前記内歯環状歯車に連結し、且つ、他方のカバープレートを前記デバイダおよび／または前記遊星歯車の中心軸に連結したことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のブレーキシステムにおいて、前記チャネルを、単独のコンパートメントにおける２個の部分間に配置したことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のブレーキシステムにおいて、前記各チャネルを、前記第１コンパートメント部分と前記第２コンパートメント部分との間に配置したことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のブレーキシステムにおいて、前記遊星歯車を、前記コンパートメントの壁と少なくとも１個のポイントでほぼ同一平面となるよう配置し、これにより前記コンパートメントを少なくとも２個の部分に分割するよう構成したことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のブレーキシステムにおいて、それぞれ前記内歯歯車歯車内に配置し回転可能に係合させた複数の遊星歯車、および対応する複数のチャネルを備えたことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項１１】
請求項８に記載のブレーキシステムにおいて、各チャネルを１対の遊星歯車間に配置したことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載のブレーキシステムにおいて、さらに、前記流体を流出または流入させることで前記ハウジング内の流体圧を制御するための、または回生ブレーキに用いるための手段を備えたことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載のブレーキシステムにおいて、さらに、制動力を前記内歯環状歯車または前記カバープレートの一方に直接加えるよう、第２ブレーキシステムを備えたことを特徴とするブレーキシステム。
【請求項１４】
軸であって、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のブレーキシステムを備えたことを特徴とする軸。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月28日(2011.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製紙プロセスにおいて水媒体に分散する１又はそれ以上の有機物の堆積をモニタリングするための方法であって、
非膨張性の硬化エポキシ樹脂又はシリコン含有ポリマーを含む層でコーティングされた前記水媒体に接する上部側と、前記水媒体から離れた他方の底部側と、を有する水晶振動子微量天秤で前記水媒体からの前記有機物の堆積速さを測定するステップを具えることを特徴とする方法。
【請求項２】
製紙プロセスにおいて１又はそれ以上の有機物の堆積を減らす抑制剤の効果を測定するための方法であって、
ａ．製紙プロセスの水媒体に分散する１又はそれ以上の有機物をモニタリングするステップであって、非膨張性のエポキシ樹脂又はシリコーン含有ポリマーを含む層でコーティングされた前記水媒体に接する上部側と、前記水媒体から離れた他方の底部側と、を有する水晶振動子微量天秤で前記水媒体からの前記有機物の堆積速さを測定するステップを具えるステップと；
ｂ．前記水媒体から前記有機物が堆積するのを減らす抑制剤を加えるステップと；
ｃ．前記水晶振動子微量天秤のコーティング面で前記水媒体からの前記有機物の堆積速さを再測定するステップと；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項３】
製紙プロセスにおいて１又はそれ以上の有機物の堆積を減らす抑制剤の効果を測定するための方法であって、
ａ．製紙プロセスをシミュレートする水媒体に分散する１又はそれ以上の有機物をモニタリングするステップであって、非膨張性のエポキシ樹脂又はシリコン含有ポリマーを含む層でコーティングされた前記水媒体に接する上部側と、前記水媒体から離れた他方の底部側と、を有する水晶振動子微量天秤で前記水媒体からの前記有機物の堆積速さを測定することを具えるステップと；
ｂ．前記水媒体から前記有機物が堆積するのを減らす抑制剤を加えるステップと；
ｃ．前記水晶振動子微量天秤のコーティング面で前記水媒体からの前記有機物の堆積速さを再測定するステップと；
を具えることを特徴とする方法。