【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年4月11日(2011.4.11)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマドーピング装置であって、
プラズマドーピング・チャンバと、
前記プラズマドーピング・チャンバ内に取り付けられ、ワークを支持するためのプラテンと、
前記チャンバに接続されたイオン化可能ガスの供給源であって、前記ワークに注入するための所望のドーパントを含んだイオン化可能ガスの供給源と、
プラズマシースを前記ワークの近傍に備えたプラズマで、前記イオン化可能ガスの陽イオンを含むプラズマを発生するためのプラズマ源であって、該陽イオンを、前記ワークに注入するため該プラズマシースを横切って前記プラテンに向け加速するプラズマ源と、
前記プラズマシースを横切って加速された前記陽イオンのサンプルを収集するための、前記プラテンの周囲に配置された環状ファラデーカップであって、該サンプルが前記ワークに注入される陽イオンの数を表す、環状ファラデーカップと、
前記ファラデーカップからの二次電子の放出を抑制するために、前記ファラデーカップの内側を環状に延びる収集表面で磁界を発生するよう前記ファラデーカップの前記収集表面下方に位置決めされた磁界発生手段とを含む、プラズマドーピング装置。
【請求項２】
前記磁界発生手段が、極性が交互配置され且つ垂直に位置合わせされた複数磁石を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記磁界発生手段が、方位角的に且つ前記収集表面に概ね平行に配向された磁界を発生して、前記二次電子を半径方向で前記ファラデーカップの側壁に方向付ける、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記磁界発生手段が、界磁コイル磁石を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記磁界発生手段が、水平方向に位置合わせされた複数の磁石を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記水平方向に位置合わせされた磁石が方位角的に交互配置した極性を備え、前記収集表面に概ね平行な方位角成分を含む磁界を発生する、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記水平方向に位置合わせした磁石のそれぞれが、水平方向に位置合わせした一対の同一極性の磁石を含む、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記磁界発生手段が、半径方向に且つ前記収集表面に概ね平行に配向された磁界を発生して、前記ファラデーカップ内で前記二次電子を方位角的に方向付ける、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記磁界発生手段が方位角成分を備えた磁界を発生する、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記磁界発生手段が、半径方向に且つ前記収集表面に概ね平行に配向された磁界を発生する、複数の水平方向に位置合わせされた磁石を含み、該複数の磁石の少なくとも１つが方位角成分を備えた磁界を発生する、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
方位角成分を備えた磁界を発生する前記複数の磁石の前記少なくとも１つが、前記環状ファラデーカップの半径の接線に対して角度をなす、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記複数磁石の交互のものが、前記接線に対して補角をなす、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記プラテンの周囲に配置されたシールドリングを更に含み、前記ファラデーカップが該シールドリング内に位置決めされ、該シールドリングが、前記ファラデーカップの開口部上に延伸する少なくとも１つの水平方向突起を備えて、該開口部の有効幅を狭める、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記ファラデーカップの前記収集表面の幅が、前記ファラデーカップの開口部の幅より大きい、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記複数の磁石が、前記ファラデーカップの半径の接線に対して交互に傾斜した、請求項１０に記載の装置。
【請求項１６】
前記ワークにおいて前記磁界発生手段によって発生される前記磁界を減少するように位置決めされた磁気遮蔽であって、前記ファラデーカップ内の前記磁界を強くするよう構成された磁気遮蔽を含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１７】
前記磁気遮蔽が、前記ファラデーカップの側壁に概ね平行に延伸するウェブと、前記ファラデーカップの開口部への方向に延伸するフランジとを備えた一対のチャンネル形状に構成された、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記ワークにおいて前記磁界発生手段によって発生される前記磁界を減少するように位置決めされた磁気遮蔽を含み、該磁気遮蔽が、前記ファラデーカップの側壁に平行に且つ前記ファラデーカップの開口の周りに対向して位置決めされた一対のプレートを含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１９】
前記プラテンの周囲に配置されたシールドリングを更に含み、前記ファラデーカップが該シールドリング内に位置決めされ、該シールドリングが、前記ファラデーカップの開口部上に延伸する少なくとも１つの水平方向突起を備えて、該開口部の有効幅を狭める、請求項１に記載の装置。
【請求項２０】
前記ファラデーカップの前記収集表面の幅が、前記ファラデーカップの開口部の幅より大きい、請求項１に記載の装置。
【請求項２１】
前記ファラデーカップの側壁間の幅が、該側壁の少なくとも１つをテーパ状とすることで、前記ファラデーカップの深さの増大に伴って増大した、請求項１に記載の装置。
【請求項２２】
前記ワークにおいて前記磁界発生手段によって発生される前記磁界を減少するように位置決めされた磁気遮蔽を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項２３】
前記磁気遮蔽が前記ファラデーカップ内の前記磁界を強くするよう構成された、請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記磁気遮蔽が、前記ファラデーカップの側壁に概ね平行に延伸するウェブと、前記ファラデーカップの開口部への方向に延伸するフランジとを備えた一対のチャンネル形状に構成された、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記磁気遮蔽が、前記ファラデーカップの側壁に平行に且つ前記ファラデーカップの開口の周りに対向して位置決めされた一対のプレートを含む、請求項２３に記載の装置。
【請求項２６】
プラズマドーピング・チャンバと、該プラズマドーピング・チャンバ内に取り付けられ、ワークを支持するためのプラテンと、該チャンバに接続されたイオン化可能ガスの供給源であって、該ワークに注入するための所望のドーパントを含んだイオン化可能ガスの供給源と、プラズマシースを該ワークの近傍に備えたプラズマで、該イオン化可能ガスの陽イオンを含むプラズマを発生するためのプラズマ源であって、該陽イオンを、該ワークに注入するため該プラズマシースを横切って該プラテンに向け加速するプラズマ源を含んだプラズマドーピング装置であって、その改良部分が、
前記プラズマシースを横切って加速された前記陽イオンのサンプルを収集するための、前記プラテンの周囲に配置された環状ファラデーカップであって、該サンプルが前記ワークに注入される陽イオンの数を表す、環状ファラデーカップと、
前記ファラデーカップからの二次電子の放出を抑制するために、前記ファラデーカップの内側を環状に延びる収集表面で磁界を発生する磁界発生手段を含む、プラズマドーピング装置。
【請求項２７】
プラズマドーピング装置において、プラズマシースを横切って加速された陽イオンのサンプルを収集するための、プラテンに隣接配置された環状ファラデーカップであって、該サンプルが、該プラテンに支持されたワークに注入される陽イオンの数を表し、該ファラデーカップが、該ファラデーカップからの二次電子の放出を抑制するために、該ファラデーカップの内側を環状に延びる収集表面で磁界を発生するよう前記ファラデーカップの前記収集表面下方に位置決めされた磁界発生手段を含む、ファラデーカップ。
【請求項２８】
前記磁界発生手段が、半径方向に且つ前記収集表面に概ね平行に配向された磁界を発生する、複数の水平方向に位置合わせされた磁石を含み、該複数の磁石の少なくとも１つが方位角成分を備えた磁界を発生する、請求項２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記ファラデーカップが環状であり、
方位角成分を備えた磁界を発生する前記複数の磁石の前記少なくとも１つが、前記環状ファラデーカップの半径の接線に対して角度をなす、請求項２８に記載の装置。
【請求項３０】
前記複数の磁石の交互のものが、前記接線に対して補角をなす、請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
前記プラテンの周囲に配置されたシールドリングを更に含み、前記ファラデーカップが該シールドリング内に位置決めされ、該シールドリングが、前記ファラデーカップの開口部上に延伸する少なくとも１つの水平方向突起を備えて、該開口部の有効幅を狭める、請求項３０に記載の装置。
【請求項３２】
前記ファラデーカップの前記収集表面の幅が、前記ファラデーカップの開口部の幅より大きい、請求項３１に記載の装置。
【請求項３３】
前記ファラデーカップが環状であり、
前記複数の磁石が、前記ファラデーカップの半径の接線に対して交互に傾斜した、請求項２８に記載の装置。
【請求項３４】
前記ワークにおいて前記磁界発生手段によって発生される前記磁界を減少するように位置決めされた磁気遮蔽であって、前記ファラデーカップ内の前記磁界を強くするよう構成された磁気遮蔽を含む、請求項２８に記載の装置。
【請求項３５】
前記磁気遮蔽が、前記ファラデーカップの側壁に概ね平行に延伸するウェブと、前記ファラデーカップの開口部への方向に延伸するフランジとを備えた一対のチャンネル形状に構成された、請求項３４に記載の装置。
【請求項３６】
前記ワークにおいて前記磁界発生手段によって発生される前記磁界を減少するように位置決めされた磁気遮蔽を含み、該磁気遮蔽が、前記ファラデーカップの側壁に平行に且つ前記ファラデーカップの開口の周りに対向して配置された一対のプレートを含む、請求項２８に記載の装置。
【請求項３７】
プラズマドーピング・チャンバと、該プラズマドーピング・チャンバ内に取り付けられ、ワークを支持するためのプラテンと、該チャンバに接続されたイオン化可能ガスの供給源であって、該ワークに注入するための所望のドーパントを含んだイオン化可能ガスの供給源と、プラズマシースを該ワークの近傍に備えたプラズマで、該イオン化可能ガスの陽イオンを含むプラズマを発生するためのプラズマ源であって、該陽イオンを、該ワークに注入するため該プラズマシースを横切って該プラテンに向け加速するプラズマ源とを含んだプラズマドーピング装置において、該ワークに注入される該陽イオンのドーズを監視する方法であって、
前記プラズマシースを横切って加速した前記陽イオンのサンプルを、前記プラテンに隣接して配置された環状ファラデーカップで収集する段階であって、該サンプルが該ワークに注入される陽イオンの数を表す、収集する段階と、
前記ファラデーカップからの二次電子の放出を抑制するために、前記ファラデーカップの内側を環状に延びる収集表面下方に位置決めされた磁界発生手段を用いて前記ファラデーカップの前記収集表面に近接して磁界を発生する段階を含む、方法。