【事件の表示】
　特願２００１−３８４４２４「光学部材用合成石英ガラスおよびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年７月３日出願公開、特開２００３−１８３０３４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、平成１３年１２月１８日の出願であって、平成１９年７月１９日付け拒絶理由通知に対して同年９月２１日付けで手続補正がされ、平成２０年２月１５日付けで拒絶査定され、これに対し、同年３月１８日付けで拒絶査定不服の審判が請求されたものである。
                          　
２　本願発明
　本願の請求項１〜１１に係る発明は、平成１９年９月２１日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜１１に記載されたとおりのものであるところ、請求項４に係る発明（以下「本願発明」という）は、次のとおりのものである。
「波長１５５〜２５０ｎｍの光を光源とする光学装置の光学部材として用いられる光学部材用合成石英ガラスにおいて、光学部材としての使用領域におけるフッ素含有量が５０ｐｐｍ以上、ＯＨ基含有量が１０ｐｐｍ以下であり、かつフッ素含有量の最大と最小との差が２５０ｐｐｍ以下であることを特徴とする光学部材用合成石英ガラス。」
                         　
３　刊行物に記載された発明
（１）引用例１の記載事項
　これに対し、本願出願日前に頒布され、原査定の拒絶の理由で引用された特開２００１−１５１５３１号公報（以下「引用例１」という）には、次の事項が記載されている。
（ア）「波長155〜195nmの真空紫外線リソグラフィーに用いられる投影レンズ用シリカガラス光学材料において、超高純度で、OH基を１〜10 wtppm、F を100〜10,000 wtppm、そしてH2 を1×1017〜1×1019分子／cm3含有し、F濃度分布が、中心軸について軸対称であることを特徴とするシリカガラス光学材料。」（【特許請求の範囲】の【請求項１】）
（イ）「F濃度変動幅 ΔFが 50 wtppm以内である請求項１〜６のいずれかのシリカガラス光学材料。」（【特許請求の範囲】の【請求項７】）
（ウ）「OH基は、ガラス網目構造の終端部であり適量含有することにより構造をリラックスさせ、Si‐O‐Siの結合角度を安定値に近づけエキシマレーザ照射による電離作用を低減させる。しかしながらOH基が高濃度に含有されると真空紫外域での透過率低下の原因となる。したがって、OH基含有量は1〜10 wtppmが良い。」（【００１３】段落）
（エ）「Fはシリカガラスの屈折率を低下させる作用があるため、本発明では、F濃度変動を軸対称分布とすることにより、高精度のレンズブランクスを得ることができるようにした。これと同時に上記のようにF濃度変動幅ΔＦを一定値以内に制御することにより、より均質なレンズブランクスが得られる。」（【００１７】段落）
（オ）「まず、超高純度の四塩化珪素SiCl4を原料とする酸水素炎加水分解法により、略円柱体形状のOH基含有白色スート体を合成した。ついで、得られたOH基含有白色スート体を、・・・加熱処理して、上記白色スート体をフッ素ドープ処理した。・・・続いて、プロパンガス火炎加熱により直径60mm、長さ1.5mの丸棒状透明シリカガラス体とした後、該ガラス体の両端を把持し、一端部よりプロパンガス火炎により加熱しながら捻って行う帯溶融回転攪拌処理を２往復行うことにより１方向脈理フリーの透明ガラス体とした。」（【００３４】、【００３５】段落）  
                                　
（２）引用例１に記載された発明
(i)摘記事項（ア）より、引用例１に記載された投影レンズ用シリカガラス光学材料は、波長１５５〜１９５ｎｍの真空紫外線リソグラフィーに用いられるので、同程度の波長の光を光源とする光学装置の光学部材として用いられるものである。
(ii)フッ素及びＯＨ基の含有量は、同（ア）より、それぞれ１００〜１０，０００ｐｐｍ及び１〜１０ｐｐｍである。なお、引用例１では wtppmで濃度を表示するが、固体における濃度表示は通常は重量比であるので、ｐｐｍと同義である。
(iii)F濃度変動幅に関しては、摘記事項（エ）によれば、均質なレンズブランクスを得るために一定値以内に制御する必要がある。このため、F濃度変動幅として表示する数値は、レンズ中のフッ素濃度の最大と最小の差であるといえる。したがって、引用例１に記載された投影レンズ用シリカガラス光学材料においては、含有するフッ素濃度の最大と最小の差を５０ｐｐｍ以内としている。
　以上より、引用例１に記載された事項を整理すると、引用例１には、次の発明（以下「引用例１発明」という）が記載されているといえる。
「波長１５５〜１９５ｎｍの光を光源とする光学装置の光学部材として用いられるシリカガラス光学材料であって、フッ素及びＯＨ基の含有量が、それぞれ１００〜１０，０００ｐｐｍ及び１〜１０ｐｐｍであり、フッ素濃度の最大と最小の差が５０ｐｐｍ以下であるシリカガラス光学材料」
　     　
４　対比・判断
（１）新規性欠如
　引用例１発明におけるシリカガラス光学材料は、ガラス形成原料を火炎加水分解させて得られた多孔質石英ガラス体を透明ガラス化して製造されているので（摘記事項（オ））、本願発明に係る光学部材用合成石英ガラスである。そして、光学ガラス材料の成分調整を、光学部材としての使用領域で行うことは当然のことなので、本願発明の特定事項として請求項４に掲げられた事項は、全てが引用例１発明で採用する特定事項を包含するものである。
　したがって、本願発明は、引用例１に記載された発明である。
（２）審判請求人の主張
　請求人は、平成１９年９月２１日付けの意見書において、引用例１に記載されたガラスのＯＨ基濃度は誤りである旨を、別途提出した実験成績証明書の実験データに基づいて主張する。しかし、次の理由から、主張自体が失当である。
　請求人の主張の根拠は、帯状溶融回転撹拌処理を酸水素バーナーで行った場合にはＯＨ基濃度が約３００ｐｐｍとなることに尽きる。しかし、請求人が指摘する【０００９】及び【００３４】段落には、酸水素バーナーについては記載されていないし、明細書には他に酸水素バーナーの使用について示唆する記載も見あたらない。
　すなわち、酸水素バーナーによる帯状溶融回転撹拌処理が引用例１発明の発明特定事項ではないことは別としても、帯状溶融回転撹拌処理に酸水素バーナーを使用すること自体の明記はない。むしろ、【００３５】段落には、プロパンガス火炎により行うことが明記されている（摘記事項（オ））。
　また、酸水素バーナーによりガラス材料を加熱処理した場合に、被処理ガラスはＯＨ基の影響を強く受けることは、当該技術分野においては技術常識に属する事項である。一方、引用例１発明においては、ＯＨ基が高濃度に含有されると真空紫外域での透過率低下する原因となることもあり（摘記事項（ウ））、ＯＨ基の汚染を慎重に排除している。これらの事情からすれば、引用例１発明では、熱処理における加熱源として酸水素バーナーを使用する態様は含まないと解すべきである。
　したがって、請求人の主張は、引用例１発明では採用する可能性のない加熱方法によって得られたＯＨ基濃度を主張するものであり、引用文献の正当な解釈と認めることができない。
                    　
５　結論
　以上のとおり、本願の請求項４に係る発明は、引用例１に記載された発明であるので、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができない。したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。