Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月9日(2010.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2009520701.tif 000001
式中、
Ｘは、式Ｒ１−ＯＨで表される感覚受容性アルコールのＲ１−Ｏ残基であり、式中Ｒ１は、
Ｉ）任意に１または２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシル、および／もしくはエーテル基を含む、飽和または不飽和、直鎖または分枝鎖の、Ｃ８〜Ｃ１５の炭化水素残基、
ＩＩ）脂環式Ｃ５、脂環式Ｃ６、フェノール、二環式Ｃ７、フラン、および１つの環員が酸素であるスピロ環式Ｃ９から選択される１つの環状構造を含むＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基であって、このＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基が任意に１または２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシルおよび／またはエーテル基を含むもの
からなる群から選択されるか、または
Ｘは、アスコルビン酸もしくはアルカノールＲ２−ＯＨのＲ２−Ｏ残基であり、式中Ｒ２は、任意に１または２以上のヒドロキシル、エーテルおよび／またはカルボニル基を含む飽和もしくは不飽和、直鎖もしくは分枝鎖のＣ２〜Ｃ７アルキルであるか、またはＲ２は任意に１または２以上のヒドロキシルおよび／またはカルボニル基を含むＣ３〜Ｃ７シクロアルキルであり、
Ｙは、Ｒ３−ＯＨの式を有する感覚受容性アルコールのＲ３−Ｏ残基であり、式中Ｒ３は、
Ｉ）任意に１もしくは２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシルおよび／またはエーテル基を含む飽和もしくは不飽和、直鎖もしくは分枝鎖のＣ８〜Ｃ１５の炭化水素残基
ＩＩ）脂環式Ｃ５、脂環式Ｃ６、フェノール、二環式Ｃ７、フラン、および１つの環員が酸素原子であるスピロ環式Ｃ９から選択される１つの環状構造を含むＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基であって、このＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基は任意に１または２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシルおよび／またはエーテル基を含むもの
からなる群から選択されるものである、
で表され、ＣＬｏｇＰ値が４．５以下である化合物を含む、口腔ケア組成物。
【請求項２】
化合物が、２，３−ジヒドロキシプロピル２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシルフマラート、２−エトキシ−４−ホルミルフェニルエチルフマラート、メチル２−（（Ｅ）−３−（エトキシカルボニル）アクリロイルオキシ）ベンゾアート、２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシルフマラートおよびシンナミルエチルフマラートからなるリストから選択される、請求項１に記載の口腔ケア組成物。
【請求項３】
チューインガム、飴、可食性フィルム、飲料、および口腔ケア製品から選択される、請求項１または２に記載の口腔ケア組成物。
【請求項４】
式（Ｉ）
【化２】
2009520701.tif 000002
式中、
Ｘは、式Ｒ１−ＯＨで表される感覚受容性アルコールのＲ１−Ｏ残基であり、式中Ｒ１は、
Ｉ）任意に１または２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシル、および／もしくはエーテル基を含む、飽和または不飽和、直鎖または分枝鎖の、Ｃ８〜Ｃ１５の炭化水素残基、
ＩＩ）脂環式Ｃ５、脂環式Ｃ６、フェノール、二環式Ｃ７、フラン、および１つの環員が酸素であるスピロ環式Ｃ９から選択される１つの環状構造を含むＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基であって、このＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基が任意に１または２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシルおよび／またはエーテル基を含むもの
からなる群から選択されるか、または
Ｘは、アスコルビン酸もしくはアルカノールＲ２−ＯＨのＲ２−Ｏ残基であり、式中Ｒ２は、任意に１または２以上のヒドロキシル、エーテルおよび／またはカルボニル基を含む飽和もしくは不飽和、直鎖もしくは分枝鎖のＣ２〜Ｃ７アルキルであるか、またはＲ２は任意に１または２以上のヒドロキシルおよび／またはカルボニル基を含むＣ３〜Ｃ７シクロアルキルであり、
Ｙは、Ｒ３−ＯＨの式を有する感覚受容性アルコールのＲ３−Ｏ残基であり、式中Ｒ３は、
Ｉ）任意に１もしくは２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシルおよび／またはエーテル基を含む飽和もしくは不飽和、直鎖もしくは分枝鎖のＣ８〜Ｃ１５の炭化水素残基
ＩＩ）脂環式Ｃ５、脂環式Ｃ６、フェノール、二環式Ｃ７、フラン、および１つの環員が酸素原子であるスピロ環式Ｃ９から選択される１つの環状構造を含むＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基であって、このＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基は任意に１または２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシルおよび／またはエーテル基を含むもの
からなる群から選択されるものである、
で表され、ＣＬｏｇＰ値が４．５以下である化合物の、口腔悪臭抑制剤としての使用。
【請求項５】
式（Ｉ）
【化３】
2009520701.tif 000003
式中、
Ｘは、式Ｒ１−ＯＨで表される感覚受容性アルコールのＲ１−Ｏ残基であり、式中Ｒ１は、
Ｉ）任意に１または２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシル、および／もしくはエーテル基を含む、飽和または不飽和、直鎖または分枝鎖の、Ｃ８〜Ｃ１５の炭化水素残基、
ＩＩ）脂環式Ｃ５、脂環式Ｃ６、フェノール、二環式Ｃ７、フラン、および１つの環員が酸素であるスピロ環式Ｃ９から選択される１つの環状構造を含むＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基であって、このＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基が任意に１または２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシルおよび／またはエーテル基を含むもの
からなる群から選択されるか、または
Ｘは、アスコルビン酸もしくはアルカノールＲ２−ＯＨのＲ２−Ｏ残基であり、式中Ｒ２は、任意に１または２以上のヒドロキシル、エーテルおよび／またはカルボニル基を含む飽和もしくは不飽和、直鎖もしくは分枝鎖のＣ２〜Ｃ７アルキルであるか、またはＲ２は任意に１または２以上のヒドロキシルおよび／またはカルボニル基を含むＣ３〜Ｃ７シクロアルキルであり、
Ｙは、Ｒ３−ＯＨの式を有する感覚受容性アルコールのＲ３−Ｏ残基であり、式中Ｒ３は、
Ｉ）任意に１もしくは２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシルおよび／またはエーテル基を含む飽和もしくは不飽和、直鎖もしくは分枝鎖のＣ８〜Ｃ１５の炭化水素残基
ＩＩ）脂環式Ｃ５、脂環式Ｃ６、フェノール、二環式Ｃ７、フラン、および１つの環員が酸素原子であるスピロ環式Ｃ９から選択される１つの環状構造を含むＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基であって、このＣ８〜Ｃ１３の炭化水素残基は任意に１または２以上のヒドロキシル、カルボニル、カルボキシルおよび／またはエーテル基を含むもの
からなる群から選択されるものである、
で表され、ＣＬｏｇＰ値が４．５以下である化合物を口腔内に適用することによる、口腔悪臭を抑制する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月6日(2011.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可搬型電子デバイスにおける方法であって、該方法は、
画像を表示するために、該可搬型電子デバイスのディスプレイ画面の画素要素を制御することと、
該ディスプレイ画面の領域を決定することと、
該領域から最も遠い該ディスプレイ画面の部分が、最も大きなパーセンテージの暗い画素要素を有するように、増分的に大きくなるパーセンテージの領域の外側の該画素要素を暗くすることによって、該ディスプレイ画面上に表示される該画像の外観を変更することと
を包含する、方法。
【請求項２】
前記領域の外側の前記画素要素を暗くすることは、該領域の外側の該画素要素にマスクまたはオーバレイを適用することを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記画素要素は発光要素であり、前記増分的に大きくなるパーセンテージの領域の外側の該画素要素を暗くすることは、該画素要素によって発行される光の輝度を低減することを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記画素要素は、前記ディスプレイ画面の複数のライティング構成要素によって生成された光を通したり、またはブロックしたりすることが可能な光バルブ要素であり、前記増分的に大きくなるパーセンテージの領域の外側の該画素要素を暗くすることは、複数の該ライティング構成要素のうちの１つ以上によって生成された光をブロックするために、該増分的に大きくなるパーセンテージの該画素要素を制御することを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ディスプレイ画面は、タッチセンシング機能を有し、該ディスプレイ画面の領域を決定することは、
該ディスプレイ画面の該タッチセンシング機能の作動から該領域を決定することをさらに包含する、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記ディスプレイ画面の領域を決定することは、
該ディスプレイ画面のカーソルの位置から該領域を決定することをさらに包含する、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記ディスプレイ画面の領域を決定することは、
該ディスプレイ画面上の画像のスクロールから該領域を決定することをさらに包含する、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記ディスプレイ画面の領域を決定することは、
該ディスプレイ画面上のデータエントリ領域を含むように該領域を決定することをさらに包含する、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
プロセッサと、
画素要素を有するディスプレイ画面であって、該画素要素は、該ディスプレイ画面上に画像を表示するように制御可能である、ディスプレイ画面と、
該プロセッサに結合されたメモリと
を備え、該メモリは、コードを格納するように配列され、該コードは、該プロセッサによって実行されたとき、該ディスプレイ画面の領域を決定することと、該領域から最も遠い該ディスプレイ画面の部分が、最も大きなパーセンテージの暗い画素要素を有するように、増分的に大きくなるパーセンテージの領域の外側の該画素要素を暗くさせることによって、該ディスプレイ画面上に表示される該画像の外観を変更させることとを行うように配列される、可搬型電子デバイス。
【請求項１０】
前記コードは、前記プロセッサによって実行されたとき、前記領域の外側の前記画素要素にマスクまたはオーバレイを少なくとも適用することによって、前記増分的に大きくなるパーセンテージの画素要素を暗くさせるように配列される、請求項９に記載の可搬型電子デバイス。
【請求項１１】
前記画素要素は、発光要素であり、前記コードは、前記プロセッサによって実行されたとき、前記領域の外側の前記画素要素によって生成される光の輝度を少なくとも低減することによって、前記増分的に大きくなるパーセンテージの画素要素を暗くさせるように配列される、請求項９に記載の可搬型電子デバイス。
【請求項１２】
前記画素要素は有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）である、請求項９に記載の可搬型電子デバイス。
【請求項１３】
前記画素要素は、光バルブ要素であり、前記コードは、前記プロセッサによって実行されたとき、前記ディスプレイ画面の１つ以上のライティング構成要素によって生成される光を、該画素要素が少なくともブロックさせることによって、前記増分的に大きくなるパーセンテージの画素要素を暗くさせるように配列される、請求項９に記載の可搬型電子デバイス。
【請求項１４】
前記画素要素は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）要素である、請求項９に記載の可搬型電子デバイス。
【請求項１５】
前記ディスプレイ画面は、タッチセンシング機能を有し、前記コードは、前記プロセッサによって実行されたとき、該ディスプレイ画面の該タッチセンシング機能の作動から前記領域を決定するように配列される、請求項９〜１４のいずれかに記載の可搬型電子デバイス。
【請求項１６】
前記コードは、前記プロセッサによって実行されたとき、前記ディスプレイ画面上のカーソルの位置から前記領域を決定するように配列される、請求項９〜１４のいずれかに記載の可搬型電子デバイス。
【請求項１７】
前記コードは、前記プロセッサによって実行されたとき、前記ディスプレイ画面上の前記画像のスクロールから前記領域を決定するように配列される、請求項９〜１４のいずれかに記載の可搬型電子デバイス。
【請求項１８】
前記コードは、前記プロセッサによって実行されたとき、前記ディスプレイ画面上のデータエントリ領域を含むように前記領域を決定するように配列される、請求項９〜１４のいずれかに記載の可搬型電子デバイス。
【請求項１９】
命令を有するコンピュータ読み取り可能な一過性でない格納媒体または複数の格納媒体であって、該命令は、可搬型電子デバイスのディスプレイ画面の領域を決定することと、該領域から最も遠い該ディスプレイ画面の部分が、最も大きなパーセンテージの暗い画素要素を有するように、増分的に大きくなるパーセンテージの領域の外側の該画素要素を暗くさせることによって、該ディスプレイ画面上に表示される該画像の外観を変更させることとを該可搬型電子デバイスに行わせる、格納媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月6日(2011.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ピリミジン、エトキシピリジン、又は下記化学式１で表される化合物から選択されてなる、ヘテロ環化合物
（ｂ）イオン化可能なリチウム塩とで構成された共融混合物を含んでなる、電解質。
【化１】
2011512002.tif 000001
［化学式１］
［上記化学式１において、
Ｒ１は、水素、または、炭素数１から１０のアルキル基、アルキルアミン基、アルケニル基、アリール基及びアルアリール基からなる群より選択されたいずれか１つであり、
Ｒ２は、水素または炭素数１から１０のアルキル基であり、
Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ相互独立して炭素または窒素であり、
ｎは、１から５の整数である。］
【請求項２】
前記ヘテロ環化合物が、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリミジン、４‐イソプロピルイミダゾール、４‐メチルイミダゾール、エトキシピリジン及びＮ‐エチルイミダゾールからなる群より選択されたいずれか１つである、請求項１に記載の電解質。
【請求項３】
前記リチウム塩の陰イオンが、Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、I−、ＮＯ３−、Ｎ（ＣＮ）２−、ＢＦ４−、ＣｌＯ４−、ＰＦ６−、（ＣＦ３）２ＰＦ４−、（ＣＦ３）３ＰＦ３−、（ＣＦ３）４ＰＦ２−、（ＣＦ３）５ＰＦ−、（ＣＦ３）６Ｐ−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＦ３ＣＦ２ＳＯ３−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、（ＦＳＯ２）２Ｎ−、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＦ３）２ＣＯ−、（ＣＦ３ＳＯ２）２ＣＨ−、（ＳＦ５）３Ｃ−、（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ−、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ３−、ＣＦ３ＣＯ２−、ＣＨ３ＣＯ２−、ＳＣＮ−、及び（ＣＦ３ＣＦ２ＳＯ２）２Ｎ−からなる群より選択されたいずれか１つである、請求項１又は２に記載の電解質。
【請求項４】
前記共融混合物における前記ヘテロ環化合物とリチウム塩とのモル比が、１から８：１である、請求項１〜３の何れか一項に記載の電解質。
【請求項５】
前記共融混合物の粘度が、２０００ｃＰ以下である、請求項１〜４の何れか一項に記載の電解質。
【請求項６】
前記電解質が、リチウム塩をさらに含んでなる、請求項１に記載の電解質。
【請求項７】
前記リチウム塩の陰イオンが、前記共融混合物を構成するリチウム塩の陰イオンと同一である、請求項６に記載の電解質。
【請求項８】
前記リチウム塩の濃度が、０から１Ｍ／Ｌである、請求項６に記載の電解質。
【請求項９】
前記電解質が液体電解質であり、
前記共融混合物が前記電解質の総重量を基準として５０から１００重量％で含まれてなる、請求項１に記載の電解質。
【請求項１０】
前記電解質が、ポリマー電解質である、請求項１〜５の何れか一項に記載の電解質。
【請求項１１】
前記ポリマー電解質が、（i）前記共融混合物と、（ii）重合反応によってポリマーを形成し得るモノマーを含む前駆体溶液との重合によって形成されたゲル状のポリマー電解質である、請求項１０に記載の電解質。
【請求項１２】
前記モノマーが、ビニルモノマーである、請求項１１に記載の電解質。
【請求項１３】
前記ビニルモノマーが、アクリロニトリル、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、メタクリロニトリル、メチルスチレン、ビニルエステル類、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、テトラフルオロエチレン、ビニルアセテート、メチルビニルケトン、エチレン、スチレン、パラメトキシスチレン及びパラシアノスチレンからなる群より選択されたいずれか１種またはそのうち２種以上の混合物である、請求項１２に記載の電解質。
【請求項１４】
前記前駆体溶液内の共融混合物とモノマーとの含量比が、０．５〜０．９５：０．０５〜０．５である、請求項１１〜１３の何れか一項に記載の電解質。
【請求項１５】
前記ゲル状のポリマー電解質が、電気化学素子の内部でIｎ‐ｓiｔｕ重合して製造されてなるものである、請求項１１〜１４の何れか一項に記載の電解質。
【請求項１６】
前記ポリマー電解質が、前記共融混合物がポリマーに含浸されたものである、請求項１０に記載の電解質。
【請求項１７】
前記ポリマーが、ポリメチルメタクリレート、ポリビニリデンジフルオライド、ポリビニルクロライド、ポリエチレンオキサイド及びポリヒドロキシエチルメタクリレートからなる群より選択されたいずれかの一種又は二種以上の混合物である、請求項１６に記載の電解質。
【請求項１８】
正極と、負極と、及び電解質を備えてなる電気化学素子において、
前記電解質が、請求項１〜１７の何れか一項に記載の電解質である、電気化学素子。
【請求項１９】
前記電気化学素子が、リチウム二次電池である、請求項１８に記載の電気化学素子。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の表面を処理するための方法であって、
ａ）前記半導体基板（１）の前記表面を酸化させ、それにより、自然酸化物（５）を人工酸化物（７）に変換するステップと、
ｂ）前記人工酸化物（７）を除去し、特に、還元性気体プラズマおよび不活性ガスプラズマを備えた還元性プラズマによって、酸化物のない基板表面（１１）を得るステップと、
ｃ）特に、接合することによって、前記半導体基板（２１）を、前記半導体基板（２１）の前記酸化物のない基板表面（２５）側を用いて、第２の半導体基板（２３）に貼り合わせるステップと、
を備えた方法。
【請求項２】
前記半導体基板（１）が、Ｓｉ（１１０）基板、もしくはＳｉ（１００）基板、または、ＳｉＧｅ緩衝層および／またはＳｉＧｅ緩和層もしくは歪みシリコン層を備えたＳｉ基板である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ステップａ）が、前記人工酸化物（７）が化学量論的なＳｉＯ２となるように実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第２の半導体基板（２３）が、同様に、ステップａ）およびステップｂ）に基づいて処理されている請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月16日(2011.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（ＩＩ）：
【化１５】
2011512336.tif 000001
〔式中、
ＲはＣ１−４の直鎖又は分岐アルキル基であり；
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１−４の直鎖もしくは分岐アルキル基であり；

Ｘは、Ｏ、Ｓ、ＮＨ、
【化１６】
2011512336.tif 000002
又は
【化１７】
2011512336.tif 000003
であり；
ｌは、1〜20から選ばれる整数であり；
ｍは、50〜2500から選ばれる整数であり；
ｎは、1〜20から選ばれる整数であり；
Ｇ’は、天然型G-CSF、遺伝子組換え型G-CSF又はG-CSFの機能を有する遺伝子変異産物である。〕
で表される複合体又はその薬学的に許容される塩。
【請求項２】
Ｇ’が、SEQ ID No. 1〜10に示されるタンパク質のG-CSF誘導体から選ばれる、請求項１に記載の複合体又はその薬学的に許容される塩。
【請求項３】
Ｇ’の配列が、天然に存在するヒトG-CSFの配列である、請求項１に記載の複合体又はその薬学的に許容される塩。
【請求項４】
Ｇ’の配列が、SEQ ID No. 1に示されるMet-G-CSFである、請求項１に記載の複合体又はその薬学的に許容される塩。
【請求項５】
複合体が、
【化１８】
2011512336.tif 000004
〔式中、ｍは400〜500から選ばれる整数である。〕
及び、
【化１９】
2011512336.tif 000005
〔式中、ｍは400〜500から選ばれる整数である。〕
を含む、請求項１に記載の複合体又はその薬学的に許容される塩。
【請求項６】
複合体が、酸と反応して塩を形成し、前記酸が有機酸及び無機酸から選ばれる、請求項１に記載の複合体又はその薬学的に許容される塩。
【請求項７】
有機酸が、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、マレイン酸及びp‐トルエンスルホン酸、並びにこれらの混合物から選ばれる請求項６に記載の複合体又はその薬学的に許容される塩。
【請求項８】
無機酸が、塩酸、硫酸、リン酸及びメタンスルホン酸並びにこれらの混合物から選ばれる請求項６に記載の複合体又はその薬学的に許容される塩。
【請求項９】
請求項１に記載の複合体の製造方法であって、該製造方法が下記のステップを含む製造方法：
１）一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を、還元的アミノ化によりＧ’のＮ末端アミノ基と反応させ、一般式（ＩＶ）で表される化合物を得るステップ：
【化２０】
2011512336.tif 000006
２）一般式（ＩＶ）で表される化合物からメルカプト保護基を除去し、一般式（Ｖ）で表される化合物を得るステップ：
【化２１】
2011512336.tif 000007
３）一般式（Ｖ）で表される化合物を、マイケル付加反応によりmPEG-MALと反応させ、化合物（ＩＩ）を得るステップ：
【化２２】
2011512336.tif 000008
〔式中、
Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、Ｇ’、Ｘ、ｌ、ｍ及びｎは、請求項１において定義される；
Ｚは、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、トリチル基及びtert‐ブチル基から選ばれるメルカプト保護基である。〕。
【請求項１０】
放射線療法又は化学療法に起因する白血球減少症、AIDS及びその他の免疫不全症である細菌感染を治療する薬物の製造における、請求項１に記載の複合体又はその薬学的に許容される塩の使用。
【請求項１１】
請求項１に記載の複合体又はその薬学的に許容される塩の薬学的な有効量、及び薬学的に許容される担体を含む医薬組成物。
【請求項１２】
放射線療法又は化学療法に起因する白血球減少症、AIDS及びその他の免疫不全症である細菌感染を治療する薬物の製造における、請求項１１に記載の医薬組成物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月25日(2011.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(1)低温殺菌された卵白並びに(2)少なくとも１つのフィトステロール及び少なくとも１つのオメガ−３脂肪酸からなる群から選択される少なくとも１つのメンバーを含んでなる食品組成物であって、上記少なくとも１つのフィトステロールが遊離フィトステロール及びフィトステロールエステルからなる群から選択される、食品組成物。
【請求項２】
繊維、ポリメトキシル化フラボノイド−トコトリエノール複合体、ビタミン、ルテイン、ミネラル、フラボノイド、ゼアキサンチン、卵黄のフレーバを提供する少なくとも１つの成分、並びにビタミン、ミネラル及びフラボノイドの複合体／混合物からなる群から選択される少なくとも１つのメンバーをさらに含んでなる、請求項１記載の食品組成物。
【請求項３】
前記少なくとも１つのオメガ−３脂肪酸がエイコサペンタエン酸(EPA)及びドコサヘキサエン酸(DHA)からなる群から選択される、請求項１記載の食品組成物。
【請求項４】
(1)低温殺菌された卵白 (2)少なくとも１つのフィトステロール及び(3)少なくとも１つのオメガ−３脂肪酸を含んでなる食品組成物であって、上記少なくとも１つのフィトステロールが遊離フィトステロール及びフィトステロールエステルからなる群から選択される、食品組成物。
【請求項５】
繊維、ポリメトキシル化フラボノイド−トコトリエノール複合体、ビタミン、ルテイン、ミネラル、フラボノイド、ゼアキサンチン、卵黄のフレーバを提供する少なくとも１つの成分、並びにビタミン、ミネラル及びフラボノイドの複合体／混合物からなる群から選択される少なくとも１つのメンバーをさらに含んでなる、請求項４記載の食品組成物。
【請求項６】
少なくとも以下の特徴:
(a)前記卵白が前記組成物の約９０〜９９重量％を含んでなる; 
(b)前記少なくとも１つのフィトステロールが遊離フィトステロール及びこのエステルからなる群から選択され、上記遊離フィトステロール及びこのエステルが少なくとも約０．１重量％の混合量で存在し、存在する遊離フィトステロールの総量が約１．５％以下でありそして存在するフィトステロールエステルの総量が約１．５％以下であって、各重量パーセンテージが前記組成物の総重量に関連する; 
(c)前記少なくとも１つのオメガ−３脂肪酸が、約１００〜３００ｍｇ／組成物１００ｇ含んでなる; 並びに
(d)前記少なくとも１つのオメガ−３脂肪酸がエイコサペンタエン酸(EPA)及び／又はドコサヘキサエン酸(DHA)であって、そしてこれらの各オメガ３脂肪酸が約３０〜３００ｍｇ／組成物１００ｇ含んでなる、
の１つを有する、請求項１記載の食品組成物。
【請求項７】
前記食品組成物が冷蔵庫内温度で少なくとも９０日間安定であり並びに／或いは前記組成物が低温殺菌されるまたは超低温殺菌される、請求項１記載の食品組成物。
【請求項８】
請求項１記載の食品組成物を形成する方法であって、以下の: 
ａ．乾燥成分のプレブレンドを形成するステップであって、前記組成物が遊離フィトステロールを含んでなる場合には、該遊離フィトステロールが該乾燥成分を有する該プレブレンドに含有されるステップ、
ｂ．卵白を除く全液体物のプレブレンドを形成するステップであって、前記組成物がフィトステロールエステル及び／又は少なくとも１つのオメガ−３脂肪酸を含んでなる場合に、該フィトステロールエステル及び／又は少なくとも１つのオメガ−３脂肪酸が該液体物を有する該プレブレンド中に含有されるステップ、
ｃ．約５％〜５０％の前記卵白を攪拌機へ添加するステップ、
ｄ．ステップｆの完了時に安定で均質な組成物が存在するように、十分なせん断または乱流を形成するために、上記攪拌機中で十分な混合力を提供するステップ、
ｅ．乾燥成分の上記プレブレンドを上記混合卵白へ添加するステップ、
ｆ．乾燥成分の上記プレブレンドが上記卵白中で均一に分散されそして混合物が均質となるまで、ステップｅで形成された上記組成物を混合するステップ、
ｇ．ステップｆで形成された混合物を継続して混合する間に、残りの前記卵白の約５０％〜９５％を混合物へ添加するステップ、
ｈ．ステップｇで形成された混合物を継続して混合する間に、卵白を除く全液体物の上記プレブレンドを混合物へ添加するステップ、
ｉ．ステップｈで形成された混合物中で上記プレブレンドが均一に分散されそして該混合物が均質になるまで、ステップｈで形成された組成物を混合するステップ、
を含んでなる方法。
【請求項９】
ステップ（ｄ）で、前記混合力により前記卵白中でボルテックスが形成され、ステップ(ｅ）で、攪拌機中に混合物がボルテックスとして存在する間に、前記プレブレンド乾燥成分を前記混合卵白へ添加する、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
請求項１記載の食品組成物を形成する方法であって、以下の:
ａ．乾燥成分のプレブレンドを形成するステップであって、前記組成物が遊離フィトステロールを含んでなる場合には、該遊離フィトステロールが該乾燥成分を有する該プレブレンドに含有されるステップ、
ｂ．卵白を除く全液体物のプレブレンドを形成するステップであって、前記組成物がフィトステロールエステル及び／又は少なくとも１つのオメガ−３脂肪酸を含んでなる場合に、該フィトステロールエステル及び／又は少なくとも１つのオメガ−３脂肪酸が該液体物を有する該プレブレンド中に含有されるステップ、
ｃ．約５％〜５０％の前記卵白を攪拌機へ添加するステップ、
ｄ．ステップｆの完了時に安定で均質な組成物が存在するように、十分なせん断または乱流を形成するために、上記攪拌機中で十分な混合力を提供するステップ、
ｅ．乾燥成分の上記プレブレンドを上記混合卵白へ添加するステップ、
ｆ．乾燥成分の上記プレブレンドが上記卵白中で均一に分散されそして混合物が均質となるまで、ステップｅで形成された上記組成物を混合するステップ、
g．ステップｆで形成された混合物を混合している間に、残りの前記卵白の約５０％〜９５％を混合物へ添加するステップ、
ｈ．ステップｇで形成された混合物を混合している間に、卵白を除く全液体物の上記プレブレンドを混合物へ添加するステップ、
ｉ．ステップｈで形成された混合物中で上記プレブレンドが均一に分散されそして該混合物が均質になるまで、ステップｈで形成された組成物を混合するステップ、
を含んでなる方法。
【請求項１１】
ステップ(ｄ）で、前記卵白中に前記混合力によりボルテックスが形成され、そしてステップ（ｅ）で、混合物が攪拌機中にボルテックスとして存在する間に前記プレブレンド乾燥成分を前記混合卵白へ添加する、請求項１０記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月6日(2011.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の空気注入式部材と、当該空気注入式部材のそれぞれの圧力に関するデータを供給するセンサと、を備える快適層および支持層のうちの少なくとも一つを有する睡眠支持部材と、
前記センサによって供給されたデータを分析し、前記快適層および前記支持層のうちの少なくとも一つに関する分析されたデータを生成するデータ分析ユニットと、
前記分析されたデータを用いて、前記空気注入式部材のそれぞれの内部の圧力を制御する制御ユニットと、
を有する睡眠器具。
【請求項２】
前記空気注入式部材は、前記空気注入式部材のそれぞれの内部の圧力を流体を用いて制御することができるように構成されている、請求項１に記載の睡眠器具。
【請求項３】
前記制御ユニットは、前記空気注入式部材のそれぞれの内部の圧力を制御することにより、前記快適層および前記支持層のうちの少なくとも一つにおける快適性と支持特性のうちの少なくとも一つを変化させる、請求項１に記載の睡眠器具。
【請求項４】
前記データ分析ユニットは、前記睡眠支持部材の上に配置された人体の変化に関する、前記センサによって供給されたデータを分析するように構成されている、請求項１に記載の睡眠器具。
【請求項５】
前記データ分析ユニットは、前記快適層および前記支持層のうちの少なくとも一つが人体に対してより適切な快適性とより適切な支持特性のうちの少なくとも一つを与えるように前記空気注入式部材のうちの少なくとも一つの圧力の調整を決定するように構成されている、請求項１に記載の睡眠器具。
【請求項６】
前記睡眠器具は、
前記快適層および前記支持層のうちの少なくとも一つは前記快適層であり、
前記複数の空気注入式部材は、快適層空気注入式部材であり、
前記センサは、前記快適層空気注入式部材のそれぞれの圧力に関するデータを供給する快適層センサであり、
前記データ分析ユニットは、前記快適層センサによって供給されたデータを分析し、分析された快適層データを生成するように構成され、
前記制御ユニットは、前記分析された快適層データを用いて、前記快適層空気注入式部材のそれぞれの内部の圧力を制御するように構成され、
前記睡眠支持部材は、複数の支持層空気注入式部材と、前記支持層空気注入式部材のそれぞれの圧力に関するデータを供給する支持層センサと、を備える支持層を更に有し、
前記データ分析ユニットは前記支持層センサによって供給されたデータを分析し、分析された支持層データを生成し、
前記制御ユニットは、前記分析された支持層データを用いて、前記支持層空気注入式部材のそれぞれの内部の圧力を制御する、請求項１に記載の睡眠器具。
【請求項７】
前記支持層は、前記快適層の下方に配置されている、請求項６に記載の睡眠器具。
【請求項８】
前記支持層は、上部コイル層と下部コイル層とを有し、
前記支持層空気注入式部材は前記上部コイル層の下方であって、且つ前記下部コイル層の上方に配置されている、請求項６に記載の睡眠器具。
【請求項９】
前記データ分析ユニットは、前記センサによって供給された前記データを分析し、前記睡眠支持部材の上に人体が配置された場合、人体の体重、体重配分、姿勢、呼吸数、心拍数、睡眠の状態のうちの少なくとも一つを決定する、請求項１に記載の睡眠器具。
【請求項１０】
人体が睡眠支持部材の上に配置されたか否かを決定し、
人体が前記睡眠支持部材の上に配置された場合、分析された快適層データを生成するために、前記睡眠支持部材の快適層に配置された複数の快適層空気注入式部材のそれぞれの圧力に関するデータを分析し、
前記分析された快適層データを用いて、前記快適層空気注入式部材のうちの少なくとも一つの内部の圧力を制御する、
可変睡眠支持部材の制御方法。
【請求項１１】
前記分析された快適層データを用いることによる前記快適層空気注入式部材のうちの少なくとも一つの内部の圧力の制御は、前記快適層の快適性と支持特性のうちの少なくとも一つを変化させるように実施される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記複数の快適層空気注入式部材のそれぞれの圧力に関するデータの分析は、更に人体の変化に関するデータの分析を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記複数の快適層空気注入式部材のそれぞれの圧力に関するデータの分析は、前記快適層が人体に対してより適切な快適性とより適切な支持特性のうちの少なくとも一つを与えるような、前記快適層空気注入式部材のうちの少なくとも一つの圧力の調整の決定を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記睡眠支持部材の上に人体が配置された場合、更に、分析された支持層データを生成するために、前記睡眠支持部材の支持層に配置された複数の支持層空気注入式部材のそれぞれの圧力に関するデータを分析し、
前記分析された支持層データを用いて、前記支持層空気注入式部材のうちの少なくとも一つの圧力を制御する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記複数の支持層空気注入式部材のそれぞれの圧力に関するデータの分析は、前記支持層が人体に対してより適切な快適性とより適切な支持特性のうちの少なくとも一つを与えるような、前記支持層空気注入式部材のうちの少なくとも一つの圧力の調整の決定を含む、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月24日(2011.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】配列表
【補正方法】変更
【補正の内容】
【配列表】
2011512821000001.app
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３７】
2011512821.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月24日(2011.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコンウエハを処理するための方法であって、第一方法の段階で、該シリコンウエハが水平な搬送路に沿って水平位置の状態で搬送されてテクスチャリングのためのエッチング溶液がノズル等の手段によって上方から塗布されるか又は噴霧されることを特徴とし、一方では、該第一方法の段階において、該シリコンウエハの下方からは、全くか又は少しだけしかエッチング溶液が塗布されないことを特徴とし、そして、第二方法の段階において、該第一方法の段階と同様な配向状態の該シリコンウエハが下方からの研磨エッチングのためのエッチング溶液でウェット化されることを特徴とする、方法。
【請求項２】
リンスすることが、前記第一方法のテクスチャリングの段階と、前記第二方法の研磨-エッチングとの段階の間で達成されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第一方法の段階において、前記シリコンウエハが搬送される搬送ローラーの手段によって、前記エッチング溶液が前記シリコンウエハの下面まで運搬されることを特徴とし、該下面までもたらされた前記エッチング溶液の量が、上面に運搬される前記エッチング溶液の量より相当に少ないことを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記テクスチャリングのための前記第一方法の段階において、およそ4μｍから6μｍの材料の材料が前記上面で取り除かれて、1μｍから3μｍの材料が前記下面で取り除かれることを特徴とし、そして、前記上面から取り除かれる量が、前記下面から取り除かれる量の２倍よりもやや多いことを特徴とする、請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記第一方法の段階がおよそ80秒から120秒間継続することを特徴とし、前記シリコンウエハが、更に連続的に搬送されることを特徴とする、請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記第一方法の段階において、前記テクスチャリングのための前記エッチング溶液が、前記シリコンウエハの前記搬送路に沿って逐次的に複数の領域に、前記搬送路に対して横方向に走る前記ノズルを備えるサージパイプの手段によって塗布されることを特徴とする、請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記第二方法の段階において、前記シリコンウエハが連続的に通過しながら前記研磨エッチングのための前記エッチング溶液が塗布されることを特徴とし、前記研磨エッチングのための前記エッチング溶液を用いてウェット化することが前記シリコンウエハのための搬送ローラーの手段によって達成されることを特徴とし、そして、該搬送ローラーが、研磨エッチングのためのエッチング溶液を含有するバス中に大部分浸漬されて、かつ、前記シリコンウエハの前記下面まで前記エッチング溶液を運搬する該搬送ローラーの表面で浸漬されることを特徴とする、請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記研磨エッチングのための前記第二方法の段階の継続時間がおよそ200秒であることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記研磨エッチングのために用いられる前記エッチング溶液が、前記テクスチャリングのために用いられる溶液と同一であり、HF及びHNO3の混合物を含むことを特徴とし、そして、該HNO3の割合が、前記研磨エッチングのための前記エッチング溶液の場合に、更に大きいことを特徴とする、請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の方法を実行するためのデバイスであって、上方からシリコンウエハの上面にエッチング溶液を塗布するか又は噴霧することによって該シリコンウエハをテクスチャリングするためのテクスチャリングモジュールを、該デバイスが有することを特徴とし、該テクスチャリングモジュールが搬送ローラー等を備える水平の搬送路を有し、また、該エッチング溶液を塗布するか又は噴霧するためのノズル等を有することを特徴とする、デバイス。
【請求項１１】
前記デバイスが、搬送方向であって前記テクスチャリングモジュールの下流方向に、下方から、前記シリコンウエハの下面にエッチング溶液を塗布することによって該下面を研磨エッチングするための研磨−エッチングモジュールを有することを特徴とする、請求項１０に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記テクスチャリングモジュールが、前記エッチング溶液を収集するための前記搬送路の下方にある収集トラフを有することを特徴とし、該収集トラフが前記シリコンウエハから下方に延び、そして、セパレーターが該収集トラフに提供されて閉じられた領域を形成することを特徴とし、そして前記ノズルが該領域の上方に提供されて、上方から前記シリコンウエハを水で濯ぐために該水が供給される、請求項１０又は１１に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月21日(2011.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動性枠組装置であって、特に吊るされた天井用のものであり、
内側フレームと呼ばれ、その基部に広がったウェブ（１２）が取り付けられているフレームを含む枠組（４）と、
外側フレームと呼ばれるフレームと、表面に取り付けられる底（８）とを含む枠組用のハウジング（２）と、
前記枠組（４）と前記枠組用のハウジング（２）とを連結させて、該枠組用のハウジングに対して該枠組を傾斜させることのできるヒンジ組立体（２８）と
を含み、
前記ヒンジ組立体は、前記底に面している前記内側フレームの一つの面上に取り付けられた第１部材と、前記底に取り付けられた第２部材とを含み、該第１と第２の部材は、一方が他方に対して回転可能なように取り付けられており、該ヒンジ組立体の２つの部材の一方は摺動可能に取り付けられている。
【請求項２】
前記第１部材は一体の滑り台部材（３２）上か、或いは前記枠組（４）の内側フレームの溝（４２）に摺動可能に取り付けられている請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記第２部材が、前記底（８）から垂直に延伸している小さな板（３０）と、結合部材板（３６）とを含んでおり、該結合部材板は前記ヒンジ組立体の第１部材に対して回転可能に装着されている請求項１から２の１つに記載の装置。
【請求項４】
前記ヒンジ組立体が前記枠組用のハウジングの前記底と一体化されている請求項１記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
もしユーザーが望むなら、可動性枠組は、傾斜位置にそれを維持するための手段をも含むことができる。例えば、これらの手段は、単純に、しなやかなコード２６や紐や鎖から成る。
本発明によれば、可動性枠組装置は、ハウジング２の底８と枠組４の内側フレームを連結するヒンジ組立体２８を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2011512635.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月26日(2011.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検出器領域と、
前記検出器領域との間に界面を形成している第１のコンタクト領域と、
前記第１のコンタクト領域と前記検出器領域との間に設けられている第１の価数補償吸着層領域と
を備える光検出器。
【請求項２】
前記検出器領域との間に界面を形成している第２のコンタクト領域
をさらに備え、
前記第２のコンタクト領域は、前記第１のコンタクト領域から電気的に分離されている請求項１に記載の光検出器。
【請求項３】
前記第２のコンタクト領域と前記検出器領域との間に設けられている第２の価数補償吸着層領域をさらに備える請求項２に記載の光検出器。
【請求項４】
前記第１のコンタクト領域は、前記検出器領域の上方に配設されている請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の光検出器。
【請求項５】
前記第１のコンタクト領域および前記第１の価数補償吸着層領域は共に、前記検出器領域の内部に形成されている請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の光検出器。
【請求項６】
前記第１のコンタクト領域は、前記検出器領域と接触している請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の光検出器。
【請求項７】
前記第２のコンタクト領域は、前記検出器領域の上方に配設されている請求項３に記載の光検出器。
【請求項８】
前記第２のコンタクト領域および前記第２の価数補償吸着層領域は共に、前記検出器領域の内部に形成されている請求項３に記載の光検出器。
【請求項９】
前記第２のコンタクト領域は、前記検出器領域と接触している請求項２または３に記載の光検出器。
【請求項１０】
前記検出器領域の上方に配設されているパッシベーション層
をさらに備え、
前記パッシベーション層は第１の溝を有しており、前記第１のコンタクト領域および前記第１の価数補償吸着層領域は共に、前記第１の溝に配設されている請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の光検出器。
【請求項１１】
前記検出器領域の上方に配設されているパッシベーション層
をさらに備え、
前記パッシベーション層は、第１の溝および第２の溝を有しており、前記パッシベーション層のうち前記第１の溝と前記第２の溝との間の領域は、前記パッシベーション層の残りの領域とは不連続であり、
前記第１のコンタクト領域および前記第１の価数補償吸着層領域は共に、前記第１の溝に配設されており、前記第２のコンタクト領域は前記第２の溝に配設されている請求項２に記載の光検出器。
【請求項１２】
前記検出器領域の上方に配設されているパッシベーション層
をさらに備え、
前記パッシベーション層は、第１の溝および第２の溝を有しており、前記パッシベーション層のうち前記第１の溝と前記第２の溝との間の領域は、前記パッシベーション層の残りの領域とは不連続であり、
前記第１のコンタクト領域および前記第１の価数補償吸着層領域は共に、前記第１の溝に配設されており、前記第２のコンタクト領域および前記第２の価数補償吸着層領域は共に前記第２の溝に配設されている請求項３、７および８のいずれか一項に記載の光検出器。
【請求項１３】
導波路層
をさらに備え、
前記検出器領域は、前記導波路層の上方に配設されている請求項１から請求項１２のいずれか一項に記載の光検出器。
【請求項１４】
前記検出器領域と前記導波路層との間に配設されているバッファ層をさらに備える請求項１３に記載の光検出器。
【請求項１５】
前記バッファ層と前記導波路層との間に配設されているコンプライアンス層をさらに備える請求項１４に記載の光検出器。
【請求項１６】
前記導波路層の上方に、前記検出器領域の互いに対向する端縁に隣接して配設されている分離領域をさらに備える請求項１３から請求項１５のうちいずれか一項に記載の光検出器。
【請求項１７】
分離層
をさらに備え、
前記導波路層は、前記分離層の上方に配設されている請求項１３から請求項１６のうちいずれか一項に記載の光検出器。
【請求項１８】
前記第１のコンタクト領域の上方に、前記第１の溝に接触して配設されている第１の電極をさらに備える請求項１０に記載の光検出器。
【請求項１９】
前記第１のコンタクト領域の上方に、前記第１の溝に接触して配設されている第１の電極と、
前記第２のコンタクト領域の上方に、前記第２の溝に接触して配設されている第２の電極と
をさらに備える請求項１１または１２に記載の光検出器。
【請求項２０】
前記第１の電極は、少なくとも第１の伝導材料および第２の伝導材料を有しており、前記第１の伝導材料は、前記第１のコンタクト領域および前記第１の溝に接触している請求項１９に記載の光検出器。
【請求項２１】
前記第２の電極は、少なくとも第１の伝導材料および第２の伝導材料を有しており、前記第１の伝導材料は、前記第２のコンタクト領域および前記第２の溝に接触している請求項１９または請求項２０に記載の光検出器。
【請求項２２】
光検出器を形成する方法であって、
検出器領域を形成する段階と、
前記検出器領域との界面として第１のコンタクト領域を形成する段階と、
前記第１のコンタクト領域と前記検出器領域との間に第１の価数補償吸着層領域を形成する段階と
を備える方法。
【請求項２３】
検出器領域と、
第１のコンタクト領域と、
前記検出器領域と前記第１のコンタクト領域との間の界面を形成する第１の価数補償吸着層領域と
を備え、
前記第１の価数補償吸着層領域は、前記第１のコンタクト領域と前記検出器領域との間のダングリングボンドを不動態化する光検出器。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月25日(2011.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
ビーム放射構成素子において、
該ビーム放射構成素子には、
−  取付領域（２）および互いに隣接しない分離領域（３）を有する支持層（１）と、
− 前記の取付領域に被着された電気コンタクト層（１０）と、
− 前記の取付領域（２）にて電気コンタクト層（１０）に被着されたビーム放射装置（５）と、
−  当該のビーム放射装置（５）に載置された注形層（６）とを有しており、
−  前記の支持層（１）と注形層（６）との間の分離領域（３）に中間層（４）が配置されていることを特徴とする、
殊に請求項１から１３までのいずれか１項に記載の方法によって作製可能なビーム放射構成素子。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月8日(2011.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下顎骨とそれに対応する側頭骨との間の関節の不快感を治療するために、耳珠を持った耳の外耳道に挿入されるように構成された人工器官であって、該外耳道には峡部が含まれており、
当該人工器官は、
中空でありかつ実質的に剛性を持った構造本体を有し、該構造本体は、予め定められた形状を有し、該形状は、顎が開位置にあるときの外耳道の入口と峡部との間にほぼ延びる外耳道の部分の輪郭に実質的に合致する形状であり、該構造本体は、外耳道の入口に隣接して位置するよう構成された近位の基部を含み、該構造本体は、さらに、外耳道の中に有効な距離だけ延びるよう構成された遠位の端部を含み、
スカラップ状の窪みが、前記近位の基部の境界縁部から離れる方へと延び、耳の耳珠の裏側に位置するように構成された前記構造本体の表面を横切っている、
前記人工器官。
【請求項２】
前記構造本体が、実質的に何らの被覆もされていない、請求項１記載の人工器官。
【請求項３】
前記構造本体が、アクリルから形成されている、請求項１記載の人工器官。
【請求項４】
前記スカラップ状の窪みが、実質的に耳の耳珠全体を受け入れるのに十分な長さと幅とによって特徴付けられている、請求項１記載の人工器官。
【請求項５】
さらに、前記近位の基部から離れる方へ突き出した少なくとも一つの柱状要素を含み、該柱状要素は、当該人工器官が外耳道内に挿入されているときに、外耳道の外側の位置へと延びるように構成されている、請求項１記載の人工器官。
【請求項６】
前記柱状要素が、熱可塑性の、ポリマーまたは非ポリマーの材料から形成されている、請求項５記載の人工器官。
【請求項７】
前記柱状要素が、単繊維ナイロンから形成されている、請求項６記載の人工器官。
【請求項８】
下顎骨とそれに対応する側頭骨との間の関節の不快感を治療するために、耳珠と珠間切痕とを持った耳の外耳道に挿入されるように構成された人工器官であって、該外耳道には峡部が含まれており、
当該人工器官は、
中空でありかつ実質的に剛性を持った構造本体を有し、該構造本体は、予め定められた形状を有し、該形状は、顎が開位置にあるときの外耳道の入口と峡部とのほぼ間に延びる外耳道の部分の輪郭に実質的に合致する形状であり、該構造本体は、外耳道の入口に隣接して位置するよう構成された近位の基部を含み、該近位の基部は、珠間切痕に実質的に延びるよう構成された半島状の脚部を含み、該構造本体は、さらに、外耳道の中に有効な距離だけ延びるよう構成された遠位の端部を含み、
スカラップ状の窪みが、前記近位の基部の境界縁部から離れる方へと延び、耳の耳珠の裏側に位置するように構成された前記構造本体の表面を横切っており、
少なくとも一つの柱状要素が、該半島状の脚部から離れる方へ突き出しており、該柱状要素は、当該人工器官が外耳道内に挿入されているときに、外耳道の外側の位置へと延びるように構成されている、
前記人工器官。
【請求項９】
前記スカラップ状の窪みが、実質的に耳の耳珠全体を受け入れるのに十分な長さと幅とによって特徴付けられている、請求項８記載の人工器官。