【事件の表示】
　平成１０年特許願第５４２８４７号「ポリオレフィン類の高収率合成のための触媒系」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年１０月１５日国際公開、ＷＯ９８／４５３３７、平成１３年１１月２７日国内公表、特表２００１−５２４１４４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、平成１０年３月３０日（パリ条約による優先権主張　１９９７年４月４日　アメリカ合衆国）を国際出願日とする特許出願であって、平成１１年１０月１日に条約第３４条(2)(b)の規定に基づき提出された補正書の翻訳文が提出され、平成２０年７月１７日付けで拒絶理由が通知されたが、指定した期間内に意見書及び手続補正書が提出されず、平成２１年５月８日付けで拒絶をすべき旨の査定がされ、それに対して、同年９月２４日に拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正書が提出され、同年１０月２６日付けで前置審査の結果が報告され、当審において平成２２年１１月１日付けで審尋され、それに対して回答書が提出されなかったものである。
　
第２．補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２１年９月２４日付け手続補正書による補正を却下する。
　
［理由］
１．補正の内容 
　平成２１年９月２４日付け手続補正書による補正（以下、「本件補正」という。）は、条約第３４条(2)(b)の規定に基づき提出された補正書の翻訳文により補正された明細書の特許請求の範囲を、次のとおりに補正するものである。
「【請求項１】
　エチレンモノマーまたはエチレンモノマーと１−ブテンもしくは１−ヘキサンから選択される１種以上のコモノマーを重合させてポリマーを生じさせる方法であって、この方法を、
１）１種以上の脱水支持体材料を含んで成る支持体材料成分、
２）１種以上のメタロセン錯体を含んでおり、メタロセン錯体の総充填範囲が支持体材料成分１グラム当たり０．１から２５μモルで使用されているメタロセン錯体成分であって、かつ、該メタロセン錯体がＴｉを中心金属として有するモノ−Ｃｐメタロセン錯体または式：
　　　　　　　　　Ｃｐ1　
　　　　　　　　 ／　＼
　　　　　　　 Ｚ　　　ＭＹ2　
　　　　　　　　 ＼　／
　　　　　　　　　Ｃｐ2　
［式中、
Ｃｐ1、Ｃｐ2は、独立して、置換もしくは未置換のインデニルもしくは水添インデニル基であり、
Ｙは、アニオン性一価配位子であるか、或はＹ2がジエンであり、
Ｍは、ジルコニウムであり、そして
Ｚは、炭素原子数が１から２０のアルキレン基、またはジアルキルもしくはジアルキルシリルもしくはジアルキルゲルミル基、またはアルキルホスフィンもしくはアルキルアミン基を含んで成る橋渡し基である］
で表されるメタロセン錯体のいずれかを含んでなるメタロセン錯体成分、
３）１種以上の活性化剤を含んでおり、メタロセン錯体の総モルに対する活性化剤の総モルのモル比の範囲が０．５から２．５で使用されている活性化剤成分、
を含んで成る触媒成分から作製されたオレフィン重合用支持型触媒系の存在下の重合反応槽内で実施するが、該触媒系を、活性触媒がモノマー１モル当たり０．０１ｘ１０-6から６ｘ１０-6モルの範囲である触媒濃度および１時間毎に触媒１モル当たり少なくとも２．４ｘ１０7ｇのポリマーがもたらされるような触媒効率で用いる、上記方法。
【請求項２】　
　請求項１記載の方法であって、モノ−Ｃｐメタロセン錯体成分が、式：
【化２】
［式中、
Ｍは、形式的酸化状態が＋２のチタンであり、
Ｌは、環状でアニオン性の非局在化したπ系を含有する基であり、この基は上記π系を通してＭに結合しておりかつこの基はまたＺにも結合しているπ系を含有しており、
Ｚは、σ結合を介してＭに結合している部分であり、この部分はホウ素および元素周期律表の１４族の員から成る群から選択される元素を含みかつ窒素、燐、硫黄および酸素から成る群から選択される元素も含んで成る部分であり、ここで、上記部分は非水素原子を６０以下の数で有し、そして
Ｘは、ヒドロカルビルまたはトリメチルシリル基から選択される１つ以上の基で置換されていてもよい中性の共役もしくは非共役ジエンであり、ここで、上記Ｘは、炭素原子を４０以下の数で有していて、Ｍと一緒にπ錯体を形成している］
で表されるメタロセン錯体を用いて作製されたものである、上記方法。
【請求項３】
　請求項１または２記載の方法であって、該メタロセン錯体成分が支持体材料成分１グラム当たり０．３から２０μモルの充填範囲で使用されている、上記方法。
【請求項４】
　請求項１〜３のいずれかに記載の方法であって、該メタロセン錯体成分が支持体材料成分１グラム当たり１から２０μモルの充填範囲で使用されている、上記方法。
【請求項５】
　請求項１〜４のいずれかに記載の方法であって、該活性化剤成分が該メタロセン錯体成分に対して１から２のモル比の範囲で使用されている、上記方法。
【請求項６】
　請求項５記載の方法であって、該活性化剤成分が該メタロセン錯体成分に対して１から１．５のモル比の範囲で使用されている、上記方法。
【請求項７】
　請求項１記載の方法であって、該触媒系を該反応槽内で活性触媒がモノマー１モル当たり０．０２ｘ１０-6から３ｘ１０-6モルの範囲であるような触媒濃度で使用されている、上記方法。
【請求項８】
　請求項７記載の方法であって、該触媒系が該反応槽内でモノマー１モル当たり０．０５ｘ１０-6から３ｘ１０-6モルの活性触媒範囲であるような触媒濃度で使用されている、上記方法。
【請求項９】
　請求項８記載の方法であって、該触媒系が該反応槽内でモノマー１ｇ当たり０．１ｘ１０-6から３ｘ１０-6モルの活性触媒範囲であるような触媒濃度で使用されている、上記方法。
【請求項１０】
　請求項１〜９のいずれかに記載の方法であって、該触媒効率が１時間毎に触媒１モル当たり４．８ｘ１０7ｇを越えるポリマーをもたらすものである、上記方法。
【請求項１１】
　請求項１０記載の方法であって、該触媒効率が１時間毎に触媒１モル当たり９．６ｘ１０7ｇを越えるポリマーをもたらすものである、上記方法。
【請求項１２】
　請求項１１記載の方法であって、該触媒効率が１時間毎に触媒１モル当たり１４．４ｘ１０7ｇを越えるポリマーをもたらすものである、上記方法。
【請求項１３】
　請求項１２記載の方法であって、該触媒効率が１時間毎に触媒１モル当たり２４ｘ１０7ｇを越えるポリマーをもたらすものである、上記方法。
【請求項１４】
　請求項１〜１３のいずれかに記載の方法であって、　該メタロセン錯体成分が単一のメタロセン錯体を用いて作製されたものである、上記方法。
【請求項１５】
　請求項１〜１４のいずれかに記載の方法であって、該支持体材料成分がポリマー、無機酸化物、金属ハロゲン化物、前以て重合させておいた重合体基質またはそれらの混合物を含んで成る、上記方法。
【請求項１６】
　請求項１５記載の方法であって、該支持体材料成分が無機酸化物を含んで成る、上記方法。
【請求項１７】
　請求項１６記載の方法であって、該支持体材料成分がシリカ、アルミナ、シリカ−アルミナまたはそれらの混合物を含んで成る、上記方法。
【請求項１８】
　請求項１６記載の方法であって、該支持体材料成分がＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＧｅＯ2、Ｂ2Ｏ3またはそれらの混合物による修飾を受けさせておいたシリカ、アルミナ、シリカ−アルミナまたはそれらの混合物を含んで成る、上記方法。
【請求項１９】
　請求項１６記載の方法であって、該支持体材料成分がポリマーを含んで成る、上記方法。
【請求項２０】
　請求項１〜１９のいずれかに記載の方法であって、該活性化剤成分が共触媒を含んで成る、上記方法。
【請求項２１】
　請求項２０記載の方法であって、該共触媒がトリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、アニリニウム　テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸塩［アニリン部分のアミノ基がＮＲ3Ｒ4であり、　ここで、Ｒ3およびＲ4は、各場合とも独立して、炭素原子を１から８個有する置換もしくは未置換の飽和ヒドロカルビル基である］、
　(Ｒ1Ｒ2ＮＨＣＨ3)+(Ｃ6Ｈ4ＯＨ)Ｂ(Ｃ6Ｆ5)3-，または
　(Ｒ1Ｒ2ＮＨＣＨ3)+Ｂ(Ｃ6Ｆ5)4-　
［ここで、Ｒ1およびＲ2は、各場合とも独立して、炭素原子を１２から３０個有する置換もしくは未置換の飽和ヒドロカルビル基である］である、上記方法。
【請求項２２】
　請求項１〜２１のいずれかに記載の方法であって、該触媒系が、それがアルモキサンを非活性濃度で含有するように生じさせたものである、上記方法。
【請求項２３】
　請求項１〜２１のいずれかに記載の方法であって、該触媒系が、アルモキサンを含有しないように生じさせたものである、上記方法。
【請求項２４】
　請求項１〜２３のいずれかに記載の方法であって、該触媒成分の１つ以上または触媒系を全体として前以て重合させておく、上記方法。
【請求項２５】
　請求項１〜２４のいずれかに記載の方法であって、該方法が単一の気相反応槽内で実施される連続方法である、上記方法。
【請求項２６】
　請求項２５記載の方法であって、該方法を気相反応槽内で実施して、それを凝縮様式で操作する、上記方法。
【請求項２７】
　請求項１〜２４のいずれかに記載の方法であって、該方法が単一のスラリー反応槽内で実施される連続方法である、上記方法。
【請求項２８】
　請求項１〜２７のいずれかに記載の方法であって、該ポリマーを温度が６０℃以上の反応ゾーンを備えた反応槽内で生じさせる、上記方法。
【請求項２９】
請求項２８記載の方法であって、該ポリマーを温度が７０℃以上の反応ゾーンを請求項１〜２４のいずれかに記載の方法であって、反応槽内で生じさせる、上記方法。
【請求項３０】
　請求項２８記載の方法であって、該ポリマーを温度が８０℃以上の反応ゾーンを備えた反応槽内で生じさせる、上記方法。
【請求項３１】
　請求項１〜３０のいずれかに記載の方法であって、該重合がエチレンまたはプロピレンを該モノマーとして用いそして１種以上のα−オレフィンコモノマーをモノマーに対するコモノマーのモル比が０．１未満であるように用いて行う共重合である、上記方法。
【請求項３２】
　請求項３１記載の方法であって、該重合がエチレンまたはプロピレンを該モノマーとして用いそして１種以上のα−オレフィンコモノマーをモノマーに対するコモノマーのモル比が０．０５未満であるように用いて行う共重合である、上記方法。
【請求項３３】
　請求項３１記載の方法であって、該重合がエチレンまたはプロピレンを該モノマーとして用いそして１種以上のα−オレフィンコモノマーをモノマーに対するコモノマーのモル比が０．０２未満であるように用いて行う共重合である、上記方法。
【請求項３４】
　請求項１〜３３のいずれかに記載の方法であって、該重合反応槽に水素をモノマーに対する水素のモル比が０．０５未満であるように入れる、上記方法。　
【請求項３５】
　請求項３４記載の方法であって、該重合反応槽に水素をモノマーに対する水素のモル比が０．０２未満であるように入れる、上記方法。
【請求項３６】
　請求項３４記載の方法であって、該重合反応槽に水素をモノマーに対する水素のモル比が０．０１未満であるように入れる、上記方法。」
　
２．補正の内容
　本件補正は、補正後の請求項１及び２について、以下の補正事項を含むものである。
（１）補正後の請求項１について
（ｉ）補正前の請求項１において、重合させるモノマーについて、補正前の請求項３３に基づき「オレフィンモノマーまたはオレフィンモノマーと１種以上のコモノマー」を「エチレンモノマーまたはエチレンモノマーと１−ブテンもしくは１−ヘキサンから選択される１種以上のコモノマー」とする補正（なお、審判請求書の請求の理由〔３〕３−１（２）において「コモノマーを「１−ブテンもしくは１−ヘキセン」に特定した（この特定は、明細書第７４頁６−１０行の記載、実施例の記載に基づく）。」と述べていることにもかんがみれば、「１−ヘキサン」は「１−ヘキセン」の明らかな誤記と認める。）
　
（ii）補正前の請求項１において、触媒成分の２）について、「メタロセン錯体成分」を、補正前の請求項２及び１５並びに請求項１８〜２０に基づき「メタロセン錯体成分であって、かつ、該メタロセン錯体がＴｉを中心金属として有するモノ−Ｃｐメタロセン錯体または式：
　　　　　　　　　Ｃｐ1　
　　　　　　　　 ／　＼
　　　　　　　 Ｚ　　　ＭＹ2　
　　　　　　　　 ＼　／
　　　　　　　　　Ｃｐ2　
［式中、
Ｃｐ1、Ｃｐ2は、独立して、置換もしくは未置換のインデニルもしくは水添インデニル基であり、
Ｙは、アニオン性一価配位子であるか、或はＹ2がジエンであり、
Ｍは、ジルコニウムであり、そして
Ｚは、炭素原子数が１から２０のアルキレン基、またはジアルキルもしくはジアルキルシリルもしくはジアルキルゲルミル基、またはアルキルホスフィンもしくはアルキルアミン基を含んで成る橋渡し基である］
で表されるメタロセン錯体のいずれかを含んでなるメタロセン錯体成分」とする補正。（なお、式中のＺに関し、「ジアルキルもしくはジアルキルシリルもしくはジアルキルゲルミル基」と特定しているが、審判請求書の請求の理由〔３〕３−１（２）において「メタロセン錯体成分を補正前の請求項２及び請求項１５または２０の構成で特定する」と述べ、補正前の請求項２０の該当箇所には「ジアルキルシリルもしくはジアルキルゲルミル基」と特定されていたこと、及び明細書の対応箇所（35頁末行〜36頁12行）にも「ジアルキルシリルもしくはジアルキルゲルミル基」と記載されていることに加え「ジアルキル」ではＺとして意味をなさないことにかんがみれば、「ジアルキルシリルもしくはジアルキルゲルミル基」とすべきところを錯誤により誤記したものと認める。）
　
（２）請求項２について
（iii）補正前の請求項１６において、Ｌについて、「環状でアニオン性の非局在化したπ系を含有する基であり、この基は上記π系を通してＭに結合しておりかつこの基はまたＺにも結合しており」を「環状でアニオン性の非局在化したπ系を含有する基であり、この基は上記π系を通してＭに結合しておりかつこの基はまたＺにも結合しているπ系を含有しており」とする補正
　
３．翻訳文新規事項の追加について
（１）本願は特許法第１８４条の３第１項の規定により特許出願とみなされた国際出願（外国語特許出願）に係るものであるから、同法第１７条の２第３項の規定は同法第１８４条の１２第２項の規定により読み替えて適用される。
　また、本願においては、同法第１８４条の８第１項の規定により条約第３４条(2)(b)の規定に基づく補正に係る補正書の翻訳文が提出されているところ、当該補正は同法第１８４条の８第２項及び第４項の規定により、誤訳訂正書を提出してされたものとみなされる。
　そうすると、本願において、同法第１７条の２第３項の規定により補正ができる範囲は、国際出願日における国際特許出願の明細書又は請求の範囲の翻訳文若しくは条約第３４条(2)(b)の規定に基づく補正に係る補正書の翻訳文による補正後の請求の範囲（以下、「出願当初翻訳文」という。）に記載した事項の範囲内ということになる。
　
（２）出願当初翻訳文には、モノ−Ｃｐメタロセン錯体成分における「Ｌ」に関して次の記載がある。
ア．「１５．　該メタロセン錯体成分がモノ−Ｃｐメタロセン錯体から作成されたものである請求の範囲第１−１４項の１項記載の方法。
１６．　該メタロセン錯体成分が式：
［式中、
Ｍは、形式的酸化状態が＋２のチタンまたはジルコニウムであり、
Ｌは、環状でアニオン性の非局在化したπ系を含有する基であり、この基は上記π系を通してＭに結合しておりかつこの基はまたＺにも結合しており、
Ｚは、Ｍにσ結合で結合している部分であり、この部分はホウ素および元素周期律表の１４族の員から成る群から選択される元素を含みかつ窒素、燐、硫黄および酸素から成る群から選択される元素も含んで成る部分であり、ここで、上記部分は非水素原子を６０以下の数で有し、……］
で表されるメタロセン錯体を用いて作成されたものである請求の範囲第１５項記載の方法。」（平成１１年１０月１日付け補正書の翻訳文（特許法第１８４条の８第１項）における請求の範囲第１５項及び第１６項）
　
イ．「本発明のメタロセン錯体成分で用いるに適したメタロセン錯体には、元素周期律表の３−１０族の金属を含んでいて活性化剤の存在または活性化方法の使用を通して活性化を受けてオレフィンの挿入および重合をもたらし得る如何なる化合物の錯体も含まれる。このようなメタロセン錯体は、これに活性化を受けさせる前には弱い触媒であり得るか或はそれに活性化を受けさせる前には触媒活性を全く示さない可能性がある。本明細書に考察するように、本発明の触媒系では、活性化を受けたメタロセン錯体を単に触媒と呼ぶことができる。……
　追加的触媒には、形式的酸化状態が＋２、＋３または＋４の３、４、５、６、７、８もしくは９族またはランタニドの金属の誘導体が含まれる。好適な化合物には、π結合を有するアニオン性もしくは中性配位子基（これは環状もしくは非環状の非局在化したπ結合を有するアニオン性配位子基であり得る）を１から３個含む金属錯体が含まれる。そのようなπ結合を有するアニオン性配位子基の例は共役もしくは非共役で環状もしくは非環状のジエニル基、アリル基、ボラタベンゼン（boratabenzene）基およびアレン基である。用語「π結合を有する（π-bonded）」は、配位子基が遷移金属にπ結合で結合することを意味する。
　この非局在化したπ結合を有する基内の各原子は、独立して、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、ハロヒドロカルビル、ヒドロカルビル置換メタロイド（metalloid）基［ここで、このメタロイドは元素周期律表の１４族から選択される］から成る群から選択される基で置換されていてもよく、そして更に上記ヒドロカルビル基またはヒドロカルビル置換メタロイド基は１５族もしくは１６族のヘテロ原子を含む部分で置換されていてもよい。用語「ヒドロカルビル」の範囲には、Ｃ1-20の直鎖、分枝および環状アルキル基、Ｃ6-20の芳香族基、Ｃ7-20のアルキル置換芳香族基、そしてＣ7-20のアリール置換アルキル基が含まれる。加うるに、上記基が２つ以上一緒になって縮合環系、水添縮合環系、または金属を伴うメタロサイクル（metallocycle）を形成していてもよい。適切なヒドロカルビル置換有機メタロイド基には、１４族元素の一置換、二置換および三置換有機メタロイド基が含まれ、ここで、上記ヒドロカルビル基は各々炭素原子を１から２０個含む。適切なヒドロカルビル置換有機メタロイド基の例には、トリメチルシリル、トリエチルシリル、エチルジメチルシリル、メチルジエチルシリル、トリフェニルゲルミルおよびトリメチルゲルミル基が含まれる。１５族もしくは１６族のヘテロ原子を含む部分の例には、アミン、ホスフィン、エーテルもしくはチオエーテル部分、またはそれらの二価誘導体、例えば遷移金属もしくはランタニド金属に結合しかつヒドロカルビル基またはヒドロカルビル置換メタロイド含有基に結合するアミド、ホスフィド、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルビルチオまたはチオエーテル基などが含まれる。
　適切な非局在化したπ結合を有するアニオン性基の例には、シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、テトラヒドロフルオレニル、オクタヒドロフルオレニル、ペンタジエニル、シクロヘキサジエニル、シラシクロヘキサジエニル、アリル、ジヒドロアントラセニル、ヘキサヒドロアントラセニル、デカヒドロアントラセニル基およびボラタベンゼン基に加えて、Ｃ1-10ヒドロカルビルで置換されているか或はＣ1-10ヒドロカルビル置換シリルで置換されているそれらの誘導体が含まれる。好適な非局在化したπ結合を有するアニオン性基は、シクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、トリメチルシリルシクロペンタジエニル、インデニル、２，３−ジメチルインデニル、フルオレニル、２−メチルインデニル、２−メチル−４−フェニルインデニル、テトラヒドロフルオレニル、オクタヒドロフルオレニル、テトラヒドロインデニル、シクロヘキサジエニルおよびシラシクロヘキサジエニルである。
　……
　適切な種類の触媒は、式：
　　　　　　　　ＬlＭＸmＸ'nＸp　
［式中、
Ｌは、Ｍに結合している非局在化したπ結合を有するアニオン性基であり、これは非水素原子を５０以下の数で含み、……、そして更に場合により、１つのＬがＸに結合していてもよく、……、
Ｍは、元素周期律表の４族の金属であり、これの形式的酸化状態は＋２、＋３または＋４であり、
Ｘは、任意の、非水素原子数が５０以下の二価置換基であり、これはＬと一緒になってＭを伴うメタロサイクル（metallocycle）を形成し、
Ｘ'は、任意の、非水素原子数が２０以下の中性ルイス塩基であり、
Ｘは、各場合とも、非水素原子数が４０以下のアニオン性一価部分であり、場合により２つのＸ基が一緒に共有結合して二価のジアニオン部分（両方の原子価がＭに結合する）を形成していてもよいか、或は場合により２つのＸ基が一緒に共有結合して中性の共役もしくは非共役ジエン（これはＭにπ結合する）（この場合のＭは酸化状態が＋２である）を形成してもよいか、或は更に場合により、１つ以上のＸと１つ以上のＸ'基が一緒に結合することで、Ｍに共有結合しかつそれにルイス塩基官能性で配位する部分を形成していてもよく、
ｌは、０、１または２であり、
ｍは、０または１であり、
ｎは、０から３の数であり、
ｐは、０から３の整数であり、そして
ｌ＋ｍ＋ｐの合計はＭの形式的酸化状態に等しいが、但し２つのＸ基が一緒になってＭにπ結合する中性の共役もしくは非共役ジエンを形成している場合にはｌ＋ｍの合計がＭの形式的酸化状態に等しいことを除く］
に相当する遷移金属錯体またはそれの二量体である。
　好適な錯体には、Ｌ基を１つまたは２つ含む錯体が含まれる。後者の錯体には、２つのＬ基をつなげる橋渡し基を含む錯体が含まれる。好適な橋渡し基は、式(ＥＲ*2)x［式中、Ｅはケイ素、ゲルマニウム、錫または炭素でありそしてＲ*は各場合とも独立して水素であるか或はシリル、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシおよびそれらの組み合わせから選択される基であり、ここで、上記Ｒ*は炭素またはケイ素原子を３０個以下の数で有し、そしてｘは１から８である］に相当する基である。好適には、Ｒ*は各場合とも独立してメチル、エチル、プロピル、ベンジル、ｔ−ブチル、フェニル、メトキシ、エトキシまたはフェノキシである。好適にはｘは１または２である。
　……
　好適なＸ基は、ハイドライド、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ハロ、アミド、シロキシ、ホスフィド、シリル、ゲルミル、ハロヒドロカルビル、ハロシリル、シリルヒドロカルビルおよびアミノヒドロカルビル基から選択されるか、或は２つのＸ基が一緒になって共役ジエンの二価誘導体を形成しているか、さもなければそれらが一緒になってπ結合を有する中性の共役ジエンを形成している。最も好適なＸ基はＣ1-20ヒドロカルビル基である。
　本発明で用いるさらなる種類の金属錯体は、Ｘが非水素原子が５０以下の二価置換基でありそしてそれがＬと一緒になってＭを伴うメタロサイクルを形成しているか或は１つのＸ'がＬとＭの両方に結合している前記式ＬlＭＸmＸ'nＸpまたはそれの二量体に相当する。
　好適な二価のＸ置換基には、非局在化したπ結合を有する基に直接結合する原子（これは酸素、硫黄、ホウ素、または元素周期律表の１４族の一員である）を少なくとも１つ含みかつＭに共有結合する異なる原子（これは窒素、燐、酸素または硫黄から成る群から選択される）を含む非水素原子数が３０以下の基が含まれる。」（明細書の翻訳文11頁12行〜19頁末行）
　
ウ．「本発明に従って用いる好適な種類のそのような４族金属配位錯体は、式
［式中、
Ｍは、形式的酸化状態が＋２または＋４のチタンまたはジルコニウムであり、
……
各Ｘは、ハイドライド、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、シロキシ、アミド、ホスフィド、ハロまたはシリル基であり、ここで、上記基は非水素原子を２０個以下の数で有し、或は２つのＸ基が一緒になって中性のＣ5-30共役ジエンまたはそれの二価誘導体を形成しており、
Ｙは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＲ*−，−ＰＲ*−，
であり、そして
Ｚは、ＳｉＲ*2，ＣＲ*2，ＳｉＲ*2ＳｉＲ*2，ＣＲ*2ＣＲ*2，ＣＲ*＝ＣＲ*，ＣＲ*2ＳｉＲ*2またはＧｅＲ*2　
であり、ここでＲ*はこの上で定義した通りである］
に相当する。」（明細書の翻訳文20頁1行〜21頁2行）
　
エ．「本発明の触媒で用いるに特に好適な群の遷移金属錯体は、米国特許第５，４７０，９９３号（引用することによって本明細書に組み入れられる）に開示されている錯体であり、これは、式
［式中、
Ｍは、形式的酸化状態が＋２のチタンまたはジルコニウムであり、
Ｌは、環状でアニオン性の非局在化したπ系を含有する基であり、この基は上記π系を通してＭに結合しておりかつこの基はまたＺに結合しており、
Ｚは、Ｍにσ結合で結合している部分であり、この部分はホウ素および元素周期律表の１４族の員を含みそしてまた窒素、燐、硫黄および酸素から成る群から選択される元素を含み、ここで、上記部分は非水素原子を６０以下の数で有し、そして
Ｘは、場合によりヒドロカルビルまたはトリメチルシリル基から選択される１つ以上の基で置換されていてもよい中性の共役もしくは非共役ジエンであり、ここで、上記Ｘは、炭素原子を４０個以下の数で有していて、Ｍと一緒にπ錯体を形成している］
に相当する。」（明細書の翻訳文22頁4行〜同頁下から2行）
　
オ．「本発明の実施で使用可能な説明的４族金属錯体には下記が含まれる：
……
（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル−シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル−シランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（シクロドデシルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）２，４−ヘキサジエン、
……
（ｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
（ｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（アニリド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
……
（ｔ−ブチルアミド）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
（ｔ−ブチルアミド）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、
（シクロヘキシルアミド）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）２，４−ヘキサジエン、
……
（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジベンジル−１，３−ブタジエン、
（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル−シランチタン（ＩＩ）２，４−ヘキサジエン、
（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）ジメチル−シランチタン（ＩＩ）３−メチル−１，３−ペンタジエン、
……
（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）メチルフェニルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、
……
１−（ｔ−ブチルアミド）−２−（テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル）エタンジイル−チタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン」（明細書の翻訳文22頁末行〜28頁3行）
　
カ．「本発明で用いるに好適な別の種類の金属錯体は、式（Ｉ）：
［式中、
Ｍは、形式的酸化状態が＋２、＋３または＋４のチタン、ジルコニウムまたはハフニウムであり、
……
Ｚは、二価部分であるか、Ｍと配位−共有結合を形成し得る中性の電子対を２つとσ結合を１つ含む部分であり、ここで、上記Ｚはホウ素または元素周期律表の１４族の一員を含みかつまた窒素、燐、硫黄または酸素を含み、
Ｘは、原子数が６０以下のアニオン性一価配位子基であり（但し非局在化したπ結合を有する環状の配位子基である種類の配位子を除く）、
Ｘ'は、各場合とも独立して、原子数が２０以下の連結用（ligating）中性ルイス塩基化合物であり、
Ｘは、原子数が６０以下のアニオン性二価配位子基であり、
ｐは、ゼロ、１、２または３であり、
ｑは、ゼロ、１または２であり、そして
ｒは、ゼロまたは１である］
に相当する。
　……
　本発明で用いるに好適な別の種類の金属錯体は、式：
［式中、
Ｍは、元素周期律表の３から１３族、ランタニド類またはアクチニド類の１つに属する形式的酸化状態が＋２、＋３または＋４の金属であり、これは、５個の置換基……を有する環状の非局在化したπ結合を有する配位子基である１つのシクロペンタジエニル基（Ｃｐ）にπ結合しており、そして
……
Ｚは、ＣｐとＭの両方にσ結合で結合している二価部分であり、ここで、Ｚはホウ素または元素周期律表の１４族の一員を含みかつまた窒素、燐、硫黄または酸素を含み、
Ｘは、原子数が６０以下のアニオン性またはジアニオン性の配位子基であり（但し非局在化したπ結合を有する環状の配位子基である種類の配位子を除く）、
Ｘ'は、各場合とも独立して、原子数が２０以下の連結用中性ルイス塩基化合物であり、
ｐは、ゼロ、１または２であるが、Ｘがアニオン性配位子基の時にはＭの形式的酸化状態よりも２小さく、Ｘがジアニオン性の配位子基の時のｐは１であり、そして
ｑは、ゼロ、１または２である］
に相当する。
　本発明で用いるに好適な別の種類の金属錯体は、式：
［式中、
Ｍは、元素周期律表の３から１３族、ランタニド類またはアクチニド類の１つに属する形式的酸化状態が＋２、＋３または＋４の金属であり、これは、５個の置換基……を有する環状の非局在化したπ結合を有する配位子基である１つのシクロペンタジエニル基（Ｃｐ）にπ結合しており、そして
……
Ｚは、ＣｐとＭの両方にσ結合で結合している二価部分であり、ここで、Ｚはホウ素または元素周期律表の１４族の一員を含みかつまた窒素、燐、硫黄または酸素を含み、
Ｘは、原子数が６０以下のアニオン性またはジアニオン性の配位子基であり（但し非局在化したπ結合を有する環状の配位子基である種類の配位子を除く）、
Ｘ'は、各場合とも独立して、原子数が２０以下の連結用中性ルイス塩基化合物であり、
ｐは、ゼロ、１または２であるが、Ｘがアニオン性配位子基の時にはＭの形式的酸化状態よりも２小さく、Ｘがジアニオン性の配位子基の時のｐは１であり、そして
ｑは、ゼロ、１または２である］
に相当する。」（明細書の翻訳文36頁下から6行〜43頁21行）
　
キ．「(η5−Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)−Ｔｉ(ｓ−トランス−η4−１，４−トランス，トランス−ジフェニル−１，３−ブタジエン)」（明細書の翻訳文87頁23行〜88頁21行の実施例９）
　
ク．「(η5−Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)−Ｔｉ(η4−Ｃ5Ｈ8)」（明細書の翻訳文88頁22行〜98頁末行の実施例１０〜２３及び同105頁3行〜114頁末行の実施例３２〜４５）
　
（３）本件補正の請求項２に係る補正事項（iii）は、ＬとＺとの結合について、「この基はまたＺにも結合しているπ系を含有しており」と補正するものである。（なお、「この基」とはＬを意味する。）
　しかしながら、出願当初翻訳文の請求の範囲第１６項（摘示事項ア）では、Ｌについて「Ｌは、環状でアニオン性の非局在化したπ系を含有する基であり、この基は上記π系を通してＭに結合しておりかつこの基はまたＺに結合しており」と記載され、Ｌはそれ自体π系を有する基であることが示されているが、それとは別にＺに結合するためのπ系を含有することについては記載されていない。さらに、出願当初翻訳文におけるモノ−Ｃｐメタロセン錯体成分についての他の記載（摘示事項エ）をみても「Ｌは、環状でアニオン性の非局在化したπ系を含有する基であり、この基は上記π系を通してＭに結合しておりかつこの基はまたＺに結合しており」と前記した請求の範囲第１６項（摘示事項ア）と同じ規定があるだけで、ＬがＺに結合するためのπ系を含有することは記載されていない。
　また、モノ−Ｃｐメタロセン錯体成分であるから、本件補正の請求項２の式におけるＬの「環状でアニオン性の非局在化したπ系を含有する基であり、この基は上記π系を通してＭに結合しており」との規定からみてＣｐ、すなわちシクロペンタジエニルアニオンを意味するものと理解されるところ、摘示事項ウ及びカに記載されている一般式並びに摘示事項オ、キ及びクに具体的に化合物名が挙げられているチタン（ＩＩ）錯体をみても、シクロペンタジエニルアニオンがＺに該当する基に結合するためのπ系を含有するものは記載されていない。（なお、本件補正の請求項２におけるＺの定義からみて、「Ｚに結合しているπ系」とＺ自体とをどのように区別するのかは明らかではないことも付言しておく。）
　さらに、出願当初翻訳文におけるメタロセン錯体成分の構造に関する一般的な記載（摘示事項イ）をみても、補正事項（iii）に関する記載は見当たらない。
　そうすると、ＬとＺの結合がπ系を含有することは出願当初翻訳文に記載がなく、また、オレフィン重合用触媒としてのメタロセン錯体において、通常ＬとＺとの結合ではπ系を含有することはなく、そのことが自明のこととも認められない。
　
（４）したがって、本件補正の、補正事項（iii）は、本願の出願当初翻訳文に記載された事項の範囲内においてされたものとすることはできず、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない。
　
４．補正の目的について
　本件補正の請求項１に係る補正事項（ｉ）は、「オレフィンモノマー」を「エチレンモノマー」と限定し、「１種以上のコモノマー」を「１−ブテンもしくは１−ヘキセンから選択される１種以上のコモノマー」に限定するものであり、同補正事項（ii）は、「メタロセン錯体成分」を、「該メタロセン錯体がＴｉを中心金属として有するモノ−Ｃｐメタロセン錯体または式：〔省略〕で表されるメタロセン錯体のいずれかを含んでなるメタロセン錯体成分」に限定するものと認められる。
　そして、本件補正前の請求項１に記載された発明と本件補正後の請求項１に記載される発明との間で産業上の利用分野及び解決しようとする課題に変更はない。
　したがって、本件補正の請求項１に係る補正事項（ｉ）及び（ii）は、意匠法等の一部を改正する法律（平成１８年法律第５５号）附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下、単に「特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものと認められる。
　
５．独立特許要件について
　上記４.に記載したとおり、本件補正の請求項１に係る補正事項（ｉ）及び（ii）は特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものであるから、本件補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される発明（以下、「補正発明」という。）が、同法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか否かについて以下検討する。
　
（１）特許法第２９条第２項について
ａ．補正発明
　補正発明は、次のとおりのものと認められる。（なお、上記したとおり、明らかな誤記が含まれているので、その点は修正して認定した。）
「エチレンモノマーまたはエチレンモノマーと１−ブテンもしくは１−ヘキセンから選択される１種以上のコモノマーを重合させてポリマーを生じさせる方法であって、この方法を、
１）１種以上の脱水支持体材料を含んで成る支持体材料成分、
２）１種以上のメタロセン錯体を含んでおり、メタロセン錯体の総充填範囲が支持体材料成分１グラム当たり０．１から２５μモルで使用されているメタロセン錯体成分であって、かつ、該メタロセン錯体がＴｉを中心金属として有するモノ−Ｃｐメタロセン錯体または式：
　　　　　　　　　Ｃｐ1　
　　　　　　　　 ／　＼
　　　　　　　 Ｚ　　　ＭＹ2　
　　　　　　　　 ＼　／
　　　　　　　　　Ｃｐ2　
［式中、
Ｃｐ1、Ｃｐ2は、独立して、置換もしくは未置換のインデニルもしくは水添インデニル基であり、
Ｙは、アニオン性一価配位子であるか、或はＹ2がジエンであり、
Ｍは、ジルコニウムであり、そして
Ｚは、炭素原子数が１から２０のアルキレン基、またはジアルキルシリルもしくはジアルキルゲルミル基、またはアルキルホスフィンもしくはアルキルアミン基を含んで成る橋渡し基である］
で表されるメタロセン錯体のいずれかを含んでなるメタロセン錯体成分、
３）１種以上の活性化剤を含んでおり、メタロセン錯体の総モルに対する活性化剤の総モルのモル比の範囲が０．５から２．５で使用されている活性化剤成分、
を含んで成る触媒成分から作製されたオレフィン重合用支持型触媒系の存在下の重合反応槽内で実施するが、該触媒系を、活性触媒がモノマー１モル当たり０．０１ｘ１０-6から６ｘ１０-6モルの範囲である触媒濃度および１時間毎に触媒１モル当たり少なくとも２．４ｘ１０7ｇのポリマーがもたらされるような触媒効率で用いる、上記方法。」
　
ｂ．引用刊行物及びその記載事項
刊行物１：特表平９−５０２７６１号公報（平成２０年７月１７日付け拒絶理由通知書における引用文献１）
　
１−ア．「１．　エチレンポリマーを製造する流動床気相方法であって、
Ａ）　１）式：
　　　　　　　　　 Ｚ
　　　　　　　　 ／　＼
　　　　　　　 Ｌ　　　Ｙ
　　　　　　　　 ＼　／
　　　　　　　　　 Ｍ
　　　　　　　　 ／　＼
　　　　　　　(Ｘ')q　 (Ｘ)n　
［式中、
Ｍは、形式的酸化状態が＋３または＋４の４族金属であり、
Ｌは、環状で非局在化していて芳香族的でアニオン性のπ系を含む基であり、これを通してＬ基がＭに結合しており、そしてこのＬ基はまたＺに結合しており、ここで、上記Ｌ基は６０個以下の非水素原子を有し、
Ｚは、ＬとＹの両方に共有結合していてホウ素または元素周期律表の１４族の一員を含む部分であり、ここで、上記部分は６０個以下の非水素原子を有し、
Ｙは、窒素、燐、硫黄または酸素を含む部分であり、これを通してＹがＺとＭの両方に共有結合しており、ここで、上記部分は２５個以下の非水素原子を有し、
Ｘ'は、各場合とも独立して、４０個以下の非水素原子を有するルイス塩基であり、
Ｘは、各場合とも独立して、２０個以下の非水素原子を有する一価のアニオン部分であるが、しかしながら、いずれのＸも、Ｍにπ結合する芳香族基でない場合、任意に、２つのＸ基が一緒に共有結合して、両方の原子価がＭに結合する二価のジアニオン部分を形成していてもよいか、
或は更に任意に、１つ以上のＸと１つのＸ'基が一緒に結合し、それによって、両方がＭに共有結合しそしてルイス塩基官能性でそれに配位する部分を形成していてもよいことを条件とし、
ｑは、０から１の数であり、そして
ｎは、Ｍの形成的酸化状態に応じて１または２である］
に相当する金属錯体、および
　２）アルモキサン以外の中性ルイス酸、並びに非ポリマー状で適合性を示す、非配位性の、イオンを形成する化合物、から成る群から選択される活性化用共触媒、または
Ｂ）　活性化量でアルモキサンが存在していない、活性化技術を用いて上記式で表される錯体を活性触媒に変化させることで生じさせた反応生成物、
を含む触媒にエチレンまたはエチレンと少なくとも１種の共重合性アルファ−オレフィンもしくはジオレフィンを重合条件下で接触させることで反応を起こさせることを含む方法。
２．　ＭがチタンでありそしてＸが各場合とも２０個以下の非水素原子を有する一価の配位基である請求の範囲第１項記載の方法。
３．　ＸがＣ1-20ヒドロカルビルであるか或は一緒になった２Ｘがヒドロカルバジイル基である請求の範囲第２項記載の方法。
４．　該エチレンポリマーにエチレンを≧８０モルパーセントそして１種以上のアルファ−オレフィンまたはジオレフィンコモノマー類を≦２０モルパーセント含める請求の範囲第１項記載の方法。
５．　該触媒が支持触媒である請求の範囲第１項記載の方法。
６．　該支持体がシリカ、アルミナ、粘土、コーンスターチ、タルクまたはポリエチレンであるか或はそれらの混合物である請求の範囲第５項記載の方法。
７．　Ｙが−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ*−、−ＰＲ*−であり、そしてＲ*が、独立して、１２個以下の非水素原子を有するヒドロカルビルまたはシリル基である請求の範囲第１項記載の方法
……
１１．　Ｘがメチルまたはベンジルである請求の範囲第２項記載の方法。
１２．　上記方法を直列または並列連結した少なくとも２基の流動床気相反応槽内で実施する請求の範囲第１項記載の方法。
１３．　上記方法を直列連結した少なくとも２基の流動床気相反応槽内で実施する請求の範囲第１項記載の方法。
……
１５．　該支持体を予め処理する請求の範囲第６項の方法。
１６．　エチレンポリマーを製造する流動床気相方法であって、
Ａ）　１）式：
［式中、
Ｒ'は、各場合とも独立して、水素、アルキル、アリール、シリル、ゲルミル、シアノ、ハロおよびこれらの組み合わせから成る群から選択され、ここでこれらは２０個以下の非水素原子を有し、
Ｘは、各場合とも独立して、水素化物、ハロ、アルキル、アリール、シリル、ゲルミル、アリールオキシ、アルコキシ、アミド、シロキシおよびこれらの組み合わせから成る群から選択され、ここでこれらは２０個以下の非水素原子を有し、
Ｙは、窒素、燐、酸素または硫黄を含みそして２０個以下の非水素原子を有する二価の配位基であり、ここで上記Ｙは、上記窒素、燐、酸素または硫黄を通してＺとＭに結合しており、そして任意にＹとＺが一緒になって縮合環系を形成しており、
Ｍは、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆであり、
Ｚは、ＳｉＲ*2、ＣＲ*2、ＳｉＲ*2ＳｉＲ*2、ＣＲ*2ＣＲ*2、ＣＲ*＝ＣＲ*、ＣＲ*2ＳｉＲ*2またはＧｅＲ*2であり、
Ｒ*は、各場合とも独立して、水素、２０個以下の非水素原子を有するアルキル、アリール、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール基およびそれらの混合物から成る群から選択されるか、或はＹまたはＺ由来か或はＺとＹ由来の２つ以上のＲ*基が縮合環を形成しており、ｎは、１または２である］
に相当する金属錯体、および
　２）アルモキサン以外の中性ルイス酸、並びに非ポリマー状で適合性を示す、非配位性の、イオンを形成する化合物、から成る群から選択される活性化用共触媒、または
Ｂ）　活性化量でアルモキサンが存在していない、活性化技術を用いて式（Ｉ）で表される錯体を活性触媒に変化させることで生じさせた反応生成物、
を含む触媒にエチレンまたはエチレンと少なくとも１種の共重合性アルファ−オレフィンもしくはジオレフィンを重合条件下で接触させることで反応を起こさせることを含む方法。
１７．　Ｍがチタンである請求の範囲第１６項記載の方法。
１８．　ＸがＣ1-20ヒドロカルビル基である請求の範囲第１７項記載の方法。
１９．　該エチレンポリマーにエチレンを≧８０モルパーセントそして１種以上のアルファ−オレフィンまたはジオレフィンコモノマー類を≦２０モルパーセント含める請求の範囲第１６項記載の方法。
２０．　該触媒が支持触媒である請求の範囲第１６項記載の方法。」（特許請求の範囲の請求項１〜２０）
　
１−イ．「本発明に従って有効に重合するモノマー類には、例えばエチレン系不飽和モノマー類、共役もしくは非共役ジエン類、ポリエン類などが含まれる。好適なモノマー類には、Ｃ2−Ｃ10α−オレフィン類、特にエチレン、プロペン、イソブチレン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテンおよび１−オクテンが含まれる。」（12頁22〜26行）
　
１−ウ．「Ｌ基に関する上記定義には、特にシクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、テトラヒドロフルオレニルおよびオクタヒドロフルオレニル、並びに上に示した不活性置換基を有するこれらの誘導体が含まれる。」（23頁17〜20行）
　
１−エ．「好適に用いる触媒／共触媒のモル比は１：１０，０００から１００：１、より好適には１：５０００から１０：１、最も好適には１：１０から１：１の範囲である。」（39頁24〜26行）
　
１−オ．「
触媒支持体
　この支持体は、典型的に、公知の固体状触媒支持体、特に多孔質の支持体、例えばタルク、無機酸化物および樹脂状支持体材料、例えばポリオレフィン類などのいずれであってもよい。この支持体材料は、好適には粒子形態の無機酸化物である。
　本発明に従って望ましく使用するに適切な無機酸化物材料には、２、３、４、１３または１４族金属の酸化物が含まれる。最も好適な触媒支持体材料にはシリカ、アルミナ、シリカ−アルミナおよびそれらの混合物が含まれる。単独でか或は上記シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナと組み合わせて用いることができる他の無機酸化物はマグネシア、チタニア、ジルコニアである。しかしながら、他の適切な支持体材料、例えば微細ポリオレフィン類、例えば微細ポリエチレンなどを用いることも可能である。
　……
　この触媒製造で用いる無機酸化物支持体は、吸着水分または表面水酸基を実質的に含有しないような如何なる粒子状酸化物または混合酸化物であってもよい。表面水酸基を含有する支持体を用いる場合、乾燥または脱水処理を用いる必要がある。この支持体の脱水を行うタイミングは決定的ではない、即ちこの支持体を用いる直前に脱水を行ってもよいか、或はこの支持体の脱水を一度行うことを条件として、数日前に行ってこれを水分および不純物から保護してもよい。この支持体の脱水を行う熱処理は、真空中でか或は乾燥した不活性ガス、例えば窒素などで浄化しながら、１００℃から１０００℃、好適には３００℃以上から９００℃、より好適には５００℃から８５０℃の温度で実施可能である。圧力に関する考慮は決定的ではない。熱処理時間は１−１００時間、好適には２−２４時間であってもよい。
　粒子状の無機材料、例えばシリカなどを低沸点の不活性炭化水素、例えばヘキサンなどの中に入れてスラリーを生じさせることを通して、この支持体の脱水を行うための化学的脱水または化学的処理を達成することができる。この化学的脱水反応中、水分および酸素が入っていない雰囲気の中に支持体、好適にはシリカを保持すべきである。次に、このシリカのスラリーに化学脱水剤の低沸点不活性炭化水素溶液を加える。有用な化学剤は、例えば活性シラン類、例えばトリメチルクロロシランまたはヘキサメチルジシラザンなど、およびアルキル金属化合物、例えばジブチルマグネシウム、ジエチル亜鉛、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウムなどであり、トリメチルアルミニウムおよびトリエチルアルミニウムが特に好適である。支持体１グラムに対する金属アルキルのミリモル比は０．１から１００であってもよく、１から１０の比が好適である。この化学的脱水は−１００℃から３００℃（好適には０℃から１００℃）の温度で実施可能であり、接触時間は１分から４８時間、好適には１５分から２時間の範囲であってもよい。この処理したシリカを濾別し、芳香族溶媒、例えばトルエンまたはキシレンなどで洗浄して、活性化量で生じる可能性のある如何なるアルモキサン類も除去した後、真空中または不活性ガスの乾燥流れ中で乾燥させるが、この乾燥を行う前に軽質脂肪族炭化水素（ペンタン類またはヘキサン類）で任意に洗浄してもよい。」（46頁18行〜48頁12行）
　
１−カ．「
実験
　特に明記しない限り、直径が４インチで長さが３０インチの流動ゾーンおよび直径が８インチで長さが１０インチの速度降下ゾーン（これらは先細り壁を有する移行部分で連結している）を有する６リットルの気相反応槽の中で全ての重合を２０−８０ｐｓｉの窒素圧下で実施した。
典型的な運転範囲は４０から１００℃、２５０から３５０ｐｓｉａ、および８時間以内の反応時間である。エチレン、コモノマー（用いる場合）および水素を反応槽の底から入れ、ここでこれらを気体分配板の中に通す。この気体流量は最小粒子流動速度［……］の２から８倍である。懸濁している固体の大部分が上記速度降下ゾーンの中で離れる。反応体ガスが上記流動ゾーンの上から出た後、このガスを粉じん用フィルターに通すことで如何なる微細物も除去する。次に、このガスをガスブースターポンプ（gas booster pump）に通す。この反応過程に渡って反応槽内にポリマーが蓄積する。この反応を行っている間、この反応槽の中に入れるエチレンの流量を調節することで全システム圧を一定に保つ。上記流動ゾーンの底に位置させたバルブを開けることでポリマーを反応槽から取り出して回収用容器に入れる。このポリマー回収用容器の圧力を反応槽の圧力より低く保つ。報告するエチレン、コモノマーおよび水素の圧力は分圧を指す。支持体として用いるポリエチレン粉末は高密度のホモポリマーである。米国特許第５，１８９，１９２号（これは引用することによって本明細書に組み入れられる）に従ってチタン錯体である(Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)ＴｉＭｅ2を調製し、そしてＺ．Ｎａｔｕｒｆｏｒｓｃｈ．２０ｂ、５−１１（１９６５）に教示されている手順に従ってボラン錯体であるＢ(Ｃ6Ｆ5)3を調製する。
　支持体として用いるに先立って、シリカをアルミニウムアルキルであるトリエチルアルミニウム（ＴＥＡ）で処理した。この前処理の目的は、シリカから如何なる残存水および／または水酸基も除去することであった。次に、この前処理を行った後のシリカをトルエンで数回洗浄することにより、脱水過程中に結果として生じる可能性のある如何なる残存ＴＥＡまたはアルモキサンも除去した。次に、この支持体を減圧下で乾燥させた。ある場合には、乾燥を行う前の支持体をヘキサンで洗浄した。このシリカ上に残存している可能性のある如何なる量のアルモキサンも、存在していたとしても活性を示さない量である（実施例２０および２１参照）。
実施例１
触媒／支持体製造
　予めふるいにかけて２５メッシュ以上の如何なる粒子も除去しておいた、メルトインデックスがゼロの高密度ポリエチレン粉末０．６４０ｇと一緒に、トルエン中の０．００５Ｍの(Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)ＴｉＭｅ2溶液の一定分量（４ｍＬ）（２０μモル）およびトルエン中０．００５ＭのＢ(Ｃ6Ｆ5)3溶液４．８ｍＬ（２４μモル）を撹拌した。溶媒を除去すると、自由流れを示す淡黄色の粉末が得られた。この得られる触媒組成物を各重量が約０．３２ｇの部分に２分割した。
重合
　エチレン圧および水素圧がそれぞれ２７０ｐｓｉおよび０．８ｐｓｉ（０．３モル％）下の反応槽に、５７℃の温度で、上で調製した一触媒部分を加えた。２℃の発熱を観察した。１時間後、２番目の触媒部分を加えた。９℃の発熱を観察した。１１．２４のメルトインデックスを示すポリマーの収量は２６gであった。
実施例２
触媒／支持体製造
　上記チタン錯体およびボラン錯体を各々４０μモル用いそしてメルトインデックスがゼロのポリエチレン粉末を０．６００ｇ用いる以外は実施例１と同様にして、ポリエチレン支持触媒を生じさせた。この得られる触媒組成物を各重量が約０．３０ｇの部分に２分割した。
重合
　実施例１と同様な様式で、エチレン圧および水素圧がそれぞれ２５０ｐｓｉおよび０．５５ｐｓｉ（０．２２モル％）下の反応槽に、６０℃の温度で、上で調製した一触媒部分を加えた。１℃の発熱を観察した。約３０分後、２番目の触媒部分を加えた。７４℃の発熱を観察した。ポリマーを２部分状態で取り出した、即ち０．１８５のメルトインデックスを示すポリマー粉末を１９ｇ、そして融解した外観を有していて０．５７５のメルトインデックスを示すポリマー片を２１．３ｇ取り出した。
実施例３
触媒／支持体製造
　上記(Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)ＴｉＭｅ2溶液２ｍＬ（１０μモル）および上記Ｂ(Ｃ6Ｆ5)3溶液２．４ｍＬ（１２μモル）をメルトインデックスが１１．４のポリエチレン粉末を０．６００ｇと一緒にする以外は実施例１と実質的に同じ様式で支持触媒を調製した。この得られる支持触媒０．３０ｇ（５μモルのチタン錯体、６μモルのボラン錯体）を次の重合で用いた。
重合
　エチレン圧を３００ｐｓｉにする以外は実施例２と同様に重合を２段階で実施した。この重合中、窒素を存在させなかった。初期温度を６１℃にした。最初の触媒部分を加えて約１時間後に２番目の触媒部分を加えた。メルトインデックスがゼロの粒状ポリマーの収量は２５．４ｇであった。
実施例４
触媒／支持体製造
　メルトインデックスが０．５９のポリエチレンおよび１２μモルのボラン錯体を用いる以外は実施例３と同様にしてポリエチレン支持触媒を生じさせた。
重合
　エチレン圧を２９０ｐｓｉにする以外は実施例３と同様に重合を実施した。この重合中、窒素を存在させなかった。初期温度を６６℃にした。最初の触媒部分を加えた時に４℃の発熱を観察した。２番目の触媒部分を加えた時に２４℃の発熱を観察した。メルトインデックスがゼロの粒状ポリマーの収量は４３．９ｇであった。
実施例５
触媒／支持体製造
　予めふるいにかけて２５メッシュ以上の如何なる粒子も除去しておいた、メルトインデックスが０．３３の高密度ポリエチレン粉末０．６００ｇと一緒に、トルエン中の０．００５Ｍの(Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)ＴｉＭｅ2溶液の一定分量（４ｍＬ）（２０μモル）およびトルエン中０．００５ＭのＢ(Ｃ6Ｆ5)3溶液４．８ｍＬ（２４μモル）を撹拌した。溶媒を除去すると、自由流れを示す淡黄色の粉末が得られた。
重合
　水素が０．２５モル％（エチレンを基準、０．６５ｐｓｉ）入っているエチレンで２６０ｐｓｉに加圧した流動床反応槽の中に、５３℃の温度で、上記固体状支持触媒をある量（０．３０ｇ；１０μモルのチタン錯体、１２μモルのボラン錯体）を導入した。５時間の運転時間後、１．３０のメルトインデックスを示すポリエチレンを８１ｇ取り出した。生産率は１ｇのＴｉ当たり１６９，０００ｇのポリマーであった。
実施例６
触媒／支持体製造
　上記(Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)ＴｉＭｅ2溶液２ｍＬ（１０μモル）および上記Ｂ(Ｃ6Ｆ5)3溶液２．４ｍＬ（１２μモル）をメルトインデックスが０．３３のポリエチレン粉末０．６００ｇと一緒にする以外は実施例１と実質的に同じ様式で支持触媒を調製した。この得られる支持触媒０．３０ｇ（５μモルのチタン錯体、６μモルのボラン錯体）を次の重合で用いた。
重合
　エチレン圧および水素圧をそれぞれ２３０ｐｓｉおよび０．４６ｐｓｉ（０．２０モル％）にするする以外は実施例５と同様にして重合を４７℃の温度で実施した。メルトインデックスが０．６５のポリマーの収量は２７．０ｇであった。
実施例７
重合
　エチレン圧および水素圧をそれぞれ２８０ｐｓｉおよび１．４ｐｓｉ（０．５０モル％）にするする以外は実施例６と同様にして重合を５５℃の温度で実施した。メルトインデックスが１７．３のポリマーの収量は１１．６ｇであった。
実施例８
触媒／支持体製造
　Ｆｉｓｈｅｒ−Ｐｏｒｔｅｒボトルの中で、０．５０１ｇのＤａｖｉｓｏｎ　９５２シリカ（酸素流下９００℃で４時間乾燥させた後、窒素流下で冷却）および３０−４０ｍＬのペンタンを、０．００５Ｍの(Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)ＴｉＭｅ2溶液２ｍＬ（１０μモル）および０．００５ＭのＢ(Ｃ6Ｆ5)3溶液２ｍＬ（１０μモル）と一緒にした。この容器を６ｐｓｉのエチレンで２時間加圧した。溶媒を除去すると、乾燥したプレポリマー支持体が得られた。この支持体ポリマー０．５００ｇに、０．００５Ｍの(Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)ＴｉＭｅ2溶液を４ｍＬ（２０μモル）および０．００５ＭのＢ(Ｃ6Ｆ5)3溶液を４ｍＬ（２０μモル）加えた。溶媒を除去すると、乾燥した粉末が得られた。
重合
　この上で調製した触媒／支持体を用い、エチレン圧および水素圧をそれぞれ２７０ｐｓｉおよび０．３ｐｓｉ（０．３０モル％）にするする以外は、実施例５と同様な様式で重合を６０℃の温度で実施した。メルトインデックスが３．０のポリマーの収量は３０．４ｇであった。
実施例９−１９
　実施例９−１９の要約を表１に示す。この実施例全体を通して、以下に示す数種の異なるシリカを支持体として用いた：Ｄａｖｉｓｏｎ型９５２および９５１、Ｄａｖｉｓｏｎ型０３、Ｃａｌｓｉｃａｔ型ＤおよびＳｈｅｌｌ型９８０−Ｈ。表１に、結果として得られるポリマーの密度、Ｉ2、Ｉ10／Ｉ2および分子量分布（ＭＷＤ）と一緒に個々の実験パラメーター（触媒レベル、温度、モノマー分圧、シリカ型およびシリカ前処理）を含める。
支持体製造
　触媒添加に先立ってシリカをトリエチルアルミニウム（ＴＥＡ）で前処理した。この前処理手順は、最初に２５ｍＬのトルエンに２．０ｇのシリカを加えることを伴っていた。次に、シリンジを用いて、この撹拌しているシリカスラリーに、表１に示す量でＴＥＡを加えた。撹拌を少なくとも１５分間継続した。次に、固体を濾過した後、トルエンで数回洗浄することで如何なる残存ＴＥＡも除去した。次に、この処理したシリカを真空下で乾燥させた。
支持触媒の製造
　撹拌している０．１２５ｇのシリカに、表１に示す如き適切な量で、トルエン中０．００５Ｍまたは０．０１０ＭのＢ(Ｃ6Ｆ5)3溶液およびヘキサン中０．００５Ｍの(Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)ＴｉＭｅ2溶液（非常に淡い黄色）を加えると、明るい黄色のスラリーが得られた。次に、この撹拌しているスラリーから溶媒を真空下で除去すると、自由流れを示す粉末として触媒が得られた。
一般的重合手順
　全ての支持触媒量、入っているチタンおよびボラン量、エチレン、１−ブテンおよび水素の圧力、反応槽の温度、運転時間および反応収量を表１に示す。窒素、エチレン、１−ブテンおよび水素で３００ｐｓｉに加圧した流動床反応槽に固体状の支持触媒を示した量で導入した。示した運転時間後、加圧内容物の排気を行うことでポリマーを反応槽から取り出して回収用容器に入れた。
実施例２０
触媒／支持体製造
　０．５ｍＬのＴＥＡおよび２．０ｇのシリカを用い、実施例９−１９の「支持体製造」と同様にして、Ｄａｖｉｓｏｎ　９５２シリカの前処理を行った。
　(Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)ＴｉＭｅ2を３μモル、Ｂ(Ｃ6Ｆ5)3を９μモルおよび上で処理したシリカを０．１０ｇ用い、実施例９−１９の「支持触媒の製造」と同様にして、触媒の製造を行った。
重合
　２４０ｐｓｉのエチレン、９ｐｓｉの１−ブテン、１．２ｐｓｉの水素および５１ｐｓｉの窒素で加圧した流動床反応槽に上記固体状支持触媒を導入した。初期温度を７４℃にし、運転時間を７８分間にした。粒状粉末の収量は５．５gであった。」（48頁18行〜54頁20行）
　
１−キ．「
」（57頁の表１）
　
ｃ．刊行物１に記載の発明
　刊行物１には、摘示事項１−アの記載からみて、次の発明（以下、「刊行物１発明」という。）が記載されている。
「エチレンポリマーを製造する流動床気相方法であって、
Ａ）　１）式：
　　　　　　　　　 Ｚ
　　　　　　　　 ／　＼
　　　　　　　 Ｌ　　　Ｙ
　　　　　　　　 ＼　／
　　　　　　　　　 Ｍ
　　　　　　　　 ／　＼
　　　　　　　(Ｘ')q　 (Ｘ)n　
［式中、
Ｍは、形式的酸化状態が＋３または＋４のチタンであり、
Ｌは、環状で非局在化していて芳香族的でアニオン性のπ系を含む基であり、これを通してＬ基がＭに結合しており、そしてこのＬ基はまたＺに結合しており、ここで、上記Ｌ基は６０個以下の非水素原子を有し、
Ｚは、ＬとＹの両方に共有結合していてホウ素または元素周期律表の１４族の一員を含む部分であり、ここで、上記部分は６０個以下の非水素原子を有し、
Ｙは、窒素、燐、硫黄または酸素を含む部分であり、これを通してＹがＺとＭの両方に共有結合しており、ここで、上記部分は２５個以下の非水素原子を有し、
Ｘ'は、各場合とも独立して、４０個以下の非水素原子を有するルイス塩基であり、
Ｘは、各場合とも独立して、２０個以下の非水素原子を有する一価のアニオン部分であるが、しかしながら、いずれのＸも、Ｍにπ結合する芳香族基でない場合、任意に、２つのＸ基が一緒に共有結合して、両方の原子価がＭに結合する二価のジアニオン部分を形成していてもよいか、
或は更に任意に、１つ以上のＸと１つのＸ'基が一緒に結合し、それによって、両方がＭに共有結合しそしてルイス塩基官能性でそれに配位する部分を形成していてもよいことを条件とし、
ｑは、０から１の数であり、そして
ｎは、Ｍの形成的酸化状態に応じて１または２である］
に相当する金属錯体、および
　２）アルモキサン以外の中性ルイス酸、並びに非ポリマー状で適合性を示す、非配位性の、イオンを形成する化合物、から成る群から選択される活性化用共触媒、または
Ｂ）　活性化量でアルモキサンが存在していない、活性化技術を用いて上記式で表される錯体を活性触媒に変化させることで生じさせた反応生成物、
を含む支持触媒にエチレンまたはエチレンと少なくとも１種の共重合性アルファ−オレフィンもしくはジオレフィンを重合条件下で接触させることで反応を起こさせることを含む方法。」
　
ｄ．対比・判断
　補正発明と刊行物１発明とを対比すると、刊行物１発明における金属錯体は、その配位構造並びに摘示事項１−アの請求項１６の記載及び摘示事項１−ウのＬに関する記載からみて、「モノ−Ｃｐメタロセン錯体成分」に該当するから、「Ｔｉを中心金属として有するモノ−Ｃｐメタロセン錯体成分」といえる。
　また、刊行物１発明の「支持触媒」は摘示事項１−アの請求項６に記載のとおり「支持体」を有するものであり、同じく請求項１５には「支持体を予め処理する」ことが特定されており、また、摘示事項１−オには当該支持体は「吸着水分または表面水酸基を実質的に含有しないような如何なる粒子状酸化物または混合酸化物であってよい。表面水酸基を含有する支持体を用いる場合、乾燥または脱水処理を用いる必要がある。」と記載されていることから、「脱水支持体材料を含んでなる支持体材料成分」を有するものといえる。
　さらに、刊行物１発明における「活性化用共触媒」は、補正発明における「活性化剤」に他ならない。
　そして、刊行物１発明における「流動床気相方法」は、「流動床気相反応槽」で実施することは自明であり（なお、記載事項１−カには、「気相反応槽の中」で重合を実施した旨の記載もある。）、当該「流動床気相反応槽」は補正発明における「重合反応槽」に該当する。
　そうすると、補正発明と刊行物１記載とを対比すると、両者は「エチレンモノマーまたはエチレンモノマーと１種以上のコモノマーを重合させてポリマーを生じさせる方法であって、この方法を、
１）１種以上の脱水支持体材料を含んで成る支持体材料成分、
２）１種以上のメタロセン錯体を含んでいるメタロセン錯体成分であって、かつ、該メタロセン錯体がＴｉを中心金属として有するモノ−Ｃｐメタロセン錯体を含んでなるメタロセン錯体成分、
３）１種以上の活性化剤を含んでいる活性化剤成分、
を含んでなる触媒成分から作製されたオレフィン重合用支持型触媒系の存在下の重合反応槽内で実施する、方法。」である点で一致し、以下の点で相違するものと認められる。
　
相違点１：
　重合させるモノマーについて、補正発明では、「エチレンモノマーまたはエチレンモノマーと１−ブテンもしくは１−ヘキセンから選択される１種以上のコモノマー」と特定されているのに対し、刊行物１発明では、「エチレンまたはエチレンと少なくとも１種の共重合性アルファ−オレフィンもしくはジオレフィン」と規定されている点
　
相違点２：
　メタロセン錯体成分におけるメタロセン錯体の総充填範囲について、補正発明では、「支持体材料成分１グラム当たり０．１から２５μモルで使用されている」（以下「総充填範囲要件」又は「触媒要件ａ」という。）と特定されているのに対し、刊行物１発明についてはこの要件についての規定がない点。
　
相違点３：
　活性化剤成分におけるメタロセン錯体の総モルに対する活性化剤の総モルのモル比の範囲について、補正発明では、「０．５から２．５で使用されている」（以下「活性化剤量要件」又は「触媒要件ｂ」という。）と特定されているのに対し、刊行物１発明についてはこの要件についての規定がない点。
　
相違点４：
　オレフィン重合用支持型触媒系の使用について、補正発明では、活性触媒が「モノマー１モル当たり０．０１ｘ１０-6から６ｘ１０-6モルの範囲である触媒濃度」（以下、「触媒濃度要件」又は「触媒要件ｃ」という。）及び「１時間毎に触媒１モル当たり少なくとも２．４×１０7ｇのポリマーがもたらされるような触媒効率」（以下、「触媒効率要件」又は「触媒要件ｄ」という。）で用いると特定されているのに対し、刊行物１発明についてはこれらの要件についての規定がない点。
　
　そこで、以下、相違点１〜４について検討する。
◎相違点１について
　刊行物１発明は「エチレンまたはエチレンと少なくとも１種の共重合性アルファ−オレフィンもしくはジオレフィンを重合条件下で反応させる」ものであるから、「エチレン」を重合させる点（なお、エチレンの単独重合については、摘示事項１−カの実施例１〜８で実際に重合させている。）において相違しないものといえるし、また、刊行物１の摘示事項１−イには、重合させるモノマー類として１−ブテンや１−ヘキセンが例示されており、摘示事項１−カの実施例９〜２０では、実際にエチレンと１−ブテンの共重合を行っていることから、いずれにしてもこの点において刊行物１発明が補正発明と相違するものということはできない。
　
◎相違点２について
　刊行物１の摘示事項１−カ及び１−キに記載された実施例について、支持体材料成分１グラム当たりのメタロセン錯体の使用量を計算すると次のとおりである。
・実施例３、４、６、７：１６．７μモル（１０μモル／０．６００ｇ−ポリエチレン粉末）
・実施例９、１４、１５、１９：８．０μモル（１μモル／０．１２５ｇ−シリカ）
・実施例１０〜１３、１６〜１８：１６．０μモル（２μモル／０．１２５ｇ−シリカ）
　そうすると、これらの実施例においては補正発明で特定する総充填範囲要件を満足しており、この点において刊行物１発明と補正発明が相違するものということはできない。
　
◎相違点３について
　刊行物１の摘示事項１−カ及び１−キに記載された実施例について、メタロセン錯体の総モルに対する活性化剤の総モルの比を計算すると次のとおりである。
・実施例１、３〜７：１．２（２４μモル／２０μモル又は１２μモル／１０μモル）
・実施例２、８：１．０（４０μモル／４０μモル又は３０μモル／３０μモル）
　そうすると、これらの実施例においては補正発明で特定する活性化剤量要件を満足しており、この点において刊行物１発明と補正発明が相違するものということはできない。
　なお、実施例９〜２０は当該モル比がすべて３．０（３μモル／１μモル又は６μモル／２μモル）と計算され、補正発明で特定する活性化剤量要件を満足するものではないが、摘示事項１−エにおける記載からかんがみれば、３．０のモル比に拘泥されるべきものではなく、上記した実施例１〜８で採用された範囲にすることも格別なことではないものと認められる。
　
◎相違点４について
〔触媒濃度要件〕
　刊行物１の摘示事項１−カ及び１−キに記載された実施例について、モノマー１モル当たりの触媒濃度を計算すると次のとおりである。なお、モノマーのモル数は下記計算式により求められる。
・実施例１：６リットルの反応容器を用い、エチレン分圧２７０ｐｓｉ、５７℃であるからエチレンのモル数は４．０７モルと計算される。そうすると、触媒濃度は(２０／４．０７)×１０-6すなわち４．９×１０-6となる。
　同様に計算すれば、次のとおりである。
・実施例３：エチレン分圧３００ｐｓｉ、６０℃であるから、エチレンは４．４７モル、触媒濃度は２．２×１０-6となる。
・実施例４：エチレン分圧２９０ｐｓｉ、６０℃であるから、エチレンは４．２６モル、触媒濃度は２．３×１０-6となる。
・実施例５：エチレン分圧２６０ｐｓｉ、５３℃であるから、エチレンは３．９７モル、触媒濃度は２．５×１０-6となる。
・実施例６：エチレン分圧２３０ｐｓｉ、４７℃であるから、エチレンは３．５８モル、触媒濃度は１．４×１０-6となる。
・実施例７：エチレン分圧２８０ｐｓｉ、５５℃であるから、エチレンは４．２５モル、触媒濃度は１．２×１０-6となる。
・実施例９：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧６ｐｓｉ、７１℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．５６モル、触媒濃度は０．２８×１０-6となる。
・実施例１０：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧６ｐｓｉ、７０℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．５７モル、触媒濃度は０．５６×１０-6となる。
・実施例１１：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧６ｐｓｉ、６５℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．６２モル、触媒濃度は０．５５×１０-6となる。
・実施例１２：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧６ｐｓｉ、６９℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．５８モル、触媒濃度は０．５６×１０-6となる。
・実施例１３：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧１２ｐｓｉ、６８℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．６８モル、触媒濃度は０．５４×１０-6となる。
・実施例１４：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧１２ｐｓｉ、６９℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．６７モル、触媒濃度は０．２７×１０-6となる。
・実施例１５：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧６ｐｓｉ、６９℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．５８モル、触媒濃度は０．２８×１０-6となる。
・実施例１６：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧６ｐｓｉ、７３℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．５４モル、触媒濃度は０．５７×１０-6となる。
・実施例１７：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧６ｐｓｉ、６７℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．６０モル、触媒濃度は０．５６×１０-6となる。
・実施例１８：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧６ｐｓｉ、７１℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．５６モル、触媒濃度は０．５６×１０-6となる。
・実施例１９：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧６ｐｓｉ、６８℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．５９モル、触媒濃度は０．２８×１０-6となる。
・実施例２０：エチレン分圧２４０ｐｓｉ、１−ブテン分圧９ｐｓｉ、７４℃であるから、エチレン及び１−ブテンの合計量は３．５７モル、触媒濃度は０．８４×１０-6となる。
　そうすると、これらの実施例においては補正発明で特定する触媒濃度要件を満足しており、この点において刊行物１発明と補正発明が相違するものということはできない。
　
＜計算式＞
　理想気体の状態式、ドルトンの分圧の法則から、
　ｐethyleneＶ＝ｎethyleneＲＴ
　ｐ1-buteneＶ＝ｎ1-buteneＲＴ
が成り立つ。そうすると、エチレンのモル数又はエチレンと１−ブテンの合計モル数は、次の式で計算できる。
ｎethylene＝ｐethyleneＶ／ＲＴ
ｎethylene＋ｎ1-butene＝(ｐethylene＋ｐ1-butene)Ｖ／ＲＴ
［ここで、ｎethylene、ｎ1-buteneは、それぞれエチレン、１−ブテンのモル数、
ｐethylene、ｐ1-buteneは、それぞれエチレン、１−ブテンの分圧〔Ｐａ：ただしｐｓｉ単位で示された分圧を０．１４５×１０-3で除した数値〕、
Ｖは反応容器の容積〔６リットル＝６×１０-3ｍ3〕、
Ｔは絶対温度〔Ｋ：ただし、摂氏温度に２７３を加えた数値〕、
Ｒは気体定数〔８．３１４４ＪＫ-1mol-1〕を表す。］
　
〔触媒効率要件〕
　刊行物１の摘示事項１−カ及び１−キに記載された実施例について、触媒効率を計算すると次のとおりである。
　実施例１５は１μモルの触媒を用い、１６分で２４．８ｇの収率であるから、１時間毎に触媒１モル当たり２４．８÷(１×１０-6)÷(１６／６０)＝９．３×１０7ｇのポリマーが得られている。
　また、同じく実施例１４は、１μモルの触媒を用い、６９分で２７．２ｇの収率であるから、１時間毎に触媒１モル当たり２７．２÷(１×１０-6)÷(６９／６０)＝２．４×１０7ｇのポリマーが得られている。
　そうすると、これらの実施例においては補正発明で特定する触媒効率要件を満足しており、この点において刊行物１発明と補正発明が相違するものということはできない。
　
　ここで、相違点１〜４はいずれも実質的な相違点とすることができないものであるが、摘示事項１−カ及び１−キに記載された実施例において、相違点２〜４における触媒要件ａ〜ｄを全て満足するものは記載されていない。
　しかし、本件補正後の明細書（以下、「補正明細書」という。）には、実施例１〜４５が記載されているが、触媒要件ａ〜ｄを全て満足するものは、そのうち実施例８、１３、１５、１７〜２２、２８、３３〜３６の１４例にすぎない。
　そして、触媒要件ａ〜ｃの３つとも満足するが、触媒要件ｄの触媒効率要件を満足しないものは実施例２４、２６、２７、２９、４０〜４３の８例あり、また、触媒要件ｂのみを満足しないが、触媒要件ｄの触媒効率要件を満足するものは実施例１４、１６、２３の３例ある（この３例はメタロセン錯体の総モルに対する活性化剤の総モルのモル比がいずれも３であり、２．５を超えている。）。
　一方、触媒要件ａを満足しない例（実施例１〜７、９〜１２、２５、３０、３１、４４、４５）及び触媒要件ｃを満足しない例（実施例２５のみ。なお、この例は触媒要件ａも満足していない。）はすべて触媒要件ｄの触媒効率要件を満足していない。
　そうすると、少なくとも触媒要件ｂの活性化剤量要件の臨界的意義は明らかとは言えず、触媒要件ｂを満足するか否かと触媒要件ｄを満足するか否かとは直接関係するものではない。そして、刊行物１の摘示事項１−カ及び１−キに記載された実施例１４及び１５は触媒要件ａ、ｃ及びｄを満足し、触媒要件ｂも、メタロセン錯体の総モルに対する活性化剤の総モルのモル比がいずれも３．０であって、補正明細書における実施例１４、１６、２３に相当するものであり、その上、刊行物１には、当該モル比が１．０又は１．２の例（実施例１〜８）も具体的に記載されていることにかんがみれば、触媒要件ｂのモル比の範囲を０．５〜２．５とすることは、当業者が適宜なし得る設計事項と認められ、その効果についても格別なものとすることはできない。
　
ｅ．まとめ
　よって、補正発明１は刊行物１に記載の発明に基づいて当業者が容易になし得たものである。
　
（２）特許法第３６条第６項第１号について
ａ．メタロセン錯体成分について
　補正発明で特定する「Ｔｉを中心金属として有するモノ−Ｃｐメタロセン錯体」の具体例としては、補正明細書の実施例では以下の３例が記載されているにすぎない。
・(η5−Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)−Ｔｉ(Ｍｅ2)：実施例１〜８
・(η5−Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)−Ｔｉ(ｓ−トランス−η4−１，４−トランス，トランス−ジフェニル−１，３−ブタジエン)：実施例９
・(η5−Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮＣＭｅ3)−Ｔｉ(η4−Ｃ5Ｈ8)：実施例１０〜２３、３２〜４５
　このうち、１番目のものについて、補正発明で特定する上記触媒要件ａ〜ｄを全て満足するものは実施例８の１例のみであり、２番目のものは当該触媒要件ａ〜ｄのすべてを満足するものではない。
　同じく、「式：〔省略〕で表されるメタロセン錯体」の具体例としては補正明細書の実施例に次の１例が記載されているにすぎない。
・ラセミ型[１，２−エタンジイルビス(１−インデニル)]ジルコニウム ｓ−トランス(η4−トランス，トランス−１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン)：実施例２４〜２６で使用する触媒ＥＧ４、ＥＧ６及びＰＧＤ８９（なお、実施例２７〜３１で使用しているエチレン−ビスーインデニルジルコニウムジフェニルブタジエン（ＥＢＩ−Ｚｒ−ＤＰＢ）も同一の錯体と認められる。）
　しかも、実施例２４〜３１の１１例のうち、補正発明で特定する上記触媒要件ａ〜ｄを全て満足するものは実施例２８の１例にすぎない。
　触媒成分は、その配位子の種類により種々の触媒活性を有するところ、このような補正明細書における特定のメタロセン錯体の記載から、補正発明で特定する「Ｔｉを中心金属として有するモノ−Ｃｐメタロセン錯体または式：〔省略〕で表されるメタロセン錯体」全体にまで拡張ないし一般化できるものとは認められない。
　
ｂ．活性化剤について
　補正明細書（44頁23行〜61頁18行）には、種々の活性化剤（活性化用共触媒）が記載されているが、実施例において実際に使用されている活性化剤についてはトリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素の１例が記載されるにすぎない。
　ポリオレフィンの重合触媒において、これらの多数の活性化剤が同等の触媒効率をもたらすとは認められず、また、種々の活性化剤についてメタロセン錯体成分の種類と無関係に「メタロセン錯体の総モルに対する活性化剤の総モルのモル比の範囲」がいずれも０．５から２．５の範囲で同等の効果を奏するものということも困難である。
　
ｃ．支持体材料について
　補正明細書（62頁6行〜63頁4行）には、種々の支持体材料が記載されているが、実施例において実際に使用されているのはシリカのみである（ダビソンタイプ９４８シリカ（実施例１〜７、９〜１８、２１〜２３、３２〜４５）、クロスフィールドＥＳ７０Ｙシリカ（実施例８）、シロポルタイプ９４８シリカ（実施例１９、２０）及びクロスフィールドＥＳ７０シリカ（実施例２４〜３１））。
　そうすると、シリカを用いた場合の効果を、シリカ以外の支持体材料を用いた場合にまで拡張ないし一般化できるものとは言えない。
　また、支持体材料１グラム当たりのメタロセン錯体の総充填範囲やその触媒効率を問題にする場合に、支持体材料の多孔性の度合い（表面積・細孔容積など）と無関係であるということもできない。
　そうすると、特定のシリカを用いた場合の効果を他の支持体材料を用いた場合に同じ総充填範囲で同様の作用効果を奏することは明らかでなく、この点についても補正明細書に開示されているものということはできない。
　
（４）まとめ
　上記のとおり、補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、また、同法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていないものであるから、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するか、あるいは同条第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反しており、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３．原査定について
１．本願発明
　上記のとおり、平成２１年９月２４日付けの手続補正書による補正は却下されたので、本願の請求項１〜５８に係る発明は、条約第３４条(2)(b)の規定に基づき提出された補正書の翻訳文により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜５８に記載された事項により特定されるとおりのものと認められ、そのうち、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は以下のとおりのものである。
「オレフィンモノマーまたはオレフィンモノマーと１種以上のコモノマーを重合させてポリマーを生じさせる方法であって、この方法を、
１）１種以上の脱水支持体材料を含んで成る支持体材料成分、
２）１種以上のメタロセン錯体を含んでおり、メタロセン錯体の総充填範囲が支持体材料成分１グラム当たり約０．１から約２５μモルであるように使用されているメタロセン錯体成分、
３）１種以上の活性化剤を含んでおり、メタロセン錯体の総モルに対する活性化剤の総モルのモル比の範囲が約０．５から約２．５であるように使用されている活性化剤成分、
を含んで成る触媒成分から作成されたオレフィン重合用支持型触媒系の存在下の重合反応槽内で実施するが、該触媒系を、活性触媒がモノマー１モル当たり約０．０１ｘ１０-6から約６ｘ１０-6モルの範囲であるような触媒濃度およびポリマーが１時間毎に触媒１ｇモル当たり少なくとも２．４ｘ１０7ｇもたらされるような触媒効率で用いる方法。」
　
２．原査定の拒絶の理由の概要
　これに対して、原査定の拒絶の理由とされた平成２０年７月１７日付け拒絶理由通知書に記載された理由２は、本願請求項１〜５２に係る発明は、下記引用文献１、２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである、というものである。
引用文献１：特表平９−５０２７６１号公報
引用文献２：省略
　
３．判断
　そこで、本願発明が、引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるか否かについて検討する。
（１）引用文献１に記載された事項及び同文献に記載された発明
　引用文献１すなわち特表平９−５０２７６１号公報は、上記した補正却下の決定における独立特許要件の検討の際に引用した刊行物１と同じものであり、当該刊行物には上記第２［理由］５（１）ｂにおいて、１−アないし１−キで摘示したとおりの記載がある。
　また、引用文献１には同５（１）ｃで認定したとおりの発明、すなわち刊行物１発明が記載されている。
　
（２）対比・判断
　本願発明と刊行物１発明とを対比すると、刊行物１発明における金属錯体は、その配位構造ならびに摘示事項１−アの請求項１６の記載及び摘示事項１−ウのＬに関する記載からみて、本願発明における「メタロセン錯体」に該当する。
　また、刊行物１発明の「支持触媒」は摘示事項１−アの請求項６に記載のとおり「支持体」を有するものであり、同じく請求項１５には「支持体を予め処理する」ことが特定されており、また、摘示事項１−オには当該支持体は「吸着水分または表面水酸基を実質的に含有しないような如何なる粒子状酸化物または混合酸化物であってよい。表面水酸基を含有する支持体を用いる場合、乾燥または脱水処理を用いる必要がある。」と記載されていることから、本願発明と同じく「脱水支持体材料を含んでなる支持体材料成分」を有するものといえる。
　さらに、刊行物１発明における「活性化用共触媒」は、補正発明における「活性化剤」に他ならない。
　そして、刊行物１発明における「流動床気相方法」は、「流動床気相反応槽」で実施することは自明であり（なお、記載事項１−カには、「気相反応槽の中」で重合を実施した旨の記載もある。）、当該「流動床気相反応槽」は補正発明における「重合反応槽」に該当する。
　そうすると、本願発明と刊行物１記載とを対比すると、両者は「エチレンモノマーまたはエチレンモノマーと１種以上のコモノマーを重合させてポリマーを生じさせる方法であって、この方法を、
１）１種以上の脱水支持体材料を含んで成る支持体材料成分、
２）１種以上のメタロセン錯体を含んでいるメタロセン錯体成分、
３）１種以上の活性化剤を含んでいる活性化剤成分、
を含んでなる触媒成分から作成されたオレフィン重合用支持型触媒系の存在下の重合反応槽内で実施する、方法。」である点で一致し、以下の点で相違するものと認められる。
　
相違点１：
　メタロセン錯体成分におけるメタロセン錯体の総充填範囲について、本願発明では、「支持体材料成分１グラム当たり約０．１から約２５μモルであるように使用されている」と特定されているのに対し、刊行物１発明についてはこの要件についての規定がない点。
　
相違点２：
　活性化剤成分におけるメタロセン錯体の総モルに対する活性化剤の総モルのモル比の範囲について、本願発明では、「約０．５から約２．５であるように使用されている」と特定されているのに対し、刊行物１発明についてはこの要件についての規定がない点。
　
相違点３：
　オレフィン重合用支持型触媒系の使用について、本願発明では、活性触媒が「モノマー１モル当たり約０．０１ｘ１０-6から約６ｘ１０-6モルの範囲であるような触媒濃度」及び「ポリマーが１時間毎に触媒１ｇモル当たり少なくとも２．４×１０7ｇもたらされるような触媒効率」で用いると特定されているのに対し、刊行物１発明についてはこれらの要件についての規定がない点。
　
　ここで、上位機相違点１〜３はそれぞれ上記第２［理由］５（１）ｄで認定した相違点２〜４と同じである。
　そして、これらの相違点については、同箇所において検討し、同５（１）ｅで判断したとおり、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易になし得たものである。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであり、この理由について原査定の拒絶の理由は妥当なものといえる。
　したがって、他の請求項に係る発明について及び他の拒絶理由について検討するまでもなく、本願は原査定の拒絶理由２のとおり拒絶すべきものである。
　よって、上記結論のとおり審決する。