【事件の表示】
　特願２０００−１８０１９３号「スピン処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年１月８日出願公開、特開２００２−１２４０号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１２年６月１５日の出願であって、平成２２年１月２６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２２年５月６日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、その審判の請求と同時に手続補正がなされたものであって、その請求項１に係る発明は、平成２２年５月６日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである（以下「本願発明」という。）。
　なお、本願発明は実質的に補正前の請求項２に係る発明である。
　
「基板を回転させて洗浄処理及び乾燥処理するスピン処理装置において、
　スピンカップと、
　このスピンカップ内に設けられ上記基板を保持するとともに回転駆動される回転テーブルと、
　上記回転テーブルの径方向外方で、しかもこの回転テーブルに保持された基板の上方に設けられ回転テーブルとともに回転する基板から飛散する液体と交差する方向に気体を噴射して上記液体が上記スピンカップで反射して上記基板に付着するのを阻止する反射防止用ノズル体を有し、
　前記反射防止用ノズル体には、気体を噴射する複数のノズル孔が上記回転テーブルの周方向に沿って環状に、しかも径方向に沿って複数の環状に形成されていることを特徴とするスピン処理装置。」
　
第２　引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由で引用した、特開平４−２６９８２０号公報（以下「引用例」という。）には、次の事項が図面とともに記載されている。
　ア　「図４は、従来のスピン塗布装置の要部である。上下が開口された略円筒形の塗布カップ３０の中央には、ウエハ３１を水平に保持するスピンチャック３２が配置されている。スピンチャック３２は、モータ３３の駆動によって水平面内を高速で回転する。スピンチャック３２に保持されたウエハ３１の上方においてスピンチャック３２の回転軸上には、ウエハ３１の表面にフォトレジストを供給するノズル３４が配置されている。また、塗布カップ３０の壁面においてウエハ３１とほぼ同じ高さの位置には、傾斜部３５が設けられ、ウエハ３１から飛散したフォトレジストが下方に落下し易いようになっている。」（段落【０００３】）
　イ　「ウエハ３１の周辺部に達したフォトレジストの余剰分は、ウエハ３１を離れて塗布カップ３０に向かって飛散し、その内壁に被着する。塗布カップ３０の内壁に被着したフォトレジストの大部分は、傾斜部３５に沿って落下するが、一部は跳ね返ってミストとなり、これがウエハ３１に向かって飛散する。塗布カップ３０には、その上方からエアー排気口３６に向かって流れるエアー（Ａ）が供給されており、これが上記ミストのウエハ３１への再付着を防いでいる。なお、この種の構成を備えたスピン塗布装置については、例えば特開昭６３−７６４３１号公報などに記載がある。」（段落【０００５】）
　ウ　「上記エアー供給口７から供給されるエアーは、インナーカップ６の壁面に沿って下方に流れ、塗布カップ１の底部の周辺部に沿って設けられたエアー排気口８を通じて装置の外部に排気される。エアー供給口７は、塗布カップ１の内壁に沿ってリング状に形成されており、これにより、塗布カップ１とスピンチャック３との間には、円筒形をなすエアーカーテンが形成される。エアー供給口７から供給されるエアー（および溶剤）の量や供給のタイミングは、任意に設定できるようになっている。」（段落【００１７】）
　
　そして、図１には、記載ウに関連して、スピンチャック３の径方向外方で、これに保持されたウエハ２の上方に塗布カップ１の内壁に沿ってリング状に形成されたエアー供給口７が図示されている。また、図４には、記載イに関連して、塗布カップ３０とスピンチャック３２に保持されたウエハ３１との間に、上方からエアー排気口３６に向かって流れるエアー（Ａ）が供給されていることが図示されている。
　
　上記記載について検討すると、記載アには、ウエハを回転させてフォトレジストを塗布処理するスピン塗布装置において、塗布カップと、この塗布カップ内に設けられ、ウエハを水平に保持するとともにモータの駆動により回転するスピンチャックとを有するスピン塗布装置が記載されている。
　また、記載イには、上記装置において、ウエハを離れて塗布カップに向かって飛散したフォトレジストのミストが、塗布カップから跳ね返ってウエハに再付着するのを防ぐため、塗布カップには、その上方から排気口に向かって流れるエアーが供給されることが記載されている。
　エアーを流す上記目的と、図４の図示事項を勘案すると、エアーは、塗布カップとスピンチャックに保持されたウエハとの間を、上方から下方のエアー排気口に向かって上下方向に、すなわちウエハから塗布カップに向かって略水平方向に飛散する液体と交差する方向に、略円筒状に流れることが明らかである。また、記載イに、「塗布カップ３０には、その上方から・・・エアー（Ａ）が供給されており」とあることから、塗布カップの上方（すなわちウエハにとっても上方）にエアーを下方に向かって供給するための手段（以下、便宜上「エアー供給手段」という。）が設けられていることも明らかである。
　
　上記記載ア、イの記載事項及び図４の図示内容を総合し、本願発明の記載ぶりに則って整理すると、引用例には次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されている。
（引用発明１）
「ウエハを回転させて塗布処理するスピン塗布装置において、
　塗布カップと、
　この塗布カップ内に設けられ上記ウエハを保持するとともにモータの駆動により回転するスピンチャックと、
　上記スピンチャックの径方向外方で、しかもこのスピンチャックに保持されたウエハの上方に設けられスピンチャックとともに回転するウエハから飛散する液体と交差する方向にエアーを供給して上記液体が上記塗布カップで反射して上記ウエハに再付着するのを防ぐためのエアー供給手段を有するスピン塗布装置。」
　
　また、上記記載ウの記載事項及び図１の図示内容より、引用例には次の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されている。
（引用発明２）
「スピン塗布装置の塗布カップとスピンチャックとの間に、下方に流れる円筒形をなすエアーカーテンを形成するために、スピンチャックの径方向外方で、これに保持されたウエハの上方に、塗布カップの内壁に沿ってリング状に形成したエアー供給口。」
　
第３　対比
　そこで、本願発明と引用発明１とを対比すると、各文言の意味、機能または作用等からみて、引用発明１の「ウエハ」は、本願発明の「基板」に相当し、以下同様に、「塗布カップ」は「スピンカップ」に、「この塗布カップ内に設けられ上記ウエハを保持するとともにモータの駆動により回転する」「スピンチャック」は「このスピンカップ内に設けられ上記基板を保持するとともに回転駆動される」「回転テーブル」に、それぞれ相当する。
　また、引用発明１の「上記スピンチャックの径方向外方で、しかもこのスピンチャックに保持されたウエハの上方に設けられスピンチャックとともに回転するウエハから飛散する液体と交差する方向にエアーを供給して上記液体が上記塗布カップで反射して上記ウエハに再付着するのを防ぐための」「エアー供給手段」と、本願発明の「上記回転テーブルの径方向外方で、しかもこの回転テーブルに保持された基板の上方に設けられ回転テーブルとともに回転する基板から飛散する液体と交差する方向に気体を噴射して上記液体が上記スピンカップで反射して上記基板に付着するのを阻止する」「反射防止用ノズル体」とは、「上記回転テーブルの径方向外方で、しかもこの回転テーブルに保持された基板の上方に設けられ回転テーブルとともに回転する基板から飛散する液体と交差する方向に気体を噴射して上記液体が上記スピンカップで反射して上記基板に付着するのを阻止する」「気体供給手段」である点で共通する。
　また、引用発明１の「ウエハを回転させて塗布処理する」「スピン塗布装置」と、本願発明の「基板を回転させて洗浄処理及び乾燥処理する」「スピン処理装置」とは、「基板を回転させて表面処理する」「スピン表面処理装置」である点で共通している。
　したがって、両者は、本願発明の用語を用いて表現すると、次の点で一致する。
（一致点）
「基板を回転させて表面処理するスピン表面処理装置において、
　スピンカップと、
　このスピンカップ内に設けられ上記基板を保持するとともに回転駆動される回転テーブルと、
　上記回転テーブルの径方向外方で、しかもこの回転テーブルに保持された基板の上方に設けられ回転テーブルとともに回転する基板から飛散する液体と交差する方向に気体を噴射して上記液体が上記スピンカップで反射して上記基板に付着するのを阻止する気体供給手段を有するスピン表面処理装置。」
　
　そして、両者は、次の点で相違する。
（相違点ａ）
　基板を回転させて表面処理するスピン表面処理装置について、本願発明は、洗浄処理及び乾燥処理をするスピン処理装置であるのに対し、引用発明１は、塗布処理をするスピン塗布装置である点。
　
（相違点ｂ）
　気体供給手段について、本願発明の気体供給手段は、気体を噴射する複数のノズル孔が回転テーブルの周方向に沿って環状に、しかも径方向に沿って複数の環状に形成されている反射防止用ノズル体であるのに対し、引用発明１は、エアー供給手段であるが、その詳細が明らかでない点。
　
第４　判断
　上記相違点について検討する。
（相違点ａについて）
　一般に、半導体基板を回転させ、その表面を処理するスピン表面処理装置が、フォトレジスト、エッチング液、現像液等による薬液処理や、洗浄・乾燥処理に、共通して用いられることは、例えば、原査定の拒絶の理由で引用した、特開平１１−３２９９６０号公報（ウエハをスピンチャックに載せて所定の処理を行うスピナ型ユニットにより、レジスト塗布、洗浄・乾燥処理を伴うレジスト等の現像処理をおこなう点：段落【００１０】、【００３２】等参照）や、特開平５−２５９０６０号公報（回転する半導体ウエハ２にレジスト塗布とウエハ裏面の洗浄とを同じ装置で行う点：段落【０００８】等参照）に示すように周知である。
　また、回転する基板（ウエハ）から飛散した液体がスピンカップ（塗布カップ）で反射して基板（ウエハ）に再付着することを防止するという課題は、薬液処理や、洗浄・乾燥処理に共通した課題であるので、引用発明１を洗浄処理及び乾燥処理に適用し、相違点ａに係る本願発明の発明特定事項のようにすることは、当業者が適宜なし得た事項である。
　
（相違点ｂについて）
　引用例には、スピン塗布装置の塗布カップとスピンチャックとの間に、下方に流れる円筒形をなすエアーカーテンを形成、すなわち、回転テーブル（スピンチャック）とともに回転する基板（ウエハ）から飛散する液体と交差する方向に流れる気流を形成するための手段として、スピンチャックの径方向外方で、これに保持されたウエハの上方に、塗布カップの内壁に沿ってリング状に形成したエアー供給口（引用発明２）が記載されている。
　そこで、引用発明１のエアー供給手段として引用発明２を適用するとともに、適用にあたり、一般に、所定形状の横断面を持つ気流を、該横断面形状に沿って複数のノズル孔を複数列形成した気体供給手段により形成することが、例えば、原査定の拒絶の理由で引用した、特開平６−１２６２６４号公報（複数の取入口１４をリング状に径方向に沿って複数列形成したエアーシャワー板１５：段落【００１２】、図１，２等参照）や、特開平１１−１４５１０４号公報（複数のノズル２が２列に並んで配置されているガス噴出管１：段落【００１２】、図１，２等参照）に示すように周知であることを勘案し、エアー供給口の具体的形状を複数のノズル孔をリング状に径方向に沿って複数列形成して構成し、相違点ｂに係る本願発明の発明特定事項のようにすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　そして、本願発明による効果も、引用発明１及び引用発明２並びに周知技術から当業者が予測し得た程度のものであって、格別のものとはいえない。
　
第５　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明１及び引用発明２並びに周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　
　したがって、本願は、他の請求項について検討するまでもなく拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。