【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年3月2日(2011.3.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理制御装置によって、レーザが光パルスを放出するとともに、位置決め装置がワークピースに対する光パルス放出の相対移動を制御することで、そのワーク上における処理のために前記光パルスをターゲット位置に当てる、レーザに基づくワークピース処理システムにおいて、前記ワークピース上で処理することを意図した複数の各ターゲット位置に順次当たるよう、同じパルスエネルギーの光パルスを発生させる方法であって、
前記処理制御装置に応答して、ワークピース非処理モードのパルス繰返し率で一連のレーザ光パルスを放出するワークピース非処理モードを開始するステップと、
前記ワークピース非処理モードのパルス繰返し率で放出される光パルスが前記ワークピースに当たるのを遮断するステップと、
前記ワークピース非処理モードからワークピース処理モードに切り替え、そのワークピース処理モードにおいて、前記処理制御装置が、パルス位置決め制御信号を位置決め機構に向けて、その位置決め機構を所定の位置決め速度で移動させ、そのパルス位置決め制御信号が、ワークピースターゲット位置及び連続するワークピースターゲット位置間のワークピース中間位置にそれぞれ対応する互いに離間したレーザパルス放出コマンド座標を表し、前記処理制御装置によって、レーザパルス放出コマンド座標と、前記位置決め機構が前記位置決め速度で移動する際のワークピースターゲット位置及びワークピース中間位置と、の間の一致によって決定される、ワークピース処理モードのパルス繰返し率でのレーザ光パルス放出を行うステップと、
前記レーザパルス放出コマンド座標が前記ワークピースターゲット位置に一致する際に前記レーザ光パルスの放出を透過させ、それ以外の場合には、前記レーザ光パルスの透過を遮断し、前記ワークピース非処理モードのパルス繰返し率及びワークピース処理モードのパルス繰返し率で連続的に光パルスを放出した結果、同じパルスエネルギーの光パルスをワークピースターゲット位置に供給するステップと
を具えることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記レーザが赤外レーザを具えることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記レーザは赤外レーザを具え、非線形的な調波発生プロセスを用いて、前記レーザのパルスを赤外波長から５００ｎｍ未満の波長に変換することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記ワークピース非処理モードのパルス繰返し率及び前記ワークピース処理モードのパルス繰返し率をほぼ等しくしたことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記ワークピース非処理モードのパルス繰返し率と前記ワークピース処理モードのパルス繰返し率のうちの少なくとも一方を、ユーザによって予め決定されたパルス繰返し率に設定したことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記ワークピース非処理モードのパルス繰返し率及び前記ワークピース処理モードの繰返し数を、前記レーザの最大パルス繰返し率にほぼ等しくしたことを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項７】
前記ワークピース非処理モードからワーク処理モードに切り替えることによって、光パルスの放出が生じる中間遷移期間を発生させ、その中間遷移期間中に発生した光パルス放出を前記ワークピースに当てるのを遮断するステップを更に具えることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記ワークピースは前記位置決め装置に支持されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記ワークピースは固定されるとともに、前記位置決め装置は、前記レーザ光パルス放出を移動させることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記ワークピースを、固定された第１軸線方向に移動させ、前記レーザ光パルス放出を、第２軸線方向に移動させることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記光パルス放出を遮断するためにＡＯＭを用いることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記光パルス放出を遮断するためにＥＯＭを用いることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記レーザが固体レーザであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
レーザ処理アプリケーションが典型的にはプログラムされた処理位置のシーケンスを通じてワークピース上のターゲット位置を急速に移動させるためにポジショナを用いることも既知である。ポジショナの移動及びレーザパルスタイミングは非同期であり、そのようなアプリケーションでは、本来広範囲のＰＲＦを有するＯＴＦモードで動作するレーザを必要とする。結果的に得られる広範囲のパルス間隔によって、対応するパルスにパルスエネルギー変動が生じるとともにパルス出射タイミングが不明確となり、これによって、ワークピース上のレーザパルス位置決めが不正確になる。したがって、この出願の譲受人に譲り受けられた「放射ビーム位置及び放出座標システム」の米国特許番号第5,453,594号は、ＯＴＦレーザパルス放出を制御する可変クロックを用いてポジショナを制御するクロックに対して同期をとる技術を記載している。同期をとったクロックによって、レーザは、ワークピース上のターゲット位置を横切るポジショナの移動に同期をとってパルスを放出することができ、これによって、レーザパルス位置決め精度を向上させる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
上記レーザプロセシングアプリケーションは、典型的には、１０４７ｎｍ又は１０６４ｎｍの基本波長を有する赤外（ＩＲ）レーザを用いる。出願人は、典型的には５００ｎｍ未満の紫外（ＵＶ）エネルギー波長を用いることによって複数のレーザ処理アプリケーションを向上させることを発見した。そのようなＵＶ波長を、ＩＲレーザの２次、３次又は４次調波を刺激する調波発生プロセスをＩＲレーザに受けさせることによって発生させる。しかしながら、そのようなＵＶレーザのパルス間エネルギーレベルは、ＰＲＦ及びパルス間隔変動に対して特に反応する。
したがって、高精度のＯＴＦレーザプロセッシングアプリケーションにおいて高ＰＲＦで安定したＵＶレーザプロセッシングパルスエネルギーを発生させる装置及び方法が必要とされる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
【発明の開示】
したがって、本発明の目的は、処理制御装置によってレーザが光パルスを放出するとともに、位置決め装置がワークピースに対する光パルス放出の相対移動を制御することで、そのワーク上における処理のために前記光パルスをターゲット位置に当てる、レーザに基づくワークピース処理システムにおいて、前記ワークピース上で処理することを意図した複数のターゲット位置に順次当たるよう、同じパルスエネルギーの光パルスを発生させる方法であって、
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
前記処理制御装置に応答して、ワークピース非処理モードのパルス繰返し率で一連のレーザ光パルスを放出するワークピース非処理モードを開始するステップと、
前記ワークピース非処理モードのパルス繰返し率で放出される光パルスが前記ワークピースに当たるのを遮断するステップと、
前記ワークピース非処理モードからワークピース処理モードに切り替え、そのワークピース処理モードにおいて、前記処理制御装置が、パルス位置決め制御信号を位置決め機構に向けて、その位置決め機構を所定の位置決め速度で移動させ、そのパルス位置決め制御信号が、ワークピースターゲット位置及び連続するワークピースターゲット位置間のワークピース中間位置にそれぞれ対応する互いに離間したレーザパルス放出コマンド座標を表し、前記処理制御装置によって、レーザパルス放出コマンド座標と、前記位置決め機構が前記位置決め速度で移動する際のワークピースターゲット位置及びワークピース中間位置と、の間の一致によって決定される、ワークピース処理モードのパルス繰返し率でのレーザ光パルス放出を行うステップと、
前記レーザパルス放出コマンド座標が前記ワークピースターゲット位置に一致する際に前記レーザ光パルスの放出を透過させ、それ以外の場合には、前記レーザ光パルスの透過を遮断し、前記ワークピース非処理モードのパルス繰返し率及びワークピース処理モードのパルス繰返し率で連続的に光パルスを放出した結果、同じパルスエネルギーの光パルスをワークピースターゲット位置に供給するステップとを具えることを特徴とする方法を提供することである。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
ＵＶレーザ装置２４は、好適には、ダイオードポンプ音響光学ＱスイッチＮｄ：ＹＶＯ４ レーザのようなＱスイッチ固体ＩＲレーザ２６と、ＩＲレーザ２６のパルス振幅を変調するＡＯＭ２８と、周知の２次、３次又は４次調波変換処理を用いることによってＩＲレーザ２６からの赤外波長放射を緑色及び／又はＵＶ波長に変換する周波数逓倍回路３０とを有する。ＡＯＭ２８を、破線で示すようにＡＯＭ３２の位置で示すように周波数逓倍回路３０の後方に配置することもできる。いずれの例でも、レーザコントローラ３４は、ＡＯＭ２８又は３２の透過率を制御して、ワークピース２０方向に向けたＵＶレーザビーム２２を伝送し又は遮断する。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
システム制御コンピュータ１２は、組込み式制御コンピュータ１４へのバス３６を通じて、ワークピース２０の位置座標を、レーザ処理に要求される位置に設定する。典型的な標本処理アプリケーションにおいて、ワークピース２０は、一部のみ処理を必要とするヒュージブルリンクのような規則的に離間した装置構造を有する。処理に要求される位置は、ターゲット位置と称され、処理が要求されない位置は、中間位置と称される。組込み式制御コンピュータ１４は、ほぼ等しい時間間隔でＩＲレーザ２６をトリガするために離間された中間位置座標をターゲット位置座標に追加する。組込み式制御コンピュータ１４は、ターゲット位置座標及び中間位置座標を、予め設定された速度で一度に、バス３８を通じてビーム位置コントローラ１６のレジスタ４０に供給し、それと同時に、バス４２を通じてレーザコントローラ３４のレジスタ４４に制御データをロードする。予め設定された速度によって、Ｘ−Ｙコントローラ１８の移動速度を制御し、制御データは、座標位置が処理すべきターゲット位置であるか否かを表し、モード及びタイミング情報も有する。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
レーザコントローラ３４は、オートパルス(autopulse)モード又はパルスオンポジション(pulse-on-position)モードでタイマ４６を操作する。オートパルスモードにおいて、タイマ４６は、レジスタ４４の制御データに応答して始動し、パルスオンポジションモードにおいて、タイマ４６は、ビーム位置コントローラ１６のコンパレータ５０からの位置一致信号４８の受信に応答して始動する。ビーム位置コントローラ１６の位置エンコーダ５２は、Ｘ−Ｙポジショナ１８の現在の位置をコンパレータ５０に示し、現在の位置が、レジスタ４０に格納された位置座標に整合すると、ワークピース２０がターゲット位置上又は中間位置上に適切に配置されたことを表す位置一致信号４８を発生させる。したがって、ワークピース２０がターゲット位置上に配置された場合、タイマ４６は、ＩＲレーザ２６のＱスイッチを操作するとともに、割込み５４が行われるサイクルがタイマ４６から組込み式制御コンピュータ１４に供給されるまでＡＯＭ２８を透過状態に設定する。ＡＯＭ２８の透過率を、好適には、レーザパルス開閉装置又はパルス振幅変調器として制御可能にする。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
図２を更に参照すると、本発明によって実施されるワークピースプロセス５６は、ワークピース２０上のターゲット位置に対して安定したパルス間ＵＶレーザ装置２４の処理エネルギーを提供する。
開始ブロック５８は、ワークピースプロセス５６の開始を表す。
オートパルスモードブロック６０は、組込み式制御コンピュータ１４によって制御システム１０をデフォルトオートパルスモードに設定することを表し、この場合、タイマ４６がユーザプログラマブルＰＲＦでＩＲレーザ２６をトリガする。
オートパルスモードにおいて、タイマ４６の論理は、パルスブロック信号ライン６２を真に設定して、ＡＯＭ２８をオフにし、これによって、ＵＶレーザ装置２４から放出された使用可能なエネルギー量がワークピース２０に到達するのを防止する。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
座標ローディングブロック６８は、組込み式制御コンピュータ１４がバス３８を通じてレジスタ４０に位置座標を供給するとともにパルスオンポジションモードをイネーブルするデータをバス４２を通じてレーザコントローラ３４に供給することを表す。パルスブロック信号ライン６２は、ＡＯＭ２８によってＵＶレーザ装置２４のパルスエネルギーがワークピース２０に伝達するのを防止し続ける。
最終座標決定ブロック７０は、位置座標が現在のＯＴＦ処理実行中の実行終了位置座標であるか否かの決定の検査を表す。実行最終位置座標である場合、処理はオートパルスモードブロック６０に戻る。
実行最終位置座標でない場合、処理は、位置座標に応じたビームポジショナ１８の移動を表すポジショナ移動ブロック７２に続く。
位置比較決定ブロック７４は、位置エンコーダ５２のデータとレジスタ４０に格納された位置座標との比較を表し、そのデータと座標とが整合する場合、コンパレータ５０が位置一致信号４８を発生させる。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
タイマ開始ブロック７６は、受信位置一致信号４８に応答したタイマ４６の始動を表す。タイマ４６は、（処理ウィンドウ要求に適合するようにユーザによってプログラマブルな）予め設定された時間間隔でＩＲレーザ２６からのレーザパルスをトリガするためにＱスイッチゲーティングライン７８を駆動する。
タイマ４６がタイムアウトする前に、パルス伝送決定ブロック８０は、位置一致信号４８及びパルスブロック信号ライン６２の状態に応じたＡＯＭ２８のレーザパルスブロック状態８１又はレーザパルス伝送状態８２への設定を表す。
レーザトリガブロック８４は、タイマ始動ブロック７６に応答して発生したＱスイッチゲーティングライン信号に応じたＩＲレーザ２６のトリガを表す。このタイミングシーケンスは、Ｑスイッチゲーティングライン７８によってＩＲレーザ２６がパルスを放出する前に、プログラムされた透過レベルにＡＯＭ２８を設定するのを許容する。
パルス放出後、パルス遮断ブロック８５は、レーザパルスを遮断する透過レベルへのＡＯＭ２８のセッティングを表す。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
典型的なＯＴＦ処理実行中、ワークピース位置の直線的な行を、パルスオンポジションモードで選択的に処理し、その後、制御システム１０は、オートパルスモードに切り替わり、ワークピース位置の次の直線的な行をロードし、パルスオンポジションモードに戻り、ワークピースが完全に処理されるまでそれを繰り返す。
タイマ４６は、以下のレーザ操作ガイダンスに従ってセットアップされる。間隔τＰ は、ターゲットとなったパルス間隔を表し、したがって、ワークピース２０を搬送する間にＵＶレーザ装置２４からレーザパルスが放出される最大ＰＲＦを表す。ＰＲＦ値は、典型的にはＸ−Ｙポジショナ１８によって要求される時間によってターゲット位置間の移動に制約される最大値までユーザによって選択可能である。間隔τは、互いに隣接するコマンドを受けた実際のパルス間隔を表す。タイマ４６によって、オートパルスモードでτＰ に等しくなるとともにパルスオンポジションフィードバックモードでτＰ にほぼ等しくなる値を発生させる。間隔τ１ は、制御装置１０が切替モードの間のパルス間隔となる過渡的なパルス間隔を表す。過渡的なパルス間隔τ１ は、不確定なパルスエネルギーを有するパルスをＩＲレーザ２６によって放出させる０とτＰ との間の任意の値を有する。したがって、過渡的なパルス間隔τ１ の間、パルス遮断信号ライン６２を真に設定して、ＡＯＭ２８を通じたワークピース２０への任意のパルスの透過を遮断する。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
当業者は、好適な実施の形態に対して既に説明した実施とは異なる実行を行うことができる。例えば、システム制御コンピュータ１２及び組込み式制御コンピュータ１４を組み合わせて単一のプロセッサとすることができ、ビームポジショナコントローラ１６及びレーザコントローラ３４を、ハードワイヤードデジタル論理、単一のプロセッサで実行されるプログラム、マイクロプロセッサ、ステートマシン及びアナログ回路の一部の組合せとして実現することができる。ＩＲレーザ２６を、１０４７ｎｍの基本波長を有するＮｄ：ＹＬＦレーザ又は１０６４ｎｍの基本波長を有するＮｄ：ＹＡＧレーザとすることもでき、したがって、周波数逓倍回路３０によって、Ｎｄ：ＹＬＦレーザの２次、３次及び４次調波（５２４ｎｍ，３４９ｎｍ及び２６２ｎｍ）又はＮｄ：ＹＡＧレーザの２次、３次及び４次調波（５３２ｎｍ，３５５ｎｍ及び２６６ｎｍ）を発生させることができる。当然、ワークピースを、レーザ処理に必要な実際の任意の材料又は素子とすることができる。同様に、当業者は、ワークピース２０を赤外波長によってほとんど有効に処理することができ、この場合、ＩＲレーザ２６からの出力は、上記調波波長の任意の周波数変換を行なうことなくワークピース２０に向けられる。