【手続補正書】
【提出日】平成23年10月21日(2011.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４．０２、６．１２、８．３８、９．３９、１０．０４、１５．２６、１７．７２、１７．９８、１８．８１、１９．２８、２０．３１、２１．０５、２７．５７、３１．９１、及び４５．６５±０．２°θの２θ値のピークから選択される２以上のピークを含むＸ線回折パターンによって特徴付けられる、ボセンタンの結晶形５。
【請求項２】
約９３℃±２℃及び約１９６℃±２℃の吸熱ピークを含むＤＳＣトレースによって特徴付けられる、ボセンタンの結晶形５。
【請求項３】
（ｉ）実質的に図１に示すＸＲＰＤトレースを有する、及び／又は
（ｉｉ）実質的に図２に示すＤＳＣトレースを有する、及び／又は
（ｉｉｉ）実質的に図３に示すＴＧＡトレースを有する、
ボセンタンの結晶形５。
【請求項４】
（ａ）１つ又は複数の有機溶媒にボセンタンを溶解する工程；
（ｂ）工程（ａ）で得られた溶液から結晶固体を沈殿させる工程；及び
（ｃ）工程（ｂ）で得られた結晶固体を単離する工程
を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形５の製造方法。
【請求項５】
（ｉ）工程（ａ）における前記溶媒がエチルアセトアセテートを含む、及び／又は
（ｉｉ）前記溶媒が、工程（ａ）において、透明な溶液が得られるまで加熱される、及び／又は
（ｉｉｉ）前記溶液を冷却することによって、工程（ｂ）において、結晶固体を沈殿させる、及び／又は
（ｉｖ）前記沈殿した固体が、工程（ｃ）において、濾過によって単離される、及び／又は
（ｖ）工程（ｃ）で単離した固体を、重量が一定になるまで真空条件下で乾燥させる、
請求項４に記載の方法。
【請求項６】
（ａ）透明溶液が得られるまでエチルアセトアセテート中でボセンタンを加熱する工程；
（ｂ）沈殿が形成するまで工程（ａ）で得られた溶液を冷却する工程；及び
（ｃ）工程（ｂ）で得られた懸濁物を濾過して、得られた固体を真空条件下、約２０〜４０℃で重量が一定になるまで乾燥させる工程
を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形５の製造方法。
【請求項７】
３．８７、７．５１、８．８４、１１．１４、１８．７４、及び２３．３０±０．２°θの２θ値のピークから選択される２以上のピークを含むＸ線回折パターンによって特徴付けられる、ボセンタンの結晶形６。
【請求項８】
約７８℃±２℃及び約１３４℃±２℃の吸熱ピークを含むＤＳＣトレースによって特徴付けられる、ボセンタンの結晶形６。
【請求項９】
（ｉ）実質的に図４に示すＸＲＰＤトレースを有する、及び／又は
（ｉｉ）実質的に図５に示すＤＳＣトレースを有する、及び／又は
（ｉｉｉ）実質的に図６に示すＴＧＡトレースを有する、
ボセンタンの結晶形６。
【請求項１０】
（ａ）１つ又は複数の有機溶媒及び任意に水にボセンタンを溶解する工程；
（ｂ）工程（ａ）で得られた溶液から結晶固体を沈殿させる工程；及び
（ｃ）工程（ｂ）で得られた結晶固体を単離する工程
を含む、請求項７から９のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形６の製造方法。
【請求項１１】
（ｉ）工程（ａ）における前記溶媒、前記溶媒の各々、又は前記溶媒の１つ又は複数がＣ１−Ｃ６アルコールである、及び／又は
（ｉｉ）ボセンタンが、工程（ａ）において、ブタン−２−オール及びアミルアルコール中で加熱され、水を添加して溶解される、及び／又は
（ｉｉｉ）前記固体を、工程（ｂ）において、工程（ａ）で得られた溶液を冷却し、シクロヘキサンを添加して沈殿させる、及び／又は
（ｉｖ）工程（ｂ）で沈殿した固体を濾過によって単離する、及び／又は
（ｖ）工程（ｃ）で単離した固体を、真空条件下で重量が一定になるまで乾燥させる、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
（ａ）１又は複数のＣ１−Ｃ６アルコールを含む溶媒系にボセンタンを溶解又は懸濁する工程；
（ｂ）工程（ａ）で得られた溶液又は懸濁物に、透明溶液が得られるまで水を添加する工程；
（ｃ）工程（ｂ）で得られた溶液を約２０〜４０℃まで冷却する工程；
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液に沈殿が形成するまでシクロヘキサンを添加する工程；及び
（ｅ）得られた沈殿固体を濾過して、真空条件下、約２０〜３０℃で重量が一定になるまで乾燥させる工程
を含む、請求項７から９のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形６の製造方法。
【請求項１３】
（ｉ）工程（ａ）の溶媒系が、ブタン−２−オール及びアミルアルコールを含む、及び／又は
（ｉｉ）前記溶媒が工程（ａ）で約８０℃まで加熱される、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
３．６４、４．２３、４．９５、７．０４、７．６８、８．２３、９．０５、９．６６、１０．４８、１３．９５、１５．２０、１６．１７、１７．３７、１８．０６、２０．０３、２２．１３、及び２３．６２±０．２°θの２θ値のピークから選択される２以上のピークを含むＸ線回折パターンによって特徴付けられる、ボセンタンの結晶形７。
【請求項１５】
約７５℃±２℃及び約１３０℃±２℃の吸熱ピークを含むＤＳＣトレースによって特徴付けられる、ボセンタンの結晶形７。
【請求項１６】
（ｉ）実質的に図７に示すＸＲＰＤトレースを有する、及び／又は
（ｉｉ）実質的に図８に示すＤＳＣトレースを有する、及び／又は
（ｉｉｉ）実質的に図９に示すＴＧＡトレースを有する、
ボセンタンの結晶形７。
【請求項１７】
（ａ）１つ又は複数の有機溶媒にボセンタンを溶解する工程；
（ｂ）工程（ａ）で得られた溶液から結晶固体を沈殿させる工程；及び
（ｃ）工程（ｂ）で得られた結晶固体を単離する工程
を含む、請求項１４から１６のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形７の製造方法。
【請求項１８】
（ｉ）ボセンタンが、工程（ａ）において、透明な溶液が得られるまで前記溶媒又は前記溶媒の各々に溶解される、及び／又は
（ｉｉ）ボセンタンが、工程（ａ）において、前記溶媒又は前記溶媒の各々を加熱することによって溶解される、及び／又は
（ｉｉｉ）工程（ａ）の前記溶媒、前記溶媒の各々、又は前記溶媒の１つ若しくは複数がＣ１−Ｃ６アルコールである、及び／又は
（ｉｖ）工程（ａ）の前記溶媒がシクロヘキサノンとｎ−ブタノールとの混合物又はシクロヘキサノンとエタノールとの混合物である、及び／又は
（ｖ）前記結晶固体を、工程（ａ）で得られた溶液にｎ−へキサンを添加することによって沈殿させる、及び／又は
（ｖｉ）前記固体が、工程（ｃ）において、濾過によって単離される、及び／又は
（ｖｉｉ）工程（ｃ）で単離した固体を、真空条件下で重量が一定になるまで乾燥させる、
請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
（ａ）シクロヘキサノンとＣ１−Ｃ６アルコールとの混合物にボセンタンを溶解する工程；
（ｂ）攪拌しながら約３０分以内に約３０℃まで工程（ａ）で得られた溶液を冷却する工程；
（ｃ）工程（ｂ）で得られた溶液にｎ−へキサンを添加して、沈殿を形成させ、約２〜５時間に亘って懸濁物を攪拌する工程；及び
（ｄ）工程（ｃ）で得られた懸濁物を濾過して、得られた固体を、真空条件下、約２０〜４０℃で重量が一定になるまで乾燥させる工程
を含む、請求項１４から１６のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形７の製造方法。
【請求項２０】
（ｉ）工程（ａ）におけるＣ１−Ｃ６アルコールがｎ−ブタノールである、及び／又は
（ｉｉ）ボセンタンが、工程（ａ）において、透明溶液が得られるまで混合物を加熱することによって溶解される、
請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
（ａ）シクロヘキサノンとＣ１−Ｃ６アルコールとの混合物にボセンタンを溶解する工程；
（ｂ）攪拌しながら約３０分以内に約３０℃まで、工程（ａ）で得られた溶液を冷却する工程；
（ｃ）工程（ｂ）で得られた溶液にｎ−へキサンを添加し、沈殿を形成させ、約１５〜２５時間の間に亘って懸濁物を攪拌する工程；及び
（ｄ）工程（ｃ）で得られた懸濁物を濾過して、得られた固体を、真空条件下、約２０〜４０℃で重量が一定になるまで乾燥させる工程
を含む、請求項１４から１６のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形７の製造方法。
【請求項２２】
（ｉ）工程（ａ）のＣ１−Ｃ６アルコールがエタノールである、及び／又は
（ｉｉ）ボセンタンが、工程（ａ）において、透明溶液が得られるまで混合物を加熱することによって溶解される、
請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
９．４７、１３．４１、１４．５２、１５．４６、１５．７３、１６．３５、１６．８８、１７．９９、１８．８７、１９．２５、２０．５３、２１．８２、２３．０２、２３．８３、２４．６１、２４．８６、２５．１３、及び２６．０３±０．２°θの２θ値のピークから選択される２以上のピークを含むＸ線回折パターンによって特徴付けられる、ボセンタンの結晶形８。
【請求項２４】
約５８℃±２℃及び約１１０℃±２℃の吸熱ピークを含むＤＳＣトレースによって特徴付けられる、ボセンタンの結晶形８。
【請求項２５】
（ｉ）実質的に図１０に示すＸＲＰＤトレースを有する、及び／又は
（ｉｉ）実質的に図１１に示すＤＳＣトレースを有する、及び／又は
（ｉｉｉ）実質的に図１２に示すＴＧＡトレースを有する、
ボセンタンの結晶形８。
【請求項２６】
（ａ）１つ又は複数の有機溶媒中でボセンタンを混合する工程；
（ｂ）工程（ａ）で得られた混合物を濾過する工程；
（ｃ）工程（ｂ）で得られた濾過物から結晶固体を沈殿させる工程；及び
（ｄ）工程（ｃ）で得られた結晶固体を単離する工程
を含む、請求項２３から２５のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形８の製造方法。
【請求項２７】
（ｉ）ボセンタンが、工程（ａ）において、エチルアセトアセテート、オクタノール、及びｎ−ペンチルアセテートの混合物中で加熱される、及び／又は
（ｉｉ）工程（ｂ）において、前記混合物を熱い状態で真空条件下において濾過する、及び／又は
（ｉｉｉ）前記結晶固体が、工程（ｃ）で濾過物を冷却することによって得られる、及び／又は
（ｉｖ）前記結晶固体を、工程（ｄ）で濾過し、真空条件下で重量が一定になるまで乾燥させる、
請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
（ａ）エチルアセトアセテート、オクタノール、及びｎ−ペンチルアセテートの混合物にボセンタンを溶解する工程；
（ｂ）真空条件下において工程（ａ）で得られた溶液を濾過する工程；
（ｃ）沈殿が形成するまで工程（ｂ）で得られた濾過物を冷却する工程；及び
（ｄ）工程（ｃ）で得られた沈殿物を濾過して、前記沈殿物を真空条件下、約２０〜４０℃で重量が一定になるまで乾燥させる工程
を含む、請求項２３から２５のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形８の製造方法。
【請求項２９】
ボセンタンが、工程（ａ）において、約９０〜１１０℃まで混合物を加熱することによって溶解される、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
（ｉ）１０％未満の他の形状のボセンタンを含む、又は
（ｉｉ）５％未満の他の形状のボセンタンを含む、又は
（ｉｉｉ）１％未満の他の形状のボセンタンを含む、又は
（ｖｉ）０．１％未満の他の形状のボセンタンを含む、
請求項１から３、７から９、１４から１６、又は２３から２５のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形。
【請求項３１】
（ｉ）医薬において使用するための、及び／又は
（ｉｉ）エンドセリン受容体媒介疾患を治療又は予防するための、及び／又は
（ｉｉｉ）心臓血管疾患を治療又は予防するための、及び／又は
（ｉｖ）高血圧、肺高血圧、虚血、血管痙攣、又は狭心症を治療又は予防するための、及び／又は
（ｖ）肺動脈高血圧を治療又は予防するための、
請求項１から３、７から９、１４から１６、又は２３から２５のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形。
【請求項３２】
請求項１から３、７から９、１４から１６、２３から２５、又は３０から３１のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形の１つ又は複数、及び医薬品として許容される賦形剤の１つ又は複数を含む、医薬組成物。
【請求項３３】
エンドセリン受容体媒介疾患の治療又は予防のための医薬の製造のための、請求項１から３、７から９、１４から１６、２３から２５、若しくは３０から３１のいずれか一項に記載のボセンタンの結晶形の１つ又は複数の使用、又は請求項３２に記載の組成物の使用。
【請求項３４】
前記エンドセリン受容体媒介疾患が、
（ｉ）心臓血管疾患、及び／又は
（ｉｉ）高血圧、肺高血圧、虚血、血管痙攣、又は狭心症、及び／又は
（ｉｉｉ）肺動脈高血圧
である、請求項３３に記載の使用。