【事件の表示】
　特願２００５−３６４２６５「リソグラフィ装置及びデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　７月　６日出願公開、特開２００６−１７９９０６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は，平成１７年１２月１９日の出願（パリ条約による優先権主張　２００４年１２月２０日　米国）であって，平成２０年１０月１７日付で拒絶理由が通知され，平成２１年３月２３日に意見書とともに手続補正書が提出され，同年５月２２日付で拒絶査定がなされ，同年９月１８日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに，同日付で手続補正書が提出され，その後，審判において送付した審尋に対して平成２２年１１月４日付で回答書が提出されたものである。
　　　　　
２．平成２１年９月１８日付の手続補正についての補正却下の決定
　
【補正却下の決定の結論】
　
　平成２１年９月１８日付の手続補正を却下する。
　
【理由】
２−１．補正内容
　平成２１年９月１８日付の手続補正（以下「本件補正」という。）は，補正前の特許請求の範囲の請求項１を
　
（１）「パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置に用いるための位置決め装置において，該位置決め装置が，第１のテーブルと第２のテーブルとを含み，
　前記第１のテーブルが，前記第１のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第１の位置決めシステムに接続され，前記第１のテーブルが，基板を保持するように構成され，
　前記第２のテーブルが，前記第１のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に，前記第２のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第２の位置決めシステムに接続され，前記第２のテーブルが，基板を保持するようには構成されておらず，
　投影システムと前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムをさらに含み，該液体供給システムは投影システムの下方に配置され投影システムを取り囲む液体閉じ込め構造体を有する位置決め装置。」
　
から
　
（２）「パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置に用いるための位置決め装置において，該位置決め装置が，第１のテーブルと第２のテーブルとを含み，
　前記第１のテーブルが，前記第１のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第１の位置決めシステムに接続され，前記第１のテーブルが，基板を保持するように構成され，
　前記第２のテーブルが，前記第１のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に，前記第２のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第２の位置決めシステムに接続され，前記第２のテーブルが，基板を保持するようには構成されておらず，
　投影システムと前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムをさらに含み，該液体供給システムは投影システムの下方に配置され投影システムを取り囲む液体閉じ込め構造体を有
し，
　
前記第２のテーブルが，前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを有するセンサ・テーブルを含み，
　前記センサ・ユニットは偏光センサを含む
　
と補正しようとする補正事項が含まれている。（上記の下線は補正箇所）
　
　本件補正は，補正前の特許請求の範囲における請求項２に規定されていた「第２のテーブルが，前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサを有するセンサ・テーブルを含む」という事項を同請求項１に組み入れて該請求項２を削除し，さらに同請求項３に規定されていた規定の一部である「偏向センサ」という事項を同請求項１に組み入れて該請求項３を新たな請求項２とし，組み入れられた同請求項１を新たな請求項１とした補正事項が含まれている。
　
　したがって，本件補正は，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第１号の請求項の削除，並びに同第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そこで，本件補正後の請求項１に係る発明（上記（２）参照。以下，「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
２−２．引用先願明細書の記載
　原査定の拒絶の理由に引用された，本願出願の優先日前の他の特許出願であって，その出願後に出願公開がされた特願２００３年１８５３８９号（以下，「先願」という。特開２００５−１９８６４号公報参照）の明細書及び図面（以下「先願明細書」という。）には，以下の記載がある。（下線は，当審にて付与。）
　
（１ａ）「【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の側面は，
原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し転写する露光装置
基板を保持し移動させる基板ステージと，液体供給ノズルを有し前記基板の表面上に液体を供給して前記表面上に液膜を形成する液体供給部
液体供給ノズルは，前記投影光学系の周辺かつ前記投影光学系から見て第１方向に配置されており，前記液体供給部は，前記基板ステージが前記基板を前記第１方向の反対方向である第２方向に向かって移動させる際に，前記基板の移動に伴って前記液膜が連続的に広がるように，前記液体供給ノズルを通して前記基板の表面上に液体を連続的に供給する
【００１５】
本発明の好適な実施の形態によれば，
前記液体供給部は，前記基板が移動することにより前記投影光学系の最終面と前記基板との間隙に前記液体が進入し該間隙が前記液体で満たされるように，前記液体供給ノズルを通して前記基板の表面上に液体を供給する
【００１６】
本発明の好適な実施の形態によれば，本発明の露光装置は，
液体回収ノズルを有する液体回収部を更に備えることが好ましい。ここで，前記液体回収ノズルは，前記投影光学系の外側かつ前記投影光学系から見て前記第２方向に配置されており，前記液体回収部は，前記基板の移動に伴って広がる液膜を構成する液体を前記液体回収ノズルを通して回収する
【００１７】
本発明の好適な実施の形態によれば，本発明の露光装置は，
前記投影光学系を取り囲むように配置された複数の液体回収ノズルを有する液体回収部を更に備えることが好ましく，前記液体回収部は，前記基板上に形成された液膜を構成する液体を前記複数の液体回収ノズルの全部又は一部を通して回収する
【００１８】
本発明の好適な実施の形態によれば，
前記液体供給部は，前記投影光学系からみて互いに異なる方向に配置された複数の液体供給ノズルを有し，前記基板ステージが前記基板を移動させる際に，前記複数の液体供給ノズルのうち少なくとも前記投影光学系から見て前記基板の移動方向の反対方向に位置する液体供給ノズルを通して前記基板の表面に液体を供給する
【００１９】
本発明の好適な実施の形態によれば，前記液体供給部は，前記投影光学系からみて互いに異なる方向に配置された複数の液体供給ノズルを有し，前記基板ステージが前記基板を移動させる際に，前記複数の液体供給ノズルのうち少なくとも前記投影光学系から見て前記基板の移動方向の反対方向に位置する液体供給ノズルを通して前記基板の表面に液体を供給し，前記液体回収部は，前記複数の液体回収ノズルのうち少なくとも前記投影光学系から見て前記基板の移動方向に位置する液体回収ノズルを通して前記基板上に形成された液膜を構成する液体を回収することが好ましい。
【００２０】
本発明の好適な実施の形態によれば，前記複数の液体回収ノズルは，前記複数の液体供給ノズルの外側に配置されていることが好ましい。
【００２１】
本発明の好適な実施の形態によれば，前記液体供給部は，前記投影光学系から出た露光光についての前記基板の移動方向に直交する方向の幅と同一かそれよりも大きい幅で液体を前記基板の表面に供給するように構成されていることが好ましい。
【００２２】
本発明の好適な実施の形態によれば，前記液体供給ノズルの出口における液体の平均的な流速をμ，前記投影光学系の最終面と前記基板との間隔をｄ，前記基板の移動速度をυ，前記基板の移動速度に沿った前記液体供給ノズルの出口の幅をｗとしたときに，
μ≧ｄ・υ／ｗ
を満たすように，前記液体供給部が液体の供給を制御することが好ましい。
【００２３】
本発明の好適な実施の形態によれば，前記液体供給部は，前記基板の移動速度に基づいて，前記液体供給ノズルを通して前記基板に供給する液体の流量を制御することが好ましい。
【００２４】
本発明の好適な実施の形態によれば，前記液体供給ノズルの出口と前記ウエハステージとの間隔は，前記投影光学系の最終面と前記ウエハステージとの間隔と実質的に等しいことが好ましい。或いは，前記液体供給ノズルの出口と前記ウエハステージとの間隔は，前記投影光学系の最終面と前記ウエハステージとの間隔よりも大きくてもよい。
【００２５】
本発明の好適な実施の形態によれば，前記液体回収ノズルの入口と前記ウエハステージとの間隔は，前記投影光学系の最終面と前記ウエハステージとの間隔と実質的に等しいことが好ましい。或いは，前記液体回収ノズルの入口と前記ウエハステージとの間隔は，前記投影光学系の最終面と前記ウエハステージとの間隔よりも小さくてもよい。」
　
（１ｂ）「【００３３】
本発明の第２の側面は，原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し転写する露光装置に係り，該装置は，
基板を保持し移動させる基板ステージと，前記基板ステージ上に載置される前記基板と実質的に等しい高さの面を有する平面板
【００３４】
本発明の好適な実施の形態によれば，前記平面板は，前記基板ステージ上に載置される前記基板の少なくとも一部に隣接するように配置されていることが好ましい。」
　
（１ｃ）「【００４４】
本発明の第４の側面は，原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し転写する露光装置に係り，該装置は，基板を保持し移動させる基板ステージと，
前記投影光学系の最終面から延びた連続部材と，前記最終面の周囲に配置された液体供給口を通して前記最終面と前記基板との間隙に液体を供給する液体供給部と，前記最終面の周囲に配置された液体回収口を通して前記最終面と前記基板との間隙から液体を回収する液体回収部と，前記液体供給口及び前記液体回収部を取り囲むように配置され，前記基板の周囲を覆うように気体を吹き出す気体吹き出し口とを備える
【００４５】
本発明の好適な実施の形態によれば，本発明の露光装置は，前記吹き出し口の周囲を取り囲むように配置され，前記気体吹き出し口から吹き出された気体を回収する気体回収口を更に備えることが好ましい。」
　
（１ｄ）「【００６０】
【発明の実施の形態】
本発明の露光装置は，例えば，露光光として紫外光を用い，投影光学系と基板（例えば，ウエハ）間を液体で満たす液浸法が適用されるあらゆる露光方法及び露光装置に有用である。そのような露光装置には，例えば，基板を静止させた状態で該
基板に原版のパターンを投影転写する露光装置
【００６１】
以下，本発明の好適な実施形態を例示的に説明する。図１は，本発明の好適な実施形態の構成を概略的に示す図である。図１において，ＡｒＦエキシマレーザやＦ２レーザなどの露光光源（不図示）から射出された光が照明光学系２に提供される。照明光学系２は，露光光源から提供された光を用いて，
レチクル（原版）１
レチクルステージ（原版ステージ）３
ウエハ（基板）９
ウエハステージ（基板ステージ）１０
【００６２】
レチクルステージ３やウエハステージ１０の二次元的な位置は，参照ミラー１１とレーザー干渉計１２によってリアルタイムに計測される。この計測値に基づいて，
ステージ制御装置１３は，
ウエハ９（ウエハステージ１０）の位置決めや同期制御を行う
露光時は，この駆動装置により投影光学系４の焦点面にウエハ９上の露光領域が常に高精度に合致するようにウエハステージ１０が制御される
【００６３】
露光装置本体は，不図示の環境チャンバの中に設置されており，露光装置本体を取り巻く環境が所定の温度に保たれる。レチクルステージ３，ウエハステージ１０，干渉計１２を取り巻く空間や，投影レンズ４を取り巻く空間には，更に個別に温度制御された空調空気が吹き込まれて，環境温度が更に高精度に維持される。
【００６４】
この実施形態では，投影光学系４とウエハ９との間の空間或いは間隙を液体で満たす液浸法は，ウエハ９の上方かつ投影光学系４の近傍に配置された液体供給ノズル５と，投影光学系４を挟んで液体供給ノズル５の反対側に配置された液体回収ノズル６によって実現される。」
　
（１ｅ）「【０１０６】
ウエハステージ上１０に吸着されたウエハ９に隣接して平面板２１が設けられている。
平面板２１は，その上面がウエハステージ１０上に真空吸着などによって固定されるウエハ９の上面とほぼ同じ高さになる
投影光学系最終面４ｓの直下に平面板２１が位置している際に，ウエハ９をウエハステージ１０上から回収し，及び，ウエハ９をウエハステージ１０上に載置することができる
ウエハ搬送装置
【０１０７】
図９を参照しながら本実施形態の工程を説明する。図９は，図８の主要部の横断面図を用いて各部の挙動を工程順に示している。
【０１０８】
露光中は，必要に応じて液体供給ノズル５より液体が供給され，液体回収ノズル６により液体が回収されつつ，ウエハ９と投影光学系最終面４ｓとの間隙が液体で常に満たされた状態に維持される（図９（ａ））。
一枚のウエハ９に対する一連の露光が終了した時点で，ウエハ９に隣接する平面板２１が投影光学系最終面４ｓの直下に位置するようにウエハステージ１０を移動する
ウエハステージ１０を移動する際には液体供給ノズル５より液体を供給し，液体回収ノズル６より液体を回収し続けることにより，平面板２１が投影光学系最終面４ｓの下に位置した状態においても，投影光学系最終面４ｓの下は常に液体で満たされている。次に，この状態を維持しつつウエハステージ１０上に吸着固定されている露光済みのウエハ９をウエハステージ１０より不図示のウエハ収納部に回収する。更に，新しいウエハ９’をウエハステージ１０上に載置し，吸着固定させる
【０１０９】
そして，液体供給ノズル５から液体を供給し，液体回収ノズル６によって液体を回収しながらウエハステージ１０を移動し，投影光学系最終面４ｓの下に常に液体を満たし続けながら，ウエハ９’を投影光学系最終面４ｓの直下に送り込む（図９（ｄ））。」
　
（１ｆ）「【０１２０】
図９，図１０では，平面板２１がウエハステージ１０上に配置されているが，不図示の専用の駆動装置を設けて，平面板２１をウエハステージ１０から独立して移動できるように構成してもよい。ただし，この場合は，平面板２１は，ウエハステージ１０上に吸着固定されたウエハ
との間に大きな間隙が形成されないように駆動されるべきである。例えば，図９（ａ）から（ｂ）の状態に移行する際や，図９（ｃ）から（ｄ）の状態に移行する際には，ウエハステージ１０と平面板２１は，互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動するように駆動されるべきである。ここで，少なくともウエハと平面板２１との間隙が投影光学系最終面の直下を通過する間は，平面板２１の高さがウエハー上面とほぼ同じ高さに維持されるべきである
【０１２１】
投影光学系最終面と平面板２１との間に液膜を移動させた後は，平面板２１についてはその位置を維持し，ウエハステージ１０についてはその位置を任意に変更し，種々の工程を行うことができる。
このように平面板２１をウエハステージ１０から独立して移動させる機構を設けることにより，ウエハステージ１０が露光以外の種々の作業のために使用されている時間区間を利用して，投影光学系最終面の下を液体で満たし続けることができる利点がある
【０１２２】
平面板２１の適当な箇所に露光光の照度分布を計測するための照度ムラセンサや，露光光の絶対照度を計測するための絶対照度計を設けてもよい。この場合，一旦液体を回収することなく投影光学系最終面下に液体を満たし続けたままで，しかも露光状態とほぼ同じ液浸状態で照度ムラや絶対照度を計測することができる。これにより，露光装置の生産性を落とすことなく，高い精度で照度ムラや絶対照度を計測することができる。以上のように，平面板はウエハステージとは個別に移動できることが生産性の点で好ましい
　
（１ｇ）「【０１４７】
図１４に示す構成例では，
投影光学系最終面４ｓとほぼ同面となる液接触面２０ａに液体供給ノズル５と液体回収ノズル６を設け，その外周側に平面２０ａよりもウエハに近い平面２０ｃを設け，平面２０ｃに不活性ガス吹き出し部を設けている
液接触面２０ａよりもウエハに近い面に不活性ガス吹き出し部を設ける
　
（１ｈ）「【図１】
」
　
（１ｉ）「【図９】
」
　
（１ｊ）「【図１４】
」
　
　以上の記載事項から，先願明細書には，以下の発明（以下「先願発明」という。）が記載されている。
　
「ウエハにレチクルのパターンを投影転写する露光装置において、
　ウエハ９を保持しているウエハステージ１０の位置決めを行うステージ制御装置１３と，
　ウエハステージ１０から独立してかつウエハステージ１０と互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動するように駆動される平面板２１の移動機構と，
を備え，
　一枚のウエハ９に対する一連の露光が終了した時点で，ウエハ９と平面板２１との間隙が投影光学系最終面の直下を通過する間は，平面板２１の上面がウエハステージ１０上に固定されるウエハ９の上面とほぼ同じ高さになり，平面板２１がウエハ９との間に大きな間隙が形成されないように，ウエハステージ１０と平面板２１は互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動され，平面板２１が投影光学系最終面４ｓの直下に位置し，
　投影光学系最終面４ｓの直下に平面板２１が位置している際に，ウエハ搬送装置がウエハステージ１０上に吸着固定されている露光済みのウエハ９をウエハステージ１０よりウエハ収納部に回収し，新しいウエハ９’をウエハステージ１０上に載置し，吸着固定させるとともに，
　
　投影光学系最終面４ｓとほぼ同面となる液接触面２０ａと，
　投影光学系最終面４ｓとほぼ同面となる液接触面２０ａに，投影光学系の周辺かつ前記投影光学系から見て第１方向に配置される液体供給ノズル５を通して前記最終面４ｓと前記ウエハ９との間隙に液体を供給する液体供給部と，
　投影光学系最終面４ｓとほぼ同面となる液接触平面２０ａに，投影光学系の外側かつ前記投影光学系から見て前記第２方向に投影光学系を取り囲むように配置される複数の液体回収ノズル６を通して前記最終面４ｓと前記ウエハ９との間隙から液体を回収する液体回収部と，
　平面２０ａよりもウエハに近い平面２０ｃに，液体供給ノズル５及び液体回収ノズル６を取り囲むように配置され前記ウエハ９の周囲を覆うように気体を吹き出す不活性ガス吹き出し部と，
を備え，
　液体供給ノズル５を通して，ウエハステージ１０がウエハ９を前記第１方向の反対方向である第２方向に向かって移動させる際に，前記ウエハ９の移動に伴って前記液膜が連続的に広がるように液体を供給する液体供給部と，
　液体回収ノズル６の全部又は一部を通して，基板上に基板の移動に伴って広がって形成された液膜を構成する液体を回収する液体回収部と，により，投影光学系最終面４ｓと前記ウエハ９との間隙に前記液体が進入し該間隙が前記液体で満たされ，
　ウエハステージ１０を移動する際には，液体供給ノズル５より液体を供給し，液体回収ノズル６より液体を回収し続けることにより，平面板２１が投影光学系最終面４ｓの下に位置した状態においても，投影光学系最終面４ｓの下は常に液体で満たされ，
　
　平面板２１が，照度ムラセンサや，絶対照度計を設け，一旦液体を回収することなく投影光学系最終面下に液体を満たし続けたまま，高い精度で照度ムラや絶対照度を計測する露光装置。」　
　
２−３．対比
（１）先願発明の「ウエハにレチクルのパターンを投影転写する露光装置」は，本願補正発明の「パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置」に相当する。
　
（２）先願発明の「ウエハ９を保持しているウエハステージ１０」は，本願補正発明の「基板を保持する」「第１のテーブル」に相当し，先願発明の「平面板２１」は，本願補正発明の「基板を保持するようには構成されて」いない「第２のテーブル」に相当する。
　そして，先願発明の「ウエハ９を保持しているウエハステージ１０の位置決めを行うステージ制御装置１３」は本願補正発明の「第１の位置決めシステム」に相当し，先願発明の「平面板２１の移動機構」は本願補正発明の「第２の位置決めシステム」に相当する。
　
　先願発明においては，「一枚のウエハ９に対する一連の露光が終了した時点で」「ウエハステージ１０と平面板２１は互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動され，平面板２１が投影光学系最終面４ｓの直下に位置し，投影光学系最終面４ｓの直下に平面板２１が位置している際に，ウエハ搬送装置がウエハステージ１０上に吸着固定されている露光済みのウエハ９をウエハステージ１０よりウエハ収納部に回収し，新しいウエハ９’をウエハステージ１０上に載置し，吸着固定させ」ていることは，「ウエハ９を保持しているウエハステージ１０の位置決めを行うステージ制御装置１３」が投影露光対象のウエハを保持するウエハステージを投影光学系最終面の直下に出し入れしていることを意味するから，本願補正発明において「第１の位置決めシステム」が「第１のテーブルを第１のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させる」ことに相当する。
　また，先願発明において，「一枚のウエハ９に対する一連の露光が終了した時点で，ウエハ９と平面板２１との間隙が投影光学系最終面の直下を通過する間は，平面板２１の上面がウエハステージ１０上に固定されるウエハ９の上面とほぼ同じ高さになり，平面板２１がウエハ９との間に大きな間隙が形成されないように，ウエハステージ１０と平面板２１は互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動され，平面板２１が投影光学系最終面４ｓの直下に位置」することは，「平面板２１の移動機構」が「平面板２１」を「互いに隣接する位置関係を保つようにウエハステージ１０と連携しながら投影光学系最終面付近を移動」させ，「平面板２１が投影光学系最終面４ｓの直下に位置」させるのであるから，本願補正発明において，「第２の位置決めシステム」が「第１のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に，前記第２のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めする」ことに相当する。
　そして，先願発明では上記のように「ウエハステージ１０」「平面板２１」の位置決めを行っているのであるから，先願発明の「露光装置」は，本願補正発明の「パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置に用いるための位置決め装置」と，「位置決め装置」を有する点で共通する。
　
（３）本願補正発明の「液体供給システム」は「１つ又は複数の構造体，１つ又は複数の液体入口，１つ又は複数のガス入口，１つ又は複数のガス出口，及び／又は１つ又は複数の液体出口の任意の組み合わせを有し，その組み合わせによって液体を空間に提供し，閉じ込めることができる」もの（本願明細書【００４３】参照。）であるから，
　先願発明の「前記最終面４ｓと前記ウエハ９との間隙に液体を供給する液体供給部と，最終面４ｓと前記ウエハ９との間隙から液体を回収する液体回収部と，ウエハ９の周囲を覆うように気体を吹き出す不活性ガス吹き出し部と」は，本願補正発明の「投影システムと前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システム」に相当する。
　そして，先願発明の「前記最終面４ｓと前記ウエハ９との間隙に液体を供給する液体供給部と，最終面４ｓと前記ウエハ９との間隙から液体を回収する液体回収部と，ウエハ９の周囲を覆うように気体を吹き出す不活性ガス吹き出し部と」が，
　「投影光学系最終面４ｓとほぼ同面となる液接触平面２０ａに，投影光学系の周辺かつ前記投影光学系から見て第１方向に」「液体供給ノズル５」を「配置」し，
　「投影光学系最終面４ｓとほぼ同面となる液接触平面２０ａに，投影光学系の外側かつ前記投影光学系から見て前記第２方向に投影光学系を取り囲むように」「複数の液体回収ノズル６」を「配置」し，
　「平面２０ａよりもウエハに近い平面２０ｃに，液体供給ノズル５及び液体回収ノズル６を取り囲むように」「不活性ガス吹き出し部」を「配置」した構造を有し，「投影光学系最終面４ｓと前記ウエハ９との間隙に前記液体が進入し該間隙が前記液体で満たされ」たことは，
　本願補正発明において「液体供給システム」が「投影システムの下方に配置され投影システムを取り囲む液体閉じ込め構造体を有」することに相当する。
　
（４）先願発明において「平面板２１が，照度ムラセンサや，絶対照度計を設け」ていることは，本願補正発明の「第２のテーブルが，前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを有する」ことに相当する。
　
　
　したがって，両者は，
「パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置に用いるための位置決め装置において，該位置決め装置が，第１のテーブルと第２のテーブルとを含み，
　前記第１のテーブルが，前記第１のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第１の位置決めシステムに接続され，前記第１のテーブルが，基板を保持するように構成され，
　前記第２のテーブルが，前記第１のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に，前記第２のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第２の位置決めシステムに接続され，前記第２のテーブルが，基板を保持するようには構成されておらず，
　投影システムと前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムをさらに含み，該液体供給システムは投影システムの下方に配置され投影システムを取り囲む液体閉じ込め構造体を有し，　
　前記第２のテーブルが，前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを有する位置決め装置。」
で一致し，以下の点で一応相違する。
　
（相違点１）
　本願補正発明では「第２のテーブルが，センサ・ユニットを有するセンサ・テーブルを含」むのに対して，先願発明では「センサ・テーブル」について記載されていない点。
　
（相違点２）
　本願補正発明では「センサ・ユニットは偏光センサを含む」のに対して，先願発明では「平面板２１が，照度ムラセンサや，絶対照度計を設け」たものである点。
　
２−４．判断
（相違点１について）
　先願明細書には，センサを保持するのにセンサ・テーブルを用いることを記載していない。しかし，センサ一般の取付けに際してセンサ・テーブルを用いる程度のことは、従来慣用の技術的事項である。
　してみると，センサ・テーブルを用いることは先願明細書に記載されているに等しい事項に過ぎないものであるか、または、センサ・テーブルを採用し上記相違点１に係る本願補正発明の構成とすることは，放射ビームの特性を調べるという課題解決のための具体化手段における設計上の微差に過ぎないものである。
　
（相違点２について）
　先願明細書には，偏光センサを設けたことを記載していない。しかし，偏光センサは，従来周知慣用の技術的事項（特開昭６１−１０９０５３号公報（特許請求の範囲，２頁左下欄２行〜３頁左上欄７行，図１），国際公開２００４／１０４６５４号（１２頁１行目〜３行目，図２）参照）である。してみると，先願発明において，センサとして「照度ムラセンサや，絶対照度計」に代えて，偏光センサを採用し，上記相違点２に係る本願補正発明の構成とすることは，放射ビームの特性を調べるという課題解決のための具体化手段における設計上の微差にすぎないものである。
　特に，偏光センサを平面板にそのまま設置する際に，偏光センサが場合によっては非常にかさばるものであるとしても，平面板とはいえセンサを支える強度があるものにすればよいことや，平面板の投影露光計とは反対側には十分な空間的な余地があることなどを考慮すると，先願発明の平面板２１に設ける際の設置の問題は，やはり具体化の際における設計上の微差に過ぎない。
　
（作用効果について）
　平面板に，従来慣用の技術的事項であるセンサ・テーブルを用いて，従来周知慣用の技術的事項である偏光センサを取り付けたとしても，新たな効果の差異を生じるものではない。
　
（請求人の主張について）
　請求人は，平成２２年１１月４日付回答書中「（４−１）」で，以下のように主張する。
『先願２によれば，平面板２１は投影光学系最終面４ｓとの間で液膜を維持する機能を提供する部材です。また，平面板２１は，図９の開示及びその用語の通常の意味から，平坦な表面をもつ板状の部材であるとも理解されます。照度ムラセンサ等は液浸状態で計測するとされています。よって先願２は，平面板２１の主たる機能である液膜維持を阻害しないような態様で照度ムラセンサ等を付随的に平面板２１に内蔵または設置したものです。 
　したがって，「非常にかさばる可能性のある偏光センサ（本願明細書の段落００３４）」はそうした板状部材に必ずしも適切に収容し得ないであろうと当業者が先願２から理解することに合理性があります。よって，偏光センサが露光装置で用いられるセンサとして単に知られていることを理由として先願２に記載されているに等しいとするのは妥当ではないと考えます。
　引用文献１１乃至１３には，液浸ではない従来型の露光装置のウエハステージにおいて偏光状態を測定するための構成が記載されています。よって，それらの構成を偏光状態を測定するために先願２にそのまま適用すれば，ウエハステージに設けることになります。』
　
　しかし，上記「相違点２について」にて検討したように，従来周知慣用の技術的事項である偏光センサを平面板にそのまま設置する際に，偏光センサが場合によっては非常にかさばるものであるとしても，平面板とはいえセンサを支える強度があるものにすればよいことや，平面板の投影露光計とは反対側には十分な空間的な余地があることなどを考慮すると，先願発明の平面板２１に設ける際の設置の問題は，やはり具体化の際における設計上の微差に過ぎない。
　
　請求人は，また以下のように主張する。
『また，平面板２１に単に設置したとしても，投影光学系最終面下に液体を満たし続けたまま偏光を測定できるとは言えません。例えば引用文献１１には，ウエハＷからいくらか離れかつ異なる高さに表面をもつ偏光板５６及び光センサ５８が記載されているにすぎません。引用文献１３においてはウェハステージＷＳの側面に偏光状態測定器６が取り付けられているにすぎません。』
　しかし，先願発明において「ウエハ９と平面板２１との間隙が投影光学系最終面の直下を通過する間は，面板２１の上面がウエハステージ１０上に固定されるウエハ９の上面とほぼ同じ高さになり，平面板２１がウエハ９との間に大きな間隙が形成されないように，ウエハステージ１０と平面板２１は互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動され」るのであるから，偏光センサを平面板に設置すれば，投影光学系最終面下に液体を満たし続けたまま偏光を測定できることは，当業者に明らかである。
　
　以上のことから，請求人の主張は採用できない。
　
（補正案について）
　請求人は，上記回答書において以下の補正案を提示している。
『なお，請求項３に係る発明は，「前記第１のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に，前記第２のテーブルが，少なくとも部分的に前記空間の境界を定める面を形成するようになって」います。第１のテーブルをビーム経路外に移動させる際に第２のテーブルが投影システムと基板との間の空間に液体を閉じ込めるよう構成されていることがより明確に記載されています。 
 　請求項４に係る発明は，第１のテーブルをビーム経路外に移動させるのと同期して第２のテーブルをビーム経路内に位置決めするものであり，第１及び第２のテーブルの移動が同期して行われる一連の処理であることがより明確に記載されています。 
 　出願人は，これらの構成を組み入れることで請求項１に係る発明の特徴的な構成をより明確とするように補正する用意がございますことを申し添えます。審理の際に考慮に入れていただきたく存じます。 』
　
　しかし，先願発明では
「一枚のウエハ９に対する一連の露光が終了した時点で，ウエハ９と平面板２１との間隙が投影光学系最終面の直下を通過する間は，平面板２１の上面がウエハステージ１０上に固定されるウエハ９の上面とほぼ同じ高さになり，平面板２１がウエハ９との間に大きな間隙が形成されないように，ウエハステージ１０と平面板２１は互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動され」「ウエハステージ１０を移動する際には，液体供給ノズル５より液体を供給し，液体回収ノズル６より液体を回収し続けることにより，平面板２１が投影光学系最終面４ｓの下に位置した状態においても，投影光学系最終面４ｓの下は常に液体で満たされ」るものであって，ウエハステージの移動と平面板の移動とが同期して平面板が投影光学面の下の位置まで移動する際にも，液体が満たされた状態を維持されることが，明らかである。
　してみると，仮に審判請求時に請求人の補正案のような手続補正がなされたとしても，先願発明との間に差異は生じえず，当該手続補正は独立特許要件に違反するものである。
　
（まとめ）
　以上のように，上記相違点は実質的な相違点ではなく，本願補正発明は，先願発明と実質同一である。
　
２−５．むすび
　以上のことから，本願補正発明は，先願発明と実質同一であるから，特許法第２９条の２の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。そして，本件補正は，平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり，特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
３−１．本願の請求項１に係る発明
　平成２１年９月１８日日付の手続補正は前記のとおり却下されたので，本願の請求項１〜２２に係る発明は，平成２１年３月２３日付手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜２２に記載されたとおりのものであると認められるところ，請求項１に係る発明（以下，「本願発明」という。）は，前記「２−１．（１）」のとおりである。
　
３−２．引用先願明細書の記載
　原査定の拒絶の理由に引用された先願明細書には，前記「２−２」に記載したとおりの事項が記載されている。
　
３−３．対比・判断
　本願発明は，
本願補正発明（前記「２−１（２）」参照）の
「第２のテーブル」について「第２のテーブルが，前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサを有するセンサ・テーブルを含む」という事項，並びに同請求項３に規定されていた規定の一部である「偏向センサ」という事項を省いたものに相当する。
　そして，前記「第２のテーブルが，前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサを有するセンサ・テーブルを含む」という事項は，本願補正発明について前記「２−３」で検討した「相違点１」に係るものであり，前記「偏向センサ」という事項は，本願補正発明について前記「２−３」で検討した「相違点２」に係るものである。
　したがって，本願発明と先願発明との間に差異はなく，両者は，同一である。
　
４．むすび
　以上のことから，本願の請求項１に係る発明は，特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであるから，他の請求項について検討するまでもなく，本願は拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。