(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な支持体と、
前記支持体に設けられ、一方向に延伸した島状の金属構造体が複数それぞれ独立した固体形状として二次元的に配された金属構造体層と、
前記支持体に、光の進行方向に前記金属構造体層と間隔をおいて設けられ、連続的な金属細線構造を周期的に配した金属細線構造層と、
を有し、前記各島状の金属構造体は、２つの広幅部と該２つの広幅部間を繋ぐ狭幅部とを有し、前記２つの広幅部と前記狭幅部は前記一方向に連なった形状を有していることを特徴とする偏光素子。
【請求項２】
請求項１に記載の偏光素子において、
前記支持体が、前記金属構造体層が設けられた第１の支持体と、前記金属構造体層を被覆する第２の支持体とからなり、前記金属細線構造層は第２の支持体に設けられていることを特徴とする偏光素子。
【請求項３】
請求項１に記載の偏光素子において、
前記金属構造体層が前記支持体の一方の側に設けられ、前記金属細線構造層は、前記支持体の光の進行方向における前記一方の側と反対側に設けられていることを特徴とする偏光素子。
【請求項４】
請求項３に記載の偏光素子において、
前記金属構造体層が透明な支持体により被覆されていることを特徴とする偏光素子。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の偏光素子において、
前記各島状の金属構造体は、前記光の進行方向に沿う回転軸を中心として１８０度回転対称の形状となるように前記狭幅部を有していることを特徴とする偏光素子。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の偏光素子において、
前記各島状の金属構造体は、前記光の進行方向に沿う回転軸を中心として１８０度回転非対称の形状となるように前記狭幅部を有していることを特徴とする偏光素子。
【請求項７】
請求項６に記載の偏光素子において、
前記金属構造体層は、前記狭幅部の位置が異なる複数の島状の金属構造体を二次元的に配した構成を有していることを特徴とする偏光素子。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の偏光素子において、
前記狭幅部は、延伸方向及び前記光の進行方向に垂直な方向の幅が３０ｎｍ以下であり、且つ、延伸方向に平行な方向の長さが６５ｎｍ以下であることを特徴とする偏光素子。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１つに記載の偏光素子を用いた画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投光型画像表示装置等に利用される偏光選択機能を有する偏光素子、該偏光素子を有する画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶プロジェクタなどの投光型画像表示装置では、偏光を用いて投光する光のオン・オフを切り替えるため、直交する２つの偏光成分のうち一方を透過し、他方を遮断する偏光選択素子（偏光板、偏光子）が必要とされる。
近年の画像表示装置では、高輝度の光源を用い、コントラストの高い画像を投影することが求められている。このような画像表示装置に用いられる偏光選択素子は、消光比（偏光選択性能）が高く、さらに耐光性、耐熱性の高いことが要求され、ワイヤグリッド偏光子がこの要求に応えることが既に知られている。
【０００３】
しかしながら、今までのワイヤグリッド偏光子では、遮断する側の偏光を金属ラインパターンにより反射することにより高い消光比を得ているため、この反射光が再び画像表示装置の光学系に戻り、画像を劣化させるという問題があった。
また、吸収型の有機材料による偏光選択素子とワイヤグリッド偏光子との併用など、複数の偏光素子を用いたり、多層膜構成を用いることにより反射光を低減する光学系が採用されているが、光学素子数が増える、偏光素子の構成が複雑になる、許容入射角度が制限されるといった問題があった。
また、これらの問題に関連して、低価格化が困難となる、排熱・冷却機構の負荷が大きくなる、装置の小型化が困難であるという問題があった。
【０００４】
特許文献１には、偏光素子の反射率を低減する目的で、基板上に細線構造を配列した偏光素子が開示されている。この細線構造は、金属材料と、非誘電性の無機材料と、誘電性の無機材料とを積層した構成となっている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、引用文献１に記載の構成では、上記「素子構成が複雑になり低価格化が困難となる、許容入射角度が制限される」という問題は依然として解消できていなかった。
【０００６】
本発明は、このような現状に鑑みてなされたもので、単純な構造でありながら、耐熱性、耐光性に優れるとともに、透過率、消光比特性を保持することができ、且つ、反射率が低く、許容入射角度の拡大も図れる偏光素子の提供を、その主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の偏光素子は、透明な支持体と、前記支持体に設けられ、一方向に延伸した島状の金属構造体が複数それぞれ独立した固体形状として二次元的に配された金属構造体層と、前記支持体に、光の進行方向に前記金属構造体層と間隔をおいて設けられ、連続的な金属細線構造を周期的に配した金属細線構造層と、を有し、前記各島状の金属構造体は、２つの広幅部と該２つの広幅部間を繋ぐ狭幅部とを有し、前記２つの広幅部と前記狭幅部は前記一方向に連なった形状を有していることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、高い透過率、消光比を得ることができるとともに反射率が低く、且つ、単純な構造で低コスト化にも寄与でき、許容入射角度も大きくとれる偏光素子を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る偏光素子の縦断面図である。
【図２】同偏光素子の水平断面図で、（ａ）は図１のＡ−Ａ’線での断面図、（ｂ）は図１のＢ−Ｂ’線での断面図である。
【図３】金属構造体層を構成する金属構造体の形状を示す水平断面図である。
【図４】数値シミュレーションに用いたモデルを示す図で、（ａ）は縦断面図、（ｂ）、（ｃ）は水平断面図である。
【図５】数値シミュレーションの結果を示す図である。
【図６】狭幅部の幅に対する依存性の数値シミュレーションにおけるモデルを示す水平断面図である。
【図７】同数値シミュレーションの結果（スペクトル形状）を示す図である。
【図８】同数値シミュレーションの結果（幅に対する反射率の変化）を示す図である。
【図９】狭幅部の長さに対する依存性の数値シミュレーションの結果を示す図である。
【図１０】狭幅部の位置に対する依存性の数値シミュレーションにおけるモデルを示す水平断面図である。
【図１１】同数値シミュレーションの結果を示す図である。
【図１２】第２の実施形態に係る偏光素子の縦断面図である。
【図１３】同偏光素子の水平断面図で、（ａ）は図１２のＡ−Ａ’線での断面図、（ｂ）は図１２のＢ−Ｂ’線での断面図である。
【図１４】第３の実施形態に係る偏光素子の縦断面図である。
【図１５】第４の実施形態に係る偏光素子の金属構造体の形状および配置形態を示す水平断面図である。
【図１６】第５の実施形態に係る画像表示装置の概要構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態を図を参照して説明する。
図１乃至図１１に基づいて、第１の実施形態を説明する。図に示すように、偏光素子２は、支持体および／または支持体内に金属材料からなる微細構造を少なくとも二層備えている。この二層のうちの一方は、金属細線構造を周期的に配列したものであり、他方は、複数の分断された島状の金属構造体が二次元平面内に周期的に配列した構成となっている。
具体的に説明すると、透明な材料で形成された第１の支持体（基板）４の一方の側（図中上面）に金属構造体層６が支持され、金属構造体層６は透明な材料で被覆されている。金属構造体層６を被覆する透明な材料は第２の支持体８としてなり、第２の支持体８の図中上面に金属細線構造層１０が設けられている。
【００１１】
図２（ａ）は図１におけるＡ−Ａ’線での断面図、すなわち金属構造体層１０を表す上面図を示し、図２（ｂ）は同Ｂ−Ｂ’線での断面図、すなわち金属構造体層６を表す上面図を示している。
換言すれば、図２（ｂ）は透明な被膜材料中に配置する複数の島状の金属構造体１２による周期配列の上面図である。ここで、「島状」とは、独立した固体形状を意味する。
金属細線構造層１０は、金属構造体１２の長手方向（延伸方向）に延びる複数の金属細線構造１１から構成されている。
偏光素子２では、図１の下方、すなわち島状の金属構造体１２を含む層の側から光を入射し、島状の金属構造体による金属構造体層６と、金属細線構造からなる金属細線構造層１０を介して出射光を得る。
偏光素子２により反射される光は、金属構造体層６により反射される成分と、金属構造体層６を一度透過し、金属細線構造層１０による反射の後、再び金属構造体層６を透過する成分、さらには、これらの多重反射による成分が重畳されて偏光素子外に放出される。
【００１２】
ここで、金属細線構造層１０が反射型の偏光選択機能を有し、金属構造体層６が反射光量の少ない吸収型の偏光選択機能を有するならば、金属細線構造層１０からの反射光を金属構造体層６により効率良く吸収でき、反射光を低減することが可能となる。
【００１３】
偏光素子２の具体的な材料および作製方法について説明する。
第１の支持体４は、島状の金属構造体１２を支持する基板であり、光学素子に一般的に用いられる透明な材料が好ましく、石英ガラスや、ＢＫ７、パイレックス（登録商標）などの硼珪酸ガラス、ＣａＦ２、ＺｎＳｅ、Ａｌ２Ｏ３などの光学結晶材料などを利用する。
島状の金属構造体１２および光進行方向において上層となる金属細線構造にはＡｌが適している。また、Ａｌを主成分とする合金・混合材料や、動作する波長帯によっては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒｕなどの材料も利用できる。金属材料による積層構造を作製するためには、金属構造体１２を埋め込み第２の支持体とする構造が必要である。
【００１４】
第２の支持体８には、屈折率が１．５近傍にあるガラス材料が適しており、吸収の少ない、光学素子のコーティング材料として一般的である、
具体的には、石英ガラス、パイレックス（登録商標）、ＺｎＳ−ＳｉＯ２などの硼珪酸ガラスや、ＣａＦ２、Ｓｉ、ＺｎＳｅ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯなどの材料が利用できる。また、ガラス材料を主成分とするスピンオングラス材料なども利用することができる。
金属材料をパターニングする方法は、可視光の回折限界以下の加工精度を有する手法を適用する。具体的な手法としては、電子ビームリソグラフィによる方法、ＤＵＶ・ＥＵＶリソグラフィ、ナノインプリント、材料物性の変質を利用したエッチングなどが利用できる。
【００１５】
以下に、一般的な手法として、電子ビームリソグラフィによる方法を説明するが、作製方法を限定する必要はない。支持体として平行平板上の光学ガラスを用い、Ａｌなどの金属材料をスパッタ法や真空蒸着法により堆積し、この金属膜上にフォトレジスト膜を形成する。
ここで、金属と支持基板との界面に膜の密着性を高めるために、ＴｉやＣｒなどの下地層を設けても良い。続いて、電子ビーム描画により矩形形状の金属パターンを残すようにネガパターンを露光する。その後、不要な金属部分をＲＩＥなどによりエッチングし、続いて残ったフォトレジストパターンを除去することにより、支持基板界面に金属微細構造を形成することができる。
エッチングにより金属構造体のパターンを形成する代わりに、フォトレジストパターンに金属材料を堆積し、その後フォトレジストを除去するリフトオフ法を用いて、微小金属構造体のパターンを形成する方法も有効である。積層構造を作製するためには、スピンオングラス材料をスピンコートし、第二の金属細線構造を形成する平滑な面を形成した後、上述の電子ビームリソグラフィによる方法を繰り返す。
【００１６】
図３に基づいて、偏光素子２における島状の金属構造体１２の形状を説明する。
本実施形態に係る偏光素子２では、図１及び図２に示したように、反射型と吸収型の偏光選択構造を積層したことが特徴であるとともに、吸収特性を示す島状の金属構造体が、その形状ならびに寸法により吸収特性を発現することが特徴である。
図３は、単一の島状の金属構造体１２の形状を示した図であり、本構造を二次元平面内に周期的に配列したものが金属構造体層６である。この島状の金属構造体１２は、図３（ａ）に示すように、一方向（図３の上下方向）に延伸した形状であるとともに、構造体内部に幅の広い広幅部１２ａと、幅の狭い狭幅部１２ｂとを備えている。
このような構造では、延伸方向の長さＬと動作波長（構造による共鳴）が強い相関をもつ。また、狭幅部１２ｂの延伸方向と直交する方向の幅Ｗ２が３０ｎｍ以下になると吸収特性が現れ、２０ｎｍ以下が好適である。
【００１７】
図３のように島状の金属構造体に広幅部と狭幅部が備えられていれば、反射光成分の吸収による低減のために、低反射偏光素子が実現できるが、広幅部と狭幅部の位置関係および／または非対称性により、吸収の波長依存性は大きく変動する。
以下に、島状の金属構造体として利用できる形状例を説明する。図３（ａ）は、中心対称（１８０度回転対称）の形状を示している。図３（ｂ）、（ｃ）は延伸方向に非対称性を有する形状を示し、図３（ｄ）は延伸方向に垂直な方向に非対称性を有する形状を示している。すなわち、広幅部が延伸方向に２種類の長さからなる形状を示している。
図３（ｅ）は、延伸方向に平行および垂直な方向に同時に非対称性を有する形状を示している。それぞれの構造について、吸収特性の波長依存性は大きく変動する。
【００１８】
図４は、偏光素子２の動作検証のための実施した数値シミュレーションのモデルについて説明する図である。
本偏光素子の構成により反射光を低減できることを検証するために数値シミュレーションを実施した。数値シミュレーション手法は、電磁場の時間・空間応答を記述するマクスウェル方程式を時間領域、空間領域に差分化して解く、有限差分時間領域法（ＦＤＴＤ法）を用いた。
支持基板（屈折率１．５１）４上にＡｌの微細構造を配置し、誘電体材料（屈折率１．３８）８で支持基板４の上部を被覆した構造を用いた。計算領域境界において周期境界条件を課すことにより、支持基板４に平行な面方向に無限に続く周期構造素子６を表現した。
本数値シミュレーションでは、透過光スペクトルの偏光特性を得るために、図４（ｃ）の平面図（ＸＹ面）に示す、金属構造体１２の長手方向に垂直な直線偏光と、平行な直線偏光として、時間幅の十分に短い（スペクトル幅が可視光領域に十分に広がった）平面波パルスを支持基板界面から入射し、波長以上離れた観測面において、空間平均を施した電場振幅の時間変動をフーリエ変換することにより透過光および反射光の偏光特性を算出した。
Ａｌの誘電関数の波長分散特性は、金属材料の計算でよく用いられるＤｒｕｄｅモデルにより与えた。島状の金属構造体１２および金属細線構造１１の寸法は、図４中に記載したとおりである。
【００１９】
図５に数値シミュレーションの結果を示す。
図５（ａ）は、図４に記載したパラメータを用いた数値シミュレーションにより得られた透過率を、図５（ｂ）は反射率を、図５（ｃ）は吸収率を示している。
吸収率は数値シミュレーションから直接的には求まらないため、数値シミュレーションにより得られた透過率と反射率を用いて算出した値である。図５の凡例に示す「ＴＭ成分」とは、金属（Ａｌ）細線構造または島状の金属（Ａｌ）構造体の延伸方向に直交する偏光成分であり、「ＴＥ成分」とは、ＴＭ成分に直交する偏光成分である。
図５（ａ）に示すように、ＴＥ成分の透過率は値が小さく、グラフ上では透過率０の軸に重なって認識できていない。４７５ｎｍから６３０ｎｍの波長帯において、ＴＭ成分に高い透過率が得られるとともに、遮断されるＴＥ成分の反射光が１０％以下に低減されることが確認された。
【００２０】
図５（ｃ）に示すように、同波長帯において吸収率は９０％となり、遮断される側の光エネルギーの大半が島状の金属構造体もしくは金属細線構造の吸収によって熱に変換されることが確認された。金属材料は耐熱性が高く、発熱による偏光素子の劣化は生じず、低反射率であり、耐熱性・耐光性の高い偏光素子が実現できる。
【００２１】
図６は、本発明の偏光素子における狭幅部の幅に対する依存性を確認するための数値シミュレーションのモデルを示す図であり、図７はその結果について説明する図である。
島状の金属（Ａｌ）構造体における狭幅部の効果を確認するために、狭幅部の幅（図３中のＷ２）を変化させた場合の透過率および反射率の変化を図４及び図５で用いたパラメータを用いてシミュレーションした。
但し、狭幅部の寸法は図６に示すように、４０ｎｍ（広幅部と一致）、２４ｎｍ、１２ｎｍで変化させた。
図７（ａ）に示すように、３つの構造において透過率の変化はほとんど観測されなかった。一方、図７（ｂ）に示すように、反射率においては、波長５００ｎｍ近傍の反射率が狭幅部の線幅の低下にともない急激に低下することがわかった。この結果、広い波長帯域にわたり低反射率を有する偏光素子が実現できていることが確認された。
【００２２】
図８は、本発明の偏光素子における狭幅部の寸法に対する依存性について説明する図である。
本偏光素子の狭幅部の具体的な寸法を確認するために図６と同様のパラメータを用いた数値シミュレーションを狭幅部の線幅を変動させた場合について実施した。
変動量は、１２ｎｍ〜４０ｎｍ（狭幅部＝広幅部）である。図８は波長４９６ｎｍにおける反射率の変化をプロットしたグラフであり、狭幅部線幅が３０ｎｍ以下になると反射率が急峻に変化することが確認された。本結果により、狭幅部の線幅を３０ｎｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以下にすることにより、良好な低反射特性が得られることがわかった。
【００２３】
図９は、本発明の偏光素子における狭幅部の長さに対する依存性を確認するための数値シミュレーションの結果について説明する図である。
図５〜図７において用いたパラメータと同一の条件で、島状の金属構造体における狭幅部の長さ（図３中のＷ１）に対して、ＴＭ成分の透過率およびＴＥ成分の反射率を算出した。
狭幅部の長さを１６ｎｍとした場合、低反射を示す波長帯域が狭まるものの平滑な反射特性が得られた。また、狭幅部の長さを長くした場合、低反射を示す波長帯域が広くなる一方で、反射率に変動が生じることがわかった。狭幅部の長さを６４ｎｍとした場合、約２５％以下の反射率となり、狭幅部の長さとしては、約６５ｎｍ以下を目安にすると良いことが確認できた。狭幅部の長さは、所望する低反射波長帯域に依存して最適値を取る。
【００２４】
図１０及び図１１は、本発明の偏光素子における狭幅部の位置に対する依存性を確認するための数値シミュレーションのモデル及び結果について説明する図である。
図５〜図７において用いたパラメータと同一の条件で、図１０に示す島状の金属（Ａｌ）構造体について数値シミュレーションを実施した。
図４にて説明した金属構造体に対して、狭幅部の位置が延伸方向の軸を中心として線対称となっている。
図１１（ａ）に示すように、透過率は、図５の数値シミュレーションとほぼ一致するが、図１１（ｂ）に示すように、反射率が波長４５０ｎｍと６１０ｎｍ近傍にディップをもつスペクトル形状を示し、低反射特性を示す波長領域が広帯域化される。
但し、中央の反射率は約２５％程度まで増加している。この結果から、島状の金属構造体の延伸方向に直交する向きの狭幅部の位置が、偏光素子の低反射波長帯域の幅に作用することを確認した。一方、島状の金属構造体の延伸方向に対し平行な向きの位置変化による効果は、中心に近づくに従い低反射波長帯域を広げるが、その効果は微小であった。
【００２５】
上記のように、本発明の偏光素子は、反射型の偏光選択性を有する金属細線構造からなる層と、吸収型の偏光選択性を有する島状の金属構造体を二次元的に配列した層を少なくとも有し、金属構造体の形状として、島状の金属構造体に吸収特性を発現させるための広幅部と狭幅部を備えたことにより、吸収型の偏光選択構造の側から光を入射すると反射型の偏光選択構造が光進行方向における次段にあることにより、反射光が吸収型の偏光選択構造を往復することとなり、遮断する偏光成分のより多くの吸収し、反射光を低減できる。
【００２６】
図１２及び図１３に基づいて第２の実施形態を説明する。上記実施形態と同一部部分は同一符号で示し、特に必要がない限り既にした構成上及び機能上の説明は省略して要部のみ説明する（以下の他の実施形態において同じ）。
本実施形態に係る偏光素子１６は、図１及び図２で示したのと同様に、金属材料からなる微細構造を少なくとも二層備えている。
具体的に説明すると、第１の支持体４の一方の側（上面）に金属細線構造層１０が設けられ、反対側（下面）に金属構造体層６が設けられている。金属構造体層６は透明な第２の支持体８により被膜されている。
このように構成したのは、金属材料にＡｌ材料を利用する場合、可視波長領域において低反射率を実現するためである。また、第２の支持体８により金属構造体１２が保護されることにより、機械的損傷に対する耐性が向上する。
【００２７】
本偏光素子では、図１２の下方、すなわち島状の金属構造体を含む層の側から光を入射し、島状の金属構造体による金属構造体層６と、金属細線構造からなる金属細線構造層１０を介して出射光を得る。
本偏光素子により反射される光は、金属構造体層６により反射される成分と、金属構造体層６を一度透過し、金属細線構造層１０による反射の後、再び金属構造体層６を透過する成分、さらには、これらの多重反射による成分が重畳されて本偏光素子外に放出される。
ここで、金属細線構造層１０が反射型の偏光選択機能を有し、金属構造体層６が反射光量の少ない吸収型の偏光選択機能を有することにより、金属細線構造層１０からの反射光を金属構造体層６により効率良く吸収でき、反射光を低減することができる。
本偏光素子の材料構成および作製方法については、図１及び図２に示したものと全く同様である。また、島状の金属構造体の形状は、図３により説明したものと全く同様である。
【００２８】
図１４に第３の実施形態を示す。
第２の実施形態では、金属構造体層６を透明な第２の支持体８により被膜したが、被膜部分のない構成であっても構わない。
特に、短波長側において低反射特性を実現したい場合には、島状の金属構造体が剥き出しとなった構成が良好な透過および低反射特性を示す。
上記各実施形態では、支持体を第１の支持体と第２の支持対からなる構成としたが、本実施形態の偏光素子１８では、支持体が第１の支持体４のみから構成されている。
【００２９】
図１５に第４の実施形態を示す。
本実施形態では、金属構造体層６が、狭幅部の位置が異なる複数の島状の金属構造体を二次元的に配した構成を有していることを特徴とする。
すなわち、島状の金属構造体として、異なる位置に狭幅部を備えた複数の金属構造体を二次元平面内に周期的に配列した構成を有している。
ここでは、３つの構造（構造１、構造２、構造３）を、その位置をずらしながら配列した例を示している。
図５および図１１に基づいて説明したように、狭幅部の位置を変化させると、反射率のスペクトル特性が変化するが、図１１に示すように、反射率スペクトルがディップ形状をもち不均一になる。そこで、狭幅部の位置をずらした複数の金属構造体１２を配置することにより、反射スペクトルが平滑化されて、良好な反射特性を得ることができる。
【００３０】
図１６に、上記偏光素子を用いた画像表示装置（第５の実施形態）を示す。
画像表示装置としての液晶プロジェクタ３０は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の画像形成ユニット３１Ｒ、３１Ｇ、３１Ｂと、光合成プリズム３２と、投射レンズ３３と、スクリーン３４を有している。
画像形成ユニット３１Ｒ、３１Ｇ、３１Ｂはそれぞれ光源３５と偏光素子２と、液晶パネル３６と偏光板３７とが積層されて形成されている。
この液晶プロジェクタ３０でスクリーン３４に画像を投影するときは、各画像形成ユニット３１Ｒ、３１Ｇ、３１Ｂの光源３５から出射された光を偏光素子２から液晶パネル３６と偏光板３７を透過させた後、光合成プリズム３２で合成し、合成した光を投射レンズ３２によりスクリーン３３に投射して画像を表示する。
画像を表示するとき、フルカラーの画像を連続的にスクリーン３３に投射することができ、良質な画像を安定して表示できる。また、簡単な構成で液晶プロジェクタ３０を作製することができ、液晶プロジェクタ３０を低価格で提供することができる。
【００３１】
本実施形態では、画像表示装置として液晶プロジェクタについて説明したが、偏光素子２をＬＥＤアレイの前面に配置して液晶ディスプレイのバックライトとして使用すると、拡散板や色フィルタ及び偏光板が不要になり、液晶ディスプレイの構成を簡略化できる。
【符号の説明】
【００３２】
２  偏光素子
４、８  支持体
６  金属構造体層
１０  金属細線構造層
１１  金属細線構造
１２島状の金属構造体
１２ａ  広幅部
１２ｂ  狭幅部
【先行技術文献】
【特許文献】
【００３３】
【特許文献１】特表２０１０−５３０９９５号公報
【図１】
0005998593.tif 000002
【図２】
0005998593.tif 000003
【図３】
0005998593.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
0005998593.tif 000010
【図１０】
0005998593.tif 000011
【図１１】
0005998593.tif 000012
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
0005998593.tif 000015
【図１５】
0005998593.tif 000016
【図１６】
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