【手続補正書】
【提出日】平成23年1月27日(2011.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
近接ヘッドであって、
ヘッド面を備え、
前記ヘッド面は、
第１の平面領域と複数の第１の導管とを備え、前記複数の第１の導管の各々は、前記ヘッド面に存在し前記第１の平面領域にわたって配置された複数の第１の離散孔の内の対応する離散孔によって規定されており、
さらに、第２の平面領域と複数の第２の導管とを備え、前記複数の第２の導管は、前記ヘッド面に存在し前記第２の平面領域にわたって配置された対応する複数の第２の離散孔によって規定されており、
さらに、前記第１の平面領域および前記第２の平面領域の間に隣接して配置された第３の平面領域と複数の第３の導管とを備え、前記複数の第３導管は、前記ヘッド面に存在し前記第３の平面領域にわたって配置された対応する複数の第３の離散孔によって規定されており、前記第３の導管は、前記第３の平面領域と第１の角度を成すよう形成され、前記第１の角度は前記第１の導管側に形成されて、３０°から６０°の間である、
近接ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の近接ヘッドであって、前記複数の第１の導管は、第１の液体源に接続され、第１の液体を前記ヘッド面に供給し、前記複数の第２の導管は、第２の流体源に接続され、第２の流体を前記ヘッド面に供給し、前記複数の第３の導管は、真空源に接続され、真空を前記ヘッド面に供給する、近接ヘッド。
【請求項３】
請求項１に記載の近接ヘッドであって、前記第３の離散孔は、前記第１の液体で形成されたメニスカスの後縁部に沿って形成される、近接ヘッド。
【請求項４】
請求項１に記載の近接ヘッドであって、前記第１の導管は、前記第１の平面領域と第２の角度を成すよう形成され、前記第２の角度は、３０°から６０°の間である、近接ヘッド。
【請求項５】
請求項１に記載の近接ヘッドであって、前記第１の離散孔は、第１の列に形成され、前記第２の離散孔は、第２の列に形成され、前記第３の離散孔は、第３の列に形成され、
前記第１の列、前記第２の列、および、前記第３の列は、実質的に平行であり、前記第３の列は、前記第１の列および前記第２の列の間に配置される、近接ヘッド。
【請求項６】
請求項５に記載の近接ヘッドであって、前記第２の導管は、前記第３の平面領域と第２の角度を成すよう形成され、前記第２の角度は、３０°から６０°の間であり、前記第２の導管は、前記第３の列から離れる方向に向けられる、近接ヘッド。
【請求項７】
請求項５に記載の近接ヘッドであって、さらに、
前記第１の列に関して前記第３の列の反対側に配置された第４の平面領域を備え、
前記第４の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、近接ヘッド。
【請求項８】
請求項５に記載の近接ヘッドであって、前記第２の列および前記第３の列は、約０．５インチから約０．７５インチの間の距離だけ離れている、近接ヘッド。
【請求項９】
請求項５に記載の近接ヘッドであって、前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、近接ヘッド。
【請求項１０】
請求項９に記載の近接ヘッドであって、前記第３の平面領域および前記第１の平面領域の間の前記オフセットは、約０．０２０インチから約０．０８０インチの間である、近接ヘッド。
【請求項１１】
請求項１０に記載の近接ヘッドであって、前記第３の列は、前記第１の平面領域に対する前記オフセットを有するよう前記第３の平面領域に形成される、近接ヘッド。
【請求項１２】
請求項１に記載の近接ヘッドであって、前記第３の離散孔は、面取りされている、近接ヘッド。
【請求項１３】
請求項１に記載の近接ヘッドであって、さらに、前記第１の導管に接続された第１のチャンバと、前記第２の導管に接続された第２のチャンバと、前記第３の導管に接続された第３のチャンバと、を備える、近接ヘッド。
【請求項１４】
近接ヘッドであって、
ヘッド面を備え、
前記ヘッド面は、
第１の平面領域と複数の第１の導管とを備え、前記複数の第１の導管の各々は、前記ヘッド面に存在し前記第１の平面領域にわたって配置された複数の第１の離散孔の内の対応する離散孔によって規定されており、
さらに、第２の平面領域と複数の第２の導管とを備え、前記複数の第２の導管は、前記ヘッド面に存在し前記第２の平面領域にわたって配置された対応する複数の第２の離散孔によって規定されており、
さらに、前記第１の平面領域および前記第２の平面領域の間に隣接して配置された第３の平面領域と複数の第３の導管とを備え、
前記複数の第３導管は、前記ヘッド面に存在し前記第３の平面領域にわたって配置された対応する複数の第３の離散孔によって規定されており、前記第３の導管は、前記第３の平面領域と第１の角度を成すよう形成され、前記第１の角度は前記第１の導管側に形成されて、３０°から６０°の間であり、
前記第３の離散孔は、前記第１の液体で形成されたメニスカスの後縁部に沿って形成され、
前記第１の列に関して前記第３の列の反対側に第４の平面領域が配置されており、
前記第４の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされており、
前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、
近接ヘッド。
【請求項１５】
近接ヘッドを製造するための方法であって、
前記近接ヘッド内に第１のチャンバを形成する工程と、
前記近接ヘッド内に第２のチャンバを形成する工程と、
前記近接ヘッド内に第３のチャンバを形成する工程と、
ヘッド面から前記第１のチャンバに至る複数の第１の導管を形成する工程と、
ヘッド面から前記第２のチャンバに至る複数の第２の導管を形成する工程と、
ヘッド面から前記第３のチャンバに至る複数の第３の導管を形成する工程と、
を備え、
前記第３の導管は、前記ヘッド面と第１の角度を成すよう形成され、前記第１の角度は、３０°から６０°の間である、方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法であって、さらに、
前記ヘッド面上に第１の平面領域を形成する工程と、
前記ヘッド面上に第２の平面領域を形成する工程と、
前記ヘッド面上に第３の平面領域を形成する工程と、
を備え
前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域および前記第２の平面領域の間に隣接して配置され、前記第３平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、方法。
【請求項１７】
請求項１５に記載の方法であって、さらに、
第４の平面領域を形成する工程を備え、
前記第４の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、方法。
【請求項１８】
請求項１５に記載の方法であって、前記近接ヘッドは、単一のワークピースから形成される、方法。
【請求項１９】
近接ヘッドを用いて基板を処理する方法であって、
前記基板の表面に近接し、前記基板の表面と実質的に平行な第１の平面内に存在するように、前記近接ヘッドを配置する工程と、
前記近接ヘッドのヘッド面の第１の平面領域と前記基板の表面との間に、第１の離散孔から供給された第１の液体で形成されたメニスカスの液体メニスカスを形成する工程と、
前記液体メニスカスの後縁部に真空を作用させる工程と、
を備え、
前記真空は、前記液体メニスカスから実質的に途切れない液体の流れを引き込む、方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法であって、
前記液体メニスカスは、前縁部を備え、
前記ヘッド面は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し前記第１の平面領域からオフセットされた第２の平面領域を備え、
前記第２の平面領域は、前記第１の平面領域よりも前記基板の表面の近くに配置されるようオフセットされ、
前記液体メニスカスは、前記第２の平面領域と前記基板の表面との間に形成された前縁部を備える、方法。
【請求項２１】
請求項１４に記載の近接ヘッドであって、
前記複数の第３の離散孔のそれぞれは、前記第３の平面領域内にある後端と、前記第１の平面領域にある前端と、を有する、近接ヘッド。
【請求項２２】
請求項１４に記載の近接ヘッドであって、
前記第３の平面領域のオフセットは、前記第３の平面領域と前記基板表面との距離を増大させる、近接ヘッド。
【請求項２３】
請求項１に記載の近接ヘッドであって、
前記複数の第３の離散孔のそれぞれは、前記第３の平面領域内にある後端と、前記第１の平面領域にある前端と、を有し、
前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされており、
前記オフセットは、前記第３の平面領域と前記基板表面との距離を増大させる、近接ヘッド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第１の導管は、第１の液体源に接続され、第１の液体を前記ヘッド面に供給する。第２の導管は、第２の流体源に接続され、第２の流体を前記ヘッド面に供給する。第３の導管は、真空源に接続され、真空を前記ヘッド面に作用させる。第３の離散孔は、後縁部に沿って形成されてよい。第１の導管は、第１の平面領域と第２の角度を成すよう形成され、第２の角度は、３０°から６０°の間である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
近接ヘッド１００は、第１の流体１１２を近接ヘッドのヘッド面１１０Ａに供給するための１または複数の第１の導管１１２Ａを備える。近接ヘッド１００は、さらに、第２の流体１１４をヘッド面１１０Ａに供給するための１または複数の第２の導管１１４Ａを備える。第２の流体１１４は、後に詳述するように、第１の流体１１２とは異なっていてよい。近接ヘッド１００は、さらに、ヘッド面１１０Ａから第１の流体１１２および第２の流体１１４を除去するための複数の第３の導管１１６Ａを備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図２Ｃは、本発明の一実施形態に従って、第３の導管１１６Ａおよび第３のチャンバ２０８を示す詳細図２３０である。この第３の導管１１６Ａは、ヘッド面２１０と実質的に垂直（すなわち、角度λが約９０°）に形成されている。第３の導管１１６Ａは、約０．５ｍｍから約２．０ｍｍ（すなわち、約０．０２０インチから約０．０８０インチ）の間の直径を有している。動作中、真空は、液体を第３の導管１１６Ａに引き込み、導管の直径が比較的小さいために、液体は、導管の側面に付着して、複数の少量の液体２２０を形成する。複数の少量の液体２２０がメニスカス１０２から引き込まれる際に、それらの間に、メニスカスの周囲に近接した大気のポケット２２２が挟まれる。結果として、第３のチャンバ２０８に存在する真空によって生じる空気流は、第３の導管１１６Ａ内の複数の少量の液体２２０の各々によって断続的に遮断される。従って、空気流が周期的に遮断されるために、真空は、連続的および一様にメニスカス１０２に適用されない。