【手続補正書】
【提出日】平成23年9月29日(2011.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
治療領域の組織を処理するための装置であって、
組織の治療領域に対して位置決め可能であり、超音波エネルギーを放射し、超音波エネルギーを感知するように構成されたトランスデューサと、
前記トランスデューサに動作可能に接続され、複数の対象領域に対して、リアルタイムで、反射された後方散乱エネルギーにおける変化を予測するように構成されたコントローラと、を有し、
反射された後方散乱エネルギーの前記予測された変化は、組織変化値に相当し、
前記コントローラは、さらに、第１の治療領域に対するHIFU治療を提供する前に前記トランスデューサをパルスエコーモードで動作させように構成され、その場合、画像データが、前記トランスデューサによって第１の対象領域から受信される2D RF信号から生成され、
前記コントローラは、さらに、前記トランスデューサを治療モードで動作させるように構成され、その場合、HIFU治療が第１の組織治療領域に行われ、
前記コントローラは、さらに、HIFU治療を前記第１の組織治療領域に行った後に、パルスエコーモードで前記トランスデューサを動作させるように構成され、その場合、画像データが、前記トランスデューサによって前記第１の対象領域から受信される2D RF信号から生成され、
前記コントローラは、さらに、周波数領域における少なくとも２つの2D RF信号データセットを分析するように構成され、その場合、前記少なくとも２つの2D RF信号データセットが、前記HIFU治療の適用の前後における前記第１の対象領域から受信される2D RF信号に相当し、前記少なくとも２つの2D RF信号データセットの分析が、前記2D RF信号の各周波数帯域についての平均パワースペクトルを決定することを含み、前記複数の周波数帯域が、基本周波数帯域、サブハーモニクス周波数帯域、及びハーモニクス周波数帯域を含み、前記少なくとも２つの2D RF信号の複数の周波数帯域間の最大差が、前記対象領域についての反射された後方散乱エネルギーにおける前記予測された変化値に相当する、ことを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記複数の対象領域は、前記トランスデューサと前記トランスデューサの焦点区域の間の領域における前記組織と、前記トランスデューサの焦点区域を越えた領域に位置する前記組織と、前記トランスデューサの焦点区域に位置する前記組織と、を含むことを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記コントローラは、さらに、現在の組織治療領域についての間接的なHIFU治療によって、十分な組織変化が現在の組織治療領域において起こっているか判断するように構成され、十分な組織変化が起こっていると判断された場合には、その組織治療領域は治療対象から除かれることを特徴とする装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記コントローラは、前記トランスデューサを治療モードで動作させるように構成され、前記現在の組織治療領域についてのHIFU治療によって十分な組織変化が起こっていないと判断された場合に、HIFU治療が第１の組織治療領域に行われることを特徴とする装置。
【請求項５】
請求項１において、
前記コントローラは、さらに、前記組織変化値が低い場合に、組織治療領域に対して追加のHIFU治療を行うように構成され、前記治療モードの治療変数がさらなる治療のために変更されることを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項１において、
前記コントローラは、さらに、前記受信した2D RF信号の信号−ノイズレベルが反射された後方散乱エネルギーにおける変化を予測するのに十分か判断するように構成され、前記2D RF信号の絶対値の平均が閾値よりも低い場合には、ゲインパラメータを増加させ、前記パルスエコーモードで前記ドランスデューサを再度動作させ、画像データを生成することを特徴とする装置。
【請求項７】
請求項１において、
前記コントローラは、さらに、前記受信した2D RF信号の信号−ノイズレベルが反射された後方散乱エネルギーにおける変化を予測するのに十分か判断するように構成され、飽和している前記2D RF信号のデータ点の割合が閾値より上である場合には、ゲインパラメータを減少させ、前記トランスデューサを前記パルスエコーモードで再度動作させ、画像データを生成することを特徴とする装置。
【請求項８】
請求項１において、
独立のゲイン制御のための微調整が、前記パルスエコーモードで動作する前記トランスデューサに対して行われることを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項１において、
さらに、前記第１の組織治療領域に対するHIFU治療を行った後に生成される画像を表示するディスプレイを有し、
前記ディスプレイは、前記対象領域に対応する前記組織変化値の可視的表示を含み、前記可視的表示は、前記第１の組織治療領域に対応する位置に重ね合わせ表示され、前記可視的表示は好ましくは前記第１の組織治療領域に対する組織変化のレベルに関連する色分けされた表示を含むことを特徴とする装置。
【請求項１０】
治療領域のける組織を処理する方法であって、
複数の対象領域に対して、リアルタイムで、反射された後方散乱エネルギーにおける変化を予測するステップであって、反射された後方散乱エネルギーの前記予測された変化が組織変化値に相当する、ステップと、
第１の治療領域に対してHIFU治療を行う前にトランスデューサをパルスエコーモードで動作させ、前記トランスデューサによって第１の対象領域から受信される2D RF信号から画像データを生成するステップと、
前記トランスデューサを治療モードで動作させ、HIFU治療を第１の組織治療領域に行うステップと、
HIFU治療を前記第１の組織治療領域に行った後に、パルスエコーモードで前記トランスデューサを動作させ、前記トランスデューサによって前記第１の対象領域から受信される2D RF信号から画像データを生成するステップと、
周波数領域における少なくとも２つの2D RF信号データセットを分析するステップと、を含み、前記少なくとも２つの2D RF信号データセットが、前記HIFU治療の適用の前後における前記第１の対象領域から受信される2D RF信号に相当し、前記少なくとも２つの2D RF信号データセットの分析が、前記2D RF信号の各周波数帯域についての平均パワースペクトルを決定することを含み、前記複数の周波数帯域が、基本周波数帯域、サブハーモニクス周波数帯域、及びハーモニクス周波数帯域を含み、前記少なくとも２つの2D RF信号の複数の周波数帯域間の最大差が、前記対象領域についての反射された後方散乱エネルギーにおける前記予測された変化値に相当する、ことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記複数の対象領域は、前記トランスデューサと前記トランスデューサの焦点区域の間の領域における前記組織と、前記トランスデューサの焦点区域を越えた領域に位置する前記組織と、前記トランスデューサの焦点区域に位置する前記組織と、を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１０において、
さらに、現在の組織治療領域についての間接的なHIFU治療によって、十分な組織変化が現在の組織治療領域において起こっているか判断するステップを含み、
十分な組織変化が起こっていると判断された場合には、その組織治療領域は治療対象から除かれることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１２において、
さらに、前記トランスデューサを治療モードで動作させるステップを含み、
前記現在の組織治療領域についてのHIFU治療によって十分な組織変化が起こっていないと判断された場合に、HIFU治療が第１の組織治療領域に行われることを特徴とする装置。
【請求項１４】
請求項１０において、
さらに、前記組織変化値が低い場合に、組織治療領域に対して追加のHIFU治療を行うステップを含み、
前記治療モードの治療変数がさらなる治療のために変更されることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１０において、
さらに、前記受信した2D RF信号の信号−ノイズレベルが反射された後方散乱エネルギーにおける変化を予測するのに十分か判断するステップを含み、前記2D RF信号の絶対値の平均が閾値よりも低い場合には、ゲインパラメータを増加させ、前記パルスエコーモードで前記ドランスデューサを再度動作させ、画像データを生成することを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１０において、
さらに、前記受信した2D RF信号の信号−ノイズレベルが反射された後方散乱エネルギーにおける変化を予測するのに十分か判断するステップを含み、飽和している前記2D RF信号のデータ点の割合が閾値より上である場合には、ゲインパラメータを減少させ、前記トランスデューサを前記パルスエコーモードで再度動作させ、画像データを生成することを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１０において、
さらに、独立のゲイン制御のための微調整を、前記パルスエコーモードで動作する前記トランスデューサに対して行うステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１０において、
さらに、前記第１の組織治療領域に対するHIFU治療を行った後に生成される画像を表示するステップを含み、前記画像は、前記対象領域に対応する前記組織変化値の可視的表示を含み、前記可視的表示は、前記第１の組織治療領域に対応する位置に重ね合わせ表示され、前記可視的表示は好ましくは前記第１の組織治療領域に対する組織変化のレベルに関連する色分けされた表示を含むことを特徴とする方法。