【事件の表示】
　特願２００６−５４１９３１「大領域リソグラフィのデバイスおよび方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　６月１６日国際公開、ＷＯ２００５／０５４９４８、平成１９年　５月２４日国内公表、特表２００７−５１３５０９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、２００４年１１月３日（パリ条約による優先権主張　外国庁受理、優先日：２００３年１２月５日欧州特許庁、および２００３年１２月８日米国）を国際出願日とする出願であって、平成１８年６月２９日付けで請求の範囲、明細書の翻訳文が提出され、平成２０年６月６日付けで通知した拒絶理由に対して、同年１１月１０日付けで手続補正書が提出されたが、平成２１年１月１９日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年４月２３日付けで審判請求がなされるとともに、同年４月２７日付けおよび同年４月３０日付けで手続補正書が提出され、その後、当審における審尋に対して平成２２年１１月１日付けで回答書が提出されたものである。
　
　
２．平成２１年４月２７日付けの手続補正、および、平成２１年４月３０日付けの手続補正について
　
（１）平成２１年４月２７日付けの手続補正は、特許請求の範囲について、補正前の請求項１を引用する請求項７の部分を、新たな請求項１とし、補正前の請求項１５を引用する請求項２１を新たな請求項１４とし、残りの請求項番号を実質的に繰り上げるものである。
　そうすると、平成２１年４月２７日付けの手続補正は、実質的に請求項の削除を目的としたものに該当するから、適法な補正である。
　
（２）また、平成２１年４月３０日付けの手続補正は、平成２１年４月２７日付けの手続補正による特許請求の範囲において請求項２０が欠番になっているのを訂正する、請求項番号の補正であり、これは誤記の訂正を目的とするものに該当するから、適法な補正である。
　
　
３．本願発明について
　本願の請求項１〜２５に係る発明は、平成２１年４月３０日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜２５に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、そのうち請求項１４に係る発明（以下、「本願発明１４」という。）は次のとおりである。
　
　「【請求項１４】
　構造化された表面を有するテンプレートから放射線を受けて重合可能な液状態にある放射重合可能流動体の表面層を保有する基板へパターンを転送する方法であって、
　停止部材と可撓性膜の第１の側との間で、前記構造化された表面が前記表面層と対面するように、前記テンプレートおよび基板を相互に平行に配列し、
　前記パターンを前記層の中へインプリントするため、前記第１の側とは反対の、前記膜の第２の側に存在する媒体へ超過圧力を加え、
　前記層を固化するため、前記層を放射へ露出するステップと
　前記膜を介して放射を前記層へ放出し、前記膜が、前記流動体の重合に使用できる放射の波長範囲を透過するステップ
を含む方法。」
　
　
４．引用刊行物の記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された、
　特表２００３−５１６６４４号公報（原査定の引用文献１。以下、「刊行物１」という。）、
　特開２００３−７７８６７号公報（原査定の引用文献２。以下、「刊行物２」という。）、
　には、図面とともに以下の事項が記載されている。なお、下線は当審で付した。
　
（１）刊行物１
　（１ａ）「【特許請求の範囲】
    【請求項１】  
ナノメートルサイズの構造物のリソグラフィに関する装置であって
第１の主に平らな表面（２ａ）を有する第１の主要部分（１）と、第２の主に平らな表面（９ａ）を有する第２の主要部分（３）とを具備し、該第１の表面と該第２の表面とは互いに対向しており、互いに対して原則として平行に配列され、それらの間に調節可能な間隔を有し、該第１の表面および該第２の表面が、それぞれ、基板（５）およびテンプレート（１０）用のサポートを形成するようにまた逆も同様に配列される装置において、該第２の主要部分（３）が、媒体用のキャビティ（６）と、該媒体の圧力を調節するための手段とを具備し、該キャビティの壁は、可撓性のある膜（９）から構成され、その一方の側は、キャビティ（６）から離れて面しており、該第２の表面（９ａ）を形成することを特徴とする装置
    【請求項２】  前記膜（９）が、前記第２の主要部分（３）に前記膜の周縁のまわりに固定され、好ましくは第２の主要部分に対して膜の周縁を補強するリング（１１）によって固定されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
    【請求項３】  
膜（９）が、可撓性のある材料、好ましくはポリマー材料または薄い金属
    【請求項４】  前記膜（９）の最大幅が、好ましくは直径が、２５〜４００ｍｍ、好ましくは５０〜３５０ｍｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置。
    【請求項５】  
前記媒体が、低圧縮性の気体または液体、好ましくは油、さらに好ましくは作動油から構成される
    【請求項６】  
前記媒体の前記圧力を調節するための前記手段が、圧力を、１〜５００バール、好ましくは１〜２００バール、さらに好ましくは１〜１００バールに調節するように配列される
    【請求項７】  前記第１の表面（２ａ）および前記第２の表面（９ａ）が、表面の法線に一致する方向に、好ましくは表面に対して平行な方向に互いに対して変位するように配列されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の装置。
    【請求項８】  前記第２の表面（９ａ）が、表面の法線に一致する方向に、前記第１の表面（２ａ）に向けてペリスコープ式に変位するように配列され、前記第２の主要部分（３）が、前記媒体の圧力を調節する手段によって変位するように配列されるペリスコープ式に変位可能な部分（８，９）具備することを特徴とする請求項７に記載の装置。」
　
　（１ｂ）「 【０００６】
　さらに、平らなプレートの表面の材料には構造的な変動があり、言い換えると、
ナノメートルのスケールではプレートが研磨されたとしても、各プレート（テンプレートおよび基板）の表面には不均一さが存在する
これらの不均一さによって、テンプレートと基板とが一緒に加圧されるときに表面上に望ましくない力の不均一な分配が生じ、結果として、基板上で不均一にくぼんだ構造物になる
これは、プレートが大きい場合、たとえば、表面のサイズが直径５０ｍｍを超える場合、インプリント方法では特に重大である
      【０００７】
　したがって、インプリント技術を使用してナノメートルサイズの構造物を商業的に生産するには、解決すべき主要な問題が２点ある。問題の１つは、一緒に加圧されるべき平らな表面の平行性であり、２つ目の問題は、平らな表面全体に力を均一に分配することである。これらの問題を解決することが、およそ７〜２０ｃｍ２以上の広い総領域を有する表面に半導体構成要素用の材料にナノインプリンティングを施す商業的方法には前提条件である。
      【０００８】
（発明の開示）
　本発明の目的は、ナノメートルサイズの構造物のリソグラフィに関する装置および方法を提供することであり、該装置および方法によって基板とテンプレートとの間の平行性に関する上述の問題および圧縮の力の均一な分配の問題が解決される。特に、半導体構成要素用の材料に構造物をナノインプリントするための装置および方法が開発されている。この材料は７〜２０ｃｍ２よりも広い通常は円形の総領域を有する。また一方で、一定の剛性を有する、すなわち、可撓性のない他の材料に構造物をナノインプリントするのにも適用することができる。当然ながら本発明は、より小さな総表面を有する材料に構造物をナノインプリントするのにも適用することができる。
      【０００９】
　本発明によると、装置はプリアンブルによってこのように呈され、第２の主要部分も、媒体用のキャビティと該媒体の圧力を調節するための手段とを具備し、キャビティの壁は可撓性のある膜から構成され、その一方の側は、キャビティから離れて面し、第２の表面を形成することを特徴とする。
      【００１０】
　
このようにテンプレートは、本発明にしたがって可撓性のある膜によって支持され、該膜は反対側で加圧されるのと同時に、基板が固定され安定した表面によって支持され、またその逆も同様である
これによって、基板とテンプレートとが互いに対して絶対的に平行に配列され、それと同時に基板とテンプレートとを一緒に加圧する力の分配は、基板／テンプレートの表面上で絶対的に均一である
　
　（１ｃ）「【００１１】
（発明を実施するための最良の形態）
　本発明の１つの形態によると、膜は可撓性のある材料、好ましくはポリマー材料または薄い金属、さらに好ましくはプラスチック、ゴムまたは薄い金属から構成され、膜は厚さが１０ｍｍまで、好ましくは３ｍｍまで、さらに好ましくは１ｍｍまでである。実用的なもの以外、実際には膜の厚さに下限はなく、究極的には単一の原子層に対応する厚さを有する膜であるが、少なくとも現在の状況では事実上不可能である。膜は、膜の周縁のまわりの第２の主要部分の場合、キャビティの縁にもっともよく固定され、そうでなければ撓むことができる。
      【００１２】
　本発明の別の形態によると、上記媒体は低圧縮性の気体または液体から構成され、好ましくは油、さらに好ましくは作動油である。たとえばブレーキ液等の単純な油を使用することもできる。キャビティは上記媒体が油圧的に充填されることが意図され、装置は
実際のインプリント段階中に、キャビティ内の圧力を１〜５００バール（過剰圧力）、好ましくは１〜２００バール、さらに好ましくは１〜１００バールに調節するための手段
      【００１３】
　本発明のさらに別の形態によると、装置は加熱するための手段、たとえば電気または機械的手段、または放射するための手段および、たとえば冷却媒体によって基板を冷却するための手段とを具備する。加熱および冷却は、一般的に３０〜３００℃の間の基板温度を達成するように調節することができる。
      【００１４】
　本発明による装置および方法により、ナノメートルサイズのよく画成された構造物を迅速、容易、かつ安価な方法で、７〜２０ｃｍ２よりも広い総領域を有する剛性材料に、たとえば、最大幅または直径が１５０まで、好ましくは２５０ｍｍまで、さらに好ましくは３５０ｍｍまで、またはそれ以上の材料に形成することができる。本発明によるナノインプリントのサイクルは一般的に、４分未満、または３分未満、しばしばおよそ２分である。ナノメートルサイズの構造物は、ここでは個別構造物で１００ｎｍ未満、または５０ｎｍ未満、または１０ｎｍ未満でさえあってもよい。」
　
　（１ｄ）「 【００１７】
　図１の参照符号１は、本発明による装置の好適な実施形態における第１の主要部分を表す。この第１の主要部分１は、第１の主に平らな基部プレート２を具備し、好ましくは、第２の主要部分３に面する表面２ａの法線に一致する方向に変位されるように配列される。主に平らなサポートプレート４は、その上に基板５が置かれることが意図され、表面２ａに連結されることが可能である。あるいは、基板５を表面２ａに直接置くことができる。この
基板は
第２の主要部分３に向けて面するその表面５ａ上に、たとえばポリアミド、好ましくはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）の薄層を有するシリコンプレートから構成
      【００１８】
　第２の主要部分３はキャビティ６を有し、これは底部７と図示の例では、円形円筒形の側壁８とによって形成される。キャビティ６のルーフとして平らで可撓性のある膜９が、底部７とは反対側に配列される。この膜９は、図示の例ではゴム膜から構成され、その一方の側９ａは、テンプレート１０のサポートを形成し、直径または最大幅が２５〜４００ｍｍ、好ましくは５０〜３５０ｍｍである。膜は、厚さが１０ｍｍまで、好ましくは３ｍｍまで、さらに好ましくは１ｍｍまでである。
テンプレート１０は、
第１の主要部分１に向けて面する表面１０ａ上に、ナノメートルサイズの寸法で、微細な構造パターンが設けられている
      【００１９】
　膜９は、固定装置によってキャビティ６の縁で膜９の周縁のまわりの第２の主要部分３に固定される。リング１１が、図示の例では円形であり、固定装置として使用され、このリングは、膜９の周縁の縁をそれ自体と側壁８の自由縁との間にしっかり加圧するように配列される。内側円形縁に沿い、膜に向けて面する側で、リング１１は１１ａにベベルされることが好ましく、リング１１からの転移で膜９に軟撓みを提供する。これによって膜９が裂けたりノッチが折れたりする危険は減少し、耐用期間が延びる。
      【００２０】
　キャビティ６は、媒体、好ましくは作動油を収容するように意図され、これは入口チャネル１２を経由して加圧することができ、キャビティの側壁８または底部７に配列されることが可能である（図９ｂに示されるように）。加圧は、ポンプ（図示せず）によって行われ、非常に小さい変動で圧力を提供するように適合されることが最良である。これは、たとえば、比例弁によって達成することができる。
      【００２１】
　第２の主要部分３には、第２の主に平らな基部プレート１３も含まれ、キャビティ６を有する部分のサポートを形成する。」
　
　図１は次のとおり。　
　（１ｅ）「【００２６】
　
図３ａ
は
キャビティ６の圧力が増加し、テンプレートの表面１０ａ上のナノメートルサイズの構造物を基板の表面５ａへ移すために、膜９の可撓性のおかげで、テンプレート１０および基板５が一緒に圧されるときの、図１
による装置を示す
　
　図３ａは次のとおり。
　
　（１ｆ）「【００３２】
　基板５の
ナノインプリンティングの製造サイクル
基板５はサポートプレート４上に置かれ、テンプレート１０は膜９またはサポートプレート１４上に置かれる
第１の主要部分１は、第２の主要部分３に対する適所に半径方向に変位され、次いで、これに対して軸方向に変位される
      【００３３】
　主要部分の軸方向変位に
続いて、キャビティの媒体の圧力が入口チャネル１２を経由しておよそ１〜５バールへ増加し、そのため膜９が撓み、基板５とテンプレート１０とが一緒に軽く加圧される
基板５は、たとえば図５または図７によると、これを加熱するための装置によって加熱され
次いで、キャビティ６の媒体の圧力が入口チャネル１２を経由して５〜５００バールへ、好ましくは５〜２００バールへ、さらに好ましくは５〜１００バールへ増加し、基板５およびテンプレート１０は対応する圧力で一緒に加圧され、この圧力は可撓性のある膜９を経由して伝えられる
可撓性のある膜のおかげで、力の絶対的に均一な分配が、基板とテンプレートとの間の接触表面全体にわたって得られ、これらは互いに対して絶対的に平行に配列されるようにされ、基板またはテンプレートの表面の不規則性の影響は排除され
基板の冷却が開始する
冷却が完了すると、キャビティ６の圧力は減少し、２つの主要部分１および３が互いから分離し、それに続いて基板５とテンプレート１０とが互いから分離する
　
　これら記載によれば、刊行物１には、次の技術（以下、「刊行物１のナノインプリント技術」という。）が記載されているものと認められる。
　
　「（Ａ）ナノメートルサイズの構造物のリソグラフィに関する装置が、
　第１の主に平らな表面（２ａ）を有する第１の主要部分（１）と、
　第２の主に平らな表面（９ａ）を有する第２の主要部分（３）とを具備し、
　該第１の表面と該第２の表面とは互いに対向しており、互いに対して原則として平行に配列され、それらの間に調節可能な間隔を有し、
　該第１の表面および該第２の表面が、それぞれ、基板（５）およびテンプレート（１０）用のサポートを形成するように配列され、
　該第２の主要部分（３）が、媒体用のキャビティ（６）と、該媒体の圧力を調節するための手段とを具備し、
　該キャビティの壁は、可撓性のある膜（９）から構成され、その一方の側は、キャビティ（６）から離れて面しており、該第２の表面（９ａ）を形成する、
　装置であり、
　（Ｂ）上記基板（５）は、その表面（５ａ）上に、たとえばポリアミド、好ましくはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）の薄層を有するシリコンプレートから構成され、また、上記テンプレート（１０）は、その表面（１０ａ）上に、ナノメートルサイズの寸法で、微細な構造パターンが設けられており、
　（Ｃ）ナノインプリンティングの方法は、上記装置、基板（５）、テンプレート（１０）を用い、
　まず、基板（５）が第１の主要部分（１）のサポートプレート（４）上に置かれ、テンプレート（１０）が膜（９）上に置かれ、
　次に、第１の主要部分（１）は、第２の主要部分（３）に対する適所に半径方向に変位され、次いで、これに対して軸方向に変位され、
　続いて、キャビティ（６）の媒体の圧力がおよそ１〜５バールへ増加し、そのため膜（９）が撓み、基板（５）とテンプレート（１０）とが一緒に軽く加圧され、
　その後、基板（５）は、加熱され、
　次いで、キャビティ（６）の媒体の圧力が５〜５００バールへ、好ましくは５〜２００バールへ、さらに好ましくは５〜１００バールへ増加し、基板（５）およびテンプレート（１０）は対応する圧力で一緒に加圧され、この圧力は可撓性のある膜（９）を経由して伝えられて、可撓性のある膜のおかげで、力の絶対的に均一な分配が、基板とテンプレートとの間の接触表面全体にわたって得られ、これらは互いに対して絶対的に平行に配列されるようにされ、基板またはテンプレートの表面の不規則性の影響は排除され、
　続いて、基板（５）の冷却を行い、
　その後、キャビティ（６）の圧力を減少させ、２つの主要部分（１）および（３）が互いから分離し、それに続いて基板（５）とテンプレート（１０）とを分離するものである、
　ナノインプリント技術。」
　　
（２）刊行物２
　（２ａ）「【０００２】
【従来の技術】近年、高密度メモリやシステムＬＳＩに代表される超ＬＳＩデバイスのダウンサイジングが進展し、より微細化を行うことができる技術が要求されており、そのため半導体製造プロセスの中でリソグラフィー（転写）技術の重要性が増大している。その中で
インプリントリソグラフィー
【０００３】図３において、最初同図（ａ）に示すようにモールド材料３０の表面に、転写すべきパターンの鏡像に対応する反転パターンを電子ビームリソグラフィー等により形成することにより、
表面に所定の凹凸形状３１を有するモールド３２を作成
パターンを形成しようとするシリコン基板３３上にＰＭＭＡなどのレジスト材料を塗布し硬化させて、レジスト層３４を形成する
【０００４】
次いでこのレジスト層３４備えたシリコン基板３３全体を約２００℃程度に加熱し、レジスト層３４を若干軟化させる
凹凸形状３１をレジスト層３４に対して押しつける
このときレジスト層３４は軟化しているので、レジスト層３４は凹凸形状３１の凹部に入り込み、レジスト層３４は凹凸形状３１とほぼ同一形状となる
この状態で全体の温度を１０５℃程度に降下させることによりレジスト層３４を硬化させ
その後モールド３２を取り去る
【０００５】なお、インプリントリソグラフィー方式においては、
上記のようなものの他
例えばモールドを石英基板等の透明材料で作成し
転写される基板上には液体状の光硬化性樹脂を塗布し
その上にモールドの凹凸を押しつけ、凹凸内に液体状の光硬化性樹脂を流入させ
この状態で透明なモールドの裏側から紫外線等を照射して樹脂を硬化させ
その後モールドを取り去ることにより所定形状の凹凸パターンを形成する方式も提案されている
【０００６】
上記のようなインプリントリソグラフィー方式においては、モールドを試料基板に押しつける際の押しつけ面内の圧力分布を一様にする必要がある
　
　したがって、刊行物２には、次の発明（以下、「刊行物２記載の発明」という。）が記載されている。
　「モールドを石英基板等の透明材料で作成し、転写される基板上には液体状の光硬化性樹脂を塗布し、その上にモールドの凹凸を押しつけ、凹凸内に液体状の光硬化性樹脂を流入させ、この状態で透明なモールドの裏側から紫外線等を照射して樹脂を硬化させ、その後モールドを取り去ることにより所定形状の凹凸パターンを形成する、インプリントリソグラフィー方法。」
　
　また、刊行物２には、インプリントリソグラフィー方式においては、熱ナノインプリントであろうと、光ナノインプリントであろうと、モールドを試料基板に押しつける際の押しつけ面内の圧力分布を一様にする必要がある、という技術課題が示されている。
　
　
５．対比・判断
　本願発明１４と刊行物２記載の発明とを対比すると、
　刊行物２記載の発明の、凹凸を有する「モールド」、「液体状の光硬化性樹脂」、「紫外線」、液体状の光硬化性樹脂を塗布した「転写される基板」は、
　それぞれ、本願発明１４の「構造化された表面を有するテンプレート」、「液状態にある放射重合可能流動体」、「放射線」、放射線を受けて重合可能な液状態にある放射重合可能流動体の表面層を保有する「基板」に相当する。
　そして、刊行物２記載の発明の「インプリントリソグラフィー方法」は、その内容からみて、本願発明１４の「構造化された表面を有するテンプレートから放射線を受けて重合可能な液状態にある放射重合可能流動体の表面層を保有する基板へパターンを転送する方法」に実質的に相当するといえる。
　
　刊行物２記載の発明の「転写される基板上には液体状の光硬化性樹脂を塗布し、その上にモールドの凹凸を押しつけ、凹凸内に液体状の光硬化性樹脂を流入させ、この状態で透明なモールドの裏側から紫外線等を照射して樹脂を硬化させ」と、
　本願発明１４の「停止部材と可撓性膜の第１の側との間で、前記構造化された表面が前記表面層と対面するように、前記テンプレートおよび基板を相互に平行に配列し、前記パターンを前記層の中へインプリントするため、前記第１の側とは反対の、前記膜の第２の側に存在する媒体へ超過圧力を加え、前記層を固化するため、前記層を放射へ露出するステップと　前記膜を介して放射を前記層へ放出し、前記膜が、前記流動体の重合に使用できる放射の波長範囲を透過するステップを含む」とは、
　実質的に「前記構造化された表面を前記表面層と対面させ、前記パターンを前記表面層の中へインプリントするため、前記テンプレートに圧力を加え、その後、前記表面層を固化するため、前記表面層を放射線に対して露出し、テンプレート側から放射線を放射して前記表面層を固化する」点で共通するといえる。
　なお、本願発明１４は、可撓性膜（流動体の重合に使用できる放射の波長範囲を透過する）を介して放射を表面層へ放出するものであればよく、その際、放射源側からみて、可撓性膜／テンプレート（透過性）／基板の表面層／基板本体の順に並んでいる態様、可撓性膜／基板本体（透過性）／基板の表面層／テンプレートの順に並んでいる態様の２つがあり得るが、ここでは、前者の態様において共通点（テンプレート側から放射線を放射）を出した。
　
　そうすると、両者の一致点、相違点は次のとおりと認められる。
　
［一致点］
　「構造化された表面を有するテンプレートから放射線を受けて重合可能な液状態にある放射重合可能流動体の表面層を保有する基板へパターンを転送する方法であって、
　前記構造化された表面を前記表面層と対面させ、前記パターンを前記表面層の中へインプリントするため、前記テンプレートに圧力を加え、
　その後、前記表面層を固化するため、前記表面層を放射線に対して露出し、テンプレート側から放射線を放射して前記表面層を固化する、
　方法。」
　
［相違点］
　本願発明１４は、
　可撓性膜を有しており、
　停止部材と可撓性膜の第１の側との間で、前記構造化された表面が前記表面層と対面するように、前記テンプレートおよび基板を相互に平行に配列し、
　前記パターンを前記層の中へインプリントするため、前記第１の側とは反対の、前記膜の第２の側に存在する媒体へ超過圧力を加え、
  前記膜を介して放射を前記層へ放出し、前記膜が、前記流動体の重合に使用できる放射の波長範囲を透過するものであるのに対して、
　刊行物２記載の発明は、本願発明１４のような「可撓性膜」を有しておらず、また、可撓性膜を介して放射を表面層へ放出するものでない点。
　
　そこで、相違点について検討する。
　
　刊行物１のナノインプリント技術は、基板にポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の表面層を形成し、この表面層を加熱によりある程度柔らかくしてから、基板の表面層にテンプレートの微細構造パターンを押し当て（加圧し）、その後、冷却してから、両者を分離する、という方式（以下、「熱ナノインプリント」という。）であり、
　刊行物２におけるような、基板に光（紫外線）硬化樹脂を塗布して表面層を形成し、基板の表面層にテンプレートの微細構造パターンを押し当て（加圧し）、その後、紫外線を照射して表面層を硬化させてから、両者を分離する、という方式（以下、「光ナノインプリント」という。）とは、方式が異なるものである。
　しかし、基板の表面層にテンプレートの微細構造パターンを押し当て（加圧し）て、微細構造パターンを転写するという点では、当然のことながら、共通している（以下、この点を「共通部分」という。）。
　
　そして、刊行物１のナノインプリント技術は、要するに、テンプレートの微細構造パターンを押し当てる面とは反対の面側に、可撓性のある膜を設けて、可撓性のある膜を加圧された媒体（流体）の圧力により、テンプレートの該反対の面に押し付けることで、「力の絶対的に均一な分配が、基板とテンプレートとの間の接触表面全体にわたって得られ」るようにしたもの（以下、「刊行物１の可撓性膜を使用した技術」という。）としても把握することができ、また、この技術は、熱ナノインプリント用の技術だけでなく、ナノインプリントの上記「共通部分」に係る技術としても理解することができる。したがって、「刊行物１の可撓性膜を使用した技術」は、刊行物１では熱ナノインプリントに係るものとして説明されているものの、光ナノインプリントにも応用可能なものであることは、当業者に明らかである。
　さらに、「刊行物１の可撓性膜を使用した技術」以外にも、刊行物１のナノインプリント技術における装置構成や操作は、熱ナノインプリントに特有な「加熱」「冷却」の操作を除いて、光ナノインプリントにも適用可能である。
　
　また、刊行物２には、インプリントリソグラフィー方式においては、熱ナノインプリントであろうと、光ナノインプリントであろうと、モールド（テンプレート）を試料基板に押しつける際の押しつけ面内の圧力分布を一様にする必要がある、という技術課題が示されており、「刊行物１の可撓性膜を使用した技術」はこれに対応し得る技術であるといえる。
　
　そうすると、刊行物１，２に接した当業者であれば、「加熱」「冷却」の操作を除いて、刊行物１から把握される「刊行物１の可撓性膜を使用した技術」などを、刊行物２記載の発明（光ナノインプリント）に応用することを難なく想起し得るものである。
　そして、刊行物２記載の発明に「刊行物１の可撓性膜を使用した技術」などを適用して、本願発明１４のごとく「停止部材と可撓性膜の第１の側との間で、前記構造化された表面が前記表面層と対面するように、前記テンプレートおよび基板を相互に平行に配列し、前記パターンを前記層の中へインプリントするため、前記第１の側とは反対の、前記膜の第２の側に存在する媒体へ超過圧力を加え」る構成とすることに、困難性はない。
　また、刊行物２記載の発明は、テンプレート（紫外線透過性のモールド）を透過した紫外線により光（紫外線）硬化樹脂を硬化するものであり、これに「刊行物１の可撓性膜を使用した技術」を適用した場合、可撓性膜がテンプレートに当接する状態で紫外線照射されるものとなるから、可撓性膜も紫外線透過性を有する（すなわち本願発明１４のごとく「前記流動体の重合に使用できる放射の波長範囲を透過する」）ものにして、可撓性膜を介して放射を表面層へ放出することは、当業者であれば当然に行うことである。
　よって、相違点に係る構成を採用することに困難性はない。
　
　また、本願発明１４によってもたらされる効果も、刊行物１，２に記載された事項から当業者であれば当然に予測し得るものであり、格別なものとはいえない。
　
（まとめ）
　したがって、本願発明１４は、刊行物１，２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
６．むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１４に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないので、他の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。