【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年4月4日(2011.4.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メソポーラス層で被覆された基材の生産方法で：
ａ）次の化学式の化合物から選択される前駆体物質：
M(X)4     (I)
ここに、Xは加水分解性の基で、Mはシリコンまたは４価金属およびこれらの混合物を表す；少なくとも１種類の有機溶媒；少なくとも１種類の細孔形成物質；および水を含むメソポーラス層の前駆体ゾルを調合する；
ｂ）前駆体ゾルのフィルムを基材の主表面に成膜し、成膜したフィルムのメソポーラス構造の形成；
ｄ）細孔形成物質を除去する；および
ｅ）メソポーラス層を塗膜した基材を得る；
ことを含み、当該方法は：
（i）細孔形成物質の除去は≦１５０℃の温度で行われる；および
（ii）当該方法は前駆体ゾルのフィルムの成膜工程（ｂ）の前、および／または工程（ｂ）の後に少なくとも１つの疎水基を持つ少なくとも１種類の反応性物質を導入する工程を含む；ことを特徴とする。
【請求項２】
工程ｂ）の後で工程ｄ）の前に、さらに以下の工程を含む請求項１に記載の方法。
ｃ）成膜したフィルムのメソポーラス構造を硬化する
【請求項３】
１５０℃を超える温度で実施される工程を含まないことを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
成膜したフィルムのメソポーラス構造を硬化する工程ｃ）が≦１５０℃の温度まで加熱することを含むことを特徴とする、請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】
化学式（I）の前駆体物質の加水分解性の基が、
C1〜C4内のアルコキシ基；
エステル基
【化１】
2008509800.tif 000001
ここにRはC1〜C6内のアルキル基；Cl、Br、Iおよびこれらの基の混合物
から選択されることを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
４価の金属がTi、Zr、Snから選択されることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前駆体物質がテトラエトキシシラン（TEOS）であることを特徴とする、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
溶媒が極性溶媒から選択されることを特徴とする、請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
細孔形成物質が非イオン系、陽イオン系、陰イオン系および両性界面活性剤から選択されることを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
細孔形成物質が、臭化セチルトリメチルアンモニウム(CTAB)、塩化セチルトリメチルアンモニウム、エチレンオキシドおよびプロピレンオキシドのジブロック共重合体、エチレンオキシドおよびプロピレンオキシドのトリブロック共重合体、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル類、およびエトキシレート化アセチレンジオール類およびこれらの混合物から選択されること特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
細孔形成物質が臭化セチルトリメチルアンモニウムであることを特徴とする、請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前駆体物質および前駆体物質に加えられる反応性物質（もしあれば）に対する細孔形成物質の重量比は０．０１から５まで変動することを特徴とする、請求項１から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
細孔形成物質の除去工程が有機溶媒または有機溶媒の混合物、超臨界状態の流体を用いる抽出、ＵＶおよび／またはオゾン照射を用いる分解、プラズマまたはコロナ放電処理により処理されることを特徴とする、請求項１から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
細孔形成物質の除去工程が有機溶媒または有機溶媒の混合物を用いて実施されることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
溶媒がアルカノール類、アルキルケトン類、アルキルクロライド類の中から選択されることを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
工程ｄ）の間に疎水基を持つ少なくとも１種類の試薬が加えられることを特徴とする、請求項１から１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
少なくとも１つの疎水基を持つ反応性物質を導入する工程（ii）は
前駆体ゾルのフィルムの成膜工程（ｂ）の前に、前駆体ゾルに少なくとも１つの疎水基を持つ少なくとも１種類の第１試薬を加えることおよび
工程（ｂ）の後に少なくとも１つの疎水基を持つ少なくとも１種類の、第１試薬とは異なる第２試薬をメソポーラス層へ導入することから構成されることを特徴とする、請求項１から１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
少なくとも１つの疎水基を持つ第１試薬は次の化学式を持つ化合物および化合物の混合物から選択される：
(R1)n1(R2)n2Si   または    (R3)n3(R4)n4Si-R’-Si(R5)n5(R6)n6
(II)                               (III)
ここに：
R1、R3およびR5は飽和または不飽和炭化水素基を表し；
R2、R4およびR6は加水分解性の基で；
R’はアルキレンまたはアリーレン基；
n1は１から３の整数；
n2は１から３の整数；およびn1+n2＝４；
n3、n4、n5、およびn6は０から３の整数であるが、n3＋n5およびn4＋n6の合計はゼロに等しくはないという条件付である；および
n3+n4=n5+n6=3；
ことを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
第１試薬がメチルトリエトキシシラン（MTEOS）であることを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
第１試薬の前駆体物質に対するモル比は１０／９０から５０／５０まで変動することを特徴とする、請求項１７から１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
前駆体物質は、少なくとも１つの疎水基を持つ少なくとも１種類の試薬を導入する前に加水分解および縮合されていることを特徴とする、請求項１から２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
前駆体ゾルのフィルムを成膜する工程（ｂ）が第１試薬を前駆体ゾルに加えてから５分以内に実施されることを特徴とする、請求項１７から２１のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
前記メソポーラス層がヒドロキシル基を含み、少なくとも１つの疎水基を持つ第２試薬はシリコン化合物で、メソポーラス層のヒドロキシル基と反応できるという単機能を持つことを特徴とする、請求項１７から２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
第２試薬がクロロシラン、アルコキシシラン、フルオロシラン、またはジシラザンであることを特徴とする、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
少なくとも１つの疎水基を持つ少なくとも１種類の反応性物質を導入する工程（ii）は細孔形成物質除去工程（ｄ）の後または最中にメソポーラス層内に少なくとも１つの疎水基を持つ少なくとも１種類の試薬を導入することのみを有することを特徴とする、請求項１から１６のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】
前記メソポーラス層がヒドロキシル基を含み、試薬がメソポーラス層のヒドロキシル基と反応できる単機能のシリコン化合物から選択されることを特徴とする、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
試薬がジシラザンであることを特徴とする、請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
メソポーラス層が規則正しい構造を持つことを特徴とする、請求項１から２７のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】
構造が３ｄ六方晶系、立方晶系または２ｄ六方晶系であることを特徴とする、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
メソポーラス層が事前に基材上に成膜されている高屈折率層（ｎ＞１．５０）の上に形成され、メソポーラス層は低屈折率（ｎ≦１．５０）であるため、高屈折率層およびメソポーラス層の組合せが２重層または多層の反射防止膜を形成することを特徴とする、請求項１から２９のいずれかに記載の方法。
【請求項３１】
メソポーラス層が疎水性および／または疎油性のフィルムで被覆されることを特徴とする、請求項１から３０のいずれかに記載の方法。
【請求項３２】
基材が眼科用レンズであることを特徴とする、請求項１から３１のいずれかに記載の方法。
【請求項３３】
請求項１から２９のいずれかによる方法で得られるメソポーラス層で主表面を被覆された透明な基材で構成される、眼科用レンズ
【請求項３４】
メソポーラス層が３ｄ六方晶系構造を持つことを特徴とする、請求項３３に記載の眼科用レンズ。
【請求項３５】
メソポーラス層が低屈折率（ｎ≦１．５０）であること、およびこれが基材の主表面上に形成された高屈折率層（ｎ＞１．５０）上に成膜され、高屈折率層と共に二重層または多層の反射防止膜を形成することを特徴とする、請求項３３または３４に記載の眼科用レンズ。
【請求項３６】
高屈折率層それ自体が基材の主表面上に形成された耐摩耗塗膜上に形成されることを特徴とする、請求項３５に記載の眼科用レンズ。
【請求項３７】
メソポーラス層それ自体が疎水性および／または疎油性の層で被覆されることを特徴とする、請求項３３から３６のいずれかに記載の眼科用レンズ。
【請求項３８】
基材が有機物であることを特徴とする、請求項３３から３７のいずれかに記載の眼科用レンズ。
【請求項３９】
細孔形成物質の除去は≦１３０℃の温度で行われる、請求項１から３２のいずれかに記載の方法。
【請求項４０】
細孔形成物質の除去は≦１１０℃の温度で行われる、請求項１から３２のいずれかに記載の方法。
【請求項４１】
成膜したフィルムのメソポーラス構造を硬化する工程ｃ）が≦１３０℃の温度まで加熱することを含むことを特徴とする、請求項２から３２、３９、および４０のいずれかに記載の方法。
【請求項４２】
成膜したフィルムのメソポーラス構造を硬化する工程ｃ）が≦１１０℃の温度まで加熱することを含むことを特徴とする、請求項２から３２、３９、および４０のいずれかに記載の方法。
【請求項４３】
前駆体物質および前駆体物質に加えられる反応性物質（もしあれば）に対する細孔形成物質の重量比は０．０５から１まで変動することを特徴とする、請求項１から３２、および３９から４２のいずれかに記載の方法。
【請求項４４】
前記メソポーラス層がヒドロキシル基を含み、少なくとも１つの疎水基を持つ第２試薬は、メソポーラス層のヒドロキシル基と反応できるという単機能を持つシリコン化合物で、少なくとも１つのトリアルキルシリル基を含むことを特徴とする、請求項２３に記載の方法。
【請求項４５】
前記メソポーラス層がヒドロキシル基を含み、試薬が、メソポーラス層のヒドロキシル基と反応できる単機能を持つシリコン化合物であり、少なくとも１つのトリアルキルシリル基を含むシリコン化合物から選択されることを特徴とする、請求項２６に記載の方法。
【請求項４６】
当該方法は、前駆体ゾルのフィルムの成膜工程（ｂ）の前、および／または工程（ｄ）の間に少なくとも１つの疎水基を持つ少なくとも１種類の反応性物質を導入する工程（ii）を含むことを特徴とする、請求項１から２４のいずれかに記載の方法。
【請求項４７】
当該方法は、前駆体ゾルのフィルムの成膜工程（ｂ）の前および／または工程（ｂ）の後に、前駆体ゾルに少なくとも１つの疎水基を持つ少なくとも１種類の第１反応性物質を導入すること、および、工程（ｂ）の後、もし、工程（ｃ）があれば工程（ｃ）の後に、少なくとも１つの疎水基を持つ少なくとも１種類の、第１反応性物質とは異なる第２反応性物質を導入する工程、
または、工程（ｄ）の後または間に１つの疎水基を持つ少なくとも１種類の第２反応性物質を導入する工程のいずれかの工程（ii）を含むことを特徴とする、請求項１から２４のいずれかに記載の方法。
【請求項４８】
メソポーラス層の屈折率がｎ≦１．５０である、請求項３３に記載の眼科用レンズ。
【請求項４９】
前記メソポーラス層が、反射防止二重層塗膜、反射防止多層塗膜、またはブラッグ鏡の低屈折率層である、請求項３３に記載の眼科用レンズ。
【請求項５０】
メソポーラス層が耐摩耗性塗膜を被覆された基材上に形成される、請求項３３に記載の眼科用レンズ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
【化１】
2008509800.tif 000002
ここにRはアルキル基で、好ましくはC1〜C6内で、メチルもしくはエチル、またはCl、BrおよびIのようなハロゲンが好ましく、Mはシリコンもしくは４価の金属である。
X基はアルコキシ基で、とりわけメトキシまたはエトキシであることが好ましく、好ましくはエトキシである。
Mで表される４価の金属からは、Ti、Zr、Snを挙げることができる。
Ｍはシリコンであることが好ましい。
化学式（I）の好ましい化合物はテトラエトキシシランSi(OC2H5)4(TEOS) である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
【化２】
2008509800.tif 000003
ここにRはアルキル基で好ましくはC1〜C6内、とりわけメチルまたはエチル、およびCl, BrおよびIの様なハロゲン類を表す；
-R’は-CH2-、-CH2-CH2- の様なアルキレン基、フェニレンの様なアリーレンを表す：
-  n1は１から３の整数：
-  n2は１から３の整数：
-  n1+ n2＝４；
-  n3、n4、n5、およびn6は０から３の整数であるが、n3＋n5およびn4＋n6の合計はゼロに等しくはないという条件付である；および
-  n3＋n4＝ n5＋n6＝3  である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
代わりに、第２の疎水性試薬または疎水性試薬の混合物は工程（ｄ）の間に導入することも可能で、とりわけ抽出溶媒が用いられる場合にそうであり、第２の疎水性試薬または疎水性試薬の混合物は抽出溶媒中に可溶化することもできる。
少なくとも１つの疎水基を持つ第２試薬でとりわけこの発明に適したものは、好ましくはシリコンの化合物で、メソポーラス層の残りのヒドロキシル基と反応できるという単機能、とりわけSi-Cl、Si-NH-、Si-OR官能基（ここにRはC1〜C4内のアルキル基であることが好ましい）を持つ。
シリコン化合物の好ましい疎水性官能基はアルキル基で、好ましくはメチル、アルキル、アリール、フルオロアルキル、ペルフルオロアルキル基である。