【手続補正書】
【提出日】平成23年5月30日(2011.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
本出願では、以下の態様が提供される。
１．  クロモニック層を形成するために基材表面にコーティング方向でコーティング組成物を適用する工程であって、前記コーティング組成物がクロモニック材料と表面改質された無機ナノ粒子と水とを含む、適用する工程；乾燥クロモニック層を形成するために前記クロモニック層から前記水の少なくとも一部分を除去する工程；並びに、前記乾燥クロモニック層を親水性有機溶媒に曝露して前記乾燥クロモニック層内にチャネルパターンを形成する工程であって、前記チャネルパターンが、（ａ）前記コーティング方向に第１のセットのチャネルと（ｂ）前記第１のセットのチャネルに実質的に垂直である第２のセットのチャネルとを含み、前記第１のセットのチャネル及び前記第２のセットのチャネルが前記乾燥クロモニック層の平均厚さと等しい平均チャネル深さを有する、曝露形成する工程を含む、方法。
２．  前記基材が可撓性ポリマーフィルムを含む、態様１に記載の方法。
３．  前記基材表面がケイ素アルミニウム酸化物層を更に含む、態様２に記載の方法。
４．  前記コーティング組成物が、前記クロモニック材料と水とを含む均一相中の前記表面改質された無機ナノ粒子の懸濁液である、態様１に記載の方法。
５．  前記コーティング組成物中の前記表面改質された無機ナノ粒子の濃度が、コーティング組成物の総重量に基づいて１０重量％〜３０重量％の範囲にある、態様１に記載の方法。
６．  前記コーティング組成物のｐＨが５〜１２の範囲にある、態様１に記載の方法。
７．  前記表面改質された無機ナノ粒子が、シリカ、チタニア、ジルコニア、又はこれらの組み合わせを含む、態様１に記載の方法。
８．  前記表面改質された無機ナノ粒子が、シリカナノ粒子とオルガノシランとの反応生成物であり、前記オルガノシランが次式：
【化１】
2010533073.tif 000001
を有し、式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３が独立にヒドロキシル、アルコキシ、ハライド、又はこれらの組み合わせを含み；Ｙがアルキレン、アリーレン、オキシアルキレン、又はこれらの組み合わせを含み；並びに、Ｒ４がカルボキシル、ハロゲン、アルコキシ、−ＯＰＯ３Ｈ２、−ＰＯ３Ｈ２、チオール、アミノ、無水物、塩、又はこれらの組み合わせを含む、態様１に記載の方法。
９．  前記オルガノシランがカルボキシエチルエイラントリオールナトリウム塩である、態様８に記載の方法。
１０．  第２のオルガノシランを更に含む、態様８に記載の方法。
１１．  前記コーティング組成物から除去された前記水が、前記コーティング組成物の総重量に基づいて５重量％〜９５重量％の範囲にある、態様１に記載の方法。
１２．  前記乾燥クロモニック層が５００ナノメートル〜３マイクロメートルの範囲の厚さを有する、態様１に記載の方法。
１３．  前記親水性有機溶媒が、アルコール、ケトン、ニトリル、エーテル、又はこれらの組み合わせを含む、態様１に記載の方法。
１４．  前記親水性有機溶媒が無水である、態様１に記載の方法。
１５．  前記親水性有機溶媒が前記クロモニック材料を溶解しない、態様１に記載の方法。
１６．  前記第１のセットのチャネル及び前記第２のセットのチャネルが独立に１０ナノメートル〜８００ナノメートルの範囲の平均チャネル幅を有する、態様１に記載の方法。
１７．  前記第１のセットのチャネル及び前記第２のセットのチャネルが独立に５００ナノメートル〜３マイクロメートルの範囲の平均チャネル深さと１０ナノメートル〜８００ナノメートルの範囲の平均チャネル幅と５００ナノメートル〜１マイクロメートルの範囲の平均周期とを有する、態様１に記載の方法。
１８．  前記第１のセットのチャネルが前記コーティング方向に複数の平行な又は実質的に平行なチャネルを含む、態様１に記載の方法。
１９．  コーティング方向における前記第１のセットのチャネルの長さが、前記第１のセットのチャネルに実質的に垂直な前記第２のセットのチャネルの長さを超える、態様１に記載の方法。
２０．  クロモニック層を形成するために基材表面にコーティング方向でコーティング組成物を適用する工程であって、前記コーティング組成物がクロモニック材料と表面改質された無機ナノ粒子と水とを含む、適用する工程；乾燥クロモニック層を形成するために前記クロモニック層から前記水の少なくとも一部分を除去する工程；前記乾燥クロモニック層を親水性有機溶媒に曝露して前記乾燥クロモニック層内にチャネルパターンを形成する工程であって、前記チャネルパターンが、（ａ）前記コーティング方向に第１のセットのチャネルと（ｂ）前記第１のセットのチャネルに実質的に垂直である第２のセットのチャネルとを含み、前記第１のセットのチャネル及び前記第２のセットのチャネルが前記乾燥クロモニック層の平均厚さと等しい平均チャネル深さを有する、曝露形成する工程；前記乾燥クロモニック層の表面上に、及び、前記第１のセットのチャネルと前記第２のセットのチャネルの両方の内部に、金属含有材料を配置する工程であって、前記第１のセットのチャネルと前記第２のセットのチャネルの内部の前記金属含有材料が前記基材表面に接触する、配置する工程；並びに、前記基材上にナノ構造パターンを形成する工程であって、前記形成する工程が前記乾燥クロモニック層と前記乾燥クロモニック層上の前記金属含有材料とを両方とも除去することを含み、前記第１のセットのチャネルと前記第２のセットのチャネルの内部の前記金属含有材料が前記基材に付着する、形成する工程、を含む方法。
２１．  前記ナノ構造パターンが（ａ）第１のセットのナノ構造と（ｂ）前記第１のセットのナノ構造に実質的に垂直な第２のセットのナノ構造とを含む、態様２０に記載の方法。
２２．  前記クロモニック材料が次式：
【化２】
2010533073.tif 000002
を有し、式中、Ｒ２が水素、置換若しくは非置換アルキル、置換若しくは非置換アルコキシ、置換若しくは非置換カルボキシルアルキル、又はこれらの組み合わせを含み；並びに、Ｒ３が置換若しくは非置換複素芳香環、置換若しくは非置換複素環、又はこれらの組み合わせを含む、態様１に記載の方法により形成される物品。
２３．  前記クロモニック材料が次式：
【化３】
2010533073.tif 000003
を有し、式中、Ｒ２が水素、置換若しくは非置換アルキル、置換若しくは非置換アルコキシ、置換若しくは非置換カルボキシルアルキル、又はこれらの組み合わせを含み；並びに、Ｒ３が置換若しくは非置換複素芳香環、置換若しくは非置換複素環、又はこれらの組み合わせを含む、態様１に記載の方法により形成される物品。
２４．  基材表面を有する基材と、前記基材表面上に配置される乾燥クロモニック層とを含む物品であって、前記乾燥クロモニック層がクロモニック材料と表面改質された無機ナノ粒子とを含み、前記乾燥クロモニック層が第１のセットのチャネルと、前記第１のセットのチャネルに実質的に垂直である第２のセットのチャネルとを含むチャネルパターンを有し、前記第１のセットのチャネル及び前記第２のセットのチャネルが前記乾燥クロモニック層の平均厚さに等しい平均チャネル深さを有する、物品。
２５．  前記乾燥クロモニック層の表面上に、並びに、前記第１のセットのチャネル及び前記第２のセットのチャネルの両方の内部に配置された金属含有材料を更に含み、前記第１のセットのチャネル及び前記第２のセットのチャネルの両方の内部の前記金属含有材料が前記基材表面に接触する、態様２４に記載の物品。
本開示の範囲及び趣旨から逸脱することなく本開示の様々な修正形態及び変更形態が、当業者には、明らかとなろう。また、本発明は、本明細書に記載した例示的な要素に限定されないことが理解されるべきである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クロモニック層を形成するために基材表面にコーティング方向でコーティング組成物を適用する工程であって、前記コーティング組成物がクロモニック材料と表面改質された無機ナノ粒子と水とを含む、適用する工程；
乾燥クロモニック層を形成するために前記クロモニック層から前記水の少なくとも一部分を除去する工程；並びに、
前記乾燥クロモニック層を親水性有機溶媒に曝露して前記乾燥クロモニック層内にチャネルパターンを形成する工程であって、前記チャネルパターンが、（ａ）前記コーティング方向に第１のセットのチャネルと（ｂ）前記第１のセットのチャネルに実質的に垂直である第２のセットのチャネルとを含み、前記第１のセットのチャネル及び前記第２のセットのチャネルが前記乾燥クロモニック層の平均厚さと等しい平均チャネル深さを有する、曝露形成する工程を含む、方法。
【請求項２】
クロモニック層を形成するために基材表面にコーティング方向でコーティング組成物を適用する工程であって、前記コーティング組成物がクロモニック材料と表面改質された無機ナノ粒子と水とを含む、適用する工程；
乾燥クロモニック層を形成するために前記クロモニック層から前記水の少なくとも一部分を除去する工程；
前記乾燥クロモニック層を親水性有機溶媒に曝露して前記乾燥クロモニック層内にチャネルパターンを形成する工程であって、前記チャネルパターンが、（ａ）前記コーティング方向に第１のセットのチャネルと（ｂ）前記第１のセットのチャネルに実質的に垂直である第２のセットのチャネルとを含み、前記第１のセットのチャネル及び前記第２のセットのチャネルが前記乾燥クロモニック層の平均厚さと等しい平均チャネル深さを有する、曝露形成する工程；
前記乾燥クロモニック層の表面上に、及び、前記第１のセットのチャネルと前記第２のセットのチャネルの両方の内部に、金属含有材料を配置する工程であって、前記第１のセットのチャネルと前記第２のセットのチャネルの内部の前記金属含有材料が前記基材表面に接触する、配置する工程；並びに、
前記基材上にナノ構造パターンを形成する工程であって、前記形成する工程が前記乾燥クロモニック層と前記乾燥クロモニック層上の前記金属含有材料とを両方とも除去することを含み、前記第１のセットのチャネルと前記第２のセットのチャネルの内部の前記金属含有材料が前記基材に付着する、形成する工程、を含む方法。
【請求項３】
前記クロモニック材料が次式：
【化１】
2010533073.tif 000004
を有し、式中、
Ｒ２が水素、置換若しくは非置換アルキル、置換若しくは非置換アルコキシ、置換若しくは非置換カルボキシルアルキル、又はこれらの組み合わせを含み；並びに、
Ｒ３が置換若しくは非置換複素芳香環、置換若しくは非置換複素環、又はこれらの組み合わせを含む、請求項１に記載の方法により形成される物品。
【請求項４】
前記クロモニック材料が次式：
【化２】
2010533073.tif 000005
を有し、式中、
Ｒ２が水素、置換若しくは非置換アルキル、置換若しくは非置換アルコキシ、置換若しくは非置換カルボキシルアルキル、又はこれらの組み合わせを含み；並びに、
Ｒ３が置換若しくは非置換複素芳香環、置換若しくは非置換複素環、又はこれらの組み合わせを含む、請求項１に記載の方法により形成される物品。
【請求項５】
基材表面を有する基材と、
前記基材表面上に配置される乾燥クロモニック層とを含む物品であって、前記乾燥クロモニック層がクロモニック材料と表面改質された無機ナノ粒子とを含み、前記乾燥クロモニック層が
第１のセットのチャネルと、
前記第１のセットのチャネルに実質的に垂直である第２のセットのチャネルとを含むチャネルパターンを有し、前記第１のセットのチャネル及び前記第２のセットのチャネルが前記乾燥クロモニック層の平均厚さに等しい平均チャネル深さを有する、物品。