【事件の表示】
　特願２００３−１０７１７０「反射屈折型の結像光学系、露光装置、および露光方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１１月１１日出願公開、特開２００４−３１７５３４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１５年（２００３年）４月１１日の出願（特願２００３−１０７１７０号）であって、平成２１年４月１７日付けで拒絶理由が通知され、同年５月１９日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正がなされ、同年６月４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年９月２日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
第２　本願の請求項１に係る発明
　本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２１年５月１９日付け手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　
「第１面の像を第２面上に形成する反射屈折型の結像光学系において、
　前記第１面の第１中間像を形成するための屈折型の第１結像光学系と、少なくとも１つの凹面反射鏡を含み前記第１中間像からの光束に基づいて第２中間像を形成するための第２結像光学系と、少なくとも１つの凹面反射鏡を含み前記第２中間像からの光束に基づいて第３中間像を形成するための第３結像光学系と、前記第３中間像からの光束に基づいて最終像を前記第２面上に形成するための屈折型の第４結像光学系とを備え、
　前記結像光学系は、前記第２面上において前記第４結像光学系の光軸を含まない所定形状の有効結像領域を有することを特徴とする結像光学系。」
　
第３　引用例
１　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００２−３７２６６８号公報（以下「引用例１」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。（下記「２　引用例１に記載された発明の認定」において直接引用した記載に下線を付した。）
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置に関し、特に半導体素子などをフォトリソグラフィ工程で製造する際に使用される露光装置に最適な高解像の反射屈折型の投影光学系に関する。」
　
「【００１８】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するために、本発明の第１発明では、
少なくとも１つの凹面反射鏡と少なくとも１つの平面反射鏡とを有し、第１面からの光に基づいて前記第１面の第１中間像を形成するための第１結像光学系と、
　
少なくとも１つの凹面反射鏡と少なくとも１つの平面反射鏡とを有し、前記第１結像光学系を介した光に基づいて前記第１面の第２中間像を形成するための第２結像光学系と、
　
前記第２結像光学系を介した光に基づいて前記第１面の最終像を第２面上に形成するための屈折型の第３結像光学系とを備えている
　
「【００２３】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の
反射屈折光学系
第１面に配置された投影原版としてのレチクルＲのパターン
【００２４】第１結像光学系Ｇ１を介した光は、第２結像光学系Ｇ２を介して、レチクルＲのパターンの第２中間像を形成する。第２結像光学系Ｇ２は、少なくとも１つの凹面反射鏡と少なくとも１つの平面反射鏡、すなわち第３凹面反射鏡ＣＭ３および第４平面反射鏡Ｍ４を有する。したがって、第２結像光学系Ｇ２では、第１結像光学系Ｇ１を介した光が第３凹面反射鏡ＣＭ３および第４平面反射鏡Ｍ４を介して第２中間像を形成する。
【００２５】第２結像光学系Ｇ２を介した光は、反射鏡を含むことなく複数の屈折光学部材を有する屈折型の第３結像光学系Ｇ３を介して、
レチクルＲのパターンの最終像を第２面に配置された感光性基板としてのウェハＷ上に形成する。
【００２６】具体的な態様によれば、第１結像光学系Ｇ１の第１平面反射鏡Ｍ１を除くすべての光学部材および第２結像光学系Ｇ２の第４平面反射鏡Ｍ４を除くすべての光学部材は、直線状に延びた単一の第１光軸ＡＸ１に沿って配置されている。また、第３結像光学系Ｇ３のすべての光学部材は、第１光軸ＡＸ１と直交するように直線状に延びた単一の第２光軸ＡＸ２に沿って配置されている。第１平面反射鏡Ｍ１と第４平面反射鏡Ｍ４とを表裏面鏡として一体的に形成することもできる。第１平面反射鏡Ｍ１と第４平面反射鏡Ｍ４とを一体に作成すると、表裏面の精度が良く製造しやすい。また、第１平面反射鏡Ｍ１と第４平面反射鏡Ｍ４とを所定位置に配置する際には角度調整が必要であるが、一体に作成されていると、第１平面反射鏡Ｍ１が所定角度からマイナス方向に誤差を有して配置されても第４平面反射鏡Ｍ４が所定角度からプラス方向に誤差を打ち消すことになり、後述する第３結像光学系Ｇ３に所定角度で入射させることができる。」
　
「【００３１】以上のように、本発明の反射屈折光学系では、第１結像光学系Ｇ１および第２結像光学系Ｇ２がともに少なくとも１つの凹面反射鏡と少なくとも１つの平面反射鏡とを有し、第３結像光学系Ｇ３が屈折型の光学系を構成している。したがって、典型的な態様によれば、第１結像光学系Ｇ１および第２結像光学系Ｇ２は第１光軸ＡＸ１に沿って配置され、第３結像光学系Ｇ３は第１光軸ＡＸ１と直交する第２光軸ＡＸ２に沿って配置される。また、レチクルＲおよびウェハＷは、第２光軸ＡＸ２に沿って配置されることになる。
【００３２】このように、本発明では、レチクルＲおよびウェハＷが配置される第２光軸ＡＸ２に沿って配置されるのは第３結像光学系Ｇ３だけであって、第１結像光学系Ｇ１および第２結像光学系Ｇ２は第２光軸ＡＸ２と直交する第１光軸ＡＸ１に沿って配置される。したがって、本発明では、レチクルＲとウェハＷとの間の距離すなわち物体面と像面との距離を小さく設定することができ、ひいては高性能で高精度な光学系を実現することができる。特に、第１光軸ＡＸ１と第２光軸ＡＸ２とを直交させることにより、光軸相互の調整作業が容易になり、高性能で高精度な光学系を実現することが容易になる。」
　
「【図１】（反射屈折光学系の基本的な構成を説明するための図）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
「【図３】（ウェハ上に形成される矩形状の露光領域（すなわち実効露光領域）と基準光軸との位置関係を示す図）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
２　引用例１に記載された発明の認定
　【図１】及び【図３】から、ウエハ上において第３結像光学系の光軸上を含まない領域にレチクルＲのパターンの最終像を形成していることが明らかであるから、上記記載（図面の記載も含む）から、引用例１には、
「第１面に配置された投影原型としてのレチクルＲのパターンの最終像を第２面に配置された感光性基板としてのウェハＷ上に形成する反射屈折光学系において、
　少なくとも１つの凹面反射鏡と少なくとも１つの平面反射鏡とを有し、第１面からの光に基づいて前記第１面の第１中間像を形成するための第１結像光学系と、　
　少なくとも１つの凹面反射鏡と少なくとも１つの平面反射鏡とを有し、前記第１結像光学系を介した光に基づいて前記第１面の第２中間像を形成するための第２結像光学系と、
　前記第２結像光学系を介した光に基づいて前記第１面の最終像を第２面上に形成するための屈折型の第３結像光学系とを備えており、
　反射屈折光学系は、第２面に配置されたウエハ上において第３結像光学系の光軸上を含まない領域にレチクルＲのパターンの最終像を形成している反射屈折光学系。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
３　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００２−１５１３９７号公報（以下「引用例２」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。（下記「第３　本願発明と引用発明の対比、及び、当審の判断」の「４　相違点についての検討・判断」において直接引用した記載に下線を付した。）
　
「【００２３】次に、本発明の投影光学系の第１実施形態について図２を参照しながら説明する。図２は、本発明の投影光学系ＰＬの第１実施形態に係る概略構成図である。
【００２４】図２に示すように、投影光学系ＰＬは、
第１面に配置されたレチクルＲのパターンの第１中間像を形成するための屈折型の第１結像光学系Ｇ１
【００２５】第１結像光学系Ｇ１と第２結像光学系Ｇ２との間の光路中において第１中間像の形成位置の近傍には、第１結像光学系Ｇ１からの光を第２結像光学系Ｇ２に向かって９０°だけ偏向するための光路折り曲げ用の反射面（第１光路折り曲げ鏡）１が配置されている。また、第２結像光学系Ｇ２と第３結像光学系Ｇ３との間の光路中において第２中間像の形成位置の近傍には、第２結像光学系Ｇ２からの光を第３結像光学系Ｇ３に向かって９０°だけ偏向するための反射面（第２光路折り曲げ鏡）２が配置されている。第１中間像および第２中間像は、第１光路折り曲げ鏡１と第２結像光学系Ｇ２との間の光路中および第２結像光学系Ｇ２と第２光路折り曲げ鏡２との間の光路中にそれぞれ形成される。
【００２６】ここで、第１光路折り曲げ鏡１の反射面と第２光路折り曲げ鏡２の反射面とは、空間的に重複しないように位置決めされている。第３結像光学系Ｇ３は、第２中間像からの光束に基づいて、レチクルＲのパターンの縮小像（第２中間像の像であって反射屈折光学系の最終像）を、第２面に配置された感光性基板としてのウエハＷ上に形成する。
【００２７】第１結像光学系Ｇ１は直線状に延びた光軸ＡＸ１を有し、第３結像光学系Ｇ３は直線状に延びた光軸ＡＸ３を有し、光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ３とは共通の単一光軸である基準光軸ＡＸと一致するように設定されている。なお、基準光軸ＡＸは、重力方向（すなわち鉛直方向）に沿って位置決めされている。その結果、レチクルＲおよびウエハＷは、重力方向と直交する面すなわち水平面に沿って互いに平行に配置されている。加えて、第１結像光学系Ｇ１を構成するすべてのレンズおよび第３結像光学系Ｇ３を構成するすべてのレンズも、基準光軸ＡＸ上において水平面に沿って配置されている。
【００２８】一方、第２結像光学系Ｇ２も直線状に延びた光軸ＡＸ２を有し、この光軸ＡＸ２は基準光軸ＡＸと直交するように設定されている。さらに、第１光路折り曲げ鏡１および第２光路折り曲げ鏡２はともに平面状の反射面を有し、２つの反射面を有する１つの光学部材（１つの光路折り曲げ鏡ＦＭ）として一体的に構成されている。この２つの反射面の交線（厳密にはその仮想延長面の交線）が第１結像光学系Ｇ１のＡＸ１、第２結像光学系Ｇ２のＡＸ２、および第３結像光学系Ｇ３のＡＸ３と一点で交わるように設定されている。なお、第１光路折り曲げ鏡１および第２光路折り曲げ鏡２がともに表面反射鏡として構成されている。」
　
「【図２】（投影光学系の構成図）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
第３　本願発明と引用発明の対比、及び、当審の判断
１　対比
　ここで、本願発明と引用発明を対比する。
　
　引用発明の「第１面に配置された投影原型としてのレチクルＲのパターンの最終像を第２面に配置された感光性基板としてのウェハＷ上に形成する反射屈折光学系」が、本願発明の「第１面の像を第２面上に形成する反射屈折型の結像光学系」に相当する。
　
　次に、「結像光学系」の数え方（順序）について、便宜上、後側から数えることとし、また、本願発明の「第１結像光学系」及び「第２結像光学系」を合わせて１つの結像光学系として数えることとすると、引用発明の「第１結像光学系」と本願発明の「第１結像光学系」及び「第２結像光学系」は「最後から３番目の結像光学系」（以下「後３結像光学系」という。）である点で一致し、引用発明の「第２結像光学系」と本願発明の「第３結像光学系」は「最後から２番目の結像光学系」（以下「後２結像光学系」という。）である点で一致し、引用発明の「第３結像光学系」と本願発明の「第４結像光学系」は「最後の結像光学系」（以下「最後結像光学系」という。）である点で一致する。
　同様に、「中間像」の数え方（順序）についても、便宜上、後側から数えることとすると、本願発明の「第１中間像」は「最後から３番目の中間像」（以下「後３中間像」という。）となり、引用発明の「第１中間像」と本願発明の「第２中間像」は「最後から２番目の中間像」（以下「後２中間像」という。）である点で一致し、引用発明の「第２中間像」と本願発明の「第３中間像」は「最後の中間像」（以下「最後中間像」という。）である点で一致する。
　
　すると、引用発明の「少なくとも１つの凹面反射鏡と少なくとも１つの平面反射鏡とを有し、第１面からの光に基づいて前記第１面の第１中間像を形成するための第１結像光学系」と、本願発明の「前記第１面の第１中間像を形成するための屈折型の第１結像光学系」及び「少なくとも１つの凹面反射鏡を含み前記第１中間像からの光束に基づいて第２中間像を形成するための第２結像光学系」とは、「少なくとも１つの凹面反射鏡を含み第１面からの光束に基づいて後２中間像を形成するための後３結像光学系」である点で一致する。
　
　また、引用発明の「少なくとも１つの凹面反射鏡と少なくとも１つの平面反射鏡とを有し、前記第１結像光学系を介した光に基づいて前記第１面の第２中間像を形成するための第２結像光学系」と本願発明の「少なくとも１つの凹面反射鏡を含み前記第２中間像からの光束に基づいて第３中間像を形成するための第３結像光学系」とは、「少なくとも１つの凹面反射鏡を含み前記後２中間像からの光束に基づいて最後中間像を形成するための後２結像光学系」である点で一致する。
　
　また、引用発明の「前記第２結像光学系を介した光に基づいて前記第１面の最終像を第２面上に形成するための屈折型の第３結像光学系」と本願発明の「前記第３中間像からの光束に基づいて最終像を前記第２面上に形成するための屈折型の第４結像光学系」とは、「前記最後中間像からの光束に基づいて最終像を前記第２面上に形成するための屈折型の最後結像光学系」である点で一致する。
　
　引用発明の「反射屈折光学系は、第２面に配置されたウエハ上において第３結像光学系の光軸上を含まない領域にレチクルＲのパターンの最終像を形成している」ことと、本願発明の「前記結像光学系は、前記第２面上において前記第４結像光学系の光軸を含まない所定形状の有効結像領域を有する」こととは、「前記結像光学系は、前記第２面上において前記最後結像光学系の光軸を含まない所定形状の有効結像領域を有する」点で一致する。
　
２　本願発明と引用発明の一致点及び相違点
　したがって、本願発明と引用発明は、
「第１面の像を第２面上に形成する反射屈折型の結像光学系において、
　少なくとも１つの凹面反射鏡を含み第１面からの光束に基づいて後２中間像を形成するための後３結像光学系と、少なくとも１つの凹面反射鏡を含み前記後２中間像からの光束に基づいて最後中間像を形成するための後２結像光学系と、前記最後中間像からの光束に基づいて最終像を前記第２面上に形成するための屈折型の最後結像光学系とを備え、
　前記結像光学系は、前記第２面上において前記最後結像光学系の光軸を含まない所定形状の有効結像領域を有する結像光学系。」の発明である点で一致し、次の点で相違する。
　
＜本願発明と引用発明の相違点＞
　「少なくとも１つの凹面反射鏡を含み第１面からの光束に基づいて後２中間像を形成するための後３結像光学系」が、本願発明は、「前記第１面の第１中間像を形成するための屈折型の第１結像光学系」及び「少なくとも１つの凹面反射鏡を含み前記第１中間像からの光束に基づいて第２中間像を形成するための第２結像光学系」からなるのに対し、引用発明は「少なくとも１つの凹面反射鏡と少なくとも１つの平面反射鏡とを有し、第１面からの光に基づいて前記第１面の第１中間像を形成するための第１結像光学系」である点。
　
３　相違点についての検討・判断
（１）次に、上記相違点について検討する。
　引用例２には、第１面（レチクル）の像を第２面（ウエハ）上に形成する反射屈折型の結像光学系であって、レチクルＲ（第１面）とウエハＷ（第２面）が平行でレチクルＲ（第１面）及びウエハＷ（第２面）に垂直な方向と直交する方向に光を導いて反射結像光学系Ｇ２で中間結像させる結像光学系において、反射結像光学系Ｇ２の前に屈折型の結像光学系Ｇ１によって中間像を形成する結像光学系が記載されている。
　結像光学系の収差の補正等の光学性能の向上の手法として、既存の結像光学系に対してレンズの枚数を増やし設計の自由度を高めて収差をさらに補正する等、光学性能をさらに向上させようと試みることは通常行われていることであるから、引用発明においても、レンズの枚数をより増すように設計することができるように、「少なくとも１つの凹面反射鏡と少なくとも１つの平面反射鏡とを有し、第１面からの光に基づいて前記第１面の第１中間像を形成するための第１結像光学系」に換えて、引用例２に記載されている「反射結像光学系Ｇ２」及び「反射結像光学系Ｇ２の前に屈折型の結像光学系によって中間像を形成する結像光学系Ｇ１」の構造を採用し、上記相違点に係る本願発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
　なお、この点、請求人は、審判請求書において、
「引用例１の公報の段落［００３２］には、「このように、本発明では、レチクルＲおよびウェハＷが配置される第２光軸ＡＸ２に沿って配置されるのは第３結像光学系Ｇ３だけであって、第１結像光学系Ｇ１および第２結像光学系Ｇ２は第２光軸ＡＸ２と直交する第１光軸ＡＸ１に沿って配置される。したがって、本発明では、レチクルＲとウェハＷとの間の距離すなわち物体面と像面との距離を小さく設定することができ、ひいては高性能で高精度な光学系を実現することができる。特に、第１光軸ＡＸ１と第２光軸ＡＸ２とを直交させることにより、光軸相互の調整作業が容易になり、高性能で高精度な光学系を実現することが容易になる。」と記載されている。 
 　上述の段落［００３２］の記載によれば、引用例１の発明では、物体面と像面との距離を小さく設定することにより高性能で高精度な光学系を実現するという引用例１の目的を達成するために、レチクルおよびウェハが配置される光軸ＡＸ２に沿って１つの結像光学系（第３結像光学系Ｇ３）のみを配置している。したがって、第１面の第１中間像を形成するための屈折型の第１結像光学系を引用例１の光学系に追加することは、引用例１の目的に反することである。すなわち、上述の段落［００３２］の記載は、引用例１の光学系において第１面の第１中間像を形成するための屈折型の第１結像光学系を追加するという技術的着想を阻害している。このように、引用例１が第１面の第１中間像を形成するための屈折型の第１結像光学系の追加を自ら阻害している以上、『引用例１に記載の結像光学系において、上記引用例２又は３に記載の第１結像光学系を備える構成とすること』は、当業者であっても容易に想到し得るものではない。 」
と主張する。
　しかしながら、まず、第１に、引用例１において「物体面と像面との距離を小さく設定する」ことを実現することができたのは、「第１結像光学系Ｇ１および第２結像光学系Ｇ２は第２光軸ＡＸ２と直交する第１光軸ＡＸ１に沿って配置される」という構成を採用したことによるものであり、「レチクルＲおよびウェハＷが配置される第２光軸ＡＸ２に沿って配置されるのは第３結像光学系Ｇ３だけ」となったのは、上記の構成を採用した結果生じたことであるといえる。すなわち、「レチクルＲおよびウェハＷが配置される第２光軸ＡＸ２に沿って配置されるのは第３結像光学系Ｇ３だけ」という構成は、「物体面と像面との距離を小さく設定する」ための手段（必須の構成）ではないといえるから、引用例１に記載された発明において、第２光軸ＡＸ２に沿って他の結像光学系を配置することが引用発明を阻害するとまではいえない。
　第２に、「物体面と像面との距離を小さく設定する」という装置の小型化は常に追求される課題である一方で、要請される性能等に応じて装置の構成要素を増やすことも必要に応じて行われることである。どちらを優先させるかは、装置の目的やユーザの要請に応じて適宜選択し得ることであるから、引用発明においても、小型化という特性を犠牲にしても、他の要請に応じて構成要素を増やす（追加する）ことは想定し得ることである。すなわち、引用発明が小型化を目的としているとしても、新たな結像光学系を取り入れることが阻害要因であるとまではいえない。
　したがって、上記の請求人の主張は、採用することができない。
　
（２）そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び引用例２に記載された発明から当業者が予測し得る程度のものである。
　
（３）まとめ
　したがって、本願発明は、引用発明及び引用例２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
第４　結言
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び引用例２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。