【事件の表示】
　特願２００６−２９４４７３「ウェーハの研磨方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　３月　８日出願公開、特開２００７−　５９９３８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯と本件発明
　本願は、平成１８年１０月３０日の出願（特許法第４４条第２項の規定によるもとの特許出願日平成１０年５月２９日）であって、平成２１年９月１６日付で拒絶査定され、同年年１２月１１日に拒絶査定の取消を求める審判が請求されたものである。その後、当審の平成２２年７月１６日付拒絶理由通知に対して同年９月１７日付で手続補正がなされた。
　本願の請求項１及び２に係る発明は、平成２２年９月１７日付手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は次のとおりである。
「第１の回転軸回りに回転駆動される定盤と、
　前記定盤上に固定された研磨パッドと、
　前記研磨パッドに対して傾斜して前記研磨パッド上方に先端が配置された研磨スラリーを供給する供給ノズルと、
　前記第１の回転軸から偏心した第２の回転軸回りに回転駆動され、ウェーハを保持して前記研磨パッドに押し付けるキャリアと、を備えた研磨装置を用い、
　前記研磨スラリーの流量が増加した場合に、前記供給ノズルの先端を、前記研磨パッドの表面に対して平行に且つ前記研磨パッドの径方向に沿って、前記供給ノズルの噴出方向とは反対方向に後退させて前記供給ノズルから前記研磨パッド上に前記研磨スラリーを供給することを特徴とするウェーハの研磨方法。」
　
２．当審の拒絶理由通知の概要
　当審が平成２２年７月１６日付で通知した拒絶理由は、概略、以下の通りである。
理由１：
 
理由２：
　
３．刊行物記載の発明
　刊行物には、以下の技術事項が記載されていると認められる。
ａ．(発明の詳細な説明、段落【０００６】〜【０００８】）
「【０００６】上記埋め込み絶縁膜１６の研磨には、例えば図６に示すような研磨装置が用いられる。この研磨装置は、上述のようにして埋め込み絶縁膜が形成されたウェハ（基板２５）の被研磨面を下にしてこれを保持する基板保持部と、該基板保持部の下方に位置し、該基板保持部に保持された基板２５と摺接させる基板研磨部より構成される。
【０００７】上記基板保持部は、基板２５を密着保持するための金属からなるウェハ保持台２６、図示しないモータ等の駆動機構により該基板保持台２６を回転可能となす保持台回転軸２７よりなる。一方、基板研磨部は、スラリー状の研磨剤２２を展開させるための研磨布２９、この研磨布２９が張着された回転定盤２３、図示しないモータ等の駆動機構により該回転定盤２３を回転可能となす定盤回転軸２４、研磨剤２２を研磨布２９上に供給するための研磨剤供給管２１よりなる。
【０００８】上述の研磨装置によって実際に研磨を行うには、先ず、基板保持台２６に基板２５を保持させ、これを保持台回転軸２７により回転させる。また、回転定盤２３も定盤回転軸２４によって回転させ、研磨剤供給管２１より研磨布２９上に研磨剤２２を供給する。そして、この研磨剤２２を介して基板２５の被研磨面と研磨布２９とを摺接させることによって、この基板２５の被研磨面の研磨を行う。」
ｂ．(【図６】）
　研磨剤供給管２１が研磨布２９に対して傾斜して研磨布２９上方に先端が配置されており、保持台回転軸２７がプレート回転軸２４から偏心していることが理解される。
　
　上記摘記事項を、技術常識を勘案しつつ、本件発明の記載に沿って整理すると、刊行物には以下の発明（以下、「本件発明」という。）が記載されていると認められる。
　「プレート回転軸２４回りに回転駆動される研磨プレート２３と、
　前記研磨プレート２３上に固定された研磨布２９と、
　前記研磨布２９に対して傾斜して前記研磨布２９上方に先端が配置されたスラリーを供給する研磨剤供給管２１と、
　前記プレート回転軸２４から偏心した保持台回転軸２７回りに回転駆動され、ウェハを保持して前記研磨布２９に押し付けるウェハ保持台２６と、を備えた研磨装置を用いるウェハの研磨方法。」(以下、「刊行物記載の発明」という。）
　
４．対比
　本件発明と刊行物記載の発明とを対比すると、後者の「プレート回転軸２４」、「研磨プレート２３」、「研磨布２９」、「スラリー」、「研磨剤供給管２１」、「保持台回転軸２７」、「ウェハ」、「ウェハ保持台２６」が、前者の「第１の回転軸」、「定盤」、「研磨パッド」、「研磨スラリー」、「供給ノズル」、「第２の回転軸」、「ウェーハ」、「キャリア」にそれぞれ相当することは明白であるから、両者は次の点で一致及び相違すると認められる。
＜一致点＞
「第１の回転軸回りに回転駆動される定盤と、
　前記定盤上に固定された研磨パッドと、
　前記研磨パッドに対して傾斜して前記研磨パッド上方に先端が配置された研磨スラリーを供給する供給ノズルと、
　前記第１の回転軸から偏心した第２の回転軸回りに回転駆動され、ウェーハを保持して前記研磨パッドに押し付けるキャリアと、を備えた研磨装置を用いるウェーハの研磨方法。」である点。
＜相違点＞
　研磨スラリーの流量が増加した場合に、前者では供給ノズルの先端を、研磨パッドの表面に対して平行に且つ研磨パッドの径方向に沿って、供給ノズルの噴出方向とは反対方向に後退させて供給ノズルから研磨パッド上に研磨スラリーを供給するのに対し、後者ではこのような特定がない点。
　
５．当審の判断　
　上記相違点について検討する。
　研磨パッド上に研磨スラリーを供給しつつ、キャリアに保持したウェーハを研磨パッドに押し付けながらウェーハと研磨パッドとを相対的に移動することによりウェーハを研磨するウェーハの研磨方法において、平面度の高い研磨面を得るうえで、研磨パッド上に均一に研磨スラリーを供給することが必要であることは、周知の課題であり、そのために研磨スラリーの供給ノズルの位置を調節可能としておくことは、例を挙げるまでもなく、従来周知の技術である。
　また、供給ノズルが同じであれば、研磨スラリーの流量が増加すると流速も増加するため、供給ノズルの先端が研磨パッドに対して傾斜している場合は研磨スラリーが研磨パッド上に落下する点が供給ノズルの噴出方向の前方側に移動し、研磨パッド上に供給された研磨スラリーの分布が、供給ノズルの噴出方向に、より前方側へ広がるように変化することも、技術常識より明らかである。
　そうしてみると、研磨スラリーの流量が増加した場合に、研磨パッド上に均一に研磨スラリーを供給することができるように、研磨スラリーの研磨パッド上への落下点をほぼ一定に保つべく、研磨パッドの表面に対して平行に供給ノズルの先端を供給ノズルの噴出方向とは反対方向に後退させるように位置を調節し直すことは、当業者であれば容易に想到することができたものである。そして、本件発明では、研磨スラリーの流量が増加した場合に、いかにして供給ノズルを後退させるのか、特定されておらず、操作者の手動による位置調整も含まれると解される。また、研磨スラリーの研磨パッド上への落下点をほぼ一定に保つうえで、供給ノズルを研磨パッドの径方向に沿って後退させることに格別の技術的な意義を認めることはできないため、供給ノズルを研磨パッドの径方向に沿って後退させることは当業者が適宜設計し得る事項である。
　また、本件発明の作用効果としては、上述の、研磨スラリーの流量が増加した場合も研磨スラリーの研磨パッド上への落下点をほぼ一定に保って、研磨パッド上に均一に研磨スラリーを供給し続けるという、普通に予測される周知の課題の解決のほかに、格別のものを見出すこともできない。
　したがって、本件発明は刊行物記載の発明及び従来周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６．むすび　
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、刊行物記載の発明及び従来周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本願の請求項２に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。
　
　.