【事件の表示】
　特願２００２−３７６４６８「フォト酸レイビルポリマー及びそれを含むフォトレジスト」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　８月２２日出願公開、特開２００３−２３３１９１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１４年１２月２６日（パリ条約による優先権主張２００１年１２月２８日、米国）の出願であって、当審において、平成２２年３月１日付けで通知した拒絶理由に対して、同年９月２日付けで手続補正書及び意見書が提出されたものである。
　その請求項１〜５に係る発明は、上記手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜５に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は次のとおりである。
　
　「１以上のフォト酸発生剤化合物と、下記式：
【化１】　　　　　　　　　　　　　　　　
（式中、Ｘ及びＹはそれぞれ同一又は異なって、非水素置換基であり、
Ａｒｙｌは芳香族基であり、
各Ｒは同一又は異なる非水素置換基であり、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素又は任意に置換されたＣ１〜８アルキルであり、
ｍ及びｍ’はそれぞれ独立して０から４の整数であり、及び
ｄ、ｅ及びｆは、表された単位のそれぞれについてのモルパーセントであり、かつそれぞれ０より大である）
で表される構造を有するポリマーとを含む、化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物。」
　
　なお、以下の記載において、上記【化１】で表される構造を有するポリマーは、その【化１】の構造を転記することなく、「化１の構造を有するポリマー」という。
　また、【化１】における３つの構成単位、すなわち、左から、ｄ、ｅ、ｆをモルパーセントする構成単位は、それぞれ、「単位ｄ」「単位ｅ」「単位ｆ」と呼ぶこととする。
　
２．引用刊行物の記載事項
（刊行物１）
　当審の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された特開２０００−２３５２６４号公報（以下、「刊行物１」という。）には、以下の事項が記載されている。（なお、下線は当審で付した。） 
　
1a．「【請求項１】  （ａ）下記一般式〔Ｉ〕及び／又は〔II〕（当審注；省略）で表される繰り返し単位を有し、水には不溶性、アルカリには可溶性であるポリマーと、
（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物と、（ｃ）下記一般式〔III〕で表される繰り返し単位を有し、酸により分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリマー
【化１】（当審注；省略）
【化２】
〔一般式〔III〕中、
Ｒ
1
〜Ｒ
3
、Ｒ
5
〜Ｒ
7
、Ｒ
9
〜Ｒ
11
は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、
、アルキル基
Ｒ
4
、Ｒ
8
は、同一でも異なっていてもよく、単結合
下記式で表される２〜５価の基である
【化３】
（当審注；このうち、左式に着目。）
Ａ
1
〜Ａ
5
は、
水素原子、
又は単結合を表し、Ａ
1
〜Ａ
5
のうち少なくとも１つは単結合を表す
Ｇは、−ＯＨ
を表す
Ｑは、下記に示す群から選ばれた基を表す。
【化５】
（当審注；このうち、上段左式に着目。）
Ｙ
2
は、
−ＣＯＯ−
を表す
Ｒ
18
、Ｒ
19
、Ｒ
21
、Ｒ
22
は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、又はハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素数１〜４個のアルキル基である
Ｒ17は、下記に示す基のいずれかを表す。
【化６】
（当審注；このうち、左式に着目。）
上記Ｒ
26
、Ｒ
27
は、各々上記Ｒ
18
、Ｒ
19
、Ｒ
21
、Ｒ
22
と同義である。Ｒ
28
は、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基である
ｄは
０
　
1b．「【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、半導体デバイスの製造において、高感度で且つ高い解像力を安定して有する感光性組成物を提供することにある。本発明の他の目的は、Ｄｅｅｐ−ＵＶ領域（遠紫外領域）での光吸収が小さく、短波長光源に対応し得る感光性組成物を提供することにある。本発明の他の目的は、特に０．２μｍ以下の微細パターンを形成する際に、現像処理後の膜減りが少なく、矩形形状を安定して与える感光性組成物を提供することにある。本発明の
さらに他の目的は、酸素プラズマ工程で、下層へのパターンの転写の際に寸法シフト（寸法変動）が少なく、寸法再現性に優れた感光性組成物を提供すること
　
1c．「【００４７】一般式〔III〕中、−Ｒ4−（Ｇ）fで表される基は、より具体的には以下の基が好ましい。・・（当審注；省略）・・・・
【００４８】
【化２３】
」
　
1d．「【００５９】・・・（当審注；省略）・・・。本発明に用いられる成分（ｃ）のポリマーの具体例には次の様なものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６０】〜【００６５】（当審注；省略）
【００６６】Ｃ−３１（当審注；省略）
Ｃ−３３〜Ｃ−３５（当審注；省略）」　
　以下、Ｃ−３２は構造式で記載せず、「ｐ−ヒドロキシスチレン（４０）／フェニルプロピルアクリレート（２５）／スチレン（３５）のポリマー」と記載する。
　
1e．「【０１１７】
（実施例１）
製造例−１により得られたシルセスキオキサンポリマー　　１．１ｇと、
化合物具体例Ｃ−６のポリマー　　　　　　　　　　　　　０．９ｇ、
ビス（ｐ−ｔ−アミルフェニル）ヨードニウム  ｐ−トルエンスルホネート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０６ｇ、並びに
トリフェニルイミダゾール　　　　　　　　　　　　０．００８ｇ
を１８．５５ｇのメトキシプロピルアセテートに溶解し、得られた溶液を０．１μｍ口径のメンブレンフィルターで精密濾過して、シリコン（当審注；「シリコーン」の誤記と認める。）含有感光性組成物を得た。シリコンウェハにＦＨｉ−０２８Ｄレジスト（フジフイルムオーリン社製ｉ線用レジスト）をキャノン製コーターＣＤＳ−６５０を用い塗布し、９０℃、９０秒ベークして膜厚０．８３μｍの均一膜を得た。これを更に２００℃、３分加熱したところ膜厚は０．７２μｍとなった。この上に上記で調製したシリコン（当審注；「シリコーン」の誤記と認める。）含有感光性組成物を塗布、
９０℃、９０秒ベーク
【０１１８】こうして得られたウェハーをキャノン製ＫｒＦエキシマレーザーステッパーＦＰＡ−３０００ＥＸ４に解像力マスクを装填して、露光量と焦点を変化させながら露光した。その後クリーンルーム内で
１２０℃、９０秒加熱した後、
【０１１９】以下の方法により、感度、解像力、焦点深度、寸法変動等を評価した。
感度：マスクの０．１８μｍのライン／スペースが、上層のパターンで再現される時の露光量で評価した。
解像力：上記マスクの０．１８μｍのライン／スペースが再現される時の露光量の時、下層においてライン／スペースが分離解像する最小寸法で評価した
焦点深度は、・・・（当審注；省略）・・・
結果としては、感度は３４ｍＪ／ｃｍ2で、
０．１５μｍ（解像力）のライン／スペースが解像していた
【０１２０】（実施例２）（当審注；省略）
【０１２１】（実施例３〜１９）実施例１の成分（ｂ）、（ｃ）及び成分（ｄ）に替えて
表１に記載の成分（ｂ）、（ｃ）及び成分（ｄ）を用い、実施例１と同様にしてそれぞれの感光性組成物を調製し、実施例１と同様にして露光、現像し、またエッチング処理し、それを走査型電子顕微鏡で観察し、評価を上記と同様に行った
その結果を表３に示す
【０１２２】（比較例１〜５）・・・（当審注；省略）・・・
【０１２３】
【表１】
【０１２４】（当審注；省略）
【０１２５】
【表３】
」
　表３より、Ｃ−３２を用いた実施例１４の、解像度は０．１４５μｍである。
　これら記載によれば、刊行物１には次の発明（以下、「刊行物１発明」という。）が記載されていると認められる。 
　
（刊行物１発明）　
　「（ａ）特定のシリコーン含有ポリマーと、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物と、（ｃ）酸により分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリマーであって、ｐ−ヒドロキシスチレン（４０）／フェニルプロピルアクリレート（２５）／スチレン（３５）のポリマーと（ｄ）特定の含窒素化合物及び／又はカルボキシル基置換脂肪族アミンとを含有する、ポジ型シリコーン含有感光性組成物。」
　　
（刊行物２）
　当審の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された特開２０００−２８４４８３号公報（以下、「刊行物２」という。）には、以下の事項が記載されている。（なお、下線は当審で付した。） 
　
2a．「【請求項１】  
感光性成分並びに、１）酸に不安定な基、２）ｍ−ヒドロキシフェニル基、及び、３）ｐ−ヒドロキシフェニル基を有するポリマーを含む樹脂とを含んで成るフォトレジスト組成物
【請求項２】  ポリマーが、ペンダントのアクリル酸エステル基を酸に不安定な基として含む、請求項１に記載のフォトレジスト。」
　
2b．「【請求項６】  
ポリマーが次式ＩＩの構造を含んで成るものである、請求項１に記載のフォトレジスト
【化２】
式中、
Ｒは置換基を有していてもよいアルキル基
Ｒ
１
とＲ
２
は各々同一のまたは異なる、水素以外の置換基であり、Ｒ
３
、Ｒ
４
およびＲ
５
は各々独立に水素または置換基を有していてもよいアルキル基であり、ｍとｎは各々独立に０〜４であり、そして、ｗ、ｘおよびｙは何れも０より大きな数値であって、それぞれ該ポリマーの各単位のモルパーセントを示している。
　
2c．「【０００７】本発明の樹脂を含有するレジストが、優れた性質を示し、その結果、高解像度のレジスト像を形成し得ることを我々は見いだした。あまりにも速い溶解速度を有するレジストは、特に、ミクロンまたはサブミクロンの画像を焼き付ける場合、比較的低解像度を示す可能性がある。
ｐ−ヒドロキシ単位と酸に不安定な単位を含有するポリマーへの、ｍ−ヒドロキシフェニル単位の添加が、このポリマーを含有するレジスト塗布層の、露光された領域と露光されない領域との間の溶解度差を、非常に好ましく生じさせ得ることを、特に見出した
　
2d．「【００１４】酸不安定基１）は、ポリマー主鎖にぶら下がっていることが好ましい。
アクリル酸エステル基が通常好ましく、
置換または無置換のアクリル酸アルキルモノマー
フェニルなどのアリール等の置換基を１個以上有するアルキルエステル基なども好適である
　
2e．「【００４４】上で述べたように、本発明のコポリマーは、フォトレジスト組成物、特に、
化学増幅型のポジ型レジスト用の樹脂バインダー成分として、非常に有用である
【００４５】樹脂バインダー成分は、レジストの塗布層を、アルカリ性の水系現像液で現像可能ならしめるために十分な量で使用されるべきである。
【００４６】また、
本発明のレジストの組成物は、感放射線で露光した時に、レジストの塗布層内に潜像を生成させるのに十分な量で好適に使用される、光酸発生剤（つまり「ＰＡＧ」）も含有する
　
2f．「【００６１】
表面への該フォトレジストの塗布に続いて、好ましくは、該フォトレジスト塗布部が非粘着性になるまで、溶媒を除去するために加熱により乾燥される。その後、従来法通りにマスクを通して画像が形成される
【００６２】本発明のレジスト組成物の塗布層は、遠紫外部、つまり、３５０ｎｍ以下、より具体的には約３００ｎｍ以下、通常約１５０〜３００または４５０ｎｍの露光波長によって感光されるのが好ましい。特に好ましい露光波長は、約２４８ｎｍである。
【００６３】
露光に続いて、該組成物の被膜層は、好ましくは約７０℃〜約１５０℃の範囲の温度でベーキングされる
　
　これら記載によれば、刊行物２には次の発明（以下、「刊行物２発明」という。）および技術的事項（以下、「刊行物２の技術的事項」という。）が記載されていると認められる。 
　　
（刊行物２発明）
　「光酸発生剤、ならびに、１）酸に不安定な基、２）ｍ−ヒドロキシフェニル基、３）ｐ−ヒドロキシフェニル基を有するポリマーであって、下式の構造を含んでなるポリマーを樹脂としてを含む樹脂とを含んで成る、化学増幅型のポジ型レジスト用のフォトレジスト組成物。
式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルキル基であり、置換基はフェニルなどのアリール等の置換基が挙げられ、Ｒ１とＲ２は各々同一のまたは異なる、水素以外の置換基であり、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は各々独立に水素または置換基を有していてもよいアルキル基であり、ｍとｎは各々独立に０〜４であり、そして、ｗ、ｘおよびｙは何れも０より大きな数値であって、それぞれ該ポリマーの各単位のモルパーセントを示している。」
　
（刊行物２の技術的事項）
　「ｐ−ヒドロキシ単位と酸に不安定な単位を含有するポリマーへの、ｍ−ヒドロキシフェニル単位の添加が、このポリマーを含有するレジスト塗布層の、露光された領域と露光されない領域との間の溶解度差を、非常に好ましく生じさせ得ること」
　　　
３．対比・判断
（１）刊行物１発明
　まず、本願発明１と刊行物１発明を対比する。
　刊行物１発明の「（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物」は、本願発明１の「１以上のフォト酸発生剤化合物」に相当する。
　刊行物１発明の「（ｃ）酸により分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリマーであって、ｐ−ヒドロキシスチレン（４０）／フェニルプロピルアクリレート（２５）／スチレン（３５）のポリマー」と、
　本願発明１の「化１の構造を有するポリマー」とは、
　前者の「ｐ−ヒドロキシスチレン」、「フェニルプロピルアクリレート」は、それぞれ、後者の、単位ｅ、単位ｄに相当し、前者の「スチレン」は後者の任意成分に相当し、後者は重合比も任意であるから、
　両者は、「単位ｄ、単位ｅを有するポリマー」である点で共通する。　
　
　また、その組成や用途からみて、刊行物１発明の「ポジ型シリコーン含有感光性組成物」は、本願発明１の「化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物」に相当する。
　　
　なお、刊行物１発明は、「（ａ）特定のシリコーン含有ポリマー」を必須の成分とし、「ポジ型シリコーン含有感光性組成物」というように「シリコーン含有」との制約があるが、この点について、本願発明１では、他に併用するポリマーがあることを妨げず、本願明細書からみても「アリールアルキルフォト酸レイビル基を有するポリマーに加えて及びそれとは別個の１以上のポリマーを含有することができる。」（【００４８】）、「斯かる樹脂ブレンドの各構成員の量は、かなり広く変動し得る」（【００４９】）とあるように、記載されたポリマー以外のポリマー成分の併用について格段の制限はないので、相違点とはならない。
　同じく、「（ｄ）特定の含窒素化合物及び／又はカルボキシル基置換脂肪族アミンとを含有する」点についても、本願明細書【００６１】【００６２】に「任意の添加剤」が記載され、相違点とはならない。
　　
　したがって、本願発明１と刊行物１発明とは、
　「１以上のフォト酸発生剤化合物と、
単位ｄ、単位ｅを有するポリマーとを含む、化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物」
である点で一致し、次に示す相違点１にて相違する。
　
［相違点１］　ポリマーの構成単位として、
　本願発明１では、さらに、単位ｆを含むのに対し、
　刊行物１発明では、さらに、単位ｆを含むことは特定されていない点。
　
　以下、この相違点１について検討する。 
　
　まず、化学増幅ポジ型レジスト組成物の樹脂成分として、単位ｅ、すなわち、ｐ−ヒドロキシスチレン単位を有する場合、単位ｆ、すなわち、ｍ−ヒドロキシスチレン単位を適度に併用することは、例えば、当審の拒絶の理由に挙げた、上記刊行物２の技術的事項、特開平６−４９１３７号公報、特開平１０−４８８２６号公報（【００７４】、【００８４】）に示されているように周知慣用技術である。
　その溶解性等の化学増幅ポジ型レジスト組成物を勘案して、ｐ−ヒドロキシスチレン単位単独に替えて、適量のｍ−ヒドロキシスチレン単位、すなわち、単位ｆを導入することは適宜なし得ることである。
　よって、刊行物１発明において、ポリマーの構成単位として、さらに、単位ｆ、すなわち、ｍ−ヒドロキシスチレン単位を併用して、本願発明１の構成となすことは、当業者が容易に想到し得ることである。
　
　そして、単位ｅ、ｐ−ヒドロキシスチレン単位単独に替えて、適量の単位ｆ、ｍ−ヒドロキシスチレン単位を導入することによる、格別顕著な作用効果も認められない。
　　　　
（２）刊行物２発明
　次に、本願発明１と刊行物２発明を対比する。
　刊行物２発明の「光酸発生剤」、「化学増幅型のポジ型レジスト用のフォトレジスト組成物」は、それぞれ、本願発明１の「１以上のフォト酸発生剤化合物」、「化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物」に相当する。
　また、刊行物２発明のポリマーの構造における、中央のｍ−ヒドロキシスチレン構造、右端のｐ−ヒドロキシスチレン構造は、本願発明１の「化１の構造を有するポリマー」の、それぞれ、「単位ｆ」、「単位ｅ」に相当する。　
　さらに、刊行物２発明のポリマーの構造における、左端の構造単位は、アリール基で置換されたアルキル基を含む、酸に不安定な基を有する、アクリル酸エステル構造であるから、本願発明１の「化１の構造を有するポリマー」の「単位ｄ」とは、
「アリール基で置換されたアルキル基を酸に不安定性な基とするアクリル酸エステル構造単位」である点で共通する。
　したがって、本願発明１と刊行物２発明とは、
　「１以上のフォト酸発生剤化合物と、
アリール基で置換されたアルキル基を酸に不安定な基とするアクリル酸エステル構造単位、
単位ｅおよび単位ｆ
を有するポリマーとを含む、化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物。」
である点で一致し、次に示す相違点２にて相違する。
　　　
［相違点２］　酸不安定性基が、
　本願発明１では、−ＣＸＹ−Ａｒｙｌ（ＸおよびＹは、非水素置換基、Ａｒｙｌは芳香族基）に特定されているのに対し、
　刊行物２発明では、アリール基で置換されてもよいアルキル基にすぎず、−ＣＸＹ−Ａｒｙｌ（ＸおよびＹは、非水素置換基、Ａｒｙｌは芳香族基）
に特定されていない点。　
　
　以下、この相違点２について検討する。
　アリール基で置換された、アルキル基で酸に不安定な基とされれば、通常、−ＣＸＹ−Ａｒｙｌか−ＣＸＹ−（アルキレン）−Ａｒｙｌ（ＸおよびＹは、非水素置換基、Ａｒｙｌは芳香族基）である。（環状アルキル基に関してはＣＸＹまたはＣＸＹ−（アルキレン）が環状構造を含む。）　
　ここで、ポジ型レジストに用いられる、酸に不安定性な基として、前者は周知である。
　例えば、当審の拒絶理由で示した、特開平６−２８９６０８号公報【００１７】【化６】【００２６】【化１５】【００８１】−【００８７】、特開平６−２８９６１５号公報【００１５】【化６】【００２４】【化１５】【００７５】−【００７９】、特開平３−１１３４４９号公報、原査定の引用文献３である特開２０００−２３１１９４号公報（【００４０】(xi)）参照のこと。
　よって、刊行物２発明のポリマーの「アリール基で置換された、アルキル基で酸に不安定な基」として、上記周知の基を選択して、本願発明１の構成となすことに格別の困難性は認められない。
　そして、一般に、芳香環のような炭素密度の高い構造がエッチング耐性が高いのはよく知られたことであり、「アリール基で置換されてもアルキル基」である酸不安定性基は、出願当初の請求の範囲に記載された、「アリールアルキル基を含むフォト酸レイビル基」に相当し、このうち、−ＣＸＹ−Ａｒｙｌ（ＸおよびＹは、非水素置換基、Ａｒｙｌは芳香族基）を選択することによる格別顕著な作用効果は認められない。 
　　　
（３）判断のまとめ
　よって、本願発明１は、刊行物１発明または刊行物２発明、ならびに、周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　
４．請求人の主張の検討
　請求人の意見書における主張は、概ね、次のとおりである。
　
主張１）引用文献１には４−ヒドロキシスチレン／３−ヒドロキシスチレンの組み合わせが好ましいことが記載も示唆もされておらず、同文献が開示する膨大な組み合わせの中から４−ヒドロキシスチレンと３−ヒドロキシスチレンを選択する理由が全くない。
・引用文献２には４−ヒドロキシスチレン／３−ヒドロキシスチレン／酸不安定基Ｗを有するモノマー単位からなるポリマーを含むフォトレジスト組成物が記載されているものの、酸不安定基Ｗとして−ＣＯＯＣＸＹ−Ａｒｙｌ（Ｘ及びＹは非水素置換基を表す）が全く記載されていない。これらの文献には４−ヒドロキシスチレン／３−ヒドロキシスチレン／−ＣＯＯＣＸＹ−Ａｒｙｌを有するモノマー単位の組み合わせが全く開示されていない。かかる組み合わせによる本願発明の効果が記載も示唆もされていない。
主張２）　引用文献１に記載の感光性組成物は特定のシリコン（当審注；原文の表現のまま）含有ポリマーを用いることによって高解像度、感度、矩形断面等を達成する（段落０００４、段落０００９、段落００３２）。すなわち、同文献に記載の発明においては、上記課題を解決するためにシリコン（当審注；原文の表現のまま）含有ポリマーの存在が必須であり、一般式［ＩＩＩ］で表される酸不安定基を有するポリマーは単にアルカリ可溶性ポリマーとしての存在にすぎず、かかるアルカリ可溶性ポリマーによって高解像度、感度、矩形断面等の効果を達成することは全く想定されていないので、引用文献１に記載の感光性組成物において、上記課題を解決するために、シリコン含有ポリマーを用いる代わりに、同文献に酸不安定基の一つとして例示されているにすぎない−ＣＯＯＣＸＹ−Ａｒｙｌを有するモノマー単位と、引用文献２に記載の４−ヒドロキシスチレン／３−ヒドロキシスチレンを組み合わせることは当業者であっても容易には想起し得ないものと思料する。
主張３）引用文献１には４−ヒドロキシスチレン／３−ヒドロキシスチレンの組み合わせが好ましいことが記載も示唆もされておらず、同文献が開示する膨大な組み合わせの中から４−ヒドロキシスチレンと３−ヒドロキシスチレンを選択する理由が全くない。
主張４）引用文献２には、「また、ハロゲン、特に、弗素、塩素または臭素、Ｃ１−６アルコキシ、フェニルなどのアリール等の置換基を１個以上有するアルキルエステル基な-ども好適である」（段落００１４）と記載されるのみで、アルキルエステル基として−ＣＸＹ−Ａｒｙｌが具体的に示されていない。すなわち、アルキルにアリール基が置換されたアルキルエステル基には広範な範囲の基が含まれ、−ＣＸＹ−Ａｒｙｌである場合においても、Ｘ及びＹが非水素置換基であることは記載も示唆もされていない。
　周知文献には、記載されているものの、これらの文献は単に耐ドライエッチング性の向上を目的とし、本願発明のように低温レジスト及び高温レジスト特性の両立を目的としていない。これらの文献には４−ヒドロキシスチレン／３−ヒドロキシスチレンを有するポリマーが全く記載されていない。従来の技術においては、低温レジスト及び高温レジスト特性の双方の望ましい特性を発揮して、高解像度のレリーフイメージを形成することが全く知られていない。
　したがって、当業者は、引用文献２に記載のレジスト組成物に用いるポリマーにおいて、同文献が開示するアルキルエステル基の代わりに、周知文献に記載された−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｐｈｅｎｙｌを用いることにより、高解像度のレリーフイメージが得られることを予測できない。
　
　上記の主張について検討する。
　なお、主張における引用文献１、２は、当審決では、それぞれ、刊行物１、２であるので、以下では、刊行物１、２として検討する。
　
　まず、主張１）の課題の相違について検討する。
　確かに、刊行物１、刊行物２の具体的なポストベーク温度、刊行物１では、１２０℃、刊行物２では、後者は摘記していないが、具体例ではｔ−ブチル基のものを用いており、１３０℃に対し、実施例３は１００℃と低く、刊行物１および２において、処理温度を低くしようという技術思想はない。
　しかしながら、ポストベーク温度は、酸不安定基の脱離しやすさ、酸の拡散のしやすさ、ポリマーの耐熱性等の諸要因によって決定され、本願発明１のポリマー構成のみに決定されるものではない。さらに、ポストベーク温度が低いことは、処理工程の上で有利な点を有するものの、高い方が好ましい場合もあり、そのこと自体に格別顕著な作用効果を認めることはできない。
　また、刊行物１発明と同等といえるポリマーを用いた、本願実施例２とは同じ処理温度であって、化１の構造を有するポリマーに限定したことによる作用効果も特段認められない。
　加えて、本願明細書では、１５０ｎｍの均等なラインアンドスペース（１：１）が得られることが評価されているのみで、従来に比べて解像度に優れるというわけではなく、エッチング耐性について何ら評価もしていない。
　このように、低温レジスト特性と高温レジスト特性を併せ持つというものの、高温特性について全く示されていないし、低温レジスト特性は、実施例３の特定例で示されたのみであり、低温レジスト特性による格別顕著な作用効果も示されていない。
　さらに本願明細書の記載に論拠を置くとすれば、アリールアルキル基を含むフォト酸レイビル単位を含むことによって、足る性質であるから、周知技術によっても満たされている特性といえる。
　本願発明１の３成分系ポリマーは、アリールアルキル基を含むフォト酸レイビル単位を含む樹脂として好ましいものの１つとして出願当初明細書に記載されてはいたものの、他の樹脂より優れた作用効果を有する点については示されていない。本願明細書の記載において、実施例３が、実施例２より優れるという点もない。
　
　次に、主張２）主張３）については、拒絶理由の論旨に沿わず、本来検討に値しないが一応検討しておく。
　上記判断述べたとおり、刊行物１発明には、シリコーン含有ポリマーは必須であるが、本願発明においては、別のポリマーの存在を排除しない。
　刊行物１記載の発明を主引例とした論旨において、刊行物２は周知例の１つとして挙げたのみであって、刊行物２発明のみを組みあわせるものではない。
　たしかに、３−ヒドロキシスチレンと４−ヒドロキシスチレンの組み合わせは記載されていないが、相違点として挙げ、化学増幅ポジ型フォレジストのポリマーのヒドロキシスチレン単位として、その２種を併用することは周知であると指摘したのに対し、それぞれの文献に課題・構成の記載がないとの意見主張に留まる。
　そして、当該２種を併用することに対する格別顕著な作用効果は、本願明細書に示されていない。　　
　なお、刊行物１（1b．1e．）には、耐エッチング耐性の課題については記載されているといえる。
　
　最後に、主張４）について検討する。
　アリール基で置換されたアルキル基であって、上述如く、酸不安定基であれば、「−ＣＸＹ−Ａｒｙｌ」である場合においては、ＸおよびＹが非水素置換基であるのが普通である。もっとも、上述のように、その他の場合も想定されるが、前者は周知の酸不安定性基といえ、これを選択することに格別の困難性は認められない。
　その作用効果を予測し得ない点については、主張１）ついて検討したとおり、本願明細書では具体的には示されておらず、特に、酸不安定基を特定したことによる作用効果は示されていない。　
　よって、請求人の主張を検討しても、上記判断に、変わりはない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないので、他の請求項について言及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。