(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコンブロックのための支持体であって、該支持体は、支持体装置の一部として前記シリコンブロックと固定的に結合されるように、且つ前記シリコンブロックと一緒に、鋸引き、クリーニングなどによる処理のために移動されるように形成されており、該支持体の、前記シリコンブロックの方に向いた下面が、複数の凹部、通路、又は切欠きを有しており、該支持体が金属、特に鋼もしくは特殊鋼から作られていることを特徴とする、シリコンブロックのための支持体。
【請求項２】
シリコンブロックのための支持体であって、該支持体は、支持体装置の一部として前記シリコンブロックと固定的に結合されるように、且つ前記シリコンブロックと一緒に、鋸引き、クリーニングなどによる処理のために移動されるように形成されており、該支持体の、前記シリコンブロックの方に向いた下面が、複数の凹部、通路、又は切欠きを有しており、
前記下面の前記凹部、通路、もしくは切欠き、又は溝が上方から、特に流入通路を通ってアクセス可能であり、好ましくは、前記流入通路は、複数の凹部、通路、もしくは切欠き、又は溝を互いに接続しており、そして上面の方へ、又は上面に設けられた突起内でアクセス可能であることを特徴とする、シリコンブロックのための支持体。
【請求項３】
溝の形式の複数の平行な通路が、好ましくは該支持体の長手方向に沿って前記下面に、特に規則的な相互間隔を置いて設けられていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の支持体。
【請求項４】
前記下面が、前記凹部、通路、又は切欠きを除いて平らであり、特に該支持体はほぼ均一な厚さを有していることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか一項に記載の支持体。
【請求項５】
該支持体の上面には、鋸引き又はクリーニング装置のような移動装置に固定するための固定手段が設けられており、特に前記固定手段は、雌ねじ穴を備えた、上方に向いた固定用突起として形成されていることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか一項に記載の支持体。
【請求項６】
該支持体が、特に一体型且つワンピース型の、ほぼ方形の支持板から作られており、前記支持板上に好ましくは請求項５に記載の前記固定手段が載置されているか、もしくは前記支持板の上面に前記固定手段が設けられていることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一項に記載の支持体。
【請求項７】
前記凹部、通路、もしくは切欠き、又は溝が、特に前記下面よりも僅かに上方で、下方へ向かって流体通流可能に閉じられており、前記凹部、通路、もしくは切欠き、又は溝は好ましくは有孔格子又は有孔板によって閉じられていることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか一項に記載の支持体。
【請求項８】
支持体、特に請求項１から７までのいずれか一項に記載の支持体を備えた支持体装置であって、該支持体が金属であり、該支持体の下面に、シリコンブロックを取り付けるために支持体下側部分が固定、特に接着されており、前記支持体下側部分は非金属材料から作られており、前記支持体下側部分の、該支持体に結合された上面は、凹部、通路、もしくは切欠き、又は溝を有している、支持体装置。
【請求項９】
前記支持体下側部分がガラス又はセラミックから作られていることを特徴とする、請求項８に記載の支持体装置。
【請求項１０】
前記凹部、通路、もしくは切欠き、又は溝の深さは数ミリメートル、特に３ｍｍ〜１２ｍｍであり、そして幅は数ミリメートル、特に３ｍｍ〜１５ｍｍであることを特徴とする、請求項８又は９に記載の支持体装置。
【請求項１１】
前記支持体の下面にも、前記支持体下側部分の上面にも、溝もしくは凹部が設けられており、前記溝もしくは凹部は、特にそれぞれ正確に等しい幅を有して正確に重なり合って延びていることを特徴とする、請求項８から１０までのいずれか一項に記載の支持体装置。
【請求項１２】
前記支持体及び前記支持体下側部分は互いに合同な関係、もしくは同一の大きさを有しており、前記支持体及び前記支持体下側部分は好ましくは類似の厚さを有していることを特徴とする、請求項８から１１までのいずれか一項に記載の支持体装置。
【請求項１３】
請求項８から１２までのいずれか一項に記載の支持体装置を製造する方法であって、請求項１から７までのいずれか一項に記載の支持体が支持体下側部分に接着されることを特徴とする、支持体装置を製造する方法。
【請求項１４】
切り分けられたシリコンブロックが分離された後の利用済み支持体装置がクリーニングされ、支持体と支持体下側部分との間の接着が特に化学的又は熱的に解離され、続いて前記支持体は、特にその下面から接着剤残留物などが除去され、続いて特にその下面が新しい支持体下側部分に接着されることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコンブロックのための支持体、支持体装置、並びにそのような支持体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
独国特許出願公開第１０２００９０２３１２１号明細書及び独国特許出願公開第１０２００９０２３１２２号明細書から、シリコンブロックのための支持体をプラスチック又はセラミックから製造することが知られている。支持体は種々の作業工程時、特に鋸引き時にシリコンブロックをより良く取り扱うために役立つ。シリコンブロックは下面に接着される。このような支持体内には、連続して延びる内部の長手方向通路が一体化されている。このような長手方向通路は、シリコンブロックのスライス時に、下方から切り込まれる。これにより、水又は他のクリーニング流体を長手方向通路内に導入することが可能であるので、次いでこれが上方から個々の切り分けられたウエハー間の間隙内に進入して、その場所で鋸引き残留物を洗い流すことが可能になる。
【０００３】
これにより達成されるクリーニング作用は極めて有利である。しかし前記材料から作られた支持体内への一体化された長手方向通路の導入には、多大な手間がかかる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】独国特許出願公開第１０２００９０２３１２１号明細書
【特許文献２】独国特許出願公開第１０２００９０２３１２２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の根底を成す課題は、冒頭で述べた支持体、対応する支持体装置、及びその支持体装置の製造方法であって、従来技術の問題点を解決することができ、そして特に有利で低廉な、しかも工程信頼性のある、そのような支持体の製造・使用法をもたらし得るものを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この課題は、請求項１の特徴を有する支持体、請求項９の特徴を有する支持体装置、並びに請求項１４の特徴を有するそのような支持体装置の製造方法によって解決される。有利で好ましい本発明の構成が、別の請求項の対象となっており、これらについて以下に詳しく説明する。この場合に下記の特徴のうちのいくつかは支持体に関してのみ、又は支持体装置に関してのみ、又は方法に関してのみ挙げられる。しかしながら、これらの特徴はそのこととは無関係に、支持体にも、支持体装置にも、又は方法にも適用可能であることが意図されている。請求項の文言は、明示的に参照することによって、本明細書の内容にされる。
【０００７】
支持体は、支持体装置の一部としてシリコンブロックと固定的に結合されるように形成されている。シリコンブロックは通常極めて重く、数キログラムである。その場合に支持体はまだシリコンブロックと直接には固定的に結合されていなくてもよく、もしくは支持体はシリコンブロックと直接には固定的に結合されないようになっている。このために有利には、支持体の下側に固定される、後で詳述する支持体下側部分が用意され、この支持体下側部分にはシリコンブロックが固定され、特にそれ自体知られた形式で接着される。すなわち支持体装置は、前記従来技術においては一体型の支持体が今や二つの部分、つまり支持体と支持体下側部分とから作られているという観点において、二つの部分に分割されている。支持体装置の部分としての支持体は、支持体下側部分と結合されていてよく、そしてこのようなユニットは、重いシリコンブロックと結合され得る。シリコンブロックは、鋸引き、クリーニングなどによる処理のために支持体装置と一緒に移動させることができる。
【０００８】
有利には、支持体自体は、有利にはねじなどのような固定手段によって移動装置に固定されるように形成されてよい。これらの移動装置によって支持体は鋸引き又はクリーニング装置内に移動される。支持体の、シリコンブロックの方に向いた下面に、支持体は複数の凹部、通路、又は切欠きを有している。凹部は下面で、下方に向かって開いている。次いで凹部は後から支持体下側部分によって閉じられもしくは覆われ、そしていわば、製造が容易な開いた通路から、製造が著しく難しい一体化された内部の長手方向通路に変えられる。シリコンブロックを備えた支持体下側部分は、鋸引き時に上記凹部にまで、そして全ての事例において、個々のウエハーが完全に分離されるまで切り込まれることが意図されている。このように、支持体は支持体下側部分と一緒に、ワンピース形態として冒頭で述べた従来技術から知られているような、一つの支持体装置を形成する。
【０００９】
有利には、溝の形式に基づく、複数の平行な開いた通路が支持体の下面内に設けられている。特に有利には、これらの溝は支持体の長手方向に沿って延びていて、好ましくは規則的な相互間隔を有することができる。従って、支持体の長手方向に沿って等しい相互間隔を置いて延びる、４〜１０個の凹部もしくは通路が設けられてよい。
【００１０】
本発明の有利な構成において、支持体の下面は、上記凹部、通路、又は切欠きを除いて平らもしくはフラットでありしかも平面状である。その場合支持体はほぼ一定の厚さを有していて、特に一種の板として形成されてよい。有利には支持体は周知の支持体装置のように細長く方形である。ちなみにこれについてはシリコンブロックも通常は同様である。
【００１１】
支持体の上面には、本発明の構成では、固定手段が設けられてよい。これらの固定手段によって、支持体を前記移動装置もしくは取り扱い装置に固定することができる。固定手段によって、支持体装置とシリコンブロックとから成る複合体は把持されて移動されることができる。本発明の好ましい構成では、固定手段は、雌ねじ穴を備えた固定突起として形成されている。特に好ましくは、この場合固定突起は、支持体に対して垂直のねじ込み方向のために、上方に向いている。しかし、多種多様の他の固定手段が考えられ、当業者に知られている。
【００１２】
有利には、支持体は金属から作られてよい。特に有利には支持体は鋼もしくは特殊鋼から作られている。その寸法は、長さ及び幅に関して通常の支持体装置に同じであり、とりわけ支持体が結合されるシリコンブロックに依存する。支持体の厚さは１ｃｍ〜３ｃｍであり、例えば約２ｃｍであってよい。従って、重いシリコンブロックを良好に保持して搬送することができる。その長さは２０ｃｍ〜５０ｃｍであってよく、場合によってはこれよりも多少長くてもよい。一般的に、有利には、支持体、又は支持体を実質的に形成する少なくとも方形支持板を一体型でワンピース型であるようにすることできる。前記固定手段は、この場合支持板に後から固定することができるが、しかし、既にワンピース型のものとして加工もしくは一体成形されていてもよい。
【００１３】
上記凹部、通路、又は切欠きの断面は基本的には任意であってよい。有利には、それらは方形又は円形、特に半円形である。それらはフライス加工によって製造することができる。
【００１４】
本発明のさらに別の構成では、凹部、通路、又は切欠きは、下方に向かって閉じられているが、流体通流可能に閉じられていてよい。このことは、下面よりも僅かに上方で行われてよい。有利には、一種の有孔格子又は有孔板によって閉鎖が行われてよい。このような流体通流可能な閉鎖は、実質的に一種の拡散器又は分配器として役立つ。従って、凹部内に導入された水は、ほぼ均一に下方に向かって分配されて凹部から流出して、支持体の下側に固定された支持体下側部分内の鋸引き間隙を介してウエハー間の間隙内へ流入することができる。こうして、凹部又は通路一つ当たり一つ又は二つの箇所だけに水を導入しても、水がウエハー間の鋸引き間隙内にほぼ均一に流入することが保証され得る。
【００１５】
完成した支持体装置の凹部内に水を導入するための、もしくは凹部をアクセス可能にするための従来技術から知られている一つの可能性は、結果として生じる長手方向通路の始端開口及び終端開口を経由して実現される。別の有利な可能性は、支持体の凹部、ひいては一体化された長手方向通路が上方から、もしくはその上面からアクセス可能であることにある。このために、支持体内には流入通路が設けられてよい。有利には、このような流入通路は、複数の凹部、通路、又は切欠きを互いに接続している。このことはすなわち、流入通路が例えば凹部の延在方向に対して横方向に形成され、そして下面にも組み入れられることを意味する。流入通路は上面を貫通して設けられた孔を通してアクセス可能であってよい。別の構成では、上面に突起が設けられていてよく、これらの突起はこのような流入通路を有し、そして給水部などとの接続のために役立つことができる。
【００１６】
導入された水を、特に前記流入通路によって種々の凹部へ分配する上記分配作用は、完成した支持体装置において支持体に支持体下側部分が付設されていることに基づく。有利な可能性はここでは、支持体と支持体下側部分とを接着することである。支持体下側部分は一度だけしか使用されない消耗部分である。それというのも、支持体下側部分はシリコンブロックのスライス時にそれ自体も切り込まれるからである。消耗部分を支持体から取り外すために、接着は、通常の形式で、例えば化学的又は熱的に解離することができる。次いで支持体の下面から接着剤残留物を除去し、その後、支持体と新しい支持体下側部分とを再び接着することができる。このような新しい支持体装置に、鋸引き又はクリーニングのような後続の処理工程のために、新しいシリコンブロックを結合することができ、特に接着することもできる。
【００１７】
本発明による支持体装置の場合、支持体は金属であり、その下面には支持体下側部分が固定されている。支持体下側部分には、重いシリコンブロックを例えば接着によって永続的且つ安定的に取り付けることができる。支持体下側部分は、非金属材料から作られており、そして支持体に結合されたその上面は、凹部、通路、もしくは切欠き、又は溝を有している。これらは形状から、もしくは構造から、支持体の有利な構成に関して前述したような凹部、通路、もしくは切欠き、又は溝に相当する。この場合、支持体自体はその下面に必ずしもこのような凹部を備えていなくてもよい。支持体と支持体下側部分とを結合した後、板の形態を成す支持体装置がもたらされることは極めて明らかである。この板は冒頭で述べた周知の支持体装置のように、一つの又は有利には複数の一体化された長手方向通路を有している。長手方向通路は、支持体装置の下側に固定されたシリコンブロックをスライスするときに切り込まれる。長手方向通路内に水を導入することによってここでもやはり、既に記載された周知の有利なクリーニング作用を再び発揮することができる。支持体及び支持体下側部分がこのように比較的単純に構成されていても、切り分けられた使用済み支持体下側部分を支持体から取り外して、新しい支持体下側部分を支持体に固定することが可能である。従って単に支持体が再び使用できるだけではない。とりわけ、支持体下側部分に、そして特に支持体自体の下面にも、これが自由にアクセス可能な表面である場合には、凹部、通路又は切欠きを形成することを著しく容易にもする。金属から作られた支持体の場合、凹部等をフライス加工することができる。非金属材料、有利にはガラス又はセラミックから作られた支持体下側部分の場合には、凹部等は、対応する輪郭によって押出し成形することによって製造できる。支持体と支持体下側部分とを結合することによって、開いた側に存在する凹部から、一体化された通路もしくは長手方向通路が形成される。すなわち重要なのは支持体下側部分内の凹部、通路、又は切欠きであり、もしくはここではこれらは不可欠である。支持体内もしくはその下面においては、凹部、通路、又は切欠きはなるほど設けられていると有利ではあるものの、なくてはならないものではない。
【００１８】
一般に、上記凹部、通路、又は切欠きは、凹部、通路、又は切欠きの深さは数ミリメートル、特に３ｍｍ〜１２ｍｍであってよい。その幅もやはり数ミリメートル、有利には３ｍｍ〜１５ｍｍであってよい。
【００１９】
このような支持体下側部分が本発明による支持体装置において、支持体の下面が対応して形成された凹部を有している、冒頭で述べた支持体とともに使用されると特に有利である。すなわち、凹部は正確に重なり合って延びており、特に正確に同じ幅をも有している。さらに、凹部は正確に同一の形状を有することも可能である。
【００２０】
支持体下側部分は、支持体自体と同じ面積を占めること、つまりほぼ同じ大きさであることが望ましい。これらはまた同様の厚さ、例えば冒頭で述べた数センチメートルを有していると有利である。
【００２１】
これらの特徴及び更なる特徴は、請求項に由来する他、明細書及び図面にも由来する。個々の特徴はそれぞれ単独で、又は副次的な組み合わせの形態を成して複数で、本発明の一つの実施形において及び別の分野で実現することができ、そして有利な、またそれ自体保護され得る実施態様を呈示することができる。これらの実施態様に対してここで保護が主張される。出願を個々の区分並びに小見出しに分割しても、これらのもとで行われた記述をその普遍性において制限することにはならない。
【００２２】
本発明の実施例が図面に概略的に示されており、これらについて以下に詳しく説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、支持体と、支持体の下面にまだ配置されていない支持体下側部分とから作られた支持体装置を断面した断面図である。
【図２】図２は、個々の出口穴を備える、図１の支持体の下面を示す図である。
【図３】図３は、図２に示した出口穴に適合する長手方向通路を備える支持体下側部分を示す平面図である。
【図４】図４は、支持体と支持体下側部分とが支持体装置としてまとめられ、シリコンブロックが支持体下側部分に取り付けられている、図１と同様の断面図である。
【図５】図５は、有孔格子で覆われて連続して延びる長手方向通路を有する、図２と同様の支持体の変更形の下面を示す図である。
【図６】図６は、一つの出口穴に被さる有孔格子を著しく拡大して示す図１と同様の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図１には、ちょうど組み立てられるかもしくは製造されようとする支持体装置１１が示されている。支持体装置１１は、細長い方形の板の形態を成す支持体１３を有している。支持体１３はその幅に沿って断面されて、長さが例えば半分にされている。支持体は支持体上面１４と支持体下面１５とを有している。支持体下面１５はほぼ平らもしくは平面状である。安定な支持体１３は有利には鋼もしくは工具鋼又は特殊鋼から作られており、一般に長さが２０ｃｍ〜５０ｃｍであり、場合によってはより長くてもよい。
【００２５】
支持体下面１５には複数の出口穴１７が設けられている。出口穴は図２から、丸い穴として認識することができる。したがってそれらは支持体下面１５を貫通しているので、支持体下面は出口穴１７を除いて平らもしくは平面状である。複数の出口穴１７は、図１及び２において破線で示された支持体１３内の導入路１８によって互いに接続されている。接続パターンは、ここに示されている通りであってよいが、しかしこれと異なっていてもよく、中央領域に向かって著しく多くの出口穴１７を設けることによって、特にその場所で改善されたクリーニングが行われるようになっていてもよい。製造に際して、導入路１８は例えば側方から支持体１３内へ穿孔することによって形成され、次いでこれらの開口を外方から再び閉じることができる。
【００２６】
支持体１３の上側領域内では、導入路１８は上方に向かって左右二つの接続部１９に移行する。接続部１９は固定用突起２１内に位置しており、図示されていない形式で、水導管もしくはクリーニング流体導管に接続され得る。さらに、固定用突起２１はそれぞれ中心の雌ねじ山２２を有していて、前記雌ねじ山２２によって、支持体装置１１を周知の形式で固定することができる。
【００２７】
有利には、支持体１３の支持体上面１４は４つのこのような固定用突起２１を有している。これにより４つの接続部１９を導入路１８に設けることができるが、しかし、接続部はこれよりも多くても少なくてもよい。出口穴１７の直径は数ミリメートル、例えば１ｍｍ〜６ｍｍ、有利には約３ｍｍ〜５ｍｍであってよい。
【００２８】
図１に示された支持体下側部分２５は、長さ及び幅に関して支持体１３と、有利には同様の大きさの寸法を有している。上面２６及び下面２７は基本的に平面状である。しかし下面２７は完全に平面状であり、中断部もしくは切欠き又は突起なしに形成されていると有利であるのに対して、上面２６は複数の開いた通路２９を有している。これらの通路は、上面２６全体にわたって支持体下側部分２５の前端部から後端部まで、有利には真直ぐ延びていて、間隔が異なるにしても互いに平行に延びている。このことは、図３に示された支持体下側部分２５の平面図から明らかである。支持体下側部分２５は有利にはガラス材料又はセラミック材料から作られており、特に有利にはガラス、或いはプラスチックから作られている。
【００２９】
図１に示されているように、通路２９は、支持体１３の出口穴１７の長手方向の列に対応するように、もしくは、組み立てられた状態において通路２９の下方に正確に位置するように、正確に配置されている。このことは続いて図４から明らかである。通路２９の幅は、ほぼ出口穴１７の直径の範囲内にあってよく、或いはこれとは多少異なっていてもよい。しかしながら通路２９は互いにそれぞれ同じであり、有利には丸みづけられた断面、例えば半円形又は半楕円形の断面を有している。有利には通路はそればかりか幅よりも深さが若干大きい。
【００３０】
図４には、組み立てもしくは組み付け済みの支持体装置１１が単純化して示されている。ここでは、支持体下側部分２５の上面２６は支持体１３の支持体下面１５に固定もしくは接着されている。
【００３１】
支持体１３のための鋼と支持体下側部分２５のためのガラス又はセラミックとの材料の組み合わせに基づいて、接着に際してはこのために一般的な接着剤を使用することができる。このような接着剤を用いて、従来技術においても、ガラス又はセラミックから作られたいわゆるビームが鋼から作られた支持体に接着される。後でこのようなビームは再び分離される。このことに関しては続いてさらに説明する。
【００３２】
支持体１３内の出口穴１７は支持体下側部分２５の通路２９に正確に被さる。支持体下側部分２５もしくはその下面２７には、重いシリコンブロック３１が固定され、それもやはり接着されている。このような接着は、従来技術において周知のように行われ、また重いシリコンブロックを確実に保持するという利点、及び後で分離する可能性を有している。そのとき支持体下側部分２５は、いずれにしてももはや使用できなくなり、支持体１３だけが使用できる。
【００３３】
従って、図４の支持体装置１１は、冒頭で述べた従来技術から知られている支持体装置、つまり、長手方向通路が内部に設けられていわば一体化されている支持体装置に実質的に相当する。これらの長手方向通路は実質的に通路２９によって形成されている。これらの長手方向通路を端部もしくは端部の開口で外方に向かって、例えば栓などによって閉じることによって、改善されたクリーニングのために、水をウエハー間の鋸引き間隙だけを通して流出させることができるが、しかしこれが必要というわけではない。
【００３４】
シリコンブロック３１のスライスによって、シリコンブロックは分離されて個々のシリコンディスクもしくはウエハーになる。鋸引き線３２が破線で示されており、この鋸引き線にまで鋸引きワイヤが達し、もしくは鋸引き線までカットされる。ここで、全ての長手方向通路２９が下方から切り込まれ、従って冒頭で述べた従来技術からも知られている効果と同じクリーニング効果を達成し得ることが判る。これに関しては従来技術を参照されたい。
【００３５】
このような実施例でも明らかになる本発明の利点の一つは、これらの通路２９が今やその上方の接続部１９、導入路１８、及び出口穴１７を使って水もしくはクリーニング流体を供給もしくは溢れさせ得ることである。冒頭で述べた従来技術では、通路２９の両端もしくは両方の開口を介してしか供給が可能でないのに対して、分散配置された出口穴１７を通って著しく均一に供給を行うことができる。従って、より良好なクリーニング作用も可能である。図４において認識できる通路２９の始端開口及び終端開口が閉じられることにより、水もしくはクリーニング流体が、実際にはシリコンブロック３１のスライス済みウエハーを通ってのみ流出し得るようになっているとまさに有利である。
【００３６】
本発明の別の大きな利点は、支持体下側部分２５は切り分けられるため、支持体下側部分２５を消耗部分として形成し得ること、つまりガラス、セラミック、又は類似の材料から、もしくはプラスチックからさえも形成し得ることにある。通路２９を支持体下側部分の上面２６に設けることによって、その製造も、従来技術において知られているような閉じられた一体化された長手方向通路におけるよりも著しく容易である。通路２９は支持体下側部分２５の製造中に既に導入されても有利である。このことは、例えば連続鋳造などの際の付加的な作業工程なしに行うことができる。
【００３７】
支持体１３自体は消耗部分ではなく、頻繁に再使用することができる。切り分けられたウエハーを取り外した後、接着を解離することによって、使用済みのもしくは切り分けられた支持体下側部分２５を取り外すだけでよい。次いで、支持体下面１５をクリーニングして、これを新しい支持体下側部分２５と接着することができる。
【００３８】
さらに、支持体１３が鋼から作られている場合にも、水案内部の製造、つまり出口穴１７と導入路１８とを接続部１９を含めて設けることは、より容易である。これらはそれぞれ周知の形式で穿孔によって形成することができる。支持体１３は頻繁に再使用することができるので、導入路１８及び接続部１９を含めた出口穴１７の比較的複雑なシステムを設けることも割に合う。
【００３９】
図５には、支持体１１３の別の構成が図３と同様に、つまり支持体１１３の支持体下面１１５の図として示されている。この場合、図２よる個々の出口穴１７の代わりに、複数の長い出口通路１１７が支持体１１３の長手方向に沿って設けられている。従って、このような出口通路１１７は、図１及び３よる支持体下側部分２５の通路２９に対応する。このような出口通路１１７は、図１及び２よる複数の出口穴１７よりも、例えば相応のフライス加工又は切削加工によって容易に製造することさえできる。
【００４０】
一方では、一つの変更形において、出口通路１１７が単純に開いていて、ここでは図示されていない導入路を通って案内された水が自由に出口通路１１７内に流出して、その場所から、支持体下側部分２５の上面内の直接接続する通路２９内に流出することが可能である。
【００４１】
案内された水をより良好に分配するために、図６において拡大断面図として示すように、有孔格子１２０が出口通路１１７内にいわば挿入されている。このことは圧入、或いは接着又はねじ締結によって行われてよい。つまり有孔格子１２０はいわば出口通路１１７全体に被さり、すなわち出口通路１１７と、組み合わされる支持体下側部分２５の上面内の通路２９との間に位置する。有孔格子１２０は、有利には適切に僅かな間隔を置いた多数の穴を有している。例えば穴は直径が約１ｍｍであり、間隔が１ｍｍ〜３ｍｍであるが、しかし場合によってはそれぞれこれよりも若干大きくても若干小さくてもよい。
【００４２】
有孔格子１２０のこのような穴の利点は、上方から導入された水を強力に分配する作用を有しているので、所定の箇所が導入路からどれだけ離れているかとは無関係に、通路２９の全長にわたって均一に分配された水の供給流を前記穴が生じさせることにある。図６から判るように、有孔格子１２０の上方の出口通路１１７の空間内で、下方に向かうほぼ均一な流出を実現するために、出口通路の全長にわたって妨げられることなしに水を分配することができる。したがって、クリーニング作用は、シリコンブロック３１の切断された全てのウエハーに対して均一に発揮される。従って、互いに分岐された多数の導入路１８が図１及び２に相応してさらに設けられていてもよいが、しかしそのように大きな手間をかける必要はない。場合によっては、出口通路１１７に対して横方向の導入路があれば十分である。この導入路は出口通路のそれぞれに対して一つの開口を有している。横方向に延びるこのような導入路も、ただ一つの接続部を有していればよい。このように、接続部が単純化されるだけはなく、支持体１１３自体の製造も単純化される。
【００４３】
ここでは示されていないがしかし図４から容易に想像することができる一つの実施態様の場合、上側の支持体はその下面に穴又は通路などを全く有しておらず、切欠きのない平面状の閉じられた下面を有する閉じられたもしくは中実の鋼板である。そして前記鋼板には、図４よる支持体下側部分が接着によって固定される。支持体下側部分の上面は、前述のような長手方向通路を有しているので、冒頭で述べた従来技術に記載されているような一体化された長手方向通路を製造することもできる。しかしその製造は著しく容易である。それというのも、支持体下側部分だけがその上面、ひいては外面に通路を有してさえいればよく、このことが製造を容易にするからである。次いで、これも従来技術に記載されているように、水もしくはクリーニング流体が通路の端部でその場所に位置する開口を介して導入される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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