【手続補正書】
【提出日】平成23年10月18日(2011.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６５】
【表８】
2011503348.tif 000001
【表９】
2011503348.tif 000002
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６６】
以上、本発明を要約すると下記のとおりである。
１．高い伝導性を有するパターニングされた金属層の製造方法であって：
ベース基板上にパターニングされた触媒層を含むパターニングされた基板を備えるステップであって；該パターニングされた基板が、
（ａ）ベースフィルムおよび触媒転写層を含む熱転写ドナーを備える工程であって、ここで触媒転写層が、（ｉ）触媒画分；場合により（ｉｉ）付着促進剤画分；および場合によりおよび独立して、（ｉｉｉ）ポリマーバインダー画分を含む工程；
（ｂ）熱転写ドナーをレシーバーと接触させる工程であって、ここでレシーバーがベース層を含む工程；そして
（ｃ）触媒転写層の少なくとも一部を熱転写によってレシーバー上に転写して、パターニングされたレシーバーを上記パターニングされた基板として備える工程
を含む熱画像形成方法によって製造されるステップ；そして
金属を上記パターニングされた基板上にめっきして、パターニングされた触媒層と接続したパターニングされた金属層を備えるステップ
を含む製造方法。
２．触媒転写層およびパターニングされた触媒層が、ガラスフリット；金属酸化物；金属水酸化物およびアルコキシド；シリケート水酸化物およびアルコキシド；および有機ポリオールから選択される付着促進剤画分を有する、上記１に記載の方法。
３．触媒画分が、群：（１）金属粒子；（２）金属酸化物；（３）有機金属錯体；（４）有機金属塩；（５）金属塩、金属酸化物、金属錯体、金属またはカーボンでコーティングされたセラミックスおよび他の非伝導体粉末；および（６）すべての伝導性形態でのカーボンから選択される１種以上の触媒であって；（１）〜（５）の各金属がＡｇ、Ｃｕ、Ａ
ｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｓｎおよびそれらの合金からなる群から選択される触媒を含む、上記１に記載の方法。
４．触媒転写層およびパターニングされた触媒層が、約１．０〜９９質量％の触媒画分；約０．５〜１０質量％の付着促進剤画分；および約０．５〜９８．５質量％のポリマーバインダー画分を含む、上記１に記載の方法。
５．転写がレーザー媒介転写によって実現され、該レーザーが約３５０〜１５００ｎｍの動作波長を有する、上記１に記載の方法。
６．熱転写ドナーが、ベースフィルムと触媒転写層との間に配置された、ＬＴＨＣ層であって、ＣｒおよびＮｉから選択される金属フィルム；カーボンブラック；黒鉛；およびＬＴＨＣ層内で約６００〜１２００ｎｍの範囲内の吸収極大を有する近赤外染料からなる群から選択される１種以上の放射線吸収剤を含むＬＴＨＣ層をさらに含む、上記１に記載の方法。
７．熱画像形成方法が、
（ｄ）パターニングされた基板をアニール温度にアニール期間加熱して、アニールされたパターニングされた基板を備える工程
をさらに含み、金属のメッキが上記アニールされたパターニングされた基板をめっきすることを含む、上記１に記載の方法。
８．レシーバーが、境界を有するパターニングされた反射防止層をさらに含み；そしてレシーバー上への触媒転写層の少なくとも一部の転写がパターニングされた反射防止層の境界内である、上記１に記載の方法。
９．熱転写ドナーが、ベースフィルムとは反対側の触媒転写層上に、付着促進剤層をさらに含み；そして転写が、付着促進剤層の対応する近接部分を転写して、積層順で前記レシーバー上に、パターニングされた付着促進剤層および前記パターニングされた触媒層を有する前記パターニングされた基板を備えることをさらに含む、上記１に記載の方法。
１０．レシーバーが付着促進剤層をさらに含み；そして転写が触媒層の少なくとも一部を上記レシーバーの付着促進剤層上に転写することを含む、上記１に記載の方法。
１１．ベースフィルム、触媒転写層（Ａ）、および該ベースフィルムと該触媒転写層（Ａ）との間に介在するＬＴＨＣ層を含む熱転写ドナーであって、該触媒転写層（Ａ）が、
（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１．０〜約９９質量％の触媒画分（Ａ）であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；
（ｉｉ）ガラスフリット；および金属水酸化物およびアルコキシド；から選択される約０．５〜約１０質量％の付着促進剤画分と；
（ｉｉｉ）約０．５〜約９８．５質量％のポリマーバインダーと
を含む熱転写ドナー。
１２．ＬＴＨＣ層が、ＣｒおよびＮｉから選択される金属フィルム；カーボンブラック；黒鉛；ならびにＬＴＨＣ層内で約６００〜１２００ｎｍの範囲内の吸収極大を有する近赤外色素からなる群から選択される１つまたはそれ以上の放射線吸収剤を含む、上記１１に記載のドナー。
１３．積層順で、ベースフィルム、触媒転写層（Ｂ）および付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、該触媒転写層（Ｂ）が、
（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１．０〜約９９質量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分；
（ｉｉｉ）約１．０〜約９９質量％のポリマーバインダー
を含み；
ここで付着促進剤層が、ガラスフリット；および金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含む熱転写ドナー。
１４．パターニングされた金属層を基板上に有する電子デバイスであって、該基板が可視光を実質的に通し；上記パターニングされた金属層が、積層順で上記基板上に：付着促進剤層、触媒層、およびめっき金属層を含み；そして上記パターニングされた金属層が約１ミリメートルまたはそれ未満の幅の少なくとも１つの線を有する、電子デバイス。
１５．付着促進剤層が、ガラスフリット、ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含み；触媒層が（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１．０〜約９９質量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；（ｉｉ）約１．０〜約９９質量％のポリマーバインダーとを含む、上記１４に記載の電子デバイス。
１６．付着促進剤層が反射防止剤画分をさらに含み；パターニングされた金属層が付着促進剤層とは反対側の金属層上に反射防止層をさらに含む、上記１４に記載の電子デバイス。
１７．電磁妨害（ＥＭＩ）シールドまたはタッチパッドセンサーである上記１４に記載の電子でバイス。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高い伝導性を有するパターニングされた金属層の製造方法であって：
ベース基板上にパターニングされた触媒層を含むパターニングされた基板を備えるステップであって；該パターニングされた基板が、
（ａ）ベースフィルムおよび触媒転写層を含む熱転写ドナーを備える工程であって、ここで触媒転写層が、（ｉ）触媒画分；場合により（ii）付着促進剤画分；および場合によりおよび独立して、（iii）ポリマーバインダー画分を含む工程；
（ｂ）熱転写ドナーをレシーバーと接触させる工程であって、ここでレシーバーがベース層を含む工程；そして
（ｃ）触媒転写層の少なくとも一部を熱転写によってレシーバー上に転写して、パターニングされたレシーバーを上記パターニングされた基板として備える工程
を含む熱画像形成方法によって製造されるステップ；そして
金属を上記パターニングされた基板上にめっきして、パターニングされた触媒層と接続したパターニングされた金属層を備えるステップ
を含む製造方法。
【請求項２】
ベースフィルム、触媒転写層（Ａ）、および該ベースフィルムと該触媒転写層（Ａ）との間に介在するＬＴＨＣ層を含む熱転写ドナーであって、該触媒転写層（Ａ）が、
（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１.０〜約９９質量％の触媒画分（Ａ）であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；
（ii）ガラスフリット；および金属水酸化物およびアルコキシド；から選択される約０.５〜約１０質量％の付着促進剤画分と；
（iii）約０.５〜約９８.５質量％のポリマーバインダーと
を含む熱転写ドナー。
【請求項３】
積層順で、ベースフィルム、触媒転写層（Ｂ）および付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、該触媒転写層（Ｂ）が、
（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１.０〜約９９質量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分；
（iii）約１.０〜約９９質量％のポリマーバインダー
を含み；
ここで付着促進剤層が、ガラスフリット；および金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含む熱転写ドナー。
【請求項４】
パターニングされた金属層を基板上に有する電子デバイスであって、該基板が可視光を実質的に通し；上記パターニングされた金属層が、積層順で上記基板上に：付着促進剤層、触媒層、およびめっき金属層を含み；そして上記パターニングされた金属層が約１ミリメートルまたはそれ未満の幅の少なくとも１つの線を有する、電子デバイス。