【事件の表示】
　特願２００４−３２５１５８「研磨材粒子分散液の保管方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　５月２５日出願公開、特開２００６−１３０６３８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１６年１１月９日の出願であって、その請求項１乃至５に係る発明は、当審に提出された平成２２年８月２日付けの手続補正書によって補正された特許請求の範囲、明細書及び図面の記載からみて、本願の特許請求の範囲の請求項１乃至５に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に記載された発明は、次のとおりである。（以下「本願発明」という。）
「一次粒子の平均粒径が１〜５０ｎｍの研磨材粒子の水分散液を容器に充填して保管する方法であって、該研磨材粒子がコロイダルシリカであり、該水分散液のｐＨが９〜１１であり、容器内の壁面部分の材質がポリエチレン、ポリプロピレン又はポリ（テトラフルオロエチレン）であり、容器内の壁面部分の材質と該容器に充填する研磨材粒子分散液との接触角が９０度以上であり、容器内の壁面の全面積に対する研磨材粒子分散液の接液面積の比
（接液面積）／（容器内の全壁面面積）
が０．９０〜０．９９となるようにエアー抜きして充填し、保管する、Ｎｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板からなる磁気ディスク基板用研磨材粒子分散液の保管方法。」
　
２　引用刊行物記載の発明
　これに対して、当審での平成２２年５月２７日付けの拒絶の理由に引用された、本願の出願前である平成８年８月に頒布された刊行物であるＦＵＪＩＭＩ　ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤの「製品カタログ」（株式会社フジミインコーポレーテッド）（以下「引用例」という。）の第１２〜１５頁には、以下の記載がある。
ア　第１２頁〜第１３頁のＭＡＴＲＩＸの表
　表中、「ＣＯＭＰＯＬ」という製品において、グレードＥＭは、光学ガラスやフォトマスクというガラスの研磨に適しているものであることが読み取れ、また、同じ「ＣＯＭＰＯＬ」という製品において、グレードＥＸＩＩは、ＧＧＧ、ＬｉＮｂＯ３、ＬｉＴａＯ３、サファイア、フェライト、チタン酸バリウム、アルミナセラミック、ＳｉＣセラミック、ＰＺＴの研磨に適しているほか、金属試料の研磨にも適しているものであることが示されている。
イ　第１４頁〜第１５頁
　「ＣＯＭＰＯＬ」という製品に関し、第１４頁に「ＣＯＭＰＯＬは、シリコンをはじめＧＧＧ、ＬｉＴａＯ３、ＬｉＮｂＯ３、サファイア等の電子材料基板のポリシング専用に開発された高純度コロイダルシリカです。粒子の均一性、分散性に優れ、高能率でダメージフリーの研磨面が得られます。」と記載され、第１５頁の表には、「ＣＯＭＰＯＬ」の代表的物性、用途について、グレードＥＭでは、ＰＨが９．０、粒子径が２５−４５ｎｍ、用途はガラス、フォトマスク、標準荷姿が２０ｋｇ入りキュービテナーであることが記載され、また、グレードＥＸＩＩでは、ＰＨが９．５、粒子径が４０−６０ｎｍ、用途はＬｉＴａＯ３、ＬｉＮｂＯ３、標準荷姿が２０ｋｇ入りキュービテナーであることが記載されている。
ウ　「ＣＯＭＰＯＬ」につき、コロイダルシリカが砥粒であって、粒子径とはコロイダルシリカの粒子径であることは明らかである。また、「キュービテナー」という容器の材料がポリエチレンであることは、本願明細書における段落【００４３】の表１の１）に記載されているように、明らかである。そして、「ＣＯＭＰＯＬ」という研磨材粒子分散液が、「キュービテナー」という容器に入れられるのであるから、それにより一定程度、保管されることも、明らかである。
　以上ア乃至イの記載事項、及びウの認定事項から、引用例には、「キュービテナーに入れたＣＯＭＰＯＬ−ＥＭとして、以下の発明が記載されていると認められる。
「粒子径が２５−４５ｎｍの研磨材粒子の水分散液を容器に充填して保管する方法であって、該研磨材粒子がコロイダルシリカであり、該水分散液のＰＨが９．０であり、容器内の壁面部分の材質がポリエチレンであるガラス用研磨材粒子分散液の保管方法。」（以下、「引用発明」という。）
　
３　対比
　本願発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「粒子径が２５−４５ｎｍ」は、本願発明の「一次粒子の平均粒径が１〜５０ｎｍ」に含まれること、及び、引用発明の「ＰＨ９．０」が本願発明の「ｐＨ９〜１１」に相当することは明らかである。
　したがって、両者は、以下の一致点、及び相違点を有している。
＜一致点＞
「一次粒子の平均粒径が１〜５０ｎｍの研磨材粒子の水分散液を容器に充填して保管する方法であって、該研磨材粒子がコロイダルシリカであり、該水分散液のｐＨが９〜１１であり、容器内の壁面部分の材質がポリエチレンである研磨材粒子分散液の保管方法。」
＜相違点１＞
　本願発明では、容器内の壁面部分の材質と該容器に充填する研磨材粒子分散液との接触角が９０度以上であると特定しているのに対して、引用発明では、研磨材粒子分散液と容器内の壁面部分との接触角について不明な点。
＜相違点２＞
　容器内に研磨材粒子分散液を充填するに際して、本願発明では、「容器内の壁面の全面積に対する研磨材粒子分散液の接液面積の比（接液面積）／（容器内の全壁面面積）が０．９０〜０．９９となるようにエアー抜きして充填し、保管する」と特定しているのに対して、引用発明では、どのように充填するのか不明な点。
＜相違点３＞
　研磨材粒子分散液の用途に関して、本願発明では、「Ｎｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板からなる磁気ディスク基板用」であると特定しているのに対して、引用発明では、「ガラス用」である点。
　
４　当審の判断
　上記相違点について検討する。
（１）　＜相違点１＞について
　一般に、研磨材粒子分散液が保存される常温では、ポリエチレンの水に対する接触角が９０度以上であることは、日刊工業出版プロダクション、「工業材料」、Ｖｏｌ．２８、Ｎｏ．８、１９８０年８月発行、第１０３頁の図２・２４を参照するまでもなく当然のことであるから、引用発明においても、研磨材粒子分散液の容器内の壁面に対する接触角は９０度以上である。
　したがって、相違点１は、実質的な相違点ではない。
（２）　＜相違点２＞について
　容器に液体を充填する場合、エアー抜きして充填することにより、収納物の保管による劣化を防止することは、拒絶理由に引用した特開平８−１５１００３号公報（段落【０００５】、【００１３】、【００１４】、【００１６】参照。）や拒絶理由に引用した特開平９−１６９３０２号公報（段落【０００６】、【０００７】、【００１２】、【００１７】〜【００１９】、【００２２】参照。）に記載されたように従来周知の事項であったこと、そして、研磨材粒子分散液においても、当該分散液が大気と接触することにより研磨材粒子が凝集して好ましくないことが例えば特開平９−２３４６６９号公報（段落【０００３】参照。）に記載されているように従来周知の事項であったことからすれば、引用発明においても、容器の収納物である研磨材粒子分散液を容器に対してエア−抜き充填することにより、研磨材粒子分散液の劣化を防止することは、当業者が容易になし得たことである。
　ここで、本願発明では、さらに、容器内の壁面の全面積に対する研磨材粒子分散液の接液面積の比　（接液面積）／（容器内の全壁面面積）　が０．９０〜０．９９であると特定している。そして、請求人は、平成２２年７月２６日付け意見書において、「実験例２と実験例３を対比します。これらは、いずれもエアー抜きをし、接液面積の比以外の条件は全く同一の例です。この結果から明らかなように、いずれもエアー抜きしていますが、ナノスクラッチの数は、接液面積の比がより高い実験例２の方が、格段に少ない結果となっています。つまり、ここにエアー抜きをしたことによる効果以上の効果が認められます。
実験例２：　接液面積の比０．９０　　ナノスクラッチ３５本／面
実験例３：　接液面積の比０．８６　　ナノスクラッチ５１本／面
　また、実験例５と実験例７を対比します。これらは容器が異なりますが、いずれもエアー抜きがない点で共通し、接液面積の比が異なります。この結果から明らかなように、接液面積の比が高い実験例５の方が、ナノスクラッチの数は、格段に少ない結果となっています。
実験例５：　接液面積の比０．８２　　ナノスクラッチ１３４本／面
実験例７：　接液面積の比０．７４　　ナノスクラッチ２５４本／面
　つまり、ここにエアー抜きの有無にかかわらず、ナノスクラッチの数は、接液面積の比に左右されるものであることが理解できます。」（（２）Ａ）(５)参照。）と主張している。
　しかしながら、研磨材粒子分散液において、当該分散液が大気と接触することにより研磨材粒子が凝集して好ましくないことが上記したように従来周知の事項であったことからすれば、容器内のエアー抜きを十分よく行えばそれだけナノスクラッチの発生が少ないことは予想されるものであって、エアー抜きを十分よく行えばそれだけ、容器内の壁面の全面積に対する研磨材粒子分散液の接液面積の比が高くなることも技術的に明らかなところである。そして、接液面積の比が０．８６の場合ナノスクラッチが５１本／面なのに対して接液面積の比が０．９０の場合ナノスクラッチが３５本に減ったとしても、エアー抜きを十分よく行えばそれだけナノスクラッチが減少するであろうことは予想し得るものであって、格別に臨界的意義を見出し得るものではない。
　以上の点から、容器内の壁面の全面積に対する研磨材粒子分散液の接液面積の比　（接液面積）／（容器内の全壁面面積）　を０．９０〜０．９９であると特定することは、単なる設計的事項の範囲内に過ぎないものであるとせざるを得ない。
（３）　＜相違点３＞について
　磁気ディスク基板として、ガラス基板とアルミニウム基板とが存在し、両者とも、Ｎｉ−Ｐメッキされているものであることは従来周知の事項である。　ところで、研磨材粒子分散液である「ＣＯＭＰＯＬ」は、摘記事項（ア）に記載されているように金属試料の研磨に用いることも想定され、また、ニッケル材を研磨することも、例えば、特開２００２−３５５７４９号公報の段落【００２０】に記載されているように従来知られている。
　そうしてみると、引用発明の研磨材粒子分散液においても、それを、従来知られているＮｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板からなる磁気ディスク基板の研磨に用いることを試みることは、当業者が容易に想到し得たものと考えざるを得ない。
（４）　作用・効果について
　ナノスクラッチの減少の点が上記したように格別の作用ないし効果とすることができない以上、本願発明の奏する作用・効果は、引用発明が有する作用・効果、及び従来周知の事項が有する作用・効果から予測し得る範囲しか認められない。
　
５　むすび
　したがって、本願発明は、引用例に記載された発明および従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、本願の請求項２乃至５に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。