【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年7月20日(2011.7.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージ（１４０）上の測定対象に位置づけられるアライメント・マーク（１６５）の位置を決定する決定方法であって、
第１の干渉計（２３０）は、レーザ光源が送出した基準ビームを使用することによって、第１の測定ビーム（２３５）を、前記ステージ（１４０）に取付けられた鏡（１８０）に送出し、
前記第１の測定ビーム（２３５）は、前記鏡（１８０）で反射されることによって、前記基準ビームと結合されて第１の出力ビームとなり、
第２の干渉計（２４０）は、前記基準ビームを使用することによって、第２の測定ビーム（２４５）を前記鏡（１８０）に送出し、
前記第２の測定ビーム（２３５）は、前記鏡（１８０）で反射されることによって、前記基準ビームと結合されて第２の出力ビームとなり、
前記決定方法は、
前記第１の干渉計（２３０）を使用することによって、ｘ軸に平行な第１の測定軸（２８０）に沿った前記ステージ（１４０）の位置ｘ１を測定する第１位置測定工程であって、前記位置ｘ１の観測量ｘ１〜は、前記位置ｘ１からの測定値の偏差であるΨ１を用いることによって、ｘ１〜＝ｘ１＋Ψ１と示されることと；
前記第２の干渉計（２４０）を使用することによって、前記第１の測定軸（２８０）に平行な第２の測定軸（２８２）に沿った前記ステージ（１４０）の位置ｘ２を測定する第２位置測定工程であって、前記位置ｘ２の観測量ｘ２〜は、前記位置ｘ２からの偏差であるΨ２を用いることによって、ｘ２〜＝ｘ２＋Ψ２と示されることと；
前記第１の測定軸（２８０）に平行な第３の測定軸（２８６）に沿った前記アライメント・マーク（１６５）の位置ｘ３を、前記観測量ｘ１〜と前記観測量ｘ２〜と補正項Ψ３とに基づき決定する決定工程と
を有し、
前記第１の干渉計（２３０）は、前記第１の測定ビーム（２３５）と前記第１の出力ビームとを導くための第１の構成部品（３１０〜３５０）を備え、
前記第２の干渉計（２４０）は、前記第２の測定ビーム（２４５）と前記第２の出力ビームとを導くための第２の構成部品（３１０〜３５０）を備え、
前記補正項Ψ３は、第１特性決定情報（Ｘ１〜）と、第２特性決定情報（Ｘ２〜）とから算出され、
前記第１特性決定情報（Ｘ１〜）は、前記第１の構成部品（３１０〜３５０）による第１の干渉計欠陥を特性決定する第１干渉計特性決定情報（Ｘ１，Ｉ（アイ）〜）と、前記鏡（１８０）の表面による鏡欠陥を特性決定する第１鏡特性決定情報（Ｘ１，Ｍ〜）とからなり、
前記第２特性決定情報（Ｘ２〜）は、前記第２の構成部品（３１０〜３５０）による第２の干渉計欠陥を特性決定する第２干渉計特性決定情報（Ｘ２，Ｉ（アイ）〜）と、前記鏡（１８０）の表面による鏡欠陥を特性決定する第２鏡特性決定情報（Ｘ２，Ｍ〜）とからなり、
前記決定方法は、前記第１位置測定工程の前に、前記第１特性決定情報（Ｘ１〜）と前記第２特性決定情報（Ｘ２〜）とを、前記ｘ１〜と前記ｘ２〜をモニタしながら且つ前記ステージ（１４０）のｘ位置を一定に保ちながら、前記ステージ（１４０）を前記ｘ軸に直交するｙ軸方向に並進させ、前記ｘ１〜と、前記ｘ２〜と、前記ステージ配向角θ〜とを増大させ、前記ステージ（１４０）が動くことによって前記測定ビーム（２３５，２４５）それぞれが前記ステージ（１４０）を走査することを繰り返す手続によって生成し、
前記鏡（１８０）の表面を、鏡表面（１８４）と定義すると、
前記第１鏡特性決定情報（Ｘ１，Ｍ〜）は、前記手続の最初の走査中に得られる前記鏡表面（１８４）内の節線の位置であり、
前記第１干渉計特性決定情報（Ｘ１，Ｉ（アイ）〜）は、前記最初の走査の後の走査中に得られる前記鏡表面（１８４）内の節線の位置であり、
前記干渉計欠陥はそれぞれ、前記測定ビーム（２３５，２４５）それぞれの波面歪みと前記干渉計（２３０，２４０）それぞれの前記基準ビームの波面歪みとのうちの少なくとも１つと、前記干渉計（２３０，２４０）それぞれの出力ビームの各成分間のビーム・シャーとによって生じ、
前記ビーム・シャーは、前記出力ビームの各成分ビームの互いに対する差動モード成分（Ψ２−Ψ１）、または前記出力ビームの経路に対する前記出力ビームの同相モード成分（Ψ２＋Ψ１）であり、
前記決定工程は、前記差動モード成分であるΨ２−Ψ１と、前記同相モード成分であるΨ２＋Ψ１とを、前記第１特性決定情報（Ｘ１〜）と前記第２特性決定情報（Ｘ２〜）とを空間フィルタリングすることによって算出し、
現在の測定軸（２８４）は、前記第１の測定軸（２８０）と平行であり、
前記第１の測定軸（２８０）から前記第２の測定軸（２８２）までの距離を、ｄ１と定義し、
前記第３の測定軸（２８６）と、前記現在の測定軸（２８４）との間の間隔を、ｄ２と定義し、
前記第１の測定軸（２８０）と、前記現在の測定軸（２８４）との間の間隔を、γ×ｄ１と定義し、
ｄ２／ｄ１を、ηと定義すると、
前記第２特性決定情報（Ｘ２〜）は、前記第１特性決定情報（Ｘ１〜）が前記ｙ軸方向にｄ１だけズレた値に等しく、
Ψ３＝η（Ψ２−Ψ１）＋γ（Ψ２−Ψ１）−（Ψ２−Ψ１）／２＋（Ψ２＋Ψ１）／２
であり、
ｘ３＝（１−γ）ｘ１〜＋γｘ２〜＋ｄ２θ〜ッΨ３
であることを特徴とする、決定方法。
【請求項２】
前記（Ψ２−Ψ１）は、（Ψ２−Ψ１）＝（Ψ２−Ψ１）Ｍ＋（Ψ２−Ψ１）Ｉであり、
前記（Ψ２＋Ψ１）は、（Ψ２＋Ψ１）＝（Ψ２＋Ψ１）Ｍ＋（Ψ２＋Ψ１）Ｉであり
、
下付文字Ｍは、前記鏡（１８０）による前記Ψ３に対する寄与を示し、
下付文字Ｉは、前記第１の干渉計（２３０）と前記第２の干渉計（２４０）によるΨ３に対する寄与を示し、
前記第１特性決定情報Ｘ１〜（ｙ〜）と前記第２特性決定情報Ｘ２〜（ｙ〜）の関係は、
Ｘ２〜（ｙ〜）＝Ｘ１〜（ｙ〜＋ｄ１）であり、
２π×空間周波数を、Ｋと定義し、
前記第１鏡特性決定情報を、Ｘ１、Ｍ〜（ｙ〜）と定義し、
前記第１干渉計特性決定情報を、Ｘ１、Ｉ（アイ）〜（ｙ〜）と定義し、
Ψ２−Ψ１のフーリエ変換を、F｛Ψ２−Ψ１｝と定義し、
Ψ２＋Ψ１のフーリエ変換を、F｛Ψ２＋Ψ１｝と定義すると、
【数１】
2005538362.tif 000001
【数２】
2005538362.tif 000002
【数３】
2005538362.tif 000003
【数４】
2005538362.tif 000004
であり、
数１〜数４を用いることによって、前記Ψ３と前記ｘ３とを算出する、
請求項１記載の決定方法。
【請求項３】
前記補正項Ψ３は、前記Ｘ１〜と前記Ｘ２〜との積分変換に関連する寄与を有する、
請求項１記載の決定方法。
【請求項４】
前記積分変換は、フーリエ変換である、
請求項３記載の決定方法。
【請求項５】
２π／ｄ１を、Ｋｄと定義すると、
前記Ｘ１〜および前記Ｘ２〜の様々な周波数成分による前記Ψ３に対する寄与に重み付けすることによって、前記Ｋｄおよび前記Ｋｄの高調波の近傍の空間周波数成分に対する前記Ψ３の感度を高める、
請求項４記載の決定方法。
【請求項６】
前記手続は、前記ｙ軸に沿って前記ステージ（１４０）の位置を干渉法によってモニタ
する工程である、
請求項１記載の決定方法。
【請求項７】
前記測定ビームはそれぞれ、前記鏡（１８０）によって複数回反射される、
請求項１記載の決定方法。
【請求項８】
前記第１鏡特性決定情報は、様々な空間周波数について前記鏡表面（１８４）の変化を特性決定する情報であり、
前記補正項に対する様々な空間周波数からの寄与に対して様々に重み付けを行う、
請求項１記載の決定方法。
【請求項９】
前記補正項Ψ３は、Ｘ２〜−Ｘ１〜の積分変換に関連する寄与を有する、
請求項３記載の決定方法。
【請求項１０】
前記補正項Ψ３は、Ｘ２〜＋Ｘ１〜の積分変換に関連する寄与を有する、
請求項３記載の決定方法。
【請求項１１】
前記第１の干渉計を用いることによって測定される干渉位相は、前記第１の干渉計欠陥によって、前記第１の測定軸（２８０）に沿った相対的な測定位置の関数として非周期且つ非線形に変化する、
請求項１記載の決定方法。
【請求項１２】
アライメント・マーク（１６５）の位置を決定する装置であって、
鏡（１８０）が取付けられたステージ（１４０）と；
レーザ光源が送出した基準ビームを使用することによって、第１の測定ビーム（２３５）を前記鏡（１８０）に送出する第１の干渉計（２３０）であって、前記第１の測定ビーム（２３５）は、前記鏡（１８０）で反射されることによって、前記基準ビームと結合されて第１の出力ビームとなることと；
前記基準ビームを使用することによって、第２の測定ビーム（２４５）を前記鏡（１８０）に送出する第２の干渉計（２４０）であって、前記第２の測定ビーム（２３５）は、前記鏡（１８０）で反射されることによって、前記基準ビームと結合されて第２の出力ビームとなることと；
前記第１の干渉計（２３０）と前記第２の干渉計（２４０）とに接続される電子制御装置（１７０）と
を備え、
前記電子制御装置（１７０）は、
前記第１の干渉計（２３０）を使用することによって、ｘ軸に平行な第１の測定軸（２８０）に沿った前記ステージ（１４０）の位置ｘ１を測定し、
前記位置ｘ１からの測定値の偏差であるΨ１を用いることによって、前記位置ｘ１の観測量ｘ１を、ｘ１〜＝ｘ１＋Ψ１と示し、
前記第２の干渉計（２４０）を使用することによって、前記第１の測定軸（２８０）に平行な第２の測定軸（２８２）に沿った前記ステージ（１４０）の位置ｘ２を測定し、
前記位置ｘ２からの偏差であるΨ２を用いることによって、前記位置ｘ２の観測量ｘ２〜を、ｘ２〜＝ｘ２＋Ψ２と示し、
前記第１の測定軸（２８０）に平行な第３の測定軸（２８６）に沿った前記アライメント・マーク（１６５）の位置ｘ３を、前記観測量ｘ１〜と前記観測量ｘ２〜と補正項Ψ３とに基づき決定するように構成され、
前記第１の干渉計（２３０）は、前記第１の測定ビーム（２３５）と前記第１の出力ビームとを導くための第１の構成部品（３１０〜３５０）を備え、
前記第２の干渉計（２４０）は、前記第２の測定ビーム（２４５）と前記第２の出力ビ
ームとを導くための第２の構成部品（３１０〜３５０）を備え、
前記補正項Ψ３は、第１特性決定情報（Ｘ１〜）と、第２特性決定情報（Ｘ２〜）とから算出され、
前記第１特性決定情報（Ｘ１〜）は、前記第１の構成部品（３１０〜３５０）による第１の干渉計欠陥を特性決定する第１干渉計特性決定情報（Ｘ１，Ｉ（アイ）〜）と、前記鏡（１８０）の表面による鏡欠陥を特性決定する第１鏡特性決定情報（Ｘ１，Ｍ〜）とからなり、
前記電子制御装置（１７０）は、前記第１の干渉計（２３０）を使用することによって、前記ステージ（１４０）の位置ｘ１を測定する前に、前記第１特性決定情報（Ｘ１〜）と前記第２特性決定情報（Ｘ２〜）とを、前記ｘ１〜と前記ｘ２〜をモニタしながら且つ前記ステージ（１４０）のｘ位置を一定に保ちながら、前記ステージ（１４０）を前記ｘ軸に直交するｙ軸方向に並進させ、前記ｘ１〜と、前記ｘ２〜と、前記ステージ配向角θ〜とを増大させ、前記ステージ（１４０）が動くことによって前記測定ビーム（２３５，２４５）それぞれが前記ステージ（１４０）を走査することを繰り返す手続によって生成し、
前記鏡（１８０）の表面を、鏡表面（１８４）と定義すると、
前記第１鏡特性決定情報（Ｘ１，Ｍ〜）は、前記手続きの最初の走査中に得られる前記鏡表面（１８４）内の節線の位置であり、
前記第１干渉計特性決定情報（Ｘ１，Ｉ（アイ）〜）は、前記最初の走査の後の走査中に得られる前記鏡表面（１８４）内の節線の位置であり、
前記干渉計欠陥はそれぞれ、前記測定ビーム（２３５，２４５）それぞれの波面歪みと前記干渉計（２３０，２４０）それぞれの前記基準ビームの波面歪みとのうちの少なくとも１つと、前記干渉計（２３０，２４０）それぞれの出力ビームの各成分間のビーム・シャーとによって生じ、
前記ビーム・シャーは、前記出力ビームの各成分ビームの互いに対する差動モード成分（Ψ２−Ψ１）、または前記出力ビームの経路に対する前記出力ビームの同相モード成分（Ψ２＋Ψ１）であり、
前記電子制御装置（１７０）は、前記差動モード成分であるΨ２−Ψ１と、前記同相モード成分であるΨ２＋Ψ１とを、前記第１特性決定情報（Ｘ１〜）と前記第２特性決定情報（Ｘ２〜）とを空間フィルタリングすることによって算出し、
現在の測定軸（２８４）は、前記第１の測定軸（２８０）と平行であり、
前記第１の測定軸（２８０）から前記第２の測定軸（２８２）までの距離を、ｄ１と定義し、
前記第３の測定軸（２８６）と、前記現在の測定軸（２８４）との間の間隔を、ｄ２と定義し、
前記第１の測定軸（２８０）と、前記現在の測定軸（２８４）との間の間隔を、γ×ｄ１と定義し、
ｄ２／ｄ１を、ηと定義すると、
前記第２特性決定情報（Ｘ２〜）は、前記第１特性決定情報（Ｘ１〜）が前記ｙ軸方向にｄ１だけズレた値に等しく、
Ψ３＝η（Ψ２−Ψ１）＋γ（Ψ２−Ψ１）−（Ψ２−Ψ１）／２＋（Ψ２＋Ψ１）／２
であり、
ｘ３＝（１−γ）ｘ１〜＋γｘ２〜＋ｄ２θ〜ッΨ３
であることを特徴とする、装置。
【請求項１３】
前記（Ψ２−Ψ１）は、（Ψ２−Ψ１）＝（Ψ２−Ψ１）Ｍ＋（Ψ２−Ψ１）Ｉであり、
前記（Ψ２＋Ψ１）は、（Ψ２＋Ψ１）＝（Ψ２＋Ψ１）Ｍ＋（Ψ２＋Ψ１）Ｉであり、
下付文字Ｍは、前記鏡（１８０）による前記Ψ３に対する寄与を示し、
下付文字Ｉは、前記第１の干渉計（２３０）と前記第２の干渉計（２４０）によるΨ３に対する寄与を示し、
前記第１特性決定情報Ｘ１〜（ｙ〜）と前記第２特性決定情報Ｘ２〜（ｙ〜）の関係は、
Ｘ２〜（ｙ〜）＝Ｘ１〜（ｙ〜＋ｄ１）であり、
２π×空間周波数を、Ｋと定義し、
前記第１鏡特性決定情報を、Ｘ１、Ｍ〜（ｙ〜）と定義し、
前記第１干渉計特性決定情報を、Ｘ１、Ｉ（アイ）〜（ｙ〜）と定義し、
Ψ２−Ψ１のフーリエ変換を、F｛Ψ２−Ψ１｝と定義し、
Ψ２＋Ψ１のフーリエ変換を、F｛Ψ２＋Ψ１｝と定義すると、
【数５】
2005538362.tif 000005
【数６】
2005538362.tif 000006
【数７】
2005538362.tif 000007
【数８】
2005538362.tif 000008
であり、
数５〜数８を用いることによって、前記Ψ３と前記ｘ３とを算出する、
請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
前記補正項Ψ３は、前記Ｘ１〜と前記Ｘ２〜との積分変換に関連する寄与を有する、
請求項１２記載の装置。
【請求項１５】
ウェハ上に集積回路を作製する際に使用されるリソグラフィ・システム（１１００）であって、
前記ウェハを支持する前記ステージ（１４０，１１０６）と；
空間的にパターン形成された放射線を前記ウェハ上に結像する照明系と；
前記結像した放射線に対する前記ステージ（１４０，１１０６）の位置を調節する位置決め系（１１１９）と；
前記結像した放射線に対する前記ステージ（１４０，１１０６）の位置をモニタする、請求項１２〜１４いずれか１項記載の装置と
を備える、リソグラフィ・システム。
【請求項１６】
ウェハ上に集積回路を作製する際に使用されるリソグラフィ・システム（１１００）であって、
前記ウェハを支持する前記ステージ（１４０，１１０６）と；
放射線源、マスク、位置決め系（１１１７）、レンズ・アセンブリ（１１０８）、および請求項１２〜１４いずれか１項記載の装置を備える照明系と
を有し、
動作中に、前記放射線源は、前記マスクを通して放射線を送出することによって空間的にパターン形成された放射線を生成し、前記位置決め系（１１１７）は、前記放射線源からの放射線に対する前記マスクの位置を調節し、前記レンズ・アセンブリ（１１０８）は、前記空間的にパターン形成された放射線を前記ウェハ上に結像し、前記装置は、前記放射線源からの放射線に対する前記マスクの位置をモニタする、
リソグラフィ・システム。
【請求項１７】
リソグラフィ・マスクの作製に使用されるビーム書込みシステム（１２００）であって、
基板（１２１６）にパターン形成するための書込みビームを供給する源（１２１０）と；
前記基板（１２１６）を支持する前記ステージ（１４０，１２１８）と；
前記基板（１２１６）に対して前記書込みビーム（１２１２）を送出するビーム送出アセンブリ（１２１４）と；
前記ステージ（１４０，１２１８）と前記ビーム送出アセンブリ（１２１４）とを相対的に位置決めする位置決め系と；
前記ビーム送出アセンブリ（１２１４）に対する前記ステージ（１４０）の位置をモニタする、請求項１２〜１４いずれか１項記載の装置と
を備える、ビーム書込みシステム。
【請求項１８】
ウェハ上に集積回路を作製する際に使用されるリソグラフィ方法であって、
可動な前記ステージ（１４０，１２１８）上で前記ウェハを支持する工程と；
空間的にパターン形成された放射線を前記ウェハ上に結像する工程（１１６６）と；
前記ステージ（１４０，１２１８）の位置を調節する工程と；
請求項１の決定方法を用いることによって、前記ステージ（１４０，１２１８）の位置をモニタする工程と
を有する、リソグラフィ方法。
【請求項１９】
集積回路の作製に使用されるリソグラフィ方法であって、
マスクを通して入力放射線を送出して空間的にパターン形成された放射線を生成する工程と；
前記入力放射線に対して前記マスクを位置決めする工程と；
請求項１記載の決定方法を用いることによって、前記入力放射線に対する前記マスクの位置をモニタする工程と；
前記空間的にパターン形成された放射線をウェハ上に結像する工程（１１６６）と
を有する、リソグラフィ方法。
【請求項２０】
ウェハ上に集積回路を作製するためのリソグラフィ方法であって、
リソグラフィ・システム（１１００）の第１の構成要素を前記リソグラフィ・システム（１１００）の第２の構成要素に対して位置決めすることによって、空間的にパターン形成した放射線で前記ウェハを露光する工程（１１６６）と；
請求項１の決定方法を用いることによって、前記第２の構成要素に対する前記第１の構成要素の位置をモニタする工程と
を有する、リソグラフィ方法。
【請求項２１】
請求項１８〜２０いずれか１項記載のリソグラフィ方法を有する、集積回路を作製する方法。
【請求項２２】
請求項１５または１６記載のリソグラフィ・システム（１１００）を用いることを有する、集積回路を作製する方法。
【請求項２３】
リソグラフィ・マスクを作製する方法であって、
基板（１２１６）にパターン形成するために前記基板（１２１６）に対して書込みビームを送出する工程と；
前記書込みビームに対して前記基板（１２１６）を位置決めする工程と；
請求項１記載の決定方法を用いることによって、前記書込みビームに対する前記基板（１２１６）の位置をモニタする工程と
を有する、リソグラフィ・マスクを作製する方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
しかし、ミラーおよび干渉計の欠陥による干渉法測定値の誤差を前述の誤差特性決定によって補正しても、Ｋ＝２π／ｄに比例する空間周波数によって生じる寄与が必ずしも補償されるとは限らない。ここで、ｄは測定軸間の間隔である。これら空間周波数による変化は、両変位測定値に等しく影響を及ぼすので、変位測定値の間の差には影響を及ぼさない。さらに、これらの変化は、ミラー変位の実際の変化と同様に、変位測定値の和にも等しく影響を及ぼす。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
これらの変化に対する感度の悪さは、誤差特性決定データを空間周波数領域に変換し、特定の周波数成分による誤差補正項に対する寄与をその他の周波数成分より重く重み付けすることにより、少なくともある程度は軽減することが可能である。特に、Ｋ＝２π／ｄ（およびその高調波）に近い周波数成分に対してその他の周波数より重く重み付けすることにより、誤差特性決定方法の感度の悪さによる誤差を軽減することが可能である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
この方法の実施形態では、下記の特徴、および／またはその他の態様の特徴を１つまたは複数含むことが可能である。
ｘ１およびｘ２は、それぞれ第１の測定軸および第２の測定軸における鏡の位置に対応する。ｘ２は、第２の干渉計を用いて測定することが可能である。上記所定の情報は、第２の干渉計の欠陥を特性決定する情報を含むことが可能である。補正項Ψ３は、第１および第２の測定軸とほぼ直交する方向にステージを走査する間にモニタされるｘ２およびｘ１
に対応するＸ２およびＸ１の積分変換（例えばフーリエ変換）に関連する寄与を含むことが可能である。第１の測定軸と第２の測定軸の間の間隔をｄ１とし、Ｋｄが２π／ｄ１に相当するものとして、Ｘ１およびＸ２の様々な周波数成分によるΨ３に対する寄与に重み付けして、ＫｄおよびＫｄの高調波の近傍の空間周波数成分に対するΨ３の感度を高めることが可能である。γが第１の軸に対する測定軸の位置に関連し、第３の軸と該測定軸とが距離ｄ２だけ間隔をあけ、θが該測定軸に対するステージの配向角に関連するものとして、アライメント・マークの位置は、
ｘ３＝（１−γ）ｘ１＋γｘ２＋ｄ２θ−Ψ３
で与えられる第３の軸上の位置ｘ３と関連付けることが可能である。第１の軸と第２の軸は、距離ｄ１だけ間隔をあけ、第１の軸と該測定軸は、距離γｄ１だけ間隔をあけている。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
この方法の実施形態では、下記の特徴、および／またはその他の態様の特徴を１つまたは複数含むことが可能である。
第２の干渉計で、第１の軸と平行でありかつ第１の軸からずれた第２の軸に沿った鏡の自由度をモニタすることが可能である。上記情報は、第２の干渉計の欠陥を補償することが可能である。第１の干渉計は、第２の軸に沿った鏡の自由度をモニタすることができ、ｄが第２の軸と第３の軸の間の間隔であり、Ｋｄが２π／ｄに対応するものとして、干渉計の欠陥による様々な空間周波数成分からの上記補正に対する寄与を重み付けして、ＫｄまたはＫｄの高調波の近傍の空間周波数成分に対する補正の感度を高める。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６３】
これらの欠陥により、干渉計２３０および２４０は、ｘ１〜およびｘ２〜をそれぞれ測定する。ここで、波形記号は、観測量パラメータを示し、観測量ｘ１〜およびｘ２〜は物理的変位ｘ１およびｘ２と、ｘ１〜＝ｘ１＋Ψ１およびｘ２〜＝ｘ２＋Ψ２という関係にある。Ψ１およびΨ２は、物理的変位ｘ１およびｘ２からの測定値の偏差を表す。数式（２）のｘ１およびｘ２にｘ１〜およびｘ２〜を代入すると、以下のようになる。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６９】
から決定することが可能である。ここで、Ψ３は、ミラー表面および干渉計の欠陥を補償する誤差補正項である。
Ψ３は、
Ψ３＝η１［（Ψ２−Ψ１）Ｍ＋（Ψ２−Ψ１）Ｉ］＋γ［（Ψ２−Ψ１）Ｍ＋（Ψ２−Ψ１）Ｉ］−［（Ψ２−Ψ１）Ｍ＋（Ψ２−Ψ１）Ｉ］／２＋［（Ψ２＋Ψ１）Ｍ＋（Ψ２＋Ψ１）Ｉ］／２
（６）
で表すことが可能である。ここで、γは最終的な適用分野に応じて選択され、下付文字Ｍ
はミラーによるΨ３に対する寄与、下付文字Ｉは干渉計によるΨ３に対する寄与を示す。したがって、このｘ３に関する数式は、