【手続補正書】
【提出日】平成23年10月20日(2011.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式１の化合物。
[(O3/2)Si CH2CH2SX] a [Si (O4/2)] b [WSi (O3/2)] c [VSi (O3/2)] d
［式中、Ｘは
H
(CR1R2)eNR5 CO NHR
(CR1R2)eNR5 CS NHR
(CR1R2)eNR5 NHR
から選ばれ、かつ
ｃが０より大きい場合には、Ｗは(CR6R7)e ZR、(CH2)3 SR、(CH2)3 NRR1、(CH2)e SR8、CH2CH2S (CR1R2)fNR5 CO NHR、CH2CH2S (CR1R2)fNR5 CS NHR、CH2CH2S (CH2)f ORから選ばれ、かつ
Ｗが(CR6R7)e ZR であり、かつＺがＯ又はＳである場合には、Ｘはまた
[CH2CH2NR1]p R2; 
(CR1R2)f CO NHR;
(CR1R2)f CO N[CH2CH2NR1]p R
から選ばれ、かつ
ＸがＨである場合には、ｃは常に０より大きく、かつＷは
(CH2)3 SR;
(CH2)3 NRR1
(CH2)e SR8;
CH2CH2S (CR1R2)fNR5 CO NHR
CH2CH2S (CR1R2)fNR5 CS NHR
CH2CH2S (CH2)fCO NHR
CH2CH2S (CH2)fCO NHR8
CH2CH2S (CH2)f OR
から選ばれ、
R、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は独立に水素、C1-22-アルキル基、C1-22-アリール基及びC1-22-アルキルアリール基から選ばれ、R8は [CH2CH2NR1]p R2 及び(CR1R2)m SR9 （式中、R9 は水素、C1-22-アルキル基、C1-22-アリール基、C1-22-アルキルアリール基又は (CR1R2)e Si(O3/2)である）から選ばれ、ｅは２から100までの整数であり、ｆは１から100までの整数であり、ｍは２から100までの整数であり、ｐは１から100までの整数であり、
Ｖは必要により置換されていてもよく、かつC1-22-アルキル基、C2-22-アルケニル基、C2-22-アルキニル基、アリール基、C1-22-アルキルアリールスルフィド基、スルホキシド、スルホン、アミン、ポリアルキルアミン、ホスフィン及びその他のリン含有基から選ばれる基であり、
シリケート酸素原子の自由原子価が式１のその他の基のケイ素原子、水素、線状又は分岐C1-22-アルキル基、末端基R33M1O1/2、架橋ブリッジ員の一つ以上により、或いは鎖R3qM1(OR4)gOk/2もしくはAl(OR4)3-hOh/2 又はR3Al(OR4)2-rOr/2 
（式中、
M1 はSi 又はTiであり、
R3 及びR4 は独立に線状又は分岐C1-22 アルキル基、アリール基及びC1-22-アルキルアリール基から選ばれ、
ｋは１から３までの整数であり、ｑは１から２までの整数であり、かつｇはg + k + q = 4であるような０から２までの整数であり、
ｈは１から３までの整数であり、かつ
ｒは１から２までの整数である）
或いはオキソ金属橋かけ系（その金属はジルコニウム、ホウ素、マグネシウム、鉄、ニッケル又はランタニドである）により飽和され、
ａ、ｂ、ｃ及びｄはａ：ｂの比が0.00001から100000までであり、かつａ及びｂが常に０より大きく、かつｃが０より大きい場合には、ｃ対ａ＋ｂの比が0.00001から100000までであり、かつｄが０より大きい場合には、ｄ対ｃ対ａ＋ｂの比が0.00001から100000までであるような整数である］
【請求項２】
トリアルキルもしくはトリアリールシランに由来する末端基又はオルトシリケート、チタンアルコキシドもしくはアルミニウムトリアルコキシドに由来する架橋ブリッジ員或いはモノアルキルもしくはモノアリールトリアルコキシシラン又はジアルキルもしくはジアリールジアルコキシシランに由来するポリマー鎖を含む、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
金属錯体M(L)j（式中、Ｍは０から４までの範囲の酸化状態を有するランタニド、アクチニド、主要な族又は遷移金属に由来し、かつＬはハロゲン化物、硝酸塩、酢酸塩、カルボキシレート、シアン化物、硫酸塩、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシから選ばれた一つ以上の必要により置換されていてもよいリガンドであり、かつｊは０から８までの整数である）を含み、かつ式１の化合物が前記金属錯体に結合されている、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
プロトン化錯体又は金属錯体M(L)j（式中、Ｍは０から４までの範囲の酸化状態を有するコバルト、マンガン、鉄、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウムに由来し、かつＬはハロゲン化物、硝酸塩、酢酸塩、カルボキシレート、シアン化物、硫酸塩、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシから選ばれた一つ以上の必要により置換されていてもよいリガンドであり、かつｊは０から４までの整数である）を含み、かつ式１の化合物が前記金属錯体に結合されている、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
Ｘが独立にＨ、(CR1R2)eNR5 CO NHR、(CR1R2)eNR5 CS NHR 又は(CR1R2)eNR5 NHR （式中、Ｒ、R1-2,5が独立に水素、C1-6 アルキル又はフェニルから選ばれ、かつｅが２〜６である）から選ばれ、またｃが０より大きい場合、Ｗが(CH2)e SR、(CH2)3 SR、(CH2)3 NRR1、(CH2)e SR8、CH2CH2S (CH2)2NH CO NHR、CH2CH2S (CH2)2NH CS NHR、CH2CH2S (CH2)f OR [式中、ｆが２〜12であり、かつR8 が[CH2CH2NH]p H又は(CH2)m SR9 （式中、R9が水素又は(CH2)2 Si(O3/2) であり、かつｐが１〜100であり、かつｍが２〜100である）から選ばれる]から選ばれる、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
Ｘが水素であり、かつｃが０より大きく、Ｗが(CH2)e SR、(CH2)3 SR、(CH2)3 NRR1、(CH2)e SR8、CH2CH2S (CH2)2NH CO NHR、CH2CH2S (CH2)2NH CS NHR、CH2CH2S (CH2)f OR[式中、ｆが２〜12であり、Ｒ及びR1が独立に水素、C1-6 アルキル又はフェニルから選ばれ、かつｅが２〜６であり、かつR8が [CH2CH2NH]p H及び (CH2)m SR9 （式中、R9が水素又は (CH2)2 Si(O3/2) であり、かつｐが１〜100であり、かつｍが２〜10である）から選ばれる]から選ばれる請求項１記載の化合物。
【請求項７】
Ｗが(CH2)2 ZR であり、かつＺがCH2、Ｏ又はＳであり、Ｘが [CH2CH2NH]p H、(CH2)f CO NHR 又は (CH2)f CO N[CH2CH2NH]p H （式中、Ｒが独立にC1-20 アルキル又はアリールから選ばれ、ｐが１〜100であり、かつｆが１〜10である）から選ばれる、請求項１記載の化合物。
【請求項８】
シリケート酸素原子の自由原子価が式１のその他の基のケイ素原子、水素、線状又は分岐C1-6アルキル基の一つ以上により、もしくは末端基R33SiO1/2により、又は架橋ブリッジ員により、或いはポリマー鎖R3qSiOk/2（式中、R3 が線状又は分岐C1-4 アルキル基であり、ｋが２から３までの整数であり、かつk + q = 4であるようにｑが１から２までの整数であり、かつ整数ａ、ｂ、ｃ及びｄはi）ａ：ｂの比が0.00001から100,000までであり、かつ式AaBbCcDd中でＡ及びＢの両方が常に存在し、またii)Ｃが存在する場合に、ｃ対ａ＋ｂの比が0.00001から100,000まで変化し、iii)Ｄが存在する場合に、ｄ対ａ＋ｂの比が0.00001から100,000まで変化し、かつ末端基及び／又は架橋剤及び／又はポリマー鎖対ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの比が０から999:1まで変化するような整数である）により飽和される、請求項５に記載の化合物。
【請求項９】
ａ、ｂ及びｃはi）ａ：ｂの比が0.01から100までであり、かつ式AaBbCcDd中でＡ及びＢの両方が常に存在し、またii)Ｃが存在する場合に、ｃ対ａ＋ｂの比が0.01から100まで変化し、またiii)Ｄが存在する場合に、ｄ対ａ＋ｂの比が0.01から100まで変化し、かつ末端基及び／又は架橋剤及び／又はポリマー鎖対ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの比が０から99:1まで変化するような整数である、請求項８記載の化合物。
【請求項１０】
式２： [(R4O)3SiCH2CH2SX][式中、Ｘは(CR1R2)eNR5 CO NHR、(CR1R2)eNR5 CS NHR、(CH2CH2NR1)pR 及び(CR1R2)eNR5 NHR （式中、Ｒ、R1、R2及びR5は独立に水素、C1-12アルキル又はフェニルから選ばれる）から選ばれ、R4はC1-12アルキル又はフェニルから選ばれ、ｐは１〜100であり、かつｅは２〜６である]の化合物。
【請求項１１】
請求項１記載の式１の化合物を供給原料流と接触させて
i)  供給原料の成分の接触変換により化学反応を行なって所望の製品を製造し、
ii)供給原料の成分を流れから除去し、又は
iii)イオン交換方法で供給原料流中のイオン種を除去することを特徴とする、供給原料の処理方法。
【請求項１２】
請求項１記載の化合物を含有することを特徴とする、液体基質からの望ましくない有機化合物、無機化合物又は生物学的化合物のレベルの除去又は低下のための脱除剤。
【請求項１３】
望ましくない化合物が反応混合物、廃棄物流もしくは廃水から除去され、又はその他の有機化合物に結合される、請求項１２記載の脱除剤。
【請求項１４】
請求項１記載の化合物を含有することを特徴とする、反応混合物、廃棄物流もしくは廃水からの、又はその他の有機化合物に結合された貴金属もしくはイオンのレベルの除去又は低下のための脱除剤。
【請求項１５】
貴金属又はイオンが白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、レニウム、金、又はニッケルの一種以上である、請求項１４記載の脱除剤。
【請求項１６】
請求項１記載の化合物を含有することを特徴とする、陽イオン又は陰イオン交換体。
【請求項１７】
酵素、ペプチド、タンパク質及び核酸から選ばれた生物学的分子の固定化及びその後の反応を触媒作用するためのその使用のための請求項１記載の化合物の使用。
【請求項１８】
請求項１記載の化合物を含有することを特徴とする、不均一触媒支持体。
【請求項１９】
ガス、液体及び固体の環境からの有機分子、生物学的分子又は無機分子の分離又は精製のための請求項１記載の化合物の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
p-ニトロフェニルブチレート（Sang H.L.ら, Journal Molecular Catalysis, 47, 2007,129-134）の溶液を使用して、実施例37-41からの物質のエステル化のための比活性（PLU/g）を測定した。リパーゼ変性シリカのサンプルをリン酸塩緩衝液に添加し、続いてDMF中のp-ニトロフェニルブチレートの溶液を25℃で振とうしながら添加した。周期的に、アリコートを採取し、UVスペクトロメーターにより分析した。p-ニトロフェニルブチレートの加水分解中に生成されるp-ニトロフェノールによる400nmにおける吸光度の増加を測定することにより比活性を測定した。これらの条件下で測定された、５分後の、比活性（PLU/g）は以下のとおりである：実施例37 267,000；実施例38 166,000；実施例39 280,000；実施例40 165,000及び実施例41 234,000。
次に、本発明の態様を示す。
1.  下記式１の化合物。
[(O3/2)Si CH2CH2SX] a [Si (O4/2)] b [WSi (O3/2)] c [VSi (O3/2)] d
［式中、Ｘは
H
(CR1R2)eNR5 CO NHR
(CR1R2)eNR5 CS NHR
(CR1R2)eNR5 NHR
から選ばれ、かつ
ｃが０より大きい場合には、Ｗは(CR6R7)e ZR、(CH2)3 SR、(CH2)3 NRR1、(CH2)e SR8、CH2CH2S (CR1R2)fNR5 CO NHR、CH2CH2S (CR1R2)fNR5 CS NHR、CH2CH2S (CH2)f ORから選ばれ、かつ
Ｗが(CR6R7)e ZR であり、かつＺがＯ又はＳである場合には、Ｘはまた
[CH2CH2NR1]p R2; 
(CR1R2)f CO NHR;
(CR1R2)f CO N[CH2CH2NR1]p R
から選ばれ、かつ
ＸがＨである場合には、ｃは常に０より大きく、かつＷは
(CH2)3 SR;
(CH2)3 NRR1
(CH2)e SR8;
CH2CH2S (CR1R2)fNR5 CO NHR
CH2CH2S (CR1R2)fNR5 CS NHR
CH2CH2S (CH2)fCO NHR
CH2CH2S (CH2)fCO NHR8
CH2CH2S (CH2)f OR
から選ばれ、
R、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は独立に水素、C1-22-アルキル基、C1-22-アリール基及びC1-22-アルキルアリール基から選ばれ、R8は [CH2CH2NR1]p R2 及び(CR1R2)m SR9 （式中、R9 は水素、C1-22-アルキル基、C1-22-アリール基、C1-22-アルキルアリール基又は (CR1R2)e Si(O3/2)である）から選ばれ、ｅは２から100までの整数であり、ｆは１から100までの整数であり、ｍは２から100までの整数であり、ｐは１から100までの整数であり、
Ｖは必要により置換されていてもよく、かつC1-22-アルキル基、C2-22-アルケニル基、C2-22-アルキニル基、アリール基、C1-22-アルキルアリールスルフィド基、スルホキシド、スルホン、アミン、ポリアルキルアミン、ホスフィン及びその他のリン含有基から選ばれる基であり、
シリケート酸素原子の自由原子価が式１のその他の基のケイ素原子、水素、線状又は分岐C1-22-アルキル基、末端基R33M1O1/2、架橋ブリッジ員の一つ以上により、或いは鎖R3qM1(OR4)gOk/2もしくはAl(OR4)3-hOh/2 又はR3Al(OR4)2-rOr/2 
（式中、
M1 はSi 又はTiであり、
R3 及びR4 は独立に線状又は分岐C1-22 アルキル基、アリール基及びC1-22-アルキルアリール基から選ばれ、
ｋは１から３までの整数であり、ｑは１から２までの整数であり、かつｇはg + k + q = 4であるような０から２までの整数であり、
ｈは１から３までの整数であり、かつ
ｒは１から２までの整数である）
或いはオキソ金属橋かけ系（その金属はジルコニウム、ホウ素、マグネシウム、鉄、ニッケル又はランタニドである）により飽和され、
ａ、ｂ、ｃ及びｄはａ：ｂの比が0.00001から100000までであり、かつａ及びｂが常に０より大きく、かつｃが０より大きい場合には、ｃ対ａ＋ｂの比が0.00001から100000までであり、かつｄが０より大きい場合には、ｄ対ｃ対ａ＋ｂの比が0.00001から100000までであるような整数である］
2.  末端基及び／又は架橋ブリッジ員及び／又はポリマー鎖を含み、末端基及び／又は架橋剤及び／又はポリマー鎖対ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの比が０から999:1まで変化する、上記１記載の化合物。
3.  トリアルキルもしくはトリアリールシランに由来する末端基又はオルトシリケート、チタンアルコキシドもしくはアルミニウムトリアルコキシドに由来する架橋ブリッジ員或いはモノアルキルもしくはモノアリールトリアルコキシシラン又はジアルキルもしくはジアリールジアルコキシシランに由来するポリマー鎖を含む、上記１又は２記載の化合物。
4.  一つ以上の末端基もしくは架橋ブリッジ又はポリマー鎖がR32SiOR4O1/2、R33SiO1/2 又はR32SiO2/2又はTiO4/2又はR3TiO3/2 又はR32TiO2/2 又はAlO3/2 又はR3AlO2/2（式中、R3 及びR4は上記 １に定義されたとおりである）から選ばれる、上記３記載の化合物。
5.  R3が独立に線状又は分岐C1-22-アルキル基、アリール基及びC1-22-アルキルアリール基から選ばれる、上記４記載の化合物。
6.  R3がC1-6-アルキル、C2-12-アルケニル又はアリールである、上記５記載の化合物。
7.  金属錯体M(L)j（式中、Ｍは０から４までの範囲の酸化状態を有するランタニド、アクチニド、主要な族又は遷移金属に由来し、かつＬはハロゲン化物、硝酸塩、酢酸塩、カルボキシレート、シアン化物、硫酸塩、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシから選ばれた一つ以上の必要により置換されていてもよいリガンドであり、かつｊは０から８までの整数である）を含み、かつ式１の化合物が前記金属錯体に結合されている、上記１から６のいずれか１項記載の化合物。
8.  プロトン化錯体又は金属錯体M(L)j（式中、Ｍは０から４までの範囲の酸化状態を有するコバルト、マンガン、鉄、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウムに由来し、かつＬはハロゲン化物、硝酸塩、酢酸塩、カルボキシレート、シアン化物、硫酸塩、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシから選ばれた一つ以上の必要により置換されていてもよいリガンドであり、かつｊは０から４までの整数である）を含み、かつ式１の化合物が前記金属錯体に結合されている、上記１から７のいずれか１項記載の化合物。
9.  Ｘが独立にＨ、(CR1R2)eNR5 CO NHR、(CR1R2)eNR5 CS NHR 又は(CR1R2)eNR5 NHR （式中、Ｒ、R1-2,5が独立に水素、C1-6 アルキル又はフェニルから選ばれ、かつｅが２〜６である）から選ばれ、またｃが０より大きい場合、Ｗが(CH2)e SR、(CH2)3 SR、(CH2)3 NRR1、(CH2)e SR8、CH2CH2S (CH2)2NH CO NHR、CH2CH2S (CH2)2NH CS NHR、CH2CH2S (CH2)f OR [式中、ｆが２〜12であり、かつR8 が[CH2CH2NH]p H又は(CH2)m SR9 （式中、R9が水素又は(CH2)2 Si(O3/2) であり、かつｐが１〜100であり、かつｍが２〜100である）から選ばれる]から選ばれる、上記１から８のいずれか１項記載の化合物。
10.  Ｘが水素であり、かつｃが０より大きく、Ｗが(CH2)e SR、(CH2)3 SR、(CH2)3 NRR1、(CH2)e SR8、CH2CH2S (CH2)2NH CO NHR、CH2CH2S (CH2)2NH CS NHR、CH2CH2S (CH2)f OR[式中、ｆが２〜12であり、Ｒ及びR1が独立に水素、C1-6 アルキル又はフェニルから選ばれ、かつｅが２〜６であり、かつR8が [CH2CH2NH]p H及び (CH2)m SR9 （式中、R9が水素又は (CH2)2 Si(O3/2) であり、かつｐが１〜100であり、かつｍが２〜10である）から選ばれる]から選ばれる上記１から８のいずれか１項記載の化合物。
11.  Ｗが(CH2)2 ZR であり、かつＺがCH2、Ｏ又はＳであり、Ｘが [CH2CH2NH]p H、(CH2)f CO NHR 又は (CH2)f CO N[CH2CH2NH]p H （式中、Ｒが独立にC1-20 アルキル又はアリールから選ばれ、ｐが１〜100であり、かつｆが１〜10である）から選ばれる、上記１から８のいずれか１項記載の化合物。
12.  シリケート酸素原子の自由原子価が式１のその他の基のケイ素原子、水素、線状又は分岐C1-6アルキル基の一つ以上により、もしくは末端基R33SiO1/2により、又は架橋ブリッジ員により、或いはポリマー鎖R3qSiOk/2（式中、R3 が線状又は分岐C1-4 アルキル基であり、ｋが２から３までの整数であり、かつk + q = 4であるようにｑが１から２までの整数であり、かつ整数ａ、ｂ、ｃ及びｄはi）ａ：ｂの比が0.00001から100,000までであり、かつ式AaBbCcDd中でＡ及びＢの両方が常に存在し、またii)Ｃが存在する場合に、ｃ対ａ＋ｂの比が0.00001から100,000まで変化し、iii)Ｄが存在する場合に、ｄ対ａ＋ｂの比が0.00001から100,000まで変化し、かつ末端基及び／又は架橋剤及び／又はポリマー鎖対ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの比が０から999:1まで変化するような整数である）により飽和される、上記９から１１に記載の化合物。
13.  ａ、ｂ及びｃはi）ａ：ｂの比が0.01から100までであり、かつ式AaBbCcDd中でＡ及びＢの両方が常に存在し、またii)Ｃが存在する場合に、ｃ対ａ＋ｂの比が0.01から100まで変化し、またiii)Ｄが存在する場合に、ｄ対ａ＋ｂの比が0.01から100まで変化し、かつ末端基及び／又は架橋剤及び／又はポリマー鎖対ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの比が０から99:1まで変化するような整数である、上記１２記載の化合物。
14.  式２： [(R4O)3SiCH2CH2SX][式中、Ｘは(CR1R2)eNR5 CO NHR、(CR1R2)eNR5 CS NHR、(CH2CH2NR1)pR 及び(CR1R2)eNR5 NHR （式中、Ｒ、R1、R2及びR5は独立に水素、C1-12アルキル又はフェニルから選ばれる）から選ばれ、R4はC1-12アルキル又はフェニルから選ばれ、ｐは１〜100であり、かつｅは２〜６である]の化合物。
15.  上記１から１４のいずれか１項記載の化合物を供給原料流と接触させて
i)  供給原料の成分の接触変換により化学反応を行なって所望の製品を製造し、
ii)供給原料の成分を流れから除去し、又は
iii)イオン交換方法で供給原料流中のイオン種を除去することを特徴とする、供給原料の処理方法。
16.  液体基質からの望ましくない有機化合物、無機化合物又は生物学的化合物のレベルの除去又は低下のための脱除剤としての上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
17.  望ましくない化合物が反応混合物、廃棄物流もしくは廃水から除去され、又はその他の有機化合物に結合される、上記１６記載の使用。
18.  反応混合物、廃棄物流もしくは廃水からの、又はその他の有機化合物に結合された貴金属もしくはイオンのレベルの除去又は低下のための脱除剤としての上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
19.  貴金属又はイオンが白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、レニウム、金、又はニッケルの一種以上である、上記１８記載の使用。
20.  陽イオン又は陰イオン交換体としての上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
21.  酵素、ペプチド、タンパク質及び核酸から選ばれた生物学的分子の固定化及びその後の反応を触媒作用するためのその使用のための上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
22.  酵素、ペプチド、タンパク質、毒素、レクチン及び核酸から選ばれた生物学的分子の除去のための上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
23.  上記１から１４のいずれか１項記載の化合物及び担体を含むことを特徴とする抗菌性組成物。
24.  抗菌剤としての上記１から１４のいずれか１項記載の化合物及び上記２３記載の組成物の使用。
25.  親水性改質剤、防炎剤、帯電防止剤、生物医療装置のための被覆物、撥水性フィルム及び被覆物としての上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
26.  固相合成又は固相抽出及び精製のための上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
27.  不均一触媒支持体としての上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
28.  ガス、液体及び固体の環境からの有機分子、生物学的分子又は無機分子の分離又は精製のための上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
29.  キラル分離のための上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
30.  ゲル濾過、サイズ排除又はクロマトグラフィー媒体としての上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。
31.  酸化、還元、炭素-炭素結合形成反応、付加、アルキル化、重合、ヒドロホルミル化、アリール化、アシル化、異性化、カルボキシル化、カルボニル化、エステル化、エステル交換又は転位反応のための不均一触媒としての上記１から１４のいずれか１項記載の化合物の使用。