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【手続補正書】
【提出日】平成23年5月25日(2011.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医療器具の少なくとも一部を覆う被膜を有する医療器具であって、前記被膜は、
（ａ）前記医療器具の表面に接着される一つ以上の細胞接着ポリペプチド、及び、
（ｂ）前記ポリペプチド上に少なくとも部分的に配置されるか、又は前記ポリペプチドを取り囲む生分解性バリア
を含み、
前記一つ以上の細胞接着ポリペプチドは、前記医療器具を移植した後の生分解性バリアの分解の後に、内皮細胞を前記医療器具に接着させるための基材を提供する医療器具。
【請求項２】
前記細胞接着ポリペプチドは、細胞外基質の細胞接着タンパク質の結合ドメインに由来するペプチドである請求項１に記載の医療器具。
【請求項３】
前記細胞接着タンパク質は、フィブロネクチン、ビトロネクチン、ラミニン、エラスチン、フィブリノゲン、Ｉ型コラーゲン、ＩＩ型コラーゲン、及びＶ型コラーゲンからなる群より選択される請求項２に記載の医療器具。
【請求項４】
前記ペプチドは、アルギニン−グリシン−アスパラギン酸（ＲＧＤ）（配列番号１）及びチロシン−イソロイシン−グリシン−セリン−アルギニン（ＹＩＧＳＲ）（配列番号２）からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む請求項２に記載の医療器具。
【請求項５】
前記細胞接着ポリペプチドは医療器具の表面上に単分子層を形成する請求項１に記載の医療器具。
【請求項６】
前記生分解性バリアは生分解性ポリマーからなる請求項１に記載の医療器具。
【請求項７】
前記生分解性バリアは生分解性被膜からなり、前記生分解性被膜は前記ポリペプチド上に少なくとも部分的に配置される請求項１に記載の医療器具。
【請求項８】
医療器具を移植した後の前記生分解性バリアの分解は、医療器具の再内皮化の過程と同時に生じる請求項１に記載の医療器具。
【請求項９】
前記生分解性バリアは、医療器具の患者への移植後７日以内に、細胞接着ポリペプチドを少なくとも部分的に生理環境に露出する速度で分解される請求項１に記載の医療器具。
【請求項１０】
前記生分解性バリアは、医療器具の患者への移植後７日以内に、細胞接着ポリペプチドを生理環境に露出する速度で分解される請求項９に記載の医療器具。
【請求項１１】
前記生分解性バリアは、医療器具の患者への移植後７日以内に分解される請求項９に記載の医療器具。
【請求項１２】
前記生分解性バリアは、医療器具の患者への移植後４日以内に、細胞接着ポリペプチドを少なくとも部分的に生理環境に露出する速度で分解される請求項１に記載の医療器具。
【請求項１３】
前記生分解性バリアは、医療器具の患者への移植後４日以内に、細胞接着ポリペプチドを生理環境に露出する速度で分解される請求項１２に記載の医療器具。
【請求項１４】
前記生分解性バリアは、医療器具の患者への移植後４日以内に分解される請求項１２に記載の医療器具。
【請求項１５】
細胞接着ポリペプチドを含む被膜を有し、かつ前記細胞接着ポリペプチドはポリビスホスフォネートにグラフトされる医療器具。
【請求項１６】
前記ポリビスホスフォネートはポリアリールアミンビスホスフォネートである請求項１５に記載の医療器具。
【請求項１７】
前記細胞接着ポリペプチドは医療器具の表面上に単分子層を形成する請求項１５に記載の医療器具。
【請求項１８】
バイオファウリングに対する前記ポリペプチドの一時的な保護手段を更に有する請求項１５に記載の医療器具。
【請求項１９】
バクテリオファージを含む被膜を有し、かつ、前記バクテリオファージは細胞接着ポリペプチドをディスプレイする医療器具。
【請求項２０】
ポリビスホスフォネート被膜を更に有し、かつバクテリオファージが前記ポリビスホスフォネート被膜にグラフトされている請求項１９に記載の医療器具。
【請求項２１】
前記ポリビスホスフォネートはポリアリールアミンビスホスフォネートである請求項２０に記載の医療器具。
【請求項２２】
バイオファウリングに対する前記ポリペプチドの一時的な保護手段を更に有する請求項１９に記載の医療器具。
【請求項２３】
細胞接着ポリペプチドを含む被膜を有し、かつ前記ポリペプチドは接着性ポリペプチドセグメントに連結されている医療器具。
【請求項２４】
前記接着性ポリペプチドセグメントはポリリジンである請求項２３に記載の医療器具。
【請求項２５】
前記接着性ポリペプチドセグメントは疎水性アミノ酸鎖である請求項２３に記載の医療器具。
【請求項２６】
前記細胞接着ポリペプチドは医療器具の表面上に単分子層を形成する請求項２３に記載の医療器具。
【請求項２７】
バイオファウリングに対する前記ポリペプチドの一時的な保護手段を更に有する請求項２３に記載の医療器具。
【請求項２８】
細胞接着ポリペプチドの単分子層を含む被膜を有する医療器具。
【請求項２９】
前記細胞接着ポリペプチドは、医療器具の表面に直接単分子層を形成する請求項２８に記載の医療器具。
【請求項３０】
前記単分子層は自己組織化単分子膜である請求項２８に記載の医療器具。
【請求項３１】
前記単分子層はラングミュア単分子層である請求項２８に記載の医療器具。
【請求項３２】
前記細胞接着ポリペプチドは静電塗装によって医療器具に適用される請求項２８に記載の医療器具。
【請求項３３】
前記細胞接着ポリペプチドは接着性ポリペプチドセグメントに連結される請求項２８に記載の医療器具。
【請求項３４】
前記細胞接着ポリペプチドはポリマーにグラフトされる請求項２８に記載の医療器具。
【請求項３５】
前記細胞接着ポリペプチドはポリマー骨格に組み込まれる請求項２８に記載の医療器具。
【請求項３６】
バイオファウリングに対する前記ポリペプチドの一時的な保護手段を更に有する請求項２８に記載の医療器具。
【請求項３７】
医療器具を製造する方法であって、
（ａ）医療器具の少なくとも一部を細胞接着ポリペプチドで被覆する段階であって、前記細胞接着ポリペプチドは前記医療器具の表面に接着する段階、及び、
（ｂ）細胞接着ポリペプチド被膜の少なくとも一部を覆う生分解性バリアを適用する段階からなり、
前記細胞接着ポリペプチドは、前記医療器具を移植した後の生分解性バリアの分解の後に、内皮細胞を前記医療器具に接着させるための基材を提供する方法。
【請求項３８】
医療器具を移植した後の前記生分解性バリアの分解は、医療器具の再内皮化の過程と同時に生じる請求項３７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】血管内皮細胞接着を促進するための被膜を有する医療器具およびそれを製造する方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、移植又は挿入可能な生物活性被膜を有する医療器具およびその製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月9日(2011.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溝が付された可撓性の鼻腔拡張器において、
第一の方向に沿う溝であって、溝が付された可撓性の鼻腔拡張器の材料の第一の面上の溝と、
前記溝が付された可撓性の鼻腔拡張器の材料の１つの面上の粘着性物質からなる単一の層であって、使用者の鼻の皮膚に前記溝が付された可撓性の鼻腔拡張器の材料を直接的に固定するのに適している単一の層とを備え、
前記溝が付された可撓性の鼻腔拡張器の材料が、鼻腔を拡張するための拡張力を提供する所定の度合いの弾性及び寸法を有する、溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項２】
前記溝が付された可撓性の鼻腔拡張器は２つの端領域を有し、前記２つの端領域が互いに向けて配置されているとき、前記溝が付された可撓性の鼻腔拡張器の材料が約１０ｇと約２０ｇとの間の拡張力を提供することができる、請求項１に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項３】
前記溝が付された可撓性の鼻腔拡張器の材料内に複数の溝を備えており、各溝が畝と谷を備えている、請求項１に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項４】
前記複数の溝の第一の畝が、前記複数の溝の第二の畝の厚さと実質的に同じ厚さを有している、請求項３に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項５】
前記複数の溝の第一の畝が、前記複数の溝の第二の畝の厚さと異なる厚さを有している、請求項３に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項６】
前記畝が、約８ミルと約１５ミルとの間の厚さを有し、前記谷が、約３ミルと約１０ミルとの間の厚さを有している、請求項３に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項７】
前記溝が付された可撓性の鼻腔拡張器の材料の前記第一の方向に沿った複数の溝を備えている、請求項１に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項８】
前記溝が付された可撓性の鼻腔拡張器の材料の第二の面上の前記第一の方向に沿う溝を更に備えている、請求項１に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項９】
前記溝が付された可撓性の鼻腔拡張器の材料の第二の面上の第二の方向に沿う溝を更に備えている、請求項１に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項１０】
前記溝が、畝と谷を備えている、請求項１に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項１１】
前記溝が付された可撓性の鼻腔拡張器の材料が、約３５ｍｍから約６０ｍｍまでの範囲の長さと、約１０ｍｍから約２５ｍｍまでの範囲の幅とを有している、請求項１に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項１２】
前記溝が、前記溝の上面から見て正弦波の外観を有している、請求項１に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器。
【請求項１３】
請求項１に記載の溝が付された可撓性の鼻腔拡張器を使用者の鼻に使用する段階を有する、呼吸中に使用者の鼻腔の外側壁組織が引き込まれるのを防ぐ方法。
【請求項１４】
鼻腔拡張器の作成方法において、材料に所望の断面形状を有する溝を付与することによって、材料の初期の曲げ特性を変更する段階を有している、方法。
【請求項１５】
複数の溝が前記材料に付与される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記溝が、前記材料を押出成形することによって前記材料に付与される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記材料に前記溝を付与することが、前記材料の単軸又は多軸方向の剛性を変更することによって、前記材料の初期の曲げ特性をを変更する、請求項１４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】溝が付された可撓性の鼻腔拡張器
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月18日(2010.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）の化合物又はその薬学的に許容できる塩。
【化１】
2010502585.tif 000001
式中、
Ｇはグリシンを表し、
Ｄはアスパラギン酸を表し、
Ｒ1は−（ＣＨ2）n−又は−（ＣＨ2）n−Ｃ6Ｈ4−を表し（但し、ｎは正の整数１〜１０を表す。）、
ｈは正の整数１又は２を表し、
Ｘ1は、官能性側鎖を有するアミノ酸残基を表し、
Ｘ2及びＸ4は独立にジスルフィド結合を形成することができるアミノ酸残基を表し、
Ｘ3はアルギニン、Ｎ−メチルアルギニン又はアルギニン擬似体を表し、
Ｘ5は疎水性アミノ酸又はその誘導体を表し、
Ｘ6はチオール含有アミノ酸残基を表し、
Ｘ7は存在しないか或いはバイオモディファイヤー部分を表し、
Ｚ1はキレート剤を表し、
Ｗ1は存在しないか、又はスペーサー部分を表す。
【請求項２】
Ｘ1がアスパラギン酸、グルタミン酸、リシン、ホモリシン、又はジアミノアルキル酸或いはそれらの誘導体を表す、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｚ1がＮＯＴＡ、ＤＯＴＡ又はＴＥＴＡである、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
次式の化合物Ｉとして定義される、請求項１記載の化合物。
【化２】
2010502585.tif 000002
【請求項５】
インビボイメージングにおける画像の向上に使用するのに有効な量の請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の一般式（Ｉ）の化合物又はその塩を、１種以上の薬学的に許容できるアジュバント、賦形剤又は希釈剤と一緒に含む医薬品組成物。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の化合物を含む画像診断薬であって、ヒト又は動物の体に投与し、前記体の一部以上の画像を生成させることを含む診断法に使用される画像診断薬。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月24日(2011.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本出願は、「NON-MICROCRACKED, THERMALLY DURABLE, POROUS CERAMICS」という発明の名称で２００６年８月２９日に出願した米国仮特許出願第６０／８４０，８０６号に関連するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月20日(2011.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
・基台と、該基台から垂直方向に延在する支柱要素とを備えた支持構造、
・前縁部と後縁部とを有し、前記支柱要素によって支持されて実質的に水平配向姿勢の座部、及び
・前記支柱要素によって垂直方向へ変位可能に支持されて前記座部の前縁側を下から支持する少なくとも一つの位置調整可能な下部支持要素を備え、
前記下部支持要素が、多様な体位をとる使用者の身体を少なくとも部分的に支持するために前記座部の前縁で水平軸線回りに傾動又は回動或いは前記支柱要素に対して水平方向に変位可能とされ、前記下部支持構造が前記座部の下側に回動して収納可能とされていることを特徴とする椅子装置。
【請求項２】
前記下部支持要素が垂直方向に変位することにより該下部支持構造の上面が前記座部の上面と面一になって一緒に平らな座面を形成可能であることを特徴とする請求項１に記載の椅子装置。
【請求項３】
少なくとも一つの背凭れ要素を更に備え、該背凭れ要素が選択的に複数の異なる位置又は配向姿勢に変位可能に構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の椅子装置。
【請求項４】
・基台と、該基台から垂直方向に延在する支柱要素とを備えた支持構造、及び
・前部セグメントと後部セグメントとを有し、前記支柱要素によって支持された座部を備え、
前部セグメントが、（ｉ）自身の上面が後部セグメントの上面と面一になって両セグメントの上面同士で実質的に平らな座面を形成する通常の第１座席ポジションと、（ii）座部が後部セグメントで形成される第１の座面に加えて、この後部セグメントによる第１の座面に対して実質的に平行で且つ第１の座面よりも低い高さ位置の第２の座面を持つ構成となる第２座席ポジションとを有すると共に、前部セグメントが座部の前縁部で枢動軸回りに回動する形態で第１座席ポジションと第２座席ポジションとに切り替え可能であることを特徴とする椅子装置。
【請求項５】
第１座席ポジションでは前部セグメントの底面が基台の上面に対面接触する形態で前部セグメントが基台の上面により支承され、第２座席ポジションへの回動切替によって前部セグメントの当初の底面が上面側となって基台の上面と一緒に前記第２の座面を形成可能であることを特徴とする請求項４に記載の椅子装置。
【請求項６】
多様な体位をとる使用者に対して少なくとも部分的な身体の支持を提供するための椅子装置であって、
・基台と、該基台から垂直方向に延在する支柱要素とを備えた支持構造、
・前記支柱要素によって実質的に水平配向姿勢に支持された座部、及び
・少なくとも一つの背凭れ要素を備え、
前記背凭れ要素が、複数の水平リブからなる可撓性の脊柱支持構造によって使用者の市中の様々な解剖学的形状に適合可能な多セグメント形の背凭れ要素であることを特徴とする椅子装置。
【請求項７】
通常の水平配向姿勢を有するか又は該水平配向姿勢をとりうると共に互いに垂直方向に離れた複数の高さ位置へ選択的に移動可能に構成され、これら各高さ位置で通常の水平配向姿勢をとることができる少なくとも一つの位置調整可能な下部支持要素を更に備えたことを特徴とする請求項６に記載の椅子装置。
【請求項８】
支持構造と、該支持構造で保持され、腰支持パネル、座部パネル、及び前面脛支持パネルからなる少なくとも三枚の位置調整可能なパネルとを有し、各パネルが水平軸線回りに複数の異なる角度配向姿勢をとるように位置調整可能であると共に、これら全てのパネルの水平軸線が実質的に互いに平行に配置されている椅子装置であって、前記座部パネルが使用者の臀部を支えるための臀部支持用姿勢に、前記腰支持パネルが使用者の背下部を支えるための背下部支持用姿勢に、そして前記脛支持パネルが使用者の脛を支えるための脛支持用姿勢に配向される膝立ち姿勢着席用の少なくとも一つの第１使用形態と、各パネルが別の異なる相対的配向姿勢をとる少なくとも一つの別の使用形態とを持つと共に、前記脛支持パネルと臀部支持用の前記座部パネルとが両者で一つの実質的に平らな支持面を形成するように配向可能であり、前記脛支持パネルが前記座部パネルよりも下位の位置をとるように配向可能であることを特徴とする椅子装置。
【請求項９】
前記少なくとも一つの別の使用形態が、少なくとも一つの別の座位姿勢で着席する使用者を支えるのに適合していることを特徴とする請求項８に記載の椅子装置。
【請求項１０】
少なくとも１種類の身体運動のための運動台としての請求項１〜９のいずれか１項に記載の椅子蔵置。
【請求項１１】
ヨガ行法のための運動台としての請求項１０に記載の椅子蔵置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月28日(2011.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信システムにおいて、基地局が移動局に信号を送信する方法であって、
少なくとも１つの補助キャリアバンドに対する制御情報を、主キャリアバンドを介して前記移動局に送信するステップと、及び、
少なくとも１つの前記主および補助キャリアバンドを用いて、前記移動局にデータを送信するステップと、
を有する、方法。
【請求項２】
前記基地局は、前記移動局に対して１つの主キャリアバンドのみを使用する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記主キャリアバンドは、前記移動局が、初期セル探索を行うときに探索するキャリアバンドである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記制御情報は、前記補助キャリアバンドとして使用される周波数割当てバンドの物理インデックスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記制御情報は、前記移動局に割り当てられた複数の周波数割当てバンド内の前記補助キャリアバンドを特定する論理インデックスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記制御情報は、前記補助キャリアバンドとして使用される周波数割当てバンドの物理インデックスを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記物理インデックスは、前記通信システムで利用可能な周波数割当てバンドに割り当てられた絶対的な周波数バンドインデックスの１つに対応する、請求項４又は６に記載の方法。
【請求項８】
前記主および補助キャリアバンドは、前記基地局内のエンティティにより管理される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
通信システムにおいて、移動局が基地局からの信号を受信する方法であって、
少なくとも１つの補助キャリアバンドに対する制御情報を、主キャリアバンドを介して前記基地局から受信するステップと、及び、
少なくとも１つの前記主および補助キャリアバンドを用いて、前記基地局からデータを受信するステップと、
を有する、方法。
【請求項１０】
前記基地局は、前記移動局に対して１つの主キャリアバンドのみを使用する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記主キャリアバンドは、前記移動局が、初期セル探索を行うときに探索するキャリアバンドである、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記制御情報は、前記補助キャリアバンドとして使用される周波数割当てバンドの物理インデックスを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記制御情報は、前記移動局に割り当てられた複数の周波数割当てバンド内の前記補助キャリアバンドを特定する論理インデックスを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記制御情報は、前記補助キャリアバンドとして使用される周波数割当てバンドの物理インデックスを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記物理インデックスは、前記通信システムで利用可能な周波数割当てバンドに割り当てられた絶対的な周波数バンドインデックスの１つに対応する、請求項１２又は１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記主および補助キャリアバンドは、前記基地局内のエンティティにより管理される、請求項９〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月26日(2011.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリセルを製造する方法であって、
基板より上にステアリング素子を製造するステップと、
前記基板より上にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）材料を選択的に製造することによって前記ステアリング素子に結合された可逆抵抗切替素子を製造するステップであって、
窒化チタンを堆積させ、かつ前記堆積させられた窒化チタンの表面を粗くすることにより、ＣＮＴシーディング層を製造し、
前記ＣＮＴシーディング層をパターニングしエッチングし、かつ
前記ＣＮＴシーディング層上にＣＮＴ材料を選択的に製造することにより、可逆抵抗切替素子を製造するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
前記粗くされた窒化チタン表面上に金属層を選択的に堆積させるステップをさらに含む方法。
【請求項３】
請求項２記載の方法において、
前記金属層は、ニッケル、コバルトまたは鉄を含む方法。
【請求項４】
メモリセルを製造する方法であって、
基板より上にステアリング素子を製造するステップと、
前記基板より上にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）材料を選択的に製造することによって前記ステアリング素子に結合された可逆抵抗切替素子を製造するステップであって、
第１の導体より上に窒化チタンを堆積させ、かつ前記窒化チタン上に金属触媒層を選択的に堆積させることにより、ＣＮＴシーディング層を製造し、
前記ＣＮＴシーディング層をパターニングしエッチングし、かつ
前記ＣＮＴシーディング層上にＣＮＴ材料を選択的に製造することにより、可逆抵抗切替素子を製造するステップと、
を含む方法。
【請求項５】
請求項４記載の方法において、
前記金属層は、ニッケル、コバルトまたは鉄を含む方法。
【請求項６】
メモリセルを製造する方法であって、
基板より上にステアリング素子を製造するステップと、
前記基板より上にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）材料を選択的に製造することによって前記ステアリング素子に結合された可逆抵抗切替素子を製造するステップであって、
ＣＮＴシーディング層を製造し、
前記ＣＮＴシーディング層をパターニングしエッチングし、かつ
前記ＣＮＴシーディング層上にＣＮＴ材料を選択的に製造することにより、可逆抵抗切替素子を製造するステップと、
前記ＣＮＴ材料の切替特性を調整するために前記ＣＮＴ材料に欠陥を生じさせるステップと、
を含む方法。
【請求項７】
請求項６記載の方法において、
前記ステアリング素子を製造するステップは、垂直多結晶ダイオードを製造することを含む方法。
【請求項８】
メモリセルを製造する方法であって、
基板より上に第１の導体を製造するステップと、
前記第１の導体より上にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）材料を選択的に製造することによって前記第１の導体より上に可逆抵抗切替素子を製造するステップであって、
窒化チタンを堆積させ、かつ前記堆積させられた窒化チタンの表面を粗くすることにより、ＣＮＴシーディング層を製造し、
前記ＣＮＴシーディング層をパターニングしエッチングし、かつ
前記ＣＮＴシーディング層上にＣＮＴ材料を選択的に製造することにより、可逆抵抗切替素子を製造するステップと、
前記第１の導体より上にダイオードを製造するステップと、
前記ダイオードおよび前記可逆抵抗切替素子より上に第２の導体を製造するステップと、
を含む方法。
【請求項９】
請求項８記載の方法において、
前記粗くされた窒化チタン表面上に金属層を選択的に堆積させるステップをさらに含む方法。
【請求項１０】
メモリセルを製造する方法であって、
基板より上に第１の導体を製造するステップと、
前記第１の導体より上に垂直多結晶ダイオードを製造するステップと、
前記垂直多結晶ダイオードより上にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）材料を選択的に製造することによって前記垂直多結晶ダイオードより上に可逆抵抗切替素子を製造するステップであって、
窒化チタンを堆積させ、かつ前記堆積させられた窒化チタンの表面を粗くすることにより、ＣＮＴシーディング層を製造し、
前記ＣＮＴシーディング層をパターニングしエッチングし、かつ
前記ＣＮＴシーディング層上にＣＮＴ材料を選択的に製造することにより、可逆抵抗切替素子を製造するステップと、
前記可逆抵抗切替素子より上に第２の導体を製造するステップと、
を含む方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の方法において、
前記粗くされた窒化チタン表面上に金属層を選択的に堆積させるステップをさらに含む方法。
【請求項１２】
請求項１０記載の方法において、
前記垂直多結晶ダイオードの多結晶材料と接触するシリサイド、シリサイド−ゲルマニドまたはゲルマニドの領域を前記多結晶材料が低抵抗率状態にあるように製造するステップをさらに含む方法。
【請求項１３】
メモリセルを製造する方法であって、
基板より上に第１の導体を製造するステップと、
前記第１の導体より上に垂直多結晶ダイオードを製造するステップと、
前記垂直多結晶ダイオードより上にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）材料を選択的に製造することによって前記垂直多結晶ダイオードより上に可逆抵抗切替素子を製造するステップであって、
前記ＣＮＴ材料における横方向伝導を減少させるように実質的に垂直に整列させられたＣＮＴを有するＣＮＴ材料を製造することにより、可逆抵抗切替素子を製造するステップと、
を含む方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか記載の方法に従って形成されたメモリセル。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月2日(2011.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）第１及び第２の概して対向する表面、及び少なくとも約０．５Ｗ／ｍ・Ｋの熱的伝導率と約１０６Ｐａ未満のモジュラスを有するバルク層と、
（ｂ）前記バルク層の前記第１及び第２の表面のうちの少なくとも一方の少なくとも一部分の上の表面層であって、
（ｉ）約１０μｍ未満の最大断面厚さ、
（ｉｉ）少なくとも約５０Ｗ／ｍ・Ｋの前記表面層の少なくとも厚さ寸法方向への熱的伝導率、及び
（ｉｉｉ）はんだリフロー温度を超える融点
を有する、表面層と
を備える、適合可能な熱的界面部材。
【請求項２】
前記表面層は、少なくとも約３００℃の融点を有する、請求項１に記載の適合可能な熱的界面部材。
【請求項３】
前記表面層は、金属、又は金属錯体を含む、請求項１に記載の適合可能な熱的界面部材。
【請求項４】
（ａ）第１の表面を有する支持構造体と、
（ｂ）取付け部分及び熱放散面を有する電子コンポーネントであって、前記取付け部分は、前記支持構造体の前記第１の表面に結合される、電子コンポーネントと、
（ｃ）前記電子コンポーネントの前記熱放散面に熱的に結合され、バルク層及び表面層を有する熱的界面部材と
を備え、
（ｉ）前記バルク層は、少なくとも約０．５Ｗ／ｍ・Ｋの熱的伝導率を有し、
（ｉｉ）前記表面層は、約１０μｍ未満の最大断面厚さ、少なくとも約５０Ｗ／ｍ・Ｋの熱的伝導率、及びはんだリフロー温度を超える融点を有し、前記適合可能な熱的界面部材の外側係合表面を画定する、
パッケージ。
【請求項５】
前記支持構造体は、回路基板である、請求項４に記載のパッケージ。
【請求項６】
前記電子コンポーネントは、半導体素子である、請求項４に記載のパッケージ。
【請求項７】
前記熱的界面部材の前記バルク層は、前記電子コンポーネントの前記熱放散面と接触している、請求項４に記載のパッケージ。
【請求項８】
前記表面層は、アルミニウム又は銅である、請求項４に記載のパッケージ。
【請求項９】
前記熱的界面部材の前記表面層に固定されたヒート・シンクを含む、請求項４に記載のパッケージ。
【請求項１０】
電子コンポーネント・パッケージを構築するための方法において、
（ａ）（ｉ）約１０６Ｐａ未満のモジュラスと少なくとも約０．５Ｗ／ｍ・Ｋの熱的伝導率を有するバルク層と、
（ｉｉ）前記バルク層の表面の少なくとも一部分の上に配設され、約１０μｍ未満の最大断面厚さ、はんだリフロー温度を超える融点、及び少なくとも約５０Ｗ／ｍ・Ｋの熱的伝導率を有する、表面層と、
を含む熱的界面部材を形成するステップ、
（ｂ）第１の表面層を有する支持構造体を設置するステップ、
（ｃ）取付け部分及び熱放散面を有する電子コンポーネントを設置するステップ、
（ｄ）前記電子コンポーネントの前記熱放散面と接触して前記熱的界面部材の前記バルク層を配置することによって、前記熱的界面部材を前記電子コンポーネントに熱的に結合するステップ、
（ｅ）ステップ（ｄ）の前に、又はその後に、前記電子コンポーネントの前記取付け部分を前記支持構造体の前記第１の表面に取り付けるステップ、並びに、
（ｆ）ステップ（ｅ）の後に、ヒート・シンクを前記熱的界面部材に熱的に結合するステップ
を含む方法。
【請求項１１】
前記熱的界面部材の前記表面層は、少なくとも約３００℃の融点を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記支持構造体は、回路基板である、請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月4日(2011.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図２Ａ〜図２Ｅに図示されている構造を用いた差動−コモンモードフィルタの根底にある物理的メカニズムを考察しよう。共振器２１０内の各信号ビア２０１の位置（ｘ１，ｙ１），（ｘ２，ｙ２）における電磁界は、近似的には、下記の式で表わすことができる：
【数１】
2011508465.tif 000001
ここで、ｍ、ｎ及びｐは、共振モードの次数を与えるものであり、ａ及びｂは、共振器２１０の辺の水平面内の寸法であり、Ｅ（１）は、（ｘ１，ｙ１）に位置する信号ビア２０１における電界であり、Ｅ（２）は、（ｘ２，ｙ２）に位置する信号ビア２０１における電界であり、Ｅ０ｍｎｐは、共振モードの振幅であり、ｚは、共振器２１０の上部及び下部の接地プレート２０３に垂直な方向の単位ベクトルである。共振モードの周波数ｆｍｎｐが近似的に下記のように表わすことができることに留意することは重要である：
【数２】
2011508465.tif 000002
ここで、ｃは光速である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
差動モードとコモンモードの分離を実現するためには、信号ビア２０１の位置は、それらの間の通過する垂直対称面に対して対称であるように選ばれる。それは、ｘ２＝ｂ−ｘ１であることを意味している。この場合、式（１ｂ）は、次のように書ける：
【数５】
2011508465.tif 000003
結果として、式（３）によれば、式（１ａ）、（５）を考慮に入れると、差動モードの電磁界Ｅｄｍｎｐは、次のように表わせる：
【数６】
2011508465.tif 000004
同様に定義すれば、コモンモードの電磁界Ｅｃｍｎｐは、次のように得られる：
【数７】
2011508465.tif 000005
従って、式（６）、（７）から得られるように、実際上、損失を起こさずに共振器を通る数次の差動モードを伝播させるこれらの差動共鳴モードがキャンセルされる。しかしながら、同時に、同じ次数のコモン共鳴モードは、損失の顕著な増大につながるように共鳴し、該次数におけるコモンモードの阻止帯域を形成する。共振の他の次数についても、差動モードについては阻止帯域が形成されるが、コモンモードは重大な損失を起こさずに共振器２１０を通過して伝搬する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
最低次の差動モードの電磁界は、次の式で表わすことができる：
【数８】
2011508465.tif 000006
式（８）は、式（２）によっても定義可能な４．２ＧＨｚの共振周波数での損失なしに、差動モードが共振器２１０を伝搬することを意味している。
【００３１】
同時に、コモンモードの電磁界は、次のように得られる：
【数９】
2011508465.tif 000007
式（９）から得られるように、コモンモードは共鳴し、このモードでは、図３と一致する約４．２ＧＨｚの周波数のあたりで阻止帯域が形成される。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月27日(2011.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射放出体であって、
−  電磁放射を発生させる活性層（１０）と、
−  発生した前記放射を反射する反射層（５０）と、
−  前記活性層（１０）と前記反射層（５０）との間に配置されている少なくとも１つの中間層（４０）と、
を有する積層体、を備えており、
前記活性層（１０）が、前記反射層（５０）の側の界面（１５）に凹凸を有し、
前記反射層（５０）が、前記活性層（１０）の側の界面（４５）において実質的に平面状である、
放射放出体。
【請求項２】
前記中間層（４０）が誘電体材料を含んでおり、
前記活性層（１０）が前記中間層（４０）にポジティブロックにより結合されている、
特許請求項１に記載の放射放出体。
【請求項３】
前記中間層（４０）が、発生する前記放射に対して透過性である、
特許請求項１または２に記載の放射放出体。
【請求項４】
前記中間層（４０）が、前記活性層（１０）の屈折率に等しくない屈折率を有する、
特許請求項１〜３のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項５】
前記凹凸が、多数の突起状構造要素（３０）を有する横方向の構造化部（２０）を備えている、
特許請求項１〜４のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項６】
薄膜半導体ボディである、
特許請求項１〜５のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項７】
前記構造要素（３０）が、発生する前記放射の波長の０．１倍から前記波長の１０倍までの構造のサイズを有する、
特許請求項１〜６のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項８】
前記反射層（５０）が金属を含んでいる、または金属層として具体化されている、
特許請求項１〜７のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項９】
前記反射層（５０）が前記中間層（４０）に直接隣接している、
特許請求項１〜８のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項１０】
前記反射層（５０）が前記中間層（４０）にポジティブロックにより結合されている、
特許請求項１〜９のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項１１】
前記中間層（４０）が誘電体材料を含んでいる、
特許請求項１〜１０のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項１２】
前記中間層（４０）が導電性材料を含んでいる、
特許請求項１〜１１のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項１３】
前記中間層（４０）が前記活性層（１０）に直接隣接している、
特許請求項１〜１２のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項１４】
前記活性層（１０）が前記中間層（４０）にポジティブロックにより結合されている、
特許請求項１〜１３のいずれか１項に記載の放射放出体。
【請求項１５】
放射放出体を製造する方法であって、
−  電磁放射を発生させる活性層（１０）を有する積層体、を基板上に形成するステップと、
−  前記活性層（１０）の界面（１５）を粗面化するステップと、
−  少なくとも１つの中間層（４０）を形成するステップと、
−  反射層（５０）を形成するステップと、
を含んでいる、方法。
【請求項１６】
特許請求項１〜１４のいずれかに記載の放射放出体が製造される、
特許請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月11日(2011.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペプチドが、SEQ ID NO:13、SEQ ID NO:1、SEQ ID NO:2、SEQ ID NO:3、SEQ ID NO:4、SEQ ID NO:5、SEQ ID NO:6、SEQ ID NO:7、SEQ ID NO:8、SEQ ID NO:9、SEQ ID NO:10、SEQ ID NO:11、SEQ ID NO:12、SEQ ID NO:14、SEQ ID NO:15、SEQ ID NO:16、SEQ ID NO:17、SEQ ID NO:18、SEQ ID NO:19、SEQ ID NO:20、SEQ ID NO:21、SEQ ID NO:22、SEQ ID NO:23、SEQ ID NO:24、SEQ ID NO:25、およびSEQ ID NO:26より選択される配列を有し、塩が、マレイン酸塩、塩酸塩、乳酸塩、およびアスパラギン酸塩からなる群より選択される、ペプチド塩。
【請求項２】
ペプチドがSEQ ID NO:13である、請求項1記載のペプチド塩。
【請求項３】
塩が塩酸塩である、請求項2のペプチド塩。
【請求項４】
ペプチドが、SEQ ID NO:13、SEQ ID NO:1、SEQ ID NO:2、SEQ ID NO:3、SEQ ID NO:4、SEQ ID NO:5、SEQ ID NO:6、SEQ ID NO:7、SEQ ID NO:8、SEQ ID NO:9、SEQ ID NO:10、SEQ ID NO:11、SEQ ID NO:12、SEQ ID NO:14、SEQ ID NO:15、SEQ ID NO:16、SEQ ID NO:17、SEQ ID NO:18、SEQ ID NO:19、SEQ ID NO:20、SEQ ID NO:21、SEQ ID NO:22、SEQ ID NO:23、SEQ ID NO:24、SEQ ID NO:25、およびSEQ ID NO:26より選択される配列を有し、塩が、マレイン酸塩、塩酸塩、乳酸塩、およびアスパラギン酸塩からなる群より選択される、ペプチド塩を含む薬学的組成物。
【請求項５】
ペプチドがSEQ ID N0:13である、請求項4記載の薬学的組成物。
【請求項６】
塩が塩酸塩である、請求項5記載の薬学的組成物。
【請求項７】
μ-オピエート受容体活性によって調節される状態を治療するための、請求項4記載の薬学的組成物。
【請求項８】
ペプチドがSEQ ID N0:13である、請求項7記載の薬学的組成物。
【請求項９】
塩が塩酸塩である、請求項8記載の薬学的組成物。
【請求項１０】
無痛法を提供するために、または胃腸障害、炎症、および薬物依存からなる群より選択される状態を治療するために用いられる、請求項7記載の薬学的組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、本発明の塩を調製する方法をさらに提供する。
[請求項1001]
ペプチドが、SEQ ID NO:1〜26より選択される配列を有し、塩が、マレイン酸塩、塩酸塩、乳酸塩、およびアスパラギン酸塩からなる群より選択される、ペプチド塩。
[請求項1002]
ペプチドがSEQ ID NO:13である、請求項1001記載のペプチド塩。
[請求項1003]
塩が塩酸塩である、請求項1002のペプチド塩。
[請求項1004]
ペプチドが、SEQ ID NO:1〜16より選択される配列を有し、塩が、マレイン酸塩、塩酸塩、乳酸塩、およびアスパラギン酸塩からなる群より選択される、ペプチド塩を含む薬学的組成物。
[請求項1005]
ペプチドがSEQ ID N0:13である、請求項1004記載の薬学的組成物。
[請求項1006]
塩が塩酸塩である、請求項1005記載の薬学的組成物。
[請求項1007]
μ-オピエート受容体活性によって調節される状態を治療する方法であって、
このような治療を必要とする患者に、ペプチドが、SEQ ID NO:1〜26より選択される配列を有し、塩が、マレイン酸塩、塩酸塩、乳酸塩、およびアスパラギン酸塩からなる群より選択される、ペプチド塩を投与する工程
を含む方法。
[請求項1008]
ペプチドがSEQ ID N0:13である、請求項1007記載の方法。
[請求項1009]
塩が塩酸塩である、請求項1008記載の方法。
[請求項1010]
無痛法を提供するために、または胃腸障害、炎症、および薬物依存からなる群より選択される状態を治療するために用いられる、請求項1007記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月5日(2011.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式を有する化合物又はその医薬として許容し得る塩
【化１】
2011508775.tif 000001
。
【請求項２】
請求項1記載の化合物を含む、組成物。
【請求項３】
前記組成物が経口投与に適している、請求項2記載の組成物。
【請求項４】
固体の形態である、請求項2又は3記載の組成物。
【請求項５】
液体の形態である、請求項2又は3記載の組成物。
【請求項６】
請求項1記載の化合物を含む、BH4応答性状態を治療するための医薬組成物。
【請求項７】
請求項2〜5のいずれか1項記載の組成物からなる、BH4応答性状態を治療するための医薬組成物。
【請求項８】
前記BH4応答性状態が、高血圧症、末梢動脈性疾患、間欠跛行、重症虚血肢、心不全、アテローム性動脈硬化症、内皮機能不全、血管疾患、タイプII糖尿病、糖尿病性網膜症、メタボリックシンドローム、タイプI糖尿病に関連する内皮機能不全、及び糖尿病性腎症からなる群から選択される、請求項6又は7記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記BH4応答性状態が、血管疾患である、請求項6又は7記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記血管疾患が、末梢血管疾患、間欠跛行、冠状動脈疾患、高コレステロール血症と関連した血管疾患、喫煙と関連した血管疾患、高血圧症、不応性又は非制御性高血圧症、肺動脈高血圧、特発性肺高血圧、新生児の肺高血圧（PPHN）、アテローム性動脈硬化症、脳卒中、脳卒中後血管痙攣、心筋梗塞、虚血-再灌流損傷、うっ血性心不全、移植後虚血-再灌流損傷、移植後脈管損傷、血管痙攣、血栓形成、血栓症、凝血及び凝固からなる群から選択される疾患である、請求項9記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記BH4応答性状態が、溶血に関連する溶血性貧血又は鎌状赤血球病である、請求項6又は7記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記BH4応答性状態が、神経精神障害である、請求項6又は7記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記神経精神障害が、パーキンソン病、注意欠陥多動障害、双極疾患、自閉症、うつ病及びジストニアからなる群から選択される障害である、請求項12記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記BH4応答性状態が、BH4欠乏に伴う神経精神障害である、請求項12記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記BH4応答性状態が、チロシンヒドロキシラーゼ機能の減少又はトリプトファンヒドロキシラーゼ機能の減少と関連した神経精神障害である、請求項12記載の医薬組成物。
【請求項１６】
請求項１記載の化合物が、チロシンヒドロキシラーゼ機能又はトリプトファンヒドロキシラーゼ機能を増加させる、請求項15記載の医薬組成物。
【請求項１７】
前記BH4応答性状態が、高血圧症、高脂血症、肥満指数増加、インスリン耐性又はそれらの組み合わせと関連しているメタボリックシンドロームである、請求項6又は7記載の医薬組成物。
【請求項１８】
前記BH4応答性状態が、高フェニルアラニン血症である、請求項6又は7記載の医薬組成物。
【請求項１９】
前記高フェニルアラニン血症が、軽度のフェニルケトン尿症、古典的なフェニルケトン尿症、重度のフェニルケトン尿症、BH4欠損と関連した高フェニルアラニン血症、肝臓疾患に伴う高フェニルアラニン血症、及びマラリアに伴う高フェニルアラニン血症からなる群から選択される、請求項18記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月2日(2011.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
客室空間と後部の収納空間とを分割する後部の乗客席であって、客室空間から後部の収納空間へのアクセスをもたらすよう折りたたみ可能となっている後部の乗客席を有する自動車のためのチャイルドシートにおいて、
（ａ）子供を支持する時としまいこまれる時とで同一の形状を保持する子供用のシートと、
（ｂ）前記子供用のシートを後部の乗客席の後部に連結する据付具と、を備え、
据付具は、後部の乗客席が直立しているときに前記子供用のシートが後部の収納空間にしまいこまれ、かつ、後部の乗客席が折りたたまれているときに子供を支持するために前記子供用のシートが客室空間の中に配置可能となるよう、後部の収納空間と客室空間との間で前記子供用のシートを移動させるよう動作可能となっている
ことを特徴とするチャイルドシート。
【請求項２】
自動車における恒久的な付属設備になっている、または、自動車における恒久的な付属設備となるよう、後付けで設置可能となっている
ことを特徴とする請求項１に記載のチャイルドシート。
【請求項３】
自動車は、後部の乗客席と共に客室空間と後部の収納空間とを分割する荷物棚を含んでおり、
据付具は、子供を支持するために前記シートが客室空間に配置されているとき、少なくとも前記シートの一部が荷物棚に隣接する、または荷物棚の隣接部に近接するよう前記シートを配置するよう構成されている
ことを特徴とする請求項１または２に記載のチャイルドシート。
【請求項４】
据付具は、荷物棚に結合される自動車のフレームワークに固定されている
ことを特徴とする請求項３に記載のチャイルドシート。
【請求項５】
据付具は、後部の収納空間を客室空間から分割するために後部の乗客席が直立位置で配置されるとき、前記シートが後部の収納空間に保管されるよう、折りたたみ可能な後部の乗客席の後部に固定されている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のチャイルドシート。
【請求項６】
前記シートは、客室空間と後部の収納空間との間に前記シートを移動させるための横臥位置と、子供を座らせるための直立位置との間で前記シートが案内されるよう、据付具に旋回可能に連結されている
ことを特徴とする請求項５に記載のチャイルドシート。
【請求項７】
据付具は、横臥位置および直立位置に前記シートを案内することを可能にするため、少なくとも１つの旋回軸エレメントを含んでいる
ことを特徴とする請求項６に記載のチャイルドシート。
【請求項８】
据付具は、前記シートが旋回可能に連結されるフレームを含んでおり、
前記フレームは、後部の収納空間と客室空間との間での前記シートの少なくとも部分的な移動を生じさせるため、摺動可能となっている
ことを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載のチャイルドシート。
【請求項９】
前記フレームは、荷物棚に隣接した、または荷物棚の隣接部に近接した直立位置に前記シートが配置されているときにフレームを所定位置に固定するためのロックエレメントを含んでいる
ことを特徴とする請求項７または８に記載のチャイルドシート。
【請求項１０】
子供を支持するための自動車のチャイルドシートを配置するための方法において、
自動車は、客室空間と、後部の収納空間とを有し、また自動車は、直立位置において客室空間を後部の収納空間から分割するとともに、客室空間から後部の収納空間へのアクセスを提供するよう折りたたみ可能となっている後部の乗客席を有し、
前記方法は、
（ａ）後部の収納空間へのアクセスを提供するよう後部の乗客席を折りたたむ工程と、
（ｂ）折りたたまれた後部の乗客席によってもたらされるアクセスを介して、後部の収納空間における保管位置から客室空間へチャイルドシートを移動する工程と、
（ｃ）客室空間において子供の支持位置にチャイルドシートを配置する工程と、を備えた
ことを特徴とする方法。
【請求項１１】
工程（ｂ）において、チャイルドシートは、横臥位置に配置され、
工程（ｃ）は、子供を支持するため、横臥位置から直立位置へチャイルドシートを案内することを含む
ことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
チャイルドシートは、シートと、前記シートを車に連結する据付具と、を備え、
工程（ｂ）および（ｃ）は、前記シートを後部の収納空間から客室空間へ移動させるよう据付具を動作させることを含む
ことを特徴とする請求項１０または１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月25日(2011.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
疼痛、炎症および／または組織移植片拒絶反応の処置を必要としている患者の疼痛、炎症および／または組織移植片拒絶反応を減少させる、予防するまたは処置するための埋込可能ドラッグデポーであって、ドラッグデポーの約０．５ｗｔ．％〜約２５ｗｔ．％の量のフルオシノロンまたはその薬学的に許容しうる塩と、少なくとも一つの生物分解性ポリマーを含み、ここにおいて、該ドラッグデポーが、フルオシノロンまたはその薬学的に許容しうる塩を、少なくとも３日間にわたって放出することができる、前記埋込可能ドラッグデポー。
【請求項２】
前記疼痛および／または炎症が、坐骨神経痛による、請求項１に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項３】
前記フルオシノロンまたはその薬学的に許容しうる塩が、ドラッグデポーの約１ｗｔ．％〜約２０ｗｔ．％を構成する、請求項１または２に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項４】
前記少なくとも一つの生物分解性ポリマーが、ドラッグデポーの少なくとも９０ｗｔ．％を構成する、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項５】
少なくとも一つの生物分解性ポリマーが、ポリ（ラクチド−コ−グリコリド）（ＰＬＧＡ）、ポリラクチド（ＰＬＡ）、ポリグリコリド（ＰＧＡ）、Ｄ−ラクチド、Ｄ，Ｌ−ラクチド、Ｌ−ラクチド、Ｄ，Ｌ−ラクチド−ε−カプロラクトン、Ｄ，Ｌ−ラクチド−グリコリド−ε−カプロラクトン、ポリ（グリコリド−ε−カプロラクトン）またはその組合せの一つまたはそれを超えるものを含む、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項６】
少なくとも一つの生物分解性ポリマーが、ポリ（乳酸−コ−グリコール酸）を含み、該ポリ（乳酸−コ−グリコール酸）が、ポリグリコリドおよびポリラクチドの混合物を含む、請求項５に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項７】
前記混合物が、ポリグリコリドより多いポリラクチドを含む、請求項５に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項８】
前記フルオシノロンが、フルオシノロンアセトニドを含む、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項９】
ドラッグデポーが、（ｉ）ボーラス用量のフルオシノロンまたはその薬学的に許容しうる塩を皮膚下部位に放出し；そして（ii）有効量のフルオシノロンまたはその薬学的に許容しうる塩を少なくとも５０日間にわたって放出する、請求項１ないし８のいずれか１項に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項１０】
少なくとも一つの生物分解性ポリマーが、ポリ（乳酸−コ−グリコール酸）またはポリ（オルトエステル）またはその組合せを含み、そして該少なくとも一つの生物分解性ポリマーが、前記ドラッグデポーの少なくとも８０ｗｔ．％を構成する、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項１１】
炎症、疼痛および／または組織移植片拒絶反応の処置を必要としている患者の炎症、疼痛および／または組織移植片拒絶反応を減少させる、予防するまたは処置するための埋込可能ドラッグデポーであって、ドラッグデポーの約０．５ｗｔ．％〜約２５ｗｔ．％の量のフルオシノロンアセトニドと、少なくとも一つのポリマーを含み、ここにおいて、該少なくとも一つのポリマーが、ポリ（ラクチド−コ−グリコリド）、Ｄ−ラクチド、Ｄ，Ｌ−ラクチド、Ｌ−ラクチド、Ｄ，Ｌ−ラクチド−カプロラクトンまたはＤ，Ｌ−ラクチド−グリコリド−ε−カプロラクトンの一つまたはそれを超えるものを含む、前記埋込可能ドラッグデポー。
【請求項１２】
炎症、疼痛および／または組織移植片拒絶反応の処置を必要としている患者の炎症、疼痛および／または組織移植片拒絶反応を減少させる、予防するまたは処置するための埋込可能ドラッグデポーであって、該ドラッグデポーが、ドラッグデポーの約０．０５ｗｔ．％〜約２５ｗｔ．％の量のフルオシノロンまたはその薬学的に許容しうる塩と、少なくとも一つの生物分解性ポリマーを含む、前記埋込可能ドラッグデポー。
【請求項１３】
前記フルオシノロンまたはその薬学的に許容しうる塩が、ドラッグデポーの約１ｗｔ．％〜約１５ｗｔ．％を構成する、請求項１２に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項１４】
前記生物分解性ポリマーが、ドラッグデポーの少なくとも８０ｗｔ．％を構成する、請求項１２または１３に記載の埋込可能ドラッグデポー。
【請求項１５】
少なくとも一つの生物分解性ポリマーが、ポリ（ラクチドコグリコリド）（ＰＬＧＡ）、ポリラクチド（ＰＬＡ）、ポリグリコリド（ＰＧＡ）、Ｄ−ラクチド、Ｄ，Ｌ−ラクチド、Ｌ−ラクチド、Ｄ，Ｌ−ラクチド−カプロラクトン、Ｄ，Ｌ−ラクチド−グリコリド−カプロラクトンまたはその組合せの一つまたはそれを超えるものを含む、請求項１２ないし１４のいずれか１項に記載の埋込可能ドラッグデポー。