【事件の表示】
　特願２００５−　９９３４２「圧力センサ、近接センサおよびリソグラフィトポグラフィマッピング装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１０月１３日出願公開、特開２００５−２８３５８８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１７年３月３０日（パリ条約による優先権主張平成１６年３月３０日、米国）の出願であって、平成１９年１０月１２日付け拒絶理由通知に対し、平成２０年２月１５日付けで手続補正されたが、同年８月１１日付けで拒絶査定され、これに対し、同年１１月１０日に拒絶査定不服の審判が請求されるとともに、同日付けで手続補正されたものである。
　
第２　平成２０年１１月１０日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２０年１１月１０日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１．本件補正後の本願発明
　本件補正により特許請求の範囲の請求項１は、次のとおり補正された。
　　
「【請求項１】圧力センサにおいて、
　ダイアフラムを包含し、該ダイアフラムは剛性の外側部分と、前記ダイアフラムの第１の側と第２の側との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し、
　前記ダイアフラムに近接して配置されており、前記ダイアフラムの内側部分の前記変位をセンシングするセンサを包含し、
　前記センサと接続されており、前記ダイアフラムの変位から前記圧力差を求める監視制御システムを包含し、
　前記センサは、光送信モジュールと、前記光送信モジュールから送出された第１の光ビームを直接的に受信し、且つ前記光送信モジュールから送出され、前記ダイアフラムにおいて反射された第２の光ビームを受信する光センシングモジュールと、を包含し、　
前記光送信モジュールは光源光を前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームに分割する回折装置と接続されている出力側を有する送信ファイバを包含し、　前記ダイアフラムの変位は、第１の光ビームおよび前記第２の光ビームから形成された干渉パターンにおける光の強度を変調させ、　前記監視制御システムは、強度が変調された光から前記ダイアフラムの変位を求める、
  　
　すると、本件補正は、
　本件補正前の請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項に関し、光送信モジュールとして、「光源光を前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームに分割する回折装置と接続されている出力側を有する送信ファイバを包含」するものに限定し、
監視制御システムとして、「強度が変調された光から前記ダイアフラムの変位を求める」ものから、「前記ダイアフラムの変位は、第１の光ビームおよび前記第２の光ビームから形成された干渉パターンにおける光の強度を変調させ」られることにより「前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームから形成された干渉パターンから前記ダイアフラムの変位を求める」ものと、各々限定したものを含むものである。
　　
　したがって、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前（以下、「平成１８年法改正前」とする。）の特許法１７条の２第４項２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　
　そこで、本件補正後における特許請求の範囲に記載されている事項により構成される発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法改正前の特許法１７条の２第５項において準用する同法１２６条５項の規定に適合するか）否かを、請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）について以下に検討する。
　　
２．引用例
（１）原査定の拒絶理由通知で引用され、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である特開昭５７−１０８６３３号（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。
　　
（１−ア）「２．特許請求範囲
（１）本体及びダイアフラムを有するトランスジユーサを具備し、上記ダイアフラムはこれに与えられる測定さるべき差圧力によつて上記本体に対して変位されるように上記本体内に取り付けられて、この変位が差圧カを表わすようにされ、
そして
　上記ダイアフラムの変位を測定する手段を更に具備し、上記ダイアフラムの少なくとも或る表面領域は反射性であり、上記測定手段は、上記ダイアフラムの上記表面領域とでもつて干渉計構成体を形成するように上記ダイアフラムの上記表面領域に隣接して上記本体に対して固定された部分反射面と、この部分反射面を通して上記ダイアフラムの上記表面領城に光を向けて上記干渉計構成体に光を当て、上記ダイアフラムで反射された光と上記部分反射面で反射された光とを干渉させるような光を向ける手段とを備えており、上記干渉計構成体に当たる光は所定の連続した周波数帯域を有するものであるか、或いは上記帯域を通して周期的にスイープされる１つの周波数を有するものであり、そして更に上記測定手段は、上記干渉反射光に応答して、上配周波数帯域内の干渉反射光の周波数に伴なう振巾変化の出力指示を与えるように構成された検出器と、上記出力指示を処理して上記ダイフラムの変位の指示を与える処理手段とを備えていることを特徴とする装置。
（２）上記光を向ける手段は、上記ダイアフラムの上記表面領域の所定の限定部分及び上記部分反射面の対応限定部分のみに光を当てるように構成され、上記両面の上記両限定部分は互いに平行であり且つ上記光の入射方向に対して垂直である特許請求の範囲第１項に記載の装置。
（３）上記光を向ける手段は、上記帯域内の光の最大波長をλLとし、最小波長をλSとし、そして測定さるべき最小距離をｄminとすれば、
（λLλS　）／（２（λL−λS））　＜　ｄmin（当審注：数学的に等価な式による表記。）
であるような光を向けるように構成される特許請求の範囲第２項に記載の装置。
（４）上記処理手段は、上記周波数帯域間の周波数に伴なう光の振巾の変化の中の少なくとも２つの選択された最小値又は最大値に対応する周波数を決定し、そしてこれらの選択された最小値又は最大値にある最小値又は最大値の個数をカウントし、ここから上記ダイアフラムの変位の値を計算するように構成される特許請求の範囲第３項に記載の装置。」
   　
（１−イ）「先ず第１図を参照すれば、差圧力トランスジユーサのダイアフラムの片面上の或る点とトランスジユーサの本体即ち筐体の隣接面との間の距離ｄを測定する装置が示されている。第１図においては、図示簡略化のためトランスジユーサのダイアフラム１ の１部分と本体２の１部分しか示されていない。ここに取り上げる一般的な種類の差圧力トランスジユーサは例えば上記の英国特許第１，３１８，７８０号において良く知られているものである。」（６頁左上欄４〜１３行）
　　
（１−ウ）「第１図において、典型的に白熱電球である光源４からの白色光は光導体５に沿つて遠隔位置から圧力トランスジユーサへと送られる。この光導体５からトランスジユーサに放出される光はレンズ系１０により透明な基準プレート１１を経てダイアフラム１の面１２に集束される。基準プレート１１の面１３は、該プレート１１のすぐ近くにあるダイアフラム１の面１２の接線方向に平行であり且つ光学的に平らにラツプ仕上げされる。少なくともプレート１１のすぐ近くに対向したダイアフラム１の面１２は反射性にされ、そしてプレート１１の面１３は部分的に反射性にされる。従つて、ダイアフラム１の面１２で反射されて再びプレート１１に入る光は該プレートの部分反射面１３で最初に反射される光と干渉する。干渉反射光は初めの光学路を経て光導体５へと戻される。光導体５は２つのオプチカルフアイバ束７及び８を備えており、これらは光導体５の大部分の長さにわたつて実質的に均一に混ぜ合わせているが、６において分岐し、一方の束７は光源４へと通じておりそして第２の束８は参照番号９で一般的に示された光学系へと通じている。光導体５へ再入する反射干渉光の１部分は束８のオプチカルフアイバに入つて束８により光学系９へ送られることが明らかであろう。光学系９はプリズム１８を備え、これは反射干渉光の種々の周波数成分を分散させる。プリズム１８からの光スペクトルが当たるように光検出器のマトリクス即ち配列体１９が配置されており、色々な周波数における戻り光の相対的な輝度即ち振巾をマトリクス１９で選択的に測定できるようになつている。
　両面間の間隔ｄが半波長の倍数であるような周波数においては、ダイアフラムの面１２から反射された光と、部分反射面１３で反射された光との間に破壊干渉が生じることが明らかである。従つて、配列体１９へと分散される光のスペクトルは、面１２と１３との間のギヤツプに破壊干渉が生じるような光の波長に相当するスペクトルに沿つた位置に明暗の縞を含む。
　光検出器の配列体１９を走査して、スペクトルにわたる相対的な輝度を表す逐次出力をライン３０に与えるような手段（図示せず）が設けられる。スペクトルの周波数に対する配列体１９の各素子の位置は、配列体の種々の素子の位置が分かるとスペクトル内の暗い縞の波長を容易に決定できるように、予め決められていることが明らかであろう。
　光検出器の配列体の逐次出力は電子ユニツト２０へ送られ、ここで暗い縞の波長が計算されそしてこれらの波長から間隔ｄも計算される。その結果は表示装置２１へ送られる。」（６頁右上欄８行〜右下欄１８行）
　　　
　これらの記載事項によると、引用例１には、以下の発明（以下、「引用例１発明」という。）が記載されていると認められる。 
  　
「トランスジューサにおいて、
  測定さるべき差圧力によつて上記本体に対して変位されるように上記本体内に取り付けられて、この変位が差圧カを表わすようにされたダイアフラム１と、
光源４と、前記光源４からの白色光を送るオプチカルファイバ束７と、
基準プレートの部分反射面１３と該ダイアフラムの面１２からの反射された光とが干渉反射光として、オプチカルファイバ束８により光学系９へ送られ、
　前記配列体１９の逐次出力は電子ユニット２０へ送られ、上記周波数帯域間の周波数に伴う光の振巾の変化の中の少なくとも２つの選択された最小値又は最大値に対応する周波数を決定し、そしてこれらの選択された最小値又は最大値の個数をカウントし、ここから上記ダイアフラムの変位の値を計算するように構成される
トランスジューサ」
    
３．対比・判断
　本願補正発明と引用例１発明とを対比する。
　　
（１）引用例１発明の「トランスジューサ」は差圧を測定していることから、本願補正発明の「圧力センサ」に相当する。
　　
（２）引用例１発明の「測定さるべき差圧力によつて上記本体に対して変位されるように上記本体内に取り付けられて、この変位が差圧カを表わすようにされたダイアフラム１」は、変位可能な内側部分と固定される剛性を有する部分とで構成されるというダイアフラム構造の技術常識からみて、本願補正発明の「ダイアフラムを包含し、該ダイアフラムは剛性の外側部分と、前記ダイアフラムの第１の側と第２の側との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し」に相当する。
　　
（３）引用例１発明の「前記光源４からの白色光を送るオプチカルファイバ束７」は、その機能・構成からみて、本願補正発明の「送信ファイバ」に相当し、
引用例１発明の「光源４と、前記光源４からの白色光を送るオプチカルファイバ束７」からなるものは、その機能・構成からみて、本願補正発明の「光送信モジュール」に相当する。
　　
（４）引用例１発明の「基準プレートの部分反射面１３と該ダイアフラムの面１２からの反射された光とが干渉反射光として、オプチカルファイバ束８により光学系９へ送られ」
は、「基準プレート」が（ア）入射した光を基準プレートの部分反射面１３による反射光による光路と（イ）ダイアフラムの面１２からの反射光による光路の２つに光を分割する機能を有しているといえるから、
本願補正発明の「光源光を前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームに分割する回折装置」との間で、
「光源光を前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームに分割する手段」という点で共通する。
　そして、引用例１発明の「基準プレート」も、本願補正発明の「回折装置」も、「送信ファイバ」と接続されている点で共通している。
　　
（５）引用例１発明の「基準プレートの部分反射面１３と該ダイアフラムの面１２からの反射された光とが干渉反射光として、オプチカルファイバ束８により光学系９へ送られ、光検出器の配列体１９は、光学系９から送られた光のスペクトルの輝度を検出し」は、「オプチカルファイバ束８」に２種類の反射光が通ることや「オプチカルファイバ束８」、「光学系９」、「光検出器の配列体１９」が全体で受信機能を有しているといえるから、
本願補正発明の「前記光送信モジュールから送出された第１の光ビームを直接的に受信し、且つ前記光送信モジュールから送出され、前記ダイアフラムにおいて反射された第２の光ビームを受信する光センシングモジュール」との間で、
「前記光送信モジュールから送出された第１の光ビームを受信し、且つ前記光送信モジュールから送出され、前記ダイアフラムにおいて反射された第２の光ビームを受信する光センシングモジュール」という点で共通する。
　　
（６）引用例１発明の「光源４」、「オプチカルファイバ束７及び８」、「光学系９」及び「検出器の配列体１９」からなるものは、ダイアフラムへの光の送受信を行う機能からみて、測定対象であるダイアフラムの近傍に配置されており、その機能・構成からみて、本願補正発明の「前記ダイアフラムに近接して配置されており、前記ダイアフラムの内側部分の前記変位をセンシングするセンサ」に相当する。
    
（７）引用例１発明の「前記配列体１９の逐次出力は電子ユニット２０へ送られ、上記周波数帯域間の周波数に伴う光の振巾の変化の中の少なくとも２つの選択された最小値又は最大値に対応する周波数を決定し、そしてこれらの選択された最小値又は最大値の個数をカウントし、ここから上記ダイアフラムの変位の値を計算するように構成される」は、電子ユニット２０が属するトランスジューサが、ダイアフラムの変位が差圧を表すものであることから、変位から差圧に変換する機能も当然有しており、かつ、検出器の配列体１９と接続しているから、本願補正発明の「前記センサと接続されており、前記ダイアフラムの変位から前記圧力差を求める監視制御システム」に相当する。
  　
（８）引用例１発明の「前記配列体１９の逐次出力は電子ユニット２０へ送られ、上記周波数帯域間の周波数に伴う光の振巾の変化の中の少なくとも２つの選択された最小値又は最大値に対応する周波数を決定し、そしてこれらの選択された最小値又は最大値の個数をカウントし、ここから上記ダイアフラムの変位の値を計算するように構成される」と、
本願補正発明の「前記ダイアフラムの変位は、第１の光ビームおよび前記第２の光ビームから形成された干渉パターンにおける光の強度を変調させ、前記監視制御システムは、強度が変調された光から前記ダイアフラムの変位を求める」とは、
「前記監視制御システムは、光から前記ダイアフラムの変位を求める」点で共通する。
   　
　以上、（１）〜（８）の考察から、両者は、
　　
（一致点）
「圧力センサにおいて、
　ダイアフラムを包含し、該ダイアフラムは剛性の外側部分と、前記ダイアフラムの第１の側と第２の側との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し、
　前記ダイアフラムに近接して配置されており、前記ダイアフラムの内側部分の前記変位をセンシングするセンサを包含し、
　前記センサと接続されており、前記ダイアフラムの変位から前記圧力差を求める監視制御システムを包含し、
　前記センサは、光送信モジュールと、前記光送信モジュールから送出された第１の光ビームを受信し、且つ前記光送信モジュールから送出され、前記ダイアフラムにおいて反射された第２の光ビームを受信する光センシングモジュールと、を包含し、前記光送信モジュールは光源光を前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームに分割する手段と接続されている出力側を有する送信ファイバを包含し、
　前記監視制御システムは、光から前記ダイアフラムの変位を求める、
圧力センサ。」
　　
である点で一致し、次の点で相違する。
  　
（相違点１）
　光源光を前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームに分割する手段が、本願補正発明では、「回折装置」であるのに対し、
引用例１発明では、「基準プレート」である点。
  　
（相違点２）
　光センシングモジュールが、本願補正発明では、「前記光送信モジュールから送出された第１の光ビームを直接的に受信し、且つ前記光送信モジュールから送出され、前記ダイアフラムにおいて反射された第２の光ビームを受信する」のに対し、
引用例１発明では、「基準プレートの部分反射面１３と該ダイアフラムの面１２からの反射された光とが干渉反射光として、オプチカルファイバ束８により光学系９へ送られ、光検出器の配列体１９は、光学系９から送られた光のスペクトルの輝度を検出し」であり、第１の光ビームを直接的にではなく、基準プレートの部分反射面１３で反射させている点。
     
（相違点３）
　光から前記ダイアフラムの変位を求めるという監視制御システムの機能が、本願補正発明では、「前記ダイアフラムの変位は、第１の光ビームおよび前記第２の光ビームから形成された干渉パターンにおける光の強度を変調させ、前記監視制御システムは、強度が変調された光から前記ダイアフラムの変位を求める」のに対し、
引用例１発明では、「前記配列体１９の逐次出力は電子ユニット２０へ送られ、上記周波数帯域間の周波数に伴う光の振巾の変化の中の少なくとも２つの選択された最小値又は最大値に対応する周波数を決定し、そしてこれらの選択された最小値又は最大値の個数をカウントし、ここから上記ダイアフラムの変位の値を計算するように構成される」と、光の強度を変調させて変位を求めているか否かが不明である点。
　　
４．当審の判断
　上記（相違点１）〜（相違点３）は、干渉パターンを発生し測定する技術として関連性があるため、まとめて検討する。
　
　干渉現象を用いて物体の変位や位置を測定する装置の技術分野において、「送信光を２つのビームにビームスプリッタのような回折手段で分岐し、一方の光を測定対象物に反射させ、もう一方を直接的に、各々受光部に送信し、干渉パターンを起こさせ、変位に応じて強度変調した光を測定して、測定対象物の変位や位置を測定する」技術は、本願の優先権主張の日前に周知の技術である。
  　
　例えば、
（ア）特開２０００−１２１３２３号公報には、
「【００２４】ビーム成形光学系１１で形成されたスリット状の光束は、レンズ出射端から被検査物までの距離が大きい、即ち作動距離の大きな対物レンズ１２を透過し、参照光生成光学系でもある照明側のビームスプリッタ（２つの光束に分岐する分岐光学系の機能とＳ偏光の照射光束を照射角度θで照射する機能とＰ偏光の参照光束を出射する機能とを有する。）２０を透過した後、カラーフィルタ基板４の所望の位置に入射角θが８２度以上でスリット状の領域２００を照明する。
照明側のビームスプリッタ２０は、例えば、Ｐ偏光を透過、Ｓ偏光を反射する偏光ビームスプリット面２０１と透過したＰ偏光を全反射するミラー面２０２と１／２波長板２０３とから構成されている。従って、カラーフィルタ基板４に入射するスリット状のビーム光束２１は、透過Ｐ偏光の光束がミラー面２０２で全反射されて１／２波長板２０３を透過後紙面に垂直なＳ偏光の光束となる。
【００２５】
カラーフィルタ基板４の２００の領域で反射したＳ偏光の光束２１′及び基板に平行に進むＰ偏光として参照光の光束２２は、照明側のビームスプリッタ２０と同じ形状で対称に配置されている検出側のビームスプリッタ２０′に至る。
・・・（中略）・・・
【００２７】以上説明したように、
検出センサである１次元アレイセンサ３２の受光面上で被測定反射光束と参照光束とが重畳されて干渉することにより、１次元アレイセンサ３２の各絵素からは、領域２００内における各画素に対応する測定点の表面状態（表面の高さ）に応じて異なった干渉強度信号が検出される。
領域２００内のブラックマトリックス４４や各フィルタ４１、４２、４３やガラス基板４０の表面の高さを１０〜２０ｎｍ程度の精度で求めることができる。
  　
（イ）特開平６−２９５８５５号公報には、
「【０００９】図１の３の部分が高さ傾き検出光学系３の一実施例である。高さ傾き検出光学系３は照明光学系１と干渉縞検出系２とから構成される。高さ傾き検出光学系３の出力は処理回路と制御回路から成る高さ傾き検出・制御機構５に渡される。図１の実施例図には傾き検出の１軸分しか図示されていないが、これと直角な紙面に垂直な方向に向かいウエハに照射する系は省略されている。まず照明系１を説明する。可干渉性光源１１を出射した光ビームはウエハ上で所望のビーム径となるように照射レンズ系１１０を通る。
ビームスプリッタ１０は光源１１から出射したビームを２つに分離し、ハーフミラー１２を介し、一方はウエハに照射する検出光に、他方はウエハに当たらず、しかし検出光と近い光路を進む参照光になる。検出光はウエハに立てた垂線に対し８８°、即ち入射角８８°で入射する。
１２を透過した光は干渉縞検出系２に進む。
光路シフタ２４は上記の結像関係を満たし、かつＣＣＤ上で干渉縞が発生する役割をしている。ＣＣＤ２０の出力を処理して、高さ傾き検出・制御機構５で被検物の高さ傾きを検出する。
【００１０】図２は干渉縞による高さ傾き検出方法を用いた投影露光装置の別の実施例である。図２の３の部分の高さ傾き検出光学系のみが図１の実施例と異なっているのでこの部分について説明する。
この実施例では高さ傾き検出光学系３に図１の実施例の折り返しミラー１４を持たず、照明光学系１を出た検出光は一度ウェハを照射した後、干渉縞検出系２に入り干渉縞信号を出力する。
  　
（ウ）特開平３−４０４１７号公報には、
「第８図は本発明の一実施例である。第１図と同一番号は同一物である。また第１図同様ｙ方向の傾き検出系の図は省略している。半導体レーザ１は波長がλ1、半導体レーザ１′は波長がλ2であり、例えば、λ1＝８１０ｎｍ、λ2＝７５０ｎｍである、半導体レーザ１，１′で出射した光はそれぞれ１１と１１′により平行光になり、
回折格子１８，１８’により０次と１次の平行光に分離される。
長λ
１
とλ
２
のビーム１６，１６’は全く同一の光路を通りミラー１３で反射し、ウェハにθ
１
で入射し、反射光は物体光となり、ミラー２３，レンズ２１，２２から成る検出光学系を通り、パターン検出手段３に入射する。他方波長λ
1
とλ
２
のビーム１７と１７’は全く同一の参照光路を通り、パターン検出手段３に、物体光と一定の角度を成し入射する。
処理回路５′は半導体レーザ１と１′を交互に点滅し、パターン検出手段３からλ
1
とλ
2
の波長の干渉縞情報を交互に受信する。第９図は処理回路で受信されるλ
1
の波長の干渉縞情報である。実線は最良の高さ位置に於るものであり、点線はΔＺだけ高さが変化した時のものである。
（式８）（省略）
ここでＸは検出手段の受光面の座標でありＭは結像倍率である。従ってＩｚ＝Ｉ（Ｘ0,ΔＺ；λｉ）となる。・・・（中略）・・・
この間でλ1の位相がΔφ2で、λ1の位相がΔ2になるのはΔZ0の一点だけであり、この条件を満たす次のΔＺの値は次式で与えられる高さとなる。
ΔＺ＝ΔＺ1＋ｍＳ1Ｓ0    ・・・（１０）
但しここでｍは整数である。」（６頁左下欄１９行〜７頁左下欄６行）と記載されている。
    　
　よって、引用例１発明の「基準プレートを用いて２つのビーム光を発生させて干渉パターンを発生させてダイアフラムの変位を測定する手段」と、上記周知技術とは、干渉パターンを用いた変位・位置検出手段という同一の技術分野に属することから、引用例１発明において、「基準プレートを用いて２つのビーム光を発生させて干渉パターンを発生させてダイアフラムの変位を測定する手段」に換えて、上記周知技術のものを採用し、回折装置を接続して、１つのビーム光を直接受光し、干渉パターンの強度変調から変位を求めるようにして、第１の上記相違点１〜３における本願補正発明のような構成とすることは、当業者であれば容易になし得たことである。
　　
　そして、本願補正発明の奏する効果についても、引用例１及び上記周知技術に基づいて当業者が予測し得る範囲内のものである。
　　
　なお、請求人は、当審における審尋に対する平成２２年３月３１日付け回答書において、審尋において指摘した請求項２の「前記第２の波長は前記第１の波長に相対的に位相シフトされており、」との記載が、どのようなことを意味しているのかが明確でないことに対する意見とともに、請求項１、７を削除し、不明点を補正する旨の補正案を提示している。
　
　審尋において指摘した明確でないな点に関しては、回答書には明細書に基づく形式的な主張のみであり、技術的に不明確な点は残る。しかしながら、一般的に、位相差という概念は、波長が同一の２つの波を比較するために用いられることが多く、波長が異なる場合には、各々の周期が異なるため、各々の位相に差があるのは、物理的に当然のことといえる。一方、干渉現象は、波長差が少ないまたは、高調波との間で顕著に発生するものであるため、本件補正における請求項２に記載された「第１の波長」と「第２の波長」とは、常識の範囲での波長の差であると考えられる。
　これらの技術常識を参酌すると、本件補正の請求項２の「前記第２の波長は前記第１の波長に相対的に位相シフトされており」または、補正案の請求項１の「前記第２の波長の位相は前記第１の波長の位相に対してシフトされており」を理解すると、第１の波長の属する波と、第２の波長の属する波とが位相がずれているものを指すものと一応理解できる。
　こうした前提で同請求項全体を再度検討するに、「ダイヤフラムの変位は、前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームから形成された干渉パターンに一定の速度の変化を生じさせ」とあるが、「干渉パターンに一定の速度の変化を生じさせ」とは、何によって速度の変化を生じさせるのかが、請求項２の他の構成から不明であり、明細書を参酌しても、何によって発生しているか不明であり、かつ、技術常識からみて、何に基づくものかが不明である。そして、「監視制御システムは、前記ダイアフラムの変位を前記一定の速度から複号するカウンタを包含する」ことも同様の理由により、「カウンタ」がどのような機能を有しているかが不明である。
　また、明細書を参酌しても特に本願特有の具体的な実施手段を特定できない以上、周知技術の範囲で不明な点を明確にするような補正がなされたとしても、上記周知技術の範囲で適宜なしうるものといえる。
　したがって、上記補正案によってもその進歩性があるとはいえない。
　よって、上記補正案は採用できない。
　　
　したがって、本願補正発明は、引用例１発明、及び、上記周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により独立して特許を受けることができない。
　
５．本件補正についての結び
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成２０年１１月１０日付けの手続補正は上記のとおり却下されることとなったので、本願の請求項１乃至１２に係る発明は、平成２０年２月１５日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至１２に記載された事項により特定されたとおりのものであるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
　　
「【請求項１】
　圧力センサにおいて、
　ダイアフラムを包含し、該ダイアフラムは剛性の外側部分と、前記ダイアフラムの第１の側と第２の側との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し、
　前記ダイアフラムに近接して配置されており、前記ダイアフラムの内側部分の前記変位をセンシングするセンサを包含し、
　前記センサと接続されており、前記ダイアフラムの変位から前記圧力差を求める監視制御システムを包含し、
　前記センサは、光送信モジュールと、前記光送信モジュールから送出された第１の光ビームを直接的に受信し、且つ前記光送信モジュールから送出され、前記ダイアフラムにおいて反射された第２の光ビームを受信する光センシングモジュールと、を包含し、
　前記監視制御システムは、前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームから形成された干渉パターンから前記ダイアフラムの変位を求める、
圧力センサ。」
　　
２．引用例記載の発明
　原査定の拒絶の理由で引用された引用例１は、前記「第２［理由］２．」に記載したとおりである。
　　
３．対比・判断
　本願発明は、上記「第２［理由］」で検討した本願補正発明から、
光送信モジュールとして、「光源光を前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームに分割する回折装置と接続されている出力側を有する送信ファイバを包含」する限定を除き、
監視制御システムとして、「前記ダイアフラムの変位は、第１の光ビームおよび前記第２の光ビームから形成された干渉パターンにおける光の強度を変調させ」られることにより「前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームから形成された干渉パターンから前記ダイアフラムの変位を求める」ものから、「強度が変調された光から前記ダイアフラムの変位を求める」ものとして限定を除いたものである。
　　
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、更に他の限定的な発明特定事項を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「第２［理由］３．」に記載したとおり，引用例１発明、及び、周知技術に基づいて当業者が容易に発明することができたものである以上、本願発明も同様の理由により、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　
４．むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　　
　したがって、本願は、その他の請求項について検討するまでもなく、拒絶されるべきものである。
　　
　よって、結論のとおり審決する。