【事件の表示】
　平成１１年特許願第　　４５８５号「真空ポンプ」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　７月２５日出願公開、特開２０００−２０５１８１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１１年１月１１日の出願であって、平成２１年５月１９日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２１年８月２５日付けで拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
２．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２０年１１月２８日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。なお、「Ａｌ２０３」は「Ａｌ２Ｏ３」と表記した。以下、同様。
「【請求項１】　
一方の端部に吸気口を有すると共に他方の端部に排気口を有するケーシングと、該ケーシング内に固設されるステータと、同ケーシング内に回転可能に構成されるロータとを備え、該ロータの回転によりポンプ作用を営む真空ポンプであって、少なくともロータには、ロータの基材表面に直接被覆される金属メッキ層と、該金属メッキ層の上に更設される、Ａｌ２０３粒子を分散含有する分散Ｎｉ−Ｐ金属メッキ層との少なくとも２層以上からなる被膜処理を施し、且つ該分散Ｎｉ−Ｐ金属メッキ層の膜厚が、分散されるＡｌ２Ｏ３粒子の平均粒子径Ｘに対して約０．９〜２．０Ｘとなるようにしたことを特徴とする真空ポンプ。」
　
３．本願発明について
（１）本願発明
　本願発明は、上記２．に記載したとおりである。
（２）引用例
（２−１）引用例１
　特開平８−２８３９５５号公報（以下、「引用例１」という。）には、下記の事項が図面とともに記載されている。
（あ）「 【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は半導体製造装置、特にドライエッチング装置のガス排気に用いる真空ポンプ等の金属部品の防食構造に関する。」
（い）「【０００４】つまり、腐食性ガスが触れる場所は、オーステナイト系ステンレス鋼から形成されるのが一般的であるが、真空ポンプの回転体のように高速で回転する部品については、軽量かつ高強度が要求されるため、高力アルミ合金で作製される。
【０００５】このようなアルミ合金にあっては表面に酸化被膜が自然に形成され、これが不働態被膜として機能することから、ある程度は耐食性を有する。しかし、アルミ合金の耐蝕性はステンレス鋼の不働態被膜に比しかなり劣るため、アルミ合金が排気の腐食性ガスに晒されると、表面の酸化被膜が破壊され、ここに腐食が起きる。それ故、アルミ合金の表面には自然の酸化被膜以外に何らかの防食処理を施す必要がある。」
（う）「【００３１】この防食構造は図１に示す如く金属部品１の表面に、Ｎｉ−Ｐ系合金からなる第１のメッキ膜２を有し、さらに第１のメッキ膜２の上に、第２のメッキ膜３としてＮｉ−Ｐ／ＰＴＦＥ複合メッキ膜を備える。
【００３２】Ｎｉ−Ｐ／ＰＴＦＥ複合メッキ膜はＮｉ−Ｐ合金のみでなく、このＮｉ−Ｐ系合金中に微粒子としてポリテトラフルオロエチレン（以下「ＰＴＦＥ微粒子」という。）を分散折出させてなるものである。」
（え）「【００４７】以上の作用効果は実験によって確認されている。次にその実験について説明する。
【００４８】この実験は、金属部品１としてターボ分子ポンプの回転翼（２０００番系高力アルミ合金）を用い、これに下記（１）〜（５）の処理を施して本願発明品、従来品Ａ，Ｂ、比較試料Ａ，Ｂを作成し、これらの実験試料をデシケータ内に並べ、そしてデシケータの底部には水で希釈した塩酸を入れておく。このようにして上記実験試料を塩酸の蒸気中に暴露したものであり、このとき塩酸濃度は１８ｐｐｍ以上、暴露時間は１４８時間とした。
【００４９】（１）無電解Ｎｉ−Ｐ合金メッキ（１０μｍ厚）と、その後の無電解Ｎｉ−Ｐ／ＰＴＦＥメッキ（１０μｍ厚、ＰＴＦＥ含有量１０ｗｔ％）…本願発明品
（２）無電解Ｎｉ−Ｐ合金メッキ（２０μｍ厚）…従来品Ａ
…」
（お）「【００５５】本実施例の防食構造は例えば次のような金属部品に適用できる。もちろんその他の金属部品にも適用できる。
…
本実施例では微粒子としてＰＴＦＥを用いたが、これに限定されることはなく、ＰＴＦＥと同様な作用効果、すなわちピンホールの封じや、成長の阻止等が可能な微粒子であれば、これをＰＴＦＥに代えて適用することもできる。ＰＴＦＥと同等の作用効果を奏する微粒子としては例えばフッ化黒鉛、セラミック等の微粒子が考えられる。」  　
　以上の記載事項及び図面からみて、引用例１には、次の発明（以下、「引用例１発明」という。）が記載されていると認められる。
「回転体を備え、該回転体の回転によりポンプ作用を営む真空ポンプであって、回転体には、金属部品１の表面に直接被覆されるＮｉ−Ｐ系合金からなる第１のメッキ膜２と、該第１のメッキ膜２の上に施される、Ｎｉ−Ｐ系合金中に微粒子としてセラミックの微粒子を分散析出させてなる複合メッキ膜３との２層からなる被膜処理を施した真空ポンプ。」
（２−２）引用例２
　実願平３−６２２７４号（実開平５−１４６２３号）のＣＤ−ＲＯＭ（以下、「引用例２」という。）には、下記の事項が図面とともに記載されている。
（か）「【０００６】
【課題を解決するための手段】
　上記目的を達成するにあたり本考案者は、シャフトの軸受と摺動する外周部表面に潤滑性、耐摩耗性、耐蝕性および耐熱性を有する被膜を形成することにより、シャフトの摺動性能を向上させることを考え、上記特性を有する被膜としてセラミックコーティング層が適することを実験により見出し、この知見に基づいて本考案をなすに至った。
【０００７】
　すなわち、本考案に係る精密シャフトは、滑り軸受と共に用いる精密シャフトにおいて、少なくとも軸受と接触する外周部表面にセラミックコーティング層を形成したもので、好ましくは、上記セラミックコーティング層の厚さを０.５〜１０μｍとして成る。
【０００８】
　上記構成において、セラミックコーティング層の厚さを０.５〜１０μｍとしたのは、０.５μｍより薄いと、使用初期において摩耗により消滅することが多く、潤滑効果が乏しく、一方、１０μｍを超えると、滑り軸受とシャフト間の摺接により剥離摩耗を起こし易くなり、異常摩耗の原因となることによる。より好適には１〜５μｍの範囲である。
【０００９】
　なお、上記セラミックコーティング層は、酸化物系、炭化物系、窒化物系、硼化物系等のセラミックスを用いて、プラズマ、光ＣＶＤ、真空蒸着、スパッタリング等のＰＶＤ、ＩＶＤ、溶射、焼付け等のコーティング方法により形成するか、あるいは上記セラミックス粒子を共析物質としてＮｉ−Ｐ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｏ等の金属マトリックス中に均一に分散せしめた金属メッキによって形成する。
【００１０】
　ところで、本考案に用いるセラミックスは、酸化物系としてＡｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｉｎ2 Ｏ3 、ＺｎＯ、Ｃｒ2 Ｏ3 、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＭｇＯ、ＢｅＯ、ＴｈＯ2 等、炭化物系としてＳｉＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、ＷＣ、ＨｆＣ、Ｂ4 Ｃ、ＮｂＣ等、窒化物系としてＳｉ3 Ｎ4 、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴａＮ、ＺｒＮ、ＡｌＮ、ＧａＮ、ＢＮ、ＩｎＮ等、硼化物系としてＴｉＢ2 、ＺｒＢ2 、ＨｆＢ2 等を各々単独に又は複数種組合せて用いることができる。」
（き）「【００１３】
（実施例１）
　図１に本考案の実施例１を示す精密シャフトの要部断面図を示す。同図において、１は所要工程を経て得られたＳＵＳ４２０Ｊ２よりなるシャフト本体であり、このシャフト本体１を１〜５×１０-2TorrでＣ2 Ｈ2 を主成分とする反応性ガス雰囲気中でグロー放電し、イオンプレーティング処理を行い、外周全面に炭化チタンを有する厚さ６μｍのセラミックコーティング層２を形成した。そして、熱処理、ラッピング処理を行い、上記セラミックコーティング層２におけるセラミックスの成長結晶粒径が５μｍ以下で、表面粗さが０.４Ｓである精密シャフト３を形成した。」
（く）「【００１７】
（実施例３）
　図３に本考案の実施例３を示す精密シャフトの要部断面図を示す。同図において、１は前記各実施例と同様のシャフト本体であり、このシャフト本体１に洗浄等の表面処理を施した後、電気メッキを行って外周全面に厚さ１μｍ程度のニッケルメッキ被膜６を形成した。しかる後、浴温９０℃、ｐＨ４.５に制御された下記浴組成のメッキ浴槽中に浸漬し、セラミックス粒子７として粒径０.６μｍの炭化硅素を攪拌しながら添加して無電解複合メッキを行い、シャフト本体１のニッケルメッキ被膜６の表面にニッケルマトリックス８中に炭化硅素を約３０％含有する複合金属メッキより成るセラミックコーティング層９を形成した。そして約４００℃に保持した熱処理炉内で約１時間加熱することにより、無電解ニッケルメッキ被膜の硬度がＮｉ−Ｐの結晶化によって高まると共に、炭化硅素の密着性が強化されて精密シャフト１０を形成した。
【００１８】
（浴組成）
硫酸ニッケル　　　　　　２４ｇ／ｌ
次亜リン酸ナトリウム　　２１ｇ／ｌ
乳酸　　　　　　　　　　３０ｇ／ｌ
プロピオン酸　　　　　　２ｍｌ／ｌ
硝酸鉛　　　　　　　　　０.０００１ｇ／ｌ
【００１９】
　なお、上記実施例３においては、セラミックス粒子の粒径を０.６μｍ、セラミックコーティング層におけるセラミック粒子の含有量を３０％としたが、粒径は０.２〜２μｍの範囲が潤滑効果上好ましく、含有量は１０〜６０％の範囲が密着性上好適である。」
（３）対比
　本願発明と上記引用例１発明とを対比すると、後者の「回転体」は前者の「ロータ」に相当し、以下同様に、「金属部品１の表面に」は「基材表面に」に、「Ｎｉ−Ｐ系合金からなる第１のメッキ膜２」は「金属メッキ層」に、「該第１のメッキ膜２の上に施される」は「該金属メッキ層の上に更設される」に、「Ｎｉ−Ｐ系合金中に微粒子としてセラミックの微粒子を分散析出させてなる複合メッキ膜３」は「分散Ｎｉ−Ｐ金属メッキ層」に、それぞれ相当する。
　したがって、本願発明の用語に倣って整理すると、両者は、
「ロータを備え、該ロータの回転によりポンプ作用を営む真空ポンプであって、少なくともロータには、ロータの基材表面に直接被覆される金属メッキ層と、該金属メッキ層の上に更設される、分散Ｎｉ−Ｐ金属メッキ層との少なくとも２層以上からなる被膜処理を施した真空ポンプ。」である点で一致し、以下の点で相違している。
［相違点１］
　本願発明の「真空ポンプ」は「一方の端部に吸気口を有すると共に他方の端部に排気口を有するケーシングと、該ケーシング内に固設されるステータと、同ケーシング内に回転可能に構成されるロータとを備え」るのに対して、引用例１発明の「真空ポンプ」は、そのような事項を備えているかどうか、不明である点。
［相違点２］
　本願発明の「分散Ｎｉ−Ｐ金属メッキ層」は「Ａｌ２Ｏ３粒子を分散含有する」ものであるのに対して、引用例１発明の「複合メッキ膜３」は「セラミックの微粒子を分散析出させてなる」ものの、その「セラミックの微粒子」として「Ａｌ２Ｏ３粒子を分散含有する」ものではない点。
［相違点３］
　本願発明の「分散Ｎｉ−Ｐ金属メッキ層」は、「該分散Ｎｉ−Ｐ金属メッキ層の膜厚が、分散されるＡｌ２Ｏ３粒子の平均粒子径Ｘに対して約０．９〜２．０Ｘとなるようにした」ものであるのに対して、引用例１発明の「複合メッキ膜３」は、そのような事項を備えていない点。
（４）判断
（４−１）相違点１について
　一般に、「一方の端部に吸気口を有すると共に他方の端部に排気口を有するケーシングと、該ケーシング内に固設されるステータと、同ケーシング内に回転可能に構成されるロータとを備え」る「真空ポンプ」は、例えば、特開平１０−１２２１７９号公報（特に図１）、実願平５−６０４８９号（実開平７−３０３９５号）のＣＤ−ＲＯＭ（特に図１）に示されているように周知であり、引用例１発明の「真空ポンプ」としてこのような構成を採用することは当業者が容易に想到し得たものと認められる。
（４−２）相違点２について
　上記に摘記したとおり、引用例２には、精密シャフトに関するものではあるが、「シャフト本体１のニッケルメッキ被膜６の表面にニッケルマトリックス８中にＡｌ２Ｏ３を含有する複合金属メッキより成るセラミックコーティング層９を形成した」ものが示されている。引用例１発明の「複合メッキ膜３」と引用例２の「複合金属メッキ」とは耐蝕性等を有する被膜である点で共通ないし関連するから、引用例１発明の「複合メッキ膜３」の「セラミックの微粒子」として「Ａｌ２Ｏ３粒子」を採用し、「Ａｌ２Ｏ３粒子を分散含有する」ものとすることは、当業者が容易に相当し得たものと認められる。
（４−３）相違点３について
　真空ポンプにおいて、ロータ等の表面からの熱放射に配慮すべきことは、特開平１０−１２２１７９号公報（特に段落【０００３】、【００１０】）、実願平５−６０４８９号（実開平７−３０３９５号）のＣＤ−ＲＯＭ（特に段落【０００８】、【００１２】、【００１３】）に示されているように周知であり、また、Ａｌ２Ｏ３が熱放射性を有する材質であることも、例えば、特開昭６２−１１０２９０号公報（特に第３ページ右上欄第１９及び２０行）、特開昭６２−３２１５７号公報（特に第５頁右上欄第３〜７行）、特開昭６３−１３３５９１号公報（第２頁左下欄第３〜１５行）に示されているように周知である。
　引用例１発明の「複合メッキ膜３」の「セラミックの微粒子」として「Ａｌ２Ｏ３粒子」を採用し、「Ａｌ２Ｏ３粒子を分散含有する」ものとすることは当業者が容易に想到し得たものと認められることは、上記のとおりであり、このようにした場合、真空ポンプのロータ等の表面からの相応の熱放射作用を奏し得ること、及びそのような熱放射に配慮すべきことは、上記の周知事項からみても明らかである。その際、「複合メッキ膜３」及び「Ａｌ２Ｏ３粒子」等の各種寸法（厚さ、粒子径など）は、所要の耐蝕性、熱放射性、耐久性等を考慮して適宜設計する事項にすぎない。そして、（ａ）本願の図４、５、６をみても、特に図５、６の実験点が少なく、またその線の引き方や折曲点の位置に一義性・客観性があるとは考えられず、上記数値範囲の上下限値に格別顕著な技術的意義があるとは到底認められないこと、（ｂ）引用例２には、上記に摘記したように、セラミックス粒子を共析物質としてＮｉ−Ｐ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｏ等の金属マトリックス中に均一に分散せしめた金属メッキによって形成されるセラミックコーティング層の厚さが０．５〜１０μｍ、より好適には１〜５μｍの範囲であること、セラミックス粒子の粒径を０．２〜２μｍの範囲であることが記載されており、単純な計算では、上記数値範囲を満たす例が内在しているということができること、（ｃ）Ａｌ２Ｏ３粒子の熱放射作用に着目するとき、例えば、その粒子径をメッキ層の厚さと同程度とすることは容易に想起し得る１つの設計例であって、当業者にとって格別意外なものであるとは考えられないこと、以上を勘案すると、引用例１発明の「複合メッキ膜３」の「膜厚」を、「分散されるＡｌ２０３粒子の平均粒子径Ｘに対して約０．９〜２．０Ｘとなる」という事項を充足するような値とすることは、当業者が容易に想到し得たものと認められる。
　そして、本願発明の効果は、引用例１、２に記載された発明、及び周知事項に基づいて、当業者が予測し得る程度のものである。
　
　なお、請求人は審判請求の理由において、「特に分散Ｎｉ−Ｐ金属メッキ層の膜厚が薄い領域における熱放射率の低下が、Aｌ２Ｏ３粒子の脱落に起因していることについては、いずれの引用文献にも示唆および開示がされていない。」、「たとえ、引用文献１の段落［００５５］、引用文献２…の記載に基づいて、引用文献１のＰＴＦＥをＡｌ２Ｏ３に置き換えたとしても、『酸化アルミニウム(アルミナ)は放熱性が良い』という周知の特性のみから、該分散メッキが奏する熱放散性の向上という作用効果を知得し、さらに、本願発明に開示されたＡｌ２Ｏ３粒子径と金属メッキ層の膜厚の関係を想到することはたとえ当業者であったとしても容易ではないと思量する。」（ここでの引用文献１、引用文献２はそれぞれ本審決の引用例１、引用例２である。）と主張するが、「複合メッキ膜３」及び「Ａｌ２Ｏ３粒子」等の各種寸法（厚さ、粒子径など）は所要の耐蝕性、熱放射性、耐久性等を考慮して適宜設計する事項にすぎないことは、上記のとおりであり、耐久性等の点からみて、「複合メッキ膜３」からの「Ａｌ２Ｏ３粒子」の脱落にも配慮して膜厚及び粒子径を設計すべきことは技術合理的ないし当業者に自明である。
　
（５）むすび
　したがって、本願発明は、引用例１、２に記載された発明、及び周知事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
４．結語
　以上のとおり、本願発明が特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、したがって、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。