【手続補正書】
【提出日】平成23年6月15日(2011.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒床（Ｆ）上方において液相（１）と気相（２）を三相反応させるための反応器であって、触媒床（Ｆ）は、反応器（Ｒ）内に水平に配置され、液相（１）及び気相（２）が並流状態で、触媒床（Ｆ）の上方に設けられた混合及び分散装置（ＭＶ）を経由し反応器（Ｒ）を頂点から下方に向かって案内され、
混合及び分散装置（ＭＶ）が、槽状通路（Ｋ）、及び該槽状通路（Ｋ）内の出口管（Ａ）を有する液相（１）用の槽状ディストリビューター（ＴＶ）と、槽状ディストリビューター（ＴＶ）の下方に間隔を置いて配置され、垂直ノズル（Ｔ）が取り付けられる分散基礎部（Ｂ）と、を含む反応器（Ｒ）において、
出口管（Ａ）の長さは、該出口管（Ａ）の下端が分散基礎部（Ｂ）から２０ｍｍから２００ｍｍ上方に位置するように構成され、
槽状ディストリビューター（ＴＶ）が、一以上の気相（２）導入用開口部（Ｐ１）、及びこの気相（２）導入用開口部（Ｐ１）の下方に配置された一以上の液相（１）導入用開口部（Ｐ２）を有し、
液相（１）導入用開口部（Ｐ２）の数及び大きさは、予め決められた液体の送り速度において、分散基礎部（Ｂ）上の液面が、気相（２）導入用の開口部（Ｐ１）の下方で且つ液相（１）導入用開口部（Ｐ２）の上方に設定されるように定められ、
分散基礎部（Ｂ）の上流には、槽状ディストリビューター（ＴＶ）と、槽状ディストリビューター（ＴＶ）の下方に空間を介して配置され垂直ノズル（Ｔ）が取り付けられる分散基礎部（Ｂ）と、の間に位置するガス空間（Ｇ）から気相（２）を導入するためのポートが配置され、
分散基礎部（Ｂ）に１ｍ2あたり５０から２００個のノズル（Ｔ）が、規則的に配置され、
ノズル（Ｔ）は、５から７５ｍｍの自由径、及び分散基礎部（Ｂ）の上方で１００から６００ｍｍ且つ分散基礎部（Ｂ）の下方で２０から２５０ｍｍとなる長さを有し、
液相（１）導入用開口部（Ｐ２）は、２から４５ｍｍの径を有し、分散基礎部（Ｂ）の上方において１０から１００ｍｍの間の高さに配置され、また、気相（２）導入用開口部（Ｐ１）が１から３０ｍｍの径を有することを特徴とする反応器（Ｒ）。
【請求項２】
分散基礎部（Ｂ）のノズル（Ｔ）における液相（１）導入用開口部（Ｐ２）の数及び大きさは、
液体の送り速度が、前記予め決められた液体の送り速度よりも高い方に２０％以下、低い方に５０％以下の範囲でずれている場合であっても、分散基礎部（Ｂ）上の液面が、気相（２）導入用の開口部（Ｐ１）の下方で液相（１）導入用開口部（Ｐ２）の上方に設定されることを特徴とする請求項１に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項３】
０．５から５ｍの範囲、好ましくは１から４ｍの範囲、より好ましくは１．２から３ｍの範囲の径を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項４】
ノズル（Ｔ）が、分散基礎部（Ｂ）に規則的に配置され、
配置されるノズル（Ｔ）の個数は、１ｍ2あたりに７０から１５０、より好ましくは９０から１３０個であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項５】
ノズル（Ｔ）が、
分散基礎部（Ｂ）において三角配列、又は四角配列で配置されていることを特徴とする請求項４に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項６】
ノズル（Ｔ）が、１０から６０ｍｍの自由径、及び分散基礎部（Ｂ）の上方において２００から４００ｍｍ且つ分散基礎部（Ｂ）の下方において５０から２００ｍｍとなる長さを有し、
液相（１）導入用開口部（Ｐ２）が３から３５ｍｍの径を有し、この開口部（Ｐ２）が分散基礎部（Ｂ）の上方から２２から７５ｍｍの間の高さに配置され、
気相（２）導入用の開口部（Ｐ１）が５から２０ｍｍの径を有することを特徴とする請求項１に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項７】
ノズル（Ｔ）が、３５から５０ｍｍの自由径、及び分散基礎部（Ｂ）の上方において２５０から３５０ｍｍ且つ分散基礎部（Ｂ）の下方において１００から１５０ｍｍとなる長さを有し、
液相（１）導入用開口部（Ｐ２）が１０から２５ｍｍの径を有し、この開口部（Ｐ２）が分散基礎部（Ｂ）の上方から４０から６０ｍｍの間の高さ位置に配置され、
気相（２）導入用の開口部（Ｐ１）が７から１５ｍｍの径を有することを特徴とする請求項６に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項８】
気相（２）導入用の開口部（Ｐ１）が、
それらの高さ及び傾きについて調節可能であることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項９】
分散基礎部（Ｂ）には、分散基礎部（Ｂ）上に一様に分布する無負荷穴部が設けられ、
反応器の通常運転において、反応器（Ｒ）を通過する全液相（１）の最大で５％のみが前記無負荷穴部を流れ通過するように、無負荷穴部の数、及び大きさが選択されることを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項１０】
前記無負荷穴部が、１０から２０ｍｍの径を有することを特徴とする請求項９に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項１１】
槽状ディストリビューター（ＴＶ）が、
ノズル（Ｔ）の上端の上方に１０から３００ｍｍ、好ましくは２０から２００ｍｍに亘って配置されることを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項１２】
槽状ディストリビューターの槽状通路（Ｋ）が、主通路（ＭＣ）、及び２以上の付随通路（ＳＣ）を含み、
主通路（ＭＣ）及び２以上の付随通路（ＳＣ）は、該主通路（ＭＣ）及び付随通路（ＳＣ）の間で液相（１）の流れが妨げられないように構成されていることを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項１３】
主通路（ＭＣ）及び付随通路（ＳＣ）の合計底面積が、
反応器（Ｒ）の全断面積に対して、３０から７０％、好ましくは４０から６０％であることを特徴とする請求項１〜１２の何れか１項に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項１４】
槽状通路（Ｋ）の高さは、
２００から６００ｍｍ、好ましくは２５０から５００ｍｍ、より好ましくは３００から４００ｍｍであることを特徴とする請求項１〜１３の何れか１項に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項１５】
１ｍ3あたりに３０から１２０個、好ましくは４０から１００個、より好ましくは５０から８０個形成され、その径が、５から４０ｍｍ、好ましくは１０から３５ｍｍ、より好ましくは１５から２５ｍｍである開口部が、槽状通路（Ｋ）の底部に設けられ、
１５から７５ｍｍ、好ましくは２５から６０ｍｍ、より好ましくは３５から５０ｍｍの径を有する出口管（Ａ）が、それぞれの開口部に取り付けられており、
前記出口管（Ａ）の長さは、その下端が分散基礎部（Ｂ）から２０から２００ｍｍ、好ましくは２５から１５０ｍｍ上方となるように設定されることを特徴とする請求項１〜１４の何れか１項に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項１６】
液相（１）が、入口管（Ｉ）を介して反応器（Ｒ）に導入され、
液相（１）の反応器（Ｒ）内への導入場所である入口管（Ｉ）の端部において、開口部を備えたディスク状の衝突板が入口管（Ｉ）から数ｃｍ離れた位置に配置されることを特徴とする請求項１〜１５の何れか１項に記載の反応器（Ｒ）。
【請求項１７】
反応器（Ｒ）の内部に水平に固定配置された触媒床（Ｆ）の上方で液相（１）と気相（２）を三相反応させるための方法で、触媒床（Ｆ）の上方で液相（１）及び気相（２）を並流させ、混合及び分散装置（ＭＶ）を介して反応器（Ｒ）の頂点から下方に向かって通過させ、
液相（１）を、入口管（Ｉ）を介して反応器（Ｒ）の外から槽状通路（Ｋ）と、この槽状通路（Ｋ）における出口管（Ａ）を有する槽状ディストリビューター（ＴＶ）と、に導入し、
気相（２）を、液相（１）と別に又は共に、分散基礎部（Ｂ）の上流に配置されるポートを介して、槽状ディストリビューター（ＴＶ）と分散基礎部（Ｂ）との間の気相空間（Ｇ）に導入し、分散基礎部（Ｂ）は、槽状ディストリビューター（ＴＶ）の下方に空間を介して配置されるとともに垂直ノズル（Ｔ）が取り付けられ、
液相（１）を、液体表面の下方で分散基礎部（Ｂ）に存在する液相に、槽状ディストリビューター（ＴＶ）の出口管（Ａ）を介して導入し、
気相（２）を、気相空間（Ｇ）から分散基礎部（Ｂ）のノズル（Ｔ）に、一以上の開口部（Ｐ１）を介して導入し、及び
液相（１）を、液体表面の下方の一以上の開口部（Ｐ２）を介して分散基礎部（Ｂ）のノズル（Ｔ）に供給し、気相（２）を、取り付けられた触媒床（Ｆ）にノズル（Ｔ）を介して供給する三相反応実行方法であって、
分散基礎部（Ｂ）に１ｍ2あたり５０から２００個のノズル（Ｔ）が、規則的に配置され、
ノズル（Ｔ）は、５から７５ｍｍの自由径、及び分散基礎部（Ｂ）の上方で１００から６００ｍｍ且つ分散基礎部（Ｂ）の下方で２０から２５０ｍｍとなる長さを有し、
液相（１）導入用開口部（Ｐ２）は、２から４５ｍｍの径を有し、分散基礎部（Ｂ）の上方において１０から１００ｍｍの間の高さに配置され、また、気相（２）導入用の開口部（Ｐ１）が１から３０ｍｍの径を有することを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１〜１６の何れか１項に記載の反応器、又は請求項１７に記載の方法を、炭化水素画分の選択的水素化を実行するための使用。
【請求項１９】
前記炭化水素画分が、
Ｃ２、Ｃ３、又はＣ４炭化水素画分、又は熱分解ガスであることを特徴とする請求項１８に記載の使用。
【請求項２０】
前記炭化水素画分が、Ｃ４画分であり、
該Ｃ４画分におけるブタジエンを選択的に水素化しｎ−ブテンとすることを特徴とする請求項１９に記載の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
特許文献３は、触媒床上に少なくとも１種の気相及び少なくとも１種の液相を含む混合物用のディストリビューターが開示されている。このディストリビューターは、分散基礎部Ｂを含む。この分散基礎部Ｂには、複数種の混合装置が設けられるとともに、気体用の上部入り口部を有した複数の出口管が貫設されている。また、分散基礎部Ｂには、液相用（場合により気相のごく一部用）の側面入り口部が設けられている。そして、このディストリビューターにおいて、篩いの形態をとる他のディストリビューター要素は多孔率が制御可能であり、下部開口の下方で且つ触媒床の上方に配置された上向き壁部を有する。この付加的なディストリビューター要素の配置により、その要素が配置されていない場合と比較して、気相及び液相の触媒床への流れがより一様に確保される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
１ｍ3あたりの開口部の数が、３０から１２０、好ましくは４０から１００、より好ましくは５０から８０であり、開口部の径は、５から４０ｍｍ、好ましくは１０から３５ｍｍ、より好ましくは１５から２５ｍｍであり、この開口部は、槽状通路の底部に設けられ、そして、それぞれの開口部に、１５から７５ｍｍ、好ましくは２５から６０ｍｍ、より好ましくは３５から５０ｍｍの径を有する出口管が取り付けられることが好ましい。また、出口管の長さは、その下端が分散基礎部（Ｂ）から２０から２００ｍｍ、好ましくは２５から１５０ｍｍ上方となるように設定されることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
反応器Ｒにおいて、混合／分散装置ＭＶは、出口管Ａが底部に配置された槽状ディストリビューターＴＶとして構成されるプレディストリビューターを有している。また、この槽状ディストリビューターＴＶの下流に設置されており主ディストリビューターとして機能する分散基礎部Ｂは、触媒床Ｆの上方に配置される。分散基礎部Ｂの上方及び下方から反応器Ｒ内部に突出するノズルＴは、分散基礎部Ｂに取り付けられる。分散基礎部Ｂの上方におけるノズルＴの領域では、気相２導入用の開口部Ｐ１が分散基礎部Ｂ上の液面の上方に設けられ、そして、液相１導入用の開口部Ｐ２が分散基礎部Ｂ上の液面の下方に設けられている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図１に概略的に示されている混合／分散装置ＭＶを、１．７ｍの径を有する反応器Ｒに構成した。槽状ディストリビューターは、４００ｍｍの高さを有する主通路及び６個の付随通路を含んでおり、主通路と付随通路の底面積の合計を反応器の全断面積の６０％とした。槽状通路の底部に１ｍ2あたりに６２個の開口部（径は２７ｍｍ）を配置し、４８ｍｍの径を有する出口管を各開口部に取り付けた。また、分散基礎部の上方で出口管の下端長さが１５０ｍｍとなるように、出口管の長さを選択した。