Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年10月13日(2011.10.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロータユニット（６）が静止外部ハウジング（５）の内部に回転可能に支承されていて、流体回転機械（１）の重量を収容するために軸方向長手延長部で外部ハウジング（５）に対して互いに間隔を置いた配置された少なくとも二つの支持体（３）を備えて、これら支持体が一方では外部ハウジング（５）に直接或いは間接に連結されて、他方では基礎フレーム（１０）に直接或いは間接に支持されていて、流体回転機械を据付ける装置において、少なくとも一つの支持体（３）が専ら部分領域にて少なくとも二つの支持板要素（１１）に支持される少なくとも一つの支持面（８）を備えていて、そして支持体（３）の少なくとも一つの支持面（８）が支持板要素（１１）を介して基礎フレーム（１０）と作用接続されており、支持面（８）が平らに形成されて且つ水平方向に配向されていて、支持板要素（１１）が専ら流体回転機械（１）の重力によって支持面（８）と基礎フレーム（１０）の間に締め付けられおり、支持板要素（１１）は流体回転機械（１）の重力のかからない状態のときに基礎フレーム（１０）の載置面（９）にルーズに載置されて、載置面（９）に対して横方向に移動できることを特徴とする装置。
【請求項２】
少なくとも二つの支持板要素（１１）が直接に支持体（３）の支持面（８）と基礎フレーム（１０）の載置面（９）との間に挿入されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
昇降装置（１２）が、基礎フレーム（１０）の載置面（９）に対して流体回転機械（１）を支持体（３）と共に昇降させるように、設けられていることを特徴とする請求項１或いは２に記載の装置。
【請求項４】
支持板要素（１１）が一部材で形成されているか、或いは複数の個々の積載部に配置されたスペーサ円板を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
少なくとも一つの支持体（３）がロータユニット（６）を貫通する回転軸線に対して対称的に流体回転機械（１）を支持し、そして支持面（８）が流体回転機械（１）の重心線を垂直に切断することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
支持面（８）が重心線に対して対称的に形成されていることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
少なくとも一つの支持体（３）が流体回転機械（１）の外部ハウジング（５）に対応する形状になった窪み（７）を備えていて、その窪みが外部ハウジング（５）を外部ハウジング中心軸まで包囲し、その窪みを介して支持体（３）が外部ハウジング（５）としっかりと連結されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】
流体回転機械（１）及び流体回転機械と連結されていて、流体回転機械の振動抑制を決定する装備成分又はいずれか一方を振動乏しく或いは振動無しに据付けることを特徴とする装置の請求項１乃至７のいずれか一項に記載の使用方法。
【請求項９】
支持板要素（１１）がその位置、数並びにその板厚に関して稼働中の流体回転機械（１）の振動行動に依存して選択されていて、流体回転機械（１）が出来るだけ振動乏しく支承するように、支持体（３）の支持面（８）に対して配置されることを特徴とする請求項８に記載の使用方法。
【請求項１０】
ロータユニット（６）が静止外部ハウジング（５）の内部に回転可能に支承されていて、流体回転機械（１）の重量を収容するために軸方向長手延長部で外部ハウジング（５）に対して互いに間隔を置いた配置された少なくとも二つの支持体（３）を備えて、これら支持体が一方では外部ハウジング（５）に直接或いは間接に連結されて、他方では基礎フレーム（１０）に直接或いは間接に支持されていて、流体回転機械（１）を振動減少されて据付ける方法において、少なくとも一つの支持体（３）には、水平に配向された支持面（８）が設けられていて、その支持面が基礎フレーム（１０）に設けられた載置面（９）に垂直に対向位置して配置されていて、そして支持面（８）と載置面（９）の間には、流体回転機械（１）の重力が一部では完全に支持板要素（１１）を介して基礎フレーム（１０）に作用し、稼働中である流体回転機械（１）が出来るだけ振動乏しく支承させるように、少なくとも二つの横方向に互いに間隔を置いて配置された支持板要素（１１）が挿入されていることを特徴とする方法。
【請求項１１】
支持板要素（１１）は数と配列に基づいて、支持体（３）の支持面（８）が空になり且つ載置面（９）に対して間隔を置いた面領域を有するように、支持面（８）と載置面（９）の間に挿入されていることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
支持面（８）の空になっている面領域の剛性を高めるために、二つ以上の支持板要素（１１）が設けられていることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月10日(2010.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
治療抵抗性うつ病に対してヒト患者を治療するための組成物であって、前記組成物は、ケタミンを含有し、前記治療抵抗性うつ病の症状を軽減するまたは排除するために十分な用量で前記患者に鼻内投与されるものであることを特徴とする組成物。
【請求項２】
前記組成物が、医薬的に許容される担体をさらに含有し、約０．１ｍｇ／ｋｇ／日から約３．０ｍｇ／ｋｇ／日の用量のケタミンが提供されるように投与されるものであることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記治療抵抗性うつ病の症状が、前記組成物の鼻内投与から２時間以内に緩和される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
単回用量の前記組成物が鼻内投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
多回用量の前記組成物が鼻内投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記組成物の単回鼻内投与が、前記うつ病の影響を７日間緩和するために十分である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記組成物は、医薬的に有効な用量の２番目の薬剤と組み合わせて投与されるものであることを特徴とし、前記２番目の薬剤が抗うつ薬である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記抗うつ薬が、リチウム、医薬抗うつ薬、ハーブ抗うつ薬、抗痙攣薬、気分安定薬、抗精神病薬、およびベンゾジアゼピンの少なくとも１つのメンバーから成る群より選択される、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
１またはそれ以上の成分をその中に密に閉じ込めて含有する薬剤を鼻内経路で送達するための担体を含むキットであって、ａ）第一成分はケタミンを含み；およびｂ）第二成分はうつ病の治療において有用な向精神薬を含むキット。
【請求項１０】
前記第二成分が、リチウム、医薬抗うつ薬、ハーブ抗うつ薬、抗痙攣薬、気分安定薬、抗精神病薬、およびベンゾジアゼピンから成る群より選択される、請求項９に記載のキット。
【請求項１１】
ケタミンのエアロゾルスプレー製剤および医薬的に許容される分散剤を含有する鼻スプレー吸入器を含む、ケタミンの患者による自己投与のための装置であって、前記装置は、うつ病を緩和するために有効なケタミンの用量を含有するが、このケタミンの用量は、不快気分を引き起こすレベルより下であるように医師または医療提供者によって決定される、スプレーを形成することによって一定量のエアロゾル製剤を分散するように定量される装置。
【請求項１２】
治療抵抗性うつ病に対してヒト患者を治療するための組成物であって、前記組成物はケタミンを含有し、前記治療抵抗性うつ病の症状を軽減するまたは排除するために十分な用量で前記患者に多回用量で静脈内投与されるものであることを特徴とする、組成物。
【請求項１３】
前記組成物が、医薬的に許容される担体をさらに含有し、約０．１ｍｇ／ｋｇ／日から約３．０ｍｇ／ｋｇ／日の用量のケタミンが提供されるように投与されるものであることを特徴とする、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記治療抵抗性うつ病の症状が、前記組成物の投与から２時間以内に緩和される、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１５】
１４日間に少なくとも６回投与されるものである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１６】
１４日間に少なくとも７回投与されるものである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１７】
１４日間に少なくとも８回投与されるものである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１８】
１４日間に少なくとも９回投与されるものである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１９】
２１日間に少なくとも６回投与されるものである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項２０】
２１日間に少なくとも７回投与されるものである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項２１】
２１日間に少なくとも８回投与されるものである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項２２】
２１日間に少なくとも９回投与されるものである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項２３】
前記組成物は、医薬的に有効な用量の２番目の薬剤と組み合わせて投与されるものであることを特徴とし、前記２番目の薬剤が抗うつ薬である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項２４】
前記抗うつ薬が、リチウム、医薬抗うつ薬、ハーブ抗うつ薬、抗痙攣薬、気分安定薬、抗精神病薬、およびベンゾジアゼピンの少なくとも１つのメンバーから成る群より選択される、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
治療抵抗性うつ病に対してヒト患者を治療するための組成物であって、前記組成物はケタミンを含有し、前記治療抵抗性うつ病の症状を軽減するまたは排除するために十分な用量で前記患者に経皮投与されるものであることを特徴とする、組成物。
【請求項２６】
前記組成物が、医薬的に許容される担体をさらに含有し、かつ約０．１ｍｇ／ｋｇ／日から約３．０ｍｇ／ｋｇ／日の用量のケタミンが提供されるように投与されるものであることを特徴とする、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
前記治療抵抗性うつ病の症状が、前記組成物の経皮投与から２時間以内に緩和される、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２８】
多回用量の前記組成物が経皮投与されることを特徴とする、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２９】
前記組成物は、医薬的に有効な用量の２番目の薬剤と組み合わせて投与されるものであることを特徴とし、前記２番目の薬剤が抗うつ薬である、請求項２５に記載の組成物。
【請求項３０】
前記抗うつ薬が、リチウム、医薬抗うつ薬、ハーブ抗うつ薬、抗痙攣薬、気分安定薬、抗精神病薬、およびベンゾジアゼピンの少なくとも１つのメンバーから成る群より選択される、請求項２５に記載の組成物。
【請求項３１】
ケタミンの製剤および医薬的に許容される担体を含有する経皮パッチを含む、ケタミンの患者による自己投与のための装置であって、前記装置は、うつ病を緩和するために有効なケタミンの用量を含有するが、ケタミンの用量は不快気分を引き起こすレベルより下であるように医師または医療提供者によって決定される、一定量の製剤を分散するように定量される装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】うつ病の治療のためのケタミンの投与
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月16日(2010.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子装置のＩＤを判断する方法であって、
前記装置の少なくとも１つの属性を得るステップと、
前記少なくとも１つの属性に基づいて前記装置に対応する一意の記録を特定するために、複数の電子装置の既存の記録を探索するステップと、
前記一意の記録が特定された場合、前記一意の記録から前記装置のＩＤを判断するステップと
を備えたことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つの属性をリモートサーバに通信するステップをさらに備え、
前記リモートサーバに存在する識別アプリケーションによって、前記探索するステップが実行されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つの属性が、前記装置に対して予め識別子が割り当てられている場合には該識別子を含むとともに、少なくとも１つの他の属性を含むものであり、
前記属性を得るステップが、前記装置から前記識別子を検索するステップを有し、
前記探索するステップが、最初に前記識別子に基づいて前記一意の記録を特定しようとした後に、前記識別子が存在しない場合には前記少なくとも１つの他の属性に基づいて前記一意の記録を特定するものであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記属性を得るステップが、前記装置の複数の属性を収集するものであり、
前記ＩＤを判断するステップが、前記収集された複数の属性のうちの所定の数の属性が前記一意の記録の中の対応する属性とは異なるか否かを判断するものであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記収集された属性の所定の数の属性が異なると判断された場合は、前記装置は新たな装置であると判断し、新たな識別子を前記装置に対して設定することを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記探索するステップが、前記少なくとも１つの属性と、複数の電子装置に対する既存の記録に格納されている対応する属性とを比較するものであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記探索するステップが、識別子が前記装置に予め設定されていない、または、前記装置から有効な識別子が得られない場合には、前記装置に識別子を設定するものであることを特徴とする請求項６記載の方法。
【請求項８】
一意の記録が特定された場合には、
前記識別子が前記一意の記録から識別子を取り出して、前記識別子を設定することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
一意の記録が特定されなかった場合には、
前記探索するステップが、前記装置に対して新たな識別子の生成および設定を行ない、前記装置に関する新たな記録を生成することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１０】
前記識別子は電子シリアル番号（ＥＳＮ）であることを特徴とする請求項３または９記載の方法。
【請求項１１】
前記属性を得るステップが、前記装置に組み込まれたハードウェアおよび／またはソフトウェアに関するデータポイントを含む複数の属性を収集するものであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１２】
前記データポイントには、装置の型および／またはモデル、装置のマザーボードのシリアルナンバー、装置のＵＵＩＤ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ  Ｕｎｉｑｕｅ  Ｉｄｅｎｔｉｆｉｅｒ）、ハード装置のシリアルナンバー、マルチネットワークカードのＭＡＣアドレス、ＲＡＭのシリアルナンバー、および、バッテリーのシリアルナンバーのうち少なくとも２つを含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記探索するステップが、各データポイントと前記既存の記録に格納されている対応するデータポイントとを順に比較し、特定の一致しているデータポイントで唯一の既存の記録が検出されたときに、一意の記録を特定するものであることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
一致しているデータポイントが特定されると、前記一意の記録に対応する識別子を前記装置に設定することを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記ＩＤを判断するステップが、前記装置を特定の所有者又はエンティティに関連付けることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１６】
ハードウェアおよびソフトウェアと、
ハートウェアおよび／またはソフトウェアと相互に関連する属性収集アプリケーションとを備えた電子装置であって、
前記属性収集アプリケーションが、該装置に組み込まれたハードウェアおよび／またはソフトウェアのデータポイントを含む複数の属性を収集するものであり、
前記属性が、該装置に対応する一意の記録を特定するために用いられるものであり、
該電子装置のＩＤが、前記一意の記録に基づいて判断されることが可能なものであることを特徴とする電子装置。
【請求項１７】
ネットワークに接続された電子装置のＩＤを遠隔で判断するシステムであって、
請求項１６記載の電子装置と、
ネットワークに接続されたリモートサーバとを有し、
前記リモートサーバが、
前記複数の属性に基づいて前記装置に対応する一意の記録を特定するとともに、前記一意の記録が特定された場合には前記一意の記録から前記装置のＩＤを判断するために、既存の複数の電子装置に関する記録を探索するステップを実行する識別アプリケーションを備えたことを特徴とするシステム。
【請求項１８】
ネットワークに接続された電子装置を遠隔で識別するサーバであって、
前記装置に組み込まれたハードウェアおよび／またはソフトウェアのデータポイントを含む複数の属性を受け取るステップと、
前記複数の属性に基づいて前記装置に対応する一意の記録を特定するとともに、前記一意の記録が特定された場合には前記一意の記録から前記装置のＩＤを判断するために、既存の複数の電子装置に関する記録を探索するステップと、
を該サーバに実行させる識別アプリケーションを備えたことを特徴とするサーバ。
【請求項１９】
属性収集アプリケーションが、前記属性を得るステップを実行して、前記装置に組み込まれたハードウェアおよび／またはソフトウェアのデータポイントを含む複数の属性を収集するものであり、
前記複数の属性は、前記装置に対応する一意の記録を特定するために用いられることを特徴とする請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月19日(2010.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）に関連する地理的ロケーション情報をインスタント・メッセージング・サーバ（１１０）にリクエストするステップと、
該モバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）に関連する該地理的ロケーション情報を該インスタント・メッセージング・サーバ（１１０）から受信するステップとを含み、該地理的ロケーション情報が無線ネットワーク（１０５）から取得される、方法。
【請求項２】
請求項１の方法において、該地理的ロケーション情報が少なくとも地図を含む、方法。
【請求項３】
請求項２の方法において、該地理的ロケーション情報がさらに、該モバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）の少なくとも地理的位置を含み、該地図が該モバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）の地理的位置及びモバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）を囲むエリアを示す、方法。
【請求項４】
請求項３の方法において、該地理的位置が少なくとも緯度及び経度を含む、方法。
【請求項５】
請求項１の方法において、該地理的ロケーション情報が該モバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）の地理的位置を図示する地図を含む、方法。
【請求項６】
請求項５の方法において、該地理的位置が少なくとも緯度及び経度を含む、方法。
【請求項７】
請求項１の方法において、該地理的ロケーション情報がインスタントメッセージを介して受信される、方法。
【請求項８】
請求項１の方法において、該地理的ロケーション情報が存在情報の形式で受信される、方法。
【請求項９】
モバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）に関連する地理的ロケーション情報のリクエストを受信するステップと、
該地理的ロケーション情報のリクエストを該モバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）に転送するステップと、
該転送されたリクエストに応答して、該モバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）から受信した第１のインスタントメッセージに基づいて、該モバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）に関連する地理的ロケーション情報を取得するかを判断するステップと、
を含む方法。
【請求項１０】
モバイル・インスタント・メッセージング・ユーザ（１０６）に関連する地理的ロケーション情報を、無線ロケーション装置（１０４）及びマップサーバ（１０８）の少なくとも１つから取得するステップと、
該取得された地理的ロケーション情報を、インスタントメッセージングユーザ（１０２）に存在情報の形式で又はインスタントメッセージを介して送信するステップと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月9日(2010.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒドロシロキサンと以下の式Ｉの構造単位を含むポリフルオレンとの反応から導かれる不溶性ポリマー組成物。
【化１】
2009530485.tif 000001
式中、Ｒ1及びＲ2は独立にアルキル、置換アルキル、アルケニル、アルキニル、置換アルケニル、置換アルキニル、アルキルオキシ、置換アルコキシ、アルケノキシ、アルキノキシ、置換アルケノキシ、置換アルキノキシ又はこれらの組合せであり、Ａｒ1及びＡｒ2は独立にアリール又は置換アリールであり、ｍ及びｎは独立に０又は１であり、Ｒ1及びＲ2の少なくとも一方はアルケニル、アルキニル、置換アルケニル又は置換アルキニルである。
【請求項２】
ヒドロシロキサンが次式の構造単位を含む、請求項１記載の不溶性ポリマー組成物。
【化２】
2009530485.tif 000002
式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は独立にＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、フェニル又は以下に示す基であり、ｐ及びｑは独立に０又は１〜１００の整数であり、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15の２以上はＨである。
【化３】
2009530485.tif 000003
【請求項３】
ｐが１〜２０の整数である、請求項２記載の不溶性ポリマー組成物。
【請求項４】
Ｒ3及びＲ7がＨである、請求項２又は請求項３記載の不溶性ポリマー組成物。
【請求項５】
Ｒ5がＨである、請求項２乃至請求項４のいずれか１項記載の不溶性ポリマー組成物。
【請求項６】
Ｒ9がフェニルである、請求項２乃至請求項５のいずれか１項記載の不溶性ポリマー組成物。
【請求項７】
Ｒ4、Ｒ6、Ｒ8及びＲ10がメチルである、請求項２乃至請求項６のいずれか１項記載の不溶性ポリマー組成物。
【請求項８】
ヒドロシロキサンと式Ｉの構造単位を含むポリフルオレンとビニルシロキサンとの反応から導かれる、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の不溶性ポリマー組成物。
【請求項９】
Ｒ2がＣ3-20アルケニル又はＣ3-20アルキニルである、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の不溶性ポリマー組成物。
【請求項１０】
Ｒ2がＣ3-8アルケニル又はＣ4-8アルキニルである、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の不溶性ポリマー組成物。
【請求項１１】
Ｒ1がＣ3〜Ｃ8アルキル又はＣ3-20アルキニルである、請求項９記載の不溶性ポリマー組成物。
【請求項１２】
ポリフルオレンが以下の構造単位の１種以上を含む、請求項１乃至請求項１１のいずれか１項記載の不溶性ポリマー組成物。
【化４】
2009530485.tif 000004
【請求項１３】
ポリフルオレンが次式の構造単位を含む、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の不溶性ポリマー組成物。
【化５】
2009530485.tif 000005
【請求項１４】
ポリフルオレンが次式の構造単位を含む、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の不溶性ポリマー組成物。
【化６】
2009530485.tif 000006
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１４のいずれか１項記載の不溶性ポリマー組成物を含んでなる光電子デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
様々な実施形態では、ｐは１〜２０の整数であり、或いはＲ3及びＲ7及び／又はＲ5はＨであり、或いはＲ9はフェニルであり、或いはＲ4、Ｒ6、Ｒ8及びＲ10はメチルである。本発明のポリマー組成物中に使用できる例示的なヒドロシロキサンには、ヒドリド末端メチルヒドロシロキサン−フェニルメチルシロキサンコポリマー、ヒドリド末端ポリジメチルシロキサン、メチルヒドロシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマー、ポリメチルヒドロシロキサン、ポリエチルヒドロシロキサン、ヒドリド末端ポリフェニル−（ジメチルヒドロシロキシ）シロキサン、ヒドリド末端メチルヒドロシロキサン−フェニルメチルシロキサンコポリマー、メチルヒドロシロキサン−オクチルメチルシロキサンコポリマー及びヒドリドＱ樹脂がある。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月31日(2011.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも１種の式Ｉのアルケン
ＸＣＦＺＲ３−Ｚ（Ｉ）
(式中、Ｘは、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４またはＣ５の不飽和の、置換されているまたは置換されていない基であり、各Ｒは独立に、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、ＩまたはＨであり、ｚは１〜３である)、および
（ｂ）少なくとも１種のフッ素化エーテル
を含む発泡剤。
【請求項２】
前記少なくとも１種のアルケンが、シスＨＦＯ−１２３４ｚｅ、トランスＨＦＯ−１２３４ｚｅ、ＨＦＣＯ−１２３３ｘｆ、およびＨＦＣＯ−１２３３ｚｄの少なくとも１種を含む、請求項１に記載の発泡剤。
【請求項３】
前記少なくとも１種のアルケンが、式ＩＩの化合物
【化１】
2009530489.tif 000001
（式中、各Ｒは独立に、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、ＩまたはＨであり、
Ｒ’は（ＣＲ２）ｎＹであり、
ＹはＣＲＦ２であり、
ｎは、０または１である）
である、請求項１に記載の発泡剤。
【請求項４】
前記フッ素化エーテルが、以下の式（ＩＩＩ）
ＣａＨｂＦｃ−Ｏ−ＣｄＨｅＦｆ（ＩＩＩ）
（式中、
ａ＝１〜６であり、
ｂ＝１〜１２であり、
ｃ＝１〜１２であり、
ｄ＝１〜２であり、
ｅ＝０〜５であり、
ｆ＝０〜５であり、
前記Ｃａの１つが、前記Ｃｄの１つと結合して、シクロフルオロエーテルを形成してもよい）
である、請求項１に記載の発泡剤。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月12日(2010.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
将来の炎症性疾患を発症する対象の危険性プロファイルを特徴付けるのを補助するための方法であって、下記工程：
該対象から得られた体液または身体組織サンプルにおけるゲルゾリンのレベルを予備決定値と比較すること、及び、
該予備決定値との比較におけるゲルゾリンのレベルに基づいて炎症性疾患を発症する対象の危険性プロファイルを特徴付けること、ここで、該予備決定レベル以下のゲルゾリンのレベルは該対象が炎症性疾患を発症する危険性が上昇していることを示し、該予備決定レベル以上のゲルゾリンのレベルは該対象が炎症性疾患を発症する危険性が上昇していないことを示すこと、
を含む上記方法。
【請求項２】
将来の炎症性疾患を発症する対象の危険性プロファイルを特徴付けるのを補助するための方法であって、下記工程：
該対象から得られた体液または身体組織サンプルにおけるゲルゾリンのレベルを第１の予備決定値と比較することにより第１の危険性の値を確立すること、
該被験体から得られたサンプルにおける炎症の第２のマーカーのレベルを第２の予備決定値と比較することにより第２の危険性の値を確立すること、及び、
該第１の危険性の値及び該第２の危険性の値の組み合わせに基づいて炎症性疾患を発症する対象の危険性プロファイルを特徴づけること、ここで、該第１の危険性の値及び該第２の危険性の値の組み合わせは該第１及び第２の危険性の値とは異なる第３の危険性の値を確立すること、
を含む上記方法。
【請求項３】
炎症性疾患を有するか発症する危険性のある対象を治療するための組成物であって、該組成物はゲルゾリンの有効量を含み、そのような治療を必要とする対象に投与されることを特徴とする、組成物。
【請求項４】
炎症性疾患を有するか発症する危険性のある対象を治療するための組成物であって、該組成物はゲルゾリンの有効量を含み、そのような治療を必要とする対象に投与されて該対象のゲルゾリンレベルを予備決定値より高値にまで上昇させるものであることを特徴とする、組成物。
【請求項５】
ゲルゾリンの正常値未満を有することが分かっている対象を治療して、炎症性疾患の危険性を低減するための組成物であって、該組成物は有効量のゲルゾリンを含み、該組成物は、必要に応じて炎症性疾患を対象が発症する危険性を低減するために有効な量の第２の薬剤と組み合わせて投与されるものであることを特徴とする、組成物。
【請求項６】
ゲルゾリンの正常値未満を有することが分かっている対象を治療して、炎症性疾患の危険性を低減するための組成物であって、該組成物は有効量のゲルゾリンを含み、該組成物は、必要に応じて予備決定値より高値まで対象におけるゲルゾリンのレベルを上昇させるために有効な量の第２の薬剤と組み合わせて投与されるものであることを特徴とする、組成物。
【請求項７】
ゲルゾリンの正常未満のレベルを有する対象を治療するためのキットであって、該キットは、炎症性疾患を治療するため、又はその危険性を低減するための第１の治療および第２の薬剤を含み、該第２の薬剤は、該第１の治療後に該対象においてゲルゾリンの予備決定レベルが達成されていない場合に、該対象を治療するために使用されるものであることを特徴とする、キット。
【請求項８】
下記工程：
（ｉ）見かけ上健康な対照集団におけるゲルゾリンのレベルに相当する予備決定値に、症性疾患を治療するため、又はその危険性を低減するための薬剤を用いた療法を受けている対象から得られたゲルゾリンのレベルを比較すること、及び、
（ｉｉ）（ｉ）における該対象由来の体液または身体組織サンプル中のゲルゾリンのレベルが該予備決定レベルまたはそれより上であるかどうかを判定すること、ここで該判定は療法が有効であるかどうかを示すものであること、
を含む対象における炎症性疾患を治療するため、又はその危険性を低減するための療法の有効性を評価するのを補助するための方法。
【請求項９】
下記工程：
（ｉ）ゲルゾリンのレベルに相当する予備決定値に、炎症性疾患を治療するため、又はその危険性を低減するための療法を受けている対象から得られた体液または身体組織サンプル中のゲルゾリンのレベルを比較すること、
（ｉｉ）該対象から得られた体液または身体組織中のゲルゾリンのレベルが予備決定レベル以下であるかどうかを判定すること、及び、
（ｉｉｉ）そのような判定に基づいて療法の経過に関する決定を下すこと、
を含む対象における療法の経過に関して決定を下すのを補助するための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月12日(2010.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生産電子デバイス製造システムと関連した参照電子デバイス製造システムの参照パラメータを測定する工程と、
前記測定された参照パラメータを用いて情報を生成する工程と、
前記情報を分析して、前記生産電子デバイス製造システムの少なくとも１つのパラメータを予測する工程とを含む方法。
【請求項２】
前記情報を分析して、前記生産電子デバイス製造システムの少なくとも１つのパラメータを予測する工程が、前記生産電子デバイス製造システムの流出物に関するパラメータを予測する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記生産電子デバイス製造システムのパラメータを測定する工程を含み、
前記情報を分析して、前記生産電子デバイス製造システムの少なくとも１つのパラメータを予測する工程が、前記生産パラメータを、前記参照パラメータと比較する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記生産電子デバイス製造システムのパラメータを測定する工程を含み、
前記情報を分析して、前記生産電子デバイス製造システムの少なくとも１つのパラメータを予測する工程が、前記生産パラメータの前記測定に基づいて、前記生産電子デバイス製造システムからの少なくとも１つのパラメータを予測する関数を選択する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記生産電子デバイス製造システムのパラメータを測定する工程を含み、
前記生産電子デバイス製造システムのパラメータを測定する工程が、
時間ｔ１で第１の少なくとも１つのパラメータを測定する工程と、
時間ｔ２で第２の少なくとも１つのパラメータを測定する工程と、
前記第１の少なくとも１つのパラメータを、前記第２の少なくとも１つのパラメータと差異的に比較する工程とを含む請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記生産電子デバイス製造システムのパラメータを測定する工程を含み、
前記生産電子デバイス製造システムのパラメータを測定する工程が、
時間ｔ１で第１の少なくとも１つのパラメータを測定する工程と、
時間ｔ２で第２の少なくとも１つのパラメータを測定する工程と、
前記第１の少なくとも１つのパラメータを、前記第２の少なくとも１つのパラメータと一体的に比較する工程とを含む請求項１記載の方法。
【請求項７】
生産電子デバイス製造システムからの生産パラメータを測定する工程と、
前記生産パラメータを、プログラムを用いて、参照システムに関するデータベースと比較する工程と、
前記比較に基づいて、前記生産電子デバイス製造システムの少なくとも１つのパラメータを予測する工程とを含む方法。
【請求項８】
前記生産電子デバイス製造システムの少なくとも１つのパラメータを予測する工程が、
時間ｔ１で第１の少なくとも１つのパラメータを測定する工程と、
時間ｔ２で第２の少なくとも１つのパラメータを測定する工程と、
前記第１の少なくとも１つのパラメータを、前記第２の少なくとも１つのパラメータと差異的に比較する工程とを含む請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記生産電子デバイス製造システムの少なくとも１つのパラメータを予測する工程が、
時間ｔ１で第１の少なくとも１つのパラメータを測定する工程と、
時間ｔ２で第２の少なくとも１つのパラメータを測定する工程と、
前記第１の少なくとも１つのパラメータを、前記第２の少なくとも１つのパラメータと一体的に比較する工程とを含む請求項７記載の方法。
【請求項１０】
参照電子デバイス製造システムからの測定に基づいて、データベース及びプログラムを作成する工程と、
生産電子デバイス製造システムにおいて、前記データベース及びプログラムを利用して、前記生産電子デバイス製造システムのための予測解を作成する工程と、
前記生産電子デバイス製造システムを、前記予測解に従って操作する工程とを含む電子デバイスを製造する方法。
【請求項１１】
生産電子デバイス製造システムにおいて、前記データベース及びプログラムを利用して、前記生産電子デバイス製造システムのための予測解を作成する工程が、
前記データベース及びプログラムを含むインタフェースにおいて、前記生産電子デバイス製造システムの化学分配ユニット及び処理チャンバから、データを受信する工程と、
前記受信した情報、データベース及びプログラムを利用して、前記生産電子デバイス製造システムの流出物ガス及びその流れについての情報を判断する工程と、
前記流出物ガス及びその流れについての前記情報に基づいて、前記生産電子デバイス製造システムのための予測解を作成する工程とを含む請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
生産電子デバイス製造システムにおいて、前記データベース及びプログラムを利用して、前記生産電子デバイス製造システムのための予測解を作成する工程が、
第１の時間で、前記生産電子デバイス製造システムについての第１の操作及び状況データを受信し、データベース及びプログラムを含む前記インタフェースに、かかるデータをストアする工程と、
第２の時間で、前記生産電子デバイス製造システムについての第２の操作及び状況データを受信し、インタフェースに、かかるデータをストアする工程と、
前記第１の時間に受信した前記データを、前記第２の時間に受信したデータと比較して、差異データを作成する工程と、
前記差異データ、データベース及びプログラムを利用して、前記生産電子デバイス製造システムのコンポーネントの保守の必要性を予測する工程と、
前記差異データに基づいて、前記生産電子デバイス製造システムのための予測解を作成する工程とを含む請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
予測解に関する情報を提供するように適合されたインタフェースであって、
生産電子デバイス製造システムから情報を送受信するように適合された通信ポートと、
前記通信ポートに通信するように結合され、前記情報を処理して、前記電子デバイス製造システムの少なくとも１つのパラメータを予測するプロセッサとを含むインタフェース。
【請求項１４】
予測解に関する情報を提供するように適合されたインタフェースと、
前記インタフェースに結合され、予測解に関する情報を受信するように適合された電子デバイス製造ツールとを含むシステム。
【請求項１５】
前記インタフェースが、参照システムに関する情報のレポジドリである請求項１４記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月12日(2010.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子デバイス製造システムであって、
プロセスチャンバと、
インタフェースと、
軽減システムを備え、
プロセスチャンバは、望ましくない物質を含む流出物を産出するように用いられ、
インタフェースは電子デバイス製造システムについての情報を分析し、電子デバイス製造システムの稼動のための１又はそれ以上のパラメータを決定し、
電子デバイス製造システムは、インタフェースにより決定された１又はそれ以上のパラメータを用いて稼動するように用いられる電子デバイス製造システム。
【請求項２】
前記軽減システムは、前記インタフェースにより決定された１又はそれ以上のパラメータを用いて、望ましくない物質を希釈するように用いられる請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記情報が、前記電子デバイス製造システムにより提供される情報を含む請求項１記載のシステム。
【請求項４】
前記１又はそれ以上のパラメータが予測解を含む請求項１記載のシステム。
【請求項５】
前記軽減システムが、プラズマ軽減システムである請求項１記載のシステム。
【請求項６】
前記軽減システムが、触媒軽減システムである請求項１記載のシステム。
【請求項７】
前記軽減システムが、燃焼軽減システムである請求項１記載のシステム。
【請求項８】
前記情報はプロセスチャンバにより提供される情報を含む請求項１記載のシステム。
【請求項９】
前記情報は軽減システムにより提供される情報を含む請求項１記載のシステム。
【請求項１０】
軽減システムにより情報を受信する工程であって、前記情報が、望ましくない物質を有する流出物についてのものである工程と、
軽減システムで前記流出物を受ける工程とを含む方法。
【請求項１１】
望ましくない物質に関する前記情報が、予測解を含む請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記情報が、インタフェースにより提供される請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
前記電子デバイス製造システムに関する操作情報を、前記インタフェースに提供する工程を含む請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記望ましくない物質を、前記軽減システムにより希釈する工程を含む請求項１０記載の方法。
【請求項１５】
前記望ましくない物質を、前記軽減システムにより希釈する工程が、前記望ましくない物質を反応物質と反応させる工程を含む請求項１４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月19日(2011.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチングプロセス中、露出される低誘電率の薄膜を有するワークピースのプラズマエッチング方法であって、
前記ワークピースの上面にフォトレジストマスクを形成する工程であって、前記マスクが、エッチングされるホール位置を画定するアパーチャを含む工程と、
前記ワークピースを、プラズマリアクタチャンバに配置する工程と、
前記チャンバに、フルオロカーボン又はフルオロ−ハイドロカーボン種を含む種類の重合エッチングプロセスガスを導入し、ＲＦプラズマソース電力及びＲＦプラズマバイアス電力をチャンバに結合することによりエッチング工程を実施して、（ａ）前記フォトレジストマスクの前記アパーチャと位置合わせして、前記ワークピースにホールをエッチングするエッチング種と、（ｂ）前記エッチング工程中、前記フォトレジストマスクの前記表面にポリマー層として堆積する重合種とのプラズマを生成する工程と、
前記フォトレジストマスクを除去する前に、
（ａ）ＲＦプラズマソース電力を前記チャンバに結合し、一方で、ＲＦプラズマバイアス電力を前記チャンバに実質的に結合しないことにより、ポリマー材料を含む種類の残渣を、前記チャンバの天井を含むチャンバ表面から除去し、前記残渣が前記チャンバ表面から除去されるまで、水素含有ガスを前記チャンバに導入し、
（ｂ）ＲＦプラズマバイアス電力を前記チャンバに結合し、一方で、ＲＦプラズマソース電力を前記チャンバに実質的に結合しないことにより、前記ポリマー層を、前記フォトレジストマスクの前記表面から除去し、前記ポリマー層が、前記フォトレジストマスクの表面から除去されるまで、酸素及び一酸化炭素を含むプロセスガスをチャンバに導入する工程と、
前記ワークピースの前記フォトレジストをストリッピングオフする工程とを含む方法。
【請求項２】
残渣をチャンバ表面から除去する工程において、前記水素含有ガスがアンモニアである請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記エッチング工程及び残渣をチャンバ表面から除去する工程において、ＲＦプラズマソース電力を前記チャンバに結合する工程が、前記ワークピースを覆う前記チャンバの天井電極を通して、ＲＦ電力を容量結合する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記エッチング工程及び前記ポリマー層を前記フォトレジストマスクから除去する工程において、ＲＦプラズマバイアス電力を印加する工程が、ＨＦ及びＬＦ電力のうち少なくとも１つを、前記ワークピースに結合する工程を含む請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記ＲＦプラズマソース電力が、約５０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚのＶＨＦ周波数である請求項３記載の方法。
【請求項６】
前記ＲＦプラズマソース電力が約１６２ＭＨｚである請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記ＲＦプラズマバイアス電力が、約１３．５６ＭＨｚのＨＦコンポーネントと、約２ＭＨｚのＬＦコンポーネントとを含む請求項４記載の方法。
【請求項８】
前記フォトレジストをストリッピングする工程が、ＲＦプラズマソース電力とＲＦプラズマバイアス電力を、前記チャンバに結合し、前記レジストが前記ワークピースから除去されるまで、水素含有ガスを前記チャンバに導入する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記フォトレジストをストリッピングする工程の前記水素含有ガスが、アンモニアである請求項８記載の方法。
【請求項１０】
チャンバ表面から残渣を除去する工程において、前記エッチング工程により形成された前記ワークピースにおける開口部の下部に、プラズマイオンが指向されないよう、前記ＲＦプラズマバイアス電力が十分に低いレベルである請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記十分に低いレベルがゼロである請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記ポリマー層を、前記フォトレジストマスクから除去する工程において、前記チャンバにおける酸素種が解離しないよう、前記ＲＦプラズマソース電力が十分に小さい大きさである請求項１記載の方法。
【請求項１３】
前記十分に小さい大きさがゼロである請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
残渣をチャンバ表面から除去する工程が、約１０ｍＴの低チャンバ圧及び約３００ｓｃｃｍの前記窒素含有プロセスガスの高フローレートを維持する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項１５】
前記ポリマー層を前記フォトレジストから除去する工程が、約５ｍＴの低チャンバ圧及び夫々約１００ｓｃｃｍと５０ｓｃｃｍの酸素と一酸化炭素のフローレートを維持する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項１６】
前記低誘電率薄膜が、前記ワークピースの他の薄膜層の下にある拡散バリア層であり、前記プロセスが、前記拡散バリア層が露出した際に、前記エッチング工程を停止する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項１７】
前記他の薄膜層が、多孔性オルガノシリケートガラスを含む種類の低誘電率材料を含む請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
前記拡散バリア層が、前記ワークピースの金属線を覆い、前記拡散バリア層が、窒素ドープ炭化ケイ素を含む種類の前記金属線からの材料の拡散をブロックすることのできる低誘電率材料を含む請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
重合エッチングプロセスガスを用いて、ワークピース上のフォトレジストマスクにプラズマエッチング工程を実施するプラズマエッチング方法であって、前記重合エッチングプロセスガスは、前記エッチング工程中に前記フォトレジストマスクの表面にポリマー層として堆積するプラズマ重合種を生成するものであり、前記エッチング工程後及び前記フォトレジストマスク除去前に、
（ａ）ＲＦプラズマソース電力を前記チャンバに結合し、一方で、ＲＦプラズマバイアス電力を前記チャンバに実質的に結合しないことにより、ポリマー材料を含む種類の残渣を、前記チャンバの天井を含むチャンバ表面から除去し、前記残渣が前記チャンバ表面から除去されるまで、水素含有ガスを前記チャンバに導入し、
（ｂ）ＲＦプラズマバイアス電力を前記チャンバに結合し、一方で、ＲＦプラズマソース電力を前記チャンバに実質的に結合しないことにより、前記ポリマー層を、前記フォトレジストマスクの前記表面から除去し、前記ポリマー層が、前記フォトレジストマスクの表面から除去されるまで、酸素及び一酸化炭素を含むプロセスガスをチャンバに導入する工程とを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月2日(2010.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル画像合成を検出する方法であって：
非圧縮デジタル画像において、所定の圧縮アルゴリズムを用いた前記デジタル画像の以前の圧縮に特徴的な第一のアーチファクトを検出する段階と；
前記画像において補間マーカーを評価して補間結果を与える段階と；
前記評価の間に、前記圧縮アルゴリズムの第二のアーチファクトを打ち消す段階と；
前記補間結果に応じて前記画像を分類する段階とを有する、
方法。
【請求項２】
デジタル画像合成を検出する方法であって：
非圧縮デジタル画像を提供する段階と；
前記非圧縮デジタル画像において、所定の圧縮アルゴリズムを用いた前記デジタル画像の以前の圧縮に特徴的な第一のアーチファクトの存在を検出する段階と；
前記画像の二つ以上の異なる領域において補間マーカーを評価して前記領域のそれぞれの補間結果を与える段階と；
前記デジタル画像中に前記第一のアーチファクトが存在するとき、前記評価の間に、前記圧縮アルゴリズムの第二のアーチファクトを打ち消す段階と；
前記補間結果に応じて前記画像を分類する段階とを有する、
方法。
【請求項３】
デジタル画像合成を検出する方法であって：
非圧縮デジタル画像中でブロッキング・アーチファクトを検出する段階と；
前記ブロッキング・アーチファクトに関連する、圧縮により誘導された周期性アーチファクトを識別する段階と；
前記画像中の周期性を評価して補間結果を与える段階と；
前記評価の間に、前記圧縮により誘導された周期性アーチファクトを打ち消す段階と；
前記補間結果に応じて前記画像を分類する段階とを有する、
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月25日(2011.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
1個のボルト孔を有する第１の構成部品が、通常フォーク状をなし、２個のボルト孔を有する第２の構成部品に対してボルトにより連結されている航空機の負荷を伝達する構成部品を連結するボルト継ぎ手において、ボルト継ぎ手は二重構造であり、第１の構成部品（６）は均一の厚みを有し、ブッシング（１０）は構成部品（６）の表面に対して直交するように構成部品（６）内に挿入され、ブッシング（１０）内におけるボルト（１）の受容するための孔の軸線（A）は構成部品（６）の表面に対して斜状をなし、さらにブッシング（１０）の端面に対しても斜状をなし、ブッシング（１０）はナット（１１）と共に使用されるねじ付きブッシングであり、ボルト（１）が円錐形状をなし、円錐状の内周面を有し、かつスロットを備えたスリーブ（２）と互いに作用しあうことを特徴とするボルト継ぎ手。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年2月15日(2011.2.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５７】
図６を参照すると、例示的な後部を安定化した可動支持のモーメント誘発人工膝関節全置換術（ＭＩＴＫＡ）人工装具インサート６００が、人工装具脛骨の軸部６０６に装着されており、このインサート６００は患者の脛骨（図示せず）に埋め込まれることが好ましい。インサート６００は、インサート６００の内外中心線６０８から内側方向にオフセットされたポスト６０２を含み、インサートと大腿骨部品（図示せず）との間の回転軸６０５、及び脛骨の軸部６０６とインサート６００との間にある、内外中心線６０８から外側方向に変位した回転軸６０４が与えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月5日(2011.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作物穀粒の製粉性を高めるために作物穀粒を製粉前に処理する方法であって、作物穀粒の製粉性を高める１または複数の植物ホルモンに作物穀粒を暴露するステップを含む方法。
【請求項２】
作物穀粒が少なくとも胚乳とふすま層とを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
作物穀粒が穀物である請求項２に記載の方法。
【請求項４】
穀物がコムギである請求項３に記載の方法。
【請求項５】
作物穀粒を１〜２４時間処理する請求項１に記載の方法。
【請求項６】
作物穀粒を８〜１８時間処理する請求項５に記載の方法。
【請求項７】
作物穀粒を１４〜１６時間処理する請求項６に記載の方法。
【請求項８】
作物穀粒が１４〜１７％の含水率を有する請求項１に記載の方法。
【請求項９】
１または複数の植物ホルモンが、オーキシン、ジベレリンおよびアブシジン酸からなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
植物ホルモンがアブシジン酸のみである請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
植物ホルモンを、０．５〜５０ｍｇ／ｋｇ作物穀粒の最終濃度になるように添加する請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
植物ホルモンの最終濃度が１〜２０ｍｇ／ｋｇ作物穀粒である請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
植物ホルモンの最終濃度が２ｍｇ／ｋｇ作物穀粒である請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
作物穀粒を酵素に暴露するステップをさらに含む請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
酵素が植物細胞壁分解酵素である請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
植物細胞壁分解酵素が、キシラナーゼ、セルラーゼおよびリパーゼからなる群から選択される請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
植物細胞壁分解酵素がセルラーゼである請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
酵素の最終濃度が５０〜１０００ｍｇ／ｋｇ作物穀粒である請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
酵素の最終濃度が１００〜５００ｍｇ／ｋｇ作物穀粒である請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
酵素の最終濃度が２５０ｍｇ／ｋｇ作物穀粒である請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
コムギ穀粒の製粉性を高めるためにコムギ穀粒を製粉前に処理する方法であって、コムギ穀粒を、２ｍｇ／ｋｇ作物穀粒の最終濃度のアブシジン酸と２５０ｍｇ／ｋｇ作物穀粒の最終濃度のセルラーゼに、１４〜１６時間暴露して、コムギ穀粒の製粉性を高めるステップを含む方法。
【請求項２２】
請求項１〜２２のいずれか１項に従って作物穀粒を製粉前に処理するステップを含む、粉の製造方法。
【請求項２３】
請求項２２の方法に従って製造された粉。
【請求項２４】
請求項２３の粉を用いて製造された食品。
【請求項２５】
製粉性を高めるために作物穀粒を製粉前に処理するために使用される組成物であって、１種以上の植物ホルモンと、適当な担体または希釈剤とを含む組成物。
【請求項２６】
１または複数の植物ホルモンが、オーキシン、ジベレリンおよびアブシジン酸からなる群から選択される請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
植物ホルモンがアブシジン酸のみである請求項２６に記載の組成物。
【請求項２８】
植物ホルモンを、０．５〜５０ｍｇ／ｋｇ作物穀粒の最終濃度になるように添加する請求項２６または２７に記載の組成物。
【請求項２９】
最終濃度が１〜２０ｍｇ／ｋｇ作物穀粒である請求項２８に記載の組成物。
【請求項３０】
最終濃度が２ｍｇ／ｋｇ作物穀粒である請求項２９に記載の組成物。
【請求項３１】
さらに酵素を含む請求項２５〜２９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３２】
酵素が植物細胞壁分解酵素である請求項３１に記載の組成物。
【請求項３３】
植物細胞壁分解酵素が、キシラナーゼ、リパーゼおよびセルラーゼからなる群から選択される請求項３２に記載の組成物。
【請求項３４】
植物細胞壁分解酵素がセルラーゼである請求項３３に記載の組成物。
【請求項３５】
酵素の最終濃度が５０〜１０００ｍｇ／ｋｇ作物穀粒である請求項３１に記載の組成物。
【請求項３６】
酵素の最終濃度が１００〜５００ｍｇ／ｋｇ作物穀粒である請求項３５に記載の組成物。
【請求項３７】
酵素の最終濃度が２５０ｍｇ／ｋｇ作物穀粒である請求項３６に記載の組成物。
【請求項３８】
溶液である請求項２６〜３７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３９】
製粉性を高めるためにコムギ穀粒を製粉前に処理するための組成物であって、２ｍｇ／ｋｇ作物穀粒の最終濃度のアブシジン酸と、２５０ｍｇ／ｋｇ作物穀粒の最終濃度のセルラーゼと、適当な担体または希釈剤とを含む溶液である組成物。