【事件の表示】
　特許第５８９５３２８号発明「極低温冷却装置及び方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第５８９５３２８号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１〜１１、２４〕、〔１２〜２３〕について訂正することを認める。
　特許第５８９５３２８号の請求項１ないし２、４ないし２４に係る特許を維持する。
　特許第５８９５３２８号の請求項３に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。
【理　由】
第１ 手続の経緯  
　特許第５８９５３２８号の請求項１〜２４に係る特許についての出願は、２０１２年８月１３日（パリ条約による優先権主張外国庁受理　２０１１年８月１１日）を国際出願日とする出願であって、平成２８年３月１１日に特許権の設定登録がされ、その後、特許異議申立人ブルーフォース　クライオジェニクス　オイ　リミテッドより特許異議の申立てがされ、平成２９年１月２３日付けで取消理由が通知され、平成２９年４月２５日に意見書の提出及び訂正の請求がされ、平成２９年６月２８日に特許異議申立人から意見書の提出がされ、平成２９年８月３０日付けで取消理由通知（決定の予告）がされ、平成２９年１１月２４日に意見書の提出及び訂正の請求がされたものである。 
  
第２　訂正の請求についての判断  
１　訂正の内容  
　平成２９年１１月２４日の訂正請求書による訂正の請求は、「特許第５８９５３２８号の特許請求の範囲を本訂正請求書に添付した訂正請求書の請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１〜２４について訂正することを求める。」ものであり、その訂正（以下「本件訂正」という。）の内容は以下のとおりである。  
  
（訂正事項１）  
　特許請求の範囲の請求項１に「前記作動流体が完全にガス状にし」とあるのを、「前記作動流体を完全にガス状にし」に訂正し、「高温配置場所から前記標的領域に移動させる」とあるのを、「高温配置場所から前記高温配置場所よりも温度が低い前記標的領域に移動させる」に訂正し、「機械式冷凍機を用いて」とあるのを、「ＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機のいずれかを含む機械式冷凍機を用いて」に訂正する。  
（訂正事項２）  
　特許請求の範囲の請求項３を削除する。  
（訂正事項３）  
　特許請求の範囲の請求項５に「前記希釈冷凍機戻る」とあるのを、「前記希釈冷凍機へ戻る」に訂正する。  
（訂正事項４）  
　特許請求の範囲の請求項７に「前記作動流体を高温状態で」とあるのを、「前記作動流体を加熱されガス状にされた高温状態で」に訂正する。  
（訂正事項５）  
　特許請求の範囲の請求項８に「前記高温配置場所は、周囲環境内に位置している」とあるのを、「前記高温配置場所は、前記標的領域の外部の周囲環境内に位置している」に訂正する。  
（訂正事項６）  
　特許請求の範囲の請求項１２に「冷却する機械式冷凍機を含む」とあるのを、「冷却する、ＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機のいずれかを含む機械式冷凍機を含む」に訂正し、「前記作動流体が完全にガス状にし」とあるのを、「前記作動流体を完全にガス状にし」に訂正する。  
（訂正事項７）  
　特許請求の範囲の請求項１５に「連結可能であり、前記冷却用流体は、前記作動流体である」とあるのを、「連結可能である」に訂正する。  
（訂正事項８）  
　特許請求の範囲の請求項２０に「外部の場所から前記標的位置まで」とあるのを、「前記標的領域の外部の場所から前記標的領域まで」に訂正する。
（訂正事項９）  
　特許請求の範囲の請求項２４に「前記ステップ（ａ）及び前記ステップ（ｃ）〜（ｅ）を実施するようになったプログラムコード手段」とあるのを、「前記ステップ（ａ）及び前記ステップ（ｃ）〜（ｅ）をコントローラに実施させるようになったプログラムコード手段」に訂正する。  
（訂正事項１０）
　請求項４に「請求項１乃至３の何れか１項に記載の方法」とあるのを、「請求項１又は２に記載の方法」に訂正する。
　請求項５に「請求項１乃至４の何れか１項に記載の方法」とあるのを、「請求項１、２及び４の何れか１項に記載の方法」に訂正する。
　請求項６に「請求項１乃至５の何れか１項に記載の方法」とあるのを、「請求項１、２、４及び５の何れか１項に記載の方法」に訂正する。
　請求項８に「請求項１乃至７の何れか１項に記載の方法」とあるのを、「請求項１、２及び４乃至７の何れか１項に記載の方法」に訂正する。
　請求項９に「請求項１乃至８の何れか１項に記載の方法」とあるのを、「請求項１、２及び４乃至８の何れか１項に記載の方法」に訂正する。
　請求項１０に「請求項１乃至９の何れか１項に記載の方法」とあるのを、「請求項１、２及び４乃至９の何れか１項に記載の方法」に訂正する。
　請求項１１に「請求項１乃至１０の何れか１項に記載の方法」とあるのを、「請求項１、２及び４乃至１０の何れか１項に記載の方法」に訂正する。
　請求項２４に「請求項１乃至１１の何れか１項に記載の方法」とあるのを、「請求項１、２及び４乃至１１の何れか１項に記載の方法」に訂正する。
２　訂正の適否  
（１）訂正事項１について 
ア　訂正の目的  
　上記訂正事項１は、訂正前の請求項１の「液体で提供された前記作動流体を加熱して前記作動流体が完全にガス状にし」と、液体である作動流体を加熱した結果、当該作動流体が完全にガス状にするとの誤記について、完全にガス状にする対象が当該作動流体であることは前後の文脈から明らかであるところ、その誤記を訂正するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第２号に規定する誤記の訂正を目的とするものである。 
　また、標的領域について、「前記高温配置場所よりも温度が低い前記標的領域」であることを特定し、高温配置場所が標的領域以外の標的領域より温度の高い場所であることを特定するものであり、さらに、機械式冷凍機について、「ＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機のいずれかを含む」ことを特定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。  
  
イ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないこと  
　上記訂正事項１は、上記アのとおりであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第６項に適合するものである。  
  
ウ　願書に（最初に）添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であること  
　上記訂正事項１は、本件特許明細書の段落【００４９】に「スチル１４及び混合チャンバ１８の各々に設けられたヒータ（図１には示されていない）を作動させて希釈冷凍機１５を温め、それにより希釈冷凍機１５内のヘリウム同位体混合物の蒸発を生じさせる。第２の冷却回路内の弁により、ガスは、外部貯蔵容器３２中に抜けることができる。」、段落【００１５】に「クライオスタット内の低温及び低圧環境は、外部環境と著しい対照をなす条件を提供する。第１の温度は、代表的には、機械式冷凍機の最も低温の段の基準温度であり、かかる温度の代表的な例は、３〜４Ｋである。第２の温度は、代表的には、希釈冷凍機を用いて達成できるに過ぎず、数ミリケルビンであると言える。ステップ（ｂ）で言及される高温場所は、代表的には、約２９３〜２９８ケルビンの温度を有する周囲環境である。理解されるように、かかる周囲環境も又、代表的には、大気圧の状態にあり、その結果、サンプルは、周囲条件下で標的装置内に装填可能である。」、及び段落【００２５】に「代表的には、かかるクライオジェンフリーシステム内の一次冷却は、機械式冷凍機、例えばＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機（ＰＴＲ）によって提供される。」と記載されているから、願書に（最初に）添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第５項に適合するものである。  
  
（２）訂正事項２について 
ア　訂正の目的  
　上記訂正事項２は、訂正前の請求項３を削除するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。  
  
イ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないこと  
　上記訂正事項２は、上記アのとおりであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第６項に適合するものである。  
  
ウ　願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であること  
　上記訂正事項２は、上記アのとおりであるから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第５項に適合するものである。  
  
（３）訂正事項３について 
ア　訂正の目的  
　上記訂正事項３は、訂正前の請求項５の「前記希釈冷凍機戻る」が誤記していることが明らかであるところ、当該誤記を「前記希釈冷凍機へ戻る」と訂正するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第２号に規定する誤記の訂正を目的とするものである。  
  
イ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないこと  
　上記訂正事項３は、上記アのとおりであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第６項に適合するものである。  
  
ウ　願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であること  
　上記訂正事項３は、請求項５が引用する請求項１に「（ｄ）前記作動流体を前記希釈冷凍機に戻す」と記載されているから、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第５項に適合するものである。  
  
（４）訂正事項４について 
ア　訂正の目的  
　上記訂正事項４は、作動流体の高温状態について、高温状態とはどのような状態であるのか明確でなかったものを「加熱されガス状にされた高温状態」へと明確にするものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に規定する明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。  
  
イ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないこと  
　上記訂正事項４は、上記アのとおりであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第６項に適合するものである。  
  
ウ　願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であること  
　上記訂正事項４は、本件特許明細書の段落【００４９】、【００５０】に「スチル１４及び混合チャンバ１８の各々に設けられたヒータ（図１には示されていない）を作動させて希釈冷凍機１５を温め、それにより希釈冷凍機１５内のヘリウム同位体混合物の蒸発を生じさせる。第２の冷却回路内の弁により、ガスは、外部貯蔵容器３２中に抜けることができる。」、「希釈冷凍機１５内の作動冷却剤のうちの何割かが依然として液体として留まっている間、蒸発プロセスの速度を上げるために、ステップ１０４において、コントローラ３８は、冷却ライン３１内の弁及びポンプ３４を作動させて容器３２からのヘリウムガス混合物（これは、希釈冷凍機１５から受け取ったガス混合物である）を予備冷却システム中に供給する。」と記載されているから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第５項に適合するものである。  
  
（５）訂正事項５について 
ア　訂正の目的  
　上記訂正事項５は、訂正前の請求項８の「前記高温配置場所は、周囲環境内に位置している」が、「周囲」とは何の周囲であるのか明確でないところ、「前記標的領域外の周囲環境」であると明確とするものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に規定する明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。  
  
イ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないこと  
　上記訂正事項５は、上記アのとおりであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第６項に適合するものである。  
  
ウ　願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であること  
　上記訂正事項５は、本件特許明細書の段落【００１５】に「ステップ（ｂ）で言及される高温場所は、代表的には、約２９３〜２９８ケルビンの温度を有する周囲環境である。理解されるように、かかる周囲環境も又、代表的には、大気圧の状態にあり、その結果、サンプルは、周囲条件下で標的装置内に装填可能である。」と記載されているから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第５項に適合するものである。  
  
（６）訂正事項６について 
ア　訂正の目的  
　上記訂正事項６は、請求項１２の機械式冷凍機について、「ＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機のいずれかを含む」ことを特定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 
　また、訂正前の「液体で提供された前記作動流体を加熱して前記作動流体が完全にガス状にし」と、液体である作動流体を加熱した結果、当該作動流体が完全にガス状にするとの誤記について、完全にガス状にする対象が当該作動流体であることは前後の文脈から明らかであるところ、その誤記を訂正するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第２号に規定する誤記の訂正を目的とするものである。 
  
イ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないこと  
　上記訂正事項６は、上記アのとおりであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第６項に適合するものである。  
  
ウ　願書に（最初に）添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であること  
　上記訂正事項６は、本件特許明細書の段落【００４９】に「スチル１４及び混合チャンバ１８の各々に設けられたヒータ（図１には示されていない）を作動させて希釈冷凍機１５を温め、それにより希釈冷凍機１５内のヘリウム同位体混合物の蒸発を生じさせる。第２の冷却回路内の弁により、ガスは、外部貯蔵容器３２中に抜けることができる。」、及び段落【００２５】に「代表的には、かかるクライオジェンフリーシステム内の一次冷却は、機械式冷凍機、例えばＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機（ＰＴＲ）によって提供される。」と記載されているから、願書に（最初に）添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第５項に適合するものである。 
  
（７）訂正事項７について 
ア　訂正の目的  
　上記訂正事項７は、訂正前の請求項１５の「連結可能であり、前記冷却用流体は、前記作動流体である」との記載が、請求項１５が引用する請求項１４及び請求項１４が引用する請求項１２又は１３に「冷却用作動流体」が記載されておらず、不明瞭であるのを、「前記冷却用流体は、前記作動流体である」との記載を削除し、明確にしたものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に規定する明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。  
  
イ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないこと  
　上記訂正事項７は、上記アのとおりであり、請求項１５が引用する請求項１４に「作動流体」を用いて冷却することが特定されているから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第６項に適合するものである。  
  
ウ　願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であること  
　上記訂正事項７は、上記アのとおり「前記冷却用流体は、前記作動流体である」との記載を削除したものであり、請求項１５が引用する請求項１４に「作動流体」を用いて冷却することが特定されているから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第５項に適合するものである。  
  
（８）訂正事項８について 
ア　訂正の目的  
　上記訂正事項８は、「外部の場所」が何の外部であるのか不明瞭であったところ、「前記標的領域の外部の場所」と特定することで明確とするものであり、また、訂正前の「前記標的位置」がそれ以前に「標的位置」の記載がなく不明瞭であったところ、用語を統一して「前記標的領域」とすることで明確とするものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に規定する明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。  
  
イ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないこと  
　上記訂正事項８は、上記アのとおりであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第６項に適合するものである。  
  
ウ　願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であること  
　上記訂正事項８は、本件特許明細書の段落【００２４】に「システムの別の有利な特徴は、システムがサンプルと通信するための電気的及び光学的通信線のうちの一方又は各々を含む場合に提供できる。これら通信線は、標的装置の存否とは無関係に標的装置内に固定され、通信線は、外部の場所（例えば、制御システム）から標的位置まで提供されている。」、段落【００４２】に「図１に戻ってこれを参照すると、クライオスタット内の段相互間に設けられた配線が符号２７で示されており、これは、特に、孔２５から離れており、それによりコネクタ２１への電気的接続（幾つかの場合、光学的接続又は電気的接続と光学的接続の組み合わせ）をもたらしている。」、及び図１にクライオスタット１外の制御システム３８からドッキングステーション２０に配線２７が接続されている点が記載されているから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第５項に適合するものである。 
  
（９）訂正事項９について 
ア　訂正の目的  
　上記訂正事項９は、訂正前の請求項２４の「前記ステップ（ａ）及び前記ステップ（ｃ）〜（ｅ）を実施するようになったプログラムコード手段」がプログラム自体であるのか、制御手段であるのか等不明瞭であったところ、「前記ステップ（ａ）及び前記ステップ（ｃ）〜（ｅ）をコントローラに実施させるようになったプログラムコード手段」と明確とするものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第３号に規定する明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。  
  
イ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないこと  
　上記訂正事項９は、上記アのとおりであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第６項に適合するものである。  
  
ウ　願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であること  
　上記訂正事項９は、本件特許明細書の段落【００４９】に「ステップ１０３において、システムコントローラ３８は、スチル１４及び混合チャンバ１８の各々に設けられたヒータ（図１には示されていない）を作動させて希釈冷凍機１５を温め、それにより希釈冷凍機１５内のヘリウム同位体混合物の蒸発を生じさせる。」、段落【００５７】に「この場合、コントローラ３８は、予備冷却システムを作動させる。予備冷却回路内のポンプ３４は、ヘリウム３／４混合物を冷却ライン３１及び戻りライン３３から循環させてポンプ３４を通って戻し、そして再び閉回路内の冷却ライン３１に流入させるよう作動される。」、及び段落【００５９】に「コントローラ３８は、ポンプ３７及び関連の弁を作動させて希釈冷凍機にヘリウム３／４混合物の所定の「チャージ」を充填する（ステップ１１１）。」と記載されているから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第５項に適合するものである。  
  
（１０）訂正事項１０について 
 ア　訂正の目的  
　上記訂正事項１０は、上記訂正事項２の請求項３の削除に伴い、訂正前の請求項４〜６、８〜１１及び２４が択一的に引用する請求項の中から請求項３を削除するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。  
  
 イ　実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないこと  
　上記訂正事項１０は、上記アのとおりであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第６項に適合するものである。  
  
 ウ　願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であること
　上記訂正事項１０は、上記アのとおりであるから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、特許法第１２０条の５第９項の規定によって準用する第１２６条第５項に適合するものである。
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１〜３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項において準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合するので、訂正後の請求項〔１〜１１、２４〕、〔１２〜２３〕についての訂正を認める。  
  
  
第３　本件特許発明  
　上記のとおり本件訂正は認められるから、本件特許の請求項１〜２４に係る発明（以下「本件発明１〜２４」という。）は、訂正特許請求の範囲の請求項１〜２４に記載された以下の事項により特定される、次のとおりのものである。  
  
「【請求項１】 
　サンプルを受け入れる標的領域を、作動流体を収容している希釈冷凍機によって冷却する極低温冷却システムの作動方法であって、前記方法は、 
　（ａ）液体で提供された前記作動流体を加熱して前記作動流体を完全にガス状にし、その後、作動流体を前記希釈冷凍機から除去するステップと、 
　（ｂ）前記サンプルを含む標的装置を高温配置場所から前記高温配置場所より温度が低い前記標的領域に移動させるステップと、 
　（ｃ）ＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機のいずれかを含む機械式冷凍機を用いて前記標的装置を前記標的領域内で第１の温度まで予備冷却するステップと、 
　（ｄ）前記作動流体を前記希釈冷凍機に戻すステップと、 
　（ｅ）前記作動流体を用いて前記希釈冷凍機を作動させて前記標的装置を前記標的領域内で前記第１の温度よりも低い第２の温度まで冷却するステップと、 
　を含み、これらのステップ（ａ）〜（ｅ）の順序で実行する、方法。 
【請求項２】 
　前記希釈冷凍機は、スチル及び混合チャンバを有し、これらのスチル及び混合チャンバの各々がヒーターを備え、前記ステップ（ａ）が、これらの各ヒーターを作動させるステップを備える、請求項１記載の方法。 
【請求項３】 
　（削除） 
【請求項４】 
　前記標的装置を前記標的領域内に位置決めする前記ステップは、前記標的装置を熱伝導性部材に取り付け、前記熱伝導性部材を用いて前記標的装置の熱伝導による冷却を行うステップを含む、請求項１又は２に記載の方法。 
【請求項５】 
　前記ステップ（ｃ）は、前記作動流体が前記機械式冷凍機及び前記標的領域と熱的接触関係をなして配置された予備冷却回路内で流れるようにするステップを含み、前記ステップｄ）において、前記作動流体が予備冷却回路から除去されると共に前記希釈冷凍機へ戻る、請求項１、２及び４の何れか１項に記載の方法。 
【請求項６】 
　前記ステップ（ａ）は、前記希釈冷凍機の作動流体を空にするステップを含む、請求項１、２、４及び５の何れか１項に記載の方法。 
【請求項７】 
　前記ステップ（ａ）中、前記作動流体を加熱されガス状にされた高温状態で前記予備冷却回路中に提供して前記標的領域を加熱するステップを更に含む、請求項５又は６記載の方法。 
【請求項８】 
　前記高温配置場所は、前記標的領域の外部の周囲環境内に位置している、請求項１、２及び４乃至７の何れか１項に記載の方法。 
【請求項９】 
　前記ステップ（ｄ）に先立って、前記希釈冷凍機の温度は、約１０ケルビン以下である、請求項１、２及び４乃至８の何れか１項に記載の方法。 
【請求項１０】 
　前記ステップ（ｂ）において、前記標的装置を前記標的装置が装填組立体に取り付けられたままの状態で前記標的領域に移動させ、前記標的領域内にいったん配置されると、前記標的装置を前記装填組立体から解除し、前記装填組立体を引っ込める、請求項１、２及び４乃至９の何れか１項に記載の方法。 
【請求項１１】 
　前記ステップ（ａ）及び前記ステップ（ｃ）〜（ｅ）は、制御システムの制御下で自動的に実施される、請求項１、２及び４乃至１０の何れか１項に記載の方法。 
【請求項１２】 
　極低温冷却システムであって、 
　作動流体を用いて標的領域を冷却するよう構成された希釈冷凍機を含み、サンプルを含む標的装置が使用中、前記標的領域内に配置され、 
　前記標的装置を前記標的領域内で冷却する、ＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機のいずれかを含む機械式冷凍機を含む予備冷却システムを含み、 
　使用中、液体で提供された前記作動流体を加熱して前記作動流体を完全にガス状にし、前記作動流体を前記標的装置が前記標的領域のところに受け入れられる前に前記希釈冷凍機から除去し、前記予備冷却システムを作動させて前記機械式冷凍機を用いて前記標的装置を前記標的領域内で第１の温度まで予備冷却し、前記作動流体を前記希釈冷凍機に戻し、前記作動流体を用いて前記希釈冷凍機を作動させて前記標的装置を前記標的領域内で、前記第１の温度よりも低い第２の温度まで冷却するようになった制御システムを含む、極低温冷却システム。 
【請求項１３】 
　作動冷却剤を貯蔵する貯蔵容器を更に含み、前記貯蔵容器は、前記希釈冷凍機に選択的に連結可能である、請求項１２記載の極低温冷却システム。 
【請求項１４】 
　前記予備冷却システムは、前記作動流体を前記機械式冷凍機と前記標的領域のところの前記標的装置との間に供給するよう構成された予備冷却回路を含み、前記制御システムは、前記作動流体を前記予備冷却回路に供給してこの予備冷却回路を予備冷却し、その後、この作動流体を前記予備冷却回路から前記希釈冷凍機に戻して前記希釈冷凍機を作動させる、請求項１２又は１３記載の極低温冷却システム。 
【請求項１５】 
　前記貯蔵容器は、前記予備冷却システムに選択的に連結可能である、請求項１４記載の極低温冷却システム。 
【請求項１６】 
　前記作動流体は、ヘリウム-３とヘリウム-４の混合物である、請求項１２乃至１５の何れか１項に記載の極低温冷却システム。 
【請求項１７】 
　前記機械式冷凍機及び前記希釈冷凍機が部分的に結合される複数の空間的に配置された段を更に含む、請求項１２乃至１６の何れか１項に記載の極低温冷却システム。 
【請求項１８】 
　前記複数の段のうちの１つ又は２つ以上は、前記標的装置を受け入れる孔を有し、前記１つ又は２つ以上の孔は、前記標的装置を挿通させるボアを構成している、請求項１７記載の極低温冷却システム。 
【請求項１９】 
　前記孔のうちの少なくとも１つは、前記孔に接近可能な開放位置と前記孔が閉じられる閉鎖位置との間で動くことができるバッフルを備えている、請求項１８記載の極低温冷却システム。 
【請求項２０】 
　前記サンプルと通信するための電気的及び光学的通信線のうちの一方又は各々を更に含み、前記通信線は、前記標的装置の存否とは無関係に前記標的装置内に固定され、前記通信線は、前記標的領域の外部の場所から前記標的領域まで提供されている、請求項１２乃至１９の何れか１項に記載の極低温冷却システム。 
【請求項２１】 
　前記通信線は、前記１つ又は２つ以上の孔のうちのどれも通過していない、請求項１８に従属した請求項２０記載の極低温冷却システム。 
【請求項２２】 
　前記極低温冷却システムは、クライオジェンフリーシステムから成る、請求項１２乃至２１の何れか１項に記載の極低温冷却システム。 
【請求項２３】 
　前記希釈冷凍機は、スチル及び混合チャンバを有し、これらのスチル及び混合チャンバの各々がヒーターを備え、前記制御システムが、これらの各ヒーターを作動させて前記作動流体を完全にガス状にする、請求項１２乃至２２の何れか１項に記載の極低温冷却システム。 
【請求項２４】 
　使用中、請求項１、２及び４乃至１１の何れか１項に記載の方法の前記ステップ（ａ）及び前記ステップ（ｃ）〜（ｅ）をコントローラに実施させるようになったプログラムコード手段を有するコンピュータプログラム製品。」  
  
  
第４　当審の判断  
１　取消理由通知に記載した取消理由について  
（１）取消理由の概要  
　平成２９年１月２３日付け取消理由通知の概要は、以下のとおりである。  
ア　特許法第２９条第２項について  
　刊行物１：国際公開２０１０／００２２４５号（甲第１号証）  
　刊行物２：国際公開２０１０／１０６３０９号（甲第２号証対応の国際出願の国際公開）  
　刊行物３：Ａ．Ｔ．Ａ．Ｍ．ｄｅ　Ｗａｅｌｅ、「Ｂａｓｉｃ　Ｏｐｅｒａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｃｒｙｏｃｏｏｌｅｒｓ　ａｎｄ　Ｒｅｌａｔｅｄ　Ｔｈｅｒｍａｌ　Ｍａｃｈｉｎｅｓ」、Ｊ　Ｌｏｗ　Ｔｅｍｐ　Ｐｈｙｓ、２０１１、１６４、ｐ．１７９−２３６（甲第３号証）：  
　刊行物４：Ｎａｔｈａｎｉｅｌ Ｃｒａｉｇ外１名、「Ｈｉｔｃｈｈｉｋｅｒ’ｓ　Ｇｕｉｄｅ　ｔｏ　ｔｈｅ　Ｄｉｌｕｔｉｏｎ　Ｒｅｆｒｉｇｅｒａｔｏｒ　Ｖｅｒｓｉｏｎ　２．００」、Ｍａｒｃｕｓ　Ｌａｂ、Ｈａｒｖａｒｄ　Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ、２００４年８月２１日、ｐ．２−２０（甲第４号証）：  
　刊行物５：Ｇ．Ｂａｔｅｙ外６名、「Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｓｕｐｅｒｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇ　ｍａｇｎｅｔｓ　ｗｉｔｈ　ｃｒｙｏｇｅｎ−ｆｒｅｅ　ｄｉｌｕｔｉｏｎ　ｒｅｆｒｉｇｅｒａｔｏｒ　ｓｙｓｔｅｍｓ」、Ｃｒｙｏｇｅｎｉｃｓ、２００９年、４９、ｐ．７２７−７３４（甲第５号証）  
　刊行物６：「Ｃｒｙｏｇｅｎ−Ｆｒｅｅ　Ｄｉｌｕｔｉｏｎ　Ｒｅｆｒｉｇｅｒａｔｏｒ」のチラシ、Ｖｅｒｉｃｏｌｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ　ＧｍｂＨ、２００６年、（甲第６号証）  
　刊行物７：「Ｔｏｐ−Ｌｏａｄｉｎｇ　Ｃｒｙｏｇｅｎ−Ｆｒｅｅ　４Ｋ　Ｃｒｙｏｓｔａｔ／Ｃｒｙｏｇｅｎ−Ｆｒｅｅ　Ｄｉｐ−Ｓｔｉｃｋ　Ｄｉｌｕｔｉｏｎ　Ｒｅｆｒｉｇｅｒａｔｏｒ／Ｖｅｒｉｃｏｌｄ　Ｐｕｌｓｅ　Ｔｕｂｅ−ｂａｓｅｄ　Ｃｒｙｏｓｔａｔ　Ｓｙｓｔｅｍｓ　Ｆａｍｉｌｙ／Ｐｕｌｓｅ　Ｔｕｂｅ−ｂａｓｅｄ　Ｃｒｙｏｓｔａｔ　Ｓｙｓｔｅｍｓ」のチラシ、Ｖｅｒｉｃｏｌｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ　ＧｍｂＨ、２００８年、（甲第７号証）  
　刊行物８：「Ｔｒｉｔｏｎ　Ｐｒｏｄｕｃｔ　Ｆａｍｉｌｙ」、ＯＸＦＯＲＤ　ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ、２０１０年（甲第８号証）  
　刊行物９：Ｐ．Ｈｉｌｔｏｎ外２名、「Ａ　ｎｏｖｅｌ　Ｔｏｐ−Ｌｏａｄｉｎｇ　２０ｍＫ／１５Ｔ　Ｃｒｙｏｍａｇｎｅｔｉｃ　Ｓｙｓｔｅｍ」、Ｊａｐａｎｅｓｅ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｈｙｓｉｃｓ、１９８７年、Ｖｏｌ．２６、ｐ．１７２９−１７３０（甲第９号証）
　刊行物１０：Ｋｅｎｎｅｔｈ　Ｎｏｒｍａｎ　Ｃｈａｆｆｉｎ、「Ａ　Ｈｅ３−Ｈｅ４　Ｄｉｌｕｔｉｏｎ　Ｒｅｆｒｉｇｅｒａｔｏｒ　Ｓｙｓｔｅｍ」、１９７８年５月（甲第１０号証）  
　刊行物１１：Ｌ．Ｍ．Ｈｅｒｎａｎｄｅｚ外１名、「Ｂｏｔｔｏｍ−ｌｏａｄｉｎｇ　ｄｉｌｕｔｉｏｎ　ｒｅｆｒｉｇｅｒａｔｏｒ　ｗｉｔｈ　ｕｌｔｒａｈｉｇｈ　ｖａｃｕｕｍｅ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ　ｃａｐａｂｉｌｉｔｙ」、Ｒｅｖｉｅｗ　ｏｆ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ、２００２年１月、Ｖｏｌ．７３、Ｎｏ１、ｐ．１６２−１６４（甲第１１号証）  
　刊行物１２：米国特許第５６１１２０７号明細書（甲第１２号証）  
　刊行物１３：「Ｏｐｒｅｔｏｒ’ｓ　Ｈａｎｄｂｏｏｋ　Ｔｒｉｔｏｎ２００　Ｃｒｙｏｆｒｅｅ　Ｄｉｌｕｔｉｏｎ　Ｒｅｆｒｉｇｅｒａｔｏｒ　Ｉｓｓｕｅ　２．２」、ＯＸＦＯＲＤ　ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ、２００９年（甲第１３号証）  
　刊行物１４：特開２００８−１４８７８号公報（甲第１４号証）  
　刊行物１５：Ｆｒａｎｋ　Ｐｏｂｅｌｌ、「Ｍａｔｔｅｒ　ａｎｄ　Ｍｅｔｈｏｄｓ　ａｔ　Ｌｏｗ　Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓ」、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ　Ｂｅｒｌｉｎ　Ｈｅｉｄｅｎｂｅｒｇ、２００７年、ｐ．１４９−１８９（甲第１５号証）  
  
　本件発明１、２、４、６、８〜１３、１６〜２３は、刊行物１記載の発明並びに刊行物２〜１５記載の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 
  
イ　特許法第３６条第６項２号について  
　請求項１、３、７、８、１５、２０に係る発明についての特許は、以下の点で特許を受けようとする発明が明確でないから、特許法第３６条第６項第２号の規定に違反してされたものである。 
  
（イ−１）本件発明３の「前記ステップ（ｂ）は、前記標的装置が前記標的領域内にいったん位置決めされると、前記標的装置に対して冷却作業を実施するだけのステップを更に含む」との事項は、引用する本件発明１の「（ｂ）前記サンプルを含む標的装置を高温配置場所から前記高温配置場所より温度が低い前記標的領域に移動させるステップ」との関係において、「冷却作業を実施するだけのステップ」をどのように含み得るのか明確でない。 
（イ−２）本件発明１、８の「高温配置場所」又は本件発明７の「高温状態」とは、どの温度に対して高いのか明確でない。 
（イ−３）本件発明１５の「前記冷却用流体」は、これ以前に「冷却用流体」の記載がなく、明確でない。 
（イ−４）本件発明８の「周囲」、本件発明２０の「外部の場所」は、どこに対する「周囲」又は「外部」であるのか明確でない。 
  
ウ　特許法特許法第２９条柱書、第３６条第６項１号、第３６条第４項１号について  
　請求項２４に係る発明についての特許は、特許法第２９条柱書、第３６条第６項１号又は第３６条第４項１号の規定に違反してされたものである。  
  
（２）取消理由についての判断  
ア　特許法第２９条第２項について  
（ア）刊行物１の記載事項  
　刊行物１には、以下の記載がある。（当審訳は、特許異議申立書に添付された訳文による。 ） 
ａ「The invention relates to a holder for a sample to be cooled to a low temperature in a vacuum space, comprising a carrier body for carrying the sample in thermal contact and contact means for bringing the carrier body into thermal contact with a cooling body to be brought to a low temperature, in particular a holder for a sample in a 3 He- 4 He dilution refrigerator to be cooled to temperatures in the millikelvin range. 」（１頁４〜８行）、当審訳：本発明は真空空間にて低温に冷却されるサンプルのためのホルダであって、サンプルを熱接触にて支持するキャリア本体と、キャリア本体を冷却体と熱接触させて低温にするための熱接触手段とを備えるホルダ、特に３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機内にあり、ミリケルビン範囲内の温度に冷却されるサンプルのためのホルダを備える。） 
ｂ「The introduction of the cryo-free dilution refrigerators, which do not use liquid helium but a Pulsed Tube Cryo-cooler (PTC), has made the cooling time even longer due to the limited cooling capacity of the available PTCs.」 （１頁下から２行〜２頁２行、当審訳：液体ヘリウムではなくパルス管冷凍機（ＰＴＣ）を用いるクライジェントフリー型希釈冷凍機の導入は、利用可能なＰＴＣの限定された冷却能力によって冷却時間をさらに長くしてきた。） 
ｃ「It is an object of the invention to provide a holder which enables simple and rapid insertion of a sample into and removal thereof from a vacuum space in a cryogenic device, for instance in a 3 He- 4 He dilution refrigerator, wherein the desired temperature of the vacuum space can be maintained during the insertion or removal. 
　When a sample is inserted the amount of generated heat which is generated as a result of the insertion must be minimal . 
　These objects are achieved, and other advantages gained, with a holder of the type stated in the preamble, the contact means of which can be switched according to the invention between a first mode in which there is no thermal contact between the carrier body and the cooling body, and a second mode in which there is thermal contact between the carrier body and the cooling body. 
　Such a holder makes it possible to fix a sample to the carrier body in thermal contact outside a refrigerator, to insert the holder into the vacuum space, wherein the contact means are switched to the first mode, and then, once the holder has been inserted into the vacuum space, to create a vacuum in the vacuum space and switch the contact means to the second mode.」 （２頁２０行〜３頁５行、当審訳：本発明の目的は、例えば３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機などの低温デバイス内の真空空間へのサンプルの挿入及びそこからの除去を容易に且つ素早くさせ、真空空間の望ましい温度は挿入又は取り外しで維持することができるホルダを提供することである。 
　サンプルが挿入されると、挿入した結果として得られた熱の量は最小限でなければならない。 
　これらの目的は前提部分に記載される種のホルダで実現され、他の利点が得られ、その接触手段は、本発明によれば、キャリア本体と冷却体との間で熱接触がない第１のモードと、キャリア本体と冷却対との間で熱接触がある第２モードとの間で切り換えることができる。 
　このようなホルダーによって、冷凍機外でサンプルをキャリア本体に熱接触にて固定すること、真空空間にホルダを挿入することができるようになり、接触手段は第１のモードに切り換えられて、次に、ホルダが真空空間内に挿入されると、真空空間内に真空を生成して接触手段を第２のモードに切り換えられる。） 
ｄ「It is noted that the holder according to the invention is suitable for application in cryo-free machines of different types, although particularly in per se known liquid 4 He-cooled cryostats, in combination with a 3 He- 4 He cryo-free machine, because of the limited length of this type of refrigerator, which implies a limited length of the probe.  
　The invention also relates to a probe for inserting into a vacuum space in a refrigerator an above described holder according to the invention for a sample to be cooled to a low temperature in this vacuum space. 
　The invention further relates to a refrigerator, in particular a 3 He- 4 He dilution refrigerator, adapted to accommodate an above described probe according to the invention. The invention will be elucidated hereinbelow on the basis of exemplary embodiments, with reference to the drawings. 」（４頁下から５行〜５頁１２行、当審訳：なお、本発明に係るホルダは様々な種類のクライオジェンフリー型機器への適用に適しているが、特に、プローブの限定された長さを暗示するこの種の冷凍機の限定された長さを受けて、本来の周知の液体４Ｈｅ冷却クライオスタットにて、３Ｈｅ−４Ｈｅクライオジェンフリー型機器との組合せて適用されるのが好ましい。 
　本発明はまた、本発明に係る上述のホルダを冷却器の真空空間に挿入し、この真空空間内で低温にサンプルを冷却するためのプローブに関する。 
　本発明はさらに、本発明に係る上述のプローブを収容するように適合される冷凍機、特に３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機に関する。 
　本発明は、例示的な実施形態に基づき、図面を参照しながら以下にて明らかになるだろう。）  
ｅ「 The figure also shows drill holes 15 in which thermometers, samples, heating elements and coupling rods 18 (shown in fig. 3) can for instance be mounted, slots 31 for throughfeed of cables, capillaries, optic fibres and the like, and a central drill hole 16 for passage of a switching rod 14 to a subsequent holder or for mounting a sample or cold finger 17 at that position. Heat from carrier body 2 is discharged via spring elements 3, 3 1 to contact bodies 4, 4' and through contact surfaces 5, 5' to the respective thermal bath. 」（６頁２６〜３５行、当審訳：図面はまた、温度計、サンプル、加熱要素および連結ロッド１８（図３に示す）が例えば載置可能であるドリル穴１５と、ケーブル、キャピラリ、光ファイバ等を通すためのスロット３１と、スイッチングロッド１４を続くホルダに通すため、若しくはサンプル又は冷却指部１７をその位置に載置するための中央ドリル穴１６と、を示す。キャリア本体２からの熱は、ばね要素３、３’から接触体４、４’に、及び接触面５、５’を通り、対応する熱浴に放出される。） 
ｆ「It is noted that the displacement of a holder in a vacuum space has a stepwise progression. During a first step the holder will for instance be admitted so far into the vacuum space that the contact bodies can be brought into contact with a part of the wall of the space that has been brought to the temperature of liquid nitrogen (77 K) (or to 50 K in a cryo-free dilution refrigerator) , after which the holder is admitted further to a level at which the contact bodies can be brought into contact with a part of the wall that has been brought to the temperature of liquid helium (4.2 K) (or to 2.6 - 4.6 K in a cryo-free dilution refrigerator) , after which the holder is finally admitted further to a level at which the contact bodies can be brought into contact with a part of the wall that is in thermal contact with the mixing chamber of the 3 He- 4 He dilution refrigerator. 」（７頁９〜２４行、当審訳：なお、真空空間内でのホルダの移動は段階的に進む。第１段階中、ホルダは例えば、接触体が、液体窒素の温度（７７Ｋ）（又はクライオジェンフリー型希釈冷凍機内では５０Ｋ）にまでなった空間の壁の部分と接触するところまで真空空間の中に入れられ、その後ホルダは、接触体が、液体ヘリウムの温度（５．２Ｋ）（又はクライオジェンフリー希釈冷凍機内では２．６〜４．６Ｋ）にまでなった壁の部分と接触する水準にまで入れられてもよい。その後、ホルダは最終的にさらに、接触体が３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機の混合チャンバと熱接触する壁の部分と接触する水準にまで入れられる。） 
ｇ「Fig. 3 shows a probe 29 with four holders 1, 10, 12, 20, which are mutually coupled by means of coupling rods 18 of a thermally insulating material, and the respective contact bodies 4, 4' of which can be brought into thermal contact with parts of the wall of a vacuum space at four different height positions. Coupling the holders 1, 10, 12, 20 in this way makes it possible to keep a sample in bottom holder 1 at the desired, lowest temperature, and to keep the second, third and fourth holders 10, 12 and 20, which are mutually coupled in thermally insulated manner, at an (increasingly higher) temperature between the lowest temperature and room temperature.」（８頁２〜１３行、当審訳：図３は、断熱材料の連結ロッド１８で相互的に連結された４つのホルダ、１、１０、１２、２０、及び４つの異なる高さ位置にて真空空間の壁の部分と熱接触可能な、対応する接触体４、４’を有するプローブ２９を示す。ホルダ１、１０、１２、２０をこのように連結することで、下部ホルダ１内のサンプルを所定の最低温度に保持し、断熱的に相互的に連結される第２、第３、第４のホルダ１０、１２、及び２０を最低温度と室温との間の（高くなる）温度で保持することを可能とする。） 
ｈ「A cold finger 17 for attaching a sample thereto is screwed onto the underside of carrier plate 2 of lowest holder 1. The figure also shows an adjusting screw 19 on a screw thread on outer end 28 of switching rod 14, with which this switching rod can be moved in axial direction 11, a thin-walled stainless steel vacuum tube 25 for throughfeed of measuring cables, for instance cables for thermometers and the like, which are connected to connecting plugs 27 on a connecting head 29, and copper radiation shields 26 soldered to the vacuum tube. 」（８頁１７〜２６行、当審訳：サンプルを取り付けるための冷却指部１７は、最下ホルダ１のキャリアプレート２の下側にねじ付けされている。図面はまた、スイッチングロッド１４の外端２８のねじ頭にある、これによってスイッチングロッドが軸方向１１に移動することができる調節ねじ１９と、例えば温度計等のための計測ケーブルであり、接続ヘッド２９の接続プラグ２７に接続されるケーブルを通すための薄壁ステンレス鋼真空管２５と、真空管にはんだ付けされる銅性輻射シールド２６とをも示す。） 
ｉ「11. Probe (30) for inserting into a vacuum space in a refrigerator a holder (1, 10, 12, 20) for a sample to be cooled to a low temperature in this vacuum space, characterized by a holder as claimed in any of the claims 1- 10. 
 12. Refrigerator adapted to accommodate a probe (30) as claimed in claim 11. 
 13. 3 He- 4 He dilution refrigerator adapted to accommodate a probe (30) as claimed in claim 11. 」（１１頁１〜末行、当審訳：１１．冷凍機内の真空空間にホルダ（１、１０、１２、２０）を挿入し、該真空空間内にてサンプルを低温に冷却するためのプルーブ３０であって、請求項１〜１０のいづれか１項に記載のホルダによって特徴付けられる、プルーブ（３０）。 
 １２．請求項１１に記載のプルーブ（３０）を収容するように適合される、冷凍機。 
 １３．請求項１１に記載のプルーブ（３０）を収容するように適合される、３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機。）  
  
　上記記載を総合すると、刊行物１には、以下の発明（以下「刊１発明」という。）が記載されている。 
「真空空間にて低温に冷却されるサンプルのためのホルダが入れられる方法であって、冷凍機内の真空空間にホルダ（１、１０、１２、２０）を挿入し、サンプルを熱接触にて支持するキャリア本体と、キャリア本体を冷却体と熱接触させて低温にするための熱接触手段とを備えるホルダ、特に３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機内にあり、ミリケルビン範囲内の温度に冷却されるサンプルのためのホルダを備え、 
　パルス管冷凍機（ＰＴＣ）を用いるクライジェントフリー型希釈冷凍機を用いており、 
　真空空間内でのホルダの移動は段階的に進むものであって、第１段階中、ホルダは５０Ｋにまでなった空間の壁の部分と接触するところまで真空空間の中に入れられ、その後ホルダは、接触体が、２．６〜４．６Ｋにまでなった壁の部分と接触する水準にまで入れられ、その後、ホルダは最終的にさらに、接触体が３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機の混合チャンバと熱接触する壁の部分と接触する水準にまで入れられる方法。」 
  
（イ）当審の判断  
Ａ　本件発明１について 
　本件発明１と刊１発明とを対比すると、 
ａ　刊１発明の「３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機」は、その機能から本願発明１の「作動流体を収容している希釈冷凍機」に相当する。 
  
ｂ　刊１発明の「真空空間にて低温に冷却されるサンプルのためのホルダが入れられる方法であって、」「サンプルを熱接触にて支持するキャリア本体と、キャリア本体を冷却体と熱接触させて低温にするための熱接触手段とを備えるホルダ、特に３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機内にあり、ミリケルビン範囲内の温度に冷却されるサンプルのためのホルダを備え」ることは、「サンプル」が「キャリア」に支持され、「キャリア」が「３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機」内で冷却されることであって、「キャリア」の「サンプル」を支持している領域は「３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機」によって冷却されているといえるから、本件発明１の「サンプルを受け入れる標的領域を、作動流体を収容している希釈冷凍機によって冷却する極低温冷却システム」に相当する。 
  
ｃ　刊１発明の「冷凍機内の真空空間にホルダ（１、１０、１２、２０）を挿入し、サンプルを熱接触にて支持するキャリア本体と、キャリア本体を冷却体と熱接触させて低温にするための熱接触手段とを備えるホルダ、特に３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機内にあり、ミリケルビン範囲内の温度に冷却されるサンプルのためのホルダを備え」ることは、冷凍機の外部から「ホルダ」を挿入することで、冷凍機内の「キャリア本体」の「サンプル」を支持している領域が冷却されることであり、冷凍機の外部が冷凍機内の「キャリア本体」の「サンプル」を支持している領域より高温であることは明らかであるから、本件発明１の「（ｂ）前記サンプルを含む標的装置を高温配置場所から前記高温配置場所より温度が低い前記標的領域に移動させるステップ」に相当する。 
　したがって、本件発明１と刊１発明とは、以下の一致点で一致し、以下の相違点１、２で相違する。  
  
＜一致点＞ 
　サンプルを受け入れる標的領域を、作動流体を収容している希釈冷凍機によって冷却する極低温冷却システムの作動方法であって、前記方法は、 
　（ｂ）前記サンプルを含む標的装置を高温配置場所から前記高温配置場所より温度が低い前記標的領域に移動させるステップと、 
　を含む方法。 
  
＜相違点１＞  
　「（ｂ）前記サンプルを含む標的装置を高温配置場所から前記高温配置場所より温度が低い前記標的領域に移動させるステップ」の前に、本件発明１では、「（ａ）液体で提供された前記作動流体を加熱して前記作動流体を完全にガス状にし、その後、作動流体を前記希釈冷凍機から除去するステップ」を実行するのに対して、刊１発明では、そのように特定されていない点。  
＜相違点２＞  
　「（ｂ）前記サンプルを含む標的装置を高温配置場所から前記高温配置場所より温度が低い前記標的領域に移動させるステップ」の後に、本件発明１では、「（ｃ）ＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機のいずれかを含む機械式冷凍機を用いて前記標的装置を前記標的領域内で第１の温度まで予備冷却するステップと、（ｄ）前記作動流体を前記希釈冷凍機に戻すステップと、（ｅ）前記作動流体を用いて前記希釈冷凍機を作動させて前記標的装置を前記標的領域内で前記第１の温度よりも低い第２の温度まで冷却するステップと、」を順に実行するのに対して、刊１発明では、そのように特定されていない点。  
  
以下、相違点について検討する。  
＜相違点１、２について＞ 
　本件発明１は、「（ｂ）前記サンプルを含む標的装置を高温配置場所から前記高温配置場所より温度が低い前記標的領域に移動させるステップ」により、サンプルを高温配置場所から、標的領域にサンプルを移動し、当該サンプルを希釈冷凍機で冷却する際に、高温配置場所にあったサンプルの熱によって希釈冷凍機に熱負荷がかかり、希釈冷凍機が突発故障を生じることを防止するために（【０００７】）、サンプルの装填前に（ａ）のステップを行い、装填後に（ｃ）〜（ｅ）のステップを行うものである。 
　これに対し、刊１発明は、サンプルを装填し、３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機で冷却する際に、「真空空間内でのホルダの移動は段階的に進むものであって、第１段階中、ホルダは５０Ｋにまでなった空間の壁の部分と接触するところまで真空空間の中に入れられ、その後ホルダは、接触体が、２．６〜４．６Ｋにまでなった壁の部分と接触する水準にまで入れられ、その後、ホルダは最終的にさらに、接触体が３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機の混合チャンバと熱接触する壁の部分と接触する水準にまで入れられる」ものであって、サンプルは、３Ｈｅ−４Ｈｅ希釈冷凍機で冷却される前に５０Ｋ、２．６〜４．６Ｋと順次冷却されるものであるから、そもそも、高温配置場所に有ったサンプルの熱によって希釈冷凍機に熱負荷がかかるものでない。ゆえに、希釈冷凍機の熱負荷対策を行う動機付けがない。 
　したがって、希釈冷凍機において、（ａ）、（ｃ）〜（ｅ）の各ステップが周知であったとしても、刊１発明において、希釈冷凍機の熱負荷対策を行う動機付けがない以上、刊１発明において、上記相違点１及び２に係る本件発明１の発明特定事項とすることを当業者が容易に想到し得たとはいえない。 
  
Ｂ　本件発明２、４、６、８〜１１について 
　本件発明２、４、６、８〜１１は、本件発明１の発明特定事項を全て含み、更に限定を付した発明であるから、本件発明２、４、６、８〜１１と刊１発明とを比較すると、少なくとも、上記Ａの相違点１及び２の点で相違する。 
 　そして、相違点１及び２は、上記Ａで検討したのと同じ理由により、刊１発明において、上記相違点１及び２に係る本件発明１の発明特定事項とすることを当業者が容易に想到し得たとはいえない。 
  
Ｃ　本件発明１２について 
　刊行物１には、上記刊１発明の方法を行う極低温冷却システム（以下「刊１’発明」という。）が記載されているといえる。 
 　そうすると、本件発明１２は本件発明１の方法を行う極低温冷却システムといえるものであるから、本件発明１２と刊１’発明とは、少なくとも以下の点で相違する。 
  
＜相違点３＞  
　「作動流体を前記標的装置が前記標的領域のところに受け入れられる前に」、本件発明１２では、「液体で提供された前記作動流体を加熱して前記作動流体を完全にガス状にし、」「前記希釈冷凍機から除去」するのに対して、刊１’発明では、そのように特定されていない点。  
＜相違点４＞  
　「サンプルを含む標的装置が使用中、前記標的領域内に配置され」た後に、本件発明１２では、「前記予備冷却システムを作動させて前記機械式冷凍機を用いて前記標的装置を前記標的領域内で第１の温度まで予備冷却し、前記作動流体を前記希釈冷凍機に戻し、前記作動流体を用いて前記希釈冷凍機を作動させて前記標的装置を前記標的領域内で、前記第１の温度よりも低い第２の温度まで冷却する」のに対して、刊１’発明では、そのように特定されていない点。  
  
＜相違点３、４について＞ 
　上記相違点３及び４は、実質的に上記相違点１及び２とそれぞれ同じである。 
　したがって、相違点３及び４は、上記Ａで検討したのと同じ理由により、刊１’発明において、上記相違点３及び４に係る本件発明１２の発明特定事項とすることを当業者が容易に想到し得たとはいえない。 
  
Ｄ　本件発明１３、１６〜２３について 
　本件発明１３、１６〜２３は、本件発明１２の発明特定事項を全て含み、更に限定を付した発明であるから、本件発明１３、１６〜２３と刊１’発明とを比較すると、少なくとも、上記Ｃの相違点３及び４の点で相違する。 
　そして、相違点３及び４は、上記Ｃで検討したのと同じ理由により、刊１’発明において、上記相違点３及び４に係る本件発明１３、１６〜２３の発明特定事項とすることを当業者が容易に想到し得たとはいえない。 
  
（ウ）小括 
　以上のとおり。　本件発明１、２、４、６、８〜１３、１６〜２３は、刊行物１記載の発明並びに刊行物２〜１４記載の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえず、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるとはいえない。 
  
イ　特許法第３６条第６項２号について  
＜（イ−２）について＞ 
　本件訂正により、本件発明１、８において、「前記高温配置場所より温度が低い前記標的領域」と特定することで「高温配置場所」が標的領域より温度の高い場所であること、及び本件発明７において、作動流体が「加熱されガス状にされた高温状態」であることを特定することで、高温状態が加熱されガス状にされた状態であることが、明確となった。 
　ここで、異議申立人は、平成２９年６月２８日の意見書で、ステップ（ａ）において作動流体が除去された標的領域の温度は明確でなく、「高温配置場所」が周囲環境温度であるかどうかが不明確である旨主張する。 
　しかし、本件発明１は、サンプルを高温配置場所から標的領域に移動し、当該サンプルを希釈冷凍機で冷却する際に、高温配置場所にあったサンプルの熱によって希釈冷凍機に熱負荷がかかり、希釈冷凍機が突発故障を生じることを防止するもの（【０００７】）であって、例えば、「約２９３〜２９８ケルビンの温度を有する周囲環境」（【００６５】）が記載されている。 
　したがって、「高温配置場所」が希釈冷凍機に突発故障が生じる程度にサンプルが高温となる場所であることは明らかであるから、当該記載は明確である。 
  
＜（イ−３）について＞ 
　本件訂正により、本件発明１５の「前記冷却用流体」に係る記載は削除され、引用する本件発明１４の記載と整合された。したがって、本件発明１５は明確である。 
  
＜（イ−４）について＞ 
　本件訂正により、本件発明８の「周囲」は「前記標的領域の外部の周囲」に、又本件発明２０の「外部の場所」は「前記標的領域の外部の場所」に訂正され、本件発明８及び２０は明確となった。 
　ここで、異議申立人は、平成２９年６月２８日の意見書で、本件発明２０の「前記標的領域の外部の場所から前記標的領域まで提供されている」は、標的装置の存否とは無関係に、どのように信号線が標的装置内に固定されうるのか不明瞭である旨主張する。 
　しかし、段落【００４２】を参酌すると、本件発明２０の「前記標的領域の外部の場所から前記標的領域まで提供されている」は、極低温冷却システムにおいて、単に電気的及び光学的通信線が標的領域の外部の場所から前記標的領域まで配線されていることを特定していることは明らかであり、その配線手段は、当業者によって種々の周知の配線手段を用いることができることは明らかであるから、当該記載は明確である。 
  
　したがって、本件発明１、７、８、１５、２０は、特許を受けようとする発明が明確であるから、特許法第３６条第６項第２号の規定に違反してされたものではない。  
  
ウ　特許法特許法第２９条柱書、第３６条第６項１号、第３６条第４項１号について  
　本件訂正により、本件発明２４は、「使用中、請求項１乃至１１の何れか１項に記載の方法の前記ステップ（ａ）及び前記ステップ（ｃ）〜（ｅ）をコントローラに実施させるようになったプログラムコード手段を有するコンピュータプログラム製品。」と訂正され、コントローラに実施させることが明確となり、当該コントローラは、【００４９】、【００５７】に記載されている。したがって、その特許は、特許法第２９条柱書、第３６条第６項１号又は第３６条第４項１号の規定に違反してされたものとはいえない。  
  
２　取消理由通知において採用しなかった特許異議申立理由について  
（１）刊行物１を主引用例とした場合 
　異議申立人は、本件特許５、７、１４、１５、２４が、刊行物１に記載の発明及び刊行物２〜１５号証に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから特許を取り消すべきものである旨主張する。  
  
＜当審の判断＞ 
　本件発明５、７、２４は、本件発明１の発明特定事項を全て含み、更に限定を付した発明であるから、本件発明５、７、２４と刊１発明とを比較すると、少なくとも、上記１(２)ア（イ）Ａの相違点１及び２の点で相違する。 
　そして、相違点１及び２は、上記１（２）ア（イ）Ａで検討したのと同じ理由により、刊１発明において、上記相違点１、２に係る本件発明５、７、２４の発明特定事項とすることを当業者が容易に想到し得たとはいえない。 
　また、本件発明１４、１５は、本件発明１２の発明特定事項を全て含み、更に限定を付した発明であるから、本件発明１４、１５と刊１’発明とを比較すると、少なくとも、上記１（２）ア（イ）Ｃの相違点３及び４の点で相違する。 
　そして、相違点３及び４は、上記１（２）ア（イ）Ｃで検討したのと同じ理由により、刊１’発明において、上記相違点３、４に係る本件発明１４、１５の発明特定事項とすることを当業者が容易に想到し得たとはいえない。
  
（２）刊行物２、６〜８、１２、１４を主引用例とした場合 
　異議申立人は、本件発明１、２、４〜１１、２４が、刊行物２、６〜８、１２、１４に記載の発明及び刊行物１〜１５に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから特許を取り消すべきものである旨主張する。  
  
＜当審の判断＞ 
　刊行物６〜８は、いずれも希釈冷凍機を用いたものであるが、サンプルを希釈冷凍機に装填する手段が明記されておらず、高温配置場所にあったサンプルの熱によって希釈冷凍機に熱負荷がかかるものとはいえないから、希釈冷凍機の熱負荷対策を行う動機付けがない。 
　刊行物２のクライオジェンフリー型冷却装置は、【００３０】〜【００３２】、【００４２】を参酌すると、刊１発明と同様にサンプルを段階的に冷却するものであり、刊行物１４のクライオスタットは、【００３８】、【００５５】、【００５６】を参酌すると、試料ホルダ３０と低温ステージ９との熱的な接触状態を変更することで０．５〜１．５Ｋまで順次冷却するものであるから、高温配置場所にあったサンプルの熱によって希釈冷凍機に熱負荷がかかるものとはいえないから、希釈冷凍機の熱負荷対策を行う動機付けがない。 
　また、刊行物１２には、希釈冷凍機において、クイックローディングを行うことの記載はあるものの（第１欄６２行〜第２欄６行）、具体的なローディングについての記載がなく、高温配置場所にあったサンプルの熱によって希釈冷凍機に熱負荷がかかるものとは認識できないから、希釈冷凍機の熱負荷対策を行う動機付けがない。 
　したがって、希釈冷凍機において、（ａ）、（ｃ）〜（ｅ）の各ステップが周知であったとしても、刊行物２、６〜８、１２、１４に記載の発明において、希釈冷凍機の熱負荷対策を行う動機付けがない以上、（ａ）、（ｃ）〜（ｅ）の各ステップを行うことを当業者が容易に想到し得たとはいえない。 
  
（３）刊行物２、５〜８、１２〜１４を主引用例とした場合 
　異議申立人は、本件特許１２〜２３が、刊行物２、５〜８、１２〜１４に記載の発明及び刊行物１〜１５に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから特許を取り消すべきものである旨主張する。  
  
＜当審の判断＞ 
　刊行物５〜８、１３は、いずれも希釈冷凍機を用いた極低温冷却システムであるが、サンプルを希釈冷凍機に装填する手段が明記されておらず、高温配置場所にあったサンプルの熱によって希釈冷凍機に熱負荷がかかるものとはいえないから、希釈冷凍機の熱負荷対策を行う動機付けがない。 
　刊行物２のクライオジェンフリー型冷却装置を用いた極低温冷却システムは、【００３０】〜【００３２】、【００４２】を参酌すると、刊１’発明と同様にサンプルを段階的に冷却するものであり、刊行物１４のクライオスタットを用いた極低温冷却システムは、【００３８】、【００５５】、【００５６】を参酌すると、試料ホルダ３０と低温ステージ９との熱的な接触状態を変更することで０．５〜１．５Ｋまで順次冷却するものであるから、高温配置場所にあったサンプルの熱によって希釈冷凍機に熱負荷がかかるものとはいえないから、希釈冷凍機の熱負荷対策を行う動機付けがない。 
　また、刊行物１２には、希釈冷凍機を用いた極低温冷却システムにおいて、クイックローディングを行うことの記載はあるものの（第１欄６２行〜第２欄６行）、具体的なローディングについての記載がなく、高温配置場所にあったサンプルの熱によって希釈冷凍機に熱負荷がかかるものとは認識できないから、希釈冷凍機の熱負荷対策を行う動機付けがない。 
　したがって、希釈冷凍機を用いた極低温冷却システムにおいて、「使用中、液体で提供された前記作動流体を加熱して前記作動流体を完全にガス状に」すること、及び「前記予備冷却システムを作動させて前記機械式冷凍機を用いて前記標的装置を前記標的領域内で第１の温度まで予備冷却し、前記作動流体を前記希釈冷凍機に戻し、前記作動流体を用いて前記希釈冷凍機を作動させて前記標的装置を前記標的領域内で、前記第１の温度よりも低い第２の温度まで冷却する」ことが周知であったとしても、刊行物２、５〜８、１２〜１４に記載の発明において、希釈冷凍機の熱負荷対策を行う動機付けがない以上、「使用中、液体で提供された前記作動流体を加熱して前記作動流体を完全にガス状にし、前記作動流体を前記標的装置が前記標的領域のところに受け入れられる前に前記希釈冷凍機から除去し、前記予備冷却システムを作動させて前記機械式冷凍機を用いて前記標的装置を前記標的領域内で第１の温度まで予備冷却し、前記作動流体を前記希釈冷凍機に戻し、前記作動流体を用いて前記希釈冷凍機を作動させて前記標的装置を前記標的領域内で、前記第１の温度よりも低い第２の温度まで冷却する」ことを当業者が容易に想到し得たことはいえない。 
  
  
第５　むすび  
　以上のとおり、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては、本件請求項１、２、４〜２４に係る特許を取り消すことはできない。さらに、他に本件請求項１、２、４〜２４に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 
　また、請求項３に係る特許は、訂正により、削除されたため、本件特許の請求項３に対して、特許異議申立人がした特許異議の申立については、対象となる請求項が存在しない。
　よって、結論のとおり決定する。 
【異議決定日】
平成２９年１２月１９日（２０１７．１２．１９）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　サンプルを受け入れる標的領域を、作動流体を収容している希釈冷凍機によって冷却する極低温冷却システムの作動方法であって、前記方法は、
　（ａ）液体で提供された前記作動流体を加熱して前記作動流体
を
　（ｂ）前記サンプルを含む標的装置を高温配置場所から
前記高温配置場所よりも温度が低い
　（ｃ）
ＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機のいずれかを含む
　（ｄ）前記作動流体を前記希釈冷凍機に戻すステップと、
　（ｅ）前記作動流体を用いて前記希釈冷凍機を作動させて前記標的装置を前記標的領域内で前記第１の温度よりも低い第２の温度まで冷却するステップと、
　を含み、これらのステップ（ａ）〜（ｅ）の順序で実行する、方法。
　【請求項２】
　前記希釈冷凍機は、スチル及び混合チャンバを有し、これらのスチル及び混合チャンバの各々がヒーターを備え、前記ステップ（ａ）が、これらの各ヒーターを作動させるステップを備える、請求項１記載の方法。
　【請求項３】
　
（削除）
　【請求項４】
　前記標的装置を前記標的領域内に位置決めする前記ステップは、前記標的装置を熱伝導性部材に取り付け、前記熱伝導性部材を用いて前記標的装置の熱伝導による冷却を行うステップを含む、請求項
１又は２
　【請求項５】
　前記ステップ（ｃ）は、前記作動流体が前記機械式冷凍機及び前記標的領域と熱的接触関係をなして配置された予備冷却回路内で流れるようにするステップを含み、前記ステップｄ）において、前記作動流体が予備冷却回路から除去されると共に前記希釈冷凍機
へ
１、２及び４
　【請求項６】
　前記ステップ（ａ）は、前記希釈冷凍機の作動流体を空にするステップを含む、請求項
１、２、４及び５
　【請求項７】
　前記ステップ（ａ）中、前記作動流体を
加熱されガス状にされた
　【請求項８】
　前記高温配置場所は、
前記標的領域の外部の
１、２及び４乃至７
　【請求項９】
　前記ステップ（ｄ）に先立って、前記希釈冷凍機の温度は、約１０ケルビン以下である、請求項
１、２及び４乃至８
　【請求項１０】
　前記ステップ（ｂ）において、前記標的装置を前記標的装置が装填組立体に取り付けられたままの状態で前記標的領域に移動させ、前記標的領域内にいったん配置されると、前記標的装置を前記装填組立体から解除し、前記装填組立体を引っ込める、請求項
１、２及び４乃至９
　【請求項１１】
　前記ステップ（ａ）及び前記ステップ（ｃ）〜（ｅ）は、制御システムの制御下で自動的に実施される、請求項
１、２及び４乃至１０
　【請求項１２】
　極低温冷却システムであって、
　作動流体を用いて標的領域を冷却するよう構成された希釈冷凍機を含み、サンプルを含む標的装置が使用中、前記標的領域内に配置され、
　前記標的装置を前記標的領域内で冷却する
、ＧＭ冷却器、スターリング冷却器又はパルスチューブ型冷凍機のいずれかを含む
　使用中、液体で提供された前記作動流体を加熱して前記作動流体
を
　【請求項１３】
　作動冷却剤を貯蔵する貯蔵容器を更に含み、前記貯蔵容器は、前記希釈冷凍機に選択的に連結可能である、請求項１２記載の極低温冷却システム。
　【請求項１４】
　前記予備冷却システムは、前記作動流体を前記機械式冷凍機と前記標的領域のところの前記標的装置との間に供給するよう構成された予備冷却回路を含み、前記制御システムは、前記作動流体を前記予備冷却回路に供給してこの予備冷却回路を予備冷却し、その後、この作動流体を前記予備冷却回路から前記希釈冷凍機に戻して前記希釈冷凍機を作動させる、請求項１２又は１３記載の極低温冷却システム。
　【請求項１５】
　前記貯蔵容器は、前記予備冷却システムに選択的に連結可能であ
る
　【請求項１６】
　前記作動流体は、ヘリウム−３とヘリウム−４の混合物である、請求項１２乃至１５の何れか１項に記載の極低温冷却システム。
　【請求項１７】
　前記機械式冷凍機及び前記希釈冷凍機が部分的に結合される複数の空間的に配置された段を更に含む、請求項１２乃至１６の何れか１項に記載の極低温冷却システム。
　【請求項１８】
　前記複数の段のうちの１つ又は２つ以上は、前記標的装置を受け入れる孔を有し、前記１つ又は２つ以上の孔は、前記標的装置を挿通させるボアを構成している、請求項１７記載の極低温冷却システム。
　【請求項１９】
　前記孔のうちの少なくとも１つは、前記孔に接近可能な開放位置と前記孔が閉じられる閉鎖位置との間で動くことができるバッフルを備えている、請求項１８記載の極低温冷却システム。
　【請求項２０】
　前記サンプルと通信するための電気的及び光学的通信線のうちの一方又は各々を更に含み、前記通信線は、前記標的装置の存否とは無関係に前記標的装置内に固定され、前記通信線は、
前記標的領域の
領域
　【請求項２１】
　前記通信線は、前記１つ又は２つ以上の孔のうちのどれも通過していない、請求項１８に従属した請求項２０記載の極低温冷却システム。
　【請求項２２】
　前記極低温冷却システムは、クライオジェンフリーシステムから成る、請求項１２乃至２１の何れか１項に記載の極低温冷却システム。
　【請求項２３】
　前記希釈冷凍機は、スチル及び混合チャンバを有し、これらのスチル及び混合チャンバの各々がヒーターを備え、前記制御システムが、これらの各ヒーターを作動させて前記作動流体を完全にガス状にする、請求項１２乃至２２の何れか１項に記載の極低温冷却システム。
　【請求項２４】
　使用中、請求項
１、２及び４乃至１１
コントローラに
させる