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　特願２００７−１２６４２８「光学測定装置、光学測定方法、パターン基板の製造方法、及び直線往復動装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年１１月２０日出願公開、特開２００８−２８１４６３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　
　平成１９年　５月１１日　特許出願
　平成２０年　９月２４日　拒絶理由通知（同年９月３０日発送） 
　平成２０年１２月　１日　意見書 
　平成２１年　２月　９日　拒絶査定（同年２月１７日送達） 
　平成２１年　３月１９日　本件審判の請求
　平成２１年　４月２０日　手続補正書
　平成２２年１２月１０日　平成２１年４月２０日付け手続補正についての却下の決定（平成２３年１月４日送達）・拒絶理由通知（同年１２月１４日発送） 
　平成２３年　２月　８日　意見書・手続補正書
　
２．当審の拒絶理由
　
　当審が平成２２年１２月１０日付けで通知した拒絶理由の概要は、
　
理由１．この出願の請求項２２に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された特開２００４−２５３７４１号公報（以下、「引用刊行物」という。）に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
理由２．この出願の請求項１〜２２に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された引用刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
というものである。
　 
３．本願発明
　
　本願の請求項２２に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２３年２月８日付け手続補正によって補正された特許請求の範囲、明細書及び図面の記載からみて、請求項２２に記載された事項により特定される以下のとおりのものと認める。 
「移動体を直線方向に沿って往復運動させる直線往復動装置であって、
　移動体と、
　前記移動体に対して与えられる駆動力を制御する制御部と、
　前記移動体よりも大きい質量を有する質量体であって、接近する前記移動体を跳ね返して前記移動体の移動方向を反転させる反転部が前記移動体の両側にそれぞれ設けられている質量体と、
　前記移動体の移動方向に沿って設けられ、前記移動体、及び前記質量体を直線移動可能に保持するガイド部材と、を備え、
　前記ガイド部材が基台に固定された１本のガイドレールであり、
　前記移動体、及び前記質量体が前記１本のガイドレールに沿って、直線移動する直線往復動装置。」
　
４．引用発明
（１）引用刊行物の記載事項
　当審での拒絶理由に引用され、本願の出願前である平成１６年９月９日に頒布された引用刊行物である特開２００４−２５３７４１号公報には、「移動装置及び半導体製造装置」（発明の名称）の発明に関して、以下の事項が記載されている。 
 　 
＜記載事項１＞ 
「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は移動装置及び半導体製造装置に係り、特に被処理台が高速往復運動する移動装置及び半導体製造装置に関する。」
 　 
＜記載事項２＞ 
「【０００２】
【従来の技術】
例えば、半導体装置の製造或いは液晶製造用装置においては、基板（半導体基板）に対して多数の製造工程が実施される。
【０００３】
具体的には、基板上に薄膜を物理的に形成するスパッタ工程、基板上に薄膜を化学気相的に形成する各種ＣＶＤスパッタ工程、基板上に形成された薄膜に対し形状加工を行なうリソグラフィ工程、基板上に形成された層に不純物を添加する不純物添加工程、基板上に形成された薄膜に対し各種エッチングするエッチング工程、基板表面に電子ビームを用いて微細加工を行なう電子ビーム工程、及び基板表面にイオンビームを用いて微細加工を行なうイオンビーム加工工程、イオンビームを用いてイオン打ち込みを行なうイオン注入工程、基板に対して検査を行なう検査工程、基板にパターンを形成する際に実施される露光工程等の種々の製造工程が実施される。
【０００４】
このような各製造工程を実施する場合、処理室内において基板を精度よく移動させる必要がある。このため、上記した各処理を実施する処理装置には、基板を装着するステージ（被処理台）を、処理室内または真空処理室内で高精度にかつ高速に移動させる移動装置が設けられている。
【０００５】
特に電子ビーム工程或いはイオンビーム加工・イオン注入工程等のように、基板面積に対して比較的小さい径を有する荷電粒子ビームを用いる工程では、基板全体に対して加工処理を行なうために、必然的に被処理台を一方向に連続して移動・停止を繰り返すもの、或いは全体または部分を往復直線運動させる必要がある。
【０００６】
更に、近年では基板処理に対し、高スループット化と多品種少量ロット生産方式が望まれており、これに応えるためには、被処理台を一方向にさらに高速運動或いは高速往復運動させる必要がある。このため従来から、被処理台を一方向に高速運動或いは高速往復運動させる移動装置が種々提案されている。
【０００７】
また、被処理台を加速し始動して一方向に高速運動或いは往復運動させる場合、必然的に被処理台は移動方向を変化させる反転の処理のために減速動作及び加速動作を行なう。この加減速時ならびに始動反転停止時には、被処理台を支持する固定した基台部には大きな駆動反力が発生する。この駆動反力は衝撃・振動発生の原因となり、被処理台の加工処理中の移動動作に好ましくなく、よって従来から、固定した基台部を質量のかなり大きな定盤等で構成してさらにしっかり支持し、この駆動反力の発生を吸収し抑制する提案がされている（例えば、特許文献１）。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００１−１９５１３０
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、移動装置の更なる停止位置の高精度化、高速化、及び被処理台の高機能化による質量の増大に伴い、被処理台の加速時及び減速時ならびに始動反転停止時に発生する駆動反力は益々増大する傾向にある。更に、移動装置の高機能化に伴い、被処理台の重量も増大する傾向にあり、これによっても駆動反力は増大してしまう。このため、従来の駆動反力の発生を抑制する手法では、移動装置に発生する大きな衝撃、振動、及び騒音を確実に抑制することが困難になってきている。
【００１０】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、被処理台を高速往復運動させても大きな衝撃、振動、及び騒音の発生を抑制しうる移動装置及び半導体製造装置を提供することを目的とする。」
 　 
＜記載事項３＞ 
「【００４６】
　また、請求項２２記載の発明は、
　請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の移動装置において、
　移動力発生手段は、
　直線往復運動が可能なリニアモータであることを特徴とするものである。
【００４７】
　上記発明によれば、移動力発生手段として直線往復運動が可能なリニアモータを用いたことにより、リニアモータは比較的制御が容易であるため、簡単な制御処理で高速応答性を有した制御を行なうことができる。
・・・
【００６３】
上記発明によれば、被処理台が往復移動するために移動方向を反転させる際、反転補助手段によりこの反転動作を補助する構成としたことにより、移動力発生手段単独で被処理台を反転させる構成に比べ、移動力発生手段の負荷を低減できると共に、円滑に被処理台を反転させることが可能となる。」
　 
＜記載事項４＞ 
「【００９７】
図１乃至図４は、本発明の第１実施例である移動装置１０Ａのハード構成を示す図である。図１は移動装置１０Ａの全体構成を示しており、図２は固定基台１１Ａを示しており、図３は可動部材１２Ａを示しており、更に図４は被処理台１３Ａを示している。
【００９８】
移動装置１０Ａは、図１に示されるように、大略すると固定基台１１Ａ，可動部材１２Ａ，被処理台１３Ａ，メインリニアモータ１４，及びサブリニアモータ１５等により構成されている。この移動装置１０Ａは、後に説明する制御装置８０（図６参照）が実施する制御処理に従い被処理台１３Ａを固定基台１１Ａに対して図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に往復直線運動させるものである。
【００９９】
先ず、固定基台１１Ａについて説明する。固定基台１１Ａは、図１及び図２に示すように、四隅近傍位置にリニアガイドブロック３０が設けられている。このリニアガイドブロック３０は、後述する可動部材１２Ａに設けられた第１のリニアガイドレール６０と係合する構成とされている。第１のリニアガイドレール６０がリニアガイドブロック３０に係合した状態で、可動部材１２Ａは固定基台１１Ａに対して図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動自在な構成となる。」
 　 
＜記載事項５＞ 
「【０１１５】
次に、可動部材１２Ａについて説明する。可動部材１２Ａは、図１及び図３に示されるように、大略すると側板５０，側部連結体５１，中央部連結体５２，サブリニアモータ用コイルユニット５６，第１のリニアガイドレール６０，第２のリニアガイドレール６１，及び反転補助マグネット６２等により構成されている。この可動部材１２Ａは、した（当審注：「上記した」の誤記と認める。）固定基台１１Ａに図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動可能に装着される。」
 　 
＜記載事項６＞ 
「【０１２５】
また、可動部材１２Ａの各側板５０の互いに対向する内側面には、片面に４個ずつ、合計８個の反転補助マグネット６２が配設されている。この反転補助マグネット６２は、後述する被処理台１３Ａに設けられた反転補助マグネット７８と協働し、被処理台１３Ａが往復移動に伴い可動部材１２Ａの両端部付近において反転を行なう際に、磁気的な反発力により反転の補助作用（具体的には、ブレーキ作用、停止作用、反転方向力作用）を行なうものである。
【０１２６】
更に、両側に配設された各側部連結体５１の下端（図中、Ｚ２方向が下方）には第１のリニアガイドレール６０が設けられており、また各側部連結体５１の上端（図中、Ｚ１方向が上方）には第２のリニアガイドレール６１が設けられている。第１のリニアガイドレール６０及び第２のリニアガイドレール６１は、図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に長く延在するよう設けられている（一対の側板５０の間に形成されている）。
【０１２７】
第１のリニアガイドレール６０は、固定基台１１Ａに設けられたリニアガイドブロック３０に係合するよう構成されている。これにより、可動部材１２Ａはリニアガイドブロック３０及び第１のリニアガイドレール６０にガイドされて矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動する構成となり、よって高速移動しても可動部材１２Ａを高精度に位置決めした状態で、かつ安定した状態で移動させることができる。
【０１２８】
一方、第２のリニアガイドレール６１は、被処理台１３Ａに設けられたリニアガイドブロック７５に係合するよう構成されている。これにより、被処理台１３Ａは第２のリニアガイドレール６１及びリニアガイドブロック７５にガイドされて矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動する構成となり、よって高速移動しても被処理台１３Ａを高精度に位置決めした状態で、かつ安定した状態で移動させることができる。」
　 
＜記載事項７＞ 
「【０１３６】
本実施例では、この固−被間ソフト原点は演算により求める構成としている。即ち、可動部材１２Ａは固定基台１１Ａに対して移動し、また被処理台１３Ａは可動部材１２Ａに対して移動する構成である。また、可動部材１２Ａの固定基台１１Ａに対するソフト原点（以下、固−被間ソフト原点という）、及び被処理台１３Ａの可動部材１２Ａに対するソフト原点（以下、被−可間ソフト原点という）は、上記した手法により求めることができる。よって、固−被間ソフト原点は、固−被間ソフト原点と被−可間ソフト原点に基づき演算処理により求めることができる。
【０１３７】
次に、被処理台１３Ａについて説明する。被処理台１３Ａは、図１及び図４に示すように、大略するとハウジング７０，ステーフレーム７１，プラテン７２，及びメインリニアモータ用コイルユニット７４等により構成されている。」
　 
＜記載事項８＞ 
「【０１４５】
尚、本実施例では、可動部材１２Ａに設けられている第２のリニアガイドレール６１と、被処理台１３Ａに設けられているリニアガイドブロック７５とが係合することにより被処理台１３Ａの直線移動を案内する構成とした。しかしながら、固定基台に第３のリニアガイドレールを設け、この第３のリニアガイドレールとリニアガイドブロック７５が係合することにより被処理台１３Ａを直線移動する構成としてもよい。この場合、第２のリニアガイドレール６１は省略することができる。」
　　 
＜記載事項９＞ 
「【０１４６】
更に、ハウジング７０は、複数個の反転補助マグネット７８が設けられている。この反転補助マグネット７８は、被処理台１３Ａが可動部材１２Ａに装着された状態において、可動部材１２Ａの側板５０に配設された反転補助マグネット６２と対向するよう（具体的には、可動部材１２Ａの移動方向に対向するよう）構成されている。また、互いに対向する側板５０に設けられた反転補助マグネット６２と、ハウジング７０に設けられた反転補助マグネット７８は、同じ極性を有するよう構成されている。
【０１４７】
被処理台１３Ａは、可動部材１２Ａ上を図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に往復運動するが、上記の反転補助マグネット６２，７８は、この被処理台１３Ａの往復運動に伴う反転時の反転補助を行なう機能を奏する。ここで、図１（Ｂ）を用いて反転補助マグネット６２，７８による反転補助について説明する。
【０１４８】
いま、被処理台１３Ａが図中矢印Ｘ１方向限まで移動し、その後反転（移動方向を変更）して図中矢印Ｘ２方向に移動するときを例に挙げて説明する。被処理台１３Ａは、後述するように制御装置８０の制御処理により、Ｘ１方向に等速移動が行われた後に減速処理が実施される。
【０１４９】
被処理台１３ＡがＸ１方向に移動することにより、ハウジング７０（被処理台１３Ａ）に設けられた反転補助マグネット７８は、側板５０（可動部材１２Ａ）に設けられた反転補助マグネット６２に近接してゆく。このように、互いに同じ極性の反転補助マグネット６２，７８が近接することにより、各マグネット６２，７８間には反力が発生する。即ち、被処理台１３Ａが側板５０に近接するに従い、各マグネット６２，７８間に発生する反力は漸次増大し、この反力は被処理台１３Ａを図中矢印Ｘ２方向（即ち、反転方向）に付勢する力となる。
【０１５０】
被処理台１３Ａを反転させる場合、メインリニアモータ１４及びサブリニアモータ１５は被処理台１３Ａの移動方向を反転させるため、大きな駆動力を発生させる必要がある。即ち、被処理台１３Ａの反転時には、各リニアモータ１４，１５の消費電力は大きくなる。
【０１５１】
しかしながら、上記構成とされた反転補助マグネット６２，７８を設けることにより、この各マグネット６２，７８間に発生する上記の反力は、被処理台１３Ａの反転を補助する。このため、各リニアモータ１４，１５の消費電力（負荷）を低減することができると共に、各リニアモータ１４，１５単独で被処理台を反転させる構成に比べ、円滑に可動部材１２Ａを反転させることが可能となる。尚、この効果は、被処理台１３Ａが図中矢印Ｘ２方向限まで移動した後に反転する場合も同様に発生する。
【０１５２】
次に、図５を参照し、上記構成とされた移動装置１０Ａの基本動作について説明する。尚、後述するように、実際の被処理台１３Ａの移動処理においては、サブリニアモータ１５を用いて各種制御処理を行なうが、ここで図５を用いて説明する移動装置１０Ａの基本動作の説明においては、説明の便宜上、サブリニアモータ１５は存在しないものとして説明する。
【０１５３】
上記したように本実施例に係る移動装置１０Ａは、固定基台１１Ａ上に可動部材１２ＡがＸ１，Ｘ２方向に移動自在に配設され、かつ可動部材１２Ａに被処理台１３ＡがＸ１，Ｘ２方向に移動自在に配設された構成となっている。また、メインリニアモータ１４は被処理台１３Ａを可動部材１２Ａに対してＸ１，Ｘ２方向に直線往復移動するよう駆動する構成とされている。
【０１５４】
図５（Ａ）は、被処理台１３Ａ及び可動部材１２Ａが、いずれも移動中心位置（図中、符号Ａを付した一点鎖線で示す位置）にある状態を示している。また、図５（Ｄ）は、被処理台１３Ａ及び可動部材１２Ａを図５（Ａ）における右側面視した状態を示している。この状態より、可動部材１２Ａと被処理台１３Ａとの間に配設されたメインリニアモータ１４が駆動し、被処理台１３Ａを固定基台１１Ａに対し図中矢印Ｘ２方向に移動付勢した場合を想定する。
【０１５５】
メインリニアモータ１４の駆動（加速、減速駆動）により、被処理台１３Ａは可動部材１２Ａに対して矢印Ｘ２方向に移動しようとする。この際、可動部材１２Ａには被処理台１３ＡがＸ２方向に移動しようとする移動力の反作用力が作用し、可動部材１２Ａは図中矢印Ｘ１方向に移動付勢される。のように（当審注：「このように」の誤記と認める。）可動部材１２Ａは固定基台１１Ａに対してＸ１，Ｘ２方向に移動自在な構成とされているため、可動部材１２Ａは上記の反作用力によりＸ１方向に移動する（図５（Ｂ）参照）。
【０１５６】
また、これとは逆に、メインリニアモータ１４の駆動により被処理台１３Ａが可動部材１２Ａに対して矢印Ｘ１方向に加速、或いは減速作用により移動しようとした場合にも同様に反作用力が発生し、この反作用力は可動部材１２ＡをＸ２方向に移動付勢するよう作用する。よって、可動部材１２Ａは上記の反作用力によりＸ２方向に移動する。
【０１５７】
更に、可動部材１２Ａに対する反作用力の作用方向は、被処理台１３Ａの移動しようとする方向に対して逆方向となる。この際、可動部材の移動の加速度は、被処理台１３Ａと可動部材１２Ａの質量比と反比例する。
【０１５８】
このように、可動部材１２Ａは被処理台１３Ａを移動付勢する移動力の反作用力により移動付勢されるため、被処理台１３Ａの加速時及び減速時において発生する上記反作用力は固定基台１１Ａには伝わらず可動部材１２Ａの移動により吸収される。
【０１５９】
即ち、可動部材１２Ａは、上記反作用力を可動部材１２Ａの運動に置き換えると共にカウンタウェイトとしても機能させ、可動部材１２Ａの移動量を被処理台１３Ａに対して少なくする。このため、被処理台１３Ａを高速移動（例えば５０μｓ〜１００μｓ）させても、その加速時及び減速時において移動装置１０Ａに振動が発生することを抑制することができ、よって高精度で安定した被処理台１３Ａの移動を実現することができる。
【０１６０】
ところで、上記の被処理台１３Ａをメインリニアモータ１４により駆動する際、メインリニアモータ１４は可動部材１２Ａの始動に要する力に打ち勝って、可動部材１２Ａが反対方向の運動を開始する力よりも、大きな力で被処理台１３Ａを移動させる。即ち、可動部材１２Ａを固定基台１１Ａに対してＸ１，Ｘ２方向に移動させるのに必要な力Ｆ１に対し
、被処理台１３Ａを可動部材１２Ａに対してＸ１，Ｘ２方向に移動させるのに必要な力Ｆ２が小さくなるよう設定されている（Ｆ１＞Ｆ２）。
【０１６１】
この構成とするには、例えば被処理台１３Ａの重量を可動部材１２Ａの重量よりも軽くすることが考えられる。これにより、始動時において被処理台１３Ａを確実に始動させることができると共に、可動部材１２Ａを始動させることができる。」
　 
＜記載事項１０＞ 
「【０１６２】
続いて、図５を用いて、被処理台１３Ａの重心Ｇ１、可動部材１２Ａの重心Ｇ２、及び被処理台１３Ａの重心Ｇ１と可動部材１２Ａの重心Ｇ２との合成重心Ｇ３との関係について説明する。図５は、固定基台１１Ａ，可動部材１２Ａ，及び被処理台１３Ａをモデル化して示すものである。尚、各重心Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３は、説明及び図示の便宜上、固定基台１１Ａ，可動部材１２Ａ，及び被処理台１３Ａの中心位置にあると仮定して示している。
【０１６３】
図５（Ａ）は、被処理台１３Ａ及び可動部材１２Ａが、移動中心位置（図中、符号Ａを付した一点鎖線で示す位置）にある状態を示している。この時、各重心Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３は、移動中心位置Ａ上に存在している。具体的には、図中上から被処理台１３Ａの重心Ｇ１、合成重心Ｇ３、可動部材１２Ａの重心Ｇ２の順となっている。
【０１６４】
図５（Ｂ）は、被処理台１３ＡがＸ２方向に移動した状態を示している。したように（当審注：「上記したように」の誤記と認める。）、被処理台１３ＡがＸ２方向に移動することにより、反作用力により可動部材１２ＡはＸ１方向に移動する。この際、移動の加速度は被処理台１３Ａと可動部材１２Ａの質量比と反比例する。
【０１６５】
このように、被処理台１３Ａ及び可動部材１２Ａが移動することにより、被処理台１３Ａの重心Ｇ１及び可動部材１２Ａの重心Ｇ２も移動する。しかしながら、本実施例に係る移動装置１０Ａでは、被処理台１３Ａ及び可動部材１２Ａの移動に拘わらず、合成の重心点Ｇ３は固定基台１１Ａ上の一点に保持されるよう構成されている。
【０１６６】
図５（Ｃ）は、被処理台１３ＡがＸ１方向に移動した状態を示している。被処理台１３ＡがＸ１方向に移動することにより、反作用力により可動部材１２ＡはＸ２方向に移動する。この場合であっても、合成の重心点Ｇ３は被処理台１３Ａ及び可動部材１２Ａの移動に拘わらず、固定基台１１Ａ上の一点（移動中心位置Ａ上の一点）に保持されるよう構成されている。
【０１６７】
このように本実施例に係る移動装置１０Ａでは、可動部材１２Ａ及び被処理台１３Ａが移動しても、被処理台１３Ａの重心Ｇ１と可動部材１２Ａの重心Ｇ２との合成の重心点Ｇ３が固定基台１１Ａ上の一点に保持されるため、合成の重心点Ｇ１の移動に起因して固定基台１１Ａに振動が発生するのを抑制することができる。これにより、移動装置１０Ａに振動や騒音が発生することを防止でき、被処理台１３Ａを精度よく安定して移動させることができる。
【０１６８】
また、本実施例に係る移動装置１０Ａでは、被処理台１３Ａの重心Ｇ１と可動部材１２Ａの重心Ｇ２との合成の重心点Ｇ３が、メインリニアモータ１４とサブリニアモータ１５が協働して被処理台１３Ａに対し移動力を印加する合成印加位置とが略一致するよう構成されている。
【０１６９】
即ち、メインリニアモータ１４が被処理台１３Ａを移動付勢する移動力と、サブリニアモータ１５が可動部材１２Ａを介して被処理台１３Ａを移動付勢する移動力との合成力が被処理台１３Ａを移動付勢する位置（以下、合成移動力付勢位置という）が、した（当審注：「上記した」の誤記と認める。）合成の重心点Ｇ３の位置と一致するよう構成されている。
【０１７０】
この構成とすることにより、各リニアモータ１４，１５が被処理台１３Ａに対し移動力を印加する際、被処理台１３Ａに不要なモーメントが発生することを防止でき、よって被処理台１３Ａを円滑かつ高精度に移動させることができる。」
　 
＜記載事項１１＞ 
「【０１８０】
図６は、移動装置１０Ａの制御ブロック図である。同図に示すように、移動装置１０Ａは被処理台１３Ａの移動を統括的に制御する制御装置８０を有している。
【０１８１】
制御装置８０はコンピュータ（マイクロコンピュータ，コントローラ，ワークステーション，或いはシーケンサー等）により構成されており、その入力ボート側には固−被間センサ１６，固−可間センサ１７，被−可間センサ１８，固−可間オーバーランセンサ１９，固−被間オーバーランセンサ２０，被処理台原点検出センサ２１，可動部材原点検出センサ２２，入力装置２４等が接続され、出力ポート側にはメインリニアモータ１４，サブリニアモータ１５が接続されている。この制御装置８０は、後述する制御プログラムに従い、可動部材１２Ａ及び被処理台１３Ａの移動制御を行なう。」
　 
＜記載事項１２＞ 
「【０２０４】
図１７に矢印Ａで示す太い実線は、被処理台１３Ａの固定基台１１Ａに対する１往復分の理想的な移動速度を示している。図１７において、縦軸は速度であり横軸は時間である。時刻ｔ０〜ｔ１は被処理台１３ＡがＸ１方向に加速移動している加速領域である。また、時刻ｔ１〜ｔ２は被処理台１３ＡがＸ１方向に等速移動している等速領域である。また、時刻ｔ２〜ｔ３は被処理台１３ＡがＸ１方向に減速移動している減速領域である。
【０２０５】
更に、図１７において、時刻ｔ３〜ｔ４は被処理台１３ＡがＸ２方向に加速移動している加速領域である。また、時刻ｔ４〜ｔ５は被処理台１３ＡがＸ２方向に等速移動している等速領域である。また、時刻ｔ５〜ｔ６は被処理台１３ＡがＸ２方向に減速移動している減速領域である。」
 　 
（２）引用刊行物に記載された発明
（２−１）
　上記記載事項１には、「【０００１】・・・本発明は移動装置及び半導体製造装置に係り、特に被処理台が高速往復運動する移動装置及び半導体製造装置に関する。」と、また、上記記載事項４には、「【００９８】移動装置１０Ａは、図１に示されるように、大略すると固定基台１１Ａ，可動部材１２Ａ，被処理台１３Ａ，メインリニアモータ１４，及びサブリニアモータ１５等により構成されている。この移動装置１０Ａは、後に説明する制御装置８０（図６参照）が実施する制御処理に従い被処理台１３Ａを固定基台１１Ａに対して図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に往復直線運動させるものである。」と記載されている。
　この記載によれば、引用刊行物には、「被処理台１３ＡをＸ１，Ｘ２方向に往復直線運動させる移動装置１０Ａ」の発明が記載されている。
　
（２−２）
　上記記載事項４には、「【００９８】移動装置１０Ａは、図１に示されるように、大略すると固定基台１１Ａ，可動部材１２Ａ，被処理台１３Ａ，メインリニアモータ１４，及びサブリニアモータ１５等により構成されている。この移動装置１０Ａは、後に説明する制御装置８０（図６参照）が実施する制御処理に従い被処理台１３Ａを固定基台１１Ａに対して図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に往復直線運動させるものである。」と記載されている。
　この記載によれば、引用刊行物に記載された「被処理台１３ＡをＸ１，Ｘ２方向に往復直線運動させる移動装置１０Ａ」は、「被処理台１３Ａ」と「制御装置８０」と「可動部材１２Ａ」と「固定基台１１Ａ」とを備えている。
　
（２−３）
　上記記載事項３には、「【００４６】また、請求項２２記載の発明は、請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の移動装置において、移動力発生手段は、直線往復運動が可能なリニアモータであることを特徴とするものである。【００４７】上記発明によれば、移動力発生手段として直線往復運動が可能なリニアモータを用いたことにより、リニアモータは比較的制御が容易であるため、簡単な制御処理で高速応答性を有した制御を行なうことができる。」と、また、上記記載事項９には、「【０１５０】被処理台１３Ａを反転させる場合、メインリニアモータ１４及びサブリニアモータ１５は被処理台１３Ａの移動方向を反転させるため、大きな駆動力を発生させる必要がある。即ち、被処理台１３Ａの反転時には、各リニアモータ１４，１５の消費電力は大きくなる。【０１５１】しかしながら、上記構成とされた反転補助マグネット６２，７８を設けることにより、この各マグネット６２，７８間に発生する上記の反力は、被処理台１３Ａの反転を補助する。このため、各リニアモータ１４，１５の消費電力（負荷）を低減することができると共に、各リニアモータ１４，１５単独で被処理台を反転させる構成に比べ、円滑に可動部材１２Ａを反転させることが可能となる。尚、この効果は、被処理台１３Ａが図中矢印Ｘ２方向限まで移動した後に反転する場合も同様に発生する。【０１５２】次に、図５を参照し、上記構成とされた移動装置１０Ａの基本動作について説明する。尚、後述するように、実際の被処理台１３Ａの移動処理においては、サブリニアモータ１５を用いて各種制御処理を行なうが、ここで図５を用いて説明する移動装置１０Ａの基本動作の説明においては、説明の便宜上、サブリニアモータ１５は存在しないものとして説明する。【０１５３】上記したように本実施例に係る移動装置１０Ａは、固定基台１１Ａ上に可動部材１２ＡがＸ１，Ｘ２方向に移動自在に配設され、かつ可動部材１２Ａに被処理台１３ＡがＸ１，Ｘ２方向に移動自在に配設された構成となっている。また、メインリニアモータ１４は被処理台１３Ａを可動部材１２Ａに対してＸ１，Ｘ２方向に直線往復移動するよう駆動する構成とされている。」と、また、上記記載事項１１には、「【０１８１】制御装置８０はコンピュータ（マイクロコンピュータ，コントローラ，ワークステーション，或いはシーケンサー等）により構成されており、その入力ボート側には固−被間センサ１６，固−可間センサ１７，被−可間センサ１８，固−可間オーバーランセンサ１９，固−被間オーバーランセンサ２０，被処理台原点検出センサ２１，可動部材原点検出センサ２２，入力装置２４等が接続され、出力ポート側にはメインリニアモータ１４，サブリニアモータ１５が接続されている。この制御装置８０は、後述する制御プログラムに従い、可動部材１２Ａ及び被処理台１３Ａの移動制御を行なう。」と記載されている。
　これらの記載によれば、引用刊行物に記載された「被処理台１３ＡをＸ１，Ｘ２方向に往復直線運動させる移動装置１０Ａ」の「制御装置８０」は、「メインリニアモータ１４，サブリニアモータ１５を制御して、被処理台１３Ａに対して与えられる移動力の制御を行なう」ものである。
　
（２−４）
　上記記載事項９には、「【０１５７】更に、可動部材１２Ａに対する反作用力の作用方向は、被処理台１３Ａの移動しようとする方向に対して逆方向となる。この際、可動部材の移動の加速度は、被処理台１３Ａと可動部材１２Ａの質量比と反比例する。【０１５８】このように、可動部材１２Ａは被処理台１３Ａを移動付勢する移動力の反作用力により移動付勢されるため、被処理台１３Ａの加速時及び減速時において発生する上記反作用力は固定基台１１Ａには伝わらず可動部材１２Ａの移動により吸収される。【０１５９】即ち、可動部材１２Ａは、上記反作用力を可動部材１２Ａの運動に置き換えると共にカウンタウェイトとしても機能させ、可動部材１２Ａの移動量を被処理台１３Ａに対して少なくする。このため、被処理台１３Ａを高速移動（例えば５０μｓ〜１００μｓ）させても、その加速時及び減速時において移動装置１０Ａに振動が発生することを抑制することができ、よって高精度で安定した被処理台１３Ａの移動を実現することができる。【０１６０】ところで、上記の被処理台１３Ａをメインリニアモータ１４により駆動する際、メインリニアモータ１４は可動部材１２Ａの始動に要する力に打ち勝って、可動部材１２Ａが反対方向の運動を開始する力よりも、大きな力で被処理台１３Ａを移動させる。即ち、可動部材１２Ａを固定基台１１Ａに対してＸ１，Ｘ２方向に移動させるのに必要な力Ｆ１に対し、被処理台１３Ａを可動部材１２Ａに対してＸ１，Ｘ２方向に移動させるのに必要な力Ｆ２が小さくなるよう設定されている（Ｆ１＞Ｆ２）。【０１６１】この構成とするには、例えば被処理台１３Ａの重量を可動部材１２Ａの重量よりも軽くすることが考えられる。これにより、始動時において被処理台１３Ａを確実に始動させることができると共に、可動部材１２Ａを始動させることができる。」と記載されている。
　すなわち、上記記載事項９には、「可動部材の移動の加速度は、被処理台１３Ａと可動部材１２Ａの質量比と反比例する」こと、及び、「可動部材１２Ａの移動量を被処理台１３Ａに対して少なくする」ことが記載されている。また、２つの物体の移動の加速度が、２つの物体の質量比と反比例する時、２つの物体の移動量は、２つの物体の質量比のべき乗に反比例することは明らかであるから、可動部材１２Ａの移動量が被処理台１３Ａに対して少ないことは、可動部材１２Ａの質量が、被処理台１３Ａの質量よりも大きいことを意味しており、上記段落【０１６１】にもそのことが記載されている。
　よって、この記載及び上記事項によれば、引用刊行物に記載された「被処理台１３ＡをＸ１，Ｘ２方向に往復直線運動させる移動装置１０Ａ」の「可動部材１２Ａ」は、「被処理台１３Ａの質量より大きい質量を有する」ものである。
　
（２−５）
　上記記載事項５には、「【０１１５】次に、可動部材１２Ａについて説明する。可動部材１２Ａは、図１及び図３に示されるように、大略すると側板５０，側部連結体５１，中央部連結体５２，サブリニアモータ用コイルユニット５６，第１のリニアガイドレール６０，第２のリニアガイドレール６１，及び反転補助マグネット６２等により構成されている。」と、また、上記記載事項６には、「【０１２５】また、可動部材１２Ａの各側板５０の互いに対向する内側面には、片面に４個ずつ、合計８個の反転補助マグネット６２が配設されている。この反転補助マグネット６２は、後述する被処理台１３Ａに設けられた反転補助マグネット７８と協働し、被処理台１３Ａが往復移動に伴い可動部材１２Ａの両端部付近において反転を行なう際に、磁気的な反発力により反転の補助作用（具体的には、ブレーキ作用、停止作用、反転方向力作用）を行なうものである。」と、また、上記記載事項７には、「【０１３７】次に、被処理台１３Ａについて説明する。被処理台１３Ａは、図１及び図４に示すように、大略するとハウジング７０，ステーフレーム７１，プラテン７２，及びメインリニアモータ用コイルユニット７４等により構成されている。」と、また、上記記載事項９には、「【０１４６】更に、ハウジング７０は、複数個の反転補助マグネット７８が設けられている。この反転補助マグネット７８は、被処理台１３Ａが可動部材１２Ａに装着された状態において、可動部材１２Ａの側板５０に配設された反転補助マグネット６２と対向するよう（具体的には、可動部材１２Ａの移動方向に対向するよう）構成されている。また、互いに対向する側板５０に設けられた反転補助マグネット６２と、ハウジング７０に設けられた反転補助マグネット７８は、同じ極性を有するよう構成されている。【０１４７】被処理台１３Ａは、可動部材１２Ａ上を図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に往復運動するが、上記の反転補助マグネット６２，７８は、この被処理台１３Ａの往復運動に伴う反転時の反転補助を行なう機能を奏する。」と記載されている。
　これらの記載によれば、引用刊行物に記載された「被処理台１３ＡをＸ１，Ｘ２方向に往復直線運動させる移動装置１０Ａ」の「可動部材１２Ａ」は、「被処理台１３Ａに設けられた反転補助マグネット７８と協働して、被処理台１３Ａが往復移動に伴い可動部材１２Ａの両端部付近において反転を行なう際に、磁気的な反発力により反転の補助作用を行なうための、反転補助マグネット６２が設けられた、互いに対向する側板５０を有する」ものである。
　
（２−６）
　上記記載事項４には、「【００９９】先ず、固定基台１１Ａについて説明する。固定基台１１Ａは、図１及び図２に示すように、四隅近傍位置にリニアガイドブロック３０が設けられている。このリニアガイドブロック３０は、後述する可動部材１２Ａに設けられた第１のリニアガイドレール６０と係合する構成とされている。第１のリニアガイドレール６０がリニアガイドブロック３０に係合した状態で、可動部材１２Ａは固定基台１１Ａに対して図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動自在な構成となる。」と、また、上記記載事項６には、「【０１２６】・・・第１のリニアガイドレール６０及び第２のリニアガイドレール６１は、図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に長く延在するよう設けられている（一対の側板５０の間に形成されている）。【０１２７】第１のリニアガイドレール６０は、固定基台１１Ａに設けられたリニアガイドブロック３０に係合するよう構成されている。これにより、可動部材１２Ａはリニアガイドブロック３０及び第１のリニアガイドレール６０にガイドされて矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動する構成となり、よって高速移動しても可動部材１２Ａを高精度に位置決めした状態で、かつ安定した状態で移動させることができる。【０１２８】一方、第２のリニアガイドレール６１は、被処理台１３Ａに設けられたリニアガイドブロック７５に係合するよう構成されている。これにより、被処理台１３Ａは第２のリニアガイドレール６１及びリニアガイドブロック７５にガイドされて矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動する構成となり、よって高速移動しても被処理台１３Ａを高精度に位置決めした状態で、かつ安定した状態で移動させることができる。」と、また、上記記載事項８には、「【０１４５】尚、本実施例では、可動部材１２Ａに設けられている第２のリニアガイドレール６１と、被処理台１３Ａに設けられているリニアガイドブロック７５とが係合することにより被処理台１３Ａの直線移動を案内する構成とした。しかしながら、固定基台に第３のリニアガイドレールを設け、この第３のリニアガイドレールとリニアガイドブロック７５が係合することにより被処理台１３Ａを直線移動する構成としてもよい。この場合、第２のリニアガイドレール６１は省略することができる。」と記載されている。
　これらの記載によれば、引用刊行物に記載された「被処理台１３ＡをＸ１，Ｘ２方向に往復直線運動させる移動装置１０Ａ」の「固定基台１１Ａ」には、「Ｘ１，Ｘ２方向に長く延在するように設けられ、被処理台１３Ａに設けられたリニアガイドブロック７５と係合して被処理台１３ＡをＸ１，Ｘ２方向に移動させることができる第３のリニアガイドレールと、Ｘ１，Ｘ２方向に沿って設けられ、可動部材１２ＡにＸ１，Ｘ２方向に長く延在するように設けられた第１のリニアガイドレール６０と係合して可動部材１２ＡをＸ１，Ｘ２方向に移動させることができるリニアガイドブロック３０」とが設けられている。
　
（２−７）
　（２−１）〜（２−６）によれば、引用刊行物には、以下の発明が記載されている。 
「被処理台１３ＡをＸ１，Ｘ２方向に往復直線運動させる移動装置１０Ａであって、
　前記被処理台１３Ａと、
　メインリニアモータ１４，サブリニアモータ１５を制御して、被処理台１３Ａに対して与えられる移動力の制御を行なう制御装置８０と、
　前記被処理台１３Ａの質量より大きい質量を有する可動部材１２Ａであって、前記被処理台１３Ａに設けられた反転補助マグネット７８と協働して、前記被処理台１３Ａが往復移動に伴い該可動部材１２Ａの両端部付近において反転を行なう際に、磁気的な反発力により反転の補助作用を行なうための、反転補助マグネット６２が設けられた、互いに対向する側板５０を有する可動部材１２Ａと、
　固定基台１１Ａと、を備え、
　前記固定基台１１Ａには、前記Ｘ１，Ｘ２方向に長く延在するように設けられ、前記被処理台１３Ａに設けられたリニアガイドブロック７５と係合して前記被処理台１３Ａを前記Ｘ１，Ｘ２方向に移動させることができる第３のリニアガイドレールと、前記Ｘ１，Ｘ２方向に沿って設けられ、前記可動部材１２Ａに前記Ｘ１，Ｘ２方向に長く延在するように設けられた第１のリニアガイドレール６０と係合して前記可動部材１２Ａを前記Ｘ１，Ｘ２方向に移動させることができるリニアガイドブロック３０とが設けられている
　往復直線運動させる移動装置１０Ａ。」（以下、「引用発明」という。）
　
５．対比
 　本願発明と引用発明とを比較する。 
　
（１）
　引用発明の「被処理台１３Ａ」は、本願発明の「移動体」に相当し、以下同様に、「Ｘ１，Ｘ２方向に往復直線運動させる」は「直線方向に沿って往復運動させる」に、「往復直線運動させる移動装置１０Ａ」は「直線往復動装置」に、「固定基台１１Ａ」は「基台」に相当する。
　よって、引用発明の「被処理台１３ＡをＸ１，Ｘ２方向に往復直線運動させる移動装置１０Ａ」は、本願発明の「移動体を直線方向に沿って往復運動させる直線往復動装置」に相当する。
　
（２）
　引用発明の「被処理台１３Ａに対して与えられる移動力」は、本願発明の「移動体に対して与えられる駆動力」に相当する。
　よって、引用発明の「メインリニアモータ１４，サブリニアモータ１５を制御して、前記被処理台１３Ａに対して与えられる移動力の制御を行なう制御装置８０」は、本願発明の「前記移動体に対して与えられる駆動力を制御する制御部」に相当する。
　
（３）
ア　引用発明において、可動部材１２Ａは、前記被処理台１３Ａの質量より大きい質量を有し、前記被処理台１３Ａに設けられた反転補助マグネット７８と協働して、前記被処理台１３Ａが往復移動に伴い該可動部材１２Ａの両端部付近において反転を行なう際に、磁気的な反発力により反転の補助作用を行なうための、反転補助マグネット６２が設けられた、互いに対向する側板５０を有するものである。
　
イ　そして、引用発明の「前記被処理台１３Ａの質量より大きい質量を有する」ことは、本願発明の「前記移動体よりも大きい質量を有する」ことに相当する。
　
ウ　一方、本願明細書の段落【００８９】〜【００９１】には、「【００８９】なお、上記の説明では、第１磁石４３、及び第２磁石５３の磁力によって反発させたが、これに限られるものではない。例えば、移動体４０と反転部５０とを衝突させて、反転させてもよい。すなわち、移動している移動体４０は反転部５０と当接する。これにより、移動体４０が跳ね返される。このように、移動体４０を衝突させることによって、折返し時間をより短くすることができる。すなわち、衝突によって折り返す場合、移動端まで減速することがない。よって、高速に折り返すことが可能になる。なお、第１磁石４３、及び第２磁石５３の磁力を用いることによって、移動体４０と反転部５０とが接触しなくなる。よって、衝突による発塵を防ぐことができる。よって、試料であるフォトマスクや、半導体ウエハの汚染を低減することができる。【００９０】　なお、第１磁石４３ａ、及び第２磁石５３ａの残留磁束密度を低くして、移動体４０と反転部５０を衝突させるようにしてもよい。この場合、移動体４０が反転部５０に当接することによって、移動方向が反転する。このようにすることによって、衝突による衝撃を緩和させることができる。また、第１磁石４３ａ、及び第２磁石５３ａの残留磁束密度を高くすることによって、移動体４０と反転部５０が接触しなくなる。すなわち、非接触で、移動体４０が反転する。これにより、衝突による発塵を低減することができる。【００９１】上記の説明では、反転部５０と移動体４０に反発力を付与するための反発部材として、第１磁石４３ａ、及び第２磁石５３ａを用いている。なお、反発部材は、第１磁石４３ａ、及び第２磁石５３ａに限られるものではない。例えば、バネ、ゴムなどの弾性体を反発部材として用いてもよい。すなわち、磁力、又は弾性力を用いて移動体４０を跳ね返すことができる。この場合、図９に示すように、移動体４０に弾性体４８を設ければよい。なお、図９は、本発明の別の態様にかかるＸ駆動機構１７の構成を模式的に示す図である。弾性体４８は、移動体４０の他の部分よりも、反転部５０側に突出している。なお、移動体４０ではなく、反転部５０に弾性体４８を設けてもよい。さらには、反転部５０、及び弾性体４８の両方に設けてもよい。さらに、反発部材として、磁石、及び弾性体４８の両方を用いてもよい。なお、移動体４０の両側に配置された２つの反発部材は、同じ反発力を付与することが好ましい。このように、距離に応じた反発力を移動体４０に与える反発部材を用いることによって、衝突による発塵を低減することができる。また、反発力が弱く、移動体４０と反転部５０が衝突する場合でも、衝突による衝撃を緩和することができる。」と記載されている。
　
エ　すなわち、本願明細書において、「接近する前記移動体を跳ね返して前記移動体の移動方向を反転させる」形態としては、段落【００８９】までに説明されてきたような、磁力のみでもって移動体を跳ね返して移動方向を反転させる形態と、段落【００８９】において説明されているような、磁力やバネやゴムなどの弾性力を使わずに、反転部に衝突させることにより移動体を跳ね返して移動方向を反転させる形態と、段落【００９０】において説明されているような、磁力と、反転部への当接を併用して、移動体の移動方向を反転させる形態と、段落【００９１】において説明されているような、バネやゴムなどの弾性力のみを用いて、移動体の移動方向を反転させる形態と、段落【００９１】において説明されているような、磁力とバネやゴムなどの弾性力を併用して、移動体の移動方向を反転させる形態と、様々な形態が記載されている。
　したがって、本願発明の「接近する前記移動体を跳ね返して前記移動体の移動方向を反転させる反転部」は、磁力を補助的に使って移動体の移動方向を反転させるような反転部も含んでいる。
　
オ　よって、引用発明の、前記被処理台１３Ａに設けられた反転補助マグネット７８と協働して、前記被処理台１３Ａが往復移動に伴い該可動部材１２Ａの両端部付近において反転を行なう際に、磁気的な反発力により反転の補助作用を行なうための、反転補助マグネット６２が設けられた、「側板５０」は、本願発明の、接近する前記移動体を跳ね返して前記移動体の移動方向を反転させる、「反転部」に相当する。
　
カ　また、引用発明の、前記被処理台１３Ａに設けられた反転補助マグネット７８と協働して、磁気的な反発力により反転の補助作用を行なうための、反転補助マグネット６２が設けられた、互いに対向する側板５０を有する、「可動部材１２Ａ」は、本願発明の、反転部が前記移動体の両側にそれぞれ設けられている、「質量体」に相当する。
　
キ　したがって、イ、オ、カによれば、引用発明の「前記被処理台１３Ａの質量より大きい質量を有する可動部材１２Ａであって、前記被処理台１３Ａに設けられた反転補助マグネット７８と協働して、前記被処理台１３Ａが往復移動に伴い該可動部材１２Ａの両端部付近において反転を行なう際に、磁気的な反発力により反転の補助作用を行なうための、反転補助マグネット６２が設けられた、互いに対向する側板５０を有する可動部材１２Ａ」は、本願発明の「前記移動体よりも大きい質量を有する質量体であって、接近する前記移動体を跳ね返して前記移動体の移動方向を反転させる反転部が前記移動体の両側にそれぞれ設けられている質量体」に相当する。
　
（４）
　引用発明において、第３のリニアガイドレール及びリニアガイドブロック３０は、前記被処理台１３Ａの移動方向である前記Ｘ１，Ｘ２方向に設けられており、それぞれ、前記被処理台１３Ａを前記Ｘ１，Ｘ２方向に移動させることができる、及び、前記可動部材１２Ａを前記Ｘ１，Ｘ２方向に移動させることができるものであって、前記固定基台１１Ａに設けられている。
　よって、引用発明の、前記Ｘ１，Ｘ２方向に設けられており、それぞれ、前記被処理台１３Ａを前記Ｘ１，Ｘ２方向に移動させることができる、及び、前記可動部材１２Ａを前記Ｘ１，Ｘ２方向に移動させることができるものであって、前記固定基台１１Ａに設けられている、「第３のリニアガイドレール」及び「リニアガイドブロック３０」と、本願発明の、前記移動体の移動方向に沿って設けられ、前記移動体、及び前記質量体を直線移動可能に保持し、基台に固定された一本のガイドレールである、「ガイド部材」とは、共に、「前記移動体の移動方向に沿って設けられ、前記移動体、及び前記質量体を直線移動可能に保持し、基台に固定されたガイド部材」である点で共通する。
　
（５）
　したがって、本願発明と引用発明の両者は、 
「移動体を直線方向に沿って往復運動させる直線往復動装置であって、
　移動体と、
　前記移動体に対して与えられる駆動力を制御する制御部と、
　前記移動体よりも大きい質量を有する質量体であって、接近する前記移動体を跳ね返して前記移動体の移動方向を反転させる反転部が前記移動体の両側にそれぞれ設けられている質量体と、
　前記移動体の移動方向に沿って設けられ、前記移動体、及び前記質量体を直線移動可能に保持するガイド部材と、を備え、
　前記ガイド部材が基台に固定され、
　前記移動体、及び前記質量体が前記ガイド部材に沿って、直線移動する
直線往復動装置。」の点で一致し、以下の点で相違する。 
　
［相違点］
　ガイド部材として、本願発明では「１本のガイドレール」を採用しているのに対し、引用発明では「第３のリニアガイドレールとリニアガイドブロック３０」を用いている点。
　
６．判断
　上記相違点について検討する。
　
　一般に、直線往復移動装置において、「装置に対して、移動体を移動方向に沿って支持するガイド部材として、１本のガイドレールを採用し、前記移動体と、前記移動体と協働して装置全体のバランスを維持するための質量体とを、前記１本のガイドレールによって、直線移動可能に保持し、前記移動体と前記質量体を前記１本のガイドレールに沿って直線移動させるようにする」ことは、以下に示すように、周知・慣用の技術である。
　例えば、
・特開平８−２４７３０号公報の、特に、段落【００１３】〜【００２８】、図１〜４に、塗装ユニット６（本願発明の「移動体」に相当する。以下、同様。）と、カウンタウェイト８（質量体）とが、１本のガイドレール４（１本のガイドレール）によって往復動可能に支持されていることが、また、
・特開２００３−１４５８７４号公報に従来の技術として、特に、段落【０００２】〜【００１０】、図４〜６に、ハンマバンク１０（移動体）と、カウンタバランサ１４（質量体）とが、１本のガイドシャフト１２（１本のガイドレール）によって往復運動可能に支持されていることが、また、
・特開２００２−１４４６６０号公報に従来の技術として、特に、段落【０００２】〜【０００５】、図６に、印字ユニット９０（移動体）と、可動部９１ａ（質量体）とが、１本のガイドシャフト９２（１本のガイドレール）によって往復動自在に支持されていることが、示されている。
　
　よって、引用発明において、被処理台１３Ａ（移動体）と、可動部材１２Ａ（質量体）を、固定基台１１Ａ（基台）に対して、Ｘ１，Ｘ２方向（移動体の移動方向）に往復直線移動可能に支持して、被処理台１３Ａ（移動体）と、可動部材１２Ａ（質量体）とを協働させて装置全体のバランスを維持させているところ、上記周知・慣用の技術を適用して、ガイド部材として１本のガイドレールを採用し、固定基台１１Ａ（基台）に対して、Ｘ１，Ｘ２方向（移動体の移動方向）に沿って１本のガイドレールを固定し、被処理台１３Ａ（移動体）と可動部材１２Ａ（質量体）とを１本のガイドレールによって、直線移動可能に保持し、被処理台１３Ａ（移動体）と可動部材１２Ａ（質量体）とを１本のガイドレールに沿って直線移動させるようにすることは、当業者が容易になし得たことである。
　したがって、上記相違点に係る本願発明の発明特定事項は、当業者が引用発明及び上記周知・慣用の技術に基づいて容易に想到し得たことである。
　
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び上記周知・慣用の技術から想定することができない格別のものと認めることもできない。
　
　したがって、本願発明は、引用発明及び上記周知・慣用の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
７．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び上記周知・慣用の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について判断するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。