【手続補正書】
【提出日】平成23年1月28日(2011.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
本発明の原理は種々の変更および代替の形態に従うことができるが、特定種を例、図面および詳細な説明によって説明してきた。本説明の意図は、発明を説明した特定の態様に限定するものではなく、本開示の精神および範囲の範囲内での全ての変更、均等、および代替を網羅することを理解すべきである。
本発明は以下の態様を有する。
［１］  ポリアミド膜を修飾する方法であって、ポリアミド膜を、式（Ｉ）
【化１】
2010517762.tif 000001
（式中：
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は各々同一または異なり、そして独立に：水素、ハロゲン、１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、およびアリール基から選択され；
Ｙは、酸素および硫黄から選択され；そして
Ｚは環活性化基である）
で表される化合物およびそれに由来するポリマーのうち少なくとも１種から選択される物質と接触させるステップを含む、方法。
［２］  上記［１］に記載の物質を含む溶液を、ポリアミド膜の少なくとも表面部分に適用するステップを含む、上記［１］に記載の方法。
［３］  溶液の適用の後にポリアミド膜を加熱するステップを含む、上記［２］に記載の方法。
［４］  Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4が各々水素であり、そしてＹが酸素である、上記［１］に記載の方法。
［５］  Ｚが：水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、アリール基、およびポリアルキレンオキサイド基から選択される、上記［１］に記載の方法。
［６］  物質がポリ（オキサゾリン）を含む、上記［１］に記載の方法。
［７］  物質がポリ（２−エチル−２−オキサゾリン）を含む、上記［６］に記載の方法。
［８］  ポリアミド膜をポリアルキレンオキサイド物質と接触させるステップを含む、上記［１］に記載の方法。
［９］  ポリアミド膜を、ポリ（オキサゾリン）およびポリアルキレンオキサイド物質を含む水系溶液でコートする、上記［１］に記載の方法。
［１０］  ポリアミド膜を、ポリ（オキサゾリン）とポリアルキレンオキサイド物質との反応生成物と接触させる、上記［１］に記載の方法。
［１１］  ポリアミド膜を、ポリ（オキサゾリン）と多官能エポキシド物質との反応生成物と接触させる、上記［１］に記載の方法。
［１２］  物質が、式（ＩＩ）、
【化２】
2010517762.tif 000002
（式中、ｎは２〜２０，０００の整数である）
で表される繰り返し単位を含むポリマーを含む、上記［１］に記載の方法。
［１３］  Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4が各々水素であり、Ｙが酸素であり、そしてｎが約５０〜１０，０００の整数である、上記［１２］に記載の方法。
［１４］  Ｚが：水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、アリール基、およびポリアルキレンオキサイド基から選択される、上記［１２］に記載の方法。
［１５］  Ｚが：アニリン、ベンゼン−１，３−ジアミン、ヒドロキシル、４級アンモニウムおよびポリバイオサイドから選択される、上記［１２］に記載の方法。
［１６］  ポリマーが、化学反応性の末端基を含む、上記［１２］に記載の方法。
［１７］  ポリマーが：ヒドロキシル、エポキシ、およびエチレングリコールから選択される末端基を含む、上記［１２］に記載の方法。
［１８］  ポリアミド表面を含むポリアミド膜であって、該表面の少なくとも一部が、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリマー：
【化３】
2010517762.tif 000003
（式中、
ｎは、２〜２０，０００の整数であり；
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は各々同一または異なり、そして独立に：水素、ハロゲン、１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、およびアリール基から選択され；
Ｙは、酸素および硫黄から選択され；そして
Ｚは、溶解性パラメータ約１８Ｊ1/2ｃｍ-3/2超を有する該ポリマーを与える基から選択される）
を含むコーティングを含む、膜。
［１９］  Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4が各々水素であり；Ｙが酸素であり；そしてｎが５０〜１０，０００の整数である、上記［１８］に記載の膜。
［２０］  Ｚが可溶化基である、上記［１８］に記載の膜。
［２１］  Ｚが抗菌性基である、上記［１８］に記載の膜。
［２２］  Ｚが：水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、アリール基、およびポリアルキレンオキサイド基から選択される、上記［１８］に記載の膜。
［２３］  前記ポリマーがポリ（オキサゾリン）を含む、上記［１８］に記載の膜。
［２４］  前記ポリマーの約１０質量パーセント以下が、式（ＩＩＩ）：
【化４】
2010517762.tif 000004
（式中、Ｘは、炭素原子または化学結合であり；そしてＲ4は：水素、１〜４個の炭素原子を含むアルキル基、ヒドロキシル基、および１〜４個の炭素原子を有するヒドロキシルアルキル基から選択される）
で表されるアルキレンオキサイドの繰り返し単位を含む、上記［１８］に記載の膜。
［２５］  前記ポリマーの少なくとも９５質量パーセントが、式ＩＩで表される繰り返し単位を含み、そして前記コポリマーの約５質量パーセント以下が、式（ＩＩＩ）：
【化５】
2010517762.tif 000005
（式中、Ｘは、炭素原子または化学結合であり；そしてＲ4は：水素、１〜４個の炭素原子を含むアルキル基、ヒドロキシル基、および１〜４個の炭素原子を有するヒドロキシルアルキル基から選択される）
で表されるアルキレンオキサイドの繰り返し単位を含む、上記［１８］に記載の膜。
［２６］  前記ポリマーが、式ＩＩで表される繰り返し単位を有するポリマーと、式ＩＩＩで表される繰り返し単位を有するポリマーとの反応生成物である、上記［１８］に記載の膜。
［２７］  前記コーティングが、ポリ（２−オキサゾリン）およびポリ（アルキレンオキサイド）を含むポリマーブレンドを含む、上記［１８］に記載の膜。
［２８］  前記ポリマーが、式ＩＩで表される繰り返し単位を有するポリマーと多官能エポキシド物質との反応生成物である、上記［１８］に記載の膜。
［２９］  マイクロ多孔質支持体とポリアミド層とを含むコンポジット膜であって、前記ポリアミド層の少なくとも表面部分の上にポリ（オキサゾリン）のコーティングを含むことを特徴とする、膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミド膜を修飾する方法であって、ポリアミド膜を、式（Ｉ）
【化１】
2010517762.tif 000006
（式中：
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は各々同一または異なり、そして独立に：水素、ハロゲン、１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、およびアリール基から選択され；
Ｙは、酸素および硫黄から選択され；そして
Ｚは環活性化基である）
で表される化合物およびそれに由来するポリマーのうち少なくとも１種から選択される物質と接触させるステップを含む、方法。
【請求項２】
物質がポリ（オキサゾリン）を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ポリアミド表面を含むポリアミド膜であって、該表面の少なくとも一部が、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリマー：
【化２】
2010517762.tif 000007
（式中、
ｎは、２〜２０，０００の整数であり；
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は各々同一または異なり、そして独立に：水素、ハロゲン、１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、およびアリール基から選択され；
Ｙは、酸素および硫黄から選択され；そして
Ｚは、少なくとも５０質量パーセントの水を含む水系溶液中に可溶なポリマーを与える可溶化基である）
を含むコーティングを含む、膜。
【請求項４】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4が各々水素であり；Ｙが酸素であり；そしてｎが５０〜１０，０００の整数である、請求項１に記載の膜。
【請求項５】
Ｚが：水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、アリール基、およびポリアルキレンオキサイド基から選択される、請求項１に記載の膜。