【事件の表示】
　特願２００３−１３１０２５「分散安定性に優れた研磨剤スラリー及び基板の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１１月２５日出願公開、特開２００４−３３１８５２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本件出願は、平成１５年５月９日の出願であって、以降の手続の経緯は以下のとおりである。 
平成１８年　２月１０日　出願審査請求　　 
平成２０年　２月　１日　拒絶理由通知　　　 
平成２０年　４月　７日　意見書・手続補正書 
平成２０年　５月　１日　拒絶査定　　　　　　　　 
平成２０年　６月１２日　審判請求　　　　　 
平成２０年　７月１４日　手続補正書　　 
平成２０年１０月１５日　前置報告　　　　　 
平成２２年　９月２４日　審尋　　　　　　　　　 
平成２２年１２月１３日　応対記録（請求人は、審判請求書で十分に主張し尽くしていると考えているため回答書を提出しなかったことを電話にて確認したもの。）
　　　　　　　　　　　　　　　　 
 第２　平成２０年７月１４日付けの手続補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２０年７月１４日付けの手続補正を却下する。
　　　　　　　
［理由］
１．補正の内容 
　平成２０年７月１４日付けの手続補正（以下、「本件補正」と言う。）は、その補正前の特許請求の範囲の請求項１である 
 「酸化セリウム粒子と、この酸化セリウム粒子より小さい平均粒径を有するコロイダルシリカと、これら酸化セリウム粒子及びコロイダルシリカを分散させる分散媒とのみからなり、上記分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒からなる研磨剤スラリーであり、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）が１００〜５，０００nmであって、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）が１０〜３００nmであり、上記酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．０１以上１未満であると共に、酸化セリウム粒子の粒子濃度（Ｃp）が５〜３０重量%であって、コロイダルシリカの粒子濃度（Ｃc）が０．１〜５重量%であり、上記酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が１以下であることを特徴とする研磨剤スラリー。」を、　
　「酸化セリウム粒子と、この酸化セリウム粒子より小さい平均粒径を有するコロイダルシリカと、これら酸化セリウム粒子及びコロイダルシリカを分散させる分散媒とのみからなり、上記分散剤が水である研磨剤スラリーであり、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）が１００〜５，０００nmであって、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）が１０〜３００nmであり、上記酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．０１以上１未満であると共に、酸化セリウム粒子の粒子濃度（Ｃp）が５〜３０重量%であって、コロイダルシリカの粒子濃度（Ｃc）が０．１〜５重量%であり、上記酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が１以下であることを特徴とする研磨剤スラリー。」　
とする補正、及び、それに対応する発明の詳細な説明の記載について一貫性を持たせるために、明細書の段落【００１６】の、
「…上記分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒からなる研磨剤スラリーであり…」を、「…上記分散剤が水である研磨剤スラリーであり…」とする補正を含むものである。 
（当審注：本件補正における「上記分散剤」は、それよりも上に記載された事項に「分散剤」はなく、「分散媒」の意味と認められる。）
　　　　　
２．補正事項に係る検討
（１）目的要件 
　上記補正は、補正前の請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項（発明特定事項）である「上記分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒からなる研磨剤スラリー」を「上記分散剤が水である研磨剤スラリー」と補正するものであり、分散剤の種類を「水又は水を主成分とする水性分散媒」と言う２つの選択肢のある態様から、「水」のみに限定するものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下、「平成１８年改正前特許法」と言う。）第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 
 　　 
（２）独立特許要件 
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載されている事項により特定される発明（以下、「本件補正発明」と言う。また、本件補正後の明細書を「本件補正明細書」と言う。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかについて検討すると、理由１、２により本件補正発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができるものではなく、前記請求項１についての補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものとは言えない。 
　　　　　　　　　　　　
１．本件補正発明は、その出願前に頒布された下記の刊行物ａに記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることがないものである。　
２．本件補正発明は、その出願前に頒布された下記の刊行物ａ、ｂに記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることがないものである。　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　記　　　　　　　　
ア．刊行物ａを主引用刊行物とする理由について（理由１、２）
（ア）刊行物及び周知例
刊行物ａ．特開平８−１４８４５５号公報（以下、「刊行物ａ」と言う。拒絶査定における引用文献３と同じ文献である。）　
（以下は、周知例。）
周知例ｂ．特公昭５３−６７５６号公報
周知例ｃ．「カーク・オスマー化学大辞典」（丸善株式会社）、塩川二朗監修、昭和６３年９月２０日発行、第６３０〜６３１頁「シリカ」の項
　　　　　　　　
（イ）刊行物及び周知例に記載された事項　
（ａ）刊行物ａ
ａ−１「ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 もしくはコロイダルシリカ砥粒の少なくとも１種以上の砥粒とＣｅＯ2 砥粒とを含む砥粒液を用い、研磨により平坦化することを特徴とする薄膜の表面平坦化方法。」（【特許請求の範囲】の【請求項１】）
ａ−２「下記の表１に示した砥粒を純水中に所定量混合した砥粒液を用いて研磨を行った場合…について説明する。ＣｅＯ2 、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 の各砥粒は平均粒径がそれぞれ約０．２μｍのものを用いた。またサンプルとしてはＥＣＲ−ＣＶＤ法により厚さが約１μのＳｉＯ２膜を形成した直径が約６インチのシリコンウエハ１１を用いた。
　…
【表１】
　」（段落【００２７】〜【００２８】）
ａ−３「実施例３のコロイダルシリカ及びＣｅＯ2 砥粒を純水中にそれぞれ０．５〜３０％及び５〜３０％濃度に混合した砥粒液を用いた場合、下記の表８に示したように研磨速度が２５００Å／ｍｉｎ以上に速くなり、パーティクル数は８００個以下に減少した。またコロイダルシリカ砥粒濃度が約０．５％以上であり、かつコロイダルシリカ及びＣｅＯ2 砥粒のトータル濃度が約５０％以下の砥粒液では、上記の場合と略同様に研磨速度が速く、パーティクル数が少なくなるとともに、砥粒の凝集が少なくなった。さらにコロイダルシリカ砥粒濃度が５〜３０％及びＣｅＯ2 砥粒濃度が５〜３０％の砥粒液では、パーティクル数が約２０以下となった。　…
【表８】
」（段落【００４５】〜【００４６】）
ａ−４「また、前記…コロイダルシリカ砥粒の少なくとも１種以上の砥粒の濃度が０．５％以上であり、かつ前記…コロイダルシリカ砥粒の少なくとも１種以上の砥粒と前記ＣｅＯ2 砥粒との濃度が５０％以下である場合には、前記ＣｅＯ2 砥粒等が凝集して固まるのを阻止して前記砥粒液の取り扱いを容易にし得ることとなり」（段落【００２３】）
ａ−５．「前記濃度は（前記砥粒の重量／砥粒液の重量）×１００、また該砥粒液重量は前記各砥粒の合計重量に純水重量（化学成分を含有する場合は該化学成分を含む液重量）を加えた重量として定義した。」（段落【００２１】）
　　　　　　　
（ｂ）周知例ｂ
　下記「イ（イ）」の摘記事項ｂ−３参照。
　　　　　　　
（ｃ）周知例ｃ
ｃ−１「シリカゾルおよびコロイドシリカ（Ｓｉｌｉｃａ　ｓｏｌ　ａｎｄ　Ｃｏｌｌｏｉｄａｌ　ｓｉｌｉｃａ）…シリカゾルは非晶質シリカの孤立したコロイド粒子が水溶液に安定に分散したものである。…粒径が３００nmまでのものがあるが、７０nm以上の場合は徐々に固化する。」（第６３１頁左欄）
ｃ−２「
」（第６３１頁左欄　表１）
　　　　　
（ウ）検討
（ａ）刊行物ａに記載された発明
　刊行物ａには、摘記事項ａ−３のとおり、「実施例３のコロイダルシリカ及びＣｅＯ2 砥粒を純水中にそれぞれ０．５〜３０％及び５〜３０％濃度に混合した砥粒液」が記載されている。
　そして、実施例３については、【表１】（摘記事項ａ−２）を見ると、砥粒の種類を「コロイダルシリカ、ＣｅＯ2 」とした例が実施例３として記載されており、それに関する記載として摘記事項ａ−２には、「下記の表１に示した砥粒を純水中に所定量混合した砥粒液を用いて研磨を行った場合…について説明する。ＣｅＯ2 、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 の各砥粒は平均粒径がそれぞれ約０．２μｍのものを用いた。」との記載があるから、
刊行物ａには、
「コロイダルシリカ及びＣｅＯ2 砥粒を純水中にそれぞれ０．５〜３０％及び５〜３０％濃度に混合した砥粒液であり、ＣｅＯ2 の平均粒径が約０．２μｍのもの」（以下、「引用発明ａ」と言う。）が記載されていると言える。
　　　　　　　　
（ｂ）本件補正発明と引用発明ａとの対比
 　本件補正発明と引用発明ａとを対比すると、引用発明ａの「ＣｅＯ2 砥粒」、「コロイダルシリカ及びＣｅＯ2 砥粒を純水中に…混合した」、「砥粒液」は順に、本件補正発明の「酸化セリウム粒子」、「これら酸化セリウム粒子及びコロイダルシリカを分散させる分散媒とのみからなり、上記分散剤が水である」、「研磨剤スラリー」に相当する。
　また、引用発明ａの「ＣｅＯ2 の平均粒径が約０．２μｍ」は、本件補正発明の「酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）が１００〜５，０００nm」の条件を満たすと言える。
　そして、引用発明における「濃度％」とは（砥粒の重量／砥粒液の重量）×１００であること（摘記事項ａ−５）よりみて、「重量％」にあたると言えるから、引用発明ａの「コロイダルシリカ及びＣｅＯ2 砥粒を…それぞれ０．５〜３０％及び５〜３０％濃度」は、本件補正発明の「酸化セリウム粒子の粒子濃度（Ｃp）が５〜３０重量%であって、コロイダルシリカの粒子濃度（Ｃc）が０．１〜５重量%」の条件を満たすと言える。
　よって、両者は、
「酸化セリウム粒子と、コロイダルシリカと、これら酸化セリウム粒子及びコロイダルシリカを分散させる分散媒とのみからなり、上記分散剤が水である研磨剤スラリーであり、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）が２００nmであって、酸化セリウム粒子の粒子濃度（Ｃp）が５〜３０重量%であって、コロイダルシリカの粒子濃度（Ｃc）が０．５〜５重量%である研磨剤スラリー。」　
の点で一致し、次の点で相違する。
　　　　　
相違点ａ−１：本件補正発明は、コロイダルシリカが酸化セリウム粒子より小さい平均粒径を有し、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）が１０〜３００nmであるのに対して、引用発明ａは、コロイダルシリカの平均粒径を特定しないものである点
相違点ａ−２：本件補正発明は、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．０１以上１未満のものであるのに対して、引用発明ａは、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの粒径比（Ｄc／Ｄp）が不明である点
相違点ａ−３：本件補正発明は、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が１以下のものであるのに対して、引用発明ａは、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が不明である点
相違点ａ−４：引用発明ａは、コロイダルシリカを砥粒として使用するのに対して、本件補正発明は、コロイダルシリカを砥粒として使用することの言及のないものである点
　　　　　　　　　　
（ｃ）相違点に係る検討　
（相違点ａ−１）
　周知例ｂの「シリカゾルが…その粒子径が０．５μ以下一般には０．０５μ〜０．００５μの高重合シリカ粒子」（摘記事項ｂ−３）との記載によれば、コロイダルシリカにあたるシリカゾルの一般的な粒子径のものとして、粒子径０．０５μ〜０．００５μ（すなわち、５０〜５nm）のものがあると言える。
　また、周知例ｃには、シリカゾルとは「非晶質シリカのコロイド粒子」であり「粒径３００nmまでのものがある」（摘記事項ｃ−１）こと、その基本粒径は「５〜１００nm」（摘記事項ｃ−２）であることが記載されている。摘記事項ｃ−１のタイトル（「シリカゾルおよびコロイドシリカ（Ｓｉｌｉｃａ　ｓｏｌ　ａｎｄ　Ｃｏｌｌｏｉｄａｌ　ｓｉｌｉｃａ）」）を考慮すると、「非晶質シリカのコロイド粒子」とは「コロイダルシリカ」を意味すると解される。そうすると、刊行物ｃには「コロイダルシリカ」の粒径が「基本的に５〜１００nm」で「最大３００nm」であることが実質的に記載されていると言える。
　以上の周知例ｂ、ｃの記載より、一般にコロイダルシリカは平均粒径（Ｄc）が基本的に「５〜１００nm」で、「最大３００nm」であることは当業者の技術常識の範囲内の事項と言えるから、本件補正発明で使用するコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）（１０〜３００nm）は、コロイダルシリカとして一般的な粒径と言える。
　そして、引用発明ａにおいてはコロイダルシリカの平均粒径について特段の言及がない以上、そのような一般的な粒径、即ち、平均粒径（Ｄc）１０〜３００nmのコロイダルシリカを使用していると認められる。
　また、分散媒として水を使用する引用発明ａにおいて、コロイダルシリカとして、そのような一般的な粒径のものを用いることは、当業者が普通に行うことと言える。
　そして、平均粒径（Ｄc）１０〜３００nmのコロイダルシリカを使用した場合、コロイダルシリカが酸化セリウム粒子より小さい平均粒径を有する場合があると言える。
　よって、相違点ａ−１は実質的な相違点でないか、当業者が適宜なし得たことと言える。
（相違点ａ−２）
　使用する酸化セリウムの平均粒径が約０．２μｍ、即ち、２００ｎｍである引用発明ａにおいて、一般的なコロイダルシリカの基本的な粒径（５〜１００nm）のものを使用した場合、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）は約０．０２５〜０．５となるから、「酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．０１以上１未満」の範囲と一部重複することは明らかである。
　そして、（相違点ａ−１）で上述したとおり、一般的な粒径のコロイダルシリカを使用することは、実質的な相違点でないか、当業者が適宜なし得たことであるから、その値、すなわち、コロイダルシリカの平均粒径と、酸化セリウム粒子の平均粒径との粒径比に係る相違点ａ−２についても、同様に、実質的な相違点でないか、当業者が適宜なし得たことと言える。
（相違点ａ−３）
　引用発明ａにおいて、摘記ａ−３の【表８】に記載された例には（Ｃc／Ｃp）が１以下である例が記載されている（例えば、ＣｅＯ2 が５％の場合についてはコロイダルシリカが０．５％、２％、５％の例が（Ｃc／Ｃp）が１以下の場合がこの条件を満たす。）。
　また、酸化セリウム粒子の粒子濃度（Ｃp）、及び、コロイダルシリカの粒子濃度（Ｃc）を（Ｃc／Ｃp）が１以下となるようにしてみることは、【表８】に記載された例より当業者が適宜なし得たことと認められる。
　よって、相違点ａ−３は実質的な相違点でないか、当業者が適宜なし得たことと言える。
（相違点ａ−４）
　本件補正発明は、明細書の段落【００１３】の「…研磨微粒子として使用する酸化セリウム粒子より小さい平均粒径を有するコロイダル微粒子のコロイダルシリカを添加することにより、酸化セリウム粒子の沈降・凝集を可及的に抑制できることを見出し、本発明を完成した。」との記載等より、コロイダルシリカを酸化セリウム粒子の沈降・凝集を抑制するために使用するものと認められる。
　一方、摘記事項ａ−４の「コロイダルシリカ砥粒の少なくとも１種以上の砥粒と前記ＣｅＯ2 砥粒との濃度が５０％以下である場合には、前記ＣｅＯ2 砥粒等が凝集して固まるのを阻止して前記砥粒液の取り扱いを容易にし得る」との記載より、引用発明ａにおいて、コロイダルシリカ砥粒はＣｅＯ2 砥粒の凝集を抑制する働きを有すると認められる。
　してみれば、引用発明ａのコロイダルシリカは砥粒として使用されているとしても、ＣｅＯ2 砥粒の凝集を抑制すると言う本件補正発明のコロイダルシリカと同様の働きをするものと推認されるから、相違点ａ−４は実質的な相違点とは言えないか、コロイダルシリカを砥粒としてではなく酸化セリウム粒子の沈降・凝集の抑制のために使用することは当業者が適宜なし得たことと言える。
　　　
（ｄ）本件補正発明の効果について
　本件補正発明の「長期に亘って分散安定性に優れており、また、再分散性が良好で、沈降・凝集の問題を可及的に解消することができ、また、有機系分散剤を全く使用しない分散剤フリーでの使用が可能な研磨剤スラリーを提供することができる。」（本件補正明細書の段落【００４５】）との効果については、刊行物ａに「…コロイダルシリカ砥粒の少なくとも１種以上の砥粒と前記ＣｅＯ2 砥粒との濃度が５０％以下である場合には、前記ＣｅＯ2 砥粒等が凝集して固まるのを阻止して前記砥粒液の取り扱いを容易にし得ることとなり」（摘記事項ａ−４）と、作用の持続性については明らかでないにしても、コロイダルシリカによって酸化セリウムの凝集が抑制されることが記載されていることを参照すれば、当業者が予測し得た範囲のものと認められる。
　また、本件補正明細書の実施例の記載をみても、コロイダルシリカがない比較例しか示されておらず、本件補正発明において特定する、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）、それと酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）との粒径比（Ｄc／Ｄp）の数値範囲に臨界的な意義があるとは言えない。
　してみると、本件補正発明が、引用発明ａに比して、当業者の予期し得ない特段の効果を奏するものと言うことはできない。
　　　　　　　
（ｅ）小括 
　上記相違点ａ−１、ａ−２に係る、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）、及び、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）の点は、引用発明ａと実質的に相違しないか、引用発明ａに周知例ｂ、ｃに開示された周知技術を適用して当業者が適宜なし得たことと言える。
　上記相違点ａ−３に係る、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）の点、及び、上記相違点ａ−４に係る、コロイダルシリカの使用の目的の点は、実質的に相違しないか、刊行物ａの記載事項に基づいて当業者が適宜なし得たことと言える。
　よって、本件補正発明は、刊行物ａに実質的に記載された発明であるか、引用発明ａに周知例ｂ、ｃに開示された周知技術を付加したものと言える。
　そして、本願補正発明の効果についても刊行物ａに記載された発明に比して当業者の予期し得ない特段の効果を奏するものと言うことはできない。
　以上のとおりであって、本件補正発明は、実質的に刊行物ａに記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、また、その出願前頒布された刊行物ａに記載された発明、及び、周知例ｂ、ｃに開示された周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができるものではない。
　　　　　　　　　　
イ．刊行物ｂを主引用刊行物とする理由について（理由２）
　　　
（ア）刊行物及び周知例
刊行物ｂ．特公昭５３−６７５６号公報
（以下は、周知例。）
周知例ｃ．「カーク・オスマー化学大辞典」（丸善株式会社）、塩川二朗監修、昭和６３年９月２０日発行、第６３０〜６３１頁「シリカ」の項
　　　　　　　　
（イ）刊行物及び周知例に記載された事項　
（ｂ）刊行物ｂ
ｂ−１「この発明の目的は、研磨材粉末の沈降分離を防止し、研磨能力の経時低下が著しく改良された研磨材分散液を提供するにある。…この発明の主要な特徴は研磨材分散液にシリカゾルが含まれていることである。」（第２欄第１９〜２９行）
ｂ−２「これら研磨材粉末の分散液として一般に水が多く利用されている。当然のこととして研磨材粉末の分離沈降が起り易い。…この対策としてグリセリン等の有機溶媒を加え分散液の粘度を上昇しこれを防止することも行われているが充分でない。」（第１欄第３１行〜第２欄第３行）
ｂ−３「シリカゾルが共存していると、その粒子径が０．５μ以下一般には０．０５μ〜０．００５μの高重合シリカ粒子が被研磨体の微粉末の表面を被覆し」（第３欄第１〜４行）
ｂ−４「本発明で使用するシリカゾルとしては、例えば水性シリカゾル…等一般に水及び／又は水溶性有機溶媒を分散媒としたシリカゾルが挙げられる。ゾル中には、シリカ分は一般にＳｉＯ２として０．５〜６０重量％含まれており…特にシリカ粒子径が７〜１５０ｍμのコロイド性の大きいシリカゾルが良い効果を示す。」（第３欄第２３〜３３行）
ｂ−５「本発明に使用される分散媒としては、水の他水溶性有機溶媒等であり、その例としては、…多価アルコール…等があげられる。」（第３欄第４３行〜第４欄第３行）
ｂ−６「実施例１　被研磨体として…フリント系ガラス板を用意した。次に研磨材として平均粒子径１μの酸化セリウム粉末２０ｇと、平均粒子径２．５ｍμのＳｉＯ２２０重量％、グリセリン１０重量％を含む水−グリセリンシリカゾル５０ｇと水１３０ｇとを混合分散せしめた研磨材分散液を調整した。」（第５欄第４〜１１行）
（ｃ）周知例ｃ
　　　上記「ア（イ）」の摘記事項ｃ−１参照　　
　　　　
（ウ）検討
（ａ）刊行物ｂに記載された発明
　刊行物ｂには、摘記事項ｂ−６のとおり「平均粒子径１μの酸化セリウム粉末２０ｇと、平均粒子径２．５ｍμのＳｉＯ２２０重量％、グリセリン１０重量％を含む水−グリセリンシリカゾル５０ｇと水１３０ｇとを混合分散せしめた研磨材分散液」が記載されており、「１μ」、「２．５ｍμ」は順に「１０００nm」、「２．５nm」であるから、刊行物ｂには、
「平均粒子径１０００nmの酸化セリウム粉末２０ｇ、平均粒子径２．５nmのＳｉＯ２２０重量％、グリセリン１０重量％を含む水−グリセリンシリカゾル５０ｇ、水１３０ｇとを混合分散せしめてなる研磨材分散液」（以下、「引用発明ｂ」と言う。）が記載されていると言える。
　　　　　　　　
（ｂ）本件補正発明と引用発明ｂとの対比　
　本件補正発明と引用発明ｂとを対比する。
  引用発明ｂの「シリカゾル」は、周知例ｃに「シリカゾルとは非晶質シリカのコロイド粒子」（摘記事項ｃ−１）と記載され、非晶質シリカのコロイド粒子はコロイダルシリカのことと認められるから、本件補正発明の「コロイダルシリカ」に相当する。
　また、刊行物ｂの「グリセリン」は、（ＣＨ２）ＯＨＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（ＯＨ）の化学式を持つ周知の多価アルコールであるところ、同刊行物の記載事項（「本発明に使用される分散媒としては…多価アルコール…等があげられる。」（摘記事項ｂ−５）、「グリセリン等の有機溶媒」（摘記事項ｂ−２））よりみて、水とともに分散媒として使用されていると認められる。
　そして、引用発明ｂの「酸化セリウム粉末」、「研磨材分散液」、「酸化セリウム粉末…シリカゾル…水１３０ｇとを混合分散せしめてなる」は順に、本件補正発明の「酸化セリウム粒子」、「研磨剤スラリー」、「酸化セリウム粒子と…コロイダルシリカと、これら酸化セリウム粒子及びコロイダルシリカを分散させる分散媒とのみからなり」に相当する。
　さらに、 平均粒子径に関する事項については、引用発明ｂの酸化セリウム粉末の「平均粒子径１０００nm」は、本件補正発明で規定される「１００〜５，０００nm」の範囲内にあり、コロイダルシリカに相当する水−グリセリンシリカゾルの「平均粒子径２．５ｍμ」（＝２．５nm）は、酸化セリウム粉末の「平均粒子径１μ」より小さく、両者の比（酸化セリウム粒子の平均粒径とコロイダルシリカの平均粒径との粒径比）は０．００２５（＝２．５ｍμ／１μ）であり、本件補正発明で規定される「０．０１以上１未満」よりも小さい値である。
　粒子濃度に関する事項については、引用発明ｂは、研磨材分散液の総重量は２００ｇ（＝酸化セリウム粉末２０ｇ＋水−グリセリンシリカゾル５０ｇ（ＳｉＯ２２０重量％）＋水１３０ｇ）であり、酸化セリウム粒子の粒子濃度は１０重量％（＝２０ｇ／２００ｇ）、コロイダルシリカに相当する水−グリセリンシリカゾルの粒子濃度は５重量％（＝５０ｇ×０．２（２０重量％）／２００ｇ）であるから、引用発明ｂの「酸化セリウム粉末２０ｇ」、「ＳｉＯ２２０重量％…を含む…シリカゾル５０ｇ」は順に、本件補正発明で規定される「酸化セリウム粒子の粒子濃度（Ｃp）が５〜３０重量%」、「コロイダルシリカの粒子濃度（Ｃc）が０．１〜５重量%」の条件を満たす。
　　　
　以上より、両者は、
　「酸化セリウム粒子と、この酸化セリウム粒子より小さい平均粒径を有するコロイダルシリカと、これら酸化セリウム粒子及びコロイダルシリカを分散させる分散媒のみからなり、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）が１００〜５，０００nmであって、酸化セリウム粒子の粒子濃度（Ｃp）が５〜３０重量%であって、コロイダルシリカの粒子濃度（Ｃc）が０．１〜５重量%であることを特徴とする研磨剤スラリー。」
の点で一致し次の点で相違する。
　　　　　　　
相違点ｂ−１：本件補正発明は、分散媒として「水」を使用するのに対して、引用発明ｂは、分散媒が「水とグリセリン」である点
相違点ｂ−２：本件補正発明は、「コロイダルシリカ」を使用するのに対して、引用発明ｂは、「ＳｉＯ２２０重量％、グリセリン１０重量％を含む水−グリセリンシリカゾル」である点
相違点ｂ−３：本件補正発明は、使用するコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）が１０〜３００nmであるのに対して、引用発明ｂは、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）が２．５nmである点
相違点ｂ−４：本件補正発明は、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．０１以上１未満のものであるのに対して、引用発明ｂは、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．００２５である点
相違点ｂ−５：本件補正発明は、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が１以下のものであるのに対して、引用発明ｂは、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が不明である点
　　　　　　　
（ｃ）相違点に係る検討　
（相違点ｂ−１）
　刊行物ｂの「本発明で使用するシリカゾルとしては、例えば水性シリカゾル…等一般に水及び／又は水溶性有機溶媒を分散媒としたシリカゾルが挙げられる。」（摘記事項ｂ−４）との記載事項を考慮すると、刊行物ｂには、「水とグリセリン」のような、水及び水溶性有機溶媒を分散媒として使用することのみならず、「水」のみを分散媒として使用して水性シリカゾルを得ることが記載されていたと言えるから、引用発明ｂにおいて、「水とグリセリン」に代えて「水」のみを分散媒として使用することは、刊行物ｂの記載事項に基づいて当業者が容易に想到し得たことと言える。
（相違点ｂ−２）
　引用発明ｂの「ＳｉＯ２２０重量％、グリセリン１０重量％を含む水−グリセリンシリカゾル」は、グリセリン１０重量％を水溶性有機溶媒として使用した「水溶性有機溶媒を分散媒としたシリカゾル」（摘記事項ｂ−４）と認められるが、（相違点ｂ−１）について上述したとおり、「水とグリセリン」に代えて「水」のみを分散媒として使用することは当業者が容易に想到し得たことである。そして、「水」のみを分散媒として使用すれば、「ＳｉＯ２２０重量％、グリセリン１０重量％を含む水−グリセリンシリカゾル」の代わりに水性シリカゾル、すなわち、「コロイダルシリカ」が生成することは明らかである。
（相違点ｂ−３）
　刊行物ｂの「本発明で使用するシリカゾルとしては…特にシリカ粒子径が７〜１５０ｍμのコロイド性の大きいシリカゾルが良い効果を示す。」（摘記事項ｂ−４）との記載事項を考慮すると、刊行物ｂには、粒子径が７〜１５０ｍμ（７〜１５０nm）のコロイド性シリカゾル（コロイダルシリカ）を使用することが記載されていたと言えるから、引用発明ｂにおいて、それと一部重複する１０〜３００nmの平均粒径（Ｄc）のコロイダルシリカを使用することは、刊行物ｂの記載事項に基づいて当業者が容易に想到し得たことと言える。
（相違点ｂ−４）
　（相違点ｂ−３）について上述した平均粒径のうち、１０〜１５０nmの場合は、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．０１以上１未満の条件を満たすから、引用発明ｂにおいて、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）を、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．０１以上１未満となるようにすることも、刊行物ｂの記載事項に基づいて当業者が容易に想到し得たことと言える。
（相違点ｂ−５）
　「（ウ）ｂ」で上述したとおり、引用発明ｂは、酸化セリウム粒子の粒子濃度が１０重量％、コロイダルシリカに相当する水−グリセリンシリカゾルの粒子濃度が５重量％のものであるから、両者の比は０．５（＝５重量％／１０重量％）であり、１以下の条件を満たす。
　よって、相違点ｂ−５は実質的な相違点でない。
　　　　　　　　　　
（ｄ）本件補正発明の効果について
　本件補正発明の「長期に亘って分散安定性に優れており、また、再分散性が良好で、沈降・凝集の問題を可及的に解消することができ、また、有機系分散剤を全く使用しない分散剤フリーでの使用が可能な研磨剤スラリーを提供することができる。」（本件補正明細書の段落【００４５】）との効果については、刊行物ｂに「この発明の目的は、研磨材粉末の沈降分離を防止し、研磨能力の経時低下が著しく改良された研磨材分散液を提供するにある。」（摘記事項ｂ−１）と同様の事項が記載されていること等を参照すれば、当業者が予測し得た範囲のものと認められる。
　また、本件補正明細書の実施例の記載をみても、コロイダルシリカがない比較例しか示されておらず、本件補正発明において特定する、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）、それと酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）との粒径比（Ｄc／Ｄp）の数値範囲に臨界的な意義があるとは言えない。
　してみると、本件補正発明が、引用発明ｂに比して、当業者の予期し得ない特段の効果を奏するものと言うことはできない。
　　　　　　　　　　
（ｅ）小括 
　以上のとおり、引用発明ｂにおいて、上記相違点ｂ−１、ｂ−２に係る、分散媒の種類、及び、それによって生成するコロイダルシリカの種類、相違点ｂ−３、ｂ−４に係る、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）、及び、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）を本件補正発明において規定されるようにすることは、刊行物ｂの記載事項に基づいて当業者が容易に想到し得たことと言える。
　また、上記相違点ｂ−５に係る、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）の点は実質的な相違点でない。
　そして、本願補正発明の効果についても刊行物ｂに記載された発明に比して当業者の予期し得ない特段の効果を奏するものと言うことはできない。
　よって、本件補正発明は、その出願前頒布された刊行物ｂに記載された発明、及び、周知例ｃに開示された周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができるものではない。
　　　　　　　　　　
３．補正の却下の決定のまとめ
　本件補正発明は、その出願前頒布された刊行物ａに記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許出願の際独立して特許を受けることができるものではなく、また、刊行物ａ、ｂに記載された発明、及び、周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができるものではない。よって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものとは言えない。
　以上のとおりであるから、上記補正を含む本件補正は、その余の点を検討するまでもなく、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　　　　　　　　　　
第３　拒絶査定の理由についての判断
１．本件出願に係る発明について 
　本件出願に係る発明は、平成２０年４月７日付けの手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の記載からみて、次のとおりのものである（以下、「本願発明１」、「本願発明２」、「本願発明３」と言う。）。
「【請求項１】酸化セリウム粒子と、この酸化セリウム粒子より小さい平均粒径を有するコロイダルシリカと、これら酸化セリウム粒子及びコロイダルシリカを分散させる分散媒とのみからなり、上記分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒からなる研磨剤スラリーであり、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）が１００〜５，０００nmであって、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）が１０〜３００nmであり、上記酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．０１以上１未満であると共に、酸化セリウム粒子の粒子濃度（Ｃp）が５〜３０重量%であって、コロイダルシリカの粒子濃度（Ｃc）が０．１〜５重量%であり、上記酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が１以下であることを特徴とする研磨剤スラリー。
【請求項２】
　無機質の基板を製造する方法であって、請求項１に記載の研磨剤スラリーを用いて上記基板を研磨する研磨工程を含むことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項３】
　基板がその表面に酸化膜を有する請求項２に記載の基板の製造方法。」
　　　　　　　　
２．原審における拒絶査定の概要 
 　原審において、平成２０年２月１日付け拒絶理由通知書で、以下の内容を含む拒絶理由が通知され、当該理由が解消されていない点をもって以下の拒絶査定がなされた。 
　　 
 （１）拒絶理由　　 
「２．この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
…
　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照）
（理由２）
…
請求項１〜８　引用例１〜６
・備考
　引用例１〜６に記載されるように、研磨材と共にコロイダルシリカ等のコロイダル粒子を併用した研磨剤スラリーは周知である。
　研磨材やコロイダルシリカの粒径や濃度などは、当業者が好適な範囲を適宜設定し得るものといえる。
　また、コロイダル粒子を添加したことで研磨材の分散性が十分である場合には、有機系分散剤を用いないことに、特段の創意工夫を要したとはいえない。
　そして、本願発明は、従来技術に比べ格別優れた効果を奏するものとはいえない。
…
　　　　　引　用　文　献　等　一　覧
１.特開平１１−３１５２７３号公報
２.特開平７−４１７５４号公報
３.特開平８−１４８４５５号公報
４.特公昭５３−６７５６号公報
５.特開２００１−３２６１９８号公報
６.国際公開第０２／０３１０７９号　　　　　　　　　　　　　　　　」
　　　　　　　　　　
（２）拒絶査定 
「この出願については、平成２０年　２月　１日付け拒絶理由通知書に記載した理由２によって、拒絶をすべきものです。
　なお、意見書及び手続補正書の内容を検討しましたが、拒絶理由を覆すに足りる根拠が見いだせません。」
　　　　　　　　　　　　
３．当審の判断　　
　上記拒絶査定の拒絶理由の適否について検討する。
（１）引用例に記載された発明
　本件拒絶査定の拒絶理由において引用された刊行物である、引用例３、４は順に、上記「第２」の補正の却下の決定で引用した刊行物ａ、ｂである。
　よって、引用例３には、「第２　２（２）ア（イ）（ａ）」において、刊行物ａについて摘記したａ−１〜ａ−４のとおりの事項が記載され、「第２　２（２）ア（ウ）（ａ）」に記載した引用発明ａが記載されている。
　また、刊行物４には、「第２　２（２）イ（イ）」において、刊行物ｂについて摘記したｂ−１〜ｂ−６のとおりの事項が記載され、「第２　２（２）イ（ウ）（ａ）」に記載した引用発明ｂが記載されている。
　　　　　　　　　
（２）本願発明との対比・検討 
ア．本願発明１について
（ア）本願発明１と引用例３に記載された発明との対比・検討
（ａ）対比
　本願発明１は、「第２　１」に記載した本件補正発明の発明特定事項のうち「上記分散剤が水である」が「 上記分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒」であることのほかは、本件補正発明と同じ発明である。
　よって、引用例３に記載された発明（引用発明ａと同じ発明）と対比すると、分散媒に係る点について、引用例３に記載された発明の「純水中に…混合した」は本願発明１の「分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒からなる」の条件を満たすことは明らかであり、そのほかの点については、「第２　２（２）ア（ウ）（ｂ）」において、本件補正発明と引用発明ａについて述べたのと同様であるから、両者は、
「酸化セリウム粒子と、コロイダルシリカと、これら酸化セリウム粒子及びコロイダルシリカを分散させる分散媒とのみからなり、上記分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒からなる研磨剤スラリーであり、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）が１００〜５，０００nmであって、酸化セリウム粒子の粒子濃度（Ｃp）が５〜３０重量%であって、コロイダルシリカの粒子濃度（Ｃc）が０．１〜５重量%であることを特徴とする研磨剤スラリー。」
の点で一致し、以下の点で相違する。
相違点１−１：本願発明１は、コロイダルシリカが酸化セリウム粒子より小さい平均粒径を有し、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）が１０〜３００nmであるのに対して、引用例３に記載された発明は、コロイダルシリカの平均粒径を特定しないものである点
相違点１−２：本願発明１は、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．０１以上１未満のものであるのに対して、引用例３に記載された発明は、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの粒径比（Ｄc／Ｄp）が不明である点
相違点１−３：本願発明１は、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が１以下のものであるのに対して、引用例３に記載された発明は、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が不明である点
相違点１−４：本願発明１は、コロイダルシリカを砥粒として使用するのに対して、引用例３に記載された発明は、コロイダルシリカを砥粒として使用することの言及のないものである点
　　　　　　　
（ｂ）検討
　上記相違点１−１〜１−４につき検討すると、「第２　２（２）ア（ウ）（ｂ）」で指摘した相違点ａ−１〜ａ−４と同様の事項であるから、「第２　２（２）ア（ウ）（ｃ）」で、相違点ａ−１〜ａ−４について、当業者が
適宜なし得た理由として述べたのと、同一の理由により、当業者が適宜なし得たことと認められる。
　そして、本願発明の「長期に亘って分散安定性に優れており、また、再分散性が良好で、沈降・凝集の問題を可及的に解消することができ、また、有機系分散剤を全く使用しない分散剤フリーでの使用が可能な研磨剤スラリーを提供することができる。」（本願明細書の段落【００４５】）との効果についても「第２　２（２）ア（ウ）（ｄ）」で述べたように引用例３に記載された発明に比して当業者の予期し得ない特段の効果を奏するものと言うことはできない。
　　　　　
（ｃ）小括
　よって、本願発明１は、引用例３に記載された発明、及び、周知技術に基づいてに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。　　　　　
（イ）本願発明１と引用例４に記載された発明との対比・検討
（ａ）対比
　本願発明１は、「第２　１」に記載した本件補正発明の発明特定事項のうち「上記分散剤が水である」が「 上記分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒」であることのほかは、本件補正発明と同じ発明である。
　本願発明１と引用例４に記載された発明（引用発明ｂと同じ発明）とを対比すると、引用例４に記載された発明の「グリセリン１０重量％を含む水−グリセリンシリカゾル５０ｇ、水１３０ｇとを混合分散せしめてなる」は、「第２　２（２）イ（ウ）（ｂ）」で述べたとおり、グリセリンが分散媒にあたるものと認められるから、本願発明１の「分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒からなる」に相当する。
　そのほかの点については、「第２　２（２）イ（ウ）（ｂ）」において、
本件補正発明と引用発明ｂについて述べたのと同様であるから、両者は、
「酸化セリウム粒子と、この酸化セリウム粒子より小さい平均粒径を有するコロイダルシリカと、これら酸化セリウム粒子及びコロイダルシリカを分散させる分散媒のみからなり、上記分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒からなる研磨剤スラリーであり、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）が１００〜５，０００nmであって、酸化セリウム粒子の粒子濃度（Ｃp）が５〜３０重量%であって、コロイダルシリカの粒子濃度（Ｃc）が０．１〜５重量%であることを特徴とする研磨剤スラリー。」
の点で一致し次の点で相違する。
　　　　　　　
相違点１−１’：本願発明１は、「コロイダルシリカ」を使用するのに対して、引用例４に記載された発明は、「ＳｉＯ２２０重量％、グリセリン１０重量％を含む水−グリセリンシリカゾル」を使用するものである点
相違点１−２’：本願発明１は、使用するコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）が１０〜３００nmであるのに対して、引用例４に記載された発明は、コロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）が２．５nmである点
相違点１−３’：本願発明１は、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．０１以上１未満のものであるのに対して、引用例４に記載された発明は、酸化セリウム粒子の平均粒径（Ｄp）とコロイダルシリカの平均粒径（Ｄc）との粒径比（Ｄc／Ｄp）が０．００２５である点
相違点１−４’：本願発明１は、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が１以下のものであるのに対して、引用例４に記載された発明は、酸化セリウム粒子とコロイダルシリカとの重量配合比（Ｃc／Ｃp）が不明である点
　　　
（ｂ）検討
　上記相違点のうち、相違点１−２’〜相違点１−４’は順に、「第２　２（２）イ（ウ）（ｂ）」で指摘した相違点ｂ−３〜ｂ−５と同一の事項であるから、「第２　２（２）イ（ウ）（ｃ）」で述べたのと同一の理由により、相違点１−２’、１−３’については当業者が容易に想到し得た事項であり、相違点１−４’については実質的な相違点ではない。
　また、相違点１−１’については、（ａ）で上述したとおり、水とグリセリンからなる分散媒が本願発明１の「分散剤が水又は水を主成分とする水性分散媒からなる」に相当する以上、それによって得られる「ＳｉＯ２２０重量％、グリセリン１０重量％を含む水−グリセリンシリカゾル」は本願発明１の「コロイダルシリカ」に相当するものと認められる。
　そして、本願発明の「長期に亘って分散安定性に優れており、また、再分散性が良好で、沈降・凝集の問題を可及的に解消することができ、また、有機系分散剤を全く使用しない分散剤フリーでの使用が可能な研磨剤スラリーを提供することができる。」（本願明細書の段落【００４５】）との効果についても「第２　２（２）イ（ウ）（ｄ）」で述べたように引用例４に記載された発明に比して当業者の予期し得ない特段の効果を奏するものと言うことはできない。
　　　　　
（ｃ）小括
　よって、本願発明１は、引用例４に記載された発明、及び、周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。　
　　　　　　　　　
イ．本願発明２について
　本願発明２は、本願発明１の研磨材スラリーを使用して無機質の基板を研磨する工程を含む基板の製造法に係る発明であるから、引用例３に記載された発明と対比すると「ア（ア）（ａ）」に記載した各相違点、引用例４に記載された発明と対比すると「ア（イ）（ａ）」に記載した各相違点のほか、いずれについても以下の相違点２の点で相違する。
　　　　
相違点２：本願発明２は「研磨材スラリーを使用して無機質の基板を研磨する工程を含む基板の製造法」であるのに対して、引用例３又は４に記載された発明は「研磨材スラリー」自体である点
　　　　　
　以下、相違点２について検討する。
　　　　
　引用例３には、研磨材スラリーを使用して「厚さが約１μのＳｉＯ２膜を形成した直径が約６インチのシリコンウエハ」を研磨すること（摘記事項ａ−２）が記載されており、引用例３の「ＳｉＯ２膜を形成したシリコンウエハ」が無機質の基板であることは明らかであるから、研磨材スラリーを使用して無機質の基板の研磨を行うことは、当業者が容易に想到し得たことと言える。
（なお付言すれば、引用例４にも、無機質の基板と認められる「被研磨体としてフリント系ガラス板」を使用して研磨を行うこと（摘記事項ｂ−６）が記載されている。）　　　　　　　
　　　　　　　　　
　よって、本願発明２は、引用例３又は４に記載された発明、及び、周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができるものではない。
　　　　　　　　　　
ウ．本願発明３について
　本願発明３は、本願発明２の基板の製造方法に「基板がその表面に酸化膜を有する」ことを付加した発明であるから、引用例３又は４に記載された発明と対比すると、以下の相違点３において相違するほかは、「イ．本願発明２について」において述べたのと同様である。
　　　　　　　　　
相違点３：本願発明３は「表面に酸化膜を有する」無機質の基板について「研磨材スラリーを使用して無機質の基板を研磨する工程を含む基板の製造法」であるのに対して、引用例３又は４に記載された発明は「研磨材スラリー」自体である点
　　　　　
　以下、相違点３について検討する。
　「イ．本願発明２について」で述べたとおり、引用例３、４には、研磨材スラリーを使用して研磨する対象として、無機質の基板が記載されている。
　そして、更に、引用例３に記載された無機質の基板は、「厚さが約１μのＳｉＯ２膜を形成した直径が約６インチのシリコンウエハ」（摘記事項ａ−２）であり、それが表面にＳｉＯ２膜、すなわち、酸化膜を形成した無機質の基板であることは明らかである。
　してみれば、引用例３又は４に記載された発明において、無機質の基板として表面に酸化膜を形成した無機質の基板を使用し、これを研磨する工程を行って基板を製造することは当業者が容易に想到し得たと言える。
　　　　　
  よって、本願発明３は、引用例３又は４に記載された発明、引用例３、４の記載事項、及び、周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができるものではない。
 　　 
第４　結び 
　以上のとおり、本願発明１〜３については、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願は拒絶をすべきものである。　よって、結論のとおり審決する。