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　特願２００３−３７６４８６「磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　６月　２日出願公開、特開２００５−１４１８２４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　
　本願は、平成１５年１１月６日に出願したものであって、平成２０年６月３０日付け拒絶理由通知に対して同年９月７日付けで手続補正がなされたが、同年１０月１日付けで拒絶査定がされた。これに対し、同年１１月６日付けで拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同日付けで手続補正がなされた。
　その後、平成２２年１１月３０日付けで前置報告書を利用した審尋がなされ、平成２３年１月３１日付けで回答書が提出されたものである。
　
第２　平成２０年１１月６日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成２０年１１月６日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１．本件補正
　
　平成２０年１１月６日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）は、特許請求の範囲についてするもので、本件補正前に、
「　【請求項１】
　ガラスディスクの主表面に、研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒を含むアルカリ性である研磨液を供給し、ガラスディスクの主表面に研磨テープを押圧させながらガラスディスクと研磨テープとを相対的に移動させて前記主表面を研磨する工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項２】
　前記研磨液中に含まれるダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒の混合比は、重量比で１：１〜８：２であることを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項３】
　前記研磨テープのガラスディスク主表面に接する面は不織布からなることを特徴とする請求項１又は２記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項４】
　前記ガラスディスクは、化学強化されたガラスディスクであることを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項５】
　ロードアンロード方式用の２．５インチサイズ未満の磁気ディスクに用いるガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項６】
　請求項１乃至５の何れかに記載の製造方法によって得られた磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。」
とあったところを、
　
本件補正後、
「　【請求項１】
　
化学強化された
前記
にテクスチャーを形成するよう
　　【請求項２】
　前記研磨液中に含まれるダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒の混合比は、重量比で１：１〜８：２であることを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項３】
　前記研磨テープのガラスディスク主表面に接する面は不織布からなることを特徴とする請求項１又は２記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項４】
　ロードアンロード方式用の２．５インチサイズ未満の磁気ディスクに用いるガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至
３
　　【請求項５】
　請求項１乃至
４
とするものである。
　
　上記本件補正の内容は、請求項１については、発明特定事項である「ガラスディスク」について「化学強化された」、「研磨する」について「テクスチャーを形成するよう」と限定したものである。
　本件補正は、発明特定事項を限定するものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか）否かについて、以下検討する。
　
２．引用例
　
　原査定の拒絶の理由に引用された特開２００２−３２９０９号公報（平成１４年１月３１日公開、以下「引用例１」という。）には、図面と共に、以下の記載がある。（なお、下線は当審で付与した。）
　
（１）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は
磁気記録媒体用基板
の製造方法
　
（２）「【００１２】（構成５）前記磁気記録媒体用基板はガラスからなることを特徴とする構成１乃至４の何れか一に記載の磁気記録媒体用基板。
（構成６）構成１乃至５の何れか一に記載された磁気記録媒体用基板の主表面上に、少なくとも磁性層が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
（構成７）
円盤状基板の主表面を研磨して磁気記録媒体用基板を製造する製造方法において、
両主表面に研磨剤を含む研磨液を供給しながら、前記円盤状基板の中心を中心軸として回転する前記円盤状基板の主表面に研磨テープを接触させることを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
【００１３】（構成８）前記研磨剤は、平均粒径１．０μｍ以下であることを特徴とする構成７記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
（構成９）前記研磨剤は、前記基板の材料と化学的な反応による結合を起こさないものであることを特徴とする構成７又は８記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
（構成１０）
前記研磨剤は、ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒の中から選択された少なくとも１種からなることを特徴とする構成９記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【００１４】（構成１１）前記再研磨の研磨量（取しろ）が、５〜３０ｎｍであることを特徴とする構成７乃至１０の何れか一に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
（構成１２）
前記基板は、ガラスからなることを特徴とする構成７乃至１１の何れか一に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
（構成１３）
化学強化処理を施したガラス基板の主表面を研磨し平滑にする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
（構成１４）構成７乃至１３の何れか一に記載の磁気記録媒体用基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。」
　
（３）「【００２０】また、構成７のように、円盤状基板の主表面を研磨した後、該円盤状基板の両主表面に研磨剤を含む研磨液を供給しながら、円盤状基板の中心を中心軸として回転する円盤状基板の主表面に研磨テープを接触させて再研磨することにより、基板毎の品質のバラツキも少なく、同心円状の凹凸を形成した基板を安定して製造することができる。研磨テープは、ある一定速度で常に新しい面が基板主表面に接触するようにする。使用する研磨テープの材質、幅については特に制限されない。研磨テープの種類としては、植毛、織物、不織布、ポリウレタンなどが挙げられる。中でも、織物テープが好ましい。同心円状凹凸を形成しやすいことと、平滑性の観点から、材料としては、限定されない。材料としては、ポリエステル、ナイロンなどが挙げられる。また、研磨テープの幅は、基板のサイズによって適宜調整される。具体的には、５〜４０ｍｍである。また、研磨テープの送り速度、
基板に対する研磨テープの加重、圧力についても、平滑性、同心円凹凸形状に応じ適宜調整される。
また、研磨テープの加重、圧力についても平滑性に応じ適宜調整される。
　
（４）「【００２２】また、構成９にあるように、研磨剤は、基板の材料と化学的な反応による結合を起こさないものであることが望ましい。基板材料と化学的な反応を起こす研磨剤は、中性の洗剤を用いたスクラブによる研磨剤の除去が困難だからである。ここで、化学的な反応を起こさないとは、基板の材料と研磨剤が化学的な結合による吸着しない状態を指す。
具体的な研磨剤としては、構成１０にあるように、ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒などが挙げられる。研磨剤は、平滑性、同心円状凹凸形状に応じて適宜選択される。中でも、基板がガラスの場合は、安定した研磨、テクスチャ処理の点から粒度分布が小さい多結晶ダイヤモンド砥粒が望ましい。なお、これらの研磨剤は、使用する際、１種類に限らず、２種類以上の研磨剤を混合させて用いても良い。
　
（５）「【００２９】
【発明の実施の形態】以下に実施例を挙げて、本発明の実施の形態についてさらに詳細に説明する。
［実施例１，２］
本実施例の磁気記録媒体用ガラス基板１は、
化学強化されたアルミノシリケートガラスに、研磨、及び同心円状テクスチャが施された基板である。このガラス基板１を使用した本実施例の磁気記録媒体は、
磁気ディスクである。
　
　上記摘示事項及び図面の記載を総合勘案すると、引用例１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認める。
　
「化学強化処理を施した円盤状ガラス基板の主表面に、ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒の中から選択された少なくとも１種からなる研磨剤を含む研磨液を供給しながら、前記円盤状ガラス基板の中心を中心軸として回転する前記円盤状ガラス基板の主表面に研磨テープを接触させ、圧力を加えてテクスチャ処理を施す磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。」
　
　同じく、原査定の拒絶の理由に引用された特開平６−１８７６３７号公報（平成６年７月８日公開、以下「引用例２」という。）には、図面と共に、以下の記載がある。（なお、下線は当審で付与した。）
　
（６）「【００３１】矢印Ａの方向に６００rpm で回転させた６５mmφのチタン合金基板１１の表裏両面にセルロース織布から成る研摩布１２，１２′をポリウレタン系の加圧ローラ１３，１３′で２kgｆの力で押しつけ、
平均粒径０.７５μｍ のダイヤモンド１０ｗｔ％，平均粒径０.７μｍのＡｌ
２
Ｏ
３
５ｗｔ％，平均粒径０.２５μｍのＣｅＯ
２
４５ｗｔ％ 、および平均粒径０.１μｍのＳｉＯ
２
４０ｗｔ％を親油性溶媒に分散させたスラリ状の複合砥粒１４，１４′
　
（７）「【００４０】矢印Ａと逆方向に５５０rpm で回転させた３４mmφのＮｉＰメッキＡｌ−Ｍｇ合金基板１１の表裏両面にセルロース織布から成る研摩布１２，１２′をポリウレタン系の加圧ローラ１３，１３′で１.８kgｆ の力で押しつけ、
平均粒径  ０.７５μｍ のダイヤモンド２０ｗｔ％，平均粒径０.２５μｍのＣｅＯ
２
５０ｗｔ％、および平均粒径０.１μｍのＳｉＯ
２
３０ｗｔ％を親油性溶媒に分散させたスラリ状の複合砥粒１４，１４′
　
３．対比
　
　そこで、本件補正発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「円盤状ガラス基板」「研磨剤」「テクスチャ処理を施す」は、それぞれ、本件補正発明の「ガラスディスク」「研磨砥粒」「テクスチャーを形成するよう研磨する」に相当する。引用発明において、「前記円盤状ガラス基板の中心を中心軸として回転する前記円盤状ガラス基板の主表面に研磨テープを接触させ」ると、円盤状ガラス基板と研磨テープとを相対的に移動させることになるから、引用発明の「前記円盤状ガラス基板の中心を中心軸として回転する前記円盤状ガラス基板の主表面に研磨テープを接触させ、圧力を加えて」は、本件補正発明の「前記ガラスディスクの主表面に研磨テープを押圧させながらガラスディスクと研磨テープとを相対的に移動させて」に相当する。
　
　そうすると、本件補正発明と引用発明とは、次の点で一致する。
　
＜一致点＞
　
「化学強化されたガラスディスクの主表面に、研磨砥粒を含む研磨液を供給し、前記ガラスディスクの主表面に研磨テープを押圧させながらガラスディスクと研磨テープとを相対的に移動させて前記主表面にテクスチャーを形成するよう研磨する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。」の点。
　
　そして、次の点で相違する。
　
＜相違点＞
　
（１）「研磨液」について、本件補正発明は、「研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒を含む」のに対し、引用発明は、「ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒の中から選択された少なくとも１種からなる研磨剤を含む」点。
　
（２）「研磨液」について、本件補正発明は、「アルカリ性である」のに対し、引用発明は、そのような限定がない点。
　
４．判断
　
　そこで、上記相違点について検討する。
　
相違点（１）について
　引用例１には、具体的な研磨剤としては、ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒などが挙げられること、これらの研磨剤は、使用する際、１種類に限らず、２種類以上の研磨剤を混合させて用いても良いことが記載され（【００２２】）、「研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒を含む」「研磨液」が既に知られている（引用例２【００３１】【００４０】）ことを考慮すると、引用発明において、研磨剤として、ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒の中からダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒を含む組み合わせを選択することは、当業者が適宜なし得るといえる。
　
相違点（２）について
　磁気ディスク用ガラス基板の研磨液としてアルカリ性のものは周知である（例えば、特開２００３−１７３５１８号公報、特開２００１−７２９６２号公報【００４４】、特開２０００−８６３０１号公報【００２６】参照）から、引用発明において、研磨液をアルカリ性のものとすることは、当業者が適宜なし得る。
　
　したがって、本件補正発明は、引用例１、２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
５．本件補正についてのむすび
　
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
　
１．本願発明
　
　平成２０年１１月６日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし６に係る発明は、平成２０年９月７日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載された事項により特定されるものであるところ、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記「第２［理由］１．」に本件補正前の請求項１として記載したとおりのものである。
　
２．引用例
　
　原査定の拒絶の理由で引用された引用例及びその記載事項は、上記「第２［理由］２．」に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　
　本願発明は、上記「第２［理由］３．及び４．」で検討した本件補正発明から、発明特定事項である「ガラスディスク」について「化学強化された」、「研磨する」について「テクスチャーを形成するよう」との構成を削除したものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本件補正発明が、上記「第２［理由］３．及び４．」に記載したとおり、引用例１、２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１、２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は、その余の請求項について論及するまでもなく拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。