【事件の表示】
　特願２００６−　６９６５４「加速度センサの構造及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　９月２７日出願公開、特開２００７−２４８１４７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、平成１８年３月１４日の出願であって、平成２０年１１月１３日付けで手続補正がなされ、同年１２月２日付け（送達日：平成２０年１２月９日）で拒絶査定がなされ、これに対し、平成２１年１月８日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同年２月６日付けで手続補正がなされたものである。 
 　 
第２　平成２１年２月６日付けの手続補正についての補正却下の決定 
［補正却下の決定の結論］ 
　平成２１年２月６日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。 
［理由］ 
１　補正の内容 
　本件補正は、特許請求の範囲の記載を補正前の、 
「　【請求項１】
　錘固定部と、該錘固定部を離間して囲む台座固定部と、該錘固定部と該台座固定部とを可撓的に接続する梁部と、該錘固定部及び該梁部と離間して該台座固定部に接続されるストッパー部とを有する第１の基板と、
　前記錘固定部に第１の接続層を介して接続され、前記ストッパー部と離間して重なる錘部と、
　前記錘部と離間して、前記台座固定部に第２の接続層を介して固定される台座部と、
　前記ストッパー部と離間して、該ストッパー部と前記錘部との間の該錘部に形成される突起部と
　を有することを特徴とする加速度センサ。
　　【請求項２】
　請求項１に記載の加速度センサにおいて、
　前記第１の接続層と前記第２の接続層と前記突起部とは同一の材料からなることを特徴とする加速度センサ。
　　【請求項３】
　請求項１または請求項２に記載の加速度センサにおいて、
　前記ストッパー部は複数の貫通孔を有し、前記突起部は前記錘部の該複数の貫通孔に対応する複数の領域の間に配置されるように複数形成されることを特徴とする加速度センサ。
　　【請求項４】
　請求項３に記載の加速度センサにおいて、
　前記複数の貫通孔の配置が四角形の各々の角に対応する位置に等間隔となるよう配列されることを特徴とする加速度センサ。
　　【請求項５】
　請求項３または請求項４に記載の加速度センサにおいて、
　前記突起部は該突起部の周囲に配置される前記複数の領域の数に対応した多角錐であることを特徴とする加速度センサ。
　　【請求項６】
　請求項５に記載の加速度センサにおいて、
　前記突起部は四角錐であることを特徴とする加速度センサ。
　　【請求項７】
　第１の基板と、該第１の基板に接続層を介して接続される第２の基板とからなる積層基板を準備する第１の工程と、
　前記第１の基板に、錘固定部と、該錘固定部を離間して囲む台座固定部と、該錘固定部と該台座固定部とを接続する梁部と、該錘固定部及び該梁部と離間して該台座固定部に接続されるストッパー部と、を画成する第１の溝部、及び該ストッパー部に形成される複数の貫通孔であって四角形の各々の角に対応する位置に等間隔となるよう配列される当該複数の貫通孔を形成する第２の工程と、
　前記第２の基板に、前記ストッパー部と離間して重なる錘部及び該錘部と離間する台座部とを画成する第２の溝部を形成する第３の工程と、
　前記接続層を、前記錘固定部と前記錘部とを接続する第１の接続層、前記台座固定部と前記台座部とを接続する第２の接続層、及び前記ストッパー部と離間して該ストッパー部と該錘部との間の該錘部に形成される突起部であって前記複数の貫通孔に対応する領域間に複数形成される該突起部が形成されるように除去する第４の工程と
　を有することを特徴とする加速度センサの製造方法。
　　【請求項８】
　請求項７に記載の加速度センサの製造方法において、
　前記第４の工程は、ウェットエッチングによって行われることを特徴とする加速度センサの製造方法。」
 から、補正後の、 
 「　【請求項１】
　錘固定部と、該錘固定部を離間して囲む台座固定部と、該錘固定部と該台座固定部とを可撓的に接続する梁部と、該錘固定部及び該梁部と離間して該台座固定部に接続されるストッパー部とを有する第１の基板と、
　前記錘固定部に第１の接続層を介して接続され、前記ストッパー部と離間して重なる錘部と、
　前記錘部と離間して、前記台座固定部に第２の接続層を介して固定される台座部と、
　前記ストッパー部と離間して、該ストッパー部と前記錘部との間の該錘部に形成される突起部と
　を有する加速度センサであって、
　前記ストッパー部は径の大きさが３μｍ〜４μｍの複数の貫通孔を有し、前記突起部は前記錘部の該複数の貫通孔に対応する複数の領域の間に配置されるように複数形成され、
　前記複数の貫通孔は四角形の各々の角に対応する位置に４．５μｍ〜５．５μｍの等間隔で配置されている
　ことを特徴とする加速度センサ。
　　【請求項２】
　請求項１に記載の加速度センサにおいて、
　前記第１の接続層と前記第２の接続層と前記突起部とは同一の材料からなることを特徴とする加速度センサ。
　　【請求項３】
　請求項１または請求項２に記載の加速度センサにおいて、
　前記突起部は該突起部の周囲に配置される前記複数の領域の数に対応した多角錐であることを特徴とする加速度センサ。
　　【請求項４】
　請求項３に記載の加速度センサにおいて、
　前記突起部は四角錐であることを特徴とする加速度センサ。
　　【請求項５】
　第１の基板と、該第１の基板に接続層を介して接続される第２の基板とからなる積層基板を準備する第１の工程と、
　前記第１の基板に、錘固定部と、該錘固定部を離間して囲む台座固定部と、該錘固定部と該台座固定部とを接続する梁部と、該錘固定部及び該梁部と離間して該台座固定部に接続されるストッパー部と、を画成する第１の溝部、及び該ストッパー部に形成される複数の貫通孔であって四角形の各々の角に対応する位置に等間隔となるよう配列される当該複数の貫通孔を形成する第２の工程と、
　前記第２の基板に、前記ストッパー部と離間して重なる錘部及び該錘部と離間する台座部とを画成する第２の溝部を形成する第３の工程と、
　前記接続層を、前記錘固定部と前記錘部とを接続する第１の接続層、前記台座固定部と前記台座部とを接続する第２の接続層、及び前記ストッパー部と離間して該ストッパー部と該錘部との間の該錘部に形成される突起部であって前記複数の貫通孔に対応する領域間に複数形成される該突起部が形成されるように除去する第４の工程と
　を有することを特徴とする加速度センサの製造方法。
　　【請求項６】
　請求項５に記載の加速度センサの製造方法において、
　前記第４の工程は、ウェットエッチングによって行われることを特徴とする加速度センサの製造方法。」
 に補正しようとすることを含むものである。 
 　 
　本件補正前後の特許請求の範囲を比較すると、本件補正により、本件補正前の請求項３、請求項１を引用する請求項４に基づいて、独立請求項である請求項１に補正された。
　
　そこで、本件補正前の請求項４が直接又は間接的に引用する請求項１，３の記載も考慮しつつ、本件補正前の請求項４に記載した発明特定事項（以下、「発明特定事項」という。）と本件補正後の請求項１に記載した発明特定事項とを比較すると、
　
（１）「複数の貫通孔」に関して「径の大きさが３μｍ〜４μｍ」との限定が付加された。
（２）「複数の貫通孔の間隔」に関して「４．５μｍ〜５．５μｍ」との限定が付加された。 
 　 
　したがって、当該補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 
 　 
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について、以下に検討する。 
 　 
２　独立特許要件について 
（１）補正後の請求項１に係る発明（以下、「補正後第１発明」という。）は、本件補正により補正された明細書、特許請求の範囲、及び図面の記載からみて、請求項１に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。 
 「錘固定部と、該錘固定部を離間して囲む台座固定部と、該錘固定部と該台座固定部とを可撓的に接続する梁部と、該錘固定部及び該梁部と離間して該台座固定部に接続されるストッパー部とを有する第１の基板と、
　前記錘固定部に第１の接続層を介して接続され、前記ストッパー部と離間して重なる錘部と、
　前記錘部と離間して、前記台座固定部に第２の接続層を介して固定される台座部と、
　前記ストッパー部と離間して、該ストッパー部と前記錘部との間の該錘部に形成される突起部と
　を有する加速度センサであって、
　前記ストッパー部は径の大きさが３μｍ〜４μｍの複数の貫通孔を有し、前記突起部は前記錘部の該複数の貫通孔に対応する複数の領域の間に配置されるように複数形成され、
　前記複数の貫通孔は四角形の各々の角に対応する位置に４．５μｍ〜５．５μｍの等間隔で配置されている
　ことを特徴とする加速度センサ。」 
 　 
（２）引用例 
ア−１　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００４−１９８２４３号公報（以下、「引用刊行物１」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。 
 　　 
（ア）　「【発明の属する技術分野】
　本発明は、ＸＹＺの３軸方向の加速度を検出するための加速度センサとその製造方法、特に過大な加速度による破壊防止技術に関するものである。」（段落【０００１】） 
（イ）　「この加速度センサは、厚さ５μｍ程度の第１のシリコン基板１０と厚さ５２５μｍ程度の第２のシリコン基板２０とを絶縁層３０を介して貼り合わせたＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ　ｏｎ　Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）ウエハに、エッチング等の処理を施して形成したものである。」（段落【００２０】） 
（ウ）　「加速度センサ１個分のシリコン基板１０は、１辺が２．５ｍｍ程度のほぼ正方形をしており、その内側に４個の開口部１１を設けることにより、周辺固定部１２、錘固定部１３、梁部１４、及びストッパ部１５の各領域が形成されている。周辺固定部１２は、シリコン基板１０の周辺部に設けられた幅５００μｍ程度の領域であり、錘固定部１３は、このシリコン基板１０の中央部に設けられた１辺が７００μｍ程度のほぼ正方形の領域である。周辺固定部１２と錘固定部１３との間は、縦及び横方向に直交するように設けられた幅４００μｍ程度の４つの梁部１４で接続されている。梁部１４の表面には、機械的歪みによって電気抵抗が変化するピエゾ抵抗効果を有する抵抗素子１６が形成されている。・・・周辺固定部１２と梁部１４で囲まれるほぼ正方形の領域の内で、この周辺固定部１２の２辺を有するほぼ直角三角形の領域がストッパ部１５となっており、このストッパ部１５の反対側のほぼ直角三角形の領域が開口部１１となっている。また、ストッパ部１５には、複数の小さな開口部１７が設けられている。」（段落【００２１】、【００２２】） 
（エ）　「一方、シリコン基板２０は、シリコン基板１０の周辺固定部１２に対応して周辺に設けられた幅５００μｍ程度の台座部２１と、この台座部２１の内側に間隙２２を介して設けられた錘部２３を有している。錘部２３は、シリコン基板１０の錘固定部１３、開口部１１及びストッパ部１５の領域に対応した形状をしている。即ち、錘部２３は、錘固定部１３に対応する中央錘部２３ａと、この中央錘部２３ａの四隅に接続された４個の周辺錘部２３ｂとで構成されている。・・・また、シリコン基板２０において、シリコン基板１０の梁部１４に対応する箇所は、溝部２４としてシリコンが除去されている。」（段落【００２３】、【００２４】） 
（オ）　「シリコン基板１０，２０は、周辺固定部１２に対応して残された絶縁層３０の酸化膜３１と、錘固定部１３に対応して残された絶縁層３０の酸化膜３２を介して相互に接続されている。」（段落【００２５】） 
（カ）　「（１２）  工程１２
工程１１までの処理が完了したＳＯＩウエハを緩衝ふっ酸に浸漬し、シリコン基板１０，２０間の絶縁層３０をエッチングする。この時、シリコン基板１０に設けられた開口部１１，１７と、シリコン基板２０の間隙２２及び溝部２４から緩衝ふっ酸が流入し、周辺錘部２３ｂとストッパ部１５の間に介在する絶縁層３０が除去される。」（段落【００３８】）
（キ）　「容器に収容された加速度センサの錘部２３に下向きの加速度が加えられると、梁部１４が撓んで、この錘部２３が下側に変位する。錘部２３の下側への変位は、この錘部２３の底面が容器の底部に接する位置で停止され、それ以上の変位は阻止される。また、錘部２３に上向きの加速度が与えられると、梁部１４が撓んでこの錘部２３は上側に変位するが、周辺錘部２３ｂがストッパ部１５に接した位置で停止され、それ以上の変位は阻止される。」（段落【００４１】） 
　
　加速度センサにおける各層のパターンを示す平面図である図３のうちの図３（ａ）から、錘固定部１３は、離れた状態で周辺固定部１２に取り囲まれていることを読み取ることができる。
　加速度センサの構成図である図１及び上記図３から、錘部２３は、ストッパ部１５と離れているが重なる状態で、絶縁層３０の酸化膜３２を介して錘固定部１３に接続されていることを読み取ることができる。
　上記図１及び図３から、台座部２１は、錘部２３と離れた状態で、絶縁層３０の酸化膜３１を介して周辺固定部１２に接続されていることを読み取ることができる。
 　 
 ア−２　上記記載事項（ア）ないし（キ）及び図面から、以下の事項を読み取ることができる。 
・上記記載事項（ウ）中の記載「加速度センサ１個分のシリコン基板１０は、１辺が２．５ｍｍ程度のほぼ正方形をしており、その内側に４個の開口部１１を設けることにより、周辺固定部１２、錘固定部１３、梁部１４、及びストッパ部１５の各領域が形成されている。」から、シリコン基板１０は、錘固定部１３、周辺固定部１２、梁部１４、及びストッパ部１５が形成されていること。
・上記記載事項（ウ）中の記載「周辺固定部１２と錘固定部１３との間は、縦及び横方向に直交するように設けられた幅４００μｍ程度の４つの梁部１４で接続されている。」及び上記記載事項（キ）中の記載「容器に収容された加速度センサの錘部２３に下向きの加速度が加えられると、梁部１４が撓んで、この錘部２３が下側に変位する。」から、梁部１４は、撓みうるように錘固定部１３と周辺固定部１２とを接続していること。
・上記記載事項（ウ）中の記載「周辺固定部１２と梁部１４で囲まれるほぼ正方形の領域の内で、この周辺固定部１２の２辺を有するほぼ直角三角形の領域がストッパ部１５となっており、このストッパ部１５の反対側のほぼ直角三角形の領域が開口部１１となっている。」及び図３（ａ）から、ストッパ部１５は、錘固定部１３及び梁部１４と離れた状態で周辺固定部１２と連なっていること。
・上記記載事項（カ）中の記載「シリコン基板１０，２０間の絶縁層３０をエッチングする。この時、シリコン基板１０に設けられた開口部１１，１７と、シリコン基板２０の間隙２２及び溝部２４から緩衝ふっ酸が流入し、周辺錘部２３ｂとストッパ部１５の間に介在する絶縁層３０が除去される。」から、開口部１７は、加速度センサの製造時に、エッチング液が流入し絶縁層３０を除去するために設けられた開口であるといえる。
　　 　 
ア−３　したがって、記載事項（ア）ないし（キ）及び図面の記載を総合すると、引用刊行物１には次のとおりの発明（以下、「引用例発明１」という。）が記載されているものと認められる。 
 「錘固定部１３と、該錘固定部１３を離れて取り囲む周辺固定部１２と、該錘固定部１３と該周辺固定部１２とを撓みうるように接続する梁部１４と、該錘固定部１３及び該梁部１４と離れた状態で該周辺固定部１２に連なるストッパー部１５が形成されるシリコン１０基板と、
　前記錘固定部１３に絶縁層３０の酸化膜３２を介して接続され、前記ストッパー部１５と離れているが重なる状態の錘部２３と、
　前記錘部２３と離れた状態で、前記周辺固定部１２に絶縁層３０の酸化膜３１を介して接続される台座部２１と、
　を有する加速度センサであって、
　前記ストッパー部１５には、加速度センサの製造時に、エッチング液が流入し絶縁層３０を除去するために設けられた開口である複数の開口部１７が形成されている加速度センサ。」
 　 
イ−１　同じく、原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特表平１０−５１２６７５号公報（以下、「引用刊行物２」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。 
 　 
（ア）　「【発明の詳細な説明】
　マイクロメカニズムデバイス
　マイクロメカニズム構造体の製造時及び特に操作時における基本的問題は、可動部の偏向が大きい場合に対向する面に粘着（スティッキング）を生じることである。ファン・デル・ワールス力及び水素−橋結合のような飛程の短い極めて強力な分子間力はこの場合に偏向されたマイクロメカニズム構造体と対向する面との間に分離できない結合を生じ、デバイスを使用不能にする。この問題は特に相応して柔軟に吊り下げられた質量部を有する極めて敏感な加速度センサにおいて生じ、加速発生時にマイクロメカニズム構造体が固定部に粘着することがある。」（公報第４頁第１〜９行） 
（イ）　「本発明の課題は、製造時及び使用中の粘着（スティッキング）の問題を回避することのできるマイクロメカニズムデバイス及びその製造方法を提供することにある。・・・
　この構造体の機能及び特に有利な製造方法を図６〜図１１に基づき以下に記載する。図６は例えば半導体ウェハ又は半導体層構造体又はそれに類するものであってもよい基板１を断面で示し、この基板上に補助層５（犠牲層）及び可動部の製造用に備えられた層構造体２が上下に施されている。この層構造体２内に例えば通常のマスク技術により後の処理工程用のエッチング開口として備えられている開口４が形成される。これらのエッチング開口４を通して図７に示されているように補助層５の材料をエッチングし、それにより層構造体２の下の補助層５のエッチング開口４の範囲に凹部６が生じる。補助層５は全高にわたってエッチング除去されるので、このエッチングプロセスの経過中に図８に示されている層構造体２が補助層５の残留部７だけに載っている構造が生じる。エッチング工程を適時中断することにより層構造体内に形成された可動部２は補助層５から外されるが、しかし補助層５から残留層部分３が細いスパイクとして基板１上に残される。」（公報第５頁第８行〜同第６頁第１２行）
（ウ）　「間隔保持体として設けられたスパイク又は隆起部（請求項では一貫して層部分と記載されている）は、可動部に面した基板又はチップに固定されている層構造体の上面に配設されても、また可動部自体に配設することもできる。」（公報第６頁第１９〜２１行）
（エ）　「エッチング開口４を層構造体２の構造体化と同時に形成し、補助層５を引続き湿式化学によりエッチングし、その際補助層５の材料を層構造体の材料及び基板１の表面に対し選択的にエッチングすることができるように選択すると有利である。エッチング開口４の配置例は図１０及び１１に示されている。エッチング開口は規則的な格子の点に配置されている。この格子は、一定の長さだけ２つの異なる方向に移動することができ、その際それ自体にイメージされる一種のラスタを形成する。このようにして構造体化された可動部の端にある開口を除いて各エッチング開口がこのエッチング開口と最短距離にある同数（３つ以上）のエッチング開口により囲まれるエッチング開口の配置が得られる。図１０の例ではラスタはエッチング開口４がそれぞれ互いに直角をなす方向にある４つの隣接する開口により囲まれている正方形の格子である。補助層５が一様な厚さを有し、エッチング開口４が同じ大きさで部位的に均一なエッチング率を有する場合、図１０に円形に縁どられているエッチング領域が形成される。エッチング時間を適切に選択することによりエッチング領域が図１０に示されている円８内にあることになる。更に補助層５をエッチングすると中央に残留層部分３が残り、これがスパイクを形成する。エッチング時に生じるこの残留層部分の傾斜面のためアーチ状の側面を有するほぼピラミッドに類似した形状が生じる。」（公報第７頁第１２〜２８行）
（オ）　「しかしエッチング開口の数及び配置を形成すべき可動構造体の形状及びそれぞれの製造条件にふさわしいように適合させることは原則として可能である。」（公報第８頁第２０〜２２行）
　
イ−２　上記記載事項（ア）ないし（オ）及び図面から、引用刊行物２には以下の事項が記載されているといえる。
　
・記載事項（ア）から、吊り下げられた質量部を有する極めて敏感な加速度センサにおいて、そのマイクロメカニズム構造体の製造時及び特に操作時における基本的問題は、可動部の偏向が大きい場合に対向する面に粘着（スティッキング）を生じる点。
・記載事項（イ）、（ウ）、（エ）から、「マイクロメカニズムデバイス製造時及び使用中の粘着（スティッキング）の問題を回避するために、マイクロメカニズム構造体において、基板上に補助層５（犠牲層）、層構造体２が上下に施され、層構造体２には複数のエッチング開口４が備えられ、補助層５（犠牲層）を エッチングし、エッチング工程を適時中断することにより、残留層部分３が細いスパイクとして基板１上に残され間隔保持体として設けられる。」点。
・記載事項（エ）から、「補助層５を湿式化学によりエッチングする際、エッチング開口４が正方形の格子の点に配置された場合、正方形の格子の中央にピラミッドに類似した形状の残留層部分３が残る」点。
　 　 
（３）対比 
　補正後第１発明と引用例発明１とを比較する。 
 　 
ア　引用例発明１の「錘固定部１３」、「離れて取り囲む」、「周辺固定部１２」、「撓みうるように」、「接続する」、「梁部１４」、「離れた状態で」、「連なる」、「ストッパー部１５」、「が形成される」、「シリコン１０基板」、「絶縁層３０の酸化膜３２」、「介して接続」、「離れているが重なる状態の」、「錘部２３」、「離れた状態で」、「絶縁層３０の酸化膜３１」、「介して接続される」、「台座部２１」は、補正後第１発明の「錘固定部」、「離間して囲む」、「台座固定部」、「可撓的に」、「接続する」、「梁部」、「離間して」、「接続される」、「ストッパー部」、「とを有する」、「第１の基板」、「第１の接続層」、「介して接続」、「離間して重なる」、「錘部」、「離間して」、「第２の接続層」、「介して固定される」、「台座部」、にそれぞれ相当する。 
　また、引用例発明１の「加速度センサの製造時に、エッチング液が流入し絶縁層３０を除去するために設けられた開口である複数の開口部１７」は、補正後第１発明の「複数の貫通孔」に相当する。
　そして、引用例発明１の対象である「加速度センサ」は、補正後第１発明の対象である「加速度センサ」に相当する。 
 　  
イ　よって、補正後第１発明と引用例発明１の両者は、
 「錘固定部と、該錘固定部を離間して囲む台座固定部と、該錘固定部と該台座固定部とを可撓的に接続する梁部と、該錘固定部及び該梁部と離間して該台座固定部に接続されるストッパー部とを有する第１の基板と、
　前記錘固定部に第１の接続層を介して接続され、前記ストッパー部と離間して重なる錘部と、
　前記錘部と離間して、前記台座固定部に第２の接続層を介して固定される台座部と、
　を有する加速度センサであって、
　前記ストッパー部は複数の貫通孔を有している
　ことを特徴とする加速度センサ。」の点で一致し、以下の点で相違する。
 
 （相違点１） 
　補正後第１発明では、「前記ストッパー部と離間して、該ストッパー部と前記錘部との間の該錘部に形成され、かつ、前記錘部の該複数の貫通孔に対応する複数の領域の間に配置されるように複数形成されている突起部」を有しているのに対して、引用例発明１では、当該突起部を有していない点。 
（相違点２） 
　ストッパー部が有している複数の貫通孔について、補正後第１発明では、「（複数の貫通孔は、）径の大きさが３μｍ〜４μｍであり、四角形の各々の角に対応する位置に４．５μｍ〜５．５μｍの等間隔で配置されている」のに対して、引用例発明１では、「（開口部１７は、）その径の大きさ及び配置関係が明確でない点。 
 　　 
 （４）判断 
 ア　相違点１について 
（ア）　引用例発明１の課題
　「（２）イ−２」で述べたとおり、引用刊行物２には、吊り下げられた質量部を有する極めて敏感な加速度センサにおいて、そのマイクロメカニズム構造体の製造時及び特に操作時における基本的問題は、可動部の偏向が大きい場合に対向する面に粘着（スティッキング）を生じることであり、その粘着を回避するという課題が記載されている（記載事項（ア））。
　そして、引用刊行物１には、引用例発明１について、「周辺錘部２３ｂがストッパ部１５に接した位置で停止され、それ以上の変位は阻止される。」（記載事項（キ）段落【００４１】）と記載されており、引用例発明１のストッパ部１５と周辺錘部２３ｂとは、接触することが想定されている。
　してみると、加速度センサの技術分野の当業者が引用刊行物１の記載事項（キ）をみれば、引用例発明１の周辺錘部２３ｂとストッパ部１５とは粘着（スティッキング）が生じる可能性があり、それを回避する課題があることは自明である。
　
（イ）引用刊行物２に記載された課題の解決手段
　「（２）イ−２」で述べたとおり、引用刊行物２には、「マイクロメカニズムデバイス製造時及び使用中の粘着（スティッキング）の問題を回避するために、マイクロメカニズム構造体において、基板上に補助層５（犠牲層）、層構造体２が上下に施され、層構造体２には複数のエッチング開口４が備えられ、補助層５（犠牲層）を エッチングし、エッチング工程を適時中断することにより、残留層部分３が細いスパイクとして基板１上に残され間隔保持体として設けられる。」点が記載されている。
　
（ウ）相違点１に係る補正後第１発明の想到容易性
　引用例発明１の複数の開口部１７は、エッチング液が流入し絶縁層３０を除去するために設けられた開口であるから、「（ア）　引用例発明１の課題」で述べた自明な課題である、引用例発明１の周辺錘部２３ｂとストッパ部１５との粘着（スティッキング）を回避するために、引用刊行物２に記載された課題の解決手段を適用することは困難なことではない。
　すなわち、引用例発明１の加速度センサを製造する際の湿式エッチング工程において、引用刊行物２に記載された上記解決手段にならい、複数の開口部１７から絶縁層３０（酸化膜３１）へのエッチング液の流入を適時中断することにより、周辺錘部２３ｂ上であって、複数の開口部１７の隣接する開口部１７の間に対応する領域の周辺錘部２３ｂ上に、絶縁層３０（酸化膜３１）の残留物を細いスパイクとして形成することは、引用例発明１及び引用刊行物２に記載された事項に基づいて当業者が容易に想到し得た事項である。
　よって、相違点１に係る補正後第１発明の発明特定事項は、引用例発明１及び引用刊行物２に記載された事項に基づいて当業者が容易に想到し得た事項である。
　
イ　相違点２について
　「（２）イ−２」で述べたとおり、引用刊行物２には、「エッチング開口４が正方形の格子の点に配置された場合、正方形の格子の中央にピラミッドに類似した形状の残留層部分３が残る」点が記載されていることも分かるように、引用例発明１の加速度センサを製造する際に引用刊行物２に記載された事項を適用したことによって得られる加速度センサにおいては、複数の開口部１７は、正方形の格子の点に配置されたもの、すなわち、補正後第１発明でいう、四角形の各々の角に対応する位置に等間隔で配置されているものになる。
　そして、引用例発明１の複数の開口部１７の径の大きさを補正後第１発明のように、３μｍ〜４μｍと規定し、また、引用例発明１の複数の開口部１７の間隔を補正後第１発明のように、４．５μｍ〜５．５μｍと規定することは、加速度センサの大きさ、加速度センサの絶縁層３０の材料や厚み、絶縁層３０を湿式エッチングする際の製造条件等を考慮して当業者が適宜に設定し得る設計事項である。
　したがって、相違点２に係る補正後第１発明の発明特定事項は、引用例発明１及び引用刊行物２に記載された事項に基づいて当業者が容易に想到し得た事項である。
　
　そして、補正後第１発明の奏する効果は、引用刊行物１及び引用刊行物２の記載から当業者が予測し得る範囲内のものにすぎず、格別なものとはいえない。 
　よって、補正後第１発明は、引用例発明１及び引用刊行物２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
 　 
 　（５）むすび 
　以上のとおり、補正後第１発明は、引用例発明１及び引用刊行物２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。 
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
 　 
第３　本願発明 
　平成２１年２月６日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成２０年１１月１３日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりの、以下のもの（以下、「本願第１発明」という。）である。 
 「錘固定部と、該錘固定部を離間して囲む台座固定部と、該錘固定部と該台座固定部とを可撓的に接続する梁部と、該錘固定部及び該梁部と離間して該台座固定部に接続されるストッパー部とを有する第１の基板と、
　前記錘固定部に第１の接続層を介して接続され、前記ストッパー部と離間して重なる錘部と、
　前記錘部と離間して、前記台座固定部に第２の接続層を介して固定される台座部と、
　前記ストッパー部と離間して、該ストッパー部と前記錘部との間の該錘部に形成される突起部と
　を有することを特徴とする加速度センサ。」 
 　 
第４　引用例 
（１）　引用刊行物１、及び、その記載事項は、前記「第２　２（２）ア−１〜ア−３」に記載したとおりである。 
 　 
（２）　引用刊行物２、及び、その記載事項は、前記「第２　２（２）イ−１〜イ−２」に記載したとおりである。 
 　 
第５　当審の判断 
 　本願第１発明は、補正後第１発明から、「前記ストッパー部は径の大きさが３μｍ〜４μｍの複数の貫通孔を有し、前記突起部は前記錘部の該複数の貫通孔に対応する複数の領域の間に配置されるように複数形成され、前記複数の貫通孔は四角形の各々の角に対応する位置に４．５μｍ〜５．５μｍの等間隔で配置されている」との限定を省いたものである。 
　してみると、本願第１発明の発明特定事項を全て含む補正後第１発明が、「第２　２（４）」で述べたとおり、引用例発明１及び引用刊行物２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願第１発明も、引用例発明１及び引用刊行物２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
 　 
第６　むすび 
　以上のとおりであるから、本願第１発明は、引用例発明１及び引用刊行物２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　そして、本願第１発明が特許を受けることができないものであるから、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 
　よって、結論のとおり審決する。