【事件の表示】
　特願２００２−　５６５２７「多孔質母材の製造方法および製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　９月１０日出願公開、特開２００３−２５２６３５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成１４年３月１日の出願であって、平成１９年８月２０日付けで拒絶理由の起案がなされ、同年１０月２９日に意見書及び明細書の記載に係る手続補正書の提出がなされ、同年１１月１５日付けで拒絶査定の起案がなされ、同年１２月２７日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、平成２０年１月２８日に明細書の記載に係る手続補正書の提出がなされ、同年３月１８日に審判請求書に係る手続補正書の提出がなされ、平成２２年８月９日付けで特許法第１６４条第３項に基づく報告を引用した審尋の起案がなされ、同年１０月８日に回答書の提出がなされたものである。
　
ＩＩ．平成２０年１月２８日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
ＩＩ−１．補正却下の決定の結論
　平成２０年１月２８日付けの手続補正を却下する。
　
ＩＩ−２．理由
　平成２０年１月２８日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）は、本件補正前の平成１９年１０月２９日付けで補正された特許請求の範囲である
「 【請求項１】　液体原料を気化容器により気化させて原料ガスを得、この原料ガスを流量制御装置により所定の流量としてバーナに供給し、該バーナによって燃焼させることによってガラス微粒子を合成し、このガラス微粒子を堆積させて多孔質母材を製造する多孔質母材の製造方法において、
 前記流量制御装置を恒温槽内に設置して該恒温槽内の原料ガスの温度を±１℃以内に制御するとともに、前記恒温槽内の原料ガスの温度と、前記気化容器からバーナまでを連絡する配管内の原料ガスの温度とを、前記気化容器内における原料ガスの温度より１０℃以上高くし、前記配管の温度の変動幅を±５℃以下とすることを特徴とする多孔質母材の製造方法。
　 【請求項２】　前記恒温槽を原料ガスの種類ごとに１基ずつ設け、かつ、同種の原料ガスのための各流量制御装置を、同一の恒温槽中に設置して温度制御を行うことを特徴とする請求項１に記載の多孔質母材の製造方法。
　 【請求項３】　液体原料を気化させて原料ガスを得るための気化容器と、前記原料ガスを燃焼させてガラス微粒子を合成するためのバーナと、前記原料ガスを前記気化容器から前記バーナまで送るための配管と、前記原料ガスの流量を制御するための流量制御装置と、該流量制御装置の周囲の温度を±１℃以内に制御するための恒温槽と、前記配管の温度を前記気化容器内における原料ガスの温度より１０℃以上高くし、前記配管の温度の変動幅を±５℃以下とするための加熱手段とを備えることを特徴とする多孔質母材の製造装置。
　 【請求項４】　前記恒温槽は、原料ガスの種類ごとに１基ずつ設けられ、かつ、同種の原料ガスのための各流量制御装置は、同じ恒温槽中に設置されていることを特徴とする請求項３に記載の多孔質母材の製造装置。」を
「　 【請求項１】　液体原料を気化させて原料ガスを得るための気化容器と、前記気化容器から発生した原料ガスを少なくとも２つに分岐して流量制御装置まで送る配管と、前記分岐された配管にそれぞれ接続され、前記原料ガスの流量を制御するための流量制御装置と、前記流量制御装置からそれぞれ送られた前記原料ガスをそれぞれ燃焼させるためのバーナと、を備え、
　前記少なくとも２つの流量制御装置は、１つの恒温槽に収納されて、この流量制御装置の温度のばらつきに起因する流量のばらつきが抑制されていることを特徴とする多孔質母材の製造装置。
　 【請求項２】　液体原料を気化させて原料ガスを得るための気化容器と、前記気化容器から発生した原料ガスを少なくとも２つに分岐して流量制御装置まで送る配管と、前記分岐された配管にそれぞれ接続され、前記原料ガスの流量を制御するための流量制御装置と、前記流量制御装置からそれぞれ送られた前記原料ガスをそれぞれ燃焼させるためのバーナと、を備えた多孔質母材の製造装置を用いた多孔質母材の製造方法であって、
　前記少なくとも２つの流量制御装置を、１つの恒温槽に収納し、この流量制御装置の温度のばらつきに起因する流量のばらつきを抑制することを特徴とする多孔質母材の製造方法。」とする補正を含むものである。
　そこで、本件補正後の「多孔質母材の製造装置」に係る請求項１についてみてみると、この請求項１に係る補正は、本件補正前の「多孔質母材の製造装置」に係る請求項３及び４の特定事項である「流量制御装置の周囲の温度を±１℃以内に制御するための恒温槽」と「配管の温度を前記気化容器内における原料ガスの温度より１０℃以上高くし、前記配管の温度の変動幅を±５℃以下とするための加熱手段とを備える」ことを削除したものといえ特許請求の範囲の減縮に該当せず、しかも、請求項の削除、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明のいずれにも該当しないことは明らかである。
　したがって、本件補正は、平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
ＩＩＩ．本願発明
　平成２０年１月２８日付けの手続補正は、上記のとおり補正却下の決定がなされた。
　したがって、本願の特許請求の範囲に記載された発明は、平成１９年１０月２９日付けで補正された明細書及び図面の記載からみて、その明細書の特許請求の範囲の請求項１〜４に記載されたとおりのものであり、その請求項３に記載された発明（以下、「本願発明」という。）は、次の事項により特定されるものである。
　
「 【請求項３】　液体原料を気化させて原料ガスを得るための気化容器と、前記原料ガスを燃焼させてガラス微粒子を合成するためのバーナと、前記原料ガスを前記気化容器から前記バーナまで送るための配管と、前記原料ガスの流量を制御するための流量制御装置と、該流量制御装置の周囲の温度を±１℃以内に制御するための恒温槽と、前記配管の温度を前記気化容器内における原料ガスの温度より１０℃以上高くし、前記配管の温度の変動幅を±５℃以下とするための加熱手段とを備えることを特徴とする多孔質母材の製造装置。」
　
ＩＶ．引用例
　本願出願前に頒布された刊行物である特開昭６４−６７２４３号公報（原査定の拒絶理由において引用文献２として引用されたもので、以下、「引用例１」という。）には、以下の事項が記載され、視認される。
（１−１）「［産業上の利用分野〕
　本発明は、・・・・・・光ファイバーを製造するために使用される液体または固体原料（例えば、ＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４・・・・・・）等の気化供給を精密かつ安定に制御するための原料気化制御装置に関するものである。」（１頁左欄１３〜１８行）
（１−２）「光ファイバーを製造するために使用される原料を・・・・・・供給する場合、・・・・・・常温では蒸気圧が低い原料を高温で制御していた。
・・・・・・
（３）質量流量計は、一般に温度によって０点がシフトするため、厳密な温度管理が必要である・・・・・・。」（１頁右欄２行〜２頁左上欄７行）
（１−３）「［発明が解決しようとする問題点］
　本発明の目的は、原料容器、各種バルブ及びそれらを接続する配管、並びに流量制御装置の全体を恒温槽に収容することなく、厳密な温度調整の必要な部分のみを保温ボックス内に収容して、しかも適切な加熱を行い、それ以外の部分については個別的に簡易な温度調整手段による調整を行うようにし、それに伴って質量流量計の０点のアジャストも容易に行えるようにした原料気化制御装置を提供することにある。
［問題点を解決するための手段］
　上記目的を達成するため、本発明の原料気化制御装置においては、原料容器と、質量流量計と、それらをつなぐ配管系に、それぞれ温度制御可能な加熱手段を設け、上記質量流量計の加熱手段として、質量流量計のガス通路部を構成するベースを直接的に加熱するヒータを設けると共に、その質量流量計及びヒータを保温ボックス内に収容するという手段を用いている。」（２頁左上欄１６行〜同頁右上欄１６行）
（１−４）「［実施例］
　第１図ないし第３図は本発明に係る原料気化制御装置の実施例の概要を示している。
　上記原料気化制御装置は、主たる構成要素として、原料容器１、質量流量計２（・・・・・・）、及びそれらを連結する配管系３を備え、その配管系３には必要なバルブ４を接続している。
　上記原料容器１、バルブ４及び配管系３には、個別的にテープヒータ等による加熱手段１１、１２、１３を設け、これに対して厳密な温度調節が必要な上記質量流量計２は、保温ボックス１４に収容している。
・・・・・・
・・・・・・この保温ボックス１４内には複数台の質量流量計２を収容することもできる。
　また、上記各加熱手段１１、１２、１３及び質量流量計２の加熱手段には、それぞれ温度センサを設け、それらの温度センサを温度調節器２１に接続して、各加熱手段１１、１２、１３を個別的に温度制御可能に構成している。」（２頁右下欄１行〜３頁右上欄１行）
（１−５）「本発明に係る原料気化制御装置のブロック構成図」である第１図を見ると、上記（１−４）の記載された事項を窺うことができ、また、本発明に係る原料気化制御装置は、部材１４につながる部材３の先、すなわち、上記（１−４）の記載によれば、「保温ボックス」につながる「配管系」の先が「リアクタ」であることが見て取れる。
　
　ここで、上記（１−３）の記載について検討すると、上記（１−３）の「原料気化制御装置」は、「原料容器と、質量流量計と、それらをつなぐ配管系に、それぞれ温度制御可能な加熱手段を設け、上記質量流量計の加熱手段として、質量流量計のガス通路部を構成するベースを直接的に加熱するヒータを設けると共に、その質量流量計及びヒータを保温ボックス内に収容するという手段を用いている」といえ、上記（１−５）によれば、前記「原料気化制御装置」は、「保温ボックス」につながる「配管系」の先が「リアクタ」であるといえる。
　また、上記（１−４）の「厳密な温度調節が必要な上記質量流量計２は、保温ボックス１４に収容している。」との記載をみると、保温ボックスは厳密な温度管理ができるものとみることができる。
　そうすると、引用例１には、「原料容器と、質量流量計と、それらをつなぐ配管系に、それぞれ温度制御可能な加熱手段を設け、上記質量流量計の加熱手段として、質量流量計のガス通路部を構成するベースを直接的に加熱するヒータを設けると共に、その質量流量計及びヒータを厳密な温度管理ができる保温ボックス内に収容するという手段を用いている、保温ボックスにつながる配管系の先がリアクタである原料気化制御装置」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているといえる。
　
Ｖ．対比・判断
　本願発明と引用発明とを対比する。
（あ）引用発明の「原料気化制御装置」は、上記（１−１）の記載をみると、「液体または固体原料（例えば、ＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４・・・・・・）等の気化供給を」行うものといえるから、引用発明の「原料容器」の中には「ＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４」があるといえ、これらは常温では液体であり（このことは上記（１−２）からも窺うことができるが、ＳｉＣｌ４の沸点が約５８℃、ＧｅＣｌ４の沸点が８４℃であることは技術常識である。）、しかも、引用発明は「原料容器・・・・・・に、・・・・・・温度制御可能な加熱手段を設け」ているから、この「ＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４」という液体原料を気化させて原料ガスを得ているとみることができるから、引用発明の「原料容器」は、本願発明の「液体原料を気化させて原料ガスを得るための気化容器」に相当する。
（い）引用発明は、「原料容器と、質量流量計と、それらをつなぐ配管系・・・・・・保温ボックスにつながる配管系の先がリアクタにつながる」し、「配管系」は「配管」とみることができるから、上記（あ）の検討を併せみると、「原料ガスを気化容器からリアクタまで送るための配管」を有しているといえる。
　また、「リアクタ」とは「反応装置」であるから、本願発明の「バーナー」と「処理する装置」である点で一致している。
（う）引用発明の「質量流量計」は、「原料容器」につながっているから、上記（あ）の検討を併せみると、原料ガスの流量を制御しているものといえ、本願発明の「原料ガスの流量を制御するための流量制御装置」に相当する。
（え）引用発明の「質量流量計及び」「質量流量計のガス通路部を構成するベースを直接的に加熱するヒータ」を「収納」した「厳密な温度管理ができる保温ボックス」は、本願発明の「流量制御装置の周囲の温度を制御するための恒温槽」に相当する。
（お）引用発明は「配管系に・・・・・・温度制御可能な加熱手段を設け」ているから、配管系、すなわち、配管の加熱装置を備えていることは明らかである。
（か）引用発明の「原料気化制御装置」は、「装置」である点で、本願発明の「多孔質母材の製造装置」と一致する。
　そうすると、両者は、
「液体原料を気化させて原料ガスを得るための気化容器と、前記原料ガスを処理する装置と、前記原料ガスを前記気化容器から前記処理する装置まで送るための配管と、前記原料ガスの流量を制御するための流量制御装置と、該流量制御装置の周囲の温度を制御するための恒温槽と、前記配管の加熱手段とを備える装置」である点で一致し、以下の点で相違している。
相違点Ａ：「原料ガスを処理する装置」につき、本願発明が「原料ガスを燃焼させてガラス微粒子を合成するためのバーナー」であるのに対し、引用発明は「リアクタ」であり、また、本願発明が「多孔質母材の製造装置」であるのに対し、引用発明は「原料気化制御装置」である点
相違点Ｂ：恒温槽につき、本願発明は、「流量制御装置の周囲の温度を±１℃以内に制御する」ものであるのに対し、引用発明はかかる事項を有していない点
相違点Ｃ：加熱手段につき、本願発明は、「配管の温度を気化容器内における原料ガスの温度より１０℃以上高くし、前記配管の温度の変動幅を±５℃以下とする」ものであるのに対し、引用発明はかかる事項を有していない点
　そこで、これら相違点について検討する。
・相違点Ａについて
　上記（１−１）及び（１−２）の記載からみて、引用発明は光ファイバーを製造するために使用されるものであるといえるから、「リアクタ」を原料ガスを燃焼させてガラス微粒子を合成するためのバーナーとすることは当業者であれば適宜なし得ることであって、この原料ガスを燃焼させてガラス微粒子を合成するためのバーナーとすれば多孔質母材が製造されることは明らかであるから、上記相違点Ａに係る本願発明の特定事項をなすことは当業者であれば困難なことではない。
・相違点Ｂについて
　引用例１には、上記（１−２）の「質量流量計は、一般に温度によって０点がシフトするため、厳密な温度管理が必要である」という前提のもとに、上記（１−３）に記載されているように「質量流量計の０点のアジャストも容易に行えるようにした原料気化制御装置を提供することにある」から、引用発明において、質量流量計は厳密な温度管理がなされているものといえ、換言すれば、引用発明の保温ボックス（本願発明の恒温槽に相当する）において、質量流量計（本願発明の流量制御装置に相当する）の周囲の温度変化を小さくしているとみることができ、この温度変化は小さければ小さいほど望ましいことは明らかだから、当業者であれば、この温度変化の許容値を、たとえば±１℃と、適宜決定し得るものである。
・相違点Ｃについて
　上記（１−３）には「厳密な温度調整の必要な部分のみを保温ボックス内に収容して、しかも適切な加熱を行い、それ以外の部分については個別的に簡易な温度調整手段による調整を行うようにし」と記載され、厳密な温度管理を必要としない部分は保温ボックスに収容せず、簡易な温度管理を行うことが教示されているといえる。
　この教示における簡易な温度管理は温度変動が大きいことは明らかであり、また、配管系において原料容器の温度よりも温度が低くなれば、原料が配管系において凝固するなどの不都合が生じることも明らかであるから、配管系（本願発明の配管に相当する）の加熱温度は原料容器（本願発明の気化容器に相当する）の温度よりも簡易な温度管理によって生じる温度変動を補償することができる程度の高い温度とすべきことは、当業者であれば容易に想到し得ることであって、その際、原料容器に対してどの程度配管系の温度を高くするかという前記補償する温度及び簡易な温度管理の温度変動幅は適宜決定し得るものといえ、上記相違点Ｃに係る本願発明の特定事項は当業者であれば困難なくなし得ることである。
　そして、上記相違点Ａ〜Ｃに係る本願発明の奏する作用・効果は格別なものとはいえない。
　よって、本願発明は、引用例１に記載の発明に基づいて当業者が容易になし得るものである。
　
　なお、請求人は回答書において、請求項３と請求項４を併せるとともに、「気化容器の温度＜恒温槽内の原料ガスの温度＜配管の温度」という関係を限定する補正を希望する旨の主張をしているので、この補正を行った発明について検討する。
　この補正を行った発明（以下、「補正発明」という。）と引用発明を対比すると、さらに次の相違点で相違する。
相違点Ｄ：補正発明は、「恒温槽は、原料ガスの種類ごとに１基ずつ設けられ、かつ、同種の原料ガスのための各流量制御装置は、同じ恒温槽中に設置されている」のに対し、引用発明は、かかる事項を有していない点
相違点Ｅ：補正発明は、「気化容器の温度＜恒温槽内の原料ガスの温度＜配管の温度」であるのに対し、引用発明は、かかる事項を有していない点
　これら相違点について検討すると、
・相違点Ｄについて
　上記（１−４）には、「保温ボックス１４内には複数台の質量流量計２を収容することもできる。」と記載され、引用例１では保温ボックス内に複数の質量流量計を設けてもよいことが記載されているといえる。
　一方、光ファイバーの製造に当たり気化温度の異なる複数の原料ガスを用いること、及び気化容器から気化された原料ガスが複数の質量流量計を介してバーナーに供給されることは周知技術であるから（要すれば、本願明細書に記載されている特開平８−３４６２３号公報、拒絶理由で引用文献１として引用された特開２０００−２１１９２８号公報を参照。）、設備の簡略化等を考慮して、恒温槽は、気化温度が同じ原料ガス種ごとに１ずつ設け、同種の原料ガスのための各流量制御装置は、同じ恒温槽中に設置する程度のことは、当業者であれば困難なくなし得ることである。
・相違点Ｅについて
　気化容器の温度より恒温槽内の原料ガスの温度及び配管の温度が常に高くなければ、原料ガスの凝縮が恒温槽内、配管内で起こるから、恒温槽、配管の温度変動の下限値は気化容器の温度温度よりも高くしなければならないことは明らかである。
　そうすると、厳密な温度管理を行う恒温槽の温度変動に比べ配管の温度変動は大きくなるところ、温度変動による温度下限値が気化容器の温度よりも低くならないようにすべく、「気化容器の温度＜恒温槽内の原料ガスの温度＜配管の温度」とする程度のことは、当業者であれば困難なくなし得ることである。
　よって、補正発明は引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求人の希望する補正を認めない。
　
ＶＩ．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることはできない。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。