【手続補正書】
【提出日】平成23年7月13日(2011.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
障害検出及びプロセスモニタリングのために使用される放射分析光学モニタリングシステムのキャリブレーションのための方法であって、局所的な一次標準に対する第１の分光器を検査すること、第１の分光器で第１の光源からの光を受けることであって、第１の光源が、複数の未知のスペクトル強度を放射する第１の光源からの光を受けること、第１の分光器で第１の光源からの光を受けることに応じて、検査されたスペクトル情報をつくり出すこと、第２の分光器で第１の光源からの光を受けることに応じて検査されていないスペクトル情報をつくり出すこと、及び、第１の分光器によってつくり出される検査されたスペクトル情報に対して第２の分光器を検査すること、を含むキャリブレーションのための方法。
【請求項２】
局所的な一次標準は、既知の標準に対してトレース可能な応答を伴う検査された光検出器であり、しかも、局所的な一次標準に対して第１の分光器を検査することは、第１の分光器で第２の光源からの光を受けること、検査された光検出器で第２の光源からの光を受けること、検査された光検出器で第２の光源からの光を受けることに応じて検査されたスペクトル情報をつくり出すこと、第１の分光器で第２の光源からの光を受けることに応じて検査されていないスペクトル情報をつくり出すこと、及び、検査された光検出器によってつくり出される検査されたスペクトル情報に対して第１の分光器を検査すること、をさらに含む請求項１に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項３】
既知の標準が、米国国立標準技術研究所（ＮＩＳＴ）の標準である請求項２に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項４】
局所的な一次標準が第２の光源である請求項１に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項５】
第２の光源は、複数の既知のスペクトル強度を放射する請求項４に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項６】
第２の光源によって放射される既知のスペクトル強度が、米国国立標準技術研究所（ＮＩＳＴ）の標準に対してトレース可能である請求項５に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項７】
第１の及び第２の分光器は、第１の光源からの光を同時に受ける請求項４に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項８】
第１の分光器によってつくり出される検査されたスペクトル情報に対して第２の分光器を検査することは、第２の分光器によってつくり出される検査されていないスペクトル情報を、第１の分光器によってつくり出される検査されたスペクトル情報と比較すること、及び、第１の分光器によってつくり出される検査されたスペクトル情報に対する第２の分光器によってつくり出される検査されていないスペクトル情報の比較に基づいて補正係数をつくり出すこと、をさらに含む請求項１に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項９】
第３の分光器で第１の光源からの光を受けること、第３の分光器で第１の光源からの光を受けることに応じて検査されていないスペクトル情報をつくり出すこと、及び第１の分光器によってつくり出される検査されたスペクトル情報に対して第３の分光器を検査すること、をさらに含む請求項１に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項１０】
第２の分光器を光学接続システムに光学的に接続することであって、光学接続システムがスループットレベルを有する第２の分光器を光学接続システムに光学的に接続すること、光学接続システムを通じて第１の光源からの光を受けること、及び、光学接続システムのスループットレベルに応じて第２の分光器のキャリブレーションを変えること、をさらに含む請求項１に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項１１】
光学接続システムは、光ファイバをさらに含み、光ファイバの空間的構造を記録することをさらに含む請求項１０に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項１２】
第３の光源に対して第２の分光器のキャリブレーションを微調整することをさらに含む請求項１０に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項１３】
第３の光源に対して第２の分光器のキャリブレーションを微調整することは、プロセスチャンバの内部を見るためにプロセスチャンバ内に配置されるビューポートウィンドウに光学接続システムを光学的に接続すること、第２の分光器で第３の光源からの光を受けること、第３の光源に関するスペクトル情報に対して第２の分光器のキャリブレーションを調整することを含む請求項１２に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項１４】
第３の光源は、単独のスペクトル波長で光を放射する請求項１３に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項１５】
第３の光源は、複数のスペクトル波長で光を放射する請求項１３に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項１６】
プロセスチャンバの内部に第３の光源を配置することをさらに含む請求項１１に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項１７】
プロセスチャンバは、プロセスチャンバの内部に沿って配置される光チャンバをさらに含み、プロセスチャンバの光チャンバ内で第３の光源を配置することをさらに含む請求項１３に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項１８】
プロセスチャンバの内部でプラズマ及び反応物から第３の光源を保護することをさらに含む請求項１７に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項１９】
プロセスチャンバの内部を見るためにプロセスチャンバに配置されるビューポートウィンドウに光学接続システムを光学的に接続することは、第２の分光器のキャリブレーション中に光ファイバの空間的構造に基づいて光ファイバを空間的に構成すること、をさらに含む請求項１３に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項２０】
第２の光源に対する第２の分光器のキャリブレーションを微調整することをさらに含む請求項１に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項２１】
第３の光源に対する第２の分光器のキャリブレーションを微調整することは、プロセスチャンバの内部を見るためにプロセスチャンバに配置されるビューポートウィンドウに第２の分光器を光学的に接続すること、第２の分光器で第３の光源からの光を受けること、第３の光源に関するスペクトル情報に対する第２の分光器のキャリブレーションを調整することを含む請求項２０に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項２２】
第２の光源は、１以上のスペクトル波長で光を放射する請求項２１に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項２３】
プロセスチャンバの内部に第２の光源を配置することをさらに含む請求項２２に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項２４】
プロセスチャンバは、プロセスチャンバの内部に沿って配置される光チャンバをさらに含み、プロセスチャンバの光チャンバ内に第２の光源を配置することをさらに含む請求項２３に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項２５】
測定安定性の所定のレベルに基づいて第１の分光器を選択することをさらに含む請求項１に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項２６】
既知のスペクトル強度を有する第２の光源に対して第１の分光器を検査することは、ビューポートウィンドウに関するビューアングル内で既知のスペクトル強度を有する第２の光源を配置すること、及びプロセスチャンバの内部を見るためにプロセスチャンバに配置されるビューポートウィンドウに第２の分光器を光学的に接続することをさらに含む請求項５に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項２７】
ビューポートウィンドウに関するビューアングル内で第１の光源を配置すること、及びプロセスチャンバの内部を見るためにプロセスチャンバに配置されるビューポートウィンドウに第２の分光器を光学的に接続することをさらに含む請求項２６に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項２８】
第１の及び第２の分光器が第１の光源からの光を同時に受ける請求項２７に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項２９】
プロセスチャンバは、プロセスチャンバの内部に沿って配置される光チャンバをさらに含み、プロセスチャンバの光チャンバ内に第１の光源と第２の光源のうちの１つを配置することをさらに含む請求項２７に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項３０】
プロセスチャンバの内部のプラズマ及び反応物から第１の光源と第２の光源のうちの１つを保護することをさらに含む請求項２９に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項３１】
プロセスチャンバは、プロセスチャンバの内部に沿って配置される光チャンバをさらに含み、プロセスチャンバの光チャンバ内に第１の光源と第２の光源のうちの１つを配置することをさらに含む請求項２７に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項３２】
第２の光源に対する第１の分光器のキャリブレーションを検証することをさらに含む請求項４に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項３３】
第２の光源に対する第１の分光器のキャリブレーションを検証することは、所定の期間又は所定の測定数のうちの１つを検出すること、第１の分光器で第２の光源からの光を受けること、第１の分光器で第２の光源からの光を受けることに応じて検査されたスペクトル情報をつくり出すこと、及び、第１の分光器によってつくり出される検査されたスペクトル情報を第２の光源の既知のスペクトル強度と比較すること、をさらに含む請求項３２に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項３４】
第１の分光器を第１の光学接続システムに光学的に接続すること、第１の光学接続システムを通じて第１の光源からの光を受けること、第１の分光器で第１の光学接続システムを通じて第１の光源からの光を受けることに応じて第１のスペクトル情報をつくり出すこと、第２の光学接続システムに第２の分光器を光学的に接続すること、第２の光学接続システムを通じて第１の光源からの光を受けること、第２の分光器で第２の光学接続システムを通じて第１の光源からの光を受けることに応じて第２のスペクトル情報をつくり出すこと、第２の光学接続システムに第１の分光器を光学的に接続すること、第２の光学接続システムを通じて第１の光源からの光を受けること、第１の分光器で第２の光学接続システムを通じて第１の光源からの光を受けることに応じて第３のスペクトル情報をつくり出すこと、第２の分光器を第１の光学接続システムに光学的に接続すること、第１の光学接続システムを通じて第１の光源からの光を受けること、第２の分光器で第１の光学接続システムを通じて第１の光源からの光を受けることに応じて第４のスペクトル情報をつくり出すこと、をさらに含み、第１の分光器によってつくり出される検査されたスペクトル情報に対して第２の分光器を検査することは、第１のスペクトル情報及び第３のスペクトル情報を、第２のスペクトル情報及び第４のスペクトル情報と比較することをさらに含む請求項４に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項３５】
第１のスペクトル情報及び第３のスペクトル情報を、第２のスペクトル情報及び第４のスペクトル情報と比較することは、第１のスペクトル情報と第３のスペクトル情報との第１の生成物と、第２のスペクトル情報と第４のスペクトル情報との第２の生成物とを見つけること、及び第２の生成物に対する第１の生成物の比率をさらに含む請求項３４に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項３６】
第１の及び第２の光学接続システムが光ファイバを含む請求項３５に記載のキャリブレーションのための方法。
【請求項３７】
障害検出及びプロセスモニタリングのために使用される放射分析光学モニタリングシステムを検査するためのシステムであって、参照光源と、参照光源に光学的に接続される参照分光器であって、参照光源からの光を受けるために適合される光学ポート、参照分光器によってつくり出される生のスペクトル強度情報を、局所的な一次標準キャリブレーション光源についての生のスペクトル強度情報に対する局所的な一次標準キャリブレーション光源についての既知のスペクトル強度情報の比較に基づいて検査された強度情報に変換するための計算電子機器、及び参照分光器によってつくり出される検査されたスペクトル強度情報を出力するために適合される出力ポートを含む参照分光器と、参照光源に光学的に接続される第２の分光器であって、参照光源からの光を受けるための光学ポート、参照分光器によってつくり出される検査されたスペクトル強度情報を受けるための入力ポート、及び、参照分光器から受ける検査された強度情報と第２の光源について第２の分光器によってつくり出される生のスペクトル強度情報との比較に基づいて、第２の分光器によってつくり出される生のスペクトル強度情報を、検査された強度情報に変換するための計算電子機器を含む第２の分光器と、を含むシステム。
【請求項３８】
局所的な一次標準キャリブレーション光源であって、複数の既知のスペクトル強度を有する局所的な一次標準キャリブレーション光源をさらに含む請求項３７に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項３９】
局所的な一次標準キャリブレーション光源の帯域幅が、参照分光器についてのスペクトル範囲を含む請求項３８に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項４０】
既知の標準に対してトレース可能である応答を伴う検査された光検出器をさらに含む請求項３７に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項４１】
局所的な一次標準キャリブレーション光源は、参照分光器についてのスペクトル範囲を含む請求項４０に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項４２】
少なくとも部分的にプロセス容積を囲む複数の壁部を含み、外部表面と内部表面を有するビューポートウィンドウであって、プロセスチャンバの壁部の１つに沿って配置されるビューポートウィンドウを含むプラズマチャンバ、及び光学接続システムであって、第２の分光器及びプラズマチャンバにおけるウィンドウに接続される光学接続システム、をさらに含む請求項３７に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項４３】
プラズマチャンバは、プロセスチャンバの壁部の１つに沿って配置される光チャンバであって、ビューポートウィンドウで見ることが可能な光チャンバをさらに含み、光源が光チャンバ内に配置される請求項４２に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項４４】
光チャンバは、キャリブレーション光源をプロセス容積から分離させるために光チャンバとプロセスチャンバのプロセス容積との間に配置される光チャンバウィンドウをさらに含む請求項４３に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項４５】
光チャンバは、チャンバウィンドウの少なくとも一部を選択的に覆うために光チャンバウィンドウとプロセスチャンバのプロセス容積との間に配置されるシャッタをさらに含む請求項４４に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項４６】
光チャンバは、プラズマチャンバの内部におけるキャリブレーション光源からの光のイメージを投影するための光学要素をさらに含む請求項４５に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項４７】
キャリブレーション光源からの光を受けるためにビューポートウィンドウに光学的に接続される参照分光器、及び、検査されたスペクトル強度情報を受けるために参照分光器に電気的に接続され、検査されたスペクトル強度情報を検査されたスペクトル強度情報に変換する補正係数を決定するため、及び、補正係数を分光器に送るために分光器に電気的に接続されるキャリブレーションモジュール、をさらに含む請求項３７に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項４８】
第２の分光器と参照光源との間に接続される光学接続システムをさらに含む請求項３７に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項４９】
第２の分光器の間に接続される統合球光学接続システム、及び参照分光器と参照光源との間に接続される統合球光学接続システムをさらに含む請求項３７に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項５０】
統合球接続システムは、参照光源に接続される第１の光学ポート、及び第２の分光器と参照分光器のうちの１つに接続される第２の光学ポートをさらに含む請求項４８に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項５１】
障害検出及びプロセスモニタリングシステムのために使用される放射分析光学モニタリングシステムを検査するためのシステムであって、プロセス容積を少なくとも部分的に囲む複数の壁部、外部表面及び内部表面を有するビューポートウィンドウであって、プロセスチャンバの壁部の１つに沿って配置されるビューポートウィンドウ、及び、キャリブレーション光源であって、ビューポートウィンドウで目に見えるキャリブレーション光源、及びキャリブレーション光源からの光を受けるためにビューポートウィンドウに光学的に接続される分光器、を含むキャリブレーションのためのシステム。
【請求項５２】
プロセスチャンバの壁部の１つに沿って配置される光チャンバであって、ビューポートウィンドウで見ることが可能な光チャンバをさらに含み、キャリブレーション光源が光チャンバ内に配置される請求項５１に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項５３】
プロセス容積からキャリブレーション光を分離するために光チャンバとプロセスチャンバのプロセス容積との間に配置される光チャンバウィンドウをさらに含む請求項５２に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項５４】
光チャンバウィンドウの少なくとも一部を選択的に覆うために光チャンバウィンドウとプロセスチャンバのプロセス容積との間に配置されるシャッタをさらに含む請求項５３に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項５５】
プロセスチャンバのプロセス容積内でキャリブレーション光源からの光のイメージを投影するために、キャリブレーション光源と光チャンバウィンドウとの間に配置される結像光学系をさらに含む請求項５３に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項５６】
結像光学系は、凹面鏡及び収束レンズのうちの１つである請求項５５に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項５７】
光源を配列するためにプロセス容積内に配置される位置決めジグであって、キャリブレーション光源に機械的に接続される位置決めジグをさらに含む請求項５１に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項５８】
キャリブレーション光源は、米国国立標準技術研究所（ＮＩＳＴ）に対してトレース可能である複数の既知のスペクトル強度を放射する請求項５１に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項５９】
キャリブレーション光源からの光を受けるためにビューポートウィンドウに光学的に接続される参照分光器、及び分光器に検査されたスペクトル強度情報を与えるために分光器に接続されるデータをさらに含む請求項５１に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項６０】
キャリブレーション光源からの光を受けるためにビューポートウィンドウに光学的に接続される参照分光器、及び、検査されたスペクトル強度情報を受けるために参照分光器に電気的に接続され、検査されたスペクトル強度情報を検査されたスペクトル強度情報に変換する補正係数を決定するため、及び、補正係数を分光器に送るために分光器に電気的に接続されるキャリブレーションモジュール、をさらに含む請求項５１に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項６１】
プロセスチャンバは、ビューポートウィンドウで定められるウィンドウチャンバ、プロセスチャンバの壁部の１つの一部、及びマルチチャンネルアレイ、ウィンドウチャンバに対してプロセスチャンバの壁部の１つを横切るウィンドウチャンバ進入ポート、をさらに含み、マルチチャンネルアレイは、空気圧的にウィンドウチャンバ内のウィンドウチャンバ圧力を、閉じ込められた圧力から分離するための内部表面と外部表面とを有する本体、及び、所定数のチャンネルを含み、所定数のチャンネルのそれぞれが、内端部及び外端部、チャンネル直径及び内端部と外端部の間のチャンネル長さを伴う断面形状を有し、前記チャンネル直径、前記チャンネル長さ、及び前記所定数のチャンネルの少なくとも１つが、所定数のチャンネルにわたる圧力差とともに、所定数のチャンネルを横切る流速を確立することに関係づけられる請求項５１に記載のキャリブレーションのためのシステム。
【請求項６２】
プロセスチャンバは、ビューポートウィンドウで定められるウィンドウチャンバ、プロセスチャンバの壁部の１つの一部、及びマルチチャンネルアレイ、ウィンドウチャンバに対してプロセスチャンバの壁部の１つを横切るウィンドウチャンバ進入ポート、をさらに含み、マルチチャンネルアレイは、空気圧的にウィンドウチャンバ内のウィンドウチャンバ圧力を、閉じ込められた圧力から分離するための内部表面と外部表面とを有する本体、及び、所定数のチャンネルを含み、所定数のチャンネルのそれぞれが、内端部及び外端部、チャンネル直径及び内端部と外端部の間のチャンネル長さを伴う断面形状を有し、前記チャンネル直径、前記チャンネル長さ、及び前記所定数のチャンネルの少なくとも１つが、所定数のチャンネルにわたる圧力差とともに、所定数のチャンネルを横切る流速を確立することに関係づけられる請求項４２に記載のキャリブレーションのためのシステム。