【手続補正書】
【提出日】平成23年10月4日(2011.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
また、図６Ａは、新たな種類のウエハのための初期セットアップ時、または、メニスカス処理の即時中断時に用いる装置１０９の一実施形態を示す。各対応する（上側および下側）近接ヘッド１１０は、キャリア１３０に対して横傾斜および縦傾斜の両方を調整するのに有用な物理的パラメータＰＨＰの一実施形態を備えるよう構成される。調整のために、例示の上側近接ヘッド１１０は、軌道１７４によって案内されるキャリア１３０に対するヘッドの姿勢調整を可能にするために、調整器１６３のアレイ１６２を備えるよう構成される。アレイ１６２の実施形態について、まず横傾斜に関して説明し、次いで、縦傾斜に関して説明する。図６Ａは、調整器１６３を含むよう構成されたアレイ１６２による近接ヘッド１１０の横傾斜および縦傾斜の調整のための一般的なレイアウトを示す。調整器１６３−１および１６３−２が、近接ヘッド１１０の反対面１７９−１および１７９−２上に取り付けられており、図に示すように、レール１７２−１に沿ってＸ方向に離間されている。さらに、調整器１６３−３および１６３−４が、近接ヘッド１１０の反対面１７９−１および１７９−２上にそれぞれ取り付けられており、図に示すように、反対側のレール１７２−１に沿ってＸ方向に離間されている。図６Ｂは、各調整器１６３が、軌道１７４のレール１７２（例えば、１７２−１および１７２−２）の間に伸びるフレーム１７６上に取り付けられることを示している。調整器１６３−１および１６３−３は、ヘッド１１０の−Ｘ側にあり、調整器１６３−２および１６３−４は、ヘッド１１０の＋Ｘ側にある。調整器１６３−１および１６３−２は、同じように動作して、（例えば、横傾斜調整のために）、キャリア１３０の平面１３４に対してヘッド１１０のサイド１７８−１を一緒に上げる、または、一緒に下げるように構成されている。調整器１６３−３および１６３−４は、同じＺ方向で同じように動作して、（例えば、横傾斜調整のために）、キャリア１３０の平面１３４に対してヘッド１１０の反対サイド１７８−２を一緒に上げる、または、一緒に下げるように構成されている。調整器１６３−１および１６３−３は、同じＺ方向で同じように動作して、（例えば、縦傾斜調整のために）、一方の面１７９−１を一緒に上げる、または、下げることにより、キャリア１３０の平面１３４に対するヘッド１１０の姿勢を変えるように構成されている。調整器１６３−１および１６３−４は、同じＺ方向で同じように動作して、（例えば、縦傾斜調整のために）、反対側の面１７９−２を一緒に上げる、または、下げることにより、キャリア１３０の平面１３４に対するヘッド１１０の姿勢を変えるように構成されている。例示の４つの調整器１６３は、さらに、横傾斜および縦傾斜の両方を組み合わせた調整を行うよう構成される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
後傾の姿勢（ヘッド１１０の前面１７９−２が後面１７９−１に対して上がっている縦傾斜を示す図３Ｂを参照）を調整する一例として、図６Ａによると、調整器１６３−２および１６３−４を両方とも下に移動させることによって、ヘッド１１０の＋Ｘ側の前縁部１７９−２を下げて、キャリア１３０に対するヘッド１１０の傾斜を変えることができる。これにより、後傾の姿勢を変えて、例えば、図２Ｄに示した望ましい傾斜にすることができる。別の姿勢では、追加の調整が必要になる場合もある。例えば、図３Ｂの後傾の傾斜を変えるために、調整器１６３−２および１６３−４の上述の下方移動に加えて、調整器１６３−１および１６３−３を両方とも上に移動させることによって、ヘッド１１０の−Ｘ側の後縁部１７９−１を上げることができる。これらの調整は、例えば、ギャップ１０１Ｕ−１ないし１０１Ｕ−４を一様にして、ギャップ１０１Ｄ（図２Ｄ）を有する一様なギャップ状態にすることによって、キャリア平面１３４およびヘッド平面１１４の相対的な傾斜を変えることができる。反対向きの縦傾斜（すなわち、前傾）では、調整器１６３を反対向きに調整する必要がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
アレイ１６２の調整器の別の具体的な構成を、調整器１６３−Ａ１として図６Ｃに示す。図６Ｃは、横傾斜または縦傾斜の調整のためにキャリア１３０に対してヘッド１１０を調整するための物理的パラメータを有するよう構成されたヘッド１１０を示す。すなわち、物理的パラメータは、キャリア１３０の平面１３４と近接ヘッド１１０の平面１１４との間の相対姿勢である。図６Ｂに関して上述したように、説明の簡単のため、調整器１６３−Ａ１の図６Ｃの実施形態は、サイド１７８−１および一方の縁部１７９−１に関してのみ図示されている。調整器１６３−Ａ１は、各サイド１７８および各縁部１７９に、すなわち、図６Ａの調整器１６３として示すように、提供されてよいことを理解されたい。セットアップ時に、調整器１６３−Ａ１は各々、プログラム１５０Ｓを通して、セットアップ信号１４０に直接応答しうる。図６Ｃは、図６Ｂのユニット１８０−１の代わりに、代表的なユニット１８０の一実施形態（ユニット１８０−２と呼ぶ）を備えるよう構成された調整器１６３−Ａ１を示す。ユニット１８０−２は、信号１５３のデータ１５４−３に応じて、ピストン１６３−Ｐがシリンダ１６３−Ｃの中で移動する空気圧式調整器を備えるよう構成されてよい。シリンダ１６３−Ｃは、フレーム１７６に取り付けられてよく、ピストン１６３−Ｐは、キャリア１３０に対するヘッド１１０のサイド１７８−１および縁部１７９−１の垂直位置を調整するために、ヘッド１１０に固定されてよい。図６Ａおよび６Ｂに関して説明した横傾斜および縦傾斜の調整と同様に、サイド１７８−１および縁部１７９−１の各々でのユニット１８０−２による調整の量は、セットアップ中に、上述のようにキャリア平面１３４およびウエハ平面１０７の間の相対的な姿勢を調整するように（ここでは、信号１４９のデータ１４０Ｄによって直接的に）制御されてよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
動作２５６は、（ｉ）現在のギャップを指定する較正レシピ、および、（ｉｉ）現在のギャップにおいて安定したメニスカスを確立するために用いる較正済みのプロセスパラメータを特定する。動作２５６が実行されてよく、現在の信号１４８が、表４にリストされたギャップ値を有するギャップ１０１Ｕを表す場合、そのギャップ値に対して、メニスカス１０４が安定するようなメニスカス処理のための一組のプロセスパラメータＮＳＰＰを備えた較正レシピ１５２ＣＡＬが存在する。（表４に例示したような）行列１９０に基づいて、動作２５６において、相関モジュール１８６を実行するプロセッサ１５０は、現在のギャップ１０１Ｕに対応するギャップ値を有する較正レシピ１５２ＣＡＬを特定する。特定されたレシピ１５２ＣＡＬに対して、モジュール１８６は、対応するＮＳＰＰを特定する。一実施形態において、動作２５６は、相関モジュール１８６を実行するプロセッサ１５０が、現在のギャップ１０１Ｕ（ギャップ１０１Ｕは、現在の姿勢監視信号１４８によって表される）に対応する較正レシピ１５２ＣＡＬを特定するサブ動作２１６（図８Ｂ）を備えてよい。レシピ１５２ＣＡＬは、現在のギャップ１０１Ｕのギャップ値と等しいギャップ値を指定している。特定されたレシピ１５２ＣＡＬについて、動作２５６は、さらに、サブ動作２１８を備え、対応するＮＳＰＰ、すなわち、レシピ１５２ＣＡＬによって指定されたＮＳＰＰを特定する。対応するＮＳＰＰの特定には、行列１９０を参照してよい。動作２５８の後に、方法は、現行レシピのプロセスパラメータを、特定された較正レシピのプロセスパラメータに自動的に調整する動作２５８に進んでよい。動作２５８において、プロセッサ１５０によってメニスカス安定化プログラム１５０Ｓを実行し、データ１５４を含む信号１５３の形態の出力を得てよい。データ１５４は、特定されたレシピ１５２ＣＡＬによって指定されたＮＳＰＰを、現行レシピ１５２ＣＲの対応するＯＰＰと比較することによって得られる。対応するＮＳＰＰと異なる各ＯＰＰに対して、動作２５８は、修正済みレシピ１５２ＭＲ得て信号１５３として出力できるように、差異を示す定量的調整量（「ＱＡＡ」）を出力する。方法は、動作２６０に進み、特定された較正レシピによって指定されたプロセスパラメータを用いて、ウエハ面のメニスカス処理を継続する。動作２６０において、メニスカス安定化プログラム１５０Ｓは、修正済みレシピ１５２ＭＲを用いて、メニスカス処理１０９ＭＰに修正済みパラメータＰＲＰＭを入力する。メニスカス１０４Ｕがギャップ値ＧＶＤほど望ましくないギャップ値１０１ＧＶＵを有しても、メニスカス１０４Ｕが安定であるように、修正済みパラメータＰＲＰＭが、処理条件を変更することを除けば、プロセス１０９ＭＰは、修正された元のレシピ（すなわち、現行レシピ）１５２ＣＲによって指定されたＯＰＰに応答するのと同様に、修正済みパラメータＰＲＰＭに応答する。一実施形態では、方法は終了してよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
請求項５に記載の装置であって、特定のプロセスパラメータは、
前記流体が前記ギャップに供給される圧力、
前記流体が前記ギャップから収集される圧力、
前記近接ヘッドに対する前記ウエハの移動の速度、
前記近接ヘッドに対する前記ウエハの移動の速度のタイミング、
前記流体が前記ギャップに供給される位置であって、前記メニスカスモニタの位置に対する位置、および、
前記流体が前記ギャップから収集される位置
の内の１または複数である装置。