Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月6日(2011.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２００ＭＨｚを超える動作周波数を有する誘電体装荷アンテナであって、５を超える比誘電率を有しコア外面によって画定される内部容積の大部分を占める固体材料から成る電気絶縁性コアと、前記コア外面上にあるか又は該コア外面に隣接しており少なくとも３対の細長い導電性アンテナ素子を備える３次元アンテナ素子構造とを備え、前記アンテナ素子は、実質的に軸方向に同一の広がりを有し、該アンテナの軸を中心に実質的に均一に離間している、誘電体装荷アンテナ。
【請求項２】
１対のアンテナ素子結合ノードをさらに備え、前記アンテナ素子の各対は、一方のアンテナ素子が前記結合ノードの一方に接続され、他方のアンテナ素子が前記結合ノードの他方に接続され、
前記アンテナ素子構造は、前記アンテナ素子のそれぞれが接続され前記コアの外側面部分を取り巻く共通の相互接続導体を含み、該共通の相互接続導体は、前記アンテナ素子が実質的に等間隔の接続点で接続される導電路を前記コアの周りに画定し、
前記導電路の電気長は、前記動作周波数に対応する整数（１、２、３…）の管内波長と実質的に等しい、請求項１に記載のアンテナ。
【請求項３】
前記共通の相互接続導体は、環状の導電性軌道であり、その両縁が前記コアの前記外側面部分上にある、請求項２に記載のアンテナ。
【請求項４】
前記コアは、中心軸と、該軸に関して横断方向に延びる近位外面部分及び遠位外面部分とを有し、前記外側面部分は、前記近位外面部分と前記遠位外面部分との間に延び、前記アンテナは、前記コアの前記近位外面部分と前記遠位外面部分との間で前記コアを軸方向に貫通して、該コアの前記遠位外面部分上にあるか又は該遠位外面部分に隣接する結合導体によって前記細長いアンテナ素子の第１の端に結合される給電線伝送線路を含む、給電構造をさらに備え、前記共通の相互接続導体は、前記アンテナ素子の第２の端が接続される遠位リムを有する導電性スリーブであり、該スリーブは、前記コアの前記近位外面部分上の導電層によって該近位外面部分で又は該近位外面部分に隣接して前記給電線伝送線路に接続される、請求項２に記載のアンテナ。
【請求項５】
前記細長いアンテナ素子は、実質的に等しい長さである、請求項２〜４のいずれか１項に記載のアンテナ。
【請求項６】
前記アンテナ素子構造は、前記コアの前記外側面部分を取り巻く共通の相互接続導体を含み、前記細長いアンテナ素子はそれぞれ、前記結合ノードのそれぞれに接続される第１の端と、前記共通の相互接続導体に接続される第２の端とを有し、前記コアの前記外側面部分上の前記細長いアンテナ素子の長さは、実質的に等しく、前記共通の相互接続導体によって画定される環状導電路の電気長は、前記動作周波数に対応する整数（１、２、３…）の管内波長と実質的に等しく、
前記細長い素子はそれぞれ、前記コアの前記外側面部分上に導電性軌道を備え、該導電性軌道はそれぞれ、純粋な螺旋を含む、請求項２に記載のアンテナ。
【請求項７】
前記各対の細長いアンテナ素子それぞれが、前記結合ノードのそれぞれに結合される第１の端と、対の他方の細長いアンテナ素子の第２の端に連結される第２の端とを有して、前記軸を中心に概ね対称であり所定の共振周波数を有する導電性ループの少なくとも一部を形成し、前記細長いアンテナ素子対によって形成される前記ループは、前記軸に関して角度分配され、
前記細長いアンテナ素子の前記第２の端は、前記コアを取り巻く前記共通の相互接続導体によって互いに連結されることで、前記素子と前記相互接続導体の共通の環状縁との接続部によって画定されることになり、この縁は、その軸方向位置に関して前記細長いアンテナ素子の各群を通して高さが非単調に変わる、請求項２に記載のアンテナ。
【請求項８】
前記細長いアンテナ素子の対はそれぞれ、前記アンテナの単一の動作周波数内で関連の共振を起こし、
前記細長いアンテナ素子の対の全てが、共通の円偏波共振を形成するように協働し、
前記細長いアンテナ素子はそれぞれ、共通の中心軸を中心に半周する螺旋導電性軌道を含む、請求項１に記載のアンテナ。
【請求項９】
前記結合ノードそれぞれに接続される前記アンテナ素子は、互いに対して横方向に離間して２つの外側素子及び該外側素子間の少なくとも１つの内側素子を有するアンテナ素子群を備え、前記内側素子は、前記外側素子よりも長い電気長を有し、
好ましくは前記内側素子は蛇行縁を有する、請求項２に記載のアンテナ。
【請求項１０】
前記コアは、円筒形であり、シリンダ軸に対して垂直に延びる逆向きの第１の端面部分及び第２の端面部分を有し、前記結合ノードはそれぞれ、前記第１の端面部分上に又は該第１の端面部分に隣接して内周部に導電層部分を備え、前記アンテナ素子はそれぞれ、前記第１の端面部分上の又は該第１の端面部分に隣接する半径方向に延びる各結合導体によって、前記導電層部分のいずれかに接続され、
前記導電層部分はそれぞれ、定半径弧状外縁を有し、前記軸に対して少なくとも１０５度の角度を定める、請求項２または９に記載のアンテナ。
【請求項１１】
前記アンテナ素子構造は、前記コアの外側面部分を取り巻く共通の相互接続導体を含み、前記細長いアンテナ素子はそれぞれ、前記結合ノードのそれぞれに接続される第１の端と、前記共通の相互接続導体の縁に接続される第２の端とを有し、前記アンテナは、中心軸を有し、前記細長いアンテナ素子の前記第１の端は、前記軸に対して垂直な第１の平面内にあり、前記共通の相互接続導体の前記縁は、前記第１の平面と平行で該第１の平面から離間している第２の平面の両側に延びる非平面状の経路をたどり、該経路は、第１の端が前記結合ノードのそれぞれに接続されているアンテナ素子の各群の前記アンテナ素子同士の間で第１の方向に傾斜するか又は徐々に段差が付けられ、且つ群間で逆方向に傾斜するか又は段差が付けられるという点で、非平面状であり、各群の前記アンテナ素子は、前記軸を中心とした１つの回転方向で長さが漸増する、請求項２に記載のアンテナ。
【請求項１２】
前記アンテナ素子構造は、奇数対の前記細長い導電性アンテナ素子を備える、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のアンテナ。
【請求項１３】
各対の前記細長い導電性アンテナ素子は、２つの横方向に対向したアンテナ素子群を形成するように、前記アンテナの前記軸を挟んで互いに対して横方向に対向しており、各群が、対応する奇数のアンテナ素子を有し、各群の中央アンテナ素子が、該中央アンテナ素子の各側にある同群の前記アンテナ素子にそれぞれ関連する共振周波数間の中間にある周波数で関連の共振を起こす、請求項１２に記載のアンテナ。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載のアンテナと、導電層を有する概ね平面状の回路基板とを含む携帯無線通信端末であって、前記層は、前記アンテナ素子構造に隣接する縁を有し、軸に関して前記コアから概ね半径方向外方に延びる、携帯無線通信端末。
【請求項１５】
前記導電層は、前記アンテナ軸と概ね平行な平面内にあり、
前記導電層は、前記アンテナ素子構造の３ｍｍ以内まで延びる接地平面導体である、請求項１４に記載の携帯無線通信端末。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月9日(2011.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線送受信ユニット（ＷＴＲＵ）によって実行される、サービングセルから少なくとも１つの隣接セルのうちの１つの隣接セルを再選択する方法であって、
前記ＷＴＲＵが加入している第１のサービスにセルが対応することができないことを示すシステム情報メッセージを受信するステップと、
前記システム情報メッセージによって示されるセルを、セルの再選択から除外するステップと
を備えたことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記システム情報メッセージは、通信ネットワークから受信することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ＷＴＲＵが取得を望んでいる第２のサービスに第２のセルが対応することができないことを示す第２のシステム情報メッセージを受信するステップと、
前記第２のシステム情報メッセージによって示される第２のセルを、セルの再選択から除外するステップと
をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
無線送受信ユニット（ＷＴＲＵ）であって、
前記ＷＴＲＵが加入している第１のサービスにセルが対応することができないことを示すシステム情報メッセージを受信するよう構成される受信機と、
前記第２のシステム情報メッセージによって示される第２のセルを、セルの再選択から除外するよう構成されるプロセッサと
を備えたことを特徴とするＷＴＲＵ。
【請求項５】
前記システム情報メッセージは、通信ネットワークから受信することを特徴とする請求項４に記載のＷＴＲＵ。
【請求項６】
前記受信機は、前記ＷＴＲＵが取得を望んでいる第２のサービスに第２のセルが対応することができないことを示す第２のシステム情報メッセージを受信するようさらに構成され、
前記プロセッサは、前記第２のシステム情報メッセージによって示される第２のセルを、セルの再選択から除外するようさらに構成されることを特徴とする請求項４に記載のＷＴＲＵ。
【請求項７】
無線送受信ユニット（ＷＴＲＵ）によって実行される、セルを再選択する方法であって、
複数の隣接セルを含むリストを通信ネットワークから受信するステップと、
セルにおけるキャンプの許可の指示を含むシステム情報メッセージを受信するステップと、
前記キャンプの許可が与えられないという条件にもとづいて、前記リストを更新するステップと
を備えたことを特徴とする方法。
【請求項８】
前記リストはブラックリストであり、
セルの再選択をするとき、前記リストに含まれるセルを除外するステップ
をさらに備えたことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記リストはブラックリストであり、
前記セルにおけるキャンプの許可が与えられないという条件で、前記セルを前記ブラックリストに追加するステップ
をさらに備えたことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
受信機であって、
複数の隣接セルを含むリストを通信ネットワークから受信し、
セルにおけるキャンプの許可の指示を含むシステム情報メッセージを受信する
よう構成された受信機と、
前記キャンプの許可が与えられないという条件にもとづいて、前記リストを更新するよう構成されたプロセッサと
を備えたことを特徴とする無線送受信ユニット（ＷＴＲＵ）。
【請求項１１】
セルの再選択をするとき、前記リストに含まれる前記複数の隣接セルを除外するようさらに構成されることを特徴とする請求項１０に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１２】
前記セルにおけるキャンプの許可が与えられないという条件で、前記セルをブラックリストに追加するようさらに構成されることを特徴とする請求項１０に記載のＷＴＲＵ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月13日(2011.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤレス送受信ユニット（ＷＴＲＵ）であって、
周波数リソースブロックのＮグループのそれぞれについてのチャネル品質の指標（ＣＱＩ）を決定するように構成されたプロセッサを備え、
前記周波数リソースブロックのＮグループは、ダウンリンク帯域幅を分割し、
前記プロセッサは、Ｎのチャネル品質インジケータのそれぞれを異なる報告送信時間間隔（ＴＴＩ）の中で送信するように構成される、ことを特徴とするワイヤレス送受信ユニット（ＷＴＲＵ）。
【請求項２】
前記報告送信時間間隔およびその報告送信時間間隔の中で報告される前記周波数リソースブロックのグループは、前記ＷＴＲＵおよびワイヤレスネットワークによって送信より前に知られていることを特徴とする請求項１に記載のＷＴＲＵ。
【請求項３】
前記プロセッサは、対応する周波数リソースブロックについての少なくとも他のレイヤーに対応するチャネル品質インジケータを示す前記Ｎのチャネル品質インジケータの情報のそれぞれと一緒に送信するようにさらに構成されることを特徴とする請求項１に記載のＷＴＲＵ。
【請求項４】
前記報告送信時間間隔のそれぞれの送信は、前記ダウンリンク帯域幅内の前記グループの位置の指標を含まないことを特徴とする請求項１に記載のＷＴＲＵ。
【請求項５】
ワイヤレス送受信ユニット（ＷＴＲＵ）によって、周波数リソースブロックのＮグループのそれぞれについてのチャネル品質の指標（ＣＱＩ）を決定するステップであって、前記周波数リソースブロックのＮグループはダウンリンク帯域幅を分割する、ステップと、
前記ＷＴＲＵによって、Ｎのチャネル品質インジケータのそれぞれを異なる報告送信時間間隔の中で送信するステップと
を備えることを特徴とする方法。
【請求項６】
前記報告送信時間間隔およびその報告送信時間間隔の中で報告される前記周波数リソースブロックのグループは、前記ＷＴＲＵおよびワイヤレスネットワークによって送信より前に知られていることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
対応する周波数リソースブロックについての少なくとも他のレイヤーに対応するチャネル品質インジケータを示す前記Ｎのチャネル品質インジケータの情報のそれぞれと一緒に送信するステップをさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記報告送信時間間隔のそれぞれの送信は、前記ダウンリンク帯域幅内の前記グループの位置の指標を含まないことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項９】
ワイヤレスネットワークノードであって、
Ｎの報告送信時間間隔（ＴＴＩ）で１つのワイヤレス送受信ユニット（ＷＴＲＵ）からチャネル品質の指標（ＣＱＩ）の情報を受信するように構成されたプロセッサおよびレシーバーを備え、
前記Ｎの報告ＴＴＩのそれぞれの前記ＣＱＩの情報は、周波数リソースブロックのＮグループのそれぞれの１つに対応し、
前記周波数リソースブロックのＮグループは、ダウンリンク帯域幅を分割する、ことを特徴とするワイヤレスネットワークノード。
【請求項１０】
それぞれの報告送信時間間隔およびその報告送信時間間隔の中で報告される前記周波数リソースブロックのグループは、前記ワイヤレスネットワークノードによって受信より前に知られていることを特徴とする請求項９に記載のワイヤレスネットワークノード。
【請求項１１】
前記プロセッサは、対応する周波数リソースブロックについての少なくとも他のレイヤーに対応するチャネル品質インジケータを示すＮのチャネル品質インジケータの情報のそれぞれと一緒に受信するようにさらに構成されることを特徴とする請求項９に記載のワイヤレスネットワークノード。
【請求項１２】
前記Ｎの報告ＴＴＩで受信される情報は、前記ダウンリンク帯域幅内の前記グループの位置の指標を含まないことを特徴とする請求項９に記載のワイヤレスネットワークノード。
【請求項１３】
前記プロセッサは、前記Ｎの報告ＴＴＩのそれぞれのＣＱＩ情報から前記Ｎグループの全てについてのＣＱＩを決定するようにさらに構成されることを特徴とする請求項９に記載のワイヤレスネットワークノード。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
ハイブリッドＢｅｓｔ−Ｍ差分（hybrid best-M differential）に指定されている、第１の実施形態内の代替スキームは、必要とされるオーバーヘッドをさらに低減することができる。代替スキームにおいて、前述のハイブリッドｂｅｓｔ  Ｍスキームにおけるように、Ｑ個の位置指標を送信して、１個は、ｂｅｓｔ−Ｍのサブバンド用であり、およびＱ−１個は、Ｑ個のグループのうちのＱ−１個のグループの帯域用である。しかしながら、代替スキームにおいて、Ｑ個のグループに順序付けをし、およびＱ個のグループのうちの第１のグループに対する第１の品質メトリックの平均値の１つだけを報告する。残りのＱ−１個の第１の平均値を、各々の平均値と、順序において先行する平均値との差として、各々報告する。第２の平均値を、第２の平均値と、最後の第１の平均値との差として、報告する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月14日(2011.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学アセンブリと、
前記光学アセンブリと、前記光学アセンブリに対して移動する物体との間の空間に液浸液体を供給する液浸部材と、
前記液浸液体と接触可能な第一面を具備し、前記光学アセンブリと前記物体との間に供給された前記液浸液体に対して挿入される挿入部材と、を備え、
前記液浸液体中に挿入された前記挿入部材は、前記光学アセンブリと前記第一面との間で前記液浸液体を維持するリソグラフィック投影装置。
【請求項２】
前記挿入部材を、前記光学アセンブリと前記物体との間の前記空間に対して挿入し、又は前記挿入部材を当該空間から外へ移動する制御系を備え、
前記制御系は、前記光学アセンブリと前記物体との間に前記液浸液体が維持されているときは、前記挿入部材を前記物体及び前記光学アセンブリと分離して離れた位置に退避させる請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記物体は、基板、前記基板を載置する基板テーブル、又は前記基板及び前記基板テーブルの両方を含み、
前記基板又は前記基板テーブルが前記光学アセンブリ下の位置から離れる際に、前記基板又は前記基板テーブルと前記光学アセンブリとの間に前記挿入部材が挿入されて前記第一面と前記光学アセンブリとの間に前記液浸液体が維持される請求項１又は２に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項４】
前記挿入部材のうち前記光学アセンブリと対向する面には、前記液浸液体に対する親液処理又は撥液処理がなされている請求項１〜３のいずれか一項に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項５】
前記挿入部材のうち前記物体と対向する面には、前記液浸液体に対する撥液処理がなされている請求項１〜４のいずれか一項に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項６】
前記液浸部材によって維持される前記液浸液体は、前記基板の露光中に、前記基板表面の局所的な領域を覆う請求項１〜５のいずれか一項に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項７】
前記制御系を含む環境システムを備え、
前記環境システムは、前記基板が前記光学アセンブリから離れて移動するときに、前記挿入部材と、前記物体との間に存在する液浸液体を除去する除去部材をさらに備える請求項１〜６のいずれか一項に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項８】
前記基板テーブルを含む第１ステージアセンブリと、
前記基板と異なる第２基板を支持する第２基板テーブルを含む第２ステージアセンブリと、
前記第１ステージアセンブリ及び前記第２ステージアセンブリの移動を制御して、前記第１ステージアセンブリ及び前記第２ステージアセンブリを、交互に、前記光学アセンブリ下に位置付けする制御系と、をさらに備える請求項３に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項９】
前記第１ステージアセンブリ又は前記第２ステージアセンブリのうちの一方に支持される前記基板テーブルが前記光学アセンブリの下に位置する第１状態から、他方に支持される前記基板テーブルが前記光学アセンブリの下に位置する第２状態に移行する間、前記挿入部材を用いて、前記液浸液体を前記光学アセンブリの下に維持する請求項８に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項１０】
前記液浸部材に形成された回収口より前記物体と前記挿入部材との間に存在する液浸液体を回収する請求項１〜９のいずれか一項に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項１１】
前記基板テーブルに形成された回収口より前記物体と前記挿入部材との間に存在する液浸液体を回収する請求項３、８及び９のいずれか一項に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項１２】
前記挿入部材に形成された回収口より前記物体と前記挿入部材との間に存在する液浸液体を回収する請求項１〜１１のいずれか一項に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項１３】
前記物体が前記光学アセンブリ下から離れる前に、前記物体と前記挿入部材との間に存在する液浸液体を除去する請求項１〜１２のいずれか一項に記載のリソグラフィック投影装置。
【請求項１４】
光学アセンブリと前記光学アセンブリと対向する物体との間の空間に液浸液体を供給すること、
第一面を具備する挿入部材を前記光学アセンブリと前記物体との間の空間内に挿入して前記光学アセンブリと前記挿入部材の前記第一面との間で前記液浸液体を維持すること、
前記光学アセンブリ及び前記液浸液体を介して基板を露光すること、を含むデバイス製造方法。
【請求項１５】
前記物体と前記挿入部材との間に存在する液浸液体を除去することをさらに含む請求項１４に記載のデバイス製造方法。
【請求項１６】
前記物体と前記挿入部材との間に存在する前記液浸液体を除去した後に、前記基板を新たな第２基板と交換することを含む請求項１５に記載のデバイス製造方法。
【請求項１７】
前記物体は、前記基板及び前記基板を載置する基板テーブルを含む請求項１５又は１６に記載のデバイス製造方法。
【請求項１８】
前記挿入部材のうち前記光学アセンブリと対向する面には、前記液浸液体に対する親液処理又は撥液処理がなされている請求項１４〜１７のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項１９】
前記液浸液体を供給する液浸部材に形成された回収口より前記物体と前記挿入部材との間に存在する液浸液体を除去する請求項１４〜１８のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項２０】
前記基板テーブルに形成された回収口より前記物体と前記挿入部材との間に存在する液浸液体を除去する請求項１７に記載のデバイス製造方法。
【請求項２１】
前記挿入部材に形成された回収口より前記物体と前記挿入部材との間に存在する液浸液体を除去する請求項１４〜２０のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項２２】
前記挿入部材のうち前記物体と対向する面には、前記液浸液体に対する撥液処理がなされている請求項１４〜２１のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項２３】
前記光学アセンブリと前記物体との間に前記液浸液体が維持されているときは、前記挿入部材を前記物体及び前記光学アセンブリと分離して離れた位置に退避させる請求項１４〜２２のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項２４】
前記基板又は前記基板テーブルが前記光学アセンブリ下の位置から離れる際に、前記基板又は前記基板テーブルと前記光学アセンブリとの間に前記挿入部材が挿入されて前記第一面と前記光学アセンブリとの間に前記液浸液体が維持される請求項１７に記載のデバイス製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月9日(2011.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不揮発性メモリセル（１２）を備える電子デバイスの製造方法であって、前記製造方法は、
基板（１０）上に電荷ストレージスタック（１２）を形成する電荷ストレージスタック形成工程と；
前記電荷ストレージスタック（１２）上に制御ゲート電極（２４）を形成する制御ゲート電極形成工程と；
前記制御ゲート電極（２４）の形成後に、前記制御ゲート電極（２４）から離間させて、前記基板（１０）上に半導体層（４０）を形成する半導体層形成工程と；
前記半導体層（４０）上に選択ゲート電極（９４）を形成する選択ゲート電極形成工程と
を含む、電子デバイスの製造方法。
【請求項２】
前記製造方法は更に、前記制御ゲート電極（２４）形成工程の後、かつ前記半導体層（４０）形成工程の前に、絶縁スペーサ（３２）を形成する絶縁スペーサ形成工程を含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記絶縁スペーサ（３２）形成工程は、
前記制御ゲート電極（２４）上と前記基板（１０）上に絶縁層（１６）を形成する工程と；
前記絶縁スペーサ（３２）を形成するために、前記絶縁層（１６）を異方的にエッチングする工程と
を含む、請求項２記載の製造方法。
【請求項４】
前記選択ゲート電極（９４）形成工程は、
前記制御ゲート電極（２４）上、前記絶縁スペーサ（３２）上、および前記半導体層（４０）上に、選択ゲート電極層（６４）を形成する工程と；
側壁スペーサ（７４）を形成するために、前記選択ゲート電極層（６４）を異方的にエッチングする工程と；
前記選択ゲート電極（９４）を形成するために、前記側壁スペーサ（７４）の一部を除去する工程と
を含む、請求項２記載の製造方法。
【請求項５】
前記電荷ストレージスタック（１２）形成工程は、
前記基板（１０）上に第１ゲート誘電体層（１２２）を形成する第１ゲート誘電体層形成工程と；
前記第１ゲート誘電体層（１２２）上に互いに不連続な複数の記憶素子（１２４）を形成する工程と
を含む、請求項１記載の製造方法。
【請求項６】
前記製造方法は更に、前記選択ゲート電極（９４）形成工程の前に、前記半導体層（４０）上に前記第１ゲート誘電体層（１２２）よりも薄い第２ゲート誘電体層（５２）を形成する第２ゲート誘電体層形成工程を含む、請求項５記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】複数のチャネル領域を互いに異なる高さに備える電子デバイスの製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月14日(2011.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
量子カスケードレーザーの活性領域に組み込まれる有効な２次非線形感受率（χ(2)）を有する量子カスケードレーザー（ＱＣＬ）であって、第１の周波数ω１における第１の放射、第２の周波数ω２における第２の放射、および第３の周波数ω３＝ω１−ω２における第３の放射を、非線形感受率から生じる差周波数発生（ＤＦＧ）に基づいて発生するように構成されている前記ＱＣＬを含む、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月17日(2011.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像センサであって、
(ａ)基板上に行及び列に配置された複数の画素を備えており、
各画素が、
(i)入射光に反応して電荷を収集する少なくとも一つの感光性領域と、
(ii)前記少なくとも一つの感光性領域から前記電荷を感知し、前記電荷を電圧に変換する電荷・電圧変換ノードと、
(iii)出力ノードに接続されたソースを有し、前記電荷・電圧変換ノードに接続されたゲートを有し、電源ノードの一部に接続されたドレインを有する増幅器トランジスタであって、隣接する列の画素は前記電源ノードの残りの部分に接続されたドレインを有する増幅器トランジスタを含む、増幅器トランジスタと、
(iv)前記出力ノードと前記電荷・電圧変換ノードとを接続するリセットトランジスタと、
を備える、画像センサ。
【請求項２】
各画素が、各感光性領域から前記電荷・電圧変換ノードへ電荷を転送する転送ゲートを含む、請求項１に記載の画像センサ。
【請求項３】
１つの列内の各画素は、前記電荷・電圧変換ノードと、前記リセットトランジスタのリセットゲートと、前記出力ノードと、前記増幅器トランジスタのゲートと、前記電源ノードの一部と、を連続的なこのような空間順で含み、隣接する列内の各画素は、前記電源ノードの残りの部分と、増幅器トランジスタのゲートと、出力ノードと、前記リセットトランジスタのリセットゲートと、電荷・電圧変換ノードと、を連続的なこのような空間順で含む、請求項１に記載の画素センサ。
【請求項４】
前記画素センサは撮像装置内に設けられる、請求項１に記載の画像センサ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月21日(2011.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記磁気還流ジャケット（18）の材料は、イットリウム酸化物を最大２%まで含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の血液ポンプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記磁気還流ジャケット（18）の材料は、銅を最大0.2 %含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の血液ポンプ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記磁気還流ジャケット(18)の材料は、鉄に加えて、以下の成分を含んでいることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の血液ポンプ。
クロム              18.50 %乃至21.50 %
アルミニウム        3.75%乃至5.75%
チタン              0.20%乃至0.60%
炭素                最大0.10%
イットリウム酸化物  0.30%乃至0.70%
銅                  最大0.15%
マンガン            最大0.30%
コバルト            最大0.30%
ニッケル            最大0.50%
燐                  最大0.02%
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月28日(2011.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流動床で液体と固体を互いに混ぜ合わせ、生成された溶液を浄化して、浄化した溶液を反応炉から排出する混合反応炉であって、該反応炉は３つの部分で構成され、該３つの部分のうち最下部は流動床を形成する基本的に円筒状の反応部であり、該反応部の上部には上方に向けて円錐状に広がる沈静化部が取り付けられ、後者の上部には円筒状の浄化部が結合され、該浄化部の直径は沈静化部の上層部分と同じである混合反応炉において、前記反応部の下層部は溶液供給接合部を備え、前記浄化部は液体表面下に配設された溶液排出部を有し、該排出部の排出開口部は基本的に前記反応炉の中心軸上に設けられ、溶液流を案内する少なくとも１つの案内要素が前記排出開口部の付近に配設されることを特徴とする混合反応炉。
【請求項２】
請求項１に記載の混合反応炉において、前記液体を前記反応炉に供給する前記供給接合部は斜め下方に向けられていることを特徴とする混合反応炉。
【請求項３】
請求項１に記載の混合反応炉において、前記浄化済み溶液の排出部は斜め下方に向けられていて、前記溶液流を案内する前記案内要素は、前記排出開口部の周辺に設けられた環状の流動障害板であることを特徴とする混合反応炉。
【請求項４】
請求項３に記載の混合反応炉において、前記流動障害板は平坦であることを特徴とする混合反応炉。
【請求項５】
請求項３に記載の混合反応炉において、前記流動障害板は上向きの円錐形であることを特徴とする混合反応炉。
【請求項６】
請求項３に記載の混合反応炉において、前記流動障害板の外径は前記反応部の直径T1より20〜30％大きいことを特徴とする混合反応炉。
【請求項７】
請求項１に記載の混合反応炉において、前記浄化済み溶液排出部は斜め下向きであり、前記溶液流を案内する前記案内要素は、前記排出開口部の周囲に設けられた環状の流動障害板であり、該障害板の上方には前記反応炉の壁から該反応炉の中央に向かう案内リングが設けられていることを特徴とする混合反応炉。
【請求項８】
請求項７に記載の混合反応炉において、前記案内リングは、前記反応炉壁から内側に向けて、前記浄化ゾーンの直径T3の10〜30％程度延びていることを特徴とする混合反応炉。
【請求項９】
請求項１に記載の混合反応炉において、前記浄化済み溶液排出部は上向きであり、前記溶液流を案内する前記案内要素は、前記排出開口部の下方に位置する調整シムであることを特徴とする混合反応炉。
【請求項１０】
請求項１に記載の混合反応炉において、絞りリングが、前記反応ゾーンと前記沈静化ゾーンとの間に、前記反応炉壁から内向きに配されていることを特徴とする混合反応炉。
【請求項１１】
請求項10に記載の混合反応炉において、空隙が前記反応炉壁と前記絞りリングとの間に設けられていることを特徴とする混合反応炉。
【請求項１２】
請求項１に記載の混合反応炉において、前記反応ゾーンはらせん管からなる回転ミキサーを備えることを特徴とする混合反応炉。
【請求項１３】
液体と粉状固体を互いに混ぜ合わせ、生成される溶液を浄化し、浄化した溶液を混合反応炉から除去する方法であって、そのため流動床を前記反応炉の下層部の反応ゾーンに設け、該流動床を液体と固体で形成し、該反応部の上に断面が上に向かって広くなる沈静化ゾーンを設け、該沈静化ゾーンの上に該沈静化ゾーンの上層部と同じ断面積を有する浄化ゾーンを設ける方法において、前記処理される液体を前記反応ゾーンの下層部から供給し、前記浄化ゾーンにおいて上昇する溶液流の断面積を、該溶液が主に該反応炉の中心軸上に配設された排出部から排出される前に、少なくとも１つの案内要素によって拡大させ、該溶液の流速をその断面積の拡大により減速させ、それと同時に、流れに該反応炉の壁付近で逆渦流を形成させ、該渦流に該溶液と共に移動してきた固体粒子を沈降させて前記流動床に戻すことを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項13に記載の方法において、前記処理すべき液体は、前記反応ゾーンの下層部に斜め下方向に供給することを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項13に記載の方法において、前記上昇する溶液流の断面積は、前記排出部の下に設けられた基本的に水平な板状案内要素を用いて拡大させることを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項13に記載の方法において、前記上昇する溶液流の断面積は、前記排出部の周囲に設けられた環状の案内要素を用いて拡大させることを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項13および16に記載の方法において、前記上昇する溶液流の断面積は、前記排出部の周囲および上方に設けられた環状の案内要素を用いて拡大させることを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項17に記載の方法において、前記上昇する溶液流の断面積は、前記排出部の周囲および上方に設けられた環状の案内要素によって拡大させ、そのため、上方に位置する該案内要素は、前記浄化ゾーンの直径T3の10〜30％程度、前記反応炉壁から内側に向かって延びていることを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項13に記載の方法において、前記反応ゾーンの流動床から前記沈静化ゾーンへと上昇する前記溶液流は、流量調節することで安定化させることを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項13に記載の方法において、前記反応ゾーンの流動床を、前記溶液流を混ぜて安定させることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月14日(2011.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
椎骨間インプラント要素であって、この要素が、
隣接する椎骨の皮質性リムと係合するように構成される外面を備え、前記外面は、外面フットプリントを形成し、
椎骨間インサートと係合するように構成される内面を備え、前記内面は、前記外面と対をなし、
前記外面は、３つだけの区別された接触箇所で前記皮質性リムと係合し、前記外面フットプリントは、全体が前記皮質性リム内に合致するようにサイズ合わせされることを特徴とする椎骨間インプラント要素。
【請求項２】
前記外面フットプリントは、凹凸形状であることを特徴とする請求項１に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項３】
前記外面フットプリントは、Ｄ字形の形状であることを特徴とする請求項１に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項４】
前記外面フットプリントは、腎臓形の形状であることを特徴とする請求項１に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項５】
前記外面と皮質性リムとの前記３つの区別された接触箇所は、２つの横前方の箇所と、１つの後方箇所とであることを特徴とする請求項１に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項６】
前記外面は、対向する端部を具備し、これらの端部が２つの横前方の接触箇所を提供していることを特徴とする請求項５に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項７】
前記外面は、更に、少なくとも１つの椎骨係合突起部を具備していることを特徴とする請求項１に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項８】
前記少なくとも１つの椎骨係合突起部は、キールを具備していることを特徴とする請求項７に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項９】
前記キールは、屈曲していることを特徴とする請求項８に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項１０】
前記内面は、一対の器具受入れ切欠部を具備し、前記内面の外側縁部に延びていることを特徴とする請求項１に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項１１】
前記切欠部は、中央内方へ向けて傾斜していることを特徴とする請求項１０に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項１２】
前記切欠部は、その断面が、蟻溝形状になっていることを特徴とする請求項１１に記載の椎骨間インプラント要素。
【請求項１３】
椎骨間インプラントであって、
第１の椎骨と係合するように構成される第１の外面と、第１の内面とを有している第１の部分と、
第２の椎骨と係合するように構成される第２の外面と、第２の内面とを有している第２の部分と、
上面と反対側の下面とを有するインサートと、を有し、
前記第１の部分と前記第２の部分が、互いに対して可動であるように、前記上面は前記第１の内面と係合し、且つ前記下面は前記第２の内面と係合し、
前記第１の外面及び前記第２の外面は、各々、３つだけの区別された接触箇所で、それぞれ第１及び第２の椎骨における隣接する皮質性リムと係合し、前記第１の外面及び前記第２の外面は、各々、前記隣接する皮質性リム内に完全に合致して係合されるように構成されるフットプリントを有することを特徴とする椎骨間インプラント。
【請求項１４】
前記外面における前記フットプリントは、凹凸形状であることを特徴とする請求項１３に記載の椎骨間インプラント。
【請求項１５】
前記外面における前記フットプリントは、Ｄ字形の形状であることを特徴とする請求項１３に記載の椎骨間インプラント。
【請求項１６】
前記外面における前記フットプリントは、腎臓形の形状であることを特徴とする請求項１３に記載の椎骨間インプラント。
【請求項１７】
前記外面におけるそれぞれの前記フットプリントが隣接する皮質性リムと接触する、前記３つの箇所は、２つの横前方の箇所と、１つの後方箇所とであることを特徴とする請求項１３に記載の椎骨間インプラント。
【請求項１８】
前記外面におけるそれぞれの前記フットプリントは、対向する端部を具備し、これらの端部が２つの横前方の接触箇所を提供していることを特徴とする請求項１７に記載の椎骨間インプラント。
【請求項１９】
それぞれの前記外面は、少なくとも１つの椎骨係合突起部を具備していることを特徴とする請求項１３に記載の椎骨間インプラント。
【請求項２０】
それぞれの前記少なくとも１つの椎骨係合突起部は、それぞれの前記外面の長手方向端部に配置された、突起キールを具備していることを特徴とする請求項１９に記載の椎骨間インプラント。
【請求項２１】
それぞれの前記キールは、屈曲していることを特徴とする請求項２０に記載の椎骨間インプラント。
【請求項２２】
それぞれの前記内面は、一対の器具受入れ切欠部を具備し、それの外側縁部に隣接して延びていることを特徴とする請求項１３に記載の椎骨間インプラント。
【請求項２３】
それぞれの前記切欠部は、中央内方へ向けて傾斜していることを特徴とする請求項２２に記載の椎骨間インプラント。
【請求項２４】
それぞれの前記切欠部は、その断面が、蟻溝形状になっていることを特徴とする請求項２３に記載の椎骨間インプラント。
【請求項２５】
前記上面及び前記第１の内面は、前記第１の部分と前記第２の部分が互いに対して移動できる合致する曲面を有することを特徴とする請求項１３に記載の椎骨間インプラント。
【請求項２６】
前記上面及び前記下面の前記曲面は凹面であり、前記第１の内面及び前記第２の内面の前記曲面は凸面であることを特徴とする請求項２５に記載の椎骨間インプラント。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月1日(2011.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自然に存在する包の大きさおよび形状を模倣するように適応された部材を含む、身体の軟組織の損傷を軽減するためのプロテーゼ。
【請求項２】
部材は自然包を模倣する態様で弾性、展性および圧縮性である、請求項１に記載のプロテーゼ。
【請求項３】
回旋腱板の損傷を軽減するように適応されかつそのような大きさである、請求項１または２に記載のプロテーゼ。
【請求項４】
部材は身体内への導入後に拡張可能である、請求項１〜３のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項５】
部材は軟組織と他の組織を分離するように適応され、かつ軟組織の他の組織に対する運動を可能にする、請求項１〜４のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項６】
部材は植込み部位の自然解剖学的特徴に対する相手側部品として動作するように輪郭形成される、請求項１〜５のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項７】
部材は、生体適合性または生物分解性材料の少なくとも１つから形成される、請求項１〜６のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項８】
部材に取り付けられる内腔を有する剛性リングをさらに備え、内腔は部材の内部空間と流体連通する、請求項１〜７のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項９】
植込みの際にプロテーゼを安定させるための少なくとも１つの定着装置をさらに備える、請求項１〜８のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項１０】
少なくとも１つの医薬品を溶出するように適応される、請求項１〜９のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項１１】
プロテーゼの大きさは、拡張したときに長軸に沿った長さが約２ｃｍ〜１０ｃｍ、短軸に沿った長さが約２ｃｍ〜７ｃｍ、高さが約５ｍｍ〜２０ｍｍである、請求項１〜１０のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項１２】
屈筋または伸筋の少なくとも一方に対する損傷を軽減するように適応されかつそのような大きさである、請求項１〜１１のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項１３】
四頭筋と大腿骨との間の損傷を軽減するように適応されかつそのような大きさである、請求項１〜１２のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項１４】
身体の皮膚および足底筋膜と踵骨との間の損傷を軽減するように適応されかつそのような大きさである、請求項１〜１３のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項１５】
損傷は炎症または感染の少なくとも１つである、請求項１〜１４のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項１６】
部材は生分解性材料から形成されたバルーン状構造であり、前記材料はＰＬＡおよびＰＣＡから本質的になる、請求項１〜１５のいずれかに記載のプロテーゼ。
【請求項１７】
部材は部分的に膨張するように適応される、請求項４に記載のプロテーゼ。
【請求項１８】
生体適合性または生物分解性材料の少なくとも１つはＰＣＬ、ＰＧＡ、ＰＨＢ、プラスターチ材、ＰＥＥＫ、ゼイン、ＰＬＡ、ＰＤＯ、ＰＬＧＡ、コラーゲン、またはメチルセルロースからなる群から選択される、請求項７に記載のプロテーゼ。
【請求項１９】
内腔に係止し、それによって部材の内部空間を密閉するように適応されたプラグをさらに備える、請求項８に記載のプロテーゼ。
【請求項２０】
少なくとも１つの定着装置は生体適合性または生物分解性材料の少なくとも１つから形成される、請求項９に記載のプロテーゼ。
【請求項２１】
部材は軟組織の他の組織に対する少なくとも多少の運動を可能にしながら、軟組織の他の組織に対する摺擦を軽減するのに充分なだけ膨張する、請求項１７に記載のプロテーゼ。
【請求項２２】
プラグは生体適合性または生物分解性材料の少なくとも１つから形成される、請求項１９に記載のプロテーゼ。
【請求項２３】
軟組織の他の組織に対する少なくとも多少の運動は充分な運動である、請求項２１に記載のプロテーゼ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月9日(2011.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
喪失歯を修復するための歯科用補綴物において、一側の支台歯を舌側で包むように配置されるキーパーと、他側の支台歯を舌側で包みながら上記キーパーと結合されるベースと、人工歯として作用しながら、上記キーパー及びベースとねじによって結合され、上記一側の支台歯または他側の支台歯を頬側で包むように配置されるボディーとを含むことを特徴とする歯科用補綴物。
【請求項２】
（ａ）患者の口腔内を複製して石こう模型を製造する石こう模型製造段階と、
（ｂ）上記石こう模型を用いて耐火模型を複製する耐火模型製造段階と、
（ｃ）上記耐火模型を用いてキーパーを鋳造して製造するキーパー製造段階と、
（ｄ）上記キーパーの構造に対応するベースを鋳造して製造するベース製造段階と、
（ｅ）上記キーパー及びベースの構造に対応するボディーを鋳造して製造するボディー製造段階とを含んで構成され、
上記ベース及びボディー製造段階は、キーパー、ベース及びボディーを貫通する雌ねじを形成させるための複製用ボルトと、埋没材を注入する時に、複製用ボルトの代わりに用いする鋳造用ボルトが利用されて、最終的にねじ結合用ホールが形成される段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の歯科用補綴物の製造方法。
【請求項３】
ボディーを鋳造するために複製モデルを構成する段階は、
ねじ結合のために、キーパー及びベースの雌ねじに複製用ボルトを圧入する第１段階と、印象を行う第２段階と、硬化後、複製用ボルトとキーパー、ベース及び石こう模型を除去する第３段階と、印象体内面の複製用ボルト位置に鋳造用ボルトを圧入し、鋳造用埋没材を注入して、耐火模型を得た後、ボディー模様に彫刻するためのワックス作業を行う第４段階と、埋没によって鋳造する第５段階とを含むことを特徴とする請求項１〜２のうちの何れか一項に記載の歯科用補綴物の製造方法。
【請求項４】
歯科用補綴物に形成される雌ねじは、圧縮成形されたカーボンと圧縮成形焼結したセラミックスを旋盤研削加工して、カーボンボルトとセラミックス鋳造用ボルトを得た後、これを用いた鋳造によって形成されることを特徴とする請求項８記載の歯科用補綴物の製造方法。
【請求項５】
喪失歯を修復するための歯科用臼歯補綴物であって、一側の支台歯を舌側と頬側で同時に包むように配置されるキーパーと、他側の支台歯を舌側と頬側で包み、人工歯として作用しながら、上記キーパーとねじによって結合されるボディーとを含むことを特徴とする歯科補綴物。
【請求項６】
喪失歯を修復するための歯科用前歯補綴物であって、一側の支台歯を舌側と唇側隣接面を同時に包むように配置されるキーパーと、他側の支台歯を舌側と唇側隣接面で包み、人工歯として作用しながら、上記キーパーとねじによって結合されるボディーとを含むことを特徴とする歯科補綴物。
【請求項７】
喪失歯を修復するための歯科用臼歯補綴物において、一側の支台歯を舌側と頬側で同時に包むように配置されるキーパーと、他側の支台歯を舌側と頬側で包み、人工歯として作用しながら、上記キーパーとねじによって結合されるボディーとを含み、キーパーとボディーの内斜面には、既に支台歯の内斜面に形成された細長な半円錐型の維持部を実質的に複製したキー（ｋｅｙ）をさらに含むことを特徴とする歯科補綴物。
【請求項８】
喪失歯を修復するための歯科用前歯補綴物において、一側の支台歯を舌側と唇側隣接面を同時に包むように配置されるキーパーと、他側の支台歯を舌側と唇側隣接面で包み、人工歯として作用しながら、上記キーパーとねじによって結合されるボディーとを含み、キーパーとボディーの内斜面には、既に支台歯の内斜面に形成された細長な半円錐型の維持部を実質的に複製したキー（ｋｅｙ）をさらに含むことを特徴とする歯科補綴物。
【請求項９】
歯科用補綴物の中、義歯の組立体において、
圧縮成形した後、旋盤加工したカーボンボルト及び圧縮成形した後焼結して、旋盤研削加工したセラミックスボルトと全く同じ模様の金属製の複製用ボルトを製造して、これを用いた鋳造法で、組立体に雌ねじを含む結合部を順次に完全に形状化して、最終的に結合用ボルトが進入する空間を形成する歯科用補綴物の製造方法。
【請求項１０】
歯科用補綴物に形成される雌ねじは、圧縮成形した後、旋盤加工したカーボンボルトと圧縮成形した後焼結して、これを旋盤研削加工したセラミックスボルトを製造して、カーボンボルトとセラミックス鋳造用ボルトを得た後、これを用いた鋳造法によって形成されることを特徴とする歯科用補綴物に雌ねじを形成する方法。
【請求項１１】
喪失歯を修復するための歯科用臼歯補綴物において、一側の支台歯を舌側と頬側で同時に包み、キーパー底部の歯牙喪失部の真ん中に結合部であるメールを有して配置されるキーパーと、他側の支台歯を舌側と頬側で包み、人工歯として作用しながら、上記キーパーのキーパーメールと摩擦抵抗で結合されるボディーフィメールを人工歯の内部に備えたボディーとを含むことを特徴とする歯科補綴物。
【請求項１２】
喪失歯を修復するための歯科用前歯補綴物において、一側の支台歯を舌側と唇側隣接面を同時に包み、キーパー底部の歯牙喪失部の真ん中に結合部であるメールを有して配置されるキーパーと、他側の支台歯を舌側と頬側で包み、人工歯として作用しながら、上記キーのキーパーメールと摩擦抵抗で結合されるボディーフィメールを人工歯の内部に備えたボディーとを含むことを特徴とする歯科補綴物。
【請求項１３】
喪失歯を修復するための歯科用臼歯補綴物において、一側の支台歯を舌側と頬側で同時に包み、キーパー底部の歯牙喪失部の真ん中に結合部であるメールを有して配置されるキーパーと、他側の支台歯を舌側と頬側で包み、人工歯として作用しながら、上記キーパーのキーパーメールと摩擦抵抗で結合されるボディーフィメールを人工歯の内部に備えたボディーとを含み、キーパーとボディーの内斜面には、既に支台歯の内斜面に形成された細長な半円錐型の維持部を実質的に複製したキー（ｋｅｙ）をさらに含むことを特徴とする歯科補綴物。
【請求項１４】
喪失歯を修復するための歯科用前歯補綴物において、一側の支台歯を舌側と唇側隣接面を同時に包み、キーパー底部の歯牙喪失部の真ん中に結合部であるメールを有して配置されるキーパーと、他側の支台歯を舌側と頬側で包み、人工歯として作用しながら、上記キーパーのキーパーメールと摩擦抵抗で結合されるボディーフィメールを人工歯の内部に備えたボディーとを含み、キーパーとボディーの内斜面には、既に支台歯の内斜面に形成された細長な半円錐型の維持部を実質的に複製したキー（ｋｅｙ）をさらに含むことを特徴とする歯科補綴物。
【請求項１５】
上記キーパーのキーパー壁は、他側の支台歯の内斜面の傾斜角と同じ挿入路を備えるように形成されたことを特徴とする請求項１１〜１４のうちの何れか一項に記載の歯科用補綴物。
【請求項１６】
摩擦抵抗で結合するキーパーメールとボディーフィメールの挿入路は、他側の支台歯の内斜面と同じ挿入路を有するキーパー外壁とボディー外側壁の挿入路と同じ挿入路を有することを特徴とする請求項１１〜１５のうちの何れか一項に記載の歯科用補綴物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月8日(2010.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
電気モータ３に接続されるケーブル２４は、圧縮空気ホース７の一部に沿うように配置されており、この部分の圧縮空気ホース７に接続される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
１    フレーム
２    駆動装置
３    電気モータ
４    ギアユニット
５    駆動軸
６    撹拌器要素
７    圧縮空気ホース
８    リング管
９    シーリング装置
１０    シーリングチャンバー
１１    軸シール
１２    スライド−リングシール
１３    スライディングリング
１４    ばね
１５    反スライディングリング
１６    ハウジング部
１７    肩
１８    カラー
１９    貫通口
２０    第１の接続要素
２１    フランジ
２２    管
２３    第２の接続要素
２４ ケーブル
Ｆ    液体表面
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体表面より下の位置で浸漬運転を行う、とりわけ洗浄槽の中で浸漬運転を行う、ハウジングの外に導出する駆動軸を有し、前記ハウジングへ液体が浸透するのを防ぐシーリングチャンバーに設けられるスライド−リングシールを、前記駆動軸が通るように配置される駆動装置において、
シーリングチャンバーの油には駆動軸の周辺の液体より大きな圧力が加わることになり、その結果、スライド−リングシールの領域への望まれざる液体の浸透を防ぐことができようにするために、油の備蓄の保持する、管が前記シーリングチャンバーに接続しており、前記管は液体表面より上へと導かれるように配置される、駆動装置。
【請求項２】
前記管は、少なくとも液体表面より上に位置する部分において、透明であることを特徴とする、請求項１に記載の駆動装置。
【請求項３】
前記管は、前記シーリングチャンバーのまわりの液体の圧力を上回わる過剰圧力を発生するために好ましくは液体表面より上に設けられる、圧力の供給源に接続される、請求項１乃至２のいずれか１つに記載の駆動装置。
【請求項４】
前記圧力の供給源は、圧縮空気管である、請求項１乃至３のいずれか１つに記載の駆動装置。
【請求項５】
前記管は、少なくとも前記シーリングチャンバーへ向かう部分で、前記圧縮空気管に沿うように配置される、請求項１乃至４のいずれか１つに記載の駆動装置。
【請求項６】
前記管は、少なくとも一部において、電気モータに電流を提供するケーブルに沿うように配置される、請求項１乃至５のいずれか１つに記載の駆動装置。
【請求項７】
前記駆動軸は、電気モータの一部である、請求項１乃至６のいずれか１つに記載の駆動装置。
【請求項８】
前記駆動軸は、電気モータによって駆動されるギアユニットの一部である、請求項１乃至７のいずれか１つに記載の駆動装置。
【請求項９】
前記シーリングチャンバーは、前記電気モータまたは前記ギアユニットに対向する面において、駆動軸を囲んでいる軸シールによって封止される、請求項１乃至８のいずれか１つに記載の駆動装置。
【請求項１０】
前記シーリングチャンバー、前記スライド−リングシール、そして前記軸シールは、取付ユニットとして設計される、シーリング装置の一部である、請求項１乃至９のいずれか１つに記載の駆動装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１つに記載の駆動装置がフレームに取り付けられ、前記駆動軸が攪拌体に接続された、浸水可能な撹拌器。
【請求項１２】
前記攪拌体は、プロペラまたは双曲面攪拌体である、請求項１１に記載の浸水可能な撹拌器。
【請求項１３】
前記フレームは、換気装置の一部であり、圧縮空気管が接続されている、請求項１１、及び１２のいずれか１つに記載の浸水可能な撹拌器。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2010521295.tif 000001