(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光透過性支持層； 
（Ｂ）光学調整層；及び
（Ｃ）酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層
を含有し、
前記光学調整層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも光学調整層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記光学調整層（Ｂ）が、ジルコニアを含有し、かつ厚さ０．４〜３μｍであり；かつ
薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピーク、及び酸化インジウムスズに由来する（２２２）面のピークを示す
ことを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとして、プラスチック等からなる光透過性支持層の少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して、酸化インジウムを含有する光透過性導電層を配置した光透過性導電性フィルムが数多く用いられている。
【０００３】
これら光透過性導電性フィルムを電極として用いてタッチパネルを構成する場合には、種々の要求特性を同時に満たす必要がある。そのような要求特性としては、次のようなものが知られている。
【０００４】
光透過性導電性フォルムを格子状の電極として配置することがあるが、画面から見てその格子状構造が視認できる場合は、画面の視認性が損なわれるので好ましくない。また、そのような現象が解消されていることを「インデックス・マッチングが良い」ということがある。したがって、インデックス・マッチングが良好でない光透過性導電性フィルムは、電極が見え易いという問題がある。
【０００５】
さらに、例えば上記の格子状等を有する電極として成形する際に、光透過性導電性フィルムをいったん配置した後、ＨＣｌ等の薬品処理によって所定の領域のみについてフィルムを除去する、いわゆるエッチング処理を行い、結果として所望の形状に成形することが行われている。したがって、エッチング処理によりエッチングされにくい（すなわち、所望の領域において光透過性導電層が除去されにくい）か、あるいは過度にエッチングされやすい（すなわち、所望の領域とは異なる領域においても意図に反して光透過性導電層が除去されてしまう）光透過性導電性フィルムは、所望の形状に成形することが困難である等の問題がある。
【０００６】
このように、タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとしては、（１）インデックス・マッチング及び（２）エッチング性のいずれにおいても優れている光透過性導電性フォルムが求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−６６４７号公報
【特許文献２】特開２００７−４２２８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、（Ａ）光透過性支持層、（Ｂ）光学調整層及び（Ｃ）酸化インジウムを含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、（１）インデックス・マッチング及び（２）エッチング性のバランスを改善することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、鋭意検討を重ね、光学調整層（Ｂ）としてジルコニアを含有し、かつ厚さ０．４〜３μｍであるものを採用し、かつ、フィルム全体が、薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピーク、及び酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークを示すようにすることによって、上記課題を解決できることを
新たに見出した。本発明は、この新たな知見に基づいてさらに種々の検討を重ねることにより完成されたものであり、次に掲げるものである。
項１
（Ａ）光透過性支持層； 
（Ｂ）光学調整層；及び
（Ｃ）酸化インジウムを含有する光透過性導電層
を含有し、
前記光学調整層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも光学調整層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記光学調整層（Ｂ）が、ジルコニアを含有し、かつ厚さ０．４〜３μｍであり；かつ
薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピーク、及び酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークを示す
ことを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
項２
薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比が１．２〜１２である、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３
前記ジルコニアの平均粒子径が、１０〜４０ｎｍである、項１又は２のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項４
前記光透過性導電層（Ｃ）が、酸化インジウムを含有する層を大気中９０〜１６０℃で１０〜１２０分間加熱することにより得られうる、項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項５
光透過性導電層（Ｃ）が、酸化インジウムスズを含有する、項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項６
項１〜５のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含有する、タッチパネル。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、（１）インデックス・マッチング及び（２）エッチング性のバランスが改善された、（Ａ）光透過性支持層、（Ｂ）光学調整層及び（Ｃ）酸化インジウムを含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】光透過性支持層（Ａ）の片面に、光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図２】光透過性支持層（Ａ）の両面に、光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図３】光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、第一の光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されており、かつ、他方の面に、第二の光学調整層（Ｂ）が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図４】光透過性支持層（Ａ）の片面に、光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図５】光透過性支持層（Ａ）の両面に、光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図６】光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、第一の光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されており、かつ、他方の面に、第二の光学調整層（Ｂ）が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
１．  光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性支持層； 
（Ｂ）光学調整層；及び
（Ｃ）酸化インジウムを含有する光透過性導電層
を含有し、
前記光学調整層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも光学調整層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記光学調整層（Ｂ）が、ジルコニアを含有し、かつ厚さ０．４〜３μｍであり；かつ
薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピーク、及び酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークを示す
ことを特徴とする、光透過性導電性フィルム
である。
【００１３】
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８７％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１４】
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の層」等といい、光透過性支持層（Ａ）からの距離が小さい他方の層を「下の層」等ということがある。
以下の各層についての説明箇所において特に明記されていない限り、本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計（大塚電子、ＦＥ−３０００（製品名）、又はその同等品）を用いて求める。又は、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。
【００１５】
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている。
【００１６】
図２に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている。
【００１７】
１．１  光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィル
ムにおいて、光透過性導電層を含有する層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００１８】
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、ガラス、及び各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、特にＰＥＴが好ましい。光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００１９】
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されないが、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。
【００２０】
１．２  光学調整層（Ｂ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して光学調整層（Ｂ）が配置されている。光学調整層（Ｂ）は、好ましくは光透過性支持層（Ａ）の面に、直接配置されている。
【００２１】
光学調整層（Ｂ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００２２】
光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、光学調整層（Ｂ）がそれぞれ、直接配置されていてもよい。
【００２３】
光学調整層（Ｂ）は、二層以上が互いに隣接して配置されている場合、上方に位置する光学調整層に比較して下方に位置する光学調整層がより高い屈折率を有していてもよい。このような構成を採ることにより、屈折率の異なる二層間に光学干渉作用が生じ、これにより光透過性導電性フィルムの透過率が向上するので好ましい。
【００２４】
本発明において光学調整層とは、光学干渉作用により光透過性フィルムの透過率を向上させる役割を果たすものをいう。光学調整層（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光学調整層として通常用いられるものを用いることができる。
【００２５】
光学調整層（Ｂ）は、ジルコニアを含有する。光学調整層（Ｂ）が含有するジルコニアは、好ましくは粒子状であり、より好ましくは、平均粒子径が、１０〜４０ｎｍ、さらに好ましくは、平均粒子径が１０〜３０ｎｍである。ジルコニアの平均粒子経が４０ｎｍより小さいとエッチング性がより改善され、また、１０ｎｍより大きいと分散性がより改善され、加工性がより改善される。
【００２６】
本発明の光透過性導電性フィルムは、薄膜法によるＸＲＤ測定において、光学調整層（Ｂ）のジルコニアに由来する、２θ＝２８°付近のピークを示す。
【００２７】
本発明において、薄膜法によるＸＲＤ測定は、次のようにして行う。Ｘ線回折装置はＲ
ｉｇａｋｕ製  薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置ＳｍａｒｔＬａｂ、又はその同等品を用いて薄膜法にて測定する。平行ビーム光学配置を用い、光源にはＣｕＫα線（波長：１．５４１８６Å）を４０ｋＶ、３０ｍＡのパワーで用いる。入射側スリット系はソーラスリット５．０°、高さ制御スリット１０ｍｍ、入射スリット０．１ｍｍを用い、受光側スリットにはパラレルスリットアナライザー（ＰＳＡ）０．１１４ｄｅｇ．を用いる。検出器はシンチレーションカウンターを用いる。試料ステージは多孔質吸着試料ホルダを用いて、ポンプにより試料を吸着固定する。Ｘ線の入射角０．５０°で測定し、十分な検出感度が得られない場合には、入射角０．４０°、０．４５°、０．５５°及び０．６０°でそれぞれ測定し、目的とするピークが最も強くなる結果を採用する。
【００２８】
本発明において、ジルコニアの平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察により求める。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムを薄く切断して、その断面を観察する。これにより、視認可能な無作為に選ばれた２０個の粒子から、長軸方向長さについて上位３個及び下位３個の粒子を除いて得られる１４個の粒子についての、長軸方向長さの数平均値を平均粒子径とする。透過型電子顕微鏡観察の結果、所定量の粒子が視認できない場合は、同じ試料の異なった領域で観察を行う。また、ジルコニア粒子と他の粒子との区別がつかない場合は、ＥＤＸやＥＥＬＳにより、粒子の元素分析を行い、ジルコニア粒子を特定する。
【００２９】
光学調整層（Ｂ）の厚さは、０．４〜３μｍであり、好ましくは０．５〜２．５μｍ、より好ましくは１〜２μｍである。光学調整層（Ｂ）の厚さが３μmよりも小さいと、イ
ンデックス・マッチング性がより改善される。また、０．４μｍより大きいと、ジルコニアに由来するピークをより容易に確認でき、かつインデックス・マッチング性がより改善される。
【００３０】
光学調整層（Ｂ）は、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、ジルコニアに加えてその他の成分をさらに含有していてもよい。その他の成分としては、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂；並びにシリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等が挙げられる。光学調整層（Ｂ）は、ジルコニアに加えて、これらのうちいずれか単独をさらに含有していてもよいし、複数種をさらに含有していてもよい。
【００３１】
光学調整層（Ｂ）が、ジルコニアに加えてその他の成分をさらに含有する場合、全体におけるジルコニアの含有割合は、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、好ましくは２０重量％以上である。
【００３２】
光学調整層（Ｂ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、及び紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００３３】
１．３  光透過性導電層（Ｃ）
光透過性導電層（Ｃ）は、酸化インジウムを含有する。光透過性導電層（Ｃ）は、酸化インジウムに加えてドーパントをさらに含有していてもよい。ドーパントとしては特に限定されないが、例えば、スズ酸化物、亜鉛酸化物、セリウム酸化物、ガドリニウム酸化物、シリコン酸化物及びチタン酸化物等が挙げられる。光透過性導電層（Ｃ）は酸化インジウムに加えて、ドーパントとしてこれらを単独で含有していてもよいし、複数種を含有していてもよい。光透過性導電層（Ｃ）としては、現状では酸化インジウムスズ（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄｉｎｄｉｕｍ ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ））を含有する層を好ましい一例として挙げることができるが、必要に応じて他のドーパントを含有する酸化インジウムを含有する層を用いることもできる。
【００３４】
酸化インジウムスズは、スズをドープした酸化インジウムである。酸化インジウムスズとしては、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）と酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）を用いて得られた酸化インジウムスズが好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、光透過性導電層（Ｃ）は、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを含有していてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えば亜鉛、セリウム、ガドリニウム、シリコン及びチタン等が挙げられる。
光透過性導電層（Ｃ）は、上記の各種酸化インジウムスズのうちいずれか単独を含有するものであってもよいし、複数種を含有するものであってもよい。
【００３５】
光透過性導電層（Ｃ）は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
【００３６】
光透過性導電層（Ｃ）は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。
【００３７】
本発明の光透過性導電性フィルムは、薄膜法によるＸＲＤ測定において、光透過性導電層（Ｃ）に含有される酸化インジウムに由来する、（２２２）面のピークを示す。このピークは、酸化インジウム自体に由来するものであるので、酸化インジウムにさらに上記の各種ドーパントが添加されている場合であっても当然に同様のピークが観察される。また、（２２２）面のピークが酸化インジウム（あるいはさらにドーパントが添加されている場合は酸化インジウム及びドーパントの混合物）に由来する全てのピークのうちで最も強い。本発明の光透過性導電性フィルムは、光学調整層（Ｂ）のジルコニアに由来するピーク（２θ＝２８°付近）に加えて、この（２２２）面のピークを示すことに起因して、（１）インデックス・マッチング及び（２）エッチング性のバランスが改善されている。
【００３８】
さらに、本発明の光透過性導電性フィルムは、薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比が１．２〜１２であれば好ましい。このような特性を有する本発明の光透過性導電性フィルムは、（１）インデックス・マッチング及び（２）エッチング性のバランスがより改善されている。
【００３９】
上記の特性を有する光透過性導電層（Ｃ）は、加熱処理により酸化インジウム（あるいはさらにドーパントが添加されている場合は酸化インジウム及びドーパントの混合物；以下、この混合物と酸化インジウムを総称して「酸化インジウム等」ということがある。）を結晶化させることにより得ることができる。この加熱処理条件としては、上記の特性を有する光透過性導電層（Ｃ）が得られる範囲内で適宜設定でき、特に限定されないが、例えば大気中９０〜１６０℃、１０〜１２０分間の加熱処理条件等が挙げられる。具体的には、大気中１４０℃、６０分間の加熱処理条件が挙げられる。酸化インジウム等からなる原料、又は酸化インジウム等を含有する原料を、大気中９０〜１６０℃、１０〜１２０分間で加熱処理することにより、酸化インジウム等の結晶化がより促進され、上記の特性を有する光透過性導電層（Ｃ）が、酸化インジウム等の結晶体、又は酸化インジウム等の結晶体及び酸化インジウム等の非晶質体の混合物を含有するものとして得られる。特に限定されないが、上記の特性を有する光透過性導電層（Ｃ）は、酸化インジウム等を含有する層をその下地となる層の上に形成した後で、大気中９０〜１６０℃、１０〜１２０分間で加熱処理することにより、得ることができる。
【００４０】
光透過性導電層（Ｃ）の厚さは、５〜２００ｎｍ、好ましくは１０〜１００ｎｍ、より
好ましくは１５〜５０ｎｍである。また、静電容量タイプのタッチパネル用光透過性導電性フィルムとしては、光透過性導電層（Ｃ）の厚さは１５〜４０ｎｍ、好ましくは１５〜３８ｎｍ、より好ましくは１７〜３５ｎｍである。
【００４１】
光透過性導電層（Ｃ）を形成する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよい。
【００４２】
光透過性導電層（Ｃ）を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。光透過性導電層（Ｃ）を形成する方法としては、スパッタリング法が好ましい。
【００４３】
スパッタリング法により、光透過性導電層（Ｃ）を形成する場合、特に限定されないが、例えば酸素分圧を７．０ｘ１０−３Ｐａ以下にして形成することにより、薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比を、１．２〜１２に適宜調整できる。
【００４４】
１．４  アンダーコート層（Ｄ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｃ）が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介してアンダーコート層（Ｄ）が配置されていてもよい。アンダーコート層（Ｄ）が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｃ）が、少なくとも前記アンダーコート層（Ｄ）及び光学調整層（Ｂ）を介して前記光透過性支持層（Ａ）の前記面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記アンダーコート層（Ｄ）に隣接して配置されていてもよい。また、この場合、アンダーコート層（Ｄ）は通常、光学調整層（Ｂ）よりも光透過性導電層（Ｃ）に近い側に配置されている。
【００４５】
図４に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されている。
【００４６】
図５に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両面に、光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されている。
【００４７】
図６に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、第一の光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されており、他方の面に、第二の光学調整層（Ｂ）が直接配置されている。
【００４８】
アンダーコート層（Ｄ）の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。アンダーコート層（Ｄ）の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、並びにポリシラザン等が挙げられる。アンダーコート層（Ｄ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含有する光透過性下地層が好ましく、酸化ケイ素からなる光透過性下地層がより好ましい。
【００４９】
アンダーコート層（Ｄ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００５０】
アンダーコート層（Ｄ）の一層あたりの厚さは、５〜４０ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのアンダーコート層（Ｄ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。
【００５１】
アンダーコート層（Ｄ）を配置する方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、及び微粒子分散液若しくはコロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。アンダーコート層（Ｄ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法又はパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。
【００５２】
１．５  その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）が配置されている側の面に、アンダーコート層（Ｄ）及び少なくとも１種のその他の層（Ｅ）からなる群より選択される少なくとも１種の層がさらに配置されていてもよい。
【００５３】
その他の層（Ｅ）としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。
【００５４】
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。
【００５５】
１．６  本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルのために好ましく用いられる。本発明の光透過性導電性フィルムは、特に、静電容量型タッチパネルのためにより好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率（シート抵抗）が１００〜１，０００Ω／ｓｑ程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
【００５６】
２．本発明の静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００５７】
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
【００５８】
３．  本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、それぞれの層について説明した通りそれぞれの層を配置することにより製造することができる。例えば、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｃ）が配置されている側の面に、下層側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層（Ａ）ではない層（例えば、光透過性導電層（Ｃ））の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得て、これらの２種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
【実施例】
【００５９】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００６０】
実施例１
厚さ１２５μｍのＰＥＴ樹脂基材上に平均粒子径が２０ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ０．５μｍとなるように形成した。
【００６１】
なお、実施例及び比較例において、ジルコニア粒子の平均粒子径は、次のようにして透過型電子顕微鏡観察により求めた。具体的には、光透過性導電性フィルムを樹脂で被覆し、ミクロトームを用いて光透過性導電性フィルムをフィルムに垂直に薄く切断して、その断面を観察した。これにより、視認可能な無作為に選ばれた２０個の粒子から、長軸方向長さについて上位３個及び下位３個の粒子を除いて得られる１４個の粒子についての、長軸方向長さの数平均値を平均粒子径とした。
【００６２】
スパッタリングによりこの光学調整層に、ＳｉＯ２層を２５ｎｍ形成し、さらに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を２５ｎｍ製膜した。具体的にはターゲット剤として、酸化インジウム：９５重量％及び酸化スズ：５重量％からなる焼結体材料を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、光透過性導電層を形成し、大気中で加熱処理し、最終的に本発明の光透過性導電性フィルムを得た。このとき、チャンバー内を５.０×１０−４
Ｐａ以下となるまで真空排気した後に、かかるチャンバー内に酸素分圧が５.０×１０−3Ｐａになるよう酸素ガスとアルゴンガスを導入し、チャンバー内圧力を０．２〜０．３Ｐａとしてスパッタリング処理した。その後、大気中、１４０℃で６０分加熱処理したものをＸＲＤにて評価した。
【００６３】
なお、実施例及び比較例において、薄膜法によるＸＲＤ測定は、次のようにして行った。Ｘ線回折装置はＲｉｇａｋｕ製  薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置ＳｍａｒｔＬａｂを用いて薄膜法にて測定した。平行ビーム光学配置を用い、光源にはＣｕＫα線（波長：１．５４１８６Å）を４０ｋＶ、３０ｍＡのパワーで用いた。入射側スリット系はソーラスリット５．０°、高さ制御スリット１０ｍｍ、入射スリット０．１ｍｍを用い、受光側スリットにはパラレルスリットアナライザー（ＰＳＡ）０．１１４ｄｅｇ．を用いた。検出器はシンチレーションカウンターを用いた。試料ステージは多孔質吸着試料ホルダを用いて、ポンプにより試料を吸着固定した。入射側を０．５０°で固定し、ステップ間隔０．０１°、測定スピード３．０°／ｍｉｎ、測定範囲を１０°〜６０°で測定した。
【００６４】
ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は１．３であった。
【００６５】
実施例２
平均粒子径が２０ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ１
．５μｍとなるように形成した。それ以外は、実施例１と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は２．８であった。
【００６６】
実施例３
平均粒子径が２０ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ２．８μｍとなるように形成した。それ以外は、実施例１と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は５．５であった。
【００６７】
実施例４
チャンバー内に導入するガスの内、スパッタリング処理における酸素分圧を４.５×１０
−3Ｐａにした以外は実施例２と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。Ｘ
ＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は３．６であった。
【００６８】
実施例５
チャンバー内に導入するガスの内、スパッタリング処理における酸素分圧を４.５×１０
−3Ｐａにした以外は実施例３と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。Ｘ
ＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は７．４であった。
【００６９】
実施例６
チャンバー内に導入するガスの内、スパッタリング処理における酸素分圧を３.２×１０
−3Ｐａにした以外は実施例３と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。Ｘ
ＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は１０．４であった。
【００７０】
実施例７
チャンバー内に導入するガスの内、スパッタリング処理における酸素分圧を３.２×１０
−3Ｐａにした以外は実施例１と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。Ｘ
ＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は２．２であった。
【００７１】
実施例８
平均粒子径が４０ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ２．８μｍとなるように形成した以外は実施例６と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は１４．７であった。
【００７２】
実施例９
平均粒子径が３０ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ２．８μｍとなるように形成した以外は実施例６と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は１２．４であった。
【００７３】
実施例１０
平均粒子径が１５ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ２
．８μｍとなるように形成した以外は実施例６と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は９．３であった。
【００７４】
比較例１
平均粒子径が２０ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ０．２μｍとなるように形成した。それ以外は、実施例１と同様とし、光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来するピークが検出されなかった。
【００７５】
比較例２
平均粒子径が２０ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ５．０μｍとなるように形成した。それ以外は、実施例１と同様とし、光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は１７．１であった。
【００７６】
比較例３
チャンバー内に導入するガスの内、スパッタリング処理における酸素分圧を２.８×１０
−3Ｐａにした以外は実施例３と同様とし、光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによ
る評価の結果、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークが検出されなかった。
【００７７】
以上のようにして得られた実施例１〜８、及び比較例１〜３の光透過性導電性フィルムについて、次のようにしてインデックス・マッチング（ＩＭ）及びエッチング性を評価した。
【００７８】
インデックス・マッチングの評価は、次のようにして行った。幅５ｃｍ×長さ１０ｃｍにカットした光透過性導電性フィルムの中央部付近の幅方向にくし型パターン（２ｍｍ幅、１０ｍｍ長さ）を５ｃｍ形成するために、以下の操作を行った。幅５ｃｍ×長さ５ｃｍのシリコンゴム板の４辺の一つをくし型パターン状に切断した。幅５ｃｍ×長さ１０ｃｍにカットした光透過性導電性フィルムのＩＴＯ側、かつ、くし型パターンが光透過性導電性フィルムの中央部付近に配置されるようにシリコンゴム板を光透過性導電性フィルムに貼り合わせた。シリコンゴムを貼り合わせた光透過性導電性フィルムのシリコンゴム側にエッチングレジストを塗布し、８０℃で３０分乾燥後、シリコンゴム板を剥がした。これにより、くし型パターンを境界としてＩＴＯ表面とエッチングレジスト表面が露出する光透過性導電性フィルムを得た。これを、２０％塩酸に２０分浸漬し、ＩＴＯを溶かした。その後、０．５ＭのＫＯＨ溶液に浸漬しながら１０分間超音波処理し、水洗することによりＩＴＯのくし型パターンフィルムを得た。白色の紙および黒色の紙の上にくし型パターンフィルムを置き、それぞれＩＴＯパターンのエッジにおける視認性を確認した。
【００７９】
評価は次のようにして行った。白色紙上および黒色紙上でＩＴＯのパターンがほとんど確認できないときを「◎」、白色紙上および黒色紙上でＩＴＯのパターンがほとんど確認できないが、何れかの試料において観察角度を変えることによりパターンを確認できることがあるときを「○」、観察角度を変えることにより何れかの試料においてパターンを必ず確認できるときを「△」、両方の試料においてパターンを確認できるときを「×」とした。
【００８０】
エッチング性の評価は、次のようにして行った。光透過性導電性フィルムを２０％塩酸に浸漬し、表面抵抗が計測不能になるまでの時間を求めた。光透過性導電性フィルムは１０秒〜９０秒までの１０秒間隔で浸漬時間を設定し、表面抵抗が計測不能になった時間をエッチング処理完了時間とした。
【００８１】
エッチング処理完了時間が４０秒、５０秒のときを「◎」、３０秒、６０秒、７０秒のときを「○」、２０秒、８０秒のときを「△」、１０秒、９０秒およびそれ以上を「×」として評価した。エッチング処理時間が短すぎても、また反対に長すぎてもエッチング処理を制御することが困難となり、好ましくない。
【００８２】
評価結果を表１に示す。表１においては、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比を単に「ピーク比」と表記する。
【００８３】
【表１】
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【符号の説明】
【００８４】
１        光透過性導電性フィルム
１１      光透過性支持層（Ａ）
１２      光学調整層（Ｂ）
１３      光透過性導電層（Ｃ）
１４      アンダーコート層（Ｄ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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