【手続補正書】
【提出日】平成23年1月6日(2011.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（IIa）または（IIb）：
【化１】
2010515741.tif 000001
を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体で他の立体異性体を実質的に含まないものを製造する方法であって、
（a）一般式（X）のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式（XIa）または（XIb）のキラルなエポキシエステルを形成し：
【化２】
2010515741.tif 000002
（ただしYはOR*であり、R*はキラルな側鎖である）；
（b）一般式（XIa）または（XIb）のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式（XIIa）または（XIIb）のキラルなエポキシカルボキサミド：
【化３】
2010515741.tif 000003
を製造し；
（c）一般式（XIIa）または（XIIb）のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式（XIIIa）または（XIIIb）のキラルな第一級エポキシアミン：
【化４】
2010515741.tif 000004
に変換し；
（d）（i）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを形成する：
【化５】
2010515741.tif 000005
か、
（ii）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドにする：
【化６】
2010515741.tif 000006
ステップを実施し；
（e）（1）ステップ（d）（i）を実施するときには、一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させ；（2）ステップ（d）（ii）を実施するときには、一般式（Va）または（Vb）のキラルなアルデヒドまたはケトンを一般式Q-NH2またはQ-NHR’の化合物と反応させ、一般式（IIa）または（IIb）を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法（ただし、
Qはキノリン-5-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており；Xは、そのキノリニル基の5位に結合したハロゲンまたはトシラート基であり；R4とR5の選択は、独立に、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、C1〜C10アルコキシ基、置換されていないC1〜C10直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C10直鎖アルキル基、置換されたC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C10シクロアルキル基、置換されたC3〜C10シクロアルキル基からなるグループの中からなされる）。
【請求項２】
一般式（IIc）または（IId）：
【化７】
2010515741.tif 000007
を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体で他の立体異性体を実質的に含まないものを製造する方法であって、
（a）一般式（X）のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式（XIa）または（XIb）のキラルなエポキシエステルを形成し：
【化８】
2010515741.tif 000008
（ただしYはOR*であり、R*はキラルな側鎖である）；
（b）一般式（XIa）または（XIb）のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式（XIIa）または（XIIb）のキラルなエポキシカルボキサミド：
【化９】
2010515741.tif 000009
を製造し；
（c）一般式（XIIa）または（XIIb）のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式（XIIIa）または（XIIIb）のキラルな第一級エポキシアミン：
【化１０】
2010515741.tif 000010
に変換し；
（d）（i）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを形成する：
【化１１】
2010515741.tif 000011
か、
（ii）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドにする：
【化１２】
2010515741.tif 000012
ステップを実施し；
（e）（1）ステップ（d）（i）を実施するときには、一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させ；（2）ステップ（d）（ii）を実施するときには、一般式（Va）または（Vb）のキラルなアルデヒドまたはケトンを一般式Q-NH2の化合物と反応させ、一般式（IIc）または（IId）を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法（ただし、
Qはキノリン-4-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており；Xは、そのキノリニル基の4位に結合したハロゲンまたはトシラート基であり；R4とR5の選択は、独立に、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、C1〜C10アルコキシ基、置換されていないC1〜C10直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C10直鎖アルキル基、置換されたC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C10シクロアルキル基、置換されたC3〜C10シクロアルキル基からなるグループの中からなされる）。
【請求項３】
一般式（IIa）または（IIb）：
【化１３】
2010515741.tif 000013
を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体で他の立体異性体を実質的に含まないものを製造する方法であって、
（a）一般式（X）のケトンを塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミドと反応させて一般式（XIIa）または（XIIb）のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し：
【化１４】
2010515741.tif 000014
；
（b）一般式（XIIa）または（XIIb）のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式（XIIIa）または（XIIIb）のキラルな第一級エポキシアミン：
【化１５】
2010515741.tif 000015
に変換し；
（c）（i）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを形成する：
【化１６】
2010515741.tif 000016
か、
（ii）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドにする：
【化１７】
2010515741.tif 000017
ステップを実施し；
（d）（1）ステップ（c）（i）を実施するときには、一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させ；（2）ステップ（c）（ii）を実施するときには、一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドを一般式Q-NH2の化合物と反応させ、一般式（IIa）または（IIb）を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法（ただし、
Qはキノリン-5-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており；Xは、そのキノリニル基の5位に結合したハロゲンまたはトシラート基であり；R4とR5の選択は、独立に、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、C1〜C10アルコキシ基、置換されていないC1〜C10直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C10直鎖アルキル基、置換されたC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C10シクロアルキル基、置換されたC3〜C10シクロアルキル基からなるグループの中からなされる）。
【請求項４】
一般式（IIc）または（IId）：
【化１８】
2010515741.tif 000018
を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体で他の立体異性体を実質的に含まないものを製造する方法であって、
（a）一般式（X）のケトンを塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミドと反応させて一般式（XIIa）または（XIIb）のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し：
【化１９】
2010515741.tif 000019
；
（b）一般式（XIIa）または（XIIb）のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式（XIIIa）または（XIIIb）のキラルな第一級エポキシアミン：
【化２０】
2010515741.tif 000020
に変換し；
（c）（i）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを形成する：
【化２１】
2010515741.tif 000021
か、
（ii）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドにする：
【化２２】
2010515741.tif 000022
ステップを実施し；
（d）（1）ステップ（c）（i）を実施するときには、一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させ；（2）ステップ（c）（ii）を実施するときには、一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドを一般式Q-NH2の化合物と反応させ、一般式（IIc）または（IId）を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法（ただし、
Qはキノリン-4-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており；Xは、そのキノリニル基の4位に結合したハロゲンまたはトシラート基であり；R4とR5の選択は、独立に、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、C1〜C10アルコキシ基、置換されていないC1〜C10直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C10直鎖アルキル基、置換されたC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C10シクロアルキル基、置換されたC3〜C10シクロアルキル基からなるグループの中からなされる）。
【請求項５】
一般式（IIIa）または（IIIb）：
【化２３】
2010515741.tif 000023
を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体で他の立体異性体を実質的に含まないものを製造する方法であって、
（a）一般式（X）のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式（XIa）または（XIb）のキラルなエポキシエステルを形成し：
【化２４】
2010515741.tif 000024
（ただしYはOR*であり、R*はキラルな側鎖である）；
（b）一般式（XIa）または（XIb）のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式（XIIa）または（XIIb）のキラルなエポキシカルボキサミド：
【化２５】
2010515741.tif 000025
を製造し；
（c）一般式（XIIa）または（XIIb）のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式（XIIIa）または（XIIIb）のキラルな第一級エポキシアミン：
【化２６】
2010515741.tif 000026
に変換し；
（d）（i）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを形成する：
【化２７】
2010515741.tif 000027
か、
（ii）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドにする：
【化２８】
2010515741.tif 000028
ステップを実施し；
（e）（1）ステップ（d）（i）を実施するときには、一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で5-ハロ-2-メチル-キノリン（ただし、置換されたこのキノリンの5位のハロ置換基の選択は、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素からなるグループの中からなされる）と反応させ；（2）ステップ（d）（ii）を実施するときには、一般式（Va）または（Vb）のキラルなアルデヒドを5-アミノ-2-メチル-キノリンと反応させ、一般式（IIIa）または（IIIb）を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法。
【請求項６】
一般式（IIIc）または（IIId）：
【化２９】
2010515741.tif 000029
を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体で他の立体異性体を実質的に含まないものを製造する方法であって、
（a）一般式（X）のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式（XIa）または（XIb）のキラルなエポキシエステルを形成し：
【化３０】
2010515741.tif 000030
（ただしYはOR*であり、R*はキラルな側鎖である）；
（b）一般式（XIa）または（XIb）のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式（XIIa）または（XIIb）のキラルなエポキシカルボキサミド：
【化３１】
2010515741.tif 000031
を製造し；
（c）一般式（XIIa）または（XIIb）のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式（XIIIa）または（XIIIb）のキラルな第一級エポキシアミン：
【化３２】
2010515741.tif 000032
に変換し；
（d）（i）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを形成する：
【化３３】
2010515741.tif 000033
か、
（ii）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドにする：
【化３４】
2010515741.tif 000034
ステップを実施し；
（e）（1）ステップ（d）（i）を実施するときには、一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で4-ハロ-2-メチル-イソキノリン（ただし、置換されたこのイソキノリンの4位のハロゲン置換基は、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素からなるグループの中から選択される）と反応させ；（2）ステップ（d）（ii）を実施するときには、一般式（Va）または（Vb）のキラルなアルデヒドまたはケトンを4-アミノ-2-メチル-イソキノリンと反応させ、一般式（IIIc）または（IIId）を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法。
【請求項７】
一般式（IIIa）または（IIIb）：
【化３５】
2010515741.tif 000035
を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体で他の立体異性体を実質的に含まないものを製造する方法であって、
（a）一般式（X）のケトンを塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミドと反応させて一般式（XIIa）または（XIIb）のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し：
【化３６】
2010515741.tif 000036
；
（b）一般式（XIIa）または（XIIb）のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式（XIIIa）または（XIIIb）のキラルな第一級エポキシアミン：
【化３７】
2010515741.tif 000037
に変換し；
（c）（i）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを形成する：
【化３８】
2010515741.tif 000038
か、
（ii）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドにする：
【化３９】
2010515741.tif 000039
ステップを実施し；
（d）（1）ステップ（c）（i）を実施するときには、一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で5-ハロ-2-メチル-キノリン（ただし、置換されたこのキノリンの5位のハロ置換基の選択は、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素からなるグループの中からなされる）と反応させ；（2）ステップ（c）（ii）を実施するときには、一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドを5-アミノ-キノリンと反応させ、一般式（IIIa）または（IIIb）を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法。
【請求項８】
一般式（IIIc）または（IIId）：
【化４０】
2010515741.tif 000040
を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体で他の立体異性体を実質的に含まないものを製造する方法であって、
（a）一般式（X）のケトンを塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミドと反応させて一般式（XIIa）または（XIIb）のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し：
【化４１】
2010515741.tif 000041
；
（b）一般式（XIIa）または（XIIb）のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式（XIIIa）または（XIIIb）のキラルな第一級エポキシアミン：
【化４２】
2010515741.tif 000042
に変換し；
（c）（i）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを形成する：
【化４３】
2010515741.tif 000043
か、
（ii）一般式（XIIIa）または（XIIIb）のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドにする：
【化４４】
2010515741.tif 000044
ステップを実施し；
（d）（1）ステップ（c）（i）を実施するときには、一般式（XIVa）または（XIVb）のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で4-ハロ-2-メチル-イソキノリン（ただし、置換されたそのイソキノリンの4位のハロ置換基の選択は、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素からなるグループの中からなされる）と反応させ；（2）ステップ（c）（ii）を実施するときには、一般式（XVa）または（XVb）のキラルなアルデヒドを4-アミノ-イソキノリンと反応させ、一般式（IIIc）または（IIId）を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法によって製造される一般式（IIa）または（IIb）を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
【請求項１０】
請求項２に記載の方法によって製造される一般式（IIc）または（IId）を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
【請求項１１】
請求項３に記載の方法によって製造される一般式（IIa）または（IIb）を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
【請求項１２】
請求項４に記載の方法によって製造される一般式（IIc）または（IId）を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
【請求項１３】
請求項５に記載の方法によって製造される一般式（IIIa）または（IIIb）を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
【請求項１４】
請求項６に記載の方法によって製造される一般式（IIIc）または（IIId）を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
【請求項１５】
請求項７に記載の方法によって製造される一般式（IIIa）または（IIIb）を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
【請求項１６】
請求項８に記載の方法によって製造される一般式（IIIc）または（IIId）を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。