【事件の表示】
　特願２００４−　５５３１８「研磨用組成物」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　９月　８日出願公開、特開２００５−２４４１２３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
 　本件出願は、平成１６年２月２７日の特許出願であって、同２１年８月１８日付けで拒絶の理由が通知され、その指定期間内の同２１年１０月２６日に意見書と共に特許請求の範囲及び明細書について手続補正書が提出されたが、同２１年１１月１６日付けで拒絶をすべき旨の査定がされ、同２２年２月１７日に本件審判の請求がされると共に特許請求の範囲及び明細書について再度手続補正書が提出されたものである。 
 　 
第２　平成２２年２月１７日付けの手続補正についての補正却下の決定 
 ［補正却下の決定の結論］ 
 　平成２２年２月１７日付けの手続補正を却下する。 
 ［理由］ 
１　補正の内容の概要 
 　平成２２年２月１７日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）は、平成２１年１０月２６日付けで補正された特許請求の範囲と明細書をさらに補正をするものであって、特許請求の範囲の請求項１に関する以下の補正を含んでいる。なお、下線部は補正箇所を示す。
 （１）＜補正前の請求項１＞ 
 「チタンの研磨に用いられる研磨用組成物であって、０．１質量％を超えるコロイダルシリカと、水とを含有し、ｐＨが６以下であり、前記コロイダルシリカの平均粒子径が１〜３５ｎｍであり、さらにフュームド酸化物粒子を含有する研磨用組成物。」 
 （２）＜補正後の請求項１＞ 
 「チタンの研磨に用いられる研磨用組成物であって、０．１質量％を超え
、且つ１質量％以下の
　
 ２　補正の適否　　　 
 　本件補正のうち特許請求の範囲の請求項１についてする補正は、コロイダルシリカについて「且つ１質量％以下の」という事項を付加して限定的に減縮するものであることが明らかであるので、さらに、補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「補正発明」という。）が特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか否かについて検討する。 
 （１）補正発明 
 　補正発明は、本件補正により補正された明細書及び願書に添付した図面の記載からみて、上記１（２）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりの「研磨用組成物」であると認める。 
 （２）引用例 
 　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開２０００−３４５１４４号公報（以下「引用例」という。）の記載内容は以下のとおりである。 
　
 ア　引用例記載の事項 
 　引用例には図表とともに以下の事項が記載されている。 
（ア）【請求項１】
 「水、ヒュームドシリカおよびヒュームドシリカを除く平均一次粒子径が４０〜６００ｎｍの球状シリカを含んでなることを特徴とする研磨剤。」 
（イ）段落【００１２】
「本発明に用いる球状シリカは、一次粒子径が４０〜６００ｎｍであることと球状であることにより、フュームドシリカと併用したときにフュームドシリカの研磨速度を向上させることができる。沈殿法シリカのような一次粒子径が１０〜３０ｎｍと小さいシリカ粒子を用いた場合には、後述する比較例１から明らかなようにフュームドシリカの研磨速度を向上させることができない。・・・（後略）」
（ウ）段落【００１５】
「球状シリカの種類としては、球状であり、・・・（中略）・・・代表的な球状シリカを例示すると、・・・（中略）・・・珪酸ソーダを原料にしてオストワルド法で製造される球状コロイダルシリカなどを挙げることができる。」
（エ）段落【００２１】
「本発明の研磨剤は、ヒュームドシリカとヒュームドシリカを除く球状シリカとを合わせた全シリカの含有量が、研磨剤の重量を基準にして１〜４０重量％の範囲であることが望ましい。・・・（後略）」
（オ）段落【００２２】
「全シリカ中の球状シリカの割合は、研磨剤に用いるヒュームドシリカの一次粒子径と球状シリカの一次粒子径との組み合わせによってそれぞれ最適な添加割合がある。・・・（後略）」
（カ）段落【００２７】
「本発明の研磨剤のｐＨについては特に制限はなく、ｐＨ１〜１２までのどの値でもよく、研磨対象によって適宜調整することができる。」
（キ）段落【００２９】 
 「また、本発明の研磨剤には、酸化剤、還元剤、水溶解性の塩類、水溶性高分子、界面活性剤等の添加剤を目的に応じて自由に添加することができる。例えば、層間絶縁膜上に存在するＴｉ、ＴｉＮ、Ｔａ、ＴａＮ等のバリア膜やＣｕ、Ｗ、Ａｌ等の金属膜の研磨に際しては、本発明の研磨剤に過酸化水素等の酸化剤を０．１〜１０重量％添加することによって効果的にバリア膜や金属膜を研磨することができる。」
（ク）段落【００３７】 
 「アンモニア系研磨剤の研磨速度の結果を図１に、ＫＯＨ系研磨剤の研磨速度の結果を図２にそれぞれ示した。アンモニア系、ＫＯＨ系共に、ヒュームドシリカに対して球状コロイダルシリカの少量添加で研磨速度が増加する傾向を示し、１０〜２０重量％のときに研磨速度は最大値を示すことがわかった。この例ではヒュームドシリカのみの研磨剤に比べて、最大で約２０％の研磨速度向上効果が見られた。」
（ケ）段落【００４６】 
 「（前略）・・・）実施例７
比表面積が２００ｍ2/ｇ（一次粒子径１４ｎｍ）のヒュームドシリカと球状シリカとして上記合成例による球状コロイダルシリカを所定量混合し、全シリカ量が４重量％、ｐＨ６〜７の中性の研磨剤を調製した。上記研磨剤に過酸化水素を１重量％（Ｈ2Ｏ2として）添加して、金属膜（Ｃｕ膜）、バリア膜（ＴａＮ膜）に対する研磨速度をそれぞれ調べた。方法としては、Ｃｕ膜、ＴａＮ膜が製膜されたシリコンウェハを用いた以外は実施例１と同様にして研磨試験を行った。」
　上記摘記事項（エ）及び表１より球状コロイダルシリカの含有量として、研磨剤の０．１重量％を超え、１重量％以下の範囲を含むことは、当業者が容易に理解し得るところである。
　イ　引用例記載の発明 
　そこで、引用例記載の事項を補正発明に照らして整理すると引用例には以下の発明が記載されていると認める。 
 「チタンの研磨に用いられる研磨剤であって、０．１重量％を超え、且つ１重量％以下のコロイダルシリカと、水とを含有し、ｐＨが６〜７であり、コロイダルシリカの一次粒子径が４０〜６００ｎｍであり、さらにフュームド酸化物粒子を含有する研磨剤。」 
　
 （３）対比 
　補正発明と引用例記載の発明とを対比すると以下のとおりである。 
　引用例記載の発明の「研磨剤」は、補正発明の「研磨用組成物」に相当し、以下同様に、「重量％」が「質量％」に、「一次粒子径」が「平均粒子径」に、それぞれ相当することは明らかである。
　また、引用例記載の発明の「フュームドシリカ」が補正発明における「フュームド酸化物」の一種であることは、技術常識に照らして明らかである。
　したがって、補正発明と引用例記載の発明とは、以下の点で一致しているということができる。 
 ＜一致点＞ 
 「チタンの研磨に用いられる研磨用組成物であって、０．１質量％を超え、且つ１質量％以下のコロイダルシリカと、水とを含有し、さらにフュームド酸化物粒子を含有する研磨用組成物。」 
　そして、補正発明と引用例記載の発明とは、以下の２点で相違している。 
　ア　＜相違点１＞
　補正発明は、「ｐＨが６以下であ」るのに対して、引用例記載の発明は、ｐＨが６〜７である点。
  イ　＜相違点２＞ 
　補正発明は、「コロイダルシリカの平均粒子径が１〜３５ｎｍであ」るのに対して、引用例記載の発明は、コロイダルシリカの平均粒子径が４０〜６００ｎｍである点。 
 
（４）相違点の検討 
 ア　＜相違点１＞について 
　引用例には、上記摘記事項（２）ア（カ）に示すように、研磨剤のｐＨについてはｐＨ１〜１２までの間で研磨対象によって適宜調整することができる旨示唆されている。また、チタンの研磨用組成物において、ｐＨを６以下の酸性とすることは、以下に例示するように従来周知である。 
 周知例１  特開平１０−０６７９８６号公報（【００２５】〜【００２６】段落、【００３７】段落等を参照） 
 周知例２　特開２００３−１９７５７３号公報（【００３１】段落、【００３５】段落等参照） 
　そして、この従来周知の事項を引用例記載の発明に適用して補正発明のようにすることに格別の困難性はない。 
　イ　＜相違点２＞について 
　引用例には、上記摘記事項（２）ア（イ）に記載されているように、コロイダルシリカの平均粒子径を４０〜６００ｎｍとしている一方で、平均粒子径を１０〜３０ｎｍとした小さいシリカ粒子を用いた場合は研磨速度を向上させることができない旨示されている。
　しかしながら、引用例は、上記摘記事項（２）ア（イ）に記載されているように、平均粒子径を１０〜３０ｎｍ（補正発明における１〜３５ｎｍと相当部分重複）とすることを少なくとも例示はしている。そして、引用例記載の発明は、研磨用組成物に含有させるコロイダルシリカの平均粒子径につき、４０ｎｍ以上とすることを許容しているところ、該コロイダルシリカの平均粒子径を補正発明のように１〜３５ｎｍに特定するとした場合、そのことによる作用効果は、本願明細書の表１を参照しても不明である。（補正発明の各実施例たる本願明細書の表１は、コロイダルシリカ粒子径が３５ｎｍより大きい場合を例示していない。）
　したがって、当業者が、バリア層や導体金属といった種々の研磨対象に対する汎用的な研磨用組成物を探求する一環で、かかる引用例に例示された１０〜３０ｎｍという範囲を選択すること自体は格別困難ではない。　
　ウ　＜補正発明の効果＞について 
　補正発明によってもたらされる効果も、引用例記載の発明及び上記従来周知の各事項から当業者であれば予測できる程度のものであって格別のものではない。 
　エ　したがって、補正発明は、引用例記載の発明及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 
　
 ３　むすび 
　よって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
 　 
 第３　本件出願の発明について 
 １　本件出願の発明 
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項に係る発明は、平成２１年１０月２６日付け手続補正書により補正された明細書及び願書に添付した図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし請求項３に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本件出願の発明」という。）は、上記第２の１（１）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの「研磨用組成物」である。 
　
 ２　引用例 
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物のうち引用文献等２（特開２０００−３４５１４４号公報、すなわち、上記第２の２（２）における「引用例」）の記載内容は、上記第２の２（２）に示したとおりである。 
　
 ３　対比・検討 
　本件出願の発明は、上記第２の２で検討した補正発明から、実質上、コロイダルシリカについて「且つ１質量％以下」という事項を削除したものである。 
　そうすると、実質上、本件出願の発明を構成する事項の全てを含み、さらに他の事項を付加する補正発明が上記第２の２（４）エで示したとおり、引用例記載の発明及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件出願の発明も同様の理由により当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
 ４　むすび 
　したがって、本件出願の発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　よって、本件出願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきであるから、結論のとおり審決する。