【事件の表示】
　特願２０００−５４４２３８「Ｘ線診断システム」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年１０月２８日国際公開、ＷＯ９９／５３８２３、平成１４年　４月２３日国内公表、特表２００２−５１２３５７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は，平成１１年４月１６日（パリ条約による優先権主張日　平成１０年４月２２日，米国）を国際出願日とする出願であって，平成２１年４月２１日付けで拒絶査定がされ，これに対し，同年８月２８日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに，同日付けで手続補正がなされたものである。さらに，平成２２年６月９日付けで審尋がなされ，回答書が同年１２月１５日付けで請求人より提出されたものである。 
　
　
第２　平成２１年８月２８日付けの手続補正（以下，「本件補正」という。）についての補正却下の決定 
　
 　［補正却下の決定の結論］ 
 　　本件補正を却下する。 
　
 　［理由］ 
１　補正後の請求項１に係る発明
　本件補正は，特許請求の範囲を補正するものであって，そのうち請求項１についてする補正は，願書に最初に添付された明細書の特許請求の範囲の 
「【請求項１】　Ｘ線源と，
　このＸ線源から離間されＸ線源からのＸ線を受け入れるように配置されたＸ線ビーム集中装置と，
　該集中装置からＸ線を受け入れるように配置されたＸ線スペクトロメータと
を備えることを特徴とするＸ線診断システム。」
を，
「【請求項１】　Ｘ線源と，
　
該
Ｘ線源の包囲体の外側に
　該集中装置からＸ線を受け入れるように配置されたＸ線スペクトロメータとを備え
るＸ
と補正するものである。なお，上記において，下線は補正箇所を示す。
　
　上記補正は，補正前の請求項１の「このＸ線源」および「・・・備えることを特徴とするＸ線診断システム」を，それぞれ，「該Ｘ線源」および「・・・備えるＸ線診断システム」と補正して，記載を明りょうにするとともに，補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「Ｘ線ビーム集中装置」について，「Ｘ線源の包囲体の外側に」配置されたとの限定を付したものである。
　してみると，上記補正は，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前（以下，「平成１８年改正前」という。）の特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮，および，同第４号に規定する明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
　
　そこで，補正後の請求項１に係る発明（以下，「補正発明」という。）が特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について，以下検討する。
　
２　引用刊行物の記載事項
　本願優先日前に頒布され，原査定の拒絶の理由において引用された刊行物である特表平７−５０４４９１号公報（以下，「引用例１」という。）には，図面とともに，次の事項が記載されている。なお，以下において，下線は当審にて付与したものである。
（１−ア）
「明細書
　粒子，Ｘ線およびガンマ線量子のビーム制御装置
発明の背景
　本発明は，放射ビームを制御する装置であり，より詳しく述べれば，Ｘ線ビーム，ガンマ線ビーム，および荷電粒子ビームを制御する装置であり，収束ビーム，発散ビーム，準平行ビームを，広いスペクトル範囲，広い開口角度，短い形成バスで，形成する装置に関する。
　本発明の利点の一つは，Ｘ線，ガンマ線，および中性子ビームを制御して医療用放射線透過検査および治療へ応用したり，Ｘ線微量検光子およびＸ線回折検光子用のビームを形成したり，メスバウアー検査でガンマ線を効果的に利用できることである。」（５頁左上欄１〜１３行）
　
（１−イ）
「Ｘ線，ガンマ線，および粒子放射線は，現在さまざまな分析器機で使用されている。放射線を使用すると，試料の組成や構造などの特性について知ることができる。しかし，残念ながら，従来の計測器には強度およびビームの指向性または偏向の制御という点で制約があった。
　試料（物質，成分，または系）を非破壊的に評価する方法で最も重要でかつ広く使用されているのは，Ｘ線蛍光分析または分光分析（ＸＲＦ）である。Ｘ線蛍光分析は，分析ツールとして，主として，
波長分散分光分析（ＷＤＸＲＦ）およびエネルギー分散分光分析（ＥＤＸＲＦ）
　
（１−ウ）
「本発明では，医療装置も提供する。医療装置は，診断と治療の両方に適している。開示する特定の装置には，血管造影装置，内視鏡，Ｘ線断層撮影装置，組織イオン化装置，中性子捕捉治療装置，Ｘ線蛍光分析装置などがある。さらに，本発明では，医療装置でクマコフのレンズを使用する方法も提供する。」（８頁左下欄２１行〜同頁右下欄１行）
　
（１−エ）
「第４０Ａ図は，
Ｘ線源，試料，クマコフのレンズ，および検出器で構成するシステム
　
（１−オ）
「許容限度を超える高いバックグラウンド放射がある場合，第１７図に示すように，ビーム制御装置全体（支持構造は図中に示していない）を覆うことが望ましい。
受光器８（または放射源７），制御放射を伝導しない資材で外部遮へいケーシング１７を作成し，チャネルの軸に対して開口１８と１９を入力端と出力端にそれぞれ合わせる
　
（１−カ）
「クマコフのレンズを使用した実施態様では，強度が高くなり焦点が小さくなるだけではなく，
試料の回りに空間的な余裕があるので
　
（１−キ）
「
試料と検出器の間にレンズを配置する構成例を第４０Ａ図と第４０Ｂ図に示す。この構成例では，試料の選択対象点から放射されるＸ線をレンズで集めて，選択領域分析に使用することができる。全試料からの放射を集めるＥＤＸＲＦまたはＷＤＸＲＦ検出器を使用して
　
（１−ク）
「試料と検出器の間にレンズを配置した例を第４０Ａ図に示す。電子顕微鏡に応用する場合，Ｘ線の代わりに電子を使用すればよい。この例では，試料の選択点から反射するＸ線をレンズで集めているので，分散によるバックグラウンド放射が少ない。」（２１頁左下欄２〜６行）
　
（１−ケ）
　第１７図には，受光器８（または放射源７），および，束管１のそれぞれがケーシング１７で囲われるとともに，受光器８（または放射源７）と束管１との間で，放射線の受け渡しを可能とするために，ケーシング１７に開口１９が設けられた様子が描かれている。
　
（１−コ）
　第４０Ａ図には，
試料から放射されたＸ線を受け入れるように，クマコフのレンズが配置され，該クマコフのレンズによって集められたＸ線を受け入れるように，検出器が配置された様子
　
　上記摘記事項，特に，摘記事項（１−エ），（１−キ），（１−ク）および（１−コ）からみて，引用例１には，以下の発明が記載されていると認められる。
　
「試料から放射されたＸ線を受け入れるように配置されたクマコフのレンズと，該クマコフのレンズによって集められたＸ線を受け入れるように配置された検出器とを備えるシステム。」（以下，「引用発明」という。）
　
３　対比・判断
　
（１）対比 
　補正発明と引用発明とを対比する。
　
ア　引用発明の「試料」は，Ｘ線を放射しているから，補正発明の「Ｘ線源」に相当する。
　
イ　引用例１の摘記事項（１−キ）における「試料と検出器の間にレンズを配置する構成例を第４０Ａ図と第４０Ｂ図に示す。この構成例では，試料の選択対象点から放射されるＸ線をレンズで集めて，選択領域分析に使用することができる。・・・」の記載からみて，引用発明の「クマコフのレンズ」は，補正発明の「Ｘ線ビーム集中装置」に相当する。
　してみると，引用発明の「試料から放射されたＸ線を受け入れるように配置されたクマコフのレンズ」と，補正発明の「該Ｘ線源から離間されＸ線源からのＸ線を受け入れるようにＸ線源の包囲体の外側に配置されたＸ線ビーム集中装置」とは，「Ｘ線源からのＸ線を受け入れるように配置されたＸ線ビーム集中装置」である点で共通する。
　
ウ　引用例１の摘記事項（１−イ）における「・・・波長分散分光分析（ＷＤＸＲＦ）およびエネルギー分散分光分析（ＥＤＸＲＦ）・・・」の記載，および，同摘記事項（１−キ）における「・・・全試料からの放射を集めるＥＤＸＲＦまたはＷＤＸＲＦ検出器・・・」の記載からみて，引用発明の「検出器」は，Ｘ線分光分析検出器であるといえるから，補正発明の「Ｘ線スペクトロメータ」に相当する。
　してみると，引用発明の「該クマコフのレンズによって集められたＸ線を受け入れるように配置された検出器」は，補正発明の「該集中装置からＸ線を受け入れるように配置されたＸ線スペクトロメータ」に相当する。
　
エ　上記「ウ」で検討のとおり，引用発明の「検出器」は，Ｘ線分光分析検出器であるから，引用発明の「システム」は，Ｘ線分析システムであるといえる。
　他方，本願明細書の段落【０００１】には「・・・＜技術分野＞本発明は，Ｘ線診断システムに関し，特定するとＸ線源からのＸ線を集束ないし集結し，それをＸ線スペクトロメータ（分光計）に供給するシステムに関する。」と記載され，同段落【０００３】には「電子顕微鏡は，半導体製造工業を含め多くの応用において広く使用されている。ターゲットが電子で照射されると，Ｘ線が副作用として発生される。Ｘ線スペクトルは，ターゲットに含まれる要素についての情報を提供するから，Ｘ線が分析のために検出されることがしばしばある。・・・」と記載され，同段落【０００４】には「［発明の概要］・・・Ｘ線源は，走査型電子顕微鏡内の電子ビームにより励起される，あるいは焦合サイクロトロンビーム，イオンビームまたはレーザにより励起されるサンプル領域のような点Ｘ線源としてよい。・・・」と記載されていることからみて，補正発明の「Ｘ線診断システム」は，Ｘ線分析システムを包含しているといえる。
　してみると，引用発明の「システム」は，補正発明の「Ｘ線診断システム」に相当する。
　
　そうすると，両者は， 
　
（一致点）
「Ｘ線源と，
　Ｘ線源からのＸ線を受け入れるように配置されたＸ線ビーム集中装置と，
　該集中装置からＸ線を受け入れるように配置されたＸ線スペクトロメータとを備えるＸ線診断システム。」
の点で一致し，以下の点で相違する。
　
（相違点）Ｘ線ビーム集中装置が，補正発明では，「Ｘ線源から離間され」，「Ｘ線源の包囲体の外側に」配置されているのに対し，引用発明では，そのような構成であるかが不明な点。
　
（２）上記相違点について
ア　Ｘ線ビーム集中装置が，「Ｘ線源の包囲体の外側に」配置されている点について
　Ｘ線分析装置の分野において，試料と，前記試料にＸ線又は電子線を照射する照射源とを包囲体で囲むとともに，前記試料から放射されるＸ線を検出する検出系を前記包囲体とは別の包囲体で囲むようにすること，すなわち，Ｘ線検出系を，Ｘ線源の包囲体の外側に配置するようにすることは，例えば，実公昭３９−３１４７８号公報（１頁左欄下から４行〜同頁右欄２行，および，第１図），特開平５−２３４５５６号公報（段落【００３０】，および，【図２】），および，特開平４−９３６４４号公報（第３図）に記載されているように，本願優先日前に周知である。
　そして，引用発明も上記周知技術も，Ｘ線分析装置という同一の技術分野に属するものであり，引用例１の摘記事項（１−オ）および（１−ケ）には，Ｘ線源の包囲体の外側に，束管１，すなわち，Ｘ線ビーム集中装置を配置する実施例も記載されており，また，Ｘ線源と検出系のように異なる系において，別個に調整を行ったり，あるいは，別個の環境にしたりするために両者を別個の包囲体で覆うことは，常套の技術手段である。
　してみると，引用発明に，上記周知技術を適用して，Ｘ線検出系を構成するＸ線ビーム集中装置を，Ｘ線源の包囲体の外側に配置するようにすることは，当業者であれば，何ら困難性はなく，容易に想到し得る事項であるといえる。
　
イ　Ｘ線ビーム集中装置が，「Ｘ線源から離間され」ている点について
　引用例１の第４０Ａ図には，Ｘ線源である試料と，Ｘ線ビーム集中装置であるクマコフのレンズとが，離間して配置されている様子が描かれている。
　してみると，Ｘ線ビーム集中装置が，「Ｘ線源から離間され」ている点は，補正発明と引用発明との実質的な相違点であるとはいえない。
　仮に，Ｘ線ビーム集中装置が，「Ｘ線源から離間され」ている点が実質的な相違点であるとしても，引用例１の摘記事項（１−カ）に「・・・試料の回りに空間的な余裕があるので・・・」と記載されており，また，試料の回りに空間的な余裕があった方が試料の設置作業が容易になり好ましいことは技術常識であるから，引用発明において，Ｘ線ビーム集中装置を，Ｘ線源である試料から離間して配置するようにすることは，当業者が適宜なし得る設計的事項であるといえる。
　
　そして，本願明細書に記載された補正発明によってもたらされる効果は，引用例１の記載事項および周知技術から，当業者であれば予測することができる程度のものであり，格別顕著なものとはいえない。
　なお，上記「（２）上記相違点について　イ」に関し，本願明細書には，Ｘ線源と検出器とを離間する点については，段落【０００３】に，「この種の検出器は，普通，７７Ｋで沸騰するある量の液体窒素により熱伝導により冷却される冷却指部の端部に装着される。約０.１ケルビンに冷却される検出器を使用してより高い解像度を達成でき，そしてこれに関連して，ＳＥＭ包囲体の外側に検出器を配置するのが望ましかろう。しかしながら，強度がＸ線源からの距離に平方で依存するという周知の法則のため，検出器がＸ線源からさらに遠くに移動されると，強度が落ち，このためＸ線を受けるスペクトロメータの性能が劣化する。」と記載されているものの，Ｘ線源とＸ線ビーム集中装置とを離間する点については，その技術的意義や，どの程度離間させるのが望ましいかは，何ら記載されていない。
　
　したがって，補正発明は，引用発明および周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により，特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（３）付記（回答書における請求人の主張について）
　請求人は，平成２２年１２月１５日付けで提出された審尋に対する回答書の１頁下から９行〜２頁６行において，請求項１を，次の補正案のとおり補正したい旨主張している。
「【請求項１】Ｘ線診断システムであって， 
　Ｘ線源から分散されるＸ線を受け入れるためのＸ線ビーム集中装置にして，
　複数のガラス毛管から形成され， 
　前記Ｘ線ビーム集中装置から分散されるＸ線を受け取り且つ配向するポイントツーパラレル形式のガラス毛管束と，該ポイントツーパラレル形式の毛管束からのＸ線を受け取り且つ集中させるために該ポイントツーパラレル形式のガラス毛管束に連結され，かくしてポイントツーポイント形式のＸ線集中装置を提供するパラレルツーポイント形式のガラス毛管束と， 
　を備えるＸ線診断システム。」（以下，「補正案発明」という。）
　
　しかし，上記補正案の補正事項は，請求項１に係る発明の発明特定事項である「Ｘ線スペクトロメータ」を削除し，特許請求の範囲を拡張することを含むものである。
　また，ポイントツーパラレル形式のガラス毛管束と，パラレルツーポイント形式のガラス毛管束とを組み合わせて，ポイントツーポイント形式のＸ線集中装置を提供することは，引用例１の第４０Ｂ図および第４５図にも記載の事項である。そうすると，請求項１に係る発明を，補正案発明のとおりに補正したとしても，進歩性を有することとはならない。
　以上のことから，請求人の上記主張は，採用することができない。
　
４　まとめ
　以上のとおりであるから，本件補正は，平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので，同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により，却下すべきものである。 
　
　
第３　本願発明について
　
１　本願発明
　以上のとおり，本件補正は，却下されることとなったから，本件特許出願人が特許を受けようとする発明として特定する事項は，本願の願書に最初に添付された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜４７に記載されたとおりのものと認められ，そのうち請求項１は，次のとおりである。（以下，「本願発明」という。）　
「【請求項１】　Ｘ線源と，
　このＸ線源から離間されＸ線源からのＸ線を受け入れるように配置されたＸ線ビーム集中装置と，
　該集中装置からＸ線を受け入れるように配置されたＸ線スペクトロメータと
を備えることを特徴とするＸ線診断システム。」
　
２　引用刊行物の記載事項　
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例およびその記載事項は，上記「第２　２　引用刊行物の記載事項」に記載したとおりである。
　
３　判断　
　本願発明は，補正発明から，「Ｘ線源の包囲体の外側に」配置されたとの限定を省くとともに，明りょうでない記載の釈明を目的とする補正であって，「このＸ線源」および「・・・備えることを特徴とするＸ線診断システム」を，それぞれ，「該Ｘ線源」および「・・・備えるＸ線診断システム」とする補正を元に戻したものである。
　そうすると，本願発明の構成要件をすべて含み，さらに他の構成要件を付加したものに相当する補正発明が，上記「第２　３　対比・判断」において検討のとおり，引用発明および周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，本願発明も同様の理由により，引用発明および周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるというべきである。
　
４　むすび　
　以上のとおり，本願発明は，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから，その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく，本願は拒絶されるべきものである。　
　
　よって，結論のとおり審決する。