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　特願２００４−３０１７２３「リソグラフィック装置、デバイス製造方法及び位置決めシステム」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　５月１２日出願公開、特開２００５−１２３６２９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１６年１０月１５日（パリ条約による優先権主張２００３年１０月１７日、欧州特許庁）の出願であって、平成２０年１月２１日付けで通知した拒絶の理由に対して、同年４月１８日付けで意見書が提出されたところ（なお、同意見書では、同日付けで手続補正書を提出した旨が記載されているが、手続補正書は提出されていない。）、同年１０月１７日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２１年１月１５日付けで審判請求がされたものである。
　本願の請求項１〜１４に係る発明は、出願当初の特許請求の範囲の請求項１〜１４に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は次のとおりである。
　
　「【請求項１】
　投影放射ビームを提供するための照明システムと、
　前記投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、
　基板を保持するための基板テーブルと、
　パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えたリソグラフィック装置であって、
　前記リソグラフィック装置が、互いに協同する２つの電磁エレメントを個々に備えた第１及び第２の電磁アクチュエータを備え、前記電磁エレメントが、個々のアクチュエータの前記エレメントに作用する、前記アクチュエータによって生成される場によって生じる力によって互いに対して移動可能であり、
　前記アクチュエータの少なくとも一方が、もう一方のアクチュエータ或いは前記リソグラフィック装置の他の磁気部品によって生成される第２の場から前記一方のアクチュエータを遮蔽し、前記第２の場による妨害力の前記一方のアクチュエータへの作用を少なくとも部分的に防止するためのシールドを備えたことを特徴とするリソグラフィック装置。」
　
　
２．引用刊行物の記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された特開２００２−２６１０００号公報（原査定の引用文献１。以下、「刊行物１」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。なお下線は当審で付した。
　
　（ａ）「【特許請求の範囲】
　【請求項１】〜【請求項１０】（略）
　【請求項１１】
物体にパターンを写すための電子線リソグラフィシステムであって
電子線を発生させるための電子線源と
マスク上のパターンを物体の表面に投影する投影システムと
前記物体を保持し位置決めするステージ位置決めシステムとからなり
前記ステージ位置決めシステムは
処理される物体を保持する静止フレームと
前記静止フレームに対して第１の方向に可動なスライダと
前記スライダに係合し前記第１の方向に可動で、第２の方向へ可動なように前記スライダに係合されたプラットフォームと
第１マグネット装置と、前記第１マグネット装置とともに前記スライダを前記第１の方向に動かす第１コイル装置とからなる第１リニアモータと
第２マグネット装置と、前記サポートプラットフォームに係合され前記第２マグネット装置と共に前記サポートプラットフォームを前記第２の方向に動かせる第２コイル装置からなる第２リニアモータと
からなるシステムであって
【請求項１２】前記第１マグネット装置は前記フレームに係合され、前記スライダの長さに等しい距離だけ前記第２の方向へ空間を空けて配置された２つの平行なマグネットトラックからなることを特徴とする請求項１１に記載の電子線リソグラフィシステム。
【請求項１３】前記第１コイル装置は少なくとも２つのコイルからなることを特徴とする請求項１２に記載の電子線リソグラフィシステム。
【請求項１４】前記第２マグネット装置は前記スライダの軸に沿って伸びるマグネットトラックからなり、前記第２コイル装置は少なくとも１つのコイルからなることを特徴とする請求項１１に記載の電子線リソグラフィシステム。
【請求項１５】
前記第１および第２マグネット装置のそれぞれは、マグネットシールドを含んでいる
【請求項１６】〜【請求項３６】（略）」
　
　ここで、下記（ｂ）（ｆ）の記載によれば、【請求項１１】のマスクは、
パターンが形成されているマスク
物体（半導体ウエハW）を保持するプラットフォーム
　
　（ｂ）「【００１８】図を参照しつつ説明する。先ず、
図１
ステージ位置決めシステム２０は、例えば、半導体のプロセスの間に半導体ウエハWあるいはレチクル（図示せず）を位置決めするのに使われても良い
【００１９】ステージ位置決めシステム２０は、固定フレーム２８、フレームに対してX方向（第１の方向）に可動なスライダ３０、
半導体ウエハWを保持するサポートプラットフォーム３２
X方向にスライダ３０を動かせる２つのXリニアモータ（第１モータ）３４
サポートプラットフォーム３３をY方向に動かすYリニアモータ３６
　
　（ｃ）図１，図３は次のとおり
。
　　
　（ｄ）「【００２２】サポートプラットフォーム３３がリソグラフィシステムのスキャン中にY方向に動くように位置決めステージ２０が動くようにするのが好ましい（図１，２）。マグネットトラック４０、４４はサポートプラットフォーム３３のY方向への動きの間静止している。このように、マグネットトラック４０，４４に係わる磁場の移動は、スキャンの間に電子線を妨げることはない。サポートプラットフォーム３２がX方向に動く時、Yマグネットトラック４４も同様に動く。しかし、Yマグネットトラックの動きは少しも影響を与えない。というのは、リソグラフィーシステムはこの時スキャンをしていないからである。電子線は、サポートプラットフォームから、止められているか、シールドされているか、他方向へ向かされているかの何れかである。プラットフォームがX方向へ動く間スキャンは行なわれていないから、Yリニアモータの動きによる効果は物体のパターニングに何の影響も与えない。」
　
　（ｅ）「【００２７】Xリニアモータ３４のXマグネットトラック４０はそれぞれが、フレーム２８ａ、２８ｂに配置されている（図１、３）。それぞれの
マグネットトラック４０は一般にＵ字型をしたサポート５６と複数のマグネット５８からなるマグネット配列とからなっている
マグネットトラック４０はシールド６２に取り囲まれており、それに固定されている
図３
マグネットトラック４０はシールド６２によって完全にシールドされている
但し、内壁５２に形成され、トラックの長さ方向に沿ってコイル装置４２の動きを許容するマグネットトラックの長さに沿って伸びるスロット６４ではシールドされていない
シールド６２は、好ましくは、マグネットトラック４０によって引き起こされる磁場をシールドし、マグネットトラックの磁場により電子線が干渉を受けることを阻止する
【００２８】コイル装置４２は、一般にマグネット５８の間の距離ｄよりも僅かに小さい厚さｔを持つ平面状をしたものである。
コイル装置４２は、スライダの端部より外側に伸びるコネクティング部材６８によりスライダ３０対抗面に係合されている
【００２９】スライダ３０はスライダの長さ方向のＡ軸に沿って伸びる伸展部材６９と、伸展部材に平行に伸びている二本のシリンダシャフト７０からなっている（図１，５）。伸展部材６９とシャフト７０は、それぞれの端部が係合されスライダ３０を構成するようになっている。
進展部材６９はＹマグネットトラックとシールド７２からなっている
これは上記に図３にて示したＸマグネットトラック４０とシールド６２に類似
コイル装置４６
　
　（ｆ）「【００３７】
図７
【００３８】
電子源（ガン）１０２は、軸Ａに沿ってＺ方向に、照明開口１０６を通じて、電子線Ｅを照射する
【００３９】図７の電子線露光システムに示したように、レンズ装置は電子線コラム１０４の軸Ａに沿って配置される。分かり易くするために、システムの一部は除去している。
回路パターンが形成されているレチクル（マスク）Ｒ
　
　ここで、電子源（ガン）１０２と照明開口１０６は、あわせて「
電子線照射装置
　
　（ｇ）図７は次のとおり。　
　（ｈ）「【００５０】本発明によるステージ位置決めシステム２０は多くの利点を持っていることが理解されるはすである。重要なことは、このシステム２０は、マグネットトラック４０、４４の動きなしに、サポートプラットフォーム３３を動かすことができる点である。何故なら、マグネットトラック４０，４４は露光中には静止しており、磁場の移動は最小限になっている。また、第１方向屁のスライダーの動きによる振動も除去される。更に、
マグネットトラック４０、４４は実質的にシールドされており、磁場と電子線との干渉を防いでいる
　
　これら記載によれば、刊行物１には次の発明（以下、「刊行物１記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
　「物体にパターンを写すための電子線リソグラフィシステムであって、
　電子線を発生させるための電子線源を含む電子線照射装置と、
　パターンが形成されているマスクと、
　マスク上のパターンを物体の表面に投影する投影システムと、
　前記物体を保持し位置決めするステージ位置決めシステムとからなり、
　前記ステージ位置決めシステムは、処理される物体を保持する静止フレームと、
　前記静止フレームに対して第１の方向に可動なスライダと、
　前記スライダに係合し前記第１の方向に可動で、第２の方向へ可動なように前記スライダに係合された、物体を保持するプラットフォームと、
　第１マグネット装置と、前記第１マグネット装置とともに前記スライダを前記第１の方向に動かす第１コイル装置とからなる第１リニアモータと、
　第２マグネット装置と、前記サポートプラットフォームに係合され前記第２マグネット装置と共に前記サポートプラットフォームを前記第２の方向に動かせる第２コイル装置からなる第２リニアモータと、
　からなり、
　第１および第２マグネット装置のそれぞれは、マグネットシールドに取り囲まれており、マグネットシールドは、各マグネット装置によって引き起こされる磁場をシールドし、各マグネット装置の磁場により電子線が干渉を受けることを阻止する、
　電子線リソグラフィシステム。」
　
　
３．対比・判断
　本願発明１と刊行物１記載の発明とを対比すると、
　刊行物１記載の発明の「物体」、「電子線リソグラフィシステム」、「電子線を発生させるための電子線源を含む電子線照射装置」、「パターンが形成されているマスク」、「マスク上のパターンを物体の表面に投影する投影システム」、「物体を保持するプラットフォーム」は、
　それぞれ、本願発明１の「基板」、「リソグラフィック装置」、「投影放射ビームを提供するための照明システム」、「前記投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能するパターン化手段」、「パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するための投影システム」、「基板を保持するための基板テーブル」に相当する。
　
　また、刊行物１記載の発明の「第１マグネット装置と、前記第１マグネット装置とともに前記スライダを前記第１の方向に動かす第１コイル装置とからなる第１リニアモータ」及び「第２マグネット装置と、前記サポートプラットフォームに係合され前記第２マグネット装置と共に前記サポートプラットフォームを前記第２の方向に動かせる第２コイル装置からなる第２リニアモータ」は、
　本願発明１の「互いに協同する２つの電磁エレメントを個々に備えた第１及び第２の電磁アクチュエータ」に相当する。
　なお、刊行物１記載の発明の「リニアモータ」における「マグネット装置」及び「コイル装置」は、本願発明１の「電磁アクチュエータ」における「２つの電磁エレメント」に相当している。
　
　さらに、本願発明１の「前記電磁エレメントが、個々のアクチュエータの前記エレメントに作用する、前記アクチュエータによって生成される場によって生じる力によって互いに対して移動可能であり」とは、
　本願明細書【００３５】の「エレメント２０１ａ及び２０１ｂなどのアクチュエータの個々のエレメントは、場（この実施例の場合、磁界若しくは電磁界）或いは個々のエレメント間で相互作用する場によって互いに対して移動することができる。場によってアクチュエータの個々のエレメント間に力が発生し、したがってエレメント２０１ｂは、エレメント２０１ａに対して移動することができ、エレメント２０２ｂは、エレメント２０２ａに対して移動することができる。また、長ストローク・アクチュエータ２００の第２のエレメント（図示せず）は、長ストローク・アクチュエータの他のエレメントを形成している永久磁石のアレイ２００に対して移動することができる。」の記載も参酌すると、
　各アクチュエータにおいて発生される場によって生じる力が、そのアクチュエータを構成する２つの電磁エレメントに作用し、それによりそれら電磁エレメントが互いに対して（すなわち、一方の電磁エレメントが他方の電磁エレメントに対して相対的に）移動可能である旨を意味していると認められ、
　この点では、刊行物１記載の発明の「第１リニアモータ」や「第２リニアモータ」においても、同様の作用により、「マグネット装置」及び「コイル装置」が互いに対して移動可能であることは明らかであるので、
　本願発明１の「前記電磁エレメントが、個々のアクチュエータの前記エレメントに作用する、前記アクチュエータによって生成される場によって生じる力によって互いに対して移動可能であり」の事項は、刊行物１記載の発明にも実質的に含められているということができる。
　
　そうすると、両発明は、
　「投影放射ビームを提供するための照明システムと、
　前記投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能するパターン化手段と、
　基板を保持するための基板テーブルと、
　パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えたリソグラフィック装置であって、
　前記リソグラフィック装置が、互いに協同する２つの電磁エレメントを個々に備えた第１及び第２の電磁アクチュエータを備え、前記電磁エレメントが、個々のアクチュエータの前記エレメントに作用する、前記アクチュエータによって生成される場によって生じる力によって互いに対して移動可能である、
　リソグラフィック装置。」
　の点で一致し、
　以下の点で一応相違する。
　
［相違点１］
　本願発明１は、パターン化手段（例えばマスク）を支持するための支持構造を有するのに対し、
　刊行物１記載の発明は、支持構造の存在が明記されていない点。
　
［相違点２］
　本願発明１は「前記アクチュエータの少なくとも一方が、もう一方のアクチュエータ或いは前記リソグラフィック装置の他の磁気部品によって生成される第２の場から前記一方のアクチュエータを遮蔽し、前記第２の場による妨害力の前記一方のアクチュエータへの作用を少なくとも部分的に防止するためのシールドを備えた」のに対し、
　刊行物１記載の発明は「第１および第２マグネット装置のそれぞれは、マグネットシールドに取り囲まれており、マグネットシールドは、各マグネット装置によって引き起こされる磁場をシールドし、各マグネット装置の磁場により電子線が干渉を受けることを阻止する」点。
　
　そこで、相違点について検討する。
　
（相違点１について）
　刊行物１記載の発明は、マスクを有する以上、マスクを支持する何らかの構造が存在することは当然であるので、この点では、本願発明１と相違しない。
　
（相違点２について）
　本願発明１におけるシールドは、「前記アクチュエータの少なくとも一方が、もう一方のアクチュエータ或いは前記リソグラフィック装置の他の磁気部品によって生成される第２の場から前記一方のアクチュエータを遮蔽し、前記第２の場による妨害力の前記一方のアクチュエータへの作用を少なくとも部分的に防止するためのシールド」（以下、これを「第２の場を遮蔽するシールド」という。）であるとされるところ、具体的には、「一方のアクチュエータ」に対して、「もう一方のアクチュエータ或いは前記リソグラフィック装置の他の磁気部品によって生成される第２の場から前記一方のアクチュエータを遮蔽する」ことができるような位置に、第２の場を遮蔽できるような材料のシールドを設けることである。
　そうすると、アクチュエータが、マグネット装置とコイル装置とからなるリニアモータの場合には、シールドが、磁場を遮蔽できる材料のものであり、しかも、リニアモータを構成するマグネット装置を全体として実質的に取り囲むものであれば、本願発明１の「第２の場を遮蔽するシールド」であるということができる。
　
　これに対して、刊行物１記載の発明は、「第１および第２マグネット装置のそれぞれは、マグネットシールドに取り囲まれて」いるというものであり、詳しくは、上記（ｅ）によれば、トラックの長さ方向に沿ってコイル装置４２の動きを許容するマグネットトラックの長さに沿って伸びるスロット６４を除いて「マグネットトラック４０はシールド６２によって完全にシールドされて」おり、そのシールドは「マグネットトラック４０によって引き起こされる磁場をシールド」する性能を有するものである。
　そうすると、刊行物１記載の発明のマグネットシールドは、磁場を遮蔽できる材料のものであり、しかも、リニアモータを構成するマグネット装置を全体として実質的に取り囲むものであるから、本願発明１の「第２の場を遮蔽するシールド」と、外観上、相違するところがないものである。
　
　したがって、両者の差は、同じ外観のシールドを、「第２の場を遮蔽するもの」とするか（本願発明１）、「各マグネット装置によって引き起こされる磁場をシールドし、各マグネット装置の磁場により電子線が干渉を受けることを阻止するもの」（刊行物１記載の発明）とするかだけであるところ、
　一般に、「内側の磁場を外側に対して遮蔽するシールド」が、「外側の磁場を内側に対して遮蔽する機能」を併せもつことは、技術常識であるから、
　刊行物１記載の発明の上記シールドは、「外側の磁場を内側に対して遮蔽する機能」、すなわち、他方のリニアモータによって生成される「第２の場を遮蔽する機能」（請求人が審判請求書でいう「アクチュエータ同士の相互的な磁気作用を防止する」機能）を有することは、当然である。
　そうである以上、本願発明１の「第２の場を遮蔽するシールド」と、刊行物１記載の発明の上記シールドとに、実質的な差はないというべきである。
　
（まとめ）
　よって、本願発明１と刊行物１記載の発明に、相違する点はない。
　
　
４．むすび 
　以上のとおりであるから、本願の請求項１に係る発明は、刊行物１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の発明に該当し、同法第２９条第１項の規定により特許を受けることができないので、他の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。