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　　特願２００４−２２１５８９「磁気転写用マスタ担体の製造方法および磁気転写用マスタ担体」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　２月　９日出願公開、特開２００６−　４０４６９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯、本願発明
　本願は平成１６年７月２９日にした特許出願であって、平成２０年４月１６日付けで拒絶の理由を通知したところ、平成２０年６月２３日付け手続補正により特許請求の範囲が補正されたが、同年７月１５日付けで拒絶査定がされ、これに対して、同年８月２８日に拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　
　本願の特許請求の範囲の請求項１ないし５に係る各発明は、平成２０年６月２３日付けで手続補正された特許請求の範囲の請求項１ないし５に記載されたとおりのものと認められるところ、そのうち、請求項４に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　
「【請求項４】
　磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込むための磁気転写用マスタ担体であって、
　基材と、
　上記基材上に形成されためっき法用の下地層と、
　上記下地層が臨む開口部を伴って上記情報に対応するパターン形状、を有して上記下地層上に形成されたレジストパターンと、
　上記開口部に臨む下地層上にめっき法により形成された、上記情報に対応するパターン形状を有し且つ上記レジストパターンを越えて突出している磁性材パターンと、を備える磁気転写用マスタ担体。」
　
２．刊行物及びその記載
　これに対し、原査定の拒絶の理由で引用された、本願出願前に頒布された刊行物である特開昭６０−９８５２８号公報（以下、「刊行物」という。）には、「磁気転写用原盤」に関する発明について、図面とともに、以下の記載がある。なお、下線は当審で付した。
　
（ア）「特許請求の範囲　
　
薄い非磁性基板と、前記非磁性基板上に形成されたメタライズ層と、前記メタライズ層上に形成されたメッキ用フォトレジスト図形と、前記メッキ用フォトレジスト図形間にメッキにより形成された磁性材とより構成された磁気転写用原盤
　
（イ）「本発明は、
磁気記録媒体に所定の磁気的信号パターンを転写する
転写用原盤
　
（ウ）「これに対し
非磁性領域と磁性領域とを有する原盤
非磁性領域と磁性領域のパターンに応じた信号を転写する
　
（エ）「非磁性基板上の磁性領域と非磁性領域とをエッチングにより形成する方法が提案されている。
（中略）
が、いずれの場合にもアンダカットのためエッチングだれと呼ばれる領域が残ってしまう。
　このエッチングだれは転写した際の磁化遷移領域となり、転写信号の劣化を引き起こしてしまう。
　したがって、所望の磁気的信号を転写するには、エッチングだれをなくし、磁性領域と非磁性領域との境界を原盤面に垂直になるように形成することが必須である。」（第２頁左上欄第９〜１９行）
　
（オ）「第１図は、本発明の磁気転写用原盤の実施例の転写方向に平行な断面図である。
　
磁気転写用原盤10は、薄く平坦な非磁性基板14と、その上に電気メッキの下地として形成された薄いメタライズ層13と、その上にメッキ用フォトレジスト図形12で仕切られ、メッキ用フォトレジスト図形と上端面を同一となるように電気メッキにより形成された磁性材11とより構成されている
　非磁性基板14は例えばポリエステルやポリイミドといった可撓性で薄い材質あるいはガラス薄膜シートのような硬質の薄い平坦な材質のものである。
　非磁性基板14の上に、メタライズ層13として、例えばクロム膜をスパッタリングあるいは、真空蒸着で形成する。　・・・
（中略）
　メタライズ層13の上に形成するフォトレジストは、比較的厚く形成されなければならない。
（中略）
　・・・　このフォトレジスト上にフォトマスクを載せ露光を行い、現像を行ってメッキ用フォトレジスト図形12を形成する。メッキ用フォトレジスト図形には原盤10の膜面に対し垂直に近い境界を実現させることができる。メタライズ層13を一方の電極として磁性材11、例えばＣｏ、Ｆｅ等を電気メッキによって付着させると、レジスト部分には絶縁材であるためにメタライズ層13の露出した部分のみに磁性材11が付着する。
　磁性材11の付着量はフォトレジスト図形12と上端面が同一平面になるようメッキ時間を制御し、磁性材11、メッキ用フォトレジスト図形12より成る転写用原盤を形成する。」（第２頁右上欄第１７行〜同頁右下欄第１１行）
　
（カ）「このようにして形成された磁気転写用原盤10を用いて磁気転写を行うと、磁化遷移領域の狭い理想的な転写記録が可能となる。フォトレジストの厚さ、そして、メッキ時間の制御により、膜厚の異なる磁気転写用原盤10が容易に作成でき、微細なパターンや、大きいパターンなど自由に精度良く形成できる。したがって、転写する磁気記録媒体には、
比較的周波数の低いサーボ情報や、周波数の高いデータ等あらゆる種類の磁化情報の転写が可能
　
　以上の記載及び図面を総合勘案して、刊行物には、次の発明（以下、「刊行物発明」という。）が記載されているものと認める。
「非磁性領域と磁性領域とを有し、磁気記録媒体に前記非磁性領域と磁性領域のパターンに応じた磁気的信号パターンを転写する磁気転写用原盤であって、
　薄い非磁性基板と、
　前記非磁性基板上に電気メッキの下地層として形成されたメタライズ層と、
　前記メタライズ層上に形成されたメッキ用フォトレジスト図形と、
　前記メッキ用フォトレジスト図形間に、フォトレジスト図形と上端面が同一平面になるように、電気メッキによりメタライズ層上に形成された磁性材とより構成され、
　非磁性領域と磁性領域のパターンに応じたサーボ情報等の信号を転写する磁気転写用原盤。」
　
３．対比
（１）刊行物発明の「磁気転写用原盤」において「非磁性領域と磁性領域とを有し、磁気記録媒体に前記非磁性領域と磁性領域のパターンに応じた磁気的信号パターンを転写する」ことは、「磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込む」ことに他ならないから、刊行物発明の「磁気転写用原盤」は、本願発明の「磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込むための磁気転写用マスタ担体」に相当する。
（２）刊行物発明における「薄い非磁性基板」は、本願発明における「基材」に相当する。
（３）刊行物発明における「非磁性基板上に電気メッキの下地層として形成されたメタライズ層」は、本願発明における「上記基材上に形成されためっき法用の下地層」に相当する。
（４）刊行物発明における「メタライズ層上に形成されたメッキ用フォトレジスト図形」は、磁気的信号パターンを転写するために形成されるものであって、メタライズ層上に、フォトレジストが残っている部分と、フォトレジストが除去されてメタライズ層が露出した部分とで「図形」となることが自明であるから、本願発明における「下地層が臨む開口部を伴って上記情報に対応するパターン形状、を有して上記下地層上に形成されたレジストパターン」に相当する。
（５）刊行物発明における「前記メッキ用フォトレジスト図形間に」「電気メッキによりメタライズ層上に形成された磁性材」は、本願発明における「上記開口部に臨む下地層上にめっき法により形成された、上記情報に対応するパターン形状を有し」「ている磁性材パターン」に相当する。
　
　以上のことからすると、本願発明と刊行物発明との一致点及び相違点は、以下のとおりである。
　
（一致点）
「磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込むための磁気転写用マスタ担体であって、
　基材と、
　上記基材上に形成されためっき法用の下地層と、
　上記下地層が臨む開口部を伴って上記情報に対応するパターン形状、を有して上記下地層上に形成されたレジストパターンと、
　上記開口部に臨む下地層上にめっき法により形成された、上記情報に対応するパターン形状を有している磁性材パターンと、
を備える磁気転写用マスタ担体。」
　
（相違点）
　磁性材パターンについて、本願発明では、「レジストパターンを越えて突出している」と特定されるのに対して、刊行物発明では、フォトレジスト図形、即ち、レジストパターンと上端面が同一平面になるように形成されている点。
　
４．判断
　上記相違点について検討する。
　前記「２．（オ）」で、「磁性材11の付着量はフォトレジスト図形12と上端面が同一平面になるようメッキ時間を制御し、・・・」、同じく、（カ）において、「メッキ時間の制御により、膜厚の異なる磁気転写用原盤10が容易に作成でき、・・・」とされ、磁性材の付着量、膜厚がメッキ時間の制御で制御できること、又、電気メッキの場合、メッキ厚の制御が電流量及び時間の制御でなされることも、周知のことであり、刊行物発明においても、電気メッキ法を採用している以上、磁性材膜の厚さを適宜制御し得ることも当業者がごく容易に想定し得るところである。
　一方、磁気転写用原盤（マスク担体）において、磁性材パターンが原盤（基材）表面から突出するよう構成することは、既に、拒絶理由通知において、周知事項にすぎないことが説示されているが、拒絶査定の際にも、出願明細書に先行技術として開示された特開２００１−３４９３８号公報（以下、「周知例１」という。）、及び特開２００２−３７３４１６号公報（以下、「周知例２」という。【図８】参照。）を周知例として例示したところである。これらの他にも、特開２００２−３６７１３７号公報（以下、「周知例３」という。特に【００３２】段落、【図６】参照。）を例示することができる。
　前記周知例１には、【００５５】、【００５６】に、【図５】を参照して、強磁性薄膜（１１）が基体（１０）から突出している状態では、強磁性薄膜（１１）は被転写媒体とよく密着するため、転写状態は良好であるとされていると、強磁性薄膜が突出する技術的意義についても記載がある。前記のような、密着による良好な転写についての技術的意義は、磁気転写用原盤の製造方法によって左右されるものとも認められないから、メッキ法を用いる刊行物発明においても、磁性材パターンと被転写媒体をよく密着するように、磁性材をフォトレジスト図形、即ち、レジストパターンの上端面を越えて突出させることは、当業者であれば、適宜採用し得る範囲内のことである。
　
　そして、上記相違点について総合的に判断しても、本願発明が奏する効果は、刊行物発明発明及び周知技術から、当業者が十分に予測できたものであって、格別なものとはいえない。
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物に記載された発明に基づいて、周知技術も参酌することにより、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　なお、以下、請求理由における請求人の主張についても検討する。
　「III．２．（２）」に、請求項４に係る発明について、
「請求項４の磁気転写用マスタ担体では、磁性材パターンはレジストパターン表面よりも突出した部分が当該レジストパターンに乗り上げるオーバーハング構造をとることとなり、オーバーハング構造における上述の第１の面と第３の面との境界の角張り度合いを調節することにより、本マスタ担体の発する磁界ないし磁束の分布を調整することが可能である（例えば、本マスタ担体の発する磁界について、磁界の強い領域と弱い領域との差を大きくとることも可能である）。」
と主張しているが、そもそも「オーバーハング構造」は、請求項４に特定のない事項であり、まして「オーバーハング構造における上述の第１の面と第３の面との境界の角張り度合いを調節する」ことについては、具体的にどのように調整するのか、その手段も含め、請求項はもちろんのこと、発明の詳細な説明にも記載がない。以上のとおりであるから、上記の請求項４についての主張は、請求項の記載に基づかないもので、その根拠がないものである。
　また、仮に、請求項４に記載された発明の「磁性体パターン」が、「メッキ法により形成され」「レジストパターンを越えて突出する」ことで、オーバーハング構造を取り得ると解されるとしても、メッキされた金属がレジストパターンを越えて形成される場合にオーバーハング構造が形成されることは、例えば、特開２００３−１２７１４３号公報に示されるように、メッキ法においては格別なことではないから、刊行物発明においても、既に説示したとおり、周知技術を参酌し、「メッキ時間を制御」することで、磁性材がフォトレジストパターンを越えて突出するまで付着するようにメッキ時間を設定した場合には、本願発明と同様に、オーバーハング構造を取り得ると解されるから、特段、構成上の相違が生じると認めるべき根拠とはならないものである。
　さらには、「本マスタ担体の発する磁界について、磁界の強い領域と弱い領域との差を大きくとることも可能」との主張に対しては、請求の理由「ＩＩＩ．１．（６）」の用語を援用すると、「第１の面」はともかく、「第３の面」のように密着度が低くなる部分が構成されると、パターン境界での磁界の勾配はむしろ小さくなる可能性もあり、前記主張が事実であることを裏付ける根拠は何ら示されていないので、前記主張を採用することができない。
　結局、本願の請求項４についての請求人の主張は採用することができない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項４に係る発明については、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は、その余の請求項について論及するまでもなく、拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。