【事件の表示】
　特願２００４−　９３２６３「高いガスバリア性を有する合成樹脂製容器」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１０月１３日出願公開、特開２００５−２８０７１８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件審判に係る出願は、平成１６年３月２６日に出願されたもので、平成２１年８月５日付け拒絶理由通知書が送付され、願書に添付した特許請求の範囲、明細書又は図面についての同年１０月６日付け手続補正書が提出されたものの、平成２２年２月９日付けで拒絶査定されたものである。
　そして、本件審判は、この拒絶査定を不服として請求されたものである。
　
２．原査定
　原査定の拒絶理由の１つは、以下のとおりのものと認める。
　
　「本件出願の請求項１に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
１；特表２００４−５０４９３８号公報
２；特開２００３−１０４３５２号公報
３；特開平８−１７５５２８号公報」
　
　なお、ここにおける、「特表２００４−５０４９３８号公報」を、以下、「引用例」という。
　
３．当審の判断
　
３−１．本件の発明
　
１）本件の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、願書に添付した特許請求の範囲、明細書又は図面（以下、「本件明細書等」という。）の請求項１に記載の事項により特定されるものであって、同項の記載は、以下のとおりのものと認める。
　
　「容器本体の内表面又は外表面の少なくとも一方に、ガスバリア性の高い被膜を有する合成樹脂製の容器であって、
　少なくとも前記被膜は、容器本体の表面に位置し窒素、珪素、炭素、水素及び酸素を含む有機系珪素化合物層と、この有機系珪素化合物層の表面に位置し酸化珪素化合物を主成分とする酸化珪素化合物層からなり、
　前記有機系珪素化合物層、酸化珪素化合物層の屈折率が１．３〜１．６の範囲である、
ことを特徴とする高いバリア性を有する合成樹脂製容器。」
　
２）そして、本件発明は、「有機系珪素化合物層、酸化珪素化合物層の屈折率が１．３〜１．６の範囲である、」と記載された事項（以下、「本件事項」という。）を、いわゆる、発明特定事項として有する合成樹脂製容器に係るものと認められる。そこで、本件事項を有することの技術的意義について検討する。
　本件明細書等の段落【００１６】〜【００２２】には、以下の記載Ａが認められる。
　
Ａ；「【００１６】
　・・・（審決注；「・・・」は記載の省略を示す。以下、同様。）。
【実施例１】
【００１７】
　ＰＥＴボトルの表面に高周波パルスを用いたプラズマＣＶＤ法（パルス放電条件：ON（0.1sec）、OFF(0.1sec)）により被膜を被成して該ＰＥＴボトルの酸素バリア性（酸素透過性、及び水分透湿度）について調査を行った。その結果を表１、２にそれぞれ示す。
【００１８】
　なお、表１は、有機系珪素化合物層を設けるにあたってＡｒガスを使用した場合の結果を示したものであり、表２は有機系珪素化合物層を設けるにあたって窒素ガスを使用した場合の結果であり、表１、２中、「ＤＥＰＯ」は放電時間（例えば８はパルス放電８secの意）であり、「ＨＭＤＳＯ」はヘキサメチルジシロキサンであり、ガス流量の「ｓｃｃｍ」は０°Ｃ、１気圧の状態で１分間に流れるガス量（ｃｃ）の意である。
【００１９】
　また、「原料ガスの組成比」はＨＭＤＳＯ、酸素、窒素、アルゴン等のガスが混合された状態の比であり、「透湿度４０°Ｃ−７５％ＲＨ」は保管環境の温度と相対湿度であり、「ＢＩＦ」は未成膜品と比較したバリア改良率（Barrier Improvement Factor）である。
【００２０】
【表１】（審決注；具体的な表については、省略。）
【００２１】
【表２】（審決注；具体的な表については、省略。）
【００２２】
　表１、２より明らかなように、本発明にしたがう容器（表２の二層成膜）においては、Ａｒガスを添加して有機系珪素化合物層を成膜した容器（表１の二層成膜）に比べて酸素バリア性（ＢＩＦ値）が１．３倍程度、また、水分バリア性（透湿度、ＢＩＦ値）が１．２倍程度向上しており、ＰＥＴボトル単体の容器や、酸化珪素化合物を主成分とする層のみを成膜したＰＥＴボトルよりも酸素バリア性、及び水分バリア性がさらに向上することが確認できた。」
　
　記載Ａには、合成樹脂製容器につき、その具体例として比較例や適合例が記載され、この記載は、上記適合例が本件発明の具体例とされ、比較例と対比することにより、本件発明の技術的意義を明らかしようとするものと認められ、そして、これら具体例の詳細を見ると、その有機系珪素化合物層や酸化珪素化合物層等の屈折率が記載されているものの、本件事項に注目して、その技術的意義が明らかにされているとはいえない。また、本件明細書等の他の記載を見渡しても、該技術的意義を明らかにしている記載は見当たらない。
　してみると、本件事項の技術的意義は、有機系珪素化合物層や酸化珪素化合物層が、その物性として、屈折率を有するということだけで、その数値を１．３〜１．６の範囲のものとした点に、格別な作用効果はないと言うべきである。
　
３）次に、本件発明の「有機系珪素化合物層」や「酸化珪素化合物層」の形成手段について見ておくこととする。
　本件明細書等には、先に「２）」において摘示した記載Ａが認めら、この記載によれば、「有機系珪素化合物層」は、概要、プラズマＣＶＤ法により被成したもので、成膜条件のガス（流量）としては、ＨＭＤＳＯと窒素、窒素に比べて極めて少量の酸素が使用され、また、「酸化珪素化合物層」は、同様に、プラズマＣＶＤ法により被成したもので、ＨＭＤＳＯと酸素が使用されるものと認められる。
　
３−２．刊行物の記載
　引用例には、以下の記載ａ〜ｅが認められる。
　
ａ；「【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理される基体にバリアコーティングを堆積するために低圧プラズマを使用し、プラズマが、処理ゾーンに低圧で噴射される反応性流体を、電磁界の作用で部分的にイオン化することにより得られる方法であって、
少なくとも有機ケイ素化合物と窒素化合物とを含む混合物を、プラズマ状態にすることによって得られる境界層を基体に堆積する少なくとも一つのステップと、主に、式ＳｉＯｘの酸化ケイ素からなるバリア層を境界層に堆積することからなるステップとを含むことを特徴とする、方法。」
ｂ；「【請求項１５】
低圧プラズマにより基体に堆積されるバリアコーティングであって、式ＳｉＯｘの酸化ケイ素から主に構成されるバリア層を含み、コーティングが、基体とバリア層との間に境界層を含み、前記境界層が主に、ケイ素、炭素、酸素、窒素、および水素から構成されることを特徴とする、コーティング。
【請求項１６】
・・・。
【請求項２６】
請求項１５から２５のいずれか一項に記載のバリアコーティングにより少なくとも片面で被覆されることを特徴とする、ポリマー材料の容器。
【請求項２７】
・・・。
【請求項２８】
ポリエチレンテレフタラート製のボトルであることを特徴とする、請求項２６または２７に記載の容器。」
ｃ；「【０００１】
本発明は、低圧プラズマを使用することにより堆積される薄膜バリアコーティングの分野に関する。このようなコーティングを得るために、処理ゾーンに低圧で反応性流体を噴射する。反応性流体は、使用圧力に上昇すると、一般に気体になる。処理ゾーンでは、電磁界を設定して反応性流体をプラズマ状態にし、すなわち、少なくとも部分的にイオン化する。こうしたイオン化メカニズムにより得られる粒子を、処理ゾーンに配置される物体の壁に堆積することができる。
【０００２】
低圧プラズマによる堆積は、低温プラズマとも呼ばれ、高温に弱いプラスチック材料の物体に薄膜を堆積し、物体に堆積されるコーティングを物理的、化学的に適切に接着することができる。
【０００３】
このような堆積技術は、様々な用途で使用されている。こうした用途のひとつは、特に、酸素や二酸化炭素のような気体に対する透過性を減少するために、フィルムまたは容器に行われる機能的なコーティングの堆積である。」
ｄ；「【００３９】
このような境界層を得るために、処理ゾーンに、有機ケイ素化合物、すなわち主に、炭素、ケイ素、酸素、水素と、窒素化合物とを含む混合物を噴射しなければならない。
【００４０】
有機ケイ素化合物は、たとえば、有機シロキサンとすることができ、簡単には、窒素化合物を窒素とすることができる。また、少なくとも一つの窒素原子を含む有機シラザンを、有機ケイ素化合物として使用するよう検討してもよい。
【００４１】
ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）またはテトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）等の有機シロキサンは、一般に、室温で液体である。従って、処理ゾーンにこれらを噴射するには、気泡管内で有機シロキサンの蒸気に結合されるキャリヤガスを用いるか、あるいは単に、有機シロキサンの飽和蒸気圧で作業することができる。
【００４２】
キャリヤガスを用いる場合、このキャリヤガスは、ヘリウムまたはアルゴン等の希ガスとすることができる。しかし、有利には、キャリヤガスとして単に気体窒素（Ｎ２）を使用可能である。
【００４３】
好適な実施形態によれば、この境界層は、処理ゾーン、この場合には、内部容量が５００ｍｌのプラスチックボトルに、キャリヤガスとして流量４０ｓｃｃｍの気体窒素を用いることにより、流量４ｓｃｃｍ（標準ｃｍ３／分）のＨＭＤＳＯを噴射することによって得られる。使用されるマイクロ波のパワーは、たとえば４００Ｗであり、処理時間は約０．５秒である。その結果、上記のタイプの装置で得られる境界層の厚さは、約数ナノメータに過ぎない。」
ｅ；「【００４８】
この境界層に、ＳｉＯｘ材料のバリア層を堆積することができる。低圧プラズマによりこうした材料を堆積する多数の技術が存在する。たとえば、上記のＨＭＤＳＯ／Ｎ２混合物に８０ｓｃｃｍの気体酸素（Ｏ２）を加えることができる。このような添加は、瞬間的に、あるいは徐々に実施可能である。
【００４９】
プラズマに十分に多く存在する酸素は、ＨＭＤＳＯまたは、キャリヤガスとして使用される窒素からもたらされる、炭素原子、窒素原子、および水素原子をほとんど完全に除去する。かくして、ＳｉＯｘ材料が得られ、ここで、酸素の量とケイ素の量との比を示すｘは、一般に、使用される操作条件に応じて１．５から２．２である。上記の条件では、ｘの値を２より大きくすることができる。もちろん、第一のステップ中と同様に、取得方式による不純物がこの層に若干混入しうるが、特性が著しく変わることはない。」
　
３−３．引用例の発明
　引用例には、記載ｂによれば、「ポリエチレンテレフタラート製ボトルの片面に、低圧プラズマにより堆積されるバリアコーティングによる被覆が施された上記ボトルであって、該バリアコーティングは、上記片面に形成された、主に、ケイ素、炭素、酸素、窒素及び水素から構成される境界層と、この境界層の面に、更に、形成された、酸化ケイ素から主に構成されるバリア層とからなる、ポリエチレンテレフタラート製ボトル」の発明が記載されていると認められる。
　そして、上記発明の「境界層」は、記載ａを参照すれば、少なくとも有機ケイ素化合物と窒素化合物とを含む混合物を、プラズマ状態にすることによって得られる、すなわち、プラズマＣＶＤ法によって得られるものであり、また、上記発明の「ガスバリア層」も、プラズマＣＶＤ法によって得られるものであり、そして、上記発明の「バリアコーティング」における「バリア」は、記載ｃを参照すれば、「ガスバリア」の意味であると認められる。
　以上のことから、引用例には、以下の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
　「ポリエチレンテレフタラート製ボトルの片面に、低圧プラズマＣＶＤ法により堆積されるガスバリアコーティングによる被覆が施された上記ボトルであって、該ガスバリアコーティングは、上記片面に形成された、主に、ケイ素、炭素、酸素、窒素及び水素から構成される境界層と、この境界層の面に、更に、形成された、酸化ケイ素から主に構成されるガスバリア層とからなる、ポリエチレンテレフタラート製ボトルにおいて、
　上記境界層は、少なくとも有機ケイ素化合物と窒素化合物とを含む混合物を、プラズマ状態にし、これを堆積することによって得られる層であるポリエチレンテレフタラート製ボトル」
　
３−４．対比判断
　
１）本件発明と引用発明とを対比する。 
 　引用発明の「ガスバリア層」は、本件発明の「酸化珪素化合物層」に対応しているといえる。
　また、引用発明の「境界層」は、少なくとも有機ケイ素化合物と窒素化合物とを含む混合物を、プラズマ状態に状態にし、これを堆積することによって得られる層であることから、有機系珪素化合物層といえるもので、しかも、主に、ケイ素、炭素、酸素、窒素及び水素から構成されることから、本件発明の「有機系珪素化合物層」に対応しているといえる。
　そして、以上の検討を踏まえると、本件発明は、引用発明とは、
　
　「容器本体の内表面又は外表面の少なくとも一方に、ガスバリア性の高い被膜を有する合成樹脂製の容器であって、
　少なくとも前記被膜は、容器本体の表面に位置し窒素、珪素、炭素、水素及び酸素を含む有機系珪素化合物層と、この有機系珪素化合物層の表面に位置し酸化珪素化合物を主成分とする酸化珪素化合物層からなる合成樹脂製容器。」である点で一致し、
　
　以下の点において相違していると認められる。
　
相違点Ａ；本件発明は、「有機系珪素化合物層、酸化珪素化合物層の屈折率が１．３〜１．６の範囲である」点。
　
２）相違点Ａについて検討する。
　引用発明の「境界層」が、本件発明の「有機系珪素化合物層」に対応しているのは、先に「１）」で述べたとおりである。
　そして、上記「境界層」は、少なくとも有機ケイ素化合物と窒素化合物とを含む混合物をプラズマ状態にし、これを堆積する低圧プラズマＣＶＤ法によって得られる層であるが、更に詳しく、該層を得る方法について見てみると、引用例には、記載ｄが認められ、該記載によれば、上記有機ケイ素化合物としては、ＨＭＤＳＯが例示され、また、窒素化合物としては、キャリヤガスとしての窒素が記載されていると認められる。
　してみると、上記「境界層」は、概要、プラズマＣＶＤ法により被成したもので、成膜条件のガス（流量）としては、ＨＭＤＳＯと窒素が使用されているものと認められる。
　その一方で、本件発明の「有機系珪素化合物層」は、先に「３−１」の「３）」で述べたように、プラズマＣＶＤ法により被成したもので、成膜条件のガス（流量）としては、ＨＭＤＳＯと窒素、窒素に比べて極めて少量の酸素が使用されたもので、概要としては、引用発明の「境界層」を得る手法と変わりはないから、該「境界層」も、所定の屈折率を有し、それも、本件発明における屈折率である１．３〜１．６と、それ程乖離した数値のものではないと解するのが自然であって、また、このように解すること妨げる理由は見当たらない。
　
３）また、引用発明の「ガスバリア層」が、本件発明の「酸化珪素化合物層」に対応しているのは、先に「１）」で述べたとおりである。
　そして、上記「ガスバリア層」は、低圧プラズマＣＶＤ法によって得られる層であるが、更に詳しく、該低圧プラズマＣＶＤ法について見てみると、引用例には、記載ｅが認められ、該記載によれば、低圧プラズマＣＶＤ法に適用される材料として、ＨＭＤＳＯと十分に多く存在する酸素、また、キャリヤガスとして使用される窒素が記載されていると認められる。
　してみると、上記「ガスバリア層」は、概要としては、プラズマＣＶＤ法により被成したもので、成膜条件のガス（流量）としては、ＨＭＤＳＯと十分に多く存在する酸素、また、キャリヤガスとして使用される窒素が使用されて得られるものと認められる。
　その一方で、本件発明の「酸化珪素化合物層」は、先に「３−１」の「３）」で述べたように、プラズマＣＶＤ法により被成したもので、成膜条件のガス（流量）としては、ＨＭＤＳＯと酸素が使用されたもので、概要としては、引用発明の「ガスバリア層」を得る手法と変わりはないから、該「ガスバリア層」も、所定の屈折率を有し、それも、本件発明における屈折率である１．３〜１．６と、それ程乖離した数値のものではないと解するのが自然であって、このように解すること妨げる理由は見当たらない。
　
４）そして、「境界層」や「ガスバリア層」の屈折率は適宜に設計できるものであり、本件発明において、有機系珪素化合物層、酸化珪素化合物層の屈折率を１．３〜１．６の範囲としたための作用効果が、先に「３−１」の「２）」で述べたように、格別なものではないことから、「境界層」や「ガスバリア層」の屈折率を１．３〜１．６の範囲であるとすること、すなわち、相違点Ａは、容易に設計できる程度のものといわざるを得ない。
　
５）以上のことから、本件発明は、引用発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、原査定の拒絶理由は相当である。
　
４．結び
　原査定の拒絶理由は相当であって、原査定は、妥当である。
　よって、結論のとおり審決する。