【手続補正書】
【提出日】平成23年10月19日(2011.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第ＶＩＩＩ族、第ＩＩＢ族、第ＩＩＡ族、第ＩＶＡ族及びこれらの組合せから選択される少なくとも１つの金属化合物；少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属化合物；並びに少なくとも１つの有機酸素含有配位子Ｌを含む触媒前駆体組成物であって、有機酸素含有配位子Ｌがラットへの単回経口用量として＞５００ｍｇ／ＫｇのＬＤ５０量を有する触媒前駆体組成物。
【請求項２】
式：
Ａｖ［（ＭＰ）（ＯＨ）ｘ（Ｌ）ｎｙ］Ｚ（ＭＶＩＢＯ４）
［式中、
Ａは、アルカリ金属カチオン、アンモニウム、有機アンモニウム及びホスホニウムカチオンの少なくとも１つを含み、
ＭＰは、第ＶＩＩＩ族金属、第ＩＩＢ族金属、第ＩＩＡ族金属、第ＩＶＡ族金属及びこれらの組合せの少なくとも１つであり、Ｍは＋２又は＋４の酸化状態を有し、
Ｌは少なくとも１つの有機酸素含有配位子であり、
ＭＶＩＢは、＋６の酸化状態を有する少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属であり；
ＭＰ：ＭＶＩＢは、１００：１〜１：１００の間の原子比を有し；
ｖ−２＋Ｐ＊ｚ−ｘ＊ｚ＋ｎ＊ｙ＊ｚ＝０；かつ
2011502047.tif 000001
である。］
を有する、請求項１に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項３】
ＭＰが、少なくとも１つの第ＶＩＩＩ族金属であり、Ｍが＋２の酸化状態を有する、請求項２に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項４】
ＭＰがニッケルである、請求項２に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項５】
ＭＰが、第ＩＩＢ族金属、第ＩＶＡ族金属、及びこれらの組合せの少なくとも１つであり、Ｍが＋２又は＋４のいずれかの酸化状態を有する、請求項２に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項６】
ＭＰが、亜鉛、カドミウム、スズ、鉛、及びこれらの組合せから選択される、請求項２に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項７】
ＭＶＩＢが、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、及びこれらの組合せから選択される、請求項２に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項８】
ＭＶＩＢが、モリブデン及びタングステンを含み、モリブデン：タングステン比が、１：１０〜１０：１の範囲である、請求項２に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項９】
請求項２に記載の触媒前駆体を硫化することによって調製された触媒であって、１０００時間当たり５°Ｆ（２．８℃）未満の汚染速度を有する触媒。
【請求項１０】
ケイ素成分、アルミニウム成分、及びマグネシウム成分の少なくとも１つをさらに含む、請求項１に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項１１】
約１〜約６のｐＨを有する第１反応混合物を形成する工程であって、第１反応混合物が：
第ＶＩＩＩ族、第ＩＩＢ族、第ＩＩＡ族、第ＩＶＡ族及びこれらの組合せから選択される少なくとも１つの金属化合物、
少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属化合物、
少なくとも１つの有機酸素含有配位子、
少なくとも１つのケイ素成分、少なくとも１つのアルミニウム成分、及び少なくとも１つのマグネシウム成分
を含む工程、
塩基性アルカリ成分を添加して７〜１２の間のｐＨを有する第２反応混合物を形成する工程；並びに
第２反応混合物を、沈殿物又は共ゲルを形成するのに十分な時間反応させる工程
によって得られる、請求項１に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項１２】
ケイ素成分が、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、シリカゾル、シリカゲル、ヒドロニウム安定化シリカゾル、アンモニウム安定化シリカゾル、及びこれらの組合せから選択される、請求項１１に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項１３】
アルミニウム成分が、アルミン酸ナトリウム、アルミン酸カリウム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、及びこれらの組合せから選択される、請求項１１に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項１４】
マグネシウム成分が、マグネシウム金属、水酸化マグネシウム、ハロゲン化マグネシウム、硫酸マグネシウム、硝酸マグネシウム、及びこれらの組合せから選択される、請求項１１に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項１５】
沈殿物又は共ゲルを形成する反応条件において：
第ＶＩＩＩ族、第ＩＩＢ族、第ＩＩＡ族、第ＩＶＡ族及びこれらの組合せの群から選択される少なくとも１つの金属化合物；
少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属化合物；並びに
ラットへの単回経口用量として＞５００ｍｇ／ＫｇのＬＤ５０量を有する、少なくとも１つの有機酸素含有配位子Ｌ
を混合することを含む共沈によって得られる、請求項１に記載の触媒前駆体組成物。
【請求項１６】
式Ａｖ［（ＭＰ）（ＯＨ）ｘ（Ｌ）ｎｙ］Ｚ（ＭＶＩＢＯ４）を有する触媒前駆体組成物を形成する方法であって：
約１〜約６のｐＨを有する第１反応混合物を形成する工程であって、第１反応混合物が：
第ＶＩＩＩ族、第ＩＩＢ族、第ＩＩＡ族、第ＩＶＡ族及びこれらの組合せから選択される少なくとも１つの金属化合物、
少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属化合物、
少なくとも１つの有機酸素含有配位子、
少なくとも１つのケイ素成分、少なくとも１つのアルミニウム成分、及び少なくとも１つのマグネシウム成分
を含む工程、
塩基性アルカリ成分を添加して７〜１２の間のｐＨを有する第２反応混合物を形成する工程；並びに
第２反応混合物を、沈殿物又は共ゲルを形成するのに十分な時間反応させる工程
を含み、式中、
Ａは、アルカリ金属カチオン、アンモニウム、有機アンモニウム及びホスホニウムカチオンの少なくとも１つであり、
ＭＰは、第ＶＩＩＩ族、第ＩＩＢ族、第ＩＩＡ族、第ＩＶＡ族及びこれらの組合せから選択され、Ｍｐは＋２又は＋４の酸化状態を有し、
Ｌは、少なくとも１つの有機酸素含有配位子であり、
ＭＶＩＢは、＋６の酸化状態を有する少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属であり、
ＭＰ：ＭＶＩＢは、１００：１〜１：１００の間の原子比を有し、
ｖ−２＋Ｐ＊ｚ−ｘ＊ｚ＋ｎ＊ｙ＊ｚ＝０；かつ
2011502047.tif 000002
である方法。
【請求項１７】
式Ａｖ［（ＭＰ）（ＯＨ）ｘ（Ｌ）ｎｙ］Ｚ（ＭＶＩＢＯ４）を有する触媒前駆体組成物を形成する方法であって：
第ＶＩＩＩ族、第ＩＩＢ族、第ＩＩＡ族、第ＩＶＡ族及びこれらの組合せから選択される少なくとも１つの金属化合物、
少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属化合物、
少なくとも１つの有機酸素含有配位子
を含む沈殿物又は共ゲルを形成する反応条件において共沈する工程
を含み、式中、
Ａは、アルカリ金属カチオン、アンモニウム、有機アンモニウム及びホスホニウムカチオンの少なくとも１つであり、
ＭＰは、第ＶＩＩＩ族金属、第ＩＩＢ族金属、第ＩＩＡ族金属、第ＩＶＡ族金属及びこれらの組合せの少なくとも１つであり、ＭＰは＋２又は＋４の酸化状態を有し、
Ｌは少なくとも１つの有機酸素含有配位子であり、
ＭＶＩＢは、＋６の酸化状態を有する少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属であり、
ＭＰ：ＭＶＩＢは、１００：１〜１：１００の間の原子比を有し、
ｖ−２＋Ｐ＊ｚ−ｘ＊ｚ＋ｎ＊ｙ＊ｚ＝０；かつ
2011502047.tif 000003
である方法。
【請求項１８】
式Ａｖ［（ＭＰ）（ＯＨ）ｘ（Ｌ）ｎｙ］Ｚ（ＭＶＩＢＯ４）を有する前駆体組成物から調製される触媒組成物を形成する方法であって：
沈殿物又は共ゲル前駆体：少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属化合物ＭＶＩＢ、第ＶＩＩＩ族、第ＩＩＢ族、第ＩＩＡ族、第ＩＶＡ族及びこれらの組合せから選択される少なくとも１つの金属化合物ＭＰ、並びに少なくとも１つの有機酸素含有配位子を形成する反応条件において共沈する工程であって、前記前駆体がＡｖ［（ＭＰ）（ＯＨ）ｘ（Ｌ）ｎｙ］Ｚ（ＭＶＩＢＯ４）を有する工程、並びに
触媒前駆体を水素及び硫黄含有化合物と接触させて触媒前駆体を硫化する工程；
を含み、式中、
Ａは、アルカリ金属カチオン、アンモニウム、有機アンモニウム及びホスホニウムカチオンの少なくとも１つであり、ＭＰは、第ＶＩＩＩ族、第ＩＩＢ族、第ＩＩＡ族、第ＩＶＡ族及びこれらの組合せから選択され、Ｌは、少なくとも１つの有機酸素含有配位子であり、ＭＶＩＢは、少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属であり、ＭＰ：ＭＶＩＢは、１００：１〜１：１００の間の原子比を有し、
2011502047.tif 000004
である、方法。
【請求項１９】
炭化水素原料を水素化処理する方法であって、原料を水素化処理条件下で触媒と接触させる工程を含み、この触媒は、式：
Ａｖ［（ＭＰ）（ＯＨ）ｘ（Ｌ）ｎｙ］Ｚ（ＭＶＩＢＯ４）、
［式中、
Ａは、アルカリ金属カチオン、アンモニウム、有機アンモニウム及びホスホニウムカチオンの少なくとも１つであり、
ＭＰは、第ＶＩＩＩ族金属、第ＩＩＢ族金属、第ＩＩＡ族金属、第ＩＶＡ族金属及びこれらの組合せの少なくとも１つであり、Ｍｐは＋２又は＋４の酸化状態を有し、
ＭＶＩＢは、＋６の酸化状態を有する少なくとも１つの第ＶＩＢ族金属であり、
Ｌは少なくとも１つの酸素含有配位子であり、Ｌは中性又は負電荷ｎ＜＝０を有し、
ＭＰ：ＭＶＩＢは、１００：１〜１：１００の間の原子比を有し；
ｖ−２＋Ｐ＊ｚ−ｘ＊ｚ＋ｎ＊ｙ＊ｚ＝０；かつ
2011502047.tif 000005
である。］
の触媒前駆体組成物から誘導される、方法。
【請求項２０】
接触工程において、水素分圧が４００〜６００ｐｓｉｇの間である、請求項１９に記載の炭化水素原料を水素化処理する方法。