【事件の表示】
　特願２００１−１０１０２１「スルホン酸またはホスホン酸含有ポリイミダゾール化合物およびその成型物」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年７月３１日出願公開、特開２００２−２１２２９１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
 第１．手続の経緯 
　本願は、平成１３年３月３０日（優先権主張　平成１２年１１月１５日）の出願であって、平成１８年７月４日付けで拒絶理由が通知され、同年９月５日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同年１１月１３日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成１９年１月１１日に拒絶査定不服審判が請求され、同年３月１４日に審判請求書の手続補正書（方式）が提出され、当審において平成２１年８月１２日付けで拒絶理由が通知され、同年１０月１９日に意見書及び手続補正書が提出されたものである。 
　なお、平成１８年９月５日に提出された手続補正書に係る手続補正は、該手続補正書が期間経過後に提出されたものであるため、手続却下の処分がなされ、この処分は確定している。
　
 第２．本願発明の認定  
　本願の請求項１〜３に係る発明（以下、「本願発明１」〜「本願発明３」という。） は、平成２１年１０月１９日に提出された手続補正書により補正された明細書（以下、「本願明細書」という。）及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定される次のとおりのものであると認める。
 「【請求項１】１７０℃に加熱したＮ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上であり、濃硫酸中で測定した対数粘度が０．２５以上であり、繰り返し単位が複数の場合主としてランダムおよび／または交互的に結合していることを特徴とするスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物。
【請求項２】請求項１に記載の化合物からなることを特徴とする成形物。
【請求項３】請求項１に記載の化合物からなることを特徴とする膜。」 
 　 
 第３．当審が通知した拒絶の理由の概要 
　当審が、平成２１年８月１２日付けで通知した拒絶の理由における拒絶理由Ａの概要は、以下のとおりである。 
「この出願は、特許請求の範囲の記載が下記の点で不備のため、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。  
　 　　　　　　　　　　　　記
　本願発明１〜３は、「Ｎ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上のスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物」を発明特定事項として備えるものであって、スルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物（以下、「変性ポリイミダゾール化合物」という。）のＮ−メチル−２−ピロリドン（以下、「ＮＭＰ」という。）への溶解性を改善することが本願発明の解決しようとする課題のひとつであるので、「Ｎ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上のスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物」が発明の詳細な説明に記載したものであるか否か、あるいは、本願出願時の技術常識に照らして、発明の詳細な説明に記載された事項から拡張ないし一般化できるか否かについて、以下に検討する。
（１）発明の詳細な説明におけるＮＭＰへの溶解度についての記載
　・・・
　実施例１〜５、比較例１〜６では、具体的な変性ポリイミダゾール化合物を合成したことが記載されているが、ＮＭＰへの溶解度については、実施例１に「得られたポリマー４００ｍｇとＮＭＰ４ｍｌを撹拌しながら、オイルバス上で１７０℃に加熱して溶解させた。」、比較例１に「得られたポリマー４００ｍｇとＮＭＰ４ｍｌを撹拌しながら、オイルバス上で１７０℃の加熱を続けたが、ポリマーの溶解は進まなかった。」などと記載されているように、ＮＭＰへの溶解度の具体的な数値は示されていない。また、この「溶解させた」という記載が「変性ポリイミダゾール化合物がＮＭＰに全て溶解した」ことを意味し、この「溶解は進まなかった」という記載が「変性ポリイミダゾール化合物がＮＭＰに全く溶解しなかった」ことを意味すると解することも一概にはできない。 
　したがって、本願発明１〜３の発明特定事項である「Ｎ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上のスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物」は発明の詳細な説明に記載したものであるとはいえない。 
（２）発明の詳細な説明に記載された変性ポリイミダゾール化合物の拡張ないし一般化
　・・・
　したがって、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物は「ＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」、比較例１〜３の変性ポリイミダゾール化合物は「ＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％未満」と仮定しても、「Ｎ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上のスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物」として本願の発明の詳細な説明において具体的に記載されているものは、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物だけであり、また、（摘記ウ）［審決注：本願明細書の段落【００１３】〜【００１７】の記載を摘記］に例示された、1)芳香族テトラミン、2)スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸、3)スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸とともに使用できるジカルボン酸から、どの化合物を選択してどのような割合で縮合すれば、「ＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」の変性ポリイミダゾール化合物が得られるのかは不明であるので、本願出願時の技術常識に照らしても、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物を、本願発明１〜３の発明特定事項である「Ｎ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上のスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物」にまで拡張ないし一般化できるとはいえない。  」 
　
 第４．本願明細書の発明の詳細な説明の記載事項 
 　本願明細書の発明の詳細な説明には、以下の記載がされている。 
 （摘示ア）　 
 「【発明が解決しようとする課題】 
　本発明の目的は、耐熱性、機械特性など優れた性質を持つポリイミダゾール系ポリマーにＮＭＰへの溶解性を引き出す形でスルホン酸基またはホスホン酸基を導入することにより、加工性、耐久安定性、耐熱性、耐溶剤性、耐久安定性、機械特性とともにイオン伝導性にも優れた高分子電解質となりうる高分子材料を得ることにある。 
【課題を解決するための手段】 
　本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、スルホン酸基またはホスホン酸基を含有しながらＮＭＰへの溶解性を示す特定のポリイミダゾール類において、優れた加工性、耐久安定性、耐熱性、耐溶剤性、機械特性とイオン伝導性を示す高分子電解質を得るに至った。」（段落【０００７】〜【０００８】） 
 　 
 （摘示イ） 
 「【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明する。本発明でいうスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾールとは、スルホン酸基またはホスホン酸基を含有する芳香族系のポリイミダゾール類およびそれらが混在する組成物や共重合体をさす。一般的には下記式のような繰り返し単位構造で示すことができる。 
　【化１】（注：化学構造式記載省略）（但し、一般式１において、Ｒはイミダゾール環を形成できる４価の芳香族基を示す。Ｒ‘は二価の芳香族基、脂肪族基または脂環族基を示し、Ｒ’のすべてまたは一部にスルホン酸基またはホスホン酸基を有している。Ｒ、Ｒ‘はいずれも単環であっても、複数の芳香環の結合体、あるいは縮合環であってもよく、スルホン酸またはホスホン酸以外の安定な置換基を有していても良い。また、Ｒ、Ｒ’の芳香環中にＮ，Ｓ，Ｏ等が存在するヘテロ環構造を有していてもかまわない）」（段落【００１０】〜【００１１】） 
 　 
 （摘示ウ） 
 「上記一般式１で示す本発明のスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾールを合成する経路は特には限定されないが、通常は式中Ｒで示すイミダゾール環を形成できる４価の芳香族基単位を形成する芳香族テトラミンおよびそれらの誘導体から選ばれる化合物と、Ｒ‘で示す二価基を形成するジカルボン酸およびその誘導体から選ばれる化合物の反応により合成することができる。その際、使用するジカルボン酸の中にスルホン酸またはホスホン酸を含有するジカルボン酸を使用することで、得られるポリイミダゾール中にスルホン酸またはホスホン酸基を導入することができる。　 
　芳香族テトラミンの具体例としては、１，２，４，６−テトラアミノベンゼン、３，３‘−ジアミノベンジジン、３，３’，４，４’−テトラアミノジフェニルスルホン、２，２−ビス（３，４−ジアミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，４−ジアミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３，４，−ジアミノフェノキシ）ベンゼン等が挙げられるがこれらに限定されることはない。・・・ 
　スルホン酸基含有ジカルボン酸は、芳香族系ジカルボン酸中に１個から４個のスルホン酸基を含有するものを選択することができるが、具体例としては、例えば、２，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸、３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸、４，６−ジカルボキシ−１，３−ベンゼンジスルホン酸、２，５−ジカルボキシ−１，４−ベンゼンジスルホン酸などのスルホン酸含有ジカルボン酸及びこれらの誘導体を挙げることができる。・・・ 
　ホスホン酸含有ジカルボン酸の具体例としては、例えば、２，５−ジカルボキシフェニルホスホン酸、３，５−ジカルボキシフェニルホスホン酸、２，５−ビスホスホノテレフタル酸、などのホスホン酸含有ジカルボン酸及びこれらの誘導体を挙げることができるが、これらに限定されることはないが、ここに示したようなフェニルホスホン酸型のものが好ましい。・・・ 
　上記スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸とともに使用できるジカルボン酸例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、ターフェニルジカルボン酸、２，２−ビス（４−カルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン等ポリエステル原料として報告されている一般的なジカルボン酸を使用することができ、ここで例示したものに限定されるものではない。」（段落【００１３】〜【００１７】） 
 　 
 （摘示エ） 
 「実施例１ 
　３，３’，４，４’−テトラアミノジフェニルスルホン（略号：ＴＡＳ）１．５００ｇ（５．３８９×１０−３ｍｏｌｅ）、３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸モノナトリウム（略号：ＳＩＡ、純度９８％）０．９５４ｇ（３．５５７×１０−３ｍｏｌｅ）、テレフタル酸（略号：ＴＰＡ）０．３０４ｇ（１．８３６×１０−３ｍｏｌｅ）、ポリリン酸（五酸化リン含量７５％）２０．４８ｇ、五酸化リン１６．４１ｇを重合容器に量り取る。窒素を流し、オイルバス上ゆっくり撹拌しながら１００℃まで昇温する。１００℃で１時間保持した後、１４０℃に昇温して１時間、２００℃に昇温して４時間重合した。重合終了後放冷し、水を加えて重合物を取り出し、家庭用ミキサーを用いてｐＨ試験紙中性になるまで水洗を繰り返した。得られたポリマーは８０℃で終夜減圧乾燥した。ポリマーの対数粘度は、１．３１を示した。ポリマーのＩＲスペクトルを図１に示す。得られたポリマー４００ｍｇとＮＭＰ４ｍｌを撹拌しながら、オイルバス上で１７０℃に加熱して溶解させた。ホットプレート上で、ガラス板上に約３００μｍ厚に流延し、ＮＭＰを蒸発させた。フィルムをガラス板からはがし、８０℃終夜減圧乾燥し、その後アセトン浸漬することで溶媒を除いてイオン伝導性測定用フィルムを作製した。・・・ 
 実施例２ 
　実施例１において、ジカルボン酸成分としてＳＩＡとＴＰＡの混合比を３４：６６（モル比）に変えて、合計で（５．３８９×１０−３ｍｏｌｅ）になるようにして仕込む以外は、実施例１と同様にして重合および各種測定を行った。ポリマーの対数粘度は１．１６、イオン伝導度は０．００２９Ｓ／ｃｍを示し、測定イオン伝導度は長期にわたり安定した性能を保った。フィルムを沸騰水中に１時間浸漬したが、形態の変化は認められなかった。また、１００℃水中で３日間浸漬処理したあとの対数粘度は１．１１であり、処理前との変化は認められなかった。また厚さ１０マイクロメーター程度の薄膜を作製しても、上記の各種評価において膜が壊れることはなかった。ＴＧＡにおける３％重量減少開始温度は４９１℃を示した。 
 比較例１ 
　ジカルボン酸成分としてＳＩＡを１．４４５ｇ（５．３８９×１０−３ｍｏｌｅ）になるようにして仕込む以外は、実施例１と同様にして重合および各種測定を行った。得られたポリマーの対数粘度は、１．９９であった。得られたポリマー４００ｍｇとＮＭＰ４ｍｌを撹拌しながら、オイルバス上で１７０℃の加熱を続けたが、ポリマーの溶解は進まなかった。ＴＧＡにおける３％重量減少開始温度は４６７℃を示した。 
 実施例３ 
　ＳＩＡのかわりに２，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸モノナトリウム（略号：ＳＴＡ、純度９９％）を用い、ＳＴＡとＴＰＡの混合比を変えて実施例１と同様に評価した。いずれの試料ともＮＭＰ溶液から良好なフィルムを作製することができ、イオン伝導度はいずれの試料とも長期にわたり安定した性能を保つとともに、膜の形態も良好に保たれていた。各種測定結果を表１に示す。また、ＴＰＡ／ＳＴＡ＝６６／３４組成のフィルムのＩＲスペクトルを図２に示す。 
 実施例４ 
　ＳＩＡのかわりに３，５−ジカルボキシフェニルホスホン酸（略号：ＤＣＰ、純度９８％）を用い、ＤＣＰとＴＰＡの混合比を変えて実施例１と同様に評価した。いずれの試料ともＮＭＰ溶液から良好なフィルムを作製することができ、イオン伝導度はいずれの試料とも長期にわたり安定した性能を保つとともに、膜の形態も良好に保たれていた。各種測定結果を表２に示す。
 比較例２ 
　ジカルボン酸成分としてＤＣＰを１．３２６ｇ（５．３８９×１０−３ｍｏｌｅ）になるようにして仕込む以外は、実施例４と同様にして重合および各種測定を行った。得られたポリマーの対数粘度は、０．９２であった。得られたポリマー４００ｍｇとＮＭＰ４ｍｌを撹拌しながら、オイルバス上で１７０℃の加熱を続けたが、ポリマーの溶解は進まなかった。ＴＧＡにおける３％重量減少開始温度は４９４℃を示した。 
 実施例５ 
　実施例１において、重合時に塩化すず（ＩＩ）をＴＡＳに対して１モル％になるように加えてポリマーを得、同様に評価した。ポリマーの対数粘度は１．４４ｄｌ／ｇだった。８０℃９５％ＲＨにおけるイオン伝導度は０．００５０Ｓ／ｃｍを示し、測定イオン伝導度は長期にわたり安定した性能を保つとともに、膜の形態も良好に保たれていた。フィルムを沸騰水中に１時間浸漬したが、形態の変化は認められなかった。また、１００℃水中で３日間浸漬処理したあとの対数粘度は１．４１であり、処理前との変化は認められなかった。 
 比較例３ 
　実施例１においてＴＡＳのかわりに３，３’−ジアミノベンジジンを用いてポリマーを合成した。得られたポリマーの対数粘度は１．２３を示したが、ポリマーはＮＭＰに溶解せず、評価可能なフィルムを作製することはできなかった。ＴＧＡにおける３％重量減少開始温度は４６９℃を示した。 
 比較例４ 
　実施例２において、ＴＡＳを１．０５ｇ（３．７７３×１０−３ｍｏｌｅ）、ＴＰＡを０．５９８ｇ（３．５５７×１０−３ｍｏｌｅ）として重合した後、重合液をいったん冷却してからさらにＴＡＳを０．４５ｇ（１．６１６×１０−３ｍｏｌｅ）、ＳＴＡを０．４９１ｇ（１．８３２×１０−３ｍｏｌｅ）を追加し、ＴＰＡ／ＳＴＡ＝６６／３４のブロック性共重合体を合成した。得られたポリマーの対数粘度は０．７７であり、同様の方法でフィルムを作製することができたが、イオン伝導度は８０℃９５％ＲＨにおけるイオン伝導度は０．０００３Ｓ／ｃｍと同一共重合比の実施例２のポリマーに比べ一桁小さい値を示した。ＴＧＡにおける３％重量減少開始温度は４７２℃を示した。 
 比較例５ 
　実施例１においてＴＡＳのかわりに３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン１．５１０ｇ（５．３８７×１０−３ｍｏｌｅ）を用いて、類似のポリベンゾオキサゾール系ポリマーを合成した。得られたポリマーの対数粘度は０．４４であった。このポリマーを１００℃水中で３日間浸漬処理したあとで対数粘度を測定したところ０．１９に減少していた。ＴＧＡにおける３％重量減少開始温度は３９３℃を示した。 
 比較例６ 
　実施例１においてＴＡＳを１．４５ｇとする以外は同様にしてポリマーを合成した。得られたポリマーの対数粘度は０．２０であり、製膜したフィルムはもろいものであった。」（段落【００２７】〜【００３９】） 
　
 第５．特許法第３６条第６項第１号に規定する要件についての当審の判断
　本願発明１はスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物（以下、「変性ポリイミダゾール化合物」という。）に係るものであり、また、本願発明２及び３は、それぞれ、変性ポリイミダゾール化合物からなる成形物及び膜に係るものであって、本願発明１〜３における変性ポリイミダゾール化合物は、「１７０℃に加熱したＮ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上」なる事項を発明を特定するために必要な事項（以下、「発明特定事項」という。）として備えるものである。
　そこで、上記発明特定事項を備えた変性ポリイミダゾール化合物が、発明の詳細な説明に記載されたものであるか否か、あるいは、本願の優先権主張日時点の技術常識に照らして、本願明細書の発明の詳細な説明に記載された事項から拡張ないし一般化できるか否かについて、以下に検討する。 
  （１）本願明細書の発明の詳細な説明におけるＮＭＰへの溶解度 
　本願の発明の詳細な説明には、どのような構造の変性ポリイミダゾール化合物が「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」という条件を満足するかについての一般的な説明はなされていない。 
　実施例１〜５、比較例１〜６（（摘記エ）参照）では、具体的な変性ポリイミダゾール化合物を合成したことが記載されているが、ＮＭＰへの溶解度については、実施例１に「得られたポリマー４００ｍｇとＮＭＰ４ｍｌを撹拌しながら、オイルバス上で１７０℃に加熱して溶解させた。」、比較例１に「得られたポリマー４００ｍｇとＮＭＰ４ｍｌを撹拌しながら、オイルバス上で１７０℃の加熱を続けたが、ポリマーの溶解は進まなかった。」などと記載されているように、１７０℃に加熱したＮＭＰへの変性ポリイミダゾール化合物の溶解度についての具体的な数値は示されていない。また、この「溶解させた」という記載が「変性ポリイミダゾール化合物がＮＭＰに全て溶解した」ことを意味し、この「溶解は進まなかった」という記載が「変性ポリイミダゾール化合物がＮＭＰに全く溶解しなかった」ことを意味すると一義的に解することもできない。 
　したがって、本願発明１〜３における、「１７０℃に加熱したＮ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上」なる発明特定事項を備えた変性ポリイミダゾール化合物は、本願明細書の発明の詳細な説明に記載されたものとはいえない。 
 　 
 （２）本願明細書の発明の詳細な説明に記載された変性ポリイミダゾール化合物 
　上記第５．（１）に記載したように、実施例１〜５、比較例１〜６の変性ポリイミダゾール化合物については、１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度の具体的な数値が示されていないが、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物は、ＮＭＰに溶解させあるいはフィルムが作製されていることから「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」であり、また、比較例１〜３の変性ポリイミダゾール化合物は、ＮＭＰへのポリマーの溶解は進まないあるいは溶解せずとされていることから「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％未満」であると仮定して、さらに検討する。（なお、比較例５の変性ポリイミダゾール化合物については、ＮＭＰへの溶解、フィルムの作製などに関する記載はなく、ＮＭＰへの溶解度を仮定するは困難であるため、この検討対象から除外した。） 
　本願明細書の発明の詳細な説明には、本願発明の変性ポリイミダゾール化合物を合成するための縮合モノマー成分として、1)芳香族テトラミン、2)スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸、3)スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸とともに使用できるジカルボン酸、についてそれぞれ具体的な化合物が例示されている（（摘記ウ）参照）。 
　しかしながら、実施例１〜５、比較例４、６において具体的に合成された変性ポリイミダゾール化合物（「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」と仮定）と、比較例１〜３において具体的に合成された変性ポリイミダゾール化合物（「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％未満」と仮定）とを比較しても、下記の点から、上記1)、2)、3)に縮合モノマー成分として例示されるような化合物から、どの化合物を選択してどのような割合で縮合すれば、「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」の変性ポリイミダゾール化合物が得られるのかは不明である。 
 ○実施例１〜２、比較例１においては、上記1)の成分として「３，３’，４，４’−テトラアミノジフェニルスルホン（ＴＡＳ）」、上記2)の成分として「３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸モノナトリウム（ＳＩＡ）」、上記3)の成分として「テレフタル酸（ＴＰＡ）」を用い、実施例１［ＳＩＡとＴＰＡのモル比が２：１］および実施例２［ＳＩＡとＴＰＡのモル比が１：２］では変性ポリイミダゾール化合物がＮＭＰに溶解し、比較例１［ＴＰＡを用いない］では変性ポリイミダゾール化合物がＮＭＰに溶解しないことが示されているが、ＴＰＡの添加量により、変性ポリイミダゾール化合物のＮＭＰへの溶解度がどのように変化するのかが把握できない。 
 ○実施例３においては、上記1)の成分として「３，３’，４，４’−テトラアミノジフェニルスルホン（ＴＡＳ）」、上記2)の成分として「２，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸モノナトリウム（ＳＴＡ）」、上記3)の成分として「テレフタル酸（ＴＰＡ）」を用い、ＳＴＡとＴＰＡのモル比を１：０、２：１、１：２とした変性ポリイミダゾール化合物がいずれもＮＭＰに溶解することが示されているが、上記実施例１〜２と比較しても、どのような種類の1)成分、2)成分を用いた場合に、3)成分であるＴＰＡを添加しなくても、変性ポリイミダゾール化合物がＮＭＰに溶解するようになるのか把握できない。 
 ○実施例４、比較例２においては、上記1)の成分として「３，３’，４，４’−テトラアミノジフェニルスルホン（ＴＡＳ）」、上記2)の成分として「３，５−ジカルボキシフェニルホスホン酸（ＤＣＰ）」、上記3)の成分として「テレフタル酸（ＴＰＡ）」を用い、ＤＣＰとＴＰＡのモル比を２：１、１：２とした実施例４の変性ポリイミダゾール化合物はＮＭＰに溶解し、ＴＰＡを用いない比較例４の変性ポリイミダゾール化合物はＮＭＰに溶解しないことが示されているが、ＴＰＡの添加量により変性ポリイミダゾール化合物のＮＭＰへの溶解度がどのように変化するのかが把握できない。 
 ○比較例３においては、上記1)の成分として「３，３‘−ジアミノベンジジン」、上記2)の成分として「３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸モノナトリウム（ＳＩＡ）」、上記3)の成分として「テレフタル酸（ＴＰＡ）」を用い、ＳＩＡとＴＰＡのモル比を２：１として合成された変性ポリイミダゾール化合物がＮＭＰに溶解しないことが示されているが、これらの化合物は（摘記ウ）で例示された化合物であることから、例示された化合物からどのようにして選定すればＮＭＰに溶解する変性ポリイミダゾール化合物が得られるのかが把握できない。 
　したがって、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物は「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」であり、また、比較例１〜３の変性ポリイミダゾール化合物は「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％未満」であると仮定しても、「１７０℃に加熱したＮ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上」である変性ポリイミダゾール化合物として本願の発明の詳細な説明において具体的に記載されているものは、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物（すなわち、○上記1)の成分として「３，３’，４，４’−テトラアミノジフェニルスルホン（ＴＡＳ）」、○上記2)の成分として「３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸モノナトリウム（ＳＩＡ）」、「２，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸モノナトリウム（ＳＴＡ）」または「３，５−ジカルボキシフェニルホスホン酸（ＤＣＰ）」、○上記3)の成分として「テレフタル酸（ＴＰＡ）」を用いて縮合された変性ポリイミダゾール化合物）だけであり、また、（摘記ウ）に例示された、1)芳香族テトラミン、2)スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸、3)スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸とともに使用できるジカルボン酸から、どの化合物を選択してどのような割合で縮合すれば、「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」の変性ポリイミダゾール化合物が得られるのかについては本願明細書の発明の詳細な説明には記載されておらず、また、本願の優先権主張日時点の技術常識に照らしても、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物を、本願発明１〜３における、「１７０℃に加熱したＮ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上」なる発明特定事項を備えた変性ポリイミダゾール化合物にまで拡張ないし一般化できるとはいえない。 　
　
第６．審判請求人の主張について 
　審判請求人は、平成２１年１０月１９日に提出した意見書において、次のように主張している。 
 「（１）審判官殿は拒絶理由通知書において、本願実施例における「溶解させた」という記載が「全て溶解した」ことを意味し、「溶解は進まなかった」という記載が「全く溶解しなかった」という意味と解することは一概にはいえず、本願発明１〜３の特定事項である「Ｎ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上のスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物」は発明の詳細な説明に記載したものであるとはいえない旨のご指摘をされました。
　しかしながら、本願段落（００２７）の記載にありますように、溶解させた後にガラス板上に流延し、溶媒（ＮＭＰ）を蒸発させた後フィルムを形成していることからも、ポリマーが全て溶解していることは明らかであるものと思料いたします。同様に本願段落（００３６）には、ポリマーはＮＭＰに溶解せず、評価可能なフィルムを作成することができなかったことが記載されており、ポリマーがＮＭＰにほぼ全く溶解していないことは明らかであるものと思料いたします。
　以上の理由により、上記のご指摘に基づく拒絶理由は解消したものであると思料いたします。
（２）審判官殿は拒絶理由通知書において、どの化合物を選択してどのような割合で縮合すれば、「ＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」の変性ポリイミダゾール化合物が得られるかは不明であるので、本願出願時の技術常識に照らしても、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物を、本願発明１〜３の発明特定事項である「Ｎ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上のスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物」にまで拡張ないし一般化できるとはいえない旨のご指摘をされました。
　しかしながら、平成１９年３月１４日付け手続補正書（方式）に記載いたしましたように、〔従来の技術〕の段落（０００４）及び比較例１〜３に記載のとおり、スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸が、全ジカルボン酸中の１００モル％の場合は、Ｎ−メチル−２−ピロリドンへ溶解しないことが示されており、スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸の割合が多くなるとＮ−メチル−２−ピロリドンへ溶解しにくくなることが分かります。さらに補足いたしますと、比較例３は分子鎖の剛直性の高いテトラミンを使用していることに起因してＮ−メチル−２−ピロリドンへ溶解しないポリマーとなっております。また、実施例１〜５では、具体的なモノマーとその割合が示されているので、モノマーの組合せとその割合は多いものの、本願明細書の詳細な説明、特に実施例の記載を基に、適宜モノマーとその割合を選択して合成を行い、容易に１７０℃の溶解度が５ｗｔ％以上であるかを確認することができます。しかしながら、様々なモノマーの組合せや割合を全て請求項に記載することは不可能であり、ポリマーのＮ−メチル−２−ピロリドンへの溶解性という指標で本願発明を表現することが可能であるために、「Ｎ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上のスルホン酸基またはホスホン酸基含有ポリイミダゾール化合物」を本願請求項１の要件とさせて頂いた次第であります。」
　上記主張（１）について検討する。
　上記第５．（２）で説示したように、実施例１〜５、比較例１〜６では、具体的な変性ポリイミダゾール化合物を合成したことが記載されているが、「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度ＮＭＰへの溶解度」の具体的な数値は示されておらず、また、「溶解させた」、「溶解は進まなかった」という記載が、それぞれ、「変性ポリイミダゾール化合物がＮＭＰに全て溶解した」、「変性ポリイミダゾール化合物がＮＭＰに全く溶解しなかった」ことを意味すると一義的に解することもできない。 
　なお、審判請求人は、実施例１の「溶解させた後にガラス板上に流延し、溶媒（ＮＭＰ）を蒸発させた後フィルムを形成している」との記載から、ポリマーが全て溶解していることは明らかであり、また、比較例３の「ポリマーはＮＭＰに溶解せず、評価可能なフィルムを作成することができなかった」との記載から、ポリマーがＮＭＰにほぼ全く溶解していないことは明らかである旨述べている。しかしながら、実施例１、比較例３のような、キャスト法、すなわち、ポリマーをＮＭＰに溶解した溶液をキャストした後、ＮＭＰを除去してフィルムを形成する方法においては、ＮＭＰ中のポリマー濃度が低すぎる場合にはフィルムが形成あるいは作成できないことは確かであるが、「フィルムを形成している」（すなわち、ＮＭＰ中のポリマー濃度が低すぎない）ことを以て「ポリマーがＮＭＰに全て溶解している」と一義的に解することはできないし、また、「評価可能なフィルムを作成することができなかった」（すなわち、ＮＭＰ中のポリマー濃度が低すぎる）ことを以て「ポリマーがＮＭＰにほぼ全く溶解していない」と一義的に解することはできない。
　したがって、上記主張（１）は採用できない。
　
　上記主張（２）について検討する。
　上記第５．（２）で説示したように、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物は「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」であり、また、比較例１〜３の変性ポリイミダゾール化合物は「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％未満」であると仮定しても、
「１７０℃に加熱したＮ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上」である変性ポリイミダゾール化合物として本願明細書の発明の詳細な説明において具体的に記載されているものは、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物（すなわち、○上記1)の成分として「３，３’，４，４’−テトラアミノジフェニルスルホン（ＴＡＳ）」、○上記2)の成分として「３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸モノナトリウム（ＳＩＡ）」、「２，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸モノナトリウム（ＳＴＡ）」または「３，５−ジカルボキシフェニルホスホン酸（ＤＣＰ）」、○上記3)の成分として「テレフタル酸（ＴＰＡ）」を用いて縮合された変性ポリイミダゾール化合物）だけであり、また、（摘記ウ）に例示された、1)芳香族テトラミン、2)スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸、3)スルホン酸基含有ジカルボン酸またはホスホン酸基含有ジカルボン酸とともに使用できるジカルボン酸から、どの化合物を選択してどのような割合で縮合すれば、「１７０℃に加熱したＮＭＰへの溶解度が５ｗｔ％以上」の変性ポリイミダゾール化合物が得られるのかは不明である。
　このように、本願発明１〜３における、「１７０℃に加熱したＮ−メチル−２−ピロリドンへの溶解度が５ｗｔ％以上」なる発明特定事項を備えた変性ポリイミダゾール化合物としては、本願明細書の発明の詳細な説明において具体的に記載されている、実施例１〜５、比較例４、６の変性ポリイミダゾール化合物以外には、どのような構造の変性ポリイミダゾール化合物が含まれるのかが明確ではない。
　したがって、上記主張（２）は採用できない。
　
　よって、審判請求人の主張は採用できない。 
　
 第６．むすび 
　以上のとおりであるから、本願の特許請求の範囲の請求項１〜３の記載について、当審において通知した平成２１年８月１２日付け拒絶理由通知書の拒絶理由Ａは妥当なものであり、本願は、この理由により拒絶すべきものである。 
 　 
　よって、結論のとおり審決する。