【事件の表示】
　特許第６１０５１５２号発明「ＣＶＤ製造空間の清掃」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６１０５１５２号の請求項１〜８に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯 
  
　本件特許第６１０５１５２号の請求項１〜８に係る特許についての出願は、２０１４年（平成２６年）３月２０日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２０１３年４月１１日、ドイツ）を国際出願日とする出願であって、平成２９年３月１０日にその特許権の設定登録がされ、その後、その特許について、特許異議申立人横山佳孝（以下、「特許異議申立人」という。）により平成２９年９月２９日付けで特許異議の申立てがされ、以下の手続がなされたものである。
 　平成２９年１１月２９日付けの取消理由通知 
 　平成３０年　３月　２日付けの意見書の提出 
 　　　　　　　３月２９日付けの取消理由通知（決定の予告） 
 　　　　　　　７月　２日付けの意見書の提出 
第２　本件特許発明 
　本件特許の請求項１〜８に係る発明（以下、「本件特許発明１」〜「本件特許発明８」という。）は、次のとおりである。 
  
 【請求項１】 
　多数のＣＶＤ反応器を含む多結晶シリコン製造用製造室を清掃する方法であって、清掃が少なくとも２週間の内に１回行われ、水性の洗浄液が清掃に使われ、該ＣＶＤ反応器の外側ケーシング、パイプラインおよび該製造室の床が清掃される、方法。 
 【請求項２】 
　洗浄液で湿潤させた毛羽立ちのないクロスが清掃に使われる、請求項１に記載の方法。 
 【請求項３】 
　ブラシ型、湿式および乾式バキュームクリーナー、掃除機、スクラバードライヤー、シングルディスクマシーンなどの清掃機も清掃に使用される、請求項１または２に記載の方法。 
 【請求項４】 
　使われる洗浄液が脱塩水を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。 
 【請求項５】 
　使われる洗浄液が、脱塩水ならびに５から１５％のアニオン性界面活性剤および５％未満のイオン性界面活性剤を含む中性ｐＨ洗浄剤の混合物である、請求項４に記載の方法。 
 【請求項６】 
　ＣＶＤ反応器の外側ケーシング、パイプラインおよび製造室の床が、少なくとも週１回清掃される、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
 【請求項７】 
　最初に、それぞれのケースで、反応器の外側ケーシングおよびパイプラインを洗浄液で湿潤させた毛羽立ちのないクロスで拭き、その後になって初めて床を洗浄液で清掃する、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
 【請求項８】 
　床が少なくとも週２回、パイプラインおよび反応器の外側ケーシングが少なくとも１日１回清掃される、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。 
  
第３　申立理由の概要 
　特許異議申立人は、次の申立理由（１）〜（３）により、本件特許は取り消すべきものである旨主張している。
１．申立理由（１） 
　本件特許発明１は、発明の詳細な説明に記載された範囲を超えるものであるから、本件特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定の要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 
  
２．申立理由（２） 
　本件特許発明１〜８は、請求項１〜８に記載された特許を受けようとする発明が明確でないから、本件特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定の要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 
３．申立理由（３）
　本件特許発明１〜８について、本件明細書の発明の詳細な説明には、発明を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されていないから、本件特許は、特許法第３６条第４項第１号に規定の要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。
 　 
第４　取消理由の概要 
　当審において、平成２９年１１月２９日付けで通知した取消理由（１）〜（６）の概要は、次のとおりである。そして、平成３０年３月２９日付けの取消理由通知（決定の予告）では、通知した取消理由の内、取消理由（１）及び取消理由（６）のみについて理由があるとした。 
 
取消理由（１） （上記申立理由（１）を採用）
　本件特許発明１〜８は、その清掃頻度（回数）において、唯一の実施例である「ホールＡ」より広い範囲の清掃頻度（回数）を特定している。 
　そして、本件特許明細書の他の記載を見ても、本件特許発明１〜８の範囲まで拡張できるとは認められず、特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。 
  
取消理由（２） （本件特許発明２に対する上記申立理由（２）を採用）
　請求項２に記載された「毛羽立ちのないクロス」が、どのようなものか不明であり、本件特許発明２は、特許を受けようとする発明が明確でないから、特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。 
  
取消理由（３） （本件特許発明４に対する上記申立理由（２）を採用）
　請求項４に記載された「脱塩水を含む」の特定する水の範囲（定義）が不明であり、本件特許発明４は、特許を受けようとする発明が明確でないから、特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。 
  
取消理由（４） （上記申立理由（３）を採用）
　発明の詳細な説明には、ＣＶＤ反応器からの多結晶シリコンの取り出し頻度と清掃（頻度）との関係について記載がない。また、ＣＶＤ反応器の設置数等も不明である。 
　してみると、現実の多結晶シリコン製造用製造室において、上記取り出し頻度等との関係で、どれくらいの頻度での清掃を行うのかについて、発明の詳細な説明は、明確かつ十分に記載されていない。
　したがって、発明の詳細な説明の記載は、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。 
  
取消理由（５） 
　「ＣＶＤ反応器の外側ケーシング」と「パイプライン」との清掃について、発明の詳細な説明に記載がないから、発明の詳細な説明の記載は、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。 
　また、本件特許発明１〜８は、発明の詳細な説明に記載されている「表面」、「鋼製ワーク」の清掃について特定しないから、特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。 
  
取消理由（６） 
　本件特許発明１〜８は、汚染の累積度合に関する事項（前提技術）を何ら特定しないから、当業者が、発明の課題を解決するものであると、一概に、認識することができるものといえず、特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第１号の規定する要件を満たしていない。 
第５　当審の判断
１．取消理由（１）について
　本件特許発明１〜８の解決しようとする課題は、本件明細書の【背景技術】【０００３】〜【００１８】及び【発明の概要】【００２０】〜【００２１】の記載、特に、【０００７】、【００１４】及び【００２１】の記載から、多結晶シリコンがＣＶＤ反応器からの取り出し及びその後の処理ステップの間に表面汚染物質で汚染されていないようにすることであり、具体的には、本件明細書の【００４４】の記載から、「５０ｐｐｔｗ未満のＦｅ、５ｐｐｔｗ未満のＺｎおよび１０ｐｐｔｗ未満のＮａ」という表面汚染物質の少ない多結晶シリコンを製造することにあると認められる。
　本件明細書の段落【００３５】には、「意外にも、相関試験において、蒸着ホールの清掃頻度と、品質パラメータであるポリシリコン中の金属および環境元素との間で間接的な比例関係が認められた。」との記載がある。
　また、本件明細書の実施例（【００３６】〜【００４３】、【表１】）では、３箇所の蒸着ホールＡ，Ｂ及びＣで製造されたポリシリコンの表面汚染調査に関し、３箇所のホールの製造工程は同じとするが清掃周期は異なるものとして、表面汚染物質Ｆｅ，Ｚｎ，Ｎａの量を測定した結果について記載されている。ここで、「蒸着ホールの清掃頻度」に関わるパラメータとしては、【００４２】【表１】中に「週当たりの清掃頻度」として、「床」、「表面」、「鋼製ワーク」の３つの項があり、ホールＡ，Ｂ及びＣについて、それぞれ３つの項に数値が記入されている。
　これらに関し、平成３０年７月２日付け意見書では、その第２〜５頁において、「（２）本件特許発明について」と題した説明により、ＣＶＤ反応器外部を清掃することによって、多結晶シリコンの表面汚染物質からの汚染を防止することが、同じく第７〜１１頁において、「（４）「間接的な比例関係」との記載について」と題した説明及び図表により、平均清掃頻度と多結晶シリコンロッドの表面汚染物質量との関係が直線関係、即ち比例関係となることが、そして、同じく第１１〜１２頁において、「（５）清掃頻度「０．５（２週間の内に１回）について」と題した説明及び図表により、「清掃が少なくとも２週間の内に１回」と特定されていることについての合理的な理由が、以下のように主張されている。
「（２）本件特許発明について
・・・（略）・・・　ＣＶＤ反応器の外部を清掃することにより、ＣＶＤ反応器の内部で製造される多結晶ポリシリコンの表面汚染物質量が減少するといったことは、本件出願前には当業者が全く思いもよらなかった驚くべきことなのであります。
　また、一般に、多結晶シリコン製造用製造室における汚染物質（塵粒子・金属等）は、ＣＶＤ反応器外部のいかなる露出表面にもほぼ等しく蓄積します。なぜなら、多結晶シリコン製造用製造室内の重力は、いずれの箇所においても一定であり（９．８１ｍ／ｓ２）、また、一般的な多結晶シリコン製造用製造室（長さ＞５０ｍ、幅＞１０ｍ、高さ＞１０ｍ）における（層流）対流は、いずれの箇所においても中程度で変わらないからです。したがって、ＣＶＤ反応器外部のいずれの箇所においても、汚染物質の蓄積は同程度であるといえます。
・・・（略）・・・
（４）「間接的な比例関係」との記載について
　取消理由通知書（２）の４のイにおいて、審判官殿のご指摘のように、本件明細書の段落〔００３５〕には、「意外にも、相関関係において、蒸着ホールの清掃頻度と、品質パラメータであるポリシリコン中の金属および環境元素との間で間接的な比例関係が認められた。」との記載があります。この「間接的な比例関係」について、以下に説明します。
　本件明細書の段落〔００４２〕の表１には、３つの蒸着ホール（ホールＡ、ホールＢ及びホールＣ）の週当たりの清掃頻度、並びに３つの蒸着ホールで製造された多結晶シリコンロッドの表面汚染物質量が記載されています。
　平成３０年３月２日付けで提出した意見書にて説明したように、表１における「床」、「表面」、「鋼製ワーク」は、それぞれ、本件特許発明１における用語「製造室の床」、「ＣＶＤ反応器の外側ケーシング」、「パイプライン」に相当します（下図参照）。
・・・（略）・・・
　上記「（２）本件特許発明について」の項で説明したように、ＣＶＤ反応器外部のいずれの箇所においても、汚染物質（塵粒子・金属等）の蓄積は同程度であること、及び上記した本件発明の本質に照らせば、「床」、「表面」及び「鋼製ワーク」の３箇所で清掃頻度が異なる表１に示す実施例においては、ホール全体に対する清掃頻度として捉えようとする場合、これら３箇所の清掃頻度を平均して考えるのが妥当であるといえます。
　そこで、これら３箇所の清掃頻度（何日に１回清掃するか）を平均すると、以下のようになります。
・・・（略）・・・
　そして、清掃頻度をＸ軸、表面汚染物質量をＹ軸にプロットすると、ほぼ直線関係となります。
・・・（略）・・・
（当審注：ホールＢの上記計算式「７／（１＋１＋０．１３）／３」の計算結果は「９．８」となるため、上記の値「８．４」は誤記と認められるものであるが、正しくプロットしたとしても直線の傾きに有意な差は生じない。）
　
（５）清掃頻度「０．５（２週間の内に１回）について
　本件特許発明１において「清掃が少なくとも２週間の内に１回」と特定した具体的根拠を以下に説明します。
　取消理由通知書（２）の４のアにおいても認定されているように、本件特許発明の解決しようとする課題は、「５０ｐｐｔｗ未満のＦｅ、５ｐｐｔｗ未満のＺｎおよび１０ｐｐｔｗ未満のＮａ」という表面汚染物質の少ない多結晶シリコンを製造することであります。そして、上記「（４）「間接的な比例関係」との記載について」の項で説明したように、本件特許発明では、平均した清掃頻度と多結晶シリコンロッドの表面汚染物質量との間に「間接的な比例関係」（直線関係）があることを見出しました。
　ここで、上記プロットを参照すると、「５０ｐｐｔｗ未満のＦｅ、５ｐｐｔｗ未満のＺｎおよび１０ｐｐｔｗ未満のＮａの表面汚染物質」が達成されるのは、清掃頻度がおよそ１４日（２週間）である場合であることが明らかであります。
　したがって、週当たりの清掃頻度０．５（２週間の内に１回）以上であれば、課題の解決を達成し得ることが明らかであり、したがって、「清掃が少なくとも２週間の内に１回」と特定することには客観的な合理的理由があるのも明らかであります。
　なお、取消理由通知書（２）の４のエにおける審判官殿のご指摘を受け、平成３０年３月２日付けで提出した意見書における追加実施例の「ホールＣ」の数値について、改めて見直したところ、誠に遺憾ながら、誤りがあることが判明致しましたので、ここに謹んで撤回させて頂きたく存じます。
・・・（略）・・・」
　そこで、この特許権者の主張について検討する。
　まず、発明の詳細な説明の実施例（【００３６】−【００４３】）に関し、表１の「週当たりの清掃頻度」の項に記載されている「表面」、「鋼製ワーク」及び「床」は常識的にみて清掃箇所に相当すると認められるものである。そして、表１が発明の実施例の結果を表したものであることを合わせみれば、本件特許発明１で特定されている「ＣＶＤ反応器の外側ケーシング」、「パイプライン」及び「製造室の床」という３つの用語が直接的には表れてこないものの、これら３つのそれぞれの清掃箇所は対応関係があるものと解することが自然である。即ち、「表面」、「鋼製ワーク」及び「床」は、多結晶シリコン製造に係るプラント部品及び床の構成を勘案すれば、それぞれ「ＣＶＤ反応器の外側ケーシング」、「パイプライン」及び「製造室の床」に相当するものと認められる。
　次に、実施例のホールＡ及びホールＢでは、「表面」、「鋼製ワーク」及び「床」の３箇所で清掃頻度が異なっているため、本件明細書の段落【００３５】における「蒸着ホールの清掃頻度」に対応した数値を直接見積もることはできないが、一般的な多結晶シリコン製造用製造室における重力や対流を考慮すると、汚染物質の蓄積はＣＶＤ反応器外部のいずれの箇所においても同程度であるという特許権者の主張は妥当であるから、平成３０年７月２日付け意見書において、上記３箇所の清掃頻度を平均した平均清掃頻度において説明をしている点については合理的な理由が認められる。
　してみれば、上記した図表（平成３０年７月２日付け意見書の第１０頁）のとおり、平均清掃頻度と多結晶シリコンロッドの表面汚染物質量との関係は直線関係、即ち比例関係となることが認められる。なお、平成３０年７月２日付け意見書においては、ホールＢにおける「鋼製ワーク」の週当たりの清掃頻度「０．１３」は「０．５」の誤記である旨も述べられているが、この清掃頻度はいずれの値を採ったとしても概ね比例関係となって、その直線の傾きの違いに有意な差は生じない。
　この比例関係を前提とすれば、表面汚染物質Ｆｅ，Ｚｎ，Ｎａの量をそれぞれ５０ｐｐｔｗ未満、５ｐｐｔｗ未満、１０ｐｐｔｗ未満とするために概ね必要とされる清掃頻度に関し、平成３０年７月２日付け意見書の第１２頁に記載された上記の図表に基づき「少なくとも２週間の内に１回」行われると特定したことについての特許権者の主張にも合理的な理由が認められる。
　以上のことから、本件特許発明１〜８の解決しようとする課題は、多結晶シリコンがＣＶＤ反応器からの取り出し及びその後の処理ステップの間に表面汚染物質で汚染されていないようにすることであり、本件明細書の発明の詳細な説明には、本件特許発明１〜８で特定されている清掃頻度（回数）について、本件明細書の段落【００３５】等の記載に基づき、当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる程度に説明がされているといえる。
　よって、本件特許発明１〜８は発明の詳細な説明に記載された範囲を超えるものではないといえるから、取消理由（１）に理由はない。
　ところで、当審による平成３０年３月２９日付けで通知した取消理由では、当審の判断４−エとして、平成３０年３月２日付け意見書に記載された追加された実施例は、清掃頻度について２週間の内に１回以上とすることの合理的な理由を推認させないものであると述べたものであるが、この追加された実施例については上記した特許権者の主張の中で撤回されている（平成３０年７月２日付け意見書の第１２頁）。
２．取消理由（２）について
　本件特許発明２の「毛羽立ちのないクロス」については、「毛羽立ちのない」が毛羽が落ちない、糸くずが出ないことを意味し、「クロス」がクロス・布を意味していることが明らかであって、例えば、このようなガラス清掃クロス、マイクロファイバークロス、クリーンルームクロス等が該当することは当業者に明確である。
　なお、特許異議申立人は、特許異議申立書第７頁第１３−１５行において、ガラス面のような平滑面を意図しているのか不明である旨主張しているが、「毛羽立ちのない」が上記のように解釈される以上、このようなことまで意図されていないのは当業者に明らかである。
　よって、取消理由（２）にも理由はない。
３．取消理由（３）について
　本件特許発明４の「脱塩水」は、イオン交換などによって処理して塩類を除去した水のことをいうものであって、技術常識に照らし明確である。「脱塩水を含む」に関し、請求項４は、請求項１から３のいずれか一項を引用して記載されているものであるが、例えば、請求項１に係る本件特許発明１で特定されている清掃に使われる「水性の洗浄液」は、本件明細書の段落【００２４】に洗浄液として水道水等も使用できると記載されていることから、脱塩水に限らず脱塩水を全く含まないものであってもよいことは明らかであり、同じく段落【００２６】の記載から脱塩水が好ましい例であることも明らかである。
　してみれば、本件特許発明４の「脱塩水を含む」は上記のとおり明確であって、取消理由（３）にも理由はない。
４．取消理由（４）について
　本件明細書には、ＣＶＤ反応炉の設置数や製造室の数、ＣＶＤ反応器からの多結晶シリコンの取り出し頻度については記載されていないが、多結晶シリコンの製造はＣＶＤ反応器内で行われるのに対し、本件特許発明に係る清掃は、ＣＶＤ反応器外で行われるから、多結晶シリコンの取り出し（反応器の開閉）の有無にかかわらず実施可能であるのは明らかである。
　そして、当業界で常識的な範囲の構造（ＣＶＤ反応炉の設置数や製造室の数等）を有する製造室や一般的な使用形態であれば、いずれの場合も本件特許発明に係る清掃により一定の効果を奏することは、当業者において十分に理解できることであるから、発明な詳細な説明は明確かつ十分に記載されている。
　よって、取消理由（４）にも理由はない。
５．取消理由（５）について
　上記取消理由（１）についてで検討したように、本件特許発明１において特定されている清掃される要素である「ＣＶＤ反応器の外側ケーシング」、「パイプライン」及び「製造室の床」は、文言上は一致してはいないが、それぞれ本件明細書【００４２】【表１】中の「表面」、「鋼製ワーク」および「床」に相当するものと認められる。
　してみれば、「ＣＶＤ反応器の外側ケーシング」及び「パイプライン」の清掃については、発明の詳細な説明において「表面」及び「鋼製ワーク」の清掃として記載されているから、特許法第３６条第４項第１号の要件を満たしていないとはいえないし、本件特許発明１〜８は、発明の詳細な説明に記載されている「表面」及び「鋼製ワーク」の清掃について特定したものであるから、特許法第３６条第６号第１項の要件を満たしていないともいえない。
　よって、取消理由（５）にも理由はない。
６．取消理由（６）について
　清掃対象となる汚染の累積度合いは、製造室への出入りの頻度及び製造室の構成により、幾らかの影響はあると認められるものの、通常従業者はむやみに製造室へ出入りしないことに鑑みれば、上記取消理由（４）についてと同様、本件特許発明に係る清掃により一定の効果を奏することが期待できるといえる。
　してみれば、本件明細書の発明の詳細な説明には、本件特許発明１〜８で特定されている清掃頻度（回数）について、当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる程度に説明がされていて、本件特許発明１〜８は発明の詳細な説明に記載された範囲を超えるものではないといえるから、取消理由（６）にも理由はない。
第６　取消理由として通知しなかった特許異議申立人の申立理由について 
　特許異議申立人の主張する申立理由（２）のうちの本件発明１、６，８についてのものは、上記取消理由（１）、（４）、（６）に包含されているといえる。
　そこで、申立理由（２）のうち、残った本件発明３、５，７についてのものに関し、以下に述べる。 
  
１．本件特許発明３の明確性について
　特許異議申立人は、請求項３に記載の「ブラシ型、湿式および乾式バキュームクリーナー、掃除機、スクラバードライヤー、シングルディスクマシーンなどの清掃機」について、それぞれどのようなものであり、また、いずれも同じ機能であるのか否か、あるいは、いずれを用いても請求項１記載の要件で足りるのか否か等、発明の詳細な説明中には一切記載がなく、実施例でもどの清掃機を用いたか記載がないから、特許を受けようとする発明が明確でない旨主張する。
　この主張に関し検討する。
　請求項３に記載のそれぞれの清掃機自体については、市販のものが容易に入手できるものであり、特に不明確な点は見当たらない。また、本件明細書の段落【００２３】に「床清掃に対しては、ブラシ型、湿式および乾式バキュームクリーナー、掃除機、スクラバードライヤー、シングルディスクマシーンなどの清掃機を使用することができる。」と記載されているように、通常の清掃において使用されうるものが単に列挙されていると把握できるものである。
　よって、特許異議申立人が主張する上記の不備はないということができる。
２．本件特許発明５の明確性について
　特許異議申立人は、請求項５に記載の「５から１５％」あるいは「５％未満」について、この百分率が何に対する百分率であるかの記載がないから、特許を受けようとする発明が明確でない旨主張する。
　この主張に関し検討する。
　請求項５には、「使われる洗浄液が、脱塩水ならびに５から１５％のアニオン性界面活性剤および５％未満のイオン性界面活性剤を含む中性ｐＨ洗浄剤の混合物である」と特定されている。ここで、「５から１５％」はアニオン性界面活性剤、「５％未満」はイオン性界面活性剤にかかるものであり、これら界面活性剤を含むのは中性ｐＨ洗浄剤であるから、この百分率は、中性ｐＨ洗浄剤に対するものと理解されるものである。
　なお、この解釈は、本件明細書の段落【００２８】に「例えば、１０リットルの脱塩水を食卓用大さじ数杯の、５から１５％のアニオン性界面活性剤および５％未満のイオン性界面活性剤を含み、場合によりメチルクロロイソチアゾリノンおよびメチルイソチアゾリノンなどの防腐剤を含む中性ｐＨ洗浄剤と混合して、洗浄液として使用することができる。」との記載があり、ここで中性ｐＨ洗浄剤が、「５から１５％」のアニオン性界面活性剤および「５％未満」のイオン性界面活性剤と、場合により防腐剤とを含むものであると解釈できることとも整合する。
　よって、特許異議申立人が主張する上記の不備はないということができる。
３．本件特許発明７の明確性について
　特許異議申立人は、請求項７の「最初に、それぞれのケースで、反応器の外側ケーシングおよびパイプラインを洗浄液で湿潤させた毛羽立ちのないクロスで拭き、その後になって初めて床を洗浄液で清掃する」との特定に関し、発明の詳細な説明に一切説明がなく、実施例においても記載がないから、発明が明確でない旨主張する。
　しかしながら、清掃の手段及び順序については記載が十分に明確であって当業者が多義的に解釈をする余地は見当たらない。
　なお、本件明細書の段落【００２９】に「各ケースで、最初に、反応器およびパイプラインを洗浄液で湿潤させた毛羽立ちのないクロスで拭き、その後になって初めて製造ホールの床を清掃するのが好ましい。床は手作業でまたは清掃機を使って清掃できる。」と記載されていることとも矛盾しない。
　よって、特許異議申立人が主張する上記の不備はないということができる。
第７　むすび 
  
　以上のとおり、取消理由及び申立理由によっては、本件特許発明１〜８に係る特許を取り消すことはできない。 
　そして、他に本件特許発明１〜８に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。 
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成３０年８月２４日（２０１８．８．２４）