【事件の表示】
　特願２００３−１２８１５４「反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１１月２５日出願公開、特開２００４−３３３７６１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１５年（２００３年）５月６日の出願（特願２００３−１２８１５４号）であって、平成２０年１月１０日付けで手続補正がなされ、平成２１年２月２６日付けで拒絶理由が通知されたが、当該拒絶理由の通知において指定された意見書提出の期限内には出願人からは何らの応答もなされず、同年７月２８日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１０月２６日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同日付けで手続補正がなされたものである。
　その後、当審において平成２２年９月１５日付けで回答書提出の期限を指定して審尋をしたが、当該回答書提出の期限内に回答書は提出されなかった。
　
第２　平成２１年１０月２６日付けの手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２１年１０月２６日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正について
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１ないし２１については、平成２０年１月１０日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし２１の、
　
「【請求項１】　第１面の縮小像を第２面上に形成する反射屈折型の投影光学系において、
　前記投影光学系は、少なくとも２枚の反射鏡と、第１面側の面が正の屈折力を有する境界レンズとを含み、
　前記投影光学系の光路中の雰囲気の屈折率を１とするとき、前記境界レンズと前記第２面との間の光路は１．１よりも大きい屈折率を有する媒質で満たされることが可能であって、
　前記投影光学系を構成するすべての透過部材および屈折力を有するすべての反射部材は単一の光軸に沿って配置され、
　前記投影光学系は、前記光軸を含まない所定形状の有効結像領域を有することを特徴とする投影光学系。
【請求項２】　前記少なくとも２枚の反射鏡は、少なくとも１つの凹面反射鏡を有することを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
【請求項３】　前記投影光学系は偶数個の反射鏡を有することを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項４】　前記投影光学系の射出瞳は遮蔽領域を有しないことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項５】　前記投影光学系が有するすべての有効結像領域は前記光軸から外れた領域に存在することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項６】　前記投影光学系は、少なくとも２つの反射鏡を含み前記第１面の中間像を形成するための第１結像光学系と、前記中間像からの光束に基づいて最終像を前記第２面上に形成するための第２結像光学系とを備えていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項７】　前記第１結像光学系は、正の屈折力を有する第１レンズ群と、該第１レンズ群と前記中間像との間の光路中に配置された第１反射鏡と、該第１反射鏡と前記中間像との間の光路中に配置された第２反射鏡とを備えていることを特徴とする請求項６に記載の投影光学系。
【請求項８】　前記第２反射鏡の反射面は、前記光軸を含まない領域に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の投影光学系。
【請求項９】　前記第１反射鏡は、前記第１結像光学系の瞳面の近傍に配置された凹面反射鏡であり、
　前記凹面反射鏡が形成する往復光路中には少なくとも１つの負レンズが配置されていることを特徴とする請求項７または８に記載の投影光学系。
【請求項１０】　前記往復光路中に配置された前記少なくとも１つの負レンズおよび前記境界レンズは蛍石により形成されていることを特徴とする請求項９に記載の投影光学系。
【請求項１１】　前記第１レンズ群の焦点距離をＦ１とし、前記第２面上における最大像高をＹ０とするとき、
　５＜Ｆ１／Ｙ０＜１５
　の条件を満足することを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１２】　前記第１レンズ群は、少なくとも２つの正レンズを有することを特徴とする請求項７乃至１１のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１３】　前記第２結像光学系は、複数の透過部材のみにより構成された屈折光学系であることを特徴とする請求項６乃至１２のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１４】　前記第２結像光学系を構成する透過部材の数の７０％以上の数の透過部材は石英により形成されていることを特徴とする請求項１３に記載の投影光学系。
【請求項１５】　前記境界レンズと前記第２面との間の光路に配置される平行平面板をさらに備えていることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１６】　前記平行平面板は前記境界レンズと前記第２面との間の光路に挿脱自在であることを特徴とする請求項１５に記載の投影光学系。
【請求項１７】　前記有効結像領域は円弧形状を有し、前記有効結像領域を規定する円弧の曲率半径の大きさをＲとし、前記第２面上における最大像高をＹ０とするとき、
　１．０５＜Ｒ／Ｙ０＜１２
　の条件を満足することを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１８】　第１面の縮小像を第２面上に形成する反射屈折型の投影光学系において、
　少なくとも２枚の反射鏡と透過部材とを備え、且つ前記投影光学系の光軸を含まない円弧形状の有効結像領域を備え、
　前記有効結像領域を規定する円弧の曲率半径の大きさをＲとし、前記第２面上における最大像高をＹ０とするとき、
　１．０５＜Ｒ／Ｙ０＜１２
　の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
【請求項１９】　前記第１面に設定されたマスクを照明するための照明系と、前記マスクに形成されたパターンの像を前記第２面に設定された感光性基板上に形成するための請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の投影光学系とを備えていることを特徴とする露光装置。
【請求項２０】　前記投影光学系に対して前記マスクおよび前記感光性基板を所定方向に沿って相対移動させて前記マスクのパターンを前記感光性基板上へ投影露光することを特徴とする請求項１９に記載の露光装置。
【請求項２１】　前記第１面に設定されたマスクを照明し、請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の投影光学系を介して前記マスクに形成されたパターンを前記第２面に設定された感光性基板上に投影露光することを特徴とする露光方法。」が　
　
「【請求項１】　第１面の縮小像を第２面上に形成する反射屈折型の投影光学系であって、前記第１面側の面が正の屈折力を有する境界レンズを含み、前記境界レンズと前記第２面との間の光路に満たされた１．１よりも大きい屈折率を有する媒質を介して前記縮小像を前記第２面上に形成する投影光学系において、
　少なくとも２枚の反射鏡を含み、
　前記投影光学系を構成するすべての透過部材および屈折力を有するすべての反射部材は単一の光軸に沿って配置され、
　前記投影光学系は、前記光軸を含まない所定形状の有効結像領域を有することを特徴とする投影光学系。
但し、前記投影光学系の光路中の雰囲気の屈折率を１とする。
【請求項２】　前記少なくとも２枚の反射鏡は、少なくとも１つの凹面反射鏡を有することを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
【請求項３】　前記投影光学系は偶数個の反射鏡を有することを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
【請求項４】　前記投影光学系の射出瞳は遮蔽領域を有しないことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項５】　前記投影光学系が有するすべての有効結像領域は前記光軸から外れた領域に存在することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項６】　前記投影光学系は、少なくとも２つの反射鏡を含み前記第１面の中間像を形成するための第１結像光学系と、前記中間像からの光束に基づいて最終像を前記第２面上に形成するための第２結像光学系とを備えていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項７】　前記第１結像光学系は、正の屈折力を有する第１レンズ群と、該第１レンズ群と前記中間像との間の光路中に配置された第１反射鏡と、該第１反射鏡と前記中間像との間の光路中に配置された第２反射鏡とを備えていることを特徴とする請求項６に記載の投影光学系。
【請求項８】　前記第２反射鏡の反射面は、前記光軸を含まない領域に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の投影光学系。
【請求項９】　前記第１反射鏡は、前記第１結像光学系の瞳面の近傍に配置された凹面反射鏡であり、
　前記凹面反射鏡が形成する往復光路中には少なくとも１つの負レンズが配置されていることを特徴とする請求項７または８に記載の投影光学系。
【請求項１０】　前記往復光路中に配置された前記少なくとも１つの負レンズおよび前記境界レンズは蛍石により形成されていることを特徴とする請求項９に記載の投影光学系。
【請求項１１】　前記第１レンズ群の焦点距離をＦ１とし、前記第２面上における最大像高をＹ０とするとき、
　５＜Ｆ１／Ｙ０＜１５
　の条件を満足することを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１２】　前記第１レンズ群の焦点距離をＦ１とし、前記第２面上における最大像高をＹ０とするとき、
　７＜Ｆ１／Ｙ０＜１３
　の条件を満足することを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１３】　前記第１レンズ群は、少なくとも２つの正レンズを有することを特徴とする請求項７乃至１２のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１４】　前記第２結像光学系は、複数の透過部材のみにより構成された屈折光学系であることを特徴とする請求項６乃至１３のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１５】　前記第２結像光学系を構成する透過部材の数の７０％以上の数の透過部材は石英により形成されていることを特徴とする請求項１４に記載の投影光学系。
【請求項１６】　前記境界レンズと前記第２面との間の光路に配置される平行平面板をさらに備えていることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１７】　前記平行平面板は前記境界レンズと前記第２面との間の光路に挿脱自在であることを特徴とする請求項１６に記載の投影光学系。
【請求項１８】　前記有効結像領域は円弧形状を有し、前記有効結像領域を規定する円弧の曲率半径の大きさをＲとし、前記第２面上における最大像高をＹ０とするとき、
　１．０５＜Ｒ／Ｙ０＜１２
　の条件を満足することを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の投影光学系。
【請求項１９】　前記第１面に設定されたマスクを照明するための照明系と、前記マスクに形成されたパターンの像を前記第２面に設定された感光性基板上に形成するための請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の投影光学系とを備えていることを特徴とする露光装置。
【請求項２０】　前記投影光学系に対して前記マスクおよび前記感光性基板を所定方向に沿って相対移動させて前記マスクのパターンを前記感光性基板上へ投影露光することを特徴とする請求項１９に記載の露光装置。
【請求項２１】　前記第１面に設定されたマスクを照明し、請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の投影光学系を介して前記マスクに形成されたパターンを前記第２面に設定された感光性基板上に投影露光することを特徴とする露光方法。」と補正されたものである。
　
　本件補正には、
（１）請求項１についての補正であって、本件補正前は「光路は１．１よりも大きい屈折率を有する媒質で満たされることが可能であって」としていたのを、本件補正後に「光路に満たされた１．１よりも大きい屈折率を有する媒質を介して」と変更する補正事項、
（２）本件補正前の請求項１１において「５＜Ｆ１／Ｙ０＜１５」の数値範囲を「７＜Ｆ１／Ｙ０＜１３」と限定した請求項を、本件補正後に請求項１２として新たに追加した補正事項、及び、
（３）本件補正前の請求項１８を削除するとともに、本件補正前の請求項１２ないし１７を本件補正後の請求項１３ないし１８とする補正事項を含む。
　
　上記の（２）の補正事項は、本件補正前の請求項１１を２つに分割して，請求項１１及び請求項１２とするものであって、請求項１２として新たな請求項を追加する補正であるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第１ないし４号に掲げるいずれの事項をも目的とするものではない。なお、同法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項、すなわち、いわゆる限定的減縮を目的とするためには、補正前の請求項と補正後の請求項の間には一対一の関係が必要である（平成１７年（行ケ）１０１９２号、平成１５年（行ケ）２３０号の判決の判示事項参照）から、上記の（２）の補正事項は同法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものとはいえない。
　よって、本件補正は、同法第１７条の２第４項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定によって却下されるべきものである。
　
２　独立特許要件（特許法第２９条第２項）違反についての検討
　仮に、上記（２）の補正事項によっては、本件補正が平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものということができないとしても、上記補正事項（１）は、特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とする補正であるといえるから、本件補正における請求項１についてする補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものを含む。
　そこで、次に、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反しないか）について検討する。
　
（１）本願補正発明
　本願補正発明は、平成２１年１０月２６日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定されるものである。（上記の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
（２）引用例
ア　本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００２−２７７７４２号公報（以下「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。（後述の「イ　引用例１に記載された発明の認定」において発明の認定に直接関係する記載に下線を付した。）
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置に関し、特に半導体素子などをフォトリソグラフィ工程で製造する際に使用される露光装置に最適な高解像の反射屈折型の投影光学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体素子の製造や半導体チップ実装基板の製造では、微細化がますます進んでおり、パターンを焼き付ける露光装置ではより解像力の高い投影光学系が要求されてきている。この高解像の要求を満足するには、露光光を短波長化し、且つＮＡ（投影光学系の開口数）を大きくしなければならない。しかしながら、露光光の波長が短くなると、光の吸収のため実用に耐える光学ガラスの種類が限られてくる。たとえば、波長が１８０ｎｍ以下になると、実用上使える硝材は蛍石だけとなる。」
　
「【００２０】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するために、本発明の第１発明では、
少なくとも２つの反射鏡を有し、第１面からの光に基づいて前記第１面の第１中間像を形成するための第１結像光学系と、少なくとも２つの反射鏡を有し、前記第１結像光学系を介した光に基づいて前記第１面の第２中間像を形成するための第２結像光学系と、前記第２結像光学系を介した光に基づいて前記第１面の最終像を第２面上に形成するための屈折型の第３結像光学系とを備え、前記第１結像光学系、前記第２結像光学系および前記第３結像光学系を構成するすべての光学部材が単一の直線状光軸に沿って配置されていることを特徴とする反射屈折光学系
　
「【００２９】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の反射屈折光学系の基本的な構成を説明するための図である。なお、図１では、本発明の反射屈折光学系が走査露光型の露光装置の投影光学系に適用されている。図１に示すように、本発明の反射屈折光学系は、第１面に配置された投影原版としてのレチクルＲのパターンの第１中間像を形成するための第１結像光学系Ｇ１を備えている。なお、第１結像光学系Ｇ１は、少なくとも２つの反射鏡、すなわち第１反射鏡および第２反射鏡を有する。
【００３０】第１結像光学系Ｇ１を介した光は、少なくとも２つの反射鏡、すなわち第３反射鏡および第４反射鏡を有する第２結像光学系Ｇ２を介して、レチクルＲのパターンの第２中間像を形成する。第２結像光学系Ｇ２を介した光は、反射鏡を含むことなく屈折光学部材を有する屈折型の第３結像光学系Ｇ３を介して、レチクルＲのパターンの最終像を第２面に配置された感光性基板としてのウェハＷ上に形成する。第１結像光学系Ｇ１、第２結像光学系Ｇ２および第３結像光学系Ｇ３を構成するすべての光学部材が、単一の直線状光軸ＡＸに沿って配置されている。」
　
「【００４８】また、図示の露光装置では、投影光学系ＰＬを構成する光学部材のうち最もレチクル側に配置された光学部材（各実施例ではレンズＬ１１）と最もウェハ側に配置された光学部材（第１および第２実施例ではレンズＬ３８，第３実施例ではレンズＬ３１２，第４実施例ではレンズＬ３９，第５、第６および第９実施例ではレンズＬ３１５，第７および第８実施例ではレンズＬ３１７）との間で投影光学系ＰＬの内部が気密状態を保つように構成され、
投影光学系ＰＬの内部の気体はヘリウムガスや窒素などの不活性ガスで置換されているか、あるいはほぼ真空状態に保持されている。
　
「【００５２】各実施例において、本発明の反射屈折光学系からなる投影光学系ＰＬは、第１面に配置されたレチクルＲのパターンの第１中間像を形成するための反射屈折型の第１結像光学系Ｇ１と、第１結像光学系Ｇ１を介した光に基づいてレチクルＲのパターンの第２中間像を形成するための反射屈折型の第２結像光学系Ｇ２と、第２結像光学系Ｇ２を介した光に基づいて第２面に配置されたウェハＷ上に
レチクルパターンの最終像（レチクルパターンの縮小像）
【００５３】なお、各実施例において、
第１結像光学系Ｇ１、第２結像光学系Ｇ２および第３結像光学系Ｇ３を構成するすべての光学部材が単一の直線状光軸ＡＸに沿って配置されている。
　
「【０１０８】〔第６実施例〕図１４は、第６実施例にかかる反射屈折光学系（投影光学系ＰＬ）のレンズ構成を示す図である。図１４の反射屈折光学系において、第１結像光学系Ｇ１は、レチクル側から順に、レチクル側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１１と、ウェハ側に平面に近い凹面を向けた凹面反射鏡Ｍ１１と、レチクル側に凹面を向けた凹面反射鏡Ｍ１２とから構成されている。
【０１０９】また、第２結像光学系Ｇ２は、レチクル側から順に、ウェハ側に凹面を向けた凹面反射鏡Ｍ２１と、レチクル側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ２１と、レチクル側に平面に近い凹面を向けた凹面反射鏡Ｍ２２とから構成されている。
【０１１０】さらに、第３結像光学系Ｇ３は、レチクル側から順に、両凹レンズＬ３１と、ウェハ側に非球面状の凹面を向けた負メニスカスレンズＬ３２と、レチクル側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ３３と、両凹レンズＬ３４と、レチクル側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ３５と、ウェハ側に非球面状の凹面を向けた正メニスカスレンズＬ３６と、両凸レンズＬ３７と、レチクル側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ３８と、開口絞りＡＳと、レチクル側に非球面状の凹面を向けた正メニスカスレンズＬ３９と、ウェハ側に非球面状の凸面を向けた両凸レンズＬ３１０と、レチクル側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ３１１と、ウェハ側に非球面状の凹面を向けた正メニスカスレンズＬ３１２と、レチクル側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ３１３と、レチクル側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ３１４と、
両凸レンズＬ３１５
【０１１１】なお、第１結像光学系Ｇ１と第２結像光学系Ｇ２との間の光路中には、レチクル側から順に、レチクル側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ４１と、ウェハ側に非球面状の凸面を向けた両凸レンズＬ４２とから構成された第１フィールドレンズが配置されている。また、第２結像光学系Ｇ２と第３結像光学系Ｇ３との間の光路中には、レチクル側から順に、レチクル側に非球面状の凸面を向けた両凸レンズＬ５１と、両凸レンズＬ５２とから構成された第２フィールドレンズが配置されている。
【０１１２】したがって、第６実施例では、レチクルＲからの光が、正メニスカスレンズＬ１１を介して、凹面反射鏡Ｍ１２に入射する。凹面反射鏡Ｍ１２で反射された光は、凹面反射鏡Ｍ１１で反射された後、第１フィールドレンズ（Ｌ４１およびＬ４２）中にレチクルパターンの第１中間像を形成する。
【０１１３】第１フィールドレンズ（Ｌ４１およびＬ４２）中に形成された第１中間像からの光は、凹面反射鏡Ｍ２２で反射され、負メニスカスレンズＬ２１を介して凹面反射鏡Ｍ２１で反射された後、負メニスカスレンズＬ２１を介して、第２フィールドレンズ（Ｌ５１およびＬ５２）の近傍にレチクルパターンの第２中間像を形成する。第２中間像からの光は、第２フィールドレンズ（Ｌ５１およびＬ５２）、および第３結像光学系Ｇ３を構成する各レンズＬ３１〜Ｌ３１５を介して、ウェハＷ上にレチクルパターンの最終像を形成する。
【０１１４】なお、上述の第１実施例〜第５実施例ではウェハＷ上に矩形状の実効露光領域ＥＲが形成されるが、第６実施例では円弧状の実効露光領域ＥＲが形成される。図１５は、第６実施例において
ウェハ上に形成される円弧状の実効露光領域と基準光軸との位置関係を示す図である。図１５に示すように、第６実施例では、基準光軸ＡＸを中心とした半径Ａ（最大像高に対応）を有する円形状の領域（イメージサークル）ＩＦ内において、基準光軸ＡＸから＋Ｙ方向に偏心した位置に所望の大きさを有する円弧状の実効露光領域ＥＲが設定されている。
【０１１５】次の表（６）に、第６実施例の反射屈折光学系の諸元の値を掲げる。表（６）の主要諸元において、λは露光光の中心波長を、βは投影倍率（全系の結像倍率）を、ＮＡは像側（ウェハ側）開口数を、ＡはウェハＷ上でのイメージサークルＩＦの半径すなわち最大像高を、Ｂは最大像高Ａに対応する最大物体高を、ＬＸ’は円弧状の実効露光領域ＥＲのＸ方向に沿った寸法を、ＬＹ’は円弧状の実効露光領域ＥＲのＹ方向に沿った寸法をそれぞれ表している。
【０１１６】また、表（６）の光学部材諸元において、第１カラムの面番号はレチクル側からの面の順序を、第２カラムのｒは各面の曲率半径（非球面の場合には頂点曲率半径：ｍｍ）を、第３カラムのｄは各面の軸上間隔すなわち面間隔（ｍｍ）を、第４カラムのｎは中心波長に対する屈折率をそれぞれ示している。なお、面間隔ｄは、反射される度にその符号を変えるものとする。したがって、面間隔ｄの符号は、凹面反射鏡Ｍ１２から凹面反射鏡Ｍ１１への光路中および凹面反射鏡Ｍ２２から凹面反射鏡Ｍ２１への光路中では負とし、その他の光路中では正としている。また、光の入射方向に関わらず、レチクル側に向かって凸面の曲率半径を正とし、レチクル側に向かって凹面の曲率半径を負としている。
【０１１７】
【表６】
（主要諸元）
λ＝１５７．６ｎｍ
β＝１／５
ＮＡ＝０．８
Ａ＝１８ｍｍ
Ｂ＝９０ｍｍ
ＬＸ’＝２０ｍｍ
ＬＹ’＝３ｍｍ
（光学部材諸元）
面番号　　　　ｒ　　　　　　　ｄ　　　　　ｎ
　　　　（レチクル面）　　60.000000
1　　　　 419.18852　　　 19.580407　　1.560000　（レンズＬ１１）
2　　　　1680.57391　　　254.993608
3　　　　-489.61861　　 -224.993608　　　　　　（凹面反射鏡Ｍ１２）
4　　　　2084.90414　　　254.993608　　　　　　（凹面反射鏡Ｍ１１）
5　　　 -1514.77737　　　 69.985952　　1.560000　（レンズＬ４１）
6　　　　-244.82172　　　　1.000000
7　　　　 364.28042　　　 32.967769　　1.560000　（レンズＬ４２）
8*　　　-3138.44099　　　509.623508
9　　　 -2184.60801　　 -442.835110　　　　　　（凹面反射鏡Ｍ２２）
10　　　　149.68327　　　-20.000000　　1.560000　（レンズＬ２１）
11　　　　559.08929　　　-16.788398
12　　　　263.00265　　　 16.788398　　　　　　（凹面反射鏡Ｍ２１）
13　　　　559.08929　　　 20.000000　　1.560000　（レンズＬ２１）
14　　　　149.68327　　　442.835110
15*　　　1889.70924　　　 23.000000　　1.560000　（レンズＬ５１）
16　　　 -264.21722　　　　1.000000
17　　　　233.99661　　　 35.823627　　1.560000　（レンズＬ５２）
18　　　 -619.37646　　　 38.987456
19　　　-5441.96593　　　 20.000000　　1.560000　（レンズＬ３１）
20　　　　502.25155　　　　1.000000
21　　　　182.75539　　　 20.000000　　1.560000　（レンズＬ３２）
22*　　　　97.20773　　　　1.457183
23　　　　 97.56626　　　 26.063961　　1.560000　（レンズＬ３３）
24　　　　183.48181　　　 23.001316
25　　　 -240.13113　　　 20.000000　　1.560000　（レンズＬ３４）
26　　　　145.02922　　　 19.973246
27　　　 -950.10258　　　 21.000000　　1.560000　（レンズＬ３５）
28　　　 -183.48772　　　 69.067372
29　　　　126.47126　　　 23.315183　　1.560000　（レンズＬ３６）
30*　　　 187.64534　　　　7.841194
31　　　　217.50174　　　 40.946892　　1.560000　（レンズＬ３７）
32　　　 -326.63509　　　 22.449513
33　　　 -196.62797　　　 20.000000　　1.560000　（レンズＬ３８）
34　　　 -267.67602　　　 10.000000
35　　　 　　∞　　　　　 12.422431　　　　　　　（開口絞りＡＳ）
36*　　　-340.00000　　　 16.000000　　1.560000　（レンズＬ３９）
37　　　 -248.51990　　　　1.000000
38　　　　156.19975　　　 43.018450　　1.560000　（レンズＬ３１０）
39*　　　-324.35639　　　　5.121067
40　　　 -177.96849　　　 15.000000　　1.560000　（レンズＬ３１１）
41　　　 -358.98302　　　　1.000000
42　　　　107.39866　　　 29.810536　　1.560000　（レンズＬ３１２）
43*　　 -5286.38967　　　　1.000000
44　　　　 88.60392　　　 20.000000　　1.560000　（レンズＬ３１３）
45　　　　178.21372　　　　1.000000
46　　　　177.28766　　　 17.334341　　1.560000　（レンズＬ３１４）
47　　　　131.47878　　　　1.213668
48　　　　131.32841　　　 15.001321　　1.560000　（レンズＬ３１５）
49　　　-1923.73296　　　　6.000000
　　　　（ウェハ面）
（非球面データ）
−−−（以下省略）−−−」
　
「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
「【図１４】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
「【図１５】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
イ　引用例１に記載された発明の認定
　上記記載（図面の記載も含む）から、引用例１には、
「少なくとも２つの反射鏡を有し、第１面（レチクルＲ）からの光に基づいて前記第１面（レチクルＲ）の第１中間像を形成するための第１結像光学系Ｇ１と、少なくとも２つの反射鏡を有し、前記第１結像光学系Ｇ１を介した光に基づいて前記第１面（レチクルＲ）の第２中間像を形成するための第２結像光学系Ｇ２と、前記第２結像光学系Ｇ２を介した光に基づいて前記第１面（レチクルＲ）の縮小像である最終像を第２面（ウェハＷ）上に形成するための屈折型の第３結像光学系Ｇ３とを備え、前記第１結像光学系Ｇ１、前記第２結像光学系Ｇ２および前記第３結像光学系Ｇ３を構成するすべての光学部材が単一の直線状光軸ＡＸに沿って配置されている反射屈折型の投影光学系ＰＬであって、
　前記第１結像光学系Ｇ１、前記第２結像光学系Ｇ２および前記第３結像光学系Ｇ３を構成するすべての光学部材のうちの最も第２面（ウェハＷ）側の光学部材は両凸レンズＬ３１５であり、
　第２面（ウェハＷ）上に形成される円弧状の実効露光領域ＥＲと光軸ＡＸとの位置関係は、光軸ＡＸから＋Ｙ方向に偏心した位置に所望の大きさを有する円弧状の実効露光領域ＥＲが設定されており、
　投影光学系ＰＬの内部の気体はヘリウムガスや窒素などの不活性ガスで置換されているか、あるいはほぼ真空状態に保持されている投影光学系ＰＬ。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
ウ　本願の出願前に頒布された刊行物である特開平１０−３０３１１４号公報（以下「周知例１」という。）には、次の事項が記載されている。
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レチクル上に描画されたパターンを投影光学系によってウエハに焼付ける露光装置に関し、特に液浸型の露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学系の最終レンズ面と像面との間の間隔をワーキングディスタンスというが、従来の露光装置の投影光学系のワーキングディスタンスは、空気で満たされていた。このワーキングディスタンスは、オートフォーカス光学系を介在させるなどの都合により、１０ｍｍ以上取るのが普通であった。他方、ウエハに転写するパターンについては、その微細化がますます望まれており、そのためには露光波長の短波長化を図るか、あるいは開口数の増大を図る必要がある。しかるに短波長の光を透過するガラス材料の種類には限度があるから、ワーキングディスタンスを液体で満たして開口数の増大を図ることにより、露光パターンの微細化を図る液浸型の露光装置が提案されている。
【０００３】液浸型の露光装置では、ワーキングディスタンスに介在させた液体の温度分布によって、屈折率に分布が生じるおそれがある。そこで液体の温度変化に起因する結像性能の劣化への対策として、次のような技術が提案されている。すなわち、（あ）液体の温度安定機構によって温度の安定化を図るものとして、米国特許４，３４６，１６４号の図３に開示された技術が提案されており、加振撹拌機構によって温度の均一化を図るものとして、特開平６−１２４８７３号公報に開示された技術が提案されている。また、（い）液体の温度モニター機構によって温度調節にフィードバックするものとして、同じく特開平６−１２４８７３号公報に温度、又は屈折率を計測することが提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし（あ）においては、温度をどの程度安定させれば実用上問題ないかと言った議論は成されておらず、実際には下記に示すように、現実的とは言いがたい精度での温度コントロールが必要になる。また、（い）についても、結像性能に最も影響するのが液体の温度不均一であることを考慮すると、有効な対策とは言い難い。このように液浸型露光装置に関する従来公知の技術においては、ワーキングディスタンスのような投影光学系の光学パラメーターそのものについての制約に言及した例はなく、液浸型の特殊事情が考慮されているとは言えない状況であった。したがって本発明は、ワーキングディスタンスを満たす液体の温度制御を容易にして、結像性能の劣化を招くことのない液浸型露光装置を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、すなわち、レチクル上に描画されたパターンをウエハ上に焼付転写する投影光学系を有し、該投影光学系のウエハに最も近接したレンズ面とウエハとの間のワーキングディスタンスのうちの少なくとも一部分を、露光光を透過する液体で満たした液浸型露光装置において、ワーキングディスタンスの長さをＬとし、露光光の波長をλとし、液体の屈折率の温度係数をＮ（１／℃）としたとき、
Ｌ≦λ／（０．３×｜Ｎ｜）
となるように形成したことを特徴とする液浸型露光装置であり、また、前記液体として、純水の表面張力を減少させ又は純水の界面活性度を増大させる添加剤を純水に添加したものを用いたことを特徴とする液浸型露光装置である。」
　
「【００１７】ところで図１に示した通り、本実施例では投影レンズ系ＰＬの先端部を液体ＬＱ内に浸けるので、少なくともその先端部は防水加工されて鏡筒内に液体が染み込まないような構造となっている。さらに、投影レンズ系ＰＬの先端のレンズ素子の下面（ウエハＷとの対向面）は平面、又は曲率半径が極めて大きい凸面に加工され、これにより、走査露光時にレンズ素子の下面とウエハＷの表面との間で生じる液体ＬＱの流れをスムーズにできる。さらに本実施例では、後で詳細に説明するが、液浸状態における投影レンズ系ＰＬの最良結像面（レチクル共役面）が、先端のレンズ素子の下面から約２〜１ｍｍの位置に形成されるように設計されている。従って、先端のレンズ素子の下面とウエハＷの表面との間に形成される液体層の厚みも２〜１ｍｍ程度になり、これによって液体ＬＱの温度調整の制御精度が緩和されるとともに、その液体層内の温度分布ムラの発生も抑えることが可能となる。」
　
エ　本願の出願前に頒布された刊行物である特開平１１−１７６７２７号公報（以下「周知例２」という。）には、次の事項が記載されている。
　
「【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記の如く従来の投影露光装置（投影光学系）では、ＡｒＦエキシマレーザの１９３ｎｍより短い波長の露光光を使用することは困難である。そこで、実質的に露光波長を短くする方法として、液浸法が提案されている。これは、ウエハを所定の液体中に浸し、液体中での露光光の波長が、空気中の１／ｎ倍（ｎは液体の屈折率で通常１．２〜１．６程度）になることを利用して解像度を向上し、焦点深度を増大するというものである。」
　
（３）本願補正発明と引用発明との対比
ア　対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の「第１面（レチクルＲ）の縮小像である最終像を第２面（ウェハＷ）上に形成する」「反射屈折型の投影光学系ＰＬ」が、本願補正発明の「第１面の縮小像を第２面上に形成する反射屈折型の投影光学系」に相当する。
　
　本願補正発明の「境界レンズ」は、当該境界レンズと第２面との間の光路に１．１よりも大きい屈折率を有する媒質が満たされるものであることから、「投影光学系のうちの最も第２面側の光学部材」であるといえるから、引用発明の「前記第１結像光学系Ｇ１、前記第２結像光学系Ｇ２および前記第３結像光学系Ｇ３を構成するすべての光学部材のうちの最も第２面（ウェハＷ）側の光学部材は両凸レンズＬ３１５」であることが、本願補正発明の「第１面側の面が正の屈折力を有する境界レンズを含」むことに相当する。
　
　引用発明の「第１結像光学系Ｇ１」が「少なくとも２つの反射鏡を有」することが、本願補正発明の「（投影光学系が）少なくとも２枚の反射鏡を含」むことに相当する。
　
　引用発明の「前記第１結像光学系Ｇ１、前記第２結像光学系Ｇ２および前記第３結像光学系Ｇ３を構成するすべての光学部材が単一の直線状光軸ＡＸに沿って配置されている」ことが、本願補正発明の「前記投影光学系を構成するすべての透過部材および屈折力を有するすべての反射部材は単一の光軸に沿って配置され」ることに相当する。
　
　引用発明の「第２面（ウェハＷ）上に形成される円弧状の実効露光領域ＥＲと光軸ＡＸとの位置関係は、光軸ＡＸから＋Ｙ方向に偏心した位置に所望の大きさを有する円弧状の実効露光領域ＥＲが設定されている」ことが、本願補正発明の「前記投影光学系は、前記光軸を含まない所定形状の有効結像領域を有する」ことに相当する。
　
　引用発明の「投影光学系ＰＬの内部の気体はヘリウムガスや窒素などの不活性ガスで置換されているか、あるいはほぼ真空状態に保持されている」ことが、本願補正発明の「投影光学系の光路中の雰囲気の屈折率を１とする」ことに相当する。
　
イ　一致点
　したがって、本願補正発明と引用発明とは、
「第１面の縮小像を第２面上に形成する反射屈折型の投影光学系であって、前記第１面側の面が正の屈折力を有する境界レンズを含み、前記縮小像を前記第２面上に形成する投影光学系において、
　少なくとも２枚の反射鏡を含み、
　前記投影光学系を構成するすべての透過部材および屈折力を有するすべての反射部材は単一の光軸に沿って配置され、
　前記投影光学系は、前記光軸を含まない所定形状の有効結像領域を有する投影光学系。
但し、前記投影光学系の光路中の雰囲気の屈折率を１とする。」の発明である点で一致し、次の点で相違する。
　
ウ　相違点
　本願補正発明においては「境界レンズと第２面との間の光路」に「１．１よりも大きい屈折率を有する媒質」が満たされているのに対して、引用発明においては、その点の限定がない点。
　
（４）当審の判断
ア　上記相違点について検討する。
　投影露光装置の投影光学系において、解像度を高くすることを目的として、使用する露光光の波長を短くするために、ウエハ上に、気体より屈折率の大きな液体（屈折率は通常１．２〜１．６程度（周知例２参照））を介在させて露光することは、例えば、周知例１、２にも記載されているように周知の技術である。
　引用発明も、解像度を高めるという技術課題を有するものであり（引用例１の【０００２】参照）、当該技術課題を達成するために、上記周知技術を適用し、「光学部材のうちの最も第２面（ウェハＷ）側の光学部材である両凸レンズ（境界レンズ）と第２面（ウェハＷ）との間の光路」に液体（「１．１よりも大きい屈折率を有する媒質」）を満たして、上記相違点に係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
　なお、上記の「光学部材のうちの最も第２面（ウェハＷ）側の光学部材」と「第２面（ウェハＷ）」との間の光路に液体を満たすものにおいては、投上記周知例１の【００１７】に記載されているように、投影レンズ系ＰＬの最も第２面（ウェハＷ）側のレンズ素子の下面（ウエハＷとの対向面）が「平面、又は曲率半径が極めて大きい凸面」である必要があったとしても、引用例１の【０１１７】の【表６】からわかるように、投影レンズ系ＰＬの最も第２面（ウェハＷ）側のレンズ素子（Ｌ３１５）の下面（ウエハＷとの対向面）４９は、曲率半径が極めて大きい下向きの凸面（曲率半径ｒ＝-1923.73296mm）であることがわかるから、この点は、引用発明への上記の周知技術の適用に際しての阻害要因とはならない。
　
イ　本願補正発明の奏する作用効果　
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　まとめ
　したがって、本願補正発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
（５）小括
　したがって、本願補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３　むすび
　以上のとおりであり、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第１ないし４号に掲げるいずれの事項をも目的とするものではない補正事項を含むから、同法第１７条の２第４項の規定に違反するものである。
　また、本件補正が、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とする補正であるとした場合においては、特許出願の際独立して特許を受けることができないから、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものである。
　したがって、本件補正は、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
 第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２１年１０月２６日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲の請求項１ないし２１に係る発明（以下、それぞれ、順に「本願発明１」ないし「本願発明２１」という。）は、平成２０年１月１０日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし２１に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記「第２　平成２１年１０月２６日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
２　原査定の拒絶の理由
　原審における平成２１年２月２６日付け拒絶理由通知書に記載した拒絶の理由は次のとおりである。
　
「Ａ．　この出願は、下記の点で特許法第３７条に規定する要件を満たしていない。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　
Ａ−１．反射屈折型の投影光学系自体は特に例示するまでもなく従来周知の技術であるので、請求項１及び請求項１を引用する請求項に係る発明（以下、「発明の群１」という。）、請求項１８及び請求項１８を引用する請求項に係る発明（以下、「発明の群２」という。）の各発明の群の間に、主要部が共通となるものは存在してなく、また、請求項に特定した事項から客観的に把握されるものであって、従来技術に対して新規なものとして解決する課題（従来未解決な課題）が共通するものは存在していないので、発明の群１、発明の群２の各発明の群同士は、特許法第３７条第１号、第２号に規定する関係は満たさない。
　また、発明の群１から発明の群２の各発明の群同士は、特許法第３７条第３号、第４号、第５号に規定する他のいずれの関係も満たさない。
　
　この出願は特許法第３７条の規定に違反しているので、請求項１ないし１７、１９ないし２１以外の請求項に係る発明については特許法第３７条以外の要件についての審査を行っていない。
　
Ｂ．平成２０年１月１０日付けでした手続補正は、下記の点で願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものでないから、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　
Ｂ−１．平成２０年１月１０日付け手続補正により、従前の請求項１の記載の「前記境界レンズと前記第２面との間の光路は１．１より大きい屈折率を有する媒体で満たされ、」という記載を「前記境界レンズと前記第２面との間の光路は１．１より大きい屈折率を有する媒体で満たされることが可能であって、」という記載に補正している。
　前記補正により、上記手続補正後の請求項１に係る発明である投影光学系は、境界レンズと第２面との間の光路を、１．１より大きい屈折率を有する媒体で満たされない状態を含みうる記載となっているが、投影光学系において、境界レンズと第２面との間の光路を、１．１より大きい屈折率を有する媒体で満たされない状態のものは、出願当初の明細書又は図面には記載された事項ではなく、また、出願当初の明細書または図面に記載した事項から自明な事項であるともいえない。
　
　なお、当該補正がなされた明細書又は図面における請求項１ないし１７、１９ないし２１に記載した事項は、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内にないことが明らかであるから、当該請求項に係る発明については新規性、進歩性等の特許要件についての審査を行っていない。」
　
　なお、上記の拒絶理由これに対して、意見書提出の指定期間において出願人（審判請求人）からは何らの応答（意見書の提出、または、手続補正による補正）もなかった。
　
２　当審の判断
　上記のように、
ａ．原査定の拒絶の理由に対して意見書提出の指定期間において出願人（審判請求人）からは何らの応答もなかったこと、及び、
ｂ．審判請求における請求人の主張は、上記の平成２１年１０月２６日付けの手続補正（本件補正）に基づく主張であるところ、平成２１年１０月２６日付けの手続補正（本件補正）は上記のように却下されたのであるから、審判請求における請求人の主張を採用することはできないこと、
　に鑑みれば、原査定の拒絶の理由が解消される理由はないといえる。よって、当審は、基本的に、原査定の拒絶の理由は維持されると判断するが、さらに、以下に判断の理由を補充する。
　
（１）発明の単一性の規定の違反について
　本願発明１（特定発明）と本願発明１８において共通する発明特定事項（以下「共通特定事項」という。）は、
「第１面の縮小像を第２面上に形成する反射屈折型の投影光学系において、
　前記投影光学系は、少なくとも２枚の反射鏡と、透過部材とを含み、
　前記投影光学系は、前記投影光学系の光軸を含まない所定形状の有効結像領域を有する投影光学系。」
である。
　上記の共通特定事項は、「第２　平成２１年１０月２６日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」に記載した引用例１の他、例えば、特開２００３−１１４３８７号公報、特開２００１−２２８４０１号公報にも記載されているように本件出願前において周知の技術的事項であるから、上記共通特定事項に対応する未解決の技術課題は存在しないことは明らかである。よって、本願発明１８は特定発明（本願発明１）と解決しようとする課題（未解決の技術課題）が同一である発明ということはできない。また、上記共通特定事項は発明の主要部とはならないことも明らかであるから、本願発明１８は特定発明（本願発明１）と主要部が同一である発明ということもできない。すなわち、本願発明１８は、特定発明（本願発明１）との関係において、平成１５年法律第４７号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第３７条（以下「特許法第３７条」という。）第１号及び第２号に規定する関係を満たさない。
　また、本願発明１８が、特定発明（本願発明１）との関係において、特許法第３７条第３号ないし第５号に規定する、いずれの関係をも満たさないことは明らかである。
　したがって、本件出願は特許法第３７条の規定に違反しているから、拒絶されるべきものである。
　
（２）新規事項の追加の違反について
ア　平成２０年１月１０日付け手続補正により、本願発明１の投影光学系は、「境界レンズと第２面との間の光路を、１．１より大きい屈折率を有する媒体で満たされる」ものではない状態を含みうる記載となった。また、本願発明１が、本願発明１８の
「有効結像領域を規定する円弧の曲率半径の大きさをＲとし、第２面上における最大像高をＹ０とするとき、
　１．０５＜Ｒ／Ｙ０＜１２
の条件を満足する」
という特定事項を有さないものを含むことは当然である。
　したがって、上記補正により、本願発明１は、
「境界レンズと第２面との間の光路を、１．１より大きい屈折率を有する媒体で満たされる」という特定事項（以下「媒体に関する特定事項」という。）を有しないものであって、かつ、
「有効結像領域を規定する円弧の曲率半径の大きさをＲとし、第２面上における最大像高をＹ０とするとき、
　１．０５＜Ｒ／Ｙ０＜１２
　の条件を満足しない」という特定事項（以下「像高に関する特定事項」という。）も有しないものを含む。
　
イ　これに対して、本件出願の願書に最初に添付した明細書の特許請求の範囲、発明の詳細な説明及び図面には、上記の「媒体に関する特定事項」を有しないものであって、かつ、「像高に関する特定事項」も有しないものは、どこにも記載されていない。
　この点、詳述すれば、
a．本件出願の願書に最初に添付した明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし１４に係る発明は「媒体に関する特定事項」を有し、請求項１５に係る発明は「像高に関する特定事項」を有し、請求項１６ないし１８に係る発明は「媒体に関する特定事項」又は「像高に関する特定事項」を有することは明らかである。
b．本件出願の願書に最初に添付した明細書の発明の詳細な説明及び図面においては、
（a）【０００１】ないし【００１６】において、課題を解決するための手段として、第１ないし第４の形態が記載され、第１の形態は「媒体に関する特定事項」を有するものであり、第２の形態は「像高に関する特定事項」を有するものであり、第３及び４の形態は、いずれも、第１又は第２の形態を含むものであるから、少なくとも「媒体に関する特定事項」又は「像高に関する特定事項」のいずれかを有するものが記載されている。
（b）【００１７】ないし【００３７】の発明の実施形態の説明の記載は、いずれも、「媒体に関する特定事項」を有するもの（【００１７】ないし【００３６】）又は「像高に関する特定事項」を有するもの（【００３７】）に関する記載である。
（c）【００３８】ないし【００７１】並びに【図１】ないし【図８】の添付図面に基づいた具体的な実施形態の説明においては、いずれも、「媒体に関する特定事項」を有するものが記載されている。
（d)【００７２】ないし【００７８】並びに【図９】及び【図１０】の「本実施形態の露光装置」を用いて半導体デバイスを得る際の手法の記載においては、本実施形態の露光装置として「媒体に関する特定事項」又は「像高に関する特定事項」を有するものが用いられていることは当然の前提であるといえる。
（e)【００７９】及び【００８０】の【発明の効果】においては、「媒体に関する特定事項」を有するものについての効果が述べられている。
　
ウ　上記のとおりであり、平成２０年１月１０日付け手続補正により補正された本願発明１に含まれ得る、「媒体に関する特定事項」を有しないものであって、かつ、「像高に関する特定事項」も有しないものは、本件出願の願書に最初に添付した明細書の特許請求の範囲、発明の詳細な説明及び図面に記載された事項ではなく、また、本件出願の願書に最初に添付した明細書の特許請求の範囲、発明の詳細な説明及び図面に記載した事項から自明な事項であるともいえない。
　よって、本件出願は、特許法第１７条の２第３項の規定に違反しているから、拒絶されるべきものである。
　
４　むすび
　以上のとおりであるから、本件出願は特許法第３７条の規定に違反しており、拒絶されるべきものである。
　また、本件出願は特許法第１７条の２第３項の規定に違反しており、拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。