【事件の表示】
　特願２００４−５１４６０５「金属および金属マトリックス複合体箔、コーティング、ならびに超小型部品を電気メッキするためのプロセス」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１２月３１日国際公開、ＷＯ２００４／００１１００、平成１７年１０月１３日国内公表、特表２００５−５３０９２６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本件出願は、２００２年６月２５日を国際出願日とする出願であって、平成１６年１２月２１日付けで特許法第１８４条の５第１項に規定する書面が提出されるとともに同法第１８４条の４第１項に規定する明細書、請求の範囲、図面、及び要約の翻訳文が提出され、平成１８年１月３０日付けで手続補正書が提出され、平成２０年５月２２日付けで拒絶理由が通知され、同年８月２５日付けで意見書及び手続補正書が提出され、同年９月２２日付けで拒絶査定がなされ、同年１２月１７日付けで同拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。
　
第２　本願発明について
　本件出願の特許請求の範囲の請求項１ないし３７に係る発明は、平成２０年８月２５日付け手続補正書、平成１６年１２月２１日付けで提出された明細書及び図面の翻訳文、並びに国際出願時の図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし３７に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　
　「【請求項１】
　選択された金属性材料を、少なくとも０．０５ｍｍ／ｈの堆積レートにおいて、１００ｎｍ未満の平均粒径を有するナノ結晶形態で、恒久的または一時的な基板上にカソード電着するプロセスであって、前記金属性材料のイオンを含有する水性の電解質を提供することと、前記電解質を、アノードまたはカソード面積ｃｍ2当たり毎分０．０００１から１０リットルの撹拌レートの範囲、もしくはアンペア当たり毎分１から７５０ミリリットルの撹拌レートの範囲で撹拌することと、前記カソードと前記アノードの間に、単一または複数のカソード電流パルスを導通させることと、を包含するプロセス。」
　
第３　引用文献及び周知文献
１　引用文献
　原査定の拒絶の理由に引用された、本件出願の出願前に日本国内で頒布された刊行物である特表平８−５０３５２２号公報（以下、「引用文献」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　
（１）「発明の目的
　本発明の目的の一つは、直径１００ｎｍ未満のナノ結晶材料を作製するための新規なパルス式電着法を提供することである。
　もう一つの目的は、粒径が１００ｎｍ未満であって、磁気的性質が向上したものもある、ナノ結晶の金属、二元、三元および四元合金を提供することである。
　更にもう一つの目的は、パルス式電着法により非常に微細なナノ結晶材料を製造するための装置を提供することである。
発明の簡単な記述
　本発明の一態様によると、所定金属材料をナノ結晶状態で基材上に電着する方法であって、
　（ａ）アノードおよびカソードを有する電解セルを準備する工程、
　（ｂ）該所定金属材料のイオンを含有する水性電解質を該電解セル内に導入する工程、
　（ｃ）該電解質を約１５℃〜約７５℃の範囲内の温度に維持する工程、および
　（ｄ）該アノードと該カソードとの間に、約０．１〜約５ミリ秒の範囲内の期間中は流れるが約１〜約５００ミリ秒の範囲内の期間中は流れないパルス間隔で、ピーク電流密度が約０．１〜約３．０Ａ／ｃｍ2の範囲内にあるＤＣ電流を流すことにより、該所定金属材料をナノ結晶状態で該カソード上に堆積させる工程を含む電着方法が提供される。
　本発明のもう一つの態様によると、粒径が１１ｎｍ未満であり、８〜１０ｎｍの粒径範囲で硬さが最大になり、通常の結晶状態におけるのとほぼ同等の飽和磁化特性を持つナノ結晶ニッケルが提供される。
　本発明の望ましい態様によると、粒径が１００ｎｍ未満であり、（ａ）Ｃｏ、Ｃｒ、ＣｕおよびＦｅから成る群から選択された純金属と、（ｂ）Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓ、Ｍｇ、Ｗ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｖ、Ｓｉ、Ｐ、ＣおよびＳから選択された２種類以上の元素を含む合金〔但し、二元合金において第１の元素がニッケルである場合には第２の元素は鉄でも燐でもなく、また二元合金において第１の元素がコバルトである場合には第２の元素はＷではない〕とから成る群から選択されたナノ結晶金属材料が提供される。」（第７ページ第１行ないし第８ページ第１行）
　　
（２）「図１は本発明の方法を実際に行うための研究室装置の概念図である。メッキセル１は通常はガラスまたは熱可塑性プラスチック製であり、その中に収容された電解質２は硫酸ニッケル、塩化ニッケル、硼酸、および所定の粒径抑制剤、粒発生剤、および応力緩和剤の酸性水溶液であり、これらについては後に詳細に説明する。」（第８ページ第２６行ないし第９ページ第３行） 
　
（３）「これらの実施例全てにおいて、上記の電解セルと、電解ニッケル製アノードと、チタン製カソードとを用い、水性電解質（浴１）は蒸留水中に下記成分を含む。
　　　硫酸ニッケル（ＢＤＨ）　　　　３００ｇ／ｌ
　　　塩化ニッケル（ＢＤＨ）　　　　　４５ｇ／ｌ
　　　硼酸（ＢＤＨ）　　　　　　　　　４５ｇ／ｌ
　ｐＨ調整のために、前記のようにＮｉ2ＣＯ3、または７：１のＨ2ＳＯ4：ＨＣｌを添加した。標準メッキ時間３時間の間、温度を６５℃に維持した。サッカリンは公知の応力緩和剤兼微粒化剤であり、これを約１０ｇ／ｌまで添加してよい。添加できるその他の応力緩和剤および微粒化剤としてはクマリンナトリウムラウリル硫酸塩およびチオ尿素がある。浴温度が上昇したら、粒径抑制剤として燐酸等を約０．５〜１ｇ／ｌまでの比較的少量添加することが望ましい。
実施例１
　図１を参照して説明した装置と、上記に「浴１」として説明した基本電解質浴組成とを用いて、０．１ｇ／ｌのサッカリン（Aldrich）を添加し、ｐＨ値をｐＨ２に調整した。Ｉpeakは１．９Ａ／ｃｍ2、ｔonは２．５ｍ秒、ｔoffは４５ｍ秒であった。その結果、厚さ０．２５０〜０．３００ｍｍ）平均粒径３５ｎｍで、ポロシティーの無いナノ結晶ニッケル電着層が得られた。」（第１０ページ第１ないし１９行） 
　
　また、以下の事項を認定することができる。
（４）上記（１）の記載から、引用文献記載のものは、「（ａ）アノードおよびカソードを有する電解セルを準備する工程」、「（ｂ）該所定金属材料のイオンを含有する水性電解質を該電解セル内に導入する工程」、「（ｃ）該電解質を約１５℃〜約７５℃の範囲内の温度に維持する工程」、及び「（ｄ）該アノードと該カソードとの間に、約０．１〜約５ミリ秒の範囲内の期間中は流れるが約１〜約５００ミリ秒の範囲内の期間中は流れないパルス間隔で、ピーク電流密度が約０．１〜約３．０Ａ／ｃｍ2の範囲内にあるＤＣ電流を流すことにより、該所定金属材料をナノ結晶状態で該カソード上に堆積させる工程」という４つの工程、即ちプロセスを含むものであるから、
引用文献記載のものは全体としてプロセスの発明であると認定することができる。
　
（５）上記（１）の「該所定金属材料をナノ結晶状態で該カソード上に堆積させる工程を含む電着方法が提供される。」という記載並びに（３）の「標準メッキ時間３時間の間、温度を６５℃に維持した。」及び「その結果、厚さ０．２５０〜０．３００ｍｍ）平均粒径３５ｎｍで、ポロシティーの無いナノ結晶ニッケル電着層が得られた。」という記載から、引用文献記載のプロセスにおいては、３時間のメッキ時間で厚さ０．２５０〜０．３００ｍｍ、平均粒径３５ｎｍのナノ結晶ニッケル電着層がカソード上に得られることになるから、
引用文献記載の発明は、
所定金属製材料を、０．０８３〜０．１００ｍｍ／ｈの堆積レートにおいて、３５ｎｍの平均粒径を有するナノ結晶状態で、カソード上にカソード電着することを含むものであることを認定することができる。
　
（６）上記（１）の「（ｄ）該アノードと該カソードとの間に、約０．１〜約５ミリ秒の範囲内の期間中は流れるが約１〜約５００ミリ秒の範囲内の期間中は流れないパルス間隔で、ピーク電流密度が約０．１〜約３．０Ａ／ｃｍ2の範囲内にあるＤＣ電流を流すことにより、該所定金属材料をナノ結晶状態で該カソード上に堆積させる工程を含む電着方法が提供される。」という記載から、
引用文献記載の発明は、
カソードとアノードの間に、約０．１〜約５ミリ秒の範囲内の期間中は流れるが約１〜約５００ミリ秒の範囲内の期間中は流れないパルス間隔でＤＣ電流を流すことを含むものであることを認定することができる。
　
　上記（１）ないし（３）の記載事項、（４）ないし（６）の認定事項、及び図面の記載からみて、引用文献には次の発明（以下、「引用文献記載の発明」という。）が記載されていると認める。 
　
　「所定金属材料を、０．０８３〜０．１００ｍｍ／ｈの堆積レートにおいて、３５ｎｍの平均粒径を有するナノ結晶状態で、カソード上にカソード電着するプロセスであって、該所定金属材料のイオンを含有する水性電解質を電解セル内に導入することと、カソードとアノードの間に、約０．１〜約５ミリ秒の範囲内の期間中は流れるが約１〜約５００ミリ秒の範囲内の期間中は流れないパルス間隔でＤＣ電流を流すこと、を包含するプロセス。」 
　
２　周知文献１
　本件出願の出願前に日本国内で頒布された刊行物である特公平２−４６６７７号公報（以下、「周知文献１」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。 
　
（１）「本発明は、・・・（中略）・・・金属の電着方法に関する。」（第４欄第３ないし５行）
　
（２）「
実用的な金属堆積速度を得るために電解液の攪拌が必要であり
　
３　周知文献２
　本件出願の出願前に日本国内で頒布された刊行物である特開平６−２５６９９８号公報（以下、「周知文献２」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。
　
　「【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体ウエハなどの処理物の表面にメッキを行う際には、
処理物の表面上に短時間で均一にメッキが施されるようにするため、メッキ処理中にメッキ槽内に収容されたメッキ液の攪拌を行っていた。
　
４　周知文献３
　本件出願の出願前に日本国内で頒布された刊行物である特開平９−８７８９８号公報（以下、「周知文献３」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。 
　 
　「【０００２】
【従来技術と問題点】燐酸塩処理や、電着塗装などの表面処理は、化学反応や電気化学反応により、浸漬した被処理物の表面に防錆皮膜を析出させ、耐食性を向上させるため古くより行われている。これらの表面処理は、
反応を促進するため処理液が通常ポンプで循環され撹拌される。
　
５　周知文献４
　本件出願の出願前に日本国内で頒布された刊行物である特開平８−４９０９１号公報（以下、「周知文献４」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。
　
　「【００２６】次に、前記金属の薄被覆を施した鋼板面に厚さ 2.8μｍの電気亜鉛めっき層を形成させた。この時の電気亜鉛めっき条件は下記の通りであった。
A) めっき浴条件
硫酸亜鉛（７水塩）：３５０g/L ，
硫酸ナトリウム　　：８０g/L ，
ｐＨ　　　　　　　： 1.8，
浴温　　　　　　　：５０℃。
B) めっき条件
電流密度　　　　：２０〜１００Ａ/dｍ2 ，
めっき液循環速度： 
0.5〜 1.5ｍ/sec
　
６　周知文献５
　本件出願の出願前に日本国内で頒布された刊行物である特開２００１−１９２８８７号公報（以下、「周知文献５」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。
　
（１）「【００４５】このような２組の電解槽１，２を用いて、
電解浴を０．２〜０．３ｍ／秒の攪拌速度で攪拌しつつ
　
（２）「【００５３】このような電解槽を用いて、
電解浴を０．１ｍ／秒の攪拌速度で攪拌しつつ
　
７　周知文献６
　本件出願の出願前に日本国内で頒布された刊行物である特開平１１−１７９２号公報（以下、「周知文献６」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている（なお、下線は当審で付した。）。
　
　「【００７７】（III)　めっき浴の劣化試験Ａ〜Ｙ
　実施例１〜２４のめっき浴をそれぞれ１リットルづつビーカに入れ、１０ｍｍ×２０ｍｍの寸法の銅板をカソード電極とし、ＰｔめっきしたＴｉメッシュ（６２ｃｍ2 ）をアノード電極として設置し、下記の条件
電流密度：カソードで５Ａ／ｄｍ2 、アノードで２Ａ／ｄｍ2 、
電解量　：４．８Ａ・Ｈｒ、
液　　温：室温、
撹拌速度：２ｍ／ｍｉｎ
で電解を行った。電解後、アノード電極表面の黒色物の増加量を電子天秤にて測定し、その結果を表１３〜１５に示した後、さらに、分光光度計を用いて波長：６６０ｎｍの純水に対する透過強度：Ｉsolnおよび電解後めっき浴の光の透過強度：Ｉsolvを求め、これを用いて透過強度ｔ：Ｉsoln／Ｉsolvを求め、この透過度ｔから光の吸光度Ａ：−Ｌｏｇｔを求め、その結果を表１３〜１５に示して電解後めっき浴の濁りを評価した。」（【００７７】）
　
第４　対比
　本願発明と引用文献記載の発明を対比する。 
　
　引用文献記載の発明における「所定金属材料」は、その機能、構成、又は技術的意義からみて、本願発明における「選択された金属性材料」に相当する。以下、同様に、「ナノ結晶状態」は「ナノ結晶形態」に、「カソード」は「恒久的または一時的な基板」に、「該所定金属材料のイオン」は「前記金属性材料のイオン」に、「水性電解質」は「水性の電解質」に、「電解セル内に導入する」は「提供する」に、「カソードとアノードの間に、約０．１〜約５ミリ秒の範囲内の期間中は流れるが約１〜約５００ミリ秒の範囲内の期間中は流れないパルス間隔でＤＣ電流を流す」は「前記カソードと前記アノードの間に、単一または複数のカソード電流パルスを導通させること」に、それぞれ相当する。
　また、「０．０８３〜０．１００ｍｍ／ｈ」は「０．０５ｍｍ／ｈ」以上であるから、引用文献記載の発明における「０．０８３〜０．１００ｍｍ／ｈの堆積レート」は、「少なくとも０．０５ｍｍ／ｈの堆積レート」に包含される。
　さらに、「３５ｎｍ」は「１００ｎｍ」未満であることから、引用文献記載の発明における「３５ｎｍの平均粒径」は「１００ｎｍ未満の平均粒径」に包含される。
　
　したがって、本願発明と引用文献記載の発明は、以下の点で一致する。
　
　「選択された金属性材料を、少なくとも０．０５ｍｍ／ｈの堆積レートにおいて、１００ｎｍ未満の平均粒径を有するナノ結晶形態で、恒久的または一時的な基板上にカソード電着するプロセスであって、前記金属性材料のイオンを含有する水性の電解質を提供することと、前記カソードとアノードの間に、単一または複数のカソード電流パルスを導通させることと、を包含するプロセス。」
　
　そして、以下の点で相違する。
　
＜相違点＞
　本願発明では、「水性の電解質」を「アノードまたはカソード面積ｃｍ2当たり毎分０．０００１から１０リットルの撹拌レートの範囲、もしくはアンペア当たり毎分１から７５０ミリリットルの撹拌レートの範囲で撹拌する」ことを有しているのに対し、
　引用文献記載の発明では、本願発明における「水性の電解質」に相当する「水性電解質」を「アノードまたはカソード面積ｃｍ2当たり毎分０．０００１から１０リットルの撹拌レートの範囲、もしくはアンペア当たり毎分１から７５０ミリリットルの撹拌レートの範囲で撹拌する」ことを有しているか明らかでない点（以下、「相違点」という。）。
　
第５　当審の判断
　そこで、上記相違点について、以下に検討する。  
　
　周知文献１ないし３に記載されているように、金属を処理物表面に電着する際に、電解質を撹拌することは通常行われていることである。
　また、周知文献４ないし６に記載されているように、撹拌速度として、「アノードまたはカソード面積ｃｍ2当たり毎分０．０００１から１０リットルの撹拌レートの範囲、もしくはアンペア当たり毎分１から７５０ミリリットルの撹拌レートの範囲」は通常採用しうる程度のものである（本願発明における「面積ｃｍ2当たり毎分０．０００１から１０リットル」は、速度に換算すると、「０．００００１６７〜１．６７ｍ／ｓ」（「０．００１〜１００ｍ／ｍｉｎ」）であり、周知文献４に記載された「0.5〜 1.5ｍ/sec」、周知文献５に記載された「０．２〜０．３ｍ／秒」及び「０．１ｍ／秒」、並びに周知文献６に記載された「２ｍ／ｍｉｎ」を含むものである。）。
　
　したがって、引用文献記載の発明において、周知文献１ないし６に記載された事項を考慮して、本願発明における「水性の電解質」に相当する「水性電解質」を「アノードまたはカソード面積ｃｍ2当たり毎分０．０００１から１０リットルの撹拌レートの範囲、もしくはアンペア当たり毎分１から７５０ミリリットルの撹拌レートの範囲で撹拌する」ようにすることによって、相違点に係る本願発明の発明特定事項とすることは、当業者であれば容易に想到したことである。 
　
　そして、本願発明を全体としてみても、本願発明のようにしたことにより奏するとされる効果は、引用文献記載の発明及び周知文献１ないし６に記載された事項からみて格別のものともいえない。
　
第６　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用文献記載の発明及び周知文献１ないし６に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、このような特許を受けることができない発明を包含する本件出願は、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。