【事件の表示】
　特願２００４−３７７９９１「有機電界発光表示装置及びドナー基板の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　３月　９日出願公開、特開２００６−　６６３７３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、平成１６年１２月２７日（パリ条約による優先権主張　平成１６年８月３０日、韓国）に出願された特願２００４−３７７９９１号であって、平成２０年３月４日付けで手続補正がなされたところ、同年７月１７日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月２０日に拒絶査定不服の審判が請求され、同年１１月１８日付けで手続補正がなされた。
　その後、平成２２年７月１５日付けで当審において通知した拒絶理由に対し、平成２３年１月２０日付けで意見書の提出及び手続補正がなされたものである。
　
第２　本願発明
　本願の請求項１〜１３に係る発明は、平成２３年１月２０日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜１３に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
「【請求項１】
　ドナー基板のベース基板を用意する段階と、前記ベース基板上に光熱変換層及び転写層を形成する段階と、前記転写層の形成後、ＣＯ２を利用する方式の乾式洗浄を行う段階と、を備えるドナー基板を用意する段階と；
　前記ドナー基板の転写層を転写されるための基板を用意する段階と；
　前記ドナー基板と前記基板とをラミネーションする段階と；
　レーザを照射して、前記転写層を前記基板上に転写することによって、パターニングする段階と；を含み、
　前記ＣＯ２を利用する方式の乾式洗浄を行う段階は、ＣＯ２固体を基板上に衝突し昇華させて、汚染物を除去するものであり、３０％以下の湿度を有する雰囲気で行うことを特徴とする有機電界発光表示装置の製造方法。」
　
第３　引用例
１　引用例１の記載事項
　当審において通知した拒絶理由に引用した、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００３−６８４５５号公報（以下、「引用例１」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。（当審注：後述の「２　引用発明の認定」において特に参照した記載に、下線を付した。）
（１ａ）「【０００３】このような有機ＥＬ素子をディスプレイへと応用するにあたり、RGB 発光層の塗り分けが必須であり、また高精細なディスプレイを作成する場合、微細な塗分け技術が必要となる。RGB 各色の高精細な塗分けが容易な方法として、特開平11−260549号公報等には、転写法による有機層の形成方法が提案されている。
【０００４】上記の転写法は、通常、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム等から構成されるドナー基板上に、転写層、すなわち、有機層や電極等の転写すべき薄膜層を、蒸着法、スピンコート法またはスパッタ法等で形成し、次に転写層が基板に接するようにドナー基板を基板に貼り付けて、ドナー基板側からレーザー光や熱等のエネルギーを加えることにより、転写層を基板側に転写する方法である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記公報等に記載された従来の転写法により有機ＥＬ素子の有機層や電極等のを形成する際、特に、高精細な塗り分けが必要な部分の転写を行う場合、図３に示すように、形成される転写膜のエッジＳが、所望する転写膜の幅Ｗに対してずれることがあった。これは、転写時の転写フイルム上の温度が１３０〜３００℃になるため、熱の拡散によって有機材料の転写が不均一になるものと考えられる。また、レーザーを照射する際、照射されるレーザーの幅を所望する転写層の幅よりも狭くする方法があるが、この場合も熱の拡散の割合が一定でないため、所望とする転写幅を得ることができなかった。
【０００６】この発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、転写法を用いて高精細なパターンの塗り分けが行える有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。」
　
（１ｂ）「【００２１】図２は、この発明の実施の一形態による転写フイルムの構成を示す正面断面図である。図２に示すように、
転写フイルムは、少なくとも、べ−スフイルム２１、熱伝播層２２、剥離層２３および転写層２４を含む多層構造からなり
【００２２】熱伝播層２２は、転写を効率的に行うために熱を伝播させる層であり、例えば、ポリαメチルスチレンなどの高分子材料が挙げられる。熱伝播層２２は、光一熱変換層と熱伝播層とに分けられた積層構造が好ましい。また、発熱反応を用いた転写の場合、発熱層と熱伝播層とに分けることが好ましい。
【００２３】光一熱変換層は、レーザーによる転写の場合、レーザー光を熱に効率よく変換する性質を有する物質から構成される。具体的には、アルミニウム、アルミニウム酸化物および／またはアルミニウム硫化物からなる金属膜、カーボンブラック、黒鉛または赤外線染料等を高分子材料（例えば、熱硬化型エポキシ樹脂）に分散した有機膜等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。熱伝播層２２は、これらの材料にカーボンブラック等を分散させて黒色とした層から構成されてもよい。剥離層２３は、公知の材料であれば特に限定されるものではなく、例えばポリαメチルスチレンや熱発泡性樹脂などが挙げられる。
【００２４】前記のように構成された転写フイルムは、転写フイルム上、すなわち剥離層２３の表面に、基板１側への転写を所望する有機層４、または有機層４と第２電極５からなる転写層２４が形成される。転写層２４として形成される有機層４は、単層構造でも積層構造でもよく、その構成は特に限定されるものではない。転写フイルム上に有機層４を形成する方法は特に限定されるものではなく、公知の技術、例えば真空蒸着法、スパッタ法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法あるいはこれらを組み合わせた方法を用いることができる。」
　
（１ｃ）「【００２６】基板１への転写層２４の転写について説明する。
基板１への転写層２４の転写は、前記転写フイルムを基板１に貼り合わせ、レーザー光の照射により行なう
【００２７】基板１と転写フイルムとの間に気泡が残らないように脱気を行う方法は、特に限定されるものではなく、例えば基板１と転写フイルムとの間を真空ポンプで脱気したり、基板１上に転写フイルムをセットした後に、転写フイルム上からローラーを転がして脱気してもよいし、これらを合わせて行ってもよい。次いで、レーザー光を照射して、転写を行う。このとき、レーザーは、転写を行う部分に照射する。すなわち、レザーが照射された所だけが転写される。その際、レーザーの出力は特に限定されるものではないが、出力が大きすぎると、有機材料にダメージを与えてしまうので好ましくない。また、出力が小さすぎると、転写が不十分になったり、まだらに転写されるおそれがある。」
　
（１ｄ）「【００２９】以下に、この発明の有機ＥＬ素子の製造方法の実施例を説明する。
実施例１
転写フイルムは、公知の方法にて作成した。まず、
べ−スフイルム２１として厚さが０．１ｍｍのPET 上に、光一熱変換層としてカーボンを分散させたエポキシ樹脂層を５ｎｍ成膜した。続いて、この上に剥離層２３としてポリαメチルスチレン膜を１ｎｍ成膜し、次いで、転写層２４としてNPD （Tg＝95℃）を厚さ100 ｎｍで剥離層２３上に真空蒸着法を用いて成膜した。これにより、基板１上に有機層４を形成する有機材料を含んだ転写層２４が表面となる転写フイルムが形成された
　
（１ｅ）「【００３８】実施例７
この例は、転写層２４が、スイッチング素子７および第１電極２が形成された基板１上に転写される有機層４である構成を示す。転写フイルムは、実施例１と同様に作成した。まず、
有機層４を形成する転写層２４として、真空蒸着法を用いて、転写フイルム上にホール注入層としてCuPcを20nm成膜した。次いで、ホール輸送層としてNPD を40nm、電子輸送性発光層としてAlq
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を60nmをこの順に成膜し
一方、TFT 素子及び第１電極２を形成した基板１をUVオゾン洗浄により洗浄した後、転写フイルムを貼り合わせ、ローラーにより脱気を行なった。その後、レーザーを転写フイルム上から照射した。このときのレーザーのパワーは、16ｗであった。レーザーによる転写層２４の転写が終了後、転写フイルムを剥離して有機層４の形成が行なわれた
【００３９】なお、これらのレーザーによる転写工程は乾燥窒素中で行なった。続いて、有機層４が形成された基板１を真空蒸着器にセットし、スパッタ法を用いて、第１電極２としてITO を100nm 成膜した後に、封止材６として透明なガラスを貼り付けることにより封止を行ない、TFT 付き基板１に対して第２電極５側から発光層の発光を取り出す構成の
有機ＥＬディスプレイを作成した
　
（１ｆ）「【００４３】
【発明の効果】この発明では、転写法を用いて所望する転写幅を得ることができる。したがって、
高精細なパターンの塗り分けが可能な有機ＥＬ素子の製造方法
　
２　引用発明の認定
　上記記載事項を考慮すると、引用例１には有機ＥＬ素子の製造方法に関し、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
「べ−スフイルムとして厚さが０．１ｍｍのPET 上に、光一熱変換層としてカーボンを分散させたエポキシ樹脂層を５ｎｍ成膜し、この上に剥離層としてポリαメチルスチレン膜を１ｎｍ成膜し、剥離層上に有機層を形成する転写層として、ホール注入層としてのCuPc、ホール輸送層としてのNPD、電子輸送性発光層としてのAlq3をこの順に成膜し、これにより、転写層が表面となる転写フイルムが形成され、
　一方、TFT 素子及び第１電極を形成した基板１をUVオゾン洗浄により洗浄した後、転写フイルムを貼り合わせ、その後、レーザーを転写フイルム上から照射してレーザーによる転写層の転写が終了後、転写フイルムを剥離して有機層の形成を行なう、
高精細なパターンの塗り分けが可能な有機ＥＬディスプレイの製造方法。」
　
３　引用例２
　当審において通知した拒絶理由に引用した、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平５−２４３５８号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。
（２ａ）「【０００４】このため、例えば特開平３ー１２１４５５号公報に開示されるように、遮光性マスクの形成を熱転写によって行なうことにより、人手による剥離といった工程を省略するものがあるが、このように熱転写プリンタによる熱転写で遮光性マスクを作成するには、熱転写プリンタの内部の温度が上って印字品質が低下する。このため、熱転写プリンタのスリット状の空気出入口を設けて、外気との流通を行ない、さらにはファンを設けて強制的に外気との流通を行ない、内部の温度が上昇することを防止するが、この場合には外気の導入でゴミも同時に熱転写プリンタに入り、遮光性マスクの工程でゴミによる転写不良、ピンホール等の故障部が生じることがある。
【０００５】この発明は、かかる点に鑑みてなされたもので、プリンタ本体の内部の温度上昇を防止し、しかもプリンタ本体の内部にゴミが侵入しないようにして、良好な遮光性マスクを作成する遮光性マスク作成用熱転写プリンタを提供することを目的としている。」
　
（２ｂ）「【００１６】また、請求項５記載の発明では、プリンタ本体の熱転写部の直前に、ゴミ除去手段を備え、このゴミ除去手段によって熱転写シート及び受像シートに付着するゴミを除去する。
【００１７】また、請求項６記載の発明では、ゴミ除去手段が、空気吸引手段または除塵手段または除電手段またはこれらの組合せにより構成されており、簡単な構造で効果的にゴミを除去する。」
　
（２ｃ）「【００４０】図６乃至図８は請求項３記載の発明の遮光性マスク作成用熱転写プリンタを示しており、遮光性マスク作成用熱転写プリンタは図２乃至図５のものと同様に構成されるが、熱転写部５２の直前に、熱転写シート４１及び受像シート４３に付着するゴミを除去するゴミ除去手段を備えており、このゴミ除去手段で簡単でしかも確実にゴミを除去することができる。
【００４１】図６はゴミ除去手段を空気吸引手段で構成した実施例の概略図であり、この空気吸引手段はバキュームクリーナ８０で構成され、熱転写シート４１と受像シート４３との重ね合せの直前でゴミを吸引して除去する。」
　
４　引用例３
　当審において通知した拒絶理由に引用した、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００３−３５８１１号公報（以下、「引用例３」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。
（３ａ）「【００１２】前記待機中のカートリッジの前記供給部と前記回収部との間に繰り出されている転写フィルムを、そのカートリッジが前記ステージへ搭載される前にクリーニングしてもよい。この場合には、転写フィルムへの異物の付着に起因する転写不良の発生を未然に防止できる。待機中のカートリッジに対してクリーニングが行われるので、転写処理の効率が損なわれるおそれもない。」
　
（３ｂ）「【００３３】図３は、一台の転写装置１にて液晶ディスプレイのカラーフィルタ用基板に着色層を形成する場合の例を示している。一般に、カラーフィルタの基板１０にはＲ，Ｇ，Ｂの３原色にそれぞれ対応した３種類の着色層を形成する必要がある。これに対して、転写フィルム１１には基板１０に形成すべき３原色の着色層のうちいずれか１色の着色層に対応した熱溶融型の着色剤が予め定着される。このような場合には、一台の転写装置１に対応して、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色につきそれぞれ１つ以上のカートリッジ１２…１２を予め用意する。用意されたカートリッジ１２は所定の検査・供給部２１に集めておく。そして、用意されたカートリッジ１２のうち、転写に使用するいずれか一つのカートリッジ１２を検査・供給部２１からステージ４に供給する。転写後はカートリッジ１２を転写装置１から検査・供給部２１に回収し、別の色のカートリッジ１２を転写装置１へ供給する。こうした処理を各色について繰り返して基板１０に３色の着色層を形成する。
【００３４】図４は検査・供給部２１にて行われる処理を示している。検査・供給部２１では、転写に使用されていない待機中のカートリッジ１２に対して、フィルム送出処理（ａ）、クリーニング処理（ｂ）及び検査処理（ｃ）が行われる。
【００３５】フィルム送出処理では、巻取ロール１５が所定の巻取方向（図４（ａ）に矢印で示す。）に駆動されることにより、次回の転写に備えて供給ロール１４から巻取ロール１５に一回の転写に必要な長さだけ転写フィルム１１が送出される。これにより、転写装置１に供給されるカートリッジ１２の繰り出し部１２ｃには、レーザビームが照射されていない使用前の転写フィルム１１が繰り出されることになる。
【００３６】クリーニング処理では、繰り出し部１２ｃに繰り出されている転写フィルム１１に対してクリーニングが行われる。例えば転写フィルム１１を挟むようにしてノズル２２，２２が配置され、各ノズル２２からクリーニング用の気体（例えば二酸化炭素）が送り出されるとともにノズル２２が転写フィルム１１に沿って送られて転写フィルム１１上の異物が吹き飛ばされる。但し、クリーニング処理においては、気体を利用した方法に限らず、各種のクリーニング方法を利用してよい。
【００３７】検査処理では、繰り出し部１２ｃに繰り出されている転写フィルム１１の欠陥の有無が検査される。その検査は、例えば検査カメラ２３によって繰り出し部１２ｃの転写フィルム１１を撮影し、得られた画像を解析して欠陥の有無を判別することにより行われる。但し、画像処理を用いた欠陥検査に限らず、各種の欠陥検出方法を利用してよいことは勿論である。ここでいう欠陥とは、転写フィルム１１上に形成された着色層の傷やムラ、転写フィルム１１への異物の付着等、基板１０への着色層の転写品質を劣化させることが懸念される各種の事象をいう。」
　
（３ｃ）「【００４８】本発明は液晶ディスプレイのカラーフィルタ用の基板に限らず、各種の基板に転写フィルムを重ねて供給する場合に利用できる。」
　
５　引用例４
　当審において通知した拒絶理由に引用した、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００１−１１４２３２号公報（以下、「引用例４」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。
（４ａ）「【０００５】
【発明が解決しようとする課題】受像シートＲと本紙Ｐを重ねてヒートローラにいれると、受像シートＲと本紙Ｐとの間にゴミ等の異物が挟まっていた場合、例えば、図１０に示すように、その部分だけうまく転写できないで画像欠陥となってしまうと言う問題があった。なぜなら、受像シートＲと本紙Ｐを密着させて転写機のヒートローラにいれると、上述の受像シートＲと本紙Ｐの間にごみＸが存在した場合には、ごみＸによる受像シートＲと本紙Ｐの密着不良のため、図中の矢印Ａの範囲だけ画像の抜け（いわゆる「白抜け」）が発生してしまうからである。そこで本発明はゴミ等による画像欠陥をできる限り消滅するクリーニング装置を提供することを目的としている。」
　
（４ｂ）「【０００７】上記のような構成により、受像シートと前記本紙とを重ねてヒートローラに挿入する直前にその受像シートまたは本紙の表面にブラシを接触させまたは粘着ローラを接触させまたは空気流をあてるようにしているので、ゴミ等の異物を除去することができ、したがってゴミ等による画像欠陥をなくすることができる。」
　
６　引用例５
　当審において通知した拒絶理由に引用した、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平２−２７７２３６号公報（以下、「引用例５」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。
（５ａ）第１ページ左下欄４行〜最終行；
「２．特許請求の範囲
　被洗浄物にドライアイス粒子を吹きつけることによって被洗浄物を洗浄する洗浄装置において、前記被洗浄物を密閉容器で覆い、この密閉容器に、ドライアイス粒子噴射用ノズルと、低露点ガス供給用配管と、密閉容器内のガスを排気する排気管とを接続したことを特徴とする洗浄装置。
３．発明の詳細な説明
　〔産業上の利用分野〕
　本発明はドライアイス粒子を被洗浄物に吹きつけることによって被洗浄物を洗浄する洗浄装置に関するものである。
　〔従来の技術〕
　従来のこの種の洗浄装置は、液化炭酸ガスを断熱膨張させて得られるドライアイス粒子（以下、ドライアイススノーという。）を被洗浄物に吹きつけて洗浄するように構成されている。」
　
（５ｂ）第１ページ右下欄１７行〜第２ページ左上欄１４行；
「この際、断熱膨張ノズル２によって作られたドライアイススノーが被洗浄物ｌに吹きつけられ、被洗浄物１上に付着された汚染物はこのドライアイススノーによって除去されることになる。このドライアイススノーは被洗浄物上の汚染物を除去した後に速やかに昇華される。
　このようにドライアイススノーを使用した洗浄装置においては、高圧ガスブロー法等の気体流を使用した洗浄装置に較べて、洗浄物がドライアイススノーという固体であるために洗浄能力が高く、しかも、高圧ジェット水洗法や超音波洗浄法等の液体を使用した洗浄装置に較べて、ドライアイススノーが被洗浄物１上の汚染物を除去した後に速やかに昇華されるために被洗浄物ｌを濡らすことなく乾燥状態で洗浄を行なうことができるという利点から、半導体ウエハ等のように湿式洗浄が不適当で汚染物を確実に除去する必要のある物品を洗浄する際に使用されている。」
　
（５ｃ）第２ページ左上欄１５行〜右上欄１９行；
「〔発明が解決しようとする課題〕
　しかるに、従来のこの種ドライアイススノーを使用した洗浄装置においては、洗浄が大気中で行われるため、被洗浄物がドライアイススノーによって冷却された際に大気中の水分が被洗浄物上に結露したり、あるいは、ドライアイススノーの製造部、噴射部分でドライアイススノーの表面に大気中の水分が結露したりする場合があった。このような場合には被洗浄物上に結露した水分やドライアイススノーの表面に結露した水分によって被洗浄物が濡らされてしまい、乾燥状態で洗浄を行なうことができなくなる。被洗浄物が濡らされると、洗浄後に大気中の汚染物が被洗浄物上に残査として残ってしまうため、再び洗浄しなければならない。
　〔課題を解決するための手段〕
……（略）……
　〔作　用〕
　密閉容器内の気体を低露点ガスに置換することによって、水分が被洗浄物あるいはドライアイス粒子に結露するのを防止することができる。」
　
（５ｄ）第２ページ左下欄１８行〜右下欄４行；
「このように構成された洗浄装置によって被洗浄物１を洗浄するには、先ず、ドライアイススノーを噴射させる前に、低露点ガス供給用配管12から乾燥空気、窒素ガス等の低露点ガスを洗浄容器11内に供給すると共に、排気管13から洗浄容器11内のガスを排出することによって洗浄容器内のガスの置換を行なう。」
　
（５ｅ）第３ページ右上欄７行〜最終行；
「このように真空ポンプ31が接続された洗浄装置においては、真空ポンプ31によって洗浄容器11内を高真空状態に維持させて洗浄が行われる。高真空状態では、炭酸ガス移送配管３内や洗浄容器11内の水分が除去されることになり、液化炭酸ガス中、乾燥空気中あるいは窒素ガス中の微量な水分でさえも昇華されるため、完全に乾燥した状態で洗浄を行なうことができる。なお、この際、真空度が高い程水分の除去効率は向上されるが、真空度を高くしすぎると、ドライアイススノーが被洗浄物ｌに吹きつけられる前に昇華されてしまい洗浄効率が低下されてしまう。このため、断熱膨張ノズル２と被洗浄物１との間隔を真空度に応じて適宜変えることが必要である。」
　
７　引用例６
　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００３−１４５０７４号公報（以下、「引用例６」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。
（６ａ）「【０００８】本発明者らはドライアイスの前記特性に着目し、被洗浄体表面にドライアイスを接触させ、前記ドライアイスの昇華時の蒸発熱を用いて被洗浄体の表面を収縮させ、その収縮力により被洗浄体の表面から汚染物を剥離させる洗浄方法を着想した（以下、このようなドライアイスの昇華時の蒸発熱により、被洗浄体の表面から汚染物が剥離することを「剥離効果」という。）。
【０００９】本発明者らは前記着想を基に鋭意研究した結果、好適な態様として、ドライアイス紛を被洗浄体としての炭化ケイ素焼結体表面にブラストすることを発明の要旨とする洗浄方法を見出した。より好適な態様として、本発明者らは、被洗浄体としての炭化ケイ素焼結体を洗浄するに際し、前記炭化ケイ素焼結体の表面にドライアイス紛をブラストし、前記炭化ケイ素焼結体の表面上の汚染物にマイクロクラックを発生させると共に、前記ドライアイス粉の昇華時の膨張エネルギーを用いて前記炭化ケイ素焼結体の表面から前記汚染物を取り除くことを特徴とする炭化ケイ素焼結体の洗浄方法を見出した。
【００１０】ここで、本発明の炭化ケイ素焼結体の洗浄方法に用いられるドライアイスとしては、粉体形状のものが使用される。ドライアイスの形状を粉体状とする理由は、ドライアイスの被洗浄体に対する接触面積を大きくすると共に、ドライアイスが容易に気化し、前記汚染物の剥離効果を得やすくするためである。ドライアイスの粒子径は、前記汚染物の剥離効果が得られるのであれば特に制限はないが、取扱いの容易性、また後に説明するブラスト装置の機構上の理由から、粒径１〜３ｍｍのドライアイス紛を用いることが好ましい。
【００１１】本発明の炭化ケイ素焼結体の洗浄方法に用いられるブラスト洗浄装置としては、ドライアイス紛をブラストできるものであれば特に制限はなく、従来公知の装置を用いることができる。例えば、協同インターナショナル社製、商品名「ドライアイスブラスト」のブラスト洗浄装置を使用することができる。」
　
（６ｂ）「【００２３】
……（中略）……
表１より、本発明の洗浄方法によれば、被洗浄体表面にブラストされるドライアイス紛が研磨剤として機能するという作用効果に加え、剥離効果により被洗浄体上の汚染物（ワックス）が取り除かれることが確認された。」
　
　
第４　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の「ベースフィルム」は、本願発明の「ベース基板」に相当し、以下同様に、「光−熱変換層」は「光熱変換層」に、「転写層」は「転写層」に、「転写フィルム」は「ドナー基板」に、「基板」は「転写層を転写されるための基板」に、「有機ＥＬディスプレイ」は「有機電界発光表示装置」に、それぞれ相当する。
　また、引用発明における「第１基板をUVオゾン洗浄により洗浄した後、転写フイルムを貼り合わせ」ることは、本願発明における「前記ドナー基板と前記基板とをラミネーションする段階」に相当する。
　そして、引用発明では、転写することによって「高精細なパターンの塗り分けが可能」となっているのであるから、転写することによって「パターニング」がされていることは明らかであり、よって、引用発明における「レーザーを転写フイルム上から照射してレーザーによる転写層の転写が終了後、転写フイルムを剥離して有機層の形成を行な」って「高精細なパターンの塗り分けが可能」とする点は、本願発明における「レーザを照射して、前記転写層を前記基板上に転写することによって、パターニングする段階」に相当する。
　
　以上のとおりであるから、本願発明と引用発明とは、
「ドナー基板のベース基板を用意する段階と、前記ベース基板上に光熱変換層及び転写層を形成する段階と、を備えるドナー基板を用意する段階と；
  前記ドナー基板の転写層を転写されるための基板を用意する段階と；
  前記ドナー基板と前記基板とをラミネーションする段階と；
  レーザを照射して、前記転写層を前記基板上に転写することによって、パターニングする段階と；を含む有機電界発光表示装置の製造方法。」
の発明である点で一致し、以下の点で相違する。
　
＜相違点＞
　本願発明が、有機ＥＬディスプレイの製造方法として、転写層の形成後、「ＣＯ２を利用する方式の乾式洗浄を行う段階」を有し、「前記ＣＯ２を利用する方式の乾式洗浄を行う段階は、ＣＯ２固体を基板上に衝突し昇華させて、汚染物を除去するものであり、３０％以下の湿度を有する雰囲気で行う」ものであるのに対し、引用発明はそのような段階を有していない点。
　
　
第５　当審の判断
　上記相違点について検討する。
（１）転写技術において、転写の際の転写層上の異物が好ましくないため、転写層と被転写層とをラミネーションする前に転写層を乾式洗浄することは、当業者に周知の技術的事項であり（上記記載事項（２ａ）〜（４ｂ）を参照）、また、当該周知の技術的事項において、転写層上の異物が好ましくないのであるから、乾式洗浄が「転写層の形成後」に行なわれていることは明らかである。
　しかも、乾式洗浄として、乾燥雰囲気下でＣＯ２固体（ドライアイス）を利用する方式は、例えば引用例５（上記記載事項（５ａ）〜（５ｅ）を参照）に記載されているように周知の技術的事項であり、また、引用例５に記載の乾式洗浄も、ＣＯ２固体の衝突と昇華を伴う乾式洗浄法であることは明らかであるし、本願の優先日当時、ＣＯ２固体の衝突と昇華を伴う乾式洗浄法で、物理的な力と熱力学的な力の両方を利用しようとする技術的思想も公知であること（上記記載事項（６ａ）〜（６ｂ）を参照）を総合すると、転写層の乾式洗浄として、本願発明のＣＯ２固体を利用する特定の方式を採用することに何ら困難性を見いだすことはできない。
　してみれば、引用発明の転写技術を用いる製造方法に上記転写技術における周知の技術的事項を適用し、引用発明の転写層が表面となる転写フイルムを、TFT 素子及び第１電極を形成した基板と貼り合わせ（ラミネーション）する前に、乾燥雰囲気下でドライアイスを利用して乾式洗浄することは、当業者が容易になし得たことである。
　
（２）ここで、請求人は、平成２３年１月２０日付けの意見書において、次のように主張する。
「本願発明１及び２は、本願の段落００３３に記載されていますように、水分含量が３０％以下として、二酸化炭素の昇華を利用することで、二酸化炭素の昇華により物理的な力と熱力学的な力を両方とも使用するものです。」、及び
「例えば、引用例６（当審注：当該「引用例６」は審決における「引用例５」）は、第４図に示される従来技術の構成を改良したものでありますが、その基本となる第４図の構成について、『このドライアイススノーは被洗浄物上の汚染物を除去した後に速やかに昇華される。』（第２ページ、左上のコラム、１行目）と記載されており、昇華は除去の後に生じており、昇華自体を除去に使用しているようには見受けられません。つまり、引用例５及び６においては、単に二酸化炭素を送り出して異物を除去しているので、これは物理的な力だけを利用しているということになるものと思料します。」
　
（３）しかしながら、本願の明細書または図面を参照しても、明細書中で複数挙げられた乾式洗浄の中から、特に「ＣＯ２を利用する方式の乾式洗浄」を採用したことによる格別有利な効果は記載されていないし、「ＣＯ２を利用する方式の乾式洗浄」自体についても、明細書の段落【００３３】に、
「前記ＣＯ２を利用する方式は、ＣＯ２固体であるドライアイスを昇華させると同時に、基板上に衝突させて、汚染物を除去する方式である。すなわち、衝突後に膨脹するドライアイスの物理的な力と熱力学的な力を利用した洗浄メカニズムであると言える。したがって、ＣＯ２固体の結氷防止のために、前記ＣＯ２を利用する方式は、３０％以下の湿度を有する雰囲気で行うことが望ましい。」
と記載されているのみであって、ＣＯ２固体を用いる洗浄方法の中で、特に物理的な力とともに熱力学的な力をも利用する方式を選択したことの技術的意義や効果、及び物理的な力とともに熱力学的な力を伴う洗浄とするための具体的な洗浄方法について何ら記載されていない。また、湿度を「３０％以下」とする数値範囲の技術的根拠も、記載されていない。
　そうすると、具体的にどのような乾式洗浄を採用するか（「ＣＯ２固体を利用する方式」の乾式洗浄を採用するか。ＣＯ２固体を利用する方式を採用した場合、どの段階で昇華する方式とするか。）は、当業者が適宜選択し得る設計的事項にすぎないといわざるを得ない。
　
（４）よって、引用発明に周知の技術的事項を適用して上記相違点に係る本願発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易になし得たことである。
　
（５）本願発明の奏する作用効果についても、本願発明が、乾式洗浄にＣＯ２固体を利用する特定の方式を採用したことに格別有利な効果が認められないことは上記（３）で述べたとおりであるから、本願発明の奏する作用効果は、引用発明及び周知の技術的事項から当業者が予測し得る範囲内のものであって、格別のものということはできない。
　
（６）したがって、本願発明は、引用発明及び周知の技術的事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
第６　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　したがって、本願は、その余の請求項について検討するまでもなく、拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。