【事件の表示】
　特願２００５−５１８０９８「干渉測定装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１０月２０日国際公開、ＷＯ２００５／０９８３５３、平成１８年　４月２７日国内公表、特表２００６−５１４３０３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、平成１７年２月２８日（パリ条約による優先権主張　外国庁受理　平成１６年４月５日、ドイツ連邦共和国（ＤＥ））を国際出願日とする特許出願（２００５年特許願５１８０９８号）であって、平成２０年６月１６日付けで拒絶査定（発送日：同月１９日）されたところ、拒絶査定不服審判が同年９月１７日に請求されたものである。
　　　　　　
第２　本件出願に係る発明
　本件出願の請求項１〜９に係る発明は、平成２０年４月２１日付け手続補正書で補正された、特許請求の範囲の請求項１〜９に記載されたとおりのものであって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりのものと認める。
　　　　　　　　 
「【請求項１】光源（１）からの光を入力光路を介して受光し、測定光路と参照光路に分割するビームスプリッタ（２）と、測定対象（４）と参照（６）から反射されて干渉の生じた光が出力光路を介して電気的な信号に変換されるために供給される画像記録装置（９）と、前記信号から表面形状を検出するための評価回路と、光強度または干渉光から得られた信号を適合するための適応装置（３，５）とを用いて、測定対象を三次元的に形状測定するための干渉測定装置において、
　前記測定装置は該測定装置の少なくとも横方向の解像度を超えて広がる表面の平面状の領域を測定するために構成されており、前記適応装置（３，５）は光および／または該光から得られる信号の強度を、測定光学系に関して前記表面の局所的に異なる反射特性に依存して適合させるために構成されており、
　前記適応装置（３，５）は前記光源（１）を時間的に可変に駆動制御するために構成されており、さらに制御または調整ユニット（２０）を有し、該ユニット（２０）は前記光源（１）から放射された光量を、前記表面から測定光学系の開口への反射光の入射が少ない測定箇所を考察する際には増加させる、および／または、反射光の入射が比較的多い測定箇所を考察する際には低減するように構成されていることを特徴とする、干渉測定装置。」
　
第３　引用刊行物の記載
（３Ａ）原査定の拒絶の理由に引用され、本件出願の優先権主張の日前に頒布された国際公開第２００４／００３４６４号公報(以下、「引用刊行物Ａ」という。）には、次の事項が図面とともに記載されている。（下線は、当審で付与したものである。以下、同様である。なお、引用刊行物Ａの日本語訳は特表２００６−５０９９９８号公報を用いた。）
　
（３Ａ−１）「特許請求の範囲：
請求項１． 物体表面を基準表面と比較して、前記基準表面の公称幾何学的表面形状からの前記
物体表面の偏差を測定する干渉計
  対物ビームが前記物体表面に向かう途中で前記基準表面を通過しないように、別々の光経路に沿って、前記物体表面を前記対物ビームで照射し、前記基準表面を基準ビームで照射する照明システム、
  前記物体表面上及び前記基準表面上の複数の対応する点から反射される前記対物ビームと前記基準ビームの間の経路長差に基づく干渉データを含む、前記対物ビームによる前記物体表面の像と前記基準ビームによる前記基準表面の像の重ね合せをつくる像映システム、
  異なるビーム周波数を含む範囲にわたって前記干渉データがつくられる前記対物ビーム及び前記基準ビームの周波数を変える周波数調整器、
  前記干渉データが前記ビーム周波数の前記変化の結果として増加的干渉条件及び減殺的干渉条件により変化しているときに、前記物体表面の像と前記基準表面の像の前記重ね合せ内の前記複数の対応する点から前記干渉データを収集するデータ収集システム、及び
  ビーム周波数の前記変化の関数としての前記干渉データの前記変化を前記物体表面上及び前記基準表面上の前記複数の対応する点からの前記対物ビームと前記基準ビームの間の前記経路長差の尺度に変換し、前記物体表面上及び前記基準表面上の前記複数の対応する点からの前記対物ビームと前記基準ビームの間の前記経路長差を前記基準表面の前記公称幾何学的表面形状からの前記
物体表面の偏差の尺度に変換するプロセッサ
を備え、
  前記基準表面が、前記像映システムによる前記基準表面の前記像に寄与する前記反射される基準ビームの光線を複数の異なる角度で散乱させる実質的に拡散性の表面である、
ことを特徴とする干渉計。」（３０頁）
　
（３Ａ−２）「技術分野
［２］ 
周波数走査型干渉計
　　
（３Ａ−３）「［８］  波長走査型干渉計または多波長干渉計とも称される、周波数走査型干渉計は、一連の異なるビーム周波数（または波長）でつくられる複数の干渉パターンから、より広い測定範囲を得る。同じ干渉パターン内の点間の経路長差を比較し、より細かい測定を行うためまたは一意的測定区間内の両意性を分解するために別の干渉パターンを用いる従来の干渉計とは対照的に、
周波数走査型干渉計
干渉パターン内の対応する点の干渉変動（例えば強度または位相の変動）に基づいて、複数の干渉パターンに共通な点を個別に測定できる
［９］  したがって、周波数走査型干渉計によって、より広い範囲の表面粗さ一意的に測定することができる。従来の干渉計は一般に、照射光の波長に比例するそれぞれの干渉パターンの干渉縞間隔内の照射光方向段差の測定に限定される。周波数走査型干渉計によるそのような大きさの段差の測定は、照射光の公称波長に通常は依存せず、代わりに、ビーム周波数間の平均間隔に依存する。間隔が細かくなるほど、一意的な測定の範囲が広くなる。すなわち
、周波数走査型干渉計により
粗い物体表面または拡散性の物体表面の尺度を得る
　
（３Ａ−４）「［１１］  既知の周波数走査型干渉計システム１０が図１に示される。総合的形態のトワイマン−グリーン干渉計では、異なる周波数を含む範囲にわたり同調させることができる測定ビーム１６をコンピュータ１４の制御下にある同調可能レーザ１２がつくる。ビーム状態調整光学系１８を含む照明システムが測定ビーム１６を拡大し、コリメートする。折曲げミラー２０が、測定ビーム１６を対物ビーム２４及び基準ビーム２６に分割する、ビームスプリッタ２２に測定ビーム１６を向ける。対物ビーム２４は被検物体３０から再帰反射し、基準ビーム２６は基準ミラー３２から再帰反射する。ビームスプリッタ２２が対物ビーム２４及び基準ビーム２６を再結合させ、（１枚のレンズまたはレンズ群などの）像映光学系３４が被検物体３０の像及び基準ミラー３２の像を（ＣＣＤ素子アレイなどの）検出器アレイ３６上に集束して重ね合せる。検出器アレイ３６は対物ビーム２４と基準ビーム２６の間の経路長変化により生じる干渉パターンの干渉値を記録する。検出器アレイ３６からの出力はコンピュータ１４に格納されて、処理される。
［１２」  検出器アレイ３６のそれぞれの素子（画素）は対物ビーム２４と基準ビーム２６の間の干渉にしたがう局所干渉値を記録する。それぞれの干渉値は被検物体３０上の１つの点に跡づけることができる。しかし、対物ビーム２４と基準ビーム２６の間の位相差を表面変化の一義的尺度として干渉パターン全体にわたって判断するために、アレイ素子（画素）間で干渉値を比較する代わりに、測定ビーム１６の一連の異なるビーム周波数（または波長）に対して一組の別々の干渉パターンが記録される。同調可能レーザ１２は、ビーム周波数を増分させながら次々に変えることにより段階的に動作させられ、検出器アレイ３６が対応する干渉パターンを記録する。個々の干渉パターンを記録するデータフレームの数は一般に１６フレームまたは３２フレームである。
［１３］  局所干渉値はビーム周波数の変化にともなって正弦的態様で変化し、増加的干渉条件と減殺的干渉条件の間で周期変化する。干渉変化レート、例えば強度変化の周波数は、対物ビーム２４の局所部分と基準ビーム２６の局所部分の間の経路長差の関数である。強度の緩やかな変化（小さな干渉周波数変化）は小さな経路長差でおこり、強度のさらに急速な変化（大きな干渉周波数変化）は大きな経路長差でおこる。
［１４］  測定ビーム１６のビーム周波数における増分変化にともなう干渉変化（例えば強度変化）の干渉周波数を同定するため、離散フーリエ変換をコンピュータ１４内で用いることができる。
コンピュータ１４は、基準ミラー３２の表面からのプロファイル差の尺度として被検物体３０の３次元像を構成するために用いることができる
３次元微細構造情報
平坦性
を測定する
　
（３Ａ−５）「［４２］  拡散性物体表面５２を測定するように構成された修正周波数走査型干渉計５０としての本発明の一実施形態が図２に示される。周波数走査型干渉計５０は一般にトワイマン−グリーン干渉計として構成されるが、その他の既知の干渉計構成を用いることもできる。しかし、従来のトワイマン−グリーン干渉計とは異なり、コリメート光学系が用いられず、基準表面５６が非鏡面表面または拡散性表面として構成される。
［４３］  照明システム６０に付帯する
光源６２が拡大する測定ビーム６６を生成する
［４４］  
ビームスプリッタ７０が拡大する測定ビーム６６を拡大する対物ビーム７２及び拡大する基準ビーム７６に分割する
被検物体５４の物体表面５２
基準ビーム７６は
基準素子５８の基準表面５６に伝搬す
［４５］  物体表面５２及び基準表面５６はいずれも非鏡面反射面または拡散性反射面である。物体５４は入射光を散乱させる傾向がある表面粗さを有する物体表面５２をもつ機械加工された部品とすることができる。
基準素子５８の基準表面５６
対物ビーム７２の代表部分７４は物体表面５２から反射され
基準ビーム７６の代表部分７８は基準表面５６から反射され
［４６］  対物ビーム７２及び基準ビーム７６の代表部分７４及び７８は対物表面５２及び基準表面５６のアパーチャ寸法全体から放射されることが好ましい。ビームスプリッタ７０が対物ビーム７２の代表部分７４と基準ビーム７６の代表部分７８を再結合させて、物体表面５２の像と基準表面５６の像の重ね合せをつくる集束光学系８２を有する像映システム８０に向ける。集束光学系８２は、対物ビーム７２の代表部分７４及び基準ビーム７６の代表部分７８が収斂ビームの限界内で集束光学系８２に近づくから、通常より小さくし、複雑性を低くすることができる。ビームスプリッタ７０を通って伝搬する方向は既知の偏光技法を用いて調節することができる。
［４７］  像映システム８０の集束光学系８２は像映アパーチャ領域を有し、集束光学系により像映される物体表面５２は像映アパーチャ領域よりかなり大きい横領域を有する。同様に、照明システム６０のビーム状態調節光学系６４は照明アパーチャ領域を有し、物体表面５２の横領域は照明アパーチャ領域より大きい。集束光学系８２により像映される基準表面５６の横領域も像映アパーチャ領域及び照明アパーチャ領域のいずれよりも大きい。
［４８］  集束光学系８２の焦平面に配置することができる
検出器アレイ８６を有するデータ収集システム８４が、対物ビーム７２の代表部分７４と基準ビーム７６の代表部分７８の間でつくられる干渉パターンの詳細を記録する
［４９］  検出器アレイ８６は干渉パターン（すなわち物体表面５２の像と基準表面５６の像の重ね合せ）内の異なる点における強度を別々に測定するための（電荷結合デバイスなどの）個別にアドレス指定できる素子のアレイからなることが好ましい。コ
ンピュータ９０が検出器アレイ８６により収集された干渉データ（例えば強度）を格納し、処理する
　　　　　　　　　
（３Ａ−６）「［５９］  実施に際しては、
対物ビーム７２の代表部分７４及び基準ビーム７６の代表部分７８の強度は同様の強度とされる
ＮＤフィルタ９２
ＮＤフィルタ９２の光学濃度を調節する
　
（３Ａ−７）図２には、
基準ビーム７６が伝搬する基準素子５８とビームスプリッタ７０との間にＮＤフィルタ９２を配置する
　　
　上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−１）〜（３Ａ−７）の記載を参照すると、上記引用刊行物Ａには、
「光源６２が生成した測定ビーム６６を対物ビーム７２及び基準ビーム７６に分割するビームスプリッタ７０と、
　被検物体５４の物体表面５２から反射された対物ビーム７２の代表部分７４と、基準素子５８の基準表面５６から反射された基準ビーム７６の代表部分７８との間でつくられる干渉パターンを記録する検出器アレイ８６を有するデータ収集システム８４と、
　測定された検出器アレイ８６の干渉パターンの干渉データを格納し、処理するコンピュータ９０と、
　対物ビーム７２の代表部分７４及び基準ビーム７６の代表部分７８の強度を同様の強度とするために、基準ビーム７６が伝搬する基準素子５８とビームスプリッタ７０との間に配置された光学濃度が調整可能なＮＤフィルタ９２と、
　を用いた物体表面の偏差を測定する周波数走査型干渉計。」
　の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認める。
　　　　
（３Ｂ）原査定の拒絶の理由に引用され、本件出願の優先権主張の日前に頒布された特開２００１−３５１８４２号公報(以下、「引用刊行物Ｂ」という。）には、次の事項が図面とともに記載されている。
　
（３Ｂ−１）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、位置の検出方法および検出装置、並びに該位置検出装置を用いた露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法に関し、特に、
結像光学系で観察する物体上のパターンの位置を計測して、その物体の位置を検出する干渉顕微鏡に関する
　　　　
（３Ｂ−２）「【００７４】（実施例４）図１０に本発明の位置検出装置の原理を説明する一実施例を示す。図１０では、図７の実施例と同様で光量的に余裕のある場合についての実施例として、プリズムには偏光特性のないビームスプリッタ５８を使用する。
【００７５】光源にはＨｅ−Ｃｄレーザ５１（波長４４１．６ｎｍ）、Ａｒレーザ５２または（波長５１４．６ｎｍ）Ｈｅ−Ｎｅレーザ５３（波長６３２．８ｎｍ）を使用する。選択して使用する為に構成したレーザ光源５１，５２，５３のどれかから発振した光は、ビームスプリッタ８２で、ウエハ照明光と参照光とに分離される。
【００７６】一方のウエハ照明光は、調光用の減衰フィルターを透過してインコヒーレント化の為に回転している回転拡散板５４を通り拡散され、ファイバー５５に入射される。ファイバー５５で導光され、射出後、照明均一化素子である、オプチカルロット５６および高効率拡散板の働きの計算機ホログラム５７に入射し、ビームスプリッタ５８で反射される。ビームスプリッタ５８を反射した光の一部は、有限補正された第一対物レンズ５９に入射し、観察物体６０を照明する。観察物体６０で反射した光は、第一対物レンズ５９に再度入射し、ビームスプリッタ５８を今度は透過して第二対物レンズ６１に入射し、観察物体６０の像をＣＣＤカメラ６２の撮像面上に形成する。このウエハ照明光の経路は図７に示した例と同様である。
【００７７】参照光としては、レーザから射出した光が、図１０においてはビームスプリッタ８２で反射した光を使用するものとし、インコヒーレント化の為に回転している回転拡散板８３を通り拡散され、ファイバー８０に入射される。ファイバー８０で導光され、射出後、照明均一化素子であるオプチカルロット８５および高効率拡散板の働きの計算機ホログラム８６に入射し、照明系８４にてウエハ（観察物体６０）と光学的に共役な面（＝結像関係にある面）を照明し、ビームスプリッタ５８で反射して第二対物レンズ６１に入射し、これを参照光として観察物体６０の像をＣＣＤカメラ６２の撮像面上に形成される。
【００７８】調光する為には、参照光を使用して干渉像を得る前に、遮光体８１を光路内に挿入して、参照光をＣＣＤカメラ６２に行かないようにして、観察物体６０の反射率を求める操作は図７の実施例と同様である。
【００７９】この時、参照光については、調光することを必要としない構成としている。この構成で何故良いかは以下に説明を行う。但し、ＣＣＤカメラ６２については、取り込み時間を一定として使用する場合についてであり、取り込み時間を変える場合については後述する。
【００８０】ＣＣＤカメラ６２においては、飽和する電圧が存在しそれに対応する光量も存在する。今その光量をＩｓ、とすると、調
光フィルターの設定は、ウエハの反射率に対応してＣＣＤカメラ６２上で、飽和光量Ｉｓの、５０％〜８０％程度となる様に設定される
ウエハの反射率が変化しても、干渉像の場合でもそうでない場合でも、ＣＣＤカメラ６２上にはある範囲の一定の光量を照射する様に設定することが「調光する」ということである
　
（３Ｂ−３）図１０には、
レーザ１〜３の光源からの光量を調節する調光フィルタが光源とファイバー５５の間に配置される
　　
（３Ｃ）原査定の拒絶の理由に引用され、本件出願の優先権主張の日前に頒布された特開昭６３−２６３４０４号公報(以下、「引用刊行物Ｃ」という。）には、次の事項が図面とともに記載されている。
　
（３Ｃ−１）「〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
　本発明は、
微細な溝や穴の深さを測定する深さ測定方法
　　
（３Ｃ−２）「（実施例）
　第１図は、
干渉顕微鏡
　試料面９と参照ミラー面１４にて反射された、白色光と単色光の両光束の反射光は、それぞれ対物レンズ８および１３を介して逆行し、光線分割プリズム７のハーフミラ−面７ａにて合致してそれぞれ干渉する。その干渉光は、レンズ１５を介して集光され、俯視プリズム１６、結像レンズ１７を介して干渉縞として結像され撮像管１８を介してＣＲＴディスプレー１９により観察される。また、レンズ１５を介して集光される干渉光は、ビームスプリッター２０にて２分され、一方は単色光カットフィルター２１Ａを介して白色干渉縞としてアパーチャ２２Ｂ上に結像され、そのアパーチャ２２Ａを通過した多波長干渉光は第１光電検出器２３Ａにて検出される。ビームスプリッタ２０で分割された他方の光束は、単色光透過フィルター２１Ｂを介して単色干渉縞としてアパーチャ２２Ａ上に結像され、そのアパーチャ２２Ｂを通過して白色干渉光は、第２光電検出器２３Ｂにて検出される。
　双方の充電検出器２３Ａ、２３Ｂにて検出された多波長干渉縞と単色干渉縞に基づく検出信号は、それぞれ後述の信号突出処理装置３０に送られる。この電気処理装置３０から出力される制御信号によって、駆動モータ２５が駆動され、これにより駆動ユニット２６を介して光路差プリズム１１が移動して試料面９と参照ミラー面１４との光路差が変わるように構成されている。なお、光路差プリズム１１と対物レンズ１３との間に設けられた濃度可変フィルター１２は、参照ミラー面１４で反射される参照光と試料面９から反射する試料光との光強度比を変えて干渉縞のビジビリティを良くするためのものである。
　
干渉縞を観察するためのＣＲＴディスプレー１９
試料台１０と共に試料面９を移動し、試料面９上の穴９ｂにカーソール点Ａが一致したとき
他方のカーソール交点Ｂは、穴９ｂが設けられていない上面９ａの位置に置かれる
　　
第４　対比・判断
（４−１ａ）本願発明と引用発明との対比
（i）引用発明の「光源６２」は、その機能・構造からみて、本願発明の「光源（１）」に相当する。
　そして、引用発明の光源６２が生成した測定ビーム６６がビームスプリッタ７０に入力していることから、引用発明の「対物ビーム７２及び基準ビーム７６に分割するビームスプリッタ７０」は、本願発明の「測定光路と参照光路に分割するビームスプリッタ（２）」に相当する。
　
（ii）引用発明の「被検物体５４の物体表面５２」及び「基準素子５８の基準表面５６」は、その構造・機能からみて、それぞれ、本願発明の「測定対象（４）」及び「参照（６）」に相当する。
　そして、引用発明のデータ収集システム８４の検出器アレイ８６は、被検物体５４の物体表面５２から反射された対物ビーム７２と、基準素子５８の基準表面５６から反射された基準ビーム７６との間でつくられる干渉パターンを入力して電気信号に変換する検出器であるから、本願発明と同様に「測定対象（４）と参照（６）から反射されて干渉の生じた光が出力光路を介して電気的な信号に変換」していることは明らかである。
　また、上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−４）には、周波数走査型干渉計について、「［１４］・・・コンピュータ１４は、基準ミラー３２の表面からのプロファイル差の尺度として被検物体３０の３次元像を構成するために用いることができる・・・得られる３次元微細構造情報は、精密につくられた部品の品質管理に有用な、物体３０の重要な特性（例えば平坦性または平行性）を測定するために、さらに処理することができる。」ことが記載されており、さらに、引用発明の周波数走査型干渉計は、物体表面の偏差を測定しており、この物体表面の偏差は、上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−４）に記載されている、物体の重要な特性である平坦性または平行性を意味することから、引用発明の「データ収集システム８４」が記録する干渉パターンは被検体の３次元像を構成するために用いられることは明らかである。
　そうすると、引用発明の「検出器アレイ８６を有するデータ収集システム８４」が、本願発明の「測定対象（４）と参照（６）から反射されて干渉の生じた光が出力光路を介して電気的な信号に変換されるために供給される画像記録装置（９）」に相当する。
　
（iii）引用発明の「コンピュータ９０」は、測定された検出器アレイ８６の干渉パターンの干渉データを格納し、処理するものであり、この干渉データは、物体表面の偏差を測定するために用いられるデータであるから、引用発明の「コンピュータ９０」が、上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−４）に「［１４］・・・コンピュータ１４は、基準ミラー３２の表面からのプロファイル差の尺度として被検物体３０の３次元像を構成するために用いることができる、対物ビーム２４と基準ビーム２６の間の局所経路長差の尺度への干渉変化の干渉周波数の変換も行う。基準ミラー３２は平坦であるから、決定される光路差は平面からの物体３０の偏差に等価である。得られる３次元微細構造情報は、精密につくられた部品の品質管理に有用な、物体３０の重要な特性（例えば平坦性または平行性）を測定するために、さらに処理することができる。」と記載されているコンピュータ１４と同様に、物体表面の偏差、すなわち、物体の重要な特性を測定するために処理していることは明らかである。
　そうすると、引用発明の「コンピュータ９０」と本願発明の「評価回路」とは、「前記信号から表面形状を検出するための装置」である点で共通する。
　
（iv）上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−５）には、「［４９］  検出器アレイ８６は干渉パターン（すなわち物体表面５２の像と基準表面５６の像の重ね合せ）内の異なる点における強度を別々に測定するための（電荷結合デバイスなどの）個別にアドレス指定できる素子のアレイからなることが好ましい。コンピュータ９０が検出器アレイ８６により収集された干渉データ（例えば強度）を格納し、処理する。」と記載されており、この摘記事項（３Ａ−５）では、干渉データとして、例えば強度の例が示されているが、上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−３）には「［８］・・・周波数走査型干渉計は、異なるビーム周波数でつくられる複数の干渉パターン内の対応する点の干渉変動（例えば強度または位相の変動）に基づいて、複数の干渉パターンに共通な点を個別に測定できる。」ことが記載されており、さらに、周波数走査型干渉計は、周波数を変化させて干渉光のデータを測定していることから、引用発明の物体表面の偏差を測定する周波数走査型干渉計は、干渉光による干渉データとして、強度のほかに位相の変動、すなわち干渉光も含むことは明らかである。
　そうすると、引用発明の「基準ビーム７６が伝搬する基準素子５８とビームスプリッタ７０との間に配置された光学濃度が調整可能なＮＤフィルタ９２」は、対物ビーム７２の代表部分７４及び基準ビーム７６の代表部分７８の強度を同様の強度としているが、上記のごとく、対物ビーム７２及び基準ビーム７６の強度を調整するほかに、干渉光を調整していることになるから、本願発明の「光強度または干渉光から得られた信号を適合するための適応装置（３，５）」に相当する。
　
（v）引用発明の「周波数走査型干渉計」が、本願発明の「干渉測定装置」に相当する。
　そして、上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−４）には、「［１１］既知の周波数走査型干渉計システム１０が図１に示される。・・・［１４］ ・・・コンピュータ１４は、基準ミラー３２の表面からのプロファイル差の尺度として被検物体３０の３次元像を構成するために用いることができる、対物ビーム２４と基準ビーム２６の間の局所経路長差の尺度への干渉変化の干渉周波数の変換も行う。基準ミラー３２は平坦であるから、決定される光路差は平面からの物体３０の偏差に等価である。得られる３次元微細構造情報は、精密につくられた部品の品質管理に有用な、物体３０の重要な特性（例えば平坦性または平行性）を測定するために、さらに処理することができる。」ことが記載されており、引用発明の「周波数走査型干渉計」は、物体表面の偏差、すなわち、上記摘記事項の周波数走査型干渉計システム１０と同様に、基準表面と被検物体の表面との光路差と等価な偏差を測定していることから、引用発明の「周波数走査型干渉計」が、被検物体５４の３次元像を構成するために、物体表面の偏差を測定していることは明らかである。
　そうすると、引用発明の「物体表面の偏差を測定する周波数走査型干渉計」は、本願発明の「干渉測定装置」と同様に、「光強度または干渉光から得られた信号を適合するための適応装置とを用いて、測定対象を三次元的に形状測定するための干渉測定装置」である。
　
（vi）引用発明の被検物体５４の物体表面５２から反射された対物ビーム７２の強度は、被検出物体５４が変わるごとに被検物体５４の特性が異なることは物理的にみて明らかである。ところで、被検物体５４が変わるごとに基準素子５８を代えることが、上記引用刊行物Ａには記載されていないことから、引用発明の基準素子５８の基準表面５６から反射された基準ビーム７６の強度は、被検物体５４が変わっても一定であることは明らかである。
　よって、引用発明において、基準ビーム７６が伝搬する基準素子５８とビームスプリッタ７０との間に光学濃度が調整可能なＮＤフィルタ９２を配置して、対物ビーム７２の代表部分７４及び基準ビーム７６の代表部分７８の強度を同様の強度としていることは、被検物体５４の反射強度、すなわち、被検物体５４の反射特性に応じて、ＮＤフィルタ９２の光学濃度を調整していることになるから、引用発明の「光学濃度が調整可能なＮＤフィルタ９２」と本願発明の「適応装置（３，５）」とは、「前記適応装置（３，５）は光および／または該光から得られる信号の強度を、測定光学系に関して前記表面の異なる反射特性に依存して適合させるために構成されて」いる点で共通する。
　　
　そうすると、本願発明と引用発明とは、
「光源（１）からの光を入力光路を介して受光し、測定光路と参照光路に分割するビームスプリッタ（２）と、
　測定対象（４）と参照（６）から反射されて干渉の生じた光が出力光路を介して電気的な信号に変換されるために供給される画像記録装置（９）と、
　前記信号から表面形状を検出するための装置と、
　光強度または干渉光から得られた信号を適合するための適応装置（３，５）とを用いて、測定対象を三次元的に形状測定するための干渉測定装置において、
　前記適応装置（３，５）は光および／または該光から得られる信号の強度を、測定光学系に関して前記表面の異なる反射特性に依存して適合させるために構成されている、干渉測定装置。」
　である点で一致し、次の相違点（あ）〜相違点（え）で相違する。
　　
・相違点（あ）
　信号から表面形状を検出するための装置が、本願発明では、「評価回路」であるのに対して、引用発明では、測定された検出器アレイ８６の干渉パターンの干渉データを格納し、処理するコンピュータ９０である点。
　　
・相違点（い）
　本願発明では、「測定装置は該測定装置の少なくとも横方向の解像度を超えて広がる表面の平面状の領域を測定するために構成されて」いるのに対して、引用発明では、そのような構成を備えているかどうか不明である点。
　　
・相違点（う）　　　
　適応装置（３，５）が光および／または該光から得られる信号の強度を、測定光学系に関して表面の異なる反射特性に依存して適合させるために構成されている際に、本願発明では、適応装置（３，５）が光および／または該光から得られる信号の強度を、測定光学系に関して表面の「局所的に」異なる反射特性に依存して適合させるために構成されているのに対して、引用発明では、被検物体５４の反射特性に応じて、ＮＤフィルタ９２の光学濃度を調整している点。
　　　　　　　　　
・相違点（え）
　本願発明では、「前記適応装置（３，５）は前記光源（１）を時間的に可変に駆動制御するために構成されており、さらに制御または調整ユニット（２０）を有し、該ユニット（２０）は前記光源（１）から放射された光量を、前記表面から測定光学系の開口への反射光の入射が少ない測定箇所を考察する際には増加させる、および／または、反射光の入射が比較的多い測定箇所を考察する際には低減するように構成されている」のに対して、引用発明では、光源６２を被検物体５４の表面からの反射に応じて光量を変化させるように構成されているいない点。
　
（４−１ｂ）当審の判断
　上記相違点（あ）〜相違点（え）について判断する
・相違点（あ）について
　上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−５）の段落［４５］に「物体５４は入射光を散乱させる傾向がある表面粗さを有する物体表面５２をもつ機械加工された部品とすることができる。」と、記載されていることから、引用発明の物体表面の偏差を測定する周波数走査型干渉計は、表面粗さを有する物体表面の偏差を測定していることは明らかである。
　そして、表面粗さを測定する装置に、測定信号を入力する評価回路を設けて表面粗さを検出することは、例えば、特開昭６０−３１０号公報の４頁右上欄１〜３行に「例えば、・・・評価回路では、測定素子の出力信号から下式にもとづき荒さを求める。」と記載されているように周知（ほかに、特開平１−２５３６０７号公報の２頁左下欄１３〜２０行参照）であることから、引用発明において、測定された検出器アレイ８６の干渉パターンの干渉データから物体表面の偏差を測定する際に、評価回路を用いることは当業者が容易になし得るものである。
　　　
・相違点（い）について
　上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−４）に「［１４］・・・コンピュータ１４は、基準ミラー３２の表面からのプロファイル差の尺度として被検物体３０の３次元像を構成するために用いることができる」ことが記載されていることから、引用発明の周波数走査型干渉計が、所定の測定領域の物体表面の偏差を測定していることは明らかであり、さらに、引用発明の周波数走査型干渉計を用いて物体表面の偏差を測定する測定する際、周波数走査型干渉計の解像度より小さい領域を測定できないことは明らかであるから、周波数走査型干渉計の解像度より大きい領域を測定すること、すなわち、本願発明のごとく、「測定装置は該測定装置の少なくとも横方向の解像度を超えて広がる表面の平面状の領域を測定するために構成されて」いるようにすることは当然の設計的事項にすぎないものである。
　　　
・相違点（う）について
（う−１）上記引用刊行物Ｃの摘記事項（３Ｃ−１）、（３Ｃ−２）には、干渉計により被検物体の表面の形状を測定する際に、被検体を移動させて表面の形状を測定することが記載され、また、特開平１０−６２１３９号公報には、「【０００１】・・・本発明は、複雑で微細な立体形状の測定や検査を行うための形状測定装置に関するものである。」こと、及び「【０００８】図１は第１の実施例の構成図を示し、三次元方向に移動可能な手動ステージ１０上には、被測定物Ｋを載せる上下動可能な精密ステージ１１が載置されており、被測定物Ｋの上方には干渉顕微鏡１２が配置されている。干渉顕微鏡１２内には、被測定物Ｋに対向する位置に第１の対物レンズ１３が配置され、その後方にビームスプリッタ１４が配置されている。」ことが記載されていることから、干渉計により被検体物の表面の形状を測定する際には、被検物体を移動させることが技術常識であるといえる。
　さらに、特開昭６３−２３８４１０号公報の３頁右上欄１４〜１９行には、「被測定面５からの反射光ＬＳの振幅ａは走査の進行につれてかなり変化する。それは、被測定面５の反射率は一様ではなく、場所によって異なったものとなっており、それからの反射光を走査によって順次取込んでいるためである。」ことが記載され、また、特開平１０−２９３０１９号公報の段落【００２４】には、「直流の反射光強度は・・・２ビーム光が照射された位置での反射率・・・の変動によって強度が変化する。」ことが記載されていることから、光学的に被検物体の反射光を測定する際、被検物体の反射率が被検物体の場所によって異なることは自明な事項であるといえる。
　そうすると、引用発明の周波数走査型干渉計により被検物体５４の物体表面５２の偏差を測定する際には、被検物体５４を移動させて、反射率の異なる位置で物体表面の偏差を測定しているものと解される。
（う−２）ところで、引用発明の周波数走査型干渉計は、対物ビーム７２の代表部分７４及び基準ビーム７６の代表部分７８の強度を同様の強度とするために、基準ビーム７６が伝搬する基準素子５８とビームスプリッタ７０との間に配置された光学濃度が調整可能なＮＤフィルタ９２とを用いているが、上記（う−１）で検討したように、引用発明の周波数走査型干渉計は、被検物体５４を移動させて、反射率の異なる位置で物体表面５２の偏差を測定しているものと解されることから、対物ビーム７２の代表部分７４の強度は被検物体５４の反射率の異なる位置ごとに変化し、それに合わせて基準ビーム７６の代表部分７８の強度が対物ビーム７２の代表部分７４と同様の強度となるように、ＮＤフィルタ９２の光学濃度を調整する必要があることは明らかである。
　そうすると、引用発明の周波数走査型干渉計において、被検物体５４を移動させて、反射率の異なる位置で物体表面の偏差を測定する際、対物ビーム７２の代表部分７４及び基準ビーム７６の代表部分７８の強度を同様の強度とするために、反射率の異なる被検物体５４の位置に応じて、ＮＤフィルタ９２の光学濃度を調整することにより、本願発明のごとく、適応装置（３，５）が光および／または該光から得られる信号の強度を、測定光学系に関して表面の「局所的に」異なる反射特性に依存して適合させるために構成されているようにすることは当業者が容易になし得たものである。
　　　
・相違点（え）について
（え−１）上記「相違点（う）について」の（う−１）で検討したように、引用発明の周波数走査型干渉計は、被検物体５４を移動させて、反射率の異なる位置で物体表面の偏差を測定しているものと解されるものである。
　ところで、被検物体の表面の形状を干渉計を用いて測定する際に、被検物体の表面の反射率に応じて、光源の光量を調整することは、例えば、上記引用刊行物Ｂの摘記事項（３Ｂ−１）〜（３Ｂ−３）に記載されているように周知（ほかに、例えば、特開平１−１６７６０３号公報の２頁左上欄１２〜１３行、左下欄１７行〜右下欄２行の記載、特表平８−５０２８２８号公報の２２頁２１〜２３行、２３頁９〜１２行の記載、特開２００３−９７９２２号公報の段落【００８６】、【００８９】の記載参照）であり、さらに、引用発明の周波数走査型干渉計も上記周知の干渉計もともに反射率の異なる被検体物体に光源からの光を照射して得られた干渉光により被検体の表面の形状を測定する点で共通することから、引用発明の引用発明の周波数走査型干渉計において、被検物体５４を移動させて反射率の異なる位置で物体表面の偏差を測定する際に、上記周知例の構成を採用して、光源の光量を被検物体５４の反射率に応じて光源６２の光量を調整することは当業者が容易になし得るものである。
（え−２）そして、引用発明の周波数走査型干渉計は、被検物体５４を移動させて、反射率の異なる位置で物体表面の偏差を測定しているものと解されることから、被検物体５４を移動させて異なる位置の物体表面の反射光から偏差を測定させる際には、時間毎に反射率の異なる位置を測定することになり、本願発明と同様に、「適応装置は前記光源を時間的に可変に駆動制御するために構成されて」いることになる。
　また、上記周知例の特表平８−５０２８２８号公報の１８頁９〜１０行に「コンピュータシステム４５は光レベル制御ライン３７を介して光源の光レベルを制御」することが記載されていることから、引用発明の周波数走査型干渉計において、光源の光量を被検物体５４の反射率に応じて光源６２の光量を調整する際に、光源６２の光量の調整を、本願発明のごとく、コンピュータ等の「制御又は調整ユニット」を用いて行うことは当業者が必要に応じて採用し得る設計的事項にすぎないものである。
　さらに、引用発明の周波数走査型干渉計において、被検物体５４を移動させて異なる位置の物体表面の反射光から偏差を測定させる際に、被検物体５４の反射率に応じて光源６２の光量を調整することは、上記引用刊行物Ｂの摘記事項（３Ｂ−２）の段落【００８０】に、「調光フィルターの設定は、ウエハの反射率に対応してＣＣＤカメラ６２上で、飽和光量Ｉｓの、５０％〜８０％程度となる様に設定される」と記載されているように、被検物体５４の反射率の大きい箇所を測定することにより、検出器アレイ８６に入力する被検物体５４からの反射光が所定の範囲の光量より大きくなった場合には、光源６２の光量を減少させ、被検物体５４の反射率の小さい箇所を測定することにより、検出器アレイ８６に入力する被検物体５４からの反射光が所定の範囲の光量より小さくなった場合には、光源６２の光量を増加させることを意味することから、引用発明の周波数走査型干渉計においても、本願発明のごとく、「ユニットは前記光源から放射された光量を、前記表面から測定光学系の開口への反射光の入射が少ない測定箇所を考察する際には増加させる、および／または、反射光の入射が比較的多い測定箇所を考察する際には低減するように構成されている」ことは明らかである。
　　　
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知の技術的事項から予測される範囲内のものであり、格別のものではない。
　
　なお、請求人は審判請求理由において、「このように、Ｉ.適合装置（３，５）が制御または調整ユニット（２０）を有し、II.制御または調整ユニット（２０）が光源（１）を駆動制御し、III.この駆動制御を表面の位置によって異なる反射特性に依存して行う、という本願発明の特徴はいずれの引用文献にも記載されておりません。」旨の主張をしている。
　しかしながら、「Ｉ.適合装置（３，５）が制御または調整ユニット（２０）を有し、II.制御または調整ユニット（２０）が光源（１）を駆動制御」することは、上記「相違点（え）について」の（え−２）で検討したように
周知の構成であり、さらに、「III.この駆動制御を表面の位置によって異なる反射特性に依存して行う」ことについても、上記「相違点（う）について」の（う−１）で検討したように、引用発明の周波数走査型干渉計により被検物体５４の物体表面５２の偏差を測定する際には、被検物体５４を移動させて、反射率の異なる位置で物体表面の偏差を測定しているものと解され、さらに、引用発明の周波数走査型干渉計において、被検物体５４を移動させて、反射率の異なる位置で物体表面の偏差を測定する際、対物ビーム７２の代表部分７４及び基準ビーム７６の代表部分７８の強度を同様の強度とするために、反射率の異なる被検物体５４の位置に応じて、ＮＤフィルタ９２の光学濃度を調整することになるから、請求人の主張は採用できないものである。
　　
　したがって、本願発明は、引用発明及び周知の技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　　　　　　　　　
第５　むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶をすべきものである。 
　よって、結論のとおり審決する。