【手続補正書】
【提出日】平成23年4月11日(2011.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アパーチャ装置を備える光学モジュールであって、
前記アパーチャ装置は複数のアパーチャ素子を備え、
前記複数のアパーチャ素子は、アパーチャの形状を画定し、且つ、第１アパーチャ素子並びに第２アパーチャ素子を備え、
前記アパーチャ装置は、前記第１アパーチャ素子の前記第２アパーチャ素子に対する位置及び方向の少なくとも一方を独立して変更し、前記アパーチャの前記形状を変更するように構成されている、
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項２】
前記第１アパーチャ素子は着脱可能な素子であり、
前記アパーチャ装置は、前記アパーチャの前記形状を変更するために、少なくとも、
前記第１アパーチャ素子を取り外すか、又は、
前記第１アパーチャ素子を第３アパーチャ素子によって交換する、
ように構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の光学モジュール。
【請求項３】
光学素子ユニットを備え、
前記光学素子ユニットは複数の光学素子を備え、前記アパーチャ装置に隣接して配置され、
前記第１アパーチャ素子は、前記光学素子ユニットに支持され、前記光学素子ユニットに支持されている場合、前記複数の光学素子のうちの１つの光学面の少なくとも一部を入射光から保護し、
前記光学素子ユニットは、前記複数の光学素子を支持する支持構造を有し、
前記第１アパーチャ素子は、少なくとも
支持装置を介して前記支持構造上に支持されるか、又は、
固定具を介して前記支持構造に対して定位置に固定され、
前記第１アパーチャ素子は、２つの前記光学素子の間のギャップに延在する支持素子を介して、前記支持構造に支持されている、
ことを特徴とする、請求項１に記載の光学モジュール。
【請求項４】
前記第１アパーチャ素子は、制御装置により制御される作動装置によって、第１状態から第２状態へと遷移するように構成され、
前記アパーチャは、前記第１アパーチャ素子の前記第１状態では、第１形状を有し、
前記アパーチャは、前記第１アパーチャ素子の前記第２状態では、第２形状を有し、
前記第２形状は前記第１形状とは異なる、
ことを特徴とする、請求項１に記載の光学モジュール。
【請求項５】
前記第１アパーチャ素子は、可動素子であり、
前記第１アパーチャ素子の少なくとも位置又は方向が、前記第１アパーチャ素子が前記第１状態及び前記第２状態の間で遷移されるときに変更される、
ことを特徴とする請求項４に記載の光学モジュール。
【請求項６】
光学素子ユニットを備え、
前記光学素子ユニットは、光学素子を備え、前記光学素子は第１アパーチャ素子に隣接して配置されており、
前記第１アパーチャ素子は、前記第１状態で、前記光学素子の光学面の少なくとも一部分を、伝播路に沿って伝播する入射光から保護し、
前記第１アパーチャ素子は、凹部を有し、
前記凹部は、前記第２状態で、前記伝播路に沿って伝播する前記入射光が前記第１状態で保護された光学面の前記部分に当たるように配置される
ことを特徴とする請求項５に記載の光学モジュール。
【請求項７】
前記第１アパーチャ素子は変形可能な素子であり、
前記第１アパーチャ素子は、前記第１状態と前記第２状態との間で遷移するときに変形を受け、
ことを特徴とする、請求項４に記載の光学モジュール。
【請求項８】
前記第１アパーチャ素子は、能動素子を有し、
前記少なくとも一つの能動素子は、電場、磁場、及び温度場の少なくとも一つに曝されたときに、前記第１アパーチャ素子の前記変形の少なくとも一部を引き起こす
ことを特徴とする請求項７に記載の光学モジュール。
【請求項９】
光学素子ユニットを備え、
前記光学素子ユニットは、光学素子を有し、当該光学素子は、前記第１アパーチャ素子に隣接して配置されており、
前記第１アパーチャ素子は、前記光学素子ユニットによって支持されており、
前記第１アパーチャ素子は、前記第１状態で、前記光学素子の光学面の少なくとも一部を入射光から保護する
ことを特徴とする請求項４に記載の光学モジュール。
【請求項１０】
前記光学素子ユニットは複数の光学素子及び支持構造を有し、
前記支持構造は前記複数の光学素子を支持し、
前記第１アパーチャ素子は、前記支持構造によって支持され、
前記第１アパーチャ素子は、前記第１状態及び前記第２状態の少なくとも一つで、前記光学素子の２つの間のギャップに延在する、
ことを特徴とする請求項９に記載の光学モジュール。
【請求項１１】
前記支持構造は収容部を有し、
前記収容部は前記光学素子に隣接して配置され、
前記第１アパーチャ素子は、前記第２状態で、前記第１アパーチャ素子が少なくとも部分的には前記収容部内に収容されている後退状態にある、
ことを特徴とする請求項９に記載の光学モジュール。
【請求項１２】
パターンを受容するように構成されたマスクユニットと、
基板を受容するように構成された基板ユニットと、
前記パターンを照射するように構成された照明ユニットと、
前記パターンのイメージを前記基板に転写するように構成された光学投影ユニットと、
を備える光学結像装置であって、
前記照明ユニットと、前記光学投影ユニットは、それぞれ、光学素子のシステムを備え、前記光学素子のシステムは光軸を画定し、
前記照明ユニットと前記光学投影ユニットの少なくとも一方は、光学モジュールを備え、当該光学モジュールはアパーチャ装置を有し、
前記アパーチャ装置は複数のアパーチャ素子を持ち、
前記複数のアパーチャ素子は、アパーチャの形状を画定し、且つ、第１アパーチャ素子及び第２アパーチャ素子を持ち、
前記アパーチャ装置は、前記第１アパーチャ素子の前記第２アパーチャ素子に対する位置又は方向の少なくとも一方を独立して変更し、前記アパーチャの形状を変更するように構成されている、
ことを特徴とする光学結像装置。
【請求項１３】
光線束と、アパーチャの形状を画定し、且つ第１アパーチャ素子及び第２アパーチャ素子を備える複数のアパーチャ素子と、を準備するステップと、
前記アパーチャを用いて前記光線束を成形するステップと、
前記第１アパーチャ素子の前記第２アパーチャ素子に対する位置及び方向の少なくとも一方を独立して変更し、前記光線束を成形する前記アパーチャの前記形状を変更するステップと
を含むことを特徴とする、光線束成形方法。
【請求項１４】
アパーチャ装置を備える光学モジュールであって、
前記アパーチャ装置は複数のアパーチャ素子を備え、
前記複数のアパーチャ素子は、アパーチャの形状を画定し、且つ、第１アパーチャ素子並びに第２アパーチャ素子を備え、
前記第１アパーチャ素子は、前記アパーチャ装置の一つの状態で、リング状形状を有するアパーチャの内側輪郭を画定し、
前記第２アパーチャ素子は、前記アパーチャ装置の前記一つの状態で、前記アパーチャの外側輪郭を画定し、
前記アパーチャは、前記アパーチャ装置の前記一つの状態で、所定の光線束を通過させるように構成され、
前記第１アパーチャ素子は、前記光線束が前記アパーチャを通過する光路が遮られないように支持されている
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項１５】
前記所定の光線束は、放射方向の面積あたりの所定の平均放射強度を有し、
前記内側輪郭及び前記外側輪郭は、前記放射方向に対して垂直な平面で、所定面積を有するリング状表面を画定し、
前記第１アパーチャ素子は、前記アパーチャを前記放射方向に通過する前記所定の光線束の放射強度が、面積あたりの前記平均放射強度と、前記リング状表面の所定面積と、を乗算したものに対応するように支持される
ことを特徴とする請求項１４に記載の光学モジュール。
【請求項１６】
前記所定の光線束は、非照射領域によって分断される複数の空間的に制限されたサブ光束を含み、前記非照射領域は、前記光線束によって照射されず、
少なくとも１つの前記第１アパーチャ素子は、支持構造によって支持され、当該支持構造は、前記サブ光束を遮らず、且つ、前記支持構造は、前記非照射領域に延在する支持素子を有する、
ことを特徴とする請求項１４に記載の光学モジュール。
【請求項１７】
光学素子ユニットを備え、
前記光学素子ユニットは、複数の光学素子を有し、前記アパーチャ素子に隣接して配置され、
前記第１アパーチャ素子は、前記光学素子ユニットに支持され、前記光学素子ユニットに支持されたときに、前記光学素子のうちの１つ光学面の少なくとも一部を、入射光から保護し、
前記光学素子ユニットは、前記光学素子を支持する支持構造を有し、
前記第１アパーチャ素子は、少なくとも
支持装置を介して前記支持構造に支持されるか、又は、
固定具を介して前記支持構造に対して定位置に固定され、
前記第１アパーチャ素子は、２つの前記光学素子の間のギャップに延在する支持素子を介して、前記支持構造に支持されている、
ことを特徴とする、請求項１４に記載の光学モジュール。
【請求項１８】
前記第１アパーチャ素子は、制御装置により制御される作動装置によって、第１状態から第２状態へ遷移するように構成され、
前記アパーチャは、前記第１アパーチャ素子の前記第１状態では、第１形状を有し、
前記アパーチャは、前記第１アパーチャ素子の前記第２状態では、第２形状を有し、
前記第２形状は前記第１形状とは異なる、
ことを特徴とする、請求項１４に記載の光学モジュール。
【請求項１９】
前記第１アパーチャ素子は、可動素子であり、
前記第１アパーチャ素子の少なくとも位置又は方向が、前記第１アパーチャ素子が前記第１状態及び前記第２状態の間で遷移されるときに変更される、
ことを特徴とする請求項１８に記載の光学モジュール。
【請求項２０】
光学素子ユニットを備え、
前記光学素子ユニットは、光学素子を備え、前記光学素子は第１アパーチャ素子に隣接して配置されており、
前記第１アパーチャ素子は、前記第１状態で、前記光学素子の光学面の少なくとも一部分を、伝播路に沿って伝播する入射光から保護し、
前記第１アパーチャ素子は、凹部を有し、
前記凹部は、前記第２状態で、前記伝播路に沿って伝播する前記入射光が前記第１状態で保護された光学面の前記部分に当たるように配置される
ことを特徴とする請求項１９に記載の光学モジュール。
【請求項２１】
前記第１アパーチャ素子は変形可能な素子であり、
前記第１アパーチャ素子は、前記第１状態と前記第２状態との間で遷移するときに変形を受ける、
ことを特徴とする、請求項１８に記載の光学モジュール。
【請求項２２】
前記第１アパーチャ素子は、能動素子を有し、
前記少なくとも一つの能動素子は、電場、磁場、及び温度場の少なくとも一つに曝されたときに、前記第１アパーチャ素子の前記変形の少なくとも一部を引き起こす
ことを特徴とする請求項２１に記載の光学モジュール。
【請求項２３】
光学素子ユニットを備え、
前記光学素子ユニットは、光学素子を有し、当該光学素子は、前記第１アパーチャ素子に隣接して配置されており、
前記第１アパーチャ素子は、前記光学素子ユニットによって支持されており、
前記第１アパーチャ素子は、前記第１状態で、前記光学素子の光学面の少なくとも一部を入射光から保護する
ことを特徴とする請求項１８に記載の光学モジュール。
【請求項２４】
前記光学素子ユニットは複数の光学素子及び支持構造を有し、
前記支持構造は前記複数の光学素子を支持し、
前記第１アパーチャ素子は、前記支持構造によって支持され、
前記第１アパーチャ素子は、前記第１状態及び前記第２状態の少なくとも一つにて、前記光学素子の２つの間のギャップに延在する、
ことを特徴とする請求項２３に記載の光学モジュール。
【請求項２５】
前記支持構造は収容部を有し、
前記収容部は前記光学素子に隣接して配置され、
前記第１アパーチャ素子は、前記第２状態で、前記第１アパーチャ素子が少なくとも部分的には前記収容部内に収容されている後退状態にある、
ことを特徴とする請求項２３に記載の光学モジュール。
【請求項２６】
パターンを受容するように構成されたマスクユニットと、
基板を受容するように構成された基板ユニットと、
前記パターンを照射するように構成された照明ユニットと、
前記パターンのイメージを前記基板に転写するように構成された光学投影ユニットと、を備える光学結像装置であって、
前記照明ユニットと、前記光学投影ユニットは、それぞれ、光学素子のシステムを備え、前記光学素子のシステムは光軸を画定し、
前記照明ユニットと前記光学投影ユニットの少なくとも一方は、光学モジュールを備え、当該光学モジュールはアパーチャ装置を有し、
前記アパーチャ装置は複数のアパーチャ素子を持ち、
前記複数のアパーチャ素子は、アパーチャの形状を画定し、且つ、第１アパーチャ素子及び第２アパーチャ素子を持ち、
前記第１アパーチャ素子は、前記アパーチャ装置の一つの状態で、リング状形状を有するアパーチャの内側輪郭を画定し、
前記第２アパーチャ素子は、前記アパーチャ装置の前記一つの状態で、前記アパーチャの外側輪郭を画定し、
前記アパーチャは、前記アパーチャ装置の前記一つの状態で、所定の光線束を通過させるように構成され、
前記第１アパーチャ素子は、前記アパーチャを通過する前記光線束の光路が遮られないように支持される、
ことを特徴とする光学結像装置。
【請求項２７】
アパーチャ装置を備える光学モジュールであって、
前記アパーチャ装置は可動アパーチャ素子を備え、
前記可動アパーチャ素子は、アパーチャの形状を画定し、且つ、第１状態から第２状態へと遷移可能であり、
前記可動アパーチャ素子は、前記第１状態で、前記アパーチャ装置に隣接して配置される光学素子の光学面を、少なくとも部分的には伝播路に沿って伝播する入射光から保護するように構成されており、
前記可動アパーチャ素子は、複数の凹部を有し、
前記凹部の少なくとも一つは、前記第２状態で、前記伝播路に沿って伝播する入射光が、前記第１状態で保護された前記光学面の部分に当たるように配置される
ことを特徴とする光学モジュール。