【手続補正書】
【提出日】平成23年9月16日(2011.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
増加した表面積を有する、無極性ＩＩＩ族窒化物基板を製造するための方法であって、
（ａ）ＩＩＩ族窒化物を自立型（ＦＳ）ＩＩＩ族基板の半極性表面上で半極性方向に成長させることと、
（ｂ）該ＩＩＩ族窒化物の頂面を得るために、無極性の面に沿って該ＩＩＩ族窒化物をスライスまたは研磨することであって、該ＩＩＩ族窒化物の頂面は、後の該ＩＩＩ族窒化物の無極性方向への成長に適した無極性表面であり、スライスまたは研磨されたＩＩＩ族窒化物は、無極性のＩＩＩ族基板である、ことと
を含む、方法。
【請求項２】
前記スライスまたは研磨するステップは、無極性のＩＩＩ族基板をもたらし、該無極性のＩＩＩ族基板は、前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板上に積み重ねられた前記ＩＩＩ族窒化物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（１）前記半極性表面は、前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板のスライス表面であり、
（２）該スライス表面は、ｃ面に対して第一の角度にあり、前記ＩＩＩ族窒化物の成長方向を決定し、
（３）該スライス表面の幅は、該第一の角度の正弦で除した該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板の厚さである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物は、該ＦＳ  ＩＩＩ窒化物から前記第一の角度でスライスされ、該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物はｃ配向を有し、前記ｃ面は該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物の表面である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記無極性の面は、前記半極性の面に対して第二の角度にある、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記第一の角度と前記第二の角度との合計は、前記ＩＩＩ族窒化物の前記頂面の結晶配向を決定するように選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記合計は、９０度である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記無極性表面は無極性の面であり、前記成長方向は、前記ｃ面に対して直交する無極性表面の表面積と比較して該無極性表面の表面積を拡大するために、該ｃ面に対して直交していない、請求項３に記載の方法。
【請求項９】
前記無極性表面は、前記ｃ面に直交する前記無極性表面の前記表面積よりも２ｈＭＡＸ２倍大きく、ｈＭＡＸ２は、前記ＩＩＩ族窒化物の厚さである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記半極性表面の表面積と比較して前記無極性表面の表面積を拡大するために、該無極性表面は、該半極性表面に対して直交していない、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法を使用して製造される素子。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法を用いて製造される、増加した表面積を有する無極性ＩＩＩ族窒化物基板であって、無極性ＩＩＩ族基板は、５００マイクロメートルを超える厚さを有する、無極性ＩＩＩ族窒化物基板。
【請求項１３】
増加した表面積を有する、半極性ＩＩＩ族窒化物基板を製造するための方法であって、
（ａ）ＩＩＩ族窒化物を自立型（ＦＳ）ＩＩＩ族基板の無極性表面上で無極性方向に成長させることと、
（ｂ）該ＩＩＩ族窒化物の頂面を得るために、半極性の面に沿って該ＩＩＩ族窒化物をスライスまたは研磨することであって、該ＩＩＩ族窒化物の頂面は、後の該ＩＩＩ族窒化物の半極性方向への成長に適した半極性表面であり、スライスまたは研磨されたＩＩＩ族窒化物は、半極性のＩＩＩ族基板である、ことと
を含む、方法。
【請求項１４】
前記スライスまたは研磨するステップは、半極性のＩＩＩ族基板をもたらし、該半極性のＩＩＩ族基板は、前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板上に積み重ねられた前記ＩＩＩ族窒化物を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
（１）前記無極性表面は、前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板のスライス表面であり、
（２）該スライス表面は、ｃ面に対して第一の角度にあり、前記ＩＩＩ族窒化物の成長方向を決定し、
（３）該スライス表面の幅は、該第一の角度の正弦で除した該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板の厚さである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物は、該ＦＳ  ＩＩＩ窒化物から前記第一の角度でスライスされ、該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物はｃ配向を有し、前記ｃ面は該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物の表面である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記半極性の面は、前記無極性の面に対して第二の角度にある、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記第一の角度と前記第二の角度との合計は、前記ＩＩＩ族窒化物の前記頂面の結晶配向を決定するように選択される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記合計は、９０度である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記半極性表面は半極性の面であり、前記成長方向は、前記ｃ面に対して直交していない半極性表面の表面積と比較して該半極性表面の表面積を拡大するために、該ｃ面に対して直交している、請求項１５に記載の方法。
【請求項２１】
前記半極性表面は、前記ｃ面に直交していない前記半極性表面の前記表面積よりも２ｈＭＡＸ２倍大きく、ｈＭＡＸ２は、前記ＩＩＩ族窒化物の厚さである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記無極性表面の表面積と比較して前記半極性表面の表面積を拡大するために、該半極性表面は、該無極性表面に対して直交していない、請求項１３に記載の方法。
【請求項２３】
請求項１３に記載の方法を使用して製造される素子。
【請求項２４】
請求項１３に記載の方法を用いて製造される、増加した表面積を有する半極性ＩＩＩ族窒化物基板であって、該半極性ＩＩＩ族基板は、５００マイクロメートルを超える厚さを有する、半極性ＩＩＩ族窒化物基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明はさらに、当該方法を使用して製造される素子を開示する。
例えば、本発明は以下の項目を提供する。
（項目１）
増加した表面積を有する、無極性または半極性のＩＩＩ族窒化物基板を製造するための方法であって、
（ａ）ＩＩＩ族窒化物を自立型（ＦＳ）ＩＩＩ族基板の第一面の上に成長させることであって、該ＩＩＩ族窒化物は無極性または半極性であり、該第一面は無極性または半極性の面であり、該ＦＳＩＩＩ族基板は、５００ミクロンを超える厚さを有する、ことと、
（ｂ）該ＩＩＩ族窒化物の頂面を得るために、第二面に沿って該ＩＩＩ族窒化物をスライスまたは研磨することであって、該第二面は無極性または半極性の面であり、該ＩＩＩ族窒化物の該頂面は、該無極性または半極性のＩＩＩ族窒化物基板を備える、ことと
を含む、方法。
（項目２）
上記第一面は半極性の面であり、上記第二面は無極性の面である、項目１に記載の方法。
（項目３）
上記ＦＳＩＩＩ族窒化物基板上に積み重ねられた上記ＩＩＩ族窒化物と、該ＩＩＩ族窒化物および該ＦＳＩＩＩ族窒化物基板を含む上記頂面とを含む、上記無極性または半極性のＩＩＩ族窒化物基板を得るために、該ＩＩＩ族窒化物および該ＦＳＩＩＩ族窒化物基板をスライスまたは研磨することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目４）
上記ＩＩＩ族窒化物は、市販のＩＩＩ族窒化物基板よりも厚い、項目１に記載の方法。
（項目５）
（１）上記第一面は、上記ＦＳＩＩＩ族窒化物基板のスライス表面であり、
（２）該スライス表面は、ｃ面に対して第一の角度にあり、かつ該ＩＩＩ族窒化物の成長方向を決定し、
（３）該スライス表面の幅は、該第一の角度の正弦で除した上記第一の基板の厚さである
項目１に記載の方法。
（項目６）
ＦＳＩＩＩ窒化物から上記第一の角度でスライスされた上記ＦＳＩＩＩ族窒化物をさらに備え、該ＦＳＩＩＩ族窒化物はｃ配向を有し、上記ｃ面は該ＦＳＩＩＩ族窒化物の表面である、項目５に記載の方法。
（項目７）
上記ＩＩＩ族窒化物を上記スライスまたは研磨することは、上記第一面に対して第二の角度における、項目５に記載の方法。
（項目８）
上記第一の角度と上記第二の角度との合計は、上記ＩＩＩ族窒化物の上記頂面の結晶配向を決定するように選択される、項目７に記載の方法。
（項目９）
上記合計は、９０度である、項目８に記載の方法。
（項目１０）
上記第二面は無極性の面であり、上記成長方向は、上記ｃ面に対して直角である無極性の面の表面積と比較して該第二面の表面積を拡大するために、該ｃ面に対して非直角である、項目５に記載の方法。
（項目１１）
上記第二面は、上記ｃ面に対して直角である上記無極性の面の上記表面積よりも２ｈＭＡＸ２倍大きく、ｈＭＡＸ２は、上記ＩＩＩ族窒化物の厚さである、項目１０に記載の方法。
（項目１２）
上記第一面の表面積と比較して上記第二面の表面積を拡大するために、該第二面は、該第一面に対して非直角である、項目１に記載の方法。
（項目１３）
項目１に記載の方法を使用して製造される素子。
（項目１４）
増加した表面積を有する無極性および半極性の窒化物基板であって、
（ａ）自立型（ＦＳ）ＩＩＩ族基板の第一面上に成長させられるＩＩＩ族窒化物であって、該ＩＩＩ族窒化物は無極性または半極性であり、該第一面は無極性または半極性の面であり、該ＦＳＩＩＩ族基板は５００ミクロンを超える厚さを有する、ＩＩＩ族窒化物を備え、
（ｂ）該ＩＩＩ族窒化物は、該ＩＩＩ族窒化物の頂面を得るために、第二面に沿ってスライスまたは研磨され、該第二面は無極性または半極性の面であり、該ＩＩＩ族窒化物の該頂面は、該無極性または半極性のＩＩＩ族窒化物基板を備える、窒化物基板。