【手続補正書】
【提出日】平成23年11月4日(2011.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抑制システムの抑制能を求める方法であって、前記抑制システムは第１システムからの汚染物質ガスの移動を抑制し、前記抑制能は前記抑制システムの性能の指標である、方法であって、
前記第１システム内にトレーサガスを導入することと、
前記第１システムから移動したトレーサガスの量を検出することと、
前記トレーサガスに対する前記抑制システムの第１抑制能を求めることと、
前記第１抑制能に基づいた、前記汚染物質ガスに対する前記抑制システムの第２抑制能を求めることと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記抑制システムはガスロックである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記抑制システムはリソグラフィ装置内に設けられ、前記抑制システムは前記リソグラフィ装置の第２システムへの前記汚染物質ガスの移動を防止するように設けられる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１システムは放射源サブシステムであり、前記第２システムは照明サブシステムである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第１システムは投影サブシステムであり、前記第２システムは基板テーブルサブシステムである、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記トレーサガスは、前記汚染物質ガスの拡散係数より大きい拡散係数を有する：Ｄｔｒａｃｅｒ＞Ｄｃｏｎｔ、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記トレーサガスは、前記汚染物質ガスより検出システムによってより良好に検出可能である：Ｓｅｔｒａｃｅｒ＞Ｓｅｃｏｎｔ、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記トレーサガスは拡散係数Ｄｔｒａｃｅｒを有し、前記汚染物質ガスは拡散係数Ｄｃｏｎｔを有し、前記抑制システムは前記トレーサガスに対する検出能Ｓｅｔｒａｃｅｒを有し、前記抑制システムは前記汚染物質ガスに対する検出能Ｓｅｃｏｎｔを有し、Ｄｔｒａｃｅｒ・Ｓｅｔｒａｃｅｒ＞Ｄｃｏｎｔ・Ｓｅｃｏｎｔである、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記トレーサガスは希ガスである、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記トレーサガスは、前記第１システム内に既に存在するガスの同位体によって形成され、且つ、重水素または三重水素が混入された水素を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２抑制能Ｓｃｏｎｔは、前記第１抑制能Ｓｔｒａｃｅｒから、
【数１】
2011503868.tif 000001
によって計算され、ただし、Ｄｔｒａｃｅｒは前記トレーサガスの拡散係数であり、Ｄｃｏｎｔは前記汚染物質ガスの拡散係数である、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
第１システムと、前記第１システムからの汚染物質ガスの移動を抑制する抑制システムとを含むシステムであって、前記抑制システムは前記抑制システムの性能の指標である抑制能を有する、システムであって、
前記第１システム内にトレーサガスを導入するトレーサガス供給源と、
前記第１システムから移動したトレーサガスの量を検出するディテクタシステムと、
前記トレーサガスに対する前記抑制システムの第１抑制能を求め且つ前記第１抑制能に基づいた、前記汚染物質ガスに対する前記抑制システムの第２抑制能を求める制御ユニットと、
をさらに含む、システム。
【請求項１３】
前記抑制システムはガスロックである、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記トレーサガスは、前記汚染物質ガスの拡散係数より大きい拡散係数を有する：Ｄｔｒａｃｅｒ＞Ｄｃｏｎｔ、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
前記トレーサガスは、前記汚染物質ガスより高い検出能を有する：Ｓｅｔｒａｃｅｒ＞Ｓｅｃｏｎｔ、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１６】
前記トレーサガスは拡散係数Ｄｔｒａｃｅｒを有し、前記汚染物質ガスは拡散係数Ｄｃｏｎｔを有し、前記抑制システムは前記トレーサガスに対する検出能Ｓｅｔｒａｃｅｒを有し、前記抑制システムは前記汚染物質ガスに対する検出能Ｓｅｃｏｎｔを有し、Ｄｔｒａｃｅｒ・Ｓｅｔｒａｃｅｒ＞Ｄｃｏｎｔ・Ｓｅｃｏｎｔである、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１７】
前記トレーサガスは希ガスである、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１８】
前記トレーサガスは、サブシステム内に既に存在するガスの同位体によって形成され、且つ、重水素または三重水素が混入された水素を含む、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１９】
前記第２抑制能Ｓｃｏｎｔは、前記第１抑制能Ｓｔｒａｃｅｒから、
【数２】
2011503868.tif 000002
によって計算され、ただし、Ｄｔｒａｃｅｒは前記トレーサガスの拡散係数であり、Ｄｃｏｎｔは前記汚染物質ガスの拡散係数である、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２０】
リソグラフィ装置であって、
第１システム、および、前記第１システムからの汚染物質ガスの移動を抑制する抑制システムであって、前記抑制システムの性能の指標である抑制能を有する、抑制システムと、
前記第１システム内にトレーサガスを導入するトレーサガス供給源と、
前記第１システムから移動したトレーサガスの量を検出するディテクタシステムと、
前記トレーサガスに対する前記抑制システムの第１抑制能を求め且つ前記第１抑制能に基づいた、前記汚染物質ガスに対する前記抑制システムの第２抑制能を求める制御ユニットと、
を含み、
前記抑制システムは、前記前記リソグラフィ装置の第２システムへの前記汚染物質ガスの移動を防止するように設けられる、リソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記第１システムは放射源サブシステムであり、更なるサブシステムは照明サブシステムである、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２２】
前記第１システムは投影サブシステムであり、第２サブシステムは基板テーブルサブシステムである、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２３】
前記第１システムおよび前記第２システムは、
放射ビームを生成する放射源サブシステムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するサポート構造サブシステムと、
前記パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影サブシステムと、
基板を保持する基板テーブルサブシステムと、
を含む群からである、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２４】
機械実行可能命令を有するコンピュータプログラムであって、前記命令は、抑制システムの抑制能を求める方法を行うように機械によって実行可能であり、前記抑制システムは第１システムからの汚染物質の移動を抑制し、前記抑制能は前記抑制システムの性能の指標であり、前記方法は、
前記第１システム内にトレーサガスを導入することと、
前記第１システムから移動したトレーサガスの量を検出することと、
前記トレーサガスに対する前記抑制システムの第１抑制能を求めることと、
前記第１抑制能に基づいた、前記汚染物質ガスに対する前記抑制システムの第２抑制能を求めることと、
を含む、コンピュータプログラム。
【請求項２５】
請求項２４に記載のコンピュータプログラムを含むデータキャリア。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】抑制システムの抑制能を求める方法およびシステム、リソグラフィ装置、コンピュータプログラム、ならびにデータキャリア