【事件の表示】
　特願２００２−３６６７８０号「スピン処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　２月１９日出願公開、特開２００４−　５６０７０号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本件出願は、特許法第４１条に基づく優先権主張を伴う平成１４年１２月１８日（優先日：平成１４年５月２８日）の出願であって、その後の経緯は以下のとおりである。
　　　
　平成２０年　７月２９日　拒絶理由通知
　平成２０年１０月　６日　意見書、手続補正書
　平成２０年１１月　４日　拒絶査定
　平成２０年１２月１１日　本件審判請求
　平成２２年　６月　７日　拒絶理由通知
　平成２２年　８月　９日　意見書、手続補正書　
　　
２　本願発明
　本件出願の請求項１ないし２に係る発明は、平成２２年８月９日付け手続補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　　　　
「【請求項１】基板を回転させて処理するスピン処理装置において、
　処理槽と、
　この処理槽内に設けられた上面に開口部を有するカップ体と、
　このカップ体内に設けられ上記基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、
　上記処理槽の上部に設けられこの処理槽内に清浄空気を導入するファン・フィルタユニットと、
　このファン・フィルタユニットから上記処理槽内に供給された清浄空気を上記カップ体の内部空間を通じて排出する排出手段と、
　上記カップ体の上方で光軸中心を上記基板の回転中心から径方向外方にずらすとともに、上記光軸を基準として上記基板の径方向外方部分までの距離が径方向内方部分までの距離よりも小さくなるよう、上記光軸を上記基板の板面に対して傾斜させて配置されて上記基板に向けてこの基板を加熱用の光線によって基板の半径のほぼ全長にわたる範囲で照射する光照射手段と、
　を具備したことを特徴とするスピン処理装置。」
　　
３　引用刊行物
　これに対して、当審で平成２２年６月７日付けで通知した拒絶理由には、本件優先日前に頒布された刊行物である特開平５−３２６４８３号公報（以下「刊行物１」という。）及び特開昭６３−１０７１３１号公報（以下「刊行物２」という。）が引用されており、各刊行物には、それぞれ、以下の事項が記載されている。
　なお、下線は当審で付した。　
　　　
（１）刊行物１
ア　段落【０００１】
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハを洗浄処理するのに用いるウエハ処理装置、およびこのウエハ処理装置を組み込んだウエハ一貫処理装置に関するものである。」
　　　
イ　段落【０００４】〜【０００５】
「【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構成のウエハ処理装置では、ウエハを乾燥するのに時間がかかる。このため、ウエハを枚葉処理した場合には、非常にスループットが低下する。またウエハを薬液処理するには薬液処理装置で行い、その後、上記ウエハ処理装置まで薬液処理したウエハを運搬して、当該ウエハ処理装置で洗浄，乾燥処理を行う。したがって、ウエハの処理が連続的に行えないので、ウエハ１枚当たりの処理時間が長くなり、スループットが低下する。
【０００５】本発明は、洗浄後のウエハを乾燥するのに優れたウエハ処理装置およびスループットに優れたウエハ一貫処理装置を提供することを目的とする。」
　　
ウ　段落【００１０】〜【００１３】
「【００１０】
【実施例】本発明の第１の実施例を図１の概略構成断面図により説明する。なお前記従来の技術中の図８で説明した構成部品と同様の構成部品には同一符号を付す。図に示すように、処理室１１の内部にはスピンチャック１２が設けられている。このスピンチャック１２は、回動軸１３を介して、処理室の外部に設けたモータ１４に接続されている。上記スピンチャック１２の上方には洗浄液等の処理液を供給するノズル１５が設けられている。またスピンチャック１２のウエハ載置面１６の斜め下方には、ウエハ９１の裏面に処理液を供給するノズル１７が設けられている。さらに処理室１１の底部には、処理液を排出する排出口１８が設けられている。
【００１１】また上記
処理室１１の内部には、スピンチャック１２よりも上部側に、上部側加熱器２１が設けられている。この上部側加熱器２１は、例えばランプアニール処理に用いられるような加熱ランプよりなる。
【００１２】次に上記ウエハ処理装置１の動作を説明する。まず
ウエハ９１をスピンチャック１２上の所定の位置に載置する。
モータ１４を駆動してスピンチャック１２を回動することにより、ウエハ９１を高速回転させ、その回転によって生じた遠心力によりウエハ９１の両面に付着している処理液を除去する。このとき上部側加熱器２１を動作させて、ウエハ９１の上面を加熱する。そしてウエハ９１の乾燥を促進させる
【００１３】なお、上記ウエハ９１を乾燥した後に、処理室１１の内部は高温の雰囲気になっている。そこで
高温の雰囲気を冷却し易くするために、図示したように、処理室１１の上部に開口１９を設ける
　　
エ　段落【００１６】〜【００１７】　　　
「【００１６】次に、第３の実施例を、図３の概略構成断面図により説明する。なお図では、上記第１，第２の実施例と同様の構成部品には同一符号を付す。図に示すように、ウエハ処理装置３は、上記第１の実施例で説明したように、
スピンチャック１２よりも上部側に上部側加熱器２１を設けるとともに、上記第２の実施例で説明したと同様に、スピンチャック１２のウエハ載置面１６よりも斜め下方側に下部側加熱器３１を設けたものである。
【００１７】上記ウエハ処理装置３では、ウエハ９１を洗浄した後、ウエハ９１を高速回転させてウエハ９１上に付着している処理液を除去するときに、上部側加熱器２１によってウエハ９１の上面側を加熱するとともに、下部側加熱器３１によってウエハ９１の下面側を加熱する。したがって、ウエハ９１は両面側より加熱されるので、乾燥時間を短縮される。また乾燥が十分に行える。」
　　　　
オ　図１において、上部加熱器２１は、スピンチャックに載置されたウエハよりも上部側に配置されている、ということができる。
　また、図１において、上部側加熱器２１は、ウエハが載置されたスピンチャック１２の回転中心より径方向外方に位置していること、並びに、図３における上部加熱器２１と下部加熱器３１との配置関係及び下部側加熱器３１が「スピンチャック１２のウエハ載置面１６よりも斜め下方側」に設けられている旨の記載（上記エの段落【００１６】）をふまえると、上部加熱器すなわち加熱ランプは、ウエハの回転中心から径方向外方にずらして配置されている、ということができる。
　また、加熱ランプは、その機能からみて、ウエハに向けてこのウエハを加熱用の光線によって照射するものであることは、明らかである。
　　　
　上記アないしエで摘示した事項並びに上記オで認定した事項から、刊行物１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　　　
　「ウエハを回転させて洗浄及び乾燥するウエハ処理装置において、
　　処理室と、
　　ウエハを載置して回動されるスピンチャックと、
　　処理室の上部に設けられた開口と、
　　スピンチャックに載置されたウエハよりも上部側でウエハの回転中心から径方向外方にずらして配置されウエハに向けてこのウエハを加熱用の光線によって照射する加熱ランプと、
　を具備したウエハ処理装置。」
　　　　
（２）刊行物２
ア　第１ページ左欄下から４行目〜下から３行目
「本発明は処理装置、たとえば、半導体デバイス製造技術に利用して有効な処理装置に関する。」
　　　
イ　第２ページ上右欄第８〜１０行
「本発明の目的は、
処理室に存在する浮遊塵埃数を少なくし、常に清浄な雰囲気中で被処理物の処理ができる処理装置を提供すること
　　　
ウ　第２ページ下左欄下から３行目〜第３ページ上右欄下から２行目
「図面は本発明の一実施例によるウエハ洗浄乾燥装置の要部を示す断面図である。
　この実施例では、ウエハの洗浄乾燥処理を行う
処理装置
　ウエハ洗浄乾燥装置は、ウエハをウエットケミカル法で洗浄した後、ウエハにマイクロ波を照射してウエハを乾燥させる構造となっている。
　装置構成から説明すると、
ウエハ洗浄乾燥装置は大別して、それぞれが処理室となる乾燥室１とウエハ液中搬送部２から構成されている。前記乾燥室１内には、乾燥処理されるウエハ３が、ウエハチャック部４により保持されている。
　一方、
乾燥室１の上方には、クリーンエアー供給部７が設けられており、フィルタリングされた矢印で示されたクリーンエアー８が所定量乾燥室１に供給される。また、乾燥室１の下方には、リング状に排気口を有するリング状排気部９が設けられており、所定量乾燥に供したエアー１０が排気される。
　他方、この装置には、乾燥室１内の気中の塵埃数を計測する微小粒子濃度計測装置（気中粒子計数モニター）１１が配設され、自動的に乾燥室１内の塵埃数を計数するようになっている。
　なお、後述するように、気中粒子計数モニター１１の結果に応じ、クリーンエアー供給部７からのクリーンエアー８の供給量と、リング状排気部９からの排気量を制御し、常に乾燥室１内のクリーン度を保つ。
　また、前記
乾燥室１内には、マイクロ波発生部１２からマイクロ波１３が照射される。照射されたマイクロ波１３によって、ウエハチャック部４にセットされたウエハ３が乾燥される。
　　　　
エ　第３ページ下右欄第８行〜第４ページ上左欄下から４行目
「つぎに、ウエハ３を乾燥させる方法について説明する。前記制御部２６に、処理条件２７、すなわちウエハの乾燥条件、たとえば、マイクロ波照射出力量、マイクロ波照射時間、ウエハチャック回転数等や乾燥室１内の気中塵埃数（気中粒子数計数管理リミット値）、およびウエハ液中搬送部２内の高純度純水１８中の液中塵埃数（液中粒子計数管理リミット値）の制御量をセットし始動させる。
　最初に、ウエハチャック部４がウエハ液中搬送部２中の所定位置に下降する。その後、図示されていないウエットケミカル洗浄処理部で洗浄されたウエハ３が、前記液中搬送口２５からウエハ液中搬送部２に送り込まれ、このウエハ３を水中ウエハ搬送機構２４が前記ウエハチャック部４上に搬送してセットする。ウエハ３はこの移動時高純度純水１８で洗浄される。
　つぎに、ウエハチャック部４上にウエハ３がセットされると、ウエハチャック部４が上昇し、ウエハ３を乾燥室１内の所定位置にセットする。
　つぎに、シャッタ駆動部１５により、マイクロ波遮断シャッタ１４が閉じられると同時に、
モータ６に上ってウエハチャック部４が所望速度で回転される。また、これと同期して、前記マイクロ波発生部１２から所定出力量のマイクロ波１３が所定時間ウエハ３に照射され、ウエハ３が均一に乾燥される
　乾燥が終了すると、モータ６の回転が停止し、図示されていないウエハ搬出機構により搬出される。」　　
　　　　
オ　図面からみて、マイクロ波発生部１２が乾燥室の壁部に設けられていることは明らかである。
　　　
　上記アないしエで摘示した事項並びに上記オで認定した事項をふまえると、刊行物２には、次の事項が記載されているものと認められる。
　　　　
　「乾燥室と、ウエハを保持して回転するウエハチャック部を具備し、ウエハを回転させて乾燥処理する処理装置において、乾燥室の上方に設けられこの乾燥室内にフィルタリングされたクリーンエアーを供給するクリーンエアー供給部と、このクリーンエアー供給部から乾燥室内に供給されたクリーンエアーを排出するリング状排気部を具備したこと。」（以下「刊行物２記載事項の１」という。）
　及び
　「乾燥室と、ウエハを保持して回転するウエハチャック部を具備し、ウエハを回転させて乾燥処理する処理装置において、ウエハを乾燥するためのマイクロ波発生部を乾燥室の壁部に設けたこと。」（以下「刊行物２記載事項の２」という。）
　　　
４　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の「ウエハ」は本願発明の「基板」に相当する。
　以下同様に、
　「洗浄及び乾燥」は「処理」に、
　「ウエハ処理装置」は「スピン処理装置」に、
　「処理室」は「処理槽」に、
　「ウエハを載置して回動されるスピンチャック」は「基板を保持して回転駆動される回転テーブル」に、それぞれ相当する。
　また、引用発明の「スピンチャックに載置されたウエハよりも上部側でウエハの回転中心から径方向外方にずらして配置されウエハに向けてこのウエハを加熱用の光線によって照射する加熱ランプ」と、本願発明の「カップ体の上方で光軸中心を基板の回転中心から径方向外方にずらすとともに、光軸を基準として基板の径方向外方部分までの距離が径方向内方部分までの距離よりも小さくなるよう、光軸を基板の板面に対して傾斜させて配置されて基板に向けてこの基板を加熱用の光線によって基板の半径のほぼ全長にわたる範囲で照射する光照射手段」とは、「基板よりも上方に配置され、基板に向けてこの基板を加熱用の光線によって照射する光照射手段」という限りにおいて共通する。
　　　　　
　したがって、両者の一致点及び相違点は、次のとおりと認められる。
　　　
＜一致点＞
　「基板を回転させて処理するスピン処理装置において、
　処理槽と、
　基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、
　上記基板よりも上方に配置され、上記基板に向けてこの基板を加熱用の光線によって照射する光照射手段と、
　を具備したスピン処理装置。」の点。　　　
　　　
＜相違点１＞
　本願発明は、「処理槽内に設けられた上面に開口部を有するカップ体」を具備しており、回転テーブルが「カップ体内に設けられ」ており、また、「処理槽の上部に設けられこの処理槽内に清浄空気を導入するファン・フィルタユニットと、このファン・フィルタユニットから処理槽内に供給された清浄空気をカップ体の内部空間を通じて排出する排出手段」を具備しているのに対して、
　引用発明は、かかるカップ体を具備しておらず、このため回転テーブルがカップ体内に設けられておらず、また、処理槽の上部にかかるファン・フィルタユニットが設けられておらず、かかる排出手段も設けられていない点。
　　
＜相違点２＞
　本願発明は、光照射手段につき、「カップ体の上方で光軸中心を上記基板の回転中心から径方向外方にずらすとともに、上記光軸を基準として上記基板の径方向外方部分までの距離が径方向内方部分までの距離よりも小さくなるよう、上記光軸を上記基板の板面に対して傾斜させて配置されており、加熱用の光線によって基板の半径のほぼ全長にわたる範囲で照射」しているのに対し、　　　
　引用発明は、光照射手段である加熱ランプが、スピンチャックに載置されたウエハよりも上部側でウエハの回転中心から径方向外方にずらして配置されており、また、加熱用の光線によって基板に照射しているものの基板の半径のほぼ全長にわたる範囲で照射しているかどうか不明な点。
　　
５　当審の判断
（１）相違点１について
ア　刊行物２には、前記３（２）に示したとおりの刊行物２記載事項の１（「乾燥室と、ウエハを保持して回転するウエハチャック部を具備し、ウエハを回転させて乾燥処理する処理装置において、乾燥室の上方に設けられこの乾燥室内にフィルタリングされたクリーンエアーを供給するクリーンエアー供給部と、このクリーンエアー供給部から乾燥室内に供給されたクリーンエアーを排出するリング状排気部を具備したこと。」）が記載されている。
　ここで、刊行物２記載事項の１の「乾燥室」は本願発明の「処理槽」ということができる。
　以下同様に、
　「ウエハ」は「基板」と、
　「ウエハを保持して回転するウエハチャック部」は「基板を保持して回転駆動される回転テーブル」と、
　「乾燥処理」は「処理」と、
　「処理装置」は「スピン処理装置」と、
　「乾燥室の上方に設けられこの乾燥室内にフィルタリングされたクリーンエアーを供給するクリーンエアー供給部」は「処理槽の上部に設けられこの処理槽内に清浄空気を導入するファン・フィルタユニット」と、
　それぞれいうことができる。
　また、刊行部物２記載事項の１の「クリーンエアー供給部から乾燥室内に供給されたクリーンエアーを排出するリング状排気部」は、「ファン・フィルタユニットから処理槽内に供給された清浄空気を排出する排出手段」という限りにおいて、本願発明の「ファン・フィルタユニットから処理槽内に供給された清浄空気をカップ体の内部空間を通じて排出する排出手段」と共通する。
　そうすると、刊行部２記載事項の１は、「処理槽と、基板を保持して回転駆動される回転テーブルを具備し、基板を回転させて処理するスピン装置において、処理槽の上部に設けられこの処理槽内に清浄空気を導入するファン・フィルタユニットと、このファン・フィルタユニットから処理槽内に供給された清浄空気を排出する排出手段を具備したこと。」と言い換えることができる。
　そして、引用発明と刊行物２記載事項の１とは、処理槽と、基板を保持して回転駆動される回転テーブルを具備し、基板を回転させて処理するスピン装置の点で技術分野が共通する。しかも、刊行物２に記載される「処理室に存在する浮遊塵埃数を少なくし、常に清浄な雰囲気中で被処理物の処理ができる処理装置を提供する」（前記３（２）のイ参照。）との課題は、刊行物２記載事項の１と前記の点で技術分野が共通する引用発明においても内在していることは明らかである。　
　　
イ　次に、基板を回転させて処理するスピン処理装置の処理槽内に、処理液の飛散を防止するために、上面に開口部を有するカップ体を設け回転テーブルをそのカップ体内に配置すること、さらに、ファン・フィルタユニットから処理槽内に供給された清浄空気をカップ体の内部空間を通じて排出する排出手段を設けることは、従来周知の事項（例えば、特開平１１−８７２２６号公報の段落【００１４】、段落【００２３】〜【００２６】、図１、特開平９−１４８２３１号公報の段落【０００３】、【００１７】、【００１９】、図１、図５を参照のこと。）である。
　　
ウ　上記ア及びイをふまえると、引用発明に刊行物２記載事項の１を適用すること、すなわち、引用発明において、処理槽の上部に設けられこの処理槽内に清浄空気を導入するファン・フィルタユニットと、このファン・フィルタユニットから処理槽内に供給された清浄空気を排出する排出手段を具備すること、とともに、上記周知の事項をふまえ、上面に開口部を有するカップ体を処理槽内に設け回転テーブルをカップ体内に配置すること、さらに、ファン・フィルタユニットから処理槽内に供給された清浄空気を排出する排出手段につき、カップ体の内部空間を通じて排出するものとすることは、当業者が容易になし得たことである。
　　　
（２）相違点２について
ア　刊行物２には、前記３（２）に示したとおりの刊行物２記載事項の２（「乾燥室と、ウエハを保持して回転するウエハチャック部を具備し、ウエハを回転させて乾燥処理する処理装置において、ウエハを乾燥するためのマイクロ波発生部を乾燥室の壁部に設けたこと。」）が記載されている。
　ここで、刊行物２記載事項の２の「乾燥室」、「ウエハ」、「ウエハを保持して回転するウエハチャック部」、「乾燥処理」及び「処理装置」は、それぞれ、本願発明の「処理槽」、「基板」、「基板を保持して回転駆動される回転テーブル」、「処理」及び「スピン処理装置」ということができる。
　また、刊行物２記載事項の２の「ウエハを乾燥するためのマイクロ波発生部」は、マイクロ波を照射するものであるから、「照射手段」という限りにおいて、本願発明の「光照射手段」と共通する。
　そうすると、刊行物２記載事項の２は、「処理槽と、基板を保持して回転駆動される回転テーブルを具備し、基板を回転させて処理するスピン装置において、照射手段を処理槽の壁部に設けたこと。」と言い換えることができる。　
　そして、引用発明と刊行物２記載事項の２とは、処理槽と、基板を保持して回転駆動される回転テーブルを具備し、基板を回転させて処理するスピン装置、かつ、照射手段により基板を乾燥処理する点で技術分野が共通する。加えて、引用発明では、光照射手段である加熱ランプを固定する手段が明らかでないところ、刊行物２記載事項の２は、照射手段を固定する手段として処理槽の壁部の活用を示唆するものである。
　してみると、基板よりも上部側で基板の回転中心から径方向外方にずらして配置される引用発明の光照射手段を、刊行物２記載の事項に倣って処理槽の壁部に設けることは、当業者が容易になし得たことである。　
　また、引用発明において、上面に開口部を有するカップ体を処理槽内に設け、回転テーブルをカップ体内に配置することに何ら困難性のないことは、上記（１）で述べたとおりであり、このようなカップ体を設けつつ、光照射手段を壁部に設ける際には、光照射手段がカップ体の上方に設けられることは、明らかである（光照射手段がカップ体の上方に設けられなければ、カップ体が基板への光照射を遮ることとなる。）。
　　　
イ　次に、光照射手段等の光源は光軸を有していること、及び光源の熱量は、光軸付近が最も高く光軸から離れるにつれて熱量が低下することは技術常識（例えば、特開２００１−５１４２６号公報の【０１１８】を参照のこと。）であるから、引用発明の光照射手段が光軸中心を有すること、その光照射手段の熱量は、光軸中心が最も高く光軸中心から離れるにつれて低下する、ということができる。
　そして、引用発明では、光線の照射の際に基板が回転している（刊行物１の段落【００１２】、上記３（１）ウ参照。）ことからみて、基板への光線の照射は、基板の半径のほぼ全長にわたる範囲で行えば足りるのであるから、光軸中心をあえて基板の回転中心に置く必要はなく、基板の径方向外方にずらして基板の半径のほぼ全長にわたる範囲で行うことが自然である。
　してみると、基板への光線の照射を、基板の半径のほぼ全長にわたる範囲で行うこと、光照射手段の光軸中心を基板の回転中心から径方向外方にずらすことは、当業者が適宜なし得たことである。このとき、光軸が基板の板面に対して傾斜し、光軸を基準として基板の径方向外方部分までの距離が径方向内方部分までの距離よりも小さくなることは、明らかである。
　  　　
ウ　上記ア及びイのとおりであるから、引用発明において相違点２に係る事項とすること、すなわち、光照射手段を、カップ体の上方で光軸中心を基板の回転中心から径方向外方にずらすとともに、光軸を基準として基板の径方向外方部分までの距離が径方向内方部分までの距離よりも小さくなるよう、光軸を上記基板の板面に対して傾斜させて配置されて上記基板に向けてこの基板を加熱用の光線によって基板の半径のほぼ全長にわたる範囲で照射するものとすることは、当業者が容易になし得たことである。
　　　　　
（３）本願発明の効果について
　本願発明の効果についてみても、本願明細書には、「光軸中心を基板の回転中心から径方向外方にずらす」ことについて、どれだけ径方向外方にずらすかについての具体的な記載はないから、引用発明、刊行物２記載事項の１、２及び前記周知の事項から当業者が予測できる範囲のものにすぎず、格別顕著なものとはいえない。
　　
（４）小括
　したがって、本願発明は、引用発明、刊行物２記載事項の１、２及び上記周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　　　
６　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明、刊行物２記載事項の１、２及び上記周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、本件出願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。