【事件の表示】
　特願２００３−　　２６３７「パターン形成体の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　７月２９日出願公開、特開２００４−２１２９００〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１５年１月８日にされた出願である。原審において、平成２１年３月１３日付けで拒絶理由が通知され、これに対して同年５月２５日付けで手続補正がされるとともに意見書が提出されたものの、同年６月１９日付けで拒絶査定がされた。
　上記拒絶査定に対し、平成２１年９月２４日に、本件の拒絶査定不服審判の請求がされるとともに手続補正がされた。その後、前置報告書の内容について、審判請求人の意見を求めるために平成２２年８月１１日付けで審尋がされ、同年１０月１５日付けで回答書が提出された。
　
　
　
第２　平成２１年９月２４日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　
〔補正の却下の決定の結論〕
　平成２１年９月２４日付けの手続補正を却下する。
　
〔理由〕
１．本件補正の目的
（１）本件補正後の特許請求の範囲の請求項１
　平成２１年９月２４日付け手続補正（以下「本件補正」という。）は、本件補正前の明細書の特許請求の範囲の請求項１（平成２１年５月２５日付け手続補正によって補正した。）の記載を以下のとおり補正することを含むものである（下線は補正箇所を示す）。
「
透明基材と、前記透明基材上にパターン状に形成された遮光部と、前記透明基材および前記遮光部上に形成された波長２００ｎｍ以下の光の照射により特性が変化し、光触媒を含有しない特性変化層と、
パターン形成体の製造方法であって、
　前記特性変化層が、波長２００ｎｍ以下の光の照射により分解除去される分解除去層であり、前記分解除去層に対する液体の接触角が、前記分解除去層が分解除去された際に露出する前記透明基材に対する液体の接触角よりも高く、さらに波長２００ｎｍの光を照射することにより、光が照射された部分の分解除去層を分解除去し、前記透明基材上に分解除去層が形成された部位と、分解除去層が除去されて透明基材が露出した部位とを有するパターン形成体を製造する
　
（２）本件補正前の特許請求の範囲の請求項１
　本件補正前の明細書の特許請求の範囲の請求項１は、平成２１年５月２５日付けの手続補正により、下記のとおりのものとなっていた。
＜本件補正前の特許請求の範囲の請求項１＞
「透明基材と、前記透明基材上に形成された波長２００ｎｍ以下の光の照射により特性が変化し、光触媒を含有しない特性変化層と、パターン状に形成された遮光部とを有するパターン形成体用基板に、前記透明基材側から波長２００ｎｍ以下の光を照射することにより、前記特性変化層の特性が変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法。」
　
（３）本件補正の目的について
　本件補正後の請求項１においては、「さらに波長２００ｎｍの光を照射することにより」との記載があるところ、本願の明細書全体の記載及び技術常識を踏まえると、当該記載は、「さらに波長２００ｎｍ
以下
　上記の点も踏まえると、請求項１に係る補正は、「特性変化層」について、「特性変化層が、波長２００ｎｍ以下の光の照射により分解除去される分解除去層であり、前記分解除去層に対する液体の接触角が、前記分解除去層が分解除去された際に露出する前記透明基材に対する液体の接触角よりも高」い点及び「『波長２００ｎｍ以下の光を照射することにより、光が照射された部分の分解除去層』が『分解除去』」される点を限定するとともに、「特性変化層の特性が変化したパターンを有するパターン形成体」について、「透明基材上に分解除去層が形成された部位と、分解除去層が除去されて透明基材が露出した部位とを有するパターン形成体」に限定することを実質的な補正内容とするものであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下単に「特許法第１７条の２」という。）第４項第２号に掲げる、特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載されている発明特定事項により特定される発明(以下「本願補正発明」という。)が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か、すなわち、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか否かについて、以下に検討する。
　
　
２　刊行物及び各刊行物の記載事項並びに引用発明１の認定
（１）引用例１及び引用例１に記載の事項
　本願の出願前に頒布された刊行物である、特開２０００−２２７５１３号公報（以下「引用例１」という。）には、図とともに、以下の事項が記載されている。（下記「（２）引用発明１の認定」において特に関連する箇所に下線を付した。）。
（ア）【特許請求の範囲】の欄 
「…… 
【請求項２６】  
（１）遮光部が形成された透明基板の遮光部が形成された側の面上に、光触媒を含有する光触媒含有層を形成する工程と、（２）光触媒含有層上に、光触媒含有層中の光触媒の作用により分解除去され得る分解除去層を設ける工程と、（３）この分解除去層上の画素部を形成する部分に露光して分解除去することにより画素部用露光部を形成する工程と、（４）この画素部用露光部に着色し、画素部を形成する工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２７】  
前記遮光部をマスクとして遮光部が形成されていない透明基板側から露光することにより画素部用露光部を形成することを特徴とする請求項２６記載のカラーフィルタの製造方法。
……
【請求項３２】  
前記分解除去層とこの分解除去層が分解除去された際に露出する光触媒含有層表面との水の接触角が異なることを特徴とする請求項２５から請求項３１までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３３】  
前記分解除去層上の水の接触角が６０度以上であり、この分解除去層が分解除去されて露出する光触媒含有層の水の接触角が３０度以下であることを特徴とする請求項３２記載のカラーフィルタの製造方法。
……」 
　
（イ）【発明の詳細な説明】の欄
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光により濡れ性を変化させることができる光触媒の作用を利用してカラーフィルタの画素部等を形成した
カラー液晶ディスプレイに好適な
……
【００２０】本発明においては、上述した濡れ性変化層を有するカラーフィルタの場合と同様に、カラーフィルタが画素部の境界部に位置する遮光部を有するものであってもよい（請求項９）。すなわち、
本発明のカラーフィルタは、遮光部（いわゆるブラックマトリックス）をカラーフィルタ上に設けたものであってもよく
……
【００４６】また、本発明は、請求項２６に記載するように、（１）遮光部が形成された透明基板の遮光部が形成された側の面上に、光触媒を含有する光触媒含有層を形成する工程と、（２）光触媒含有層上に、光触媒含有層中の光触媒の作用により分解除去され得る分解除去層を設ける工程と、（３）この分解除去層上の画素部を形成する部分に露光して分解除去することにより画素部用露光部を形成する工程と、（４）この画素部用露光部に着色し、画素部を形成する工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
【００４７】この場合は、予め遮光部が形成された透明基板上に光触媒含有層を設け、この光触媒含有層上に分解除去層を設け、そして画素部を形成する部分にパターン露光を行うことにより、容易に画素部が形成される部分の分解除去層のみを分解除去して、例えば親インク性とした光触媒含有層を露出して画素部用露光部を形成することができる。したがって、この画素部が形成される画素部用露光部に着色を行うことにより、インクを均一に付着させることができ、色抜けがなくかつ色むらのない画素部を形成することができる。
【００４８】このように、予め遮光部が形成された透明基板に光触媒含有層を形成する場合は、請求項２７に記載するように、前記遮光部をマスクとして透明基板側から露光することにより画素部用露光部を形成することも可能である。遮光部が形成されていない透明基板側から全面露光することにより、遮光部の上面に形成された部分の分解除去層のみ露光されずに残存し、他の部分を露光することにより分解除去することができる。したがって、フォトマスク等を用いることなくパターン露光を行うことができるため、コスト的に有利である。
……
【００５４】このように分解除去層を用いたカラーフィルタの製造方法においては、請求項３２に記載するように、分解除去層とこの分解除去層が分解除去された際に露出する光触媒含有層表面との水の接触角が異なることが好ましい。このように分解除去層と露出した光触媒含有層との水の接触角が異なることにより、遮光部もしくは画素部の形成が容易となるからである。
【００５５】
【発明の実施の形態】以下、本発明のカラーフィルタについて詳細に説明する。本発明のカラーフィルタは、光触媒含有層中の光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を有する点を特徴とするカラーフィルタと、同じく光触媒の作用により分解除去される分解除去層を有する点を特徴とするカラーフィルタとの二つのカラーフィルタに分けることができる。ここでは、まず濡れ性変化層を有するカラーフィルタについて説明し、次いで分解除去層を有するカラーフィルタについて説明する。
……
【０１２６】Ｂ．分解除去層を有するカラーフィルタ
次に、分解除去層を有するカラーフィルタについて説明する。本発明のカラーフィルタのうち、分解除去層を有するカラーフィルタは、透明基板と、この透明基板上に複数色を所定のパターンで設けた画素部とを有するカラーフィルタにおいて、前記透明基板上に光触媒を含有する光触媒含有層、および光触媒含有層上に設けられ、光触媒含有層中の光触媒の作用により分解除去され得る分解除去層を有し、この分解除去層とこの分解除去層が分解除去された際に露出する光触媒含有層表面との水の接触角が異なることを特徴とするものである。
【０１２７】このように、光触媒含有層中の光触媒の作用により分解除去され得る分解除去層を光触媒含有層上に有することにより、露光された部分は光触媒の作用により分解され除去される。したがって、露光された部分は光触媒含有層が表面に残存することになり、露光されていない部分は分解除去層が表面に露出することになる。よって、例えば分解除去層を撥インク性の材料で形成し、光触媒含有層を親インク性の材料で形成し、予め画素部を形成する部分に光を照射して光触媒を作用させることによりその部分の分解除去層を除去すると、露光した部分は親インク性領域となり、露光しない部分は撥インク性領域となる。これにより、予め画素部を設ける部分の濡れ性を水の接触角が小さい親インク性領域とし、他の部分を水の接触角が大きい撥インク性領域とすることができる。この画素部を設ける親インク性領域の部分に着色することにより、水の接触角の小さい親インク性領域にのみインクが付着する。よって、上述した濡れ性変化層を有するカラーフィルタと同様に、パターン露光を行い着色することにより画素部が形成でき、各色画素部の着色パターン形成ごとに現像工程と洗浄工程を行う必要がない。このため、容易に工程を簡略化することが可能であり、得られるカラーフィルタは、安価でかつ高精細で白抜け等の欠陥のないものとなる。
……
【０１７９】この露光は、図８（Ａ）に示すように透明基板１の遮光部４が形成されていない側から全面露光することにより行うことも可能であり、また図８（Ｂ）に示すようにフォトマスク１０を用いて濡れ性変化層３側から行うことも可能である。
【０１８０】透明基板１側から全面露光する場合は、図８（Ａ）から明らかなように遮光部４がマスクとしての作用をして、遮光部４が無い部分にのみ露光が行われることになる。この方法によれば、画素部用のフォトマスク等を用いることなく露光を行うことができるので、コスト的に有利であるといえる。
……
【０２２０】２．遮光部を有するカラーフィルタの製造方法（第６実施態様）
上述した第５実施態様においては、最終的なカラーフィルタの画素部の間に分解除去層が残存しないタイプのカラーフィルタの製造方法であったが、次に説明する第６実施態様は、図１４に示すように最終的なカラーフィルタの画素部の間に分解除去層が残存するタイプのカラーフィルタの製造方法の例である。
【０２２１】この第６実施態様においては、まず、従来の方法により透明基板１上に遮光部４が形成される。次いで、この遮光部４が形成された透明基板１に光触媒含有層２が形成される（図１４（Ａ））。この光触媒含有層２の形成は、上述した第５実施態様における光触媒含有層の形成工程と同様に行うことができる。
【０２２２】このようにして形成された光触媒含有層２上に分解除去層７を形成する（図１４（Ｂ））。この分解除去層７の形成は、上記第５実施態様における分解除去層の形成工程と同様に行うことができる。
【０２２３】光触媒含有層２および分解除去層７が形成された上記透明基板１に対してパターン露光することにより、分解除去層７上の露光部位を分解部１７とする（図１４（Ｃ））。
【０２２４】この露光に関しては、濡れ性変化層３が分解除去層７となった以外は、上記第２実施態様において、図８により説明したものと同様であるので、ここでは説明を省略する。
【０２２５】このようにして形成された分解部１７は、光触媒の作用により除去されて、光触媒含有層２が露出した画素部用露光部９とされる（図１４（Ｄ））。
【０２２６】この画素部用露光部９に、上述した第１実施態様の画素部の形成工程と同様にして着色をおこなう。なお、この場合も、インクジェット方式により着色されることが好ましい。例えばインクジェット方式により着色する場合、インクジェット装置から吐出されたインクは、露光により形成された画素部用露光部９に付着する。この際、各画素部用露光部９の間には、図１４（Ｄ）からも明らかなように、分解除去層７が残存している。このため、この画素部用露光部９へ着色する際は、この分解除去層７の作用によりインクの混合等が生じにくくなる。特にこの分解除去層７が撥インク性、好ましくは水との接触角が６０度以上であれば、この効果が顕著に得られるため好ましい。
【０２２７】また、分解除去層７が分解部１７となり除去されて露出した光触媒含有層２が、水との接触角が小さい親インク性であれば、この画素部用露光部９へ着色されたインクが均一にかつ全体にわたって広がることから好ましい。このような観点から、露出した光触媒含有層２の水との接触角は、３０度以下が好ましく、特に２０度以下であることが好ましい。
【０２２８】このように残存する分解除去層７が水との接触角の高い撥インク性であり、露出した光触媒含有層２が親インク性であれば、着色されたインク等は均一に画素部用露光部９内に広がると共に、境界部分に存在する撥インク性の凸部として作用する分解除去層７により、インクははじかれて除去され、混ざり合う等の問題を生じることがない。
【０２２９】このインクを第１実施態様と同様に固化することにより、図１４（Ｅ）に示すように画素部５が形成される。そしてこの画素部５上に保護層６を形成することにより、カラーフィルタが完成する（図１４（Ｆ））。
……
【０２６０】［実施例２］
１．光触媒含有層の形成
実施例１と同様にして同様の材料を用い、光触媒含有層を形成した。
【０２６１】２．分解除去層の形成
ポリビニルアルコール（商品名：ゴーセノールＡＨ−２６、日本合成化学（株）製）２重量部、およびイオン交換水９８重量部を１００℃で３０分間撹拌混合後、スピンコーターにて上記光触媒含有層上に塗布し、１００℃で１０分間加熱した。これにより、厚さ０．１μｍの分解除去層を形成した。
【０２６２】３．露光による親インク性領域の形成の確認
この光触媒含有層および分解除去層に、分解除去層側から水銀ランプ（波長３６５ｎｍ）により７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で５分間パターン露光を行い、露光部（分解部）を形成した。この分解部は光触媒の作用により分解除去され、光触媒含有層が露出した。露光前後、すなわち露光後である光触媒表面と露光前である分解除去層表面との水に対する接触角を接触角測定器（協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）を用いて測定（マイクロシリンジから水滴を滴下して３０秒後）した結果、露光前（分解除去層表面）における水の接触角は７０度であるのに対し、露光後（光触媒含有層表面）における水の接触角は５度であり、露光部が親インク性領域となり、露光部と非露光部との濡れ性の相違によるパターン形成が可能なことが確認された。
【０２６３】４．画素部の形成
次に、この光触媒含有層および分解除去層に対し、マトリックス状の開口パターン（開口部１００×３００μｍ、遮光部２０μｍ）を設けた画素部用マスクを介して
水銀灯（波長３６５ｎｍ）により露光（７０ｍＷ／ｃｍ
2
の照度で５分間）して分解部を形成した。
【０２６４】次いで、実施例１と同様にして同様の材料を用いて、ＲＧＢ各色のインクをインクジェット装置により、親インク性とした画素部用露光部に付着させて着色し、これにＵＶ処理を行い硬化させ、画素部を形成した。
【０２６５】５．保護層の形成
実施例１と同様の材料を用い、同様にして保護層を形成し、カラーフィルターを得た。得られたカラーフィルタは画素部の色抜けや色むらの無い高品質のものであった。
……
【０２７１】また、本発明は、透明基板と、この透明基板上に複数色を所定のパターンで設けた画素部とを有するカラーフィルタにおいて、前記透明基板上に光触媒を含有する光触媒含有層、および光触媒含有層上に設けられ、光触媒含有層中の光触媒の作用により分解除去され得る分解除去層を有し、この分解除去層とこの分解除去層が分解除去された際に露出する光触媒含有層表面との水の接触角が異なるカラーフィルタである。
【０２７２】このように、光触媒含有層中の光触媒の作用により分解除去され得る分解除去層を光触媒含有層上に有することにより、露光された部分は光触媒の作用により分解され除去される。したがって、露光された部分は光触媒含有層が表面に露出することになり、露光されていない部分は分解除去層が残存することになる。ここで、分解除去層と露出した光触媒含有層とは水の接触角が異なるものであるので、例えば分解除去層を撥インク性の材料で形成し、光触媒含有層を親インク性の材料で形成し、予め画素部を形成する部分に光を照射して光触媒を作用させることによりその部分の分解除去層を除去すると、露光した部分は親インク性領域となり、露光しない部分は撥インク性領域となる。これにより、予め画素部を設ける部分の濡れ性を水の接触角が小さい親インク性領域とし、他の部分を水の接触角が大きい撥インク性領域とすることができる。この画素部を設ける親インク性領域の部分に着色することにより、水の接触角の小さい親インク性領域にのみインクが付着する。よって、上述した濡れ性変化層を有するカラーフィルタと同様に、パターン露光を行い着色することにより画素部が形成でき、各色画素部の着色パターン形成ごとに現像工程と洗浄工程を行う必要がない。
【０２７３】このように、いずれのカラーフィルタにおいても容易に工程を簡略化することが可能であり、得られるカラーフィルタは、安価でかつ高精細で白抜け等の欠陥のないものとなるという効果を有するものである。」
　
（ウ）【図面の簡単な説明】の欄
「……
【図８】（Ａ）および（Ｂ）は、図７に示す製造方法における露光方法を説明するための概略図である。
……
【図１４】（Ａ）から（Ｆ）は、分解除去層を有し、遮光部を有する本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を説明するための工程図である。
……」
　
（エ）【図８】
　
　
（オ）【図１４】
　
　
（２）引用発明１の認定
　上記「（１）引用例１及び引用例１に記載の事項」に摘記した記載及び図を含む引用例１全体の記載並びに当業者の技術常識を総合的に勘案すると、引用例１には、次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。
　
＜引用発明１＞
「（１）遮光部（いわゆるブラックマトリックス）が形成された透明基板の遮光部が形成された側の面上に、光触媒を含有する光触媒含有層を形成する工程と、
（２）光触媒含有層上に、光触媒含有層中の光触媒の作用により分解除去され得る分解除去層を設ける工程と、
（３）前記遮光部をマスクとして遮光部が形成されていない透明基板側から水銀灯（波長３６５ｎｍ）で露光することにより、分解除去層上の画素部を形成する部分を露光して分解除去することにより画素部用露光部を形成する工程と、
（４）この画素部用露光部に着色し、画素部を形成する工程とを有し、
　前記分解除去層上の水の接触角が６０度以上であり、この分解除去層が分解除去されて露出する光触媒含有層の水の接触角が３０度以下である
　カラーフィルタの製造方法。」
　
（３）引用例２及び引用例２に記載の事項
　本願の出願前に頒布された刊行物である、特開２００２−２３７３８３号公報（以下「引用例２」という。）には、図とともに、以下の事項が記載されている。
ア　【発明の詳細な説明】の欄
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子の製造方法と、この方法で製造される有機ＥＬ素子に関する。
……
【００１３】本発明は、このような従来技術の問題点に着目してなされたものであり、有機ＥＬ素子をなす発光層や正孔輸送層の配置をインクジェット法等の液体配置工程で行う際に、液体が所定の領域内に確実に（隣の領域に配置されることなく）、且つ領域内で均一な厚さに配置されるようにすることを課題とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために、本発明は、陰極と陽極の間に、少なくとも発光層を含む、１層または２層以上の構成層を有する有機ＥＬ素子の製造方法において、少なくとも１層の構成層については、構成層の形成材料を含む液体を、構成層の形成領域に対応させた開口部を有するパターンを用いて、構成層の形成領域に選択的に配置する工程を有し、この液体配置工程で、前記パターンとして、膜形成面の構成原子と結合可能な官能基および前記液体に対して撥液性の官能基を有する化合物を用いて、表面が前記液体に対して撥液性である有機極薄膜パターンを形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
……
【００２９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について説明する。
【００３０】〔第１実施形態〕図１〜８を用いて本発明の第１実施形態について説明する。ここでは、有機ＥＬ素子を画素として備えたディスプレーを例にとって、本発明の方法の一実施形態を説明する。各図において（ａ）は１つの画素の断面図であり、（ｂ）はその平面図である。この有機ＥＬ素子は、陽極と陰極との間に、構成層として正孔輸送層と発光層の２層を有する。
【００３１】先ず、図１に示すように、ガラス基板１上の各画素位置にＩＴＯ電極（陽極）２を形成する。このガラス基板１には、予め、有機ＥＬ素子の駆動用半導体装置等が形成されている。
【００３２】次に、ＣＶＤ法等により、ガラス基板１上全面にＳｉＯ2薄膜を形成する。次に、フォトリソグラフィー工程とエッチング工程とからなる通常のパターニング工程を行うことにより、このＳｉＯ2薄膜の構成層形成領域（ＩＴＯ電極２上の所定領域）に開口部３ａを形成する。これにより、ガラス基板１の最表面にＳｉＯ2薄膜パターン３が形成される。図２はこの状態を示す。ここでは、開口部３ａを円形とし、ＳｉＯ2薄膜厚さを１５０ｎｍとした。
【００３３】次に、このガラス基板１上の全面（ＳｉＯ2薄膜パターン３の上面、開口部３ａに露出しているＩＴＯ電極２の上面、開口部３ａの内壁面）に、ヘプタデカフルオロテトラヒドロデシルトリメトキシシランを用いて自己組織化膜４を形成する。この自己組織化膜４の表面全体には撥液性のフルオロアルキル基が存在する。ここでは、図２の状態のガラス基板１を、ヘプタデカフルオロテトラヒドロデシルトリメトキシシランの雰囲気中に９６時間放置することにより、厚さ約１ｎｍの自己組織化膜４を形成した。図３はこの状態を示す。
【００３４】この状態で、ガラス基板１上には、自己組織化膜４を最表面に有する凹部４ａが存在する。この凹部４ａの開口形状は、ＳｉＯ2薄膜パターン３の開口部３ａと同じ円形であり、その半径は自己組織化膜４の厚さ分だけ開口部３ａより小さい。
【００３５】次に、図４に示すように、凹部４ａの開口円に対応させた光透過部５ａを有するフォトマスク５を介して、ガラス基板１上の自己組織化膜４に紫外線（波長１７２ｎｍ）を照射する。これにより、紫外線が照射された部分、すなわちＩＴＯ電極２の上面および開口部３ａの内壁面の自己組織化膜４が除去されて、図５に示すように、ＳｉＯ2薄膜パターン３の上面にのみ自己組織化膜４が残る。
【００３６】このようにして、ＳｉＯ2薄膜パターン３の上に、表面が撥液性である有機極薄膜パターン４１が形成される。この有機極薄膜パターン４１の開口部４ｂは、その内壁面が、ＳｉＯ2薄膜パターン３の開口部３ａの内壁面と同じか少し外側に配置されるようにする。
【００３７】この状態で、図５に示すように、正孔輸送層形成材料を含む液体６を、インクジェット法により、有機極薄膜パターン４１の上側からその開口部４ｂに向けて吐出する。ここでは、この液体６として、正孔輸送層形成材料であるポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸とが溶解している水溶液を用いた。
【００３８】ここで、有機極薄膜パターン４１の表面は撥液性になっているため、吐出された液体６は有機極薄膜パターン４１の上面には止まらず、全て開口部３ａ内に入る。液体６が開口部３ａから溢れる場合には、図５に２点鎖線で示すように、液体６の上面が、有機極薄膜パターン４１の開口部４ｂ上に盛り上がった状態となる。したがって、或る開口部４ｂに向けて吐出された液体６が隣の開口部４ｂに入ることはない。
……」
　
　
４　本願補正発明と引用発明１の対比
　技術常識を踏まえつつ、引用発明１を本願補正発明と対比する。
（１）引用発明１における「透明基板」及び「遮光部（いわゆるブラックマトリックス）」が、本願補正発明における「透明基材」及び「パターン状に形成された遮光部」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（２）引用発明１の「カラーフィルタの製造方法」においては、「『分解除去層』が存在する部位」と「『分解除去層』が『分解除去』されて『光触媒含有層』が『露出』した部位」が存在することから、引用発明１の「カラーフィルタの製造方法」と本願補正発明における「パターン形成体の製造方法」は、「分解除去層（特性変化層）の特性が変化したパターンを有するパターン形成体を得るパターン形成体の製造方法」の点において共通する。
　
（３）引用発明１においては、「光触媒含有層」を「分解除去層」と別途形成するのであるから、「分解除去層」が光触媒を含有しないことは明らかである。この点並びに上記（１）及び（２）を踏まえると、引用発明１における「『透明基板』、『遮光部（いわゆるブラックマトリックス）』、『光触媒含有層』及び『分解除去層』からなる部材」と、本願補正発明における「透明基材と、前記透明基材上にパターン状に形成された遮光部と、前記透明基材および前記遮光部上に形成された波長２００ｎｍ以下の光の照射により特性が変化し、光触媒を含有しない特性変化層と、を有するパターン形成体用基板」とは、「透明基材と、前記透明基材上にパターン状に形成された遮光部と、前記透明基材及び前記遮光部上に形成された光触媒を含有しない特性変化層と、を有するパターン形成体用基板」の点で共通する。
　
（４）本願の明細書の段落【００９１】においては、「ここで、２００ｎｍ以下の光とは、２００ｎｍ以下の光を含む光であれば、特に限定されるものではなく、２００ｎｍ以下の光単独であってもよく、また例えば２００ｎｍ以上の光等、波長の異なる光と２００ｎｍ以下の光とを複合した２種類以上の光であってもよい。」と記載されている。この点及び上記（１）を踏まえると、引用発明１における「前記遮光部をマスクとして遮光部が形成されていない透明基板側から水銀灯（波長３６５ｎｍ）で露光することにより、分解除去層上の画素部を形成する部分を露光して」と、本願補正発明における「前記透明基材側から波長２００ｎｍ以下の光を照射することにより」とは、「前記透明基材側から波長３６５ｎｍ以下の光を照射することにより」の点において共通する。
　
（５）引用発明１における「前記分解除去層上の水の接触角が６０度以上であり、この分解除去層が分解除去されて露出する光触媒含有層の水の接触角が３０度以下である」と、本願補正発明における「前記分解除去層に対する液体の接触角が、前記分解除去層が分解除去された際に露出する前記透明基材に対する液体の接触角よりも高く」とは、「前記分解除去層に対する液体の接触角が、前記分解除去層が分解除去された際に露出する部材に対する液体の接触角よりも高い」点において共通する。
　
（６）上記（１）ないし（４）を踏まえると、引用発明１の「カラーフィルタの製造方法」と本願補正発明の「パターン形成体の製造方法」は、「波長３６５ｎｍ以下の光を照射することにより、光が照射された部分の分解除去層を分解除去し、前記透明基材上に分解除去層が形成された部位と、分解除去層が除去されてその下の部材が露出した部位とを有するパターン形成体を製造する」点において共通する。
　
（７）上記（１）ないし（６）を総合すると、本願補正発明と引用発明１は
「透明基材と、前記透明基材上にパターン状に形成された遮光部と、前記透明基材及び前記遮光部上に形成された光触媒を含有しない特性変化層と、を有するパターン形成体用基板に、前記透明基材側から波長３６５ｎｍ以下の光を照射することにより、前記特性変化層の特性が変化したパターンを有するパターン形成体を得るパターン形成体の製造方法であって、
　前記分解除去層に対する液体の接触角が、前記分解除去層が分解除去された際に露出する部材に対する液体の接触角よりも高く、さらに波長３６５ｎｍ以下の光を照射することにより、光が照射された部分の分解除去層を分解除去し、前記透明基材上に分解除去層が形成された部位と、分解除去層が除去されてその下の部材が露出した部位とを有するパターン形成体を製造する、パターン形成体の製造方法。」
の点で一致し、下記の相違点において相違すると認められる。
＜相違点＞
　本願補正発明においては、分解除去層が、波長２００ｎｍ以下の光の照射により分解除去される分解除去層であって、分解除去層の下の部材が透明基材であり、照射される光が波長２００ｎｍ以下の光であり、分解除去層が分解除去された際に露出する部材が透明基材であるのに対して、
　引用発明１においては、分解除去層が、光触媒含有層中の光触媒の作用により分解除去され得る分解除去層であって、分解除去層の下の部材が光触媒含有層であり、照射される光が水銀灯（波長３６５ｎｍ）の光であり、分解除去層が分解除去された際に露出する部材が光触媒含有層である点。
　
　
５　相違点の検討及び判断
　上記相違点について検討する。
　引用例２には、光の照射によりパターン形成が可能な層として、紫外線（波長１７２ｎｍ）を照射することにより分解除去される膜が記載されている。そして、当該技術は、光の照射によるパターン形成技術であって、場所による濡れ性の変化を利用した、インクジェット法と組み合わせて用いられる技術という点で、引用発明１と共通するものである。してみれば、引用発明１において、「光触媒含有層」及び「分解除去層」を設けることに代えて、引用例２に記載された、紫外線（波長１７２ｎｍ）を照射することにより分解除去される膜のみを設けるようにし、それに伴い、照射される光を波長１７２ｎｍとし、この結果として、分解除去層の下の部材を透明基材とし、分解除去層が分解除去された際に露出する部材が透明基材であるようにすること、すなわち、上記相違点に係る発明特定事項を有するようにすることは、当業者が容易に想到し得たことであると認められる。
　そして、本願補正発明が奏する作用効果も、引用発明１及び引用例２に記載された事項から、当業者が予測できる範囲のものである。
　したがって、本願補正発明は、引用発明１及び引用例２に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
６　本件補正についてのむすび
　以上のとおり、本願補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものであるから、本件補正は、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　よって、上記結論のとおり決定する。
　
　
　
第３　本願発明について
　
１　本願発明
　平成２１年９月２４日付け手続補正は上記のとおり却下されたから、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、本件補正前の、平成２１年５月２５日付け手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである（上記「第２」の「１」の「（２）本件補正前の特許請求の範囲の請求項１」を参照）。
　
　
２　刊行物及び各刊行物の記載事項並びに引用発明２の認定
（１）引用例３及び引用例３に記載の事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である、特開平２００１−７４９２８号公報（以下「引用例３」という。）には、図とともに、以下の事項が記載されている（下記「（２）引用発明２の認定」において特に関連する箇所に下線を付した。）。
 ア　【特許請求の範囲】の欄 
 「…… 
 【請求項２５】  
（１）透明基板上に遮光部を形成する工程と、（２）前記透明基板上の遮光部が形成された側の面上に、エネルギー照射部分の濡れ性が液体の接触角の低下する方向に変化する光触媒含有層を設ける工程と、（３）この光触媒含有層上の画素部を形成する部位である画素部形成部にエネルギーを照射して画素部用露光部を形成する工程と、（４）この画素部用露光部にインクジェット方式で着色し、画素部を形成する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
……
【請求項２７】  
前記画素部用露光部を形成する工程において、前記遮光部をマスクとして透明基板側から露光することにより画素部用露光部を形成することを特徴とする請求項２５記載のカラーフィルタの製造方法。
 ……
【請求項３６】　
前記光触媒含有層に照射するエネルギーが、紫外光を含む光であることを特徴とする請求項２５から請求項３５までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
……」
　
イ　【発明の詳細な説明】の欄
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、画素部をインクジェット方式で着色することにより得られる、カラー液晶ディスプレイに好適なカラーフィルタおよびその製造方法に関するものである。
……
【００１０】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、インクジェット方式で画素部を形成するにあたり問題となる基板の濡れ性に関して、単一の層で濡れ性の良い部分と悪い部分を形成することが可能であり、かつこの濡れ性の良い部分と悪い部分とのパターンを少ない工程で容易に形成することができ、さらにインクの吸収層が不要で、品質が良好でかつ低コストで製造することができるカラーフィルタおよびその製造方法を提供することを主目的とするものである。
……
【００３８】本発明においては、上記目的を達成するために、請求項２５に記載するように、（１）透明基板上に遮光部を形成する工程と、（２）前記透明基板上の遮光部が形成された側の面上に、エネルギー照射部分の濡れ性が液体の接触角の低下する方向に変化する光触媒含有層を設ける工程と、（３）この光触媒含有層上の画素部を形成する部位である画素部形成部にエネルギーを照射して画素部用露光部を形成する工程と、（４）この画素部用露光部にインクジェット方式で着色し、画素部を形成する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法（以下、第６実施態様とする。）を提供する。
【００３９】
このように、本実施態様では、予め遮光部が形成された透明基板上に光触媒含有層を設け、そしてこの光触媒含有層上の画素部形成部にエネルギーをパターン照射することにより、容易に画素部が形成される部分のみを親インク性とすることができる。
【００４０】上記第６実施態様の場合、請求項２６に記載するように、上記光触媒含有層を設ける工程の後に、遮光部上の光触媒含有層にエネルギーをパターン照射して撥インク性凸部用露光部を形成し、ここに撥インク性凸部を形成する工程を有するようにしてもよい。
【００４１】このように、遮光部上の光触媒含有層上にもエネルギーをパターン照射して撥インク性凸部用露光を設けるものであるので、所定の幅で撥インク性凸部用露光部を形成することができる。したがって、この領域に撥インク性凸部用塗料を塗布等することにより、所定の幅を有する撥インク性凸部を均一な高さで得ることができる。
【００４２】さらに、本発明の第６実施態様においては、請求項２７に記載するように、上記画素部用露光部を形成する工程において、上記遮光部をマスクとして透明基板側から露光することにより画素部用露光部を形成するようにしてもよい。透明基板側、すなわち遮光部が形成されていない側から全面露光することにより、遮光部の上面に形成された部分の光触媒含有層のみ露光されず、他の部分を露光することができる。したがって、フォトマスク等を用いることなくエネルギーのパターン照射を行うことができるため、コスト的に有利である。
……
【００６１】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明するが、まずカラーフィルタについて説明し、次いでカラーフィルタの製造方法について説明する。
……
【００６８】１．第１実施態様について
本発明の第１実施態様は、透明基板上に遮光部が形成され、少なくともこの遮光部上と上記透明基板上の上記画素部が形成される部位である画素部形成部とに濡れ性可変層が設けられ、さらにこの濡れ性可変層上の濡れ性の変化により画素部を精度良く形成できるようにしたカラーフィルタである。これは、濡れ性可変層が画素部を形成するために設けられた例を示すものであり、上述した少なくとも画素部が、濡れ性可変層上に設けられたカラーフィルタの具体例の一つである。
【００６９】図１は、第１実施態様の一例を示すものである。このカラーフィルタ１は、透明基板２上に設けられた遮光部３、さらにこの遮光部３上と、上記透明基板２上の画素部が形成される部位である画素部形成部４とに設けられた濡れ性可変層５と、この濡れ性可変層５上の画素部形成部４に形成された画素部６とを有するものである。ここで画素部形成部４とは、画素部６が形成される透明基板２の表面上の水平方向の位置を示し、透明基板２上であっても濡れ性可変層５上であってもよい。また、
遮光部３は、ブラックマトリックスとも称されるもの
……
【００７４】（濡れ性可変層）上記濡れ性可変層５は、その表面の濡れ性を、外からの刺激、例えば物理的刺激、化学的刺激等により変化させることができる層であれば特に限定されるものではない。例えば、酸またはアルカリ等により表面の粗さの状態が変化し、濡れ性が変化する層等であってもよいし、また紫外線や可視光、さらには熱等のエネルギーの照射により濡れ性可変層内の物質が変化して濡れ性が変化する層等であってもよい。
【００７５】また濡れ性の変化に関しては、刺激が加えられる前が液体との接触角が大きく、刺激が加えられた後に液体との接触角が小さくなるように変化するような濡れ性可変層であってもよいし、また逆に刺激が加えられる前が液体との接触角が小さく、刺激が加えられた後に液体との接触角が大きく変化するような濡れ性可変層であってもよい。
【００７６】（光触媒含有層）本発明においては、この濡れ性可変層が、エネルギーの照射により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層であることが好ましい。このように、露光（本発明においては、光が照射されたことのみならず、エネルギーが照射されたことをも意味するものとする。）により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層を設けることにより、エネルギーのパターン照射等を行うことにより容易に濡れ性を変化させ、液体との接触角の小さい親インク性領域とすることができ、例えば画素部が形成される部分のみ容易に親インク性領域とすることが可能となる。したがって、効率的にカラーフィルタが製造でき、コスト的に有利となるからである。なお、この場合のエネルギーとしては、通常紫外光を含む光が用いられる。
……
【０１６２】１．第６実施態様について
本発明の第６実施態様は、上記本発明における第１実施態様であるカラーフィルタを製造するための製造方法であり、（１）透明基板上に遮光部を形成する工程と、（２）前記透明基板上の遮光部が形成された側の面上に、エネルギー照射部分の濡れ性が液体の接触角の低下する方向に変化する光触媒含有層を設ける工程と、（３）この光触媒含有層上の画素部を形成する部位である画素部形成部にエネルギーを照射して画素部用露光部を形成する工程と、（４）この画素部用露光部にインクジェット方式で着色し、画素部を形成する工程とを有するものである。
【０１６３】（各工程の説明）図７は、本発明の第６実施態様の各工程を説明するためのものである。この例においては、まず、従来の方法により透明基板２上に遮光部３が形成される（図７（Ａ））。この遮光部３の製造方法は特に限定されるものではなく、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚み１０００〜２０００Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングすることにより形成する方法等を挙げることができる。
【０１６４】次いで、この遮光部３が形成された透明基板２に光触媒含有層５が形成される（図７（Ｂ））。この光触媒含有層５の形成は、上述したような光触媒とバインダとを必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を塗布した後、加水分解、重縮合反応を進行させてバインダ中に光触媒を強固に固定することにより形成される。使用する溶剤としては、エタノール、イソプロルパノール等のアルコール系の有機溶剤が好ましく、塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法により行うことかできる。
【０１６５】このようにして光触媒含有層５が形成された透明基板２に対して、紫外光等のエネルギー１０をフォトマスク１１によりパターン照射する。これにより、光触媒含有層５上の画素部が形成される部位である画素部形成部を、光触媒含有層５内の光触媒の作用により親インク性領域とした画素部用露光部１２が形成される（図７（Ｃ））。
【０１６６】このように画素部用露光部１２を形成するためのフォトマスク１１を用いて露光を行う場合は、エネルギーの照射により形成される画素部用露光部１２の幅、すなわち形成される画素部の幅が、遮光部３により形成される開口部の幅よりも広くとるようにすることが好ましい。このようにすることにより、液晶パネルとして完成した後、バックライトが照射された場合に、画素部の形成されていない部分をバックライトが透過する可能性がなくなり、色抜け等の不都合が生じないためである。
【０１６７】このエネルギーの照射は、図８に示すように透明基板２側から全面露光することにより行うことも可能である。透明基板２側から全面にエネルギーを照射する場合は、図８から明らかなように遮光部３がマスクとしての作用をして、遮光部３が無い部分にのみ露光が行われることになる。この方法によれば、画素部形成用のフォトマスク等を用いることなくエネルギーの照射を行うことができるので、コスト的に有利であるといえる。
【０１６８】なお、このように透明基板２側からエネルギーを照射する場合は、透明基板２にエネルギーを透過する材料を用いることが好ましく、例えばエネルギーとして紫外光を含む光を用いた場合は、石英等の紫外光を透過す材料を用いることが好ましい。
【０１６９】このようにして形成された画素部用露光部１２内に、インクジェット装置１３を用いて、エネルギー照射により親インク性領域となった画素部用露光部１２内にインク１４を噴射して、それぞれ赤、緑、および青に着色する（図７（Ｄ））。この場合、画素部用露光部１２内は上述したようにエネルギーの照射により液体との接触角の小さい親インク性領域となっているため、インクジェット装置１３から噴出されたインク１４は、画素部用露光部１２内に均一に広がる。また、露光が行われていない光触媒含有層の領域は、撥インク性領域となっているため、インクはこの領域でははじかれて除去されることになる。
……
【０１８７】（照射するエネルギーについて）
本発明においては、光触媒含有層に照射するエネルギーとしては、紫外光を含む光を用いることができる。このような紫外光を含む光源としては、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を挙げることができる。この露光に用いる光の波長は４００ｎｍ以下の範囲、好ましくは３８０ｎｍ以下の範囲から設定することができ
……
【０２４７】［実施例３］
１．光触媒含有層の形成
イソプロピルアルコール３ｇ、フルオロアルキルシラン（トーケムプロダクツ（株）製；ＭＦ−１６０Ｅ（商品名）、Ｎ−[３−（トリメトキシシリル）プロピル]−Ｎ−エチルパーフルオロオクタンスルホンアミドのイソプロピルエーテル５０重量％溶液）０．０１４ｇ、酸化チタンゾル（石原産業（株）製；ＳＴＳ−０１（商品名））２ｇ、シリカゾル（日本合成ゴム（株）製；グラスカＨＰＣ７００２（商品名））０．６ｇ、およびアルキルアルコキシシラン（日本合成ゴム（株）製；ＨＰＣ４０２II（商品名））０．２ｇを混合し、１００℃で２０分間撹拌した。この溶液を厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板上にスピンコーティング法によりコートし、厚さ０．１５μｍの光触媒含有層を得た。
【０２４８】２．露光による親インク性領域の形成およびフッ素量の低減の確認
この光触媒含有層表面に格子状のフォトマスクを介して超高圧水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2（３６５ｎｍ）の照度で２分間紫外線照射を行い、ｎ−オクタン（表面張力２１ｍＮ／ｍ）に対する接触角を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）により測定した結果、未露光部は５２度であったのに対し、露光部は０度であった。
【０２４９】未露光部および露光部をＸ線光電子分光装置（V.G.Sientific社ESCALAB220-I-XL）により元素分析を行った。シャリーのバッククラウンド補正、スコフィールドの相対感度係数補正により定量計算を行い得られた結果をチタン（Ｔｉ）を１００とした場合の重量による相対値で示すと、未露光部はチタン（Ｔｉ）１００に対しフッ素（Ｆ）１２７９であるのに対し、露光部ではチタン（Ｔｉ）１００に対しフッ素（Ｆ）６であった。
【０２５０】これらの結果から、光触媒含有層を露光することにより、光触媒含有層表面のフッ素の割合が減少し、これにより表面が撥インク性から親インク性に変化していることがわかった。
【０２５１】
【発明の効果】本発明は、透明基板と、この透明基板上にインクジェット方式により複数色を所定のパターンで設けた画素部と、この画素部の境界部分に設けられた遮光部と、上記画素部もしくは画素部および遮光部を形成するために設けられた、濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層とを有することを特徴とするカラーフィルタである。したがって、濡れ性可変層の濡れ性の変化を利用して画素部もしくは画素部および遮光部を精度良く形成することができ、色抜けや色むら等の問題点の無い高品質のカラーフィルタを低コストで提供することができる。」
　
（ウ）【図面の簡単な説明】の欄
「……
【図７】本発明のカラーフィルタの製造方法の第６実施態様を説明するための工程図である。
【図８】図７に示すカラーフィルタの製造方法において、画素部の露光方法の他の例を説明するための概略図である。
……」
　
（エ）【図７】
　
　
（オ）【図８】
　
　
（２）引用発明２の認定
　上記「（１）引用例３及び引用例３に記載の事項」に摘記した記載及び図を含む引用例３全体の記載並びに当業者の技術常識を総合的に勘案すると、引用例１には、次の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されているものと認められる。
＜引用発明２＞
「（１）透明基板上にブラックマトリックスとも称される遮光部を形成する工程と、
（２）前記透明基板上の遮光部が形成された側の面上に、エネルギー照射部分の濡れ性が液体の接触角の低下する方向に変化する光触媒含有層を設ける工程と、
（３）この光触媒含有層上の画素部を形成する部位である画素部形成部に、前記遮光部をマスクとして透明基板側から露光することによりエネルギーを照射して画素部が形成される部分のみを親インク性として画素部用露光部を形成する工程と、
（４）この画素部用露光部にインクジェット方式で着色し、画素部を形成する工程とを含み、
　前記光触媒含有層に照射するエネルギーが、紫外光を含む光であって、該紫外光の光源は、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等であり、光の波長は３８０ｎｍ以下の範囲から設定された
　カラーフィルタの製造方法。」
　
（３）引用例４及び引用例４に記載の事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平８−２２７０１２号公報（以下「引用例４」という。）には、図とともに以下の事項が記載されている。
　
ア　【特許請求の範囲】の欄 
 「【請求項１】  インクジェット方式を用いてインクを付与し、基板上を着色するカラーフィルタの製造方法であって、
（１）基板上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するシリコン化合物を含有する樹脂層を形成する工程、
【外１】　
　
（但し式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、水素、置換もしくは未置換の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であっても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時に水素になることはない）
（２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中に露光部と未露光部のパターンを形成する工程、
（３）インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付与し、該樹脂層の露光部を着色する工程と
（４）着色された該樹脂層を硬化させる工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】  基板が遮光部を有する請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】  遮光部をマスクとして基板側からパターン露光する請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】  基板上に形成された樹脂層の露光部の面積が、遮光部により形成される開口部の面積より大きい請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】  硬化した樹脂層上に保護層を形成する請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】  シリコン化合物の重量平均分子量が、１０００〜３０００００００の範囲にある請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】  樹脂層の厚さが０．５〜１０μｍの範囲にある請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】  遮光部がストライプ状もしくはマトリクス状に設けられている請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】  樹脂層の着色部が仕切り壁を介して設けられている請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】  レッド、グリーン、ブルーの各インクが付与される請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】  インクジェット方式を用いてインクを付与し、基板上を着色するカラーフィルタの製造方法であって、
（１）基板上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するシリコン化合物を含有する樹脂層を形成する工程、
【外２】
　
（但し式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、水素、置換もしくは未置換の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であっても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時に水素になることはない）
（２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中に露光部と未露光部のパターンを形成する工程、
（３）インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付与し、該樹脂層の露光部を着色する工程、
（４）樹脂層に全面露光を行って未露光部を露光する工程、
（５）（４）の露光部をブラックに着色する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１２】  インクジェット方式を用いてインクを付与し、基板上を着色するカラーフィルタの製造方法であって、
（１）基板上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するシリコン化合物を含有する樹脂層を形成する工程、
【外３】
　
（但し式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、水素、置換もしくは未置換の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であっても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時に水素になることはない）
（２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中に露光部と未露光部のパターンを形成する工程、
（３）露光部をブラックに着色する工程、
（４）樹脂層に全面露光を行って未露光部を露光する工程、
（５）インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付与し、（４）の露光部を着色する工程とを、含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１３】  樹脂層の厚さが０．５〜１０μｍの範囲にある請求項１１もしくは１２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１４】  レッド、グリーン、ブルーの各インクが付与される請求項１１もしくは１２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１５】  シリコン化合物の重量平均分子量が、１０００〜３０００００００の範囲にある請求項１１もしくは１２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１６】  着色樹脂層上に保護層を形成する請求項１１もしくは１２に記載のカラーフィルタの製造方法。」
　
イ　【発明の詳細な説明】の欄
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パーソナルコンピュータ等に使用されているカラー液晶ディスプレイに好適なカラーフィルタの製造方法、とりわけインクジェット記録技術を利用した液晶用カラーフィルタの製造方法に関する。
……
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】これらの欠点を補うべく、インクジェット方式を用いたカラーフィルタの製造方法が、特開昭５９−７５２０５号公報、特開昭６３−２３５９０１号公報あるいは特開平１−２１７３０２号公報等で提案されているが、いまだ十分な方法は得られていない。
【００１２】そこで本発明の目的は、従来法の有する耐熱性、耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、さらに工程が短縮され、安価にカラーフィルタを製造することが可能な製造方法及び該方法により製造された信頼性の高いカラーフィルタ及びそれを使用した液晶パネルを提供することにある。本発明では、とりわけ、インクジェット方式を用いたインクの付与により着色剤の配列を行う際の混色、色ムラ、白抜けを防止し、信頼性の高い液晶用カラーフィルタの製造方法を提供するものである。
【００１３】また本発明は、製造工程をより簡略化し、製造コストを低減するカラーフィルタの製造方法を提供するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】かかる目的は、次に示す手段により達成することができる。
【００１５】すなわち本発明は、インクジェット方式を用いてインクを付与し、基板上を着色するカラーフィルタの製造方法であって、（１）基板上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するシリコン化合物を含有する樹脂層を形成する工程、
【００１６】
【外４】
　
（但し式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、水素、置換もしくは未置換の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であっても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時に水素になることはない）
（２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中に露光部と未露光部のパターンを形成する工程と（３）インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付与し、該樹脂層の露光部を着色する工程と（４）着色された該樹脂層を硬化させる工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法であり、基板が遮光部を有し、遮光部をマスクとして基板側からパターン露光し、基板上に形成された樹脂層の露光部の面積が、遮光部により形成される開口部の面積より大きく、硬化した樹脂層上に保護層を形成することを含む。
【００１７】また本発明は、インクジェット方式を用いてインクを付与し、基板上を着色するカラーフィルタの製造方法であって、（１）基板上に、上記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するシリコン化合物を含有する樹脂層を形成する工程、（２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中に露光部と未露光部のパターンを形成する工程、（３）インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付与し、該樹脂層の露光部を着色する工程、（４）樹脂層に全面露光を行って未露光部を露光する工程、（５）（４）の露光部をブラックに着色する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１８】更に本発明は、インクジェット方式を用いてインクを付与し、基板上を着色するカラーフィルタの製造方法であって、（１）基板上に、上記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するシリコン化合物を含有する樹脂層を形成する工程、（２）該樹脂層をパターン露光することにより樹脂層中に露光部と未露光部のパターンを形成する工程、（３）露光部をブラックに着色する工程、（４）樹脂層に全面露光を行って未露光部を露光する工程、（５）インクジェット方式を用いてインクを樹脂層に付与し、（４）の露光部を着色する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。
【００２０】図１は、本発明における液晶用カラーフィルタの製造方法を示した工程図であり、本発明にかかる液晶用カラーフィルタの構成の一例が示されている。
【００２１】本発明においては、基板として一般にガラス基板が用いられるが、液晶用カラーフィルタとしての透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであればプラスチック基板であっても良い。
【００２２】図１（ａ）は、ガラス基板１上に遮光部であるブラックマトリクス２が形成され、ブラックマトリクス２により囲まれて形成された開口部である光透過部７が形成されている図を示したものである。
【００２３】まず、ブラックマトリクス２の形成された基板上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するシリコン化合物を含む樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを行って樹脂層３を形成する（図１（ｂ））。
【００２４】
【外５】
　
（但し式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、水素、置換もしくは未置換の脂肪族又は芳香族炭化水素基を示し、互いに同一であっても、異なっていても良い。但し、Ｒ1 〜Ｒ4が同時に水素になることはない）
この化合物は、光照射又は光照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が向上する化合物であり、光照射によりケイ素−ケイ素結合の切断が生じ、シラノールを生成することによって、露光部と未露光部におけるインクの濡れ性及び／又はインク吸収性に差を生じ、インクジェット方式による着色の際に未露光部が混色防止壁として機能する仕切り壁となるため、異色のインクの混色（色材のマイグレーションにより生じる混色も含む）を防止することができる。
……
【００６４】実施例１
図１に示すように、ブラックマトリクス２の形成されたガラス基板１上に、例示化合物１で示すメチルフェニルポリシラン（重量平均分子量５０００）を乾燥膜厚が１μｍになるようにスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行って樹脂層３を形成した。
【００６５】次いで、基板側より水銀灯を用いて２Ｊ／ｃｍ2 の光量の紫外線を照射して樹脂層に対して全面露光を行い、図３（ｂ）に示すように、ブラックマトリクス２上の樹脂層３をパターン露光した。
【００６６】次いで、露光部に対して、インクジェットヘッド５を用いてそれぞれＲ、Ｇ、Ｂの染料をそれぞれ含む３色のインクを付与し、マトリクス状のパターンを着色した後、９０℃で５分間及び２３０℃で３０分間の熱処理を行って樹脂層を硬化させた。
【００６７】次いで、保護層として二液型の熱硬化型樹脂組成物（日本合成ゴム製、商品名：オプトマ−ＳＳ−６６８８）を膜厚が１μｍになるようにスピンコートし、９０℃で３０分間のプリベークを行って第２の樹脂層（保護層）を形成した。更に２３０℃で３０分間の熱処理を行って第２の樹脂層を硬化させることにより、本発明のカラーフィルタを作成した。
【００６８】このようにして作成された液晶用カラーフィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
【００６９】また、このようにして作成された液晶用カラーフィルターを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であった。
【００７０】実施例２
実施例１において、例示化合物２に示すメチルフェニルポリシラン−ジフェニルシロキサン共重合体（重量平均分子量１２０００）を用いたことを除いて実施例１と同様にして液晶用のカラーフィルタを作成した。
【００７１】このようにして作成された液晶用カラーフィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
【００７２】また、このようにして作成された液晶用カラーフィルタを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であった。
【００７３】実施例３
実施例１において、例示化合物３に示すジシラニレンフェニレンポリマー（重量平均分子量４５００）を用いたことを除いて実施例１と同様にして液晶用のカラーフィルタを作成した。
【００７４】このようにして作成された液晶用カラーフィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
【００７５】また、このようにして作成された液晶用カラーフィルターを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であった。
【００７６】実施例４
実施例１において、樹脂組成物として、例示化合物１に示すメチルフェニルポリシラン（重量平均分子量５０００）とフタルイミドトリフレートからなるものを使用したことを除いて、実施例１と同様にして本発明のカラーフィルタを作成した。
【００７７】このようにして作成された液晶用カラーフィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
【００７８】また、このようにして作成された液晶用カラーフィルターを用いて図６に示すＴＦＴ液晶パネルを作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であった。
【００７９】実施例５
図２に示すように、ガラス基板１上に、例示化合物１で示すメチルフェニルポリシラン（重量平均分子量５０００）を乾燥膜厚が１μｍになるようにスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行って樹脂層３を形成した。
【００８０】次いで、対向する基板に備えられたブラックマトリクス（図７）の開口部よりも広い開口部を有するフォトマスク４を介して実施例１と同様の照射量でパターン露光を行なった。
【００８１】その後、実施例１と同様に着色を行い、保護層を設けて本発明のカラーフィルタを作成した。
【００８２】このようにして作成された液晶用カラーフィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ、白抜け等の障害は観察されなかった。
【００８３】また、このようにして作成された液晶用カラーフィルターを用いて図７に示すＴＦＴ液晶パネルを作成し駆動したところ、高精彩なカラー表示が可能であった。
【００８４】実施例６
図４に示すとおり、ガラス基板１上に、実施例１で用いたポリシランを乾燥膜厚が１μｍになるようにスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行ってポリシラン膜３を形成した。次いで水銀灯を用いて２Ｊ／ｃｍ2 の光量の紫外線をマスク４を介して照射し、ポリシラン膜３に露光部１７と未露光部８のパターンを形成した。
【００８５】露光部１７に対してインクジェットヘッド５を用いてＲ、Ｇ、Ｂの各色インクを付与し、マトリクス状のパターンを着色した後、９０℃で５分間熱処理を行って硬化させた。
【００８６】その後、ポリシラン膜３に対して上記と同じ光を照射して全面露光を行い、未露光部８を露光した後、インクジェットヘッド５を用いてブラック染料を含むインクをポリシラン膜３の部位８に付与してブラックマトリクスを形成し、その後熱処理を行って硬化させ、表面を洗浄した。
【００８７】次いで、実施例１と同様にして、ポリシラン膜３上に保護層６を形成した。
【００８８】このようにして作成された液晶用カラーフィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ等の障害は観察されなかった。
【００８９】
【発明の効果】本発明による液晶用カラーフィルタの製造方法を採用することにより、混色、色ムラ、白抜け等の障害のない信頼性の高い液晶用カラーフィルタを安価に製造することができる。
【００９０】また本発明の別の態様では、カラーフィルタとブラックマトリクスを同時に形成することができるので、製造工程をより簡略にし、製造コストを低減することができる。」
　
ウ　【図面の簡単な説明】の欄
「【図１】本発明による液晶用カラーフィルタの製造方法を示す図である。」
　 
エ　【図１】
　
　
（４）引用例５及び引用例５に記載の事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００２−３１７１２号公報（以下「引用例５」という。）には、図とともに以下の事項が記載されている。
　
 ア　【特許請求の範囲】の欄 
 「【請求項１】  基板上の凸部により区画された凹部にインクジェット方式によりインクを堆積させる工程を少なくとも含むカラーフィルタの製造方法において、凸部及び凹部に一般式（化１）で示される官能基を有する化合物を接触させることで被膜を形成し、然る後にマスクを介して露光することで凸部若しくは凹部の前記被膜に光反応させることにより表面エネルギーを変えることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【化１】
　
【請求項２】  光反応が、イオン化若しくは分解反応であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】  被膜が、単分子膜状であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】  基板が、透明樹脂基板であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】  請求項１から４の何れかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項６】  請求項１から４の何れかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ及び、スイッチング素子及び配線等を含む基板とを所定の距離に保持した間隙に液晶を封入保持したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】  請求項１から４の何れかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ及び、スイッチング素子及び配線等を含む基板とを所定の距離に保持した間隙に液晶を注入する工程を少なくとも含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。」
　
イ　【発明の詳細な説明】の欄
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ及びその製造方法、並びにそのカラーフィルタを用いた液晶表示装置及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、液晶表示装置において、カラー化を図る場合、最も一般的かつ有効な手段として用いられているのが、カラーフィルタを利用するという手段である。
【０００３】これまでカラーフィルタの製造方法としては、染料法、顔料法、印刷法、電着法等が用いられてきた。一方、特開昭５９−７５２０５号公報にインクジェット方式が開示され開発が進められてきたが、近年実用化されるようになった。
【０００４】インクジェット方式とは、一般的には、基板上にブラックマトリクスを兼ねる凸部を形成した後、その凸部により区画された凹部にＲＧＢそれぞれをインクジェットによりインクを堆積させ、硬化させるという方式である。
【０００５】インクジェット方式のメリットは、色素材料は画素部を満たすだけの必要最少量しか必要としないために利用効率が極めて高く、また工程が簡単で短い点にある。そのため、低コストで他品種生産に適する方式と言える。カラーフィルタは、液晶表示装置の部材の中では最も高価な部材であるため、この低コスト化がひいては液晶表示装置の低価格化に大いに寄与することになるということが知られていた。
【０００６】インクジェット方式でのポイントの１つが、インクを凹部内に如何に留まらせるか、つまり凹部内以外に広がってしまうことを如何に防ぐかにあると言える。凹部以外、特にブラックマトリクス（以降、ＢＭ）上に広がってしまうと、ＢＭの黒色効果の低減、画素形成後に形成する保護膜の膜厚ムラの発生等の不具合が生じてしまい、最悪の場合、隣り合うインク同士の混色が起きてしまう。
【０００７】そのため、インクの広がりを防ぐ方法として、インクを凹部に堆積させる際、凸部の上面をインクをはじく材料にてコートしておくという方法が、例えば特開平９−１２７３２７号公報、特開平９−２３０１２３号公報、特開平１０−２０１１４号公報、特開平１０−１９７７１５号公報等に開示がある。
【０００８】また、逆に凹部にインク親和性のコートを施すことでも同様の効果があることが、特開平９−２０３８０３号公報、特開平９−２３０１２９号公報等に開示がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記何れのコート方式においても、コートの有無がインクのはじき、親和を決めている。この場合、コートの無い部分を作り出すためには、除去のための工程が必要である。特開平９−１２７３２７号公報では除去工程は現像工程と兼ねることができるので、実質上新たな工程としては不要であるが、成膜時に一晩以上かかるというように時間がかかっている。
【００１０】本発明は、凸部と凹部で互いに表面エネルギーが異なる状態に簡便にできる方法と、それによって製造されるカラーフィルタと、そのカラーフィルタを使用して製造される液晶表示装置とその製造方法とを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上の凸部により区画された凹部にインクジェット方式によりインクを堆積させる工程を少なくとも含むカラーフィルタの製造方法において、凸部及び凹部に一般式（化２）で示される官能基を有する化合物を接触させることで被膜を形成し、然る後にマスクを介して露光することで凸部若しくは凹部の前記被膜に光反応させることにより表面エネルギーを変えることが好ましい。
【００１２】
【化２】
　
【００１３】前記構成において、光反応は、イオン化若しくは分解反応であることが好ましい。
【００１４】また前記構成において、被膜は、単分子膜状であることが好ましい。
【００１５】また前記構成において、基板は、透明樹脂基板であることが好ましい。
【００１６】また同様に上記目的を達成するために、本発明のカラーフィルタは、上記何れかに記載の製造方法により製造されたことが好ましい。
【００１７】また同様に上記目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、上記何れかに記載の製造方法により製造されたカラーフィルタ及び、スイッチング素子及び配線等を含む基板とを所定の距離に保持した間隙に液晶を封入保持したことが好ましい。
【００１８】また同様に上記目的を達成するために、本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記何れかに記載の製造方法により製造されたカラーフィルタ及び、スイッチング素子及び配線等を含む基板とを所定の距離に保持した間隙に液晶を注入する工程を少なくとも含むことが好ましい。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明をさらに具体的に説明する。尚、本発明は、以下の具体的実施例に限定されないこと勿論である。
【００２０】（実施例１）まず、凸部、凹部に形成する被膜の表面エネルギーを計測した。表面エネルギーの導出方法としては、Ｚｉｓｍａｎプロット法によった。
【００２１】用いた液体は、純水（γ＝７２．８ｄｙｎ／ｃｍ）、純水／ジエチレングリコール＝４／１（γ＝６１．９ｄｙｎ／ｃｍ）、エチレングリコール（γ＝５０．２ｄｙｎ／ｃｍ）、ジメチルフルフォキサイド（γ＝４５．８ｄｙｎ／ｃｍ）の４種類である。
【００２２】（化３）で示されるｐ−フルオロフェニルトリクロロシランの蒸気で満たされた乾燥雰囲気内に１０分間静置したガラスの表面エネルギーは３７．０ｄｙｎ／ｃｍであった。
【００２３】
【化３】
　
【００２４】また、このガラス基板に対して、フォトマスクを介して５０ｍＪ／ｃｍ2露光を行った後の露光部分の表面エネルギーは４種類の液体共ベタ濡れ状態でＺｉｓｍａｎプロットできなかったが、ガラス表面並の親水性であり、７０ｄｙｎ／ｃｎ前後であると推定できた。
【００２５】一方、未露光部分の表面エネルギーは、３６．８ｄｙｎ／ｃｍであり、初期とほぼ変化がなかった。
【００２６】以上から、光反応させることにより、表面エネルギーを変えることが可能であることが確認できた。
【００２７】（実施例２）
凸部・凹部形成工程：ガラス基板に黒色レジスト（新日鐵化学社製Ｖ−２５９ＢＫ）をスピンコーティングし、８０℃５分のベークを行うことで膜厚１．６μｍのレジスト層を形成した。
【００２８】次に、フォトマスク（１００μｍ×２５０μｍ、パターン間隔１５μｍ）を介して６０ｍＪ／ｃｍ2の露光、現像、洗浄を経て、２２０℃１時間のベークを行うことで、凸部１で区画された凹部２を有するガラス基板が得られた。
【００２９】被膜形成工程：乾燥雰囲気内に、ｐ−フルオロフェニルトリクロロシランを設置することで、ｐ−フルオロフェニルトリクロロシランの蒸気で満たされた雰囲気内に上記ガラス基板を１０分間静置した後、一般雰囲気に取り出した。これにより、凹部凸部内問わず、図１に示すように全面ｐ−フルオロフェニル基で覆われた状態にできた。
【００３０】次に、上記フォトマスクを介して５０ｍＪ／ｃｍ2露光を行った。
【００３１】これにより、図２に示すように露光された部分は、分解反応によりｐ−フルオロフェニル基が水酸基に変わってしまい、露光されなかった部分、つまり凸部１の上面のみｐ−フルオロフェニル基が残った状態となった。
【００３２】インク注入工程：凸部１で区画された凹部に対して、インクジェット法により水系顔料インクを注入し、１２０℃１０分間のベークを行うことで、溶媒を除去し顔料を固着させた。
【００３３】尚、インクジェットモジュール部としては、６０μｍのノズル径のコンティニュアス式インクジェットモジュールを使用した。
【００３４】概念的には、図３で示されるようにインク７は凸部１へ広がることなく、凹部２内にのみ充填できた。
【００３５】目視検査工程：顕微鏡にて、任意の画素１００個の画素周囲の直線性を観察した。
【００３６】その結果、不良画素は全く見つからなかった。このことから、インクの注入時のインクの広がりを完全に抑えることができたことを確認できた。
【００３７】（実施例２）被膜形成用材料として、（化４）で示されるフッ素を有するスピロピラン骨格を有する化合物を用い、実施例１と同様にしてカラーフィルタを形成した。
【００３８】
【化４】
　
【００３９】目視検査も実施例１と同様に行ったところ、やはり不良画素は全く見つからなかった。
【００４０】尚、これは、図３に示されるような光反応を経て、図４に示すように凹部がイオン化した被膜が形成されたためと考えられる。
【００４１】（比較例）被膜形成をせずに、実施例１と同様にしてカラーフィルタを形成し、同様に目視検査を行った。
【００４２】その結果、不良画素として、１辺不良が２５個、２辺不良が２３個、３辺不良が１１個、４辺不良が１７個確認された。
【００４３】このことから、本願の方式が高い効果を示すことが確認された。
【００４４】
【発明の効果】上述した通り、本願によれば簡便に凸部と凹部の表面エネルギーを変えることが可能となるので、インクジェット方式により製造されるカラーフィルタの歩留まりが極めて向上する。また、光透過性は極めて均一で、かつ隣り合う光透過部へのにじみが極めて少ないという高性能なカラーフィルタが得られる。」 
　
ウ　【図３】
　
　
　
３　本願発明と引用発明２の対比 
　技術常識を踏まえつつ、引用発明２を本願発明と対比する。
（１）引用発明２における「透明基板」及び「ブラックマトリックスとも称される遮光部」が、本願発明における「透明基材」及び「パターン状に形成された遮光部」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（２）本願の明細書の段落【００９１】においては、「ここで、２００ｎｍ以下の光とは、２００ｎｍ以下の光を含む光であれば、特に限定されるものではなく、２００ｎｍ以下の光単独であってもよく、また例えば２００ｎｍ以上の光等、波長の異なる光と２００ｎｍ以下の光とを複合した２種類以上の光であってもよい。」と記載されている。この点、上記（１）及び引用発明２における「前記光触媒含有層に照射するエネルギーが、紫外光を含む光であって、該紫外光の光源は、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等であり、光の波長は３８０ｎｍ以下の範囲から設定された」という発明特定事項を踏まえると、引用発明２における「エネルギー照射部分の濡れ性が液体の接触角の低下する方向に変化する光触媒含有層」と本願発明における「前記透明基材上に形成された波長２００ｎｍ以下の光の照射により特性が変化し、光触媒を含有しない特性変化層」は、「透明基材上に形成された波長３８０ｎｍ以下の光の照射により特性が変化する特性変化層」の点において共通する。
　
（３）引用発明２の「カラーフィルタの製造方法」は、「光触媒含有層上の画素部を形成する部位である画素部形成部に、前記遮光部をマスクとして透明基板側から露光することによりエネルギーを照射して画素部が形成される部分のみを親インク性として画素部用露光部を形成する工程」を有することから、引用発明２の「カラーフィルタの製造方法」と本願発明の「パターン形成体の製造方法」は、「特性変化層の特性が変化したパターンを有するパターン形成体を得るパターン形成体の製造方法」の点で共通する。
　
（４）上記（１）及び（２）を踏まえると、引用発明２における「前記遮光部をマスクとして透明基板側から露光することによりエネルギーを照射して」及び「前記光触媒含有層に照射するエネルギーが、紫外光を含む光であって、該紫外光の光源は、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等であり、光の波長は３８０ｎｍ以下の範囲から設定された」と本願発明における「前記透明基材側から波長２００ｎｍ以下の光を照射することにより」は、「前記透明基材側から波長３８０ｎｍ以下の光を照射することにより」の点において共通する。
　
（５）上記（１）ないし（３）も踏まえると、引用発明２における「『透明基板』、『ブラックマトリックスとも称される遮光部』、『光触媒含有層』及び『『前記透明基板上の遮光部が形成された側の面上』に『設け』られた『エネルギー照射部分の濡れ性が液体の接触角の低下する方向に変化する光触媒含有層』』からなる部材」と、本願発明における「透明基材と、前記透明基材上に形成された波長２００ｎｍ以下の光の照射により特性が変化し、光触媒を含有しない特性変化層と、パターン状に形成された遮光部とを有するパターン形成体用基板」とは、「透明基材と、前記透明基材上に形成された波長３８０ｎｍ以下の光の照射により特性が変化する特性変化層と、パターン状に形成された遮光部とを有するパターン形成体用基板」の点において共通する。
　
（６）上記（１）ないし（５）を総合すると、本願発明と引用発明２は、
「透明基材と、前記透明基材上に形成された波長３８０ｎｍ以下の光の照射により特性が変化する特性変化層と、パターン状に形成された遮光部とを有するパターン形成体用基板に、前記透明基材側から波長３８０ｎｍ以下の光を照射することにより、前記特性変化層の特性が変化したパターンを有するパターン形成体を得るパターン形成体の製造方法」
の点において一致し、次の相違点において相違すると認められる。
＜相違点＞
　本願発明においては、特性変化層は光触媒を含有せず、波長２００ｎｍ以下の（光を含む）光の照射により特性が変化するものであり、波長２００ｎｍ以下の（光を含む）光を照射するのに対して、
　引用発明２においては、特性変化層は光触媒を含有する光触媒含有層であり、波長３８０ｎｍ以下の（光を含む）光の照射により特性（濡れ性）が変化するものであり、波長が３８０ｎｍ以下の（光を含む）光を照射する点。
　
　
４　相違点の検討及び判断
　光触媒を含有せず、紫外光の照射により特性が変化する材料は、本願の出願前において周知のものである（例えば引用例４及び引用例５を参照）。してみれば、引用発明２における特性変化層に代えて、当該周知の特性変化層を採用することは、当業者が適宜行うことのできる設計変更にすぎない。そして、照射する光の波長分布は、選択された特性が変化する材料に応じて当業者が適宜設定すべきものであり、しかも、波長２００ｎｍ以下の光を含む光源、例えば低圧水銀ランプ等は技術常識にすぎないから、照射される光を波長２００ｎｍ以下の光を含むように設定することは、当業者が適宜なし得ることである。そして、本願発明は、特性が変化する材料として具体的な材料が特定されているものではないから、本願発明において照射される光について波長２００ｎｍ以下の光を含む点の限定があるとしても、引用発明２及び周知の技術から技術常識を踏まえて当業者が予測できる域を超えるような顕著な効果を本願発明が奏するとは認められない。　
　以上のとおりであるから、相違点に係る発明特定事項は、周知の技術及び技術常識に基いて当業者が容易に設定できたものにすぎない。したがって、本願発明は、引用発明２、周知の技術及び技術常識に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
　
５　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、本願出願前に頒布された刊行物である引用例３に記載された発明、周知の技術及び技術常識に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。