【事件の表示】
　特願２００１−３０２４６４「排ガス処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　４月　８日出願公開，特開２００３−１０３１４４〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は，成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は，平成１３年９月２８日の出願であって，平成１８年８月３１日（起案日）付けで拒絶理由が通知され，同年１１月１３日付けで意見書及び明細書の記載に係る手続補正書が提出され，平成２０年５月３０日（起案日）付けで拒絶査定され，同年７月９日付けで拒絶査定不服審判の請求がなされるともに，同日付けで明細書の記載に係る手続補正書が提出されたものである。その後，平成２３年２月１８日（起案日）付けで特許法第１６４条第３項に規定する報告書を引用した審尋がなされ，同年４月２２日付けで回答書が提出されている。
　
２．平成２０年７月９日付けの手続補正の補正却下の決定
　
２−１．補正却下の決定の結論
　平成２０年７月９日付けの手続補正（以下，必要に応じて「本件補正」という。）を却下する。
　
２−２．理由
（１）平成２０年７月９日付けの手続補正の内容
　平成２０年７月９日付けの手続補正は，平成１８年１１月１３日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲である，
「【請求項１】
　有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを触媒を用いて処理する排ガス処理方法において，下記の第１触媒および第２触媒を用いることを特徴とする，排ガス処理方法。
　第１触媒：Ｃｕ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ａｇ，Ｒｈ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属またはその酸化物を必須成分として含有する触媒。
　第２触媒：０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と，０．８〜４μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する触媒であって，かつ，触媒Ａ成分として，チタン酸化物およびチタン−ケイ素複合酸化物からなる少なくとも１種の金属酸化物を含有し，触媒Ｂ成分としてバナジウム酸化物を含有する触媒，または，触媒Ａ成分として，チタン酸化物およびチタン−ケイ素複合酸化物からなる少なくとも１種の金属酸化物を含有し，触媒Ｂ成分としてバナジウム酸化物を含有し，触媒Ｃ成分としてＷ，Ｍｎ，Ｍｏ，Ｃｅ，Ｃｏ，Ｎｂ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｓｎ，Ｔａ，Ｌａから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有する触媒。
【請求項２】
　前記第１触媒が，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ａｇ，Ｒｈ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属またはその酸化物を脱硝触媒に担持させてなる触媒である，請求項１に記載の排ガス処理方法。
【請求項３】
　前記第２触媒の細孔が，０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群をも含む，請求項１または２に記載の排ガス処理方法。
【請求項４】
　ダスト濃度が３０ｍｇ／ｍ３（Ｎｏｒｍａｌ）以下である排ガスを処理する，請求項１から３までのいずれかに記載の排ガス処理方法。
【請求項５】
　触媒による排ガス処理の前に排ガスを集塵設備に通す，請求項１から４までのいずれかに記載の排ガス処理方法。」
を，
「【請求項１】
　有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを，触媒を用いて処理する排ガス処理方法において，排ガス流れ方向の前段には有機化合物の酸化分解活性に優れる下記の第１触媒を用い，その後段には有機ハロゲン化合物の分解除去に優れる下記の第２触媒を用いるとともに，触媒の使用温度を１５０℃以上３００℃以下とする，ことを特徴とする，排ガス処理方法。
　第１触媒：Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属またはその酸化物を必須成分として含有する触媒。
　第２触媒：０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と，０．８〜４μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する触媒であって，触媒Ａ成分としてチタン酸化物およびチタン−ケイ素複合酸化物からなる少なくとも１種の金属酸化物を含有し，触媒Ｂ成分としてバナジウム酸化物を含有し，触媒Ｃ成分としてＭｏの酸化物を含有する触媒。
【請求項２】
　前記第１触媒が，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属またはその酸化物を脱硝触媒に担持させてなる触媒である，請求項１に記載の排ガス処理方法。
【請求項３】
　前記第２触媒の細孔が，０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群をも含む，請求項１または２に記載の排ガス処理方法。
【請求項４】
　ダスト濃度が３０ｍｇ／ｍ３（Ｎｏｒｍａｌ）以下である排ガスを処理する，請求項１から３までのいずれかに記載の排ガス処理方法。
【請求項５】
　触媒による排ガス処理の前に排ガスを集塵設備に通す，請求項１から４までのいずれかに記載の排ガス処理方法。」
と補正するものである。
　
（２）補正の適法性について
（２−１）補正の目的について
　本件補正は，請求項１について，以下の（ａ）〜（ｄ）の補正事項を有するものである。
（ａ）「下記の第１触媒および第２触媒を用いる」を「排ガス流れ方向の前段には有機化合物の酸化分解活性に優れる下記の第１触媒を用い，その後段には有機ハロゲン化合物の分解除去に優れる下記の第２触媒を用いる」とする補正事項。
（ｂ）「触媒の使用温度を１５０℃以上３００℃以下とする」を追加する補正事項。
（ｃ）第１触媒に使用する元素の選択肢を「Ｃｕ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ａｇ，Ｒｈ，Ｒｕ」から「Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｒｕ」に限定する補正事項。
（ｄ）第２触媒の成分について，「または」として択一的に記載されていた２つの選択肢のうち「触媒Ａ成分として，チタン酸化物およびチタン−ケイ素複合酸化物からなる少なくとも１種の金属酸化物を含有し，触媒Ｂ成分としてバナジウム酸化物を含有する触媒」を削除するとともに，他方の選択肢について，その触媒Ｃ成分を「触媒Ｃ成分としてＷ，Ｍｎ，Ｍｏ，Ｃｅ，Ｃｏ，Ｎｂ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｓｎ，Ｔａ，Ｌａから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有する」から「触媒Ｃ成分としてＭｏの酸化物を含有する」に限定する補正事項。
　上記（ａ）〜（ｄ）の補正事項について，それぞれ検討する。
（ａ）の補正事項は，拒絶査定において，「請求項１−５の記載では，第１触媒と第２触媒との配置関係が明確でない。」と指摘されたことに対応して，位置関係を明確化するものであり，平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第４号に規定する明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
（ｂ）の補正事項は，補正前のいずれの請求項にも記載されていなかった触媒の使用温度について数値限定を加えるものであり，平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定する「特許請求の範囲の減縮（第３６条第５項の規定により請求項に記載した発明を特定するために必要な事項を限定するものであって，その補正前の当該請求項に記載された発明とその補正後の当該請求項に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるものに限る。）」に該当するものではない。そして，上記特許法第１７条の２第４項第１，３，４号に規定する，請求項の削除，誤記の訂正又は明りょうでない記載の釈明のいずれを目的とするものでもないことは明らかである。
（ｃ）第１触媒の成分を限定するものであり，上記特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
（ｄ）第２触媒の成分を限定するものであり，上記特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　したがって，上記（ｂ）の補正事項は，上記特許法第１７条の２第４項第１〜４号のいずれを目的とするものにも該当せず，上記特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので，同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　以下，仮に，上記（ｂ）の補正事項が上記特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるとして，独立特許要件について検討する。
　
（２−２）独立特許要件について
　本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「補正後発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて検討する。
（ｉ）本願出願前に頒布された刊行物の記載事項
刊行物１：特開２００１−２４６２３０号公報（原査定の拒絶理由通知において引用された引用文献１）
（１−ア）「【請求項１】　有機ハロゲン化合物を含有する排ガス，または，無機ハロゲン化合物と有機物とを含有する排ガスを処理する方法において，ガス流れ方向に，前段触媒と後段触媒を配置し，後段触媒層の入口温度を３００℃以下とすることを特徴とする排ガスの処理方法。
【請求項２】　有機ハロゲン化合物を含有する排ガス，または，無機ハロゲン化合物と有機物とを含有する排ガスを処理する方法において，ガス流れ方向に，前段触媒として有機ハロゲン化合物分解触媒を，後段触媒としてダイオキシン分解触媒を配置することを特徴とする排ガスの処理方法。
・・・・・・
【請求項４】　前段触媒が，Ａ成分として，Ａｌ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｚｒ，ＣｅおよびＷから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を，Ｂ成分として，Ｖ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｐｔ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を含有するものであり，後段触媒が，Ｔｉ，Ｗ，ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有するものである，請求項１から３のいずれかに記載の排ガスの処理方法。
【請求項５】  前段触媒層の入口温度を１５０〜５００℃，空間速度を５００〜５０，０００ｈｒ-1とし，後段触媒層の入口温度を１００〜３００℃，空間速度を２００〜５０，０００ｈｒ-1とする，請求項４記載の排ガスの処理方法。」（特許請求の範囲）
（１−イ）「・・・本発明の好ましい態様を簡単に述べれば，前段は有機ハロゲン化合物全般の除去を目的として，完全酸化させるべく，比較的高温で激しく反応させる。後段は前段で生成したダイオキシン類の除去を目的として，比較的低温の穏やかな条件下で処理を行う。」（段落【０００８】）
（１−ウ）「・・・前段触媒として用いられる有機ハロゲン化合物分解触媒としては，各種有機ハロゲン化合物を分解しうる触媒であれば特に限定されないが，・・・Ｂ成分としては，特にＶ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｍｎから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物および／またはＰｄ，Ｒｈ，Ｐｔ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を含有するものが好ましい。」（段落【０００９】）
（１−エ）「本発明における前段の処理条件としては，前段触媒層の入口温度を１５０〜５００℃とすることが好ましく，２００〜４５０℃とすることがより好ましい。前段触媒層の入口温度が１５０℃を下回る場合には，比較的難分解性の有機ハロゲン化合物の処理が困難となる。一方，５００℃を上回る場合には，助燃剤等が増加し，経済的でなくなり，また，Ｃｌ2発生量が増加し，処理装置の損傷につながる。・・・」（段落【００１１】）
（１−オ）「一方，後段の処理条件としては，後段触媒層の入口温度を３００℃以下とすることが特に好ましい。排ガス中の有機ハロゲン化合物を前段触媒で処理した際にＨＣｌやＣｌ2等が発生した場合，または排ガス中にＨＣｌやＣｌ2等が含まれる場合は，後段触媒層の入口温度を３００℃以下とすることで，触媒上でのダイオキシン類の再合成を抑制することができる。・・・
　以上から，後段触媒層の入口温度は３００℃以下が好ましく，１００〜３００℃がより好ましく，１３０〜３００℃とすることが最も好ましい。後段触媒層の入口温度が１００℃を下回る場合には，ダイオキシン類の除去が困難となる。・・・」（段落【００１２】〜【００１３】）
（１−カ）「・・・
（実施例１）
（前段触媒）前段触媒を以下に示す方法で調製した。・・・
　こうして得られた触媒の組成は重量百分率で，ＴｉＯ2−ＳｉＯ2複合酸化物：Ｖ2Ｏ5：ＷＯ3：Ｐｄ：Ｒｈ＝８９．６：３．０：７．０：０．２：０．２・・・であった。
（後段触媒）後段触媒を以下に示す方法で調製した。・・・
　・・・こうして得られた触媒の組成は重量百分率で，Ｖ2Ｏ5：ＷＯ3：ＴｉＯ2＝５：１０：８５であり，・・・第一細孔群（０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布ピークを有する細孔群）および第二細孔群（０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布ピークを有する細孔群）はそれぞれ全細孔容積の５７％および３７％であった。・・・」（段落【００１５】〜【００１８】）
（１−キ）「（実施例２）
（前段触媒）前段触媒を以下に示す方法で調製した。・・・Ｐｄの担持量は触媒１リットル当たり２．０ｇであった。
（後段触媒）後段触媒を以下に示す方法で調製した。・・・
　こうして得られた触媒の組成は重量百分率で，Ｖ2Ｏ5：ＷＯ3：ＴｉＯ2：ＴｉＯ2−ＳｉＯ2複合酸化物＝５：６：３２：５７であり，・・・第一細孔群（０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布ピークを有する細孔群）および第二細孔群（０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布ピークを有する細孔群）はそれぞれ全細孔容積の５８％および３１％であった。・・・」（段落【００２２】〜【００２４】）
　
刊行物２：特開２００１−６２２９２号公報（原査定の拒絶理由通知において引用された引用文献２）
（２−ア）「【請求項１】触媒成分としてチタン酸化物（ＴｉＯ2）とバナジウム酸化物を含有し，０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する有機ハロゲン化合物除去用触媒において，触媒成分としてマンガン，コバルト，ニッケル，亜鉛，ジルコニウム，ニオブ，モリブデン，スズ，タンタル，ランタンおよびセリウムよりなる群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物をも含有することを特徴とする有機ハロゲン化合物除去用触媒。
・・・・・・
【請求項４】触媒成分として，チタン酸化物（ＴｉＯ2）と，チタン−ケイ素複合酸化物（ＴｉＯ2−ＳｉＯ2）と，バナジウム酸化物と，マンガン，コバルト，ニッケル，亜鉛，ジルコニウム，ニオブ，モリブデン，スズ，タンタル，ランタンおよびセリウムよりなる群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物をも含有することを特徴とする有機ハロゲン化合物除去用触媒。
【請求項５】０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と０．８〜４μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する，請求項４に記載の有機ハロゲン化合物除去用触媒。
・・・」（特許請求の範囲）
（２−イ）「【発明の属する技術分野】本発明は，ダイオキシン類などの有機ハロゲン化合物の除去用触媒および有機ハロゲン化合物の除去方法に関する。」（段落【０００１】）
（２−ウ）「（実施例２）・・・触媒Ｃを得た。
　触媒Ｃの組成は，Ｖ2Ｏ5：ＭｏＯ3：ＴｉＯ2：Ｔｉ−Ｓｉ複合酸化物＝５：５：４５：４５（重量比）であった。・・・触媒Ｃの細孔径分布を図３に示した。・・・
　次に，触媒ＣをＤＸＮ類約０．５ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3を含むゴミ焼却炉排ガスに接触させ，ＤＸＮ類の除去性能を測定した。ガス温度は２００℃であり，空間速度（ＳＴＰ）は２０００Ｈｒ-1であった。ＤＸＮ類除去率を実施例１にあるＤＸＮ類除去率算出式に従って求めたところ，９９％であった。」（段落【００２９】〜【００３２】）
（２−エ）「実施例２で得られた触媒Ｃの細孔径分布を示す図」である【図３】（９頁）から，触媒Ｃが０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と０．８〜４μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有するものであることが見てとれる。
　
（ｉｉ）対比・判断
　刊行物１には，記載事項（１−ア）から，「有機ハロゲン化合物を含有する排ガス・・・を処理する方法において，ガス流れ方向に，前段触媒として有機ハロゲン化合物分解触媒を，後段触媒としてダイオキシン分解触媒を配置することを特徴とする排ガスの処理方法」であって，「前段触媒が，Ａ成分として，Ａｌ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｚｒ，ＣｅおよびＷから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を，Ｂ成分として，Ｖ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｐｔ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を含有するものであり，後段触媒が，Ｔｉ，Ｗ，ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有するもの」であり，「前段触媒層の入口温度を１５０〜５００℃・・・とし，後段触媒層の入口温度を１００〜３００℃・・・とする」排ガスの処理方法が記載されているといえる。
　そして，上記前段触媒について，記載事項（１−ウ）には，「Ｂ成分としては，・・・Ｐｄ，Ｒｈ，Ｐｔ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を含有するものが好ましい。」ことが記載されている。
　また，上記後段触媒について，記載事項（１−カ）には，「第一細孔群（０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布ピークを有する細孔群）および第二細孔群（０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布ピークを有する細孔群）はそれぞれ全細孔容積の５７％および３７％であった」ことが記載されており，０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と，０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する触媒であることが記載されているといえる。
　上記刊行物１に記載された事項を補正後発明の記載ぶりに則して整理して記載すると，
「有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを処理する方法において，ガス流れ方向に，前段触媒として下記の有機ハロゲン化合物分解触媒を，後段触媒として下記のダイオキシン分解触媒を配置するとともに，前段触媒層の入口温度を１５０〜５００℃とし，後段触媒層の入口温度を１００〜３００℃とする，排ガス処理方法。
　前段触媒：Ｐｄ，Ｒｈ，Ｐｔ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を含有する触媒。
　後段触媒：０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と，０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する触媒であって，Ｔｉ，Ｗ，ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有する触媒。」
の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
　そこで，補正後発明と引用発明とを対比すると，引用発明の「前段触媒」と補正後発明の「第１触媒」について，引用発明の前段触媒である有機ハロゲン化合物分解触媒は，記載事項（１−イ）に「有機ハロゲン化合物全般の除去を目的として，完全酸化させるべく」と記載されていることから，有機ハロゲン化合物（有機化合物）の酸化分解活性に優れる触媒であるということができ，その成分の特定についても，引用発明では「Ｐｄ，Ｒｈ，Ｐｔ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属または酸化物を含有する触媒」であるのに対し，補正後発明では「Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属またはその酸化物を必須成分として含有する触媒」であって共通するから，引用発明の「有機ハロゲン化合物分解触媒」である「前段触媒」は，補正後発明の「有機化合物の酸化分解活性に優れる・・・第１触媒」に相当するものとみることができる。
　そして，引用発明の「ダイオキシン分解触媒」である「後段触媒」は，ダイオキシンが有機ハロゲン化物に含まれる物質であることから，補正後発明の「有機ハロゲン化合物の分解除去に優れる・・・第２触媒」に相当するものといえる。さらに，引用発明の後段触媒と補正後発明の第２触媒は，いずれも特定の範囲に孔径分布のピークを有する細孔群を有する触媒である点では共通するといえる。
　また，引用発明の「有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを処理する方法」が触媒を用いて処理する方法であることは明らかである。
　そうすると，補正後発明と引用発明とは，
「有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを，触媒を用いて処理する排ガス処理方法において，排ガス流れ方向の前段には有機化合物の酸化分解活性に優れる下記の第１触媒を用い，その後段には有機ハロゲン化合物の分解除去に優れる下記の第２触媒を用いる，排ガス処理方法。
　第１触媒：Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｒｕから選ばれる少なくとも１種の元素の金属またはその酸化物を必須成分として含有する触媒。
　第２触媒：特定の範囲に孔径分布のピークを有する細孔群を有する触媒。」
である点で一致し，以下の点で相違している。
　
相違点Ａ：補正後発明では，「触媒の使用温度を１５０℃以上３００℃以下とする」のに対し，引用発明では，「前段触媒層の入口温度を１５０〜５００℃とし，後段触媒層の入口温度を１００〜３００℃とする」点
相違点Ｂ：第２触媒について，補正後発明では，「０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と，０．８〜４μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する触媒であって，触媒Ａ成分としてチタン酸化物およびチタン−ケイ素複合酸化物からなる少なくとも１種の金属酸化物を含有し，触媒Ｂ成分としてバナジウム酸化物を含有し，触媒Ｃ成分としてＭｏの酸化物を含有する触媒」であるのに対し，引用発明では，「０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と，０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する触媒であって，Ｔｉ，Ｗ，ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有する触媒」である点
　
　そこで，上記相違点Ａ，Ｂについて，以下，検討する。
　
相違点Ａについて：
　刊行物１には，記載事項（１−エ）に，「前段触媒層の入口温度を１５０〜５００℃とすることが好ましく，２００〜４５０℃とすることがより好ましい。前段触媒層の入口温度が１５０℃を下回る場合には，比較的難分解性の有機ハロゲン化合物の処理が困難となる。一方，５００℃を上回る場合には，助燃剤等が増加し，経済的でなくなり，また，Ｃｌ2発生量が増加し，処理装置の損傷につながる。」と記載されており，同（１−オ）に，「後段触媒層の入口温度を３００℃以下とすることで，触媒上でのダイオキシン類の再合成を抑制することができる。」，「後段触媒層の入口温度は３００℃以下が好ましく，１００〜３００℃がより好ましく，１３０〜３００℃とすることが最も好ましい。後段触媒層の入口温度が１００℃を下回る場合には，ダイオキシン類の除去が困難となる。」と記載されていることから，引用発明において，前段触媒及び後段触媒の入口温度を，それぞれ１５０〜５００℃又は１００〜３００℃より狭い範囲内の適当な温度に設定することは，当業者が適宜なし得ることである。また，両触媒の入口温度の範囲はそれぞれで最も好ましいとする範囲としても広く重複しており，それらを同じ温度にすることにも格別の困難性はない。
　したがって，引用発明において，各触媒の入口温度と密接に関連する触媒の使用温度を１５０℃以上３００℃以下とすることは，当業者が格別の困難なくなし得ることである。
　
相違点Ｂについて：
　刊行物２には，記載事項（２−ア）に，（１）「触媒成分としてチタン酸化物（ＴｉＯ2）とバナジウム酸化物を含有し，０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する有機ハロゲン化合物除去用触媒において，触媒成分として・・・モリブデン・・・よりなる群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物をも含有することを特徴とする有機ハロゲン化合物除去用触媒」が記載されている一方で，同（２−ア）に，（２）「触媒成分として，チタン酸化物（ＴｉＯ2）と，チタン−ケイ素複合酸化物（ＴｉＯ2−ＳｉＯ2）と，バナジウム酸化物と，・・・モリブデン・・・よりなる群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物をも含有することを特徴とする有機ハロゲン化合物除去用触媒」であって，「０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と０．８〜４μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する」「有機ハロゲン化合物除去用触媒」が記載されている。そして，上記触媒は，記載事項（２−イ）から，ダイオキシン類などの有機ハロゲン化合物の除去用触媒であり，ダイオキシン分解触媒であるとみることができる。したがって，刊行物２には，上記（１）の触媒と（２）の触媒が並列に記載され，いずれも同様にダイオキシン分解触媒として用いられることが記載されているといえる。
　さらに，刊行物２には，記載事項（２−ウ）及び視認事項（２−エ）から，上記（２）の触媒の実施例として，「Ｖ2Ｏ5」，「ＭｏＯ3」，「ＴｉＯ2」，「Ｔｉ−Ｓｉ複合酸化物」を含有し，「０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と０．８〜４μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する」触媒Ｃが記載され，この触媒ＣがＤＸＮ類（ダイオキシン類）の除去性能も有することが具体的に示されている。したがって，刊行物２には，上記触媒Ｃが上記（１）の触媒と同様にダイオキシン分解触媒として用いられることが記載されているといえる。
　ここで，引用発明の後段触媒と，刊行物２に記載された触媒とは，いずれもダイオキシン分解触媒である点で共通している。そして，引用発明の後段触媒は，その成分及び孔径分布のピーク位置において，上記（１）の触媒と重複している。
　そうすると，上記（１）の触媒と重複する引用発明の後段触媒を，上記触媒Ｃに置換して，０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と，０．８〜４μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する触媒であって，ＴｉＯ2，Ｔｉ−Ｓｉ複合酸化物，Ｖ2Ｏ5，ＭｏＯ3を含有する触媒とすることは，当業者が格別の困難なくなし得ることである。
　
（ｉｉｉ）独立特許要件についてのむすび
　以上のとおりであるから，本件補正後の請求項１に係る発明は，刊行物１，２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により，特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（３）補正却下についてのむすび
　以上のとおりであるから，本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明は，特許出願の際独立して特許を受けることができず，本件補正は，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので，同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　
３．本願発明
　平成２０年７月９日付けの手続補正は，上記のとおり却下されたので，本願の特許請求の範囲に記載された発明は，平成１８年１１月１３日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜５記載された事項により特定されるとおりのものであり，その請求項１に記載された発明（以下「本願発明」という。）は，２．（２）（２−２）で検討した補正後発明と比較して，２．（２）（２−１）に記載した（ａ）〜（ｄ）の補正事項に関する，（Ａ）第１触媒及び第２触媒の配置に関する特定事項，（Ｂ）触媒の使用温度についての特定事項，（Ｃ）第１触媒の成分についての特定事項，（Ｄ）第２触媒の成分についての特定事項を削除又は拡張したものに相当する。
　
４．原査定の拒絶理由
　原査定の拒絶の理由は，平成１８年８月３１日付け拒絶理由通知書に記載した理由２であり，該理由２は，請求項３に対して引用文献１〜３を引用した特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないというものである。
　
５．本願出願前に頒布された刊行物の記載事項
　引用文献１，２は，刊行物１，２と同じであり，前記２．（２）（２−２）（ｉ）で摘示したとおりの事項が記載されている。
　
６．対比・判断
　刊行物１には，前記２．（２）（２−２）（ｉｉ）で述べたとおり，引用発明が記載されており，本願発明と引用発明とを対比すると，次の相違点Ｃにおいて相違する。
　
相違点Ｃ：
　第２触媒について，本願発明では，「触媒Ａ成分として，チタン酸化物およびチタン−ケイ素複合酸化物からなる少なくとも１種の金属酸化物を含有し，触媒Ｂ成分としてバナジウム酸化物を含有する触媒，または，触媒Ａ成分として，チタン酸化物およびチタン−ケイ素複合酸化物からなる少なくとも１種の金属酸化物を含有し，触媒Ｂ成分としてバナジウム酸化物を含有し，触媒Ｃ成分としてＷ，Ｍｎ，Ｍｏ，Ｃｅ，Ｃｏ，Ｎｂ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｓｎ，Ｔａ，Ｌａから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有する触媒」であるのに対し，引用発明では，「０．０１〜０．０５μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群と，０．１〜０．８μｍの範囲に孔径分布のピークを有する細孔群とを含む細孔を有する触媒であって，Ｔｉ，Ｗ，ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有する触媒」である点
　
　上記相違点Ｃについて検討すると，本願発明は補正後発明に対して第２触媒の成分についての特定事項を拡張したものであるところ，上記相違点Ｂについて検討したとおり，引用発明において，後段触媒を刊行物２に記載された触媒Ｃに置換することは，当業者が格別の困難なくなし得ることである。
　したがって，本願発明は，刊行物１，２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により，特許を受けることができない。
　
７．むすび
　以上のとおりであるから，本願の請求項１に係る発明は，本願の出願日前に頒布された刊行物１，２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により，特許を受けることができない。
　したがって，その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく，本願は拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。