【事件の表示】
　平成　９年特許願第５２８２２５号「ガラス基材の処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　８月１４日国際公開、ＷＯ９７／２９０５８、平成１１年　３月２６日国内公表、特表平１１−５０３４０３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は，平成１９９７年２月６日（パリ条約による優先権主張外国庁受理１９９６年２月７日，仏国）を国際出願日とする出願であって，平成１９年３月１２日（起案日）付けで拒絶理由が通知され，同年９月２０日付けで意見書及び明細書の記載に係る手続補正書が提出され，平成２０年１月１１日（起案日）付けで拒絶査定され，これに対し，同年４月２１日付けで拒絶査定不服審判の請求がなされ，同年５月２１日付けで明細書の記載に係る手続補正書が提出されたものである。その後，特許法第１６２条に基づく審査において平成２０年９月２４日（起案日）付けで拒絶理由が通知されたが，指定期間内に出願人から応答はなく，そして，平成２２年１月６日（起案日）付けで特許法第１６４条第３項に基づく報告書を引用した審尋がなされたが，指定期間内に回答書は提出されなかった。
　
２．平成２０年５月２１日付けの手続補正について
２−１．平成２０年５月２１日付けの手続補正の内容
　平成２０年５月２１日付けの手続補正は，平成１９年９月２０日付け手続補正書の特許請求の範囲の記載である，
「１．表面のイオン交換強化工程を含む，ガラス基材を処理するための方法であって，ガラス基材として，下記の構成成分を下記の重量割合で含有するマトリックスを有し，
　　　　　　　SiO2　　　　　　　　 45〜65％
　　　　　　　Al2O3　　　　　　　　 0〜20％
　　　　　　　B2O3　　　　　　　　　0〜 5％
　　　　　　　Na2O　　　　　　　　　4〜12％
　　　　　　　K2O　　　　　　　　 3.5〜12％
　　　　　　　MgO　　　　　　　　　 0〜 8％
　　　　　　　CaO　　　　　　　　　 0〜13％
　　　　　　　ZrO2　　　　　　　　　0〜20％
酸化物SiO2，Al2O3及びZrO2の合計はこの組成物の70％以下にとどまり，そしてアルカリ金属酸化物は 0.22 ≦ Na2O／Na2O＋K2O≦ 0.60となるような重量割合で取り入れられているガラス基材を使用し，イオン交換工程後に基材の表面の脱アルカリを行うことを特徴とするガラス基材処理方法。
　２．前記組成物が酸化物BaO及び／又はSrOを，
　　　　　　　 11％ ≦ MgO＋CaO＋BaO＋SrO≦ 24％
となるような割合で含有することを特徴とする，請求項１記載の方法。
　３．前記脱アルカリを１ミクロン未満の深さまで行うことを特徴とする，請求項１又は２記載の方法。
　４．前記脱アルカリを湿式で行うことを特徴とする，請求項１〜３のいずれか一つに記載の方法。
　５．前記脱アルカリをAlCl3の存在下に行うことを特徴とする，請求項４記載の方法。
　６．前記脱アルカリを硫酸アンモニウム(NH4)2SO4の如き硫酸塩の昇華により行うことを特徴とする，請求項１〜３のいずれか一つに記載の方法。
　７．前記脱アルカリを450〜500℃の温度で行うことを特徴とする，請求項６記載の方法。
　８．前記イオン交換強化をKNO3浴中で行うことを特徴とする，請求項１〜７のいずれか一つに記載の方法。
　９．前記イオン交換強化をKNO3／AgNO3の如き混合浴中で行うことを特徴とする，請求項１〜７のいずれか一つに記載の方法。
　10．前記イオン交換強化工程の前にガラス基材を研磨する工程を行うことを特徴とする，請求項１〜９のいずれか一つに記載の方法。
　11．前記研磨工程後に仕上げ研磨工程を行うことを特徴とする，請求項10記載の方法。
　12．表面イオン交換強化工程にかけられたシリカ−ソーダ−石灰タイプのガラス製の基材であって，該基材は，下記の構成成分を下記の重量割合で含有するマトリックスを有し，
　　　　　　　SiO2　　　　　　　　 45〜65％
　　　　　　　Al2O3　　　　　　　　 0〜20％
　　　　　　　B2O3　　　　　　　　　0〜 5％
　　　　　　　Na2O　　　　　　　　　4〜12％
　　　　　　　K2O　　　　　　　　 3.5〜12％
　　　　　　　MgO　　　　　　　　　 0〜 8％
　　　　　　　CaO　　　　　　　　　 0〜13％
　　　　　　　ZrO2　　　　　　　　　0〜20％
酸化物SiO2，Al2O3及びZrO2の合計はこの組成物の70％以下にとどまり，そしてアルカリ金属酸化物を 0.22 ≦ Na2O／Na2O＋K2O≦ 0.60となるような重量割合で取り入れていて，且つ，厚さが少なくとも0.05ミクロンの表層における平均のNa2O含有量のイオン交換により強化された層における平均のNa2O含有量に対する比率が40％未満であること，及び／又は厚さが少なくとも0.05ミクロンの表層における平均のK2O含有量のイオン交換により強化された層における平均のK2O含有量に対する比率が60％未満であることを特徴とするガラス製基材。
　13．前記組成物が酸化物BaO及び／又はSrOを，
　　　　　　　 11％ ≦ MgO＋CaO＋BaO＋SrO≦ 24％
となるような割合で含有することを特徴とする，請求項12記載のガラス製基材。
　14．厚さが少なくとも0.05ミクロンの表層における平均のNa2O含有量のイオン交換により強化された層における平均のNa2O含有量に対する前記比率が20％未満であること，及び／又は厚さが少なくとも0.05ミクロンの表層における平均のK2O含有量のイオン交換により強化された層における平均のK2O含有量に対する前記比率が40％未満であることを特徴とする，請求項12又は13記載のガラス製基材。
　15．平均の曲げ強度が240MPaより大きいことを特徴とする，請求項12〜14のいずれか一つに記載のガラス製基材。
　16．平均の曲げ強度が300MPaより大きいことを特徴とする，請求項15記載のガラス製基材。
　17．平均した粗さＲｑが５オングストローム未満であることを特徴とする，請求項12〜16のいずれか一つに記載のガラス製基材。
　18．データ記憶装置における支持材として用いようとするものであることを特徴とする，請求項12〜17のいずれか一つに記載のガラス製基材。
　19．マトリックスが下記の成分を下記の重量割合で含有することを特徴とする，請求項12〜18のいずれか一つに記載のガラス製基材。
　　　　　　　SiO2　　　　　　　　 50.50％
　　　　　　　Al2O3　　　　　　　　11.85％
　　　　　　　CaO　　　　　　　　　 4.95％
　　　　　　　MgO　　　　　　　　　 4.25％
　　　　　　　Na2O　　　　　　　　　5.25％
　　　　　　　K2O　　　　　　　　　 5.50％
　　　　　　　BaO　　　　　　　　　 5.75％
　　　　　　　SrO　　　　　　　　　 7.90％
　　　　　　　ZrO2　　　　　　　　　4.05％」を，
補正後の特許請求の範囲の記載である
「【請求項１】
　表面のイオン交換強化工程を含む，ガラス基材を処理するための方法であって，ガラス基材として，下記の構成成分を下記の重量割合で含有するマトリックスを有し，
　　　　　　　SiO2　　　　　　　　 45〜65％
　　　　　　　Al2O3　　　　　　　　 0〜20％
　　　　　　　B2O3　　　　　　　　　0〜 5％
　　　　　　　Na2O　　　　　　　　　4〜12％
　　　　　　　K2O　　　　　　　　 3.5〜12％
　　　　　　　MgO　　　　　　　　　 0〜 8％
　　　　　　　CaO　　　　　　　　　 0〜13％
　　　　　　　ZrO2　　　　　　　　　0〜20％
酸化物SiO2，Al2O3及びZrO2の合計はこの組成物の70％以下にとどまり，当該組成物は酸化物BaO及び／又はSrOを，
　　　　　　　 11％ ≦ MgO＋CaO＋BaO＋SrO≦ 24％
となるような割合で含有し，そしてアルカリ金属酸化物は 0.22 ≦ Na2O／Na2O＋K2O≦ 0.60となるような重量割合で取り入れられているガラス基材を使用し，イオン交換工程後に基材の表面の脱アルカリを行うことを特徴とするガラス基材処理方法。
　　【請求項２】
　前記脱アルカリを１ミクロン未満の深さまで行うことを特徴とする，請求項１記載の方法。
　　【請求項３】
　前記脱アルカリを湿式で行うことを特徴とする，請求項１又は２に記載の方法。
　　【請求項４】
　前記脱アルカリをAlCl3の存在下に行うことを特徴とする，請求項３記載の方法。
　　【請求項５】
　前記脱アルカリを硫酸アンモニウム(NH4)2SO4の如き硫酸塩の昇華により行うことを特徴とする，請求項１又は２に記載の方法。
　　【請求項６】
　前記脱アルカリを450〜500℃の温度で行うことを特徴とする，請求項５記載の方法。
　　【請求項７】
　前記イオン交換強化をKNO3浴中で行うことを特徴とする，請求項１〜６のいずれか一つに記載の方法。
　　【請求項８】
　前記イオン交換強化をKNO3／AgNO3の如き混合浴中で行うことを特徴とする，請求項１〜６のいずれか一つに記載の方法。
　　【請求項９】
　前記イオン交換強化工程の前にガラス基材を研磨する工程を行うことを特徴とする，請求項１〜８のいずれか一つに記載の方法。
　　【請求項１０】
　前記研磨工程後に仕上げ研磨工程を行うことを特徴とする，請求項９記載の方法。
　　【請求項１１】
　表面イオン交換強化工程にかけられたシリカ−ソーダ−石灰タイプのガラス製の基材であって，該基材は，下記の構成成分を下記の重量割合で含有するマトリックスを有し，
　　　　　　　SiO2　　　　　　　　 45〜65％
　　　　　　　Al2O3　　　　　　　　 0〜20％
　　　　　　　B2O3　　　　　　　　　0〜 5％
　　　　　　　Na2O　　　　　　　　　4〜12％
　　　　　　　K2O　　　　　　　　 3.5〜12％
　　　　　　　MgO　　　　　　　　　 0〜 8％
　　　　　　　CaO　　　　　　　　　 0〜13％
　　　　　　　ZrO2　　　　　　　　　0〜20％
酸化物SiO2，Al2O3及びZrO2の合計はこの組成物の70％以下にとどまり，当該組成物は酸化物BaO及び／又はSrOを，
　　　　　　　 11％ ≦ MgO＋CaO＋BaO＋SrO≦ 24％
となるような割合で含有し，そしてアルカリ金属酸化物を 0.22 ≦ Na2O／Na2O＋K2O≦ 0.60となるような重量割合で取り入れていて，且つ，厚さが少なくとも0.05ミクロンの表層における平均のNa2O含有量のイオン交換により強化された層における平均のNa2O含有量に対する比率が40％未満であること，及び／又は厚さが少なくとも0.05ミクロンの表層における平均のK2O含有量のイオン交換により強化された層における平均のK2O含有量に対する比率が60％未満であることを特徴とするガラス製基材。
　　【請求項１２】
　厚さが少なくとも0.05ミクロンの表層における平均のNa2O含有量のイオン交換により強化された層における平均のNa2O含有量に対する前記比率が20％未満であること，及び／又は厚さが少なくとも0.05ミクロンの表層における平均のK2O含有量のイオン交換により強化された層における平均のK2O含有量に対する前記比率が40％未満であることを特徴とする，請求項11記載のガラス製基材。
　　【請求項１３】
　平均の曲げ強度が240MPaより大きいことを特徴とする，請求項11又は12に記載のガラス製基材。
　　【請求項１４】
　平均の曲げ強度が300MPaより大きいことを特徴とする，請求項13記載のガラス製基材。
　　【請求項１５】
　平均した粗さＲｑが５オングストローム未満であることを特徴とする，請求項11〜14のいずれか一つに記載のガラス製基材。
　　【請求項１６】
　データ記憶装置における支持材として用いようとするものであることを特徴とする，請求項11〜15のいずれか一つに記載のガラス製基材。
　　【請求項１７】
　マトリックスが下記の成分を下記の重量割合で含有することを特徴とする，請求項11〜16のいずれか一つに記載のガラス製基材。
　　　　　　　SiO2　　　　　　　　 50.50％
　　　　　　　Al2O3　　　　　　　　11.85％
　　　　　　　CaO　　　　　　　　　 4.95％
　　　　　　　MgO　　　　　　　　　 4.25％
　　　　　　　Na2O　　　　　　　　　5.25％
　　　　　　　K2O　　　　　　　　　 5.50％
　　　　　　　BaO　　　　　　　　　 5.75％
　　　　　　　SrO　　　　　　　　　 7.90％
　　　　　　　ZrO2　　　　　　　　　4.05％」に補正するものである。
　
２−２．補正の適法性について
　本件補正は，補正前の独立請求項である請求項１，１２を削除し，それぞれに従属する請求項２，１３を新たな独立請求項とするとともに，それ以下の請求項の引用形式を整理するものであり，本件補正は，平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第１号に規定する請求項の削除を目的とするものに該当する。
　したがって，平成２０年５月２１日付けの手続補正は適法なものである。
　
３．本願発明
　本願の特許請求の範囲に記載された発明は，平成２０年５月２１日付け手続補正書の請求項１〜１７に記載された事項により特定されるとおりのものであり，その請求項１に記載された発明（以下「本願発明」という。）は，次のとおりのものである。
　
「表面のイオン交換強化工程を含む，ガラス基材を処理するための方法であって，ガラス基材として，下記の構成成分を下記の重量割合で含有するマトリックスを有し，
　　　　　　　SiO2　　　　　　　　 45〜65％
　　　　　　　Al2O3　　　　　　　　 0〜20％
　　　　　　　B2O3　　　　　　　　　0〜 5％
　　　　　　　Na2O　　　　　　　　　4〜12％
　　　　　　　K2O　　　　　　　　 3.5〜12％
　　　　　　　MgO　　　　　　　　　 0〜 8％
　　　　　　　CaO　　　　　　　　　 0〜13％
　　　　　　　ZrO2　　　　　　　　　0〜20％
酸化物SiO2，Al2O3及びZrO2の合計はこの組成物の70％以下にとどまり，当該組成物は酸化物BaO及び／又はSrOを，
　　　　　　　 11％ ≦ MgO＋CaO＋BaO＋SrO≦ 24％
となるような割合で含有し，そしてアルカリ金属酸化物は 0.22 ≦ Na2O／Na2O＋K2O≦ 0.60となるような重量割合で取り入れられているガラス基材を使用し，イオン交換工程後に基材の表面の脱アルカリを行うことを特徴とするガラス基材処理方法。」
　
４．特許法第１６２条に基づく審査において通知した拒絶の理由
　平成２０年９月２４日（起案日）付けで通知された拒絶の理由の概要は，本願発明は，引用文献１，２を引用した特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないというものである。
　
５．引用文献の記載事項
　引用文献１：特開昭５４−１４２２２６号公報
（１−ア）「２５０℃以上で且つソーダ石灰ガラスの歪点以下の温度域をもった熱処理炉において，公知のナトリウムイオンとカリウムイオンのイオン交換をさせたガラスを用い，これに脱アルカリ作用を有するガス，又は，脱アルカリ作用を有するガスを発生する薬剤を使用して，脱アルカリ程度を有効且つ適切に制御することにより，先にイオン交換により得られたガラスの機械的強度は低下させずに，化学的耐久性を向上させることを特徴とするソーダ石灰ガラスの表面層の処理方法。」（特許請求の範囲）
（１−イ）「本発明における方法とは，・・・即ち徐冷温度域以下でのイオン交換法によるガラスを指称するものであるが，この方法によるとは，即ちガラス表面層のアルカリイオンをこれより大きなイオン半径をもったイオンで交換し，ガラスの表面に圧縮応力層を作ることによって強化する方法の謂である。」（第１頁右下欄第９〜１６行）
（１−ウ）「本発明では実用上望ましい機械的強度を得るために必要なイオン交換層の厚さと，また実用上望ましい化学的耐久性を得るために必要な脱アルカリ層の厚さとにおいて，両者の間には各その処理した層の厚さに大いに差があることに着目した。従来一般に行われている酸性ガス等による脱アルカリ法においても，処理条件についての有効適切なる選定をすれば，イオン交換により得られた機械的強度を低下させることなく，化学的耐久性をも満足させるイオン交換後の脱アルカリ処理方法のあることを実験上知り得た。」（第２頁左上欄第１４行〜同頁右上欄第７行）
（１−エ）「以上は，ガラスびんに本発明を実施した場合の作用，効果であるが，本発明は板ガラス等にも実施ができてガラスびんと同効の耐水性，耐風化性を備え且つ機械的強度の向上した製品を得ることができる。」（第３頁左上欄第１２〜１７行）
（１−オ）「本発明は，未処理のガラスに対しては，公知のイオン交換法と併用して用いることができ，またすでにイオン交換されているガラスをそのまま用いても，ともに所望の目的を達することができる。」（第３頁左上欄第１７行〜同頁右上欄第３行）
（１−カ）「イオン交換の後に脱アルカリ処理を行うと，衝撃強度は低下する傾向にあるが，アルカリ溶出量は少なくなり，化学的耐久性の向上が認められ，しかも脱アルカリ程度により衝撃強度，アルカリ溶出量の各値が変化することがわかる。・・・しかし，・・・塩化アンモニウム量が０．３ｇや０．５ｇの脱アルカリ程度だと機械的強度は減少がほとんど見られず，イオン交換のみの場合とほとんど遜色はなく，また未処理のものに対しては，５０％の機械的強度向上があり，さらにアルカリ溶出量においても未処理のものの１０分の１となり，それぞれの値は本発明の目的を達するものである。」（第３頁右下欄第１行〜第４頁左上欄第９行）
　
引用文献２：特開平３−４０９３３号公報
（２−ア）「実質的に重量％表示で
　ＳｉＯ２　　　　　　　　　　　　　５５〜６５　　％　
　Ａｌ２Ｏ３　　　　　　　　　　　　　５〜１５　　％　
　ＣａＯ　　　　　　　　　　　　　　　３〜１２　　％　
　ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　　１７〜２５　　％　
　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　　　　　６〜１２　　％　
　ＺｒＯ２　　　　　　　　　　　　０．５〜６　　　％　
　ＳＯ３＋Ａｓ２Ｏ３＋Ｓｂ２Ｏ３　　　０〜０．５　％　
　ＳｎＯ２＋ＴｉＯ２　　　　　　　　　０〜３　　　％　
　Ｌａ２Ｏ３　　　　　　　　　　　　　０〜５　　　％　
からなる基板用ガラス組成物。」（特許請求の範囲）
（２−イ）「［産業上の利用分野］
　本発明はガラス組成物に関し，特に蛍光表示管，プラズマデイスプレー，液晶表示管等のデイスプレー用基板および厚膜回路形成用基板に用いるガラス基板組成物に関する。」（第１頁左下欄第１７行〜同頁右下欄第２行）
（２−ウ）「デイスプレーの軽量化の要求もあり，薄板化する必要がある。」（第２頁左上欄第２〜３行）
（２−エ）「従前のソーダライムガラスに比しアルカリ成分を低減することにより，アルカリマクグレージョンの抑制，化学的耐久性の機能が向上するガラス基板用組成物の提供を目的とする。」（第２頁左上欄第１２〜１６行）
（２−オ）「　　
　」（第３頁右上欄）
　
６．対比・判断
　引用文献１には，記載事項（１−ア）から，「ナトリウムイオンとカリウムイオンのイオン交換をさせたガラスを用い，これに脱アルカリ作用を有するガス，又は，脱アルカリ作用を有するガスを発生する薬剤を使用して，脱アルカリ程度を有効且つ適切に制御することにより，先にイオン交換により得られたガラスの機械的強度は低下させずに，化学的耐久性を向上させる・・・ソーダ石灰ガラスの表面層の処理方法」が記載されているといえる。
　そして，記載事項（１−ウ）に，「イオン交換により得られた機械的強度を低下させることなく，化学的耐久性をも満足させるイオン交換後の脱アルカリ処理方法のあることを実験上知り得た」との記載が，記載事項（１−カ）に，「イオン交換の後に脱アルカリ処理を行う」との記載があることから，前記「脱アルカリ程度を有効且つ適切に制御する」ことは，言い換えれば，脱アルカリ処理を行うことといえる。
　また，記載事項（１−オ）には，「本発明は，未処理のガラスに対しては，公知のイオン交換法と併用して用いることができ」と記載されていることから，既にイオン交換をさせたガラスを用いる処理方法だけでなく，イオン交換工程を含み，イオン交換工程後に脱アルカリ処理を行う方法も記載されているということができる。
　したがって，引用文献１の記載事項を本願発明の記載ぶりに則して整理すると，
「イオン交換工程を含む，ソーダ石灰ガラスの表面層を処理するための方法であって，イオン交換工程後に脱アルカリ処理を行うソーダ石灰ガラスの表面層の処理方法。」
の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
　そこで，本願発明と引用発明とを対比すると，引用発明の「ソーダ石灰ガラス」は，イオン交換及び脱アルカリが行われるガラスであるという点からみて，本願発明の「ガラス基材」に相当するものといえる。そして，本願発明の「ガラス基材」の組成は，SiO2を最も多く含み，Na2O（ソーダ成分）を必須成分とし，CaO（石灰成分）を含み得るものであるから，引用発明の「ソーダ石灰ガラス」は，その組成についても，本願発明の「ガラス基材」と重複するものとみることができる。
　また，引用発明のイオン交換及び脱アルカリは，記載事項（１−イ）に，「ガラス表面層のアルカリイオンをこれより大きなイオン半径をもったイオンで交換し，ガラスの表面に圧縮応力層を作ることによって強化する方法」と記載されていること，記載事項（１−ウ）に「本発明では実用上望ましい機械的強度を得るために必要なイオン交換層の厚さと，また実用上望ましい化学的耐久性を得るために必要な脱アルカリ層の厚さとにおいて，両者の間には各その処理した層の厚さに大いに差があることに着目した」と記載されていることからみて，いずれもガラス基材表面の処理であるといえ，引用発明の「イオン交換工程」は，本願発明の「表面のイオン交換強化工程」に相当し，引用発明の「脱アルカリ処理を行う」ことは，本願発明の「基材の表面の脱アルカリを行う」ことに相当するものということができる。
　そうすると，本願発明と引用発明とは，
「表面のイオン交換強化工程を含む，ガラス基材を処理するための方法であって，イオン交換工程後に基材の表面の脱アルカリを行うガラス基材処理方法」
である点で一致し，以下の点で相違している。
　
相違点Ａ：
　本願発明では，ガラス基材として，下記の構成成分を下記の重量割合で含有するマトリックスを有し，
　　　　　　　SiO2　　　　　　　　 45〜65％
　　　　　　　Al2O3　　　　　　　　 0〜20％
　　　　　　　B2O3　　　　　　　　　0〜 5％
　　　　　　　Na2O　　　　　　　　　4〜12％
　　　　　　　K2O　　　　　　　　 3.5〜12％
　　　　　　　MgO　　　　　　　　　 0〜 8％
　　　　　　　CaO　　　　　　　　　 0〜13％
　　　　　　　ZrO2　　　　　　　　　0〜20％
酸化物SiO2，Al2O3及びZrO2の合計はこの組成物の70％以下にとどまり，当該組成物は酸化物BaO及び／又はSrOを，
　　　　　　　 11％ ≦ MgO＋CaO＋BaO＋SrO≦ 24％
となるような割合で含有し，そしてアルカリ金属酸化物は 0.22 ≦ Na2O／Na2O＋K2O≦ 0.60となるような重量割合で取り入れられているガラス基材を使用するのに対し，引用発明では，ソーダ石灰ガラスを使用するものではあるが，上記組成範囲内のガラスに特定されない点
　
　上記相違点Ａについて検討する。
　まず，本願発明におけるガラス組成の特定についてみると，請求人は，審判請求書において，「この参考文献のガラス組成物は，３頁右上欄の表から明らかなとおり，本願発明のガラスが含有しない，Ｌｉ2Ｏ，ＳＯ2，Ａｓ2Ｏ3，Ｓｂ2Ｏ3，ＳｎＯ2，ＴｉＯ2のいずれかを含有します。」等と主張しており，本願請求項１に記載されていない成分を含まないガラス組成に特定されているかのような主張をしている。しかしながら，本願請求項１には，「下記の構成成分を下記の重量割合で含有する」と記載されており，本願明細書を参照しても，本願請求項１に記載された成分以外の成分を含まない旨説明した記載は見あたらないことから，例えば「・・・からなる」と記載される場合とは異なり，本願発明において特定されているガラス組成は，本願請求項１に明記された成分以外の成分をも含有し得るものと解するのが通常の解釈である。
　そして，引用文献２には，記載事項（２−オ）に，SiO2，Na2O（ソーダ成分）及びCaO（石灰成分）を含有するガラス組成が記載されており，その本発明例Ａ，Ｂ，Ｅ，Ｆ，Ｈのガラス組成は，以下のとおりのものである。
「本発明例Ａ」のガラス組成は，SiO2：56wt%，Al2O3：10wt%，MgO：2wt%，CaO：10wt%，BaO：8wt%，Na2O：3wt%，K2O：6.7wt%，ZrO2：2wt%，（As2O3：0.3wt%，SnO2：0.5wt%，TiO2：1.5wt%）であり，MgO＋CaO＋BaO（＋SrO）＝20wt%，Na2O／Na2O＋K2O＝0.31wt%である。
「本発明例Ｂ」のガラス組成は，SiO2：60wt%，Al2O3：8wt%，MgO：2wt%，CaO：10wt%，SrO：2wt%，BaO：8wt%，（Li2O：0.5wt%），Na2O：2wt%，K2O：5.2wt%，ZrO2：2wt%，（Sb2O3：0.3wt%）であり，MgO＋CaO＋BaO＋SrO＝22wt%，Na2O／Na2O＋K2O＝0.28wt%である。
「本発明例Ｅ」のガラス組成は，SiO2：58wt%，Al2O3：7wt%，MgO：2wt%，CaO：11wt%，BaO：9wt%，Na2O：3wt%，K2O：6wt%，ZrO2：3wt%，（SnO2：0.5wt%，TiO2：0.5wt%）であり，MgO＋CaO＋BaO（＋SrO）＝22wt%，Na2O／Na2O＋K2O＝0.33wt%である。
「本発明例Ｆ」のガラス組成は，SiO2：58wt%，Al2O3：10wt%，MgO：4wt%，CaO：9wt%，SrO：3.8wt%，BaO：3wt%，Na2O：4wt%，K2O：6wt%，ZrO2：2wt%，（SO3：0.2wt%）であり，MgO＋CaO＋BaO＋SrO＝19.8wt%，Na2O／Na2O＋K2O＝0.4wt%である。
「本発明例Ｈ」のガラス組成は，SiO2：60wt%，Al2O3：8wt%，CaO：10wt%，SrO：3wt%，BaO：6.6wt%，Na2O：6wt%，K2O：4wt%，ZrO2：2wt%，（SO3：0.2wt%，Sb2O3：0.2wt%）であり，MgO＋CaO＋BaO＋SrO＝19.6wt%，Na2O／Na2O＋K2O＝0.6wt%である。
　ここで，引用文献２記載の「ｗｔ％」は本願発明の「重量割合」に相当する。引用文献２に記載された上記ガラス組成は，本願請求項１には組成範囲が記載されていない，Li2O，SO3，As2O3，Sb2O3，SnO2又はTiO2（上記組成において括弧内に記載した成分）を少量含んでいるが，上述のとおり，本願発明において特定されるガラス組成は，本願請求項１に明記された成分以外の成分をも含有し得るものであるから，引用文献２記載の上記各ガラス組成は，本願発明において特定されるガラス組成の範囲に含まれるものである。なお，引用文献２の記載事項（２−ア）に，「ＳＯ３＋Ａｓ２Ｏ３＋Ｓｂ２Ｏ３　０〜０．５％　　ＳｎＯ２＋ＴｉＯ２　０〜３％」と記載されているとおり，ＳＯ３，Ａｓ２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３，ＳｎＯ２，ＴｉＯ２は引用文献２記載の発明においては必須とされない任意成分である。
　さらに，引用文献２には，記載事項（２−エ）に，「アルカリマクグレージョンの抑制，化学的耐久性の機能が向上するガラス基板用組成物の提供を目的とする。」と記載されており，これは，引用文献１の記載事項（１−ア）に記載された「化学的耐久性を向上させる」という引用発明の目的と共通するものである。そして，引用文献２の記載事項（２−イ）には，「本発明はガラス組成物に関し，特に蛍光表示管，プラズマデイスプレー，液晶表示管等のデイスプレー用基板および厚膜回路形成用基板に用いるガラス基板組成物に関する。」と記載されているところ，記載事項（２−ウ）に，「デイスプレーの軽量化の要求もあり，薄板化する必要がある」と記載されているように，簿板化が進められることによって当然強度の低下が懸念されるディスプレー用ガラス基板に対して，イオン交換による強化処理が検討されることは，当業者において周知の技術的事項である（要すれば，特開平３−２９０３３５号公報の第１頁右下欄〜第２頁左下欄，特開平７−１０１７４８号公報の段落【０００１】，【０００２】，【００３０】を参照。）。そうすると，イオン交換により得られたガラスの機械的強度は低下させずに化学的耐久性を向上させる引用発明のソーダ石灰ガラスの表面層の処理方法を，引用文献２に記載された上記各ガラス組成を有するディスプレー用ガラス基板に対して適用することは，当業者が格別の困難なくなし得ることである。
　なお，請求人は，審判請求書において，「ガラス基材に関わる当業者とガラスびんに関わる当業者とでは，自ずと関心事が非常に異なるため，ガラス基材に関わる当業者がガラスびんの技術に関連した引用例１（当審注：本審決における引用文献１）の記載を考慮することはありません。」と主張しているが，引用文献１の記載事項（１−エ）には，「本発明は板ガラス等にも実施ができてガラスびんと同効の耐水性，耐風化性を備え且つ機械的強度の向上した製品を得ることができる」と記載されており，引用文献１では板ガラスへの適用も示唆されていることから，当該請求人の主張は採用できない。
　また，本願発明の効果について，請求人は，審判請求書において，「イオン交換による表面強化工程は，化学強化によって有利に行われ，それによりガラス基材表面の機械的強度がもたらされます。より詳しく言えば，ガラス基材表面の応力が変更され，ガラス基材の機械的特性が，特に曲げ強さと，読み取りヘッドによる衝撃及び破壊（クラッシュ）に対する耐性に関して，上昇します。
　二番目の表面脱アルカリ工程は，イオン交換により表面強化したガラス基材から表面のイオンを除去するものです（本願明細書４頁５〜６行参照）。そしてこの二番目の工程が，本願発明の本質的な特徴となっています。
　本願発明者らは，その後のイオンの放出を減らしあるいはなくしさえするために，ガラス基材を，好ましくはその前に化学強化を行ったよりも浅いところまで，脱アルカリすることが，例えば化学強化により得られる，機械的特性を保持できるようにすることを見いだしました（本願明細書４頁６〜９行参照）。
　こうして得られたガラス基材は，湿分の存在下で有害な影響をもたらして記録データの破壊を招くアルカリ金属を放出することのない，薄い磁気フィルムのための支持体として使用することができます。」と述べているが，これは，引用文献１の記載事項（１−ア）の，「イオン交換により得られたガラスの機械的強度は低下させずに，化学的耐久性を向上させる」こと，同（１−ウ）の，「実用上望ましい機械的強度を得るために必要なイオン交換層の厚さと，また実用上望ましい化学的耐久性を得るために必要な脱アルカリ層の厚さとにおいて，両者の間には各その処理した層の厚さに大いに差がある」こと，及び，同（１−カ）の，「イオン交換の後に脱アルカリ処理を行うと，衝撃強度は低下する傾向にあるが，アルカリ溶出量は少なくなり，化学的耐久性の向上が認められ，・・・しかし，・・・塩化アンモニウム量が０．３ｇや０．５ｇの脱アルカリ程度だと機械的強度は減少がほとんど見られず，イオン交換のみの場合とほとんど遜色はなく，また未処理のものに対しては，５０％の機械的強度向上があり，さらにアルカリ溶出量においても未処理のものの１０分の１とな」ることと本質的に同じ作用・効果であり，引用文献１の記載に基づいて当業者が予測し得るものである。なお，本願請求項１には，例えば請求項１６に記載されているような，ガラス基材がデータ記憶装置における支持材として用いるものであることについて特定する記載はなく，データ記憶装置に用いた場合に奏される効果についての主張は採用することができない。
　
　したがって，本願発明は，引用文献１，２に記載された発明及び当該技術分野における周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
７．むすび
　以上のとおりであるから，本願の請求項１に係る発明は，引用文献１，２に記載された発明及び当該技術分野における周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により，特許を受けることができない。
　したがって，その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく，本願は拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。