【手続補正書】
【提出日】平成23年5月2日(2011.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの光ファイバと、
前記光ファイバの周囲に位置付けられ、少なくとも第１バッファ層と前記第１バッファ層を被覆する第２バッファ層とを有するバッファであって、前記第２バッファ層が、連続付加工程を用いて前記第１バッファ層にわたって形成された連続材料層である、バッファと、
前記バッファの周囲に位置付けられたスリップ層であって、当該スリップ層が、低表面摩擦フィルムで形成されている、スリップ層と、
前記スリップ層の周囲に位置付けられた強化層と、
前記強化層の周囲に位置付けられた外側ジャケットと、
を有することを特徴とする光ファイバケーブル。
【請求項２】
前記第１バッファ層は、０．３ｇｍｓ／ｃｃから１．９ｇｍｓ／ｃｃの範囲にある密度を有する延伸ＰＴＦＥ層を含むことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項３】
前記第２バッファ層は、１．０ＧＰａから１０．０ＧＰａの範囲にある曲げ弾性率を有する高曲げ弾性率材料を含むことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項４】
前記第２バッファ層は、ポリイミド材料から形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項５】
前記第２バッファ層は、被覆工程と押出成形工程との少なくとも一方を含む連続付加工程において付加されることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項６】
前記被覆工程は、以下の工程、すなわちパウダー被覆工程、ディップ被覆工程及び分散被覆工程の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項５に記載の光ファイバケーブル。
【請求項７】
前記押出成形工程は、以下の工程、すなわちスクリュー押出成形工程及び溶融ポンプ押出成形工程の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項５に記載の光ファイバケーブル。
【請求項８】
前記第２バッファ層は、０．０００５インチから０．００５０インチの範囲の厚さを有することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項９】
前記第２バッファ層は、ポリフェニリン・サルファイド、ポリフェニリン・サルフォン、ポリフェニリン・オキシド、ポリエーテルケトン、液体結晶ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド及びポリイミドからなるグループから選択された少なくとも１つの材料を含むことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項１０】
前記第１バッファ層の外面は、当該外面を改質するために前処理されており、
前記第２バッファ層は、改質された前記第１バッファ層の外面にわたって連続付加工程において付加されることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項１１】
前記スリップ層は、フルオロポリマー及びポリイミドからなるグループから選択された材料から形成されたフィルムを有することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項１２】
前記スリップ層は、切削ＰＴＦＥ材料から形成されたフィルムを有することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項１３】
前記スリップ層は、０．０００５インチから０．００２０インチの範囲にある厚さを有することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項１４】
前記スリップ層は、長手方向で巻き付けられたテープを有することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項１５】
前記第１バッファ層は、延伸ＰＴＦＥを含むことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバケーブル。
【請求項１６】
少なくとも１つの光ファイバと、
前記光ファイバの周囲に位置付けられ、第１バッファ層と前記第１バッファ層を被覆する第２バッファ層とを少なくとも有するバッファであって、前記第２バッファ層が、前記第１バッファ層にわたって付加された均質かつ連続的な材料層である、バッファと、
スリップ層の周囲に位置付けられた強化部材層と、
前記強化部材層の周囲に位置付けられた外側ジャケットと、
を備えることを特徴とする光ファイバケーブル。
【請求項１７】
前記第１バッファ層は、０．３ｇｍｓ／ｃｃから１．９ｇｍｓ／ｃｃの範囲にある密度を有する延伸ＰＴＦＥ層を含むことを特徴とする請求項１６に記載の光ファイバケーブル。
【請求項１８】
前記第２バッファ層は、被覆工程と押出成形工程との少なくとも一方を含む連続付加工程において付加されることを特徴とする請求項１６に記載の光ファイバケーブル。
【請求項１９】
前記第２バッファ層は、０．０００５インチから０．００５０インチの範囲の厚さを有することを特徴とする請求項１６に記載の光ファイバケーブル。
【請求項２０】
前記第２バッファ層は、ポリフェニリン・サルファイド、ポリフェニリン・サルフォン、ポリフェニリン・オキシド、ポリエーテルケトン、液体結晶ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド及びポリイミドからなるグループから選択された少なくとも１つの材料を含むことを特徴とする請求項１６に記載の光ファイバケーブル。
【請求項２１】
光ファイバケーブルを形成する方法であって、
光ファイバに第１バッファ層を形成する工程と、前記第１バッファ層にわたって均質な材料から連続的な第２バッファ層を形成する工程と、によって少なくとも１つの前記光ファイバの周囲にバッファを位置付ける工程と、
前記バッファの周囲にスリップ層を位置付ける工程であって、前記スリップ層が低表面摩擦フィルムで形成されている、工程と、
前記スリップ層の周囲に強化部材層を位置付ける工程と、
前記強化部材層の周囲に外側ジャケットを位置付ける工程と、
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２２】
前記第１バッファ層は、０．３ｇｍｓ／ｃｃから１．９ｇｍｓ／ｃｃの範囲にある密度を有する延伸ＰＴＦＥ層を含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記第２バッファ層は、１．０ＧＰａから１０．０ＧＰａの範囲にある曲げ弾性率を有する高曲げ弾性率材料を含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
前記第２バッファ層をポリイミド材料からなる連続層で形成する工程をさらに備えることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
被覆工程と押出成形工程との少なくとも一方を含む連続付加工程において前記第２バッファ層を付加する工程をさらに備えることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
前記被覆工程は、以下の工程、すなわちパウダー被覆工程、ディップ被覆工程及び分散被覆工程の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記押出成形工程は、以下の工程、すなわちスクリュー押出成形工程及び溶融ポンプ押出成形工程の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
前記第２バッファ層は、０．０００５インチから０．００５０インチの範囲の厚さを有することを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２９】
前記第２バッファ層は、ポリフェニリン・サルファイド、ポリフェニリン・サルフォン、ポリフェニリン・オキシド、ポリエーテルケトン、液体結晶ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド及びポリイミドからなるグループから選択された少なくとも１つの材料を含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項３０】
前記第１バッファ層の外面を前処理して前記外面を改質する工程と、
改質された前記第１バッファ層の外面にわたって連続付加工程において付加する工程と、
をさらに備えることを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項３１】
前記スリップ層は、フルオロポリマー及びポリイミドからなるグループから選択された材料から形成されたフィルムを有することを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項３２】
前記スリップ層は、切削ＰＴＦＥ材料から形成されたフィルムを有することを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項３３】
前記スリップ層は、０．０００５インチから０．００２０インチの範囲にある厚さを有することを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項３４】
前記フィルムを前記バッファの周囲に長手方向で巻き付ける工程をさらに備えることを特徴とする請求項３２に記載の方法。
【請求項３５】
前記第１バッファ層を延伸ＰＴＥＦからなる連続層で形成することを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項３６】
光ファイバケーブルを形成する方法であって、
光ファイバケーブルに第１バッファ層を形成する工程と、前記第１バッファ層にわたって均質な材料から連続的な第２バッファ層を形成する工程と、によって少なくとも１つの前記光ファイバケーブルの周囲にバッファを形成する工程と、
前記バッファの周囲に強化部材層を位置付ける工程と、
前記強化部材層の周囲に外側ジャケットを位置付ける工程と、
を備えることを特徴とする方法。
【請求項３７】
前記第２バッファ層をポリイミド材料からなる連続層で形成する工程をさらに備えることを特徴とする請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
被覆工程と押出成形工程との少なくとも一方を含む連続付加工程において前記第２バッファ層を付加する工程をさらに備えることを特徴とする請求項３６に記載の方法。
【請求項３９】
前記第２バッファ層は、０．０００５インチから０．００５０インチの範囲の厚さを有することを特徴とする請求項３６に記載の方法。
【請求項４０】
前記第１バッファ層の外面を前処理して前記外面を改質する工程と、
改質された前記第１バッファ層の外面にわたって連続付加工程において付加する工程と、
をさらに備えることを特徴とする請求項３６に記載の方法。
【請求項４１】
前記第１バッファ層を延伸ＰＴＦＥからなる連続層で形成する工程をさらに備えることを特徴とする請求項３６に記載の方法。
【請求項４２】
少なくとも１つの光ファイバと、
前記光ファイバの周囲に位置付けられ、第１バッファ層と前記第１バッファ層を被覆する第２バッファ層とを有するバッファであって、前記第２バッファ層が、連続被覆工程または押出成形工程で前記第１バッファ層に付加されて連続的な当該第２バッファ層を前記第１バッファ層にわたって形成する均質な材料である、バッファと、
前記バッファの周囲に位置付けられた強化部材層と、
前記強化部材層の周囲に位置付けられた外側ジャケットと、
を備えることを特徴とする光ファイバケーブル。
【請求項４３】
少なくとも１つの光ファイバと、
前記光ファイバの周囲に位置付けられ、第１バッファ層と前記第１バッファ層を被覆する第２バッファ層とを有するバッファと、
を備え、
前記第２バッファ層が、連続的付加工程を用いて前記第１バッファ層にわたって形成された連続的な材料層であることを特徴とする光ファイバケーブル。
【請求項４４】
前記第１バッファ層は、０．３ｇｍｓ／ｃｃから１．９ｇｍｓ／ｃｃの範囲にある密度を有する延伸ＰＴＦＥ層を含むことを特徴とする請求項４３に記載の光ファイバケーブル。
【請求項４５】
前記第２バッファ層は、１．０ＧＰａから１０．０ＧＰａの範囲にある曲げ弾性率を有する高曲げ弾性率材料を含むことを特徴とする請求項４３に記載の光ファイバケーブル。
【請求項４６】
前記第２バッファ層は、ポリイミド材料で形成されていることを特徴とする請求項４３に記載の光ファイバケーブル。