【事件の表示】
　特願２０００−２３４２２７「磁気ディスク装置のサーボパターン形成方法及び磁気ディスク装置のサーボパターン形成装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　２月１５日出願公開、特開２００２−　５００３６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１２年８月２日の出願であって、平成２０年５月１５日付け拒絶理由通知に対する応答時、平成２０年７月１１日付けで手続補正がなされ、同年８月７日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年９月２日付けで拒絶査定不服審判請求及び手続補正がなされた。
　その後、平成２２年８月２５日付けで審尋がなされ、同年１０月１３日付けで回答書が提出されたものである。
　
２．平成２０年９月２日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２０年９月２日付けの手続補正を却下する。
［理　由］
（１）補正後の本願発明
　平成２０年９月２日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、
「【請求項１】
　基板上に磁性薄膜を有し
前記磁性薄膜の面側から第１の外部磁界を所定の方向に印加し前記磁性薄膜を予め均一に磁化し
の前記
前記
第２の
　エネルギー線を媒体表面
の前記磁性薄膜
前記
とともに、
前記第２の外部磁界は、前記磁性薄膜の面と反対の面から前記磁性膜に対し、前記第１の外部磁界の方向とは逆の方向に印加する
と補正された。
　上記補正は、
　ア．請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項である、基板上に磁性薄膜を有してなる「磁気記録媒体」について、「前記磁性薄膜の面側から第１の外部磁界を所定の方向に印加し前記磁性薄膜を予め均一に磁化し」てなるとの限定を付加するものであり、
　イ．同じく請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項である、磁性薄膜に「第２の外部磁界を印加する工程」について、「前記第２の外部磁界は、前記磁性薄膜の面と反対の面から前記磁性膜に対し、前記第１の外部磁界の方向とは逆の方向に印加する」との限定を付加するものである。
　よって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか）否かについて以下に検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平４−３４７４４号公報（以下、「引用例」という。）には、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した）。
　ア．「２．特許請求の範囲
　
記録層に垂直方向に第１の外部磁場を印加することにより上記記録層の磁化の方向を上記第１の外部磁場の方向にそろえた後、上記記録層に上記第１の外部磁場と逆方向の第２の外部磁場を印加した状態で記録すべき信号に対応した開口が形成されたマスクを用いて上記記録層にレーザ光を選択的に照射してこの照射部の上記記録層の磁化を反転させることにより信号を記録するようにした光磁気または磁気ディスクの製造方法
　
　イ．「〔実施例〕
　以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説明する。
　第１図Ａ〜Ｄは本発明の一実施例による光磁気または磁気ディスクの製造方法を工程順に示す断面図であり、第２図Ａ〜Ｄはそれぞれ第１図Ａ〜Ｄに対応する平面図である。 
　第１図Ａ及び第２図Ａに示すように、まず
基板１上に垂直磁化膜から成る記録層２が形成された光磁気または磁気ディスクに垂直方向に初期化用の外部磁場Ｈｉを印加する
　次に、
第１図Ｂ及び第２図Ｂに示すように、記録すべき信号に対応した多数の開口３ａが形成されたマスク３（第３図参照）を記録層２上に載せる。ここで、このマスク３は、後述のレーザ光５が透過しない材料により形成され、例えばこのレーザ光５が透過しない材料の膜をリソグラフィー及びエッチング技術を用いてパターニングすることにより形成される
　次に、第１図Ｃ及び第２図Ｃに示すように、例えば半導体レーザチップ（図示せず）を複数個ライン状に並べた半導体レーザアレイ４によりディスク径よりも幅の大きいライン状のレーザ光５を形成し、
記録層２上にマスク３が載せられた上述の光磁気または磁気ディスクをこの半導体レーザアレイ４の下側を例えばレーザ光５の長手方向に垂直方向に移動させることにより、マスク３の全面にレーザ光５を照射する。ここで、このレーザ光５の照射は、外部磁場Ｈｉと逆方向の外部磁場Ｈｗを記録層２に印加した状態で行う
この場合には、レーザ光５の照射により熱アシストが行われることから、Ｈｗ≪Ｈｃでよい。このようにしてマスク３の全面にレーザ光５を照射することにより、このマスク３の開口３ａを通過したレーザ光５により照射された部分の記録層２が選択的に加熱されてこの部分の温度が上昇する。そして、外部磁場Ｈｉと逆方向に印加された外部磁場Ｈｗにより、この温度が上昇した部分の記録層２の磁化が反転し、これによって信号が記録される
　このようにして、第１図Ｄ及び第２図Ｄに示すように、信号が記録された光磁気または磁気ディスクが製造される。」（２頁左下欄下から８行〜３頁左上欄末行）
　
　ウ．「〔発明の効果〕
　以上述べたように、本発明によれば、記録層に第１の外部磁場と逆方向の第２の外部磁場を印加した状態で記録すべき信号に対応した開口が形成されたマスクを用いて記録層にレーザ光を選択的に照射してこの照射部の記録層の磁化を反転させることにより信号を記録するようにしているので、
信号が記録された光磁気または磁気ディスクを容易に製造することができ、これによって再生専用の光磁気または磁気ディスクを大量複製することができる
　
　上記記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
「基板上に形成された垂直磁化膜から成る記録層に垂直方向に初期化用の第１の外部磁場を印加することにより上記記録層の磁化の方向を上記第１の外部磁場の方向にそろえた後、上記記録層に上記第１の外部磁場と逆方向の第２の外部磁場を印加した状態で記録すべき信号に対応した開口が形成されたマスクを用いて上記記録層にレーザ光を選択的に照射することにより、前記マスクの開口を通過したレーザ光により照射された部分の上記記録層は選択的に加熱されてこの部分の温度が上昇し、上記第２の外部磁場により、この温度が上昇した部分の上記記録層の磁化を反転させることによって上記信号を記録するようにした光磁気または磁気ディスクの製造方法。」
　
（３）対比
　そこで、本願補正発明と引用発明とを対比すると、
　ア．引用発明における「基板」、「垂直磁化膜から成る記録層」、初期化用の「第１の外部磁場」、「光磁気または磁気ディスク」、「第２の外部磁場」は、それぞれ本願補正発明における「基板」、「磁性薄膜」、「第１の外部磁界」、「磁気記録媒体」、「第２の外部磁界」にそれぞれ相当し、
　引用発明における「基板上に形成された垂直磁化膜から成る記録層に垂直方向に初期化用の第１の外部磁場を印加することにより上記記録層の磁化の方向を上記第１の外部磁場の方向にそろえた後」の「光磁気または磁気ディスク」は、本願補正発明の「基板上に磁性薄膜を有し」「第１の外部磁界を所定の方向に印加し前記磁性薄膜を予め均一に磁化してなる磁気記録媒体」に相当する。
　また、引用発明における「上記記録層に上記第１の外部磁場と逆方向の第２の外部磁場を印加した状態で記録すべき信号に対応した開口が形成されたマスクを用いて上記記録層にレーザ光を選択的に照射することにより、前記マスクの開口を通過したレーザ光により照射された部分の上記記録層は選択的に加熱されてこの部分の温度が上昇し、上記第２の外部磁場により、この温度が上昇した部分の上記記録層の磁化を反転させることによって上記信号を記録するようにした光磁気または磁気ディスクの製造方法」によれば、引用発明においても、記録層の選択的な加熱、すなわち本願補正発明における「前記磁性薄膜を局所的に加熱する工程」と、記録層への第２の外部磁場の印加、すなわち本願補正発明における「前記磁性薄膜に第２の外部磁界を印加する工程」とを有ている。そして、引用発明における「光磁気または磁気ディスクの製造方法」は、これら両工程により光磁気または磁気ディスクにおける記録層の磁化を反転させることによって信号の記録、すなわち磁化パターンを形成するものであるから、「磁気ディスク装置の（磁化）パターン形成方法」である点で本願補正発明と共通する。
　
　イ．引用発明における「レーザ光」、「記録すべき信号」は、それぞれ本願補正発明における「エネルギー線」、「形成すべき磁化パターン」に相当し、また、引用発明における「開口が形成されたマスク」は、開口をレーザ光が選択的すなわち部分的に通過するものであるから、本願補正発明における、エネルギー線を部分的に透過する「透過部を有するマスク」に相当し、
　引用発明における「上記記録層に上記第１の外部磁場と逆方向の第２の外部磁場を印加した状態で記録すべき信号に対応した開口が形成されたマスクを用いて上記記録層にレーザ光を選択的に照射することにより、前記マスクの開口を通過したレーザ光により照射された部分の上記記録層は選択的に加熱されてこの部分の温度が上昇し、上記第２の外部磁場により、この温度が上昇した部分の上記記録層の磁化を反転させることによって上記信号を記録する」は、結局、「エネルギー線を媒体表面の前記磁性薄膜に照射することにより前記磁性薄膜を局所的に加熱するにあたり、エネルギー線を部分的に透過する透過部を有するマスクを通すことにより、エネルギー線の強度分布を変化させ、形成すべき磁化パターンに応じた強度分布を有するパターン化エネルギー線を媒体表面に（照射）させるとともに、前記第２の外部磁界は、所定の面から
前記磁性膜
薄
　
　よって、本願補正発明と引用発明とは、
「基板上に磁性薄膜を有し第１の外部磁界を所定の方向に印加し前記磁性薄膜を予め均一に磁化してなる磁気記録媒体の前記磁性薄膜を局所的に加熱する工程と、前記磁性薄膜に第２の外部磁界を印加する工程とにより磁気ディスク装置の（磁化）パターンを形成する方法であって、
　エネルギー線を媒体表面の前記磁性薄膜に照射することにより前記磁性薄膜を局所的に加熱するにあたり、エネルギー線を部分的に透過する透過部を有するマスクを通すことにより、エネルギー線の強度分布を変化させ、形成すべき磁化パターンに応じた強度分布を有するパターン化エネルギー線を媒体表面に（照射）させるとともに、
　前記第２の外部磁界は、所定の面から前記磁性膜に対し、前記第１の外部磁界の方向とは逆の方向に印加することを特徴とする磁気ディスク装置の（磁化）パターン形成方法。」
である点で一致し、次の点で相違する。
［相違点１］
　形成される磁化パターンが、本願補正発明では「サーボ」パターンであるのに対し、引用発明ではそのような特定がない点。
　
［相違点２］
　形成すべき磁化パターンに応じた強度分布を有するパターン化エネルギー線の媒体表面への照射が、本願補正発明では「縮小結像」させるものであるのに対し、引用発明ではそのような特定がない点。
　
［相違点３］
　本願補正発明では、第１の外部磁界は「磁性薄膜の面側から」印加され、第２の外部磁界は「前記磁性薄膜の面と反対の面から」印加されるものであるのに対し、引用発明では、第１の外部磁場及び第２の外部磁場がそれぞれどの面側から印加されるのか明確な特定がない点。
　
（４）判断
　上記相違点について検討する。
［相違点１］について
　引用例には、「信号が記録された光磁気または磁気ディスクを容易に製造することができ、これによって再生専用の光磁気または磁気ディスクを大量複製することができる」と記載（前記「（２）ウ．」参照）されており、ここでいう記録される「信号」に、周知の磁気ディスクの場合に記録されるサーボパターンも含まれることは当然であり、引用発明において、記録すべき信号すなわち形成すべき磁化パターンとして、その一つであるサーボパターンに特定することも当業者が容易になし得ることである。
　
［相違点２］について
　媒体（基板）表面上に所定のパターンを形成する場合に、より微細なパターンを形成可能とするために、マスクと媒体表面との間に投影レンズを配するなどして、マスクのパターンに対応したパターンを媒体表面上に縮小結像（縮小投影）させるようにすることは、例えば原査定の拒絶の理由に引用された特開平１０−３０２３２６号公報（段落【００１３】〜【００１４】）、特開平９−２５９４２６号公報（段落【００２１】）、特開平９−９７４８２号公報（段落【００２３】）に記載のように周知の技術事項であり、引用発明においても、かかる周知の技術事項を採用し、マスクと媒体表面との間に投影レンズを配し、マスクの開口を通過した記録すべき信号のパターンに応じた強度分布を有するレーザ光を媒体表面に縮小結像させるようにすることは当業者であれば容易になし得ることである。
　
［相違点３］について
　まず、引用例の第１図における、第１の外部磁場Ｈｉの方向を示す矢印、及び第２の外部磁場Ｈｃの方向を示す矢印によれば、その表示位置からしてあたかも第１の外部磁場Ｈｉは記録層の面と反対の面側から印加され（すなわち、第１の外部磁場Ｈｉの印加手段が記録層の面と反対の面側に設けられ）、第２の外部磁場Ｈｃは記録層の面側から印加され（すなわち、第２の外部磁場Ｈｃの印加手段が記録層の面側に設けられ）ているかのようにもみえるが、この矢印は磁場（磁界）の方向を示しているにすぎずないと解するのが妥当である。
　そして、磁界が距離の二乗に反比例して弱くなる、ごく周知の法則からしても当然のことであるが、磁気記録再生技術の分野において薄膜状の磁気記録媒体に対しては当該磁気記録媒体である薄膜の側から磁界を印加するのはごく普通のことにすぎない。引用発明において、第１の外部磁場Ｈｉを印加する際には、上記のようなごく普通の方法をあえて避ける理由も存在しないから、「記録層の面側から」印加することは、当業者にとって当然の選択にすぎないものである。
　一方で、第２の外部磁場Ｈｃを印加する際、記録層の面側には、半導体レーザアレイのように光を照射するための要素が配置されることから、構造上の制約から、上記のようなごく普通の方法を採用できない理由もまた明らかであり、例えば特開平１−３００４４７号公報（第２図）、実願昭５８−１６５６６号（実開昭５９−１２５７２８号）のマイクロフィルム（第１図）等にて周知のように、前記光を照射する側とは反対の面側から外部磁場を印加する配置とすることにより「記録層の面と反対側の面から」磁界を印加することは、当業者が容易に想到し得ることである。
　
　そして、上記各相違点を総合的に判断しても本願補正発明が奏する効果は、引用発明及び周知の技術事項から当業者が十分に予測できたものであって、格別顕著なものがあるとはいえない。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　平成２０年９月２日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２０年７月１１日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された、次のとおりのものである。
「【請求項１】
　基板上に磁性薄膜を有してなる磁気記録媒体に、磁性薄膜を局所的に加熱する工程と、磁性薄膜に外部磁界を印加する工程とにより磁気ディスク装置のサーボパターンを形成する方法であって、
　エネルギー線を媒体表面に照射することにより磁性薄膜を局所的に加熱するにあたり、エネルギー線を部分的に透過する透過部を有するマスクを通すことにより、エネルギー線の強度分布を変化させ、形成すべき磁化パターンに応じた強度分布を有するパターン化エネルギー線を媒体表面に縮小結像させることを特徴とする磁気ディスク装置のサーボパターン形成方法。」
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由で引用れれた引用例及びその記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断
　本願発明は、前記「２．」で検討した本願補正発明の発明特定事項である「磁気記録媒体」について、「前記磁性薄膜の面側から第１の外部磁界を所定の方向に印加し前記磁性薄膜を予め均一に磁化し」てなるとの限定を省き、同じく発明特定事項である「第２の外部磁界を印加する工程」について、「前記第２の外部磁界は、前記磁性薄膜の面と反対の面から前記磁性膜に対し、前記第１の外部磁界の方向とは逆の方向に印加する」との限定を省いたものに相当する。
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、更に他の限定事項を付加したものに相当する本願補正発明が前記「２．（４）」に記載したとおり、引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。