【事件の表示】
　特願２００７−２３６８７６「少なくとも２波長を使用するリソグラフィ装置用アライメント・システム」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年１２月２７日出願公開，特開２００７−３３５９０６〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は，成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は，平成１５年９月１９日に出願した特願２００３−３６６６５８号（パリ条約による優先権主張　２００２年９月２０日及び９月２６日　アメリカ合衆国、並びに２００３年４月１日及び５月１２日　欧州特許庁）の一部を平成１９年９月１２日に新たに特許出願したものであって，平成２０年１０月３１日付で拒絶査定がなされ，これに対して平成２１年２月２日付で拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに，平成２１年３月２日付で手続補正がなされたものである。
　さらに，当審において審尋したところ，審判請求人から平成２２年１０月２６日付で回答書が提出されたものである。
　
２．平成２１年３月２日付手続補正について
　平成２１年３月２日付手続補正（以下「本件補正」という。）は，補正前の特許請求の範囲の請求項１に記載の，「アライメント・マークの位置を決定する」内容について「前記第２の波長で検出されたアライメント放射に対する前記第１の波長で検出された前記アライメント放射の相対的な強度」を「前記第１の波長で検出されたアライメント放射と前記第２の波長で検出されたアライメント放射との和に対する前記第１の波長で検出された前記アライメント放射の相対的な強度」に補正することを明らかにしたものであるから，不明りょうな記載の釈明に該当する。また，請求項２３，４５，６４，８５，１０７，１２９における補正も，実質的に同様である。
　また，上記補正は新規事項を追加するものではない。そして，上記補正事項は，平成１８年法律第５５号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第４号の明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
　したがって，本件補正は適法な補正であると認められる。
　
３．本願発明
　本願の請求項１〜１２９に係る発明は，平成２１年３月２日付手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜１２９に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ，その請求項１に係る発明（以下，「本願発明」という。）は，以下のとおりである。
「リソグラフィ装置用のアライメント・システムであって，
　第１の波長と第２の波長を有するアライメント放射の供給源と，
　前記第１の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第１の波長チャネル，及び前記第２の波長で前記アライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第２の波長チャネルを備える検出システムと，
　前記検出システムと連絡している位置決定ユニットとを備え，
　前記位置決定ユニットが，前記第１及び第２の波長チャネルからの情報を組み合わせて処理して，前記第１の波長チャネルからの情報，前記第２の波長チャネルからの情報，及び前記第１の波長で検出されたアライメント放射と前記第２の波長で検出されたアライメント放射との和に対する前記第１の波長で検出された前記アライメント放射の相対的な強度に従って組み合わされた前記第１及び第２の波長チャネルからの情報，のうちの１つに基づいて前記アライメント・マークの位置を決定するアライメント・システム。」
　
４．引用例の記載
　原査定の拒絶の理由に引用された，本願優先日前に日本国内または外国において頒布された刊行物である特開平１０-２２２０７号公報（原査定における引用文献５．以下，「引用例１」という。）には，図面とともに以下の事項が記載されている。（以下，下線は当審にて付与。）
　
（１ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，
ヘテロダイン干渉方式で格子状マークの位置を検出する位置検出装置
フォトリソグラフィ工程でマスクパターンを感光基板上に転写するために用いられる投影露光装置に備えられ，感光基板上のアライメントマークの位置を検出するためのアライメントセンサに使用
　
（１ｂ）「【０００３】従来のアライメントセンサ中で，特に高精度に位置検出を行うことができるセンサの方式として，例えば特開平２−２２７６０２号公報で開示されているように，
回折格子状のアライメントマークに対して可干渉で僅かに周波数の異なる１対のレーザビームを検出光として照射し，そのマークから同一方向に発生する１対の回折光からなる干渉光（ヘテロダインビーム）を光電変換して得られるビート信号の位相に基づいて，そのマークの位置を検出する所謂２光束ヘテロダイン干渉方式が知られている
【０００４】これに関して，一般にウエハの表面に形成されるアライメントマークは段差を有する凹凸マークであるが，半導体加工工程のエッチングやスパッタリング等のプロセスにより，あるいはフォトレジストの塗布むらにより，多少の非対称性を有している。そして，この非対称性が位置検出精度を低下させる。
ＬＩＡ方式においては，アライメントマークの非対称性はそのマークの振幅反射率の非対称性として位置検出精度に悪影響を及ぼす
アライメントマークに非対称性（中心に関して対称な位置でのマークの深さの差，あるいはレジスト厚の差）があると，そのマークの振幅反射率（深さ及びレジスト厚により絶対値及び位相が変化する）に非対称性が生じる
＋１次回折光と，それとは逆の方向に生じる−１次回折光とで強度や位相が異なったものとなってしまう
位相の相違により位置検出値に大きな誤差を生じることになる
【０００５】ところで，
アライメントマークの振幅反射率は
検出光の波長によっても大きく変動する
ＬＩＡ方式のアライメントセンサの検出光が単色光である場合には
そのマークから発生する特定次数の回折光からなる干渉光の強度が低下
マークの位置の検出精度が極端に悪化することがある
【０００６】図１０は，そのように単色の検出光を用いて，所定膜厚のフォトレジストが塗布されたウエハ上の所定段差の回折格子状のアライメントマークの位置をＬＩＡ方式で検出する場合の検出誤差のシミュレーション結果を示し，この図１０において，横軸は検出光の波長（μｍ）を示している。そして，点線の曲線５８Ｂは，そのマークから垂直上方に発生する±１次回折光よりなる干渉光（ビート周波数で強度が正弦波状に変化している光束）の光量変化の振幅を示し，これに対応する図１０の縦軸はその光量変化の振幅の相対値を表す。また，実線の曲線５８Ａは，その干渉光の位相より検出されるマーク位置の検出誤差を示し，これに対応する図１０の縦軸はその検出誤差（μｍ）を表している。
【０００７】なお，図１０，及び後述の図１１に示したシミュレーション結果は，共に或る程度の非対称性を持ったアライメントマークについての解析結果である。
図１０より分かるように，その干渉光の振幅（曲線５８Ｂ）が小さくなると，そのマーク位置の検出誤差（曲線５８Ａ）が大きくなる
【０００８】そこで，或る単一の波長で干渉光の光量変化の振幅が極端に小さくなるようなマーク条件下での検出精度の悪化を避けるために，検出光を複数波長化して，これら複数の波長毎の干渉光を同時に受光し，合成された干渉光の光量変化に基づいてアライメントマークの位置を検出する所謂「多波長ＬＩＡ方式」が提案されている。検出光の波長を複数とすれば，各波長によってそのマークの振幅反射率が異なり，ひいては位置検出結果も異なったものとなる。従って，
検出光の波長を複数とし，実質的に各々より得られる位置検出値を平均化することにより，より高精度の位置検出が可能となる
　
（１ｃ）「【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明による第１の位置検出装置は，例えば図１及び図２に示すように，
被検物（Ｗ）上に形成された格子状の位置検出マーク（９）に対して，それぞれ互いにコヒーレントで所定の周波数差を有する第１及び第２の光ビームよりなり互いに波長の異なる複数対の光ビーム（Ｌ
1p
，Ｌ
1m
，Ｌ
2p
，Ｌ
2m
，Ｌ
3p
，Ｌ
3m
）を照射し，それら互いに波長の異なる複数対の光ビームのそれぞれについて，位置検出マーク（９）より所定の同一方向に発生する複数の回折光よりなる干渉光（Ｌｄ）を受光し，この受光された干渉光に基づいて位置検出マーク（９）の位置を検出する位置検出装置において
互いに波長の異なる複数対の光ビームのそれぞれについて位置検出マーク（９）より発生する干渉光（Ｌｄ）をまとめて受光する光電検出器（ＰＤ）と，この光電検出器による光電変換信号（Sig ）より
互いに異なる周波数差に対応した異なる周波数の複数の信号成分（Sig1，Sig2，Sig3）を抽出するフィルタ手段（２０）と，を備え，このフィルタ手段からの複数の信号成分に基づいて位置検出マーク（９）のそれら異なる波長毎の位置を求める
【００１６】斯かる本発明によれば，互いに波長の異なる複数対の光ビームを用いることによって，多波長ＬＩＡ方式で位置検出マーク（９）の位置検出が行われる。検出光の波長を複数とすれば，
ひいては位置検出結果も異なったものとなる
複数波長の干渉光の各々より得られる位置検出値を例えば平均化することにより
より高精度の位置検出が可能となる
【００１７】本発明では検出光学系を簡素化するため，位置検出マーク（９）に照射される
波長の異なる複数対の光ビームを波長毎に異なる周波数差で周波数変調する。ＬＩＡ方式では，位置検出マーク（９）に照射される各対の光ビームは所定の周波数差を有し，この周波数差が得られるビート信号の周波数（ビート周波数）となるため，本発明では波長毎のビート周波数が異なるようになる。従って，
合成された干渉光を光電検出器（ＰＤ）で受光し，光電検出器（ＰＤ）から出力される光電変換信号を例えばそれぞれ異なるビート周波数の信号を通過させる複数のバンドパスフィルタ回路に供給することによって，各波長毎のビート信号が得られ，これらのビート信号の位相より各波長毎の位置検出マーク（９）の位置が求められる
【００１８】この場合，
位置検出マーク（９）のそれら異なる波長毎の位置に，光電検出器（９）による光電変換信号より抽出したそれら複数の信号成分中の対応する信号成分の振幅の大きさ，及び位置検出マーク（９）に照射されるそれら複数対の光ビーム中の対応する光ビームの強度の逆数にそれぞれ比例する重みを乗じて平均した加重平均をもって，位置検出マーク（９）の位置とする
【００１９】これに関して，既に説明した通り，一般に或る波長の干渉光の光量変化の振幅，ひいてはその波長の信号成分の振幅が小さいと，その波長による位置検出値は大きな誤差を含んでいる確率が高い。従って，その波長の信号成分の振幅に比例する重みをその波長の検出値に乗ずることで，その検出値の重み付けが行われる。但し，
その信号成分の振幅は，位置検出マーク（９）に照射される段階でのその波長の光ビームの強度にも比例する
この照射段階での光ビームの強度をも計測しておき
の強度の逆数でその重みを補正することによって
より正確な重み付けが行われる
　
（１ｄ）「【００２９】
　図１は，本例のアライメント光学系５５の要部の概略構成，及び
信号処理系
光源系
光源系において
　
（１ｅ）「【００３１】例えば音響光学素子Ａ1p及びＡ1mから射出される回折光よりなる光束Ｌ1p及びＬ1mは，それぞれレーザ光源６１Ａからの射出時に比べて周波数が８０ＭＨｚ及び（８０ＭＨｚ＋Δｆ１）だけシフトしている。但し，一般にレーザビームＬ10等の光の周波数はＴＨｚのオーダであり，音響光学素子における周波数のシフト量は極めて僅かな値に過ぎないため，光束Ｌ1p及びＬ1mの波長はほぼλ1 のままであるとみなすことができる。同様に，音響光学素子Ａ2p及びＡ2mから射出される回折光よりなる光束Ｌ2p及びＬ2mは，それぞれ周波数が８０ＭＨｚ及び（８０ＭＨｚ＋Δｆ２）だけシフトし，音響光学素子Ａ3p及びＡ3mから射出される回折光よりなる光束Ｌ3p及びＬ3mは，それぞれ周波数が８０ＭＨｚ及び（８０ＭＨｚ＋Δｆ３）だけシフトしている。従って，第１の１対の光束Ｌ1p，Ｌ1mの周波数差Δｆ１，第２の１対の光束Ｌ2p，Ｌ2mの周波数差Δｆ２，及び第３の１対の光束Ｌ3p，Ｌ3mの周波数差Δｆ３は互いに異なっている。
【００３２】　そして，
第１の１対の光束Ｌ
1p
，Ｌ
1m
第２の１対の光束Ｌ
2p
，Ｌ
2m
その後，それら２対の光束は，波長λ
1
,λ
2
 の光束を透過して波長λ
3
 の光束を反射するダイクロイックミラーＤＭ３によって第３の１対の光束Ｌ
3p
，Ｌ
3m
と平行になって，図１のアライメント光学系５５の検出系に入射する
　
（１ｆ）「【００３４】図１において，図２の光源系から供給された第１の１対の光束Ｌ1p，Ｌ1m，第２の１対の光束Ｌ2p，Ｌ2m，及び第３の１対の光束Ｌ3p，Ｌ3mは，光軸に関してほぼ対称に調整光学系４に入射し，その後各対の一方の光束Ｌ1p，Ｌ2p，Ｌ3pは，調整光学系５を経てハーフミラーＨＭに入射し，各対の他方の光束Ｌ1m，Ｌ2m，Ｌ3mは調整光学系６を経てハーフミラーＨＭに入射する。調整光学系４，５，６は，それぞれ傾斜角可変の平行平板ガラス（ハービング）よりなり，傾斜角の調整によって入射する光束を２次元的に横ずれさせることができる。
【００３５】そして，ハーフミラーＨＭで反射された３対の光束Ｌ1p，Ｌ1m，光束Ｌ2p，Ｌ2m，及び光束Ｌ3p，Ｌ3mは，それぞれ対物レンズ７によって，ウエハＷ上のＸ軸のアライメントマーク９上に交差するように入射し，
アライメントマーク９上に干渉縞が形成される
【００３６】また，３対の光束Ｌ1p，Ｌ1m（波長λ1)，光束Ｌ2p，Ｌ2m（波長λ2)，及び光束Ｌ3p，Ｌ3m（波長λ3)は，ピッチＰのアライメントマーク９に対してそれぞれ±１次の回折角の方向から対称に入射している。即ち，波長λn(ｎ＝１，２，３）の１対の光束Ｌnp，Ｌnmの入射角をθn とすると，入射角θn は次式を満たしている。
【００３７】　sin θn ＝±λn ／Ｐ　　　（１）
このとき，形成される波長λn の干渉縞の振幅のピッチはアライメントマーク９のピッチＰと等しくなる。このような関係は従来のＬＩＡ方式の場合と同じであり，従ってアライメントマーク９から各波長λn 毎に，垂直方向に両光束Ｌnp，Ｌnmのそれぞれの＋１次回折光及び−１次回折光が重なって発生する。以下，この重なりあった波長λ1,λ2,λ3 の３対の回折光を「±１次回折光Ｌｄ」と呼ぶ。
【００３８】　なお，（１）式のような入射角θn を実現するためには，それぞれの対になる光束Ｌnp，Ｌnm同士の光軸からの間隔Ｄn を，次のように設定すればよい。但し，ｆは対物レンズ７の焦点距離である。
　Ｄn ＝ｆ・sin θn ＝±ｆ・λn ／Ｐ　　　（２）
その各対の光束同士の光軸からの間隔Ｄn は，図２に示した各対の音響光学素子の間隔，及びハーフミラーＭ１０，Ｍ２０，Ｍ３０と，対応するミラーＭ１１，Ｍ２１，Ｍ３１との間隔を適当に定めることで，調節可能である。あるいは，図２の各音響光学素子とダイクロイックミラーＤＭ１，ＤＭ２，ＤＭ３との間に平行平板ガラス（ハービング）を設け，このハービングの回転により対応する光束同士の光軸からの間隔Ｄn を調整することもできる。
【００３９】また，図１中の調整光学系４，５，６を使用することにより，各対の光束のアライメントマーク９への入射角を調整し，各対の光束をアライメントマーク９に正しく対称に入射させることができる。上記のようにハーフミラーＨＭで反射された３対の光束Ｌ1p，Ｌ1m，光束Ｌ2p，Ｌ2m，及び光束Ｌ3p，Ｌ3mを対物レンズ７を介してアライメントマーク９に照射することによって，アライメントマーク９から垂直方向に±１次回折光Ｌｄが発生する。±１次回折光Ｌｄは，対物レンズ７を経てハーフミラーＨＭを透過して，フォトダイオード等の光電検出器ＰＤに入射し，この光電検出器ＰＤでの光電変換によって光量に対応した合成ビート信号Sig に変換されて，
信号処理系
光電検出器ＰＤに入射する光束が±１次回折光Ｌｄのみとなるように，空間フィルタ１３が±１次回折光Ｌｄの光路に設けられている
　
（１ｇ）「【００４１】上記の光電検出器ＰＤから出力される合成ビート信号Sig より，
周波数分離器２０においてそれぞれ各波長のビート周波数Δｆ１，Δｆ２，Δｆ３に等しい周波数を有する各波長毎のビート信号Sig1〜Sig3が抽出され
位相差検出器ＲＰｎ（ｎ＝１，２，３）にはそれぞれ，同じ周波数成分のビート信号Sign，及び参照ビート信号Refnが供給され，位相差検出器ＲＰｎではそれぞれ参照ビート信号Refnに対するビート信号Signの位相差を検出し，この位相差をウエハステージ１０上でのＸ方向への位置ずれ量Ｘｎに換算して図９の主制御系５３に供給する
【００４２】　本例においても，従来のＬＩＡ方式のアライメントセンサを使用する場合と同様に，実際の位置検出に先立ってベースライン量の計測，即ち所謂ベースラインチェックを行う必要がある。そのためには，例えば図９の基準マーク部材５７上の第１の基準マークをレチクルＲの投影像の中心に位置決めした状態で，基準マーク部材５７上の第２の基準マークとしての基準回折格子マークにアライメント光学系５５より３対の光束を照射して，周波数分離器２０から出力されるビート信号Sig1〜Sig3と，周波数分離器２１から出力される参照ビート信号Ref1〜Ref3との位相関係が調べられる。具体的に，３対の光束のアライメントマーク９への入射時の強度が同一である場合には，例えば参照ビート信号Ref1〜Ref3に対するビート信号Sig1〜Sig3の位相差をウエハステージ１０上でのＸ方向への位置ずれ量Ｘ10〜Ｘ30に換算し，この平均値（Ｘ10＋Ｘ20＋Ｘ30）／３を求める。
【００４３】また，基準マーク部材５７上のその第１の基準マークと第２の基準マークとのＸ方向の間隔をＢＸ0 とすると，この間隔ＢＸ0 にその平均値（Ｘ10＋Ｘ20＋Ｘ30）／３を加算して得られる間隔がＸ方向のベースライン量となる。その後，
ウエハＷのアライメント時に上述のように，計測対象のアライメントマークについて，各波長毎のＸ方向への位置ずれ量Ｘｎを検出した際には，主制御系５３では例えばそれらの位置ずれ量の平均値（Ｘ１＋Ｘ２＋Ｘ３）／３を求め，この平均値を相殺するようにウエハステージ１０をＸ方向に移動する。そして，この動作を繰り返してその位置ずれ量の平均値が０になるときのウエハステージ１０のＸ座標をそのアライメントマークのＸ座標とする。その後，このＸ座標に上述のＸ方向のベースライン量の補正を行うことによって，そのアライメントマークの属するショット領域を正確に露光位置に位置決めできる
【００４４】　なお，本例においては，複数波長の検出光と複数の位相差検出器ＲＰｎとを使用するが，上記のように調整光学系４，５，６，１４，１５を用いて各波長での色収差を補償しておけば，ベースラインチェックは何れか１つの波長の検出光の位相差検出器（ＲＰ１〜ＲＰ３の何れか）だけの検出結果により行うこともできる。あるいは，ベースラインチェックを検出光の波長毎に波長の数だけ行ってもよい。この場合，装置はベースライン量を波長の数だけ管理（保管）することになるが，アライメントマーク９上あるいは参照グレーティングＲＧ上の干渉縞の位置が波長毎に異なっていてもよいため，上記の調整光学系４，５，６，１４，１５による干渉縞の位置関係の調整が容易になるという利点がある。
【００４５】また，本例において，
３波長の各対の光束Ｌ
1p
，Ｌ
1m
，光束Ｌ
2p
，Ｌ
2m
，及び光束Ｌ
3p
，Ｌ
3m
の強度が異なるときには，強度が小さい光束程，検出結果の信頼性が低下することになる。そこで，３波長の各対の光束の強度が異なるときには，ベースラインチェック時に各波長の光束Ｌ
np
，Ｌ
nm
（ｎ＝１，２，３）の強度Ｐ１〜Ｐ３を検出する必要がある
【００４６】
この強度Ｐ１〜Ｐ３は，ベースラインチェック時に基準マーク部材５７上の基準回折格子マーク（第２の基準マーク）からの各周波数毎の，即ち各波長毎のビート信号Sig1〜Sig3の振幅を求めることで検出することができる
一般に
ウエハＷ上のアライメントマーク９が凹凸のパターンよりなる「位相格子」であるのに対し，「強度格子」である基準回折格子マークの回折効率は検出光の波長に依存しない。また，クロムの反射率も位置検出に使用する波長帯（一般には０．５μｍから０．８μｍ程度）では殆ど変化しない
基準回折格子マークからの各波長毎のビート信号Sig1〜Sig3の振幅を検出することで，各波長の検出光の強度Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を検出することができる
【００４７】図３（ａ）〜（ｃ）は，ウエハＷ上のアライメントマーク９の位置検出時に得られる各波長毎のビート信号Sig1〜Sig3，及び参照ビート信号Ref1〜Ref3の一例をそれぞれ示し，図３（ａ）〜（ｃ）の横軸は時間ｔ，縦軸は信号レベルを表している。この場合，
参照ビート信号Ref1〜Ref3，及びビート信号Sig1〜Sig3の周波数は，波長毎に異なっている
各波長毎のアライメントマーク９の位置ずれ量Ｘ１〜Ｘ３は，例えば各波長毎の参照ビート信号Ref1〜Ref3とそれぞれ対応するビート信号Sig1〜Sig3との位相差ｄｐ１〜ｄｐ３に，それぞれ所定の係数を乗ずることによって求めることができる
【００４８】本例においては，更に図１の
信号処理系
各波長毎のビート信号Sig1〜Sig3の振幅ａ１〜ａ３をも求め，これらの振幅ａ１〜ａ３を図９の主制御系５３に供給する
【００４９】
　
ＸWM＝（Ｘ１×ａ１／Ｐ１＋Ｘ２×ａ２／Ｐ２＋Ｘ３×ａ３／Ｐ３）／（ａ１／Ｐ１＋ａ２／Ｐ２＋ａ３／Ｐ３）
　この位置ずれ量ＸWMに，上述のように予め求めてあるＸ方向のベースライン量を加算した値が露光位置となる。」
　
（１ｈ）「【図１】
　」
　
（１ｉ）「【図２】
」
　
（１ｊ）「【図１０】」
　
　以上の事項から，引用例１には以下の発明（以下，「引用例発明」という。）が記載されている。
「フォトリソグラフィ工程でマスクパターンを感光基板上に転写するために用いられる投影露光装置に備えられ，
　感光基板上のアライメントマークの位置を検出するためのアライメントセンサに使用されるヘテロダイン干渉方式で格子状マークの位置を検出する位置検出装置であり，
　光源系が被検物（Ｗ）上に形成された格子状の位置検出マーク（９）に対して，それぞれ互いにコヒーレントで所定の周波数差を有する第１及び第２の光ビームよりなり互いに波長の異なる複数対の光ビーム（Ｌ1p，Ｌ1m，Ｌ2p，Ｌ2m，Ｌ3p，Ｌ3m）を照射し，
　光電検出器（ＰＤ）がそれら互いに波長の異なる複数対の光ビームのそれぞれについて，位置検出マーク（９）より所定の同一方向に発生する複数の回折光よりなる干渉光（Ｌｄ）をまとめて受光し，
　信号処理系がこの受光された干渉光に基づいて位置検出マーク（９）の位置を検出する位置検出装置において，
　信号処理系が，互いに波長の異なる複数対の光ビームのそれぞれについて位置検出マーク（９）より発生する干渉光（Ｌｄ）をまとめて受光する光電検出器（ＰＤ）による光電変換信号（Sig ）より，互いに異なる周波数差に対応した異なる周波数の複数の信号成分（Sig1，Sig2，Sig3）を抽出するフィルタ手段（２０）を備え，このフィルタ手段からの複数の信号成分に基づいて複数波長の干渉光の各々より得られる位置検出値を，光電検出器（ＰＤ）による光電変換信号より抽出したそれら複数の信号成分中の対応する信号成分の振幅の大きさ，及び位置検出マーク（９）に照射されるそれら複数対の光ビーム中の対応する光ビームの強度の逆数にそれぞれ比例する重みを乗じて平均した加重平均をもって，平均化することにより位置検出マーク（９）の位置を求める位置検出装置」
　
５．対比
　引用例発明の「フォトリソグラフィ工程でマスクパターンを感光基板上に転写するために用いられる投影露光装置」は，本願発明の「リソグラフィ装置」に相当する。
　引用例発明の「感光基板上のアライメントマークの位置を検出するためのアライメントセンサに使用されるヘテロダイン干渉方式で格子状マークの位置を検出する位置検出装置」は，本願発明の「アライメント・システム」に相当する。
　引用例発明の「被検物（Ｗ）上に形成された格子状の位置検出マーク（９）に対して，それぞれ互いにコヒーレントで所定の周波数差を有する第１及び第２の光ビームよりなり互いに波長の異なる複数対の光ビーム（Ｌ1p，Ｌ1m，Ｌ2p，Ｌ2m，Ｌ3p，Ｌ3m）を照射」する「光源系」は，本願発明の「第１の波長と第２の波長を有するアライメント放射の供給源」に相当する。
　引用例発明の「それら互いに波長の異なる複数対の光ビームのそれぞれについて，位置検出マーク（９）より所定の同一方向に発生する複数の回折光よりなる干渉光（Ｌｄ）をまとめて受光」する「光電検出器（ＰＤ）」と，本願発明の「第１の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第１の波長チャネル，及び前記第２の波長で前記アライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第２の波長チャネルを備える検出システム」とは，「第１の波長及び第２の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された波長チャネルを備える検出システム」である点で共通する。
　引用例発明の「この受光された干渉光に基づいて位置検出マーク（９）の位置を検出する」「信号処理系」は，本願発明の「検出システムと連絡している位置決定ユニット」に相当する。
　引用例発明の「信号処理系が，位置検出マーク（９）より発生する干渉光（Ｌｄ）を受光する光電検出器（ＰＤ）による光電変換信号（Sig ）より互いに異なる周波数差に対応した異なる周波数の複数の信号成分（Sig1，Sig2，Sig3）を抽出するフィルタ手段（２０）を備え，このフィルタ手段からの複数の信号成分に基づいて複数波長の干渉光の各々より得られる位置検出値を，光電検出器（９）による光電変換信号より抽出したそれら複数の信号成分中の対応する信号成分の振幅の大きさ，及び位置検出マーク（９）に照射されるそれら複数対の光ビーム中の対応する光ビームの強度の逆数にそれぞれ比例する重みを乗じて平均した加重平均をもって，平均化することにより位置検出マーク（９）の位置を求める」ことと，本願発明の「位置決定ユニットが，前記第１及び第２の波長チャネルからの情報を組み合わせて処理して，前記第１の波長チャネルからの情報，前記第２の波長チャネルからの情報，及び前記第１の波長で検出されたアライメント放射と前記第２の波長で検出されたアライメント放射との和に対する前記第１の波長で検出された前記アライメント放射の相対的な強度に従って組み合わされた前記第１及び第２の波長チャネルからの情報，のうちの１つに基づいて前記アライメント・マークの位置を決定する」こととは，「位置決定ユニットが，前記第１及び第２の波長チャネルからの情報を組み合わせて処理して前記アライメント・マークの位置を決定する」ことで共通する。
　
　したがって，両者は，
「リソグラフィ装置用のアライメント・システムであって，
　第１の波長と第２の波長を有するアライメント放射の供給源と，
　第１の波長及び第２の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された波長チャネルを備える検出システムと，
　検出システムと連絡している位置決定ユニットとを備え，
　位置決定ユニットが，第１及び第２の波長チャネルからの情報を組み合わせて処理してアライメント・マークの位置を決定するアライメント・システム。」で一致し，以下の点で相違する。
　
（相違点１）
　波長の異なる複数波長の情報を得るために，
　本願発明では「第１の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第１の波長チャネル，及び前記第２の波長で前記アライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第２の波長チャネルを備える検出システム」により受光の段階で各波長成分毎の情報を得ているのに対して，
　引用例発明では「光電検出器（ＰＤ）」が「干渉光（Ｌｄ）をまとめて受光し」「信号処理系が，位置検出マーク（９）より発生する干渉光（Ｌｄ）を受光する光電検出器（ＰＤ）による光電変換信号（Sig ）より互いに異なる周波数差に対応した異なる周波数の複数の信号成分（Sig1，Sig2，Sig3）を抽出するフィルタ手段（２０）を備え，このフィルタ手段からの複数の信号成分に基づいて」，受光の段階でまとめて得た光電変換信号から，フィルタ手段により各波長成分毎の情報を得ている点。
　
（相違点２）
　波長の異なる複数波長の情報から位置を決定するために
　本願発明では「第１の波長チャネルからの情報，第２の波長チャネルからの情報，及び前記の波長で検出されたアライメント放射と第２の波長で検出されたアライメント放射との和に対する第１の波長で検出された前記アライメント放射の相対的な強度に従って組み合わされた第１及び第２の波長チャネルからの情報，のうちの１つに基づいて前記アライメント・マークの位置を決定する」ようにしているのに対して，
　引用例発明では「互いに波長の異なる複数対の光ビームのそれぞれについて位置検出マーク（９）より発生する複数波長の干渉光（Ｌｄ）の各々より得られる位置検出値を，光電検出器（ＰＤ）による光電変換信号より抽出したそれら複数の信号成分中の対応する信号成分の振幅の大きさ，及び位置検出マーク（９）に照射されるそれら複数対の光ビーム中の対応する光ビームの強度の逆数にそれぞれ比例する重みを乗じて平均した加重平均をもって，平均化することにより位置検出マーク（９）の位置を求める」ようにしている点。
　
６．判断
６−１．相違点１について
　複数波長の光ビームを分離して受光するか又はまとめて受光するか，そして，受光素子を１つ用いるか又は複数用いるか，各波長成分毎の信号を受光以前に光学的に分離するか，受光以降に電気的に分離するかを考慮して，当業者が適宜選択し得た事項である。したがって，引用例発明において，相違点１に掛かる構成を採用することに，格別の困難性はない。
　
６−２．相違点２について
　本願の発明の詳細な説明には，以下の記載がある。（下線は，当審にて付与。）
「【００８３】
  本発明の実施例では，
２つの波長の信号を組み合わせるための重み係数は，第１の波長での測定信号強度および第２の波長での測定信号強度の関数であるように選ばれる
【００８４】
【数３】
  この実施例の延長において，波長チャネルの最適組合せを保証するために，次式で表されるように，信号強度は，ウェーハ表面の材料の（相対）反射率に対して補正される。
【００８５】
【数４】
【００８６】
  さらに，
重み係数が１の値を超えた場合，重み係数を修正する。重み係数は，１の値を超えた場合，１に等しく設定される。さらに，重み係数は，負になることを許されない。言い換えれば，どちらかの重み係数が式１１から０より小さいと計算された場合，その重み係数は１に等しいように設定される。式１１または１２において，最大相対閾値係数ＭＲＴは，使用者が選択することができる（ＭＲＴ＞１）
【００８７】
  図１７は，最大相対閾値係数ＭＲＴのいくつかの異なる値について，本発明のこの実施例に従った重み係数を示す。注目されたいことであるが，
一方の波長チャネルの重み係数が１の値に達したとき，その波長だけを使用してアライメント・マークの位置が決定される。それは，他方の波長の対応する重み係数が０だからである
アライメント・マークの位置を決定するために，両方の波長からの信号が組み合わされる中間領域がある
最大相対閾値係数ＭＲＴは，両方の波長チャネルの組合せを使用してアライメント・マークの位置を決定するために，最高信号強度を有する波長チャネルの信号強度の他方の信号強度に対する比に許される最大値
信号強度の一方がゼロであるときを除いて，赤と緑の重み係数の和は常に１に等しく，
赤信号の信号強度を緑信号の信号強度で割ったものがＭＲＴ係数
赤信号の重み係数は１に等しく選ばれ，緑信号の重み係数はゼロに等しく選ばれる。
緑信号の信号強度を赤信号の信号強度で割ったものがＭＲＴ係数
赤信号の重み係数は０に等しく選ばれ，緑信号の重み係数は１に等しく選ばれる
　
　上記記載では，本願発明の重み付けの係数が式（１１）（１２）によって計算され，
（１）「アライメント・マークの位置を決定するために，両方の波長からの信号が組み合わされる」ときには，２つの波長の信号を組み合わせるための重み係数が，第１の波長での測定信号強度および第２の波長での測定信号強度からＳＳGreen／（ＳＳGreen＋ＳＳRed）若しくはＳＳRed／（ＳＳGreen＋ＳＳRed）という式を用いて計算され，本願発明に規定されているように「第１の波長で検出されたアライメント放射と第２の波長で検出されたアライメント放射との和に対する第１の波長で検出されたアライメント放射の相対的な強度に従って組み合わされた第１及び第２の波長チャネルからの情報」「に基づいて」「アライメント・マークの位置を決定する」ことになり，
（２）両方の波長からの信号強度の大きさがあまりに違う「最高信号強度を有する波長チャネルの信号強度の他方の信号強度に対する比がＭＲＴ（閾値）よりも大きい」ときには，「一方の波長チャネルの重み係数が１の値に達したとき」となり，本願発明に規定されているように「第１の波長チャネルからの情報，第２の波長チャネルからの情報」「のうちの１つに基づいて」「アライメント・マークの位置を決定する」ことになる，
ことが説明されている。
　
　これに対して，引用例発明において「互いに波長の異なる複数対の光ビームのそれぞれについて位置検出マーク（９）より発生する複数波長の干渉光（Ｌｄ）の各々より得られる位置検出値を，光電検出器（ＰＤ）による光電変換信号より抽出したそれら複数の信号成分中の対応する信号成分の振幅の大きさ，及び位置検出マーク（９）に照射されるそれら複数対の光ビーム中の対応する光ビームの強度の逆数にそれぞれ比例する重みを乗じて平均した加重平均をもって，平均化することにより位置検出マーク（９）の位置を求める」ことは，
　検出した振幅の信号ａ１，ａ２を照射した光の強度Ｐ１，Ｐ２に対する相対強度に規格化した振幅の大きさａ１／Ｐ１，ａ２／Ｐ２を重み係数とすることであり（前記（１ｇ），引用例【００４９】の式（３）参照。），
　重み係数が１になる場合と，そうでない場合とを含む。
　
　重み係数が１になる場合には，その重み係数に係る特定波長の光ビームのみを使用して「位置検出マーク（９）の位置を求める」ことになるから，本願発明の（２）のように「第１の波長チャネルからの情報，第２の波長チャネルからの情報」「のうちの１つに基づいて」「アライメント・マークの位置を決定する」ことと等価である。
　
　また，そうでない場合には，重み係数を乗じて平均した加重平均をもって，平均化することにより「位置検出マーク（９）の位置を求める」ことになり，
重み係数の内容こそ異なる
　
　ここで，重み係数が，本願発明では「アライメント放射の相対的な強度」であるのに対して，引用例発明では規格化した振幅の大きさであって異なるとは言えるものの，両者の重み係数とも，検出に用いる光の振幅が大きくなれば大きくなる傾向を有する点で同じ特性を有する。そして，同じ特性を有する重み係数であれば，どのような係数を選ぶかは，当業者が適宜選択し得た事項である。
　また，重み係数が同じ性質を有するから，両者の重み係数の違いによる格別の効果の差異は認められない。
　
６−３．請求人の主張について
　重み係数の内容について，平成２２年１０月２６日付回答書の中で，請求人は以下のように主張している。
「（２）本願発明と引用発明との対比 
 　引用文献５には，波長の信号成分の振幅に比例する重みをその波長の検出値に乗ずることで，アライメント・マークの位置を決定する位置検出装置が開示されている（同文献段落００１９）。 
 　請求項１に係わる発明と引用文献５に記載の発明とを対比すると，両者は，アライメント・マークからのアライメント放射に基づいてアライメント・マークの位置を決定する点において共通する。 
 　しかし，請求項１に係わる発明は，第１の波長で検出されたアライメント放射と第２の波長で検出されたアライメント放射との和に対する第１の波長で検出されたアライメント放射の相対的な強度に従って組み合わされた第１及び第２の波長チャネルからの情報に基づいてアライメント・マークの位置を決定するのに対し，引用文献５に記載の発明は，波長の信号成分の振幅に比例する重み付けを行ってアライメント・マークの位置を決定している点において両者は異なる。 
 　本願明細書段落００８４に記載されている数式「ＳＳRed／（ＳＳGreen＋ＳＳRed）」を用いて，この相違点を説明すると，請求項１に係わる発明では，ＳＳRed／（ＳＳGreen＋ＳＳRed）に基づいてアライメント・マークの位置を決定しているのに対し，引用文献５に記載の発明は，（ｋ１×ＳＳGreen＋ｋ２×ＳＳRed）／（ｋ１＋ｋ２）に基づいてアライメント・マークの検出位置を求めているに過ぎない（但し，説明の便宜上，ＳＳRedは，第１の波長で検出されたアライメント放射の強度を示し，ＳＳGreenは，第２の波長で検出されたアライメント放射の強度を示し，ｋ１はＳＳGreenの振幅に応じた重み係数を示し，ｋ２はＳＳRedの振幅に応じた重み係数を示す。）」
　なお，上記主張の中で「ＳＳRed／（ＳＳGreen＋ＳＳRed）」は本願発明における重み係数を指摘しているのであり，「（ｋ１×ＳＳGreen＋ｋ２×ＳＳRed）／（ｋ１＋ｋ２）」は引用例発明における振幅に応じた重み係数を用いた加重平均を指摘しているものと認められる。
　
　ここで，請求人は，本願発明の重み係数がアライメント放射の強度に基づくものであり，引用例発明における重み係数が振幅に応じたものであることを指摘して，議論しているものと考えられる。
　しかし，両者の重み係数は，いずれも振幅が大きくなれば大きくなる傾向を有する点で同じ性質を有するものであるから，前述のように両者の重み係数の違いによる格別の効果の差異は認められず，請求人の主張は採用できない。
　
６−４．まとめ
　したがって，本願発明は，引用例発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり，特許法第２９条第２項の規定より，特許を受けることができない。
　
７．むすび
　以上のとおりであるから，請求項１以外の請求項に係る発明について検討するまでもなく，本願は拒絶すべきものである。
 
　よって，結論のとおり審決する。