(57)【要約】  励起光のエネルギー密度が高い部分と低い部分で蛍光体の発光中心元素濃度を変えることで、発光効率の低下を抑制することができる蛍光ホイールを提供する。励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイール１００であって、ホイール基板１１０と、ホイール基板１１０上に配置され、所定の発光中心元素濃度を有する蛍光体１２１を含む第１の蛍光体層１３１と、前記蛍光ホイール本体１１０上に配置され、前記第１の蛍光体層１３１に含まれる蛍光体１２１とは異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体１２２を含む第２の蛍光体層１３２と、を備え、前記第１の蛍光体層１３１および前記第２の蛍光体層１３２は隣接または一部重複して配置され、前記第１の蛍光体層１３１および前記第２の蛍光体層１３２の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部である。
2019022107.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイールであって、
ホイール基板と、
前記ホイール基板上に配置され、所定の発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第１の蛍光体層と、
前記ホイール基板上に配置され、前記第１の蛍光体層に含まれる蛍光体とは異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第２の蛍光体層と、を備え、
前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層は隣接または一部重複して配置され、
前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部である蛍光ホイール。
【請求項２】
前記第２の蛍光体層は、前記第１の蛍光体層に対して、前記ホイール基板の中心に近い側および遠い側のそれぞれに形成され、
前記第１の蛍光体層に含まれる蛍光体の発光中心元素濃度は、前記第２の蛍光体層に含まれる蛍光体の発光中心元素濃度より低い請求項１記載の蛍光ホイール。
【請求項３】
前記ホイール基板は円周方向に配置された複数のセグメント領域を有し、
少なくとも１つのセグメント領域には、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層を備え、
前記セグメント領域のそれぞれからは、同一の励起光を受けたとき異なる光を取り出せる請求項１または請求項２記載の蛍光ホイール。
【請求項４】
前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層が重複する部分の少なくとも一部は、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層の少なくとも一方の蛍光体層の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層され形成されている請求項１から請求項３のいずれかに記載の蛍光ホイール。
【請求項５】
励起光を照射する励起光源と、
前記照射された励起光を受ける請求項１から請求項４のいずれかに記載の蛍光ホイールと、
前記蛍光ホイールを回転させる駆動装置と、を備える光源装置。
【請求項６】
請求項５記載の光源装置と、
前記光源装置から放出された光を導光する導光光学系と、
投影する像のデータの入力を受け付ける入力部と、
前記導光光学系により導かれた光を用いて前記入力部に入力されたデータの像の表示を行なう表示素子と、
前記表示を外部へ投射する投影光学系と、
前記光源装置、前記表示素子および前記各光学系を制御する制御部と、を備える投影装置。
【請求項７】
励起光を照射する励起光源と、前記照射された励起光を受ける請求項３記載の蛍光ホイールと、前記蛍光ホイールを回転させる駆動装置と、を備える光源装置と、
前記光源装置から放出された光を導光する導光光学系と、
投影する像のデータの入力を受け付ける入力部と、
前記導光光学系により導かれた光を用いて前記入力部に入力されたデータの像の表示を行なう表示素子と、
前記表示を外部へ投射する投影光学系と、
前記光源装置、前記表示素子および前記各光学系を制御する制御部と、
前記蛍光ホイールの回転位置を取得するセンサと、を備え、
前記制御部は、出力する投影像の色や明るさの階調と、前記センサにより取得した前記蛍光ホイールの位置情報に従い、前記励起光源の出力を制御する投影装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光効率の低下を抑制することができる蛍光ホイール、光源装置、および投影装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プロジェクタなどの投影装置で表示させた像は外光の影響を受けやすく、良質な表示を得る為には高照度が必要となる。高照度で投影するために、光源の光量を大きくする必要があり、レーザー光などの高エネルギー密度励起光と蛍光体とを組み合わせた光源が使用され始めている。【０００３】
特許文献１では、円周方向に配置された複数のセグメント領域を有し、複数のセグメント領域の少なくとも一つは反射部とされ、反射部に励起光を受けて所定の波長帯域光を発する蛍光体層が形成され、複数のセグメント領域の少なくとも一つは光を透過させる透過部とされた円板形状の発光板の技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第５６５５２１１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、光学装置や投影装置でレーザー光などの高エネルギー密度励起光を用いて蛍光体を発光させるだけでは、所望の蛍光発光強度（明るさ）を得ることができないことがある。これは、蛍光体の励起エネルギー密度依存性により、低エネルギー密度励起光で発光した場合に比べ発光効率が低下するためである。特許文献１記載の技術では、蛍光体のエネルギー励起密度は考慮されていない。【０００６】
本発明の一実施形態は、このような事情に鑑みてなされたものであり、励起光のエネルギー密度が高い部分と低い部分で蛍光体の発光中心元素濃度を変えることで、発光効率の低下を抑制することができる蛍光ホイールを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、本発明の一実施形態は、以下のような手段を講じた。即ち、本発明の一実施形態の蛍光ホイールは、励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイールであって、ホイール基板と、前記ホイール基板上に配置され、所定の発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第１の蛍光体層と、前記ホイール基板上に配置され、前記第１の蛍光体層に含まれる蛍光体とは異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第２の蛍光体層と、を備え、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層は隣接または一部重複して配置され、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の一実施形態によれば、蛍光ホイールの蛍光体層において、励起光のエネルギー密度が高い部分と低い部分で蛍光体の発光中心元素濃度を変えることで、発光効率の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１の実施形態に係る蛍光ホイールの模式図である。
【図２】第１の実施形態に係る蛍光ホイールの蛍光体層部分の断面を拡大した模式図である。
【図３】第１の実施形態に係る蛍光ホイールをホイールモータの回転シャフトに固定した状態の断面を示す模式図である。
【図４】ＹＡＧ（Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２）の結晶構造を示す図である。
【図５】第１の実施形態に係る蛍光ホイールの一例を表す模式図である。
【図６】第１の実施形態に係る蛍光ホイールをホイールモータの回転シャフトに固定した状態の断面を示す模式図である。
【図７】蛍光体の外部発光効率の温度依存性の例を示すグラフである。
【図８】ガウシアンビームの強度分布の例を示すグラフである。
【図９】第２の実施形態に係る蛍光ホイールの一例を表す模式図である。
【図１０】第２の実施形態に係る蛍光ホイールをホイールモータの回転シャフトに固定した状態の断面を示す模式図である。
【図１１Ａ】第２の実施形態に係る蛍光ホイールの変形例を示す模式図である。
【図１１Ｂ】第２の実施形態に係る蛍光ホイールの変形例を示す模式図である。
【図１２】第３の実施形態に係る蛍光ホイールの一例を表す蛍光体層を備えた部分の断面を拡大して表した模式図である。
【図１３】図１２の模式図と、発光中心元素濃度が異なる各蛍光体の断面方向の量を表すグラフとの関係を示す図である。
【図１４】第３の実施形態に係る蛍光ホイールの変形例の蛍光体層を備えた部分の断面を拡大して表した模式図である。
【図１５】第４の実施形態に係る光源装置を表す模式図である。
【図１６】第４の実施形態に係る投影装置を表す概念図である。
【図１７】第５の実施形態に係る投影装置を表す概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明者らは、励起光のエネルギー密度が高い部分と低い部分で蛍光体の発光中心元素濃度を変えることで、発光効率の低下を抑制することができることを見出し、本発明に至った。
【００１１】
これにより、本発明者らは、レーザー光などの高エネルギー密度励起光を用いて蛍光体を発光させたときに、所望の蛍光発光強度（明るさ）を得ることを可能とした。以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら具体的に説明する。説明の理解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に対しては同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１２】
［第１の実施形態］
［蛍光ホイールの構成］
図１は、本実施形態に係る蛍光ホイール１００の模式図である。図１に示すように、本実施形態に係る蛍光ホイール１００は、ホイール基板１１０、および蛍光体層１３０を備える。
【００１３】
ホイール基板１１０は、円板状に形成され、表面に蛍光体層１３０を有する。ホイール基板１１０は、これを用いる光源装置２００の設計に応じて、反射型とするときは、アルミニウム、銅、鉄などの金属により形成することができる。また、このときは、ホイール基板１１０の表面に銀などの高反射膜がコーティングされていることが好ましい。また、ホイール基板１１０を励起光および蛍光の反射を考慮しない材料により形成し、励起光が照射される表面のみを反射材料で形成してもよい。
【００１４】
ホイール基板１１０は、透過型とするときは、励起光を透過するサファイア、ガラスなどの無機材料により形成することができる。また、蛍光体が発する蛍光はあらゆる方向に放射されるため、透過型とするときは、励起光を透過しつつ蛍光を反射することが好ましい。また、ホイール基板１１０は、反射型であっても透過型であっても、蛍光体の温度消光を抑制するため、熱伝導率が高いことが好ましい。そのため、ホイール基板１１０は、アルミニウム、サファイアで形成することが好ましい。また、ホイール基板１１０は、反射型と透過型を組み合わせたものとしてもよい。
【００１５】
図２は、本実施形態に係る蛍光ホイールの蛍光体層部分の断面を拡大した模式図である。蛍光体層１３０は、蛍光体粒子１２０とバインダ１２５とを備えており、蛍光体粒子１２０は、バインダ１２５に分散されている。蛍光体粒子１２０は、所定の励起光を吸収し、所定の波長帯域光を発光する。また、蛍光体粒子１２０は、同じ励起光に対して同じ波長帯域光を発光する蛍光体であって、発光中心元素濃度（後述）が異なる複数の蛍光体が用いられる。この発光中心元素濃度が異なる蛍光体が含まれる複数の蛍光体層が、励起光が照射される部分（励起光スポット）内の照射部分ごとの照度に応じて、ホイール基板１１０の表面上に設けられる。
【００１６】
このとき、発光中心元素濃度が異なる蛍光体が含まれ、隣接する蛍光体層は、一部重複していてもよい。また、隣接または一部重複する発光中心元素濃度が異なる蛍光体層どうしの境界は面をなしているが、蛍光体層表面に表れる境界（境界線）は少なくとも円周の一部である。ここでいう円周とは、ホイール基板１１０の回転の中心を中心とする円周である。このようにすることで、励起光の照射部分ごとの照度に応じて、ホイール基板１１０の表面上に、隣接または一部重複するように設けられた発光中心元素濃度が異なる蛍光体層の表面の境界は、蛍光ホイール１００を回転させても、励起光の照射部分に対して同一の境界とすることができる。
【００１７】
例えば、発光中心元素濃度が異なる２種類の蛍光体を用いた場合を説明する。図２に示すように、発光中心元素濃度が異なる第１の蛍光体１２１および第２の蛍光体１２２をそれぞれ含む第１の蛍光体層１３１および第２の蛍光体層１３２がホイール基板１１０の表面上に設けられる。図３は、本実施形態に係る蛍光ホイール１００を駆動装置（ホイールモータ）２２０の回転シャフト２２５にホイール固定具２３０を用いて固定した状態の断面を示す模式図である。図１および図３に示すように、隣接または一部重複するように設けられた第１の蛍光体層１３１および第２の蛍光体層１３２の表面の境界は少なくとも円周の一部となっている。そのため、回転の中心から境界までの距離が一定となり、蛍光ホイール１００を回転させても、励起光の照射部分に対して同一の境界となる。
【００１８】
蛍光体は、アルミナを母材とするガーネット系材料で構成されている。ガーネット系材料としては、ＹＡＧ：Ｃｅ（黄色発光蛍光体）、ＬｕＡＧ：Ｃｅ（緑色発光蛍光体）等を用いることができる。蛍光体は、一般式（ＲＥ１−ｘＣｅｘ）３Ａｌ５Ｏ１２で示される物質で構成され、ＲＥは希土類元素群より選ばれる少なくとも一つの元素を含んでいることが好ましい。発光中心元素Ｃｅの希土類ＲＥに対する濃度ｘを、発光中心濃度という。蛍光体は、その他に、ＳｉＡｌＯＮ、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｔｂ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ、ＹＰＶＯ４：Ｅｕ等を用いることができる。なお、上記は一例であり、本発明の蛍光ホイール１００に用いられる蛍光体は、上記の例に限られない。
【００１９】
（発光中心元素濃度の表記）
本発明では、一般にＹＡＧやＬｕＡＧと簡略表記される蛍光体を例示しているが、それらの材料に含有される発光中心元素の濃度の表記を、以下のように定義する。
【００２０】
黄色発光蛍光体ＹＡＧ：Ｃｅにおいて、基本的な構成元素は、イットリウム（Ｙ）、アルミニウム（Ａｌ）、酸素（Ｏ）、およびセリウム（Ｃｅ）の４つである。黄緑色発光蛍光体ＬｕＡＧ：Ｃｅは、ＹＡＧ：ＣｅのＹをすべてルテチウム（Ｌｕ）に代えたものである。発光色を意図的に変えること等を目的として、Ｙの一部を他の希土類元素等で、またＡｌの一部をＧａ等の同族元素で置換することが行なわれている。さらには、発光中心元素であるＣｅ以外に、例えば発光効率の改善を目的として、共付活剤として適量を結晶中に導入することも多い。
【００２１】
図４は、ＹＡＧ（Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２）の結晶構造を示す図である。ＹＡＧは図４に示すようなガーネット構造を有する結晶であり、化学式としてはＹ３Ａｌ５Ｏ１２で表される。Ｙは８配位の位置を、Ａｌは４配位および６配位の両位置に在る状態が最も安定であるとされている。発光中心元素のＣｅは、サイズが最も近いＹの一部を置換している。
【００２２】
発光中心元素Ｃｅの濃度ｘはＹとの置換量と考えた場合、Ｃｅで付活されたＹＡＧ蛍光体は一般式（Ｙ１−ｘＣｅｘ）３Ａｌ５Ｏ１２で表される。本発明において、例えばｘ＝０．０３０であるとしたとき、ＹとＣｅの占有するサイトに対するＣｅの比率として、「３．０ｍｏｌ％」と定義する。
【００２３】
またＬｕＡＧの場合もＹＡＧと同様に、一般式（Ｌｕ１−ｙＣｅｙ）３Ａｌ５Ｏ１２で表すとき、ＬｕとＣｅの占有するサイトに対するＣｅの比率として、「・・・ｍｏｌ％」と定義することになる。
【００２４】
図５は、本実施形態に係る蛍光ホイール１００の一例を表す模式図である。また、図６は、蛍光ホイール１００をホイールモータ２２０の回転シャフト２２５に固定した状態の断面を示す模式図である。以下の記載では、発光中心元素濃度が低い蛍光体を用いた蛍光体層１３３と、発光中心元素濃度が高い蛍光体を用いた蛍光体層１３４の２種類の蛍光体層を備える蛍光ホイール１００の説明をするが、発光中心元素濃度の異なる蛍光体を用いた蛍光体層は、３種類以上あってもよい。なお、発光中心元素濃度が低い蛍光体を用いた蛍光体層１３３を発光中心元素濃度が低い蛍光体層１３３と、発光中心元素濃度が高い蛍光体を用いた蛍光体層１３４を発光中心元素濃度が高い蛍光体層１３４と表す。
【００２５】
蛍光体の温度特性は発光中心元素の濃度により変わることが知られている。図７は、ＹＡＧ：Ｃｅの外部発光効率の温度依存性の例を示すグラフである。一般的に、低温時は、発光中心元素濃度が高い蛍光体は、発光効率が高く、発光中心元素濃度が低い蛍光体は、それと比べて発光効率が低い。しかし、発光中心元素濃度が低い蛍光体は、高温になっても発光効率の低下が緩やかなので、高温時は、発光中心元素濃度が低い蛍光体の方が、発光効率が高くなる場合がある。
【００２６】
蛍光体に励起光を照射すると、蛍光発光と共に一部は熱エネルギーに変換されるため、励起光の照度が高い照射部分ほど高温になる。したがって、励起光の照度が高い照射部分には、発光中心元素濃度が低い蛍光体層１３３を設け、励起光の照度が低い照射部分には、発光中心元素濃度が高い蛍光体層１３４を設ける。このように配置することで、励起光の照射で高温になりやすい部分は、高温時の発光効率の低下を抑制しつつ発光し、励起光の照射でそれほど高温にならない部分は、低温時の高い発光効率で発光する。その結果、全体の発光効率の低下を抑制することができる。
【００２７】
図８は、ガウシアンビームの強度分布の例を示すグラフである。レーザー光は、ガウシアンビームに代表されるように、ビームの伝搬方向に対して直交する面における強度分布は一様ではなく、ビーム中心が強く、ビーム縁部では弱くなる。したがって、ビーム中心部が通過する部分には、発光中心元素濃度が低い蛍光体層１３３を設け、ビーム縁部が通過する部分には、発光中心元素濃度が高い蛍光体層１３４を設けることが好ましい。
【００２８】
そのため、図５および図６に示すように、発光中心元素濃度が低い蛍光体層１３３に対して、ホイール基板１１０の中心（回転の中心）に近い側および遠い側のそれぞれに、発光中心元素濃度が高い蛍光体層１３４を設けることが好ましい。このように配置することで、蛍光ホイールを回転させた際に、ビーム中心部が通過する部分には、発光中心元素濃度が低い蛍光体層１３３が配置され、ビーム縁部が通過する部分には、発光中心元素濃度が高い蛍光体層１３４が配置されることとなる。
【００２９】
本実施形態に係る蛍光ホイールは、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させることができ、発光効率の低下を抑制できる。また、励起光の中心付近の照度が高く高温になりやすい照射部分において、高温でも温度特性が低下しにくい蛍光体を配置することができ、発光効率の低下を抑制できる。
【００３０】
［第２の実施形態］
［蛍光ホイールの構成］
第１の実施形態は、ホイール基板１１０の円周方向全体に蛍光体層１３０を備えた構成であるが、本実施形態は、ホイール基板１１０が複数のセグメント領域を有し、そのうちの少なくとも１つのセグメント領域には、発光中心元素濃度が異なる蛍光体層を備え、セグメント領域のそれぞれからは、同一の励起光を受けたとき波長の異なる光を取り出せる構成である。
【００３１】
また、複数のセグメント領域のうちの１つ以上を、蛍光体層１３０が設けられておらず、励起光を透過または反射する領域としてもよい。これにより、励起光をそのまま使用することができ、例えば、青色の励起光をそのまま青色の光として取り出すことができる。
【００３２】
また、ホイール基板１１０の少なくとも２つのセグメント領域は、同一の励起光を受けたとき異なる波長帯域光を発光する蛍光体をそれぞれ含む蛍光体層１３０を備える。これにより、同一の励起光を用いて波長の異なる光を取り出せる。これらの蛍光体層１３０のうち、発光中心元素濃度の異なる蛍光体層を備えるセグメント領域は、１つだけでもよい。少なくともその領域については、発光効率の低下を抑制することができるからである。
【００３３】
図９は、本実施形態に係る蛍光ホイール１００の一例の模式図である。また、図１０は、蛍光ホイール１００をホイールモータ２２０の回転シャフト２２５に固定した状態の断面を示す模式図である。図９に示すように、本実施形態に係る蛍光ホイール１００は、ホイール基板１１０および蛍光体層１３０、１４０を備え、ホイール基板１１０が扇形状の複数のセグメント領域を有し、１つのセグメント領域は励起光を透過する透過部１６０とした。
【００３４】
図９に示す蛍光体層１３０と蛍光体層１４０は同一の励起光を受けたときに異なる波長帯域光を発光する蛍光体をそれぞれ含む。これにより、同一の励起光を用いて波長の異なる光を取り出せる。また、図９に示す例では、蛍光体層１３０のみ発光中心元素濃度の異なる蛍光体層（発光中心元素濃度が低い蛍光体層１３３と発光中心元素濃度が高い蛍光体層１３４）を備えるセグメント領域としたが、２以上のセグメント領域の蛍光体層について発光中心元素濃度の異なる蛍光体層を設ける構成としてもよい。透過部１６０は、励起光を透過するため、励起光をそのまま使用することができる。
【００３５】
図１１Ａおよび図１１Ｂは、本実施形態の変形例の蛍光ホイール１００を示す模式図である。図１１Ａに示すように、円周方向に分割された領域を異なる２つの波長帯域光を発光する蛍光体をそれぞれ含む蛍光体層１３０、１４０を備えるセグメントと透過部１６０とし、蛍光体層１３０、１４０の両方をそれぞれ発光中心元素濃度の異なる蛍光体層を備える構成としてもよい。図１１Ａは、蛍光体層１３３と蛍光体層１４３は発光中心元素濃度が低く、蛍光体層１３４と蛍光体層１４４は発光中心元素濃度が高い。また、図１１Ｂに示すように、セグメントを異なる３つの波長帯域光を発光する蛍光体をそれぞれ含む蛍光体層１３０、１４０、１５０を備えるセグメントと透過部１６０とし、すべての蛍光体層をそれぞれ発光中心元素濃度の異なる蛍光体層を備える構成としてもよい。図１１Ｂは、蛍光体層１３３、蛍光体層１４３および蛍光体層１５３は発光中心元素濃度が低く、蛍光体層１３４、蛍光体層１４４および蛍光体層１５４は発光中心元素濃度が高い。また、蛍光ホイール１００を用いる光源装置２００や投影装置３００の設計に応じて、透過部１６０は反射部としてもよいし、透過部１６０はなくてもよい。
【００３６】
本実施形態に係る蛍光ホイールは、１つのホイールで波長の異なる複数の発光を得られ、また、第１の蛍光体層と第２の蛍光体層とを備えるセグメントにおいて、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させることができ、発光効率の低下を抑制できる。
【００３７】
［第３の実施形態］
［蛍光ホイールの構成］
本実施形態では、第１の実施形態または第２の実施形態において、発光中心元素濃度が異なる蛍光体層を備える部分について、隣接する発光中心元素濃度が異なる蛍光体層に一部重複する部分を設けている。そして、重複する部分の少なくとも一部は、少なくとも一方の蛍光体層の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層され形成されている。
【００３８】
図１２は、本実施形態に係る蛍光ホイール１００の一例の蛍光体層１３０を備えた部分の断面を拡大して表した模式図である。図１２に示すように、本実施例に係る蛍光ホイール１００は、ホイール基板１１０および蛍光体層１３０を備え、さらに、隣接する発光中心元素濃度が異なる蛍光体層に一部重複する部分を有し、重複する部分の両方の蛍光体層の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層され形成されている。図１２は、蛍光体層１３３は発光中心元素濃度が低く、蛍光体層１３４は発光中心元素濃度が高い。
【００３９】
図１３は、図１２の模式図と、発光中心元素濃度が異なる各蛍光体の断面方向の量を表すグラフとの関係を示す図である。発光中心元素濃度が異なる蛍光体層１３３、１３４の重複する部分において、少なくとも一方の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層することで、図１３のグラフからわかるように、発光中心元素濃度の異なる蛍光体の断面方向の存在量に傾斜が付き、発光に寄与する主な蛍光体の種類が面内の傾斜方向にそって徐々に切り替わる。その結果、励起光のエネルギー密度に依存する温度変化に対する外部量子収率の変化がより緩やかとなり、励起光スポット内における明るさの変化を小さくすることができる。
【００４０】
図１４は、本実施形態の変形例の蛍光ホイール１００の蛍光体層１３０を備えた部分の断面を拡大して表した模式図である。図１４に示すように、本実施形態に係る蛍光ホイール１００は、積層の形状は様々考えられ、発光中心元素濃度が異なる蛍光体層の重複する部分において、少なくとも一方の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層させればよい。また、発光中心元素濃度が異なる蛍光体層は、３種類以上であってもよい。
【００４１】
本実施形態に係る蛍光ホイールは、発光中心元素濃度の異なる蛍光体の断面方向の存在量に傾斜が付き、発光に寄与する主な蛍光体の種類が面内の傾斜方向にそって徐々に切り替わる。その結果、励起光のエネルギー密度に依存する温度変化に対する外部量子収率の変化がより緩やかとなり、励起光スポット内における明るさの変化を小さくすることができる。  
【００４２】
［第４の実施形態］
［光源装置の構成］
本実施形態は、第１から第３の実施形態に係る蛍光ホイールを用いた光源装置、および、その光源装置を用いた投影装置の実施形態である。図１５は、本実施形態に係る光源装置２００を表す模式図である。本実施形態に係る光源装置２００は、励起光源２１０、蛍光ホイール１００、および駆動装置２２０を備える。図１５には、上記以外にレンズおよびミラーを備えているが、これは光源装置２００の設計に応じて備えなくてもよい。また、レンズおよびミラーは、投影装置３００の導光光学系３１０（後述）と一体となっていてもよい。
【００４３】
励起光源２１０は、所定の波長帯域光（励起光）を蛍光ホイール１００に照射する。励起光源２１０が照射する励起光の波長帯域は、光源装置２００の設計に応じて様々な範囲を用いることができる。例えば、ＹＡＧ、ＬｕＡＧ等の蛍光体粒子を励起する励起光源としては、青色光源を用いることができ、青色レーザダイオード（ＬＤ）であることが好ましい。
【００４４】
蛍光ホイール１００は、励起光源２１０から照射された励起光を吸収して、所定の波長帯域光を放射し、または励起光をそのまま射出する。蛍光ホイール１００は、上記第１から第３の実施形態に係る蛍光ホイール１００である。
【００４５】
駆動装置（ホイールモータ）２２０は、電気信号により制御され、駆動装置２２０の回転シャフト２２５を通じて蛍光ホイール１００を回転移動（回転および停止）させる。これにより、蛍光ホイール１００の蛍光体層１３０の励起光に照射される位置が変化し、蛍光体層１３０が過度に加熱されることを防ぎ、蛍光体の温度消光を抑制できる。また、同じ励起光を受けたとき異なる光を放射する蛍光体層１３０や透過部１６０または反射部を備える蛍光ホイール１００の場合は、異なる色を取り出すことができる。
【００４６】
ホイール固定具２３０は、蛍光ホイール１００を駆動装置２２０の回転シャフト２２５に固定する。ホイール固定具２３０は、蛍光ホイール１００の孔側周縁を厚み方向に挟んで固定している。回転シャフト２２５は、駆動装置２２０の駆動力により中心軸回りに回転し蛍光ホイール１００を回転させる。ホイール固定具２３０は、金属製であることが好ましい。蛍光ホイール１００を回転シャフト２２５に固定する方法は、どのようなものであってもよい。また、上記実施形態では、図３、図６、および図１０に示すように、ホイール固定具２３０を用いて蛍光ホイール１００を回転シャフト２２５に固定しているが、蛍光ホイール１００を接着剤等により回転シャフト２２５に固定して、ホイール固定具２３０を用いない構成としてもよい。
【００４７】
［投影装置の構成］
図１６は、本実施形態に係る投影装置３００を表す概念図である。本実施形態に係る投影装置３００は、光源装置２００、導光光学系３１０、表示素子３２０、投影光学系３３０、入力部３４０、および制御部３５０を備える。光源装置２００は、上記の本実施形態に係る光源装置２００である。
【００４８】
導光光学系３１０は、光源装置２００から放出された光を表示素子３２０に導光する。導光光学系３１０は、複数のミラー３１１またはダイクロイックミラー３１２、および図１６に記載しない複数のレンズにより構成される。なお、図１６では、ダイクロイックミラー３１２は光源装置２００を構成する要素にもなっている。
【００４９】
表示素子３２０は、導光光学系３１０により導かれた光を用いて表示を行なう。表示素子３２０は、制御部３５０により制御され、入力部３４０が受け付けたデータに基づいた像の表示を行なう。表示素子３２０は、例えば、ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅ）、液晶ライトバルブなどを用いることができる。
【００５０】
投影光学系３３０は、表示素子３２０の表示を投影装置３００の外部へ投射する。投影光学系３３０は、複数のレンズ（記載せず）により構成される。投影光学系３３０は、レンズの一部がモータ等により可動であり、制御部３５０により制御されることで、ズームやフォーカス等の調整が行なわれる。なお、図１６の投影装置３００を表す概念図は一例であり、導光光学系３１０も投影光学系３３０も、蛍光ホイール１００、光源装置２００、投影装置３００の設計に応じて様々な形態に変更される。
【００５１】
入力部３４０は、投影する像のデータの入力を受け付け、入力されたデータを制御部３５０に引き渡す。入力部３４０は、投影装置３００とは別の機器からのデータを受け付けてもよい。また、入力部３４０は、インターネット等に接続し、通信によってデータを受け付けてもよい。また、入力部３４０は、ユーザによる操作を受け付け、入力された操作データを制御部３５０に引き渡す。
【００５２】
制御部３５０は、入力部３４０が受け付けたデータに基づいて像を投影するために、光源装置２００、表示素子３２０、および投影光学系３３０を制御する。導光光学系３１０は、固定されていてもよいが、制御部３５０に制御される構成としてもよい。
【００５３】
本実施形態に係る光源装置は、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させ、発光効率の低下を抑制できるため、高効率の光源装置とすることができる。また、本実施形態に係る投影装置は、高効率の光源装置を用いて投影照度を高く維持することが可能となり、外光のある環境においても良好な投影像を得ることができる。
【００５４】
［第５の実施形態］
［投影装置の構成］
図１７は、本実施形態に係る投影装置３００を表す概念図である。本実施形態に係る投影装置３００は、光源装置２００、導光光学系３１０、表示素子３２０、投影光学系３３０、センサ３６０、入力部３４０、および制御部３５０を備える。
【００５５】
光源装置２００は、励起光源２１０、第２の実施形態に係る蛍光ホイール１００、および駆動装置２２０を備える。これらの構成は、第２および第４の実施形態と同様である。
【００５６】
導光光学系３１０、表示素子３２０、投影光学系３３０、および入力部３４０の構成は、第４の実施形態と同様である。
【００５７】
センサ３６０は、光源装置２００の蛍光ホイール１００の回転位置の情報を取得する。センサ３６０は、取得した位置情報を、制御部３５０に通知する。
【００５８】
制御部３５０は、入力部３４０が受け付けたデータに基づいて像を投影するために、光源装置２００、表示素子３２０、導光光学系３１０および投影光学系３３０を制御する。また、制御部３５０は、出力する投影像の色や明るさの階調と、センサ３６０により取得した蛍光ホイール１００の位置情報に従い、励起光源２１０の出力を制御する。
【００５９】
本実施形態に係る投影装置は、色や明るさの階調に合わせて励起光の出力を制御することで、励起光源や蛍光ホイールの劣化を抑制することができる。また、不要な光を減衰させる必要が無いため、投影装置内部の発熱を抑制することができる。
【００６０】
［蛍光ホイールの製造方法］
次に、蛍光ホイールの製造方法について説明する。まず、円板状に形成されたホイール基板を準備する。ホイール基板は、一つの材料で一体として形成されたものでもよいし、複数の材料を組み合わせて形成されたものでもよい。次に、有機バインダまたは無機バインダに発光中心元素濃度が異なる蛍光体をそれぞれ分散させた複数の蛍光体ペーストを準備する。
【００６１】
そして、ホイール基板の励起光が照射される部分に、異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体ペーストを、隣接または重複するペーストの少なくとも表面の境界が円周の一部となるように塗布する。蛍光体ペーストの塗布は、どのような方法を用いてもよいが、例えば、液体定量吐出装置による描画法、スクリーン印刷法、スプレー法、インクジェット法等を用いることができる。第３の実施形態に係る蛍光ホイールを製造するときは、液体定量吐出装置による描画法を用いると、簡便に、発光中心元素濃度が異なる蛍光体層の重複する部分の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層することができるため、好ましい。
【００６２】
そして、ペーストを塗布したホイール基板を焼成または乾燥し、蛍光体層を作製する。このようにして、励起光の照射部分ごとの輝度に応じて蛍光体の温度特性を変化させた蛍光体ホイールを製造することができる。
【００６３】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【００６４】
本発明の一実施形態は、以下のような構成を採ることができる。即ち（１）本発明の一実施形態の蛍光ホイールは、励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイールであって、ホイール基板と、前記ホイール基板上に配置され、所定の発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第１の蛍光体層と、前記ホイール基板上に配置され、前記第１の蛍光体層に含まれる蛍光体とは異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第２の蛍光体層と、を備え、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層は隣接または一部重複して配置され、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部である。
【００６５】
これにより、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させることができ、発光効率の低下を抑制できる。
【００６６】
（２）また、本発明の一実施形態の蛍光ホイールにおいて、前記第２の蛍光体層は、前記第１の蛍光体層に対して、前記ホイール基板の中心に近い側および遠い側のそれぞれに形成され、前記第１の蛍光体層に含まれる蛍光体の発光中心元素濃度は、前記第２の蛍光体層に含まれる蛍光体の発光中心元素濃度より低い。
【００６７】
これにより、励起光の中心付近の照度が高く高温になりやすい照射部分において、高温でも温度特性が低下しにくい蛍光体を配置することができ、発光効率の低下を抑制できる。
【００６８】
（３）また、本発明の一実施形態の蛍光ホイールにおいて、前記ホイール基板は円周方向に配置された複数のセグメント領域を有し、少なくとも１つのセグメント領域には、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層を備え、前記セグメント領域のそれぞれからは、同一の励起光を受けたとき波長の異なる光を取り出せる。
【００６９】
これにより、１つのホイールで波長の異なる発光が得られ、また、第１の蛍光体層と第２の蛍光体層とを備えるセグメントにおいて、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させることができ、発光効率の低下を抑制できる。
【００７０】
（４）また、本発明の一実施形態の蛍光ホイールにおいて、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層が重複する部分の少なくとも一部は、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層の少なくとも一方の蛍光体層の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層され形成されている。
【００７１】
これにより、発光中心元素濃度の異なる蛍光体の断面方向の存在量に傾斜が付き、発光に寄与する主な蛍光体の種類が面内の傾斜方向にそって徐々に切り替わる。その結果、励起光のエネルギー密度に依存する温度変化に対する外部量子収率の変化がより緩やかとなり、励起光スポット内における明るさの変化を小さくすることができる。
【００７２】
（５）また、本発明の一実施形態の光源装置は、励起光を照射する励起光源と、前記照射された励起光を受ける上記（１）から（４）のいずれかに記載の蛍光ホイールと、前記蛍光ホイールを回転させる駆動装置と、を備える。
【００７３】
これにより、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させることができ、発光効率の低下を抑制できる。その結果、高効率の光源装置を構成できる。
【００７４】
（６）また、本発明の一実施形態の投影装置は、上記（５）記載の光源装置と、前記光源装置から放出された光を導光する導光光学系と、前記導光光学系により導かれた光を用いて表示を行なう表示素子と、前記表示を外部へ投射する投影光学系と、投影する像のデータの入力を受け付ける入力部と、前記光源装置、前記表示素子および前記各光学系を制御する制御部と、を備える。
【００７５】
これにより、高効率の光源装置を用いて投影照度を高く維持することが可能となり、外光のある環境においても良好な投影像を得ることができる。
【００７６】
（７）また、本発明の一実施形態の投影装置は、励起光を照射する励起光源と、前記照射された励起光を受ける上記（３）記載の蛍光ホイールと、前記蛍光ホイールを回転させる駆動装置と、を備える光源装置と、前記光源装置から放出された光を導光する導光光学系と、前記導光光学系により導かれた光を用いて表示を行なう表示素子と、前記表示を外部へ投射する投影光学系と、投影する像のデータの入力を受け付ける入力部と、前記光源装置、前記表示素子および前記各光学系を制御する制御部と、前記蛍光ホイールの回転位置を取得するセンサと、を備え、前記制御部は、出力する投影像の色や明るさの階調と、前記センサにより取得した前記蛍光ホイールの位置情報に従い、前記励起光源の出力を制御する。
【００７７】
これにより、色や明るさの階調に合わせて励起光の出力を制御することで、励起光源や蛍光ホイールの劣化を抑制することができる。また、不要な光を減衰させる必要が無いため、投影装置内部の発熱を抑制することができる。
【００７８】
なお、本国際出願は、２０１７年７月２６日に出願した日本国特許出願第２０１７−１４４６４９号に基づく優先権を主張するものであり、日本国特許出願第２０１７−１４４６４９号の全内容を本国際出願に援用する。
【符号の説明】
【００７９】
１００  蛍光ホイール
１１０  ホイール基板
１２０  蛍光体粒子
１２１  第１の蛍光体
１２２  第２の蛍光体
１２５  バインダ
１３０、１４０、１５０  蛍光体層
１３１  第１の蛍光体層
１３２  第２の蛍光体層
１３３、１４３、１５３  発光中心元素濃度が低い蛍光体層
１３４、１４４、１５４  発光中心元素濃度が高い蛍光体層
１６０  透過部
２００  光源装置
２１０  励起光源
２２０  駆動装置
２２５  回転シャフト
２３０  ホイール固定具
３００  投影装置
３１０  導光光学系
３１１  ミラー
３１２  ダイクロイックミラー
３２０  表示素子
３３０  投影光学系
３４０  入力部
３５０  制御部
３６０  センサ
【図１】
2019022107.tif 000003
【図２】
2019022107.tif 000004
【図３】
2019022107.tif 000005
【図４】
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【図５】
2019022107.tif 000007
【図６】
2019022107.tif 000008
【図７】
2019022107.tif 000009
【図８】
2019022107.tif 000010
【図９】
2019022107.tif 000011
【図１０】
2019022107.tif 000012
【図１１Ａ】
2019022107.tif 000013
【図１１Ｂ】
2019022107.tif 000014
【図１２】
2019022107.tif 000015
【図１３】
2019022107.tif 000016
【図１４】
2019022107.tif 000017
【図１５】
2019022107.tif 000018
【図１６】
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【図１７】
2019022107.tif 000020
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月24日(2020.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイールであって、
ホイール基板と、
前記ホイール基板上に配置され、第１の発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第１の蛍光体層と、
前記ホイール基板上に配置され、第２の発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第２の蛍光体層と、を備え、
前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層は隣接または一部重複して配置され、
前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部であり、
前記第１の発光中心元素濃度と前記第２の発光中心元素濃度とは、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層に照射される一つの励起光の照射部分ごとの照度に応じて異なる濃度とされている蛍光ホイール。
【請求項２】
励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイールであって、
ホイール基板と、
前記ホイール基板上に配置され、所定の発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第１の蛍光体層と、
前記ホイール基板上に配置され、前記第１の蛍光体層に含まれる蛍光体とは異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第２の蛍光体層と、を備え、
前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層は隣接または一部重複して配置され、
前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部であり、
前記第２の蛍光体層は、前記第１の蛍光体層に対して、前記ホイール基板の中心に近い側および遠い側のそれぞれに形成され、
前記第１の蛍光体層に含まれる蛍光体の発光中心元素濃度は、前記第２の蛍光体層に含まれる蛍光体発光中心元素濃度より低い蛍光ホイール。
【請求項３】
励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイールであって、
ホイール基板と、
前記ホイール基板上に配置され、所定の発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第１の蛍光体層と、
前記ホイール基板上に配置され、前記第１の蛍光体層に含まれる蛍光体とは異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第２の蛍光体層と、を備え、
前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層は隣接または一部重複して配置され、
前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部であり、
前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層が重複する部分の少なくとも一部は、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層の少なくとも一方の蛍光体層の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層され形成されている蛍光ホイール。
【請求項４】
前記ホイール基板は円周方向に配置された複数のセグメント領域を有し、
少なくとも１つのセグメント領域には、前記第１の蛍光体層および前記第２の蛍光体層を備え、
前記セグメント領域のそれぞれからは、同一の励起光を受けたとき異なる光を取り出せる請求項１から請求項３のいずれかに記載の蛍光ホイール。
【請求項５】
励起光を照射する励起光源と、
前記照射された励起光を受ける請求項１から請求項４のいずれかに記載の蛍光ホイールと、
前記蛍光ホイールを回転させる駆動装置と、を備える光源装置。
【請求項６】
請求項５記載の光源装置と、
前記光源装置から放出された光を導光する導光光学系と、
投影する像のデータの入力を受け付ける入力部と、
前記導光光学系により導かれた光を用いて前記入力部に入力されたデータの像の表示を行なう表示素子と、
前記表示を外部へ投射する投影光学系と、
前記光源装置、前記表示素子および前記各光学系を制御する制御部と、を備える投影装置。
【請求項７】
励起光を照射する励起光源と、前記照射された励起光を受ける請求項３記載の蛍光ホイールと、前記蛍光ホイールを回転させる駆動装置と、を備える光源装置と、
前記光源装置から放出された光を導光する導光光学系と、
投影する像のデータの入力を受け付ける入力部と、
前記導光光学系により導かれた光を用いて前記入力部に入力されたデータの像の表示を行なう表示素子と、
前記表示を外部へ投射する投影光学系と、
前記光源装置、前記表示素子および前記各光学系を制御する制御部と、
前記蛍光ホイールの回転位置を取得するセンサと、を備え、
前記制御部は、出力する投影像の色や明るさの階調と、前記センサにより取得した前記蛍光ホイールの位置情報に従い、前記励起光源の出力を制御する投影装置。
【国際調査報告】
2019022107.tif 000021
2019022107.tif 000022
2019022107.tif 000023