【手続補正書】
【提出日】平成23年3月25日(2011.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩の形態であってもよい式（Ｉ）：
【化１】
2010523532.tif 000001
［式中、
Ｒは、水素原子であるか、または−ＣＨ＝ＣＨ2、−ＣＨ2−ＣＨ3、−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3、−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3および−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＲ'ａから選択される基であり（ここで、Ｒ'ａは、水素原子、またはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基もしくはｉ−プロピル基である）；
Ｒ'は、水素原子であるか、またはメチル、エチル、ｎ−プロピルもしくはｉ−プロピルから選択される基Ｒ'ｂである］
で示されるポルフィリンの製造方法であって、
酸性媒体中において式（ＩＩ)：
【化２】
2010523532.tif 000002
［式中、Ｒ'ｂは式（Ｉ）についての上記定義と同じである］
で示されるジピロメタンおよび式（ＩＩＩ）：
【化３】
2010523532.tif 000003
［式中、Ｒ''は、式（Ｉ）について上記にて定義したＲと同じであるか、またはＲの前駆体である基である］
で示されるジピロメタンの間で縮合させて、式（Ｉ'）：
【化４】
2010523532.tif 000004
［式中、Ｒ''およびＲ'ｂは式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）についての上記定義と同じである］
で示されるポルフィリンを形成する工程、
次いで、
Ｒ''がＲの前駆体である基である場合、基Ｒ''を基Ｒに変換すること、
Ｒ'がＨである場合、基Ｒ'ｂを脱離させて、塩の形態であってもよい−ＣＯＯＨ基を形成すること
を含む方法。
【請求項２】
Ｒ''が水素原子であるか、または−ＣＨ＝ＣＨ2、−ＣＨ2−ＣＨ3、−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3、−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌおよび−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣ(Ｏ)ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＲ'ａから選択される基である（ここで、Ｒ'ａは水素原子、またはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基もしくはｉ−プロピル基である）、請求項１記載の方法。
【請求項３】
Ｒが水素原子であるか、または−ＣＨ2−ＣＨ3、−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3、−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3および−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＲ'ａから選択される基である（ここで、Ｒ'ａは、水素原子、またはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基もしくはｉ−プロピル基である）式（Ｉ）で示される化合物の製造のために行われることを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
酸性媒体中での式（ＩＩ）：
【化５】
2010523532.tif 000005
［式中、Ｒ'ｂは式（Ｉ）についての上記定義と同じである］
で示されるジピロメタンおよび式（ＩＩＩ）：
【化６】
2010523532.tif 000006
［式中、Ｒ''はＲの前駆体である基である］
で示されるジピロメタンの間での縮合工程、次いで、基Ｒ''の基Ｒへの変換、
そして、Ｒ'がＨである場合、基Ｒ'ｂを脱離させて、塩の形態であってもよい−ＣＯＯＨ基を形成すること
を含む、Ｒが−ＣＨ＝ＣＨ2基である式（Ｉ）で示される化合物の製造のために行われることを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
【請求項５】
Ｒ''が−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ基、−ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ基、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣ(Ｏ)ＣＨ3基、−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3基または−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基であることを特徴とする、請求項４記載の方法。
【請求項６】
Ｒ''が−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3または−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基であることを特徴とする、請求項４または５記載の方法。
【請求項７】
式（ＩＩ）：
【化７】
2010523532.tif 000007
［式中、Ｒ'ｂは式（Ｉ）についての上記定義と同じである］
で示されるピロメタンおよび式（ＩＩＩａ）：
【化８】
2010523532.tif 000008
で示されるジピロメタンをカップリングさせること、
Ｒ'が水素原子である場合には、次いで、加水分解によりＲ'ｂを脱離させて−ＣＯＯＨ基を得ることからなる工程を行うこと、または
所望により、形成しようとする化合物（ＩＡ）が塩の形態である場合には、次いで、鹸化工程を行うこと
による、式（ＩＡ）：
【化９】
2010523532.tif 000009
［式中、Ｒ'は式（Ｉ）についての定義と同じである］
で示される化合物またはその塩の製造のために行われることを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
【請求項８】
Ｒ'ｂがメチル基であることを特徴とする、請求項７記載の方法。
【請求項９】
式（ＩＩ）：
【化１０】
2010523532.tif 000010
［式中、Ｒ'ｂは式（Ｉ）についての上記定義と同じである］
で示されるピロメタンおよび式（ＩＩＩａ）：
【化１１】
2010523532.tif 000011
で示されるジピロメタンをカップリングさせて、式（Ｉａ）：
【化１２】
2010523532.tif 000012
［式中、Ｒ'ｂは式（Ｉ）についての定義と同じである］
で示される化合物を形成すること、
次いで、−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基を−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3基に還元すること、
そして、Ｒ'が水素原子である場合には、次いで、加水分解反応によりＲ'ｂを脱離させて、−ＣＯＯＨ基を得ることからなる工程を行うこと、
または、形成しようとする化合物（ＩＢ）が塩の形態である場合には、鹸化工程を行うこと
による、式（ＩＢ）：
【化１３】
2010523532.tif 000013
［式中、Ｒ'は式（Ｉ）についての定義と同じである］
で示される化合物またはその塩の製造のために行われることを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
【請求項１０】
−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基の還元が水素化物の存在下で行われることを特徴とする、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基の還元がメタノールの存在下でジクロロメタン中にて行われることを特徴とする、請求項９または１０記載の方法。
【請求項１２】
式（ＩＩ）：
【化１４】
2010523532.tif 000014
［式中、Ｒ'ｂは式（Ｉ）についての上記定義と同じである］
で示されるピロメタンおよび式（ＩＩＩａ）：
【化１５】
2010523532.tif 000015
で示されるジピロメタンをカップリングさせて、式（Ｉａ）：
【化１６】
2010523532.tif 000016
［式中、Ｒ'ｂは式（Ｉ）についての定義と同じである］
で示される化合物を形成すること、
次いで、
−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基を還元して、式（Ｉｂ）：
【化１７】
2010523532.tif 000017
［式中、Ｒ'ｂは式（Ｉ）についての定義と同じである］
で示されるポルフィリンを形成すること、
次いで、基−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3を基−ＣＨ＝ＣＨ2に変換する脱離反応を行うこと、
そして、Ｒ'が水素原子である場合には、次いで、加水分解によりＲ'ｂを脱離させて、−ＣＯＯＨ基を得ることからなる工程を行うこと、
または、形成しようとする化合物（ＩＣ）が塩の形態である場合には、鹸化工程を行うこと
による、式（ＩＣ）：
【化１８】
2010523532.tif 000018
［式中、Ｒ'は式（Ｉ）についての定義と同じである］
で示される化合物またはその塩の製造のために行われることを特徴とする、請求項１、２および４〜６いずれか１項の記載の方法。
【請求項１３】
基−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3を基−ＣＨ＝ＣＨ2へ変換する脱離反応が酸ハロゲン化物の存在下で行われることを特徴とする、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
基−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3を基−ＣＨ＝ＣＨ2へ変換する脱離反応が非プロトン性極性溶媒中にて行われることを特徴とする、請求項１２または１３記載の方法。
【請求項１５】
−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基の還元が水素化物の存在下で行われることを特徴とする、請求項１２〜１４いずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基の還元がメタノールの存在下にてジクロロメタン中で行われることを特徴とする、請求項１２〜１５いずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
Ｒ'ｂがメチル基であることを特徴とする、請求項１〜１６いずれか１項記載の方法。
【請求項１８】
鹸化がメタノールの存在下における水酸化ナトリウムの作用により式（Ｉｃ）：
【化１９】
2010523532.tif 000019
［式中、Ｒ'ｂは請求項１における定義のとおりである］
で示される化合物について行われる、式（ＩＣ.２、２Ｎａ）：
【化２０】
2010523532.tif 000020
で示されるプロトポルフィリン（ＩＸ）のナトリウム塩形態を製造するための請求項１２〜１７いずれか１項記載の方法。
【請求項１９】
鹸化工程が還流下にてジクロロメタン中で行われることを特徴とする、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
２つのピロメタン（ＩＩ）および（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の間の縮合反応が、カルボン酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、トリクロロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、テトラフルオロホウ酸、臭化水素酸およびヨウ化水素酸から選択される酸の存在下で行われることを特徴とする、請求項１〜１９いずれか１項記載の方法。
【請求項２１】
酸がトリフルオロ酢酸またはトリクロロメタンスルホン酸であることを特徴とする、請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
２つのピロメタン（ＩＩ）および（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の間の縮合反応が乾燥剤の存在下で行われることを特徴とする、請求項１〜２１いずれか１項記載の方法。
【請求項２３】
乾燥剤が酸無水物、モレキュラーシーブおよび硫酸から選択される、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
乾燥剤が無水酢酸である、請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
無水酢酸が、ピロメタン（ＩＩ）に対して過剰に、好ましくは少なくとも１０モル当量存在することを特徴とする、請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
２つのピロメタン（ＩＩ）および（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の間の縮合反応がモル当量比１〜１.２で行われることを特徴とする、請求項１〜２５いずれか１項記載の方法。
【請求項２７】
２つのピロメタン（ＩＩ）および（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の間の縮合反応がプロトン性溶媒中にて１０〜５０℃の温度で行われることを特徴とする、請求項１〜２６いずれか１項記載の方法。
【請求項２８】
塩の形態であってもよい式（Ｉ）：
【化２１】
2010523532.tif 000021
［式中、
Ｒは、水素原子であるか、または−ＣＨ＝ＣＨ2、−ＣＨ2−ＣＨ3、−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3、−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3および−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＲ'ａから選択される基であり（ここで、Ｒ'ａは、水素原子、またはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基もしくはｉ−プロピル基である）；
Ｒ'は、水素原子であるか、またはメチル、エチル、ｎ−プロピルもしくはｉ−プロピルから選択される基Ｒ'ｂである］
で示されるポルフィリンの金属錯体の製造方法であって、
化合物（ＩＩ）および（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の間の縮合の工程の後に形成される式（Ｉ）で示されるポルフィリンの、金属、金属塩または金属水酸化物との錯体形成の工程を含む方法。
【請求項２９】
金属、金属塩の金属成分、または金属水酸化物の金属成分が鉄、ガリウム、ニッケル、亜鉛、パラジウム、コバルト、カルシウムまたはマグネシウムから選択される、請求項２８記載の金属錯体の製造方法。
【請求項３０】
錯体形成工程が、最終工程で、塩の形態であってもよい式（Ｉ）で示されるポルフィリンに対して行われることを特徴とする、請求項２９記載の方法。
【請求項３１】
ヘム、ヘミンまたはヘマチンの形成のために行われることを特徴とする、請求項２９または３０記載の方法。
【請求項３２】
式（ＩＩＩ）：
【化２２】
2010523532.tif 000022
［式中、Ｒ''は、水素原子であるか、または−ＣＨ＝ＣＨ2、−ＣＨ2−ＣＨ3、−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3、−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3および−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＲ'ａから選択される基である（ここで、Ｒ'ａは、水素原子、またはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基もしくはｉ−プロピル基である）］
で示されるピロメタン。
【請求項３３】
Ｒ''が、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣ(Ｏ)ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ、−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3および−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3から選択される−ＣＨ＝ＣＨ2の前駆体である、請求項３１記載のピロメタン。
【請求項３４】
Ｒ''が−ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ3基または−Ｃ(Ｏ)ＣＨ3基である、請求項３２または３３記載のピロメタン。
【請求項３５】
式（ＶＩＩａ）、（Ｖａ）および（ＩＶａ）：
【化２３】
2010523532.tif 000023
で示される化合物から選択される化合物。
【請求項３６】
請求項１〜２７いずれか１項記載の方法に従って得ることができる、式（Ｉ）：
【化２４】
2010523532.tif 000024
［式中、ＲおよびＲ'は、請求項１における定義と同じである］
で示されるポルフィリンおよびそのアルカリ金属との塩。
【請求項３７】
生物起源の汚染物を含まないことを特徴とする請求項３６記載のポルフィリン。
【請求項３８】
Ｒが−ＣＨ＝ＣＨ2であり、Ｒ'が水素原子である、請求項３６または３７記載のポルフィリンまたはその塩。