(57)【要約】  薬液の精製装置、及び／又は、薬液を収容する容器の接液部等に適用した場合、得られる薬液の欠陥抑制性能を長期間維持することができる部材を提供することを課題とする。また、容器、薬液収容体、薬液の精製装置、及び、製造タンクを提供することも課題とする。含フッ素重合体、及び、含フッ素界面活性剤を含有する部材であって、部材の少なくとも一部の表面において、表面における含フッ素界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、部材の表面を基準として、部材の深さ方向に１０ｎｍの位置における含フッ素界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５０〜３．０である、部材。【特許請求の範囲】
【請求項１】
含フッ素重合体と、フッ素原子を含有する界面活性剤と、を含有する部材であって、
前記部材の少なくとも一部の表面において、
前記表面における前記界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、前記表面を基準として、前記部材の深さ方向に１０ｎｍの位置における前記界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、
前記表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、部材。
【請求項２】
前記含フッ素重合体の重量平均分子量が４００００〜６０００００である、請求項１に記載の部材。
【請求項３】
前記界面活性剤のオクタノール／水分配係数を表すＬｏｇＰｏｗが、８．０以下である請求項１または２に記載の部材。
【請求項４】
前記Ｍ２が０．００１０〜５．０質量％である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の部材。
【請求項５】
前記含フッ素重合体が、末端にパーフルオロアルキル基を有する含フッ素重合体である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の部材。
【請求項６】
前記界面活性剤が、式（１）で表される化合物及び式（２）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種であり、前記界面活性剤のオクタノール／水分配係数を表すＬｏｇＰｏｗが３．７以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の部材。
式（１）Ａ−ＣＨ２−ＯＨ
式（２）Ａ−ＣＯＯ−Ｍ＋
式中、Ｍ＋はカチオンを表し、式（１）及び式（２）中のＡは式（Ａ１）で表される基：
式（Ａ１）  Ｒｆ−［Ｏ］ｐ−［ＣＸＹ］ｍ−［Ｏ−（ＣＸ’Ｙ’）ｎ］ｒ−＊
を表し、式中、＊は結合位置を表し、Ｒｆは、１個以上の酸素原子を含有してもよいフッ素化アルキル基を表し、ｐは１又は０であり、ｍ及びｎはそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｒは０又は１以上の整数であり、Ｘ、Ｘ’、Ｙ及びＹ’は、それぞれ独立にＨ、Ｆ、ＣＦ３又はＣ２Ｆ５であり、複数あるＸ、Ｘ’、Ｙ及びＹ’は同一でも異なってもよく、ただし、Ｘ、Ｘ’、Ｙ及びＹ’のすべてがＨであることはない、又は、
Ａは式（Ａ２）で表される基：式（Ａ２）  Ｒ−［ＣＦＸ］ｔ−＊
を表し、式中、＊は結合位置を表し、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、又は、１個以上のフッ素原子を含有してもよく、かつ、１個以上の酸素原子を含有してもよいアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基若しくはアリール基であり、Ｒは、水素原子、又は、フッ素原子を除くハロゲン原子を含有してもよく、かつ、１個以上の酸素原子を含有してもよい、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基若しくはアリール基であり、ｔは１以上の整数である。
【請求項７】
さらに、式（３）で表される化合物を含有し、
前記式（３）で表される化合物の含有量が、部材全質量に対して、０．０００１質量％〜０．０５質量％である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の部材。
式（３）  ＣＨ２＝ＣＸａ（ＣＦ２）ｎＹａ
ＸａおよびＹａは、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子を表し、ｎは１〜８の整数を表す。
【請求項８】
前記表面における前記式（３）で表される化合物の質量基準の含有量をＭ３、前記表面を基準として、前記部材の深さ方向に１０ｎｍの位置における前記式（３）で表される化合物の質量基準の含有量をＭ４としたとき、Ｍ３／Ｍ４が０．５０〜１．５０である、請求項７に記載の部材。
【請求項９】
Ｍ１／Ｍ３が０．０１〜１００である、請求項８に記載の部材。
【請求項１０】
さらに、重合開始剤を含有し、
前記重合開始剤の含有量が、部材全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜２００質量ｐｐｂである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の部材。
【請求項１１】
さらに、連鎖移動剤を含有し、
前記連鎖移動剤の含有量が、部材全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の部材。
【請求項１２】
さらに、可塑剤を含有し、
前記可塑剤の含有量が、部材全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂである、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の部材。
【請求項１３】
半導体製造用の薬液の製造、貯蔵、運搬、及び、移送からなる群から選択される少なくとも１種に用いられる、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の部材。
【請求項１４】
前記含フッ素重合体が、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシアルカン、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体、エチレン・四フッ化エチレン共重合体、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、及び、ポリフッ化ビニルからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の部材。
【請求項１５】
前記部材が以下の試験における要件１を満たす、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の部材。
試験：イソプロパノールを９９．９９質量％以上含有する試験溶剤の質量に対する、前記部材の質量の質量比が、前記試験溶剤の液温を２５℃とした場合に、０．１となる条件で、前記部材を、液温２５℃の前記試験溶剤に４８時間浸漬する。
要件１：浸漬後の前記試験溶剤に１種の有機不純物が含有される場合、前記１種の有機不純物の含有量の浸漬前後の増加量が、１０００質量ｐｐｂ以下であり、浸漬後の前記試験溶剤に２種以上の有機不純物が含有される場合、前記２種以上の有機不純物の合計含有量の浸漬前後における増加量が、１０００質量ｐｐｂ以下である。
【請求項１６】
前記部材が以下の試験における要件２を満たす、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の部材。
試験：イソプロパノールを９９．９９質量％以上含有する試験溶剤の質量に対する、前記部材の質量の質量比が、前記試験溶剤の液温を２５℃とした場合に、０．１となる条件で、前記部材を、液温２５℃の前記試験溶剤に４８時間浸漬する。
要件２：浸漬後の前記試験溶剤に１種の金属イオンが含有される場合、前記１種の金属イオンの含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下であり、浸漬後の前記試験溶剤に２種以上の金属イオンが含有される場合、前記２種以上の金属イオンの合計含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下である。
【請求項１７】
前記部材が以下の試験における要件３を満たす、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の部材。
試験：イソプロパノールを９９．９９質量％以上含有する試験溶剤の質量に対する、前記部材の質量の質量比が、前記試験溶剤の液温を２５℃とした場合に、０．１となる条件で、前記部材を、液温２５℃の前記試験溶剤に４８時間浸漬する。
要件３：浸漬後の前記試験溶剤に１種の金属粒子が含有される場合、前記１種の金属粒子の含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下であり、浸漬後の前記試験溶剤に２種以上の金属粒子が含有される場合、前記２種以上の金属粒子の合計含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下である。
【請求項１８】
前記部材が以下の試験における要件４を満たす、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の部材。
試験：イソプロパノールを９９．９９質量％以上含有する試験溶剤の質量に対する、前記部材の質量の質量比が、前記試験溶剤の液温を２５℃とした場合に、０．１となる条件で、前記部材を、液温２５℃の前記試験溶剤に４８時間浸漬する。
要件４：浸漬後の前記試験溶剤に１種のフッ化物イオンが含有される場合、前記１種のフッ化物イオンの含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｍ以下であり、浸漬後の前記試験溶剤に２種以上のフッ化物イオンが含有される場合、前記２種以上のフッ化物イオンの合計含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｍ以下である。
【請求項１９】
基材と、前記基材上に配置された被覆層とを含有し、前記被覆層が、前記含フッ素重合体、及び、前記界面活性剤を含有する、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の部材。
【請求項２０】
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、４−メチル−２−ペンタノール、ジメチルスルホキシド、ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルフォラン、シクロヘプタノン、及び、２−ヘプタノンからなる群から選択される少なくとも１種の有機溶剤を含有する薬液の製造、貯蔵、運搬、及び、移送からなる群から選択される少なくとも１種に用いられる、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の部材。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の部材で形成された容器。
【請求項２２】
請求項２１に記載の容器と、前記容器に収容された薬液と、を有する薬液収容体。
【請求項２３】
前記薬液が、有機溶剤を含有し、前記有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、４−メチル−２−ペンタノール、ジメチルスルホキシド、ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルフォラン、シクロヘプタノン、及び、２−ヘプタノンからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項２２に記載の薬液収容体。
【請求項２４】
被精製物を精製して薬液を得るための、薬液の精製装置であって、
前記被精製物を貯留する製造タンクと、
前記被精製物を精製するフィルタユニットと、
前記製造タンクと前記フィルタユニットとを連結する管路と、を備え、
前記製造タンク、前記フィルタユニット、及び、前記管路からなる群から選択される少なくとも１種の接液部が請求項１〜２０のいずれか一項に記載の部材で形成される、薬液の精製装置。
【請求項２５】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の部材で形成された、製造タンク。
【請求項２６】
さらに、前記容器の口部を覆う蓋と、前記容器と前記蓋との間に配置されたＯリングとをさらに有する請求項２２に記載の薬液収容体。
【請求項２７】
前記Ｏリングが含フッ素重合体を含む、請求項２６に記載の薬液収容体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、部材、容器、薬液収容体、薬液の精製装置、及び、製造タンクに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造の際、溶剤を含有する薬液が用いられている。
近年、上記溶剤に含有される金属成分等の不純物をより低減することが求められている。また、１０ｎｍノード以下の半導体デバイスの製造が検討されており更に上記要求が強まっている。
一般に、上記薬液は、製造タンク、フィルタユニット、及び、これらを連結する管路等を備える薬液の精製装置を用いて精製され、容器に収容される。【０００３】
特許文献１には、「基材、プライマー層及び表面層がこの順に積層されてなるＥＴＦＥ（エチレン／テトラフルオロエチレン系共重合体）ライニング部材であって、基材は、金属又はセラミックからなるものであり、プライマー層は、ＥＴＦＥ（Ａ）とバインダー成分とからなるものであり、表面層は、ＥＴＦＥ（Ｂ）からなるものであり、ＥＴＦＥ（Ｂ）は、フッ素含有率がＥＴＦＥ（Ａ）のフッ素含有率以上であるものであることを特徴とするＥＴＦＥライニング部材。」が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００３／０６８４９９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載された部材は、基材との密着性に優れたものであるが、溶剤に暴露された際、不純物の溶出が多いという問題があった。本発明者らの検討によれば、特許文献１に記載された部材を容器の接液部に用い、上記容器に薬液を収容して保管すると、経時的に薬液の欠陥抑制性能が悪化することを知見している。【０００６】
そこで、本発明は、薬液の精製装置、及び／又は、薬液を収容する容器の接液部等に適用した場合、得られる薬液の欠陥抑制性能を長期間維持できる（以下、「本発明の効果を有する」ともいう。）部材を提供することを課題とする。
また、本発明は、容器、薬液収容体、薬液の精製装置、及び、製造タンクを提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。【０００８】
（１）  含フッ素重合体と、フッ素原子を含有する界面活性剤と、を含有する部材であって、
部材の少なくとも一部の表面において、
表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、部材の深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、
表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、部材。
（２）  含フッ素重合体の重量平均分子量が４００００〜６０００００である、（１）に記載の部材。
（３）  界面活性剤のオクタノール／水分配係数を表すＬｏｇＰｏｗが、８．０以下である（１）または（２）に記載の部材。
（４）  Ｍ２が０．００１０〜５．０質量％である、（１）〜（３）のいずれかに記載の部材。
（５）  含フッ素重合体が、末端にパーフルオロアルキル基を有する含フッ素重合体である、（１）〜（４）のいずれかに記載の部材。
（６）  界面活性剤が、後述する式（１）で表される化合物及び後述する式（２）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種であり、界面活性剤のオクタノール／水分配係数を表すＬｏｇＰｏｗが３．７以下である、（１）〜（５）のいずれかに記載の部材。
（７）  さらに、後述する式（３）で表される化合物を含有し、
式（３）で表される化合物の含有量が、部材全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂである、（１）〜（６）のいずれかに記載の部材。
式（３）  ＣＨ２＝ＣＸａ（ＣＦ２）ｎＹａ
ＸａおよびＹａは、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子を表し、ｎは１〜８の整数を表す。
（８）  表面における式（３）で表される化合物の質量基準の含有量をＭ３、表面を基準として、部材の深さ方向に１０ｎｍの位置における式（３）で表される化合物の質量基準の含有量をＭ４としたとき、Ｍ３／Ｍ４が０．５０〜１．５０である、（７）に記載の部材。
（９）  Ｍ１／Ｍ３が０．０１〜１００である、（８）に記載の部材。
（１０）  さらに、重合開始剤を含有し、
重合開始剤の含有量が、部材全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜２００質量ｐｐｂである、（１）〜（９）のいずれかに記載の部材。
（１１）  さらに、連鎖移動剤を含有し、
連鎖移動剤の含有量が、部材全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂである、（１）〜（１０）のいずれかに記載の部材。
（１２）  さらに、可塑剤を含有し、
可塑剤の含有量が、部材全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂである、（１）〜（１１）のいずれかに記載の部材。
（１３）  半導体製造用の薬液の製造、貯蔵、運搬、及び、移送からなる群から選択される少なくとも１種に用いられる、（１）〜（１２）のいずれかに記載の部材。
（１４）  含フッ素重合体が、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシアルカン、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体、エチレン・四フッ化エチレン共重合体、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、及び、ポリフッ化ビニルからなる群から選択される少なくとも１種である、（１）〜（１３）のいずれかに記載の部材。
（１５）  部材が後述する要件１を満たす、（１）〜（１４）のいずれかに記載の部材。
（１６）  部材が後述する要件２を満たす、（１）〜（１５）のいずれかに記載の部材。
（１７）  部材が後述する要件３を満たす、（１）〜（１６）のいずれかに記載の部材。
（１８）  部材が後述する要件４を満たす、（１）〜（１７）のいずれかに記載の部材。
（１９）  基材と、基材上に配置された被覆層とを含有し、被覆層が、含フッ素重合体、及び、界面活性剤を含有する、（１）〜（１８）のいずれかに記載の部材。
（２０）  プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、４−メチル−２−ペンタノール、ジメチルスルホキシド、ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルフォラン、シクロヘプタノン、及び、２−ヘプタノンからなる群から選択される少なくとも１種の有機溶剤を含有する薬液の製造、貯蔵、運搬、及び、移送からなる群から選択される少なくとも１種に用いられる、（１）〜（１９）のいずれかに記載の部材。
（２１）  （１）〜（２０）のいずれかに記載の部材で形成された容器。
（２２）  （２１）に記載の容器と、容器に収容された薬液と、を有する薬液収容体。
（２３）  薬液が、有機溶剤を含有し、有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、４−メチル−２−ペンタノール、ジメチルスルホキシド、ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルフォラン、シクロヘプタノン、及び、２−ヘプタノンからなる群から選択される少なくとも１種である、（２２）に記載の薬液収容体。
（２４）  被精製物を精製して薬液を得るための、薬液の精製装置であって、
被精製物を貯留する製造タンクと、
被精製物を精製するフィルタユニットと、
製造タンクとフィルタユニットとを連結する管路と、を備え、
製造タンク、フィルタユニット、及び、管路からなる群から選択される少なくとも１種の接液部が（１）〜（２０）のいずれかに記載の部材で形成される、薬液の精製装置。
（２５）  （１）〜（２０）のいずれかに記載の部材で形成された、製造タンク。
（２６）  さらに、容器の口部を覆う蓋と、容器と蓋との間に配置されたＯリングとをさらに有する（２２）に記載の薬液収容体。
（２７）  Ｏリングが含フッ素重合体を含む、（２６）に記載の薬液収容体。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、薬液の精製装置、及び／又は、薬液を収容する容器の接液部等に適用した場合、得られる薬液の欠陥抑制性能を長期間維持できる部材を提供することができる。また、本発明によれば、容器、薬液収容体、薬液の精製装置、及び、製造タンクも提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態に係る容器と、蓋とを有する蓋付き容器の模式図である。
【図２】本発明の実施形態に係る容器と、蓋とを有する蓋付き容器の変形例の模式図である。
【図３】本発明の実施形態に係る薬液の精製装置の模式図である。
【図４】フィルタユニットが備える典型的なフィルタの部分破除した斜視図である。
【図５】フィルタユニットが備えるハウジングの斜視図である。
【図６】フィルタユニットが備えるハウジングの一部断面図である。
【図７】本発明の他の実施形態に係る精製装置の模式図である。
【図８】本発明の実施形態に係る製造装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本発明において「準備」というときには、特定の材料を合成又は調合して備えることのほか、購入等により所定の物を調達することを含む意味である。
また、本発明において、「ｐｐｍ」は「parts-per-million（１０−６）」を意味し、「ｐｐｂ」は「parts-per-billion（１０−９）」を意味し、「ｐｐｔ」は「parts-per-trillion（１０−１２）」を意味し、「ｐｐｑ」は「parts-per-quadrillion（１０−１５）」を意味する。
また、本発明において、１Å（オングストローム）は、０．１ｎｍに相当する。
また、本発明における基（原子群）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、本発明の効果を損ねない範囲で、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「炭化水素基」とは、置換基を有さない炭化水素基（無置換炭化水素基）のみならず、置換基を有する炭化水素基（置換炭化水素基）をも包含するものである。このことは、各化合物についても同義である。
また、本発明における「放射線」とは、例えば、遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光；Extreme ultraviolet lithography）、Ｘ線、又は、電子線等を意味する。また、本発明において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本発明中における「露光」とは、特に断らない限り、遠紫外線、Ｘ線又はＥＵＶ光等による露光のみならず、電子線又はイオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
【００１２】
［部材］
本発明の実施形態に係る部材（以下、単に「部材」ともいう）は、含フッ素重合体、及び、フッ素原子を含有する界面活性剤（以下、「含フッ素界面活性剤」ともいう。）を含有する部材であって、部材の少なくとも一部の表面において以下の要件Ａを満たす。
要件Ａ：表面における含フッ素界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１（質量％）、部材の表面を基準として、部材の深さ方向に１０ｎｍの位置における含フッ素界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２（質量％）としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５０〜３．０である。
【００１３】
なお、上記部材は、基材と、基材上に配置された被覆層とを含有し、被覆層が、含フッ素重合体及び含フッ素界面活性剤を含有する形態であってもよい。この場合、上記部材の表面は、被覆層の表面に該当する。
被覆層の厚みとしては特に制限されないが、一般に０．０１μｍ以上が好ましく、０．１μｍ以上がより好ましく、５μｍ以上が更に好ましく、５０μｍ以下が好ましい。
【００１４】
基材を構成する材料としては、用途に応じて適宜選択されればよく、有機材料でも無機材料でもよい。有機材料としては、後述する含フッ素重合体（但し、被覆層に含有される含フッ素重合体とは異なる重合体である）が好ましい。また、無機材料としては、ガラス、及び、金属（ステンレス、及び、耐腐食性のニッケル合金等）が好ましい。
なお、基材の形状としては特に制限されず、用途に応じて適宜選択できる。
また、基材は、後述する耐腐食材料であってもよい。
【００１５】
本明細書において、部材の表面とは、部材と他の相（典型的には、気体及び／又は液体）との界面を意味する。上記部材は、後述するように液体と接触する用途に用いられることが好ましく、上記部材の表面のうち、上記要件Ａを満たすのは、上記液体と接触する表面（接液部）であることが好ましい。
なお、部材は、少なくとも一部の表面が上記要件Ａを満たせばよいが、接液部の一部の表面が上記要件Ａを満たすのがより好ましく、接液部の全部の表面が上記要件Ａを満たすのが更に好ましく、部材の全部の表面が上記要件Ａを満たすのが特に好ましい。
【００１６】
〔含フッ素重合体〕
部材は含フッ素重合体を含有する。含フッ素重合体としてはフッ素原子を含有する重合体であれば特に制限されず、公知の含フッ素重合体を用いることができる。含フッ素重合体としては、特に制限されないが、以下の式（１）で表される単位（以下、「単位１」ともいう。）を有し、更に、式（２）で表される単位（以下「単位２」ともいう。）を有していてもよい。
【００１７】
【化１】
2019009313.tif 000002
【００１８】
式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、パーフルオロアルキル基を表し、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ同一でも異なってもよいが、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つは、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を表す。
中でも、より優れた本発明の効果を有する部材が得られる点で、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立にフッ素原子又はパーフルオロアルキル基が好ましい。
また、更に優れた本発明の効果を有する部材が得られる点で、含フッ素重合体は、式（１）で表される単位からなることが好ましい。なお、その場合であっても、含フッ素重合体は、１種の式（１）で表される単位のみを含有していてもよく、２種以上の式（１）で表される単位を含有してもよい。１種の式（１）で表される単位のみを含有する含フッ素重合体としては、ポリテトラフルオロエチレン等が挙げられ、２種以上の式（１）で表される単位を含有する含フッ素重合体としては、パーフルオロアルコキシアルカン、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体等が挙げられる。
【００１９】
単位１及び単位２の含フッ素重合体中における含有量（モル％）としては特に制限されず、部材の用途に応じて適宜選択されればよい。
【００２０】
上記のような含フッ素重合体としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシアルカン（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（パーフルオロエチレンプロペン共重合体、ＦＥＰ）、エチレン・四フッ化エチレン共重合体（エチレンテトラフルオロエチレン共重合体、ＥＴＦＥ）、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、及び、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）からなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、より優れた本発明の効果を有する部材が得られる点で、完全フッ素化された含フッ素重合体が好ましく、ＰＴＦＥ、ＰＦＡ、又は、ＦＥＰがより好ましく、後述する末端安定化されたＰＦＡ、又は、ＰＴＦＥが更に好ましい。
【００２１】
一般に、上記含フッ素重合体は、その重合鎖末端に重合性基、及び／又は、分子量調整剤に由来する−ＣＨ２ＯＨ及び−ＣＯＯＨ等の基が残存していることが多い。上記のような基は不安定であり、成形時に熱分解して−ＣＯＦを生成する。更にこの−ＣＯＦが加水分解し、フッ化物イオン等を薬液へと溶出する原因にもなることを本発明者は知見している。
【００２２】
上記含フッ素重合体は、末端にパーフルオロアルキル基を有する含フッ素重合体が好ましい。言い換えれば、重合鎖末端がパーフルオロアルキル基で置換処理された（末端安定化された）処理済み含フッ素重合体であることが好ましい。パーフロオロアルキル基としては特に制限されないが、−ＣＦ２−ＣＦ３又は−ＣＦ３が好ましい。
【００２３】
置換処理の方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができる。例えば、特開昭６０−２４０７１３号、特開昭６２−１０４８２２号、及び、特開平３−２５０００８号等に記載されている公知の方法が採用できる。
なお、処理済み含フッ素重合体における、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＯＯＨ、及び、−ＣＯＦの含有量（個数）の合計は、処理済み含フッ素重合体の炭素数１０６個あたり、５０個以下が好ましく、３０個以下がより好ましい。
【００２４】
従来、含フッ素重合体は安定であり、上記のように末端をパーフルオロアルキル基により置換処理する必要はないと考えられていた。しかし、本発明者らによって初めて、上記部材を半導体製造用の薬液の製造、貯蔵、運搬、及び、移送からなる群から選択される少なくとも１種に用いる場合、特に、上記のような末端の影響が大きいことが見出された。
【００２５】
含フッ素重合体の重量平均分子量は特に制限されず、例えば、１００００〜６５０００００が挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、４００００〜６０００００が好ましい。
【００２６】
〔含フッ素界面活性剤〕
部材（又は被覆層）は含フッ素界面活性剤を含有する。含フッ素界面活性剤としては特に制限されず、公知の含フッ素界面活性剤を用いることができる。なお、本明細書において、含フッ素界面活性剤とは、少なくとも１つのフッ素原子を含有する、分子量が１００〜１５００のノニオン、カチオン、アニオン、又は、両性界面活性剤を意図する。
【００２７】
なお、含フッ素界面活性剤としては、分子内に親水性部分として、カルボキシ基又はその塩、ヒドロキシ基、及び、スルホン酸基又はその塩からなる群から選択される少なくとも１種を含有し、分子内に疎水性部分として、直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、及び、アリール基からなる群から選択される少なくとも１種を含有する化合物が好ましい。
【００２８】
一般に含フッ素重合体は、優れた耐熱性を有する反面、溶融成形が困難な場合も多く、そのような場合には、含フッ素重合体と、含フッ素界面活性剤とを水及び／又は有機溶剤等の溶剤に分散させ、分散液の状態とし、上記分散液を基材に塗布して、含フッ素重合体と含フッ素界面活性剤とを含有する被覆層を有する部材を形成したり、又は、上記分散液にせん断力を加えて、含フッ素重合体の粒子を凝集させ、これを乾燥させることによって得られた粉体をペースト押出し成形したりすることで、含フッ素重合体と含フッ素界面活性剤とを含有する部材を形成できる。
【００２９】
上記のような含フッ素界面活性剤としては、例えば、以下の式（１）及び（２）で表される化合物が挙げられる。
式（１）Ａ−ＣＨ２−ＯＨ式（２）Ａ−ＣＯＯ−Ｍ＋
【００３０】
式中、Ｍ＋はカチオンを表し、式（１）及び（１）中のＡは同じであり、Ａは式（Ａ１）
で表される基：式（Ａ１）  Ｒｆ−［Ｏ］ｐ−［ＣＸＹ］ｍ−［Ｏ−（ＣＸ’Ｙ’）ｎ］ｒ−＊
を表し、式中、＊は結合位置を表し、Ｒｆは、１個以上の酸素原子を含有してもよいフッ素化アルキル基を表し、ｐは１又は０であり、ｍ及びｎはそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｒは０又は１以上の整数であり、Ｘ、Ｘ’、Ｙ及びＹ’は、それぞれ独立にＨ、Ｆ、ＣＦ３又はＣ２Ｆ５であり、複数あるＸ、Ｘ’、Ｙ及びＹ’は同一でも異なってもよく、ただし、Ｘ、Ｘ’、Ｙ及びＹ’のすべてがＨであることはない、又は、
Ａは式（Ａ２）で表される基：式（Ａ２）  Ｒ−［ＣＦＸ］ｔ−＊
を表し、式中、＊は結合位置を表し、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、又は、１個以上のフッ素原子を含有してもよく、かつ、１個以上の酸素原子を含有してもよいアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基若しくはアリール基であり、Ｒは、水素原子、又は、フッ素原子を除くハロゲン原子を含有してもよく、かつ、１個以上の酸素原子を含有してもよい、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基若しくはアリール基であり、ｔは１以上の整数である。
【００３１】
Ｒｆとしては、特に制限されないが、例えば、直鎖状、環状、又は分岐鎖状であってよいパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、部分フッ素化アルキル基、及び、部分フッ素化アルコキシ基等が挙げられる。上記各基には、酸素原子が含まれていてもよい。
なお、「パーフルオロアルキル基」及び「パーフルオロアルコキシ基」とは、水素原子が全てフッ素原子に置換された基を表す。「部分フッ素化アルキル基」及び「部分フッ素化アルコキシ基」とは、水素原子の一部がフッ素原子に置換された基を表す。
【００３２】
Ｒｆは、１〜１４個の炭素原子を含有してもよい。Ｒｆのより具体的な例としては、特に制限されないが、Ｆ３Ｃ−、Ｆ３ＣＯ−、Ｆ３ＣＦＨＣ−、Ｆ５Ｃ２−、Ｆ３ＣＯＦ２Ｃ−、Ｆ３ＣＯＦ２ＣＯ−、Ｆ７Ｃ３−、Ｆ９Ｃ４−、Ｆ１１Ｃ５−、及び、Ｆ２ＨＣ−等が挙げられる。
なかでも、Ｘ及びＹの少なくとも一方は、Ｆ、ＣＦ３又はＣ２Ｆ５が好ましく、Ｘ及びＹの両方が、それぞれ独立に、Ｆ、ＣＦ３、及び、Ｃ２Ｆ５からなる群から選択される（例えば、Ｘ及びＹがいずれもＦである、又はＸがＦでありＹがＣＦ３である、といったように）ことがより好ましい。
ただし、Ｘ、Ｘ’、Ｙ及びＹ’のすべてがＨであることはない。言い換えると、Ｘ、Ｘ’、Ｙ及びＹ’のうち少なくとも１つはＨではない。
なお、Ｘ、Ｘ’、Ｙ及びＹ’のうち１個又は２個よりも多くが、Ｈであることが好ましい。
また、好ましくはＸ及びＹの少なくとも一方がＨではなく、より好ましくはＸ及びＹの両方がＨではなく、更に好ましくはＸ及びＹがＦであるように選択される。
【００３３】
式（１）及び式（Ａ１）で表される含フッ素界面活性剤としては、例えば、＊−ＣＨ２ＯＨ基の水素原子以外の水素原子を一切含まない化合物であってもよく、また、−ＣＨ２ＯＨ基の水素原子に加えて水素原子、好ましくは２個以下、又は１個以下の水素原子を含有する化合物であってもよい。
【００３４】
上記式（Ａ２）中、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、又は、アリール基を表し、Ｘの上記アルキル基、上記アルケニル基、上記シクロアルキル基、及び、上記アリール基は、１個以上のフッ素原子を含有してもよく、１個以上の酸素原子を含有してもよい。
また、Ｒは、水素原子、又は、フッ素原子を除くハロゲン原子を含有してもよく、かつ、１個以上の酸素原子を含有してもよいアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基若しくはアリール基を表し、ｔは１以上の整数を表す。
【００３５】
式（Ａ２）の一実施形態では、Ｘは、水素原子又はハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子）などの原子であってよい。
別の実施形態では、Ｘは、アルキル基、シクロアルキル基、及び、アリール基等であってよく、これらの基に含まれる炭素数は１〜２０程度が好ましい。これらの基はフッ素原子を含有してもよく、高度にフッ素化されていてもよい（すなわち、炭素原子に結合した水素原子の少なくとも８０％、９０％、９５％、又は更には１００％がフッ素原子で置換される）。これらの基は、１個以上の酸素原子（すなわち、エーテル結合）を含有してもよい。また、これらの基は、直鎖状又は分岐鎖状であっても、飽和又は不飽和であってよい。これらの基は、これらの官能基が不要に酸化されず、酸化反応の立体障害とならない限り、他の官能基（例えば、アミン、スルフィド、エステルなど）によって置換されていてもよい。
【００３６】
Ｒは、水素原子又はフッ素原子を除くハロゲン原子であってもよい。別の実施形態では、Ｒは、直鎖状、環状、又は分岐鎖状であってよいアルキル基、アリール基、アルコキシ基、オキシアルキル基、ポリオキシアルキル基、及び、ポリオキシアルコキシ基等が挙げられる。
【００３７】
Ｒの具体的な例としては、Ｈ３Ｃ−、及び、Ｈ５Ｃ６−等が挙げられる。
【００３８】
式（１）で表される含フッ素界面活性剤の具体例としては、上記式（１）中のＡが式（Ａ１）で表されるものとして：
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−ＯＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、ＣＨＦ２（ＣＦ２）５−ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）６−ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２ＣＦ２）２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）２ＣＨ２（ＣＦ２）２−ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）２−ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２）３−ＯＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＨ２−ＯＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２）３−ＯＣＨＦＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２）３−ＯＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−ＯＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）３−ＯＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２ＯＨ、及び、ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２）２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨが挙げられ、
また、Ｒｆ−Ｏ−ＣＨＦ−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦ−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−Ｏ−（ＣＦ２）ｎ−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−（ＣＦ２）ｎ１−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２）ｎ１−１−Ｏ−（ＣＦ２）ｍ１−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２）ｎ１−１−Ｏ−（ＣＦ２）ｍ１−ＣＨ２ＯＨ、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｎ１−１−Ｏ−（ＣＦ２）ｍ１−ＣＨ２ＯＨ、及びＲｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−（Ｏ−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｎ１−１−Ｏ−（ＣＦ２）ｍ１−ＣＨ２ＯＨ（ただし、Ｒｆは、１個以上の酸素原子を含有してもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、部分フッ素化アルキル基又はパーフルオロアルキル基であり、ｎ１は１〜１０を表し、ｍ１は１〜１０を表す）が挙げられる。
【００３９】
また、上記式（１）中のＡが式（Ａ２）で表されるものとしてはＣ６Ｈ５−ＣＨＦ−ＣＨ２ＯＨ、及び、ＣＨ３−ＣＨＦ−ＣＨ２ＯＨ等が挙げられる。
【００４０】
式（１）で表される含フッ素界面活性剤は、−ＣＨ２ＯＨ基を−ＣＯＯ−Ｍ＋基に酸化することにより、対応する式（２）で表される化合物（カルボン酸又はその塩）に変換できる。
【００４１】
式（２）Ａ−ＣＯＯ−Ｍ＋
式中、Ｍ＋は、例えば、水素イオン（Ｈ＋）、金属カチオン、及び、有機カチオン等のカチオンを表す。代表的な金属カチオンとしては、Ｎａ＋及びＫ＋が挙げられる。代表的な有機カチオンとしては、アンモニウム（ＮＨ４＋）、アルキルアンモニウム、及び、アルキルホスホニウム等が挙げられる。式（２）の基Ａは、酸化による影響を受けないため、その好ましい実施形態を含めて式（１）のＡと同じ意味を有する。
【００４２】
なお、式（２）の説明における「カルボン酸」の用語は、カルボン酸及びカルボン酸塩を含む。式（２）で表される化合物である、フッ素化カルボン酸としては、パーフルオロカルボン酸又は部分フッ素化カルボン酸が挙げられる。パーフルオロカルボン酸は、−ＣＯＯＨ基の水素原子以外に水素原子を一切含まない式（２）に基づくカルボン酸である。
部分フッ素化カルボン酸は、−ＣＯＯＨ基の水素原子以外に少なくとも１個のフッ素原子及び１個の水素原子を含有する式（２）に基づくカルボン酸である。
【００４３】
式（２）で表される含フッ素界面活性剤の具体例としては、上記式（２）中のＡが式（Ａ１）で表されるものとして：
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＨＦ２（ＣＦ２）４−ＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）５−ＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＦ３−Ｏ（ＣＦ２）３−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＯＨ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２）３−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２）３−Ｏ−ＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２ＣＦ２）２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）２ＣＨ２ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＦ３ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）２−ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＯＨ、ＣＦ３（ＣＦ２）２−ＯＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）３−ＯＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＯＨ、ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２）２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＯＯＨ、及びこれらの塩（例えば、パーフルオロオクタン酸アンモニウム（構造式ＣＦ３（ＣＦ２）６ＣＯＯＮＨ４等）が挙げられ、
また、Ｒｆ−Ｏ−ＣＨＦ−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦ−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−Ｏ−（ＣＦ２）ｎ１−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−（ＣＦ２）ｎ１−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２）ｎ１−１−Ｏ−（ＣＦ２）ｍ−ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２）ｎ１−１−Ｏ−（ＣＦ２）ｍ−
ＣＯＯ−Ｍ＋、Ｒｆ−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｎ１−１−Ｏ−（ＣＦ２）ｍ−ＣＯＯ−Ｍ＋、及びＲｆ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−（Ｏ−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｎ１−１−Ｏ−（ＣＦ２）ｍ−ＣＯＯ−Ｍ＋、（ただし、Ｒｆは、１個以上の酸素原子を含有してもよい直鎖状又は分岐鎖状の部分フッ素化アルキル基又はパーフルオロアルキル基であり、ｎ１は１〜１０を表し、ｍ１は１〜１０を表し、Ｍ＋は、Ｈ＋又は上記に定義したようなカチオンである）が挙げられる。
【００４４】
また、上記式（２）中のＡが（Ａ２）で表されるものとしてはＣＨ３−ＣＨＦ−ＣＯＯＨ、及び、Ｃ６Ｈ５ＣＨＦＣＯＯＨ等が挙げられる。
【００４５】
また、含フッ素界面活性剤としては、特開２０１５−０４５０３０号公報の００４５段落、特開２０１６−０６５２５９号公報の００２９〜００３１段落、特開２０１６−１６４２７３号公報の００３０〜００３３段落、米国特許出願公開第２００７／００１５８６４号明細書、米国特許出願公開第２００７／００１５８６５号明細書、米国特許出願公開第２００７／００１５８６６号明細書、米国特許出願公開第２００７／０２７６１０３号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１１７９１４号明細書、米国特許出願公開第２００７／１４２５４１号明細書、米国特許出願公開第２００８／００１５３１９号明細書、米国特許第３２５０８０８号明細書、米国特許第３２７１３４１号明細書、特開２００３−１１９２０４号公報、国際公開第２００５／０４２５９３号、国際公開第２００８／０６０４６１号、国際公開第２００７／０４６３７７号、国際公開第２００７／１１９５２６号、国際公開第２００７／０４６４８２号、及び、国際公開第２００７／０４６３４５号に記載されたもの等を使用できる。
【００４６】
含フッ素界面活性剤のオクタノール／水分配係数を表すＬｏｇＰｏｗは、８．０以下が好ましく、７．０以下がより好ましく、４．９以下が更に好ましく、３．７以下が特に好ましく、３．４以下が最も好ましい。本明細書において、オクタノール／水分配係数（ＬｏｇＰｏｗ）は、１−オクタノールと水との分配係数であり、ＬｏｇＰ［式中、Ｐは、含フッ素界面活性剤を含有するオクタノール／水（１：１）混合液が相分離した際のオクタノール中の含フッ素界面活性剤の含有量／水中の含フッ素界面活性剤含有量を表す］で表されるものである。
ＬｏｇＰｏｗで表されるオクタノール／水分配係数は、カラム：ＴＯＳＯＨ  ＯＤＳ−１２０Ｔカラム（φ４．６ｍｍ×２５０ｍｍ）、溶離液：アセトニトリル／０．６質量％ＨＣｌＯ４水＝１／１（ｖｏｌ／ｖｏｌ％）、流速：１．０ｍｌ／分、サンプル量：３００μＬ、カラム温度：４０℃、検出光：ＵＶ２１０ｎｍの条件で、既知のオクタノール／水分配係数を有する標準物質（ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸及びデカン酸）についてＨＰＬＣ（ｈｉｇｈ  ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  ｌｉｑｕｉｄ  ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）を行い、各溶出時間と既知のオクタノール／水分配係数との検量線を作成し、この検量線に基づき、試料液におけるＨＰＬＣの溶出時間から算出する。
【００４７】
ＬｏｇＰｏｗが３．７以下の含フッ素界面活性剤としては、
一般式：ＣＦ３−（ＣＦ２）４−ＣＯＯ−Ｘ＋
（式中、Ｘ＋は水素イオン、ＮＨ４又はアルカリ金属イオンを表す。）、
一般式：ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＯ−Ｘ＋
（式中、Ｘ＋は水素イオン、ＮＨ４＋又はアルカリ金属イオンを表す。）、
一般式：ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＯ−Ｘ＋
（式中、Ｘ＋は水素イオン、ＮＨ４＋又はアルカリ金属イオンを表す。）、及び、
一般式：ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＯＯ−Ｘ＋
（式中、Ｘ＋は水素イオン、ＮＨ４＋又はアルカリ金属イオンを表す。）
からなる群より選択される少なくとも１種の含フッ素界面活性剤であることが好ましい。
【００４８】
ＬｏｇＰｏｗが３．７以下の含フッ素界面活性剤としては、
一般式：ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＯＯ−Ｘ＋
（式中、Ｘは水素イオン、ＮＨ４＋又はアルカリ金属イオンを表す。）、
一般式：ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−ＣＯＯ−Ｘ＋
（式中、Ｘは水素イオン、ＮＨ４＋又はアルカリ金属イオンを表す。）
等も挙げることができる。
【００４９】
上記含フッ素界面活性剤が塩である場合、塩を形成する対イオンとしては、アルカリ金属イオン及びＮＨ４＋等が挙げられ、アルカリ金属イオンとしては、例えば、Ｎａ＋、及び、Ｋ＋等が挙げられる。
【００５０】
ＬｏｇＰｏｗが３．７以下の含フッ素界面活性剤の具体例としては、ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ
（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＯＨ、ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−ＯＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＯ−ＮＨ４＋、ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＯＯ−ＮＨ４＋、ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−ＣＯＯＨ、ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−ＣＯＯ−ＮＨ４＋、ＣＦ３−（ＣＦ２）４−ＣＯＯＨ、ＣＦ３−（ＣＦ２）４−ＣＯＯ-ＮＨ４＋、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＯ−ＮＨ４＋、及び、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＯＨ等が挙げられる。
【００５１】
上記含フッ素界面活性剤は、含フッ素重合体を含有する部材を成形するために有用である反面、本発明者らの検討によれば、部材中の上記含フッ素界面活性剤の含有量の分布状態によっては、経時的に薬液の欠陥抑制性能が悪化していく場合があることを知見している。
【００５２】
部材は、上述した含フッ素重合体及び含フッ素界面活性剤以外の成分を含有していてもよい。
例えば、本発明の効果がより優れる点で、部材は、さらに式（３）で表される化合物（以下、「化合物３」とも記す。）を含有していてもよい。化合物３は、含フッ素重合体を合成する際に用いられる原料である。
式（３）  ＣＨ２＝ＣＸａ（ＣＦ２）ｎＹａ
式（３）中、ＸａおよびＹａは、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子を表し、ｎは１〜８の整数を表す。
化合物３の含有量は特に制限されないが、部材全質量に対して、０．０００１〜０．０５質量％が好ましい。
【００５３】
また、本発明の効果がより優れる点で、部材は、さらに重合開始剤を含有していてもよい。
重合開始剤の種類は特に制限されず、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物；ジイソプロピルパーオキシジカーボネート等のパーオキシジカーボネート系化合物；ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、および、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル系化合物；イソブチリルパーオキシド、オクタノイルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、及び、ラウロイルパーオキシド等の非フッ素系ジアシルパーオキシド系化合物；（Ｚ（ＣＦ２）ｐＣＯＯ）２（ここで、Ｚは水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、ｐは１〜１０の整数である。）等の含フッ素ジアシルパーオキシド系化合物；過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等の無機過酸化物が挙げられる。
重合開始剤の含有量は特に制限されないが、部材全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂが好ましい。
【００５４】
また、本発明の効果がより優れる点で、部材は、さらに連鎖移動剤を含有していてもよい。
連鎖移動剤の種類は特に制限されず、エタノール等のアルコール；１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン、および、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン等のクロロフルオロハイドロカーボン；ペンタン、ヘキサン、および、シクロヘキサン等のハイドロカーボンが挙げられる。
連鎖移動剤の含有量は特に制限されないが、部材全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂが好ましい。
【００５５】
また、本発明の効果がより優れる点で、部材は、さらに可塑剤を含有していてもよい。
なお、可塑剤の中には、上述した含フッ素界面活性剤は含まれない。
可塑剤の種類は特に制限されず、フタル酸エステル系化合物が挙げられる。
可塑剤の含有量は特に制限されないが、部材全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂが好ましい。
【００５６】
〔Ｍ１及びＭ２〕
本発明の実施形態に係る部材は、少なくとも一部（好ましくは全部）の表面（被覆層を有する場合には、被覆層の少なくとも一部（好ましくは全部）の表面）における含フッ素界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、部材の深さ方向に１０ｎｍの位置における含フッ素界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０である。
Ｍ１／Ｍ２が０．５０以上であると、薬液との接触時に含フッ素界面活性剤が薬液中に遊離するのが抑えられ、結果として、薬液の欠陥抑制性能が維持される。一方、Ｍ１／Ｍ２が０．９０以下であると、表面の界面特性が有機不純物及び／又は金属不純物を保持しやすい形状となるため、薬液との接触時に有機不純物及び／又は金属不純物が薬液中に遊離するのが抑えられ、結果として、薬液の欠陥抑制性能が維持される。
なお、部材は、少なくとも一部の表面で上記関係を満たすのが好ましく、接液部の一部の表面で上記関係を満たすのがより好ましく、接液部の全部の表面で上記関係を満たすのが更に好ましく、全部の表面で上記関係を満たすのが特に好ましい。
【００５７】
本明細書において、Ｍ１／Ｍ２は、飛行時間二次イオン質量分析計（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）（ＩＯＮ−ＴＯＦ社製、商品名「ＴＯＦ−ＳＩＭＳ５」）を用いて測定される数値を表す。ＴＯＦ−ＳＩＭＳの測定条件は以下のとおりである。
【００５８】
一次イオン：Ｂｉ３２＋
一次イオン加速電圧：２５ｋＶ
測定面積：１５０μｍ
角測定温度：−１００℃以下
【００５９】
なお、深さ方向の分析には、エッチングのためにＡｒ−ＧＣＩＢ（Ａｒのガスクラスターイオンビーム）を照射し、一次イオン源としてＢｉ３＋を照射し、得られる二次イオンを飛行時間型の質量分析器を用いて分析し、スペクトルを得る方法を用いる。
Ａｒ−ＧＣＩＢではエッチングの際、表面から深さ方向には分子構造を破壊しないため、界面の結合状態について正確な情報を得ることができる。得られる測定値はａｔｏｍ／ｃｍ２である為、この数値よりモル数を算出し、原子数（分子数）をかけることで質量に変換する。
Ａｒ−ＧＣＩＢ投入圧：３ＭＰａ  
測定面：１５０μｍ角  
測定モード：高質量分解能
【００６０】
Ｍ１としては特に制限されないが、０．０００１質量％以上が好ましく、０．０００６質量％以上がより好ましく、０．００２質量％以上が更に好ましく、０．０４質量％以上が特に好ましく、１０質量％以下が好ましく、８．０質量％以下がより好ましく、１．５質量％以下が更に好ましく、１．０質量％以下が特に好ましく、０．１質量％以下が最も好ましい。
Ｍ１が０．０００６質量％以上であると、部材（例えば容器等）の形成が十分に進み、より強靭な部材が得られる。この様な部材であれば、薬液中に不純物がより溶出しにくく、得られる薬液はより優れた欠陥抑制性能を有する。
一方、Ｍ１が、１．５質量％以下であると、含フッ素界面活性剤自体が不純物として薬液中に溶出することがより抑制される。
【００６１】
Ｍ２としては特に制限されないが、０．０００５質量％以上が好ましく、０．００１０質量％以上がより好ましく、０．００５質量％以上が更に好ましく、０．０５質量％以上が特に好ましく、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５．０質量％以下が更に好ましく、１．８質量％以下が特に好ましく、０．２１質量％以下が最も好ましい。より優れた本発明の効果を有する薬液収容体が得られる点で、Ｍ２としては、Ｍ２が０．００１０〜５．０質量％が好ましい。
Ｍ２が０．００１０質量％以上であると、部材（例えば容器等）の形成が十分に進み、より強靭な部材が得られる。この様な部材であれば、薬液中に不純物がより溶出しにくく、得られる薬液はより優れた欠陥抑制性能を有する。
一方、Ｍ２が、１．２質量％以下であると、含フッ素界面活性剤自体が不純物として薬液中に溶出することがより抑制される。
【００６２】
本発明の実施形態に係る部材は、少なくとも一部（好ましくは全部）の表面（被覆層を有する場合には、被覆層の少なくとも一部（好ましくは全部）の表面）における化合物３の質量基準の含有量をＭ３、表面を基準として、部材の深さ方向に１０ｎｍの位置における化合物３の質量基準の含有量をＭ４としたとき、Ｍ３／Ｍ４は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．５０〜１．５０が好ましい。
Ｍ３／Ｍ４の算出方法は、Ｍ１／Ｍ２の算出方法と同様の方法が挙げられる。
Ｍ３としては特に制限されないが、０．０００１質量％以上が好ましく、０．０００６質量％以上がより好ましく、０．００２質量％以上が更に好ましく、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、０．１質量％以下が更に好ましい。
Ｍ３としては特に制限されないが、０．０００５質量％以上が好ましく、０．００１０質量％以上がより好ましく、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、０．１質量％以下が特に好ましい。
【００６３】
本発明の実施形態に係る部材においては、Ｍ１／Ｍ３は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．０１〜１００が好ましい。
【００６４】
〔Ｘ１〕
本実施形態に係る部材は、部材の少なくとも一部（好ましくは全部）の表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である。Ｘ１は、部材に含有される含フッ素重合体、及び、含フッ素界面活性剤の種類と量、並びに、含フッ素重合体の熱分解物、及び、含フッ素界面活性剤の熱分解物の部材中の分布に影響を受ける。
Ｘ１が０．５以上であると、基板上の耐薬品性の向上がみられるため、薬液中への不純物の溶出が少なくなり、結果として、薬液の欠陥抑制性能が維持される。一方、Ｘ１が３．０以下であると、表面上に過剰なフッ素原子が存在しないため、遊離又は遊離に近い状態のフッ素原子が存在せず、これらの元素及びイオンの溶出が少なくなり、結果として、薬液の欠陥抑制性能が維持される。
より優れた本発明の効果を有する部材が得られる点で、Ｘ１としては、０．８以上が好ましく、１．０以上がより好ましく、１．５以上が更に好ましく、１．８以上が特に好ましく、１．８を超えるのが最も好ましく、また、Ｘ１としては、２．５以下が好ましく、２．０以下がより好ましく、２．０未満が更に好ましい。
なお、部材は、少なくとも一部の表面で上記関係を満たすのが好ましく、接液部の一部の表面で上記関係を満たすのがより好ましく、接液部の全部の表面で上記関係を満たすのが更に好ましく、全部の表面で上記関係を満たすのが特に好ましい。
【００６５】
本明細書において、Ｘ１は、Ｘ線光電分光法により測定した炭素原子の含有量（ａｔｍ％）に対するフッ素原子の含有量（ａｔｍ％）を計算することによって求めた数値を意味する。また、部材の表面とは、部材と他の相との界面を意味する。
【００６６】
〔要件１〕
より優れた本発明の効果を有する点で、部材は、以下の試験（以下、「特定試験」ともいう。）における要件１を満たすことが好ましい。
特定試験：イソプロパノールを９９．９９質量％以上含有する試験溶剤の質量（ｇ）に対する、部材の質量（ｇ）の質量比（部材の質量（ｇ）／試験溶剤の質量（ｇ））が、試験溶剤の液温を２５℃とした場合に、０．１となる条件で、部材を、液温２５℃の試験溶剤に４８時間浸漬する。
要件１：浸漬後の試験溶剤に１種の有機不純物が含有される場合、１種の有機不純物の含有量の浸漬前後の増加量が、１０００質量ｐｐｂ以下であり、浸漬後の試験溶剤に２種以上の有機不純物が含有される場合、２種以上の有機不純物の合計含有量の浸漬前後における増加量が、１０００質量ｐｐｂ以下である。
浸漬前後における増加量の下限値としては特に制限されず、定量下限にもよるが、一般に、０．０１質量ｐｐｔ以上が好ましい。なお、試験溶剤に２種以上の有機不純物が含有される場合には、それらの含有量の合計が上記範囲内であることが好ましい。
【００６７】
本明細書において、要件１で規定する有機不純物とは、試験溶剤中に含有されるイソプロパノール以外の有機化合物を意図する。有機不純物の含有量の測定は、ガスクロマトグラフ質量分析装置（製品名「ＧＣＭＳ−ＱＰ２０２０」、島津製作所社製）を用いる。なお、測定条件は、実施例に記載したとおりである。また、特に制限されないが、有機不純物が高分子量化合物の場合には、Ｐｙ−ＱＴＯＦ／ＭＳ（パイロライザー四重極飛行時間型質量分析）、Ｐｙ−ＩＴ／ＭＳ（パイロライザーイオントラップ型質量分析）、Ｐｙ−Ｓｅｃｔｏｒ／ＭＳ（パイロライザー磁場型質量分析）、Ｐｙ−ＦＴＩＣＲ／ＭＳ（パイロライザーフーリエ変換イオンサイクロトロン型質量分析）、Ｐｙ−Ｑ／ＭＳ（パイロライザー四重極型質量分析）、及び、Ｐｙ−ＩＴ−ＴＯＦ／ＭＳ（パイロライザーイオントラップ飛行時間型質量分析）等の手法で分解物から構造の同定や濃度の定量をしてもよい。例えば、Ｐｙ−ＱＴＯＦ／ＭＳは島津製作所社製等の装置を用いることができる。
【００６８】
試験溶剤は、イソプロパノールを含有し、その含有量は９９．９９質量％以上であるものを用いる。上記溶剤は、半導体製造用の高純度イソプロパノールとして市販されている。
特定試験は以下の手順で実施する。試験用容器に、部材と、試験溶剤を収容し、部材の全体を試験溶剤に浸漬させ、試験溶剤の液温が２５℃となり、かつ、試験溶剤が濃縮しないようにして、４８時間維持する。このとき、試験溶剤の質量（ｇ）に対する部材の質量（ｇ）の質量比は、試験溶剤の液温を２５℃とした場合に、０．１（１０％）である。例えば、試験溶剤１００ｇ（２５℃）に対して、１０ｇの部材を浸漬させる。
特定試験で使用する試験用容器は、予め、上記試験溶剤を洗浄液として用い、上記洗浄液で洗浄されたものを用いる。また、試験用容器はそれ自体からの有機不純物の溶出がないものを用いることが好ましいが、試験用容器から有機不純物が溶出する可能性がある場合、以下の方法によって、ブランク試験を行い、試験用容器からの有機不純物の溶出量を結果から差し引く。
（ブランク試験）
試験用容器に、特定試験で使用するのと同質量の試験溶剤を収容し、試験溶剤の液温が２５℃となり、かつ、試験溶剤が濃縮しないようにして４８時間維持する。このとき、４８時間経過前後の試験溶剤中における有機不純物の増加量を試験用容器からの溶出量とする。
【００６９】
〔要件２〕
より優れた本発明の効果を有する点で、部材は、特定試験における要件２を満たすことが好ましい。
要件２：浸漬後の試験溶剤に１種の金属イオンが含有される場合、１種の金属イオンの含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下であり、浸漬後の試験溶剤に２種以上の金属イオンが含有される場合、２種以上の金属イオンの合計含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下である。
浸漬前後における増加量の下限値としては特に制限されず、定量下限にもよるが、一般に、０．０１質量ｐｐｔ以上が好ましい。なお、試験溶剤に２種以上の金属イオンが含有される場合には、それらの含有量の合計が上記範囲内であることが好ましい。
【００７０】
本明細書において金属イオンの含有量は、ＳＰ−ＩＣＰ−ＭＳ法（Ｓｉｎｇｌｅ  Ｎａｎｏ  Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）で測定した金属イオンの含有量を意図する。
ここで、ＳＰ−ＩＣＰ−ＭＳ法において使用される装置は、通常のＩＣＰ−ＭＳ法（誘導結合プラズマ質量分析法）（以下、単に、「ＩＣＰ−ＭＳ」とも言う）において使用される装置と同じであり、データ分析のみが異なる。ＳＰ−ＩＣＰ−ＭＳとしてのデータ分析は、市販のソフトウエアにより実施できる。
ＩＣＰ−ＭＳでは、測定対象とされた金属成分の含有量が、その存在形態に関わらず、測定される。従って、測定対象とされた金属粒子と、金属イオンの合計質量が、金属成分の含有量として定量される。
【００７１】
一方、ＳＰ−ＩＣＰ−ＭＳでは、金属粒子の含有量が測定される。従って、試料中の金属成分の含有量から、金属粒子の含有量を引くと、試料中の金属イオンの含有量を算出することができる。
ＳＰ−ＩＣＰ−ＭＳ法の装置としては、例えば、アジレントテクノロジー社製、Ａｇｉｌｅｎｔ  ８８００  トリプル四重極ＩＣＰ−ＭＳ（ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  ｃｏｕｐｌｅｄ  ｐｌａｓｍａ  ｍａｓｓ  ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ、半導体分析用、オプション＃２００）が挙げられ、実施例に記載した方法により測定することができる。上記以外の他の装置としては、ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ社製  ＮｅｘＩＯＮ３５０Ｓのほか、アジレントテクノロジー社製、Ａｇｉｌｅｎｔ  ８９００も挙げられる。
【００７２】
金属イオンの浸漬前後の増加量は具体的には、以下の方法により算出する。
浸漬後の試験溶剤（２５℃）を採取し、金属イオンの含有量ＭＩ２を測定する。このとき、浸漬後の試験溶剤に２種以上の金属イオンが含有される場合には、ＭＩ２は、それらの合計量である。
ここで、予め測定した浸漬前の試験溶剤に含有される金属イオンの含有量ＭＩ１（試験前の試験溶剤に２種以上の金属イオンが含有される場合には、ＭＩ１は、それらの合計量である。）を用いて、金属イオンの浸漬前後における増加量は、ＭＩ２−ＭＩ１と計算される。なお、特定試験の方法については既に説明したとおりである。
【００７３】
金属イオンの含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下であると、より優れた本発明の効果を有する部材が得られる。また、金属イオンの含有量の浸漬前後の増加量としては、更に優れた本発明の効果を有する部材が得られる点で、０．０１質量ｐｐｔ〜１質量ｐｐｍが更に好ましい。
【００７４】
〔要件３〕
より優れた本発明の効果を有する点で、部材は、特定試験における要件３を満たすことが好ましい。
要件３：浸漬後の試験溶剤に１種の金属粒子が含有される場合、１種の金属粒子の含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下であり、浸漬後の試験溶剤に２種以上の金属粒子が含有される場合、２種以上の金属粒子の合計含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下である。
浸漬前後における増加量の下限値としては特に制限されず、定量下限にもよるが、一般に、０．００１質量ｐｐｔ以上が好ましい。なお、試験溶剤に２種以上の金属粒子が含有される場合には、それらの含有量の合計が上記範囲内であることが好ましい。
【００７５】
金属粒子の含有量の測定方法、浸漬前後の増加量の計算方法、及び、特定試験の方法については既に説明したとおりである。
金属粒子の含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下であると、より優れた本発明の効果を有する部材が得られる。また、金属粒子の含有量の浸漬前後の増加量としては、更に優れた本発明の効果を有する部材が得られる点で、０．０１ｐｐｔ〜１質量ｐｐｍが更に好ましい。
【００７６】
〔要件４〕
より優れた本発明の効果を有する点で、部材は、特定試験における要件４を満たすことが好ましい。
要件４：浸漬後の試験溶剤に１種のフッ化物イオンが含有される場合、１種のフッ化物イオンの含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｍ以下であり、浸漬後の試験溶剤に２種以上のフッ化物イオンが含有される場合、２種以上のフッ化物イオンの合計含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｍ以下である。
浸漬前後における増加量の下限値としては特に制限されず、定量下限にもよるが、一般に、０．００１質量ｐｐｔ以上が好ましい。なお、試験溶剤に２種以上のフッ化物イオンが含有される場合には、それらの含有量の合計が上記範囲内であることが好ましい。
【００７７】
浸漬前後の試験溶剤中のフッ化物イオンの含有量の測定は、イオンクロマトグラフ法により行う。イオンクロマトグラフ法は、以下の装置及び条件で行う。
仕様装置：島津製作所製ＨＩＣ−ＳＰサブプレッサイオンクロマトグラフ
使用カラム  ：イオン交換樹脂  （内径  ４．０  ｍｍ、長さ  ２５  ｃｍ）
移動相  ：炭酸水素ナトリウム溶液  （１．７  ｍｍｏｌ／Ｌ）  −  炭酸ナトリウム溶液  （１．８  ｍｍｏｌ／Ｌ）  
流量  ：１．５  ｍＬ／ｍｉｎ
試料注入量  ：２５  μＬ
カラム温度  ：４０  ℃
サプレッサ  ：電気透析形  
検出器  ：電気伝導度検出器  （３０℃）
【００７８】
浸漬前後の増加量の計算方法、及び、特定試験の方法については既に説明したとおりである。
フッ化物イオンの含有量の浸漬前後の増加量が、１０質量ｐｐｂ以下であると、より優れた本発明の効果を有する部材が得られる。また、フッ化物イオンの含有量の浸漬前後の増加量としては、更に優れた本発明の効果を有する部材が得られる点で、０．０１質量ｐｐｔ〜０．５質量ｐｐｍが更に好ましい。
【００７９】
〔部材の好ましい機械特性〕
部材の機械特性としては特に制限されないが、硬さとしてはＪＩＳ  Ｋ６２５３のタイプＤデュロメータで測定した硬さが、Ｄ５５以上が好ましく、５８以上がより好ましい。
上限としては特に制限されないが、一般に６５以下が好ましい。
また、引張り強さとしては特に制限されないが、２５ＭＰａ以上が好ましく、２８以上がより好ましい。上限としては特に制限されないが、一般に４０以下が好ましい。
また、熱線膨張係数としては特に制限されないが、１０×１０−５（１／Ｋ）以下が好ましく、１０×１０−６（１／Ｋ）以下がより好ましい。下限としては特に制限されないが、一般に１０×１０−８（１／Ｋ）以上が好ましい。
【００８０】
〔部材の用途〕
上記部材は、有機溶剤を含有する薬液の製造（精製を含む）、貯蔵、運搬、又は、移送に用いられることが好ましい。上記部材はこれまでに説明した特徴を有するため、例えば、薬液の貯蔵、及び、運搬を行う容器に適用した場合、収容された薬液に不純物（有機不純物、金属イオン、金属粒子、及び、フッ化物イオン等）を溶出しにくいため、結果として、薬液の欠陥抑制性能が維持されやすい。
また、薬液の製造を行う製造装置（液体の移送を行う配管を含む）の接液部に適用した場合、長期間使用しても部材からの不純物の流出が増加しにくいため、優れた欠陥抑制性能を有する薬液を長期にわたって製造できる。
【００８１】
［容器］
本発明の実施形態に係る容器は、上記部材により形成された容器である。図１には、本発明の実施形態に係る容器と蓋とを有する蓋付き容器の模式図を示した。
蓋付き容器１０は中空の容器１１と、蓋１２とを有し、容器１１の口部１３の外側に設けられた図示しない雄ねじと蓋１２の側部１４の内側に配置された図示しない雌ねじによって、嵌め合せることができるようになっている。嵌め合わされた容器１１と蓋１２によって蓋付き容器１０の内部にキャビティＬが形成され、上記キャビティＬに液体（例えば、有機溶剤を含有する薬液、なかでも、半導体製造用が好ましい。）を収容できるようになっている。
なお、図１には図示しないが、蓋付き容器は、さらにＯリングを備えていてもよい。つまり、容器と蓋との間の隙間を埋めるようにＯリングが配置されていてもよい。言い換えれば、蓋はＯリングを介して容器に係合していてもよい。
Ｏリングの種類は特に制限されないが、Ｏリングは含フッ素重合体を含むことが好ましい。より具体的には、Ｏリングにおいて、接液部が含フッ素重合体から構成されることが好ましい。例えば、Ｏリング自体が含フッ素重合体から構成されていてもよいし、含フッ素重合体以外の樹脂（例えば、シリコーン樹脂）からなるＯリング本体と、このＯリング本体を覆うように配置された含フッ素重合体を含有する被覆層とを含有する被覆層付きＯリングであってもよい。
なお、含フッ素重合体の種類は、上述した通りである。
【００８２】
上記蓋付き容器１０の接液部は、上述した部材からなる。すなわち、蓋付き容器１０の接液部である内壁面１５は、含フッ素重合体及び含フッ素界面活性剤を含有し、所定の特性を有する部材である。なお、蓋付き容器１０の内壁面１５は上記部材からなるが、本発明の実施形態に係る容器としては上記に制限されず、その接液部の少なくとも一部が上記部材からなればよい。
【００８３】
上記容器は、内部に薬液を収容した際、接液部（被収容物と接触する面であって、実際に接触しなくてもその可能性がある部分を意味する。好ましくは、容器全表面。）におけるＭ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、Ｘ１が０．５〜３．０であることが好ましい。その結果、薬液を収容して保管しても、薬液の欠陥抑制性能が経時的に悪化しない。
【００８４】
言い換えれば、本発明の容器は、含フッ素重合体と、フッ素原子を含有する界面活性剤と、を含有する容器であって、容器の少なくとも一部の表面（内壁面）において、表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、上記表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、容器（以下、「特定容器１」ともいう。）であることが好ましい。
上記特定容器１は、上述したように、化合物３、重合開始剤、連鎖移動剤、又は、可塑剤を含有していてもよい。各成分の含有量は、上述した通りであるが、その場合、部材全質量を容器全質量と読み替える。具体的には、上記特定容器１に化合物３が含有される場合、化合物３の含有量は特に制限されないが、容器全質量に対して、０．０００１〜０．０５質量％が好ましい。上記特定容器１に重合開始剤が含有される場合、重合開始剤の含有量は特に制限されないが、容器全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂが好ましい。上記特定容器１に連鎖移動剤が含有される場合、連鎖移動剤の含有量は特に制限されないが、容器全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂが好ましい。上記特定容器１に可塑剤が含有される場合、可塑剤の含有量は特に制限されないが、容器全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂが好ましい。
特定容器１は、内部に薬液を収容した際、接液部（被収容物と接触する面であって、実際に接触しなくてもその可能性がある部分を意味する。好ましくは、容器全表面。）におけるＭ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、Ｘ１が０．５〜３．０であることが好ましい。
また、特定容器１の接液部（好ましくは、容器全表面）においては、上述した、Ｍ３、Ｍ４、Ｍ３／Ｍ４、及び、Ｍ１／Ｍ３が上述した範囲であることが好ましい。
なお、上記特定容器１の場合、上述した特定試験は、以下のように実施する。
特定試験１：イソプロパノールを９９．９９質量％以上含有する試験溶剤の質量（ｇ）に対する、容器の質量（ｇ）の質量比（容器の質量（ｇ）／試験溶剤の質量（ｇ））が、試験溶剤の液温を２５℃とした場合に、０．１となる条件で、部材を、液温２５℃の試験溶剤に４８時間浸漬する。
【００８５】
なお、上記蓋付き容器１０においては、内壁面１５においてＭ１／Ｍ２及びＸ１が所定の範囲を満たしているが、外壁面１６においてもＭ１／Ｍ２及びＸ１が所定の範囲を満たすことが好ましい。
【００８６】
本発明の実施形態に係る容器と蓋とを有する蓋付き容器の変形例を図２に示した。蓋付き容器２０は、容器１１及び蓋１２を有し、これらを嵌め合わせて内部にキャビティＬが形成できるようになっている。図２は、容器１１に蓋１２が嵌めあわされる前の状態を示している。容器１１に蓋１２が嵌めあわされると、容器１１の接液部と、蓋１２の接液部とがつながって、キャビティを取り囲むように接液部が形成される。
【００８７】
蓋付き容器２０は、容器１１及び蓋１２がそれぞれ基材２１と、基材２１上に形成された被覆層２２を有し、基材２１と被覆層２２とが、既に説明した部材を形成する。
【００８８】
蓋付き容器２０はその接液部に、被覆層２２を有するため、キャビティに収容された薬液に不純物が溶出しにくい。その結果、薬液を収容して保管しても、薬液の欠陥抑制性能が経時的に悪化しない。
上記蓋付き容器２０は、内部に薬液を収容した際、接液部（被収容物と接触する面であって、実際に接触しなくてもその可能性がある部分を意味する。好ましくは、被覆層表面。）におけるＭ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、Ｘ１が０．５〜３．０である。
【００８９】
言い換えれば、上記容器は、容器本体と、容器本体上に形成された被覆層とを有する容器であって、被覆層が、含フッ素重合体と、フッ素原子を含有する界面活性剤と、を含有し、容器（被覆層）の少なくとも一部の表面（内壁面）において、表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、上記表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、容器（以下、「特定容器２」ともいう。）であることが好ましい。
この場合、被覆層は、上述したように、化合物３、重合開始剤、連鎖移動剤、又は、可塑剤を含有していてもよい。各成分の含有量は、上述した通りであるが、その場合、部材全質量を被覆層全質量と読み替える。具体的には、上記被覆層に化合物３が含有される場合、化合物３の含有量は特に制限されないが、被覆層全質量に対して、０．０００１〜０．０５質量％が好ましい。上記被覆層に重合開始剤が含有される場合、重合開始剤の含有量は特に制限されないが、被覆層全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂが好ましい。上記被覆層に連鎖移動剤が含有される場合、連鎖移動剤の含有量は特に制限されないが、被覆層全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂが好ましい。上記被覆層に可塑剤が含有される場合、可塑剤の含有量は特に制限されないが、被覆層全質量に対して、０．０１質量ｐｐｔ〜１００質量ｐｐｂが好ましい。
特定容器２は、内部に薬液を収容した際、接液部（被収容物と接触する面であって、実際に接触しなくてもその可能性がある部分を意味する。好ましくは、被覆層全表面。）におけるＭ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、Ｘ１が０．５〜３．０であることが好ましい。
また、特定容器２の被覆層の接液部（好ましくは、被覆層表面）においては、上述した、Ｍ３、Ｍ４、Ｍ３／Ｍ４、及び、Ｍ１／Ｍ３が上述した範囲であることが好ましい。
なお、上記特定容器２の場合、上述した特定試験は、以下のように実施する。
特定試験２：イソプロパノールを９９．９９質量％以上含有する試験溶剤の質量（ｇ）に対する、被覆層の質量（ｇ）の質量比（被覆層の質量（ｇ）／試験溶剤の質量（ｇ））が、試験溶剤の液温を２５℃とした場合に、０．１となる条件で、容器を、液温２５℃の試験溶剤に４８時間浸漬する。
【００９０】
なお、蓋付き容器２０は、その接液部に、含フッ素重合体及び含フッ素界面活性剤を含有する被覆層２２を有するが、本発明の実施形態に係る容器としてはこれに制限されず、容器１１及び蓋１２の外側表面２３側にも更に被覆層を有していてもよい。
【００９１】
本発明の実施形態に係る容器の製造方法としては、特に制限されないが、例えば、基材からなる容器を公知の方法により成形し、上記容器に、含フッ素重合体及び含フッ素界面活性剤を含有する組成物を用いて被覆層を形成する方法が挙げられる。
【００９２】
基材（容器本体）の形態としては既に説明したとおりであるが、基材（容器本体）の材料としては以下の耐腐食材料が好ましい。
【００９３】
〔耐腐食材料〕
耐腐食材料は、含フッ素重合体、及び電解研磨された金属材料からなる群から選択される少なくとも１種である。
【００９４】
＜電解研磨された金属材料（電解研磨済み金属材料）＞
上記電解研磨された金属材料の製造に用いられる金属材料は、クロム及びニッケルからなる群から選択される少なくとも１種を含有し、クロム及びニッケルの含有量の合計が金属材料の全質量に対して２５質量％超である金属材料が好ましく、例えばステンレス鋼、及びニッケル−クロム合金等が挙げられる。
金属材料におけるクロム及びニッケルの含有量の合計は、金属材料全質量に対して２５質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましい。
なお、金属材料におけるクロム及びニッケルの含有量の合計の上限値としては特に制限されないが、一般的に９０質量％以下が好ましい。
【００９５】
ステンレス鋼としては、特に制限されず、公知のステンレス鋼を用いることができる。
なかでも、ニッケルを８質量％以上含有する合金が好ましく、ニッケルを８質量％以上含有するオーステナイト系ステンレス鋼がより好ましい。オーステナイト系ステンレス鋼としては、例えばＳＵＳ（Steel Use Stainless）３０４（Ｎｉ含有量８質量％、Ｃｒ含有量１８質量％）、ＳＵＳ３０４Ｌ（Ｎｉ含有量９質量％、Ｃｒ含有量１８質量％）、ＳＵＳ３１６（Ｎｉ含有量１０質量％、Ｃｒ含有量１６質量％）、及びＳＵＳ３１６Ｌ（Ｎｉ含有量１２質量％、Ｃｒ含有量１６質量％）等が挙げられる。
なお、上記括弧中のＮｉ含有量及びＣｒ含有量は、金属材料の全質量に対する含有量である。
【００９６】
ニッケル−クロム合金としては、特に制限されず、公知のニッケル−クロム合金を用いることができる。なかでも、金属材料の全質量に対する、ニッケル含有量が４０〜７５質量％、クロム含有量が１〜３０質量％のニッケル−クロム合金が好ましい。
ニッケル−クロム合金としては、例えば、ハステロイ（商品名、以下同じ。）、モネル（商品名、以下同じ）、及びインコネル（商品名、以下同じ）等が挙げられる。より具体的には、ハステロイＣ−２７６（Ｎｉ含有量６３質量％、Ｃｒ含有量１６質量％）、ハステロイ−Ｃ（Ｎｉ含有量６０質量％、Ｃｒ含有量１７質量％）、ハステロイＣ−２２（Ｎｉ含有量６１質量％、Ｃｒ含有量２２質量％）等が挙げられる。
また、ニッケル−クロム合金は、必要に応じて、上記した合金の他に、更に、ホウ素、ケイ素、タングステン、モリブデン、銅、及びコバルト等を含有していてもよい。
【００９７】
金属材料を電解研磨する方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができる。例えば、特開２０１５−２２７５０１号公報の段落＜００１１＞−＜００１４＞、及び特開２００８−２６４９２９号公報の段落＜００３６＞−＜００４２＞等に記載された方法を用いることができる。
【００９８】
金属材料は、電解研磨されることにより表面の不動態層におけるクロムの含有量が、母相のクロムの含有量よりも多くなっているものと推測される。そのため、電解研磨された金属材料で被覆された内壁、又は電解研磨された金属材料で形成された基材からは、薬液中に金属成分が流出しにくい。
なお、金属材料はバフ研磨されていてもよい。バフ研磨の方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。バフ研磨の仕上げに用いられる研磨砥粒のサイズは特に制限されないが、金属材料の表面の凹凸がより小さくなりやすい点で、＃４００以下が好ましい。
なお、バフ研磨は、電解研磨の前に行われることが好ましい。
【００９９】
また、基材が電解研磨済み金属材料から形成され、電解研磨済み金属材料がクロムと、更に鉄とを含有する場合、基材の表面における、Ｆｅ原子の含有量に対する、Ｃｒ原子の含有量の含有質量比（Ｃｒ／Ｆｅ）としては特に制限されないが、０．６０以上が好ましく、０．８０以上がより好ましく、１．０以上が更に好ましく、１．５以上が特に好ましく、１．５を超えるのが最も好ましく、３．５以下が好ましく、３．２以下がより好ましく、３．０以下が更に好ましく、２．５未満が特に好ましい。
【０１００】
なお、本明細書における上記表面のＣｒ／Ｆｅは以下の方法によって測定されるＣｒ／Ｆｅを意図する。
測定方法：Ａｒイオンエッチングを併用したＸ線光電子分光分析
＜測定条件＞
Ｘ線源：Ａｌ−Ｋα
Ｘ線ビーム径：φ２００μｍ
信号の取り込み角度：４５°
＜イオンエッチング条件＞
イオン種：Ａｒ電圧：２ｋＶ面積：２×２ｍｍ速度：６．３ｎｍ／ｍｉｎ（ＳｉＯ２換算）
＜計算方法＞
最表面から深さ５ｎｍの方向に０．５ｎｍごとに測定データを取得し、データごとにＣｒ／Ｆｅを算出し、それを算術平均する。
【０１０１】
＜含フッ素重合体＞
上記含フッ素重合体としては、特に制限されず、既に説明した含フッ素重合体を用いることができる。
【０１０２】
Ｍ１／Ｍ２及びＸ１を所定の範囲に調整するための方法としては、成形時の部材の温度を調整する方法、及び／又は、既に説明した、含フッ素重合体の分子鎖末端をパーフルオロアルキル基で置換する方法が挙げられる。上記に拠れば、含フッ素界面活性剤の分散度を調整でき、また、Ｘ１を調整できる。
【０１０３】
部材を成形する方法としては、典型的には、含フッ素重合体と含フッ素界面活性剤とを含有する被覆層形成用組成物を基材に塗布して、塗膜を形成し、上記塗膜を加熱して基材上に被覆層を形成する方法が挙げられる。
被覆層形成用組成物は、含フッ素重合体と含フッ素界面活性剤とを含有していればその他の成分としては特に制限されず、水及び／又は有機溶剤を含有していてもよい。また、被覆層形成用組成物は粉末状であってもよく、被覆層形成用組成物が粉末状である場合には、基材に対して、上記被覆層形成用組成物を静電塗布して、塗膜を形成するのが好ましい。
【０１０４】
このとき、塗膜を加熱する温度としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有する部材が得られる点で、１００℃以上が好ましく、１５０℃以上がより好ましい。
上限は特に制限されないが、３８０℃以下が好ましい。加熱時の温度を厳密に制御することにより、Ｍ１／Ｍ２及びＸ１を所定の範囲に調整することができる。
【０１０５】
なお、部材を成形する方法としては上記に制限されず、上記組成物をラム押出成形、ペースト押出成形、及び、アイソスタティック成形等の粉体成形法によって仮成形し、得られた仮成形体を加熱保持した後、焼成する方法が挙げられる。この際、各工程における温度を厳密に制御することにより、Ｍ１／Ｍ２及びＸ１を所定の範囲に調整できる。
【０１０６】
［薬液収容体］
本発明の実施形態に係る薬液収容体は、既に説明した容器と、上記容器に収容された薬液とを有する。本発明の実施形態に係る薬液収容体は、容器の接液部が部材で形成されているため、上記薬液収容体によれば、長期間保管した場合でも収容された薬液の欠陥抑制性能が悪化しにくい。
【０１０７】
〔薬液〕
薬液は、金属不純物、及び有機不純物を低減させた薬液が好ましい。限定はされないが、半導体製造用に用いられる研磨材、レジスト組成物を含む液、プリウェット液、現像液、リンス液、及び、剥離液等で高純度のもの、半導体製造用以外の他の用途では、ポリイミド、センサー用レジスト、レンズ用レジスト等の現像液、及び、リンス液等で高純度のものが挙げられる。なお、好ましい形態の１つとして、薬液は有機溶剤を含有する。
薬液中における有機溶剤の含有量としては特に制限されないが、一般に薬液の全質量に対して、９７．０〜９９．９９９質量％が好ましく、９９．９０〜９９．９９質量％が好ましい。有機溶剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の有機溶剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
なお、本明細書において、有機溶剤とは、上記薬液の全質量に対して、１成分あたり１００００質量ｐｐｍを超えた含有量で含有される液状の有機化合物を意図する。つまり、本明細書においては、上記薬液の全質量に対して１００００質量ｐｐｍを超えて含有される液状の有機化合物は、有機溶剤に該当するものとする。
なお、本明細書において液状とは、２５℃、大気圧下において、液体であることを意図する。
【０１０８】
＜有機溶剤＞
有機溶剤の種類としては特に制限されず、公知の有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキルエステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、環状ラクトン（好ましくは炭素数４〜１０）、環を有してもよいモノケトン化合物（好ましくは炭素数４〜１０）、アルキレンカーボネート、アルコキシ酢酸アルキル、及び、ピルビン酸アルキル等が挙げられる。
また、有機溶剤としては、例えば、特開２０１６−５７６１４号公報、特開２０１４−２１９６６４号公報、特開２０１６−１３８２１９号公報、及び、特開２０１５−１３５３７９号公報に記載のものを用いてもよい。
【０１０９】
なかでも有機溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、４−メチル−２−ペンタノール、ジメチルスルホキシド、ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルフォラン、シクロヘプタノン、及び、２−ヘプタノンからなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１１０】
＜その他の成分＞
薬液は、有機溶剤以外のその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、金属不純物、有機不純物、含フッ素界面活性剤、及び、水等が挙げられる。
【０１１１】
（金属不純物）
薬液は、金属不純物（金属粒子、及び、金属イオン）を含有してもよい。金属イオンの定義及び測定方法は既に説明したとおりである。
【０１１２】
・金属粒子
薬液中における金属粒子の含有量としては特に制限されないが、一般に、薬液の全質量に対して、１００質量ｐｐｔ以下が好ましく、５０質量ｐｐｔ以下がより好ましく、３０質量ｐｐｔ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、一般に１質量ｐｐｔ以上が好ましい。金属粒子は、薬液中に、１種が単独で含有されていても、２種以上が含有されていてもよい。薬液が金属粒子を２種以上含有する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【０１１３】
・金属イオン
薬液中における金属イオンの含有量としては特に制限されないが、一般に、薬液の全質量に対して、１００質量ｐｐｔ以下が好ましく、５０質量ｐｐｔ以下がより好ましく、３０質量ｐｐｔ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、一般に１質量ｐｐｔ以上が好ましい。金属イオンは、薬液中に、１種を単独で含有されていても、２種以上が含有されていてもよい。薬液が金属イオンを２種以上含有する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【０１１４】
（有機不純物）
薬液は、有機不純物を含有してもよい。
上記有機不純物とは、薬液に含有される有機溶剤とは異なる有機化合物であって、上記薬液の全質量に対して、１００００質量ｐｐｍ以下の含有量で含有される有機化合物を意図する。つまり、本明細書においては、上記薬液の全質量に対して１００００質量ｐｐｍ以下の含有量で含有される有機化合物は、有機不純物に該当し、有機溶剤には該当しないものとする。
薬液中における有機不純物の含有量としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、薬液の全質量に対して１０質量ｐｐｂ以下が好ましく、３質量ｐｐｂ以下がより好ましく、１質量ｐｐｂ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、有機不純物を含有しないことが好ましい。
薬液が有機不純物を含有する場合、有機不純物は金属に対して配位子として振る舞い、金属と錯体を形成する。この様な錯体は疎水性が高く、薬液を用いて処理した半導体基板表面に残存しやすく、結果的に欠陥を形成しやすい。
【０１１５】
（フッ化物イオン）
薬液は、フッ化物イオンを含有してもよい。フッ化物イオンの定義、及び、測定方法については既に説明したとおりである。
薬液中におけるフッ化物イオンの含有量としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、薬液の全質量に対して１質量ｐｐｍ以下が好ましく、０．８質量ｐｐｍ以下がより好ましく０．５質量ｐｐｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、フッ化物イオンを含有しないことが好ましい。
【０１１６】
〔薬液の用途〕
上記実施形態に係る薬液は、半導体製造用に好ましく用いられる。具体的には、リソグラフィー工程、エッチング工程、イオン注入工程、及び、剥離工程等を含有する半導体デバイスの製造工程において、各工程の終了後、又は、次の工程に移る前に、有機物を処理するために使用され、具体的にはプリウェット液、現像液、リンス液、及び、剥離液等として好適に用いられる。例えばレジスト塗布前後の半導体基板のエッジエラインのリンスにも使用することができる。
また、上記薬液は、レジスト液（後述する）に含有される樹脂の希釈液としても用いることができる。また、他の有機溶剤、及び／又は、水等により希釈してもよい。
【０１１７】
また、上記薬液は、半導体製造用以外の他の用途でも好適に用いることができ、ポリイミド、センサー用レジスト、レンズ用レジスト等の現像液、及び、リンス液等としても使用できる。
また、上記薬液は、医療用途又は洗浄用途の溶媒としても用いることができる。特に、容器、配管、及び、基板（例えば、ウェハ、及び、ガラス等）等の洗浄に好適に用いることができる。
【０１１８】
なかでも、上記実施形態に係る薬液は、プリウェット用としてより好ましく用いられる。すなわち、上記実施形態に係る薬液は、プリウェット液として用いることが好ましい。
【０１１９】
［精製装置］
本発明の実施形態に係る精製装置は、有機溶剤を含有する被精製物を精製して、有機溶剤を含有する薬液を得る、薬液の精製装置であって、被精製物を貯留する製造タンクと、被精製物を精製するフィルタユニットと、製造タンクとフィルタユニットとを連結する管路と、を備え、製造タンク、フィルタユニット、及び、管路からなる群から選択される少なくとも１種の接液部が上記部材で形成される、薬液の精製装置である。
【０１２０】
図３は本発明の実施形態に係る薬液の精製装置の模式図を表す。薬液の精製装置３０は、製造タンク３１、フィルタユニット３２、及び、充填装置３４（以下、これらをそれぞれ「ユニット」ともいう。）を備え、これらはそれぞれ管路３３によって連結されている。管路３３は、ポンプ３５、弁３６及び３７を備え、これらを稼動又は開閉することによって、精製装置３０内の被精製物又は薬液を各ユニット間で移送できるように形成されている。
【０１２１】
フィルタユニット３２は、フィルタハウジングと、フィルタハウジングに収納されたフィルタとを備える。フィルタは特に制限されず、薬液の精製用として公知のデプスフィルタ、及びスクリーンフィルタ等を用いることができる。なお、プリーツを備えるフィルタであってもよい。フィルタの材質の好適形態は後述する。
【０１２２】
図３の薬液の精製装置３０は、フィルタユニット３２を一つ備えているが、本発明の実施形態に係る薬液の精製装置としてはこれに制限されず、フィルタユニットを複数備えていてもよく、その配列も管路に対して直列であっても、並列であってもよく、その併用であってもよい。
【０１２３】
充填装置３４は、薬液を容器に充填する機能を有する。その形態としては特に制限されず、公知の充填装置を用いることができる。
【０１２４】
本発明の実施形態に係る薬液の製造装置は、製造タンク、フィルタユニット、及び、それらを連結する管路からなる群から選択される少なくとも１種の接液部が上記部材で形成される。なかでも、長期にわたって優れた欠陥抑制性能を有する薬液を精製できる点で、製造タンク、フィルタユニット、及び、それらを連結する管路の全ての接液部が、上記部材で形成されることが好ましい。なお、部材の形態については既に説明したとおりである。
言い換えれば、上記薬液の製造装置において、製造タンクは、含フッ素重合体と、フッ素原子を含有する界面活性剤と、を含有する製造タンクであって、製造タンクの少なくとも一部の表面（好ましくは、製造タンクの接液部の表面）において、表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、製造タンクであってもよい。
なお、上記製造タンクは、タンク本体と、タンク本体上に形成された被覆層とを有する製造タンクであって、被覆層が含フッ素重合体とフッ素原子を含有する界面活性剤とを含有し、製造タンク（被覆層）の少なくとも一部の表面（好ましくは、製造タンクの接液部の表面）において、表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、製造タンクであってもよい。
タンク本体を構成する材料としては、上述した基材で例示した材料が挙げられる。
【０１２５】
また、上記薬液の製造装置において、フィルタユニットは、含フッ素重合体と、フッ素原子を含有する界面活性剤と、を含有するフィルタユニットであって、フィルタユニットの少なくとも一部の表面（好ましくは、フィルタユニットの接液部の表面）において、表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、フィルタユニットであってもよい。
【０１２６】
また、上記薬液の製造装置において、管路は、含フッ素重合体と、フッ素原子を含有する界面活性剤と、を含有する管路であって、管路の少なくとも一部の表面（好ましくは、管路の接液部の表面）において、表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、管路であってもよい。
なお、上記管路は、管本体と、管本体上に形成された被覆層とを有する管路であって、被覆層が含フッ素重合体とフッ素原子を含有する界面活性剤とを含有し、管路（被覆層）の少なくとも一部の表面（好ましくは、管路の接液部の表面）において、表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、管路であってもよい。
管本体を構成する材料としては、上述した基材で例示した材料が挙げられる。
【０１２７】
なお、本明細書において、フィルタユニットの接液部には、フィルタが備えるろ過材は含まれないものとする。
フィルタユニットの接液部について、図４〜図６を用いて説明する。
図４は、フィルタユニットが備える典型的なフィルタの部分破除した斜視図である。フィルタ４０は、円筒状のろ過材４１と、これを支持する円筒状のコア４２が円筒状のろ過材の内側に配置されている。円筒状のコア４２はメッシュ状に形成されており、液体が容易に通過できるようになっている。ろ過材４１とコア４２とは同心円状である。また、円筒状のろ過材４１とコア４２の上部には、上部から液体が侵入しないようにするキャップ４３が配置されている。また、ろ過材４１とコア４２の下部には、コア４２の内側から液体を取り出すための液体出口４４が配置されている。
【０１２８】
フィルタ４０に流入する液体（被精製物）は、キャップ４３に妨げられるため、ろ過材４１、コア４２を通過し、コア４２の内側に流入して、液体出口４４から、フィルタ４０の外部へと流出する。
なお、フィルタ４０では、ろ過材４１の内側にコア４２が配置されているが、フィルタとしては上記形態に制限されず、ろ過材４１の外側にプロテクタ（形態はコア４２と同様であるが、半径が異なる）を有していてもよい。
【０１２９】
図５は、フィルタユニットが備えるハウジング５０の斜視図であり、図６は、上記ハウジングの部分断面図である。ハウジング５０は、蓋５１と、胴５２から構成されており、蓋５１と胴５２は嵌め合わせることができるようになっている。蓋５１と胴５２が嵌めあわされると内部にキャビティＬが形成され、キャビティＬには、フィルタ４０を収納できるようになっている。
【０１３０】
ハウジング５０は、液体流入口５３と液体流出口５４を有し、フィルタ４０の液体出口４４と、ハウジングの液体流出口５４とが、蓋５１の内部に設けられた内部管路５５により接続されている。被精製物の流れは、Ｆ１によって示される。液体流入口５３から流入した被精製物は、蓋５１内部に設けられた内部管路５６を経て、胴５２内部に流入し、フィルタ４０の外側表面から、ろ過材、及び、コアを通過してコア内側に流入し、その過程で精製される。
コアの内側に流入した精製後の液体は、フィルタ４０の液体出口から、内部管路５５を経て、液体流出口５４から、ハウジング５０外に取り出される（図３中のＦ２で示した流れによる）。
【０１３１】
図５及び図６において、液体流入口５３及び液体流出口５４は、ハウジング５０の蓋５１に配置されているが、本発明の実施形態に係るフィルタユニットが備えるハウジングとしてはこれに制限されず、液体流入口５３及び液体流出口５４はハウジング５０の任意の位置に配置することができる。このとき、液体流入口５３は、フィルタ４０の外側から被精製物をフィルタ４０に流入させるように、液体流出口５４は、フィルタ４０のコアの内側から精製後の被精製物を取り出せるように配置すればよい。
【０１３２】
上記典型的なフィルタユニットにおいて、「フィルタユニットの接液部」とは、ろ過材４１以外の部分であって、被精製物と接する部位を意味する。具体的には、ハウジング５０の内壁面、キャップ４３、コア４２、及び、液体出口４４等である。
なお、部材の形態については既に説明したとおりである。
【０１３３】
なお、フィルタユニットは、ハウジングと、ハウジング内に配置されたフィルタとを含有し、ハウジングが、ハウジング本体と、ハウジング本体上に形成された被覆層とを有するハウジングであって、被覆層が含フッ素重合体とフッ素原子を含有する界面活性剤とを含有し、ハウジング（被覆層）の少なくとも一部の表面（好ましくは、ハウジングの接液部の表面）において、表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、フィルタユニットであってもよい。
【０１３４】
〔薬液の精製方法〕
以下では、本発明の実施形態に係る薬液の精製装置３０を用いて有機溶剤を含有する薬液を精製する方法について説明する。精製装置を用いて薬液を精製する方法としては特に制限されないが、フィルタユニットが備えるフィルタを用いて被精製物をろ過する工程（精製工程）を有することが好ましい。
【０１３５】
＜精製工程＞
有機溶剤を含有する被精製物は、まず、製造タンク３１に貯留される。
製造タンクの形状、及び、容量は、特に制限されず、製造する薬液の量及び／又は種類等に応じて適宜変更することができる。
なお、製造タンクは、収容された被精製物等を撹拌する撹拌翼等を更に供えていてもよいが、この場合、上記撹拌翼等の接液部も部材により形成されることが好ましい。
【０１３６】
製造タンク３１に収容された被精製物は弁３６が開放されると、ポンプ３５によってＦ１方向に沿って管路３３を移動し、フィルタユニット３２に導入される。フィルタユニット３２に導入された被精製物は、フィルタ４０の備えるろ過材４１を通過することによって精製される。以下では、フィルタユニットが備えるフィルタの好適形態について説明する。
【０１３７】
・フィルタ
フィルタの備えるろ過材としては特に制限されず公知のろ過材を用いることができ、その形態もデプスフィルタ、及び、スクリーンフィルタのいずれであってもよくプリーツを有してもよい。
ろ過材の材料としては、ナイロン、ポリエチレン（高密度、及び、高分子量のものを含む）、ポリプロピレン（高密度、及び、高分子量のものを含む）、ポリフルオロカーボン（例えば、ポリテトラフルオロエチレン：ＰＴＦＥ等）、セルロース、ケイソウ土、ポリスチレン、及び、ガラスからなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１３８】
精製装置が２つ以上のフィルタユニットを備える場合、それぞれのフィルタユニットが備えるフィルタのろ過材は、それぞれ、疎水性の材料、及び、親水性の材料で形成されることが好ましい。なお、本明細書において疎水性の材料とは、ろ過材表面の２５℃における水接触角が、４５°以上であることを意図し、親水性の材料とは、ろ過材表面の２５℃における水接触角が４５°未満であることを意図する。
【０１３９】
２つ以上のフィルタユニットを用いる場合、被精製物が最後に通るフィルタは、親水性の材料で形成されたろ過材からなるフィルタ（以下「親水性フィルタ」ともいう。）を備えることが好ましい。親水性フィルタは、被精製物が含有する不純物、特に金属成分との相互作用がより強く、上記をより吸着しやすい。従って、精製後の被精製物中における金属粒子、及び、金属イオンの含有量を所望の範囲に制御しやすくなる。
【０１４０】
２つ以上のフィルタユニットを用いる場合、それぞれのフィルタユニットに通過させる前後の差圧（以下、「ろ過差圧」ともいう。）としては特に制限されないが、２５０ｋＰａ以下が好ましく、２００ｋＰａ以下が好ましい。下限としては特に制限されないが、５０ｋＰａ以上が好ましい。ろ過差圧が２５０ｋＰａ以下であると、フィルタに過剰な圧が掛かるのを防止できるため溶出物の低減が期待できる。
【０１４１】
それぞれのろ過材の孔径の関係は特に制限されないが、異なっていることが好ましい。
被精製物がはじめに通過するフィルタ（以下「第１フィルタ」ともいう。）が備えるろ過材（以下「第１ろ過材」ともいう。）の孔径と比較して、被精製物がその後に通過するフィルタ（以下、「第２フィルタ」ともいう。）が備えるろ過材（以下「第２ろ過材」ともいう。）の孔径が同じ、又は、小さい方が好ましい。なお、本明細書において、ろ過材の孔径とは、フィルタメーカーの公称値を参照できる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択できる。また、ポリアミド製の「Ｐ−ナイロンフィルター（孔径０．０２μｍ、臨界表面張力７７ｍＮ／ｍ）」；（日本ポール株式会社製）、高密度ポリエチレン製の「ＰＥ・クリーンフィルタ（孔径０．０２μｍ）」；（日本ポール株式会社製）、及び高密度ポリエチレン製の「ＰＥ・クリーンフィルタ（孔径０．０１μｍ）」；（日本ポール株式会社製）も使用できる。
【０１４２】
第２ろ過材の孔径が第１ろ過材より小さいものを用いる場合には、第２ろ過材の孔径と第１ろ過材の孔径との比（第２ろ過材の孔径／第１ろ過材の孔径）は、０．０１〜０．９９が好ましく、０．１〜０．９がより好ましく、０．２〜０．９が更に好ましい。第２ろ過材の孔径を上記範囲とすることにより、有機溶剤を含有する薬液に混入している微細な異物がより確実に除去される。
【０１４３】
精製した薬液の保管に際して、薬液中における金属粒子、及び、金属イオンの増加を抑制する観点からは、薬液と、ろ過材の材料との関係は、ろ過材の材料から導き出せるハンセン溶解度パラメータ空間における相互作用半径（Ｒ０）と、薬液に含有される有機溶剤から導き出せるハンセン空間の球の半径（Ｒａ）とした場合のＲａとＲ０の関係式（Ｒａ／Ｒ０）≦１を満たす組み合わせであって、これらの関係式を満たすフィルタ材質で精製された薬液であることが好ましい。（Ｒａ／Ｒ０）≦０．９８が好ましく、（Ｒａ／Ｒ０）≦０．９５がより好ましい。下限としては、０．５以上が好ましく、０．６以上がより好ましく、０．７が更に好ましい。メカニズムは定かではないが、この範囲内であると、長期保管時における薬液中における金属粒子及び金属イオン含有量の増加が抑制される。
これらのろ過材及び、有機溶剤の組み合わせとしては、特に限定されないが、米国ＵＳ２０１６／００８９６２２号公報のものが挙げられる。
【０１４４】
ろ過圧力はろ過精度に影響を与えることから、ろ過時における圧力の脈動は可能な限り少ない方が好ましい。
【０１４５】
ろ過速度は特に限定されないが、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、１．０Ｌ／分／ｍ２以上が好ましく、０．７５Ｌ／分／ｍ２以上がより好ましく、０．６Ｌ／分／ｍ２以上が更に好ましい。
フィルタにはフィルタ性能（フィルタが壊れない）を保障する耐差圧が設定されており、この値が大きい場合にはろ過圧力を高めることでろ過速度を高めることができる。つまり、上記ろ過速度上限は、通常、フィルタの耐差圧に依存するが、通常、１０．０Ｌ／分／ｍ２以下が好ましい。一方で、ろ過圧力を下げることで薬液中に溶解している粒子状の異物又は不純物の量を効率的に低下させることができ、目的に応じて圧力を調整できる。
【０１４６】
ろ過圧力は、より優れた本発明の効果が発揮される点で、０．００１〜１．０ＭＰａが好ましく、０．００３〜０．５ＭＰａがより好ましく、０．００５〜０．３ＭＰａが更に好ましい。特に、孔径が小さいろ過材を使用する場合には、ろ過の圧力を下げることで薬液に溶解している粒子状の異物又は不純物の量を効率的に低下させることができる。孔径が２０ｎｍより小さいろ過材を使用する場合には、ろ過の圧力は、０．００５〜０．３ＭＰａであることが特に好ましい。
【０１４７】
また、ろ過材の孔径が小さくなるとろ過速度が低下する。しかし、同種のフィルタを、複数個で、並列に接続することでろ過面積が拡大してろ過圧力が下がるので、これにより、ろ過速度低下を保障することが可能になる。
【０１４８】
精製工程は、以下の各工程を有することがより好ましい。なお、精製工程は、以下の各工程を１回有してもよいし、複数回有してもよい。また、以下の各工程の順序は特に制限されない。
１．粒子除去工程
２．金属イオン除去工程
３．有機不純物除去工程
以下では、上記工程について、それぞれ説明する。
【０１４９】
（粒子除去工程）
精製工程は、粒子除去工程を有してもよい。粒子除去工程は、粒子除去フィルタを用いて、有機溶剤を含有する薬液中の、粒子を除去する工程である。
粒子除去フィルタの形態としては、特に制限されないが、例えば、孔径が２０ｎｍ以下のろ過材を備えるフィルタが挙げられる。
なお、ろ過材の孔径としては、１〜１５ｎｍが好ましく、１〜１２ｎｍがより好ましい。孔径が１５ｎｍ以下だと、より微細な粒子を除去でき、孔径が１ｎｍ以上だと、ろ過効率が向上する。
粒子除去フィルタが備えるろ過材の材料としては、例えば、６−ナイロン、及び６、６−ナイロンなどのナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、並びに、ポリフルオロカーボン等が挙げられる。
ポリイミド、及び／又は、ポリアミドイミドは、カルボキシ基、塩型カルボキシ基及び−ＮＨ−結合からなる群より選択される少なくとも１つを有するものであってもよい。耐溶剤性については、ポリフルオロカーボン、ポリイミド及び／又はポリアミドイミドが優れる。また、金属イオンを吸着する観点からは、６−ナイロン、及び６、６−ナイロンなどのナイロン、が特に好ましい。
【０１５０】
精製工程が、粒子除去工程を有する場合、粒子除去フィルタを複数用いてもよい。粒子除去フィルタを複数用いる場合、更に、一方のフィルタとしては、孔径が５０ｎｍ以上のろ過材（例えば、孔径が５０ｎｍ以上の微粒子除去用の精密濾過膜）を備えるフィルタが好ましい。有機溶剤を含有する薬液中に、コロイド化した不純物等の微粒子が存在する場合には、孔径が２０ｎｍ以下のろ過材を備えるフィルタ（例えば、孔径が２０ｎｍ以下の精密濾過膜）を用いて濾過する前に、孔径が５０ｎｍ以上のろ過材を備えるフィルタ（例えば、孔径が５０ｎｍ以上の微粒子除去用の精密濾過膜）を用いて有機溶剤を含有する薬液のろ過を実施することで、孔径が２０ｎｍ以下のろ過材を備えるフィルタ（例えば、孔径が２０ｎｍ以下の精密ろ過膜）のろ過効率が向上し、粒子の除去性能がより向上する。
【０１５１】
（金属イオン除去工程）
精製工程は、金属イオン除去工程を有してもよい。金属イオン除去工程は、有機溶剤を含有する薬液を金属イオン吸着フィルタに通過させる工程が好ましい。
金属イオン吸着フィルタとしては特に制限されず、公知の金属イオン吸着フィルタが挙げられる。
なかでも、金属イオン吸着フィルタとしては、イオン交換可能なフィルタが好ましい。
ここで、吸着対象となる金属イオンは、特定金属を含有するイオン、及び、それ以外の金属を含有するイオンが挙げられる。金属イオン吸着フィルタが備えるろ過材は、金属イオンの吸着性能が向上するという観点から、表面に酸基を含有することが好ましい。酸基としては、スルホン酸基、及び、カルボキシ基等が挙げられる。
金属イオン吸着フィルタが備えるろ過材の材料としては、セルロース、ケイソウ土、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、及び、ポリフルオロカーボン等が挙げられる。金属イオンを吸着する効率の観点からは、ナイロンが特に好ましい。
【０１５２】
（有機不純物除去工程）
精製工程は、有機不純物除去工程を有してもよい。有機不純物除去工程としては、有機溶剤を含有する薬液を有機不純物吸着フィルタに通過させる工程が好ましい。
有機不純物吸着フィルタとしては特に制限されず、公知の有機不純物吸着フィルタが挙げられる。
有機不純物吸着フィルタが備えるろ過材としては、有機不純物の吸着性能が向上する点で、有機不純物と相互作用可能な有機物骨格を表面に有すること（言い換えれば、有機不純物と相互作用可能な有機物骨格によって表面が修飾されていること）が好ましい。有機不純物と相互作用可能な有機物骨格としては、例えば、有機不純物と反応して有機不純物を有機不純物吸着フィルタに捕捉できるような化学構造が挙げられる。より具体的には、被精製物が有機不純物としてｎ−長鎖アルキルアルコール（有機溶剤として１−長鎖アルキルアルコールを用いた場合の構造異性体）を含有する場合には、有機物骨格としては、アルキル基が挙げられる。また、被精製物が有機不純物としてジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を含有する場合には、有機物骨格としてはフェニル基が挙げられる。
有機不純物吸着フィルタが備えるろ過材の材料としては、活性炭を担持したセルロース、ケイソウ土、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、及び、ポリフルオロカーボン等が挙げられる。
また、有機不純物吸着フィルタには、特開２００２−２７３１２３号公報及び特開２０１３−１５０９７９号公報に記載の活性炭を不織布に固着したフィルタも使用できる。
【０１５３】
有機不純物吸着フィルタとしては、上記で示した化学吸着（有機不純物と相互作用可能な有機物骨格を表面に有する有機不純物吸着フィルタを用いた吸着）以外に、物理的な吸着方法も適用できる。
例えば、被精製物が有機不純物としてＢＨＴを含有する場合、ＢＨＴの構造は１０オングストローム（＝１ｎｍ）よりも大きい。そのため、孔径が１ｎｍのろ過材を備える有機不純物吸着フィルタを用いることで、ＢＨＴはろ過材の孔を通過できない。つまり、ＢＨＴは、フィルタによって物理的に捕捉されるので、有機溶剤を含有する薬液から除去される。このように、有機不純物の除去は、化学的な相互作用だけでなく物理的な除去方法を適用することでも可能である。ただし、この場合には、３ｎｍ以上の孔径のろ過材を備えるフィルタが「粒子除去フィルタ」として用いられ、３ｎｍ未満の孔径のろ過材を備えるフィルタが「有機不純物吸着フィルタ」として用いられる。
【０１５４】
（洗浄工程：フィルタを洗浄する工程）
本発明の実施形態に係る薬液の精製方法は、フィルタを洗浄する工程を更に有することが好ましい。フィルタを洗浄する方法としては特に制限されないが、洗浄液にフィルタを浸漬する、洗浄液をフィルタに通液する、及び、それらを組み合わせる方法が挙げられる。
フィルタを洗浄することによって、上記試験液に係る各要件を満足するよう、フィルタから抽出される成分の量をコントロールすることが容易となり、結果として、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる。
【０１５５】
洗浄液としては特に制限されず、公知の洗浄液を用いることができる。洗浄液としては特に制限されず、水、及び、有機溶剤等が挙げられる。有機溶剤としては、薬液が含有し得る有機溶剤、例えば、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキルエステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、環状ラクトン（好ましくは炭素数４〜１０）、環を有してもよいモノケトン化合物（好ましくは炭素数４〜１０）、アルキレンカーボネート、アルコキシ酢酸アルキル、及び、ピルビン酸アルキル等であってもよい。
【０１５６】
より具体的には、洗浄液としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルスルホキシド、ｎ−メチルピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルフォラン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、及び、γ−ブチロラクトン、並びに、これらの混合物等が挙げられる。
【０１５７】
フィルタユニットを通過して精製された、精製済み被精製物は、弁３７を開放し、ポンプ３５を稼動させることによって、Ｆ２及びＦ３方向に流れ、充填装置３４において、薬液として容器に収容される。
また、弁３７の操作によってＦ２からＦ４方向に流し、精製済み被精製物を再度製造タンク３１へと循環させてもよい。この場合、精製済み被精製物を再度フィルタユニットで精製することができ、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる。
充填装置３４の接液部は、特に制限されないが、接液部が上記部材から形成されるか、又は、上述した被覆層を有していることが好ましい。なお、充填装置の接液部が上記部材から形成される場合、少なくとも接液部が上記要件Ａを満たす表面となるよう形成され、更に、接液部ではない外側も上記要件Ａを満たす表面となるよう形成されていてもよい。
また、充填装置が被覆層を有している場合、被覆層は、接液部の全部を覆うように設けられる。
【０１５８】
［精製装置の他の実施形態］
本発明の他の実施形態に係る精製装置について図７を用いて説明する。精製装置７０は、図３の精製装置３０の製造タンク３１に、蒸留塔７１が管路７３を通じて連結された精製装置である。
精製装置７０において、被精製物は蒸留塔７１の下部から管路７２を経て蒸留塔７１内に導入される。蒸留塔７１内に導入された被精製物は蒸留され、蒸留済み被精製物はＦ０方向に流れて製造タンク３１に導入される。その後の精製工程については既に説明したとおりである。
【０１５９】
蒸留塔の接液部としては特に制限されないが、上記部材から形成されることが好ましい。なお、蒸留塔の接液部が部材から形成される場合、少なくとも接液部が上記要件Ａを満たす表面となるよう形成され、更に、接液部ではない外側も上記要件Ａを満たす表面となるよう形成されていてもよい。また、蒸留塔が被覆層を有している場合、被覆層は、接液部の全部を覆うように設けられる。
【０１６０】
なお、蒸留塔は、塔本体と、塔本体上に形成された被覆層とを有する蒸留塔であって、被覆層が含フッ素重合体とフッ素原子を含有する界面活性剤とを含有し、蒸留塔（被覆層）の少なくとも一部の表面（好ましくは、蒸留塔の接液部の表面）において、表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、蒸留塔であってもよい。
塔本体を構成する材料としては、上述した基材で例示した材料が挙げられる。
【０１６１】
上記実施形態に係る薬液の精製装置を用いて薬液を精製する方法としては、既に説明した薬液の精製方法に加えて、蒸留塔を用いて被精製物を蒸留する蒸留工程を有していることが好ましい。
【０１６２】
［製造装置］
本発明の実施形態に係る製造装置の図８を用いて説明する。図８は薬液の製造装置の模式図を表す。薬液の製造装置８０は、図７において説明した精製装置７０の蒸留塔７１に、原料投入部８２を備える反応槽８１（これらを合わせて「反応部」ともいう。）が、弁８３を備える管路７２により接続されている。なお、図８の薬液の製造装置は、蒸留塔７１を有しているが、製造装置としてはこれに制限されず、蒸留塔７１を有していなくてもよい。その場合、例えば、図３に示した精製装置３０の製造タンク３１と原料投入部８２を備える反応槽８１が、弁８３を備える管路７２により接続される形態が挙げられる。
【０１６３】
反応部は、原料投入部８２から供給された原材料を（必要に応じて触媒の存在下で）反応槽８１で反応させて有機溶剤を含有する反応物を得る機能を有する。
反応槽８１及び原料投入部８２の接液部としては特に制限されないが、部材から形成されることが好ましい。なお、反応槽が部材から形成される場合、少なくとも接液部が上記要件Ａを満たす表面となるよう形成され、更に、接液部ではない外側も上記要件Ａを満たす表面となるよう形成されていてもよい。また、反応槽が被覆層を有している場合、被覆層は、接液部の全部を覆うように設けられる。
【０１６４】
なお、反応槽は、槽本体と、槽本体上に形成された被覆層とを有する蒸留塔であって、被覆層が含フッ素重合体とフッ素原子を含有する界面活性剤とを含有し、反応槽（被覆層）の少なくとも一部の表面（好ましくは、反応槽の接液部の表面）において、表面における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ１、表面を基準として、深さ方向に１０ｎｍの位置における界面活性剤の質量基準の含有量をＭ２としたとき、Ｍ１／Ｍ２が０．５０〜０．９０であり、表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１が、０．５〜３．０である、反応槽であってもよい。
槽本体を構成する材料としては、上述した基材で例示した材料が挙げられる。
【０１６５】
＜薬液の製造方法＞
上記製造装置を用いて薬液を製造する方法としては、特に制限されないが、以下の工程を有することが好ましい。
・反応工程
・精製工程
このうち、精製工程は既に説明した形態と同様であるので、説明を省略し、以下では反応工程について説明する。
【０１６６】
反応工程は、原料を反応させて反応物を得る工程である。
反応物としては特に制限されないが、例えば、上記の有機溶剤を含有する被精製物が挙げられる。すなわち、有機溶剤を含有する被精製物を得るために有機溶剤を合成する工程が挙げられる。
反応物を得る方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができる。例えば、触媒の存在下において、一又は複数の原料を反応させて、反応物を得る方法が挙げられる。
より具体的には、例えば、酢酸とｎ−ブタノールを硫酸の存在下で反応させ、酢酸ブチルを得る工程、エチレン、酸素、及び水をＡｌ（Ｃ２Ｈ５）３の存在下で反応させ、１−ヘキサノールを得る工程、シス−４−メチル−２−ペンテンをＩｐｃ２ＢＨ（Ｄｉｉｓｏｐｉｎｏｃａｍｐｈｅｙｌｂｏｒａｎｅ）の存在下で反応させ、４−メチル−２−ペンタノールを得る工程、プロピレンオキシド、メタノール、及び酢酸を硫酸の存在下で反応させ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート）を得る工程、アセトン、及び水素を酸化銅−酸化亜鉛−酸化アルミニウムの存在下で反応させて、ＩＰＡ（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）を得る工程、並びに乳酸、及びエタノールを反応させて、乳酸エチルを得る工程等が挙げられる。
【実施例】
【０１６７】
以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【０１６８】
［実施例１］
以下の方法により容器を準備し、準備した容器に有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＭ）を含有する薬液を収容し、薬液収容体を製造した。
なお、容器は以下の方法により基材上に被覆層を形成した部材を用いて作製した。【０１６９】
〔基材の準備〕
容器の作製に用いた基材は、以下の方法により準備した。まず、図１の容器１１と同様の形状のＳＵＳ３１６製の基材（容量１０００ｍｌ）を、バフ研磨し、更に、以下の条件で電解研磨して、電解研磨済みの基材とした。
（電解研磨条件）
電解研磨液：佐々木化学薬品社製「エスクリーンＥＰ」
温度：６０℃
時間：１０分
電流密度：２０Ａ／ｄｍ３
極間距離：２５ｃｍ【０１７０】
〔被覆層の形成〕
被覆層は、以下の方法により調製したＰＴＦＥと含フッ素界面活性剤とを含有する被覆層形成用組成物を用いて形成した。
まず、内容量１Ｌの撹拌機付きガラス製反応器に、５３０ｇの脱イオン水、３０ｇのパラフィンワックスを加えた。更に、最終的に得られる被覆層中に含有されるパーフルオロヘキサン酸（含フッ素界面活性剤１に該当する。）が０．１質量％となるよう調整してパーフルオロヘキサン酸を加えた。次いで反応器の内容物を８５℃まで加熱しながら吸引すると同時にテトラフルオロエチレン単量体でパージして反応器内の酸素を除いた。その後、０．０３ｇのエタンガスを反応器に加え、内容物を５４０ｒｐｍで攪拌した。反応器中にテトラフルオロエチレン単量体を０．７３ＭＰａＧの圧力となるまで加えた。２０ｇの脱イオン水に溶解した０．１１ｇの過硫酸アンモニウムを反応器に注入し、反応器を０．８３ＭＰａＧの圧力にした。開始剤の注入後に圧力の低下が起こり重合の開始が観測された。テトラフルオロエチレン単量体を反応器に加えて圧力を保ち、約１４０ｇのテトラフルオロエチレン単量体が反応し終わるまで重合を続けた。その後に、反応器内の圧力が常圧になるまで排気し、内容物を反応器から取り出して冷却した。上澄みのパラフィンワックスをＰＴＦＥ水性分散液から取り除いた。
ＰＴＦＥ水性分散液を冷凍庫に入れて凍結した。凍結したＰＴＦＥ水性分散液を２５℃になるまで放置して凝固した粉末を得た。凝固した湿潤粉末を１５０℃で１８時間乾燥し被覆層形成用組成物とした。
上記により得られた被覆層形成用組成物を、電解研磨済み基材に、得られる塗膜の厚みが２００μｍとなるよう静電塗布し、表１に記載した温度（表中に「焼成温度」と記載した）で１５分間焼成し、空冷した。上記により、基材上に、ＰＴＦＥ及び含フッ素界面活性剤を含有する被覆層を形成した。なお、被覆層の厚みは２０μｍであった。【０１７１】
＜Ｍ１／Ｍ２、Ｍ３／Ｍ４の測定＞
得られた被覆層の接液部について飛行時間二次イオン質量分析計（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）
（ＩＯＮ−ＴＯＦ社製、商品名「ＴＯＦ−ＳＩＭＳ５」）を用いてＭ１／Ｍ２を測定した。測定条件を以下に示す。
なお、Ｍ３／Ｍ４も同様の方法で測定した。【０１７２】
一次イオン：Ｂｉ３２＋
一次イオン加速電圧：２５ｋＶ
測定面積：１５０μｍ
角測定温度：−１００℃以下【０１７３】
なお、エッチングのためにＡｒ−ＧＣＩＢ（Ａｒのガスクラスターイオンビーム）を照射し、一次イオン源としてＢｉ３＋を照射し、得られる二次イオンを飛行時間型の質量分析器を用いて分析し、スペクトルを得た。Ａｒ−ＧＣＩＢではエッチングの際、最表面から深さ方向には分子構造を破壊しないため、界面の結合状態について正確な情報を得ることができる。得られる測定値はａｔｏｍ／ｃｍ２である為、この数値よりモル数を算出し、原子数（分子数）をかけることで質量に変換した。
Ａｒ−ＧＣＩＢ投入圧：３ＭＰａ
測定面積：１５０μｍ
角測定モード：高質量分解能【０１７４】
＜Ｘ１の測定＞
被覆層の表面における炭素原子の含有原子数に対するフッ素原子の含有原子数の含有原子数比Ｘ１を以下の方法により測定した。
・装置：ＰＨＩ社製Ｑｕａｎｔｅｒａ−ＳＸＭ（商品名）装置
・Ｘ線源：単色化Ａｌ  Ｋα線（１４８６．６ｅＶ、２５Ｗ、１５ｋＶ、ビーム径２００μｍφ）
・測定領域：２００μｍφ
・測定条件：Ｐａｓｓ  Ｅｎｅｒｇｙ＝１４０ｅＶ、ｓｔｅｐ＝０．１ｅＶ、積算回数４〜８回
・測定方法：この測定試料を上記装置にセットし、光電子取り出し角を１０度として測定する。
上記により得られた炭素原子の含有量（原子％）と、フッ素原子の含有量（原子％）を用いて、Ｘ１を計算した。結果を表１に示した。【０１７５】
＜溶出試験＞
また上記とは別に、同様の方法で作製した被覆層を質量比（ｇ／ｇ）で０．１となる条件で、イソプロパノールを９９．９９質量％以上含有する試験溶剤（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  
Ｕｌｔｒａ  Ｐｕｒｅ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ社製）に液温２５℃で４８時間浸漬した。浸漬前後の試験溶剤に含有される各不純物の含有量の増加量について以下の方法により測定し、結果を表１に示した。【０１７６】
（金属粒子、金属イオン）
測定には、Ａｇｉｌｅｎｔ  ８８００  トリプル四重極ＩＣＰ−ＭＳ（半導体分析用、オプション＃２００）を用いた。測定結果をもとに、金属粒子及び金属イオンの含有量をそれぞれ求めた。【０１７７】
・測定条件
サンプル導入系は石英のトーチと同軸型ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）ネブライザ（自吸用）、及び、白金インターフェースコーンを使用した。クールプラズマ条件の測定パラメータは以下のとおりである。
・ＲＦ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）出力（Ｗ）：６００
・キャリアガス流量（Ｌ／ｍｉｎ）：０．７
・メークアップガス流量（Ｌ／ｍｉｎ）：１
・サンプリング深さ（ｍｍ）：１８【０１７８】
（有機不純物）
測定には、ガスクロマトグラフ質量分析装置（製品名「ＧＣＭＳ−２０２０」、島津製作所社製、測定条件は以下のとおり）を用いた。【０１７９】
・測定条件キャピラリーカラム：ＩｎｅｒｔＣａｐ  ５ＭＳ／ＮＰ  ０．２５ｍｍＩ．Ｄ．  ×３０ｍ  ｄｆ＝０．２５μｍ試料導入法：スプリット  ７５ｋＰａ  圧力一定気化室温度  ：２３０℃カラムオーブン温度：８０℃（２ｍｉｎ）−５００℃（１３ｍｉｎ）昇温速度１５℃／ｍｉｎキャリアガス：ヘリウムセプタムパージ流量：５ｍＬ／ｍｉｎスプリット比：２５：１インターフェイス温度：２５０℃イオン源温度：２００℃測定モード：Ｓｃａｎ  ｍ／ｚ＝８５〜５００試料導入量：１μＬ【０１８０】
（フッ化物イオン）
測定には、島津製作所製ＨＩＣ−ＳＰサブプレッサイオンクロマトグラフを用いた。測定条件は以下のとおりである。【０１８１】
・測定条件
使用カラム  ：イオン交換樹脂  （内径  ４．０  ｍｍ、長さ  ２５  ｃｍ）
移動相  ：炭酸水素ナトリウム溶液  （１．７  ｍｍｏｌ／Ｌ）  −  炭酸ナトリウム溶液  （１．８  ｍｍｏｌ／Ｌ）  
流量  ：１．５  ｍＬ／ｍｉｎ
試料注入量  ：２５  μＬ
カラム温度  ：４０  ℃
サプレッサ  ：電気透析形  
検出器  ：電気伝導度検出器  （３０  ℃）【０１８２】
＜薬液の欠陥抑制性能の評価＞
薬液収容体に収容された薬液の欠陥抑制性能は以下の方法により評価した。
まず、直径３００ｍｍのシリコン酸化膜基板を準備した。
次に、ウェハ上表面検査装置（ＳＰ−５；ＫＬＡ  Ｔｅｎｃｏｒ製）を用いて、上記基板上に存在する直径３２ｎｍ以上のパーティクル（以下、これを「欠陥」という。）数を計測した（これを初期値とする。）。次に、上記基板をスピン吐出装置にセットし、基板を回転させながら、基板の表面に対して、各薬液を１．５Ｌ／分の流速で吐出した。その後、基板をスピン乾燥した。
次に、上記装置（ＳＰ−５）を用いて、薬液塗布後の基板に存在する欠陥数を計測した（これを計測値とする。）。次に、初期値と計測値の差（計測値−初期値）を計算した。
得られた結果は下記の基準に基づいて評価した。
上記試験を薬液収容体製造直後の薬液について実施し、「初期欠陥抑制性能」として表１に記載した。次に、薬液収容体を２５℃で１ヶ月保管し、その後、収容された薬液を取り出して上記評価を実施し、「１ヶ月保管後の欠陥抑制性能」として、結果を表１に示した。【０１８３】
「ＡＡ」：欠陥数の初期値と計測値の差が１００個以下だった。
「Ａ」：欠陥数の初期値と計測値の差が１００個を超え、３００個以下だった。
「Ｂ」：欠陥数の初期値と計測値の差が３００個を超え、５００個以下だった。
「Ｃ」：欠陥数の初期値と計測値の差が５００個を超え、１０００個以下だった。
「Ｄ」：欠陥数の初期値と計測値の差が１０００個を超えた。
＜０１８４＞
［実施例２〜３５、３７〜７０］
表１に記載された含フッ素重合体、及び、含フッ素界面活性剤により、実施例１と同様の方法で調製した被覆層形成用組成物を用いて、実施例１と同様の基材上に、厚さ２０μｍの被覆層を形成し、容器を作製した。なお、実施例２６のＰＦＡについては、分子鎖末端を−ＣＦ３で末端安定化処理した（表１中、「末端安定化」の欄に「１」とあるものは末端安定化処理したものである。）ものを使用した。作製した容器に、表１に記載した有機溶剤を含有する薬液を収容して、薬液収容体を製造した。なお、各容器については、溶出試験を実施し、結果を表１に示した。【０１８４】
なお、表中の「焼成温度」欄において、「シート」と記載されている実施例６７〜７０においては、表１に示す特性を示すＰＴＦＥ及び含フッ素界面活性剤を含有するシートを作製し、図１の容器１１と同様の形状のＨＤＰＥ（高密度ポリエチレン）製の基材（容量１０００ｍｌ）上に１２０℃で貼り合せて、所定の容器を製造した。【０１８５】
［比較例１〜８］
表１に示した組成物を用いて、実施例１と同様の方法で容器を作製し、作製した容器に、表１に記載した薬液を収容して、薬液収容体を製造した、なお、各容器については、溶出試験を実施し、結果を表１に示した。【０１８６】
なお、表１に記載した略号は、以下の含フッ素重合体を表す。
・ＰＴＦＥ：ポリテトラフルオロエチレン
・ＰＦＡ：パーフルオロアルコキシアルカン
・ＦＥＰ：四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体
・ＥＴＦＥ：エチレン・四フッ化エチレン共重合体（エチレン：四フッ化エチレン＝１：４（モル比））
・ＥＣＴＦＥ：エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体（エチレン：クロロトリフルオロエチレン＝６：４（モル比））
・ＰＣＴＦＥ：ポリクロロトリフルオロエチレン
・ＰＶＤＦ：ポリフッ化ビニリデン
・ＰＶＦ：ポリフッ化ビニル
・ＰＴＦＥ／ＰＥ：ポリテトラフルオロエチレン／ポリエチレン【０１８７】
なお、表１に示した略号は、以下を示す。
・ＰＥ：ポリエチレン【０１８８】
また、使用した含フッ素界面活性剤は以下のとおりである。なお、「１〜５」の数字は表１中における界面活性剤の種類に対応する。
・１：ＣＦ３（ＣＦ２）４ＣＯＯＨ  （ＬｏｇＰｏｗ：３．１５）
・２：ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＨ  （ＬｏｇＰｏｗ：４．９８）
・３：ＣＦ３ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＨ  （ＬｏｇＰｏｗ：６．３７）
・４：ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＯＯＨ  （ＬｏｇＰｏｗ：６．２９）
・５：ＣＦ３（ＣＦ２）６ＣＯＯＨ  （ＬｏｇＰｏｗ：３．６２）【０１８９】
また、使用したフッ素原子を含有しない界面活性剤は以下のとおりである。なお、数字
「６」は、表１中における界面活性剤の種類に対応する。
・６：ＣＨ３（ＣＨ２）8ＣＯＯＨ  （ＬｏｇＰｏｗ：３．２７）
なお、表１中では、含フッ素界面活性剤及びフッ素原子を含有しない界面活性剤ともに、あわせて「界面活性剤」の欄に記載している。従って比較例２におけるＭ１及びＭ２等は、界面活性剤６の含有量等を表す。【０１９０】
なお、表１中において、「−」は、その材料を使用していないか、又は、その処理を実施していないことを表す。
表１中、「容器形状」欄の「ボトル」は図１に示す形状の容器を意味し、「Ｔｏｔｅ缶」は直方体状の容器（サイズ：２００ｋｇ〜１ｔｏｎ（製造メーカーとしてはサンフロロシステム社、Ｅｎｔeｇｒｉｓ社等が業界の標準品を供給している））を意味する。
表１中、「Ｏリング」欄は、ボトルおよびＴｏｔｅ缶の口部をそれぞれ蓋で閉じる際に、Ｏリングを使用したかどうかを表し、「−」は使用していないことを表す。また、「ＰＴＦＥ」はＯリング本体がＰＴＦＥで構成されるＯリングを表し、「ＨＤＰＥ」はＯリング本体がＨＤＰＥ（高密度ポリエチレン）で構成されるＯリングを表し、「ＰＥ」はＯリング本体がＰＥ（ポリエチレン）で構成されるＯリングを表す。
表１中、「重合開始剤」欄の各記号は、以下の化合物を表す。
Ａｚ：アゾ系重合開始剤
Ｐｅ：パーオキシエステル系重合開始剤
Ｄｉ：ジアシルパーオキシド系重合開始剤
表１中、「化合物３」欄は、被覆層全質量に対する、化合物３の含有量を表す。
表１中、「重合開始剤」欄は、被覆層全質量に対する、重合開始剤の含有量を表す。
表１中、「連鎖移動剤」欄は、被覆層全質量に対する、連鎖移動剤の含有量を表す。
表１中、「可塑剤」欄は、被覆層全質量に対する、可塑剤の含有量を表す。【０１９１】
なお、表１中、各実施例及び比較例に係るデータは、表１［その１］＜１＞〜＜４＞又は表１［その２］＜１＞〜＜４＞の各行にわたって示した。例えば、実施例１であれば、薬液収容体の容器は、表１［その１］＜１＞に示すように、被覆層に含まれる含フッ素重合体がＰＴＦＥであり、表１［その１］＜２＞に示すように、被覆層には化合物３が０．００５質量％含有され、表１［その１］＜３＞に示すように、容器には薬液としてＰＧＭＭが収容され、表１［その１］＜４＞に示すように、初期欠陥抑制性能の結果は「Ａ」である。その他の実施例及び比較例についても同様である。【０１９２】
【表１】
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【０１９３】
【表２】
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【０１９４】
【表３】
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【０１９５】
【表４】
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【０１９６】
【表５】
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【０１９７】
【表６】
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【０１９８】
【表７】
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【０１９９】
【表８】
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【０２００】
なお、実施例においては、容器の接液部の全表面において各実施例のＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４、及び、Ｘ１の値を示した。【０２０１】
表１に記載した結果から、Ｘ１が１．５以上２．０未満の場合、効果に優れていた。特に、Ｘ１が１．８を超える、実施例３４の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体は、実施例１の部材を用いて形成された薬液収容体と比較して、収容された薬液が、より優れた初期欠陥抑制性能、及び、より優れた１ヶ月保管後の欠陥抑制性能を有していた。これは、Ｘ１が１．８を超えると、部材表面の耐薬品性が向上し、部材表面からの有機不純物及びフッ化物イオンの溶出がより少なくなるためと推測される。
また、実施例１〜２０に示したとおり、浸漬後の試験溶剤に含有される有機不純物の含有量が、１０００質量ｐｐｂ以下である、実施例１の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体は、実施例１１の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体と比較して、収容された薬液が、より優れた初期欠陥抑制性能を有し、かつ、より優れた１ヶ月保管後の欠陥抑制性能を有していた。また、浸漬後の試験溶剤に含有される金属イオンの含有量が、１０質量ｐｐｂ以下である、実施例１の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体は、実施例１２の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体と比較して、収容された薬液が、より優れた初期欠陥抑制性能を有し、かつ、より優れた１ヶ月保管後の欠陥抑制性能を有していた。また、浸漬後の試験溶剤に含有される金属粒子の含有量が、１０質量ｐｐｂ以下である、実施例１の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体は、実施例１３の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体と比較して、収容された薬液が、より優れた初期欠陥抑制性能を有し、かつ、より優れた１ヶ月保管後の欠陥抑制性能を有していた。また、浸漬後の試験溶剤に含有されるフッ化物イオンの含有量が、１０質量ｐｐｍ以下である、実施例１の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体は、実施例１４の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体と比較して、収容された薬液が、より優れた初期欠陥抑制性能を有し、かつ、より優れた１ヶ月保管後の欠陥抑制性能を有していた。
また、組成物が含有する含フッ素界面活性剤のＬｏｇＰｏｗが、３．７以下である実施例３４の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体は、実施例２１〜２３の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体と比較して、収容された薬液が、より優れた初期欠陥抑制性能、及び、より優れた１ヶ月保管後の欠陥抑制性能を有していた。
また、組成物が含有する含フッ素界面活性剤のＬｏｇＰｏｗが、３．４以下である実施例３４の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体は、実施例２４の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体と比較して、収容された薬液が、より優れた初期欠陥抑制性能、及び、より優れた１ヶ月保管後の欠陥抑制性能を有していた。
また、含フッ素重合体がＰＴＦＥである実施例３４の部材、及び、末端安定化処理されたＰＦＡである実施例２６の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体は、実施例２１、及び、２７〜３２の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体と比較して、収容された薬液が、より優れた初期欠陥抑制性能、及び、より優れた１ヶ月保管後の欠陥抑制性能を有していた。
また、Ｘ１が２．０未満である、実施例３４の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体は、実施例３５の部材を用いて形成された容器と比較して、収容された薬液が、より優れた１ヶ月保管後の欠陥抑制性能を有していた。これは、Ｘ１が２．０未満であると、部材の表面に存在する含フッ素界面活性剤の分解物等の遊離フッ素化合物が比較的少ないため、薬液収容体を１ヶ月保管した場合であっても、薬液中に溶出する遊離フッ素化合物が抑制されるためと考えられた。
また、Ｍ２が５．０質量％以下である、実施例３４の部材を用いて形成された容器を有する薬液収容体は、実施例４３の部材を用いて形成された薬液収容体と比較して、収容された薬液がより優れた初期欠陥抑制性能、及び、より優れた１ヶ月保管後の欠陥抑制性能を有していた。
また、実施例６４と６６よりＯリングがＰＴＦＥより形成されている場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例５２〜５３と他の実施例との比較から、Ｍ３／Ｍ４が０．５０〜１．５０の場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例５０と５６と他の実施例との比較から、Ｍ１／Ｍ３が０．０１〜１００である場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例５７〜６１の比較から、含フッ素重合体の重量平均分子量が４００００〜６０００００の場合、より効果が優れることが確認された。【０２０２】
［実施例１００］
バフ研磨したＳＵＳ３１６の表面に、実施例１で用いた被覆層と同様の材料で被覆層を形成し、部材を得た。上記被覆層が各ユニットの接液部となるよう、図８に示した薬液の製造装置を整備した。次に、この装置でアセトン及び水素を、酸化銅−酸化亜鉛−酸化アルミニウムの存在下で反応させて、ＩＰＡを含有する反応物を得て、上記反応物を精製して薬液を製造した。上記ユニットを連続稼動させた。整備直後に製造された薬液と、１ヶ月経過後に製造された薬液の欠陥抑制性能を上記の方法で評価し、結果を表２に示した。【０２０３】
［実施例１０１〜１０５、比較例２−１］
上記部材に代えて、所定のユニットの接液部にバフ研磨したＳＵＳ３１６を用いたことを除いては実施例３８と同様にして薬液を製造し、欠陥抑制性能を評価した結果を表２に示した。なお、表２中において、接液部の材料として「１」とあるのは、上記部材により形成されていること、「０」とあるのはＳＵＳ３１６で形成されていることを示している。【０２０４】
【表９】
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【０２０５】
実施例１００に示した結果から、各ユニットの接液部として、実施例１で用いた被覆層と同様の材料で被覆層を形成した部材を用いたところ、上記製造装置を整備直後に、上記製造装置を用いて得られる薬液は、優れた欠陥抑制性能を有していた。また、上記製造装置を連続稼動して、整備から１ヶ月経過後に得られた薬液についても、その優れた欠陥抑制性能は維持されていた。
一方、各ユニットの接液部にバフ研磨したＳＵＳ３１６を用いた比較例２−１の製造装置では、製造直後及び１ヶ月経過後ともに所望の欠陥抑制性能を有する薬液は得られなかった。
また、反応部、蒸留塔、製造タンク、フィルタユニット、及び、充填装置の全てのユニットの接液部が上記部材を用いて形成されている実施例１００の製造装置は、実施例１０１〜実施例１０５の製造装置と比較して、連続稼動後１ヶ月経過した後に得られる薬液が、優れた欠陥抑制性能を有していた。
【符号の説明】
【０２０６】
１０、２０  蓋付き容器
１１、５２  容器
１２、５１  蓋
１３  口部
１４  側部
１５  内壁面
１６  外壁面
２１  基材
２２  被覆層
２３  外側表面
３０、７０  精製装置
３１  製造タンク
３２  フィルタユニット
３３、７１、７２  管路
３４  充填装置
３５  ポンプ
３６、３７、８３  弁
４０  フィルタ
４１  ろ過材
４２  コア
４３  キャップ
４４  液体出口
５０  ハウジング
５３  液体流入口
５４  液体流出口
５５、５６  内部管路
７１  蒸留塔
８０  製造装置
８１  反応槽
８２  原料投入部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2019009313.tif 000019
【国際調査報告】
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2019009313.tif 000021
2019009313.tif 000022
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