(57)【要約】  本発明は、高い屈折率を有する膜を形成できると共に、段差追従性に優れる組成物を提供する。また、本発明は、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、及び、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子を提供する。更に、上記組成物に用いられる化合物を提供する。本発明の組成物は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物及び溶剤を含む組成物であって、上記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、組成物中の全固形分に対して、３０質量％以上である。（Ａ）ｍ−Ｘ−（Ｂ）ｎ          （Ｉ）【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）で表される化合物及び溶剤を含む組成物であって、
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、前記組成物中の全固形分に対して、３０質量％以上である、組成物。
（Ａ）ｍ−Ｘ−（Ｂ）ｎ          （Ｉ）
一般式（Ｉ）中、
ｍは、２以上の整数を表す。
ｎは、０以上の整数を表す。
Ａは、ベンゼン環基及び単環のヘテロ環基からなる群から選択される基を少なくとも２つ有し、かつ、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基である。
Ｘは、ｍ＋ｎ価の連結基を表す。
Ｂは、ポリマー鎖又は置換基を表す。
なお、複数存在するＡは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｂが複数存在する場合、複数存在するＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
【請求項２】
Ａのうち少なくとも１つが、前記単環のヘテロ環基を有する基である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
Ａのうち少なくとも１つが、トリアジン環基を有する基である、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
Ａのうち少なくとも１つが、一般式（ＩＩ）で表される基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【化１】
2018235549.tif 000025
一般式（ＩＩ）中、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３は、それぞれ独立に、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、又は、−Ｓ−を表す。ＲＮは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ａｒ３は、アリーレン基又は二価のヘテロ環基を表す。ＬＡは、単結合又は二価の連結基を表す。＊は結合位置を表す。
ただし、Ａｒ１、Ａｒ２、及び、Ａｒ３のうち１以上は、ベンゼン環基又は単環のヘテロ環基を表す。
【請求項５】
Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち１以上が、−ＮＨ−である、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち２以上が、−ＮＨ−である、請求項４又は５に記載の組成物。
【請求項７】
Ｘが、一般式（ＩＩＩ）で表される基である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
（＊Ａ−ＺＡ）ｍ−Ｙ−（ＺＢ−＊Ｂ）ｎ          一般式（ＩＩＩ）
ｍは、前記一般式（Ｉ）中のｍと同じ値の整数を表す。
ｎは、前記一般式（Ｉ）中のｎと同じ値の整数を表す。
Ｙは、芳香族炭化水素基を有する基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。
ＺＡ及びＺＢは、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。なお、複数存在するＺＡは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ＺＢが複数存在する場合、複数存在するＺＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
＊Ａは、前記一般式（Ｉ）中のＡとの結合位置を表す。
＊Ｂは、前記一般式（Ｉ）中のＢとの結合位置を表す。
【請求項８】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、酸基を有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、重合性基を有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
更に、重合性化合物を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
更に、光重合開始剤を含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記光重合開始剤が、オキシム化合物を含む、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
更に、重合性基を有する樹脂を含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の組成物を用いて形成される、膜。
【請求項１５】
請求項１４に記載の膜からなる、レンズ。
【請求項１６】
請求項１４に記載の膜、又は、請求項１５に記載のレンズを備える、固体撮像素子。
【請求項１７】
一般式（ＩＶ）で表される化合物。
（ＡＴ−ＺＡ）ｍ−Ｙ−（ＺＢ−Ｂ）ｎ          （ＩＶ）
一般式（ＩＶ）中、
ｍは、２以上の整数を表す。
ｎは、０以上の整数を表す。
ＡＴは、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基であって、一般式（ＩＩ）で表される基である。
Ｂは、ポリマー鎖又は置換基を表す。
Ｙは、ｍ＋ｎ価の連結基で、芳香族炭化水素基を有する基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。
ＺＡ及びＺＢは、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。
なお、複数存在するＡＴは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｂが複数存在する場合、複数存在するＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。複数存在するＺＡは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ＺＢが複数存在する場合、複数存在するＺＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
【化２】
2018235549.tif 000026
一般式（ＩＩ）中、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３は、それぞれ独立に、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、又は、−Ｓ−を表す。ＲＮは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ａｒ３は、アリーレン基又は二価のヘテロ環基を表す。ＬＡは、単結合又は二価の連結基を表す。＊は結合位置を表す。
ただし、Ａｒ１、Ａｒ２、及び、Ａｒ３のうち１以上は、ベンゼン環基又は単環のヘテロ環基を表す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定の構造の化合物を含む組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、及び、化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学材料等に使用される化合物に対して、高い屈折率が求められている。
例えば、特許文献１には、高屈折率材料として、トリアジン環含有重合体が開示されている。より具体的には、トリアジン環構造を部分構造として有する重合体が、優れた屈折率を示す点が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１２／１１１６８２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、光学機器（固体撮像素子、表示装置等）の高機能化又は小型化等の要求に伴い、高い屈折率を有する膜を形成でき、かつ、凹凸がある領域に塗布した場合に下層の凹凸形状を反映した膜を形成できる組成物が求められている。なお、特に、凹凸がある領域の凹部内に所望の厚みの膜を形成できる組成物が求められており、以下では、この特性を「段差追従性」ともいう。
本発明者らが、特許文献１に記載の光学材料の特性について検討を行ったところ、上記２つの特性の両立ができず、さらなる改良が必要であった。【０００５】
本発明は、上記実情を鑑みて、高い屈折率を有する膜を形成できると共に、段差追従性に優れる組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、及び、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子を提供することも課題とする。更に、上記組成物に用いられる化合物を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、所定の構造の化合物を含む組成物が、所望の性能を有することを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。【０００７】
（１）後述する一般式（Ｉ）で表される化合物及び溶剤を含む組成物であって、後述する一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、上記組成物中の全固形分に対して、３０質量％以上である、組成物。
（２）後述する一般式（Ｉ）中、Ａのうち少なくとも１つが、単環のヘテロ環基を有する基である、（１）に記載の組成物。
（３）後述する一般式（Ｉ）中、Ａのうち少なくとも１つが、トリアジン環基を有する基である、（１）又は（２）に記載の組成物。
（４）後述する一般式（Ｉ）中、Ａのうち少なくとも１つが、後述する一般式（ＩＩ）で表される基である、（１）〜（３）のいずれかに記載の組成物。
（５）後述する一般式（ＩＩ）中、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち１以上が、−ＮＨ−である、（４）に記載の組成物。
（６）後述する一般式（ＩＩ）中、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち２以上が、−ＮＨ−である、（４）又は（５）に記載の組成物。
（７）後述する一般式（Ｉ）中、Ｘが、後述する一般式（ＩＩＩ）で表される基である、（１）〜（６）のいずれかに記載の組成物。
（８）後述する一般式（Ｉ）で表される化合物が、酸基を有する、（１）〜（７）いずれかに記載の組成物。
（９）後述する一般式（Ｉ）で表される化合物が、重合性基を有する、（１）〜（８）のいずれかに記載の組成物。
（１０）更に、重合性化合物を含む、（１）〜（９）のいずれかに記載の組成物。
（１１）更に、光重合開始剤を含む、（１）〜（１０）のいずれかに記載の組成物。
（１２）上記光重合開始剤が、オキシム化合物を含む、（１１）に記載の組成物。
（１３）更に、重合性基を有する樹脂を含む、（１）〜（１２）のいずれかに記載の組成物。
（１４）（１）〜（１３）のいずれかに記載の組成物を用いて形成される、膜。
（１５）（１４）に記載の膜からなる、レンズ。
（１６）（１４）に記載の膜、又は、（１５）に記載のレンズを備える、固体撮像素子。
（１７）後述する一般式（ＩＶ）で表される化合物。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、高い屈折率を有する膜を形成できると共に、段差追従性に優れる組成物を提供できる。
また、本発明によれば、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、及び、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子を提供できる。更に、上記組成物に用いられる化合物も提供できる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、及び、電子線等を意味する。また本明細書において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、及び、ＥＵＶ光等による露光のみならず、電子線及びイオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタアクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタアクリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、測定装置としてＨＬＣ−８２２０（東ソー株式会社製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ  Ｓｕｐｅｒ  ＡＷＭ―Ｈ（東ソー株式会社製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を用い、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ  リチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリジノン）溶液を用いることによって求めることができる。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全体から溶剤を除いた成分の合計質量をいう。
【００１０】
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。置換基としては、例えば、下記置換基Ｔが挙げられる。
【００１１】
（置換基Ｔ）
置換基Ｔとしては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基及びアニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、及び、シリル基などが挙げられる。以下詳細に記述する。
【００１２】
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子）、
直鎖若しくは分岐のアルキル基（直鎖若しくは分岐の置換若しくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基。例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、及び、２−エチルヘキシル基等）、
シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシクロアルキル基。例えば、シクロヘキシル基及びシクロペンチル基が挙げられ、多シクロアルキル基（例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基で、より具体的には、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基及びビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等）及び、トリシクロアルキル基等の多環構造の基）でもよい。中でも、単環のシクロアルキル基又はビシクロアルキル基が好ましく、単環のシクロアルキル基がより好ましい）、
【００１３】
直鎖若しくは分岐のアルケニル基（直鎖若しくは分岐の置換若しくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基。例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、及び、オレイル基）、
シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、及び、２−シクロヘキセン−１−イル基が挙げられ、多シクロアルケニル基（ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基。より具体的には、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基及びビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基等）及びトリシクロアルケニル基等の多環構造の基）でもよい。中でも、単環のシクロアルケニル基が好ましい）、
アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキニル基。例えば、エチニル基、プロパルギル基、及び、トリメチルシリルエチニル基）、
【００１４】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリール基。例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基、ピレニル基、ビフェニル基、及び、ターフェニル基）、
ヘテロ環基（５〜７員の置換若しくは無置換のヘテロ環基が好ましい。ヘテロ環基は、飽和若しくは不飽和である。ヘテロ環は、芳香族若しくは非芳香族である。ヘテロ環は、単環若しくは縮環である。ヘテロ環基においては、環構成原子が炭素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子及び硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基がより好ましく、炭素数３〜３０の５若しくは６員の芳香族のヘテロ環基が更に好ましい。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、及び、２−ベンゾチアゾリル基）、
シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
【００１５】
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基。例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、及び、２−メトキシエトキシ基）、
アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基。例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、及び、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、
シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基。例えば、トリメチルシリルオキシ基及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、
ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基。ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基及び２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、
【００１６】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基。例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、及び、メタクリロイルオキシ基）、
カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、及び、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、
アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基。例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、及び、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、
アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基。例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、及び、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、
【００１７】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールアミノ基、又は、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基。例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、及び、Ｎ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ基）、
アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基。例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基、アクリロイルアミノ基、及び、メタクリロイルアミノ基）、
アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基。例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、及び、モルホリノカルボニルアミノ基）、
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基。例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、及び、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ基）、
【００１８】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基。例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、及び、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基。例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、及び、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、
アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基。例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、及び、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、
メルカプト基、
【００１９】
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基。例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、及び、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、
アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基。例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、及び、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、
ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環チオ基。ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、及び、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、
スルファモイル基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基。例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、及び、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、
スルホ基、
【００２０】
アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルフィニル基、又は、６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルフィニル基。例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、及び、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、
アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基。例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、及び、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、
アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、又は、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基。例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、アクリロイル基、及び、メタクリロイル基）、
アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基。例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、及び、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、
【００２１】
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、及び、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、
カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基。例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、及び、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、
アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、又は、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環アゾ基のヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）。例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、及び、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、
イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のイミド基。例えば、Ｎ−スクシンイミド基、及び、Ｎ−フタルイミド基）、
ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基。例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、及び、メチルフェノキシホスフィノ基）、
ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基。例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、及び、ジエトキシホスフィニル基）、
【００２２】
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基。例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、及び、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、
ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基。例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、及び、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、並びに、
シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシリル基。例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、及び、フェニルジメチルシリル基）が挙げられる。
【００２３】
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、官能基中の水素原子の部分が、上記いずれかの基で置換されていてもよい。置換基として導入可能な官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、及び、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、より具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、及び、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００２４】
〔組成物〕
本発明の組成物は、後述する一般式（Ｉ）で表される化合物（以下「特定化合物」ともいう）及び溶剤を含む組成物であって、上記特定化合物の含有量は組成物中の全固形分に対して３０質量％以上である。
【００２５】
本発明の組成物の特徴点としては、上述のとおり、高屈折率材料である特定化合物を含む点が挙げられる。
また、後述するように、特定化合物は、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基（以下「高屈折率官能基」ともいう）を２個以上有しており、化合物全体として高い屈折率を示す。
また、本発明の組成物は段差追従性に優れている。
本発明の組成物に使用される特定化合物は、添加量を多くした場合でも、組成物の粘度を比較的低く維持でき、このような性質が本発明の組成物の優れた段差追従性に寄与していると考えられている。
なお、特定化合物が組成物の粘度を低く維持できる理由としては、特定化合物が、放射状の構造などの所定の構造を有するため、特許文献１で挙げられる重合体と比べて分子同士が絡み難い点にあると考えられている。
【００２６】
また、上記組成物が重合性化合物及び光重合開始剤を更に含む場合、上記組成物は、フォトリソグラフ性を発現する。特に、特定化合物が酸基を有する場合、上記組成物は、現像性に優れ、かつ、良好な形状を有するパターンを形成できる。
【００２７】
＜特定化合物（一般式（Ｉ）で表される化合物）＞
特定化合物は、一般式（Ｉ）で表される化合物である。
以下に、一般式（Ｉ）中の各基について説明する。
（Ａ）ｍ−Ｘ−（Ｂ）ｎ          （Ｉ）
なお、以降において、特段の記載がない限り、組成物を用いて形成される膜の高い屈折率と、組成物の優れた段差追従性とのより良好なバランスの点で、一般式（Ｉ）の各基の好適態様が選択される。
【００２８】
一般式（Ｉ）中、ｍは、２以上の整数を表す。
ｍは、２〜２０の整数が好ましく、２〜１０の整数がより好ましく、２〜６の整数が更に好ましい。
なお、一般式（Ｉ）中に複数存在するＡは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
【００２９】
一般式（Ｉ）中、ｎは、０以上の整数を表す。
ｎは、０〜２０の整数が好ましく、０〜１０の整数がより好ましく、０〜６の整数が更に好ましい。
なお、一般式（Ｉ）中にＢが複数存在する場合は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
【００３０】
（Ａの構造）
Ａは、ベンゼン環基及び単環のヘテロ環基からなる群から選択される基を少なくとも２つを有し、かつ、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基である。以下、Ａは、高屈折率官能基ともいう。
なお、本明細書において、単に「ベンゼン環基」と記載する場合は、ナフタレン環基のような「縮合環基」に含まれるベンゼン環基は該当しない。つまり、ベンゼン環単独で構成される基（例えば、フェニル基、フェニレン基等）を意図する。
ただし、上記規定は、構造内にベンゼン環を含む縮合環基（ナフタレン基等）、または、ヘテロ環基が縮合環構造を形成する基（ベンゾチアゾール環基、又は、ベンゾイミダゾール環基等）が、Ａに含まれ得ることを排除しない。Ａには、縮合環基が含まれていてもよいし、含まれていなくてもよい。
【００３１】
上記単環のヘテロ環基は、芳香族性を示しても、示さなくてもよいが、芳香族性を示すのが好ましい。
単環のヘテロ環基の員環数は、３〜１０が好ましく、５〜８がより好ましく、５〜６が更に好ましい。
単環のヘテロ環基が有するへテロ原子の数は、１〜５が好ましく、２〜４がより好ましい。
単環のヘテロ環基のヘテロ原子の具体例としては、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子、テルル原子、リン原子、ケイ素原子、及び、ホウ素原子が挙げられる。中でも、窒素原子、硫黄原子、又は、酸素原子が好ましく、窒素原子がより好ましい。
【００３２】
上記単環のヘテロ環基の具体例としては、ピロール環基、チオフェン環基、フラン環基、セレノフェン環基、テルロフェン環基、イミダゾール環基、ピラゾール環基、オキサゾール環基、イソオキサゾール環基、チアゾール環基、イソチアゾール環基、ピリジン環基、ピリドン−２−オン環基、ピリミジン環基、ピリダジン環基、ピラジン環基、トリアジン環基、セレノピラン環基、テルロピラン環基等の芳香族へテロ環基、ピロリジン環基、シロール環基、ピペリジン環基、ピベラジン環基、及び、モルホリン環基が挙げられる。
中でも、上記単環のヘテロ環基は、トリアジン環基であるのが好ましい。
【００３３】
Ａ中における、ベンゼン環基及び単環のヘテロ環基の合計数は、２以上であり、３以上が好ましく、４以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、６以下の場合が多い。
なお、Ａのうち少なくとも１つは、単環のヘテロ環基を有することが好ましく、トリアジン環基を有することがより好ましい。
なかでも、全てのＡが、単環のヘテロ環基を有することが好ましく、トリアジン環基を有することがより好ましい。
【００３４】
Ａは、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基である。
ここで、Ａは、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上であるとは、Ａ−で表される基に水素原子が結合してなる化合物（Ａ−Ｈ）の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上であることを意図する。
なお、Ａの５８９ｎｍにおける屈折率は、１．７５以上が好ましく、１．８０以上がより好ましく、１．９０以上が更に好ましい。Ａの屈折率の上限については特に制限されないが、２．５０以下が一般的である。
【００３５】
化合物（Ａ−Ｈ）の屈折率は、典型的には以下の工程１〜３に沿って測定される。
工程１：ポリ（メタクリル酸アリル／メタクリル酸）（質量比：９０／１０、Ｍｗ：１５，０００〜２０，０００、分散度：１．５〜２．５）を１０質量％含有する溶剤に、化合物（Ａ−Ｈ）を溶解させ、全固形分に対する化合物（Ａ−Ｈ）の含有量が３０質量％、５０質量％、又は、７０質量％である溶液をそれぞれ調製する。なお、使用する溶剤としては、上記溶液中の固形分を均一に溶解できる溶剤を選択する。
工程２：工程１で調製されたそれぞれの溶液をガラス基板に塗布し、更にガラス基板をベークして溶剤を除去することで塗膜を形成する。この塗膜を用いて屈折率を測定する。屈折率の測定においては、エリプソメーターを用いて波長３００〜１５００ｎｍの屈折率を測定し、波長５８９ｎｍにおける屈折率の値を各塗膜の屈折率とする。
工程３：塗膜中の化合物（Ａ−Ｈ）の含有量（含有割合）と、塗膜の屈折率との関係をプロットしてプロット図（横軸：高屈折率化合物の含有割合、縦軸：塗膜の屈折率）を作成し、化合物（Ａ−Ｈ）の含有量が仮定的に１００％である場合に想定される塗膜の屈折率を線形近似で求め、その屈折率を化合物（Ａ−Ｈ）の屈折率とする。
【００３６】
また、組成物を用いて形成される膜の耐熱性が優れる観点から、Ａは重合性基を有するのも好ましい。上記重合性基としては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基が好ましい。
Ａの分子量は、１００〜１０００が好ましく、２００〜８００がより好ましく、３００〜７００が更に好ましい。
【００３７】
Ａの好適態様としては、式（Ｉ−Ｉ）で表される基が挙げられる。
式（Ｉ−Ｉ）    （Ｑ−Ｌ１−）ｐ−Ｔ−Ｌ２−Ｚ−Ｌ３−＊
Ｑは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基（ベンゾチアゾール環基等）を表す。アリール基としては、フェニル基が好ましい。
Ｔは、置換基を有していてもよい、ベンゼン環基又は単環のヘテロ環基を表す。
ｐは、１以上の整数を表す。ｐは、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましく、２が更に好ましい。
ｐが２以上の場合、複数のＱ及びＬ１は、同一でも異なっていてもよい。
Ｌ１〜Ｌ３は、それぞれ独立に、単結合、又は、二価の連結基を表す。二価の連結基としては、例えば、二価の鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましい）、二価の環状飽和炭化水素基（炭素数３〜２０であることが好ましい）、二価の芳香族基（炭素数５〜２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＮ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲＮ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ３−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ２ＮＲＮ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、又は、これらを２種以上組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。ここで、ＲＮは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。
中でも、Ｌ１及びＬ２としては、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、−Ｓ−、又は、−ＣＯＮＲＮ−が好ましく、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、又は、−Ｓ−がより好ましい。また、Ｌ３としては、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、−Ｓ−、又は、−Ｏ−アルキレン基が好ましく、−ＮＲＮ−、又は、−Ｏ−アルキレン基がより好ましい。
Ｚは、単結合、アリーレン基、又は、二価のヘテロ環基を表す。二価のヘテロ環基とは、上述したヘテロ環基中の任意の位置から２個の水素原子を除いて形成される基である。アリーレン基としては、フェニレン基が好ましい。なお、Ｚが単結合の場合、ｐは２以上の整数を表す。
＊は結合位置を表す。
また、式（Ｉ−Ｉ）中には、Ｔで表されるベンゼン環基又は単環のヘテロ環基以外に、少なくとも１以上のベンゼン環基又は単環のヘテロ環基が存在する。
なお、フェニル基及びフェニレン基は、いずれもベンゼン環基の１種である。
【００３８】
Ａの最好適態様としては、一般式（ＩＩ）で表される基が挙げられる。
なお、Ａのうち少なくとも１つが一般式（ＩＩ）で表される基であるのが好ましく、Ａの全てが一般式（ＩＩ）で表される基であるのがより好ましい。
【００３９】
【化３】
2018235549.tif 000002
【００４０】
一般式（ＩＩ）中、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３は、それぞれ独立に、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、又は、−Ｓ−を表す。ＲＮは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜７）、又は、アリール基を表す。
中でも、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３は、それぞれ独立に、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−、又は、−Ｓ−が好ましく、−ＮＨ−がより好ましい。
Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち、１以上が−ＮＨ−であるのが好ましく、２以上が−ＮＨ−であるのがより好ましく、全てが−ＮＨ−であるのが更に好ましい。
【００４１】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基（ベンゾチアゾール環基等）を表す。中でも、上記アリール基としては、フェニル基が好ましい。
アリール基及びヘテロ環基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、上述した置換基Ｔが挙げられ、アリール基（フェニル基又はビフェニル基など）、シアノ基、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、ヘテロ環基、次に説明する重合性基を有する基、又は、これらの組み合わせからなる基が好ましい。例えば、Ａｒ１及び／又はＡｒ２が置換基とともに、ビフェニル基、又は、ターフェニル基を形成しているのも好ましい。このようなビフェニル基、又は、ターフェニル基が更に置換基（次に説明する重合性基を有する基も含む）を有しているのも好ましい。
置換基の置換位置は、Ｃ１又はＣ２に対して、パラ位に置換するのが好ましい。
【００４２】
また、組成物を用いて形成される膜の耐熱性が優れる観点から、上記アリール基及びヘテロ環基は、置換基として、重合性基を有するのも好ましい。上記重合性基としては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基が好ましい。
置換基として、重合性基を有する形態に制限はなく、このような重合性基を有する基は、重合性基そのものであってもよいし、重合性基を一部に含む基であってもよい。重合性基を有する基は、重合性基を複数有していてもよい。
重合性基を有する基としては、例えば、「−（単結合又は二価の連結基）−（重合性基）」及び「−（単結合又は二価の連結基）−（三価の連結基）−［（単結合又は二価の連結基）−（重合性基）］２」が挙げられる。
上記二価の連結基としては、それぞれ独立に、例えば、二価の鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましい）、二価の環状飽和炭化水素基（炭素数３〜２０であることが好ましい）、二価の芳香族基（炭素数５〜２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＮ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲＮ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ３−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ２ＮＲＮ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、又は、これらを２種以上組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。ここで、ＲＮは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。中でも、上記二価の連結基としては、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−二価の鎖状飽和炭化水素基−Ｏ−、又は、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−が好ましい。
上記三価の連結基としては、例えば、−ＣＲＴ＜で表される基が挙げられる。ここで、ＲＴは、水素原子、アルキル基（好ましくはメチル基）、又は、アリール基を表す。
【００４３】
Ａｒ３は、アリーレン基又は二価のヘテロ環基であり、ＬＡを介して一般式（Ｉ）中のＸと結合する。中でも、上記アリーレン基としては、フェニレン基が好ましい。
ＬＡは、単結合又は二価の連結基を表す。二価の連結基の定義は、上述の通りである。
ＬＡで表される二価の連結基としては、−ＮＨ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、アルキレン基（好ましくは炭素数１〜３）、又は、これらの組み合わせ（例えば、−Ｏ−アルキレン基−など）からなる基が好ましい。
二価の連結基である場合のＬＡの分子量は、１４〜３００が好ましく、１６〜２００がより好ましく、１６〜１００が更に好ましい。
＊は、結合位置を表す。
ただし、Ａｒ１、Ａｒ２、及び、Ａｒ３のうち１以上は、ベンゼン環基又は単環のヘテロ環基を表す。
なお、フェニル基及びフェニレン基は、いずれもベンゼン環基の１種である。
【００４４】
（Ｘの構造）
一般式（Ｉ）中、Ｘは、ｍ＋ｎ価の連結基を表す。
Ｘはｍ＋ｎ価の連結基であれば、その構造は特に制限はないが、芳香族炭化水素基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を有しているのが好ましい。上記芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基又はナフタレン環基が好ましい。上記ヘテロ環基は、縮合環基であっても縮合環基でなくてもよいが、縮合環基でないのが好ましく、トリアジン環基がより好ましい。
Ｘが、芳香族炭化水素基又はヘテロ環基を有する場合、Ｘは芳香族炭化水素基又はヘテロ環基を１個有するのが好ましい。なお、この場合、縮合環構造を有する芳香族炭化水素基は１個の芳香族炭化水素基として計上し、縮合環構造を有するヘテロ環基も１個のヘテロ環基として計上する。
Ｘとしては、後述する一般式（ＩＩＩ）で表される基が好ましい。
Ｘの分子量は、５０〜２０００が好ましく、７０〜１５００がより好ましく、１２０〜１２００が更に好ましい。
【００４５】
Ｘの好適態様としては、以下の一般式（ＩＩＩ）で表される基が好ましい。
【００４６】
（＊Ａ−ＺＡ）ｍ−Ｙ−（ＺＢ−＊Ｂ）ｎ          （ＩＩＩ）
【００４７】
一般式（ＩＩＩ）中、ｍは、一般式（Ｉ）中のｍと同じ値で、２以上の整数を表す。
ｎは、一般式（Ｉ）中のｎと同じ値で、０以上の整数を表す。
＊Ａは、一般式（Ｉ）中のＡとの結合位置を表す。
＊Ｂは、一般式（Ｉ）中のＢとの結合位置を表す。
ｍ＋ｎは、２〜６が好ましい。
【００４８】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｙは、ｍ＋ｎ価の連結基で、芳香族炭化水素基を有する基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。
【００４９】
上記芳香族炭化水素基を有する基は、１個以上の芳香族炭化水素基のみからなる基であってもよいし、１個以上（好ましくは２個以上）の芳香族炭化水素基とそれ以外の基とからなる基であってもよい。
芳香族炭化水素基とそれ以外の基とからなる基としては、例えば、次の式で表される基が挙げられる。
（芳香族炭化水素基）−（単結合又は二価の連結基）−（芳香族炭化水素環基）    式
上記式中の２個の芳香族炭化水素基は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
上記式中の二価の連結基としては、例えば、二価の鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましい）、二価の環状飽和炭化水素基（炭素数３〜２０であることが好ましい）、二価のヘテロ環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＮ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲＮ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ３−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ２ＮＲＮ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、又は、これらを２種以上組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられ、中でも、−ＳＯ２−が好ましい。ここで、ＲＮは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。
芳香族炭化水素基を有する基における、芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基又はナフタレン環基が好ましい。
Ｙが芳香族炭化水素基を有する基である場合、ｍの値は、２〜４が好ましい。
Ｙが芳香族炭化水素基を有する基である場合、ｎの値は、０〜２が好ましい。
Ｙが芳香族炭化水素基を有する基である場合、ｍ＋ｎは２〜４が好ましい。
【００５０】
Ｙがヘテロ環基である場合、縮合環基であっても縮合環基でなくてもよいが、縮合環基でないのが好ましい。縮合環基ではないヘテロ環基の好適な態様は、上述の一般式（Ｉ）中のＡが有し得るヘテロ環基の好適な態様と同じである。
中でも、Ｙで表されるヘテロ環基としては、トリアジン環基が好ましい。
Ｙがヘテロ環基である場合、ｍの値は、２〜４が好ましく、３がより好ましい。
Ｙがヘテロ環基である場合、ｎの値は、０〜３が好ましく、０がより好ましい。
Ｙが芳香族炭化水素基である場合、ｍ＋ｎは２〜４が好ましく、３がより好ましい。
【００５１】
Ｙが酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基である場合、脂肪族炭化水素基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよく、環構造（好ましくは炭素数５〜１０）を有していてもよい。
脂肪族炭化水素基が有していてもよい酸素原子は、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、又は、−ＣＯＯ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−等として含まれていてもよい。つまり、脂肪族炭化水素基は、上記例示した基を含んでいてもよい。
【００５２】
脂肪族炭化水素基の炭素数は特に制限されないが、１〜４０が好ましく、２〜３０がより好ましく、３〜２０が更に好ましい。
【００５３】
酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基の好適態様の一つとしては、酸素原子を有していてもよいアルキレン基が挙げられる。なお、Ｙが酸素原子を有していてもよいアルキレン基の場合、ｍ＋ｎ＝２の関係となる。
アルキレン基の炭素数は、２〜１５が好ましく、３〜１２がより好ましく、４〜１０が更に好ましい。
また、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基は、環状の基そのものであってもよいし、環状の基を一部に含む基であってもよい。このような態様のＹとしては、Ｙが環状飽和炭化水素基（好ましくは５〜７員環、より好ましくは６員環）である例が挙げられる。
【００５４】
酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基の他の好適態様としては、式（Ａ）で表される基が挙げられる。なお、Ｙが式（Ａ）で表される基の場合で、かつ、ｒが１の場合、ｍ＋ｎ＝６の関係となる。また、この場合、ｍは、２〜６が好ましく、２〜５がより好ましく、３〜５が更に好ましい。
【００５５】
【化４】
2018235549.tif 000003
【００５６】
ＬＣは、それぞれ独立に、アルキレン基を表す。アルキレン基中の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が更に好ましい。
ｒは、０又は１を表す。
【００５７】
一般式（ＩＩＩ）中、ＺＡ及びＺＢは、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。
上記二価の連結基の定義は、上述した通りである。なかでも、二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯ２−、アルキレン基、又は、これらの組み合わせからなる基が好ましい。
上記これらの組み合わせからなる基としては、例えば、−Ｙ−アルキレン基−Ｙ−、−Ｙ−アルキレン基などが挙げられる。Ｙとしては、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＨ−が挙げられる。上記組み合わせからなる基としては、より具体的には、−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−Ｓ−、アルキレン基−Ｓ−、−アルキレン基−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基などが挙げられる。
【００５８】
（Ｂの構造）
一般式（Ｉ）中、Ｂは、ポリマー鎖又は置換基を表す。なお、本明細書において、「置換基」には、ポリマー鎖は含まれない。また、「置換基」には、上述した高屈折率官能基は含まれない。
【００５９】
Ｂで表されるポリマー鎖とは、所定の繰り返し単位を複数有する鎖である。ポリマー鎖の構造に特に制限されず、公知のポリマーから目的等に応じて選択できる。
中でも、ポリマー鎖は、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、及び、シリコーン系ポリマーからなる群より選択されるポリマーで構成されるポリマー鎖が好ましく、（メタ）アクリル化合物の重合体又は共重合体で構成されるポリマー鎖がより好ましい。
ポリマー鎖は、置換基を有していてもよい。なお、置換基が複数存在する場合、複数存在する置換基は、同一でも異なっていてもよい。
ポリマー鎖中の置換基の好適態様の一つとしては、酸基が挙げられる。酸基の種類としては、後述する特定化合物が有していてもよい酸基で例示する基が挙げられる。
また、ポリマー鎖中の置換基の他の好適態様としては、組成物を用いて形成される膜の耐熱性が優れる観点から、後述する重合性基が挙げられる。中でも、重合性基は、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、メタクリロイルオキシ基がより好ましい。
Ｂで表されるポリマー鎖の重量平均分子量は、２００〜１０，０００が好ましく、３００〜５，０００がより好ましい。
ポリマー鎖であるＢが複数存在する場合、複数存在するポリマー鎖は、同一でも異なっていてもよい。
【００６０】
Ｂで表される置換基としては、上述の置換基Ｔで例示される基が挙げられる。Ｂで表される置換基としては、例えば、置換基Ｔで例示した複数の置換基を組み合わせてなる基であってもよい。
中でも、組成物の現像性が優れる観点から、Ｂで表される置換基としては、後述する酸基を有する基が好ましく、チオール基を有する基又はカルボキシ基を有する基がより好ましく、カルボキシ基を有する基が更に好ましい。
ただし、チオール基は、後述するエチレン性不飽和結合を有する基と、エン／チオール反応に基づく架橋構造を形成できる。そのため、後述する重合性化合物等の存在下で組成物から得られる膜の耐熱性を向上できる点で、チオール基を有する基が好ましい。
チオール基を有する基は、例えば、「−アルキレン基（好ましくは炭素数２〜５）−ＳＨ」で表される基が好ましい。
また、Ｂで表される置換基としては、ハロゲン原子を有する基も好ましい。
なお、本明細書において、酸基を有する基とは、上記酸基そのものである態様も含むことを意図する。チオール基を有する基及びカルボキシ基を有する基も、同様の意図である。
Ｂで表される置換基が複数存在する場合、複数存在するＢは、同一でも異なっていてもよい。
【００６１】
（酸基）
また、組成物の現像性が優れる観点から、特定化合物は酸基を有するのが好ましい。
酸基の具体例としては、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、フェノール性水酸基、及び、ホウ酸基が挙げられる。中でも、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、又は、ホスフィン酸基が好ましく、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、又は、ホスフィン酸基がより好ましく、カルボキシ基が更に好ましい。
特定化合物が酸基を有する場合、Ａが酸基を有していてもよく、Ｂで表される置換基が酸基を有していてもよく、Ｂで表されるポリマー鎖が酸基を有していてもよい。
【００６２】
（重合性基）
また、組成物を用いて形成される膜の耐熱性が優れる観点から、特定化合物は重合性基を有するのが好ましい。
重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基等が挙げられる。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基を用いることができ、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性基が好ましい。中でも、（メタ）アクリロイル基、又は、ビニル基が好ましい。上記（メタ）アクリロイル基は、−Ｏ−又は−ＮＨ−と組み合わさって、（メタ）アクリロイルオキシ基又は（メタ）アクリロイルアミノ基となっているのも好ましい。
【００６３】
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、及び、ビニルオキシ基等が挙げられる。
【００６４】
特定化合物が重合性基を有する場合、Ａが重合性基を有していてもよく、Ｂで表される置換基が重合性基を有していてもよく、Ｂで表されるポリマー鎖が重合性基を有していてもよい。
なお、本明細書において、特定化合物が重合性基を有する場合、重合性基を有する特定化合物は、後述の重合性化合物には含まれない。
【００６５】
中でも、特定化合物は、一般式（ＩＶ）で表される化合物であるのが好ましい。
（ＡＴ−ＺＡ）ｍ−Ｙ−（ＺＢ−Ｂ）ｎ          （ＩＶ）
【００６６】
一般式（ＩＶ）中、
ｍは、２以上の整数を表す。一般式（ＩＶ）中のｍは、一般式（ＩＩＩ）中のｍと同義であり、好ましい範囲も同様である。
ｎは、０以上の整数を表す。一般式（ＩＶ）中のｎは、一般式（ＩＩＩ）中のｎと同義であり、好ましい範囲も同様である。
ＡＴは、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基であって、一般式（ＩＩ）で表される基である。一般式（ＩＶ）中のＡＴにおける一般式（ＩＩ）で表される基は、一般式（Ｉ）中のＡの好適形態として上述した一般式（ＩＩ）で表される基と同義であり、好ましい範囲も同様である。また、ＡＴの屈折率の好ましい範囲及び測定方法は、Ａの屈折率の好ましい範囲及び測定方法と同様である。
Ｂは、ポリマー鎖又は置換基を表す。一般式（ＩＶ）中のＢは、一般式（Ｉ）中のＢと同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｙは、ｍ＋ｎ価の連結基で、芳香族炭化水素基を有する基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。一般式（ＩＶ）中のＹは、一般式（ＩＩＩ）中のＹと同義であり、好ましい範囲も同様である。
ＺＡ及びＺＢは、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。一般式（ＩＶ）中のＺＡ及びＺＢは、一般式（ＩＩＩ）中のＺＡ及びＺＢとそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
なお、複数存在するＡＴは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｂが複数存在する場合、複数存在するＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。複数存在するＺＡは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ＺＢが複数存在する場合、複数存在するＺＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
【００６７】
特定化合物は公知の方法で合成できる。
なお、合成溶剤としては、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド及び３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド等のアミド類を使用することが好ましい。
本発明の組成物において、特定化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、３０質量％以上であり、形成される膜の屈折率が優れる観点から、５０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が更に好ましい。
本発明の組成物において、特定化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、９９質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が更に好ましい。
なお、固形分とは、後述する膜を形成する成分を意図し、溶剤は含まれない。
また、上記特定化合物は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
＜溶剤＞
本発明の組成物は、溶剤を含有する。
溶剤の種類は特に制限されず、例えば、水及び有機溶媒が挙げられる。有機溶剤としては、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、及び、アミド類等が挙げられる。具体例としては、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、及び、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド等が挙げられる。有機溶剤の詳細は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２２３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、及び、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある。例えば、組成物中の芳香族溶媒の含有量は、組成物の全質量に対して、各芳香族溶媒がそれぞれ独立に、０〜１００００質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ  ｐｅｒ  ｍｉｌｌｉｏｎ）が好ましく、０〜１０００質量ｐｐｍがより好ましい。なお、ここでいう「０」の値は、測定機器による検出限界未満であることを意図する。
【００６９】
有機溶剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。有機溶剤を２種以上組み合わせて用いる場合、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及び、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される２種以上で構成される混合溶液が好ましい。
【００７０】
金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ  ｐｅｒ  ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であるのが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ  ｐｅｒ  ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
【００７１】
溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留又は薄膜蒸留等）又はフィルタを用いたろ過が挙げられる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、又は、ナイロンが好ましい。
【００７２】
溶剤には、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
【００７３】
有機溶剤中の過酸化物の含有量は０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下が好ましく、有機溶媒は過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
また、組成物が溶剤として水を含む場合、水の含有量は組成物の全質量に対して、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましく、０．１〜３質量％が更に好ましい。
【００７４】
本発明の組成物における溶剤の含有量は特に制限されないが、組成物中の固形分含有量が、１〜３０質量％になる量が好ましく、３〜２５質量％になる量がより好ましく、５〜２０質量％になる量が更に好ましい。
【００７５】
＜その他の任意成分＞
組成物は、特定化合物及び溶剤以外の他の化合物を含んでいてもよい。例えば、他の化合物としては、樹脂、硬化性化合物（重合性化合物を含む。）、重合開始剤（好ましくは光重合開始剤）、酸化防止剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、充填剤、及び、硬化促進剤等が挙げられる。
以下、他の化合物の代表例について詳述する。
【００７６】
（樹脂）
上記組成物は、樹脂を含んでいてもよい。樹脂は、所定の繰り返し単位を複数有する化合物である。なお、本明細書において、樹脂が重合性基を有する場合、重合性基を有する樹脂は後述の重合性化合物には含まれない。また、本明細書において、特定化合物がポリマー鎖を有する場合、ポリマー鎖を有する特定化合物は上記樹脂に含まれない。
【００７７】
樹脂は、例えば、バインダーの用途で配合される。
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２，０００〜２，０００，０００が好ましい。上限は、１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましい。下限は、３，０００以上が好ましく、５，０００以上がより好ましい。
【００７８】
樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、及び、シロキサン樹脂等が挙げられる。
【００７９】
本発明の組成物において、樹脂として、近赤外線に対する屈折率が１．７以上である樹脂（以下、高屈折率樹脂ともいう）を用いてもよい。樹脂の近赤外線に対する屈折率は、１．７〜４．０であるのが好ましい。下限は、１．７５以上が好ましく、１．８以上がより好ましく、１．８５以上が更に好ましい。上限は、３．９以下が好ましく、３．５以下がより好ましく、３．０以下が更に好ましい。上記の屈折率は、８１０ｎｍ、８５０ｎｍ、及び、９４０ｎｍのいずれかの波長の光に対する値であるのが好ましい。また、本発明の組成物から形成される膜を赤外線センサに用いる場合においては、上記の屈折率の値は、同赤外線センサでの検出に用いられる波長の近赤外線に対する値であることも好ましい。高屈折率樹脂は、バインダー又は分散剤として用いることができる。
【００８０】
樹脂の屈折率は、以下の方法で未硬化の状態で測定できる。具体的な測定方法は、シリコンウエハ上に測定対象となる樹脂のみからなる膜を厚さ３００ｎｍで製膜した後、得られた膜の屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ−３３００（商品名）、大日本スクリーン製造株式会社製）を用いて測定する。
【００８１】
現像性が優れる観点から、上記樹脂は、酸基を有していてもよい。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。
【００８２】
酸基を有する樹脂の酸価は、３０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、
１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
【００８３】
酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシ基を有するポリマーが好ましい。具体例としては、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、及び、ノボラック樹脂等のアルカリ可溶性フェノール樹脂、側鎖にカルボキシ基を有する酸性セルロース誘導体、並びに、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させた樹脂が挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体がアルカリ可溶性樹脂として好適である。
（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、及び、ビニル化合物等が挙げられる。
アルキル（メタ）アクリレート及びアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、及び、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、及び、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。
また、他のモノマーとしては、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー（例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、及び、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等）も挙げられる。
なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
【００８４】
酸基を有する樹脂としては、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、又は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましい。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合した共重合体、又は、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、若しくは、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体等も好ましい。
【００８５】
酸基を有する樹脂は、下記一般式（ＥＤ１）で示される化合物及び／又は下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分を重合してなるポリマーを含むことも好ましい。
【００８６】
【化５】
2018235549.tif 000004
【００８７】
一般式（ＥＤ１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。
【００８８】
【化６】
2018235549.tif 000005
【００８９】
一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子又は炭素数１〜３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０−１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
【００９０】
エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
【００９１】
酸基を有する樹脂は、下記一般式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。
【００９２】
【化７】
2018235549.tif 000006
【００９３】
一般式（Ｘ）において、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜１０のアルキレン基を表し、Ｒ３は、水素原子又はベンゼン環を含んでもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ｎは１〜１５の整数を表す。
【００９４】
酸基を有する樹脂としては、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０５５８〜０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５〜０７００）の記載、及び、特開２０１２−１９８４０８号公報の段落番号００７６〜００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【００９５】
樹脂は、硬化性基を有していてもよい。硬化性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基、メチロール基、及び、アルコキシシリル基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、及び（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、及び、トリアルコキシシリル基が挙げられる。なお、硬化性基を有する樹脂は、硬化性化合物でもある。
また、樹脂は、重合性基を有していてもよい。重合性基としては、上述した特定化合物が有し得る重合性基が挙げられる。
【００９６】
硬化性基を含む樹脂としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有  ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ  ａｃｒｙｌｉｃ  ｏｌｉｇｏｍｅｒ、Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｓｈａｍｒｏｃｋ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ−２６４及びＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル  ＣＦ２００シリーズ（いずれも株式会社ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）、並びに、アクリキュアＲＤ−Ｆ８（日本触媒株式会社製）等が挙げられる。
【００９７】
樹脂としては、マープルーフＧ−０１５０Ｍ、Ｇ−０１０５ＳＡ、Ｇ−０１３０ＳＰ、Ｇ−０２５０ＳＰ、Ｇ−１００５Ｓ、Ｇ−１００５ＳＡ、Ｇ−１０１０Ｓ、Ｇ−２０５０Ｍ、Ｇ−０１１００、及び、Ｇ−０１７５８（日油株式会社製、エポキシ基含有ポリマー）、並びに、ＡＲＴＯＮ  Ｆ４５２０（ＪＳＲ株式会社製）等が挙げられる。
【００９８】
上記組成物において、樹脂の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１〜９９．９質量％であるのが好ましい。下限は、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上が更に好ましい。上限は、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。
樹脂として、上記高屈折率樹脂を用いる場合、樹脂として高屈折率樹脂のみを用いてもよく、高屈折率樹脂と近赤外線に対する屈折率が１．７未満の樹脂を併用してもよい。また、樹脂全量中における高屈折率樹脂の含有量は、１〜１００質量％であるのが好ましく、１０〜１００質量％であるのがより好ましい。
樹脂は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００９９】
（硬化性化合物）
上記組成物は、硬化性化合物を含むことが好ましい。
硬化性化合物としては、ラジカル、酸、又は、熱により硬化可能な公知の化合物を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、及び、メチロール基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、及び、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又は、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。硬化性化合物は、重合性化合物であるのが好ましく、ラジカル重合性化合物であるのがより好ましい。重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物等が挙げられる。
【０１００】
硬化性化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、１〜８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。
硬化性化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、硬化性化合物を２種以上含む場合、合計含有量が上記範囲となることが好ましい。
【０１０１】
・エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（重合性化合物）
硬化性化合物として、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（以下、重合性化合物ともいう）を用いることができる。重合性化合物は、モノマーであるのが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００〜３０００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。重合性化合物は、２〜１５官能の（メタ）アクリレート化合物であるのが好ましく、３〜６官能の（メタ）アクリレート化合物であるのがより好ましい。
【０１０２】
重合性化合物の例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３３〜００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。重合性化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ；新中村化学工業株式会社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３２０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては  ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ；日本化薬株式会社製、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ；新中村化学工業株式会社製）、及び、これらの（メタ）アクリロイル基が、エチレングリコール残基及び／又はプロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３４〜００３８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ−４６０；東亞合成株式会社製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業株式会社製、Ａ−ＴＭＭＴ）、又は、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ−１０４０（日本化薬株式会社製）等が挙げられる。
【０１０３】
重合性化合物は、カルボキシ基、スルホ基、及び、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル等が挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基をもたせた重合性化合物が好ましく、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールである重合性化合物がより好ましい。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−３０５、Ｍ−５１０、及び、Ｍ−５２０等が挙げられる。酸基を有する重合性化合物の酸価は、０．１〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
【０１０４】
重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、及び、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００４２〜００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬株式会社からＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、及び、ＤＰＣＡ−１２０等、並びに、サートマー社製から市販されているエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ−４９４、及び、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ−３３０等が挙げられる。
【０１０５】
重合性化合物としては、特公昭４８−４１７０８号公報、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、及び、特公平２−１６７６５号公報に記載されているウレタンアクリレート類、並びに、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、及び、特公昭６２−３９４１８号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、及び、特開平１−１０５２３８号公報に記載されている、分子内にアミノ構造及び／又はスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることができる。市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０及びＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ−７２００（新中村化学工業株式会社製）、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬株式会社製）、並びに、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００、及び、ライトアクリレートＰＯＢ−Ａ（共栄社化学株式会社製）等が挙げられる。
【０１０６】
重合性化合物の好適態様の一つとしては、重合性基を２個以上有し、かつ、フルオレン骨格を有する重合性化合物が挙げられる。なお、フルオレン骨格とは、フルオレン構造を少なくとも含む骨格であり、フルオレン構造中の芳香環基は、いわゆる単環構造（ベンゼン環）でも、多環構造（多環芳香族環構造）でもよい。
【０１０７】
重合性化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、１〜８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。
【０１０８】
・エポキシ基を有する化合物
硬化性化合物として、エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。エポキシ基を有する化合物は、１分子内にエポキシ基を１個以上有する化合物が挙げられ、１分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は１分子内に１〜１００個有することが好ましい。上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。下限は、２個以上が好ましい。
【０１０９】
エポキシ基を有する化合物は、エポキシ当量（＝エポキシ基を有する化合物の分子量／エポキシ基の数）が５００ｇ／当量以下であるのが好ましく、１００〜４００ｇ／当量であるのがより好ましく、１００〜３００ｇ／当量であるのが更に好ましい。
【０１１０】
エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００〜１０００００が好ましく、５００〜５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下がより好ましく、５０００以下が更に好ましく、３０００以下が特に好ましい。
【０１１１】
エポキシ基を有する化合物は、市販品を用いることもできる。例えば、ＥＨＰＥ３１５０（株式会社ダイセル製）、及びＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９５（ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。また、エポキシ基を有する化合物は、特開２０１３−０１１８６９号公報の段落番号００３４〜００３６、特開２０１４−０４３５５６号公報の段落番号０１４７〜０１５６、及び、特開２０１４−０８９４０８号公報の段落番号００８５〜００９２に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。
【０１１２】
エポキシ基を有する化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、１〜８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。エポキシ基を有する化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、エポキシ基を有する化合物を２種類以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【０１１３】
（光重合開始剤）
上記組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
特に、上記組成物がラジカル重合性化合物を含む場合、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択できる。例えば、光重合開始剤は、紫外領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
【０１１４】
光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、及び、オキサジアゾール骨格を有する化合物等）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、及び、ヒドロキシアセトフェノン等が挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物、及び、３−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましく、オキシム化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物からなる群より選択される化合物がより好ましい。得られる膜の耐熱性がより優れる点で、中でも、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤としては、特開２０１４−１３０１７３号公報の段落番号００６５〜０１１１の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【０１１５】
光重合開始剤としては、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。例えば、特開平１０−２９１９６９号公報に記載のα−アミノケトン化合物、及び、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン化合物も用いることができる。α−ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−２９５９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。α−アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９、及び、ＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。オキシム化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０３、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、並びに、アデカオプトマーＮ−１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２−１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）等が挙げられる。
【０１１６】
光重合開始剤としてフルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４−１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
【０１１７】
光重合開始剤としてフッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６〜４０、及び、特開２０１３−１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ−３）等が挙げられる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【０１１８】
光重合開始剤としてニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３−１１４２４９号公報の段落番号００３１〜００４７、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落番号０００８〜００１２及び００７０〜００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７〜００２５に記載されている化合物、並びに、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（株式会社ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
【０１１９】
本発明の組成物において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示す。
【０１２０】
【化８】
2018235549.tif 000007
【０１２１】
【化９】
2018235549.tif 000008
【０１２２】
オキシム化合物は、３５０〜５００ｎｍの波長領域に吸収極大を有する化合物が好ましく、３６０〜４８０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高い化合物が好ましい。
オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００〜３００，０００であるのが好ましく、２，０００〜３００，０００であるのがより好ましく、５，０００〜２００，０００であるのが更に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ−５  ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
【０１２３】
光重合開始剤は、オキシム化合物とα−アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用することで、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα−アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物１００質量部に対して、α−アミノケトン化合物を５０〜６００質量部含むことが好ましく、１５０〜４００質量部がより好ましい。
【０１２４】
光重合開始剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質量％が更に好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。
光重合開始剤の含有量が上記範囲の場合、感度により優れ、かつ、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。上記組成物は、光重合開始剤を１種単独で用いても、２種以上併用してもよい。上記組成物が、光重合開始剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。
【０１２５】
（酸化防止剤）
上記組成物は、酸化防止剤を含んでもよい。
酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、及び、チオエーテル化合物等が挙げられる。酸化防止剤としては、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物、又は、分子量５００以上のチオエーテル化合物が好ましい。これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができ、多置換フェノール系化合物が好ましい。多置換フェノール系化合物は、大きく分けてその置換位置及び構造の異なる３種類（ヒンダードタイプ、セミヒンダードタイプ、及び、レスヒンダードタイプ）がある。また、酸化防止剤としては、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物が好ましく用いられる。また、酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤も好ましく用いられる。酸化防止剤は市販品を用いることもできる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ  ＡＯ−２０、アデカスタブ  ＡＯ−３０、アデカスタブ  ＡＯ−４０、アデカスタブ  ＡＯ−５０、アデカスタブ  ＡＯ−５０Ｆ、アデカスタブ  ＡＯ−６０、アデカスタブ  ＡＯ−６０Ｇ、アデカスタブ  ＡＯ−８０、及び、アデカスタブ  ＡＯ−３３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。また、酸化防止剤としては、特開２０１４−０３２３８０号公報の段落番号００３３〜００４３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【０１２６】
酸化防止剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．３〜１５質量％がより好ましい。酸化防止剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、酸化防止剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。
【０１２７】
（シランカップリング剤）
上記組成物は、シランカップリング剤を含んでもよい。
本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、及びアシルオキシ基等が挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基は、樹脂との間で相互作用若しくは結合を形成して親和性を示す基が好ましい。例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、及び、フェニル基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又は、エポキシ基が好ましい。
【０１２８】
シランカップリング剤の具体例としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。また、シランカップリング剤としては、特開２００９−２８８７０３号公報の段落番号００１８〜００３６に記載の化合物、及び、特開２００９−２４２６０４号公報の段落番号００５６〜００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤は市販品を用いることもできる。シランカップリング剤の市販品としては、信越シリコーン株式会社製のＫＢＭ−１３、ＫＢＭ−２２、ＫＢＭ−１０３、ＫＢＥ−１３、ＫＢＥ−２２、ＫＢＥ−１０３、ＫＢＭ−３０３３、ＫＢＥ−３０３３、ＫＢＭ−３０６３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−３０８６、ＫＢＥ−３０６３、ＫＢＥ−３０８３、ＫＢＭ−３１０３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−７１０３、ＳＺ−３１、ＫＰＮ−３５０４、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＭ−９６５９、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７、Ｘ−４０−１０５３、Ｘ−４１−１０５９Ａ、Ｘ−４１−１０５６、Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１８、Ｘ−４１−１８１０、Ｘ−４０−２６５１、Ｘ−４０−２６５５Ａ、ＫＲ−５１３、ＫＣ−８９Ｓ、ＫＲ−５００、ＫＲ−５１６、ＫＲ−５１７、Ｘ−４０−９２９６、Ｘ−４０−９２２５、Ｘ−４０−９２４６、Ｘ−４０−９２５０、ＫＲ−４０１Ｎ、Ｘ−４０−９２２７、Ｘ−４０−９２４７、ＫＲ−５１０、ＫＲ−９２１８、ＫＲ−２１３、Ｘ−４０−２３０８、及び、Ｘ−４０−９２３８等が挙げられる。
【０１２９】
シランカップリング剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．０１〜１５．０質量％が好ましく、０．０５〜１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、シランカップリング剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。
【０１３０】
（重合禁止剤）
上記組成物は、重合禁止剤を含んでもよい。
重合禁止剤は、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、並びに、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、及び、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ−メトキシフェノールが好ましい。なお、重合禁止剤は、酸化防止剤として機能することもある。
【０１３１】
重合禁止剤の含有量は、光重合開始剤１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましく、０．０１〜８質量部がより好ましく、０．０１〜５質量部が更に好ましい。重合禁止剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、重合禁止剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。
【０１３２】
（界面活性剤）
上記組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を含んでもよい。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、及び、シリコーン系界面活性剤等の各種界面活性剤を使用できる。界面活性剤は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２３８〜０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【０１３３】
本発明の組成物にフッ素系界面活性剤を含ませることで、塗布液として調製した場合の液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性及び省液性をより改善することができる。フッ素系界面活性剤を含む組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行うことができる。
【０１３４】
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有量は、３〜４０質量％が好ましく、５〜３０質量％がより好ましく、７〜２５質量％が更に好ましい。フッ素含有量がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性及び省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
【０１３５】
フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４−４１３１８号公報の段落番号００６０〜００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０〜００６４）等に記載の界面活性剤、及び、特開２０１１−１３２５０３号公報の段落番号０１１７〜０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、及び、同Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ株式会社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、及び同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム株式会社製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、及び、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子株式会社製）、並びに、ＰｏｌｙＦｏｘ  ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、及び、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
【０１３６】
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ株式会社製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ−２１が挙げられる。
【０１３７】
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明の組成物で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
【０１３８】
【化１０】
2018235549.tif 000009
【０１３９】
上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。
【０１４０】
また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０−１６４９６５号公報の段落番号００５０〜００９０及び段落番号０２８９〜０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ株式会社製のメガファックＲＳ−１０１、ＲＳ−１０２、ＲＳ−７１８Ｋ、及び、ＲＳ−７２−Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５−１１７３２７号公報の段落番号００１５〜０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
【０１４１】
ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、並びに、それらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、及び、グリセロールエトキシレート等）等が挙げられる。また、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、及び、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、及び、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール株式会社製）、ＮＣＷ−１０１、ＮＣＷ−１００１、及び、ＮＣＷ−１００２（和光純薬工業株式会社製）、パイオニンＤ−６１１２、Ｄ−６１１２−Ｗ、及び、Ｄ−６３１５（竹本油脂株式会社製）、並びに、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、及び、４４０（日信化学工業株式会社製）等も挙げられる。
【０１４２】
また、フッ素系界面活性剤は、ビニルエーテル重合型フッ素系界面活性剤を用いることもできる。ビニルエーテル重合型フッ素系界面活性剤としては、例えば、特開２０１６−２１６６０２号公報の実施例欄に記載されたもの（例えば、フッ素系界面活性剤（１））等が挙げられる。
【０１４３】
界面活性剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．００１〜５．０質量％が好ましく、０．００５〜３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、界面活性剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。
【０１４４】
（紫外線吸収剤）
上記組成物は、紫外線吸収剤を含んでもよい。
紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、及び、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物等が挙げられる。これらの詳細については、特開２０１２−２０８３７４号公報の段落番号００５２〜００７２、及び、特開２０１３−６８８１４号公報の段落番号０３１７〜０３３４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ−５０３（大東化学株式会社製）等が挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
紫外線吸収剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましく、０．１〜３質量％が更に好ましい。また、紫外線吸収剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、紫外線吸収剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。
【０１４５】
（充填材）
充填材としては、例えば無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、屈折率が高く、無色、白色、又は、透明な無機粒子が好ましく、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、又は、マグネシウム（Ｍｇ）等の酸化物粒子が好ましく、二酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）粒子、又は、二酸化珪素（ＳｉＯ２）粒子がより好ましい。
無機粒子の一次粒子径は特に制限されず、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜８０ｎｍがより好ましく、１〜５０ｎｍが更に好ましい。無機粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、分散性がより優れると共に、屈折率及び透過率がより向上する。
無機粒子の屈折率は特に制限はないが、高屈折率を得る観点から、１．７５〜２．７０が好ましく、１．９０〜２．７０がより好ましい。
無機粒子の比表面積は特に制限はないが、１０〜４００ｍ２／ｇが好ましく、２０〜２００ｍ２／ｇがより好ましく、３０〜１５０ｍ２／ｇが更に好ましい。
また、無機粒子の形状には特に制限はなく、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、及び、不定形状等が挙げられる。
無機粒子は、有機化合物により表面処理されたものであってもよい。表面処理に用いる有機化合物としては、例えば、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤、及び、チタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、ステアリン酸又はシランカップリング剤が好ましい。
また、無機粒子の表面は、耐候性がより向上する点で、アルミニウム、ケイ素、及び、ジルコニア等の酸化物により覆われていることも好ましい。
無機粒子としては、市販されているものを好ましく用いることができる。
無機粒子は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０１４６】
（硬化促進剤）
上記組成物が、硬化性化合物として、カチオン重合性基を含む化合物（例えば、エポキシ基を有する化合物）を含む場合、組成物は、硬化促進剤を含むことが好ましい。
硬化速度を向上させる硬化促進剤としては、酸無水物、塩基（脂肪族アミン、芳香族アミン、及び、変性アミン等）、酸（スルホン酸、リン酸、及び、カルボン酸等）、及び、ポリメルカプタン等が挙げられる。中でも、酸無水物が好ましく、脂肪族酸無水物がより好ましい。
【０１４７】
組成物は上述した成分以外の成分を更に含んでいてもよい。
また、組成物が不純物を含んでいることも考えられる。上記不純物としては、例えば、ハロゲン化物イオン、及び、金属成分等が挙げられる。
上記ハロゲン化物イオンとしては、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、及び、ヨウ化物イオンが挙げられる。組成物中のハロゲン化物イオンの含有量は、組成物の全質量に対して、各ハロゲン化物イオンがそれぞれ独立に、０〜１００００質量ｐｐｍが好ましく、０〜１０００質量ｐｐｍがより好ましく、０〜１００質量ｐｐｍが更に好ましい。
上記金属成分は、例えば金属イオンとして組成物中に存在し、具体的な金属としては、例えば、ナトリウム、カリウム、及び、鉄が挙げられる。組成物中の金属成分の含有量は、組成物の全質量に対して、各金属がそれぞれ独立に、０〜１００００質量ｐｐｍが好ましく、０〜１０００質量ｐｐｍがより好ましい。
なお、これらの不純物の含有量の好適範囲について記載した「０」の値は、測定機器による検出限界未満であることを意図する。
【０１４８】
＜組成物の調製方法＞
上記組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解又は分散した後に逐次配合してもよい。例えば、全成分を同時に溶剤に溶解又は分散して組成物を調製してもよい。
【０１４９】
上記組成物が粒子を含む場合、組成物の調製方法において、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、及び、キャビテーション等が挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、及び、超音波分散等が挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくすること等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過又は遠心分離等で粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセス及び分散機としては、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」及び「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際  総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５−１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用できる。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、及び、処理条件等は、例えば特開２０１５−１９４５２１号公報、及び、特開２０１２−０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
【０１５０】
上記組成物の調製にあたり、異物の除去及び欠陥の低減等の目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン−６及びナイロン−６，６）等のポリアミド系樹脂、並びに、ポリエチレン、及び、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度及び／又は超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）及びナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１〜７．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜３．０μｍ程度がより好ましく、０．０５〜０．５μｍ程度が更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えば、ポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、及び、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８等）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２及びＴＰＲ００５等）、及び、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３等）等のフィルタカートリッジが挙げられる。
【０１５１】
フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタ等）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹ等）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）、及び、株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。第２のフィルタは、第１のフィルタと同様の素材等で形成されたものを使用することができる。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
【０１５２】
〔用途〕
本発明の組成物の用途は特に制限されないが、例えば、固体撮像素子の高屈折部材（マイクロレンズ、カラーフィルタの下地層、及び、隣接層等の透明膜、並びに、カラーフィルタのホワイトピクセル等）、レンズ（眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、及び、プリズムレンズ等）、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバー、光導波路、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）用封止材料、ＬＥＤ用平坦化材料、及び太陽光電池用コーティング材として有用である。
【０１５３】
＜膜＞
本発明の膜は、本発明の組成物から得られる膜である。組成物中に硬化性化合物（例えば、重合性化合物）が含まれる場合は、組成物に硬化処理を施すことにより、硬化膜を得ることができる。
上記膜の屈折率は特に制限されないが、１．５５以上であるのが好ましく、１．６〜２．０であるのがより好ましい。
上記膜の光透過率は特に制限されないが、４００〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上であるのが好ましく、９５％以上であるのがより好ましく、１００％であるのが更に好ましい。
上記膜の厚みは特に制限されないが、０．１〜２０μｍであるのが好ましく、０．１〜１０μｍであるのがより好ましく、０．５〜４μｍであるのが更に好ましい。
【０１５４】
本発明の組成物を硬化させる方法は特に制限されず、加熱及び露光等が挙げられる。加熱に使用する装置は特に制限されず、送風乾燥機、オーブン、赤外線乾燥機、及び、加熱ドラム等を用いることができる。露光に使用する装置は特に制限されず、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン（Ｘｅ）ランプ、ケミカルランプ、及び、カーボンアーク灯等を用いることができる。
【０１５５】
（パターン状硬化膜の製造方法）
以下、硬化膜の製造方法の一例として、パターン状の硬化膜を製造する方法について詳述する。
【０１５６】
パターン状の硬化膜の製造方法は、基板上に、上記組成物を塗布して組成物層（塗布膜）を形成する工程（以下、適宜「組成物層形成工程」と略称する。）と、上記組成物層を、マスクを介して露光する工程（以下、適宜「露光工程」と略称する。）と、露光後の組成物層を現像してパターン状の硬化膜を形成する工程（以下、適宜「現像工程」と略称する。）と、を含む。
なお、上記で使用される組成物には、通常、重合性化合物及び光重合開始剤が含まれる。
【０１５７】
具体的には、本発明の組成物を、直接又は他の層を介して基板上に塗布して、組成物層を形成し（組成物層形成工程）、所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された組成物層部分だけを硬化させ（露光工程）、現像液で現像することによって（現像工程）、パターン状の硬化膜を形成することができる。
以下、各工程について説明する。
【０１５８】
・組成物層形成工程
組成物層形成工程では、基板上に、本発明の組成物を塗布して組成物層（塗布膜）を形成する。
【０１５９】
基板としては特に限定されず、例えば、液晶表示装置等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス、及び、これらに透明導電膜を付着させたもの、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板（例えば、シリコン基板等）、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）基板、並びに、ＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  Ｍｅｔａｌ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）基板等が挙げられる。
【０１６０】
基板上への本発明の組成物の塗布方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、又は、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用することができる。
【０１６１】
組成物の塗布膜厚としては、用途により適宜選択され得るが、例えば、０．１〜２０μｍであり、０．１〜１０μｍがより好ましく、０．５〜４μｍが更に好ましい。
【０１６２】
基板上に塗布された組成物は、通常、７０〜１１０℃で２〜４分程度の条件下で乾燥する。これにより、組成物層を形成できる。
【０１６３】
・露光工程
露光工程では、組成物層形成工程において形成された組成物層（塗布膜）を、マスクを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる。
露光は、活性光線又は放射線の照射により行うことが好ましく、特に、ｇ線、ｈ線、又は、ｉ線等の紫外線がより好ましい。照射強度は５〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
【０１６４】
・現像工程
露光工程に次いで、アルカリ現像処理（現像工程）を行い、露光工程における光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させる。これにより、光硬化した部分（光照射された塗布膜部分）だけが残る。
現像液としては、下地の回路等にダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常２０〜３０℃であり、現像時間は２０〜９０秒である。
【０１６５】
アルカリ性の水溶液としては、例えば、無機系現像液及び有機系現像液が挙げられる。無機系現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、又は、メタ硅酸ナトリウムを、濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。有機系現像液としては、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、又は、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。アルカリ性水溶液には、例えばメタノール又はエタノール等の水溶性有機溶剤、及び／又は、界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄（リンス）する。
【０１６６】
現像方法としては、例えば、パドル現像方法又はシャワー現像方法等を用いることができる。
【０１６７】
＜レンズ＞
本発明の膜（好ましくは硬化膜）は、レンズとして使用することもできる。レンズとしては、中でも、固体撮像素子のマイクロレンズに好適に用いることができる。
【０１６８】
＜固体撮像素子＞
本発明の膜（好ましくは硬化膜）及び本発明のレンズは、固体撮像素子に好適に適用できる。
本発明の固体撮像素子の構成としては、例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ又はＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有すると共に、カラーフィルタの下に本発明の膜である下塗り膜を備えた構成等が挙げられる。
【０１６９】
＜化合物＞
本発明は、化合物の発明も含む。本発明の化合物は、上述の一般式（ＩＶ）で表される化合物である。
本発明の化合物は、本発明の組成物において好適に使用できる。
【実施例】
【０１７０】
以下、実施例により、本発明について更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０１７１】
〔化合物の合成〕
下記の方法で化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）、及び、比較用化合物（Ｈ−１）を合成した。【０１７２】
＜合成例１：化合物（Ａ−１）＞
以下に示す合成スキームに従って、化合物（Ａ−１）を合成した。【０１７３】
【化１１】
2018235549.tif 000010
【０１７４】
無水ピロメリット酸（２．８ｇ）、及び、高屈折率化合物（ｒ−１）（１０．０ｇ）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（５０ｇ）に添加し、室温で撹拌した。この混合溶液にジイソプロピルエチルアミン（４．０ｇ）を滴下し、室温で５時間撹拌した。更に、この混合溶液に、１Ｎ塩酸（１００ｍＬ）を滴下し、固体を析出させた。次に、ろ過により、析出させた固体を回収した。回収された固体を、水（１００ｍＬ）で２回洗浄し、４０℃で送風乾燥することで化合物（Ａ−１）（１２．０ｇ）を得た。
なお、上記化合物（Ａ−１）は、化合物（ｒ−１）の置換位置が異なる異性体を含むものとする。【０１７５】
＜合成例２〜１６、２０〜２４：化合物（Ａ−２）〜（Ａ−１６）、（Ａ−２０）〜（Ａ−２４）＞
合成例１における無水ピロメリット酸、及び、高屈折率化合物（ｒ−１）のかわりに、それぞれ下記化合物の構造に対応する化合物を使用した以外は合成例１と同様にして、化合物（Ａ−２）〜（Ａ−１６）及び（Ａ−２０）〜（Ａ−２４）を得た。【０１７６】
以下に、合成例１〜１６によって得られた化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１６）及び（Ａ−２０）〜（Ａ−２４）の構造を示す。【０１７７】
【化１２】
2018235549.tif 000011
【０１７８】
【化１３】
2018235549.tif 000012
【０１７９】
以下に、化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１６）及び（Ａ−２０）〜（Ａ−２４）が有する高屈折率官能基の構造を示す。＊は結合位置を示す。
下記高屈折率官能基Ｒ１〜Ｒ９及びＲ１１〜Ｒ１５の結合位置に水素原子が結合した化合物が高屈折率化合物（ｒ−１）〜（ｒ−９）及び（ｒ−１１）〜（ｒ−１５）である。
また、後述する化合物（Ａ−１７）〜（Ａ−１９）及び（Ａ−２５）〜（Ａ−２８）が有する高屈折率官能基Ｒ１０及びＲ１６〜Ｒ１９構造も同様に示す。高屈折率官能基Ｒ１０及びＲ１６〜Ｒ１９の結合位置に水素原子が結合した化合物が、後述する高屈折率化合物（ｒ−１０´）及び（ｒ−１６´）〜（ｒ−１９´）である。【０１８０】
【化１４】
2018235549.tif 000013
【０１８１】
【化１５】
2018235549.tif 000014
【０１８２】
＜合成例１７：化合物（Ａ−１７）の合成＞
以下に示す合成スキームに従って、化合物（Ａ−１７）を合成した。【０１８３】
【化１６】
2018235549.tif 000015
【０１８４】
ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（３．０ｇ）、高屈折率化合物（ｒ−１０）（１０．０ｇ）、トリエチルアミン（１．０ｇ）、及び、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１００ｇ）からなる混合溶液を調製し、５０℃で６時間撹拌した。更に、この混合溶液に１Ｎ塩酸（５００ｇ）を添加し、固体を析出させた。次に、ろ過により、析出させた固体を回収した。回収された固体を、水（１００ｍＬ）で２回洗浄し、４０℃で送風乾燥することで化合物（Ａ−１７）（１２．１ｇ）を得た。【０１８５】
＜合成例１８：化合物（Ａ−１８）の合成＞
以下に示す合成スキームに従って、化合物（Ａ−１８）を合成した。【０１８６】
【化１７】
2018235549.tif 000016
【０１８７】
ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（６．０ｇ）、高屈折率化合物（ｒ−１０）（１０．０ｇ）、トリエチルアミン（１．０ｇ）、及び、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１００ｇ）からなる混合溶液を調製し、５０℃で６時間撹拌した。更に、この混合溶液に１Ｎ塩酸（５００ｇ）を添加し、固体を析出させた。次に、ろ過により、析出させた固体を回収した。回収した固体を、水（１００ｍＬ）で２回洗浄し、４０℃で送風乾燥することで化合物（Ａ−１８）（１４．９ｇ）を得た。
なお、上記化合物（Ａ−１８）は、化合物（ｒ−１０）の置換位置が異なる異性体を含む。【０１８８】
＜合成例１９：化合物（Ａ−１９）＞
以下に示す合成スキームに従って、化合物（Ａ−１９）を合成した。【０１８９】
【化１８】
2018235549.tif 000017
【０１９０】
化合物（Ａ−１８）（５．０ｇ）、メタクリル酸（３．１ｇ）、及び、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（５０ｇ）からなる混合溶液を窒素気流下で８０℃に加熱した。次に、この混合溶液にアゾビス（イソブチロニトリル）（０．１ｇ）を添加し、２時間、８０℃の温度条件を維持した。更に、混合溶液に、アゾビス（イソブチロニトリル）（０．１ｇ）を添加し、４時間、８０℃の温度条件を維持し、その後、９５℃で２時間加熱した。この混合溶液にメタクリル酸グリシジル（１．７ｇ）、及び、テトラブチルアンモニウムブロミド（０．１ｇ）を添加し、１２時間、９５℃の温度条件を維持した。混合溶液を室温まで冷却した後、１Ｎ塩酸（２００ｍＬ）を添加し、固体を析出させた。次に、ろ過により、析出させた固体を回収した。回収した固体を、水（１００ｍＬ）で２回洗浄し、４０℃で送風乾燥することで化合物（Ａ−１９）（６．６ｇ）を得た。
なお、上記化合物（Ａ−１９）は、化合物（ｒ−１０）及びポリマー鎖Ｐの置換位置が異なる異性体を含む。【０１９１】
＜合成例２５〜２８：化合物（Ａ−２５）〜（Ａ−２８）＞
化合物（Ａ−１９）における高屈折率官能基が、それぞれＲ１６〜Ｒ１９となるようにして、以下に示す構造の化合物（Ａ−２５）〜（Ａ−２８）を合成した。
なお、合成の際には、高屈折率化合物（ｒ−１０）のかわりに、それぞれ高屈折率官能基Ｒ１６〜Ｒ１９の構造に対応する高屈折率化合物（ｒ−１６）〜（ｒ−１９）を使用した以外は合成例１８及び１９を参考にして合成した。【０１９２】
［Ｐ］３−Ｘ−［Ｒ１６］３          （Ａ−２５）
［Ｐ］３−Ｘ−［Ｒ１７］３          （Ａ−２６）
［Ｐ］３−Ｘ−［Ｒ１８］３          （Ａ−２７）
［Ｐ］３−Ｘ−［Ｒ１９］３          （Ａ−２８）
上記構造式中、Ｘ及びＰは、合成例１９の合成スキーム中に示したＸ及びＰとそれぞれ同様の基である。【０１９３】
＜高屈折率官能基の屈折率測定＞
化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）が有する高屈折率官能基Ｒ１〜Ｒ１９の屈折率測定として、高屈折率官能基Ｒ１〜Ｒ１９に相当する、高屈折率化合物（ｒ−１）〜（ｒ−９）、（ｒ−１０´）、（ｒ−１１）〜（ｒ−１５）、及び、（ｒ−１６´）〜（ｒ−１９´）の屈折率を以下の工程に従って測定した。なお、高屈折率化合物（ｒ−１０´）及び（ｒ−１６´）〜（ｒ−１９´）とは、高屈折率官能基Ｒ１０及びＲ１６〜Ｒ１９の結合位置に水素原子が結合した化合物である。他の高屈折率化合物（ｒ−１）〜（ｒ−９）及び（ｒ−１１）〜（ｒ−１５）も、高屈折率官能基Ｒ１〜Ｒ９及びＲ１１〜Ｒ１５の結合位置にそれぞれ水素原子が結合した化合物である。【０１９４】
工程１：ポリ（メタクリル酸アリル／メタクリル酸）（質量比：９０／１０、Ｍｗ：１５，０００、分散度：２．０）を１０質量％含有する、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液に、高屈折率化合物（ｒ−１）〜（ｒ−９）、（ｒ−１０´）、（ｒ−１１）〜（ｒ−１５）、及び、（ｒ−１６´）〜（ｒ−１９´）をそれぞれ溶解させ、全固形分に対する高屈折率化合物の含有量が３０質量％、５０質量％、又は、７０質量％である溶液をそれぞれ調製した。
工程２：工程１で調製された溶液をガラス基板に塗布し、このガラス基板を１００℃で３分間ベークし、更に、２００℃で３分間ベークして、膜厚が１μｍの塗膜を得た。得られた塗膜を用いて屈折率を測定した。
屈折率の測定においては、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＶＡＳＥを用いて波長３００〜１５００ｎｍの屈折率を測定し、波長５８９ｎｍにおける屈折率の値を各塗膜の屈折率とした。
工程３：塗膜中の高屈折率化合物の含有量（含有割合）と、塗膜の屈折率との関係をプロットしてプロット図（横軸：高屈折率化合物の含有割合、縦軸：塗膜の屈折率）を作成し、高屈折率化合物の含有量が仮定的に１００％である場合に想定される塗膜の屈折率を線形近似で求め、その屈折率を、各高屈折率化合物に対応する高屈折率官能基の屈折率とした。【０１９５】
以下の表に、高屈折率官能基Ｒ１〜Ｒ１９の屈折率の測定結果を示す。【０１９６】
【表１】
2018235549.tif 000018
【０１９７】
＜比較合成例１：化合物（Ｈ−１）＞
以下に示す合成スキームに従って、化合物（Ｈ−１）を合成した。【０１９８】
【化１９】
2018235549.tif 000019
【０１９９】
三口フラスコに、シアヌル酸クロリド（１５．０ｇ）及びテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）を加えて混合溶液を調製した。混合溶液の入った三口フラスコを、メタノールに氷を加えた氷浴につけた状態で、混合溶液を窒素気流下で撹拌した。上記氷浴を維持したままで、アニリン（８．２ｇ）をテトラヒドロフラン（６０ｍＬ）に溶解させた溶液を、混合溶液に１．５時間かけて滴下し、更に、２時間撹拌した。混合溶液に、１Ｎ塩酸（２００ｇ）を添加し、混合溶液の内温を０〜５℃に維持しながら１時間撹拌した後、混合溶液中に析出した固体をろ過した。得られた固体を水（１００ｇ）で洗浄し、更に、真空乾燥機を用いて６０℃で２４時間乾燥することで、中間体（ｈ−１）（１７．１ｇ）を得た。
三口フラスコに１，４−ジアミノベンゼン（３．６ｇ）、及び、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（６６ｍＬ）を添加して得た混合液を、１００℃で１０分間撹拌した。この混合液に、中間体（ｈ−１）（８．８ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（３３ｍＬ）に溶解させた溶液を添加し、１００℃で３０分間撹拌した。その後、混合液にアニリン（１．６ｍＬ）を添加した。
放冷後の混合液に、炭酸カリウム（１２ｇ）を溶解させた水（６６０ｍＬ）を加えて固体を析出させた。析出した固体をろ過した。得られた固体を水（１００ｍＬ）で洗浄し、更に、エタノール（１００ｍＬ）で洗浄した。更に、洗浄された固体を真空乾燥機を用いて６０℃で２４時間乾燥することで、化合物（Ｈ−１）（８．２ｇ）を得た。得られた化合物（Ｈ−１）の分子量は５，６００であった。【０２００】
〔組成物の調製〕
得られた化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）及び（Ｈ−１）を用いて、組成物１〜３３、及び、比較組成物を調製した。
得られた組成物１〜３３、及び、比較組成物の配合を下記表２に示す。
なお、表中、「添加量」の欄に記載された数値は質量部を示す。【０２０１】
【表２】
2018235549.tif 000020
【０２０２】
表２中の、化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）及び（Ｈ−１）以外の成分の詳細を以下に示す。【０２０３】
＜重合性化合物＞【０２０４】
【化２０】
2018235549.tif 000021
【０２０５】
＜バインダー（樹脂）＞
【化２１】
2018235549.tif 000022
【０２０６】
＜光重合開始剤＞【０２０７】
【化２２】
2018235549.tif 000023
【０２０８】
＜溶剤＞
ＤＭＡｃ：Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
ＮＥＰ：Ｎ−エチル−２−ピロリドン
ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド【０２０９】
＜界面活性剤＞
メガファックＲ−４０（ＤＩＣ株式会社製）【０２１０】
〔評価〕
得られた組成物を用いて、分光特性、屈折率、段差追従性、耐熱性、現像性、及び、パターン形状の評価を行った。【０２１１】
＜分光特性の評価＞
エポキシ樹脂（ＪＥＲ−８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成した５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板上に、組成物１〜２４、及び、比較組成物をそれぞれスピン塗布し、１００℃で３分間ベーク（加熱）した。次に、得られた塗膜に対して、高圧水銀灯を用いて、積算露光量が２００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光を行い、膜厚が１μｍの膜を得た。
上記膜を有するガラス基材の波長３００〜８００ｎｍにおける吸光度を、Ｕ−４１５０（株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。なお、リファレンスとしては膜が形成されていない点以外は、同条件のエポキシ樹脂層を有するガラス基板を用いた。【０２１２】
分光特性の評価の基準は以下のとおりである。
Ａ：最大吸収波長が４５０ｎｍ未満である。
Ｂ：最大吸収波長が４５０ｎｍ以上である。【０２１３】
＜屈折率の測定＞
上記分光特性の評価で得られた膜をＪ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＶＡＳＥを用いて、波長３００〜１５００ｎｍの屈折率を測定し、波長５８９ｎｍにおける屈折率の値を求めた。【０２１４】
屈折率の評価の基準は以下のとおりである。
Ａ：屈折率が１．７０以上である。
Ｂ：屈折率が１．６０以上１．７０未満である。
Ｃ：屈折率が１．６０未満である。【０２１５】
＜段差追従性の評価＞
シリコンウエハ上に、深さ２μｍ、幅５μｍの溝を、溝の中間間隔が２０μｍとなるように、複数設けた。得られた複数の溝を、模擬凹凸パターンと称する。なお、後段では、溝部が凹部分に、溝部の間が凸部分に該当する。
模擬凹凸パターンのないシリコンウエハ上で膜を形成した場合に膜厚が１μｍとなる塗布条件で、各組成物を、上記模擬凹凸パターンを有するシリコンウエハにスピン塗布した。得られた塗膜について、１００℃で３分間プリベーク処理し、更に、紫外線硬化処理（高圧水銀灯により積算露光量が２００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光）を行って硬化させた。得られた膜付きシリコンウエハの凹凸部分について、断面をＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で観察し、凹部分の最も薄い部分の膜厚を測定して、段差追従性の評価を行った。
なお、段差追従性の評価は、目標値である１μｍに対する、目標値である１μｍと凹部分の最も薄い部分の膜厚Ｘμｍとの差の割合を評価した。上記差の割合（％）は、「｜１−Ｘ｜×１００」に該当する。
上記割合が小さいほど、組成物の段差追従性が良好であることを示す。
なお、上記記載中、凹部分の最も薄い部分における膜厚とは、凹部分に形成された膜の、最も膜厚が薄くなっている箇所の膜厚をいう。【０２１６】
段差追従性の評価の基準は以下のとおりである。
Ａ：差の割合が５％未満である。
Ｂ：差の割合が５％以上１０％未満である。
Ｃ：差の割合が１０％以上である。【０２１７】
＜耐熱性の評価＞
上記段差追従性の評価で得られた試料を、２６０℃で１０分間加熱し、加熱処理の前後を通した膜の凸部分における膜厚の変化を測定し、その変化率を算出した。変化率が小さいほど、耐熱性が良好であることを示す。【０２１８】
耐熱性の評価の基準は以下のとおりである。
Ａ：凸部の膜厚の変化率が１％未満である。
Ｂ：凸部の膜厚の変化率が１％以上３％未満である。
Ｃ：凸部の膜厚の変化率が３％以上５％未満である。
Ｄ：凸部の膜厚の変化率が５％以上である。【０２１９】
以下に、分光特性、屈折率、段差追従性、及び、耐熱性の評価の結果を示す。
なお、下記表中、「Ｒ」の欄は、使用した化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）が有する、高屈折率官能基の種類番号を表す。例えば、「Ｒ」の欄に「１」と記載されている化合物は、高屈折率官能基Ｒ１を有する。
「一般式（ＩＩ）」の欄は、使用した化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）における、一般式(ＩＩ)で表される高屈折率官能基の有無を示す。
「−ＮＨ−の数」の欄は、使用した化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）が、一般式(ＩＩ) で表される高屈折率官能基を有している場合において、各基中のＣ１〜Ｃ３に相当する基が−ＮＨ−である数を示す。
「特定化合物の重合性基／チオール基」の欄は、使用した化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）における、重合性基又はチオール基の有無を示す。各化合物が重合性基を有している場合は「Ｃ＝Ｃ」と記載し、チオール基を有している場合は「ＳＨ」と記載し、いずれも有していない場合は「無」と記載した。
「バインダーの重合性基」の欄は、使用したバインダーにおける重合性基の有無を示す。
「オキシム化合物」の欄は、組成物中のオキシム化合物である光重合開始剤の有無を示す。【０２２０】
【表３】
2018235549.tif 000024
【０２２１】
表３に示されるように、本発明の組成物は、高い屈折率を有する膜を形成できると共に、段差追従性に優れることが確認された。
また、本発明の組成物を用いて得られる膜は耐熱性にも優れることが確認された。
なかでも、実施例６及び１０と他の実施例の比較より、高屈折率官能基が、一般式（ＩＩ）で表される基である場合、組成物は、より高い屈折率を有する膜を形成でき、より優れた段差追従性を示した。
また、実施例４、７、及び、８と他の実施例の比較より、一般式（ＩＩ）中のＣ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち２つ以上が−ＮＨ−である場合、組成物は、より高い屈折率を有する膜を形成でき、より優れた段差追従性を示した。
実施例５、１１、１３、１４、１８、１９、及び、２５〜３３の結果より、特定化合物が重合性基又はチオール基を有している場合、形成される膜は耐熱性がより優れていた。
実施例２１〜２４の結果より、組成物に使用される光重合開始剤が、オキシム化合物である場合、形成される膜の耐熱性がより優れていた。
バインダーが重合性基を有している場合、形成される膜の耐熱性がより優れていた。【０２２２】
＜現像性及びパターン形状の評価＞
エポキシ樹脂（ＪＥＲ−８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成した５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板上に、組成物１及び２４、ならびに、比較組成物をそれぞれスピン塗布し、１００℃で３分間ベークした。得られた塗膜に対し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（キヤノン株式会社製）を用いて、パターンが１μｍのアイランドパターンを有するマスクを通して、３６５ｎｍの波長で、５０〜１２００ｍＪ／ｃｍ２の種々の露光量で露光した。その後、露光された塗膜を有するガラス基板を、スピン・シャワー現像機（ＤＷ−３０型、ケミトロニクス社製）の水平回転テーブル上に載置し、現像液（ＣＤ−２０００、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行なった。【０２２３】
上記パドル現像を経て、表面にパターンが形成されたガラス基板を、真空チャック方式によって上記水平回転テーブルに固定した状態にしてから、回転数５０ｒｐｍで回転させつつ、その回転中心の上方から純水をシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥した。【０２２４】
乾燥されたパターンについて、測長ＳＥＭ（ＣＤ−ＳＥＭ：Ｃｒｉｔｉｃａｌ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）（Ｓ−９２６０Ａ、日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、パターン形状を評価した。
その結果、組成物１及び組成物２４を用いた場合は、比較組成物を用いた場合よりも、未露光部が良好に現像され、パターンがきれいに形成されることが確認された。
このように、本発明の組成物を用いることで、良好な形状を有するパターンを形成可能であるのが確認された。このような本発明の組成物は、レンズの製造にも好適に使用でき、製造されたレンズは固体撮像素子に使用することも好ましい。
【国際調査報告】
2018235549.tif 000027
2018235549.tif 000028
2018235549.tif 000029
2018235549.tif 000030
2018235549.tif 000031
2018235549.tif 000032
2018235549.tif 000033
2018235549.tif 000034
2018235549.tif 000035