(57)【要約】  本発明の一の態様によれば、アクリル系樹脂を含む基材１１と、バインダ樹脂１２Ａおよび複数の粒子１２Ｂを含むハードコート層１２と、ハードコート層１２に密着した機能層１３とをこの順に備える光学フィルム１０であって、基材１１とハードコート層１２の間に設けられ、樹脂を含む下地層１４を備え、光学フィルム１０のヘイズ値が１．０％以下である、光学フィルム１０が提供される。
2019035398.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリル系樹脂を含む基材と、バインダ樹脂および複数の粒子を含むハードコート層と、前記ハードコート層に密着した機能層とをこの順に備える光学フィルムであって、
前記基材と前記ハードコート層の間に設けられ、樹脂を含む下地層を備え、
前記光学フィルムのヘイズ値が、１．０％以下である、光学フィルム。
【請求項２】
少なくとも一部の前記粒子が前記ハードコート層における前記機能層側の面に露出しており、前記露出している前記粒子が前記機能層に直接密着している、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記バインダ樹脂が、リン元素を含む、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項４】
請求項１に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの前記基材における前記下地層側の第１の面とは反対側の第２の面側に設けられた偏光子と、
を備える、偏光板。
【請求項５】
請求項１に記載の光学フィルムまたは請求項４に記載の偏光板を備える、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の参照】
【０００１】
本願は、先行する日本国出願である特願２０１７−１５６７２８（出願日：２０１７年８月１５日）の優先権の利益を享受するものであり、その開示内容全体は引用することにより本明細書の一部とされる。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、光学フィルム、偏光板、および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
液晶ディスプレイ等の画像表示装置の画像表示面には、通常、傷付き防止や外光の反射防止のために光学フィルムが設けられている。光学フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材と、バインダ樹脂およびシリカ粒子を含むハードコート層と、外光の反射防止機能等を有する機能層とをこの順で備えているものがある（特開２０１４−９５８２０号公報参照）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
機能層がハードコート層に密着している光学フィルムにおいては、光が照射されている状況下で、水分が存在すると、ハードコート層と機能層との間で界面剥離が生じやすいという問題がある。特に、ハードコート層は樹脂を含む有機層であるので、機能層が無機層である場合には、ハードコート層と機能層との間の界面は異種界面（有機／無機界面）となるので、界面剥離を生じやすい。【０００５】
ハードコート層と機能層との間の界面剥離を抑制する観点からは、光学フィルムの透湿度は低い方が望ましいので、現在、このようなことから、ＴＡＣ基材の代わりに、ＴＡＣ基材よりも透湿度が低いアクリル樹脂基材を用いることが考えられている。【０００６】
しかしながら、アクリル系樹脂基材にハードコート層を直接形成すると、ハードコート層および機能層の間の界面剥離を抑制できるものの、光学フィルムの透明性が失われてしまうおそれがある。これは、ＴＡＣ基材では見られない現象である。【０００７】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、ハードコート層と機能層との間の界面剥離を抑制でき、かつ優れた透明性を有する光学フィルムならびにこれを備えた偏光板および画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一の態様によれば、アクリル系樹脂を含む基材と、バインダ樹脂および複数の粒子を含むハードコート層と、前記ハードコート層に密着した機能層とをこの順に備える光学フィルムであって、前記基材と前記ハードコート層の間に設けられ、樹脂を含む下地層を備え、前記光学フィルムのヘイズ値が、１．０％以下である、光学フィルムが提供される。【０００９】
上記光学フィルムにおいて、前記粒子が、前記バインダ樹脂における前記機能層側の面から突出しており、突出した前記粒子が前記機能層に接していてもよい。【００１０】
上記光学フィルムにおいて、前記機能層が、無機層であってもよい。【００１１】
上記光学フィルムにおいて、前記ハードコート層に含まれる前記粒子が、無機粒子であってもよい。【００１２】
上記光学フィルムにおいて、前記バインダ樹脂が、リン元素を含んでいてもよい。【００１３】
本発明の他の態様によれば、上記光学フィルムと、前記光学フィルムの前記基材における前記下地層側の第１の面とは反対側の第２の面側に設けられた偏光子と、を備える、偏光板が提供される。【００１４】
本発明の他の態様によれば、上記光学フィルムまたは上記偏光板を備える、画像表示装置が提供される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の一の態様によれば、ハードコート層と機能層との間の界面剥離を抑制でき、かつ優れた透明性を有する光学フィルムを提供することができる。また、本発明の他の態様によれば、このような光学フィルムを備える偏光板および画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。
【図２】図１に示される光学フィルムの一部の拡大図である。
【図３】実施形態に係る偏光板の概略構成図である。
【図４】実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。
【図５】実施例１におけるハードコート層の表面写真である。
【図６】比較例１におけるハードコート層の表面写真である。
【図７】実施例１に係る光学フィルムの断面写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態に係る光学フィルム、偏光板および画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。図１は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図２は図１に示される光学フィルムの一部の拡大図であり、図３は本実施形態に係る偏光板の概略構成図であり、図４は本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。
【００１８】
＜＜＜光学フィルム＞＞＞
図１に示される光学フィルム１０は、アクリル系樹脂を含む基材１１と、バインダ樹脂１２Ａおよび複数の粒子１２Ｂを含むハードコート層１２と、ハードコート層１２に密着した機能層１３とをこの順で備えている。光学フィルム１０は、基材１１とハードコート層１２との間に設けられ、かつ樹脂を含む下地層１４をさらに備えている。図１に示される下地層１４は、基材１１およびハードコート層１２の両方に密着している。なお、下地層とハードコート層の間に１以上の層を備えていてもよく、基材と機能層との間は下地層とハードコート層の２層構造のみならず、３層以上の構造となっていてもよい。３層以上の構造としては、例えば、基材側から、下地層、ハードコート層、下地層、ハードコート層をこの順で備える４層構造が挙げられる。
【００１９】
光学フィルム１０においては、ヘイズ値（全ヘイズ値）が、１．０％以下となっている。光学フィルム１０のヘイズ値が１．０％以下であれば、優れた透明性を得ることができる。光学フィルム１０のヘイズ値は、０．９％以下であることが好ましく、０．８％以下であることが最も好ましい。
【００２０】
上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定することができる。上記ヘイズ値は、光学フィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とする。本明細書における「３回測定する」とは、同じ場所を３回測定するのではなく、異なる３箇所を測定することを意味するものとする。光学フィルム１０においては、目視した表面１０Ａは平坦であり、かつハードコート層１２等の積層する層も平坦であり、また膜厚のばらつきも±１５％の範囲内に収まる。したがって、切り出した光学フィルムの異なる３箇所でヘイズ値を測定することで、おおよその光学フィルムの面内全体のヘイズ値の平均値が得られると考えられる。ヘイズ値のばらつきは、測定対象が１ｍ×３０００ｍと長尺であっても、５インチのスマートフォン程度の大きさであっても、±１０％以内である。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ−１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光学フィルムを適宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。
【００２１】
光学フィルム１０においては、全光線透過率が、８５％以上であることが好ましい。光学フィルム１０の全光線透過率が８０％以上であれば、充分な光透過性を得ることができる。光学フィルム１０の全光線透過率は、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが最も好ましい。
【００２２】
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠した方法により測定することができる。上記全光線透過率は、光学フィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０においては、目視した表面１０Ａは平坦であり、かつハードコート層１２等の積層する層も平坦であり、また膜厚のばらつきも±１５％の範囲内に収まる。したがって、切り出した光学フィルムの異なる３箇所で全光線透過率を測定することで、おおよその光学フィルムの面内全体の全光線透過率の平均値が得られると考えられる。全光線透過率のばらつきは、測定対象が１ｍ×３０００ｍと長尺であっても、５インチのスマートフォン程度の大きさであっても、±１０％以内である。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光学フィルムを適宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。
【００２３】
光学フィルム１０の表面１０Ａ（機能層１３の表面）は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度）が、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましい。鉛筆硬度試験は、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定し、光学フィルムの表面に対し鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に５００ｇの荷重を加えながら鉛筆を１ｍｍ／秒の移動速度で移動させることにより行うものとする。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上光学フィルムの表面に傷が付かなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。上記傷は、鉛筆硬度試験を行った光学フィルムの表面を蛍光灯下で透過観察して視認されるものを指す。
【００２４】
光学フィルム１０においては、４０℃、相対湿度９０％での水蒸気透過率（WVTR：Water Vapor Transmission Rate）が１００ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下となっていることが好ましい。光学フィルム１０の上記水蒸気透過率が１００ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下となっていることにより、ハードコート層１２と機能層１３の間の界面剥離をより抑制できる。水蒸気透過率はＪＩＳ  Ｋ７１２９：２００８に準拠した手法で得られる数値である。水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置（製品名「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１」、ＭＯＣＯＮ社製）を用いて、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムに対して３回測定を行い、３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０の上記水蒸気透過率は、８０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることがより好ましく、６０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることが最も好ましい。
【００２５】
光学フィルム１０の用途は、特に制限されず、例えば、ノートパーソナルコンピュータ等を含むパーソナルコンピュータ（ＰＣ）、スマートフォン、タブレット端末、ウェアラブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン等の画像表示装置が挙げられる。
【００２６】
光学フィルム１０は、所望の大きさにカットされていてもよいが、ロール状であってもよい。光学フィルム１０が所望の大きさにカットされている場合、光学フィルムの大きさは、特に制限されず、用途（例えば、画像表示装置に用いられる場合には、画像表示装置の表示面の大きさ）に応じて適宜決定される。具体的には、光学フィルム１０の大きさは、例えば、１インチ以上５００インチ以下となっていてもよく、２．８インチ以上５００インチ以下となっていてもよい。本明細書における「インチ」とは、光学フィルムが四角形状である場合には対角線の長さを意味し、円形状である場合には直径を意味し、楕円形状である場合には、短径と長径の和の平均値を意味するものとする。ここで、光学フィルムが四角形状である場合、上記インチを求める際の光学フィルムの縦横比は、画像表示装置の表示面として問題がなければ特に限定されない。例えば、縦：横＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられる。ただし、特に、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。また、光学フィルム１０の大きさが大きい場合には、任意の位置からＡ５サイズ（１４８ｍｍ×２１０ｍｍ）に切り出した後、各測定項目の大きさに切り出すものとする。
【００２７】
＜＜基材＞＞
基材１１は、アクリル系樹脂を含む。アクリル樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸、またはその誘導体等の単量体を重合して得られる樹脂が挙げられる。これらの中でも、透明性および耐候性の観点から、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、メタクリル酸メチル単位を主構成成分とする共重合体、およびスチレン−メタクリル酸メチル共重合体が好ましい。基材１１は、アクリル系樹脂の他、他の樹脂や添加剤等を含んでいてもよい。
【００２８】
基材１１の厚みは、２０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましい。基材１１の厚みが、２０μｍ以上であれば、しわが発生することなく、優れた鉛筆硬度を有する光学フィルムを得ることができ、また基材１１の厚みが、２００μｍ以下であれば、ロールで取り扱うことが可能な柔軟性が得られる。基材の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、基材の断面を撮影し、その断面の画像において基材の厚みを２０箇所測定し、その２０箇所の膜みの算術平均値を求めることによって求めることができる。基材１１の厚みの下限は、２０μｍ以上、３０μｍ以上、４０μｍ以上であることがより好ましく（数値が大きいほど好ましく）、上限は、２００μｍ以下、１２０μｍ以下、８０μｍ以下であることがより好ましい（数値が小さいほど好ましい）。基材１１の厚みのバラツキは、２０％以下、１５％以下、１０％以下であることが好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００２９】
＜＜ハードコート層＞＞
ハードコート層１２は、バインダ樹脂１２Ａおよび複数の粒子１２Ｂを含む。ハードコート層１２は、バインダ樹脂１２Ａおよび粒子１２Ｂの他、紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤等の成分を含んでいてもよい。
【００３０】
ハードコート層１２は、単層構造となっているが、２層以上の多層構造であってもよい。本明細書における「ハードコート層」とは、光透過性を有し、かつマルテンス硬度が、基材のマルテンス硬度よりも高い層を意味するものとする。本明細書において、「マルテンス硬度」とは、ナノインデンテーション法による硬度測定により、圧子を５００ｎｍ押込んだときの硬度である。上記ナノインデンテーション法によるマルテンス硬度の測定は、光学フィルムにおいてＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行うものとする。すなわち、以下の測定条件で、上記圧子としてバーコビッチ圧子（三角錐）をハードコート層の断面中央に５００ｎｍ押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより、マルテンス硬度を算出する。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とする。基材のマルテンス硬度も上記と同様の方法によって測定するものとする。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃
【００３１】
ハードコート層１２の膜厚は、１μｍ以上２０μｍ以下となっていることが好ましい。ハードコート層１２の膜厚が、１μｍ以上であれば、充分な硬度を維持することができ、また２０μｍ以下であれば、厚みが厚すぎることに起因して加工性が悪化するおそれもない。ハードコート層１２の下限は２μｍ以上であることがより好ましく（数値が大きいほど好ましく）、上限は１０μｍ以下、９μｍ以下、８μｍ以下であることがより好ましい（数値が小さいほど好ましい）。ハードコート層１２の膜厚のバラツキは、５０％以下、４０％以下、３０％以下であることが好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００３２】
ハードコート層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、ハードコート層の断面を撮影し、その断面の画像においてハードコート層の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とする。具体的な断面写真の撮影方法を以下に記載する。まず、１５ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを樹脂板に固定して、ミクロトームＥＭ  ＵＣ６（ライカ マイクロシステムズ株式会社製）でトリミング幅３００μｍ、高さ８０μｍに切り出した後、さらにＤｉＡＴＯＭＥ  ダイヤモンドナイフ  ＵＬＴＲＡにより厚さ方向に切削していき、穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出す。切片の作製には、ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いてもよい。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとする。測定サンプルは、一般的に行われている樹脂に包含させる方法で作成してもよい。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を「５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら５０００〜２０万倍で適宜調節する。なお、上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にしてもよい。ハードコート層の膜厚を測定する際には、断面観察した折に、ハードコート層と他の層（例えば、下地層）との界面コントラストが可能な限り明確に観察できることが重要となる。仮に、コントラスト不足でこの界面が見え難い場合には、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸など染色処理を施すと、有機層間の界面が見やすくなるので、染色処理を行ってもよい。また、界面のコントラストは高倍率である方が分かりにくい場合がある。その場合には、低倍率も同時に観察する。例えば、２．５万倍と５万倍や、５万倍と１０万倍など、高低の２つの倍率で観察し、両倍率で上記した算術平均値を求め、さらにその平均値をハードコート層の膜厚の値とする。
【００３３】
＜バインダ樹脂＞
バインダ樹脂１２Ａは、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものであり、電離放射線で重合する電離放射線重合性化合物および熱で重合する熱重合性化合物のいずれであってもよい。重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、電離放射線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。
【００３４】
重合性化合物としては、重合性モノマー、重合性オリゴマー、および重合性プレポリマーが挙げられる。
【００３５】
重合性モノマーとしては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ、カプロラクトン等で変性したものが挙げられる。
【００３６】
これらの中でも上述したマルテンス硬度を好適に満たし得ることから、３〜６官能のものが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等が好ましい。なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートを意味する。
【００３７】
なお、硬度や組成物の粘度調整、密着性の改善等のために、更に単官能（メタ）アクリレートモノマーを含んでいてもよい。上記単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）、グリシジルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、およびアダマンチルアクリレート等が挙げられる。
【００３８】
重合性オリゴマーまたは重合性プレポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、ポリフルオロアルキル（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーが挙げられる。これら重合性オリゴマーまたは重合性プレポリマーは、１種又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３９】
上記重合性モノマーの重量平均分子量は、ハードコート層の硬度を向上させる観点から、１０００未満が好ましく、２００以上８００以下がより好ましい。また、上記重合性オリゴマーの重量平均分子量は、１０００以上２万以下であることが好ましく、１０００以上１万以下であることがより好ましく、２０００以上７０００以下であることが更に好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。
【００４０】
バインダ樹脂１２Ａは、リン（Ｐ）元素を含むことが好ましい。バインダ樹脂１２Ａがリン元素を含むことにより、バインダ樹脂１２Ａと粒子１２Ｂとの密着性を高めることができる。バインダ樹脂１２Ａにリン元素が含まれるか否かは、ＸＰＳ（Ｘ−Ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）、またはＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ  ｆｏｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いることによって確認することができる。
【００４１】
バインダ樹脂１２Ａがリン（Ｐ）元素を含む場合、ハードコート層１２の第１の面１２Ｃにおける元素比率は、リンが０．１％以上であることが好ましい。第１の面１２Ｃの元素比率においてリンが０．１％以上であれば、ハードコート層１２と機能層１３との密着性をさらに向上させることができる。ハードコート層の第１の面における元素比率は、ＸＰＳまたはＥＳＣＡによって求めることができる。上記元素比率におけるリンの下限は、０．３％以上であることがより好ましく、上限は、塗工時のリンを含む成分の凝集によるヘイズ上昇抑制の観点から、１０％以下が好ましい。
【００４２】
リン元素は、リン酸系モノマーを用いることによってバインダ樹脂１２Ａ中に含有させることができる。リン酸系モノマーは、リン酸基および重合性官能基を含んでいる。リン酸系モノマーとしては、例えば、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、ジメチルホスフェートエチルアクリレート、ジエチルホスフェートエチルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルリン酸、ビスアクリロイルオキシエチルホスフェート、トリスアクリロイルオキシエチルホスフェート、２−メタクリロイルオキシエチルリン酸、ビスメタクリロイルオキシエチルホスフェート、エトキシ化リン酸トリ（メタ）アクリレートが挙げられる。リン酸系モノマーのリン酸基が粒子に水素結合により相互作用するとともに、リン酸系モノマーの重合性官能基が重合性化合物と結合することによってバインダ樹脂１２Ａと粒子１２Ｂとの密着性を向上させることができるので、ハードコート層１２と機能層１３との間の界面剥離をより抑制できる。
【００４３】
＜粒子＞
粒子１２Ｂは、無機粒子および有機粒子のいずれであってもよいが、優れた硬度を得る観点から、無機粒子であることが好ましい。無機粒子としては、特に限定されないが、より優れた硬度を得る観点から、シリカ粒子が好ましい。
【００４４】
粒子１２Ｂが無機粒子であり、かつ機能層１３が無機層である場合、図２に示されるように、少なくとも一部の粒子１２Ｂはハードコート層１２における機能層１３側の第１の面１２Ｃに露出しており、露出している粒子１２Ｂは機能層１３に直接密着していることが好ましい。露出している粒子１２Ｂが機能層１３に直接密着することによって、粒子１２Ｂと機能層１３との間の界面が無機／無機界面となるので、ハードコート層１２と機能層１３との密着性をより向上させることができる。本明細書における「露出」とは、粒子においてバインダ樹脂によって覆われていない部分が存在することを意味する。粒子がハードコート層における機能層側の面に露出しているか否かは、ハードコート層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）や透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することによって確認することができる。なお、ハードコート層の断面出しの手法としては、表面・界面切削試験装置（ＳＡＩＣＡＳ）による斜め切断やミクロトームによる切削等が利用できる。また、カッターやミクロトーム等による切断で光学フィルムの断面を出し、断面が出された状態の光学フィルムに対してキセノン耐侯試験機を用いて長時間試験環境で曝露させた後に追加で湿熱環境に晒したり、またはアルコール等の溶媒を断面近傍に作用させることにより強制的に機能層を剥離し、機能層を剥離した状態で粒子がハードコート層の表面に露出しているか観察してもよい。
【００４５】
後述するように下地層１４によって粒子１２Ｂの凝集を抑制できるが、ハードコート層１２の第１の面１２Ｃを平面視したとき、粒子１２Ｂは凝集していないことが好ましい。本明細書における「粒子が凝集していない」とは、ハードコート層の断面を観察した場合に観察される粒子の全個数に対する、互いに隣り合う粒子の粒子間距離がそれらの粒径の１／２よりも短い距離で密集して３個以上の粒子と互いに隣接して塊状になっている粒子の個数の割合が５０％以下であることを意味するものとする。
【００４６】
無機粒子は、球形粒子であってもよいが、異形粒子であることが好ましい。球形粒子と異形粒子とを混合させてもよい。上記異形粒子は、その表面積が球形粒子と比較して大きいため、このような異形粒子を含有することで、上記重合性化合物との接触面積が大きくなり、上記ハードコート層の硬度を向上させることができる。ハードコート層に含まれている粒子が異形粒子であるか否かは、ハードコート層の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で観察することによって確認することができる。なお、本明細書における「球形粒子」とは、例えば、真球状、楕円球状等の粒子を意味し、また、「異形粒子」とは、ジャガイモ状（断面観察時のアスペクト比が１．２以上４０以下）のランダムな凹凸を表面に有する形状の粒子を意味する。
【００４７】
粒子１２Ｂの平均一次粒径は、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。粒子１２Ｂの平均一次粒径が５ｎｍ以上であれば、粒子を容易に製造することができ、また２００ｎｍ以下であれば、ハードコート層１２に大きな凹凸が形成されることもない。粒子が球形粒子の場合には、粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した粒子の断面の画像から２０個の粒子の粒径を測定し、２０個の粒子の粒径の算術平均値とする。また、粒子が異形粒子である場合には、粒子の平均一次粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影したハードコート層の断面の画像から粒子の外周の２点間距離の最大値（長径）と最小値（短径）とを測定し、平均して一次粒径を求め、２０個の粒子の一次粒径の算術平均値とする。
【００４８】
粒子１２Ｂの大きさ及び配合量を制御することでハードコート層１２の硬度（マルテンス硬度）を制御できる。例えば、粒子１２Ｂは直径が５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である場合、粒子１２Ｂの含有量は、上記重合性化合物１００質量部に対して、２５質量部以上６０質量部以下であることが好ましい。
【００４９】
無機粒子としてシリカ粒子を用いる場合、シリカ粒子は、反応性シリカ粒子であってもよい。上記反応性シリカ粒子は、上記重合性化合物との間で架橋構造を構成することが可能なシリカ粒子であり、この反応性シリカ粒子を含有することで、ハードコート層１２の硬度を充分に高めることができる。
【００５０】
上記反応性シリカ粒子は、その表面に反応性官能基を有することが好ましく、該反応性官能基とてしては、例えば、上記の重合性官能基が好適に用いられる。
【００５１】
上記反応性シリカ粒子としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えば、特開２００８−１６５０４０号公報記載の反応性シリカ粒子等が挙げられる。また、上記反応性シリカ粒子の市販品としては、例えば、ＭＩＢＫ−ＳＤ、ＭＩＢＫ−ＳＤ−ＭＳ、ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ、ＭＩＢＫ−ＳＤ−ＺＬ（いずれも、日産化学工業株式会社製）やＶ８８０２、Ｖ８８０３（いずれも、日揮触媒化成株式会社製）等が挙げられる。
【００５２】
＜紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤は、紫外線を吸収する機能を有している。紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、及び、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が挙げられる。
【００５３】
上記トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、および２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。市販されているトリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０、４７７（いずれもＢＡＳＦジャパン株式会社社製）等が挙げられる。
【００５４】
＜レベリング剤＞
レベリング剤とは、ハードコート層１２の表面張力が不均一となることによって生じる、ハジキ、凹み、ピンホール、ユズハダ等の欠陥を防止し、表面を滑らかにする添加剤を意味する。レベリング剤は、特に限定されないが、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を有する化合物等が挙げられる。上記レベリング剤は、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を主鎖の末端（片末端、両末端）に有していてもよく、側鎖に有していてもよく、主鎖の末端及び側鎖に有していてもよい。レベリング剤としては、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を有する化合物であれば、特に限定されず、例えば、シリコーン系、フッ素系、シリコーン／フッ素混合系、アクリル系、メタクリル系、芳香族系のレベリング剤を挙げることができる。
【００５５】
市販されているシリコーン系レベリング剤としては、例えば、ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−３５１０、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０等（いれずれも、ビックケミージャパン株式会社製）のポリエステル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。
【００５６】
＜シランカップリング剤＞
シランカップリング剤は、反応性官能基および加水分解性基を有する有機ケイ素化合物である。反応性官能基は、多官能電離放射線重合性化合物等と反応し得る基であり、反応性官能基としては、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、アミノ基、ウレイド基、チオール基、スルフィド基およびイソシアネート基からなる群から選択される１種以上の官能基が挙げられる。これらの中でも、下地層１４との密着性の観点から、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００５７】
加水分解性基は、加水分解でシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）とアルコールを生じることの可能な基であり、加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、カルバモイル基、アミノ基、アミノオキシ基、ケトキシメート基等があげられる。加水分解性基が炭素原子を有する場合には、その炭素数は６以下であることが好ましく、４以下であることがより好ましい。特に、炭素数４以下のアルコキシ基またはアルケニルオキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることが特に好ましい。
【００５８】
シランカップリング剤の具体例としては、例えば、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。市販されているシランカップリング剤としては、例えば、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＲ−５１３（いずれも、信越化学工業株式会社製）などが挙げられる。
【００５９】
＜＜機能層＞＞
機能層１３は、光学フィルム１０において、何らかの機能を発揮する層である。機能層１３は、有機層および無機層のいずれであってもよい。機能層１３が有機層である場合には、機能層１３は塗布法によって形成することができ、また機能層１３が無機層である場合、スパッタリング法やＣＶＤ法等の蒸着法によって形成することができる。
【００６０】
機能層１３としては、特に限定されないが、例えば、反射防止層、密着性向上層、バリア層、導電層、防眩層、帯電防止層、防汚層、またはこれらの組み合わせが挙げられる。機能層は、単層構造であってもよいが、多層構造であってもよい。機能層１３は、多層構造となっている。具体的には、図１に示されるように、機能層１３は、密着性向上層１３Ａと反射防止層１３Ｂから構成されていてもよい。
【００６１】
機能層１３の膜厚は、１０ｎｍ以上２μｍ以下となっていることが好ましい。機能層１３の膜厚が、１０ｎｍ以上であれば、所望の機能を発揮させることができ、また２μｍ以下であれば、機能層１３の成膜時の残留応力による破損や温度変化や湿度変化による膨張率差による剥離などを抑制することができる。機能層の膜厚は、ハードコート層の膜厚と同様の方法によって測定することができる。機能層１３の膜厚の下限は２０ｎｍ以上、４０ｎｍ以上、８０ｎｍ以上であることがより好ましく（数値が大きいほど好ましい）、上限は１μｍ以下、９００ｎｍ以下、８００ｎｍ以下であることがより好ましい（数値が小さいほど好ましい）。なお、機能層が多層構造である場合には、機能層の膜厚は、各層の合計の膜厚とする。機能層１３の膜厚のバラツキは、１５％以下、１０％以下、７％以下であることが好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００６２】
＜密着性向上層＞
密着性向上層１３Ａは、ハードコート層１２と反射防止層１３Ｂとの間の密着性を向上させる機能を有する層である。密着性向上層１３Ａの一方の面はハードコート層１２の第１の面１２Ｃに密着しており、他方の面は反射防止層１３Ｂに密着している。
【００６３】
密着性向上層１３Ａの膜厚は、１５ｎｍ以下となっていることが好ましい。密着性向上層１３Ａの膜厚が、１５ｎｍ以下であれば、光学特性に影響なく密着性向上の効果を得ることができる。密着性向上層の膜厚は、ハードコート層の膜厚と同様の方法によって測定するものとする。密着性向上層１３Ａの膜厚の下限は、確実に密着性向上の効果を得る観点から、５ｎｍ以上であることが好ましい。
【００６４】
密着性向上層１３Ａは、無機層となっている。具体的には、密着性向上層１３Ａは、ＳｉＮｘ等の金属窒化物、あるいはＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）やＣｒＯｘ（ｘ＝１〜２）等の金属酸化物から構成されている。
【００６５】
密着性向上層１３Ａの形成方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長（ＰＶＤ）法や化学気相成長（ＣＶＤ）法を用いることができる。密着性向上層１３Ａが無機系材料から構成されている場合には、密着性向上層の形成方法としては、スパッタリング法もしくはＣＶＤ法が好適である。
【００６６】
＜反射防止層＞
反射防止層１３Ｂは、外光反射を抑制する機能を有する層である。反射防止層１３Ｂは、無機層となっている。反射防止層が多層構造となっている場合、反射防止層は、低屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層の積層構造となっていてもよい。
【００６７】
高屈折率層は、屈折率が、低屈折率層の屈折率よりも高い層であり、各層の屈折率は、各層の欠片を切り出し等によりそれぞれ１０個取り出し、取り出した１０個の欠片において、ベッケ法により各層の屈折率をそれぞれ測定し、測定した各層の屈折率の１０個の平均値として求めることができる。ベッケ法とは、屈折率が既知の屈折率標準液を用い、上記欠片をスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に屈折率標準液を滴下し、屈折率標準液で欠片を浸漬し、その様子を顕微鏡観察によって観察し、強化部の表面と屈折率標準液の屈折率が異なることによって各層の表面に生じる輝線（ベッケ線）が目視で観察できなくなる屈折率標準液の屈折率を、各層の屈折率とする方法である。
【００６８】
低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。低屈折率層の屈折率の下限は、１．４０以下であることがより好ましく、１．３８以下であることがさらに好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．５０以上２．００以下であってもよい。高屈折率層の屈折率の下限は１．５５以上であることが好ましく、高屈折率層の屈折率の上限は１．７５以下であることが好ましい。
【００６９】
低屈折率層の膜厚は、２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。高屈折率層の膜厚は、２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率層や高屈折率層の膜厚は、密着性向上層１３Ａの膜厚と同様の方法によって測定することができる。
【００７０】
＜バリア層＞
バリア層は、水分や酸素の透過を抑制する機能を有する層である。バリア層の形成材料としては、バリア性が得られるものであれば特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素や酸化アルミニウム等の無機酸化物や金属等の無機系材料が挙げられる。
【００７１】
バリア層の膜厚は、特に限定されないが、０．０１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。バリア層の膜厚が０．０１μｍ以上であれば、バリア層のバリア性能が十分に得られ、また１μｍ以下であれば、バリア層のクラック等によりバリア性能の劣化を抑制できる。バリア層の厚みのより好ましい下限は０．０３μｍ以上であり、より好ましい上限は０．５μｍ以下である。
【００７２】
バリア層の膜厚は、密着性向上層１３Ａの膜厚と同様の方法によって測定することができる。また、バリア層は、単一の層であってもよく、複数の層が積層されたものであってもよい。バリア層が複数層積層されたものである場合、バリア層の膜厚はバリア層を構成する各層の膜厚の合計を意味する。
【００７３】
バリア層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長（ＰＶＤ）法や化学気相成長（ＣＶＤ）法を用いることができる。バリア層が無機系材料から構成されている場合には、バリア層の形成方法としては、ＣＶＤ法が好適である。
【００７４】
＜導電層＞
導電層は、導電性を有する層である。導電層は、例えば、無機系の光透過性導電性材料、有機系の光透過性導電性材料、または無機系の光透過性導電性材料と有機系の光透過性導電性材料との混合材料を含む。無機系の光透過性導電性材料としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛−酸化スズ系、酸化インジウム−酸化スズ系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物やカーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でも透明導電層における透明性と低抵抗の観点から、無機系の光透過性導電性材料料としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）が好ましい。有機系の透明導電性材料としては、導電性ポリマー等が挙げられる。
【００７５】
導電層の膜厚は、１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下とすることが好ましい。導電層の膜厚は、密着性向上層１３Ａの膜厚と同様の方法によって測定することができる。
【００７６】
導電層の形成方法は、特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを用いることができる。導電層が無機系の光透過性導電性材料から構成されている場合には、導電層の形成方法としては、ＰＶＤ法が好適である。
【００７７】
＜＜下地層＞＞
下地層１４は、基材１１とハードコート層１２との間に位置し、樹脂を含む層である。また、一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子は凝集しやすいので、下地層１４は、実質的に一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子を含まないことが好ましい。本明細書における「実質的に一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子を含まない」とは、下地層が完全に一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子を含んでいないことは勿論のこと、透明性にあまり影響を与えない範囲であれば、下地層が若干量の一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子を含んでいてもよいことを意味する。
【００７８】
下地層に含まれていてもよい一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子の含有量は、具体的には、下地層の断面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した際に下地層の断面の面積に対する下地層の断面に現れる粒子の面積比が１０％以下であることが好ましく、０％であることがより好ましい。上記断面に現れる粒子が１０％以下であれば、ヘイズ値が低い下地層が得られる。走査電子顕微鏡による下地層の断面写真の撮影の際には、まず、ＥＭジャパン株式会社製のトリミングカミソリで２０ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの両端をニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定して、光学フィルムの大きさが２０ｍｍ×５ｍｍとなるように光学フィルムの中央部において上記トリミングカミソリで光学フィルムをカットし、測定サンプルを得る。そして、垂直なサンプル固定面を有するＳＥＭ試料台のサンプル固定面にカットされた断面が接触しないように測定サンプルをカーボンテープで固定する。その後、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＳＥ」、加速電圧を「１．５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら１００〜１０万倍、好ましくは下地層の膜厚に応じて１０００倍〜１万倍で適宜調節する。さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り１」にし、対物レンズ絞りを「２」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にする。
【００７９】
下地層１４は、樹脂以外に、紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤等の成分を含んでいてもよい。紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤としては、ハードコート層１２の欄で説明した紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤を用いることができるので、ここでは説明を省略するものとする。
【００８０】
下地層１４の膜厚は、１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。下地層１４の膜厚が、１μｍ以上であれば、アクリル系樹脂がハードコート層１２に入り込むことをより抑制でき、また下地層１４の膜厚が、１０μｍ以下であれば、光学フィルム１０の厚みが過度に厚くなることがない。下地層１４の膜厚は、ハードコート層１２の膜厚と同様の方法によって測定することができる。下地層１４の膜厚の下限は、１．５μｍ以上、２．０μｍ以上であることがより好ましく（数値が大きいほど好ましい）、下限は９μｍ以下、８μｍ以下であることがより好ましい（数値が小さいほど好ましい）。下地層１４の膜厚のバラツキは、５０％以下、３０％以下であることが好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００８１】
＜樹脂＞
下地層１４に含まれる樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、例えば、第１の重合性化合物、または第１の重合性化合物および第２の重合性化合物の両方を含んでいてもよい。第１の重合性化合物は、ハードコート層としての必要な硬度を得るための成分である。第１の重合性化合物としては、ハードコート層の欄１２で説明したと重合性化合物と同様の重合性化合物を用いることができる。具体的には、重合性モノマー、重合性オリゴマー、重合性プレポリマーが挙げられる。また、重合性化合物は、ハードコート層との密着性を向上させる観点から、ハードコート層１２で用いる重合性化合物と同様のものを用いることが好ましい。
【００８２】
第２の重合性化合物は、基材１１に対する密着性を改善するための成分である。第２の重合性化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。下地層１４が第２の重合性化合物を含む場合には、下地層１４と基材１１の密着性が改善されるので、良好なハードコート層密着性が得られる。ここでの「ハードコート層密着性」とは評価方法に関する名称であり、機能層形成前のクロスカット試験により基材からハードコート層、もしくは下地層が基材から剥がれてしまうことを含む。
【００８３】
第２の重合性化合物の具体的な配合比率は、全重合性化合物中の１０質量％以上７０質量％以下であることが好ましい。第２の重合性化合物がこの範囲にある場合に良好な鉛筆硬度が維持され、ヘイズ値の上昇を抑制でき、良好な基材密着性、すなわち良好なハードコート層密着性が得られる。第２の重合性化合物の配合比率の下限は全重合性化合物中の２０質量％以上であることがより好ましく、上限は全重合性化合物中の６０質量％以下であることがより好ましい。
【００８４】
＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム１０は、以下のようにして作製することができる。まず、基材１１の一方の面上に、バーコーター等の塗布装置によって、下地層用組成物を塗布して、下地層用組成物の塗膜を形成する。
【００８５】
＜下地層用組成物＞
下地層用組成物は、下地層１４を形成するための重合性化合物を含んでいる。下地層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤、溶媒、重合開始剤等を含んでいてもよい。
【００８６】
（溶媒）
溶媒は、例えば、第１の溶媒、または第１の溶媒および第２の溶媒の両方を含んでいてもよい。第１の溶媒は、モノマーを良好に溶解させておき、かつ乾燥工程でムラが生じないように蒸発させるものである。第１の溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール、ジアセトンアルコール）、エステル（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、蟻酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ））、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、カーボネート（炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル）等が挙げられる。これらの溶媒、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。なかでも、上記第１の溶媒としては、ウレタン（メタ）アクリレート等の成分、並びに、他の添加剤を溶解或いは分散させ、ハードコート層用組成物を好適に塗工できる点で、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。
【００８７】
第２の溶媒は、基材１１との密着性の改善するためのものである。下地層用組成物が実質的に２００ｎｍ以下の粒子を含まなければ、密着改善に改善効果のある第２の溶媒を含んでいてもヘイズ値の上昇を抑制できる。第２の溶媒としては、例えば、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトンが挙げられる。溶媒全体に対する第２の溶媒の含有量は、１０質量％以上７０質量％以下であることが好ましい。第２の溶媒が１０質量％未満であれば、基材に対して充分な密着性が得られないおそれがあり、また７０質量％を超えると、一定の乾燥時間では乾燥せずに下地層の硬度が不足してしまうおそれがある。第２の溶媒の上記含有量の下限は、２０質量％以上であることがより好ましく、上限は６０質量％以下であることがより好ましい。
【００８８】
（重合開始剤）
重合開始剤は、電離放射線照射より分解されて、ラジカルを発生して重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。
【００８９】
重合開始剤は、電離放射線照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【００９０】
下地層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶媒を蒸発させる。
【００９１】
塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を硬化（完全硬化）させて、下地層１４を形成する。なお、塗膜を半硬化させてもよい。本明細書における「半硬化」とは、電離放射線をさらに照射すると硬化が実質的に進行することを意味し、「完全硬化」とは、これ以上電離放射線を照射しても硬化が実質的に進行しないことを意味する。
【００９２】
下地層１４を形成した後、下地層１４の表面にハードコート層用組成物を塗布して、ハードコート層用組成物の塗膜を形成する。
【００９３】
＜ハードコート層用組成物＞
ハードコート層用組成物は、ハードコート層１２を形成するための重合性化合物および粒子１２Ｂを含んでいる。ハードコート層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤、溶媒、重合開始剤を含んでいてもよい。溶媒および重合開始剤は、下地層用組成物の欄で説明した溶媒および重合開始剤と同様のものを用いることができる。
【００９４】
ハードコート層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶媒を蒸発させる。
【００９５】
塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を硬化（完全硬化）させて、ハードコート層１２を形成する。
【００９６】
ハードコート層１２を形成した後、ハードコート層１２の第１の面１２Ｃに粒子１２Ｂを露出させる。具体的には、ハードコート層１２の表面付近のバインダ樹脂１２Ａを選択的にエッチングして、粒子１２Ｂを露出させる。バインダ樹脂１２Ａを選択的にエッチングする方法としては、例えば、グロー放電処理、プラズマ処理、イオンエッチング処理、アルカリ処理が挙げられる。
【００９７】
ハードコート層１２の第１の面１２Ｃに粒子１２Ｂを露出させた後、例えば、スパッタリング法等の蒸着法によって、密着性向上層１３Ａおよび反射防止層１３Ｂを形成して、機能層１３を形成する。これにより、光学フィルム１０が得られる。
【００９８】
本実施形態によれば、アクリル系樹脂を含む基材１１を用いているので、ＴＡＣ基材に比べて透湿度が低い。このため、ハードコート層１２と機能層１３との間の界面付近に存在する水分を低減できる。これにより、ハードコート層１２と機能層１３との間の界面剥離を抑制できる。
【００９９】
また、本発明者らは、鋭意研究を重ねたところ、アクリル系樹脂基材にハードコート層を直接形成した場合に光学フィルムの透明性が失われてしまうのは、ハードコート層用組成物中の溶媒によってアクリル系樹脂基材中の成分が溶出し、この溶出した成分によってハードコート層用組成物中の一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子が凝集してしまうことが原因であることを見出した。本実施形態においては、基材１１とハードコート層１２との間に樹脂からなる下地層１４を設けているので、ハードコート層用組成物中に基材１１中の成分が入り込むことを抑制できる。これにより、粒子１２Ｂの凝集を抑制できるので、光学フィルム１０のヘイズ値が１．０％以下とすることができ、優れた透明性を得ることができる。
【０１００】
＜＜＜偏光板＞＞＞
光学フィルム１０は、例えば、偏光板に組み込んで使用することができる。なお、本実施形態においては、光学フィルム１０は偏光子用の保護フィルムとして用いられているが、光学フィルム１０の用途は特に限定されない。
【０１０１】
図３に示されるように偏光板２０は、光学フィルム１０と、光学フィルム１０の基材１１における下地層１４側の第１の面１１Ａとは反対側の第２の面１１Ｂ側に設けられた偏光子２１と、偏光子２１における光学フィルム１０側とは反対側に設けられた保護フィルム２２とを備えている。保護フィルム２２は位相差フィルムであってもよい。
【０１０２】
偏光子２１は、ヨウ素または二色性色素により染色し、一軸延伸させたポリビニルアルコール系樹脂フィルムが上げられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂を鹸化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。
【０１０３】
ポリビニルアルコール系樹脂は、変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等を用いることもできる。
【０１０４】
このような光学フィルム１０や偏光板２０は、例えば、画像表示装置に組み込んで使用することが可能である。
【０１０５】
＜＜＜画像表示装置＞＞＞
図４に示されるように、画像表示装置３０は、主に、画像を表示するための表示パネル４０と、表示パネル４０の背面側に配置されたバックライト装置５０とを備えている。本実施形態においては、表示パネル４０が液晶表示パネルであるので、画像表示装置３０はバックライト装置５０を備えているが、表示パネル（表示素子）の種類によってはバックライト装置５０を備えていなくともよい。
【０１０６】
＜＜表示パネル＞＞
表示パネル４０は、図４に示されるように、バックライト装置５０側から観察者側に向けて、偏光板４１、光透過性の粘着層４２、表示素子４３、光透過性の粘着層４４、偏光板２０の順に積層された構造を有している。表示パネル４０は、偏光板２０を備えていればよく、偏光板４１等は備えていなくともよい。
【０１０７】
偏光板４１は、保護フィルム４５、偏光子４６、保護フィルム４７をこの順に備えているものである。保護フィルム４５、４７は、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）やシクロオレフィンポリマーフィルムから構成されている。偏光子４６は、偏光子２１と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１０８】
表示素子４３は液晶表示素子である。ただし、表示素子４３は液晶表示素子に限られず、例えば、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、無機発光ダイオード、および／または量子ドット発光ダイオード（ＱＬＥＤ）を用いた表示素子であってもよい。液晶表示素子としては、２枚のガラス基材間に、液晶層、配向膜、電極層、カラーフィルタ等を配置した公知の液晶表示素子を用いることが可能である。
【０１０９】
＜＜バックライト装置＞＞
バックライト装置５０は、表示パネル４０の背面側から表示パネル４０を照明するものである。バックライト装置５０としては、公知のバックライト装置を用いることができ、またバックライト装置５０はエッジライト型や直下型のバックライト装置のいずれであってもよい。
【実施例】
【０１１０】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。【０１１１】
下記に示す組成となるように各成分を配合して、下地層用組成物を得た。
（下地層用組成物１）
・多官能ウレタンアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：９８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：８８質量部
・ポリマーアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：１２９質量部
・２−ヒドロキシエチルメタクリレート（第２の重合性化合物、製品名「２−ヒドロキシエチルメタクリレート」、東京化成株式会社製）：２７０質量部
量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３００質量部
・酢酸ブチル（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：１０２質量部
・シクロヘキサノン（第２の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：２８５質量部
・γ−ブチロラクトン（第２の溶媒、三菱ケミカル株式会社製）：１５１質量部【０１１２】
（下地層用組成物２）
・多官能ウレタンアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：９８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：８８質量部
・ポリマーアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：１２９質量部
・２−ヒドロキシエチルメタクリレート（第２の重合性化合物、製品名「２−ヒドロキシエチルメタクリレート」、東京化成株式会社製）：２７０質量部
・シリカ粒子分散液（ＢＥＴ法測定による粒径４０ｎｍ〜５０ｎｍ、固形分３０質量％、分散媒イソプロパノール（ＩＰＡ）、製品名「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ」、日産化学工業株式会社製）：８８９質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３７０質量部
・酢酸ブチル（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：１１５質量部
・シクロヘキサノン（第２の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３５２質量部【０１１３】
（下地層用組成物３）
・多官能ウレタンアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：１９８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：２５８質量部
・ポリマーアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：１２９質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３００質量部
・酢酸ブチル（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：１０２質量部
・シクロヘキサノン（第２の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：２８５質量部
・γ−ブチロラクトン（第２の溶媒、三菱ケミカル株式会社製）：１５１質量部【０１１４】
（下地層用組成物４）
・多官能ウレタンアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：９８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：８８質量部
・ポリマーアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：１２９質量部
・２−ヒドロキシエチルメタクリレート（第２の重合性化合物、製品名「２−ヒドロキシエチルメタクリレート」、東京化成株式会社製）：２７０質量部
量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：５８５質量部
・酢酸ブチル（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：２５３質量部【０１１５】
下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。
（ハードコート層用組成物１）
・多官能ウレタンアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：１９６質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：１７６質量部
・ポリマーアクリレート（製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：２５９質量部
・シリカ粒子分散液（ＢＥＴ法測定による粒径４０ｎｍ〜５０ｎｍ、固形分３０質量％、分散媒イソプロパノール（ＩＰＡ）、製品名「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ」、日産化学工業株式会社製）：８８９質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３７０質量部
・酢酸ブチル（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：７０質量部
・シクロヘキサノン（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３５２質量部【０１１６】
（ハードコート層用組成物２）
・多官能ウレタンアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：１８６質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：１６７質量部
・ポリマーアクリレート（製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：２４６質量部
・２−メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート（製品名「ライトエステルＰ−２Ｍ」、共栄社化学株式会社製）：２７質量部
・シリカ粒子分散液（ＢＥＴ法測定による粒径４０〜５０ｎｍ、固形分３０質量％、分散媒メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、製品名「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、日産化学工業株式会社製）：８８９質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３７０質量部
・酢酸ブチル（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：７５質量部
・シクロヘキサノン（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３５２質量部【０１１７】
（ハードコート層用組成物３）
・多官能ウレタンアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：１８６質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：１６７質量部
・ポリマーアクリレート（製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：２４６質量部
・２−メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート（製品名「ライトエステルＰ−１Ｍ」、共栄社化学株式会社製）：２７質量部
・シリカ粒子分散液（ＢＥＴ法測定による粒径４０〜５０ｎｍ、固形分３０質量％、分散媒メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、製品名「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、日産化学工業株式会社製）：８８９質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３７０質量部
・酢酸ブチル（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：７５質量部
・シクロヘキサノン（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３５２質量部【０１１８】
（ハードコート層用組成物４）
・多官能ウレタンアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：１３７質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：１２３質量部
・ポリマーアクリレート（製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：１８１質量部
・ベンジルメタクリレート（製品名「ライトエステルＢＺ」、共栄社化学株式会社製）：１６２質量部
・シリカ粒子分散液（ＢＥＴ法測定による粒径４０〜５０ｎｍ、固形分３０質量％、分散媒イソプロパノール（ＩＰＡ）、製品名「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ」、日産化学工業株式会社製）：８８９質量部
・重合開始剤（製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３００質量部
・酢酸ブチル（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：８４質量部
・シクロヘキサノン（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：２８５質量部
・γ−ブチロラクトン（溶媒」、三菱ケミカル株式会社製）：１５１質量部【０１１９】
下記に示す組成となるように各成分を配合して、高屈折率層用組成物および低屈折率層用組成物を得た。
（高屈折率層用組成物１）
・五酸化アンチモン粒子（平均一次粒径２０ｎｍ）：４００質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」、日本化薬株式会社製）：１００質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：４質量部
・フッ素系レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）：１５質量部
・メチルイソブチルケトン（溶媒、東京化成株式会社製）：１６０００質量部【０１２０】
（低屈折率層用組成物１）
・中空シリカ粒子（平均一次粒径７５ｎｍ）：１００質量部（固形分１００％換算値）
・ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０」、日本化薬株式会社製）：２０質量部
・フッ素系ポリマー（製品名「オプスターＪＮ３５」、ＪＳＲ株式会社製）：８０質量部（固形分１００％換算値）
・重合開始剤（製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１２７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：４質量部
・反応性シリコーンオイル（製品名「Ｘ２２−１６４Ｅ」、信越化学工業株式会社製）：１２質量部
・フッ素系防汚剤（製品名「オプツールＤＡＣ」、ダイキン工業株式会社製）：２０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（溶媒、東京化成株式会社製）：８０００質量部【０１２１】
＜実施例１＞
まず、基材としての厚さ４０μｍのアクリル樹脂フィルムを準備し、このアクリル樹脂フィルムの一方の面に、下地層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対し、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で８０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚４μｍの下地層を形成した。【０１２２】
下地層を形成した後、下地層の表面に、ハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍのハードコート層を形成した。【０１２３】
ハードコート層を形成した後、ハードコート層の表面に処理強度８０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２でグロー放電処理を行い、ハードコート層の表面付近に存在する粒子をバインダ樹脂から露出させた。その後、スパッタリング法により膜厚５ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２未満）からなる密着性向上層を形成し、さらに密着性向上層上にスパッタリング法により反射防止層を形成し、これにより密着性向上層および反射防止層からなる機能層を形成し、光学フィルムを得た。反射防止層は下側から順に、Ｎｂ２Ｏ５からなる膜厚２０ｎｍの高屈折率層、ＳｉＯ２からなる膜厚３５ｎｍの低屈折率層、Ｎｂ２Ｏ５からなる膜厚３５ｎｍの高屈折率層、およびＳｉＯ２からなる膜厚１００ｎｍの低屈折率層からなる多層構造であった。なお、高屈折率層および低屈折率層の屈折率をベッケ法で測定したところ、高屈折率層の屈折率は２．３であり、低屈折率層の屈折率は１．４８であった。【０１２４】
ハードコート層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて、ハードコート層の断面を撮影し、その断面の画像においてハードコート層の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とした。【０１２５】
走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）によるハードコート層の断面写真は、以下のようにして撮影された。まず、１５ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを樹脂板上に固定して、ミクロトームＥＭ  ＵＣ６（ライカ マイクロシステムズ株式会社製）でトリミング幅３００μｍ、高さ８０μｍに切り出した後、さらにＤｉＡＴＯＭＥ  ダイヤモンドナイフ  ＵＬＴＲＡにより厚さ方向に切削していき、穴等がない均一な、厚さ８０ｎｍの切片を切り出した。そして、この穴等がない均一な切片を測定サンプルとした。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影した。上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を「３０ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行った。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら４万倍〜１０万倍で適宜調節した。なお、上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、さらに、「ビームモニタ絞りを「３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にした。なお、実施例１の光学フィルムにおける下地層、密着性向上層、反射防止層や他の実施例および比較例のハードコート層、下地層、密着性向上層、反射防止層も、上記ハードコート層の膜厚の測定方法と同様の方法によって測定した。【０１２６】
＜実施例２＞
実施例２においては、ハードコート層用組成物１の代わりにハードコート層用組成物２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。【０１２７】
＜実施例３＞
実施例３においては、ハードコート層用組成物１の代わりにハードコート層用組成物３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。【０１２８】
＜実施例４＞
まず、基材としての厚さ４０μｍのアクリル樹脂フィルムを準備し、このアクリル樹脂フィルムの一方の面に、下地層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対し、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で８０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚４μｍの下地層を形成した。【０１２９】
下地層を形成した後、下地層の表面に、ハードコート層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍのハードコート層を形成した。【０１３０】
ハードコート層を形成した後、ハードコート層の表面に機能層としての反射防止層を形成した。具体的には、まず、ハードコート層の表面に、高屈折率層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚１５０ｎｍの高屈折率層を形成した。さらに、高屈折率層の表面に、低屈折率層用組成物１を塗布して、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、４０℃で１分間乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、窒素雰囲気下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成した。これにより、光学フィルムを得た。なお、高屈折率層および低屈折率層の屈折率をベッケ法で測定したところ、高屈折率層の屈折率は１．６３であり、低屈折率層の屈折率は１．３２であった。【０１３１】
＜実施例５＞
まず、基材としての厚さ４０μｍのアクリル樹脂フィルムを準備し、このアクリル樹脂フィルムの一方の面に、下地層用組成物１を吐出量を調整した上で塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対し、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で８０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚２μｍの下地層を形成した。【０１３２】
下地層を形成した後、下地層の表面に、ハードコート層用組成物２を塗工量調整の上で塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚３μｍのハードコート層を形成した。【０１３３】
その後、ハードコート層上に再度下地層用組成物１を用いて、上記下地層の形成条件と同じ条件で膜厚２μｍの下地層を形成した。そして、最後に、下地層上に再度ハードコート層用組成物２を用いて、上記ハードコート層の形成条件と同じ条件で膜厚３μｍのハードコート層を形成した。すなわち、アクリル樹脂フィルム上に、下地層、ハードコート層、下地層、ハードコート層の順で形成した。【０１３４】
ハードコート層を形成した後、実施例１と同様の条件で、密着性向上層および反射防止層からなる機能層を形成し、光学フィルムを得た。【０１３５】
＜実施例６＞
実施例６においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物３を用いた以外は実施例２と同様にして光学フィルムを得た。【０１３６】
＜実施例７＞
実施例７においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物４を用いた以外は実施例２と同様にして光学フィルムを得た。【０１３７】
＜比較例１＞
まず、基材としての厚さ４０μｍのアクリル樹脂フィルムを準備し、このアクリル樹脂フィルムの一方の面に、ハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍのハードコート層を形成した。【０１３８】
ハードコート層を形成した後、ハードコート層の表面に処理強度８０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２でグロー放電処理を行い、ハードコート層の表面に存在する粒子を樹脂から露出させた。その後、スパッタリング法により膜厚５ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２未満）からなる密着性向上層を形成し、さらに密着性向上層上にスパッタリング法により反射防止層を形成し、これにより密着性向上層および反射防止層からなる機能層を形成し、光学フィルムを得た。反射防止層は下側から順に、Ｎｂ２Ｏ５からなる膜厚２０ｎｍの高屈折率層、ＳｉＯ２からなる膜厚３５ｎｍの低屈折率層、Ｎｂ２Ｏ５からなる膜厚３５ｎｍの高屈折率層、およびＳｉＯ２からなる膜厚１００ｎｍの低屈折率層からなる多層構造であった。【０１３９】
＜比較例２＞
比較例２においては、ハードコート層用組成物１の代わりに、ハードコート層用組成物４を用いたこと以外は、比較例１と同様にして光学フィルムを得た。【０１４０】
＜比較例３＞
比較例３においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。【０１４１】
＜比較例４＞
比較例４においては、アクリル系樹脂基材の代わりに、トリアセチルセルロース基材（製品名「ＴＤ８０ＵＬ」、富士フイルム株式会社製）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして光学フィルムを得た。【０１４２】
＜ヘイズ値＞
実施例および比較例に係る光学フィルムのヘイズ値をそれぞれ測定した。ヘイズ値は、ＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠して、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、縦５０ｍｍ×横５０ｍｍの大きさに光学フィルムを切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で反射防止層側が非光源側となるように設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定を行い、３回測定して得られた値の算術平均値とした。【０１４３】
＜全光線透過率＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの全光線透過率をそれぞれ測定した。全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠して、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、縦５０ｍｍ×横５０ｍｍの大きさに光学フィルムを切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で反射防止層側が非光源側となるように設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定を行い、３回測定して得られた値の算術平均値とした。【０１４４】
＜耐候試験＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、耐候試験を行い、耐候試験後にハードコート層と密着性向上層との間の界面に剥離が生じているか評価した。耐候試験は、耐候性試験機（製品名「Ｃｉ４０００」、ＡＴＬＡＳ社製、光源：キセノンランプ）に、縦５ｃｍ×横５ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムを投入し、５０℃、相対湿度５０％の環境下で、キセノンランプを照度６０Ｗ／ｍ２で点灯させた状態で、６０時間放置することによって行われた。さらに耐候性試験機（製品名「ＳＸ７５−ＡＰ」、スガ試験機製、光源：キセノンランプ）に、縦５ｃｍ×横５ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムを投入し、５０℃、相対湿度５０％の環境下で、キセノンランプを照度１８０Ｗ／ｍ２で点灯させた状態で、６０時間放置する過酷環境の処理も同時に実施した。そして、耐候試験後の光学フィルムを８０℃、相対湿度９０％に調整された恒温恒湿環境下で保管した後、ハードコート層と密着性向上層との界面で剥離が生じているか光学顕微鏡（倍率２００倍）で確認し、評価した。評価基準は、以下の通りとした。
○：ハードコート層と機能層との間の界面で剥離が生じていなかった。
△：ハードコート層と機能層との間の界面で若干剥離が生じていたが、実用上問題のないレベルであった。
×：ハードコート層と機能層との間の界面で明らかに剥離が生じていた。【０１４５】
＜ハードコート層の密着性＞
実施例および比較例に係る光学フィルムに密着性向上層や反射防止層を形成する前の状態のハードコート層の密着性をクロスカット法によって評価した。具体的には、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６：１９９９に準拠し、クロスカットＣＣＪ−１（コーテック社製）を用い、密着性向上層や反射防止層を形成する前の状態において、ハードコート層の表面に碁盤目状の切り傷を入れ、１ｍｍ角を１００マス作製した。そして、ニチバン株式会社製の工業用２４ｍｍ幅のセロテープ（登録商標）を碁盤目の上に貼り、その上からヘラで往復１０回擦って、密着させ１５０°方向に急速剥離を行なった。このような動作を５回繰り返し、残った升目の数をカウントした。残った升目の数を分子、升目の全個数を分母にして、以下の基準で評価した。
◎：１００／１００
○：５０／１００以上９９／１００以下
△：３０／１００以上４９／１００以下
×：２９／１００以下【０１４６】
＜リン元素の存在確認＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、リン元素が存在するか否かを確認した。具体的には、光学フィルムの上面から表面・界面切削試験装置（ＳＡＩＣＡＳ）による斜め方向の切削を行い、現れた切削面にエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ分析）によりリン元素の有無をマッピングして存在有無を確認した。評価基準は、以下の通りとした。
有：リン元素が確認された。
無：リン元素が確認されなかった。【０１４７】
＜鉛筆硬度試験＞
実施例２、５に係る光学フィルムの表面における鉛筆硬度を、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９に基づいてそれぞれ測定した。鉛筆硬度試験は、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定し、光学フィルムの表面に対し鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に５００ｇの荷重を加えながら鉛筆を１ｍｍ／秒の移動速度で移動させることにより行った。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とした。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上蛍光灯下で光学フィルムの表面を透過観察した際に光学フィルムの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断した。【０１４８】
以下、結果を表１に示す。
【表１】
2019035398.tif 000003
【０１４９】
表１に示されたように、比較例１〜３に係る光学フィルムは、いずれもヘイズ値が高かった。これは、アクリル樹脂フィルム上にシリカ粒子を含む層を直接形成することによってシリカ粒子の凝集が発生したことが原因であると考えられる。この状態では、ヘイズ値の高さから優れた透明性が求められる光学フィルムとしての実用性は低い。また、比較例１に係る光学フィルムは、ハードコート層の密着性が低く、これが耐候試験後の界面剥離に影響しているものと考えられる。一方で、比較例４に係る光学フィルムは、ヘイズ値が低く、かつハードコート層の密着も良好であるが、耐候試験後に界面剥離が生じていた。この場合も、光学フィルムとして長時間の使用に耐えないために光学フィルムとしての実用は低いものとなる。これに対し、実施例１〜７に係る光学フィルムにおいては、ヘイズ値が低く、かつ耐候試験後の密着性も良好であるので、光学フィルムとして実用性が高いことが確認された。また、実施例５に係る光学フィルムの鉛筆硬度は、実施例２に係る光学フィルムの鉛筆硬度よりも高かったので、これにより下地層とハードコート層を複数形成すれば、より高い鉛筆硬度を達成可能であることが確認された。また、実施例１〜５に係る光学フィルムにおいては、第１の重合性化合物および第１の溶媒の他に、第２の重合性化合物および第２の溶媒を含む下地層用組成物１、２を用いて下地層を形成したので、第２の重合性化合物または第２の溶媒を含まない下地層用組成物３、４を用いて下地層を形成した実施例６、７に係る光学フィルムよりも、基材に対するハードコート層の密着性が優れていた。【０１５０】
なお、実施例１〜７に係る光学フィルムにおいて、アクリル樹脂フィルムおよびハードコート層のマルテンス硬度を、上記ハードコート層の欄で説明した測定条件で、それぞれ測定したところ、ハードコート層のマルテンス硬度はアクリル樹脂フィルムのマルテンス硬度よりも高かった。【０１５１】
実施例１および比較例１において、機能層を形成する前に、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、倍率５００００倍でハードコート層の表面写真を撮影し、ハードコート層の表面を観察した。実施例１におけるハードコート層の表面写真を図５に示し、比較例１におけるハードコート層の表面写真を図６に示す。図５と図６の比較から明らかなように下地層を形成した場合には、粒径が２００ｎｍ以下の粒子の凝集が抑制されており、これが粒子存在下で低ヘイズ値を実現する要因となっていると考えられる。逆に下地層が形成されていない比較例１においては粒径が２００ｎｍ以下の粒子が顕著に凝集しており、これがヘイズ値上昇の要因となっていると考えられる。凝集塊のサイズは粒子のサイズから推測すると２００ｎｍ以上のサイズがあり、これは可視光を散乱させることによりヘイズ上昇に繋がる可能性が極めて高い。【０１５２】
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、上記ハードコート層の表面写真を撮影する際には、まず、実施例１および比較例１において、機能層を形成する前の状態で、２０ｍｍ×２０ｍｍの大きさにハードコート層を切り出して、測定サンプルとした。そして、上記走査型電子顕微鏡を用いて、測定サンプルにおけるハードコート層の表面写真を撮影した。ここで、表面写真を撮影する際には、検出器を「ＳＥ」、加速電圧を「１．５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にした。さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り１」にし、対物レンズ絞りを「２」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にした。なお、ＳＥＭ観察前にスパッタ法によっての膜厚が数ｎｍの帯電防止用の白金層をハードコート層の表面に形成した。【０１５３】
さらに、実施例１に係る光学フィルムにおいて、下地層とハードコート層を含むように倍率１００００倍で上記走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、断面写真を撮影し、断面観察を行った。実施例１に係る光学フィルムの断面写真を図７に示す。図７に示されるように、写真中央より上側の部分であるハードコート層においては粒径が２００ｎｍ以下の粒子を多く含むが、写真中央より下側の部分である下地層においては粒子が全く含まれていないことが確認された。実施例に係る光学フィルムにおいては、下地層が基材密着性に効果のある特定のモノマー、溶媒を含むが、粒径が２００ｎｍ以下の粒子を実質的に含まず、さらにハードコート層にのみ粒子を含ませることにより低ヘイズ値を維持しつつ機能層の密着性確保に成功している。【０１５４】
上記走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、断面写真を撮影する際には、まず、ＥＭジャパン株式会社製のトリミングカミソリで２０ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの両端をニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定して、光学フィルムの大きさが２０ｍｍ×５ｍｍとなるように光学フィルムの中央部において上記トリミングカミソリで光学フィルムをカットし、測定サンプルを得た。そして、垂直なサンプル固定面を有するＳＥＭ試料台のサンプル固定面にカットされた断面が接触しないように測定サンプルをカーボンテープで固定した。その後、倍率を１００００倍とした以外は、上記ハードコート層の表面写真の撮影条件と同じ条件で撮影を行った。
【符号の説明】
【０１５５】
１０…光学フィルム
１１…基材
１２…ハードコート層
１２Ａ…バインダ樹脂
１２Ｂ…粒子
１３…機能層
１３Ａ…密着性向上層
１３Ｂ…反射防止層
１４…下地層
２０…偏光板
２１…偏光子
３０…画像表示装置
４０…表示パネル
【図１】
2019035398.tif 000004
【図２】
2019035398.tif 000005
【図３】
2019035398.tif 000006
【図４】
2019035398.tif 000007
【図５】
2019035398.tif 000008
【図６】
2019035398.tif 000009
【図７】
2019035398.tif 000010
【国際調査報告】
2019035398.tif 000011
2019035398.tif 000012
2019035398.tif 000013
2019035398.tif 000014