(57)【要約】  加湿環境下においても優れた光学特性を維持し得、色抜けが防止された基板付偏光板の簡便な製造方法が提供される。本発明の基板付偏光板の製造方法は、偏光板と偏光板より大きいサイズを有する基板とを準備すること；基板が偏光板の外周から延出するようにして、基板と偏光板とを積層すること；偏光板の周囲端面を覆う封止部を形成すること；および、偏光板の周囲端から所定長さの延出部分を残して基板および封止部を切断し、所定のサイズとすること；を含む。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光板と該偏光板より大きいサイズを有する基板とを準備すること、
該基板が該偏光板の外周から延出するようにして、該基板と該偏光板とを積層すること、
該偏光板の周囲端面を覆う封止部を形成すること、および
該偏光板の周囲端から所定長さの延出部分を残して該基板および該封止部を切断し、所定のサイズとすること
を含む、画像表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記基板がガラス板である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記基板が樹脂フィルムである、請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
前記基板が前記偏光板の外周を構成する４辺すべてから延出するようにして、該基板と該偏光板とを積層する、請求項１から３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
前記基板が、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置および量子ドット表示装置から選択される画像表示装置の表示セル基板である、請求項１から４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
前記切断がレーザー光を照射することにより行われる、請求項１から５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
前記切断後の前記封止部の延出部分の長さが１０μｍ〜５００μｍである、請求項１から６のいずれかに記載の製造方法。
【請求項８】
前記切断後の封止部の透湿度が３００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下である、請求項１から７のいずれかに記載の製造方法。
【請求項９】
偏光板と、該偏光板の周囲端から所定長さの延出部分を有する基板と、該延出部分に形成され該偏光板の周囲端面を覆う封止部と、を有する、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置の製造方法および該製造方法により得られた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置（例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、量子ドット表示装置）には、その画像形成方式に起因して、多くの場合、表示セルの少なくとも一方の側に偏光板が配置されている。しかし、偏光板は、実質的に偏光板の光学特性を支配する偏光膜の光学特性が加湿環境下で低下するという耐久性の問題がある。より具体的には、偏光膜は、加湿環境下において端部の偏光性能が消失し、結果として、画像表示装置にいわゆる色抜けという現象が生じる場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−３３８３２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、加湿環境下においても優れた光学特性を維持し得、色抜けが防止された画像表示装置およびその簡便な製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の画像表示装置の製造方法は、偏光板と該偏光板より大きいサイズを有する基板とを準備すること；該基板が該偏光板の外周から延出するようにして、該基板と該偏光板とを積層すること；該偏光板の周囲端面を覆う封止部を形成すること；および、該偏光板の周囲端から所定長さの延出部分を残して該基板および該封止部を切断し、所定のサイズとすること；を含む。
１つの実施形態においては、上記基板はガラス板である。別の実施形態においては、上記基板は樹脂フィルムである。
１つの実施形態においては、上記製造方法は、上記基板が上記偏光板の外周を構成する４辺すべてから延出するようにして、該基板と該偏光板とを積層する。
１つの実施形態においては、上記基板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置および量子ドット表示装置から選択される画像表示装置の表示セル基板である。
１つの実施形態においては、上記切断はレーザー光を照射することにより行われる。
１つの実施形態においては、上記切断後の上記封止部の延出部分の長さは１０μｍ〜５００μｍである。
１つの実施形態においては、上記切断後の封止部の透湿度は３００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下である。
本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、偏光板と、該偏光板の周囲端から所定長さの延出部分を有する基板と、該延出部分に形成され該偏光板の周囲端面を覆う封止部と、を有する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、画像表示装置の製造方法において、基板の偏光板から延出した部分に封止部を形成して偏光板の周囲端面を封止し、封止部および対応する基板の延出部分を該偏光板の周囲端から所定の長さを残して切断することにより、加湿環境下においても優れた光学特性を維持し得、色抜けが防止された画像表示装置を簡便に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の１つの実施形態による画像表示装置の製造方法を説明するための概略図である。
【図２】色抜け量の算出を説明するための模式図である。
【図３】実施例１の画像表示装置代替品としての基板付偏光板の加湿試験後の色抜け量を示す画像である。
【図４】比較例１の画像表示装置代替品としての基板付偏光板の加湿試験後の色抜け量を示す画像である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【０００９】
Ａ．画像表示装置の製造方法
本発明の画像表示装置の製造方法は、偏光板と該偏光板より大きいサイズを有する基板とを準備すること；該基板が該偏光板の外周から延出するようにして、該基板と該偏光板とを積層すること；該偏光板の周囲端面を覆う封止部を形成すること；および、該偏光板の周囲端から所定長さの延出部分を残して該基板および該封止部を切断し、所定のサイズとすること；を含む。
【００１０】
本発明は、画像表示装置における基板と偏光板との任意の積層構造に適用可能である。基板は、代表的には、画像表示装置の表示セル基板であり得る。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、量子ドット表示装置が挙げられる。表示セル基板としては、例えば、液晶セルの基板、有機ＥＬセルの基板、量子ドット表示セルの基板、液晶表示装置においてカラーフィルターを両面から封止する基板が挙げられる。本発明の製造方法は、１つの実施形態においては、基板と偏光板とを積層し、当該積層体に封止部を形成して基板付偏光板を作製し、当該基板付偏光板を表示セル基板として用いることにより、画像表示装置を得ることができる。本発明の製造方法は、別の実施形態においては、表示セルを作製し、当該表示セルの基板に偏光板を積層し、次いで封止部を形成することにより、画像表示装置を得ることができる。以下、代表例として、基板付偏光板を表示セル基板として用いる実施形態を説明する。
【００１１】
Ａ−１．偏光板および基板の準備
最初に、図１（ａ）に示すように、偏光板１０および基板２０を準備する。以下、偏光板および基板について具体的に説明する。
【００１２】
Ａ−１−１．偏光板
偏光板は、偏光膜と、偏光膜の少なくとも片側に配置された保護フィルムと、を有する。本発明の実施形態においては、偏光膜はヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂（以下、「ＰＶＡ系樹脂」と称する）フィルムで構成されている。偏光膜がヨウ素を含む場合に、封止部を設ける効果が顕著となる。偏光膜の厚みは、代表的には８μｍ以下である。偏光膜がヨウ素を含み、かつ、その厚みがこのように非常に薄い場合には、偏光膜中のヨウ素密度が高くなり、加湿によるヨウ素の安定性が低下しやすくなるため、封止部を設ける効果がさらに顕著となる。保護フィルムは、偏光膜の片側に配置されてもよく、両側に配置されてもよい。保護フィルムが偏光膜の片側に配置される場合、表示セル側に配置されてもよく、表示セルと反対側に配置されてもよい。実用的には、偏光板の表示セル側最外層として粘着剤層が設けられ、偏光板は当該粘着剤層を介して表示セルに貼り合わせられる。なお、本明細書において単に保護フィルムというときは、このような偏光膜を保護するフィルム（偏光板の構成要素）を意味し、上記の表面保護フィルム（作業時に偏光板を一時的に保護するフィルム）とは異なるものである。
【００１３】
Ａ−１−１−１．偏光膜
偏光膜は、上記のとおり、ヨウ素を含むＰＶＡ系樹脂フィルムから構成される。偏光膜は、単層の樹脂フィルムから形成されてもよく、二層以上の積層体から形成されてもよい。
【００１４】
単層の樹脂フィルムから形成される偏光膜の具体例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光膜が用いられる。上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３〜７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。
【００１５】
積層体を用いて得られる偏光膜の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光膜が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光膜は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光膜とすること；により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光膜の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光膜の保護フィルムとしてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護フィルムを積層して用いてもよい。このような偏光膜の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２−７３５８０号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
【００１６】
上記ＰＶＡ系樹脂フィルムを形成するＰＶＡ系樹脂としては、任意の適切な樹脂が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン−ビニルアルコール共重合体は、エチレン−酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。ＰＶＡ系樹脂のケン化度は、通常８５モル％〜１００モル％であり、好ましくは９５．０モル％〜９９．９モル％、さらに好ましくは９９．０モル％〜９９．５モル％である。ケン化度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。このようなケン化度のＰＶＡ系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光膜が得られ得る。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。
【００１７】
ＰＶＡ系樹脂の平均重合度は、目的に応じて適切に選択され得る。平均重合度は、通常１０００〜１００００であり、好ましくは１２００〜５０００、さらに好ましくは１５００〜４５００である。なお、平均重合度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。
【００１８】
上記のとおり、偏光膜はヨウ素を含む。偏光膜は、実質的には、ヨウ素が吸着配向されたＰＶＡ系樹脂フィルムである。ＰＶＡ系樹脂フィルム中のヨウ素濃度は、例えば５．０重量％〜１２．０重量％である。また、ＰＶＡ系樹脂フィルム中のホウ酸濃度は、例えば１２重量％〜２５重量％である。
【００１９】
偏光膜の厚みは上記のとおり代表的には８μｍ以下であり、好ましくは７μｍ以下、より好ましくは６μｍ以下である。一方、ＰＶＡ系樹脂フィルムの厚みは、好ましくは１．０μｍ以上、より好ましくは２．０μｍ以上である。
【００２０】
上記偏光膜は、好ましくは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光膜の単体透過率は、好ましくは４０．０％〜４６．０％であり、より好ましくは４１．０％〜４５．０％である。偏光膜の偏光度は、好ましくは９９．９％以上であり、より好ましくは９９．９５％以上であり、さらに好ましくは９９．９８％以上である。偏光板が反射型液晶表示装置または有機ＥＬ表示装置に適用される場合には、偏光膜の偏光度は、好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９３％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。後述するように、偏光膜を含む画像表示パネルの周囲端面を覆う封止部を設けることにより、このような優れた光学特性（単体透過率および偏光度のバランスに優れること）と優れた耐久性（加湿環境下においてもこのような優れた光学特性を維持し得ること）とを両立することができる。
【００２１】
Ａ−１−１−２．保護フィルム
保護フィルムは、偏光膜の保護フィルムとして使用できる任意の適切なフィルムで構成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
【００２２】
本発明の実施形態においては、上記のとおり、偏光板の製造において用いられる樹脂基材をそのまま保護フィルムとして用いてもよい。
【００２３】
視認側に配置される偏光板において保護フィルムが偏光膜の視認側に配置される場合には、保護フィルムには、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。
【００２４】
保護フィルムの厚みは、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切な厚みが採用され得る。保護フィルムの厚みは、例えば１０μｍ〜４０μｍであり、好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。なお、表面処理が施されている場合、保護フィルムの厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。
【００２５】
偏光膜の表示セル側に保護フィルム（内側保護フィルム）を配置する場合、１つの実施形態においては、当該内側保護フィルムは光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が−１０ｎｍ〜＋１０ｎｍであることをいう。内側保護フィルムのＲｅ（５５０）は、好ましくは０ｎｍ〜８ｎｍであり、より好ましくは０ｎｍ〜６ｎｍであり、さらに好ましくは０ｎｍ〜３ｎｍである。内側保護フィルムのＲｔｈ（５５０）は、好ましくは−８ｎｍ〜＋８ｎｍであり、より好ましくは−６ｎｍ〜＋６ｎｍであり、さらに好ましくは−３ｎｍ〜＋３ｎｍである。なお、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（５５０）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。また、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
【００２６】
別の実施形態においては、内側保護フィルムは、いわゆるλ／４板として機能し得るようなＲｅ（５５０）を有していてもよい。このような実施形態は、例えば、偏光板が円偏光板として機能し、反射型液晶表示装置または有機ＥＬ表示装置の反射防止フィルムとして用いられる場合に適用され得る。この場合、Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１２０ｎｍ〜１６０ｎｍであり、より好ましくは約１４０ｎｍである。この場合、内側保護フィルムは、その遅相軸が偏光膜の吸収軸に対して好ましくは４０°〜５０°、より好ましくは約４５°の角度をなすようにして配置され得る。
【００２７】
Ａ−１−２．基板
基板としては、任意の適切な構成が採用され得る。例えば、基板は、ガラス板であってもよく、樹脂フィルムであってもよい。基板は、偏光板よりも大きいサイズを有する。基板は、偏光板と積層した場合に、好ましくは偏光板の外周から所定の長さ延出するようなサイズを有し、より好ましくは偏光板の外周を構成する４辺すべてから所定の長さ延出するようなサイズを有する。
【００２８】
ガラス板としては、任意の適切なガラス板が採用され得る。ガラス板を構成するガラスは、組成による分類によれば、例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウ酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラスが挙げられる。また、アルカリ成分による分類によれば、無アルカリガラス、低アルカリガラスが挙げられる。ガラスのアルカリ金属成分（例えば、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ）の含有量は、好ましくは１５重量％以下であり、さらに好ましくは１０重量％以下である。
【００２９】
ガラス板の波長５５０ｎｍにおける光透過率は、好ましくは８５％以上である。ガラス板の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、好ましくは１．４〜１．６５である。ガラス板の密度は、好ましくは２．３ｇ／ｃｍ３〜３．０ｇ／ｃｍ３であり、さらに好ましくは２．３ｇ／ｃｍ３〜２．７ｇ／ｃｍ３である。
【００３０】
ガラス板の厚みは、好ましくは０．１ｍｍ〜１．０ｍｍであり、より好ましくは０．２ｍｍ〜０．６ｍｍである。
【００３１】
ガラス板は、市販のガラス板をそのまま用いてもよく、市販のガラス板を所望の厚みになるように研磨して用いてもよい。市販のガラス板としては、例えば、コーニング社製「７０５９」、「１７３７」または「ＥＡＧＬＥ２０００」、旭硝子社製「ＡＮ１００」、ＮＨテクノグラス社製「ＮＡ−３５」、日本電気硝子社製「ＯＡ−１０」、ショット社製「Ｄ２６３」または「ＡＦ４５」が挙げられる。
【００３２】
樹脂フィルムとしては、任意の適切な樹脂フィルムが採用され得る。樹脂フィルムは、代表的には透明樹脂フィルムである。樹脂フィルムを構成する材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミドが挙げられる。これらは、単独で用いてもよく組み合わせて用いてもよい。
【００３３】
樹脂フィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜１００μｍである。
【００３４】
Ａ−２．偏光板と基板との積層
次に、図１（ａ）に示すように、偏光板１０と基板２０とを積層する。偏光板１０と基板２０とは、代表的には、任意の適切な粘着剤層（図示せず）を介して積層され得る。積層は、図１（ａ）に示すように基板が偏光板の外周から延出するようにして行われ、好ましくは基板が偏光板の外周を構成する４辺すべてから延出するようにして行われる。
【００３５】
必要に応じて、偏光板１０の基板２０と反対側の表面に表面保護フィルム（図示せず）が仮着されてもよい。これにより、後述の封止部の形成ならびに当該封止部および基板の切断において、偏光板が適切に保護され得る。表面保護フィルムは、基板付偏光板（実質的には、画像表示装置）の最終的な使用時には剥離除去される。表面保護フィルムの剥離除去は、封止部の形成ならびに封止部および基板の切断後の任意の適切なタイミングで行われ得る。
【００３６】
Ａ−３．封止部の形成
次に、図１（ｂ）に示すように、偏光板１０の周囲端面を覆う封止部３０を形成する。封止部で偏光板の周囲端面を覆うことにより、加湿環境下においても偏光板（偏光膜）の光学特性を維持し、結果として、画像表示装置の耐久性を向上させることができる。したがって、封止部は、バリア機能を有することが好ましい。本明細書において「バリア機能を有する」とは、偏光膜に侵入する酸素および／または水蒸気の透過量を制御して偏光膜をこれらから実質的に遮断することを意味する。
【００３７】
封止部は、代表的には、粘着剤組成物を偏光板の周囲端面を覆うように配置することにより形成される。１つの実施形態においては、封止部は、粘着剤組成物を基板の延出部分に配置（例えば、塗布、シート状粘着剤の配置）して形成され得る。封止部は、偏光板の周囲端面を覆い、当該周囲端面が密封されていればよく、当該周囲端面に密着している必要はない。また、封止部は、偏光板の周囲端面を覆っていればよく、したがって周囲端面とともに周囲端面以外の部分を覆っていてもよい。例えば、封止部は、周囲端面とともに偏光板の基板から離れた側の面（図面では上面）を覆っていてもよい。この場合、当該面は、全体が覆われていてもよく、所定の部分のみが覆われていてもよい。
【００３８】
粘着剤組成物としては、例えば、ゴム系ポリマーをベースポリマーとするゴム系粘着剤組成物が挙げられる。
【００３９】
ゴム系ポリマーとしては、例えば、１種の共役ジエン化合物を重合することによって得られる共役ジエン系重合体、２種以上の共役ジエン化合物を重合することによって得られる共役ジエン系共重合体、共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系共重合体、および、これらの水添物が挙げられる。
【００４０】
共役ジエン化合物としては、重合可能な共役ジエンを有する単量体であれば特に限定されない。共役ジエン化合物の具体例としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、３−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ヘプタジエン、１，３−ヘキサジエンが挙げられる。これらの中でも、工業的入手の容易さの観点から、１，３−ブタジエン、イソプレンが好ましい。共役ジエン化合物は、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【００４１】
芳香族ビニル化合物としては、共役ジエン化合物と共重合可能な芳香族ビニル構造を有する単量体であれば特に限定されない。芳香族ビニル化合物の具体例としては、スチレン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルエチルベンゼン、ビニルキシレン、ビニルナフタレン、ジフェニルエチレン等が挙げられる。これらの中でも、工業的入手の容易さの観点から、スチレンが好ましい。芳香族ビニル化合物は、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【００４２】
ジエン系共重合体は、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。また、共役ジエン化合物、芳香族ビニル化合物以外の化合物を共重合して、ジエン系共重合体を得てもよい。
【００４３】
共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系共重合体は、共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物のモル比が、共役ジエン化合物／芳香族ビニル化合＝１０／９０〜９０／１０（モル％）であることが好ましい。
【００４４】
このような共役ジエン系（共）重合体の具体例としては、ブタジエンゴム（ＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、スチレン−ブタジエン共重合体（ＳＢＲ）、ブタジエン−イソプレン−スチレンランダム共重合体、イソプレン−スチレンランダム共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、ブタジエン−スチレン共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、イソプレン−スチレン共重合体が好ましい。また、これらの水添物も好適に用いることができる。
【００４５】
ゴム系ポリマーとして、共役ジエン系（共）重合体の他にも、イソブチレン（ＩＢ）、スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＢＳ）、スチレン−エチレンプロピレン共重合体−スチレンブロック共重合体等も用いることができる。ゴム系ポリマーは、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【００４６】
本発明に用いられ得るゴム系ポリマーは、ゴム系ポリマー全体中に、上記共役ジエン系（共）重合体を好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、さらに好ましくは８０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上含む。共役ジエン系（共）重合体の含有量の上限は特に限定されるものではなく、１００重量％（すなわち、共役ジエン系（共）重合体のみからなるゴム系ポリマー）であってもよい。
【００４７】
上記のとおり、粘着剤組成物は、ゴム系ポリマーをベースポリマーとして含む。粘着剤組成物におけるゴム系ポリマーの含有量は、好ましくは４０重量％以上、より好ましくは５０重量％以上、さらに好ましくは６０重量％以上である。ゴム系ポリマーの含有量の上限は特に限定されず、例えば９０重量％以下である。
【００４８】
粘着剤組成物は、ゴム系ポリマーに加えて、任意の適切な添加剤をさらに含んでいてもよい。添加剤の具体例としては、架橋剤（例えば、ポリイソシアネート、エポキシ化合物、アルキルエーテル化メラミン化合物など）、粘着付与剤（例えば、ロジン誘導体樹脂、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール樹脂、ビニルトルエン樹脂など）、可塑剤、充填剤（例えば、層状シリケート、クレイ材料など）、老化防止剤が挙げられる。粘着剤組成物に添加される添加剤の種類、組み合わせ、添加量等は、目的に応じて適切に設定され得る。粘着剤組成物における添加剤の含有量（総量）は、好ましくは６０重量％以下、より好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは４０重量％以下である。
【００４９】
このようにして形成される封止部３０の厚みは、好ましくは３０μｍ〜１０００μｍであり、より好ましくは５０μｍ〜５００μｍである。本明細書において「封止部の厚み」とは、特に明記しない限り、偏光板の周囲端面から外側に延びる方向の厚みである（すなわち、封止部の厚みは、基板の延出部分の長さに対応する）。
【００５０】
Ａ−４．封止部および基板の切断
次に、図１（ｃ）に示すように、偏光板の周囲端から所定長さの延出部分を残して封止部３０および基板２０を切断する。その結果、図１（ｄ）に示すように、所定の厚みを有する封止部４０が形成される。切断後の封止部４０の厚みは、好ましくは１０μｍ〜５００μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜３００μｍである。
【００５１】
切断は、機械的に行ってもよく、レーザー光を照射することにより行ってもよい。
【００５２】
機械的な切断としては、フライス加工、エンドミル加工が挙げられる。
【００５３】
レーザー光は、好ましくは、少なくとも１５００ｎｍ以下の波長の光を含む。レーザー光は、より好ましくは１００ｐｍ〜１０００ｎｍの波長の光を含み、さらに好ましくは４００ｎｍ〜９００ｎｍの波長の光を含み、特に好ましくは４２０ｎｍ〜６８０ｎｍの波長の光を含む。１つの実施形態においては、レーザー光は、上記のような範囲にピーク波長を有する。このような波長を含むレーザー光によれば、封止部の上下の厚み方向にわたって良好に切断できる。
【００５４】
レーザーとしては、例えば、ＹＡＧレーザー、ＹＬＦレーザー、ＹＶＯ４レーザー、チタンサファイアレーザー等の固体レーザー、アルゴンイオンレーザー、クリプトンイオンレーザーを含むガスレーザー、ファイバーレーザー、半導体レーザー、色素レーザーが挙げられる。好ましくは、固体レーザーが用いられる。
【００５５】
上記レーザーとしては、好ましくは、短パルスレーザー（１ナノ秒以下のパルス幅を有する光を照射するレーザー、例えば、ピコ秒レーザーまたはフェムト秒レーザー等）が用いられる。封止部への熱ダメージを抑制する目的では、５００ピコ秒以下（例えば、１０ピコ秒〜５０ピコ秒）のパルス幅が特に好ましい。熱ダメージを抑制することにより、美しく、均一でかつ平滑な切断面が得られ得る。
【００５６】
レーザー光の照射条件は、任意の適切な条件に設定され得る。例えば、固体レーザー（ＹＶＯ４レーザー）を用いる場合、パルスエネルギーは、好ましくは１０μＪ〜１５０μＪ、より好ましくは２５μＪ〜７１μＪである。スキャン速度は、好ましくは１０ｍｍ／秒〜１００００ｍｍ／秒であり、より好ましくは１００ｍｍ／秒〜１０００ｍｍ／秒である。繰返し周波数は、例えば１００Ｈｚ〜１２４８０Ｈｚである。スキャンピッチは、好ましくは１０μｍ〜５０μｍである。レーザー光の照射位置におけるビーム形状は、目的に応じて適切に設定され得る。当該ビーム形状は、例えば、円形であってもよく、ライン状であってもよい。ビーム形状を所定の形状とする手段としては、任意の適切な手段が採用され得る。例えば、所定の開口部を有するマスクを介してレーザー照射してもよく、回折光学素子等を用いてビーム整形してもよい。例えばビーム形状が円形である場合には、焦点径（スポット径）は、好ましくは５０μｍ〜６０μｍである。さらに、パルスレーザーの投入エネルギーは、好ましくは２００００μＪ／ｍｍ２〜１０００００μＪ／ｍｍ２であり、より好ましくは２５０００μＪ／ｍｍ２〜７５０００μＪ／ｍｍ２である。なお、投入エネルギーＥ（μＪ／ｍｍ２）は下記の式から求められる。
Ｅ＝（ｅ×Ｍ）／（Ｖ×ｐ）
ｅ：パルスエネルギー（Ｊ）
Ｍ：繰り返し周波数（Ｈｚ）
Ｖ：スキャン速度（ｍｍ／秒）
ｐ：スキャンピッチ（ｍｍ）
【００５７】
レーザー光の照射形態（走査様式）は、目的に応じて適切に設定され得る。レーザー光は、例えば、直線状に走査されてもよく、Ｓ字状に走査されてもよく、渦巻き状に走査されてもよく、これらを組み合わせてもよい。
【００５８】
上記のようにして形成された封止部４０は、バリア性を有し、代表的には水分およびガス（例えば酸素）に対するバリア性を有する。封止部４０の４０℃、９０％ＲＨ条件下での水蒸気透過率（透湿度）は、好ましくは３００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、より好ましくは１００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、さらに好ましくは５０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、特に好ましくは２５ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下である。透湿度の下限は、例えば０．０１ｇ／ｍ２／２４ｈｒであり、好ましくは検出限界未満である。封止部４０の透湿度がこのような範囲であれば、画像表示パネルを空気中の水分および酸素から良好に保護し得る。なお、透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ０２０８に準じて測定され得る。
【００５９】
以上のようにして、図１（ｄ）に示すように、所定のサイズを有する基板付偏光板１００が作製され得る。
【００６０】
Ａ−５．画像表示装置の作製
本実施形態においては、上記のようにして得られた基板付偏光板を表示セル基板として用いることにより、画像表示装置を得ることができる。液晶表示装置を作製する場合には、一例として以下のような手順を採用することができる：（１）一対の基板付偏光板を用意し；（２）一方の基板付偏光板の基板表面にスイッチング素子（例えば、ＴＦＴ）を設け、他方の基板付偏光板の基板表面にカラーフィルターを設け；（３）それぞれの基板表面に配向膜を形成して当該配向膜に配向処理を施し；（４）それぞれの基板が対向するようにして（偏光板が外側に配置されるようにして）、スペーサーを介して基板付偏光板を貼り合わせ；（５）液晶を基板間に封入する。このようにして、画像表示装置が作製され得る。
【００６１】
Ａ−６．他の実施形態
ここまで基板付偏光板を表示セル基板として用いる実施形態について説明してきたが、上記のとおり、本発明の製造方法は、表示セルを作製し、当該表示セルの基板に偏光板を積層し、次いで封止部を形成することにより、画像表示装置を得ることができる。本実施形態においては、一例として以下のような手順を採用することができる：
（ａ−１）一対の基板を用意し；（ａ−２）一方の基板表面にスイッチング素子（例えば、ＴＦＴ）を設け、他方の基板表面にカラーフィルターを設け；（ａ−３）それぞれの基板表面に配向膜を形成して当該配向膜に配向処理を施し；（ａ−４）スペーサーを介して基板を貼り合わせ；（ａ−５）液晶を基板間に封入して表示セルを作製し；
（ｂ）表示セルが偏光板の外周から延出するようにして（好ましくは、表示セルが偏光板の外周を構成する４辺すべてから延出するようにして）、表示セルのそれぞれの基板の外側に偏光板を積層し；
（ｃ）偏光板の周囲端面を覆う封止部を形成し；
（ｄ）偏光板の周囲端から所定長さの延出部分を残して封止部および表示セル周縁部を切断する。
このようにして、画像表示装置が作製され得る。なお、工程（ｂ）〜（ｄ）の詳細は、上記Ａ−２項〜Ａ−４項に記載したとおりである。また、表示セル周縁部は、切断による悪影響がないよう切断用マージンが確保されている。
【００６２】
上記で説明した実施形態以外にも、本発明が画像表示装置における基板と偏光板との任意の積層構造に適用可能であることは、当業者に自明である。本明細書を読めば、当業者は、基板と偏光板との積層、封止部の形成、および、封止部および基板の切断を、画像表示装置における基板と偏光板との任意の積層構造に適用することができる。
【００６３】
Ｂ．画像表示装置
本発明の画像表示装置は、上記Ａ項に記載の製造方法により得られる。したがって、画像表示装置は、代表的には図１（ｄ）に示すような構造を含む。具体的には、画像表示装置は、偏光板と、該偏光板の周囲端から所定長さの延出部分を有する基板と、該延出部分に形成され該偏光板の周囲端面を覆う封止部と、を有する。
【００６４】
画像表示装置は、８５℃および８５％ＲＨ環境下で１２０時間保持した後の色抜け量が、好ましくは１００μｍ以下であり、より好ましくは５０μｍ以下であり、さらに好ましくは３０μｍ以下であり、特に好ましくは２５μｍ以下である。色抜け量の下限は好ましくはゼロであり、１つの実施形態においては５μｍである。色抜け量は、画像表示装置代替品（実質的には、基板付偏光板）を８５℃および８５％ＲＨのオーブン内で１２０時間放置して加湿した後、標準偏光板とクロスニコルの状態に配置した時の、端部の色抜け状態を顕微鏡により調べる。具体的には、偏光板または偏光膜端部からの色抜けの大きさ（色抜け量：μｍ）を測定する。図２に示すように、延伸方向の端部からの色抜け量ａおよび延伸方向と直交する方向の端部からの色抜け量ｂのうち、大きい方を色抜け量とする。なお、色抜けした領域は偏光特性が著しく低く、偏光板としての機能を実質的に果たさない。したがって、色抜け量は小さければ小さいほど好ましい。
【実施例】
【００６５】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各特性の測定方法は以下の通りである。【００６６】
（１）厚み
デジタルマイクロメーター（アンリツ社製ＫＣ−３５１Ｃ）を用いて測定した。
（２）透湿度
実施例および比較例で調製した粘着剤組成物を用いて、剥離ライナー／粘着剤層（実施例または比較例の厚みを有する）／剥離ライナーの構成を有する粘着シートを形成した。粘着シートの一方の剥離ライナーを剥がして粘着面を露出させ、該粘着面を介して、粘着シートをトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム、厚み：２５μｍ、コニカミノルタ（株）製）に貼り合わせ、１０ｃｍΦの円状に切り出した。最後に、もう一方の剥離ライナーを剥がして、測定用サンプルを得た。得られた測定用サンプルについて、透湿度試験方法（カップ法、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に準じる）により、透湿度（水蒸気透過率）を測定した。なお、測定条件は下記のとおりであった。また、測定の際には恒温恒湿槽を使用した。
測定温度：４０℃
相対湿度：９２％
測定時間：２４時間
（３）色抜け量
実施例および比較例で得られた基板付偏光板を画像表示装置代替品として８５℃および８５％ＲＨのオーブン内で１２０時間放置して加湿した後、標準偏光板とクロスニコルの状態に配置した時の、偏光膜の端部の色抜け状態を顕微鏡により調べた。具体的には、偏光膜端部からの色抜けの大きさ（色抜け量：μｍ）を測定した。顕微鏡としてＯｌｙｍｐｕｓ社製、ＭＸ６１Ｌを用い、倍率１０倍で撮影した画像から色抜け量を測定した。図２に示すように、延伸方向の端部からの色抜け量ａおよび延伸方向と直交する方向の端部からの色抜け量ｂのうち、大きい方を色抜け量とした。【００６７】
［実施例１］
樹脂基材として、厚み１００μｍ、Ｔｇ７５℃のイソフタル酸ユニットを７モル％有するアモルファスのポリエチレンテレフタレート（ＩＰＡ共重合ＰＥＴ）フィルムを用意した。このフィルムの表面にコロナ処理（５５Ｗ／ｍ２／ｍｉｎ）を施した。
アセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名：ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ２００）と、ＰＶＡ（平均重合度：４２００、ケン化度：９９．２モル％）とを１：９の割合で含むＰＶＡ系樹脂を用意し、該ＰＶＡ系樹脂１００重量部に対してヨウ化カリウム１３重量部を添加してＰＶＡ系樹脂水溶液を調製した（ＰＶＡ系樹脂濃度：５．５重量％）。この水溶液を乾燥後の膜厚が１３μｍになるように樹脂基材のコロナ処理面に塗布し、６０℃の雰囲気下において熱風乾燥により１０分間乾燥して、樹脂基材上に厚み９μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成した。このようにして、積層体を作製した。
得られた積層体を空気中１２０℃で２．４倍に延伸した（空中補助延伸）。
次いで、積層体を液温４０℃のホウ酸水溶液に３０秒間浸漬してＰＶＡ系樹脂層を不溶化させた。本工程のホウ酸水溶液は、ホウ酸含有量を水１００重量部に対して４重量部とした。
次いで、積層体を液温３０℃のヨウ素およびヨウ化カリウムを含む染色液に、得られる偏光膜の単体透過率が４２〜４５％程度になるように任意の時間、浸漬し染色した。染色液は、水を溶媒とし、ヨウ素濃度を０．１〜０．４重量％の範囲内とし、ヨウ化カリウム濃度を０．７〜２．８重量％の範囲内とし、ヨウ素とヨウ化カリウムの濃度の比は１：７とした。
次いで、積層体を４０℃のホウ酸水溶液に６０秒間浸漬して、ヨウ素を吸着させたＰＶＡ樹脂層に架橋処理を施した。本工程のホウ酸水溶液は、ホウ酸含有量を水１００重量部に対して５重量部とし、ヨウ化カリウム含有量を水１００重量部に対して３重量部とした。
さらに、積層体をホウ酸水溶液中で延伸温度７０℃として、先の空中補助延伸と同様の方向に２．３倍に延伸した（最終的な延伸倍率５．５０倍）。本工程のホウ酸水溶液は、ホウ酸含有量を水１００重量部に対して３．５重量部とし、ヨウ化カリウム含有量を水１００重量部に対して５重量部とした。
次に、ヨウ化カリウム含有量が水１００重量部に対して４重量部とした水溶液で積層体を洗浄し、６０℃の温風により乾燥し、樹脂基材上に厚み５μｍの偏光膜を得た。【００６８】
得られた偏光膜の表面（樹脂基材とは反対側の面）に、ＵＶ硬化型接着剤を介してシクロオレフィン系フィルム（日本ゼオン社製、ＺＦ−１２、２３μｍ）を貼り合わせた。具体的には、偏光膜およびシクロオレフィン系フィルムのそれぞれに、ＵＶ硬化型接着剤を総厚み１．０μｍになるように塗工し、ロール機を使用して貼り合わせた。その後、紫外線をシクロオレフィン系フィルム側から照射して硬化型接着剤を硬化させた。次いで、樹脂基材を剥離して、当該剥離面に硬化型接着剤を介してシクロオレフィン系フィルムのλ／４板（日本ゼオン社製、ＺＤ−１２、厚み２３μｍ、Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ）を貼り合わせ、シクロオレフィン系フィルムＺＤ−１２（保護フィルム）／偏光膜／シクロオレフィン系フィルムＺＦ−１２（保護フィルム）の構成を有する偏光板を得た。なお、ＺＤ−１２フィルムは、その遅相軸が偏光膜の吸収軸に対して４５°の角度をなすようにして貼り合わせた。この偏光板は、例えば、反射型液晶表示装置または有機ＥＬ表示装置の視認側偏光板（反射防止フィルム）として用いられ得る。【００６９】
上記で得られた偏光板を、偏光膜の吸収軸方向が長辺方向となるようにして９０ｍｍ×４０ｍｍサイズに切り出した。一方、基板として市販のガラス板（マツナミガラス社製、厚み０．４ｍｍ）を１１０ｍｍ×６０ｍｍサイズに切り出した。切り出した偏光板と切り出した基板とを、アクリル系粘着剤を介して積層した。ここで、偏光板と基板とは、偏光板のＺＤ−１２フィルム（λ／４板）が基板側に配置されるようにして積層した。また、偏光板と基板とは、偏光板の外周を構成する４辺すべてから基板が延出するようにして積層した。基板の４つの延出部分の長さは、それぞれ１０ｍｍであった。【００７０】
上記延出部分に粘着剤を配置し、偏光板の周囲端面を密封した。このようにして、偏光板の周囲端面を覆う封止部を形成した。なお、封止部を構成する粘着剤は、スチレン・エチレンプロピレン共重合体・スチレンのブロックコポリマー（クラレ社製、商品名「セプトン２０６３」、スチレン含有量：１３重量％）１００重量部に対してポリブテン（ＪＸ日鉱日石エネルギー社製、「商品名「日石ポリブテンＨＶ−３００」」１０重量部、テルペンフェノール粘着付与剤（ヤスハラケミカル社製、商品名「ＹＳポリスターＴＨ１３０」）４０重量部、および芳香族粘着付与剤（イーストマンケミカル社製、商品名「ピコラスチックＡ５」）を配合し作製した。【００７１】
次いで、当該粘着剤および基板にレーザー光を照射し、偏光板の周囲端から１００μｍを残すようにして当該粘着剤を切断し、最終的な封止部を形成した。得られた封止部の透湿度は１２ｇ／ｍ２／２４ｈｒであった。レーザー光の照射は、ＧＣＣ社製「ＬａｓｅｒＰｒｏ  Ｓｐｉｒｉｔ」を用いて行った。【００７２】
以上のようにして、基板付偏光板を作製した。得られた基板付偏光板を上記（３）に記載の色抜けの評価に供した。結果を表１に示す。さらに、色抜けの状態を図３に示す。【００７３】
［実施例２］
実施例１と同様にして得られた樹脂基材／偏光膜の積層体の偏光膜表面に、実施例１と同様にしてシクロオレフィン系フィルム（日本ゼオン社製、ＺＦ−１２、１３μｍ）を貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離して、当該剥離面に粘着剤（１２μｍ）を介して反射型偏光子（３Ｍ社製、ＡＰＦ−Ｖ３）を貼り合わせ、シクロオレフィン系フィルムＺＦ−１２（保護フィルム）／偏光膜／反射型偏光子の構成を有する偏光板を得た。なお、反射型偏光子は、その透過軸と偏光膜の透過軸とが０°の角度をなすようにして貼り合わせた。この偏光板は、例えば背面側偏光板として用いられ得る。【００７４】
以下の手順は実施例１と同様にして基板付偏光板を作製した。なお、偏光板と基板とは、偏光板のＺＦ−１２フィルム（保護フィルム）が基板側に配置されるようにして積層した。得られた基板付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。【００７５】
［実施例３］
実施例１と同様にして得られた樹脂基材／偏光膜の積層体の偏光膜表面に、実施例１と同様にしてシクロオレフィン系フィルム（日本ゼオン社製、ＺＦ−１２、１３μｍ）を貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離して、シクロオレフィン系フィルムＺＦ−１２（保護フィルム）／偏光膜の構成を有する偏光板を得た。以下の手順は実施例１と同様にして基板付偏光板を作製した。なお、偏光板と基板とは、偏光膜が基板側に配置されるようにして積層した。得られた基板付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。【００７６】
［実施例４］
透湿度が２４ｇ／ｍ２／２４ｈｒである封止部（厚み５０μｍ）を形成したこと以外は実施例１と同様にして基板付偏光板を作製した。得られた基板付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。【００７７】
［実施例５］
透湿度が２４ｇ／ｍ２／２４ｈｒである封止部（厚み５０μｍ）を形成したこと以外は実施例２と同様にして基板付偏光板を作製した。得られた基板付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。【００７８】
［実施例６］
透湿度が２４ｇ／ｍ２／２４ｈｒである封止部（厚み５０μｍ）を形成したこと以外は実施例３と同様にして基板付偏光板を作製した。得られた基板付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。【００７９】
［比較例１］
封止部を形成しなかったこと以外は実施例１と同様にして基板付偏光板を作製した。得られた基板付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。さらに、色抜けの状態を図４に示す。【００８０】
［比較例２］
通常のアクリル系粘着剤を用いたこと以外は実施例１と同様にして封止部（透湿度：１０００ｇ／ｍ２／２４ｈｒを超える、厚み：２５μｍ）を形成し、基板付偏光板を作製した。得られた基板付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。【００８１】
【表１】
2018235462.tif 000003
【００８２】
表１から明らかなように、所定の透湿度を有する封止部を偏光板の外周端面に形成することにより、加湿環境下においても優れた光学特性を維持し得る基板付偏光板（最終的に、画像表示装置）が得られることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明の製造方法により得られる画像表示装置は、テレビ、ディスプレイ、携帯電話、携帯情報端末、デジタルカメラ、ビデオカメラ、携帯ゲーム機、カーナビゲーション、コピー機、プリンター、ファックス、時計、電子レンジ等に好適に用いられる。
【符号の説明】
【００８４】
１０      偏光板
２０      基板
３０      封止部
４０      封止部（最終）
１００      基板付偏光板
【図１】
2018235462.tif 000004
【図２】
2018235462.tif 000005
【図３】
2018235462.tif 000006
【図４】
2018235462.tif 000007
【国際調査報告】
2018235462.tif 000008
2018235462.tif 000009
2018235462.tif 000010
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