(57)【要約】  減菌液の重量を正確に測定する必要のない減菌処理装置及び減菌処理方法を提供する。減菌処理装置は、有効成分を含む減菌液を霧化する霧化ユニットと、霧化ユニットによって霧化された減菌液を、減菌処理を行う減菌処理対象空間に供給する供給ユニットと、減菌処理対象空間の内部の相対湿度を測定する相対湿度測定部とを有している。相対湿度が設定値以上となるまでの量の減菌液の供給を減菌処理対象空間へ行い、その後、減菌処理対象空間の内部での減菌の程度に応じた量の減菌液の供給を減菌処理対象空間へ行うように、減菌液の供給の制御が行われる。
2019009376.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効成分を含む減菌液を、霧化あるいは気化させる状態変更部と、
前記減菌液が前記状態変更部によって霧化された減菌ミストあるいは前記減菌液が前記状態変更部によって気化された減菌ガスを、減菌処理を行う減菌空間に供給する供給部と、
前記減菌空間の内部の相対湿度を測定する相対湿度測定部と、
前記相対湿度が設定値以上となるまでの量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行い、その後、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行うように、前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給の制御を行う制御部と
を備えたことを特徴とする減菌処理装置。
【請求項２】
前記設定値は、前記減菌空間の内部で前記減菌液中の前記有効成分が飽和あるいは飽和に準じた状態になったと判断される前記相対湿度の値であることを特徴とする請求項１に記載の減菌処理装置。
【請求項３】
前記有効成分は、過酸化水素であり、
前記設定値は、７０パーセントであることを特徴とする請求項２に記載の減菌処理装置。
【請求項４】
前記減菌の程度に応じた量は、周囲の環境の温度と湿度とに応じて定められていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の減菌処理装置。
【請求項５】
前記減菌の程度に応じた量は、周囲の環境における一定の範囲内の温度及び一定の範囲内の湿度ごとに、予め行われる試験によって定められ、
前記試験では、
温度についての前記一定の範囲における下限の温度よりも低い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における上限の湿度よりも高い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第１の供給量と、
温度についての前記一定の範囲における下限の温度よりも低い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における下限の湿度よりも低い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第２の供給量と、
温度についての前記一定の範囲における上限の温度よりも高い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における下限の湿度よりも低い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第３の供給量と、
温度についての前記一定の範囲における上限の温度よりも高い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における上限の湿度よりも高い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第４の供給量と、が検出され、
検出された前記第１の供給量から前記第４の供給量までの供給量のうち、最も多い供給量を、前記減菌の程度に応じた量として定めることを特徴とする請求項４に記載の減菌処理装置。
【請求項６】
有効成分を含む減菌液を霧化あるいは気化させる状態変更部と、
前記減菌液が前記状態変更部によって霧化された減菌ミストあるいは前記減菌液が前記状態変更部によって気化された減菌ガスを、減菌処理を行う減菌空間に供給する供給部と、
前記減菌空間の内部で前記有効成分が飽和しているかどうかを検出するセンサ部と、
前記センサ部によって前記有効成分が飽和していることが検出されるまで前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行い、その後、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行うように、前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給の制御を行う制御部と
を備えたことを特徴とする減菌処理装置。
【請求項７】
減菌処理を行う減菌空間の内部の相対湿度が設定値以上となるまで、前記減菌空間への、有効成分を含む減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行う第１の供給工程と、
前記第１の供給工程の後に、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌空間への前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を行う第２の供給工程と
を備えたことを特徴とする減菌処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、空間に対し減菌処理を行う減菌処理装置及び減菌処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、過酸化水素等の有効成分を含む減菌液を霧状にして空間内に噴霧することにより、空間内の減菌処理を行う方法が採用されている。このようにして、空間内で減菌処理することにより、その空間を、細胞培養等を行うのに適した環境にすることができる。また、空間に対し減菌処理を行うのに、減菌処理装置を用いて減菌処理を行う方法が採用されている。減菌処理装置を用いて減菌処理を行うことにより、減菌液の噴霧量を高精度に調節しながら空間内に減菌液を噴霧することができる。【０００３】
このように減菌処理装置を用いて減菌液の噴霧量を高精度に調節しながら空間内の減菌処理を行う減菌処理装置について、特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１３６０３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示された減菌処理装置では、装置の使用前の状態と、使用中の状態における減菌液の重量が測定され、使用前との間の重量の差が測定されることによって、そこまでの減菌液の使用量が測定される。測定された減菌液の使用量に基づいて、減菌液の供給を継続するかどうかが判断される。所定量の減菌液が供給されるまで減菌液の供給が行われ、結果的に、減菌液の供給を高精度に行うことができる。【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示された減菌処理装置では、減菌液の供給を高精度に行うには、装置の使用前の状態と、使用中の状態とにおける減菌液の重量が正確に測定されることが求められる。一般に、減菌処理に用いられる減菌液の使用量は微量であることが多く、装置の使用前の状態と、使用中の状態とにおける減菌液の重量を正確に測定し、減菌液の重量差から減菌液の使用量を正確に測定することは難しい。そのため、減菌液の重量を測定するのに高精度の重量測定装置が必要になり、減菌処理装置の製造コストが増加してしまう可能性がある。【０００７】
そこで、本発明は上記の事情に鑑み、減菌液の重量を正確に測定する必要のない減菌処理装置及び減菌処理方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の減菌処理装置は、有効成分を含む減菌液を、霧化あるいは気化させる状態変更部と、前記減菌液が前記状態変更部によって霧化された減菌ミストあるいは前記減菌液が前記状態変更部によって気化された減菌ガスを、減菌処理を行う減菌空間に供給する供給部と、前記減菌空間の内部の相対湿度を測定する相対湿度測定部と、前記相対湿度が設定値以上となるまでの量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行い、その後、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行うように、前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給の制御を行う制御部とを備えたことを特徴とする。【０００９】
上記構成の減菌処理装置では、相対湿度が設定値以上となるまでの量の減菌ミストあるいは減菌ガスが減菌空間に供給されるので、減菌空間の内部が有効成分による飽和に近い安定した状態になるまで減菌ミストあるいは減菌ガスを供給し、その後、減菌の程度に応じた量の減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行うことができる。減菌の程度に応じた量の減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行う際には、減菌空間の内部が安定した状態になっている。その状態でのわずかな減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量の変化については、減菌処理に対し大きくは影響しない。そのため、その状態からの減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量については、高精度に測定されなくてもよく、あまりシビアに測定される必要性がない。従って、減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量を測定するのに高精度な測定装置は必要とされず、高精度な測定装置が省かれた簡易な構成の減菌処理装置とすることができる。【００１０】
また、設定値は、前記減菌空間の内部で前記減菌液中の前記有効成分が飽和あるいは飽和に準じた状態になったと判断される前記相対湿度の値であってもよい。【００１１】
また、前記有効成分は、過酸化水素であり、前記設定値は、７０パーセントであってもよい。【００１２】
有効成分が過酸化水素であるときには、相対湿度が７０パーセントで、過酸化水素がほぼ飽和状態になっていると判断することができる。【００１３】
また、前記減菌の程度に応じた量は、周囲の環境の温度と湿度とに応じて定められていてもよい。【００１４】
減菌の程度に応じた減菌液の供給量が、周囲の環境の温度と湿度とに応じて定められるので、減菌液の供給量を容易に定めることができる。【００１５】
また、前記減菌の程度に応じた量は、周囲の環境における一定の範囲内の温度及び一定の範囲内の湿度ごとに、予め行われる試験によって定められ、前記試験では、温度についての前記一定の範囲における下限の温度よりも低い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における上限の湿度よりも高い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第１の供給量と、温度についての前記一定の範囲における下限の温度よりも低い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における下限の湿度よりも低い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第２の供給量と、温度についての前記一定の範囲における上限の温度よりも高い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における下限の湿度よりも低い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第３の供給量と、温度についての前記一定の範囲における上限の温度よりも高い温度で、且つ、湿度についての前記一定の範囲における上限の湿度よりも高い湿度のときに、減菌された状態であることが確認される前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの第４の供給量と、が検出され、検出された前記第１の供給量から前記第４の供給量までの供給量のうち、最も多い供給量を、前記減菌の程度に応じた量として定めてもよい。【００１６】
上記構成の減菌処理装置では、複雑な式を用いずに、周囲の環境における一定の範囲内の温度及び一定の範囲内の湿度について確実に減菌処理を行うことができる、減菌の程度に応じた減菌空間の内部への減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量を定めることができる。従って、減菌の程度に応じた減菌空間の内部への減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量を制御するのに高性能の制御部を必要としないので、減菌処理装置の製造コストを少なく抑えることができる。【００１７】
また、本発明の減菌処理装置は、有効成分を含む減菌液を霧化あるいは気化させる状態変更部と、前記減菌液が前記状態変更部によって霧化された減菌ミストあるいは前記減菌液が前記状態変更部によって気化された減菌ガスを、減菌処理を行う減菌空間に供給する供給部と、前記減菌空間の内部で前記有効成分が飽和しているかどうかを検出するセンサ部と、前記センサ部によって前記有効成分が飽和していることが検出されるまで前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行い、その後、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給を前記減菌空間へ行うように、前記減菌ミストあるいは前記減菌ガスの供給の制御を行う制御部とを備えたことを特徴とする。【００１８】
上記構成の減菌処理装置では、減菌空間の内部が減菌液の有効成分によって飽和しているかどうかが直接的に検出され、飽和していることが確認された後に減菌の程度に応じた量の減菌液の供給が減菌空間へ行われるので、減菌の程度に応じた量の減菌液の供給を行う際に、減菌空間の内部が減菌液の有効成分によって飽和しているかどうかをより確実に判断することができる。減菌空間が減菌液の有効成分によって確実に飽和した状態で減菌の程度に応じた量の減菌液の供給が行われるので、減菌処理をより確実に行うことができる。【００１９】
本発明の減菌処理方法は、減菌処理を行う減菌空間の内部の相対湿度が設定値以上となるまで、前記減菌空間への、有効成分を含む減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行う第１の供給工程と、前記減菌空間の内部での減菌の程度に応じた量の前記減菌空間への前記減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行う第２の供給工程とを備えたことを特徴とする。【００２０】
上記構成の減菌処理方法では、第１の供給工程で、相対湿度が設定値以上となるまでの量の減菌ミストあるいは減菌ガスが減菌空間に供給されるので、減菌空間の内部が有効成分による飽和に近い安定した状態になるまで減菌ミストあるいは減菌ガスが供給され、その後、第２の供給工程で、減菌の程度に応じた量の減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行うことができる。減菌の程度に応じた量の減菌ミストあるいは減菌ガスの供給を行う際には、減菌空間の内部が安定した状態になっている。その状態でのわずかな減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量の変化については、減菌処理に対し大きくは影響しない。そのため、その状態からの減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量については、高精度に測定されなくてもよく、あまりシビアに測定される必要性がない。従って、減菌ミストあるいは減菌ガスの供給量を測定するのに高精度な測定装置は必要とされず、簡易な構成の減菌処理装置を用いて減菌処理を行うことができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、装置の使用前の状態と、使用中あるいは使用後の状態とにおける減菌液の重量を正確に測定する必要がないので、高精度の重量測定装置が省かれた簡易な構成の装置によって、減菌処理の際の減菌液の供給量の制御を行うことができる。従って、減菌処理装置の製造コストを少なく抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る減菌処理装置の構成図である。
【図２】図１の減菌処理装置によって減菌処理対象空間内部の減菌処理が行われる際のフローチャートである。
【図３】図１の減菌処理装置によって減菌処理対象空間の内部に過酸化水素水が供給された際の、減菌処理対象空間の内部の湿度についての推移について示したグラフである。
【図４】図１の減菌処理装置による減菌処理における減菌液の追加投入の際に、供給される過酸化水素水の供給量を定める試験が行われる際の、減菌処理対象空間の内部の温度、湿度について示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態に係る減菌処理装置及び減菌処理方法について、添付図面を参照して説明する。
【００２４】
（第１実施形態）
図１に、第１実施形態に係る減菌処理装置１００についての模式的な構成図を示す。減菌処理装置１００は、減菌処理対象空間（減菌空間）２００の内部に減菌液としての過酸化水素水を噴霧して減菌処理を行うことが可能に構成されている。減菌液としての過酸化水素水は、殺菌作用を有する有効成分として過酸化水素を含んでいる。本実施形態では、３０〜４０パーセントの濃度の過酸化水素水が減菌液として用いられている。
【００２５】
減菌処理対象空間２００の内部に過酸化水素水を噴霧することにより、減菌処理対象空間２００の内部で過酸化水素水の有効成分である過酸化水素の殺菌作用が発揮される。減菌処理対象空間２００内部で殺菌作用が発揮されることにより、減菌処理対象空間２００の内部が減菌処理され、減菌処理対象空間２００の内部の空間を生物学的にクリーンな環境にすることができる。従って、減菌処理対象空間２００を、細胞培養等を行うのに適した環境とすることができる。
【００２６】
本実施形態では、減菌液として過酸化水素水が用いられているので、使用後、過酸化水素水を触媒としての二酸化マンガンに通すことにより、水と酸素に分解することができる。そのため、減菌液を無害な状態にして排出することができる。
【００２７】
なお、本実施形態では、減菌液として過酸化水素水を用いた形態について説明するが、本発明は上記実施形態に限定されない。減菌処理対象空間２００の内部の殺菌作用を有し、減菌処理対象空間の内部の菌の数を減少させることができるのであれば、他の種類の減菌液が用いられてもよい。例えば、ホルマリンや、次亜塩素酸ナトリウム水溶液が、減菌液として用いられてもよい。
【００２８】
減菌処理装置１００は、過酸化水素水を霧化させるための霧化ユニット（状態変更部）１０と、減菌処理対象空間２００に霧化された過酸化水素水を供給すると共に減菌処理対象空間２００から霧化された過酸化水素水を排出する供給ユニット（供給部）２０とを有している。
【００２９】
霧化ユニット１０は、霧化される前の液体の状態の過酸化水素水を貯留した霧化槽１１を有している。霧化槽１１は、過酸化水素水を貯留する貯留空間１３の一部の壁面を構成し三角形の形状を有するブロック部材１４を有している。
【００３０】
霧化槽１１の底面には、貯留された過酸化水素水を霧状にして過酸化水素水の霧化を行う超音波振動子１２が設けられている。貯留された過酸化水素水の内部で超音波振動子１２が駆動されて超音波振動子１２から超音波による振動エネルギーが液面に向けて発せられることにより、液面で過酸化水素水が霧状になり、霧化される。過酸化水素水が霧化することにより、減菌作用の有効成分を含む霧状の減菌ミストが生じる。
【００３１】
なお、本実施形態では、超音波振動子１２によって過酸化水素水の霧化が行われているが、本発明は上記実施形態に限定されず、減菌液の霧化を行うことができるのであれば、他の構成が用いられてもよい。例えば、減菌液をスプレーして、減菌ミストを生じさせる構成が用いられてもよい。
【００３２】
また、霧化槽１１の内部には、超音波振動子１２の上方に、超音波振動子１２を挟んで互いに対向するように、２つの通路構成部材１５が配置されている。超音波振動子１２の上方に２つの通路構成部材１５が対向して配置されていることにより、超音波振動子１２の上方に通路構成部材１５によって画成された通路が形成されている。対向する通路構成部材１５によって超音波振動子１２の上方に通路が形成されているので、超音波振動子１２から過酸化水素水の液面に向かって通路構成部材１５によって通路が形成されている。
【００３３】
このように超音波振動子１２と過酸化水素水の液面との間に通路構成部材１５によって通路が形成された状態で超音波振動子１２が駆動すると、超音波振動子１２から発せられた超音波による振動エネルギーが効率的に過酸化水素水の液面に伝達される。従って、超音波振動子１２で発せられた振動エネルギーによって、過酸化水素水の霧化が効率的に行われ、多量の過酸化水素水についての霧化を行うことができる。なお、本実施形態の減菌処理装置１００では、通路構成部材１５が設けられているが、通路構成部材１５については省略することも可能である。
【００３４】
また、霧化槽１１の内部には、過酸化水素水の水位を計測することが可能な水位計１６が配置されている。
【００３５】
霧化ユニット１０における超音波振動子１２の上方の位置から、減菌処理対象空間２００に向けてダクト３０が延びている。霧化ユニット１０によって霧化された過酸化水素水が、ダクト３０を通って、減菌処理対象空間２００に供給される。
【００３６】
供給ユニット２０は、減菌処理対象空間２００から霧化槽１１に延びるダクト２１を有している。ダクト２１は、減菌処理対象空間２００と霧化ユニット１０との間を接続するように配置されている。ダクト２１を通じて、減菌処理対象空間２００から排出された過酸化水素水が霧化ユニット１０の霧化槽１１に再び供給されるように構成されている。
【００３７】
供給ユニット２０は、ファン２２を有している。ファン２２は、ダクト２１の内部に配置されている。ファン２２を駆動させて回転させることにより、減菌処理対象空間２００から排気を行うことが可能に構成されている。また、ファン２２を回転させることにより、減菌処理対象空間２００へ霧化された過酸化水素水を減菌処理対象空間２００の内部に吸引させ、減菌処理対象空間２００に霧化された過酸化水素水を供給することが可能に構成されている。なお、本実施形態の減菌処理装置１００では、ファン２２がダクト２１の内部に配置された構成について説明しているが、本発明は上記実施形態に限定されない。霧化された過酸化水素水が減菌処理対象空間２００に供給されるのであれば、他の形態が用いられてもよい。例えば、ファンがダクト３０の内部に配置された構成が採用されてもよい。
【００３８】
減菌処理対象空間２００には、湿度計（相対湿度測定部）４０が取り付けられている。減菌処理対象空間２００の内部に湿度計４０が取り付けられていることにより、減菌処理対象空間２００の内部の湿度を計測することが可能に構成されている。
【００３９】
なお、湿度計４０については、減菌処理対象空間２００の内部の温度を測定することができるように、温度計としての機能を備えていてもよい。本実施形態では、湿度計４０は、温度についても測定できるように構成されている。温度計は、湿度計とは別に構成されていてもよい。
【００４０】
減菌処理装置１００は、霧化槽１１とは別の位置に、過酸化水素水を貯留させる容器５０を有している。容器５０と霧化ユニット１０における霧化槽１１との間には、容器５０と霧化槽１１との間を接続するように、供給管５１が設けられている。供給管５１には、供給管５１を介して容器５０内に貯留された過酸化水素水を霧化槽１１に向けて供給する供給ポンプ５２が配置されている。容器５０の下方には、容器５０及び容器５０の内部に貯留された過酸化水素水の重量を測定することが可能な容器重量計５３が配置されている。供給ポンプ５２を駆動させることにより、容器５０の内部に貯留させている過酸化水素水を霧化槽１１に供給することができる。
【００４１】
減菌処理装置１００は、制御ユニット（制御部）６０を備えている。制御ユニット６０は、プロセッサ、揮発性メモリ、不揮発性メモリ及びＩ／Ｏインターフェース等を有する。制御ユニット６０は、受信部、記憶部、診断部及び出力部を有する。受信部及び出力部は、Ｉ／Ｏインターフェースにより実現される。記憶部は、揮発性メモリ及び不揮発性メモリにより実現される。診断部は、不揮発性メモリに保存されたプログラムに基づいてプロセッサが揮発性メモリを用いて演算処理することで実現される。
【００４２】
制御ユニット６０は、超音波振動子１２、水位計１６、湿度計４０、供給ポンプ５２及び容器重量計５３に接続されている。制御ユニット６０は、水位計１６に接続されているので、水位計１６によって検出された霧化槽１１内に貯留されている過酸化水素水の水位を受け取ることができる。また、制御ユニット６０は、湿度計４０に接続されているので、湿度計４０によって検出された減菌処理対象空間２００の内部の湿度を受け取ることができる。また、制御ユニット６０は、容器重量計５３に接続されているので、容器重量計５３によって検出された、容器５０内に貯留された過酸化水素水の重量を受け取ることができる。容器重量計５３により容器５０内の過酸化水素水の重量を検出することによって、容器５０から霧化槽１１へ供給された過酸化水素水の重量を検出することができる。
【００４３】
制御ユニット６０は、水位計１６、湿度計４０及び容器重量計５３から受け取ったデータに基づいて、超音波振動子１２の駆動を制御することができる。また、水位計１６、湿度計４０及び容器重量計５３から受け取ったデータに基づいて、供給ポンプ５２の駆動を制御することができる。
【００４４】
水位計１６によって霧化槽１１内に貯留されている過酸化水素水の水位を検出しながら供給ポンプ５２の駆動を制御し、容器５０から霧化槽１１への過酸化水素水の供給が制御されるので、霧化槽１１内での過酸化水素水の水位を一定範囲内に保つことができる。そのため、霧化槽１１内での過酸化水素水の水位を、超音波振動子１２の駆動による過酸化水素水の霧化に適した水位に保つことができる。これにより、超音波振動子１２を駆動させることによって過酸化水素水を霧化させる際に、過酸化水素水を効率良く霧化させることができる。
【００４５】
ファン２２の駆動によって減菌処理対象空間２００の内部に霧化された過酸化水素水のミストが供給されて霧化槽１１内部の過酸化水素水が消費されたときには、消費された分の過酸化水素水が霧化槽１１内部に供給され、霧化槽１１内部の過酸化水素水の水位が一定に保たれる。霧化槽１１内部で過酸化水素水の水位が一定に保たれるので、容器５０から霧化槽１１へ供給される過酸化水素水の量が、減菌処理対象空間２００の内部に供給される過酸化水素水の消費量となる。従って、容器５０内の過酸化水素水の重量を検出することによって、霧化槽１１で消費される過酸化水素水の消費量を検出することができる。
【００４６】
なお、制御ユニット６０は、供給ユニット２０のファン２２による駆動を制御するように構成されてもよい。
【００４７】
以上のように構成された減菌処理装置１００によって減菌処理対象空間２００の減菌処理が行われる際の、減菌処理装置１００による制御フローについて説明する。
【００４８】
図２に、減菌処理装置１００によって減菌処理対象空間２００の減菌処理を行う際のフローチャートを示す。
【００４９】
まず、減菌処理対象空間２００の内部の温度と湿度が測定される（Ｓ１）。減菌処理対象空間２００の内部の温度と湿度の測定は、減菌処理対象空間２００の内部に取り付けられた湿度計４０によって行われる。湿度計４０によって検出された温度及び湿度についてのデータは、制御ユニット６０に送られる。
【００５０】
次に、Ｓ１で測定された減菌処理対象空間２００の内部の温度と湿度が設定範囲内に収まっているかどうかが判断される（Ｓ２）。制御ユニット６０が受け取った、湿度計４０によって測定された減菌処理対象空間２００の内部の温度及び湿度についての検出値が、予め定められている設定範囲内に収まっているかどうかが判断される。ここでは、制御ユニット６０が、減菌処理対象空間２００の内部の温度及び湿度についての検出値と、予め定められている設定範囲との比較を行う。減菌処理対象空間２００の内部の温度及び湿度についての検出値と、予め定められている設定範囲との比較を行った結果、減菌処理対象空間２００の内部の温度及び湿度が設定範囲から外れている場合には、減菌処理が中止される（Ｓ３）。減菌処理対象空間２００の内部の温度及び湿度が設定範囲内に収まっている場合には、霧化ユニットによる過酸化水素水の霧化を開始する（Ｓ４）。
【００５１】
過酸化水素水の霧化は、超音波振動子１２を駆動されることによって行われる。貯留された過酸化水素水の内部で超音波振動子１２が駆動されて超音波による振動エネルギーが過酸化水素水に作用するので、貯留された過酸化水素水の液面で過酸化水素水が霧化される。従って、液面の上方の位置に、霧化された過酸化水素水が発生する。
【００５２】
過酸化水素水の霧化は、超音波振動子１２が駆動されている間はずっと行われ続ける。従って、霧化される過酸化水素水の量は、過酸化水素水の内部で超音波振動子１２が駆動される時間の長さに比例する。
【００５３】
霧化ユニット１０による過酸化水素水の霧化が行われると、霧化された過酸化水素水が減菌処理対象空間２００に供給される（Ｓ５）。本実施形態では、霧化ユニット１０の超音波振動子１２が駆動されると、供給ユニット２０のファン２２が駆動される。ファン２２が駆動することにより減菌処理対象空間２００からダクト２１を通って空気が排出される。これに伴い減菌処理対象空間２００内部の圧力が低下するので、ダクト３０を介して、減菌処理対象空間２００の内部に霧化ユニット１０によって霧化された過酸化水素水が供給される。
【００５４】
Ｓ５における減菌処理対象空間２００への霧化された過酸化水素水の供給は、減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度が設定値以上となるまで行われる（第１の供給工程）。図３に、過酸化水素水の供給について時間ごとに区切ったときの、減菌処理対象空間２００内部の相対湿度の推移についてのグラフを示す。図３では、相対湿度についての設定値をＨ１として示している。相対湿度が設定値Ｈ１以上となるまで過酸化水素水が減菌処理対象空間の内部に供給される間の時間をｔ１とする。
【００５５】
ここで、相対湿度についての設定値は、減菌処理対象空間２００の内部で、過酸化水素水の中に含まれる有効成分としての過酸化水素が飽和あるいは飽和に準じた状態になったと判断されるときの、相対湿度の値である。ここで、「飽和に準じた状態」とは、減菌処理対象空間２００の内部空間よりも減菌処理対象空間２００の減菌処理対象物表面の温度が低い場合に、減菌処理対象空間２００の空間内部の全体で過酸化水素が飽和していなくても、減菌処理対象空間２００の減菌処理対象物表面の周囲の位置では過酸化水素が飽和状態になって結露している状態のことを指すものとする。本実施形態では、減菌処理の対象は、減菌処理対象空間２００の空間部分を取り囲む部分の表面及び減菌処理対象空間２００の空間内部に設置されるものの表面である。すなわち、減菌処理対象物表面は、減菌処理対象空間２００における減菌処理が行われる空間を取り囲む部分の表面及び減菌処理が行われる空間に設置されたものの表面のことである。減菌処理対象物表面としては、例えば、減菌処理対象空間２００の空間部分を取り囲む天井や床、側壁等の表面を含む。さらに、例えば、減菌処理対象物表面は、減菌処理対象空間２００の空間内部に設置されたロボットや棚の表面などを含む。減菌処理対象空間２００の空間中心と減菌処理対象物周囲との間に温度差があり、空間全体では飽和していないが減菌処理対象物周囲では飽和している状態のことを「飽和に準じた状態」というものとする。減菌処理対象物周囲は、減菌処理対象物表面の周囲の部分のことである。
【００５６】
減菌液として過酸化水素水が用いられる場合には、減菌処理対象空間２００の内部は、霧化された過酸化水素水が供給され続け、水分についての相対湿度が７０パーセント以上となったときに、過酸化水素が飽和あるいは飽和に準じた状態になったと判断される。過酸化水素水が減菌処理対象空間２００の内部で減菌処理を行う減菌液として用いられている場合には、通常、減菌処理対象空間２００の内部の水分についての相対湿度が７０パーセント以上となったときには、過酸化水素については減菌処理対象空間２００の内部で飽和している。あるいは、過酸化水素については減菌処理対象空間２００の内部で飽和に近い状態になっている。このように、減菌液の有効成分が過酸化水素であるときには、相対湿度が７０パーセントで、過酸化水素がほぼ飽和状態になっていると判断することができる。
【００５７】
なお、本実施形態では、減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度についての設定値Ｈ１は７０パーセントとしているが、本発明はこれに限定されない。減菌液として過酸化水素水を用いている場合には、相対湿度についての設定値は、７０パーセント以上であれば、さらに高い数値の設定値であってもよい。高い数値である程、相対湿度が設定値となったときには、過酸化水素水は、より確実に飽和している状態となる。
【００５８】
また、減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度についての設定値Ｈ１は、７０パーセントよりも小さい値であってもよい。具体的には、採用される減菌液の種類によっては、減菌液が、飽和蒸気圧の低いものである場合も考えられる。そのような場合、減菌処理対象空間２００の内部において、水分についての相対湿度が７０パーセントよりも小さい相対湿度であっても、減菌処理対象空間２００の内部で減菌液の有効成分が飽和する可能性がある。また、減菌液が過酸化水素水である場合にも、周囲の環境によっては、減菌処理対象空間２００の内部において、水分についての相対湿度が７０パーセントよりも小さい相対湿度であっても、減菌処理対象空間２００の内部で減菌液の有効成分が飽和する可能性がある。従って、減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度についての設定値Ｈ１は、７０パーセントよりも小さい値であってもよい。例えば、減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度についての設定値Ｈ１は、５０パーセント程度に設定されてもよい。
【００５９】
また、減菌液として過酸化水素水以外のものが用いられる場合には、減菌液ごとに設定値は変わる。減菌液の物性に応じた相対湿度についての設定値を用いればよい。
【００６０】
霧化された過酸化水素水の供給が、減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度が設定値Ｈ１以上となるまで行われると、減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度が設定値Ｈ１以上であるかどうかの判断が行われる（Ｓ６）。減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度が設定値Ｈ１以上であるかどうかの判断は、制御ユニット６０によって行われる。制御ユニット６０には、湿度計４０による減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度についての測定値が送られるので、制御ユニット６０は、受け取った湿度計４０によって検出された相対湿度についての測定値と、予め定められている設定値Ｈ１との間で比較を行う。比較の結果、相対湿度についての検出値が設定値Ｈ１以上であれば、減菌処理対象空間２００の内部で、過酸化水素が飽和あるいは飽和に準じた状態になっていると判断される。相対湿度についての検出値が設定値Ｈ１よりも小さい値であれば、減菌処理対象空間２００の内部への過酸化水素水の供給を継続して行う。減菌処理対象空間２００の内部への過酸化水素水の供給は、相対湿度についての検出値が設定値Ｈ１以上となるまで行われる。
【００６１】
減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度が設定値Ｈ１以上となるまでの時間ｔ１の間の過酸化水素水の供給が行われると、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた量の過酸化水素水の供給が減菌処理対象空間２００へ行われる。このときの過酸化水素水の供給についても、霧化された過酸化水素水が減菌処理対象空間２００に供給される（Ｓ７）。
【００６２】
減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた量の減菌処理対象空間２００への過酸化水素水の供給は、図３に示される時間ｔ２の間行われている減菌処理対象空間２００への過酸化水素水の供給である。
【００６３】
時間ｔ２における減菌処理対象空間２００への過酸化水素水の供給（追加投入）では、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が供給される（第２の供給工程）。このときの、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた量は、予め試験によって定められている。試験によって定められる、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた量については後述する。
【００６４】
減菌処理対象空間２００の内部が、過酸化水素によって飽和すると、減菌処理対象空間２００の内部で過酸化水素水が凝縮する。減菌処理対象空間２００の内部で過酸化水素水が凝縮すると、凝縮した過酸化水素水が減菌処理対象空間２００の減菌処理対象物表面に付着する。減菌処理対象空間２００の減菌処理対象物表面に付着した過酸化水素水は、そこで殺菌作用を効果的に発揮することにより、減菌処理対象空間２００の内部が減菌処理される。なお、過酸化水素水は、ガス状態でも殺菌作用を発揮するが、液体状態の方がガス状態に比べて殺菌力が格段に強くなる。つまり、乾式法による減菌処理よりも、湿式法による減菌処理の方が、殺菌力は強い。また、減菌処理対象空間２００の減菌処理対象物周囲で過酸化水素が飽和状態になって結露し、過酸化水素が飽和に準じた状態となっても、減菌処理対象空間２００の減菌処理対象物表面で過酸化水素水が凝縮することにより、減菌処理対象空間２００の減菌処理対象物表面に付着した過酸化水素水がそこで殺菌作用を効果的に発揮させることができる。従って、減菌処理対象空間２００の内部で過酸化水素が飽和に準じた状態であっても、湿式法により減菌処理対象空間２００の内部で減菌処理を行うことができる。
【００６５】
時間ｔ２で、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が減菌処理対象空間２００に供給されると、減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が減菌処理対象空間２００に供給されたかどうかの判断が行われる（Ｓ８）。このときの判断は、制御ユニット６０によって行われる。制御ユニット６０は、容器重量計５３による過酸化水素水の貯留した容器５０の重量の検出値を受け取ることができる。容器５０の重量の検出値から、過酸化水素水の消費量を検出することができる。
【００６６】
検出された過酸化水素水の消費量から、減菌処理対象空間２００に、減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が供給されたかどうかの判断が行われる。減菌処理対象空間２００に、減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が供給されていなければ、減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が供給されるまで継続して過酸化水素水の供給が行われる。減菌処理対象空間２００に、減菌の程度に応じた量の過酸化水素水が供給されれば、時間ｔ２における過酸化水素水の供給が完了し、減菌処理対象空間２００への過酸化水素水の供給が止められる。
【００６７】
このとき、霧化ユニット１０による過酸化水素水の霧化が停止する。その後、その状態で一定時間保持される。図３に示される保持時間ｔ３については、減菌処理の程度に応じて予め定められている。予め定められた分の保持時間による状態の保持が行われる。
【００６８】
図３の保持時間ｔ３が過ぎると、減菌処理対象空間２００からの排気が行われる（Ｓ１０）。減菌処理対象空間２００からの排気は、図３の時間ｔ４の間に亘って行われる。このとき、減菌処理対象空間２００内部について排気して換気することにより、残留する過酸化水素水等を減菌処理対象空間２００から排出させる。本実施形態では、時間ｔ４の間行われる減菌処理対象空間２００からの排気は、減菌処理対象空間２００の内部の過酸化水素の濃度が、１ｐｐｍ以下となるまで行われる。
【００６９】
なお、本実施形態では、減菌処理対象空間２００からの排気は、減菌処理対象空間２００の内部の過酸化水素の濃度が１ｐｐｍ以下となるまで行われているが、本発明はこれに限定されない。減菌処理対象空間２００の内部の過酸化水素の濃度がさらに低い濃度となるまで行われてもよいし、減菌処理対象空間２００の内部の過酸化水素の濃度が高い状態の段階で排気を止めてもよい。
【００７０】
時間ｔ４の間行われる減菌処理対象空間２００からの排気が行われると、ファン２２の駆動が止められる。このとき、減菌処理が完了する。
【００７１】
次に、Ｓ７で、図３に示される時間ｔ２の間に減菌処理対象空間２００に供給される、過酸化水素水についての、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた量を定める試験について説明する。時間ｔ２に減菌処理対象空間２００に供給される、過酸化水素水についての、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた量は、周囲の環境の温度と湿度とに応じて、予め定められている。
【００７２】
時間ｔ２の追加投入で減菌処理対象空間２００に供給される、過酸化水素水についての供給量は、周囲の環境における一定の範囲内の温度及び一定の範囲内の湿度ごとに、予め行われる試験によって定められる。このときの過酸化水素水についての減菌処理対象空間２００への供給量は、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた量である。
【００７３】
一定の範囲内の温度及び湿度ごとに行われる試験では、温度、湿度について、一定の範囲の外側であって、一定の範囲の４つの角の付近の４点（図４）で減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量を検出する。４点で検出された、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量のうち、最も多い過酸化水素水の供給量が、減菌の程度に応じた量として定められる。
【００７４】
所定量の過酸化水素水を投入したときに、温度、湿度について、一定の範囲よりも減菌作用にとって厳しい環境のときに減菌された状態であることが確認されれば、一定の範囲内の温度、湿度では、その量の過酸化水素水の供給量で減菌された状態が維持されると推定できる。そのため、本実施形態では、一定の範囲よりも、わずかに温度の高い領域、わずかに温度の低い領域、わずかに湿度の高い領域、わずかに湿度の低い領域についてそれぞれ、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量が検出される。すなわち、温度、湿度について、一定の範囲の外側の４点で、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量が検出される。４点で検出された、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量のうち、最も多い過酸化水素水の供給量が、減菌の程度に応じた量として定められる。
【００７５】
図４には、減菌処理対象空間２００の内部での一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度についての減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量を設定するための試験の行われる際に設定される温度及び湿度について示されている。図４では、一定の範囲の温度は２０度〜３０度の範囲であり、一定の範囲の湿度は３５〜８０パーセントの範囲である。このときに行われる試験では、温度及び湿度が図４のＰ１、Ｐ２、Ｐ３及びＰ４の点における温度及び湿度に設定されて、減菌された状態が確認されるときの過酸化水素水の供給量をそれぞれの状態で検出する。検出されたそれぞれの状態における減菌された状態が確認されるときの過酸化水素水の供給量のうち、最も多い過酸化水素水の供給量を、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた供給量として設定する。
【００７６】
図４の状態Ｐ１では、温度が、一定の範囲における下限の温度２０度よりもやや低く、且つ、湿度が、一定の範囲における上限の湿度８０パーセントよりもやや高い湿度に設定されている。状態Ｐ１は、図４における、温度が一定の範囲における下限の温度２０度よりも低く、湿度が一定の範囲における上限の湿度８０パーセントよりも高い領域のうち、一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度に近い部分の温度及び湿度である。
【００７７】
状態Ｐ１のときに、減菌処理対象空間２００の内部に霧状のミスト（減菌ミスト）の状態で過酸化水素水が供給され、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量（第１の供給量）が検出される。これにより、減菌処理対象空間２００の内部に供給されるミスト（減菌ミスト）の供給量が検出される。
【００７８】
図４の状態Ｐ２では、温度が、一定の範囲における下限の温度２０度よりもやや低く、且つ、湿度が、一定の範囲における下限の湿度３５パーセントよりもやや低い湿度に設定されている。状態Ｐ２は、図４における、温度が一定の範囲における下限の温度２０度よりも低く、湿度が一定の範囲における下限の湿度３５パーセントよりも低い領域のうち、一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度に近い部分の温度及び湿度である。
【００７９】
状態Ｐ２のときに、減菌処理対象空間２００の内部にミストの状態で過酸化水素水が供給され、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量（第２の供給量）が検出される。
【００８０】
図４の状態Ｐ３では、温度が、一定の範囲における上限の温度３０度よりもやや高く、且つ、湿度が、一定の範囲における下限の湿度３５パーセントよりもやや低い湿度に設定されている。状態Ｐ３は、図４における、温度が一定の範囲における上限の温度３０度よりも高く、湿度が一定の範囲における下限の湿度３５パーセントよりも低い領域のうち、一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度に近い部分の温度及び湿度である。
【００８１】
状態Ｐ３のときに、減菌処理対象空間２００の内部にミストの状態で過酸化水素水が供給され、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量（第３の供給量）が検出される。
【００８２】
図４の状態Ｐ４では、温度が、一定の範囲における上限の温度３０度よりもやや高く、且つ、湿度が、一定の範囲における下限の湿度８０パーセントよりもやや高い湿度に設定されている。状態Ｐ４は、図４における、温度が一定の範囲における上限の温度３０度よりも高く、湿度が一定の範囲における上限の湿度８０パーセントよりも高い領域のうち、一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度に近い部分の温度及び湿度である。
【００８３】
状態Ｐ４のときに、減菌処理対象空間２００の内部にミストの状態で過酸化水素水が供給され、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量（第４の供給量）が検出される。
【００８４】
このように、Ｐ１〜Ｐ４の４点のそれぞれで、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量が検出される。Ｐ１〜Ｐ４の４点で検出された、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量のうち、最も多い過酸化水素水の供給量が、この範囲における減菌の程度に応じた量として定められる。
【００８５】
減菌処理対象空間２００の内部が減菌された状態にあるかどうかを確認する際には、バイオロジカルインジケータを用いて確認を行うことができる。減菌処理の行われた減菌処理対象空間２００の内部にバイオロジカルインジケータを配置し、その後のバイオロジカルインジケータの状態を確認することにより、減菌処理対象空間２００の内部に菌が残っているかどうかを確認することができる。バイオロジカルインジケータを用いて減菌処理対象空間２００の内部に菌が残っているかどうかの状態を確認した際に、菌が残っていないことが確認されると、減菌された状態が達成されたと判断することができる。
【００８６】
試験によって予め定められる、過酸化水素水についての減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた供給量は、減菌処理対象空間２００の内部で要求される減菌処理の程度に応じて変わる。厳しいレベルの減菌処理が要求される場合には、その分、減菌処理対象空間２００の内部に供給される過酸化水素水の量は多くなる。その一方、減菌処理で要求されるレベルが厳しくない場合には、多量の過酸化水素水は必要とされず、減菌処理対象空間２００の内部に供給される過酸化水素水の量は少なくて済む。
【００８７】
このようにして、一定の範囲の温度及び一定の範囲の湿度についての、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量が設定される。また、この一定の範囲の温度及び湿度についての減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量の設定を他の範囲についても行うことにより、他の範囲の温度及び湿度についても減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量の設定を行うことができる。このように、使用される温度及び湿度についての範囲を複数に区切り、複数の範囲のそれぞれについて減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量の設定を行うことにより、使用される温度及び湿度についての範囲の全体に亘って、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量の設定を行うことができる。また、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量が、周囲の環境の温度と湿度とに応じて定められるので、減菌液の供給量を容易に定めることができる。
【００８８】
以上のように、減菌処理装置１００を用いて、減菌処理対象空間２００の内部の減菌処理が行われる。本実施形態では、相対湿度が設定値以上となるまでの量の過酸化水素水の供給が減菌処理対象空間２００へ行われ、その後、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じた量の過酸化水素水の供給が減菌処理対象空間２００へ行われる。従って、減菌処理対象空間２００の内部での減菌の程度に応じて、減菌処理対象空間２００への過酸化水素水の供給量が変えられるので、要求されるレベルに応じた減菌処理を容易に行うことができる。
【００８９】
また、設定値以上となるまでの量の過酸化水素水が減菌処理対象空間２００の内部に供給されるので、減菌処理対象空間２００が飽和した状態に近い状態となるまで過酸化水素水を供給することができる。過酸化水素水を減菌処理対象空間２００に供給することにより、減菌処理対象空間２００が過酸化水素で飽和した状態に近い状態となるので、減菌処理対象空間２００の内部が均衡し、比較的安定した状態になる。このように安定した状態では、ごくわずかな過酸化水素水の量の変化については、減菌処理に対しあまり大きく影響しない。そのため、そこからの過酸化水素水の供給量については、高精度に測定されなくてもよく、あまりシビアに測定される必要性はない。従って、過酸化水素水の量を測定するのに高精度な重量測定装置は必要とされない。従って、高精度の重量測定装置が省かれた装置によって、減菌処理の際の過酸化水素水の供給量の制御を行うことができる。これにより、減菌処理装置の製造コストを少なく抑えることができる。
【００９０】
また、時間ｔ１で過酸化水素水が供給される際の減菌処理対象空間２００の内部の相対湿度の設定値は、減菌処理対象空間２００の内部で過酸化水素中の有効成分の過酸化水素が飽和あるいは飽和に準じた状態になったと判断される相対湿度の値である。従って、時間ｔ２で減菌処理対象空間２００の内部に過酸化水素水が供給される際には、減菌処理対象空間２００の内部は、過酸化水素が飽和あるいは飽和に準じた状態になっている。減菌処理の際の減菌の程度は、減菌処理対象空間２００の内部が飽和した状態になってから減菌処理対象空間２００の内部に供給される過酸化水素の量に比例する。従って、本実施形態の減菌処理によれば、減菌処理対象空間２００の内部を一旦飽和あるいは飽和に準じた安定した状態とし、そこから減菌の程度に応じた供給量による過酸化水素水の供給が行われる。従って、要求される減菌の程度に応じた供給量による過酸化水素水の供給を容易に行うことができる。
【００９１】
本実施形態では、減菌処理対象空間２００の内部が飽和した状態になってから減菌処理対象空間２００の内部に供給される過酸化水素水の量は、容器重量計５３によって検出された過酸化水素水を貯留した容器５０の重量とから検出されている。従って、高精度の重量測定装置を必要とせず、簡易な構成によって、減菌処理対象空間２００の内部が飽和した状態になってからの過酸化水素水の消費量を検出することができる。
【００９２】
例えば、特開２０１１−１３６０３５号公報に開示された減菌処理装置では、装置の使用前の状態と、使用中の状態とにおける減菌液の重量を測定することにより、減菌液の消費量を測定している。この装置では、減菌液の重量を測定する際に、減菌処理対象空間の内部を減菌液の有効成分によって飽和させているわけではないので、減菌処理対象空間の内部が不安定な状態にある。従って、減菌液の供給量がわずかに変わっただけで減菌処理における減菌の程度が大きく変わる。従って、この装置では、減菌処理で用いられる減菌液の消費量を正確に測定することが求められる。減菌処理装置の内部の減菌液の重量を正確に測定する際には、霧化槽と減菌処理対象空間との間に延びるダクト内で結露している減菌液の重量についても測定する必要がある。装置の構成上、ダクト内までは重量測定装置は設けられないことが多いので、減菌液がダクト内で凝縮して残ることを抑えるために、ダクト内を加温することがある。ダクトを加温することで、ダクト内で減菌液を蒸発させ、ダクト内に減菌液が残ることを防止する場合がある。これにより、減菌液がダクト内に残ることが抑えられ、装置内の減菌液の重量を正確に測定することができる。ところが、この場合には、ダクト内を加温する構成が必要になり、減菌処理装置の製造コストが増加してしまう可能性がある。また、高精度の重量測定装置が必要になり、減菌処理装置の製造コストが増加してしまう可能性がある。
【００９３】
これに対し、本実施形態では、測定される過酸化水素水の消費量は、減菌処理対象空間２００の内部が過酸化水素で飽和された状態になってからの、減菌処理対象空間２００の内部に供給される過酸化水素水の量である。
【００９４】
過酸化水素水の消費量が測定される際には、減菌処理対象空間２００が過酸化水素で飽和し、減菌処理対象空間２００の内部が安定した状態となっている。そこからの過酸化水素水の供給量については、高精度に測定されなくてもよく、あまりシビアに測定される必要性がないので、過酸化水素水の量を測定するのに高精度な重量測定装置は必要とされない。また、高精度に過酸化水素水の重量を測定する必要がないので、ダクト内を加温する構成を設置する必要性がない。従って、ダクト３０及びダクト２１に加温するための構成を設けることを必要とせず、減菌処理装置１００からダクト内の加温のための構成を省くことにより、減菌処理装置１００の構成を簡易にすることができる。これにより、減菌処理装置１００の製造コストを少なく抑えることができる。
【００９５】
また、減菌処理対象空間２００が過酸化水素で飽和し、均衡して安定した状態となってから、減菌の程度に応じた供給量の過酸化水素水の供給が行われている。従って、減菌の程度に応じた供給量の過酸化水素水の供給を行う際に、必要とされる過酸化水素水の供給量が周囲の環境の変化による影響を受け難い。周囲の環境の変化によって減菌処理対象空間２００内部の温度、湿度がわずかに変化したとしても、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給量はあまり影響を受けない。従って、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給を行う際に、周囲の環境の変化によらず、一定の量の過酸化水素水の供給によって、減菌処理対象空間２００の内部の減菌処理を確実に行うことができる。そのため、周囲の温度、湿度の変化によらず、安定した減菌処理を行うことができる。
【００９６】
また、本実施形態では、時間ｔ２で減菌処理対象空間２００に供給される過酸化水素水の減菌の程度に応じた供給量は、周囲の環境における一定の範囲内の温度及び一定の範囲内の湿度ごとに、予め行われる試験によって定められている。従って、減菌処理を行う際に、減菌の程度に応じた過酸化水素水の供給を容易に行うことができる。
【００９７】
また、時間ｔ２で供給される過酸化水素水の供給量を定める試験では、温度、湿度について、一定の範囲の外側であって、一定の範囲の４つの角の付近の４点で減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量を検出する。４点で検出された、減菌された状態であることが確認される過酸化水素水の供給量のうち、最も多い過酸化水素水の供給量が、減菌の程度に応じた量として定められる。
【００９８】
これにより、一定の範囲の温度及び湿度では、減菌された状態であることが確認された過酸化水素水の供給量が、時間ｔ２での供給量として定められている。従って、減菌処理の際には、確実に減菌された状態を達成することのできる量の供給量の過酸化水素水を減菌処理対象空間２００に供給することができる。従って、減菌処理装置１００の信頼性を高く維持することができる。また、時間ｔ２での過酸化水素水の供給量を設定するのに、複雑な式を用いて過酸化水素水の供給量を算出する必要がなく、簡易な方法によって過酸化水素水の供給量を設定することができる。従って、制御ユニット６０の性能を高くする必要がなく、減菌処理装置１００の製造コストを少なく抑えることができる。
【００９９】
なお、上記実施形態では、減菌液が霧化された減菌ミストとしての過酸化水素水が減菌処理対象空間２００の内部に供給される形態について説明した。しかしながら、本発明は上記実施形態に限定されない。減菌液が気化されて生成された減菌ガスが減菌処理対象空間２００の内部に供給されてもよい。その場合、気化された減菌ガスが減菌処理対象空間２００の内部で殺菌作用を発揮させることにより、減菌処理対象空間２００の内部の減菌処理を行う。減菌ガスが、過酸化水素水が気化されて生成された過酸化水素である場合には、過酸化水素が減菌処理対象空間２００の内部で殺菌作用を発揮して減菌処理対象空間２００の内部の減菌を行う。
【０１００】
また、減菌液が気化されて生成された減菌ガスとしての過酸化水素が減菌処理対象空間２００の内部に供給される形態であっても、減菌処理対象空間２００の内部が過酸化水素の有効成分で飽和あるいは飽和に準じた状態になるまで気化された過酸化水素が供給され、その後に減菌の程度に応じた量の過酸化水素が供給される形態であってもよい。
【０１０１】
その際、減菌液の状態を変更させる状態変更部として、過酸化水素水といった減菌液を霧化させる霧化ユニット１０に代えて、減菌液を気化させる気化ユニットを減菌処理装置に設けてもよい。減菌液を気化させる気化ユニットとしては、例えば、減菌液を加熱する加熱装置が適用されてもよい。
【０１０２】
減菌ガスは、過酸化水素水等の液体の減菌液が気化されて生成されることから、比較的湿度が高い。減菌ガスが過酸化水素である場合には、殺菌作用の有効成分を含む減菌液としての過酸化水素水が加熱等により気化されて減菌ガスとしての過酸化水素が生成されるので、気化された減菌ガスとしての過酸化水素の湿度は比較的高い。従って、気化された過酸化水素が減菌処理対象空間２００に供給される場合、減菌処理対象空間２００の内部に減菌ガスを供給し続けることにより、減菌処理対象空間２００の内部の湿度が次第に高くなる。相対湿度が設定値以上となるまでの量の減菌ガスの供給を減菌処理対象空間２００に行うと、減菌処理対象空間２００の内部が、減菌ガスの有効成分で飽和あるいは飽和に準じた状態となる。減菌処理対象空間２００の内部が有効成分で飽和あるいは飽和に準じた状態となった後に、減菌の程度に応じた量の気化された減菌ガスを減菌処理対象空間２００の内部に供給する。これにより、減菌の程度に応じた量の減菌ガスを、減菌処理対象空間２００の内部に供給することができる。このように、減菌液が気化されて生成された減菌ガスが減菌処理対象空間２００の内部に供給される場合であっても、減菌ガスの供給の制御を行うことができる。
【０１０３】
また、霧化された減菌ミストと気化された減菌ガスとが混合した状態で発生し、霧化された減菌ミスト及び気化された減菌ガスが減菌処理対象空間２００に供給されて殺菌作用を発揮させることとしてもよい。
【０１０４】
その際も同様に、相対湿度が設定値以上となるまでの量の霧化された減菌ミスト及び気化された減菌ガスの供給を減菌処理対象空間２００に行い、減菌処理対象空間２００の内部を、減菌液の有効成分で飽和あるいは飽和に準じた状態にする。その後、霧化された減菌ミスト及び気化された減菌ガスを減菌処理対象空間２００の内部に供給することにより、減菌の程度に応じた量の霧化された減菌ミスト及び気化された減菌ガスが減菌処理対象空間２００に供給される。
【０１０５】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る減菌処理装置について説明する。なお、上記第１実施形態と同様に構成される部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
【０１０６】
第１実施形態では、湿度計４０を用いて減菌処理対象空間２００内部の相対湿度について測定し、相対湿度が設定値以上となるまでの量の減菌液を減菌処理対象空間２００に供給することにより、減菌処理対象空間２００内部を減菌液によって飽和した状態にしている。これに対し、第２実施形態では、減菌処理対象空間２００内部の相対湿度を測定せずに、減菌処理対象空間２００内部が減菌液によって飽和している状態であるかどうかを直接検出している点で第１実施形態と異なる。
【０１０７】
第２実施形態では、減菌処理対象空間２００の内部で減菌液の有効成分が飽和しているかどうかを検出するセンサ（センサ部）が減菌処理対象空間２００の内部に配置される。減菌処理対象空間２００内部に配置されたセンサによって減菌処理対象空間２００の内部が減菌液の有効成分によって飽和している状態であることが確認されると、時間ｔ１での減菌液の供給から、時間ｔ２における減菌の程度に応じた供給量の減菌液の供給に移る。つまり、減菌処理対象空間２００の内部が過酸化水素水の有効成分である過酸化水素によって飽和している状態であることが確認されると、減菌の程度に応じた供給量の過酸化水素水の供給に移る。
【０１０８】
減菌処理対象空間２００の内部で減菌液の有効成分が飽和しているかどうかを検出するセンサとしては、例えば、減菌処理対象空間２００の内部に光を照射し、反射する光を検出することにより、減菌処理対象空間２００の内部が減菌液の有効成分で飽和しているかどうかを検出するセンサが用いられてもよい。また、減菌処理対象空間２００の内部に電気抵抗を配置し、電気抵抗を流れる電流を検出することにより、減菌処理対象空間２００の内部が過酸化水素で飽和しているかどうかを検出するセンサが用いられてもよい。減菌処理対象空間２００の内部が減菌液の有効成分によって飽和している状態を検出することができるのであれば、どんなセンサが用いられてもよい。
【０１０９】
このように、第２実施形態では、減菌処理対象空間２００の内部で減菌液の有効成分が飽和している状態が直接的に検出される。減菌処理対象空間２００の内部が減菌液の有効成分で飽和している状態が検出されると、時間ｔ２における減菌の程度に応じた供給量の減菌液の供給が行われる。減菌処理対象空間２００の内部で減菌液の有効成分が飽和している状態が直接的に検出されているので、減菌処理対象空間２００の内部が減菌液の有効成分によって飽和しているかどうかをより確実に判断することができる。減菌処理対象空間２００が減菌液の有効成分によって確実に飽和した状態で減菌の程度に応じた量の減菌液の供給が行われるので、減菌処理をより確実に行うことができる。
【符号の説明】
【０１１０】
１０  霧化ユニット
２０  供給ユニット
４０  湿度計
６０  制御ユニット
【図１】
2019009376.tif 000003
【図２】
2019009376.tif 000004
【図３】
2019009376.tif 000005
【図４】
2019009376.tif 000006
【国際調査報告】
2019009376.tif 000007
2019009376.tif 000008
2019009376.tif 000009
2019009376.tif 000010