(57)【要約】  非フッ素系有機溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、非フッ素系有機溶媒に溶解させた組成物を用いた際にも耐摩擦性に優れた表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物、組成物および物品の提供。  式Ａ１で表されるオキシフルオロアルキレン単位を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と、式Ｂで表される基を２個以上有することを特徴とする含フッ素エーテル化合物。Ｘ１は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。Ｒは、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。  （ＯＸ１）    式Ａ１  −Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ    式Ｂ【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ａ１で表されるオキシフルオロアルキレン単位を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と、式Ｂで表される基を２個以上有することを特徴とする含フッ素エーテル化合物。
（ＯＸ１）    式Ａ１
−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ    式Ｂ
ただし、式中、
Ｘ１は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｒは、１価の炭化水素基である。
Ｌは、加水分解性基または水酸基である。
ｎは、０〜２の整数である。
【請求項２】
前記オキシフルオロアルキレン単位の炭素数が２〜６である、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項３】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖中に含まれる前記オキシフルオロアルキレン単位の少なくとも一部が炭素数の２のオキシフルオロアルキレン単位である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項４】
前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖がさらに式Ａ２で表されるオキシペルフルオロアルキレン単位を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の含フッ素エーテル化合物。
（ＯＸ２）    式Ａ２
ただし、式中、
Ｘ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
【請求項５】
前記オキシペルフルオロアルキレン単位の炭素数が１〜６である、請求項４に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項６】
前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が、前記式Ａ１で表されるオキシフルオロアルキレン単位のａ個と前記式Ａ２で表されるオキシペルフルオロアルキレン単位のｂ個とを含み、ａは２以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、ａ＋ｂが８以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項７】
下記式１で表される化合物である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の含フッ素エーテル化合物。
Ｒ１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑ    式１
ただし、式中、
Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑである。
Ｘ１は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｘ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｚは、炭素原子、ケイ素原子または窒素原子である。
Ｒ２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
Ｒ３は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
ａは２以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、ａ＋ｂは８以上の整数である。
Ｚが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒは３であり、ｑは０〜２の整数である。Ｚが窒素原子の場合、ｒは２であり、ｑは０〜１の整数である。
【請求項８】
前記Ｚが炭素原子またはケイ素原子であり、前記ｑが０または１である、請求項７に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の含フッ素エーテル化合物と、液状媒体とを含むことを特徴とする組成物。
【請求項１０】
基材と、前記基材上に、請求項１〜８のいずれか１項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項９に記載の組成物から形成されてなる表面層と、を有することを特徴とする物品。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤。
【請求項１２】
下記式３で表される含フッ素エーテル化合物。
Ｒ１１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑ    式３
ただし、式中、
Ｒ１１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑである。
Ｘ１は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｘ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｚは、炭素原子、ケイ素原子または窒素原子である。
Ｒ２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
ａは２以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、ａ＋ｂは８以上の整数である。
Ｌ２は−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−である。
Ｚが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒは３であり、ｑは０〜２の整数である。Ｚが窒素原子の場合、ｒは２であり、ｑは０〜１の整数である。
【請求項１３】
式３で表される含フッ素エーテル化合物をＨＳｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎとヒドロシリル化反応させることを特徴とする式１で表される含フッ素エーテル化合物の製造方法。
Ｒ１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑ    式１
Ｒ１１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑ    式３
ただし、式中、
Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑである。
Ｒ１１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑである。
Ｘ１は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｘ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｚは、炭素原子、ケイ素原子または窒素原子である。
Ｒ２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
Ｒ３は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。
Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
ａは２以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、ａ＋ｂは８以上の整数である。
Ｌ２は−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−である。
Ｚが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒは３であり、ｑは０〜２の整数である。Ｚが窒素原子の場合、ｒは２であり、ｑは０〜１の整数である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、含フッ素エーテル化合物、組成物および物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。上記含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキレン鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、柔軟性に優れる化合物であり、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。【０００３】
上記含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長時間維持されるのが求められる用途、たとえば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。
上記含フッ素エーテル化合物としては、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、末端に加水分解性シリル基を有する化合物が広く用いられている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−２１８６３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方で、特許文献１に記載の含フッ素エーテル化合物は、フッ素系有機溶媒に対する溶解性は高いが、工業プロセスにおいて広く使用される非フッ素系有機溶媒（特に、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒等の汎用溶媒）に対する溶解性が低いという問題がある。
工業的な点からは、非フッ素系有機溶媒に溶解でき、かつ、非フッ素系有機溶媒に溶解させた組成物を用いた際にも耐摩擦性に優れる表面層を形成し得る、含フッ素エーテル化合物が求められている。【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みて、非フッ素系有機溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、非フッ素系有機溶媒に溶解させた組成物を用いた際にも耐摩擦性に優れた表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物、組成物および物品の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、下記［１］〜［１３］の構成を有する含フッ素エーテル化合物、組成物および物品を提供する。
［１］式Ａ１で表されるオキシフルオロアルキレン単位を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と、式Ｂで表される基を２個以上有することを特徴とする含フッ素エーテル化合物。
（ＯＸ１）    式Ａ１
−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ    式Ｂ
ただし、式中、
Ｘ１は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｒは、１価の炭化水素基である。
Ｌは、加水分解性基または水酸基である。
ｎは、０〜２の整数である。【０００８】
［２］前記オキシフルオロアルキレン単位の炭素数が２〜６である、［１］の含フッ素エーテル化合物。
［３］ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖中に含まれる前記オキシフルオロアルキレン単位の少なくとも一部が炭素数の２のオキシフルオロアルキレン単位である、［１］または［２］の含フッ素エーテル化合物。
［４］前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖がさらに式Ａ２で表されるオキシペルフルオロアルキレン単位を含む、［１］〜［３］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
（ＯＸ２）    式Ａ２
ただし、式中、
Ｘ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
［５］前記オキシペルフルオロアルキレン単位の炭素数が１〜６である、［４］の含フッ素エーテル化合物。
［６］前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が、前記式Ａ１で表されるオキシフルオロアルキレン単位のａ個と前記式Ａ２で表されるオキシペルフルオロアルキレン単位のｂ個とを含み、ａは２以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、ａ＋ｂが８以上である、［１］〜［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。【０００９】
［７］下記式１で表される化合物である、［１］〜［６］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
Ｒ１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑ    式１
ただし、式中、
Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑである。
Ｘ１は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｘ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｚは、炭素原子、ケイ素原子または窒素原子である。
Ｒ２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
Ｒ３は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
ａは２以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、ａ＋ｂは８以上の整数である。
Ｚが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒは３であり、ｑは０〜２の整数である。Ｚが窒素原子の場合、ｒは２であり、ｑは０〜１の整数である。【００１０】
［８］前記Ｚが炭素原子またはケイ素原子であり、前記ｑが０または１である、［７］の含フッ素エーテル化合物。
［９］前記［１］〜［８］のいずれかの含フッ素エーテル化合物と、液状媒体とを含むことを特徴とする組成物。
［１０］基材と、前記基材上に、［１］〜［８］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または請求項９に記載の組成物から形成されてなる表面層と、を有することを特徴とする物品。
［１１］前記［１］〜［８］のいずれかの含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤。【００１１】
［１２］下記式３で表される含フッ素エーテル化合物。
Ｒ１１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑ    式３
ただし、式中、
Ｒ１１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑである。
Ｘ１は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｘ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｚは、炭素原子、ケイ素原子または窒素原子である。
Ｒ２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
ａは２以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、ａ＋ｂは８以上の整数である。
Ｌ２は−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−である。
Ｚが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒは３であり、ｑは０〜２の整数である。Ｚが窒素原子の場合、ｒは２であり、ｑは０〜１の整数である。【００１２】
［１３］式３で表される含フッ素エーテル化合物をＨＳｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎとヒドロシリル化反応させることを特徴とする式１で表される含フッ素エーテル化合物の製造方法。
Ｒ１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑ    式１
Ｒ１１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑ    式３
ただし、式中、
Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑである。
Ｒ１１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑである。
Ｘ１は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｘ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｚは、炭素原子、ケイ素原子または窒素原子である。
Ｒ２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
Ｒ３は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。
Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
ａは２以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、ａ＋ｂは８以上の整数である。
Ｌ２は−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−である。
Ｚが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒは３であり、ｑは０〜２の整数である。Ｚが窒素原子の場合、ｒは２であり、ｑは０〜１の整数である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、非フッ素系有機溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、非フッ素系有機溶媒に溶解させた組成物を用いた際にも耐摩擦性に優れた含フッ素エーテル化合物、組成物および物品を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書において、式１で表される化合物を化合物１と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。式Ａ１で表されるオキシフルオロアルキレン単位を単位Ａ１と記す。他の式で表される単位も同様に記す。式Ｂで表される基を基Ｂと記す。他の式で表される基も同様に記す。
本明細書において、「アルキレン基がＡ基を有していてもよい」という場合、アルキレン基は、アルキレン基中の炭素−炭素原子間にＡ基を有していてもよいし、アルキレン基−Ａ基−のように末端にＡ基を有していてもよい。
本発明における用語の意味は以下の通りである。
「表面層」とは、基材上に形成される層を意味する。なお、表面層は、基材の直上に形成されてもよいし、基材の表面に形成された他の層を介して基材上に形成されてもよい。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシフルオロアルキレン単位の数（平均値）を求めることによって算出される。
【００１５】
〔含フッ素エーテル化合物〕
本発明の含フッ素エーテル化合物（以下、「特定化合物」ともいう。）は、単位Ａ１を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と、基Ｂを２個以上有する。
特定化合物は、非フッ素系有機溶媒（特に、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒）に対する溶解性に優れる。この理由としては、水素原子を有する単位Ａ１を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を用いることで、非フッ素系有機溶媒に対する親和性が良好になったためと推測される。なお、特定化合物は、フッ素原子を有するので、フッ素系有機溶媒に対する溶解性にも優れる。
また、特定化合物を用いて形成される表面層は、耐摩擦性に優れる。この理由としては、基Ｂを２個以上有することで、特定化合物と基材との反応点が増加して、表面層と基材との密着性が良好になったためと推測される。
【００１６】
特定化合物は、単位Ａ１を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する。
（ＯＸ１）    式Ａ１
Ｘ１は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｘ１の炭素数は、１〜６が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜４が特に好ましい。
Ｘ１が有する水素原子は、１個以上であり、特定化合物の非フッ素系有機溶媒に対する溶解性と表面層の耐摩擦性とのバランスに優れる点で、１〜３個が好ましく、１個または２個であることが特に好ましい。
【００１７】
Ｘ１は、１個以上のフッ素原子を有する。Ｘ１が有するフッ素原子は、１個以上であり、特定化合物の非フッ素系有機溶媒に対する溶解性と表面層の耐摩擦性とのバランスに優れる点で、１〜１１個が好ましく、２〜７個が特に好ましい。
Ｘ１は、表面層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。
【００１８】
単位Ａ１の具体例としては、（ＯＣＦ２ＣＨＦ）、（ＯＣＨＦＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＨ２）、（ＯＣＨ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦ）、（ＯＣＨＦＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２）、（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２）、（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２）、（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２）、（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）が挙げられる。
【００１９】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖中に含まれる単位Ａ１の数をａとすると、ａは、２以上の整数が好ましく、２〜２００の整数がより好ましく、５〜１５０の整数がより好ましく、８〜１００の整数がさらに好ましく、１０〜５０の整数が特に好ましい。
【００２０】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、１種のみの単位Ａ１を含んでいてもよく、２種以上の単位Ａ１を含んでいてもよい。
２種以上の単位Ａ１としては、たとえば、炭素数の異なる２種以上の単位Ａ１、水素原子の数が異なる２種以上の単位Ａ１、炭素数が同じであっても側鎖の有無や側鎖の種類が異なる２種以上の単位Ａ１が挙げられる。
２種以上の単位Ａ１の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
【００２１】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が有するａ個の（ＯＸ１）を（ＯＸ１）ａで表す。（ＯＸ１）ａは、（ＯＸ１）の数がａ個であることを表すものであり、ａ個の（ＯＸ１）の配置を表すものではない。同様に、後述の（ＯＸ２）ｂも（ＯＸ２）の数がｂ個であることを表すものであり、ｂ個の（ＯＸ２）の配置を表すものではない。
したがって、後述の［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］で表されるポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖がａ個の（ＯＸ１）とｂ個の（ＯＸ２）を有していることを表すものであり、ａ個の（ＯＸ１）のブロックとｂ個の（ＯＸ２）のブロックとを有していることを表すものではない。［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］は、（ＯＸ１）と（ＯＸ２）のランダム、交互、ブロックのいずれの配置であってもよく、いずれの配置であってもａ個の（ＯＸ１）とｂ個の（ＯＸ２）を有しているポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖であることを表す。
後述の［（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））ａ１（ＯＣ３Ｈｍ２Ｆ（６−ｍ２））ａ２（ＯＣ４Ｈｍ３Ｆ（８−ｍ３））ａ３（ＯＣ５Ｈｍ４Ｆ（１０−ｍ４））ａ４（ＯＣ６Ｈｍ５Ｆ（１２−ｍ５））ａ５］、［（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））ａ１（ＯＣ３Ｈｍ２Ｆ（６−ｍ２））ａ２（ＯＣ４Ｈｍ３Ｆ（８−ｍ３））ａ３（ＯＣ５Ｈｍ４Ｆ（１０−ｍ４））ａ４（ＯＣ６Ｈｍ５Ｆ（１２−ｍ５））ａ５（ＯＸ２）ｂ］等の表現もまた同様である。
【００２２】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が有する（ＯＸ１）ａとしては、［（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））ａ１（ＯＣ３Ｈｍ２Ｆ（６−ｍ２））ａ２（ＯＣ４Ｈｍ３Ｆ（８−ｍ３））ａ３（ＯＣ５Ｈｍ４Ｆ（１０−ｍ４））ａ４（ＯＣ６Ｈｍ５Ｆ（１２−ｍ５））ａ５］が好ましい。
ｍ１は１〜３の整数であり、ｍ２は１〜５の整数であり、ｍ３は１〜７の整数であり、ｍ４は１〜９の整数であり、ｍ５は１〜１１の整数である。
ａ１、ａ２、ａ３、ａ４およびａ５は、それぞれ独立に、０以上の整数であり、１００以下が好ましい。
ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４＋ａ５は２以上の整数であり、２〜２００の整数がより好ましく、５〜１５０の整数がより好ましく、８〜１００の整数がさらに好ましく、１０〜５０の整数が特に好ましい。
なかでも、特定化合物の非フッ素系有機溶媒に対する溶解性がより優れる点で、ａ１は１以上の整数が好ましく、２〜２００の整数が特に好ましい。
また、Ｃ３Ｈｍ２Ｆ（６−ｍ２）、Ｃ４Ｈｍ３Ｆ（８−ｍ３）、Ｃ５Ｈｍ４Ｆ（１０−ｍ４）およびＣ６Ｈｍ５Ｆ（１２−ｍ５）は、表面層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。
【００２３】
なお、ａ１個の（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））、ａ２個の（ＯＣ３Ｈｍ２Ｆ（６−ｍ２））、ａ３個の（ＯＣ４Ｈｍ３Ｆ（８−ｍ３））、ａ４個の（ＯＣ５Ｈｍ４Ｆ（１０−ｍ４））、ａ５個の（ＯＣ６Ｈｍ５Ｆ（１２−ｍ５））の結合順序は限定されない。
ａ１が２以上の場合、複数の（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））は同一であっても異なっていてもよい。
ａ２が２以上の場合、複数の（ＯＣ３Ｈｍ２Ｆ（６−ｍ２））は同一であっても異なっていてもよい。
ａ３が２以上の場合、複数の（ＯＣ４Ｈｍ３Ｆ（８−ｍ３））は同一であっても異なっていてもよい。
ａ４が２以上の場合、複数の（ＯＣ５Ｈｍ４Ｆ（１０−ｍ４））は同一であっても異なっていてもよい。
ａ５が２以上の場合、複数の（ＯＣ６Ｈｍ５Ｆ（１０−ｍ５））は同一であっても異なっていてもよい。
【００２４】
なかでも、特定化合物の非フッ素系有機溶媒に対する溶解性がより優れる点で、（ＯＸ１）ａの少なくとも一部は炭素数２のＯＸ１、すなわち（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））、であることが好ましい。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が有する（ＯＸ１）ａとしては、以下の（１）〜（５）が好ましい。
（１）［（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））ａ１（ＯＣ３Ｈｍ２Ｆ（６−ｍ２））ａ２］
（２）［（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））ａ１（ＯＣ４Ｈｍ３Ｆ（８−ｍ３））ａ３］
（３）［（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））ａ１（ＯＣ５Ｈｍ４Ｆ（１０−ｍ４））ａ４］
（４）［（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））ａ１（ＯＣ６Ｈｍ５Ｆ（１２−ｍ５））ａ５］
（５）［（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））ａ１］
上記（１）は、ａ３、ａ４およびａ５が０の態様に該当し、ａ１＋ａ２は２以上の整数である。上記（２）は、ａ２、ａ４およびａ５が０の態様に該当し、ａ１＋ａ３は２以上の整数である。上記（３）は、ａ２、ａ３およびａ５が０の態様に該当し、ａ１＋ａ４は２以上の整数である。上記（４）は、ａ２、ａ３およびａ４が０の態様に該当し、ａ１＋ａ５は２以上の整数である。上記（５）は、異なる２種以上の（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））を合計ａ１個有し、ａ１が２以上の整数であるポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を表す。上記（１）〜（４）においても、ａ１が２以上の整数である場合、異なる２種以上の（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））を有していてもよい。
【００２５】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、単位Ａ１以外に、さらにオキシペルフルオロアルキレン単位を含んでいてもよい。
具体的には、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、単位Ａ２を含んでいてもよい。
（ＯＸ２）    式Ａ２
Ｘ２は、ペルフルオロアルキレン基である。
Ｘ２の炭素数は、１〜６が好ましい。
基Ｘ２は、表面層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。
【００２６】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、１種のみの単位Ａ２を含んでいてもよく、２種以上の単位Ａ２を含んでいてもよい。
２種以上の単位Ａ２としては、たとえば、炭素数の異なる２種以上の単位Ａ２、炭素数が同じであっても側鎖の有無や側鎖の種類が異なる２種以上の単位Ａ２が挙げられる。
【００２７】
単位Ａ２の具体例としては、（ＯＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）が挙げられる。
【００２８】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖中に含まれる単位Ａ２の数をｂとすると、ｂは、０以上の整数であり、０〜２００の整数が好ましく、０〜５０の整数がより好ましく、０〜１０の整数がさらに好ましく、０〜２の整数が特に好ましい。
【００２９】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が、単位Ａ１および単位Ａ２を含む場合、単位Ａ１と単位Ａ２との結合順序は限定されない。たとえば、単位Ａ１と単位Ａ２とは、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が、単位Ａ１のａ個と単位Ａ２のｂ個を含む場合、ａ＋ｂは、８以上の整数であり、８〜４００の整数が好ましく、８〜２００の整数がより好ましく、８〜１２０の整数がさらに好ましく、１０〜５２の整数が特に好ましい。
【００３０】
特定化合物は、基Ｂを２個以上有する。
−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ    式Ｂ
【００３１】
特定化合物が有する基Ｂの数は、２個以上であり、表面層の耐摩擦性がより優れる点で、２〜１０個が好ましく、２〜５個がより好ましく、２個または３個であることが特に好ましい。
２個以上ある基Ｂは、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や特定化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
【００３２】
Ｒは、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒの炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１または２であることが特に好ましい。
【００３３】
Ｌは、加水分解性基または水酸基である。Ｌとしては、加水分解性基が好ましい。
Ｌの加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｌが加水分解性基の場合、Ｓｉ−Ｌで表される加水分解性シリル基は、加水分解反応によりＳｉ−ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成できる。
【００３４】
加水分解性基の具体例としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
加水分解性基としては、特定化合物の製造がより容易である点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、特定化合物の保存安定性がより優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、特定化合物の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
【００３５】
ｎは、０〜２の整数である。
ｎは、０または１であることが好ましく、０が特に好ましい。Ｌが複数存在することによって、表面層の基材への密着性がより強固になる。
ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や特定化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物１の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
【００３６】
特定化合物としては、特定化合物の非フッ素系有機溶媒に対する溶解性および表面層の耐摩擦性により優れる点で、化合物１が好ましい。
Ｒ１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑ    式１
【００３７】
Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑである。なお、Ｙ、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、ｒおよびｑの定義は、後述する通りである。
フッ素原子を有していてもよいアルキル基中の炭素数は、特定化合物の非フッ素系有機溶媒に対する溶解性および表面層の耐摩擦性により優れる点で、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６が特に好ましい。
フッ素原子を有していてもよいアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、表面層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。
フッ素原子を有していてもよいアルキル基は、アルキル基中のすべての水素原子がフッ素原子に置換された基（ペルフルオロアルキル基）であってもよい。
【００３８】
フッ素原子を有していてもよいアルキル基の具体例としては、ＣＨ３−、ＣＦ３−、ＣＦ３ＣＨ２−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−、（ＣＦ３）２ＣＨ−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２−が挙げられる。
【００３９】
［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］で表される基は、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖である。
Ｘ１、Ｘ２、ａおよびｂの定義は、上述した通りである。ただし、式１におけるａ＋ｂは、８以上の整数であり、８〜４００の整数が好ましく、８〜２００の整数がより好ましく、８〜１２０の整数がさらに好ましく、１０〜５２の整数が特に好ましい。
［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］において、（ＯＸ１）と（ＯＸ２）との結合順序は限定されない。たとえば、（ＯＸ１）と（ＯＸ２）とは、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
また、複数の（ＯＸ１）は、同一であっても異なっていてもよい。つまり、（ＯＸ１）ａは、Ｘ１が異なる２種以上の（ＯＸ１）から構成されていてもよい。２種以上の（ＯＸ１）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
さらに、ｂが２以上の場合、複数の（ＯＸ２）は、同一であっても異なっていてもよい。つまり、（ＯＸ２）ｂは、Ｘ２が異なる２種以上の（ＯＸ２）から構成されていてもよい。２種以上の（ＯＸ２）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
【００４０】
［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］で表される基としては、［（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））ａ１（ＯＣ３Ｈｍ２Ｆ（６−ｍ２））ａ２（ＯＣ４Ｈｍ３Ｆ（８−ｍ３））ａ３（ＯＣ５Ｈｍ４Ｆ（１０−ｍ４））ａ４（ＯＣ６Ｈｍ５Ｆ（１２−ｍ５））ａ５（ＯＸ２）ｂ］が好ましい。
ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ａ１、ａ２、ａ３、ａ４およびａ５の定義は、上述した通りである。
【００４１】
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６が特に好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５〜２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基であってもよい。）、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ４）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓｉ（Ｒ５）２−およびこれらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。Ｒ４は、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。Ｒ５は、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）またはフェニル基である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）−アルキレン基−、−Ｏ−アルキレン基−、−ＯＣ（Ｏ）−が挙げられる。
【００４２】
なかでも、特定化合物の合成がより容易である点から、Ｙは、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）−アルキレン基−、−Ｏ−アルキレン基−が好ましい。
【００４３】
Ｚは、炭素原子、窒素原子またはケイ素原子である。
【００４４】
Ｒ２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が特に好ましい。
ｑが２の場合、２個あるＲ２は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物１の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
【００４５】
Ｒ３は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。
Ｒ、Ｌおよびｎの定義は、上述した通りである。
Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
アルキレン基が−Ｏ−を有する場合、炭素−炭素原子間またはＺ側の末端に−Ｏ−を有することが好ましい。
Ｌ１の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が特に好ましい。
【００４６】
Ｚが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒは３であり、ｑは０〜２の整数であり、０または１であることが好ましい。Ｚが窒素原子の場合、ｒは２であり、ｑは０〜１の整数であり、０が好ましい。
Ｒ３が１分子中に複数ある場合、複数あるＲ３は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物１の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
【００４７】
化合物１としては、特定化合物の非フッ素系有機溶媒に対する溶解性および表面層の耐摩擦性により優れる点で、化合物２が好ましい。
Ｒ１−［（ＯＣ２Ｈｍ１Ｆ（４−ｍ１））ａ１（ＯＣ３Ｈｍ２Ｆ（６−ｍ２））ａ２（ＯＣ４Ｈｍ３Ｆ（８−ｍ３））ａ３（ＯＣ５Ｈｍ４Ｆ（１０−ｍ４））ａ４（ＯＣ６Ｈｍ５Ｆ（１２−ｍ５））ａ５（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｒ３）ｒ−ｑ    式２
各基の定義は、上述した通りである。
【００４８】
化合物１の具体例としては、以下が挙げられる。以下の表中、ｔは１以上の整数を表す。ｔは５０以下の整数が好ましい。
【００４９】
【表１】
2019049753.tif 000002
【００５０】
【表２】
2019049753.tif 000003
【００５１】
【表３】
2019049753.tif 000004
【００５２】
【表４】
2019049753.tif 000005
【００５３】
【表５】
2019049753.tif 000006
【００５４】
特定化合物は、公知の製造方法によって製造できる。たとえば、化合物３をＨＳｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎとヒドロシリル化反応させることによって製造できる。
Ｒ１１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｙ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑ  式３
式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ、Ｚ、Ｒ２、ａ、ｂ、ｑ、ｒの定義は上述の通りであり、Ｒ１１はフッ素原子を有してもよいアルキル基、またはＹ−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑであり、Ｌ２は−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−であり、Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２がヒドロシリル化されると化合物１のＬ１になる。化合物３は、たとえばＹが−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２−の場合、Ｒ１−ＯＨを原料として公知の方法でＲ１−［（ＯＸ１）ａ（ＯＸ２）ｂ］−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５（Ｒ５は炭素数１〜６のアルキル基。）を得て、ＮＨ２−ＣＨ２−Ｚ（Ｒ２）ｑ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）ｒ−ｑと反応させて製造できる。
【００５５】
〔組成物〕
本発明の組成物（以下、「本組成物」ともいう。）は、特定化合物と、液状媒体とを含む。
【００５６】
特定化合物は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
特定化合物の含有量は、本組成物の全質量に対して、０．００１〜３０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％が特に好ましい。
【００５７】
液状媒体の具体例としては、水、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００５８】
フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
フッ素化アルカンは、炭素数４〜８の化合物が好ましく、たとえば、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＣ−６０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（バートレル：製品名、デュポン社製）が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４〜１２の化合物が好ましく、たとえば、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
【００５９】
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。
これらの非フッ素系有機溶媒の中でも、特定化合物の溶解性がより優れる点から、ケトン系有機溶媒およびエーテル系有機溶媒が好ましい。
【００６０】
液状媒体の含有量は、本組成物の全質量に対して、７０〜９９．９９９質量％が好ましく、８０〜９９．９９質量％が特に好ましい。
【００６１】
本発明の組成物は、特定化合物と液状媒体以外の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、特定化合物の製造工程で生成した副生物、未反応の原料等の製造上の不可避の化合物が挙げられる。
また、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の添加剤が挙げられる。酸触媒の具体例としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸が挙げられる。塩基性触媒の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアが挙げられる。
他の成分の含有量は、特定化合物に対して、０〜１０質量％が好ましく、０〜５質量％がより好ましく、０〜１質量％が特に好ましい。
【００６２】
〔物品〕
本発明の物品は、基材と、基材上に特定化合物または本組成物から形成されてなる表面層と、を有する。
すなわち特定化合物を含む表面処理剤は物品の表面処理のために用いられる。
【００６３】
表面層には、特定化合物の加水分解反応および縮合反応を介して得られる化合物が含まれる。
表面層の膜厚は、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の膜厚は、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＡＴＸ−Ｇ：製品名、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、この干渉パターンの振動周期から算出できる。
【００６４】
基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料の具体例としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材は、国際公開第２０１１／０１６４５８号の段落００８９〜００９５に記載の化合物やＳｉＯ２等で下地処理されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材およびディスプレイ基材が好ましく、タッチパネル用基材が特に好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ  ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であるのを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
また、基材としては、携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラスまたは樹脂フィルムも好ましい。
【００６５】
上記物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・特定化合物または本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、上記物品を得る方法。
・ウェットコーティング法によって本組成物を基材の表面に塗布し、乾燥させて、上記物品を得る方法。
なお、ウェットコーティング法においては、特定化合物を酸触媒や塩基性触媒等を用いて予め加水分解しておき、加水分解した化合物と液状媒体とを含む組成物を使用することもできる。
【００６６】
ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、特定化合物の分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適である。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に特定化合物または本組成物を含浸させたペレット状物質を使用してもよい。
ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
【００６７】
物品は、特定化合物または本組成物から形成されてなる表面層を有する面とは別の面に、他の化合物または他の化合物を含む組成物から形成されてなる表面層を有していてもよい。
他の化合物としては、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖、ならびに、ケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基のいずれか一方または両方を有する他の含フッ素エーテル化合物が挙げられる。他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物４が挙げられる。
［Ａ−Ｏ−Ｚ１−（ＲｆＯ）ｒ−］ｊＺ２［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｇ    式４
Ａは、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｋである。
Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。
ｋは１〜１０の整数である。
Ｒ、Ｌおよびｎの定義はそれぞれ、基ＢのＲ、Ｌおよびｎと同義である。
Ｚ１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基または１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基である。
Ｒｆは、ペルフルオロアルキレン基である。
ｒは、２〜２００の整数であり
Ｚ２は、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
ｊおよびｇはそれぞれ独立に、１以上の整数である。
【００６８】
他の含フッ素エーテル化合物は、市販品を使用することもできる。たとえば信越化学工業社製のＫＹ−１００シリーズ（ＫＹ−１７８、ＫＹ−１８５、ＫＹ−１９５等）、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３、オプツール（登録商標）ＵＤ５０９、ＡＧＣ社製のＡｆｌｕｉｄ（登録商標）Ｓ５５０が挙げられる。
【実施例】
【００６９】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。ただし本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、各成分の配合量は、質量基準を示す。例１〜９のうち、例１〜５、８、および９が実施例、例６および７が比較例である。【００７０】
〔評価方法〕
（溶解性）
含フッ素エーテル化合物の濃度が１質量％になるようにアセトンで希釈した希釈液について、外観を目視で観察して、以下の基準で含フッ素エーテル化合物の溶解性を評価した。
○（良好）：希釈液に含まれる成分が分離した状態が確認できず、かつ、希釈液の濁りもない。
×（不良）：希釈液に含まれる成分が分離した状態にあるか、または、希釈液の濁りがある。【００７１】
（耐摩擦性）
耐摩擦性の試験前後の評価サンプルについて、水接触角を測定した。摩擦後の水接触角の低下が小さいほど、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。水接触角の低下は、２０度以下が好ましく、１５度以下がより好ましい。
＜水接触角の測定方法＞
表面層の表面に置いた約２μＬの蒸留水の接触角（水接触角）を、接触角測定装置（ＤＭ−５００：製品名、協和界面科学社製）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
＜耐摩擦性の試験方法＞
表面層について、ＪＩＳ  Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ  １０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：製品名、旭化成社製）を荷重：１ｋｇ、摩擦長：４ｃｍ、速度：３０ｒｐｍで１万回往復させた。【００７２】
〔例１〕
化合物１−１は、以下の手順で合成した。【００７３】
【化１】
2019049753.tif 000007
【００７４】
（例１−１）
環流冷却器を接続した１００ｍＬナスフラスコに、化合物Ｘ１の１０．０ｇおよび炭酸カリウムの粉末２．６１ｇを入れた。窒素雰囲気下、１２０℃でナフフラスコ内の混合物を攪拌しながら、化合物Ｘ２の１０６．９ｇを内温が１３０℃以下になるように制御しながら、ナスフラスコ内に滴下した。全量滴下した後、ナフフラスコ内の混合物を１２０℃に保ちながらさらに１時間攪拌し、加熱を止めて２５℃に下がるまで攪拌を続けた。ナスフラスコ内に塩酸水溶液を入れて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＣ６Ｆ１３Ｈ（アサヒクリン（登録商標）ＡＣ−２０００、ＡＧＣ社製）とを加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することで、高粘度のオリゴマーを得た。再び、得られたオリゴマーをＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（アサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００、ＡＧＣ社製）の１００ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数ｎの平均値を１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求め、ｎの平均値が１３〜１６のフラクションを合わせた化合物Ｘ３の４８．０ｇを得た。【００７５】
化合物Ｘ３のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．４（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２２（４Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２７（３０Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物Ｘ３の数平均分子量：４，２６０。【００７６】
（例１−２）
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，第６４巻，１９９９年，ｐ．２５６４−２５６６に記載の方法にしたがい、例１−１で得た化合物Ｘ３を酸化して、化合物Ｘ４を得た。【００７７】
化合物Ｘ４のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．４（２Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２２（２Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（４Ｆ）、−１２７（３０Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物Ｘ４の数平均分子量：４，２７０。【００７８】
（例１−３）
１００ｍＬナスフラスコに、例１−２で得た化合物Ｘ４の４０．０ｇとメタノールの１０ｍＬを入れ、２５℃で１２時間撹拌した。ＮＭＲから、化合物Ｘ４がすべて化合物Ｘ５に変換していることを確認した。溶媒を減圧留去することにより、化合物Ｘ５の６．４０．１ｇ（収率１００％）を得た。【００７９】
化合物Ｘ５のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．４（２Ｈ）、３．９（３Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１１８（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２２（２Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２６（２Ｆ）、−１２７（２８Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物Ｘ５の数平均分子量：４，２８０。【００８０】
（例１−４）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１−３で得た化合物Ｘ５の１０．０ｇおよび化合物Ｘ６の０．４０ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、化合物Ｘ５がすべて化合物３−１に変換していることを確認した。また、副生物であるメタノールが生成していた。得られた溶液をＡＣ−２０００の９．０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ−２０００）で精製し、化合物３−１の９．２ｇ（収率８９％）を得た。【００８１】
化合物３−１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．４（８Ｈ）、３．４（２Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、５．２（６Ｈ）、５．９−６．２（３Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２８Ｆ）、−１２２（２Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２６（２Ｆ）、−１２７（２８Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物３−１の数平均分子量：４，４２０。【００８２】
（例１−５）
１０ｍＬのガラス製サンプル瓶に、例１−４で得た化合物３−１の６．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．０６ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３の１．０１ｇ、アニリンの０．０２ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の１．０ｇを入れ、４０℃で８時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物１−１の６．５ｇ（収率１００％）を得た。【００８３】
化合物１−１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（６Ｈ）、１．３〜１．７（１２Ｈ）、２．４（２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．６（２７Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２８Ｆ）、−１２２（２Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２６（２Ｆ）、−１２７（２８Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物１−１の数平均分子量：４，７８０。【００８４】
〔例２〕
化合物１−２は、以下の手順で合成した。なお、反応式については、後述の例３とあわせて示した。【００８５】
【化２】
2019049753.tif 000008
【００８６】
（例２−１）
１００ｍＬのナスフラスコに、テトラヒドロフランの５０．０ｇを入れ、０℃に冷却した。ナスフラスコ内に０．７ｍｏｌ／Ｌのアリルマグネシウムブロミドの１５ｍＬを滴下し、例１−３で得た化合物Ｘ５の２０．５ｇを滴下し、さらにナスフラスコ内の混合物を２時間撹拌した。１ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液の３０ｍＬを混合物に入れて反応を停止させ、下層をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００））で精製し、化合物３−２の１６．１ｇ（収率７８％）を得た。【００８７】
化合物３−２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．４〜２．６（６Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、５．２−５．３（４Ｈ）、５．９−６．０（２Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１１６（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２１（２Ｆ）、−１２２（２Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２７（２８Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物３−２の数平均分子量：４，３４０。【００８８】
(例２−２)
化合物３−１を例２−１で得た化合物３−２の６．０ｇに変更した以外は例１−５と同様にして、化合物１−２の６．３ｇ（収率１００％）を得た。【００８９】
化合物１−２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（４Ｈ）、１．６〜１．８（４Ｈ）、１．９〜２．０（４Ｈ）、２．４（２Ｈ）、３．６（１８Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１１６（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２１（２Ｆ）、−１２２（２Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２７（２８Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物１−２の数平均分子量：４，５８０。【００９０】
〔例３〕
化合物１−３は、以下の手順で合成した。なお、反応式については、上記例２とあわせて示した。【００９１】
（例３−１)
５０ｍＬのナスフラスコに、例２−１で得た化合物３−２の１０．０ｇ、臭化アリルの１．５ｇ、テトラブチルアンモニウムヨージドの０．０３ｇおよび水酸化カリウムの０．７ｇを入れ、混合物を８０℃で５時間撹拌した。混合物を２５℃まで冷却し、ＡＥ−３０００の１０ｇを入れ、２回水洗した。得られた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ−６０００）で精製し、化合物３−３の９．３ｇ（収率９２％）を得た。【００９２】
化合物３−３のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．４〜２．７（８Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、５．０−５．３（６Ｈ）、５．８−６．０（３Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１１（２Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２２（２Ｆ）、−１２３（４Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２７（２８Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物３−３の数平均分子量：４，３８０。【００９３】
(例３−２)
化合物３−１を例３−１で得た化合物３−３の６．０ｇに変更した以外は例１−５と同様にして、化合物１−３の６．５ｇ（収率１００％）を得た。【００９４】
化合物１−３のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．６〜０．８（６Ｈ）、１．６〜１．８（６Ｈ）、１．９〜２．０（４Ｈ）、２．４（２Ｈ）、３．６（２９Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１１（２Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２２（２Ｆ）、−１２３（４Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２７（２８Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物１−３の数平均分子量：４，７４０。【００９５】
〔例４〕
化合物１−４は、以下の手順で合成した。【００９６】
【化３】
2019049753.tif 000009
【００９７】
（例４−１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物Ｘ３の８．０ｇ、臭化アリルの０．３４ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミドの０．０８ｇおよび４８質量％水酸化カリウム水溶液の０．６０ｇを入れ、混合物を８０℃で５時間撹拌した。混合物を２５℃まで冷却し、ＡＣ−６０００の１０ｇを入れ、２回水洗した。得られた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ−６０００）で精製し、化合物Ｘ６の７．９ｇ（収率９８％）を得た。【００９８】
化合物Ｘ６のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．４（２Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．２（２Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、５．２〜５．４（２Ｈ）、５．８〜６．０（１Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２２（４Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２７（３０Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物Ｘ６の数平均分子量：４，３００。【００９９】
（例４−２）
２０ｍＬのＰＴＦＥ製密閉容器に、例４−１で得た化合物Ｘ６の７．５ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．０３ｇ、ＨＳｉＣｌ３の０．３５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの３．０ｇを入れ、混合物を４０℃で８時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、化合物Ｘ７の７．７ｇ（収率９９％）を得た。【０１００】
化合物Ｘ７のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．４〜１．５（２Ｈ）、１．９（２Ｈ）、２．４（２Ｈ）、３．６（２Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２２（４Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２７（３０Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物Ｘ７の数平均分子量：４，４３０。【０１０１】
（例４−３）
５０ｍＬのナスフラスコに、例４−２で得た化合物Ｘ７の７．５ｇおよびテトラヒドロフランの２０．０ｇを入れ、０℃に冷却した。ナスフラスコ内に０．７ｍｏｌ／Ｌのアリルマグネシウムブロミドの１２ｍＬを滴下し、さらにナスフラスコ内の混合物を２時間撹拌した。混合物を２５℃に戻してさらに８時間撹拌し、１ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液の１０ｍＬを入れて反応を停止させた。得られた混合物にＡＣ−６０００の１０ｇを入れて下層を抽出し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ−６０００）で精製し、化合物３−４の６．９ｇ（収率９２％）を得た。【０１０２】
化合物３−４のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．６（６Ｈ）、１．８（２Ｈ）、２．４（２Ｈ）、３．６（２Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、４．９（６Ｈ）、５．７〜５．９（３Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２２（４Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２７（３０Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物３−４の数平均分子量：４，４５０。【０１０３】
(例４−４)
化合物３−１を例４−３で得た化合物３−４の６．０ｇに変更した以外は例１−５と同様にして、化合物１−４の６．５ｇ（収率１００％）を得た。【０１０４】
化合物１−４のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．６〜０．８（１４Ｈ）、１．５〜１．７（８Ｈ）、２．４（２Ｈ）、３．６（２９Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２２（４Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２７（３０Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物１−４の数平均分子量：４，８１０。【０１０５】
〔例５〕
化合物１−５は、以下の手順で合成した。
化合物Ｘ１をメタノールに変更した以外は例１と同様にして、化合物１−５を得た。
ＣＨ３（ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２）ｎ−１ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２Ｃ｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝３    式１−５【０１０６】
化合物１−５のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（６Ｈ）、１．３〜１．７（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．６（２７Ｈ）、３．７（３Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１２０（２８Ｆ）、−１２６（２Ｆ）、−１２７（２６Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
単位数ｎの平均値：１４、化合物１−５の数平均分子量：４，４５０。【０１０７】
〔例６〕
化合物Ｘ８は、市販品（ワコーケミカル社製）を用いた。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３    式Ｘ８【０１０８】
〔例７〕
化合物Ｘ９は、特開２０１４−２１８６３９号公報の実施例１に記載の化合物（Ｄ）を用いた。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）２０ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝３    式Ｘ９
〔例８〕
化合物１−６は、以下の手順で合成した。
【化４】
2019049753.tif 000010
（例８−１）
２００ｍＬの３口フラスコにテトラエチレングリコール（ＴＥＧ）の１８．１７ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）の８ｇ、炭酸カリウムの３．６１ｇを加え、窒素雰囲気下６０℃で１．５時間撹拌した。その後化合物Ｘ１０の８．４９ｇを１５分かけゆっくり滴下し、そのまま６０℃で１８時間撹拌した。１Ｎ塩酸を酸性になるまで加え撹拌し、その後ＡＫ−２２５（ＡＧＣ社製）を加えた後２層分離した。有機層を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、化合物Ｘ１１を１１．１ｇ（収率６１％）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ：６〜５．８（２Ｈ）、４．２（４Ｈ）、３．６〜３．８（２８Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８４（２Ｆ）、−８６（２Ｆ）、−９０（４Ｆ）、−１２９（２Ｆ）、−１４４（２Ｆ）。
（例８−２）
２００ｍＬのナスフラスコに化合物Ｘ１１の１０ｇ、ＤＭＦの２０ｍＬ、炭酸カリウムの７．５ｇを加え、窒素雰囲気下６０℃で１時間撹拌した。その後、アリルブロミドの５ｇをゆっくり添加し、１８時間撹拌した。１Ｎ塩酸を酸性になるまで加え撹拌し、その後酢酸エチル：ヘキサンの１：１溶液を加えた後２層分離した。有機層を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、化合物３−６を１０．１ｇ（収率９１％）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ：６．２〜５．８（４Ｈ）、５．２〜５．０（４Ｈ）、４．２〜４．０（４Ｈ）、３．６〜３．８（３２Ｈ）
１９Ｆ−ＮＭＲ：-８４（２Ｆ）、−８６（２Ｆ）、−９０（４Ｆ）、−１２９（２Ｆ）、−１４４（２Ｆ）
（例８−３）
５０ｍＬのナスフラスコに化合物３−６を２．１ｇ、アニリンを０．００４７ｇ、ＡＣ−６０００（ＡＧＣ社製）を２．１ｇ、Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体を０．００９６ｇ、トリメトキシシランの０．９３ｇを加え、室温で一晩撹拌した。その後濃縮し、化合物１−６を２．６ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ：６〜５．８（２Ｈ）、４．０〜３．４（５４Ｈ）、１．６〜１．３（４Ｈ）、０．５〜０．８（４Ｈ）
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８４（２Ｆ）、−８６（２Ｆ）、−９０（４Ｆ）、−１２９（２Ｆ）、−１４４（２Ｆ）
〔例９〕
化合物１−７は、以下の手順で合成した。
【化５】
2019049753.tif 000011
（例９−１）
化合物Ｘ１２は、ＷＯ２０１３／１２１９８４の例１−１を参考に合成した。
２００ｍＬの３口フラスコに、化合物Ｘ１２の１０ｇ、エチレングリコールの１１２ｇ、炭酸カリウムの５．０ｇを加え、窒素雰囲気下４０℃で撹拌した。１Ｎ塩酸を酸性になるまで加え撹拌し、次にＡＥ−３０００（ＡＧＣ社製）を加えた後、２層分離した。有機層を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、化合物Ｘ１３を３．３ｇ（収率５５％）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ：６．５（１Ｈ）、４．１（２Ｈ）、３．９（２Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８４（２Ｆ）、−８６（２Ｆ）、−１２０（２Ｆ）、−１２６（２Ｆ）、−１４４（１Ｆ）。
（例９−２）
還流冷却器を接続した２００ｍＬのナスフラスコに、化合物Ｘ１２の１００ｇ、化合物Ｘ１３の１０ｇ、炭酸カリウムの９．２ｇを加え、窒素雰囲気下、６０℃で撹拌した。その後、１Ｎ塩酸を酸性になるまで加え撹拌し、次にＡＥ−３０００（ＡＧＣ社製）を加えた後、２層分離した。有機層を濃縮した後、化合物Ｘ１４を７０ｇ（収率６４％）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ：６．５（１０Ｈ）、４．１（２０Ｈ）、３．９（４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８４（２０Ｆ）、−８６（２０Ｆ）、−１２０（２０Ｆ）、−１２６（２０Ｆ）、−１４４（１０Ｆ）。
化合物Ｘ１４の数平均分子量は、３５００。
（例９−３）
２００ｍＬのナスフラスコに化合物Ｘ１４の２０ｇ、ＤＭＦの５０ｍＬ、炭酸カリウムの１５ｇを加え、窒素雰囲気下６０℃で１時間撹拌した。その後、アリルブロミドの１０ｇをゆっくり添加し撹拌した。１Ｎ塩酸を酸性になるまで加え撹拌し、次にＡＥ−３０００（ＡＧＣ社製）を加えた後、２層分離した。有機層を濃縮した後、化合物３−７を１８ｇ（収率９０％）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ：６．５（１０Ｈ）、６．１〜５．８（２Ｈ）、５．２〜５．０（４Ｈ）、４．２（４Ｈ）、４．１（２０Ｈ）、３．９（４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８４（２０Ｆ）、−８６（２０Ｆ）、−１２０（２０Ｆ）、−１２６（２０Ｆ）、−１４４（１０Ｆ）。
化合物３−７の数平均分子量は、３６００。（例９−４）
５０ｍＬのナスフラスコに化合物３−７を２．１ｇ、アニリンを０．００４７ｇ、ＡＣ−６０００（ＡＧＣ社製）を２．１ｇ、Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体を０．００９６ｇ、トリメトキシシランの０．９３ｇを加え、室温で一晩撹拌した。その後濃縮し、化合物１−７を２．６ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ：６．５（１０Ｈ）、４．２（４Ｈ）、４．１（２０Ｈ）、３．８（４Ｈ）、１．６〜１．３（４Ｈ）、０．５〜０．８（４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８４（２Ｆ）、−８６（２Ｆ）、−９０（４Ｆ）、−１２９（２Ｆ）、−１４４（２Ｆ）。
化合物１−７の数平均分子量は、３８００。【０１０９】
〔評価サンプルの作製〕
各例によって得られた化合物を用いて、以下のウェットコーティング法にて基材の表面処理を行い、基材（化学強化ガラス）の表面に表面層が形成されてなる評価サンプルを得た。ただし、化合物Ｘ９は溶解性が不充分であったため、評価サンプルを作成しなかった。
得られた評価サンプルを用いて、上述の評価試験を実施し、結果を表６に示す。【０１１０】
各例によって得られた化合物と、アセトンとを混合して、化合物の濃度が０．０５質量％であるウェットコーティング用の組成物を得た。
各組成物に基材をディッピングし、３０分間放置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ−２２５にて洗浄することによって、基材の表面に表面層を有する評価サンプル（物品）を得た。【０１１１】
【表６】
2019049753.tif 000012
【０１１２】
表６の通り、特定化合物は、非フッ素系有機溶媒に対する溶解性に優れ、これを用いて形成された表面層の耐摩擦性にも優れることを確認した（例１〜５、８、９）。
【産業上の利用可能性】
【０１１３】
本発明の含フッ素エーテル化合物は、撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえば、タッチパネル等の表示入力装置のコート、透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート、電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート、導通しながら撥液が必要な部材へのコート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器のコート（たとえば、表示部等に使用するガラスまたはフィルムに対するコート、ならびに、表示部以外の外装部分に使用するガラスまたはフィルムに対するコート）、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材のコート、配線板用防水コーティング、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コート等が挙げられる。
なお、２０１７年０９月０５日に出願された日本特許出願２０１７−１７００８５号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【国際調査報告】
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