(57)【要約】  光走査装置（１）は、光源（１０）と、基板（１３）と、反射部材（２０）と、駆動部（２５）と、制御部（３０）とを備える。基板（１３）には、走査ミラー（１５）と姿勢検出部（１８）とが一体化されている。姿勢検出部（１８）は、基板（１３）の姿勢角に応じた第１の信号（３１）を出力する。反射部材（２０）は、走査ミラー（１５）で反射された光ビーム（１１）を反射する。駆動部（２５）は、基板（１３）の主面（１３ｍ）に対する反射部材（２０）の傾きを調整し得る。制御部（３０）は、第１の信号（３１）に基づいて駆動部（２５）を制御する。そのため、水平面（４５）に対する光走査装置（１）の傾きに依らずに、水平面（４５）に対する光走査装置（１）からの光ビーム（１１）の出射角度が安定的に維持され得る。
2018230024.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
基板とを備え、前記基板には走査ミラーと姿勢検出部とが一体化されており、前記走査ミラーは、前記光源から出射された光ビームを反射しかつ走査し得るように構成されており、前記走査ミラーは前記基板の主面に設けられており、前記姿勢検出部は、前記基板の姿勢角に応じた第１の信号を出力し得るように構成されており、さらに、
前記走査ミラーで反射された前記光ビームを反射し得るように構成されている反射部材と、
前記基板の前記主面に対する前記反射部材の傾きを調整し得るように構成されている駆動部と、
前記第１の信号に基づいて前記駆動部を制御し得るように構成されている制御部とを備える、光走査装置。
【請求項２】
前記姿勢検出部は、加速度センサ及び傾斜計のいずれかを含む、請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記姿勢検出部は、ＭＥＭＳ加速度センサを含む、請求項１に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記姿勢検出部は、前記基板の前記主面内の一つの方向における前記基板の前記姿勢角に応じた前記第１の信号を出力し得るように構成されている、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記姿勢検出部は、前記基板の前記主面内において互いに交差する二つの方向における前記基板の前記姿勢角に応じた前記第１の信号を出力し得るように構成されている、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記走査ミラーは、二次元走査ミラーである、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記走査ミラーは、前記走査ミラーに対する前記光ビームの入射角が維持されながら、前記走査ミラーに入射する前記光ビームの光軸のまわりに首振り運動し得るように構成されている、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記走査ミラーは、前記走査ミラーに対する前記光ビームの入射角が変化しながら、前記走査ミラーに入射する前記光ビームの光軸のまわりに首振り運動し得るように構成されている、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の前記光走査装置を備える、移動体。
【請求項１０】
前記移動体の加速度を得るように構成された移動体加速度検出部をさらに備え、
前記制御部は、前記姿勢検出部から出力される前記第１の信号と前記移動体の前記加速度とに基づいて前記駆動部を制御し得るように構成されている、請求項９に記載の移動体。
【請求項１１】
車輪をさらに備え、
前記移動体加速度検出部は、車輪速センサと演算部とを含み、
前記車輪速センサは、前記車輪の回転角速度を検出し得るように構成されており、
前記演算部は、前記回転角速度から前記移動体の前記加速度を算出し得るように構成されている、請求項１０に記載の移動体。
【請求項１２】
光走査装置の制御方法であって、
前記光走査装置は、
光源と、
基板とを含み、前記基板には走査ミラーと姿勢検出部とが一体化されており、前記走査ミラーは前記光源から出射された光ビームを反射しかつ走査し、前記走査ミラーは前記基板の主面に設けられており、さらに、
前記走査ミラーで反射された前記光ビームを反射する反射部材を含み、
前記光走査装置の前記制御方法は、
前記姿勢検出部が前記基板の姿勢角に応じた第１の信号を出力することと、
前記第１の信号に基づいて、前記基板の前記主面に対する前記反射部材の傾きを調整することとを備える、光走査装置の制御方法。
【請求項１３】
前記姿勢検出部は、前記基板の前記主面内の一つの方向における前記基板の前記姿勢角に応じた前記第１の信号を出力する、請求項１２に記載の光走査装置の制御方法。
【請求項１４】
前記姿勢検出部は、前記基板の前記主面内において互いに交差する二つの方向における前記基板の前記姿勢角に応じた前記第１の信号を出力する、請求項１２に記載の光走査装置の制御方法。
【請求項１５】
前記反射部材の前記傾きを調整することは、前記第１の信号の逆正弦関数から前記基板の前記姿勢角である第１の角度を算出することと、前記反射部材を第２の角度だけ傾けることとを含み、
前記第２の角度は前記第１の角度の−０．５倍である、請求項１３または請求項１４に記載の光走査装置の制御方法。
【請求項１６】
前記光走査装置が組み込まれる移動体の加速度を得ることをさらに備え、
前記走査ミラーで反射された前記光ビームに対する前記反射部材の前記傾きは、前記第１の信号と前記移動体の前記加速度とに基づいて調整される、請求項１２から請求項１４のいずれか１項に記載の光走査装置の制御方法。
【請求項１７】
前記反射部材の前記傾きを調整することは、前記第１の信号に含まれる前記移動体の前記加速度の寄与分だけ前記第１の信号を補正して第２の信号を得ることと、前記第２の信号の逆正弦関数から前記基板の前記姿勢角である第１の角度を算出することと、前記反射部材を第２の角度だけ傾けることとを含み、
前記第２の角度は前記第１の角度の−０．５倍である、請求項１６に記載の光走査装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置及びその制御方法並びに移動体に関する。
【背景技術】
【０００２】
特開２００８−３１０２０４号公報（特許文献１）は、光ビームを発生する光源ユニットと、光ビームの伝搬軸上に配置された光走査手段とを備える光走査装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−３１０２０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に開示された光走査装置では、光走査装置が水平面に対して傾いたときに、水平面に対する光走査装置からの光ビームの出射角度が変化してしまうという問題があった。本発明は、上記の課題を鑑みてなされたものであり、その目的は、水平面に対する光走査装置の傾きに依らずに、水平面に対する光走査装置からの光ビームの出射角度が安定的に維持され得る光走査装置及びその制御方法を提供することである。本発明の別の目的は、このような光走査装置を備える移動体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の光走査装置は、光源と、基板とを備える。基板には、走査ミラーと姿勢検出部とが一体化されている。走査ミラーは、光源から出射された光ビームを反射しかつ走査し得るように構成されている。走査ミラーは基板の主面に設けられている。姿勢検出部は、基板の姿勢角に応じた第１の信号を出力し得るように構成されている。本発明の光走査装置は、反射部材と、駆動部と、制御部とをさらに備える。反射部材は、走査ミラーで反射された光ビームを反射し得るように構成されている。駆動部は、基板の主面に対する反射部材の傾きを調整し得るように構成されている。制御部は、第１の信号に基づいて駆動部を制御し得るように構成されている。【０００６】
本発明の移動体は、本発明の光走査装置を備える。
本発明の光走査装置の制御方法であって、光走査装置は、光源と、基板と、反射部材とを含む。基板には走査ミラーと姿勢検出部とが一体化されている。走査ミラーは、光源から出射された光ビームを反射しかつ走査する。走査ミラーは、基板の主面に設けられている。反射部材は、走査ミラーで反射された光ビームを反射する。本発明の光走査装置の制御方法は、姿勢検出部が基板の姿勢角に応じた第１の信号を出力することと、第１の信号に基づいて、基板の主面に対する反射部材の傾きを調整することとを備える。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の光走査装置では、姿勢検出部から出力される、基板の姿勢角に応じた第１の信号に基づいて、基板の主面に対する反射部材の傾きが調整され得る。さらに、基板には走査ミラーと姿勢検出部とが一体化されているため、走査ミラーを含む光走査装置の光学系に対する姿勢検出部の位置及び傾きは実質的に不変である。そのため、姿勢検出部は、水平面に対する、走査ミラーを含む光走査装置の光学系の姿勢を、安定的かつ正確に検出し得る。本発明の光走査装置によれば、水平面に対する光走査装置の傾きに依らずに、水平面に対する光走査装置からの光ビームの出射角度は安定的に維持され得る。【０００８】
本発明の移動体では、姿勢検出部から出力される、基板の姿勢角に応じた第１の信号に基づいて、基板の主面に対する反射部材の傾きが調整され得る。さらに、基板には走査ミラーと姿勢検出部とが一体化されているため、走査ミラーを含む光走査装置の光学系に対する姿勢検出部の位置及び傾きは実質的に不変である。そのため、姿勢検出部は、水平面に対する、走査ミラーを含む光走査装置の光学系の姿勢を、安定的かつ正確に検出し得る。本発明の移動体によれば、光走査装置が組み込まれた移動体が傾斜面上を移動しても、水平面に対する光走査装置からの光ビームの出射角度は安定的に維持され得る。【０００９】
本発明の光走査装置の制御方法では、姿勢検出部から出力される、基板の姿勢角に応じた第１の信号に基づいて、基板の主面に対する反射部材の傾きが調整され得る。さらに、基板には走査ミラーと姿勢検出部とが一体化されているため、走査ミラーを含む光走査装置の光学系に対する姿勢検出部の位置及び傾きは実質的に不変である。そのため、姿勢検出部は、水平面に対する、走査ミラーを含む光走査装置の光学系の姿勢を、安定的かつ正確に検出し得る。本実施の形態の光走査装置の制御方法によれば、水平面に対する光走査装置の傾きに依らずに、水平面に対する光走査装置からの光ビームの出射角度は安定的に維持され得る。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施の形態１に係る光走査装置の概略側面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる光源及び走査ミラーの概略部分拡大側面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる反射部材及び第１の駆動部の概略部分拡大側面図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る光走査装置の制御ブロック図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の概略部分拡大平面図である。
【図６】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の、図５に示される断面線ＶＩ−ＶＩにおける概略断面図である。
【図７】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の、図５に示される断面線ＶＩＩ−ＶＩＩにおける概略断面図である。
【図８】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラーの、図５に示される断面線ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩにおける概略断面図である。
【図９】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の図６に示される部分の製造方法の一工程を示す概略部分拡大断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の図７に示される部分の製造方法の一工程を示す概略部分拡大断面図である。
【図１１】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図９に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図１２】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図１０に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図１３】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図１１に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図１４】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図１２に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図１５】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図１３に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図１６】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図１４に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図１７】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図１５に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図１８】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図１６に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図１９】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図１７に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図２０】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図１８に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図２１】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図１９に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図２２】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の製造方法における、図２０に示される工程の次工程を示す概略部分拡大平面図である。
【図２３】本発明の実施の形態１に係る光走査装置の概略側面図である。
【図２４】本発明の実施の形態１に係る光走査装置に含まれる姿勢検出部の概略部分拡大側面図である。
【図２５】本発明の実施の形態１に係る光走査装置の制御方法のフローチャートを示す図である。
【図２６】本発明の実施の形態１の第１の変形例に係る光走査装置の概略側面図である。
【図２７】本発明の実施の形態１の第２の変形例に係る光走査装置の概略側面図である。
【図２８】本発明の実施の形態２に係る光走査装置の概略側面図である。
【図２９】本発明の実施の形態２に係る光走査装置に含まれる走査ミラー及び姿勢検出部の概略部分拡大平面図である。
【図３０】本発明の実施の形態２に係る光走査装置の概略側面図である。
【図３１】本発明の実施の形態２に係る光走査装置に含まれる姿勢検出部の概略部分拡大側面図である。
【図３２】本発明の実施の形態２に係る光走査装置の概略背面図である。
【図３３】本発明の実施の形態２に係る光走査装置に含まれる姿勢検出部の概略部分拡大背面図である。
【図３４】本発明の実施の形態２に係る光走査装置の制御ブロック図である。
【図３５】本発明の実施の形態２に係る光走査装置の制御方法のフローチャートを示す図である。
【図３６】本発明の実施の形態３に係る光走査装置の概略側面図である。
【図３７】本発明の実施の形態３に係る光走査装置の概略側面図である。
【図３８】本発明の実施の形態３に係る光走査装置に含まれる姿勢検出部の概略部分拡大側面図である。
【図３９】本発明の実施の形態３に係る光走査装置の制御ブロック図である。
【図４０】本発明の実施の形態３に係る光走査装置の制御方法のフローチャートを示す図である。
【図４１】本発明の実施の形態３に係る光走査装置の制御方法に含まれる移動体の加速度を得る工程のフローチャートを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、同一の構成には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。
【００１２】
実施の形態１．
図１から図２４、図２６及び図２７を参照して、実施の形態１に係る光走査装置１及び移動体５を説明する。本実施の形態の光走査装置１は、光源１０と、基板１３と、反射部材２０と、第１の駆動部２５と、制御部３０とを主に備える。本実施の形態の光走査装置１は、筐体２８をさらに備えてもよい。本実施の形態の移動体５は、光走査装置１を主に備える。本実施の形態の移動体５は、本体部４０と車輪４２とをさらに備えてもよい。
【００１３】
図１及び図２に示されるように、光源１０は、光ビーム１１を出射し得るように構成されている。具体的には、光源１０は、基板１３の主面１３ｍの法線に平行な第３の方向（例えば、ｚ方向）に沿って、走査ミラー１５に向けて、光ビーム１１を出射してもよい。光源１０から出射される光ビーム１１の光軸１２は、第３の方向（例えば、ｚ方向）に平行であってもよい。光走査装置１が組み込まれた移動体５が水平面４５上を移動するとき、または、移動体５が水平面４５上に静止しているとき、第３の方向（例えば、ｚ方向）は重力方向であってもよい。光源１０は、特に限定されないが、レーザダイオード（ＬＤ）のようなレーザ光源であってもよいし、発光ダイオード素子（ＬＥＤ）であってもよい。光源１０から出射された光ビーム１１は、コリメートレンズ（図示せず）によって、平行光に変換されてもよい。
【００１４】
図６から図８に示されるように、基板１３は、特に限定されないが、シリコンオンインシュレータ（ＳＯＩ）基板であってもよい。具体的には、基板１３は、非導電性基板１０１と、非導電性基板１０１上に設けられた第１の絶縁層１０２と、第１の絶縁層１０２上に設けられた第１の導電性半導体層１０３とを含んでもよい。非導電性基板１０１は、例えば、非導電性単結晶シリコン基板であってもよい。第１の絶縁層１０２は、例えば、二酸化シリコン層であってもよい。第１の導電性半導体層１０３は、導電性単結晶シリコン層であってもよい。基板１３は、主面１３ｍを有している。主面１３ｍは第１の方向（例えば、ｘ方向）と、第１の方向に直交する第２の方向（例えば、ｙ方向）とに延在している。光走査装置１が組み込まれた移動体５が水平面４５上を移動するとき、第１の方向（例えば、ｘ方向）は、例えば、移動体５の進行方向７であってもよく、第２の方向（例えば、ｙ方向）は、例えば、移動体５の進行方向７及び重力方向に直交する移動体５の幅方向であってもよい。なお、本明細書において、ｘｙｚ座標系は、基板１３に対して固定されている。
【００１５】
図１、図２、図５から図８に示されるように、基板１３には、走査ミラー１５と姿勢検出部１８とが一体化されている。
【００１６】
走査ミラー１５は、光源１０から出射された光ビーム１１を反射しかつ走査し得るように構成されている。走査ミラー１５は基板１３の主面１３ｍに設けられている。走査ミラー１５は、一次元走査ミラーであってもよいし、図１、図２及び図５から図８に示されるように二次元走査ミラーであってもよい。具体的には、走査ミラー１５は、基板１３の第１の開口１３ｃ内に設けられている。走査ミラー１５は、反射ミラー部５０と、反射ミラー部５０を駆動する第２の駆動部（５１，５２，５３）とを含んでもよい。第２の駆動部（５１，５２，５３）は、特に限定されないが、第３の方向（例えば、ｚ方向）に変形可能な第１の梁５１，５２，５３を含んでもよい。第１の梁５１，５２，５３は、基板１３に接続されるとともに、反射ミラー部５０を支持している。第２の駆動部（５１，５２，５３）は、静電引力または電磁力を用いて反射ミラー部５０を駆動してもよい。
【００１７】
特定的には、反射ミラー部５０は、反射膜（１１２）を含む。反射ミラー部５０は、非導電性基板１０１と、非導電性基板１０１上に設けられた第１の絶縁層１０２と、第１の絶縁層１０２上に設けられた第１の導電性半導体層１０３と、第１の導電性半導体層１０３上に設けられた第２の絶縁層１０５とをさらに含んでもよく、反射膜（１１２）は、第２の絶縁層１０５上に設けられてもよい。そのため、反射膜（１１２）の撓みが減少され得る。第２の絶縁層１０５は、例えば、二酸化シリコン層であってもよい。反射膜（１１２）は、特に限定されないが、金層１１２であってもよい。基板１３の主面１３ｍの平面視において、反射ミラー部５０及び反射膜（１１２）は、特に限定されないが、円形の形状を有してもよい。第１の梁５１，５２，５３は、それぞれ、接続部５６，５７，５８を介して、反射ミラー部５０に接続されている。
【００１８】
第１の梁５１は、第１の導電性半導体層１０３と、第１の導電性半導体層１０３上に設けられた第２の絶縁層１０５と、第２の絶縁層１０５上に設けられた第１の電極層１０６と、第１の電極層１０６上に設けられた圧電層１１０と、圧電層１１０上に設けられた第２の電極層（１１２）とを含んでもよい。第１の電極層１０６は、例えば、白金（Ｐｔ）層であってもよい。圧電層１１０は、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）のような圧電材料で形成されてもよい。第２の電極層（１１２）は、例えば、金層１１２であってもよい。第１の梁５２，５３は、第１の梁５１と同様に構成されている。
【００１９】
図１及び図２３に示されるように、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）は、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）に対する光ビーム１１の入射角θが維持されながら、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）に入射する光ビーム１１の光軸１２のまわりに首振り運動し得るように構成されてもよい。すなわち、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）は、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）に入射する光ビーム１１に対して走査ミラー１５（反射ミラー部５０）を一定の入射角θで傾斜させたまま、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）の中央を中心に、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）に入射する光ビーム１１の光軸１２のまわりに回転してもよい。具体的には、第１の梁５１の第２の電極層（１１２）と第１の梁５２の第２の電極層（１１２）と第１の梁５３の第２の電極層（１１２）とに、それぞれ、同じ周波数と同じ振幅とを有しかつ位相が互いに１２０°異なる交流電圧が印加されてもよい。図２に示されるように、入射角θは、光源１０から出射された光ビーム１１の光軸１２と走査ミラー１５（反射ミラー部５０）の法線１６との間の角度として定義される。走査ミラー１５（反射ミラー部５０）で反射された光ビーム１１と光源１０から出射された光ビーム１１の光軸１２との間の角度は２θで与えられる。
【００２０】
姿勢検出部１８は、基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１を出力し得るように構成されている。基板１３の姿勢角は、水平面４５に対して基板１３の主面１３ｍがなす角度として定義される。特定的には、姿勢検出部１８は、基板１３の主面１３ｍ内の一つの方向における基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１を出力し得るように構成されてもよい。本実施の形態では、この一つの方向は、第１の方向（例えば、ｘ方向）であってもよい。本実施の形態の変形例では、この一つの方向は、第２の方向（例えば、ｙ方向）であってもよい。基板１３には、走査ミラー１５と姿勢検出部１８とが一体化されている。走査ミラー１５は、光走査装置１の光学系に含まれている。そのため、姿勢検出部１８によって検出される基板１３の姿勢角は、水平面４５に対する光走査装置１の光学系の姿勢角でもある。すなわち、姿勢検出部１８は、水平面４５に対する、走査ミラー１５を含む光走査装置１の光学系の姿勢角を検出し得る。
【００２１】
姿勢検出部１８は、加速度センサ及び傾斜計のいずれかを含んでもよい。傾斜計は、特に限定されないが、液面式の傾斜角センサであってもよいし、振子式の傾斜角センサであってもよい。液面式の傾斜角センサは、容器に封入したシリコンオイルのような液体の表面に対する容器の傾斜角度から、対象物の傾斜角度を検出する。振子式の傾斜角センサは、容器の内部に装備した振子に対する容器の傾斜角度から、対象物の傾斜角度を検出する。
【００２２】
図５から図７に示されるように、姿勢検出部１８は、ＭＥＭＳ（Micro  Electro  Mechanical  Systems）加速度センサであってもよい。具体的には、姿勢検出部１８は、基板１３の第２の開口１３ｄ内に設けられている。姿勢検出部１８は、慣性質量体６０と、基板１３に接続されるとともに慣性質量体６０を支持する第２の梁６１，６２と、慣性質量体６０に接続された第１の可動櫛歯電極６５，６６と、第２の開口１３ｄ内に設けられた基板１３の第１の固定部１３ｆ，１３ｇにそれぞれ接続された第１の固定櫛歯電極６７，６８とを含んでもよい。
【００２３】
特定的には、慣性質量体６０は、第１の導電性半導体層１０３を含んでもよい。慣性質量体６０は、第１の側面６０ａと、第１の側面６０ａとは反対側の第２の側面６０ｂと、第１の側面６０ａと第２の側面６０ｂとを接続する第３の側面６０ｃと、第３の側面６０ｃとは反対側の第４の側面６０ｄとを有する。第４の側面６０ｄは、第１の側面６０ａと第２の側面６０ｂとを接続する。第２の梁６１，６２は、第１の導電性半導体層１０３を含んでもよい。第２の梁６１，６２は、慣性質量体６０が第１の方向（例えば、ｘ方向）に変位し得るように構成されてもよい。第２の梁６１は、慣性質量体６０の第３の側面６０ｃと基板１３とを接続する。第２の梁６２は、慣性質量体６０の第４の側面６０ｄと基板１３とを接続する。
【００２４】
第１の可動櫛歯電極６５，６６は、第１の導電性半導体層１０３を含んでもよい。第１の可動櫛歯電極６５は、慣性質量体６０の第１の側面６０ａから、第２の方向（例えば、ｙ方向）に延在してもよい。第１の可動櫛歯電極６５は、第２の方向（例えば、ｙ方向）において、第１の固定部１３ｆから離間されている。第１の可動櫛歯電極６６は、慣性質量体６０の第２の側面６０ｂから、第２の方向（例えば、ｙ方向）に延在してもよい。第１の可動櫛歯電極６６は、第２の方向（例えば、ｙ方向）において、第１の固定部１３ｇから離間されている。
【００２５】
基板１３の主面１３ｍの平面視において、慣性質量体６０は、第１の固定部１３ｆと第１の固定部１３ｇとの間に配置されている。第１の固定部１３ｆと慣性質量体６０と第１の固定部１３ｇとは、第２の方向（例えば、ｙ方向）において、この順に配置されている。第１の固定部１３ｆ、１３ｇは、非導電性基板１０１と、非導電性基板１０１上に設けられた第１の絶縁層１０２と、第１の絶縁層１０２上に設けられた第１の導電性半導体層１０３を含んでもよい。
【００２６】
第１の固定櫛歯電極６７，６８は、第１の導電性半導体層１０３を含んでもよい。第１の固定櫛歯電極６７は、第１の固定部１３ｆから第２の方向（例えば、ｙ方向）に延在してもよい。第１の固定櫛歯電極６７は、第２の方向（例えば、ｙ方向）において、慣性質量体６０から離間されている。第１の固定部１３ｆ及び第１の固定櫛歯電極６７は、慣性質量体６０の第１の側面６０ａに面している。第１の固定櫛歯電極６８は、第１の固定部１３ｇから第２の方向（例えば、ｙ方向）に延在してもよい。第１の固定櫛歯電極６８は、第２の方向（例えば、ｙ方向）において、慣性質量体６０から離間されている。第１の固定部１３ｇ及び第１の固定櫛歯電極６８は、慣性質量体６０の第２の側面６０ｂに面している。
【００２７】
第１の固定櫛歯電極６７は、第１の方向（例えば、ｘ方向）において、第１の可動櫛歯電極６５から離間されている。第１の可動櫛歯電極６５と第１の固定櫛歯電極６７とは、第１の方向（例えば、ｘ方向）から見たときに、互いに重なるように配置されてもよい。第１の可動櫛歯電極６５と第１の固定櫛歯電極６７との間に静電容量が形成されている。第１の固定櫛歯電極６８は、第１の方向（例えば、ｘ方向）において、第１の可動櫛歯電極６６から離間されている。第１の可動櫛歯電極６６と第１の固定櫛歯電極６８とは、第１の方向（例えば、ｘ方向）から見たときに、互いに重なるように配置されてもよい。第１の可動櫛歯電極６６と第１の固定櫛歯電極６８との間に静電容量が形成されている。
【００２８】
詳しくは後で述べるが、図２３及び図２４に示されるように、第１の方向（例えば、ｘ方向）における水平面４５に対する基板１３の傾斜角（α）、すなわち、水平面４５に対する光走査装置１の傾斜角（α）に応じて、第１の可動櫛歯電極６５，６６と第１の固定櫛歯電極６７，６８との間の間隔は変化する。第１の方向（例えば、ｘ方向）における水平面４５に対する基板１３の傾斜角（α）は、第１の可動櫛歯電極６５，６６と第１の固定櫛歯電極６７，６８との間に形成される静電容量の変化として検出される。本実施の形態では、姿勢検出部１８は、静電容量の変化を検出し得る加速度センサである。姿勢検出部１８は、例えば、ひずみゲージまたは半導体材料のピエゾ効果による電気抵抗の変化を検出し得る加速度センサであってもよい。
【００２９】
図５から図２２を参照して、光走査装置１に含まれる走査ミラー１５及び姿勢検出部１８の製造方法の一例を説明する。
【００３０】
図９及び図１０に示されるように、本実施の形態における走査ミラー１５及び姿勢検出部１８の製造方法は、基板１３を準備することを含む。基板１３は、特に限定されないが、シリコンオンインシュレータ（ＳＯＩ）基板１３であってもよい。具体的には、基板１３は、非導電性基板１０１と、非導電性基板１０１上に設けられた第１の絶縁層１０２と、第１の絶縁層１０２上に設けられた第１の導電性半導体層１０３とを含んでもよい。
【００３１】
図１１及び図１２に示されるように、本実施の形態における走査ミラー１５及び姿勢検出部１８の製造方法は、第１の導電性半導体層１０３上にパターニングされた第２の絶縁層１０５を形成することを含む。第１の導電性半導体層１０３の全面上に第２の絶縁層１０５が形成され、それから、フォトリソグラフィ工程とエッチング工程とによって、第２の絶縁層１０５の一部が除去されて、第２の絶縁層１０５がパターニングされてもよい。第２の絶縁層１０５は、例えば、二酸化シリコン層であってもよい。
【００３２】
図１３に示されるように、本実施の形態における走査ミラー１５及び姿勢検出部１８の製造方法は、第１の梁５１，５２，５３に含まれる第２の絶縁層１０５上に、第１の電極層１０６を形成することを含む。図１４に示されるように、反射ミラー部５０に含まれる第２の絶縁層１０５上には、第１の電極層１０６は形成されない。第１の電極層１０６は、例えば、白金（Ｐｔ）層であってもよい。
【００３３】
図１５に示されるように、本実施の形態における走査ミラー１５及び姿勢検出部１８の製造方法は、第１の電極層１０６上に、圧電層１１０を形成することを含む。図１６に示されるように、反射ミラー部５０に含まれる第２の絶縁層１０５上には、圧電層１１０は形成されない。圧電層１１０は、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）のような圧電材料で形成されてもよい。
【００３４】
図１７及び図１８に示されるように、本実施の形態における走査ミラー１５及び姿勢検出部１８の製造方法は、圧電層１１０上と、反射ミラー部５０に含まれる第２の絶縁層１０５上とに、パターニングされた金層１１２を形成することを含む。第１の梁５１，５２，５３に含まれる金層１１２は、第２の電極層（１１２）に相当する。反射ミラー部５０に含まれる金層１１２は、反射膜（１１２）に相当する。
【００３５】
図１９及び図２０に示されるように、本実施の形態における走査ミラー１５及び姿勢検出部１８の製造方法は、第１の導電性半導体層１０３をパターニングすることを含む。具体的には、第１の導電性半導体層１０３の一部をエッチングすることによって、第１の導電性半導体層１０３がパターニングされてもよい。図２１及び図２２に示されるように、本実施の形態における走査ミラー１５及び姿勢検出部１８の製造方法は、非導電性基板１０１をパターニングすることを含む。具体的には、非導電性基板１０１の一部をエッチングすることによって、非導電性基板１０１がパターニングされてもよい。最後に、本実施の形態における走査ミラー１５及び姿勢検出部１８の製造方法は、第１の絶縁層１０２をパターニングすることを含む。具体的には、第１の絶縁層１０２の一部をエッチングすることによって、第１の絶縁層１０２がパターニングされてもよい。こうして、図５から図８に示される走査ミラー１５及び姿勢検出部１８が製造される。
【００３６】
図１、図３及び図２３に示されるように、反射部材２０は、走査ミラー１５で反射された光ビーム１１を反射し得るように構成されている。反射部材２０は、第１の駆動部２５に回転可能に取り付けられている。反射部材２０の中心軸２３は、光源１０から出射される光ビーム１１の光軸１２と同軸であってもよい。反射部材２０は、反射面２１を有している。反射面２１は、水平面４５に対して、傾斜角φで傾いている。反射部材２０は、例えば、円錐台の形状を有してもよく、円錐台の側面に反射面２１が形成されてもよい。反射部材２０で反射された光ビーム１１は、例えば、水平面４５に沿って、光走査装置１から出射される。走査ミラー１５（反射ミラー部５０）に入射される光ビーム１１と反射面２１で反射された光ビーム１１との間の角度が９０°であるとき、入射角θ及び傾斜角φは、以下の式（１）で表される関係を有している。
【００３７】
２θ＋２φ＝９０°    （１）
第１の駆動部２５は、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きを調整し得るように構成されている。第１の駆動部２５は、走査ミラー１５で反射された光ビーム１１に対する反射部材２０の傾きを調整し得るように構成されている。特定的には、第１の駆動部２５は、姿勢検出部１８によって検出された基板１３の姿勢角あるいは光走査装置１の姿勢角に応じて、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きを調整する。第１の駆動部２５は、水平面４５に対する基板１３の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角が維持されるように、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きを調整し得る。さらに特定的には、第１の駆動部２５は、水平面４５に対する基板１３の傾きに依らずに、光走査装置１から出射される光ビーム１１が水平面４５に平行に進行するように、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きを調整し得る。第１の駆動部２５は、反射部材２０の中心軸２３上の一点を中心に、反射部材２０を、第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりに傾けることができる。第１の駆動部２５は、例えば、モータであってもよい。
【００３８】
制御部３０は、第１の信号３１に基づいて第１の駆動部２５を制御し得るように構成されている。具体的には、制御部３０は、姿勢検出部１８から出力された第１の信号３１を受信する。本実施の形態では、第１の信号３１は、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第１の方向の成分Ｇxの比Ｇx／Ｇを含む。制御部３０は、第１の信号３１から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出する。制御部３０は、第１の角度（α）から、反射部材２０を傾ける角度である第２の角度（−α／２）を算出する。制御部３０は、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）の動作をさらに制御してもよい。特定的には、制御部３０は、反射ミラー部５０を支持する第１の梁５１，５２，５３の第１の電極層１０６と第２の電極層（１１２）との間に印加される電圧を制御してもよい。
【００３９】
筐体２８は、光源１０と、基板１３と、反射部材２０と、第１の駆動部２５とを収容する。筐体２８は、制御部３０をさらに収容してもよい。基板１３及び制御部３０は、筐体２８の底面に固定されてもよい。第１の駆動部２５は、筐体２８の頂面に固定されてもよい。光源１０は、筐体２８に固定されてもよい。
【００４０】
図１を参照して、光走査装置１が組み込まれた移動体５が水平面４５上を進行方向７に向かって等速運動しているとき、または、移動体５が水平面４５上に静止しているときの、光走査装置１の動作を説明する。進行方向７は、第１の方向（例えば、ｘ方向）に平行である。光源１０から出射された光ビーム１１は、走査ミラー１５と反射部材２０とで反射されて、光走査装置１から出射される。光走査装置１から出射される光ビーム１１は、例えば、水平面４５に平行に進む。走査ミラー１５（反射ミラー部５０）は、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）に対する光ビーム１１の入射角θが維持されながら、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）に入射する光ビーム１１の光軸１２のまわりに首振り運動する。そのため、移動体５に組み込まれた光走査装置１は、水平方向の全周囲を光ビーム１１で走査することができる。
【００４１】
光走査装置１が組み込まれた移動体５が水平面４５上を進行方向７に向かって等速運動している、または、移動体５が水平面４５上に静止しているため、姿勢検出部１８の慣性質量体６０には、第１の方向に沿う力が加わらない。慣性質量体６０は基板１３の第１の固定部１３ｆ，１３ｇに対して変位しない。姿勢検出部１８は、第１の可動櫛歯電極６５，６６と第１の固定櫛歯電極６７，６８との間に形成される静電容量に基づいて、基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１を制御部３０に出力する。制御部３０は、第１の駆動部２５を駆動しない。
【００４２】
図２３を参照して、光走査装置１が組み込まれた移動体５が傾斜面４７上を進行方向７に向かって等速運動しているとき、または、移動体５が傾斜面４７上に静止しているときの、光走査装置１の動作を説明する。本実施の形態では、傾斜面４７は、水平面４５に対して、移動体５の進行方向７である第１の方向（例えば、ｘ方向）に角度αだけ傾いている。本実施の形態では、傾斜面４７は、水平面４５に対して、第２の方向（例えば、ｙ方向）に傾いていない。
【００４３】
図２４に示されるように、光走査装置１が組み込まれた移動体５が傾斜面４７上を進行方向７に向かって等速運動している、または、移動体５が傾斜面４７上に静止しているため、姿勢検出部１８の慣性質量体６０には、第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿う力が作用する。具体的には、この力を慣性質量体６０の質量で除算することによって、第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿って慣性質量体６０に作用する加速度が与えられる。第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿って慣性質量体６０に作用する加速度は、重力加速度Ｇの第１の方向の成分（例えば、ｘ成分）Ｇxに等しい。
【００４４】
慣性質量体６０に作用する力によって、慣性質量体６０は基板１３の第１の固定部１３ｆ，１３ｇに対して第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿って変位して、第１の可動櫛歯電極６５，６６と第１の固定櫛歯電極６７，６８との間に形成される静電容量が変化する。姿勢検出部１８は、変化後の静電容量に基づいて、基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１を制御部３０に出力する。本実施の形態では、第１の信号３１は、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第１の方向の成分Ｇxの比Ｇx／Ｇを含む。
【００４５】
制御部３０は、第１の信号３１から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出する。特定的には、制御部３０は、第１の信号３１の逆正弦関数から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出してもよい。第１の角度（α）は、以下の式（２）で与えられてもよい。
【００４６】
α＝ｓｉｎ-1（Ｇx／Ｇ）    （２）
制御部３０は、第１の角度（α）から第２の角度（−α／２）を算出する。第２の角度（−α／２）は、第１の角度（α）の−０．５倍である。制御部３０は、第１の駆動部２５を制御して、反射部材２０を第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりに第２の角度（−α／２）だけ傾ける。第２の角度（−α／２）の絶対値は第１の角度（α）の絶対値の半分であり、かつ、反射部材２０を傾ける方向は、基板１３の傾斜方向（または光走査装置１の傾斜方向）と反対である。こうして、光走査装置１が組み込まれた移動体５が傾斜面４７上を進行方向７に向かって等速運動していても、あるいは、移動体５が傾斜面４７上に静止していても、水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は維持され得る。特定的には、水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、光ビーム１１は光走査装置１から水平方向に出射される。
【００４７】
図２５を参照して、実施の形態１に係る光走査装置１の制御方法を説明する。
本実施の形態の光走査装置１の制御方法は、姿勢検出部１８が基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１を出力すること（Ｓ１）を備える。特定的には、姿勢検出部１８は、基板１３の主面１３ｍ内の一つの方向（例えば、ｘ方向）における基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１を出力してもよい。本実施の形態では、第１の信号３１は、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第１の方向の成分Ｇxの比Ｇx／Ｇを含む。
【００４８】
本実施の形態の光走査装置１の制御方法は、第１の信号３１に基づいて、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きを調整すること（Ｓ２）をさらに備える。特定的には、本実施の形態の光走査装置１の制御方法では、反射部材２０の傾きを調整すること（Ｓ２）は、第１の信号３１から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出すること（Ｓ１１）と、反射部材２０を第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりに第２の角度（−α／２）だけ傾けること（Ｓ１２）とを含んでもよい。
【００４９】
第１の信号３１から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出すること（Ｓ１１）は、第１の信号３１の逆正弦関数から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出することであってもよい。第１の角度（α）は、式（２）で与えられてもよい。反射部材２０を第２の角度（−α／２）だけ傾けること（Ｓ１２）は、第１の角度（α）から第２の角度（−α／２）を算出すること（Ｓ１３）と、第１の駆動部２５を制御して、反射部材２０を第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりに第２の角度（−α／２）だけ傾けること（Ｓ１４）とを含んでもよい。第２の角度（−α／２）は、第１の角度（α）の−０．５倍であってもよい。第２の角度（−α／２）の絶対値は第１の角度（α）の絶対値の半分であり、かつ、反射部材２０を傾ける方向は、基板１３の傾斜方向（または光走査装置１の傾斜方向）と反対である。
【００５０】
本実施の形態の第１の変形例の光走査装置１では、図２６に示されるように、走査ミラー１５は、走査ミラー１５に対する光ビーム１１の入射角θが変化しながら、走査ミラー１５に入射する光ビーム１１の光軸１２のまわりに首振り運動し得るように構成されてもよい。すなわち、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）は、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）に入射する光ビーム１１に対して変化する入射角θで走査ミラー１５（反射ミラー部５０）を傾斜させながら、走査ミラー１５（反射ミラー部５０）の中央を中心に、走査ミラー１５に入射する光ビーム１１の光軸１２のまわりに回転してもよい。光走査装置１は、水平方向の全周囲だけでなく、第３の方向（例えば、ｚ方向）にも走査することができる。
【００５１】
図２７に示されるように、本実施の形態の第２の変形例の光走査装置１は、固定ミラー２７をさらに備えてもよい。光源１０は、筐体２８の側面に固定されている。固定ミラー２７は、筐体２８に固定されている。固定ミラー２７は、光源１０から出射された光ビーム１１を反射して、光ビーム１１を走査ミラー１５に入射させる。
【００５２】
本実施の形態の光走査装置１及びその制御方法並びに移動体５の効果を説明する。
本実施の形態の光走査装置１は、光源１０と、基板１３とを備える。基板１３には、走査ミラー１５と姿勢検出部１８とが一体化されている。走査ミラー１５は、光源１０から出射された光ビーム１１を反射しかつ走査し得るように構成されている。走査ミラー１５は基板１３の主面１３ｍに設けられている。姿勢検出部１８は、基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１を出力し得るように構成されている。本実施の形態の光走査装置１は、反射部材２０と、駆動部（第１の駆動部２５）と、制御部３０とをさらに備える。反射部材２０は、走査ミラー１５で反射された光ビーム１１を反射し得るように構成されている。駆動部（第１の駆動部２５）は、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きを調整し得るように構成されている。制御部３０は、第１の信号３１に基づいて駆動部（第１の駆動部２５）を制御し得るように構成されている。
【００５３】
本実施の形態の光走査装置１では、姿勢検出部１８から出力される、基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１に基づいて、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きが調整され得る。さらに、基板１３には走査ミラー１５と姿勢検出部１８とが一体化されているため、走査ミラー１５を含む光走査装置１の光学系に対する姿勢検出部１８の位置及び傾きは実質的に不変である。例えば、光走査装置１を長期間使用する間に、光走査装置１の光学系に対する、光走査装置１の光学系以外の部材の位置または傾きが変化しても、光走査装置１の光学系に対する姿勢検出部１８の位置及び傾きは実質的に不変である。そのため、姿勢検出部１８は、水平面４５に対する光走査装置１の光学系の姿勢を、安定的かつ正確に検出し得る。本実施の形態の光走査装置１によれば、水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００５４】
本実施の形態の光走査装置１では、姿勢検出部１８は、加速度センサ及び傾斜計のいずれかを含んでもよい。本実施の形態の光走査装置１によれば、水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００５５】
本実施の形態の光走査装置１では、姿勢検出部１８は、ＭＥＭＳ加速度センサを含んでもよい。本実施の形態の光走査装置１によれば、水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。また、ＭＥＭＳ加速度センサは小型の加速度センサであるため、基板１３に容易に一体化され得て、光走査装置１は小型化され得る。
【００５６】
本実施の形態の光走査装置１では、姿勢検出部１８は、基板１３の主面１３ｍ内の一つの方向（第１の方向（例えば、ｘ方向））における基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１を出力し得るように構成されてもよい。本実施の形態の光走査装置１によれば、基板１３の主面１３ｍ内の一つの方向（例えば、ｘ方向）における水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００５７】
本実施の形態の光走査装置１では、走査ミラー１５は、二次元走査ミラーであってもよい。本実施の形態の光走査装置１は、水平方向の全周囲を光ビーム１１で走査することができる。
【００５８】
本実施の形態の光走査装置１では、走査ミラー１５は、走査ミラー１５に対する光ビーム１１の入射角θが維持されながら、走査ミラー１５に入射する光ビーム１１の光軸１２のまわりに首振り運動し得るように構成されてもよい。本実施の形態の光走査装置１は、水平方向の全周囲を光ビーム１１で走査することができる。
【００５９】
本実施の形態の光走査装置１では、走査ミラー１５は、走査ミラー１５に対する光ビーム１１の入射角θが変化しながら、走査ミラー１５に入射する光ビーム１１の光軸１２のまわりに首振り運動し得るように構成されてもよい。本実施の形態の光走査装置１は、水平方向の全周囲だけでなく、垂直方向（第３の方向（例えば、ｚ方向））の周囲も、光ビーム１１で走査することができる。
【００６０】
本実施の形態の移動体５は、光走査装置１を備える。本実施の形態の移動体５では、姿勢検出部１８から出力される、基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１に基づいて、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きが調整され得る。さらに、基板１３には走査ミラー１５と姿勢検出部１８とが一体化されているため、走査ミラー１５を含む光走査装置１の光学系に対する姿勢検出部１８の位置及び傾きは実質的に不変である。そのため、姿勢検出部１８は、水平面４５に対する光走査装置１の光学系の姿勢を、安定的かつ正確に検出し得る。本実施の形態の移動体５によれば、光走査装置１が組み込まれた移動体５が傾斜面４７上を移動しても、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００６１】
本実施の形態の光走査装置１の制御方法であって、光走査装置１は、光源１０と、基板１３と、反射部材２０とを含む。基板１３には走査ミラー１５と姿勢検出部１８とが一体化されている。走査ミラー１５は、光源１０から出射された光ビーム１１を反射しかつ走査する。走査ミラー１５は、基板１３の主面１３ｍに設けられている。反射部材２０は、走査ミラー１５で反射された光ビーム１１を反射する。光走査装置１の制御方法は、姿勢検出部１８が基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１を出力すること（Ｓ１）と、第１の信号３１に基づいて、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きを調整すること（Ｓ２）とを備える。
【００６２】
本実施の形態の光走査装置１の制御方法では、姿勢検出部１８から出力される、基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１に基づいて、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きが調整され得る。さらに、基板１３には走査ミラー１５と姿勢検出部１８とが一体化されているため、走査ミラー１５を含む光走査装置１の光学系に対する姿勢検出部１８の位置及び傾きは実質的に不変である。そのため、姿勢検出部１８は、水平面４５に対する光走査装置１の光学系の姿勢を、安定的かつ正確に検出し得る。本実施の形態の光走査装置１の制御方法によれば、水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００６３】
本実施の形態の光走査装置１の制御方法では、姿勢検出部１８は、基板１３の主面１３ｍ内の一つの方向（第１の方向（例えば、ｘ方向））における基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１を出力してもよい。本実施の形態の光走査装置１の制御方法によれば、基板１３の主面１３ｍ内の一つの方向（例えば、ｘ方向）における水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００６４】
本実施の形態の光走査装置１の制御方法では、反射部材２０の傾きを調整すること（Ｓ２）は、第１の信号３１の逆正弦関数から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出すること（Ｓ１１）と、反射部材２０を第２の角度（−α／２）だけ傾けること（Ｓ１２）とを含んでもよい。第２の角度（−α／２）は、第１の角度（α）の−０．５倍であってもよい。本実施の形態の光走査装置１の制御方法によれば、水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００６５】
実施の形態２．
図２８から図３４を参照して、実施の形態２に係る光走査装置１ｂ及び移動体５ｂを説明する。本実施の形態の光走査装置１ｂ及び移動体５ｂは、実施の形態１の光走査装置１及び移動体５と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
【００６６】
本実施の形態の光走査装置１ｂ及び移動体５ｂでは、姿勢検出部１８ｂは、基板１３の主面１３ｍ内において互いに交差する二つの方向における基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１ｂを出力し得るように構成されている。この二つの方向は、第１の方向（例えば、ｘ方向）と、第２の方向（例えば、ｙ方向）である。光走査装置１ｂが組み込まれた移動体５ｂが水平面４５上を移動するとき、第１の方向（例えば、ｘ方向）は、例えば、移動体５の進行方向７であってもよく、第２の方向（例えば、ｙ方向）は、例えば、移動体５の進行方向７及び重力方向に直交する移動体５の幅方向であってもよい。
【００６７】
図２９に示されるように、本実施の形態における姿勢検出部１８ｂは、ＭＥＭＳ（Micro  Electro  Mechanical  System）加速度センサであってもよい。姿勢検出部１８ｂは、慣性質量体６０と、基板１３に接続されるとともに慣性質量体６０を支持する第２の梁６１，６２，６３，６４と、慣性質量体６０に接続された第１の可動櫛歯電極６５，６６と、慣性質量体６０に接続された第２の可動櫛歯電極６５ｂ，６６ｂと、第２の開口１３ｄ内に設けられた基板１３の第１の固定部１３ｆ，１３ｇにそれぞれ接続された第１の固定櫛歯電極６７，６８と、第２の開口１３ｄ内に設けられた基板１３の第２の固定部１３ｈ，１３ｉにそれぞれ接続された第２の固定櫛歯電極６７ｂ，６８ｂとを含んでもよい。
【００６８】
本実施の形態の慣性質量体６０及び第１の可動櫛歯電極６５，６６は、それぞれ、実施の形態１の慣性質量体６０及び第１の可動櫛歯電極６５，６６と同様の構成を有している。本実施の形態の第１の固定部１３ｆ，１３ｇ及び第１の固定櫛歯電極６７，６８は、それぞれ、実施の形態１の第１の固定部１３ｆ，１３ｇ及び第１の固定櫛歯電極６７，６８と同様の構成を有している。
【００６９】
第２の梁６１，６２，６３，６４は、第１の導電性半導体層１０３を含んでもよい。第２の梁６１，６２，６３，６４は、慣性質量体６０が第１の方向（例えば、ｘ方向）と第２の方向（例えば、ｙ方向）とに変位し得るように構成されてもよい。第２の梁６１，６２，６３，６４は、慣性質量体６０の角部のそれぞれと基板１３とを接続する。第２の可動櫛歯電極６５ｂ，６６ｂは、第１の導電性半導体層１０３（図６を参照）を含んでもよい。第２の可動櫛歯電極６５ｂは、慣性質量体６０の第３の側面６０ｃから第１の方向（例えば、ｘ方向）に延在してもよい。第２の可動櫛歯電極６５ｂは、第１の方向（例えば、ｘ方向）において、基板１３の第２の固定部１３ｈから離間されている。第２の可動櫛歯電極６６ｂは、慣性質量体６０の第４の側面６０ｄから、第１の方向（例えば、ｘ方向）に延在してもよい。第２の可動櫛歯電極６６ｂは、第１の方向（例えば、ｘ方向）において、基板１３の第２の固定部１３ｉから離間されている。
【００７０】
基板１３の主面１３ｍの平面視において、慣性質量体６０は、第２の固定部１３ｈと第２の固定部１３ｉとの間に配置されている。第２の固定部１３ｈと慣性質量体６０と第２の固定部１３ｉとは、第１の方向（例えば、ｘ方向）において、この順に配置されている。第２の固定部１３ｈ、１３ｉは、非導電性基板１０１と、非導電性基板１０１上に設けられた第１の絶縁層１０２と、第１の絶縁層１０２上に設けられた第１の導電性半導体層１０３を含んでもよい。
【００７１】
第２の固定櫛歯電極６７ｂ，６８ｂは、第１の導電性半導体層１０３（図６を参照）を含んでもよい。第２の固定櫛歯電極６７ｂは、第２の固定部１３ｈから第１の方向（例えば、ｘ方向）に延在してもよい。第２の固定櫛歯電極６７ｂは、第１の方向（例えば、ｘ方向）において、慣性質量体６０から離間されている。第２の固定部１３ｈ及び第２の固定櫛歯電極６７ｂは、慣性質量体６０の第３の側面６０ｃに面している。第２の固定櫛歯電極６８ｂは、第２の固定部１３ｉから第１の方向（例えば、ｘ方向）に延在してもよい。第２の固定櫛歯電極６８ｂは、第２の方向（例えば、ｙ方向）において、慣性質量体６０から離間されている。第２の固定部１３ｉ及び第２の固定櫛歯電極６８ｂは、慣性質量体６０の第４の側面６０ｄに面している。
【００７２】
第２の固定櫛歯電極６７ｂは、第２の方向（例えば、ｙ方向）において、第２の可動櫛歯電極６５ｂから離間されている。第２の可動櫛歯電極６５ｂと第２の固定櫛歯電極６７ｂとは、第２の方向（例えば、ｙ方向）から見たときに、互いに重なるように配置されてもよい。第２の可動櫛歯電極６５ｂと第２の固定櫛歯電極６７ｂとの間に静電容量が形成されている。第２の固定櫛歯電極６８ｂは、第２の方向（例えば、ｙ方向）において、第２の可動櫛歯電極６６ｂから離間されている。第２の可動櫛歯電極６６ｂと第２の固定櫛歯電極６８ｂとは、第２の方向（例えば、ｙ方向）から見たときに、互いに重なるように配置されてもよい。第２の可動櫛歯電極６６ｂと第２の固定櫛歯電極６８ｂとの間に静電容量が形成されている。
【００７３】
本実施の形態の姿勢検出部１８ｂは、実施の形態１の姿勢検出部１８と同様に、第１の方向（例えば、ｘ方向）における水平面４５に対する基板１３の傾斜角（α）を、第１の可動櫛歯電極６５，６６と第１の固定櫛歯電極６７，６８との間に形成される静電容量の変化として検出し得る。詳しくは後で述べるが、図３２及び図３３に示されるように、第２の方向（例えば、ｙ方向）における水平面４５に対する基板１３の傾斜角（β）に応じて、第２の可動櫛歯電極６５ｂ，６６ｂと第２の固定櫛歯電極６７ｂ，６８ｂとの間の間隔は変化する。第２の方向（例えば、ｙ方向）における水平面４５に対する基板１３の傾斜角（β）は、第２の可動櫛歯電極６５ｂ，６６ｂと第２の固定櫛歯電極６７ｂ，６８ｂとの間に形成される静電容量の変化として検出される。
【００７４】
本実施の形態の第１の駆動部２５ｂは、実施の形態１の第１の駆動部２５と同様であるが、以下の点で異なる。第１の駆動部２５ｂは、反射部材２０の中心軸２３上の一点を中心に、反射部材２０を、第１の方向に沿う軸（例えば、ｘ軸）まわりだけでなく、第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりにも傾けることができる。
【００７５】
制御部３０は、第１の信号３１ｂに基づいて第１の駆動部２５ｂを制御し得るように構成されている。具体的には、制御部３０は、姿勢検出部１８ｂから出力された第１の信号３１ｂを受信する。本実施の形態では、第１の信号３１ｂは、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第１の方向の成分Ｇxの比Ｇx／Ｇを示す第１のサブ信号と、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第２の方向の成分Ｇyの比Ｇy／Ｇを示す第２のサブ信号とを含む。制御部３０は、第１の信号３１ｂから基板１３の姿勢角である第１の角度（α、β）を算出する。制御部３０は、第１の角度（α、β）から、反射部材２０を傾ける角度である第２の角度（−α／２、−β／２）を算出する。
【００７６】
図３０から図３３を参照して、光走査装置１ｂが組み込まれた移動体５ｂが傾斜面４７ｂ上を進行方向７に向かって等速運動しているとき、または、移動体５ｂが傾斜面４７ｂ上に静止しているときの、光走査装置１ｂの動作を説明する。本実施の形態では、傾斜面４７ｂは、水平面４５に対して、第１の方向（例えば、ｘ方向）に角度αだけ傾いているとともに、第２の方向（例えば、ｙ方向）に角度βだけ傾いている。傾斜面４７ｂは、水平面４５に対して、移動体５ｂの進行方向７である第１の方向（例えば、ｘ方向）に角度αだけ傾いているとともに、移動体５ｂの幅方向（例えば、第２の方向）に角度βだけ傾いている。
【００７７】
図３１及び図３３に示されるように、光走査装置１ｂが組み込まれた移動体５ｂが傾斜面４７ｂ上を進行方向７に向かって等速運動している、または、移動体５ｂが傾斜面４７ｂ上に静止しているため、姿勢検出部１８ｂの慣性質量体６０には、第１の方向（例えば、ｘ方向）及び第２の方向（例えば、ｙ方向）に沿う力が作用する。具体的には、この力の第１の方向の成分（例えば、ｘ成分）を慣性質量体６０の質量で除算することによって、第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿って慣性質量体６０に作用する加速度が与えられる。第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿って慣性質量体６０に作用する加速度は、重力加速度Ｇの第１の方向の成分（例えば、ｘ成分）Ｇxに等しい（図３１を参照）。この力の第２の方向の成分（例えば、ｙ成分）を慣性質量体６０の質量で除算することによって、第２の方向（例えば、ｙ方向）に沿って慣性質量体６０に作用する加速度が与えられる。第２の方向（例えば、ｙ方向）に沿って慣性質量体６０に作用する加速度は、重力加速度Ｇの第２の方向の成分（例えば、ｙ成分）Ｇyに等しい（図３３を参照）。
【００７８】
慣性質量体６０に作用する力によって、慣性質量体６０は基板１３の第１の固定部１３ｆ，１３ｇに対して第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿って変位して、第１の可動櫛歯電極６５，６６と第１の固定櫛歯電極６７，６８との間に形成される静電容量が変化する。慣性質量体６０に作用する力によって、慣性質量体６０は基板１３の第２の固定部１３ｈ，１３ｉに対して第２の方向（例えば、ｙ方向）に沿って変位して、第２の可動櫛歯電極６５ｂ，６６ｂと第２の固定櫛歯電極６７ｂ，６８ｂとの間に形成される静電容量が変化する。姿勢検出部１８ｂは、変化後の静電容量に基づいて、基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１ｂを制御部３０に出力する。第１の信号３１ｂは、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第１の方向の成分Ｇxの比Ｇx／Ｇを示す第１のサブ信号と、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第２の方向の成分Ｇyの比Ｇy／Ｇを示す第２のサブ信号とを含む。
【００７９】
制御部３０は、第１の信号３１ｂから基板１３の姿勢角である第１の角度（α、β）を算出する。具体的には、制御部３０は、第１のサブ信号から、第１の方向（例えば、ｘ方向）における基板１３の姿勢角である、第１の角度（α）を算出する。制御部３０は、第２のサブ信号から、第２の方向（例えば、ｙ方向）における基板１３の姿勢角である、第１の角度（β）を算出する。特定的には、制御部３０は、第１のサブ信号の逆正弦関数から、第１の方向（例えば、ｘ方向）における基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出してもよい。第１の角度（α）は、上記の式（２）で与えられてもよい。制御部３０は、第２のサブ信号の逆正弦関数から、第２の方向（例えば、ｙ方向）における基板１３の姿勢角である第１の角度（β）を算出してもよい。第１の角度（β）は、以下の式（３）で与えられてもよい。
【００８０】
β＝ｓｉｎ-1（Ｇy／Ｇ）    （３）
制御部３０は、第１の角度（α）から第２の角度（−α／２）を算出する。第２の角度（−α／２）は、第１の角度（α）の−０．５倍である。制御部３０は、第１の駆動部２５ｂを制御して、反射部材２０を第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりに第２の角度（−α／２）だけ傾ける。すなわち、第２の角度（−α／２）の絶対値は第１の角度（α）の絶対値の半分であり、かつ、反射部材２０を傾ける方向は、基板１３の傾斜方向（または光走査装置１ｂの傾斜方向）と反対である。制御部３０は、第１の角度（β）から第２の角度（−β／２）を算出する。第２の角度（−β／２）は、第１の角度（β）の−０．５倍である。制御部３０は、第１の駆動部２５ｂを制御して、反射部材２０を第１の方向に沿う軸（例えば、ｘ軸）まわりに第２の角度（−β／２）だけ傾ける。すなわち、第２の角度（−β／２）の絶対値は第１の角度（β）の絶対値の半分であり、かつ、反射部材２０を傾ける方向は、基板１３の傾斜方向（または光走査装置１ｂの傾斜方向）と反対である。
【００８１】
こうして、光走査装置１ｂが組み込まれた移動体５ｂが傾斜面４７ｂ上を進行方向７に向かって等速運動していても、あるいは、移動体５ｂが傾斜面４７ｂ上に静止していても、水平面４５に対する光走査装置１ｂの傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１ｂからの光ビーム１１の出射角度は維持され得る。特定的には、水平面４５に対する光走査装置１ｂの傾きに依らずに、光ビーム１１は光走査装置１ｂから水平方向に出射される。
【００８２】
図３５を参照して、実施の形態２に係る光走査装置１ｂの制御方法を説明する。本実施の形態の光走査装置１ｂの制御方法は、実施の形態１の光走査装置１の制御方法と同様の工程を備えるが、主に以下の点で異なる。
【００８３】
本実施の形態の光走査装置１ｂの制御方法は、姿勢検出部１８ｂが基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１ｂを出力すること（Ｓ１ｂ）を備える。特定的には、姿勢検出部１８ｂは、基板１３の主面１３ｍ内において互いに交差する二つの方向（第１の方向（例えば、ｘ方向）及び第２の方向（例えば、ｙ方向））における基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１ｂを出力してもよい。本実施の形態では、第１の信号３１ｂは、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第１の方向の成分Ｇxの比Ｇx／Ｇを示す第１のサブ信号と、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第２の方向の成分Ｇyの比Ｇy／Ｇを示す第２のサブ信号とを含む。
【００８４】
本実施の形態の光走査装置１ｂの制御方法は、第１の信号３１ｂに基づいて、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きを調整すること（Ｓ２ｂ）をさらに備える。特定的には、本実施の形態の光走査装置１ｂの制御方法では、反射部材２０の傾きを調整すること（Ｓ２ｂ）は、第１の信号３１ｂから基板１３の姿勢角である第１の角度（α、β）を算出すること（Ｓ１１ｂ、Ｓ２１）と、反射部材２０を第２の角度（−α／２、−β／２）だけ傾けること（Ｓ１２、Ｓ２２）とを含んでもよい。
【００８５】
第１の信号３１ｂから基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出すること（Ｓ１１ｂ）は、第１のサブ信号の逆正弦関数から、第１の方向（例えば、ｘ方向）における基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出することであってもよい。第１の角度（α）は、式（２）で与えられてもよい。反射部材２０を第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりに第２の角度（−α／２）だけ傾けること（Ｓ１２）は、第１の角度（α）から第２の角度（−α／２）を算出すること（Ｓ１３）と、第１の駆動部２５ｂを制御して、反射部材２０を第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりに第２の角度（−α／２）だけ傾けること（Ｓ１４）とを含んでもよい。第２の角度（−α／２）は、第１の角度（α）の−０．５倍であってもよい。第２の角度（−α／２）の絶対値は第１の角度（α）の絶対値の半分であり、かつ、反射部材２０を傾ける方向は、基板１３の傾斜方向（または光走査装置１の傾斜方向）と反対である。
【００８６】
第１の信号３１ｂから基板１３の姿勢角である第１の角度（β）を算出すること（Ｓ２１）は、第２のサブ信号の逆正弦関数から、第２の方向（例えば、ｙ方向）における基板１３の姿勢角である第１の角度（β）を算出することであってもよい。第１の角度（β）は、式（３）で与えられてもよい。反射部材２０を第１の方向に沿う軸（例えば、ｘ軸）まわりに第２の角度（−β／２）だけ傾けること（Ｓ２２）は、第１の角度（β）から第２の角度（−β／２）を算出すること（Ｓ２３）と、第１の駆動部２５ｂを制御して、反射部材２０を第１の方向に沿う軸（例えば、ｘ軸）まわりに第２の角度（−β／２）だけ傾けること（Ｓ２４）とを含んでもよい。第２の角度（−β／２）は、第１の角度（β）の−０．５倍であってもよい。第２の角度（−β／２）の絶対値は第１の角度（β）の絶対値の半分であり、かつ、反射部材２０を傾ける方向は、基板１３の傾斜方向（または光走査装置１の傾斜方向）と反対である。
【００８７】
本実施の形態の光走査装置１ｂ及びその制御方法並びに移動体５ｂの効果を説明する。本実施の形態の光走査装置１ｂ及びその制御方法並びに移動体５ｂは、実施の形態１の光走査装置１及びその制御方法並びに移動体５の効果に加えて、以下の効果を奏する。
【００８８】
本実施の形態の光走査装置１ｂでは、姿勢検出部１８ｂは、基板１３の主面１３ｍ内において互いに交差する二つの方向（第１の方向（例えば、ｘ方向）及び第２の方向（例えば、ｙ方向））における基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１ｂを出力し得るように構成されてもよい。本実施の形態の光走査装置１ｂによれば、基板１３の主面１３ｍ内において互いに交差する二つの方向（第１の方向（例えば、ｘ方向）及び第２の方向（例えば、ｙ方向））における水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１ｂからの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００８９】
本実施の形態の移動体５ｂは、光走査装置１ｂを備える。本実施の形態の移動体５ｂによれば、光走査装置１ｂが組み込まれた移動体５ｂが、水平面４５に対して基板１３の主面１３ｍ内において互いに交差する二つの方向（第１の方向（例えば、ｘ方向）及び第２の方向（例えば、ｙ方向））に傾いている傾斜面４７ｂ上を移動しても、水平面４５に対する光走査装置１ｂからの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００９０】
本実施の形態の光走査装置１ｂの制御方法では、姿勢検出部１８ｂは、基板１３の主面１３ｍ内において互いに交差する二つの方向（第１の方向（例えば、ｘ方向）及び第２の方向（例えば、ｙ方向））における基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１ｂを出力してもよい。本実施の形態の光走査装置１ｂの制御方法によれば、基板１３の主面１３ｍ内において互いに交差する二つの方向（第１の方向（例えば、ｘ方向）及び第２の方向（例えば、ｙ方向））における水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１ｂからの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００９１】
本実施の形態の光走査装置１ｂの制御方法では、反射部材２０の傾きを調整すること（Ｓ２ｂ）は、第１の信号３１ｂの逆正弦関数から基板１３の姿勢角である第１の角度（α、β）を算出すること（Ｓ１１ｂ、Ｓ２１）と、反射部材２０を第２の角度（−α／２、−β／２）だけ傾けること（Ｓ１２、Ｓ２２）とを含んでもよい。第２の角度（−α／２、−β／２）は、第１の角度（α、β）の−０．５倍であってもよい。本実施の形態の光走査装置１ｂの制御方法によれば、基板１３の主面１３ｍ内において互いに交差する二つの方向（第１の方向（例えば、ｘ方向）及び第２の方向（例えば、ｙ方向））における水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１ｂからの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【００９２】
実施の形態３．
図３６から図３９を参照して、実施の形態３に係る光走査装置１及び移動体５ｃを説明する。本実施の形態の光走査装置１及び移動体５ｃは、実施の形態１の光走査装置１及び移動体５と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
【００９３】
本実施の形態の移動体５ｃは、移動体５ｃの加速度Ａxを得るように構成された移動体加速度検出部７０をさらに備える。特定的には、移動体加速度検出部７０は、車輪速センサ７１と、演算部７２とを含んでもよい。車輪速センサ７１は、車輪４２の回転角速度ωを検出し得るように構成されている。演算部７２は、車輪４２の回転角速度ωから、移動体５ｃの加速度Ａxを算出し得るように構成されている。特定的には、車輪４２の回転角速度ωから移動体５ｃの加速度Ａxを算出することは、車輪４２の回転角速度ωから、進行方向７である第１の方向（例えば、ｘ方向）における移動体５ｃの速度ｖを算出することと、移動体５ｃの速度ｖから、進行方向７である第１の方向（例えば、ｘ方向）における移動体５ｃの加速度Ａxを算出することとを含んでもよい。車輪４２の回転角速度ωから移動体５ｃの速度ｖを算出することは、車輪４２の回転角速度ωに車輪４２の半径ｒを乗じることを含んでもよい。移動体５ｃの速度ｖから移動体５ｃの加速度Ａxを算出することは、移動体５ｃの速度ｖを時間で微分することを含んでもよい。
【００９４】
制御部３０は、姿勢検出部１８から出力される第１の信号３１ｃと移動体加速度検出部７０で得られた移動体５ｃの加速度Ａxとに基づいて、第１の駆動部２５を制御し得るように構成されている。具体的には、制御部３０は、姿勢検出部１８から出力された第１の信号３１ｃと、移動体５ｃの加速度Ａxとを受信する。第１の信号３１ｃは、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第１の方向の成分Ｇxの比Ｇx／Ｇと、進行方向７における移動体５ｃの加速度Ａxとを含む。制御部３０は、第１の信号３１ｃと移動体５ｃの加速度Ａxとから、基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出する。特定的には、制御部３０は、第１の信号３１ｃに含まれる移動体５ｃの加速度Ａxの寄与分（慣性質量体６０に作用する慣性力の加速度−Ａx）だけ第１の信号３１ｃを補正して、第２の信号を得る。制御部３０は、第２の信号から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出する。制御部３０は、第１の角度（α）から、反射部材２０を傾ける角度である第２の角度（−α／２）を算出する。
【００９５】
図３７及び図３８を参照して、光走査装置１が組み込まれた移動体５ｃが傾斜面４７上を進行方向７に向かって加速度Ａxで運動しているときの、光走査装置１の動作を説明する。本実施の形態では、傾斜面４７は、水平面４５に対して、移動体５ｃの進行方向７である第１の方向（例えば、ｘ方向）に角度αだけ傾いている。本実施の形態では、傾斜面４７は、水平面４５に対して、第２の方向（例えば、ｙ方向）に傾いていない。
【００９６】
光走査装置１が組み込まれた移動体５ｃが傾斜面４７上を進行方向７に向かって加速度Ａxで運動しているため、姿勢検出部１８の慣性質量体６０には、第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿う力が作用する。具体的には、この力を慣性質量体６０の質量で除算することによって、第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿って慣性質量体６０に作用する加速度が与えられる。第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿って慣性質量体６０に作用する加速度は、重力加速度Ｇの第１の方向の成分（例えば、ｘ成分）Ｇxと、移動体５ｃが加速度Ａxで運動することに起因して慣性質量体６０に作用する慣性力の加速度−Ａxとの和に等しい。
【００９７】
慣性質量体６０に作用する力によって、慣性質量体６０は基板１３の第１の固定部１３ｆ，１３ｇに対して第１の方向（例えば、ｘ方向）に沿って変位して、第１の可動櫛歯電極６５，６６と第１の固定櫛歯電極６７，６８との間に形成される静電容量が変化する。姿勢検出部１８は、変化後の静電容量に基づいて、基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１ｃを制御部３０に出力する。本実施の形態では、第１の信号３１ｃは、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第１の方向の成分Ｇxの比Ｇx／Ｇと、慣性質量体６０に作用する慣性力の加速度−Ａxとを含む。
【００９８】
制御部３０は、第１の信号３１ｃに含まれる移動体５ｃの加速度Ａxの寄与分（慣性質量体６０に作用する慣性力の加速度−Ａx）だけ第１の信号３１ｃを補正して、第２の信号を得る。制御部３０は、第２の信号から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出する。特定的には、制御部３０は、第２の信号の逆正弦関数から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出してもよい。第１の角度（α）は、式（２）で与えられてもよい。
【００９９】
制御部３０は、第１の角度（α）から第２の角度（−α／２）を算出する。第２の角度（−α／２）は、第１の角度（α）の−０．５倍である。制御部３０は、第１の駆動部２５を制御して、反射部材２０を第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりに第２の角度（−α／２）だけ傾ける。第２の角度（−α／２）の絶対値は第１の角度（α）の絶対値の半分であり、かつ、反射部材２０を傾ける方向は、基板１３の傾斜方向（または光走査装置１の傾き方向）と反対である。こうして、光走査装置１が組み込まれた移動体５ｃが傾斜面４７上を進行方向７に向かって加速度Ａxで運動していても、水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は維持され得る。特定的には、水平面４５に対する光走査装置１の傾きに依らずに、光ビーム１１は、光走査装置１から水平方向に出射される。
【０１００】
図４０及び図４１を参照して、実施の形態３に係る光走査装置１の制御方法を説明する。本実施の形態の光走査装置１の制御方法は、実施の形態１の光走査装置１の制御方法と同様の工程を備えるが、主に以下の点で異なる。
【０１０１】
本実施の形態の光走査装置１の制御方法は、姿勢検出部１８が基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１ｃを出力すること（Ｓ１）を備える。特定的には、姿勢検出部１８は、基板１３の主面１３ｍ内の一つの方向（例えば、ｘ方向）における基板１３の姿勢角に応じた第１の信号３１ｃを出力してもよい。本実施の形態では、第１の信号３１ｃは、重力加速度Ｇに対する、重力加速度Ｇの第１の方向の成分Ｇxの比Ｇx／Ｇと、慣性質量体６０に作用する慣性力の加速度−Ａxとを含む。
【０１０２】
本実施の形態の光走査装置１の制御方法は、光走査装置１が組み込まれる移動体５ｃの加速度Ａxを得ること（Ｓ３０）をさらに備える。特定的には、移動体加速度検出部７０によって、移動体５ｃの加速度Ａxを得る。図４１に示されるように、移動体５ｃの加速度Ａxを得ることは、移動体５ｃの速度ｖを得ること（Ｓ３５）と、移動体５ｃの速度ｖから移動体５ｃの加速度Ａxを得ること（Ｓ３６）とを含んでもよい。移動体５ｃの速度ｖを得ること（Ｓ３５）は、車輪速センサ７１から車輪４２の回転角速度ωを検出することと（Ｓ３７）と、車輪４２の回転角速度ωから移動体５ｃの速度ｖを算出すること（Ｓ３８）とを含んでもよい。車輪４２の回転角速度ωから移動体５ｃの速度ｖを算出することは、車輪４２の回転角速度ωに車輪４２の半径ｒを乗じることを含んでもよい。移動体５ｃの速度ｖから移動体５ｃの加速度Ａxを算出することは、移動体５ｃの速度ｖを時間で微分することを含んでもよい。
【０１０３】
本実施の形態の光走査装置１の制御方法は、第１の信号３１ｃと移動体５ｃの加速度Ａxとに基づいて、基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きを調整すること（Ｓ２ｃ）を備える。特定的には、本実施の形態の光走査装置１の制御方法では、反射部材２０の傾きを調整すること（Ｓ２ｃ）は、第１の信号３１ｃと移動体５ｃの加速度Ａxとから基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出すること（Ｓ１１ｃ）と、反射部材２０を第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりに第２の角度（−α／２）だけ傾けること（Ｓ１２）とを含んでもよい。
【０１０４】
第１の信号３１ｃと移動体５ｃの加速度Ａxとから基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出すること（Ｓ１１ｃ）は、第１の信号３１ｃに含まれる移動体５ｃの加速度Ａxの寄与分（慣性質量体６０に作用する慣性力の加速度−Ａx）だけ第１の信号３１ｃを補正して、第２の信号を得ること（Ｓ３２）と、第２の信号から、第１の方向における基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出すること（Ｓ３３）とを含んでもよい。特定的には、第２の信号から、第１の方向における基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出すること（Ｓ３３）は、第２の信号の逆正弦関数から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出することであってもよい。第１の角度（α）は、式（２）で与えられてもよい。
【０１０５】
反射部材２０を第２の角度（−α／２）だけ傾けること（Ｓ１２）は、第１の角度（α）から第２の角度（−α／２）を算出すること（Ｓ１３）と、第１の駆動部２５を制御して、反射部材２０を第２の方向に沿う軸（例えば、ｙ軸）まわりに第２の角度（−α／２）だけ傾けること（Ｓ１４）とを含んでもよい。第２の角度（−α／２）は、第１の角度（α）の−０．５倍であってもよい。第２の角度（−α／２）の絶対値は第１の角度（α）の絶対値の半分であり、かつ、反射部材２０を傾ける方向は、基板１３の傾斜方向（または光走査装置１の傾斜方向）と反対である。
【０１０６】
本実施の形態の移動体５ｃ及び光走査装置１の制御方法の効果を説明する。本実施の形態の移動体５ｃ及び光走査装置１の制御方法は、実施の形態１の移動体５及び光走査装置１の制御方法の効果に加えて、以下の効果を奏する。
【０１０７】
本実施の形態の移動体５ｃは、光走査装置１と、移動体５ｃの加速度Ａxを得るように構成された移動体加速度検出部７０とを備える。制御部３０は、姿勢検出部１８から出力される第１の信号３１ｃと移動体５ｃの加速度Ａxとに基づいて駆動部（第１の駆動部２５）を制御し得るように構成されている。本実施の形態の移動体５ｃによれば、光走査装置１が組み込まれた移動体５ｃが傾斜面４７上を加速度Ａxで移動しても、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【０１０８】
本実施の形態の移動体５ｃは、車輪４２をさらに備える。移動体加速度検出部７０は、車輪速センサ７１と演算部７２とを含む。車輪速センサ７１は、車輪４２の回転角速度ωを検出し得るように構成されている。演算部７２は、回転角速度ωから移動体５ｃの加速度Ａxを算出し得るように構成されている。本実施の形態の移動体５ｃによれば、光走査装置１が組み込まれた移動体５ｃが傾斜面４７上を進行方向７に向かって加速度Ａxで移動しても、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【０１０９】
本実施の形態の光走査装置１の制御方法は、光走査装置１が組み込まれる移動体５ｃの加速度を得ること（Ｓ３０）をさらに備える。基板１３の主面１３ｍに対する反射部材２０の傾きは、第１の信号３１ｃと移動体５ｃの加速度Ａxとに基づいて調整される。本実施の形態の光走査装置１の制御方法によれば、光走査装置１が組み込まれた移動体５ｃが傾斜面４７上を加速度Ａxで移動しても、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【０１１０】
本実施の形態の光走査装置１の制御方法では、反射部材２０の傾きを調整すること（Ｓ２ｃ）は、第１の信号３１ｃに含まれる移動体５ｃの加速度Ａxの寄与分だけ第１の信号３１ｃを補正して第２の信号を得ること（Ｓ３２）と、第２の信号の逆正弦関数から基板１３の姿勢角である第１の角度（α）を算出すること（Ｓ３３）と、反射部材２０を第２の角度（−α／２）だけ傾けること（Ｓ１２）とを含んでもよい。第２の角度（−α／２）は、第１の角度（α）の−０．５倍であってもよい。本実施の形態の光走査装置１の制御方法によれば、光走査装置１が組み込まれた移動体５ｃが傾斜面４７上を加速度Ａxで移動しても、水平面４５に対する光走査装置１からの光ビーム１１の出射角度は安定的に維持され得る。
【０１１１】
今回開示された実施の形態１−３及び実施の形態１の変形例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。矛盾のない限り、今回開示された実施の形態１−３及び実施の形態１の変形例の少なくとも２つを組み合わせてもよい。本発明の範囲は、上記した説明ではなく請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることを意図される。
【符号の説明】
【０１１２】
１，１ｂ  光走査装置、５，５ｂ，５ｃ  移動体、７  進行方向、１０  光源、１１  光ビーム、１２  光軸、１３  基板、１３ｆ，１３ｇ  第１の固定部、１３ｈ，１３ｉ  第２の固定部、１３ｍ  主面、１５  走査ミラー、１６  法線、１８，１８ｂ  姿勢検出部、２０  反射部材、２１  反射面、２３  中心軸、２５，２５ｂ  第１の駆動部、２７  固定ミラー、２８  筐体、３０  制御部、３１，３１ｂ，３１ｃ  第１の信号、４０  本体部、４２  車輪、４５  水平面、４７，４７ｂ  傾斜面、５０  反射ミラー部、５１，５２，５３  第１の梁、５６，５７，５８  接続部、６０  慣性質量体、６０ａ  第１の側面、６０ｂ  第２の側面、６０ｃ  第３の側面、６０ｄ  第４の側面、６１，６２，６３，６４  第２の梁、６５，６６  第１の可動櫛歯電極、６５ｂ，６６ｂ  第２の可動櫛歯電極、６７，６８  第１の固定櫛歯電極、６７ｂ，６８ｂ  第２の固定櫛歯電極、７０  移動体加速度検出部、７１  車輪速センサ、７２  演算部、１０１  非導電性基板、１０２  第１の絶縁層、１０３  第１の導電性半導体層、１０５  第２の絶縁層、１０６  第１の電極層、１１０  圧電層、１１２  金層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【国際調査報告】
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