(57)【要約】基板上に層間絶縁膜とパターン電極と液晶配向膜とがこの順に形成された素子構造において、信頼性に優れた液晶素子を得る。一対の基板のうち少なくとも一方に層間絶縁膜２１を形成する工程と、層間絶縁膜２１上にパターン電極（画素電極１９）を形成する工程と、パターン電極上に、層間絶縁膜２１の少なくとも一部に接触するように液晶配向膜（第１配向膜３２）を形成する工程と、を含む液晶素子の製造方法において、液晶配向膜を、重合体成分と、特定の溶剤群から選ばれる少なくとも一種の溶剤とを含有する液晶配向剤を用いて形成する。
2019097902.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に配置された液晶層と、一対の電極と、を備える液晶素子の製造方法であって、
前記一対の電極のうち少なくとも一方は、複数の開口部を有するパターン電極であり、
前記一対の基板のうち少なくとも一方に層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜上に前記パターン電極を形成する工程と、
前記パターン電極上に、前記層間絶縁膜の少なくとも一部に接触するように液晶配向膜を形成する工程と、を含み、
前記液晶配向膜を、重合体成分と、下記に示す溶剤群から選ばれる少なくとも一種の溶剤とを含有する液晶配向剤を用いて形成する、液晶素子の製造方法。
溶剤群：
［Ａ］溶剤：下記式（１）で表される化合物、下記式（２）で表される化合物、Ｎ，Ｎ，２−トリメチルプロピオンアミド、及び１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン。
［Ｂ］溶剤：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、２−メチル−２−ヘキサノール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、ジイソブチルケトン、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ダイアセトンアルコール、及びプロピレングリコールモノブチルエーテル。
【化１】
2019097902.tif 000021
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２〜５の１価の炭化水素基、又は当該炭化水素基における炭素−炭素結合間に「−Ｏ−」を有する１価の基である。）
【化２】
2019097902.tif 000022
（式（２）中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６の１価の炭化水素基、又は当該炭化水素基の炭素−炭素結合間に「−Ｏ−」を有する１価の基であり、Ｒ２とＲ３とが互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基である。）
【請求項２】
前記液晶層中に混入された光重合性モノマーを重合することにより、前記液晶層中の各基板側の界面に、前記液晶の配向を制御する配向制御層を形成する工程をさらに含む、請求項１に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項３】
前記液晶配向剤は、前記［Ａ］溶剤の少なくとも一種と、前記［Ｂ］溶剤の少なくとも一種とを含有する、請求項１又は２に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項４】
前記液晶配向剤は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種である［Ｐ］重合体を含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項５】
前記液晶配向剤は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選ばれる少なくとも一種である［ｐ］重合体を含有し、
前記［ｐ］重合体は、シクロブタン環、シクロペンタン環及びシクロヘキサン環よりなる群から選ばれる少なくとも一種の環構造を有するテトラカルボン酸誘導体に由来する部分構造を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項６】
前記液晶配向剤は、ラジカル重合性基、光開始剤基、ラジカル重合禁止剤基、窒素含有複素環（ただし、ポリイミドが有するイミド環を除く。）、アミノ基、及び保護されたアミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一種を有する重合体を含有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項７】
前記液晶配向剤は、下記式（３）で表される部分構造を有する重合体を含有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶素子の製造方法。
＊−Ｌ１−Ｒ１１−Ｒ１２−Ｒ１３−Ｒ１４      …（３）
（式（３）中、Ｌ１は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−＊１、−ＯＣＯ−＊１、−ＮＲ１５−、−ＮＲ１５−ＣＯ−＊１、−ＣＯ−ＮＲ１５−＊１、炭素数１〜６のアルカンジイル基、−Ｏ−Ｒ１６−＊１、又は−Ｒ１６−Ｏ−＊１（ただし、Ｒ１５は水素原子又は炭素数１〜１０の１価の炭化水素基であり、Ｒ１６は炭素数１〜３のアルカンジイル基である。「＊１」は、Ｒ１１との結合手であることを示す。）である。Ｒ１１及びＲ１３は、それぞれ独立に、単結合、フェニレン基又はシクロアルキレン基であり、Ｒ１２は、単結合、フェニレン基、シクロアルキレン基、−Ｒ１７−Ｂ１−＊２、又は−Ｂ１−Ｒ１７−＊２（ただし、Ｒ１７はフェニレン基又はシクロアルキレン基であり、Ｂ１は−ＣＯＯ−＊３、−ＯＣＯ−＊３、又は炭素数１〜３のアルカンジイル基である。「＊２」は、Ｒ１３との結合手であることを示し、「＊３」は、Ｒ１７との結合手であることを示す。）である。Ｒ１４は、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフルオロアルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシ基、炭素数１〜１８のフルオロアルコキシ基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の炭化水素基であり、ラジカル重合性基又は光開始剤基を有していてもよい。ただし、Ｒ１４が水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜３の基である場合、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３の全部が単結合になることはない。「＊」は結合手であることを示す。）
【請求項８】
前記層間絶縁膜を形成する基板に、液晶駆動用素子及びカラーフィルタ層が形成されている、請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項９】
前記層間絶縁膜は、［Ｑ］重合体と［Ｒ］感光剤とを含有する感放射線性樹脂組成物を用いて形成される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項１０】
前記［Ｑ］重合体は、オキセタニル基、オキシラニル基、（メタ）アクリロイル基及びビニル基よりなる群から選ばれる少なくとも一種を有する、請求項９に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項１１】
前記［Ｒ］感光剤は、光ラジカル重合開始剤、光酸発生剤、及び光塩基発生剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種である、請求項９又は１０に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項１２】
前記［Ｑ］重合体は、酸性基を有する第１構造単位と、オキセタニル基又はオキシラニル基を有する第２構造単位と、前記第１構造単位及び前記第２構造単位とは異なる主鎖構造を形成する第３構造単位とを有する重合体である、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項１３】
前記第１構造単位は、（メタ）アクリル酸及び不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物に由来する構造単位である、請求項１２に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項１４】
前記第２構造単位は、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、及び３−（メタ）アクリロイルオキシメチル−３−エチルオキセタンよりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物に由来する構造単位である、請求項１２又は１３に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項１５】
前記第３構造単位は、スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレン、及び４−ヒドロキシスチレンよりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物に由来する構造単位である、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の液晶素子の製造方法。 
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、２０１７年１１月２０日に出願された日本出願番号２０１７−２２３１１４号に基づくもので、ここにその記載内容を援用する。
【技術分野】
【０００２】
本開示は、液晶素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
液晶装置としては、ＴＮ（Twisted  Nematic）型、ＳＴＮ（Super  Twisted  Nematic）型などに代表される、正の誘電性異方性を有するネマチック液晶を用いる水平配向モードや、負の誘電性異方性を有するネマチック液晶を用いる垂直（ホメオトロピック）配向モードのＶＡ（Vertical  Alignment）型液晶装置など、各種装置が知られている。また、一対の電極が一方の基板に設けられたセル構造を有するＩＰＳ（In-Plane Switching）型、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型などの横電界モードの液晶装置も知られている。【０００４】
液晶素子の配向処理方式の一つとして、ＰＳＡ（Polymer  Sustained  Alignment）方式が知られている（例えば、特許文献１参照）。ＰＳＡ方式は、一対の基板の間隙に液晶とともに光重合性モノマーを予め混入しておき、液晶セルを構築した後に、基板間に電圧を印加した状態で紫外線を照射して光重合性モノマーを重合することによりポリマー層を形成し、このポリマー層により液晶の初期配向を制御しようとする技術である。この技術によると、視野角の拡大及び液晶分子応答の高速化を図ることができ、ＭＶＡ型パネルにおいて透過率及びコントラストの不足の問題を解消することが可能である。【０００５】
また、特許文献１には、ＰＳＡ技術において、多数の開口部（スリット部）を有する櫛歯形状（フィッシュボーン形状ともいう。）となるようにパターニングされたパターン電極を画素電極として用いることが開示されている。この特許文献１の液晶装置では、アレイ基板側のガラス基板上にドレインバスラインが形成され、その上に層間絶縁膜が形成されている。また、層間絶縁膜上にはフィッシュボーン形状の画素電極が形成されており、画素電極上に液晶配向膜が形成されている。液晶配向膜は、通常、ポリアミック酸やポリイミド、ポリオルガノシロキサン、（メタ）アクリル系重合体、ポリアミド等の重合体成分を溶剤に溶解し、この重合体組成物を基板上に塗布して溶剤を除去することにより形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１４９６４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
層間絶縁膜上に多数のスリット部を有するパターン電極を配置し、その上に液晶配向膜を形成する場合、液晶装置の画素領域（すなわち表示領域）では、スリット部において液晶配向剤と層間絶縁膜とが接触する。この場合、層間絶縁膜が液晶配向剤の影響を受けてその特性が変化したり、層間絶縁膜に含まれる不純物成分等が液晶配向剤へ溶出して液晶配向膜の性能が低下したりすることによって液晶装置の信頼性が低下することが懸念される。【０００８】
本開示は上記課題に鑑みなされたものであり、基板上に層間絶縁膜とパターン電極と液晶配向膜とがこの順に形成された素子構造において、信頼性に優れた液晶素子を得ることができる液晶素子の製造方法を提供することを一つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本開示は上記課題を解決するために、以下の手段を採用した。【００１０】
＜１＞  対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に配置された液晶層と、一対の電極と、を備える液晶素子の製造方法であって、前記一対の電極のうち少なくとも一方は、複数の開口部を有するパターン電極であり、前記一対の基板のうち少なくとも一方に層間絶縁膜を形成する工程と、前記層間絶縁膜上に前記パターン電極を形成する工程と、前記パターン電極上に、前記層間絶縁膜の少なくとも一部に接触するように液晶配向膜を形成する工程と、を含み、前記液晶配向膜を、重合体成分と、下記に示す溶剤群から選ばれる少なくとも一種の溶剤とを含有する液晶配向剤を用いて形成する、液晶素子の製造方法。
溶剤群：
［Ａ］溶剤：下記式（１）で表される化合物、下記式（２）で表される化合物、Ｎ，Ｎ，２−トリメチルプロピオンアミド、及び１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン。
［Ｂ］溶剤：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、２−メチル−２−ヘキサノール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、ジイソブチルケトン、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ダイアセトンアルコール、及びプロピレングリコールモノブチルエーテル。
【化１】
2019097902.tif 000003
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２〜５の１価の炭化水素基、又は当該炭化水素基における炭素−炭素結合間に「−Ｏ−」を有する１価の基である。）
【化２】
2019097902.tif 000004
（式（２）中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６の１価の炭化水素基、又は当該炭化水素基の炭素−炭素結合間に「−Ｏ−」を有する１価の基であり、Ｒ２とＲ３とが互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基である。）
【発明の効果】
【００１１】
上記構成によれば、液晶配向膜を形成する際にパターン電極の開口部において層間絶縁膜と液晶配向剤とが接触しても層間絶縁膜や液晶配向膜の性能が低下しにくく、信頼性に優れた液晶素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、液晶装置の一部を模式的に示す図である。
【図２】図２は、第１実施形態の液晶装置の一部を模式的に示す断面図である。
【図３】図３は、第２実施形態の液晶装置の一部を模式的に示す断面図である。
【図４】図４は、実施例で使用した電極の構造を示す図である。
【図５】図５は、実施例で使用した電極の構造を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、図中、同一符号を付しており、同一符号の部分についてはその説明を援用する。
【００１４】
（液晶装置１０の構成）
液晶装置１０は、ＰＳＡ（Polymer Sustained Alignment）方式の垂直配向型液晶表示素子である。液晶装置１０の表示部には、複数の画素１１がマトリクス状に配置されている。図１に示すように、画素１１は、互いに交差する走査信号線１２及び映像信号線１３に囲まれた領域に形成されている。各画素１１には、液晶駆動用素子として機能する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１４が配置されている。液晶装置１０は、図２に示すように、アレイ基板１５と、対向基板１６と、液晶層１７とを備えている。
【００１５】
アレイ基板１５は、ガラス基板やプラスチック基板等の透明基板１８、走査信号線１２、映像信号線１３、薄膜トランジスタ１４、画素電極１９、及び層間絶縁膜２１を有している（図２参照）。薄膜トランジスタ１４は、走査信号線１２からなるゲート電極２２、シリコン（Ｓｉ）で構成される半導体層２３、映像信号線１３からなるソース電極２４、及び、画素電極１９に接続されるドレイン電極２５を含んで構成されている。薄膜トランジスタ１４は、フォトリソグラフィー等の公知の方法により設けられている。薄膜トランジスタ１４の各部を構成する具体的な材料としては公知の材料を用いることができる。
【００１６】
画素電極１９は、ＩＴＯ等の透明導電体により形成されている。画素電極１９は、図１に示すように、平面状の電極に複数のスリット部（細長い矩形状の開口部）１９ｃが設けられたパターン電極である。具体的には、画素電極１９は、互いに直交する２つの方向に延びる幹ライン部１９ａと、幹ライン部１９ａから斜め方向に延びる複数の分岐ライン部１９ｂと、複数の分岐ライン部１９ｂの間に形成された複数のスリット部１９ｃとを備え、導電部と非導電部との繰り返しパターンを有している。画素電極１９は、薄膜トランジスタ１４に電気的に接続されている。薄膜トランジスタ１４は、走査信号線１２及び映像信号線１３に電気的に接続されており、各種信号が供給される。
【００１７】
アレイ基板１５は、複数の画素１１がマトリクス状に配置された表示領域において、透明基板１８、層間絶縁膜２１及び画素電極１９がこの順に積層された構造を有する。画素電極１９は、層間絶縁膜２１に設けられたコンタクトホール２７を介してドレイン電極２５に接続されている。層間絶縁膜２１は、後述する感放射線性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィー法により形成されている。層間絶縁膜２１を設けることによって、画素電極１９と信号線との間の容量カップリングが増大することを抑制するようにしている。
【００１８】
対向基板１６は、ガラス基板２８、カラーフィルタ層２９、絶縁層としてのオーバーコート層（図示略）、及び共通電極３１を含んで構成されている。カラーフィルタ層２９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）で着色されたサブ画素により構成されている。カラーフィルタ層２９は、フォトリソグラフィー等の公知の方法により作製される。共通電極３１は、ＩＴＯ等の透明導電体により形成された平面状の電極であり、複数の画素１１に亘って設けられている。
【００１９】
アレイ基板１５の電極形成面には第１配向膜３２が形成されており、対向基板１６の電極形成面には第２配向膜３３が形成されている。第１配向膜３２及び第２配向膜３３は、液晶層１７中の液晶分子の配向を規制する液晶配向膜であり、重合体成分を含有する重合体組成物である液晶配向剤を用いて基板上に形成されている。第１配向膜３２は、表示領域のうち少なくともスリット部１９ｃにおいて層間絶縁膜２１に接触している。
【００２０】
アレイ基板１５及び対向基板１６は、アレイ基板１５の配向膜形成面と、対向基板１６の配向膜形成面とが対向するように所定の間隙（セルギャップ）を設けて配置されている。対向配置された一対の基板の周縁部は、シール剤（図示略）によって貼り合わされている。シール剤の材料としては、液晶装置用のシール剤として公知の材料（例えば、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂）が用いられている。アレイ基板１５、対向基板１６及びシール剤によって囲まれた空間には液晶組成物が充填されており、これにより、第１配向膜３２及び第２配向膜３３に接するようにして液晶層１７が配置されている。
【００２１】
液晶層１７は、負の誘電率異方性を有している。液晶層１７は、アレイ基板１５との界面及び対向基板１６との界面のそれぞれにおいて、ポリマー層であるＰＳＡ層３４、３５を有している。ＰＳＡ層３４、３５は、液晶層１７に予め混入させた光重合性モノマーを、液晶セルの構築後に液晶分子をプレチルト配向させた状態で光重合することによって形成されている。液晶装置１０においては、ＰＳＡ層３４、３５により液晶層１７中の液晶分子の初期配向が制御される。
【００２２】
液晶装置１０において、アレイ基板１５及び対向基板１６のそれぞれの外側には偏光板３６、３７が配置されている。アレイ基板１５の外縁部には端子領域が設けられており、この端子領域に液晶を駆動するためのドライバＩＣ等が接続されることにより液晶装置１０が駆動される。
【００２３】
＜液晶配向剤＞
次に、液晶配向膜（第１配向膜３２、第２配向膜３３）を形成するために用いる液晶配向剤について説明する。液晶配向剤は、重合体成分と溶剤成分とを含有する。
【００２４】
（重合体成分）
液晶配向剤に含有される重合体は、その主骨格は特に限定されず、例えばポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、ポリエステル、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体、ポリ（メタ）アクリル系重合体等の主骨格が挙げられる。これらの中でも、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体（以下、［Ｐ］重合体ともいう。）であることが好ましい。なお、液晶配向剤の調製に際し、重合体としては１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。本明細書において「（メタ）アクリル」は、「アクリル」及び「メタクリル」を含む意味である。
【００２５】
［Ｐ］重合体を合成する方法は特に限定されない。例えば、［Ｐ］重合体がポリアミック酸の場合、当該ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることによって得ることができる。
【００２６】
（ポリアミック酸）
ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。これらの具体例としては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物として、例えば１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物等を；
脂環式テトラカルボン酸二無水物として、例えば１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、３−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−２，４−ジオン−６−スピロ−３’−（テトラヒドロフラン−２’，５’−ジオン）、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、２，４，６，８−テトラカルボキシビシクロ［３．３．０］オクタン−２：４，６：８−二無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等を；
芳香族テトラカルボン酸二無水物として、例えばピロメリット酸二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、p−フェニレンビス（トリメリット酸モノエステル無水物）、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、１，３−プロピレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）等を、それぞれ挙げることができるほか、特開２０１０−９７１８８号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。なお、テトラカルボン酸二無水物は、１種を単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００２７】
合成に使用するテトラカルボン酸二無水物は、得られる重合体の溶剤に対する溶解性をより高くできる点で、脂環式テトラカルボン酸二無水物を含むことが好ましく、シクロブタン環、シクロペンタン環及びシクロヘキサン環よりなる群から選ばれる少なくとも一種の環構造を有するテトラカルボン酸二無水物（以下、「特定テトラカルボン酸二無水物」ともいう。）を含むことがより好ましい。特定テトラカルボン酸二無水物の使用割合は、ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物の全量に対して、１０モル％以上であることが好ましく、２０〜１００モル％であることがより好ましい。
【００２８】
ポリアミック酸の合成に使用するジアミンとしては、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサン等が挙げられる。これらの具体例としては、脂肪族ジアミンとして、例えばメタキシリレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサンなどを；脂環式ジアミンとして、例えば１，４−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）などを；
芳香族ジアミンとして、例えばｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミノナフタレン、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）エタン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，６−ジアミノピリジン、３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）−ベンジジン、１，４−ビス−（４−アミノフェニル）−ピペラジン、１−（４−アミノフェニル）−２，３−ジヒドロ−１，３，３−トリメチル−１Ｈ−インデン−５−アミン、１−（４−アミノフェニル）−２，３−ジヒドロ−１，３，３−トリメチル−１Ｈ−インデン−６−アミン、３，５−ジアミノ安息香酸、コレスタニルオキシ−３，５−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−３，５−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、３，５−ジアミノ安息香酸コレスタニル、３，５−ジアミノ安息香酸コレステニル、３，５−ジアミノ安息香酸ラノスタニル、３，６−ビス（４−アミノベンゾイルオキシ）コレスタン、４−（４’−トリフルオロメトキシベンゾイロキシ）シクロヘキシル−３，５−ジアミノベンゾエート、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−ヘプチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−（４−ヘプチルシクロヘキシル）シクロヘキサン、２，４−ジアミノ−Ｎ，Ｎ−ジアリルアニリン、４−アミノベンジルアミン、Ｎ−［４−（２−アミノエチル）フェニル］ベンゼン−１，４−ジアミン、Ｎ−［４−（アミノメチル）フェニル］ベンゼン−１，４−ジアミン、１，３−ビス（４−アミノフェニチル）ウレア、４，４’−［４，４’−プロパン−１，３−ジイルビス（ピペリジン−１，４−ジイル）］ジアニリン、２−プロピニルオキシ−２，４−フェニレンジアミン及び下記式（Ｄ−１）
【化３】
2019097902.tif 000005
（式（Ｄ−１）中、ＸI及びＸIIは、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＯＣＯ−又は＊−ＮＨ−ＣＯ−（但し、「＊」を付した結合手がジアミノフェニル基と結合する。）であり、ＲＩ及びＲＩＩは、それぞれ独立に、炭素数１〜３のアルカンジイル基であり、ａは０又は１であり、ｂは０〜２の整数であり、ｃは１〜２０の整数であり、ｎは０又は１であり、ｍは０又は１である。但し、ａ及びｂが同時に０になることはなく、ＸＩが＊−ＮＨ−ＣＯ−の場合、ｎは０である。）
で表される化合物などを；
ジアミノオルガノシロキサンとして、例えば、１，３−ビス（３−アミノプロピル）−テトラメチルジシロキサンなどを、それぞれ挙げることができるほか、特開２０１０−９７１８８号公報に記載のジアミンを用いることができる。なお、ポリアミック酸の合成に際し、ジアミンは１種を単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００２９】
ポリアミック酸は、上記のようなテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを、必要に応じて分子量調整剤とともに反応させることによって得ることができる。ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの使用割合は、ジアミンのアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２〜２当量となる割合が好ましい。分子量調整剤としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸などの酸一無水物、アニリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミンなどのモノアミン化合物、フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートなどのモノイソシアネート化合物等を挙げることができる。分子量調整剤の使用割合は、使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計量に対して２０質量％以下とすることが好ましい。
【００３０】
ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は−２０℃〜１５０℃が好ましく、反応時間は０．１〜２４時間が好ましい。
反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素などを挙げることができる。好ましい有機溶媒は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド、ｍ−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、及び後述する特定溶剤よりなる群から選択される１種以上を溶媒として使用するか、あるいはこれらの１種以上と他の有機溶媒（例えば、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールジエチルエーテルなど）との混合物を使用することが好ましい。有機溶媒の使用量は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計量が、反応溶液の全量に対して、０．１〜５０質量％になる量とすることが好ましい。以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。この反応溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。
【００３１】
（ポリイミド）
ポリイミドは、上記の如くして合成されたポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造が併存する部分イミド化物であってもよい。ポリイミドは、そのイミド化率が３０％以上であることが好ましく、４０〜９９％であることがより好ましく、６０〜９９％であることが更に好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。
【００３２】
ポリアミック酸の脱水閉環は、好ましくは、ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。この方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸のアミック酸構造の１モルに対して０．０１〜２０モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の３級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して０．０１〜１０モルとすることが好ましい。使用する有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは０〜１８０℃であり、反応時間は、好ましくは１．０〜１２０時間である。得られた反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。
【００３３】
（ポリアミック酸エステル）
ポリアミック酸エステルは、例えば、［I］上記反応により得られたポリアミック酸とエステル化剤とを反応させる方法、［II］テトラカルボン酸ジエステルとジアミンとを反応させる方法、［III］テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミンとを反応させる方法、等によって得ることができる。ここで、上記［I］のエステル化剤としては、例えばメタノール、エタノール等が挙げられる。上記［II］で使用するテトラカルボン酸ジエステルは、テトラカルボン酸二無水物をアルコール類などで開環することにより得ることができる。上記［III］で使用するテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物は、上記の如くして得たテトラカルボン酸ジエステルを、塩化チオニル等の適当な塩素化剤と反応させることにより得ることができる。得られるポリアミック酸エステルは、アミック酸エステル構造のみを有していてもよく、アミック酸構造とアミック酸エステル構造とが併存する部分エステル化物であってもよい。ポリアミック酸エステルを溶解してなる反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸エステルを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。
【００３４】
以上のようにして得られるポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドは、これを濃度１０質量％の溶液としたときに、１０〜８００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものであることが好ましく、１５〜５００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、上記重合体の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、当該重合体の良溶媒（例えばγ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなど）を用いて調製した濃度１０質量％の重合体溶液につき、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃において測定した値である。ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドについて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、５００〜１００，０００であることが好ましく、１，０００〜５０，０００であることがより好ましい。
【００３５】
（ポリオルガノシロキサン）
ポリオルガノシロキサンは、例えば加水分解性のシラン化合物を、好ましくは適当な有機溶媒、水及び触媒の存在下において、加水分解又は加水分解・縮合することにより得ることができる。
【００３６】
ポリオルガノシロキサンの合成に使用する加水分解性のシラン化合物としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物；３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（３−シクロヘキシルアミノ）プロピルトリメトキシシラン等の窒素・硫黄含有アルコキシシラン化合物；３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シラン化合物；３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン等の不飽和結合含有アルコキシシラン化合物、などを挙げることができる。加水分解性シラン化合物は、これらのうちの１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリロ」は、「アクリロ」及び「メタクリロ」を含む意味である。
【００３７】
上記の加水分解・縮合反応は、上記の如きシラン化合物の１種又は２種以上と水とを、好ましくは適当な触媒及び有機溶媒の存在下で反応させることにより行う。反応に際し、水の使用割合は、シラン化合物（合計量）１モルに対して、好ましくは１〜３０モルである。使用する触媒としては、例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基（例えばトリエチルアミンやテトラメチルアンモニウムヒドロキシドなど）、チタン化合物、ジルコニウム化合物などを挙げることができる。触媒の使用量は、触媒の種類、温度などの反応条件などにより異なり、適宜に設定されるべきであるが、例えばシラン化合物の合計量に対して、好ましくは０．０１〜３倍モルである。使用する有機溶媒としては、例えば炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコールなどが挙げられ、これらのうち、非水溶性又は難水溶性の有機溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒の使用割合は、反応に使用するシラン化合物の合計１００質量部に対して、好ましくは５０〜１，０００質量部である。
【００３８】
上記の加水分解・縮合反応は、例えば油浴などにより加熱して実施することが好ましい。その際、加熱温度は１３０℃以下とすることが好ましく、加熱時間は、０．５〜１２時間とすることが好ましい。反応終了後において、反応液から分取した有機溶媒層につき、溶媒を除去することによりポリシロキサンを得ることができる。
【００３９】
ポリオルガノシロキサンの側鎖に、プレチルト角付与基や光配向性基などの機能性基を導入する場合、その合成方法は特に限定されないが、例えば、エポキシ基含有シラン化合物、又はエポキシ基含有シラン化合物とその他のシラン化合物との混合物を加水分解縮合して、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成し、次いで、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと、上記機能性基を有するカルボン酸とを反応させる方法などが挙げられる。エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応は公知の方法に従って行うことができる。
【００４０】
ポリオルガノシロキサンは、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が５００〜１００，０００の範囲にあることが好ましく、１，０００〜３０，０００の範囲にあることがより好ましく、１，０００〜２０，０００であることが更に好ましい。ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量が上記範囲にあると、液晶配向膜を製造する際に取り扱いやすく、また十分な材料強度及び特性を有する液晶配向膜が得られる。
【００４１】
液晶配向剤中における［Ｐ］重合体の含有割合（２種以上含有する場合には合計量）は、液晶配向剤中の重合体成分の合計量に対して、６０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。また、液晶配向剤は、信頼性により優れた液晶素子を得ることができる点で、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選ばれる少なくとも一種である［ｐ］重合体を含むことが好ましい。液晶配向剤中における［ｐ］重合体の含有割合（２種以上含む場合にはその合計量）は、液晶配向剤中の重合体成分の合計量に対して、４０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましい。
【００４２】
液晶配向剤に含有される重合体成分の少なくとも一部は、下記式（３）で表される部分構造を有する重合体であることが好ましい。
＊−Ｌ１−Ｒ１１−Ｒ１２−Ｒ１３−Ｒ１４      …（３）
（式（３）中、Ｌ１は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−＊１、−ＯＣＯ−＊１、−ＮＲ１５−、−ＮＲ１５−ＣＯ−＊１、−ＣＯ−ＮＲ１５−＊１、炭素数１〜６のアルカンジイル基、−Ｏ−Ｒ１６−＊１、又は−Ｒ１６−Ｏ−＊１（ただし、Ｒ１５は水素原子又は炭素数１〜１０の１価の炭化水素基であり、Ｒ１６は炭素数１〜３のアルカンジイル基である。「＊１」は、Ｒ１１との結合手であることを示す。）である。Ｒ１１及びＲ１３は、それぞれ独立に、単結合、フェニレン基又はシクロアルキレン基であり、Ｒ１２は、単結合、フェニレン基、シクロアルキレン基、−Ｒ１７−Ｂ１−＊２、又は−Ｂ１−Ｒ１７−＊２（ただし、Ｒ１７はフェニレン基又はシクロアルキレン基であり、Ｂ１は−ＣＯＯ−＊３、−ＯＣＯ−＊３、又は炭素数１〜３のアルカンジイル基である。「＊２」は、Ｒ１３との結合手であることを示し、「＊３」は、Ｒ１７との結合手であることを示す。）である。Ｒ１４は、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフルオロアルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシ基、炭素数１〜１８のフルオロアルコキシ基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の炭化水素基であり、ラジカル重合性基又は光開始剤基を有していてもよい。ただし、Ｒ１４が水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜３の基である場合、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３の全部が単結合になることはない。「＊」は結合手であることを示す。）
【００４３】
上記式（３）において、Ｌ１、Ｂ１のアルカンジイル基、並びにＲ１４のアルキル基、フルオロアルキル基、アルコキシ基及びフルオロアルコキシ基は、直鎖状であることが好ましい。Ｒ１４のステロイド骨格を有する基としては、例えばコレスタニル基、コレステリル基、ラノスタニル基等が挙げられる。Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１７のフェニレン基は１，４−フェニレン基が好ましく、シクロアルキレン基は１，４−シクロヘキシレン基が好ましい。Ｒ１１及びＲ１３は、これらのうち少なくとも１個がフェニレン基又はシクロアルキレン基であることが好ましい。Ｒ１２は、フェニレン基、シクロアルキレン基、−Ｒ１７−Ｂ１−＊２、又は−Ｂ１−Ｒ１７−＊２であることが好ましい。上記式（３）で表される部分構造を有する重合体の主骨格は特に限定されないが、［Ｐ］重合体であることが好ましい。
重合体中における上記式（３）で表される部分構造の含有割合は、重合体の主鎖に応じて適宜設定されるが、液晶の応答速度を十分に速くする観点から、重合体の全モノマー単位に対して１〜５０モル％とすることが好ましく、２〜４０モル％とすることがより好ましい。
【００４４】
また、残像が生じにくく、かつ液晶の応答速度が速い液晶素子を得ることができる点で、液晶配向剤は、重合体成分として、ラジカル重合性基、光開始剤基、ラジカル重合禁止剤基、窒素含有複素環（ただし、ポリイミドが有するイミド環を除く。）、アミノ基、及び保護されたアミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一種（以下、「特定部分構造」ともいう。）を有する重合体を含有していることが好ましい。
【００４５】
ラジカル重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基、ビニルフェニル基、マレイミド基、ビニルオキシ基、エチニル基等が挙げられる。これらのうち、反応性が高い点で（メタ）アクリロイル基が特に好ましい。
光開始剤基は、光により重合開始能を生じる部位又は光増感作用を持つ部位であり、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射により重合性成分の重合を開始可能な化合物（光開始剤）に由来する構造を有する基である。光開始剤基としては、光照射によってラジカルを発生可能なラジカル重合開始剤に由来する構造を有する基であることが好ましい。具体的には、例えばアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、ジベンゾイル系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アルキルフェノン系化合物、又はアシルフォスフィンオキサイド系化合物に由来する構造を有する基などが挙げられる。光開始剤基は、これらの中でも、アセトフェノン構造を有する基であることが好ましい。重合体がラジカル重合性基及び光開始剤基の少なくともいずれかを有する場合、これらの基を側鎖に有していることが好ましい。
ラジカル重合禁止剤基は、紫外線や熱などのエネルギーがきっかけとなって発生したペルオキシラジカルやヒドロペルオキシドを無効化する過酸化物分解剤、又は重合途中のラジカル性中間体を補足して重合反応の進行を抑制するラジカル捕捉剤として機能する。こうした重合禁止剤基を有する重合体を液晶配向膜中に含有させることにより、ＰＳＡモードにおいて液晶層中に混入させた光重合性化合物が光照射により反応することを抑制することができる。重合禁止剤基は、ヒンダードアミン構造、ヒンダードフェノール構造及びアニリン構造よりなる群から選ばれる少なくとも一種を有する基であることが好ましい。
【００４６】
上記窒素含有複素環としては、例えばピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、インドール、ベンゾイミダゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、ナフチリジン、キノキサリン、フタラジン、トリアジン、カルバゾール、アクリジン、ピペリジン、ピペラジン、ピロリジン、ヘキサメチレンイミン等が挙げられる。中でも、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピペリジン、ピペラジン、キノリン、カルバゾール及びアクリジンよりなる群から選ばれる少なくとも一種を有することが好ましい。
【００４７】
上記アミノ基及び保護されたアミノ基は、下記式（Ｎ−１）で表される基であることが好ましい。
【化４】
2019097902.tif 000006
（式（Ｎ−１）中、Ｒ５０は、水素原子又は１価の有機基である。「＊」は炭化水素基に結合する結合手である。）
【００４８】
上記式（Ｎ−１）において、Ｒ５０の１価の有機基は、１価の炭化水素基又は保護基であることが好ましい。１価の炭化水素基は炭素数１〜１０が好ましく、具体的には、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の直鎖状又は分岐状のアルキル基；シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、メチルフェニル等のアリール基；ベンジル基等のアラルキル基等が挙げられる。Ｒ５０が有していてもよい置換基としては、例えばハロゲン原子、シアノ基、アルキルシリル基、アルコキシシリル基等が挙げられる。Ｒ５０は、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基である。上記式（Ｎ−１）中の「＊」が結合する炭化水素基としては、例えばアルカンジイル基、シクロへキシレン基、フェニレン基等が挙げられる。
【００４９】
保護基は、熱により脱離する基であることが好ましく、例えばカルバメート系保護基、アミド系保護基、イミド系保護基、スルホンアミド系保護基、下記式（８−１）〜式（８−５）のそれぞれで表される基などが挙げられる。中でも、熱による脱離性が高い点や、脱保護した部分の膜中での残存量を少なくする点で、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基が好ましい。
【化５】
2019097902.tif 000007
（式（８−１）〜式（８−５）中、Ａｒ１１は、置換又は無置換の芳香環から１個の水素原子を取り除いた炭素数６〜１０の１価の基であり、Ｒ６１は炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ６２はメチレン基又はエチレン基である。「＊」は窒素原子に結合する結合手を示す。）
【００５０】
上記特定部分構造を有する重合体の主骨格は特に限定されないが、［Ｐ］重合体であることが好ましく、［ｐ］重合体であることがより好ましい。重合体中における上記特定部分構造の含有割合（２種以上含有する場合にはその合計量）は、重合体の全モノマー単位に対して５モル％とすることが好ましく、１０〜８０モル％とすることがより好ましい。
【００５１】
（溶剤）
液晶配向剤は、溶剤成分として、下記に示す溶剤群（［Ａ］溶剤と［Ｂ］溶剤とからなる群）から選ばれる少なくとも一種である特定溶剤を含有する。
溶剤群：
［Ａ］溶剤：下記式（１）で表される化合物、下記式（２）で表される化合物、Ｎ，Ｎ，２−トリメチルプロピオンアミド、及び１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン。
［Ｂ］溶剤：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、２−メチル−２−ヘキサノール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、ジイソブチルケトン、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ダイアセトンアルコール、及びプロピレングリコールモノブチルエーテル。
【化６】
2019097902.tif 000008
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２〜５の１価の炭化水素基、又は当該炭化水素基における炭素−炭素結合間に「−Ｏ−」を有する１価の基である。）
【化７】
2019097902.tif 000009
（式（２）中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６の１価の炭化水素基、又は当該炭化水素基の炭素−炭素結合間に「−Ｏ−」を有する１価の基であり、Ｒ２とＲ３とが互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｒ４は、炭素数１〜６のアルキル基である。）
【００５２】
・［Ａ］溶剤について
（式（１）で表される化合物）
上記式（１）で表される化合物について、Ｒ１の炭素数２〜５の１価の炭化水素基は鎖状炭化水素基であることが好ましく、例えば炭素数２〜５のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。また、当該炭化水素基における炭素−炭素結合間に「−Ｏ−」を有する１価の基としては、例えば炭素数２〜５のアルコキシアルキル基が挙げられる。
これらの具体例としては、炭素数２〜５のアルキル基として、例えばエチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基などを；炭素数２〜５のアルケニル基として、例えばビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基などを；炭素数２〜５のアルキニル基として、例えばエチニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基などを；炭素数２〜５のアルコキシアルキル基として、例えばメトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などを、それぞれ挙げることができ、これらは直鎖状であっても分岐状であってもよい。Ｒ１としては、上記の中でも炭素数２〜５のアルキル基又はアルコキシアルキル基であることが好ましい。
【００５３】
上記式（１）で表される化合物の具体例としては、例えばＮ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−２−ピロリドン、Ｎ−イソプロピル−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−２−ピロリドン、Ｎ−（ｔ−ブチル）−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−ペンチル）−２−ピロリドン、Ｎ−メトキシプロピル−２−ピロリドン、Ｎ−エトキシエチル−２−ピロリドン、Ｎ−メトキシブチル−２−ピロリドンなどが挙げられる。これらの中でも、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−ペンチル）−２−ピロリドン、Ｎ−（ｔ−ブチル）−２−ピロリドン、Ｎ−メトキシプロピル−２−ピロリドンを特に好ましく使用することができる。なお、上記式（１）で表される化合物は、これら例示の化合物を１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００５４】
（式（２）で表される化合物）
上記式（２）で表される化合物について、Ｒ２及びＲ３の炭素数１〜６の１価の炭化水素基としては、例えば炭素数１〜６の鎖状炭化水素基、炭素数３〜６の脂環式炭化水素基、炭素数５又は６の芳香族炭化水素基などが挙げられる。また、当該炭化水素基の炭素−炭素結合間に「−Ｏ−」を有する１価の基としては、例えば炭素数２〜６のアルコキシアルキル基等が挙げられる。
これらの具体例としては、炭素数１〜６の鎖状炭化水素基として、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などを挙げることができ、これらは直鎖状であっても分岐状であってもよい。また、炭素数３〜６の脂環式炭化水素基としては、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等を；芳香族炭化水素基としては、例えばフェニル基等を；炭素数２〜６のアルコキシアルキル基としては、例えばＲ１で挙げたアルコキシアルキル基等を；それぞれ挙げることができる。なお、式（２）におけるＲ２及びＲ３は互いに同じでも異なっていてもよい。また、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合することにより、Ｒ２及びＲ３が結合する窒素原子と共に環を形成してもよい。Ｒ２，Ｒ３が互いに結合して形成される環としては、例えばピロリジン環、ピペリジン環等を挙げることができ、これらの環にはメチル基等の１価の鎖状炭化水素基が結合されていてもよい。
Ｒ２及びＲ３として好ましくは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であり、より好ましくは、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、更に好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒ４の炭素数１〜６のアルキル基としては、上記Ｒ２及びＲ３の炭素数１〜６のアルキル基の説明で例示した基を挙げることができる。好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
【００５５】
上記式（２）で表される化合物の具体例としては、例えば３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−ヘキシルオキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、イソプロポキシ−Ｎ−イソプロピル−プロピオンアミド、ｎ−ブトキシ−Ｎ−イソプロピル−プロピオンアミドなどが挙げられる。なお、上記式（２）で表される化合物は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００５６】
［Ａ］溶剤としては、層間絶縁膜２１に及ぼす影響をより小さくできる点で、中でも上記式（１）で表される化合物、上記式（２）で表される化合物及び１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンよりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましく、上記式（１）で表される化合物においてＲ１が炭素数２〜５のアルキル基又はアルコキシアルキル基である化合物、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド及び１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンよりなる群から選ばれる少なくとも一種であることがより好ましく、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−ペンチル）−２−ピロリドン、Ｎ−（ｔ−ブチル）−２−ピロリドン、Ｎ−メトキシプロピル−２−ピロリドン、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド及び１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンよりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが特に好ましい。
【００５７】
［Ｂ］溶剤としては、層間絶縁膜２１に及ぼす影響をより小さくできる点で、上記のうち、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ダイアセトンアルコール、及びプロピレングリコールモノブチルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。
【００５８】
溶剤成分としては、特定溶剤のみを用いてもよいが、特定溶剤以外のその他の溶剤を併用してもよい。かかるその他の溶剤としては、重合体の溶解性及びレベリング性が高い溶剤（以下、「第１溶剤」ともいう。）、及び濡れ広がり性が良好な溶剤（以下、「第２溶剤」ともいう。）が挙げられる。
これらの具体例としては、第１溶剤として、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等を；
第２溶剤として、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｉ−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｎ−ブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテルアセテート、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート等を、それぞれ挙げることができる。なお、その他の溶剤としては、上記のうちの１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
【００５９】
液晶配向剤の調製に際し、特定溶剤としては、［Ａ］溶剤及び［Ｂ］溶剤のいずれかのみを使用してもよいが、液晶配向膜を形成する際に液晶配向剤と層間絶縁膜２１とが接触された状態において層間絶縁膜２１に与える影響を抑制できるとともに、層間絶縁膜２１からの不純物成分の溶出を抑制できる効果が高い点で、［Ａ］溶剤の少なくとも一種と、［Ｂ］溶剤の少なくとも一種とが含有されていることが好ましい。
【００６０】
［Ａ］溶剤の使用割合（２種以上使用する場合にはその合計量）は、層間絶縁膜２１に与える影響の抑制効果と層間絶縁膜２１からの不純物成分の溶出の抑制効果とを十分に得つつ、重合体成分の析出を抑制する観点から、液晶配向剤に含まれる溶剤の全体量に対して、１０質量％以上とすることが好ましく、２０質量％以上とすることがより好ましい。また、その使用割合の上限は、［Ｂ］溶剤による塗布性の改善効果を得る観点から、液晶配向剤に含まれる溶剤の全体量に対して、９０質量％以下とすることが好ましく、８０質量％以下とすることがより好ましい。なお、［Ａ］溶剤は１種を単独で使用してもよく、又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００６１】
［Ｂ］溶剤の使用割合（２種以上使用する場合にはその合計量）は、層間絶縁膜２１に与える影響及び層間絶縁膜２１からの不純物成分の溶出を抑制するとともに液晶配向剤の塗布性を良好にする観点から、液晶配向剤に含まれる溶剤の全体量に対して、１０質量％以上とすることが好ましく、２０質量％以上とすることがより好ましい。また、その使用割合の上限は、液晶配向剤に含まれる溶剤の全体量に対して、８０質量％以下とすることが好ましく、７０質量％以下とすることがより好ましい。なお、［Ｂ］溶剤は１種を単独で使用してもよく、又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００６２】
特定溶剤の使用割合（２種以上使用する場合にはその合計量）は、層間絶縁膜２１に与える影響を抑制する効果及び層間絶縁膜２１からの不純物成分の溶出を低減させる効果を十分に得る観点から、液晶配向剤に含まれる溶剤の全体量に対して、５０質量％以上とすることが好ましく、７０質量％以上とすることがより好ましく、９０質量％以上とすることがさらに好ましく、９５質量％以上とすることが特に好ましい。
【００６３】
また、［Ａ］溶剤と［Ｂ］溶剤とその他の溶剤とを使用する場合、その他の溶剤の使用割合（２種以上使用する場合にはその合計量）は、本開示の効果を十分に得る観点から、液晶配向剤に含まれる溶剤の全体量に対して、５０質量％以下とすることが好ましく、３０質量％以下とすることがより好ましく、１０質量％以下とすることがより好ましく、５質量％以下とすることが特に好ましい。
液晶配向剤は、溶剤成分が［Ａ］溶剤と［Ｂ］溶剤とからなることが特に好ましい。ただし、本明細書において「溶剤成分が［Ａ］溶剤と［Ｂ］溶剤とからなる」とは、［Ａ］溶剤及び［Ｂ］溶剤以外のその他の溶剤を、本開示の効果の妨げにならない程度に含有することを許容するものである。
【００６４】
液晶配向剤は、重合体成分及び溶剤成分のほか、必要に応じてその他の成分を含有していてもよい。その他の成分としては、例えば、酸化防止剤、金属キレート化合物、硬化促進剤、界面活性剤、充填剤、分散剤、光増感剤等が挙げられる。その他の成分の配合割合は、本開示の効果を損なわない範囲で、各化合物に応じて適宜選択することができる。
【００６５】
液晶配向剤における固形分濃度（液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合）は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは１〜１０質量％の範囲である。固形分濃度が１質量％未満である場合には、塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜が得られにくくなる。一方、固形分濃度が１０質量％を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜が得られにくく、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布性が低下する傾向にある。
【００６６】
＜感放射線性樹脂組成物＞
次に、層間絶縁膜２１を形成するために用いる感放射線性樹脂組成物について詳しく説明する。この感放射線性樹脂組成物は、［Ｑ］重合体と［Ｒ］感光剤とを含有する。
【００６７】
（［Ｑ］重合体）
［Ｑ］重合体は、重合性基を有する構成単位を有していることが好ましい。［Ｑ］重合体が有する重合性基は、オキセタニル基、オキシラニル基、（メタ）アクリロイル基、及びビニル基よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。このような重合性基を有することで、感放射線性樹脂組成物の硬化を容易に行うことができ、良好な層間絶縁膜２１を得ることができる点で好ましい。
【００６８】
［Ｑ］重合体の主骨格は特に限定されないが、（メタ）アクリル系重合体、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。これらの中でも、（メタ）アクリル系重合体であることが特に好ましい。なお、（メタ）アクリル系重合体は、（メタ）アクリロイル基を有する単量体に由来する構造単位のみを有していてもよいし、（メタ）アクリロイル基を有する単量体に由来する構造単位と、（メタ）アクリロイル基を有する単量体とは異なるその他の単量体に由来する構造単位とを有していてもよい。（メタ）アクリル系重合体における、その他の単量体に由来する構造単位の含有割合は、好ましくは５０モル％以下であり、より好ましくは４０モル％以下であり、さらに好ましくは３０モル％以下である。
【００６９】
具体的には、［Ｑ］重合体は、酸性基を有する第１構造単位と、オキセタニル基又はオキシラニル基を有する第２構造単位と、前記第１構造単位及び前記第２構造単位とは異なる主鎖構造を形成する第３構造単位とを有する重合体であることが好ましい。
【００７０】
第１構造単位が有する酸性基としては、カルボキシ基、スルホ基、フェノール性水酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホンアミド基、炭素原子に結合した水素原子が電子求引基に置換されたヒドロキシアルキル基等を挙げることができる。酸性基としては、アルカリ現像性の点から、これらのうち、カルボキシ基、スルホ基、フェノール性水酸基、フッ素含有アルコール性水酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基又はこれらの組み合わせが好ましく、カルボキシ基又はフェノール性水酸基がより好ましく、カルボキシ基が特に好ましい。
【００７１】
第１構造単位としては、（メタ）アクリル酸又は不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物に由来する構造単位が好ましく、（メタ）アクリル酸及び無水マレイン酸の少なくとも一種が特に好ましい。
［Ｑ］重合体における第１構造単位の含有割合は、［Ｑ］重合体を構成する全構造単位に対して、１〜５０モル％であることが好ましく、１５〜３０モル％であることがより好ましい。第１構造単位は、１種単独でもよく、又は２種以上を組み合わせてもよい。
【００７２】
第２構造単位としては、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、及び３−（メタ）アクリロイルオキシメチル−３−エチルオキセタンよりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物に由来する構造単位が好ましい。
［Ｑ］重合体における第２構造単位の含有割合は、［Ｑ］重合体を構成する全構造単位に対して、１〜１５モル％であることが好ましく、３〜１０モル％であることがより好ましい。第２構造単位は、１種単独でもよく、又は２種以上を組み合わせてもよい。
【００７３】
第３構造単位は、第１構造単位及び第２構造単位とは異なる主鎖構造を形成する単量体に由来する構造単位であれば特に限定されないが、現像密着性及び熱や剥離溶液に対する耐性をより良好にできる点で、スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレン、及び４−ヒドロキシスチレンよりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物に由来する構造単位であることが好ましい。
［Ｑ］重合体における第３構造単位の含有割合は、［Ｑ］重合体を構成する全構造単位に対して、２５〜８０モル％であることが好ましく、３０〜６５モル％であることがより好ましい。第３構造単位は、１種単独でもよく、又は２種以上を組み合わせてもよい。
【００７４】
なお、［Ｑ］重合体は、第１構造単位、第２構造単位及び第３構造単位以外のその他の構造単位をさらに有していてもよい。こうした構造単位としては、例えば（メタ）アクリル酸アルキル等が挙げられる。
［Ｑ］重合体は、第１〜第３構造単位等を与える単量体を用い、ラジカル重合等の常法に従って合成することができる。合成条件の詳細については、例えば特開２０１５−９２２３３号公報に記載の各種条件を参照して適宜設定することができる。
【００７５】
（［Ｒ］感光剤）
［Ｒ］感光剤としては、光ラジカル重合開始剤、光酸発生剤及び光塩基発生剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種を好ましく用いることができる。
これらの具体例としては、光ラジカル重合開始剤として、例えばＯ−アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物等を；
光酸発生剤として、例えばオキシムスルホネート化合物、オニウム塩、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、キノンジアジド化合物等を；
光塩基発生剤として、例えばコバルト等の遷移金属錯体、オルトニトロベンジルカルバメート類、α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジルカルバメート類、アシルオキシイミノ類等を、それぞれ挙げることができる。
［Ｒ］感光剤の使用割合は、使用する化合物の種類に応じて異なる。例えば、光ラジカル重合開始剤の場合、［Ｑ］重合体１００質量部に対して、１〜４０質量部が好ましく、５〜３０質量部とすることがより好ましい。
光酸発生剤の使用割合は、［Ｑ］重合体１００質量部に対して、０．１〜５０質量部が好ましく、１〜３０質量部がより好ましい。
光酸塩基剤の使用割合は、［Ｑ］重合体１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましい。
【００７６】
感放射線性樹脂組成物は、上述した［Ｑ］重合体及び［Ｒ］感光剤に加え、さらに硬化促進剤、重合性不飽和化合物、界面活性剤、保存安定剤、接着助剤を含有させることができる。これら各任意成分は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００７７】
感放射線性樹脂組成物は、［Ｑ］重合体及び［Ｒ］感光剤の他、必要に応じて配合されるその他の任意成分を混合することにより調製される。感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。当該溶媒としては、例えば、アルコール、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、ケトン、エステル等が挙げられる。
溶媒の含有量は、得られる感放射線性樹脂組成物の塗布性、安定性等の観点から、感放射線性樹脂組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、５〜５０質量％となる量が好ましく、１０〜４０質量％となる量がより好ましい。
【００７８】
（液晶装置１０の製造方法）
液晶装置１０は、以下の工程Ａ〜工程Ｅを含む方法によって製造することができる。
工程Ａ：基板上に層間絶縁膜２１を形成する工程。
工程Ｂ：層間絶縁膜２１上に画素電極１９を形成する工程。
工程Ｃ：画素電極１９上に、層間絶縁膜２１の一部に接触するように液晶配向膜（第１配向膜３２）を形成する工程。
工程Ｄ：アレイ基板１５と対向基板１６とを、光重合性モノマーを含む液晶層を介して対向配置して液晶セルを構築する工程。
工程Ｅ：液晶セルに光照射する工程。
【００７９】
図１及び図２に示す液晶装置１０を製造するには、まず、ガラス基板等の透明基板１８上に、フォトリソグラフィー法等の公知の方法により薄膜トランジスタ１４、走査信号線１２、映像信号線１３を形成する。続いて、透明基板１８のうち薄膜トランジスタ１４及び信号線の形成面上に、層間絶縁膜形成用の感放射線性樹脂組成物を塗布し、層間絶縁膜２１を形成する（工程Ａ）。
【００８０】
感放射線性樹脂組成物の塗布方法は特に限定されないが、例えばスプレー法、ロールコート法、スピンコート法、スリット塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法を採用することができる。これらのうち、均一な厚みの膜を形成できる点から、スピンコート法又はスリット塗布法が好ましい。感放射線性樹脂組成物の塗布後は、好ましくは塗布面を加熱（プレベーク）し、必要に応じて所定のパターンを有するフォトマスクを介して塗膜に露光した後、現像及びポストベークを行うことにより、硬化膜としての層間絶縁膜２１が得られる。層間絶縁膜２１を形成する際の各種条件については、例えば特開２０１５−９２２３３号公報に記載の条件を採用することができる。
【００８１】
続く工程Ｂでは、透明基板１８のうち工程Ａで形成した層間絶縁膜２１上に画素電極１９を形成する。画素電極１９は、スパッタリング法等の公知の方法を用いて、膜厚５０〜２００ｎｍ、より好ましくは１００〜１５０ｎｍのＩＴＯ（酸化インジウム錫）膜やＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）膜を形成した後、フォトリソグラフィー法によってフィッシュボーン形状（「櫛歯形状」ともいう。）にパターニングする。これにより、フィッシュボーン型の画素電極１９を基板上に形成し、アレイ基板１５を作製する。
【００８２】
また、上記とは別に、ガラス基板等の透明基板２８上に、フォトリソグラフィー法等の公知の方法を用いて、カラーフィルタ層２９、オーバーコート層（図示略）及び共通電極３１をこの順に形成し、対向基板１６を作製する。
【００８３】
続く工程Ｃでは、まず、電極が形成された基板上に液晶配向剤を塗布し、好ましくは塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。基板への液晶配向剤の塗布は、電極形成面上に、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法、フレキソ印刷法又はインクジェット印刷法により行う。液晶配向剤を塗布した後、塗布した液晶配向剤の液垂れ防止などの目的で、好ましくは予備加熱（プレベーク）が実施される。プレベーク温度は、好ましくは３０〜２００℃であり、プレベーク時間は、好ましくは０．２５〜１０分である。その後、溶剤を完全に除去し、必要に応じて、重合体に存在するアミック酸構造を熱イミド化することを目的として焼成（ポストベーク）工程が実施される。このときの焼成温度（ポストベーク温度）は、好ましくは８０〜３００℃であり、ポストベーク時間は、好ましくは５〜２００分である。このようにして形成される膜の厚さは、好ましくは０．００１〜１μｍである。基板上に液晶配向剤を塗布した後、有機溶媒を除去することによって、液晶配向膜又は液晶配向膜となる塗膜が形成される。
【００８４】
ここでは、層間絶縁膜２１上に、多数のスリット部１９ｃを有するパターン電極（画素電極１９）が形成された基板の電極形成面上に液晶配向剤が塗布される。そのため、液体状の液晶配向剤が、スリット部１９ｃの開口を介して層間絶縁膜２１に接触することとなる。基板上に形成された液晶配向膜（第１配向膜３２）は、液晶装置１０の表示領域においてスリット部１９ｃを介して層間絶縁膜２１に接触している。
なお、上記で形成した塗膜をそのまま液晶配向膜として使用してもよいが、液晶配向能を付与する処理（配向処理）を施してもよい。配向処理としては、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで塗膜を一定方向に擦るラビング処理や、液晶配向剤を用いて基板上に形成した塗膜に光照射を行って塗膜に液晶配向能を付与する光配向処理等が挙げられる。
【００８５】
続く工程Ｄでは、層間絶縁膜２１、画素電極１９及び第１配向膜３２がこの順に形成されたアレイ基板１５と、共通電極３１及び第２配向膜３３がこの順に形成された対向基板１６とを、互いの配向膜形成面が対向するように配置する。アレイ基板１５と対向基板１６との間には、光重合性モノマーが混入された液晶層１７が配置されるようにし、これにより液晶セルを構築する。
【００８６】
液晶層１７は、例えば、シール剤を塗布した一方の基板上に液晶組成物を滴下又は塗布し、その後、他方の基板を貼り合わせる方法（ＯＤＦ方式）や、セルギャップを介して対向配置された一対の基板の周縁部をシール剤により貼り合わせ、基板表面及びシール剤によって囲まれたセルギャップ内に液晶組成物を注入充填した後、注入孔を封止する方法等により形成する。得られた液晶セルにつき、さらに、用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷するアニール処理を行うことにより、液晶充填時の流動配向を除去することが好ましい。
【００８７】
光重合性モノマーとしては、光による重合性が高い点で、（メタ）アクリロイル基を２個以上有する化合物を好ましく用いることができる。その具体例としては、例えば、ビフェニル構造を有するジ（メタ）アクリレート、フェニル−シクロヘキシル構造を有するジ（メタ）アクリレート、２，２−ジフェニルプロパン構造を有するジ（メタ）アクリレート、ジフェニルメタン構造を有するジ（メタ）アクリレート、ジフェニルチオエーテル構造を有するジ−チオ（メタ）アクリレート等が挙げられる。光重合性モノマーの配合割合は、液晶層１７の形成に使用される液晶組成物の全体量に対して、０．１〜０．５質量％とすることが好ましい。なお、光重合性モノマーとしては、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００８８】
続く工程Ｅでは、工程Ｂで得られた液晶セルに光照射する。液晶セルに対する光照射は、電極間に電圧を印加しない状態で行ってもよく、液晶層１７中の液晶分子が駆動しない所定電圧を印加した状態で行ってもよく、あるいは、液晶分子が駆動される所定電圧を電極間に印加した状態で行ってもよい。好ましくは、一対の基板の有する電極間に電圧を印加した状態で光照射する。印加する電圧は、例えば５〜５０Ｖの直流又は交流とすることができる。照射する光としては、例えば１５０〜８００ｎｍの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができるが、３００〜４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。光の照射方向は、用いる放射線が直線偏光又は部分偏光である場合には、基板面に垂直の方向から行ってもよく、斜め方向から行ってもよく、又はこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光の放射線を照射する場合、照射方向は斜め方向とする。
【００８９】
照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー等を使用することができる。なお、上記の好ましい波長領域の紫外線は、光源を、例えばフィルター回折格子などと併用する手段等により得ることができる。光の照射量としては、好ましくは１，０００〜２００，０００Ｊ／ｍ２であり、より好ましくは１，０００〜１００，０００Ｊ／ｍ２である。
【００９０】
そして、液晶セルの外側表面に偏光板３６、３７を貼り合わせることにより液晶装置１０が得られる。偏光板３６、３７としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、又はＨ膜そのものからなる偏光板等が挙げられる。
【００９１】
本実施形態では、溶剤成分として特定溶剤を含有する液晶配向剤を用いて第１配向膜３２が形成されている。これにより、スリット部１９ｃを介して第１配向膜３２が層間絶縁膜２１に接触している場合にも、信頼性に優れた液晶装置１０を得ることができる。こうした効果が得られた理由は定かではないが、一つの理由として、液晶配向剤の調製に用いた特定溶剤は層間絶縁膜２１に与える影響が小さく、これにより層間絶縁膜２１の性能低下が抑制されたことが考えられる。特に、ＰＳＡ技術では、ＭＶＡモードの応答特性を改善するために、例えば数μｍ程度の微細なストライプ状の電極パターンが形成される。こうした微細な電極パターンが基板上に形成されている場合、液晶配向剤が層間絶縁膜２１に接触することによって層間絶縁膜２１が膨潤して膜の厚みが僅かでも変化すると、画素電極１９にも変形が起きやすく、素子性能の低下を招くことが考えられる。この点、特定溶剤によれば、層間絶縁膜２１の膨潤が抑制されることによって画素電極１９への影響を極力低減することができ、これにより素子性能の低下を十分抑制できたと推測される。また、液晶配向剤が層間絶縁膜２１に接触している状態において層間絶縁膜２１から液晶配向剤への不純物成分の溶出を抑制でき、これにより素子性能の低下を十分に抑制できたことも推測される。
【００９２】
（第２実施形態）
次に、第２実施形態について、第１実施形態との相違点を中心に説明する。本実施形態では、アレイ基板１５にカラーフィルタ層が設けられている点で上記第１実施形態と相違する。
【００９３】
図３は、第２実施形態の素子構造の一部を模式的に示す断面図である。図３に示す液晶装置１０は、第１実施形態の液晶装置と同様に、アレイ基板１５と対向基板１６とが液晶層１７を介して対向配置された構造を有する。アレイ基板１５は、透明基板１８上にＴＦＴ１４と、着色パターン２９ａ及び層間絶縁膜２９ｂを含んで構成されるカラーフィルタ層２９と、を有する。着色パターン２９ａは、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）で着色されたサブ画素により構成され、フォトリソグラフィー等の公知の方法により作製されている。層間絶縁膜２９ｂは、第１実施形態で説明した感放射線性樹脂組成物を用いて形成されている。この層間絶縁膜２９ｂは、着色パターン２９ａを保護するとともに、優れた特性を示す画素電極１９を形成することを目的として設けられている。画素電極１９は、層間絶縁膜２９ｂ上に配置される。
【００９４】
この場合にも、層間絶縁膜２９ｂ上にフィッシュボーン形状のパターン電極（画素電極１９）が形成された基板の電極形成面上に第１配向膜３２が形成されることにより、第１配向膜３２がスリット部１９ｃにおいて層間絶縁膜２９ｂに接触することとなる。この点、上述した液晶配向剤を用いて第１配向膜３２を形成することにより、信頼性に優れた液晶装置１０が得られる。
【００９５】
（他の実施形態）
・上記第１実施形態では、アレイ基板１５側の画素電極１９をパターン電極とし、スリット部１９ｃで層間絶縁膜２１と第１配向膜３２とが接触していたが、対向電極１６側についてもパターン電極及び層間絶縁膜を設け、スリット部においてパターン電極と層間絶縁膜とが接触しているようにしてもよい。
【００９６】
以上詳述した本発明の液晶装置１０は種々の用途に有効に適用することができ、例えば、時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、ＰＤＡ、デジタルカメラ、携帯電話、スマートフォン、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイなどの各種表示装置や、調光装置等として用いることができる。
【実施例】
【００９７】
以下、実施例に基づき本発明の実施形態をより詳しく説明するが、以下の実施例によって本発明が限定的に解釈されるものではない。【００９８】
以下の例において、重合体溶液中のポリイミドのイミド化率、重合体溶液の溶液粘度、重合体の重量平均分子量、及びエポキシ当量は以下の方法により測定した。
［ポリイミドのイミド化率］
ポリイミドの溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温で１Ｈ−ＮＭＲを測定した。得られた１Ｈ−ＮＭＲスペクトルから、下記数式（１）によりイミド化率[％]を求めた。
イミド化率[％]＝（１−（Ａ１／（Ａ２×α）））×１００    …（１）
（数式（１）中、Ａ１は化学シフト１０ｐｐｍ付近に現れるＮＨ基のプロトン由来のピーク面積であり、Ａ２はその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体（ポリアミック酸）におけるＮＨ基のプロトン１個に対するその他のプロトンの個数割合である。）
［重合体の重量平均分子量］
重量平均分子量は、以下の条件におけるゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム：東ソー（株）製、ＴＳＫｇｅｌＧＲＣＸＬＩＩ
溶剤：テトラヒドロフラン
温度：４０℃
圧力：６８ｋｇｆ／ｃｍ２
［エポキシ当量］
エポキシ当量は、JIS C 2105に記載の塩酸−メチルエチルケトン法により測定した。【００９９】
以下の例で使用する略号を示す。なお、以下では、式Ｘで表される化合物を単に「化合物Ｘ」と示すことがある。
【化８】
2019097902.tif 000010
【化９】
2019097902.tif 000011
【化１０】
2019097902.tif 000012
【化１１】
2019097902.tif 000013
【０１００】
１．感放射線性樹脂組成物（層間絶縁膜形成用）の調製
（１）［Ｑ］重合体の合成
［合成例１：重合体（Ｑ−１）の合成］
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、及びジエチレングリコールメチルエチルエーテル２２０質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸２５質量部、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル４５質量部、及びスチレン３０質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持して重合することにより重合体（Ｑ−１）を含有する溶液を得た。重合体（Ｑ−１）のＭｗは８０００であった。【０１０１】
［合成例２：重合体（Ｑ−２）の合成］
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、及びジエチレングリコールメチルエチルエーテル２２０質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸１５質量部、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル４０質量部、スチレン２０質量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート１５質量部、及びｎ−ラウリルメタクリレート１０質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持して重合することにより重合体（Ｑ−２）を含有する溶液を得た。重合体（Ｑ−２）のＭｗは８０００であった。【０１０２】
［合成例３：重合体（Ｑ−３）の合成］
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、及びジエチレングリコールメチルエチルエーテル２２０質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸グリシジル４０質量部、４−（α−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル）スチレン２０質量部、スチレン１０質量部、及びＮ−シクロヘキシルマレイミド３０質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持して重合することにより重合体（Ｑ−３）を含有する溶液を得た。重合体（Ｑ−３）のＭｗは８０００であった。【０１０３】
（２）感放射線性樹脂組成物の調製
［調製例１］
上記合成例１で得られた重合体（Ｑ−１）を含有する溶液（重合体（Ｑ−１）が１００質量部（固形分）に相当する量）に、１，２−オクタンジオン１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ社製  イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１）を２０質量部加え、さらにジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ、日本化薬社製）を１００質量部加えて混合した。固形分濃度が３０質量％となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルを加えて溶解させた後、口径０．２μｍのメンブランフィルタで濾過して、感放射線性樹脂組成物（Ｖ−１）を調製した。
［調製例２〜４］
配合組成を下記表１に記載の通りに変更した点以外は調製例１と同様にして感放射線性樹脂組成物（Ｖ−２）〜（Ｖ−４）をそれぞれ調製した。なお、下記表１において、「−」は該当成分を配合していないことを意味する（以下の表についても同じ）。【０１０４】
【表１】
2019097902.tif 000014
【０１０５】
表１中、化合物の略称は以下に示す通りである。
Ｒ−１：１，２−オクタンジオン１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ社製  イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１）
Ｒ−２：４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）との縮合物
Ｕ−１：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ、日本化薬社製）【０１０６】
２．重合体の合成（液晶配向剤用）
［合成例５：重合体（ＰＩ−１）の合成］
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物１００モル部、並びに、ジアミンとしてコレスタニルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン２０モル部、３，５−ジアミノ安息香酸５０モル部、及び化合物（ｄ−８）３０モル部をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解し、室温で６時間反応を行い、ポリアミック酸を２０質量％含有する溶液を得た。次いで、得られたポリアミック酸溶液にピリジン及び無水酢酸を添加し、化学イミド化を行った。化学イミド化後の反応溶液を濃縮し、濃度が１０質量％となるようにＮＭＰにて調製した。得られたポリイミド（重合体（ＰＩ−１）とする。）のイミド化率は約７５％であった。
［合成例６〜８］
使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの種類及び量を下記表２の通りに変更した以外は合成例５と同様にしてポリイミド（重合体（ＰＩ−２）〜重合体（ＰＩ−４））を合成した。なお、表２中、括弧内の数値は、重合体の合成に使用したテトラカルボン酸二無水物の合計１００モル部に対する各化合物の使用割合［モル部］を表す。【０１０７】
［合成例９：重合体（ＰＡＡ−１）の合成］
テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物７０モル部、及び１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物３０モル部、並びに、ジアミンとしてコレスタニルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン２０モル部、化合物（ｄ−１２）３０モル部、４，４’−ジアミノジフェニルメタン４０モル部、及び４，４’−［４，４’−プロパン−１，３−ジイルビス（ピペリジン−１，４−ジイル）］ジアニリン１０モル部をＮＭＰに溶解し、室温で６時間反応を行い、ポリアミック酸を２０質量％含有する溶液を得た。ここで得られたポリアミック酸を重合体（ＰＡＡ−１）とした。
［合成例１０］
使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの種類及び量を下記表２の通りに変更した以外は合成例９と同様にしてポリアミック酸（これを重合体（ＰＡＡ−２）とする。）を合成した。【０１０８】
【表２】
2019097902.tif 000015
【０１０９】
［合成例１１］
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、化合物（ｓ−１）１００ｇ、メチルイソブチルケトン５００ｇ、及びトリエチルアミン１０ｇを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水１００ｇを滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で撹拌しつつ、８０℃で６時間反応を行った。反応終了後、有機層を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒及び水を留去することにより、反応性ポリオルガノシロキサン（ＥＳＳＱ−１）を粘調な透明液体として得た。この反応性ポリオルガノシロキサンについて、１Ｈ−ＮＭＲ分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にエポキシ基に基づくピークが得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。得られた反応性ポリオルガノシロキサン（ＥＳＳＱ−１）の重量平均分子量Ｍｗは３０００、エポキシ当量は１９０ｇ／モルであった。
［合成例１２，１３］
使用するモノマーの種類及び量を下記表３の通りに変更した以外は合成例１１と同様にして反応性ポリオルガノシロキサン（重合体（ＥＳＳＱ−２）及び重合体（ＥＳＳＱ−３））を合成した。なお、表３中、括弧内の数値は、重合体の合成に使用したモノマーの合計１００モル部に対する各化合物の使用割合［モル部］を表す。【０１１０】
【表３】
2019097902.tif 000016
【０１１１】
［合成例１４］
５００ｍＬの三口フラスコに、反応性ポリオルガノシロキサン（ＥＳＳＱ−１）を１０．０ｇ、溶媒としてメチルイソブチルケトン３００ｇ、変性成分として化合物（ｃ−１）を１６ｇ及び化合物（ｃ−３）を１６ｇ、並びに触媒としてＵＣＡＴ  １８Ｘ（商品名、サンアプロ（株）製）０．１０ｇを仕込み、１００℃で４８時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加えて得た溶液を３回水洗し、硫酸マグネシウムを用いて有機層を乾燥した後、溶剤を留去することにより、重合性基含有ポリオルガノシロキサン（ＰＳＱ−１）を７５ｇ得た。得られた重合体の重量平均分子量Ｍｗは６０００であった。
［合成例１５，１６］
使用する反応性ポリオルガノシロキサン及び変性成分の種類及び量を下記表４の通りに変更した以外は合成例１４と同様にして重合性基含有ポリオルガノシロキサン（重合体（ＰＳＱ−２）及び重合体（ＰＳＱ−３））を合成した。表４中、括弧内の数値は、重合体の合成に使用したモノマーの合計１００モル部に対する各化合物の使用割合［モル部］を表す。【０１１２】
【表４】
2019097902.tif 000017
【０１１３】
３．液晶配向剤及び液晶表示素子の評価
［実施例１］
（１）液晶配向剤の調製
重合体成分として重合体（ＰI−１）を含有する溶液に、重合体（ＰＳＱ−１）を、重合体（ＰＩ−１）：重合体（ＰＳＱ−１）＝９５：５（質量比）となるように加え、さらに溶剤としてＮＭＰ、ジエチレングリコールジエチルエーテル（ＤＥＤＧ）及びダイアセトンアルコール（ＤＡＡ）を加えて十分に撹拌し、溶媒組成がＮＭＰ：ＤＥＤＧ：ＤＡＡ＝５０：３０：２０（質量比）、固形分濃度６．５質量％の溶液とした。この溶液を孔径１μｍのフィルターを用いてろ過することにより液晶配向剤（Ｗ−１）を調製した。【０１１４】
（２）液晶組成物（ＬＣ−１）の調製
ネマチック液晶（メルク社製、ＭＬＣ−６６０８）１０ｇに対し、下記式（ＲＭ−１）で表される化合物が液晶組成物の全構成成分の全量に対して０．３質量％となるように添加し、混合することにより液晶組成物（ＬＣ−１）を得た。
【化１２】
2019097902.tif 000018
【０１１５】
（３）液晶表示素子の製造
スピンナーを用い、ガラス基板（「コーニング７０５９」（コーニング社製））上に感放射線性樹脂組成物（Ｖ−１）を塗布した後、９０℃のクリーンオーブン内で１０分間プレベークを行い、ガラス基板上に膜厚２．０μｍの塗膜をそれぞれ形成した。次いで、ＵＶ（紫外）露光機（ＴＯＰＣＯＮ  Ｄｅｅｐ−ＵＶ露光機ＴＭＥ−４００ＰＲＪ）を用い、パターンマスクを介してＵＶ光を１００ｍＪ照射した。その後、２．３８質量％の濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（現像液）を用い、液盛り法によって２５℃で１００秒間の現像処理を行った。現像処理後、超純水で１分間、塗膜を流水洗浄し、乾燥させて基板上にパターニングされた塗膜を形成した後、オーブンにて２３０℃で３０分間加熱（ポストベーク）して硬化させた。次に、キャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用い、フォトマスクを介さずに各塗膜の全面に５００Ｊ／ｍ２の露光量で露光を行った。その後、２３０℃で３０分間ポストベークを行って各塗膜を硬化させ、層間絶縁膜を形成した。【０１１６】
次いで、層間絶縁膜が形成されたガラス基板上に、フィッシュボーン状にパターニングされたＩＴＯ電極を形成した。本実施例では、ＩＴＯ電極の電極パターンを、ライン／スペース＝３．５μｍ／３．５μｍのフィッシュボーン状とした。ここで使用したＩＴＯ電極の電極パターンを図４に示した。また、同様の操作を行うことにより、パターンを有さないＩＴＯ電極を有するガラス基板を準備した。これら一対の基板のうち、パターンを有さないＩＴＯ電極を有するガラス基板の電極側表面に、３．５μｍカラムスペーサーを形成した。【０１１７】
次いで、一対の基板のそれぞれの電極形成面上に液晶配向剤（Ｗ−１）をスピンコートした後、８０℃のホットプレート上で１分間加熱（プレベーク）して溶媒を除去し、その後、２３０℃のホットプレート上で１５分間加熱（ポストベーク）して、平均膜厚１００ｎｍの塗膜を形成した。この塗膜につき、超純水中で１分間超音波洗浄を行った後、１００℃クリーンオーブン中で１０分間乾燥し、液晶配向膜を有する一対の基板を得た。【０１１８】
次に、パターニングされたＩＴＯ電極を有するガラス基板のＩＴＯ面の外縁に直径５．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、エポキシ樹脂接着剤の内側の面に、液晶組成物（ＬＣ−１）を６点滴下（縦２点×横３点とし、各点の間隔は上下左右１０ｍｍとし、各点の塗布量は０．６ｍｇとした。）した。この基板ともう１枚のガラス基板とが相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化させて液晶セルを製造した。得られた液晶セルにつき、後述する「ＰＳＡプロセス−１」に従って紫外線照射及びアニールを行うことにより評価用液晶セルを作製した。
（ＰＳＡプロセス−１）
液晶セルにつき、電極間に周波数６０Ｈｚの交流２０Ｖｐｐを印加し、液晶が駆動している状態で、光源にメタルハライドランプを使用した紫外線照射装置を用いて、８０ｍＷの紫外線を５０秒間照射する。続いて、電圧を印加していない状態で、光源にメタルハライドランプを使用した紫外線照射装置を用いて、３．５ｍＷの紫外線を３０分間照射する。
最後に、液晶セルを１２０℃のクリーンオーブンに１０分間入れ、アニールを行う。なお、照射量は、波長３６５ｎｍ基準で計測される光量計を用いて計測した値である。【０１１９】
（４）電圧保持率（ＶＨＲ）の評価
上記（３）で製造した評価用液晶セルを恒温槽中に置き、６０℃において５Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率（ＶＨＲ）を、東陽テクニカ社製の「ＶＨＲ−１」により測定した。このとき、ＶＨＲが９６％以上であった場合を「非常に良好（◎）」、９３％以上９６％未満であった場合を「良好（○）」、９０％以上９３％未満であった場合を「可（△）」、９０％以下であった場合を「不良（×）」と評価した。その結果、この実施例ではＶＨＲ＝９７％であり、「非常に良好（◎）」の評価であった。【０１２０】
［実施例２〜２２、比較例１、２］
使用する重合体及び溶剤の種類及び量を下記表５の通り変更した点以外は上記と同様の操作を行い、液晶配向剤をそれぞれ調製した。また、層間絶縁膜の作製に用いた感放射線性樹脂組成物を下記表５に示す組成物に変更した点、及び各例で調製した液晶配向剤を用いて液晶配向膜を作製した点以外は上記と同様にして評価用液晶セルを製造するとともに、得られた評価用液晶セルを用いて電圧保持率の評価を行った。その結果を下記表５に示した。【０１２１】
【表５】
2019097902.tif 000019
【０１２２】
表５中、重合体欄の括弧内の数値は、液晶配向剤の調製に使用した重合体成分の合計１００質量部に対する各重合体の配合割合［質量部］を示す。溶剤組成欄の数値は、液晶配向剤の調製に使用した溶剤の全体１００質量部に対する各化合物の配合割合［質量部］を示す。溶剤の略称は以下の通りである（下記表６についても同じ）。
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＮＥＰ：Ｎ−エチル−２−ピロリドン
ＤＭＩ：１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン
ＥＱＭ：３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド
ＢＣ：ブチルセロソルブ
ＤＥＤＧ：ジエチレングリコールジエチルエーテル
ＰＧＤＡｃ：プロピレングリコールジアセテート
ＤＰＭ：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル
ＤＡＡ：ダイアセトンアルコール
ＰＧ：プロピレングリコールモノブチルエーテル
ＤＩＰＥ：ジイソペンチルエーテル【０１２３】
表５に示すように、特定溶剤を含む液晶配向剤を用いて液晶配向膜を形成した実施例１〜２２では、特定溶剤を含まない液晶配向剤を用いて液晶配向膜を形成した比較例１，２よりも信頼性に優れた液晶表示素子が得られた。これらの中でも、［Ａ］溶剤と［Ｂ］溶剤とを含む液晶配向剤を用いた実施例１〜１８では「非常に良好」の評価であり、特に優れていた。【０１２４】
さらに、上記実施例１〜２２において、ガラス基板の有するＩＴＯ電極のパターンを図５に示したパターンに変更したほかは上記と同様にして液晶表示素子を製造して評価したところ、いずれの実施例においても上記と同様の効果が得られた。【０１２５】
［実施例２３］
（１）ＩＴＯ配線変形の評価
Ｎ−エチル−２−ピロリドン（ＮＥＰ）及びジエチレングリコールジエチルエーテル（ＤＥＤＧ）を混合して十分に撹拌し、溶剤組成がＮＥＰ：ＤＥＤＧ＝５０：５０（質量比）の評価用溶剤（Ｚ−１）を調製した。
また、上記実施例１の（３）と同様の操作を行うことにより、層間絶縁膜上にＩＴＯからなるパターン電極を配したガラス基板を準備した。このガラス基板を８０℃の評価用溶剤（Ｚ−１）中に３０分間浸漬し、層間絶縁膜の膨潤度合い及びＩＴＯ電極の変形度合いについて下記に示す基準により評価した。液晶配向剤の溶剤成分と接触させた場合に層間絶縁膜の膨潤が小さく電極の変形が小さいほど、その溶剤が層間絶縁膜及びＩＴＯ電極に与える影響が小さく、液晶素子の信頼性を担保できるため、液晶配向剤の溶剤として好適であると言える。その結果、この実施例は「Ａ」の評価であった。
（評価基準）
Ａ：層間絶縁膜の膨潤はなく電極の異常なし
Ｂ：層間絶縁膜の膨潤は見られるが、電極には異常なし
Ｃ：層間絶縁膜の膨潤により電極の変形などの軽微な異常あり
Ｄ：層間絶縁膜の膨潤により電極の断線などの重篤な異常あり【０１２６】
［実施例２４〜４４、比較例３、４］
溶剤組成、及び使用する感放射線性樹脂組成物の種類を下記表６の通り変更した点以外は上記と同様の操作を行い、各溶剤についてＩＴＯ配線変形を評価した。その結果を下記表６に示した。【０１２７】
【表６】
2019097902.tif 000020
【０１２８】
表６の結果から、特定溶剤を用いた実施例２３〜４４では、層間絶縁膜の膨潤は見られなかったか又は膨潤してもその程度が小さく、電極の異常は見られなかった。これらの結果から、特定溶剤によれば、微細なストライプ状の電極パターン上に液晶配向膜を形成した場合にも電極の形状が変化しにくく、液晶素子の信頼性を担保できることが分かった。
【符号の説明】
【０１２９】
１…ＩＴＯ電極、２…スリット部、３…遮光膜、１０…液晶装置、１４…薄膜トランジスタ、１５…アレイ基板、１６…対向基板、１７…液晶層、１９…画素電極、１９ｃ…スリット部、２１…層間絶縁膜、２９…カラーフィルタ層、２９ａ…着色パターン、２９ｂ…層間絶縁膜、３１…共通電極、３２…第１配向膜、３３…第２配向膜、３４，３５…ＰＳＡ層（配向制御層）
【図１】
2019097902.tif 000023
【図２】
2019097902.tif 000024
【図３】
2019097902.tif 000025
【図４】
2019097902.tif 000026
【図５】
2019097902.tif 000027
【国際調査報告】
2019097902.tif 000028
2019097902.tif 000029
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