(57)【要約】  耐摩擦性に優れ、かつ、粒状物の発生が抑制された表面層を形成できる組成物、および、これを用いて形成された表面層を有する物品の提供。  本発明の組成物は、ケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方とポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖とを有する含フッ素エーテル化合物、および鉄原子含有化合物を含む組成物であって、上記鉄原子含有化合物に含まれる鉄原子の含有量が、上記含フッ素エーテル化合物に対して、１５〜１，５００ｐｍである。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方とポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖とを有する含フッ素エーテル化合物、および鉄原子含有化合物を含む組成物であって、
前記鉄原子含有化合物に含まれる鉄原子の含有量が、前記含フッ素エーテル化合物に対して、１５〜１，５００質量ｐｐｍであることを特徴とする組成物。
【請求項２】
前記含フッ素エーテル化合物が、前記ケイ素原子に結合した加水分解性基を２つ以上有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記含フッ素エーテル化合物が、前記加水分解性基が結合したケイ素原子からなる基を２つ以上有する、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記含フッ素エーテル化合物が、下記式（１）で表される化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
［Ａ−Ｏ−Ｚ１−（ＲｆＯ）ｍ−］ｊＺ２［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｑ  （１）
ただし、Ａは、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｋであり、Ａが−Ｑ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｋである場合ｊは１であり、
Ｑは（ｋ＋１）価の連結基であり、ｋは１〜１０の整数であり、
Ｚ１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基（ただし、オキシペルフルオロアルキレン基を除く。上記オキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（ＲｆＯ）ｍに結合する。）、または、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基（（ＲｆＯ）ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（ＲｆＯ）ｍに結合する。（ＲｆＯ）ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基は、１個以上の水素原子を含む。ポリ（オキシフルオロアルキレン）基には、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたオキシペルフルオロアルキレン基と、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基との両方が含まれていてもよい。）であり、
Ｒｆはペルフルオロアルキレン基であり、ｍは、２〜２００の整数であり、（ＲｆＯ）ｍにおいて炭素数の異なる２種以上のＲｆＯが存在する場合、各ＲｆＯの結合順序は限定されず、
Ｚ２は（ｊ＋ｑ）価の連結基であり、Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは加水分解性基または水酸基であり、ｊ、ｑはそれぞれ１以上の整数であり、ｎは０〜２の整数である。
【請求項５】
前記Ａが炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、前記ｑが２〜４である、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
Ｌが炭素数１〜４のアルコキシ基であり、ｎが０または１である、請求項４または５に記載の組成物。
【請求項７】
前記ＳｉＲｎＬ３−ｎがＳｉ（ＯＣＨ３）３である、請求項４〜６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記鉄原子含有化合物が、芳香環を有する配位子が鉄原子に配位した化合物である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
液状媒体をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記液状媒体が、フッ素系有機溶媒である、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
基材と、前記基材の表面に、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物から形成されてなる表面層と、を有することを特徴とする物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、組成物および物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。上記含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキレン鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、柔軟性に優れる化合物であり、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。【０００３】
上記含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長時間維持されるのが求められる用途、たとえば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。
上記含フッ素エーテル化合物としては、白金等を含むヒドロシリル化触媒の存在下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する化合物と、アルコキシシランと、を反応させて得られる、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、末端に加水分解性シリル基を有する化合物が広く用いられている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−１９９９０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、含フッ素エーテル化合物を含む組成物を用いて形成されてなる表面層に求められる物性はさらに向上している。
本発明者らが特許文献１に記載の含フッ素エーテル化合物を含む組成物を用いて基材の表面に表面層を形成したところ、組成物に含まれる成分によっては、表面層の耐摩擦性が不充分である場合、または、凝集物に起因する粒状物が発生して、表面層の外観特性が劣る場合があるのを知見した。【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みて、耐摩擦性に優れ、かつ、粒状物の発生が抑制された表面層を形成できる組成物、および、これを用いて形成された表面層を有する物品の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、下記［１］〜［１１］の構成を有する組成物および物品を提供する。
［１］  ケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方とポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖とを有する含フッ素エーテル化合物、および鉄原子含有化合物を含む組成物であって、前記鉄原子含有化合物に含まれる鉄原子の含有量が、前記含フッ素エーテル化合物に対して、１５〜１，５００質量ｐｐｍであることを特徴とする組成物。
［２］  前記含フッ素エーテル化合物が、前記ケイ素原子に結合した加水分解性基を２つ以上有する、［１］の組成物。
［３］  前記含フッ素エーテル化合物が、前記加水分解性基が結合したケイ素原子からなる基を２つ以上有する、［１］または［２］の組成物。【０００８】
［４］  前記含フッ素エーテル化合物が、下記式（１）で表される化合物である、［１］〜［３］のいずれかの組成物。
［Ａ−Ｏ−Ｚ１−（ＲｆＯ）ｍ−］ｊＺ２［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｑ  （１）
ただし、Ａは、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｋであり、Ａが−Ｑ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｋである場合ｊは１であり、
Ｑは（ｋ＋１）価の連結基であり、ｋは１〜１０の整数であり、
Ｚ１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基（ただし、オキシペルフルオロアルキレン基を除く。上記オキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（ＲｆＯ）ｍに結合する。）、または、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基（（ＲｆＯ）ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（ＲｆＯ）ｍに結合する。（ＲｆＯ）ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基は、１個以上の水素原子を含む。ポリ（オキシフルオロアルキレン）基には、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたオキシペルフルオロアルキレン基と、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基との両方が含まれていてもよい。）であり、
Ｒｆはペルフルオロアルキレン基であり、ｍは、２〜２００の整数であり、（ＲｆＯ）ｍにおいて炭素数の異なる２種以上のＲｆＯが存在する場合、各ＲｆＯの結合順序は限定されず、
Ｚ２は（ｊ＋ｑ）価の連結基であり、Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは加水分解性基または水酸基であり、ｊ、ｑはそれぞれ１以上の整数であり、ｎは０〜２の整数である。【０００９】
［５］  前記Ａが炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、前記ｑが２〜４である、［４］の組成物。
［６］  Ｌが炭素数１〜４のアルコキシ基であり、ｎが０または１である、［４］または［５］の組成物。
［７］  前記ＳｉＲｎＬ３−ｎがＳｉ（ＯＣＨ３）３である、［４］〜［６］のいずれかの組成物。
［８］  前記鉄原子含有化合物が、芳香環を有する配位子が鉄原子に配位した化合物である、［１］〜［７］のいずれかの組成物。
［９］  液状媒体をさらに含む、［１］〜［８］のいずれかの組成物。
［１０］  前記液状媒体が、フッ素系有機溶媒である、［９］の組成物。
［１１］  基材と、前記基材の表面に、［１］〜［１０］のいずれかの組成物から形成されてなる表面層と、を有することを特徴とする物品。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、耐摩擦性に優れ、かつ、粒状物の発生が抑制された表面層を形成できる組成物、および、これを用いて形成された表面層を有する物品を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物１と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。式（１）で表される基を基１と記す。他の式で表される基も同様に記す。
本明細書において、「アルキレン基がＡ基を有していてもよい」、「Ａ基を有していてもよいアルキレン基」とは、アルキレン基中の炭素原子−炭素原子間にＡ基を有していてもよいし、アルキレン基−Ａ基−のように末端にＡ基を有していてもよいことを意味する。
本発明における用語の意味は以下の通りである。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素原子−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「２価のオルガノポリシロキサン残基」とは、下式で表される基である。下式におけるＲａは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。また、ｇ１は、１以上の整数であり、１〜９の整数が好ましく、１〜４の整数が特に好ましい。  
【００１２】
【化１】
2019035297.tif 000002
【００１３】
「シルフェニレン骨格基」とは、−Ｓｉ（Ｒｂ）２ＰｈＳｉ（Ｒｂ）２−（ただし、Ｐｈはフェニレン基であり、Ｒｂは１価の有機基である。）で表される基である。Ｒｂとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）が好ましい。
「ジアルキルシリレン基」は、−Ｓｉ（Ｒｃ）２−（ただし、Ｒｃはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。）で表される基である。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。
【００１４】
〔組成物〕
本発明の組成物（以下、「本組成物」ともいう。）は、ケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方とポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖とを有する含フッ素エーテル化合物（以下、「特定含フッ素エーテル化合物」ともいう。）、および鉄原子含有化合物を含む組成物であって、鉄原子含有化合物に含まれる鉄原子の含有量が、特定含フッ素エーテル化合物の全質量に対して、１５〜１，５００質量ｐｐｍである。
なお、以下、加水分解性基が結合したケイ素原子からなる基を「加水分解性シリル基」といい、ケイ素原子に結合した水酸基を「シラノール基」ともいう。
【００１５】
本組成物によれば、耐摩擦性に優れ、かつ、粒状物の発生が抑制された表面層を形成できる。この理由の詳細は、未だ明らかになっていないが概ね以下の理由によると推測される。
すなわち、表面層を形成する際に、特定含フッ素エーテル化合物に対する鉄原子の含有量が１５質量ｐｐｍ以上である本組成物を用いると、鉄原子含有化合物が特定含フッ素エーテル化合物に含まれる加水分解性シリル基の加水分解反応触媒としての機能を発揮して、表面層と基材とが強固に結合すると推測される。その結果、耐摩擦性に優れた表面層を形成できたと考えられる。
また、特定含フッ素エーテル化合物に対する鉄原子の含有量が１，５００質量ｐｐｍ以下であると、本組成物の保存時における特定含フッ素エーテル化合物の加水分解・縮合が抑制されて、本組成物中に特定含フッ素エーテル化合物に由来する凝集物が発生しにくいと考えられる。その結果、本組成物を用いて得られる表面層は、凝集物に起因する粒状物の発生が抑制されたと考えられる。
【００１６】
（特定含フッ素エーテル化合物）
本組成物における特定含フッ素エーテル化合物は、加水分解性シリル基またはシラノール基とポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖とを有する。
【００１７】
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、（ＲｆＯ）ｍ（ただし、Ｒｆはペルフルオロアルキレン基であり、ｍは２〜２００の整数であり、炭素数の異なる２種以上のＲｆＯからなるものであってもよい。）が好ましい。
（ＲｆＯ）ｍの定義は、後段で詳述する。
【００１８】
特定含フッ素エーテル化合物は、化合物の保存安定性がより優れる点から、加水分解性シリル基を有するのが好ましく、表面層の耐摩擦性がより優れる点から、加水分解性シリル基を２つ以上有するのが好ましい。加水分解性シリル基の数は６以下が好ましく、４以下がより好ましい。
【００１９】
特定含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、５００〜２０，０００が好ましく、８００〜１０，０００がより好ましく、１，０００〜８，０００が特に好ましい。数平均分子量が該範囲内であれば、表面層の耐摩擦性に優れる。
【００２０】
特定含フッ素エーテル化合物としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点で、化合物１が好ましい。
［Ａ−Ｏ−Ｚ１−（ＲｆＯ）ｍ−］ｊＺ２［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｑ    （１）
【００２１】
Ａは、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｋである。
ペルフルオロアルキル基中の炭素数は、表面層の耐摩擦性がより優れる点から、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましい。
ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
ただし、Ａが−Ｑ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｋである場合、ｊは１である。
【００２２】
ペルフルオロアルキル基としては、ＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）−等が挙げられる。
ペルフルオロアルキル基としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、ＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−が好ましい。
【００２３】
Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。ｋは１〜１０の整数である。よって、Ｑとしては、２〜１１価の連結基が挙げられる。
Ｑとしては、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２〜８価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式（２−１）、式（２−２）、式（２−１−１）〜（２−１−６）からＳｉＲｎＬ３−ｎを除いた基が挙げられる。
【００２４】
Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基である。
Ｒは、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。１価の炭化水素基の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
【００２５】
Ｌは、加水分解性基または水酸基である。Ｌが加水分解性基であるＳｉＲｎＬ３−ｎは、加水分解性シリル基である。
Ｌの加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、加水分解性シリル基の加水分解性基は、加水分解反応によりシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成できる。
【００２６】
Ｌとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
Ｌとしては、工業的な製造が容易な点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物の保存安定性がより優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
【００２７】
ｎは、０〜２の整数である。
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌが複数存在することによって、表面層の基材への密着性がより強固になる。
ｎが０または１である場合、１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する２つのＲは互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００２８】
加水分解性シリル基（ＳｉＲｎＬ３−ｎ）としては、−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、−ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、−ＳｉＣｌ３、−Ｓｉ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ３）３、−Ｓｉ（ＮＣＯ）３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が特に好ましい。
【００２９】
Ｚ１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基（ただし、オキシペルフルオロアルキレン基を除く。上記オキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（ＲｆＯ）ｍに結合する。）、または、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基（（ＲｆＯ）ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（ＲｆＯ）ｍに結合する。（ＲｆＯ）ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基は、１個以上の水素原子を含む。ポリ（オキシフルオロアルキレン）基には、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたオキシペルフルオロアルキレン基と、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基との両方が含まれていてもよい。）である。オキシフルオロアルキレン基またはポリ（オキシフルオロアルキレン）基の炭素数は１〜１０が好ましい。
【００３０】
Ｚ１としては、化合物を製造しやすい点から、単結合、−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−が好ましい（ただし、左側がＡ−Ｏに結合する。）。Ｚ１としては、単結合、−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−が特に好ましい。
【００３１】
Ｒｆは、ペルフルオロアルキレン基である。
ペルフルオロアルキレン基の炭素数は、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、１〜６が好ましい。
ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、表面層の撥水撥油性により優れる点から、直鎖状が好ましい。
なお、複数のＲｆは、同一であっても異なっていてもよい。つまり、（ＲｆＯ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆＯから構成されていてもよい。
【００３２】
ｍは、２〜２００の整数であり、５〜１５０の整数が好ましく、１０〜１００の整数が特に好ましい。ｍが上記範囲の下限値以上であれば、表面層の撥水撥油性がより優れる。ｍが上記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性がより優れる。
【００３３】
（ＲｆＯ）ｍにおいて、炭素数の異なる２種以上のＲｆＯが存在する場合、各ＲｆＯの結合順序は限定されない。たとえば、２種のＲｆＯが存在する場合、２種のＲｆＯがランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
（ＲｆＯ）ｍとしては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１３（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１４｝、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１６、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１７、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１５（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１８（ＣＦ２Ｏ）または（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１９（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）が好ましく、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１３（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１４｝、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１５（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１８（ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１９（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）が特に好ましい。
ただし、ｍ１１およびｍ１２は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ１３およびｍ１４は、それぞれ０または１以上の整数であり、ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４は２〜２００の整数であり、ｍ１１個のＣＦ２Ｏ、ｍ１２個のＣＦ２ＣＦ２Ｏ、ｍ１３個のＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ、ｍ１４個のＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏの結合順序は限定されない。ｍ１６およびｍ１７は、それぞれ２〜２００の整数であり、ｍ１５、ｍ１８およびｍ１９は、１〜９９の整数である。
【００３４】
Ｚ２は、（ｊ＋ｑ）価の連結基である。
Ｚ２は、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２〜８価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式（２−１）、式（２−２）、式（２−１−１）〜（２−１−６）からＳｉＲｎＬ３−ｎを除いた基が挙げられる。
【００３５】
ｊは、１以上の整数であり、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、１〜５の整数が好ましく、化合物を製造しやすい点から、１が特に好ましい。
ｑは、１以上の整数であり、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、２〜４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。
【００３６】
化合物１は、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、化合物１−１が好ましい。
Ａ−Ｏ−Ｚ１−（ＲｆＯ）ｍ−Ｚ３    （１−１）
式（１−１）中、Ａ、Ｚ１、Ｒｆおよびｍの定義は、式（１）中の各基の定義と同義である。
【００３７】
Ｚ３は、基２−１または基２−２である。
−Ｒｆ７−Ｑａ−Ｘ（−Ｑｂ−ＳｉＲｎＬ３−ｎ）ｈ（−Ｒ７）ｉ    （２−１）
−Ｒｆ７−Ｑ７１−［ＣＨ２Ｃ（Ｒ７１）（−Ｑ７２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ）］ｙ−Ｒ７２    （２−２）
【００３８】
式（２−１）および（２−２）中、Ｒ、Ｌおよびｎの定義は、式（１）中の各基の定義と同義である。
【００３９】
Ｒｆ７は、ペルフルオロアルキレン基である。
ペルフルオロアルキレン基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜６が特に好ましい。  ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
Ｒｆ７としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−が好ましい。
【００４０】
Ｑａは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。炭素数は１〜２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５〜２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基であってもよい。）、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒｄ）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓｉ（Ｒａ）２−および、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。ここで、Ｒａは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。Ｒｄは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−、アルキレン基−Ｏ−アルキレン基、アルキレン基−ＯＣ（Ｏ）−アルキレン基、アルキレン基−Ｓｉ（Ｒａ）２−フェニレン基−Ｓｉ（Ｒａ）２が挙げられる。
【００４１】
Ｘは、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子または２〜８価のオルガノポリシロキサン残基である。
なお、上記アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
Ｘで表されるアルキレン基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０が特に好ましい。
２〜８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。
【００４２】
Ｑｂは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基の定義は、上述したＱａで説明した定義と同義である。
【００４３】
Ｒ７は、水酸基またはアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が特に好ましい。
【００４４】
Ｘが単結合またはアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０であり、
Ｘが窒素原子の場合、ｈは１〜２の整数であり、ｉは０〜１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たし、
Ｘが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｈは１〜３の整数であり、ｉは０〜２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たし、
Ｘが２〜８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１〜７の整数であり、ｉは０〜６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１〜７を満たす。
（−Ｑｂ−ＳｉＲｎＬ３−ｎ）が２個以上ある場合は、２個以上の（−Ｑｂ−ＳｉＲｎＬ３−ｎ）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ７が２個以上ある場合は、２個以上の（−Ｒ７）は、同一であっても異なっていてもよい。
【００４５】
Ｑ７１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００４６】
Ｒ７１は、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
アルキル基としては、メチル基が好ましい。
【００４７】
Ｑ７２は、単結合またはアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。化合物を製造しやすい点から、Ｑ７２は、単結合または−ＣＨ２−が好ましい。
【００４８】
Ｒ７２は、水素原子またはハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
【００４９】
ｙは、１〜１０の整数であり、１〜６の整数が好ましい。
２個以上の［ＣＨ２Ｃ（Ｒ７１）（−Ｑ７２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ）］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００５０】
基２−１としては、基２−１−１〜２−１−６が好ましい。
−Ｒｆ７−（Ｘ１）ｐ−Ｑ１−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  （２−１−１）
−Ｒｆ７−（Ｘ２）ｒ−Ｑ２１−Ｎ［−Ｑ２２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］２  （２−１−２）
−Ｒｆ７−Ｑ３１−Ｇ（Ｒ３）［−Ｑ３２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］２  （２−１−３）
−Ｒｆ７−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）］ｓ−Ｑ４１−（Ｏ）ｔ−Ｃ［−（Ｏ）ｕ−Ｑ４２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  （２−１−４）
−Ｒｆ７−Ｑ５１−Ｓｉ［−Ｑ５２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  （２−１−５）
−Ｒｆ７−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）］ｖ−Ｑ６１−Ｚ３［−Ｑ６２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｗ  （２−１−６）
なお、式（２−１−１）〜（２−１−６）中、Ｒｆ７、Ｒ、Ｌ、および、ｎの定義は、上述した通りである。
【００５１】
Ｘ１は、−Ｏ−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−である（ただし、式中のＮはＱ１に結合する）。
Ｒｄの定義は、上述した通りである。
ｐは、０または１である。
【００５２】
Ｑ１は、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
なお、アルキレン基が−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子−炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。
【００５３】
Ｑ１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００５４】
Ｑ１としては、ｐが０の場合は、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。（Ｘ１）ｐが−Ｏ−の場合は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。（Ｘ１）ｐが−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−の場合は、炭素数２〜６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱ１に結合する）。Ｑ１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。
【００５５】
基２−１−１の具体例としては、以下の基が挙げられる。
【００５６】
【化２】
2019035297.tif 000003
【００５７】
Ｘ２は、−Ｏ−、−ＮＨ−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−である。
Ｒｄの定義は、上述した通りである。
【００５８】
Ｑ２１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−もしくは−ＮＨ−を有する基である。
Ｑ２１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ２１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−または−ＮＨ−を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００５９】
Ｑ２１としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（ＯＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＮに結合する。）。
【００６０】
ｒは、０または１（ただし、Ｑ２１が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい点から、０が好ましい。
【００６１】
Ｑ２２は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基である。
Ｑ２２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ２２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子または−ＮＨ−を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００６２】
Ｑ２２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【００６３】
２個の［−Ｑ２２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００６４】
基２−１−２の具体例としては、以下の基が挙げられる。
【００６５】
【化３】
2019035297.tif 000004
【００６６】
Ｑ３１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
Ｑ３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ３１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００６７】
Ｇは、炭素原子またはケイ素原子である。
Ｒ６は、水酸基またはアルキル基である。Ｒ３で表されるアルキル基の炭素数は、１〜４が好ましい。
Ｇ（Ｒ３）としては、化合物を製造しやすい点から、Ｃ（ＯＨ）またはＳｉ（Ｒ３ａ）（ただし、Ｒ３ａはアルキル基である。アルキル基の炭素数は１〜１０が好ましく、メチル基が特に好ましい。）が好ましい。
【００６８】
Ｑ３２は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。  Ｑ３２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ３２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ３２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。
【００６９】
２個の［−Ｑ３２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００７０】
基２−１−３の具体例としては、以下の基が挙げられる。
【００７１】
【化４】
2019035297.tif 000005
【００７２】
式（２−１−４）中のＲｄの定義は、上述した通りである。
ｓは、０または１である。
Ｑ４１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ４１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ４１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
ｔは、０または１（ただし、Ｑ４１が単結合の場合は０である。）である。
−Ｑ４１−（Ｏ）ｔ−としては、化合物を製造しやすい点から、ｓが０の場合は、単結合、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２−が好ましく（ただし、左側がＲｆ７に結合する。）、ｓが１の場合は、単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。
【００７３】
Ｑ４２は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−〔Ｒｄの定義は、上述した通りである。〕、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。
なお、アルキレン基が−Ｏ−またはシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子−炭素原子間に−Ｏ−またはシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−、ジアルキルシリレン基または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間または（Ｏ）ｕ１と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑ４２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００７４】
ｕは、０または１である。
−（Ｏ）ｕ−Ｑ４２−としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＰｈＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）
【００７５】
３個の［−（Ｏ）ｕ−Ｑ４２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００７６】
基２−１−４の具体例としては、以下の基が挙げられる。
【００７７】
【化５】
2019035297.tif 000006
【００７８】
Ｑ５１は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ５１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ５１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ５１としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【００７９】
Ｑ５２は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。  Ｑ５２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ５２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ５２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉＲｎＬ３−ｎに結合する。）。
【００８０】
３個の［−Ｑ５２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００８１】
基２−１−５の具体例としては、以下の基が挙げられる。
【００８２】
【化６】
2019035297.tif 000007
【００８３】
式（２−１−６）中のＲｄの定義は、上述の通りである。
ｖは、０または１である。
【００８４】
Ｑ６１は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ６１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ６１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ６１としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＺ３に結合する。）。
【００８５】
Ｚ３は、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基である。
ｗは、２〜７の整数である。
（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲａは、上述の通りである。
【００８６】
【化７】
2019035297.tif 000008
【００８７】
Ｑ６２は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑ６２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ６２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ６２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。
【００８８】
ｗ個の［−Ｑ６２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００８９】
特定含フッ素エーテル化合物の含有量は、本組成物の全質量に対して、０．０１〜９９．８質量％が好ましく、０．１〜５０質量％がより好ましく、０．１〜２０質量％が特に好ましい。
特定含フッ素エーテル化合物は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００９０】
＜特定含フッ素エーテル化合物の製法＞
特定含フッ素エーテル化合物の製造方法の具体例としては、ヒドロシリル化触媒の存在下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基（たとえば、アリル基、ビニル基、３−ブテニル基）を有する化合物と、ケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方とケイ素原子に結合した水素原子とを有するケイ素化合物とを反応させて、特定含フッ素エーテル化合物を得る方法が挙げられる。
【００９１】
特定含フッ素エーテル化合物の合成時にヒドロシリル化触媒として鉄原子含有化合物を用いる場合には、特定含フッ素エーテル化合物の合成によって、特定含フッ素エーテル化合物とともに鉄原子含有化合物を含む混合物が得られる。このようにして得られた混合物は、そのまま本組成物として使用できる。また、得られた混合物に後述する他の成分を添加して、本組成物として用いてよい。
一方、特定含フッ素エーテル化合物の合成時のヒドロシリル化触媒に鉄原子含有化合物を用いない場合には、特定含フッ素エーテル化合物の合成後、特定含フッ素エーテル化合物と、鉄原子含有化合物と、必要に応じて他の成分とを混合して、本組成物が得られる。  
【００９２】
（鉄原子含有化合物）
鉄原子含有化合物は、後述する触媒であることが好ましい。たとえば、特定含フッ素エーテル化合物は、ヒドロシリル化触媒の存在下で製造される。そのため、ヒドロシリル化触媒として鉄原子を含む触媒を用いると、組成物中には、特定含フッ素エーテル化合物とともに、ヒドロシリル化触媒における鉄原子が含まれる。
また、表面層の形成時における、特定含フッ素エーテル化合物が有する加水分解性シリル基の加水分解反応を促進するために、組成物中には、加水分解触媒が含まれる場合がある。このとき、鉄原子を含む加水分解触媒を用いれば、組成物中に加水分解触媒における鉄原子が含まれる。
なお、鉄原子含有化合物が、ヒドロシリル化触媒および加水分解触媒の両方を兼ねてもよい。
【００９３】
鉄原子含有化合物がヒドロシリル化触媒である場合、鉄原子含有化合物としては鉄原子にカルボニル、シクロペンタジエニル、テルピリジン、ビストリメチルシリルメチル、ビスイミノピリジン、ビスイミノキノリン、イソシアニド等が配位した化合物が挙げられる。鉄原子に配位する配位子としては、芳香環（シクロペンタジエニル環、ピリジン環、ベンゼン環等）を有するものが好ましい。配位子は１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。ヒドロシリル化触媒の具体例としては、カルボニル配位子を有する鉄錯体（Ｆｅ（ＣＯ）５、Ｆｅ３（ＣＯ）１２）、カルボニル配位子とシクロペンタジエニル配位子とを有する鉄錯体（例えば国際公開第２０１０／０１６４１６号公報に記載のＣ５Ｈ５−Ｆｅ−ＣＨ３（ＣＯ）２。）、テルピリジン配位子を有する鉄錯体、テルピリジン配位子とビストリメチルシリルメチル配位子とを有する鉄錯体、ビスイミノピリジン配位子を有する鉄錯体、ビスイミノキノリン配位子を有する鉄錯体、イソシアニド配位子を有する鉄錯体（特開２０１６−４１４１４号公報、国際公開第２０１６／０２４６０７号公報等）、カルボニル配位子とイソシアニド配位子とを有する鉄錯体、国際公開第２０１６／０２７８１９号公報に記載のヒドロシリル化鉄触媒が挙げられる。
鉄原子含有化合物が加水分解触媒である場合、加水分解触媒の具体例としては、ステアリン酸鉄が挙げられる。
鉄原子含有化合物は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００９４】
鉄原子含有化合物に含まれる鉄原子の含有量は、特定含フッ素エーテル化合物に対して、１５〜１，５００質量ｐｐｍであり、２０〜１，５００質量ｐｐｍが特に好ましい。鉄原子の含有量が上記範囲の下限値以上であれば、表面層の耐摩擦性に優れる。また、鉄原子の含有量が上記範囲の上限値以下であれば、粒状物の発生が抑制された表面層が得られる。
【００９５】
（鉄原子を含まない触媒）
本組成物は、鉄原子含有化合以外の触媒（すなわち、鉄原子を含まない触媒）を含んでいてもよい。鉄原子を含まない触媒としては、鉄原子を含まないヒドロシリル化触媒、および、鉄原子を含まない加水分解触媒が挙げられる。
【００９６】
鉄原子を含まないヒドロシリル化触媒は、鉄原子以外の遷移金属を含む遷移金属触媒が好ましく、鉄原子以外の第８族〜１０族遷移金属を含む遷移金属触媒がより好ましく、白金（Ｐｔ）触媒、ルテニウム（Ｒｕ）触媒、ロジウム（Ｒｈ）触媒がさらに好ましく、ヒドロシリル化反応がより進行する点から、白金触媒が特に好ましい。なお、第８〜１０族とは、ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版（１９８９年）による族番号である。
白金触媒の具体例としては、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体、ジビニルテトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンのＰｔ錯体、塩化白金酸、酸化白金が挙げられる。
【００９７】
鉄原子を含まない加水分解触媒の具体例としては、ジブチル錫オクトエート、オクタン酸鉛、チタン酸テトライソプロピル、チタン酸テトラブチル、アセチルアセトナト・チタンが挙げられる。
【００９８】
（他の成分）
本組成物は、上記以外の成分（以下、「他の成分」ともいう。）を含んでいてもよい。他の成分としては、特定含フッ素エーテル化合物を製造する際に不可的に含まれる化合物、および、液状媒体が挙げられる。
本組成物が液状媒体を含む場合、本組成物は、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
【００９９】
本組成物は、特定含フッ素エーテル化合物の製造工程で生成した副生成物等の不純物を含んでもよい。また、本組成物に含まれる特定含フッ素エーテル化合物は、加水分解性シリル基の一部が加水分解反応した状態で含まれていてもよく、さらに加水分解反応で生成したシラノール基が部分的に縮合した状態で含まれていてもよい。
【０１００】
液状媒体の具体例としては、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられ、フッ素系有機溶媒を用いることが好ましく、フルオロアルキルエーテルがより好ましい。有機溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１０１】
フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
フッ素化アルカンは、炭素数４〜８の化合物が好ましく、たとえば、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＣ−６０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（バートレル：製品名、デュポン社製）が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４〜１２の化合物が好ましく、たとえば、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
【０１０２】
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。
【０１０３】
液状媒体の含有量は、本組成物の全質量に対して、０．０１〜９９．９９質量％が好ましく、１〜９０質量％が特に好ましい。
【０１０４】
〔物品〕
本発明の物品は、基材と、基材の表面に本組成物から形成されてなる表面層と、を有する。
【０１０５】
表面層には、特定含フッ素エーテル化合物の加水分解反応および縮合反応を介して得られる化合物が含まれる。
表面層の膜厚は、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の膜厚は、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＡＴＸ−Ｇ：製品名、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、この干渉パターンの振動周期から算出できる。
【０１０６】
基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料の具体例としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材は、ＳｉＯ２等で表面処理されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材およびディスプレイ基材が好ましく、タッチパネル用基材が特に好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ  ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であるのを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
【０１０７】
上記物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、上記物品を得る方法。
・ウェットコーティング法によって本組成物を基材の表面に塗布し、乾燥させて、上記物品を得る方法。
【０１０８】
ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、特定含フッ素エーテル化合物の分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適である。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に本組成物を含浸させたペレット状物質を使用してもよい。
ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
【実施例】
【０１０９】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。ただし本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、各成分の配合量は、質量基準を示す。例１〜８のうち、例１〜４、８が実施例、例５〜７が比較例である。【０１１０】
〔評価方法〕
（外観特性）
評価サンプルの表面層を目視にて観察して、表面層における粒状物の有無に基づいて外観特性の評価を実施した。評価基準は次の通りである。
Ａ：表面層に１００μｍ程度の粒状物が無い。
Ｂ：表面層に１００μｍ程度の粒状物が有る。【０１１１】
（耐摩擦性）
耐摩擦性の試験前後の評価サンプルについて、水接触角を測定して、以下の式に従って耐摩擦性試験後の水接触角の低下率を算出した。低下率の値が小さいほど、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。
耐摩擦性試験後の水接触角の低下率（％）＝１００−{１００×（耐摩擦性試験後の水接触角）／（耐摩擦性試験前の水接触角）｝
＜水接触角の測定方法＞
表面層の表面に置いた約２μＬの蒸留水の接触角（水接触角）を、接触角測定装置（ＤＭ−５００：製品名、協和界面科学社製）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
＜耐摩擦性の試験方法＞
表面層について、ＪＩＳ  Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ  １０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（＃００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた。【０１１２】
〔例１〕
（例１−１）
国際公開第２０１４／１６３００４号公報の例１−１および例１−２に記載の方法に従って、下記化合物Ｂ−１を得た（単位数ｎ１の平均値は２１、単位数ｎ２の平均値は２０、数平均分子量は４，２００。）。
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２−Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２  （Ｂ−１）【０１１３】
（例１−２）
スクリューバイアルに、例１−１で得た化合物Ｂ−１の２ｇ（０．５ｍｍｏｌ）、国際公開第２０１６／０２７８１９号公報の合成例１に記載の方法に従って合成した［Ｆｅ（ｍｅｓｉｔｙｌ）（μ−ｍｅｓｉｔｙｌ）］２の１．５ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブチルイソシアニド（ｔＢｕＮＣ）の１μＬ（０．１０ｍｍｏｌ）、トリメトキシシランの０．１２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を加え、密閉後８０℃で１６時間撹拌した。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して、化合物Ｂ−１の消失を確認した後、減圧留去によって低沸成分を除去することで、鉄原子含有化合物（ヒドロシリル化触媒）および化合物Ｂ−２（単位数ｎ１の平均値は２１、単位数ｎ２の平均値は２０、数平均分子量は４，３００。）を含み、化合物Ｂ−２に対して鉄原子の含有量が１５０質量ｐｐｍである組成物１を２ｇ得た。
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２−Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  （Ｂ−２）【０１１４】
（例１−３）
例１−２で得た組成物１を、国際公開第２０１７／０２２４３７号公報の実施例１に記載の方法に従って、得られた化合物Ｂ−２を、濃度２０質量％になるように、ノベック−７２００（スリーエム社製）に溶解させて、組成物１−１の１０ｇを得た。【０１１５】
〔例２〕
（例２−１）
化合物Ｂ−１の代わりに、特開２０１５−１９９９０６号公報の合成例１に記載の方法に従って合成した化合物Ｃ−１を用いた以外は例１と同様にして、鉄原子含有化合物（ヒドロシリル化触媒）および化合物Ｃ−２を含み、化合物Ｃ−２に対して鉄原子の含有量が１５０質量ｐｐｍである組成物２の２ｇを得た。【０１１６】
【化８】
2019035297.tif 000009
【０１１７】
（例２−２）
例２−１で得た組成物２を、国際公開第２０１７／０２２４３７号公報の実施例１に記載の方法に従って、得られた化合物Ｃ−２を、濃度２０質量％になるように、ノベック−７２００（スリーエム社製）に溶解させて、組成物２−１の１０ｇを得た。【０１１８】
〔例３〜６〕
［Ｆｅ（ｍｅｓｉｔｙｌ）（μ−ｍｅｓｉｔｙｌ）］２の使用量を表１のように変更した以外は例２と同様にして、鉄原子含有化合物（ヒドロシリル化触媒）、化合物Ｃ−２、および、ノベック−７２００（スリーエム社製）を含む組成物を得た。【０１１９】
〔例７〕
（例７−１）
ＷＯ２０１３／１２１９８４の例６に記載の方法に従って、含フッ素エーテル化合物Ａ−１（単位数ｎの平均値は７、数平均分子量は２，９００。）の９６ｇ、含フッ素エーテル化合物Ａ−２（単位数ｎの平均値は７、数平均分子量は２，７２２。）の３ｇ、メタノールの１ｇからなる混合液を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  （Ａ−１）
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３  （Ａ−２）【０１２０】
（例７−２）
例７−１で得た混合液の１ｇと、ジブチルスズジラウレートの０．８０ｍｇを混合して、スズ原子含有化合物（ヒドロシリル化触媒）、化合物Ａ−１および化合物Ａ−２を含み、化合物Ａ−１および化合物Ａ−２の合計量に対して、スズ原子の含有量が１５０質量ｐｐｍである組成物７の１ｇを得た。【０１２１】
（例７−３）
例７−２で得た組成物７を、国際公開第２０１７／０２２４３７号公報の実施例１に記載の方法に従って、得られた化合物Ａ−１および化合物Ａ−２の合計量が、濃度２０質量％になるように、ノベック−７２００（スリーエム社製）に溶解させて、組成物７−２の１０ｇを得た。
(例８)
（例８−１）
スクリューバイアルに、例１−１で得た化合物Ｂ−１の２ｇ（０．５ｍｍｏｌ）、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．２０１６，８９，３９４−４０４に記載の方法に従って合成したＮ−（［２，２’−ｂｉｐｙｒｉｄｉｎ］−６−ｙｌｍｅｔｈｙｌｅｎｅ）−２，４，６−ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｅｎａｍｉｎｅ  ｉｒｏｎ（ＩＩ）  ｂｒｏｍｉｄｅの１．３ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）、トリメトキシシランの０．１２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ  ｔｒｉｅｔｈｙｌｂｏｒｏｈｙｄｒｉｄｅ（１．０Ｍ  ｉｎ  ｔｏｌｕｅｎｅ、０．０１ｍｍｏｌ）を加え、密閉後３０度で２４時間撹拌した。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して、化合物Ｂ−１の消失を確認した後、減圧留去によって低沸成分を除去することで、鉄原子含有化合物（ヒドロシリル化触媒）および化合物Ｂ−２（単位数ｎ１の平均値は２１、単位数ｎ２の平均値は２０、数平均分子量は４，３００。）を含み、化合物Ｂ−２に対して鉄原子の含有量が６０質量ｐｐｍである組成物８を２ｇ得た。
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２−Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  （Ｂ−２）
（例８−２）
例８−１で得た組成物８を、国際公開第２０１７／０２２４３７号公報の実施例１に記載の方法に従って、得られた化合物Ｂ−２を、濃度２０質量％になるように、ノベック−７２００（スリーエム社製）に溶解させて、組成物８−１の１０ｇを得た。【０１２２】
〔評価サンプルの作製〕
各例によって最終的に得られた組成物を用いて、以下のウェットコーティング法にて基材の表面処理を行い、基材（化学強化ガラス）の表面に表面層が形成されてなる評価サンプルを得た。
すなわち、各例によって最終的に得られた組成物と、ノベック−７２００（スリーエム社製）とを混合して、含フッ素エーテル化合物の濃度が０．０５質量％であるウェットコーティング用の組成物を得た。
各組成物に基材をディッピングし、３０分間放置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ−２２５にて洗浄することによって、基材の表面に表面層を有する評価サンプル（物品）を得た。【０１２３】
得られた評価サンプルを用いて、上述の評価試験を実施し、その結果を表１に示す。
表１中で略号で示したヒドロシリル化触媒は以下の通りである。
ＣＡＴ１：［Ｆｅ（ｍｅｓｉｔｙｌ）（μ−ｍｅｓｉｔｙｌ）］２とｔＢｕＮＣとの反応生成物
ＣＡＴ２：Ｎ−（［２，２’−ｂｉｐｙｒｉｄｉｎ］−６−ｙｌｍｅｔｈｙｌｅｎｅ）−２，４，６−ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｅｎａｍｉｎｅ  ｉｒｏｎ（ＩＩ）  ｂｒｏｍｉｄｅ
ＣＡＴ３：ジブチルスズジラウレート【０１２４】
【表１】
2019035297.tif 000010
【０１２５】
表１の通り、鉄原子の含有量が含フッ素エーテル化合物の全質量に対して１５〜１，５００質量ｐｐｍの組成物を用いると、耐摩擦性に優れ、かつ、粒状物の発生が抑制された表面層を形成できることを確認した。
一方、鉄原子の含有量が含フッ素エーテル化合物の全質量に対して１５質量ｐｐｍ未満であると、これを用いて形成される表面層の耐摩擦性が劣ることを確認した（例５）。
また、鉄原子の含有量が含フッ素エーテル化合物の全質量に対して１，５００質量ｐｐｍを超えると、これを用いて形成される表面層に粒状物が発生することを確認した（例６）。
また、スズ原子を含む組成物を用いた場合、これを用いて形成される表面層に粒状物が発生することを確認した（例７）。この理由としては、含フッ素エーテル化合物の加水分解がスズ原子によって進行しすぎたためと推測される。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明の含フッ素エーテル化合物は、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえば、タッチパネル等の表示入力装置のコート、透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート、電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート、導通しながら撥液が必要な部材へのコート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器のコート、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材のコート、配線板用防水コーティング、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コート等が挙げられる。
なお、２０１７年０８月１８日に出願された日本特許出願２０１７−１５８０７７号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【国際調査報告】
2019035297.tif 000011
2019035297.tif 000012
2019035297.tif 000013
2019035297.tif 000014