(57)【要約】  基材の透明性を損なうことなく、耐久性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル組成物および含フッ素エーテル組成物の製造方法の提供。  ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（Ｉ）で表される基を有する化合物（Ａ）と、遷移金属化合物とを含む含フッ素エーテル組成物であって、前記化合物（Ａ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍである、含フッ素エーテル組成物。−ＳｉＲｎＬ３−ｎ・・・（Ｉ）；ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、ｎは０〜２の整数である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（Ｉ）で表される基を有する化合物（Ａ）と、遷移金属化合物とを含む含フッ素エーテル組成物であって、
前記化合物（Ａ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍであることを特徴とする含フッ素エーテル組成物。
−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｉ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
ｎは０〜２の整数であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項２】
前記化合物（Ａ）が、下式（Ａ１）で表される化合物である、請求項１に記載の含フッ素エーテル組成物。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］ａＺ１［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｂ  ・・・（Ａ１）
ただし、Ｌ、Ｒおよびｎはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒｆ１は、ペルフルオロアルキル基であり、
Ｑは、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基であり、該基を構成するオキシフルオロアルキレン基は全てが同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｆｅは、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖であり、
Ｚ１は、（ａ＋ｂ）価の連結基であり、
ａは、１以上の整数であり、
ｂは、１以上の整数であり、
ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｂが２以上のときｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項３】
前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝または（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１５である（ただし、ｍ１１は１以上の整数であり、ｍ１２は１以上の整数であって（ｍ１１＋ｍ１２）は２〜２００の整数であり、ｍ１５は１〜１００の整数である。）、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル組成物。
【請求項４】
前記ａが１〜３の整数であって、ａが２または３の場合ａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］は同一であり、前記ｂが２〜５の整数であって、ｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一である、請求項３に記載の含フッ素エーテル組成物。
【請求項５】
前記化合物（Ａ）の数平均分子量（Ｍｎ）が、２，０００〜２０，０００である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
【請求項６】
前記遷移金属化合物が、ヒドロシリル化反応の触媒として作用する遷移金属化合物である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物。
【請求項７】
前記遷移金属化合物が白金化合物である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を有することを特徴とする物品。
【請求項１０】
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（ＩＸ）で表される基を有する化合物（ＡＨ）と、遷移金属化合物とを含み、前記化合物（ＡＨ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍである含フッ素エーテル組成物を製造する方法であって、
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（ＩＩＩ）で表される基を有する化合物（Ｂ）と、下式（Ｓ）で表される化合物とを、前記化合物（Ｂ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍである量の前記遷移金属化合物の存在下に反応を行って、前記化合物（ＡＨ）を生成させることを特徴とする含フッ素エーテル組成物の製造方法。
−ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（ＩＩＩ）
ＨＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｓ）
−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（ＩＸ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
ｎは０〜２の整数であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項１１】
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（ＩＸ）で表される基を有する化合物（ＡＨ）と、遷移金属化合物とを含み、前記化合物（ＡＨ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍである含フッ素エーテル組成物を製造する方法であって、
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（ＩＩＩ）で表される基を有する化合物（Ｂ）と、下式（Ｓ）で表される化合物とを、前記化合物（Ｂ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で１ｐｐｍ以上３００ｐｐｍ未満である量の前記遷移金属化合物の存在下に反応を行って前記化合物（ＡＨ）を生成させ、
次いで、前記化合物（ＡＸ）に対する遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍとなるように、反応生成物に遷移金属化合物を添加することを特徴とする含フッ素エーテル組成物の製造方法。
−ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（ＩＩＩ）
ＨＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｓ）
−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（ＩＸ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
ｎは０〜２の整数であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項１２】
前記化合物（ＡＸ）が、下式（ＡＸ１）で表される化合物である、請求項１０または１１に記載の含フッ素エーテル組成物の製造方法。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］ａＺ１Ｘ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｂ  ・・・（ＡＸ１）
ただし、Ｌ、Ｒおよびｎはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒｆ１は、ペルフルオロアルキル基であり、
Ｑは、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基であり、該基を構成するオキシフルオロアルキレン基は全てが同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｆｅは、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖であり、
Ｚ１Ｘは、（ａ＋ｂ）価の連結基であり、−ＳｉＲｎＬ３−ｎとの結合末端に−ＣＨ２ＣＨ２−を有し、
ａは、１以上の整数であり、
ｂは、１以上の整数であり、
ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｂが２以上のときｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項１３】
前記遷移金属化合物が白金化合物である、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル組成物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、含フッ素エーテル組成物およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すことから、表面処理剤等に用いられる。たとえば表面処理剤として基材の表面に塗布し表面層を形成すると、潤滑性、撥水撥油性等が付与され、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキル鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、油脂等の汚れの除去性に優れる。
このような含フッ素エーテル化合物は、拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）を有するため、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材の表面処理剤に用いられている。【０００３】
ガラスや金属等の基材の表面に形成される表面層に指紋汚れ除去性等の性能を付与するためには、たとえば、含フッ素エーテル化合物の末端に加水分解性シリル基を導入し、含フッ素エーテル化合物と基材とを化学結合させればよい。加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物の被膜は、加水分解性シリル基が加水分解してシラノール基を形成し、該シラノール基が基材の表面に結合する。【０００４】
含フッ素エーテル化合物の末端に加水分解性シリル基を導入する方法としては、原料化合物の分子の末端に２−プロペニル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、慣用名：アリル基）を導入し、次いで、２−プロペニル基が導入された化合物にヒドロシラン化合物を反応させて、ヒドロシリル化する方法が好適に用いられる。ヒドロシリル化反応は、たとえば、微量の遷移金属化合物の存在下で行われる（特許文献１〜４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１４／１６３００４号
【特許文献２】国際公開第２０１４／０６９５９２号
【特許文献３】特開２０１５−１９９９０６号公報
【特許文献４】国際公開第２０１５／０８７９０３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１〜４に記載の方法によりヒドロシリル化して得られる、末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物を基材の表面にコーティングして形成される表面層は、耐久性が必ずしも充分ではない。
タッチパネル等は、指で繰り返し摩擦されるため、基材の表面に形成される表面層には、長期間性能を維持できる耐久性が求められる。特に、屋外使用のタッチパネル（自動販売機、案内板等のデジタルサイネージ）、車載タッチパネル等においては、表面層に高い耐久性が求められる。加えて、表面層を設けた基材には、高い透明性が求められる。【０００７】
本発明は、基材の透明性を損なうことなく、耐久性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル組成物および含フッ素エーテル組成物の製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下［１］〜［１３］の構成を有する、含フッ素エーテル組成物および含フッ素エーテル化合物の製造方法を提供できる。
［１］ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（Ｉ）で表される基を有する化合物（Ａ）と、遷移金属化合物とを含む含フッ素エーテル組成物であって、
前記化合物（Ａ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍであることを特徴とする含フッ素エーテル組成物。
−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｉ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
ｎは０〜２の整数であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。【０００９】
［２］前記化合物（Ａ）が、下式（Ａ１）で表される化合物である、［１］に記載の含フッ素エーテル組成物。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］ａＺ１［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｂ  ・・・（Ａ１）
ただし、Ｌ、Ｒおよびｎはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒｆ１は、ペルフルオロアルキル基であり、
Ｑは、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基であり、該基を構成するオキシフルオロアルキレン基は全てが同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｆｅは、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖であり、
Ｚ１は、（ａ＋ｂ）価の連結基であり、
ａは、１以上の整数であり、
ｂは、１以上の整数であり、
ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｂが２以上のときｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。【００１０】
［３］前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝または（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１５である（ただし、ｍ１１は１以上の整数であり、ｍ１２は１以上の整数であって（ｍ１１＋ｍ１２）は２〜２００の整数であり、ｍ１５は１〜１００の整数である。）、［１］または［２］に記載の含フッ素エーテル組成物。
［４］前記ａが１〜３の整数であって、ａが２または３の場合ａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］は同一であり、前記ｂが２〜５の整数であって、ｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一である、［３］に記載の含フッ素エーテル組成物。
［５］前記化合物（Ａ）の数平均分子量（Ｍｎ）が、２，０００〜２０，０００である、［１］〜［４］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
［６］前記遷移金属化合物が、ヒドロシリル化反応の触媒として作用する遷移金属化合物である、［１］〜［５］のいずれかに記載の含フッ素エーテル組成物。
［７］前記遷移金属化合物が白金化合物である、［１］〜［６］のいずれかに記載の含フッ素エーテル組成物。
［８］前記［１］〜［７］のいずれかに記載の含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
［９］前記［１］〜［７］のいずれかに記載の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を有することを特徴とする物品。【００１１】
［１０］ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（ＩＸ）で表される基を有する化合物（ＡＨ）と、遷移金属化合物とを含み、前記化合物（ＡＨ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍである含フッ素エーテル組成物を製造する方法であって、
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（ＩＩＩ）で表される基を有する化合物（Ｂ）と、下式（Ｓ）で表される化合物とを、前記化合物（Ｂ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍである量の前記遷移金属化合物の存在下に反応を行って、前記化合物（ＡＨ）を生成させることを特徴とする含フッ素エーテル組成物の製造方法。
−ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（ＩＩＩ）
ＨＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｓ）
−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（ＩＸ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
ｎは０〜２の整数であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。【００１２】
［１１］ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（ＩＸ）で表される基を有する化合物（ＡＨ）と、遷移金属化合物とを含み、前記化合物（ＡＨ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍである含フッ素エーテル組成物を製造する方法であって、
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および下式（ＩＩＩ）で表される基を有する化合物（Ｂ）と、下式（Ｓ）で表される化合物とを、前記化合物（Ｂ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で１ｐｐｍ以上３００ｐｐｍ未満である量の前記遷移金属化合物の存在下に反応を行って前記化合物（ＡＨ）を生成させ、
次いで、前記化合物（ＡＸ）に対する遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍとなるように、反応生成物に遷移金属化合物を添加することを特徴とする含フッ素エーテル組成物の製造方法。
−ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（ＩＩＩ）
ＨＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｓ）
−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（ＩＸ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
ｎは０〜２の整数であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
［１２］前記化合物（ＡＸ）が、下式（ＡＸ１）で表される化合物である、［１０］または［１１］に記載の含フッ素エーテル組成物の製造方法。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］ａＺ１Ｘ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｂ  ・・・（ＡＸ１）
ただし、Ｌ、Ｒおよびｎはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒｆ１は、ペルフルオロアルキル基であり、
Ｑは、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基であり、該基を構成するオキシフルオロアルキレン基は全てが同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｆｅは、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖であり、
Ｚ１Ｘは、（ａ＋ｂ）価の連結基であり、−ＳｉＲｎＬ３−ｎとの結合末端に−ＣＨ２ＣＨ２−を有し、
ａは、１以上の整数であり、
ｂは、１以上の整数であり、
ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｂが２以上のときｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
［１３］前記遷移金属化合物が白金化合物である、［１０］〜［１２］のいずれかに記載の含フッ素エーテル組成物の製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の含フッ素エーテル組成物によれば、基材の透明性を損なうことなく、耐久性に優れる表面層を形成できる。
本発明の含フッ素エーテル組成物の製造方法によれば、基材の透明性を損なうことなく、耐久性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル組成物を製造できる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を形成し得る基を意味する。たとえば、式（Ｉ）中のＬが加水分解性基であり、−ＳｉＲｎＬ３−ｎが加水分解性シリル基である。
オキシペルフルオロアルキレン基の化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
コーティング液を塗布して「乾燥する」とは、コーティング液を基材に塗布して該基材上にコーティング液の塗膜を形成した後、該塗膜から液状媒体を蒸発除去することをいう。
【００１５】
〔含フッ素エーテル組成物〕
本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、本組成物とも記す。）は、以下に示す化合物（Ａ）と、遷移金属化合物とを含む。本組成物は、液状媒体を含まない。ただし、本組成物が不純物量の液状媒体を含むことは差し支えない。本組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、後述する化合物（Ａ）以外の他の含フッ素エーテル化合物や、化合物（Ａ）、遷移金属化合物および他の含フッ素エーテル化合物以外の不純物、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。化合物（Ａ）、遷移金属化合物および他の含フッ素エーテル化合物以外の不純物としては、化合物（Ａ）および他の含フッ素エーテル化合物の製造上不可避の化合物等が挙げられる。
【００１６】
（化合物（Ａ））
化合物（Ａ）は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および基（Ｉ）を有する。
−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｉ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
ｎは０〜２の整数であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【００１７】
化合物（Ａ）は、基（ＩＩ）をさらに有することができる。
Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−  ・・・（ＩＩ）
ただし、Ｒｆ１は、ペルフルオロアルキル基であり、
Ｑは、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基である。該ポリオキシフルオロアルキレン基を構成するオキシフルオロアルキレン基は全てが同一であっても異なっていてもよい。
【００１８】
＜ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖＞
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（以下、化合物（Ａ）中のポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を、ＰＦＥ鎖とも記す。）としては、下式（ａ）で表されるものが挙げられる。
（Ｒｆ２Ｏ）ｍ１  ・・・（ａ）
ただし、Ｒｆ２はペルフルオロアルキレン基であり、
ｍ１は２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ２Ｏ）ｍ１は炭素数の異なる２種以上のＲｆ２Ｏからなるものであってもよい。その場合、２種以上のＲｆ２Ｏは、ランダム、交互、ブロックのいずれに配置されてもよい。特に、（ＣＦ２Ｏ）と他の（Ｒｆ２Ｏ）とを有するＰＦＥ鎖の場合は、（ＣＦ２Ｏ）と他の（Ｒｆ２Ｏ）とはランダムに配置されていることが好ましい。
【００１９】
Ｒｆ２の炭素数は、表面層の耐摩擦性および指紋除去性にさらに優れる点から、１〜６個が好ましく、１〜４個がより好ましく、表面層の潤滑性にさらに優れる点からは、１〜２個が特に好ましく、表面層の耐摩擦性にさらに優れる点からは、炭素数３〜４個のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。
Ｒｆ２は、分岐状でも直鎖状でもよく、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、直鎖状が好ましい。
【００２０】
ｍ１は、２〜２００の整数であり、５〜１５０の整数が好ましく、１０〜８０の整数が特に好ましい。ｍ１が前記範囲の下限値以上であれば、表面層の撥水撥油性に優れる。ｍ１が前記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性に優れる。すなわち、化合物（Ａ）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量あたりに存在する基（Ｉ）の数が減少し、耐摩擦性が低下する。
【００２１】
ＰＦＥ鎖の具体的な態様として、以下の（ａ−１）〜（ａ−８）等が挙げられる。
（ＣＦ２Ｏ）ｍ０１  ・・・（ａ−１）
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝   ・・・（ａ−２）
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝   ・・・（ａ−３）
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝   ・・・（ａ−４）
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝   ・・・（ａ−５）
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１３  ・・・（ａ−６）
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１４   ・・・（ａ−７）
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１５   ・・・（ａ−８）
ただし、ｍ０１は２〜２００の整数であり、ｍ１１は１以上の整数であり、ｍ１２は１以上の整数であり、（ｍ１１＋ｍ１２）は２〜２００の整数である。
ｍ０１、（ｍ１１＋ｍ１２）はそれぞれ２〜２００の整数であり、５〜１５０の整数が好ましく、１０〜８０の整数が特に好ましい。
ｍ１１とｍ１２との比（ｍ１１／ｍ１２）は、９９／１〜３０／７０が好ましく、９０／１０〜４０／６０が特に好ましい。
ｍ１３およびｍ１４はそれぞれ２〜２００の整数である。ｍ１５は１〜１００の整数であり、３〜７５の整数が好ましく、５〜４０の整数が特に好ましい。
上記のなかでも、（ａ−２）〜（ａ−４）、（ａ−８）が好ましく、（ａ−２）が特に好ましい。
【００２２】
＜基（Ｉ）＞
基（Ｉ）において、Ｌは、水酸基または加水分解性基である。
加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、Ｌが加水分解性基である場合、基（Ｉ）のＳｉ−Ｌは、加水分解反応によってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）となる。
加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基の炭素数は、１〜４が好ましい。アシル基の炭素数は、２〜５が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。
【００２３】
Ｌは、化合物（Ａ）の製造のしやすさの点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子であることが好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物（Ａ）の保存安定性に優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物（Ａ）の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
【００２４】
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基である。
１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基等の飽和炭化水素基、アルケニル基、アリル基等が挙げられ、飽和炭化水素基が好ましい。
１価の飽和炭化水素基の炭素数は、化合物（Ａ）が製造しやすい点で、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
【００２５】
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。１個の基（Ｉ）にＬが複数存在することによって、基材との接着性がより強固になり、表面層の耐久性がさらに優れる。
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよい。たとえば一部のＬが加水分解性基で、残りのＬが水酸基であってもよい。
【００２６】
基（Ｉ）としては、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、ＳｉＣｌ３、Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、およびＳｉ（ＮＣＯ）３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が特に好ましい。
【００２７】
＜基（ＩＩ）＞
基（ＩＩ）において、Ｒｆ１はペルフルオロアルキル基である。
Ｒｆ１におけるペルフルオロアルキル基の炭素数は、表面層の潤滑性および耐久性がさらに優れる点から、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましい。
ペルフルオロアルキル基は分岐状でも直鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。直鎖状のペルフルオロアルキル基として、たとえばＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−等が挙げられる。
【００２８】
Ｑは、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個（好ましくは２〜４個）が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基である。ポリオキシフルオロアルキレン基において複数のオキシフルオロアルキレン基は、通常、直列に結合している。
Ｑが水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基であると、化合物（Ａ）の液状媒体への溶解性が高くなる。そのため、コーティング液中で化合物（Ａ）が凝集しにくく、また、基材の表面に塗布した後、乾燥させる途中に化合物（Ａ）が凝集しにくいため、表面層の外観にさらに優れる。
オキシフルオロアルキレン基の炭素数は、１〜６が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜４がさらに好ましく、２または３が特に好ましい。
オキシフルオロアルキレン基における水素原子の数は、表面層の外観に優れる点から、１個以上であり、２個以上が好ましく、３個以上が特に好ましい。オキシフルオロアルキレン基における水素原子の数は、表面層の撥水撥油性にさらに優れる点から、（Ｑの炭素数）×２個以下が好ましく、（Ｑの炭素数）個以下が特に好ましい。
オキシフルオロアルキレン基は、分岐状でも直鎖状でもよく、表面層の潤滑性がさらに優れる点から、直鎖状が好ましい。
ポリオキシフルオロアルキレン基において、２〜５個のオキシフルオロアルキレン基は、全てが同一であっても異なっていてよい。
Ｑは、化合物（Ａ）の製造のしやすさの点から、単結合であるか、または−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、および−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−からなる群から選ばれる基（ただし、左側がＲｆ１−Ｏに結合する。）であることが好ましい。
【００２９】
化合物（Ａ）が有するＰＦＥ鎖は１個でもよく２個以上でもよい。製造の容易さと取扱いの容易さの点から、１〜３個が好ましい。
化合物（Ａ）がＰＦＥ鎖を２個以上有する場合、各ＰＦＥ鎖は同一であっても異なっていてもよい。
【００３０】
化合物（Ａ）が有する基（Ｉ）は１個でもよく２個以上でもよい。基材との結合が増えることにより表面層の耐久性がより優れる点から、２個以上が好ましく、３個以上が特に好ましい。基材に結合する分子密度を高くすることにより表面層の耐久性がより優れる点から、１０個以下が好ましく、５個以下がより好ましく、４個以下が特に好ましい。
したがって、化合物（Ａ）が有する基（Ｉ）は１〜１０個が好ましく、２〜５個がより好ましく、３〜４個が特に好ましい。
化合物（Ａ）が基（Ｉ）を２個以上有する場合、各基（Ｉ）は同一であっても異なっていてもよい。化合物（Ａ）の製造のしやすさの点では、全てが同一の基であることが好ましい。
【００３１】
ＰＦＥ鎖の一方の末端には、基（ＩＩ）が結合していることが好ましい。すなわち、化合物（Ａ）は、ＰＦＥ鎖の一方の末端に結合した基（ＩＩ）をさらに有することが好ましい。これにより、表面層の潤滑性がさらに優れたものとなる。
【００３２】
化合物（Ａ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、２，０００〜２０，０００が好ましく、３，０００〜１５，０００がより好ましく、４，０００〜１２，０００が特に好ましい。化合物（Ａ）の数平均分子量が前記範囲の下限値以上であれば、表面層の潤滑性がさらに優れる。化合物（Ａ）の数平均分子量が前記範囲の下限値以上であれば、表面層の耐久性がさらに優れる。
数平均分子量（Ｍｎ）は、後述する実施例に記載の測定方法により測定される。
【００３３】
化合物（Ａ）は、ＰＦＥ鎖と基（Ｉ）とを有する限り特に限定されない。たとえば以下の文献に記載されるような公知の含フッ素エーテル化合物のなかから適宜選択できる。
特開２０１３−９１０４７号公報、特開２０１４−８０４７３号公報、国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／０４２７３３号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、国際公開第２０１４／１７５１２４号、国際公開第２０１５／０８７９０２号、特開２０１３−２２７２７９号公報、特開２０１３−２４１５６９号公報、特開２０１３−２５６６４３号公報、特開２０１４−１５６０９号公報、特開２０１４−３７５４８号公報、特開２０１４−６５８８４号公報、特開２０１４−２１０２５８号公報、特開２０１４−２１８６３９号公報、特開２０１５−２００８８４号公報、特開２０１５−２２１８８８号公報、国際公開第２０１３／１４６１１２号、国際公開第２０１３／１８７４３２号、国際公開第２０１４／０６９５９２号、国際公開第２０１５／０９９０８５号、国際公開第２０１５／１６６７６０号、特開２０１３−１４４７２６号公報、特開２０１４−７７８３６号公報、特開２０１３−１１７０１２号公報、特開２０１４−２１４１９４号公報、特開２０１４−１９８８２２号公報、特開２０１５−１２９２３０号公報、特開２０１５−１９６７２３号公報、特開２０１５−１３９８３号公報、特開２０１５−１９９９１５号公報、特開２０１５−１９９９０６号公報等。
【００３４】
本組成物において、化合物（Ａ）は、１種の化合物（Ａ）からなる単一化合物であってもよく、２種以上の化合物（Ａ）からなる混合物であってもよい。
本明細書において、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖におけるオキシペルフルオロアルキレン基の繰り返し数の数に分布を有する以外は同一の化合物群である含フッ素エーテル化合物は単一化合物とみなす。たとえばＰＦＥ鎖が（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（Ｒｆ２Ｏ）ｍ１２である化合物（Ａ）の場合、ｍ１１とｍ１２に分布を有する以外は同一の化合物群は、単一化合物である含フッ素エーテル化合物とする。
【００３５】
「好ましい態様」
化合物（Ａ）としては、国際公開第２０１４／１６３００４号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、特開２０１５−１９９９０６号公報に記載される含フッ素エーテル化合物、および下記化合物（Ａ１）が好ましい。
【００３６】
＜化合物（Ａ１）＞
化合物（Ａ）の好ましい一態様として、下式（Ａ１）で表される含フッ素エーテル化合物（以下、化合物（Ａ１）とも記す。）が挙げられる。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］ａＺ１［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｂ  ・・・（Ａ１）
ただし、Ｒｆ１、Ｑ、Ｌ、Ｒおよびｎはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒｆｅは、ＰＦＥ鎖であり、
Ｚ１は、（ａ＋ｂ）価の連結基であり、
ａは、１以上の整数であり、
ｂは、１以上の整数であり、
ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｂが２以上のときｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００３７】
Ｒｆ１は前記基（ＩＩ）中のＲｆ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
ａが２以上のときａ個のＲｆ１は、炭素数が同一であることが好ましく、製造しやすさの点から、同一の基、すなわち炭素数が同一かつ化学構造が同一の基であることが好ましい。炭素数が同一かつ化学構造が同一の基であるとは、たとえばａが２の場合に、２個のＲｆ１がＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−であるということである（２個のＲｆ１の炭素数が同一であっても化学構造が異なる、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）−の組み合わせではない。）
【００３８】
Ｑは前記基（ＩＩ）中のＱと同様であり、好ましい態様も同様である。
ＲｆｅのＰＦＥ鎖は前記と同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｌは前記基（Ｉ）中のＬと同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｒは前記基（Ｉ）中のＲと同様であり、好ましい態様も同様である。
ｎは前記基（Ｉ）中のｎと同様であり、好ましい態様も同様である。
ａの好ましい値はそれぞれ、化合物（Ａ）が有するＰＦＥ鎖の好ましい数と同様である。すなわち、ａはそれぞれ、１〜３の整数が好ましい。
ｂの好ましい値は、化合物（Ａ）が有する基（Ｉ）の好ましい数と同様である。すなわち、ｂは１〜１０の整数が好ましく、２〜５の整数がより好ましく、３〜４の整数が特に好ましい。
（ａ＋ｂ）は、２〜１３が好ましく、３〜８がより好ましく、４〜７が特に好ましい。
また、ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］は、同一であることが好ましく、ｂが２以上のときｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であることが好ましい。
【００３９】
Ｚ１としては、たとえば、（ａ＋ｂ）価の置換または無置換の炭化水素基、置換または無置換の炭化水素基の炭素−炭素原子間または／および末端に、炭化水素基以外の基または原子を有する（ａ＋ｂ）価の基、（ａ＋ｂ）価のオルガノポリシロキサン基等が挙げられる。
【００４０】
無置換の炭化水素基としては、たとえば直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基、芳香族炭化水素環式基（たとえばベンゼン環、ナフタレン環等の芳香族炭化水素環から（ａ＋ｂ）個の水素原子を除いた基）、直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基と芳香族炭化水素環式基との組み合わせからなる基（たとえば前記芳香族炭化水素環式基に置換基としてアルキル基が結合した基、前記飽和炭化水素基の炭素原子間または／および末端にフェニレン基等のアリーレン基を有する基等）、２以上の芳香族炭化水素環式基の組み合わせからなる基等が挙げられる。これらの中でも直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基が好ましい。無置換の炭化水素基の炭素数は、２０以下が好ましい。
置換の炭化水素基は、炭化水素基の水素原子の一部または全部が置換基で置換された基である。置換基としては、たとえば水酸基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アミノカルボニル基等が挙げられる。
【００４１】
炭化水素基の炭素−炭素原子間または／および末端に有する炭化水素基以外の基または原子としては、たとえばエーテル性酸素原子（−Ｏ−）、チオエーテル性硫黄原子（−Ｓ−）、窒素原子（−Ｎ＜）、ケイ素原子（＞Ｓｉ＜）、炭素原子（＞Ｃ＜）、−Ｎ（Ｒ１５）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）−、−ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）−、−Ｓｉ（Ｒ１６）（Ｒ１７）−、オルガノポリシロキサン基、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−等が挙げられる。ただし、Ｒ１５は水素原子、アルキル基またはフェニル基であり、Ｒ１６〜Ｒ１７はそれぞれ独立にアルキル基またはフェニル基である。アルキル基の炭素数は、１〜６が好ましい。
オルガノポリシロキサン基は、直鎖状でもよく、分岐鎖状でもよく、環状でもよい。
【００４２】
＜化合物（Ａ１）の好ましい形態＞
化合物（Ａ１）としては、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、以下の化合物（Ａ１１）、化合物（Ａ１２）および化合物（Ａ１３）からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【００４３】
「化合物（Ａ１１）」
化合物（Ａ１１）は、下式（Ａ１１）で表される。
Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−Ｑ３２−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）］ｐ１−Ｒ３４−Ｃ［−Ｒ３５−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（Ａ１１）
ただし、Ｒｆ１、Ｑ、Ｒｆｅ、Ｒ、Ｌおよびｎはそれぞれ前記と同義であり、
Ｑ３２は、炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、または炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基（ただし、一端がエーテル性酸素原子に結合し他端がＲｆｅと結合するフルオロアルキレン基がペルフルオロアルキレン基である場合を除く。）であり、
Ｒ３３は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、
ｐ１は、０または１であり、
Ｒ３４は、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、該アルキレン基の末端（ただし、Ｃ［−Ｒ３５−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３と結合する側の末端。）にエーテル性酸素原子を有する基、炭素数２〜６のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数２〜６のアルキレン基の末端（ただしＣ［−Ｒ３５−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３と結合する側の末端。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Ｒ３５は、炭素数１〜６のアルキレン基、該アルキレン基の末端（ただし、Ｓｉと結合する側の末端を除く。）にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数２〜６のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
３個の［−Ｒ３５−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００４４】
化合物（Ａ１１）は、上述の式（Ａ１）において、ａが１であり、ｂが３であり、Ｚ１が−Ｑ３２−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）］ｐ１−Ｒ３４−Ｃ［−Ｒ３５−］３の化合物である。
ただし、Ｒｆｅ中の（ＣＦ２Ｏ）の数は４個以上であって、かつＱ３２中の（ＣＦ２Ｏ）の数は０〜３個であることが好ましい。また、３個の［−Ｒ３５−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であることが好ましい。
【００４５】
Ｑ３２において、炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基としては、ペルフルオロアルキレン基、および、１個以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基が好ましい。フルオロアルキレン基は、表面層の耐摩擦性および潤滑性の点から、直鎖状が好ましい。
炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基としては、例えば、後述する（ｉｉ）の基が挙げられる。
Ｑ３２としては、炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基、１個以上の水素原子を含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、および、１個以上の水素原子を含む炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。
【００４６】
ｐ１が０で、Ｒｆｅが｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝である場合、Ｑ３２は、典型的には、炭素数１のペルフルオロアルキレン基である。
ｐ１が１の場合、Ｑ３２としては、下記の基が挙げられる。
（ｉ）ペルフルオロアルキレン基。
（ｉｉ）ＲＦＣＨ２Ｏ（ただし、ＲＦは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基である。）をＲｆｅと結合する側に有し、１個以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基（炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよい。）をＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）と結合する側に有する基。
【００４７】
（ｉｉ）のＱ３２としては、表面層の耐久性および潤滑性、化合物（Ａ１１）の製造のしやすさの点から、下記の基が好ましい。
−ＲＦＣＨ２Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＲＦＣＨ２Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、−ＲＦＣＨ２Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＲＦＣＨ２Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−。
【００４８】
［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）］ｐ１基におけるｐ１が０と１の場合で、含フッ素エーテル化合物の特性はほとんど変わらない。ｐ１が１の場合にはアミド結合を有するが、Ｑ３２の［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）］と結合する側の末端の炭素原子に少なくとも１個のフッ素原子が結合していることにより、アミド結合の極性は小さくなり、表面層の撥水撥油性が低下しにくい。ｐ１が０か１かは、製造のしやすさの点から選択できる。
［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）］ｐ１基中のＲ３３としては、化合物（Ａ１１）の製造のしやすさの点から、水素原子が好ましい。
Ｒ３３がアルキル基の場合、アルキル基としては、炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
【００４９】
ｐ１が０の場合、Ｒ３４としては、化合物（Ａ１１）の製造のしやすさの点から、単結合、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−および−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２−からなる群から選ばれる基（ただし、左側がＱ３２に結合する。）が好ましい。
ｐ１が１の場合、Ｒ３４としては、化合物（Ａ１１）の製造のしやすさの点から、単結合、−ＣＨ２−および−ＣＨ２ＣＨ２−からなる群から選ばれる基が好ましい。
【００５０】
Ｒ３５としては、化合物（Ａ１１）の製造のしやすさの点から、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−からなる群から選ばれる基（ただし、右側がＳｉに結合する。）が好ましい。
Ｒ３５としては、表面層の耐光性に優れる点から、エーテル性酸素原子を有しないものが特に好ましい。屋外使用のタッチパネル（自動販売機、案内板等のデジタルサイネージ）、車載タッチパネル等においては、撥水撥油層に耐光性が求められる。
化合物（Ａ１１）中の３個のＲ３５は、同一であっても異なっていてもよい。
【００５１】
化合物（Ａ１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。該化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、外観にさらに優れる点から好ましい。
【００５２】
【化１】
2018180561.tif 000002
【００５３】
ただし、これらの式中のＷは、Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−である。Ｗの好ましい形態は、上述した好ましいＲｆ１、ＱおよびＲｆｅを組み合わせたものとなる。Ｑ３２の好ましい範囲は上述した通りである。
【００５４】
「化合物（Ａ１２）」
化合物（Ａ１２）は、下式（Ａ１２）で表される。
Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−Ｒ４２−Ｒ４３−Ｎ［−Ｒ４４−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］２  ・・・（Ａ１２）
ただし、Ｒｆ１、Ｑ、Ｒｆｅ、Ｒ、Ｌおよびｎはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒ４２は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、
Ｒ４３は、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、該アルキレン基の末端（ただし、Ｎと結合する側の末端を除く。）にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基、炭素数２〜６のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基、または炭素数２〜６のアルキレン基の末端（ただし、Ｎと結合する側の末端を除く。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基であり、
Ｒ４４は、炭素数１〜６のアルキレン基、または炭素数２〜６のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基であり、
２個の［−Ｒ４４−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００５５】
化合物（Ａ１２）は、上述の式（Ａ１）において、ａが１であり、ｂが２であり、Ｚ１が−Ｒ４２−Ｒ４３−Ｎ［−Ｒ４４−］２の化合物である。
【００５６】
Ｒ４２は、直鎖状のペルフルオロアルキレン基であることが好ましい。Ｒ４２が直鎖状のペルフルオロアルキレン基であれば、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる。
Ｒ４２は、Ｒｆｅが｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝である場合、典型的には、炭素数１のペルフルオロアルキレン基である。
【００５７】
Ｒ４３としては、化合物（Ａ１２）の製造のしやすさの点から、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−および−ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−からなる群から選ばれる基（ただし、左側がＲ４２に結合する。）が好ましい。
Ｒ４３は、極性が高くかつ耐薬品性や耐光性が不充分なエステル結合を有しないため、表面層の初期の撥水性、耐薬品性および耐光性に優れる。
【００５８】
Ｒ４４としては、化合物（Ａ１２）の製造のしやすさの点から、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−および−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−（ただし、右側がＳｉに結合する。）が好ましい。
Ｒ４４は、極性が高くかつ耐薬品性や耐光性が不充分なエステル結合を有しないため、表面層の初期の撥水性、耐薬品性および耐光性に優れる。
Ｒ４４としては、表面層の耐光性に優れる点からは、エーテル性酸素原子を有しないものが特に好ましい。
化合物（Ａ１２）中の２個のＲ４４は、同一であっても異なっていてもよい。２個のＲ４４は、同一であることが好ましく、また、２個の［−Ｒ４４−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であることが好ましい。
【００５９】
化合物（Ａ１２）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。該化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、耐薬品性および耐光性にさらに優れる点から好ましい。
【００６０】
【化２】
2018180561.tif 000003
【００６１】
ただし、これらの式中のＷは、Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−である。Ｗの好ましい形態は、上述した好ましいＲｆ１、ＱおよびＲｆｅを組み合わせたものとなる。Ｒ４２の好ましい範囲は上述した通りである。
【００６２】
「化合物（Ａ１３）」
化合物（Ａ１３）は、下式（Ａ１３）で表される。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−Ｒ５１−Ｒ５２−Ｏ−］ｅＺ３［−Ｏ−Ｒ５３−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｆ  ・・・（Ａ１３）
ただし、Ｒｆ１、Ｑ、Ｒｆｅ、Ｒ、Ｌおよびｎはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒ５１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、
Ｒ５２は、炭素数１〜６のアルキレン基であり、
Ｚ３は、（ｅ＋ｆ）価の炭化水素基、または炭化水素基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を１個以上有する、炭素数２以上で（ｅ＋ｆ）価の基であり、
Ｒ５３は、炭素数１〜２０のアルキレン基であり、
ｅは、１以上の整数であり、
ｆは、１以上の整数であり、
（ｅ＋ｆ）は３以上であり、
ｅが２以上のときｅ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−Ｒ５１−Ｒ５２−Ｏ−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｆが２以上のときｆ個の［−Ｏ−Ｒ５３−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００６３】
化合物（Ａ１３）は、上述の式（Ａ１）において、ａがｅであり、ｂがｆであり、Ｚ１が［−Ｒ５１−Ｒ５２−Ｏ−］ｅＺ３［−Ｏ−Ｒ５３−］ｆの化合物である。
【００６４】
ｅは１〜３の整数が好ましい。ｆは１〜１０の整数が好ましく、２〜５の整数がより好ましく、３〜４の整数が特に好ましい。
また、ｅが２以上のときｅ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−Ｒ５１−Ｒ５２−Ｏ−］は、同一であることが好ましく、ｆが２以上のときｆ個の［−Ｏ−Ｒ５３−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であることが好ましい。
【００６５】
Ｒ５１は、たとえばＲｆｅが｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝である場合、−ＣＦ２−である。
Ｒ５１は直鎖状が好ましい。Ｒ５１が直鎖状である化合物（Ａ１３）であれば、耐摩擦性および潤滑性により優れる表面層を形成できる。
【００６６】
Ｒ５２としては、化合物（Ａ１３）の製造のしやすさの点から、炭素数１〜４のアルキレン基が好ましく、−ＣＨ２−が特に好ましい。
【００６７】
Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−Ｒ５１−基としては、表面層の撥水撥油性、耐久性、指紋汚れ除去性、潤滑性、さらに外観にもさらに優れる点および化合物（Ａ１３）の製造のしやすさの点から、基（Ｒｆ−１）、および基（Ｒｆ−２）が好ましい。
Ｒｆ１１Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ２１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２２｝ＣＦ２−    （Ｒｆ−１）
Ｒｆ１１ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ２１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２２｝ＣＦ２−    （Ｒｆ−２）
ただし、Ｒｆ１１は、炭素数１〜２０で直鎖状のペルフルオロアルキル基であり；ｍ２１およびｍ２２は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ２１＋ｍ２２は、２〜２００の整数であり、ｍ２１個のＣＦ２Ｏおよびｍ２２個のＣＦ２ＣＦ２Ｏの結合順序は限定されない。
【００６８】
Ｚ３としては、（ｅ＋ｆ）個の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基が挙げられる。
Ｚ３の具体例としては、たとえば、下式の基が挙げられる。Ｚ３としては、水酸基の反応性に優れる点から、１級の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基が好ましく、原料の入手容易性の点から、基（Ｚ−１）、基（Ｚ−２）、および、基（Ｚ−３）が特に好ましい。ただし、Ｒ４は、アルキル基であり、メチル基またはエチル基であることが好ましい。
【００６９】
【化３】
2018180561.tif 000004
【００７０】
Ｒ５３としては、化合物（Ａ１３）の製造のしやすさの点から、炭素数３〜１４のアルキレン基が好ましい。さらに、後述する化合物（Ａ１３）の製造におけるヒドロシリル化の際に、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）の一部または全部がインナーオレフィン（−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３）に異性化した副生物が生成しにくい点から、炭素数４〜１０のアルキレン基が特に好ましい。
【００７１】
化合物（Ａ１３）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。これらの化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、外観にさらに優れる点から好ましい。
【００７２】
【化４】
2018180561.tif 000005
【００７３】
ただし、これらの式中のＷは、Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−である。Ｗの好ましい形態は、上述した好ましいＲｆ１、ＱおよびＲｆｅを組み合わせたものとなる。Ｒ５１の好ましい形態は上述した通りである。
【００７４】
（遷移金属化合物）
遷移金属化合物としては、後述するヒドロシリル化反応、加水分解性シリル基のシラノール基への加水分解反応、該シラノール基と基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）との脱水縮合反応等において触媒として作用するものが挙げられる。このような作用を有する遷移金属化合物としては、第８〜１０族の遷移金属を含む化合物が挙げられる。
第８〜１０族の遷移金属を含む化合物としては、ルテニウム（Ｒｕ）化合物、鉄（Ｆｅ）化合物、ロジウム（Ｒｈ）化合物、コバルト（Ｃｏ）化合物、白金（Ｐｔ）化合物、ニッケル（Ｎｉ）化合物、パラジウム（Ｐｄ）化合物等が挙げられる。前記加水分解反応、脱水縮合反応に対し高い触媒作用を示す点から、白金化合物が特に好ましい。
なお、第８〜１０族とは、ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版（１９８９年）による族番号である。
【００７５】
白金化合物としては、白金単体、白金／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体、塩化白金酸、酸化白金等が挙げられる。なかでも、白金／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、および、白金／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体が好ましい。
【００７６】
（他の含フッ素エーテル化合物）
本組成物は、化合物（Ａ）と、遷移金属化合物とからなるものでもよく、化合物（Ａ）以外の他の含フッ素エーテル化合物をさらに含むものでもよい。
他の含フッ素エーテル化合物としては、たとえば、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、基（Ｉ）を有しない含フッ素エーテル化合物（以下、化合物（Ｃ）とも記す。）が挙げられる。該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖は、ＰＦＥ鎖であってもよい。
【００７７】
化合物（Ｃ）としては、たとえば化合物（Ｃ１）が挙げられる。
Ａ３１−Ｏ−Ｑ５１−（ＲＦ３Ｏ）ｍ３０−［Ｑ５２−Ｏ］ｐ３−Ａ３２  ・・・（Ｃ１）
ただし、Ａ３１およびＡ３２は、それぞれ独立に炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基であり；Ｑ５１は、単結合、１個以上の水素原子を含む分岐構造を有しない炭素数１〜６のフルオロアルキレン基、１個以上の水素原子を含む分岐構造を有しない炭素数１〜６のフルオロアルキレン基の末端（ただし、Ａ３１−Ｏと結合する側の末端を除く。）にエーテル性酸素原子を有する基、１個以上の水素原子を含む分岐構造を有しない炭素数２〜６のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または１個以上の水素原子を含む分岐構造を有しない炭素数２〜６のフルオロアルキレン基の末端（ただし、Ａ３１−Ｏと結合する側の末端を除く。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり（ただし、酸素数は１０以下である。）；Ｑ５２は、１個以上の水素原子を含む分岐構造を有しない炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、または１個以上の水素原子を含む分岐構造を有しない炭素数２〜６のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり（ただし、酸素数は１０以下である。）；ＲＦ３は、分岐構造を有しない炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり；ｍ３０は、２〜２００の整数であり；（ＲＦ３Ｏ）ｍ３０は、炭素数の異なる２種以上のＲＦ３Ｏからなるものであってもよく；ｐ３は、Ｑ５１が単結合の場合は０であり、Ｑ５１が単結合以外の場合は１である。
【００７８】
化合物（Ｃ１）は、公知の製造方法により製造したものを用いてもよく、市販品を用いてもよい。たとえば、Ｑ５１が単結合であり、ｐ３が０である化合物（Ｃ１）の市販品としては、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）Ｍ、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）Ｙ、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）Ｚ（以上、ソルベイソレクシス社製）、Ｋｒｙｔｏｘ（登録商標）（デュポン社製）、デムナム（登録商標）（ダイキン工業社製）等が挙げられる。
【００７９】
（本組成物の組成）
本組成物において、化合物（Ａ）に対する遷移金属化合物の質量割合は遷移金属換算で、３００〜４，０００ｐｐｍである。遷移金属化合物の質量割合が前記範囲内であれば、基材の透明性を損なうことなく、表面層の耐久性を向上できる。化合物（Ａ）に対する遷移金属化合物の質量割合は遷移金属換算で、４００〜２，０００ｐｐｍが好ましく、５００〜１，０００ｐｐｍが特に好ましい。
【００８０】
本組成物において、化合物（Ａ）および遷移金属化合物の合計量は、本組成物の総質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、３０質量％以上がさらに好ましく、５０質量％以上が特に好ましく、８０質量％以上が最も好ましい。上限は特に限定されず、１００質量％であってもよい。
【００８１】
本組成物中の遷移金属化合物の質量割合を前記範囲内とするには、たとえば、以下のようにして化合物（ＡＸ）を製造すればよい。
【００８２】
〔含フッ素エーテル組成物の製造方法〕
（１）第１実施形態例
第１実施形態例の含フッ素エーテル組成物の製造方法は、以下に示す化合物（Ｂ）と、下式（Ｓ）で表される化合物（以下、化合物（Ｓ）とも記す。）とを、遷移金属化合物の存在下に反応（以下、ヒドロシリル化反応とも記す。）させて、以下に示す化合物（ＡＸ）と該遷移金属化合物とを含む組成物を得る方法であり、遷移金属化合物の使用量が、化合物（Ｂ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合として遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍである。ヒドロシリル化反応は、溶媒の存在下で行ってもよいし、非存在下で行ってもよい。
得られる含フッ素エーテル組成物は、反応により生成する化合物（ＡＨ）と遷移金属化合物とを含み、化合物（ＡＨ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍである、組成物である。
ＨＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｓ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
ｎは０〜２の整数であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【００８３】
（化合物（Ｂ））
化合物（Ｂ）は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および基（ＩＩＩ）を有する。
−ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（ＩＩＩ）
【００８４】
化合物（Ｂ）が有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖は、生成物である化合物（ＡＸ）が有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖と同じである。化合物（ＡＸ）が有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖は、前記化合物（Ａ）が有するＰＦＥ鎖と同じである。
【００８５】
化合物（Ｂ）が有する基（ＩＩＩ）は１個でもよく２個以上でもよい。基材との結合が増えることにより表面層の耐久性がより優れる点から、２個以上が好ましく、３個以上が特に好ましい。基材に結合する分子密度を高くすることにより表面層の耐久性がより優れる点から、１０個以下が好ましく、５個以下がより好ましく、４個以下が特に好ましい。
したがって、化合物（Ｂ）が有する基（ＩＩＩ）は１〜１０個が好ましく、２〜５個がより好ましく、３〜４個が特に好ましい。
化合物（Ｂ）が有する基（ＩＩＩ）が後述する化合物（Ｓ）と反応（ヒドロシリル化反応）することで、後述の化合物（ＡＸ）が有する基（ＩＸ）となる。
【００８６】
化合物（Ｂ）の好ましい一態様として、化合物（Ｂ１）が挙げられる。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］ａＹ１［−ＣＨ＝ＣＨ２］ｂ  ・・・（Ｂ１）
ただし、Ｒｆ１、Ｑ、Ｒｆｅ、ａおよびｂはそれぞれ前記と同義であり、
Ｙ１は、（ａ＋ｂ）価の連結基であり、
ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００８７】
Ｒｆ１は前記基（ＩＩ）中のＲｆ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
ａが２以上のときａ個のＲｆ１は、炭素数が同一であることが好ましく、製造しやすさの点から、同一の基、すなわち炭素数が同一かつ化学構造が同一の基であることが好ましい。炭素数が同一かつ化学構造が同一の基であるとは、たとえばａが２の場合に、２個のＲｆ１がＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−であるということである（２個のＲｆ１の炭素数が同一であっても化学構造が異なる、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）−の組み合わせではない。）
【００８８】
Ｑは前記基（ＩＩ）中のＱと同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｒｆｅのポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖は前記と同様であり、好ましい態様も同様である。
ａの好ましい値はそれぞれ、化合物（Ａ）が有するＰＦＥ鎖の好ましい数と同様である。すなわち、ａはそれぞれ、１〜３の整数が好ましい。
ｂの好ましい値は、化合物（Ａ）が有する基（Ｉ）の好ましい数と同様である。すなわち、ｂは１〜１０の整数が好ましく、２〜５の整数がより好ましく、３〜４の整数が特に好ましい。
【００８９】
Ｙ１としては、たとえば、（ａ＋ｂ）価の置換または無置換の炭化水素基、置換または無置換の炭化水素基の炭素−炭素原子間または／および末端に、炭化水素基以外の基または原子を有する（ａ＋ｂ）価の基、（ａ＋ｂ）価のオルガノポリシロキサン基等が挙げられる。
【００９０】
無置換の炭化水素基としては、たとえば直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基、芳香族炭化水素環式基（たとえばベンゼン環、ナフタレン環等の芳香族炭化水素環から（ａ＋ｂ）個の水素原子を除いた基）、直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基と芳香族炭化水素環式基との組み合わせからなる基（たとえば前記芳香族炭化水素環式基に置換基としてアルキル基が結合した基、前記飽和炭化水素基の炭素原子間または／および末端にフェニレン基等のアリーレン基を有する基等）、２以上の芳香族炭化水素環式基の組み合わせからなる基等が挙げられる。これらの中でも直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基が好ましい。無置換の炭化水素基の炭素数は、２０以下が好ましい。
置換の炭化水素基は、炭化水素基の水素原子の一部または全部が置換基で置換された基である。置換基としては、たとえば水酸基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アミノカルボニル基等が挙げられる。
【００９１】
炭化水素基の炭素−炭素原子間または／および末端に有する炭化水素基以外の基または原子としては、たとえばエーテル性酸素原子（−Ｏ−）、チオエーテル性硫黄原子（−Ｓ−）、窒素原子（−Ｎ＜）、ケイ素原子（＞Ｓｉ＜）、炭素原子（＞Ｃ＜）、−Ｎ（Ｒ１５）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）−、−ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）−、−Ｓｉ（Ｒ１６）（Ｒ１７）−、オルガノポリシロキサン基、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−等が挙げられる。ただし、Ｒ１５は水素原子、アルキル基またはフェニル基であり、Ｒ１６〜Ｒ１７はそれぞれ独立にアルキル基またはフェニル基である。アルキル基の炭素数は、１〜６が好ましい。
オルガノポリシロキサン基は、直鎖状でもよく、分岐鎖状でもよく、環状でもよい。
【００９２】
化合物（Ｂ１）は、後述する化合物（ＡＸ１）から［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］が外れ、かつＺ１Ｘの−ＳｉＲｎＬ３−ｎとの結合末端の−ＣＨ２ＣＨ２−が−ＣＨ＝ＣＨ２となった化合物である。
【００９３】
（化合物（Ｓ））
化合物（Ｓ）は、下式（Ｓ）で表される化合物である。
ＨＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｓ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
ｎは０〜２の整数であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【００９４】
前記式（Ｓ）のＲ、Ｌおよびｎは、基（Ｉ）におけるＲ、Ｌおよびｎと同じである。
【００９５】
化合物（Ｓ）としては、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３、ＨＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、ＨＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、ＨＳｉＣｌ３、ＨＳｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＨＳｉ（ＮＣＯ）３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３が特に好ましい。
【００９６】
（遷移金属化合物）
遷移金属化合物としては、先に例示したものが挙げられる。
【００９７】
（溶媒）
溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であっても非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を用いてもよい。
フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４〜８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえば、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ−２０００）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、たとえば、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロ卜ルエン、ビス（卜リフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４〜１２の化合物が好ましい。市販品としては、たとえば、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ (旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、たとえば、ペルフルオロ卜リプロピルアミン、ペルフルオロ卜リブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、たとえば、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−卜リフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
【００９８】
フッ素系有機溶媒としては、化合物（Ｂ）および化合物（Ｓ）の相溶性等の点で、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテルからなる群から選択される少なくとも１種の含フッ素有機溶媒を使用することが好ましい。
【００９９】
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒としては、ヘキサン、へブタン、シク口ヘキサン等が挙げられる。
ケトン系有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
エーテル系有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テ卜ラヒド口フラン、テ卜ラエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。
エステル系有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。
非フッ素系有機溶媒としては、化合物（Ｂ）および化合物（Ｓ）の相溶性等の点で、炭化水素系有機溶媒が特に好ましい。
【０１００】
溶媒の使用量は、化合物（Ｂ）の１００質量部に対して、０．１〜１０，０００質量部であることが好ましく、１〜１，０００質量部が特に好ましい。溶媒の使用量が前記範囲内であれば、化合物（Ｂ）および化合物（Ｓ）を充分に相溶化させる効果があり、反応条件を穏やかにできる。
【０１０１】
（ヒドロシリル化反応）
遷移金属化合物の存在下における、化合物（Ｂ）と化合物（Ｓ）とのヒドロシリル化反応は、たとえば、ポリオレフィン、含フッ素樹脂等の樹脂製容器、ガラス製容器、ＳＵＳ等の金属製容器、または含フッ素樹脂等で被覆したライニング容器等を用いて行う。
反応温度は、反応が充分に進行し、副生物の生成が抑制される点から、０〜１００℃が好ましく、２０〜５０℃が特に好ましい。
反応時間は、１〜１００時間が好ましく、２〜２０時間が特に好ましい。
反応圧力は、−０．０１〜１ＭＰａＧが好ましく、０〜０．１ＭＰａＧが特に好ましい。ここで、「ＭＰａＧ」における「Ｇ」は、ゲージ圧を示す。
【０１０２】
第１実施形態例の含フッ素エーテル組成物の製造方法では、ヒドロシリル化反応において遷移金属化合物を、化合物（Ｂ）に対する質量割合として遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍ使用する。遷移金属化合物の使用量は遷移金属換算で、４００〜２，０００ｐｐｍが好ましく、５００〜１，０００ｐｐｍが特に好ましい。
ここでの遷移金属化合物の使用量は化合物（Ｂ）に対する量であるが、該遷移金属化合物の使用量は、生成物である化合物（ＡＸ）に対する遷移金属化合物の割合とほぼ等しい。
【０１０３】
化合物（Ｓ）としてＬがハロゲン原子のもの（たとえば、ＨＳｉＣｌ３等）を用いる場合、オルト蟻酸メチル等のオルトエステルを併用してもよい。オルトエステルを併用することで、Ｌのハロゲン原子がアルコキシ基に置換されたものが、化合物（Ｂ）に導入される。
【０１０４】
ヒドロシリル化反応において溶媒を使用する場合、反応後に反応液を濃縮して溶媒を除去してもよい。
【０１０５】
第１実施形態例の含フッ素エーテル組成物の製造方法では、原則として生成した化合物（ＡＸ）に遷移金属化合物を添加しないが、必要に応じて生成した化合物（ＡＸ）に遷移金属化合物を添加してもよい。化合物（ＡＸ）に遷移金属化合物を添加する場合の遷移金属化合物の添加量は、化合物（ＡＸ）に対する遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍとなる量が好ましく、４００〜２，０００ｐｐｍとなる量がより好ましく、５００〜１，０００ｐｐｍとなる量が特に好ましい。
【０１０６】
（化合物（ＡＸ））
化合物（ＡＸ）は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および基（ＩＸ）を有する。
−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（ＩＸ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
ｎは０〜２の整数であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【０１０７】
化合物（ＡＸ）が有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖は、前記化合物（Ａ）が有するＰＦＥ鎖と同じである。
【０１０８】
化合物（ＡＸ）としては、国際公開第２０１４／１６３００４号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、特開２０１５−１９９９０６号公報に記載される含フッ素エーテル化合物、および下記化合物（ＡＸ１）が好ましい。
【０１０９】
＜化合物（ＡＸ１）＞
化合物（ＡＸ）の好ましい一態様として、化合物（ＡＸ１）が挙げられる。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］ａＺ１Ｘ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｂ  ・・・（ＡＸ１）
ただし、Ｒｆ１、Ｑ、Ｒｆｅ、Ｌ、Ｒ、ｎ、ａおよびｂはそれぞれ前記と同義であり、
Ｚ１Ｘは、（ａ＋ｂ）価の連結基であり、−ＳｉＲｎＬ３−ｎとの結合末端に−ＣＨ２ＣＨ２−を有し、
ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｂが２以上のときｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【０１１０】
Ｚ１Ｘとしては、前記式（Ａ１）のＺ１において、−ＳｉＲｎＬ３−ｎとの結合末端に−ＣＨ２ＣＨ２−を有するものが挙げられる。
すなわち、化合物（ＡＸ１）は、前記化合物（Ａ１）において、Ｚ１が−ＳｉＲｎＬ３−ｎとの結合末端に−ＣＨ２ＣＨ２−を有するものである。
【０１１１】
以下に、前記化合物（Ａ１１）〜（Ａ１３）を得るための具体的な方法の一例について説明する。
【０１１２】
「化合物（Ａ１１）の製造方法」
ｐ１が０の場合、化合物（Ａ１１）の製造方法としては、たとえば下記の方法（１）〜（６）が挙げられる。
ｐ１が１の場合、化合物（Ａ１１）の製造方法としては、たとえば下記の方法（１１）〜（１６）が挙げられる。
【０１１３】
方法（１）：
出発物質として市販の化合物（１０）を用いる。
ＨＯ−ＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（１０）
ただし、（ＲＦ１Ｏ）ｘは、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖であり、ｘは、１以上の整数である。
【０１１４】
塩基性化合物の存在下、化合物（１０）にＲｆ１−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２を反応させて、化合物（１１）、化合物（３Ａ）および未反応の化合物（１０）の混合物を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（１１）
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ−Ｏ−Ｒｆ１  ・・・（３Ａ）
【０１１５】
混合物から化合物（１１）を単離し、化合物（１１）とＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｆとのエステル化反応によって、化合物（１２）を得る。該エステル化反応は、化合物（１１）と、他の酸フロリド、酸クロリド、酸ブロミド、酸無水物等との反応であってもよい。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（１２）
【０１１６】
フッ素ガスを用いて化合物（１２）の水素原子をフッ素原子に置換することによって、化合物（１３）を得る。該フッ素化工程は、たとえば、国際公開第２０００／５６６９４号に記載の方法等にしたがって実施できる。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（１３）
【０１１７】
化合物（１３）にアルコール（メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール等。以下、Ｒ１０ＯＨと記す。Ｒ１０はアルキル基である。）を作用させることによって、化合物（１４）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１０  ・・・（１４）
【０１１８】
化合物（１４）を、還元剤（水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等）を用いて水素還元することによって、化合物（１５）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１５）
【０１１９】
塩基性化合物の存在下、化合物（１５）にＣＦ３ＳＯ２Ｃｌを反応させて、化合物（１６）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＳＯ２ＣＦ３  ・・・（１６）
【０１２０】
塩基性化合物の存在下、化合物（１６）にＨＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３を反応させて、化合物（１７）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７）
【０１２１】
化合物（１７）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ａ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ［ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ａ）
【０１２２】
方法（２）：
出発物質として方法（１）において得られた化合物（１１）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（１１）
【０１２３】
塩基性化合物の存在下、化合物（１１）にＣＦ３ＳＯ２Ｃｌを反応させて、化合物（１６Ｂ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＳＯ２ＣＦ３  ・・・（１６Ｂ）
【０１２４】
塩基性化合物の存在下、化合物（１６Ｂ）にＨＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３を反応させて、化合物（１７Ｂ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｂ）
【０１２５】
化合物（１７Ｂ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｂ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｂ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ［ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｂ）
【０１２６】
方法（３）：
出発物質として国際公開第２０１３／１２１９８４号に記載の方法で得られた化合物（１５Ｃ）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｑ３２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１５Ｃ）
【０１２７】
塩基性化合物の存在下、化合物（１５Ｃ）にＣＦ３ＳＯ２Ｃｌを反応させて、化合物（１６Ｃ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｑ３２−ＣＨ２ＯＳＯ２ＣＦ３  ・・・（１６Ｃ）
【０１２８】
塩基性化合物の存在下、化合物（１６Ｃ）にＨＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３を反応させて、化合物（１７Ｃ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｑ３２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｃ）
【０１２９】
化合物（１７Ｃ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｃ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｃ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｑ３２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ［ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｃ）
【０１３０】
方法（４）：
ＨＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３と（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｏとを反応させて、化合物（２０）を得る。
ＣＦ３ＳＯ２ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（２０）
【０１３１】
出発物質として方法（１）において得られた化合物（１５）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１５）
【０１３２】
塩基性化合物の存在下、化合物（１５）に化合物（２０）を反応させて、化合物（１７Ｄ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｄ）
【０１３３】
化合物（１７Ｄ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｄ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｄ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｄ）
【０１３４】
方法（５）：
出発物質として方法（１）において得られた化合物（１１）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（１１）
【０１３５】
塩基性化合物の存在下、化合物（１１）に方法（４）において得られた化合物（２０）を反応させて、化合物（１７Ｅ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｅ）
【０１３６】
化合物（１７Ｅ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｅ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｅ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｅ）
【０１３７】
方法（６）：
出発物質として国際公開第２０１３／１２１９８４号に記載の方法で得られた化合物（１５Ｃ）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｑ３２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１５Ｃ）
【０１３８】
塩基性化合物の存在下、化合物（１５Ｃ）に方法（４）において得られた化合物（２０）を反応させて、化合物（１７Ｆ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｑ３２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｆ）
【０１３９】
化合物（１７Ｆ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｆ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｆ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｑ３２−ＣＨ２ＯＣＨ２−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｆ）
【０１４０】
方法（１１）：
出発物質として方法（１）において得られた化合物（１４）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１０  ・・・（１４）
【０１４１】
化合物（１４）にＨ２Ｎ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３を反応させて、化合物（１７Ｇ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｇ）
【０１４２】
化合物（１７Ｇ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｇ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｇ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｇ）
【０１４３】
方法（１２）：
出発物質として方（１）において得られた化合物（１１）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（１１）
【０１４４】
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，第６４巻，１９９９年，ｐ．２５６４−２５６６に記載の方法にしたがい、化合物（１１）を酸化して、化合物（１３Ｈ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１３Ｈ）
【０１４５】
化合物（１３Ｈ）にＲ１０ＯＨを作用させることによって、化合物（１４Ｈ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１０  ・・・（１４Ｈ）
【０１４６】
化合物（１４Ｈ）にＨ２Ｎ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３を反応させて、化合物（１７Ｈ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｈ）
【０１４７】
化合物（１７Ｈ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｈ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｈ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｈ）
【０１４８】
方法（１３）：
出発物質として国際公開第２０１３／１２１９８４号に記載の方法で得られた化合物（１４Ｉ）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｑ３２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１０  ・・・（１４Ｉ）
ただし、ｘは、１以上の整数である。
【０１４９】
化合物（１４Ｉ）にＨ２Ｎ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３を反応させて、化合物（１７Ｉ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｑ３２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｉ）
【０１５０】
化合物（１７Ｉ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｉ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｉ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｑ３２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｉ）
【０１５１】
方法（１４）：
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３とＨ２Ｎ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３とを反応させて、化合物（３０）を得る。
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（３０）
【０１５２】
出発物質として方法（１）において得られた化合物（１５）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１５）
【０１５３】
塩基性化合物の存在下、化合物（１５）に化合物（３０）を反応させて、化合物（１７Ｊ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｊ）
【０１５４】
化合物（１７Ｊ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｊ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｊ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｊ）
【０１５５】
方法（１５）：
出発物質として方法（１）において得られた化合物（１１）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１１）
【０１５６】
塩基性化合物の存在下、化合物（１１）に方法（１４）において得られた化合物（３０）を反応させて、化合物（１７Ｋ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｋ）
【０１５７】
化合物（１７Ｋ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｋ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｋ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｋ）
【０１５８】
方法（１６）：
出発物質として国際公開第２０１３／１２１９８４号に記載の方法で得られた化合物（１５Ｃ）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＲＦＣＨ２ＯＨ  ・・・（１５Ｃ）
【０１５９】
塩基性化合物の存在下、化合物（１５Ｃ）に方法（１４）において得られた化合物（３０）を反応させて、化合物（１７Ｌ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＲＦＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｌ）
【０１６０】
化合物（１７Ｌ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（１７Ｌ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（１Ｌ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＲＦＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ３４−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］３  ・・・（１Ｌ）
【０１６１】
「化合物（Ａ１２）の製造方法」
化合物（Ａ１２）の製造方法としては、たとえば下記の方法（２１）〜（２３）が挙げられる。
【０１６２】
方法（２１）：
出発物質として市販の化合物（４０）を用いる。
ＨＯ−ＣＨ２−（ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（４０）
【０１６３】
塩基性化合物の存在下、化合物（４０）にＲｆ１−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２を反応させて、化合物（４１）、化合物（３Ａ’）および未反応の化合物（４０）の混合物を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（４１）
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ−Ｏ−Ｒｆ１  ・・・（３Ａ’）
【０１６４】
混合物から化合物（４１）を単離し、化合物（４１）とＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦとのエステル化反応によって、化合物（４２）を得る。該エステル化反応は、化合物（４１）と、他の酸フロリド、酸クロリド、酸ブロミド、酸無水物等との反応であってもよい。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（４２）
【０１６５】
フッ素ガスを用いて化合物（４２）の水素原子をフッ素原子に置換することによって、化合物（４３）を得る。該フッ素化工程は、たとえば、国際公開第２０００／５６６９４号に記載の方法等にしたがって実施できる。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（４３）
【０１６６】
化合物（４３）にアルコール（メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール等。以下、ＲＯＨと記す。Ｒはアルキル基である。）を作用させることによって、化合物（４４）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＯＯＲ  ・・・（４４）
【０１６７】
化合物（４４）を、還元剤（水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等）を用いて水素還元することによって、下式（４５）で表される化合物（４５）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（４５）
【０１６８】
塩基性化合物の存在下、化合物（４５）にＣＦ３ＳＯ２Ｃｌを反応させて、化合物（４６）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＳＯ２ＣＦ３  ・・・（４６）
【０１６９】
塩基性化合物の存在下、化合物（４６）にＨＮ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２を反応させて、化合物（４７）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２  ・・・（４７）
【０１７０】
化合物（４７）と化合物（Ｓ）とを、化合物（４７）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、化合物（４Ａ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｎ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］２  ・・・（４Ａ）
【０１７１】
方法（２２）：
出発物質として方法（２１）において得られた化合物（４１）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（４１）
【０１７２】
塩基性化合物の存在下、化合物（４１）にＣＦ３ＳＯ２Ｃｌを反応させて、化合物（４６Ｂ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＳＯ２ＣＦ３  ・・・（４６Ｂ）
【０１７３】
塩基性化合物の存在下、化合物（４６Ｂ）にＨＮ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２を反応させて、化合物（４７Ｂ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２  ・・・（４７Ｂ）
【０１７４】
化合物（４７Ｂ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（４７Ｂ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、下式（４Ｂ）で表される化合物（４Ｂ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｎ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］２  ・・・（４Ｂ）
【０１７５】
方法（２３）：
出発物質として国際公開第２０１３／１２１９８４号に記載の方法等の公知の方法で得られた化合物（４５Ｃ）を用いる。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｒ４２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（４５Ｃ）
【０１７６】
塩基性化合物の存在下、化合物（４５Ｃ）にＣＦ３ＳＯ２Ｃｌを反応させて、化合物（１６Ｃ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｒ４２−ＣＨ２ＯＳＯ２ＣＦ３  ・・・（４６Ｃ）
【０１７７】
塩基性化合物の存在下、化合物（４６Ｃ）にＨＮ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２を反応させて、下式（４７Ｃ）で表される化合物（４７Ｃ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｒ４２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２  ・・・（４７Ｃ）
【０１７８】
化合物（４７Ｃ）と化合物（Ｓ）とを、化合物（４７Ｃ）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応して、下式（４Ｃ）で表される化合物（４Ｃ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＲＦ１Ｏ）ｘ−Ｒ４２−ＣＨ２−Ｎ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］２  ・・・（４Ｃ）
【０１７９】
「化合物（Ａ１３）の製造方法」
化合物（Ａ１３）の製造方法としては、たとえば下記の方法が挙げられる。
塩基性化合物の存在下、化合物（２）と化合物（３）とを反応させて粗生成物を得る。
粗生成物は、ｅとｆとの比が異なる複数種の化合物（４）を含む。粗生成物から公知の手段（カラム精製等）によってｅとｆとの比が所望の比である化合物（４）を分取する。
Ｚ３（ＯＨ）ｅ＋ｆ  ・・・（２）
Ｘ−Ｒ２１−ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（３）
［ＨＯ−］ｅＺ３［−Ｏ−Ｒ５４−ＣＨ＝ＣＨ２］ｆ  ・・・（４）
ただし、Ｘは、ハロゲン原子であり、Ｒ５４は、前記式（Ａ１３）のＲ５３よりも炭素数が２個少ないアルキレン基である。
【０１８０】
化合物（４）と無水トリフルオロメタンスルホン酸とを２，６−ルチジン等の塩基の存在下に反応させて化合物（５）を得る。
［Ｆ３Ｃ−ＳＯ２−Ｏ−］ｅＺ３［−Ｏ−Ｒ５４−ＣＨ＝ＣＨ２］ｆ  ・・・（５）
【０１８１】
塩基の存在下、化合物（５）と化合物（６）とを反応させて化合物（７）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−Ｒ５１−Ｒ５２−ＯＨ  ・・・（６）
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆｅ−Ｒ５１−Ｒ５２−Ｏ−］ｅＺ３［−Ｏ−Ｒ５４−ＣＨ＝ＣＨ２］ｆ  ・・・（７）
【０１８２】
化合物（７）と化合物（Ｓ）とを、化合物（７）に対して遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍの遷移金属化合物および必要に応じて溶媒の存在下にヒドロシリル化反応させて、化合物（Ａ１３）を得る。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｒｆｅ−Ｒ５１−Ｒ５２−Ｏ−］ｅＺ３［−Ｏ−Ｒ５３−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｆ  ・・・（Ａ１３）
【０１８３】
ｅ＋ｆが３である化合物（２）としては、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、１，２，６−ヘキサントリオール等が挙げられる。
ｅ＋ｆが４である化合物（２）としては、ジグリセリン、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン等が挙げられる。
ｅ＋ｆが６である化合物（２）としては、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、ズルシトール等が挙げられる。
化合物（３）としては、臭化アリル、５−ブロモ−１−ペンテン等が挙げられる。
化合物（６）は、たとえば、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１４／１６３００４号、国際公開第２０１５／０８７９０２号等に記載の方法によって製造できる。
化合物（Ｓ）としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、トリクロロシラン等が挙げられる。
【０１８４】
化合物（Ａ１３）の合成フローの一例を示す。本合成フローにおいて、化合物（２）は化合物（２−１）（ジペンタエリスリトール）であり、化合物（３）は化合物（３−１）（臭化アリル）であり、化合物（６）は国際公開第２０１５／０８７９０２号の製造例６に記載の方法によって得られた化合物（６−１）であり、化合物（８）は化合物（８−１）（トリメトキシシラン）である。化合物（６−１）におけるＷ−Ｒ５１はＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ２１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２２｝ＣＦ２である。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ２１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２２｝ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（６−１）
【０１８５】
【化５】
2018180561.tif 000006
【０１８６】
化合物（２）、化合物（３）、化合物（６）および化合物（８）を適宜選択し、化合物（４）におけるｅとｆとの比を適宜選択して各反応を実施することによって所望の化合物（Ａ１３）を製造できる。
【０１８７】
（２）第２実施形態例
第２実施形態例の含フッ素エーテル組成物の製造方法は、前記化合物（Ｂ）と、前記化合物（Ｓ）とを、化合物（Ｂ）に対する遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で１ｐｐｍ以上３００ｐｐｍ未満の遷移金属化合物の存在下に反応（ヒドロシリル化反応）を行って化合物（ＡＸ）を生成させ、次いで、化合物（ＡＸ）に対する遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍとなるように、反応生成物に遷移金属化合物を添加する、方法である。ヒドロシリル化反応は、溶媒の存在下で行ってもよいし、非存在下で行ってもよい。
得られる含フッ素エーテル組成物は、反応により生成する化合物（ＡＨ）と遷移金属化合物とを含み、化合物（ＡＨ）に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で３００〜４，０００ｐｐｍである、組成物である。
【０１８８】
ヒドロシリル化反応に使用する遷移金属化合物の使用量が遷移金属換算で、第１実施形態例では３００〜４，０００ｐｐｍであるのに対し、第２実施形態例では１ｐｐｍ以上３００ｐｐｍ未満である点、および生成した化合物（ＡＸ）に対して、第１実施形態例では遷移金属化合物を添加する必要がないのに対し、第２に実施形態例では特定量の遷移金属化合物を添加する点以外は、第１実施形態例と第２実施形態例は同じである。
【０１８９】
生成した化合物（ＡＸ）に対する遷移金属化合物の質量割合が前記範囲内となるように化合物（ＡＸ）に遷移金属化合物を添加することで、基材の透明性を損なうことなく、表面層の耐久性を向上できる。生成した化合物（ＡＸ）に対する遷移金属化合物の添加量は、化合物（ＡＸ）に対する遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で４００〜２，０００ｐｐｍとなる量が好ましく、５００〜１，０００ｐｐｍとなる量が特に好ましい。
【０１９０】
第２実施形態例において、ヒドロシリル化反応に使用する遷移金属化合物と、生成した化合物（ＡＸ）に添加する遷移金属化合物とは、同じ種類であってもよいし、異なる種類であってもよいが、同じ種類が好ましい。
【０１９１】
〔コーティング液〕
本発明の含フッ素エーテル組成物は、液状媒体に溶解または分散してコーティング液として用いてもよい。すなわち、コーティング液は、本組成物と液状媒体とを含む。
【０１９２】
液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、ヒドロシリル化反応の際に用いる溶媒が挙げられる。
ヒドロシリル化反応の際に溶媒を用いる場合、ヒドロシリル化反応の際に溶媒とコーティング液に含まれる液状媒体とは同じ種類であっても異なる種類であってもよい。
本組成物の含有量は、コーティング液の総質量に対し、０．００１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％が特に好ましい。
液状媒体の含有量は、コーティング液の総質量に対し、７０〜９９．９９９質量％であることが好ましく、８０〜９９．９質量％が特に好ましい。
【０１９３】
コーティング液の固形分濃度は、コーティング液の総質量に対し、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。
コーティング液の固形分濃度は、加熱前のコーティング液の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。
本組成物の濃度は、固形分濃度と、本組成物および溶媒等の仕込み量とから算出可能である。
【０１９４】
〔物品〕
物品は、本組成物から形成された表面層を基材の表面に有する。
【０１９５】
（表面層）
本組成物においては、化合物（Ａ）中の基（Ｉ）におけるＬが加水分解性基である場合には、基（Ｉ）が加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）が形成され、該シラノール基は分子間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合が形成され、または該シラノール基が基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）が形成される。したがって、表面層は、化合物（Ａ）を、化合物（Ａ）の基（Ｉ）の一部または全部が加水分解反応した状態で含む。基（Ｉ）におけるＬが水酸基である場合には、加水分解反応を経ずに上記反応が進む。
【０１９６】
表面層の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面層の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ−Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。
【０１９７】
（基材）
基材は、耐摩擦性、指紋汚れ除去性等が必要とされる種々の物品（光学レンズ、タッチパネル、ディスプレイ、光記録媒体等）の本体部分、または該物品の表面を構成する部材である。
基材としては、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の表面の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材の表面にはＳｉＯ２膜等の下地膜が形成されていてもよい。
基材としては、光学レンズ、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材および光記録媒体用基材が好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材は、透光性を有する。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ  ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味する。
光学レンズ、タッチパネル、ディスプレイおよび光記録媒体における基材の表面の材料としては、ガラスおよび透明樹脂が好ましい。
【０１９８】
（物品の製造方法）
物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、物品を得る方法。
・ウェットコーティング法によって本コーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、物品を得る方法。
【０１９９】
＜ドライコーティング法＞
本組成物は、ドライコーティング法にそのまま用いることができる。本組成物は、ドライコーティング法によって密着性に優れた表面層を形成するのに好適である。
ドライコーティング法としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法等が挙げられる。化合物（Ａ）の分解を抑える点、および装置の簡便さの点から、真空蒸着法が特に好ましい。
【０２００】
真空蒸着の際の温度は、２０〜３００℃が好ましく、３０〜２００℃が特に好ましい。
真空蒸着の際の圧力は、１×１０−１Ｐａ以下が好ましく、１×１０−２Ｐａ以下が特に好ましい。
【０２０１】
＜ウェットコーティング法＞
ウェットコーティング法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。
【０２０２】
＜後処理＞
表面層の耐摩擦性を向上させるために、必要に応じて、化合物（Ａ）と基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。
たとえば、水分を有する大気中で表面層が形成された基材を加熱して、加水分解性シリル基のシラノール基への加水分解反応、基材の表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進できる。
表面処理後、表面層中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、たとえば、表面層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。
【０２０３】
〔作用効果〕
本組成物および本組成物を含むコーティング液にあっては、化合物（Ａ）および特定量の遷移金属化合物を含むため、耐久性に優れる表面層を形成できる。すなわち、本組成物または本組成物を含むコーティング液を用いて基材の表面に表面層が形成されることによって、優れた初期の撥水撥油性等の特性が付与されるとともに、該表面が繰り返し摩擦されてもその特性が低下しにくい優れた耐久性が得られる。この理由としては、以下のように考えられる。すなわち、本組成物は化合物（Ａ）に対して遷移金属換算で３００ｐｐｍ以上の遷移金属化合物を含むため、化合物（Ａ）中の加水分解性シリル基のシラノール基への加水分解反応、および該シラノール基と基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）との脱水縮合反応が充分に進行する。その結果、基材の表面の水酸基とシラノール基との化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）の数が増える。基材の表面の水酸基とシラノール基との化学結合の数が増えることが、耐久性の向上に寄与すると考えられる。
【０２０４】
このように、本組成物より形成される表面層は、表面が繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくいことから、基材の表面の指紋汚れを容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が得られる。
一方、本発明者は、遷移金属化合物の質量割合が化合物（Ａ）に対して遷移金属換算で４，０００ｐｐｍを超えると、基材が着色することを見出した。よって、化合物（Ａ）に対する遷移金属化合物の質量割合を遷移金属換算で４，０００ｐｐｍ以下とした。
【０２０５】
なお、化合物（Ａ）に対する遷移金属化合物の質量割合が少ない場合、具体的には遷移金属換算で１０ｐｐｍ以下の場合、表面層の耐久性は劣るものの、化合物（Ａ）を含む含フッ素エーテル組成物の貯蔵安定性が高まる傾向にある。そのため、表面層の耐久性よりも組成物の貯蔵安定性を重視する場合は、化合物（Ａ）に対する遷移金属化合物の質量割合を遷移金属換算で１０ｐｐｍ以下とすることが好ましい。
【０２０６】
化合物（Ａ）に対する遷移金属化合物の質量割合を遷移金属換算で１０ｐｐｍ以下とするには、たとえば、ヒドロシリル化反応において、遷移金属化合物の使用量を化合物（Ｂ）に対して遷移金属換算で０．１〜１０ｐｐｍとすればよい。また、遷移金属換算で１０ｐｐｍを超える遷移金属化合物を用いてヒドロシリル化反応を行った場合には、反応後に活性炭処理、分子蒸留等の後処理を行うことで遷移金属化合物を除去し、化合物（Ａ）に対する遷移金属化合物の質量割合を遷移金属換算で１０ｐｐｍ以下に調整してもよい。ただし、活性炭処理の場合、使用する活性炭に含まれる水が化合物（ＡＸ）に持ち込まれるため、該水を除去する手間がかかることがある。そのため、遷移金属換算で０．１〜１０ｐｐｍの遷移金属化合物を用いてヒドロシリル化反応を行う方法が好ましい。
【実施例】
【０２０７】
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。以下、「％」は特に断りのない限り「質量％」である。
例１〜５は実施例であり、例６〜８は比較例である。【０２０８】
〔評価〕
（数平均分子量）
含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出した。末端基は、たとえば基（Ｉ）または基（ＩＩ）である。【０２０９】
（耐久性）
表面層について、ＪＩＳ  Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ  １０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を荷重０．５ｋｇ／ｃｍ２、速度：３２０ｃｍ／分で往復させた。５００回往復させる毎に水接触角を測定して、水接触角１００°以上が維持される上限の回数（接触角１００°以上の維持回数）を求めた。この回数が多いほど、表面層が摩擦によって損なわれにくく、耐久性に優れる。【０２１０】
（基材の着色（外観評価））
表面層が形成された基材の外観（色）を目視により観察した。【０２１１】
〔例１〕
国際公開第２０１４／１６３００４号の例１−２に記載の方法にしたがい、化合物（５１）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（５１）
単位数ｍ１１の平均値：２１、単位数ｍ１２の平均値：２０、化合物（５１）の数平均分子量：４，２００。【０２１２】
１００ｍＬのテトラフルオロエチレン−ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体（ＰＦＡ）製ナスフラスコに、化合物（５１）の２５．０ｇ、白金／ １，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．６０２５ｇ（化合物（５１）に対する白金の使用量が４８２ｐｐｍに相当）、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３の２．８４ｇおよびＡＣ−２０００の１２．５ｇを入れ、７０℃で１０時間撹拌し、ヒドロシリル化反応を行った。反応終了後、溶媒等を減圧蒸留し、化合物（５２−１）および化合物（５２−２）を合計で２４．５ｇ（収率９５．３％）と、白金との組成物を得た。化合物（５２−１）と化合物（５２−２）のモル比は、ＮＭＲより８３：１７であった。また、化合物（Ａ）に相当する化合物（５２−１）に対する白金の質量割合は４００ｐｐｍであった。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３  ・・・（５２−１）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３  ・・・（５２−２）【０２１３】
化合物（５２−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）、４．２（２Ｈ）、５．８〜６．０（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．７（４２Ｆ）、−７８．２（１Ｆ）、−７８．７（１Ｆ）、−８０．３（１Ｆ）、−８０．７（１Ｆ）、−８２．２（３Ｆ）、−８５．４〜−８８．２（２Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（８２Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１４５．１（１Ｆ）。
単位数ｍ１１の平均値：２１、単位数ｍ１２の平均値：２０、化合物（５２−１）の数平均分子量：４，３００。【０２１４】
化合物（５２−２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．６（３Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．２（２Ｈ）、４．５〜５．０（１Ｈ）、５．８〜６．２（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．７（４２Ｆ）、−７８．１（１Ｆ）、−７８．７（１Ｆ）、−８０．２（１Ｆ）、−８０．７（１Ｆ）、−８２．２（３Ｆ）、−８５．４〜−８８．２（２Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（８２Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１４５．１（１Ｆ）。
単位数ｍ１１の平均値：２１、単位数ｍ１２の平均値：２０、化合物（５２−２）の数平均分子量：４，２００。【０２１５】
化合物（５２−１）と化合物（５２−２）と白金との組成物を用いて、下記のウェットコーティング法により、基材の表面処理を行い、例１の物品を得た。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、耐久性および基材の着色を評価した。結果を表１に示す。【０２１６】
＜ウェットコーティング法＞
得られた組成物と、液状媒体としてのＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）とを混合して、固形分濃度２０％のコーティング液を調製した。コーティング液に基材をディッピングし、３０分間放置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子社製、ＡＫ−２２５）にて洗浄することによって、基材の表面に表面層を有する物品を得た。【０２１７】
〔例２〕
ヒドロシリル化反応において、白金／ １，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の使用量を１．５０６２５ｇ（化合物（５１）に対する白金の使用量が１，２０５ｐｐｍに相当）に変更した以外は、例１と同様にして化合物（５２−１）および化合物（５２−２）と、白金との組成物を得た。化合物（５２−１）と化合物（５２−２）のモル比は、ＮＭＲより８３：１７であった。また、化合物（Ａ）に相当する化合物（５２−１）に対する白金の質量割合は１，０００ｐｐｍであった。
得られた組成物を用いた以外は、例１と同様にして物品を製造し、耐久性および基材の着色を評価した。結果を表１に示す。【０２１８】
〔例３〕
ヒドロシリル化反応において、白金／ １，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の使用量を３．０１２５ｇ（化合物（５１）に対する白金の使用量が２，４１０ｐｐｍに相当）に変更した以外は、例１と同様にして化合物（５２−１）および化合物（５２−２）と、白金との組成物を得た。化合物（５２−１）と化合物（５２−２）のモル比は、ＮＭＲより８３：１７であった。また、化合物（Ａ）に相当する化合物（５２−１）に対する白金の質量割合は２，０００ｐｐｍであった。
得られた組成物を用いた以外は、例１と同様にして物品を製造し、耐久性および基材の着色を評価した。結果を表１に示す。【０２１９】
〔例４〕
国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例６に記載の方法にしたがい、化合物（１４Ｉ−１）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（１４Ｉ−１）
単位数ｘ３の平均値：１３、化合物（１４Ｉ−１）の数平均分子量：４，７００。【０２２０】
５０ｍＬのナスフラスコに、化合物（１４Ｉ−１）の９．０ｇおよびＨ２Ｎ−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３の０．４５ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、化合物（１４Ｉ−１）がすべて化合物（１７Ｉ−１）に変換していることを確認した。また、副生物であるメタノールが生成していた。得られた溶液をＡＥ−３０００の９．０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＥ−３０００）で精製し、化合物（１７Ｉ−１）の７．６ｇ（収率８４％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１７Ｉ−１）
単位数ｘ３の平均値：１３、化合物（１７Ｉ−１）の数平均分子量：４，８００。【０２２１】
１０ｍＬのＰＦＡ製サンプル管に、化合物（１７Ｉ−１）の６．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．１５ｇ（化合物（１７Ｉ−１）に対する白金の質量割合が５００ｐｐｍに相当）、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３の０．７８ｇ、ジメチルスルホキシドの０．０２ｇ、１，３―ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の０．４９ｇを入れ、４０℃で１０時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、化合物（１Ｉ−１）の６．７ｇ（収率１００％）と、白金との組成物を得た。化合物（Ａ）に相当する化合物（１Ｉ−１）に対する白金の質量割合は５００ｐｐｍであった。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］３  ・・・（１Ｉ−１）【０２２２】
化合物（１Ｉ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７５（６Ｈ）、１．３〜１．６（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．７（２７Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５５．２（３Ｆ）、−８２．１（５４Ｆ）、−８８．１（５４Ｆ）、−９０．２（２Ｆ）、−１１９．６（２Ｆ）、−１２５．４（５２Ｆ）、−１２６．２（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１３、化合物（１Ｉ−１）の数平均分子量：５，４００。【０２２３】
得られた組成物を用いた以外は、例１と同様にして物品を製造し、耐久性および基材の着色を評価した。結果を表１に示す。【０２２４】
〔例５〕
特開２０１５−１９９９０６号公報の合成例１に記載の方法にしたがい、化合物（６２）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝−ＣＦ２−Ｃ（ＯＨ）［−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２］２  ・・・（６２）
ただし、ｍ１１：ｍ１２＝４７：５３であり、ｍ１１＋ｍ１２≒４３である。【０２２５】
反応容器に、化合物（６２）の２００ｇ（２．６×１０−２ｍｏｌ）、１，３−ビストリフルオロメチルベンゼンの２００ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３の１２．７ｇ（１．１×１０−１ｍｏｌ）、および塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量：０．５％）の８０ｇ（化合物（６２）に対する白金の質量割合が２，０００ｐｐｍに相当）を混合し、８０℃で４０時間熟成させた。その後、溶媒および未反応物を減圧留去し、化合物（６３）の２０１ｇと、塩化白金酸との組成物を得た。化合物（Ａ）に相当する化合物（６３）に対する白金の質量割合は２，０００ｐｐｍであった。
ＣＦ３−Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝−ＣＦ２−Ｃ（ＯＨ）［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２  ・・・（６３）
ただし、ｍ１１：ｍ１２＝４７：５３であり、ｍ１１＋ｍ１２≒４３である。【０２２６】
化合物（６３）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．２〜２．２（１２Ｈ）、３．０〜３．５（１８Ｈ）。【０２２７】
得られた組成物を用いた以外は、例１と同様にして物品を製造し、耐久性および基材の着色を評価した。結果を表１に示す。【０２２８】
〔例６〕
ヒドロシリル化反応において、白金／ １，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の使用量を７．５３１２５ｇ（化合物（５１）に対する白金の使用量が６，０２５ｐｐｍに相当）に変更した以外は、例１と同様にして化合物（５２−１）および化合物（５２−２）と、白金との組成物を得た。化合物（５２−１）と化合物（５２−２）のモル比は、ＮＭＲより８３：１７であった。また、化合物（Ａ）に相当する化合物（５２−１）に対する白金の質量割合は５，０００ｐｐｍであった。
得られた組成物を用いた以外は、例１と同様にして物品を製造し、耐久性および基材の着色を評価した。結果を表１に示す。【０２２９】
〔例７〕
ヒドロシリル化反応において、白金／ １，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の使用量を０．１５０６２５ｇ（化合物（５１）に対する白金の使用量が１２０．５ｐｐｍに相当）に変更した以外は、例１と同様にして化合物（５２−１）および化合物（５２−２）と、白金との組成物を得た。化合物（５２−１）と化合物（５２−２）のモル比は、ＮＭＲより８３：１７であった。また、化合物（Ａ）に相当する化合物（５２−１）に対する白金の質量割合は１００ｐｐｍであった。
得られた組成物を用いた以外は、例１と同様にして物品を製造し、耐久性および基材の着色を評価した。結果を表１に示す。【０２３０】
〔例８〕
ヒドロシリル化反応において、白金／ １，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の使用量を０．００７５３１２５ｇ（化合物（５１）に対する白金の使用量が６．０２５ｐｐｍに相当）に変更した以外は、例１と同様にして化合物（５２−１）および化合物（５２−２）と、白金との組成物を得た。化合物（５２−１）と化合物（５２−２）のモル比は、ＮＭＲより８３：１７であった。また、化合物（Ａ）に相当する化合物（５２−１）に対する白金の質量割合は５ｐｐｍであった。
得られた組成物を用いた以外は、例１と同様にして物品を製造し、耐久性および基材の着色を評価した。結果を表１に示す。【０２３１】
【表１】
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【０２３２】
化合物（Ａ）に対する白金の質量割合が３００〜４，０００ｐｐｍである例１〜５の組成物は、化合物（Ａ）に対する白金の質量割合が１００ｐｐｍ以下である例７、８の組成物に比べて、耐久性に優れる表面層を形成できた。
また、例１〜５の組成物は、化合物（Ａ）に対する白金の質量割合が５，０００ｐｐｍである例６の組成物に比べて、基材の透明性を妨げることなく耐久性に優れる表面層を形成できた。
なお、例８の組成物を６０℃、９０％ＲＨの条件下で２か月間保存したところ、濁り、分離、沈殿、固化のいずれも発生せず、透明性を維持しており、貯蔵安定性に優れていた。
【産業上の利用可能性】
【０２３３】
本組成物および本組成物を含むコーティング液は、撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえばタッチパネル等の表示入力装置；透明なガラス製または透明なプラスチック製（アクリル、ポリカーボネート等）部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート；電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート；導通しながら撥液が必要な部材へのコート；熱交換機の撥水・防水・滑水コート；振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等人の指あるいは手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材、配線板用防水コーティング熱交換機の撥水・防水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コート等が挙げられる。
なお、２０１７年０３月２７日に出願された日本特許出願２０１７−０６０９４９号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【国際調査報告】
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