(57)【要約】  多数個取り配線基板は、第１主面および第１主面に相対する第２主面と、第１主面と第２主面との間に設けられ、電子部品が搭載される搭載部、および電子部品が接続される接続導体が設けられた第３主面と、複数の配線基板領域が配列され、複数の配線基板領域を取り囲んで設けられた捨て代領域を有し、第１主面および第２主面において配線基板領域の境界、および配線基板領域と捨て代領域の境界に沿って分割溝を有している母基板と、配線基板領域の境界、または配線基板領域と捨て代領域の境界に跨って設けられ、第１主面から第２主面にかけて貫通した貫通孔と、第２主面において、配線基板領域の各角部に設けられた外部接続導体とを備えており、第３主面における貫通孔の周囲に補助導体が設けられ、補助導体は、接続導体と接続される側に設けられる幅広導体と、接続導体と接続されない側に設けられる幅狭導体とを含んでおり、幅広導体は隣接する配線基板領域の境界を跨いで設けられている。
2018216693.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面および該第１主面に相対する第２主面と、前記第１主面と前記第２主面との間に設けられ、電子部品が搭載される搭載部、および電子部品が接続される接続導体が設けられた第３主面と、
複数の配線基板領域が配列され、該複数の配線基板領域を取り囲んで設けられた捨て代領域を有し、前記第１主面および前記第２主面において前記配線基板領域の境界、および前記配線基板領域と前記捨て代領域の境界に沿って分割溝を有している母基板と、
前記配線基板領域の境界、または前記配線基板領域と前記捨て代領域の境界に跨って設けられ、前記第１主面から前記第２主面にかけて貫通した貫通孔と、
前記第２主面において、前記配線基板領域の各角部に設けられた外部接続導体とを備えており、
前記第３主面における前記貫通孔の周囲に補助導体が設けられ、該補助導体は、前記接続導体と接続される側に設けられる幅広導体と、前記接続導体と接続されない側に設けられる幅狭導体とを含んでおり、前記幅広導体は隣接する前記配線基板領域の境界を跨いで設けられていることを特徴とする多数個取り配線基板。
【請求項２】
前記貫通孔は、前記配線基板領域の四隅に設けられていることを特徴とする請求項１記載の多数個取り配線基板。
【請求項３】
平面視において、前記配線基板領域が矩形状であり、
前記貫通孔は、前記配線基板領域の短辺側または長辺側に設けられていることを特徴とする請求項１記載の多数個取り配線基板。
【請求項４】
前記幅広導体は、前記第３主面において前記搭載部に露出して設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の多数個取り配線基板。
【請求項５】
前記幅狭導体は、前記第３主面において前記搭載部に露出せず、前記第３主面上に設けられた枠部で覆われていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の多数個取り配線基板。
【請求項６】
絶縁基板を含み、第１主面および該第１主面に相対する第２主面と、前記第１主面と前記第２主面との間に設けられ、電子部品が搭載される搭載部、および電子部品が接続される接続導体が設けられる第３主面と、
前記絶縁基板の外縁において、前記第１主面から前記第２主面にかけて設けられ、第１切欠き部および第２切欠き部を含む切欠き部と、
前記第２主面において、前記絶縁基板に設けられた複数の外部接続導体とを備えており、
前記第３主面において、前記切欠き部の内面に幅広導体と幅狭導体とを含む補助導体が設けられており、前記第１切欠き部の近傍で、前記接続導体と接続される領域に、前記幅広導体が設けられており、前記第２切欠き部の近傍で、前記接続導体と接続されない領域に、前記補助導体が前記幅狭導体および前記幅広導体の両方が設けられていることを特徴とする電子部品収納用パッケージ。
【請求項７】
請求項６に記載の電子部品収納用パッケージと、該電子部品収納用パッケージに搭載された電子部品とを有していることを特徴とする電子装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品の搭載部を有する複数の配線基板領域が母基板に縦横の並びに配列された多数個取り配線基板、電子部品収納用パッケージ、および電子装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子、弾性表面波素子等の電子部品を収容するために用いられる電子部品収納用パッケージは、酸化アルミニウム質焼結体またはガラスセラミック焼結体等のセラミック焼結体からなる絶縁基板に、電子部品を収容するための凹状の搭載部を有している。電子部品収納用パッケージとなる絶縁基板は、一般に、四角平板状の基部と、搭載部を取り囲むように基部の上面に積層された四角枠状の枠部とを有している。基部の上面と、枠部の内側面とで凹状の搭載部が形成される。搭載部に電子部品が搭載されたのち、枠体の上面の枠状メタライズ層に金属からなる蓋体が接合されて、搭載部が気密に封止される。なお、この枠部の上面に枠状メタライズ層、およびろう材等を介して金属枠体（シールリングともいう）が接合される構造も採用されており、基部の上面と枠部および金属枠体の内側面とで凹状の搭載部が形成される。【０００３】
このような電子部品収納用パッケージは、一般に広面積の母基板から複数個の配線基板を同時集約的に得るようにした、いわゆる多数個取り配線基板の形態で製作されている。多数個取り配線基板は、例えば酸化アルミニウム質焼結体からなる母基板に、それぞれが個片の電子部品収納用パッケージとなる複数の配線基板領域が縦横に配列されている。配線基板領域の境界に沿って、母基板の上面等の主面に分割溝が形成されている。この分割溝を挟んで母基板に曲げ応力が加えられて母基板が破断されることによって、個片の配線基板に分割される。また、レーザーによって分割溝を設ける方法が提案されている（例えば、特開2014-27219号公報参照。）。
【発明の概要】
【０００４】
本開示の多数個取り配線基板は、第１主面および該第１主面に相対する第２主面と、前記第１主面と前記第２主面との間に設けられ、電子部品が搭載される搭載部、および電子部品が接続される接続導体が設けられた第３主面と、複数の配線基板領域が配列され、該複数の配線基板領域を取り囲んで設けられた捨て代領域を有し、前記第１主面および前記第２主面において前記配線基板領域の境界、および前記配線基板領域と前記捨て代領域の境界に沿って分割溝を有している母基板と、前記配線基板領域の境界、または前記配線基板領域と前記捨て代領域の境界に跨って設けられ、前記第１主面から前記第２主面にかけて貫通した貫通孔と、前記第２主面において、前記配線基板領域の各角部に設けられた外部接続導体とを備えており、前記第３主面における前記貫通孔の周囲に補助導体が設けられ、該補助導体は、前記接続導体と接続される側に設けられる幅広導体と、前記接続導体と接続されない側に設けられる幅狭導体とを含んでおり、前記幅広導体は隣接する前記配線基板領域の境界を跨いで設けられている。
【０００５】
本開示の電子部品収納用パッケージは、絶縁基板を含み、第１主面および該第１主面に相対する第２主面と、前記第１主面と前記第２主面との間に設けられ、電子部品が搭載される搭載部、および電子部品が接続される接続導体が設けられる第３主面と、前記絶縁基板の外縁において、前記第１主面から前記第２主面にかけて設けられ、第１切欠き部および第２切欠き部を含む切欠き部と、前記第２主面において、前記絶縁基板に設けられた複数の外部接続導体とを備えており、前記第３主面において、前記切欠き部の内面に幅広導体と幅狭導体とを含む補助導体が設けられており、前記第１切欠き部の近傍で、前記接続導体と接続される領域に、前記幅広導体が設けられており、前記第２切欠き部の近傍で、前記接続導体と接続されない領域に、前記補助導体が前記幅狭導体および前記幅広導体の両方が設けられている。
【０００６】
本開示の電子装置は、上記の電子部品収納用パッケージと、該電子部品収納用パッケージに搭載された電子部品とを有している。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】（ａ）は本実施形態の多数個取り配線基板の一部を示す平面透視図であり、（ｂ）は（ａ）のＸ−Ｘ’線における断面透視図である。
【図２】本実施形態の多数個取り配線基板の要部を示す要部拡大図である。
【図３】他の実施形態の多数個取り配線基板の要部を示す要部拡大図である。
【図４】（ａ）は他の実施形態の多数個取り配線基板の一部を示す平面透視図であり、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ’線における断面透視図である。
【図５】他の実施形態の多数個取り配線基板の要部を示す要部拡大図である。
【図６】（ａ）は本実施形態の電子部品収納用パッケージを示す平面透視図であり、（ｂ）は（ａ）のＺ−Ｚ’線における断面透視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本開示の多数個取り配線基板および電子部品収納用パッケージとなる配線基板について、添付の図面を参照しつつ説明する。図１〜図６において、101は母基板（多数個取り配線基板）、102は電子部品収納用パッケージとなる配線基板領域、103は第１主面、104は第２主面、105は電子部品、106は搭載部、107は接続導体、108は第３主面、109は捨て代領域、110は境界、111は分割溝、112は貫通孔、113は外部接続導体、114は補助導体、115は幅広導体、116は幅狭導体、117は基部、118は枠部、200は配線基板（電子部品収納用パッケージ）、201は絶縁基板、202は枠状メタライズ層、203は蓋体、204は切欠き部、205は第１切欠き部、206は第２切欠き部、300は電子装置である。なお、図１〜図６において同一箇所には同じ符号を付している。
【０００９】
母基板101に配列された配線基板200は、凹状の搭載部106を含む第３主面108を有し、この搭載部106に電子部品105が収容される。配線基板200は、基部117と基部117上に積層された枠部118とを有している。第１主面103の枠部118には枠状メタライズ層202が設けられ、この枠状メタライズ層202にろう材によって金属枠体（図示せず）、金属からなる蓋体203が接合される。なお、枠状メタライズ層202に金属枠体が接合される場合には、さらにこの金属枠体に蓋体203が接合される構造となる。また、配線基板200は、電子部品105が接続される接続導体107、外部接続導体113、補助導体114等を有している。配線基板200の搭載部106に設けられた接続導体107に電子部品105が接合材等で接合されて、電子装置300が形成される。
【００１０】
このような配線基板200は、一般に１枚の広面積の母基板101から複数個の配線基板200を同時集約的に得るようにした、いわゆる多数個取り配線基板の形態で製作される。多数個取り配線基板は、例えば酸化アルミニウム質焼結体からなる母基板101に複数の配線基板領域102が縦横に配列されている。図１に示すように、母基板101は外周に貫通孔112が設けられた配線基板領域102が配列されてなる。また、各配線基板領域102の外周に設けられる貫通孔112には、貫通孔112の内面の一部に内面導体（図示せず）が設けられており、さらに搭載部106を含む第３主面108の貫通孔112の周辺には補助導体114が設けられている。これらの内面導体、補助導体114は、隣り合う配線基板領域102の配線導体同士を電気的に接続する機能を有する。図１においては、貫通孔112が各配線基板領域102の四隅に設けられた構造を示している。なお、貫通孔112の形成位置は、各配線基板領域102の四隅以外、例えば長辺側の中央部、短辺側に形成されていてもよい。この貫通孔112に設けられた内面導体、補助導体114により、隣接する配線基板領域102間における接続導体107、外部接続導体113等が接続されて、母基板101の各配線導体が一体的に接続される。そして、例えば、母基板101の捨て代領域109の外縁部に設けられためっき用導体（図示せず）に導出されることにより、このめっき用導体から電気を供給して、外部接続導体113等に電気めっきにより金属層が被着される。
【００１１】
母基板101は、例えば酸化アルミニウム質焼結体，ガラスセラミック焼結体，窒化アルミニウム質焼結体，炭化珪素質焼結体，窒化珪素質焼結体，ムライト質焼結体等のセラミック焼結体により形成されている。
【００１２】
母基板101は複数のセラミック絶縁層が積層され、この積層体が一体焼成されて製作される。すなわち、母基板101が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合であれば、次のようにして製作される。まず、酸化アルミニウムおよび酸化ケイ素等のガラス成分を含む原料粉末に適当な有機溶剤、およびバインダーを添加してシート状に成形して、複数のセラミックグリーンシートを作製する。次に、この一部のものについて打ち抜き加工を施して複数の枠部が設けられたセラミックグリーンシートに成形した後、打ち抜き加工を施していない平板状のセラミックグリーンシートの上に、複数の枠部が形成されたセラミックグリーンシートを積層する。その後、この積層体を一体焼成すれば、複数のセラミック絶縁層が積層されてなる配線基板領域102が縦横に配列形成された母基板101を作製することができる。この場合、打ち抜き加工を施したセラミックグリーンシートが枠部118になり、打ち抜き加工を施していないセラミックグリーンシートが基部117になる。
【００１３】
電子部品収納用パッケージとなる配線基板200は、その上面の中央部に電子部品105の搭載部106（凹状の部位）を有している。基部117および枠部118は、搭載部106に収容される電子部品105を保護するための容器として作用するものである。搭載部106に収容される電子部品105としては、水晶振動子等の圧電振動子，弾性表面波素子，半導体素子（ＩＣ），容量素子，インダクタ素子，抵抗器等の種々の電子部品を挙げることができる。
【００１４】
このような形態の配線基板200は、例えば電子部品105が水晶振動子の場合であり、電子装置300が水晶デバイスである場合には、携帯電話、スマートホン等の通信機器、コンピュータ、ＩＣカード等の情報機器等の電子機器において、周波数、時間の基準となる発振器用のパッケージとして使用され、この場合の電子装置300は発振器として使用される。搭載部106に収容された電子部品105は、例えば導電性接着剤等の接合材によって、第３主面108に設けられた接続導体107と電気的に接続される。
【００１５】
配線基板200は、いわゆる多数個取りの形態で製作されたものが個片に分割されたものである。例えば、複数のセラミック絶縁層が積層されてなる母基板101に、搭載部106を有する複数の配線基板領域102が縦横の並びに配列される。母基板101の上面に、配線基板領域102の境界110に沿ってレーザー（図示せず）により分割溝111が形成され、例えば図１等に示すような多数個取り配線基板が基本的に構成されている。このような母基板101が配線基板領域102の分割溝111に沿って分割されて、電子部品収納用パッケージとなる配線基板200が製作される。
【００１６】
また、図１および図２で示すように、母基板101を分割するために、配線基板領域102の境界110に沿って、母基板101の第１主面103および第２主面104にレーザーによって分割溝111が形成される。そして、母基板101の第１主面103と第２主面104との間に設けられる第３主面108（基部117と枠部118の境界部分）においても、分割溝111が形成される。これは、配線基板領域102の境界110に沿ってレーザーにより分割溝111を形成する際に、貫通孔112が配線基板領域102の境界110、または配線基板領域102と捨て代領域109の境界110に跨って設けられており、貫通孔112の内面の一部に設けられた内面導体にもレーザーが照射されることにより、分割溝111が第３主面108にも形成されるためであり、母基板101の厚み方向において、図１および図２で示すように、貫通孔112の内面に近いほど、分割溝111の深さが大きくなるように形成されている。そして、分割溝111は、例えば第１主面103側の分割溝111と、第２主面104側の分割溝111の両面に設けられた分割溝111で構成されており、母基板101の配線基板領域102の間、および配線基板領域102と捨て代領域109との間に格子状に設けられている。そして、それぞれの分割溝111が形成されている部分（配線基板領域102の境界110等）で母基板101に応力を加えて母基板101を厚み方向にたわませることによって、母基板101が個片の配線基板200に分割されることになる。なお、母基板101に設けられる分割溝111は、第１主面103側の片面だけに設けてもよく、第２主面104側の片面だけに設けてもよい。
【００１７】
配線基板200の内部および表面には、搭載部106の底部（第３主面108）等から配線基板200の下面（第２主面104）にかけて接続導体107等の配線導体が形成されている。これらの配線導体のうち、配線基板200の第２主面104に形成された部位は、例えば外部接続導体113である。配線導体のうち、配線基板200の内部に形成されたものは貫通導体（いわゆるビア導体等）、補助導体114、電子部品105を接続するための接続導体107の露出しない部位等である。搭載部106に搭載される電子部品105を接続導体107に電気的に接続させることにより、接続導体107、補助導体114、および外部接続導体113等を介して電子部品105が外部の電気回路（図示せず）に電気的に接続される。
【００１８】
これらの配線導体は、例えば銅，銀，パラジウム，金，白金，タングステン，モリブデン，マンガン等の金属材料、またはそれらを含む合金からなる。配線導体は、例えば、高融点金属であるモリブデンからなる場合であれば、モリブデンの粉末に有機溶剤およびバインダーを添加して作製した金属ペースト（図示せず）を配線基板200となるセラミックグリーンシートに所定パターンで塗布しておき、同時焼成により形成することができる。
【００１９】
上記の多数個取り配線基板（母基板101）において、それぞれの配線基板領域102の下面の各角部には、分割後に配線基板200の外部接続導体113となるメタライズ導体層が形成されている。この外部接続導体113は、例えばその外周が貫通孔112に設けられた内面導体に接している。外部接続導体113は、例えばタングステン、モリブデン等の金属からなり、例えば外部接続導体113がモリブデンのメタライズ導体層からなる場合であれば、モリブデンの粉末に有機溶剤、バインダー等を添加して作製した金属ペーストを、セラミック絶縁層の基部117となるセラミックグリーンシートの下面に所定パターンで印刷しておくことにより形成することができる。金属ペーストは、例えば、焼成後の外部接続導体113の厚みが8〜20μｍ程度となるように、スクリーン印刷法等により形成される。
【００２０】
また、第１主面103に設けられる枠状メタライズ層202の上面に、さらに金属枠体（図示せず）がろう材により接合されていてもよい。この金属枠体の接合は、多数個取り配線基板の状態で行なわれてもよく、個片の電子部品収納用パッケージ（配線基板200）の状態で行なわれてもよい。生産性を考慮した場合には、多数個取りの状態で上記接合が行なわれる。そして、この金属枠体に金属からなる蓋体203が接合されて電子部品105が搭載部106に封止される。この実施形態の例においては、枠状メタライズ層202、接続導体107、外部接続導体113等の露出した表面にニッケルめっき層と金めっき層等の金属層（図示せず）が順次被着されている。そして、例えばニッケルめっき層は1.0〜20μｍ程度、金めっき層は0.1〜1.0μｍ程度で形成される。これらのめっき層により、露出した各配線導体の表面が金属層で覆われるため腐食防止効果があり、半田およびろう材等の濡れ性が良好な配線導体となる。
【００２１】
本実施形態の多数個取り配線基板は、第１主面103および第１主面103に相対する第２主面104と、第１主面103と第２主面104との間に設けられ、電子部品105が搭載される搭載部106、および電子部品105が接続される接続導体107が設けられた第３主面108と、複数の配線基板領域102が配列され、複数の配線基板領域102を取り囲んで設けられた捨て代領域109を有し、第１主面103および第２主面104において配線基板領域102の境界110、および配線基板領域102と捨て代領域109の境界110に沿って分割溝111を有している母基板101と、配線基板領域102の境界110、または配線基板領域102と捨て代領域109の境界110に跨って設けられ、第１主面103から第２主面104にかけて貫通した貫通孔112と、第２主面104において、配線基板領域102の各角部に設けられた外部接続導体113とを備えており、第３主面108における貫通孔112の周囲に補助導体114が設けられ、補助導体114は、接続導体107と接続される側に設けられる幅広導体115と、接続導体107と接続されない側に設けられる幅狭導体116とを含んでおり、幅広導体115は隣接する配線基板領域102の境界110を跨いで設けられている。
【００２２】
このような構造としたことから、電子部品収納用パッケージとなる配線基板200が小型化しても、配線基板領域102の境界110に沿ってレーザーにより分割溝111を形成する際に、レーザーが幅広導体115に照射されるため、補助導体114の断線を抑制できる。つまり、図１の（ｂ）で示したように、例えばレーザーで母基板101の第１主面103側から分割溝111を形成する場合、貫通孔112の表面付近ではレーザーを各配線基板領域102の境界110に沿ってレーザーが貫通孔112を移動する際に、貫通孔112の厚み方向に照射されるため、分割溝111の深さが貫通孔112に近いほど大きくなる領域が存在する。このため、配線基板領域102の貫通孔112に近い領域を除く境界110に設けられる分割溝111の深さが、母基板101の厚み方向において第１主面103から補助導体114までの深さよりも小さくなるように形成しても、配線基板領域102の貫通孔112に近い領域では分割溝111の深さが大きくなり、補助導体114が断線する可能性があった。そして、貫通孔112に内面導体が設けられていたとしても、内面導体（図示せず）の厚みが小さいためにレーザーで内面導体も断線され易い。よって、補助導体114が断線した場合、補助導体114、内面導体等を介して隣接する配線基板領域102間の導通経路を確保できない可能性があった。
【００２３】
しかし、図２に平面透視図として示したように、補助導体114が接続導体107と接続される側に設けられる幅広導体115と、接続導体107と接続されない側に設けられる幅狭導体116とを含んでおり、幅広導体115が隣接する配線基板領域102の境界110を跨いで設けられる構造としたことから、たとえ補助導体114にレーザーが照射されてもそのレーザーは幅広導体115に照射されることになり、幅広導体115が断線を抑制できるのに十分な幅を有することから、補助導体114の断線を抑制できる。なお、補助導体114が断線しなければ、たとえ内面導体が断線しても隣接する配線基板領域102間の導通経路が確保される。
【００２４】
また、母基板101においては、多数個取り配線基板に配列された各配線基板領域102間の配線導体を接続するための内面導体が第２主面104側の貫通孔112の内面に設けられており、図１（ｂ）に示したように、第１主面103側の分割溝111の深さが大きくなるように、また第２主面104側の分割溝111の深さが小さくなるように設ければ、内面導体へのレーザーが照射され難くなり、内面導体のレーザーによる断線を抑制することができる。
【００２５】
また、補助導体114は、接続導体107と接続される側に設けられる幅広導体115と、接続導体107と接続されない側に設けられる幅狭導体116とを含んでいることから、接続導体107と接続される側においては、補助導体114の幅広導体115と接続導体107との間隔（Ｗ１）を小さくできるため、導通を良好に行うことができるとともに、接続導体107と接続されない側においては、補助導体114の幅狭導体116と接続導体107との間隔（Ｗ２）を大きくできるため、絶縁を良好に行うことができるという相反する効果を、この補助導体114で得ることができる。つまり、従来のように補助導体（図示せず）を全周において同一の幅で形成した場合、レーザーにより分割溝111を形成する際の補助導体の断線を抑制するためには、補助導体の幅を大きくする必要があるが、電子部品収納用パッケージはさらに小型化が図られてきており、補助導体と搭載部106に近接して設けられた接続導体107との間隔が狭くなり、圧電振動素子等の電子部品105を接続導体107に接合材等により搭載する際に、接合材の流れ出し等により短絡する可能性があった。
【００２６】
しかし、図２に示したように、補助導体114が接続導体107と接続される側に設けられる幅広導体115と、接続導体107と接続されない側に設けられる幅狭導体116とを含んでいる構造としたことから、接続導体107と接続される側においては、補助導体114の幅広導体115により接続導体107と補助導体114との導通を良好に行うことができるとともに、接続導体107と接続されない側においては、補助導体114の幅狭導体116により接続導体107と補助導体114との絶縁を良好に行うことができる。
【００２７】
また、本実施形態の多数個取り配線基板は、貫通孔112が配線基板領域102の四隅に設けられている。このような構造としたことから、レーザーにより分割溝111を形成しても、補助導体114の断線を抑制しながら、配線基板領域102の四隅の貫通孔112の周囲に設けられた補助導体114を介して各配線基板領域102間を効率よく接続でき、電気めっきにより各配線基板領域102に露出した配線導体に良好に金属層を被着させることができる。つまり、多数個取り配線基板に配列された各配線基板領域102間が、図１（ａ）、（ｂ）で示したようにそれぞれの配線導体が、配線基板領域102の四隅の貫通孔112の周囲に設けられた補助導体114、貫通孔112の内面に設けられた内面導体、接続導体107等により一体的に接続されていることから、配線基板領域102の四隅を面取りすることを兼ねると同時に、貫通孔112の内面を各配線基板領域102間の接続手段に使用することができる。
【００２８】
各配線基板領域102の搭載部106に設けられた接続導体107から補助導体114、および図示しない貫通導体、または貫通孔112の内面導体を経て、各配線基板領域102の第２主面104に設けられる外部接続導体113にかけて接続され、電子部品105と外部電気回路（図示せず）とを電気的に接続するための導電経路の一部が形成されている。そして、例えば図１（ａ）、図２に示したように、各配線基板領域102の境界110、および各配線基板領域102と捨て代領域109との境界110における貫通孔112の周囲に設けられた補助導体114の幅（平面視における補助導体114の内周と、境界110を跨いで設けられる幅広導体115の外縁との距離）が従来の補助導体に比べて大きい。そのため、レーザーにより分割溝111を形成する際に補助導体114の一部が切断されても、幅広導体115の外縁側の領域が導通経路として確保される。
【００２９】
よって、電子部品収納用パッケージとなる配線基板領域102が小型化しても、配線基板領域102の四隅の貫通孔112の周囲に設けられた補助導体114を介して各配線基板領域102間を効率よく接続でき、電気めっきにより各配線基板領域102に露出した配線導体に良好にニッケルめっき層、金めっき層等の金属層を被着させることができるため、接続導体107と電子部品105との接続信頼性、および外部接続導体113と外部電気回路との接続信頼性を向上できる。
【００３０】
なお、配線基板200の大きさが、例えば1.2ｍｍ（長辺側の長さ）×1.0ｍｍ（短辺側の長さ）サイズであれば、各配線基板領域102の境界110、および各配線基板領域102と捨て代領域109との境界110における貫通孔112の大きさがφ0.10〜0.15ｍｍ程度であり、このような貫通孔112の周囲に設けられる補助導体114は、幅狭導体116の幅が0.03〜0.05ｍｍ程度、そして、幅広導体115の幅が0.6〜0.12ｍｍ程度である。そして、レーザーで補助導体114が切断されないように、断面視における分割溝111が貫通孔112の近傍で深く変化し始める領域と、貫通孔112の内面との水平方向の距離よりも大きくなるように、幅広導体115が設けられる。
【００３１】
また、本実施形態の多数個取り配線基板は、平面視において、配線基板領域102が矩形状であり、貫通孔112は、配線基板領域102の短辺側または長辺側に設けられている。このような構造としたことから、多数の接続導体107が設けられたり、配線基板200の四隅から接続導体107が離間している構造であっても、配線基板領域102の短辺側または長辺側において貫通孔112、および補助導体114の位置を自由に移動させて接続導体107の位置を適切に移動させることができる。
【００３２】
つまり、例えば補助導体114接続されると接続導体107を配線基板領域102の短辺側に設けたい場合、図３に示したように、配線基板領域102間の短辺側の中央に境界110を跨いで貫通孔112を設けておき、この貫通孔112の周囲に補助導体114を設けるとともに、補助導体114が接続導体107と接続される側に幅広導体115を設けておき、さらに接続導体107と接続されない側に設けられる幅狭導体116を設けておき、幅広導体115の両端が配線基板領域102の境界110を跨ぐように設ければよい。このような構造より、配線基板領域102の短辺側の境界110にレーザーで分割溝111を形成する際においても、補助導体114の断線を抑制しながら、配線基板領域102の各貫通孔112の周囲に設けられた補助導体114を介して、各配線基板領域102間を効率よく接続でき、電気めっきにより各配線基板領域102に露出した配線導体に良好に金属層を被着させることができる。
【００３３】
さらに、図３に示したように、補助導体114は接続導体107と接続される側に設けられる幅広導体115と、接続導体107と接続されない側に設けられる幅狭導体116とを含んでいることから、接続導体107と接続される側においては、補助導体114の幅広導体115と接続導体107との間隔を小さくできるため、接続導体107と幅広導体115との導通を良好に行うことができるとともに、接続導体107と接続されない側においては、補助導体114の幅狭導体116と接続導体107との間隔を大きくできるため、接続導体107と幅狭導体116との絶縁も良好に行うことができるという相反する効果を、この配線基板領域102の短辺側または長辺側に設けられた補助導体114において得ることができる。なお、図３では短辺側に１つの貫通孔112、および接続導体107が設けられた構造の配線基板領域102を示したが、短辺側または長辺側に、複数の貫通孔112および複数の接続導体107が設けられた構造でもよく、さらに短辺側と長辺側の両側に複数の貫通孔112、および複数の接続導体107が設けられた構造であってもよい。
【００３４】
また、レーザーにより分割溝111を形成する工程は、焼成後の母基板101で行ってもよいが、複数のセラミックシートの積層体の段階、つまり母基板101となる未焼成の積層体が好ましい。積層体の焼成前にレーザーで分割溝111を形成することによって加工性が良好であり、レーザーによる溶融物の付着を抑制することができる。具体的には、レーザーの種類として、ＵＶレーザー、グリーンレーザー、ＩＲレーザー等を用いればよい。レーザー加工時のレーザーの単位面積（レーザーが照射される部位における被加工物の表面の単位面積）あたりの出力が比較的小さく、これに応じて溶融物の発生量が少ない。この場合、焼結後の母基板101に比べて、焼成前のバインダー等の有機物が含まれる母基板101のほうがレーザーによる溶融物の除去が容易である。そのため、上記のように比較的小さいエネルギーのレーザーでも、良好な形状の分割溝111を形成することが可能となる。
【００３５】
また、本実施形態の多数個取り配線基板は、幅広導体115が第３主面108において搭載部106に露出して設けられている。このような構造としたことから、補助導体114が接続導体107と接続される側において、補助導体114の幅広導体115と接続導体107との間隔（Ｗ１）をより小さくでき、接続導体107と幅広導体115との導通をさらに良好に行うことができる。また、補助導体114は母基板101の厚み方向における基部117と枠部118との境界に設けられており、母基板101を製造する際、基部117と枠部118との積層時に加圧されて幅広導体115の厚みが薄くなっても、幅広導体115が第３主面108において搭載部106に露出して設けられていることから、導通経路の幅が確保されており接続導体107と幅広導体115との良好な導通状態を維持できる。
【００３６】
接続導体107、補助導体114は、セラミック絶縁層の基部117となるセラミックグリーンシートの上面に所定パターンで印刷しておくことにより形成することができる。金属ペーストは、例えば、焼成後の接続導体107、補助導体114の厚みが8〜12μｍ程度となるように、スクリーン印刷法等により形成される。そして、母基板101を製造する際、基部117となるセラミックグリーンシートと、枠部118となるセラミックグリーンシートを密着させて一体化するために積層時に加圧される。加圧された母基板101となる積層体は、母基板101の厚み方向における基部117と枠部118との境界に設けられた補助導体114が加圧されることにより、印刷時よりも幅広導体115の厚みが薄くなってしまう。しかし、このように幅広導体115が第３主面108において搭載部106に露出して設けられていれば、基部117と枠部118との境界における幅広導体115の幅が大きな構造となり、導通経路の幅を確保し易く、接続導体107と幅広導体115との良好な導通状態を維持できる。
【００３７】
また、本実施形態の多数個取り配線基板は、幅狭導体116が第３主面108において搭載部106に露出せず、第３主面108上に設けられた枠部118で覆われている。このような構造としたことから、補助導体114が接続導体107と接続される側に設けられる幅広導体115と、接続導体107と接続されない側に設けられ、第３主面108において搭載部106に露出せず、第３主面108上に設けられた枠部118で覆われている幅狭導体116とを含んでおり、接続導体107と補助導体114が接続される側においては、補助導体114の幅広導体115と接続導体107との間隔（Ｗ１）を小さくでき、接続導体107と幅広導体115との導通を良好に行うことができる。また、補助導体114が接続導体107と接続されない側においては、補助導体114の幅狭導体116と接続導体107との間隔（Ｗ２）をより大きくでき、さらに幅狭導体116の全てが枠部118で覆われた構造となる。
【００３８】
よって、接続導体107が幅広導体115と接続される側で、接続導体107と幅広導体115との導通を良好に行うことができるとともに、より効果的に圧電振動素子等の電子部品105を接続導体107に接合材等により搭載する際に、接合材の流れ出し等による短絡を抑制して接続導体107と幅狭導体116との絶縁をさらに良好に行うことができるという相反する効果を、この補助導体114で得ることができる。
【００３９】
このような多数個取り配線基板の１つの実施例を図４（ａ）、（ｂ）に示す。多数個取り配線基板は、幅狭導体116が第３主面108において搭載部106に露出せず、第３主面108上に設けられた枠部118（平面透視図で表示）で覆われている構造となっている。そして、各配線基板領域102において、補助導体114が接続導体107と接続される側に設けられる幅広導体115と、接続導体107と接続されない側に設けられ、第３主面108において搭載部106に露出せず、第３主面108上に設けられた枠部118で覆われている幅狭導体116とを含んでいる。
【００４０】
複数のセラミック絶縁層が積層されてなる母基板101（多数個取り配線基板）に、搭載部106を有する複数の配線基板領域102が縦横の並びに配列されており、この母基板101の上面（第１主面103）に、隣り合う配線基板領域102の境界110、または配線基板領域102と捨て代領域109の境界110に沿って、レーザーにより分割溝111が形成される。さらに、母基板101の下面（第２主面104）に、上面の分割溝111に対向するように配線基板領域102の境界110、または配線基板領域102と捨て代領域109の境界110に沿って、レーザーにより分割溝111が形成される。なお、母基板101においては、多数個取り配線基板に配列された各配線基板領域102間の配線導体を接続するための内面導体（図示せず）が第２主面104側の貫通孔112の内面に設けられており、図４（ｂ）に示したように、第１主面103側の分割溝111の深さが大きくなるように、また、第２主面104側の分割溝111の深さが小さくなるように設けることにより、内面導体へのレーザーが照射され難くなり、内面導体のレーザーによる断線を抑制することができる。
【００４１】
なお、幅狭導体116が第３主面108において搭載部106に露出せず、第３主面108上に設けられた枠部118で覆われている構造とするために、幅狭導体116の幅を小さくしても、接続導体107と接続される側に設けられ、隣接する配線基板領域102の境界110を跨いで設けられる幅広導体115の幅がしっかりと確保されていれば、たとえ幅が小さい幅狭導体116を含む補助導体114にレーザーが照射されてもそのレーザーは幅広導体115に照射されることなり、幅広導体115が断線を抑制できるのに十分な幅を有することから、補助導体114の断線を抑制できる。
【００４２】
つまり、図４（ａ）、（ｂ）で示したように、母基板101の上面（第１主面103）に、配線基板領域102の境界110に沿ってレーザーにより分割溝111が形成される場合、貫通孔112の表面付近では配線基板領域102の境界110に沿ってレーザーが貫通孔112を移動する際に、レーザーが貫通孔112の厚み方向に照射されるため、分割溝111の深さが貫通孔112に近いほど深く変化する領域が存在する。このため、配線基板領域102の貫通孔112に近い領域を除く境界110に設けられる分割溝111が、母基板101の厚み方向において第１主面103から補助導体114までの深さよりも小さくなるように形成されても、配線基板領域102の貫通孔112に近い領域では分割溝111の深さが第１主面103から補助導体114までの深さよりも大きくなってしまう。しかし、このように幅広導体115が断線を抑制できるのに十分な幅を有しているため、平面視において補助導体114の幅広導体115の貫通孔112側がレーザーにより切断された場合でも、幅広導体115の切断されていない部分で隣接する配線基板領域102間の補助導体114が一体的に接続された構造が維持されるため、補助導体114の断線を抑制できる。
【００４３】
ここで、例えば図５で示したように、幅広導体115の形状を幅広導体115の両端部を境界110に沿って直線状とした例を示したが、例えば幅広導体115の両端部において、近接する分割溝111の外縁の延長（Ｌ１）に沿った形状、つまり、幅広導体115の外縁と幅狭導体116の外縁を結ぶ線を、近接する分割溝111の外縁の延長（Ｌ１）に沿った形状とすれば、分割溝111の外縁と幅広導体115との間に導体の極小幅部が形成されず、幅広導体115の切断されない部分の幅をより大きく残すことができるため、隣接する配線基板領域102間の補助導体114が一体的に接続された構造がより確実に維持される。よって、補助導体114の断線をより一層効果的に抑制できる。なお、幅広導体115の両端部における分割溝111の外縁に沿った形状は、直線状だけでなく、湾曲状としてもかまわない。
【００４４】
本実施形態の電子部品収納用パッケージ（配線基板200）は、絶縁基板201を含み、第１主面103および第１主面103に相対する第２主面104と、第１主面103と第２主面104との間に設けられ、電子部品105が搭載される搭載部106、および電子部品105が接続される接続導体107が設けられる第３主面108と、絶縁基板201の外縁において、第１主面103から第２主面104にかけて設けられ、第１切欠き部205および第２切欠き部206を含む切欠き部204と、第２主面104において、絶縁基板201に設けられた複数の外部接続導体113とを備えており、第３主面108において、切欠き部204の内面に幅広導体115と幅狭導体116とを含む補助導体114が設けられており、第１切欠き部205の近傍で、接続導体107と接続される領域に、幅広導体115が設けられており、第２切欠き部206の近傍で、接続導体107と接続されない領域に、補助導体114が幅狭導体116および幅広導体115の両方が設けられている。
【００４５】
このような構造としたことから、導通経路を幅広導体115で確保しながら、幅狭導体116と接続導体107との間隔（Ｗ２）を大きくでき、電気めっきにより露出する配線導体に金属層を良好に被着させることができるとともに、補助導体114に接続されない接続導体107との短絡を抑制できる電子部品収納用パッケージを提供できる。つまり、電子部品収納用パッケージ200を製造するために、レーザーによって母基板101に分割溝111を設ける際、切欠き部204となる貫通孔112の近傍においてレーザーが貫通孔112の露出した内面にも照射されて深溝部が形成されても、切欠き部204の内面に幅広導体115と幅狭導体116とを含む補助導体114が設けられており、導通経路を幅広導体115で確保しながら、電気めっきにより露出する配線導体に金属層を良好に被着させることができるとともに、補助導体114に接続されない接続導体107との短絡を抑制できる。
【００４６】
電子部品収納用パッケージ200は、基部117と基部117上に積層された枠部118とを有しており、補助導体114は、基部117と枠部118が積層される領域に設けられている。補助導体114は、焼成後の補助導体114の厚みが8〜12μｍ程度となるように、スクリーン印刷法等により形成される。そして、電子部品収納用パッケージ200が配列された母基板101を製造する際に、基部117となるセラミックグリーンシートと、枠部118となるセラミックグリーンシートを密着させて一体化するために積層時に加圧される。このため、加圧された母基板101となる積層体は、母基板101の厚み方向における基部117と枠部118との境界に設けられた補助導体114も加圧されることから、印刷時よりも補助導体114の厚みが薄くなると同時に、当初の補助導体114の設計寸法よりも拡がる傾向にあった。
【００４７】
しかしながら、このように切欠き部204の内面に幅広導体115と幅狭導体116とを含む補助導体114が設けられており、第１切欠き部205の近傍で、接続導体107と接続される領域に、幅広導体115が設けられており、第２切欠き部206の近傍で、接続導体107と接続されない領域に、補助導体114が幅狭導体116および幅広導体115の両方が設けられている構造により、積層時に加圧されても幅広導体115を構成している導体の幅が大きく、加圧により補助導体114の厚みが薄くなっても、導通経路を幅広導体115で確保できる。また、幅狭導体116を構成している導体の幅が小さく、加圧により補助導体114が接続配線導体107側に拡がっても、幅狭導体116と接続導体107との間隔（Ｗ２）を確保できる。
【００４８】
このような電子部品収納用パッケージ200となる配線基板の一例を、図６に平面透視図、および断面透視図で示した。この例では、絶縁基体201の第３主面108に設けられた搭載部106には、短辺側に沿って一対の接続導体107が設けられており、この一対の接続導体107に導電性接着剤等の接合材により水晶振動素子、半導体素子等の電子部品105が接続されて収容された後、搭載部106が枠部118の上面（第１主面103）に、平面視で搭載部106を取り囲んで設けられた枠状メタライズ層202に、蓋体203がろう材等により接合されて気密封止される。すなわち、蓋体203の下面にあらかじめろう材が一体化されて設けられており、枠状メタライズ層202上に金属からなる蓋体203を載置して、熱処理することで蓋体203が接合されて搭載部106が気密封止される。
【００４９】
なお、絶縁基体201の上面にあらかじめろう付け等の方法で接合された金属枠体（図示せず）に金属からなる蓋体203を載置して、この蓋体203の外周縁にシーム溶接機の一対のローラー電極を接触させながら転動させるとともに、このローラー電極間に溶接のための大電流を流し、この抵抗発熱により、ローラー電極と蓋体203との接触部を高温とし、この熱によって金属枠体に蓋体203をシーム溶接することによって、気密封止を行う方法を採用した電子部品収納用パッケージ200であってもよい。
【００５０】
本実施形態の電子装置300は、上記記載の電子部品収納用パッケージ200と、電子部品収納用パッケージ200に搭載された電子部品105とを有している。このような構造により、電子部品収納用パッケージ200が小型化しても、接続導体107と補助導体114との導電性の低下、断線を抑制でき、電気めっきによる各配線導体への金属層の被着性、および電子部品105との接続信頼性に優れた電子装置300を提供できる。つまり、幅広導体115と接続導体107との間隔（Ｗ１）を小さくできるため、導通経路を幅広導体115で確保されるため、電子部品収納用パッケージ200が配列された母基板101を製造する際に、各電子部品収納用パッケージ200の露出する配線導体に、電気めっきにより金属層が良好に被着されており、電子部品105と接続導体107、および外部接続導体113と電子装置300が実装される回路基板（図示せず）の接続パッド等との電気的接続性に優れた電子装置300を提供できる。
【００５１】
また、幅狭導体116と接続導体107との間隔（Ｗ２）が大きく、例えば圧電振動素子等の電子部品105を接続導体107に接合材等により搭載する際に、短絡する可能性を低減できる。なお、幅狭導体116が第３主面108において搭載部106に露出せず、第３主面108上に設けられた枠部118で覆われている電子部品収納用パッケージ200を用いれば、さらに効果的に短絡が抑制され、接続信頼性に優れた電子装置300を提供できる。
【００５２】
なお、本開示の多数個取り配線基板（母基板101）、電子部品収納用パッケージ200、および電子装置300は、以上の実施の形態の例に限定されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えても何ら差し支えない。例えば、上記実施形態の例において、２層からなる絶縁層により凹状の搭載部106が設けられた配線基板領域102が配列された母基板101としたが、３層以上の絶縁層からなる母基板101としてもよく、また凹部が設けられない平板状の配線基板（図示せず）が配列された母基板101で構成してもよい。また、母基板101に配列された配線基板領域102の外縁に設けられた貫通孔112の形状を円形状としたが、楕円状、長孔状、その他の形状としてもよい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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