(57)【要約】  いわゆる電磁波干渉型の電磁波吸収シートであって、所望する周波数帯域の電磁波を、シート面に対して垂直方向に入射するものに限らず広い入射角度幅で入射した電磁波を良好に吸収することができる低コストの電磁波吸収シートを実現する。電磁波吸収シートであって、抵抗皮膜１と、誘電体層２と、電磁波遮蔽層３とが積層して形成され、前記抵抗皮膜が、導電性有機高分子により形成されており、その表面抵抗値が３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下である。
2019054378.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波吸収シートであって、
抵抗皮膜と、誘電体層と、電磁波遮蔽層とが積層して形成され、
前記抵抗皮膜が、導電性有機高分子により形成されており、その表面抵抗値が３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下であることを特徴とする、電磁波吸収シート。
【請求項２】
前記抵抗皮膜の表面抵抗値が、３１０Ω／□以上３４５Ω／□以下、または、４２０Ω／□以上５００Ω／□以下である、請求項１に記載の電磁波吸収シート。
【請求項３】
前記抵抗皮膜と、前記誘電体層と、前記電磁波遮蔽層とがいずれも透光性を有し、シート全体として透光性を有する、請求項１または２に記載の電磁波吸収シート。
【請求項４】
前記抵抗皮膜に、ポリ（３、４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリスチレンスルホン酸、ポリフッ化ビニリデンを含む、請求項１〜３のいずれかに記載の電磁波吸収シート。
【請求項５】
前記抵抗皮膜に、さらに水溶性ポリエステルを含む、請求項４に記載の電磁波吸収シート。
【請求項６】
前記誘電体層がミリ波帯域以上の高周波数帯域の電磁波を吸収可能な層厚に設定されている、請求項１〜５のいずれかに記載の電磁波吸収シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、可撓性を有する電磁波吸収シート、特に、数十ギガヘルツ（ＧＨｚ）から数百ギガヘルツ（ＧＨｚ）のいわゆるミリ波帯域以上の電磁波を吸収可能な電磁波吸収シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
電気回路などから外部へと放出される漏洩電磁波や、不所望に反射した電磁波の影響を回避するために、電磁波を吸収する電磁波吸収シートが用いられている。【０００３】
近年は、携帯電話などの移動体通信や無線ＬＡＮ、料金自動収受システム（ＥＴＣ）などで、数ギガヘルツ（ＧＨｚ）の周波数帯域を持つセンチメートル波、さらには、３０ギガヘルツから３００ギガヘルツの周波数を有するミリ波帯、ミリ波帯域を超えた高い周波数帯域の電磁波として、１テラヘルツ（ＴＨｚ）の周波数を有する電磁波を利用する技術の研究も進んでいる。【０００４】
このようなより高い周波数の電磁波を利用する技術トレンドに対応して、不要な電磁波を吸収する電磁波吸収体や可撓性を有することからユーザの利便性が向上されるシート状の電磁波吸収体である電磁波吸収シートにおいても、ミリ波帯域からそれ以上の帯域の電磁波を吸収可能とするものへの要望は、より高くなることが考えられる。【０００５】
このような電磁波吸収シートとして、誘電体層の一方の表面に抵抗皮膜を、他方の表面に電磁波を反射する電磁波遮蔽層とが形成され、反射波の位相を入射波に対して１／２波長分ずらすことで電磁波吸収シートへの入射波と反射波とが打ち消し合って電磁波を吸収する、いわゆる電磁波干渉型（λ／４型）の電磁波吸収シートが知られている。電磁波干渉型の電磁波吸収シートは、比重の大きな磁性体粒子によって磁気的に電磁波を吸収する電磁波吸収シートなどと比べて軽量であり、容易に製造することができるため低コスト化が可能という利点を有している。【０００６】
従来、いわゆる電磁波干渉型の電磁波吸収シート（電磁波吸収体）では、誘電体層の表面に形成される抵抗皮膜として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの金属酸化物、金属窒化物ないしはこれらの混合体を、イオンプレーティング法、蒸着法、スパッタリング法などによって形成したものが知られている（特許文献１、特許文献２参照）。【０００７】
また、電磁波干渉型の電磁波吸収体として、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）膜などの透明導電体の抵抗層と、ガラス、アクリル樹脂などの透明な誘電体層と、この誘電体層に形成された、銀、金、銅、アルミなどの金属からなる反射膜とを備えた、難燃性と透光性とを有する電磁波吸収体が提案されている（特許文献３参照）。【０００８】
なお、電磁波干渉型の電磁波吸収シートにおいて、良好な電磁波吸収特性を得るためには誘電体層の入力インピーダンスを空気中（真空）のインピーダンスと一致させるインピーダンス整合を行うことが重要であるが、抵抗層の抵抗値はその厚みによって異なる値となるため、正確なインピーダンス整合を行うためには厳密な厚みの制御が必要となる。また、電磁波吸収シートに入射する電磁波の角度によって抵抗層の実効厚さが変化する。このような課題を解決し、誘電体層の厚みの精度や電磁波の入射角度に影響されずに目的とする周波数の電磁波に対する良好な吸収特性を得るために、誘電体層を誘電率が異なる２層の誘電体層の積層構成とし、２つの誘電体層の境界面にドーム形状の凹凸を設けた構成とすることが提案されている（特許文献４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平０６−１２０６８９号公報
【特許文献２】特開平０９−２３２７８７号公報
【特許文献３】特開２００６−０８６４４６号公報
【特許文献４】特開２００８−１３５４８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
電磁波干渉型の電磁波吸収シートでは、吸収する電磁波が高周波となるにしたがって誘電体層の厚さが薄くなるため、より高い可撓性を有するようになる。より薄く、容易に湾曲させることができる電磁波吸収シートは、貼付可能な場所が広がって使用者の利便性が向上するが、使用者に強く曲げられてしまう機会が増える。このような電磁波吸収シートにおいて、スパッタリング法などによって形成された金属酸化膜などによる抵抗皮膜は、強く曲げられることでひびが入りやすく、抵抗皮膜にひびが入るとその表面抵抗値が大きくなってインピーダンス整合が崩れてしまい、電磁波吸収特性が低下するという問題があった。
また、電磁波吸収シートに入射する電磁波の入射角度による影響を低減するために、誘電体層を２層構成とすることや誘電体層の表面を凹凸形状とすることは、電磁波吸収シートのコスト高に繋がってしまう。【００１１】
本開示は、上記従来の課題を解決し、いわゆる電磁波干渉型の電磁波吸収シートであって、所望する周波数帯域の電磁波を、シート面に対して垂直方向に入射するものに限らず広い入射角度幅で入射した電磁波を良好に吸収することができる低コストの電磁波吸収シートを実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため本願で開示する電磁波吸収シートは、抵抗皮膜と、誘電体層と、電磁波遮蔽層とが積層して形成され、前記抵抗皮膜が、導電性有機高分子により形成されており、その表面抵抗値が３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本願で開示する電磁波吸収シートは、抵抗皮膜が導電性有機高分子によって形成されているため、シートが強く曲げられた場合でも抵抗皮膜にひび割れなどが生じず、インピーダンス整合を維持して高い電磁波吸収特性を保ち続けることができる。また、抵抗皮膜の表面抵抗値を所定の範囲とすることで、広い入射角度幅でシート面に入射する電磁波に対して、２０ｄＢ以上の高い電磁波吸収特性を発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態にかかる電磁波吸収シートの構成を説明する断面図である。
【図２】本実施形態にかかる電磁波吸収シートに電磁波が入射角度αで入射した状態を説明する断面図である。
【図３】抵抗皮膜の表面抵抗値を異ならせた電磁波吸収シートにおける、電磁波吸収特性を示す図である。
【図４】反射減衰量を２０ｄＢ以上とすることができる入射角度幅と抵抗皮膜の表面抵抗値との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本願で開示する電磁波吸収シートは、抵抗皮膜と、誘電体層と、電磁波遮蔽層とが積層して形成され、前記抵抗皮膜が、導電性有機高分子により形成されており、その表面抵抗値が３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下である。
【００１６】
このようにすることで、本願で開示する電磁波吸収シートは、抵抗皮膜と誘電体層と電磁波遮蔽層とが積層して形成された電磁波干渉型の電磁波吸収シートとして、強く湾曲された場合でも抵抗皮膜にひび割れなどが生じにくく、インピーダンス整合を維持して高い電磁波吸収特性を発揮することができる。また、抵抗皮膜の表面抵抗値を所定の範囲とすることで、電磁波吸収シートの構成を複雑化させることなく、反射減衰量が２０ｄＢ以上の高い電磁波吸収特性を、入射角度幅が４０度までの範囲で発揮する電磁波吸収シートを低コストで実現することができる。
【００１７】
さらに、前記抵抗皮膜の表面抵抗値が、３１０Ω／□以上３４５Ω／□以下、または、４２０Ω／□以上５００Ω／□以下であることが好ましい。抵抗被膜の表面抵抗値をより制限することで、反射減衰量が２０ｄＢ以上の高い電磁波吸収特性を入射角度幅が５０度までの範囲で実現する電磁波吸収シートとすることができる。
【００１８】
また、前記抵抗皮膜と、前記誘電体層と、前記電磁波遮蔽層とがいずれも透光性を有し、シート全体として透光性を有することが好ましい。このようにすると、電磁波吸収シートの透光性を活かして、電磁波吸収シートをカーテンのように使用して、外部からの光を取り入れつつ不要な電磁波を遮蔽するというような新たな用途展開が期待できる。
【００１９】
例えば、電磁波の強度を測定する機器やノイズを発生する機器を、透光性を有する電磁波吸収シートを貼り付けた透光性ケースの内部に入れることで、外部から観察できるようにすることができる。
【００２０】
本願で開示する電磁波吸収シートにおいて、前記抵抗皮膜に、ポリ（３、４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）を含むことが好ましい。このようにすることで、所望の表面抵抗値を備えた表面皮膜を容易に得ることができる。
【００２１】
この場合において、前記抵抗皮膜に、さらに水溶性ポリエステルを含むことが好ましい。このようにすることで、抵抗皮膜自体の耐候性を高め、表面抵抗値が安定した信頼性の高い電磁波吸収シートを実現することができる。
【００２２】
さらに、本願で開示する電磁波吸収シートにおいて、前記誘電体層がミリ波帯域以上の高周波数帯域の電磁波吸収可能な層厚に設定されていることが好ましい。このようにすることで、高い可撓性を備え、吸収可能な電磁波の入射角が大きい、ミリ波帯域以上の電磁波を吸収できる電磁波吸収シートを実現することができる。
【００２３】
以下、本願で開示する電磁波吸収シートについて、図面を参照して説明する。
【００２４】
（実施の形態）
まず、本実施形態にかかる電磁波吸収シートの全体構成について説明する。なお、以下では、電磁波吸収シートを構成する抵抗被膜と、誘電体層と、電磁波遮蔽層とがいずれも透光性を有する部材で形成されていることで、電磁波吸収シート全体として透光性を備えたものを例示する。本実施形態で説明する電磁波吸収シートでは、透光性の目安を、全光線透過率が３０％以上、ヘイズ値が４０以下としている。
【００２５】
図１は、本実施形態にかかる電磁波吸収シートの構成を示す断面図である。
【００２６】
なお、図１は、本実施形態にかかる電磁波吸収シートの構成を理解しやすくするために記載された図であり、図中に示された部材の大きさや厚みについて現実に即して表されたものではない。
【００２７】
本実施形態で例示する電磁波吸収シートは、抵抗皮膜１、誘電体層２、電磁波遮蔽層３が積層されて形成されている。なお、図１に示す電磁波吸収シートでは、電磁波遮蔽層３の背面側、すなわち、電磁波遮蔽層３において誘電体層２が配置されている側とは反対側の表面には、接着層４が積層形成されている。また、抵抗皮膜１の前面側、すなわち、抵抗皮膜１において誘電体層２が配置されている側とは反対側の表面には、保護層５が積層形成されている。
【００２８】
本実施形態にかかる電磁波吸収シートは、誘電体層２に入射した電磁波１１が、誘電体層２の背面側に配置されている電磁波遮蔽層３と誘電体層２との界面で反射されて、反射波１２として再び外部へと放出される。このとき、誘電体層２の厚さｄを、入射した電磁波の波長の１／４とする（ｄ＝λ／４）ことで、入射波１１の位相１１ａと反射波１２の位相１２ａとが打ち消し合って電磁波吸収シートに入射した電磁波を吸収する。
【００２９】
なお、ｄ＝λ／４となるのは、誘電体層２として空気（誘電率ε＝１）が用いられる場合であり、誘電体層２に用いられる誘電体の誘電率がεrである場合には、ｄ＝１／４（εr）-1/2となって誘電体層２の厚さｄを、（εr）-1/2だけ薄くすることができる。誘電体層２を薄く形成することで、電磁波吸収シート全体の薄型化を実現でき、より可撓性に優れた電磁波吸収シートを実現することができる。
【００３０】
誘電体層２の背面側に積層して形成される電磁波遮蔽層３は、誘電体層２との境界面である誘電体層２側の表面で、入射してきた電磁波を反射する層である。
【００３１】
本実施形態にかかる、電磁波干渉型の電磁波吸収シートにおける電磁波吸収の原理から、電磁波遮蔽層３は電磁波を反射する反射層として機能することが必要である。また、電磁波遮蔽層として可撓性と透光性とを備えることが必要である。このような要求に対応できる電磁波遮蔽層３としては、導電性の繊維により構成された導電性メッシュや、極細線の金属などの導電性ワイヤーにより構成された導電性格子を用いることができる。
【００３２】
抵抗皮膜１は、誘電体層２の前面側、すなわち誘電体層２の電磁波遮蔽層３が積層されている側とは反対の側の吸収される電磁波が入射する側に形成され、電磁波吸収シートと空気との間のインピーダンス整合を行う。
【００３３】
空気中を伝搬してきた電磁波が電磁波吸収シートに入射する際、電磁波吸収シートの入力インピーダンス値を空気中のインピーダンス値（実際には真空のインピーダンス値）である３７７Ω／□と異ならないようにすることで、電磁波吸収シートへの電磁波の入射時に電磁波の反射・散乱が生じて電磁波吸収特性が低下することを防ぐことが重要となる。本実施形態の電磁波吸収シートでは、抵抗皮膜１を導電性有機高分子の膜として形成することで、電磁波吸収シートとしての可撓性を確保するとともに、電磁波吸収シートが強く折り曲げられた場合でも抵抗皮膜１のひび割れなどが生じず、表面抵抗値が変化せずに良好なインピーダンス整合を維持することができる。
【００３４】
接着層４は、電磁波吸収シートを所定の場所に容易に貼り付けることができるように、電磁波遮蔽層３の背面側に形成される層である。接着層４は、粘着性の樹脂ペーストを塗布することで容易に形成できる。
【００３５】
なお、接着層４は、本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて必須の部材ではない。電磁波吸収シートを所定の場所に配置するに当たっては、電磁波吸収シートが貼り付けられる部材側に接着のための部材が配置されていてもよく、また、電磁波吸収シートを所定の場所に配置する際に、電磁波吸収シートと配置場所との間に接着剤を供給する、または、両面テープを用いるなどの接着方法を採用することができる。
【００３６】
保護層５は、抵抗皮膜１の表面、すなわち、電磁波吸収シートにおいて電磁波が入射する側の最表面に形成され、抵抗皮膜１を保護する部材である。
【００３７】
本実施形態の電磁波吸収シートの抵抗皮膜１を形成する導電性有機高分子は、表面に水分が付着するとその表面抵抗値が変化する場合がある。また、樹脂製の膜であるために、表面に尖った部材が接触した場合や、硬い材質のもので擦られた場合には、傷が付く畏れがある。このため、抵抗皮膜１の表面を保護層５で覆って抵抗皮膜１を保護することが好ましい。
【００３８】
なお、保護層５は、本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて必須の構成要件ではなく、導電性有機高分子の材料によって、表面への水分の付着に伴う表面抵抗値の変化や抵抗皮膜１の表面が傷つくことへの懸念が小さい場合には、保護層５がない電磁波吸収シートの構成を選択可能である。
【００３９】
また、保護層５としては、後述のようにポリエチレンテレフタレートなどの樹脂材料を用いることができる。保護層５として用いられる樹脂材料は一定の抵抗値を有するが、保護層５の膜厚を薄く設定することで、保護層５の有無による電磁波吸収シートの表面抵抗値への影響を実用上問題ないレベルとすることができる。
【００４０】
次に、本実施形態にかかる電磁波吸収シートを構成する各部材について詳述する。
【００４１】
［抵抗皮膜］
本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて、抵抗皮膜１は、導電性有機高分子で構成される。
【００４２】
導電性有機高分子としては、共役導電性有機高分子が用いられ、ポリチオフェンやその誘導体、ポリピロールやその誘導体を用いることが好ましい。
【００４３】
本実施形態にかかる電磁波吸収シートの抵抗皮膜１に用いられることが好適なポリチオフェン系導電性高分子の具体例としては、ポリ（チオフェン）、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−エチルチオフェン）、ポリ（３−プロピルチオフェン）、ポリ（３−ブチルチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルチオフェン）、ポリ（３−オクチルチオフェン）、ポリ（３−デシルチオフェン）、ポリ（３−ドデシルチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルチオフェン）、ポリ（３−ブロモチオフェン）、ポリ（３−クロロチオフェン）、ポリ（３−ヨードチオフェン）、ポリ（３−シアノチオフェン）、ポリ（３−フェニルチオフェン）、ポリ（３，４−ジメチルチオフェン）、ポリ（３，４−ジブチルチオフェン）、ポリ（３−ヒドロキシチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３−エトキシチオフェン）、ポリ（３−ブトキシチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクチルオキシチオフェン）、ポリ（３−デシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヒドロキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジメトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジエトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジプロポキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジブトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジオクチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−プロピレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ブテンジオキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−メトキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−エトキシチオフェン）、ポリ（３−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルチオフェン）等が挙げられる。
【００４４】
また、抵抗皮膜１に用いられることが好適なポリピロール系導電性高分子の具体例としては、ポリピロール、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルピロール）、ポリ（３−エチルピロール）、ポリ（３−ｎ−プロピルピロール）、ポリ（３−ブチルピロール）、ポリ（３−オクチルピロール）、ポリ（３−デシルピロール）、ポリ（３−ドデシルピロール）、ポリ（３，４−ジメチルピロール）、ポリ（３，４−ジブチルピロール）、ポリ（３−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルピロール）、ポリ（３−ヒドロキシピロール）、ポリ（３−メトキシピロール）、ポリ（３−エトキシピロール）、ポリ（３−ブトキシピロール）、ポリ（３−ヘキシルオキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）等が挙げられる。
【００４５】
この他にも、抵抗皮膜１としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子を使用することができ、ポリアセチレン系導電性高分子、ポリフェニレン系導電性高分子、ポリフェニレンビニレン系導電性高分子、ポリアニリン系導電性高分子、ポリアセン系導電性高分子、ポリチオフェンビニレン系導電性高分子、および、これらの共重合体等を用いることができる。
【００４６】
なお、抵抗皮膜に用いられる導電性有機高分子として、ポリアニオンをカウンターアニオンとして用いることができる。ポリアニオンとしては特に限定されないが、上述した抵抗皮膜に用いられる共役導電性有機高分子に、化学酸化ドープを生じさせることができるアニオン基を含有するものが好ましい。このようなアニオン基としては、例えば、一般式−Ｏ−ＳＯ3Ｘ、−Ｏ−ＰＯ（ＯＸ）2、−ＣＯＯＸ、−ＳＯ3Ｘで表される基等（各式中、Ｘは水素原子またはアルカリ金属原子を示す。）が挙げられ、中でも、共役導電性有機高分子へのドープ効果に優れることから、−ＳＯ3Ｘ、および、−Ｏ−ＳＯ3Ｘで表される基が特に好ましい。
【００４７】
上記導電性有機高分子は、１種を単独で使用してもよいし２種以上を併用してもよい。上記例示した材料の中でも、透明性と導電性とがより高くなることから、ポリピロール、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（２−アニリンスルホン酸）、ポリ（３−アニリンスルホン酸）から選ばれる１種または２種からなる重合体が好ましい。
【００４８】
特に、共役系の導電性有機高分子とポリアニオンの組み合わせとしては、ポリ（３、４−エチレンジオキシチオフェン：ＰＥＤＯＴ）と、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を用いることが好ましい。
【００４９】
また、本実施形態にかかる抵抗皮膜１においては、導電性有機高分子の電気伝導度を制御して、電磁波吸収シートの入力インピーダンスを空気中のインピーダンス値と整合させるために、ドーパントを併用することができる。ドーパントとしては、ヨウ素、塩素等のハロゲン類、ＢＦ3、ＰＦ5等のルイス酸類、硝酸、硫酸等のプロトン酸類や、遷移金属、アルカリ金属、アミノ酸、核酸、界面活性剤、色素、クロラニル、テトラシアノエチレン、ＴＣＮＱ等が使用できる。より具体的には、抵抗皮膜１の表面抵抗値を３７７Ω／□に対してプラス／マイナス数％程度の値にすることが好ましく、このとき、導電性有機高分子とドーパントとの配合割合は、一例として質量比で導電性高分子：ドーパント＝１：２〜１：４とすることができる。
【００５０】
さらに、抵抗皮膜１を形成する材料としては、他にポリフッ化ビニリデン、水溶性ポリエステルを含むことが好ましい。これらを含むことで、抵抗皮膜１の耐候性が向上するため、抵抗皮膜１の表面抵抗値の経時的な変化が抑えられて、安定した電磁波吸収特性を維持することができる信頼性の高い電磁波吸収シートを実現することができる。
【００５１】
ポリフッ化ビニリデンは、導電性有機高分子をコーティングする際の組成物に加えることで、導電性有機高分子膜の中でバインダーとしての機能を果たし、成膜性を向上させるとともに基材との密着性を高めることができる。
【００５２】
また、水溶性ポリエステルは導電性高分子との相溶性が高いため、抵抗皮膜１を形成する導電性有機高分子のコーティング組成物に水溶性ポリエステルを加えることで抵抗皮膜１内において導電性高分子を固定化させ、より均質な皮膜を形成することができる。この結果、水溶性ポリエステルを用いることで、より厳しい高温高湿環境下におかれた場合でも表面抵抗値の変化が小さくなり、空気中のインピーダンス値とのインピーダンス整合がなされた状態を維持することができる。
【００５３】
抵抗皮膜１における導電性有機高分子の含有量は、抵抗皮膜１組成物に含まれる固形分の全質量に対して、１０質量％以上３５質量％以下であることが好ましい。含有量が１０質量％を下回ると、抵抗皮膜１の導電性が低下する傾向にある。このため、インピーダンス整合をとるために抵抗皮膜１の表面電気抵抗値を所定の範囲とした結果、抵抗皮膜１の膜厚が大きくなることによって、電磁波吸収シート全体が厚くなったり光学特性が低下したりする傾向がある。一方、含有量が３５質量％を超えると、導電性有機高分子の構造に起因して抵抗皮膜１をコーティングする際の塗布適正が低下して、良好な抵抗皮膜１を形成しづらくなり、抵抗皮膜１のヘイズが上昇して、やはり光学特性が低下する傾向にある。
【００５４】
なお、抵抗皮膜１は、上述のように抵抗皮膜の形成用塗料としてのコーティング組成物を基材の上に塗布して乾燥することにより形成することができる。
【００５５】
抵抗皮膜形成用塗料を基材の上に塗布する方法としては、例えば、バーコート法、リバース法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法、ディッピング法、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法等の塗布方法を用いることができる。塗布後の乾燥は、抵抗皮膜形成用塗料の溶媒成分が蒸発する条件であればよく、１００〜１５０℃で５〜６０分間行うことが好ましい。溶媒が抵抗皮膜１に残っていると強度が劣る傾向にある。乾燥方法としては、例えば、熱風乾燥法、加熱乾燥法、真空乾燥法、自然乾燥等により行うことができる。また、必要に応じて、塗膜にＵＶ光（紫外線）やＥＢ（電子線）を照射して塗膜を硬化させることで抵抗皮膜１を形成してもよい。
【００５６】
なお、抵抗皮膜１を形成するために用いられる基材としては特に限定されないが、透明性を有する透明基材が好ましい。このような透明基材の材質としては、例えば、樹脂、ゴム、ガラス、セラミックス等の種々のものが使用できる。
【００５７】
本実施形態にかかる電磁波吸収シートでは、上述した導電性有機高分子を用いて表面抵抗値が３７７Ω／□の抵抗皮膜１を構成することで、電磁波吸収シートに入射する電磁波に対して空気中のインピーダンスと整合させることができ、電磁波吸収シート表面での電磁波の反射や散乱を低下させてより良好な電磁波吸収特性を得ることができる。
【００５８】
［誘電体層］
本実施形態にかかる電磁波吸収シートの誘電体層２は、ポリフッ化ビニリデン、ポリエステル樹脂、ガラス、透明なシリコーンゴム、透明なフッ素樹脂フィルム、ＯＣＡ（光学的に透明な粘着剤）、ＯＣＲ（光学的に透明な樹脂）などの誘電体で形成することができる。なお、誘電体層２は、１種の材料で１層の構成として形成することができ、また、同種、異種の材料を２層以上積層した構成とすることもできる。誘電体層２の形成には、塗布法やプレス成型法、押出成型法などを用いることができる。
【００５９】
上述のように、本実施形態にかかる電磁波吸収シートは、電磁波吸収シートに入射した電磁波と電磁波遮蔽層で反射された反射波との位相を１／２波長ずらすことで、入射波と反射波とが打ち消し合って電磁波を吸収する電磁波干渉型（λ／４型）の電磁波吸収シートである。このため、誘電体層の厚さ（図１におけるｄ）は、吸収しようとする電磁波の波長に対応して定められる。
【００６０】
なお、ｄの値は、抵抗皮膜１と電磁波遮蔽層３との間が空間となっている場合、すなわち、誘電体層２が空気で形成されている場合は、ｄ＝λ／４が成り立つが、誘電体層２を誘電率εｒの材料で形成した場合には、ｄ＝λ／４（εｒ）-1/2となるため、誘電体層２を構成する材料として、材料自体が有する誘電率が大きなものを用いることで誘電体層２の厚さｄの値を、（εｒ）-1/2小さくすることができ、電磁波吸収シート全体の厚さも低減することができる。本実施形態にかかる電磁波吸収シートは、可撓性を有するものであることから、電磁波吸収シートを構成する誘電体層２や電磁波吸収シート自体の厚さが小さいほど容易に湾曲させることができてより好ましい。また、本実施形態にかかる電磁波吸収シートが、後述する接着層４などを介して電磁波漏洩を防ぎたい部材に貼着して使用されることが多いことを考慮すると、電磁波吸収シートの厚みが薄く容易に貼着部分の形状に沿うこと、また、シートがより軽量化されていることが好ましい。
【００６１】
なお、電磁波遮蔽層３から、λ／４離れた位置に抵抗皮膜１を配置する場合に比べ、電磁波遮蔽層３と抵抗皮膜１との間に誘電率εｒを有する誘電体層２を用いると厚みｄを、ｄ＝λ／４（εｒ）-1/2とすることができ、誘電体層２の厚さを薄くすることができる。このように、誘電率εｒの値や、誘電体層２の厚みを調整することで、当該誘電体層２を備えた電磁波吸収シートで吸収する電磁波の波長を制御することができる。
【００６２】
［電磁波遮蔽層］
本実施形態にかかる電磁波吸収シートの電磁波遮蔽層３は、誘電体層２を介して電磁波吸収シートの反対側に配置された、表面皮膜１から入射した電磁波を反射させる部材である。
【００６３】
同時に、電磁波遮蔽層３は、少なくとも抵抗皮膜１と誘電体層２が湾曲した際には追従して湾曲する可撓性と、透光性とを有していることが必要である。
【００６４】
このような要求に対応できる電磁波遮蔽層３として、導電性の繊維により構成された導電性メッシュが採用できる。導電性メッシュは、一例としてポリエステルモノフィラメントで織ったメッシュに金属を付着させて導電性とすることで構成できる。金属としては、導電性の高い銅、銀などを用いることができる。また、メッシュの表面を覆う金属膜による反射を低減するために、金属膜のさらに外側に黒色の反射防止層を付与したものも製品化されている。
【００６５】
また、電磁波遮蔽層３としては、他にも、直径が数十から数百μｍの細い銅線などの金属線が、縦横に配置された導電性格子を用いることができる。
【００６６】
なお、上述のメッシュや導電性格子による電磁波遮蔽層３は、可撓性と透光性とを確保するために、電磁波遮蔽層として求められる表面抵抗値を実現できる限りにおいて、最低限の厚さを有して構成されることとなる。また、導電性メッシュの繊維や導電性格子のワイヤーが傷ついたり、切断したりしてしまった場合には、所望する表面抵抗値を実現することが困難となる。このため、導電性格子のさらに背面側に、透光性を有する樹脂による補強層かつ保護層を形成して、導電性の材料による電磁波反射部分と樹脂製の膜構成部分との積層体による電磁波遮蔽層３を用いることができる。
【００６７】
［接着層］
本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて、接着層４を設けることで、抵抗皮膜１、誘電体層２、電磁波遮蔽層３との積層体である電磁波吸収シートを、電気回路を収納する筐体の内面や、電気機器の内面または外面などの所望の位置に貼着することができる。特に、本実施形態の電磁波吸収シートは可撓性を有するものであるため、湾曲した曲面上にも容易に貼着することができ、背面に接着層４を設けることで電磁波吸収シートの取り扱い容易性が向上する。
【００６８】
接着層４としては、粘着テープなどの粘着層として利用される公知の材料、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等を用いることができる。また被着体に対する粘着力の調節、糊残りの低減のために、粘着付与剤や架橋剤を用いることもできる。被着体に対する粘着力は５Ｎ／１０ｍｍ〜１２Ｎ／１０ｍｍが好ましい。粘着力が５Ｎ／１０ｍｍより小さいと、電磁波吸収シートが被着体から容易に剥がれてしまったり、ずれてしまったりすることがある。また、粘着力が１２Ｎ／１０ｍｍより大きいと、電磁波吸収シートを被着体から剥離しにくくなる。
【００６９】
また接着層４の厚さは、２０μｍ〜１００μｍが好ましい。接着層４の厚さが２０μｍより薄いと、粘着力が小さくなり、電磁波吸収シートが被着体から容易に剥がれたり、ずれたりすることがある。接着層４の厚さが１００μｍより大きいと、電磁波吸収シートを被着体から剥離しにくくなる。また接着層の凝集力が小さい場合は、電磁波吸収シートを剥離した場合、被着体に糊残りが生じる場合がある。また、電磁波吸収シート全体としての可撓性を低下させる要因となる。
【００７０】
なお、本実施形態にかかる電磁波吸収シートに用いられる接着層４としては、電磁波吸収シートを被着物体に剥離不可能に貼着する接着層４とすることができるとともに、剥離可能な貼着を行う接着層４とすることもできる。また、前述のように、本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて、接着層４を備えた構成とすることは必須の要件ではなく、電磁波吸収シートを所望する部材に対して、従来一般的な各種の接着方法を用いて接着することができる。
【００７１】
［保護層］
本実施形態にかかる電磁波吸収シートでは、抵抗皮膜１の表面である電磁波の入射面側に保護層５を設けることができる。
【００７２】
本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて、抵抗皮膜１として用いられている導電性有機高分子は、空気中の湿度の影響を受けてその表面抵抗値が変化する場合がある。このため、抵抗皮膜１の表面に保護層５を設けることで湿度の影響を小さくして、インピーダンス整合による電磁波の吸収特性が低下することを効果的に抑制できる。
【００７３】
本実施形態の電磁波吸収シートにおいて保護層５としては、一例として、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートを用いることができ、これを、樹脂材料の接着剤によって抵抗皮膜１の表面に貼り付けて構成することができる。
【００７４】
なお、保護層５は、抵抗皮膜１の表面全体を覆う膜とすることで、抵抗皮膜１への水分の浸透を防ぐことができる。樹脂製の膜として形成される保護層５の表面抵抗値の成分は、積層される抵抗皮膜１の表面抵抗値の成分に対して並列接続されたものとして影響すると考えられる。このため、保護層５の厚みが厚くなりすぎなければ、電磁波吸収シートの入力インピーダンスに与える影響は極めて小さいと考えられる。また、電磁波吸収シートとしての入力インピーダンスとして、保護層５の表面抵抗値の影響を考慮した上で、抵抗皮膜１の表面抵抗値をより適した数値に設定することも可能である。
【００７５】
保護層５の厚みとしては、抵抗皮膜１を保護できる範囲においてより薄いことが好ましい。具体的には、保護層５の厚みは、１５０μｍ以下が好ましく１００μｍ以下であればより好ましい。保護層の厚みが１５０μｍを超えると、電磁波の吸収性能が低下して電磁波吸収量が２０ｄＢを下回る場合がある。また、電磁波吸収シート全体の厚みが大きくなるので、可撓性が低下する。
【００７６】
［実施例］
以下、本実施形態にかかる電磁波吸収シートとして、抵抗皮膜の表面抵抗値を変化させた複数種類のシートを実際に作製し、電磁波の入射角度が変化した際の電磁波吸収特性の変化を測定した結果について説明する。
【００７７】
＜抵抗皮膜の耐候性＞
抵抗皮膜は、以下に示す成分を添加、混合した抵抗皮膜液から作製した。
【００７８】
（１）導電性高分子分散体                          ３６．７部
ヘレウス社製導電性高分子（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）
：ＰＨ−１００（製品名）、
固形分濃度  １．２質量％
（２）ＰＶＤＦ分散液                                ５．６部
アルケマ社製：ＬＡＴＥＸ３２（商品名）、
固形分濃度  ２０質量％、  溶媒  水
（３）水溶性ポリエステル水溶液                      ０．６部
互応化学工業社製：プラスコートＺ５６１（商品名）
固形分濃度  ２５質量％
（４）有機溶媒（ジメチルスルホキシド）              ９．９部
（５）水溶性溶媒（エタノール）                    ３０．０部
（６）水                                          １７．２部。
【００７９】
抵抗皮膜は、基材としてのポリエチレンテレフタレート製シート（５０μｍ厚）上に、上記の組成で作製した抵抗皮膜液を、バーコート法によって乾燥後の厚さが所定の厚さとなるようにして塗布し、その後１５０℃で５分加熱し成膜した。
【００８０】
次に、基材の抵抗皮膜を形成した側とは反対側の面に、厚さ５００μｍの透明なシリコーンＯＣＡを貼り合わせた。この結果、基材の５０μｍと併せて、厚さ５５０μｍの誘電体層が形成されたこととなる。さらに、シリコーンＯＣＡ上に、セーレン株式会社製の導電メッシュＳｕ−４ｘ−１３２２７（製品名）を用いて電磁波遮蔽層を形成して電磁波吸収シートを作製した。なお、今回測定で用いた電磁波吸収シートでは、接着剤層と表面保護層は形成しなかった。
【００８１】
そして、抵抗皮膜の厚さを変化させることで表面抵抗値を異ならせて、以下の６種類の電磁波吸収シートを作製した。
【００８２】
（シート１）  表面抵抗値３１０Ω／□（厚さ１６０ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
（シート２）  表面抵抗値３４５Ω／□（厚さ１４７ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
（シート３）  表面抵抗値３７７Ω／□（厚さ１２０ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
（シート４）  表面抵抗値４２０Ω／□（厚さ１１８ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
（シート５）  表面抵抗値４６５Ω／□（厚さ１０７ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
（シート６）  表面抵抗値５００Ω／□（厚さ１００ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
ここで、シート３は、抵抗皮膜の表面抵抗値を真空中のインピーダンス値（３７７Ω）と同じとしたもので、従来のインピーダンス整合を行った電磁波吸収シートに相当する。
【００８３】
（電磁波吸収特性の測定）
上記作成したシート１〜シート６を測定対象として、フリースペース法によって６０〜９０ＧＨｚの帯域の電磁波吸収特性を測定した。具体的には、キーコム株式会社製の自由空間測定装置と、アンリツ株式会社製のベクトルネットワークアナライザＭＳ４６４７Ｂ（商品名）を用いて、各電磁波吸収シートに対して電磁波を照射した際の入射波と反射波の強度比をそれぞれ電圧値として把握した。
【００８４】
図２に、電磁波吸収シートに電磁波が所定の入射角度αで入射した状態を示す。
【００８５】
図２に示すように、電磁波吸収シートの抵抗皮膜１、誘電体層２を通った入射波１３は、電磁波遮蔽層３の表面で反射されて反射波１４となる。このとき、理想状態では、電磁波吸収シートの面に対する垂直線１５に対して入射波１３の成す角度と反射波１４のなす角度とは、いずれも同じ角度となる。なお、本明細書では、便宜上、図２に示した入射波１３と反射は１４との成す角度を入射角度αと称することとする。入射角度αは、光学分野において用いられる用語としての入射波１３の入射角α1と反射波１４の反射角α2との和、すなわち、α＝α1＋α2（通常、α1＝α2）である。
【００８６】
そこで、図２における実線矢印１３の根元方向に自由空間測定装置の送信アンテナ１６を配置し、図２における点線矢印１４の先端方向に受信アンテナ１７を配置して、入射角度αがα＝０度、すなわち垂直入射の状態から角度αを増加させていき、最大の入射角度α＝６５度となるまで、送信アンテナ１６から発射され電磁波吸収層３の表面で反射された電磁波を受信アンテナ１７で測定して、その強度を比較して反射減衰量をｄＢ単位で求めた。
【００８７】
図３は、それぞれの電磁波吸収シートにおける、電磁波吸収シートへの入射角度α（単位：度）と反射波減衰量（単位：ｄＢ）との関係を示した図である。なお、図３において、図３（ａ）がシート１（表面抵抗値３１０Ω／□）、図３（ｂ）がシート２（表面抵抗値３４５Ω／□）、図３（ｃ）がシート３（表面抵抗値３７７Ω／□）、図３（ｄ）がシート４（表面抵抗値４２０Ω／□）、図３（ｅ）がシート５（表面抵抗値４６５Ω／□）、図３（ｆ）がシート６（表面抵抗値５００Ω／□）、それぞれの反射波における減衰特性を示している。
【００８８】
図３（ａ）に示すように、抵抗皮膜１の表面抵抗値が３１０Ω／□のシート１の場合の反射減衰特性（符号３１）は、垂直入射である入射角度α＝０度の状態で反射減衰量が約１８ｄＢであり、入射角度が大きくなると反射減衰量が増加し、入射角度αが５度で２０ｄＢ、入射角度αが３４度でピークの約４５ｄＢとなる。その後、入射角度αが大きくなるにつれて反射減衰量が低下して、入射角度αが５５度で２０ｄＢとなる。この結果より、シート１では、入射角度αが５度から５５度までの間の５０度の入射角度幅を持った入射角度で電磁波が入射した場合でも、２０ｄＢ以上の高い反射減衰量を維持できることがわかる。また、シート１においては、入射角度αが３４度の電磁波に対して、抵抗被膜１の表面抵抗値が３１０Ω／□でインピーダンス整合していることがわかる。
【００８９】
図３（ｂ）に示す、抵抗皮膜１の表面抵抗値が３４５Ω／□のシート２の場合の反射減衰特性（符号３２）は、垂直入射のα＝０度の状態で反射減衰量は約２７ｄＢ、入射角度αが約２６度で反射減衰量がピークの５２ｄＢとなり、α＝５０度で反射減衰量が２０ｄＢとなる。このため、シート２でも、入射角度幅が５０度の範囲において、２０ｄＢ以上の高い反射減衰量を維持できることがわかる。また、シート２では、入射角度αが２６度の電磁波に対して、抵抗被膜１の表面抵抗値が３４５Ω／□でインピーダンス整合していることがわかる。
【００９０】
シート２において、図３（ａ）に示したシート１と比較して反射減衰量がピークとなる入射角度αが小さいのは、シート２の表面抵抗値が、垂直入射である入射角度α＝０度の場合にインピーダンス整合となる表面抵抗値３７７Ω／□により近いためと考えられる。
【００９１】
図３（ｃ）に示す、表面抵抗値が３７７Ω／□のシート３の反射減衰特性（符号３３）では、垂直入射である入射角度α＝０度の場合に最大の反射減衰量約４５ｄＢとなり、入射角度αが大きくなるにつれて反射減衰量が低下する。そして、入射角度αが３５度前後で、反射減衰量が２０ｄＢを下回る。このように、インピーダンス整合を行った場合には、垂直入射である入射角度αが０度の場合に極めて高い反射減衰量を得ることができる一方で、入射角度αが０度から大きくなると、比較的小さな入射角度幅においてしか良好な反射減衰量を保つことができないことがわかる。
【００９２】
なお、図３（ｃ）に示したような、入射角度αが０度の場合の反射減衰量が一番大きく、入射角αの値が大きくなるにつれて反射減衰量が徐々に低下する反射減衰特性は、抵抗皮膜１の表面抵抗値が３７７Ω／□に対して＋側、−側それぞれ３０Ω／□程度の範囲の電磁波吸収シートで同様に観察された。つまり、電磁波吸収シートに垂直に入射する電磁波に対しては、抵抗被膜１の表面抵抗値が３７７Ω／□でインピーダンス整合していることになる。
【００９３】
図３（ｄ）に示す、表面抵抗値が４２０Ω／□のシート４の電磁波減衰特性（符号３４）の場合、垂直入射であるα＝０度で反射減衰量が約２５ｄＢ、その後入射角度αが約２８度でピーク値の約５１ｄＢとなり、その後反射減衰量が低下して入射角度αが５０度で反射減衰量が２０ｄＢとなる。このように、シート３においては、入射角度幅が５０度の範囲で高い反射減衰量を実現できる。また、この結果から、シート３では、入射角度αが２８度の電磁波に対して、抵抗被膜１の表面抵抗値が４２０Ω／□でインピーダンス整合していることがわかる。
【００９４】
図３（ｅ）に示す、表面抵抗値が４６５Ω／□のシート５の電磁波減衰特性（符号３５）では、垂直入射であるα＝０度で反射減衰量が約１９ｄＢであり、入射角度が大きくなると反射減衰量が増加し、入射角度αが４度で２０ｄＢ、入射角度αが３７．５度でピークの約４２ｄＢとなる。その後、入射角度αが大きくなるにつれて反射減衰量が低下して、入射角度αが５６度で２０ｄＢとなる。この結果より、シート５では、入射角度αが３度から５６度までの間の５３度の入射角度幅を持った入射角度で電磁波が入射した場合でも、２０ｄＢ以上の反射減衰量を維持できることがわかる。また、シート５においては、入射角度αが３７．５度の電磁波に対して、抵抗被膜１の表面抵抗値が４６５Ω／□でインピーダンス整合していることがわかる。
【００９５】
図３（ｆ）に示す、表面抵抗値が５００Ω／□のシート６の電磁波減衰特性（符号３６）では、垂直入射であるα＝０度で反射減衰量が約１９ｄＢであり、入射角度が大きくなると反射減衰量が増加し、入射角度αが３度で２０ｄＢ、入射角度αが約４３度でピーク値の約５１ｄＢとなり、その後低下して入射角度αが５３度で反射減衰量が２０ｄＢとなる。この結果より、シート６では、入射角度αが３度から５３度までの５０度の入射角度幅の電磁波に対して、２０ｄＢ以上の反射減衰量を維持することができる。また、シート６では、抵抗被膜１の表面抵抗値が５００Ω／□でインピーダンス整合していることを表している。
【００９６】
このように、図３（ａ）から図３（ｆ）として示した、入射角度αを変化させた場合の反射減衰量の変化から、一般に好ましいとされていたインピーダンス整合された表面抵抗値３７７Ω／□の電磁波吸収シートでは、入射角度αが大きくなると急速に電磁波吸収特性が低下する一方、電磁波の入射角度によってインピーダンス整合する抵抗被膜の表面抵抗値が異なることがわかる。
【００９７】
また、電磁波吸収シートに入射する電磁波の入射角度が異なることが予想される場合など、所定の幅を持った入射角度で入射した電磁波を良好に吸収することができる電磁波吸収シートを実現するという観点からは、表面抵抗値を３７７Ω／□から少し異なる範囲に積極的に推移させることで、入射角度αの幅が５０度と大きな値となった場合でも、良好に電磁波を吸収することができる傾向にあることがわかった。
【００９８】
具体的には、空間中の入力インピーダンスとなる抵抗皮膜の表面抵抗値が３７７Ω／□よりも小さな範囲と大きな範囲とに、それぞれ入射角度αの幅が４０度や５０度になった場合でも、反射減衰量が２０ｄＢ以上を維持できる領域があることがわかった。反射減衰量が２０ｄＢということは、９９％の電磁波が吸収されることを意味することから実用上十分な電磁波吸収特性であると判断できる。
【００９９】
図４は、抵抗皮膜の表面抵抗値を異ならせた場合の、反射減衰量が２０ｄＢを維持できる入射角度幅を示す図である。
【０１００】
図４に符号４１として示したように、抵抗皮膜１の表面抵抗値が３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下の範囲、または、表面抵抗値が４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下の範囲では、入射角度αの幅が４０度までの間で反射減衰量−２０ｄＢを確保することができる。また、抵抗皮膜１の表面抵抗値が３１０Ω／□以上３４５Ω／□以下の範囲、または、表面抵抗値が４２０Ω／□以上５００Ω／□以下の範囲では、入射角度αの幅が５０度までの間で反射減衰量−２０ｄＢ以上を確保することができる。
【０１０１】
この結果、本実施形態にかかる電磁波吸収シートとして、抵抗皮膜の表面抵抗値を空気中のインピーダンス値である３７７Ω／□とは異ならせ、３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下の範囲とすることで、電磁波吸収シートへの電磁波の入射角が大きくばらついた場合でも、入射角度幅が４０度までの範囲で実用上十分なレベルとして考えられる反射減衰量が２０ｄＢ以上の電磁波吸収特性を備えた電磁波吸収シートを得ることができる。
【０１０２】
［可撓性、透光性の確認］
なお、本実施形態にかかる電磁波吸収シートとして上記実施例として説明した手順で作製し、５×１０ｃｍの大きさに切り出したものを、水平に配置された直径６ｍｍのアルミ製の円筒型棒（マンドレル）上に、抵抗皮膜が表向きになるようにして被せ、シートの両端に３００ｇの錘を付けて３０秒間維持した場合でも、抵抗皮膜の表面抵抗の値に変化は生じず、本実施形態にかかる電磁波吸収性シートが高い可撓性を備えていることを確認できた。
【０１０３】
また、本実施形態にかかる電磁波吸収シートの光学特性は、全光線透過率が３０％以上、ヘイズ値が４０以下の好ましい数値範囲にあることが確認できた。
【０１０４】
以上説明したように、本実施形態にかかる電磁波吸収シートは、吸収する電磁波が入射する側の表面に配置される抵抗皮膜を導電性有機高分子で構成することで、電磁波吸収シートを強く折り曲げた場合でも電磁波吸収特性を維持することができる。このため、安定した高い電磁波吸収特性を発揮し、可撓性と透光性とを備えた電磁波吸収シートを実現することができる。例えば、電磁波シールド状態に置かれる居室のカーテンなど、内部、もしくは、外部の様子を視認可能としつつも不所望な電磁波を吸収して透過させないことが求められる状況下で好適に使用できる。さらに、抵抗皮膜の表面抵抗値を３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下とすることで、電磁波吸収シートへの電磁波の入射角幅が４０度までの範囲で変化した場合でも、実用上十分であると考えられる反射減衰量が２０ｄＢ以上の電磁波吸収特性を、低コストで得ることができる。
【０１０５】
なお、より好ましくは、抵抗皮膜の表面抵抗値を３１０Ω／□以上３４５Ω／□以下の範囲、または、４２０Ω／□以上５００Ω／□の範囲とすることで、入射角度αが５０度までの範囲で変化した場合でも反射減衰量２０ｄＢ以上を確保きることが確認できた。このため、実際の使用時に見込まれる電磁波の入射角度幅が４０度迄なのか、それとも、５０度程度が見込まれるのかを判断して、より適切な表面抵抗値を有する抵抗皮膜を形成することで、実用上十分な電磁波吸収特性を広い入射角度幅に対して実現することができる電磁波吸収シートを作製することができる。
【０１０６】
なお、上記実施形態においては、電磁波吸収シートを構成する、抵抗被膜、誘電体層、電磁波遮蔽層、さらには、電磁波吸収シートとして備える場合には、保護層や接着層をすべて透光性のある部材を用いて、電磁波吸収シートとして透光性を備えたものについて説明した。
【０１０７】
しかし、本願で開示する、広い角度幅で入射する電磁波に対して実用上十分な電波吸収特性を有する電磁波吸収シートは、透光性を有しないものとしても実現可能である。この場合には、上述した電波吸収層を構成する各層の構成部材に代えて、抵抗被膜、および、誘電体層を構成する材料として、透光性は有しないもののより低コストの材料を用いることができるなど、本願で開示する電磁波吸収シートを実施する上でより幅広い材料選択が可能となる。また、電磁波遮蔽層としても、アルミ箔などの低コストの部材を採用することができる。
【０１０８】
このように、本願で開示する電磁波吸収シートによれば、いわゆるミリ波帯域以上の高い周波数の電磁波に対して、特に電磁波吸収シートへの電磁波の入射角が変動する場合でも、良好な電磁波吸収特性を発揮することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１０９】
本願で開示する電磁波吸収シートは、ミリ波帯域以上の高い周波数帯域の電磁波が大きな入射角度幅で入射する場合でも安定して吸収することができ、可撓性を有する電磁波吸収シートとして有用である。
【符号の説明】
【０１１０】
１      抵抗皮膜
２      誘電体層
３      電磁波遮蔽層
【図１】
2019054378.tif 000003
【図２】
2019054378.tif 000004
【図３】
2019054378.tif 000005
【図４】
2019054378.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月30日(2019.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波吸収シートであって、
抵抗皮膜と、誘電体層と、電磁波遮蔽層とが積層して形成され、
前記抵抗皮膜が、導電性有機高分子により形成されており、その表面抵抗値が３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下であることを特徴とする、電磁波吸収シート。
【請求項２】
前記抵抗皮膜の表面抵抗値が、３１０Ω／□以上３４５Ω／□以下、または、４２０Ω／□以上５００Ω／□以下である、請求項１に記載の電磁波吸収シート。
【請求項３】
前記抵抗皮膜と、前記誘電体層と、前記電磁波遮蔽層とがいずれも透光性を有し、シート全体として透光性を有する、請求項１または２に記載の電磁波吸収シート。
【請求項４】
前記抵抗皮膜に、ポリ（３、４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリスチレンスルホン酸、ポリフッ化ビニリデンを含む、請求項１〜３のいずれかに記載の電磁波吸収シート。
【請求項５】
前記抵抗皮膜に、さらに水溶性ポリエステルを含む、請求項４に記載の電磁波吸収シート。
【請求項６】
前記誘電体層がミリ波帯域以上の高周波数帯域の電磁波を吸収可能な層厚に設定されている、請求項１〜５のいずれかに記載の電磁波吸収シート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、可撓性を有する電磁波吸収シート、特に、数十ギガヘルツ（ＧＨｚ）から数百ギガヘルツ（ＧＨｚ）のいわゆるミリ波帯域以上の電磁波を吸収可能な電磁波吸収シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
電気回路などから外部へと放出される漏洩電磁波や、不所望に反射した電磁波の影響を回避するために、電磁波を吸収する電磁波吸収シートが用いられている。
【０００３】
近年は、携帯電話などの移動体通信や無線ＬＡＮ、料金自動収受システム（ＥＴＣ）などで、数ギガヘルツ（ＧＨｚ）の周波数帯域を持つセンチメートル波、さらには、３０ギガヘルツから３００ギガヘルツの周波数を有するミリ波帯、ミリ波帯域を超えた高い周波数帯域の電磁波として、１テラヘルツ（ＴＨｚ）の周波数を有する電磁波を利用する技術の研究も進んでいる。
【０００４】
このようなより高い周波数の電磁波を利用する技術トレンドに対応して、不要な電磁波を吸収する電磁波吸収体や可撓性を有することからユーザの利便性が向上されるシート状の電磁波吸収体である電磁波吸収シートにおいても、ミリ波帯域からそれ以上の帯域の電磁波を吸収可能とするものへの要望は、より高くなることが考えられる。
【０００５】
このような電磁波吸収シートとして、誘電体層の一方の表面に抵抗皮膜を、他方の表面に電磁波を反射する電磁波遮蔽層とが形成され、反射波の位相を入射波に対して１／２波長分ずらすことで電磁波吸収シートへの入射波と反射波とが打ち消し合って電磁波を吸収する、いわゆる電磁波干渉型（λ／４型）の電磁波吸収シートが知られている。電磁波干渉型の電磁波吸収シートは、比重の大きな磁性体粒子によって磁気的に電磁波を吸収する電磁波吸収シートなどと比べて軽量であり、容易に製造することができるため低コスト化が可能という利点を有している。
【０００６】
従来、いわゆる電磁波干渉型の電磁波吸収シート（電磁波吸収体）では、誘電体層の表面に形成される抵抗皮膜として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの金属酸化物、金属窒化物ないしはこれらの混合体を、イオンプレーティング法、蒸着法、スパッタリング法などによって形成したものが知られている（特許文献１、特許文献２参照）。
【０００７】
また、電磁波干渉型の電磁波吸収体として、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）膜などの透明導電体の抵抗層と、ガラス、アクリル樹脂などの透明な誘電体層と、この誘電体層に形成された、銀、金、銅、アルミなどの金属からなる反射膜とを備えた、難燃性と透光性とを有する電磁波吸収体が提案されている（特許文献３参照）。
【０００８】
なお、電磁波干渉型の電磁波吸収シートにおいて、良好な電磁波吸収特性を得るためには誘電体層の入力インピーダンスを空気中（真空）のインピーダンスと一致させるインピーダンス整合を行うことが重要であるが、抵抗層の抵抗値はその厚みによって異なる値となるため、正確なインピーダンス整合を行うためには厳密な厚みの制御が必要となる。また、電磁波吸収シートに入射する電磁波の角度によって抵抗層の実効厚さが変化する。このような課題を解決し、誘電体層の厚みの精度や電磁波の入射角度に影響されずに目的とする周波数の電磁波に対する良好な吸収特性を得るために、誘電体層を誘電率が異なる２層の誘電体層の積層構成とし、２つの誘電体層の境界面にドーム形状の凹凸を設けた構成とすることが提案されている（特許文献４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平０６−１２０６８９号公報
【特許文献２】特開平０９−２３２７８７号公報
【特許文献３】特開２００６−０８６４４６号公報
【特許文献４】特開２００８−１３５４８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
電磁波干渉型の電磁波吸収シートでは、吸収する電磁波が高周波となるにしたがって誘電体層の厚さが薄くなるため、より高い可撓性を有するようになる。より薄く、容易に湾曲させることができる電磁波吸収シートは、貼付可能な場所が広がって使用者の利便性が向上するが、使用者に強く曲げられてしまう機会が増える。このような電磁波吸収シートにおいて、スパッタリング法などによって形成された金属酸化膜などによる抵抗皮膜は、強く曲げられることでひびが入りやすく、抵抗皮膜にひびが入るとその表面抵抗値が大きくなってインピーダンス整合が崩れてしまい、電磁波吸収特性が低下するという問題があった。
また、電磁波吸収シートに入射する電磁波の入射角度による影響を低減するために、誘電体層を２層構成とすることや誘電体層の表面を凹凸形状とすることは、電磁波吸収シートのコスト高に繋がってしまう。
【００１１】
本開示は、上記従来の課題を解決し、いわゆる電磁波干渉型の電磁波吸収シートであって、所望する周波数帯域の電磁波を、シート面に対して垂直方向に入射するものに限らず広い入射角度幅で入射した電磁波を良好に吸収することができる低コストの電磁波吸収シートを実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため本願で開示する電磁波吸収シートは、抵抗皮膜と、誘電体層と、電磁波遮蔽層とが積層して形成され、前記抵抗皮膜が、導電性有機高分子により形成されており、その表面抵抗値が３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本願で開示する電磁波吸収シートは、抵抗皮膜が導電性有機高分子によって形成されているため、シートが強く曲げられた場合でも抵抗皮膜にひび割れなどが生じず、インピーダンス整合を維持して高い電磁波吸収特性を保ち続けることができる。また、抵抗皮膜の表面抵抗値を所定の範囲とすることで、広い入射角度幅でシート面に入射する電磁波に対して、２０ｄＢ以上の高い電磁波吸収特性を発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態にかかる電磁波吸収シートの構成を説明する断面図である。
【図２】本実施形態にかかる電磁波吸収シートに電磁波が入射角度αで入射した状態を説明する断面図である。
【図３】抵抗皮膜の表面抵抗値を異ならせた電磁波吸収シートにおける、電磁波吸収特性を示す図である。
【図４】反射減衰量を２０ｄＢ以上とすることができる入射角度幅と抵抗皮膜の表面抵抗値との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本願で開示する電磁波吸収シートは、抵抗皮膜と、誘電体層と、電磁波遮蔽層とが積層して形成され、前記抵抗皮膜が、導電性有機高分子により形成されており、その表面抵抗値が３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下である。
【００１６】
このようにすることで、本願で開示する電磁波吸収シートは、抵抗皮膜と誘電体層と電磁波遮蔽層とが積層して形成された電磁波干渉型の電磁波吸収シートとして、強く湾曲された場合でも抵抗皮膜にひび割れなどが生じにくく、インピーダンス整合を維持して高い電磁波吸収特性を発揮することができる。また、抵抗皮膜の表面抵抗値を所定の範囲とすることで、電磁波吸収シートの構成を複雑化させることなく、反射減衰量が２０ｄＢ以上の高い電磁波吸収特性を、入射角度幅が４０度までの範囲で発揮する電磁波吸収シートを低コストで実現することができる。
【００１７】
さらに、前記抵抗皮膜の表面抵抗値が、３１０Ω／□以上３４５Ω／□以下、または、４２０Ω／□以上５００Ω／□以下であることが好ましい。抵抗被膜の表面抵抗値をより制限することで、反射減衰量が２０ｄＢ以上の高い電磁波吸収特性を入射角度幅が５０度までの範囲で実現する電磁波吸収シートとすることができる。
【００１８】
また、前記抵抗皮膜と、前記誘電体層と、前記電磁波遮蔽層とがいずれも透光性を有し、シート全体として透光性を有することが好ましい。このようにすると、電磁波吸収シートの透光性を活かして、電磁波吸収シートをカーテンのように使用して、外部からの光を取り入れつつ不要な電磁波を遮蔽するというような新たな用途展開が期待できる。
【００１９】
例えば、電磁波の強度を測定する機器やノイズを発生する機器を、透光性を有する電磁波吸収シートを貼り付けた透光性ケースの内部に入れることで、外部から観察できるようにすることができる。
【００２０】
本願で開示する電磁波吸収シートにおいて、前記抵抗皮膜に、ポリ（３、４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）を含むことが好ましい。このようにすることで、所望の表面抵抗値を備えた表面皮膜を容易に得ることができる。
【００２１】
この場合において、前記抵抗皮膜に、さらに水溶性ポリエステルを含むことが好ましい。このようにすることで、抵抗皮膜自体の耐候性を高め、表面抵抗値が安定した信頼性の高い電磁波吸収シートを実現することができる。
【００２２】
さらに、本願で開示する電磁波吸収シートにおいて、前記誘電体層がミリ波帯域以上の高周波数帯域の電磁波吸収可能な層厚に設定されていることが好ましい。このようにすることで、高い可撓性を備え、吸収可能な電磁波の入射角が大きい、ミリ波帯域以上の電磁波を吸収できる電磁波吸収シートを実現することができる。
【００２３】
以下、本願で開示する電磁波吸収シートについて、図面を参照して説明する。
【００２４】
（実施の形態）
まず、本実施形態にかかる電磁波吸収シートの全体構成について説明する。なお、以下では、電磁波吸収シートを構成する抵抗被膜と、誘電体層と、電磁波遮蔽層とがいずれも透光性を有する部材で形成されていることで、電磁波吸収シート全体として透光性を備えたものを例示する。本実施形態で説明する電磁波吸収シートでは、透光性の目安を、全光線透過率が３０％以上、ヘイズ値が４０以下としている。
【００２５】
図１は、本実施形態にかかる電磁波吸収シートの構成を示す断面図である。
【００２６】
なお、図１は、本実施形態にかかる電磁波吸収シートの構成を理解しやすくするために記載された図であり、図中に示された部材の大きさや厚みについて現実に即して表されたものではない。
【００２７】
本実施形態で例示する電磁波吸収シートは、抵抗皮膜１、誘電体層２、電磁波遮蔽層３が積層されて形成されている。なお、図１に示す電磁波吸収シートでは、電磁波遮蔽層３の背面側、すなわち、電磁波遮蔽層３において誘電体層２が配置されている側とは反対側の表面には、接着層４が積層形成されている。また、抵抗皮膜１の前面側、すなわち、抵抗皮膜１において誘電体層２が配置されている側とは反対側の表面には、保護層５が積層形成されている。
【００２８】
本実施形態にかかる電磁波吸収シートは、誘電体層２に入射した電磁波１１が、誘電体層２の背面側に配置されている電磁波遮蔽層３と誘電体層２との界面で反射されて、反射波１２として再び外部へと放出される。このとき、誘電体層２の厚さｄを、入射した電磁波の波長の１／４とする（ｄ＝λ／４）ことで、入射波１１の位相１１ａと反射波１２の位相１２ａとが打ち消し合って電磁波吸収シートに入射した電磁波を吸収する。
【００２９】
なお、ｄ＝λ／４となるのは、誘電体層２として空気（誘電率ε＝１）が用いられる場合であり、誘電体層２に用いられる誘電体の誘電率がεrである場合には、ｄ＝１／４（εr）-1/2となって誘電体層２の厚さｄを、（εr）-1/2だけ薄くすることができる。誘電体層２を薄く形成することで、電磁波吸収シート全体の薄型化を実現でき、より可撓性に優れた電磁波吸収シートを実現することができる。
【００３０】
誘電体層２の背面側に積層して形成される電磁波遮蔽層３は、誘電体層２との境界面である誘電体層２側の表面で、入射してきた電磁波を反射する層である。
【００３１】
本実施形態にかかる、電磁波干渉型の電磁波吸収シートにおける電磁波吸収の原理から、電磁波遮蔽層３は電磁波を反射する反射層として機能することが必要である。また、電磁波遮蔽層として可撓性と透光性とを備えることが必要である。このような要求に対応できる電磁波遮蔽層３としては、導電性の繊維により構成された導電性メッシュや、極細線の金属などの導電性ワイヤーにより構成された導電性格子を用いることができる。
【００３２】
抵抗皮膜１は、誘電体層２の前面側、すなわち誘電体層２の電磁波遮蔽層３が積層されている側とは反対の側の吸収される電磁波が入射する側に形成され、電磁波吸収シートと空気との間のインピーダンス整合を行う。
【００３３】
空気中を伝搬してきた電磁波が電磁波吸収シートに入射する際、電磁波吸収シートの入力インピーダンス値を空気中のインピーダンス値（実際には真空のインピーダンス値）である３７７Ω／□と異ならないようにすることで、電磁波吸収シートへの電磁波の入射時に電磁波の反射・散乱が生じて電磁波吸収特性が低下することを防ぐことが重要となる。本実施形態の電磁波吸収シートでは、抵抗皮膜１を導電性有機高分子の膜として形成することで、電磁波吸収シートとしての可撓性を確保するとともに、電磁波吸収シートが強く折り曲げられた場合でも抵抗皮膜１のひび割れなどが生じず、表面抵抗値が変化せずに良好なインピーダンス整合を維持することができる。
【００３４】
接着層４は、電磁波吸収シートを所定の場所に容易に貼り付けることができるように、電磁波遮蔽層３の背面側に形成される層である。接着層４は、粘着性の樹脂ペーストを塗布することで容易に形成できる。
【００３５】
なお、接着層４は、本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて必須の部材ではない。電磁波吸収シートを所定の場所に配置するに当たっては、電磁波吸収シートが貼り付けられる部材側に接着のための部材が配置されていてもよく、また、電磁波吸収シートを所定の場所に配置する際に、電磁波吸収シートと配置場所との間に接着剤を供給する、または、両面テープを用いるなどの接着方法を採用することができる。
【００３６】
保護層５は、抵抗皮膜１の表面、すなわち、電磁波吸収シートにおいて電磁波が入射する側の最表面に形成され、抵抗皮膜１を保護する部材である。
【００３７】
本実施形態の電磁波吸収シートの抵抗皮膜１を形成する導電性有機高分子は、表面に水分が付着するとその表面抵抗値が変化する場合がある。また、樹脂製の膜であるために、表面に尖った部材が接触した場合や、硬い材質のもので擦られた場合には、傷が付く畏れがある。このため、抵抗皮膜１の表面を保護層５で覆って抵抗皮膜１を保護することが好ましい。
【００３８】
なお、保護層５は、本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて必須の構成要件ではなく、導電性有機高分子の材料によって、表面への水分の付着に伴う表面抵抗値の変化や抵抗皮膜１の表面が傷つくことへの懸念が小さい場合には、保護層５がない電磁波吸収シートの構成を選択可能である。
【００３９】
また、保護層５としては、後述のようにポリエチレンテレフタレートなどの樹脂材料を用いることができる。保護層５として用いられる樹脂材料は一定の抵抗値を有するが、保護層５の膜厚を薄く設定することで、保護層５の有無による電磁波吸収シートの表面抵抗値への影響を実用上問題ないレベルとすることができる。
【００４０】
次に、本実施形態にかかる電磁波吸収シートを構成する各部材について詳述する。
【００４１】
［抵抗皮膜］
本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて、抵抗皮膜１は、導電性有機高分子で構成される。
【００４２】
導電性有機高分子としては、共役導電性有機高分子が用いられ、ポリチオフェンやその誘導体、ポリピロールやその誘導体を用いることが好ましい。
【００４３】
本実施形態にかかる電磁波吸収シートの抵抗皮膜１に用いられることが好適なポリチオフェン系導電性高分子の具体例としては、ポリ（チオフェン）、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−エチルチオフェン）、ポリ（３−プロピルチオフェン）、ポリ（３−ブチルチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルチオフェン）、ポリ（３−オクチルチオフェン）、ポリ（３−デシルチオフェン）、ポリ（３−ドデシルチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルチオフェン）、ポリ（３−ブロモチオフェン）、ポリ（３−クロロチオフェン）、ポリ（３−ヨードチオフェン）、ポリ（３−シアノチオフェン）、ポリ（３−フェニルチオフェン）、ポリ（３，４−ジメチルチオフェン）、ポリ（３，４−ジブチルチオフェン）、ポリ（３−ヒドロキシチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３−エトキシチオフェン）、ポリ（３−ブトキシチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクチルオキシチオフェン）、ポリ（３−デシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヒドロキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジメトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジエトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジプロポキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジブトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジオクチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−プロピレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ブテンジオキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−メトキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−エトキシチオフェン）、ポリ（３−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルチオフェン）等が挙げられる。
【００４４】
また、抵抗皮膜１に用いられることが好適なポリピロール系導電性高分子の具体例としては、ポリピロール、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルピロール）、ポリ（３−エチルピロール）、ポリ（３−ｎ−プロピルピロール）、ポリ（３−ブチルピロール）、ポリ（３−オクチルピロール）、ポリ（３−デシルピロール）、ポリ（３−ドデシルピロール）、ポリ（３，４−ジメチルピロール）、ポリ（３，４−ジブチルピロール）、ポリ（３−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルピロール）、ポリ（３−ヒドロキシピロール）、ポリ（３−メトキシピロール）、ポリ（３−エトキシピロール）、ポリ（３−ブトキシピロール）、ポリ（３−ヘキシルオキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）等が挙げられる。
【００４５】
この他にも、抵抗皮膜１としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子を使用することができ、ポリアセチレン系導電性高分子、ポリフェニレン系導電性高分子、ポリフェニレンビニレン系導電性高分子、ポリアニリン系導電性高分子、ポリアセン系導電性高分子、ポリチオフェンビニレン系導電性高分子、および、これらの共重合体等を用いることができる。
【００４６】
なお、抵抗皮膜に用いられる導電性有機高分子として、ポリアニオンをカウンターアニオンとして用いることができる。ポリアニオンとしては特に限定されないが、上述した抵抗皮膜に用いられる共役導電性有機高分子に、化学酸化ドープを生じさせることができるアニオン基を含有するものが好ましい。このようなアニオン基としては、例えば、一般式−Ｏ−ＳＯ3Ｘ、−Ｏ−ＰＯ（ＯＸ）2、−ＣＯＯＸ、−ＳＯ3Ｘで表される基等（各式中、Ｘは水素原子またはアルカリ金属原子を示す。）が挙げられ、中でも、共役導電性有機高分子へのドープ効果に優れることから、−ＳＯ3Ｘ、および、−Ｏ−ＳＯ3Ｘで表される基が特に好ましい。
【００４７】
上記導電性有機高分子は、１種を単独で使用してもよいし２種以上を併用してもよい。上記例示した材料の中でも、透明性と導電性とがより高くなることから、ポリピロール、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（２−アニリンスルホン酸）、ポリ（３−アニリンスルホン酸）から選ばれる１種または２種からなる重合体が好ましい。
【００４８】
特に、共役系の導電性有機高分子とポリアニオンの組み合わせとしては、ポリ（３、４−エチレンジオキシチオフェン：ＰＥＤＯＴ）と、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を用いることが好ましい。
【００４９】
また、本実施形態にかかる抵抗皮膜１においては、導電性有機高分子の電気伝導度を制御して、電磁波吸収シートの入力インピーダンスを空気中のインピーダンス値と整合させるために、ドーパントを併用することができる。ドーパントとしては、ヨウ素、塩素等のハロゲン類、ＢＦ3、ＰＦ5等のルイス酸類、硝酸、硫酸等のプロトン酸類や、遷移金属、アルカリ金属、アミノ酸、核酸、界面活性剤、色素、クロラニル、テトラシアノエチレン、ＴＣＮＱ等が使用できる。より具体的には、抵抗皮膜１の表面抵抗値を３７７Ω／□に対してプラス／マイナス数％程度の値にすることが好ましく、このとき、導電性有機高分子とドーパントとの配合割合は、一例として質量比で導電性高分子：ドーパント＝１：２〜１：４とすることができる。
【００５０】
さらに、抵抗皮膜１を形成する材料としては、他にポリフッ化ビニリデン、水溶性ポリエステルを含むことが好ましい。これらを含むことで、抵抗皮膜１の耐候性が向上するため、抵抗皮膜１の表面抵抗値の経時的な変化が抑えられて、安定した電磁波吸収特性を維持することができる信頼性の高い電磁波吸収シートを実現することができる。
【００５１】
ポリフッ化ビニリデンは、導電性有機高分子をコーティングする際の組成物に加えることで、導電性有機高分子膜の中でバインダーとしての機能を果たし、成膜性を向上させるとともに基材との密着性を高めることができる。
【００５２】
また、水溶性ポリエステルは導電性高分子との相溶性が高いため、抵抗皮膜１を形成する導電性有機高分子のコーティング組成物に水溶性ポリエステルを加えることで抵抗皮膜１内において導電性高分子を固定化させ、より均質な皮膜を形成することができる。この結果、水溶性ポリエステルを用いることで、より厳しい高温高湿環境下におかれた場合でも表面抵抗値の変化が小さくなり、空気中のインピーダンス値とのインピーダンス整合がなされた状態を維持することができる。
【００５３】
抵抗皮膜１における導電性有機高分子の含有量は、抵抗皮膜１組成物に含まれる固形分の全質量に対して、１０質量％以上３５質量％以下であることが好ましい。含有量が１０質量％を下回ると、抵抗皮膜１の導電性が低下する傾向にある。このため、インピーダンス整合をとるために抵抗皮膜１の表面電気抵抗値を所定の範囲とした結果、抵抗皮膜１の膜厚が大きくなることによって、電磁波吸収シート全体が厚くなったり光学特性が低下したりする傾向がある。一方、含有量が３５質量％を超えると、導電性有機高分子の構造に起因して抵抗皮膜１をコーティングする際の塗布適正が低下して、良好な抵抗皮膜１を形成しづらくなり、抵抗皮膜１のヘイズが上昇して、やはり光学特性が低下する傾向にある。
【００５４】
なお、抵抗皮膜１は、上述のように抵抗皮膜の形成用塗料としてのコーティング組成物を基材の上に塗布して乾燥することにより形成することができる。
【００５５】
抵抗皮膜形成用塗料を基材の上に塗布する方法としては、例えば、バーコート法、リバース法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法、ディッピング法、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法等の塗布方法を用いることができる。塗布後の乾燥は、抵抗皮膜形成用塗料の溶媒成分が蒸発する条件であればよく、１００〜１５０℃で５〜６０分間行うことが好ましい。溶媒が抵抗皮膜１に残っていると強度が劣る傾向にある。乾燥方法としては、例えば、熱風乾燥法、加熱乾燥法、真空乾燥法、自然乾燥等により行うことができる。また、必要に応じて、塗膜にＵＶ光（紫外線）やＥＢ（電子線）を照射して塗膜を硬化させることで抵抗皮膜１を形成してもよい。
【００５６】
なお、抵抗皮膜１を形成するために用いられる基材としては特に限定されないが、透明性を有する透明基材が好ましい。このような透明基材の材質としては、例えば、樹脂、ゴム、ガラス、セラミックス等の種々のものが使用できる。
【００５７】
本実施形態にかかる電磁波吸収シートでは、上述した導電性有機高分子を用いて表面抵抗値が３７７Ω／□の抵抗皮膜１を構成することで、電磁波吸収シートに入射する電磁波に対して空気中のインピーダンスと整合させることができ、電磁波吸収シート表面での電磁波の反射や散乱を低下させてより良好な電磁波吸収特性を得ることができる。
【００５８】
［誘電体層］
本実施形態にかかる電磁波吸収シートの誘電体層２は、ポリフッ化ビニリデン、ポリエステル樹脂、ガラス、透明なシリコーンゴム、透明なフッ素樹脂フィルム、ＯＣＡ（光学的に透明な粘着剤）、ＯＣＲ（光学的に透明な樹脂）などの誘電体で形成することができる。なお、誘電体層２は、１種の材料で１層の構成として形成することができ、また、同種、異種の材料を２層以上積層した構成とすることもできる。誘電体層２の形成には、塗布法やプレス成型法、押出成型法などを用いることができる。
【００５９】
上述のように、本実施形態にかかる電磁波吸収シートは、電磁波吸収シートに入射した電磁波と電磁波遮蔽層で反射された反射波との位相を１／２波長ずらすことで、入射波と反射波とが打ち消し合って電磁波を吸収する電磁波干渉型（λ／４型）の電磁波吸収シートである。このため、誘電体層の厚さ（図１におけるｄ）は、吸収しようとする電磁波の波長に対応して定められる。
【００６０】
なお、ｄの値は、抵抗皮膜１と電磁波遮蔽層３との間が空間となっている場合、すなわち、誘電体層２が空気で形成されている場合は、ｄ＝λ／４が成り立つが、誘電体層２を誘電率εｒの材料で形成した場合には、ｄ＝λ／４（εｒ）-1/2となるため、誘電体層２を構成する材料として、材料自体が有する誘電率が大きなものを用いることで誘電体層２の厚さｄの値を、（εｒ）-1/2小さくすることができ、電磁波吸収シート全体の厚さも低減することができる。本実施形態にかかる電磁波吸収シートは、可撓性を有するものであることから、電磁波吸収シートを構成する誘電体層２や電磁波吸収シート自体の厚さが小さいほど容易に湾曲させることができてより好ましい。また、本実施形態にかかる電磁波吸収シートが、後述する接着層４などを介して電磁波漏洩を防ぎたい部材に貼着して使用されることが多いことを考慮すると、電磁波吸収シートの厚みが薄く容易に貼着部分の形状に沿うこと、また、シートがより軽量化されていることが好ましい。
【００６１】
なお、電磁波遮蔽層３から、λ／４離れた位置に抵抗皮膜１を配置する場合に比べ、電磁波遮蔽層３と抵抗皮膜１との間に誘電率εｒを有する誘電体層２を用いると厚みｄを、ｄ＝λ／４（εｒ）-1/2とすることができ、誘電体層２の厚さを薄くすることができる。このように、誘電率εｒの値や、誘電体層２の厚みを調整することで、当該誘電体層２を備えた電磁波吸収シートで吸収する電磁波の波長を制御することができる。
【００６２】
［電磁波遮蔽層］
本実施形態にかかる電磁波吸収シートの電磁波遮蔽層３は、誘電体層２を介して電磁波吸収シートの反対側に配置された、表面皮膜１から入射した電磁波を反射させる部材である。
【００６３】
同時に、電磁波遮蔽層３は、少なくとも抵抗皮膜１と誘電体層２が湾曲した際には追従して湾曲する可撓性と、透光性とを有していることが必要である。
【００６４】
このような要求に対応できる電磁波遮蔽層３として、導電性の繊維により構成された導電性メッシュが採用できる。導電性メッシュは、一例としてポリエステルモノフィラメントで織ったメッシュに金属を付着させて導電性とすることで構成できる。金属としては、導電性の高い銅、銀などを用いることができる。また、メッシュの表面を覆う金属膜による反射を低減するために、金属膜のさらに外側に黒色の反射防止層を付与したものも製品化されている。
【００６５】
また、電磁波遮蔽層３としては、他にも、直径が数十から数百μｍの細い銅線などの金属線が、縦横に配置された導電性格子を用いることができる。
【００６６】
なお、上述のメッシュや導電性格子による電磁波遮蔽層３は、可撓性と透光性とを確保するために、電磁波遮蔽層として求められる表面抵抗値を実現できる限りにおいて、最低限の厚さを有して構成されることとなる。また、導電性メッシュの繊維や導電性格子のワイヤーが傷ついたり、切断したりしてしまった場合には、所望する表面抵抗値を実現することが困難となる。このため、導電性格子のさらに背面側に、透光性を有する樹脂による補強層かつ保護層を形成して、導電性の材料による電磁波反射部分と樹脂製の膜構成部分との積層体による電磁波遮蔽層３を用いることができる。
【００６７】
［接着層］
本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて、接着層４を設けることで、抵抗皮膜１、誘電体層２、電磁波遮蔽層３との積層体である電磁波吸収シートを、電気回路を収納する筐体の内面や、電気機器の内面または外面などの所望の位置に貼着することができる。特に、本実施形態の電磁波吸収シートは可撓性を有するものであるため、湾曲した曲面上にも容易に貼着することができ、背面に接着層４を設けることで電磁波吸収シートの取り扱い容易性が向上する。
【００６８】
接着層４としては、粘着テープなどの粘着層として利用される公知の材料、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等を用いることができる。また被着体に対する粘着力の調節、糊残りの低減のために、粘着付与剤や架橋剤を用いることもできる。被着体に対する粘着力は５Ｎ／１０ｍｍ〜１２Ｎ／１０ｍｍが好ましい。粘着力が５Ｎ／１０ｍｍより小さいと、電磁波吸収シートが被着体から容易に剥がれてしまったり、ずれてしまったりすることがある。また、粘着力が１２Ｎ／１０ｍｍより大きいと、電磁波吸収シートを被着体から剥離しにくくなる。
【００６９】
また接着層４の厚さは、２０μｍ〜１００μｍが好ましい。接着層４の厚さが２０μｍより薄いと、粘着力が小さくなり、電磁波吸収シートが被着体から容易に剥がれたり、ずれたりすることがある。接着層４の厚さが１００μｍより大きいと、電磁波吸収シートを被着体から剥離しにくくなる。また接着層の凝集力が小さい場合は、電磁波吸収シートを剥離した場合、被着体に糊残りが生じる場合がある。また、電磁波吸収シート全体としての可撓性を低下させる要因となる。
【００７０】
なお、本実施形態にかかる電磁波吸収シートに用いられる接着層４としては、電磁波吸収シートを被着物体に剥離不可能に貼着する接着層４とすることができるとともに、剥離可能な貼着を行う接着層４とすることもできる。また、前述のように、本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて、接着層４を備えた構成とすることは必須の要件ではなく、電磁波吸収シートを所望する部材に対して、従来一般的な各種の接着方法を用いて接着することができる。
【００７１】
［保護層］
本実施形態にかかる電磁波吸収シートでは、抵抗皮膜１の表面である電磁波の入射面側に保護層５を設けることができる。
【００７２】
本実施形態にかかる電磁波吸収シートにおいて、抵抗皮膜１として用いられている導電性有機高分子は、空気中の湿度の影響を受けてその表面抵抗値が変化する場合がある。このため、抵抗皮膜１の表面に保護層５を設けることで湿度の影響を小さくして、インピーダンス整合による電磁波の吸収特性が低下することを効果的に抑制できる。
【００７３】
本実施形態の電磁波吸収シートにおいて保護層５としては、一例として、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートを用いることができ、これを、樹脂材料の接着剤によって抵抗皮膜１の表面に貼り付けて構成することができる。
【００７４】
なお、保護層５は、抵抗皮膜１の表面全体を覆う膜とすることで、抵抗皮膜１への水分の浸透を防ぐことができる。樹脂製の膜として形成される保護層５の表面抵抗値の成分は、積層される抵抗皮膜１の表面抵抗値の成分に対して並列接続されたものとして影響すると考えられる。このため、保護層５の厚みが厚くなりすぎなければ、電磁波吸収シートの入力インピーダンスに与える影響は極めて小さいと考えられる。また、電磁波吸収シートとしての入力インピーダンスとして、保護層５の表面抵抗値の影響を考慮した上で、抵抗皮膜１の表面抵抗値をより適した数値に設定することも可能である。
【００７５】
保護層５の厚みとしては、抵抗皮膜１を保護できる範囲においてより薄いことが好ましい。具体的には、保護層５の厚みは、１５０μｍ以下が好ましく１００μｍ以下であればより好ましい。保護層の厚みが１５０μｍを超えると、電磁波の吸収性能が低下して電磁波吸収量が２０ｄＢを下回る場合がある。また、電磁波吸収シート全体の厚みが大きくなるので、可撓性が低下する。
【００７６】
［実施例］
以下、本実施形態にかかる電磁波吸収シートとして、抵抗皮膜の表面抵抗値を変化させた複数種類のシートを実際に作製し、電磁波の入射角度が変化した際の電磁波吸収特性の変化を測定した結果について説明する。
【００７７】
＜抵抗皮膜の耐候性＞
抵抗皮膜は、以下に示す成分を添加、混合した抵抗皮膜液から作製した。
【００７８】
（１）導電性高分子分散体                                    ３６．７部
ヘレウス社製導電性高分子（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）
：ＰＨ−１００（製品名）、
固形分濃度  １．２質量％
（２）ＰＶＤＦ分散液                                          ５．６部
アルケマ社製：ＬＡＴＥＸ３２（商品名）、
固形分濃度  ２０質量％、  溶媒  水
（３）水溶性ポリエステル水溶液                                ０．６部
互応化学工業社製：プラスコートＺ５６１（商品名）
固形分濃度  ２５質量％
（４）有機溶媒（ジメチルスルホキシド）                        ９．９部
（５）水溶性溶媒（エタノール）                              ３０．０部
（６）水                                                    １７．２部。
【００７９】
抵抗皮膜は、基材としてのポリエチレンテレフタレート製シート（５０μｍ厚）上に、上記の組成で作製した抵抗皮膜液を、バーコート法によって乾燥後の厚さが所定の厚さとなるようにして塗布し、その後１５０℃で５分加熱し成膜した。
【００８０】
次に、基材の抵抗皮膜を形成した側とは反対側の面に、厚さ５００μｍの透明なシリコーンＯＣＡを貼り合わせた。この結果、基材の５０μｍと併せて、厚さ５５０μｍの誘電体層が形成されたこととなる。さらに、シリコーンＯＣＡ上に、セーレン株式会社製の導電メッシュＳｕ−４ｘ−１３２２７（製品名）を用いて電磁波遮蔽層を形成して電磁波吸収シートを作製した。なお、今回測定で用いた電磁波吸収シートでは、接着剤層と表面保護層は形成しなかった。
【００８１】
そして、抵抗皮膜の厚さを変化させることで表面抵抗値を異ならせて、以下の６種類の電磁波吸収シートを作製した。
【００８２】
（シート１）  表面抵抗値３１０Ω／□（厚さ１６０ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
（シート２）  表面抵抗値３４５Ω／□（厚さ１４７ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
（シート３）  表面抵抗値３７７Ω／□（厚さ１２０ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
（シート４）  表面抵抗値４２０Ω／□（厚さ１１８ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
（シート５）  表面抵抗値４６５Ω／□（厚さ１０７ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
（シート６）  表面抵抗値５００Ω／□（厚さ１００ｎｍ）
透過率６６．２％、ＨＡＺＥ１２％
ここで、シート３は、抵抗皮膜の表面抵抗値を真空中のインピーダンス値（３７７Ω）と同じとしたもので、従来のインピーダンス整合を行った電磁波吸収シートに相当する。
【００８３】
（電磁波吸収特性の測定）
上記作成したシート１〜シート６を測定対象として、フリースペース法によって６０〜９０ＧＨｚの帯域の電磁波吸収特性を測定した。具体的には、キーコム株式会社製の自由空間測定装置と、アンリツ株式会社製のベクトルネットワークアナライザＭＳ４６４７Ｂ（商品名）を用いて、各電磁波吸収シートに対して電磁波を照射した際の入射波と反射波の強度比をそれぞれ電圧値として把握した。
【００８４】
図２に、電磁波吸収シートに電磁波が所定の入射角度αで入射した状態を示す。
【００８５】
図２に示すように、電磁波吸収シートの抵抗皮膜１、誘電体層２を通った入射波１３は、電磁波遮蔽層３の表面で反射されて反射波１４となる。このとき、理想状態では、電磁波吸収シートの面に対する垂直線１５に対して入射波１３の成す角度と反射波１４のなす角度とは、いずれも同じ角度となる。なお、本明細書では、便宜上、図２に示した入射波１３と反射は１４との成す角度を入射角度αと称することとする。入射角度αは、光学分野において用いられる用語としての入射波１３の入射角α1と反射波１４の反射角α2との和、すなわち、α＝α1＋α2（通常、α1＝α2）である。
【００８６】
そこで、図２における実線矢印１３の根元方向に自由空間測定装置の送信アンテナ１６を配置し、図２における点線矢印１４の先端方向に受信アンテナ１７を配置して、入射角度αがα＝０度、すなわち垂直入射の状態から角度αを増加させていき、最大の入射角度α＝６５度となるまで、送信アンテナ１６から発射され電磁波吸収層３の表面で反射された電磁波を受信アンテナ１７で測定して、その強度を比較して反射減衰量をｄＢ単位で求めた。
【００８７】
図３は、それぞれの電磁波吸収シートにおける、電磁波吸収シートへの入射角度α（単位：度）と反射波減衰量（単位：ｄＢ）との関係を示した図である。なお、図３において、図３（ａ）がシート１（表面抵抗値３１０Ω／□）、図３（ｂ）がシート２（表面抵抗値３４５Ω／□）、図３（ｃ）がシート３（表面抵抗値３７７Ω／□）、図３（ｄ）がシート４（表面抵抗値４２０Ω／□）、図３（ｅ）がシート５（表面抵抗値４６５Ω／□）、図３（ｆ）がシート６（表面抵抗値５００Ω／□）、それぞれの反射波における減衰特性を示している。
【００８８】
図３（ａ）に示すように、抵抗皮膜１の表面抵抗値が３１０Ω／□のシート１の場合の反射減衰特性（符号３１）は、垂直入射である入射角度α＝０度の状態で反射減衰量が約１８ｄＢであり、入射角度が大きくなると反射減衰量が増加し、入射角度αが５度で２０ｄＢ、入射角度αが３４度でピークの約４５ｄＢとなる。その後、入射角度αが大きくなるにつれて反射減衰量が低下して、入射角度αが５５度で２０ｄＢとなる。この結果より、シート１では、入射角度αが５度から５５度までの間の５０度の入射角度幅を持った入射角度で電磁波が入射した場合でも、２０ｄＢ以上の高い反射減衰量を維持できることがわかる。また、シート１においては、入射角度αが３４度の電磁波に対して、抵抗被膜１の表面抵抗値が３１０Ω／□でインピーダンス整合していることがわかる。
【００８９】
図３（ｂ）に示す、抵抗皮膜１の表面抵抗値が３４５Ω／□のシート２の場合の反射減衰特性（符号３２）は、垂直入射のα＝０度の状態で反射減衰量は約２７ｄＢ、入射角度αが約２６度で反射減衰量がピークの５２ｄＢとなり、α＝５０度で反射減衰量が２０ｄＢとなる。このため、シート２でも、入射角度幅が５０度の範囲において、２０ｄＢ以上の高い反射減衰量を維持できることがわかる。また、シート２では、入射角度αが２６度の電磁波に対して、抵抗被膜１の表面抵抗値が３４５Ω／□でインピーダンス整合していることがわかる。
【００９０】
シート２において、図３（ａ）に示したシート１と比較して反射減衰量がピークとなる入射角度αが小さいのは、シート２の表面抵抗値が、垂直入射である入射角度α＝０度の場合にインピーダンス整合となる表面抵抗値３７７Ω／□により近いためと考えられる。
【００９１】
図３（ｃ）に示す、表面抵抗値が３７７Ω／□のシート３の反射減衰特性（符号３３）では、垂直入射である入射角度α＝０度の場合に最大の反射減衰量約４５ｄＢとなり、入射角度αが大きくなるにつれて反射減衰量が低下する。そして、入射角度αが３５度前後で、反射減衰量が２０ｄＢを下回る。このように、インピーダンス整合を行った場合には、垂直入射である入射角度αが０度の場合に極めて高い反射減衰量を得ることができる一方で、入射角度αが０度から大きくなると、比較的小さな入射角度幅においてしか良好な反射減衰量を保つことができないことがわかる。
【００９２】
なお、図３（ｃ）に示したような、入射角度αが０度の場合の反射減衰量が一番大きく、入射角αの値が大きくなるにつれて反射減衰量が徐々に低下する反射減衰特性は、抵抗皮膜１の表面抵抗値が３７７Ω／□に対して＋側、−側それぞれ３０Ω／□程度の範囲の電磁波吸収シートで同様に観察された。つまり、電磁波吸収シートに垂直に入射する電磁波に対しては、抵抗被膜１の表面抵抗値が３７７Ω／□でインピーダンス整合していることになる。
【００９３】
図３（ｄ）に示す、表面抵抗値が４２０Ω／□のシート４の電磁波減衰特性（符号３４）の場合、垂直入射であるα＝０度で反射減衰量が約２５ｄＢ、その後入射角度αが約２８度でピーク値の約５１ｄＢとなり、その後反射減衰量が低下して入射角度αが５０度で反射減衰量が２０ｄＢとなる。このように、シート３においては、入射角度幅が５０度の範囲で高い反射減衰量を実現できる。また、この結果から、シート３では、入射角度αが２８度の電磁波に対して、抵抗被膜１の表面抵抗値が４２０Ω／□でインピーダンス整合していることがわかる。
【００９４】
図３（ｅ）に示す、表面抵抗値が４６５Ω／□のシート５の電磁波減衰特性（符号３５）では、垂直入射であるα＝０度で反射減衰量が約１９ｄＢであり、入射角度が大きくなると反射減衰量が増加し、入射角度αが４度で２０ｄＢ、入射角度αが３７．５度でピークの約４２ｄＢとなる。その後、入射角度αが大きくなるにつれて反射減衰量が低下して、入射角度αが５６度で２０ｄＢとなる。この結果より、シート５では、入射角度αが３度から５６度までの間の５３度の入射角度幅を持った入射角度で電磁波が入射した場合でも、２０ｄＢ以上の反射減衰量を維持できることがわかる。また、シート５においては、入射角度αが３７．５度の電磁波に対して、抵抗被膜１の表面抵抗値が４６５Ω／□でインピーダンス整合していることがわかる。
【００９５】
図３（ｆ）に示す、表面抵抗値が５００Ω／□のシート６の電磁波減衰特性（符号３６）では、垂直入射であるα＝０度で反射減衰量が約１９ｄＢであり、入射角度が大きくなると反射減衰量が増加し、入射角度αが３度で２０ｄＢ、入射角度αが約４３度でピーク値の約５１ｄＢとなり、その後低下して入射角度αが５３度で反射減衰量が２０ｄＢとなる。この結果より、シート６では、入射角度αが３度から５３度までの５０度の入射角度幅の電磁波に対して、２０ｄＢ以上の反射減衰量を維持することができる。また、シート６では、抵抗被膜１の表面抵抗値が５００Ω／□でインピーダンス整合していることを表している。
【００９６】
このように、図３（ａ）から図３（ｆ）として示した、入射角度αを変化させた場合の反射減衰量の変化から、一般に好ましいとされていたインピーダンス整合された表面抵抗値３７７Ω／□の電磁波吸収シートでは、入射角度αが大きくなると急速に電磁波吸収特性が低下する一方、電磁波の入射角度によってインピーダンス整合する抵抗被膜の表面抵抗値が異なることがわかる。
【００９７】
また、電磁波吸収シートに入射する電磁波の入射角度が異なることが予想される場合など、所定の幅を持った入射角度で入射した電磁波を良好に吸収することができる電磁波吸収シートを実現するという観点からは、表面抵抗値を３７７Ω／□から少し異なる範囲に積極的に推移させることで、入射角度αの幅が５０度と大きな値となった場合でも、良好に電磁波を吸収することができる傾向にあることがわかった。
【００９８】
具体的には、空間中の入力インピーダンスとなる抵抗皮膜の表面抵抗値が３７７Ω／□よりも小さな範囲と大きな範囲とに、それぞれ入射角度αの幅が４０度や５０度になった場合でも、反射減衰量が２０ｄＢ以上を維持できる領域があることがわかった。反射減衰量が２０ｄＢということは、９９％の電磁波が吸収されることを意味することから実用上十分な電磁波吸収特性であると判断できる。
【００９９】
図４は、抵抗皮膜の表面抵抗値を異ならせた場合の、反射減衰量が２０ｄＢを維持できる入射角度幅を示す図である。
【０１００】
図４に符号４１として示したように、抵抗皮膜１の表面抵抗値が３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下の範囲、または、表面抵抗値が４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下の範囲では、入射角度αの幅が４０度までの間で反射減衰量−２０ｄＢを確保することができる。また、抵抗皮膜１の表面抵抗値が３１０Ω／□以上３４５Ω／□以下の範囲、または、表面抵抗値が４２０Ω／□以上５００Ω／□以下の範囲では、入射角度αの幅が５０度までの間で反射減衰量−２０ｄＢ以上を確保することができる。
【０１０１】
この結果、本実施形態にかかる電磁波吸収シートとして、抵抗皮膜の表面抵抗値を空気中のインピーダンス値である３７７Ω／□とは異ならせ、３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下の範囲とすることで、電磁波吸収シートへの電磁波の入射角が大きくばらついた場合でも、入射角度幅が４０度までの範囲で実用上十分なレベルとして考えられる反射減衰量が２０ｄＢ以上の電磁波吸収特性を備えた電磁波吸収シートを得ることができる。
【０１０２】
［可撓性、透光性の確認］
なお、本実施形態にかかる電磁波吸収シートとして上記実施例として説明した手順で作製し、５×１０ｃｍの大きさに切り出したものを、水平に配置された直径６ｍｍのアルミ製の円筒型棒（マンドレル）上に、抵抗皮膜が表向きになるようにして被せ、シートの両端に３００ｇの錘を付けて３０秒間維持した場合でも、抵抗皮膜の表面抵抗の値に変化は生じず、本実施形態にかかる電磁波吸収性シートが高い可撓性を備えていることを確認できた。
【０１０３】
また、本実施形態にかかる電磁波吸収シートの光学特性は、全光線透過率が３０％以上、ヘイズ値が４０以下の好ましい数値範囲にあることが確認できた。
【０１０４】
以上説明したように、本実施形態にかかる電磁波吸収シートは、吸収する電磁波が入射する側の表面に配置される抵抗皮膜を導電性有機高分子で構成することで、電磁波吸収シートを強く折り曲げた場合でも電磁波吸収特性を維持することができる。このため、安定した高い電磁波吸収特性を発揮し、可撓性と透光性とを備えた電磁波吸収シートを実現することができる。例えば、電磁波シールド状態に置かれる居室のカーテンなど、内部、もしくは、外部の様子を視認可能としつつも不所望な電磁波を吸収して透過させないことが求められる状況下で好適に使用できる。さらに、抵抗皮膜の表面抵抗値を３０３Ω／□以上３５０Ω／□以下、または、４１５Ω／□以上５０２Ω／□以下とすることで、電磁波吸収シートへの電磁波の入射角幅が４０度までの範囲で変化した場合でも、実用上十分であると考えられる反射減衰量が２０ｄＢ以上の電磁波吸収特性を、低コストで得ることができる。
【０１０５】
なお、より好ましくは、抵抗皮膜の表面抵抗値を３１０Ω／□以上３４５Ω／□以下の範囲、または、４２０Ω／□以上５００Ω／□の範囲とすることで、入射角度αが５０度までの範囲で変化した場合でも反射減衰量２０ｄＢ以上を確保きることが確認できた。このため、実際の使用時に見込まれる電磁波の入射角度幅が４０度迄なのか、それとも、５０度程度が見込まれるのかを判断して、より適切な表面抵抗値を有する抵抗皮膜を形成することで、実用上十分な電磁波吸収特性を広い入射角度幅に対して実現することができる電磁波吸収シートを作製することができる。
【０１０６】
なお、上記実施形態においては、電磁波吸収シートを構成する、抵抗被膜、誘電体層、電磁波遮蔽層、さらには、電磁波吸収シートとして備える場合には、保護層や接着層をすべて透光性のある部材を用いて、電磁波吸収シートとして透光性を備えたものについて説明した。
【０１０７】
しかし、本願で開示する、広い角度幅で入射する電磁波に対して実用上十分な電波吸収特性を有する電磁波吸収シートは、透光性を有しないものとしても実現可能である。この場合には、上述した電波吸収層を構成する各層の構成部材に代えて、抵抗被膜、および、誘電体層を構成する材料として、透光性は有しないもののより低コストの材料を用いることができるなど、本願で開示する電磁波吸収シートを実施する上でより幅広い材料選択が可能となる。また、電磁波遮蔽層としても、アルミ箔などの低コストの部材を採用することができる。
【０１０８】
このように、本願で開示する電磁波吸収シートによれば、いわゆるミリ波帯域以上の高い周波数の電磁波に対して、特に電磁波吸収シートへの電磁波の入射角が変動する場合でも、良好な電磁波吸収特性を発揮することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１０９】
本願で開示する電磁波吸収シートは、ミリ波帯域以上の高い周波数帯域の電磁波が大きな入射角度幅で入射する場合でも安定して吸収することができ、可撓性を有する電磁波吸収シートとして有用である。
【符号の説明】
【０１１０】
１      抵抗皮膜
２      誘電体層
３      電磁波遮蔽層
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2019054378.tif 000007
【図２】
2019054378.tif 000008
【図３】
2019054378.tif 000009
【図４】
2019054378.tif 000010
【国際調査報告】
2019054378.tif 000011
2019054378.tif 000012
2019054378.tif 000013
2019054378.tif 000014