(57)【要約】  本発明の第１の課題は、優れた拡散反射性を有する反射層を形成し得る液晶組成物を提供することにある。また、本発明の第２の課題は、優れた拡散反射性を有する反射層の製造方法、及び、優れた拡散反射性を有する反射層を提供することにある。また、本発明の第３の課題は、上記液晶組成物を用いて形成される硬化物及び光学異方体を提供することにある。  本発明の液晶組成物は、液晶化合物と、光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤Ａと、上記キラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤Ｂとを含み、上記液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態としたときに、上記キラル剤Ｂが誘起する螺旋の向きにコレステリック配向する。
2019013284.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶化合物と、
光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤Ａと、
前記キラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤Ｂとを含み、
前記液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態としたときに、前記キラル剤Ｂが誘起する螺旋の向きにコレステリック配向する、液晶組成物。
【請求項２】
下記式（１Ａ）の関係を満たし、
下記式（１Ａ）中の前記キラル剤Ａの螺旋誘起力及び前記キラル剤Ｂの螺旋誘起力の各単位は、μｍ−１であり、下記式（１Ａ）中の前記液晶化合物に対する前記キラル剤Ａの含有量及び前記液晶化合物に対する前記キラル剤Ｂの含有量の各単位は、質量％である、請求項１に記載の液晶組成物。
式（１Ａ）：前記キラル剤Ａの螺旋誘起力×前記液晶化合物に対する前記キラル剤Ａの含有量＜前記キラル剤Ｂの螺旋誘起力×前記液晶化合物に対する前記キラル剤Ｂの含有量
【請求項３】
前記キラル剤Ａの含有量は、前記液晶化合物の全質量に対して、１．０〜６．０質量％であり、前記キラル剤Ｂの含有量は、前記液晶化合物の全質量に対して、１．０〜１０質量％である、請求項１又は２に記載の液晶組成物。
【請求項４】
前記キラル剤Ａの螺旋誘起力は、１０〜１００μｍ−１であり、前記キラル剤Ｂの螺旋誘起力は、３０〜２００μｍ−１である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項５】
前記液晶化合物が、少なくとも１個以上の重合性基を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いて組成物層を形成する工程１と、
前記組成物層に含まれる前記液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする工程２と、
前記組成物層の少なくとも一部の領域に光照射することにより、光照射領域において、前記組成物層に含まれる前記キラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させ、前記コレステリック液晶相の螺旋ピッチを５％以上縮小させる工程３と、を有する反射層の製造方法。
【請求項７】
請求項５に記載の液晶組成物を用いて組成物層を形成する工程１と、
前記組成物層に含まれる前記液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする工程２と、
前記組成物層の少なくとも一部の領域に光照射することにより、光照射領域において、前記組成物層に含まれる前記キラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させ、前記コレステリック液晶相の螺旋ピッチを５％以上縮小させる工程３と、を有し、
前記工程３の際に、前記組成物層に硬化処理を施し、コレステリック液晶相を固定化する、又は、前記工程３の後に、前記組成物層に硬化処理を施し、コレステリック液晶相を固定化する工程４をさらに有する、反射層の製造方法。
【請求項８】
前記コレステリック液晶相の固定化を、光照射による重合反応で行う、請求項７に記載の反射層の製造方法。
【請求項９】
前記工程３における光照射が、前記組成物層をパターン状に露光する工程である、請求項６〜８のいずれか１項に記載の反射層の製造方法。
【請求項１０】
コレステリック液晶相を固定化してなる反射層であり、
前記反射層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部が波状である領域Ａと、
前記反射層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部が直線状であり、且つ、互いに平行である領域Ｂと、を有する反射層。
【請求項１１】
前記領域Ａのコレステリック液晶相由来の螺旋のピッチは、前記領域Ｂのコレステリック液晶相由来の螺旋のピッチよりも小さい、請求項１０に記載の反射層。
【請求項１２】
前記反射層の面内方向のいずれの位置においても、半径１ｍｍ以内に前記領域Ａと前記領域Ｂとが存在する、請求項１０又は１１に記載の反射層。
【請求項１３】
前記領域Ａ内に、更に、中心反射波長が異なる領域が複数存在する、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の反射層。
【請求項１４】
請求項５に記載の液晶組成物を硬化してなる硬化物。
【請求項１５】
請求項５に記載の液晶組成物を硬化してなる光学異方体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶組成物、反射層の製造方法、反射層、硬化物、及び、光学異方体に関する。
【背景技術】
【０００２】
コレステリック液晶相を固定してなる層は、特定の波長域において右円偏光及び左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させる性質を有する層として知られている。そのため、種々の用途へ展開されており、例えば、位相差層として用いられている（特許文献１）。なお、特許文献１においては、配向膜の配向規制力の方向をランダムな状態とし、この配向膜と接触する液晶化合物のダイレクターの方向をランダムにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−４９８６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方で、コレステリック液晶相を固定してなる層を投影スクリーン等の投映像表示用部材へ応用する点からは、視野角の拡大が求められる。
より具体的には、通常、コレステリック液晶相を固定してなる層の表面の法線方向から光が入射した際には、右円偏光及び左円偏光のいずれか一方が選択的に反射される。その際、反射が法線方向のみならず、斜め方向へもなされると、斜め方向からの視認性の向上に繋がる。つまり、反射層は、入射光が様々な方向に反射する特性（いわゆる、拡散反射性）に優れることが求められている。
本発明者らは、特許文献１に記載のラビング処理を施していない配向膜を用いて反射層を作製し、その拡散反射性について検討を行ったところ、拡散反射性が昨今の要求レベルを満たしておらず、更なる改良が必要であった。【０００５】
本発明は、上記実情を鑑みて、優れた拡散反射性を有する反射層を形成し得る液晶組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、優れた拡散反射性を有する反射層の製造方法、及び、優れた拡散反射性を有する反射層を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記液晶組成物を用いて形成される硬化物及び光学異方体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題に対して鋭意検討を行ったところ、光照射により螺旋誘起力（ＨＴＰ：Helical Twisting Power）が減少するキラル剤（キラル剤Ａ）と、上記キラル剤とは逆向きの螺旋を誘起させるキラル剤（キラル剤Ｂ）とを併用することにより、所望の特性を有する反射層を製造できることを知見した。
すなわち、下記構成により、上記課題が解決できることを見出した。【０００７】
〔１〕  液晶化合物と、
光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤Ａと、
上記キラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤Ｂとを含み、
上記液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態としたときに、上記キラル剤Ｂが誘起する螺旋の向きにコレステリック配向する、液晶組成物。
〔２〕  下記式（１Ａ）の関係を満たし、
下記式（１Ａ）中の上記キラル剤Ａの螺旋誘起力及び上記キラル剤Ｂの螺旋誘起力の各単位は、μｍ−１であり、下記式（１Ａ）中の上記液晶化合物に対する上記キラル剤Ａの含有量及び上記液晶化合物に対する上記キラル剤Ｂの含有量の各単位は、質量％である、〔１〕に記載の液晶組成物。
式（１Ａ）：上記キラル剤Ａの螺旋誘起力×上記液晶化合物に対する上記キラル剤Ａの含有量＜上記キラル剤Ｂの螺旋誘起力×上記液晶化合物に対する上記キラル剤Ｂの含有量
〔３〕  上記キラル剤Ａの含有量は、上記液晶化合物の全質量に対して、１．０〜６．０質量％であり、上記キラル剤Ｂの含有量は、上記液晶化合物の全質量に対して、１．０〜１０質量％である、〔１〕又は〔２〕に記載の液晶組成物。
〔４〕  上記キラル剤Ａの螺旋誘起力は、１０〜１００μｍ−１であり、上記キラル剤Ｂの螺旋誘起力は、３０〜２００μｍ−１である、〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の液晶組成物。
〔５〕  上記液晶化合物が、少なくとも１個以上の重合性基を有する、〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の液晶組成物。
〔６〕  〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の液晶組成物を用いて組成物層を形成する工程１と、
上記組成物層に含まれる上記液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする工程２と、
上記組成物層の少なくとも一部の領域に光照射することにより、光照射領域において、上記組成物層に含まれる上記キラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させ、上記コレステリック液晶相の螺旋ピッチを５％以上縮小させる工程３と、を有する反射層の製造方法。
〔７〕  〔５〕に記載の液晶組成物を用いて組成物層を形成する工程１と、
上記組成物層に含まれる上記液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする工程２と、
上記組成物層の少なくとも一部の領域に光照射することにより、光照射領域において、上記組成物層に含まれる上記キラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させ、上記コレステリック液晶相の螺旋ピッチを５％以上縮小させる工程３と、を有し、
上記工程３の際に、上記組成物層に硬化処理を施し、コレステリック液晶相を固定化する、又は、上記工程３の後に、上記組成物層に硬化処理を施し、コレステリック液晶相を固定化する工程４をさらに有する、反射層の製造方法。
〔８〕  上記コレステリック液晶相の固定化を、光照射による重合反応で行う、〔７〕に記載の反射層の製造方法。
〔９〕  上記工程３における光照射が、上記組成物層をパターン状に露光する工程である、〔６〕〜〔８〕のいずれかに記載の反射層の製造方法。
〔１０〕  コレステリック液晶相を固定化してなる反射層であり、
上記反射層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部が波状である領域Ａと、
上記反射層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部が直線状であり、且つ、互いに平行である領域Ｂと、を有する反射層。
〔１１〕  上記領域Ａのコレステリック液晶相由来の螺旋のピッチは、上記領域Ｂのコレステリック液晶相由来の螺旋のピッチよりも小さい、〔１０〕に記載の反射層。
〔１２〕  上記反射層の面内方向のいずれの位置においても、半径１ｍｍ以内に上記領域Ａと上記領域Ｂとが存在する、〔１０〕又は〔１１〕に記載の反射層。
〔１３〕  上記領域Ａ内に、更に、中心反射波長が異なる領域が複数存在する、〔１０〕〜〔１２〕のいずれかに記載の反射層。
〔１４〕  〔５〕に記載の液晶組成物を硬化してなる硬化物。
〔１５〕  〔５〕に記載の液晶組成物を硬化してなる光学異方体。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、優れた拡散反射性を有する反射層を形成し得る液晶組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、優れた拡散反射性を有する反射層の製造方法、及び、優れた拡散反射性を有する反射層を提供することができる。
また、本発明によれば、上記液晶組成物を用いて形成される硬化物及び光学異方体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】一般的なコレステリック液晶相状態の層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）で観察した際の模式図である。
【図２】本発明の製造方法で製造した反射層の断面をＳＥＭで観察した際の模式図である。
【図３】キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂの各々について、ＨＴＰ（μｍ-1）と照射光量（ｍＪ／ｃｍ2）との関係をプロットしたグラフの模式図である。
【図４】キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂを併用した系において、ＨＴＰ（μｍ-1）と照射光量（ｍＪ／ｃｍ2）との関係をプロットしたグラフの模式図である。
【図５】工程３の光照射工程として、パターン状に露光する工程を実施した場合に得られる、反射層の断面をＳＥＭで観察した際の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートの両方を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を表す表記であり、「（メタ）アクリル」とは、アクリル及びメタクリルの両方を表す表記である。
【００１１】
〔液晶組成物〕
本発明の液晶組成物は、
液晶化合物と、
光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤Ａと、
上記キラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤Ｂと、を含む。
また、本発明の液晶化合物においては、上記液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態としたときに、上記キラル剤Ｂが誘起する螺旋の向きにコレステリック配向する。
【００１２】
本発明者らは、上記液晶組成物を用いて反射層を製造する際に、コレステリック液晶相の状態の組成物に対して光を照射してキラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させると、コレステリック液晶相の螺旋ピッチが縮小（縮小率は５％以上が好ましい）し、この結果として、拡散反射性に優れる反射層を形成できることを知見している。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
まず、図１に、一般的なコレステリック液晶相状態の組成物の層を基板上に配置した際の断面模式図を示す。図１に示すように、基板１０上に配置されたコレステリック液晶相状態の組成物の層１２ａの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察すると、通常、明部１４と暗部１６との縞模様が観察される。すなわち、コレステリック液晶相状態の組成物の層の断面では、明部１４と暗部１６とを交互に積層した層状構造が観察される。
なお、図１中、明部１４と暗部１６の繰り返し２回分（明部２つおよび暗部２つ分）が螺旋１ピッチ分（螺旋の巻き数１回分）に相当する。
一般的に、図１に示すように、明部１４及び暗部１６の縞模様（層状構造）は基板１０の表面と平行となるように形成される（つまり、明部１４及び暗部１６が直線状であり、且つ、互いに平行となるように形成される）。このような態様の場合、コレステリック液晶相状態の組成物の層１２ａの法線方向から光が入射される場合、法線方向に光は反射されるが、斜め方向には光は反射されにくく、拡散反射性に劣る（図１中の矢印参照）。
【００１３】
それに対して、本発明の液晶組成物を用いて反射層を製造する際には、コレステリック液晶相の状態の組成物に対して、キラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させるように光照射を施し、光照射領域におけるコレステリック液晶相の螺旋ピッチをより小さくする（言い換えると、コレステリック液晶相の捩れをより強くする）工程を実施する。この結果として、上記光照射領域では、液晶化合物の捩れがより強くなり、コレステリック液晶相中の層が傾くように変化する。より具体的には、図１に示すコレステリック液晶相状態の組成物の層１２ａに対して、所定の処理を施すことにより、図２に示すように、明部１４及び暗部１６が波状構造（アンジュレーション構造）をとる層１２ｂが得られる。このような波状構造（凹凸構造）を有する層１２ｂに対して、波状構造を有する層１２ｂの法線方向から光が入射されると、図２に示すように、液晶化合物の螺旋軸が傾いている領域があるため、入射光の一部が斜め方向に反射される（図２中の矢印参照）。つまり、本発明の液晶組成物を用いることによって、拡散反射性（特に、広角反射性）に優れる反射層が得られる。
【００１４】
ところで、本発明の液晶組成物は、上述のとおり、キラル剤として、光照射により螺旋誘起力（ＨＴＰ： Helical Twisting Power）が減少するキラル剤（キラル剤Ａ）と、上記キラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤Ｂとを含んでいる。上記構成により、コレステリック液晶相の状態の組成物に対して光照射した際に、コレステリック液晶相の螺旋ピッチを縮小させることができると考えられる。
【００１５】
なお、キラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、下記式（１Ｂ）で表される螺旋配向能力を示すファクターである。
式（１Ｂ）  ＨＴＰ＝１／（螺旋ピッチの長さ（単位：μｍ）×液晶化合物に対するキラル剤の含有量（質量％））［μｍ-1］
螺旋ピッチの長さとは、コレステリック液晶相の螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）の長さをいい、液晶便覧(丸善株式会社出版)の１９６ページに記載の方法で測定できる。
なお、上記ＨＴＰの値は、キラル剤の種類のみならず、組成物中に含まれる液晶化合物の種類によっても影響を受ける。よって、例えば、所定のキラル剤Ｘ及び液晶化合物Ａを含む組成物と、所定のキラル剤Ｘ及び液晶化合物Ａとは異なる液晶化合物Ｂを含む組成物とを用意し、同一温度で両者のＨＴＰを測定した場合、その値が異なる場合もある。
なお、キラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、下記式（１Ｄ）としても表される。
式（１Ｄ）：ＨＴＰ＝（液晶化合物の平均屈折率）／｛（液晶化合物に対するキラル剤の含有量（質量％））×（中心反射波長（ｎｍ））｝［μｍ-1］
【００１６】
以下に、上記キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂの作用機序について、模式的に説明する。
図３に、キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂの各々について、縦軸をＨＴＰ（μｍ-1）、横軸を照射光量（ｍＪ／ｃｍ2）としてプロットしたグラフの一例を示す模式図を示す。
キラル剤Ａは、右方向（（＋））の螺旋を誘起し、光照射によりＨＴＰが減少する特性を有する。一方、キラル剤Ｂは、上記キラル剤Ａと逆向きである左方向（（−））の螺旋を誘起する。なお、図３では、上記キラル剤Ｂとして、照射光量依存性を実質的に有さないキラル剤を用いた態様を示している。また、図３では、キラル剤Ａとして、照射光量に依存してＨＴＰが線形的に減少するグラフを一例として示しているが、キラル剤Ａは、光照射を受けてＨＴＰが減少するものであれば特に制限されず、例えば、光照射を受けてＨＴＰが階段状に低下するものであってもよい。
【００１７】
液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする上で、液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、キラル剤Ａの螺旋誘起力とキラル剤Ｂの螺旋誘起力の総和に概ね相当すると考えられる。つまり、上記キラル剤Ａと上記キラル剤Ｂとを併用した系においては、図４に示すように、照射光量が大きいほど、キラル剤Ｂが誘起する螺旋の方向（−）に螺旋誘起力が大きくなると考えられる（なお、縦軸のＨＴＰは、右方向（＋）及び左方向（−）のいずれについても０から離れるほど大きくなる）。
上記機序により、コレステリック液晶相の状態の組成物に対して光照射を施すと、キラル剤Ａの螺旋誘起力が減少し、この結果として、キラル剤Ｂが誘起する螺旋の方向に捩れが強まり、コレステリック液晶相の螺旋ピッチの縮小が生じる。なお、コレステリック液晶相の螺旋ピッチの縮小率は、照射光量、及び、キラル剤Ｂに対するキラルＡの含有量等によって調整できる。
【００１８】
なお、本明細書中における「光」とは、活性光線又は放射線を意味し、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）、Ｘ線、紫外線、及び電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｂｅａｍ）等を意味する。なかでも、紫外線が好ましい。
【００１９】
以下、上記液晶組成物に含まれる各成分について説明する。
＜キラル剤Ａ＞
キラル剤Ａは、液晶化合物の螺旋を誘起する化合物であり、光照射により螺旋誘起力（ＨＴＰ）を減少させるキラル剤であれば特に制限されない。
また、キラル剤Ａは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤Ａは、一般に不斉炭素原子を含む。ただし、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物を、キラル剤Ａとして用いることもできる。キラル剤Ａは、重合性基を有していてもよい。
【００２０】
光照射によりＨＴＰを減少させるキラル剤としては、いわゆる光反応型キラル剤が挙げられる。光反応型キラル剤とは、キラル部位と光照射によって構造変化する光反応部位を有し、例えば、照射光量に応じて液晶化合物の捩れ力を大きく変化させる化合物である。
光照射によって構造変化する光反応部位の例としては、フォトクロミック化合物（内田欣吾、入江正浩、化学工業、ｖｏｌ．６４、６４０ｐ，１９９９、内田欣吾、入江正浩、ファインケミカル、ｖｏｌ．２８（９）、１５ｐ，１９９９）等が挙げられる。また、上記構造変化とは、光反応部位への光照射により生ずる、分解、付加反応、異性化、及び２量化反応等を意味し、上記構造変化は不可逆的であってもよい。また、キラル部位としては、例えば、野平博之、化学総説、Ｎｏ．２２液晶の化学、７３ｐ：１９９４に記載の不斉炭素等が相当する。
【００２１】
上記光反応型キラル剤としては、例えば、特開２００１−１５９７０９号公報の段落００４４〜００４７に記載の光反応型キラル剤、特開２００２−１７９６６９号公報の段落００１９〜００４３に記載の光学活性化合物、特開２００２−１７９６３３号公報の段落００２０〜００４４に記載の光学活性化合物、特開２００２−１７９６７０号公報の段落００１６〜００４０に記載の光学活性化合物、特開２００２−１７９６６８号公報の段落００１７〜００５０に記載の光学活性化合物、特開２００２−１８００５１号公報の段落００１８〜００４４に記載の光学活性化合物、特開２００２−３３８５７５号公報の段落００１６〜００５５に記載の光学活性化合物、及び特開２００２−１７９６８２号公報の段落００２０〜００４９に記載の光学活性化合物等が挙げられる。
【００２２】
キラル剤Ａとしては、なかでも、光異性化部位を少なくとも一つ有する化合物が好ましい。上記光異性化部位としては、可視光の吸収が小さく、光異性化が起こりやすく、且つ、光照射前後のＨＴＰ差が大きいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、スチルベン部位又はクマリン部位が好ましく、シンナモイル部位又はカルコン部位がより好ましい。なお、光異性化部位は、上述した光照射によって構造変化する光反応部位に該当する。
また、キラル剤Ａとしては、光照射前後のＨＴＰ差が大きいという点で、イソソルビド系光学活性化合物、イソマンニド系光学活性化合物、又はビナフトール系光学活性化合物が好ましい。つまり、キラル剤Ａは、上述したキラル部位として、イソソルビド骨格、イソマンニド骨格、又はビナフトール骨格を有していることが好ましい。キラル剤Ａとしては、なかでも、光照射前後のＨＴＰ差がより大きいという点で、イソソルビド系光学活性化合物又はビナフトール系光学活性化合物がより好ましく、イソソルビド系光学活性化合物が更に好ましい。
【００２３】
光照射前（螺旋誘起力が減少する前）のキラル剤ＡのＨＴＰは、１０〜１００μｍ−１が好ましく、１０〜８０μｍ−１がより好ましく、２０〜５０μｍ−１が更に好ましい。また、光照射後（螺旋誘起力が減少した後）のキラル剤ＡのＨＴＰは、０〜３０μｍ−１が好ましく、０〜２２μｍ−１がより好ましい。
【００２４】
液晶組成物中における上記キラル剤Ａの含有量は、液晶化合物の全質量に対して、１．０〜６．０質量％が好ましく、１．０〜５．０質量％がより好ましく、１．０〜４．０質量％が更に好ましく、１．２〜４．０質量％が特に好ましい。
なお、上記キラル剤Ａは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の上記キラル剤Ａを併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００２５】
＜キラル剤Ｂ＞
キラル剤Ｂは、上述したキラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤であれば特に制限されない。つまり、例えば、キラル剤Ａにより誘起する螺旋が右方向の場合には、キラル剤Ｂにより誘起する螺旋は左方向となる。
また、キラル剤Ｂは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤Ｂは、一般に不斉炭素原子を含む。ただし、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物を、キラル剤として用いることもできる。キラル剤Ｂは、重合性基を有していてもよい。
キラル剤Ｂとしては、例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載等に記載されたものを選択できる。なお、キラル剤Ｂとしては、上述した光反応型キラル剤ではないことが好ましい。
【００２６】
液晶性への影響をより低減できる点、及びヘイズをより低減できる点で、液晶組成物中におけるキラル剤Ｂの含有量は、少量であるほど好ましい。このため、キラル剤Ｂとしては、少量でも所望の螺旋ピッチの捩れ配向を達成可能なように、強い捩れ力のある化合物が好ましい。
このような強い捩れ力を示すキラル剤としては特開２００２―１７９６６８号公報の段落００１７〜００５０に記載の光学活性化合物、特開２００２−１８００５１号公報の段落００１６〜００４４に記載の光学活性化合物、特開２０１１−２４１２１５号公報記載の光学活性化合物、及び特開２０１４−０３４５８１号公報に記載のキラル剤等が挙げられる。
【００２７】
キラル剤Ｂとしては、ＨＴＰが大きいという点で、イソソルビド系光学活性化合物、イソマンニド系光学活性化合物、又はビナフトール系光学活性化合物が好ましく、イソソルビド系光学活性化合物又はビナフトール系光学活性化合物がより好ましく、ビナフトール系光学活性化合物が更に好ましい。
【００２８】
上記キラル剤Ｂの螺旋誘起力は、３０〜２００μｍ−１が好ましく、４０〜２００μｍ−１がより好ましく、５０〜１００μｍ−１が更に好ましい。
【００２９】
液晶組成物中における上記キラル剤Ｂの含有量は、液晶化合物の全質量に対して、１．０〜１０質量％が好ましく、２．０〜１０質量％がより好ましく、２．０〜８．０質量％が更に好ましい。
なお、上記キラル剤Ｂは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の上記キラル剤Ｂを併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００３０】
光照射後におけるコレステリック液晶相の螺旋ピッチの縮小率が優れる点で、液晶組成物中、キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂは、下記式（１Ａ）を満たすことが好ましい。
式（１Ａ）：
キラル剤Ａの螺旋誘起力×液晶化合物に対する上記キラル剤Ａの含有量＜キラル剤Ｂの螺旋誘起力×液晶化合物に対する上記キラル剤Ｂの含有量
なお、キラル剤Ａの螺旋誘起力及びキラル剤Ｂの螺旋誘起力の各単位はμｍ−１である。また、液晶化合物に対するキラル剤Ａの含有量及び液晶化合物に対するキラル剤Ｂの含有量の各単位は、質量％である。
【００３１】
＜液晶化合物＞
液晶化合物の種類は、特に制限されない。
一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物、円盤状液晶化合物）とに分類できる。更に、棒状タイプ及び円盤状タイプには、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできる。また、２種以上の液晶化合物を併用してもよい。
【００３２】
液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基又は環重合性基がより好ましい。より具体的には、重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基、エポキシ基、又は、オキセタン基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
【００３３】
液晶化合物としては、反射層の拡散反射性がより優れる点で、以下の式（Ｉ）で表される液晶化合物が好ましい。
なかでも、反射層の拡散反射性がより優れる点で、Ａで表される置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基の数をｍで割った数をｍｃとしたとき、ｍｃ＞０．１を満たす液晶化合物が好ましく、０．４≦ｍｃ≦０．８を満たす液晶化合物であるのがより好ましい。
なお、上記ｍｃは、以下の計算式で表される数である。
ｍｃ＝（Ａで表される置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基の数）÷ｍ
【００３４】
【化１】
2019013284.tif 000003
【００３５】
式中、
Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基を示し、Ａのうち少なくとも１つは置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基を示し、
Ｌは、単結合、又は、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
ｍは３〜１２の整数を示し、
Ｓｐ1及びＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、水素原子、又は、以下の式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、ただしＱ1及びＱ2のいずれか一方は重合性基を示す；
【化２】
2019013284.tif 000004
【００３６】
Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基、又は、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。本明細書において、フェニレン基というとき、１，４−フェニレン基であるのが好ましい。
なお、Ａのうち少なくとも１つは置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。
ｍ個のＡは、互いに同一でも異なっていてもよい。
【００３７】
ｍは３〜１２の整数を示し、３〜９の整数であるのが好ましく、３〜７の整数であるのがより好ましく、３〜５の整数であるのが更に好ましい。
【００３８】
式（Ｉ）中の、フェニレン基及びトランス−１，４−シクロヘキシレン基が有していてもよい置換基としては、特に制限されず、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルエーテル基、アミド基、アミノ基、及びハロゲン原子、並びに、上記の置換基を２つ以上組み合わせて構成される基からなる群から選択される置換基が挙げられる。また、置換基の例としては、後述の−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ3−Ｓｐ3−Ｑ3で表される置換基が挙げられる。フェニレン基及びトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、置換基を１〜４個有していてもよい。２個以上の置換基を有するとき、２個以上の置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００３９】
本明細書において、アルキル基は直鎖及び分岐のいずれでもよい。アルキル基の炭素数は１〜３０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６が更に好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、及び、ドデシル基等が挙げられる。アルコキシ基中のアルキル基の説明も、上記アルキル基に関する説明と同じである。また、本明細書において、アルキレン基というときのアルキレン基の具体例としては、上記のアルキル基の例それぞれにおいて、任意の水素原子を１つ除いて得られる２価の基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子が挙げられる。
【００４０】
本明細書において、シクロアルキル基の炭素数は、３以上が好ましく、５以上がより好ましく、また、２０以下が好ましく、１０以下がより好ましく、８以下が更に好ましく、６以下が特に好ましい。シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及び、シクロオクチル基等が挙げられる。
【００４１】
フェニレン基及びトランス−１，４−シクロヘキシレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ3−Ｓｐ3−Ｑ3からなる群から選択される置換基が好ましい。ここで、Ｘ3は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ4−Ｑ4）−を示すか、又は、Ｑ3及びＳｐ3と共に環構造を形成している窒素原子を示す。Ｓｐ3及びＳｐ4は、それぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。
Ｑ3及びＱ4はそれぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示す。
【００４２】
シクロアルキル基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基として、具体的には、テトラヒドロフラニル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、及び、モルホルニル基等が挙げられる。これらのうち、テトラヒドロフラニル基が好ましく、２−テトラヒドロフラニル基がより好ましい。
【００４３】
式（Ｉ）において、Ｌは、単結合、又は、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示す。Ｌは、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＯＣ（＝Ｏ）−であるのが好ましい。ｍ個のＬは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００４４】
Ｓｐ1及びＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。Ｓｐ1及びＳｐ2はそれぞれ独立に、両末端にそれぞれ−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、及び、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から選択される連結基が結合した炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−、及び、炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基からなる群から選択される基を１又は２以上組み合わせて構成される連結基であるのが好ましく、両末端に−Ｏ−がそれぞれ結合した炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基であるのがより好ましい。
【００４５】
Ｑ1及びＱ2はそれぞれ独立に、水素原子、又は、以下の式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示す。ただし、Ｑ1及びＱ2のいずれか一方は重合性基を示す。
【００４６】
【化３】
2019013284.tif 000005
【００４７】
重合性基としては、アクリロイル基（式（Ｑ−１））又はメタクリロイル基（式（Ｑ−２））が好ましい。
【００４８】
上記液晶化合物の具体例としては、以下の式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物、式（Ｉ−２１）で表される液晶化合物、式（Ｉ−３１）で表される液晶化合物が挙げられる。上記以外にも、特開２０１３−１１２６３１号公報の式（Ｉ）で表される化合物、特開２０１０−７０５４３号公報の式（Ｉ）で表される化合物、特開２００８−２９１２１８号公報の式（Ｉ）で表される化合物、特許第４７２５５１６号の式（Ｉ）で表される化合物、特開２０１３−０８７１０９号公報の一般式（II）で表される化合物、特開２００７−１７６９２７号公報の段落［００４３］記載の化合物、特開２００９−２８６８８５号公報の式（１−１）で表される化合物、ＷＯ２０１４／１０３２５号の一般式（Ｉ）で表される化合物、特開２０１６−８１０３５号公報の式（１）で表される化合物、並びに、特開２０１６−１２１３３９号公報の式（２−１）及び式（２−２）で表される化合物、等に記載の公知の化合物が挙げられる。
【００４９】
式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物
【化４】
2019013284.tif 000006
【００５０】
式中、Ｒ11は水素原子、炭素数１から１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、−Ｚ12−Ｓｐ12−Ｑ12を示し、
Ｌ11は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−を示し、
Ｌ12は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又は、−ＣＯＮＲ2−を示し、
Ｒ2は、水素原子、又は、炭素数１から３のアルキル基を示し、
Ｚ11及びＺ12はそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ12−を示し、
Ｒ12は水素原子又はＳｐ12−Ｑ12を示し、
Ｓｐ11及びＳｐ12はそれぞれ独立に、単結合、Ｑ11で置換されていてもよい炭素数１から１２の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、又は、Ｑ11で置換されていてもよい炭素数１から１２の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において、いずれか１つ以上の−ＣＨ2−を−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ11）−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−に置き換えて得られる連結基を示し、
Ｑ11は水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、
Ｑ12は水素原子又は式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、
ｌ11は０〜２の整数を示し、
ｍ11は１又は２の整数を示し、
ｎ11は１〜３の整数を示し、
複数のＲ11、複数のＬ11、複数のＬ12、複数のｌ11、複数のＺ11、複数のＳｐ11、及び、複数のＱ11はそれぞれ互いに同じでも異なっていてもよい。
また、式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物は、Ｒ11として、Ｑ12が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である−Ｚ12−Ｓｐ12−Ｑ12を少なくとも１つ含む。
また、式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物は、Ｚ11が−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＣ（＝Ｏ）ＮＲ12−、及び、Ｑ11が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である−Ｚ11−Ｓｐ11−Ｑ11であるのが好ましい。また、式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物は、Ｒ11として、Ｚ12が−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＣ（＝Ｏ）ＮＲ12−、及び、Ｑ12が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である−Ｚ12−Ｓｐ12−Ｑ12であるのが好ましい。
【００５１】
式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物に含まれる１，４−シクロヘキシレン基はいずれもトランス−１，４−シクロヘキレン基である。
式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物の好適態様としては、Ｌ11が単結合、ｌ11が１（ジシクロヘキシル基）、かつ、Ｑ11が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である化合物が挙げられる。
式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物の他の好適態様としては、ｍ11が２、ｌ11が０、かつ、２つのＲ11がいずれも−Ｚ12−Ｓｐ12−Ｑ12を表し、Ｑ12が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である化合物が挙げられる。
【００５２】
式（Ｉ−２１）で表される液晶化合物
【化５】
2019013284.tif 000007
【００５３】
式中、Ｚ21及びＺ22は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、又は、置換基を有していてもよいフェニレン基を示し、
上記置換基はいずれもそれぞれ独立に、−ＣＯ−Ｘ21−Ｓｐ23−Ｑ23、アルキル基、及びアルコキシ基からなる群から選択される１から４個の置換基であり、
ｍ２１は１又は２の整数を示し、ｎ２１は０又は１の整数を示し、
ｍ２１が２を示すときｎ２１は０を示し、
ｍ２１が２を示すとき２つのＺ21は同一であっても異なっていてもよく、
Ｚ21及びＺ22の少なくともいずれか一つは置換基を有していてもよいフェニレン基であり、
Ｌ21、Ｌ22、Ｌ23及びＬ24はそれぞれ独立に、単結合、又は、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及びＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
Ｘ21は−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ25−Ｑ25）−を示すか、又は、Ｑ23及びＳｐ23と共に環構造を形成する窒素原子を示し、
ｒ21は１から４の整数を示し、
Ｓｐ21、Ｓｐ22、Ｓｐ23、及びＳｐ25はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Ｑ21及びＱ22はそれぞれ独立に、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、
Ｑ23は水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基、又は、Ｘ21がＱ23及びＳｐ23と共に環構造を形成する窒素原子である場合において単結合を示し、
Ｑ25は、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、Ｓｐ25が単結合のとき、Ｑ25は水素原子ではない。
【００５４】
式（Ｉ−２１）で表される液晶化合物は、１，４−フェニレン基及びトランス−１，４−シクロヘキシレン基が交互に存在する構造であることも好ましく、例えば、ｍ２１が２であり、ｎ２１が０であり、かつ、Ｚ21がＱ21側からそれぞれ置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基であるか、又は、ｍ２１が１であり、ｎ２１が１であり、Ｚ21が置換基を有していてもよいアリーレン基であり、かつ、Ｚ22が置換基を有していてもよいアリーレン基である構造が好ましい。
【００５５】
式（Ｉ−３１）で表される液晶化合物；
【００５６】
【化６】
2019013284.tif 000008
【００５７】
式中、Ｒ31及びＲ32はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ31−Ｓｐ33−Ｑ33からなる群から選択される基であり、
ｎ３１及びｎ３２はそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、
Ｘ31は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ34−Ｑ34）−を示すか、又は、Ｑ33及びＳｐ33と共に環構造を形成している窒素原子を示し、
Ｚ31は、置換基を有していてもよいフェニレン基を示し、
Ｚ32は、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、又は、置換基を有していてもよいフェニレン基を示し、
上記置換基はいずれもそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ31−Ｓｐ33−Ｑ33からなる群から選択される１から４個の置換基であり、
ｍ３１は１又は２の整数を示し、ｍ３２は０〜２の整数を示し、
ｍ３１及びｍ３２が２を示すとき２つのＺ31、Ｚ32は同一であっても異なっていてもよく、
Ｌ31及びＬ32はそれぞれ独立に、単結合、又は、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及びＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
Ｓｐ31、Ｓｐ32、Ｓｐ33及びＳｐ34はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Ｑ31及びＱ32はそれぞれ独立に、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、
Ｑ33及びＱ34はそれぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、Ｑ33はＸ31及びＳｐ33と共に環構造を形成している場合において、単結合を示してもよく、Ｓｐ34が単結合のとき、Ｑ34は水素原子ではない。
式（Ｉ−３１）で表される液晶化合物として、特に好ましい化合物としては、Ｚ32がフェニレン基である化合物及びｍ３２が０である化合物が挙げられる。
【００５８】
式（Ｉ）で表される化合物は、以下の式（II）で表される部分構造を有することも好ましい。
【化７】
2019013284.tif 000009
式（ＩＩ）において、黒丸は、式（Ｉ）の他の部分との結合位置を示す。式（II）で表される部分構造は式（Ｉ）中の下記式（III）で表される部分構造の一部として含まれていればよい。
【００５９】
【化８】
2019013284.tif 000010
【００６０】
式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ3−Ｓｐ3−Ｑ3で表される基からなる群から選択される基である。ここで、Ｘ3は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ4−Ｑ4）−を示すか、又は、Ｑ3及びＳｐ3と共に環構造を形成している窒素原子を示す。Ｘ3は単結合又はＯ−であることが好ましい。Ｒ1及びＲ2は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ3−Ｓｐ3−Ｑ3であることが好ましい。また、Ｒ1及びＲ2は、互いに同一であることが好ましい。Ｒ1及びＲ2のそれぞれのフェニレン基への結合位置は特に制限されない。
【００６１】
Ｓｐ3及びＳｐ4はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。Ｓｐ3及びＳｐ4としては、それぞれ独立に、炭素数１から１０の直鎖又は分岐のアルキレン基が好ましく、炭素数１から５の直鎖のアルキレン基がより好ましく、炭素数１から３の直鎖のアルキレン基が更に好ましい。
Ｑ3及びＱ4はそれぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示す。
【００６２】
式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、以下式（II−２）で表される構造を有することも好ましい。
【００６３】
【化９】
2019013284.tif 000011
【００６４】
式中、Ａ1及びＡ2はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキレン基を示し、上記置換基はいずれもそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ3−Ｓｐ3−Ｑ3からなる群から選択される１から４個の置換基であり、
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は単結合、又は、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立に、０から９の整数を示し、かつｎ１＋ｎ２は９以下である。
Ｑ1、Ｑ2、Ｓｐ1、及び、Ｓｐ2の定義は、上記式（Ｉ）中の各基の定義と同義である。Ｘ3、Ｓｐ3、Ｑ3、Ｒ1、及び、Ｒ2の定義は、上記式（II）中の各基の定義と同義である。
【００６５】
式（Ｉ）で表される液晶化合物であって、０．４≦ｍｃ≦０．８を満たす液晶化合物としては、以下が例示される。
【００６６】
【化１０】
2019013284.tif 000012
【００６７】
【化１１】
2019013284.tif 000013
【００６８】
【化１２】
2019013284.tif 000014
【００６９】
【化１３】
2019013284.tif 000015
【００７０】
【化１４】
2019013284.tif 000016
【００７１】
【化１５】
2019013284.tif 000017
【００７２】
【化１６】
2019013284.tif 000018
【００７３】
【化１７】
2019013284.tif 000019
【００７４】
【化１８】
2019013284.tif 000020
【００７５】
【化１９】
2019013284.tif 000021
【００７６】
なお、液晶化合物は２種以上併用して用いてもよい。例えば、式（Ｉ）で表される液晶化合物を２種以上併用してもよい。
なかでも、上記式（Ｉ）で表される液晶化合物であって、０．４≦ｍｃ≦０．８を満たす液晶化合物と共に、式（Ｉ）で表される液晶化合物であって、０．１＜ｍｃ＜０．３を満たす液晶化合物を用いるのが好ましい。
【００７７】
式（Ｉ）で表される液晶化合物であって、０．１＜ｍｃ＜０．３を満たす液晶化合物としては、以下が例示される。
【化２０】
2019013284.tif 000022
【００７８】
【化２１】
2019013284.tif 000023
【００７９】
【化２２】
2019013284.tif 000024
【００８０】
【化２３】
2019013284.tif 000025
【００８１】
本発明に用いる液晶化合物としては、特開２０１４−１９８８１４号公報に記載される、以下の式（ＩＶ）で表される化合物、特に、式（ＩＶ）で表される１つの（メタ）アクリレート基を有する重合性液晶化合物も、好適に利用される。
【００８２】
式（ＩＶ）
【化２４】
2019013284.tif 000026
【００８３】
式（ＩＶ）中、Ａ1は、炭素数２〜１８のアルキレン基を表し、アルキレン基中の１つのＣＨ2又は隣接していない２つ以上のＣＨ2は、−Ｏ−で置換されていてもよい；
Ｚ1は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−又は単結合を表し；
Ｚ2は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し；
Ｒ2は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、置換基を有していてもよいフェニル基、ビニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、アセチル基、アセトキシ基、Ｎ−アセチルアミド基、アクリロイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、マレイミド基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、アリルオキシカルバモイル基、アルキル基の炭素数が１〜４であるＮ−アルキルオキシカルバモイル基、Ｎ−（２−メタクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、Ｎ−（２−アクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、又は、以下の式（ＩＶ−２）で表される構造を表し；
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜４のアシル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4のうち少なくとも１つは水素原子以外の基を表す。
【００８４】
−Ｚ5−Ｔ−Ｓｐ−Ｐ        式（ＩＶ−２）
式（ＩＶ−２）中、Ｐはアクリル基、メタクリル基又は水素原子を表し、Ｚ5は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ1−（Ｒ1は水素原子又はメチル基を表す）、−ＮＲ1Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、又は、−ＳＣ（＝Ｏ）−を表し、Ｔは１，４−フェニレンを表し、Ｓｐは置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族基を表し、脂肪族基中の１つのＣＨ2又は隣接していない２以上のＣＨ2は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換されていてもよい。
【００８５】
上記式（ＩＶ）で表される化合物は、以下の式（Ｖ）で表される化合物であることが好ましい。
式（Ｖ）
【化２５】
2019013284.tif 000027
式（Ｖ）中、ｎ１は３〜６の整数を表し；
Ｒ11は水素原子又はメチル基を表し；
Ｚ12は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｒ12は、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、又は、以下の式（ＩＶ−３）で表される構造を表す。
−Ｚ51−Ｔ−Ｓｐ−Ｐ        式（ＩＶ−３）
式（ＩＶ−３）中、Ｐはアクリル基又はメタクリル基を表し；
Ｚ51は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−ＯＣ（＝Ｏ）−を表し；Ｔは１，４−フェニレンを表し；
Ｓｐは置換基を有していてもよい炭素数２〜６の２価の脂肪族基を表す。この脂肪族基中の１つのＣＨ2又は隣接していない２以上のＣＨ2は、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換されていてもよい。
【００８６】
上記ｎ１は３〜６の整数を表し、３又は４であることが好ましい。
上記Ｚ12は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、−Ｃ（＝Ｏ）−を表すことが好ましい。
上記Ｒ12は、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される基を表し、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される基を表すことが好ましく、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される構造を表すことがより好ましい。
【００８７】
以下に、上記式（ＩＶ）で表される化合物の具体例を示す。ただし、本発明において、式（ＩＶ）で表される化合物は、これらに制限はされない。
【化２６】
2019013284.tif 000028
【００８８】
【化２７】
2019013284.tif 000029
【００８９】
【化２８】
2019013284.tif 000030
【００９０】
【化２９】
2019013284.tif 000031
【００９１】
【化３０】
2019013284.tif 000032
【００９２】
【化３１】
2019013284.tif 000033
【００９３】
【化３２】
2019013284.tif 000034
【００９４】
【化３３】
2019013284.tif 000035
【００９５】
本発明に用いる液晶化合物としては、特開２０１４−１９８８１４号公報に記載される、以下の式（ＶＩ）で表される化合物、特に、以下の式（ＶＩ）で表される（メタ）アクリレート基を有さない液晶化合物も好適に利用される。
【００９６】
式（ＶＩ）
【化３４】
2019013284.tif 000036
式（ＶＩ）中、Ｚ3は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−を表し；
Ｚ4は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、置換基を有していてもよい芳香環、シクロヘキシル基、ビニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、アセチル基、アセトキシ基、アクリロイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、マレイミド基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、アリルオキシカルバモイル基、アルキル基の炭素数が１〜４であるＮ−アルキルオキシカルバモイル基、Ｎ−（２−メタクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、Ｎ−（２−アクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、又は、以下の式（ＶＩ−２）で表される構造を表し；
Ｌ5、Ｌ6、Ｌ7及びＬ8は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜４のアシル基、ハロゲン原子、又は、水素原子を表し、Ｌ5、Ｌ6、Ｌ7及びＬ8のうち少なくとも１つは水素原子以外の基を表す。
【００９７】
−Ｚ5−Ｔ−Ｓｐ−Ｐ        式（ＶＩ−２）
式（ＶＩ−２）中、Ｐはアクリル基、メタクリル基又は水素原子を表し、Ｚ5は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ1−（Ｒ1は水素原子又はメチル基を表す）、−ＮＲ1Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、又はＳＣ（＝Ｏ）−を表し、Ｔは１，４−フェニレンを表し、Ｓｐは置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族基を表す。ただし、この脂肪族基中の１つのＣＨ2又は隣接していない２以上のＣＨ2は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換されていてもよい。
【００９８】
上記式（ＶＩ）で表される化合物は、以下の式（ＶII）で表される化合物であることが好ましい。
式（ＶII）
【化３５】
2019013284.tif 000037
【００９９】
式（ＶII）中、Ｚ13は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｚ14は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−を表し；
Ｒ13及びＲ14は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、又は上記式（ＩＶ−３）で表される構造を表す。
【０１００】
上記Ｚ13は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましい。
Ｒ13及びＲ14は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される構造を表し、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される構造を表すことが好ましく、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される構造を表すことがより好ましい。
【０１０１】
以下に、上記式（ＶＩ）で表される化合物の具体例を示す。ただし、本発明において、式（ＶＩ）で表される化合物は、これらに制限はされない。
【化３６】
2019013284.tif 000038
【０１０２】
【化３７】
2019013284.tif 000039
【０１０３】
本発明に用いる液晶化合物としては、特開２０１４−１９８８１４号公報に記載される、以下の式（ＶIII）で表される化合物、特に、以下の式（ＶIII）で表される２つの（メタ）アクリレート基を有する重合性液晶化合物も好適に利用される。
【０１０４】
式（ＶIII）
【化３８】
2019013284.tif 000040
【０１０５】
式（ＶIII）中、Ａ2及びＡ3は、それぞれ独立して、炭素数２〜１８のアルキレン基を表し、アルキレン基中の１つのＣＨ2又は隣接していない２つ以上のＣＨ2は、−Ｏ−で置換されていてもよい；
Ｚ5は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−又は単結合を表し；
Ｚ6は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又は単結合を表し；
Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し；
Ｌ9、Ｌ10、Ｌ11及びＬ12は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜４のアシル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、Ｌ9、Ｌ10、Ｌ11及びＬ12のうち少なくとも１つは水素原子以外の基を表す。
【０１０６】
上記式（ＶIII）で表される化合物は、下記式（ＩＸ）で表される化合物であることが好ましい。
式（ＩＸ）
【化３９】
2019013284.tif 000041
【０１０７】
式（ＩＸ）中、ｎ２及びｎ３は、それぞれ独立して、３〜６の整数を表し；
Ｒ15及びＲ16は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表す。
【０１０８】
式（ＩＸ）中、ｎ２及びｎ３は、それぞれ独立して、３〜６の整数を表し、上記ｎ２及びｎ３が４であることが好ましい。
式（ＩＸ）中、Ｒ15及びＲ16は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、上記Ｒ15及びＲ16が水素原子を表すことが好ましい。
【０１０９】
以下に、上記式（ＶIII）で表される化合物の具体例を示す。ただし、本発明において、式（ＶIII）で表される化合物は、これらに制限はされない。
【０１１０】
【化４０】
2019013284.tif 000042
【０１１１】
【化４１】
2019013284.tif 000043
【０１１２】
このような液晶化合物は、公知の方法により製造できる。
【０１１３】
＜任意の成分＞
組成物には、液晶化合物及びキラル剤以外の他の成分が含まれていてもよい。
【０１１４】
（重合開始剤）
組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。特に、液晶化合物が重合性基を有する場合、組成物が重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
【０１１５】
重合開始剤としては、キラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させる際の光照射波長とは異なる波長域で感光するものを選択することが好ましい。キラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させる際の光照射時の波長を３１０ｎｍとし、重合開始剤は、その感光波長が３６５ｎｍ程度のもの使用する態様が一例として挙げられる。
【０１１６】
組成物中での重合開始剤の含有量は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、１〜８．０質量％がより好ましい。
【０１１７】
（配向制御剤（配向剤））
組成物は、配向制御剤を含んでいてもよい。組成物に配向制御剤が含まれることにより、安定的又は迅速なコレステリック液晶相の形成が可能となる。
配向制御剤としては、例えば、含フッ素（メタ）アクリレート系ポリマー、ＷＯ２０１１／１６２２９１号に記載の一般式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される化合物、特開２０１２−２１１３０６号公報の段落［０００７］〜［００２９］に記載の化合物、特開２０１３−４７２０４号公報の段落［００２０］〜［００３１］に記載の化合物、ＷＯ２０１６／００９６４８号の段落［０１６５］〜［０１７０］に記載の化合物、ＷＯ２０１６／０９２８４４号の段落［００７７］〜［００８１］、及び、特許第４５９２２２５号公報に記載の一般式（Ｃｙ２０１）〜（Ｃｙ２１１）等が挙げられる。これらから選択される２種以上を含んでいてもよい。これらの化合物は、層の空気界面において、液晶化合物の分子のチルト角を低減又は実質的に水平配向させることができる。なお、本明細書で「水平配向」とは、液晶分子長軸と膜面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が２０°未満の配向を意味するものとする。
配向制御剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
組成物中での配向制御剤の含有量は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５．０質量％がより好ましく、０．０１〜１．０質量％が更に好ましい。
【０１１８】
（溶媒）
組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、水又は有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；ピリジン等のヘテロ環化合物；ベンゼン、及びヘキサン等の炭化水素；クロロホルム、及びジクロロメタン等のアルキルハライド類；酢酸メチル、酢酸ブチル、及びプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びシクロペンタノン等のケトン類；テトラヒドロフラン、及び１，２−ジメトキシエタン等のエーテル類；１，４−ブタンジオールジアセテート；等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１１９】
（その他の添加剤）
組成物は、１種又は２種類以上の酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤、安定剤、可塑剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、消泡剤、レべリング剤、増粘剤、難燃剤、界面活性物質、分散剤、並びに、染料及び顔料等の色材等の他の添加剤を含んでいてもよい。
【０１２０】
＜用途＞
上記液晶組成物は、種々の用途に適用できる。例えば、上記液晶組成物を用いて、光学異方体又は反射層を形成できる。なお、例えば、上記液晶組成物中が、重合性基を有する液晶化合物を含む場合、上記コレステリック液晶相の状態の組成物に対して硬化処理（光照射処理又は加熱処理など）を施すことにより、硬化物が得られ、硬化物は光学異方体又は反射層に好適に適用できる。
なお、光学異方体とは、光学異方性を有する物質を意図する。
また、反射層とは、コレステリック液晶相を固定してなる層に相当し、所定の反射帯域の光を反射することができる。反射層については、後述する。
【０１２１】
〔反射層の製造方法〕
以下に、本発明の反射層の製造方法について説明する。
本発明の反射層の製造方法は、以下の工程１〜工程３を少なくとも有する。
工程１：上記液晶組成物を用いて組成物層を形成する工程
工程２：上記組成物層に含まれる液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする工程
工程３：上記組成物層の少なくとも一部の領域に光照射することにより、光照射領域において、上記組成物層に含まれるキラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させ、上記コレステリック液晶相の螺旋ピッチを５％以上縮小させる工程
以下、各工程で使用される材料、及び、各工程の手順について詳述する。
【０１２２】
＜工程１＞
工程１は、上記液晶組成物を用いて組成物層を形成する工程である。具体的には、上述した液晶組成物を基板上に塗布し、組成物層を形成する工程である。
【０１２３】
（基板）
基板は、後述する組成物の層を支持する板である。なかでも、透明基板であることが好ましい。なお、透明基板とは、可視光の透過率が６０％以上である基板を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
基板を構成する材料は特に制限されず、例えば、セルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、（メタ）アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、アミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、及び、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー等が挙げられる。
基板には、ＵＶ（紫外線）吸収剤、マット剤微粒子、可塑剤、劣化防止剤、及び、剥離剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。
なお、基板は、可視光領域で低複屈折性であることが好ましい。例えば、基板の波長５５０ｎｍにおける位相差は５０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましい。
【０１２４】
基板の厚さは特に制限されないが、薄型化、及び、取り扱い性の点から、１０〜２００μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましい。
上記厚さは平均厚さを意図し、基板の任意の５点の厚さを測定し、それらを算術平均したものである。この厚さの測定方法に関しては、後述する反射層の厚さも同様である。
【０１２５】
（工程１の手順）
工程１では、まず、上述した液晶組成物を基板上に塗布する。塗布方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、及び、ダイコーティング法等が挙げられる。なお、液晶組成物の塗布に先立ち、基板に公知のラビング処理を施してもよい。
なお、必要に応じて、塗布後に、基板上に塗布された液晶組成物を乾燥する処理を実施してもよい。乾燥処理を実施することにより、塗布された液晶組成物から溶媒を除去できる。
【０１２６】
基板上に塗布された組成物（組成物層）の膜厚は特に制限されないが、反射層の拡散反射性がより優れる点で、０．１〜２０μｍが好ましく、０．２〜１５μｍがより好ましく、０．５〜１０μｍが更に好ましい。
【０１２７】
＜工程２＞
工程２は、工程１を経て得られた組成物層に含まれる液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする工程である。
液晶化合物を配向させる方法としては、組成物層を加熱する方法が挙げられる。具体的には、基板上に塗布された組成物（組成物層）を加熱して、組成物層中の液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする。
組成物層の液晶相転移温度は、製造適性の面から１０〜２５０℃の範囲内が好ましく、１０〜１５０℃の範囲内がより好ましい。
好ましい加熱条件としては、４０〜１００℃（好ましくは、６０〜１００℃）で０．５〜５分間（好ましくは、０．５〜２分間）にわたって組成物層を加熱することが好ましい。
組成物層を加熱する際には、液晶化合物が等方相（Ｉｓｏ）となる温度まで加熱しないことが好ましい。液晶化合物が等方相となる温度以上に組成物層を加熱してしまうと、コレステリック液晶相の欠陥が増加してしまい、好ましくない。
【０１２８】
＜工程３＞
工程３は、工程２を経て得られた組成物層の少なくとも一部の領域に光を照射することにより、光照射領域において、組成物層に含まれるキラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させ、コレステリック液晶相の螺旋ピッチを縮小させる工程である。
上述したように、本工程を実施することにより、光照射領域における液晶化合物の捩れがより増し、結果として、コレステリック液晶相の配向（螺旋軸の傾き）が変化して、これにより、基板１０に平行な明部１４及び暗部１６が変化して、図２に示すような波状構造（凹凸構造）の明部１４及び暗部１６を有する反射層（コレステリック液晶相状態の組成物の層１２ｂ）が形成される。
【０１２９】
なお、コレステリック液晶相の螺旋ピッチが縮小するとは、組成物層に対して光照射する前のコレステリック液晶相の中心反射波長をＸ（ｎｍ）とし、組成物層に対して光照射した後のコレステリック液晶相の中心反射波長をＹ（ｎｍ）とした場合、以下の式（１Ｃ）で表される縮小率Ｚが０より大きいことを意図する。
式（１Ｃ）：縮小率Ｚ（％）＝｛（Ｘ−Ｙ）／Ｘ｝×１００
コレステリック液晶相の螺旋ピッチを縮小率Ｚは、拡散反射性がより顕著に生じるという点で、５％以上であることが好ましく、１０％以上がより好ましく、２０％以上が更に好ましい。縮小率Ｚの上限は特に制限されないが、５０％以下の場合が多い。
【０１３０】
工程３においては、組成物層の少なくとも一部の領域に光を照射すればよい。言い換えると、光照射は、組成物層の全面を対象としたものであっても、一部の領域を対象としたものであってもよい。
一部の領域を対象として光照射を実施する場合には、パターン状に露光することが好ましい。この結果として、光照射領域のみにおいて、基板１０に平行な明部１４及び暗部１６が変化して、図５に示すような波状構造（凹凸構造）の明部１４及び暗部１６を有する領域Ａ（光照射領域：図５の１３ｂ）と、明部１４及び暗部１６が直線状であり、かつ、互いに平行である領域Ｂ（未露光領域：図５の１３ａ。コレステリック液晶相状態の組成物の層１２ａ中の液晶化合物の配向状態に相当する。）とを有する反射層が形成される。
パターン状に露光する方法としては、組成物層へマスクを介して露光する方法、レーザー光をパターン状に露光する方法、及び、光の干渉によってパターン状に露光する方法等が挙げられる。
【０１３１】
なお、工程３における光照射の照射強度は特に制限されないが、一般的には、０．１〜１０ｍＷ／ｃｍ2程度が好ましい。また、光を照射する時間は特に制限されないが、得られる層の充分な強度及び生産性の双方の観点から適宜決定すればよい。
また、光照射時における組成物層の温度は、例えば、０〜１００℃であり、１０〜４０℃が好ましい。上記工程３の光照射の照射強度、照射時間、及び照射光量等は、使用するキラル剤の種類により適宜選択すればよい。
【０１３２】
なお、光照射に使用される光は、キラル剤Ａの螺旋誘起力を変化させる活性光線又は放射線であれば特に制限されず、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）、Ｘ線、紫外線、及び電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｂｅａｍ）等を意味する。なかでも、紫外線が好ましい。
【０１３３】
＜硬化処理＞
なお、液晶化合物が重合性基を有する場合、工程３において、又は、工程３の後に、硬化処理を実施してもよい。
より具体的には、本発明の反射層の製造方法は、工程３の際に、組成物層に硬化処理を施し、コレステリック液晶相を固定化する、又は、工程３の後に、組成物層に硬化処理を施し、コレステリック液晶相を固定化する工程４をさらに有していてもよい。この処理が実施されて得られる反射層は、コレステリック液晶相を固定してなる層に該当する。
なお、ここで、コレステリック液晶相を「固定化した」状態は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ、好ましい態様である。それだけには制限されず、具体的には、通常０〜５０℃、より過酷な条件下では−３０〜７０℃の温度範囲において、層に流動性が無く、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を意味するものとする。本発明では、後述するように、紫外線照射によって進行する硬化反応により、コレステリック液晶相の配向状態を固定することが好ましい。
なお、コレステリック液晶相を固定してなる層においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、最終的に層中の組成物がもはや液晶性を示す必要はない。
また、このコレステリック液晶相の固定化は、光照射によりキラル剤Ａの螺旋誘起力が低減された後のコレステリック液晶相の構造（配向状態）を固定化するものであるのが好ましい。
【０１３４】
硬化処理の方法は特に制限されず、光硬化処理及び熱硬化処理が挙げられる。なかでも、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。また、前述のように、液晶化合物は、重合性基を有する液晶化合物であるのが好ましい。液晶化合物が重合性基を有する場合には、硬化処理は、光照射（特に紫外線照射）による重合反応であるのが好ましく、光照射（特に紫外線照射）によるラジカル重合反応であるのがより好ましい。
紫外線照射には、紫外線ランプ等の光源が利用される。
紫外線の照射エネルギー量は特に制限されないが、一般的には、０．１〜０．８Ｊ／ｃｍ2程度が好ましい。また、紫外線を照射する時間は特に制限されないが、得られる層の充分な強度及び生産性の双方の観点から適宜決定すればよい。
【０１３５】
〔反射層〕
本発明の反射層は、コレステリック液晶相を固定化してなる反射層であり、
断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部が波状である領域Ａと、
断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部が直線状であり、且つ、互いに平行である領域Ｂと、を有する。
【０１３６】
つまり、本発明の反射層は、具体的には、図５に示すような、断面ＳＥＭ観察図において明部と暗部とが波状構造をとる領域Ａと、明部と暗部とが直線状であり、且つ、互いに平行である領域Ｂとを有する。
【０１３７】
上述したように、反射層の製造工程（工程３）により、上記領域Ａのコレステリック液晶相由来の螺旋のピッチは、上記領域Ｂのコレステリック液晶相由来の螺旋のピッチよりも小さい（つまり、コレステリック液晶相の捩れがより強い）。
また、上記反射層の領域Ａは、コレステリック液晶構造を有し、螺旋軸と反射層の表面とのなす角が周期的に変化する構造（領域）をとる。言い換えれば、上記反射層の領域Ａは、コレステリック液晶構造を有し、コレステリック液晶構造は走査型電子顕微鏡にて観測される反射層の断面図において明部と暗部との縞模様を与え、少なくとも一つの暗部がなす線の法線と反射層の表面となす角が周期的に変化する領域である。そのため本発明の反射層の領域Ａにおいては、限られた方向ではなく、ほぼ任意の方向に光を拡散反射できる。
したがって、例えば、上記反射層を投影スクリーン等の投映像表示用部材へ応用した場合、領域Ａを額縁部に配置すれば、視認性の一層の向上に寄与できる。
また、上記領域Ａ及び上記領域Ｂが、面内方向のいずれの位置においても、半径１ｍｍ以内に存在している場合には、反射層の全領域にわたって拡散反射性により優れる。
【０１３８】
上記反射層は、反射波長帯域がより広がる点で、上記領域Ａ内に、更に、コレステリック液晶相の螺旋ピッチが異なる領域（言い換えると、中心反射波長が異なる領域）を複数有することが好ましい。
【０１３９】
なお、基板上に上記反射層を複数層形成してもよい。
例えば、上述した方法によって基板上に所定の選択反射波長を有する反射層Ｘを形成した後、同様の手順によって、反射層Ｘとは異なる選択反射波長を有する反射層Ｙを形成してもよい。なお、上記のように複数層の反射層を形成する際には、重合性基を有する液晶化合物を用いて、コレステリック液晶相が固定化してなる層を複数積層することが好ましい。
【０１４０】
＜用途＞
反射層は、所定の波状構造を有するコレステリック液晶相（コレステリック液晶構造）を有する層（以下、反射層を、「コレステリック液晶層」ともいう。）であり、このコレステリック液晶相を固定してなる層であることが好ましい。
コレステリック液晶層は、所定の波長域の光に対して選択反射特性を示す層である。コレステリック液晶層は選択反射波長域において、右円偏光及び左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させ、他方のセンスの円偏光を透過させる円偏光選択反射層として機能する。コレステリック液晶層を１層又は２層以上含むフィルムは、様々な用途に用いることができる。コレステリック液晶層を２層以上含むフィルムにおいて、各コレステリック液晶層が反射する円偏光のセンスは用途に応じて同じでも逆であってもよい。また、各コレステリック液晶層の後述の選択反射の中心波長も用途に応じて同じでも異なっていてもよい。
【０１４１】
なお、本明細書において、円偏光につき「センス」というときは、右円偏光であるか、又は左円偏光であるかを意味する。円偏光のセンスは、光が手前に向かって進んでくるように眺めた場合に電場ベクトルの先端が時間の増加に従って時計回りに回る場合が右円偏光であり、反時計回りに回る場合が左円偏光であるとして定義される。本明細書においては、コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向について「センス」との用語を用いることもある。コレステリック液晶による選択反射は、コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向（センス）が右の場合は右円偏光を反射し、左円偏光を透過し、センスが左の場合は左円偏光を反射し、右円偏光を透過する。
【０１４２】
例えば、可視光波長域（波長４００〜７５０ｎｍ）に選択反射特性を示すコレステリック液晶層を含むフィルムは、投映像表示用のスクリーン及びハーフミラーとして利用できる。また、反射帯域を制御することで、カラーフィルター又はディスプレイの表示光の色純度を向上させるフィルタ（例えば特開２００３−２９４９４８号公報参照）として利用できる。
また、上記反射層は、光学素子の構成要素である、偏光素子、反射膜、反射防止膜、視野角補償膜、ホログラフィー、及び、配向膜等、種々の用途に利用できる。
以下特に好ましい用途である投映像表示用部材としての用途について説明する。
【０１４３】
コレステリック液晶層の上記の機能により、投射光のうち選択反射を示す波長において、いずれか一方のセンスの円偏光を反射させて、投映像を形成できる。投映像は投映像表示用部材表面で表示され、そのように視認されるものであってもよく、観察者から見て投映像表示用部材の先に浮かび上がって見える虚像であってもよい。
【０１４４】
上記選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、コレステリック液晶層の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。なお、ここで、コレステリック液晶層が有する選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶層の法線方向から測定した円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長を意味する。上記式から分かるように、螺旋構造のピッチを調節することによって、選択反射の中心波長を調節できる。すなわち、ｎ値とＰ値を調節して、例えば、青色光に対して右円偏光及び左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させるために、中心波長λを調節し、見かけ上の選択反射の中心波長が４５０〜４９５ｎｍの波長域となるようにすることができる。なお、見かけ上の選択反射の中心波長とは実用の際（投映像表示用部材としての使用時）の観察方向から測定したコレステリック液晶層の円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長を意味する。コレステリック液晶相のピッチは液晶化合物とともに用いるキラル剤の種類、又はその添加濃度に依存するため、これらを調節することによって所望のピッチを得ることができる。なお、螺旋のセンス及びピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編  シグマ出版２００７年出版、４６頁、及び、「液晶便覧」液晶便覧編集委員会  丸善  １９６頁に記載の方法を用いることができる。
【０１４５】
また、赤色光波長域、緑色光波長域、及び青色光波長域にそれぞれ見かけ上の選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層をそれぞれ作製し、それらを積層することによりフルカラーの投映像の表示が可能である投映像表示用部材を作製できる。
【０１４６】
各コレステリック液晶層の選択反射の中心波長を、投映に用いられる光源の発光波長域、及び投映像表示用部材の使用態様に応じて調節することにより、光利用効率良く鮮明な投映像を表示できる。特にコレステリック液晶層の選択反射の中心波長をそれぞれ投映に用いられる光源の発光波長域等に応じてそれぞれ調節することにより、光利用効率良く鮮明なカラー投映像を表示できる。
【０１４７】
また、例えば、上記投映像表示用部材を可視光領域の光に対して透過性を有する構成とすることによりヘッドアップディスプレイのコンバイナとして使用可能なハーフミラーとすることができる。投映像表示用ハーフミラーは、プロジェクターから投映された画像を視認可能に表示できるとともに、画像が表示されている同じ面側から投映像表示用ハーフミラーを観察したときに、反対の面側にある情報又は風景を同時に観察できる。
【実施例】
【０１４８】
以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【０１４９】
〔キラル剤の合成と評価〕
＜化合物ＣＤ−１の合成＞
化合物ＣＤ−１を以下のスキームに従って合成した。【０１５０】
【化４２】
2019013284.tif 000044
【０１５１】
（Ｒ）−（＋）−１，１’−ビ−２−ナフトール（和光純薬製）１．４ｇ、テトラヒドロフラン（和光純薬製）４０ｍＬ、及びフタロイルクロリド（東京化成製）１．０ｇを１００ｍＬの三口フラスコに入れた後、更に三口フラスコにトリエチルアミン（東京化成製）１．０ｍＬを添加した。次に、得られた反応液を４０℃で２時間反応させた。続いてメタノール（和光純薬製）１００ｍＬを反応液に加えて、生じた固体をろ取し、４０℃で１２時間送風乾燥し、化合物ＣＤ−１を得た（１．０ｇ、収率５０％）。【０１５２】
＜化合物ＣＤ−２の合成＞
化合物ＣＤ−２は、特開２００２−３３８５７５号公報の実施例１、２に記載の手法にて合成した。【０１５３】
【化４３】
2019013284.tif 000045
【０１５４】
＜化合物ＣＤ−３＞
化合物ＣＤ−３として、Paliocolor LC 756（BASF社製）を用いた。【０１５５】
【化４４】
2019013284.tif 000046
【０１５６】
＜化合物ＣＤ−４＞
特願２０１６−５０８８１７号の実施例１に記載のカイラル剤１の鏡像異性体をＣＤ−４として準備した。【０１５７】
【化４５】
2019013284.tif 000047
【０１５８】
＜螺旋誘起力（ＨＴＰ）と、その光変化率の評価＞
（化合物ＣＤ−１のＨＴＰとその光変化率の評価）
以下の方法により、化合物ＣＤ−１のＨＴＰ（なお、ここでのＨＴＰは、加熱（９０℃）によって液晶化合物がプラナー配向してなる液晶層（コレステリック液晶相の状態）でのＨＴＰを意図する。）、及び、光照射によるＨＴＰの変化率（以下「光変化率」ともいう。）の評価を実施した。
なお、化合物ＣＤ−１のＨＴＰ及びその光変化率の評価には、後述する液晶化合物ＬＣ−１を用いた。【０１５９】
≪試料溶液の調製≫
下記構造で表される液晶化合物ＬＣ−１と化合物ＣＤ−１を混合した後、得られた混合物に溶剤を加えることにより、下記組成の試料溶液を調製した。
・下記構造で表される液晶化合物ＬＣ−１                  １００質量部
・化合物ＣＤ−１                                            ５質量部
・溶剤（ＭＥＫ（メチルエチルケトン）／シクロヘキサノン＝９０／１０（質量比））
溶質濃度が３０質量％となる量【０１６０】
【化４６】
2019013284.tif 000048
【０１６１】
≪液晶層１−１の作製≫
次に、洗浄したガラス基板上にポリイミド配向膜形成用組成物ＳＥ−１３０（日産化学社製）を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を焼成した後、ラビング処理することにより、配向膜付き基板を作製した。この配向膜のラビング処理面に、３０μＬの上記試料溶液を回転数１０００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートし、９０℃で１分間熟成することにより、液晶層を形成した。【０１６２】
≪ＨＴＰの算出≫
得られた液晶層について、螺旋誘起力（ＨＴＰ）を測定した。具体的には、上記液晶層の中心反射波長を、分光光度計（島津社製、ＵＶ−３１００）を用いて測定し、下記式（１Ｄ）により光照射前のＨＴＰを算出した。
式（１Ｄ）：ＨＴＰ＝（液晶化合物の平均屈折率）／｛（液晶化合物に対するキラル剤の含有量（質量％））×（中心反射波長（ｎｍ））｝［μｍ-1］
なお、式（１Ｄ）中、「液晶化合物の平均屈折率」は、１．５５であると仮定して計算した。
次に、上記液晶層に対して光源（ＵＶＰ社製、２ＵＶ・トランスイルミネーター）より３６５ｎｍ光を０．４ｍＷ／ｃｍ2の照射強度で１分間紫外線を照射した。照射後の液晶層の中心反射波長を、分光光度計（島津社製、ＵＶ−３１００）を用いて測定し、上記式（１Ｄ）により光照射後のＨＴＰを算出した。
結果を第１表に示す。【０１６３】
≪螺旋センスの確認≫
上記光照射前後における中心反射波長の測定において、サンプルと光源の間に円偏光板を挟んで測定を行った。反射ピークの有無から、コレステリック液晶相の螺旋センスを確認した。
結果を第１表に示す。【０１６４】
≪ＨＴＰの光変化率の算出≫
下記式（１Ｅ）によりＨＴＰの光変化率を算出した。
式（１Ｅ）：光変化率＝[｛（３６５ｎｍ光照射前のＨＴＰ）−（３６５ｎｍ光照射後のＨＴＰ）｝/（３６５ｎｍ光照射前のＨＴＰ）]×１００［％］
結果を第１表に示す。【０１６５】
（化合物ＣＤ−２〜４のＨＴＰとその光変化率の評価）
化合物ＣＤ−２〜４を用いた液晶層についても、化合物ＣＤ−１を用いた場合と同様に上述の評価を行い、化合物ＣＤ−２〜４のＨＴＰとその光変化率の評価を実施した。【０１６６】
なお、キラル剤である化合物ＣＤ−２の光照射後のＨＴＰは、３６×（１００−４４）／１００＝２０.２μｍ−１に該当する。化合物ＣＤ−４の光照射後のＨＴＰは、６４×（１００−４０）／１００＝３８．４μｍ−１に該当する。【０１６７】
【表１】
2019013284.tif 000049
【０１６８】
上記第１表から、キラル剤ＣＤ−２及びＣＤ−４は、光照射により螺旋誘起力（ＨＴＰ）が減少することが明らかである。また、キラル剤ＣＤ−１及びＣＤ−３は、光照射により螺旋誘起力は変化せず、且つ、キラル剤ＣＤ−１はキラル剤ＣＤ−２と逆向きの螺旋を誘起し、キラル剤ＣＤ−３はキラル剤ＣＤ−４と逆向きの螺旋を誘起することが確認できる。【０１６９】
〔液晶組成物の調製及びその評価〕
＜実施例１＞
上述した化合物ＣＤ−２を「光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤Ａ」として、上述した化合物ＣＤ−１を「キラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤Ｂ」として用い、下記に示す液晶組成物を調製した。【０１７０】
（液晶組成物の調製）
上述した液晶化合物ＬＣ−１、化合物ＣＤ−１、及び化合物ＣＤ−２を混合した後、得られた混合物に溶剤を加えることにより、下記組成の試料溶液を調製した。
・液晶化合物ＬＣ−１                                    １００質量部
・化合物ＣＤ−１                                        ５．０質量部
・化合物ＣＤ−２                                        ３．３質量部
・配向剤（１）                                          ０．１質量部
・重合開始剤（Ｉｒｇ−９０７（ＢＡＳＦ製））            ３．０質量部
・溶剤（ＭＥＫ／シクロヘキサノン＝９０／１０（質量比））
溶質濃度が３０質量％となる量【０１７１】
【化４７】
2019013284.tif 000050
【０１７２】
（反射層の作製）
次に、洗浄したガラス基板上にポリイミド配向膜形成用組成物ＳＥ−１３０（日産化学社製）を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を焼成した後、ラビング処理することにより、配向膜付き基板を作製した。この配向膜のラビング処理面に、上記液晶組成物３０μＬを回転数１０００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートすることにより、組成物層を形成し、９０℃で１分間乾燥（熟成）して液晶化合物を配向させた（言い換えると、コレステリック液晶相の状態とした）。
次に、液晶化合物を配向させた組成物層に対して、光源（ＵＶＰ社製、２ＵＶ・トランスイルミネーター）より３６５ｎｍ光を０．４ｍＷ／ｃｍ2の照射強度で１分間紫外線を照射した。続いて、上記紫外線照射後の組成物層に対して、２５℃、窒素雰囲気下で５００ｍＪ/ｃｍ2の照射量で紫外線（３１０ｎｍ光）を照射することにより硬化処理を実施し、反射層（コレステリック液晶相を固定化してなる層に該当）を得た。【０１７３】
なお、上記手順においては、液晶化合物を配向させた組成物層に対して、３６５ｎｍ光を０．４ｍＷ／ｃｍ2の照射強度で１分間紫外線を照射しており、この処理が組成物層に含まれるキラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させる処理に該当する。また、光源（ＵＶＰ社製、２ＵＶ・トランスイルミネーター）より３６５ｎｍ光を０．４ｍＷ／ｃｍ2の照射強度で１分間紫外線を照射したことによる、キラル剤Ａの螺旋誘起力の光変化率については、第１表中に示した通りである。
また、第２表中に示す「光照射による螺旋ピッチの縮小率」とは、上記キラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させる処理の結果として生じる、コレステリック液晶相の螺旋ピッチの縮小率を示すものである。以下に、光照射による螺旋ピッチの縮小率の評価方法について説明する。【０１７４】
（光照射による螺旋ピッチの縮小率、螺旋センスの評価）
第２表中の「光照射による螺旋ピッチの縮小率」は、上記液晶組成物を用いて下記の方法により測定した。【０１７５】
≪液晶層２−１の作製≫
洗浄したガラス基板上にポリイミド配向膜形成用組成物ＳＥ−１３０（日産化学社製）を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を焼成した後、ラビング処理することにより、配向膜付き基板を作製した。この配向膜のラビング処理面に、３０μＬの上記液晶組成物を回転数１０００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートし、９０℃で１分間熟成することにより、液晶層を形成した。【０１７６】
≪螺旋ピッチ縮小率の算出≫
得られた液晶層の中心反射波長を、分光光度計（島津社製、ＵＶ−３１００）を用いて測定した。
次に、上記液晶層に対して光源（ＵＶＰ社製、２ＵＶ・トランスイルミネーター）より３６５ｎｍ光を０．４ｍＷ／ｃｍ2の照射強度で１分間紫外線を照射した。得られた液晶層の中心反射波長を、分光光度計（島津社製、ＵＶ−３１００）を用いて測定した。
測定された照射前後の中心反射波長を用いて下記式（１Ｆ）により、螺旋ピッチ縮小率を算出した。結果を第２表に示す。
式（１Ｆ）：螺旋ピッチ縮小率＝[｛（３６５ｎｍ光照射前の中心反射波長）−（３６５ｎｍ光照射後の中心反射波長）｝/（３６５ｎｍ光照射前の中心反射波長）]×１００［％］【０１７７】
≪螺旋センスの確認≫
なお、上記螺旋ピッチ縮小率の測定に際しては、コレステリック液晶相の螺旋センスの確認も併せて実施した。
具体的には、光照射前後における中心反射波長の測定において、サンプルと光源の間に円偏光板を挟んで測定を行った。反射ピークの有無から、コレステリック液晶相の螺旋センスを確認した。結果を第２表に示す。【０１７８】
得られた反射層を用いて、以下の拡散反射性（広角反射性）の評価を行った。
（拡散反射性の評価）
上記反射層の０°入射、１０°又は４５°検出における絶対反射率測定を行った。得られた測定値を用いて下記式（１Ｇ）より反射比を求め、下記評価基準に基づいて拡散反射性を評価した。結果を第２表に示す。
式（１Ｇ）：反射比＝（１０°検出における絶対反射Ｙ値）／（４５°検出における絶対反射Ｙ値）
≪評価基準≫
「Ａ」：反射比が２未満である。
「Ｂ」：反射比が２以上、３未満である。
「Ｃ」：反射比が３以上、１０未満である。
「Ｄ」：反射比が１０以上である。【０１７９】
＜実施例２〜５＞
液晶組成物中に含まれるキラル化合物とその含有量（質量部）を第２表に示す配合にかえた以外は、実施例１と同様の方法により実施例２〜５の液晶組成物を調製した。また、得られた液晶組成物を用いて、実施例１と同様に、光照射による螺旋ピッチの縮小率、螺旋センス、及び広角反射性の評価を実施した。結果を第２表に示す。
なお、実施例４及び５においては、上述した化合物ＣＤ−４を「光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤Ａ」として、上述した化合物ＣＤ−３を「キラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤Ｂ」として用いた。【０１８０】
＜比較例１〜３＞
液晶組成物中に含まれるキラル化合物の含有量（質量部）を第２表に示す配合にかえた以外は、実施例１と同様の方法により比較例１〜３の液晶組成物を調製した。また、得られた液晶組成物を用いて、実施例１と同様に、光照射による螺旋ピッチの縮小率、螺旋センス、及び広角反射性の評価を実施した。結果を第２表に示す。
なお、比較例２の液晶組成物は、光照射による螺旋ピッチの縮小率が−４４％であり、言い換えると螺旋ピッチが４４％増大することが確認された。比較例３の液晶組成物は、光照射による螺旋ピッチの縮小率が−１２％であり、言い換えると螺旋ピッチが１２％増大することが確認された。【０１８１】
【表２】
2019013284.tif 000051
【０１８２】
実施例１〜５において得られた反射層の断面ＳＥＭ観察（断面ＳＥＭ写真）によって、コレステリック液晶相の層状構造が波打っている（アンジュレーション構造を有する：図２参照）ことを確認した。【０１８３】
一方、比較例１〜３において得られた反射層の断面ＳＥＭ観察（断面ＳＥＭ写真）では、コレステリック液晶相の層状構造が波打っていることが確認できなかった。【０１８４】
第２表に示されるように、アンジュレーション構造を有する実施例１〜５の反射層は、アンジュレーション構造を有さない比較例１〜３の反射層と比べると、拡散反射性が優れることが分かる。特に、実施例１〜５の対比から、コレステリック液晶相の螺旋ピッチの縮小率が大きい（縮小率が、好ましくは１０％以上、より好ましくは２０％以上）ほど、拡散反射性により優れることが確認された。【０１８５】
＜実施例６＞
実施例１の液晶組成物を用い、下記の手順により反射層を作製した。【０１８６】
（反射層２の作製）
洗浄したガラス基板上にポリイミド配向膜形成用組成物ＳＥ−１３０（日産化学社製）を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を焼成した後、ラビング処理することにより、配向膜付き基板を作製した。この配向膜のラビング処理面に、上記液晶組成物３０μＬを回転数１０００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートすることにより、組成物層を形成し、９０℃で１分間乾燥（熟成）して液晶化合物を配向させた（言い換えると、コレステリック液晶相の状態とした）。
次に、液晶化合物を配向させた組成物層に対して、開口部を有するマスクを介して、光源（ＵＶＰ社製、２ＵＶ・トランスイルミネーター）より３６５ｎｍ光を０．４ｍＷ／ｃｍ2の照射強度で１分間紫外線を照射した（キラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させる処理に該当）。続いて、マスクを外した状態で上記紫外線照射後の組成物層に対して、２５℃、窒素雰囲気下で５００ｍＪ/ｃｍ2の照射量で紫外線（３１０ｎｍ）を照射することにより硬化処理を実施し、反射層（コレステリック液晶相を固定化してなる層に該当）を得た。
実施例６において得られた反射層の断面ＳＥＭ観察（断面ＳＥＭ写真）によって、コレステリック液晶相の層状構造が波打っている領域Ａと、コレステリック液晶相の明部と暗部とが直線状であり、且つ互いに平行である領域Ｂと、がマスクパターンに合わせて（言い換えると、パターン状に）形成されていることが確認された（面内方向のいずれの位置においても、半径１ｍｍ以内に上記領域Ａと上記領域Ｂとが存在することが確認された）。また、領域Ａにおける螺旋ピッチは、領域Ｂの螺旋ピッチよりも小さいことが確認された。【０１８７】
＜実施例７＞
上記実施例６において、組成物層に含まれるキラル剤Ａの螺旋誘起力を減少させる際の光照射時間を変更することにより、上記領域Ａ内に、更に液晶化合物の捩れ強度が異なる領域を形成することができた。この結果として、領域Ａ内にもコレステリック液晶相の螺旋ピッチが異なる領域（言い換えると、中心反射波長が異なる領域）を複数形成することができた。
【符号の説明】
【０１８８】
１０    基板
１２ａ    コレステリック液晶相状態の組成物の層
１２ｂ    波状構造を有する層
１３ａ    領域Ａ
１３ｂ    領域Ｂ
１４    明部
１６    暗部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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