(57)【要約】  良好な表示性能を発揮することができる液晶表示装置を提供する。液晶表示装置は、液晶セルと偏光板とを含む液晶パネルと、光源を含むバックライトユニットとをこの順で配置し、偏光板が、バックライトユニット側から順に、保護フィルム、衝撃吸収層、および偏光子を具備し、衝撃吸収層が、２５℃において、周波数１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有し、前記ｔａｎδの極大値が０．１以上２．０以下であるに関する。
2019097960.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルと偏光板とを含む液晶パネルと、光源を含むバックライトユニットとをこの順で配置した液晶表示装置であって、
前記偏光板が、前記バックライトユニット側から順に、保護フィルム、衝撃吸収層、および偏光子を具備し、
前記衝撃吸収層が、２５℃において、周波数１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有し、前記ｔａｎδの極大値が０．１以上２．０以下である液晶表示装置。
ただし、前記ｔａｎδは貯蔵弾性率に対する損失弾性率の比の値である。
【請求項２】
前記ｔａｎδの極大値を示す周波数における前記衝撃吸収層の貯蔵弾性率が３０ＭＰａ以上である請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記衝撃吸収層の厚みが５〜２００μｍである請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記衝撃吸収層が、メタクリル酸メチルとｎ−ブチルアクリレートとのブロック共重合体を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
上記衝撃吸収層が、スチレンとイソプレンのブロック共重合体、及び／または、反応性基含有イソプレンポリマーを含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
保護フィルムと、２５℃において、周波数１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有する衝撃吸収層と、偏光子とをこの順に有する偏光板。
ただし、前記ｔａｎδは貯蔵弾性率に対する損失弾性率の比の値である。
【請求項７】
請求項６に記載の偏光板を有する画像表示装置。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置、偏光板および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置には、バックライトユニットと液晶パネルが含まれる。バックライトユニットとしては、拡散板、拡散シート等と呼ばれる光拡散性を有する部材（拡散部材）が配された構成のものが広く用いられている（特許文献１参照）。
液晶パネルは、液晶セルとその両側に設けられた偏光板を含む。偏光板は、少なくとも偏光子を含み、通常、偏光子の一方または両方の面に、偏光子に傷が付くことを防ぐために保護フィルム（偏光板保護フィルム）が積層されている。保護フィルムとしては、偏光板をロールトゥロールで製造するときのフィルム搬送性の観点から、カール（フィルムの反り）が生じにくく、かつ、割れの発生が少ないものが好ましく、例えばハードコート層を有さない樹脂フィルムの形態が好適である。液晶表示装置は、通常、液晶セルおよび偏光板が組み込まれた液晶パネルが、光源および各種部材（例えば上記の拡散部材等）を含むバックライトユニットと、クリアランス（clearance；隙間、空気層とも呼ばれる。）
を介して配置された構成となっている。【０００３】
特許文献１の液晶表示装置は、バックライトユニットの構成部材のうち、液晶パネル（液晶表示素子）の最も近くに配置される部材が拡散部材（拡散板）である。特許文献１によれば、このような構成とすることにより液晶表示装置の表示面における輝度をより高めることができるとされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−０３４９７２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、液晶表示装置の薄型化のために、液晶パネルとバックライトユニットとの間のクリアランスは狭小化する傾向にある。このクリアランスの狭小化により、液晶パネルのバックライト側最表面とバックライトユニットとが接触しやすくなっている。液晶パネルが大型化すると液晶パネルがより撓みやすくなるため、液晶パネルとバックライトユニットとの接触はより発生しやすくなる。
本発明者らが、従来の液晶表示装置の表示性能を検討したところ、表示面において斜め方向から観察した時に、光漏れが生じており表示性能が低下してしまっているものがあった。この光漏れは、液晶パネルとバックライトユニットとの接触によりバックライトユニットおよび／または保護フィルムに発生した傷に起因するものと考えられる。
そこで本発明の目的は、液晶表示装置において表示性能の向上を達成することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の上記課題は下記手段により解決される。【０００７】
＜１＞
液晶セルと偏光板とを含む液晶パネルと、光源を含むバックライトユニットとをこの順で配置した液晶表示装置であって、上記偏光板が、上記バックライトユニット側から順に、保護フィルム、衝撃吸収層、および偏光子を具備し、
上記衝撃吸収層が、２５℃において、周波数１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有し、前記ｔａｎδの極大値が０．１以上２．０以下である液晶表示装置。
ただし、上記ｔａｎδは貯蔵弾性率に対する損失弾性率の比の値である。
＜２＞
上記ｔａｎδの極大値を示す周波数における上記衝撃吸収層の貯蔵弾性率が３０ＭＰａ以上である＜１＞に記載の液晶表示装置。
＜３＞
上記衝撃吸収層の厚みが５〜２００μｍである＜１＞又は＜２＞のいずれかに記載の液晶表示装置。
＜４＞
上記衝撃吸収層が、メタクリル酸メチルとｎ−ブチルアクリレートとのブロック共重合体を含む＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
＜５＞
上記衝撃吸収層が、スチレンとイソプレンのブロック共重合体、及び／または、反応性基含有イソプレンポリマーを含む＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
＜６＞
保護フィルムと、２５℃において、周波数１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有する衝撃吸収層と、偏光子とをこの順に有する偏光板。
ただし、上記ｔａｎδは貯蔵弾性率に対する損失弾性率の比の値である。
＜７＞
＜６＞に記載の偏光板を有する画像表示装置。【０００８】
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。【０００９】
本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、特段の断りがない限り、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によってポリスチレン換算の分子量として計測することができる。このとき、ＧＰＣ装置はＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムはＧ３０００ＨＸＬ＋Ｇ２０００ＨＸＬを用い、２３℃で流量は１ｍＬ／ｍｉｎで、屈折率（ＲＩ）で検出することとする。溶離液としては、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、クロロホルム、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）、ｍ−クレゾール／クロロホルム（湘南和光純薬（株）製）から選定することができ、測定試料がＴＨＦに溶解する場合はＴＨＦを用いることとする。
本発明および本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、液晶パネルとバックライトユニットとの接触による傷の発生を抑えることができ、液晶表示装置の表示性能の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の偏光板の構成、及び液晶表示装置における本発明の偏光板とバックライトユニットとの位置関係を示す断面模式図である。
【図２】衝撃吸収層の２５℃における周波数とｔａｎδの関係を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。以下の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明は、本発明で規定すること以外は、そのような実施態様に限定されるものではない。
【００１３】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、少なくとも液晶セルおよび偏光板を含む液晶パネルと、少なくとも光源を含むバックライトユニットとをこの順（すなわち、液晶セル、偏光板、およびバックライトユニットの順）で配置してなる。この偏光板は、バックライトユニット側から順に、保護フィルム、衝撃吸収層、および偏光子を具備し、衝撃吸収層が、２５℃において、周波数１０−１〜１０１５Ｈｚ（すなわち、周波数１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚ）の範囲にｔａｎδの極大値を有する。
ｔａｎδ（損失正接）は貯蔵弾性率に対する損失弾性率の比の値（損失弾性率／貯蔵弾性率）である。
【００１４】
上記液晶パネルを構成する上記偏光板は、上記のとおり保護フィルム、衝撃吸収層、および偏光子をこの順に有している。上記偏光板としては、２枚の保護フィルムの間に偏光子が配された構成の偏光板が、現在広く用いられている。本発明の一態様にかかる偏光板も、かかる構成の偏光板とすることができる。すなわち、本発明の偏光板は、保護フィルム、衝撃吸収層、偏光子、および保護フィルムをこの順に有する積層構造とすることができる。本発明の偏光板において偏光子を挟んで互いに対向する２枚の保護フィルムのうち、液晶表示装置に組み込まれた際に液晶セル側に位置する保護フィルムを「インナー側保護フィルム」と呼び、他方の保護フィルム（液晶パネル側とは反対の側に位置する保護フィルム）を「アウター側保護フィルム」と呼ぶ。
【００１５】
一態様では、上記液晶パネルは、２枚の偏光板の間に液晶セル（この液晶セルは一般的には、２枚の配向膜の間に液晶が配された構成を有する。この配向膜の、液晶とは反対側には、通常は透明電極及び透明基板（ガラス基板等）が配される。）が配された構成である。すなわち、上記液晶パネルはフロント偏光板、液晶セル、およびリア偏光板を含む形態とすることができる。液晶パネルにおいて、「フロント偏光板」とは、上記液晶パネルがバックライトユニットとともに液晶表示装置に組み込まれた際、上記２つの偏光板の中で視認側（表示面側）に位置する偏光板であり、「リア偏光板」とはバックライトユニット側に位置する偏光板である。本発明の液晶表示装置において、少なくともリア偏光板が、上述した衝撃吸収層を有する偏光板である。
【００１６】
上述のように、バックライトユニットと液晶パネルとを、液晶パネルのバックライトユニット側最表面が、液晶パネルを構成する偏光板の保護フィルム表面となるように組み込んだ液晶表示装置では、表示性能が低下しやすい傾向にある。この一因として、表示面における光漏れが考えられる。本発明者らは、この光漏れは、バックライトユニットと液晶パネルとの接触によりバックライトユニットの液晶パネル側最表面および／または液晶パネルのバックライト側最表面（保護フィルム表面）に発生した傷に起因するものと推定している。近年、液晶表示装置の薄型化のために、液晶パネルとバックライトユニットとの間のクリアランスが狭小化する傾向にあること、また、液晶パネルが大型化し撓みやすくなっていることにより、バックライトユニットの液晶パネル側最表面と液晶パネルのバックライト側最表面とが接触しやすくなっていると考えられ、結果、上記傷が発生しやすくなっていると本発明者らは推察している。
本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、液晶表示装置を構成する液晶パネルのバックライト側に用いる偏光板において、バックライトユニット側の保護フィルムと偏光子との間に特定の周波数域にｔａｎδの極大値を有する衝撃吸収層を設けることにより、液晶表示装置を表示性能に優れたものにできることを見出した。これはおそらく、保護フィルム内部に発生する応力を低減させることができることが一因であると考えられる。
【００１７】
以上が、上記液晶表示装置に関する本発明者らによる推察である。ただし推察に過ぎず、先に記載したように、本発明を何ら限定するものではない。
【００１８】
本発明では、偏光板を構成する衝撃吸収層の２５℃における周波数とｔａｎδの関係について、下記の方法で周波数−ｔａｎδのグラフを作成し、ｔａｎδの極大値及びこの極大値を示す周波数を求める。
（試料作製方法）
衝撃吸収層形成用材料を溶剤に溶解、または溶融させて得られた塗布液を、剥離処理が施された剥離シートの剥離処理面に、乾燥後の厚みが１０〜２００μｍ程度（好ましくは１０〜５０μｍ）になるよう塗布、乾燥させた後、剥離シートから衝撃吸収層を剥離し衝撃吸収層の試験片を作製する。なお、上記厚みはｔａｎδの極大値及びこの極大値を示す周波数には事実上影響しない（実施例の厚み５０〜２００μｍの範囲において、ｔａｎδの極大値及びこの極大値を示す周波数は一定である）。
（測定方法）
動的粘弾性測定装置（（株）アイティー・エス・ジャパン会社製ＤＶＡ−２２５）を用いて、あらかじめ温度２５℃、相対湿度６０％雰囲気下で２時間以上調湿した上記試験片について、「ステップ昇温・周波数分散」モードにおいて下記条件において測定を行った後、「マスターカーブ」編集にて２５℃における周波数に対するｔａｎδ、貯蔵弾性率Ｅ’および損失弾性率Ｅ’’のマスターカーブを得た。得られたマスターカーブからｔａｎδの極大値及び極大値を示す周波数を求めた。
試料:５ｍｍ×３０ｍｍ
つかみ間距離:２０ｍｍ
設定歪み：０．１０％
測定温度:−４０℃〜４０℃
昇温条件:２℃/ｍｉｎ
【００１９】
衝撃吸収層は、２５℃において、周波数１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を少なくとも１つ有していればよく、周波数１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を２つ以上有していてもよい。また、１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚ以外の周波数の範囲に更にｔａｎδの極大値を有していてもよく、その極大値が最大値であってもよい。
【００２０】
衝撃吸収層は、２５℃において、周波数１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を少なくとも１つ有することが好ましく、周波数１．０×１０３〜１．０×１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を少なくとも１つ有することがより好ましく、周波数１．０×１０５〜１．０×１０９Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を少なくとも１つ有することが更に好ましい。
【００２１】
衝撃吸収層の２５℃におけるｔａｎδの極大値は、衝撃吸収の観点から、０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましい。また、硬度の観点から、衝撃吸収層の２５℃におけるｔａｎδの極大値は、２．０以下であることが好ましく、更には１．５以下が好ましく、１．２以下であることがより好ましい。
【００２２】
ｔａｎδの極大値を示す周波数における衝撃吸収層の貯蔵弾性率（Ｅ’）は３０ＭＰａ以上であることが好ましい。ｔａｎδの極大値を示す周波数における衝撃吸収層のＥ’が３０ＭＰａ以上であることで、外部応力に対する変位量が大きくならず、変形による積層体及び上記積層体を前面板として用いたディスプレイの破損が起こりにくい。ｔａｎδの極大値を示す周波数における衝撃吸収層のＥ’は５０ＭＰａ以上であることがより好ましい。また、衝撃吸収の観点から、ｔａｎδの極大値を示す周波数における衝撃吸収層のＥ’は特に上限はないが、３．０×１０３ＭＰａ以下が実用的であり、１．０×１０３ＭＰａ以下であることも好ましい。
【００２３】
以下、本発明の偏光板を構成する各層の成分及び各層の形成について、詳細を説明する。
【００２４】
（１）衝撃吸収層
（衝撃吸収層の主成分）
衝撃吸収層は、偏光板を画像表示装置のリア側偏光板として用いた際に、リア側偏光板表面の保護フィルムの破損を防いだり、この保護フィルム最表面に対向して配されるバンクライトユニットに傷を生じることを防いだりできるものが好ましく、樹脂から構成されてもよいし、エラストマー(油展ゴムを含む)から構成されてもよい。
【００２５】
上記樹脂としては、１，２−ポリブタジエン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ、通常３質量％以上の酢酸ビニル単位を含有する）及びポリエチレン樹脂等のポリオレフィン樹脂；ポリ塩化ビニル樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリアクリル樹脂（（メタ）アクリレート樹脂等）；ビニルエステル樹脂（ＥＶＡを除く）；飽和ポリエステル樹脂；ポリアミド樹脂；フッ素樹脂（ポリフッ化ビニリデン等）；ポリカーボネート樹脂；ポリアセタール樹脂；エポキシ樹脂；（メタ）アクリル樹脂；不飽和ポリエステル樹脂及びケイ素樹脂等が挙げられる。
これらの樹脂のうち、（メタ）アクリル樹脂等が好ましい。
【００２６】
エラストマーとしては、共役ジエンの重合体若しくはブロック共重合体；アクリル系重合体若しくはブロック共重合体；スチレン系重合体若しくはブロック共重合体；芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体；共役ジエンの重合体若しくはブロック共重合体の水素添加物；芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体の水素添加物；エチレン・α−オレフィン系共重合体；極性基変性オレフィン系共重合体；極性基変性オレフィン系共重合体と金属イオン及び／又は金属化合物とよりなるエラストマー；アクロルニトリル−ブタジエン系ゴム等のニトリル系ゴム；ブチルゴム；アクリル系ゴム；熱可塑性ポリオレフィンエラストマー（ＴＰＯ）、熱可塑性ポリエステルエラストマー（ＴＰＥＥ）、ポリアミドエラストマー（ＴＰＡＥ）、ジエン系エラストマー（１，２−ポリブタジエン等）などの熱可塑性エラストマー；シリコーン系エラストマー；フッ素系エラストマーなどを挙げることができる。
これらのエラストマーのうち、アクリル系重合体若しくはブロック共重合体、スチレン系重合体若しくはブロック共重合体、シリコーン系エラストマーが好ましく、アクリル系ブロック共重合体、スチレン系ブロック共重合体が特に好ましい。アクリル系ブロック共重合体としては、メタクリル酸メチルとｎ−ブチルアクリレートとのブロック共重合体（「ＰＭＭＡ−ＰｎＢＡ共重合体」とも呼ぶ）等が挙げられる。スチレン系ブロック共重合体としては、スチレンとイソプレン、またはスチレンとブテンとのブロック共重合体等が挙げられる。衝撃吸収層が含み得る樹脂又はエラストマーは公知の方法で合成してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、たとえば、クラリティＬＡ２１４０ｅ、クラリティＬＡ２２５０、クラリティＬＡ４２８５、ＨＹＢＲＡＲ５１２７、ＨＹＢＲＡＲ７３１１Ｆ（（株）クラレ製、商品名）などが挙げられる。
【００２７】
樹脂又はエラストマーの重量平均分子量は、溶剤への溶解性と硬度のバランスの観点から、１×１０４〜１×１０６が好ましく、５×１０４〜５×１０５がより好ましい。
【００２８】
本発明の偏光板が備える衝撃吸収層は、上述の周波数域にｔａｎδの極大値を有するが、ｔａｎδがどの周波数域に極大値を有するかは、衝撃吸収層を構成する樹脂又はエラストマーの主鎖又は側鎖の運動性と関係していると推定される。したがって、同様の構造を有する樹脂又はエラストマーであれば、同様の周波数域にｔａｎδの極大値を有するものと推定される。
【００２９】
衝撃吸収層中の樹脂又はエラストマーの含有量は、衝撃吸収層の全質量に対して、５０〜１００質量％であることが好ましい。
【００３０】
（添加剤）
衝撃吸収層は、上述の樹脂又はエラストマーのみを構成材料とすることもできるが、その他に更に添加剤を含有してもよい。添加剤としては、密着性改良剤、軟化剤、可塑剤、滑剤、架橋剤、架橋助剤、光増感剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤、難燃剤、防菌又は防かび剤、耐候剤、紫外線吸収剤、粘着付与剤、造核剤、顔料、染料、有機フィラー、無機フィラー、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。また、上述の樹脂又はエラストマー以外の重合体を含有してもよい。
【００３１】
衝撃吸収層に添加される密着性改良剤は、特に限定されないが、例えばロジンエステル樹脂、水添ロジンエステル樹脂、石油化学樹脂、水添石油化学樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂、アルキルフェノール樹脂等を使用することができ、これらは、１種または２種以上を併用することができる。
市販品としては、たとえば、スーパーエステルＬ、スーパーエステルＡ-１８、スーパーエステルＡ-７５、スーパーエステルＡ-１００、スーパーエステルＡ-１１５、スーパーエステルＡ-１２５（（株）荒川化学製、商品名）、ＹＳポリスターＮ１２５、ＹＳポリスターＮ１２５、ＹＳポリスターＧ１５０、ＹＳポリスターＴＨ１３０（（株）ヤスハラケミカル、商品名）などが挙げられる。
【００３２】
衝撃吸収層中の上記樹脂又はエラストマー以外の添加剤の含有量は、衝撃吸収層の全質量に対して、５０質量％以下であることが好ましく、５０質量％未満がより好ましい。
【００３３】
（回復性粒子）
本発明の積層体は、衝撃吸収層が回復性を有する粒子（回復性粒子）を含有することが好ましい。回復性粒子を含有させることで、衝撃吸収層の貯蔵弾性率の上昇を抑えながら、ｔａｎδを効果的に下げることができる。
本発明では、押し込み測定時における回復率が３０％以上の粒子を回復性粒子と呼ぶ。
回復率は以下の測定方法により測定される。
【００３４】
＜回復率測定方法＞
粒子の回復率は、粒子超微小硬度計（（株）島津製作所、ＤＵＨ−２０１）を用いて、ガラス板上に設置した粒子を下記条件にて押し込んだ際の、最大押込み深さ（μｍ）と除荷後深さ（μｍ）の値から下記式を用いて算出した。
【００３５】
【数１】
2019097960.tif 000003
【００３６】
最大押込み深さ（μｍ）：最大荷重値（１０ｍＮ）での押込み深さ
除荷後深さ（μｍ）：下記測定条件でテストした際の、試験開始時から１４．８秒後の深さ
【００３７】
（測定条件）
・使用圧子：円錐台圧子  ５０Ｍ
・測定モード：負荷−除荷試験
・最大荷重：１０ｍＮ
・保持時間：０
・負荷定数：１
・負荷（除荷）速度：１．４２１９６（ｍＮ／ｓｅｃ）
【００３８】
回復性粒子の形状は、真球及び不定形のいずれも使用できる。また、異なる２種以上の回復性粒子を併用して用いてもよい。
【００３９】
上記回復性粒子の屈折率（波長５５０ｎｍの屈折率）は１．３５〜１．６０であることが視認性の点で好ましく、１．４０〜１．６０がより好ましく、１．４５〜１．６０がさらに好ましい。
【００４０】
上記回復性粒子の具体例としては、例えばシリコーンゴム粒子、ウレタンゴム粒子、ブタジエンゴム粒子、スチレンブタジエンゴム粒子、架橋（メタ）アクリル酸エステルゴム粒子等のエラストマー粒子、およびポリロタキサン粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋（メタ）アクリル酸エステルゴム粒子、および／またはポリロタキサン粒子が特に好ましい。
【００４１】
エラストマー粒子の市販品としては、信越化学社製ＫＭＰ−５９７、ＫＭＰ−５９８、Ｘ−５２−８７５、ＫＭ−９７２９、Ｘ−５２−１１３３、ＫＭＰ−６００、ＫＭＰ−６０１、ＫＭＰ−６０２、ＫＭＰ−６０５、Ｘ−５２−７０３０、大日精化工業社製ダイミックビーズＵＣＮ−８０７０ＣＭクリアー、同ＵＣＮ−８１５０ＣＭクリアー、テクポリマーＢＭ３０Ｘ−５、同ＢＭ３０Ｘ−８、同ＢＭ３０Ｘ−１２、同ＡＢＸ−８、同ＡＢＸ−２０、同ＡＲＸ−１５、同ＡＲＸ−３０、同ＡＦＸ−８、同ＡＦＸ−１５、同ＡＦＸ−３０、三菱ケミカル社製メタブレンＳ−２００１、同Ｓ−２００６、同Ｓ−２５０１、同Ｓ−２０３０、同Ｓ−２１００、同Ｓ−２２００、同ＳＲＫ２００Ａ、同ＳＸ−００５、同ＳＸ−００６、同Ｗ−３００Ａ、同Ｗ−４５０Ａ、同Ｗ−６００Ａ、同Ｗ−３７７、同Ｃ−２２３Ａ、同Ｃ−２１５Ａ、同Ｃ−２０１Ａ、同Ｃ−１４０Ａ、同Ｅ−８６０Ａ、同Ｅ−８７０Ａ、同Ｅ−８７５Ａを挙げることができる。
【００４２】
［ポリロタキサン］
上記ポリロタキサン粒子を構成するポリロタキサンは、複数の環状分子の各開口部（各環内）が直鎖状分子によって串刺し状に貫かれ、複数の環状分子が各開口部に直鎖状分子を包接してなる擬ポリロタキサンの両末端又はそれらの近傍（直鎖状分子の両末端又はそれらの近傍）に、環状分子の開口部内を直鎖状分子がすり抜けて環状分子が直鎖状分子から遊離しないようにブロック基を配置してなる構造を有する化合物である。
本発明の衝撃吸収層に含有される回復性粒子として用いられるポリロタキサンの重量平均分子量は、衝撃吸収性を高める観点から１０００，０００以下であることが好ましく、６００，０００以下であることがより好ましく、６００，０００〜１８０，０００であることが特に好ましい。
【００４３】
＜直鎖状分子＞
ポリロタキサンを構成する直鎖状分子は、環状分子に包接され（環状分子の開口部内を貫通し）、非共有結合的に環状分子と一体化することができる分子又は物質であって、直鎖状のものであれば、特に限定されない。なお、本発明において、「直鎖状分子」とは、高分子を含めた分子、及びその他上記の要件を満たす全ての物質をいう。
また、本発明において、「直鎖状分子」の「直鎖」は、実質的に「直鎖」であることを意味する。即ち、回転子である環状分子が回転可能、もしくは直鎖状分子上で環状分子が摺動したり移動したりすることができれば、直鎖状分子は分岐鎖を有していてもよい。また、「直鎖」の長さは、直鎖状分子上で環状分子が摺動したり移動したりすることができれば、その長さに特に制限はない。
【００４４】
ポリロタキサンの直鎖状分子として、親水性ポリマー（例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリル酸、セルロース系ポリマー（カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリビニルアセタール系化合物、ポリビニルメチルエーテル、ポリアミン、ポリエチレンイミン、カゼイン、ゼラチン、でんぷん等、及びこれらの共重合体など）、並びに疎水性ポリマー（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、およびその他オレフィン系単量体成分を含む共重合体；ポリエステル；ポリ塩化ビニル；ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体等のポリスチレン系化合物；ポリメチルメタクリレート、（メタ）アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−メチルアクリレート共重合体などのアクリル系ポリマー；ポリカーボネート；ポリウレタン；塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体；ポリビニルブチラール等；及びこれらの誘導体又は変性体等）を挙げることができる。
【００４５】
ポリロタキサンの直鎖状分子は親水性ポリマーであることが好ましい。衝撃吸収層に吸湿性を付与し、特に支持体がセルロースアシレートフィルムの場合、衝撃吸収層と支持体の吸湿膨張性の差に起因するカールを低減することができる。
ポリロタキサンの直鎖状分子は、上記親水性のポリマーの中でも、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、及び／又はエチレングリコールとプロピレングリコールとの共重合体が好ましい。また、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、及びポリプロピレンも直鎖状分子として好ましい。なかでも直鎖状分子は、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、及び／又はエチレングリコールとプロピレングリコールとの共重合体がより好ましく、ポリエチレングリコールが特に好ましい。
【００４６】
ポリロタキサンの直鎖状分子は、その重量平均分子量が１，０００以上が好ましく、５，０００以上がより好ましく、１０，０００以上がさらに好ましい。例えば、上記直鎖状分子の重量平均分子量を１，０００〜１，０００，０００とすることができ、好ましくは５，０００〜１，０００，０００、より好ましくは５，０００〜５００，０００とすることができる。また、上記直鎖状分子の重量平均分子量を１０，０００〜１，０００，０００とすることも好ましく、１０，０００〜５００，０００とすることも好ましく、１０，０００〜３００，０００とすることも好ましい。
【００４７】
ポリロタキサンの直鎖状分子は、その両末端に反応性基を有し、この反応性基とブロック基とが反応してブロック基が導入された形態であることが好ましい。上記反応性基は、用いるブロック基に依存するが、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基などを挙げることができる。
【００４８】
＜環状分子＞
ポリロタキサンを構成する環状分子は、上記直鎖状分子を包接可能な環状分子であれば、特に制限なく用いることができる。
なお、本発明において、「環状分子」とは、環状分子を含めた種々の環状物質をいう。
また、本発明において、「環状分子」とは、実質的に環状である分子又は物質をいう。即ち、「実質的に環状である」とは、英字の「Ｃ」のように、完全に閉環ではないものを含む意であり、例えば、英字の「Ｃ」の一端と他端とが結合しておらず螺旋構造を有するものも含む意である。さらに、後述する「ビシクロ分子」についての環についても、上記「環状分子」の「実質的に環状である」と同様に定義される。即ち、「ビシクロ分子」の一方の環又は双方の環は、英字の「Ｃ」のように、完全に閉環ではないものであってもよく、英字の「Ｃ」の一端と他端とが結合しておらず螺旋構造を有するものであってもよい。
【００４９】
ポリロタキサンの環状分子として例えば、種々のシクロデキストリン類（例えばα−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、ジメチルシクロデキストリン及びグルコシルシクロデキストリン、これらの誘導体又は変性体など）、クラウンエーテル類、ベンゾクラウン類、ジベンゾクラウン類、及びジシクロヘキサノクラウン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。
【００５０】
上述のシクロデキストリン類及びクラウンエーテル類などは、その種類により環状分子の開口部の大きさが異なる。したがって、用いる直鎖状分子の種類、具体的には用いる直鎖状分子を円柱状と見立てた場合、その円柱の断面の直径、直鎖状分子の疎水性又は親水性などにより、用いる環状分子を選択することができる。また、開口部が相対的に大きな環状分子と、相対的に直径が小さな円柱状の直鎖状分子を用いた場合、環状分子の開口部に２以上の直鎖状分子を包接することもできる。
【００５１】
ポリロタキサンの環状分子として、α−シクロデキストリンを用いるのが好ましい。
【００５２】
ポリロタキサンの直鎖状分子が包接される環状分子の個数（包接量）は、環状分子がシクロデキストリンの場合、一の直鎖状分子を包摂可能なシクロデキストリンの最大個数（最大包接量と称す。）を１とすると、０．０５〜０．６０が好ましく、０．１０〜０．５０が更に好ましく、０．２０〜０．４０が更に好ましい。ここで「最大包摂量」は、ポリロタキサンを構成する直鎖状分子の重量平均分子量を、一の直鎖状分子の分子量と仮定した場合の環状分子の最大包摂量として定義する。
上記個数を０．０５以上とすることにより、滑車効果をより効果的に発現させることができる。また、上記個数を０．６０以下とすることにより、環状分子であるシクロデキストリンが密になりすぎず、シクロデキストリンの可動性をより高めることができる。また上記個数を０．６０以下とすることにより、シクロデキストリン自体の有機溶剤に対する溶解性も十分に維持することができ、得られるポリロタキサンの有機溶剤への溶解性の低下も生じにくい。
【００５３】
ポリロタキサンの環状分子は、その環に反応性基を有し、この反応性基同士が反応して環状分子同士が結合した形態であることが好ましい。この反応性基は、用いる架橋剤などにも依存するが、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、アルデヒド基などを挙げることができる。また、この反応性基は、上述のブロック化反応の際にブロック基と反応しない基を用いるのがよい。
【００５４】
＜ブロック基＞
ポリロタキサンのブロック基は、環状分子が直鎖状分子により串刺し状になった形態を保持できる基であれば、いかなる基を用いてもよい。このような基として、例えば「嵩高さ」を有する基及び／又は「イオン性」を有する基などを挙げることができる。ここで、「基」というのは、その大きさに制限はなく、低分子基及び高分子基を含めた種々の基を意味する。また、「イオン性」を有する基の「イオン性」と、環状分子の有する「イオン性」とが影響しあうことにより（例えば反発しあうことにより）、環状分子が直鎖状分子により串刺し状になった形態を保持することができる。
【００５５】
また、ポリロタキサンのブロック基は、上述のように、串刺し状になった形態を保持するものであれば、直鎖状分子の主鎖に存在してもよく、側鎖に存在してもよい。
【００５６】
具体的には、低分子基のブロック基として、２，４−ジニトロフェニル基、３，５−ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル基類；シクロデキストリン類；アダマンタン基類；トリチル基類；フルオレセイン類；ピレン類；並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。例えば、環状分子としてα−シクロデキストリン、及び直鎖状分子としてポリエチレングリコールを用いる場合、低分子基のブロック基はシクロデキストリン類；２，４−ジニトロフェニル基、３，５−ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル基類；アダマンタン基類；トリチル基類；フルオレセイン類；ピレン類；並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。
【００５７】
上記ポリロタキサンは変性ポリロタキサンであることも好ましい。本発明では以下に説明する変性を複数併用したポリロタキサンを好ましく用いることができる。
【００５８】
＜架橋ポリロタキサン＞
架橋ポリロタキサンは、２つ以上のポリロタキサンがその環状分子同士が化学結合されている化合物をいい、この２つの環状分子は同じでも異なっていてもよい。この化学結合は、種々の原子又は分子を介する結合であってもよい。
また、環状分子が架橋環構造を有する分子、即ち第１の環及び第２の環を有する「ビシクロ分子」を用いることにより架橋ポリロタキサンとすることができる。この場合、例えば「ビシクロ分子」と直鎖状分子とを混合し、「ビシクロ分子」の第１環及び第２環に直鎖状分子を串刺し状に包接して架橋ポリロタキサンを得ることができる。
この架橋ポリロタキサンは直鎖状分子により串刺し状に貫通されている環状分子がこの直鎖状分子に沿って移動可能なために（滑車効果）、粘弾性を有し、張力が加わっても、この滑車効果によってこの張力を均一に分散させ、内部応力を緩和できる。
【００５９】
＜疎水化修飾ポリロタキサン＞
ポリロタキサンの環状分子がα−シクロデキストリンなどのシクロデキストリン類である場合、シクロデキストリンの水酸基の少なくとも一つが有機基（疎水性基）によって置換された疎水化修飾ポリロタキサンも、上記ポリロタキサンの好ましい形態である。疎水化修飾ポリロタキサンは、衝撃吸収層形成組成物に含まれる溶剤への溶解性が高められ、偏光板の製造適性をより高めることができる。
疎水性基の具体例として、例えばアルキル基、ベンジル基、ベンゼン誘導体含有基、アシル基、シリル基、トリチル基、硝酸エステル基、トシル基、光硬化部位としてアルキル置換エチレン性不飽和基、熱硬化部位としてアルキル置換エポキシ基などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。また、上記の疎水化修飾ポリロタキサンにおいては、上述の疎水性基の１種を単独で又は２種以上を組み合わせて有していてもよい。
【００６０】
上記疎水化修飾基による修飾度は、シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数を１とすると、０．０２以上（１以下）であることが好ましく、０．０４以上であることがより好ましく、０．０６以上であることが更に好ましい。
修飾度を０．０２以上とすることにより、有機溶剤への溶解性をより高めることができ、不溶性ブツ（異物付着などに由来する突起部）が生じにくい。
ここで、シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数とは、換言すれば、修飾する前にシクロデキストリンが有していた全水酸基数のことである。修飾度とは、換言すれば、修飾された水酸基数の、全水酸基数に対する比の値のことである。
また、官能基を有している疎水化修飾基を導入することにより、他のポリマーとの反応性を向上させることが可能になる。
【００６１】
ポリロタキサン粒子の市販品としては、アドバンスト・ソフトマテリアル社製マイクロボールＳＨ２４００Ｂ−０５０１、同ＳＨ２４００Ｂ−２００１などを挙げることができる。
【００６２】
偏光板が衝撃吸収層に回復性粒子を含む場合、回復性粒子の含有量は、衝撃吸収層の全固形分に対して３５質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。
【００６３】
回復性粒子を含有する衝撃吸収層には、粒子の老化抑制剤が含有されていても良い。老化抑制剤としては、特に限定されず、例えば、アミン系老化防止物質、アミン−ケトン系老化防止物質、フェノール系老化防止物質、イミダゾール系老化防止物質、硫黄系老化防止物質、リン系老化防止物質などが挙げられる。具体的には、日本ゴム協会編「ゴム工業便覧＜第四版＞」の第４３６頁〜第４４３頁に記載されているもの、アニリンとアセトンとの反応生成物（ＴＭＤＱ）、合成ワックス（パラフィンワックス等）、植物性ワックス等が挙げられる。
【００６４】
（衝撃吸収層の形成方法）
衝撃吸収層の形成方法には
特に限定はなく、たとえば、コーティング法、キャスト法（無溶剤キャスト法及び溶剤キャスト法）、プレス法、押出法、射出成形法、注型法又はインフレーション法等が挙げられる。詳細には、上記衝撃吸収層の形成材料を溶媒に溶解又は分散させた液状物、又は上記衝撃吸収層の形成材料の溶融液を調製し、次いで、この液状物又は溶融液を保護フィルムの片面に塗布し、その後、必要により溶媒の除去等をすることにより、保護フィルム上に衝撃吸収層が積層された積層体を作製することができる。
また、剥離処理が施された剥離シートの剥離処理面に上記液状物又は溶融液を塗布し、乾燥して衝撃吸収層を含むシートを形成し、このシートの衝撃吸収層を保護フィルムと貼り合せることで、保護フィルム上に衝撃吸収層が積層された積層体を作製することもできる。
【００６５】
衝撃吸収層が上述の樹脂又はエラストマーで構成されている場合、衝撃吸収層は、架橋されていない樹脂又はエラストマーにより構成されていてもよいし、少なくとも一部が架橋された樹脂又はエラストマーにより構成されていてもよい。樹脂又はエラストマーを架橋する方法については特に限定はなく、例えば、電子線照射、紫外線照射、及び架橋剤（例えば、有機過酸化物等）を用いる方法が挙げられる。樹脂又はエラストマーの架橋を電子線照射により行う場合は、得られた衝撃吸収層（架橋前）に対し、電子線照射装置にて電子線を照射することにより、架橋を形成することができる。また、紫外線照射の場合は、得られた衝撃吸収層（架橋前）に対し、紫外線照射装置にて紫外線を照射することにより、必要に応じて配合された光増感剤の効果によって架橋を形成することができる。更に、有機過酸化物等の架橋剤を用いる場合は、得られた衝撃吸収層（架橋前）を、通常、窒素雰囲気等、空気の存在しない雰囲気で加熱することにより架橋を形成することができる（この反応では、必要により架橋助剤を配合することができる。）。
【００６６】
（膜厚）
本発明の偏光板が備える衝撃吸収層の膜厚は、保護フィルムへの他の物体の形状の転写の抑制の観点から、５μｍ以上であることが好ましく、８μｍ以上がより好ましく、１０μｍ以上が更に好ましく、２５μｍ以上が特に好ましい。また、膜硬度の観点から、２００μｍ以下であることが好ましい。
【００６７】
（２）保護フィルム
次に、偏光板の保護フィルムを構成する各種成分について説明する。
【００６８】
（樹脂）
本発明に用いる偏光板において、保護フィルムに用いることができる樹脂としては、偏光板保護フィルム等の各種光学フィルムに通常用いられる樹脂を何ら制限なく用いることができる。そのような樹脂の具体例としては、セルロースアシレート（例えばセルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート）、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、（メタ）アクリルニトリル、ポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））などを挙げることができる。以下に、これら樹脂について更に説明する。
【００６９】
−セルロースアシレート−
上記保護フィルムがセルロースアシレートフィルムである場合、セルロースアシレートフィルムはフィルム構成成分としてセルロースアシレートを含む。
【００７０】
セルロースアシレートとしては、セルロースアシレート化合物、および、セルロースを原料として生物的または化学的に官能基を導入して得られるアシル置換セルロース骨格を有する化合物が挙げられる。ここで、「主成分」とは、原料として単一のポリマーを含む場合には、そのポリマーのことを意味し、原料として二種以上のポリマーを含む場合には、最も質量分率の高いポリマーのことを意味する。
【００７１】
セルロースアシレートは、セルロースと酸とのエステルである。酸としては、有機酸が好ましく、カルボン酸がより好ましい。カルボン酸の炭素原子数は２〜２２の脂肪酸が好ましく、炭素原子数が２〜４の低級脂肪酸であることが更に好ましい。
【００７２】
セルロースアシレートの原料セルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでもよく、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細については、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）の記載を参照できる。
【００７３】
セルロースアシレートは、セルロースの水酸基の水素原子が、アシル基によって置換されたものである。アシル基の炭素原子数は、２〜２２であることが好ましい。アシル基は、脂肪族アシル基であっても芳香族アシル基であってもよく、単一でも２種類以上のアシル基によって置換されていてもよい。具体的には、セルロースアシレートの例としては、セルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、および芳香族アルキルカルボニルエステルが挙げられる。これらの中に含まれるアルキル部位、アルケニル部位、芳香族部位、および芳香族アルキル部位のそれぞれは、更に置換基を有していてもよい。好ましいアシル基の例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、およびシンナモイル基等が挙げられる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、およびシンナモイル等が好ましく、アセチル基、プロピオニル基、およびブタノイル基がより好ましく、アセチル基が最も好ましい。
【００７４】
セルロースアシレートのアシル置換度は、特に限定されない。アシル置換度が２．００〜２．９５のセルロースアシレートを使用すると、製膜性、および製造されるフィルムの種々の特性の観点で好ましい。なお、アシル置換度 は、酢酸等の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定は、ＡＳＴＭ  Ｄ−８１７−９１に準じて実施することができる。
【００７５】
アセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の少なくとも２種類のアシル基を有するセルロースアシレートについては、アシル置換度が２.５０〜２．９５であることが好ましく、より好ましいアシル置換度は２．６０〜２．９５であり、さらに好ましくは２．６５〜２．９５である。
アセチル基のみを有するセルロースアシレート、即ちセルロースアセテートについては、そのアシル置換度が２．００〜２．９５であることが好ましい。さらにはアシル置換度が２．４０〜２．９５であることがより好ましく、２．８０〜２．９５であることが更に好ましい。
【００７６】
セルロースアシレートの重合度は、特に限定されないが、好ましくは粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度がこの上限値以下であれば、セルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなりすぎることがなく流延によるフィルム作製が容易にできるので好ましい。重合度がこの下限値以上であれば、高強度のフィルム作製が可能である点等で好ましい。粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法｛宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁（１９６２年）｝により測定できる。この方法は特開平９−９５５３８号公報にも詳細に記載されている。
【００７７】
また、セルロースアシレートの分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは重量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜４．０であることが好ましく、２．０〜４．０であることが更に好ましく、２．３〜３．４であることが特に好ましい。
【００７８】
セルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレートを、フィルム総質量に対して、例えば７５〜９９質量％の範囲で含有することが好ましく、８０〜９８質量％の範囲で含有することが更に好ましい。セルロースアシレートフィルムは、単層フィルムであっても二層以上の積層構造のフィルムであってもよい。二層以上の積層構造のフィルムについては、各層のセルロースアシレート含有率を上記好ましいい範囲とすることができる。
【００７９】
セルロースアシレートフィルムは、一種以上の添加剤を含んでもよい。添加剤としては、糖エステル、可塑剤、有機酸、色素、レターデーション調整剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、マット剤等の公知の材料を用いることができ、例えば、特開２０１２−１５５２８７号公報の段落００６２〜００９７および特開２０１３−０９７１７０号公報の段落００７０〜０１０７などに記載された材料などを適用することができる。
【００８０】
光漏れ改善のために、添加剤として、ジカルボン酸由来の繰り返し単位とジオール由来の繰り返し単位を有する芳香族エステルオリゴマー、またはＮＲＣＯ構造含有化合物を適用することが好ましい。ＮＲＣＯ構造含有化合物に含まれる構造単位−ＮＲ−（Ｃ＝Ｏ）
−において、Ｒは水素原子または置換基を表す。構造単位が非環状構造部分に含まれる場合、−ＮＲ−（Ｃ＝Ｏ）−はＲが水素原子であること、即ち−ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−であることが好ましい。
ジカルボン酸由来の繰り返し単位とジオール由来の繰り返し単位を有する芳香族エステルオリゴマーついては、例えば、ＷＯ２０１４／１１２５７５号公報の段落００２４〜００３２に記載された化合物などを用いることができる。また、ＮＲＣＯ構造含有化合物に関しては、ＷＯ２０１５／１５１６８３号公報の段落００３８〜０３８７に記載された化合物などを用いることができる。
【００８１】
−アクリル樹脂−
保護フィルムがアクリル樹脂フィルムである場合、アクリル樹脂フィルムはフィルム構成成分としてアクリル樹脂を含む。アクリル樹脂は、繰り返し構造単位として（メタ）アクリル酸エステル単量体由来の繰り返し構造単位を有することが好ましい。「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸および／またはメタクリル酸を意味する。
【００８２】
アクリル樹脂は、繰り返し構造単位として、更に、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸および下記一般式（１０）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して得られる繰り返し構造単位を含んでいてもよい。
【００８３】
一般式（１０）
ＣＨ２＝Ｃ（Ｘ）Ｒ２０１
【００８４】
一般式（１０）中、Ｒ２０１は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ２０２基、またはＯ−ＣＯ−Ｒ２０３基を表し、Ｒ２０２およびＲ２０３は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜２０の有機基を表す。
【００８５】
上記（メタ）アクリル酸エステル単量体は、特に限定されない。詳細については、特開２０１３−０９９８７５号公報の段落００３４を参照できる。
【００８６】
上記水酸基含有単量体も、特に限定されない。詳細については、特開２０１３−０９９８７５号公報の段落００３５を参照できる。
【００８７】
上記不飽和カルボン酸も、特に限定されない。詳細については、特開２０１３−０９９８７５号公報の段落００３６を参照できる。
【００８８】
上記の一般式（１０）で表される単量体の詳細については、特開２０１３−０９９８７５号公報段落００３７を参照できる。
【００８９】
アクリル樹脂は、１つ以上のラクトン環構造を含んでいてもよい。ラクトン環構造の一態様としては、下記一般式（１１）で示されるラクトン環構造を挙げることができる。
【００９０】
【化１】
2019097960.tif 000004
【００９１】
一般式（１１）中、Ｒ４０１、Ｒ４０２およびＲ４０３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数１〜２０の有機残基を表し、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。ここで、炭素原子数１〜２０の有機残基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などが好ましい。
【００９２】
ラクトン環含有アクリル樹脂の構造中における一般式（１１）で示されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、更に好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。
【００９３】
ラクトン環含有アクリル樹脂の製造方法については、特に制限はない。例えば、重合工程によって分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体（ｐ）を得た後に、得られた重合体（ｐ）を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入すること（ラクトン環化縮合工程）により、ラクトン環含有アクリル樹脂を得ることができる。ラクトン環含有アクリル樹脂の好ましい物性等の詳細については、特開２０１２−２５０５３５号公報の段落００４０〜００４７を参照できる。
【００９４】
アクリル樹脂については、特開２０１２−８２４８号公報段落００１５〜００９３も参照できる。
【００９５】
また、アクリル樹脂としては、グルタルイミド構造を有するアクリル樹脂を挙げることもできる。かかるアクリル樹脂については、特開２０１３−３７０５７号公報段落００２１〜００３７を参照できる。
【００９６】
更に、アクリル樹脂としては、グルタル酸無水物単位を有するアクリル樹脂を挙げることもできる。かかるアクリル樹脂については、特開２００９−１３９７２０号公報の段落００２６〜００５０を参照できる。
【００９７】
アクリル樹脂としては、市販品または公知の合成方法により合成されたものを使用することができる。
【００９８】
アクリル樹脂フィルムは、アクリル樹脂を、フィルム総質量に対して、例えば３０〜９８質量％の含有率で含むことができ、５０〜９５質量％の含有率で含むことが好ましい。
アクリル樹脂フィルムは、単層フィルムであっても二層以上の積層構造のフィルムであってもよい。二層以上の積層構造のフィルムについては、各層のアクリル樹脂含有率が上記好ましい範囲とすることができる。ただし、アクリル樹脂フィルムにおけるアクリル樹脂の含有率の算出にあたっては、アクリル樹脂フィルムが後述するアクリル樹脂粒子を含む場合には、アクリル樹脂粒子に含まれるアクリル樹脂は除いて算出するものとする。なおアクリル樹脂フィルムには、二種以上のアクリル樹脂が含まれていてもよい。二種以上のアクリル樹脂が含まれる場合、保護フィルムの総質量に対するアクリル樹脂の含有率は、二種以上のアクリル樹脂の合計量について規定されるものとする。この点は、本発明および本明細書における各種成分についても同様である。即ち、ある成分は、一種のみ用いてもよく二種以上を用いてもよい。二種以上用いる場合、かかる成分の含有量や含有率は、二種以上の合計量に基づく。
【００９９】
−ポリエステル−
保護フィルムがポリエステルフィルムである場合、ポリエステルフィルムはフィルム構成成分としてポリエステルを含む。
【０１００】
ポリエステルとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレン２，６−ナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレートが挙げられ、必要に応じてそれらの２種以上を用いてもよい。中でも、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。その他、ポリエステルについては、特開２０１５−１０６０６７号公報段落００６６ を参照できる。
【０１０１】
ポリエステルフィルムは、ポリエステルを、フィルム総質量に対して、例えば５０〜９９質量％の範囲で含むことができ、７０〜９８質量％の範囲で含むことが好ましく、９０〜９８質量％の含有率で含むことがより好ましい。ポリエステルフィルムは、単層フィルムであっても二層以上の積層構造のフィルムであってもよい。二層以上の積層構造のフィルムについては、各層のポリエステル含有率を範囲とすることができる。
【０１０２】
−脂環式構造を有するポリマー−
上記保護フィルムが脂環式構造を有するポリマーフィルムである場合、脂環式構造を有するポリマーフィルムはフィルム構成成分として脂環式構造を有するポリマーを含む。
【０１０３】
脂環式構造を含有するポリマーとしては脂環式ポリオレフィン樹脂が好ましく、機械強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環構造を有する脂環式ポリオレフィン樹脂が特に好ましい。
【０１０４】
脂環式ポリオレフィン樹脂中の脂環構造としては、飽和脂環炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環炭化水素（シクロアルケン）構造などが挙げられるが、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造が好ましい。脂環構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。
【０１０５】
脂環式ポリオレフィン樹脂中、脂環構造を有する繰り返し単位の割合は、好ましくは５５質量％以上、さらに好ましくは７０質量％以上、特に好ましくは９０質量％以上である。脂環式ポリオレフィン樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合が上記範囲にあると透明性及び耐熱性の観点から好ましい。
【０１０６】
脂環式ポリオレフィン樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系樹脂は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。
【０１０７】
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環（共）重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。
【０１０８】
（製造方法）
偏光板の保護フィルムは、公知の製膜方法によって製造することができる。例えば、溶液製膜法により、保護フィルムを製造することができる。溶液製膜法は、製膜用組成物（ドープ、ドープ組成物とも呼ばれる。）を調製し、この製膜用組成物を支持体上に流延し乾燥させてフィルムを形成し、このフィルムを支持体からははぎ取るフィルム形成工程を少なくとも含む。形成されたフィルムには、必要に応じて延伸処理を施すこともできる。
ここで単層流延することにより、単層フィルムとして保護フィルムを製造することができ、二層以上の多層の共流延を行うことにより、積層フィルムとして保護フィルムを製造することができる。溶液製膜法によるフィルム製造の詳細については、例えば、ＷＯ２０１５／０６４７３２Ａ１の段落００３４〜００６８等の公知技術を何ら制限なく適用できる。
【０１０９】
他の一態様では、上記保護フィルムは、押出成形法等の溶融製膜法によって製造することもできる。溶融製膜法によるフィルム製造の詳細については、例えば、特開２０１２−１８０４２２号公報段落００５７〜００６３等の公知技術を何ら制限なく適用できる。例えば、押出成形において用いる一対のロール（接地ロール）の弾性率によって、製造されるフィルムの算術平均粗さを制御することができる。また、多層押出成形することにより、保護フィルムを製造することもできる。
【０１１０】
液晶表示装置を構成する液晶パネルにおいて、バックライトユニット側に位置する偏光板は、バックライトユニット側最表面に保護フィルムを有し、偏光子の保護の観点からは、この保護フィルムとは反対側にも、保護フィルム（他方の保護フィルム）を含むことが好ましい。他方の保護フィルムとしては、一般に偏光板保護フィルムとして用いられる各種フィルムを何ら制限なく用いることができる。
【０１１１】
また、他方の保護フィルムとして用いられるフィルムとしては、光学異方層を含む光学補償層を有する光学補償フィルムを挙げることもできる。光学補償フィルム（位相差フィルムとも呼ばれる。）によれば、液晶表示装置において、画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができる、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１１２】
（３）偏光子
上記保護フィルムを含む偏光板は、この保護フィルムとともに偏光子を含む。偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有するいわゆる直線偏光子であればよい。偏光子としては、特に限定されないが、吸収型偏光子を利用することができる。吸収型偏光子としては、通常用いられている偏光子を利用することができ、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子、ワイヤーグリッドを用いた偏光子のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することにより作製することができる。偏光子の好ましい一態様としては、ヨウ素染色ポリビニルアルコール系フィルムを挙げることができる。偏光子の厚みは、特に限定されないが、例えば０．１μｍ以上５０μｍ以下であることができる。偏光板の薄型化の観点からは、偏光子の厚みは、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましい。
【０１１３】
また、偏光子は、いわゆる塗布型偏光子であってもよい。塗布型偏光子については、特開２０１４−１７０２０２号公報の段落００５２〜００５３を参照できる。
【０１１４】
偏光子と保護フィルムとは、公知の手法、例えば接着剤の使用により貼り合わせることができる。なお、本発明および本明細書において、接着剤として粘着剤も適用することができる。接着剤および保護フィルムと偏光子との貼り合わせについては公知技術を適用することができ、例えば、特開２０１２−１８０４２２号公報の段落０１２６〜０１３５に開示された技術を用いることができる。
【０１１５】
＜液晶セル＞
液晶表示装置に含まれる液晶パネルは、以上説明した偏光板とともに液晶セルを含む。なお液晶パネルは、液晶表示素子と呼ばれることもある。液晶セルとしては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ−Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＴＳＴＮ（Ｔｒｉｐｌｅ  Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、マルチドメイン型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）型等が挙げられる。液晶セルは、一般に、２枚のガラス基板の間に液晶層が配置された構成を有する。
【０１１６】
また、液晶セルとしては、のいずれかの型の液晶セルにタッチパネル機能を組み込んだインセルタッチパネル液晶セル、オンセルタッチパネル液晶セルを挙げることもできる。
また、フィルム型のタッチセンサーが液晶セルと貼着された形態も挙げられる。インセルタッチパネル液晶セルは、例えば、２枚のガラス基板に液晶層を挟んだ液晶セルの内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだインセルタッチパネル液晶セルであることができる。インセルタッチパネル液晶セルについては、例えば、特開２０１１−７６６０２号公報、特開２０１１−２２２００９号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。
オンセルタッチパネル液晶セルは、好ましくは、液晶層を挟み込んだガラス基板と偏光板の間に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだオンセルタッチパネル液晶セルであることができる。オンセルタッチパネル液晶セルは、例えば、特開２０１２−８８６８３号公報に記載されている。
【０１１７】
液晶表示装置に含まれる液晶パネルは、以上説明した構成部材（偏光板、液晶セル）を少なくとも含み、任意に１つ以上の他の構成部材を含むことができる。かかる構成部材としては、一般に液晶パネルに含まれる各種部材の１つ以上を用いることができる。
【０１１８】
＜バックライトユニット＞
液晶表示装置に含まれるバックライトユニットは、特に限定されるものではなく、エッジライト型バックライトユニットであってもよく、直下型バックライトユニットであってもよい。バックライトユニットには、光源と、拡散板、反射板、導光板、輝度向上膜、プリズムシート等の公知の部材の１つ以上が含まれ得る。バックライトユニットの最も液晶パネル側に位置する部材の表面と、液晶パネルのバックライト側最表面とが何らかの原因により接触し、バックライトユニットの最も液晶パネル側に位置する部材の表面と、液晶パネルのバックライト側最表面の一方または両方に傷が生じることが、液晶表示装置の表示性能低下（光漏れ）の原因になると本発明者らは推察している。この光漏れは、本発明の一態様にかかる保護フィルムを先に説明した配置で偏光板保護フィルムとして組み込むことにより、効果的に抑制することができる。
【０１１９】
本発明の液晶表示装置は、上記で説明した液晶パネルとバックライトユニットとを有する構成とすることにより、表示性能の向上を達成することができる。詳しくは、本発明の液晶表示装置は、表示面における斜め方向からの光漏れを効果的に抑制することができる。
【０１２０】
＜＜画像表示装置＞＞
本発明の画像表示装置は、保護フィルムと、２５℃において、周波数１．０×１０−１〜１．０×１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有する衝撃吸収層と、偏光子とを有する、上述した偏光板を有する。本発明の画像表示装置は、本発明の偏光板の他に、画像表示素子を有する。
本発明の画像表示装置としては、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置およびタッチパネルのような画像表示装置に用いることができる。
液晶表示装置としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ−Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＴＳＴＮ（Ｔｒｉｐｌｅ  Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、マルチドメイン型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  ＣｏｍｐｅｎｓａｔｅｄＢｅｎｄ）型等が挙げられる。
【実施例】
【０１２１】
実施例に基づき本発明をさらに詳細に説明する。なお、本発明がこれらの実施例により限定して解釈されるものではない。以下の実施例において組成を表す「部」及び「％」は、特に断らない限り質量基準である。【０１２２】
＜１−１．樹脂フィルム（厚み１００μｍのＴＡＣフィルム）の作製＞
外層／コア層／外層の３層のセルロースアシレートの積層フィルムを、以下の方法により作製した。
（１）コア層セルロースアシレートドープ液の調製
下記の組成物をミキシングタンクに投入して撹拌し、コア層セルロースアシレートドープ溶液を調製した。【０１２３】
（コア層セルロースアシレートドープ液）
・アセチル置換度２．８８、重量平均分子量２６０，０００のセルロースアセテート    １００質量部
・下記式（Ａ−１）で表されるフタル酸エステルオリゴマー    １０質量部
・下記式（Ａ−２）で表される化合物    ４質量部
・下記式（Ａ−３）で表される紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製）    ２．７質量部
・光安定剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ１２３）    ０．１８質量部
・Ｎ−アルケニルプロピレンジアミン３酢酸（ナガセケムテックス社製、
商品名：テークランＤＯ）    ０．０２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）    ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒）    ６４質量部【０１２４】
使用した化合物を以下に示す。
下記構造のフタル酸エステルオリゴマー（Ａ−１）の重量平均分子量は７５０である。【０１２５】
【化２】
2019097960.tif 000005
【０１２６】
【化３】
2019097960.tif 000006
【０１２７】
【化４】
2019097960.tif 000007
【０１２８】
（２）外層セルロースアシレートドープ液の調製
上記のコア層セルロースアシレートドープ液９０質量部に下記の無機粒子含有組成物を
１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ液を調製した。【０１２９】
（無機粒子含有組成物）
平均一次粒径２０ｎｍのシリカ粒子（日本アエロジル社製、商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ  
Ｒ９７２）    ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）    ７６質量部
メタノール（第２溶媒）    １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ液    １質量部【０１３０】
（３）樹脂フィルムの作製
外層セルロースアシレートドープ液がコア層セルロースアシレートドープ液の両側に配されるように、外層セルロースアシレートドープ液、コア層セルロースアシレートドープ液、および外層セルロースアシレートドープ液の３種を、流延口から表面温度２０℃の流延バンド上に同時に流延した。
流延バンドとして幅２．１ｍで長さが７０ｍのステンレス製のエンドレスバンドを利用した。流延バンドは、厚みが１．５ｍｍ、表面粗さが０．０５μｍ以下になるように研磨した。その材質はＳＵＳ３１６製であり、十分な耐腐食性と強度を有する流延バンドを用いた。流延バンドの全体の厚みムラは０．５％以下であった。
得られた流延膜に、風速が８ｍ／ｓ、ガス濃度が１６％、温度が６０℃の急速乾燥風を流延膜表面に当てて初期膜を形成した。その後、流延バンド上部の上流側からは１４０℃の乾燥風を送風した。また下流側からは１２０℃の乾燥風および６０℃の乾燥風を送風した。
残留溶媒量を約３３質量％にした後、バンドから剥ぎ取った。次いで、得られたフィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、溶媒残留量が３〜１５質量％のフィルムを、横方向に１．０６倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚さが４０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／３４μｍ／３μｍ）であるセルロースアセテート（ＴＡＣ）フィルムを作製した。【０１３１】
（４）樹脂フィルム（厚みの異なるＴＡＣフィルム）の作製
上記と同様の方法で、但し、それぞれ厚みが２５μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／１９μｍ／３μｍ）、及び８０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／７４μｍ／３μｍ）となるように調整し、厚みの異なるＴＡＣフィルムを作製した。【０１３２】
＜３−１．衝撃吸収層形成用塗布液Ｃ-１〜Ｃ−９の調製＞
下記表１に示す組成で各成分を混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、衝撃吸収層形成用組成物Ｃ−１〜Ｃ−９を調製した。【０１３３】
【表１】
2019097960.tif 000008
【０１３４】
上記表１中において、「−」はその成分を含有しないことを示す。
表１に記載した化合物の詳細を以下に示す。【０１３５】
＜エラストマー＞
クラリティＬＡ２１４０ｅ、クラリティＬＡ２２５０、クラリティＬＡ４２８５：ＰＭＭＡ−ＰｎＢＡ共重合体エラストマー（（株）クラレ製、商品名）
ハイブラー５１２７、ハイブラー７３１１Ｆ: ポリスチレンとポリイソプレンとの共重合体エラストマー（（株）クラレ製、商品名）
バイロンＵＲ２３００：ウレタン変性ポリエステル（東洋紡（株）製、商品名）
ＵＣ２０３Ｍ：反応性基含有イソプレンポリマー（（株）クラレ製、商品名）  Ｉｒｇ１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン【０１３６】
＜回復性粒子＞  ＳＨ２４００Ｂ−０５０１：ポリロタキサン粒子（アドバンスト・ソフトマテリアル社製マイクロボールＳＨ２４００Ｂ−０５０１）  ＫＭＰ−６００：エラストマー粒子（信越化学社製ＫＭＰ−６００）【０１３７】
なお、ＳＨ２４００Ｂ−０５０１の前述の方法で測定した回復率は３８％であり、ＫＭＰ−６００の前述の方法で測定した回復率は３６％であった。
また、ＳＨ２４００Ｂ−０５０１の波長５５０ｎｍの屈折率は１．５８であり、ＫＭＰ−６００の波長５５０ｎｍの屈折率は１．４２であった。【０１３８】
［実施例１］
＜衝撃吸収層付保護フィルムの作製＞
保護フィルム(厚み４０μｍのＴＡＣフィルム)の片面に衝撃吸収層形成用組成物Ｃ−１を塗布し、乾燥させて衝撃吸収層付保護フィルムを形成した。
塗布および乾燥の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１記載のスロットダイを用いて、ダイコート法により、搬送速度３０ｍ／分の条件で衝撃吸収層形成用組成物を保護フィルム上にに塗布した。雰囲気温度１２０℃で１２０秒間乾燥させ、乾燥後の衝撃吸収層の膜厚が５０μｍである実施例１の衝撃吸収層付保護フィルムを作製した。【０１３９】
［実施例２〜７］
衝撃吸収層形成用組成物Ｃ−１に代えて衝撃吸収層形成用組成物Ｃ−２、Ｃ−３、Ｃ−５、Ｃ−６、Ｃ−８、Ｃ−９を使用した以外は実施例１と同様にして、それぞれ実施例２から７の衝撃吸収層付保護フィルムを作製した。
実施例５については、衝撃吸収層形成用組成物Ｃ−１に代えて衝撃吸収層形成用組成物Ｃ−６を使用した以外は実施例１と同様にして衝撃吸収層を形成したのちに、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、衝撃吸収層を作製した。【０１４０】
［実施例８〜１１］
衝撃吸収層の膜厚をそれぞれ５μｍ、２５μｍ、１００μｍ、２００μｍとした以外は実施例１と同様にして、実施例８〜１１の衝撃吸収層付保護フィルムを作製した。【０１４１】
［実施例１２、１３］
厚み４０μｍのＴＡＣフィルムに代えて、それぞれ厚み２５μｍ及び８０μｍのＴＡＣフィルムを使用した以外は実施例１と同様にして、実施例１２及び１３の衝撃吸収層付保護フィルムを作製した。【０１４２】
［実施例１４］
厚み４０μｍのＴＡＣフィルムに代えて、厚み４０μｍのポリメチルメタクリレートフィルム（ＰＭＭＡフィルム）を使用した以外は実施例１と同様にして、実施例１４の衝撃吸収層付保護フィルムを作製した。【０１４３】
［比較例１］
衝撃吸収層を設けない厚み４０μｍのタックフィルムを保護フィルム（衝撃吸収層を有しない保護フィルム）とした。【０１４４】
［比較例２］
衝撃吸収層形成用組成物Ｃ−１に代えて衝撃吸収層形成用組成
物Ｃ−４を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例２の衝撃吸収層付保護フィルムを作製した。【０１４５】
［比較例３］
衝撃吸収層形成用組成物Ｃ−１に代えて衝撃吸収層形成用組成物Ｃ−７を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例３の衝撃吸収層付保護フィルムを作製した。【０１４６】
（貯蔵弾性率、損失弾性率の測定並びにｔａｎδの極大値及び極大値を示す周波数の導出）
衝撃吸収層の２５℃における貯蔵弾性率、損失弾性率、ｔａｎδの極大値及び極大値を示す周波数は、上述の方法により測定し、導出した。【０１４７】
なお、得られた各試料の２５℃における周波数に対するｔａｎδの依存性につきグラフ化したものを図２に示す。【０１４８】
［実施例及び比較例の偏光板の作製］
＜偏光子の作製＞
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて、厚み７μｍの偏光子（ヨウ素染色ポリビニルアルコール系フィルム）を作製した。【０１４９】
＜偏光板の作製（偏光子と衝撃吸収層付保護フィルムとの貼り合わせ）＞
と、各実施例及び比較例の衝撃吸収層付保護フィルムの衝撃吸収層側の面と、上記で作製した偏光子の一方の表面とを接着剤を介して貼り合わせた（比較例１に保護フィルム（ＴＡＣフィルム）については、この保護フィルムと偏光子の一方の表面とを接着剤を介して貼り合わせた）。偏光子の他方の表面には、市販のセルロースアシレートフィルム（富士フイルム社製フジタック（登録商標）ＺＲＤ４０）に鹸化処理を施したものを、鹸化処理を施した面を貼り合わせ面として接着剤を介して貼り合わせた。鹸化処理は、以下のように実施した。上記セルロースアシレートフィルムを、液温を５５℃に保った１．５ｍｏ
ｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、液温２５℃の０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に３０秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後にフィルムを雰囲気温度７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを得た。【０１５０】
［実施例及び比較例の液晶表示装置の作製］
市販の液晶テレビ（ＩＰＳモードのスリム型４２型液晶テレビ）から、液晶セルを挟んでいる２枚の偏光板のうちバックライト側偏光板（リア偏光板）を剥がし取り、各実施例及び比較例の偏光板を、衝撃吸収層付保護フィルムの保護フィルム側がバックライト側に配置されるように、接着剤を介して液晶セルに再貼合し、バックライト側とのクリアランスが３．０ｍｍとなるように設置した。【０１５１】
［液晶表示装置の評価方法］
＜表示性能の評価１（光漏れの評価）＞
各実施例及び比較例の液晶表示装置に振動を加えた後に点灯試験を行い、表示面で光漏れが確認されるか否かを目視で評価した。具体的には、試験機として梱包包装試験機（アイメックス社製ＢＦ−５０ＵＴ）を使用し、重力加速度１．５Ｇ（１．０Ｇは、９．８０６６５ｍ／ｓ２）、振幅０．８ｍｍ、周波数１０〜４０Ｈｚで周期的に変化する振動をｘ方向、ｙ方向、ｚ方向に２０分間加えた。振動を加えた後に点灯試験を行った。点灯試験は、バックライトを点灯した状態で液晶セルに電圧をかけ、バックライトからの光が液晶セルにより遮断された状態において、表示面から光漏れが生じているか否かを調べた。
以上の評価を、各実施例及び比較例の液晶表示装置について実施し、光漏れの有無を確認した（評価１回目）。確認後に、リア偏光板を同じ構成の新しい偏光板に変更し、同様にして評価を行った（評価２回目）。同様にして評価を３０回繰り返した。下記基準により表示性能を評価した。
−表示性能評価基準−
ＡＡＡＡ：光漏れが視認されない。偏光板を取り出して観察しても傷が無い。
ＡＡＡ：光漏れが視認されない。偏光板を取り出して三波長光源下で観察するとかすかな傷が認められる。
ＡＡ：光漏れが視認されない。偏光板を取り出して観察した時にかすかな傷が認められる。
Ａ：光漏れが視認されない。偏光板を取り出して観察した時にはっきり見える傷がある。
Ｂ：３０回の評価のうち１回、光漏れが視認される。
Ｃ：３０回の評価のうち２回、光漏れが視認される。
Ｄ：３０回の評価のうち３回以上、光漏れが視認される。【０１５２】
＜表示性能の評価２（輝度の評価）＞ 
各実施例及び比較例の液晶表示装置について点灯試験を行い、表示面の正面から輝度を測定し、下記基準により輝度を評価した。
−輝度の評価基準−
ＡＡＡＡ：輝度３１５ｃｄ／ｍ２以上
ＡＡＡ：輝度３１０ｃｄ／ｍ２以上３１５ｃｄ／ｍ２未満
ＡＡ：輝度３０５ｃｄ／ｍ２以上３１０ｃｄ／ｍ２未満
Ａ：輝度３００ｃｄ／ｍ２以上３０５ｃｄ／ｍ２未満
Ｂ：輝度２９０ｃｄ／ｍ２以上３００ｃｄ／ｍ２未満
Ｃ：輝度２８０ｃｄ／ｍ２以上２９０ｃｄ／ｍ２未満
Ｄ：輝度２８０ｃｄ/ｍ２未満【０１５３】
以上の評価の結果を、表２に示す。
【表２】
2019097960.tif 000009
【０１５４】
表２に示すように、偏光板が衝撃吸収層を有しない場合、液晶表示装置は表示性能に劣る結果となった（比較例１）。また、偏光板が衝撃吸収層を有していても、衝撃吸収層のtanδの極大値が本発明の規定を外れていたり、この極大値の周波数が本発明の規定を外れていたりすると、液晶表示装置はやはり表示性能に劣るものとなった（比較例２及び３）。
これに対し、偏光板が保護フィルムと偏光子との間に本発明で規定する衝撃吸収層を有する場合には、液晶表示装置を、光漏れを生じにくい特性とすることができた（実施例１〜１４）。また、実施例１〜１４の結果から、偏光板が衝撃吸収層を有していても、十分な輝度を実現できることもわかる。【０１５５】
本発明の衝撃吸収層付保護フィルムを、偏光板に用いた際には、保護フィルムの傷を抑制でき、表示性能改善効果が優れることがわかる。
【符号の説明】
【０１５６】
１Ａ：偏光子インナー側保護フィルム
２Ａ：偏光子 
３Ａ：衝撃吸収層
４Ａ：偏光子アウター側保護フィルム
５Ａ：バックライトユニット
６Ａ：偏光板 
【図１】
2019097960.tif 000010
【図２】
2019097960.tif 000011
【国際調査報告】
2019097960.tif 000012
2019097960.tif 000013
2019097960.tif 000014
2019097960.tif 000015