(57)【要約】  金属酸化物粒子含有層と粘着層とをこの順で形成可能であり、かつ、透明電極パターンの視認性の低減に優れる積層体が得られる転写フィルム、及び、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法を提供する。また、金属酸化物粒子含有層と、上記金属酸化物粒子含有層に隣接する粘着層とをこの順で有し、かつ、透明電極パターンの視認性の低減に優れる積層体、上記積層体を含む静電容量型入力装置、及び、上記静電容量型入力装置を備える画像表示装置を提供する。転写フィルムは、仮支持体と、粘着層と、金属酸化物粒子を含む金属酸化物粒子含有層と、をこの順で有し、上記金属酸化物粒子含有層における上記金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量が１０％以下である。
2019188081.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮支持体と、
粘着層と、
金属酸化物粒子を含む金属酸化物粒子含有層と、をこの順で有し、
前記金属酸化物粒子含有層における前記金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量が１０％以下である、
転写フィルム。
【請求項２】
前記金属酸化物粒子含有層が、カルボキシ基及びリン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基を有する化合物を含む、請求項１に記載の転写フィルム。
【請求項３】
カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物、及び、リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含む、請求項２に記載の転写フィルム。
【請求項４】
前記カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物、及び、前記リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物の合計含有量が、前記金属酸化物粒子含有層の全質量に対し、０．１質量％〜２０質量％である、請求項３に記載の転写フィルム。
【請求項５】
カルボキシ基及びリン酸基の少なくとも一方を有し、分子量が２，０００以上１０，０００以下であり、ガラス転移温度が２３℃以下であり、かつ、酸価が８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である樹脂を含む、請求項２〜請求項４のいずれか１項に記載の転写フィルム。
【請求項６】
前記粘着層は、２３℃におけるｔａｎδが１．５以上であり、２３℃における破断伸びが６００％以上であり、２３℃における粘度が１．０×１０６Ｐａ・ｓ以下である、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の転写フィルム。
【請求項７】
６０℃における水蒸気透過度が１，１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下である、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の転写フィルム。
【請求項８】
前記粘着層の厚さが、５μｍ〜２００μｍである、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の転写フィルム。
【請求項９】
前記金属酸化物粒子含有層の厚さが、３０ｎｍ〜１，０００ｎｍである、請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の転写フィルム。
【請求項１０】
透明電極パターン上に、請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の転写フィルムにおける、前記金属酸化物粒子含有層及び前記粘着層を、この順で積層する工程を含む
積層体の製造方法。
【請求項１１】
透明電極パターンと、
前記透明電極パターンに隣接して配置された、金属酸化物粒子を含む金属酸化物粒子含有層と、
前記金属酸化物粒子含有層に隣接して配置された粘着層と、をこの順で有し、
前記金属酸化物粒子含有層における前記金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量が１０％以下である、
積層体。
【請求項１２】
前記金属酸化物粒子含有層が、カルボキシ基及びリン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基を有する化合物を含む、請求項１１に記載の積層体。
【請求項１３】
カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物、及び、リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含む、請求項１２に記載の積層体。
【請求項１４】
前記カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物、及び、前記リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物の合計含有量が、前記金属酸化物粒子含有層の全質量に対し、０．１質量％〜２０質量％である、請求項１３に記載の積層体。
【請求項１５】
前記粘着層は、２３℃におけるｔａｎδが１．５以上であり、２３℃における破断伸びが６００％以上であり、２３℃における粘度が１．０×１０６Ｐａ・ｓ以下である、請求項１１〜請求項１４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１６】
前記粘着層及び前記金属酸化物粒子含有層を合わせた層の６０℃における水蒸気透過度が１，１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下である、請求項１１〜請求項１５のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１７】
前記粘着層の厚さが、５μｍ〜２００μｍである、請求項１１〜請求項１６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１８】
前記金属酸化物粒子含有層の厚さが、３０ｎｍ〜１，０００ｎｍである、請求項１１〜請求項１７のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１９】
請求項１１〜請求項１８のいずれか１項に記載の積層体を含む、静電容量型入力装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の静電容量型入力装置を備える画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、転写フィルム、積層体の製造方法、積層体、静電容量型入力装置、及び、画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
静電容量型のタッチパネルを備えた表示装置等においては、パターン化されたＩＴＯ（酸化インジウムすず）等の透明電極（透明電極パターン）が用いられる。
ここで、上記表示装置等においては、上記透明電極パターンの視認性を軽減するため、上記透明電極パターン上に屈折率調整層を形成することが知られている。
また、工程の簡略化のため、上記屈折率調整層を、転写フィルムを用いて形成することが知られている。【０００３】
例えば、特許文献１には、仮支持体と、第一の硬化性透明樹脂層と、上記第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層とをこの順で有し、上記第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が上記第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、上記第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６０以上であることを特徴とする転写フィルムが記載されている。
特許文献２には、透明導電性フィルム積層体であって、支持体と、上記支持体上の透明な粘着剤層と、上記透明な粘着剤層の上に透明なフィルム基材と、上記透明なフィルム基材の上に透明導電性層と含み、上記透明な粘着剤層は、一方の主面から厚み方向にわたって透明な粘着剤ベース材料により本質的に形成されるベース粘着剤区分と、上記粘着剤層の他方の主面から厚み方向にわたって形成された透明な粘着性の屈折率調整用区分とを含み、上記ベース粘着剤区分は上記透明なフィルム基材と接し、上記屈折率調整用区分は上記支持体と接し、上記粘着剤ベース材料の屈折率より高い屈折率を有することを特徴とする透明導電性フィルム積層体が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−１０８５４１号公報
【特許文献２】特開２０１７−２４２６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載のように、透明電極パターンの視認性を軽減することを目的として、透明電極パターン上に屈折率調整層を形成することが知られている。
特許文献１においては、上記屈折率調整層の保護のため、屈折率調整層（第二の硬化性透明樹脂層）上に、第一の硬化性透明樹脂層（「オーバーコート層」ともいう。）が配置されている。
例えば液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置を有するタッチパネル等の製造においては、偏光フィルム、位相差フィルム、カバーガラス、その他の種々の光学部材を、上述の屈折率調整層上に接合することが行われる。
そのため、例えば特許文献１に係る転写フィルムを用いて、屈折率調整層及びオーバーコート層を形成した場合には、例えばオーバーコート層により屈折率調整層を保護しながら、オーバーコート層上に粘着層を更に形成して、他の光学部材と接合することが行われている。
また、特許文献２には、粘着層と屈折率調整層が少なくとも積層された転写フィルムが記載されている。このような転写フィルムを用いることにより、上記オーバーコート層の形成を省略して、屈折率調整層上に粘着層を有する部材を形成することが可能となる。
しかし、本発明者らは、鋭意検討した結果、特許文献２に係る転写フィルムおいては、屈折率調整層を、粘着剤層の他方の主面から厚み方向にわたって形成された透明な粘着性の屈折率調整用区分として有しているため、膜厚方向に屈折率のバラツキ（変動）が生じており、透明電極パターンの視認性の低減が不十分となる場合があることを見出した。【０００６】
本開示に係る実施形態が解決しようとする課題は、金属酸化物粒子含有層と粘着層とをこの順で形成可能であり、かつ、透明電極パターンの視認性の低減に優れる積層体が得られる転写フィルム、及び、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法を提供することである。
本開示に係る別の実施形態が解決しようとする課題は、金属酸化物粒子含有層と、上記金属酸化物粒子含有層に隣接する粘着層とをこの順で有し、かつ、透明電極パターンの視認性の低減に優れる積層体、上記積層体を含む静電容量型入力装置、及び、上記静電容量型入力装置を備える画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞  仮支持体と、
粘着層と、
金属酸化物粒子を含む金属酸化物粒子含有層と、をこの順で有し、
上記金属酸化物粒子含有層における上記金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量が１０％以下である、
転写フィルム。
＜２＞  上記金属酸化物粒子含有層が、カルボキシ基及びリン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基を有する化合物を含む、＜１＞に記載の転写フィルム。
＜３＞  カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物、及び、リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含む、＜２＞に記載の転写フィルム。
＜４＞  上記カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物、及び、上記リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物の合計含有量が、上記金属酸化物粒子含有層の全質量に対し、０．１質量％〜２０質量％である、＜３＞に記載の転写フィルム。
＜５＞  カルボキシ基及びリン酸基の少なくとも一方を有し、分子量が２，０００以上１０，０００以下であり、ガラス転移温度が２３℃以下であり、かつ、酸価が８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である樹脂を含む、＜２＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。
＜６＞  上記粘着層は、２３℃におけるｔａｎδが１．５以上であり、２３℃における破断伸びが６００％以上であり、２３℃における粘度が１．０×１０６Ｐａ・ｓ以下である、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。
＜７＞  ６０℃における水蒸気透過度が１，１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下である、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。
＜８＞  上記粘着層の厚さが、５μｍ〜２００μｍである、＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。
＜９＞  上記金属酸化物粒子含有層の厚さが、３０ｎｍ〜１，０００ｎｍである、＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。
＜１０＞  透明電極パターン上に、＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の転写フィルムにおける、上記金属酸化物粒子含有層及び上記粘着層を、この順で積層する工程を含む
積層体の製造方法。
＜１１＞  透明電極パターンと、
上記透明電極パターンに隣接して配置された、金属酸化物粒子を含む金属酸化物粒子含有層と、
上記金属酸化物粒子含有層に隣接して配置された粘着層と、をこの順で有し、
上記金属酸化物粒子含有層における上記金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量が１０％以下である、
積層体。
＜１２＞  上記金属酸化物粒子含有層が、カルボキシ基及びリン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基を有する化合物を含む、＜１１＞に記載の積層体。
＜１３＞  カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物、及び、リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含む、＜１２＞に記載の積層体。
＜１４＞  上記カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物、及び、上記リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物の合計含有量が、上記金属酸化物粒子含有層の全質量に対し、０．１質量％〜２０質量％である、＜１３＞に記載の積層体。
＜１５＞  上記粘着層は、２３℃におけるｔａｎδが１．５以上であり、２３℃における破断伸びが６００％以上であり、２３℃における粘度が１．０×１０６Ｐａ・ｓ以下である、＜１１＞〜＜１４＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１６＞  上記粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を合わせた層の６０℃における水蒸気透過度が１，１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下である、＜１１＞〜＜１５＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１７＞  上記粘着層の厚さが、５μｍ〜２００μｍである、＜１１＞〜＜１６＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１８＞  上記金属酸化物粒子含有層の厚さが、３０ｎｍ〜１，０００ｎｍである、＜１１＞〜＜１７＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１９＞  ＜１１＞〜＜１８＞のいずれか１つに記載の積層体を含む、静電容量型入力装置。
＜２０＞  ＜１９＞に記載の静電容量型入力装置を備える画像表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本開示に係る実施形態によれば、金属酸化物粒子含有層と粘着層とをこの順で形成可能であり、かつ、透明電極パターンの視認性の低減に優れる積層体が得られる転写フィルム、及び、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法を提供することである。
本開示に係る別の実施形態によれば、金属酸化物粒子含有層と、上記金属酸化物粒子含有層に隣接する粘着層とをこの順で有し、かつ、透明電極パターンの視認性の低減に優れる積層体、上記積層体を含む静電容量型入力装置、及び、上記静電容量型入力装置を備える画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本開示の一実施形態に係る転写フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図２】本開示の一実施形態に係る静電容量型入力装置の構成の一例を示す断面概略図である。
【図３】本開示の一実施形態に係る透明電極パターンと、非パターン領域の関係の一例を示す説明図である。
【図４】本開示の一実施形態に係る透明電極パターンの端部のテーパー形状の一例を示す説明図である。
【図５】本開示の一実施形態に係る透明電極パターンと、非パターン領域の関係の一例を示す説明図である。
【図６】本開示に係る積層体の一例の断面図を示す模式図である。
【図７】本開示の実施例における段差追従性の評価方法を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の一実施形態について説明する。
本開示における基（原子団）の表記について、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
本開示において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、金属酸化物粒子含有層等の層中の各成分の量は、金属酸化物粒子含有層等の層に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、金属酸化物粒子含有層等の層中に存在する上記複数の物質の合計量を意味する。
本開示において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を包含する概念である。
また、本開示中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
分子量が分子量分布を有する場合には、特に断わりが無ければ、重量平均分子量である。
重合体中の構成単位の組成比は、特に断わりが無ければ、モル比である。
本開示において、全固形分量とは、組成物における溶剤等の揮発性成分を除いた成分の全質量をいう。
本開示における図面中、同一の構成には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
本開示において、「光」は、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線といった活性エネルギー線を包含する概念である。
本開示における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線、Ｘ線、及びＥＵＶ（Extreme ultraviolet）光等による露光のみならず、電子線、及びイオンビーム等の粒子線による露光も含む。
本開示において、「透明」とは、２３℃における波長４００ｎｍ〜８００ｎｍにおける全光線透過率が８０％以上（好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上）であることを意味する。上記全光線透過率は積分球式光線透過率測定装置（例えば、コニカミノルタ社製の商品名「ＣＭ−３６００Ａ」）を用いて測定される。
【００１１】
（転写フィルム）
本開示に係る転写フィルムは、仮支持体と、粘着層と、金属酸化物粒子を含む金属酸化物粒子含有層と、をこの順で有し、上記金属酸化物粒子含有層における上記金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量が１０％以下である。
【００１２】
本発明者らは、鋭意検討した結果、上記構成を採用することにより、透明電極パターン上に、金属酸化物粒子含有層と粘着とをこの順で形成可能であり、かつ、透明電極パターンの視認性の低減に優れる積層体が得られることを見出した。
上記効果が得られる機序については必ずしも明確ではないが、以下のように推測している。
本開示における金属酸化物粒子含有層は、透明電極パターンの視認性の低減のため、屈折率を上昇させることを目的として金属酸化物粒子を含んでいる。
この、金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量が１０％以下であることにより、金属酸化物粒子含有層の屈折率のバラツキが低減され、透明電極パターンの視認性がより低減されると考えられる。
【００１３】
また、本開示に係る転写フィルムは、金属酸化物粒子含有層と粘着層とを一度に形成することが可能となる。
更に、上記粘着層は、上述のオーバーコート層よりも柔らかい層として形成することが可能である。
そのため、本開示に係る転写フィルムを、段差を有する部材に貼り合わせる場合に、段差部分における気泡の発生が抑制されやすいと考えられる。
また、例えば、表示部等に柔軟性を有するタッチパネル表示装置への適用も行いやすいと考えられる。
以下、本開示に係る転写フィルムを構成する各要件について説明する。
【００１４】
＜転写フィルムの構成＞
図１は、本開示に係る転写フィルム２０の概略断面図である。
転写フィルム２０は、仮支持体１６上に、粘着層１８と、金属酸化物粒子含有層１２とをこの順で有する。
仮支持体１６と粘着層１８とは隣接していることが好ましい。ただし、仮支持体１６を剥離した際に粘着層が最外層となるよう、仮支持体と一緒に剥離される層を有していてもよい。
粘着層１８と、金属酸化物粒子含有層１２とは、間に中間層等を有していてもよいが、透明電極パターンの視認性の低減及び段差追随性の観点からは、隣接していることが好ましい。
金属酸化物粒子含有層１２は、転写時に剥離される保護フィルム（不図示）を有していることが好ましい。
また、金属酸化物粒子含有層１２は、透明電極パターンの視認性の低減の観点から、積層体において透明電極パターンと隣接することが好ましい観点から、最外層であるか、保護フィルムと隣接していることが好ましい。
【００１５】
〔ＷＶＴＲ〕
透明電極パターン及び金属配線（銅配線等）の腐食を抑制する観点から、転写フィルムの６０℃における水蒸気透過度（ＷＶＴＲ）は、１１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることが好ましく、２００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）〜６００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であることがより好ましく、２００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）〜４００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であることが更に好ましい。ＷＶＴＲは、６０℃、９０％ＲＨの環境下で、ＭＯＣＯＮ社製のＡＱＵＡＴＲＡＮ（ＭＯＤＥＬ−１）によって測定される。
転写フィルムの６０℃におけるＷＶＴＲは、転写フィルムから仮支持体を剥離した状態で測定される。また、転写フィルムが後述するカバーフィルムを有する場合には、カバーフィルムも剥離した状態で測定される。実際の測定では、メンブレンフィルターに転写した積層体のＷＶＴＲを測定する（メンブレンフィルターのＷＶＴＲが転写フィルムのＷＶＴＲと比較して極めて高いことから、実質的には、転写フィルム自体のＷＶＴＲを測定したことになる）。
本開示において、転写フィルムの６０℃におけるＷＶＴＲは、例えば後述する粘着層の組成、厚さ等を設計することにより上記範囲内とすることが可能である。
【００１６】
以下、各層の詳細について説明する。
【００１７】
＜金属酸化物粒子含有層＞
本開示に係る転写フィルムは、金属酸化物粒子含有層を有する。
本開示における金属酸化物粒子含有層は、透明であることが好ましい。
また、本開示における金属酸化物粒子含有層の、２３℃、波長４００ｎｍ〜７５０ｎｍにおける屈折率は、１.５５〜２.００であることが好ましく、１.６０〜１.９０がより好ましく、１.６１〜１.８９が更に好ましく、１.６２〜１.７５が最も好ましい。
本開示において、波長４００ｎｍ〜７５０ｎｍにおける屈折率が例えば１．５０以上であるとは、上記範囲の波長の光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する、１ｎｍ刻みの間隔で測定した各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。
本開示における金属酸化物粒子含有層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．５５〜２．００であることが好ましく、１．６０〜１．９０がより好ましく、１．６１〜１．８９が更に好ましく、１．６２〜１．７５が最も好ましい。
本開示における金属酸化物粒子含有層の波長６３３ｎｍにおける屈折率は、１.５５〜２.００であることが好ましく、１.６０〜１.９０がより好ましく、１.６１〜１.８９が更に好ましく、１.６２〜１.７５が最も好ましい。
本開示における金属酸化物粒子含有層の屈折率は、後述する粘着層の屈折率よりも高いことが好ましい。
本開示において、特に断わりが無い限り屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍでエリプソメーターで測定した値である。
【００１８】
〔金属酸化物粒子〕
本開示における金属酸化物粒子含有層は、金属酸化物粒子を含む。金属酸化物粒子を含むことで、屈折率及び光透過性に優れた金属酸化物粒子含有層が得られる。
金属酸化物粒子の２３℃、波長４００ｎｍ〜７５０ｎｍにおける屈折率は、１．５０以上であることが好ましく、１．７０以上であることがより好ましく、１．９０以上であることがより好ましい。
金属酸化物粒子の屈折率の上限は特に限定されず、例えば３．０以下であればよい。
【００１９】
本開示における金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれるものとする。
光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化スズ、ジルコニウム／スズ酸化物、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化スズ、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン又は酸化ジルコニウムが特に好ましく、酸化ジルコニウムが最も好ましい。酸化チタンとしては二酸化チタンが好ましく、二酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。
これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
【００２０】
−粒子径−
金属酸化物粒子含有層の透明性の観点から、上記金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、３ｎｍ〜８０ｎｍが特に好ましい。金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い径を径とする。
【００２１】
また、上記金属酸化物粒子は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
金属酸化物粒子含有層における金属酸化物粒子の含有量は、得られる光学部材に要求される屈折率や、光透過性等を考慮して適宜決定すればよいが、金属酸化物粒子含有層の全質量に対して、５質量％〜９５質量％とすることが好ましく、５０質量％〜９５質量％とすることがより好ましく、６５質量％〜９０質量％とすることが最も好ましい。
酸化チタン粒子の例としては、テイカ（株）製のＴＳ−０２０（水分散液、不揮発分２５．６質量％）、日産化学工業（株）製チタニアゾルＲ（メタノール分散液、不揮発分３２．１質量％）等が挙げられる。
酸化ジルコニウム粒子の例としては、日産化学工業（株）製のナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｍ（メタノール分散液、不揮発分３０．５質量％）、堺化学工業（株）製のＳＺＲ-ＣＷ（水分散液、不揮発分３０質量％）、ＳＺＲ−Ｍ（メタノール分散液、不揮発分３０質量％）等が挙げられる。
【００２２】
−膜厚方向の変動量−
本開示において、金属酸化物粒子含有層における金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量は、１０％以下であり、８％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましい。
上記変動量は、例えば金属酸化物粒子が酸化ジルコニウム粒子を含む場合、ＸＰＳ装置「ＰＨＩ−５６００」（アルバック・ファイ（株）製）を用い、アルゴン・スパッタリング（４ｋＶ）を施して、膜表面から膜厚方向に膜を削り、膜表面の炭素原子に対するＺｒ原子の含有率を、Ｘ線光電子分光法により測定する。上記測定により、全膜厚の深さ方向（膜厚方向）に対し、１０％膜厚、５０％膜厚、及び９０％膜厚における炭素原子に対するＺｒ原子の含有率をそれぞれ測定し、これらの３点の平均値と、これらの３点のそれぞれの値との差の絶対値のうち、最大値を変動量とする。上記１０％（５０％又は９０％）膜厚とは、金属酸化物粒子含有層の表面から、金属酸化物粒子含有層の膜厚の１０％（５０％又は９０％）を削った位置をいう。
金属酸化物粒子が他の粒子である場合にも、上述の酸化ジルコニウム粒子を用いる場合と同様に算出可能である。
複数の金属酸化物粒子が含有される場合は各金属の合計を金属酸化物粒子の含有量とする。
【００２３】
〔樹脂〕
金属酸化物粒子含有層は、樹脂を含むことが好ましい。
バインダーポリマーとしては、公知の高分子を用いることができる。側鎖にカルボン酸を有するアクリル樹脂が好ましい。重量平均分子量は５，０００〜５０，０００が好ましい。例えば、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００２５、特開２０１０−２３７５８９号公報の段落００３３〜００５２に記載の樹脂（Ａ）を用いることができる。
【００２４】
上記樹脂は、特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂であることが好ましい。
ここで、（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の少なくとも一方を含む樹脂を指す。
（メタ）アクリル樹脂中における（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計割合は、３０モル％以上が好ましく、５０モル％以上がより好ましい。上限は特に限定されず、１００モル％以下であればよい。
【００２５】
また、樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましい。
樹脂がエチレン性不飽和基を有することにより、後述する粘着層との密着性に優れる。
エチレン性不飽和基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基等が挙げられる。
これらのエチレン性不飽和基は、例えば、樹脂の製造時にこれらのエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いて樹脂に導入してもよいし、高分子反応等により樹脂に導入してもよい。
【００２６】
また、上記樹脂は、上記（メタ）アクリル樹脂以外にも、任意の膜形成樹脂を目的に応じて適宜選択して用いることができる。表面硬度、耐熱性を向上するため、公知の感光性シロキサン樹脂材料などをもちいてもよい。
【００２７】
上記樹脂は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
樹脂の含有量は、上記金属酸化物粒子含有層の全質量に対し、０質量％〜４０質量％であることが好ましく、１０質量％〜３０質量％であることがより好ましい。
【００２８】
〔カルボキシ基及びリン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基を有する化合物〕
金属酸化物粒子含有層は、カルボキシ基及びリン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基を有する化合物（以下、「特定化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。
金属酸化物粒子含有層が特定化合物を含有することにより、金属酸化物粒子含有層を形成した際に、金属酸化物粒子含有層にクラックが発生することが抑制され、透明電極パターンの視認性がより低減されやすい。
特定化合物としては、カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）が２，０００未満の化合物、及び、リン酸基を有する分子量２，０００未満の化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物（以下、「特定化合物Ａ」ともいう。）であることが好ましい。
【００２９】
−カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物−
カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物の分子量は、１２０以上１，０００以下が好ましい。
上記分子量は、公知の質量分析法により測定することができる。
また、カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物は、カルボキシ基を１つのみ有する化合物であってもよいし、カルボキシ基を複数有する化合物であってもよいが、カルボキシ基を複数有する化合物であることが好ましい。
カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物におけるカルボキシ基のｐＫａは、１．０〜６．０であることが好ましく、１．０〜４．０であることがより好ましい。カルボキシ基を有し分子量が２，０００未満の化合物が、ｐＫａを複数有する場合、上記ｐＫａは複数のｐＫａの中の最小値である。
カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物としては、フタル酸、トリメリット酸、マレイン酸、安息香酸、クエン酸等が挙げられる。
【００３０】
−リン酸基を有し分子量２，０００未満の化合物−
リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物の分子量は、１２０以上１，０００以下が好ましい。
上記分子量は、公知の質量分析法により測定することができる。
また、リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物は、エチレン性不飽和基を更に有することが好ましい。
上記エチレン性不飽和基としては、特に限定されないが、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。
また、リン酸基を有し、分子量が２，０００未満の化合物は、リン酸基を１つのみ有する化合物であってもよいし、リン酸基を複数有する化合物であってもよい。
リン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物としては、ライトエステルＰ−２Ｍ（共栄社化学（株）製）等が挙げられる。
【００３１】
−特定化合物Ｂ−
また、特定化合物としては、カルボキシ基及びリン酸基の少なくとも一方を有し、分子量が２，０００以上１０，０００以下であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２３℃以下であり、かつ、酸価が８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である樹脂（以下、「特定化合物Ｂ」ともいう。）も好ましく用いることができる。
【００３２】
本開示において、樹脂等の重合体のガラス転移温度は示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を用いて測定することができる。
具体的な測定方法は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１（１９８７年）又はＪＩＳ  Ｋ  ６２４０（２０１１年）に記載の方法に順じて行う。本明細書におけるガラス転移温度は、補外ガラス転移開始温度（以下、Ｔｉｇと称することがある）を用いている。
ガラス転移温度の測定方法をより具体的に説明する。
ガラス転移温度を求める場合、予想されるＴｇより約５０℃低い温度にて装置が安定するまで保持した後、加熱速度２０℃／分で、ガラス転移が終了した温度よりも約３０℃高い温度まで加熱し，ＤＴＡ曲線又はＤＳＣ曲線を描かせる。
補外ガラス転移開始温度（Ｔｉｇ）、すなわち、本明細書におけるガラス転移温度Ｔｇは、ＤＴＡ曲線又はＤＳＣ曲線における低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、ガラス転移の階段状変化部分の曲線の勾配が最大になる点で引いた接線との交点の温度として求める。
【００３３】
Ｔｇを、既述の好ましい範囲に調整する方法としては、例えば、目的とする重合体の各構成単位の単独重合体のＴｇと各構成単位の質量比より、ＦＯＸ式を指針にして、目的とする特定重合体のＴｇを制御することが可能である。
ＦＯＸ式について
重合体に含まれる第１の構成単位の単独重合体のＴｇをＴｇ１、第１の構成単位の共重合体における質量分率をＷ１とし、第２の構成単位の単独重合体のＴｇをＴｇ２とし、第２の構成単位の共重合体における質量分率をＷ２としたときに、第１の構成単位と第２の構成単位とを含む共重合体のＴｇ０（Ｋ）は、以下の式にしたがって推定することが可能である。
ＦＯＸ式：１／Ｔｇ０＝（Ｗ１／Ｔｇ１）＋（Ｗ２／Ｔｇ２）
既述のＦＯＸ式を用いて、共重合体に含まれる各構成単位の種類と質量分率を調整して、所望のＴｇを有する共重合体を得ることができる。
また、重合体の重量平均分子量を調整することにより、重合体のＴｇを調整することも可能である。
【００３４】
本開示における樹脂等の重合体の酸価は、重合体１ｇあたりの酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムの質量を表したものである。具体的には、測定サンプルをテトラヒドロフラン／水＝９／１混合溶媒に溶解し、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ−５１０、京都電子工業（株）製）を用いて、得られた溶液を２３℃において、０．１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定する。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として、次式により酸価を算出する。
Ａ＝５６．１１×Ｖｓ×０．１×ｆ／ｗ
Ａ：酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｖｓ：滴定に要した０．１ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液の使用量（ｍＬ）
ｆ：０．１ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液の力価
ｗ：測定サンプルの質量（ｇ）（固形分換算）
【００３５】
＜＜カルボキシ基を有し、重量平均分子量２，０００以上１０，０００以下、Ｔｇ２３℃以下の樹脂＞＞
金属配線の腐食を抑制する観点からは、特定化合物として、カルボキシ基を有し、分子量が２，０００以上１０，０００以下であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２３℃以下であり、かつ、酸価が８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である樹脂を用いることが好ましい。
上記分子量は、２，０００〜８，０００であることが好ましく、２，５００〜５，０００であることがより好ましい。
上記Ｔｇは、−４０℃〜３０℃であることが好ましく、−２０℃〜２５℃であることがより好ましい。
上記酸価は、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが溶解性の観点からより好ましい。
上記樹脂としては、アクリル樹脂が好ましい。
好ましい例として、総研化学株式会社製のアクトフローＣＢ−３０６０，ＣＢ−３０９８，ＣＢ−ＣＢＢ−３０９８等があげられる。
【００３６】
＜＜リン酸基を有し、重量平均分子量２，０００以上１０，０００以下、Ｔｇ２３℃以下の樹脂＞＞
金属配線の腐食を抑制する観点からは、特定化合物として、リン酸基を有し、分子量が２，０００以上１０，０００以下であり、Ｔｇが２３℃以下であり、かつ、酸価が８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である樹脂を用いることが好ましい。
上記リン酸基を有する樹脂としては、側鎖にリン酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。
上記リン酸基を有する樹脂は、エチレン性不飽和基を有していてもよいが、エチレン性不飽和基を有しない樹脂であることが好ましい。
リン酸基を有する樹脂は、リン酸基を有する構成単位を有する樹脂であることが好ましい。
リン酸基を有する樹脂は、例えば、樹脂の製造時にリン酸基を有するモノマーを用いることにより得られる。
【００３７】
−含有量−
本開示に係る金属酸化物粒子含有層は、特定化合物を１種単独で含んでもよいし、２種以上を併用してもよい。
特定化合物の含有量は、上記金属酸化物粒子含有層の全質量に対し、０．１質量％〜５０質量％であることが好ましく、１．０質量％〜４０質量％であることがより好ましい。
また、特定化合物Ａの合計含有量は、上記金属酸化物粒子含有層の全質量に対し、０．１質量％〜２０質量％であることが好ましく、１．０質量％〜１０．０質量％であることがより好ましい。
【００３８】
〔他の重合性化合物〕
本開示における金属酸化物粒子含有層は、上述した樹脂及び特定化合物以外の他の重合性化合物を更に含んでもよい。
他の重合性化合物としては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの；ジペンタエリスリトール等の多官能アルコールに次カルボン酸又はカルボン酸無水物を付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
【００３９】
〔重合開始剤又は重合開始系〕
本開示における金属酸化物粒子含有層は、重合開始剤又は重合開始系を更に含んでもよい。重合開始剤又は重合開始系としては、特に限定されないが、特開２０１１−９５７１６号公報に記載の段落００３１〜００４２に記載の重合開始剤又は重合開始系が挙げられる。
【００４０】
〔その他の添加剤〕
金属酸化物粒子含有層は、その他の添加剤を更に含んでもよい。その他の添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、更に、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤等が挙げられる。 
【００４１】
〔ポジ型材料である場合〕
金属酸化物粒子含有層は、ポジ型材料であってもよい。金属酸化物粒子含有層ポジ型材料である場合、例えば特開２００５−２２１７２６号公報に記載の材料などが用いられるが、これに限られない。
【００４２】
〔厚さ〕
金属酸化物粒子含有層の厚さは、３０ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましく、３０ｎｍ〜３００ｎｍであることがより好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが最も好ましい。
【００４３】
＜粘着層＞
本開示に係る転写フィルムは、粘着層を有する。
粘着層としては、粘着性を有する層であれば特に限定されないが、ガラス基材を張り付けた場合の剥離力が０．２Ｎ／ｍｍ以上であることが好ましい。上記剥離力は、室温環境（２３℃）下で引張速度３００ｍｍ／ｍｉｎにて１８０°剥離試験を行うことにより測定される。
【００４４】
〔粘着層の特性〕
−ｔａｎδ−
粘着層の２３℃におけるｔａｎδは、段差追従性を良好とする観点から、１．５以上であることが好ましく、１．５超であることがより好ましく、２．０〜４．０であることが更に好ましい。
本開示において、ｔａｎδは、粘度測定でＧ’（貯蔵弾性率）とＧ’’（損失弾性率）に置けるＧ’’／Ｇ’の比率として得られる。上記貯蔵弾性率Ｇ’及び損失弾性率Ｇ’’は、ＪＩＳ  Ｋ  ７２４４−１：１９９８に記載の方法に従って測定される。
【００４５】
−破断伸び−
本開示における粘着層の、２３℃における破断伸びは、段差追従性を良好とする観点から、６００％以上であることが好ましく、６００％〜１０００％であることがより好ましい。上記破断伸びは、膜厚７５μｍ、長さ３０ｍｍ、幅５ｍｍの自立膜のサンプルフィルムを引っ張り試験機（テンシロン（株）製）を用いて引っ張ることにより測定される。上記測定はチャック間距離２０ｍｍ、２３℃、相対湿度５０％下で行う。
【００４６】
−粘度−
本開示における粘着層の、２３℃における粘度は、段差追従性を良好とする観点から、１．０×１０６Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、１．０×１０４Ｐａ・ｓ以上１．０×１０６Ｐａ・ｓ以下であることがより好ましい。
上記粘度は、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製レオメータＤＨＲ−２（２０ｍｍｆのパラレルプレート及びペルチェプレート（Ｇａｐ：約０．５ｍｍ））を用いて、測定開始温度２０℃、測定終了温度５０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚ、歪み０．５％の条件で測定される。サンプルは、ペルチェプレート上で試料を約８０℃で溶解させ、Ｇａｐ一定（０．５ｍｍ）モードで測定する。膜厚は、ペルチェプレート上に厚さが７５μｍとなるようにし、荷重一定（１Ｎ）モードで測定する。
【００４７】
段差追従性の観点から、本開示における粘着層は、２３℃におけるｔａｎδが１．５以上であり、２３℃における破断伸びが６００％以上であり、２３℃における粘度が１．０×１０６Ｐａ・ｓ以下であることが好ましい。
ｔａｎδ、破断伸び及び粘度の好ましい範囲はそれぞれ上述の通りである。
【００４８】
−剥離力−
仮支持体と粘着層の界面において剥離されやすくするため、仮支持体と粘着層との剥離力は、５．０Ｎ／２５ｍｍ以下（０．２Ｎ／ｍｍ）であることが好ましい。
また、粘着層と金属酸化物粒子含有層の界面において剥離されにくくするため、粘着層と金属酸化物粒子含有層との剥離力は、５．０Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましい。
上記剥離力は、室温環境（２３℃）下で引張速度３００ｍｍ／ｍｉｎにて１８０°剥離試験を行うことにより測定される。
【００４９】
−光学特性−
本開示における粘着層は、透明であることが好ましい。
また、本開示における粘着層の、２３℃、波長４００ｎｍ〜７５０ｎｍにおける屈折率は、１．４０〜１．６０であることが好ましく、１．４５〜１．５５であることがより好ましい。
【００５０】
〔粘着層形成用組成物〕
本開示における粘着層は、粘着層形成用組成物を硬化又は乾燥させて得られる。
例えば、ゴムと、必要に応じて粘着付与剤と、重合性モノマーと重合開始剤とを含む粘着層形成用組成物を硬化する、又は、重合性モノマーと、樹脂と、溶剤とを含む粘着層形成用組成物を乾燥することにより得られる。
以下では、本開示における粘着層形成用組成物に含まれる成分及び含まれ得る成分について説明する。
【００５１】
−ゴム−
本開示における粘着層形成用組成物は、ゴムを含有することが好ましい。粘着層形成用組成物（粘着層）がゴムを含有することにより、粘着層の疎水性が向上し、上述のＷＶＴＲ及び得られる静電容量型入力装置における比誘電率を低下させることができる。
本開示における粘着層形成用組成物に含有されるゴムは、常温（２３℃）で液状であることが好ましい。また、上記常温で液状であるゴムと、後述の追加添加ゴムとを併用することが好ましい。
常温で液状であるゴムの重量平均分子量は、１０００〜１０万であることが好ましく、１０００〜５万であることがより好ましく、１０００〜３万５０００であることが更に好ましい。
常温で液状であるゴムの重量平均分子量が上記範囲にあることで、段差追従性に優れた粘着層が得られやすく、また、粘着層形成用組成物の取り扱い性が向上する。
また、常温で液状であるゴムの重量平均分子量が１０００以上であることにより、粘着力に優れ、流動、漏出等が抑制された粘着層が得られやすい。
一方、常温で液状であるゴムの重量平均分子量が１０万以下であることにより、粘着層の段差追従性に優れやすく、粘着層形成用組成物の粘度が高くなりすぎないため取扱い性が向上する。
【００５２】
常温で液状であるゴムとしては、例えば、未変性又は変性のゴムを含み、より具体的には、天然ゴム、（変性）ポリイソブチレン、（変性）ポリブタジエン、（変性）水添ポリイソプレン、（変性）水添ポリブタジエン、（変性）ポリイソプレン、（変性）ポリブテン、（変性）スチレンブタジエン共重合体、又はこれらの群から任意に選ばれた組み合わせの共重合体や、これらの混合物などが挙げられる。なお、上記例示における「（変性）Ａ」（「Ａ」は化合物名）とは、任意の基で変性されたＡ及び無変性のＡの両者を含む総称である。
【００５３】
常温で液状であるゴムには、重合性基を有するゴムが含まれていてもよい。重合性基を有するゴムは、変性ゴムの一種である。このような重合性基としては、公知のラジカル重合性基（（メタ）アクリロイル基、アクリルアミド基、ビニル基、ビニルフェニル基、アリル基など）や、公知のカチオン重合性基（エポキシ基など）が挙げられる。重合性基を有する第１ゴムとしては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有するゴム（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、水添ポリブタジエン、及び、水添ポリイソプレンなど）が挙げられる。なお、重合性基を有するゴムは、後述する重合性モノマーには含まれない。
常温で液状であるゴムは、低誘電率及び低温度依存性の実現という観点から、ポリブタジエン、ポリイソプレン、変性ポリブタジエン及び変性ポリイソプレン（好ましくは、（メタ）アクリル変性ポリイソプレン）からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
【００５４】
常温で液状であるゴムの含有量は、本開示における効果がより優れる点で、粘着層形成用組成物の全質量に対して、５質量％〜４５質量％が好ましく、１０質量％〜３０質量％がより好ましい。
【００５５】
＜＜追加添加ゴム＞＞
粘着層形成用組成物は、上記常温で液状であるゴムに加えて、追加添加ゴムを更に含んでもよい。
追加添加ゴムは、重量平均分子量が２５万〜２００万の範囲にあり、常温（２３℃）で固体のゴムが好ましい。追加添加ゴムを更に含むことにより、湿熱密着性に優れた粘着層が得られる。
追加添加ゴムの重量平均分子量が２５万以上であると、粘着層の湿熱密着性が向上しやすく、また、追加添加ゴムの重量平均分子量が２００万以下であれば、粘着層形成用組成物の調製が容易になる。
【００５６】
追加添加ゴムの具体例としては、常温で液状であるゴムと同様であるのでその説明を省略する。
上記追加添加ゴムは、低誘電率及び低温度依存性の実現という観点から、ポリブタジエン、ポリイソプレン、変性ポリブタジエン及び変性ポリイソプレン（好ましくは、（メタ）アクリル変性ポリイソプレン）からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
追加添加ゴムの含有量は、粘着層形成用組成物の全質量（１００質量％）に対して、１０質量％以上であり、１０〜２５質量％であることが好ましい。
このように、含有量が１０質量％以上であることで、湿熱密着性に優れた粘着層が得られる。また、追加添加ゴムの含有量が２５質量％以下であると、粘着層の柔軟性が良好となり段差追従性により優れた粘着層が得られ、また、粘着層形成用組成物の調製時に溶解性が良好になる傾向にある。
一方、追加添加ゴムの含有量が１０質量％未満であると、粘着層の湿熱密着性が不十分なことがある。
【００５７】
＜＜重合性モノマー＞＞
本開示における粘着層形成用組成物は、重合性モノマーを含むことが好ましい。
重合性モノマーとは、重合性基を有する化合物である。重合性基としては、公知の重合性基を使用でき、いわゆるラジカル重合性基（（メタ）アクリロイル基、アクリルアミド基、ビニル基、ビニルフェニル基、アリル基など）や、カチオン重合性基（エポキシ基など）が挙げられる。
なかでも、取り扱い性及び重合性に優れ、得られる粘着層の段差追従性をより向上できるという点で、重合性モノマーとしては、（メタ）アクリルモノマーが好ましく、特に、単官能性（メタ）アクリルモノマーがより好ましい。なお、（メタ）アクリルモノマーが重合することにより、（メタ）アクリルポリマー（ポリ（メタ）アクリレート）が得られる。
（メタ）アクリルモノマーとは、（メタ）アクリロイル基を有する重合性モノマーである。また、単官能性（メタ）アクリルモノマーとは、（メタ）アクリロイル基を一つ有する重合性モノマーである。
なお、重合性モノマーとしては、１種のみを使用しても、２種以上を併用してもよい。
【００５８】
（メタ）アクリルモノマーの種類は特に制限されないが、取り扱い性に優れる点で、（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、下記式（Ａ）で表される単官能性（メタ）アクリルモノマーがより好ましい。
式（Ａ） ＣＨ２＝ＣＨＲ１−ＣＯＯ−Ｒ２
式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子、又は、アルキル基を表す。アルキル基としては、炭素数１〜３が好ましく、炭素数１がより好ましい。
Ｒ２は、ヘテロ原子を有してもよい炭化水素基を表す。
なかでも、得られる粘着層の段差追従性がより優れる点で、Ｒ２で表される炭化水素基中の炭素原子の数（炭素数）は６個以上が好ましく、６個〜１６個がより好ましく、８個〜１２個が更に好ましい。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、又は、これらを組み合わせた基が好ましく挙げられる。脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖、又は、環状であってもよく、より具体的には、直鎖状脂肪族炭化水素基、分岐鎖状脂肪族炭化水素基、環状脂肪族炭化水素基（脂環式炭化水素基）などが挙げられる。
脂肪族炭化水素基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基などが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
【００５９】
（メタ）アクリルモノマーの溶解度パラメータ（ＳＰ値）は、特に制限されないが、本開示における効果がより優れる点で、８．０ＭＰａ１／２〜１０．０ＭＰａ１／２であることが好ましい。
ここでＳＰ値は、Michael M. Collman, John F. Graf, Paul C. Painter (Pensylvania State Univ.)による、“Specific Interactions and the Miscibility of Polymer Blends” (1991), Technomic Publishing Co. Inc.に記載されている計算で求められる値である。
【００６０】
（メタ）アクリルモノマーとしては、具体的には、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ−テトラデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００６１】
（メタ）アクリルモノマーの好適な態様の一つとしては、本開示における効果がより優れる点で、２種の（メタ）アクリルモノマーを併用する態様が挙げられ、なかでも、上記式（Ａ）中のＲ２が鎖状脂肪族炭化水素基（好ましくは、分岐鎖状脂肪族炭化水素基）であるモノマーＸと、上記式（Ａ）中のＲ２が環状脂肪族炭化水素基であるモノマーＹとを併用する態様がより好ましく挙げられる。
【００６２】
また、粘着層の密着性を向上させる観点からは、単官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。単官能エチレン性不飽和化合物としては、単官能（メタ）アクリレート化合物又は（メタ）アクリル酸が挙げられ、（メタ）アクリル酸、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールエチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタムなどが好ましく挙げられる。
単官能エチレン性不飽和化合物を含有する場合の含有量は、特に限定されるものではないが、粘着層形成用組成物の全質量に対して、０．１質量％〜１０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜３質量％であることがより好ましい。
【００６３】
また、粘着層は多官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。多官能エチレン性不飽和化合物としては、多官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
多官能（メタ）アクリレートしては、例えば、エチレングリコール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどの２官能（メタ）アクリレートや、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマーなどの３官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
多官能エチレン性不飽和化合物を含有する場合の含有量としては、特に限定されないが、粘着層形成用組成物の全質量１００質量％に対して、０．０１〜２質量％が好ましく、０．１〜１質量％がより好ましい。
【００６４】
重合性モノマーの含有量は特に制限されないが、粘着層形成用組成物の全質量に対して、１０質量％〜４５質量％が好ましく、１５質量％〜３０質量％がより好ましく、２０質量％〜３０質量％が更に好ましい。
【００６５】
−光重合開始剤−
本開示における粘着層形成用組成物は、光重合開始剤を含んでもよい。
光重合開始剤の種類は特に制限されず、公知の光重合開始剤（ラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤）を使用できる。例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、メトキシケトン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、ヒドロキシケトン系光重合開始剤（例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４；１，２−α−ヒドロキシアルキルフェノン）、アミノケトン系光重合開始剤（例えば、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７））、オキシム系光重合開始剤（例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１）が挙げられる。
なかでも、光重合開始剤としては、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤が好ましく、モノアシルホスフィンオキサイド及びビスアシルホスフィンオキサイドからなる群から選択される少なくとも１つを含むことがより好ましい。
モノアシルホスフィンオキサイドの具体例としては、ベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，３，５，６−テトラメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、３，４−ジメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−フェニルエトキシホスフィンオキサイドなどが挙げられる。
ビスアシルホスフィンオキサイドの具体例としては、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメチルベンゾイル）−エチルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。
なお、光重合開始剤としては、１種のみを使用しても、２種以上を併用してもよい。
【００６６】
光重合開始剤の含有量は特に制限されないが、粘着層形成用組成物の全質量に対して、１．０質量％〜５．０質量％が好ましく、１．５質量％〜４．０質量％がより好ましい。
【００６７】
−粘着付与剤−
本開示における粘着層形成用組成物は、粘着付与剤を含有することが好ましい。
粘着付与剤としては、貼付剤又は貼付製剤の分野で公知のものを適宜選択して用いればよい。例えば、石油系樹脂（例えば、芳香族系石油樹脂、脂肪族系石油樹脂、Ｃ９留分による樹脂など）、テルペン系樹脂（例えば、αピネン樹脂、βピネン樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール共重合体、水添テルペンフェノール樹脂、芳香族変性水添テルペン樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、アビエチン酸エステル系樹脂）、ロジン系樹脂（例えば、部分水素化ガムロジン樹脂、エリトリトール変性木材ロジン樹脂、トール油ロジン樹脂、ウッドロジン樹脂）、クマロンインデン樹脂（例えば、クマロンインデンスチレン共重合体）、スチレン系樹脂（例えば、ポリスチレン、スチレンとα−メチルスチレンの共重合体等）等が挙げられる。より好ましい粘着付与剤としては、極性基を含有しない石油系樹脂、テルペン系樹脂、スチレン系樹脂が挙げられ、テルペン系樹脂が最も好ましい。
上記テルペン系樹脂の中でも、テルペン樹脂、水添テルペン樹脂が好ましく、水添テルペン樹脂が最も好ましい。
このようなテルペン系樹脂は、市販品を用いることができ、具体的には、クリアロンＰ１５０、クリアロンＰ１３５、クリアロンＰ１２５、クリアロンＰ１１５、クリアロンＰ１０５、クリアロンＰ８５（ヤスハラケミカル（株）製）などが挙げられる。
なお、粘着付与剤としては、１種のみを使用しても、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
粘着付与剤の含有量は、本開示に係る効果がより優れる点で、粘着層形成用組成物全質量（１００質量％）に対して、５質量％〜５０質量％が好ましく、２０質量％〜４５質量％がより好ましい。
また、粘着付与剤の含有量は、本開示に係る効果がより優れる点で、粘着層の全質量に対して、５質量％〜５０質量％が好ましく、２０質量％〜４５質量％がより好ましい。
【００６９】
−酸化防止剤−
本開示における粘着層形成用組成物は、酸化防止剤を含有することが好ましい。
酸化防止剤を含有することで、粘着層形成用組成物の調製時において、重合性モノマー等に含まれる重合性基が反応することを抑制できるので、粘着層の密着性を向上することができる。
【００７０】
酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、ヒドロキノン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤などが挙げられる。
フェノール系又はヒドロキノン系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、４，４’−チオビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２'−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］などが挙げられる。
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリス（４−メトキシ−３，５−ジフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどのホスファイト系酸化防止剤が挙げられる。
ヒドロキシルアミン系酸化防止剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミンなどが挙げられる。
この中でも、上述の効果が一層発揮され、かつ重合阻害が小さいという点から、リン系酸化防止剤を用いることが好ましく、ホスファイト系酸化防止剤を用いることがより好ましい。
酸化防止剤としては、１種のみを使用しても、２種以上を併用してもよい。
【００７１】
−その他の成分−
＜＜連鎖移動剤＞＞
本開示における粘着層形成用組成物は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤の種類は特に制限されず、公知の連鎖移動剤（例えば、１−ドデカンチオール、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート等）が使用される。
【００７２】
＜＜架橋剤＞＞
本開示における粘着層形成用組成物は、架橋剤を更に含んでもよい。
架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、多官能（メタ）アクリレートなどが使用できる。
【００７３】
イソシアネート系架橋剤としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、及びこれらのポリイソシアネート化合物とトリメチロールプロパン等のポリオール化合物とのアダクト体、これらポリイソシアネート化合物のビウレット体やイソシアヌレート体等が挙げられる。イソシアネート系架橋剤のなかでも、粘着層の誘電率の観点から、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートが好ましく、経時での着色の観点から、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートがより好ましい。
これらのイソシアネート系架橋剤におけるイソシアネート基は、公知のブロック化剤によりブロック化されていてもよい。分解温度としては、１００℃〜１３０℃が好ましい。
【００７４】
エポキシ系架橋剤としては、例えば、ビスフェノールＡ・エピクロロヒドリン型のエポキシ樹脂、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエリスリトール、ジグリセロールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。エポキシ系架橋剤のなかでも、粘着層の柔軟性の観点から、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルが好ましく、誘電率の観点から、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルがより好ましい。 
【００７５】
架橋剤を含有する場合の含有量としては、特に限定されないが、粘着層形成用組成物の全質量１００質量％に対して、０．０１〜２質量％が好ましく、０．１〜１質量％がより好ましい。
これらの架橋剤は単独で使用しても、２種類以上を併用してもよい。
【００７６】
＜＜腐食防止剤＞＞
粘着層又は金属酸化物粒子含有層には、透明電極の腐食防止、又は引き回し配線腐食防止のために、アゾール構造を有するアゾール化合物を含有することが好ましい。アゾール化合物の分子量は６０以上１，０００以下が好ましい。アゾール化合物の中でもイミダゾール化合物、トリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアゾール化合物、及びチアジアゾール化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のアゾール化合物（以下、特定アゾール化合物ともいう）を含有することが好ましい。
なお、本明細書において、「イミダゾール化合物」とは、イミダゾール構造を有する化合物を意味し、「トリアゾール化合物」とは、トリアゾール構造を有する化合物を意味し、「テトラゾール化合物」とは、テトラゾール構造を有する化合物を意味し、「チアゾール化合物」とは、チアゾール構造を有する化合物を意味し、「チアジアゾール化合物」とは、チアジアゾール構造を有する化合物を意味する。
特定アゾール化合物を含有することにより、タッチパネル用配線の変色を抑制することができる。
特定アゾール化合物としては、特に制限されない。
【００７７】
下記の表１及び表２に、特定アゾール化合物の具体例を示す。但し、本開示における特定アゾール化合物は、これらに限定されるものではない。
表１及び表２には、化合物名の他、分類、構造式、共役酸のｐＫａ、及び市販品の例を示す。
【００７８】
【表１】
2019188081.tif 000003
【００７９】
【表２】
2019188081.tif 000004
【００８０】
その他、特定アゾール化合物の具体例としては、イミダゾール化合物である、１−メチルイミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−メルカプト−１−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、イミダゾール、５，６−ジメチルベンゾイミダゾール、５−エトキシ−２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−メルカプト−５−メチルベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−ベンゾイミダゾールカルボン酸、２−（４−チアゾリル）ベンゾイミダゾール、２−アミノ−１−メチルベンゾイミダゾール、２−アミノベンゾイミダゾール、１−（３−アミノプロピル）イミダゾール、６−アミノベンゾイミダゾール、５−アミノベンゾイミダゾール等が挙げられる。
【００８１】
これらの中でも、特定アゾール化合物としては、タッチパネル用配線の変色をより抑制する観点から、トリアゾール化合物及びテトラゾール化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のアゾール化合物が好ましく、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、１，２，３−ベンゾトリアゾール、及び５−アミノ−１Ｈ−テトラゾールから選ばれる少なくとも１種のアゾール化合物がより好ましく、１，２，３−ベンゾトリアゾール及び５−アミノ−１Ｈ−テトラゾールから選ばれる少なくとも１種のアゾール化合物が更に好ましい。
引き回し配線が銅であることが、上述の特定アゾール化合物の効果が特に奏されるため好ましい。
【００８２】
＜＜その他の成分＞＞
本開示における粘着層形成用組成物は、上記以外にも、溶媒（水、有機溶剤等）、重合阻害抑制剤、表面潤滑剤、レベリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、無機又は有機の充填剤、金属粉、顔料などの粉体、粒子状、箔状物などの従来公知の各種の添加剤を使用する用途に応じて適宜添加することができる。
【００８３】
〔厚さ〕
粘着層の厚さは、５μｍ〜２００μｍであることが好ましく、２５μｍ〜１００μｍであることがより好ましい。
【００８４】
＜仮支持体＞
本開示の転写フィルムは、仮支持体を含む。
仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。
仮支持体は、透明であることが好ましい。
仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧及び加熱下において、著しい変形、収縮又は伸びを生じないフィルムを用いることができる。
このようなフィルムとして、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。
中でも、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００８５】
仮支持体の厚みは特に制限はないが、５μｍ〜２００μｍであることが好ましい。仮支持体の厚みは、取扱い易さ及び汎用性の観点から、１０μｍ〜１５０μｍが特に好ましい。
【００８６】
＜中間層＞
本開示に係る転写フィルムは、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を防止する観点から、上記金属酸化物粒子含有層と上記粘着層との間に、中間層を更に含んでもよい。
中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜が好ましく、露光時の感度がアップし、露光機の時間負荷を低減し得、生産性が向上する。
【００８７】
＜保護フィルム＞
本開示に係る転写フィルムは、上記金属酸化物粒子含有層の表面に保護フィルム（保護剥離層）などを更に設けることが好ましい。
【００８８】
上記保護フィルムとしては、アクリル樹脂フィルムやポリプロピレン樹脂フィルムが好ましい。また、保護フィルムの膜厚は１２μｍ〜４０μｍが好ましい。
特開２００６−２５９１３８号公報の段落００８３〜００８７及び００９３に記載のものを適宜使用することができる。
【００８９】
＜転写フィルムの製造方法＞
本開示に係る転写フィルムは、特に限定されないが、例えば以下の本開示に係る転写フィルムの製造方法によって製造されることが好ましい。
【００９０】
本開示に係る転写フィルムの製造方法は、仮支持体上に、粘着層を形成する工程と、粘着層の上に金属酸化物粒子含有層を形成する工程と、を有する。
【００９１】
〔粘着層を形成する工程〕
粘着層は、上述の粘着層形成用組成物を硬化及び乾燥の少なくともいずれかを行うことにより得られる。
すなわち、上述の粘着層形成用組成物を仮支持体上に付与して、硬化処理及び乾燥処理の少なくともいずれかを施して粘着層を形成する。
粘着層形成用組成物を付与する方法としては、例えば、グラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ナイフコーター、ダイコーター、ロールコーター等による塗布などが挙げられる。その他、仮支持体上に粘着層形成用組成物を付与することができれば塗布に限らず、公知の方法を利用できる。
【００９２】
硬化処理としては、粘着層形成用組成物の組成等に応じて適切な方法を選択すればよいが、例えば、光硬化処理、熱硬化処理などが挙げられる。
光硬化処理は複数回の硬化工程からなってもよく、用いる光波長は複数から適宜選定されてよい。また、熱硬化処理も複数回の硬化工程からなってもよく、熱を与える手法はオーブン、リフロー炉、赤外線ヒーターなど適切な手法から選定されてよい。更には光硬化処理と熱硬化処理を適宜組み合わせてもよい。
上記光硬化処理の際に使用される光源は特に制限されず、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプなどが挙げられる。光硬化処理の使用される光としては紫外光が好ましく、例えば、一般的な紫外線照射装置、より具体的には、ベルトコンベア式の紫外線照射装置を用いることが好ましい。
【００９３】
上記光硬化処理の際の条件は使用される組成物の成分などによって適宜選択されるが、照射量（例えば、紫外線照射量）として１００ｍＪ／ｃｍ２〜２５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ２〜１１００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
また、上記露光は、付与された粘着層形成用組成物の表面に剥離シートを張り付ける、不活性ガス雰囲気下で行う、等により、酸素による影響を低減させた上で行ってもよい。
【００９４】
乾燥処理としては、特に限定されず、自然乾燥、送風機等の装置による風乾燥、ホットプレート、オーブン等の装置による加熱乾燥などの方法が挙げられる。
本開示において、乾燥とは、組成物に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することをいう。
【００９５】
〔金属酸化物粒子含有層を形成する工程〕
金属酸化物粒子含有層は、例えば、上述の金属酸化物粒子含有層に含まれる成分を公知の溶剤と混合することにより得られる金属酸化物粒子含有層形成用組成物を、粘着層上に付与することにより得られる。また、粘着層上に金属酸化物粒子含有層を転写することによっても得られる。
金属酸化物粒子含有層形成用組成物を粘着層上に付与する方法としては、上述の粘着層形成用組成物を付与する方法と同様の方法が挙げられる。
上記付与後、付与された金属酸化物粒子含有層形成用組成物を乾燥することにより金属酸化物粒子含有層が得られる。乾燥方法としては特に限定されず、例えば上述の自然乾燥、風乾燥、加熱乾燥等の公知の方法が用いられる。
【００９６】
〔その他の工程〕
その他、本開示に係る転写フィルムの製造方法においては、保護フィルムを設ける工程、中間層を設ける工程等を更に含んでもよい。
これらの工程の詳細については特開２０１４−１０８５４１号公報の記載を参考にすることができる。
本開示の転写フィルムにおいて、粘着層及び金属酸化物含有層の波長４００ｎｍにおける透過率は、８５％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
【００９７】
（積層体）
本開示に係る積層体は、透明電極パターンと、上記透明電極パターンに隣接して配置され、金属酸化物粒子を含む金属酸化物粒子含有層と、上記金属酸化物粒子含有層に隣接して配置された粘着層と、をこの順で有し、上記金属酸化物粒子含有層における上記金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量が１０％以下である。
本開示に係る積層体によれば、透明電極パターンの視認性が低減される。
【００９８】
〔ＷＶＴＲ〕
本開示に係る積層体における、前記粘着層及び前記金属酸化物粒子含有層を合わせた層の６０℃におけるＷＶＴＲは、透明電極パターン及び金属配線（銅配線等）の腐食を抑制する観点から、１１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることが好ましく、２００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）〜６００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であることがより好ましく、２００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）〜４００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であることが更に好ましい。
【００９９】
＜積層体の構成＞
〔粘着層及び金属酸化物粒子含有層〕
粘着層及び金属酸化物粒子含有層の好ましい範囲は、本開示に係る転写フィルムにおける粘着層及び金属酸化物粒子含有層の好ましい範囲と同様である。
【０１００】
本開示に係る積層体は、上記透明電極パターンの上記金属酸化物粒子含有層が形成された側と反対側に、屈折率１．６０〜１．７８であり膜厚が３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の透明膜を更に有することが、透明電極パターンの視認性をより改善する観点から、好ましい。なお、本開示中、特に断りがなく「透明膜」と記載する場合は、上記の「屈折率１．６０〜１．７８であり膜厚が３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の透明膜」を指す。透明膜の膜厚は、５５ｎｍ〜１１０ｎｍであることがより好ましい。
本開示に係る積層体は、上記屈折率１．６０〜１．７８であり膜厚が３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の透明膜の上記透明電極パターンが形成された側と反対側に、透明基材を更に有することが好ましい。
【０１０１】
図２に本開示に係る積層体の好ましい態様の一例（「態様Ａ」ともいう。）を示す。
図２では、透明基材１、屈折率１．６０〜１．７８であり膜厚が３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の透明膜１１を有し、更に透明電極パターン４、金属酸化物粒子含有層１２及び粘着層１８がこの順に積層された領域を面内に有する。
面内とは、積層体の透明基材と平行な面に対して略平行方向を意味する。透明電極パターン４、金属酸化物粒子含有層１２及び粘着層１８がこの順に積層された領域を面内に含むとは、透明電極パターン４、金属酸化物粒子含有層１２及び粘着層１８がこの順に積層された領域についての積層体の透明基材と平行な面への正射影が、積層体の透明基材と平行な面内に存在することを意味する。
【０１０２】
ここで、本開示に係る積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、透明電極パターンは行方向と列方向の略直交する２つの方向にそれぞれ第一の透明電極パターン及び第二の透明電極パターンとして設けられることがある（例えば、図５参照）。例えば図５の構成では、本開示に係る積層体における透明電極パターンは、第二の透明電極パターン４であっても、第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａであってもよい。言い換えると、以下の本開示に係る積層体の説明では、透明電極パターンの符号を「４」で代表して表すことがあるが、本開示に係る積層体における透明電極パターンは、本開示に係る静電容量型入力装置における第二の透明電極パターン４への使用に限定されるものではなく、例えば第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａとして使用してもよい。
【０１０３】
本開示に係る積層体は、上記透明電極パターンが形成されていない非パターン領域を含むことが好ましい。本開示中、非パターン領域とは、透明電極パターン４が形成されていない領域を意味する。
図３には、本開示に係る積層体が非パターン領域２２を含む態様が示されている。
本開示に係る積層体は、上記透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２の少なくとも一部に、上記透明基材、上記透明膜及び金属酸化物粒子含有層がこの順に積層された領域を面内に含むことが好ましい。
本開示に係る積層体は、上記透明基材、上記透明膜及び金属酸化物粒子含有層がこの順に積層された領域において、上記透明膜及び金属酸化物粒子含有層が互いに隣接していることが好ましい。
但し、上記非パターン領域２２のその他の領域には、本開示の趣旨に反しない限りにおいてその他の部材を任意の位置に配置してもよく、例えば本開示に係る積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、図２におけるマスク層２や、絶縁層５や導電性要素６などを積層することができる。
【０１０４】
本開示に係る積層体は、上記透明基材及び透明膜が互いに隣接していることが好ましい。
図２には、透明基材１の上に隣接して透明膜１１が積層している態様が示されている。
【０１０５】
本開示に係る積層体は上記透明膜の厚みが５５ｎｍ〜１１０ｎｍであり、６０ｎｍ〜１１０ｎｍであることが好ましく、７０ｎｍ〜９０ｎｍであることがより好ましい。
ここで、上記透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。上記透明膜が２層以上の積層構造である場合、上記透明膜の膜厚とは、全層の合計膜厚を意味する。
【０１０６】
本開示に係る積層体は、上記透明膜及び上記透明電極パターンが互いに隣接していることが好ましい。
図２には、透明膜１１の一部の領域上に隣接して透明電極パターン４が積層している態様が示されている。
図２に示すように、透明電極パターン４の端部は、その形状に特に制限はないがテーパー形状を有していてもよく、例えば、上記透明基材側の面の方が、上記透明基材と反対側の面よりも広いようなテーパー形状を有していてもよい。
ここで、上記透明電極パターンの端部がテーパー形状であるときの透明電極パターンの端部の角度（以下、テーパー角とも言う）は、３０°以下であることが好ましく、０．１°〜１５°であることがより好ましく、０．５°〜５°であることが特に好ましい。
本開示中におけるテーパー角の測定方法は、上記透明電極パターンの端部の顕微鏡写真を撮影し、その顕微鏡写真のテーパー部分を三角形に近似し、テーパー角を直接測定して求めることができる。
図４に透明電極パターンの端部がテーパー形状である場合の一例を示す。図４におけるテーパー部分を近似した三角形は、底面が８００ｎｍであり、高さ（底面と略平行な上底部分における膜厚）が４０ｎｍであり、このときのテーパー角αは約３°である。テーパー部分を近似した三角形の底面は、１０ｎｍ〜３０００ｎｍであることが好ましく、１００ｎｍ〜１５００ｎｍであることがより好ましく、３００ｎｍ〜１０００ｎｍであることが特に好ましい。なお、テーパー部分を近似した三角形の高さの好ましい範囲は、透明電極パターンの膜厚の好ましい範囲と同様である。
【０１０７】
本開示に係る積層体は、上記透明電極パターン及び金属酸化物粒子含有層が互いに隣接している領域を面内に含むことが好ましい。
図３には、上記透明電極パターン、金属酸化物粒子含有層及び粘着層がこの順に積層された領域２１において、上記透明電極パターン、金属酸化物粒子含有層及び粘着層が互いに隣接している態様が示されている。
【０１０８】
また、本開示に係る積層体は、上記透明膜及び金属酸化物粒子含有層によって、上記透明電極パターン及び上記透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２の両方が連続して直接又は他の層を介して被覆されていることが好ましい。
ここで、「連続して」とは、上記透明膜及び金属酸化物粒子含有層がパターン膜ではなく、連続膜であることを意味する。すなわち、上記透明膜及び金属酸化物粒子含有層は、開口部を有していないことが、透明電極パターンを視認されにくくする観点から好ましい。
また、上記透明膜及び上記金属酸化物粒子含有層によって、上記透明電極パターン及び非パターン領域２２が、他の層を介して被覆されるよりも、直接被覆されることが好ましい。他の層を介して被覆される場合における上記「他の層」としては、後述する本開示に係る静電容量型入力装置に含まれる絶縁層５や、後述する本開示に係る静電容量型入力装置のように透明電極パターンが２層以上含まれる場合は２層目の透明電極パターンなどを挙げることができる。
図３には、透明膜１１上の透明電極パターン４が積層していない領域と、透明電極パターン４との上にまたがって、両者とそれぞれ隣接して、金属酸化物粒子含有層１２が積層している態様が示されている。
また、透明電極パターン４の端部がテーパー形状である場合は、テーパー形状に沿って（テーパー角と同じ傾きで）金属酸化物粒子含有層１２が積層されていることが好ましい。
【０１０９】
図３では、金属酸化物粒子含有層１２の上記透明電極パターンが形成された表面とは反対側の表面上に、粘着層１８が積層された態様が示されている。
【０１１０】
＜積層体の材料＞
〔透明基材〕
本開示に係る積層体は、上記透明基材が屈折率１．５０〜１．５５のガラス基材、又は樹脂フィルム基材であることが好ましい。
上記透明基材は、ガラス基材等の透光性基材で構成されており、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム基材、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材、強化ガラスなどを用いることができる。また、上記透明基材としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報及び特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができ、これらの文献の内容は本開示中に組み込まれる。
【０１１１】
〔透明電極パターン〕
上記透明電極パターンの屈折率は１．７５〜２．１０であることが好ましい。
上記透明電極パターンの材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＳｉＯ2等の透光性の導電性金属酸化膜、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属等で作製することができる。中でも屈折率１．７５〜２．１０のＩＴＯ膜であることが特に好ましい。厚みは１０〜２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。また、後述の第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６は、導電性繊維を用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落００１４〜００１６等を参考にすることができる。
【０１１２】
〔透明膜〕
本開示に係る積層体は、上記透明膜の屈折率が１．６０〜１．７８であり、１．６５〜１．７４であることが好ましい。ここで、上記透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。上記透明膜が２層以上の積層構造である場合、上記透明膜の屈折率とは、全層の屈折率を意味する。
このような屈折率の範囲を満たす限りにおいて、上記透明膜の材料は特に制限されない。
【０１１３】
上記透明膜の材料の好ましい範囲と屈折率などの物性の好ましい範囲は、上記金属酸化物粒子含有層のそれらの好ましい範囲と同様である。
本開示に係る積層体は、上記透明膜と上記金属酸化物粒子含有層とが、同一材料によって構成されていることが光学的均質性の観点から好ましい。
【０１１４】
本開示に係る積層体は、上記透明膜が透明樹脂膜であることが好ましい。透明樹脂膜に用いられる金属酸化物粒子や樹脂（バインダー）やその他の添加剤としては本開示の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、本開示に係る転写フィルムにおける上記金属酸化物粒子含有層に用いられる樹脂やその他の添加剤を好ましく用いることができる。
本開示に係る積層体は、上記透明膜が無機膜であってもよい。無機膜に用いられる材料としては、本開示に係る転写フィルムにおける上記金属酸化物粒子含有層に用いられる材料を好ましく用いることができる。
【０１１５】
本開示に係る積層体においては、粘着層の金属酸化物粒子含有層とは反対側には、何も有していなくともよいし、上述の仮支持体を有していてもよいし、偏光板等の光学部材を有していてもよいし、例えば液晶表示装置又は有機ＥＬ表示装置等の表示装置における表示パネルを有していてもよいし、保護ガラス等の保護部材を有してもよい。
例えば、図２又は図３に記載された積層体における粘着層１８の金属酸化物粒子含有層１２と反対側の面を、必要に応じて仮支持体を剥離した後に上記光学部材又は上記表示パネルに貼り付けることにより、上記光学部材又は上記表示パネルを有する積層体が得られる。
【０１１６】
本開示に係る積層体の別の態様（以下、「態様Ｂ」ともいう。）を図６に示す。
図６は、本開示に係る積層体１３の一例の断面図を示す模式図である。
図６中、積層体１３は、粘着層１８と、金属酸化物粒子含有層１２と、透明電極パターン４と、透明基材１４と、をこの順に有する。
表示装置１５としては、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等が挙げられる。
【０１１７】
このような積層体１３の、粘着層１８の金属酸化物粒子含有層１２とは反対側の面を表示装置１５に貼り付けることにより、表示装置１５を含む積層体が得られる。
このような態様においては、例えば、透明基材１４としてガラス基材を用いる態様が挙げられる。また、透明基材１４として樹脂基材を用い、上記樹脂基材の金属酸化物粒子含有層１２とは反対側の面に、更にガラス部材を張り付けてもよい。
【０１１８】
また、積層体１３の、透明基材１４の金属酸化物粒子含有層１２とは反対側の面を表示装置１５に貼り付ける態様によっても、表示装置１５を含む積層体が得られる。
このような態様においては、例えば、粘着層１８の金属酸化物粒子含有層１２とは反対側の面に、カバーガラス等の保護部材を張り付ける態様が挙げられる。
本開示において、保護部材としては、ガラス、樹脂等が挙げられ、例えばガラス板、樹脂シート等が用いられる。
【０１１９】
更に、積層体１３は、透明基材１４の両方の面上に透明電極パターン４が形成されており、更に両方の面上に金属酸化物粒子含有層１２と、粘着層１８とがそれぞれ形成された態様であってもよい。
このような態様によれば、例えば一方の面上の粘着層１８をカバーガラス等の保護部材に、別の一方の面上の粘着層１８を表示装置１５に、それぞれ貼り付けることが可能となる。
上記貼り付けによれば、保護部材、粘着層１８、金属酸化物粒子含有層１２、透明電極パターン４、透明基材１４、透明電極パターン４、金属酸化物粒子含有層１２、粘着層１８、及び、表示装置１５をこの順に有する積層体が得られる。
【０１２０】
態様Ｂにおける粘着層１８及び金属酸化物粒子含有層１２の好ましい範囲は、本開示に係る転写フィルムにおける粘着層及び金属酸化物粒子含有層の好ましい範囲とそれぞれ同様である。
【０１２１】
態様Ｂにおいて、透明基材１４と透明電極パターン４の間には、上述の透明膜（不図示）を有していてもよい。
また透明電極パターン４と透明基材１４との間には、アンダーコート層、オーバーコート層を有していても良い。上記コート層は１層、又は２層以上の多層で形成されていても良い。上記コート層は屈折率調整機能を有していても良い。上記コート層の屈折率は、導電層の屈折率以下であることが好ましい。上記コート層には、ガスバリア機能、防錆機能を有していてもよい。
【０１２２】
態様Ｂにおける透明電極パターン４の好ましい態様は、態様Ａにおける透明電極パターン４の好ましい態様と同様である。
また、透明電極パターン４は、金属ナノワイヤ又は金属メッシュを更に含んでもよい。金属ナノワイヤとは、材質が金属であり、形状が針状又は糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。金属ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。金属ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい透明導電性フィルムを得ることができる。更に、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い透明導電性フィルムを得ることができる。
【０１２３】
上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。中でも好ましくは、導電性の観点から、銀、銅又は金であり、より好ましくは銀である。
【０１２４】
金属メッシュを含む透明導電層は、透明基材１４上に、金属細線が例えば格子状のパターンに形成されてなる。上記金属ナノワイヤを構成する金属と同様の金属を使用することが可能である。金属メッシュを含む透明導電層は、任意の適切な方法により形成させることができる。透明導電層は、例えば、銀塩を含む感光性組成物（透明導電層形成用組成物）を基材積層体上に塗布し、その後、露光処理及び現像処理を行い、金属細線を所定のパターンに形成することにより得ることができる。
【０１２５】
透明基材１４は、配線パターンやブラックマトリクスの形成、結晶化処理などの工程を通すため、優れた耐熱性、耐薬品性を有することが好ましい。透明基材１４の材質としては、ガラス、樹脂基材等が挙げられ、単層又は幾つかの部材の複合系で形成されていても良い。樹脂基材１４の厚みは、０．０５ｍｍ〜２．００ｍｍが好ましく、０．１ｍｍ〜１．３ｍｍがより好ましく、特に好ましくは０．２ｍｍ〜１．１ｍｍである。厚みが０．２ｍｍ以下のガラスを使用する場合、屈曲性に優れる基板が得られるが、クラックの進展及び破断のリスクを防止するため、ガラスの片側又は両側に樹脂層を備えることが好ましい。また樹脂基材は一部又は全体がカーブ、曲面形状に成形されていてもよい。
【０１２６】
透明基材１４の材質がガラスの場合は、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラスなどの強度及び透過率に優れるガラス板を選択することが好ましい。強度に優れるガラス板を選択すると、薄型化が可能となり、特に、化学強化ガラス（アルミノシリケート、ソーダライム）が耐圧強度に優れ、好適に用いられる。
【０１２７】
透明樹脂基材の原料としては、例えば、ＰＥＴ、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ＣＯＰ、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）等のシクロオレフィン系樹脂、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系、ポリイミド系、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、シルセスキオキサン系樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いることができる。位相差による着色干渉ムラの発生を避ける為に、光学等方的な基材が好ましい。推奨される光等方性の樹脂材料として、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂が挙げられる。
【０１２８】
表示装置１５から見て透明基材１４部材の外側（視認側）には、機能層を有していても良い。機能層としては、ハードコート（ＨＣ）層、反射防止層、防汚層、帯電防止層、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理が施された層等が挙げられ、これらを任意に組み合わせ、複合化して形成されていてもよい。また、カバー部材や上記機能層には紫外線吸収機能が付与されていても良い。
【０１２９】
透明基材の外側、内側の何れかに飛散防止のための保護フィルムが積層されていても良い。飛散防止フィルムは前述の機能層を有していても良い。位相差による着色干渉ムラの発生を避ける為に、光学等方的な基材（無延伸のシクロオレフィンポリマーフィルム、キャスト法によるポリカーボネートフィルム）を使用する事が好ましい。さらに、カバー部材と画像表示装置間の任意の位置に、サングラス対応のための位相差板（λ／４波長板）を配置する構成としても良い。位相差板（λ／４波長板）は画像表示装置の視認側偏光板の吸収軸に対して、遅相軸が４５度になるように配置されている事が好ましい。
【０１３０】
透明基材１４に加飾層を設けることもできる。例えば、加飾層は樹脂バインダーと、顔料又は染料を着色剤として含有する着色インキにより形成される。スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷等の方法で、単層又は多層で形成され、上記印刷層の厚みは０．５〜５０μｍ程度とすることが好ましい。また、金属光沢色を表現するために、蒸着法、スパッタリング法によって形成される金属薄膜層からなる層が形成されていてもよい。加飾層はカバー部材のどちらの面に形成してもよく、上述の飛散防止フィルム等のフィルムに形成して積層されていてもよい。また、保護部材に形成されていてもよい。
【０１３１】
（積層体の製造方法）
本開示に係る積層体の製造方法は、透明電極パターン上に、本開示に係る転写フィルムにおける、上記金属酸化物粒子含有層及び上記粘着層を、この順で積層する工程を含む。
このような構成により、積層体の金属酸化物粒子含有層及び上記粘着層を一括して転写することができ、透明電極パターンの視認性が低減される積層体を容易に、生産性良く製造することができる。
なお、本開示に係る積層体の製造方法における上記金属酸化物粒子含有層は、上記透明電極パターン上と、上記非パターン領域では上記透明膜上とに直接、又は、他の層を介して、製膜される。
【０１３２】
＜透明基材の表面処理＞
また、後の転写工程におけるラミネートによる各層の密着性を高めるために、予め透明基材（前面板）の非接触面に表面処理を施すことができる。上記表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理（シランカップリング処理）やコロナ処理を実施することができる。
【０１３３】
＜透明電極パターンの製膜＞
上記透明電極パターンは、後述する本開示に係る静電容量型入力装置の説明における、第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４及び別の導電性要素６の形成方法などを用いて、透明基材上又は上記屈折率１．６０〜１．７８であり膜厚が３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の透明膜上に製膜することができ、感光性フィルムを用いる方法が好ましい。
【０１３４】
＜粘着層及び金属酸化物粒子含有層の製膜＞
上記粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を形成する方法は、本開示に係る転写フィルムから、必要に応じて上記保護フィルムを除去する保護フィルム除去工程と、上記保護フィルムが除去された本開示に係る転写フィルムの上記粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を透明電極パターン上に転写する転写工程と、必要に応じて透明電極パターン上に転写された粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を露光する露光工程と、必要に応じて露光された粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を現像する現像工程と、を有する方法が挙げられる。
【０１３５】
〔転写工程〕
上記転写工程は、上記保護フィルムが除去された本開示に係る転写フィルムの上記粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を透明電極パターン上に転写する工程である。
この際、本開示に係る転写フィルムの上記粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を透明電極パターンにラミネート後、仮支持体を取り除く工程を含む方法が好ましい。
上記粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層の基材表面への転写（貼り合わせ）は、上記粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を透明電極パターン表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
【０１３６】
〔露光工程、及びその他の工程〕
上記露光工程、及びその他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号００３５〜００５１に記載の方法を本開示においても好適に用いることができる。
【０１３７】
上記露光工程は、透明電極パターン上に転写された上記粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を露光する工程である。
ここで、上記露光の光源としては、上記粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、５ｍＪ／ｃｍ２〜２００ｍＪ／ｃｍ２程度であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２〜１００ｍＪ／ｃｍ２程度であることがより好ましい。
【０１３８】
上記積層体の製造方法は、ポスト露光工程、ポストベーク工程等、その他の工程を有していてもよい。
【０１３９】
＜透明膜の製膜＞
本開示に係る積層体が、上記透明電極パターンの上記金属酸化物粒子含有層が形成された側と反対側に、屈折率１．６０〜１．７８であり膜厚が５５ｎｍ〜１１０ｎｍの透明膜を更に有する場合、上記透明膜は、上記透明電極パターンの上に直接、又は、上記第三の透明膜などの他の層を介して、製膜される。
上記透明膜の製膜方法としては特に制限はないが、転写又はスパッタによって製膜することが好ましい。
その中でも、本開示に係る積層体は、上記透明膜が、仮支持体上に形成された透明硬化性樹脂膜を、上記透明基材上に転写して製膜されてなることが好ましく、転写後に硬化して製膜されてなることがより好ましい。転写及び硬化の方法としては、特開２０１４−１５８５４１号公報の段落０１０５〜０１３８に記載の光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用い、本開示に係る積層体の製造方法における上記粘着層及び上記金属酸化物粒子含有層を転写する方法と同様に転写、露光、現像及びその他の工程を行う方法を挙げることができる。その場合は、上記感光性フィルム中の光硬化性樹脂層に上記金属酸化物微粒子を分散させることで、上述の範囲に上記透明膜の屈折率を調整することが好ましい。
【０１４０】
一方、上記透明膜が無機膜である場合は、スパッタによって形成されてなることが好ましい。すなわち、本開示に係る積層体は、上記透明膜が、スパッタによって形成されてなることも好ましい。
スパッタの方法としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報及び特開２０１０−２５７４９２号公報に記載の方法を好ましく用いることができ、これらの文献の内容は本開示中に組み込まれる。
【０１４１】
（静電容量型入力装置）
本開示に係る静電容量型入力装置は、本開示に係る転写フィルムを用いて作製されるか、又は、本開示に係る積層体を含む。
本開示に係る静電容量型入力装置は、透明電極パターンと、上記透明電極パターンに隣接して配置され、金属酸化物粒子を含む金属酸化物粒子含有層と、上記金属酸化物粒子含有層に隣接して配置された粘着層とを有し、上記金属酸化物粒子含有層における上記金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量が１０％以下である、積層体を有することが好ましい。
以下、本開示に係る静電容量型入力装置の好ましい態様の詳細を説明する。
【０１４２】
本開示に係る静電容量型入力装置は、前面板（本開示に係る積層体における上記透明基材に相当する）と、上記前面板の非接触側に少なくとも下記（３）〜（５）、（７）及び（８）の要素を有し、本開示に係る積層体を有することが好ましい。
（３）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
（４）上記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、上記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
（５）上記第一の透明電極パターンと上記第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
（７）  （３）〜（５）の要素の全て又は一部を覆うように形成された金属酸化物粒子含有層
（８）  （７）における金属酸化物粒子含有層に隣接して形成された粘着層
ここで、（７）金属酸化物粒子含有層が、本開示に係る積層体における上記金属酸化物粒子含有層に相当する。また、（８）粘着層が、本開示に係る積層体における上記粘着層に相当する。
このように、粘着層を有する静電容量型入力装置を製造することにより、上記粘着層上に、偏光フィルム、位相差フィルム、カバーガラス、その他の種々の光学部材を接合することを容易に行うことが可能となる。
【０１４３】
本開示に係る静電容量型入力装置は、（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであっても、透明電極パターンでなくてもよいが、透明電極パターンであることが好ましい。
本開示に係る静電容量型入力装置は、更に（６）の要素を有していてもよい。
（６）上記第一の透明電極パターン及び上記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、上記第一の透明電極パターン及び上記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素
本開示に係る静電容量型入力装置における上記透明電極パターン上に形成された層のＷＶＴＲが上述の範囲内であることは、上記第一の又は第二の透明電極パターンの腐食が抑制される点で好ましく、特に上記導電性要素の腐食が抑制されるという効果が奏される点で好ましい。
ここで、（４）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、（６）別の導電性要素を有さない場合は、（３）第一の透明電極パターンが、本開示に係る積層体における透明電極パターンに相当する。
（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、（６）別の導電性要素を有さない場合は、（３）第一の透明電極パターン及び（４）第二の電極パターンのうち少なくとも一つが、本開示に係る積層体における透明電極パターンに相当する。
（４）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、（６）別の導電性要素を有する場合は、（３）第一の透明電極パターン及び（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、本開示に係る積層体における透明電極パターンに相当する。
（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、（６）別の導電性要素を有する場合は、（３）第一の透明電極パターン、（４）第二の電極パターン及び（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、本開示に係る積層体における透明電極パターンに相当する。
【０１４４】
本開示に係る静電容量型入力装置は、更に（２）透明膜を、（３）第一の透明電極パターンと上記前面板の間、（４）第二の透明電極パターンと上記前面板の間、又は、（６）別の導電性要素と上記前面板の間に有することが好ましい。ここで、（２）透明膜が、本開示に係る積層体における、屈折率１．６０〜１．７８であり膜厚が３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の透明膜に相当することが、透明電極パターンの視認性をより改善する観点から好ましい。
【０１４５】
本開示に係る静電容量型入力装置は、必要に応じて（１）マスク層及び／又は加飾層を更に有することが好ましい。上記マスク層は、指又はタッチペンなどで触れる領域の周囲に黒色の額縁として、透明電極パターンの引き回し配線を接触側から視認できないようにしたり、加飾をしたりするためにも設けられる。上記加飾層は、加飾のために設けられ、例えば白色の加飾層を設けることが好ましい。
（１）マスク層及び／又は加飾層は、（２）透明膜と上記前面板の間、（３）第一の透明電極パターンと上記前面板の間、（４）第二の透明電極パターンと上記前面板の間、又は、（６）別の導電性要素と上記前面板の間に有することが好ましい。（１）マスク層及び／又は加飾層は、上記前面板に隣接して設けられることがより好ましい。
【０１４６】
本開示に係る静電容量型入力装置は、このような様々な部材を含む場合であっても、透明電極パターンに隣接して配置された上記金属酸化物粒子含有層と、上記金属酸化物粒子含有層に隣接して配置された上記粘着層を含むことによって、透明電極パターンの視認性を低減することができる。更に、上述のとおり、上記屈折率１．６０〜１．７８であり膜厚が３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の透明膜と上記金属酸化物粒子含有層を用いて、透明電極パターンを挟みこむ構成とすることによって、より透明電極パターンの視認性の問題を改善することができる。
【０１４７】
＜静電容量型入力装置の構成＞
まず、本開示に係る静電容量型入力装置の好ましい構成について、装置を構成する各部材の製造方法とあわせて説明する。図２は、本開示に係る静電容量型入力装置の好ましい構成を示す断面図である。図２において静電容量型入力装置１０は、透明基材（前面板）１と、マスク層２と、屈折率１．６０〜１．７８であり膜厚が３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の透明膜１１と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６と、金属酸化物粒子含有層１２と、粘着層１８と、から構成されている態様が示されている。
導電性要素６はＡｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属で作製することができる。導電性の観点から銅であることが最も好ましい。
また、後述する図５におけるＸ１−Ｘ２断面を表した図３も同様に、本開示に係る静電容量型入力装置の好ましい構成を示す断面図である。図３において静電容量型入力装置１０は、透明基材（前面板）１と、屈折率１．６０〜１．７８であり膜厚が５５ｎｍ〜１１０ｎｍの透明膜１１と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、金属酸化物粒子含有層１２と、粘着層１８と、から構成されている態様が示されている。
【０１４８】
透明基材（前面板）１は、本開示に係る積層体における透明電極パターンの材料として挙げたものを用いることができる。また、図２において、前面板１の各要素が設けられている側を非接触面と称する。本開示に係る静電容量型入力装置１０においては、前面板１の接触面（非接触面の反対の面）に指などを接触などさせて入力が行われる。
【０１４９】
また、前面板１の非接触面上にはマスク層２が設けられている。マスク層２は、タッチパネル前面板の非接触側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにするために形成される。
【０１５０】
前面板１の接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン３と、第一の透明電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン４と、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４とを電気的に絶縁する絶縁層５とが形成されている。上記第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、本開示に係る積層体における透明電極パターンの材料として挙げたものを用いることができる。
【０１５１】
また、第一の透明電極パターン３及び第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、前面板１の非接触面及びマスク層２の前面板１とは反対側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図２においては、第二の透明電極パターンが、前面板１の非接触面及びマスク層２の前面板１とは反対側の面の両方の領域にまたがって設置されている図が示されている。このように、一定の厚みが必要なマスク層と前面板裏面とにまたがって感光性フィルムをラミネートする場合でも、後述する特定の層構成を有する感光性フィルムを用いることで真空ラミネータなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程でマスク部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。
【０１５２】
図５を用いて第一の透明電極パターン３及び第二の透明電極パターン４について説明する。図５は、本開示における第一の透明電極パターン及び第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。図５に示すように、第一の透明電極パターン３は、パッド部分３ａが接続部分３ｂを介して第一の方向ＬＹに延在して形成されている。また、第二の透明電極パターン４は、第一の透明電極パターン３と絶縁層５によって電気的に絶縁されており、第一の方向ＬＹに交差する方向（図５における第二の方向ＬＸ）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の透明電極パターン３を形成する場合、上記パッド部分３ａと接続部分３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３ｂのみを作製して、パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）する場合、図５に示すように接続部分３ｂの一部とパッド部分３ａの一部とが連結され、且つ、絶縁層５によって第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。
また、図５における第一の透明電極パターン３や第二の透明電極パターン４や後述する導電性要素６が形成されていない領域が、本開示に係る積層体における非パターン領域２２に相当する。
【０１５３】
図２において、マスク層２の前面板１とは反対側の面側には導電性要素６が設置されている。導電性要素６は、第一の透明電極パターン３及び第二の透明電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の透明電極パターン３及び第二の透明電極パターン４とは別の要素である。
【０１５４】
また、図２においては、各構成要素の全てを覆うように粘着層１８が設置されている。粘着層１８は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層５と粘着層１８とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層５を構成する材料としては、本開示に係る積層体における第一又は金属酸化物粒子含有層の材料として挙げたものを好ましく用いることができる。
【０１５５】
＜静電容量型入力装置の製造方法＞
本開示に係る静電容量型入力装置を製造する過程で形成される態様例として、特開２０１４−１５８５４１号公報の図３〜図７の態様を挙げることができる。
【０１５６】
静電容量型入力装置の製造方法において、上記金属粒子含有層１２及び上記粘着層１８を形成する場合、本開示に係る転写フィルムを用いて、各要素が任意に形成された上記前面板１の表面に上記粘着層及び上記粘着層を転写することで形成することができる。
【０１５７】
静電容量型入力装置の製造方法においては、マスク層２と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６の少なくとも一要素が、仮支持体と光硬化性樹脂層とをこの順で有する特開２０１４−１５８５４１号公報の段落０１０５〜０１３８に記載の感光性フィルムを用いて形成してもよい。
上記各要素を、本開示に係る転写フィルムや上記感光性フィルムを用いて形成すると、開口部を有する基材（前面板）でも開口部分からレジスト成分のモレがないか少なく、特に前面板の境界ギリギリまで遮光パターンを形成する必要のあるマスク層でのガラス端からのレジスト成分のはみ出しがないため基材裏側を汚染することが抑制され、簡略な工程で、薄層、軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造を可能となる。
【０１５８】
上記マスク層、絶縁層、導電性を有する光硬化性樹脂層を用いた場合の第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターン及び導電性要素などの永久材を、上記感光性フィルムを用いて形成する場合、感光性フィルムは、基材にラミネートされた後、必要に応じてパターン様に露光され、ネガ型材料の場合は非露光部分、ポジ型材料の場合は露光部分を現像処理して除去することでパターンを得ることができる。現像は熱可塑性樹脂層と、光硬化性層を別々の液で現像除去してもよいし、同一の液で除去してもよい。必要に応じて、ブラシや高圧ジェットなどの公知の現像設備を組み合わせてもよい。現像の後、必要に応じて、ポスト露光、ポストベークを行ってもよい。
【０１５９】
（画像表示装置）
本開示に係る画像表示装置は、本開示に係る静電容量型入力装置を備えることを特徴とする。
本開示に係る静電容量型入力装置、及び上記静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ２００９  Ｆｏｒｕｍ  Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
【実施例】
【０１６０】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。【０１６１】
（実施例１〜実施例１１、比較例１〜比較例３）
＜転写フィルムの作製＞
〔粘着層形成用組成物の作製〕
下記表３又は表４に記載の組成となるように、各成分を混合し、粘着層形成用塗布液Ａ−１〜Ａ−２及びＣ−１〜Ｃ−３をそれぞれ調製した。各表中の数値は使用した成分の質量部を表す。【０１６２】
【表３】
2019188081.tif 000005
【０１６３】
表３中、化合物Ｄは下記構造の樹脂である。構成単位を示す括弧の添字は各構成単位の含有比（質量比）を表す。【０１６４】
【化１】
2019188081.tif 000006
【０１６５】
【表４】
2019188081.tif 000007
【０１６６】
表４中の略語で記載した各成分の詳細は下記の通りである。【０１６７】
〔重合性モノマー〕
・ＥＨＡ（２−エチルヘキシルアクリレート、和光純薬工業（株）製、ＳＰ値７．８）
・ＩＢＸＡ（イソボルニルアクリレート、共栄社化学（株）製、ＳＰ値８．４）【０１６８】
〔密着向上剤〕
・サイクロマー  Ｍ−１００（商品名、（株）ダイセル製、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート）【０１６９】
〔ゴム〕
・クラプレン  ＵＣ−１０２Ｍ（商品名、（株）クラレ製、メタクリレート変性ポリイソプレン、重量平均分子量１７，０００、ＳＰ値８．０）
・Ｐｏｌｙｖｅｓｔ１１０（商品名、エボニック社製、無変性液体ポリブタジエン、重量平均分子量２，６００、ＳＰ値８．３）【０１７０】
〔粘着付与剤〕
・ＵＨ−１１５（商品名、ヤスハラケミカル製、水添テルペンフェノール樹脂）【０１７１】
〔連鎖移動剤〕
・ＤＤＴ（商品名、ドデカンチオール、東京化成工業（株）製）【０１７２】
〔光重合開始剤〕
・Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ（商品名、ＢＡＳＦ社製、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド）【０１７３】
〔金属酸化物粒子含有層形成用組成物の作製〕
下記表５に記載の組成となるように、各成分を混合し、金属酸化物粒子含有層形成用組成物Ｂ−１〜Ｂ−５及び比較用Ｂ’−１をそれぞれ調製した。各表中の数値は使用した成分の質量部を表す。【０１７４】
【表５】
2019188081.tif 000008
【０１７５】
〔転写フィルムの作製〕
各実施例又は比較例において、仮支持体（セラピール２５ＷＺ、東レ（株）製，２５μｍ）の上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の膜厚が７５．０μｍになるように塗布量を調整し、下記表６に記載の粘着層形成用組成物Ａ−１〜Ａ−２及びＣ−１〜Ｃ−３のいずれか１種を塗布し、１２０℃で２分乾燥させた。
その後、粘着層形成用組成物Ｃ−１〜Ｃ−３を塗布した例においては、塗布された粘着層形成用組成物上に剥離フィルムを被せ、メタルハライドランプにて３分間紫外線照射（露光量：４００ｍＪ／ｃｍ２）して粘着層を形成した。
粘着層形成用組成物Ａ−１〜Ａ−２のいずれか１種を用いた例では、露光を行わずに粘着層とした。
その後、以下のように金属酸化物粒子含有層を形成した。
実施例１〜８、１０、１１においては、下記表６に記載の各金属酸化物粒子含有層形成用組成物を、乾燥後の膜厚が約７０ｎｍの膜厚になるように、塗布量を調整して上記粘着層の上にスリット状ノズルを用いて塗布した。実施例９においてはスリット状ノズルを用いて膜厚４０ｎｍになるように塗布した。
比較例においては、Ｂ’−１を、それぞれ実施例１における金属酸化物粒子含有層形成用組成物Ｂ−１と同じ塗布量で粘着層の上にスリット状ノズルを用いて塗布した。
その後、１２０℃で２分乾燥させ乾燥させ、金属酸化物粒子含有層を形成した。金属酸化物粒子含有層の上に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着し、実施例１〜１１及び比較例１〜３の転写フィルムを作製した。【０１７６】
＜屈折率、変動量、ｔａｎδ、破断伸び、粘度及びＷＶＴＲの測定＞
各実施例又は比較例において得られた転写フィルムを用いて、金属酸化物粒子含有層の屈折率、及び金属酸化物粒子含有層における金属酸化物粒子の含有量の膜厚方向の変動量（変動量）、粘着層の２３℃におけるｔａｎδ、２３℃における破断伸び、２３℃における粘度、ならびに転写フィルムの６０℃におけるＷＶＴＲをそれぞれ上述の方法により測定し、表６に記載した。【０１７７】
＜クラックの評価＞
各実施例又は比較例において得られた転写フィルムに対して表面走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察（４００倍）を行い、金属酸化物粒子含有層のクラックの有無を確認した。
評価結果は表６中に記載した。クラックが確認された場合は「有り」、クラックが確認されなかった場合は「無し」と記載した。実施例４において、実用上問題無い程度の僅かなクラックが観察された。【０１７８】
＜ＷＶＴＲの評価＞
各実施例又は比較例において得られた転写フィルムを用いて、上述の方法によりＷＶＴＲを測定し、測定結果を表６に記載した。【０１７９】
＜段差追従性の評価＞
各実施例又は比較例において得られた転写フィルムを３．０ｃｍ×４．０ｃｍに切り取り、保護フィルムを剥離して、金属酸化物粒子含有層側を、事前に２５μｍ厚のポリイミドテープ（カプトン（登録商標）テープ、東レ・デユポン製）を貼ったガラス基材上に貼り合わせて、２３℃、６ｍ／ｍｉｎの転写速度、圧力０．７ｋｇ／ｃｍ２にて評価用積層体を形成した。
作製した評価用積層体について、カプトンテープ周辺の段差をニコン社製光学顕微鏡で観察し、境界空隙幅を測定した。
より具体的には、図７に示すように、得られたサンプルの構成は、カプトンテープ５２を貼ったＰＥＴ基材５０上に、金属酸化物粒子含有層及び粘着層５４並びに仮支持体５６を配置した態様に該当する。
図７に示すように、カプトンテープ５２の段差部分においてＰＥＴ基材５０と金属酸化物粒子含有層及び粘着層５４との間には空隙５８が生じやすく、境界空隙幅とは、カプトンテープ５２と金属酸化物粒子含有層及び粘着層５４とが接していないガラス基材上の距離Ｄを意味する。
距離Ｄが小さいほど、段差追従性に優れているといえる。評価結果はＡ又はＢであることが好ましい。評価は下記評価基準に従って行い、評価結果は表６に記載した。【０１８０】
−評価基準−
Ａ：境界空隙幅（距離Ｄ）が２００μｍ未満であった。
Ｂ：境界空隙幅（距離Ｄ）が２００μｍ以上１０００μｍ未満であった。
Ｃ：境界空隙幅（距離Ｄ）が１０００μｍ以上であった。【０１８１】
＜銅の腐食抑制性の評価＞
上記カプトンテープを銅膜（厚さ６μｍ）とした以外は、段差追従性の評価と同様の方法により作製した評価用積層体を、８５℃、８５％ＲＨの環境下に３００時間放置した。
その後、光学顕微鏡（倍率：５０倍）を用いて粘着層及び金属酸化物粒子含有層下の銅膜の表面を観察し、下記評価基準に基づき、銅の変色を評価した。評価結果は表６に記載した。評価結果がＡ、Ｂ又はＣであることが好ましい。変色した部分の割合が小さいほど、銅膜の腐食が抑制されているといえる。【０１８２】
−評価基準−
Ａ：変色した部分が全く確認されなかった。
Ｂ：変色した部分の割合が、銅膜の表面の１０％以下であった。
Ｃ：変色した部分の割合が、銅膜の表面の１０％を超えて、５０％以下であった。
Ｄ：変色した部分の割合が、銅膜の表面の５０％を超えていた。【０１８３】
＜視認性の抑制評価＞
一方の面に透明膜が、別の一方の面には透明電極パターンが形成されたガラス基材を用意した。
各実施例又は比較例において得られた転写フィルムを３．０ｃｍ×４．０ｃｍに切り取り、保護フィルムを剥離して、金属酸化物粒子含有層側を、上記ガラス基材の透明電極パターン上に貼り合わせて、２３℃、６ｍ／ｍｉｎの転写速度、圧力０．７ｋｇ／ｃｍ２にてラミネートし、評価用積層体を形成した。
透明接着テープ（３Ｍ社製、商品名、ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ）を介して、積層体の透明膜側と黒色ＰＥＴ材と接着させた。
上記遮光後の評価用積層体の転写フィルムを貼り付けた側を、ジェントス  ＬＥＤライト（懐中電灯、明るさ２００ルーメン、商品名：閃  ３３５  ＳＧ−３３５）を用いて光を照射しながら様々な角度から観察を行った。評価は下記評価基準に従って行い、評価結果は表６中の「視認性」の欄に記載した。評価結果はＡ又はＢであることが好ましい。【０１８４】
−評価基準−
Ａ：目視で、どのような角度からも、透明電極パターンがほとんど見えない。
Ｂ：目視で、ある角度において、透明電極パターンがＬＥＤライトの反射光で僅かに見える。
Ｃ：目視で、ある角度において、透明電極パターンがＬＥＤライトの反射光できらきら見える。
Ｄ：目視で、どの角度においても、透明電極パターンがＬＥＤライトの反射光できらきら見える。【０１８５】
【表６】
2019188081.tif 000009
【０１８６】
表６に記載した結果から、本開示に係る転写フィルムによれば、金属酸化物粒子含有層と粘着層とをこの順で形成可能であり、かつ、透明電極パターンの視認性の低減に優れる積層体が得られる転写フィルム、及び、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法を提供することができる。
また、表６に記載した結果から、本開示に係る転写フィルムによれば、クラックの発生が抑制され、段差追従性に優れ、また、銅腐食が抑制された積層体が得られやすいことがわかる。
特に、金属酸化物粒子含有層が特定化合物Ａを含む場合に、クラックの発生が顕著に抑制されることがわかる。
また、粘着層の、２３℃におけるｔａｎδが１．５以上であり、２３℃における破断伸びが６００％以上であり、２３℃における粘度が１．０×１０６Ｐａ・ｓ以下である場合に、段差追従性が顕著に抑制されることがわかる。
更に、ＷＶＴＲが１１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であれば、銅腐食が顕著に抑制されることがわかる。また、実施例１等及び実施例７の結果から、特定化合物Ａとして、カルボキシ基を有し、エチレン性不飽和基を有さない分子量が２，０００未満の化合物を含む場合、及びリン酸基を有し分子量が２，０００未満の化合物を含む場合のそれぞれにおいて、銅腐食が抑制されやすいことがわかる。【０１８７】
（静電容量型入力装置の作製）
特開２０１４−１０８５４１号公報の段落０１６７〜０１９１に記載の方法により、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一及び第二の透明電極パターンとは別の導電性要素を形成した前面板を得た。
上記前面板に対し、各実施例又は比較例において得られた転写フィルムを、上述の視認性評価と同様の条件によりラミネートし、前面板側から金属酸化物粒子含有層及び粘着層をこの順に形成した。【０１８８】
（画像表示装置の作製）
特開２００９−４７９３６号公報に記載の方法で製造した液晶表示素子に、各実施例又は比較例において金属酸化物粒子含有層及び粘着層を形成した上記前面板を貼り合せ、公知の方法で静電容量型入力装置を構成要素として備えた実施例１０１〜１０８、比較例１０１〜１０３の画像表示装置を作製した【０１８９】
（評価）
各実施例における画像表示装置に対し、上述の視認性評価と同様に画面側からジェントス  ＬＥＤライト（懐中電灯、明るさ２００ルーメン、商品名：閃  ３３５  ＳＧ−３３５）を用いて光を照射しながら様々な角度から観察を行った。
上述の視認性評価における評価基準と同様の評価基準により評価を行った。
評価結果は、各実施例又は比較例におけるそれぞれの転写フィルムを用いて上述の視認性評価を行った場合の評価結果と同様であった。
【符号の説明】
【０１９０】
１  透明基材（前面板）
２  マスク層
３  透明電極パターン（第一の透明電極パターン）
３ａ  パッド部分
３ｂ  接続部分
４  透明電極パターン（第二の透明電極パターン）
５  絶縁層
６  別の導電性要素
１０  静電容量型入力装置
１１  透明膜
１２  金属酸化物粒子含有層（透明絶縁層の機能を有してもよい）
１３  積層体
１４  カバー部材
１５  表示装置
１６  仮支持体
１８  粘着層
２０  転写フィルム
２１  透明電極パターンと第二の硬化性透明樹脂層と第一の硬化性透明樹脂層がこの順に積層された領域
２２  非パターン領域
５０  ＰＥＴ基材
５２  カプトンテープ
５４  金属酸化物粒子含有層及び粘着層
５６  仮支持体
５８  空隙α  テーパー角
Ｄ  境界空隙幅
ＬＹ  第一の方向
ＬＸ  第二の方向
【図１】
2019188081.tif 000010
【図２】
2019188081.tif 000011
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2019188081.tif 000016
【国際調査報告】
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2019188081.tif 000018
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