(57)【要約】任意のノズルレイアウト形状において、記録素子の不吐出補正以外のスジムラ補正を行った場合にもビートの発生を抑制することが可能な画像処理方法、装置及び画像記録装置を提供する。画像処理方法は、複数の記録素子が配列された記録ヘッドにおいて、記録素子ごとに異常を検知する異常検知工程と、異常検知工程における検知結果に応じて、異常が検知された異常記録素子に起因する画像の不良を補正するために、異常記録素子を含む補正用記録素子によって記録媒体に記録される画素の濃度をそれぞれ変調して、画像の不良を不可視化する不可視化工程と、記録媒体に記録する画像を量子化する量子化工程であって、不可視化工程によって濃度が変調された補正用記録素子によって記録媒体に記録される画素群である補正領域の空間周波数ピークの近傍周波数帯域を除く周波数帯域に、量子化のピーク周波数成分を位置させるように量子化を行う量子化工程とを備える。
2018181166.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の記録素子が配列された記録ヘッドにおいて、前記記録素子ごとに異常を検知する異常検知工程と、
前記異常検知工程における検知結果に応じて、前記異常が検知された異常記録素子に起因する画像の不良を補正するために、前記異常記録素子を含む補正用記録素子を選択し、前記補正用記録素子によって記録媒体に記録される画素の濃度をそれぞれ変調して、前記画像の不良を不可視化する不可視化工程と、
前記記録媒体に記録する画像を量子化する量子化工程であって、前記不可視化工程によって前記濃度が変調された前記補正用記録素子によって前記記録媒体に記録される画素群である補正領域の空間周波数ピークの近傍周波数帯域を除く周波数帯域に、前記量子化のピーク周波数成分を位置させるように量子化を行う量子化工程と、
を備える画像処理方法。
【請求項２】
前記量子化された画像に基づいて、前記記録ヘッドにより前記記録媒体に前記画像を記録する画像記録工程を更に備え、
前記画像記録工程において、前記記録媒体上の画素列が前記記録ヘッドの複数の記録素子によって記録される、
請求項１に記載の画像処理方法。
【請求項３】
前記不可視化工程において、
インクの不吐出が検知された異常記録素子をマスクし、
前記マスクした前記異常記録素子からの相対的な位置に応じて、前記異常記録素子以外の前記補正用記録素子により記録される画素の濃度を変調する、
請求項１又は２記載の画像処理方法。
【請求項４】
インクの吐出曲がりが検知された異常記録素子からの相対的な位置に応じて、前記補正用記録素子により記録される画素の濃度を変調する、
請求項１から３のいずれか１項記載の画像処理方法。
【請求項５】
記録される画素について濃度の変調が検知された異常記録素子の変調に応じて、前記補正用記録素子により記録される画素の濃度を変調する、
請求項１から４のいずれか１項記載の画像処理方法。
【請求項６】
前記補正用記録素子ごとに施された不可視化の内容に応じて、前記量子化工程において、前記補正用記録素子ごとに異なる量子化を行う、
請求項１から５のいずれか１項記載の画像処理方法。
【請求項７】
前記不可視化工程において、
インクの不吐出が検知された異常記録素子をマスクし、
前記マスクした前記異常記録素子からの相対的な位置に応じて、前記異常記録素子以外の前記補正用記録素子により記録される画素の濃度を変調し、
前記量子化工程において、前記異常記録素子と、前記異常記録素子以外の前記補正用記録素子とで異なる量子化を行う、
請求項６記載の画像処理方法。
【請求項８】
前記量子化工程において、前記補正用記録素子以外の通常記録素子により前記記録媒体に記録される画素である通常領域と、前記補正領域とで、異なる量子化を行う、
請求項１から７のいずれか１項記載の画像処理方法。
【請求項９】
前記不可視化工程において、前記補正用記録素子ごとに濃度の変調の程度が変更可能であり、
前記量子化工程において、前記濃度の変調の程度が同じ前記補正用記録素子に対応する補正領域ごとに異なる量子化を行う、
請求項６記載の画像処理方法。
【請求項１０】
前記量子化工程において、前記補正用記録素子に施された不可視化の内容ごとに異なる閾値マトリクスを適用して量子化を行う、
請求項６記載の画像処理方法。
【請求項１１】
前記量子化工程において、前記補正領域ごとに異なる閾値マトリクスを適用して量子化を行い、
前記異なる閾値マトリクスを生成するときに、共通のパターンを参照して、前記閾値マトリクスを生成する、
請求項１０記載の画像処理方法。
【請求項１２】
前記量子化工程において、閾値マトリクスと誤差拡散を併用し、その割合が前記補正領域ごとに異なる、
請求項６記載の画像処理方法。
【請求項１３】
前記量子化工程において、前記補正用記録素子以外の通常記録素子により前記記録媒体に記録される画素である通常領域と、前記補正領域とで、異なる閾値マトリクスを適用して量子化を行い、
前記補正領域に適用される閾値マトリクスは、前記通常領域に適用される基本閾値マトリクスの一部を置き換えて生成される、
請求項６記載の画像処理方法。
【請求項１４】
複数の記録素子が配列された記録ヘッドにおいて、前記記録素子ごとに異常を検知した検知結果に応じて、前記異常が検知された異常記録素子に起因する画像の不良を補正するために、前記異常記録素子を含む補正用記録素子を選択し、前記補正用記録素子によって記録媒体に記録される画素の濃度をそれぞれ変調して、前記画像の不良を不可視化する不可視化部と、
前記記録媒体に記録する画像を量子化する量子化部であって、前記不可視化部によって前記濃度が変調された前記補正用記録素子によって前記記録媒体に記録される画素群である補正領域の空間周波数ピークの近傍周波数帯域を除く周波数帯域に、前記量子化のピーク周波数成分が位置するように量子化を行う量子化部と、
を備える画像処理装置。
【請求項１５】
記録媒体に画像を記録するための記録ヘッドと、
請求項１４記載の画像処理装置と、
を備える画像記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は画像処理方法、装置及び画像記録装置に係り、特にインクジェット記録装置等のドットの記録によって階調表現を行うハーフトーン処理技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録装置では、複数のインク吐出口（ノズル）が配列された記録ヘッドと印刷媒体（用紙）とを相対移動させ、ノズルからインク滴を吐出することにより、用紙上に画像を形成する。インクジェット記録装置としては、用紙の搬送方向に直交する用紙幅方向について描画領域の全範囲をカバーするノズル配列を備えた長尺のラインヘッドを備え、このラインヘッドに対して用紙を１回だけ相対移動させることにより、用紙上に画像を形成するシングルパス方式のものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−１４４６１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
インクジェット記録装置では、ノズルごとに、不吐出、吐出曲がり等の吐出異常がある場合、用紙の搬送方向に沿ってスジムラが発生する。このようなスジムラを補正するためのスジムラ補正技術としては、異常が検知されたノズルをマスク（不吐出化）したり、ノズル群ごとに濃度を補正（変調）することにより、スジムラの視認性を下げる（又は不可視化する）方法がある。このスジムラ補正技術によれば、ノズル群ごとの濃度特性の差異が是正されるので、理想的には各ノズル群の濃度が均一化される。【０００５】
ノズル群ごとの濃度は、記録する画像における連続階調の濃度を量子化（ハーフトーン処理）し、ドットとドットの周波数を変調することにより、用紙上の画像において階調が表現される。しかし、スジムラ補正を行うと、ノズル群ごとに濃度が変調されるため、量子化対象の入力画像の濃度がこのノズル群の形状に応じた周波数特性を持つ。そして、このノズル群の形状に応じた周波数特性と、量子化の周波数特性とが互いに近しいと、視認可能なビート（うなり、低周波成分）が発生する。【０００６】
ここで、ビートとは、周波数又は振動数がわずかに異なる２つの波が干渉して、振幅がゆっくり周期的に変わる合成波を生ずる現象をいう。人間の視覚は、低周波域と高周波域で低下した山形の空間周波数特性（ＭＴＦ（modulation transfer function）特性）を有する。このため、粗い縞模様や細かい縞模様は見えにくいが、約５ｃｙｃｌｅｓ／ｄｅｇｒｅｅの場合に最も視認しやすい。すなわち、スジムラ補正を行った場合、濃度変調によってスジムラは補正されたとしても、スジムラ補正により濃度変調された部位に、ノズル群の形状に応じた周波数特性と量子化の周波数特性との関係によっては視認可能なビートが発生し、結果として画像の不良の補正が適切に行われないという課題がある（特許文献１参照）。【０００７】
特許文献１には、マスク処理された不良記録素子に対応する画素列に隣接する画素列の画像濃度を補正し、マスク処理された不良記録素子に対応する画素列及びこれに隣接する画素列を含む第１の画像領域（不良記録素子近傍領域）と、それ以外の第２の画像領域（正常領域）について異なる量子化を行うことにより、複数の第１の画像領域間のアーティファクトを抑制する技術が開示されている。【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載の技術は、同一画素列が同一ノズルで印字される場合における不吐出補正に特化している。このため、同一画素列が複数のノズルで印字される場合のように、ノズルと用紙上の画素との対応関係が一対一ではない任意のノズルレイアウト形状に対応できない。【０００９】
さらに、特許文献１に記載の技術は、不吐出補正に特化しており、不吐出補正以外のスジムラ補正には対応していない。このため、不吐出補正以外のスジムラ補正を行う場合には、スジムラ補正を行う不良記録素子近傍領域を含む補正部の粒状感が悪化し、スジムラの不可視化が適切に行うことができないという課題があった。【００１０】
さらに、ノズルレイアウト形状が複雑になると、量子化の周波数特性を制御してビートを抑制する方法のみでは、周波数特性に対する制約が増大する。このため、全体的に（すなわち、非補正部を含む用紙上に記録される画像全体で）粒状感が悪化するという課題があった。【００１１】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、任意のノズルレイアウト形状において、記録素子の不吐出補正以外のスジムラ補正を行った場合にもビートの発生を抑制することが可能な画像処理方法、装置及び画像記録装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明の第１の態様に係る画像処理方法は、複数の記録素子が配列された記録ヘッドにおいて、記録素子ごとに異常を検知する異常検知工程と、異常検知工程における検知結果に応じて、異常が検知された異常記録素子に起因する画像の不良を補正するために、異常記録素子を含む補正用記録素子を選択し、補正用記録素子によって記録媒体に記録される画素の濃度をそれぞれ変調して、画像の不良を不可視化する不可視化工程と、記録媒体に記録する画像を量子化する量子化工程であって、不可視化工程によって濃度が変調された補正用記録素子によって記録媒体に記録される画素群である補正領域の空間周波数ピークの近傍周波数帯域を除く周波数帯域に、量子化のピーク周波数成分を位置させるように量子化を行う量子化工程とを備える。【００１３】
第１の態様によれば、補正領域の空間周波数ピークに応じて、量子化のピーク周波数成分を変更することにより、任意のノズルレイアウト形状において、記録素子の異常によるスジムラ補正を適用した場合にもビートの発生を抑制することが可能になる。【００１４】
本発明の第２の態様に係る画像処理方法は、第１の態様において、量子化された画像に基づいて、記録ヘッドにより記録媒体に画像を記録する画像記録工程を更に備え、画像記録工程において、記録媒体上の画素列が記録ヘッドの複数の記録素子によって記録されるようにしたものである。【００１５】
第２の態様によれば、１つの画素列が複数の記録素子で記録される場合であっても、ビートの抑制が可能になる。【００１６】
本発明の第３の態様に係る画像処理方法は、第１又は第２の態様の不可視化工程において、インクの不吐出が検知された異常記録素子をマスクし、マスクした異常記録素子からの相対的な位置に応じて、異常記録素子以外の補正用記録素子により記録される画素の濃度を変調するようにしたものである。【００１７】
本発明の第４の態様に係る画像処理方法は、第１から第３のいずれかの態様において、インクの吐出曲がりが検知された異常記録素子からの相対的な位置に応じて、補正用記録素子により記録される画素の濃度を変調するようにしたものである。【００１８】
本発明の第５の態様に係る画像処理方法は、第１から第４のいずれかの態様において、記録される画素について濃度の変調が検知された異常記録素子の変調に応じて、補正用記録素子により記録される画素の濃度を変調するようにしたものである。【００１９】
本発明の第６の態様に係る画像処理方法は、第１から第５の態様において、補正用記録素子ごとに施された不可視化の内容に応じて、量子化工程において、補正用記録素子ごとに異なる量子化を行うようにしたものである。【００２０】
本発明の第７の態様に係る画像処理方法は、第６の態様の不可視化工程において、インクの不吐出が検知された異常記録素子をマスクし、マスクした異常記録素子からの相対的な位置に応じて、異常記録素子以外の補正用記録素子により記録される画素の濃度を変調し、量子化工程において、異常記録素子と、異常記録素子以外の補正用記録素子とで異なる量子化を行うようにしたものである。【００２１】
本発明の第８の態様に係る画像処理方法は、第１から第７のいずれかの態様の量子化工程において、補正用記録素子以外の通常記録素子により記録媒体に記録される画素である通常領域と、補正領域とで、異なる量子化を行うようにしたものである。【００２２】
本発明の第９の態様に係る画像処理方法は、第６の態様の不可視化工程において、補正用記録素子ごとに濃度の変調の程度が変更可能であり、量子化工程において、濃度の変調の程度が同じ補正用記録素子に対応する補正領域ごとに異なる量子化を行うようにしたものである。【００２３】
本発明の第１０の態様に係る画像処理方法は、第６の態様の量子化工程において、補正用記録素子に施された不可視化の内容ごとに異なる閾値マトリクスを適用して量子化を行うようにしたものである。【００２４】
本発明の第１１の態様に係る画像処理方法は、第１０の態様の量子化工程において、補正領域ごとに異なる閾値マトリクスを適用して量子化を行い、異なる閾値マトリクスを生成するときに、共通のパターンを参照して、閾値マトリクスを生成するようにしたものである。【００２５】
本発明の第１２の態様に係る画像処理方法は、第６の態様の量子化工程において、閾値マトリクスと誤差拡散を併用し、その割合が補正領域ごとに異なるようにしたものである。【００２６】
本発明の第１３の態様に係る画像処理方法は、第６の態様の量子化工程において、補正用記録素子以外の通常記録素子により記録媒体に記録される画素である通常領域と、補正領域とで、異なる閾値マトリクスを適用して量子化を行い、補正領域に適用される閾値マトリクスは、通常領域に適用される基本閾値マトリクスの一部を置き換えて生成されるようにしたものである。【００２７】
本発明の第１４の態様に係る画像処理装置は、複数の記録素子が配列された記録ヘッドにおいて、記録素子ごとに異常を検知した検知結果に応じて、異常が検知された異常記録素子に起因する画像の不良を補正するために、異常記録素子を含む補正用記録素子を選択し、補正用記録素子によって記録媒体に記録される画素の濃度をそれぞれ変調して、画像の不良を不可視化する不可視化部と、記録媒体に記録する画像を量子化する量子化部であって、不可視化部によって濃度が変調された補正用記録素子によって記録媒体に記録される画素群である補正領域の空間周波数ピークの近傍周波数帯域を除く周波数帯域に、量子化のピーク周波数成分が位置するように量子化を行う量子化部とを備える。【００２８】
本発明の第１５の態様に係る画像記録装置は、記録媒体に画像を記録するための記録ヘッドと、第１４の態様に係る画像処理装置とを備える。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、補正領域の空間周波数ピークに応じて、量子化のピーク周波数成分を変更することにより、任意のノズルレイアウト形状において、記録素子の異常によるスジムラ補正を適用した場合にもビートの発生を抑制することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る画像記録装置を示すブロック図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態に係る画像処理方法の流れを示すフローチャートである。
【図３】図３は、ノズルと印刷媒体上の画素の位置関係を示す図である。
【図４】図４は、補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図５】図５は、量子化におけるピーク周波数帯域の好ましい例を示す図である。
【図６】図６は、量子化におけるピーク周波数帯域の好ましい例を示す図である。
【図７】図７は、量子化におけるピーク周波数帯域の好ましい例を示す図である。
【図８】図８は、量子化におけるピーク周波数帯域の好ましくない例を示す図である。
【図９】図９は、量子化におけるピーク周波数帯域の好ましくない例を示す図である。
【図１０】図１０は、量子化におけるピーク周波数帯域の好ましくない例を示す図である。
【図１１】図１１は、量子化におけるピーク周波数帯域の好ましくない例を示す図である。
【図１２】図１２は、不吐出補正方法（１Ａ）におけるノズルと印刷媒体上の画素の位置関係を示す図である。
【図１３】図１３は、不吐出補正方法（１Ａ）における補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図１４】図１４は、不吐出補正方法（１Ａ）における通常補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図１５】図１５は、不吐出補正方法（１Ｂ）におけるノズルと印刷媒体上の画素の位置関係を示す図である。
【図１６】図１６は、不吐出補正方法（１Ｂ）における高濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図１７】図１７は、不吐出補正方法（１Ｂ）における中濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図１８】図１８は、不吐出補正方法（１Ｃ−１）におけるノズルと印刷媒体上の画素の位置関係を示す図である。
【図１９】図１９は、不吐出補正方法（１Ｃ−１）における最高濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図２０】図２０は、不吐出補正方法（１Ｃ−１）における高濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図２１】図２１は、不吐出補正方法（１Ｃ−１）における低濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図２２】図２２は、不吐出補正方法（１Ｃ−１）における通常濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図２３】図２３は、不吐出補正方法（１Ｃ−２）におけるノズルと印刷媒体上の画素の位置関係を示す図である。
【図２４】図２４は、不吐出補正方法（１Ｃ−２）における高濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図２５】図２５は、不吐出補正方法（１Ｃ−２）における通常濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図２６】図２６は、不吐出補正方法（１Ｄ）におけるノズルと印刷媒体上の画素の位置関係を示す図である。
【図２７】図２７は、不吐出補正方法（１Ｄ）における高濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図２８】図２８は、不吐出補正方法（１Ｄ）における低濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図２９】図２９は、不吐出補正方法（１Ｄ）における通常濃度補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図３０】図３０は、吐出曲がり補正方法（２Ａ）におけるノズルと印刷媒体上の画素の位置関係を示す図である。
【図３１】図３１は、吐出曲がり補正方法（２Ａ）における補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図３２】図３２は、吐出曲がり補正方法（２Ｂ）におけるノズルと印刷媒体上の画素の位置関係を示す図である。
【図３３】図３３は、吐出曲がり補正方法（２Ｂ）における補正領域の周波数特性を模式的に示す平面図である。
【図３４】図３４は、本実施形態に係る画像処理及び画像記録方法を示すフローチャートである。
【図３５】図３５は、本発明の一実施形態に係る量子化を説明するための図である。
【図３６】図３６は、量子化パターンの周波数特性を示す図である。
【図３７】図３７は、各画素の量子化処理を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、添付図面に従って本発明に係る画像処理方法、装置及び画像記録装置の実施の形態について説明する。
【００３２】
［画像記録装置の概要］
図１は、本発明の一実施形態に係る画像記録装置を示すブロック図である。なお、以下の説明では、本実施形態に係る画像記録装置を、印刷媒体（用紙）の搬送方向に沿う１つの画素列に対して複数の記録素子（ノズル）で画像を記録可能なシングルパス方式のインクジェット方式の画像記録装置に適用した例について説明する。
【００３３】
図１に示すように、画像記録装置１０は、本実施形態に係る異常記録素子に起因する画像のスジムラ等の不可視化するための濃度補正（変調）処理及び量子化処理を行うための画像処理装置１２を含んでいる。画像処理装置１２は、システム制御部１４と、メモリ１６と、画像処理部１８と、量子化部２０とを備える。画像記録装置１０は、画像処理装置１２の各構成に加えて、画像記録部２２と、画像検査部２４とを更に備える。
【００３４】
システム制御部１４は、画像記録装置１０の動作を制御する統括制御部である。システム制御部１４は、メモリ１６に格納された制御プログラムを実行して各種の演算を行うプロセッサを含んでおり、画像記録装置１０の各部に制御信号を出力してその動作を制御する。
【００３５】
メモリ１６は、システム制御部１４が実行するための各種の制御プログラムが格納されるＲＯＭ（Read Only Memory）と、ＲＡＭ（Random Access Memory）とを含んでいる。メモリ１６には、画像記録部２２に設けられたプリントヘッド（記録ヘッド）におけるノズルの異常に関する異常ノズル情報（異常記録素子情報）Ｄ２０が格納されている。異常ノズル情報Ｄ２０には、異常が検知されたノズルを特定するための情報（位置情報等）と、異常の種類（例えば、不吐出、濃度の変化、吐出曲がり等）及び異常の程度を示す情報とが含まれている。
【００３６】
画像処理部１８は、印刷媒体（用紙）に記録するための入力画像データＤ１０の入力を受け付けて、入力画像データＤ１０に対して各種の画像処理を施す。例えば、入力画像データＤ１０がＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色のデータの場合には、画像処理部１８は、入力画像データＤ１０を、画像記録部２２のインクの色（例えば、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（黄）、Ｋ（黒））の各色のデータに変換する。この色変換処理は、例えば、ＲＧＢ３原色をＣＭＹＫ４色に変換するためのルックアップテーブルＬＵＴ（Look Up Table）を用いて行うことができる。
【００３７】
また、画像処理部１８は、画像記録部２２のノズルと用紙上の画素との対応づけ処理を行う。そして、画像処理部１８は、ノズル群ごとにガンマ変換（濃度変調及びスジムラ補正処理）を行う。
【００３８】
画像処理部１８は、異常ノズル情報Ｄ２０に基づいて、異常ノズル（異常記録素子）と、異常ノズルに起因する画像の不良（スジムラ、アーティファクト等）を補正するための補正用のノズル（補正用記録素子）に対して、マスク又は濃度変調を行って、画像の不良の視認性を下げる（不可視化する）処理を行う不可視化部として機能する。具体的には、画像処理部１８は、不吐出のノズルをマスク（不吐出化）して、マスクしたノズルの周囲のノズルの濃度補正（濃度変調）を行って、不吐出のノズルに起因するスジムラの視認性を下げる。また、画像処理部１８は、吐出曲がりのノズルについては、吐出曲がりの方向に応じて、吐出曲がりのノズル及びその周囲のノズルの濃度変調を行って、吐出曲がりに起因する画像の不良の視認性を下げる。
【００３９】
ここで、画像処理部１８は、異常ノズル及びその周囲のノズルについて、濃度補正のためのパラメータを用いて不可視化処理のための濃度補正を行う。本実施形態では、同一のパラメータを用いて濃度補正が行われたノズルによって用紙上に記録された画素群を補正領域（comp）という。
【００４０】
量子化部２０は、画像処理部１８によって色変換処理、不可視化処理等の画像処理が施された入力画像データＤ１０を、より階調数の少ないデータに量子化処理（ハーフトーン処理）を行う。量子化部２０は、例えば、２５６階調の画像データを、画像記録部２２で記録可能な階調数のデータに変換して出力ドットパターンＤ４０を作成する。本実施形態では、画像記録部２２で記録可能な階調数を４階調（滴なし、小滴、中滴、及び大滴）として説明するが、階調数はこれに限定されるものではない。なお、この量子化処理は、画像記録部２２で記録可能な色ごとに（例えば、ＣＭＹＫごとに）行われる。
【００４１】
量子化部２０は、不可視化処理が施されたノズルによって用紙に記録される画素群である補正領域の空間周波数ピークの近傍周波数帯域を除く周波数帯域に、量子化のピーク周波数成分をもつように量子化を行う。ここで、ピーク周波数とは２次元フーリエ変換を実施した際の周波数空間における振幅成分が相対的に高くなる周波数のことである（画像の平均値である第０周波数成分は除く）。より具体的には、周波数空間において第０周波数成分を除いた振幅値の最大値から約５％以内の振幅をもつ周波数帯域をいう。
【００４２】
画像記録部２２は、ＣＭＹＫの各色のインクを用紙（記録媒体、印刷媒体）に吐出するためのプリントヘッド（図３（Ａ）参照）と、用紙とプリントヘッドを相対移動させるための搬送手段（例えば、用紙を吸着して、用紙の搬送方向に沿って搬送するためのドラム、ドラム回転用の駆動機構等）とを備える。画像記録部２２は、出力ドットパターンＤ４０にしたがって、用紙上にプリントヘッドから各色のインクを吐出させ、用紙上に画像を記録する。
【００４３】
画像検査部２４は、用紙上に記録された記録画像Ｄ５０を撮像するための撮像部を備える。撮像部としては、用紙の搬送経路上にスキャナを設けることができる。画像検査部２４によって撮像された記録画像Ｄ５０はシステム制御部１４に送られる。
【００４４】
システム制御部１４は、画像検査部２４によって撮像された記録画像Ｄ５０を解析して、新たに異常ノズルを検知した場合には、異常ノズル情報Ｄ２０を更新する。また、システム制御部１４は、記録画像Ｄ５０の解析結果を不可視化処理及び量子化処理に反映させる。
【００４５】
［画像処理方法の概要］
図２は、本発明の一実施形態に係る画像処理方法の流れを示すフローチャートである。
【００４６】
図２に示すように、用紙に記録する入力画像データＤ１０が入力されると、画像処理部１８は、画像記録部２２のノズルと用紙上の画素との対応づけ処理を行う（ステップＳ１０）。そして、画像処理部１８は、異常ノズル情報Ｄ２０及び濃度変調情報Ｄ３０に基づいてノズル群ごとにガンマ変換（濃度変調及びスジムラ補正処理）を行う（ステップＳ１２、不可視化工程）。
【００４７】
次に、量子化部２０は、ステップＳ１２においてガンマ変換が施された入力画像データＤ１０の量子化を行い、出力ドットパターンＤ４０を出力する（ステップS１４、量子化工程）。
【００４８】
画像記録部２２は、出力ドットパターンＤ４０にしたがって用紙上に画像を記録する（ステップＳ１６、画像記録工程）。
【００４９】
この記録画像Ｄ５０によって記録された画像を画像検査部２４によって撮像することにより、異常ノズル情報Ｄ２０の作成、更新を行うことができる（異常検知工程）。
【００５０】
スジムラ補正のために、ガンマ変換を含む画像処理によって、ノズル群ごとに濃度を変調させると、量子化前の画像はノズル群の形状（用紙上の補正領域）に応じた周波数特性を帯びる。この周波数特性と量子化の周波数特性が近しいと視認可能なビートが発生するので、画像が劣化する。本実施形態では、濃度変調したノズル群の周波数特性及びその近郷の周波数帯域に、量子化の周波数特性が属さないようにする。これにより、視認可能なビートの補正を防止しつつ、適切なスジムラ補正を行うことが可能になる。
【００５１】
［ノズルと印刷媒体上の位置関係とノズルマップパターンの周波数特性］
次に、ノズルと印刷媒体上の画素の位置関係とノズルマップパターンの周波数特性について説明する。以下の説明では、ノズルがジグザグ状（staggered pattern）に配列されたプリントヘッドを例として説明する。
【００５２】
図３は、ノズルと印刷媒体上の画素の位置関係を示す図である。図３（Ａ）は、プリントヘッドにおけるノズルの配置を示し、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）のノズルによって用紙上に記録された画素を示す平面図である。
【００５３】
図３（Ａ）のノズルに付された記号は、図３（Ｂ）の画素の記号にそれぞれ対応している。図３（Ａ）は、プリントヘッドのノズルの配置の一部を切り出して示したものであり、ノズルが４行×４列でジグザグ状に配置されている。このジグザグ状のノズルにより、図３（Ｂ）に示すように、印刷媒体に８列の画素列が記録される。すなわち、用紙搬送方向（副走査方向）に沿う各画素列は、それぞれ２つのノズルによって記録されるようになっている。
【００５４】
図３（Ｂ）において、同一の記号で記される画素群は、同一のパラメータで濃度補正が行われるものとする。以下の説明では、同一のパラメータで濃度補正された画素群により領域分けされた領域を補正領域という。
【００５５】
図３の例における各補正領域の空間周波数は、以下のように求めることができる。まず、対象とする補正領域の画素群にパラメータ１を割り当て、対象外の画素にはパラメータ０を割り当てる。例えば、図３（Ａ）の例で、ノズルＣ１の補正領域の空間周波数を求める場合は、Ｃ１に１を割り当て、それ以外には０を割り当てる。次に、このパラメータを割り当てられた２次元配列をフーリエ解析してスペクトルを算出する。
【００５６】
図４は、ノズルマップパターンの周波数特性を模式的に示す平面図である。図３（Ａ）のジグザグ状にノズルが配列された例においては、図４に示すように、ナイキスト周波数の高い隅（黒点部Ａ１４）にもっとも大きな空間周波数成分が発生する。そして、搬送方向の０周波数（領域Ａ１２内のグレーで示す領域）及びナイキスト周波数成分により小さな成分が発生する。
【００５７】
視認可能なビートの発生を抑制するためには、領域分けされた補正領域の周波数特性と被らない箇所にピーク周波数を配置すればよい。このため、図４の領域Ａ１０内にピークをもつような量子化を行う。
【００５８】
特に、黒点部Ａ１４付近には、補正領域の強い周波数成分があるので、この黒点部Ａ１４付近の領域については、量子化の周波数成分を遠ざける（抑制する）ことが好ましい。
【００５９】
なお、補正領域の周波数特性と被らない周波数帯域としては、ノズル群の空間周波数のピークから少なくとも５ｃｙｃｌｅ／ｍｍ以上離れた帯域であることが好ましい。発生するビートの周波数特性は、ノズル群の空間周波数と量子化のピーク周波数の差分により決まる。人間の目には、特にこの範囲の周波数においてはビートが視認されやすい。したがって、補正領域の強い周波数成分を避けるために、量子化の周波数のピークをより大きくずらすことにより、効果的にビートの発生を抑制することができる。
【００６０】
図５から図７は、量子化におけるピーク周波数帯域の好ましい例を示す図であり、図８から図１１は、量子化におけるピーク周波数帯域の好ましくない例を示す図である。
【００６１】
図５から図１１では、量子化におけるピーク周波数帯域がそれぞれ領域Ｑ１０からＱ２２として示されている。
【００６２】
図５から図７に示す領域Ｑ１０からＱ１４は、いずれも図４に示す領域Ａ１０に収まっている。一方、図８から図１１に示す領域Ｑ１６からＱ２２は、いずれも領域Ａ１０の外部に広がっているため、視認可能なビートが発生しやすくなっている。
【００６３】
［不吐出補正］
次に、補正方法ごとのノズル群の特性について説明する。まず、不吐出ノズルがある場合におけるスジムラ補正方法について説明する。以下の例では、ノズルＢ４が不吐出ノズルであり、不吐出ノズルＢ４をマスク（不吐出化）した場合を示している。
【００６４】
図１２に示す方法（１Ａ）は、マスクしたノズルＢ４を１つのノズルＤ４のみで補正するものである。
【００６５】
図１５に示す方法（１Ｂ）は、ノズルＢ４により記録される画素位置に対して搬送垂直方向に隣接する画素を記録する２つのノズルＡ３及びＡ５の濃度を同一パラメータで補正している。
【００６６】
図１８に示す方法（１Ｃ−１）は、ノズルＡ３とＡ５、Ｄ４、Ｃ３とＣ５の濃度をそれぞれ同一のパラメータで補正している。
【００６７】
図２３に示す方法（１Ｃ−２）は、方法（１Ｃ−１）で別々に補正していたＡ３とＡ５、Ｄ４、Ｃ３とＣ５の領域を合算し、同一の補正領域とみなして補正を行うものである。このような補正領域の形状の変更は、不良ノズルとの相対的な位置に応じて、濃度の変調の程度を変更することで実施可能である。濃度の変調の程度は階調ごとに変更することが可能なので、例えば、より低濃度側では、スジムラが比較的目立ちにくいため、補正ノズル数がより少ない方法（例えば、方法（１Ａ））を使用する。一方、より高濃度側では、スジムラが比較的目立ちやすいため、補正ノズルの数及び階調がより少ない方法（例えば、方法（１Ｃ−１）又は（１Ｃ−２））を採用することも可能である。
【００６８】
このように、ノズル群によって補正する際の補正領域の周波数特性は、以下のようにして求めることができる。まず、対象とする補正領域の画素にパラメータ１を割り当て、それ以外の画素にパラメータ０を割り当てる。例えば、図２３に示す方法（１Ｃ−２）において、濃いグレーで示した補正領域の補正領域を求める場合は、Ａ３、Ｄ４、Ａ５の画素に１を割り当て、それ以外の画素に０を割り当てる。
【００６９】
次に、各画素に割り当てたパラメータのフーリエ解析を行う。これにより、スペクトルを算出する。
【００７０】
図１２から図２９に示すように、補正方法（制御ノズル群の形状）を変えると、ノズル群の周波数特性も変化する。量子化方法としては、特定の補正方法に限定して量子化を固定化する方法、すべての補正方法に対してビートが発生しない量子化方法を採用する方法（例えば、図１２から図２９に示すすべての領域Ａ１０からＡ５４の共通部分に量子化の周波数のピーク成分をもたせる）、又は補正方法に応じて量子化方法を変える等の選択肢を採ることが可能である。
【００７１】
図１２に示す方法（１Ａ）では、不良ノズル（異常記録素子、補正用記録素子）Ｂ４がマスクされ、濃度補正に用いる補正ノズル（補正用記録素子）Ｄ４に対して濃度変調が施される（高濃度化される）。そして、異常が検知されず、濃度変調もされない通常ノズル（通常記録素子）Ａ１、Ａ３、Ａ５、Ａ７、Ｂ２、Ｂ６、Ｂ８、Ｃ１、Ｃ３、Ｃ５、Ｃ７、Ｄ２、Ｄ６、Ｄ８については濃度変調されない。
【００７２】
方法（１Ａ）では、高濃度化される補正ノズルＤ４によって記録される画素群（高濃度補正領域）の空間周波数特性は、図１３のようになる。一方、通常ノズルによって記録される画素群（通常領域）の空間周波数特性は、図１４のようになる。
【００７３】
したがって、図１３及び図１４に示す領域Ａ１０及び領域Ａ１２に、各ノズルにより記録される画素の量子化の周波数のピーク成分をもたせるように量子化を行うことにより、ビートの発生を抑制することができる。
【００７４】
図１５に示す方法（１Ｂ）では、不良ノズルＢ４がマスクされ、濃度補正に用いる補正ノズルＡ３及びＡ５に対して濃度変調が施される（高濃度化される）。そして、ノズルＢ４とＡ３及びＡ５以外の通常ノズルについては濃度変調されない。
【００７５】
方法（１Ｂ）では、高濃度化される補正ノズルＡ３及びＡ５によって記録される画素群である高濃度補正領域の空間周波数特性は図１６のようになり、不良ノズルＢ４と補正ノズルＡ３及びＡ５以外の通常ノズルによって記録される画素群（通常領域又は中濃度補正領域）の空間周波数特性は図１７のようになる。
【００７６】
したがって、図１３に示す領域Ａ１０、図１６及び図１７に示す領域Ａ２０及び領域Ａ２２に、各ノズルにより記録される画素の量子化の周波数のピーク成分をもたせるように量子化を行うことにより、ビートの発生を抑制することができる。
【００７７】
図１８に示す方法（１Ｃ−１）では、不良ノズルＢ４がマスクされ、補正ノズルＤ４が最高濃度になるように濃度変調される。補正ノズルＡ３及びＡ５がノズルＤ４の次に高濃度になるように濃度変調され、補正ノズルＣ３及びＣ５は通常ノズルよりも低濃度になるように濃度変調される。そして、通常ノズルＡ１、Ａ７、Ｂ２、Ｂ６、Ｂ８、Ｃ１、Ｃ７、Ｄ２、Ｄ６、Ｄ８については濃度変調がされない。
【００７８】
方法（１Ｃ−１）において、最高濃度になる補正ノズルＤ４に対応する最高濃度補正領域、Ｄ４の次に高濃度化される補正ノズルＡ３及びＡ５に対応する高濃度補正領域、通常ノズルよりも低濃度化される補正ノズルＣ３及びＣ５に対応する低濃度補正領域、通常ノズルに対応する通常濃度補正領域の空間周波数特性は、それぞれ図１９から図２２に示すようになる。
【００７９】
したがって、図１３に示す領域Ａ１０、図１９から図２２に示す領域Ａ３０からＡ３６に、各ノズルにより記録される画素の量子化の周波数のピーク成分をもたせるように量子化を行うことにより、ビートの発生を抑制することができる。
【００８０】
図２３に示す方法（１Ｃ−２）では、不良ノズルＢ４がマスクされ、補正ノズルＡ３、Ａ５、Ｃ３、Ｃ５及びＤ４が高濃度化され、通常ノズルＡ１、Ａ７、Ｂ２、Ｂ６、Ｂ８、Ｃ１、Ｃ７、Ｄ２、Ｄ６及びＤ８については濃度変調されない。
【００８１】
方法（１Ｃ−２）では、高濃度化される補正ノズルＡ３、Ａ５、Ｃ３、Ｃ５及びＤ４に対応する高濃度補正領域、通常ノズルに対応する通常濃度補正領域の空間周波数特性は、それぞれ図２４及び図２５に示すようになる。
【００８２】
したがって、図１３に示す領域Ａ１０、図２４及び図２５に示す領域Ａ４０及びＡ４２に、各ノズルにより記録される画素の量子化の周波数のピーク成分をもたせるように量子化を行うことにより、ビートの発生を抑制することができる。
【００８３】
図２６に示す方法（１Ｄ）では、不良ノズルＢ４がマスクされ、補正ノズルＡ３、Ａ５、Ｃ３及びＣ５が高濃度化される。そして、補正ノズルＢ２、Ｂ６、Ｄ２及びＤ６が通常ノズルよりも低濃度化され、補正ノズルＤ４が補正ノズルＢ２、Ｂ６、Ｄ２及びＤ６よりも低濃度化される。通常ノズルＡ１、Ａ７、Ｂ８、Ｃ１、Ｃ７及びＤ８については濃度変調されない。
【００８４】
方法（１Ｄ）では、高濃度化される補正ノズルＡ３、Ａ５、Ｃ３及びＣ５に対応する高濃度補正領域、低濃度化される補正ノズルＢ２、Ｂ６、Ｄ２及びＤ６に対応する低濃度補正領域、通常ノズルに対応する通常濃度補正領域の空間周波数特性は、それぞれ図２７から図２９に示すようになる。また、最低濃度になる補正ノズルＤ４の空間周波数特性は、図１３と同様になる。
【００８５】
したがって、図２７から図２９に示す領域Ａ５０からＡ５４、図１３に示す領域Ａ１０に、各ノズルにより記録される画素の量子化の周波数のピーク成分をもたせるように量子化を行うことにより、ビートの発生を抑制することができる。
【００８６】
［吐出曲がり補正］
次に、吐出曲がり補正の場合について説明する。以下の説明では、ノズルＢ４が図中右側に（ノズルＡ５及びＣ５側に）吐出曲がりが生じているものとする。
【００８７】
吐出曲がりを補正する場合には、まず、画像検査部２４により用紙に記録された画像から吐出曲がりノズルが検知される。そして、図３０（Ｂ）に示すように、吐出曲がりノズルＤ４及びノズルＤ４に隣接するノズルのうち、吐出曲がりにより着弾ドット位置が離れるノズルＡ３、Ｃ３及びＢ４によって描画される画素の濃度を上げる。これにより、吐出曲がりによって発生した白スジを埋める。さらに、高濃度化したノズルの更に隣接ノズルＢ２、Ｄ２、Ａ５及びＣ５の濃度を下げる。これにより、高濃度化したノズルによる濃度の上昇分を相殺する。
【００８８】
本補正方法に関しても、選択するノズル群に応じて周波数特性が変化する。したがって、それぞれに対してビートを起こさないような量子化を選択する必要がある。
【００８９】
図３０に示す方法（２Ａ）では、吐出曲がりノズルＢ４が濃度変調されて高濃度化される。また、ノズルＢ４に隣接する補正ノズルＡ３、Ｃ３、Ｄ４が濃度変調されてＢ４と同一のパラメータにより高濃度化される。そして、これらの高濃度化される補正ノズルの外側に隣接する補正ノズルＡ５、Ｂ２、Ｃ５及びＤ２は、同一のパラメータにより通常ノズルよりも低濃度化される。通常ノズルＡ１、Ａ７、Ｂ６、Ｂ８、Ｃ１、Ｃ７、Ｄ６及びＤ８は濃度変調されない。
【００９０】
方法（２Ａ）では、図３１に示すような空間周波数特性となるため、領域Ａ６０に量子化の周波数をもたせるようにすることで、ビートの発生を防止することができる。
【００９１】
図３２に示す方法（２Ｂ）では、吐出曲がりノズルＢ４と、Ｂ４に隣接する補正ノズルＡ３が同一のパラメータにより高濃度化される。そして、補正ノズルＣ３及びＤ４は同一のパラメータにより低濃度化される。通常ノズルＡ１、Ａ５、Ａ７、Ｂ２、Ｂ６、Ｂ８、Ｃ１、Ｃ５、Ｃ７、Ｄ２、Ｄ６及びＤ８は濃度変調されない。
【００９２】
方法（２Ｂ）では、図３３に示すような空間周波数特性となるため、領域Ａ７０に量子化の周波数をもたせるようにすることで、ビートの発生を防止することができる。
【００９３】
［量子化方法の選択］
濃度補正した用紙上の補正領域に関しては、濃度変調を行うノズル群の形状に応じた量子化の方法を選択するのが適切である。一方、濃度を変調しない領域（通常ノズルで打滴する通常濃度補正領域）に関しては、濃度変調する補正領域全体を１つのノズル群として扱い、これに対してビートが発生しない量子化の周波数特性を選ぶことが可能である。このようにすることで、非補正部に関しては、より高い自由度で量子化を行うことが可能である。
【００９４】
［スジムラ補正方法］
図３４は、本実施形態に係る画像処理及び画像記録方法を示すフローチャートである。本実施形態では、スジムラ補正方法として、例えば、特許第５８４３４００号公報に記載の方法を使用することができる。
【００９５】
まず、画像処理部１８は、画像記録部２２のプリントヘッドのノズルと用紙に記録される画素との間の対応づけを行う。そして、画像処理部１８は、異常ノズル情報Ｄ２０に基づいて、下記の表１の基準にしたがって、用紙に記録される画素の領域分けを行う（ステップＳ２０）。
【００９６】
【表１】
2018181166.tif 000003
【００９７】
ステップＳ２０では、表１にしたがって、スジムラの目立ちやすい順に不吐出、吐出曲がり、通常ノズルの順番でノズルの異常が評価される。そして、画像処理部１８は、異常と評価された異常ノズルと、その近傍のノズルを異常補正用のノズルとして設定する。そして、ステップＳ２０の領域分けの結果に応じて、領域ごとに不可視化処理が行われる。
【００９８】
まず、インクの吐出量が一定値未満のノズルが不吐出ノズルとして検知される。また、吐出曲がり量が相当大きく、不吐出ノズルと同等のスジムラが発生するおそれがあるノズルも、吐出量に関わらず、不吐出ノズルと評価される。すなわち、吐出曲がりノズルの検知用の第２の閾値（表１の例では、３μｍ）よりも大きい第１の閾値（表１の例では、８μｍ）以上のノズルを不吐出ノズルと判定する。そして、不吐出ノズルの近傍のノズル群が不吐出補正用のノズル群として設定されて、不吐出ノズル領域として領域分けが行われる。
【００９９】
なお、表１における評価に用いられる閾値は、あくまで一例であり、用紙及び記録画像に必要な精度に応じて変更可能である。また、表１の吐出曲がり量の「ａｎｙ」は、第１の閾値８μｍ以上及び第２の閾値３μｍ以上に該当しないという意味である。吐出量の「ａｎｙ」は、一定値未満に該当しないという意味である。
【０１００】
画像処理部１８は、不吐出ノズル及び不吐出補正用のノズル群に設定されたノズルについては、不吐出ノズルをマスクし、不吐出ノズルの近傍ノズルの濃度を、不吐出補完ノズル補正ＬＵＴに従って変調する。不吐出ノズル補正ＬＵＴは、用紙上で不吐出ノズルに対応する画素からの距離に応じて変調の程度を変える。特に不吐出ノズルに対応する画素の隣接画素の濃度は高く変調し、高く変調された画素の不吐出ノズルとは逆側の隣接画素は、弱く変調する。
【０１０１】
次に、吐出曲がり量が第２の閾値以上かつ第１の閾値未満のノズルが吐出曲がりノズルとして検知される。そして、吐出曲がりノズルの近傍のノズル群が吐出曲がり補正用のノズル群として設定されて、吐出曲がりノズル領域として領域分けが行われる。
【０１０２】
画像処理部１８は、吐出曲がりノズル及び吐出曲がり補正用のノズル群として設定されたノズルの濃度を、曲がりノズル補正ＬＵＴに従って変調する。特にノズル曲がりにより隙間が生じ白スジになる場合には、隙間の両隣の画素の濃度を高く変調し、その隣接画素の濃度を低く変調する。
【０１０３】
そして、不吐出ノズル及び吐出曲がりノズルのいずれにも該当しないノズル（吐出曲がり量が３μｍ未満で、かつ吐出量の条件が一定値以上のノズル）は、通常ノズルと判定される。
【０１０４】
さらに、上記評価に該当しないものは通常ノズルと判定し、濃度変調を行わない。通常ノズル補正ＬＵＴとしては、変調係数として１を設定することで濃度変調を行わなくすることが可能である。なお、通常ノズルＬＵＴとしては、係数を一定値にしてリニアな補正を行うものを用いてもよい。
【０１０５】
上記３つのノズル補正ＬＵＴ（不吐出ノズル補正ＬＵＴ、曲がりノズル補正ＬＵＴ及び通常ノズル補正ＬＵＴ）は、それぞれノズル補正処理を行うことで、異常ノズルごとにＬＵＴを決定する構成が可能である。また、このようなノズルごとの処理は行わずに、固定値を設定することも可能である。ノズル補正処理としては、例えば、特許第５５９７６８０号公報のように、一部の領域を模擬的に不吐出補正領域と設定したチャートを平坦化するパラメータを決定する処理を行うことで実施可能である。
【０１０６】
このように、ノズルごとにノズル補正処理が実施された後に、さらに低周波ムラ補正を行うことも可能である。通常、ノズル毎に濃度ムラ補正を実施するためには、ノズルの解像度程度のスキャナで出力画像を解析する必要がある。しかし、本構成のように、ノズル補正処理と低周波補正処理を分割することで、より低い解像度のスキャナでも高精度の補正をすることが可能となる。
【０１０７】
なお、領域分け処理は異常ノズル情報Ｄ２０に基づき、各ノズルの補正方法を決定する。決定方法としては表１に従う方法以外の例として、表１の一部のみ（例えば、不吐出ノズルの評価のみ）実施する構成も考えられる。また、表１に加えて、不吐出に至らないインクの濃度の変動がある場合にも、異常ノズルとして検知するようにしてもよい。
【０１０８】
低周波ムラ補正では、ノズル補正で補正された濃度に対して、さらに低周波ムラ補正ＬＵＴを適用し、濃度を変調する。低周波ムラ補正ＬＵＴは、別途低周波ムラ補正処理により生成される。
【０１０９】
低周波ムラ補正処理（ステップＳ３６）では、濃度が平坦であることが期待される画像を複数階調で出力し、出力された画像を読み取って濃度を測定する。これにより、領域ごとに階調特性を求め、領域ごとの濃度が均一化されるように階調を逆変換する値を低周波ムラ補正ＬＵＴに格納する。
【０１１０】
次に、量子化部２０は、不吐出ノズル領域、吐出曲がり領域及び通常ノズル領域のそれぞれについて、不吐出補正又は吐出曲がり補正の補正方法に応じて量子化を行い（ステップＳ２２からＳ２６）、出力ドットパターンＤ４０を出力する。ここでは、量子化の周波数特性を、各方法（１Ａ）から（１Ｄ）、（２Ａ）及び（２Ｂ）で説明したように調整する。
【０１１１】
画像記録部２２は、この出力ドットパターンＤ４０に基づいて、プリントヘッドの制御を行って、用紙に画像を記録（描画）する（ステップＳ２８）。画像検査部２４は、記録画像Ｄ５０を撮像する（ステップＳ３０）。
【０１１２】
次に、システム制御部１４は、撮像した記録画像Ｄ５０に基づいて、異常ノズル検知処理を行う（ステップＳ３２）。そして、新たに異常ノズルが検知された場合には、システム制御部１４は、異常ノズル情報Ｄ２０を更新する。
【０１１３】
また、システム制御部１４は、異常検知の履歴をメモリ１６に保持しておき、この履歴に基づいて、例えば、異常検知の頻度が高い画素位置では、異常が生じやすいとして、異常の発生を予想するようにしてもよい。これにより、異常の検知を効率的に行うことが可能になる。この異常ノズル検知処理により、異常ノズル情報Ｄ２０が取得又は更新される。
【０１１４】
また、システム制御部１４は、撮像した記録画像Ｄ５０に基づいて、不吐出補正又は吐出曲がり補正の結果、スジムラが十分に補正されていないことが検知された場合に、ノズル補正処理を行って（ステップＳ３４）、不吐出ノズル補正ＬＵＴ又は曲がりノズル補正ＬＵＴを更新する。なお、ノズル補正処理では、不吐出ノズル補正ＬＵＴ又は曲がりノズル補正ＬＵＴを更新するのではなく、例えば、補正ノズルを変更するようにしてもよい（ステップＳ３４）。ステップＳ３４では、例えば、方法（１Ａ）で不吐出ノズルに対するスジムラを行った場合に、十分なスジムラ補正ができなかったことが検知された場合には、別の方法（１Ｂ）等を行うようにしてもよい。
【０１１５】
［量子化方法］
次に、量子化について説明する。量子化に関しては、閾値マトリクスを使用する構成が適している。閾値マトリクスの周波数特性として、各方法（１Ａ）から（１Ｄ）、（２Ａ）及び（２Ｂ）において説明した特性をもたせることで所望の特性を実現可能である。
【０１１６】
量子化において、特定の周波数を実現するための閾値マトリクスの作成方法としては、例えば、特許第５１８９６６４号公報に記載の方法を使用することができる。一般的な閾値マトリクス作成方法が、特許第５１８９６６４号公報の段落［００６２］以降に記載されている。本実施形態に適した周波数の制御方法は、特許第５１８９６６４号公報の段落［００９４］以降に記載されている。特に、特許第５１８９６６４号公報の図１３に記載されるような実空間フィルタを、低周波成分を強調するフィルタに畳み込み、パターンを最適化することで、パターンの周波数特性を制御することが可能である。フィルタを変更することで、特許第５１８９６６４号公報の図１１に記載されている周波数特性以外の周波数特性を実現することも可能である。
【０１１７】
特許第５１８９６６４号公報の方法よりも特定の周波数帯域に量子化の周波数のピーク成分を集中させたい場合には、例えば、特許５９０１５８４号公報に記載の方法を使用することできる。特許５９０１５８４号公報に記載の「基準周波数」として、補正領域の形状に対応する空間周波数のピーク周波数から十分離れた周波数を採用することにより、本実施形態に適した量子化を行うことが可能である。すなわち、図３５（Ａ）に示すように、グリーンノイズ状の移送パターンを生成する（２値）。そして、図３５（Ｂ）に示すように、位相成分（２値）を結合して４値化する。所望の量子化のピーク周波数成分をもち、かつ位相の異なる繰り返しパターン（図３５（Ｂ）の位相０〜位相３と記載されたパターン）をグリーンノイズパターンに畳み込む（図３５（Ｃ））。この畳み込みにより、図３５（Ｂ）から図３５（Ｃ）右側の波数空間に矢印で示すように、成分が基調周波数部に移動する。そして、畳み込んだパターンの低周波成分を抑制するように、さらにパターンを最適化する（図３５（Ｄ））。これにより、画像の濃度変化の低周波数成分が抑制されて平坦化する。
【０１１８】
上述の方法で生成される量子化パターンの周波数特性を図３６に示す。なお、図３６において、白で示される帯域ほど振幅成分が大きい。すなわち、白で示される帯域は、量子化の周波数のピークである。本実施形態で示された補正領域（ノズルマッピング）においては、領域Ａ１２に、補正領域の形状に対応した空間周波数のピークが存在するが、図３６に示す例では、領域Ａ１０に量子化の周波数ピークが存在する。このような量子化処理を行うことにより、ビートの発生を抑制することが可能になる。
【０１１９】
上記パターンを用いて閾値マトリクスを作成することで本例の量子化パターンを生成することができる。
【０１２０】
なお、本実施形態においては、補正の種別やノズル群や、滴種ごとにピーク周波数成分を変更する構成が適している。次に、補正領域（comp）ごとに閾値マトリクス（dither）を変更するアルゴリズムの例を示す。このアルゴリズムでは、入力画像（２次元入力画像）input_image[y,x]について、補正領域compをガンマ変換した後のデータgamma[comp][y,x][input_image[y,x]]と閾値マトリクスditherの関係に基づいて、出力画像の滴種が変更される。
【０１２１】
まず、dither[comp][large][y,x] < gamma[comp][y,x][input_image[y,x]]の場合には、output_image[y,x] = large、すなわち、「大滴」となる。
【０１２２】
次に、dither[comp][large][y,x] >= gamma[comp][y,x][input_image[y,x]]、かつ、dither[comp][middle][y,x] < gamma[comp][y,x][input_image[y,x]]の場合には、output_image[y,x] = middle、すなわち、「中滴」となる。
【０１２３】
次に、dither[comp][middle][y,x] >= gamma[comp][y,x][input_image[y,x]]、かつ、dither[comp][small][y,x] < gamma[comp][y,x][input_image[y,x]]の場合には、output_image[y,x] = small、すなわち、「小滴」となる。
【０１２４】
次に、dither[comp][small][y,x] >= gamma[comp][y,x][input_image[y,x]]の場合にはoutput_image[y,x] = none、すなわち、「滴なし」となる。
【０１２５】
このとき、補正領域に応じて切り替えられる種々の閾値マトリクスは、補正の適用される補正領域の周波数ピーク以外の帯域にピークをもつ閾値マトリクスである。
【０１２６】
また、これらの閾値マトリクスは互いに隣接する領域で使用されるため、互いに連続的に変化することが好ましい。このような特性を実現するための１つの方法としては、複数の閾値マトリクスを生成する際に、閾値マトリクスを生成するときの制約として、ある階調において共通のパターンを参照し、パターンを最適化する方法が考えられる。このようにすることで、両領域の連続性を高めることが可能となる。別の方法としては、１つの補正方法に対応する閾値マトリクスを事前に作成しておき、別の補正方法に対応する閾値マトリクスを作成する際に、閾値マトリクスを参照する方法が考えられる。
【０１２７】
例えば、特許第４６７０６９６号公報に記載されているように、通常補正領域に当たる部分を、特許第４６７０６９６号公報の「基本閾値マトリクス」とし、不良に近い補正領域としてサブマトリクスとし、基本閾値マトリクスを参照しながら、補正領域の閾値マトリクスであるサブマトリクスを作成することで、補正領域間で連続性を高めることが可能である。このようにすることで、より広い階調域においても閾値マトリクス間の連続性を維持することが可能となる。
【０１２８】
なお、上記では複数の閾値マトリクスを使用する方法を示したが、閾値マトリクスと誤差拡散法を併用し、両者の適合割合を変更する方法も可能である。このような方法の例は、例えば、特許第５０５６６６７号公報に開示されている。閾値マトリクスと誤差拡散の併用方式としては、以下のアルゴリズムに従って量子化を行う。
【０１２９】
次に、ディザマトリクス（「閾値マトリクス」と同義）と誤差拡散法を併用する量子化処理の例について説明する。図３７は、各画素の量子化処理を示すフローチャートである。図３７において、dither[x,y][comp]は、２次元ディザマトリクスの成分を表す。th_dth[i][level]はディザマトリクスと比較する閾値を示す（ｉ＝０，１，２）。th_edf[level]は誤差拡散閾値を示す。dot[j][level][comp]は階調値（level）ごとに｛滴なし、小滴、中滴、大滴｝のうちいずれかのドットサイズに対応付けられる（dot[j][level][comp]∈｛滴なし，小滴，中滴，大滴｝、ｊ＝０，１，２，３，４）。
【０１３０】
各画素量子化処理がスタートすると、まず、量子化部２０は、対象画素の元の階調値と、誤差拡散により対象画素に拡散された周辺誤差の和をとることで、周辺誤差を含んだ階調値を算出する（ステップＳ５０）。
【０１３１】
次に、ディザマトリクスの値（dither[x,y][comp]）と閾値th_dth[i][level]とを比較することにより、画像の領域を分割する。この閾値th_dth[i][level]は、対象画素の階調値（level）ごとに設定されるものであり、予め所定のメモリに記憶されている。ここでは、第１の閾値th_dth[0][level]、第２の閾値th_dth[1][level]及び第３の閾値th_dth[2][level]を用いて、領域Ａから領域Ｄの４領域に分割される。
【０１３２】
まず、ディザマトリクスの値dither[x,y][comp]と第１の閾値th_dth[0][level]との比較を行う（ステップＳ５２）。比較の結果、ディザマトリクスの値の方が小さい場合は、dot[0][level][comp]で指定されるドットサイズが選択される（ステップＳ５４）。
【０１３３】
ステップＳ５２２において、ディザマトリクスの値が第１の閾値以上の場合は、続いてディザマトリクスの値と第２の閾値th_dth[1][level]との比較を行う（ステップＳ５６）。比較の結果、ディザマトリクスの値の方が小さい場合は、dot[1][level][comp]で指定されるドットサイズが選択される（ステップＳ５８）。
【０１３４】
ステップＳ６０において、ディザマトリクスの値が第２の閾値以上の場合は、さらにディザマトリクスの値と第３の閾値th_dth[2][level]との比較を行う（ステップＳ６０）。ディザマトリクスの値が第３の閾値th_dth[2][level]以上の場合には、周辺誤差を含んだ階調値と誤差拡散閾値th_edf[level]との比較を行う（ステップＳ６２）。この誤差拡散閾値th_edf[level]についても、対象画素の階調値ごとに設定されるものであり、予め所定のメモリに記憶されている。ステップＳ６２における比較の結果、周辺誤差を含んだ階調値の方が誤差拡散閾値よりも小さい場合は、dot[2][level][comp]で指定されるドットサイズが選択される（ステップＳ６４）。
【０１３５】
一方、ステップＳ６２において、周辺誤差を含んだ階調値が誤差拡散閾値以上である場合は、dot[3][level][comp]で指定されるドットサイズが選択される（ステップＳ６６）。このように、ディザ閾値が第３の閾値以下（かつ第２の閾値以上）の領域では、誤差拡散法による２値化の処理が行われる。
【０１３６】
また、ステップＳ６０において、ディザマトリクスの値の方が第３の閾値より大きい場合は、dot[4][level][comp]で指定されるドットサイズが選択される（ステップＳ６８）。
【０１３７】
なお、各dot[j][level][comp]のドットサイズは階調値ごとに適宜決めることができる。例えば、ある階調値に対して、dot[0][level]は小滴、dot[1][level]は中滴、dot[2][level]は滴無し、dot[3][level]は大滴、及びdot[4][level]は大滴のように決めることができる。基本的に、dot[3][level]＞dot[2][level]を満たしていればよく、量子化誤差が大きいと大きいドットを打ち、小さいと小さいドットを打つように各値を定める。
【０１３８】
対象画素が不吐近傍領域に属する画素である場合には第１の閾値マトリクスが用いられ、正常領域に属する画素である場合には第２の閾値マトリクスが用いられて、量子化が行われる。以上のように対象画素のドットサイズを選択後、量子化誤差を算出する（ステップＳ７０）。量子化誤差は、周辺誤差を含んだ階調値を量子化したことによって発生する誤差であり、周辺画素を含んだ階調値と量子化閾値との差である。量子化閾値は、各dot[0][level]、dot[1][level]、dot[2][level]、dot[3][level]、dot[4][level]にそれぞれ対応付けられた階調値である。
【０１３９】
この算出した量子化誤差を所定の誤差拡散マトリクスに従って周辺の画素へ拡散する（ステップＳ７２）。続いて、量子化の対象画素を隣接画素へ移行し、同様の処理を行うことで、すべての画素の量子化を行う。
【０１４０】
上記の量子化処理によれば、ステップＳ５４、Ｓ５８、Ｓ６８に該当する各領域のdot[0][level]、dot[1][level]、dot[4][level]の記録率は、ディザマトリクスに従って決定され、残りの領域は、誤差拡散法で２値化することによって決定される（ステップＳ７０及びＳ７２）。このように量子化を行うことで、４値の記録率を階調ごとに一意に決定することができる。
【０１４１】
本実施形態では、各閾値th_dth[i][level]は、対象画素の元の階調値における閾値を用いたが、周辺誤差を含んだ階調値における閾値を用いてもよい。
【０１４２】
なお、各パラメータは補正領域（comp）によって変更できる構成とした。なお、本構成に於いては、まず閾値マトリクスと比較する閾値th_dthを比較することで補正領域（上記compの添字）ごとに４種類の領域Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄに分割される。これらの領域のうち、領域Ｃのみが誤差拡散閾値との比較によりドットが決定され、それ以外の領域では、そのままドットが決定される。すなわち、生成されるドットの比率に対して領域Ａ、Ｂ、Ｄの割合が近ければ近いほど、閾値マトリクスによりパターンが決定される。逆に、生成されるドットの比率に対して領域Ａ、Ｂ、Ｄの割合が遠ければ、誤差拡散によってパターンが決定される。
【０１４３】
より具体的には、特定の補正領域において、th_dth[1]の値とth_dth[2]の値を近づけると、領域Ｃの割合が少なくなる。このため、その補正領域は閾値マトリクスの周波数特性がより多く反映される。逆に、th_dth[1]の値とth_dth[2]の値を離すと、誤差拡散によってパターンが決定される割合が増えるので、対象補正領域は誤差拡散の特性がより多く反映される。このように補正領域ごとにth_dth[1]の値とth_dth[2]の値を変更することで、補正領域にあった量子化処理を行うことが可能となる。
【０１４４】
例えば、閾値マトリクスとして、ある補正領域の周波数特性のピークからずれた位置に周波数ピークをもつものを選択した場合、対応する補正領域においては、閾値マトリクスの寄与を大きくし、それ以外の領域では、誤差拡散の寄与を大きくする構成にすることで、本実施形態に適した特性を得ることができる。
【０１４５】
特に、このとき、異なる補正領域において共通の閾値マトリクスを異なる方法で参照し量子化を行うことで、補正領域間で連続性をもたせながらも、異なる特性を実現することができる。
【０１４６】
また、閾値マトリクス以外にも、誤差拡散により、量子化の周波数のピーク成分を、補正領域の周波数ピークから外すことも可能である。
【０１４７】
１つの実施例としては、補正領域ごとに誤差拡散マトリクスを変更することが可能である。さらに、同一補正領域に流す量子化誤差の割合を異なる補正領域に流す量に対して多くすることも効果的である（ステップＳ７０及びＳ７２）。
【０１４８】
なお、本実施形態に係る画像処理方法は、ノズルと用紙上の画素との対応づけを行うため、上記のジグザグ状配置のインクジェットヘッド以外の任意の方式の画像記録装置に適用することができる。例えば、インクジェットヘッドを用紙の搬送方向（副走査方向）と垂直な主走査方向に往復運動をさせ、何回かのパスによって画像を完成させるシャトルスキャン方式のインクジェット記録装置にも適用することが可能である。例えば、副走査方向に同色のノズルが複数配置されたシャトルスキャン方式のインクジェット記録装置にも、本実施形態を適用することが可能になる。
【０１４９】
上記実施形態において、（例えば、不可視化部、量子化部）といった各種の処理を実行する処理部（processing unit）のハードウェア的な構造は、次に示すような各種のプロセッサ（processor）である。各種のプロセッサには、ソフトウェア（プログラム）を実行して各種の処理部として機能する汎用的なプロセッサであるＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）などの製造後に回路構成を変更可能なプロセッサであるプログラマブルロジックデバイス（Programmable Logic Device：ＰＬＤ）、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）などの特定の処理を実行させるために専用に設計された回路構成を有するプロセッサである専用電気回路などが含まれる。
【０１５０】
１つの処理部は、これら各種のプロセッサのうちの１つで構成されていてもよいし、同種または異種の２つ以上のプロセッサ（例えば、複数のＦＰＧＡ、あるいはＣＰＵとＦＰＧＡの組み合わせ）で構成されてもよい。また、複数の処理部を１つのプロセッサで構成してもよい。複数の処理部を１つのプロセッサで構成する例としては、第１に、クライアントやサーバなどのコンピュータに代表されるように、１つ以上のＣＰＵとソフトウェアの組合せで１つのプロセッサを構成し、このプロセッサが複数の処理部として機能する形態がある。第２に、システムオンチップ（System On Chip：ＳｏＣ）などに代表されるように、複数の処理部を含むシステム全体の機能を１つのＩＣ（Integrated Circuit）チップで実現するプロセッサを使用する形態がある。このように、各種の処理部は、ハードウェア的な構造として、上記各種のプロセッサを１つ以上用いて構成される。
【０１５１】
さらに、これらの各種のプロセッサのハードウェア的な構造は、より具体的には、半導体素子などの回路素子を組み合わせた電気回路（circuitry）である。
【符号の説明】
【０１５２】
１０  画像記録装置
１２  画像処理装置
１４  システム制御部
１６  メモリ
１８  画像処理部
２０  量子化部
２２  画像記録部
２４  画像検査部
Ｄ１０  入力画像
Ｄ２０  異常ノズル情報
Ｄ３０  濃度変調情報
Ｄ４０  出力ドットパターン
Ｄ５０  記録画像
Ｓ１０〜Ｓ１６  画像処理方法の各工程
Ａ１〜Ｄ８  ノズル
Ａ１０〜Ａ７０  領域
Ｑ１０〜Ｑ２２  量子化の周波数のピーク成分の例
Ｓ２０〜Ｓ３６  画像処理方法の各工程
Ｓ５０〜Ｓ７２  各画素量子化処理の各工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【手続補正書】
【提出日】令和1年10月9日(2019.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
図１に示すように、画像記録装置１０は、本実施形態に係る異常記録素子に起因する画像のスジムラ等を不可視化するための濃度補正（変調）処理及び量子化処理を行うための画像処理装置１２を含んでいる。画像処理装置１２は、システム制御部１４と、メモリ１６と、画像処理部１８と、量子化部２０とを備える。画像記録装置１０は、画像処理装置１２の各構成に加えて、画像記録部２２と、画像検査部２４とを更に備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
スジムラ補正のために、ガンマ変換を含む画像処理によって、ノズル群ごとに濃度を変調させると、量子化前の画像はノズル群の形状（用紙上の補正領域）に応じた周波数特性を帯びる。この周波数特性と量子化の周波数特性が近しいと視認可能なビートが発生するので、画像が劣化する。本実施形態では、濃度変調したノズル群の周波数特性及びその近傍の周波数帯域に、量子化の周波数特性が属さないようにする。これにより、視認可能なビートの補正を防止しつつ、適切なスジムラ補正を行うことが可能になる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
このように、ノズル群によって補正する際の補正領域の周波数特性は、以下のようにして求めることができる。まず、対象とする補正領域の画素にパラメータ１を割り当て、それ以外の画素にパラメータ０を割り当てる。例えば、図２３に示す方法（１Ｃ−２）において、濃いグレーで示した補正領域を求める場合は、Ａ３、Ｄ４、Ａ５の画素に１を割り当て、それ以外の画素に０を割り当てる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
さらに、上記評価に該当しないものは通常ノズルと判定し、濃度変調を行わない。通常ノズル補正ＬＵＴとしては、変調係数として１を設定することで濃度変調を行わなくすることが可能である。なお、通常ノズル補正ＬＵＴとしては、係数を一定値にしてリニアな補正を行うものを用いてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
このように、ノズルごとにノズル補正処理が実施された後に、さらに低周波ムラ補正を行うことも可能である。通常、ノズル毎に濃度ムラ補正を実施するためには、ノズルの解像度程度のスキャナで出力画像を解析する必要がある。しかし、本構成のように、補正処理をノズル補正処理と低周波補正処理に分割することで、より低い解像度のスキャナでも高精度の補正をすることが可能となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
また、システム制御部１４は、撮像した記録画像Ｄ５０に基づいて、不吐出補正又は吐出曲がり補正の結果、スジムラが十分に補正されていないことが検知された場合に、ノズル補正処理を行って（ステップＳ３４）、不吐出ノズル補正ＬＵＴ又は曲がりノズル補正ＬＵＴを更新する。なお、ノズル補正処理では、不吐出ノズル補正ＬＵＴ又は曲がりノズル補正ＬＵＴを更新するのではなく、例えば、補正ノズルを変更するようにしてもよい（ステップＳ３４）。ステップＳ３４では、例えば、方法（１Ａ）で不吐出ノズルに対するスジムラ補正を行った場合に、十分なスジムラ補正ができなかったことが検知された場合には、別の方法（１Ｂ）等を行うようにしてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１７】
特許第５１８９６６４号公報の方法よりも特定の周波数帯域に量子化の周波数のピーク成分を集中させたい場合には、例えば、特許５９０１５８４号公報に記載の方法を使用することできる。特許５９０１５８４号公報に記載の「基準周波数」として、補正領域の形状に対応する空間周波数のピーク周波数から十分離れた周波数を採用することにより、本実施形態に適した量子化を行うことが可能である。すなわち、図３５（Ａ）に示すように、グリーンノイズ状の移送パターンを生成する（２値）。そして、図３５（Ｂ）に示すように、位相成分（２値）を結合して４値化する。所望の量子化のピーク周波数成分をもち、かつ位相の異なる繰り返しパターン（図３５（Ｂ）の位相０〜位相３と記載されたパターン）をグリーンノイズパターンに畳み込む（図３５（Ｃ））。この畳み込みにより、図３５（Ｂ）から図３５（Ｃ）右側の周波数空間に矢印で示すように、成分が基調周波数部に移動する。そして、畳み込んだパターンの低周波成分を抑制するように、さらにパターンを最適化する（図３５（Ｄ））。これにより、画像の濃度変化の低周波数成分が抑制されて平坦化する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
上記実施形態において、（例えば、不可視化部、量子化部といった）各種の処理を実行する処理部（processing unit）のハードウェア的な構造は、次に示すような各種のプロセッサ（processor）である。各種のプロセッサには、ソフトウェア（プログラム）を実行して各種の処理部として機能する汎用的なプロセッサであるＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）などの製造後に回路構成を変更可能なプロセッサであるプログラマブルロジックデバイス（Programmable Logic Device：ＰＬＤ）、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）などの特定の処理を実行させるために専用に設計された回路構成を有するプロセッサである専用電気回路などが含まれる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３４】
2018181166.tif 000041
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３５】
2018181166.tif 000042
【国際調査報告】
2018181166.tif 000043
2018181166.tif 000044
2018181166.tif 000045
2018181166.tif 000046