(57)【要約】  連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して第１の塗膜を形成する工程と、表面の正面反射率の面内偏差が１パーセントポイント以下であるバックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第１の塗膜に偏光された紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する工程と、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第２の塗膜を形成する工程と、第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程と、を有する位相差フィルムの製造方法及び位相差フィルムの製造装置である。
2019159973.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して第１の塗膜を形成する工程と、
表面の正面反射率の面内偏差が１パーセントポイント以下であるバックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で前記第１の塗膜に偏光された紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する工程と、
前記配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第２の塗膜を形成する工程と、
前記第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程と、
を有する位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記バックアップロールの表面が鏡面である請求項１に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記バックアップロールの表面の付着物を除去する工程を含む請求項１又は請求項２に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記除去は、付着物除去装置を用いて行う請求項３に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記付着物除去装置は、付着物除去ロール、送風器、拭き取り器又は浸漬洗浄器である請求項４に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記バックアップロールの、波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する吸収率が６０％〜９９．９５％である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記バックアップロールの材質がステンレスである、又は前記バックアップロールの表面が黒色である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項８】
連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布する第１の塗布手段と、
塗布後の前記配向層形成用材料を乾燥して第１の塗膜を形成する第１の乾燥手段と、
表面の正面反射率の面内偏差が１パーセントポイント以下であるバックアップロールと、
前記バックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で前記第１の塗膜に紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成手段と、
前記配向層の上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する第２の塗布手段と、
塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して第２の塗膜を形成する第２の乾燥手段と、
乾燥後の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する液晶層形成手段と、
を備えた位相差フィルムの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、位相差フィルムの製造方法及び位相差フィルムの製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等に用いられる位相差フィルムとして、支持体上に配向層及び液晶層が設けられたものが知られている。
配向層は、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるため配向規制力を備える層である。【０００３】
位相差フィルムは、生産性向上のため、連続フィルム支持体を用い、ロールトゥロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）方式での連続プロセスによって製造される。
ロールトゥロール方式にて位相差フィルムを製造する際、液晶の配向に対する規制力を付与する手段として、近年、従来のラビング処理に代わり光配向方式が採用される傾向にある。光配向方式において、配向層を塗布した後に偏光紫外線を照射することで配向制御し、次の工程で液晶層を塗布した際、液晶が所望の方向に配列される。【０００４】
光配向方式で偏光紫外線を照射する態様として、バックアップロール上で配向層形成用材料の塗膜に対し偏光紫外線を照射する態様が挙げられる。この態様は、バックアップロールの形状に沿って張架した状態の連続フィルム支持体上で塗膜に対し偏光が照射できる点、及び、バックアップロールに連続フィルム支持体が接していることから連続フィルム支持体及び塗膜の温調がし易い点、において有効である。【０００５】
光配向方式を用いた例として特開２００２−９８９６９号公報には、支持体上に光配向層を塗布した後、光配向層に偏光紫外線を照射する工程を有する光配向層の製造方法において、支持体上の偏光紫外線の照射面積内で支持体の搬送方向又は幅手方向における、支持体の振幅が１０ｍｍ以内である光配向層の製造方法が開示されている。【０００６】
バックアップロール上で配向層に対し偏光紫外線を照射する例として、特開２０１４−１７０２３８号公報には、露光工程に含まれる第１露光処理および第２露光処理の少なくとも一方が、搬送用ロール（バックアップロール）上で配向層に偏光紫外線をパターン照射し、搬送用ロールの表面が偏光紫外線を反射しない色であるパターン配向膜を製造する方法が開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ここで、配向層上に形成された液晶層中の液晶化合物が配向層の配向に従って規則正しく配列されるには、配向層が配向軸の均一性に優れていることが重要であると考えられている。光配向方式において、偏光された紫外線（本明細書中、偏光紫外線ともいう。）を配向層へ照射するが、配向軸の良好な均一性を実現するためには、偏光紫外線の照射量が一定の値以上であることと、入射角度分布が均一であることが求められる。【０００８】
このうち照射量については、配向層形成用材料の種類や硬化状態によって変化する値を満たしていれば、均一性は保たれると考えられる。一方の入射角度分布については、僅かな照射条件（照射量、照射角度等）の変化でも均一性は乱れやすく、配向軸が均一化された配向層を形成することは困難となる。
例えば、配向層へ照射された偏光紫外線は、連続フィルム支持体を通過しバックアップロールの表面で反射するところ、バックアップロールの表面で反射した光（本明細書中、反射光ということがある。）は結果として配向層に照射され、配向軸の均一性を乱す原因となることがある。
また、バックアップロールの継続使用によって生じる、バックアップロール表面の錆又は汚れ等による表面状態の変化もまた、反射光に影響を及ぼし、入射角度の分布が配向層の場所により異なる状態が生じる結果、配向軸の均一性を損なう原因となることがある。【０００９】
上記特開２００２−９８９６９号公報においては、配向軸のばらつきを抑えるため、支持体の搬送時の振幅を１０ｍｍ以内に調整することで、照射方向又は照射角度のばらつきを５°以内とする旨の記載があるが、照射角度のばらつき以外の照射条件は検討されておらず、良好な配向軸の均一性が実現できていないと考えられる。
また、上記特開２０１４−１７０２３８号公報において、バックアップロールの表面が偏光紫外線を反射しない色であるとの記載があるが、反射光が配向軸に及ぼす影響については一切の検討がされていない。
さらに、特開２００２−９８９６９号公報及び特開２０１４−１７０２３８号公報において、バックアップロールを継続使用した場合に発生する錆又は汚れ等による表面状態の変化が反射光に及ぼす影響についてまで考慮されておらず、上記のような配向軸の不均一化の課題は経時で生じることが考えられる。【００１０】
本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、配向軸の均一性に優れる位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造方法を提供することである。
また、本開示の他の一実施形態が解決しようとする課題は、配向軸の均一性に優れる位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞  連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して第１の塗膜を形成する工程と、表面の正面反射率の面内偏差（以下、表面反射率偏差ともいう。）が１パーセントポイント以下であるバックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第１の塗膜に偏光された紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する工程と、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第２の塗膜を形成する工程と、第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程と、を有する位相差フィルムの製造方法である。
＜２＞  バックアップロールの表面が鏡面である＜１＞に記載の位相差フィルムの製造方法。
＜３＞  バックアップロールの、波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する吸収率が６０％〜９９．９５％である＜１＞又は＜２＞に記載の位相差フィルムの製造方法。
＜４＞  バックアップロールの材質がステンレスである、又はバックアップロールの表面が黒色である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の位相差フィルムの製造方法。
＜５＞  バックアップロールの表面の付着物を除去する工程を含む＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の位相差フィルムの製造方法である。
＜６＞  除去は、付着物除去装置を用いて行う＜５＞に記載の位相差フィルムの製造方法である。
＜７＞  付着物除去装置は、付着物除去ロール、送風器、拭き取り器又は浸漬洗浄器である＜６＞に記載の位相差フィルムの製造方法である。
＜８＞  連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布する第１の塗布手段と、塗布後の配向層形成用材料を乾燥して第１の塗膜を形成する第１の乾燥手段と、表面反射率偏差が１パーセントポイント以下であるバックアップロールと、バックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第１の塗膜に紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成手段と、配向層の上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する第２の塗布手段と、塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して第２の塗膜を形成する第２の乾燥手段と、乾燥後の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する液晶層形成手段と、を備えた位相差フィルムの製造装置である。
【発明の効果】
【００１２】
本開示の一実施形態によれば、配向軸の均一性に優れる位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造方法を提供することができる。
また、本開示の他の一実施形態によれば、配向軸の均一性に優れる位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本開示の一実施形態の位相差フィルムの製造方法の各工程を示す概略図である。
【図２】図２は、本開示の一実施形態の位相差フィルムの製造方法における偏光紫外線を照射する際の要部拡大図である。
【図３】図３は、ワイヤーグリッド偏光子のワイヤーグリッドの配置を示す平面図である。
【図４】図４は、偏光紫外線を照射する際の照射角度を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ下限値及び上限値として含む範囲を意味する。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、「工程」の語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
【００１５】
≪位相差フィルムの製造方法≫
本開示の位相差フィルムの製造方法は、連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して第１の塗膜を形成する工程（以下、第１塗膜形成工程という。）と、表面反射率偏差が１パーセントポイント以下であるバックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第１の塗膜に偏光された紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する工程（以下、配向層形成工程という。）と、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第２の塗膜を形成する工程（以下、第２塗膜形成工程という。）と、第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程（以下、液晶層形成工程という。）と、を有する位相差フィルムの製造方法である。
【００１６】
位相差フィルムは、生産性向上のため、連続フィルム支持体を用い、ロールトゥロール方式での連続プロセスによって製造される。
上記の従来技術のうち、特開２００２−９８９６９号公報は、バックアップロール上で配向層形成用材料の塗膜に対し偏光紫外線を照射する際に、照射角度を特定の範囲内とすることが検討されているが、配向軸の均一性に劣ると考えられる。特開２０１４−１７０２３８号公報は、反射光の均一な照射量を実現させる観点からは一切の検討がなされていないため、配向軸の均一性は期待できない。
また、従来の技術では、製造開始後に経時で劣化するロール表面状態に起因する配向軸の乱れまで解決することはできない。
【００１７】
そこで、本発明者らは、バックアップロールの表面反射率偏差を１パーセントポイント以下にすることで、バックアップロールの表面で反射する光による、配向軸への影響を排除し得ることを見出した。即ち、バックアップロールの表面反射率偏差が１パーセントポイント以上であると、配向層へ照射される反射光の照射量が一定とはならず、配向軸の均一性を損なう要因となると考えられる。そこで、バックアップロールの表面反射率偏差を１パーセントポイント以下とすることで、配向層に照射される、バックアップロールの表面で反射する光の照射量のばらつきを抑えることができ、入射角度分布を均一にする結果、配向層における液晶化合物の配向軸の均一性を顕著に向上させることができる。
【００１８】
バックアップロールの表面反射率をロール面内において均一化することで、配向層に照射される反射光の照射量が均一化されるため、配向軸のばらつきを抑制することができ、均一な配向軸を有する位相差フィルムの製造方法を提供することができる。
【００１９】
まず、位相差フィルムの製造方法について説明する。
〔第１塗膜形成工程〕
位相差フィルムの製造方法は、連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して第１の塗膜を形成する第１塗膜形成工程を有する。
第１塗膜形成工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、巻回された連続フィルム支持体５０は、その先端が送り出されると、まず、配向層形成用材料の塗布手段１により配向層形成用材料の塗布が行われ、その後、配向層形成用材料の乾燥手段２による乾燥領域にて乾燥される。これにより、連続フィルム支持体上には第１の塗膜が形成される。
【００２０】
−連続フィルム支持体−
連続フィルム支持体としては、バックアップロールに巻き掛けることが可能である長尺状のポリマーフィルムを用いることが好ましい。ここで「連続」とは、枝葉状のシートとは異なり、長尺形状を有することを示す。
連続フィルム支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレート（例えば、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース、屈折率１．４８）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート）、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリ（メタ）アクリルニトリル、脂環式構造を有するポリマー（例えば、ノルボルネン系樹脂（商品名「アートン（登録商標）」、ＪＳＲ社）、非晶質ポリオレフィン（例えば、商品名「ゼオネックス（登録商標）」、日本ゼオン株式会社製））などが挙げられる。
このうち、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及び脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
【００２１】
連続フィルム支持体の厚みとしては、１０μｍ〜２５０μｍの範囲のものが好ましく、厚みが薄い連続フィルム支持体は搬送安定性に不利であるところ、搬送安定性の観点から、１５μｍ以上がより好ましく、材料コストの点から、１５０μｍ以下がより好ましい。
特に、本開示の位相差フィルムの製造方法は、連続フィルム支持体の伸び量の面内バラツキが生じ易い、厚み３０μｍ〜１２０μｍの範囲の連続フィルム支持体であっても、好ましく用いることができる。
【００２２】
−配向層形成用材料−
配向層の形成に用いられる配向層形成用材料としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号公報、特許第４１５１７４６号公報に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報に記載の光配向性を示す構成単位を有する多官能マレイミド誘導体とアルケニル置換ナジイミド化合物、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性基と重合性マレイミド基とを有する重合性単量体、特許第４２０５１９５号公報、特許第４２０５１９８号公報に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド酸、又はこれらのエステル、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、国際公開第２０１０/１５０７４８号公報、特開２０１３−１７７５６１号公報、特開２０１４−１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物（特に、シンナメート化合物、カルコン化合物、又はクマリン化合物）等が挙げられる。
これらの中でも特に好ましい例としては、上記公報に記載のアゾ化合物、上記公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はこれらエステル、上記公報に記載のシンナメート化合物、又はカルコン化合物等が挙げられる。
【００２３】
−塗布−
配向層形成用材料の塗布手段１には、公知の塗布装置を適用することができる。
塗布装置として、具体的には、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等を利用した塗布装置が挙げられる。
【００２４】
−乾燥−
配向層形成用材料の乾燥手段２には、公知の乾燥装置を適用することができる。
乾燥装置として、具体的には、オーブン、送風機、赤外線（ＩＲ）ヒーター等が挙げられる。
送風機による場合、連続フィルム支持体の配向層形成用材料が塗布された面とは反対の面から温風を当てて温風乾燥する態様でもよく、塗布された配向層形成用材料の表面が温風にて流動しないよう、拡散板を設置して温風を拡散させながら塗布面にあてて乾燥する態様としてもよい。
乾燥条件は、用いた配向層形成用材料の種類、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよく、例えば、３０℃〜１４０℃の範囲で、１０秒〜１０分間行うことが好ましい。
【００２５】
以上のようにして、第１の塗膜が形成される。
形成された第１の塗膜の乾燥膜厚は、０．１μｍ〜５μｍが好ましく、０．２μｍ〜１μｍがより好ましい。
【００２６】
〔配向層形成工程〕
位相差フィルムの製造方法では、第１塗膜形成工程の後、表面反射率偏差が１パーセントポイント以下であるバックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第１の塗膜に偏光紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成工程を有する。
配向層形成工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、連続フィルム支持体５０上に第１の塗膜が形成された後は、連続フィルム支持体５０をバックアップロール４０に巻き掛け、巻き掛けられた連続フィルム支持体５０上の第１の塗膜に、光配向装置６０により偏光紫外線が照射される。
配向層形成工程では、第１塗膜形成工程にて連続フィルム支持体の第１の塗膜が形成された面とは反対の面を、バックアップロールに接触させている。
【００２７】
配向層形成工程における偏光紫外線の照射について、図２〜図４を参照して、説明する。
図２に示すように、バックアップロール４０に対向させて光配向装置６０が配置されており、Ｙ方向に搬送される連続フィルム支持体５０の、バックアップロール４０に巻き掛けられた領域に配置された第１の塗膜に、光配向装置６０により偏光紫外線が照射される。
【００２８】
−バックアップロール−
本開示におけるバックアップロールは、表面の正面反射率（本明細書中、表面反射率ということがある。）の偏差が１パーセントポイント以下である。表面反射率偏差が１パーセントポイント以下であると、反射光の均一性が良好であるため、反射光の配向層への照射量のばらつきが低減され、配向軸の均一性を向上できる。
バックアップロールの表面反射率偏差は、０．５パーセントポイント以下が好ましい。
【００２９】
バックアップロールの表面反射率は、バックアップロールを円周方向に１２分割した１２箇所について、バックアップロールのロール幅方向に１０ｍｍピッチで測定点をとり、各測定点における波長３６５ｎｍの光に対する正面反射率（％）を測定する。
なお、バックアップロールの表面反射率の測定には、分光光度計（ＭＶ−３１００、日本分光株式会社製）を使用する。
バックアップロールの表面反射率の面内偏差は、上記のようにして測定された表面反射率の最大値と最小値との差分（パーセントポイント）で表す。この差分が大きいほど、ロールの面内におけるバックアップロールの表面反射率のバラツキが大きいこととなる。
【００３０】
バックアップロールの表面反射率偏差は、ロール表面を研磨することで調整できる。
【００３１】
バックアップロールの波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する吸収率は、６０％〜９９．９５％が好ましい。上記吸収率が９９．９５％以下であることで、配向層の配向に反射光を有効活用できる点で有利である。上記吸収率が６０％以上であることで、塗膜に照射される反射光の照射量自体を抑えることができ、照射量のばらつきによる配向軸への影響を軽減することができる。
バックアップロールの波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する吸収率は、９９．５％〜９９．９５％がより好ましく、９９．９％〜９９．９５％がさらに好ましい。
【００３２】
バックアップロールの波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する吸収率は、まずバックアップロールを円周方向に１２分割した１２箇所について、バックアップロールのロール幅方向に１０ｍｍピッチで測定点をとり、各測定点における波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する反射率を、分光光度計（例えば、日本分光株式会社製のＭＶ−３１００）により測定し、各測定値を平均して平均値を算出し、算出した反射率の平均値を１から引くことで得られる値である。
【００３３】
バックアップロールの波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する吸収率は、ロール表面を覆う皮膜の材質、またはロール本体の母材の種類を選択することで調整できる。
【００３４】
本開示におけるバックアップロールは、表面反射率偏差が１パーセントポイント以下であれば特に制限無く、公知のものを用いることができる。
バックアップロールとしては、例えば、表面が、ハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚さは、導電性と強度とを確保する観点から４０μｍ〜６０μｍが好ましい。
【００３５】
バックアップロールの材質は、特に制限はないが、例えば上記波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する吸収率の観点から、ステンレスが挙げられる。
【００３６】
ステンレスの種類としては、具体的には、ＳＵＳ３０４を用いることができる。
ＳＵＳ（Ｓｔｅｅｌ  Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｕｓｅ  Ｓｔａｉｎｌｅｓｓ）とは、ステンレス鋼材であり、鉄にクロム、ニッケル等の物質を添加して錆びにくくした特殊鋼である。
【００３７】
バックアップロールとしては、表面処理又はメッキがされたステンレスを用いてもよい。例えば、黒色アルマイト、黒色クロム等により表面処理されたステンレスが挙げられる。中でも、波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する吸収率の点から、黒色アルマイトにより表面処理されたステンレスが好ましい。
【００３８】
バックアップロールの表面は、バックアップロール表面の紫外線の反射率を均一化できる点から、鏡面であることが好ましい。
その際、バックアップロールの表面粗さは、連続フィルム支持体とバックアップロールとの摩擦力のバラツキを低減させる点、及びバックアップロールの表面反射率偏差の点から、表面粗さ（Ｒａ）にて０．０５μｍ以下が好ましい。
表面粗さ（Ｒａ）は、表面粗さ測定器（ＳＪ−３１０、株式会社ミツトヨ製）を用い、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１年）に準拠した方法により測定される値である。
【００３９】
バックアップロールの表面の色は、波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対するバックアップロール表面の吸収率の点から、黒色、灰色が好ましく、黒色がより好ましい。
【００４０】
バックアップロールの温度は、２５℃〜１００℃に維持されることが好ましく、２５℃〜５０℃がより好ましい。
バックアップロールを上記の温度に維持することで、巻き掛けられる連続フィルム支持体の温度制御を行うことができる。
【００４１】
バックアップロールは、表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によってバックアップロールの表面温度が維持されることが好ましい。
バックアップロールの温度制御手段としては、加熱手段であれば、誘導加熱、水加熱、油加熱等を用いた手段、冷却手段であれば、冷却水を用いる手段等が挙げられる。
【００４２】
バックアップロールの直径としては、連続フィルム支持体が巻き掛け易い点、偏光紫外線の照射が容易な点、及び、バックアップロールの製造コストの点から、１００ｍｍ〜１０００ｍｍが好ましく、１００ｍｍ〜８００ｍｍがより好ましく、２００ｍｍ〜７００ｍｍがより好ましい。
【００４３】
配向層形成工程では、偏光紫外線の照射を張架した状態の連続フィルム支持体に対して行うため、バックアップロールが巻き掛けられた連続フィルム支持体に対して搬送方向にテンションが掛けられている。
テンションが掛かっている場合の連続フィルム支持体の幅（Ｆｗ２）は、テンションが掛かっていない場合の幅（Ｆｗ１）に比べて小さくなる。
バックアップロール上での連続フィルム支持体の幅の縮み率は、以下の式（１）から求められ、連続フィルム支持体の蛇行をより抑制するため、また、連続フィルム支持体の変形を抑制するため、０．０６％〜１．２０％であることが好ましく、０．０８％〜０．３５％であることがより好ましい。
式（１）    縮み率（％）＝（Ｆｗ１−Ｆｗ２）／Ｆｗ１×１００
（Ｆｗ１は、テンションが掛かっていない場合の連続フィルム支持体の幅を示し、Ｆｗ２は、バックアップロール上でテンションが掛かっている場合の連続フィルム支持体の幅を示す。）
上記のような縮み率になるよう、バックアップロール上では連続フィルム支持体に対しテンションを掛ければよい。具体的には、上記の縮み率を達成するため、バックアップロール上で連続フィルム支持体に掛けるテンションとしては、１２０Ｎ／ｍ〜７２０Ｎ／ｍが好ましい。
【００４４】
バックアップロール上での連続フィルム支持体の搬送速度は、生産性の確保の点、及び、偏光紫外線の照射の正確性を高める点から、１０ｍ／ｍｉｎ以上１００ｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましく、２０ｍ／ｍｉｎ以上６０ｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましい。
【００４５】
また、バックアップロールに対する連続フィルム支持体のラップ角は、６０°以上が好ましく、９０°以上がより好ましい。
なお、ラップ角とは、連続フィルム支持体がバックアップロールに接触する場合の連続フィルム支持体の搬送方向と、バックアップロールから連続フィルム支持体が離間する場合の連続フィルム支持体の搬送方向と、からなる角度をいう。
【００４６】
−光配向装置−
光配向装置６０は、棒状光源１０と、棒状光源１０からの光を垂直方向に効率良くワイヤーグリッド偏光子３０側へ反射させる凹面反射鏡１１と、棒状光源１０の長手方向に配列された複数の平行板２１からなるルーバー２０と、ルーバー２０によって平行光化された光を直線偏光するワイヤーグリッド偏光子３０と、から構成される。
そして、ワイヤーグリッド偏光子３０から発せられる偏光紫外線が第１の塗膜に照射される。
【００４７】
・棒状光源
棒状光源１０としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧ（Ｙｔｔｒｉｕｍ  Ａｌｕｍｉｎｕｍ  Ｇａｒｎｅｔ）レーザー）、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
棒状光源１０から発せられる紫外線のピーク波長は、２００ｎｍ〜４００ｎｍが好ましい。
波長としては、配向層形成用材料の吸収スペクトルに応じて適宜選択可能である。また、例えば波長が３１３ｎｍの場合には、使用する光源は３１３ｎｍのスペクトルが相対的に大きい高圧水銀ランプを用いることができる。
【００４８】
・ルーバー
ルーバー２０は、図２に示すように、平行板２１はバックアップロール４０の軸方向Ｘに、等間隔で配列されており、棒状光源１０とワイヤーグリッド偏光子３０との間に配置される。ルーバー２０を配置することによって、棒状光源１０からの光を平行光化して、ワイヤーグリッド偏光子３０に入射する光の広がりを抑え、バックアップロールに対して真正面からの光にすることができる。
また、平行板２１は、図２では、バックアップロールの軸方向Ｘに直交する角度で配置されているが、直交に限らず斜め方向に平行して配置されていてもよい。平行板２１は、不図示の連動機構によって、ピッチと角度を調整することができる。
【００４９】
なお、図２では、ルーバー２０が、バックアップロール４０の軸方向に配列された平行板からなる場合を示したが、ルーバー２０の構成はこれに限られない。断面が多角形または円形である複数の筒部から構成され、筒の中心軸がバックアップロールの中心軸に垂直な方向に配置したものでもよく、筒を構成する面に無反射膜を有していてもよい。
【００５０】
また、ルーバー２０は棒状光源１０とできるだけ近接させて、ルーバーからの光漏れがないように配置するのが好ましい。光漏れを抑止するには、ルーバーと棒状光源１０を接触させてもよいし、隙間を他の部材で遮蔽してもよい。
また、ルーバー２０とワイヤーグリッド偏光子３０との隙間についても同様である。
【００５１】
ルーバー２０の材質は、ステンレス又はアルミニウムのような耐熱性のある材料を用いることができる。
ルーバー２０の表面は、照射光の照射効率を高めるために、平滑化して反射率を向上させたものであってもよい。また、ルーバー２０は、照射光の直進性を高めるために、表面に凹凸を付与する、又は無反射膜で覆って反射率を低減させてもよい。ルーバー２０の表面の反射率を低減させる場合は、ルーバー２０の平行板２１の表面には、光吸収部材が設けられていることが好ましい。
【００５２】
・ワイヤーグリッド偏光子
図２及び図３に示すように、ワイヤーグリッド偏光子３０は、複数のワイヤーグリッド偏光素子３２が枠３１に保持されてなる。
そして、各ワイヤーグリッド偏光素子３２は、基板３３上に複数の直線状の電気導体からなるワイヤーグリッド３４が配列されている。ワイヤーグリッド３４の配列角度θは、図３に示すように、バックアップロールの軸方向Ｘに対して０°＜θ＜９０°を満たすことが好ましい。
ワイヤーグリッド偏光素子３２は、ワイヤーグリッド３４の長手方向と平行な偏波（偏光）成分は反射し、直交する偏波（偏光）成分は通過する。直交する偏波成分を通過する方向を透過軸という。
電気導体としては、クロム、アルミニウム等の金属線が挙げられる。
【００５３】
・光配向装置による偏光紫外線の照射角度
次に、バックアップロール上での偏光紫外線の照射角度について図４を用いて説明する。
図４に示すように、バックアップロール４０の軸中心Ｏに垂直な面内において、バックアップロール４０の軸中心Ｏを通りワイヤーグリッド偏光子３０の基板面３８に垂直な線を基準線Ｌ１とし、基準線Ｌ１と、バックアップロール４０の軸中心Ｏと連続フィルム支持体５０上における偏光紫外線の照射領域Ａの搬送方向上流端Ｍとを結ぶ線Ｌ２とがなす角度をθ１とし、基準線Ｌ１と、バックアップロール４０の軸中心Ｏと連続フィルム支持体５０上における偏光紫外線の照射領域Ａの搬送方向下流端Ｎとを結ぶ線Ｌ３とがなす角度をθ２とした場合に、｜θ１−θ２｜＜１０°を満たすことが好ましい。
より好ましくは、｜θ１−θ２｜＜７°であり、更に好ましくは、｜θ１−θ２｜＝０°である。
｜θ１−θ２｜＜１０°とすることにより、バックアップロール４０の照射曲面に対し、真正面から偏光紫外線を照射することができ、液晶化合物の配向軸のバラツキを低減させることができる。
【００５４】
以上のようにして、第１の塗膜に偏光紫外線を照射することで、配向層形成用材料に光反応を生じさせ、その結果、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層が形成される。
【００５５】
〔第２塗膜形成工程〕
位相差フィルムの製造方法は、配向層形成工程の後、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第２の塗膜を形成する第２塗膜形成工程を有する。
具体的な態様としては、例えば、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第２の塗膜を形成してもよい。
第２塗膜形成工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、バックアップロール上での第１の塗膜に対する偏光紫外線の照射が終了すると、続いて、液晶層形成用材料の塗布手段３にて液晶化合物を含む液晶層形成用材料の塗布が行われ、その後、液晶層形成用材料の乾燥手段４による乾燥領域にて乾燥される。こうして、連続フィルム支持体の配向層上には第２の塗膜が形成される。
【００５６】
−液晶層形成用材料−
液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物を含有し、更に、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤、配向助剤等の公知のその他の成分を含有していてもよい。
【００５７】
・棒状液晶化合物
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
【００５８】
棒状液晶化合物は、重合によって配向を固定することがより好ましく、そのため、重合性基を有する棒状液晶化合物を用いることが好ましい。
重合性を有する棒状液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．  Ｃｈｅｍ．，  １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号公報、同５６２２６４８号公報、同５７７０１０７号公報、国際公開第９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特願２００１−６４６２７号公報などに記載の化合物が挙げられる。
更に、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報、特開２００７−２７９６８８号公報等に記載のものも好ましく用いることができる。
【００５９】
・円盤状液晶化合物
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報、特開２０１０−２４４０３８号公報等に記載のものを好ましく用いることができる。
【００６０】
−塗布及び乾燥−
液晶層形成用材料の塗布及び乾燥には、第１塗膜形成工程における塗布及び乾燥と同様の方法を用いることができるため、ここでは、詳細な説明は省略する。
【００６１】
〔液晶層形成工程〕
位相差フィルムの製造方法は、第２塗膜形成工程の後、第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する液晶層形成工程を有する。
液晶層形成工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、連続フィルム支持体５０の配向層上に第２の塗膜が形成された後、この第２の塗膜に対し、紫外線照射手段５にて紫外線の照射を行う。この紫外線の照射により、第２の塗膜中の液晶化合物の配向を固定して液晶層を形成する。
【００６２】
−液晶化合物の配向−
液晶化合物の配向を固定する前には、第２の塗膜中の液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。
配向処理は、室温等により乾燥させ、続いて加熱により温度制御することにより行うことができる。
配向処理で形成される液晶は、サーモトロピック性をもつ液晶化合物の場合、一般に温度又は圧力の変化により転移させることができる。また、リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。
【００６３】
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが普通である。従って、棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域まで棒状液晶化合物を加熱し、次に、加熱温度を棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで低下させることにより、棒状液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法でスメクチック相とすることで、液晶化合物が高秩序度で配向した液晶が得られる。
【００６４】
棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がモノドメインを形成するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、1０秒間〜３分間が更に好ましく、1０秒間〜２分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、１０秒間〜３分間が更に好ましく、１０秒間〜２分間が最も好ましい。
【００６５】
液晶化合物の配向は、前述した第２塗膜形成工程における乾燥にて行われてもよい。つまり、第２塗膜形成工程における乾燥にて、配向層上に塗布された液晶層形成用材料の乾燥と液晶化合物の配向との両方を行ってもよい。
勿論、液晶化合物の配向を、前述した第２塗膜形成工程における乾燥とは別に行ってもよい。
【００６６】
−液晶化合物の配向の固定−
第２の塗膜中の液晶化合物の配向を固定する。
液晶化合物の配向の固定は、熱重合又は活性エネルギー線による重合で行うことができ、その重合に適した、液晶化合物が有する重合性基又は重合開始剤を適宜選択することで行うことができる。
製造適性等を考慮すると、図１に示すような、紫外線照射手段５から照射された紫外線による重合反応を好ましく用いることができる。
重合性を有する液晶化合物を用いる場合、紫外線の照射量が少ないと、未重合の液晶化合物が残存し、光学特性の温度変化、経時劣化等の起きる原因となる。そのため、残存する未重合の液晶化合物の割合が５質量％以下になるように照射条件を決めることが好ましい。
照射条件としては、液晶層形成用材料の処方、及び第２の塗膜の厚さにもよるが、紫外線照射量は、５０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
【００６７】
紫外線照射手段５に用いる光源としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧ（Ｙｔｔｒｉｕｍ  Ａｌｕｍｉｎｕｍ  Ｇａｒｎｅｔ）レーザー）、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
【００６８】
その他、液晶層の詳細は、特開２００８−２２５２８１号公報及び特開２００８−０２６７３０号公報の記載を参酌できる。
【００６９】
〔付着物除去工程〕
位相差フィルムの製造方法は、バックアップロールの表面の付着物を除去する工程（本明細書中、付着物除去工程ということがある。）を含むことができる。
付着物除去工程を含むことで、バックアップロールの継続使用によって生じるバックアップロール表面の錆及び汚れ等を除去することができ、継続的に反射光の配向層への照射量のばらつきを低く抑えることができる。結果、配向軸の均一性を長期間に亘り保つことができる。
【００７０】
以下に、付着物除去工程について詳細に説明する。
付着物除去工程は、バックアップロール表面の錆及び汚れ等を除去することができれば特に制限はないが、例えば、付着物除去装置を用いて行うことができる。
【００７１】
付着物除去装置としては、例えば、付着物除去ロール、送風器、拭き取り器又は浸漬洗浄器等が挙げられる。中でも、付着物除去ロール及び拭き取り器が好ましい。
【００７２】
付着物除去工程は、バックアップロール表面の錆及び汚れ等を除去することができれば特に制限はないが、例えば、バックアップロール表面の付着物を除去するための物質を表面に塗布したロール（本明細書中、付着物除去ロールという。）を、バックアップロール表面と接触させるように配置し、バックアップロールの回転とは逆方向に同じ速度で回転させることで、バックアップロール表面の付着物を除去する方法が挙げられる。
付着物除去ロールとしては、ミモザロール（宮川ローラー社製）等が挙げられる。
付着物除去ロールの表面に塗布する物質としては、バックアップロールの表面の付着物を除去できるものであれば特に制限はなく、例えば、シリコンゴム等の粘着性物質、  フッ素ゴム及びウレタンゴム等が挙げられる。中でも、ウレタンゴムが好ましい。
【００７３】
送風器としては、ロール表面の塵及びゴミを吹き飛ばす程の送風を行える機器であればよく、例えば、ＳＪＦ−３００Ｌ−３（株式会社スイデン製）等が挙げられる。
【００７４】
拭き取り器としては、布などをロール表面に接触させて塵及びゴミを拭き取る機器が挙げられ、例えば、クリーナーコット（株式会社メイテック製）、ベンコットスーパーＮＴ（旭化成株式会社製）等が挙げられる。
【００７５】
浸漬洗浄器としては、容器内に洗浄液を収容したものを使用でき、回転するロールを洗浄液に接触又は浸漬させることにより付着物を除去できる機器が挙げられ、例えば、ディップウォッシャーＤＷ（日伸精機株式会社製）等が挙げられる。
【００７６】
〔位相差フィルムの製造装置〕
本開示における位相差フィルムの製造装置は、連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布する第１の塗布手段と、塗布後の配向層形成用材料を乾燥して第１の塗膜を形成する第１の乾燥手段と、表面反射率偏差が１パーセントポイント以下であるバックアップロールと、バックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第１の塗膜に紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成手段と、配向層の上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する第２の塗布手段と、塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して第２の塗膜を形成する第２の乾燥手段と、乾燥後の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する液晶層形成手段と、を備える。
【００７７】
〔第１の塗布手段〕
第１の塗布手段は、連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布する手段である。
連続フィルム支持体及び配向層形成用材料は、上述の第１塗膜形成工程と同様であり、好ましい範囲等も同様である。塗布手段としては、既述の塗布装置を使用することができる。
【００７８】
〔第１の乾燥手段〕
第１の乾燥手段は、塗布後の配向層形成用材料を乾燥して第１の塗膜を形成する手段である。乾燥手段としては、既述の乾燥装置を使用することができる。
【００７９】
〔配向層形成手段〕
配向層形成手段は、バックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第１の塗膜に紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する手段である。
【００８０】
紫外線（ＵＶ）の照射は、ＵＶ照射可能な光源を用いて行うことができる。
光源としては、既述の棒状光源と同様の光源を使用することができる。具体的な例として、既述の光配向装置を用いることができる。これにより、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成することができる。
【００８１】
〔第２の塗布手段〕
第２の塗布手段は、配向層の上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する。
液晶層形成用材料、棒状液晶化合物及び円盤状液晶化合物は、上述の第２塗膜形成工程と同様であり、好ましい範囲も同様である。塗布手段としては、既述の塗布装置を使用することができる。
【００８２】
〔第２の乾燥手段〕
第２の乾燥手段は、塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して第２の塗膜を形成する。乾燥手段としては、既述の乾燥装置を使用することができる手段である。
【００８３】
〔液晶層形成手段〕
液晶層形成手段は、乾燥後の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する手段である。
【００８４】
液晶層形成手段は、室温等により液晶化合物を乾燥又は加熱する手段を含むことができる。これにより、液晶化合物の配向処理を行うことができる。乾燥又は加熱する手段としては、既述の塗布装置又は既述の乾燥装置を使用することができる。
【００８５】
液晶層形成手段は、紫外線照射手段を含むことができる。これにより、液晶化合物の配向を固定して液晶層を形成することができる。
紫外線照射手段における光源としては、既述の液晶層形成工程における紫外線照射手段５に用いる光源を使用することができる。
【実施例】
【００８６】
以下、本開示を実施例により更に具体的に説明するが、本開示はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。【００８７】
［実施例１］
まず、図１と同様に構成された装置を準備し、この装置を用いて以下に示すようにして位相差フィルム１を製造した。
（第１の塗膜の形成）
連続フィルム支持体（セルローストリアセテートフィルムＴＪ４０、富士フイルム株式会社製、全幅：１．３ｍ、長さ２０００ｍ、厚み４０μｍ）に、下記の組成の配向層形成用材料をワイヤーバーで塗布した。その後、６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥し、乾燥膜厚０．５μｍの第１の塗膜を形成した（第１塗膜形成工程）。【００８８】
−配向層形成用材料の組成−
光配向用素材Ｐ−１                                        １．０部
ブトキシエタノール                                          ３３部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                      ３３部
水                                                          ３３部【００８９】
【化１】
2019159973.tif 000003
【００９０】
（偏光紫外線の照射）
次に、第１の塗膜が形成された連続フィルム支持体を、配向層形成材料を塗布した面とは反対の面を接触させて、バックアップロール１（直径６００ｍｍ、材質＝ステンレス（ＳＵＳ３０４）の表面を黒色アルマイト処理したもの、Ｒａ＝０．１μｍ、表面の色：金属光沢、表面反射率偏差：０．５パーセントポイント、紫外線吸収率：９９％）に巻き掛け（図２参照）、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株））を用いて紫外線（波長３１３ｎｍ）を照射した。この際、ワイヤーグリッド偏光子（Ｍｏｘｔｅｋ社製、ＰｒｏＦｌｕｘ  ＵＶＴ―３００Ａ）におけるワイヤーグリッドの配列角度θを４５°にし、また、｜θ１−θ２｜＝０°として、偏光紫外線の照射を行い、配向層を形成した（配向層形成工程）。
この際、紫外線の照度は、ＵＶ（ｕｌｔｒａ−ｖｉｏｌｅｔ）−Ａ領域（波長３２０ｎｍ〜３８０ｎｍの積算）において１０ｍＷ／ｃｍ２、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０ｍＪ／ｃｍ２とした。【００９１】
（第２の塗膜の形成及び液晶層の形成）
続いて、下記の組成の液晶層形成用材料を調製した。【００９２】
−液晶層形成用材料の組成−
逆波長分散液晶性化合物  Ｒ−３                            １００部
光重合開始剤                                              ３．０部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社）
含フッ素化合物Ａ                                          ０．８部
架橋性ポリマー  Ｏ−２                                    ０．３部
クロロホルム                                              ５８８部【００９３】
【化２】
2019159973.tif 000004
【００９４】
【化３】
2019159973.tif 000005
【００９５】
【化４】
2019159973.tif 000006
【００９６】
配向層上に液晶層形成用材料を、バーコーターを用いて塗布した。
膜面温度１００℃で６０秒間加熱して乾燥させることで、乾燥膜厚が２００ｎｍの第２の塗膜を形成し（第２塗膜形成工程）、７０℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株））を用いて１０００ｍJ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、液晶層を形成した（液晶層形成工程）。
以上のようにして、位相差フィルム１が得られた。【００９７】
（付着物除去工程）
以下の方法で、バックアップロール表面に付着した付着物を除去した。【００９８】
−送風器による付着物の除去−
まず、送風器（ＳＪＦ−３００Ｌ−３（株式会社スイデン製））を用いて、バックアップロール表面に送風を行うことで、塵及びゴミを吹き飛ばしてバックアップロール表面の付着物を除去した。
−拭き取り器による付着物の除去−
次に、位相差フィルムを１ロール作製するごとに、１回の拭き取り器による付着物の除去を行った。
具体的には、溶剤であるメチルエチルケトン（富士フイルム和光純薬株式会社製）をバックアップロール表面にスプレーにより塗布した後、バックアップロールの回転方向における連続フィルム支持体の巻き掛け領域下流に設置された拭き取り器（セルロース製の布（ベンコットスーパーＮＴ，旭化成株式会社製））を用いて付着物及び溶剤を拭き取ることで行った。【００９９】
−浸漬洗浄器による付着物の除去−
そして、浸漬洗浄器として、ディップウォッシャーＤＷ（日伸精機株式会社製）を使用して、バックアップロールを洗浄液に浸漬させることで、バックアップロール表面の付着物を除去した。【０１００】
−付着物除去ロールによる付着物の除去−
最後に、図２に示すように、バックアップロール４０に接触するように粘着性の付着物除去ロール（ミモザロール、宮川ローラー株式会社製）４１を設置し、バックアップロール４０が回転する方向とは逆の方向に付着物除去ロール４１を回転させることでバックアップロール表面の付着物を除去した。【０１０１】
［実施例２］
拭き取り器、付着物除去ロール、送風器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム２を得た。【０１０２】
［実施例３］
バックアップロール１を、バックアップロール２（直径６００ｍｍ、材質ステンレス、表面：鏡面、Ｒａ＝０．０５μｍ，表面反射率偏差：１パーセントポイント、紫外線吸収率：６０％）とした以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム３を得た。【０１０３】
［実施例４］
拭き取り器、付着物除去ロール、送風器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例３と同様にして、位相差フィルム４を得た。【０１０４】
［実施例５］
付着物除去工程として浸漬洗浄器による付着物の除去のみを行い、拭き取り器、付着物除去ロール及び送風器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例３と同様にして、位相差フィルム５を得た。【０１０５】
［実施例６］
付着物除去工程として付着物除去ロールによる付着物の除去のみを行い、拭き取り器、送風器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例３と同様にして、位相差フィルム６を得た。【０１０６】
［実施例７］
付着物除去工程として送風器による付着物の除去のみを行い、付着物除去ロール、拭き取り器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例３と同様にして、位相差フィルム１１を得た。【０１０７】
［実施例８］
付着物除去工程として拭き取り器による付着物の除去のみを行い、付着物除去ロール、送風器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例３と同様にして、位相差フィルム１２を得た。【０１０８】
［比較例１］
バックアップロール１を、バックアップロール３（直径６００ｍｍ、材質ステンレス、表面の色：金属色（銀色）、表面反射率偏差：２パーセントポイント、紫外線吸収率：６０％）に変更し、拭き取り器、付着物除去ロール、送風器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム７を得た。【０１０９】
＜評価＞
（配向軸の均一性の評価）
シャーカステン（クロスニコル：２枚の偏光板の透過軸が直交する配置）にフィルムをはさみ、フィルムを面内で回転させて消光位を探した。配向軸が均一である場合、ある角度で面内すべてが消光する。一方、配向軸がずれていると、消光する角度が面内で異なる。
上記の配向軸の均一性の評価を、製造開始直後（製造した位相差フィルムの製造開始端から１ｍの範囲）の配向層、及び、製造終了直前（製造した位相差フィルムの製造終了端から１ｍの範囲）の配向層について行った。評価基準は以下の通りである。
なお、製造終了直前とは、１０００ｍのロールを用いて３０本連続して位相差フィルムを製造した製造工程の終了直前である。
＜評価基準＞
Ａ  ：消光する角度が面内で１つのみである。
Ｂ  ：消光する角度が面内で２つ〜３つである。
Ｃ  ：消光する角度が面内で４つ〜５つである。
Ｄ  ：消光する角度が面内で６つ以上である。【０１１０】
（バックアップロールの表面反射率偏差の測定方法）
バックアップロールの表面反射率は、バックアップロールを円周方向に１２分割した１２箇所について、バックアップロールのロール幅方向に１０ｍｍピッチで測定点をとり、各測定点における波長３６５ｎｍの光に対する正面反射率を測定した。
なお、バックアップロールの表面反射率の測定には、分光光度計（ＭＶ−３１００、日本分光株式会社製）を用いた。
ここで、波長については、配向層形成用材料の吸収スペクトルに応じて適宜選択可能であり、例えば３１３ｎｍの場合もある。この際、使用する光源は３１３ｎｍのスペクトルが相対的に大きい高圧水銀ランプを用いる。
バックアップロールの表面反射率偏差は、上記のようにして測定された表面反射率の最大値と最小値との差分（パーセントポイント）で表した。この差分が大きいほど、幅方向におけるバックアップロールの表面反射率のバラツキが大きいこととなる。
なお、差分が３パーセントポイント以上になると、実用上好ましくない。【０１１１】
（バックアップロールの波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する吸収率の測定方法）
バックアップロールの波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する吸収率は、まずバックアップロールを円周方向に１２分割した１２箇所について、バックアップロールのロール幅方向に１０ｍｍピッチで測定点をとり、各測定点における波長３００ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線に対する反射率を、分光光度計（日本分光株式会社製のＭＶ−３１００）により測定し、各測定値を平均して平均値を算出し、算出した反射率の平均値を１から引くことで得た値である。【０１１２】
（バックアップロールの表面粗さ（Ｒａ）の測定方法）
表面粗さ（Ｒａ）は、表面粗さ測定器（ＳＪ−３１０、株式会社ミツトヨ製）を用い、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１（２００１年）に準拠した方法により測定した。【０１１３】
【表１】
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【０１１４】
表１に示すように、バックアップロールの表面反射率偏差が１．０パーセントポイント以下の実施例１〜実施例６において、製造開始直後及び製造終了直前の配向軸の均一性が良好であった。
中でも、バックアップロールの表面反射率偏差が０．５パーセントポイント以下の実施例１及び実施例２において、製造開始直後及び製造終了直前の配向軸の均一性が特に良好であった。【０１１５】
２０１８年２月１４日に出願された日本国特許出願２０１８−０２４４４７号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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