(57)【要約】狭帯域化モジュールは、第１の面内でレーザ光を屈折させるプリズムと、第１の面内でレーザ光を分散させるグレーティングと、を備え、レーザ光を狭帯域化する。狭帯域化モジュールは、第１の要素、回転機構、第２の要素、第３の要素、及び第４の要素を含み、第２の要素は、第１の要素と第４の要素との間で第１の要素に支持されており、回転機構は、第１の面と交差する軸を中心に第２の要素を第１の要素に対して回転させるように構成されており、プリズムは、第２の要素と第４の要素との間に位置し、回転機構によって第２の要素とともに回転するように第２の要素に支持されており、第３の要素は、弾性を有し、プリズムと第４の要素との間に圧縮状態で位置しており、第４の要素は、圧縮状態の第３の要素から反力を受けており、第２の要素は、回転機構による回転方向において第４の要素から機械的に独立している。
2018198215.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面内でレーザ光を屈折させるプリズムと、
前記第１の面内でレーザ光を分散させるグレーティングと、
を備え、レーザ光を狭帯域化する狭帯域化モジュールであって、
第１の要素、回転機構、第２の要素、第３の要素、及び第４の要素を含み、
前記第２の要素は、前記第１の要素と前記第４の要素との間で前記第１の要素に支持されており、
前記回転機構は、前記第１の面と交差する軸を中心に前記第２の要素を前記第１の要素に対して回転させるように構成されており、
前記プリズムは、前記第２の要素と前記第４の要素との間に位置し、前記回転機構によって前記第２の要素とともに回転するように前記第２の要素に支持されており、
前記第３の要素は、弾性を有し、前記プリズムと前記第４の要素との間に圧縮状態で位置しており、
前記第４の要素は、圧縮状態の前記第３の要素から反力を受けており、
前記第２の要素は、前記回転機構による回転方向において前記第４の要素から機械的に独立している、狭帯域化モジュール。
【請求項２】
請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
第５の要素をさらに含み、
前記第５の要素は、前記軸の方向における前記第２の要素と前記第４の要素との距離を規定するように構成された、狭帯域化モジュール。
【請求項３】
請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
第５の要素をさらに含み、
前記第５の要素は、前記第２の要素に固定されており、
前記第４の要素は、前記第５の要素の一部を受け入れる少なくとも１つの穴を有し、
前記穴に対して前記第５の要素が前記回転方向に移動可能である、狭帯域化モジュール。
【請求項４】
請求項３に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記第２の要素と前記第５の要素とは一体の部材である、狭帯域化モジュール。
【請求項５】
請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
第５の要素をさらに含み、
前記第５の要素は、前記第２の要素に固定されており、
前記第４の要素は、前記第５の要素の一部を受け入れる少なくとも１つの穴を有し、
前記穴と、前記穴の内部における前記第５の要素との間に、前記回転方向に隙間が存在する、狭帯域化モジュール。
【請求項６】
請求項５に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記第５の要素は、前記プリズムを挟んで位置する第１の支柱及び第２の支柱を含み、
前記少なくとも１つの穴は、前記第１の支柱の一部を受け入れる第１の穴と、前記第２の支柱を受け入れる第２の穴と、を含む、狭帯域化モジュール。
【請求項７】
請求項６に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記第１の支柱は、前記第２の要素に第１の端部が固定された第１のボルトと、前記第１の穴に挿入されて前記第１のボルトの第２の端部に固定された第２のボルトと、を含み、
前記第２の支柱は、前記第２の要素に第３の端部が固定された第３のボルトと、前記第２の穴に挿入されて前記第３のボルトの第４の端部に固定された第４のボルトと、を含む、狭帯域化モジュール。
【請求項８】
請求項７に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記第２のボルトは前記第１のボルトの頭部の径よりも小径の肩部を有する段付きボルトであり、前記第４のボルトは前記第３のボルトの頭部の径よりも小径の肩部を有する段付きボルトである、狭帯域化モジュール。
【請求項９】
請求項７に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記第２のボルトは前記第４の要素の前記第１の穴の周囲に接する第１の頭部を有し、
前記第４のボルトは前記第４の要素の前記第２の穴の周囲に接する第２の頭部を有する、狭帯域化モジュール。
【請求項１０】
請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記回転機構は、
前記第１の要素と前記第２の要素との間に位置する回転プレートと、
前記回転プレートを前記軸と異なる位置で前記回転方向に押す圧電素子と、
を含む、狭帯域化モジュール。
【請求項１１】
請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記第２の要素は、
前記プリズムの側面の一部が接する段差部と、
前記プリズムを前記段差部に押し付ける弾性部材と、
を含む、狭帯域化モジュール。
【請求項１２】
請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
プリズム押さえをさらに含み、
前記プリズム押さえは、前記プリズムと前記第３の要素との間に位置する、狭帯域化モジュール。
【請求項１３】
請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
第６の要素をさらに含み、
前記第６の要素は、前記第１の要素と前記第４の要素とにそれぞれ固定されている、狭帯域化モジュール。
【請求項１４】
請求項１３に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記第１の要素と前記第６の要素とは一体の部材である、狭帯域化モジュール。
【請求項１５】
請求項１３に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記第４の要素と前記第６の要素とは一体の部材である、狭帯域化モジュール。
【請求項１６】
請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記プリズムを収容する筐体を含み、
前記第１の要素は前記筐体の一部であり、前記第４の要素は前記筐体の別の一部である、狭帯域化モジュール。
【請求項１７】
第１の面内でレーザ光を屈折させるプリズムと、
前記第１の面内でレーザ光を分散させるグレーティングと、
を備え、レーザ光を狭帯域化する狭帯域化モジュールであって、
第１の要素、回転機構、第２の要素、第３の要素、第４の要素、及び第５の要素を含み、
前記第２の要素は、前記第１の要素と前記第４の要素との間で前記第１の要素に支持されており、
前記回転機構は、前記第１の面と交差する軸を中心に前記第２の要素を前記第１の要素に対して回転させるように構成されており、
前記プリズムは、前記第２の要素と前記第４の要素との間に位置し、前記回転機構によって前記第２の要素とともに回転するように前記第２の要素に支持されており、
前記第３の要素は、弾性を有し、前記プリズムと前記第４の要素との間に圧縮状態で位置しており、
前記第４の要素は、圧縮状態の前記第３の要素から反力を受けており、
前記第５の要素は、前記第２の要素に固定されており、
前記第４の要素は、前記第５の要素の一部を受け入れる穴を有し、
前記穴と、前記穴の内部における前記第５の要素との間に、前記回転機構による回転方向に隙間が存在する、狭帯域化モジュール。
【請求項１８】
第１の面内でレーザ光を屈折させるプリズムと、
前記第１の面内でレーザ光を分散させるグレーティングと、
を備え、レーザ光を狭帯域化する狭帯域化モジュールであって、
第１の要素、回転機構、第２の要素、第３の要素、第４の要素、及び第６の要素を含み、
前記第２の要素は、前記第１の要素と前記第４の要素との間で前記第１の要素に支持されており、
前記回転機構は、前記第１の面と交差する軸を中心に前記第２の要素を前記第１の要素に対して回転させるように構成されており、
前記プリズムは、前記第２の要素と前記第４の要素との間に位置し、前記回転機構によって前記第２の要素とともに回転するように前記第２の要素に支持されており、
前記第３の要素は、弾性を有し、前記プリズムと前記第４の要素との間に圧縮状態で位置しており、
前記第４の要素は、圧縮状態の前記第３の要素から反力を受けており、
前記第６の要素は、前記第１の要素と前記第４の要素とにそれぞれ固定されている、狭帯域化モジュール。
【請求項１９】
請求項１８に記載の狭帯域化モジュールであって、
前記プリズムを収容する筐体を含み、
前記第１の要素は前記筐体の一部であり、前記第４の要素は前記筐体の別の一部であり、前記第６の要素は前記筐体のさらに別の一部である、狭帯域化モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、狭帯域化モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路の微細化、高集積化につれて、半導体露光装置においては解像力の向上が要請されている。半導体露光装置を以下、単に「露光装置」という。このため露光用光源から出力される光の短波長化が進められている。露光用光源には、従来の水銀ランプに代わってガスレーザ装置が用いられている。現在、露光用のガスレーザ装置としては、波長２４８ｎｍの紫外線を出力するＫｒＦエキシマレーザ装置ならびに、波長１９３ｎｍの紫外線を出力するＡｒＦエキシマレーザ装置が用いられている。【０００３】
現在の露光技術としては、露光装置側の投影レンズとウエハ間の間隙を液体で満たして、当該間隙の屈折率を変えることによって、露光用光源の見かけの波長を短波長化する液浸露光が実用化されている。ＡｒＦエキシマレーザ装置を露光用光源として用いて液浸露光が行われた場合は、ウエハには水中における波長１３４ｎｍの紫外光が照射される。この技術をＡｒＦ液浸露光という。ＡｒＦ液浸露光はＡｒＦ液浸リソグラフィーとも呼ばれる。【０００４】
ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザ装置の自然発振におけるスペクトル線幅は約３５０〜４００ｐｍと広いため、露光装置側の投影レンズによってウエハ上に縮小投影されるレーザ光（紫外線光）の色収差が発生して解像力が低下する。そこで色収差が無視できる程度となるまでガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を狭帯域化する必要がある。スペクトル線幅はスペクトル幅とも呼ばれる。このためガスレーザ装置のレーザ共振器内には狭帯域化素子を有する狭帯域化モジュール（Line Narrow Module）が設けられ、この狭帯域化モジュールによりスペクトル幅の狭帯域化が実現されている。なお、狭帯域化素子はエタロンやグレーティング等であってもよい。このようにスペクトル幅が狭帯域化されたレーザ装置を狭帯域化レーザ装置という。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２４９７０８号公報
【特許文献２】米国特許出願公開第２０１３／０２０８７４４号明細書
【特許文献３】国際公開第２００６／０６０３６０号公報
【特許文献４】特開２００７−０４７５０２号公報
【概要】
【０００６】
本開示の１つの観点に係る狭帯域化モジュールは、第１の面内でレーザ光を屈折させるプリズムと、第１の面内でレーザ光を分散させるグレーティングと、を備え、レーザ光を狭帯域化する。狭帯域化モジュールは、第１の要素、回転機構、第２の要素、第３の要素、及び第４の要素を含み、第２の要素は、第１の要素と第４の要素との間で第１の要素に支持されており、回転機構は、第１の面と交差する軸を中心に第２の要素を第１の要素に対して回転させるように構成されており、プリズムは、第２の要素と第４の要素との間に位置し、回転機構によって第２の要素とともに回転するように第２の要素に支持されており、第３の要素は、弾性を有し、プリズムと第４の要素との間に圧縮状態で位置しており、第４の要素は、圧縮状態の第３の要素から反力を受けており、第２の要素は、回転機構による回転方向において第４の要素から機械的に独立している。
【０００７】
本開示の他の１つの観点に係る狭帯域化モジュールは、第１の面内でレーザ光を屈折させるプリズムと、第１の面内でレーザ光を分散させるグレーティングと、を備え、レーザ光を狭帯域化する。狭帯域化モジュールは、第１の要素、回転機構、第２の要素、第３の要素、第４の要素、及び第５の要素を含み、第２の要素は、第１の要素と第４の要素との間で第１の要素に支持されており、回転機構は、第１の面と交差する軸を中心に第２の要素を第１の要素に対して回転させるように構成されており、プリズムは、第２の要素と第４の要素との間に位置し、回転機構によって第２の要素とともに回転するように第２の要素に支持されており、第３の要素は、弾性を有し、プリズムと第４の要素との間に圧縮状態で位置しており、第４の要素は、圧縮状態の第３の要素から反力を受けており、第５の要素は、第２の要素に固定されており、第４の要素は、第５の要素の一部を受け入れる穴を有し、穴と、穴の内部における第５の要素との間に、回転機構による回転方向に隙間が存在する。
【０００８】
本開示の他の１つの観点に係る狭帯域化モジュールは、第１の面内でレーザ光を屈折させるプリズムと、第１の面内でレーザ光を分散させるグレーティングと、を備え、レーザ光を狭帯域化する。狭帯域化モジュールは、第１の要素、回転機構、第２の要素、第３の要素、第４の要素、及び第６の要素を含み、第２の要素は、第１の要素と第４の要素との間で第１の要素に支持されており、回転機構は、第１の面と交差する軸を中心に第２の要素を第１の要素に対して回転させるように構成されており、プリズムは、第２の要素と第４の要素との間に位置し、回転機構によって第２の要素とともに回転するように第２の要素に支持されており、第３の要素は、弾性を有し、プリズムと第４の要素との間に圧縮状態で位置しており、第４の要素は、圧縮状態の第３の要素から反力を受けており、第６の要素は、第１の要素と第４の要素とにそれぞれ固定されている。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【図１】図１は、比較例に係る狭帯域化モジュールを含むレーザ装置の構成を模式的に示す。
【図２】図２は、比較例に係る狭帯域化モジュールを含むレーザ装置の構成を模式的に示す。
【図３】図３は、比較例におけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの構成を拡大して示す斜視図である。
【図４】図４は、比較例におけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの平面図である。
【図５】図５Ａ〜図５Ｃは、比較例におけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの一部の断面図である。
【図６】図６は、比較例におけるプリズム１４ｃの回転制御の周波数特性を示すゲイン線図である。
【図７】図７Ａ〜図７Ｃは、第１の実施形態に係る狭帯域化モジュールにおけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの一部の断面図である。
【図８】図８は、第１の実施形態におけるプリズム１４ｃの回転制御の周波数特性を示すゲイン線図である。
【図９】図９Ａ〜図９Ｃは、第２の実施形態に係る狭帯域化モジュールにおけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの一部の断面図である。
【図１０】図１０は、第３の実施形態に係る狭帯域化モジュールにおけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの一部の側面図である。
【図１１】図１１は、第３の実施形態におけるプリズム１４ｃの回転制御の周波数特性を示すゲイン線図である。
【図１２】図１２Ａ及び図１２Ｂは、第４の実施形態に係る狭帯域化モジュールにおけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの一部の断面図である。
【実施形態】
【００１０】
＜内容＞
１．比較例
１．１  レーザ装置の構成
１．１．１  レーザチャンバ
１．１．２  狭帯域化モジュール
１．１．３  出力結合ミラー
１．２  動作
１．３  ホルダの詳細
１．４  課題
２．上プレートを回転方向にフリーに支持したホルダ
２．１  構成
２．２  作用
３．段付きボルトの代替構成
４．高頭ボルトを第１のプレートに固定したホルダ
４．１  構成
４．２  作用
５．筐体と一体化したホルダ
６．その他
【００１１】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１２】
１．比較例
１．１  レーザ装置の構成
図１及び図２は、比較例に係る狭帯域化モジュールを含むレーザ装置の構成を模式的に示す。比較例におけるレーザ装置は、レーザチャンバ１０と、一対の放電電極１１ａ及び１１ｂと、狭帯域化モジュール１４と、出力結合ミラー１５と、を含んでいる。レーザ装置は、さらに、ビームスプリッタ２２と、波長モニタ４６と、制御部４７と、ドライバ４８と、を含んでいる。狭帯域化モジュール１４と出力結合ミラー１５とが、光共振器を構成する。レーザチャンバ１０は、光共振器の光路に配置されている。レーザ装置は、図示しない露光装置に入射させるレーザ光を出力するマスターオシレータである。
【００１３】
図１においては、一対の放電電極１１ａ及び１１ｂの間の放電方向に略平行な方向からみたレーザ装置の内部構成が示されている。図２においては、一対の放電電極１１ａ及び１１ｂの間の放電方向に略垂直で、且つ、出力結合ミラー１５から出力されるレーザ光の進行方向に略垂直な方向からみたレーザ装置の内部構成が示されている。出力結合ミラー１５から出力されるレーザ光の進行方向を、Ｚ方向とする。一対の放電電極１１ａ及び１１ｂの間の放電方向を、Ｖ方向とする。これらの両方に垂直な方向を、Ｈ方向とする。−Ｖ方向は、重力の方向とほぼ一致している。
【００１４】
１．１．１  レーザチャンバ
レーザチャンバ１０は、レーザ媒質としてのレーザガスが封入されるチャンバである。レーザガスは、例えばレアガスとしてアルゴンガス又はクリプトンガス、ハロゲンガスとしてフッ素ガス、バッファガスとしてネオンガス等を含む。レーザチャンバ１０の両端にはウインドウ１０ａ及び１０ｂが設けられている。レーザチャンバ１０は、ホルダ２０によって支持されている。
【００１５】
一対の放電電極１１ａ及び１１ｂは、レーザ媒質を放電により励起するための電極として、レーザチャンバ１０内に配置されている。一対の放電電極１１ａ及び１１ｂには、図示しないパルスパワーモジュールからパルス状の高電圧が印加される。
【００１６】
図１に示されるように、ウインドウ１０ａ及び１０ｂは、これらのウインドウに対する光の入射面とＨＺ面とが略平行となり、かつ、この光の入射角度が略ブリュースター角となるように配置されている。
【００１７】
１．１．２  狭帯域化モジュール
狭帯域化モジュール１４は、少なくとも１つのプリズムと、グレーティング１４ｅと、ホルダ１６ａ〜１６ｅと、筐体１２とを含んでいる。少なくとも１つのプリズムは、４つのプリズム１４ａ〜１４ｄを含む。
４つのプリズム１４ａ〜１４ｄの各々は、フッ化カルシウムの結晶で構成されている。４つのプリズム１４ａ〜１４ｄの各々は、ビームが通過する２つの面１８及び１９を有している。面１８を通過するビームが面１８に対して非垂直となり、面１９を通過するビームが面１９に対して略垂直となるように、これらのプリズムが配置されている。面１８においては、ビームが屈折し、面１９においては、ビームの屈折が抑制される。面１８には、Ｐ偏光の反射を抑制する膜がコーティングされている。面１９には、光の反射を抑制する膜がコーティングされている。グレーティング１４ｅは、表面に高反射率の材料を含み、多数の溝が所定間隔で形成されたエシェールグレーティングである。
【００１８】
筐体１２は、プリズム１４ａ〜１４ｄ及びグレーティング１４ｅを収容している。プリズム１４ａはホルダ１６ａに支持され、プリズム１４ｂはホルダ１６ｂに支持され、プリズム１４ｃはホルダ１６ｃに支持され、プリズム１４ｄはホルダ１６ｄに支持され、グレーティング１４ｅはホルダ１６ｅに支持されている。
【００１９】
プリズム１４ｃを支持するホルダ１６ｃは、下プレート３１と、支持プレート３２と、回転機構３６と、を含む。筐体１２に下プレート３１が固定されている。支持プレート３２に、プリズム１４ｃが支持されている。回転機構３６は、後述するように、レバー３６１及び筐体４０（図１参照）と、軸受３６２（図２参照）とを含む。レバー３６１は、筐体１２の側壁を貫通しており、レバー３６１の先端は筐体４０の内部に位置している。軸受３６２は、下プレート３１と支持プレート３２との間に位置し、下プレート３１に支持されている。
【００２０】
筐体１２は、光路管２１ａによってレーザチャンバ１０に接続されている。光路管２１ａの内部と筐体１２の内部とは連通するようになっている。筐体１２には、光路管２１ａから離れた位置に不活性ガス導入管１２ｃ（図１参照）が接続されている。光路管２１ａには、不活性ガス排出管２１ｃ（図２参照）が接続されている。不活性ガスが、不活性ガス導入管１２ｃから筐体１２の内部及び光路管２１ａの内部に導入され、不活性ガス排出管２１ｃから排出される。このようにして不活性ガスが筐体１２の内部及び光路管２１ａの内部にパージされる。
【００２１】
１．１．３  出力結合ミラー
出力結合ミラー１５は、筐体１３に収容されている。出力結合ミラー１５は、筐体１３の内部で、ホルダ１７によって支持されている。出力結合ミラー１５の表面には、部分反射膜がコーティングされている。
【００２２】
筐体１３は、光路管２１ｂによってレーザチャンバ１０に接続されている。光路管２１ｂの内部と筐体１３の内部とは連通するようになっている。光路管２１ｂ又は筐体１３には図示しない不活性ガス導入管及び不活性ガス排出管が接続されている。光路管２１ｂの内部及び筐体１３の内部には、不活性ガスがパージされる。
【００２３】
ビームスプリッタ２２は、出力結合ミラー１５から出力されたレーザ光の光路に配置されている。ビームスプリッタ２２には、レーザ光の一部を反射し、他の一部を透過させる部分反射膜がコーティングされている。
ビームスプリッタ２２によって反射されたレーザ光の光路に、波長モニタ４６が配置されている。波長モニタ４６は、図示しないエタロン等の分光器と、図示しないイメージセンサとを含む。
【００２４】
１．２  動作
一対の放電電極１１ａ及び１１ｂ間に高電圧が印加されると、一対の放電電極１１ａ及び１１ｂ間に放電が起こる。この放電のエネルギーにより、レーザチャンバ１０内のレーザ媒質が励起されて高エネルギー準位に移行する。励起されたレーザ媒質が、その後低エネルギー準位に移行するとき、そのエネルギー準位差に応じた波長の光を放出する。
【００２５】
レーザチャンバ１０内で発生した光は、ウインドウ１０ａ及び１０ｂを介してレーザチャンバ１０の外部に出射する。レーザチャンバ１０のウインドウ１０ａから出射した光は、プリズム１４ａ〜１４ｄによってＨＺ面内で屈折させられることにより、Ｈ方向のビーム幅を拡大させられて、グレーティング１４ｅに入射する。
【００２６】
プリズム１４ａ〜１４ｄからグレーティング１４ｅに入射した光は、グレーティング１４ｅの複数の溝によって反射されるとともに、光の波長に応じた方向に回折させられる。これにより、グレーティング１４ｅの複数の溝によって反射された光はＨＺ面内で分散させられる。グレーティング１４ｅは、プリズム１４ａ〜１４ｄからグレーティング１４ｅに入射する光の入射角と、所望波長の回折光の回折角とが一致するようにリトロー配置されている。これにより、所望波長付近の光がプリズム１４ａ〜１４ｄを介してレーザチャンバ１０に戻される。
【００２７】
プリズム１４ａ〜１４ｄは、グレーティング１４ｅからの回折光のＨ方向のビーム幅を縮小させるとともに、その光を、ウインドウ１０ａを介して、レーザチャンバ１０内に戻す。
【００２８】
出力結合ミラー１５は、レーザチャンバ１０のウインドウ１０ｂから出射した光のうちの一部を透過させて出力し、他の一部を反射させてレーザチャンバ１０内に戻す。
【００２９】
このようにして、レーザチャンバ１０から出射した光は、狭帯域化モジュール１４と出力結合ミラー１５との間で往復し、放電電極１１ａ及び１１ｂの間の放電空間を通過する度に増幅される。この光は、狭帯域化モジュール１４で折り返される度に狭帯域化される。さらに、上述したウインドウ１０ａ及び１０ｂの配置とプリズム１４ａ〜１４ｄのコーティングとによって、Ｈ方向の偏光成分が選択される。こうして増幅された光が、出力結合ミラー１５からレーザ光として出力される。このレーザ光は、真空紫外域の波長を有する。
【００３０】
ビームスプリッタ２２は、出力結合ミラー１５から出力されたレーザ光の一部を高い透過率で透過させ、他の一部を反射する。ビームスプリッタ２２を透過したレーザ光は、例えば、図示しない露光装置に入射する。ビームスプリッタ２２によって反射されたレーザ光は、波長モニタ４６に含まれる図示しない分光器に入射する。分光器は、レーザ光の干渉縞を、波長モニタ４６に含まれる図示しないイメージセンサの受光面に形成する。イメージセンサは、干渉縞の画像データを生成し、この画像データを制御部４７に送信する。
【００３１】
制御部４７は、図示しない露光装置の制御部から目標波長のデータを受信する。また、制御部４７は、波長モニタ４６から画像データを受信し、この画像データに基づいて、レーザ光の波長を計算する。制御部４７は、目標波長のデータと計算されたレーザ光の波長とに基づいて、ドライバ４８に制御信号を送信する。ドライバ４８は、制御部４７から制御信号を受信する。ドライバ４８は、制御信号に基づいて、回転機構３６に駆動信号を送信する。
【００３２】
回転機構３６は、ドライバ４８からの駆動信号に従って、回転機構３６に含まれるレバー３６１を図１の時計回り又は反時計回りに回転させる。レバー３６１が回転すると、ＨＺ面に垂直な軸を中心として、支持プレート３２が下プレート３１に対して回転し、これによりプリズム１４ｃがＨＺ面内で回転する。プリズム１４ｃが回転させられてプリズム１４ｃの姿勢が調整されることにより、グレーティング１４ｅへの光の入射角が調整され、発振波長が調整される。
【００３３】
１．３  ホルダの詳細
図３は、上述の比較例におけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの構成を拡大して示す斜視図である。図４は、比較例におけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの平面図である。但し、筐体４０及びプランジャ４１については断面を示す。図５Ａ〜図５Ｃは、比較例におけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの一部の断面図である。図５Ａは、図４のＶＡ−ＶＡ線断面に相当する。図５Ｂは、図４のＶＢ−ＶＢ線断面に相当する。図５Ｃは、図４のＶＣ−ＶＣ線断面に相当する。但し、図５Ａ及び図５Ｂにおいて、ボルト類の全部又は一部については断面ではなく表面を示す。
【００３４】
ホルダ１６ｃは、上述の下プレート３１と、回転機構３６と、支持プレート３２とを含む。ホルダ１６ｃは、さらに、複数のバネ３３（図５Ａ〜図５Ｃ参照）と、上プレート３４と、複数の高頭ボルト３５１と、プリズム押さえ３７と、を含む。
【００３５】
回転機構３６は、回転プレート３６０（図５Ａ及び図５Ｂ参照）を含む。回転プレート３６０は、上述の軸受３６２の内側で回転できるように支持されている。回転プレート３６０の上面には、上述の支持プレート３２が固定されている。回転プレート３６０には、上述のレバー３６１（図１、図３及び図４参照）が固定されている。レバー３６１の第１の端部は回転プレート３６０に固定されている。レバー３６１の第２の端部は上述の筐体４０の内部に位置する。筐体４０は下プレート３１に固定されている。図示を省略するが、レバー３６１の第１の端部と第２の端部とは軸受３６２の下方で繋がっている。以上の構成により、レバー３６１は、回転プレート３６０と一体で回転することができる。
【００３６】
回転機構３６は、さらに、プランジャ４１と、自動マイクロメータ４３と、圧電素子４５とを含む。プランジャ４１及び自動マイクロメータ４３は、筐体４０に取り付けられている。プランジャ４１は、バネ４２と、ねじ４６と、を含む。自動マイクロメータ４３は、マイクロメータヘッド４４を含む。圧電素子４５は、筐体４０の内部において、レバー３６１に取り付けられている。マイクロメータヘッド４４は、筐体４０の内部で、圧電素子４５に接触している。マイクロメータヘッド４４とプランジャ４１との間に、圧電素子４５とレバー３６１とが位置している。
【００３７】
支持プレート３２は、肉厚部３２１（図５Ｂ、図５Ｃ参照）と、突起部３２２とを含む。支持プレート３２には、バネ３２４等の弾性部材が取り付けられている。支持プレート３２には、複数のボルト穴３２０が形成されている。肉厚部３２１における支持プレート３２の厚さは他の部分における支持プレート３２の厚さよりも大きくなっており、肉厚部３２１と他の部分との間に段差部が形成されている。この段差部にプリズム１４ｃの第１の面が接し、さらに、突起部３２２にプリズムの第２の面が接するように、支持プレート３２にプリズム１４ｃが載せられる。これにより、支持プレート３２に対してプリズム１４ｃが位置決め及び支持される。プリズム１４ｃの第１の面は、例えば図１を参照しながら説明した面１８であり、プリズム１４ｃの第２の面は、例えば図１を参照しながら説明した面１９である。
【００３８】
バネ３２４の第１の端部は支持部３２５によって支持プレート３２に固定されている。バネ３２４の第２の端部とプリズム１４ｃの第３の面との間には、押圧部材３２３が配置されている。バネ３２４は、押圧部材３２３を介してプリズム１４ｃの第３の面を押圧している。これにより、支持プレート３２の段差部にプリズム１４ｃの第１の面が押し付けられ、突起部３２２にプリズム１４ｃの第２の面が押し付けられる。
【００３９】
複数の高頭ボルト３５１は、２つの高頭ボルトを含む。高頭ボルト３５１は、頭部の長さが長いボルトである。高頭ボルト３５１の頭部の一部には、スパナをかけるための略平行な２面（図示せず）が形成されるように切削加工されている。
【００４０】
図５Ｂに示されるように、２つの高頭ボルト３５１の各々は、その下端のネジ部が支持プレート３２のボルト穴３２０にねじ込まれて、支持プレート３２に固定されている。高頭ボルト３５１の上端には、ボルト穴３５０が形成されている。ボルト穴３５０には、ボルト３５２がねじ込まれて固定されている。高頭ボルト３５１の上端と、ボルト３５２の頭部との間に、上プレート３４が挟まれて固定されている。２つの高頭ボルト３５１は、支持プレート３２と上プレート３４との間の距離を規定する。２つの高頭ボルト３５１の間に、プリズム１４ｃが位置している。
【００４１】
上プレート３４は、その両端付近にそれぞれ貫通孔を有しており、上プレート３４の両端が、それぞれ貫通孔を貫通したボルト３５２によって高頭ボルト３５１に固定されている。
【００４２】
図５Ａに示されるように、上プレート３４の中心付近には複数の貫通孔３４２が形成されている。複数の貫通孔３４２は、２つの貫通孔を含む。上プレート３４の下面には、複数の貫通孔３４２とそれぞれ重なる位置に、くぼみ３４１が形成されている。くぼみ３４１の内径は、貫通孔３４２の内径より大きい。
【００４３】
プリズム押さえ３７は、プリズム１４ｃの上面に接して配置されている。プリズム押さえ３７には複数のボルト穴３７０が形成されている。複数のボルト穴３７０は２つのボルト穴を含む。
【００４４】
複数のバネ３３は、２つのバネを含む。２つのバネ３３は、それぞれ弾性を有し、プリズム押さえ３７と上プレート３４との間に圧縮状態で配置されている。２つのバネ３３の各々の一部が、くぼみ３４１の内部に位置している。圧縮状態のバネ３３は、プリズム押さえ３７を介してプリズム１４ｃを下方に押圧している。上プレート３４は、圧縮状態のバネ３３によって上方向に反力を受けている。複数のボルト３３１が、それぞれ、貫通孔３４２とバネ３３とを貫通し、プリズム押さえ３７のボルト穴３７０にねじ込まれている。これにより、バネ３３がくぼみ３４１から外れないようになっている。なお、ボルト３３１の頭部を除いた軸部の外径は、貫通孔３４２の内径よりも小さいので、貫通孔３４２の位置がボルト３３１の位置を厳密に規定することはないようになっている。
【００４５】
上述の自動マイクロメータ４３は、ドライバ４８からの駆動信号に従って、マイクロメータヘッド４４をレバー３６１の現在位置へ向かう方向に押し出し、あるいはその逆方向に退避させる。マイクロメータヘッド４４をレバー３６１の現在位置へ向かう方向に押し出すと、レバー３６１が図４の反時計周りに回転し、プランジャ４１のバネ４２が圧縮される。マイクロメータヘッド４４をレバー３６１の現在位置から離れる方向に退避させると、圧縮されたバネ４２の復元力により、レバー３６１が図４の時計周りに回転する。ねじ４６を回すことにより、バネ４２の復元力を調整できる。
【００４６】
圧電素子４５は、ドライバ４８からの駆動信号に従って伸縮する。自動マイクロメータ４３を駆動したときと同様に、圧電素子４５の伸縮により、レバー３６１が回転する。自動マイクロメータ４３は、圧電素子４５と比べて、ストロークが大きく振動数が小さい動きに適しており、圧電素子４５は、自動マイクロメータ４３と比べて、ストロークが小さく振動数が大きい動きに適している。レバー３６１は、少なくとも、回転プレート３６０、支持プレート３２、プリズム１４ｃ、高頭ボルト３５１、及び上プレート３４と一体的に回転する。
【００４７】
１．４  課題
図６は、上述の比較例におけるプリズム１４ｃの回転制御の周波数特性を示すゲイン線図である。図６の横軸はホルダ１６ｃの回転機構３６に送信される駆動信号の周波数を示す。図６の縦軸はプリズム１４ｃの回転制御のゲインを示す。ここで、ゲインとは、ホルダ１６ｃの回転機構３６に送信される駆動信号の振幅に対するプリズム１４ｃの回転角度を示す振幅の比率を測定し、デシベルに換算した値である。
【００４８】
図６に示されるように、駆動信号の周波数が０Ｈｚから５００Ｈｚ付近までの帯域においては、ゲインはほぼ１となっている。すなわち、比較的低頻度の制御においては、駆動信号の振幅に対してプリズム１４ｃの回転角度がほぼ忠実に対応しているので、良好な制御状態と言える。
【００４９】
しかしながら、駆動信号の周波数が５００Ｈｚを超えると、ゲインが１ｄＢより高くなる場合がある。この状態は、駆動信号の振幅に対して、プリズム１４ｃの回転角度が過大となっている状態である。例えば、プリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃを構成するいずれか１つの部品の固有振動数、あるいはそれらの２つ以上を組み合わせた構成要素の固有振動数に対して、駆動信号の周波数がほぼ一致し、又はほぼ整数倍となり、共振が発生していると考えられる。
【００５０】
さらに、駆動信号の周波数が１５００Ｈｚを超えると、ゲインが１ｄＢより低くなる場合がある。この状態は、駆動信号の振幅に対して、プリズム１４ｃの回転角度が過小となっている状態であり、非共振と呼ばれる。
さらに、駆動信号の周波数が２５００Ｈｚを超えると、ゲインが１ｄＢより高くなる場合がある。２５００Ｈｚを超える帯域においても共振が発生していると考えられる。
【００５１】
このように、プリズム１４ｃの姿勢を高頻度で調整するときに、共振又は非共振が発生すると、制御の応答性が悪化し、プリズム１４ｃの姿勢を高精度で調整することが困難になる。その結果、パルスレーザ光の波長を高精度で制御することが困難になり、波長の安定性が損なわれる場合がある。
【００５２】
以下に説明する実施形態においては、例えば、上プレート３４を回転方向にフリーに支持することにより、共振又は非共振を抑制し、高精度な波長制御を実現する。
【００５３】
２．上プレートを回転方向にフリーに支持したホルダ
２．１  構成
図７Ａ〜図７Ｃは、第１の実施形態に係る狭帯域化モジュールにおけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの一部の断面図である。図７Ａは、図４のＶＡ−ＶＡ線断面に相当する。図７Ｂは、図４のＶＢ−ＶＢ線断面に相当する。図７Ｃは、図４のＶＣ−ＶＣ線断面に相当する。但し、図７Ａ及び図７Ｂにおいて、ボルト類の全部又は一部については断面ではなく表面を示す。
【００５４】
第１の実施形態に係る狭帯域化モジュールは、高頭ボルト３５３及び段付きボルト３５４を含む支柱３５ａによって上プレート３４ａを支持する構造が上述の比較例と異なる。他の点については比較例と同様である。本開示においては、図１〜図４に示される構成と同様の構成については、図１〜図４を参照しながら実施形態を説明することがある。
【００５５】
高頭ボルト３５３は、その下端のネジ部が支持プレート３２のボルト穴３２０にねじ込まれて、支持プレート３２に固定されている。段付きボルト３５４は、上端の頭部と下端のネジ部との間に肩部を有するボルトである。高頭ボルト３５３の上端に形成されたボルト穴３５０に、段付きボルト３５４のネジ部がねじ込まれて固定されている。
【００５６】
上プレート３４ａの両端付近にそれぞれ貫通孔３４０が形成されている。貫通孔３４０の内径は、高頭ボルト３５３の頭部の外径より小さく、段付きボルト３５４の頭部の外径より小さい。さらに、貫通孔３４０の内径は、段付きボルト３５４の肩部の外径より大きい。貫通孔３４０の貫通方向に垂直な断面は、円形状でなくてもよく、回転プレート３６０の回転方向に長い長円形状であってもよい。少なくとも、回転プレート３６０の回転方向における貫通孔３４０の内径が、回転プレート３６０の回転方向における段付きボルト３５４の肩部の外径より大きいことが望ましい。あるいは、貫通孔３４０と、貫通孔３４０に差し込まれた段付きボルト３５４の肩部との間に、少なくとも回転プレート３６０の回転方向に隙間が存在することが望ましい。これにより、段付きボルト３５４は、貫通孔３４０の内部で、上プレート３４ａに対して相対的に動くことができる。特に、段付きボルト３５４は、上プレート３４ａに対して、回転プレート３６０の回転方向に動くことができる。但し、上プレート３４ａは、バネ３３によって上方向に反力を受け、上プレート３４ａの貫通孔３４０の周囲の上面が段付きボルト３５４の頭部に押し付けられている。従って、２つの高頭ボルト３５３と、２つの段付きボルト３５４とで、支持プレート３２と上プレート３４ａとの間の距離が規定される。
【００５７】
下プレート３１は、本開示における第１の要素に相当する。支持プレート３２は、本開示における第２の要素に相当する。バネ３３は、本開示における第３の要素に相当する。上プレート３４ａは、本開示における第４の要素に相当する。高頭ボルト３５３及び段付きボルト３５４を含む支柱３５ａは、本開示における第５の要素に相当する。ここでは、第１〜第５の要素がそれぞれ互いに別の部材である場合について説明したが、本開示はこれに限定されない。例えば、支持プレート３２と支柱３５ａとは一体の部材であってもよい。すなわち、第２の要素と第５の要素とは一体の部材であってもよい。
【００５８】
第１の実施形態における上プレート３４ａ、高頭ボルト３５３、段付きボルト３５４は、上述の点以外の点については、それぞれ、比較例における上プレート３４、高頭ボルト３５１、ボルト３５２と同様である。
【００５９】
２．２  作用
以上の構成によれば、プリズム１４ｃ、支持プレート３２、回転プレート３６０、及び支柱３５ａが、上プレート３４ａから機械的に独立している。すなわち、段付きボルト３５４の肩部の外径と貫通孔３４０の内径との間の寸法差の範囲内で、プリズム１４ｃ等が上プレート３４ａに対して独立して動くことができる。例えば、静止しているプリズム１４ｃの回転を開始する場合に、上プレート３４ａは慣性により静止した状態で、プリズム１４ｃが回転を始めることが可能である。従って、比較例においてプリズム１４ｃと上プレート３４とを一体的に回転させる場合に比べて、第１の実施形態においては、プリズム１４ｃの回転制御の応答性を改善することができる。
【００６０】
なお、段付きボルト３５４を基準として上プレート３４ａに作用する慣性力が、段付きボルト３５４の頭部と上プレート３４ａの上面との摩擦力より小さい場合には、上プレート３４ａは段付きボルト３５４と一体的に回転する。
【００６１】
慣性力は、プリズム押さえ３７にも作用する。プリズム１４ｃを基準としてプリズム押さえ３７に作用する慣性力が、プリズム１４ｃの上面とプリズム押さえ３７の下面との摩擦力より小さい場合には、プリズム押さえ３７はプリズム１４ｃと一体的に回転する。逆に、プリズム１４ｃを基準としてプリズム押さえ３７に作用する慣性力が、プリズム１４ｃの上面とプリズム押さえ３７の下面との摩擦力より大きい場合には、プリズム押さえ３７に対してプリズム１４ｃは独立して動くことができる。
【００６２】
図８は、第１の実施形態におけるプリズム１４ｃの回転制御の周波数特性を示すゲイン線図である。図８には、比較例との対比のために、比較例における周波数特性（図６参照）も破線で示されている。
【００６３】
図８に示されるように、第１の実施形態においては、周波数が２５００Ｈｚ以上、３０００Ｈｚ以下の帯域で、ゲインが１ｄＢを超える共振状態はほぼ見られなくなっている。プリズム１４ｃ等が上プレート３４ａから機械的に独立したことにより、この帯域での共振が低減されたものと考えられる。
【００６４】
また、第１の実施形態においては、周波数が２０００Ｈｚ以上、３０００Ｈｚ以下の帯域においては、ゲインが約０．６ｄＢから約１．０ｄＢまでの範囲で安定している。レーザ光の波長の計測結果に基づく圧電素子４５の駆動は、周波数２０００Ｈｚ以上、３０００Ｈｚ以下で行われることがある。第１の実施形態は、周波数２０００Ｈｚ以上、３０００Ｈｚ以下でプリズム１４ｃを回転制御する場合に、特に大きな効果を発揮する。
【００６５】
３．段付きボルトの代替構成
図９Ａ〜図９Ｃは、第２の実施形態に係る狭帯域化モジュールにおけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの一部の断面図である。図９Ａは、図４のＶＡ−ＶＡ線断面に相当する。図９Ｂは、図４のＶＢ−ＶＢ線断面に相当する。図９Ｃは、図４のＶＣ−ＶＣ線断面に相当する。但し、図９Ａ及び図９Ｂにおいて、ボルト類の全部又は一部については断面ではなく表面を示す。
第１の実施形態における段付きボルト３５４の代わりに、第２の実施形態に係る狭帯域化モジュールは、ボルト３５５及びナット３５６が用いられている。
【００６６】
上プレート３４ａの両端付近にそれぞれ形成された貫通孔３４０の内径は、ボルト３５５の頭部を除いた軸部の外径より大きい。貫通孔３４０の貫通方向に垂直な断面は、円形状でなくてもよく、回転プレート３６０の回転方向に長い長円形状であってもよい。少なくとも、回転プレート３６０の回転方向における貫通孔３４０の内径が、回転プレート３６０の回転方向におけるボルト３５５の軸部の外径より大きいことが望ましい。あるいは、貫通孔３４０と、貫通孔３４０に差し込まれたボルト３５５の軸部との間に、少なくとも回転プレート３６０の回転方向に隙間が存在することが望ましい。これにより、ボルト３５５は、貫通孔３４０の内部で、上プレート３４ａに対して相対的に動くことができる。
【００６７】
ボルト３５５は、ナット３５６にねじ込まれ、さらに、高頭ボルト３５３の上端に形成されたボルト穴３５０にねじ込まれている。ボルト３５５がボルト穴３５０に所定深さまでねじ込まれた状態でナット３５６を締めることにより、ボルト穴３５０に対するボルト３５５の位置が固定される。これにより、支持プレート３２と上プレート３４ａとの間の距離が規定される。高頭ボルト３５３とボルト３５５とナット３５６とを含む支柱３５ｂは、本開示における第５の要素に相当する。
他の点については、第１の実施形態と同様である。
【００６８】
４．高頭ボルトを第１のプレートに固定したホルダ
４．１  構成
図１０は、第３の実施形態に係る狭帯域化モジュールにおけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの一部の側面図である。図１０においてプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃを見る方向は、図５Ｃにおいてプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃを見る方向と同様である。
【００６９】
比較例における下プレート３１、支持プレート３２、上プレート３４、及び高頭ボルト３５１の代わりに、第３の実施形態においては、下プレート３１ｂ、支持プレート３２ｂ、上プレート３４ｂ、及び高頭ボルト３５７が用いられている。
【００７０】
比較例における上プレート３４の長さに比べて、第３の実施形態における上プレート３４ｂの長さが大きい。比較例における高頭ボルト３５１の長さに比べて、第３の実施形態における高頭ボルト３５７の長さが大きい。比較例の支持プレート３２に形成されているボルト穴３２０は、第３の実施形態の支持プレート３２ｂにおいては形成されていない。その代わりに、第３の実施形態の下プレート３１ｂには図示しないボルト穴が形成されている。高頭ボルト３５７の下端のネジ部は、支持プレート３２ｂには固定されずに、下プレート３１ｂのボルト穴にねじ込まれて、下プレート３１ｂに固定されている。
【００７１】
高頭ボルト３５７の上端に形成された図示しないボルト穴には、ボルト３５２がねじ込まれて固定されている。高頭ボルト３５７の上端と、ボルト３５２の頭部との間に、上プレート３４ｂが挟まれて固定されている。２つの高頭ボルト３５７は、下プレート３１ｂと上プレート３４ｂとの間の距離を規定する。さらに、下プレート３１ｂに対して上プレート３４ｂが回転しないように、２つの高頭ボルト３５７が、上プレート３４ｂの姿勢を固定している。
【００７２】
上プレート３４ｂには、貫通孔３４２（図５Ａ参照）及びくぼみ３４１（図５Ａ参照）が形成されている。これらの構成、及びボルト３３１、バネ３３等の構成については、上述の比較例と同様である。
【００７３】
レバー３６１は、少なくとも、回転プレート３６０、支持プレート３２ｂ、及びプリズム１４ｃと一体的に回転する。上プレート３４ｂ及び高頭ボルト３５７はいずれも回転しないので、プリズム１４ｃ等は上プレート３４ｂ及び高頭ボルト３５７から機械的に独立している。
【００７４】
プリズム１４ｃを基準としてプリズム押さえ３７に作用する慣性力が、プリズム１４ｃの上面とプリズム押さえ３７の下面との摩擦力より小さい場合には、プリズム押さえ３７はプリズム１４ｃと一体的に回転する。逆に、プリズム１４ｃを基準としてプリズム押さえ３７に作用する慣性力が、プリズム１４ｃの上面とプリズム押さえ３７の下面との摩擦力より大きい場合には、プリズム押さえ３７に対してプリズム１４ｃは独立して動くことができる。
【００７５】
下プレート３１ｂは、本開示における第１の要素に相当する。支持プレート３２ｂは、本開示における第２の要素に相当する。上プレート３４ｂは、本開示における第４の要素に相当する。高頭ボルト３５７及びボルト３５２を含む支柱３５ｃは、本開示における第６の要素に相当する。ここでは、第１〜第４の要素及び第６の要素がそれぞれ互いに別の部材である場合について説明したが、本開示はこれに限定されない。例えば、下プレート３１ｂと支柱３５ｃとは一体の部材であってもよい。すなわち、第１の要素と第６の要素とは一体の部材であってもよい。また、例えば、上プレート３４ｂと支柱３５ｃとは一体の部材であってもよい。すなわち、第４の要素と第６の要素とは一体の部材であってもよい。下プレート３１ｂと上プレート３４ｂと支柱３５ｃとが一体の部材であってもよい。すなわち、第１の要素と第４の要素と第６の要素とは一体の部材であってもよい。
他の点については、上述の比較例と同様である。
【００７６】
４．２  作用
図１１は、第３の実施形態におけるプリズム１４ｃの回転制御の周波数特性を示すゲイン線図である。図１１には、第１の実施形態との対比のために、第１の実施形態における周波数特性（図８参照）も破線で示されている。
【００７７】
図１１に示されるように、第３の実施形態においては、周波数が１５００Ｈｚ付近の帯域でのゲインが１ｄＢより小さい非共振状態がほぼ見られなくなっている。上プレート３４ｂ及び高頭ボルト３５７が下プレート３１ｂに対して固定されたことにより、この帯域での非共振が低減されたものと考えられる。これによれば、高い応答性が得られる周波数帯域幅が、第１の実施形態よりもさらに拡大する。従って、プリズム１４ｃの回転制御の応答性を改善することができる。
【００７８】
５．筐体と一体化したホルダ
図１２Ａ及び図１２Ｂは、第４の実施形態に係る狭帯域化モジュールにおけるプリズム１４ｃ及びホルダ１６ｃの一部の断面図である。図１２Ａは、図４のＶＡ−ＶＡ線断面に相当する。図１２Ｂは、図４のＶＣ−ＶＣ線断面に相当する。
【００７９】
第３の実施形態における下プレート３１ｂ及び上プレート３４ｂの代わりに、第４の実施形態においては、筐体１２の底板３１ｃ及び筐体１２の天板３４ｃが用いられている。第３の実施形態における高頭ボルト３５７は、第４の実施形態においては用いられていない。
【００８０】
筐体１２は、図１及び図２を参照しながら説明した筐体１２と同様の構成を有している。筐体１２の底板３１ｃは、筐体１２の下面を規定し、筐体１２の天板３４ｃは、筐体１２の上面を規定する。筐体１２の天板３４ｃは、筐体１２の上蓋でもよい。
支持プレート３２ｂ及びプリズム１４ｃは、回転機構３６により、筐体１２の底板３１ｃに対して回転することができる。
【００８１】
筐体１２の天板３４ｃの下面には、複数のくぼみ３４３が形成されている。複数のくぼみ３４３は、２つのくぼみを含む。２つのバネ３３の各々の一部が、くぼみ３４３の内部に位置している。複数のピン３３２が、それぞれバネ３３の内側に位置し、それぞれのピン３３２の一部がプリズム押さえ３７のピン穴３７１に埋め込まれている。これにより、バネ３３がくぼみ３４３から外れないようになっている。
筐体１２の側壁１２ｄが、底板３１ｃに対する天板３４ｃの距離を規定している。さらに、底板３１ｃに対して天板３４ｃが回転しないように、筐体１２の側壁１２ｄが天板３４ｃの姿勢を固定している。
【００８２】
底板３１ｃは、本開示における第１の要素に相当する。天板３４ｃは、本開示における第４の要素に相当する。側壁１２ｄは、本開示における第６の要素に相当する。
他の点については、第３の実施形態と同様である。第３の実施形態と同様に、第４の実施形態においても、プリズム１４ｃの回転制御の応答性を改善することができる。
【００８３】
６．その他
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【００８４】
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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