(57)【要約】  本発明は、マイクロレンズや電子部品の製造に有用な、揮発性の低い光硬化性インクジェット用インクを提供することを課題とする。  本発明にかかる光硬化性インクジェット用インクは、多官能（メタ）アクリレート（Ａ）、評価法１における、不揮発度が７５％以上、粘度が１〜７０ｍＰａ・ｓ（２５℃）である単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含有し、２５℃における粘度が１〜１００ｍＰａ・ｓである；［評価法１］単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）：ペンタエリスリトールテトラ（トリ）アクリレート＝２５：４５の重量比率で混合し、評価液を作製する。  （１）５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板の重量を測定する。  （２）（１）のガラス基板上に評価液を滴下し、スピンコートにて塗布重量が２５ｍｇ±２ｍｇの誤差となるように塗布する。  （３）（２）の評価液が塗布されたガラス基板の重量を測定する。  （４）（３）の重量から（１）の重量を差し引いて、評価液の塗布重量を計算する。  （５）（３）の評価液が塗布されたガラス基板を、５０℃のホットプレートで１５分加熱する。  （６）（５）の加熱後のガラス基板の重量を測定し、（１）の重量を差し引いて評価液の残量を計算する。  （７）次の計算式から不揮発度を算出する。不揮発度％＝残量÷塗布重量×１００【特許請求の範囲】
【請求項１】
多官能（メタ）アクリレート（Ａ）、評価法１における、評価液の不揮発度が７５％以上、粘度が１〜７０ｍＰａ・ｓ（２５℃）である単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含有し、２５℃における粘度が１〜１００ｍＰａ・ｓである、光硬化性インクジェット用インク。
［評価法１］
単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）：ペンタエリスリトールテトラ（トリ）アクリレート＝２５：４５の重量比率で混合し、評価液を作製する。
（１）５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板の重量を測定する。
（２）（１）のガラス基板上に評価液を滴下し、スピンコートにて塗布重量が２５ｍｇ±２ｍｇの誤差となるように塗布する。
（３）（２）の評価液が塗布されたガラス基板の重量を測定する。
（４）（３）の重量から（１）の重量を差し引いて、評価液の塗布重量を計算する。
（５）（３）の評価液が塗布されたガラス基板を、５０℃のホットプレートで１５分加熱する。
（６）（５）の加熱後のガラス基板の重量を測定し、（１）の重量を差し引いて評価液の残量を計算する。
（７）次の計算式から不揮発度を算出する。不揮発度％＝残量÷塗布重量×１００
【請求項２】
多官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、式（１）、または式（３）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１つ以上の化合物である、請求項１に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【化１】
2018199131.tif 000009
（式（１）中、Ｒ1は水素、炭素数１〜６のアルキルまたはヒドロキシメチルであり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は、それぞれ独立に炭素数が１〜６のアルキレンであり、ｋは０または１であり、ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ独立に０〜１０の整数である。）また、式（３）中、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ独立に炭素数が１〜６のアルキレンであり、Ｒ17は２価の有機基または単結合であり、Ｒ18およびＲ19は、それぞれ独立に−Ｏ−または単結合である。ただし、Ｒ17が単結合の場合に、Ｒ18およびＲ19は、どちらか一方が−Ｏ−であるか、双方とも単結合である。ｃおよびｄは、それぞれ独立に０〜１０の整数である。）
【請求項３】
多官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、前記式（１）中、ｋは０または１であり、ｌ＋ｍ＋ｎが０である化合物、または前記式（３）中、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ炭素数が２のアルキレンである化合物である、請求項２に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項４】
多官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキサイド変性ジアクリレート、ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性ジアクリレートから選択される少なくとも１つ以上の化合物である、請求項３に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項５】
多官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、またはビスフェノールＦエチレンオキサイド変性ジアクリレートである、請求項４に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項６】
単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ビニルエーテル基およびアリルエーテル基から選ばれる一つの基を有する化合物である、請求項１〜５のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項７】
単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が、式（２）で表される化合物である、請求項６に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【化２】
2018199131.tif 000010
（式中、Ｒ9は水素またはメチルであり、Ｒ10およびＲ11はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、ａは１〜１０の整数であり、ｂは０または１であり、Ｒ12は水素または炭素数１〜１１のアルキルである。）
【請求項８】
前記式（２）中、Ｒ10およびＲ11は水素であり、ａは１または２の整数であり、ｂは０であり、Ｒ12は水素である、請求項７に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項９】
単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が、２−ビニロキシエチル（メタ）アクリレート、または２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレートである、請求項８に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項１０】
単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が、２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレートである、請求項９に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項１１】
光硬化性インクジェット用インク総重量に対して、多官能（メタ）アクリレート（Ａ）を１０〜７５重量％、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）を２０〜９０重量％、光重合開始剤（Ｃ）を１〜２０重量％含有する（ただし合計が１００重量％を超えない）、請求項１〜１０のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インクの硬化物からなる硬化膜。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インクの硬化物からなるマイクロレンズ。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インクの硬化物からなる保護膜。
【請求項１５】
請求項１３に記載のマイクロレンズを有する光学部品。
【請求項１６】
請求項１４に記載の保護膜を有する電子部品。
【請求項１７】
請求項１５または１６に記載の部品を有する表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、映像表示装置などの光学機器を製造するために好適に用いられる光硬化性インクジェット用インクに関する。さらに詳しくは、画像の立体的な結像やデバイスの光利用効率を高めるための光学系に用いられるマイクロレンズ形成用インクに関する。【０００２】
また、本発明は、半導体装置やフレキシブル配線板などの電子部品を製造するために好適に用いられる光硬化性インクジェット用インクに関する。さらに詳しくは、ウェハレベルパッケージ向けバッファーコート、再配線絶縁材、ダム材、アンダーフィル材や、フレキシブル配線板向けカバーレイ等のパターンを形成する絶縁材料を形成するインクに関する。
【背景技術】
【０００３】
マイクロレンズは、その微細な凹凸構造を利用した映像表示装置用導光板として、また特殊な視覚効果を表現できるため３Ｄ画像表示素子や偽造防止用デバイスの材料として応用が検討されている（例えば特許文献１および２）。【０００４】
このようなマイクロレンズは従来、金型を使った射出成形により形成されていた。しかし、この方法を用いて少量多品種のマイクロレンズを製造する際には、製品設計に応じた金型を作り直す必要があり、製造工程数の増加が問題となっていた。また、近年、電子部品などにおいてはパターン形状の高精細化が要求されてきており、その微細加工を実現するために、例えばフォトリソグラフィ技術によって半導体集積回路のパターンを形成する際にその高精度化が図られている。【０００５】
一方、設計自由度の高い製造方法としてインクジェット法を用いて、直接、基板表面上にマイクロレンズを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献３および４）。このようなインクジェット法を用いたマイクロレンズの製造方法は、パソコンなどにより容易にパターニングを制御できるため、少量多品種の生産に対しても製造工程数が変わらず、製造コストを抑えることができるなどの点から期待されている。【０００６】
また、従来、半導体パッケージやフレキシブル配線板などの電子部品を製造する際、基板上に形成された所定の回路パターンをなす金属配線や電極などの導体および基板を保護する保護膜として、ドライフィルムレジストや液状フォトレジストが使用されてきた。【０００７】
しかし、このような保護膜の形成方法は、フォトリソグラフィ法であるがゆえにフォトマスクの作製に長い時間と多くの費用がかかること、またフォトマスクを用いたパターン露光が必要なことからから、設備投資金額が増大、かつ工程が複雑となる問題がある。【０００８】
近年、これらの問題を解決するために、インクジェット方式を用いて直接基板上にインクを塗布し、保護膜を形成する方法が開発されている（例えば特許文献１０）。この方法は、従来必要であったパターン露光を不要にできることから設備投資金額が少なく、また、材料の歩留りが高いなどの点から期待が持たれている。【０００９】
インクジェット法を用いた微細なパターン形状を実現するため、用いられるインクの低粘度化が求められている。インクの粘度を低下させるため、光硬化性の樹脂成分に単官能の低分子モノマーを反応性希釈剤として併用する取り組みが行われている。反応性希釈剤として従来用いられてきたものは、アクリル系モノマーやビニル系モノマーなど数多くのものが知られている。中でもアクリレート類は、一般的に光硬化性に優れているが、その一方で臭気が強く、皮膚刺激性が強いため、該モノマーを含む光硬化型樹脂は、その作業環境を損なうという欠点を有している。また、より低粘度のアクリレート類は揮発性が高く、微細なパターン形状の形成が困難といった問題がある。【００１０】
これらのアクリレートモノマーを、アルキレンオキサイドやε−カプロラクトンで変性し、臭気や皮膚刺激性を低減化したものが開発されているが、この変性アクリレートは、その硬化速度や硬化物の硬度が低下する、インクの粘度が増加してしまうといった欠点を有していた。【００１１】
特許文献５には、ポリオールとポリイソシアネートと水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応で得られるウレタンポリ（メタ）アクリレートである反応性オリゴマーを含む組成物が、臭気や皮膚刺激性の低減に効果があることが開示されているが、組成物の粘度は数千以上であるためインクジェット用インクとして用いることが難しい。【００１２】
特許文献６には、表面張力が２５〜３５ｍＮ／ｍである組成物が、インクジェット法を用いた微小液滴形成に効果的であることが開示されているが、モノマーの揮発性に関して十分な議論はされていない。【００１３】
特許文献７には、三官能（メタ）アクリレート（Ａ）、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および光架橋性官能基を有する界面活性剤（Ｄ）を含有するインクジェット用インクが開示されているが、マイクロレンズを形成するための下地処理に用いられるインクジェット用インクに関するものであって、マイクロレンズそのものを想定したものではなかった。【００１４】
特許文献８には、特定構造の化合物（Ａ）、その他のラジカル重合性化合物（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）を含有するマイクロレンズ形成用インク組成物が開示されている。特許文献９には、特定構造の（メタ）アクリルアミド（Ａ）、環状構造の（メタ）アクリルアミド（Ｂ）、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）を含有するインクジェット用インクが開示されている。いずれも、マイクロレンズの高さや形状の設計を容易にするためのインク組成物であって、モノマーの揮発性について何ら記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特表２０１６−５３９３８１号公報
【特許文献２】特開２０１６−１０９７１４号公報
【特許文献３】特開２０００−１８０６０５号公報
【特許文献４】特開２００４−２４０２９４号公報
【特許文献５】特許第３３１６０４０号
【特許文献６】特開２０１５−００９１７１号公報
【特許文献７】特許第５４７７１５０号
【特許文献８】特開２０１５−０６３６６６号公報
【特許文献９】特許第５９７４７８４号
【特許文献１０】特許第６０２８７３１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
上記の状況の下、本発明の目的は、インクジェット法による印刷が可能な低粘度で、且つマイクロレンズ、保護膜などの微細なパターン形状の形成が可能な低揮発性の光硬化性インクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者らは、多官能（メタ）アクリレート（Ａ）、揮発性が低い単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含有し、２５℃における粘度が１〜１００ｍＰａ・ｓである、光硬化性インクジェット用インクが、微細なマイクロレンズ、保護膜を形成するに適した低揮発性および低粘度になることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。【００１８】
すなわち本発明は、以下の項を含む。
［１］  多官能（メタ）アクリレート（Ａ）、評価法１における、評価液の不揮発度が７５％以上、粘度が１〜７０ｍＰａ・ｓ（２５℃）である単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含有し、２５℃における粘度が１〜１００ｍＰａ・ｓである、光硬化性インクジェット用インク。
［評価法１］
単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）：ペンタエリスリトールテトラ（トリ）アクリレート＝２５：４５の重量比率で混合し、評価液を作製する。【００１９】
（１）５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板の重量を測定する。
（２）（１）のガラス基板上に評価液を滴下し、スピンコートにて塗布重量が２５ｍｇ±２ｍｇの誤差となるように塗布する。
（３）（２）の評価液が塗布されたガラス基板の重量を測定する。
（４）（３）の重量から（１）の重量を差し引いて、評価液の塗布重量を計算する。
（５）（３）の評価液が塗布されたガラス基板を、５０℃のホットプレートで１５分加熱する。
（６）（５）の加熱後のガラス基板の重量を測定し、（１）の重量を差し引いて評価液の残量を計算する。
（７）次の計算式から不揮発度を算出する。不揮発度％＝残量÷塗布重量×１００【００２０】
［２］  多官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、式（１）、または式（３）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１つ以上の化合物である、［１］に記載の光硬化性インクジェット用インク。【００２１】
【化１】
2018199131.tif 000002
（式（１）中、Ｒ1は水素、炭素数１〜６のアルキルまたはヒドロキシメチルであり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は、それぞれ独立に炭素数が１〜６のアルキレンであり、ｋは０または１であり、ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ独立に０〜１０の整数である。また、式（３）中、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ独立に炭素数が１〜６のアルキレンであり、Ｒ17は２価の有機基または単結合であり、Ｒ18およびＲ19は、それぞれ独立に−Ｏ−または単結合である。ただし、Ｒ17が単結合の場合に、Ｒ18およびＲ19は、どちらか一方が−Ｏ−であるか、双方とも単結合である。ｃおよびｄは、それぞれ独立に０〜１０の整数である。）
［３］  多官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、前記式（１）中、ｋは０または１であり、ｌ＋ｍ＋ｎが０である化合物、または前記式（３）中、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ炭素数が２のアルキレンである化合物である、［２］に記載の光硬化性インクジェット用インク。【００２２】
［４］  多官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキサイド変性ジアクリレート、ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性ジアクリレートから選択される少なくとも 1 つ以上の化合物である、［３］に記載の光硬化性インクジェット用インク。
［５］  多官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、またはビスフェノールＦエチレンオキサイド変性ジアクリレートである、［４］に記載の光硬化性インクジェット用インク。【００２３】
［６］  単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ビニルエーテル基およびアリルエーテル基から選ばれる一つの基を有する化合物である、［１］〜［５］のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インク。【００２４】
［７］  単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が、式（２）で表される化合物である、［６］に記載の光硬化性インクジェット用インク。【００２５】
【化２】
2018199131.tif 000003
（式中、Ｒ9は水素またはメチルであり、Ｒ10およびＲ11はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、ａは１〜１０の整数であり、ｂは０または１であり、Ｒ12は水素または炭素数１〜１１のアルキルである。）
［８］  前記式（２）中、Ｒ10およびＲ11は水素であり、ａは１または２の整数であり、ｂは０であり、Ｒ12は水素である、［７］に記載の光硬化性インクジェット用インク。【００２６】
［９］  単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が、２−ビニロキシエチル（メタ）アクリレート、または２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレートである、［８］に記載の光硬化性インクジェット用インク。【００２７】
［１０］  単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が、２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレートである、［９］に記載の光硬化性インクジェット用インク。【００２８】
［１１］  光硬化性インクジェット用インク総重量に対して、多官能（メタ）アクリレート（Ａ）を１０〜７５重量％、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）を２０〜９０重量％、光重合開始剤（Ｃ）を１〜２０重量％含有する（ただし合計が１００重量％を超えない）、［１］〜［１０］のいずれかに記載のインクジェット用インク。【００２９】
［１２］  ［１］〜［１１］のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インクの硬化物からなる硬化膜。【００３０】
［１３］  ［１］〜［１２］のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インクの硬化物からなるマイクロレンズ。【００３１】
［１４］  ［１］〜［１２］のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インクの硬化物からなる保護膜。【００３２】
［１５］  ［１３］に記載のマイクロレンズを有する光学部品。【００３３】
［１６］  ［１４］に記載の保護膜を有する電子部品。【００３４】
［１７］  ［１５］または［１６］に記載の部品を有する表示素子。
【発明の効果】
【００３５】
本発明の光硬化性インクジェット用インクは揮発性の低いモノマー成分で構成されているため、インクジェット印刷した場合に連続吐出性や再吐出性が良好となり、印刷後の微細なマイクロレンズ形状、保護膜パターンを維持することができる。したがって、本発明の光硬化性インクジェット用インクを用いると、微細なパターンの集積化ができるため、小型、且つ高性能な電子部品を好適に製造可能である。とりわけ微細なマイクロレンズ、高精細な保護膜の作製に好適に使用できる。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、本発明について具体的に説明する。
【００３７】
＜１．光硬化性インクジェット用インク＞
本発明は、多官能（メタ）アクリレート（Ａ）、揮発性が低い単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含有し、２５℃における粘度が１〜１００ｍＰａ・ｓである、光硬化性インクジェット用インクに関する。
【００３８】
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、光学的な機能を必要とする電子部品に用いるため無色透明である方が好ましい。しかしながら、得られる硬化膜の光学的機能が大幅に損われたり、搭載した電子部品に悪影響を及ぼさない限り、これに限定されるものではない。
【００３９】
また、本発明の光硬化性インクジェット用インクは、必要に応じて、他のラジカル重合性二重結合を有する化合物、溶媒、重合禁止剤、難燃剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、界面活性剤などを含むことができる。ここで、「他のラジカル重合性二重結合を有する化合物」とは、以下に示す多官能（メタ）アクリレート（Ａ）、揮発性が低い単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物である。
【００４０】
１．１．（メタ）アクリレート
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの両者または一方を示すために用いられる。
【００４１】
（メタ）アクリレートの硬化反応では、（メタ）アクリロイル基の二重結合がラジカル重合するので、「官能」部分は、（メタ）アクリロイル基であり、単官能は（メタ）アクリロイル基が１個、多官能は（メタ）アクリロイル基が２個以上のものをいう。
【００４２】
以下、上記各成分について説明する。
１．１．１．多官能（メタ）アクリレート（Ａ）
本発明の多官能（メタ）アクリレート（Ａ）は、そのような構造を有する化合物であれば特に限定されないが、式（１）または（３）の構造であることが好ましい。本発明の多官能（メタ）アクリレート（Ａ）を用いることにより、光硬化性インクの硬化性が良好となる。
【００４３】
【化３】
2018199131.tif 000004
式（１）中、Ｒ1は水素、炭素数１〜６のアルキルまたはヒドロキシメチルであり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は、それぞれ独立に炭素数が１〜６のアルキレンであり、ｋは０または１であり、ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ独立に０〜１０の整数である。
【００４４】
また、式（３）中、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ独立に炭素数が１〜６のアルキレンであり、Ｒ17は２価の有機基または単結合であり、Ｒ18およびＲ19は、それぞれ独立に−Ｏ−または単結合である。ただし、Ｒ17が単結合の場合に、Ｒ18およびＲ19は、どちらか一方が−Ｏ−であるか、双方とも単結合である。ｃおよびｄは、それぞれ独立に０〜１０の整数である。
【００４５】
たとえば、Ｒ17が単結合の場合は、Ｒ18およびＲ19が直接結合を構成して（−Ｒ18−Ｒ19−）となる。
【００４６】
また前記式（１）中、ｋは０または１であり、ｌ＋ｍ＋ｎが０であることが好ましい。
【００４７】
式（１）の構造を有する化合物の具体例としては、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性グリセリントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールＰＯ変性トリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００４８】
また前記式（３）中、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ炭素数が２のアルキレンであることがインクの相溶性の観点から好ましく、更にｃとｄが２であることが基材との密着性の観点から特に好ましい。Ｒ17を構成する２価の有機基としては、炭素数１〜２０の直鎖ないし環状のアルキレン構造、フェニレン構造を有するものの他に、イソシアヌレート構造のように複素環構造を有するものも例示される。
【００４９】
式（３）の構造を有する化合物の具体例としては、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００５０】
なお、「ＥＯ変性」はエチレンオキサイド変性、「ＰＯ変性」はプロピレンオキサイド変性を表し、カッコ内のモル数は１分子あたりに付加させたエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの数を示す。
【００５１】
中でも、光硬化性に優れ、インクジェット用インクとして好適な粘度範囲の調整が容易な点から、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが特に好ましい。また、インクの相溶性、基材との密着性の観点からビスフェノールＡ ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＦ  ＥＯ変性ジアクリレートが好ましく、中でも特に、無機基材との密着性の観点からビスフェノールＦ  ＥＯ変性ジアクリレートが好ましい。
【００５２】
これらの多官能（メタ）アクリレート（Ａ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００５３】
多官能（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量は、本発明の光硬化性インクジェット用インク総量の１０〜７５重量％であると、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは１５〜７０重量％であり、さらに好ましくは２０〜６５重量％である（ただし（Ａ）〜（Ｃ）合計が１００重量％を超えない）。
【００５４】
１．１．２．揮発性が低い単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）
本発明の、揮発性が低い単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）は、評価法１における、不揮発度が７５％以上、粘度が１〜７０ｍＰａ・ｓ（２５℃）であれば特に限定されない。本発明の揮発性が低い単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）を用いることにより、光硬化性インクの揮発を抑制することができる。
【００５５】
［評価法１］
単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）：ペンタエリスリトールテトラ（トリ）アクリレート＝２５：４５の重量比率で混合し、評価液を作製する。ペンタエリスリトールテトラ（トリ）アクリレートは、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物であり、例えば東亞合成（株）製のＭ３０５を使用できる。
【００５６】
ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物は、ペンタエリスリトールトリアクリレート：ペンタエリスリトールテトラアクリレート＝（５５〜６３）：（３７〜４５）の重量比であり、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）と混合物は、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）：混合物＝２５：４５の重量比率である。
【００５７】
（１）５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板の重量を測定する。
（２）（１）のガラス基板上に評価液を滴下し、スピンコートにて塗布重量が２５ｍｇ±２ｍｇの誤差となるように塗布する。
（３）（２）の評価液が塗布されたガラス基板の重量を測定する。
（４）（３）の重量から（１）の重量を差し引いて、評価液の塗布重量を計算する。
（５）（３）の評価液が塗布されたガラス基板を、５０℃のホットプレートで１５分加熱する。
（６）（５）の加熱後のガラス基板の重量を測定し、（１）の重量を差し引いて評価液の残量を計算する。
（７）次の計算式から不揮発度を算出する。
【００５８】
不揮発度％＝残量÷塗布重量×１００
このような化合物の具体例としては４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリルアルコールアクリル酸多量体エステルおよび式（２）で表わされる化合物を挙げることができる。
【００５９】
【化４】
2018199131.tif 000005
（式中、Ｒ9は水素またはメチルであり、Ｒ10およびＲ11はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、ａは１〜１０の整数であり、ｂは０または１であり、Ｒ12は水素または炭素数１〜１１のアルキルである。）
中でも、揮発性が低く、インクジェット用インクとして好適な粘度範囲の調整が容易な点から、式（２）で表される構造の化合物が好ましく、２−ビニロキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００６０】
これらの揮発性が低い単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００６１】
揮発性が低い単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）の含有量は、本発明の光硬化性インクジェット用インク総量の２０〜９０重量％、さらに２０〜８９重量％であると、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは２５〜８５重量％であり、さらに好ましくは３０〜８０重量％である。（ただし（Ａ）〜（Ｃ）の合計が１００重量％をこえない。）
【００６２】
１．１．３．他のラジカル重合性二重結合を有する化合物
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、光硬化性、密着性、透過率、強度を損なわない範囲で、他のラジカル重合性二重結合を有する化合物を添加してもよい。
【００６３】
他のラジカル重合性二重結合を有する化合物には、多官能（メタ）アクリレート（Ａ）および揮発性が低い単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）以外の（メタ）アクリレートモノマー、（メタ）アクリレート以外のラジカル重合性二重結合を有する低分子化合物、不飽和ポリエステル樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂などのラジカル重合が可能な不飽和結合を有する樹脂が含まれる。
【００６４】
前記（メタ）アクリレートモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、ポリアルキレングリコールアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン付加ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン付加ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。
【００６５】
（メタ）アクリレート以外のラジカル重合性二重結合を有する低分子化合物の具体例としては、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、Ｎ-ビニルホルムアミド、２−アリルオキシメチルアクリル酸メチル、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、スチレン、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、およびＮ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドが挙げられる。
【００６６】
前記不飽和ポリエステル樹脂としては、多価アルコールと不飽和多塩基酸（および必要に応じて飽和多塩基酸）とのエステル化反応による縮合生成物（不飽和ポリエステル）を、重合性モノマーに溶解したものが挙げられる。このような不飽和ポリエステルは、無水マレイン酸などの不飽和酸とエチレングリコールなどのジオールとを重縮合させて製造できる。具体的にはフマル酸、マレイン酸、イタコン酸などの重合性不飽和結合を有する多塩基酸またはその無水物を酸成分とし、これとエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物などの多価アルコールをアルコール成分として反応させ、また、必要に応じてフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸、セバシン酸などの重合性不飽和結合を有していない多塩基酸またはその無水物も酸成分として加えて製造されるものが挙げられる。
【００６７】
前記ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂としては、（１）飽和多塩基酸および／または不飽和多塩基酸と多価アルコールから得られる末端カルボキシル基のポリエステルにα，β−不飽和カルボン酸エステル基を含有するエポキシ化合物を反応して得られる（メタ）アクリレート、（２）飽和多塩基酸および／または不飽和多塩基酸と多価アルコールから得られる末端カルボキシル基のポリエステルに水酸基含有アクリレートを反応させて得られる（メタ）アクリレート、（３）飽和多塩基酸および／または不飽和多塩基酸と多価アルコールから得られる末端水酸基のポリエステルに（メタ）アクリル酸を反応して得られる（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００６８】
ポリエステル（メタ）アクリレートの原料として用いられる飽和多塩基酸としては、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸、セバチン酸などの重合性不飽和結合を有していない多塩基酸またはその無水物とフマル酸、マレイン酸、イタコン酸などの重合性不飽和多塩基酸またはその無水物が挙げられる。さらに多価アルコール成分としては、前記不飽和ポリエステルと同様である。
【００６９】
エポキシ（メタ）アクリレート樹脂としては、グリシジル基（エポキシ基）を有する化合物と、（メタ）アクリル酸などの重合性不飽和結合を有するカルボキシル化合物のカルボキシル基との開環反応により生成する重合性不飽和結合を持った化合物（ビニルエステル）である。通常を、重合性モノマーに溶解したものが使用される。
【００７０】
前記ビニルエステルとしては、公知の方法により製造されるものであり、グリシジル基（エポキシ基）を有する化合物としては、エポキシ樹脂に不飽和一塩基酸、例えばアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００７１】
また、各種エポキシ樹脂をビスフェノール（例えばＡ型）またはアジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸（ハリダイマー２７０Ｓ：ハリマ化成（株））などの二塩基酸で反応させ、可撓性を付与してもよい。
【００７２】
原料としてのエポキシ樹脂グリシジル基（エポキシ基）を有する化合物としては、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルおよびその高分子量同族体、ノボラック型グリシジルエーテル類などが挙げられる。(メタ)アクリル酸以外に、ビスフェノール（例えばＡ型）またはアジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸（ハリダイマー２７０Ｓ：ハリマ化成（株））などの二塩基酸の反応物を含むものであってもよい。
【００７３】
ウレタン（メタ）アクリレート樹脂としては、例えば、ポリイソシアネートとポリヒドロキシ化合物あるいは多価アルコール類とを反応させた後、さらに水酸基含有（メタ）アクリル化合物および必要に応じて水酸基含有アリルエーテル化合物を反応させることによって得ることができるラジカル重合性不飽和基含有オリゴマーが挙げられる。
【００７４】
前記ポリイソシアネートとしては、具体的には２，４−トリレンジイソシアネートおよびその異性体、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ナフタリンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、バノックＤ−７５０、クリスボンＮＫ（商品名；大日本インキ化学工業（株）製）、デスモジュールＬ（商品名；住友バイエルウレタン（株）製）、コロネートＬ（商品名；日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＤ１０２（商品名；三井武田ケミカル（株）製）、イソネート１４３Ｌ（商品名；三菱化学（株）製）などが挙げられる。
【００７５】
前記ポリヒドロキシ化合物としては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールなどが挙げられ、具体的にはグリセリン−エチレンオキサイド付加物、グリセリン−プロピレンオキサイド付加物、グリセリンテトラヒドロフラン付加物、グリセリンエチレンオキサイド−プロピレンオキサイド付加物、トリメチロールプロパン−エチレンオキサイド付加物、トリメチロールプロパン−プロピレンオキサイド付加物、トリメチロールプロパン−テトラヒドロフラン付加物、トリメチロールプロパン−エチレンオキサイドプロピレンオキサイド付加物、ジペンタエスリトール−エチレンオキサイド付加物、ジペンタエスリトール−プロピレンオキサイド付加物、ジペンタエスリトール−テトラヒドロフラン付加物、ジペンタエスリトール−エチレンオキサイドプロピレンオキサイド付加物などが挙げられる。
【００７６】
前記多価アルコール類としては、具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、ビスフェノールＡとプロピレンオキサイドまたはエチレンオキサイドとの付加物、１，２，３，４−テトラヒドロキシブタン、グリセリン、トリメチロールプロパン、１，３−ブタンジオール、１，２−シクロヘキサングリコール、１，３−シクロヘキサングリコール、１，４−シクロヘキサングリコール、パラキシレングリコール、ビシクロヘキシル−４，４−ジオール、２，６−デカリングリコール、２，７−デカリングリコールなどが挙げられる。
【００７７】
前記水酸基含有（メタ）アクリル化合物としては、特に限定されるものではないが、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルが好ましく、具体的には、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌルサンノジ（メタ）アクリレート、ペンタエスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００７８】
他のラジカル重合性二重結合を有する化合物は１種でも、２種以上の混合物でもよい。他のラジカル重合性二重結合を有する化合物の含有量は、他特性とのバランスを考慮すると、本発明の光硬化性インクジェット用インク総量の２０重量％以下であると好ましい。
１．２．光重合開始剤（Ｃ）
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、光重合開始剤（Ｃ）を含有する。光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる化合物であれば特に限定されない。
【００７９】
光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４'−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４'−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４'−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'−ジ（メトキシカルボニル）−４，４'−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４'−ジ（メトキシカルボニル）−４，３'−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４'−ジ（メトキシカルボニル）−３，３'−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２−（４'−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３'，４'−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２'，４'−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２'−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４'−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２'−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４'−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３'−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニル−１，２'−ビイミダゾール、２，２'−ビス（２−クロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２'−ビイミダゾール、２，２'−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニル−１，２'−ビイミダゾール、２，２'−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニル−１，２'−ビイミダゾール、２，２'−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニル−１，２'−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、２−(ジメチルアミノ)−２−[(4-メチルフェニル)メチル]−１−[４−(４−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイドおよび２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを挙げることができる。
【００８０】
光重合開始剤（Ｃ）は、１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。
【００８１】
光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、本発明の光硬化性インク総量の１〜２０重量％であると、紫外線に対する光硬化性に優れるため好ましく、より好ましくは２〜１５重量％であり、さらに好ましくは３〜１０重量％である。
【００８２】
１．３．溶媒
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、溶媒を含有してもよい。
本発明に用いることができる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、ジメトキシベンゼン、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ベンジルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル、エチレンカーボネーツ、プロピレンカーボネート、酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、ジオキサン、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジ���ンが挙げられる。
【００８３】
本発明の光硬化性インクジェット用インクに用いられる溶媒は１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。
【００８４】
本発明のインクにおいて、溶媒の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、０〜６０重量％であると、インクジェット法によりインクを塗布する際に、インクジェットヘッドの吐出孔が閉塞しにくくなるため好ましい。他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０〜４０重量％であり、さらに好ましくは０〜２０重量％である。
【００８５】
１．４．重合禁止剤
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノンおよびフェノチアジンを挙げることができる。これらの中でもフェノチアジンが長期の保存においても粘度の増加が小さいために好ましい。
【００８６】
本発明の光硬化性インクジェット用インクに用いられる重合禁止剤は、１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。
【００８７】
重合禁止剤の含有量は、本発明のインクジェット用インク総量の１重量％以下であると、長期の保存においても粘度の増加が小さいために好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．５重量％以下であり、さらに好ましくは０．１重量％以下である。
【００８８】
１．５．難燃剤
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、難燃剤を含有してもよい。難燃剤を含有すると、得られる硬化膜の難燃性が高いので好ましい。難燃剤としては、難燃性を付与できる化合物であれば特に限定されないが、低有毒性、低公害性および安全性の観点から、有機リン系難燃剤を用いることが好ましい。
【００８９】
有機リン系難燃剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキサイド、１０−（２，５−ジヒドロキシフェニル）−１０Ｈ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキサイドなどが挙げられる。
【００９０】
難燃剤の含有量は、特に制限されず、他特性とのバランスを考慮すると、本発明の光硬化性インクジェット用インク総量の４０重量％以下であると好ましい。
【００９１】
１．６．紫外線吸収剤および光安定剤
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、得られる硬化膜などがバックライトなどの光によって劣化することを防止するために、紫外線吸収剤および光安定剤（ＨＡＬＳ）を含有してもよい。
【００９２】
紫外線吸収剤としては、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール化合物、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノールなどのトリアジン化合物、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン化合物、および２−エトキシ−２’−エチルオキサリック酸ビスアニリドなどのシュウ酸アニリド化合物などが挙げられる。
【００９３】
光安定剤（ＨＡＬＳ）としては、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）５１００、ＴＩＮＵＶＩＮ２９２（化合物名：ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート、メチル（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート）、ＴＩＮＵＶＩＮ１５２（化合物名：２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−シクロヘキシロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ］−６−（２−ヒドロキシエチルアミン）−１，３，５−トリアジン）、ＴＩＮＵＶＩＮ１４４（化合物名：ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）−［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート）、ＴＩＮＵＶＩＮ１２３（化合物名：デカン二酸、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１−（オクチルオキシ）−４ピペリジニル）エステルの反応生成物（１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキサイドおよびオクタン存在下））、ＴＩＮＵＶＩＮ１１１ＦＤＬ（約５０％、ＴＩＮＵＶＩＮ６２２、化合物名：（ブタン二酸ポリマー（４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル  ピペリジニル−イル）エタノール存在下）、約５０％、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ１１９、化合物名：Ｎ−Ｎ’−Ｎ’’−Ｎ’’’−テトラキス（４，６−ビス（ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）トリアジン−２−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン）、（いずれもＢＡＳＦ社製）または、アデカスタブＬＡシリーズ（（株）アデカ製）、具体的には、ＬＡ−５２、ＬＡ−５７、ＬＡ−６２、ＬＡ−６７などを挙げることができる。
【００９４】
本発明の光硬化性インクジェット用インクに用いられる紫外線吸収剤および光安定剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００９５】
紫外線吸収剤および光安定剤の含有量は、特に制限されず、他特性とのバランスを考慮すると、本発明の光硬化性インクジェット用インク総量の５重量％以下であると好ましい。
【００９６】
１．７．酸化防止剤
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、得られる硬化膜などの酸化を防止するために、酸化防止剤を含有してもよい。
【００９７】
酸化防止剤としては、ペンタエリスリトール  テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール  −ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステルなどのヒンダードフェノール化合物、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミンおよびジエチルアミノメチルメタクリレートなどのアミン化合物、（ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリルル−３，３’−チオジプロピオネートなど）などの硫黄系化合物、リフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（オクタデシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ（２，４−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、ビス［２−ｔ−ブチル−６−メチル−４−｛２−（オクタデシルオキシカルボニル）エチル｝フェニル］ヒドロゲンホスファイトなど）、およびオキサホスファフェナントレンオキサイド類（９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−デシロキシ−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイドなどのリン系化合物が挙げられる。
【００９８】
本発明の光硬化性インクジェット用インクに用いられる酸化防止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００９９】
酸化防止剤の含有量は、特に制限されず、他特性とのバランスを考慮すると、本発明の光硬化性インクジェット用インク総量の５重量％以下であると好ましい。
【０１００】
１．８．帯電防止剤
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、帯電防止剤を含有してもよい。帯電防止剤は、得られる硬化膜表面が静電気により帯電するのを防ぎ、埃などが表面に付着するのを抑制する。
【０１０１】
帯電防止剤としては、特に限定されることはなく、エトキシグリセリン脂肪酸エステル、第４級アミン化合物、脂肪族アミン誘導体、アルキルスルホン酸塩化合物、（ポリエチレンオキサイドのような）エポキシ樹脂、シロキサン、またはポリ（エチレングリコール）エステル、ポリ（エチレングリコール）エーテルなどのようなその他のアルコール誘導体といった、当業者に周知のどのような帯電防止剤でも構わない。
【０１０２】
帯電防止剤の具体例としては、コルコート２００、コルコート５１５、コルコート１０００、コルコートＷＡＳ−１５Ｘ（いずれも、コルコート（株）製）、エレクトロストリッパーＡＣ、エレクトロストリッパーＱＮ、エレクトロストリッパーＭＥ−２（いずれも花王（株）製）、ＦＣ−４４００（３Ｍ製）、ＡＣ−ＩＬＡ（化研産業（株）製）、ＩＬ−Ａ２、ＩＬ−ＡＰ３（いずれも、広栄化学工業（株）製）、ＰＥＬ−２０Ａ、ＰＥＬ−２５、ＰＥＬ−４６、ＰＥＬ−１００、ＣＩＬ−３１２、ＣＩＬ−３１３（いずれも日本カーリット（株）製）、アクリット１ＳＸ−１０５５、アクリット１ＳＸ−１０６０、アクリット１ＳＸ−１０９０、アクリット１ＳＸ−３０００（いずれも大成ファインケミカル（株）製）、ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１１２１（楠本化成（株）製）、ＰＣ−３６６２、ＰＣ−６８６２（いずれも丸菱油化工業（株）製）などを挙げることができる。
【０１０３】
本発明の光硬化性インクジェット用インクに用いられる帯電防止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【０１０４】
帯電防止剤の含有量は、特に制限されず、他特性とのバランスを考慮すると、本発明の光硬化性インクジェット用インク総量の１０重量％以下であると好ましい。
【０１０５】
１．９．界面活性剤
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、光学シートへの塗れ性を制御する目的で、必要に応じてさらに界面活性剤を含んでもよい。
【０１０６】
界面活性剤の具体例としては、ポリフローＮｏ．４５、ポリフローＫＬ−２４５、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５（商品名、共栄社化学工業（株）製）、ディスパーベイク（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ）１６１、ディスパーベイク１６２、ディスパーベイク１６３、ディスパーベイク１６４、ディスパーベイク１６６、ディスパーベイク１７０、ディスパーベイク１８０、ディスパーベイク１８１、ディスパーベイク１８２、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４２、ＢＹＫ３４４、ＢＹＫ３４６（商品名、ビックケミー・ジャパン（株）製）、ＫＰ−３４１、ＫＰ−３５８、ＫＰ−３６８、ＫＦ−９６−５０ＣＳ、ＫＦ−５０−１００ＣＳ（商品名、信越化学工業（株）製）、サーフロンＳＣ−１０１、サーフロンＫＨ−４０（商品名、セイミケミカル（株）製）、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２５１、ＦＴＸ−２１８（商品名、（株）ネオス製）、ＴＥＧＯ  Ｒａｄ２１００、２２００Ｎ、２２５０、２５００、２６００、２７００（商品名、エボニックデグサ社製）ＥＦＴＯＰ  ＥＦ−３５１、ＥＦＴＯＰ  ＥＦ−３５２、ＥＦＴＯＰ  ＥＦ−６０１、ＥＦＴＯＰ  ＥＦ−８０１、ＥＦＴＯＰ  ＥＦ−８０２（商品名、三菱マテリアル（株）製）、メガファックＦ−１７１、メガファックＦ−１７７、メガファックＦ−４４４、メガファックＦ−４７５、メガファックＦ−４７７、メガファックＦ−５５６、メガファックＲ−０８、メガファックＲ−３０（商品名、ＤＩＣ（株）製）、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、フルオルアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、フルオロアルキルアミノスルホン酸塩、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラウレート、ポリオキシエチレンオレエート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ソルビタンラウレート、ソルビタンパルミテート、ソルビタンステアレート、ソルビタンオレエート、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンオレエート、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、アルキルベンゼンスルホン酸塩、およびアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩を挙げることができる。
【０１０７】
本発明の光硬化性インクジェット用インクに用いられる界面活性剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【０１０８】
界面活性剤の含有量は、本発明の光硬化性インクジェット用インク総量の２重量％以下であると、光学シートへの塗れ性を効果的に制御できるので好ましい。
【０１０９】
１．１０．インクジェット用インク
１．１０．１．インクジェット用インクの調製方法
本発明のインクジェット用インクは、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。
【０１１０】
特に、本発明のインクジェット用インクは、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分および必要に応じてその他の成分を混合し、得られた溶液をろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。そのようにして調製された本発明のインクジェット用インクは、インクジェット塗布時の吐出性に優れる。前記ろ過には、例えばフッ素樹脂製、ポリエチレン製、ポリプロピレン製のフィルターが用いられる。
【０１１１】
１．１０．２．インクジェット用インクの粘度
本発明のインクジェット用インクの、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度は１〜２００ｍＰａ・ｓであり、好ましくは２〜１５０ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは３〜１００ｍＰａ・ｓである。前記粘度であると、本発明のインクジェット用インクをインクジェット法で塗布する場合に、インクジェット装置による吐出性が良好となる。
【０１１２】
また、インクジェット装置で吐出する際の温度（好ましくは２５〜１２０℃）における本発明のインクジェット用インクの粘度は、１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。
【０１１３】
２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓを超えるインクジェット用インクを使用する場合は、インクジェットヘッドを加熱して吐出時のインクジェット用インクの粘度を下げることで、より安定した吐出が可能になる。加熱して吐出を行う場合は、加熱温度（好ましくは４０〜１２０℃）におけるインクジェット用インクの粘度が１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。
【０１１４】
インクジェットヘッドを加熱する場合は、溶媒を含まないインクジェット用インクを用いることが好ましい。
【０１１５】
１．１０．３．インクジェット用インクの保存
本発明のインクジェット用インクは、４〜２５℃で保存すると保存中の粘度変化が小さく、保存安定性が良好である。
【０１１６】
＜２．マイクロレンズおよび保護膜＞
本発明のマイクロレンズや保護膜は、上述した本発明のインクから形成され、具体的には、本発明のインクをインクジェット法により基板表面に塗布した後に、該インクに紫外線や可視光線などの光を照射して硬化させることで得られるマイクロレンズや保護膜が好ましい。
【０１１７】
本発明のマイクロレンズや保護膜は、前記本発明のインクを硬化させることで得られるため、良好な形状を有し、かつ、恒温恒湿試験後でも光学特性が良好であるマイクロレンズや保護膜である。
【０１１８】
紫外線や可視光線などを照射する場合の照射する光の量（露光量）は、光硬化性インクの組成に依存するが、照度計（ＵＶｐａｄ−Ｅ、（株）アルゴ製）を用いて、波長はＵＶ−Ａ（３１５−３８０ｎｍ）で測定して、１００〜５，０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、１００〜４，０００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましく、１００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ2がさらに好ましい。また、照射する紫外線や可視光線などの波長は、２００〜５００ｎｍが好ましい。
【０１１９】
なお、露光機としては、高圧水銀灯ランプ、超高圧水銀灯ランプ、メタルハライドランプ、ハロゲンランプなどを搭載し、２５０〜５００ｎｍの範囲で、紫外線や可視光線などを照射する装置であれば特に限定されない。
【０１２０】
また、必要に応じて、光の照射により硬化したマイクロレンズや保護膜をさらに加熱・焼成してもよく、８０〜２５０℃で１０〜６０分間加熱・焼成をすることによって、マイクロレンズや保護膜をより強固に硬化させることができる。
【０１２１】
本発明のインクが塗布される「基板」は、本発明のインクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状などであってもよい。
【０１２２】
前記基板としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などからなるポリエステル系樹脂基板；ポリエチレンおよびポリプロピレンなどからなるポリオレフィン樹脂基板；ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリイミドなどからなる有機高分子フィルム；セロハンからなる基板；金属箔；ポリイミドと金属箔との積層フィルム；目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、ポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷんまたはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙；およびガラス基板を挙げることができる。
【０１２３】
前記基板としては、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤および／または電磁波防止剤などの添加剤を含有した基板を用いてもよい。また、前記基板としては、基板の表面の少なくとも一部に、必要によりコロナ処理、プラズマ処理またはブラスト処理など表面処理を施した基板であってもよく、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜、ハードコート膜を設けた基板であってもよい。
【０１２４】
本発明のインクを用いて、より径が小さく高さの高いマイクロレンズやより高精彩パターンを有する保護膜を得るなどの目的で、必要により、基板表面を撥液処理してもよい。
【０１２５】
なお、本発明のインクを、基板、特にアクリル基板上に吐出する場合、該基板の表面状態は、ムラがない（部分的に極端に親液であったり、撥液でない）ことが好ましい。従って、基板表面のムラをなくす目的で、基板表面を表面処理しておくことが好ましい。
【０１２６】
前記基板の厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜４ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、５０μｍ〜２ｍｍが好ましく、１００μｍ〜１ｍｍがさらに好ましい。
【０１２７】
前記マイクロレンズのレンズ径（Ｄ）に対するレンズ高さ（Ｈ）の比（Ｈ／Ｄ）は、所望の用途に応じ適宜選択すればよく特に限定されないが、光の取り出し効率に優れる光学部品などを製造できる点から、好ましくは０．１５以上、より好ましくは０．１６以上である。
【０１２８】
本発明において、「良好な形状のマイクロレンズ」とは、例えば、略円形状（真円形状を含む）であり、レンズ径に対するレンズ高さの比が前記範囲にあるようなマイクロレンズのことをいう。
【０１２９】
前記マイクロレンズは、光硬化した１μｍ〜５μｍの均一膜における波長４００ｎｍの光透過率が好ましくは９８％以上、より好ましくは９８．５％以上である。
【０１３０】
＜３．光学部品、電子部品＞
本発明の光学部品は、前記マイクロレンズを有すれば特に制限されないが、基板上に前記マイクロレンズが設けられたものが好ましい。
【０１３１】
このような光学部品としては、映像表示装置用導光板、３Ｄ画像表示素子用のレンズ基材などが挙げられる。
また、本発明の半導体パッケージやフレキシブル配線板は、前記保護膜を有すれば特に制限されないが、基板上に前記保護膜が設けられたものが好ましい。
このような電子部品としては、バッファーコート、再配線絶縁材、ダム材、アンダーフィル材を搭載したウェハレベルパッケージや、カバーレイを搭載したフレキシブル配線板などが挙げられる。
＜４．装置＞
本発明の装置は、前記光学部品、電子部品を有する。
【０１３２】
このような装置としては、ディスプレイ、照明、３Ｄ表示素子などが挙げられる。
前記導光板をバックライトに組み込むことで、例えば、液晶表示素子用の液晶ディスプレイを作製することができ、導光板と高輝度ＬＥＤを内蔵したＬＥＤ光源部を導光板の両端に備えた構成とすることで、ＬＥＤ照明を作成することができる。
【０１３３】
前記レンズ基材をディスプレイに組み込むことで、映像が空間に浮かび上がるように結像されるため、３Ｄ眼鏡を装着することなく立体的な画像を表示できる３Ｄディスプレイを構築することができる。
【実施例】
【０１３４】
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。【０１３５】
実施例における各物性は、以下の条件で測定した。
（ｉ）粘度
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製  ＴＶ−２２）を用い、２５℃における粘度を測定した。なお、コーンプレートは１゜３４'×２４Ｒを用いた。【０１３６】
（ｉｉ）不揮発度
単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）：ペンタエリスリトールテトラ（トリ）アクリレート＝Ｍ３０５＝２５：４５の重量比率で混合し、評価液を作製する。【０１３７】
（１）５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板の重量を測定する。
（２）（１）のガラス基板上に評価液を滴下し、スピンコートにて塗布重量が２５ｍｇ±２ｍｇの誤差となるように塗布する。
（３）（２）の評価液が塗布されたガラス基板の重量を測定する。
（４）（３）の重量から（１）の重量を差し引いて、評価液の塗布重量を計算する。
（５）（３）の評価液が塗布されたガラス基板を、５０℃のホットプレートで１５分加熱する。
（６）（５）の加熱後のガラス基板の重量を測定し、（１）の重量を差し引いて評価液の残量を計算する。
（７）次の計算式から不揮発度を算出する。【０１３８】
不揮発度％＝残量÷塗布重量×１００
[ジェッティング特性評価]
実施例４〜９および比較例１２〜１３に係る光硬化性インクを用いて以下の条件で（ｉｉｉ）インクジェット吐出安定性の評価、及び（ｉｖ）再吐出性の評価を実施した。【０１３９】
塗布方法：インクジェット印刷
プリンター：ＤＭＰ−２８３１（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ社製）
ヘッド：ＤＭＣ−１１６０１（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ社製）
印刷条件：ヘッド温度５０℃（実施例９）、４０℃（実施例４、５、８、比較例１２、１３）、３５℃（実施例６、７）、吐出速度５ｍ／ｓ、駆動波形Ｄｉｍａｔｉｘ  Ｍｏｄｅｌ  Ｆｌｕｉｄ２、駆動周波数５ｋＨｚ
（ｉｉｉ）インクジェット吐出安定性の評価（連続吐出安定時間）
インクジェットヘッドからインク（熱硬化性樹脂組成物）の吐出を開始して、プリンターに付属しているＣＣＤカメラで吐出状態を観察した。不吐出や吐出方向が斜めになる等、吐出を開始してから吐出不良のノズルが発見されたときまでの時間を連続吐出安定時間とした。【０１４０】
表２中、連続吐出安定時間の欄における、「＞Ｘ」はＸ分間経過した時点において吐出不良のノズルが生じなかったことを意味し、「≦Ｘ」はＸ分間経過した時点において吐出不良のノズルが生じたことを意味する。【０１４１】
（ｉｖ）再吐出性
インクの吐出停止から１分間経過後に、再度インクを吐出し、吐出状態を観察した。吐出不良が発見されなかった場合、吐出停止後３分間経過後に、再吐出し、吐出状態を観察した。同様に、５分間経過後、７分間経過後および１０分間経過後についても、再吐出性を評価して、吐出不良が発見されるまでの経過時間を測定した。表２中、再吐出性の欄に示した数字は吐出不良が発見された経過時間を示し、「＞１０」は吐出停止後１０分間経過時点で再吐出したときに吐出不良が発見されなかったことを示す。【０１４２】
（ｖ）露光量
露光量は、照度計（ＵＶｐａｄ−Ｅ、（株）アルゴ製）を用いて、波長はＵＶ−Ａ（３１５−３８０ｎｍ）で測定した。【０１４３】
（ｖｉ）硬化性
硬化膜のベタツキを下記の通り評価した。
○：触感で硬化膜表面にベタツキがないもの
×：触感でベタツキがあるもの
実施例および比較例で用いる、反応原料および溶剤の名称を略号で示す。以下の記述にはこの略号を使用する。【０１４４】
成分（Ａ）
Ｍ３０５：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートとの混合物（東亞合成（株）製）
Ｍ３０９：トリメチロールプロパントリアクリレート（東亞合成（株）製）
Ｍ２０８：ビスフェノールＦ  ＥＯ変成ジアクリレート（東亞合成（株）製）
成分（Ｂ）
ＶＥＥＡ：２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート（（株）日本触媒製）
４ＨＢＡ：４−ヒドロキシブチルアクリレート
Ｖ＃１５０Ｄ：テトラヒドロフルフリルアルコールアクリル酸多量体エステル（大阪有機化学工業（株）製）【０１４５】
成分（Ｂ）に対する比較例となる単官能（メタ）アクリレート
ＦＡ−５１３ＡＳ：ジシクロペンタニルアクリレート（日立化成（株）製）
ＦＡ−５１３Ｍ：ジシクロペンタニルメタクリレート（日立化成（株）製）
ＴＨＦＭＡ：テトラヒドロフルフリルメタクリレート
ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート
ＣＨＭＡ：シクロヘキシルメタクリレート
ＣＨＡ：シクロヘキシルアクリレート
ＳＲ２１７：４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート（ＳＡＲＴＯＭＥＲ製）
ＭＥＤＯＬ−１０：（２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチルアクリレート（大阪有機化学工業（株）製）
ＦＸ−ＡＯ−ＭＡ：２−（アリルオキシメチル）アクリル酸メチル（（株）日本触媒製）ＡＣＭＯ：Ｎ−アクリロイルモルフォリン（ＫＪケミカルズ（株）製）【０１４６】
成分（Ｃ）
ＩＣ１２７：２−ヒロドキシ−１−｛４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]フェニル]−２−メチル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ製）
ＩＣ１１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル-プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ製）
ＩＣ３７９：２−(ジメチルアミノ)−２−[(4-メチルフェニル)メチル]−１−[４−(４−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン（ＢＡＳＦ製）【０１４７】
界面活性剤
ＢＹＫ−３４２：ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン（ビックケミー・ジャパン製）
Ｆ−４４４：パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物（ＤＩＣ（株）製）
ＴＥＧＯＲＡＤ２１００：シリコン変性アクリレート（エボニックデグサ製）【０１４８】
［実施例１］
＜評価液１の調合＞
下記に示す材料を混合・溶解して評価液１を得た。
ペンタエリスリトールテトラ（トリ）アクリレート（Ｍ３０５を使用）  ４．５ｇ
（Ｂ）ＶＥＥＡ  ２．５ｇ
評価液１の粘度は３１．７ｍＰａ・ｓ、不揮発度は８０．０％であった。【０１４９】
［実施例２〜３、比較例１〜１１］
単官能モノマー（Ｂ）の代わりに表１に示す材料を用いた以外は、実施例１と同様の方法で評価液２〜１４を調合し、粘度の測定、不揮発度の測定を行った。【０１５０】
【表１】
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表１に示すように、実施例１〜３は粘度が７０ｍＰａ・ｓ以下であり、また不揮発度も７５％以上となることから、光硬化性インクジェット用インクとして微細なパターン形状の形成に適している。【０１５１】
比較例１〜６は、粘度が７０ｍＰａ・ｓ以下である一方で不揮発度が７５％以下であることから、インクジェット用インクとして使用した場合、単官能モノマーが揮発する事により描画した微細なパターン形状が損なわれ、安定したパターン形状を得ることが難しいと考えられる。【０１５２】
比較例７，８は、粘度が７０ｍＰａ・ｓ以上であり、不揮発度が７５％以下であることから、インクジェット用インクとして使用した場合、ノズル詰まりなどで安定した吐出が難しく、単官能モノマーが揮発する事により描画した微細なパターン形状が損なわれ、安定したパターン形状を得ることが難しいと考えられる。【０１５３】
比較例９〜１１は、粘度が７０ｍＰａ・ｓ以上であり、不揮発度が７５％以上であることから、インクジェット用インクとして使用した場合、ノズル詰まりなどで安定した吐出が難しいと考えられる【０１５４】
［実施例４］
＜評価液４の調合＞
下記に示す材料を混合・溶解して、光硬化性インク４を得た。
（Ａ）Ｍ３０５  ７．００ｇ
（Ｂ）ＶＥＥＡ  ５．１０ｇ
（Ｃ）ＩＣ１２７  ０．８５ｇ
（界面活性剤）Ｆ−４４４            ０．００４５ｇ
光硬化性インク４の粘度は、２９．２ｍＰａ・ｓであった。【０１５５】
＜硬化膜の作製＞
得られた光硬化性インク４を、コーティングロッド（＃３、Ｒ．Ｄ．スペシャリティーズ社製）を用いて、ＰＥＴフィルム（厚さ：５０μｍ  銘柄名：コスモシャインＡ４３００、東洋紡株式会社製）上に塗布した。【０１５６】
得られた塗膜を、メタルハライドランプ（Ｍ０８−Ｌ４１、定格  １６０Ｗ／ｃｍ、岩崎電気（株）製）が付属したコンベア式ＵＶ照射装置を用いて、照度５００ｍＷ／ｃｍ2、露光量５００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線を照射し、透明な硬化膜を得た。デジタル測長機（ＤＩＧＩＭＩＣＲＯ  ＭＦ−５０１、（株）ニコン製）を用いて測定した硬化膜の膜厚は、３μｍであった。【０１５７】
＜硬化膜の評価＞
得られた硬化膜の硬化性を評価した。【０１５８】
以上の結果を表２に示す。
［実施例５〜９、および比較例１２〜１３］
表２に示す材料を用いた以外は、実施例４と同様の方法で、光硬化性インク５〜９、および光硬化性インク１２〜１３を調製した。光硬化性インク５〜９、および光硬化性インク１２〜１３の粘度を測定した。【０１５９】
光硬化性インク５〜９、および光硬化性インク１２〜１３を用いて、実施例４と同様の方法で硬化膜を作製し、硬化性を評価した。結果を合わせて表２、３に示す。【０１６０】
【表２】
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【０１６１】
【表３】
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表２に示すように、実施例４〜９は、室温での粘度が低く、インクジェットによる連続吐出安定性、再吐出性に優れ、また硬化性も十分であることから、インクジェット法により微細なパターン形状の形成に適している。一方、比較例１２、１３はインクジェットによる連続吐出安定性、再吐出性が不十分であるため、インクジェット法によるパターン形成には不向きである。
【産業上の利用可能性】
【０１６２】
以上説明したように、本発明の光硬化性インクジェット用インクは、揮発性が低く、インクジェット連続吐出性、再吐出性が良好となるため、マイクロレンズや保護膜などの微細なパターン形状の形成に有用である。
【国際調査報告】
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