(57)【要約】  モールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性に優れたレプリカモールドの硬化物層を形成できるインプリント用硬化性組成物；インプリント用硬化性組成物を用いたインプリント用レプリカモールド、その製造方法、ならびに該レプリカモールドを用いた、微細パターンを表面に有する物品の製造方法の提供。  ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）Ｃ（Ｏ）ＯＲ２Ｒｆ（Ｒ１：水素原子、メチル等、Ｒ２：フッ素原子を有さない２価の連結基、Ｒｆ：炭素数２〜６のフルオロアルキル基等）に基づく構成単位（ａ）および酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する構成単位（ｂ）を有する含フッ素ポリマーと、光酸発生剤とを含み；含フッ素ポリマーの割合が、インプリント用硬化性組成物の１００質量％のうち、１１〜８９質量％である、インプリント用硬化性組成物を用いる。
2018173930.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式で表されるモノマー（Ｉ）に基づく構成単位（ａ）および酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する構成単位（ｂ）（ただし、前記構成単位（ａ）を除く。）を有する含フッ素ポリマーと、光酸発生剤とを含み、
前記含フッ素ポリマーの割合が、インプリント用硬化性組成物の１００質量％のうち、１１〜８９質量％である、インプリント用硬化性組成物。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）Ｃ（Ｏ）ＯＲ２Ｒｆ  （Ｉ）
ただし、Ｒ１は、水素原子、メチル基またはハロゲン原子であり、Ｒ２は、フッ素原子を有さない２価の連結基であり、Ｒｆは、炭素数２〜６のフルオロアルキル基、または炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のフルオロアルキル基であり、Ｒｆは、Ｒ２に結合する炭素原子が少なくとも１つのフッ素原子を有する。
【請求項２】
前記構成単位（ｂ）の含有量が、前記構成単位（ａ）の１００質量部に対して、１０〜１５０質量部である、請求項１に記載のインプリント用硬化性組成物。
【請求項３】
前記含フッ素ポリマーの質量平均分子量が、１，０００〜５０，０００である、請求項１または２に記載のインプリント用硬化性組成物。
【請求項４】
前記含フッ素ポリマーが、ペンダント基にエチレン性二重結合を有する構成単位（ｃ）をさらに有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のインプリント用硬化性組成物。
【請求項５】
２５℃における粘度が、０．１Ｐａ・ｓ以上である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のインプリント用硬化性組成物。
【請求項６】
前記含フッ素ポリマーのフッ素含有率が、２２質量％以上である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のインプリント用硬化性組成物。
【請求項７】
前記インプリント用硬化性組成物のフッ素含有率が、５質量％以上である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のインプリント用硬化性組成物。
【請求項８】
前記インプリント用硬化性組成物が、硬化性モノマーをさらに含み、
前記硬化性モノマーが、含フッ素モノマーを含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載のインプリント用硬化性組成物。
【請求項９】
前記硬化性モノマーのフッ素含有率が、１質量％以上である、請求項８に記載のインプリント用硬化性組成物。
【請求項１０】
モールド基材と、前記モールド基材の表面に形成された、微細パターンを表面に有する硬化物層とを有し、
前記硬化物層が、請求項１〜９のいずれか一項に記載のインプリント用硬化性組成物の硬化物からなる、インプリント用レプリカモールド。
【請求項１１】
前記モールド基材が、ガラスである、請求項１０に記載のインプリント用レプリカモールド。
【請求項１２】
前記モールド基材が、石英ガラスである、請求項１０に記載のインプリント用レプリカモールド。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールドを製造する方法であり、
微細パターンを表面に有するマスターモールドと前記モールド基材との間に、前記マスターモールドの微細パターンが前記インプリント用硬化性組成物に接するように、前記インプリント用硬化性組成物を挟持し、
前記インプリント用硬化性組成物を硬化させて硬化物層を形成し、
前記硬化物層と前記マスターモールドとを分離する、インプリント用レプリカモールドの製造方法。
【請求項１４】
基材と、前記基材の表面に形成された、微細パターンを表面に有する硬化物層とを有する、微細パターンを表面に有する物品を製造する方法であり、
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールドと前記基材との間に、前記インプリント用レプリカモールドの微細パターンが被転写材料に接するように、前記被転写材料を挟持し、
前記被転写材料を硬化させて硬化物層を形成し、
前記硬化物層と前記インプリント用レプリカモールドとを分離する、微細パターンを表面に有する物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリント用硬化性組成物、インプリント用レプリカモールドおよびその製造方法、ならびに微細パターンを表面に有する物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学部材、記録メディア、半導体デバイス等の製造において、ナノメートルオーダーの微細パターンを短時間で形成する方法として、インプリント法が知られている。このインプリント法は、微細パターンを表面に有するモールドを、基材の表面に配置された被転写材料（硬化性組成物）に押し付け、被転写材料を硬化させることによって、微細パターンが表面に転写された硬化物層を基材の表面に形成する方法である。【０００３】
インプリント法に用いられるマスターモールドは、シリコン、石英ガラス、金属等の表面に微細パターンを精密加工によって形成しているため、非常に高価である。そのため、インプリント法によって、マスターモールドの微細パターンが表面に転写された硬化物層をモールド基材（ガラス、例えば石英ガラス）の表面に有するレプリカモールドを製造することが行われる。【０００４】
レプリカモールドの硬化物層を形成するための硬化性組成物として、特許文献１には、硬化性樹脂または硬化性モノマー１００重量部に対して、硬化性のフッ素系ポリマー（Ａ）０．１〜１０重量部を含み、硬化性のフッ素系ポリマー（Ａ）が、炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレートに基づく構成単位およびエポキシ基を有する架橋基含有モノマーに基づく構成単位を有する、インプリント用の樹脂モールド材料組成物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】日本特許第５７９４３８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
レプリカモールドの硬化物層には、モールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性が求められる。
しかし、特許文献１に記載の樹脂モールド材料組成物から形成されたレプリカモールドの硬化物層は、モールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性ともに不充分である。【０００７】
本発明は、モールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性に優れたレプリカモールドの硬化物層を形成できるインプリント用硬化性組成物；硬化物層とモールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性に優れたインプリント用レプリカモールド、その製造方法、ならびに該レプリカモールドを用いた、微細パターンを表面に有する物品の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、下記の態様を有する。
＜１＞下式で表されるモノマー（Ｉ）に基づく構成単位（ａ）および酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する構成単位（ｂ）（ただし、前記構成単位（ａ）を除く。）を有する含フッ素ポリマーと、光酸発生剤とを含み；前記含フッ素ポリマーの割合が、インプリント用硬化性組成物の１００質量％のうち、１１〜８９質量％であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）Ｃ（Ｏ）ＯＲ２Ｒｆ  （Ｉ）
ただし、Ｒ１は、水素原子、メチル基またはハロゲン原子であり、Ｒ２は、フッ素原子を有さない２価の連結基であり、Ｒｆは、炭素数２〜６のフルオロアルキル基または炭素数２〜６のフルオロアルキル基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｒｆは、Ｒ２に結合する炭素原子が少なくとも１つのフッ素原子を有する。
＜２＞前記構成単位（ｂ）の含有量が、前記構成単位（ａ）の１００質量部に対して、１０〜１５０質量部である、前記＜１＞のインプリント用硬化性組成物。
＜３＞前記含フッ素ポリマーの質量平均分子量が、１，０００〜５０，０００である、前記＜１＞または＜２＞のインプリント用硬化性組成物。
＜４＞前記含フッ素ポリマーが、ペンダント基にエチレン性二重結合を有する構成単位（ｃ）をさらに有する、前記＜１＞〜＜３＞のいずれかのインプリント用硬化性組成物。
＜５＞２５℃における粘度が、０．１Ｐａ・ｓ以上である、前記＜１＞〜＜４＞のいずれかのインプリント用硬化性組成物。
＜６＞前記含フッ素ポリマーのフッ素含有率が、２２質量％以上である、前記＜１＞〜＜５＞のいずれかのインプリント用硬化性組成物。
＜７＞前記インプリント用硬化性組成物のフッ素含有率が、５質量％以上である、前記＜１＞〜＜６＞のいずれかのインプリント用硬化性組成物。
＜８＞前記インプリント用硬化性組成物が、硬化性モノマーをさらに含み；前記硬化性モノマーが、含フッ素モノマーを含む、前記＜１＞〜＜７＞のいずれかのインプリント用硬化性組成物。
＜９＞前記硬化性モノマーのフッ素含有率が、１質量％以上である、前記＜８＞のインプリント用硬化性組成物。
＜１０＞モールド基材と、前記モールド基材の表面に形成された、微細パターンを表面に有する硬化物層とを有し；前記硬化物層が、前記＜１＞〜＜９＞のいずれかのインプリント用硬化性組成物の硬化物からなることを特徴とするインプリント用レプリカモールド。
＜１１＞前記モールド基材が、ガラスである、前記＜１０＞のインプリント用レプリカモールド。
＜１２＞前記モールド基材が、石英ガラスである、前記＜１０＞のインプリント用レプリカモールド。
＜１３＞前記＜１０＞〜＜１２＞のいずれかのインプリント用レプリカモールドを製造する方法であり；微細パターンを表面に有するマスターモールドと前記モールド基材との間に、前記マスターモールドの微細パターンが前記インプリント用硬化性組成物に接するように、前記インプリント用硬化性組成物を挟持し；前記インプリント用硬化性組成物を硬化させて硬化物層を形成し；前記硬化物層と前記マスターモールドとを分離することを特徴とするインプリント用レプリカモールドの製造方法。
＜１４＞基材と、前記基材の表面に形成された、微細パターンを表面に有する硬化物層とを有する、微細パターンを表面に有する物品を製造する方法であり；前記＜１０＞〜＜１２＞のいずれかのインプリント用レプリカモールドと前記基材との間に、前記インプリント用レプリカモールドの微細パターンが被転写材料に接するように、前記被転写材料を挟持し；前記被転写材料を硬化させて硬化物層を形成し；前記硬化物層と前記インプリント用レプリカモールドとを分離することを特徴とする微細パターンを表面に有する物品の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のインプリント用硬化性組成物によれば、モールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性に優れたレプリカモールドの硬化物層を形成できる。
本発明のレプリカモールドは、硬化物層とモールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性に優れる。
本発明のレプリカモールドの製造方法によれば、硬化物層とモールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性に優れたレプリカモールドを製造できる。
本発明の微細パターンを表面に有する物品の製造方法によれば、インプリント用レプリカモールドにおいて硬化物層とモールド基材との剥離が抑えられ、かつインプリント用レプリカモールドの硬化物層と被転写材料の硬化物との離型性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のインプリント用レプリカモールドの一例を示す模式断面図である。
【図２】本発明のインプリント用レプリカモールドの製造方法の一例を示す模式断面図である。
【図３】微細パターンを表面に有する物品の一例を示す模式断面図である。
【図４】本発明の微細パターンを表面に有する物品の製造方法の一例を示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
数値範囲における「〜」は、特段の定めがない限り、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含むことを示す。
図１〜図４における寸法比は、説明の便宜上、実際のものとは異なったものである。
「モノマー」とは、ポリマーの構成単位となり得る化合物を意味する。モノマーとしては、エチレン性二重結合を有する化合物、エチレン性二重結合と反応し得る基（チオール基等）を有する化合物が挙げられる。
「構成単位」とは、モノマーから構成される単位を意味する。構成単位は、モノマーの反応によって直接形成された単位であってもよく、ポリマーを処理することによって該単位の一部が別の構造に変換された単位であってもよい。
「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの総称である。
「光」とは、紫外線、可視光線、赤外線、電子線および放射線の総称である。
【００１２】
＜インプリント用硬化性組成物＞
本発明のインプリント用硬化性組成物は、特定の含フッ素ポリマー（以下、含フッ素ポリマー（Ａ）と記す。）と光酸発生剤とを含み、更に硬化性モノマーを含んでもよく、さらにまた光ラジカル重合開始剤を含んでいてもよい。本発明のインプリント用硬化性組成物は、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。
【００１３】
インプリント用硬化性組成物の２５℃における粘度は、０．１Ｐａ・ｓ以上が好ましく、０．２Ｐａ・ｓ以上がより好ましく、１．０Ｐａ・ｓ以上がさらに好ましい。また、上記粘度は１５Ｐａ・ｓ以下が好ましく、１２Ｐａ・ｓ以下がより好ましい。該粘度が０．１〜１５Ｐａ・ｓの範囲内であれば、特別な操作（たとえば、インプリント用硬化性組成物を高温に加熱して低粘度にする操作等）を行うことなく、インプリント用硬化性組成物をマスターモールドに容易に接触させることができる。また、インプリント用硬化性組成物がモールド基材の表面から流れ出すことなく、簡便にモールド基材の表面に塗布できる。特に、厚さ３ｍｍ以上のパターンを作製する際は、基材から材料が流れ出ないように粘度が高い方が望ましく、該粘度は好ましくは、１．０Ｐａ・ｓ以上であり、好ましくは２．０Ｐａ・ｓ以上である。
【００１４】
インプリント用硬化性組成物のフッ素含有率は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上がさらに好ましい。このフッ素含有率が前記下限値以上であれば、インプリント用硬化性組成物を硬化した硬化物層が、被転写材料の硬化物との離型性を充分に発揮できる。また、このフッ素含有率は８０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。このフッ素含有率が前記上限値以下であれば、モールド基材との密着性の低下を抑えることができる。
【００１５】
（含フッ素ポリマー（Ａ））
含フッ素ポリマー（Ａ）は、特定の構成単位（ａ）および特定の構成単位（ｂ）を有する。含フッ素ポリマー（Ａ）は、特定の構成単位（ｃ）をさらに有することが好ましい。含フッ素ポリマー（Ａ）は、必要に応じて構成単位（ａ）、構成単位（ｂ）および構成単位（ｃ）以外の構成単位（ｄ）をさらに有していてもよい。
【００１６】
構成単位（ａ）は、下式で表されるモノマー（Ｉ）に基づく構成単位である。
含フッ素ポリマー（Ａ）が構成単位（ａ）を有することによって、含フッ素ポリマー（Ａ）を含む硬化物層が、被転写材料の硬化物との離型性を発揮できる。
【００１７】
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）Ｃ（Ｏ）ＯＲ２Ｒｆ  （Ｉ）
ただし、Ｒ１は、水素原子、メチル基またはハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子等）であり、Ｒ２は、フッ素原子を有さない２価の連結基であり、Ｒｆは、炭素数２〜６のフルオロアルキル基または炭素数２〜６のフルオロアルキル基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｒｆは、Ｒ２に結合する炭素原子が少なくとも１つのフッ素原子を有する。
Ｒ２としては、モノマー（Ｉ）の入手のしやすさの点から、アルキレン基が好ましく、炭素数１〜３のアルキレン基がより好ましい。
Ｒｆとしては、離型性の点から、炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基または炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。Ｒｆの炭素数は、離型性の点から、４〜６が好ましく、６が特に好ましく、環境負荷を抑える点から、６以下である。
ここで、Ｒｆの炭素原子間に含まれる該エーテル性酸素原子は一個であってもよく、複数個であってもよい。
【００１８】
モノマー（Ｉ）としては、下記の化合物が挙げられる。
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）２Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）３Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）４Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）５Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）６Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ３、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）２Ｆ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）３Ｆ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）４Ｆ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）５Ｆ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）６Ｆ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ３、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３、
ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）２Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）３Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）４Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）５Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）６Ｆ等。
モノマー（Ｉ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１９】
構成単位（ｂ）は、酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する構成単位（ただし、前記構成単位（ａ）を除く。）である。
含フッ素ポリマー（Ａ）が構成単位（ｂ）を有することによって、含フッ素ポリマー（Ａ）を含む硬化物層が、モールド基材との密着性を発揮できる。
すなわち、露光によって光酸発生剤から発生した酸によって、構成単位（ｂ）における酸素原子を有するカチオン重合性反応基と、モールド基材の表面の反応性基（水酸基等）とが反応し、含フッ素ポリマー（Ａ）を含む硬化物層とモールド基材とが化学的に結合する。
【００２０】
酸素原子を有するカチオン重合性反応基としては、環状エーテル、ビニルエーテル等が挙げられ、反応性が高く、速やかに結合を形成する点から、環状エーテルが好ましい。
環状エーテルとしては、エポキシ基、オキセタン基、３，４−エポキシシクロヘキシル基等が挙げられる。ビニルエーテルとしては、ビニルオキシ基等が挙げられる。
【００２１】
構成単位（ｂ）の具体例としては、酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有するモノマー（ＩＩ）に基づく構成単位が挙げられる。
モノマー（ＩＩ）としては、グリシジル（メタ）アクリレート、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。モノマー（ＩＩ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２２】
構成単位（ｃ）は、ペンダント基にエチレン性二重結合を有する構成単位である。
含フッ素ポリマー（Ａ）が構成単位（ｃ）を有することによって、含フッ素ポリマー（Ａ）を含むインプリント用硬化性組成物の硬化性がよくなる。
【００２３】
構成単位（ｃ）は、たとえば、第１の反応性基を有するモノマー（ＩＩＩ’）に基づく構成単位（ｃ’）に、第１の反応性基と反応し得る第２の反応性基およびエチレン性二重結合を有するモノマー（Ｘ）を反応させることによって形成できる。
第１の反応性基としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられる。
第２の反応性基としては、イソシアネート基、カルボキシル基、酸クロライド基等が挙げられる。
【００２４】
モノマー（ＩＩＩ’）としては、水酸基を有する（メタ）アクリレート、水酸基およびエチレン性二重結合を有する化合物（ただし、（メタ）アクリレートを除く。）、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレート、カルボキシル基およびエチレン性二重結合を有する化合物（ただし、（メタ）アクリレートを除く。）、水酸基およびチオール基を有する化合物、カルボキシル基およびチオール基を有する化合物、アミノ基およびエチレン性二重結合を有する化合物、チオール基、アミノ基およびカルボキシル基を有する化合物等が挙げられる。
水酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
水酸基およびエチレン性二重結合を有する化合物としては、Ｎ−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）、フタル酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ヘキサヒドロフタル酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチル）等が挙げられる。
カルボキシル基およびエチレン性二重結合を有する化合物としては、６−アクリルアミドヘキサン酸等が挙げられる。
水酸基およびチオール基を有する化合物としては、２−メルカプトエタノール、３−メルカプト−１−プロパノール、α−チオグリセロール、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、６−メルカプト−１−ヘキサノール等が挙げられる。
カルボキシル基およびチオール基を有する化合物としては、チオグリコール酸、チオ乳酸、チオりんご酸、３−メルカプトイソ酪酸、１−（メルカプトメチル）シクロプロパン酢酸、３−メルカプト安息香酸、４−メルカプト安息香酸等が挙げられる。
アミノ基およびエチレン性二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
チオール基、アミノ基およびカルボキシル基を有する化合物としては、Ｌ−システイン等が挙げられる。
モノマー（ＩＩＩ’）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２５】
モノマー（Ｘ）としては、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレート、酸クロライド基を有するモノマー等が挙げられる。
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレートとしては、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（昭和電工社製、カレンズＭＯＩ（商品名））、アクリロイルオキシエチルイソシアネート（昭和電工社製、カレンズＡＯＩ（商品名））、１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート（昭和電工社製、カレンズＭＯＩ−ＢＥＩ（商品名））、メタクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート（昭和電工社製、カレンズＭＯＩ−ＥＧ（商品名））等が挙げられる。
カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）、フタル酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ヘキサヒドロフタル酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチル）等が挙げられる。
酸クロライド基を有するモノマーとしては、アクリロイルクロライド、メタクリロイルクロライド等が挙げられる。
モノマー（Ｘ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２６】
構成単位（ｄ）は、構成単位（ａ）、構成単位（ｂ）および構成単位（ｃ）以外の構成単位である。モノマー（Ｘ）と反応せずに残存する構成単位（ｃ’）は、構成単位（ｄ）に含まれる。
構成単位（ｄ）としては、モノマー（Ｉ）およびモノマー（ＩＩ）以外のモノマー（ＩＶ）に基づく構成単位が挙げられる。
【００２７】
モノマー（ＩＶ）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
モノマー（ＩＶ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２８】
含フッ素ポリマー（Ａ）のフッ素含有率は、２２質量％以上が好ましく、２５質量％以上がより好ましく、３０質量％がさらに好ましい。前記下限値以上であれば含フッ素ポリマー（Ａ）を含む硬化物層が、被転写材料の硬化物との離型性を充分に発揮できる。このフッ素含有率は７５質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。前記上限値以下であれば、インプリント用硬化性組成物における含フッ素ポリマー（Ａ）と他の成分との相溶性がよい。
含フッ素ポリマー（Ａ）の全構成単位中の構成単位（ａ）の割合は、含フッ素ポリマー（Ａ）のフッ素含有率が前記範囲内となるように適宜調整する。
【００２９】
構成単位（ｂ）の含有量は、構成単位（ａ）１００質量部に対して、１０〜１５０質量部が好ましい。構成単位（ｂ）の含有量が１０質量部以上であれば、含フッ素ポリマー（Ａ）を含む硬化物層が、モールド基材との密着性を充分に発揮できる。構成単位（ｂ）の含有量は、２０質量部以上がより好ましく、３０質量部以上がさらに好ましい。一方で、構成単位（ｂ）の含有量が１５０質量部以下であれば、他の構成単位による効果を損ないにくい。構成単位（ｂ）の含有量は１２０質量部以下がより好ましく、１００質量部以下がさらに好ましい。
【００３０】
含フッ素ポリマー（Ａ）が構成単位（ｃ）を含む場合、構成単位（ｃ）の含有量は、構成単位（ａ）１００質量部に対して、１０〜２００質量部が好ましい。構成単位（ｃ）の含有量が１０質量部以上であれば、含フッ素ポリマー（Ａ）を含むインプリント用硬化性組成物の硬化性がさらによくなる。構成単位（ｃ）の含有量は、２０質量部以上がより好ましく３０質量部以上がさらに好ましく、６０質量部以上がさらに好ましい。一方、構成単位（ｃ）の含有量は１８０質量部以下がより好ましく、１５０質量部以下がさらに好ましく、１２０質量部以下がさらに好ましい。
【００３１】
構成単位（ｄ）の含有量は、構成単位（ａ）１００質量部に対して、０〜３０質量部が好ましく、０〜２０質量部がより好ましく、０〜１０質量部がさらに好ましい。構成単位（ｄ）の割合が前記範囲の上限値以下であれば、他の構成単位による効果を損ないにくい。
含フッ素ポリマー（Ａ）における各構成単位の割合は、たとえば、含フッ素ポリマー（Ａ）を製造する際に用いた各モノマーの質量比から求めることができる。
【００３２】
含フッ素ポリマー（Ａ）の質量平均分子量は、１，０００〜５０，０００が好ましい。この質量平均分子量は１，５００以上がより好ましく、２，０００以上がさらに好ましい。一方で、この質量平均分子量は４０，０００以下がより好ましく、３０，０００以下がさらに好ましい。この質量平均分子量が前記範囲内であれば、含フッ素ポリマー（Ａ）が硬化物層の表面に偏在しやすい。その結果、含フッ素ポリマー（Ａ）を含む硬化物層が、被転写材料の硬化物との離型性を充分に発揮できる。
【００３３】
含フッ素ポリマー（Ａ）は、溶液重合法、バルク重合法、乳化重合法等の公知の重合法によって製造できる。重合法としては、溶液重合法が好ましい。
【００３４】
（光酸発生剤）
光酸発生剤は、光を照射することによって酸を発生する化合物であればよい。
光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、スルホニルジアゾメタン等が挙げられる。
【００３５】
トリアリールスルホニウム塩またはジアリールヨードニウム塩のカチオン部分の具体例としては、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウム、トリス（４−メチルフェニル）スルホニウム、ジフェニル−２，４，６−トリメチルフェニルスルホニウム、ジフェニルヨードニウム、４−イソプロピル−４’−メチルジフェニルヨードニウム、４−メチル−４’−メチルプロピルジフェニルヨードニウム、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウム等が挙げられる。
【００３６】
トリアリールスルホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩のアニオン部分の具体例としては、トリフルオロメタンスルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、ヘキサフルオロホスフェート、テトラフルオロボレート、トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、トリス（ヘプタフルオロプロピル）トリフルオロホスフェート、トリス（ノナフルオロイソブチル）トリフルオロホスフェート、ビス（ノナフルオロイソブチル）テトラフルオロホスフェート等が挙げられる。
【００３７】
スルホニルジアゾメタンの具体例としては、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−トルエンスルホニル）ジアゾメタン等が挙げられる。
【００３８】
（硬化性モノマー）
硬化性モノマーは、エチレン性二重結合を１つ以上有する化合物である。
インプリント用硬化性組成物が硬化性モノマーを含むことによって、インプリント用硬化性組成物の硬化性がよくなる。
硬化性モノマーは、インプリント用硬化性組成物を硬化した硬化物層が、被転写材料の硬化物との離型性を充分に発揮できる点、および硬化性モノマーと含フッ素ポリマー（Ａ）との相溶性がよくなる点から、含フッ素モノマーを含むことが好ましい。
硬化性モノマーは、フッ素原子を有さない非フッ素系モノマーを含んでいてもよい。
【００３９】
含フッ素モノマーとしては、相溶性の点から、フルオロ（メタ）アクリレートが好ましい。フルオロ（メタ）アクリレートとしては、下記の化合物が挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ（ＣＦ３）２、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ（ＣＦ３）２、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）４Ｆ、  ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）５Ｆ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）６Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）４Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）５Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）６Ｆ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２（ＣＦ２ＣＦ２）２Ｈ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２（ＣＦ２ＣＦ２）２Ｈ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３ＣＦ３、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３ＣＦ３、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３Ｆ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）２（ＣＦ２）３Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３Ｆ、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）２（ＣＦ２）３Ｆ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）２、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）２、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｐＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２（ただし、ｐは１〜２０の整数である。）、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｐＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２（ただし、ｐは１〜２０の整数である。）、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２（ＣＦ２）４ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２（ＣＦ２）４ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２（ＣＦ２）６ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２（ＣＦ２）６ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２ＯＣ（Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２等。
含フッ素モノマーは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４０】
非フッ素系モノマーとしては、下記の化合物が挙げられる。
２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−（ｔｅｒｔ−ブチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシピロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、９−アントラセニル（メタ）アクリレート、フルオレセインｏ−（メタ）アクリレート、２−（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）エチル（メタ）アクリレート、ジルコニウム（メタ）アクリレート、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等）、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等）、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセロール１，３−ジグリセロレートジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールエトキシレートジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールプロポキシレートジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピオネートジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチ���グリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールプロポキシレートジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールグリセロレートジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールグリセロレートジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、１，３−ビス（３−メタクリロイロキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアリル酸、トリメチロールプロパンエトキシレートメチルエーテルジ（メタ）アクリレート、ペンタリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、各種ウレタンアクリレート等。
非フッ素系モノマーは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４１】
硬化性モノマーのフッ素含有率は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましく、１０質量％以上がさらにより好ましい。このフッ素含有率が前記下限値以上であれば、インプリント用硬化性組成物を硬化した硬化物層が、被転写材料の硬化物との離型性を充分に発揮でき、インプリント用硬化性組成物における硬化性モノマーと含フッ素ポリマー（Ａ）との相溶性がよい。また、このフッ素含有率は、８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、５０質量％以下がさらに好ましい。このフッ素含有率が前記上限値以下であればインプリント用硬化性組成物における硬化性モノマーと含フッ素ポリマー（Ａ）以外の成分との相溶性がよい。
【００４２】
硬化性モノマーのフッ素含有率が前記下限値以上であれば、同じくフッ素原子を有する含フッ素ポリマー（Ａ）との相溶性がよくなる。硬化性モノマーと含フッ素ポリマー（Ａ）との相溶性がよければ、インプリント用硬化性組成物中の含フッ素ポリマー（Ａ）の割合を増やすことができる（１１質量％以上にできる）ため、モールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性がさらに優れたレプリカモールドの硬化物層を形成できる。
一方、特許文献１に記載のインプリント用の樹脂モールド材料組成物においては、硬化性モノマーが一般的な硬化性モノマーであるため、硬化性モノマーと硬化性のフッ素系ポリマー（Ａ）との相溶性が悪い。そのため、硬化性のフッ素系ポリマー（Ａ）の割合を増やすことができない（１０質量％以下にする必要がある）。そのため、特許文献１に記載の樹脂モールド材料組成物から形成されたレプリカモールドの硬化物層は、モールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性ともに不充分である。
【００４３】
（光ラジカル重合開始剤）
光ラジカル重合開始剤としては、光を吸収することによってラジカルを発生する化合物である。インプリント用硬化性組成物が光ラジカル重合開始剤を含むことによって、光照射により容易に硬化物を与える。
【００４４】
光ラジカル重合開始剤としては、アルキルフェノン系、アシルホスフィンオキシド系、チタノセン系、オキシムエステル系、オキシフェニル酢酸エステル系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系またはチオキサントン系の光重合開始剤、ベンジル−（ｏ−エトキシカルボニル）−α−モノオキシム、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレート等が挙げられる。感度および相溶性の点から、アルキルフェノン系、アシルホスフィンオキシド系、ベンゾイン系またはベンゾフェノン系の光重合開始剤が好ましい。
光ラジカル重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
（他の成分）
他の成分としては、界面活性剤、酸化防止剤（耐熱安定剤）、チクソトロピック剤、消泡剤、耐光安定剤、ゲル化防止剤、光増感剤、樹脂、樹脂オリゴマー、炭素化合物、金属微粒子、金属酸化物粒子、シランカップリング剤、他の有機化合物等が挙げられる。
【００４６】
（溶剤）
本発明のインプリント用硬化性組成物は、溶剤を含んでいてもよい。ただし、インプリント用硬化性組成物を硬化する前には、溶剤を除去することが好ましい。
溶剤としては、含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤、硬化性モノマー、光ラジカル重合開始剤を溶解可能な溶剤であればいずれも用いることができ、エステル構造、ケトン構造、水酸基、エーテル構造のいずれか１つ以上を有する溶剤が好ましい。
溶剤を用いる場合、インプリント用硬化性組成物中の溶剤の含有量は、目的の粘度、塗布性、目的とする膜厚等によって適宜調整すればよい。
【００４７】
（インプリント用硬化性組成物の各成分の割合）
含フッ素ポリマー（Ａ）の割合は、インプリント用硬化性組成物（溶剤を除く。）の１００質量％のうち、１１〜８９質量％である。含フッ素ポリマー（Ａ）の割合が１１質量％以上、好ましくは１５質量％以上、さらに好ましくは１９質量％以上であれば、モールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性に優れたレプリカモールドの硬化物層を形成できる。一方で、含フッ素ポリマー（Ａ）の割合が８９質量％以下、好ましくは８６質量％以下、さらに好ましくは８３質量％以下であれば、他の成分との相溶性が良く、また他の成分による効果を損ないにくい。
【００４８】
光酸発生剤の割合は、インプリント用硬化性組成物（溶剤を除く。）の１００質量％のうち、０．０１〜７質量％が好ましい。光酸発生剤の割合が、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．０５質量％以上、さらに好ましくは０．１質量％以上であれば、モールド基材との密着性がさらに優れたレプリカモールドの硬化物層を形成できる。一方、光酸発生剤の割合が、好ましくは７質量％以下、より好ましくは５質量％以下、さらに好ましくは３質量％以下であれば、硬化物層に残存する光酸発生剤が少なくなり、硬化物層の物性の低下が抑えられる。
【００４９】
硬化性モノマーの割合は、インプリント用硬化性組成物（溶剤を除く。）の１００質量％のうち、０〜８８質量％が好ましい。硬化性モノマーの割合が、好ましくは０質量％超、より好ましくは３質量％以上、さらに好ましくは８質量％以上であれば、インプリント用硬化性組成物の硬化性がさらによくなる。一方、硬化性モノマーの割合が８８質量％以下、より好ましくは８４質量％以下、さらに好ましくは８０質量％以下であれば、他の成分による効果を損ないにくい。
【００５０】
光ラジカル重合開始剤の割合は、インプリント用硬化性組成物（溶剤を除く。）の１００質量％のうち、０．０１〜７質量％が好ましい。光ラジカル重合開始剤の割合が、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．０５質量％以上、さらに好ましくは０．１質量％以上であれば、インプリント用硬化性組成物の硬化性がさらによくなる。一方、光ラジカル重合開始剤の割合が７質量％以下、より好ましくは５質量％以下、さらに好ましくは３質量％以下であれば、硬化物層に残存する光ラジカル重合開始剤が少なくなり、硬化物層の物性の低下が抑えられる。
【００５１】
他の成分の合計の割合は、インプリント用硬化性組成物（溶剤を除く。）の１００質量％のうち、０〜１０質量％が好ましく、０〜７質量％がより好ましく、０〜５質量％がさらに好ましい。
【００５２】
以上説明した本発明のインプリント用硬化性組成物にあっては、フッ素原子を有する構成単位（ａ）を有する含フッ素ポリマー（Ａ）を１１質量％以上含むため、インプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性に優れたレプリカモールドの硬化物層を形成できる。
また、本発明のインプリント用硬化性組成物にあっては、酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する構成単位（ｂ）を有する含フッ素ポリマー（Ａ）を１１質量％以上含み、かつ光酸発生剤を含むため、モールド基材との密着性に優れたレプリカモールドの硬化物層を形成できる。すなわち、露光によって光酸発生剤から発生した酸によって、構成単位（ｂ）における酸素原子を有するカチオン重合性反応基と、モールド基材の表面の反応性基とが反応し、含フッ素ポリマー（Ａ）を含む硬化物層とモールド基材とが化学的に結合する。その結果、硬化物層とモールド基材と密着性が発揮される。
【００５３】
＜インプリント用レプリカモールド＞
本発明のインプリント用レプリカモールドは、モールド基材と、モールド基材の表面に形成された、微細パターンを表面に有する硬化物層とを有し、該硬化物層が、本発明のインプリント用硬化性組成物の硬化物からなる。
【００５４】
図１は、本発明のインプリント用レプリカモールドの一例を示す模式断面図である。
インプリント用レプリカモールド４０は、モールド基材３０と、モールド基材３０の表面に最表層として設けられた、微細パターン４４を表面に有する硬化物層４２とを有する。
【００５５】
（モールド基材）
モールド基材としては、無機材料製基材または有機材料製基材が挙げられる。
無機材料としては、ガラス（強化されたガラス、結晶化ガラス、石英ガラスも含む。）、シリコンウェハ、金属（アルミニウム、ニッケル、銅等）、金属酸化物（サファイア、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等）、窒化珪素、窒化アルミニウム、ニオブ酸リチウム等が挙げられる。
有機材料としては、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート等）、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、ナイロン樹脂、ポリフェニレンサルファイド、トリアセチルセルロース、環状ポリオレフィン等が挙げられる。
【００５６】
モールド基材としては、透明性、表面平坦性および光学的等方性の点から、ガラスが好ましく、硬化物層との密着性に優れる点から、表面処理された基材を用いてもよい。表面処理としては、ＵＶオゾン処理、プラズマエッチング処理等が挙げられる。
【００５７】
（硬化物層）
硬化物層は、インプリント用硬化性組成物の硬化物からなる層である。
硬化物層は、複数の凸部および複数の凹部のいずれか一方または両方を有する微細パターンを表面に有する。微細パターンは、後述するマスターモールドの微細パターンに対応した反転パターンである。
【００５８】
凸部としては、硬化物層の表面に延在する長尺の凸条、表面に点在する突起等が挙げられる。凹部としては、硬化物層の表面に延在する長尺の溝、表面に点在する孔等が挙げられる。
【００５９】
凸条または溝の形状としては、直線、曲線、折れ曲がり形状等が挙げられる。凸条または溝は、複数が平行に、または交差することなく存在して縞状をなしていてもよい。
凸条または溝の、長手方向に直交する方向の断面形状としては、長方形、台形、三角形、半円形等が挙げられる。
突起または孔の形状としては、三角柱、四角柱、六角柱、円柱、三角錐、四角錐、六角錐、円錐、半球、多面体等が挙げられる。
【００６０】
凸条または溝の幅は、１ｎｍ〜５００μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１００μｍがより好ましく、１５ｎｍ〜１０μｍがさらに好ましい。凸条の幅とは、長手方向に直交する方向の断面における底辺の長さを意味する。溝の幅とは、長手方向に直交する方向の断面における上辺の長さを意味する。
【００６１】
突起または孔の幅は、１ｎｍ〜５００μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１００μｍがより好ましく、１５ｎｍ〜１０μｍがさらに好ましい。突起の幅とは、底面が細長い場合、長手方向に直交する方向の断面における底辺の長さを意味し、そうでない場合、突起の底面における最大長さを意味する。孔の幅とは、開口部が細長い場合、長手方向に直交する方向の断面における上辺の長さを意味し、そうでない場合、孔の開口部における最大長さを意味する。
【００６２】
凸部の高さは、１ｎｍ〜５００μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１００μｍがより好ましく、１５ｎｍ〜１０μｍがさらに好ましい。
凹部の深さは、１ｎｍ〜５００μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１００μｍがより好ましく、１５ｎｍ〜１０μｍがさらに好ましい。
【００６３】
微細パターンが密集している領域において、隣接する凸部（または凹部）間のピッチ（中心間距離）は、１ｎｍ〜５００μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１００μｍがより好ましく、１５ｎｍ〜１０μｍがさらに好ましい。
【００６４】
以上説明した本発明のインプリント用レプリカモールドにあっては、硬化物層が本発明のインプリント用硬化性組成物の硬化物からなるため、硬化物層とモールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性に優れる。
【００６５】
＜レプリカモールドの製造方法＞
本発明のレプリカモールドの製造方法は、下記の工程（ａ）〜（ｃ）を有する。
工程（ａ）：図２に示すように、微細パターン１２を表面に有するマスターモールド１０とモールド基材３０との間に、マスターモールド１０の微細パターン１２がインプリント用硬化性組成物２０に接するように、インプリント用硬化性組成物２０を挟持する工程。
工程（ｂ）：インプリント用硬化性組成物２０を硬化させて硬化物層を形成する工程。
工程（ｃ）：硬化物層とマスターモールドとを分離する工程。
【００６６】
（マスターモールド）
マスターモールドは、表面に微細パターンを有する。微細パターンは、レプリカモールドの微細パターンに対応した反転パターンである。
マスターモールドとしては、非透光材料製モールドまたは透光材料製モールドが挙げられる。
非透光材料製モールドとしては、シリコンウェハ、ニッケル、銅、ステンレス、チタン、ＳｉＣ、マイカ等が挙げられる。
透光材料製モールドとしては、石英ガラスなどのガラス、ポリジメチルシロキサン、環状ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、透明フッ素樹脂等が挙げられる。透光材料製モールドは、複数の材料から構成されてもよい。
モールド基材およびマスターモールドのうち少なくとも一方は、光酸発生剤および光ラジカル重合開始剤が作用する波長の光を４０％以上透過する材料であることが好ましい。
【００６７】
（工程（ａ））
モールド基材の表面にインプリント用硬化性組成物を配置する方法としては、インクジェット法、ポッティング法（ディスペンス法）、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ダイコート法、ラングミュラープロジェット法、真空蒸着法等が挙げられる。
インプリント用硬化性組成物は、モールド基材の表面の全体に配置してもよく、モールド基材の表面の一部に配置してもよい。
【００６８】
マスターモールドをインプリント用硬化性組成物に押しつける際のプレス圧力（ゲージ圧）は、０超〜１０ＭＰａ以下が好ましく、０．１〜５ＭＰａがより好ましい。
マスターモールドをインプリント用硬化性組成物に押しつける際の温度は、０〜１１０℃が好ましく、１０〜８０℃がより好ましい。
工程（ａ）においては、アライメントマークによってマスターモールドとモールド基材との位置調整を行ってもよい。
【００６９】
（工程（ｂ））
インプリント用硬化性組成物に光を照射してインプリント用硬化性組成物を硬化させる。
光を照射する方法としては、透光材料製マスターモールドを用いてマスターモールド側から光照射する方法、透光材料製モールド基材を用いてモールド基材側から光照射する方法、マスターモールドおよびモールド基材の隙間から光照射する方法が挙げられる。光の波長は、２００〜５００ｎｍが好ましい。光を照射する際には、インプリント用硬化性組成物を加熱して硬化を促進してもよい。
光を照射する際の温度は、０〜１１０℃が好ましく、１０〜８０℃がより好ましい。
【００７０】
（工程（ｃ））
硬化物層とマスターモールドとを分離する際の温度は、０〜１１０℃が好ましく、１０〜８０℃がより好ましい。
【００７１】
以上説明した本発明のインプリント用レプリカモールドの製造方法にあっては、本発明のインプリント用硬化性組成物を硬化させて硬化物層を形成しているため、硬化物層とモールド基材との密着性、およびインプリント法に用いた際の被転写材料の硬化物との離型性に優れたレプリカモールドを製造できる。
【００７２】
＜微細パターンを表面に有する物品＞
本発明の微細パターンを表面に有する物品の製造方法で得られる、微細パターンを表面に有する物品は、基材と、基材の表面に形成された、微細パターンを表面に有する硬化物層とを有する。
微細パターンを表面に有する物品においては、硬化物層が、被転写材料の硬化物からなる。
【００７３】
図３は、微細パターンを表面に有する物品の一例を示す模式断面図である。
微細パターンを表面に有する物品７０は、基材６０と、基材６０の表面に最表層として設けられた、微細パターン７４を表面に有する硬化物層７２とを有する。
【００７４】
（基材）
基材としては、無機材料製基材または有機材料製基材が挙げられる。
無機材料および有機材料としては、上述したモールド基材と同様なものが挙げられる。
【００７５】
（硬化物層）
硬化物層は、被転写材料の硬化物からなる層である。
硬化物層は、複数の凸部および複数の凹部のいずれか一方または両方を有する微細パターンを表面に有する。微細パターンは、本発明のインプリント用レプリカモールドの微細パターンに対応した反転パターンである。
【００７６】
（被転写材料）
被転写材料としては、硬化性組成物が挙げられる。硬化性組成物としては、硬化性樹脂および硬化性モノマーのいずれか一方または両方と、光開始剤とを含むものが挙げられる。
硬化性樹脂、硬化性モノマーおよび光開始剤としては、公知のものが挙げられる。
硬化性組成物としては、インプリント用に市販されているものを用いてもよい。
【００７７】
＜微細パターンを表面に有する物品の製造方法＞
本発明の微細パターンを表面に有する物品の製造方法は、下記の工程（α）〜（γ）を有する。
工程（α）：図４に示すように、微細パターン４４を表面に有する本発明のインプリント用レプリカモールド４０と基材６０との間に、インプリント用レプリカモールド４０の微細パターン４４が被転写材料５０に接するように、被転写材料５０を挟持する工程。
工程（β）：被転写材料５０を硬化させて硬化物層を形成する工程。
工程（γ）：硬化物層とインプリント用レプリカモールドとを分離する工程。
【００７８】
（工程（α）〜（γ））
工程（α）〜（γ）は、上述した本発明のインプリント用レプリカモールドの製造方法における工程（ａ）〜（ｃ）と同様に行えばよい。
【００７９】
以上説明した本発明の微細パターンを表面に有する物品の製造方法にあっては、本発明のインプリント用レプリカモールドを用いているため、インプリント用レプリカモールドにおいて硬化物層とモールド基材との剥離が抑えられ、かつインプリント用レプリカモールドの硬化物層と被転写材料の硬化物との離型性に優れる。
【実施例】
【００８０】
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。なお、例１〜１３は実施例であり、例１４〜１８は比較例である。【００８１】
＜物性、評価＞
（ポリマーの質量平均分子量）
下記装置を用い、下記条件にて測定した。
ＧＰＣシステム：ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）、
カラム：ＴＳＫ  ｇｕａｒｄ  Ｃｏｌｕｍｎ  Ｓｕｐｅｒ  ＭＺ−Ｌ、ＴＳＫ  ｇｅｌ
ＨＺ４０００、ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＨＺ３０００、ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＨＺ２５００、ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＨＺ２０００（この順に連結して使用した）、
カラムオーブン温度：４０℃、  溶媒：テトラヒドロフラン、  流量：０．３５ｍＬ／分、  標準サンプル：ポリスチレン。【００８２】
（硬化性組成物の粘度）
硬化性組成物の粘度は、動的粘弾性測定装置（Ａｎｔｏｎ  Ｐａａｒ社製、Ｐｈｙｓｉｃａ  ＭＣＲ３０１）を用いて、１０ｓ−１の剪断速度における動的粘弾性を２５℃で測定し、求めた。【００８３】
（評価用試験体の作製）
離型処理を施した石英ガラス基板（マスターモールドに相当）の表面に硬化性組成物を塗布し、硬化性組成物が塗布されていない部分に厚さ１００μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムをスペーサとして設置した。離型処理を施していないスライドガラス基板（モールド基材に相当）を硬化性組成物の表面に重ね、スライドガラス基板側の高圧水銀ランプから紫外線を露光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２で照射し、硬化物層を形成した後、石英ガラス基板を硬化物層から剥離した。硬化物層の表面をエタノールで洗浄し、乾燥させた後、１００℃で６０分間ベークすることで、表面が平坦な硬化物層（厚さ：１００μｍ）付きのスライドガラス基板（レプリカモールドに相当）を得た。【００８４】
トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業社製、ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ）の１００質量部に、光ラジカル重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（商品名）１１７３）の３質量部を添加して被転写材料を調製した。
硬化物層の表面に被転写材料を塗布した。離型処理を施した石英ガラス基板を、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムのスペーサを介して被転写材料の表面に重ね、石英ガラス基板側の高圧水銀ランプから紫外線を露光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２で照射し、被転写材料の硬化物を形成した後、石英ガラス基板を被転写材料の硬化物から剥離した。被転写材料の硬化物の表面をエタノールで洗浄し、乾燥させた後、１２５℃で１５分間ベークすることで、硬化物層の表面に厚さ：５０μｍの被転写材料の硬化物からなる層を有する評価用試験体を得た。【００８５】
（ＰｏｓｉＴｅｓｔ試験機による剥離強度の測定）
二液混合型のエポキシ系急速硬化接着剤（ハンツマン・アドバンスト・マテリアルズ・ジャパン社製、アラルダイト（商品名）ラピッド）を介して被転写材料の硬化物の表面に剥離強度測定密着子（ドリー）を接合し、接合面からはみ出した余分な接着剤を掻き取り、２４時間養生して被転写材料の硬化物とドリーとを接着させた。接着剤が固化した後、専用カッターを用いてスライドガラス基板に到達するまでドリーに沿って被転写材料の硬化物および硬化物層に刃を入れ、ドリーと被転写材料の硬化物との接合面が３．１４ｃｍ２になるように切れ目を入れた。【００８６】
ドリーを接着した評価用試験体について、ＰｏｓｉＴｅｓｔ試験機（ＤｅＦｅｌｓｋｏ社製）を用い、ＡＳＴＭ  Ｄ４５４１（ＩＳＯ  ４６２４）の試験法に準拠して、被転写材料の硬化物と硬化物層との界面、または硬化物層とスライドガラス基板との界面の剥離強度を測定した。ＰｏｓｉＴｅｓｔ試験機のアクチュエーターに、ドリー用固定治具を介して、評価用試験体のドリーを連結した後、ポンプで圧力をかけてドリー部分の被転写材料の硬化物または硬化物層が引き剥がされるまでの剥離荷重を測定した（ドリーサイズ：２０ｍｍφ、分解能：±０．０１ＭＰａ、精度：±１％、測定範囲：０〜２０ＭＰａ）。その後、引き剥がれ後の被転写材料の硬化物および硬化物層の剥離状態を調べ、下記基準にて評価した。
良好（○）：スライドガラス基板の表面に硬化物層が浮きもなく全面にわたって残存し、かつ硬化物層の表面に被転写材料の硬化物がまったく残存していない。
不良（×）：硬化物層の表面に被転写材料の硬化物が一部でも残っている；スライドガラス基板の表面から硬化物層に浮きが発生した；スライドガラス基板の表面に何も残存しない；または、スライドガラス基板が破損した。【００８７】
（厚み３ｍｍの硬化物の作製）
離型処理を施した石英ガラス基板の表面に硬化性組成物を塗布し、硬化性組成物が塗布されていない部分に厚さ３ｍｍのシリコンゴムをスペーサとして設置した。離型処理を施していないスライドガラス基板を硬化性組成物の表面に重ね、スライドガラス基板側の高圧水銀ランプから紫外線を露光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２で照射し、硬化物層を形成した後、石英ガラス基板を硬化物層から剥離した。硬化物層の表面をエタノールで洗浄し、乾燥させた後、１００℃で６０分間ベークすることで、表面が平坦な硬化物層（厚さ：３ｍｍ）付きのスライドガラス基板を得た。
離型処理を施した石英ガラス基板の表面に硬化性組成物を塗布した際、硬化性組成物の粘度が低いと石英ガラス基板上に組成物が拡がってしまい、シリコンゴムスペーサの高さより硬化性組成物の高さが低くなってしまう。この場合、スライドガラス基板にも硬化性組成物を塗布し、硬化性組成物同士を重なるように石英ガラス基板を重ね、紫外線を照射することで、厚さ３ｍｍの硬化物を得ることができる。【００８８】
＜原料＞
（モノマー（Ｉ））
モノマー（Ｉ−１）：３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルメタクリレート（旭硝子社製）。
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）６Ｆ  （Ｉ−１）【００８９】
（モノマー（ＩＩ））
モノマー（ＩＩ−１）：（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメタクリレート（大阪有機化学工業社製、ＯＸＥ−３０）。
モノマー（ＩＩ−２）：３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート（ダイセル社製、サイクロマーＭ１００）。【００９０】
【化１】
2018173930.tif 000003
【００９１】
モノマー（ＩＩ−３）：４−ヒドロキシブチルメタクリレートグリシジルエーテルの合成。【００９２】
【化２】
2018173930.tif 000004
【００９３】
１Ｌの３つ口フラスコに、１，４ブタンジオールの１２３．０ｇ、エピクロロヒドリンの５００．０ｇを仕込み、撹拌しながら１５０ｍｍＨｇに減圧した。内温を６１〜６５℃に保ちながら、４８％水酸化ナトリウム水溶液の１２０ｇを４時間かけて滴下し、滴下終了後さらに１時間撹拌した。その間、１時間ごとに留出した水層を除去し、有機層を反応液に戻して反応を続けた。室温に戻し、イオン交換水の３００ｇを加えて３０分間撹拌した後、水層を抽出した。ロータリーエバポレーターで未反応のエピクロロヒドリンを除去した後、トルエンで１回、酢酸エチルで２回抽出し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）で精製を行い、４−（２，３−エポキシプロポキシ）ブタノールの７５．７ｇを得た。
５００ｍＬの３つ口フラスコに、４−（２，３−エポキシプロポキシ）ブタノールの３０．０ｇ、トリエチルアミンの３１．３ｇ、テトラヒドロフランの１００ｍＬを仕込み、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。メタクリル酸無水物の３８．２ｇを５分かけて滴下した後、１０℃以下で１時間撹拌し、室温に戻しさらに１晩撹拌した。ジエチルエーテルの１００ｍＬ、飽和塩化アンモニウム水溶液の１００ｍＬを加え、３０分間撹拌した。その後、有機層を抽出し、飽和食塩水、飽和重層水、飽和食塩水の順番で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１０）で精製を行い、モノマー（ＩＩ−３）の２０．３ｇを得た。得られたモノマー（ＩＩ−３）について１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、３００ＭＨｚ）：６．０５（ｓ、１Ｈ  ｏｆ  Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２）、５．５９（ｓ、１Ｈ  ｏｆ  Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２）、４．１４（ｔ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ）、３．６８（ｄｄ、１Ｈ  ｏｆ  Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）、３．５０（ｑ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２）、３．２８（ｄｄ、１Ｈ  ｏｆ  Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）、３．０５（ｍ、１Ｈ  ｏｆ  ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）、２．６９（ｄｄ、１Ｈ  ｏｆ  ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）、２．５１（ｄｄ、１Ｈ  ｏｆ  ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）、１．９０（ｓ、３Ｈ
ｏｆ  Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２）、１．７０（ｍ、４Ｈ  ｏｆ  ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２）【００９４】
（モノマー（ＩＩＩ’））
モノマー（ＩＩＩ’−１）：２―ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成工業社製）。
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ  （ＩＩＩ’−１）
モノマー（ＩＩＩ’−２）：α−チオグリセロール（東京化成工業社製）。
ＨＳＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ  （ＩＩＩ’−２）【００９５】
（モノマー（Ｘ））
モノマー（Ｘ−１）：メタクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート（昭和電工社製、カレンズＭＯＩ−ＥＧ（商品名））。
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２ＮＣＯ  （Ｘ−１）【００９６】
（熱重合開始剤）
熱重合開始剤：２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）（東京化成工業社製）。【００９７】
（含フッ素モノマー）
モノマー（Ｆ−１）：３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルメタクリレート（旭硝子社製）（モノマー（Ｉ−１）と同じ）。
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）６Ｆ  （Ｆ−１）【００９８】
モノマー（Ｆ−２）：１Ｈ，１Ｈ，８Ｈ，８Ｈ−ドデカフルオロ−１，８−オクタンジオールジアクリレートの合成。【００９９】
【化３】
2018173930.tif 000005
【０１００】
１Ｌの３つ口フラスコに、１Ｈ，１Ｈ，８Ｈ，８Ｈ−ドデカフルオロ−１，８―オクタンジオールの９０．０ｇ、トリエチルアミンの５５．３ｇ、テトラヒドロフランの１２００ｍＬを仕込み、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。アクリロイルクロライドの４９．５ｇを２時間かけて滴下した後、１０℃以下で５時間撹拌し、室温に戻しさらに１晩撹拌した。テトラヒドロフランを留去した後、塩酸（１Ｍ）の３００ｍＬ、酢酸エチルの３００ｍＬを加え、３０分間撹拌した。その後、有機層を抽出し、飽和食塩水、飽和重層水、飽和食塩水の順番で洗浄した。有機層から酢酸エチルを留去し、残った液体にシリカゲルカラム精製（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）を行い、無色透明のモノマー（Ｆ−２）の９５．９ｇを得た。収率は８２％であった。得られたモノマー（Ｆ−２）について１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（クロロホルム−ｄ１、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、３００ＭＨｚ）：６．５２（ｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、６．１７（ｄｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、５．９８（ｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、４．６６（ｔ、４Ｈ  ｏｆ  ＣＨ２）。【０１０１】
モノマー（Ｆ−３）：１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ，９Ｈ，９Ｈ，１０Ｈ，１０Ｈ−ドデカフルオロ−１，１０−デカンジオールジアクリレートの合成。【０１０２】
【化４】
2018173930.tif 000006
【０１０３】
１Ｌの３つ口フラスコに、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ，９Ｈ，９Ｈ，１０Ｈ，１０Ｈ−ドデカフルオロ−１，１０−デカンジオールの２０．０ｇ、トリエチルアミンの１１．４ｇ、テトラヒドロフランの２５０ｍＬを仕込み、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。アクリロイルクロライドの１０．２ｇを３０分間かけて滴下した後、１０℃以下で３時間撹拌し、室温に戻しさらに１晩撹拌した。塩酸（１Ｍ）の２００ｍＬ、酢酸エチルの１００ｍＬを加え、さらに３０分間撹拌した。その後、有機層を抽出し、飽和食塩水、飽和重層水、飽和食塩水の順番で洗浄した。有機層から、酢酸エチルを留去し、残った液体にシリカゲルカラム精製（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）を行い、無色透明のモノマー（Ｆ−３）の１９．１ｇを得た。収率は７５％であった。得られたモノマー（Ｆ−３）について１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、３００ＭＨｚ）：６．４１（ｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、６．１６（ｄｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、５．９１（ｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、４．５０（ｔ、４Ｈ  ｏｆ  Ｏ−ＣＨ２）、２．６７（ｔ、４Ｈ  ｏｆ  ＣＨ２−ＣＦ２）。【０１０４】
モノマー（Ｆ−４）：１Ｈ，１Ｈ，１０Ｈ，１０Ｈ−ヘキサデカフルオロ−１，１０−デカンジオールジアクリレートの合成。【０１０５】
【化５】
2018173930.tif 000007
【０１０６】
１Ｌの３つ口フラスコに、１Ｈ，１Ｈ，１０Ｈ，１０Ｈ−ヘキサデカフルオロ−１，１０−デカンジオールの２０．０ｇ、トリエチルアミンの９．６ｇ、テトラヒドロフランの１００ｍＬを仕込み、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。アクリロイルクロライドの８．０ｇを３０分間かけて滴下した後、１０℃以下で３時間撹拌し、室温に戻しさらに１晩撹拌した。塩酸（１Ｍ）の２００ｍＬ、酢酸エチルの１００ｍＬを加え、さらに３０分間撹拌した。その後、有機層を抽出し、飽和食塩水、飽和重層水、飽和食塩水の順番で洗浄した。有機層から、酢酸エチルを留去し、残った液体にシリカゲルカラム精製（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）を行い、無色透明のモノマー（Ｆ−４）の２１．９ｇを得た。収率は８９％であった。得られたモノマー（Ｆ−４）について１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（クロロホルム−ｄ１、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、３００ＭＨｚ）：６．５１（ｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、６．１６（ｄｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、５．９６（ｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、４．６５（ｔ、４Ｈ  ｏｆ  ＣＨ２）。【０１０７】
モノマー（Ｆ−５）：１Ｈ，１Ｈ，６Ｈ，６Ｈ−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオールジアクリレートの合成。【０１０８】
【化６】
2018173930.tif 000008
【０１０９】
１Ｌの３つ口フラスコに、１Ｈ，１Ｈ，６Ｈ，６Ｈ−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオールの１５．０ｇ、トリエチルアミンの１２．７ｇ、テトラヒドロフランの１００ｍＬを仕込み、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。アクリロイルクロライドの１０．６ｇを３０分間かけて滴下した後、１０℃以下で３時間撹拌し、室温に戻しさらに１晩撹拌した。塩酸水溶液（１Ｍ）の２００ｍＬ、酢酸エチルの１００ｍＬを加え、さらに３０分間撹拌した。その後、有機層を抽出し、飽和食塩水、飽和重層水、飽和食塩水の順番で洗浄した。有機層から、酢酸エチルを留去し、残った液体にシリカゲルカラム精製（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）を行い、無色透明のモノマー（Ｆ−５）の１５．９ｇを得た。収率は７５％であった。得られたモノマー（Ｆ−５）を１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（クロロホルム−ｄ１、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、３００ＭＨｚ）：６．５１（ｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、６．１９（ｄｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、５．９８（ｄ、２Ｈ  ｏｆ  ＣＨ＝ＣＨ２）、４．６５（ｔ、４Ｈ  ｏｆ  ＣＨ２）。【０１１０】
（非フッ素系モノマー）
モノマー（Ｍ−１）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業社製、ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ）。
モノマー（Ｍ−２）：イソボルニルアクリレート（共栄社化学社製、ライトアクリレートＩＢ−ＸＡ）。
モノマー（Ｍ−３）：ポリエチレングリコールジアクリレート（新中村化学工業社製、ＮＫエステルＡ−２００）。【０１１１】
【化７】
2018173930.tif 000009
【０１１２】
（光酸発生剤）
（Ｐ−１）：トリアリールスルホニウム塩系光酸発生剤（サンアプロ社製、ＣＰＩ―２１０Ｓ）。
（Ｐ−２）：トリ−ｐ−トリルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート（東京化成工業社製）。【０１１３】
（光ラジカル重合開始剤）
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン（東京化成工業社製）。【０１１４】
＜含フッ素ポリマー（Ａ）の製造＞
（製造例１）
含フッ素ポリマー（Ａ−１）の製造：
還流冷却管、窒素導入管を備えた二つ口フラスコ中に、モノマー（Ｉ−１）の３１．６ｇ、モノマー（ＩＩ−１）の１３．５ｇ、熱重合開始剤の０．５４ｇおよび２−ブタノン（ＭＥＫ）の４０５ｇを仕込み、窒素置換した後、５０℃に加熱し、２４時間撹拌した。薄層クロマトグラフィ（ＴＬＣ）によりモノマーが消費されていることを確認した後、７０℃まで昇温し、３０分間撹拌した。全量がおよそ１００ｇになるまで濃縮した後、室温まで冷却し、得られた反応液をメタノールの１Ｌに加え、固体を析出させて回収した。さらに、得られた固体をＭＥＫの１５ｇに溶解し、メタノールの１Ｌに加え、再度固体を析出させて回収し、真空乾燥して含フッ素ポリマー（Ａ−１）を得た。結果を表１および表２に示す。【０１１５】
（製造例２）
含フッ素ポリマー（Ａ−２）の製造：
モノマー（Ｉ−１）の量を３０．９ｇに変更し、モノマー（ＩＩ−１）の代わりにモノマー（ＩＩ−２）の１４．１ｇを用い、熱重合開始剤の量を０．５３ｇに変更した以外は、製造例１と同様にして、含フッ素ポリマー（Ａ−２）を得た。結果を表１および表２に示す。【０１１６】
（製造例３）
含フッ素ポリマー（Ａ−３）の製造：
モノマー（Ｉ−１）の量を３０．１ｇに変更し、モノマー（ＩＩ−１）の代わりにモノマー（ＩＩ−３）の１４．９ｇを用い、熱重合開始剤の量を０．５２ｇに変更した以外は、製造例１と同様にして、含フッ素ポリマー（Ａ−３）を得た。結果を表１および表２に示す。【０１１７】
（製造例４）
含フッ素ポリマー（Ａ−４）の製造：
還流冷却管、窒素導入管を備えた二つ口フラスコ中に、モノマー（Ｉ−１）の３０．０ｇ、モノマー（ＩＩ−１）の１４．９ｇ、モノマー（ＩＩＩ’−１）の４．５ｇ、モノマー（ＩＩＩ’−２）の５．０ｇ、熱重合開始剤の０．５７ｇおよびＭＥＫの１２７ｇを仕込み、窒素置換した後、５０℃に加熱し、２４時間撹拌した。薄層クロマトグラフィ（ＴＬＣ）によりモノマーが消費されていることを確認した後、７０℃まで昇温し、３０分間撹拌した。全量がおよそ１００ｇになるまで濃縮した後、室温まで冷却し、得られた反応液をヘキサンの１Ｌに加え、粘稠体を析出させて回収した。さらに、得られた粘稠体をＭＥＫの１５ｇに溶解し、ヘキサンの１Ｌに加え、再度粘稠体を析出させて回収し、真空乾燥して含フッ素ポリマー（Ａ−４）の前駆体を得た。質量平均分子量（Ｍｗ）は１，９００であった。【０１１８】
還流冷却管、窒素導入管を備えた二つ口フラスコ中に、含フッ素ポリマー（Ａ−４）の前駆体の４５．０ｇ、ジラウリル酸ジブチル錫（ＤＢＴＤＬ）の６．６ｍｇ、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）の１８５ｍｇ、モノマー（Ｘ−１）の２１．０ｇ、ＭＥＫの２５５ｇを仕込み、窒素置換した後、４０℃に加熱し、２４時間撹拌した。ＦＴ−ＩＲによってイソシアネート由来ピーク（２２５０ｃｍ−１付近）が消失していることを目安とし、モノマー（Ｘ−１）が消費されていることを確認した後、７０℃まで昇温し、３０分間撹拌した。全量がおよそ１００ｇになるまで濃縮した後、室温まで冷却し、得られた反応液をヘキサン１Ｌに加え、粘稠体を析出させて回収した。さらに、得られた粘稠体をＭＥＫの１５ｇに溶解し、ヘキサンの１Ｌに加え、再度粘稠体を析出させて回収し、真空乾燥して含フッ素ポリマー（Ａ−４）を得た。結果を表１および表２に示す。【０１１９】
（製造例５）
含フッ素ポリマー（Ａ−５）の製造：
モノマー（ＩＩ−１）の代わりにモノマー（ＩＩ−２）の１５．９ｇを用いた以外は、製造例４と同様にして、含フッ素ポリマー（Ａ−５）の前駆体を得た。質量平均分子量（Ｍｗ）は２，０００であった。
含フッ素ポリマー（Ａ−４）の前駆体の代わりに含フッ素ポリマー（Ａ−５）の前駆体の４５．０ｇを用い、ＤＢＴＤＬの量を６．５ｍｇに変更し、ＢＨＴの量を１８２ｍｇに変更し、モノマー（Ｘ−１）の量を２０．６ｇに変更した以外は、製造例４と同様にして、含フッ素ポリマー（Ａ−５）を得た。結果を表１および表２に示す。【０１２０】
（製造例６）
含フッ素ポリマー（Ａ−６）の製造：
モノマー（ＩＩ−１）の代わりにモノマー（ＩＩ−２）の１５．９ｇを用い、モノマー（ＩＩＩ’−１）の量を７．５ｇに変更し、モノマー（ＩＩＩ’−２）の量を２．５ｇに変更し、熱重合開始剤の量を０．２９ｇに変更し、ＭＥＫの量を１３１ｇに変更した以外は、製造例４と同様にして、含フッ素ポリマー（Ａ−６）の前駆体を得た。質量平均分子量（Ｍｗ）は３，１００であった。
含フッ素ポリマー（Ａ−４）の前駆体の代わりに含フッ素ポリマー（Ａ−６）の前駆体の４６．７ｇを用い、ＤＢＴＤＬの量を１１ｍｇに変更し、ＢＨＴの量を１５３ｍｇに変更し、モノマー（Ｘ−１）の量を１７．３ｇに変更し、ＭＥＫの量を２６５ｇに変更した以外は、製造例４と同様にして、含フッ素ポリマー（Ａ−６）を得た。結果を表１および表２に示す。【０１２１】
（製造例７）
含フッ素ポリマー（Ａ−７）の製造：
モノマー（Ｉ−１）の量を３５．０ｇに変更し、モノマー（ＩＩ−１）の量を１０．０ｇに変更し、熱重合開始剤の量を０．５０ｇの変更した以外は、製造例１と同様にして、含フッ素ポリマー（Ａ−７）を得た。結果を表１および表２に示す。【０１２２】
（製造例８）
含フッ素ポリマー（Ａ−８）の製造：
モノマー（ＩＩ−１）の１４．９ｇをモノマー（ＩＩ−２）の１２．１ｇに変更し、モノマー（ＩＩＩ’−１）の量を５．５ｇに変更し、モノマー（ＩＩＩ’−２）の量を２．１ｇに変更し、熱重合開始剤の量を０．２４ｇに変更した以外は、製造例４と同様にして、含フッ素ポリマー（Ａ−８）の前駆体を得た。質量平均分子量（Ｍｗ）は２，０００であった。
含フッ素ポリマー（Ａ−４）の前駆体の代わりに含フッ素ポリマー（Ａ−８）の前駆体の４０．０ｇを用い、ＤＢＴＤＬの量を４．１ｍｇに変更し、ＢＨＴの量を１１５ｍｇに変更し、モノマー（Ｘ−１）の量を１３．０ｇに変更した以外は、製造例４と同様にして、含フッ素ポリマー（Ａ−８）を得た。結果を表１および表２に示す。【０１２３】
（製造例９）
含フッ素ポリマー（Ａ−９）の製造：
モノマー（Ｉ−１）の量を１８．０ｇに変更し、モノマー（ＩＩ−１）の量を２２．０ｇに変更し、熱重合開始剤の量を０．５８ｇの変更した以外は、製造例１と同様にして、含フッ素ポリマー（Ａ−９）を得た。結果を表１および表２に示す。【０１２４】
【表１】
2018173930.tif 000010
*1：モノマー（ＩＩＩ’−１）の物質量×１に相当するモノマー（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ’）の合計１００質量部に対する質量部数と、モノマー（ＩＩＩ’−２）の物質量×２に相当するモノマー（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ’）の合計１００質量部に対する質量部数との合計。
*2：モノマー（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ’）の総物質量に対する物質量。【０１２５】
【表２】
2018173930.tif 000011
【０１２６】
（例１〜１８）
表３に記載の各成分を配合組成（数値は質量％）にしたがって配合し、ミックスローターで撹拌、混合することで均一で透明な硬化性組成物を得た。評価結果を表４に示す。【０１２７】
【表３】
2018173930.tif 000012
【０１２８】
【表４】
2018173930.tif 000013
【０１２９】
例１〜１３は、含フッ素ポリマー（Ａ）を１１質量％以上含むため、モールド基材との密着性が高く、また被転写材料の硬化物との離型性にも優れていた。
例１４〜１６は、含フッ素ポリマー（Ａ）の含有量が１０質量％以下であるため、モールド基材との密着性に劣り、剥離強度の測定の際にスライドガラス基板の表面から硬化物層の一部が剥がれた。【０１３０】
例１７は、硬化性モノマーのフッ素含有率が１質量％未満であるため、硬化性モノマーと含フッ素ポリマー（Ａ）との相溶性が悪く、含フッ素ポリマー（Ａ）の割合が１０質量％でも相溶させることができなかった。相溶性が悪かったため、評価用試験体の作製を行うことができなかった。
例１８は、硬化性モノマーのフッ素含有率が１質量％未満であるため、硬化性モノマーと含フッ素ポリマー（Ａ）とを相溶させるために、含フッ素ポリマー（Ａ）の含有量を５質量％にする必要があった。含フッ素ポリマー（Ａ）の含有量が１０質量％以下であるため、モールド基材との密着性に劣り、剥離強度の測定の際にスライドガラス基板の表面から硬化物層が剥がれた。【０１３１】
例１〜５、１０〜１３、１６は、粘度が０．１Ｐａ・ｓ以上であるものの、１．０Ｐａ・ｓ以下で硬化性組成物が広がりやすいため、石英ガラス基板だけでなく、スライドガラス基板上にも硬化性組成物を塗布することで、厚さ３ｍｍの硬化物を作製することができた。
例６〜９は、粘度が２．０Ｐａ・ｓ以上であるため、石英ガラス基板上に硬化性組成物を塗布するだけで、厚さ３ｍｍの硬化物を得ることができた。
例１４、１５、１８は、粘度が０．１Ｐａ・ｓ未満であるため、石英ガラス基板上でもスライドガラス基板上でも硬化性組成物が広がり、硬化性組成物同士を重ねても厚さ３ｍｍの硬化物は作製できなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１３２】
本発明のインプリント用レプリカモールドは、光学素子、ディスプレイ用光学部材（反射防止部材、指紋付着抑止部材等）、バイオチップ、マイクロリアクターチップ、記録メディア、触媒担持体、半導体デバイス等の製造におけるエッチングマスク用のレジスト付きの基板等の製造に用いられるインプリント用モールドとして有用である。
なお、２０１７年３月２３日に出願された日本特許出願２０１７−０５６８３８号の明細書、特許請求の範囲、図面および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【符号の説明】
【０１３３】
１０  マスターモールド、  １２  微細パターン、  ２０  インプリント用硬化性組成物、  ３０  モールド基材、  ４０  インプリント用レプリカモールド、  ４２  硬化物層、  ４４  微細パターン、  ５０  被転写材料、  ６０  基材、  ７０  微細パターンを表面に有する物品、  ７２  硬化物層、  ７４  微細パターン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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