(57)【要約】  液晶分子を垂直配向させる配向規制力を十分に発揮させ得る基板および液晶表示素子を提供する。  本発明の基板は、液晶分子と、液晶分子を自発的に配向させる機能を有し、極性基を備える配向助剤とを含有する液晶組成物に接触させて使用する。かかる基板は、液晶組成物に接触する接触面を有する絶縁膜を備え、その接触面の２５℃における水の静的接触角が７０°以下であること、および／または接触面の表面自由エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上である。また、かかる基板は、配向膜を介さず、直接、液晶組成物に接触する基板であることが好ましい。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶分子と、該液晶分子を自発的に配向させる機能を有し、極性基を備える配向助剤とを含有する液晶組成物に接触させて使用する基板であって、
当該基板は、前記液晶組成物に接触する接触面を有する絶縁膜を備え、
前記接触面の２５℃における水の静的接触角が７０°以下であること、および／または前記接触面の表面自由エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする基板。
【請求項２】
当該基板は、配向膜を介さず、直接、前記液晶組成物に接触する基板である請求項１に記載の基板。
【請求項３】
当該基板は、画素電極を備える基板である請求項１または２に記載の基板。
【請求項４】
当該基板は、カラーフィルタを備える基板である請求項１または２に記載の基板。
【請求項５】
前記絶縁膜は、有機絶縁膜である請求項１から４のいずれか１項に記載の基板。
【請求項６】
２つの基板間に、液晶分子と、該液晶分子を自発的に配向させる機能を有し、極性基を備える配向助剤とを含有する液晶組成物から形成された液晶層を挟持してなる液晶表示素子であって、
前記２つの基板のうちの少なくとも一方を、請求項１から５のいずれか１項に記載の基板で構成したことを特徴とする液晶表示素子。
【請求項７】
前記配向助剤は、活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性基を備え、
前記液晶層は、前記配向助剤の重合物を含む請求項６に記載の液晶表示素子。
【請求項８】
前記液晶組成物は、さらに前記活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性化合物を含有し、
前記液晶層は、前記重合性化合物および／または前記配向助剤の重合物を含む請求項７に記載の液晶表示素子。
【請求項９】
当該液晶表示素子は、ＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型またはＥＣＢ型である請求項６から８のいずれか１項に記載の液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板および液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＶＡ方式の液晶ディスプレイ（液晶表示素子）では、電圧無印加時に液晶分子の垂直配向を誘起し、電圧印加時に液晶分子の水平配向を実現するために、電極上に配向膜として機能するポリイミド（ＰＩ）配向膜が設けられている。しかしながら、ＰＩ配向膜の成膜には、多大なコストを要するため、近年では、ＰＩ配向膜を省略しつつも、液晶分子の配向を実現するための方法が検討されている。【０００３】
例えば、特許文献１には、負の誘電異方性を有する極性化合物（液晶分子）の混合物を基礎とし、少なくとも１種類の自発配向性添加剤（配向助剤）を含有する液晶媒体（液晶組成物）が開示されている。この特許文献１では、自発配向性添加剤として、水酸基を有する特定の化合物が用いられている。しかしながら、基板の表面状態によっては、自発配向性添加剤が基板の表面に密着し難く、液晶分子を垂直配向させる配向規制力を十分に得られない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２０１４−５２４９５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、液晶分子を垂直配向させる配向規制力を十分に発揮させ得る基板および液晶表示素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の（１）〜（９）の本発明により達成される。
（１）  液晶分子と、該液晶分子を自発的に配向させる機能を有し、極性基を備える配向助剤とを含有する液晶組成物に接触させて使用する基板であって、
当該基板は、前記液晶組成物に接触する接触面を有する絶縁膜を備え、
前記接触面の２５℃における水の静的接触角が７０°以下であること、および／または前記接触面の表面自由エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする基板。【０００７】
（２）  当該基板は、配向膜を介さず、直接、前記液晶組成物に接触する基板である上記（１）に記載の基板。
（３）  当該基板は、画素電極を備える基板である上記（１）または（２）に記載の基板。
（４）  当該基板は、カラーフィルタを備える基板である上記（１）または（２）に記載の基板。【０００８】
（５）  前記絶縁膜は、有機絶縁膜である上記（１）から（４）のいずれか１つに記載の基板。
（６）  ２つの基板間に、液晶分子と、該液晶分子を自発的に配向させる機能を有し、極性基を備える配向助剤とを含有する液晶組成物から形成された液晶層を挟持してなる液晶表示素子であって、
前記２つの基板のうちの少なくとも一方を、上記（１）から（５）のいずれか１つに記載の基板で構成したことを特徴とする液晶表示素子。【０００９】
（７）  前記配向助剤は、活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性基を備え、
前記液晶層は、前記配向助剤の重合物を含む上記（６）に記載の液晶表示素子。
（８）  前記液晶組成物は、さらに前記活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性化合物を含有し、
前記液晶層は、前記重合性化合物および／または前記配向助剤の重合物を含む上記（７）に記載の液晶表示素子。
（９）  当該液晶表示素子は、ＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型またはＥＣＢ型である上記（６）から（８）のいずれか１つに記載の液晶表示素子。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、液晶分子を垂直配向させ易い基板、および液晶分子が十分に垂直配向した液晶表示素子が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】液晶表示素子の一実施形態に模式的に示す分解斜視図である。
【図２】図１におけるＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の基板および液晶表示素子について、好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明で用いられる液晶組成物について説明する。
（液晶組成物）
液晶組成物は、液晶分子と、この液晶分子を自発的に配向させる機能を有し、極性基を備える配向助剤とを含有している。
【００１３】
((配向助剤))
配向助剤（自発配向性化合物）は、液晶組成物を含む液晶層と直接当接する部材（電極（例えば、ＩＴＯ）、基板（例えば、ガラス基板、アクリル基板、透明基板、フレキシブル基板等）、樹脂層（例えば、カラーフィルタ、配向膜、オーバーコート層等）、絶縁膜（例えば、無機材料膜、ＳｉＮｘ等））に対して相互作用し、液晶層に含まれる液晶分子のホメオトロピック配列又はホモジニアス配向を誘起する機能を備えている。
【００１４】
配向助剤は、重合するための重合性基と、液晶分子と類似するメソゲン基と、液晶層と直接当接する部材と相互作用可能な吸着基（極性基）と、液晶分子の配向を誘起する配向誘導基を有することが好ましい。
【００１５】
メソゲン基に対し、吸着基及び配向誘導基が結合し、重合性基はメソゲン基、吸着基及び配向誘導基に直接又は必要に応じスペーサー基を介して置換していることが好ましい。特に、重合性基は、吸着基中に組み込まれた状態で、メソゲン基に置換していることが好ましい。
以下、化学式中の左端の＊及び右端の＊は結合手を表す。
【００１６】
「配向誘導基」
配向誘導基は、液晶分子の配向を誘導する機能を有しており、下記一般式（ＡＫ）で表される基であることが好ましい。
【化１】
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【００１７】
式中、ＲＡＫ１は、直鎖状若しくは分岐状の炭素原子数１〜２０のアルキル基を表す。ただし、アルキル基中の１個又は２個以上の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接結合することなく、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲノ基で置換されてもよい。
【００１８】
ＲＡＫ１は、直鎖状若しくは分岐状の炭素原子数１〜２０のアルキル基を表すことが好ましく、直鎖状の炭素原子数１〜２０のアルキル基を表すことがより好ましく、直鎖状の炭素原子数１〜８のアルキル基を表すことがさらに好ましい。
また、アルキル基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。
さらに、アルキル基中の水素原子は、フッ素原子又は塩素原子で置換されてもよく、フッ素原子で置換されてもよい。
【００１９】
液晶層に対していわゆる両親媒性を、配向助剤に付与する観点から、上記配向誘導基は、メソゲン基に結合していることが好ましい。
【００２０】
「重合性基」
重合性基は、ＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で表されることが好ましい。
ＰＡＰ１は、下記一般式（ＡＰ−１）〜一般式（ＡＰ−９）で表される群より選ばれる基であることが好ましい。
【００２１】
【化２】
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【００２２】
式中、ＲＡＰ１及びＲＡＰ２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜１０のハロゲン化アルキル基を表す。ただし、アルキル基中の１個又は２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置換されてもよく、アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子又は水酸基で置換されてもよい。
ＷＡＰ１は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＣＨ２−を表す。
ｔＡＰ１は、０、１又は２を表す。
【００２３】
ＰＡＰ１は、下記一般式（ＡＰ−１）〜一般式（ＡＰ−７）で表される基であることが好ましく、下記一般式（ＡＰ−１）又は一般式（ＡＰ−２）で表される基であることがより好ましく、一般式（ＡＰ−１）であることがさらに好ましい。
【００２４】
ＳｐＡＰ１は、単結合又は直鎖状若しくは分岐状の炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表すことが好ましく、単結合又は直鎖状の炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表すことがより好ましく、単結合又は直鎖状の炭素原子数２〜１０のアルキレン基を表すことがさらに好ましい。
また、ＳｐＡＰ１において、アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。
【００２５】
配向助剤において、重合性基（ＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−）の数は、１以上５以下であることが好ましく、１以上４以下であることがより好ましく、２以上４以下であることがさらに好ましく、２又は３であることが特に好ましく、２であることが最も好ましい。
ＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−中の水素原子は、重合性基、吸着基及び／又は配向誘導基で置換されてもよい。
【００２６】
重合性基（ＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−）は、重合性基、メソゲン基、吸着基及び／又は配向誘導基に対して結合してもよい。
また、重合性基（ＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−）は、メソゲン基、吸着基又は配向誘導基に対して結合することが好ましく、メソゲン基又は吸着基に対して結合することがより好ましい。
なお、分子内にＰＡＰ１及び／又はＳｐＡＰ１−が複数存在する場合に、それぞれ互いに同一であっても異なってもよい。
【００２７】
「メソゲン基」
メソゲン基は、剛直な部分を備えた基、例えば環式基を１つ以上備えた基をいい、環式基を２〜４個を備えた基が好ましく、環式基を３〜４個を備えた基がより好ましい。なお、必要に応じて、環式基は、連結基で連結されてもよい。メソゲン基は、液晶層に使用される液晶分子（液晶化合物）と類似の骨格を有することが好ましい。
なお、本明細書中において、「環式基」は、構成する原子が環状に結合した原子団をいい、炭素環、複素環、飽和又は不飽和環式構造、単環、２環式構造、多環式構造、芳香族、非芳香族などを含む。
また、環式基は、少なくとも１つのヘテロ原子を含んでもよく、さらに、少なくとも１つの置換基（ハロゲノ基、重合性基、有機基（アルキル、アルコキシ、アリール等）で置換されてもよい。環式基が単環である場合には、メソゲン基は、２個以上の単環を含んでいることが好ましい。
【００２８】
上記メソゲン基は、例えば、一般式（ＡＬ）で表されることが好ましい。
【化３】
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【００２９】
式中、ＺＡＬ１は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−又は炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表す。ただし、アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。
【００３０】
ＡＡＬ１及びＡＡＬ２は、それぞれ独立して、２価の環式基を表す。
ＺＡＬ１、ＡＡＬ１及びＡＡＬ２中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲノ基、吸着基、ＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−又は１価の有機基で置換されてもよく、
なお、分子内にＺＡＬ１及びＡＡＬ１が複数存在する場合に、それぞれ互いに同一であっても異なってもよい。
ｍＡＬ１は、１〜５の整数を表す。
【００３１】
一般式（ＡＬ）中、ＺＡＬ１は、単結合又は炭素原子数２〜２０のアルキレン基であることが好ましく、単結合又は炭素原子数２〜１０のアルキレン基であることがより好ましく、単結合、−（ＣＨ２）２−又は−（ＣＨ２）４−であることがさらに好ましい。アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。
さらに、棒状分子の直線性を高めることを目的とする場合は、ＺＡＬ１は、環と環とが直接連結した形態である単結合や、環と環とを直接結ぶ原子の数が偶数個の形態が好ましい。例えば、−ＣＨ２−ＣＨ２ＣＯＯ−の場合、環と環とを直接結ぶ原子の数は４つである。
【００３２】
一般式（ＡＬ）中、ＡＡＬ１及びＡＡＬ２は、それぞれ独立して、２価の環式基を表す。２価の環式基としては、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基及びフルオレン−２，７−ジイル基からなる群から選択される１種であることが好ましく、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、２，６−ナフチレン基又はフェナントレン−２，７−ジイル基がより好ましく、１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基であることがさらに好ましい。
なお、これらの基は、非置換又は置換基で置換されてもよい。この置換基としては、フッ素原子又は炭素原子数１〜８のアルキル基であることが好ましい。さらに、アルキル基は、フッ素原子又は水酸基で置換されてもよい。
また、環式基中の１個又は２個以上の水素原子は、ハロゲノ基、吸着基、ＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−又は１価の有機基で置換されてもよい。
【００３３】
一般式（ＡＬ）中、１価の有機基とは、有機化合物が１価の基の形態になることによって、化学構造が構成された基であり、有機化合物から水素原子を１つ取り除いてなる原子団をいう。
かかる１価の有機基としては、例えば、炭素原子数１〜１５のアルキル基、炭素原子数２〜１５のアルケニル基、炭素原子数１〜１４のアルコキシ基、炭素原子数２〜１５のアルケニルオキシ基などが挙げられ、炭素原子数１〜１５のアルキル基又は炭素原子数１〜１４のアルコキシ基であることが好ましく、炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基であることがさらに好ましく、炭素原子数１〜３のアルキル基又は炭素原子数１〜２のアルコキシ基であることが特に好ましく、炭素原子数１又は２のアルキル基又は炭素原子数１のアルコキシ基であることが最も好ましい。
また、上記アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。さらには、上記１価の有機基は、後述の配向誘導基としての役割を有してもよい。
上記一般式（ＡＬ）中、ｍＡＬ１は、１〜４の整数であることが好ましく、１〜３の整数であることがより好ましく、２又は３であることがさらに好ましい。
【００３４】
上記メソゲン基の好ましい形態としては、下記式（ｍｅ−１）〜（ｍｅ−４５）が挙げられる。
【化４】
2020008897.tif 000006
【００３５】
【化５】
2020008897.tif 000007
【００３６】
【化６】
2020008897.tif 000008
【００３７】
【化７】
2020008897.tif 000009
【００３８】
【化８】
2020008897.tif 000010
【００３９】
一般式（ＡＬ）は、これらの化合物から２個の水素原子が脱離した構造である。
これらの式（ｍｅ−１）〜（ｍｅ−４５）において、シクロヘキサン環、ベンゼン環又はナフタレン環中の１つ又は２つ以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲノ基、ＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−、１価の有機基（例えば、炭素原子数１〜１５のアルキル基、炭素原子数１〜１４のアルコキシ基）、吸着基又は配向誘導基で置換されてもよい。
【００４０】
上記メソゲン基のうち、好ましい形態は、式（ｍｅ−８）〜（ｍｅ−４５）であり、より好ましい形態は、式（ｍｅ−８）〜（ｍｅ−１０）、式（ｍｅ−１２）〜（ｍｅ−１８）、式（ｍｅ−２２）〜（ｍｅ−２４）、式（ｍｅ−２６）〜（ｍｅ−２７）及び式（ｍｅ−２９）〜（ｍｅ−４５）であり、さらに好ましい形態は、式（ｍｅ−１２）、（ｍｅ−１５）〜（ｍｅ−１６）、（ｍｅ−２２）〜（ｍｅ−２４）、（ｍｅ−２９）、（ｍｅ−３４）、（ｍｅ−３６）〜（ｍｅ−３７）、（ｍｅ−４２）〜（ｍｅ−４５）である。
【００４１】
上記メソゲン基のうち、特に好ましい形態は、下記一般式（ＡＬ−１）又は（ＡＬ−２）であり、最も好ましい形態は、下記一般式（ＡＬ−１）である。
【化９】
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【００４２】
式中、ＸＡＬ１０１〜ＸＡＬ１１８、ＸＡＬ２０１〜ＸＡＬ２１４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲノ基、ＰＡＰｌ−ＳｐＡＰｌ−、吸着基又は配向誘導基を表す。
環ＡＡＬ１１、環ＡＡＬ１２及び環ＡＡＬ２１は、それぞれ独立して、シクロヘキサン環又はベンゼン環を表す。
ＸＡＬ１０１〜ＸＡＬ１１８、ＸＡＬ２０１〜ＸＡＬ２１４のいずれか１種又は２種以上が、吸着基で置換されている。
ＸＡＬ１０１〜ＸＡＬ１１８、ＸＡＬ２０１〜ＸＡＬ２１４のいずれか１種又は２種以上が、配向誘導基で置換されている。
吸着基及び配向誘導基は、ＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよい。
一般式（ＡＬ−１）又は一般式（ＡＬ−２）は、その分子内にＰＡＰ１−ＳｐＡＰｌ−を１種又は２種以上有する。
【００４３】
一般式（ＡＬ−１）において、ＸＡＬ１０１は、配向誘導基であることが好ましい。
一般式（ＡＬ−１）において、ＸＡＬ１０９、ＸＡＬ１１０及びＸＡＬ１１１の少なくとも１つが吸着基であることが好ましく、ＸＡＬ１０９及びＸＡＬ１１０がともに吸着基であること又はＸＡＬ１１０が吸着基であることがより好ましく、ＸＡＬ１１０が吸着基であることがさらに好ましい。
一般式（ＡＬ−１）において、ＸＡＬ１０９、ＸＡＬ１１０及びＸＡＬ１１１の少なくとも１つがＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−又は構造内に重合可能な部位を有する吸着基であることが好ましく、ＸＡＬ１０９及びＸＡＬ１１１の両方又は一方がＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−であることがより好ましい。
一般式（ＡＬ−１）において、ＸＡＬ１０４〜ＸＡＬ１０８、ＸＡＬ１１２〜ＸＡＬ１１６の１つ又は２つがそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基又はハロゲノ基であることが好ましく、炭素原子数１〜３のアルキル基又はフッ素原子であることがより好ましい。特に、ＸＡＬ１０５、ＸＡＬ１０６又はＸＡＬ１０７がそれぞれ独立して、炭素原子数１〜３のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。
【００４４】
一般式（ＡＬ−２）において、ＸＡＬ２０１は、配向誘導基であることが好ましい。
一般式（ＡＬ−２）において、ＸＡＬ２０７、ＸＡＬ２０８及びＸＡＬ２０９の少なくとも１つが吸着基であることが好ましく、ＸＡＬ２０７及びＸＡＬ２０８がともに吸着基であること又はＸＡＬ２０８が吸着基であることがより好ましく、ＸＡＬ２０８が吸着基であることがさらに好ましい。
一般式（ＡＬ−２）において、ＸＡＬ２０７、ＸＡＬ２０８及びＸＡＬ２０９の少なくとも１つがＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−又は構造内に重合可能な部位を有する吸着基であることが好ましく、ＸＡＬ2０７及びＸＡＬ２０９の両方又は一方がＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−であることがより好ましい。
一般式（ＡＬ−２）において、ＸＡＬ２０２〜ＸＡＬ２０６、ＸＡＬ２１０〜ＸＡＬ２１４の１つ又は２つがそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基又はハロゲノ基であることが好ましく、炭素原子数１〜３のアルキル基又はフッ素原子であることがより好ましい。特に、ＸＡＬ２０４、ＸＡＬ２０５又はＸＡＬ２０６がそれぞれ独立して、炭素原子数１〜３のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。
【００４５】
「吸着基」
吸着基は、基板、膜、電極など液晶組成物と当接する層である吸着媒と吸着する役割を備えた基である。
吸着は、一般的に、化学結合（共有結合、イオン結合又は金属結合）をつくって吸着媒と吸着質との間で吸着する化学吸着と、化学吸着以外の物理吸着とに分別される。本明細書中において、吸着は、化学吸着又は物理吸着のいずれでもよいが、物理吸着であることが好ましい。そのため、吸着基は、吸着媒と物理吸着可能な基であることが好ましく、分子間力により吸着媒と結合可能な基であることがより好ましい。
分子間力により吸着媒と結合する形態としては、永久双極子、永久四重極子、分散力、電荷移動力又は水素結合などの相互作用による形態が挙げられる。
吸着基の好ましい形態としては、水素結合により吸着媒と結合可能な形態が挙げられる。この場合、吸着基が水素結合を介在するプロトンのドナーおよびアクセプターのいずれの役割を果たしてもよく、若しくは双方の役割を果たしてもよい。
【００４６】
吸着基は、炭素原子とヘテロ原子とが連結した原子団を有する極性要素を含む基（以下、「吸着基」を「極性基」とも記載する。）であることが好ましい。本明細書中において、極性要素とは、炭素原子とヘテロ原子とが直接連結した原子団をいう。
ヘテロ原子としては、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、Ｂ及びＳｉからなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群から選択される少なくとも１種であることがより好ましく、Ｎ及びＯからなる群から選択される少なくとも１種であることがさらに好ましく、Ｏであることが特に好ましい。
【００４７】
また、配向助剤において、極性要素の価数は、１価、２価、３価など特に制限されず、また吸着基中の極性要素の個数も特に制限されることはない。
配向助剤は、一分子中に１〜８個の吸着基を有することが好ましく、１〜４個の吸着基を有することがより好ましく、１〜３個の吸着基を有することがさらに好ましい。
なお、吸着基からは、重合性基及び配向誘導基を除くが、吸着基中の水素原子がＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換された構造及びＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−中の水素原子が−ＯＨで置換された構造は吸着基に含む。
【００４８】
吸着基は、１又は２以上の極性要素を含み、環式基型と鎖式基型とに大別される。
環式基型は、その構造中に極性要素を含む環状構造を備えた環式基を含む形態であり、鎖式基型は、その構造中に極性要素を含む環状構造を備えた環式基を含まない形態である。
鎖式基型は、直鎖又は分岐した鎖状基中に極性要素を有する形態であり、その一部に極性要素を含まない環状構造を有していてもよい。
【００４９】
環式基型の吸着基とは、少なくとも１つの極性要素を環状の原子配列内に含む構造を有する形態を意味する。
なお、本明細書中において、環式基とは、上述した通りである。そのため、環式基型の吸着基は、極性要素を含む環式基さえ含んでいればよく、吸着基全体としては分岐しても直鎖状であってもよい。
【００５０】
一方、鎖式基型の吸着基とは、分子内に極性要素を含む環状の原子配列を含まず、かつ少なくとも１つの極性要素を線状の原子配列（枝分かれしてもよい）内に含む構造を有する形態を意味する。
なお、本明細書中において、鎖式基とは、構造式中に環状の原子配列を含まず、構成する原子が線状（分岐してもよい）に結合した原子団をいい、非環式基をいう。換言すると、鎖式基とは、直鎖状又は分枝状の脂肪族基をいい、飽和結合又は不飽和結合のどちらを含んでもよい。
したがって、鎖式基には、例えば、アルキル、アルケニル、アルコキシ、エステル、エーテル又はケトンなどが含まれる。なお、これらの基中の水素原子は、少なくとも１つの置換基（反応性官能基（ビニル基、アクリル基、メタクリル基等）、鎖状有機基（アルキル、シアノ等））で置換されてもよい。また、鎖式基は、直鎖状又は分岐状のいずれでもよい。
【００５１】
環式基型の吸着基としては、炭素原子数３〜２０の複素芳香族基（縮合環を含む）又は炭素原子数３〜２０の複素脂環族基（縮合環を含む）であることが好ましく、炭素原子数３〜１２の複素芳香族基（縮合環を含む）又は炭素原子数３〜１２の複素脂環族基（縮合環を含む）であることがより好ましく、５員環の複素芳香族基、５員環の複素脂環族基、６員環の複素芳香族基又は６員環の複素脂環族基であることがさらに好ましい。なお、これらの環構造中の水素原子は、ハロゲノ基、炭素原子数１〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基又はアルキルオキシ基で置換されてもよい。
【００５２】
鎖式基型の吸着基としては、構造内の水素原子や−ＣＨ２−が極性要素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素原子数１〜２０のアルキル基であることが好ましい。なお、アルキル基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。また、鎖式基型の吸着基は、その端部に１個又は２個以上の極性要素を含むことが好ましい。
【００５３】
吸着基中の水素原子は、重合性基で置換されてもよい。
極性要素の具体例としては、酸素原子を含む極性要素（以下、含酸素極性要素）、窒素原子を含む極性要素（以下、含窒素極性要素）、リン原子を含む極性要素（以下、含リン極性要素）、ホウ素原子を含む極性要素（以下、含ホウ素極性要素）、ケイ素原子を含む極性要素（以下、含ケイ素極性要素）又は硫黄原子を含む極性要素（以下、含硫黄極性要素）が挙げられる。吸着能の観点から、極性要素としては、含窒素極性要素、含窒素極性要素又は含酸素極性要素であることが好ましく、含酸素極性要素であることがより好ましい。
【００５４】
含酸素極性要素としては、水酸基、アルキロール基、アルコキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、エーテル基、カルボニル基、カーボネート基及びエステル基からなる群から選択される少なくとも１種の基又は当該基が炭素原子に連結している基であることが好ましい。
含窒素極性要素としては、シアノ基、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、ピリジル基、カルバモイル基及びウレイド基からなる群から選択される少なくとも１種の基又は当該基が炭素原子に連結している基であることが好ましい。
含リン極性要素としては、ホスフィニル基及びリン酸基からなる群から選択される少なくとも１種の基又は当該基が炭素原子に連結している基であることが好ましい。
【００５５】
そのため、吸着基としては、含酸素極性要素を備えた環式基（以下、含酸素環式基）、含窒素極性要素を備えた環式基（以下、含窒素環式基）、含硫黄極性要素を備えた環式基（以下、含硫黄環式基）、含酸素極性要素を備えた鎖式基（以下、含酸素鎖式基）及び含窒素極性要素を備えた鎖式基（以下、含窒素鎖式基）からなる群から選択される１種又は２種以上の基自体または当該基を含むことが好ましく、吸着能の観点から含酸素環式基、含硫黄環式基、含酸素鎖式基及び含窒素鎖式基からなる群から選択される１種又は２種以上の基を含むことがより好ましい。
【００５６】
含酸素環式基としては、環構造内に酸素原子をエーテル基として有する下記の基のいずれかを含むことが好ましい。
【化１０】
2020008897.tif 000012
【００５７】
また、含酸素環式基としては、環構造内に酸素原子をカルボニル基、カーボネート基及びエステル基として有する下記の基のいずれかを含むことが好ましい。
【化１１】
2020008897.tif 000013
【００５８】
含窒素環式基としては、下記の基のいずれかを含むことが好ましい。
【化１２】
2020008897.tif 000014
【００５９】
含酸素鎖式基としては、下記の基のいずれかを含むことが好ましい。
【化１３】
2020008897.tif 000015
【００６０】
式中、Ｒａｔ１は、水素原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。
Ｚａｔ１は、単結合、炭素原子数１〜１５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又は炭素原子数２〜１８の直鎖状若しくは分岐状のアルケニレン基を表す。ただし、アルキレン基又はアルケニレン基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−で置換されてもよい。
Ｘａｔ１は、炭素原子数１〜１５のアルキル基を表す。ただし、アルキル基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−で置換されてもよい。
【００６１】
含窒素鎖式基としては、下記の基のいずれかを含むことが好ましい。
【化１４】
2020008897.tif 000016
式中、Ｒａｔ、Ｒｂｔ、Ｒｃｔ及びＲｄｔは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。
【００６２】
吸着基としては、下記一般式（ＡＴ）で表される基であることが好ましい。
【化１５】
2020008897.tif 000017
式中、ＳｐＡＴ１は、単結合、炭素原子数１〜２５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。ただし、アルキレン基中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよく、アルキレン基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接結合しないように環式基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよい。
ＷＡＴ１は、単結合又は下記一般式（ＷＡＴ１）又は（ＷＡＴ２）を表す。
ＺＡＴ１は、極性要素を含む１価の基を表す。ただし、ＺＡＴ１中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよい。
【００６３】
【化１６】
2020008897.tif 000018
（式中、ＳｐＷＡＴ１及びＳｐＷＡＴ２は、それぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜２５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表し、アルキレン基中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよく、アルキレン基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接結合しないように環式基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよい。）
【００６４】
ＳｐＡＴ１、ＳｐＷＡＴ１及びＳｐＷＡＴ２は、それぞれ独立して、単結合又は直鎖状若しくは分岐状の炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表すことが好ましく、単結合又は直鎖状の炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表すことがより好ましく、単結合又は直鎖状の炭素原子数２〜１０のアルキレン基を表すことがさらに好ましい。
また、ＳｐＡＴ１、ＳｐＷＡＴ１及びＳｐＷＡＴ２において、アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、酸素原子が直接結合しないよういに、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。
また、ＳｐＡＴ１及びＳｐＷＡＴ１中の水素原子は、それぞれ独立して、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよい。
【００６５】
ＺＡＴ１は、極性要素を含む１価の基を表すが、下記一般式（ＺＡＴ１−１）又は（ＺＡＴ１−２）で表される基であることが好ましい。
【化１７】
2020008897.tif 000019
【００６６】
式中、ＳｐＺＡＴ１１及びＳｐＺＡＴ１２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。ただし、アルキレン基中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよく、アルキレン基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接隣接しないように環式基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよい。
ＺＺＡＴ１１は、極性要素を含む基を表す。
一般式（ＺＡＴ１−２）中のＺＺＡＴ１２を含む環で表した構造は、５〜７員環を表す。
ＺＺＡＴ１１及びＺＺＡＴ１２中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよい。
【００６７】
ＲＺＡＴ１１及びＲＺＡＴ１２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表す。ただし、アルキル基中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよく、アルキル基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接結合しないように環式基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよい。
【００６８】
一般式（ＺＡＴ１−１）で表される基としては、下記一般式（ＺＡＴ１−１−１）〜（ＺＡＴ１−１−３０）で表される基であることが好ましい。
【化１８】
2020008897.tif 000020
【００６９】
【化１９】
2020008897.tif 000021
【００７０】
式中、炭素原子に結合する水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよい。
ＳｐＺＡＴ１１は、炭素原子数１〜２５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。ただし、アルキレン基中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよく、アルキレン基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接隣接しないように環式基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよい。
【００７１】
ＲＺＡＴ１１は、炭素原子数１〜８の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表す。ただし、アルキル基中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよく、アルキル基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接結合しないように環式基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよい。
【００７２】
一般式（ＺＡＴ１−２）で表される基としては、下記一般式（ＺＡＴ１−２−１）〜（ＺＡＴ１−２−９）で表される基であることが好ましい。
【化２０】
2020008897.tif 000022
【００７３】
式中、炭素原子に結合する水素原子は、ハロゲン原子、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよい。
ＳｐＺＡＴ１１は、炭素原子数１〜２５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。ただし、アルキレン基中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよく、アルキレン基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接隣接しないように環式基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよい。
【００７４】
一般式（ＺＡＴ１−１）で表される基としては、下記の基が挙げられる。
【化２１】
2020008897.tif 000023
【００７５】
【化２２】
2020008897.tif 000024
【００７６】
【化２３】
2020008897.tif 000025
【００７７】
【化２４】
2020008897.tif 000026
【００７８】
【化２５】
2020008897.tif 000027
【００７９】
【化２６】
2020008897.tif 000028
【００８０】
式中、Ｒｔｃは、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−を表す。ただし、アルキル基中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよく、アルキル基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接隣接しないように環式基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよい。
分子内の水素原子は、ＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよい。
＊は、結合手を表す。
【００８１】
配向助剤は、吸着基に含まれる極性要素や重合性基に含まれる極性要素が局在化する形態であることが好ましい。吸着基は、液晶分子を垂直配向させるために重要な構造であり、吸着基と重合性基とが隣接していることで、より良好な配向性が得られ、また液晶組成物への良好な溶解性を示す。
具体的には、配向助剤は、メソゲン基の同一環上に重合性基及び吸着基を有する形態であることが好ましい。かかる形態には、１以上の重合性基及び１以上の吸着基がそれぞれ同一環上に結合している形態と、１以上の重合性基の少なくとも一つ又は１以上の吸着基の少なくとも一つのうち、一方が他方に結合して、同一環上に重合性基及び吸着基を有する形態とが含まれる。
また、この場合、重合性基が有するスペーサー基中の水素原子が、吸着基で置換されてもよく、さらには吸着基中の水素原子が、スペーサー基を介して重合性基で置換されてもよい。
【００８２】
配向助剤としては、下記一般式（ＳＡＬ）で表される化合物であることが好ましい。
【化２７】
2020008897.tif 000029
【００８３】
式中、炭素原子に結合する水素原子は、炭素原子数１〜２５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよい。ただし、アルキル基中の水素原子は、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＳｐＡＴ１−ＷＡＴ１−ＺＡＴ１又はＰＡＰ１−ＳｐＡＰ１−で置換されてもよく、アルキル基中の−ＣＨ２−は、酸素原子が直接結合しないように環式基、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されてもよい。
ＲＡＫ１は、一般式（ＡＫ）におけるＲＡＫ１と同じ意味を表す。
【００８４】
ＡＡＬ１及びＡＡＬ２は、それぞれ独立して、一般式（ＡＬ）におけるＡＡＬ１及びＡＡＬ２と同じ意味を表す。
ＺＡＬ１は、一般式（ＡＬ）におけるＺＡＬ１と同じ意味を表す。
ｍＡＬ１は、一般式（ＡＬ）におけるｍＡＬ１と同じ意味を表す。
ＳｐＡＴ１は、一般式（ＡＴ）におけるＳｐＡＴ１と同じ意味を表す。
ＷＡＴ１は、一般式（ＡＴ）におけるＷＡＴ１と同じ意味を表す。
ＺＡＴ１は、一般式（ＡＴ）におけるＺＡＴ１と同じ意味を表す。
【００８５】
一般式（ＳＡＬ）で表される化合物としては、下記式（ＳＡＬ−１．１）〜（ＳＡＬ−２．９）で表される化合物であることが好ましい。
【化２８】
2020008897.tif 000030
【００８６】
【化２９】
2020008897.tif 000031
【００８７】
【化３０】
2020008897.tif 000032
【００８８】
【化３１】
2020008897.tif 000033
【００８９】
【化３２】
2020008897.tif 000034
【００９０】
【化３３】
2020008897.tif 000035
【００９１】
【化３４】
2020008897.tif 000036
【００９２】
【化３５】
2020008897.tif 000037
【００９３】
【化３６】
2020008897.tif 000038
【００９４】
【化３７】
2020008897.tif 000039
【００９５】
【化３８】
2020008897.tif 000040
【００９６】
【化３９】
2020008897.tif 000041
【００９７】
液晶組成物中に含まれる配向助剤の量は、０．０１〜５０質量％程度であることが好ましい。そのより好ましい下限値は、液晶分子を更に好適に配向させる観点から、０．０５質量％、０．１質量％である。一方、そのより好ましい上限値は、応答特性を改善する観点から、３０質量％、１０質量％、７質量％、５質量％、４質量％、３質量％である。
【００９８】
((液晶分子))
液晶分子は、一般式（Ｎ−１）〜（Ｎ−３）で表される化合物のうちの少なくとも１種を含むことが好ましい。
【化４０】
2020008897.tif 000042
【００９９】
式中、ＲＮ１１、ＲＮ１２、ＲＮ２１、ＲＮ２２、ＲＮ３１およびＲＮ３２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基を表す。ただし、アルキル基中に存在する任意の１個または隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置換されてもよい。
ＡＮ１１、ＡＮ１２、ＡＮ２１、ＡＮ２２、ＡＮ３１およびＡＮ３２は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する任意の１個または隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置換されてもよい。）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する任意の１個または隣接しない２個以上の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝で置換されてもよい。）、
（ｃ）  ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（これらの基中に存在する任意の１個または隣接しない２個以上の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝で置換されてもよい。）、および
（ｄ）  １，４−シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、前記基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）および基（ｄ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子または塩素原子で置換されてもよい。
【０１００】
ＺＮ１１、ＺＮ１２、ＺＮ２１、ＺＮ２２、ＺＮ３１およびＺＮ３２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。
ＸＮ２１は、水素原子またはフッ素原子を表す。
ＴＮ３１は、−ＣＨ２−または酸素原子を表す。
ｎＮ１１、ｎＮ１２、ｎＮ２１、ｎＮ２２、ｎＮ３１およびｎＮ３２は、それぞれ独立して、０〜３の整数を表すが、ｎＮ１１＋ｎＮ１２、ｎＮ２１＋ｎＮ２２およびｎＮ３１＋ｎＮ３２は、それぞれ独立して、１、２または３である。
ｎＮ１１、ｎＮ１２、ｎＮ２１、ｎＮ２２、ｎＮ３１およびｎＮ３２がそれぞれ２以上の場合は、ＡＮ１１〜ＡＮ３２、ＺＮ１１〜ＺＮ３２は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１０１】
上記一般式（Ｎ−１）〜（Ｎ−３）のいずれかで表される化合物は、誘電率異方性（Δε）が負であり、その絶対値が３よりも大きいことが好ましい。
ＲＮ１１〜ＲＮ３２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、または炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、または炭素原子数２〜５のアルケニルオキシ基がより好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基、または炭素原子数２〜５のアルケニル基がさらに好ましく、炭素原子数２〜５のアルキル基、または炭素原子数２〜３のアルケニル基が特に好ましく、炭素原子数３のアルケニル基（すなわち、プロペニル基）が最も好ましい。
【０１０２】
また、それらが結合する環構造がベンゼン環（芳香族環）である場合は、ＲＮ１１〜ＲＮ３２は、それぞれ独立して、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基、または炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましい。
それらが結合する環構造がシクロヘキサン環、ピラン環、ジオキサン環のような飽和した環構造の場合は、ＲＮ１１〜ＲＮ３２は、それぞれ独立して、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基、または直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
ネマチック相を安定化させるためには、ＲＮ１１〜ＲＮ３２は、それぞれ独立して、炭素原子および酸素原子（存在する場合）の合計が５以下であることが好ましく、直鎖状であることも好ましい。
【０１０３】
アルケニル基としては、下記式（Ｒ１）〜（Ｒ５）で表される群から選ばれる基が好ましい。
【化４１】
2020008897.tif 000043
各式中、黒点は結合手を表す。
【０１０４】
ＡＮ１１〜ＡＮ３２は、それぞれ独立して、液晶分子の屈折率異方性（Δｎ）を大きくする場合は芳香族基が好ましく、液晶分子の応答速度を改善する場合は脂肪族基が好ましい。
かかる芳香族基または脂肪族基としては、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基が好ましく、下記化４０で表される構造がより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基または１，４−フェニレン基がさらに好ましい。
【０１０５】
【化４２】
2020008897.tif 000044
【０１０６】
ＺＮ１１〜ＺＮ３２は、それぞれ独立して、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−または単結合が好ましく、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−または単結合がより好ましく、−ＣＨ２Ｏ−または単結合が特に好ましい。
ＸＮ２１は、フッ素原子が好ましい。
ＴＮ３１は、酸素原子が好ましい。
【０１０７】
ｎＮ１１＋ｎＮ１２、ｎＮ２１＋ｎＮ２２およびｎＮ３１＋ｎＮ３２は、それぞれ独立して、１または２が好ましく、ｎＮ１１が１かつｎＮ１２が０である組み合わせ、ｎＮ１１が２かつｎＮ１２が０である組み合わせ、ｎＮ１１が１かつｎＮ１２が１である組み合わせ、ｎＮ１１が２かつｎＮ１２が１である組み合わせ、ｎＮ２１が１かつｎＮ２２が０である組み合わせ、ｎＮ２１が２かつｎＮ２２が０である組み合わせ、ｎＮ３１が１かつｎＮ３２が０である組み合わせ、ｎＮ３１が２かつｎＮ３２が０である組み合わせがより好ましい。
【０１０８】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１）〜（Ｎ−３）で表される化合物の量は、それぞれ次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、１０質量％、２０質量％、３０質量％、４０質量％、５０質量％、５５質量％、６０質量％、６５質量％、７０質量％、７５質量％、８０質量％である。一方、その好ましい上限値は、９５質量％、８５質量％、７５質量％、６５質量％、５５質量％、４５質量％、３５質量％、２５質量％、２０質量％である。
【０１０９】
液晶組成物の粘度（η）を低く保ち、応答速度を高める場合は、一般式（Ｎ−１）〜（Ｎ−３）で表される化合物の量は、下限値が低くかつ上限値も低い方が好ましい。さらに、液晶組成物のネマチック相−等方性液体相転移温度（Ｔｎｉ）を高く保ち、温度安定性を改善する場合は、その量は下限値が低くかつ上限値も低い方が好ましい。また、液晶表示素子の駆動電圧を低く保つため、液晶組成物の誘電率異方性（Δε）を大きくする場合は、その量は下限値が高くかつ上限値も高い方が好ましい。
【０１１０】
一般式（Ｎ−１）で表される化合物としては、下記一般式（Ｎ−１ａ）〜（Ｎ−１ｇ）で表される化合物が挙げられる。
【化４３】
2020008897.tif 000045
【０１１１】
式中、ＲＮ１１およびＲＮ１２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ｎＮａ１１、ｎＮｂ１１、ｎＮｃ１１およびｎＮｄ１１は、それぞれ独立して、０〜２を表す。
ｎＮｅ１１、ｎＮｆ１１およびｎＮｇ１１は、それぞれ独立して、１または２を表す。
ＡＮｅ１１は、トランス−１，４−シクロへキシレン基または１，４−フェニレン基を表す。
ＡＮｇ１１は、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基または１，４−フェニレン基を表すが、少なくとも１つは１，４−シクロヘキセニレン基を表す。
ＺＮｅ１１は、単結合またはエチレン基を表すが、少なくとも１つはエチレン基を表す。
【０１１２】
上記一般式（Ｎ−１ａ）〜（Ｎ−１ｇ）中、ｎＮａ１１は０又は１を表すことが好ましい。ｎＮｂ１１は１又は２を表すことが好ましい。ｎＮｃ１１は０又は１を表すことが好ましい。ｎＮｄ１１は１又は２を表すことが好ましい。ｎＮｅ１１は１又は２を表すことが好ましい。ｎＮｆ１２は１又は２を表すことが好ましい。ｎＮｇ１１は１又は２を表すことが好ましい。また、上記一般式（Ｎ−１ｅ）、（Ｎ−１ｇ）において、分子内に複数存在するＡＮｅ１１、ＺＮｅ１１、及び／又はＡＮｇ１１は、同一であっても異なっていても良い。
【０１１３】
より具体的には、一般式（Ｎ−１）で表される化合物は、下記一般式（Ｎ−１−１）〜（Ｎ−１−５）、一般式（Ｎ−１−１０）〜（Ｎ−１−１８）または一般式（Ｎ−１−２０）〜（Ｎ−１−２２）で表される化合物であることが好ましい。
【０１１４】
一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化４４】
2020008897.tif 000046
【０１１５】
式中、ＲＮ１１１およびＲＮ１１２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１１１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、プロピル基、ペンチル基またはビニル基がより好ましい。
ＲＮ１１２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１１６】
一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１１７】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％、２３質量％、２５質量％、２７質量％、３０質量％、３３質量％、３５質量％である。一方、その好ましい上限値は、５０質量％、４０質量％、３８質量％、３５質量％、３３質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％、１０質量％、８質量％、７質量％、６質量％、５質量％、３質量％である。
【０１１８】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１１９】
一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物は、下記式（Ｎ−１−１．１）〜（Ｎ−１−１．４）、式（Ｎ−１−１．１１）〜（Ｎ−１−１．１４）または（Ｎ−１−１．２０）〜（Ｎ−１−１．２２）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１．１）〜（Ｎ−１−１．４）で表される化合物であることがより好ましく、式（Ｎ−１−１．１）または（Ｎ−１−１．３）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【０１２０】
【化４５】
2020008897.tif 000047
【０１２１】
一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化４６】
2020008897.tif 000048
【０１２２】
式中、ＲＮ１２１およびＲＮ１２２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１２１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基またはペンチル基がより好ましい。
ＲＮ１２２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、メチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基がより好ましい。
【０１２３】
一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１２４】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、７質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％、２３質量％、２５質量％、２７質量％、３０質量％、３３質量％、３５質量％、３７質量％、４０質量％、４２質量％である。一方、その好ましい上限値は、５０質量％、４８質量％、４５質量％、４３質量％、４０質量％、３８質量％、３５質量％、３３質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％、１０質量％、８質量％、７質量％、６質量％、５質量％である。
【０１２５】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を少なめに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１２６】
一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物は、下記式（Ｎ−１−２．１）〜（Ｎ−１−２．７）、式（Ｎ−１−２．１０）〜（Ｎ−１−２．１３）または式（Ｎ−１−２．２０）〜（Ｎ−１−２．２２）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−２．３）〜（Ｎ−１−２．７）、式（Ｎ−１−２．１０）、式（Ｎ−１−２．１１）、式（Ｎ−１−２．１３）または式（Ｎ−１−２．２０）で表される化合物であることがより好ましい。
【０１２７】
Δεの改良を重視する場合は、式（Ｎ−１−２．３）〜（Ｎ−１−２．７）で表される化合物であることが好ましい。Ｔｎｉの改良を重視する場合は、式（Ｎ−１−２．１０）、式（Ｎ−１−２．１１）または式（Ｎ−１−２．１３）で表される化合物であることが好ましい。また、応答速度の改良を重視する場合は、式（Ｎ−１−２．２０）で表される化合物であることが好ましい。
【０１２８】
【化４７】
2020008897.tif 000049
【０１２９】
一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化４８】
2020008897.tif 000050
【０１３０】
式中、ＲＮ１３１およびＲＮ１３２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１３１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
ＲＮ１３２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数３〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、１−プロペニル基、エトキシ基、プロポキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１３１】
一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１３２】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１３３】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１３４】
一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物は、下記式（Ｎ−１−３．１）〜（Ｎ−１−３．７）、式（Ｎ−１−３．１０）、式（Ｎ−１−３．１１）、式（Ｎ−１−３．２０）または式（Ｎ−１−３．２１）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−３．１）〜（Ｎ−１−３．７）または式（Ｎ−１−３．２１）で表される化合物であることがより好ましく、式（Ｎ−１−３．１）〜（Ｎ−１−３．４）または式（Ｎ−１−３．６）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【０１３５】
【化４９】
2020008897.tif 000051
【０１３６】
式（Ｎ−１−３．１）〜（Ｎ−１−３．４）、式（Ｎ−１−３．６）または式（Ｎ−１−３．２１）で表される化合物は、１種を単独で使用することも、２種以上を組み合わせて使用することも可能である。中でも、式（Ｎ−１−３．１）で表される化合物と式（Ｎ−１−３．２）で表される化合物との組み合わせ、式（Ｎ−１−３．３）で表される化合物、式（Ｎ−１−３．４）で表される化合物および式（Ｎ−１−３．６）で表される化合物から選ばれる２種または３種の組み合わせが好ましい。
【０１３７】
一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化５０】
2020008897.tif 000052
【０１３８】
式中、ＲＮ１４１およびＲＮ１４２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１４１およびＲＮ１４２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、メチル基、プロピル基、エトキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１３９】
一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１４０】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、３質量％、５質量％、７質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％、１１質量％、１０質量％、８質量％である。
【０１４１】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１４２】
一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物は、下記式（Ｎ−１−４．１）〜（Ｎ−１−４．４）または式（Ｎ−１−４．１１）〜（Ｎ−１−４．１４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−４．１）〜（Ｎ−１−４．４）で表される化合物であることがより好ましく、式（Ｎ−１−４．１）、式（Ｎ−１−４．２）または式（Ｎ−１−４．４）で表される化合物であることがさら好ましい。
【０１４３】
【化５１】
2020008897.tif 000053
【０１４４】
一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化５２】
2020008897.tif 000054
【０１４５】
式中、ＲＮ１５１およびＲＮ１５２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１５１およびＲＮ１５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
【０１４６】
一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１４７】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、８質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３３質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１４８】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を少なめに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１４９】
一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物は、下記式（Ｎ−１−５．１）〜（Ｎ−１−５．６）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−５．１）、式（Ｎ−１−５．２）または式（Ｎ−１−５．４）で表される化合物であることがより好ましい。
【０１５０】
【化５３】
2020008897.tif 000055
【０１５１】
一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化５４】
2020008897.tif 000056
【０１５２】
式中、ＲＮ１１０１およびＲＮ１１０２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１１０１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基または１−プロペニル基がより好ましい。
ＲＮ１１０２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１５３】
一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１５４】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１５５】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を高めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を高めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１５６】
一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物は、下記式（Ｎ−１−１０．１）〜（Ｎ−１−１０．５）または式（Ｎ−１−１０．１１）〜（Ｎ−１−１０．１４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１０．１）〜（Ｎ−１−１０．５）で表される化合物であることがより好ましく、式（Ｎ−１−１０．１）または式（Ｎ−１−１０．２）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【０１５７】
【化５５】
2020008897.tif 000057
【０１５８】
一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化５６】
2020008897.tif 000058
【０１５９】
式中、ＲＮ１１１１およびＲＮ１１１２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１１１１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基または１−プロペニル基がより好ましい。
ＲＮ１１１２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１６０】
一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１６１】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１６２】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を低めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を高めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１６３】
一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物は、下記式（Ｎ−１−１１．１）〜（Ｎ−１−１１．５）または式（Ｎ−１−１１．１１）〜（Ｎ−１−１１．１４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１１．１）〜（Ｎ−１−１１．５）で表される化合物であることがより好ましく、式（Ｎ−１−１１．２）または式（Ｎ−１−１１．４）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【０１６４】
【化５７】
2020008897.tif 000059
【０１６５】
一般式（Ｎ−１−１２）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化５８】
2020008897.tif 000060
【０１６６】
式中、ＲＮ１１２１およびＲＮ１１２２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１１２１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
ＲＮ１１２２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１６７】
一般式（Ｎ−１−１２）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１６８】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−１２）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１６９】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−１２）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−１２）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１７０】
一般式（Ｎ−１−１３）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化５９】
2020008897.tif 000061
【０１７１】
式中、ＲＮ１１３１およびＲＮ１１３２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１１３１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
ＲＮ１１３２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１７２】
一般式（Ｎ−１−１３）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１７３】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−１３）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１７４】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−１３）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−１３）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１７５】
一般式（Ｎ−１−１４）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化６０】
2020008897.tif 000062
【０１７６】
式中、ＲＮ１１４１およびＲＮ１１４２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１１４１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
ＲＮ１１４２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１７７】
一般式（Ｎ−１−１４）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１７８】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−１４）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１７９】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−１４）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−１４）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１８０】
一般式（Ｎ−１−１５）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化６１】
2020008897.tif 000063
【０１８１】
式中、ＲＮ１１５１およびＲＮ１１５２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１１５１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
ＲＮ１１５２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１８２】
一般式（Ｎ−１−１５）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１８３】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−１５）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１８４】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−１５）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−１５）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１８５】
一般式（Ｎ−１−１６）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化６２】
2020008897.tif 000064
【０１８６】
式中、ＲＮ１１６１およびＲＮ１１６２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１１６１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
ＲＮ１１６２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１８７】
一般式（Ｎ−１−１６）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１８８】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−１６）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１８９】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−１６）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−１６）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１９０】
一般式（Ｎ−１−１７）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化６３】
2020008897.tif 000065
【０１９１】
式中、ＲＮ１１７１およびＲＮ１１７２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１１７１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
ＲＮ１１７２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１９２】
一般式（Ｎ−１−１７）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１９３】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−１７）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１９４】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−１７）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−１７）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０１９５】
一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化６４】
2020008897.tif 000066
【０１９６】
式中、ＲＮ１１８１およびＲＮ１１８２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１１８１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
ＲＮ１１８２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基またはブトキシ基がより好ましい。
【０１９７】
一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１９８】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０１９９】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０２００】
一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物は、下記式（Ｎ−１−１８．１）〜（Ｎ−１−１８．５）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１８．１）〜（Ｎ−１−１８．３）で表される化合物であることがより好ましく、式（Ｎ−１−１８．２）または式（Ｎ−１−１８．３）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【０２０１】
【化６５】
2020008897.tif 000067
【０２０２】
一般式（Ｎ−１−２０）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化６６】
2020008897.tif 000068
【０２０３】
式中、ＲＮ１２０１およびＮ１２０２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１２０１およびＲＮ１２０２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
【０２０４】
一般式（Ｎ−１−２０）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２０５】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−２０）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０２０６】
Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−２０）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−２０）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０２０７】
一般式（Ｎ−１−２１）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化６７】
2020008897.tif 000069
【０２０８】
ＲＮ１２１１およびＲＮ１２１２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
【０２０９】
一般式（Ｎ−１−２１）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２１０】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−２１）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％である。
【０２１１】
Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−２１）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−２１）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０２１２】
一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化６８】
2020008897.tif 000070
【０２１３】
式中、ＲＮ１２２１およびＲＮ１２２２は、それぞれ一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１およびＲＮ１２と同じ意味を表す。
ＲＮ１２２１およびＲＮ１２２２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基またはブチル基がより好ましい。
【０２１４】
一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２１５】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３５質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％、１０質量％、５質量％である。
【０２１６】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−１−２１）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０２１７】
一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物は、下記式（Ｎ−１−２２．１）〜（Ｎ−１−２２．６）、式（Ｎ−１−２２．１１）または（Ｎ−１−２２．１２）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−２２．１）〜（Ｎ−１−２２．５）で表される化合物であることがより好ましく、式（Ｎ−１−２２．１）〜（Ｎ−１−２２．４）で表される化合物がさらに好ましい。
【０２１８】
【化６９】
2020008897.tif 000071
【０２１９】
一般式（Ｎ−３）で表される化合物は、下記一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物であることが好ましい。
【化７０】
2020008897.tif 000072
【０２２０】
式中、ＲＮ３２１およびＲＮ３２２は、それぞれ一般式（Ｎ−３）におけるＲＮ３１およびＲＮ３２と同じ意味を表す。
ＲＮ３２１およびＲＮ３２２は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、プロピル基またはペンチル基がより好ましい。
【０２２１】
一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２２２】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、３質量％、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％、２３質量％、２５質量％、２７質量％、３０質量％、３３質量％、３５質量％である。一方、その好ましい上限値は、５０質量％、４０質量％、３８質量％、３５質量％、３３質量％、３０質量％、２８質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１３質量％、１０質量％、８質量％、７質量％、６質量％、５質量％である。
【０２２３】
なお、Δεの改善を重視する場合は、一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物の量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は、その量を多めに設定すると効果が高く、Ｔｎｉを重視する場合は、その量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０２２４】
一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物は、下記式（Ｎ−３−２．１）〜（Ｎ−３−２．３）で表される化合物であることが好ましい。
【化７１】
2020008897.tif 000073
【０２２５】
液晶分子は、さらに下記一般式（Ｌ）で表される化合物を含んでもよい。
【化７２】
2020008897.tif 000074
【０２２６】
式中、ＲＬ１およびＲＬ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基を表す。ただし、アルキル基中に存在する任意の１個または隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置換されてもよい。
ｎＬ１は、０、１、２または３を表す。
ＡＬ１、ＡＬ２およびＡＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する任意の１個または隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置換されてもよい。）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する任意の１個または隣接しない２個以上の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝で置換されてもよい。）、および
（ｃ）  ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（これらの基中に存在する任意の１個または隣接しない２個以上の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝で置換されてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、前記基（ａ）、基（ｂ）および基（ｃ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子または塩素原子で置換されてもよい。
【０２２７】
ＺＬ１およびＺＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。
ｎＬ１が２以上の場合は、ＡＬ２およびＺＬ２は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよいが、一般式（Ｎ−１）〜（Ｎ−３）で表される化合物を除く。
【０２２８】
一般式（Ｌ）で表される化合物は、誘電的にほぼ中性の化合物（Δεの値が−２〜２）に該当する。かかる化合物は、１種を単独で用いてもよいが、組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類であり、６種類であり、７種類であり、８種類であり、９種類であり、１０種類以上である。
【０２２９】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ）で表される化合物の量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整される。
その好ましい下限値は、１質量％、１０質量％、２０質量％、３０質量％、４０質量％、５０質量％、５５質量％、６０質量％、６５質量％、７０質量％、７５質量％、８０質量％である。一方、その好ましい上限値は、９５質量％、８５質量％、７５質量％、６５質量％、５５質量％、４５質量％、３５質量％、２５質量％である。
【０２３０】
液晶組成物の粘度（η）を低く保ち、応答速度を高める場合は、一般式（Ｌ）で表される化合物の量は、下限値が高くかつ上限値も高いことが好ましい。さらに、液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性を改善する場合は、その量は下限値が高くかつ上限値も高いことが好ましい。また、液晶表示素子の駆動電圧を低く保つため、液晶組成物のΔεを大きくする場合は、その量は下限値が低くかつ上限値も低いことが好ましい。
【０２３１】
信頼性を重視する場合は、ＲＬ１およびＲＬ２は、それぞれ独立して、アルキル基が好ましく、化合物の揮発性を低減させることを重視する場合は、ＲＬ１およびＲＬ２は、それぞれ独立して、アルコキシ基が好ましく、粘性の低下を重視する場合は、ＲＬ１およびＲＬ２のうちの少なくとも一方は、アルケニル基が好ましい。
一般式（Ｌ）で表される化合物中に存在するハロゲン原子の数は、０、１、２または３個であることが好ましく、０または１個であることがより好ましい。また、他の液晶分子との相溶性を重視する場合は、ハロゲン原子の数は、１個であることが好ましい。
【０２３２】
また、それらが結合する環構造がベンゼン環（芳香族環）である場合は、ＲＬ１およびＲＬ２は、それぞれ独立して、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基、または炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましい。
それたが結合する環構造がシクロヘキサン環、ピラン環、ジオキサン環のような飽和した環構造の場合は、ＲＬ１およびＲＬ２は、それぞれ独立して、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基、または直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
ネマチック相を安定化させるためには、ＲＬ１およびＲＬ２は、それぞれ独立して、炭素原子および酸素原子（存在する場合）の合計が５以下であることが好ましく、直鎖状であることも好ましい。
【０２３３】
アルケニル基としては、下記式（Ｒ１）〜（Ｒ５）で表される群から選ばれる基が好ましい。
【化７３】
2020008897.tif 000075
各式中の黒点は結合手を表す。
【０２３４】
ｎＬ１は、液晶分子の応答速度を重視する場合は０が好ましく、液晶分子のネマチック相の上限温度を改善する場合は２または３が好ましく、これらのバランスをとる場合は１が好ましい。また、液晶組成物として求められる特性を満たすためには、ｎＬ１が異なる値の化合物を組み合わせることが好ましい。
【０２３５】
ＡＬ１、ＡＬ２およびＡＬ３は、それぞれ独立して、液晶分子のΔｎを大きくする場合は芳香族基が好ましく、液晶分子の応答速度を改善する場合は脂肪族基が好ましい。
かかる芳香族基または脂肪族基としては、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基が好ましく、下記化７２で表される構造がより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基または１，４−フェニレン基がさらに好ましい。
【０２３６】
【化７４】
2020008897.tif 000076
ＺＬ１およびＺＬ２は、それぞれ独立して、液晶分子の応答速度を重視する場合は単結合が好ましい。
【０２３７】
一般式（Ｌ）で表される化合物は、下記一般式（Ｌ−１）〜（Ｌ−７）で表される化合物であることが好ましい。
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化７５】
2020008897.tif 000077
【０２３８】
式中、ＲＬ１１およびＲＬ１２は、それぞれ一般式（Ｌ）におけるＲＬ１およびＲＬ２と同じ意味を表す。
ＲＬ１１およびＲＬ１２は、それぞれ独立して、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基、または直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【０２３９】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２４０】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−１）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、２質量％、３質量％、５質量％、７質量％、１０質量％、１５質量％、２０質量％、２５質量％、３０質量％、３５質量％、４０質量％、４５質量％、５０質量％、５５質量％である。一方、その好ましい上限値は、９５質量％、９０質量％、８５質量％、８０質量％、７５質量％、７０質量％、６５質量％、６０質量％、５５質量％、５０質量％、４５質量％、４０質量％、３５質量％、３０質量％、２５質量％である。
【０２４１】
液晶組成物の粘度（η）を低く保ち、応答速度を高める場合は、一般式（Ｌ−１）で表される化合物の量は、下限値が高くかつ上限値も高いことが好ましい。さらに、液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性を改善する場合は、その量は下限値が中庸かつ上限値も中庸であることが好ましい。また、液晶表示素子の駆動電圧を低く保つため、液晶組成物のΔεを大きくする場合は、その量は下限値が低くかつ上限値も低いことが好ましい。
【０２４２】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は、下記一般式（Ｌ−１−１）で表される化合物であることが好ましい。
【化７６】
2020008897.tif 000078
式中、ＲＬ１２は、一般式（Ｌ−１）における意味と同じ意味を表す。
【０２４３】
一般式（Ｌ−１−１）で表される化合物は、下記式（Ｌ−１−１．１）〜（Ｌ−１−１．３）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−１．２）または式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物であることがより好ましく、式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【化７７】
2020008897.tif 000079
【０２４４】
液晶組成物中に含まれる式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、２質量％、３質量％、５質量％、７質量％、１０質量％である。一方、その好ましい上限値は、２０質量％、１５質量％、１３質量％、１０質量％、８質量％、７質量％、６質量％、５質量％、３質量％である。
【０２４５】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は、下記一般式（Ｌ−１−２）で表される化合物であることが好ましい。
【化７８】
2020008897.tif 000080
式中、ＲＬ１２は、一般式（Ｌ−１）における意味と同じ意味を表す。
【０２４６】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−１−２）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、５質量％、１０質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％、２３質量％、２５質量％、２７質量％、３０質量％、３５質量％である。一方、その好ましい上限値は、６０質量％、５５質量％、５０質量％、４５質量％、４２質量％、４０質量％、３８質量％、３５質量％、３３質量％、３０質量％である。
【０２４７】
一般式（Ｌ−１−２）で表される化合物は、下記式（Ｌ−１−２．１）〜（Ｌ−１−２．４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−２．２）〜（Ｌ−１−２．４）で表される化合物であることがより好ましい。特に、式（Ｌ−１−２．２）で表される化合物は、液晶組成物の応答速度を改善する効果が高いため好ましい。
また、液晶組成物の応答速度よりもＴｎｉの向上を求める場合は、式（Ｌ−１−２．３）または式（Ｌ−１−２．４）で表される化合物を用いることが好ましい。液晶組成物中に含まれる式（Ｌ−１−２．３）または式（Ｌ−１−２．４）で表される化合物の量は、低温での溶解度を高くするために３０質量％未満にすることが好ましい。
【０２４８】
【化７９】
2020008897.tif 000081
【０２４９】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は、下記一般式（Ｌ−１−３）で表される化合物であることが好ましい。
【化８０】
2020008897.tif 000082
【０２５０】
式中、ＲＬ１３およびＲＬ１４は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基または炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。
ＲＬ１３およびＲＬ１４は、それぞれ独立して、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基、または直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【０２５１】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−１−３）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％、２３質量％、２５質量％、３０質量％である。一方、その好ましい上限値は、６０質量％、５５質量％、５０質量％、４５質量％、４０質量％、３７質量％、３５質量％、３３質量％、３０質量％、２７質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１７質量％、１５質量％、１３質量％、１０質量％である。
【０２５２】
一般式（Ｌ−１−３）で表される化合物は、下記式（Ｌ−１−３．１）〜（Ｌ−１−３．４）または式（Ｌ−１−３．１１）〜（Ｌ−１−３．１３）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）または式（Ｌ−１−３．４）で表される化合物であることがより好ましい。特に、式（Ｌ−１−３．１）で表される化合物は、液晶組成物の応答速度を改善する効果が高いため好ましい。
また、液晶組成物の応答速度よりも高いＴｎｉの向上を求める場合は、式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）、式（Ｌ−１−３．１１）または式（Ｌ−１−３．１２）で表される化合物を用いることが好ましい。液晶組成物中に含まれる式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）、式（Ｌ−１−３．１１）および式（Ｌ−１−３．１２）で表される化合物の合計量は、低温での溶解度を高くするために２０％未満にすることが好ましい。
【０２５３】
【化８１】
2020008897.tif 000083
【０２５４】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は、下記一般式（Ｌ−１−４）または（Ｌ−１−５）で表される化合物であることが好ましい。
【化８２】
2020008897.tif 000084
【０２５５】
式中、ＲＬ１５およびＲＬ１６は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基または炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。
ＲＬ１５およびＲＬ１６は、それぞれ独立して、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基、または直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【０２５６】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−１−４）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１７質量％、１５質量％、１３質量％、１０質量％である。
【０２５７】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−１−５）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、５質量％、１０質量％、１３質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１７質量％、１５質量％、１３質量％、１０質量％である。
【０２５８】
一般式（Ｌ−１−４）または（Ｌ−１−５）で表される化合物は、下記式（Ｌ−１−４．１）〜（Ｌ−１−４．３）または式（Ｌ−１−５．１）〜（Ｌ−１−５．３）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−４．２）または式（Ｌ−１−５．２）で表される化合物であることがより好ましい。
【化８３】
2020008897.tif 000085
【０２５９】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は、式（Ｌ−１−１．３）、式（Ｌ−１−２．２）、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）、式（Ｌ−１−３．１１）および式（Ｌ−１−３．１２）で表される化合物から選ばれる２種以上を組み合わせることが好ましく、式（Ｌ−１−１．３）、式（Ｌ−１−２．２）、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）および式（Ｌ−１−４．２）で表される化合物から選ばれる２種以上を組み合わせることがより好ましい。
【０２６０】
液晶組成物の信頼性を重視する場合は、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）および式（Ｌ−１−３．４）で表される化合物から選ばれる２種以上を組み合わせることが好ましく、液晶組成物の応答速度を重視する場合は、式（Ｌ−１−１．３）および式（Ｌ−１−２．２）で表される化合物から選ばれる２種以上を組み合わせることが好ましい。
【０２６１】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は、下記一般式（Ｌ−１−６）で表される化合物であることも好ましい。
【化８４】
2020008897.tif 000086
式中、ＲＬ１７およびＲＬ１８は、それぞれ独立して、メチル基または水素原子を表す。
【０２６２】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−１−６）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、５質量％、１０質量％、１５質量％、１７質量％、２０質量％、２３質量％、２５質量％、２７質量％、３０質量％、３５質量％である。一方、その好ましい上限値は、６０質量％、５５質量％、５０質量％、４５質量％、４２質量％、４０質量％、３８質量％、３５質量％、３３質量％、３０質量％である。
【０２６３】
一般式（Ｌ−１−６）で表される化合物は、下記式（Ｌ−１−６．１）〜（Ｌ−１−６．３）で表される化合物であることが好ましい。
【化８５】
2020008897.tif 000087
【０２６４】
一般式（Ｌ−２）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化８６】
2020008897.tif 000088
式中、ＲＬ２１およびＲＬ２２は、それぞれ一般式（Ｌ）におけるＲＬ１およびＲＬ２と同じ意味を表す。
ＲＬ２１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
ＲＬ２２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【０２６５】
一般式（Ｌ−２）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２６６】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−２）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、２質量％、３質量％、５質量％、７質量％、１０質量％である。一方、その好ましい上限値は、２０質量％、１５質量％、１３質量％、１０質量％、８質量％、７質量％、６質量％、５質量％、３質量％である。
【０２６７】
液晶分子の低温での溶解性を重視する場合は、一般式（Ｌ−２）で表される化合物の量を多めに設定すると効果が高く、液晶組成物の応答速度を重視する場合は、その量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｌ−２）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０２６８】
一般式（Ｌ−２）で表される化合物は、下記式（Ｌ−２．１）〜（Ｌ−２．６）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−２．１）、式（Ｌ−２．３）、式（Ｌ−２．４）または式（Ｌ−２．６）で表される化合物であることがより好ましい。
【化８７】
2020008897.tif 000089
【０２６９】
一般式（Ｌ−３）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化８８】
2020008897.tif 000090
式中、ＲＬ３１およびＲＬ３２は、それぞれ一般式（Ｌ）におけるＲＬ１およびＲＬ２と同じ意味を表す。
ＲＬ３１およびＲＬ３２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基、または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【０２７０】
一般式（Ｌ−３）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２７１】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−３）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、２質量％、３質量％、５質量％、７質量％、１０質量％である。一方、その好ましい上限値は、２０質量％、１５質量％、１３質量％、１０質量％、８質量％、７質量％、６質量％、５質量％、３質量％である。
【０２７２】
なお、高い複屈折率を得る場合は、一般式（Ｌ−３）で表される化合物の量を多めに設定すると効果が高く、高いＴｎｉを重視する場合は、その量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、一般式（Ｌ−３）で表される化合物の量を、前記範囲の中間に設定することが好ましい。
【０２７３】
一般式（Ｌ−３）で表される化合物は、下記式（Ｌ−３．１）〜（Ｌ−３．４）、式（Ｌ−３．６）または式（Ｌ−３．７）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−３．２）〜（Ｌ−３．４）、式（Ｌ−３．６）または式（Ｌ−３．７）で表される化合物であることが好ましい。
【化８９】
2020008897.tif 000091
【０２７４】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化９０】
2020008897.tif 000092
式中、ＲＬ４１およびＲＬ４２は、それぞれ一般式（Ｌ）におけるＲＬ１およびＲＬ２と同じ意味を表す。
ＲＬ４１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
ＲＬ４２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【０２７５】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２７６】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−４）で表される化合物の量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整される。
その好ましい下限値は、１質量％、２質量％、３質量％、５質量％、７質量％、１０質量％、１４質量％、１６質量％、２０質量％、２３質量％、２６質量％、３０質量％、３５質量％、４０質量％である。一方、その好ましい上限値は、５０質量％、４０質量％、３５質量％、３０質量％、２０質量％、１５質量％、１０質量％、５質量％である。
【０２７７】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、下記式（Ｌ−４．１）〜（Ｌ−４．３）で表される化合物であることが好ましい。
【化９１】
2020008897.tif 000093
【０２７８】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、液晶組成物は、式（Ｌ−４．１）で表される化合物のみを含んでも、式（Ｌ−４．２）で表される化合物のみを含んでも、式（Ｌ−４．１）で表される化合物および式（Ｌ−４．２）で表される化合物の双方を含んでもよく、式（Ｌ−４．１）〜（Ｌ−４．３）で表される化合物の全てを含んでもよい。
【０２７９】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、下記式（Ｌ−４．４）〜（Ｌ−４．６）で表される化合物であることも好ましく、式（Ｌ−４．４）で表される化合物であることがより好ましい。
【化９２】
2020008897.tif 000094
【０２８０】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、液晶組成物は、式（Ｌ−４．４）で表される化合物のみを含んでも、式（Ｌ−４．５）で表される化合物のみを含んでもよく、式（Ｌ−４．４）で表される化合物および式（Ｌ−４．５）で表される化合物の双方を含んでもよい。
【０２８１】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、下記式（Ｌ−４．７）〜（Ｌ−４．１０）で表される化合物であることも好ましく、式（Ｌ−４．９）で表される化合物がより好ましい。
【化９３】
2020008897.tif 000095
【０２８２】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化９４】
2020008897.tif 000096
式中、ＲＬ５１およびＲＬ５２は、それぞれ一般式（Ｌ）におけるＲＬ１およびＲＬ２と同じ意味を表す。
ＲＬ５１は、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
ＲＬ５２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基、または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【０２８３】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２８４】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−５）で表される化合物の量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整される。
その好ましい下限値は、１質量％、２質量％、３質量％、５質量％、７質量％、１０質量％、１４質量％、１６質量％、２０質量％、２３質量％、２６質量％、３０質量％、３５質量％、４０質量％である。一方、その好ましい上限値は、５０質量％、４０質量％、３５質量％、３０質量％、２０質量％、１５質量％、１０質量％、５質量％である。
【０２８５】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、下記式（Ｌ−５．１）または式（Ｌ−５．２）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−５．１）で表される化合物であることがより好ましい。
【化９５】
2020008897.tif 000097
【０２８６】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、下記式（Ｌ−５．３）または式（Ｌ−５．４）で表される化合物であることも好ましい。
【化９６】
2020008897.tif 000098
【０２８７】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、下記式（Ｌ−５．５）〜（Ｌ−５．７）で表される化合物であることも好ましく、式（Ｌ−５．７）で表される化合物であることがより好ましい。
【化９７】
2020008897.tif 000099
【０２８８】
一般式（Ｌ−６）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化９８】
2020008897.tif 000100
式中、ＲＬ６１およびＲＬ６２は、それぞれ一般式（Ｌ）におけるＲＬ１およびＲＬ２と同じ意味を表す。
ＸＬ６１およびＸＬ６２は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子を表す。
ＲＬ６１およびＲＬ６２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
ＸＬ６１およびＸＬ６２のうちの一方がフッ素原子、他方が水素原子であることが好ましい。
【０２８９】
一般式（Ｌ−６）で表される化合物は、１種を単独で使用することもできるが、２種以上を組み合わせて使用することもできる。組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２９０】
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−６）で表される化合物の量は、次の通りであることが好ましい。すなわち、その好ましい下限値は、１質量％、２質量％、３質量％、５質量％、７質量％、１０質量％、１４質量％、１６質量％、２０質量％、２３質量％、２６質量％、３０質量％、３５質量％、４０質量％である。一方、その好ましい上限値は、５０質量％、４０質量％、３５質量％、３０質量％、２０質量％、１５質量％、１０質量％、５質量％である。
なお、Δｎを大きくすることに重点を置く場合は、一般式（Ｌ−６）で表される化合物の量を多くした方が好ましく、低温での析出に重点を置いた場合は、その量を少なくした方が好ましい。
【０２９１】
一般式（Ｌ−６）で表される化合物は、下記式（Ｌ−６．１）〜（Ｌ−６．９）で表される化合物であることが好ましい。
【化９９】
2020008897.tif 000101
【０２９２】
組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、１種〜３種を用いることが好ましく、１種〜４種を用いることがより好ましい。また、選択する化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、式（Ｌ−６．１）および式（Ｌ−６．２）で表される化合物から１種と、式（Ｌ−６．４）および式（Ｌ−６．５）で表される化合物から１種と、式（Ｌ−６．６）および式（Ｌ−６．７）で表される化合物から１種と、式（Ｌ−６．８）および式（Ｌ−６．９）で表される化合物から１種とを選択し、これらを適宜組み合わせることが好ましい。中でも、式（Ｌ−６．１）、式（Ｌ−６．３）、式（Ｌ−６．４）、式（Ｌ−６．６）および式（Ｌ−６．９）で表される化合物の組み合わせがより好ましい。
【０２９３】
一般式（Ｌ−６）で表される化合物は、下記式（Ｌ−６．１０）〜（Ｌ−６．１７）で表される化合物であることも好ましく、式（Ｌ−６．１１）で表される化合物であることがより好ましい。
【化１００】
2020008897.tif 000102
【０２９４】
一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、下記の化合物である。
【化１０１】
2020008897.tif 000103
式中、ＲＬ７１およびＲＬ７２は、それぞれ一般式（Ｌ）におけるＲＬ１およびＲＬ２と同じ意味を表す。
ＡＬ７１およびＡＬ７２は、それぞれ一般式（Ｌ）におけるＡＬ２およびＡＬ３と同じ意味を表す。ただし、ＡＬ７１およびＡＬ７２中に存在する任意の水素原子は、フッ素原子で置換されてもよい。
ＺＬ７１は、一般式（Ｌ）におけるＺＬ２と同じ意味を表す。
ＸＬ７１およびＸＬ７２は、それぞれ独立して、フッ素原子または水素原子を表す。
【０２９５】
式中、ＲＬ７１およびＲＬ７２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、または炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
ＡＬ７１およびＡＬ７２は、それぞれ独立して、１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基が好ましい。ただし、ＡＬ７１およびＡＬ７２中に存在する任意の水素原子は、フッ素原子で置換されてもよい。
ＺＬ７１は、単結合またはＣＯＯ−が好ましく、単結合がより好ましい。
ＸＬ７１およびＸＬ７２は、それぞれ水素原子が好ましい。
【０２９６】
組み合わせる化合物の種類は、特に限定されないが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜選択される。使用する化合物の種類は、例えば、１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類である。
液晶組成物中に含まれる一般式（Ｌ−７）で表される化合物の量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整される。
【０２９７】
その好ましい下限値は、１質量％、２質量％、３質量％、５質量％、７質量％、１０質量％、１４質量％、１６質量％、２０質量％である。一方、その好ましい上限値は、３０質量％、２５質量％、２３質量％、２０質量％、１８質量％、１５質量％、１０質量％、５質量％である。
液晶組成物の高いＴｎｉが要求される場合は、一般式（Ｌ−７）で表される化合物の量を多めにすることが好ましく、低粘度であることが望まれる場合は、その量を少なめにすることが好ましい。
【０２９８】
一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、下記式（Ｌ−７．１）〜（Ｌ−７．４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−７．２）で表される化合物であることがより好ましい。
【化１０２】
2020008897.tif 000104
【０２９９】
一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、下記式（Ｌ−７．１１）〜（Ｌ−７．１３）で表される化合物であることも好ましく、式（Ｌ−７．１１）で表される化合物であることがより好ましい。
【化１０３】
2020008897.tif 000105
【０３００】
一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、下記式（Ｌ−７．２１）〜（Ｌ−７．２３）で表される化合物であることも好ましく、式（Ｌ−７．２１）で表される化合物であることがより好ましい。
【化１０４】
2020008897.tif 000106
【０３０１】
一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、下記式（Ｌ−７．３１）〜（Ｌ−７．３４）で表される化合物であることも好ましく、式（Ｌ−７．３１）または式（Ｌ−７．３２）で表される化合物であることがより好ましい。
【化１０５】
2020008897.tif 000107
【０３０２】
また、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、下記式（Ｌ−７．４１）〜（Ｌ−７．４４）で表される化合物であることも好ましく、式（Ｌ−７．４１）または式（Ｌ−７．４２）で表される化合物であることがより好ましい。
【化１０６】
2020008897.tif 000108
【０３０３】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、下記式（Ｌ−７．５１）〜（Ｌ−７．５３）で表される化合物であることも好ましい。
【化１０７】
2020008897.tif 000109
【０３０４】
((重合性化合物))
液晶組成物は、活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性化合物を更に含有してもよい。重合性化合物としては、下記一般式（Ｐ）で表される化合物であることが好ましい。また、液晶組成物は、かかる重合性化合物を１種又は２種以上含有することが好ましい。
【化１０８】
2020008897.tif 000110
【０３０５】
式（Ｐ）中、Ｒｐ１は、水素原子、フッ素原子、シアノ基、炭素原子数１〜１５のアルキル基又は−Ｓｐｐ２−Ｐｐ２を表す。ただし、アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。また、アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されてもよい。
【０３０６】
Ｐｐ１及びＰｐ２は、それぞれ独立して、下記一般式（Ｐｐ１−１）〜式（Ｐｐ１−９）のいずれかを表す。
【化１０９】
2020008897.tif 000111
【０３０７】
（式中、Ｒｐ１１及びＲｐ１２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基を表し、Ｗｐ１１は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又はメチレン基を表し、ｔｐ１１は、０、１又は２を表すが、分子内にＲｐ１１、Ｒｐ１２、Ｗｐ１１及び／又はｔｐ１１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。）
【０３０８】
Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２は、それぞれ独立して、単結合又はスペーサー基を表す。
Ｚｐ１及びＺｐ２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＯＯ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲＺＰ１−、−ＮＲＺＰ１−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＲＺＰ１−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＲＺＰ１−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−（ＣＨ２）ｚ−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）２−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、ＲＺＰ１は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表すが、分子内にＲＺＰ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。）を表す。
【０３０９】
Ａｐ１、Ａｐ２及びＡｐ３は、それぞれ独立して、
（ａｐ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置換されてもよい。）
（ｂｐ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝で置換されてもよい。）及び
（ｃｐ）  ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基又はアントラセン−２，６−ジイル基（これら基中に存在する１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝で置換されてもよく、この基中に存在する水素原子は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルケニル基で置換されてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、前記基（ａｐ）、基（ｂｐ）及び基（ｃｐ）は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルケニル基、シアノ基、フッ素原子、塩素原子又は−Ｓｐｐ２−Ｐｐ２で置換されてもよい。
【０３１０】
ｍｐ１は、０、１、２又は３を表す。
分子内にＺｐ１、Ａｐ２、Ｓｐｐ２及び／又はＰｐ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。ただし、Ａｐ３は、ｍｐ１が０で、Ａｐ１がフェナントレン−２，７−ジイル基又はアントラセン−２，６−ジイル基である場合には単結合を表す。
ただし、重合性化合物からは、配向助剤を除く。
【０３１１】
Ｒｐ１は、−Ｓｐｐ２−Ｐｐ２であることが好ましい。
Ｐｐ１及びＰｐ２は、それぞれ独立して、式（Ｐｐ１−１）〜式（Ｐｐ１−３）のいずれかであることが好ましく、（Ｐｐ１−１）であることがより好ましい。
Ｒｐ１１及びＲｐ１２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
ｔｐ１１は、０又は１であることが好ましい。
Ｗｐ１１は、単結合、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
ｍｐ１は、０、１又は２であることが好ましく、０又は１であることが好ましい。
【０３１２】
Ｚｐ１及びＺｐ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣ２Ｈ４−、−ＯＣＯＣ２Ｈ４−、−Ｃ２Ｈ４ＯＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−（ＣＨ２）２−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ２）２−、−ＯＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−であることが好ましく、単結合、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣ２Ｈ４−、−ＯＣＯＣ２Ｈ４−、−Ｃ２Ｈ４ＯＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ２）２−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ２）２−又は−Ｃ≡Ｃ−であることがより好ましい。
【０３１３】
なお、分子内に存在するＺｐ１及びＺｐ２の１つのみが−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣ２Ｈ４−、−ＯＣＯＣ２Ｈ４−、−Ｃ２Ｈ４ＯＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ２）２−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ２）２−又は−Ｃ≡Ｃ−であり、他がすべて単結合であることが好ましく、分子内に存在するＺｐ１及びＺｐ２の１つのみが、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−であり、他がすべて単結合であることがより好ましく、分子内に存在するＺｐ１及びＺｐ２のすべてが単結合であることがさらに好ましい。
また、分子内に存在するＺｐ１及びＺｐ２の１つのみが、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ２）２−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−（ＣＨ２）２−からなる群から選択される連結基であり、他がすべて単結合であることが好ましい。
【０３１４】
Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２は、それぞれ独立して、単結合又はスペーサー基を表すが、スペーサー基は、炭素原子数１〜３０のアルキレン基であることが好ましい。ただし、アルキレン基中の−ＣＨ２−は、酸素原子同士が直接連結しない限りにおいて−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよく、アルキレン基中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されてもよい。
中でも、Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２は、それぞれ独立して、直鎖の炭素原子数１〜１０のアルキレン基又は単結合であることが好ましい。
【０３１５】
Ａｐ１、Ａｐ２及びＡｐ３は、それぞれ独立して、１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基であることが好ましく、１，４−フェニレン基であることがより好ましい。
１，４−フェニレン基は、液晶分子（液晶化合物）との相溶性を改善するために、１個のフッ素原子、１個のメチル基又は１個のメトキシ基で置換されていることが好ましい。
【０３１６】
一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量は、液晶組成物に対して、０．０５〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜８質量％であることがより好ましく、０．１〜５質量％であることがさらに好ましく、０．１〜３質量％であることがさらに好ましく、０．２〜２質量％であることがさらに好ましく、０．２〜１．３質量％であることがさらに好ましく、０．２〜１質量％であることが特に好ましく、０．２〜０．５６質量％であることが最も好ましい。
【０３１７】
一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量の好ましい下限値は、液晶組成物に対して、０．０１質量％であり、０．０３質量％であり、０．０５質量％であり、０．０８質量％であり、０．１質量％であり、０．１５質量％であり、０．２質量％であり、０．２５質量％であり、０．３質量％である。
一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量の好ましい上限値は、液晶組成物に対して、１０質量％であり、８質量％であり、５質量％であり、３質量％であり、１．５質量％であり、１．２質量％であり、１質量％であり、０．８質量％であり、０．５質量％である。
【０３１８】
一般式（Ｐ）で表される化合物の含有量が少ないと、この化合物を液晶組成物に加える効果が現れにくく、例えば液晶分子や配向助剤の種類等によっては、液晶分子の配向規制力が弱い又は経時的に弱くなってしまう等の問題が生じる場合がある。一方、一般式（Ｐ）で表される化合物の含有量が多すぎると、例えば活性エネルギー線の照度等によっては、かかる化合物が硬化後に残存する量が多くなる、硬化に時間がかかる、液晶組成物の信頼性が低下する等の問題が生じる場合がある。このため、これらのバランスを考慮して、その含有量を設定することが好ましい。
【０３１９】
一般式（ＳＡＬ）で表される化合物（すなわち、吸着基ＺＡＴ１を含む化合物である配向助剤）と一般式（Ｐ）で表される化合物との合計の含有量は、液晶組成物に対して、０．０５〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜８質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることが好ましく、０．１〜３質量％であることが好ましく、０．２〜２質量％であることが好ましく、０．２〜１．３質量％であることが好ましく、０．２〜１質量％であることが好ましく、０．２〜０．５６質量％であることが好ましい。
【０３２０】
一般式（ＳＡＬ）で表される化合物と一般式（Ｐ）で表される化合物との合計の含有量の好ましい下限値は、液晶組成物に対して、０．０１質量％であり、０．０３質量％であり、０．０５質量％であり、０．０８質量％であり、０．１質量％であり、０．１５質量％であり、０．２質量％であり、０．２５質量％であり、０．３質量％である。
一般式（ＳＡＬ）で表される化合物と一般式（Ｐ）で表される化合物との合計の含有量の好ましい上限値は、液晶組成物に対して、１０質量％であり、８質量％であり、５質量％であり、３質量％であり、１．５質量％であり、１．２質量％であり、１質量％であり、０．８質量％であり、０．５質量％である。
【０３２１】
一般式（ＳＡＬ）で表される化合物と一般式（Ｐ）で表される化合物との合計の含有量が少ないと、これらの化合物を液晶組成物に加える効果が現れにくく、例えば液晶分子の種類等によっては、液晶分子の配向規制力が弱い又は経時的に弱くなってしまう等の問題が生じる場合がある。一方、一般式（ＳＡＬ）で表される化合物と一般式（Ｐ）で表される化合物との合計の含有量が多すぎると、例えば活性エネルギー線の照度等によっては、かかる化合物が硬化後に残存する量が多くなる、硬化に時間がかかる、液晶組成物の信頼性が低下する等の問題が生じる場合がある。このため、これらのバランスを考慮して、それらの含有量を設定することが好ましい。
【０３２２】
一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例としては、下記式（Ｐ−１−１）〜式（Ｐ−１−４６）で表される重合性化合物が挙げられる。
【化１１０】
2020008897.tif 000112
【０３２３】
【化１１１】
2020008897.tif 000113
【０３２４】
【化１１２】
2020008897.tif 000114
【０３２５】
【化１１３】
2020008897.tif 000115
【０３２６】
【化１１４】
2020008897.tif 000116
【０３２７】
【化１１５】
2020008897.tif 000117
式中、Ｐｐ１１、Ｐｐ１２、Ｓｐｐ１１及びＳｐｐ１２は、一般式（Ｐ）におけるＰｐ１、Ｐｐ２、Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２と同じ意味を表す。
【０３２８】
また、一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例としては、下記式（Ｐ−２−１）〜式（Ｐ−２−１２）で表される重合性化合物も挙げられる。
【化１１６】
2020008897.tif 000118
式中、Ｐｐ２１、Ｐｐ２２、Ｓｐｐ２１及びＳｐｐ２２は、一般式（Ｐ）におけるＰｐ１、Ｐｐ２、Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２と同じ意味を表す。
【０３２９】
さらに、一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例としては、下記式（Ｐ−３−１）〜式（Ｐ−３−１５）で表される重合性化合物も挙げられる。
【化１１７】
2020008897.tif 000119
【０３３０】
【化１１８】
2020008897.tif 000120
式中、Ｐｐ３１、Ｐｐ３２、Ｓｐｐ３１及びＳｐｐ３２は、一般式（Ｐ）におけるＰｐ１、Ｐｐ２、Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２と同じ意味を表す。
【０３３１】
また、一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例としては、下記式（Ｐ−４−１）〜式（Ｐ−４−１５）で表される重合性化合物も挙げられる。
【化１１９】
2020008897.tif 000121
【０３３２】
【化１２０】
2020008897.tif 000122
【０３３３】
【化１２１】
2020008897.tif 000123
【０３３４】
【化１２２】
2020008897.tif 000124
式中、Ｐｐ４１、Ｐｐ４２、Ｓｐｐ４１及びＳｐｐ４２は、一般式（Ｐ）におけるＰｐ１、Ｐｐ２、Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２と同じ意味を表す。
【０３３５】
液晶組成物が配向助剤に加えて重合性化合物を更に含有する場合は、液晶分子のプレチルト角を好適に形成することができる。
液晶組成物は、分子内に過酸（−ＣＯ−ＯＯ−）構造等の酸素原子同士が結合した構造を持つ化合物を含有しないことが好ましい。
【０３３６】
液晶組成物の信頼性および長期安定性を重視する場合は、カルボニル基を有する化合物の液晶組成物中に含まれる量を、５質量％以下とすることが好ましく、３質量％以下とすることがより好ましく、１質量％以下とすることがさらに好ましく、実質的に０質量％とすることが特に好ましい。
また、ＵＶ照射による液晶組成物の安定性を重視する場合は、塩素原子が置換している化合物の液晶組成物中に含まれる量を、１５質量％以下とすることが好ましく、１０質量％以下とすることがより好ましく、８質量％以下とすることがより好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、３質量％以下とすることがさらに好ましく、実質的に０質量％とすることが特に好ましい。
【０３３７】
分子内の環構造が全て６員環である化合物の液晶組成物中に含まれる量を、多くすることが好ましく、具体的には、８０質量％以上とすることが好ましく、９０質量％以上とすることがより好ましく、９５質量％以上とすることがさらに好ましく、実質的に１００質量％とすることが特に好ましい。
液晶組成物の酸化による劣化を抑制するためには、環構造としてシクロヘキセニレン基を有する化合物の液晶組成物中に含まれる量を、少なくすることが好ましく、具体的には、１０質量％以下とすることが好ましく、８質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、３質量％以下とすることがさらに好ましく、実質的に０質量％とすることが特に好ましい。
【０３３８】
液晶組成物の粘度の改善およびＴｎｉの改善を重視する場合は、水素原子がハロゲンに置換されてもよい２−メチルベンゼン−１，４−ジイル基を分子内に持つ化合物の液晶組成物中に含まれる量を少なくすることが好ましく、具体的には、１０質量％以下とすることが好ましく、８質量％以下とすることがより好ましく、５質量％以下とすることがさらに好ましく、３質量％以下とすることが特に好ましく、実質的に０質量％とすることが最も好ましい。
ここで、本明細書中において「化合物Ｘの液晶組成物中に含まれる量が実質的に０質量％」とは、液晶組成物中に意図せず（不可避的）に混入してしまう化合物Ｘの量を許容する意味である。
【０３３９】
液晶組成物の平均弾性定数（ＫＡＶＧ）は、その好ましい下限値が１０、１０．５、１１、１１．５、１２、１２．３、１２．５、１２．８、１３、１３．３、１３．５、１３．８、１４、１４．３、１４．５、１４．８、１５、１５．３、１５．５、１５．８、１６、１６．３、１６．５、１６．８、１７、１７．３、１７．５、１７．８、１８である。一方、その好ましい上限値が２５、２４．５、２４、２３．５、２３、２２．８、２２．５、２２．３、２２、２１．８、２１．５、２１．３、２１、２０．８、２０．５、２０．３、２０、１９．８、１９．５、１９．３、１９、１８．８、１８．５、１８．３、１８、１７．８、１７．５、１７．３、１７である。
液晶表示素子の消費電力削減を重視する場合は、バックライトの光量を抑えることが有効であり、液晶表示素子の光の透過率を向上させることが好ましいため、ＫＡＶＧの値を低めに設定することが好ましい。液晶表示素子（液晶組成物）の応答速度の改善を重視する場合は、ＫＡＶＧの値を高めに設定することが好ましい。
【０３４０】
（液晶表示素子）
次に、以上のような液晶組成物から形成される液晶層を備える液晶表示素子について説明する。
図１は、液晶表示素子の一実施形態に模式的に示す分解斜視図、図２は、図１におけるＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図である。
なお、図１および図２では、便宜上、各部の寸法およびそれらの比率を誇張して示し、実際とは異なる場合がある。また、以下に示す材料、寸法等は一例であって、本発明は、それらに限定されず、その要旨を変更しない範囲で適宜変更することが可能である。
【０３４１】
図１に示す液晶表示素子１は、対向するように配置されたアクティブマトリクス基板ＡＭおよびカラーフィルタ基板ＣＦと、アクティブマトリクス基板ＡＭとカラーフィルタ基板ＣＦとの間に挟持された液晶層４とを備えている。
アクティブマトリクス基板ＡＭは、第１の基板２と、第１の基板２の液晶層４側の面に設けられた画素電極層５と、第１の基板２の液晶層４と反対側の面に設けられた第１の偏光板７とを有している。
一方、カラーフィルタ基板ＣＦは、第２の基板３と、第２の基板３の液晶層４側に設けられた共通電極層６と、第２の基板３の液晶層４と反対側の面に設けられた第２の偏光板８と、第２の基板３と共通電極層６との間に設けられたカラーフィルタ９とを有している。
【０３４２】
すなわち、本実施形態に係る液晶表示素子１は、第１の偏光板７と、第１の基板２と、画素電極層５と、液晶層４と、共通電極層６と、カラーフィルタ９と、第２の基板３と、第２の偏光板８と、がこの順で積層された構成を有している。
第１の基板２および第２の基板３は、それぞれ、例えばガラス材料、またはプラスチック材料のような柔軟性（可撓性）を有する材料で形成されている。
第１の基板２および第２の基板３は、双方が透光性を有していても、一方のみが透光性を有していてもよい。後者の場合は、他方の基板は、例えば金属材料、シリコン材料のような不透明な材料で構成することができる。
【０３４３】
画素電極層５は、図２に示すように、走査信号を供給するための複数のゲートバスライン１１と、表示信号を供給するための複数のデータバスライン１２と、複数の画素電極１３とを有している。なお、図２には、一対のゲートバスライン１１、１１および一対のデータバスライン１２、１２が示されている。
複数のゲートバスライン１１と複数のデータバスライン１２とは、互いに交差してマトリクス状に配置され、これらで囲まれた領域により、液晶表示素子１の単位画素が形成されている。各単位画素内には、１つの画素電極１３が形成されている。
【０３４４】
画素電極１３は、互いに直交して十字形状をなす２つの幹部と、各幹部から分岐し、外方に向かって延在する複数の枝部とを備える構造（いわゆるフィッシュボーン構造）を有している。
一対のゲートバスライン１１、１１の間には、ゲートバスライン１１とほぼ平行にＣｓ電極１４が設けられている。また、ゲートバスライン１１とデータバスライン１２とが互いに交差する交差部近傍には、ソース電極１５およびドレイン電極１６を含む薄膜トランジスタが設けられている。ドレイン電極１６には、コンタクトホール１７が設けられている。
【０３４５】
ゲートバスライン１１およびデータバスライン１２は、それぞれ、例えばＡｌ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉまたはこれらを含有する合金で形成することが好ましく、Ｍｏ、Ａｌまたはこれらを含有する合金で形成することがより好ましい。
画素電極１３は、例えば、光の透過率を向上させるために透明電極で構成されている。透明電極は、ＺｎＯ、ＩｎＧａＺｎＯ、ＳｉＧｅ、ＧａＡｓ、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＳｎＯ、ＴｉＯ、ＡＺＴＯ（ＡｌＺｎＳｎＯ）のような化合物をスパッタリング等することにより形成される。
透明電極の平均厚さは、１０〜２００ｎｍ程度であることが好ましい。また、電気的抵抗を低減するために、アモルファスのＩＴＯ膜を焼成することにより多結晶のＩＴＯ膜として透明電極を形成することもできる。
【０３４６】
一方、共通電極層６は、例えば、併設された複数のストライプ状の共通電極（透明電極）を有している。この共通電極も、画素電極１３と同様に形成することができる。
カラーフィルタ９は、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法または染色法等によって作成することができる。
顔料分散法では、カラーフィルタ用の硬化性着色組成物を、第２の基板３上に所定のパターンとなるように供給した後、加熱または光照射することにより硬化させる。この操作を、赤、緑、青の３色について行うことにより、カラーフィルタ９を得ることができる。
なお、カラーフィルタ９は、第１の基板２側に配置してもよい。
【０３４７】
また、液晶表示素子１は、光の漏れを防止する観点から、ブラックマトリクス（図示せず）を設けるようにしてもよい。このブラックマトリクスは、薄膜トランジスタに対応する部分に形成することが好ましい。
なお、ブラックマトリクスは、第２の基板３側にカラーフィルタ９とともに配置してもよく、第１の基板２側にカラーフィルタ９とともに配置してもよく、ブラックマトリクスを第１の基板２側にカラーフィルタ９を第２の基板３側にそれぞれ個別に配置してもよい。また、ブラックマトリクスは、カラーフィルタ９の各色を重ね合わせ、透過率を低下させた部分で構成することもできる。
【０３４８】
アクティブマトリックス基板ＡＭとカラーフィルタ基板ＣＦとは、それらの周縁領域において、エポキシ系熱硬化性組成物等で構成されるシール材（封止材）によって互いに貼り合わされている。
なお、アクティブマトリックス基板ＡＭとカラーフィルタ基板ＣＦとの間には、それらの離間距離を保持するスペーサーを配置してもよい。スペーサーとしては、例えばガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子のような粒状スペーサー、フォトリソグラフィー法により形成された樹脂製のスペーサー柱等が挙げられる。
アクティブマトリックス基板ＡＭとカラーフィルタ基板ＣＦとの平均離間距離（すなわち、液晶層４の平均厚さ）は、１〜１００μｍ程度であることが好ましい。
【０３４９】
第１の偏光板７および第２の偏光板８は、それらの透過軸の位置関係を調整することにより、視野角やコントラストが良好になるように設計することができる。具体的には、第１の偏光板７および第２の偏光板８は、それらの透過軸がノーマリブラックモードで作動するように、互いに直行するように配置することが好ましい。特に、第１の偏光板７および第２の偏光板８のうちのいずれか一方は、その透過軸が電圧無印加時の液晶分子の配向方向と平行となるように配置されることが好ましい。
また、第１の偏光板７および第２の偏光板８を使用する場合は、コントラストが最大になるように液晶層４の屈折率異方性（Δｎ）と液晶層４の平均厚さとの積を調整することが好ましい。さらに、液晶表示素子１は、視野角を広げるための位相差フィルムを備えてもよい。
【０３５０】
なお、アクティブマトリクス基板ＡＭは、さらに画素電極層５（ゲートバスライン１１、データバスライン１２、画素電極１３、Ｃｓ電極１４および薄膜トランジスタ）の一部、または画素電極層５の全部を被覆する絶縁膜（図示せず）を備えている。
また、カラーフィルタ基板ＣＦも、さらに共通電極層６（共通電極）の一部、または共通電極層６の全部を被覆する絶縁膜（図示せず）を備えている。
かかる絶縁膜の構成材料としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂のような有機材料、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）のような無機材料等が挙げられる。これらは、１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、絶縁膜は、有機材料で構成される有機絶縁膜であることが好ましく、アクリル樹脂またはエポキシ樹脂で構成される有機絶縁膜であることがより好ましい。
【０３５１】
本実施形態では、アクティブマトリクス基板ＡＭおよびカラーフィルタ基板ＣＦの双方を液晶層４（液晶組成物）に接触させるため、絶縁膜は、液晶組成物に接触する接触面を有する。
本発明では、この接触面の２５℃における水の静的接触角が７０°以下であること、および／または接触面の表面自由エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上であることに特徴を有する。かかる特性を有する接触面は、水に対する濡れ性が高い表面、換言すれば、親水性の高い表面である。したがって、配向助剤の極性基が強固に接触面に付着（固定）される。
【０３５２】
接触面の静的接触角が７０°以下であればよいが、６０°以下であることが好ましく、４０〜５５°程度であることがより好ましい。
なお、絶縁膜が画素電極層５の一部のみを被覆するように設けられ、ＩＴＯ膜（金属酸化物膜）が露出している場合、このＩＴＯ膜（金属酸化物膜）の表面（液晶組成物への接触面）の２５℃における水の静的接触角は、３０°以下であることが好ましく、１０〜２０°程度であることがより好ましい。
【０３５３】
一方、接触面の表面自由エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上であればよいが、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、５５〜７０ｍＮ／ｍ程度であることがより好ましい。
また、ＩＴＯ膜（金属酸化物膜）が露出している場合、その表面（液晶組成物への接触面）の表面自由エネルギーが７０ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、７５〜８５ｍＮ／ｍ程度であることがより好ましい。
【０３５４】
静的接触角および表面自由エネルギーを前記範囲に設定することにより、配向助剤をアクティブマトリクス基板ＡＭおよびカラーフィルタ基板ＣＦの双方の内側面のほぼ全面にムラなく供給することができるとともに、配向助剤をより強固に内側面に吸着（固定）することができる。
【０３５５】
（液晶表示素子の製造方法）
次に、このような液晶表示素子１を製造する方法について説明する。
実施形態の液晶表示素子の製造方法は、基板および液晶組成物を準備する準備工程［１］と、基板に親水化処理を施す親水化処理工程［２］と、液晶表示素子１を組み立てる組立工程［３］と、配向助剤および／または重合性化合物を重合させる重合工程［４］と、シール材を硬化させる硬化工程［５］とを有している。
［１］  準備工程
まず、アクティブマトリックス基板ＡＭと、カラーフィルタ基板ＣＦと、前述したような液晶組成物とを用意する。
【０３５６】
［２］  親水化処理工程（第１の工程）
次に、アクティブマトリックス基板ＡＭおよびカラーフィルタ基板ＣＦの液晶層４側の面（内側面）のそれぞれに、親水化処理を施す。
親水化処理を施すことにより、アクティブマトリックス基板ＡＭおよびカラーフィルタ基板ＣＦの内側面（以下、単に「内側面」とも言う。）の親水性を高め、前述したような静的接触角および／または表面自由エネルギーの値に設定（調整）することができる。このため、内側面に対して、液晶組成物中に含まれる配向助剤の極性基を強固に固定することができる。また、内側面から、メソゲン基が離れるように配向助剤を配置（配向）させることができる。その結果、液晶層４中において液晶分子を垂直配向させた状態でより確実に保持することができる。
【０３５７】
親水化処理（極性向上処理）としては、例えば、オゾン処理、ＵＶ処理、コロナ処理、酸素プラズマ処理のような物理的処理、界面活性剤、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール等の付与、親水性を有する官能基の導入のような化学的処理等が挙げられる。これらの処理は、１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
中でも、親水化処理としては、物理的処理が好ましく、オゾン処理またはＵＶ処理がより好ましい。オゾン処理またはＵＶ処理によれば、内側面に水酸基を導入して親水性（極性）を高めることができる。また、オゾン処理またはＵＶ処理（物理的処理）は、洗浄効果も高いため、内側面に付着した不純物（例えば、レジスト残渣等）を除去することができる。したがって、内側面には、配向助剤の極性基がより吸着し易くなる。
【０３５８】
＜オゾン処理＞
オゾン処理は、紫外線（ＵＶ）照射により空気中の酸素をオゾンに変換し、オゾン含有雰囲気により表面改質を行う方法である。
ＵＶ光源としては、低圧水銀ランプが好ましい。低圧水銀ランプは、１８５ｎｍ付近と２５４ｎｍ付近との波長に発光スペクトルを有し、１８５ｎｍ付近の波長を有する光でオゾンを生成し、２５４ｎｍ付近の波長を有する光でオゾンを分解し、活性酸素を生成することが知られている。したがって、低圧水銀ランプを用いることにより、内側面に効率よく親水化処理を施すことができる。
【０３５９】
オゾンの生成源となるガスは、酸素を含むガスであればよく、酸素ガス、乾燥空気等を用いることができる。
また、オゾン処理の雰囲気の圧力は、減圧および大気圧のいずれであってもよい。
オゾン処理の時間（ＵＶの照射時間）は、特に限定されないが、１０〜１００秒間程度であることが好ましく、２０〜６０秒間程度であることがより好ましい。
【０３６０】
＜ＵＶ処理＞
ＵＶ処理（光表面処理）は、波長２５４ｎｍの紫外線（ＵＶ）を内側面に直接照射することにより、表面改質を行う方法である。
ＵＶ光源としては、特に短波長のＵＶの透過率が高い合成石英を用いた低圧水銀ランプが使用される。ただし、オゾンの生成を防止するために、波長１８５ｎｍの紫外線をカットすることが好ましい。
【０３６１】
ＵＶ処理の雰囲気としては、窒素雰囲気、減圧雰囲気（真空雰囲気）が好ましい。
ＵＶ処理の時間は、特に限定されないが、１０〜１００秒間程度であることが好ましく、２０〜６０秒間程度であることがより好ましい。
＜コロナ処理＞
コロナ処理は、大気圧下に、一対の電極に高電圧の交流を印加することにより励起されるコロナ放電を利用して、表面改質を行う方法である。
【０３６２】
＜酸素プラズマ処理＞
酸素プラズマ処理は、酸素ガスを含む処理ガスをアーク放電により電離させ、この際に発生する酸素プラズマを利用して表面改質を行う方法である。
処理ガスには、酸素ガスと、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスのような不活性ガスとの混合ガスを用いることができる。
酸素ガスの供給量は、０．５〜５０ｓｃｃｍ程度であることが好ましく、雰囲気の圧力は、０．１〜５０Ｐａ程度であることが好ましい。
アーク放電時において電源からの印加電力は、１０〜５００Ｗ程度であることが好ましく、電源の周波数は、１〜５０ｋＨｚ程度であることが好ましい。
【０３６３】
なお、親水化処理を施す前において、内側面の静的接触角および／または表面自由エネルギーの値が目的の範囲にあれば、親水化処理を省略してもよい。
【０３６４】
［３］  組立工程（第２の工程）
次に、アクティブマトリクス基板ＡＭおよびカラーフィルタ基板ＣＦの少なくとも一方の縁部に沿って、ディスペンサーを用いてシール材を閉ループ土手状に描画する。
その後、減圧下に、所定量の液晶組成物をシール材の内側に滴下した後、液晶組成物に接触するように、アクティブマトリクス基板ＡＭとカラーフィルタ基板ＣＦとを対向させて配置する。
このような滴下注入（ＯＤＦ：Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）法では、液晶表示素子１のサイズに応じて最適な注入量を滴下する必要がある。前述したような液晶組成物は、例えば、滴下時に生じる滴下装置内の急激な圧力変化や衝撃に対する影響が少なく、長時間にわたって安定的に滴下し続けることが可能である。このため、液晶表示素子１の歩留まりを高く維持することができる。
【０３６５】
特に、スマートフォンに多用される小型の液晶表示素子は、液晶組成物の最適な注入量が少ないため、そのズレ量を一定範囲内に制御すること自体が難しい。しかしながら、前述したような液晶組成物を用いることにより、小型の液晶表示素子においても安定かつ最適な注入量を正確に滴下することができる。
また、ＯＤＦ法によれば、液晶組成物を基板に滴下した際の滴下痕の発生を抑えることができる。なお、滴下痕とは、黒表示した場合に液晶組成物を滴下した痕が白く浮かび上がる現象である。
【０３６６】
［４］  重合工程（第３の工程）
配向助剤が重合性基を含む場合および／または液晶組成物が重合性化合物を含有する場合は、紫外線、電子線のような活性エネルギー線を液晶組成物に対して照射することにより、配向助剤および／または重合性化合物を重合させる。
これにより、液晶層４が形成され、液晶表示素子１が得られる。このとき、配向助剤は、２つの基板ＡＭ、ＣＦに固定されているため、配向助剤および／または重合性化合物の重合物は、液晶層４中において基板ＡＭ、ＣＦ側に偏在する。
液晶分子の良好な配向性を得るためには、適度な重合速度が望ましい。このため、重合の際には、活性エネルギー線を単一、併用または順番に照射することが好ましい。紫外線を使用する場合は、偏光光源を用いてもよいし、非偏光光源を用いてもよい。
【０３６７】
なお、本実施形態のように、液晶組成物に接触させるように、２つの基板を対向させた状態で重合を行う場合は、少なくとも照射面側に位置する基板は、活性エネルギー線に対して適当な透過性を有する必要がある。
また、重合は次のように複数段階で行ってもよい。具体的には、まず、マスクを用いて液晶組成物の特定の領域に存在する配向助剤および／または重合性化合物のみを重合させる。その後、電場、磁場または温度等の条件を調整し、未重合領域における液晶分子の配向状態を変化させる。この状態で、さらに活性エネルギー線を照射して、未重合領域に存在する配向助剤および／または重合性化合物を重合させる。
【０３６８】
特に、紫外線を使用する場合は、液晶組成物に対して交流電界を印加しつつ、紫外線を照射することが好ましい。
印加する交流の周波数は、１０Ｈｚ〜１０ｋＨｚ程度であることが好ましく、６０Ｈｚ〜１０ｋＨｚ程度であることがより好ましい。
印加する交流の電圧は、液晶表示素子１の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する交流の電圧を調整することにより、液晶表示素子１のプレチルト角を制御することができる。
横電界型ＭＶＡモードの液晶表示素子においては、配向安定性およびコントラストの観点から、プレチルト角を８０〜８９．９°に制御することが好ましい。
【０３６９】
紫外線を照射する際の温度は、液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。具体的な温度は、室温に近い温度、すなわち、典型的には１５〜３５℃程度であることが好ましい。
紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。
また、照射する紫外線は、液晶組成物の吸収波長域でない波長を有する紫外線であることが好ましく、必要に応じて所定の波長をカットして使用することがより好ましい。
【０３７０】
照射する紫外線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜１００Ｗ／ｃｍ２程度であることが好ましく、２ｍＷ／ｃｍ２〜５０Ｗ／ｃｍ２程度であることがより好ましい。なお、強度を変化させつつ、紫外線を照射するようにしてもよい。
照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、１０ｍＪ／ｃｍ２〜５００Ｊ／ｃｍ２程度であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜２００Ｊ／ｃｍ２程度であることがより好ましい。
また、紫外線を照射する時間は、その強度により適宜選択されるが、１０〜３６００秒程度であることが好ましく、１０〜６００秒程度であることがより好ましい。
【０３７１】
前述したような液晶組成物において、配向助剤は、重合性化合物の重合反応を阻害しないため、重合性化合物同士が好適に重合し、未反応の重合性化合物が液晶組成物中に残存することを抑制することができる。
なお、［３］組立工程では、滴下注入（ＯＤＦ）法に代えて、真空注入法を用いるようにしてもよい。例えば、真空注入法では、まず、アクティブマトリクス基板ＡＭおよびカラーフィルタ基板ＣＦの少なくとも一方の縁部に沿って、注入口を残すようにしてシール材をスクリーン印刷する。その後、２つの基板ＡＭ、ＣＦを貼り合わせ、加熱によりシール材を熱硬化させる。次に、注入口を封止した後、［４］重合工程に移行する。
このようにして得られた液晶表示素子１は、ＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型またはＥＣＢ型の液晶表示素子であることが好ましく、ＰＳＡ型の液晶表示素子であることがより好ましい。
【０３７２】
以上、本発明の基板および液晶表示素子について説明したが、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではない。
例えば、本発明の基板および液晶表示素子は、その一部の構成を同様の機能を発揮する他の構成と置換してもよく、任意の構成を追加してもよい。
また、前記実施形態の液晶表示素子では、アクティブマトリクス基板ＡＭおよびカラーフィルタ基板ＣＦの双方がポリイミド（ＰＩ）配向膜を介さず、直接、液晶層４に接触する構成であるが、いずれか一方にＰＩ配向膜を設けるようにしてもよい。この場合、ＰＩ配向膜の表面には、親水化処理を施しても、施さなくてもよい。
また、ＰＩ配向膜を形成する際の熱の影響を考慮すると、ＰＩ配向膜を設けるのであれば、カラーフィルタ基板ＣＦの方が好ましい。換言すれば、親水化処理をいずれか一方の基板にのみ施す場合は、アクティブマトリクス基板ＡＭ（画素電極１３を有する基板）の方が好ましい。
【実施例】
【０３７３】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
液晶組成物について測定した特性は、次の通りである。
Ｔｎｉ  ：ネマチック相−等方性液体相転移温度（℃）
Δｎ    ：２９３Ｋにおける屈折率異方性
Δε    ：２９３Ｋにおける誘電率異方性
γ１    ：２９３Ｋにおける回転粘度（ｍＰａ・ｓ)
Ｋ１１  ：２９３Ｋにおける広がりの弾性定数（ｐＮ）
Ｋ３３  ：２９３Ｋにおける曲がりの弾性定数（ｐＮ）【０３７４】
なお、各実施例および各比較例で用いた化合物の記載について、以下の略号を用いる。略号中のｎは自然数である。
（側鎖）
−ｎ        −ＣｎＨ２ｎ＋１：炭素原子数ｎの直鎖状アルキル基
ｎ−        ＣｎＨ２ｎ＋１−：炭素原子数ｎの直鎖状のアルキル基
−Ｏｎ      −ＯＣｎＨ２ｎ＋１：炭素原子数ｎの直鎖状アルコキシ基
−Ｖ１      −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ３：プロペニル基
Ｖ−        ＣＨ２＝ＣＨ−：ビニル基
１Ｖ２−    ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−：ペンテニル基【０３７５】
（連結構造）
−ｎＯ−    −ＣｎＨ２ｎＯ−
（環構造）
【化１２３】
2020008897.tif 000125
【０３７６】
液晶混合物ＬＣ−１、ＬＣ−２の組成および物性について、以下の表１に示す。
【表１】
2020008897.tif 000126
【０３７７】
配向助剤には、下記の配向助剤（Ａ）〜（Ｅ）を用いた。
【化１２４】
2020008897.tif 000127
【０３７８】
【化１２５】
2020008897.tif 000128
【０３７９】
【化１２６】
2020008897.tif 000129
【０３８０】
【化１２７】
2020008897.tif 000130
【０３８１】
【化１２８】
2020008897.tif 000131
【０３８２】
重合性化合物には、下記の重合性化合物（Ａ）〜（Ｃ）を用いた。
【化１２９】
2020008897.tif 000132
【０３８３】
【化１３０】
2020008897.tif 000133
【０３８４】
【化１３１】
2020008897.tif 000134
【０３８５】
１．サンプルの作製
（実施例１）
まず、ＩＴＯ膜を備える第１の基板と、ＩＴＯ膜と、このＩＴＯ膜上に形成されたアクリル樹脂（ＪＳＲ社製、「オプトマーＳＳ」）製の有機絶縁膜とを備える第２の基板とを用意した。
次に、第１の基板のＩＴＯ膜の表面および第２の基板の有機絶縁膜の表面に、それぞれＵＶオゾン洗浄機（セン特殊光源株式会社製、「ＳＳＰ１７−１１０」）を用いて、オゾン処理を施した。
なお、ＩＴＯ膜の表面に対するオゾン処理を３０秒間、有機絶縁膜の表面に対するオゾン処理を６０秒間とした。【０３８６】
次に、第１の基板の縁部に沿って、ディスペンサーを用いてシール材を閉ループ土手状に描画した。
その後、減圧下に、所定量の液晶組成物をシール材の内側に滴下した後、液晶組成物に接触するように、第１の基板と第２の基板とを対向させて配置した。
なお、実施例１では、液晶混合物ＬＣ−１と、配向助剤（Ａ）と、重合性化合物（Ａ）とを含有する液晶組成物を用いた。なお、液晶組成物中に含まれる配向助剤（Ａ）の量を１．０質量％、重合性化合物（Ａ）の量を０．３質量％とした。
次いで、シール材のみに紫外線を照射した後、１２０℃で１時間アニールした。これにより、液晶セルを得た。
次に、透過軸が直交するように配置された一対の偏光板で液晶セルを挟んで、サンプルとした。【０３８７】
（実施例２）
液晶組成物の種類を変更した以外は、前記実施例１と同様にして、サンプルを作製した。
なお、実施例２では、液晶混合物ＬＣ−１と、配向助剤（Ｂ）および（Ｃ）と、重合性化合物（Ａ）とを含有する液晶組成物を用いた。液晶組成物中に含まれる配向助剤（Ｂ）の量を０．２質量％、配向助剤（Ｃ）の量を０．４質量％、重合性化合物（Ａ）の量を０．３質量％とした。【０３８８】
（実施例３）
液晶組成物の種類を変更した以外は、前記実施例１と同様にして、サンプルを作製した。
なお、実施例３では、液晶混合物ＬＣ−２と、配向助剤（Ｄ）と、重合性化合物（Ｂ）とを含有する液晶組成物を用いた。液晶組成物中に含まれる配向助剤（Ｄ）の量を０．６質量％、重合性化合物（Ｂ）の量を０．３質量％とした。【０３８９】
（実施例４）
液晶組成物の種類を変更した以外は、前記実施例１と同様にして、サンプルを作製した。
なお、実施例４では、液晶混合物ＬＣ−１と、配向助剤（Ｅ）と、重合性化合物（Ａ）とを含有する液晶組成物を用いた。液晶組成物中に含まれる配向助剤（Ｅ）の量を０．４質量％、重合性化合物（Ａ）の量を０．３質量％とした。【０３９０】
（実施例５）
液晶組成物の種類を変更した以外は、前記実施例１と同様にして、サンプルを作製した。
なお、実施例５では、液晶混合物ＬＣ−１と、配向助剤（Ｃ）および（Ｅ）と、重合性化合物（Ａ）および（Ｃ）とを含有する液晶組成物を用いた。液晶組成物中に含まれる配向助剤（Ｃ）の量を０．２質量％、配向助剤（Ｅ）の量を０．４質量％、重合性化合物（Ａ）の量を０．３質量％、重合性化合物（Ｃ）の量を０．３質量％とした。【０３９１】
（実施例６〜１０）
ＩＴＯ膜の表面に対するオゾン処理を１０秒間、有機絶縁膜の表面に対するオゾン処理を１０秒間とした以外は、前記実施例１〜５と同様にして、サンプルを作製した。
（比較例１〜５）
オゾン処理を省略した以外は、前記実施例１〜５と同様にして、サンプルを作製した。【０３９２】
２．測定および評価
２−１．静的接触角の測定
ＩＴＯ膜の表面および有機絶縁膜の表面のそれぞれに、１μＬの水滴を滴下し、２５℃における水滴の静的接触角を接触角計（ＤＭｏ−５０１）により測定した。
２−２．表面自由エネルギーの測定
水および１−ブロモナフタレンを用いて、それぞれ前記と同様にして静的接触角を測定し、それらの測定結果に基づいて、ＩＴＯ膜の表面および有機絶縁膜の表面のそれぞれの表面自由エネルギーを求めた。【０３９３】
２−３．光の透過度合いの評価
各実施例および角比較例で得られたサンプルに対して光を透過させ、光の透過度合い（輝度ムラ）について、以下の３段階の基準に従って評価した。
＜評価基準＞
×：サンプルのほぼ全面が黒く表示されていない。
△：サンプルの液晶組成物を滴下した付近のみが黒く表示されている。
○：サンプルのほぼ全面が黒く表示されている。【０３９４】
【表２】
2020008897.tif 000135
【０３９５】
これらの測定および評価結果を表３に示す。
【表３】
2020008897.tif 000136
【０３９６】
各実施例では、親水化処理を施したことから、配向助剤が基板に強固に固定され、液晶分子を垂直配向させる配向規制力が十分に発揮された。また、処理条件を変更することにより、その効果がより向上した。これに対して、各比較例では、親水化処理を省略したことで、前記効果が得られなかった。
【符号の説明】
【０３９７】
１          液晶表示素子
ＡＭ        アクティブマトリクス基板
ＣＦ        カラーフィルタ基板
２          第１の基板
３          第２の基板
４          液晶層
５          画素電極層
６          共通電極層
７          第１の偏光板
８          第２の偏光板
９          カラーフィルタ
１１        ゲートバスライン
１２        データバスライン
１３        画素電極
１４        Ｃｓ電極
１５        ソース電極
１６        ドレイン電極
１７        コンタクトホール
【図１】
2020008897.tif 000137
【図２】
2020008897.tif 000138
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月26日(2019.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶分子と、該液晶分子を自発的に配向させる機能を有し、極性基を備える配向助剤とを含有する液晶組成物に接触させて使用する基板であって、
当該基板は、絶縁膜を備え、前記絶縁膜と前記液晶組成物とが配向膜を介さずに直接接触する基板であり、
前記絶縁膜の前記液晶組成物に接触する接触面は、２５℃における水の静的接触角が７０°以下であること、および／または前記接触面の表面自由エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする基板。
【請求項２】
当該基板は、画素電極を備える基板である請求項１に記載の基板。
【請求項３】
当該基板は、カラーフィルタを備える基板である請求項１に記載の基板。
【請求項４】
前記絶縁膜は、有機絶縁膜である請求項１から３のいずれか１項に記載の基板。
【請求項５】
２つの基板間に、液晶分子と、該液晶分子を自発的に配向させる機能を有し、極性基を備える配向助剤とを含有する液晶組成物から形成された液晶層を挟持してなる液晶表示素子であって、
前記２つの基板のうちの少なくとも一方を、請求項１から４のいずれか１項に記載の基板で構成したことを特徴とする液晶表示素子。
【請求項６】
前記配向助剤は、活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性基を備え、
前記液晶層は、前記配向助剤の重合物を含む請求項５に記載の液晶表示素子。
【請求項７】
前記液晶組成物は、さらに前記活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性化合物を含有し、
前記液晶層は、前記重合性化合物および／または前記配向助剤の重合物を含む請求項６に記載の液晶表示素子。
【請求項８】
当該液晶表示素子は、ＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型またはＥＣＢ型である請求項５から７のいずれか１項に記載の液晶表示素子。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月12日(2020.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶分子と、該液晶分子を自発的に配向させる機能を有し、極性基を備える配向助剤とを含有する液晶組成物に接触させて使用する基板であって、
当該基板は、絶縁膜を備え、前記絶縁膜と前記液晶組成物とが配向膜を介さずに直接接触する基板であり、
前記絶縁膜の前記液晶組成物に接触する接触面は、２５℃における水の静的接触角が７０°以下であること、および前記接触面の表面自由エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする基板。
【請求項２】
当該基板は、画素電極を備える基板である請求項１に記載の基板。
【請求項３】
当該基板は、カラーフィルタを備える基板である請求項１に記載の基板。
【請求項４】
前記絶縁膜は、有機絶縁膜である請求項１から３のいずれか１項に記載の基板。
【請求項５】
２つの基板間に、液晶分子と、該液晶分子を自発的に配向させる機能を有し、極性基を備える配向助剤とを含有する液晶組成物から形成された液晶層を挟持してなる液晶表示素子であって、
前記２つの基板のうちの少なくとも一方を、請求項１から４のいずれか１項に記載の基板で構成したことを特徴とする液晶表示素子。
【請求項６】
前記配向助剤は、活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性基を備え、
前記液晶層は、前記配向助剤の重合物を含む請求項５に記載の液晶表示素子。
【請求項７】
前記液晶組成物は、さらに前記活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性化合物を含有し、
前記液晶層は、前記重合性化合物および／または前記配向助剤の重合物を含む請求項６に記載の液晶表示素子。
【請求項８】
当該液晶表示素子は、ＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型またはＥＣＢ型である請求項５から７のいずれか１項に記載の液晶表示素子。
【国際調査報告】
2020008897.tif 000139
2020008897.tif 000140