(57)【要約】一方の主表面に凹凸面を有する透明部材と、前記透明部材の前記凹凸面とは反対側の主表面に設けられる光散乱層とを有し、前記凹凸面は、０．００４０≦Ｒａ／ＲＳｍ≦０．０１０・・・（１）、Ｓｋｕ≦３．５・・・（２）、Ｒａ：算術平均粗さ、ＲＳｍ：粗さ曲線要素の平均長さ、Ｓｋｕ：クルトシス、を満たす、反射型スクリーン。
2019004289.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の主表面に凹凸面を有する透明部材と、
前記透明部材の前記凹凸面とは反対側の主表面に設けられる光散乱層とを有し、
前記凹凸面は、
０．００４０≦Ｒａ／ＲＳｍ≦０．０１０・・・（１）
Ｓｋｕ≦３．５・・・（２）
Ｒａ：算術平均粗さ
ＲＳｍ：粗さ曲線要素の平均長さ
Ｓｋｕ：クルトシス
を満たす、反射型スクリーン。
【請求項２】
前記透明部材の前記凹凸面の算術平均粗さＲａが０．１０μｍ以上である、請求項１に記載の反射型スクリーン。
【請求項３】
前記光散乱層の全光線透過率が１５％〜４０％である、請求項１または２に記載の反射型スクリーン。
【請求項４】
前記光散乱層が内部に複数の空洞を含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射型スクリーン。
【請求項５】
前記光散乱層が内部に複数の空洞を有する延伸フィルムであり、前記空洞は粒子を起点として形成される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射型スクリーン。
【請求項６】
前記透明部材はガラス板を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射型スクリーン。
【請求項７】
前記光散乱層の厚みが１０μｍ〜１５０μｍである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射型スクリーン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型スクリーンに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、インクによる書き込みとその書き込みの消去が行われる凹凸面を前面に有し、凹凸面に対し前方から映像が投映される、反射型スクリーンが開発されている（例えば、特許文献１参照）。投影された映像に対し、インクによる書き込みが可能である。【０００３】
特許文献１に記載の反射型スクリーンは、ガラス板と、光拡散性塗料または顔料を含む層とを有する。ガラス板は、表面に凹凸面を有し、凹凸面への文字や図形の書き込みとその書き込みの消去が可能とされている。光拡散性塗料または顔料を含む層は、ガラス板の背面に形成され、ガラス板の表面に入射した光を反射する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】日本国特開２００３−２３７２９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来、凹凸面の高低差が大きすぎると凹の内部からインクが除去しにくく、凹凸面の高低差が小さすぎるとホットスポットが生じやすく、書き込みの消去性の向上と、ホットスポットの発生の抑制との両立が困難であった。【０００６】
ここで、ホットスポットとは、反射型スクリーンに対し映像が投映されたときに反射型スクリーンの中心部などが明るく光って見える現象である。この現象は、反射型スクリーンの前面が入射光を正反射することで生じる。【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、インクによる書き込みの消去性が向上すると共にホットスポットの発生を抑制した、反射型スクリーンの提供を主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の一態様によれば、
一方の主表面に凹凸面を有する透明部材と、
前記透明部材の前記凹凸面とは反対側の主表面に設けられる光散乱層とを有し、
前記凹凸面は、
０．００４０≦Ｒａ／ＲＳｍ≦０．０１０・・・（１）
Ｓｋｕ≦３．５・・・（２）
Ｒａ：算術平均粗さ
ＲＳｍ：粗さ曲線要素の平均長さ
Ｓｋｕ：クルトシス
を満たす、反射型スクリーンが提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の一態様によれば、インクによる書き込みの消去性が向上すると共にホットスポットの発生を抑制した、反射型スクリーンが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】一実施形態による反射型スクリーンの正面図である。
【図２】一実施形態による反射型スクリーンの上面図である。
【図３】一実施形態による反射型スクリーンの断面図である。
【図４】一実施形態による反射型スクリーンの凹凸面での拡散反射および拡散透過を示す図である。
【図５】Ｓｋｕと高さ分布との関係を示す図である。
【図６】Ｓｋｕと凹凸形状との関係を示す図である。
【図７】試験例１〜１２による高速書き消し試験の結果を示す図である。
【図８】試験例１〜１２によるホットスポットの評価結果を示す図である。
【図９】試験例１、３、６、９、１２による連続書き消し試験の結果を示す図である。
【図１０】変形例による透明部材を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。本明細書において、数値範囲を表す「〜」はその前後の数値を含む範囲を意味する。また、本明細書において、「平面視」とは、反射型スクリーンの板厚方向から見たことを意味する。
【００１２】
＜反射型スクリーン＞
図１は、一実施形態による反射型スクリーンの正面図である。図２は、一実施形態による反射型スクリーンの上面図である。図２において、Ｐはプロジェクタ、Ｕ１は反射型スクリーン１０の中心部正面に臨むユーザ、Ｕ２はプロジェクタＰから反射型スクリーン１０への入射光の入射角と同じ反射角の反射光を観察するユーザを示す。図３は、一実施形態による反射型スクリーンの断面図である。
【００１３】
反射型スクリーン１０は、前面２１と、前面２１の反対面である後面とを有し、前面２１に凹凸面２３を有する。凹凸面２３に対し、インクによる書き込みと、その書き込みの消去が行われる。また、凹凸面２３に対し、前方から映像が投映される。
【００１４】
インクによる書き込みには、専用マーカなどの筆記具、プリンタヘッドなどが用いられる。その書き込みの消去には、字消具、溶剤などが用いられる。一方、映像の投映には、プロジェクタＰなどが用いられる。
【００１５】
インクは、例えば、色素と、色素を溶かす溶剤と、離型剤とを含む。溶剤としては、アルコールなどが用いられる。離型剤としては、オイルなどが用いられる。色素は、離型剤には溶けない。インクの書き消し性は、高速書き消し試験と、連続書き消し試験の両方の試験によって評価する。
【００１６】
高速書き消し試験では、専用マーカを凹凸面２３に当てながら高速移動させて凹凸面２３に対する書き込みを行う。高速で移動させるため、専用マーカからの離型剤の吐出が抑制され、離型剤の不足した書き込みが行われる。高速書き消し試験では、離型剤の不足した書き込みを字消具で十分に消去できるか否かを評価する。具体的な試験条件については、実施例の欄で説明する。
【００１７】
一方、連続書き消し試験では、凹凸面２３の予め定められた範囲にインクを塗り重ねて凹凸面２３に対する書き込みを行うこと、およびその書込みを字消具で消去することを５０回繰り返し行う。書き込みとその消去が繰り返し行われるにつれ、凹凸面２３に離型剤の膜が形成されやすい。離型剤の膜が形成されると、その膜に色素が取り込まれてしまい、取り込まれた色素が字消具によって除去困難になる。連続書き消し試験では、離型剤の膜の形成による色残りの程度を評価する。具体的な試験条件については、実施例の欄で説明する。
【００１８】
反射型スクリーン１０は、不図示の枠で取り囲まれてもよい。その枠には吊り下げ具や脚が設けられてもよく、脚にはキャスターが取付けられてもよい。反射型スクリーン１０は、例えば室内で使用される。尚、反射型スクリーン１０の使用場所は、特に限定されない。例えば反射型スクリーンは、乗り物や建物の壁材などに適用されてもよい。
【００１９】
反射型スクリーン１０は、前側から後側に向けて、例えば透明部材２０、接着層３０、光散乱層４０、および光反射層５０をこの順で有する。以下、反射型スクリーン１０の各構成についてこの順で説明する。
【００２０】
＜透明部材＞
透明部材２０は、互いに対向する第１主表面２１および第２主表面２２を有し、第１主表面２１に凹凸面２３を有する。凹凸面２３に対し、インクによる書き込みと、その書き込みの消去が行われる。また、凹凸面２３に対し、前方から映像が投映される。
【００２１】
凹凸面２３は、図１〜図２では第１主表面２１の全面を占めているが、第１主表面２１の一部のみを占めていてもよい。後者の場合、第１主表面２１の残部は凹凸のない平滑面であってよい。また、凹凸面２３が第１主表面２１に部分的に形成される場合、第１主表面２１よりも小さい凹凸面２３が間隔をおいて複数配置されてもよい。
【００２２】
凹凸面２３は、図１に示すように平面視で長方形に形成されてよい。凹凸面２３の縦寸法Ｌ１は、例えば３００ｍｍ以上である。また、凹凸面２３の横寸法Ｌ２は、例えば５００ｍｍ以上である。尚、凹凸面２３の平面視での形状は、多種多様であってよい。
【００２３】
凹凸面２３は、下記式（１）、（２）を満たす。
０．００４０≦Ｒａ／ＲＳｍ≦０．０１０・・・（１）
Ｓｋｕ≦３．５・・・（２）
Ｒａ：算術平均粗さ（単位：μｍ）
ＲＳｍ：粗さ曲線要素の平均長さ（単位：μｍ）
Ｓｋｕ：クルトシス（単位無し）
算術平均粗さＲａ、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、それぞれ、日本工業規格（ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２０１３）に準拠して測定される。Ｒａ、ＲＳｍは、カットオフ値を設定せずに測定する。Ｒａ、ＲＳｍは、倍率５０倍で縦０．２６ｍｍ横０．２６ｍｍの長方形の領域をレーザ顕微鏡で撮影し、撮影した画像において無作為に描画される１０本の直線のそれぞれに沿って測定され、その測定値の平均値を採用する。Ｒａは凹凸の高低差を表し、ＲＳｍは凹凸の周期（例えば凸頂点の周期）を表す。
【００２４】
図４は、一実施形態による反射型スクリーンの凹凸面での拡散反射および拡散透過を示す図である。図４において、矢印ＡはプロジェクタＰ（図２参照）から凹凸面２３への光の入射を示し、矢印ＢはプロジェクタＰから入射した光の凹凸面２３での拡散反射を示し、矢印Ｃは凹凸面２３を透過した光の光散乱層４０での拡散反射を表し、矢印Ｄは光散乱層４０で拡散反射した光の凹凸面２３での拡散透過を示す。
【００２５】
凹凸面２３のＲａ／ＲＳｍが０．００４０以上であると、凹凸の周期に比べて凹凸の高低差が十分に大きいため、凹凸面２３において、プロジェクタＰからの入射光が拡散反射されやすく、光反射層５０からの反射光が拡散透過されやすい。これにより、ホットスポットの発生を抑制できる。
【００２６】
ホットスポットの有無は、例えば図２に示すユーザＵ２の位置で確認する。
【００２７】
本実施形態によれば凹凸面２３のＲａ／ＲＳｍが０．００４０以上であるため、上述の如く、凹凸面２３において拡散反射および拡散透過が生じやすい。その結果、ホットスポットの発生を抑制できる。
【００２８】
凹凸面２３のＲａ／ＲＳｍが０．０１０以下であると、凹凸の周期に比べて凹凸の高低差が大き過ぎないため、凹凸面２３に書き込まれたインクが除去しやすく、高速書き消し試験において離型剤の不足した書き込みを十分に消去できる。
【００２９】
凹凸面２３のＲａは、好ましくは０．１０μｍ以上である。凹凸面２３のＲａが０．１０μｍ以上であると、光の干渉を抑制でき、ぎらつきを抑制できる。ぎらつきとは、光の明暗による微細な斑点模様が見える現象である。斑点模様は、光の干渉によって生じる。凹凸面２３のＲａは、好ましくは２．０μｍ以下である。
【００３０】
クルトシスＳｋｕは、国際規格（ＩＳＯ  ２５１７８）に準拠して測定される。Ｓｋｕは、カットオフ値を設定せずに測定する。Ｓｋｕは、倍率５０倍で縦０．２６ｍｍ横０．２６ｍｍの長方形の領域をレーザ顕微鏡で撮影して測定し、その測定値の平均値を採用する。
【００３１】
Ｓｋｕは、下記の式（３）で表される。
【００３２】
【数１】
2019004289.tif 000003
上記の式（３）において、Ｓｑは表面の二乗平均平方根高さを、Ａは面積を、Ｚ（ｘ，ｙ）は表面の座標（ｘ，ｙ）における高さを表す。Ｓｋｕは、表面の鋭さの尺度である尖度（せんど）を意味し、高さ分布のとがり（鋭さ）を表す。
【００３３】
図５は、Ｓｋｕと高さ分布との関係を示す図である。図５（ａ）はＳｋｕが３.０よりも小さい場合の高さ分布の一例を示す図である。図５（ｂ）はＳｋｕが３.０である場合の高さ分布の一例を示す図である。図５（ｃ）はＳｋｕが３.０よりも大きい場合の高さ分布の一例を示す図である。
【００３４】
図５（ａ）に示すようにＳｋｕが３.０よりも小さい場合、高さ分布はガウス分布よりも平均値から離散した分布になり、ガウス分布よりも平らな形状となる。図５（ｂ）に示すようにＳｋｕが３.０である場合、高さ分布はガウス分布になる。図５（ｃ）に示すようにＳｋｕが３.０よりも大きい場合、高さ分布はガウス分布よりも平均値に集中した分布になり、ガウス分布よりも尖った形状となる。
【００３５】
図６は、Ｓｋｕと凹凸形状との関係を示す図である。図６（ａ）はＳｋｕが３.０よりも小さい場合の凹凸形状の一例を示す図である。図６（ｂ）はＳｋｕが３.０よりも大きい場合の凹凸形状の一例を示す図である。
【００３６】
図６（ａ）に示すようにＳｋｕが３.０よりも小さい場合、図６（ｂ）に示すようにＳｋｕが３よりも大きい場合に比べて、凸頂点や凹頂点が比較的平らである。
【００３７】
凹凸面２３のＳｋｕが３．５以下であると、頂点が平らな凸や凹が十分に多いので、インクが除去しやすく、連続書き消し試験において離型剤の膜の形成による色残りを低減できる。凹凸面２３のＳｋｕは、好ましくは２．０以上である。
【００３８】
透明部材２０の第１主表面２１が凹凸面２３を有するのに対し、透明部材２０の第２主表面２２（図３参照）は凹凸をほとんど有しないことが好ましい。透明部材２０の第２主表面２２の算術平均粗さＲａは、例えば５μｍ以下、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは０．１μｍ以下である。
【００３９】
透明部材２０は、例えば図３に示すように、透明基板２４と、透明基板２４を基準として光散乱層４０とは反対側に設けられる被覆層２５とを有してよい。被覆層２５が凹凸面２３を形成する。尚、被覆層２５は無くてもよく、透明基板２４が凹凸面２３を形成してもよい。
【００４０】
透明基板２４は、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂から選ばれる１種で形成され、剛性や意匠性の観点から好ましくはガラスで形成される。以下、ガラスで形成される透明基板２４を、ガラス基板２４とも呼ぶ。
【００４１】
ガラス基板２４は、例えばソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラスなどで形成される。また、ガラス基板２４は、未強化ガラス、強化ガラスのいずれでもよい。未強化ガラスは、溶融ガラスを板状に成形し、徐冷したものである。強化ガラスは、物理強化ガラス、化学強化ガラスのいずれでもよい。物理強化ガラスは、均一に加熱したガラス板を軟化点付近の温度から急冷し、ガラス表面とガラス内部との温度差によってガラス表面に圧縮応力を生じさせることで、ガラス表面を強化したものである。化学強化ガラスは、イオン交換法などによってガラス表面に圧縮応力を生じさせることで、ガラス表面を強化したものである。
【００４２】
ガラス基板２４は、フロート法、フュージョン法などで成形される。ガラス基板２４は、図２では平坦な平面板であるが、曲面板であってもよい。平面板を曲面板に曲げる曲げ成形としては、重力成形、またはプレス成形などが用いられる。曲げ成形では、均一に加熱したガラス板を軟化点付近の温度から急冷し、ガラス表面とガラス内部との温度差によってガラス表面に圧縮応力を生じさせることで、ガラス表面を物理強化してもよい。尚、化学強化ガラスは、曲げ成形の後、イオン交換法などによってガラス表面に圧縮応力を生じさせることで得られる。
【００４３】
ガラス基板２４は、映像の光を透過する。ガラス基板２４は、無色透明であるが、有色透明であってもよい。ガラス基板２４のヘーズ（Haze）値は、５０％以下である。ガラス基板２４のヘーズ値が５０％以下であれば、十分な透明度が得られる。尚、ガラス基板２４のヘーズ値は、通常、１％以下である。
【００４４】
ヘーズ値は、日本工業規格（ＪＩＳ  Ｋ７１３６）に準拠して測定され、測定対象の試験板を板厚方向に透過する透過光のうち、前方散乱によって入射光から２．５°以上それた透過光の百分率として求められる。ヘーズ値の測定に用いる光源としては、日本工業規格（ＪＩＳ  Ｚ８７２０：２０１２）に記載のＤ６５光源を用いる。
【００４５】
ガラス基板２４の板厚は、特に限定されないが、例えば０．１ｍｍ〜２０ｍｍである。また、ガラス基板２４の板厚は０．３ｍｍ〜８ｍｍが好ましい。例えば反射型スクリーン１０を壁面に設置する場合、ガラス基板２４の板厚が０．１ｍｍより薄いとうねりが生じやすく、ガラス基板２４の板厚が２０ｍｍより厚いと反射型スクリーン１０の重量が重いため壁などの補強が必要になる場合がある。
【００４６】
ガラス基板２４の前面は凹凸面を有する。ガラス基板２４の前面に凹凸面を形成するガラス板の加工方法としては、一般的な加工方法が用いられ、例えばブラスト法などの機械的方法やウェットやドライなどのエッチング法が用いられる。エッチング法では、ガラス基板２４のエッチング液として例えばフッ化水素とフッ化アンモニウムを混合した水溶液や、フッ化水素アンモニウム水溶液などが使用される。
【００４７】
エッチング法としては、１段階又は２段階などの複数段階のいずれでもよいが、所望の表面形状の得やすさから複数段階が好ましく、生産性などの点から２段階エッチングがより好ましい。
【００４８】
例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムを混合した水溶液（第１のエッチング液）でエッチング処理したガラス基板２４を、水洗等により析出した結晶を洗い流した後、フッ化水素酸等を含む水溶液（第２のエッチング液）で再度エッチング処理してもよく、この２段階のエッチング処理が好ましい。また第１のエッチング液には析出する結晶の溶解度調節や、有機物の溶解のためにアルコールやグリコールなどの有機溶媒を含有してもよい。
【００４９】
２段階のエッチング処理としてはたとえば下記のような方法でもよい。
第１のエッチング液としてフッ化水素アンモニウムを８〜２０質量％、フッ化水素ナトリウム（ＮａＨＦ２）などのフッ素化アルカリ金属塩またはフッ化水素アンモニウム（ＮＨ４Ｆ２）のいずれかを０〜３質量％、およびプロピレングリコールの１５〜４０質量％を混合した水溶液を用意する。次に、静止または撹拌された第１のエッチング液中にガラスを配置することにより表面に凹凸表面を形成する。前記ガラスは、３〜５分の間に亘り第１のエッチング液中に放置して差し支えなく、より粗い表面粗さを生成するためには、より長い時間処理することで調節する。
【００５０】
次に第１のエッチング液による処理でガラス表面に生成した結晶を、表面を水で濯ぐことにより除去する。次に第２のエッチング液として５〜１５質量％のフッ化水素酸を含有する水溶液を用意する。第２のエッチング液は、２〜２０質量％の鉱酸をさらに含有してよい。鉱酸としては、硫酸、塩化水素酸、硝酸、リン酸などが挙げられる。用意した第２エッチング液中にガラスを配置することにより、第１のエッチング液によって形成された凹凸面の表面粗さを減少させ、第１のエッチング液によって形成された凹凸面の光沢を高める。
【００５１】
第１・第２エッチング液を用いたエッチング条件（フッ化水素酸濃度や処理時間）を最適化することで所望の凹凸面が得られる。
【００５２】
尚、透明基板２４は、本実施形態では単層構造であるが、多層構造でもよく、例えば合わせガラスでもよい。合わせガラスは、第１ガラス板、第２ガラス板、および第１ガラス板と第２ガラス板とを接合する中間膜を有する。
【００５３】
被覆層２５は、透明基板２４の前面の少なくとも一部を覆い、透明基板２４の前面のうち少なくとも凹凸面を覆う。被覆層２５は、その前面に、透明基板２４の凹凸面に倣う凹凸面を有する。
【００５４】
被覆層２５は、例えば、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、およびウレタン樹脂から選ばれる少なくとも１種で形成される。被覆層２５は、ガラス基板２４よりもインクとの親和性が低いことが好ましい。インクによる書き込みの消去が容易になる。
【００５５】
被覆層２５は、インクとの親和性や耐久性の観点から、好ましくはシリコーン系硬化物を含む。シリコーン系硬化物は、例えば硬化性のシリコーンレジンおよび硬化性のシリコーンオリゴマーの少なくとも一方を縮合硬化させることで得られる。
【００５６】
一般的に、シリコーンレジンとシリコーンオリゴマーの違いは分子量であり、比較的低分子量のシリコーンレジンをシリコーンオリゴマーという。シリコーンオリゴマーは一般に２あるいは３量体から分子量１０００程度のものを指す。シリコーンレジンおよびシリコーンオリゴマーはＭ単位、Ｄ単位、Ｔ単位、Ｑ単位と呼ばれる含ケイ素結合単位から構成される。
【００５７】
硬化性のシリコーンレジンおよび硬化性のシリコーンオリゴマーは主としてＴ単位またはＱ単位から構成される分岐状の構造を持った樹脂であり、Ｔ単位のみから構成される樹脂、Ｑ単位のみから構成される樹脂、Ｔ単位とＱ単位から構成される樹脂がある。またそれら樹脂はさらに少量のＭ単位やＤ単位を含むこともある。
【００５８】
硬化性のシリコーンレジンおよび硬化性のシリコーンオリゴマーにおいて、Ｔ単位は、１個のケイ素原子を有し、そのケイ素原子に結合した１個の水素原子または１価の有機基と、他のケイ素原子に結合した酸素原子（または他のケイ素原子に結合できる官能基）３個とを有する単位である。
【００５９】
含ケイ素結合単位を形成するモノマーは、（Ｒ´−）ａＳｉ（−Ｚ）４−ａで表される。ただし、ａは０〜３の整数、Ｒ´は水素原子または1価の有機基、Ｚは水酸基、塩素原子または他のケイ素原子に結合できる1価の官能基を表す。Ｚが加水分解性基である場合、その加水分解性基としては、アルコキシ基、アシルオキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。
【００６０】
硬度、耐久性の観点から、含ケイ素結合単位としてＴ単位を主な構成単位とするものが好ましく用いられる。ここで、Ｔ単位を主な構成単位とするものとは、Ｍ単位、Ｄ単位、Ｔ単位およびＱ単位の合計数に対するＴ単位数の割合が５０％〜１００％のオルガノポリシロキサンをいう。より好ましくは、該Ｔ単位数の割合が７０％〜１００％のオルガノポリシロキサンが用いられる。また、Ｔ単位以外に少量含まれる他の単位としてはＤ単位とＱ単位が好ましい。
【００６１】
硬化性のシリコーンレジンおよび硬化性のシリコーンオリゴマーとしては、市販されている化合物を使用することができる。たとえば、硬化性のシリコーンレジンとしては、信越化学社製KR220L、KR220LP、KR242A、KR251、KR211、KR255、KR300、KR311、KR2621-1、東レダウコーニング社製SR2402、AY42-163、Z6018などが使用できる。硬化性のシリコーンオリゴマーとしては、信越化学社製KC89S、KR515、KR500、X40-9225、X40-9246、X40−9250、KR401N、X40-9227、KR510、KR9218、KR213、KR400、X40-2327、KR401などが使用できる。これらのうちの１品種が単独で用いられてもよいし、複数品種が組合わせて用いられてもよい。
【００６２】
被覆層２５は、インクによる書き込みの消去性を向上するため、シリコーン系硬化物に加えて、フッ素系化合物を含んでもよい。フッ素系化合物としては、ＣｎＦ２ｎ＋１基やＣｎＦ２ｎＯ基を含む化合物が好ましい。尚、ｎは１以上の自然数である。
【００６３】
被覆層２５は、コート液をガラス基板２４に塗布し、塗布したコート液を硬化させることで形成される。コート方法は、公知の手法を用いることができ、例えば、スプレーコート、スリットコート、ダイコート、スピンコート、ディップコート、カーテンコートなどの手法を用いることができる。コート液は、硬化性のシリコーンレジンおよび硬化性のシリコーンオリゴマーの少なくとも一方と、溶媒とを含む。コート液は、必要に応じて、硬化触媒、フッ素系化合物、レベリング剤、および顔料のうちの少なくとも１つをさらに含んでもよい。硬化の促進のため、加熱、および／または活性エネルギー線照射を行うことが好ましい。
【００６４】
被覆層２５の形成方法としてコート法が用いられる場合、コート液の塗布量や固形分濃度（不揮発性分濃度）を制御することで、凹凸面２３の凹凸形状を制御できる。ガラス基板２４の凹凸面の凹凸形状が同じ場合、コート液の塗布量が多いほど、被覆層２５の凹凸面２３の高低差が小さくなる。また、ガラス基板２４の凹凸面の凹凸形状が同じ場合、コート液の固形分濃度が高いほど、凹凸面２３の高低差が低くなる。コート液は、スポンジなどで薄く引き伸ばされた後、余剰分を拭き取って使用する。コート液の塗布量は、拭き取り量で調整できる。
【００６５】
被覆層２５の層厚は、０．０１μｍ以上２０μｍが好ましく、０．０５μｍ以上１０μｍ以下がより好ましい。被覆層２５の層厚が０．０１μｍ未満では耐久性が不十分である。被覆層２５の層厚が２０μｍ超では凹凸面２３の高低差が小さくなり、ホットスポットの発生が十分に抑制できない。被覆層２５は平均層厚が０．１μｍとなるように形成することが好ましい。
【００６６】
透明部材２０は、図３に示すように、透明基板２４と被覆層２５との間に、透明基板２４と被覆層２５との密着性を改善する下地層２６をさらに有してもよい。
【００６７】
尚、透明部材２０は、本実施形態では透明基板２４を基準として光散乱層４０とは反対側に被覆層２５を有するが、被覆層２５を有しなくてもよい。透明基板２４の凹凸面に対し、インクによる書き込みやその書き込みの消去、映像の投映などがなされてもよい。
【００６８】
尚、透明基板２４の前面は、本実施形態では凹凸面であるが、平坦面であってもよい。後者の場合、透明部材２０は、図１０に示すように、透明基板２４の平坦面上に形成される凹凸層２７をさらに有する。
【００６９】
凹凸層２７の形成方法としては、例えば型押し法、エッチング法、インプリント法、コート法などが単独または任意の組合せで用いられる。
【００７０】
凹凸層２７の形成方法として型押し法を用いる場合、加熱によって軟化させた樹脂層に対して型を押しつけ、型の凹凸を樹脂層へ転写することで、凹凸層２７を形成する。
【００７１】
凹凸層２７の形成方法としてエッチング法を用いる場合、エッチング液に樹脂層を浸漬することで、樹脂層の前面に凹凸面を形成する。
【００７２】
凹凸層２７の形成方法としてインプリント法を用いる場合、透明基板２４とモールドとの間に転写材を挟み、モールドの凹凸パターンを転写材に転写し、転写材を固化させることで、凹凸層２７を形成する。固化は、光硬化、熱硬化を含む。
【００７３】
凹凸層２７の形成方法としてコート法を用いる場合、粒子とバインダーとを含むコート液を透明基板２４に塗布し、塗布したコート液を固化させることで凹凸層２７を形成する。コート法としては、例えばスプレー法が挙げられる。
【００７４】
凹凸層２７の形成方法としてスプレー法を用いる場合、粒子とバインダーとを含むコート液を細いノズルから圧力をかけて噴霧することにより、液滴を透明基板２４に塗布する。粒子は、無機粒子、有機粒子などから適宜選択可能である。バインダーは、有機系材料、無機系材料から適宜選択可能である。
【００７５】
凹凸層２７に対しインクによる書き込みやその書き込みの消去、映像の投映などがなされてもよいが、図１０に示すように凹凸層２７を被覆する被覆層２５に対しインクによる書き込みやその書き込みの消去、映像の投映などがなされてもよい。また、図１０に示すように凹凸層２７と被覆層２５との間には、下地層２６が設けられてもよい。
【００７６】
被覆層２５の形成方法としてコート法が用いられる場合、コート液の塗布量や固形分濃度（不揮発性分濃度）を制御することで、凹凸面２３の凹凸形状を制御できる。凹凸層２７の凹凸形状が同じ場合、コート液の塗布量が多いほど、被覆層２５の凹凸面２３の高低差が小さくなる。また、凹凸層２７の凹凸形状が同じ場合、コート液の固形分濃度が高いほど、被覆層２５の凹凸面２３の高低差が低くなる。コート液は、スポンジなどで薄く引き伸ばされた後、余剰分を拭き取って使用する。コート液の塗布量は、拭き取り量で調整できる。
【００７７】
透明基板２４が凹凸面を有し、その凹凸面に下地層２６や被覆層２５がさらに形成されない場合は、透明基板２４の凹凸面が透明部材２０の凹凸面２３である。また、透明基板２４が凹凸面を有し、その凹凸面に下地層２６や被覆層２５がさらに形成される場合は、被覆層２５の凹凸面が透明部材２０の凹凸面２３である。
【００７８】
一方、透明基板２４が平坦面を有し、その平坦面に凹凸層２７が形成され、凹凸層２７の上に下地層２６や被覆層２５がさらに形成されない場合は、凹凸層２７の凹凸面が透明部材２０の凹凸面２３である。また、透明基板２４が平坦面を有し、その平坦面に凹凸層２７が形成され、凹凸層２７の上に下地層２６や被覆層２５がさらに形成される場合は、被覆層２５の凹凸面が透明部材２０の凹凸面２３である。
【００７９】
＜接着層＞
接着層３０は、透明部材２０と光散乱層４０との間に設けられ、透明部材２０と光散乱層４０とを接着する。接着層３０は、光散乱層４０がシート状に形成されたうえで、透明部材２０に貼り付けられる場合に用いられる。接着層３０としては、一般的なものが用いられる。
【００８０】
尚、光散乱層４０は、本実施形態ではシート状に形成されたうえで透明部材２０に貼り付けられるが、光散乱層４０の原料液を透明部材２０に塗布して形成されてもよい。後者の場合、接着層３０は不要である。
【００８１】
＜光散乱層＞
光散乱層４０は、透明部材２０を透過した光を散乱する。これにより光散乱層４０が白色を呈するため、ユーザＵ１、Ｕ２によって視認される映像のコントラストが向上する。光散乱層４０は、屈折率が異なる複数の材料で形成される。光散乱層４０は、例えばマトリックス部と、マトリックス部中に散在する光散乱部とを含む。
【００８２】
マトリックス部は、無機材料、有機材料のいずれを含んでもよい。無機材料としては、二酸化ケイ素などが挙げられる。有機材料としては、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。有機材料は、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれであってもよい。
【００８３】
光散乱部は、粒子、空洞のいずれを含んでもよく、両者を含んでもよい。粒子は、無機粒子、有機粒子のいずれでもよい。無機粒子の材料としては、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、ホスフィン酸塩、ジホスフィン酸塩、硫酸バリウム、タルクおよびマイカなどが挙げられる。有機粒子の材料としては、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられる。また、粒子は多孔質粒子であってもよい。多孔質粒子の空孔の細孔直径は２ｎｍ〜５０ｎｍが好ましい。粒子の数平均粒径は１００ｎｍ〜１０μｍである。空洞は、延伸操作や発泡剤などによって形成される。光散乱部が空洞を含む場合、光散乱層４０は多孔質層である。
【００８４】
光散乱層４０がフィルム状に形成されたうえで透明部材２０に貼り付けられる場合、光散乱部として、粒子のみを含む場合と粒子と空洞の両方を含む場合では、粒子の適切な配合量が異なる。粒子のみを含む場合は、光散乱層４０に占める粒子の割合は２０体積％〜９８体積％が好ましく、３０体積％〜９０体積％がより好ましい。粒子と空洞の両方を含む場合は、光散乱層４０に占める粒子の割合は０．１体積％〜５０体積％が好ましく、０．５体積％〜３０体積％がより好ましい。
【００８５】
光散乱層４０として用いられるフィルムは、延伸フィルムであってよく、フィルムの押出し方向（縦方向）に延伸された一軸延伸フィルム、および縦方向および横方向に延伸された二軸延伸フィルムのいずれでもよい。
【００８６】
光散乱層４０としての延伸フィルムは、ポリエステル樹脂などの樹脂で形成され、樹脂の内部に粒子を含む場合、および粒子と当該粒子を起点として延伸時に形成される空洞とを含む場合がある。粒子と空洞を含む場合、複数の粒子や複数の空洞が、延伸フィルムの内部に分散配置される。
【００８７】
延伸フィルムが粒子のみを含む場合は、粒子は例えば、硫酸バリウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、または炭酸カルシウムなどで形成される。無機粒子の粒径は１μｍ以下であることが好ましい。
【００８８】
延伸フィルムが粒子と空洞を含む場合は、粒子としては、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、ホスフィン酸塩、ジホスフィン酸塩などから形成される。粒子の粒径は５μｍ以下であることが好ましい。フィルムの延伸時に粒子付近から空隙を作成するため、粒子とマトリックス樹脂の密着力は小さい方が好ましい。延伸によって形成された空洞は、延伸方向に伸びた構造であって、厚み方向と延伸方向とのアスペクト比の高い構造である。そのため、薄い延伸フィルムであっても、多数の空洞を光路内に含むことが可能となるため、粒子のみの場合に比べ、粒子の割合が少ない場合でも効率的な反射が可能となる。空洞を含むと映像のコントラストが高くなりやすい。
【００８９】
光散乱層４０は、マトリックス部や光散乱部に加えて、光吸収部をさらに含んでもよい。光吸収部は、カーボンブラックやチタンブラックなどの光吸収性粒子を含む。光散乱層４０に占める光吸収部の割合は、例えば０．０１体積％〜５体積％、好ましくは０．１体積％〜３体積％である。光吸収部は、映像のコントラストを向上する。
【００９０】
光散乱層４０の全光線透過率は、１５％〜４０％である。「全光線透過率」は、光散乱層４０の一の主表面（例えば前面）に対し入射角０゜で入射した入射光に対する、光散乱層４０の残りの一の主表面（例えば後面）に透過した全透過光の割合（百分率）を意味する。全光線透過率は、日本工業規格（ＪＩＳ  Ｋ７１３６）に準拠して測定され、測定対象の試験板を板厚方向に透過する透過光のうち、拡散光を含めた透過率として求められる。全光線透過率の測定に用いる光源としては、日本工業規格（ＪＩＳ  Ｚ８７２０：２０１２）に記載のＤ６５光源を用いる。
【００９１】
＜光反射層＞
光反射層５０は、光散乱層４０からの光を光散乱層４０に向けて反射する。光反射層５０は、１層または多層で構成される。層の構成材料としては具体的には下記が挙げられる。光反射層５０は、（１）金属層、（２）樹脂と樹脂中に散在する光反射性粒子とを含む層、（３）誘電体多層膜のうちの少なくとも１つを含み、いずれか２つ以上を含んでもよい。組合わせは特に限定されない。光反射層５０に含まれる金属は、反射率や色の観点から、銀およびアルミニウムの少なくとも一方を含む単金属または合金であることが好ましい。
【００９２】
光反射層５０が、金属層を含む場合、金属層の形成方法としては、例えば金属箔や金属板を貼る方法、スパッタリングや真空蒸着法などの物理蒸着法、銀鏡反応やメッキを利用する方法などが挙げられる。
【００９３】
また、光反射層５０は、樹脂と、樹脂中に散在する光反射性粒子とを含んでもよい。この場合、光反射層５０は、例えば樹脂組成物と光反射性粒子とを混ぜた液体を光散乱層４０に塗布し、塗布した液体を固化させることで形成される。前記液体には溶媒が含まれていてもよい。あるいは、樹脂が熱可塑性樹脂である場合には、樹脂組成物と光反射性粒子とを混ぜた樹脂材料を押し出し成形等によりシート状にすることで形成される。光反射性粒子としては、例えば金属粒子が用いられる。金属としては銀およびアルミニウムの少なくとも一方を含む単金属又は合金である。光反射性粒子の形状は、球状、板状のいずれでもよいが、反射率の観点から好ましくは板状である。
【００９４】
また、光反射層５０は、誘電体多層膜を含んでもよい。誘電体多層膜は、屈折率が異なる複数の誘電体を積層する方法により形成できる。高屈折率の誘電体としては例えばＳｉ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＮｂＮ、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＭｏＯ、ＮｂＯ、ＴiＯ２およびＺｒＯ２が挙げられる。前記高屈折率の誘電体より低屈折率の誘電体としては例えばＳｉＯ２、ＭｇＦ２、およびＡｌＦ３が挙げられる。
【００９５】
光反射層５０については、正反射率と拡散反射率と外部透過率と吸収率の和を１００％とする。正反射率と拡散反射率との和が全反射率である。正反射率や拡散反射率の測定サンプルには、ガラス基材（具体的には２ｍｍ厚のソーダライムガラス板）上に光反射層５０を形成したものを用いる。
【００９６】
光反射層５０の正反射率は、絶対反射率として測定する。光反射層５０の正反射率は、測定サンプルの光反射層５０におけるガラス基材側の表面に対しガラス基材側から入射角５°で波長５５０ｎｍの光を入射し、正反射の方向に反射した光を分光光度計で検出して測定値とする。分光光度計としては、市販のもの（例えば日立製作所社製、型式：Ｕ−４１００）が用いられる。
【００９７】
一方、光反射層５０の拡散反射率は、光反射層５０の全反射率から光反射層５０の正反射率を引いて算出する。光反射層５０の全反射率は、絶対反射率として測定する。光反射層５０の全反射率は、測定サンプルを積分球の内部に設置し、測定サンプルの光反射層５０におけるガラス基材側の表面に対しガラス基材側から入射角５°で波長５５０ｎｍの光を入射し、様々な方向に反射した光を積分球によって集めて分光光度計で検出して測定値とする。
【００９８】
光反射層５０の正反射率は、好ましくは４０％以上である。光反射層５０の正反射率が４０％以上であれば、映像のぼやけがほとんどない。光反射層の正反射率は、より好ましくは５０％以上である。
【００９９】
光反射層５０の拡散反射率は、好ましくは４０％未満である。光反射層５０の拡散反射率が４０％未満であれば、映像のぼやけが略ない。
【０１００】
光反射層５０の正反射率と拡散反射率の合計、つまり光反射層５０の全反射率は、３０〜１００％が好ましい。
【０１０１】
光反射層５０の外部透過率は、好ましくは５０％未満である。光反射層５０の外部透過率が５０％未満であれば、映像の明るさが十分に得られる。
【０１０２】
尚、光反射層５０は、金属層が好ましい。この場合、光反射層５０は、めっき、スパッタ、蒸着などによって光散乱層４０上に形成される。
【０１０３】
光反射層５０は、図３では光散乱層４０に密着しているが、光散乱層４０に密着していなくてもよく、光散乱層４０との間に隙間を形成してもよい。光反射層５０は、光散乱層４０とは別に形成されてもよい。
【０１０４】
光反射層５０の前面は、凹凸をほとんど有しないことが好ましい。光反射層５０の前面の算術平均粗さＲａは、例えば５μｍ以下、好ましくは１μｍ以下である。
【０１０５】
上記反射型スクリーンの製造方法は、ガラス基板２４と、光散乱層４０と、光反射層５０とを含む積層体を製造する工程を有する。尚、ガラス基板２４の代わりに、前述の樹脂基板が透明基板として用いられてもよい。
【０１０６】
＜反射型スクリーンの用途＞
反射型スクリーンは、映写とかき消しが行われる用途に適している。
【０１０７】
例えば、建物等の表示用途があり、より具体的には下記の用途が挙げられる。
・居住空間のインテリアやＣＭ、教育用の映像の表示
・カーディーラーでの情報や広告等の表示
・スーパーマーケット、リテイルや公共の建物のガラスドアとして用いて広告表示、情報通知、イベント等の用途
・壁紙のパターンを変えられるガラスウォールとしての用途
・ホテルなどのバスルームのパーテーション
・空港、駅、病院、学校における、文字、標識、画像、動画の表示
・寺社、仏閣、神社、教会等の宗教施設における、地域や観光の情報の表示
・商業施設における空間演出
・スタジアムにおける、文字、標識、画像、動画の表示
・キッチンでの情報や個人向けの映像投影用途
・ホワイトボードとして、書き込みや表示が可能な部材として学校やミーティングルームで用いる。また、ユーザーインターフェースと共に用いる。
【０１０８】
テーブルトップ、ケーシング等における用途として、以下の用途が挙げられる。
・レストランのテーブルトップ
・机（デスクトップ）、キッチンカウンター
・卓上のパーテーション
また、車両における用途として、以下の用途が挙げられる。
・新幹線のパーテーション部分
・自動車において、車内パーテーションとしてＴＶやＤＶＤの映像の表示。
【０１０９】
これらの用途において反射型スクリーン１０を壁等に設置する場合は、建築用などとして入手可能な一般的な接着剤やシーリング材などを用いて貼りつけることができる。
【実施例】
【０１１０】
試験例１〜試験例４および試験例１２が実施例、試験例５〜試験例１１が比較例である。【０１１１】
［試験例１］
試験例１では、透明部材としてガラス板（旭硝子製ソーダライムガラス、板厚３ｍｍ）の一方の主表面をウェットエッチング処理したものを用意した。ウェットエッチング処理は、第１のエッチング液と第２のエッチング液を用いて２段階で行った。第１のエッチング液としては、フッ化水素アンモニウム水溶液を用いた。第１のエッチング液による処理時間は６０秒とし、その後、第２のエッチング液による処理の前に、第１のエッチング液による処理でガラス表面に生成した結晶を水洗により除去した。第２のエッチング液としては、フッ化水素酸、硫酸、塩化水素酸を含む水溶液を用いた。【０１１２】
ウェットエッチング処理したガラス板の凹凸面には、下地層や被覆層を形成しなかった。【０１１３】
試験例１では、用意したガラス板の凹凸面とは反対側の面に、光散乱層としての白色ＰＥＴフィルムに光反射層としてのアルミ蒸着層を予め形成したものを接着剤で貼り合わせて反射型スクリーンを作製した。【０１１４】
白色ＰＥＴフィルムとしては、ジエチルホスフィン酸アルミニウム粒子（平均粒子径２μｍ）を起点として形成される空洞を内部に複数有する二軸延伸フィルム（厚み５０μｍ、全光線透過率：２８．５％）を用いた。【０１１５】
アルミ蒸着層は、白色ＰＥＴフィルムを基準としてガラス板とは反対側に配した。【０１１６】
［試験例２］  
試験例１の第１のエッチング液より高い濃度のフッ化水素アンモニウムを含む第１のエッチング液を用いたほかは試験例１と同様にして、２段階のウェットエッチング処理したガラス板を得た。ウェットエッチング処理したガラス板の凹凸面には、下地層や被覆層を形成しなかった。【０１１７】
得られたガラス板に試験例１と同様にして光散乱層と光反射層を形成し、反射型スクリーンを作成した。【０１１８】
［試験例３］
試験例２の第１のエッチング液よりさらに高い濃度のフッ化水素アンモニウムを含む第１のエッチング液を用いたほかは試験例１と同様にして、２段階のウェットエッチング処理したガラス板を得た。ウェットエッチング処理したガラス板の凹凸面には、下地層や被覆層を形成しなかった。【０１１９】
得られたガラス板に試験例１と同様にして光散乱層を貼りあわせ、反射型スクリーンを作成した。【０１２０】
［試験例４］
試験例４では、ウェットエッチング処理の条件以外、試験例１と同様にしてガラス板の一方の主表面に凹凸面を形成した。ウェットエッチング処理は、試験例３よりもさらに高い濃度のフッ化水素アンモニウムを含む第１のエッチング液を用いた。ウェットエッチング処理したガラス板の凹凸面には、試験例１とは異なり、被覆層を形成した。【０１２１】
具体的には、被覆層用のコート液（信越化学社製、ＫＲ４００）を滴下しスポンジで塗り広げ、余剰の被覆層用のコート液をベンコット（旭化成）を用いてふき取った。その後、２００℃で３０分間加熱処理することにより、被覆層を形成した。【０１２２】
試験例４では、試験例１と同様に、用意したガラス板の凹凸面とは反対側の面に、光散乱層としての白色ＰＥＴフィルムに光反射層としてのアルミ蒸着層を形成したものを接着剤で貼り合わせた。【０１２３】
［試験例５］
試験例５では、ガラス板の一方の主表面に凹凸面を形成する方法として、ブラスト処理とウェットエッチング処理とをこの順で用いた。ブラスト処理において、ブラスト装置は直圧式、メディアはアルミナ＃４８０、ノズル距離は６０ｍｍ、噴射圧力は０．３ＭＰａ、１枚当たりの処理時間は６．７２秒とした。ウェットエッチング処理は、１０質量％のフッ化水素酸水溶液で６０秒処理することで行った。ブラスト処理した面には下地層や、被覆層を形成しなかった。試験例５では、用意したガラス板の凹凸面とは反対側の面に、光散乱層としての白色ＰＥＴフィルムに光反射層としてのアルミ蒸着層を予め形成したものを接着剤で貼り合わせて反射型スクリーンを作製した。【０１２４】
白色ＰＥＴフィルムとしては、ジエチルホスフィン酸アルミニウム粒子（平均粒子径２μｍ）を起点として形成される空洞を内部に複数有する二軸延伸フィルム（厚み５０μｍ、全光線透過率：２８．５％）を用いた。 
アルミ蒸着層は、白色ＰＥＴ フィルムを基準としてガラス板とは反対側に配した。【０１２５】
［試験例６］
試験例６では、ガラス板の一方の主表面に凹凸面を形成する方法として、ブラスト処理のみを用いた。ブラスト処理は試験例５におけるブラスト処理と同様にして行った。【０１２６】
得られたガラス板に試験例５と同様にして光散乱層と光反射層を形成し、反射型スクリーンを作成した。【０１２７】
［試験例７〜１１］
試験例７〜１１では、ガラス板の一方の主表面に凹凸面を形成する方法として、ブラスト処理のみを用いた。ブラスト処理は、メディアの種類以外、試験例５のブラスト処理と同様にして行った。試験例７では、メディアとしてアルミナ＃６００を用いた。試験例８では、メディアとしてアルミナ＃３６０を用いた。試験例９では、メディアとしてアルミナ＃４８０を用いた。試験例１０は、メディアとしてアルミナ＃６００を用いた。試験例１１では、メディアとしてアルミナ＃１０００を用いた。【０１２８】
試験例７は、得られたガラス板に試験例５と同様にして光散乱層と光反射層を形成し、反射型スクリーンを作成した。処理したガラス板の凹凸面には、下地層や被覆層を形成しなかった。一方、試験例８〜１１は、得られたガラス板に試験例５と同様にして光散乱層と光反射層を形成した。そして、処理したガラス板の凹凸面には被覆層を形成した。被覆層は、下記のコート液をスピンコータによってガラス板の凹凸面全体に塗布し、塗布したコート液を１５０℃で３０分間乾燥させることで形成した。コート液としては、シリコーンオリゴマー系コーティング剤KR400（信越化学社製）をトルエンで５０％に希釈した液を用いた。被覆層の層厚は０．５μｍであった。【０１２９】
［試験例１２］
試験例１２では、試験例１で得られたガラス板を用いた。ウェットエッチング処理した面には、下地層や被覆層を形成しなかった。【０１３０】
試験例１２では用意したガラス板の凹凸面とは反対側の面に、光散乱層として白色塗料（帝国インキ社製ＧＬＳ−ＨＦ６１９）を塗布し、１５０℃３０分加熱硬化することで形成した。光反射層は形成しなかった。光散乱層には空隙が形成されなかった。【０１３１】
＜凹凸面の表面形状の測定＞
凹凸面の表面形状は、オリンパス製レーザ顕微鏡LEXT（OLS-4100）により測定した。【０１３２】
算術平均粗さＲａ、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、それぞれ、日本工業規格（ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２０１３）に準拠して測定した。Ｒａ、ＲＳｍは、カットオフ値を設定せずに測定した。Ｒａ、ＲＳｍは、倍率５０倍で縦２６０μｍ横２６０μｍの長方形の領域をレーザ顕微鏡で撮影し、撮影した画像において無作為に描画される１０本の直線のそれぞれに沿って測定し、その測定値の平均値を採用した。【０１３３】
クルトシスＳｋｕは、国際規格（ＩＳＯ  ２５１７８）に準拠して測定した。Ｓｋｕは、カットオフ値を設定せずに測定した。Ｓｋｕは、倍率５０倍で縦２６０μｍ横２６０μｍの長方形の領域において測定し、その測定値の平均値を採用した。【０１３４】
＜光沢度＞
光沢度として、Glossメーター（Rhopoint Instruments社製、Rhopoint IQ-S）を用いて、入射角６０°で入射した入射光に対する反射角６０°で反射した反射光の割合（％）を測定した。光沢度の測定では、反射型スクリーンの後面を黒色のフェルト布で覆い、反射型スクリーンの後面での反射を抑えた状態で測定した。光沢度は６５％より小さいことが好ましい。【０１３５】
＜ホットスポット評価＞
ホットスポットは、反射型スクリーンに対し約１ｍの距離をおいて正対させた液晶プロジェクタ（Qumi社製、最大輝度：８００ルーメン）から反射型スクリーンに映像を投影して、目視で評価した。【０１３６】
ホットスポットの評価結果を示す下記の表１および図８において、「〇」とは反射型スクリーンに画像を投影したときにホットスポットの存在が認められなかったことを意味し、「×」とはホットスポットの存在が認められたことを意味する。【０１３７】
＜高速書き消し試験＞
高速書き消し試験では、専用マーカとして赤色のホワイトボード用マーカー（コクヨ社製、ホワイトボード用マーカーＰＭ−Ｂ１０２ＮＲ）を用い、字消具としてはホワイトボード用イレーサー（コクヨ社製、ＲＡ−１２ＮＢ−ＤＭ）を用いた。【０１３８】
専用マーカで反射型スクリーンの凹凸面に３本の線を引き、これらの線を字消具で消去したときの色残りを目視で評価した。反射型スクリーンに押し付けた専用マーカの移動速度（線を引く速度）は２０ｃｍ／秒とし、反射型スクリーンに専用マーカを押し付ける荷重は０．９８Ｎとした。【０１３９】
高速書き消し試験の評価結果を示す下記の表１および図７において、「〇」とは色残りが認められなかったことを意味し、「×」とは色残りが認められたことを意味する。【０１４０】
＜連続書き消し試験＞
連続書き消し試験では、専用マーカとして赤色のホワイトボード用マーカー（ゼブラ社製、BoardMarkerEZcapYYS17-R）を用い、字消具としてはホワイトボード用イレーサー（コクヨ社製、ＲＡ−１２ＮＢ−ＤＭ）を用いた。【０１４１】
専用マーカで反射型スクリーンの凹凸面に直径５０ｍｍの円を描き、円の中を塗りつぶし、描いた円を字消具で消去することを５０回繰り返し行い、色残りの程度を評価した。反射型スクリーンに押し付けた専用マーカの移動速度は１ｃｍ／秒とし、反射型スクリーンに専用マーカを押し付ける荷重は０．９８Ｎとした。【０１４２】
色残りの程度は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系（ＣＩＥ  １９７６）における色差ΔＥ＊ａｂ（ΔＥ＊ａｂ＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）で評価した。ΔＬ＊、Δａ＊、Δｂ＊とは、連続書き消し試験の前後でのＬ＊、ａ＊、ｂ＊の変化を表す。ΔＥ＊ａｂは、好ましくは２．０未満であり、より好ましくは１．５以下であり、特に好ましくは１．０以下である。ΔＥ＊ａｂが１．０以下であった場合、色残りは視認されなかった。【０１４３】
＜ぎらつき＞
ぎらつきの有無は、図２に示すように反射型スクリーンに対しプロジェクタから映像を投影したときに、図２に示すユーザＵ１の位置で明暗による微細な斑点模様が見えるか否かで評価した。ぎらつきの評価結果を示す下記の表１において、「〇」とはぎらつきが認められなかったことを意味し、「×」とはぎらつきが認められたことを意味する。【０１４４】
＜コントラスト＞
コントラストの評価は、白色（最高輝度部分）と黒色（最低輝度部分）を交互に繰り返した縞模様を液晶プロジェクタ（Qumi社製、最大輝度：８００ルーメン）から投影し、明るい白色部で輝度が飽和しないようデジタルカメラのＩＳＯ感度を調整し画像を撮影した。次に得られた写真の白色部の平均輝度を黒色部の平均輝度で除したものをコントラストとした。輝度解析にはたとえばＩｍａｇｅＪなどの画像解析ソフトを用いた。【０１４５】
＜評価結果＞
評価結果を表１および図７〜９に示す。表１は、試験例１〜１２の各種評価結果をまとめて示す。図７は、試験例１〜１２による高速書き消し試験の結果を示す図である。図８は、試験例１〜１２によるホットスポットの評価結果を示す図である。図９は、試験例１、３、６、９、１２による連続書き消し試験の結果を示す図である。【０１４６】
【表１】
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表１および図７から明らかなように、試験例１〜４および９〜１２では、試験例５〜８とは異なり、反射型スクリーンの凹凸面のＲａ／ＲＳｍが０．０１０以下であったため、高速書き消し試験において色残りが視認されなかった。これは、凹凸面のＲａ／ＲＳｍが０．０１０以下であると、凹凸の周期に比べて凹凸の高低差が大き過ぎないため、凹凸面に書き込まれたインクが除去しやすく、離型剤の不足した書き込みを十分に消去できるためである。【０１４７】
また、表１および図８から明らかなように、試験例１〜９および１２では、試験例１０〜１１とは異なり、反射型スクリーンの凹凸面のＲａ／ＲＳｍが０．００４０以上であったため、ホットスポットの発生を抑制できた。これは、凹凸の周期に比べて凹凸の高低差が十分に大きいため、反射型スクリーンの凹凸面において、プロジェクタからの入射光が拡散反射されやすく、光反射層からの反射光が拡散透過されやすいためである。【０１４８】
尚、表１および図８から、ホットスポットの評価結果と光沢度とには相関関係があることもわかる。光沢度は正反射率を測定しているため、正反射が原因で生じるホットスポットと光沢度とには相関関係がある。光沢度が５０％以上であると、ホットスポットが認められた。【０１４９】
さらに、表１および図９から明らかなように、試験例１、３および１２では、試験例６および９とは異なり、反射型スクリーンの凹凸面のクルトシスＳｋｕが３．５以下であったため、連続書き消し試験の前後でのΔＥ＊ａｂが２．０未満であり、色残りが少なかった。これは、凹凸の周期に比べて凹凸の高低差が十分に大きいため、凹凸面２３において、プロジェクタＰからの入射光が拡散反射されやすく、光反射層５０からの反射光が拡散透過されやすいためである。これは、凹凸面のクルトシスＳｋｕが３．５以下であると、頂点が平らな凸や凹が十分に多いので、インクが除去しやすく、離型剤の膜の形成による色残りを低減できるためである。尚、連続書き消し試験は、試験例１、３、６、９および１２において行い、試験例２、４−５、７−８、１０−１１において行わなかった。【０１５０】
＜変形、改良＞
以上、反射型スクリーンの実施形態などについて説明したが、本発明は上記実施形態などに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。【０１５１】
例えば、反射型スクリーンは、磁性層をさらに有してもよい。磁性層は、鉄などの軟磁性材料、永久磁石などの硬磁性材料のいずれを含んでもよい。磁石の吸着力を利用することができ、反射型スクリーンに紙などを留めたり、壁に反射型スクリーンを取付けたりすることができる。【０１５２】
また、反射型スクリーンは、光反射層５０を基準として光散乱層４０とは反対側に、腐食防止層などの保護層をさらに有してもよい。光反射層５０を保護することができる。【０１５３】
また、反射型スクリーンは、光散乱層４０や光反射層５０の両側に透明基板を有してもよい。つまり、第１の透明基板と第２の透明基板との間に光散乱層４０や光反射層５０が設けられてもよく、合わせ板の内部に光散乱層４０や光反射層５０が設けられてもよい。第１の透明基板および第２の透明基板がそれぞれガラス板の場合、合わせ板として合わせガラスが得られる。尚、第１の透明基板および第２の透明基板は、両方が樹脂板、あるいは一方がガラス板で他方が樹脂板でもよい。【０１５４】
また、光反射層５０は、正反射よりも拡散反射が支配的なものでもよい。そのような光反射層５０としては、球状の反射性粒子が分散した層、反射性の凹凸構造を有する層が挙げられる。反射性の凹凸構造を有する層は、例えば凹凸面に沿って金属の反射膜を施すことで得られる。反射性の凹凸構造は、ランダムな凹凸構造、規則的な凹凸構造であってよく、ホログラム等でもよい。【０１５５】
本出願は、２０１７年６月３０日に日本国特許庁に出願された特願２０１７−１２８６４６号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０１７−１２８６４６号の全内容を本出願に援用する。
【符号の説明】
【０１５６】
１０  反射型スクリーン
２０  透明部材
２１  第１主表面
２２  第２主表面
２３  凹凸面
２４  透明基板
２５  被覆層
２６  下地層
２７  凹凸層
３０  接着層
４０  光散乱層
５０  光反射層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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