(57)【要約】  本発明は、装置の薄型化と、光漏れの防止、温湿環境下での表示ムラの抑制、および、表示性能変化の抑制等の表示性能の向上とが両立できる液晶表示装置を提供する。本発明の液晶表示装置は、第一偏光子、第二光学異方性層、第一光学異方性層、液晶セル、および、第二偏光子をこの順に有し、第一光学異方性層が所定のＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）を満たし、第二光学異方性層が所定のＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）を満たし、第一光学異方性層および第二光学異方性層の積層形態での膜厚が８μｍ以下である。
2019124439.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、第一偏光子、第二光学異方性層、第一光学異方性層、液晶セル、および、第二偏光子をこの順に有する液晶表示装置であって、
前記液晶セルは、少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に配置され、配向制御された液晶層とを有し、前記電極により、前記電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が形成されており、
前記第一偏光子の吸収軸と、前記第一光学異方性層の遅相軸とは、平行であり、
前記第一偏光子の吸収軸と、前記配向制御された液晶層の黒表示時の遅相軸とは、直交しており、
前記第一偏光子の吸収軸と、前記第二偏光子の吸収軸とは、直交しており、
前記第一光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）および厚み方向のレターデーションＲｔｈ１（５５０）が、それぞれ下記式（１）および式（２）を満たし、
式（１）：８０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦１６０ｎｍ
式（２）：４０ｎｍ≦Ｒｔｈ１（５５０）≦８０ｎｍ
前記第二光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ２（５５０）および厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）が、それぞれ下記式（３）および（４）を満たし、
式（３）：０ｎｍ≦Ｒｅ２（５５０）≦１０ｎｍ
式（４）：−１５０ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦−７０ｎｍ
前記第一光学異方性層と前記第二光学異方性層との積層形態の膜厚が８μｍ以下である、液晶表示装置。
【請求項２】
前記第一光学異方性層と前記第二光学異方性層との積層形態の膜厚が５μｍ以下である、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第一光学異方性層が、棒状液晶化合物が基板面に対して水平方向に配向した状態で固定化した層である、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第二光学異方性層が、棒状液晶化合物が基板面に対して垂直方向に配向した状態で固定化した層である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第一光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（４５０）と波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）とが、下記式（５）を満たす、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
式（５）：Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．００
【請求項６】
前記第二光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（４５０）と波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）とが、下記式（６）を満たす、請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
式（６）：Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦１．００
【請求項７】
前記第二光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（４５０）と波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）とが、下記式（７）を満たす、請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
式（７）：Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦０．８２
【請求項８】
前記第一光学異方性層と前記第二光学異方性層とが隣接している、請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第一偏光子、前記第一光学異方性層、および、前記第二光学異方性層を含む第一偏光板の膜厚が５０μｍ以下である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第二光学異方性層が、ポリビニルアルコール系接着剤を介して前記第一偏光子と接着している、請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第二光学異方性層が、活性エネルギー線の照射または加熱により硬化する硬化性接着剤組成物を介して、前記第一偏光子と接着している、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第一光学異方性層および前記第二光学異方性層の少なくとも一方が、オキシムエステル系の光重合開始剤を用いて、重合性液晶化合物の配向状態を固定化した層である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第二光学異方性層が、少なくとも液晶化合物と、下記式（Ｉ）で表される化合物とを含む液晶組成物を用いて形成される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
式（Ｉ）  （Ｚ）n−Ｌ−（Ｑ）m
式（Ｉ）中、Ｚは、重合性基を有する置換基を表し、ｎは、０〜４の整数を表し、ｎが２〜４の整数である場合、２以上のＺは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ｑは、少なくとも１つのホウ素原子を含む置換基を表し、ｍは、１または２を表し、ｍが２の場合、２つのＱは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ｌは、ｎ＋ｍ価の連結基を表す。ただし、ｎが０を表し、かつ、ｍが１を表す場合は、Ｌは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表す。
【請求項１４】
前記液晶セルが、第１の画素領域、第２の画素領域、および、第３の画素領域を少なくとも含み、
前記液晶セルの前記第１の画素領域上に配置された第１のカラーフィルターと、前記液晶セルの前記第２の画素領域上に配置された第２のカラーフィルターと、前記液晶セルの前記第３の画素領域上に配置された第３のカラーフィルターとを、前記液晶セルよりも視認側に含み、
前記第１のカラーフィルターの最大透過率を示す波長をλ1、前記第２のカラーフィルターの最大透過率を示す波長をλ2、および、前記第３のカラーフィルターの最大透過率を示す波長をλ3としたとき、λ1＜λ2＜λ3の関係を満たし、
前記第１のカラーフィルターの波長λ1における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ1）、および、前記第２のカラーフィルターの波長λ2における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ2）が、式（８）を満たす、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
式（８）：Ｒｔｈ（λ2）≦Ｒｔｈ（λ1）
【請求項１５】
前記第２のカラーフィルターの波長λ2における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ2）、および、前記第３のカラーフィルターの波長λ3における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ3）が、下記式（９）を満たす、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
式（９）：Ｒｔｈ（λ2）≦Ｒｔｈ（λ3）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モードの液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置において、視野特性の良いＩＰＳモードおよびＦＦＳ（Fringe Field Switching）モード等の横電界駆動型が注目を集めている。特に、ＩＰＳモードは、例えば、特許文献１に記載されているとおり、ＴＮ（Twisted Nematic）モードおよびＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶表示装置に比べて視野角特性に優れているという利点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−５５３４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、液晶表示装置の薄型化が進んでおり、それに伴い使用される部材（例えば、偏光板）の薄型化が求められている。
一方で、光配向またはラビング処理等により液晶化合物を配向させるＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの液晶セルにおいては、斜め方向から見た場合の光漏れの更なる改善が必要とされる。
さらに、液晶表示装置の要求性能として、湿熱環境下に静置された後においても、表示ムラが発生しないことが求められる。しかしながら、従来の液晶表示装置では、偏光子等の液晶セルに貼合する部材が湿熱環境下において変形しやすいため、液晶セルのひずみが生じ、貼合された光学異方性層の位相差（レターデーションまたは遅相軸方向）が変化することで、表示ムラが生じやすいことが問題であった。
また、近年では、車載およびモバイル等のパネル用途の拡大により、経時による表示性能の変化の抑制に対する要求レベルが高まっている。特に、視野角改善のために使用する光学異方性層の性能が経時で劣化することで、表示性能の印象を悪化していくことが問題である。
つまり、液晶表示装置の薄型化と表示性能の向上（光漏れの防止、湿熱環境下での表示ムラの抑制、および、表示性能変化の抑制）との両立が求められているが、従来技術においてはこの要望を全て満たすことはできなかった。【０００５】
本発明は、上記実情に鑑みて、薄型化と、光漏れの防止、温湿環境下での表示ムラの抑制、および、表示性能変化の抑制等の表示性能の向上とが両立できる液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、所定値以上の面内レターデーションを有する光学異方性層と偏光子とが隣接した場合に、その相互作用により経時での位相差および偏光子の劣化が発生することが明らかになった。本発明者らは、２層の光学異方性層と偏光子とを所定の順序で積層し、光学異方性層が所定のレターデーションの関係を満たし、かつ、光学異方性層を薄型化した偏光板を液晶表示装置に適用することにより、上記の課題を全て解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。【０００７】
（１）  少なくとも、第一偏光子、第二光学異方性層、第一光学異方性層、液晶セル、および、第二偏光子をこの順に有する液晶表示装置であって、
液晶セルは、少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、一対の基板間に配置され、配向制御された液晶層とを有し、電極により、電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が形成されており、
第一偏光子の吸収軸と、第一光学異方性層の遅相軸とは、平行であり、
第一偏光子の吸収軸と、配向制御された液晶層の黒表示時の遅相軸とは、直交しており、
第一偏光子の吸収軸と、第二偏光子の吸収軸とは、直交しており、
第一光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）および厚み方向のレターデーションＲｔｈ１（５５０）が、それぞれ後述する式（１）および式（２）を満たし、
第二光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ２（５５０）および厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）が、それぞれ後述する式（３）および（４）を満たし、
第一光学異方性層と第二光学異方性層との積層形態の膜厚が８μｍ以下である、液晶表示装置。
（２）  第一光学異方性層と第二光学異方性層との積層形態の膜厚が５μｍ以下である、（１）に記載の液晶表示装置。
（３）  第一光学異方性層が、棒状液晶化合物が基板面に対して水平方向に配向した状態で固定化した層である、（１）または（２）に記載の液晶表示装置。
（４）  第二光学異方性層が、棒状液晶化合物が基板面に対して垂直方向に配向した状態で固定化した層である、（１）〜（３）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（５）  第一光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（４５０）と波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）とが、後述する式（５）を満たす、（１）〜（４）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（６）  第二光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（４５０）と波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）とが、後述する式（６）を満たす、（１）〜（５）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（７）  第二光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（４５０）と波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）とが、後述する式（７）を満たす、（１）〜（５）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（８）  第一光学異方性層と第二光学異方性層とが隣接している、（１）〜（７）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（９）  第一偏光子、第一光学異方性層、および、第二光学異方性層を含む第一偏光板の膜厚が５０μｍ以下である、（１）〜（８）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１０）  第二光学異方性層が、ポリビニルアルコール系接着剤を介して第一偏光子と接着している、（１）〜（９）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１１）  第二光学異方性層が、活性エネルギー線の照射または加熱により硬化する硬化性接着剤組成物を介して、第一偏光子と接着している、（１）〜（１０）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１２）  第一光学異方性層および第二光学異方性層の少なくとも一方が、オキシムエステル系の光重合開始剤を用いて、重合性液晶化合物の配向状態を固定化した層である、（１）〜（１１）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１３）  第二光学異方性層が、少なくとも液晶化合物と、後述する式（Ｉ）で表される化合物とを含む液晶組成物を用いて形成される、（１）〜（１２）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１４）  液晶セルが、第１の画素領域、第２の画素領域、および、第３の画素領域を少なくとも含み、
液晶セルの第１の画素領域上に配置された第１のカラーフィルターと、液晶セルの第２の画素領域上に配置された第２のカラーフィルターと、液晶セルの第３の画素領域上に配置された第３のカラーフィルターとを、液晶セルよりも視認側に含み、
第１のカラーフィルターの最大透過率を示す波長をλ1、第２のカラーフィルターの最大透過率を示す波長をλ2、および、第３のカラーフィルターの最大透過率を示す波長をλ3としたとき、λ1＜λ2＜λ3の関係を満たし、
第１のカラーフィルターの波長λ1における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ1）、および、第２のカラーフィルターの波長λ2における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ2）が、後述する式（８）を満たす、（１）〜（１３）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１５）  第２のカラーフィルターの波長λ2における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ2）、および、第３のカラーフィルターの波長λ3における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ3）が、後述する式（９）を満たす、（１）〜（１４）のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、薄型化と、光漏れの防止、温湿環境下での表示ムラの抑制、および、表示性能変化の抑制等の表示性能の向上とが両立できる液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の液晶表示装置の第１の態様の一の実施形態の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚み方向のレターデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本明細書において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（Ｎｘ＋Ｎｙ＋Ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄが算出される。
【００１１】
本発明において、屈折率Ｎｘ、ＮｙおよびＮｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ−４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。
また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組合せで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することもできる。
主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
【００１２】
液晶化合物の平均傾斜角は、クリスタル・ローテーション法によりを求めることができる。
また、本明細書において、角度の関係（例えば、「直交」、「平行」、および、「９０°」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。具体的には、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
【００１３】
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートのいずれかを意味する表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルのいずれかを意味する表記である。
【００１４】
本発明の特徴点としては、上述したように、所定のレターデーションの関係を満たす光学異方性層を備える液晶表示装置を使用することにより、所望の効果が得られることを見出している。この光学異方性層はいわゆる、光学補償層として機能する。特に、本発明では特定のレターデーションの関係を満たすことで、黒表示の光漏れを良好にできる。また、光学異方性層の膜厚を薄くすることで、液晶表示装置を湿熱環境下に静置した際に偏光子等が変形した際に、光学異方性層が追随して変形した場合にも、光学特性（レターデーション）が変化しづらく、結果として表示ムラの発生が抑制されている。さらに、光学異方性層および偏光子の積層順を所定の順序にすることにより、湿熱環境下での光学異方性層の光学変動を抑制し、スマートフォン、タブレット、ノートパソコン、および、車載ディスプレイ等の使用環境の変化が起こりやすい用途においても、経時での表示性能の劣化を抑制できる。
【００１５】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。
図１に示す液晶表示装置は、液晶セル（液晶セルの上側基板７、液晶層８、液晶セルの下側基板９）、液晶セルを挟持して配置された第一偏光板１６（第一偏光子保護層１、第一偏光子２、第二光学異方性層４、第一光学異方性層５）と第二偏光板１７（第二偏光板の液晶セル側偏光子保護層１０、第二偏光子１１、第二偏光子保護層１３）、およびその外側にバックライトユニット１４を有する。液晶セル（７〜９）は、液晶セル上側基板７と液晶セル下側基板９と、これらに挟持される液晶層８とを含む。
なお、図１は本実施形態の一例であり、バックライトユニットが第二偏光板の外側ではなく、第一偏光板の外側に配置される構成であっても本発明の効果を得ることができる。
【００１６】
（偏光子保護層１、１０、１３）
偏光子保護層１、１０、１３は、第一偏光子２および第二偏光子１１の保護のために設けられる。
偏光子保護層の種類は特に制限されないが、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、並びに、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、ポリアクリレートフィルム、または、ポリメタクリレートフィルムが好ましい。また、市販品のセルロースアセテートフィルム（例えば、富士フイルム社製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ−ＴＡＣ」等）を利用することもできる。
偏光子保護層は、１層のみの形態であっても、２層以上を積層した形態であってもよい。
なお、液晶表示装置は、偏光子保護層を持たない構成であっても構わない。
【００１７】
偏光子保護層の膜厚は特に制限されないが、液晶表示装置の薄型化の点からは、８０μｍ以下が好ましく、４０μｍ以下がより好ましく、２５μｍ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、機械的強度の点から、１μｍ以上が好ましい。
【００１８】
（偏光子２、１１）
第一偏光子２および第二偏光子１１の種類は特に制限はなく、公知のものを採用できる。
本発明では、通常用いられている直線偏光子を利用できる。直線偏光子は、Ｏｐｔｉｖａ Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光子、または、バインダーとヨウ素若しくは二色性色素とを含む偏光子が好ましい。直線偏光子におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏光性能を発現する。ヨウ素および二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、または、二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。現在、市販の偏光子は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素または二色性色素の溶液に浸漬し、ヨウ素または二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。
【００１９】
第一偏光子２および第二偏光子１１の膜厚は特に制限されないが、液晶表示装置の薄型化の点からは、３０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、機械的強度の点から、１μｍ以上が好ましい。
【００２０】
（第一光学異方性層５）
第一光学異方性層５は、後述する第二光学異方性層４の上記第一偏光子２とは逆側の面に配置される層であり、後述する液晶セル上に第一偏光板を配置する際には、第一光学異方性層５が液晶セル側となるように配置される。第一光学異方性層５のＲｅ１（５５０）およびＲｔｈ１（５５０）は、それぞれ下記式（１）および式（２）を満たす。
式（１）：８０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦１６０ｎｍ
式（２）：４０ｎｍ≦Ｒｔｈ１（５５０）≦８０ｎｍ
なかでも、本発明の液晶表示装置の斜め方向の色表示および光漏れがより改善される点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）より、Ｒｅ１（５５０）は、１１０〜１５０ｎｍが好ましく、１１５〜１４５ｎｍがより好ましく、１２０〜１４０ｎｍがさらに好ましく、１２５〜１４０ｎｍが特に好ましく、Ｒｔｈ１（５５０）は、５５〜７５ｎｍが好ましく、５７〜７３ｎｍがより好ましく、６０〜７０ｎｍがさらに好ましく、６２〜７０ｎｍが特に好ましい。
上記式（１）または式（２）の関係を満たさない場合は、液晶表示装置の斜め方向の色表示および光漏れの点で劣る。
また、第一光学異方性層５の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（４５０）と波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）は、下記式（５）を満たすことが好ましい。
式（５）：Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．００
上記式（５）の範囲にすることで、黒表示の光漏れおよび色味変化をより抑制できる。上記Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値を小さくすることにより、黒表示時の青味を抑えることができる。Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の下限値は特に制限されないが、０．７０以上が好ましい。
【００２１】
第一光学異方性層５の膜厚は特に制限されないが、５μｍ以下が好ましい。液晶表示装置の薄型化の点からは、４μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下がさらに好ましい。なお、下限は特に制限されないが、表示ムラの抑制の点から、０．１μｍ以上が好ましい。
【００２２】
第一光学異方性層５は、正のＡプレートであることが好ましい。
なお、本明細書において、正のＡプレートは以下のように定義する。正のＡプレート（ポジティブＡプレート）は、フィルムの面内遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、式（Ａ１）の関係を満たすものである。なお、正のＡプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ａ１）    ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ−ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの膜厚である）が、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれる。
【００２３】
第一光学異方性層５は、液晶化合物を用いて形成される層であることが好ましい。液晶化合物の種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらに、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物が好ましい。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上のディスコティック液晶化合物、または棒状液晶化合物とディスコティック液晶化合物との混合物を用いてもよい。
なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１および特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］および特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに制限されない。
【００２４】
第一光学異方性層５は、温度変化および湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する液晶化合物（重合性液晶化合物）を用いて形成することがより好ましい。液晶化合物は２種類以上の混合物でもよく、その場合、少なくとも１つが２以上の重合性基を有していることが好ましい。
つまり、第一光学異方性層５は、重合性基を有する液晶化合物（好ましくは、棒状液晶化合物）が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
液晶化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
【００２５】
第一光学異方性層は、棒状液晶化合物が基板面（層面）に対して水平方向に配向した状態で固定化した層であることが好ましい。
【００２６】
第一光学異方性層を形成するための重合性液晶化合物を含む組成物（重合性液晶組成物）は、重合開始剤を含んでいることが好ましい。
使用される重合開始剤としては、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。光ラジカル重合開始剤の例としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルスルフォンオキサイド化合物、トリアジン化合物、オキシムエステル系、および、オニウム塩類等が挙げられる。
また、必要に応じて、重合開始剤を増感剤または連鎖移動剤と組み合わせることができる。
本発明では、偏光子耐久性改良の点から、オキシムエステル系の光重合開始剤が好ましい。つまり、第一光学異方性層は、オキシムエステル系の光重合開始剤を用いて、重合性液晶化合物の配向状態を固定化した層であることが好ましい。
【００２７】
本発明においては、第一偏光子保護層１表面の法線方向から観察したとき（図１中の上側から下側に観察したとき）、第一光学異方性層５の遅相軸６と第一偏光子２の吸収軸３は、平行である。
【００２８】
（第二光学異方性層４）
第二光学異方性層４は、上記第一偏光子２と上記第一光学異方性層５との間に配置される層であり、第二光学異方性層４のＲｅ２（５５０）およびＲｔｈ２（５５０）は、下記式（３）および式（４）を満たす。
式（３）：０ｎｍ≦Ｒｅ２（５５０）≦１０ｎｍ
式（４）：−１５０ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦−７０ｎｍ
なかでも、本発明の効果がより優れる点より、Ｒｅ２（５５０）は、０〜５ｎｍが好ましく、０〜３ｎｍがより好ましく、Ｒｔｈ２（５５０）は、−１３０〜−８０ｎｍが好ましく、−１２５〜−８５ｎｍがより好ましく、−１２０〜−９０ｎｍがさらに好ましく、−１２０〜−９５ｎｍが特に好ましい。
第二光学異方性層の遅相軸方向は、特に制限されない。
上記式（３）または式（４）の関係を満たさない場合は、液晶表示装置の斜め方向の色表示および光漏れの点で劣る。
また、第二光学異方性層４の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（４５０）と波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）とは、下記式（６）を満たすことが好ましい。
式（６）：Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦１．００
上記式（６）の範囲にすることで、黒表示の光漏れおよび色味変化を抑制できる。
また、第二光学異方性層４は、下記式（７）を満たすことがより好ましい。
式（７）：Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦０．８２
上記Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）の値を小さくすることにより、黒表示時の赤味を抑え、視認方向の変化による色相の変化も抑制できる。Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）の下限値は特に制限されないが、０．７０以上が好ましい。
【００２９】
第二光学異方性層４の膜厚は特に制限されないが、５μｍ以下が好ましい。液晶表示装置の薄型化の点からは、４μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下がさらに好ましい。なお、下限は特に制限されないが、表示ムラの抑制の点から、０．１μｍ以上が好ましい。
【００３０】
第二光学異方性層４は、正のＣプレートであることが好ましい。
なお、本明細書において、正のＣプレートは以下のように定義する。正のＣプレート（ポジティブＣプレート）は、フィルムの面内遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、正のＣプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ２）    ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの膜厚である）が、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。
【００３１】
第二光学異方性層４は、液晶化合物を用いて形成される層であることが好ましい。液晶化合物の種類は特に制限されないが、上述した第一光学異方性層５で例示した液晶化合物が挙げられる。本発明の効果がより優れる点で、液晶化合物は棒状液晶化合物であることが好ましい。
また、第二光学異方性層４は、上述した第一光学異方性層５と同様に、重合性基を有する棒状液晶化合物を用いて形成することがより好ましい。
【００３２】
第二光学異方性層は、棒状液晶化合物が基板面（層面）に対して垂直方向に配向した状態で固定化した層であることが好ましい。
【００３３】
第二光学異方性層を形成するための重合性液晶組成物には、重合開始剤を含んでいることが好ましい。使用される重合開始剤としては、第一光学異方性層同様、任意のものを使用することができるが、本発明では、偏光子耐久性改良の点から、オキシムエステル系の光重合開始剤が好ましい。つまり、第二光学異方性層は、オキシムエステル系の光重合開始剤を用いて、重合性液晶化合物の配向状態を固定化した層であることが好ましい。
【００３４】
本発明では第一光学異方性層と第二光学異方性層との積層形態での膜厚が８μｍ以下である必要がある。
積層形態での膜厚とは第一光学異方性層と第二光学異方性層との間に挟まれる層も含めた合計の膜厚であり、例えば、第一光学異方性層と第二光学異方性層を粘着剤等で接着する場合には、粘着剤の膜厚を含めて８μｍ以下であることを意味している。つまり、積層形態とは、第一光学異方性層の膜厚と、第二光学異方性層の膜厚と、第一光学異方性層と第二光学異方性層との間に挟まれる層の膜厚との合計の膜厚を意味する。光学異方性層を薄くすることによりパネルの反りによるムラを抑制することができる。
積層形態での膜厚は５μｍ以下であることがより好ましい。
積層形態の膜厚の下限は特に制限されないが、表示ムラの抑制の点から、０．２μｍ以上が好ましい。
【００３５】
第一光学異方性層と第二光学異方性層とは、接着剤または粘着剤を介さずに隣接していることが好ましい。隣接とは別々に作製したものを貼合するのではなく、一方の表面にもう一方を直接形成することを意味する。直接形成する方法としては、例えば、第一光学異方性層の上に第二光学異方性層を形成する場合には、第一光学異方性層の表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、および、紫外線（ＵＶ）処理）および易接着層形成等をした後で第二光学異方性層を形成していてもよいし、配向膜を介して形成していてもよい。また、第二光学異方性層の上に第一光学異方性層を形成していてもよい。
製造プロセスを簡略化する点から、易接着層または配向膜を介することなく、第一光学異方性層と第二光学異方性層とが接触していることが好ましく、具体的には第一光学異方性層の表面処理した後に第二光学異方性層を形成することが好ましい。
【００３６】
第二光学異方性層は、少なくとも液晶化合物と、下記式（Ｉ）で表される化合物とを含む液晶組成物を用いて形成される層であることが好ましい。式（Ｉ）で表される化合物を用いることにより、表面処理した第一光学異方性層上に第二光学異方性層を直接形成することが可能である。
式（Ｉ）  （Ｚ）n−Ｌ−（Ｑ）m
ここで、式（Ｉ）中、Ｚは、重合性基を有する置換基を表し、ｎは、０〜４の整数を表し、ｎが２〜４の整数である場合、２以上のＺは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｑは、少なくとも１つのホウ素原子を含む置換基を表し、ｍは、１または２を表し、ｍが２の場合、２つのＱは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｌは、ｎ＋ｍ価の連結基を表す。ただし、ｎが０を表し、かつ、ｍが１を表す場合は、Ｌは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表す。
【００３７】
上記式（Ｉ）中、Ｚが表す重合性基を有する置換基としては、例えば、（メタ）アクリレート基、スチリル基、ビニルケトン基、ブタジエン基、ビニルエーテル基、オキシラニル基、アジリジニル基、または、オキセタン基等を含む置換基が挙げられる。
これらのうち、（メタ）アクリレート基、スチリル基、オキシラニル基、または、オキセタン基を含む置換基が好ましく、（メタ）アクリレート基またはスチリル基を含む置換基がより好ましい。
【００３８】
特に、（メタ）アクリレート基を含む置換基としては、下記一般式（Ｖ）で表されるエチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましい。
【００３９】
【化１】
2019124439.tif 000003
【００４０】
上記一般式（Ｖ）中、Ｒ3は水素原子またはメチル基であり、水素原子が好ましい。
また、上記一般式（Ｖ）中、Ｌ1は、単結合またはＯ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、二価のヘテロ環基、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる二価の連結基であり、単結合、−ＣＯ−ＮＨ−、または−ＣＯＯ−が好ましく、単結合または−ＣＯ−ＮＨ−がより好ましい。
【００４１】
上記式（Ｉ）中、ｎは、０〜４の整数を表し、０または１を表すことが好ましく、１を表すことがより好ましい。
また、ｍは、１または２を表し、１を表すことが好ましい。
また、Ｌとしては、例えば、二価の連結基として、単結合、または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、およびそれらの組み合わせから選ばれる二価の連結基が挙げられる。これらのうち、置換もしくは無置換のアリーレン基がより好ましい。
また、Ｌが表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およびヘテロアリール基については、下記一般式（ＶＩ）中のＲ1およびＲ2と同義であり、好ましい範囲も同様である。
また、これらの基が有する置換基としては、例えば、特開２０１３−０５４２０１号公報の段落［００４６］に記載された置換基などが挙げられる。
【００４２】
上記式（Ｉ）中、Ｑは、少なくとも１つのホウ素原子を含む置換基であり、第一光学異方性層に吸着して結合することができる基であることが好ましい。例えば、第一光学異方性層が、表面処理等により表面にヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する場合は、第一光学異方性層のヒドロキシル基またはカルボキシル基と結合できる基が好ましい。
なお、「第一光学異方性層に吸着して結合することができる基」とは、第一光学異方性層を構成している材料が有する構造と相互作用して、第一光学異方性層に化学吸着可能な基を意味する。
【００４３】
少なくとも１つのホウ素原子を含む置換基としては、下記一般式（ＶＩ）で表される置換基などが挙げられる。
【００４４】
【化２】
2019124439.tif 000004
【００４５】
上記一般式（ＶＩ）中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換のアリール基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表す。
また、上記一般式（ＶＩ）中のＲ1およびＲ2は、Ｒ1およびＲ2が連結してアルキレン基、アリール基、またはこれらの組み合わせからなる連結基を構成していてもよい。
【００４６】
上記一般式（ＶＩ）中、Ｒ1およびＲ2がそれぞれ表す置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基には、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基が含まれる。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−アダマンチル基、および、２−ノルボルニル基等の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基が挙げられる。
アルケニル基の具体例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−シクロペンテニル基、および、１−シクロヘキセニル基等の直鎖状、分枝状、または環状のアルケニル基が挙げられる。
アルキニル基の具体例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、および、１−オクチニル基等が挙げられる。
アリール基の具体例としては、１個から４個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と不飽和五員環とが縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、および、ピレニル基等が挙げられる。
【００４７】
また、上記一般式（ＶＩ）中、Ｒ1およびＲ2がそれぞれ表す置換もしくは無置換のヘテロアリール基の例には、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環上の水素原子を１個除し、ヘテロアリール基としたものが含まれる。
窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環の具体例としては、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、カルバゾール、ベンゾフラン、ジベンゾフラン、チアナフテン、ジベンゾチオフェン、インダゾールベンズイミダゾール、アントラニル、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、プリン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、キノリン、アクリジン、イソキノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキザリン、ナフチリジン、フェナントロリン、および、プテリジン等が挙げられる。
【００４８】
上記一般式（ＶＩ）中のＲ1およびＲ2として好ましくは水素原子である。
【００４９】
また、上記一般式（ＶＩ）中のＲ1およびＲ2、ならびに、上記式（Ｉ）中のＬは、可能な場合はさらに１個以上の置換基によって置換されていてもよい。これらの炭化水素基は任意の置換基によって１個以上置換されていてもよい。置換基としては水素を除く１価の非金属原子団を挙げることができる。
【００５０】
上記式（Ｉ）で表される化合物の分子量としては、１２０〜１２００が好ましく、１８０〜８００がより好ましい。
【００５１】
上記式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、特開２００７−２１９１９３号公報の段落［００３５］〜［００４０］に記載の具体例に例示されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。もちろん、本発明は、これらの具体例に制限されるものではない。
【００５２】
（第一偏光板）
第一偏光板は、上述した第一光学異方性層および第二光学異方性層と第一偏光子とを少なくとも有する。
第一偏光子の吸収軸と第一光学異方性層の遅相軸とは、平行になるように積層されている。
第一偏光子の、光学異方性層と逆側の表面には、上述したように、偏光子保護層を設けてもよいし、硬化樹脂層を配置してもよいし、液晶表示装置の別の部材と直接貼りあわせてもよい。
なお、第一偏光板は、上述した偏光子保護層を含んでいてもよいし、後述する接着剤層を含んでいてもよい。
また、第一偏光子の吸収軸と、後述する液晶セル中の配向制御された液晶層の黒表示時の遅相軸とは、直交している。
【００５３】
第一偏光子と偏光子保護層および光学異方性層との積層には、接着剤を用いることができる。第一偏光子と両面の偏光子保護層または光学異方性層との間の接着剤層の厚さは、０．０１〜２０μｍ程度が好ましく、０．０１〜１０μｍがより好ましく、０．０５〜５μｍがさらに好ましい。接着剤層の厚さがこの範囲にあれば、積層される偏光子保護層または光学異方性層と第一偏光子との間に浮きや剥がれを生じず、実用上問題のない接着力が得られる。
【００５４】
好ましい接着剤の一つとして、水系接着剤、すなわち、接着剤成分が水に溶解または分散しているものを挙げることができ、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤が好ましく用いられる。つまり、ポリビニルアルコール系接着剤を用いることが好ましい。
ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤において、ポリビニルアルコール系樹脂には、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルをケン化処理して得られるビニルアルコールホモポリマーのほか、酢酸ビニルとこれに共重合可能な他の単量体との共重合体をケン化処理して得られるビニルアルコール系共重合体、さらにそれらの水酸基を部分的に変性した変性ポリビニルアルコール系重合体などがある。
この接着剤には、架橋剤が添加されていてもよく、架橋剤としては、多価アルデヒド、水溶性エポキシ化合物、メラミン系化合物、ジルコニア化合物、亜鉛化合物、および、グリオキシル酸塩等が挙げられる。水系接着剤を用いた場合、それから得られる接着剤層の膜厚は通常、１μｍ以下である。
【００５５】
もう一つの好ましい接着剤として、活性エネルギー線の照射または加熱により硬化する硬化性接着剤組成物が挙げられる。上記硬化性接着剤組成物としては、カチオン重合性化合物を含む硬化性接着剤組成物、または、ラジカル重合性化合物を含む硬化性接着剤組成物等が挙げられる。
カチオン重合性化合物としては、エポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物が挙げられる。エポキシ化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に制限されず、例えば、特開２００４−２４５９２５号公報に詳細に説明されている化合物を用いることができる。
ラジカル重合性化合物としては、（メタ）アクリロイル基およびビニル基等の不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物であれば特に制限されず、単官能ラジカル重合性化合物、分子内に２個以上の重合性基を有する多官能ラジカル重合性化合物、水酸基を有する（メタ）アクリレート、アクリルアミド、および、アクリロイルモルフォリン等が挙げられ、これらの化合物を単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。例えば、特開２０１５−１１０９４号公報に詳細に説明されている化合物を用いることができる。また、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを組み合わせて用いることもできる。
【００５６】
硬化性接着剤を用いる場合には、貼合ロールを用いてフィルムを貼合した後、必要に応じて乾燥を行い、活性エネルギー線を照射するかまたは加熱することにより硬化性接着剤を硬化させる。活性エネルギー線の光源は特に制限されないが、波長４００ｎｍ以下に発光分布を有する活性エネルギー線が好ましく、具体的には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、または、メタルハライドランプが好ましく用いられる。
【００５７】
また、偏光子保護層または光学異方性層と第一偏光子とを接着剤で貼合するにあたり、接着強度向上、および、表面への接着剤の濡れ性を改善する目的で、偏光子保護層または光学異方性層の第一偏光子と対向する面に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理）または易接着層形成等をしてもよい。特開２００７−１２７８９３号公報および特開２００７−１２７８９３号公報等に記載されている易接着層の材料および形成法などを用いることができる。
【００５８】
上述した各構成を有する第一偏光板の膜厚は、１００μｍ以下が好ましく、７０μｍ以下がより好ましく、５０μｍ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、機械的強度の点から、１０μｍ以上が好ましい。
なお、第一偏光板１６の膜厚とは、例えば、図１の態様であれば、第一偏光子保護層１の膜厚と、第一偏光子２の膜厚と、第二光学異方性層４の膜厚と、第一光学異方性層５の膜厚との合計膜厚を意図する。第一偏光板１６中に上記以外の他の層（例えば、後述する配向膜など）が含まれる場合は、それらを含めた第一偏光板１６全体の膜厚を意図する。
他の層とは、第一偏光子保護層と第一偏光子との間、第一偏光子と第二光学異方性層との間、または、第二光学異方性層と第一光学異方性層との間に配置される層（例えば、粘着層、配向膜など）を意図する。そのため、第一偏光子保護層の外側（第一偏光子側とは反対側）、および、第一光学異方性層の外側（第二光学異方性層側とは反対側）に配置される層（例えば、粘着剤層およびハードコート層など）は、偏光板の膜厚には含まれない。
【００５９】
光学異方性層は界面部分（その表面）に配向膜を有していてもよい。
配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。利用される配向膜用ポリマー材料は、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、および、その誘導体が好ましい。特に、変性または未変性のポリビニルアルコールが好ましい。本発明に使用可能な配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。なお、配向膜には、通常、公知のラビング処理が施される。
配向膜の厚さは、薄い方が好ましいが、光学異方性層形成のための配向能の付与、および、第一偏光子の表面凹凸を緩和して均一な膜厚の光学異方性層を形成するという点からはある程度の厚みが必要となる。具体的には、配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０１〜１μｍがより好ましく、０．０１〜０．５μｍがさらに好ましい。
また、本発明では光配向膜を利用することも好ましい。光配向膜としては特に制限はされないが、ＷＯ２００５／０９６０４１号公報の段落［００２４］〜［００４３］に記載のものやＲｏｌｉｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ−ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。
【００６０】
（液晶セル７〜９）
液晶セル７〜９は、横電界方式であるＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの液晶セルである。より具体的には、液晶セルは、少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、一対の基板間に配置され、配向制御された液晶層とを有し、電極により、電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が形成されている。
ＩＰＳモードの液晶セルとは、電圧無印加時に液晶層中の液晶化合物（特に、棒状液晶化合物）が実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶化合物の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には特開２００４−３６５９４１号公報、特開２００４−１２７３１号公報、特開２００４−２１５６２０号公報、特開２００２−２２１７２６号公報、特開２００２−５５３４１号公報、および、特開２００３−１９５３３３号公報に記載のものなどを使用できる。これらのモードは黒表示時に液晶化合物が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶化合物を液晶層表面に対して平行配向させて、黒表示する。
ＦＦＳモードは、ＩＰＳモードと同様に液晶層表面に対して液晶分子が常に水平であるようにスイッチングするモードであり、液晶層表面に対して水平方向の横電界を用いて液晶分子をスイッチングさせる。一般的に、ＦＦＳモードはベタ電極と層間絶縁膜とくし歯電極を有しており、電界方向がＩＰＳとは異なる特徴を有している。
【００６１】
液晶セル中の液晶層８には、液晶化合物が含まれ、通常、棒状液晶化合物が含まれることが好ましい。棒状液晶化合物の定義は、上述の通りである。
ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードでは、液晶層中の液晶化合物は、白表示時および黒表示時のいずれも液晶層表面に対して理想的には水平配向しているが、低傾斜角で傾斜配向していてもよい。一般に、液晶セルのガラス基板を布でラビングし、液晶層を配向する場合、液晶化合物は基板界面に対し低傾斜角で傾斜配向しており、ＵＶ（Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光をガラス基板に照射することにより液晶層を配向する場合（光配向）、液晶化合物は水平に近い配向をする。本発明では光配向した液晶層を含む液晶セルが光漏れの防止の点で好ましい。
【００６２】
液晶セルの構成としては、液晶層を挟むように２枚の液晶セル上側基板７と液晶セル下側基板９とが配置されており、少なくとも一方の基板の表面上に電極（好ましくは、透明電極）が配置されている。電極は、基板の表面に対して平行な電界を液晶層に供与可能に構成されている。電極は、通常、透明電極（例えば、インジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）からなる電極）からなる。
また、液晶セルには、カラーフィルター層、または、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層が含まれていてもよい。カラーフィルター層およびＴＦＴ層の位置は特に制限されず、液晶層と第一偏光板との間（言い換えると、液晶層と第一光学異方性層との間）、または、液晶層と第二偏光板との間（言い換えると、液晶層と第二偏光子との間）に配置される。
【００６３】
（カラーフィルター）
カラーフィルターとしては特に制限されないが、例えば、液晶セルの上側基板上（液晶セルの上側基板の視認側（上側偏光子側）の表面上）に、青色カラーフィルター（以後、「ＢＣＦ」ともいう。）、緑色カラーフィルター（以後、「ＧＣＦ」ともいう。）、および、赤色カラーフィルター（以後、「ＲＣＦ」ともいう。）の３つが配置されていてもよい。
また、液晶セルは、上述したＢＣＦ、ＧＣＦおよびＲＣＦがそれぞれ配置される３つの画素領域を含むことが好ましい。
上記ＢＣＦ、ＧＣＦおよびＲＣＦは、本発明の液晶表示装置の第１カラーフィルター、第２カラーフィルター、および、第３カラーフィルターにそれぞれ相当する。また、液晶セル中の３つの画素領域は、本発明の液晶表示装置中の液晶セルに含まれる第１の画素領域、第２の画素領域、および、第３の画素領域にそれぞれ相当する。
なお、ＢＣＦは青色領域（波長４２０〜４９０ｎｍ）に最大透過率を示すカラーフィルターであり、ＧＣＦは緑色領域（波長４９５〜５７０ｎｍ）に最大透過率を示すカラーフィルターであり、ＲＣＦは青色領域（波長５８０〜７００ｎｍ）に最大透過率を示すカラーフィルターである。
なお、本明細書において「最大透過率」とは、可視光領域（４００〜７００ｎｍ）における最大の透過率を意味する。
【００６４】
ＢＣＦの最大透過率を示す波長をλ1（ｎｍ）、ＧＣＦの最大透過率を示す波長をλ2（ｎｍ）、ＲＣＦの最大透過率を示す波長をλ3（ｎｍ）とすると、λ1＜λ2＜λ3の関係を満たしている。
また、ＢＣＦの波長λ1における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ1）、ＧＣＦの波長λ2における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ2）、および、ＲＣＦの波長λ3における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ3）は、式（８）〜（９）の一方または両方の要件を満たすことが好ましい。
式（８）：Ｒｔｈ（λ2）≦Ｒｔｈ（λ1）
式（９）：Ｒｔｈ（λ2）≦Ｒｔｈ（λ3）
【００６５】
カラーフィルターのＲｔｈは本発明では特に制限されないが、各カラーフィルターのＲｔｈを変化させることで、黒表示時の光漏れを抑制したり、色味を調整したりすることができる。
カラーフィルターのＲｔｈを調整する方法としては、例えば、カラーフィルターの厚みを変化させることが挙げられる。また、カラーフィルター内にレターデーション上昇剤または低下剤を添加することによりカラーフィルターのＲｔｈを調整することも可能である。
レターデーション上昇剤としては、一般式（Ｘ）で表される化合物およびこれに類似する化合物が挙げられる。
【００６６】
【化３】
2019124439.tif 000005
【００６７】
レターデーション低下剤としては、一般式（ＸＩ）で表される化合物が挙げられる。
【００６８】
【化４】
2019124439.tif 000006
【００６９】
上記一般式（ＸＩ）中、Ｒ11はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13の炭素数の総和は、１０以上が好ましい。Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は置換基を有していてもよく、置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基またはスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基またはスルホンアミド基がより好ましい。
また、アルキル基は直鎖状であっても、分岐鎖状であっても、環状であってもよい。アルキル基の炭素数は、１〜２５が好ましく、６〜２５がより好ましく、６〜２０がさらに好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ−アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、ｔ−オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、および、ジデシル基が挙げられる。
アリール基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜２４がより好ましい。アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、または、トリフェニルフェニル基が好ましい。
【００７０】
カラーフィルタ（ＢＣＦ、ＧＣＦ、ＲＣＦ）の作製方法は特に制限されず、例えば、着色感光性樹脂組成物をスピンコーター等で塗布後、フォトリソ工程でパターニングする着色レジスト法、および、ラミネート法等が挙げられる。着色レジスト法のような塗布工程を含む形成方法では、塗布量を調整することで、膜厚の異なるカラーフィルターを形成できる。また、ラミネート法では、膜厚が異なる転写材料を用いることで、膜厚の異なるカラーフィルターを形成できる。
なお、各カラーフィルター間には、必要に応じて、ブラックマトリックスを配置してもよい。ブラックマトリックスを作製する方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
【００７１】
なお、上記では液晶表示装置中に含まれるＢＣＦ、ＧＣＦおよびＲＣＦについて主に詳述したが、この態様には制限されず、ＢＣＦ、ＧＣＦおよびＲＣＦは他の色のカラーフィルターであってもよい。
【００７２】
（第二偏光板）
第二偏光板１７は、液晶表示装置の第一偏光板とは逆側に配置される偏光板である。
第二偏光板１７は少なくとも第二偏光子を含んでいれば特にその構成は制限されない。偏光子としては、上述した第一偏光子２で例示した偏光子を使用することができ、その膜厚の好適範囲も上述の通りである。
第一偏光板中の第一偏光子の吸収軸と、第二偏光板中の第二偏光子の吸収軸とは直交している。
なお、液晶セル中の配向制御された液晶層の黒表示時の遅相軸と、第二偏光板１７中の第二偏光子の吸収軸とは、平行である。
また、第一偏光板１６の表面の法線方向から観察したとき、第一偏光板１６中の第一偏光子２の吸収軸３と、第二偏光板１７中の第二偏光子１１の吸収軸１２とのなす角は、直交であることが好ましい。
【００７３】
第二偏光板１７の膜厚は特に制限されないが、液晶表示装置の薄型化の点から、１００μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下が好ましく、４０μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、機械的強度の点から、１０μｍ以上が好ましい。
【００７４】
第二偏光板１７においては、偏光子以外に、偏光子保護層などが含まれていてもよい。特に、液晶セル側に偏光子保護層を設ける場合には、レターデーションが小さいフィルムであることが好ましい。
液晶セル側の偏光子保護層の面内レターデーションＲｅとしては、０〜１０ｎｍが好ましく、０〜５ｎｍがより好ましく、０〜２ｎｍがさらに好ましい。
なお、液晶セル側の偏光子保護層の遅相軸方向は、特に制限されない。
厚み方向のレターデーションＲｔｈとしては、−１０〜１０ｎｍが好ましく、−５〜５ｎｍがより好ましく、−２〜２ｎｍがさらに好ましい。
【実施例】
【００７５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。【００７６】
［実施例１］
＜保護フィルム１の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープ１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート        １００質量部
エステルオリゴマー（化合物１−１）                    １０質量部
耐久性改良剤（化合物１−２）                            ４質量部
紫外線吸収剤（化合物１−３）                            ３質量部
メチレンクロライド（第１溶剤）                      ４３８質量部
メタノール（第２溶剤）                                ６５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【００７７】
化合物１−１（以下、化合物）【００７８】
【化５】
2019124439.tif 000007
【００７９】
化合物１−２（以下、化合物）【００８０】
【化６】
2019124439.tif 000008
【００８１】
化合物１−３（以下、化合物）【００８２】
【化７】
2019124439.tif 000009
【００８３】
［外層セルロースアシレートドープ１の作製］
上記のコア層セルロースアシレートドープ１９０質量部に下記のマット剤分散液１を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）    ２質量部
メチレンクロライド（第１溶剤）                        ７６質量部
メタノール（第２溶剤）                                １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ１                      １質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【００８４】
［セルロースアシレートフィルムの作製］
上記コア層セルロースアシレートドープ１とその両側に外層セルロースアシレートドープ１とを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。ドラム上のフィルムの溶剤含有率略２０質量％の状態で、ドラム上からフィルムを剥ぎ取り、得られたフィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、フィルム中の残留溶剤が３〜１５質量％の状態で、フィルムを横方向に１．２倍延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、厚さ２５μｍのセルロースアシレートフィルムを作製し、偏光子保護フィルム１とした。【００８５】
＜ハードコート層の作製＞
ハードコート層形成用の塗布液として、下記表１に記載のハードコート用硬化性組成物１を調製した。【００８６】
【表１】
2019124439.tif 000010
【００８７】
【化８】
2019124439.tif 000011
【００８８】
上記ハードコート用硬化性組成物１を、上記にて作製した偏光子保護フィルム１の表面上へ塗布し、その後、１００℃で６０秒乾燥し、窒素０．１％以下の条件でＵＶを１．５ｋＷ、３００ｍＪにて照射し、硬化させ、膜厚５μｍのハードコート層を有するハードコート層付保護膜０１を作製した。なお、ハードコート層の膜厚の調整は、スロットダイを用い、ダイコート法において塗布量を調整することにより行った。【００８９】
＜片面保護膜付偏光板１の作製＞
１）フィルムのケン化
作製したハードコート層付保護膜１を３７℃に調温した４．５ｍｏｌ/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（ケン化液）に１分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒間浸漬した後、さらに水洗浴に通した。そして、得られたフィルムに対して、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、ケン化処理したハードコート層付保護フィルム１を作製した。
２）偏光子の作製
特開２０１６−１４８７２４号公報の実施例に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、膜厚は１５μｍの偏光子を調製した。このようにして作製した偏光子を偏光子１とした。
３）貼り合わせ
このようにして得た偏光子１と、ケン化処理したハードコート層付保護フィルム１とを、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光軸とフィルムの長手方向とが直交するようにロールツーロールで貼りあわせて片面保護膜付偏光板１（以後、単に偏光板１とも称する）を作製した。このとき、保護フィルムのセルロースアシレートフィルム側が、偏光子側になるように貼り合わせた。【００９０】
＜片面保護膜付偏光板２の作製＞
偏光板１の作製において、偏光子保護膜１の表面上へハードコート層を設けなかった以外は同様にして偏光板２（以後、単に偏光板２とも称する）を作製した。なお、下記実施例および比較例では特に断りのない場合は視認側に偏光板１を、バックライト側に偏光板２を用いて各液晶表示装置を作製した。【００９１】
＜保護フィルム２の作製＞
〔コア層セルロースアシレートドープ２の作製〕
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープ２を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ２
――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート        １００質量部
下記ポリエステル                                      １２質量部
上記耐久性改良剤                                        ４質量部
メチレンクロライド（第１溶剤）                      ４３０質量部
メタノール（第２溶剤）                                ６４質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【００９２】
・ポリエステル（数平均分子量８００）（以下、化合物）【００９３】
【化９】
2019124439.tif 000012
【００９４】
〔外層セルロースアシレートドープ２の作製〕
上記のコア層セルロースアシレートドープ２の９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
２質量部
メチレンクロライド（第１溶剤）                      ７６質量部
メタノール（第２溶剤）                              １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ                      １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――【００９５】
〔セルロースアシレートフィルム２の作製〕
上記コア層セルロースアシレートドープ２と上記外層セルロースアシレートドープ２を平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープ２とその両側に外層セルロースアシレートドープ２とを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、ドラム上のフィルムの溶剤含有率略２０質量％の状態で、ドラム上からフィルムを剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、膜厚４０μｍのセルロースアシレートフィルム２を作製し、保護フィルム２とした。保護フィルム２の位相差を測定した結果、Ｒｅ＝１ｎｍ、Ｒｔｈ＝−５ｎｍであった。【００９６】
＜第一光学異方性層１の作製＞
〔光配向膜用組成物１の調製〕
ＷＯ２０１６／００２７２２号公報の実施例１に記載された光配向膜形成材料を調製し、これを本発明の液晶フィルムの製造に用いた。【００９７】
〔光学異方性層形成用組成物の調製〕
下記組成の光学異方性層形成用組成物を調製した。【００９８】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶化合物Ｒ１                            ４２．００質量部
・下記液晶化合物Ｒ２                            ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ１                          １６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ１                              ０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｐ１                            ０．１５質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製）          ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製）    １．００質量部
・メチルエチルケトン                            ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記液晶化合物Ｒ１およびＲ２のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶化合物Ｒ１およびＲ２は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。【００９９】
液晶化合物Ｒ１（以下、化合物）【０１００】
【化１０】
2019124439.tif 000013
【０１０１】
液晶化合物Ｒ２（以下、化合物）【０１０２】
【化１１】
2019124439.tif 000014
【０１０３】
重合性化合物Ａ１（以下、化合物）【０１０４】
【化１２】
2019124439.tif 000015
【０１０５】
重合開始剤Ｓ１（以下、化合物）【０１０６】
【化１３】
2019124439.tif 000016
【０１０７】
レベリング剤Ｐ１（以下、化合物）【０１０８】
【化１４】
2019124439.tif 000017
【０１０９】
作製した保護フィルム２の片側の面に、先に調製した光配向膜用組成物１をバーコーターで塗布した。塗布後、得られたフィルムを１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。得られた光異性化組成物層に対して、偏光紫外線を照射（１０ｍＪ／ｃｍ2、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜１を形成した。
次いで、光配向膜１上に、先に調製した光学異方性層形成用組成物１をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。その後、得られたフィルムを、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ2、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２μｍの第一光学異方性層１を作製した。得られた第一光学異方性層１の面内レターデーションＲｅ１（５５０）は１３０ｎｍであり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）は０．８５であった。【０１１０】
＜第二光学異方性層１の作製＞
第一光学異方性層１の塗布側の面を放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2でコロナ処理を行い、コロナ処理を行った面に以下の組成で調製した光学異方性層形成用組成物２をワイヤーバーで塗布した。
次いで、組成物の溶剤の乾燥および液晶化合物の配向熟成のために、７０℃の温風で９０秒加熱した。窒素パージ下、酸素濃度０．１％で４０℃にて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ2）を行い、液晶化合物の配向を固定化し、第一光学異方性層１上に第二光学異方性層１を作製した。得られた第二光学異方性層１の厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）は−１００ｎｍであり、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）は０．９５であった。【０１１１】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物２
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｒ１                                    １０．０質量部
液晶化合物Ｒ２                                    ５４．０質量部
液晶化合物Ｒ３                                    ２８．０質量部
重合性化合物Ａ１                                    ８．０質量部
化合物Ｂ１                                          １．５質量部
単量体Ｋ１                                          ８．０質量部
重合開始剤Ｓ２                                      ５．０質量部
重合開始剤Ｓ３                                      ２．０質量部
界面活性剤Ｐ２                                      ０．４質量部
界面活性剤Ｐ３                                      ０．５質量部
アセトン                                        １７５．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ７５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１１２】
・液晶化合物Ｒ３
下記液晶化合物（ＲＡ）（ＲＢ）（ＲＣ）の８３：１５：２（質量比）の混合物【０１１３】
【化１５】
2019124439.tif 000018
【０１１４】
・化合物Ｂ１（以下、化合物）【０１１５】
【化１６】
2019124439.tif 000019
【０１１６】
・単量体Ｋ１：Ａ−６００（新中村化学工業社製）【０１１７】
・重合開始剤Ｓ２（以下、化合物）【０１１８】
【化１７】
2019124439.tif 000020
【０１１９】
・重合開始剤Ｓ３（以下、化合物）【０１２０】
【化１８】
2019124439.tif 000021
【０１２１】
・界面活性剤Ｐ２（以下、化合物）【０１２２】
【化１９】
2019124439.tif 000022
【０１２３】
・界面活性剤Ｐ３（重量平均分子量：１１，２００）（以下、化合物）【０１２４】
【化２０】
2019124439.tif 000023
【０１２５】
＜第一偏光板の作製＞
作製した第一光学異方性層１と第二光学異方性層１との積層体の第二光学異方性層１側の面を、作製した片面保護膜付偏光板１の偏光子面と、偏光子の吸収軸と光学異方性層の遅相軸が平行な方向になるように接着剤を用いて貼り合わせた。第一光学異方性層１の保護フィルム２を剥離し、実施例１の第一偏光板を作製した。接着剤としては、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を用いた。このとき、偏光子と光学補償層は、実用上十分な接着性であった。【０１２６】
＜保護フィルム３の作製＞
〔ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）ドープの作製〕
下記のドープ組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、ＰＭＭＡドープを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――
ＰＭＭＡドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――
ＰＭＭＡ樹脂                                  １００質量部
スミライザーＧＳ（住友化学社製）              ０．１質量部
ジクロロメタン                                ４２６質量部
メタノール                                      ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――【０１２７】
〔ＰＭＭＡフィルムの作製〕
前述のＰＭＭＡドープをステンレス製のバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した（バンド流延機）。流延膜中の溶剤含有率略２０質量％の状態でフィルムを剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、膜厚２０μｍのＰＭＭＡフィルムを作製し、保護フィルム３とした。【０１２８】
＜第二偏光板の作製＞
（接着剤液の調製）
下記化合物を記載の比率で混合し、接着剤液Ａを作製した。
アロニックスＭ−２２０（東亜合成株式会社製）：２０質量部
４−ヒドロキシブチルアクリレート（日本化成株式会社製）：４０質量部
アクリル酸−２−エチルヘキシル（三菱化学株式会社製）：４０質量部
Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ製）：１．５質量部
ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬株式会社製）：０．５質量部【０１２９】
保護フィルム３の偏光子貼合面を放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2でコロナ処理してから、接着剤液Ａを、膜厚０．５μｍになるように塗設した。その後、接着剤塗布面を片面保護膜付偏光板２の偏光子面と貼り合わせ、大気雰囲気下４０℃にて保護フィルム３の基材側から紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2照射した。その後、６０℃で３分間乾燥し、実施例１の第二偏光板を作製した。【０１３０】
＜液晶表示装置の作製＞
市販の液晶表示装置（ｉＰａｄ（登録商標）、Ａｐｐｌｅ社製）（ＦＦＳモードの液晶セルを含む液晶表示装置）からの表裏の偏光板を剥がして、上記作製した第一光学異方性層および第二光学異方性層を含む第一偏光板を視認側に、第二偏光板をバックライト側に、それぞれの偏光板中の偏光子の吸収軸が互いに直交するように、かつ、液晶セル内の液晶の配向方向が第一偏光板中の偏光子の吸収軸と直交するように２０μｍのアクリル系粘着剤で貼り合わせ、実施例１の液晶表示装置を作製した。
なお、液晶表示装置中の液晶セルには、第一偏光板側の基板にカラーフィルター層、および第二偏光板側の基板にＴＦＴ層が含まれており、それぞれのＲｔｈ（５５０）は１０ｎｍおよび２ｎｍであった。また、液晶セル内の液晶化合物のΔｎ・ｄは３４０であり、液晶化合物の基板面とのチルト角は０．１°であった。【０１３１】
＜液晶表示装置の評価＞
（斜め光漏れ、色味の評価）
＜斜め光漏れ＞
暗室内で液晶表示装置の黒表示時に測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて黒輝度を計測した。極角６０°における方位角４５°、１３５°、２２５°、３１５°における輝度の平均値を光漏れＹとし、以下の基準に従って評価した。結果を表２に示す。なお、方位角に関しては、視認側の偏光子（第一偏光子）の吸収軸方向を０°（および１８０°）、バックライト側の偏光子（第二偏光子）の吸収軸方向を９０°（および２７０°）になるように方位角を定義した。
Ａ：Ｙ＜０．６（ｃｄ/ｍ2）
Ｂ：０．６（ｃｄ/ｍ2）≦Ｙ＜０．８（ｃｄ/ｍ2）
Ｃ：０．８（ｃｄ/ｍ2）≦Ｙ【０１３２】
＜斜め色味＞
暗室内で液晶表示装置の黒表示時に測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて色度を計測した。具体的には極角６０°における方位角０°から３４５°まで１５°刻みで色度ｕ’、ｖ’を算出し、以下の基準で評価した。結果を表２に示す。
１．赤味
ｕ’の最大値（ｕ’ｍａｘ）を基準に赤さを評価した。
Ａ：ｕ’ｍａｘ＜０．２３
Ｂ：０．２３≦ｕ’ｍａｘ＜０．２６
Ｃ：０．２６≦ｕ’ｍａｘ
２．青味
ｖ’の最小値（ｖ’ｍｉｎ）を基準に青さを評価した。
Ａ：０．３０≦ｖ’ｍｉｎ
Ｂ：０．３５≦ｖ’ｍｉｎ＜０．３０
Ｃ：ｖ’ｍｉｎ＜０．３５
３．色相変化
黒表示を目視で評価し、視認方向を変化させたときの色相の変化を比較した。
Ａ：視認方向による色相変化がほとんど確認できない
Ｂ：視認方向による色相変化がわずかに確認できる
Ｃ：視認方向による色相変化が明らかに確認できる【０１３３】
＜表示ムラの評価（温湿環境下での表示ムラの評価）＞
作製した液晶表示装置について、５０℃相対湿度８０％で７２時間サーモ試験を実施した後、２５℃相対湿度６０％で液晶表示装置のバックライトを点灯し、点灯から１０時間後のパネルについて、黒表示時の四隅の光漏れを、輝度計測用カメラ「ＰｒｏＭｅｔｒｉｃ」（Ｒａｄｉａｎｔ  Ｉｍａｇｉｎｇ社製）で画面正面から撮影し、４角の光漏れが大きい箇所の輝度差をもとにして、評価した。結果を表２に示す。【０１３４】
Ａ：パネル４角の光漏れが視認されない。
（パネルの光漏れがサーモ投入前と同程度）
Ｂ：パネル４角の光漏れが視認されるが許容できる。
Ｃ：パネル４角の光漏れが視認され、許容できない。【０１３５】
＜耐久性の評価（表示性能変化の評価）＞
作製した液晶表示装置について、１０５℃（湿度は成り行き）で１００時間サーモ試験を実施した後、２５℃相対湿度６０％で液晶表示装置のバックライトを点灯し、点灯から１０時間後のパネルについて、暗室内で液晶表示装置の黒表示時を測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて計測した。サーモ前の正面光漏れ、斜め光漏れ、色味と比較して、耐久性を評価した。結果を表２に示す。【０１３６】
［表示性能変化の評価基準］
Ａ：サーモ投入前と変化が確認できない。
Ｂ：サーモ投入前と変化があるが、目視評価では許容できる。
Ｃ：サーモ投入前と大きな変化があり、目視評価で許容できない。【０１３７】
［実施例２、３］
第一光学異方性層、第二光学異方性層の塗布膜厚を変更することでレターデーションを変化させた以外は実施例１と同様にして、実施例２、３の液晶表示装置を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。【０１３８】
［実施例４］
偏光子を特開２０１６−１４８７２４号公報に記載の方法で作製した以外は同様の方法により、実施例４の液晶表示装置を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。【０１３９】
［実施例５］
〔塗工層１の作製〕
下記化合物をメチルエチルケトンに溶解して固形分濃度が３５．６％になるように調整して、塗工層１形成用塗布液を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
塗工層１形成用塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：Ａ−ＤＰＨ（新中村化学工業（株）製）
４８．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート：ＰＥＴ３０［日本化薬（株）製］
４８．５質量部
ＵＶ開始剤１                                            ３．０質量部
化合物Ｂ１                                              ２．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【０１４０】
上記塗布液を、片面保護膜付偏光板２の偏光子側の面に塗布し、その後、７０℃で６０秒乾燥し、窒素０．１％以下の条件でＵＶを１５０ｍＪ/ｃｍ2にて照射し、硬化させ、膜厚４μｍを有する塗工層１を形成した。膜厚の調整は、スロットダイを用い、ダイコート法において塗布量を調整することにより行った。この様にして、第二偏光板を作製した以外は同様の方法にして、実施例５の液晶表示装置を作製し、評価を行った。【０１４１】
［実施例６］
〔光配向膜用組成物２の調製〕
酢酸ブチル／メチルエチルケトン（８０質量部／２０質量部）に対して、下記共重合体Ｃ３を８．４質量部と、下記熱酸発生剤Ｄ１を０．３質量部添加し、光配向膜用組成物を調製した。【０１４２】
・共重合体Ｃ３（重量平均分子量：４０，０００）（以下、化合物）【０１４３】
【化２１】
2019124439.tif 000024
【０１４４】
・熱酸発生剤Ｄ１（以下、化合物）【０１４５】
【化２２】
2019124439.tif 000025
【０１４６】
〔光配向膜２の作製〕
保護フィルム２の片側の面に、先に調製した光配向膜用組成物２をバーコーターで塗布した。塗布後、８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．２μｍの光異性化組成物層を形成した。得られた光異性化組成物層に対して偏光紫外線を照射（１０ｍＪ／ｃｍ2、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜２を形成した。【０１４７】
上記作製した光配向膜２上に下記光学異方性層形成用組成物３を用いて第一光学異方性層、下記光学異方性層形成用組成物４を用いて第二光学異方性層を順次作製した以外は、実施例４と同様の手順で実施例６の液晶表示装置を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。
―――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物３
―――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｒ１                                ４２．００質量部
液晶化合物Ｒ２                                ４２．００質量部
液晶化合物Ｒ４                                  ４．００質量部
重合性化合物Ａ１                              １２．００質量部
重合開始剤Ｓ１                                  ０．５０質量部
レベリング剤Ｐ１                                ０．１５質量部
ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製）          ２．００質量部
ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製）    １．００質量部
メチルエチルケトン                            ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――【０１４８】
液晶化合物Ｒ４（以下、化合物）【０１４９】
【化２３】
2019124439.tif 000026
【０１５０】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｒ１                                      １０．０質量部
液晶化合物Ｒ２                                      ５４．０質量部
液晶化合物Ｒ３                                      ２８．０質量部
液晶化合物Ｒ４                                        ８．０質量部
化合物Ｂ１                                            ４．５質量部
単量体Ｋ１                                          １２．０質量部
重合開始剤Ｓ１                                        １．５質量部
界面活性剤Ｐ２                                        ０．４質量部
界面活性剤Ｐ３                                        ０．５質量部
アセトン                                          １７５．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート    ７５．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１５１】
［実施例７］
第二光学異方性層に光学異方性層形成用組成物５を使用した以外は実施例６と同様の手順で、実施例６の液晶表示装置を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。【０１５２】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物５
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｒ３                                        ５．０質量部
液晶化合物Ｒ５                                      ４２．５質量部
液晶化合物Ｒ６                                      ４２．５質量部
重合性化合物Ａ１                                    １０．０質量部
化合物Ｂ１                                            ３．０質量部
単量体Ｋ２                                            ８．０質量部
重合開始剤Ｓ１                                        ５．０質量部
界面活性剤Ｐ２                                        ０．３質量部
界面活性剤Ｐ３                                        ０．３質量部
シクロペンタノン                                  ２５０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１５３】
液晶化合物Ｒ５（以下、化合物）【０１５４】
【化２４】
2019124439.tif 000027
【０１５５】
液晶化合物Ｒ６（以下、化合物）【０１５６】
【化２５】
2019124439.tif 000028
【０１５７】
・単量体Ｋ２：ビスコート＃３６０（大阪有機化学工業社製）【０１５８】
［実施例８〜１４］
液晶化合物の混合比を変更することで波長分散の異なる光学異方性層を作製した以外は、実施例７と同様の手順で、実施例８〜１４の液晶表示装置を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。【０１５９】
［実施例１５］
第一光学異方性層を下記光学異方性層形成用組成物６、第二光学異方性層を下記光学異方性層形成用組成物７で作製した以外は実施例１と同様の手順で、実施例１５の液晶表示装置を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。【０１６０】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物６
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｒ１                                    ４２．００質量部
液晶化合物Ｒ２                                    ４２．００質量部
重合性化合物Ａ１                                  １６．００質量部
重合開始剤Ｓ４                                      ３．００質量部
レベリング剤Ｐ１                                    ０．１５質量部
ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製）              ２．００質量部
ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製）        １．００質量部
メチルエチルケトン                                ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１６１】
・重合開始剤Ｓ４（以下、化合物）【０１６２】
【化２６】
2019124439.tif 000029
【０１６３】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物７
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｒ１                                      １０．０質量部
液晶化合物Ｒ２                                      ５４．０質量部
液晶化合物Ｒ３                                      ２８．０質量部
重合性化合物Ａ１                                      ８．０質量部
化合物Ｂ１                                            １．５質量部
単量体Ｋ１                                            ８．０質量部
重合開始剤Ｓ４                                        ３．０質量部
界面活性剤Ｐ２                                        ０．４質量部
界面活性剤Ｐ３                                        ０．５質量部
アセトン                                          １７５．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート    ７５．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１６４】
［実施例１６］
光学異方性層形成用組成物２の代わりに、下記光学異方性層形成用組成物８を用いて第二光学異方性層を作製した以外は実施例１と同様の方法にして、実施例１６の液晶表示装置を作製し、評価した。結果を表２に示す。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物８
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｒ３                                    １００．０質量部
化合物Ｂ１                                            ４．５質量部
化合物Ｂ２                                            ２．０質量部
単量体Ｋ３                                            ４．０質量部
重合開始剤Ｓ２                                        ５．０質量部
重合開始剤Ｓ３                                        ２．０質量部
界面活性剤Ｐ２                                        ０．４質量部
界面活性剤Ｐ３                                        ０．５質量部
アセトン                                          ３８６．４質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート    ７１．０質量部
メタノール                                          １４．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１６５】
・化合物Ｂ２（以下、化合物）【０１６６】
【化２７】
2019124439.tif 000030
【０１６７】
・単量体Ｋ３：Ａ−ＴＭＭＴ（新中村化学工業社製）【０１６８】
なお、上記実施例１〜１６の態様において、下記に記載の方法で偏光子と光学異方性層を接着した場合でも、良好な接着性が得られ、前述のＰＶＡ３％水溶液で接着した場合と同様の性能（光漏れ抑制、表示性能、耐久性）が得られた。【０１６９】
光学異方性層の偏光子貼合面を放電量１２５Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2でコロナ処理してから、前述の接着剤液Ａを、膜厚０．５μｍになるように塗設した。その後、接着剤塗布面を偏光子と貼り合わせ、大気雰囲気下４０℃にて光学補償層側から紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2照射した。得られたフィルムを６０℃で３分間乾燥した後、保護フィルムを剥離し、第一偏光板を作製した。【０１７０】
［比較例１］
＜液晶層が剥離可能な第二光学異方性層の作製＞
ＴＡＣ（セルロース系ポリマーフィルム；富士フイルム社製ＴＧ４０）に以下の光学異方性層形成用組成物９をワイヤーバーで塗布した。組成物の溶剤の乾燥および、液晶化合物の配向熟成のために、４０℃の温風で６０秒加熱した。続いて窒素パージ下、酸素濃度１００ｐｐｍで４０℃にて、得られたフィルムに対して紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ2）を行い、液晶化合物の配向を固定化し、液晶層がＴＡＣ支持体から剥離可能な第二光学異方性層を作製した。【０１７１】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物９
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｒ１                                １０．０質量部
液晶化合物Ｒ２                                ５４．０質量部
液晶化合物Ｒ３                                ２８．０質量部
重合性化合物Ａ１                                ８．０質量部
化合物Ｂ２                                      ２．０質量部
単量体Ｋ２                                      ８．０質量部
重合開始剤Ｓ２                                  ５．０質量部
重合開始剤Ｓ３                                  ２．０質量部
界面活性剤Ｐ２                                  ０．４質量部
界面活性剤Ｐ４                                  ０．３質量部
高分子化合物Ｃ１                                ５．０質量部
トルエン                                    ６２１．０質量部
メチルエチルケトン                            ６９．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１７２】
・界面活性剤Ｐ４（以下、化合物）【０１７３】
【化２８】
2019124439.tif 000031
【０１７４】
・高分子化合物Ｃ１（以下、化合物）【０１７５】
【化２９】
2019124439.tif 000032
【０１７６】
作製した剥離可能な第二光学異方性層の塗布面側をガラス板に２０μｍのアクリル系粘着剤を用いて貼合し、ＴＡＣ支持体を剥離することで、第二光学異方性層単独のフィルムとし、位相差を測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝−１００ｎｍであった。【０１７７】
作製した剥離可能な第二光学異方性層の塗布面側を第一光学異方性層１に１５μｍのアクリル系粘着剤を用いて直接貼合した後、ＴＡＣ支持体を剥離することで、第一光学異方性層と第二光学異方性層とが粘着剤で積層された積層体を得た。ＴＡＣ支持体を剥離した第二光学異方性層の表面を放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2でコロナ処理してから、接着剤液Ａを、膜厚０．５μｍになる様に塗設した。その後、接着剤塗布面を片面保護膜付偏光板１の偏光子面と貼り合わせ、大気雰囲気下４０℃にて第一光学異方性層１の基材側から紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2照射した。その後、６０℃で３分間乾燥し、第一光学異方性層１の保護フィルム２を剥離することで、第一光学異方性層と第二光学異方性層とが粘着剤で貼合された形態の第一偏光板を作製した。このとき、第一光学異方性層と第二光学異方性層の積層形態の膜厚は１９μｍであった。
作製した第一偏光板を用いて、実施例１と同様の方法により、比較例１の液晶表示装置を作製し、評価を行った。結果を表２に示す。【０１７８】
［比較例２］
＜第一光学異方性層の形成＞
ＷＯ２０１３−０１８５２６号公報に記載の化合物１を１ｇ、光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）を３０ｍｇ、界面活性剤（商品名：ＫＨ−４０、ＡＧＣセイミケミカル社製）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを２．３ｇのシクロペンタノンに溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、液晶組成物を得た。【０１７９】
偏光子吸収軸と直交、すなわち偏光子長手方向と直交にラビング処理した片面保護膜付偏光板１の偏光子側の面上に、上記液晶組成物をワイヤーバーで塗布した。塗膜を９０℃で３０秒間乾燥し、膜厚２μｍの液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から２０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し第一光学異方性層を得た。【０１８０】
第一光学異方性層をガラス基板上に実施例１と同条件で形成させ、第一光学異方性層のみのＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３０ｎｍであり、Ｒｔｈが６５ｎｍであった。【０１８１】
作製した第一光学異方性層の上に実施例１に記載の方法で第二光学異方性層を形成し、第一光学異方性層と第二光学異方性層の積層順が実施例１とは逆で、かつ、第一光学異方性層の遅相軸が第一偏光子の吸収軸と直交な、第一偏光板を作製した。【０１８２】
上記で作製した第一偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。結果を表２に示す。【０１８３】
［比較例３］
第一光学異方性層および第二光学異方性層の代わりに、特開２０１６−１４８７２４号公報に記載の位相差フィルム１を、第一偏光子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸が平行になるように貼り合わせた以外は、実施例１と同様の方法にして、比較例４の液晶表示装置を作製し、評価した。結果を表２に示す。【０１８４】
表２中の「遅相軸」欄は、第一偏光子の吸収軸と第一光学異方性層の遅相軸との関係を表し、「平行」は両者が平行であることを意味し、「直交」は両者が直交することを意味する。
表２中の「異方性層全体の膜厚」欄は、第一光学異方性層と第二光学異方性層との積層形態の膜厚を意味する。【０１８５】
【表２】
2019124439.tif 000033
【０１８６】
［実施例１７〜２０］
＜ＩＰＳモード液晶セルの作製＞
まず、２枚のガラス基板の間に液晶層を有し、基板の間隔（ギャップ；ｄ）が約４．０μｍのＩＰＳモード液晶セルを作製した。液晶層中の液晶化合物のΔｎは０．０８６２５であり、Δｎ・ｄの値は表３に示す。
なお、液晶セルを形成する際に、ガラス基板に対して特開２００５−３５１９２４号公報の実施例１１を参考にして光配向処理を実施して配向層を形成して、液晶セル内の液晶化合物を配向させた。液晶化合物の基板面とのチルト角は、０．１°であった。液晶セルの視認側の基板上に、Ｒｔｈの値が異なる青色カラーフィルター、緑色カラーフィルター、および、赤色カラーフィルターを形成し、表３に示す液晶セル１〜４を形成した。青色カラーフィルターの最大透過率を示す波長をλ1、緑色カラーフィルターの最大透過率を示す波長をλ2、および、赤色カラーフィルターの最大透過率を示す波長をλ3としたところ、各液晶セルにおいて、各波長はλ1＜λ2＜λ3の関係を満たした。また、形成した液晶セル上に配置した各カラーフィルターの各波長におけるＲｔｈを表３にまとめて示す。なお、各カラーフィルターのＲｔｈの値の調整は、カラーフィルターの膜厚を調整したり、カラーフィルター層の形成材料に、レターデーション上昇剤（例えば上記一般式（Ｘ）の化合物）または低下剤（例えば、上記一般式（ＸＩ）の化合物）を添加したり、その添加量を調整することで行なった。また、液晶セル作製した液晶セルのリア側基板（液晶セル下側基板）のＲｔｈ（５５０）は０ｎｍであった。【０１８７】
【表３】
2019124439.tif 000034
【０１８８】
上記作製した液晶セルを用いた以外は、実施例６と同様の手順で実施例１７〜２０の液晶表示装置を作製し、評価を行った。結果を下記表４に示す。【０１８９】
【表４】
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【符号の説明】
【０１９０】
１      第一偏光子保護層
２      第一偏光子
３      第二偏光子の吸収軸
４      第二光学異方性層
５      第一光学異方性層
６      第一光学異方性層の遅相軸
７      液晶セルの上側基板
８      液晶層
９      液晶セルの下側基板
１０    第二偏光板の液晶セル側偏光子保護層
１１    第二偏光子
１２    第二偏光子の吸収軸
１３    第二偏光子保護層
１４    バックライトユニット
１５    光学補償層
１６    第一偏光板
１７    第二偏光板
【図１】
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【国際調査報告】
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2019124439.tif 000038
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