(57)【要約】  上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る光学部品は、光学部と、多層膜とを具備する。前記光学部は、第１の面と、前記第１の面と凹部又は凸部を構成する第２の面とを含む。前記多層膜は、前記第１及び前記第２の面に形成され、光を吸収する吸収層と前記吸収層を覆う低屈折率材料からなる上層とを有する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面と、前記第１の面と凹部又は凸部を構成する第２の面とを含む光学部と、  前記第１及び前記第２の面に形成され、光を吸収する吸収層と前記吸収層を覆う低屈折率材料からなる上層とを有する多層膜と  を具備する光学部品。
【請求項２】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記第１の面は、入射光に対して所定の機能を有する  光学部部品。
【請求項３】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記多層膜は、前記光の入射角度に応じた光吸収特性を有する  光学部品。
【請求項４】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記多層膜は、前記光学部の内部から前記多層膜に入射する前記入射角度が５０°以上の内部光に対する吸収率が、前記光学部の外部から前記多層膜に入射する前記入射角度が略０°の外部光に対する吸収率よりも高い  光学部品。
【請求項５】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記多層膜は、前記光学部の内部から前記多層膜に入射する内部光に対して、前記入射角度が大きくなるほど吸収率が高くなる  光学部品。
【請求項６】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記多層膜は、前記光学部の外部から前記多層膜に入射する前記入射角度が４０°以下の外部光に対する反射率が、４％以下である  光学部品。
【請求項７】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記吸収層は、金属酸化物、金属窒化物、又はカーボンを含む  光学部品。
【請求項８】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記吸収層は、アルミニウム酸化物、又はチタン窒化物を含む  光学部品。
【請求項９】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記吸収層は、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下の厚みを有する  光学部品。
【請求項１０】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記上層は、屈折率が１．５以下の前記低屈折率材料からなる  光学部品。
【請求項１１】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記上層は、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の厚みを有する  光学部品。
【請求項１２】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記多層膜は、前記光学部と前記吸収層との間に形成される下層を有する  光学部品。
【請求項１３】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記下層は、屈折率が１．５以上の材料からなる  光学部品。
【請求項１４】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記下層は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みを有する  光学部品。
【請求項１５】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記光学部は、前記第１の面であるレンズ面と、前記第２の面である非レンズ面とを含むフレネルレンズである  光学部品。
【請求項１６】
請求項１に記載の光学部品であって、  前記吸収層は、金属酸化物であり、前記第１の面に形成される領域の酸素の添加量が、前記第２の面に形成される領域の酸素の添加量よりも多い  光学部品。
【請求項１７】
第１の面と、前記第１の面と凹部又は凸部を構成する第２の面とを含む部品を作成し、  ＡＬＤ（原子層堆積）法により、前記第１及び前記第２の面に、光を吸収する吸収層と前記吸収層を覆う低屈折率材料からなる上層とを有する多層膜を形成する  光学部品の製造方法。
【請求項１８】
光源部と、    第１の面と、前記第１の面と凹部又は凸部を構成する第２の面とを含む光学部と、    前記第１及び前記第２の面に形成され、光を吸収する吸収層と前記吸収層を覆う低屈折率材料からなる上層とを有する多層膜と  を有する光学部品を含み、前記光源部から出射された光に基づいて画像を生成する画像生成部と  を具備する画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本技術は、レンズ等の光学部品、光学部品の製造方法、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】  特許文献１には、迷光の発生による結像上の不具合を防止するフレネルレンズの製造方法について記載されている。この製造方法では、まずフレネルレンズのレンズ面のみに補助膜が形成される。補助膜が形成されたレンズ面、及び補助膜が形成されていない非レンズ面に不要光吸収膜が形成される。レンズ面上の補助膜を除去することで、非レンズ面のみに不要光吸収膜が残される。これにより非レンズ面を通る光に起因した迷光の発生の防止が図られている（特許文献１の明細書段落［０００１］［００５８］〜［００７３］図１等）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平８−１３６７０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】  このような迷光の発生が抑制されたフレネルレンズ等の光学部品を容易に製造可能とする技術が求められている。【０００５】  以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、迷光の発生を抑制可能であり製造が容易な光学部品、光学部品の製造方法、及び画像表示を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】  上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る光学部品は、光学部と、多層膜とを具備する。  前記光学部は、第１の面と、前記第１の面と凹部又は凸部を構成する第２の面とを含む。  前記多層膜は、前記第１及び前記第２の面に形成され、光を吸収する吸収層と前記吸収層を覆う低屈折率材料からなる上層とを有する。【０００７】  この光学部品では、第１及び第２の面に多層膜が形成される。多層膜は、光を吸収する吸収層と、それを覆う低屈折率材料からなる上層とを有する。これにより第１及び第２の面において光吸収及び反射防止が実現され、迷光の発生が十分に抑制される。また第１及び第２の面に同じ膜を形成すればよいので、製造が容易である。【０００８】  前記第１の面は、入射光に対して所定の機能を有してもよい。  これにより例えば迷光の発生が抑制されたレンズ等を容易に製造することが可能となる。【０００９】  前記多層膜は、前記光の入射角度に応じた光吸収特性を有してもよい。  これにより、例えば第１の面に入射する光の吸収を抑えつつ、第２の面に入射する光の吸収を増加させることが可能となる。【００１０】  前記多層膜は、前記光学部の内部から前記多層膜に入射する前記入射角度が５０°以上の内部光に対する吸収率が、前記光学部の外部から前記多層膜に入射する前記入射角度が略０°の外部光に対する吸収率よりも高くてもよい。  これにより、例えば入射角度が５０°以上の内部光に起因する迷光を十分に抑制することが可能となる。【００１１】  前記多層膜は、前記光学部の内部から前記多層膜に入射する内部光に対して、前記入射角度が大きくなるほど吸収率が高くなってもよい。  これにより入射角度が大きい内部光に起因する迷光の発生を十分に抑制することが可能となる。【００１２】  前記多層膜は、前記光学部の外部から前記多層膜に入射する前記入射角度が４０°以下の外部光に対する反射率が、４％以下であってもよい。  これにより、例えば入射角度が４０°以下の外部光の反射による損失を抑制することが可能となる。また迷光の発生も抑制することが可能となる。【００１３】  前記吸収層は、金属酸化物、金属窒化物、又はカーボンを含んでもよい。  これにより光吸収及び反射防止が実現され、迷光の発生が十分に抑制される。【００１４】  前記吸収層は、アルミニウム酸化物、又はチタン窒化物を含んでもよい。  これにより光吸収及び反射防止が実現され、迷光の発生が十分に抑制される。【００１５】  前記吸収層は、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下の厚みを有してもよい。  これにより光吸収及び反射防止が実現され、迷光の発生が十分に抑制される。【００１６】  前記上層は、屈折率が１．５以下の前記低屈折率材料からなってもよい。  これにより光吸収及び反射防止が実現され、迷光の発生が十分に抑制される。【００１７】  前記上層は、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の厚みを有してもよい。  これにより光吸収及び反射防止が実現され、迷光の発生が十分に抑制される。【００１８】  前記多層膜は、前記光学部と前記吸収層との間に形成される下層を有してもよい。  これにより多層膜における光吸収性及び反射性を制御することが可能となる。【００１９】  前記下層は、屈折率が１．５以上の材料からなってもよい��  これにより多層膜における光吸収性及び反射性を制御することが可能となる。【００２０】  前記下層は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みを有してもよい。  これにより多層膜における光吸収性及び反射性を制御することが可能となる。【００２１】  前記光学部は、前記第１の面であるレンズ面と、前記第２の面である非レンズ面とを含むフレネルレンズであってもよい。  これにより迷光の発生を抑制可能なフレネルレンズを容易に製造することが可能となる。【００２２】  前記吸収層は、金属酸化物であり、前記第１の面に形成される領域の酸素の添加量が、前記第２の面に形成される領域の酸素の添加量よりも多くてもよい。  これにより第１の面における吸収率を抑制することが可能となる。【００２３】  本技術の一形態に係る光学部品の製造方法は、第１の面と、前記第１の面と凹部又は凸部を構成する第２の面とを含む部品を作成することを含む。  ＡＬＤ（原子層堆積）法により、前記第１及び前記第２の面に、光を吸収する吸収層と前記吸収層を覆う低屈折率材料からなる上層とを有する多層膜が形成される。【００２４】  この光学部品の製造方法では、ＡＬＤ法を用いることで、凹部又は凸部を構成する第１及び第２の面に多層膜を容易に形成することが可能である。従って迷光の発生を抑制可能な光学部品を容易に製造することが可能となる。【００２５】  本技術の一形態に係る画像表示装置は、光源部と、画像生成部とを具備する。  前記画像生成部は、前記光学部品を含み、前記光源部から出射された光に基づいて画像を生成する。
【発明の効果】
【００２６】  以上のように、本技術によれば、迷光の発生を抑制可能な光学部品を容易に製造することが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本技術の一実施形態に係る画像表示装置であるヘッドマウントディスプレイ（ＨＭＤ）の構成例を示す図である。
【図２】ＨＭＤの画像の表示原理を説明するための図である。
【図３】ＨＭＤを装着するユーザの視野を模式的に示す図である。
【図４】フレネルレンズの構成例を示す模式図である。
【図５】フレネルレンズの他の構成例を示す模式図である。
【図６】反射防止膜の構成例を示す模式的な断面図である。
【図７】反射防止膜の形成方法を模式的に示す図である。
【図８】レンズ面及び非レンズ面の各々に入射する光を模式的に示す図である。
【図９】反射防止膜の反射率及び吸収率の入射角度の依存性の一例を示す表である。
【図１０】レンズ面及び非レンズ面に入射する光の反射率及び吸収率のシミュレーション例を示す表である。
【図１１】酸化チタン（ＴｉＯ2）からなる最下層の効果を説明するためのグラフである。
【図１２】吸収層の光学定数の一例を示す表である
【図１３】他の材料が用いられて構成された反射防止膜の特性を示すグラフである。
【図１４】他の材料が用いられて構成された反射防止膜の特性を示すグラフである。
【図１５】他の材料が用いられて構成された反射防止膜の特性を示すグラフである。
【図１６】迷光の評価例を示す写真である。
【図１７】迷光の評価例を示す写真である。
【図１８】迷光の評価例を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】  以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【００２９】  ［画像表示装置］  図１は、本技術の一実施形態に係る画像表示装置であるヘッドマウントディスプレイ（ＨＭＤ）の構成例を示す図である。図１ＡはＨＭＤ１００の外観を模式的に示す斜視図であり、図１ＢはＨＭＤ１００を分解した様子を模式的に示す斜視図である。
【００３０】  ＨＭＤ１００は、ユーザの頭部に装着されるマウント部１０１と、ユーザの両眼の前方に配置されるディスプレイユニット１０２と、ディスプレイユニット１０２を覆うように構成されるカバー部１０３とを含む。ＨＭＤ１００は、ユーザの視野を覆うように構成された没入型のヘッドマウントディスプレイである。ユーザはＨＭＤ１００を装着することで、仮想現実（ＶＲ：Virtual Reality）等を体験することが可能となる。
【００３１】  なお本技術に係る画像表示装置の実施形態として、没入型のＨＭＤ以外の装置が構成されてもよい。例えば拡張現実感（ＡＲ：Augmented Reality）用の透過型のＨＭＤや、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）が、本技術に係る画像表示装置の実施形態として構成されてもよい。その他、種々の画像表示装置に本技術は適用可能である。
【００３２】  図２は、ＨＭＤ１００の画像の表示原理を説明するための図である。図３は、ＨＭＤ１００を装着するユーザの視野を模式的に示す図である。ディスプレイユニット１０２は、光源部１０４と、光源部１０４から出射された光に基づいて画像を生成する画像生成部１０５とを有する。
【００３３】  光源部１０４は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）やＬＤ（Laser Diode）等の固体光源を有する。光源部１０４の具体的な構成や、光源部１０４が配置される位置等は限定されず、任意に設計されてよい。
【００３４】  画像生成部１０５は、画像生成素子１０６と、フレネルレンズ１０７とを有する。画像生成素子１０６は、光源部１０４から出射された光を画像信号に基づいて変調して画像（画像光）Ｌを生成する。画像生成素子１０６としては、透過型／反射型の液晶パネルや、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）等が用いられる。
【００３５】  フレネルレンズ１０７は、画像生成素子１０６とユーザとの間に配置され、画像生成素子１０６により生成された画像光Ｌを投射する。図２に示すように、ユーザの眼球１には、フレネルレンズ１０７を介して画像光Ｌが入射する。ユーザからは、当該画像光Ｌにより構成される画像（虚像）Ｐが視認される。
【００３６】  例えば予め設計された所定の光路から外れた不要な光等が迷光となり、ユーザの眼球１に入射すると、画像Ｐの品質が低下してしまう原因となる。例えば本実施形態に係るフレネルレンズ１０７に代えて、一般的なフレネルレンズが用いられるとする。図２に示すように、画像生成素子１０６の中央から上方に所定の角度（目振り角）θで、ユーザが視線をすばやく動かしたとする。
【００３７】  そうすると図３に示すように、一般的なフレネルレンズにて発生する迷光により、ユーザの視野にフレアＦが発生してしまうおそれがある。例えばフレネルレンズの非レンズ面での反射が大きい場合には、フレアＦが発生する可能性が高くなる。
【００３８】  図３に示す例では、フレアＦは、適正に表示される画像Ｐから視野の中央にかけて発生している。視野の中央は、画像生成素子１０２の中央に対応している。従って、フレアＦは、視線を動かす前の位置から視線の先にある画像Ｐまでの間に、残像のように発生している。もちろんフレアＦの形状や発生位置は限定されない。またフレアＦは、視線をすばやく動かす場合に限定されず、他の場合でも発生し得る。いずれにせよ迷光が眼球１に入ることで、フレアＦやゴースト等が発生して画像Ｐの品質が低下してしまう。
【００３９】  ［フレネルレンズ］  本実施形態に係るフレネルレンズ１０７は、本技術に係る光学部品の一実施形態であり、迷光の発生を十分に抑制することが可能である。従って上記したようなフレアＦ等の発生を防止することが可能であり、高品質の画像表示を実現することが可能である。また本実施形態に係るフレネルレンズ１０７は、製造が非常に容易である。以下、詳しく説明する。
【００４０】  図４は、本実施形態に係るフレネルレンズ１０７の構成例を示す模式図である。図４Ａは、フレネルレンズ１０７が有するレンズ部１０と、反射防止膜１１とを示す図である。図４Ｂは、反射防止膜１１が形成される前のレンズ部１０を示す図である。
【００４１】  図４Ａに示すように、フレネルレンズ１０７は、レンズ部１０と、反射防止膜１１とを有する。レンズ部１０は、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）樹脂等からなり、フレネルレンズ形状を有する。
【００４２】  図４Ｂに示すように、レンズ部１０のレンズ主面１２にはフレネルレンズパターンが形成され、凹凸形状となっている。図４Ｂに示す例では、略同心円状に並ぶ複数のレンズ面１３と、隣接するレンズ面１３同士を連結する非レンズ面１４とが形成される。
【００４３】  レンズ面１３は、入射光に対して、所定の機能としてレンズ機能を有する。レンズ面１３に入射する光が、所定の光路上に沿って進むように、レンズ部１０の屈折率やレンズ面１３の形状等が設計されている。
【００４４】  非レンズ面１４は、入射光に対して機能を有さない面であり、画像生成素子１０６から出射される画像光Ｌが入射することが望まれない面である。例えば非レンズ面１４にて光が反射されると迷光が発生してしまう。
【００４５】  図２に模式的に示すように、フレネルレンズ１０７は、レンズ主面１２が画像生成素子１０６に対向するように配置される。例えばフレネルレンズ１０７は、画像生成素子１０６から出射される画像光Ｌの出射方向に対して、レンズ主面１２が略直交するように配置される。これによりレンズ面１３が画像光Ｌの光路上に対向して配置され、非レンズ面１４は出射方向と略平行となる。この結果、非レンズ面１４に光が入射することが抑制される。
【００４６】  レンズ部１０の具体的な構成は限定されず、任意のフレネルレンズパターン等が形成されてよい。また光の出射方向に対して、レンズ主面１２側が向けられてもよいし、反対側の背面１９側が向けられてもよい。なお図５に示すように、両面にフレネルレンズパターンが形成された両面フレネルレンズ１０７'に対しても、本技術は適用可能である。すなわちレンズ部１０'に対して反射防止膜１１'を形成することで、迷光の発生を十分に抑制することができる。
【００４７】  本実施形態において、レンズ部１０は、光学部に相当する。レンズ面１３は、第１の面に相当する。非レンズ面１４は、第１の面と凹部又は凸部を構成する第２の面に相当する。本実施形態では、互いに隣接するレンズ面１３及び非レンズ面１４により、凹部及び凸部の両方が形成されている。これに限定されず、第１及び第２の面により凹部のみが形成される場合、又は凸部のみが形成される場合でも、本技術は適用可能である。
【００４８】  図４Ａに示すように、反射防止膜１１は、フレネルパターンが形成されたレンズ主面１２の全体に形成される。すなわち反射防止膜１１は、第１及び第２の面１３及び１４に形成される。反射防止膜１１は、本実施形態において多層膜に相当し、光吸収及び反射防止を実現する。
【００４９】  ［反射防止膜］  図６は、反射防止膜１１の構成例を示す模式的な断面図である。図６は図示を分かりやすくするために、レンズ部１０のハッチングが省略されている。
【００５０】  反射防止膜１１は、吸収層１５、最上層１６、及び最下層１７の３層からなる。吸収層１５は光を吸収する層であり、本実施形態では、アルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）からなる層が、１４ｎｍの厚みで形成される。吸収層１５により、光吸収が実現される。
【００５１】  最上層１６は、低屈折材料からなり、吸収層１５上に積層される。本実施形態では、最上層１６として、屈折率が１．５以下の二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）からなる層が、９６ｎｍの厚みで形成される。吸収層１５上に低屈折材料からなる最上層１６を積層することで、光の反射防止が実現される。本実施形態において、最上層１６は、吸収層１５を覆う上層に相当する。
【００５２】  最下層１７は、レンズ部１０上に形成される層であり、レンズ部１０と吸収層１５との間に形成される。本実施形態では、最下層１７として、酸化チタン（ＴｉＯ2）からなる層が、１５ｎｍの厚みで形成される。本実施形態において、最下層１７は、下層に相当する。
【００５３】  図７は、反射防止膜１１の形成方法を模式的に示す図である。反射防止膜１１は、凹凸形状を有するレンズ主面１２の全体に均一に形成される。本実施形態では、ＡＬＤ（原子層堆積）法により、レンズ面１３及び非レンズ面１４に、反射防止膜１１が形成される。
【００５４】  ＡＬＤは、材料の供給と材料の排気とのサイクルを繰り返しながら、１原子層ずつ成膜していく手法である。導入ガスに酸素を含めること酸化物、窒素を含めることで窒化物の成膜が可能である。材料供給のサイクル数と膜厚とに相関があるため、各層が所望の膜厚になるようサイクル数を設定することで、凹凸形状に正確に沿った形での所望の膜厚の均一コートを実現することができる。
【００５５】  またＡＬＤの中でもプラズマを用いて供給材料を分解する手法を用いることで、熱ＡＬＤに比べて低温で成膜が可能である。従って、レンズ部１０を構成する樹脂材料の耐熱温度以下での成膜に有利であり、樹脂材料の選択範囲を広げることが可能である。もちろん成膜時の熱に耐えられる樹脂材料であるならば、熱ＡＬＤが用いられてもよい。
【００５６】  本実施形態では、第１工程として、酸化チタン（ＴｉＯ2）の層が１５ｎｍの厚みで形成される。第２工程として、アルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）の層が１４ｎｍの厚みで形成される。第３工程として、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）の層が９６ｎｍの厚みで形成される。これにより、吸収層１５、最上層１６、及び最下層１７の３層からなる反射防止膜１１を、フレネルレンズパターン上に形成することが可能となる。
【００５７】  第１〜第３の工程は、単一のＡＬＤ装置を使用したプロセスであり、供給材料や導入ガスを変更することで連続的に実行可能である。すなわち本実施形態に係るフレネルレンズ１０７は容易に製造することが可能である。例えば工程管理が容易であり、高い歩留まりが実現され、低コストでの製造が可能となる。
【００５８】  図８は、レンズ面１３及び非レンズ面１４の各々に入射する光を模式的に示す図である。図８に示すように、レンズ面１３に形成された反射防止膜１１を第１の反射防止膜１１ａ、非レンズ面１４に形成された反射防止膜１１を第２の反射防止膜１１ｂとする。
【００５９】  またレンズ部１０の外部から第１の反射防止膜１１ａに入射する光をレンズ面外部光Ｌ１、レンズ部１０の内部から第１の反射防止膜１１ａに入射する光をレンズ面内部光Ｌ２とする。またレンズ部１０の外部から第２の反射防止膜１１ｂに入射する光を非レンズ面外部光Ｌ３、レンズ部１０の内部から第２の反射防止膜１１ｂに入射する光を非レンズ面内部光Ｌ４とする。
【００６０】  発明者は、画像生成素子１０６から出射された画像光Ｌは、主にレンズ面１３に対して小さい入射角度θで入射し、所定の光路に沿って進む点に着目した。すなわち図８に示すレンズ面外部光Ｌ１及びレンズ面内部光Ｌ２のうち、入射角度θが小さい光が有効な画像光Ｌであり、反射及び光吸収が少ない（透過が多い）ことが重要であることに着目した。
【００６１】  一方、非レンズ面１４に入射する光は迷光の原因となる可能性が高いので、不要な反射を抑え高い光吸収が必要である。ここで発明者は、主に非レンズ面１４に大きい入射角度θで入射する光が、迷光の原因となることを見出した。すなわち図８に示す非レンズ面外部光Ｌ３及び非レンズ面内部光Ｌ４のうち、入射角度が大きい光を十分に吸収することが重要であることを見出した。これらの考察に基づいて、本実施形態に係る反射防止膜１１が考案された。
【００６２】  図９は、反射防止膜１１の反射率及び吸収率の入射角度の依存性の一例を示す表である。図９には、反射防止膜１１が形成されていないコート無の形態に対するシミュレーション結果も表示されている。ここでは波長が５５０ｎｍの光に対する特性が示されている。
【００６３】  入射角度θが小さい光、例えば入射角度θが０°〜４０°の光に着目する。レンズ外部からの光（例えば図８のレンズ面外部光Ｌ１）及びレンズ内部からの光（例えば図８のレンズ面内部光Ｌ２）のいずれに対しても、コート無と比べて、低い反射率となっている。従ってコート無と比べて、レンズ面１３に入射する有効な画像光Ｌの反射を抑制することが可能となっている。
【００６４】  本実施形態では、レンズ部１０の外部から反射防止膜１１に入射する入射角度が４０°以下の外部光に対する反射率が１．１％以下となっており、反射による光の損失や迷光の発生が十分に抑制されている。なおレンズ部１０の外部から反射防止膜１１に入射する入射角度が４０°以下の外部光に対する反射率が４％以下であれば、十分な効果が得られる。
【００６５】  入射角度θが大きい光、例えば入射角度θが５０°〜８０°の光に着目する。コート無の場合、レンズ外部からの光は、入射角度θが大きくなるほど反射率が高くなる。コート無しの場合、吸収率は０％であるので、大部分の光がレンズの内部に進むことがわかる。
【００６６】  レンズ内部からの光は、入射角度にかかわらず反射率が１００％となる。従ってコート無の場合は、レンズ部材の内部で反射が繰り返され、いずれ迷光としてレンズ外部に出射される可能性が非常に高い。
【００６７】  反射防止膜１１が形成されている場合、レンズ外部からの光（例えば図８の非レンズ面外部光Ｌ３）をある程度吸収することが可能である。これにより迷光の発生が抑制される。レンズ内部からの光（例えば図８の非レンズ面内部光Ｌ４）に対しては、非常に高い吸収率が発揮される。本実施形態では、５６．７％以上の吸収率が発揮される。これにより迷光の発生を十分に抑制することが可能となる。なお吸収率が高ければ高いほど迷光が抑制されるが、概ね４０％以上の吸収率があればコート無との迷光の差異を感じることができた。
【００６８】  一方で、レンズ部１０の外部から反射防止膜１１に０°の入射角度で入射する外部光に対する吸収率は２２．６％であり、比較的低い値となる。この結果、有効な画像光Ｌの吸収による損失を抑制することが可能である。
【００６９】  このように本実施形態に係る反射防止膜１１は、光の入射角度に応じた光吸収特性を有する。これにより、レンズ面１３に入射する光の吸収を抑えつつ、非レンズ面１４に入射する光の吸収を増加させることが可能である。例えば入射角度θが５０°以上の非レンズ面内部光Ｌ４に対する吸収率を、入射角度θが略０°のレンズ面外部光Ｌ１に対する吸収率よりも高く設定すること等が可能である。この結果、有効な画像光Ｌの損失を抑えつつ、入射角度θが５０°以上の非レンズ面内部光Ｌ４に起因する迷光の発生を十分に抑制することが可能となる。
【００７０】  また図９に示す例では、レンズ部１０の内部から反射防止膜１１に入射する内部光に対して、入射角度θが大きくなるほど吸収率が高くなっている。このような角度依存性を利用することで、入射角度θが大きい内部光に起因する迷光の発生が十分に抑制されている。
【００７１】  図１０は、レンズ面１３及び非レンズ面１４に入射する光の反射率及び吸収率のシミュレーション例を示す表である。図１０では、コート無の形態、非レンズ面１４のみに２００ｎｍのカーボンが形成された形態、及び本実施形態の各々の結果が示されている。
【００７２】  また図１０では、レンズ面１３に入射角度θが０°の光が入射した場合の結果、及び非レンズ面１４に入射角度７０°の光が入射した場合の結果が示されている。コート無、及び本実施形態については、図９に示す結果と同様の数値となっている。
【００７３】  非レンズ面１４にのみカーボンが形成された形態では、レンズ面１３についてはコート無と同じ結果となる。非レンズ面１４については、コート無に比べて吸収率が上昇している。しかしながら、カーボン単層であり反射防止されないことから、反射率が約３０％とコート無よりも高くなっている。従って迷光の発生を抑制することが難しくなっている。
【００７４】  本実施形態では、レンズ面１３における反射を０．５％とコート無に比べて大きく低減しながら、非レンズ面１４の光吸収を９０・１％と大きく向上させることが可能である。また非レンズ面１４における反射を、コート無よりも低い状態にすることが可能となる。この結果、迷光の発生を十分に抑制することが可能となっている。
【００７５】  図１１は、酸化チタン（ＴｉＯ2）からなる最下層１７の効果を説明するためのグラフである。左側のグラフでは、入射角度θが０°の外部光の反射率が示されている。右側のグラフでは、入射角度θが７０°の内部光の反射率が示されている。図１１に示すように、最下層１７の厚みを異ならせた場合の結果が示されている。なお厚みが０ｎｍであるグラフは、最下層１７が形成されていない構成の反射率に相当する。
【００７６】  例えば左側のグラフにおいて、波長が５５０ｎｍの光に対する反射率に着目する。最下層１７が形成されない場合でも、入射角度θが０°の外部光の反射率は十分に小さくなっている。最下層１７が形成された場合でも、その厚みにかかわらず、反射率は最下層１７が形成されていない場合とほぼ変わらない。すなわち最下層１７が形成されても、入射角度θが小さい外部光に対する反射率はあまり影響を受けない。
【００７７】  右側のグラフを見てみると、最下層１７を形成することで、入射角度θが７０°の内部光の吸収率が大幅に向上されている。すなわち最下層１７を形成することで、入射角度θが小さい外部光に対する反射率をほぼ維持したまま、入射角度θが大きい内部光の吸収率を向上させることが可能となる。この結果、有効な画像光Ｌの損失を抑えつつ、迷光の発生を十分に抑制することが可能となる。
【００７８】  なお右側のグラフに示すように、最下層１７が形成されない場合でも、入射角度θが７０°の内部光に対して高い吸収率が発揮されている。従って最下層１７が形成されない場合でも、有効な光の損失を抑えつつ迷光の発生を十分に抑制することが可能である。最下層１７が形成されない構成、例えば吸収層１５及び最上層１６の２層からなる反射防止膜も、本技術に係る多層膜の実施形態に含まれる。
【００７９】  図１２は、吸収層１５の光学定数の一例を示す表である。吸収層１５として、屈折率ｎ＝１．２３、消衰係数ｋ＝１．１のアルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）からなる層を形成することで、迷光の発生が十分に抑制された。
【００８０】  例えば消衰係数ｋが１付近となるように、アルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）の酸化プロセスが調節される。例えばＡｌＯｘにおいて、０＜ｘ＜１．５となるように、酸素添加量が調節される。これにより適正に光吸収性を発揮することが可能となる。なお消衰係数ｋが小さすぎても大きすぎても適正な光吸収性能及び反射防止性能が発揮されない。例えば１付近の所定の範囲を適正範囲として、消衰係数ｋが設定されればよい。当該適正範囲の具体的な数値等は限定されず、適正な効果が発揮されるように任意に設定されてよい。
【００８１】  吸収層１５の厚みを大きくすると、非レンズ面１４における吸収率は向上するものの、レンズ面１３の吸収量が増大してしまう。例えば吸収層の厚みを５ｎｍとすると、レンズ面１３での吸収率が約１０〜２０％の範囲となる。吸収層の厚みを２５ｎｍとすると吸収率が約２０〜５０％まで増加し、有効な画像光Ｌの吸収による損失が大きくなってしまう
【００８２】  この点を鑑みるに、吸収層１５の厚みを５ｎｍ以上の２５ｎｍ以下の範囲で設定することで、迷光の発生を抑制することが可能となる。例えば５ｎｍ以上１５ｎｍ以下の範囲で、吸収層１５の厚みを設定することで十分な効果が得られた。もちろんこの範囲に限定されず、任意の範囲が有効な設定範囲として設定されてよい。
【００８３】  消衰係数ｋは、吸収層１５の材質により変化するため、厚みと吸収率との関係は成膜プロセスにより変化する。この点を考慮しても、例えば５ｎｍ以上の２５ｎｍ以下の範囲で吸収層１５の厚みを設定することで十分な効果が得られた。
【００８４】  吸収層１５として、他の金属酸化物からなる層が用いられてもよい。またチタン窒化物（ＴｉＮ）等の金属窒化物や、カーボン（Ｃ）が用いられてもよい。図１２に示すように、屈折率ｎ＝１．５５、消衰係数ｋ＝１．５のチタン窒化物（ＴｉＮ）や、屈折率ｎ＝２．３８、消衰係数ｋ＝０．８のカーボン（Ｃ）からなる吸収層を形成した。この場合でも、迷光の発生を十分に抑制することができた。なお上記したように、ＡＬＤ法により、金属窒化物の層を容易に成膜することが可能である。
【００８５】  最上層１６としては、反射防止性能の点から低屈折材料が用いられる。典型的には、屈折率が１．５以下の材料が用いられるが、この数値に限定されるわけではない。適正な反射防止性能が発揮されるのであれば、屈折率が１．５よりも大きい材料が用いられてもよい。もちろん二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）に限定されず、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）等の他の材料が用いられてもよい。
【００８６】  最上層１６の厚みとしては、吸収層１５や最下層１７の材料により調整が必要な場合もあるが、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲で設定することで効果が得られた。また７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲で最上層１６の厚みを設定することで、十分な効果が発揮された。もちろんこの範囲に限定されず、任意の範囲が有効な設定範囲として設定されてよい。
【００８７】  最下層１７としては、屈折率が１．５以上の材料からなる層を形成することで、非レンズ面１４での入射角度θが大きい内部光の吸収率を向上することが可能であった。厚みとしては、非レンズ面１４での内部光の吸収率が高くなるように適宜設定されればよい。例えば本実施形態のように酸化チタン（ＴｉＯ2）からなる最下層１７が形成される場合には、図１１に示すように、最下層１７の厚みを約１５ｎｍに設定することで、十分な効果が発揮された。
【００８８】  図１３〜図１５は、他の材料が用いられて構成された反射防止膜１１の特性を示すグラフである。図１３は、最下層１７として、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）からなる層が形成された場合の反射率を示すグラフである。酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）からなる最下層１７が形成される場合でも、レンズ面１３での入射角度θが０°の外部光の反射率を十分に小さくしつつ、非レンズ面１４での入射角度θが７０°の内部光の吸収率を向上することが可能となっている。図１３に示す例では、最下層１７の厚みを約８０ｎｍとすることで、吸収率が最も高くなり、高い効果が発揮されている（波長５５０ｎｍ参照）。
【００８９】  図１４は、チタン窒化物（ＴｉＮ）からなる吸収層１５、及び酸化チタン（ＴｉＯ2）からなる最下層１７が形成された場合のグラフである。また図１５は、チタン窒化物（ＴｉＮ）からなる吸収層１５、及び酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）からなる最下層１７が形成された場合のグラフである。
【００９０】  これらの反射防止膜でも略同様の効果が発揮される。図１４に示す例では、酸化チタン（ＴｉＯ2）からなる最下層１７の厚みを約１５ｎｍに設定することで高い効果が発揮された。また図１５に示す例では、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）からなる最下層１７の厚みを約８０ｎｍに設定することで高い効果が発揮された。すなわち図１１及び１３に示す例と同様の特性が発揮されている。
【００９１】  最下層１７として、酸化チタン（ＴｉＯ2）や酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）以外の材料が用いられてもよく、また屈折率も１．５以上という範囲に限定されるわけではない。材料等によって厚みの調整が必要な場合もあるが、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲で最下層１７の厚みを設定することで、十分な効果が得られた。もちろんこの範囲に限定されず、任意の範囲が有効な設定範囲として設定されてよい。
【００９２】  図１６〜図１８は、迷光の評価例を示す写真である。図２に模式的に示す構成を用いて、波長５５０ｎｍの光にて評価を行った。図１６〜図１８に示すように、コート無、２層の反射防止膜、及び３層の反射防止膜の各々にて、ユーザの眼振り角を異ならせてフレアの発生の有無及び発生量を評価した。目振り角は、０°、１２．５°、及び２５．６°である。
【００９３】  コート無の場合では、いずれの目振り角度においても、フレアが多く発生している。従って迷光が多く発生してしまっているのがわかる。
【００９４】  ２層の反射防止膜１１の構成は、（最下層なし／吸収層（ＴｉＮ）／最上層（ＳｉＯ2））である。吸収層（ＴｉＮ）の厚みは７ｎｍであり、最上層（ＳｉＯ2）の厚みは７０ｎｍである。波長５５０ｎｍでの入射角度０〜４０°の反射率は０．８％以下であった。入射角度０°の外部光の吸収率は２４％、入射角度５０°の内部光の吸収率は４６％であった。図１６〜図１８に示すように、２層の反射防止膜を形成することで、フレアが少なくなっているのがわかる。すなわち迷光の発生が抑制されていることがわかる。
【００９５】  ３層の反射防止膜１１の構成は、（最下層（Ａｌ2Ｏ3）／吸収層（ＴｉＮ）／最上層（ＳｉＯ2））である。最下層（Ａｌ2Ｏ3）の厚みは、５０ｎｍであり、吸収層（ＴｉＮ）の厚みは６ｎｍである。また最上層（ＳｉＯ2）の厚みは８０ｎｍである。波長５５０ｎｍでの入射角度０〜４０°の反射率は０．９％以下であった。入射角度０°の外部光の吸収率は２０％、入射角度５０°の内部光の吸収率は５３％であった。
【００９６】  図１６〜図１８に示すように、３層の反射防止膜１１を形成することで、さらにフレアが少なくなっているのがわかる。これは最下層１７を形成することで、２層の反射防止膜１１と比べて、入射角度５０°の内部光の吸収率が１０％程度増加したからである。最下層１７を形成することによる迷光低減効果が評価結果から確認できる。
【００９７】  なお上記では、波長が５５０ｎｍの光に対する結果を用いて、本技術に係る反射防止膜１１が形成されたフレネルレンズ１０７の構成や作用効果について説明した。もちろん他の波長の光に対しても、吸収層１５、最上層１６、及び最下層１７を含む反射防止膜１１をレンズ面１３及び非レンズ面１４に形成することで、同様の効果を発揮することが可能である。例えば吸収層１５、最上層１６、及び最下層１７の各々の材料や厚み等を適宜設定することで、可視光帯域に含まれる任意の光に対して、同様の効果を発揮することが可能である。もちろん最下層１７が形成されない２層の反射防止膜１１についても同様である。
【００９８】  以上、本実施形態に係るフレネルレンズ１０７では、レンズ面１３及び非レンズ面１４に反射防止膜１１が形成される。反射防止膜１１は、光を吸収する吸収層１５と、それを覆う低屈折率材料からなる最上層１６とを有する。これによりレンズ面１３及び非レンズ面１４において光吸収及び反射防止が実現され、迷光の発生が十分に抑制される。またレンズ面１３及び非レンズ面１４に同じ反射防止膜１１を形成すればよいので、製造が容易である。
【００９９】  特許文献１に記載のフレネルレンズの製造方法では、斜方蒸着によりＡＬ等の補助膜がレンズ面のみに成膜された後に、スパッタによりカーボン等の光吸収膜が全面に形成される。そしてそのフレネルレンズがアルカリ溶液に浸され、補助膜が除去されることで、非レンズ面のみに光吸収膜が残ったフレネルレンズが作製可能とされている。
【０１００】  この製造方法では、装置の異なるプロセスが３工程にわたるためコストが高くなる。また非レンズ面に光吸収膜のみが形成されていることから、特に、外部から非レンズ面に入る光に関しては、コート無よりも反射が高くなり迷光が多く発生してしまう。更に、レンズ面に反射防止性能がないため、レンズ面から発生する迷光にも対応できていない。
【０１０１】  本実施形態では、吸収層１５を一部に使用した多層反射防止膜１１が、レンズ主面１２の全面にコートされる。これにより外部から非レンズ面１４に入る入射角度が大きい光の反射を抑えながら、レンズ面１３に入る入射角度が小さい光の反射防止の両立を行うことが可能となる。また内部から非レンズ面１４に入る入射角度が大きい光を十分に吸収することが可能となる。この結果、迷光の発生を十分に抑制することが可能となる。
【０１０２】  ＜その他の実施形態＞  本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
【０１０３】  図９及び図１０に示すように、本技術に係る反射防止膜１１を形成することで、入射角度θが小さい光が若干吸収される。すなわちレンズ面１３を通る有効な画像光も吸収されるので若干の光量ロスが発生する。
【０１０４】  従って、反射防止膜１１のレンズ面１３に形成される領域、すなわち図８に示す第１の反射防止膜１１ａの透過率を向上させることが有効である。例えば吸収層１５としてアルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）等の金属酸化物が用いられる場合に、レンズ面１３に形成される領域の吸収層１５（第１の反射防止膜１１ａ中の吸収層１５）の酸素の添加量を、非レンズ面１４に形成される領域の吸収層１５（第２の反射防止膜１１ｂ中の吸収層１５）の酸素の添加量よりも多くする。これにより第１の反射防止膜１１ａ中の吸収層１５の消衰係数を小さくするが可能となり、吸収率を抑制することが可能となる。この結果、第１の反射防止膜１１ａの透過率を向上させることが可能となる。
【０１０５】  酸素の添加量を制御する方法としては、例えば異方性アッシングが用いられる。例えばＡＬＤ法等により反射防止膜１１が形成された後に、アッシング装置にて異方性アッシングが実行される。酸素等の反応性ガスを減らし平均自由工程を伸ばすことで反応性ガスの衝突を抑え、光学部品に対して垂直に発生する電界方向の入射角度成分が支配的になるようにプロセス条件がコントロールされる。
【０１０６】  これにより電解方向と平行な垂直面の反応が抑えられ、垂直面以外の面が選択的に酸化促進される。この結果、垂直面となる非レンズ面１４に形成された吸収層１５の酸化は促進されず、レンズ面１３に形成された吸収層１５の酸化が促進される。これにより第１の反射防止膜１１ａ中の吸収層１５の酸素の添加量を選択的に多くすることが可能となる。このように異方性アッシングを用いることで、レンズ面１３に形成された吸収層１５の吸収率を選択的に低減することができる。
【０１０７】  なお吸収層１５が形成された後に異方性アッシングが実行され、その後に最上層１６が形成されてもよい。この場合、工程が若干複雑になるが、吸収率（透過率）の制御の精度は向上する。また吸収層１５に金属窒化物が用いられる場合に、異方性アッシングにより窒素の添加量が制御されてもよい。
【０１０８】  上記では、凹凸形状を有するレンズ主面１２に反射防止膜１１を形成する方法として、ＡＬＤ法を例に挙げた。この方法に限定されず、蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）等の他の方法が用いられてもよい。凹凸の形状によっては、これらの方法でも、反射防止膜１１を面全体に形成することができる。
【０１０９】  上記では、本技術に係る「上層」及び「下層」が最上層１６及び最下層１７となる場合を例に挙げた。これらの構成に限定されず、「上層」の上に他の層が構成される場合や、「下層」の下に他の層が形成される場合もあり得る。また「上層」と「吸収層」の間、「下層」と「吸収層」の間に、他の層が形成される場合もあり得る。
【０１１０】  上記では、レンズ機能を有するレンズ面１３（第１の面）と、レンズ機能を有さない非レンズ面１４（第２の面）を有するフレネルレンズ１０７を例に挙げた。これに限定されず、他のレンズや光学部品にも、本技術に適用可能である。第１及び第２の面のいずれもが所定の機能を有さない場合、逆に両方の面がそれぞれ所定の機能を有する場合等にも、本技術は適用可能である。例えば第１及び第２の面の両方にレンズ機能が備えられる場合や、第１の面にはレンズ機能が備えられており、第２の面には他の機能が備えられている場合等、種々の構成が考えられる。
【０１１１】  図４に示す背面１９に、本技術に係る反射防止膜１１が形成されてもよい。すなわち「第１の面」及び「第２の面」以外の面にも、「多層膜」が形成される場合もあり得る。
【０１１２】  所定の波長帯域に含まれる複数の光が合成された合成光が用いられる場合にも、本技術は適用可能である。例えば可視光帯域に含まれるＲＧＢの各光が合成された白色光に対しても、「吸収層」「上層」「下層」の材料や厚み等を適宜設定することで、上記した効果を発揮することが可能である。例えば合成光に対するシミュレーション結果にもとづいて「多層膜」が形成されてもよいし、合成光に含まれる所定の波長光を基準として「多層膜」が形成されてもよい。その他、任意の方法で本技術に係る「多層膜」が形成されてよい。もちろん「下層」が形成されない場合でも同様である。
【０１１３】  以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。
【０１１４】  なお、本技術は以下のような構成も採ることができる。（１）第１の面と、前記第１の面と凹部又は凸部を構成する第２の面とを含む光学部と、  前記第１及び前記第２の面に形成され、光を吸収する吸収層と前記吸収層を覆う低屈折率材料からなる上層とを有する多層膜と  を具備する光学部品。（２）（１）に記載の光学部品であって、  前記第１の面は、入射光に対して所定の機能を有する  光学部部品。（３）（１）又は（２）に記載の光学部品であって、  前記多層膜は、前記光の入射角度に応じた光吸収特性を有する  光学部品。（４）（１）から（３）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記多層膜は、前記光学部の内部から前記多層膜に入射する前記入射角度が５０°以上の内部光に対する吸収率が、前記光学部の外部から前記多層膜に入射する前記入射角度が略０°の外部光に対する吸収率よりも高い  光学部品。（５）（１）から（４）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記多層膜は、前記光学部の内部から前記多層膜に入射する内部光に対して、前記入射角度が大きくなるほど吸収率が高くなる  光学部品。（６）（１）から（５）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記多層膜は、前記光学部の外部から前記多層膜に入射する前記入射角度が４０°以下の外部光に対する反射率が、４％以下である  光学部品。（７）（１）から（６）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記吸収層は、金属酸化物、金属窒化物、又はカーボンを含む  光学部品。（８）（１）から（７）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記吸収層は、アルミニウム酸化物、又はチタン窒化物を含む  光学部品。（９）（１）から（８）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記吸収層は、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下の厚みを有する  光学部品。（１０）（１）から（９）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記上層は、屈折率が１．５以下の前記低屈折率材料からなる  光学部品。（１１）（１）から（１０）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記上層は、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の厚みを有する  光学部品。（１２）（１）から（１１）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記多層膜は、前記光学部と前記吸収層との間に形成される下層を有する  光学部品。（１３）（１）から（１２）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記下層は、屈折率が１．５以上の材料からなる  光学部品。（１４）（１）から（１３）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記下層は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みを有する  光学部品。（１５）（１）から（１４）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記光学部は、前記第１の面であるレンズ面と、前記第２の面である非レンズ面とを含むフレネルレンズである  光学部品。（１６）（１）から（１５）のうちいずれか１つに記載の光学部品であって、  前記吸収層は、金属酸化物であり、前記第１の面に形成される領域の酸素の添加量が、前記第２の面に形成される領域の酸素の添加量よりも多い  光学部品。（１７）第１の面と、前記第１の面と凹部又は凸部を構成する第２の面とを含む部品を作成し、  ＡＬＤ（���子層堆積）法により、前記第１及び前記第２の面に、光を吸収する吸収層と前記吸収層を覆う低屈折率材料からなる上層とを有する多層膜を形成する  光学部品の製造方法。（１８）  光源部と、    第１の面と、前記第１の面と凹部又は凸部を構成する第２の面とを含む光学部と、    前記第１及び前記第２の面に形成され、光を吸収する吸収層と前記吸収層を覆う低屈折率材料からなる上層とを有する多層膜と  を有する光学部品を含み、前記光源部から出射された光に基づいて画像を生成する画像生成部と  を具備する画像表示装置。
【符号の説明】
【０１１５】  １０、１０'…レンズ部  １１、１１'…反射防止膜  １１ａ…第１の反射防止膜  １１ｂ…第２の反射防止膜  １３…レンズ面  １４…非レンズ面  １５…吸収層  １６…最上層  １７…最下層  １００…ＨＭＤ  １０４…光源部  １０５…画像生成部  １０７…フレネルレンズ  １０７'…両面フレネルレンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【国際調査報告】
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