(57)【要約】  部品間シールドの特性を維持しつつ、部品間シールドを設けることによる配線基板へのダメージを軽減する。  高周波モジュール１ａは、配線基板２と、配線基板２の上面２ａに実装された、複数の部品３ａ〜ｄと、部品３ｂと部品３ｃとの間に実装されたシールド部品４と、各部品３ａ〜３ｄおよびシールド部品４を被覆する封止樹脂層５と、封止樹脂層の表面を被覆するシールド膜６とを備え、封止樹脂層５の上面５ａには、シールド部品４が露出する凹部１０が形成されるとともに、該凹部１０は、封止樹脂層５の側面に至らないように端縁の内側に形成され、シールド膜６は、凹部１０の壁面１０ａ、および、シールド部品４の凹部１０を介して露出する部分をさらに被覆する。
2019004332.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線基板と、
前記配線基板の主面に実装された、第１部品および第２部品と、
前記配線基板の主面における、前記第１部品と前記第２部品の間に実装された導電部材と、
前記配線基板に当接する当接面と、該当接面に対向する対向面と、前記当接面と前記対向面の端縁同士を繋ぐ側面とを有し、前記配線基板、前記第１部品、前記第２部品および前記導電部材を被覆する封止樹脂層と、
少なくとも前記封止樹脂層の前記対向面および前記側面を被覆するシールド膜とを備え、
前記導電部材は、自体が導体であるか、あるいは、一方面が前記第１部品側に向き、他方面が前記第２部品側に向く板状の導体を有し、
前記封止樹脂層の前記対向面から前記導電部材に向かって、前記導電部材の一部が露出するように凹部が形成されるとともに、該凹部は、前記封止樹脂の側面に至らない当該封止樹脂の内側に形成され、
前記シールド膜は、前記凹部の壁面、および、前記導電部材の露出する部分をさらに被覆する
ことを特徴とする高周波モジュール。
【請求項２】
前記封止樹脂層と前記シールド膜間に形成された磁性膜を備えることを特徴とする
請求項１に記載の高周波モジュール。
【請求項３】
前記シールド膜を覆うように形成された磁性膜を備えることを特徴とする請求項１に記載の高周波モジュール。
【請求項４】
前記磁性膜は、前記凹部の壁面にも形成されていることを特徴とする請求項２または３に記載の高周波モジュール。
【請求項５】
前記導電部材は複数あり、
前記凹部は、個々の前記導電部材に応じて設けられていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の高周波モジュール。
【請求項６】
前記導電部材は複数あり、
前記凹部は、
前記複数の導電部材が露出しない深さで形成された１つの有底部と、
該有底部の底面に設けられ、前記複数の導電部材が個別に露出する複数の貫通部とを有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の高周波モジュール。
【請求項７】
前記導電部材は複数あり、
前記凹部は、前記複数の導電部材の全てが露出する１つの凹部であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の高周波モジュール。
【請求項８】
前記凹部は、前記封止樹脂層の前記当接面から前記対向面に向かう方向に拡開した形状を有することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の高周波モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シールドを備える高周波モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯端末装置などに搭載される高周波モジュールには、外部からのノイズが実装部品に影響するのを防止するために、実装部品を封止する樹脂層の表面にシールド膜を形成するものがある。また、複数の部品が実装される場合は、部品自身から輻射されるノイズの相互干渉を防止するために、部品間シールドを設けるものもある。例えば、図１５に示すように、特許文献１に記載の高周波モジュール１００は、配線基板１０１の上面１０１ａに複数の部品１０２ａ，１０２ｂが実装され、各部品１０２ａ，１０２ｂが封止樹脂層１０３により封止される。封止樹脂層１０３の表面はシールド層１０４で被覆されるとともに、部品１０２ａと部品１０２ｂとの間には、シールド壁１０５ａが形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１１１８０２号公報（段落００３９〜００４７、図５等参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の高周波モジュール１００では、シールド壁１０５ａを形成するのに、レーザ加工やダイシングなどによって封止樹脂層１０３に貫通溝を形成するため、配線基板１０１へのダメージが問題となる。そこで、シールド壁１０５ｂのように、配線基板１０１の上面１０１ａとの間に隙間を設けるようにすれば、配線基板１０１へのダメージを軽減することができるが、この場合、部品間シールドとしての機能が低下してしまう。【０００５】
本発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、部品間シールドの特性を維持しつつ、部品間シールドを設けることによる配線基板へのダメージを軽減することができる高周波モジュールを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記した目的を達成するために、本発明の高周波モジュールは、配線基板と、前記配線基板の主面に実装された、第１部品および第２部品と、前記配線基板の主面における、前記第１部品と前記第２部品の間に実装された導電部材と、前記配線基板に当接する当接面と、該当接面に対向する対向面と、前記当接面と前記対向面の端縁同士を繋ぐ側面とを有し、前記配線基板、前記第１部品、前記第２部品および前記導電部材を被覆する封止樹脂層と、少なくとも前記封止樹脂層の前記対向面および前記側面を被覆するシールド膜とを備え、前記導電部材は、自体が導体であるか、あるいは、一方面が前記第１部品側に向き、他方面が前記第２部品側に向く板状の導体を有し、前記封止樹脂層の前記対向面から前記導電部材に向かって、前記導電部材の一部が露出するように凹部が形成されるとともに、該凹部は、前記封止樹脂の側面に至らない当該封止樹脂の内側に形成され、前記シールド膜は、前記凹部の壁面、および、前記導電部材の露出する部分をさらに被覆することを特徴としている。【０００７】
この構成によれば、封止樹脂層に形成された凹部は、導電部材が露出する深さ、すなわち、配線基板の主面に到達しない深さで形成されるため、凹部をレーザ加工やダイシングなどで形成しても、配線基板へのダメージを軽減することができる。また、凹部の壁面がシールド膜で被覆されるため、当該部分（凹部）のシールド膜を第１部品と第２部品との間の部品間シールドとして機能させることができる。また、凹部と配線基板との間の隙間には導電部材が配置されるが、当該部品は、それ自体が導体であるか、あるいは、一方面が第１部品側に向き、他方面が第２部品側に向く板状の導体を有する部品であるため、導電部材も、第１部品と第２部品との間の部品間シールドの一部として機能させることができる。そのため、凹部が配線基板の主面に到達しない深さであっても、第１部品と第２部品との間の部品間シールドの特性を維持することができる。また、凹部は、封止樹脂層の前記対向面の内側に形成されるため、凹部が封止樹脂層を分断することがない。そのため、封止樹脂層に凹部を形成したことに起因する、高周波モジュールの機械強度の劣化を防止することができる。【０００８】
また、前記封止樹脂層と前記シールド膜間に形成された磁性膜を備えていてもよい。【０００９】
この構成によれば、低周波のノイズをより効果的に遮断できる。【００１０】
また、前記シールド膜を覆うように形成された磁性膜を備えていてもよい。【００１１】
この構成によれば、低周波のノイズをより効果的に遮断できる。【００１２】
また、前記磁性膜は、前記凹部の壁面にも形成されていてもよい。【００１３】
この構成によれば、低周波のノイズをさらに効果的に遮蔽できる。【００１４】
また、前記導電部材は複数あり、前記凹部は、個々の前記導電部材に応じて設けられていてもよい。【００１５】
この構成によれば、各凹部をレーザ加工などにより容易に形成することができる。【００１６】
また前記導電部材は複数あり、前記凹部は、前記複数の導電部材が露出しない深さで形成された１つの有底部と、該有底部の底面に設けられ、前記複数の導電部材が個別に露出する複数の貫通部とを有していてもよい。【００１７】
この構成によれば、凹部の開口を容易に広くすることができるため、例えば、シールド膜をスパッタなどの薄膜形成技術を用いて形成する際に、凹部内のシールド膜の膜厚を容易に厚く形成でき、第１部品と第２部品との間の部品間シールドの特性を向上させることができる。【００１８】
また、前記導電部材は複数あり、前記凹部は、前記複数の導電部材の全てが露出する１つの凹部であってもよい。【００１９】
この構成によれば、凹部の開口を容易に広くすることができるため、例えば、シールド膜をスパッタなどの薄膜形成技術を用いて形成する際に、凹部内のシールド膜の膜厚を容易に厚く形成でき、第１部品と第２部品との間の部品間シールドの特性を向上させることができる。【００２０】
また、前記凹部は、前記封止樹脂層の前記当接面から前記対向面に向かう方向に拡開した形状を有していてもよい。【００２１】
この構成によれば、シールド膜の形成時にシールド膜の形成材料の凹部への侵入口の面積を容易に広げることができ、第１部品と第２部品との間の部品間シールドの特性を向上させることができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、封止樹脂層に形成された凹部は、導電部材が露出する深さ、すなわち、配線基板の主面に到達しない深さで形成されるため、凹部をレーザ加工やダイシングなどで形成しても、配線基板へのダメージを軽減することができる。また、凹部の壁面がシールド膜で被覆されるため、当該部分（凹部）のシールド膜を第１部品と第２部品との間の部品間シールドとして機能させることができる。また、凹部と配線基板との間の隙間には導電部材が配置されるが、当該部品は、それ自体が導体であるか、あるいは、一方面が第１部品側に向き、他方面が第２部品側に向く板状の導体を有する部品であるため、導電部材も、第１部品と第２部品との間の部品間シールドの一部として機能させることができる。そのため、凹部が配線基板の主面に到達しない深さであっても、第１部品と第２部品との間の部品間シールドの特性を維持することができる。また、凹部は、封止樹脂層の前記対向面の内側に形成されるため、凹部が封止樹脂層を分断することがない。そのため、封止樹脂層に凹部を形成したことに起因する、高周波モジュールの機械強度の劣化を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。
【図２】図１の高周波モジュールのシールド膜および封止樹脂層を除いた状態の平面図である。
【図３】封止樹脂層に形成された凹部を説明するための図である。
【図４】凹部の形状と、凹部の壁面に形成されたシールド膜の膜厚との関係を示す図である。
【図５】シールド部品の配置の変形例を示す図である。
【図６】本発明の第２実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。
【図７】図６の高周波モジュールのシールド膜および封止樹脂層を除いた状態の平面図である。
【図８】シールド部品の配置の変形例を示す図である。
【図９】凹部形状の変形例を示す図である。
【図１０】凹部形状の他の変形例を示す図である。
【図１１】本発明の第３実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。
【図１２】図１１の磁性シートの変形例を示す図である。
【図１３】本発明の第４実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。
【図１４】図１３の磁性膜の変形例を示す図である。
【図１５】従来の高周波モジュールの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
＜第１実施形態＞
本発明の第１実施形態にかかる高周波モジュール１ａについて、図１〜図４を参照して説明する。なお、図１は高周波モジュールの断面図であって、図２のＡ−Ａ矢視断面図、図２はシールド膜６および封止樹脂層５を除いた状態の高周波モジュール１ａの平面図、図３は凹部１０を説明するための図、図４は、凹部１０の形状と、凹部１０の壁面１０ａに形成されたシールド膜６の膜厚との関係を示す図である。
【００２５】
この実施形態にかかる高周波モジュール１ａは、図１に示すように、配線基板２と、該配線基板２の上面２ａに実装された複数の部品３ａ〜３ｄおよびシールド部品４と、配線基板２の上面２ａに積層された封止樹脂層５と、封止樹脂層５を被覆するシールド膜６と備え、例えば、高周波信号が用いられる電子機器のマザー基板等に搭載される。
【００２６】
配線基板２は、例えば、低温同時焼成セラミックやガラスエポキシ樹脂などで形成されており、配線基板２の上面２ａ（本発明の「配線基板の主面」に相当）には、各部品３ａ〜３ｄやシールド部品４の実装用の実装電極７が形成される。配線基板２の下面２ｂには、外部接続用の複数の外部電極（図示省略）が形成される。また、配線基板２の内部には、各種の内部配線電極８やビア導体９が形成される。なお、図１では内部配線電極８として
グランド電極のみを図示し、他は図示省略している。
【００２７】
実装電極７、内部配線電極８および外部電極は、いずれもＣｕやＡｇ、Ａｌ等の配線電極として一般的に採用される金属で形成されている。また、ビア導体９は、ＡｇやＣｕ等の金属で形成されている。なお、各実装電極７、外部電極には、Ｎｉ／Ａｕめっきがそれぞれ施されていてもよい。
【００２８】
部品３ａ〜３ｄは、ＳｉやＧａＡｓ等の半導体で形成された半導体素子や、チップインダクタ、チップコンデンサ、チップ抵抗等のチップ部品で構成され、半田接合などの一般的な表面実装技術により配線基板２に実装される。なお、この実施形態では、部品３ａ〜３ｃは、半導体素子などの能動部品であり、部品３ｄがチップコンデンサなどの受動部品で形成されている。
【００２９】
シールド部品４（本発明の「導電部材」に相当）は、直方体のＣｕブロックで形成され、他の部品３ａ〜３ｄとともに、配線基板２の上面２ａに実装される。また、シールド部品４は、実装電極７およびビア導体９を介してグランド電極（内部配線電極８）に接続される。なお、シールド部品４の形状は直方体に限らないが、他の部品３ａ〜３ｄのいずれかと同じ形状であるのが好ましい。このようにすると、他の部品３ａ〜３ｄと同等の実装性を確保することができる。また、シールド部品４を形成する導体は、Ｃｕに限らずＡｌやＡｇなど、適宜変更することができる。
【００３０】
封止樹脂層５は、配線基板２の上面２ａに配設されて、各部品３ａ〜３ｄおよびシールド部品４を被覆する。封止樹脂層５は、エポキシ樹脂等の封止樹脂として一般的に採用される樹脂で形成することができる。ここで、封止樹脂層５の上面５ａが、本発明の「封止樹脂層の対向面」に相当し、下面５ｂが、本発明の「封止樹脂層の当接面」に相当する。
【００３１】
また、封止樹脂層５の上面５ａには、シールド部品４の上面４ａの一部を露出させるための凹部１０が形成される。この凹部１０は、シールド部品４の上面４ａを底面として、封止樹脂層５の下面５ｂから上面５ａに向かう方向に拡開する角錐台形状で形成される（図１および図３参照）。また、凹部１０は、封止樹脂層５の上面５ａにおいて開口１０ｂを有している。すなわち、凹部１０は、封止樹脂層５の側面５ｃには至っておらず、封止樹脂層５の端縁の内側に配置される。当該凹部１０は、例えば、レーザ加工で形成することができる。なお、凹部１０の形状は、角錐台形状に限らず、適宜変更可能である。
【００３２】
シールド膜６は、封止樹脂層５の上面５ａと側面５ｃ、配線基板２の側面２ｃを被覆するとともに、凹部１０の壁面１０ａおよび凹部１０を介して露出するシールド部品４の上面４ａとを被覆する。そして、当該凹部１０の壁面１０ａを被覆するシールド膜６とシールド部品４とにより、部品３ｂと部品３ｃとの間の部品間シールドが形成される。なお、レーザ加工で凹部１０を形成する場合は、シールド部品４の上面４ａを露出させる際に、該上面４ａを若干削って酸化被膜を除去することにより、シールド膜６とシールド部品との接続抵抗を下げることができる。ここで、部品間シールドの対象となる部品３ｂおよび部品３ｃが、本発明の「第１部品」および「第２部品」に相当する。
【００３３】
また、グランド電極（内部配線電極８）の端縁の一部は配線基板２の側面２ｃから露出しており、この箇所でシールド膜６とグランド電極とが接続することにより、シールド膜６が接地される。さらに、シールド膜６はシールド部品４とも接触していることから、シールド部品４を介しても接地が可能となっている。なお、シールド膜６は、例えば、スパッタリング法や蒸着法などの成膜方法で形成することができ、封止樹脂層５の上面５ａに積層された密着膜と、密着膜に積層された導電膜と、導電膜に積層された保護膜とを有する多層構造とすることができる。
【００３４】
この場合、密着膜は、導電膜と封止樹脂層５との密着強度を高めるために設けられたものであり、例えば、ＳＵＳなどの金属で形成することができる。導電膜は、シールド膜６の実質的なシールド機能を担う層であり、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌのうちのいずれかの金属で形成することができる。保護膜は、導電膜が腐食したり、傷が付いたりするのを防止するために設けられたものであり、例えば、ＳＵＳで形成することができる。
【００３５】
スパッタリング法や蒸着法などの成膜プロセスを用いてシールド膜６を形成する場合、凹部１０の壁面１０ａを被覆する部分の膜厚が、他の部分を被覆する部分よりも薄くなる傾向がある。所望のシールド特性を確保するために、シールド膜６の膜厚は、２μｍ程度とすることが好ましい。そこで、発明者らは、凹部１０の形状によって、凹部１０の壁面１０ａを被覆するシールド膜６の膜厚がどのように変化するかを測定した。なお、凹部１０の壁面１０ａの膜厚は、シールド膜６の形成材料の凹部１０の内部への侵入口が大きくなる程厚くなり、凹部１０の深さが深くなるにつれて薄くなることが分かっている。そこで、封止樹脂層５の上面５ａに形成される凹部１０の横長矩形状の開口１０ｂのうち、短辺の長さをＷ１（図３参照）、凹部１０の深さＨ１（図１参照）とした場合に、これらの比（Ｗ１／Ｈ１）に対して、膜厚がどのように変化したかをプロットしたのが図４である。結果としては、
（ｉ）Ｗ１＝５００μｍ、Ｈ１＝５００μｍ（Ｗ１／Ｈ１＝１．０）のときのシールド膜６の膜厚が１．８μｍ
（ｉｉ）Ｗ１＝６５０μｍ、Ｈ１＝５００μｍ（Ｗ１／Ｈ１＝１．３３）のときのシールド膜６の膜厚が３．２μｍ
（ｉｉｉ）Ｗ１＝８００μｍ、Ｈ１＝５００μｍ（Ｗ１／Ｈ１＝１．６０）のときのシールド膜６の膜厚が３．７μｍ
（ｉｖ）Ｗ１＝９００μｍ、Ｈ１＝５００μｍ（Ｗ１／Ｈ１＝１．８０）のときのシールド膜６の膜厚が４．１μｍ
（ｖ）Ｗ１＝１０００μｍ、Ｈ１＝５００μｍ（Ｗ１／Ｈ１＝２．００）のときのシールド膜６の膜厚が４．９μｍであった。
これらのデータによれば、（Ｗ１／Ｈ１）が１．３３以上であれば、所望のシールド特性を得るためのシールド膜６の膜厚（＝２μｍ）を確保することができるため、好ましい。なお、データの近似線によれば、（Ｗ１／Ｈ１）が１．０２以上であれば、所望のシールド特性を得るためのシールド膜６の膜厚（＝２μｍ）を確保することができる。
【００３６】
したがって、上記した実施形態によれば、封止樹脂層５に形成された凹部１０は、シールド部品４の上面４ａが露出する深さ、すなわち、配線基板２の上面２ａに到達しない深さで形成されるため、凹部１０をレーザ加工やダイシングなどで形成しても、配線基板２へのダメージを軽減することができる。また、凹部１０の壁面１０ａがシールド膜６で被覆されるため、当該部分（凹部１０）のシールド膜６を部品３ｂと部品３ｃとの間の部品間シールドとして機能させることができる。また、凹部１０と配線基板２との間の隙間にＣｕブロックからなるシールド部品４が配置されるため、凹部１０が配線基板２の上面２ａに到達しない深さであっても、部品３ｂと部品３ｃとの間の部品間シールドの特性を維持することができる。また、凹部１０は、封止樹脂層５の上面５ａの内側に形成されるため、凹部１０が封止樹脂層５を分断することがない。そのため、封止樹脂層５に凹部１０を形成したことに起因する、高周波モジュール１ａの機械強度の劣化を防止することができる。
【００３７】
また、凹部１０は、封止樹脂層５の下面５ｂから上面５ａに向かう方向に拡開した形状を有するため、シールド膜６の形成時にシールド膜の形成材料の凹部１０への侵入口（開口１０ｂ）の面積を容易に広げることができ、部品３ｂと部品３ｃとの間の部品間シールドの特性を向上させることができる。
【００３８】
また、１つのシールド部品４を実装することにより、部品３ｂと部品３ｃとの間の部品間シールドを形成するため、配線基板２の上面２ａにおける部品間シールドの占有スペースが少なくて済み、配線基板２の実装自由度が向上する。
【００３９】
（シールド部品の配置の変形例）
上記した実施形態では、部品３ｂと部品３ｃとの間の部品間シールドについて説明したが、部品３ｃと部品３ａとの間に部品間シールドを形成したい場合は、図５に示すように、部品３ａと部品３ｃとの間に別のシールド部品４を配置するとよい。この場合、部品３ａと部品３ｃとの間に配置されたシールド部品４の上面４ａが露出するように別の凹部（図示省略）を形成し、当該凹部の壁面にもシールド膜６を形成するとよい。なお、当該凹部は、上述の凹部１０と同様の形状とすればよい。ここで、部品間シールドの対象となる部品３ａおよび部品３ｃも、本発明の「第１部品」および「第２部品」に相当する。
【００４０】
＜第２実施形態＞
本発明の第２実施形態にかかる高周波モジュール１ｂについて、図６および図７を参照して説明する。なお、図６は高周波モジュール１ｂの断面図であって、図７のＢ−Ｂ矢視断面図、図７はシールド膜６および封止樹脂層５を除いた状態の高周波モジュール１ｂの平面図である。
【００４１】
この実施形態にかかる高周波モジュール１ｂが、図１〜５を参照して説明した第１実施形態の高周波モジュール１ａと異なるところは、図６および図７に示すように、部品間シールドの構成が異なることである。その他の構成は、第１実施形態の高周波モジュール１ａと同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。
【００４２】
この場合、部品３ｂと部品３ｃとの間に複数（この実施形態では３つ）のシールド部品４が配置される。各シールド部品４は、両部品３ｂ、３ｃとの間で一列に配列される。また、封止樹脂層５の上面５ａには、個々のシールド部品４に応じて凹部１０が設けられる。各凹部１０は、第１実施形態の凹部１０と同様に角錐台形状で形成され、それぞれの凹部１０の壁面１０ａ、および、凹部１０を介して露出したシールド部品４の上面４ａがシールド膜６により被覆される（図６参照）。また、各シールド部品４は、ビア導体９を介してグランド電極（内部配線電極８）に接続される。
【００４３】
この実施形態によれば、封止樹脂層５に形成された各凹部１０は、シールド部品４の上面４ａが露出する深さ、すなわち、配線基板２の上面２ａに到達しない深さで形成されるため、各凹部１０をレーザ加工やダイシングなどで形成しても、配線基板２へのダメージを軽減することができる。また、各凹部１０の壁面１０ａがシールド膜６で被覆されるため、当該部分（凹部１０）のシールド膜６を部品３ｂと部品３ｃとの間の部品間シールドとして機能させることができる。また、各凹部１０と配線基板２との間の隙間それぞれにＣｕブロックからなるシールド部品４が配置されるため、各凹部１０が配線基板２の上面２ａに到達しない深さであっても、部品３ｂと部品３ｃとの間の部品間シールドの特性を維持することができる。また、第１実施形態よりも部品３ｂと部品３ｃとの間の部品間シールドの形成領域が広がるため、シールド特性が向上する。また、各凹部１０は、封止樹脂層５の上面５ａの内側に形成されるため、各凹部１０が封止樹脂層５を分断することがない。そのため、封止樹脂層５に各凹部１０を形成したことに起因する、高周波モジュール１ａの機械強度の劣化を防止することができる。
【００４４】
（シールド部品の配置の変形例）
上記した実施形態では、部品３ｂと部品３ｃとの間の部品間シールドについて説明したが、部品３ｃと部品３ａとの間に部品間シールドを形成したい場合は、図８に示すように、部品３ａと部品３ｃとの間に別のシールド部品４を複数配置してもよい。この場合、部品３ａと部品３ｃとの間に配置された各シールド部品４に応じて個別に凹部（図示省略）を形成し、当該凹部の壁面にもシールド膜６を形成するとよい。なお、当該凹部は、第１実施形態の凹部１０と同様の形状とすればよい。また、図７および図８では、シールド部品４を一直線上に等間隔に並べて配置しているが、部品間の電磁干渉分布の強度などに応じて、一直線上からずらして配置してもよいし、等間隔でなくてもよい。
【００４５】
（凹部形状の変形例）
第２実施形態では、各シールド部品４に応じて個別に凹部１０を形成する場合について説明したが、凹部の構造は適宜変更することができる。例えば、図９に示すように、凹部１１が、各シールド部品４の上面４ａが露出しない深さで形成された１つの有底部１１ａと、該有底部１１ａの底面１１ａ１に設けられた、各シールド部品４の上面４ａが個別に露出する複数の貫通部１１ｂとで形成されていてもよい。この場合、有底部１１ａは、各シールド部品４に対する共通の凹部として形成されることから、開口面積が広く形成される。そのため、上記の凹部１０のように拡開した形状でなくとも、壁面を被覆するシールド膜６の膜厚（例えば、２μｍ以上）を容易に確保することができる。また、各貫通部１１ｂも、深さが上述の凹部１０よりも浅いため、必ずしも拡開した形状でなくてもよい。
【００４６】
また、図１０に示すように、シールド部品４が複数実装される場合は、個々のシールド部品４に対して個別に凹部１０を形成する代わりに、全てのシールド部品４の上面４ａが露出する１つの凹部１２を形成してもよい。この場合、凹部１２は、各シールド部品４に対する共通の凹部として形成されることから、開口面積が広く形成される。そのため、上記の凹部１０のように拡開した形状でなくとも、壁面を被覆するシールド膜６の膜厚（例えば、２μｍ以上）を容易に確保することができる。
【００４７】
＜第３実施形態＞
本発明の第３実施形態にかかる高周波モジュール１ｃについて、図１１を参照して説明する。なお、図１１は高周波モジュール１ｃの断面図であって、図１に対応する図である。
【００４８】
この実施形態にかかる高周波モジュール１ｃが、図１〜５を参照して説明した第１実施形態の高周波モジュール１ａと異なるところは、図１１に示すように、磁性シート１３がさらに設けられることである。その他の構成は、第１実施形態の高周波モジュール１ａと同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。
【００４９】
この場合、封止樹脂層５の上面５ａに磁性シート１３（本発明の「磁性膜」に相当）が配置される。凹部１０は、磁性シート１３を貫通し、さらに封止樹脂層５の内に窪んで形成され、当該凹部１０の底からシールド部品４の上面４ａの一部が露出する。また、凹部１０は、第１実施形態と同様、封止樹脂層５の側面には至っておらず、封止樹脂層５の端縁の内側に配置される。また、シールド膜６は、封止樹脂層５の側面５ｃ、配線基板２の側面２ｃ、磁性シート１３の封止樹脂層５の上面５ａに当接していない部分、シールド部品４の凹部１０から露出している部分を含む凹部１０の壁面１０ａを被覆する。
【００５０】
なお、磁性シート１３は、例えば、磁性体からなる金属シートや、樹脂に磁性材料が混合されたシートなどで形成することができる。あるいは、磁性シート１３は、前記のシートに接着材などの樹脂層を積層した積層シートを用いてもよい。また、この実施形態の凹部１０は、例えば、凹部１０が形成されていない状態の封止樹脂層５の上面５ａに平板状の磁性シート１３を配置した後、磁性シート１３の上方からレーザ光を照射し、磁性シート１３および封止樹脂層５それぞれの、凹部１０を形成する部分を除去することにより形成できる。
【００５１】
この実施形態によれば、低周波、特に１００ＫＨｚから１０ＭＨｚのノイズをより効果的に遮断できる。
【００５２】
（磁性シートの変形例）
図１１では、磁性シート１３が、封止樹脂層５とシールド膜６との間に設けられているが、例えば、図１２に示すように、磁性シート１３が、シールド膜６の上面に設けられていてもよい。この場合、磁性シート１３は、粘着層等を介してシールド膜６上に貼り付けられる。磁性シート１３は、凹部１０において開口１０ｂを有する。また、図１２において、磁性シート１３は、凹部１０を除き、封止樹脂層５の上面５ａの略全面を被覆するように形成されているが、一部を覆っている構成であってもよい。このようにしても、低周波、特に１００ＫＨｚから１０ＭＨｚのノイズをより効果的に遮断できる。
【００５３】
＜第４実施形態＞
本発明の第４実施形態にかかる高周波モジュール１ｄについて、図１３を参照して説明する。なお、図１３は高周波モジュール１ｄの断面図であって、図１に対応する図である。
【００５４】
この実施形態にかかる高周波モジュール１ｄが、図１〜５を参照して説明した第１実施形態の高周波モジュール１ａと異なるところは、図１３に示すように、磁性膜１４がさらに設けられることである。その他の構成は、第１実施形態の高周波モジュール１ａと同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。
【００５５】
この場合、封止樹脂層５に第１実施形態と同様の凹部１０が形成され、封止樹脂層５の上面５ａ、シールド部品４の上面４ａの凹部１０から露出している部分を含む凹部１０の壁面１０ａが、磁性膜１４で被覆される。また、シールド膜６は、封止樹脂層５の側面５ｃと、磁性膜１４の封止樹脂層５の上面５ａを被覆する部分と、磁性膜１４の凹部１０の壁面（シールド部品４の凹部１０から露出する部分を含む）を被覆する部分と、配線基板２の側面２ｃとを被覆する。
【００５６】
この実施形態において、磁性膜１４およびシールド膜６は、例えば、封止樹脂層５の上面５ａに凹部１０を形成したあと、スパッタや蒸着法などによる成膜プロセスにより、磁性膜１４を成膜し、その上から同じくスパッタや蒸着法などによりシールド膜６を形成する。このとき、複数の高周波モジュール１ｄがマトリクス状に配列した集合体を形成し、まとめて磁性膜１４を形成したあと、ダイシングやレーザ加工などにより個々の高周波モジュール１ｄに個片化し、その後、シールド膜６を形成する。このようにすると、磁性膜１４は、封止樹脂層５の側面５ｃを被覆せず、シールド膜６が側面５ｃを被覆する構成を実現できる。また、磁性膜１４の他の形成方法として、磁性体ペーストを封止樹脂層５の上面５ａおよび凹部１０の壁面１０ａに塗布する方法もある。また、めっき工法を用いて磁性膜１４を形成することもできる。
【００５７】
この実施形態によれば、低周波、特に１００ＫＨｚから１０ＭＨｚのノイズをより効果的に遮断できる。
【００５８】
（磁性膜の変形例）
図１３において、磁性膜１４は、封止樹脂層５とシールド膜６との間に設けられているが、当該磁性膜１４は、図１４に示すように、シールド膜６を覆うように設けられていてもよい。この場合、磁性膜１４は、スパッタや蒸着法などによる成膜プロセスにより形成される。磁性膜１４は、凹部１０の壁面１０ａにも形成される。磁性膜１４の他の形成方法として、磁性体ペーストを塗布する方法、めっき工法を用いてもよい。このようにしても、低周波、特に１００ＫＨｚから１０ＭＨｚのノイズをより効果的に遮断できる。
【００５９】
なお、本発明は上記した各実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、上記したもの以外に種々の変更を行なうことが可能である。例えば、上記した各実施形態や変形例の構成を組合わせてもよい。
【００６０】
また、上記した各実施形態では、シールド膜６は、接地されたシールド部品４に接続されることから、必ずしも配線基板２の側面２ｃにグランド電極（内部配線電極８）を露出させて、シールド膜６と接続させなくてもよい。
【００６１】
また、シールド部品４は、それ自体が導体（Ｃｕブロック）でなくともよく、部品間のノイズを遮蔽する導体が形成されていればよい。ノイズを遮蔽する導体は、例えば、一方面がノイズ干渉を防止する２つの部品のうちの一方に対向し、他方面が他方の部品に対向する板状の導体であり、具体的には、チップコンデンサなどのチップ部品の側面電極などが挙げられる。また、側面電極に限らず、シールド部品の内部にこのような導体が形成されていてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
また、本発明は、配線基板に実装された部品を被覆する封止樹脂層と、封止樹脂層の表面を被覆するシールドと、部品間のノイズの相互干渉を防止するシールドとを備える種々の高周波モジュールに適用することができる。
【符号の説明】
【００６３】
１ａ〜１ｄ    高周波モジュール
２    配線基板
３ａ    部品（第１部品、第２部品）
３ｂ、３ｃ    部品（第１部品、第２部品）
４    シールド部品（導電部材）
５    封止樹脂層
６    シールド膜
１０、１１、１２    凹部
１０ａ    壁面
１１ａ    有底部
１１ｂ    貫通部
１３    磁性シート（磁性膜）
１４    磁性膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【国際調査報告】
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