(57)【要約】  十分な反射防止性能を有する防眩性反射防止フィルム、上記防眩性反射防止フィルムの製造方法、上記防眩性反射防止フィルムを有する偏光板、画像表示装置、及び自発光型ディスプレイ装置を提供する。防眩性反射防止フィルムは、基材フィルム、防眩層、反射防止層をこの順に有し、積分反射率が１．０％以下であり、鏡面反射率が０．４％以下であり、０．０３μｍ≦Ｒａ≦０．４μｍであり、２０μｍ≦Ｓｍ≦７００μｍであり、凸部における反射防止層の平均厚み／凹部における反射防止層の平均厚みの比が１．０〜０．７である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、防眩層と、反射防止層とをこの順に有する防眩性反射防止フィルムであって、
前記防眩性反射防止フィルムの積分反射率が１．０％以下であり、
前記防眩性反射防止フィルムの鏡面反射率が０．４％以下であり、
前記防眩性反射防止フィルム表面の凹凸形状は、算術平均粗さＲａが０．０３μｍ≦Ｒａ≦０．４μｍであり、かつ凹凸の平均間隔Ｓｍが２０μｍ≦Ｓｍ≦７００μｍであり、
前記防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚み／凹部における反射防止層の平均厚みの比が１．０〜０．７である、防眩性反射防止フィルム。
【請求項２】
前記防眩性反射防止フィルム表面の凹凸形状は、算術平均粗さＲａが０．１μｍ≦Ｒａ≦０．４μｍである、請求項１に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項３】
前記防眩層と前記反射防止層の間に接着層を有する、請求項１または２に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項４】
前記防眩層中に、前記反射防止層と共有結合を形成可能な（メタ）アクリロイル基以外の官能基を有する成分を含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項５】
前記反射防止層が、平均一次粒子径１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子及びバインダー樹脂を含み、かつ前記防眩層との界面とは反対側の表面に前記粒子によるモスアイ構造を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項６】
前記バインダー樹脂がＳｉ−Ｏ結合を有し、前記バインダー樹脂の平均ケイ素含有率Ｓｉ／Ｃが０．０１以上である請求項５に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項７】
基材フィルムと、防眩層と、反射防止層とをこの順に有する防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、
前記基材フィルム上に、防眩層用バインダー樹脂形成用化合物と防眩層用粒子を含有する防眩層形成用組成物を塗布し、電離放射線照射又は加熱により前記防眩層形成用組成物を硬化させて防眩層を形成する工程と、
仮支持体上に、反射防止層形成用組成物を塗布し、電離放射線照射又は加熱により１０〜７０％の表面硬化率で半硬化し反射防止層を形成する工程と、
前記反射防止層を前記仮支持体上から前記防眩層上に転写する工程と、
を有する防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記反射防止層を前記仮支持体上から前記防眩層上に転写する前に、前記防眩層上又は前記反射防止層上に接着層を設ける工程を有する、請求項７に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記反射防止層と前記防眩層を貼り合わせた状態で加熱する工程を有する、請求項７または８に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
仮支持体上に、平均一次粒子径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子（ａ２）と硬化性化合物（ａ１）とを、前記硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に前記粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程（１）、
前記層（ａ）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得る工程（２）、
支持体及び前記支持体上に粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの前記層（ｂ）を、前記層（ｃａ）と貼り合わせる工程（３）、
前記粒子（ａ２）が、前記層（ｃａ）及び前記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、前記層（ｃａ）の前記支持体側の界面から突出するように、前記層（ｃａ）の前記支持体側の界面の位置を前記仮支持体側に近づける工程（４）、
前記仮支持体を剥離する工程（５）、
基材フィルムと防眩層を有する防眩フィルムの防眩層と、前記工程（５）で得られた前記層（ｃａ）を含む積層体の前記層（ｃａ）とを貼り合せる工程（６）、
前記粒子（ａ２）が、前記層（ｃａ）と、前記層（ｂ）とを合わせた層中に埋没した状態で前記層（ｃａ）を硬化させる工程（７）、ならびに
前記粘着フィルムを剥離する工程（８）、
をこの順に有する請求項７〜９のいずれか１項に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の防眩性反射防止フィルムを偏光板保護フィルムとして有する偏光板。
【請求項１２】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の防眩性反射防止フィルム、又は請求項１１に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【請求項１３】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の防眩性反射防止フィルムを表面に備えた、自発光型ディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防眩性反射防止フィルム、防眩性反射防止フィルムの製造方法、偏光板、画像表示装置、及び自発光型ディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、及び液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下及び像の映り込みを防止するために、ディスプレイの最表面に防眩性反射防止フィルムが配置されることがある。【０００３】
たとえば、特許文献１及び２には、透明フィルム支持体上に、凹凸形状を有する防眩層を設け、防眩層上に更に中空シリカ粒子を含む低屈折率層を設けた防眩性反射防止フィルムが記載されている。このような防眩性反射防止フィルムは、少なくとも最表面に層厚２００ｎｍ以下の薄膜層である低屈折率層を設け、その低屈折率層の光学干渉によって反射防止を行うものである。【０００４】
また、高い反射防止性能を付与できる技術として、基材表面に周期が可視光の波長以下の微細な凹凸形状を有する反射防止フィルム、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ  ｅｙｅ）構造を有する反射防止フィルムが知られている。モスアイ構造により、擬似的に空気から基材の内部のバルク材料に向かって屈折率が連続的に変化する屈折率傾斜層を作り出し、光の反射を防止することができる。【０００５】
モスアイ構造を有する防眩性反射防止フィルムとして、特許文献３には、微粒子とバインダー樹脂形成用化合物を含有する反射防止層形成用組成物を基材フィルムと凹凸形状を有する防眩層を有する防眩フィルムの防眩層上に塗布し、バインダー樹脂形成用化合物を防眩層中に浸透させることでモスアイ構造を作製した防眩性反射防止フィルムが記載されている。また、特許文献４には、硬化型樹脂を金型腑形してモスアイ構造を作製する、所謂ナノインプリント方式による防眩性反射防止フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−１４６０２７号公報
【特許文献２】特開２００６−１４５７３６号公報
【特許文献３】特開２０１６−５３６０１号公報
【特許文献４】特許第６０８９４０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１及び２に記載の防眩性反射防止フィルムについては、更なる反射防止性能が求められる。
特許文献３の技術では、基材フィルムと防眩層を有する防眩フィルムの防眩層上に反射防止層形成組成物を塗布して反射防止層を形成する際、塗布液（反射防止層形成組成物）のレベリングによって防眩層の凸部と凹部で塗布量のムラが生じ、微粒子数の疎密が発生するため、低反射率の防眩性反射防止フィルムが作製できない場合があることがわかった。
特許文献４のナノインプリント方式で作製されたモスアイ構造は耐擦傷性に劣るという問題があった。【０００８】
すなわち、本発明の課題は、十分な反射防止性能を有する防眩性反射防止フィルムを提供することにある。また、本発明の別の課題は、上記防眩性反射防止フィルムの製造方法、上記防眩性反射防止フィルムを有する偏光板、画像表示装置、及び自発光型ディスプレイ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討し、基材フィルムと防眩層を有する防眩フィルムの防眩層上に反射防止層を転写で形成することで、防眩層の凹部と凸部で均一な厚みの反射防止層を形成することが可能となり、低反射率の防眩性反射防止フィルムを作製できることを見出した。【００１０】
すなわち、上記課題は、以下の構成によって解決される。【００１１】
＜１＞
基材フィルムと、防眩層と、反射防止層とをこの順に有する防眩性反射防止フィルムであって、
上記防眩性反射防止フィルムの積分反射率が１．０％以下であり、
上記防眩性反射防止フィルムの鏡面反射率が０．４％以下であり、
上記防眩性反射防止フィルム表面の凹凸形状は、算術平均粗さＲａが０．０３μｍ≦Ｒａ≦０．４μｍであり、かつ凹凸の平均間隔Ｓｍが２０μｍ≦Ｓｍ≦７００μｍであり、
上記防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚み／凹部における反射防止層の平均厚みの比が１．０〜０．７である、防眩性反射防止フィルム。
＜２＞
上記防眩性反射防止フィルム表面の凹凸形状は、算術平均粗さＲａが０．１μｍ≦Ｒａ≦０．４μｍである、＜１＞に記載の防眩性反射防止フィルム。
＜３＞
上記防眩層と上記反射防止層の間に接着層を有する、＜１＞または＜２＞に記載の防眩性反射防止フィルム。
＜４＞
上記防眩層中に、上記反射防止層と共有結合を形成可能な（メタ）アクリロイル基以外の官能基を有する成分を含有する、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の防眩性反射防止フィルム。
＜５＞
上記反射防止層が、平均一次粒子径１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子及びバインダー樹脂を含み、かつ上記防眩層との界面とは反対側の表面に上記粒子によるモスアイ構造を有する、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の防眩性反射防止フィルム。
＜６＞
上記バインダー樹脂がＳｉ−Ｏ結合を有し、上記バインダー樹脂の平均ケイ素含有率Ｓｉ／Ｃが０．０１以上である＜５＞に記載の防眩性反射防止フィルム。
＜７＞
基材フィルムと、防眩層と、反射防止層とをこの順に有する防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、
上記基材フィルム上に、防眩層用バインダー樹脂形成用化合物と防眩層用粒子を含有する防眩層形成用組成物を塗布し、電離放射線照射又は加熱により上記防眩層形成用組成物を硬化させて防眩層を形成する工程と、
仮支持体上に、反射防止層形成用組成物を塗布し、電離放射線照射又は加熱により１０〜７０％の表面硬化率で半硬化し反射防止層を形成する工程と、
上記反射防止層を上記仮支持体上から上記防眩層上に転写する工程と、
を有する防眩性反射防止フィルムの製造方法。
＜８＞
上記反射防止層を上記仮支持体上から上記防眩層上に転写する前に、上記防眩層上又は上記反射防止層上に接着層を設ける工程を有する、＜７＞に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
＜９＞
上記反射防止層と上記防眩層を貼り合わせた状態で加熱する工程を有する、＜７＞または＜８＞に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
＜１０＞
仮支持体上に、平均一次粒子径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子（ａ２）と硬化性化合物（ａ１）とを、上記硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に上記粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程（１）、
上記層（ａ）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得る工程（２）、
支持体及び上記支持体上に粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの上記層（ｂ）を、上記層（ｃａ）と貼り合わせる工程（３）、
上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面から突出するように、上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面の位置を上記仮支持体側に近づける工程（４）、
上記仮支持体を剥離する工程（５）、
基材フィルムと防眩層を有する防眩フィルムの防眩層と、上記工程（５）で得られた上記層（ｃａ）を含む積層体の上記層（ｃａ）とを貼り合せる工程（６）、
上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）と、上記層（ｂ）とを合わせた層中に埋没した状態で上記層（ｃａ）を硬化させる工程（７）、ならびに
上記粘着フィルムを剥離する工程（８）、
をこの順に有する＜７＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
＜１１＞
＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の防眩性反射防止フィルムを偏光板保護フィルムとして有する偏光板。
＜１２＞
＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の防眩性反射防止フィルム、又は＜１１＞に記載の偏光板を有する画像表示装置。
＜１３＞
＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の防眩性反射防止フィルムを表面に備えた、自発光型ディスプレイ装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、十分な反射防止性能を有する防眩性反射防止フィルムを提供することができる。また、本発明によれば、上記防眩性反射防止フィルムの製造方法、上記防眩性反射防止フィルムを有する偏光板、画像表示装置、及び自発光型ディスプレイ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１（ａ）は、反射防止層を塗布で形成した場合の防眩性反射防止フィルムの表面走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）画像の一例であり、図１（ｂ）は図１（ａ）をより拡大したものである。
【図２】図２（ａ）は、反射防止層を転写で形成した場合の防眩性反射防止フィルムの表面ＳＥＭ画像の一例であり、図２（ｂ）は図２（ａ）をより拡大したものである。
【図３】本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法の一例を示す模式図である。
【図４】本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法の一例を示す模式図である。
【図５】本発明の防眩性反射防止フィルムの一例を示す模式図である。
【図６】本発明の防眩性反射防止フィルムの一例を示す模式図である。
【図７】本発明の防眩性反射防止フィルムの一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」は、それぞれ「アクリレートまたはメタクリレート」、「アクリル酸またはメタクリル酸」、「アクリロイルまたはメタクリロイル」を表す。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１５】
また、本明細書において、基材フィルム上に防眩層を形成したフィルムのことを防眩フィルムと表現する。
【００１６】
＜防眩性反射防止フィルム＞
本発明の防眩性反射防止フィルムは、基材フィルムと、防眩層と、反射防止層とをこの順に有する防眩性反射防止フィルムであって、
上記防眩性反射防止フィルムの積分反射率が１．０％以下であり、
上記防眩性反射防止フィルムの鏡面反射率が０．４％以下であり、
上記防眩性反射防止フィルム表面の凹凸形状は、算術平均粗さＲａが０．０３μｍ≦Ｒａ≦０．４μｍであり、かつ凹凸の平均間隔Ｓｍが２０μｍ≦Ｓｍ≦７００μｍであり、
上記防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚み／凹部における反射防止層の平均厚みの比が１．０〜０．７である、防眩性反射防止フィルムである。
【００１７】
図５は本発明の防眩性反射防止フィルムの一例を示す模式図である。図５の防眩性反射防止フィルム２０は、基材フィルム１１と防眩層１２と反射防止層１０とを有する。防眩層１２は防眩層用粒子１３を含む。反射防止層１０はモスアイ層である。
図６は本発明の防眩性反射防止フィルムの別の一例を示す模式図である。図６の防眩性反射防止フィルム２０は、図５において、更に防眩層１２と反射防止層１０の間に接着層１５を有する。
図７は本発明の防眩性反射防止フィルムの別の一例を示す模式図である。図７の防眩性反射防止フィルム２０は、図５において、モスアイ層である反射防止層１０に代えて、低屈折率層Ｌｎと高屈折率層Ｈｎとを有する反射防止層１６を有する。
なお、図３〜図７は模式図であり、各粒子のサイズ、基材及び各層の厚み等は実際の寸法の比率では描かれていない場合がある。
【００１８】
［防眩層］
本発明の防眩性反射防止フィルムが有する防眩層について説明する。
防眩層は、表面に凹凸形状を有することが好ましく、これによりフィルムに表面散乱による防眩性を付与することができる。また、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性を付与できるものが好ましい。
【００１９】
防眩性を付与する方法としては、特開平６−１６８５１号公報記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開２０００−２０６３１７号公報記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開２０００−３３８３１０号公報記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより透光性微粒子および透光性樹脂をゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開２０００−２７５４０４号公報記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法、特開２００５−１９５８１９号公報記載のように複数のポリマーの混合溶液から溶媒が蒸発する過程で相分離することを利用して表面凹凸を形成する方法、などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。
【００２０】
防眩層は、防眩層用粒子を含有することが好ましい。防眩層用粒子としては、透光性粒子、又は金属酸化物微粒子が好ましい。
防眩層は、より好ましくはハードコート性を付与することのできる防眩層用バインダー樹脂、及び防眩性を付与するための透光性粒子を含み、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面に凹凸が形成された層であることが好ましい。
また、防眩層は、バインダー樹脂形成用化合物、透光性粒子及び溶媒を含有する防眩層形成用組成物を用いて形成されることが好ましい。
防眩層形成用組成物を用いて形成される防眩層は、防眩層用バインダー樹脂と防眩層用バインダー樹脂中に分散された透光性粒子とを含み、防眩性とハードコート性とを兼ね備えることが好ましい。
【００２１】
（透光性粒子１）
本発明においては、防眩性を付与するために、防眩層中に少なくとも１種の透光性粒子を含有することが好ましい。好ましい態様の１つとしては、例えば、透光性粒子の平均粒子径が防眩層の平均膜厚よりも大きい透光性粒子１を用い、透光性粒子１の平均粒子径を防眩層の平均膜厚よりも０．０１〜４．０μｍ大きくすることで、良好な防眩性を付与できる。この場合、防眩性と、膜表面の平坦部の割合を多くし、反射防止層を均一に積層することとを両立するためには、透光性粒子１の平均粒子径が防眩層の平均膜厚よりも０．１〜３．０μｍ大きいことがさらに好ましく、０．５〜２．５μｍ大きいことが最も好ましい。また、透光性粒子１の平均粒子径が４μｍ以下の場合は、透光性粒子１の平均粒子径が防眩層の平均膜厚よりも０．１〜２．５μｍ大きいことが好ましく、０．１〜２．０μｍ大きいことが最も好ましい。
防眩層の平均膜厚は防眩性反射防止フィルムの断面を電子顕微鏡で観察し、膜厚をランダムに３０ヶ所測定した平均値から算出される。
【００２２】
防眩層の１つの凸部は実質的に５個以下の透光性粒子１によって形成されていることが好ましく、実質的に１個の透光性粒子によって凸部が形成されていることがより好ましい。ここで「実質的に」とは、凸部のうち、９０％以上が好ましい態様を満たしていることを意味する。
防眩層の１つの凸部が実質的に１個の透光性粒子１によって形成されている場合は、分散性の良好な粒子を選定することが好ましい。
【００２３】
透光性粒子１の具体例としては、例えば架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋メチルメタアクリレート−メチルアクリレート共重合粒子、架橋アルキルアクリレート−スチレン共重合粒子、架橋アルキルメタアクリレート−スチレン共重合粒子、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂粒子、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂粒子等の樹脂粒子が挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子等が好ましい。さらにはこれらの樹脂粒子の表面にフッ素原子、シリコン原子、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、スルホン酸基、燐酸基等を含む化合物を化学結合させた表面修飾粒子、シリカ又はジルコニアなどのナノサイズの無機微粒子を表面に結合した粒子も例に挙げられる。
なかでも、防眩層中でのバインダー成分との屈折率差の絶対値を調節するために、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、架橋アルキルアクリレート−スチレン共重合粒子、架橋アルキルメタアクリレート−スチレン共重合粒子が好ましい。
【００２４】
透光性粒子１を用いる場合には、防眩層用バインダー樹脂中又は防眩層形成用組成物中での粒子の分散安定性及び沈降防止のために、シリカ等の可視光散乱を起こさない大きさの無機フィラーや、有機化合物（モノマーでもポリマーであってもよい）等の分散剤を添加してもよい。
【００２５】
なお、無機フィラーを添加するときには、その添加量が増す程、透光性粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与えない範囲内で用いることが好ましい。従って、好ましくは、粒子径０．５μｍ以下の無機フィラーを、防眩層用バインダー樹脂１００質量部に対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量部程度含有させるとよい。有機化合物等の分散剤は、透光性粒子１００質量部に対して０．１〜２０質量部添加するのが好ましい。更に好ましくは０．１〜１５質量部、特に好ましくは０．５〜１０質量部である。０．１質量部以上であれば、分散安定性に対する添加効果が現れ、２０質量部以下であれば、分散安定性に寄与しない成分が増えてブリードアウト等の問題が生じることがないので好ましい。
【００２６】
上記のように、防眩層用バインダー樹脂中又は防眩層形成用組成物中での分散安定性及び沈降防止のためには、透光性粒子の表面を表面処理してもよい。表面処理剤の種類としては、使用する防眩層用バインダー樹脂、溶媒により適宜選択される。表面処理剤量としては、透光性粒子１００質量部に対して０．１〜３０質量部添加するのが好ましい。更に好ましくは１〜２５質量部、特に好ましくは３〜２０質量部である。０．１質量部以上であれば、分散安定性に対する表面処理量が不足することがなく、３０質量部以下であれば、表面処理に寄与しない成分が増えてブリードアウト等の問題が生じることがないので好ましい。
【００２７】
透光性粒子の粒度分布は、ヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性の観点から、単分散性の粒子であること、すなわち粒子径が均一な粒子であることが好ましい。粒子径の均一さを表すＣＶ値は０〜１０％が好ましく、より好ましくは０〜８％、更に好ましくは０〜５％である。さらに平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒度分布を持つ透光性粒子は、調製又は合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。透光性粒子の平均粒子径は、透光性粒子を光学顕微鏡により観察し、観察された１００個の粒子直径の平均値から算出する。
【００２８】
防眩層の平均膜厚よりも大きい平均粒子径を有する上記透光性粒子１の添加量は、防眩層の全固形分に対して０．０１〜１．２質量％であることが、凹凸の密度を疎にすることで膜表面の平坦部の割合を多くし、反射防止層を均一に積層する点で好ましい。上記透光性粒子１の添加量は、防眩層の全固形分に対して０．１〜１．０質量％であることがより好ましく、０．１〜０．７質量％であることがさらに好ましい。
透光性粒子は防眩層のバインダー樹脂膜よりも少なくとも０．０１〜４．０μｍ突出して防眩性を発現することが好ましい。
【００２９】
（透光性粒子２）
また、防眩層の別の好ましい態様の１つとしては、例えば、必要な防眩性を得るために上記透光性粒子１とは平均粒子径の異なる別の透光性粒子２を、単独もしくは併用して用いてもよく、更には、上記透光性粒子１と透光性粒子２を併用して、防眩性と更なる光学特性を両立することも可能である。
【００３０】
本発明において透光性粒子２を使用する場合、透光性粒子２は防眩層の平均膜厚よりも小さい平均粒子径を有することが好ましい。具体的には、透光性粒子２の平均粒子径は、防眩層の平均膜厚の１０％〜９０％が好ましく、２０％〜８０％がさらに好ましい。
透光性粒子２は分散性が良好なものが好ましい。分散性の良好な粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子及び、ポリメチルメタクリレートとポリスチレンの共重合体粒子など透光性の有機樹脂粒子が好ましい。上記共重合体粒子中のポリメチルメタクリレート比率は、４０質量％〜１００質量％であることが、分散性の観点から好ましく、５０質量％〜１００質量％であることがさらに好ましく、７５質量％〜１００質量％であることが最も好ましい。
【００３１】
透光性粒子２としてコア−シェル型の粒子であって、コアが防眩層用バインダーと屈折率差を有し光散乱性を発現させる材料で、シェルが防眩層用バインダーと親和性が高く分散性に優れる材料からなる粒子も好ましく用いることができる。
光散乱性を発現させる材料としては、ポリメチルメタクリレート、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、架橋ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド等が挙げられる。
分散性に優れる材料としては、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。
【００３２】
透光性粒子２は、防眩層の全固形分に対して０．１質量％〜３０質量％とするのが、防眩性及び内部散乱性付与という点で好ましく、１〜１５質量％とするのがさらに好ましい。
透光性粒子２を複数種併用する場合には、粒子を構成する成分を変えずに、粒子径のみ異なるものを用いることが、防眩性制御の容易さの観点で好ましい。
【００３３】
また、防眩性やその他光学特性を調整する目的で、有機化処理したヘクトライト、ベントナイト、スメクタイト、バーミキュライトなどの層状無機化合物を用いることもできる。これら層状無機化合物は、透光性粒子２の間に偏析し、防眩層内で透光性粒子２が必要以上に凝集するのを防ぎ、かつ適度に透光性粒子同士を集めるため、防眩性制御が可能となる。
【００３４】
（金属酸化物微粒子）
本発明の更に別の１つの態様としては、防眩層中に少なくとも１種の微粒子を含有し、微粒子が凝集性の金属酸化物微粒子であることが挙げられる。
凝集性の金属酸化物微粒子は、防眩層の〔１〕表面凹凸付与、〔２〕屈折率調整、〔３〕硬度向上、〔４〕脆性、カール改良、等を目的に使用される。本発明における防眩層の表面凹凸付与に対し、透明性と安価である点から、上記金属酸化物微粒子としては、凝集性のシリカ粒子と凝集性のアルミナ粒子が好適であり、なかでも、一次粒子径が数十ｎｍの粒子が凝集体を形成した凝集性のシリカ粒子が、適度な表面凹凸を安定に付与できる点で好ましい。凝集性のシリカ粒子は、例えば、珪酸ナトリウムと硫酸の中和反応により合成する、いわゆる湿式法により得ることができるがこれに限らない。湿式法はさらに沈降法、ゲル化法に大別されるが、本発明はどちらの方法であってもよい。凝集性シリカ粒子の二次粒子径は、０．１〜１０．０μｍの範囲が好ましいが、粒子を含有する防眩層の層厚と組合わせて選択される。二次粒子径の調整は、粒子の分散度（サンドミル等を用いた機械的な分散、分散剤等を用いた化学的な分散、による制御を行う）で行う。特に凝集性シリカ粒子の二次粒子径を、これを含有する防眩層の層厚で除した値が０．１〜１．５であることが好ましく、０．３〜１．０であることがより好ましい。
【００３５】
上記金属酸化物微粒子として好ましく用いられる凝集性シリカ粒子等の二次粒子径は、コールターカウンター法により測定される。
金属酸化物微粒子の添加量は、防眩層の全固形分中０．０１質量％〜５質量％とすることが好ましく、０．１質量％〜５質量％がより好ましく、０．１〜３質量％がさらに好ましく、０．１質量％〜２質量％が最も好ましい。
【００３６】
凝集性の金属酸化物微粒子、好ましくは凝集性シリカ粒子に加えて内部散乱性の付与を目的として透光性の樹脂微粒子を併用することも好ましい。透光性の樹脂微粒子としては前述した（透光性粒子２）を好ましく用いることができる。
【００３７】
（防眩層用バインダー樹脂）
防眩層用バインダー樹脂は、防眩層用バインダー樹脂形成用化合物より形成されることが好ましい。防眩層用バインダー樹脂形成用化合物は、熱硬化性化合物又は電離放射線硬化性化合物の一方又は両者を含み、これを硬化して防眩層用バインダー樹脂を形成することが好ましい。
【００３８】
防眩層用バインダー樹脂は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、重合反応により形成されるものであるのが好ましい。すなわち、防眩層用バインダー樹脂形成用化合物として電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む防眩層形成用組成物を基材フィルム上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを、架橋反応又は重合反応させることにより防眩層を形成するのが好ましい。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光（紫外線）、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
防眩層用バインダー樹脂形成用化合物の具体例としては、重合性の不飽和結合を有する化合物を好適に使用することができる。
【００３９】
（重合性の不飽和結合を有する化合物）
重合性の不飽和結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【００４０】
重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。
【００４１】
さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【００４２】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００４３】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ−２Ｃ、同ＰＥＴ−３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ−３２０、同ＴＰＡ−３３０、同ＲＰ−１０４０、同Ｔ−１４２０、同Ｄ−３１０、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＧＰＯ−３０３、大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃３ＰＡ、Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ、Ｖ＃１０００、Ｖ＃１０８０等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡ、同ＵＶ−２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＬ−５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＥＢ−２２０、ＥＢ−５１２９、ＥＢ−１８３０，ＥＢ−４８５８（ダイセルＵＣＢ（株）製）、ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ−１９６０（東亜合成（株）製）、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ，ＵＮ−３３２０ＨＣ，ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４，ＨＤＰ−４Ｔなどの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ−８１００，Ｍ−８０３０，Ｍ−９０５０（東亞合成（株）製）、ＫＲＭ−８３０７（ダイセルサイテック（株）製）などの３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
【００４４】
さらに、３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等も挙げられる。
【００４５】
さらに、２官能（メタ）アクリレート化合物としては具体的に下式で示される化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４６】
【化１】
2018212051.tif 000002
【００４７】
また、例えば特開２００５−７６００５号、特開２００５−３６１０５号公報に記載されたデンドリマー、または、例えば特開２００５−６０４２５号公報記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。また、特開平２００２−１０５１４１号公報に記載の化学式（２）で表される含フッ素多官能（メタ）アクリレートを用いることもできる。
【００４８】
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
なお、後述する支持体５がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムである場合、ＰＥＴフィルムの透過波長３２０ｎｍ以上にの光を吸収する重合開始剤（例えばＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア８１９等）を用いることが好ましい。
【００４９】
また上記防眩層用バインダー樹脂形成用化合物には、防眩層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマー、又はＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２などの可視光散乱を生じない無機粒子、すなわち平均粒子径が１００ｎｍ以下の無機粒子、又はそれらの両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、防眩層形成後において、多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等の重合性の不飽和結合を有する化合物が重合して生成した重合体、並びに重合体中に分散された無機粒子を含めてバインダーと称する。
【００５０】
防眩層における防眩層用バインダー樹脂の含有量は、防眩層の全固形分１００質量部に対して５０〜９９質量部であるのが内部散乱性付与のための透光性粒子を併用した場合でも膜表面の平坦部の割合を保つ上で好ましく、７０〜９９質量部であるのがさらに好ましい。
防眩層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００５１】
（レベリング剤）
本発明における防眩層を形成するための防眩層形成用組成物には、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を含む、所謂レベリング剤を含有することが好ましい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いることができる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることができる。
【００５２】
フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体（以下、「フッ素系ポリマー」と略記することもある）が挙げられ、上記フッ素系ポリマーは、下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位を含む、あるいは（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位とさらに下記（ｉｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位とを含む、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。
【００５３】
（ｉ）下記一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式イ
【００５４】
【化２】
2018212051.tif 000003
【００５５】
一般式イにおいてＲ１１は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ１２）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは２〜４の整数を表す。Ｒ１２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。
Ｅ１１は水素原子又はフッ素原子を表し、水素原子を表すことが好ましい。
【００５６】
（ｉｉ）上記（ｉ）と共重合可能な下記一般式ロで示されるモノマー
一般式ロ
【００５７】
【化３】
2018212051.tif 000004
【００５８】
一般式ロにおいて、Ｒ１３は水素原子またはメチル基を表し、Ｙは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ１５）−を表し、Ｒ１５は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｙは酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−、および−Ｎ（ＣＨ３）−が好ましい。
Ｒ１４は置換基を有しても良い炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。Ｒ１４のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
【００５９】
本発明で用いられるフッ素系ポリマーに用いられるこれらの一般式イで示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、上記フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて１０モル％以上であり、好ましくは１５〜７０モル％であり、より好ましくは２０〜６０モル％の範囲である。
【００６０】
本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい重量平均分子量は、３，０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜８０，０００がより好ましい。更に、本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液（防眩層形成用組成物）１００質量部に対して０．００１〜５質量部の範囲であり、さらに好ましくは０．００５〜３質量部の範囲であり、より好ましくは０．０１〜１質量部の範囲である。フッ素系ポリマーの添加量が０．００１質量部以上であればフッ素系ポリマーを添加した効果が充分得られ、また５質量部以下であれば、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能（例えば反射率、耐擦傷性）に悪影響を及ぼしたり、といった問題が生じない。
【００６１】
防眩層の平均膜厚は、２〜２０μｍとするのが、硬度とカール抑制の両立の点で好ましく、２〜１５μｍとするのがより好ましく、３〜１２μｍとするのがさらに好ましい。
したがって、透光性粒子として上記透光性粒子１を用いた場合、透光性粒子１の平均粒径は、２．０１〜２４μｍであるのが好ましく、２．０１〜１９μｍであるのがより好ましく、３．０１〜１６μｍであるのがさらに好ましく、３．０１〜１２μｍであるのが最も好ましい。
透光性粒子として上記透光性粒子２を用いた場合、透光性粒子２の平均粒径は、２．０１〜１６μｍであるのが好ましく、２．０１〜１０μｍであるのがより好ましい。
防眩層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．４８〜１．７０とするのが好ましく、１．４８〜１．６０とするのが更に好ましい。本発明において、これ以降具体的に示す屈折率の値は全て波長５５０ｎｍの値を示す。
【００６２】
（反射防止層と化学結合を形成可能な（メタ）アクリロイル基以外の官能基を有する成分）
本発の防眩層形成用組成物には、反射防止層との密着を確保するために、反射防止層（反射防止層中に含まれる成分）と化学結合を形成可能な（メタ）アクリロイル基以外の官能基を有する成分を含有することが好ましい。防眩層形成用組成物に上記成分を含有することで、形成した防眩層と反射防止層との間に化学結合を形成し、層間の密着を確保するために有効に作用する。
特に、転写法で反射防止層を付与する際に、防眩層と反射防止層間の密着性を向上させることで耐擦傷性を向上させることができる。
また、上記成分は、（メタ）アクリロイル基以外の官能基を有することで、（メタ）アクリロイル基を有する化合物と併用した際に、（メタ）アクリロイル基単独使用の場合よりも強い層間密着力を発現させることができる。反射防止層と防眩層との化学結合については特に限定されないが、例えばホウ酸とヒドロキシル基とのイオン結合、エポキシ基と酸、塩基、又はヒドロキシル基との反応、イソシアネート基のウレタン化反応等が挙げられる。
なお、上記反射防止層中に含まれる成分とは、後述のバインダー樹脂形成用化合物が好ましく挙げられる。
【００６３】
反射防止層中に含まれる成分と共有結合を形成可能な（メタ）アクリロイル基以外の官能基としては、特に制限されないが、不飽和炭化水素基、ボロン酸基、アルコキシシリル基、イソシアネート基、エポキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基等が挙げられる。
上記成分は防眩層と反射防止層との界面で作用するため、界面への偏在性が高い成分を用いることが好ましい。
【００６４】
以下に上記成分がボロン酸基を有する場合の成分の具体例を記載する。
（ボロン酸モノマー）
本発明において、ボロン酸モノマーを好ましく用いることができる。ボロン酸モノマーは、式１で表されるボロン酸基および重合性基を有する化合物である。
【００６５】
【化４】
2018212051.tif 000005
【００６６】
式（１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換若しくは無置換のアリール基、または置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
脂肪族炭化水素基としては、例えば、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換の直鎖若しくは分岐のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｉｓｏ−プロピル基等）、炭素数３〜２０の置換若しくは無置換の環状アルキル基（例えば、シクロヘキシル基等）、炭素数２〜２０のアルケニル基（例えば、ビニル基等）が挙げられる。
アリール基としては、例えば、炭素数６〜２０の置換若しくは無置換のフェニル基（例えば、フェニル基、トリル基など）、炭素数１０〜２０の置換若しくは無置換のナフチル基等が挙げられる。
ヘテロ環基としては、例えば、少なくとも一つのヘテロ原子（例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等）を含む、置換若しくは無置換の５員若しくは６員環の基であり、例えば、ピリジル基、イミダゾリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基等が挙げられる。
Ｒ１およびＲ２は互いに連結して環を形成してもよく、例えば、Ｒ１およびＲ２のイソプロピル基が連結して、４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン環を形成してもよい。
式（１）中、Ｒ１およびＲ２として好ましくは、水素原子、炭素数１〜３の直鎖若しくは分岐のアルキル基、Ｒ１およびＲ２が連結して環を形成した場合であり、最も好ましくは、水素原子である。
式（１）中、＊はボロン酸モノマー残基への結合位置を示す。
なお、式（１）で表されるボロン酸基の数は特に制限されず、１つでも、複数（２つ以上）であってもよい。
【００６７】
なお、これらの脂肪族炭化水素基、アリール基、およびヘテロ環基に含まれる炭化水素基は任意の置換基によって１個以上置換されていてもよい。置換基の種類は、例えば、特開２０１３−０５４２０１号公報の段落〔００４６〕に記載の置換基が挙げられる。
【００６８】
重合性基の種類は特に制限されず、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基などが挙げられる。ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが挙げられる。カチオン重合性基としては、ビニルエーテル基、オキシラニル基、オキセタニル基などが挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、ビニル基、オキシラニル基またはオキセタニル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基またスチリル基がさらに好ましく、（メタ）アクリロイル基が特に好ましい。
なお、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタアクリロイル基の両方を含む概念であり、（メタ）アクリルアミド基とは、アクリルアミド基及びメタアクリルアミド基の両方を含む概念である。
重合性基の数は特に制限されず、１つでも、複数（２つ以上）であってもよい。
【００６９】
ボロン酸モノマーの分子量は特に制限されないが、防眩層形成用組成物中に使用する防眩層用バインダー樹脂形成用化合物との相溶性に優れる点で、１２０〜１２００が好ましく、１８０〜８００がより好ましい。
【００７０】
ボロン酸モノマーの好適態様としては、防眩層と反射防止層との密着性がより優れる点で、式２で表されるボロン酸モノマーが挙げられる。
【００７１】
【化５】
2018212051.tif 000006
【００７２】
式（２）中のＲ１およびＲ２の定義は、上述の通りである。
Ｚは、重合性基を表す。重合性基の定義は、上述の通りである。
Ｘ１は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、例えば、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、２価のヘテロ環基（ヘテロアリーレン基）、および、それらの組み合わせから選ばれる２価の連結基が挙げられる。
なお、組み合わせとしては、例えば、−アリーレン基−ＣＯＯ−アリーレン基−Ｏ−アルキレン基−、−アリーレン基−ＣＯＯ−アルキレン基−などが挙げられる。
【００７３】
以下に、ボロン酸モノマーの具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００７４】
【化６】
2018212051.tif 000007
【００７５】
【化７】
2018212051.tif 000008
【００７６】
【化８】
2018212051.tif 000009
【００７７】
【化９】
2018212051.tif 000010
【００７８】
（ボロン酸基を導入した共重合体）
本発明において、ボロン酸基を導入した共重合体を好ましく用いることができる。ボロン酸基を導入した共重合体（以下、本明細書においては形式的に「本発明の高分子化合物」とも略す。）は、下記式（Ｉ）で表される繰返し単位（以下、「Ｉパート」とも略す。）と、下記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位（以下、「ＩＩパート」とも略す。）と、を有する共重合体である。
また、本発明の高分子化合物は、下記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位（以下、「ＩＩＩパート」とも略す。）を有していることが好ましい。
更に、本発明の高分子化合物は、下記式（Ｖ）で表される繰り返し単位（以下、「Ｖパート」とも略す。）を有していることが好ましい。
【００７９】
【化１０】
2018212051.tif 000011
【００８０】
＜Ｉパート＞
本発明の高分子化合物が有するＩパートは、下記式（Ｉ）で表される繰返し単位である。
【００８１】
【化１１】
2018212051.tif 000012
【００８２】
上記式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、なかでも、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
【００８３】
また、上記式（Ｉ）中、Ｘ１は、単結合、または、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ２−、−ＮＲ２ＣＯＯ−、−ＣＲ２Ｎ−、置換もしくは無置換の２価の脂肪族基、置換もしくは無置換の２価の芳香族基、および、これらの組み合わせからなる群から選択される２価の連結基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、または、−Ｘ１−Ｐ１を表す。なお、Ｒ２が−Ｘ１−Ｐ１である場合のＰ１は、上記式（Ｉ）中のＰ１と同様、重合性基を表す。Ｐ１については後述する。
なお、上記Ｘ１に関する記載において、−ＣＯＯ−は、Ｒ１が結合した炭素とＣ＝Ｏが結合し、Ｐ１とＯが結合することを表し、−ＯＣＯ−は、Ｒ１と結合した炭素とＯが結合し、Ｐ１とＣ＝Ｏが結合することを表し、−ＣＯＮＲ２−は、Ｒ１が結合した炭素とＣ＝Ｏが結合し、Ｐ１とＮＲ２が結合することを表し、−ＮＲ２ＣＯＯ−は、Ｒ１が結合した炭素とＮＲ２が結合し、Ｐ１とＯが結合することを表し、−ＣＲ２Ｎ−は、Ｒ１が結合した炭素とＣＲ２が結合し、Ｐ１とＮが結合することを表す。
【００８４】
ここで、Ｘ１が示す、置換もしくは無置換の２価の脂肪族基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基または置換基を有していてもよい炭素数３〜２０のシクロアルキレン基（例えば、シクロヘキシレン基）などが挙げられ、なかでも、炭素数１〜１５のアルキレン基が好ましく、炭素数１〜８のアルキレン基がより好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が更に好ましい。
また、Ｘ１が示す、置換もしくは無置換の２価の芳香族基としては、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい２価の芳香族複素環基が挙げられる。２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、トリフェニレン環、フルオレン環などの芳香族炭化水素環の環構造を構成する２個の炭素原子から水素原子をそれぞれ１個ずつ除いて得られる基が挙げられ、なかでも、ベンゼン環またはナフタレン環の環構造を構成する２個の炭素原子から水素原子をそれぞれ１個ずつ除いて得られるフェニレン基またはナフチレン基が好ましい。一方、２価の芳香族複素環基としては、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサジアゾール環、チアゾロチアゾール環、フェナントロリン環などの芳香族複素環の環構造を構成する２個の炭素原子から水素原子をそれぞれ１個ずつ除いて得られる基が挙げられる。
【００８５】
２価の脂肪族基または２価の芳香族基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、カルボキシル基、シアノ基、−Ｘ１−Ｐ１、または、これらと、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ２−、−ＮＲ２ＣＯＯ−、−ＨＣ＝ＣＨ−および−ＣＲ２Ｎ−のいずれか１つ以上を組み合わせた基などが挙げられる。Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、または、−Ｘ１−Ｐ１を表す。なお、Ｒ２が−Ｘ１−Ｐ１である場合のＰ１は、上記式（Ｉ）中のＰ１と同様、重合性基を表す。
【００８６】
上述したＲ２が示す、炭素数１〜２０のアルキル基は、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、および、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。
【００８７】
また、上記式（Ｉ）中、Ｐ１は、重合性基を表す。
本発明においては、上記式（Ｉ）中のＰ１で表される重合性基が、下記式（Ｐ−１）〜（Ｐ−７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基であることが好ましく、なかでも、下記式（Ｐ−１）〜（Ｐ−３）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基であることがより好ましく、下記式（Ｐ−１）または（Ｐ−２）で表される重合性基が更に好ましい。
【００８８】
【化１２】
2018212051.tif 000013
【００８９】
上記式（Ｐ−１）〜（Ｐ−７）中、＊は、Ｘ１との結合位置を表す。Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、２つのＲ３は、同一であっても異なっていてもよく、互いに連結して環構造を形成していてもよい。
また、Ｒ３が示す、炭素数１〜５のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基などが挙げられる。
【００９０】
本発明においては、製造の容易性、経済性およびラジカル重合性の観点から、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位は、上記式（Ｉ）中のＲ１が、水素原子またはメチル基であり、上記式（Ｉ）中のＸ１が、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、および、置換もしくは無置換の２価の脂肪族基（好ましくは、炭素数２〜８のアルキレン基）からなる群から選択されるいずれか１種又はいずれか２種以上を組み合わせてなる２価の連結基である繰り返し単位が好ましい。
【００９１】
上記式（Ｉ）で表される繰返し単位としては、具体的には、例えば、下記式で表される繰り返し単位が挙げられる。
【００９２】
【化１３】
2018212051.tif 000014
【００９３】
本発明においては、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位の含有量は、全繰り返し単位に対して５〜８０質量％であることが好ましく、７〜７０質量％であることがより好ましく、１０〜５０質量％であることが更に好ましい。
【００９４】
＜ＩＩパート＞
本発明の高分子化合物が有するＩＩパートは、下記式（ＩＩ）で表される繰返し単位である。
【００９５】
【化１４】
2018212051.tif 000015
【００９６】
上記式（ＩＩ）中、Ｒ１０は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、なかでも、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
【００９７】
また、上記式（ＩＩ）中、Ｘ１０は、単結合、または、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ１３−、−ＮＲ１３ＣＯＯ−、−ＣＲ１３Ｎ−、置換もしくは無置換の２価の脂肪族基、置換もしくは無置換の２価の芳香族基、および、これらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ１３は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。
なお、上記Ｘ１０に関する記載において、−ＣＯＯ−は、Ｒ１０が結合した炭素とＣ＝Ｏが結合し、ＢとＯが結合することを表し、−ＯＣＯ−は、Ｒ１０と結合した炭素とＯが結合し、ＢとＣ＝Ｏが結合することを表し、−ＣＯＮＲ１３−は、Ｒ１０が結合した炭素とＣ＝Ｏが結合し、ＢとＮＲ１３が結合することを表し、−ＮＲ１３ＣＯＯ−は、Ｒ１０が結合した炭素とＮＲ１３が結合し、ＢとＯが結合することを表し、−ＣＲ１３Ｎ−は、Ｒ１０が結合した炭素とＣＲ１３が結合し、ＢとＮが結合することを表す。
ここで、Ｘ１０が示す、２価の脂肪族基および２価の芳香族基としては、それぞれ、上記式（Ｉ）中のＸ１において説明したものと同様のものが挙げられ、また、Ｒ１３が示す、炭素数１〜２０のアルキル基は、上記式（Ｉ）に関連して説明したＲ２と同様のものが挙げられる。
【００９８】
また、上記式（ＩＩ）中、Ｒ１１およびＲ１２は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換のアリール基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表し、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに連結して環を形成してもよく、Ｒ１１およびＲ１２が、アルキレン連結基、アリーレン連結基、または、これらの組み合わせからなる連結基を形成してもよい。
【００９９】
Ｒ１１およびＲ１２が示す、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基としては、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基またはアルキニル基が挙げられる。
アルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−アダマンチル基、２−ノルボルニル基等の直鎖状、分枝状、又は環状のアルキル基が挙げられる。
アルケニル基としては、具体的には、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−シクロペンテニル基、１−シクロヘキセニル基等の直鎖状、分枝状、又は環状のアルケニル基が挙げられる。
アルキニル基としては、具体的には、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、１−オクチニル基等が挙げられる。
【０１００】
Ｒ１１およびＲ１２が示す、置換もしくは無置換のアリール基としては、例えば、１個から４個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と不飽和五員環とが縮合環を形成したものを挙げることができ、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、ピレニル基等が挙げられる。
【０１０１】
Ｒ１１およびＲ１２が示す、置換もしくは無置換のヘテロアリール基としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環上の水素原子を１個除し、ヘテロアリール基としたものが挙げられる。
窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環としては、具体的には、例えば、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、カルバゾール、ベンゾフラン、ジベンゾフラン、チアナフテン、ジベンゾチオフェン、インダゾールベンズイミダゾール、アントラニル、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、プリン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、キノリン、アクリジン、イソキノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキザリン、ナフチリジン、フェナントロリン、プテリジン等が挙げられる。
【０１０２】
Ｒ１１およびＲ１２が有していてもよい置換基としては、水素を除く１価の非金属原子団を挙げることができ、例えば、以下の置換基群Ｙから選ばれる。
（置換基群Ｙ）
ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ'−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキルウレイド基、Ｎ'−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ２ＮＨＳＯ２（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ２ＮＨＳＯ２（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ２（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ２（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）３）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｒｙｌ）３）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）３）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ２）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ３（ａｌｋｙｌ）２）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ３（ａｒｙｌ）２）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ２）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３（ａｌｋｙｌ）２）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３（ａｒｙｌ）２）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基及びアルキニル基、また、これらの置換基は、可能であるならば置換基同士、又は置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよい。
【０１０３】
上記式（ＩＩ）中のＲ１１およびＲ１２は、水素原子であるか、または、互いに結合して、アルキレン連結基を形成していることが好ましい。
【０１０４】
上記式（ＩＩ）で表される繰返し単位を形成する単量体としては、具体的には、例えば、下記式ＩＩ−１〜ＩＩ−１２で表される単量体が挙げられる。
【０１０５】
【化１５】
2018212051.tif 000016
2018212051.tif 000017
【０１０６】
本発明においては、上記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量は、全繰り返し単位に対して３〜８０質量％であることが好ましく、４〜７０質量％であることがより好ましく、５〜５０質量％であることが更に好ましい。
【０１０７】
＜ＩＩＩパート＞
本発明の高分子化合物は、形成される防眩層の反射防止層との密着性がより良好となる理由から、下記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位（ＩＩＩパート）を有していることが好ましい。
ここで、接着性がより良好となる理由は、ＩＩＩパートを有していることにより、形成される防眩層の空気界面側（反射防止層との接着面側）に共重合体が偏在することにより、共重合体が有するＩＩＩパートが反射防止層の表面成分と相互作用しやすくなったためと考えられる。
【０１０８】
【化１６】
2018212051.tif 000018
【０１０９】
上記式（ＩＩＩ）中、Ｒ２０は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、なかでも、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
【０１１０】
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｌ２０は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、２価の脂肪族基、および、これらの組み合わせからなる群から選択される２価の連結基を表す。なお、−ＣＯＯ−は、Ｒ２０が結合した炭素とＣ＝Ｏが結合し、Ｒ２１とＯが結合することを表し、−ＯＣＯ−は、Ｒ２０と結合した炭素とＯが結合し、Ｒ２１とＣ＝Ｏが結合することを表す。
Ｌ２０が示す、２価の脂肪族基としては、２価の脂肪族鎖状基または脂肪族環状基が挙げられる。２価の脂肪族鎖状基としては、炭素数１〜２０のアルキレン基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキレン基がより好ましい。２価の脂肪族環状基としては、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基が好ましく、炭素数３〜１５のシクロアルキレン基がより好ましい。
これらのうち、Ｌ２０としては、−ＣＯＯ−、または、−ＯＣＯ−が好ましく、−ＣＯＯ−がより好ましい。
【０１１１】
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｒ２１は、炭素数４〜２０のアルキル基、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜２０のアルキル基（以下、「フルオロアルキル基」ともいう。）、または、−Ｓｉ（Ｒａ３）（Ｒａ４）Ｏ−を含む１価の有機基を表し、Ｒａ３およびＲａ４は、それぞれ独立に、アルキル基、ハロアルキル基またはアリール基を表す。
【０１１２】
本発明においては、形成される防眩層の反射防止層との密着性が更に良好となる理由から、上記式（ＩＩＩ）中のＲ２１が、炭素数１〜２０のフルオロアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜１８のフルオロアルキル基であることがより好ましく、炭素数２〜１５のフルオロアルキル基であることが更に好ましい。
また、フッ素原子数は、１〜２５であることが好ましく、３〜２１であることがより好ましく、５〜２１であることが最も好ましい。
【０１１３】
本発明においては、形成される防眩層の反射防止層との密着性、および、ラジカル重合性の観点から、上記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位が、下記式（ＩＶ）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
【０１１４】
【化１７】
2018212051.tif 000019
【０１１５】
上記式（ＩＶ）中、Ｒ２０は、上記式（ＩＩＩ）中のＲ２０と同様、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好適態様も同様である。
また、上記式（ＩＶ）中、ｍａおよびｎａは、それぞれ独立に０〜１９の整数を表す。なかでも、密着性向上および原料入手などの観点から、ｍａは１〜８の整数であることが好ましく、１〜５の整数であることがより好ましい。また、ｎａは１〜１５の整数であることが好ましく、１〜１２の整数であることがより好ましく、２〜１０の整数であることがさらに好ましく、５〜７の整数であることが最も好ましい。ただし、ｍａおよびｎａは、合計して０〜１９の整数を表す。
また、上記式（ＩＶ）中、Ｘ２１は、水素原子またはフッ素原子を表し、フッ素であることが好ましい。
【０１１６】
上記式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される繰返し単位を形成する単量体としては、具体的には、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１１７】
一方、上記式（ＩＩＩ）中のＲ２１が示す、−Ｓｉ（Ｒａ３）（Ｒａ４）Ｏ−を含む１価の有機基としては、シロキサン結合に由来する有機基であり、下記式（ＶＩＩ）で表される化合物を重合させて得られる構造であることがより好ましい。
【０１１８】
【化１８】
2018212051.tif 000020
【０１１９】
上記式（ＶＩＩ）中、Ｒａ１は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、また、Ｒａ５は、炭素数１〜１２のアルキル基を表し、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。
【０１２０】
上記式（ＶＩＩ）中、Ｒａ３およびＲａ４は、それぞれ独立に、アルキル基、ハロアルキル基またはアリール基を表す。
アルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ヘキシル基などを挙げることができる。
ハロアルキル基としては、炭素数１〜１０のフッ素化アルキル基が好ましく、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基などを挙げることができる。
アリール基としては、炭素数６〜２０が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基などを挙げることができる。
これらのうち、Ｒａ３およびＲａ４は、メチル基、トリフルオロメチル基またはフェニル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
【０１２１】
上記式（ＶＩＩ）中、ｍは、１０〜１０００の整数を表し、２０〜５００の整数が好ましく、３０〜２００の整数がより好ましい。
【０１２２】
上記式（ＶＩＩ）で表される化合物としては、片末端（メタ）アクリロイル基含有ポリシロキサンマクロマー（例えば、サイラプレーン０７２１、同０７２５（以上、商品名、ＪＮＣ（株）製）、ＡＫ−５、ＡＫ−３０、ＡＫ−３２（以上、商品名、東亜合成（株）社製）、ＫＦ−１００Ｔ、Ｘ−２２−１６９ＡＳ、ＫＦ−１０２、Ｘ−２２−３７０１ＩＥ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２―５００２、Ｘ−２２−１７３Ｂ、Ｘ−２２−１７４Ｄ、Ｘ−２２−１６７Ｂ、Ｘ−２２−１６１ＡＳ（以上、商品名、信越化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【０１２３】
本発明においては、上記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を有する場合の含有量は、全繰り返し単位に対して２〜８０質量％であることが好ましく、５〜７０質量％であることがより好ましく、１０〜６０質量％であることが更に好ましい。
【０１２４】
また、本発明においては、形成される防眩層と反射防止層の密着性がより良好となる理由から、上記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を有している場合、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位の含有量が全繰り返し単位に対して１０〜５０質量％であり、上記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が全繰り返し単位に対して５〜５０質量％であり、上記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が全繰り返し単位に対して１０〜６０質量％であることが好ましい。
【０１２５】
＜Ｖパート＞
本発明の高分子化合物は、エポキシ系の接着層を設けた場合の密着性が良好になるという観点から、下記式（Ｖ）で表される繰り返し単位（Ｖパート）を有していることが好ましい。
【０１２６】
【化１９】
2018212051.tif 000021
【０１２７】
上記式（Ｖ）中、Ｒ３０は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、なかでも、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
【０１２８】
上記式（Ｖ）で表される繰返し単位を形成する単量体としては、具体的には、例えば、アクリル酸、メタクリル酸などが挙げられる。
【０１２９】
本発明においては、上記式（Ｖ）で表される繰り返し単位を有する場合の含有量は、全繰り返し単位に対して１〜６０質量％であることが好ましく、２〜４０質量％であることがより好ましく、４〜２０質量％であることが更に好ましい。
【０１３０】
＜その他のパート＞
本発明の高分子化合物は、必要に応じて、上述した式（Ｉ）（ＩＩ）（ＩＩＩ）および（Ｖ）で表される繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。
【０１３１】
他の繰り返し単位を形成する単量体としては、ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２  Ｐａｇｅ  １〜４８３記載のものを用いることができる。
例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等を挙げることができる。
具体的には、以下の単量体を挙げることができる。
【０１３２】
（アクリル酸エステル類）
アクリル酸エステル類としては、具体的には、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、クロルエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどが挙げられる。
【０１３３】
（メタクリル酸エステル類）
メタクリル酸エステル類としては、具体的には、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、クロルエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、エチレングリコールモノアセトアセタートモノメタクリレートなどが挙げられる。
【０１３４】
（アクリルアミド類）
アクリルアミド類としては、具体的には、例えば、アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミドなどが挙げられる。
【０１３５】
（メタクリルアミド類）
メタクリルアミド類としては、具体的には、例えば、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルメタクリルアミドなどが挙げられる。
【０１３６】
（アリル化合物）
アリル化合物としては、具体的には、例えば、アリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなどが挙げられる。
【０１３７】
（ビニルエーテル類）
ビニルエーテル類としては、具体的には、例えば、アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなどが挙げられる。
【０１３８】
（ビニルエステル類）
ビニルエステル類としては、具体的には、例えば、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなどが挙げられる。
【０１３９】
（イタコン酸ジアルキル類）
イタコン酸ジアルキル類としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【０１４０】
（その他）
その他、フマール酸のジアルキルエステル類またはルキルエステル類；ジブチルフマレート；クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレン、スチレンマクロマー（東亜合成社製ＡＳ−６Ｓ）、メチルメタクリレートマクロマー（東亜合成社製ＡＡ−６）などが挙げられる。
【０１４１】
本発明においては、他の繰り返し単位を有する場合の含有量は、全繰り返し単位に対して１〜５０質量％であることが好ましく、１〜３０質量％であることがより好ましく、１〜２０質量％であることが更に好ましい。
【０１４２】
本発明の高分子化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００〜２０００００が好ましく、１５００〜１０００００がより好ましく、３０００〜６００００が更に好ましい。
本発明の高分子化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、５００〜４００００が好ましく、６００〜３５０００がより好ましく、６００〜３００００が更に好ましい。
本発明の高分子化合物の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．００〜１２．００が好ましく、１．００〜１１．００がより好ましく、１．００〜１０．００が更に好ましい。
なお、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により下記の条件で測定された値である。
＜測定条件＞
［溶離液］  Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）
［装置名］  ＥｃｏＳＥＣ  ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（東ソー社製）
［カラム］  ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（東ソー社製））
［カラム温度］  ４０℃
［流速］  ０．５０ｍｌ／ｍｉｎ
【０１４３】
上述した各繰り返し単位を有する本発明の高分子化合物としては、具体的には、例えば、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−２２）で表される化合物が挙げられる。下記式（Ａ−１）〜（Ａ−２２）で表される化合物は、たとえば、反射防止層中のヒドロキシル基を有する化合物(エポキシ基を有する化合物の開環後に現れるヒドロキシル基、シランカップリング部位を有する化合物の加水分解後に現れるヒドロキシル基等)と共有結合を形成することができる。共有結合の形成は、防眩性反射防止フィルムを斜め切削し、防眩層と反射防止層の界面付近の顕微ラマンスペクトルを測定し、共有結合性ホウ酸のラマンバンドを解析することで確認することができる。
【０１４４】
【化２０】
2018212051.tif 000022
【０１４５】
【化２１】
2018212051.tif 000023
【０１４６】
【化２２】
2018212051.tif 000024
【０１４７】
【化２３】
2018212051.tif 000025
【０１４８】
本発明の高分子化合物の含有量は、本発明の防眩層形成用組成物の全固形分（溶剤を除いた全成分）を１００質量％とした場合に、０．０００１〜４０質量％であることが好ましく、０．００１〜２０質量％であることがより好ましく、０．１〜５質量％であることが更に好ましい。
【０１４９】
（その他の高分子化合物）
本発明の防眩層は、その他の高分子化合物を含有してもよい。高分子化合物を添加することで、硬化収縮を小さくしたり、塗布液（防眩層形成用組成物）の粘度調整を行うことができる。
【０１５０】
高分子化合物は、塗布液に添加する時点で既に重合体を形成しており、上記高分子化合物としては、例えばセルロースエステル類（例えば、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースナイトレート等）、ウレタンアクリレート類、ポリエステルアクリレート類、（メタ）アクリル酸エステル類（例えば、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸エチル共重合体、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸共重合体、ポリメタクリル酸メチル等）、ポリスチレン等の樹脂が好ましく用いられる。
【０１５１】
高分子化合物は、硬化収縮への効果や塗布液の粘度増加効果の観点から、高分子化合物を含有する層に含む全バインダーに対して、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜４０質量％の範囲で含有することが好ましい。また、高分子化合物の分子量は質量平均で０．３万〜４０万が好ましく、０．５万〜３０万がより好ましく、０．５万〜２０万がさらに好ましい。
【０１５２】
［反射防止層］
本発明の防眩性反射防止フィルムが有する反射防止層について説明する。本発明の防眩性反射防止フィルムは積分反射率が１．０％以下であり、鏡面反射率が０．４％以下であり、防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚み／凹部における反射防止層の平均厚み（凹部における反射防止層の平均厚みに対する凸部における反射防止層の平均厚みの比）が１．０〜０．７である。反射防止層としては、上記条件を満たすものであれば特に限定されない。また、本発明において、反射防止層が多層である場合には、各層に関して上記関係が成り立つこととする。
【０１５３】
防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚みと、防眩性反射防止フィルムの凹部における反射防止層の平均厚みの求め方について説明する。
本発明では、反射防止層がモスアイ層である場合と、反射防止層がモスアイ層ではない場合とで、それぞれ以下のようにして防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚みと、防眩性反射防止フィルムの凹部における反射防止層とを求める。
【０１５４】
＜反射防止層がモスアイ層である場合＞
反射防止層がモスアイ層である場合には、後述の＜反射防止層がモスアイ層ではない場合＞と同様の方法で求めることが難しい場合もあるため、防眩性反射防止フィルムの表面を観察し、一定の大きさの領域における反射防止層中の粒子の数を数えることで、凸部における反射防止層の平均厚みと、凹部における反射防止層とを求める。この方法は、粒子の数と反射防止層の膜厚とが相関するという考え方に基づいている。
例えば、防眩層上に、粒子を含む反射防止層形成組成物を塗布して反射防止層を形成した場合、塗布液（反射防止層形成組成物）のレベリングによって防眩層の凸部と凹部で塗布量のムラが生じ、粒子数の疎密が発生する（すなわち、凸部では粒子数が少なくなり（疎な部分となり）、凹部では粒子数が多くなる（密な部分となる））。したがって、この場合は、粒子が疎な部分を凸部と、粒子が密な部分を凹部と考えることができ、（疎な部分の粒子数／密な部分の粒子数）を（凸部の反射防止層の膜厚／凹部の反射防止層の膜厚）と考えることができる。
また、反射防止層を転写により防眩層上に形成した場合、反射防止層において粒子の疎密は発生しにくい。したがって、この場合はランダムに選んだ部分を凸部及び凹部とみなし、それぞれの粒子数を数え、（凸部の反射防止層の膜厚／凹部の反射防止層の膜厚）と考えることができる。
具体的には、下記方法から算出した測定値を防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚みと凹部における反射防止層の平均厚みとして用いることができる。すなわち、低倍における表面ＳＥＭ観察にて粒子の密な部分と疎な部分を決定し、疎な部分を凸部、密な部分を凹部とし、拡大して１０μｍ×１０μｍ角に存在する粒子数をカウントする。上記方法で密な部分と疎な部分が存在しない（密な部分と疎な部分との区別がつかず、全体に均一である）場合には、ランダムに選んだ視野を凸部、凹部として同様の測定を実施することとする。それぞれ１０回の測定値を平均し、比をとることで防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚み／凹部における反射防止層の平均厚みとすることができる。
低倍における表面ＳＥＭ観察にて粒子の密な部分と疎な部分を決定することについて、図を用いてより詳細に説明する。
図１（ａ）は、反射防止層を塗布で形成した場合の防眩性反射防止フィルムの表面ＳＥＭ画像の一例である。この場合、図１（ａ）に示したように、粒子の密な部分と疎な部分は一見して明らかである。このようにして決定した粒子の密な部分と疎な部分について、１０μｍ×１０μｍ角の領域に存在する粒子数をカウントする。図１（ｂ）は図１（ａ）をより拡大したものである。なお、疎な部分の大きさが１０μｍ×１０μｍ角よりも小さい場合は、疎な部分の大きさよりも小さい領域を指定して、その領域における粒子数をカウントすることができる。
図２（ａ）は、反射防止層を転写で形成した場合の防眩性反射防止フィルムの表面ＳＥＭ画像の一例であり、図２（ｂ）は図２（ａ）をより拡大したものである。この場合、粒子の密な部分と疎な部分との区別がつかず、全体に均一である。したがって、ランダムに選んだ部分を凸部と凹部として上記と同様にそれぞれの粒子数をカウントする。
【０１５５】
＜反射防止層がモスアイ層ではない場合＞
反射防止層がモスアイ層ではない場合、防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚みと凹部における反射防止層の平均厚みは下記方法で算出することができる。すなわち、光学顕微鏡等で観察して、防眩層の凸部をけがきペンなどによりマーキングし、そのマーキングした部分（マーキング部）を含むように切削した断面を光学顕微鏡又は走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等で観察することで反射防止層の膜厚を算出する。ここで、凸部とは上記マーキング部付近で最も反射防止層の膜厚が薄い部分の膜厚とし、凹部とは上記断面において最も反射防止層の厚みが厚い部分とし、平均厚みは１０回の測定の平均値とする。
【０１５６】
上記防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚み／凹部における反射防止層の平均厚みは、１．０〜０．７であることが好ましく、１．０〜０．９であることが好ましく、１．０であることが最も好ましい。上記比が１．０に近いほど、良好な反射率、ヘイズ特性を有する防眩性反射防止フィルムが得られる。
【０１５７】
（モスアイ層）
本発明の好ましい反射防止層の具体例として、平均一次粒径１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子及びバインダー樹脂を含み、かつ上記防眩層との界面とは反対側の表面に上記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止層（モスアイ層）が挙げられる。
ここで、モスアイ構造とは、光の反射を抑制するための物質（材料）の加工された表面であって、周期的な微細構造パターンをもった構造のことを指す。特に、可視光の反射を抑制する目的の場合には、７８０ｎｍ未満の周期の微細構造パターンをもった構造のことを指す。微細構造パターンの周期が３８０ｎｍ未満であると、反射光の色味がなくなり好ましい。また、周期が１００ｎｍ以上であると波長３８０ｎｍの光が微細構造パターンを認識出来、反射防止性に優れるため好ましい。モスアイ構造の有無は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等により表面形状を観察し、上記微細構造パターンが出来ているかどうか調べることによって確認することができる。
モスアイ層に使用する材料や作製条件は、工程と関連付けながら、製造方法の部分で後述する。
【０１５８】
（その他の反射防止層）
本発明の防眩性反射防止フィルムの反射防止層は、モスアイ層ではない反射防止層（「その他の反射防止層」とも呼ぶ。）であってもよい。
その他の反射防止層としては、例えば、低屈折率層を含む反射防止層が挙げられる。低屈折率層とは、基材フィルムよりも屈折率（波長５００ｎｍの屈折率）が低い層である。
【０１５９】
低屈折率層には、熱または電離放射線により硬化する含フッ素化合物が用いられることが好ましい。硬化性の含フッ素高分子化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学（株）製）、Ｍ−２０２０（ダイキン（株）製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であり、これらのなかでも低屈折率、モノマーの扱いやすさの観点で特にヘキサフルオロプロピレンが好ましい。
架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
【０１６０】
また上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができ、特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されている。
【０１６１】
反射防止層は、低屈折率層に加えて、さらに高屈折率層を有することが好ましい。低屈折率層とは、基材フィルムよりも屈折率（波長５００ｎｍの屈折率）が高い層である。高屈折率層は、屈折率の高い無機微粒子、熱または電離放射線硬化性のモノマー、開始剤および溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化によって形成される。無機微粒子としては、 Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物からなるものが好ましい。このようにして形成された高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較して、耐傷性や密着性に優れる。分散液安定性、硬化後の膜強度等を確保するために、特開平１１−１５３７０３号公報や特許番号ＵＳ６２１０８５８  Ｂ１等に記載されているような、多官能（メタ）アクリレートモノマーとアニオン性基含有（メタ）アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれることが好ましい。
【０１６２】
無機微粒子の平均粒径は、コールターカウンター法で測定したときの平均粒径で１から１００ｎｍであることが好ましい。高屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましく、０．５％以下であることが更に好ましい。
【０１６３】
また、反射防止層は、低屈折率層及び高屈折率層に加えて、さらに中屈折率層を有していてもよい。
防眩性反射防止フィルムが、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層をこの順に有する場合において、設計波長λ（＝５００ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、高屈折率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足することが好ましい。
また、防眩性反射防止フィルムが、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する場合において、設計波長λ（＝５００ｎｍ）に対して、高屈折率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足することが好ましい。
ｌλ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜ｌλ／４×１．００          （Ｉ）
ｍλ／４×０．７５＜ｎ２ｄ２＜ｍλ／４×０．９５          （ＩＩ）
ｎλ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜ｎλ／４×１．０５          （ＩＩＩ）
但し、式中、ｌは１であり、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｍは２であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎは１であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。
防眩性反射防止フィルムが、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層をこの順に有する場合において、屈折率が１．４５〜１．５５である基材フィルムに対してｎ１が１．６０〜１．６５、ｎ２が１．８５〜１．９５、ｎ３が１．３５〜１．４５の屈折率であることが好ましい。
防眩性反射防止フィルムが、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する場合において、屈折率が１．４５〜１．５５である基材フィルムに対してｎ２が１．８５〜１．９５、ｎ３が１．３５〜１．４５の屈折率であることが好ましい。
【０１６４】
［基材フィルム］
本発明の防眩性反射防止フィルムにおける基材フィルムとしては、種々用いることができるが、プラスチック基材フィルムであることが好ましく、例えば、セルロース系樹脂；セルロースアシレート（トリアセテートセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース）等、ポリエステル樹脂；ポリエチレンテレフタレート等、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、オレフィン系樹脂等を含有する基材が挙げられ、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート、又は（メタ）アクリル系樹脂を含有する基材が好ましく、セルロースアシレートを含有する基材がより好ましい。セルロースアシレートとしては、特開２０１２−０９３７２３号公報に記載の基材等を好ましく用いることが出来る。
基材フィルムの厚さは、通常、１０μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、透明性が高く、かつ十分な強度が得られるという観点から２０μｍ〜２００μｍが好ましく、２５μｍ〜１００μｍがより好ましい。基材フィルムの透明性としては、透過率９０％以上のものが好ましい。
【０１６５】
［接着層］
本発明の防眩性反射防止フィルムは、防眩層と反射防止層の間に接着層を有することも好ましい。
特に、転写法で反射防止層を付与する際に、防眩層と反射防止層間に接着層を設けることで耐擦傷性を向上させることができることが分かった。
接着層を形成する接着剤としては特に限定されないが、ポリビニルアルコール系接着剤のほか、エポキシ系の活性エネルギー線硬化型接着剤、アクリレート系紫外線硬化型接着剤等を用いることができる。例えば特開２００４−２４５９２５号公報に示されるような、分子内に芳香環を含まないエポキシ化合物を含有し、加熱又は活性エネルギー線の照射により硬化する接着剤、特開２００８−１７４６６７号公報記載の（メタ）アクリル系化合物の合計量１００質量部中に、（ａ）分子中に（メタ）アクリロイル基を２以上有する（メタ）アクリル系化合物と、（ｂ）分子中に水酸基を有し、重合性二重結合をただ１個有する（メタ）アクリル系化合物と、（ｃ）フェノールエチレンオキサイド変性アクリレートまたはノニルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレートとを含有する活性エネルギー線硬化型接着剤などが挙げられる。反射防止層が上記モスアイ層である場合には、防眩層とモスアイ層の密着性の観点から、（メタ）アクリレート系紫外線硬化型接着剤を用いることが好ましく、さらに多官能（メタ）アクリレートを含有するアクリレート系紫外線を好ましく用いることができる。
【０１６６】
接着剤層の厚みとしては、０．０１〜３．０μｍ好ましく、０．０１〜１．０μｍがより好ましく、０．０１〜０．６μｍがさらに好ましい。接着剤層の厚みが薄いほど、防眩フィルムの防眩性を損なわず、優れた防眩性を有する防眩性反射防止フィルムが得られるため好ましい。
【０１６７】
（防眩性反射防止フィルムの表面形状）
本発明の防眩性反射防止フィルムは反射防止層側の表面に凹凸形状を有し、上記凹凸形状は、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０３μｍ≦Ｒａ≦０．４μｍであり、かつ、凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が２０μｍ≦Ｓｍ≦７００μｍである。
ここで、算術平均粗さ（Ｒａ）及び凹凸の平均間隔（Ｓｍ）は、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１（１９９４）に基づいて、測定される。
表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）、平均間隔（Ｓｍ）は、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１（１９９４）に準じた測定器、例えば小坂研究所（株）製サーフコーダーＭＯＤＥＬ  ＳＥ−３Ｆなどを用いて測定することができる。
なお、上記測定により測定される凹凸形状のＲａ及びＳｍは、防眩層に起因する凹凸形状である。防眩性反射防止フィルムが、防眩層上にモスアイ層を有する場合でも、モスアイ層の微細な凹凸形状は上記測定に影響を及ぼさない。
【０１６８】
算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０３μｍ≦Ｒａ≦０．４μｍであり、０．１μｍ≦Ｒａ≦０．４μｍが好ましい。
【０１６９】
Ｒａの値が０．０３μｍ以上であると、良好な防眩性が得られる十分な表面凹凸構造が得られ易く、０．４μｍ以下であるとヘイズ値が適切な範囲の凹凸構造が得られやすいため好ましい。０．１μｍ以上であると、高い防眩性を有した防眩性反射防止フィルムが得られるため好ましい。さらに、０．１μｍ以上であると、反射防止層を塗布で形成した場合の反射率が上昇しやすいため、本発明の転写で反射防止層を形成する手法のメリットが大きく得られるため好ましい。また、Ｓｍの値が２０μｍ以上であると反射防止層を転写する際に反射防止層が防眩層の凹凸に追従しやすいため好ましく、防眩性能確保の観点から７００μｍ以下であることが好ましい。
【０１７０】
［防眩性反射防止フィルムの製造方法］
本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法は、
基材フィルムと、防眩層と、反射防止層とをこの順に有する防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、
上記基材フィルム上に、防眩層用バインダー樹脂形成化合物と防眩層用粒子を含有する防眩層形成用組成物を塗布し、電離放射線照射又は加熱により上記防眩層形成用組成物を硬化させて防眩層を形成する工程（工程Ｉ）と、
仮支持体上に、反射防止形成用組成物を塗布し、電離放射線照射又は加熱により１０〜７０％の表面硬化率で半硬化し反射防止層を形成する工程（工程ＩＩ）と、
上記反射防止層を上記仮支持体上から上記防眩層の上記基材フィルムを有する側とは反対側の面上に転写する工程（工程ＩＩＩ）と、
を有する防眩性反射防止フィルムの製造方法である。
【０１７１】
＜工程Ｉ＞
本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法は、基材フィルム上に、防眩層用バインダー樹脂形成化合物と防眩層用粒子を含有する防眩層形成用組成物を塗布し、電離放射線照射又は加熱により上記防眩層形成用組成物を硬化させて防眩層を形成する工程、すなわち上記基材フィルムと上記防眩層を有する防眩フィルムを形成する工程を有する。
【０１７２】
基材フィルムについては前述のとおりである。
【０１７３】
（防眩層形成用組成物）
防眩層形成用組成物は、防眩層用バインダー樹脂形成化合物と防眩層用粒子を含有する。防眩層用バインダー樹脂形成化合物と防眩層用粒子については前述のとおりである。
防眩層形成用組成物は更に、溶媒を含有することが好ましい。溶媒としては、基材フィルムを構成する成分によって異なるが、セルロースアシレート基材の場合は、例えばメチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド等を好ましく用いることができ、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチルがより好ましい。
アクリル基材の場合は、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロペンタノン、シクロヘキサノン酢酸メチル、酢酸エチル等が好ましい。
これら防眩層形成用組成物に用いられる溶媒は、単独で用いても、複数種を併用しても良い。
【０１７４】
−重合開始剤−
防眩層形成用組成物には、重合開始剤を含んでいてもよい。
防眩層形成用組成物に含まれる防眩層用バインダー樹脂形成化合物が光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落＜０１３３＞〜＜０１５１＞に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【０１７５】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１７６】
防眩層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、防眩層形成用組成物に含まれる防眩層用バインダー樹脂形成化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、防眩層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【０１７７】
防眩層形成用組成物の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【０１７８】
工程Ｉにおいては、基材フィルム上に塗布した防眩層形成用組成物を、電離放射線照射又は加熱により硬化させて防眩層を形成する。防眩層の形成において溶媒は乾燥させることが好ましい。
【０１７９】
本発明の防眩層形成における電離放射線種は特に制限されるものではなく、防眩層用バインダー樹脂形成化合物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
【０１８０】
紫外線硬化性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。
【０１８１】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、１〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。
加えて、紫外線照射条件と共に酸素濃度を変化させることで、反射防止層積層前の防眩層の表面硬化率を調整することができ、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下、最も好ましくは２％以下の酸素濃度雰囲気で電離放射線を照射して硬化する。
【０１８２】
加熱については前出の防眩層形成用組成物中の溶剤乾燥時加熱と兼ねても良く、溶剤乾燥時の加熱とは別に加熱しても良い。使用する基材フィルム種類により適当な加熱条件も異なるが、加熱条件は６０℃以上が好ましく、更に好ましくは６０〜１５０℃であり、特に好ましくは、６０〜１３０℃である。加熱時間は、１０秒〜３分が製造の容易さの観点で好ましい。電離放射線照射条件と共に酸素濃度を適宜組み合わせることにより、防眩層の硬さを確保し、かつ表面硬化率を調整することができる。
【０１８３】
反射防止層を形成する工程の前の防眩層の表面硬化率（防眩層の上記基材フィルムを有する側とは反対側の表面の表面硬化率）は、８０％以下であることが好ましく、１０％〜７０％であることがより好ましく、２０％〜６０％であることが更に好ましい。
防眩層の反射防止層積層前の表面硬化率が６０％以下であることにより、反射防止層と防眩層の密着性が良好となり、２０％以上であることで、防眩層に圧力が加わった際の変形や層の破壊を防止できるため好ましい。
なお、防眩層は、後述する反射防止層を転写した後完全に硬化することで、耐擦傷性等の物理性能を高めることが好適である。
【０１８４】
表面硬化率は、ＩＲ測定によりカルボニル基のピーク（１６６０−１８００ｃｍ−１）面積と二重結合のピーク高さ（８０８ｃｍ−１）を未硬化品、硬化品についてそれぞれ測定し、硬化品の二重結合の規格化ピーク高さを未硬化品の二重結合の規格化ピーク高さで除すことにより算出できる。
【０１８５】
防眩層形成後、反射防止層形成前に、防眩層の表面に表面処理を行い、その後、反射防止層を形成させてもよい。
この場合の表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、紫外線照射処理、火炎処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ処理等でフィルム表面を改質する方法が挙げられる。ここでいうグロー放電処理とは、１０−３〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
これらの処理のうち、プラズマ処理、コロナ処理が好ましい。
【０１８６】
［プラズマ処理］
プラズマ処理としては、真空グロー放電、大気圧グロー放電等によるものがあり、その他の方法としてフレームプラズマ処理等の方法があげられる。これらは、例えば特開平６−１２３０６２号公報、特開平１１−２９３０１１号公報、同１１−５８５７号公報等に記載された方法を用いることが出来る。
【０１８７】
［コロナ放電処理］
コロナ放電処理は、従来公知のいずれの方法、例えば特公昭４８−５０４３号公報、同４７−５１９０５号公報、特開昭４７−２８０６７号公報、同４９−８３７６７号公報、同５１−４１７７０号公報、同５１−１３１５７６号公報、特開２００１−２７２５０３号公報等に開示された方法により達成することができる。
【０１８８】
＜工程ＩＩ＞
本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法は、仮支持体上に反射防止形成用組成物を塗布し、電離放射線照射又は加熱により１０〜７０％の表面硬化率で半硬化し反射防止層を形成する工程を有する。
【０１８９】
仮支持体については、モスアイ層の形成方法にて後述する。
【０１９０】
(反射防止層形成用組成物)
反射防止層形成用組成物は、バインダー樹脂形成用化合物、及び溶媒を含む。
バインダー樹脂形成用化合物としては、重合性官能基を有する化合物（好ましくは電離放射線硬化性化合物）が好ましい。重合性官能基を有する化合物としては、各種モノマー、オリゴマー又はポリマーを用いる事ができ、重合性官能基（重合性基）としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性不飽和基（炭素−炭素不飽和二重結合性基）等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。具体例については後述するモスアイ層について記載したものと同様である。
反射防止層形成用組成物に含有される溶媒としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコールが好ましく、各々の溶剤を単独で用いても、複数種を併用しても良い。
反射防止層形成用組成物には、重合開始剤を含んでいてもよく、重合開始剤の具体例及び好ましい例は前述の防眩層形成用組成物の重合開始剤と同様である。
【０１９１】
反射防止層形成用組成物の固形分濃度は、１質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。
【０１９２】
反射防止層形成用組成物において、バインダー樹脂形成用化合物の含有量は、反射防止層形成用組成物の全固形分の質量に対して、１０質量％以上９７質量％以下であることが好ましい。
反射防止層形成用組成物には、重合開始剤を含んでいてもよい。
バインダー樹脂形成用化合物が光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、後述するモスアイ層において記載したものと同様である。
【０１９３】
反射防止層形成用組成物の塗布方法としては、前述の防眩層形成用組成物の塗布方法と同様である。
【０１９４】
電離放射線照射又は加熱の好ましい条件は、電離放射線照射量１ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２であり、電離放射線照射時の酸素濃度は、好ましくは０．１％以下、より好ましくは０．０１％以下、最も好ましくは０．００５％以下である。
加熱条件は、６０℃以上が好ましく、更に好ましくは６０〜１５０℃であり、特に好ましくは、８０〜１３０℃であり、加熱時間は１０秒〜１０分が好ましく、３０秒〜５分がより好ましい。
【０１９５】
防眩層に転写する前の反射防止層の表面硬化率（反射防止層の上記仮支持体を有する側とは反対側の表面の表面硬化率）は１０〜７０％であり、２０〜６０％であることがより好ましい。表面硬化率が１０％以上であることで、転写の際に反射防止層の一部が変形し、反射防止能が低下することを防ぐことが可能であり、表面硬化率が７０％以下であることで、防眩層と反射防止層との密着性を良好に保つことができる。表面硬化率が２０〜６０％であることで、防眩層と反射防止層との密着性をさらに良好に保つことができ、耐擦傷性を良化させる効果が大きい。
【０１９６】
表面硬化率は、防眩層の表面硬化率と同様の測定方法で算出することができる。なお、反射防止層の膜厚が薄く、反射防止層のみの測定データを取得することが難しい場合は、表面硬化率測定用に膜厚を上げた反射防止層を作製して同様の測定を行い、算出した表面硬化率を便宜上表面硬化率とすることができる。
【０１９７】
＜工程ＩＩＩ＞
本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法は、反射防止層を仮支持体上から、防眩層の基材フィルムを有する側とは反対側の面上に転写する工程を有する。
【０１９８】
反射防止層と、防眩層の基材フィルムを有する側とは反対側の面とをニップローラー等で貼り合わせた後、両者を密着させる工程を経て、仮支持体を取り除くことで、反射防止層が防眩層の基材フィルムを有する側とは反対側の面に転写される。反射防止層と、防眩層の基材フィルムを有する側とは反対側の面とを密着させる方法としては、両者に含有されている重合性官能基を有する化合物を、光、電子線、若しくは放射線等、又は熱で重合させることが好ましく、中でも光重合させることが最も好ましい。
【０１９９】
＜その他の工程＞
本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法において、反射防止層を仮支持体上から防眩層上に転写する前に、防眩層上、又は反射防止層上に接着層を設ける工程を有することも好ましい。接着層については前述の通りである。接着層を電離放射線照射量にて硬化する際の照射量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である、電離放射線照射時の酸素濃度は、好ましくは０．１％以下、より好ましくは０．０１％以下、最も好ましくは０．００５％以下である。接着の際の加熱条件は、反射防止層や防眩層の接着性や浸透性に応じて適宜調整することができる。
【０２００】
別の態様として、本発明の防眩反射防止フィルムの製造方法において、反射防止層と防眩層を貼り合わせた状態で加熱する工程を有することが好ましい。このような工程を設けることで、反射防止層と防眩層間の密着性を向上させることができる。加熱の温度や時間については反射防止層や防眩層に応じて適宜調整することができる。
【０２０１】
(反射防止層がモスアイ層である防眩性反射防止フィルムの製造方法)
本発明の好ましい反射防止層としてモスアイ層が挙げられる。
本発明の反射防止層がモスアイ層である防眩性反射防止フィルムの製造方法は、
仮支持体上に、平均一次粒径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子（ａ２）と硬化性化合物（ａ１）とを、上記硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に上記粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程（１）、
上記層（ａ）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得る工程（２）、
支持体及び上記支持体上に粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの上記層（ｂ）を、上記層（ｃａ）と貼り合わせる工程（３）、
上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面から突出するように、上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面の位置を上記仮支持体側に近づける工程（４）、
上記仮支持体を剥離する工程（５）、
基材フィルムと防眩層を有する防眩フィルムの防眩層と、上記工程（５）で得られた上記層（ｃａ）を含む積層体の上記層（ｃａ）とを貼り合せる工程（６）、
上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）と、上記層（ｂ）とを合わせた層中に埋没した状態で上記層（ｃａ）を硬化させる工程（７）、
上記粘着フィルムを剥離する工程（８）、
をこの順に有する防眩性反射防止フィルムの製造方法である。
【０２０２】
上記工程（４）と上記工程（５）との間に、上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で上記層（ｃａ）の一部を硬化させる工程（４−２）を有することが好ましい。
【０２０３】
本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法は、更に、工程（８）の後に、上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）の上記基材フィルム側の界面とは反対側の界面から突出した状態で、上記層（ｃａ）を硬化させる工程（９）、
溶剤で洗浄する工程（１０）
をこの順に有することがより好ましい。
【０２０４】
本発明において、「層（ａ）中に粒子（ａ２）が埋没する厚み」とは、層（ａ）の厚みが粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上の厚みであることを表すものとする。
また、本発明において、「粒子（ａ２）が、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没」するということは、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層の厚みが粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上であることを表すものである。
【０２０５】
本発明では、工程（１）において、粒子（ａ２）が埋没する厚みで層（ａ）を形成するため、工程（４）以降において、粒子（ａ２）の層（ｃａ）から突出した表面を層（ｃａ）の薄層が被覆する場合がある。上記薄層が被覆した粒子（ａ２）のことも、便宜上粒子（ａ２）と呼ぶものとする。
【０２０６】
工程（１）〜（５）までの一例の模式図を図３に示す。
工程（６）〜（１０）までの一例の模式図を図４に示す。
【０２０７】
［工程（１）］
工程（１）は、仮支持体上に、硬化性化合物（ａ１）と平均一次粒径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを、硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程である。
前述のように、本発明において、「層（ａ）中に粒子（ａ２）が埋没する厚み」とは、粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上の厚みを表すものとする。
【０２０８】
工程（１）において、仮支持体上に層（ａ）を設ける方法は特に限定されないが、仮支持体上に層（ａ）を塗布することにより設けることが好ましい。この場合、層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む層（ａ）形成用組成物を塗布してなる層である。すなわち、層（ａ）形成用組成物は、上述の反射防止層形成用組成物に相当する。塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【０２０９】
工程（１）で仮支持体上に設けられた層（ａ）において、層（ａ）の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないことが好ましい。ここで、層（ａ）の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないとは、層（ａ）の面内の１０μｍ×１０μｍを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で３視野観察した際に、表面に直交する方向に複数重なって存在していない状態の粒子（ａ２）の個数の割合が、８０％以上であることを表し、好ましくは９５％以上である。
【０２１０】
（仮支持体）
仮支持体としては表面が平滑な支持体であれば特に限定されない。仮支持体は、表面粗さが３０ｎｍ以下程度の表面平坦性を有し、上記層（ａ）形成用組成物の塗布を妨げないものであることが好ましく、種々の材質からなる仮支持体を用いることができるが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム又はシクロオレフィン系樹脂フィルムが好ましく用いられる。
本発明において、上記仮支持体の表面粗さはＳＰＡ−４００（日立ハイテクノサイエンス製）を使用し、測定範囲５μｍ×５μｍ、測定モード：ＤＦＭ，測定周波数：２Ｈｚの測定条件で測定する。
【０２１１】
（層（ａ））
層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む層である。
層（ａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）は、硬化されることで、反射防止層中の樹脂（バインダー樹脂）となり得るものである。すなわち、硬化性化合物（ａ１）はバインダー用化合物の一種である。また、硬化性化合物（ａ１）は上述のバインダー樹脂形成用化合物に相当する。
層（ａ）に含まれる平均一次粒径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子（ａ２）は、出来上がりの防眩性反射防止フィルムにおいて、バインダー樹脂からなる膜（層（ｃａ））の表面から突出し、粒子（ａ２）による微細な凹凸形状（モスアイ構造）を形成する粒子である。
工程（１）における層（ａ）の膜厚は、粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上２．０倍以下であることが好ましく、０．８倍以上１．５倍以下であることがより好ましく、０．９倍以上１．２倍以下であることが更に好ましい。
【０２１２】
＜硬化性化合物（ａ１）＞
硬化性化合物（ａ１）としては、重合性官能基を有する化合物（好ましくは電離放射線硬化性化合物）が好ましい。重合性官能基を有する化合物としては、各種モノマー、オリゴマー又はポリマーを用いる事ができ、重合性官能基（重合性基）としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性不飽和基（炭素−炭素不飽和二重結合性基）等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０２１３】
重合性不飽和基を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。
【０２１４】
さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性官能基を有する化合物として、好ましく用いられる。
【０２１５】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーを少なくとも１種含有することが好ましい。
例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０２１６】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ−２Ｃ、同ＰＥＴ−３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ−３２０、同ＴＰＡ−３３０、同ＲＰ−１０４０、同Ｔ−１４２０、同Ｄ−３１０、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＧＰＯ−３０３、大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃３ＰＡ、Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ、Ｖ＃１０００、Ｖ＃１０８０等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡ、同ＵＶ−２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＬ−５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＥＢ−２２０、ＥＢ−５１２９、ＥＢ−１８３０，ＥＢ−４８５８（ダイセルＵＣＢ（株）製）、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−１０ＨＡ、Ｕ−１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ−１９６０（東亜合成（株）製）、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ，ＵＮ−３３２０ＨＣ，ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４，ＨＤＰ−４Ｔなどの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ−８１００，Ｍ−８０３０，Ｍ−９０５０（東亞合成（株）製、ＫＲＭ−８３０７（ダイセルサイテック（株）製）などの３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
【０２１７】
さらに、３個以上の重合性官能基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等も挙げられる。
【０２１８】
また、特開２００５−７６００５号公報、特開２００５−３６１０５号公報に記載された化合物、ＳＩＲＩＵＳ−５０１、ＳＵＢＡＲＵ−５０１（大阪有機化学工業（株）製）のようなデンドリマー、特開２００５−６０４２５号公報に記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
【０２１９】
また、耐光性を付与する観点から、硬化性化合物（ａ１）として、Ｓｉ−Ｏ結合を主骨格とし、かつ重合性官能基を有するオリゴマー、プレポリマーを使用することも好ましく、一般式Ｒ１ｘ−Ｓｉ（ＯＲ２）４−ｘで表される、分子中に１つ以上のＳｉ原子および１つ以上のＣ原子を有し、かつ重合性基を持つ化合物からなるオリゴマーであることが好ましい。Ｓｉ−Ｏ結合を主骨格に持つ化合物は、可視光〜ＵＶ光の吸収が少なく、特に青色耐光性に優れる。具体的な例としては、特開２０１１−８４６７２号公報に記載された重合性基を含有するかご状シルセスキオキサン化合物、または特開２０１７−８１４８号公報や、特許第６２１９２５０号に記載されたエポキシ基を含有するポリオルガノシルセスキオキサン化合物が挙げられる。
【０２２０】
さらに、硬化性化合物（ａ１）として重合性官能基を有する化合物を使用する場合、粒子（ａ２）と硬化性化合物（ａ１）を結合させて強固な膜にするために、硬化性化合物（ａ１）として、重合性官能基を有するシランカップリング剤を用いてもよい。
重合性官能基を有するシランカップリング剤の具体例としては、例えば、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリエトキシシラン、４−（メタ）アクリロキシブチルトリメトキシシラン、４−（メタ）アクリロキシブチルトリエトキシシラン等が挙げられる。具体的には、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＭ−５１０３（信越化学工業（株）製）、特開２０１４−１２３０９１号公報記載のシランカップリング剤Ｘ−１２−１０４８、Ｘ−１２−１０４９、Ｘ−１２−１０５０（信越化学工業（株）製）、及び下記構造式で表される化合物Ｃ３等が挙げられる。
【０２２１】
【化２４】
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【０２２２】
さらに、粒子（ａ２）の凝集を抑制するように働く化合物として、ラジカル反応性基以外の重合性官能基を有するシランカップリング剤を用いても良い。ラジカル反応性基以外の重合性官能基を有するシランカップリング剤の具体例としては、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−４８０３（以上、信越化学工業（株）製）が挙げられる。
【０２２３】
また前述のように、反射防止層がモスアイ構造を持ち、優れた耐光性を付与する場合は、上記重合性官能基を有するシランカップリング剤を用いることは、Ｓｉ−Ｏ結合を持つバインダー成分比率が高まる点でも好ましい。
【０２２４】
重合性官能基を有する化合物は、二種類以上を併用してもよい。これら重合性官能基を有する化合物の重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
【０２２５】
層（ａ）はバインダー用化合物として、硬化性化合物（ａ１）以外のバインダー用化合物を更に含むことができる。硬化性化合物（ａ１）以外のバインダー用化合物としては、重合性官能基を有さない化合物を挙げることができる。
本発明では、硬化性化合物（ａ１）として、１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物を用いてもよいが、特に、１分子中に３個以上の重合性官能基を有する化合物と、１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または硬化性化合物（ａ１）以外の化合物として重合性官能基を有さない化合物を併用することが好ましい。
１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物としては、重量平均分子量Ｍｗａが４０＜Ｍｗａ＜５００であることが好ましい。上記化合物は、重合性官能基数が２個以下である、あるいは重合性官能基を含有しないため、硬化時の収縮が小さく、仮支持体への応力集中を回避できる。
１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物は、１分子中に１個の重合性官能基を有する化合物であることが好ましい。
【０２２６】
さらに、１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物は、２５℃における粘度が１００ｍＰａｓ以下であることが好ましく、１〜５０ｍＰａｓがより好ましい。このような粘度範囲にある化合物は、粘着剤を含む層へ浸透しやすい上に、粒子（ａ２）の凝集を抑制するように働き、ヘイズ、白濁感を抑制できるため好ましい。
【０２２７】
１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物は、重合性官能基として、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、アルコキシ基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を持つものが好ましい。
【０２２８】
重合性官能基を有さない化合物としては、エステル系化合物、アミン系化合物、エーテル系化合物、脂肪族アルコール系化合物、炭化水素系化合物などを好ましく用いることができ、エステル系化合物が特に好ましい。より具体的には、コハク酸ジメチル（粘度２．６ｍＰａｓ）、コハク酸ジエチル（粘度２．６ｍＰａｓ）、アジピン酸ジメチル（粘度２．８ｍＰａｓ）、コハク酸ジブチル（粘度３．９ｍＰａｓ）、アジピン酸ビス（２−ブトキシエチル）（粘度１０．８ｍＰａｓ）、スベリン酸ジメチル（粘度３．７ｍＰａｓ）、フタル酸ジエチル（粘度９．８ｍＰａｓ）、フタル酸ジブチル（粘度１３．７ｍＰａｓ）、クエン酸トリエチル（粘度２２．６ｍＰａｓ）、クエン酸アセチルトリエチル（粘度２９．７ｍＰａｓ）、ジフェニルエーテル（粘度３．８ｍＰａｓ）などが挙げられる。
【０２２９】
本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により下記の条件で測定された値である。
［溶媒］  テトラヒドロフラン
［装置名］  ＴＯＳＯＨ  ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
［カラム］  ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌ  Ｓｕｐｅｒ  ＨＺＭ−Ｈ
（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用。
［カラム温度］  ２５℃
［試料濃度］  ０．１質量％
［流速］  ０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
［校正曲線］  ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン  Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０までの７サンプルによる校正曲線を使用。
【０２３０】
層（ａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）の塗設量は、１００ｍｇ／ｍ２〜８００ｍｇ／ｍ２が好ましく、１００ｍｇ／ｍ２〜６００ｍｇ／ｍ２がさらに好ましく、１００ｍｇ／ｍ２〜４００ｍｇ／ｍ２が最も好ましい。
また、硬化性化合物（ａ１）と重合性官能基を有さない化合物とを併用する場合は、これらの合計の塗設量が上記範囲であることが好ましい。
【０２３１】
＜平均一次粒径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子（ａ２）＞
平均一次粒径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子（ａ２）を、「粒子（ａ２）」ともいう。
粒子（ａ２）としては、金属酸化物粒子、樹脂粒子、金属酸化物粒子のコアと樹脂のシェルを有する有機無機ハイブリッド粒子などが挙げられるが、膜強度に優れる観点から金属酸化物粒子が好ましい。
金属酸化物粒子としては、シリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、五酸化アンチモン粒子などが挙げられるが、多くのバインダーと屈折率が近いためヘイズを発生しにくく、かつモスアイ構造が形成し易い観点からシリカ粒子が好ましい。
樹脂粒子としては、ポリメタクリル酸メチル粒子、ポリスチレン粒子、メラミン粒子などが挙げられる。
【０２３２】
粒子（ａ２）の平均一次粒径は、粒子が並んでモスアイ構造を形成できる観点から１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であり、１４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１５０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
粒子（ａ２）として、１種のみ使用してもよいし、平均一次粒径の異なる２種以上の粒子を用いてもよい。
【０２３３】
粒子（ａ２）の平均一次粒径は、体積平均粒径の累積の５０％粒径を指す。粒径の測定には走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる事ができる。粉体粒子（分散液の場合は乾燥させて溶剤を揮発させたもの）をＳＥＭ観察により適切な倍率（５０００倍程度）で観察し、一次粒子１００個のそれぞれの直径を測長してその体積を算出し、累積の５０％粒径を平均一次粒径とすることができる。粒子が球形でない場合には、長径と短径の平均値をその一次粒子の直径とみなす。防眩性反射防止フィルム中に含まれる粒子を測定する場合は、防眩性反射防止フィルムを表面側から上記同様ＳＥＭで観察して算出する。この際、観察し易いように、試料にはカーボン蒸着、エッチング処理などを適宜施してよい。
【０２３４】
粒子（ａ２）の形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。
粒子（ａ２）は、中実粒子であっても、中空粒子であってもよいが、中実粒子であることが好ましい。
また、シリカ粒子については、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよい。
【０２３５】
粒子（ａ２）は塗布液中での分散性向上、膜強度向上、凝集防止のために表面処理された無機微粒子を使用することが好ましい。表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７−２９８９７４号公報の＜０１１９＞〜＜０１４７＞に記載のものと同様である。
特に、バインダー成分である硬化性化合物（ａ１）との結着性を付与し、膜強度を向上させる観点から、粒子表面を不飽和二重結合および粒子表面と反応性を有する官能基を有する化合物で表面修飾し、粒子表面に不飽和二重結合を付与することが好ましい。表面修飾に用いる化合物としては、硬化性化合物（ａ１）として上述した、重合性官能基を有するシランカップリング剤を好適に用いることができる。
【０２３６】
平均一次粒径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子の具体的な例としては、シーホスターＫＥ−Ｐ１０（平均一次粒径１００ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、エポスターＳ（平均一次粒径２００ｎｍ、日本触媒（株）製メラミン・ホルムアルデヒド縮合物）、エポスターＭＡ―ＭＸ１００Ｗ（平均一次粒径１７５ｎｍ、日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）系架橋物）、スタフィロイド（アイカ工業（株）製多層構造有機微粒子）、ガンツパール（アイカ工業（株）製ポリメチルメタクリレ−ト、ポリスチレン粒子）などを好ましく用いることができる。
【０２３７】
粒子（ａ２）としては、表面のヒドロキシル基量が適度に多く、かつ硬い粒子であるという理由から、焼成シリカ粒子であることが特に好ましい。
焼成シリカ粒子は、加水分解が可能なシリコン化合物を水と触媒とを含む有機溶媒中で加水分解、縮合させることによってシリカ粒子を得た後、シリカ粒子を焼成するという公知の技術により製造することができ、たとえば特開２００３−１７６１２１号公報、特開２００８−１３７８５４号公報などを参照することができる。
焼成シリカ粒子を製造する原料のシリコン化合物としては特に限定されないが、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン等のクロロシラン化合物；テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物；テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン等のアシロキシシラン化合物；ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、トリメチルシラノール等のシラノール化合物；等が挙げられる。上記例示のシラン化合物のうち、アルコキシシラン化合物が、より入手し易く、かつ、得られる焼成シリカ粒子に不純物としてハロゲン原子が含まれることが無いので特に好ましい。本発明にかかる焼成シリカ粒子の好ましい形態としては、ハロゲン原子の含有量が実質的に０％であり、ハロゲン原子が検出されないことが好ましい。
焼成温度は特に限定されないが、８００℃〜１３００℃が好ましく、１０００℃〜１２００℃がより好ましい。
【０２３８】
粒子（ａ２）の塗設量は、５０ｍｇ／ｍ２〜２００ｍｇ／ｍ２が好ましく、１００ｍｇ／ｍ２〜１８０ｍｇ／ｍ２がさらに好ましく、１３０ｍｇ／ｍ２〜１７０ｍｇ／ｍ２が最も好ましい。下限以上では、モスアイ構造の凸部が数多く形成できるため反射防止性がより向上しやすく、上限以下であると、液中での凝集が生じにくく、良好なモスアイ構造を形成しやすい。
【０２３９】
粒子の平均一次粒径が１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下で、かつ粒径の分散度（ＣＶ値）が５％未満の単分散シリカ微粒子を一種類のみ含有することがモスアイ構造の凹凸の高さが均一になり、反射率がより低下するため好ましい。ＣＶ値は通常レーザー回折型粒径測定装置を用いて測定されるが、他の粒径測定方式でも良いし、本発明の防眩性反射防止フィルムの反射防止層の表面ＳＥＭ像から、画像解析によって粒径分布を求め算出することもできる。ＣＶ値は４％未満であることがより好ましい。
【０２４０】
層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）及び粒子（ａ２）以外の成分を含有していてもよく、たとえば、前述の重合性官能基を有さない化合物、溶剤、重合開始剤、粒子（ａ２）の分散剤、レベリング剤、防汚剤等を含有していてもよい。
【０２４１】
＜溶剤＞
溶媒としては、粒子（ａ２）と極性が近いものを選ぶのが分散性を向上させる観点で好ましい。具体的には、例えば粒子（ａ２）が金属酸化物粒子の場合にはアルコール系の溶剤が好ましく、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノールなどが挙げられる。また、例えば粒子（ａ２）が疎水化表面修飾がされた金属樹脂粒子の場合には、ケトン系、エステル系、カーボネート系、アルカン、芳香族系等の溶剤が好ましく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド、シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらの溶剤は、分散性を著しく悪化させない範囲で複数種混ぜて用いてもかまわない。
【０２４２】
＜粒子（ａ２）の分散剤＞
粒子（ａ２）の分散剤は、粒子同士の凝集力を低下させることにより、粒子（ａ２）を均一に配置させ易くすることができる。分散剤としては、特に限定されないが、硫酸塩、リン酸塩などのアニオン性化合物、脂肪族アミン塩、四級アンモニウム塩などのカチオン性化合物、非イオン性化合物、高分子化合物が好ましく、吸着基と立体反発基それぞれの選択の自由度が高いため高分子化合物がより好ましい。分散剤としては市販品を用いることもできる。例えば、ビックケミー・ジャパン（株）製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１７１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２０００、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２００１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２１６４、Ｂｙｋｕｍｅｎ、ＢＹＫ−２００９、ＢＹＫ−Ｐ１０４、ＢＹＫ−Ｐ１０４Ｓ、ＢＹＫ−２２０Ｓ、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０３、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０４、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０５（以上商品名）などが挙げられる。
【０２４３】
＜レベリング剤＞
レベリング剤は、層（ａ）形成用組成物の表面張力を低下させることにより、塗布後の液を安定させ硬化性化合物（ａ１）及び粒子（ａ２）を均一に配置させ易くすることができる。例えば、特開２００４−３３１８１２号公報、特開２００４−１６３６１０号公報に記載の化合物等を用いることができる。
【０２４４】
上記レベリング剤は、層（ａ）形成用組成物の全固形分中に０．０１〜５．０質量％含有されることが好ましく、０．０１〜３．０質量％含有されることがより好ましく、０．０１〜２．０質量％含有されることが最も好ましい。
【０２４５】
＜防汚剤＞
防汚剤は、モスアイ構造に撥水撥油性を付与することにより、汚れ又は指紋の付着を抑制することができる。例えば、特開２０１２−８８６９９号公報に記載の化合物等を用いることができる。
【０２４６】
防汚剤は層（ａ）中の全固形分に対して０．０１〜５．０質量％含有されることが好ましく、０．０１〜３．０質量％含有されることがより好ましく、０．０１〜２．０質量％含有されることが最も好ましい。
【０２４７】
＜重合開始剤＞
層（ａ）には、重合開始剤を含んでいてもよい。
硬化性化合物（ａ１）が光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落＜０１３３＞〜＜０１５１＞に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【０２４８】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０２４９】
層（ａ）中の重合開始剤の含有量は、層（ａ）に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分な量であり、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、層（ａ）中の全固形分に対して、０．１〜８質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。
【０２５０】
層（ａ）には、上述した重合性官能基を有するシランカップリング剤を反応させるために光あるいは熱により酸又は塩基を発生する化合物（以下、光酸発生剤、光塩基発生剤、熱酸発生剤、熱塩基発生剤と称する場合がある。）を含んでいてもよい。
【０２５１】
＜光酸発生剤＞
光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、イミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、ジスルホン化合物、ジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物等を挙げることができる。また、トリアジン類（例えば、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなど）、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物を挙げることもできる。
また、光により酸を発生する基、または化合物をポリマーの主鎖もしくは側鎖に導入した化合物を用いることができる。
さらに、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌａｉ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、Ａ．Ａｂａｄ  ｅｔ  ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，（Ｃ），３２９（１９７０）、米国特許第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号等に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。
【０２５２】
＜熱酸発生剤＞
熱酸発生剤としては、酸と有機塩基からなる塩を挙げることができる。
上記の酸としては、スルホン酸、ホスホン酸、カルボン酸など有機酸や硫酸、リン酸のような無機酸が挙げられる。硬化性化合物（ａ１）に対する相溶性の観点からは、有機酸がより好ましく、スルホン酸、ホスホン酸が更に好ましく、スルホン酸が最も好ましい。好ましいスルホン酸としては、ｐ−トルエンスルホン酸（ＰＴＳ）、ベンゼンスルホン酸（ＢＳ）、ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＢＳ）、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸（ＣＢＳ）、１，４−ナフタレンジスルホン酸（ＮＤＳ）、メタンスルホン酸（ＭｓＯＨ）、ノナフルオロブタン−１−スルホン酸（ＮＦＢＳ）などが挙げられる。
【０２５３】
酸発生剤の具体例としては特開２０１６−８０３号に記載のものを好適に用いることができる。
【０２５４】
＜光塩基発生剤＞
光塩基発生剤としては、活性エネルギー線の作用により塩基を発生する物質を挙げることができる。より具体的には、（１）紫外線、可視光、又は赤外線の照射により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、（２）分子内求核置換反応や転位反応などにより分解してアミン類を放出する化合物、あるいは（３）紫外線、可視光、又は赤外線の照射により何らかの化学反応を起こして塩基を放出するものを使用できる。
本発明に用いられる光塩基発生剤は、紫外線、電子線、Ｘ線、赤外線および可視光線などの活性エネルギー線の作用により塩基を発生する物質であれば特に限定されない。
具体的には特開２０１０−２４３７７３号公報に記載のものを好適に用いる事ができる。
【０２５５】
層（ａ）中の、光又は熱により酸又は塩基を発生する化合物の含有量は、層（ａ）に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分な量であり、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、層（ａ）中の全固形分に対して、０．１〜８質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。
【０２５６】
［工程（２）］
工程（２）は、工程（１）の層（ａ）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得る工程であり、具体的には、工程（１）の層（ａ）中の硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させて、硬化された化合物（ａ１ｃ）を含む層（ｃａ）を得る工程である。
工程（２）で硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させることにより、粒子（ａ２）を動きにくくして、粒子（ａ２）が凝集することを抑制することができる。
硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させるとは、硬化性化合物（ａ１）のすべてではなく、一部のみを硬化させることを表す。工程（２）で硬化性化合物（ａ１）の一部のみを硬化させ、未硬化の硬化性化合物（ａ１）の一部を工程（４）で仮支持体に浸透（仮支持体が機能層を有する場合は機能層に浸透してもよい）させる方法、又は層（ｂ）へ浸透させる方法などにより、層（ｃａ）の厚みを薄くして、粒子（ａ２）を層（ｃａ）の支持体側の界面から突出させて、良好な凹凸形状（モスアイ構造）を形成することができる。
【０２５７】
硬化は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、硬化性化合物（ａ１）が光硬化性の化合物であって、工程（２）において光（好ましくは紫外線）を照射することにより、硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させることが好ましい。
工程（２）の硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させる条件が、層（ａ）形成用組成物から粒子（ａ２）を除いた組成物を仮支持体上に２μｍの厚さで塗布し、硬化させた場合に、硬化率が２〜２０％となる条件であることが好ましく、硬化率が３〜１５％となる条件であることがより好ましく、硬化率が５〜１２％となる条件であることが更に好ましい。
【０２５８】
硬化率は、
（１−硬化後の残存重合性官能基数／硬化前の重合性官能基数）×１００％であり、以下の方法で測定される。
なお、重合性官能基は、重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を有する基である。
より具体的には、Ｔｈｅｒｍｏ  ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＮＩＣＯＬＥＴ６７００  ＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分光光度計）を使用して硬化前の硬化性化合物そのものをＫＢｒ−ＩＲ測定し、カルボニル基のピーク（１６６０−１８００ｃｍ−１）面積と重合性の炭素−炭素不飽和二重結合のピーク高さ（８０８ｃｍ−１）を求め、硬化後の一回反射のＩＲ（ｉｎｆｒａｒｅｄ  ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）測定から同様にカルボニル基ピーク面積に対する重合性の炭素−炭素不飽和二重結合のピークを求め、紫外線照射前後で比較することにより硬化率を算出した。ここで硬化率の計算に際し、８０８ｃｍ−１における測定深度を８２１ｎｍ、１６６０−１８００ｃｍ−１における深度を３８４ｎｍとして規格化している。
【０２５９】
工程（２）において、紫外線を１〜９０ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射することが好ましく、１．２〜４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射することがより好ましく、１．５〜１０ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射することが更に好ましい。照射量の最適値は層（ａ）形成用組成物の組成によって異なるため、適宜調整することができる。
【０２６０】
工程（２）において、層（ａ）の仮支持体側とは反対側から紫外線を照射して硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させることが製造適正上好ましい。
【０２６１】
酸素濃度０．１〜５．０体積％の環境下で工程（２）を行うことが好ましく、酸素濃度０．５〜１．０体積％の環境下で工程（２）を行うことがより好ましい。酸素濃度を上記範囲とすることで、特に層（ａ）の仮支持体側の領域を硬化させることができる。
【０２６２】
化合物（ａ１ｃ）は、硬化性化合物（ａ１）の硬化物である。
化合物（ａ１ｃ）の分子量は特に限定されない。また、化合物（ａ１ｃ）は、未反応の重合性官能基を有していてもよい。
工程（２）で得られる層（ｃａ）は、層中に硬化性化合物（ａ１）と化合物（ａ１ｃ）とを含む層である。
なお、本発明では、工程（２）の後、工程（４−２）、（７）、及び（９）において、層（ｃａ）を更に硬化させうるものであり、それぞれの工程における硬化前と硬化後で各層が含有する成分及びその組成（硬化性化合物（ａ１）とその硬化物である化合物（ａ１ｃ）の組成比など）は異なるが、本発明では便宜的にいずれの段階においても層（ｃａ）と呼ぶものとする。
【０２６３】
［工程（３）］
工程（３）は、支持体及び上記支持体上に粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの層（ｂ）を、上記層（ｃａ）と貼り合わせる工程である。
層（ｃａ）と粘着フィルムの層（ｂ）とを貼り合わせる方法としては特に限定されず公知の方法を用いることができ、たとえばラミネート法が挙げられる。
層（ｃａ）と層（ｂ）とが接するように粘着フィルムを貼り合わせることが好ましい。
工程（３）の前に、層（ｃａ）を乾燥する工程を有していてもよい。層（ｃａ）を乾燥する工程を有する場合は、層（ｃａ）の乾燥温度は２０〜６０℃が好ましく、２０〜４０℃がより好ましい。乾燥時間は０．１〜１２０秒が好ましく、１〜３０秒がより好ましい。
【０２６４】
本発明では、工程（３）において粘着フィルムの層（ｂ）と層（ｃａ）とを貼り合わせ、後述する工程（４）において粒子（ａ２）を、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、層（ｃａ）の支持体側の界面から突出させることで、また、より好ましくは工程（４−２）において粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ｃａ）の一部をさらに硬化することで、粒子（ａ２）が層（ｃａ）の硬化前に空気界面に露出しないようにして、凝集を抑制し、粒子（ａ２）によって形成された良好な凹凸形状を作製できる。
【０２６５】
（粘着フィルム）
粘着フィルムは、支持体と粘着剤を含む層（ｂ）とを有する。
【０２６６】
＜層（ｂ）＞
層（ｂ）は、粘着剤を含む層であり、粘着剤は、ゲル分率が９５．０％以上の粘着剤であることが好ましい。
粘着剤のゲル分率が９５．０％以上であることで、本発明の防眩性反射防止フィルムの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、粘着剤成分が防眩性反射防止フィルム表面に残りにくくなり、粘着剤成分が粒子の凹凸間を埋めることで生じる反射率の上昇を抑制する効果が高い。
粘着剤のゲル分率は、９５．０％以上９９．９％以下であることが好ましく、９７．０％以上９９．９％以下であることがより好ましく、９８．０％以上９９．９％以下であることが更に好ましい。
粘着剤のゲル分率は、粘着剤を、２５℃で、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に１２時間浸漬した後の不溶解分の比率であり、下記式から求められる。
ゲル分率＝（粘着剤のＴＨＦへの不溶解分の質量）／（粘着剤の総質量）×１００（％）
【０２６７】
粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下であることが好ましく、７０００以下であることがより好ましく、５０００以下であることが最も好ましい。ゾル成分の重量平均分子量を上記範囲にすることによって、本発明の防眩性反射防止フィルムの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、粘着剤成分が防眩性反射防止フィルム表面に残りにくくすることができる。
粘着剤のゾル成分は、粘着剤を、２５℃で、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に１２時間浸漬した後のＴＨＦへの溶解分を表す。重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析することができる。
【０２６８】
粘着剤の３０℃、１Ｈｚでの貯蔵弾性率（Ｇ‘）が１．３ＧＰａ以下であり、かつ粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下であることも好ましい。
粘着剤の３０℃、１Ｈｚでの貯蔵弾性率（Ｇ‘）が１．３×１０５Ｐａ以下であり、かつ粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下であることも好ましい。
粘着剤の３０℃、１Ｈｚでの貯蔵弾性率（Ｇ‘）は０．１×１０５Ｐａ以上１．３×１０５Ｐａ以下がより好ましく、０．１×１０５Ｐａ以上１．２×１０５Ｐａ以下が更に好ましい。貯蔵弾性率が０．１×１０５Ｐａ以上であると、粘着剤の凝集破壊が起こりにくく、取り扱いが容易である。貯蔵弾性率が１．３×１０５Ｐａ以下であると、粒子の隙間に粘着剤が入り込みやすくなるため、粒子の凝集を抑制する効果が得られやすくなり、１．２×１０５Ｐａ以下であると特に良好な反射率を有する防眩性反射防止フィルムが得られる。
また、この場合の粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量の好ましい範囲も前述したものと同様である。
【０２６９】
層（ｂ）の膜厚は０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以上２０μｍ以下であることが更に好ましい。
【０２７０】
粘着剤としては、重合体を含むことが好ましく、（メタ）アクリル系重合体を含むことがより好ましい。特に、アルキル基の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの少なくとも１種のモノマーの重合体（２種以上のモノマーの場合は共重合体）が好ましい。（メタ）アクリル系重合体の重量平均分子量は、２０万〜２００万であることが好ましい。
【０２７１】
アルキル基の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、イソセチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートモノマーのアルキル基は、直鎖、分枝状、環状のいずれでもよい。上記モノマーは２種以上併用されてもよい。
【０２７２】
脂肪族環を有する（メタ）アクリレートモノマーの好適な例としては、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でもシクロヘキシル（メタ）アクリレートであることが特に好ましい。
【０２７３】
（メタ）アクリル系重合体は、アルキル基の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの少なくとも１種と、他の共重合性モノマーの少なくとも１種とからなる共重体であってもよい。この場合、他の共重合性モノマーとしては、水酸基、カルボキシル基、及びアミノ基から選ばれる少なくとも１種の基を含有する共重合性ビニルモノマー、ビニル基を有する共重合性ビニルモノマー、芳香族系モノマー等が挙げられる。
【０２７４】
水酸基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル類、及び、Ｎ−ヒドロキシ（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の水酸基含有（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、これらの化合物群の中から選択された、少なくとも１種であることが好ましい。
【０２７５】
（メタ）アクリル系重合体の１００質量部に対して、水酸基を含有する共重合性ビニルモノマーを０．１〜１５質量部含有することが好ましい。
【０２７６】
カルボキシル基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレートからなどが挙げられ、これらの化合物群の中から選択された、少なくとも１種であることが好ましい。
【０２７７】
（メタ）アクリル共重合体の１００質量部に対して、カルボキシル基を含有する共重合性ビニルモノマーを０．１〜２質量部含有することが好ましい。
【０２７８】
アミノ基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、モノメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モノエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モノメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、モノエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等のモノアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０２７９】
芳香族系モノマーとしては、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族基含有（メタ）アクリル酸エステル類のほか、スチレン等が挙げられる。
【０２８０】
上記以外の共重合性ビニルモノマーとしては、アクリルアミド、アクリロニトリル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの各種ビニルモノマーが挙げられる。
【０２８１】
粘着剤は、粘着剤を形成するための組成物（粘着剤組成物ともいう）の硬化物を含むものであってもよい。
粘着剤組成物は、上記重合体と架橋剤とを含むことが好ましく、熱又は紫外線（ＵＶ）などを用いて架橋しても良い。架橋剤としては、２官能以上のイソシアネート系架橋剤、２官能以上のエポキシ系架橋剤、アルミニウムキレート系架橋剤からなる化合物群のうちから選択される１種以上の架橋剤が好ましい。架橋剤を用いる場合は、本発明の防眩性反射防止フィルムの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、粘着剤成分を反射防止フィルム表面に残りにくくする観点から、上記重合体の１００質量部に対して、０．１〜１５質量部含有することが好ましく、３．５〜１５質量部含有することがより好ましく、３．５質量部超１５質量部未満が更に好ましく、５．１〜１０質量部含有することが特に好ましい。
【０２８２】
２官能以上のイソシアネート系化合物としては、１分子中に少なくとも２個以上のイソシアネート（ＮＣＯ）基を有するポリイソシアネート化合物であればよく、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート類（１分子中に２個のＮＣＯ基を有する化合物）のビュレット変性体、及びイソシアヌレート変性体、トリメチロールプロパン又はグリセリン等の３価以上のポリオール（１分子中に少なくとも３個以上のＯＨ基を有する化合物）とのアダクト体（ポリオール変性体）などが挙げられる。
また、３官能以上のイソシアネート化合物が、１分子中に少なくとも３個以上のイソシアネート（ＮＣＯ）基を有するポリイソシアネート化合物であり、特にヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体からなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
２官能以上のイソシアネート系架橋剤は、重合体１００質量部に対して、０．０１〜５．０質量部含まれることが好ましく、０．０２〜３．０質量部含まれることがより好ましい。
【０２８３】
粘着剤組成物は、帯電防止性能を付与するため、帯電防止剤を含有してもよい。帯電防止剤はイオン化合物であることが好ましく４級オニウム塩であることがさらに好ましい。
【０２８４】
４級オニウム塩である帯電防止剤としては、例えば、炭素数８〜１８のアルキル基を有するアルキルジメチルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するジアルキルメチルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するトリアルキルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するアルキルジメチルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するジアルキルメチルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するトリアルキルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するテトラアルキルホスホニウム塩、炭素数１４〜２０のアルキル基を有するアルキルトリメチルアンモニウム塩、炭素数１４〜２０のアルキル基を有するアルキルジメチルエチルアンモニウム塩などを用いることができる。これらのアルキル基は、不飽和結合を有するアルケニル基であってもよい。
【０２８５】
帯電防止剤としては、他にノニオン系、カチオン系、アニオン系、両性系の界面活性剤、イオン性液体、アルカリ金属塩、金属酸化物、金属微粒子、導電性ポリマー、カーボン、カーボンナノチューブなども用いることができる。
【０２８６】
アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩などが挙げられ、イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。
【０２８７】
帯電防止剤は、重合体１００質量部に対して、０．１〜１０質量部含有することが好ましい。
【０２８８】
粘着剤組成物は、さらに帯電防止補助剤としてＨＬＢが７〜１５のポリエーテル変性シロキサン化合物を含有することもできる。
ＨＬＢとは、例えばＪＩＳ（日本工業規格）  Ｋ３２１１（界面活性剤用語）等で規定する親水親油バランス（親水性親油性比）である。
【０２８９】
粘着剤組成物は、さらに架橋促進剤を含有することもできる。架橋促進剤は、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする場合に、重合体と架橋剤との反応（架橋反応）に対して触媒として機能する物質であればよく、第三級アミン等のアミン系化合物、金属キレート化合物、有機錫化合物、有機鉛化合物、有機亜鉛化合物等の有機金属化合物等が挙げられる。本発明では、架橋促進剤として、金属キレート化合物又は有機錫化合物が好ましい。
【０２９０】
架橋促進剤は、共重合体の１００質量部に対して、０．００１〜０．５質量部含まれることが好ましい。
【０２９１】
工程（３）が完了した後の積層体は、層（ｂ）の層（ｃａ）側の表面に１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素ないしシリコーンからなる低摩擦部位を有する滑り剤（以下、「滑り剤ａ」とも呼ぶ。）が存在することが好ましい。
層（ｂ）の層（ｃａ）側の表面に滑り剤ａが存在することで、本発明の防眩性反射防止フィルムの製造において、工程（８）で粘着フィルムを剥離する際に、層（ｂ）中の粘着剤が防眩性反射防止フィルムの表面に残る（転写される）ことを効果的に防ぐことができる。
【０２９２】
＜支持体＞
粘着フィルムにおける支持体について説明する。
支持体としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなるプラスチックフィルムが好ましく用いられる。支持体用のプラスチックフィルムとしては、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステルフィルム、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、セルロースアシレート等のセルロース系樹脂等からなるフィルムが挙げられる。ただし、上記（メタ）アクリル系樹脂は、ラクトン環構造を有する重合体、無水グルタル酸環構造を有する重合体、グルタルイミド環構造を有する重合体を含む。
このほか、必要な強度を有しかつ光学適性を有するものであれば、他のプラスチックフィルムも使用可能である。支持体は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されていてもよく、また、延伸倍率又は延伸の結晶化に伴い形成される軸方法の角度を制御したプラスチックフィルムでもよい。
【０２９３】
支持体としては、紫外線透過性を有するものが好ましい。紫外線透過性を有することで、工程（４−２）及び（７）において層（ｃａ）を硬化する際、支持体側から紫外線照射が可能になるため、製造適性上好ましい。
具体的には、支持体の波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることが最も好ましい。波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であると支持体側から紫外線を照射して層（ｃａ）を硬化させやすく好ましい。
また、支持体上に層（ｂ）を形成した粘着フィルムの波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることが最も好ましい。
【０２９４】
支持体の膜厚は特に限定されないが、１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下であることが更に好ましい。
【０２９５】
支持体上に層（ｂ）を形成した粘着フィルムとしては、市販の保護フィルムを好適に用いることができる。具体的には、藤森工業（株）製のＡＳ３−３０４、ＡＳ３−３０５、ＡＳ３−３０６、ＡＳ３−３０７、ＡＳ３−３１０、ＡＳ３−０４２１、ＡＳ３−０５２０、ＡＳ３−０６２０、ＬＢＯ−３０７、ＮＢＯ−０４２４、ＺＢＯ−０４２１、Ｓ−３６２、ＴＦＢ−４Ｔ３−３６７ＡＳ等が挙げられる。
【０２９６】
工程（４−２）及び（７）では、粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持しながら層（ｃａ）を硬化するが、工程（４−２）の前の段階（すなわち工程（４）の完了後）において、粒子（ａ２）が層（ｃａ）の支持体側の界面から突出していることが好ましい。こうすることで、工程（７）で層（ｃａ）を硬化した後、工程（８）で層（ｂ）を剥離すると、層（ｃａ）の表面（工程（８）完了後における防眩層との界面とは反対側の表面）から粒子（ａ２）が突出しして形成されるモスアイ構造を有する防眩性反射防止フィルムを得ることができる。
工程（４−２）の前の段階で、粒子（ａ２）が層（ｃａ）の支持体側の界面から突出しているようにするためには、工程（４）で、硬化性化合物（ａ１）の一部を層（ｂ）に浸透させることが好ましい。
【０２９７】
［工程（４）］
工程（４）は、粒子（ａ２）が、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、層（ｃａ）の支持体側の界面から突出するように、層（ｃａ）の支持体側の界面（層（ｃａ）と層（ｂ）の界面）の位置を仮支持体側に近づける工程である。
なお、「粒子（ａ２）が、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、層（ｃａ）の支持体側の界面から突出する」とは、別の言い方をすると、「粒子（ａ２）が、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層から表出しておらず、かつ、層（ｃａ）及び層（ｂ）の両層にまたがって存在している（粒子（ａ２）が層（ｃａ）と層（ｂ）との界面を横切って存在している）」とも言える。
工程（４）は、硬化性化合物（ａ１）の一部を層（ｂ）に浸透させることにより行われることが好ましい。
工程（４）において、硬化性化合物（ａ１）の一部を層（ｂ）に浸透させる場合、工程（３）が完了した後の積層体を６０℃未満に保つことが好ましく、４０℃以下に保つことがより好ましい。温度を４０℃以下に保つことで、硬化性化合物（ａ１）、化合物（ａ１ｃ）、及び粘着剤の粘度を高く保つことができるとともに、粒子（ａ２）の熱運動を抑制することができるため、粒子（ａ２）の凝集による反射防止能の低下及びヘイズ又は白濁感の上昇を防ぐ効果が大きい。上記積層体を保つ温度の下限は特に限定されるものではなく、室温（２５℃）であっても、室温より低い温度であってもよい。
【０２９８】
［工程（４−２）］
工程（４−２）は、粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ｃａ）の一部を硬化させる工程であり、具体的には、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）からなる群より選択される化合物の一部を硬化させる工程である。
層（ｃａ）の一部を硬化するとは、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）のすべてではなく、一部のみを硬化させることを表す。これにより、防眩性反射防止フィルムの反射防止層におけるバインダー樹脂を形成することができる。また、工程（４−２）の完了後の層（ｃａ）中に未硬化の硬化性化合物（ａ１）を残存させることで、後述する工程（６）において、層（ｃａ）と基材フィルムと防眩層を有する防眩フィルムの上記防眩層との貼合又は接着が可能となる。
工程（４−２）で粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持することで、粒子（ａ２）の凝集を抑制し、モスアイ構造を形成することができる。
なお、層（ｂ）を設けた後に層（ｂ）又は層（ｃａ）の成分の揮発などにより、粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持できないと考えられる場合は、層（ｂ）をあらかじめ厚くしておく等の操作を行うことができる。
粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持することで粒子凝集が抑制されるメカニズムとしては、層（ｃａ）が硬化するまでに粒子（ａ２）が空気界面に露出すると、横毛管力と言われる表面張力由来の大きな引力が働く事が知られており、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に粒子（ａ２）を埋没させておくことで上記引力を小さくできるためと推定している。
【０２９９】
工程（４−２）における硬化は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を照射して層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化するのが好ましい。紫外線の照射量が１０ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、層（ｂ）と粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分との密着力が適度に強くなり、仮支持体を剥離する工程（５）において仮支持体上に粒子（ａ２）及び層（ｃａ）が残存しにくく、得られる防眩性反射防止フィルムに欠陥(反射率が下がらない領域)が生じにくい。また、紫外線の照射量が１０００ｍＪ／ｃｍ２以下であれば、工程（４−２）の完了後の層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）の残存量が減少しすぎず、工程（６）において層（ｃａ）と防眩フィルムにおける防眩層との適度な接着力が得られる。工程（４−２）における照射量は特に限定されず、使用する層（ｂ）と粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分との密着力、及び層（ｃａ）と防眩層との密着力を考慮して適宜調整することができる。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプ又は高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。
【０３００】
工程（４−２）における硬化時の酸素濃度は０〜１．０体積％であることが好ましく、０〜０．１体積％であることがさらに好ましく、０〜０．０５体積％であることが最も好ましい。硬化時の酸素濃度を１．０体積％よりも小さくすることで、酸素による硬化阻害の影響を受けにくくなり、強固な膜となる。
【０３０１】
工程（４−２）において、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）からなる群より選択される化合物の一部を硬化させる際、支持体の層（ｃａ）側とは反対側から紫外線を照射してもよいし、仮支持体側から紫外線を照射してもよい。
【０３０２】
［工程（５）］
工程（５）は、工程（４）又は（４−２）の完了後の積層体から仮支持体を剥離する工程である。
工程（４）又は（４−２）の完了後の積層体から仮支持体を剥離できるためには、層（ｃａ）と仮支持体との間に適度な接着力が付与されていることにより、層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分を粘着フィルムに転写できる状態となっていることが好ましい。例えば、製造プロセス中の積層体の曲げ又は搬送テンションでは層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分は仮支持体から脱離しないが、層（ｂ）に接触させた際、又は層（ｂ）に接触させて紫外線照射を施した際に層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分が脱離する状態となっていることが好ましい。
【０３０３】
工程（２）、（３）、（４）、（４−２）、（５）において、層（ｃａ）の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないことが好ましい。
ここで、層（ｃａ）の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないとは、層（ｃａ）の面内の１０μｍ×１０μｍを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で３視野観察した際に、表面に直交する方向に複数重なって存在していない状態の粒子（ａ２）の個数の割合が、８０％以上であることを表し、好ましくは９５％以上である。
【０３０４】
工程（４）、（４−２）、（５）において、層（ｃａ）の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が、粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きいことが好ましい。
層（ｃａ）の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が、粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きいと粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態にすることができるため好ましい。
【０３０５】
さらに、工程（４）、（４−２）、（５）において、層（ｃａ）の膜厚は、粒子（ａ２）の平均一次粒径の５〜７０％であることが好ましく、２０〜４０％であることがより好ましい。層（ｃａ）の膜厚が粒子（ａ２）の平均一次粒径の５％以上であると、後述する工程（８）で粘着フィルムを剥離して、層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分を防眩フィルムにおける防眩層へ転写した後に得られる防眩性反射防止フィルムから粒子（ａ２）が脱落しにくく耐擦傷性が向上するため好ましい。また、層（ｃａ）の膜厚が粒子（ａ２）の平均一次粒径の７０％以下であると屈折率の傾斜が十分となり、十分な反射防止性能が得られる。層（ｃａ）の膜厚が粒子（ａ２）の平均一次粒径の２０〜４０％であると、十分な耐擦傷性と反射防止能が両立できるため好ましい。後述の工程（６）〜（１０）においても同様である。
工程（５）の完了後の層（ｃａ）の膜厚は、層（ｃａ）の膜断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、任意に１００箇所の膜厚を計測してその平均値を求めた場合に、１０ｎｍ〜１００ｎｍ（より好ましくは２０ｎｍ〜９０ｎｍ、さらに好ましくは３０ｎｍ〜７０ｎｍ）となるように調整するのが好ましい。
【０３０６】
工程（５）が完了して得られる積層体における層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面からは粒子（ａ２）が突出していないことが好ましい。
工程（５）が完了して得られる積層体における層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面の表面粗さは、３０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面の表面粗さが３０ｎｍ以下であると、粒子（ａ２）が層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面から突出しておらず、後述する工程（８）で粘着フィルムを剥離して、層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分（反射防止層）を防眩フィルムにおける防眩層へ転写する際に転写されやすく、また、転写後に反射防止層に欠陥が生じにくい。また、層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面の表面粗さがが１０ｎｍ以下であると工程（６）において層（ｃａ）と防眩層とを貼り合せる際に良好な密着性を確保することができ、防眩性反射防止フィルムのヘイズの上昇を引き起こす転写層（粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分）−防眩層間の空隙発生を抑制することができるため好ましい。
本発明において、表面粗さはＳＰＡ−４００（日立ハイテクノサイエンス製）を使用し、測定範囲５μｍ×５μｍ、測定モード：ＤＦＭ，測定周波数：２Ｈｚの測定条件で測定した。
【０３０７】
工程（５）が完了して得られる積層体における粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分は、粘着フィルムの層（ｂ）から剥離できるものである。
粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分が粘着フィルムの層（ｂ）から剥離できるとは、粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分と粘着フィルムの層（ｂ）との間に適度な接着力が付与されていることにより、後述の転写工程（工程（８））において粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分が層（ｂ）の表面から脱離して防眩フィルムにおける防眩層表面に転写できる状態となっていることを示す。粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分（反射防止層）が防眩層表面に転写できる、すなわち転写性があるとは、転写後の防眩性反射防止フィルムの転写面（反射防止層を有する面）とは反対側に、粘着剤付き黒色ポリエチレンテレフタレートシート（巴川製紙所製；「くっきりみえーる」）を貼り合わせて目視観察した際、反射防止層を転写する前よりも反射率が下がっている領域の面積の割合が、転写する面積に対して、８０％以上であることを表す。粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分と層（ｂ）との接着力については特に限定されないが、例えば幅２５ｍｍの転写部材（工程（５）が完了して得られる積層体）の粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分を接着剤を用いて厚み１．１ｍｍのガラス基材に固定化し、粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分と層（ｂ）を９０°方向に速度１０００ｍｍ／ｍｉｎで剥離させたときの剥離力によって測定することができる。上記方法によって測定した剥離力が０．２Ｎ／２５ｍｍ〜４．０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、０．６Ｎ／２５ｍｍ〜４．０Ｎ／２５ｍｍであることがより好ましい。剥離力が０．６Ｎ／２５ｍｍ以上であると、工程（５）において、仮支持体を剥離する際に、仮支持体上に粒子（ａ２）及び層（ｃａ）の一部が残存しにくいため、最終的に得られる防眩性反射防止フィルムの反射率及びヘイズが低下する。剥離力が４．０Ｎ／２５ｍｍ以下であると、工程（８）において、粘着フィルムを剥離する際、層（ｂ）に粒子（ａ２）の一部が残存しにくいため、最終的に得られる防眩性反射防止フィルムの反射率及びヘイズが低下する。
【０３０８】
工程（５）が完了して得られる積層体は、積層体の全ヘイズから、積層体から粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分を取り除いてなる部分のヘイズを差し引いた値（Δヘイズ）が１．００％以下であることが好ましい。
ヘイズの測定は、フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％で、日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ４０００で、ＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００年）に従って測定することができる。
Δヘイズはマイナスの値であっても良い。Δヘイズは、１．００％以下であることが好ましく、０．８０％以下であることがより好ましく、０．４０％以下であることがさらに好ましい。Δヘイズを１．００％以下とすることで、工程（５）が完了して得られる積層体を用いて得られる防眩性反射防止フィルムのヘイズを低くし、良好な反射防止性能を得ることが可能となる。Δヘイズが０．４０％以下である場合は特に、工程（５）が完了して得られる積層体を用いて得られる防眩性反射防止フィルムの転写面とは反対側を粘着剤付き黒色ポリエチレンテレフタレートシート（巴川製紙所製；「くっきりみえーる」）に貼り合わせて目視観察した際でもヘイズによる白濁感が無く、優れた防眩性反射防止フィルムが得られる。
【０３０９】
なお、工程（５）が完了して得られる積層体における層（ｃａ）の表面硬化率は、１０〜７０％である。表面硬化率が１０％以上であることで、転写の際に反射防止層（すなわち、層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分）の一部が変形し、反射防止能が低下することを防ぐことが可能であり、表面硬化率が７０％以下であることで、防眩層と反射防止層との密着性を良好に保つことができる。
【０３１０】
［工程（６）］
工程（６）は、工程（５）が完了して得られる積層体における層（ｃａ）と防眩フィルムの防眩層とを貼り合せる工程である。
層（ｃａ）と防眩層とを貼り合わせる方法としては特に限定されず公知の方法を用いることができ、たとえばロールラミネート法が挙げられる。
層（ｃａ）と防眩層とが接するように防眩フィルムを貼り合わせることが好ましい。
【０３１１】
なお、本発明では工程（６）において、工程（５）が完了して得られる積層体における層（ｃａ）と防眩フィルムの防眩層との間に接着層を設ける工程を含むことも好ましい。接着層については上述した通りである。
【０３１２】
また、本発明では工程（６）において、工程（５）が完了して得られる積層体における層（ｃａ）と防眩フィルムの防眩層とを貼り合せた後、加熱工程を設けることも好ましい。加熱工程を行うことで、防眩層と反射防止層との密着性を向上させることができ、防眩性反射防止フィルムの耐擦傷性を向上させることができる。
【０３１３】
［工程（７）］
工程（７）は、粒子（ａ２）が、層（ｂ）及び層（ｃａ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ｃａ）を硬化させる工程であり、具体的には、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）からなる群より選択される化合物の一部又は全部を硬化させる工程である。なお、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）からなる群より選択される化合物の全部を硬化させるとは、通常の方法で硬化させた場合に、硬化しきれなかった化合物が残っている場合も含むものである。工程（７）における硬化率については、特に限定されないが、膜強度の観点から硬化率が６０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
工程（７）により、上記工程（６）で貼り合せた防眩フィルムにおける防眩層と層（ｃａ）とを接着させることができる。
【０３１４】
工程（７）における硬化は上記工程（４−２）に記載の条件と同様の条件で行うことが好ましい。
【０３１５】
［工程（８）］
工程（８）は、工程(７)で得られた積層体から粘着フィルムを剥離する工程である。
工程（８）において粘着フィルムを剥離するためには、工程（５）が完了して得られる積層体における粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分と層（ｂ）との接着力の指標として、上記測定法にて測定した剥離力が、０．２Ｎ／２５ｍｍ以上４．０Ｎ／２５ｍｍ以下であることが好ましい。
【０３１６】
工程（８）が完了した後には、層（ｃａ）の表面に粒子（ａ２）によって形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する防眩性反射防止フィルムが得られるが、その後に更に工程（９）及び（１０）を行ってもよい。
【０３１７】
［工程（９）］
工程（９）は、粒子（ａ２）が、層（ｃａ）の基材フィルム側の界面とは反対側の界面から突出した状態で、層（ｃａ）を硬化させる工程であり、具体的には、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）を全て硬化させる工程である。なお、前述の工程（７）で層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）を全て硬化させた場合は、工程（９）を行わなくてもよい。
【０３１８】
工程（９）における硬化は上記工程（４−２）に記載の条件と同様の条件で行うことが好ましい。
工程（９）において、層（ｃａ）の基材フィルム側とは反対側から紫外線を照射して層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）を硬化させることが製造適正上好ましい。
【０３１９】
工程（９）の完了後の層（ｃａ）は、層中に化合物（ａ１ｃ）を含む層である。ただし、前述の通り、通常の方法で硬化させた場合に、硬化しきれなかった化合物が残っていてもよい。
【０３２０】
［工程（１０）］
工程（１０）は、工程（９）完了後の積層体を溶剤で洗浄する工程である。
本発明の防眩性反射防止フィルムの製造においては、支持体及び層（ｂ）を剥離した際にも層（ｃａ）側に粘着剤が残りにくいが、工程（１０）により、基材フィルム、防眩層、及び層（ｃａ）は溶解せずに、粘着剤を溶解する溶剤（メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン等）を用いて洗浄してもよい。
【０３２１】
［偏光板保護フィルム］
本発明の防眩性反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルム（偏光板保護フィルム）として用いることができる。
【０３２２】
偏光子との貼り合せの前に、本発明の防眩性反射防止フィルムをケン化処理することもできる。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間防眩性反射防止フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。本発明の防眩性反射防止フィルムにおける基材フィルムの偏光膜と貼り合わせる側の面が親水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％〜２５質量％であり、処理温度は３０℃〜７０℃、処理時間は１５秒〜５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
反射防止層を設けたのと反対側の基材フィルム表面をケン化処理し、ポリビニルアルコール水溶液を用いて偏光子に貼り合せる。
【０３２３】
また本発明の防眩性反射防止フィルムと偏光子との貼り合せに、紫外線硬化型の接着剤を使用することもできる。本発明の反射防止層を設けたのと反対側の基材フィルム表面に紫外線硬化型の接着剤層を設けることが好ましく、特に短時間乾燥による生産性向上を目的として、特定の紫外線硬化樹脂を用いて、偏光子に貼りあわせることが好ましい。例えば特開２０１２−１４４６９０号公報には、各々のホモポリマーのＴｇが６０℃以上かつ、ＳＰ（Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ  Ｐａｒａｍｅｔｅｒ）値が２９〜３２のラジカル重合性化合物２０〜６０質量％と、ＳＰ値が１８〜２１のラジカル重合性化合物１０〜３０質量％と、ＳＰ値が２１〜２３のラジカル重合性化合物２０〜６０質量％の３種を含有した接着剤層を介して、偏光子に貼りあわせ、接着性、耐久性、耐水性を向上させている。この接着剤層を用いる場合は偏光子との貼り合せ前に本発明の防眩性反射防止フィルムをケン化処理をしても良いし、しなくても良い。
【０３２４】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光子と上記偏光子を保護する少なくとも１枚の保護フィルムを有する偏光板であって、上記保護フィルムの少なくとも１枚が本発明の防眩性反射防止フィルムである。偏光子は保護フィルム（本発明の防眩性反射防止フィルム）と本発明の防眩性反射防止フィルム以外のフィルムに挟まれていても良いし、保護フィルムと偏光子との組み合わせでも良い。
上記本発明の防眩性反射防止フィルム以外のフィルムは、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０３２５】
偏光子には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【０３２６】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の防眩性反射防止フィルム又は偏光板を有する。
本発明の防眩性反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができ、特に液晶表示装置が好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード又はＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードであることが好ましい。
【０３２７】
本発明の防眩性反射防止フィルム及び偏光板は、次世代の画像表示装置である、高コントラストの自発光型ディスプレイ、具体的には、有機エレクトロルミネッセンス（ＯＬＥＤ）ディスプレイや、ＬＥＤアレイディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ等に用いることもできる。本発明の防眩性反射防止フィルム、又は本発明の防眩性反射防止フィルムを持つ偏光板を、自発光型ディスプレイの表面に用いることで、外光の反射を抑制することができ、特に明室下でのコントラスト向上に役立つ。
【０３２８】
但し自発光型ディスプレイの表面に用いる場合は、液晶表示装置よりも発光素子までの距離が短く、最表面までに存在する光学フィルム枚数が少なくなる傾向が高く、表面フィルムとしては発光素子の光に対する耐久性が必須となる。特にエネルギーの高い青色光への耐久性が高いことが要求される。本発明の防眩性反射防止フィルムの中でも、シリカ粒子を用いたモスアイ構造を持つ防眩性反射防止フィルムにおいて、より青色光に対する耐久性を向上させるには、反射防止層を形成するバインダー樹脂の平均ケイ素含有率＝Ｓｉ／Ｃが０．０１以上であることが好ましく、０．０５以上であることがより好ましく、更に０．０８以上であることが好ましい。なお、含有率Ｓｉ／Ｃはバインダー樹脂中のケイ素と炭素とのモル比を表し、例えばＸＰＳ表面分析装置を用いて、ケイ素含有率（Ｓｉ）および炭素原子含有率（Ｃ）を測定することにより求めることができる。
【実施例】
【０３２９】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。【０３３０】
＜防眩層形成用塗布液の調製＞
下記に記載の組成で各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩層形成用塗布液ＢＯ−１〜ＢＯ−８とした。【０３３１】
（防眩層形成用塗布液ＢＯ−１）
ＰＥＴ−３０                            ５７．０質量部
Ｍ−３２１                              ３４．０質量部
イルガキュア１２７                        ３．０質量部
ＳＳＸ−１０８                            ４．５質量部
ＣＡＢ                                    １．４質量部
ＳＰ−１３                                ０．１質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）            ３０．０質量部
メチルイソブチルケトン（ＭｉＢＫ）      ７０．０質量部【０３３２】
（防眩層形成用塗布液ＢＯ−２）
ＰＥＴ−３０                            ４９．０質量部
Ｍ−３２１                              ２９．５質量部
イルガキュア１２７                        ３．０質量部
ＳＳＸ−１０８                          １７．０質量部
ＣＡＢ                                    １．４質量部
ＳＰ−１３                                ０．１質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）            ３０．０質量部
メチルイソブチルケトン（ＭｉＢＫ）      ７０．０質量部【０３３３】
（防眩層形成用塗布液ＢＯ−３）
ＰＥＴ−３０                            ４９．０質量部
Ｍ−３２１                              ２９．５質量部
イルガキュア８１９                        ３．０質量部
ＳＳＸ−１０８                          １７．０質量部
ＣＡＢ                                    １．４質量部
ＳＰ−１３                                ０．１質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）            ３０．０質量部
メチルイソブチルケトン（ＭｉＢＫ）      ７０．０質量部【０３３４】
（防眩層形成用塗布液ＢＯ−４）
ＰＥＴ−３０                            ４９．０質量部
Ｍ−３２１                              ２９．５質量部
イルガキュア１２７                        ３．０質量部
ＳＳＸ−１０８                          １７．０質量部
ＣＡＢ                                    １．４質量部
共重合体（Ａ−１６）                      ０．１質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）            ３０．０質量部
メチルイソブチルケトン（ＭｉＢＫ）      ７０．０質量部【０３３５】
（防眩層形成用塗布液ＢＯ−５）
ＰＥＴ−３０                            ４９．０質量部
Ｍ−３２１                              ２９．５質量部
イルガキュア１２７                        ３．０質量部
ＳＳＸ−１０８                          １７．０質量部
ＣＡＢ                                    １．４質量部
共重合体（Ａ−７）                      ０．０２質量部
共重合体（Ａ−１６）                    ０．０８質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）            ３０．０質量部
メチルイソブチルケトン（ＭｉＢＫ）      ７０．０質量部【０３３６】
（防眩層形成用塗布液ＢＯ−６）
ＰＥＴ−３０                            ５７．０質量部
Ｍ−３２１                              ３４．０質量部
イルガキュア１２７                        ３．０質量部
ＳＳＸ−１０８                            ０．１質量部
ＣＡＢ                                    １．４質量部
ＳＰ−１３                                ０．１質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）            ３０．０質量部
メチルイソブチルケトン（ＭｉＢＫ）      ７０．０質量部【０３３７】
（防眩層形成用塗布液ＢＯ−７）
ＰＥＴ−３０                            ５７．０質量部
Ｍ−３２１                              ３４．０質量部
イルガキュア１２７                        ３．０質量部
ＳＳＸ−１０８                          ４０．０質量部
ＣＡＢ                                    １．４質量部
ＳＰ−１３                                ０．１質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）            ３０．０質量部
メチルイソブチルケトン（ＭｉＢＫ）      ７０．０質量部【０３３８】
（防眩層形成用塗布液ＢＯ−８）
ＰＥＴ−３０                            ５７．０質量部
Ｍ−３２１                              ３４．０質量部
イルガキュア１２７                        ３．０質量部
ＳＳＸ−１０８                          ０．０１質量部
ＣＡＢ                                    １．４質量部
ＳＰ−１３                                ０．１質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）            ３０．０質量部
メチルイソブチルケトン（ＭｉＢＫ）      ７０．０質量部【０３３９】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・Ｍ−３２１：トリメチロールプロパンＰＯ変性（ｎ≒２）トリアクリレート［東亜合成（株）製］
・イルガキュア１２７：重合開始剤［ＢＡＳＦジャパン（株）製］
・イルガキュア８１９：重合開始剤［ＢＡＳＦジャパン（株）製］
・ＳＳＸ−１０８：平均粒径８μｍＰＭＭＡ粒子［積水化成品工業（株）製］
・ＣＡＢ：セルロースアセテートブチレート、ＣＡＢ５３１−１［イーストマン・ケミカル（株）製］
・ＳＰ−１３：下記構造のフッ素系表面改質剤（繰り返し単位の含有比率はモル比率である）【０３４０】
【化２５】
2018212051.tif 000027
【０３４１】
＜共重合体（Ａ−７）の合成例＞
攪拌機、温度計、還流冷却管、および、窒素ガス導入管を備えた３００ミリリットル三口フラスコに、シクロヘキサノン６．７ｇ、イソプロパノール１．７ｇを仕込んで、７３℃まで昇温した。
次いで、２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート１２．３ｇ（２９．３ミリモル）、４−（４−アクリロイルオキシブトキシ）ベンゾイルオキシフェニルボロン酸５．６ｇ（１４．７ミリモル）、アクリル酸２．１ｇ（２９．３ミリモル）、シクロヘキサノン２６．４ｇ、イソプロパノール６．６ｇ、および、アゾ重合開始剤（Ｖ−６０１、和光純薬（株）製）０．５１ｇからなる混合溶液を、１５０分で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、９０℃まで昇温し、更に４時間攪拌を続けた。
次いで、グリシジルメタクリレート４．２ｇ（２９．３ミリモル）、テトラブチルアンモニウムブロミド１．５ｇ（４．７ミリモル）、ｐ−メトキシフェノール０．４ｇ、シクロヘキサノン１６．２ｇ、イソプロパノール４．１ｇを仕込んで、８０℃まで昇温し、８時間攪拌を続け、下記式（Ａ−７）で表される共重合体（以下、「共重合体（Ａ−７）」と略す。）のシクロヘキサノン・イソプロパノール溶液８８．６ｇを得た。
この共重合体（Ａ−７）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、６０，３００（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＥｃｏＳＥＣＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（東ソー（株）製））により溶離液ＮＭＰ、流速０．５０ｍｌ／ｍｉｎ、温度４０℃の測定条件にてポリスチレン換算で算出、使用カラムはＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ×３本（東ソー（株）製））であった。また、得られた共重合体（Ａ−７）の酸価は７．３ｍｇＫＯＨ／ｇであり、カルボン酸の残存率は５モル％であった。下記式中の繰り返し単位の含有比率はモル比率である。【０３４２】
【化２６】
2018212051.tif 000028
【０３４３】
＜共重合体（Ａ−１６）の合成例＞
２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレートを変更した以外は共重合体（Ａ−７）と同様の方法で、下記構造を有する共重合体（Ａ−１６）を合成した。この共重合体（Ａ−１６）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、６０，３００であった。また、得られた共重合体（Ａ−１６）の酸価は７．３ｍｇＫＯＨ／ｇであり、カルボン酸の残存率は５モル％であった。下記式中の繰り返し単位の含有比率はモル比率である。【０３４４】
【化２７】
2018212051.tif 000029
【０３４５】
＜防眩フィルムの作製＞
（防眩フィルムＡＧ−１の作製）
セルローストリアセテートフィルム（ＴＤＰ６０ＵＬ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、スロットダイを有するコーターを用いて、防眩層形成用塗布液ＢＯ−１を塗布した。搬送速度２０ｍ／分の条件で塗布し、４０℃で１５秒間、９０℃で３０秒間乾燥の後、さらに酸素濃度１．４％の雰囲気となるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量１０ｍＪ／ｃｍ２、１ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、平均膜厚１２．０μｍの防眩層を形成し、ＡＧ−１を作製した。【０３４６】
（防眩フィルムＡＧ−２の作製）
ＡＧ−１の作製において、防眩層形成用塗布液ＢＯ−１に代えて、防眩層形成用塗布液ＢＯ−２を塗布した以外は、ＡＧ−１と同様にしてＡＧ−２を作製した。【０３４７】
（防眩フィルムＡＧ−３の作製）
ＡＧ−２の作製において、紫外線照射条件を、酸素濃度を０．１％未満、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２、１５０ｍＷ／ｃｍ２に変更し、紫外線照射後の防眩層に以下のコロナ処理を行う以外はＡＧ−２と同様にしてＡＧ−３を作製した。具体的には、商品名ソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡモデル（ピラー社製）を用い、ＡＧ−２を２０ｍ／分でコロナ放電処理した。このとき、電流・電圧の読み取り値より、処理条件０．３７５ＫＶ・Ａ・分／ｍ２、処理時放電周波数９．６ＫＨｚ、電極と誘電体ロールのギャップクリアランスは、１．６ｍｍであった。【０３４８】
（防眩フィルムＡＧ−４の作製）
ＡＧ−１の作製において、防眩層形成用塗布液ＢＯ−１に代えて、防眩層形成用塗布液ＢＯ−３を塗布した以外は、ＡＧ−１と同様にしてＡＧ−４を作製した。【０３４９】
（防眩フィルムＡＧ−５の作製）
ＡＧ−４の作製において、紫外線照射条件を、照射量５ｍＪ／ｃｍ２、１ｍＷ／ｃｍ２に変更した以外は、ＡＧ−４と同様にしてＡＧ−５を作製した。【０３５０】
（防眩フィルムＡＧ−６の作製）
ＡＧ−４の作製において、紫外線照射条件を、照射量２．５ｍＪ／ｃｍ２、１ｍＷ／ｃｍ２に変更した以外は、ＡＧ−４と同様にしてＡＧ−６を作製した。【０３５１】
（防眩フィルムＡＧ−７の作製）
ＡＧ−１の作製において、防眩層形成用塗布液ＢＯ−１に代えて、防眩層形成用塗布液ＢＯ−４を塗布した以外は、ＡＧ−１と同様にしてＡＧ−７を作製した。【０３５２】
（防眩フィルムＡＧ−８の作製）
ＡＧ−１の作製において、防眩層形成用塗布液ＢＯ−１に代えて、防眩層形成用塗布液ＢＯ−５を塗布した以外は、ＡＧ−１と同様にしてＡＧ−８を作製した。【０３５３】
（防眩フィルムＡＧ−９の作製）
ＡＧ−１の作製において、防眩層形成用塗布液ＢＯ−１に代えて、防眩層形成用塗布液ＢＯ−６を塗布した以外は、ＡＧ−１と同様にしてＡＧ−９を作製した。【０３５４】
（防眩フィルムＡＧ−１０の作製）
ＡＧ−１の作製において、防眩層形成用塗布液ＢＯ−１に代えて、防眩層形成用塗布液ＢＯ−７を塗布した以外は、ＡＧ−１と同様にしてＡＧ−１０を作製した。【０３５５】
（防眩フィルムＡＧ−１１の作製）
ＡＧ−１の作製において、防眩層形成用塗布液ＢＯ−１に代えて、防眩層形成用塗布液ＢＯ−８を塗布した以外は、ＡＧ−１と同様にしてＡＧ−１１を作製した。【０３５６】
(反射防止層の作製)
［シリカ粒子Ｐ１の合成］
撹拌機、滴下装置および温度計を備えた容量２００Ｌの反応器に、メチルアルコール６７．５４ｋｇと、２８質量％アンモニア水（水および触媒）２６．３３ｋｇとを仕込み、撹拌しながら液温を３３℃に調節した。一方、滴下装置に、テトラメトキシシラン１２．７０ｋｇをメチルアルコール５．５９ｋｇに溶解させた溶液を仕込んだ。反応器中の液温を３３℃に保持しながら、滴下装置から上記溶液を４４分間かけて滴下し、滴下終了後、さらに４４分間、液温を上記温度に保持しながら撹拌することにより、テトラメトキシシランの加水分解および縮合を行い、シリカ粒子前駆体を含有する分散液を得た。この分散液を、瞬間真空蒸発装置（（ホソカワミクロン（株）社製クラックス・システムＣＶＸ−８Ｂ型）を用いて加熱管温度１７５℃、減圧度２００ｔｏｒｒ（２７ｋＰａ）の条件で気流乾燥させることにより、シリカ粒子Ｐ１を得た。
シリカ粒子Ｐ１の平均一次粒径は１７０ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は３．３％、押し込み硬度は３４０ＭＰａであった。【０３５７】
［焼成シリカ粒子Ｐ２の作製］
５ｋｇのシリカ粒子Ｐ１をルツボに入れ、電気炉を用いて９００℃で２時間焼成した後、冷却して、次いで粉砕機を用いて粉砕し、分級前焼成シリカ粒子を得た。さらに分級前焼成シリカ粒子に対してジェット粉砕分級機（日本ニューマ社製ＩＤＳ−２型）を用いて解砕および分級を行うことにより焼成シリカ粒子Ｐ２を得た。【０３５８】
［シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３の作製］
５ｋｇの焼成シリカ粒子Ｐ２を、加熱ジャケットを備えた容量２０Ｌのヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製ＦＭ２０Ｊ型）に仕込んだ。焼成シリカ粒子Ｐ２を撹拌しているところに、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＭ５１０３）４５ｇを、メチルアルコール９０ｇに溶解させた溶液を滴下して混合した。その後、混合撹拌しながら１５０℃まで約１時間かけて昇温し、１５０℃で１２時間保持して加熱処理を行った。加熱処理では、掻き落とし装置を撹拌羽根とは逆方向に常時回転させながら、壁面付着物の掻き落としを行った。また、適宜、へらを用いて壁面付着物を掻き落とすことも行った。加熱後、冷却し、ジェット粉砕分級機を用いて解砕および分級を行い、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３を得た。
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３の平均一次粒径は１７１ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は３．３％、押し込み硬度は４７０ＭＰａであった。【０３５９】
［シリカ粒子分散液ＰＡ−１の作製］
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３を５０ｇ、ＭＥＫ２００ｇ、直径０．０５ｍｍジルコニアビーズ６００ｇを直径１２ｃｍの１Ｌ瓶容器に入れ、ボールミルＶ−２Ｍ（入江商会）にセットし、２５０回転／分で１０時間分散した。このようにして、シリカ粒子分散液ＰＡ−１（固形分濃度２０質量％）を作製した。
なお、シリカ粒子分散液ＰＡ−１に含まれるシリカ粒子の平均一次粒径、ＣＶ値、及び押し込み硬度は、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３におけるものと同じである。【０３６０】
[シリカ粒子分散液ＰＡ−２の作製]
焼成シリカ粒子Ｐ２を５０ｇ、エタノール２００ｇ、直径０．０５ｍｍジルコニアビーズ６００ｇを直径１２ｃｍの１Ｌ瓶容器に入れ、ボールミルＶ−２Ｍ（入江商会）にセットし、２５０回転／分で１０時間分散した。このようにして、シリカ粒子分散液ＰＡ−２（固形分濃度２０質量％）を作製した。【０３６１】
［化合物Ｃ３の合成］
還流冷却器、温度計を付けたフラスコに３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン１９．３ｇとグリセリン１，３−ビスアクリラート３．９ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリレート６．８ｇ、ジラウリン酸ジブチル錫０．１ｇ、トルエン７０．０ｇを添加し、室温で１２時間撹拌した。撹拌後、メチルハイドロキノン５００ｐｐｍを加え、減圧留去を行い、化合物Ｃ３を得た。【０３６２】
【化２８】
2018212051.tif 000030
【０３６３】
［層（ａ）形成用組成物の調製］
下記の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、６０分間攪拌し、３０分間超音波分散機により分散し、塗布液とした。【０３６４】
組成物（Ａ−１）
Ｕ−１５ＨＡ                                  １．４質量部
化合物Ｃ３                                    １．５質量部
Ａ−ＴＭＰＴ                                  １．７質量部
ＫＢＭ−４８０３                              ４．１質量部
イルガキュア１２７                            ０．２質量部
化合物Ｐ                                      ０．１質量部
ＦＰ−２                                      ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１                    ３２．３質量部
エタノール                                  １２．７質量部
メチルエチルケトン                          ３３．２質量部
アセトン                                    １２．７質量部【０３６５】
Ｕ−１５ＨＡ、化合物Ｃ３、Ａ−ＴＭＰＴ、及びＫＢＭ−４８０３が硬化性化合物（ａ１）である。【０３６６】
組成物（Ａ−２）
ＳＩＲＩＵＳ−５０１                         ２．８質量部
Ｘ−１２−１０４９                            １．５質量部
Ａ−ＴＭＰＴ                                  １．７質量部
クエン酸アセチルトリエチル                    ４．１質量部
イルガキュア１２７                            ０．２質量部
化合物Ｐ                                      ０．１質量部
ＦＰ−２                                      ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１                    ３２．３質量部
エタノール                                  １２．７質量部
メチルエチルケトン                          ３１．８質量部
アセトン                                    １２．７質量部【０３６７】
ＳＩＲＩＵＳ−５０１、Ｘ−１２−１０４９、Ａ−ＴＭＰＴが硬化性化合物（ａ１）である。【０３６８】
組成物（Ｂ−１）
化合物Ｉ−３０                                １．４質量部
Ｘ−１２−１０４９                            １．５質量部
ＫＲ−５１３                                  １．７質量部
クエン酸アセチルトリエチル                    ４．１質量部
イルガキュア１２７                            ０．２質量部
化合物Ｐ                                      ０．１質量部
ＦＰ−２                                      ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１                    ３２．３質量部
エタノール                                  １２．７質量部
メチルエチルケトン                          ３３．２質量部
アセトン                                    １２．７質量部【０３６９】
化合物Ｉ−３０、Ｘ−１２−１０４９、ＫＲ−５１３が硬化性化合物（ａ１）である。【０３７０】
組成物（Ｂ−２）
硬化性樹脂Ｃ                                  １．４質量部
ＫＲ−５１６                                  １．５質量部
ＫＢＭ−４８０３                              １．７質量部
クエン酸アセチルトリエチル                    ４．１質量部
イルガキュア１２７                            ０．２質量部
化合物Ｐ                                      ０．１質量部
ＦＰ−２                                      ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−２                    ３２．３質量部
メチルエチルケトン                          ４５．９質量部
アセトン                                    １２．７質量部【０３７１】
硬化性樹脂Ｃ、ＫＲ−５１６、ＫＢＭ−４８０３が硬化性化合物（ａ１）である。【０３７２】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
Ｕ−１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）：ウレタンアクリレート
ＳＩＲＩＵＳ−５０１（大阪有機化学工業（株）製）：デンドリマーアクリレート
化合物Ｉ−３０：特開２０１１−８４６７２号公報に記載の化合物Ｉ−３０（重合性基と非重合性基を持つかご型ポリシルセスキオキサン）
硬化性樹脂Ｃ：特開２０１７−８１４８号公報に記載の硬化性樹脂Ｃ（エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン）
Ａ−ＴＭＰＴ：多官能アクリレート（新中村化学工業（株）製）
Ｘ−１２−１０４９：アクロイル基を複数有するシランカップリング剤（信越化学工業（株）製）
ＫＲ−５１３：アクリロイル基／メチル基を有するシランカップリング剤オリゴマー（信越化学工業（株）製）
ＫＲ−５１６：エポキシ基／メチル基を有するシランカップリング剤オリゴマー（信越化学工業（株）製）
ＫＢＭ−４８０３：ラジカル反応性基以外の反応性基（エポキシ基）を有するシランカップリング剤（信越化学工業（株）製）
クエン酸アセチルトリエチル：東京化成工業（株）製
イルガキュア１２７：光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
化合物Ｐ：下記構造式で表される光酸発生剤(和光純薬（株）製)【０３７３】
【化２９】
2018212051.tif 000031
【０３７４】
ＦＰ−２  ：下記式で表される含フッ素化合物【０３７５】
【化３０】
2018212051.tif 000032
【０３７６】
＜防眩性反射防止フィルム１の作製＞
（工程（１）  層（ａ）の塗工）
仮支持体として１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＦＤ１００Ｍ、富士フイルム（製））上に、組成物（Ａ−１）をダイコーターを用いて２．８ｍｌ／ｍ２塗布し、３０℃で９０秒乾燥させた。このようにして層（ａ）を塗工した。【０３７７】
（工程（２）  層（ａ）のプレ露光）
酸素濃度が１．４体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら、高圧水銀ランプ（Ｄｒ．ｈｏｎｌｅ  ＡＧ社製  型式：３３３５１Ｎ  部品番号：ＬＡＭＰ−ＨＯＺ  ２００  Ｄ２４  Ｕ  ４５０  Ｅ）を用いて層（ａ）側から照射量５.０ｍＪ／ｃｍ２、照度０．６０ｍＷで光照射し、硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得た。なお、照射量の測定は、アイグラフィック社製  アイ紫外線積算照度計  ＵＶ  ＭＥＴＥＲ  ＵＶＰＦ−Ａ１にＨＥＡＤ  ＳＥＮＳＥＲ  ＰＤ−３６５を取り付け、測定レンジ０．００にて測定した。【０３７８】
（工程（３）  粘着フィルムの貼り合わせ）
次いで、層（ｃａ）上に、藤森工業（株）製の保護フィルム（マスタックＴＦＢ  ＡＳ３−３０４）から剥離フィルムを剥離して得られる粘着フィルムを、粘着剤層（層（ｂ））が層（ｃａ）側になるように貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターＢｉｏ３３０（ＤＡＥ−ＥＬ  Ｃｏ．製）を使用し、速度１で実施した。
なお、ここでの保護フィルムとは、支持体／粘着剤層／剥離フィルムから構成される積層体を指し、保護フィルムから剥離フィルムを剥がした、支持体／粘着剤層から構成される積層体が粘着フィルムである。【０３７９】
使用した保護フィルムを以下に示す。
・マスタックＴＦＢ  ＡＳ３−３０４（藤森工業（株）製  帯電防止機能付き光学用保護フィルム）（以下、「ＡＳ３−３０４」ともいう）
支持体：ポリエステルフィルム（厚み３８μｍ）
粘着剤層厚み：２０μｍ
剥離フィルムを剥がした状態での波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率：０．１％未満【０３８０】
透過率の測定は、島津製作所（株）製の紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ３１５０を用いて行った。【０３８１】
（工程（４）  硬化性化合物（ａ１）の層（ｂ）への浸透）
粘着フィルムの貼り合わせ後、２５℃の環境下で５分間静置し、硬化性化合物（ａ１）を層（ｂ）へ浸透させた。【０３８２】
（工程（４−２）  層（ｃａ）の部分硬化）
続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、支持体の層（ｃａ）側とは反対側から照度１５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して層（ｃａ）の一部を硬化させた。【０３８３】
（工程（５）  仮支持体の剥離  積層体の作製）
上記積層体から、仮支持体であるＦＤ１００Ｍを剥離角が１８０°になる方向に速度３０ｍ/ｍｉｎで剥離した。【０３８４】
（工程（６）  防眩フィルムと積層体の貼り合せ）
上記防眩フィルムＡＧ−１の防眩層側と工程（５）で仮支持体を取り除いた積層体１の層（ｃａ）側を貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターＢｉｏ３３０（ＤＡＥ−ＥＬ  Ｃｏ．製）を使用し、速度１で実施した。その後、貼り合わせた積層体を１４０℃で２分間加熱した。【０３８５】
（工程（７）  層（ｃａ）の部分硬化）
続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、支持体の層（ｃａ）側とは反対側から照度１５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して層（ｃａ）の一部を硬化させた。【０３８６】
（工程（８）  粘着フィルムの剥離）
上記作製した積層体から粘着フィルム（マスタックＴＦＢ  ＡＳ３−３０４から剥離フィルムを剥がしたもの）を剥離した。【０３８７】
（工程（９）  層（ｃａ）の硬化）
続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、層（ｃａ）の基材フィルムとは反対側から照度１５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して層（ｃａ）を硬化させた。【０３８８】
（工程（１０）  洗浄）
続いて、粘着フィルムが貼り合わせてあった面にメチルイソブチルケトンを掛け流して粘着剤層の残渣を洗い流した。その後、２５℃で１０分乾燥して防眩性反射防止フィルム１を得た。【０３８９】
＜防眩性反射防止フィルム２〜１０の作製＞
上記防眩性反射防止フィルム１の作製において、工程（６）で貼り合わせる防眩フィルムを下記表１のように変更し、工程（６）貼り合わせ後の加熱条件を下記表１のように変更して、防眩性反射防止フィルム２〜１０を作製した。【０３９０】
＜防眩性反射防止フィルム１１の作製＞
上記防眩性反射防止フィルム１の作製において、防眩フィルムをＡＧ−２に変更し、工程（６）において、防眩層側と工程（５）で仮支持体を取り除いた積層体１の層（ｃａ）側に紫外線硬化型接着剤ＵＶ１を注入して、業務用ラミネーターＢｉｏ３３０（ＤＡＥ−ＥＬ  Ｃｏ．製）の速度１で貼り合わせ、加熱を実施せずに工程（７）に移行した以外は防眩性反射防止フィルム１と同様にして防眩性反射防止フィルム１１を作製した。防眩性反射防止フィルム１１は防眩層と反射防止層の間に接着層を有する。【０３９１】
なお、紫外線硬化型接着剤ＵＶ１は下記に記載の組成で各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌することで作製した。
紫外線硬化型接着剤ＵＶ１
ＰＥＴ−３０                                  ２０．０質量部
４−ヒドロキシブチルアクリレート              ７８．０質量部
イルガキュア９０７                              １．５質量部
ＤＥＴＸ−Ｓ                                    ０．５質量部【０３９２】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
４−ヒドロキシブチルアクリレート（日本化成（株）製）：単官能アクリレート
イルガキュア９０７：光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
ＤＥＴＸ−Ｓ：２、４−ジエチルチオキサントン、光重合促進剤（日本化薬（株）製）【０３９３】
＜防眩性反射防止フィルム１２の作製＞
防眩性反射防止フィルム１１の作製において、紫外線硬化型接着剤をＵＶ２に変更する以外は同様にして防眩性反射防止フィルム１２を作製した。防眩性反射防止フィルム１２は防眩層と反射防止層の間に接着層を有する。【０３９４】
なお、紫外線硬化型接着剤ＵＶ２は下記に記載の組成で各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌することで作製した。
紫外線硬化型接着剤ＵＶ２
アロニックスＭ−２２０                        ２０．０質量部
４−ヒドロキシブチルアクリレート              ７８．０質量部
イルガキュア９０７                              １．５質量部
ＤＥＴＸ−Ｓ                                    ０．５質量部【０３９５】
使用した化合物を以下に示す。
アロニックスＭ２２０：トリプロピレングリコール（ｎ≒３）ジアクリレート（東亜合成（株）製）【０３９６】
＜防眩性反射防止フィルム１３の作製＞
上記防眩フィルムＡＧ−１上に、組成物（Ａ−１）をダイコーターを用いて２．８ｍｌ／ｍ２塗布し、３０℃で９０秒乾燥させた後、酸素濃度が１．４体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら、高圧水銀ランプ（Ｄｒ．ｈｏｎｌｅ  ＡＧ社製  型式：３３３５１Ｎ  部品番号：ＬＡＭＰ−ＨＯＺ  ２００  Ｄ２４  Ｕ  ４５０  Ｅ）を用いて層（ａ）側から照射量５.０ｍＪ／ｃｍ２、照度０．６０ｍＷで光照射し、硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得た。なお、照射量の測定は、アイグラフィック社製  アイ紫外線積算照度計  ＵＶ  ＭＥＴＥＲ  ＵＶＰＦ−Ａ１にＨＥＡＤ  ＳＥＮＳＥＲ  ＰＤ−３６５を取り付け、測定レンジ０．００にて測定した。
次いで、層（ｃａ）上に、藤森工業（株）製の保護フィルム（マスタックＴＦＢ  ＡＳ３−３０４）から剥離フィルムを剥離して得られる粘着フィルムを、粘着剤層（層（ｂ））が層（ｃａ）側になるように貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターＢｉｏ３３０（ＤＡＥ−ＥＬ  Ｃｏ．製）を使用し、速度１で実施した。
粘着フィルムを貼り合わせ後、２５℃の環境下で５分間静置し、硬化性化合物（ａ１）を層（ｂ）へ浸透させた。
続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、支持体の層（ｃａ）側とは反対側から照度１５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して層（ｃａ）の一部を硬化させた。
上記作製した積層体から粘着フィルム（マスタックＴＦＢ  ＡＳ３−３０４から剥離フィルムを剥がしたもの）を剥離し、続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、層（ｃａ）の基材フィルムとは反対側から照度１５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して層（ｃａ）を硬化させた。最後に、粘着フィルムが貼り合わせてあった面にメチルイソブチルケトンを掛け流して粘着剤層の残渣を洗い流し、２５℃で１０分乾燥して防眩性反射防止フィルム１３を得た。【０３９７】
＜防眩性反射防止フィルム１４の作製＞
防眩性反射防止フィルム１３の作製において、上記防眩フィルムをＡＧ−２に変更した以外は同様にし、防眩性反射防止フィルム１４を作製した。【０３９８】
＜防眩性反射防止フィルム１５〜２１の作製＞
上記防眩性反射防止フィルム１の作製において、工程（４−２）における紫外線照射量を下記表１のように変更し、工程（６）で貼り合わせる防眩フィルムを下記表１のように変更して、防眩性反射防止フィルム１５〜２１を作製した。【０３９９】
＜防眩性反射防止フィルム２２の作製＞
（高屈折率層用塗布液の調製）
シクロヘキサノン５４質量部およびメチルエチルケトン１８質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦジャパン（株）製）０．１３質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解した。さらに、二酸化チタン分散物２６．４質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．６質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、高屈折率層用塗布液ＨＮ１を調製した。【０４００】
（低屈折率層用塗布液の調製）
屈折率１．４２であり、熱架橋性含フッ素ポリマーの６質量％のメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）を溶媒置換して、メチルイソブチルケトン８５質量％、２−ブタノール１５質量％からなる混合溶媒中に固形分１０質量％を含有するポリマー溶液を得た。このポリマー溶液７０質量部にＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）１０質量部、およびメチルイソブチルケトン４２質量部およびシクロヘキサノン２８質量部を添加、攪拌の後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）でろ過して、低屈折率層用塗布液ＬＮ１を調製した。【０４０１】
防眩性反射防止フィルム１の作製の工程（１）〜（５）において、組成物（Ａ−１）に代えて高屈折率層用塗布液ＨＮ１を使用し、塗布量を１．８ｍｌ／ｍ２とする以外は同様の方法を行うことにより、高屈折率転写用積層体１を得た。
防眩性反射防止フィルム１の作製の工程（１）〜（５）において、組成物（Ａ−１）に代えて低屈折率層用塗布液ＬＮ１を使用し、塗布量を０．８ｍｌ／ｍ２とする以外は同様の方法を行うことにより、低屈折率転写用積層体１を得た。
防眩性反射防止フィルム１の作製の工程（６）〜（１０）において、積層体１に代えて高屈折率転写用積層体１を用いる以外は同様の方法を行うことにより、防眩フィルム上に高屈折率層を転写で形成した高屈折率層付き防眩フィルムＡを作製した。
防眩性反射防止フィルム１の作製の工程（６）〜（１０）において、防眩フィルムＡＧ−１に代えて高屈折率層付き防眩フィルムＡを用い、積層体１に代えて低屈折率転写用積層体１を用いる以外は同様の方法を行うことにより、防眩フィルム上に高屈折率層と低屈折率層を転写で形成した防眩性反射防止フィルム２２を作製した。【０４０２】
＜防眩性反射防止フィルム２３の作製＞
上記防眩フィルムＡＧ−１上に、高屈折率層用塗布液ＨＮ１をダイコーターを用いて１．８ｍｌ／ｍ２塗布し、３０℃で９０秒乾燥させた後、酸素濃度が１．０体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら、高圧水銀ランプ（Ｄｒ．ｈｏｎｌｅ  ＡＧ社製  型式：３３３５１Ｎ  部品番号：ＬＡＭＰ−ＨＯＺ  ２００  Ｄ２４  Ｕ  ４５０  Ｅ）を用いて塗布した側から照射量９０ｍＪ／ｃｍ２、照度２０ｍＷで光照射し、防眩フィルム上に高屈折率層を塗布で形成した高屈折率層付き防眩フィルムＢを作製した。
上記高屈折率層付き防眩フィルムＢ上に、低屈折率層用塗布液ＬＮ１をダイコーターを用いて０．８ｍｌ／ｍ２塗布し、３０℃で９０秒乾燥させた後、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、高圧水銀ランプ（Ｄｒ．ｈｏｎｌｅ  ＡＧ社製  型式：３３３５１Ｎ  部品番号：ＬＡＭＰ−ＨＯＺ  ２００  Ｄ２４  Ｕ  ４５０  Ｅ）を用いて塗布した側から照射量３００ｍＪ／ｃｍ２、照度６０ｍＷで光照射し、防眩性フィルム上に高屈折率層と低屈折率層を塗布で形成した防眩性反射防止フィルム２３を作製した。【０４０３】
（接着層の厚み）
接着層を設けた防眩性反射防止フィルム１１、１２について、ミクロトームでフィルム切削断面を作製し、走査型電子顕微鏡Ｓ−３４００Ｎ（日立ハイテクノロジーズ（株）製）を用いて断面観察することで接着層の厚みを求めたところ、接着層厚みは０．４μｍであった。【０４０４】
（反射防止層の表面硬化率）
工程（６）において、防眩フィルムの防眩層に貼り合わせる前のモスアイ層の表面硬化率を以下の測定方法で測定した。
即ち、防眩性反射防止フィルム１の作製に記載の反射防止層の作製方法において、３μｍの膜厚になるように組成物（Ａ−１）を仮支持体上に塗布した以外を変更せずに工程(５)まで行ったサンプルを作製し、防眩フィルムの防眩層に転写する前に表面ＩＲ測定を行った。表面ＩＲ測定から、カルボニル基のピーク（１６６０−１８００ｃｍ−１）面積と二重結合のピーク高さ（８０８ｃｍ−１）を求め、二重結合のピーク高さをカルボニル基ピーク面積で除した値（以下Ｐ１０１と表す）を求めた。紫外線を照射しない条件で作製した同サンプルについて同様のＩＲ測定を行い、二重結合のピーク高さをカルボニル基ピーク面積で除した値（Ｑ１０１と表す）を求め、これらの値から下記数式１を用いて表面硬化率を計算した。【０４０５】
数式１  表面硬化率＝（１−（Ｐ１０１／Ｑ１０１））×１００  （％）
防眩層に転写する前の反射防止層の表面硬化率を下記表１に示した。【０４０６】
＜防眩性反射防止フィルムの評価＞
以下の方法により防眩性反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。【０４０７】
（防眩性反射防止フィルムの表面形状  Ｒａ、Ｓｍ評価）
作製した防眩性反射防止フィルムの表面形状をＪＩＳ  Ｂ−０６０１（１９９４）に基づいて、表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）、平均間隔（Ｓｍ）を小坂研究所（株）製サーフコーダーＭＯＤＥＬ  ＳＥ−３Ｆにより評価した。Ｓｍに関しては、測定長を８ｍｍとし、カットオフ値は０．８ｍｍとした。
なお、上記測定により測定される凹凸形状のＲａ及びＳｍは、防眩層に起因する凹凸形状であり、防眩性反射防止フィルムが、防眩層上にモスアイ層を有する場合でも、モスアイ層の微細な凹凸形状は上記測定に影響を及ぼさない。【０４０８】
（反射防止層の平均厚みムラ）
得られた防眩性反射防止フィルムの表面を、走査型電子顕微鏡Ｓ−３４００Ｎ（日立ハイテクノロジーズ（株）製）を用いて観察した。
反射防止層がモスアイ層である防眩性反射防止フィルム１〜２１については、低倍の観察から粒子の密な部分と疎な部分を決定し、拡大して１０μｍ×１０μｍ角の粒子数をカウントした。低倍で疎密が観察されない場合には、ランダムで視野を選択して同様の観察を実施した。（疎な部分の粒子数／密な部分の粒子数）を算出し、それぞれ１０回の測定値の平均の比を取って、反射防止層の平均厚みムラ（凸部における反射防止層の平均厚み／凹部における反射防止層の平均厚み）とした。
反射防止層がモスアイ層ではない防眩性反射防止フィルム２２及び２３については、防眩性反射防止フィルムの凸部における反射防止層の平均厚みと凹部における反射防止層の平均厚みは下記方法で算出した。すなわち、光学顕微鏡等で観察して、防眩層の凸部をけがきペンによりマーキングし、そのマーキングした部分（マーキング部）を含むように切削した断面を光学顕微鏡又は走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することで反射防止層の膜厚を算出する。ここで、凸部とは上記マーキング部付近で最も反射防止層の膜厚が薄い部分の膜厚とし、凹部とは上記断面において最も反射防止層の厚みが厚い部分とし、平均厚みは１０回の測定の平均値とした。【０４０９】
（積分反射率）
防眩性反射防止フィルムの裏面（基材フィルムの防眩層側界面とは反対の表面）をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分反射率を測定し、平均反射率を算出して積分反射率とした。【０４１０】
（鏡面反射率）
上記積分反射率測定に使用したフィルム（サンプル）、装置、アダプターを使用して、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°に対し、受光角５°で鏡面反射率を測定し、平均反射率を算出して鏡面反射率とした。【０４１１】
（全ヘイズ）
面の均一性をヘイズ値で評価した。得られた防眩性反射防止フィルムの全ヘイズ値（％）をＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００年）に準じて測定した。装置には日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ４０００を用いた。【０４１２】
(防眩性)
防眩性反射防止フィルムの基材の反射防止層を設けた側とは反対の面に粘着剤付き黒色ポリエチレンテレフタレートシート（巴川製紙所製；「くっきりみえーる」）をラミネートし、裏面の光反射を防止した３０ｃｍ×３０ｃｍのサンプルを作製した。上記サンプルにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を４５度の角度から映し、−４５度の方向から観察した際の反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
Ａ：蛍光灯の輪郭が全くわからない
Ｂ：蛍光灯の輪郭がわずかにわかる
Ｃ：蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる
Ｄ：蛍光灯がほとんどぼけない【０４１３】
（耐擦傷性：耐擦傷性試験後の積分反射率）
ラビングテスターの試料と接触する擦り先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に、スチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．００００）を巻いて事前準備した後、作製したサンプルの表面（反射防止層の表面）を、上記テスターの擦り部と接触させ、加重２００ｇ、擦り速度１０ｃｍ／秒、移動距離（片道）１０ｃｍの条件で、往復１０回擦り、耐傷性試験を行った。得られたサンプルについて、上記積分反射率測定と同様の方法で積分反射率測定を行い、耐傷性試験後の積分反射率を算出した。耐傷性試験前後の反射率差を、以下の基準で評価した。
Ａ  ：耐傷性試験前後で反射率差が０．５％以下
Ｂ  ：耐傷性試験前後で反射率差が０．５％超で０．７％以下
Ｃ  ：耐傷性試験前後で反射率差が０．７％超で１．０％以下
Ｄ  ：耐傷性試験前後で反射率差が１．０％超で１．５％以下
Ｅ  ：耐傷性試験前後で反射率差が１．５％超
実用特性上、Ａ〜Ｄであることが好ましく、Ａ〜Ｃであることがより好ましく、Ａ〜Ｂであることがさらに好ましい。【０４１４】
得られた結果を表２にまとめた。【０４１５】
【表１】
2018212051.tif 000033
【０４１６】
【表２】
2018212051.tif 000034
【０４１７】
実施例１〜１９の防眩性反射防止フィルム１〜１２、１５〜２０、２２は、防眩性反射防止フィルムにおける凹部と凸部の反射防止層の平均厚みムラがない均一な構造を有し、積分反射率が１．０％以下、鏡面反射率が０．４％以下と良好な結果となった。これに対して、比較例１、２の防眩性反射防止フィルム１３、１４は、防眩性反射防止フィルムにおける凹部と凸部の反射防止層の平均厚みムラが大きく、積分反射率が１．０％を超え、鏡面反射率が０．４％を超えた。
比較例３の防眩性反射防止フィルム２１は、防眩層の凹凸形状が所望の範囲ではないため防眩性が十分ではなかった。
また、比較例４の防眩性反射防止フィルム２３は、防眩性反射防止フィルムにおける凹部と凸部の反射防止層の平均厚みムラが大きく、積分反射率が１．０％を超え、鏡面反射率が０．４％を超えた。
本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法は、防眩層のような凹凸形状のある基材に反射防止能を付与するうえで有効な技術であることが示された。【０４１８】
実施例１０の防眩性反射防止フィルムを作製する際に組成物（Ａ−１）の代わりに、それぞれ組成物（Ａ−２）、（Ｂ−１）、及び（Ｂ−２）を用いた以外は、同様にして、実施例２４、２５、及び２６の防眩性反射防止フィルムをそれぞれ作製した。【０４１９】
（反射防止層のケイ素含有率（Ｓｉ／Ｃ）の測定）
上記作製した各反射防止フィルムの反射防止層バインダー中のケイ素原子および炭素原子数を、ＸＰＳ表面分析装置として、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いて、前述の条件で、測定角度０°（測定深さ６ｎｍ）とし、ケイ素含有率（Ｓｉ）および炭素原子含有率（Ｃ）を測定し、その結果からＳｉ／Ｃを算出した。【０４２０】
自発光型ディスプレイの最表面に用いることを想定し、青色光に対する耐久性試験を実施した。【０４２１】
（青色耐久性）
防眩性反射防止フィルムを、温度２５℃相対湿度６０％に保たれた部屋で、市販の青色光源（ＯＰＴＥＸ−ＦＡ社製ＯＰＳＭ−Ｈ１５０Ｘ１４２Ｂ）上に並べて置き、反射防止フィルムに対して青色光を２００時間連続で照射した。上記積分反射率測定と同様の方法で測定を行い、青色耐久性試験後の積分反射率を算出した。耐久性試験前後の反射率差を、以下の基準で評価した。
Ａ  ：耐久性試験前後で反射率差が０．２％以下
Ｂ  ：耐久性試験前後で反射率差が０．２％超で０．５％以下
Ｃ  ：耐久性試験前後で反射率差が０．５％超で１．０％以下
Ｄ  ：耐久性試験前後で反射率差が１．０％超
実用特性上、Ａ〜Ｃであることが好ましく、Ａ〜Ｂであることがより好ましい。【０４２２】
【表３】
2018212051.tif 000035
【０４２３】
表３の結果より、本願の防眩性反射防止フィルムにおいて、バインダー樹脂のＳｉ／Ｃ比率が０．０５以上であれば、青色光を長時間照射されても、バインダーがダメージは受けず、防眩性反射防止フィルムとして耐久性が向上し、低反射率を維持できることが分かった。
なお、実施例２４〜２６について、防眩性反射防止フィルムの表面形状（Ｒａ及びＳｍ）、反射防止層の平均厚みムラは実施例１０の結果と同じであった。
【符号の説明】
【０４２４】
１  仮支持体
２  層（ａ）、層（ｃａ）
３  粒子（ａ２）
４  層（ｂ）
５  支持体
６  粘着フィルム
７  積層体
１０  モスアイ層（反射防止層）
１１  基材フィルム
１２  防眩層
１３  防眩層用粒子
１４  防眩フィルム
１５  接着層
１６  反射防止層
２０  防眩性反射防止フィルム
Ｌｎ  低屈折率層
Ｈｎ  高屈折率層
ＵＶ  紫外線
【図１】
2018212051.tif 000036
【図２】
2018212051.tif 000037
【図３】
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【図４】
2018212051.tif 000039
【図５】
2018212051.tif 000040
【図６】
2018212051.tif 000041
【図７】
2018212051.tif 000042
【国際調査報告】
2018212051.tif 000043
2018212051.tif 000044
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