(57)【要約】  熱線遮蔽材の第１の実施態様は、アスペクト比が１０以上２０以下である金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、アスペクト比が２０を超え６０以下である金属平板粒子ｂを含有する金属平板粒子含有層Ｂと、を少なくとも有する；  熱線遮蔽材の第２の実施態様は、金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、金属平板粒子ｂを含有する金属平板含有層Ｂと、を少なくとも有し、上記金属平板粒子含有層Ａの最大反射波長と、上記金属平板粒子含有層Ｂの最大反射波長の差の絶対値が、２２０ｎｍ以上である；並びに、  上記熱線遮蔽材を備えた合わせガラス用中間膜、及び、合わせガラス。
2019003783.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アスペクト比が１０以上２０以下である金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、
アスペクト比が２０を超え６０以下である金属平板粒子ｂを含有する金属平板粒子含有層Ｂと、を少なくとも有する
熱線遮蔽材。
【請求項２】
前記金属平板粒子含有層Ａと前記金属平板粒子含有層Ｂとの間に、少なくとも１層の透明な誘電体層を更に有する請求項１に記載の熱線遮蔽材。
【請求項３】
前記誘電体層の光学厚さｎｄが、反射率が極小値となる波長λ１に対して以下の式１を満たす請求項２に記載の熱線遮蔽材。
｛（２ｍ＋１）×（λ１／４）｝−｛（λ１／４）×０．２０｝＜ｎｄ＜｛（２ｍ＋１）×（λ１／４）｝＋｛（λ１／４）×０．２０｝      式１
ただし、ｍは、０以上の整数を表し、λ１は、反射率が極小値となる波長を表し、ｎは、誘電体層の屈折率を表し、ｄは、誘電体層の厚さを表し、また、λ１及びｄの単位はｎｍである。
【請求項４】
前記式１中のｍが、０又は１である請求項３に記載の熱線遮蔽材。
【請求項５】
前記ｍが０である場合、前記金属平板粒子含有層Ｂが前記金属平板粒子含有層Ａよりも日射進入方向側に配置されており、
前記ｍが１である場合、前記金属平板粒子含有層Ａが前記金属平板粒子含有層Ｂよりも日射進入方向側に配置されている請求項４に記載の熱線遮蔽材。
【請求項６】
前記金属平板粒子ａ及び前記金属平板粒子ｂがそれぞれ、少なくとも銀を含む請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の熱線遮蔽材。
【請求項７】
紫外線吸収層を更に有する請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の熱線遮蔽材。
【請求項８】
前記紫外線吸収層を、前記金属平板粒子含有層Ａ及び前記金属平板粒子含有層Ｂよりも日射進入方向側に有する請求項７に記載の熱線遮蔽材。
【請求項９】
前記金属平板粒子ｂのアスペクト比が、３０以上６０以下である請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の熱線遮蔽材。
【請求項１０】
前記金属平板粒子ｂのアスペクト比／前記金属平板粒子ａのアスペクト比の値が、２以上６以下である請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の熱線遮蔽材。
【請求項１１】
請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の熱線遮蔽材を含む合わせガラス用中間膜。
【請求項１２】
請求項１１に記載の合わせガラス用中間膜と、少なくとも２枚のガラス板とを有し、前記２枚のガラス板の間に前記合わせガラス用中間膜を有する合わせガラス。
【請求項１３】
金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、金属平板粒子ｂを含有する金属平板含有層Ｂと、を少なくとも有し、
前記金属平板粒子含有層Ａの最大反射波長と、前記金属平板粒子含有層Ｂの最大反射波長の差の絶対値が、２２０ｎｍ以上である
熱線遮蔽材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、熱線遮蔽材、合わせガラス用中間膜、及び、合わせガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、二酸化炭素削減のための省エネルギー施策の一つとして、自動車や建物の窓に対する熱線遮蔽性付与材料が開発されている。
このような熱線遮蔽材は、従来は窓の内側に設置されること（いわゆる内貼り）が多かったが、近年では、室内に足場の設置が困難な場所や、室内側に移動できないものが置かれている場所や、室内の環境が常時結露する条件や温度に関して厳しい条件の場所に設置すること（いわゆる外貼り）も求められてきている。また、熱線遮蔽性の観点からも、窓の内側で吸収された光の再放射や窓の内側で反射された光の窓ガラスでの室内への再反射などを抑制するために、窓の外側で光を吸収または反射することが求められている。また、熱線遮蔽性（日射熱取得率）の観点からは、吸収した光の室内への再放射（吸収した日射エネルギーの約１／３量）がある熱線吸収型より、再放射が抑制された熱線反射型が望ましく、様々な提案がなされている。【０００３】
特開２０１１−２５３０９３号公報には、少なくとも１種の金属粒子を含有する少なくとも２層の金属粒子含有層と、少なくとも１層の透明な誘電体層と、を有し、上記金属粒子含有層と上記誘電体層との交互積層構造である熱線遮蔽材であって、上記誘電体層の少なくとも１層の光学厚さ（ｎｄ）が、反射率が極小値となる波長λ１に対して以下の式（１）を満たすことを特徴とする熱線遮蔽材が記載されている。
｛（２ｍ＋１）×（λ１／４）｝−｛（λ１／４）×０．２５｝＜ｎｄ＜｛（２ｍ＋１）×（λ１／４）｝＋｛（λ１／４）×０．２５｝      （１）
ただし、ｍは、０以上の整数を表し、λ１は、反射率が極小値となる波長を表し、ｎは、誘電体層の屈折率を表し、ｄは、誘電体層の厚さ（ｎｍ）を表す。【０００４】
また、特開２０１３−２０５８１０号公報には、少なくとも１種の金属粒子を含有する金属粒子含有層を有し、上記金属粒子が、金属平板粒子を６０個数％以上有し、上記金属粒子含有層のうち少なくともひとつの層が８００〜２０００ｎｍに少なくとも２つの吸収ピークまたは少なくとも２つの反射ピークを有することを特徴とする赤外線遮蔽フィルムが記載されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、遮熱性能に優れる熱線遮蔽材を提供することである。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、遮熱性能に優れる熱線遮蔽材を備えた合わせガラス用中間膜、及び、合わせガラスを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞  アスペクト比が１０以上２０以下である金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、アスペクト比が２０を超え６０以下である金属平板粒子ｂを含有する金属平板粒子含有層Ｂと、を少なくとも有する熱線遮蔽材。
＜２＞  上記金属平板粒子含有層Ａと上記金属平板粒子含有層Ｂとの間に、少なくとも１層の透明な誘電体層を更に有する上記＜１＞に記載の熱線遮蔽材。
＜３＞  上記誘電体層の光学厚さｎｄが、反射率が極小値となる波長λ１に対して以下の式１を満たす上記＜２＞に記載の熱線遮蔽材。
｛（２ｍ＋１）×（λ１／４）｝−｛（λ１／４）×０．２０｝＜ｎｄ＜｛（２ｍ＋１）×（λ１／４）｝＋｛（λ１／４）×０．２０｝      式１
ただし、ｍは、０以上の整数を表し、λ１は、反射率が極小値となる波長を表し、ｎは、誘電体層の屈折率を表し、ｄは、誘電体層の厚さを表し、また、λ１及びｄの単位はｎｍである。
＜４＞  上記式１中のｍが、０又は１である上記＜３＞に記載の熱線遮蔽材。
＜５＞  上記ｍが０である場合、上記金属平板粒子含有層Ｂが上記金属平板粒子含有層Ａよりも日射進入方向側に配置されており、
上記ｍが１である場合、上記金属平板粒子含有層Ａが上記金属平板粒子含有層Ｂよりも日射進入方向側に配置されている上記＜４＞に記載の熱線遮蔽材。
＜６＞  上記金属平板粒子ａ及び上記金属平板粒子ｂがそれぞれ、少なくとも銀を含む上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の熱線遮蔽材。
＜７＞  紫外線吸収層を更に有する上記＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の熱線遮蔽材。
＜８＞  上記紫外線吸収層を、上記金属平板粒子含有層Ａ及び上記金属平板粒子含有層Ｂよりも日射進入方向側に有する上記＜７＞に記載の熱線遮蔽材。
＜９＞  上記金属平板粒子ｂのアスペクト比が、３０以上６０以下である上記＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の熱線遮蔽材。
＜１０＞  上記金属平板粒子ｂのアスペクト比／上記金属平板粒子ａのアスペクト比の値が、２以上６以下である上記＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の熱線遮蔽材。
＜１１＞  上記＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の熱線遮蔽材を含む合わせガラス用中間膜。
＜１２＞  上記＜１１＞に記載の合わせガラス用中間膜と、少なくとも２枚のガラス板とを有し、上記２枚のガラス板の間に上記合わせガラス用中間膜を有する合わせガラス。
＜１３＞金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、金属平板粒子ｂを含有する金属平板含有層Ｂと、を少なくとも有し、上記金属平板粒子含有層Ａの最大反射波長と、上記金属平板粒子含有層Ｂの最大反射波長の差の絶対値が、２２０ｎｍ以上である熱線遮蔽材。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の一実施形態によれば、遮熱性能に優れる熱線遮蔽材を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、遮熱性能に優れる熱線遮蔽材を備えた合わせガラス用中間膜、及び、合わせガラスを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本開示に用いられる銀ナノ平板粒子の一例を示す概略斜視図である。
【図２】本開示に用いられる銀ナノ平板粒子の他の一例を示す概略斜視図である。
【図３】本開示に係る熱線遮蔽材の一例における模式断面図である。
【図４】本開示に係る合わせガラス用中間膜の一例における模式断面図である。
【図５】本開示に係る合わせガラスの一例における模式断面図である。
【図６】本開示に係る合わせガラスの他の一例における模式断面図である。
【図７】本開示に係る合わせガラスの更に他の一例における模式断面図である。
【図８】実施例で使用したグリーンガラスの透過スペクトルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本開示について詳細に説明する。
なお、本明細書中、「ｘｘ〜ｙｙ」の記載は、ｘｘ及びｙｙを含む数値範囲を表す。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
本開示におけるアルキル基、アリール基、アルキレン基及びアリーレン基等の炭化水素基は、特に断りのない限り、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
【００１０】
（熱線遮蔽材）
本開示に係る熱線遮蔽材の第一の実施態様は、アスペクト比が１０以上２０以下である金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、アスペクト比が２０を超え６０以下である金属平板粒子ｂを含有する金属平板粒子含有層Ｂと、を少なくとも有する。
本開示に係る熱線遮蔽材の第二の実施態様は、金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、金属平板粒子ｂを含有する金属平板含有層Ｂと、を少なくとも有し、上記金属平板粒子含有層Ａの最大反射波長と、上記金属平板粒子含有層Ｂの最大反射波長の差の絶対値が、２２０ｎｍ以上である。
以下、特に断りのない限り、「本開示に係る熱線遮蔽材」とは、本開示に係る熱線遮蔽材の第一の実施態様及び第二の実施態様の両方を指すものとする。
【００１１】
従来の金属平板粒子を含む熱線遮蔽材は、遮熱性能が未だ十分でなかった。例えば、特開２０１１−２５３０９３号公報には、金属粒子をある特定厚さの誘電体層を挟んで２層化することで、単層構成に比べ、高い可視光透過率及び遮蔽性能を得る方法が提案されているが、この方法であっても、遮熱性能が未だ十分でなかった。
本発明者らが詳細な検討を行った結果、アスペクト比が１０以上２０以下である金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、アスペクト比が２０を超え６０以下である金属平板粒子ｂを含有する金属平板粒子含有層Ｂと設けること、又は、金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、金属平板粒子ｂを含有する金属平板含有層Ｂと、を少なくとも有し、上記金属平板粒子含有層Ａの最大反射波長と、上記金属平板粒子含有層Ｂの最大反射波長の差の絶対値が、２２０ｎｍ以上であることにより、遮蔽性能に優れた熱線遮蔽材が得られることを見出した。
詳細な機構は不明であるが、以下のように推定している。
上記のように特定のアスペクト比の金属平板粒子を含有する金属平板粒子含有層Ａ及びＢをそれぞれ設けることにより、１層目を透過した光が２層目で反射される場合、同じアスペクト比の金属平板粒子を含有する層であれば、２層目で反射された光が再度１層目の裏面において反射されるが、上記金属平板粒子含有層Ａ及びＢであると、２層目で反射された光が１層目の裏面で反射されず透過し、光の反射効率が高まり、遮熱性能が向上するものと推定している。
また、上記現象は、特定のアスペクト比の金属平板粒子をそれぞれ用いること、又は、特定の最大反射波長を有する記金属平板粒子含有層Ａ及びＢであることにより、金属平板粒子含有層Ａが含有する金属平板粒子ａと金属平板粒子含有層Ｂが含有する金属平板粒子ｂとのプラズモン共鳴波長が異なることにより生じているのではないかと、本発明者らは推定している。
【００１２】
＜金属平板粒子含有層Ａ、及び、金属平板粒子含有層Ｂ＞
本開示に係る熱線遮蔽材の第一の実施態様は、アスペクト比が１０以上２０以下である金属平板粒子ａを含有する金属平板粒子含有層Ａと、アスペクト比が２０を超え６０以下である金属平板粒子ｂを含有する金属平板粒子含有層Ｂと、を少なくとも有する。
また、本開示に係る熱線遮蔽材の第二の実施態様は、上記金属平板粒子ａのアスペクト比が１０以上２０以下であり、上記金属平板粒子ｂのアスペクト比が２０を超え６０以下であることが好ましい。
また、本開示に係る熱線遮蔽材は、遮熱性能の観点から、日射進入方向側に金属平板粒子含有層Ｂを有し、非日射入射側に金属平板粒子含有層Ａを有することが好ましい。
【００１３】
金属平板粒子含有層Ａの最大反射波長は、遮熱性能の観点から、５００ｎｍ以上１，５００ｎｍ以下であることが好ましく、７００ｎｍ以上１，３００ｎｍ以下であることがより好ましく、８００ｎｍ以上１，２００ｎｍ以下であることが更に好ましい。
金属平板粒子含有層Ｂの最大反射波長は、遮熱性能の観点から、１，０００ｎｍ以上２，１００ｎｍ以下であることが好ましく、１，２００ｎｍ以上２，０００ｎｍ以下であることがより好ましく、１，４００ｎｍ以上２，０００ｎｍ以下であることが更に好ましい。
本開示に係る熱線遮蔽材の第二の実施態様は、金属平板粒子含有層Ａの最大反射波長と金属平板粒子含有層Ｂの最大反射波長との差の絶対値は、２２０ｎｍ以上であり、遮熱性能の観点から、３００ｎｍ以上であることが好ましく、４００ｎｍ以上１，３００ｎｍ以下であることがより好ましい。
また、本開示に係る熱線遮蔽材の第一の実施態様は、金属平板粒子含有層Ａの最大反射波長と金属平板粒子含有層Ｂの最大反射波長との差の絶対値は、遮熱性能の観点から、２２０ｎｍ以上であることが好ましく、３００ｎｍ以上であることがより好ましく、４００ｎｍ以上１，３００ｎｍ以下であることが更に好ましい。
金属平板粒子含有層Ａ及び金属平板粒子含有層Ｂの最大反射波長の測定方法は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８「板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射取得率の試験方法」に記載の方法によって、３００ｎｍ〜２，１００ｎｍまで測定し、測定結果から得られる光学反射スペクトルより、反射最大値を求めて最大反射波長とする。
【００１４】
本開示に係る熱線遮蔽材は、金属平板粒子含有層Ａ及び金属平板粒子含有層Ｂ以外の金属平板粒子含有層を有していてもよいが、金属平板粒子含有層として、金属平板粒子含有層Ａ、及び、金属平板粒子含有層Ｂのみを有していることが好ましい。
なお、本明細書において、単に「金属平板粒子含有層」と記載した場合は、本開示に係る熱線遮蔽材が有する金属平板粒子含有層Ａ、及び、金属平板粒子含有層Ｂの両方を含む全ての金属平板粒子含有層について記載しているものとし、また、単に「金属平板粒子」と記載した場合は、金属平板粒子ａ、及び、金属平板粒子ｂの両方を含む全ての金属平板粒子について記載しているものとする。
金属平板粒子含有層は、少なくとも金属平板粒子を含み、バインダーを更に含むことが好ましい。
【００１５】
−金属平板粒子−
本開示に係る熱線遮蔽材の第一の実施態様における上記金属平板粒子含有層Ａが含有する金属平板粒子ａのアスペクト比は、１０以上２０以下であり、遮熱性能の観点から、１２以上１８以下であることが好ましく、１３以上１７以下であることがより好ましく、１３．５以上１６．０以下であることが更に好ましい。
本開示に係る熱線遮蔽材の第二の実施態様における上記金属平板粒子含有層Ａが含有する金属平板粒子ａのアスペクト比は、遮熱性能の観点から、１０以上２０以下であることが好ましく、１２以上１８以下であることがより好ましく、１３以上１７以下であることが更に好ましく、１３．５以上１６．０以下であることが特に好ましい。
本開示に係る熱線遮蔽材の第一の実施態様における上記金属平板粒子含有層Ｂが含有する金属平板粒子ｂのアスペクト比は、２０を超え６０以下であり、遮熱性能の観点から、２５以上６０以下であることが好ましく、３０以上６０以下であることがより好ましく、３５以上６０以下であることが更に好ましい。
本開示に係る熱線遮蔽材の第二の実施態様における上記金属平板粒子含有層Ｂが含有する金属平板粒子ｂのアスペクト比は、遮熱性能の観点から、２０を超え６０以下であることが好ましく、２５以上６０以下であることがより好ましく、３０以上６０以下であることが更に好ましく、３５以上６０以下であることが特に好ましい。
また、上記金属平板粒子ｂのアスペクト比／上記金属平板粒子ａのアスペクト比の値は、遮熱性能の観点から、１．２以上６以下であることが好ましく、１．５以上６以下であることがより好ましく、２以上６以下であることが更に好ましく、２．５以上５以下であることが特に好ましい。
【００１６】
本明細書において、金属平板粒子のアスペクト比とは、金属平板粒子の平面の面積を同面積の円で近似したときの直径の平均値（平均円相当径、平均粒子径に該当する。）を金属平板粒子の平均厚さで除算した値を意味する。金属平板粒子の厚さは、平板面間距離に相当する。具体的には、例えば、金属平板粒子が六角形状である場合、アスペクト比は、図１に示すように六角形状の金属平板粒子の平面の面積を同面積の円で近似したときの直径Ｄ（円相当径Ｄ）を厚さａで除算した値（Ｄ／Ｔ）である。金属平板粒子が円形状である場合、アスペクト比は、図２に示す直径Ｄを厚さＴで除算した値（Ｄ／Ｔ）である。
【００１７】
金属平板粒子の平均円相当径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、２０ｎｍ〜４００ｎｍがより好ましく、５０ｎｍ〜３００ｎｍが更に好ましい。
【００１８】
金属平板粒子の円相当径Ｄは、個々の粒子の投影面積と等しい面積を有する円の直径で表される。個々の粒子の投影面積は、電子顕微鏡写真上での面積を測定し、撮影倍率で補正する公知の方法により得ることができる。また、平均円相当径ＤＡＶは、２００個の金属平板粒子の円相当径Ｄの統計で粒径分布（粒度分布）を得て、粒径分布から計算により求めた算術平均値である。
【００１９】
金属平板粒子の平均厚さは、２０ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ〜１５ｎｍであることがより好ましく、４ｎｍ〜１２ｎｍであることが特に好ましい。
金属平板粒子の厚さは、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＡＦＭ）又は透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定することができる。
【００２０】
ＡＦＭによる平均厚さの測定方法としては、例えば、ガラス基板に金属平板粒子を含有する粒子分散液を滴下し、乾燥させて、各粒子の厚さを測定し、２００個の粒子の平均値をとる方法などが挙げられる。
ＴＥＭによる平均厚さの測定方法としては、例えば、シリコン基板上に金属平板粒子を含有する粒子分散液を滴下し、乾燥させた後、カーボン蒸着、金属蒸着による被覆処理を施し、集束イオンビーム（Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅａｍ：ＦＩＢ）加工により断面切片を作成し、その断面をＴＥＭにより観察して粒子の厚さ測定を行い、２００個の粒子の平均値をとる方法（以下、ＦＩＢ−ＴＥＭともいう。）などが挙げられる。
【００２１】
金属平板粒子の材料としては、特に制限はなく、例えば銀、アルミニウム、マグネシウム、スズ、金、又は銅などが挙げられる。
上記金属平板粒子ａ及び上記金属平板粒子ｂはそれぞれ、耐光性、可視光線透過性及び遮熱性能の観点から、少なくとも銀を含むことが好ましく、銀ナノ平板粒子であることがより好ましい。
金属平板粒子としては、特開２０１３−２２８６９４号公報の段落００１９〜００４６、特開２０１３−０８３９７４号公報、特開２０１３−０８０２２２号公報、特開２０１３−０８０２２１号公報、特開２０１３−０７７００７号公報、特開２０１３−０６８９４５号公報などに記載の近赤外遮蔽材料を用いることができ、これらの公報の記載は本明細書に組み込まれる。
具体的には、金属平板粒子が、三角形状以上の多角形状乃至円形状の金属平板粒子を６０個数％以上有し、多角形状乃至円形状の平板状金属粒子の主平面が、近赤外遮蔽層の一方の表面に対して平均０°〜±３０°の範囲で面配向していることが好ましく、更に金属平板粒子が六角形状以上の多角形状であることがより好ましい。
【００２２】
金属平板粒子含有層における金属平板粒子の含有量は、遮熱性能及び可視光線透過性の観点から、０．０１ｇ／ｍ２〜０．２ｇ／ｍ２が好ましく、０．０３ｇ／ｍ２〜０．１ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０４ｇ／ｍ２〜０．０８ｇ／ｍ２が更に好ましい。
また、金属平板粒子含有層における金属平板粒子の面密度は、遮熱性能及び可視光線透過性の観点から、２０面積％〜８０面積％であることが好ましく、３０面積％〜７０面積％であることがより好ましい。
本明細書における金属平板粒子含有層における金属平板粒子の面密度とは、金属平板粒子含有層の面側から見た時の層の面積Ａに対する金属平板粒子の面積の合計値Ｂの割合〔（Ｂ／Ａ）×１００〕であるものとする。
上記面密度は、例えば熱線遮蔽材基板を上からＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）観察で得られた画像や、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）観察で得られた画像を画像処理することにより測定することができる。
【００２３】
金属平板粒子は、遮熱性能及び可視光線透過性の観点から、銀よりも貴な金属を含むことが好ましい。ここで、「銀よりも貴な金属」であるとは、「銀の標準電極電位よりも高い標準電極電位を有する金属」を意味する。
金属平板粒子中における、銀より貴な金属の銀に対する比率は、０．０１原子％〜５原子％であることが好ましく、０．１原子％〜２原子％であることがより好ましく、０．２原子％〜０．５原子％であることが更に好ましい。
なお、銀より貴な金属の含有量は、例えば、試料を酸などにより溶解後、高周波誘導結合プラズマ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ：ＩＣＰ）発光分光分析により測定することができる。
【００２４】
金属平板粒子中における銀よりも貴な金属の含有位置は、金属平板粒子の表面近傍である。金属平板粒子の表面近傍に銀より貴な金属を含有することで、湿熱環境による銀のイオン化（酸化）を防ぎ、近赤外透過率の劣化を抑制することができる。
ここで、金属平板粒子の表面近傍には、金属平板粒子の表面、及び表面から２〜４原子層までの領域を含み、銀より貴な金属が金属平板粒子の表面を被覆している場合も含まれる。
ここで、金属平板粒子の表面近傍に、銀よりも貴な金属が存在していること及びその含有量は、例えばオージェ光電子分光法（Ａｕｇｅｒ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＡＥＳ)、Ｘ線光電子分光法（Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＸＰＳ）等により検出することができる。
【００２５】
銀より貴な金属としては、例えば金、パラジウム、イリジウム、白金、オスミウム、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、原材料の入手のし易さの点からパラジウム、金、白金が特に好ましい。
【００２６】
銀より貴な金属は、金属平板粒子の形成後に光還元、還元剤添加、化学還元によって金属平板粒子の表面近傍に含有させることができ、銀より貴な金属は銀により還元されて生成されたものであることが好ましい。
【００２７】
還元は、還元剤と同時添加であると貴な金属が直接還元されてしまい効果が小さくなるので、銀と置換する方法が好ましい。
また、還元は、例えば銀ナノ平板粒子等の金属平板粒子を銀より貴な金属を含む溶媒中で加熱することによって達成できる。溶媒を加熱することにより、銀により、銀以外の金属が還元される。更に目的に応じて適宜、光還元、還元剤添加、化学還元法などを組み合わせてもよい。
また、金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる錯化剤を還元時に共存させることが好ましい。
上記錯化剤としては、例えば、シアン塩（シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化アンモウム等）、チオ硫酸、チオ硫酸塩（チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等）、亜硫酸塩（亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム等）、チオ尿素等が挙げられる。これらの中でも、錯体安定性及び環境負荷の観点からは、亜硫酸ナトリウム又はチオ硫酸ナトリウムが好ましい。
【００２８】
中でも、金属平板粒子としては、遮熱性能及び可視光線透過性の観点から、金を含む銀ナノ平板粒子であることが好ましく、表面の少なくとも一部が金により被覆された銀ナノ平板粒子であることがより好ましく、表面全体が金により被覆された銀ナノ平板粒子であることが特に好ましい。
【００２９】
金属平板粒子の主平面において被覆されている金の平均厚さは、０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であることが好ましく、０．４ｎｍ以上１．８ｎｍ以下がより好ましく、０．７ｎｍ以上１．５ｎｍ以下が更に好ましい。
【００３０】
被覆されている金の平均厚さは、粒子断面方向のＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ（High-angle Annular Dark Field Scanning TEM）像を撮影し、その撮影画像中で輝度の高い金被覆層の厚さを、主平面及び端面のそれぞれについて、１粒子中５点をＩｍａｇｅＪ（アメリカ国立衛生研究所（NIH：National Institutes of Health)により提供）などの画像解析ツールによって測定し、計２０個の粒子について得られた主平面及び端面それぞれの厚さを算術平均することで得られる。
【００３１】
粒子の端面において被覆されている金の平均厚さに対して主平面において被覆されている金の平均厚さの比は、０．０２以上であることが好ましく、０．１以上がより好ましく、０．３以上が更に好ましい。上記厚さの比の上限は、特に限定されないが、１０以下であることが好ましい。上記厚さの比が０．０２以上であると優れた酸化耐性が発揮される。
【００３２】
〜銀ナノ平板粒子〜
銀ナノ平板粒子とは、長軸長又は直径がナノサイズ（１ｎｍ以上１，０００ｎｍ未満）である平板状の粒子のことを指す。
可視光線透過性及び遮熱性能の観点から、銀ナノ平板粒子は、図１及び図２に示すような２つの対向する主平面を有する平板状であることが好ましい。
【００３３】
図１又は図２に示すディスク状の銀ナノ平板粒子（以下、「銀ナノディスク」又は「ＡｇＮＤ」ともいう。）３５Ａ，３５Ｂの場合、長軸長とはその主平面の円相当径Ｄであり、アスペクト比とは円相当径Ｄと対向する主平面間の距離、すなわち板状金属粒子の厚さ（板厚）Ｔとの比Ｄ／Ｔである。
【００３４】
銀ナノディスクとは、図１又は図２に示すような対向する２つの主平面を備えた粒子である。その主平面の形状としては、例えば、六角形状、三角形状、円形状などが挙げられる。これらの中でも、可視光透過率が高い点で、主平面の形状が三角形状以上の多角形状であることが好ましく、図１に示すような六角形状、あるいは六角形以上の多角形状若しくは図２に示すような円形状であることが好ましい。
これら複数の形状の銀ナノディスクを２種以上混ぜて使用してもよい。
【００３５】
上記円形状とは、後述する銀ナノディスクの平均円相当径の５０％以上の長さを有する辺の個数が１個の銀ナノディスク粒子当たり０個である形状のことを言う。円形状の銀ナノディスクとしては、透過型電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＴＥＭ）で銀ナノディスクを主平面の上方から観察した際に、角が無く、丸い形状であれば特に制限はない。
【００３６】
上記六角形状とは、後述する銀ナノディスクの平均円相当径の２０％以上の長さを有する辺の個数が１個の銀ナノディスク当たり６個である形状のことを言う。六角形状の銀ナノディスクとしては、ＴＥＭで銀ナノディスクを主平面の上方から観察した際に、六角形状であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、六角形状の角が鋭角のものでも、角が丸まっているものでもよいが、可視光域の吸収を軽減し得る点で、角が鈍っているものであることが好ましい。角の鈍りの程度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００３７】
銀ナノディスクの合成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、化学還元法、光化学還元法、電気化学還元法等の液相法などが六角形状乃至円形状の銀ナノディスクを合成し得るものとして挙げられる。これらの中でも、形状とサイズ制御性の点で、化学還元法、光化学還元法などの液相法が特に好ましい。六角形〜三角形状の銀ナノディスクを合成後、例えば、硝酸、亜硫酸ナトリウム等の銀を溶解する溶解種によるエッチング処理、加熱によるエージング処理などを行うことにより、六角形〜三角形状の銀ナノディスクの角を鈍らせて、六角形状乃至円形状の銀ナノディスクを得てもよい。
銀ナノディスクの合成方法としては、その他、予めフィルム、ガラスなどの透明基材の表面に種晶を固定後、結晶成長させてもよい。
【００３８】
−バインダー−
金属平板粒子含有層におけるバインダーは、ポリマーを含むことが好ましく、透明ポリマーを含むことがより好ましい。ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、（飽和）ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゼラチン又はセルロース等の天然高分子等の高分子などが挙げられる。その中でも、主ポリマーがポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、（飽和）ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂であることが好ましく、ポリエステル樹脂及びポリウレタン樹脂であることが銀ナノ粒子の８０個数％以上を金属平板粒子含有層の表面からｄ／２の範囲に存在させやすい観点からより好ましい。バインダーは２種以上を併用して使用してもよい。
【００３９】
ポリエステル樹脂の中でも、飽和ポリエステル樹脂であることがエチレン性不飽和二重結合を含まないために優れた耐候性を付与できる観点からより特に好ましい。また、水溶性又は水分散性の硬化剤等で硬化させることで高い硬度、耐久性及び耐熱性を得られる観点から、分子末端に水酸基又はカルボキシ基を持つことがより好ましい。
【００４０】
ポリマーとしては、商業的に入手できるものを好ましく用いることもでき、例えば、互応化学工業（株）製の水溶性ポリエステル樹脂であるプラスコートＺ−６８７及びＤＩＣ（株）社製のポリエステルポリウレタン共重合品であるハイドランＨＷ−３５０などを挙げることができる。
【００４１】
また、本明細書中、金属平板粒子含有層に含まれる主ポリマーとは、金属平板粒子含有層に含まれるポリマーの５０質量％以上を占めるポリマー成分のことを言う。
【００４２】
金属平板粒子含有層に含まれるバインダーの含有量は、金属平板粒子の含有量１００質量部に対し、１質量部〜１０，０００質量部であることが好ましく、１０質量部〜１，０００質量部であることがより好ましく、２０質量部〜５００質量部であることが特に好ましい。
バインダーの屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。なお、ここで屈折率とは、２５℃における波長５５０ｎｍでの数値である。特に断りがない限り、本明細書において屈折率は、２５℃における波長５５０ｎｍでの屈折率である。
【００４３】
金属平板粒子含有層は、耐湿熱性の観点から、金属吸着性化合物を含んでいてもよい。
金属平板粒子含有層に含まれる金属吸着性化合物としては、1−フェニル−１Ｈ−テトラゾール−５−チオール、５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール、５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール−２−チオール、及び、メチルウレイドフェニルメルカプトテトラゾールなどが挙げられる。
また、金属平板粒子含有層における金属吸着性化合物の含有量は、可視光線透過性及び遮熱性能の観点から、０ｍｇ／ｍ２〜２ｍｇ／ｍ２であることが好ましく、０ｍｇ／ｍ２〜１．５ｍｇ／ｍ２であることがより好ましい。
【００４４】
−その他添加剤−
金属平板粒子含有層は、界面活性剤、速乾促進剤などを更に含んでいてもよい。
界面活性剤としては、ラピゾールＡ−９０（日油（株）製、固形分濃度１％）、ナロアクティーＣＬ−９５（三洋化成工業（株）製、固形分濃度１％）、などが挙げられる。
速乾促進剤としては、アルコール等が挙げられ、エタノールが好適に用いられる。
【００４５】
金属平板粒子含有層の厚さは、可視光線透過性及び遮熱性能の観点から、１０ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが更に好ましい。
【００４６】
＜誘電体層＞
本開示に係る熱線遮蔽材は、遮熱性能の観点から、誘電体層を更に有することが好ましく、透明な誘電体層を更に有することがより好ましく、上記金属平板粒子含有層Ａと上記金属平板粒子含有層Ｂとの間に、少なくとも１層の透明な誘電体層を更に有することが特に好ましい。
上記誘電体層としては、可視光領域で透明であれば材料などは特に限定されない。
なお、本開示における「透明」とは、２５℃における波長５５０ｎｍの光の透過率（後述する可視光透過率）が４０％以上であることを指す。なお、上記光の透過率は、入射光量に対する透過光量の割合である。
また、上記誘電体層は、２５℃における波長５５０ｎｍの光の透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
上記材料としては、無機化合物、有機化合物などが挙げられる。
上記無機化合物としては、例えば、シリカ、石英、ガラス、窒化シリコン、チタニア、アルミナ、窒化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化鉛、ダイヤモンド、窒化ホウ素、窒化炭素、アルミニウム酸窒化物、シリコン酸窒化物などが挙げられる。
上記有機化合物としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、メチルスチレン樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）樹脂、アクリロニトリルスチレン（ＡＳ）樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリオキセタン、ナイロン６、ナイロン６６、ポリ塩化ビニル、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、三酢酸セルロース、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、環状ポリオレフィン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シクロヘキサジエン系ポリマー、非晶性ポリエステル樹脂、透明ポリイミド、透明ポリウレタン、透明フッ素樹脂、熱可塑性エラストマー、ポリ乳酸などが挙げられる。
【００４７】
上記誘電体層の屈折率としては、１．０〜１０．０が好ましく、１．０５〜５．０がより好ましく、１．１〜４．０が特に好ましい。
上記屈折率が、１．０以上であると、薄膜として均一な誘電体層を得ることが容易であり、１０．０以下であると、上記誘電体層の必要な平均厚さが十分厚く、形成が容易である。上記屈折率は、例えば、分光エリプソメトリー法（ウーラム社製ＶＡＳＥ）で測定することができる。
【００４８】
上記誘電体層としては、可視光線透過性及び遮熱性能の観点から、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲に極大吸収を持たないことが好ましく、波長３８０ｎｍ〜２，５００ｎｍの範囲に極大吸収を持たないことがより好ましい。
【００４９】
遮熱性能の観点から、上記金属平板粒子含有層Ａと上記金属平板粒子含有層Ｂとの間に有する上記誘電体層の光学厚さｎｄが、反射率が極小値となる波長λ１に対して以下の式１を満たすことが好ましい。
以下の式１により決定される光学厚さｎｄを有することで、波長λ１の光の反射率を光学干渉により抑制するという点で有利である。
｛（２ｍ＋１）×（λ１／４）｝−｛（λ１／４）×０．２０｝＜ｎｄ＜｛（２ｍ＋１）×（λ１／４）｝＋｛（λ１／４）×０．２０｝      式１
ただし、ｍは、０以上の整数を表し、λ１は、反射率が極小値となる波長を表し、ｎは、誘電体層の屈折率を表し、ｄは、誘電体層の厚さを表し、また、λ１及びｄの単位はｎｍである。
なお、光学厚さｎｄは、誘電体層の屈折率ｎ、及び、誘電体層の厚さｄの積である。
【００５０】
上記式１中のｎｄとしては、ｍが０の場合は、｛（２ｍ＋１）×（λ１／４）｝を中心として（λ１／４）の±２０％の範囲内であり、±１０％の範囲内であることがより好ましく、±５％の範囲内であることが特に好ましい。
【００５１】
上記誘電体層の少なくとも１層の光学厚さが上記式１を満たしていれば、他の誘電体層の光学厚さは特に限定されないが、上記式１中のｍが、遮熱性能の観点から、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。
上記式１中のｍを０又は１とすることで、反射率を抑制できる波長幅が広がり、斜め入射光に対しても色味及び反射率の変化が小さい熱線遮熱材が得られるという点で有利である。
また、遮熱性能の観点から、式１におけるｍが０である場合、上記金属平板粒子含有層Ｂが上記金属平板粒子含有層Ａよりも日射進入方向側に配置されていることが好ましく、式１におけるｍが１である場合、上記金属平板粒子含有層Ａが上記金属平板粒子含有層Ｂよりも日射進入方向側に配置されていることが好ましい。
【００５２】
反射率が極小値となる波長λ１としては、可視光線透過性及び遮熱性能の観点から、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍが好ましく、４００ｎｍ〜７００ｎｍがより好ましい。
【００５３】
上記誘電体層の厚さとしては、５ｎｍ〜５，０００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜３，０
００ｎｍがより好ましく、２０ｎｍ〜１，０００ｎｍが特に好ましい。
上記厚さが、５ｎｍ以上であると、誘電体層として平滑性の高い膜を形成することが容易であり、５，０００ｎｍ以下であると、金属平板粒子含有層Ａと金属平板粒子含有層Ｂと間での光学干渉効果が十分得られる。
【００５４】
上記誘電体層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、屈折率ｎの物質を厚さがｄとなるように層を配置して形成する方法などが挙げられる。成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、緻密に厚さの制御が可能である蒸着法（真空蒸着以外に、イオンアシスト蒸着、イオンプレーティング蒸着、イオンビームスパッタ蒸着等を含む。）、化学気相成長（ＣＶＤ）法などで積層することが好ましい。
【００５５】
＜紫外線吸収層＞
本開示に係る熱線遮蔽材は、耐光性の観点から、紫外線吸収層を更に有することが好ましい。また、上記紫外線吸収層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
本開示に係る熱線遮蔽材は、耐光性及び遮熱性能の観点から、上記紫外線吸収層を、上記金属平板粒子含有層Ａ及び上記金属平板粒子含有層Ｂよりも日射進入方向側に有することが好ましい。
なお、本開示における「日射進入方向」とは、本開示に係る熱線遮蔽材を使用する際における太陽光等の熱線を含む光が強く照射される方向のことをいう。
また、本開示において、紫外線吸収剤は、波長が３００ｎｍ以上４００ｎｍ未満の紫外線を少なくとも一部吸収する化合物であることが好ましい。
また、紫外線吸収剤は、低分子化合物であっても、紫外線吸収性基を有するポリマーであってもよい。
【００５６】
上記紫外線吸収剤は、耐光性の観点から、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤及びシュウ酸ジアミド系紫外線吸収剤よりなる群から選ばれた少なくとも１種の紫外線吸収剤であることが好ましく、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及びトリアジン系紫外線吸収剤よりなる群から選ばれた少なくとも１種の紫外線吸収剤であることがより好ましい。
【００５７】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、トリアジン構造を有する化合物であればよく、例えば、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ）フェニル−４，６−ビス（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００５８】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール構造を有する化合物であればよく、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ドデシル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）−５’−メチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］などが挙げられる。
【００５９】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン構造を有する化合物であればよく、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−デシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロポキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ジエチルアミノ−２’−ヘキシルオキシカルボニルベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、１，４−ビス（４−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシフェノキシ）ブタンなどが挙げられる。
【００６０】
サリチル酸系紫外線吸収剤としては、サリチル酸構造を有する化合物であればよく、例えば、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフェニルサリシレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル  ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシサリシレート、ヘキサデシル  ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシサリシレートなどが挙げられる。
【００６１】
シュウ酸ジアミド系紫外線吸収剤としては、シュウ酸ジアミド構造を有する化合物であればよく、例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２’−エチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリドなどが挙げられる。
【００６２】
紫外線吸収性基を有するポリマーとしては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）９９−ＤＷ、４００−ＤＷ、４７７−ＤＷ、４７９−ＤＷ（ともにＢＡＳＦ社製）、ニューコート（登録商標）ＵＶＡ−２０４Ｗ、ＵＶＡ−１０１、ＵＶＡ−１０２、ＵＶＡ−１０３、ＵＶＡ−１０４、バナレジン（登録商標）ＵＶＡ−５０８０、ＵＶＡ−５０８０（ＯＨＶ２０）、ＵＶＡ−５５Ｔ、ＵＶＡ−５５ＭＨＢ、ＵＶＡ−７０７５、ＵＶＡ−７０７５（ＯＨＶ２０）、ＵＶＡ−７３Ｔ（ともに新中村化学工業（株）製）ＲＵＶＡ−９３（大塚化学（株）製）などが挙げられる。
【００６３】
紫外線吸収性基を有するポリマーの重量平均分子量は、耐光性の観点から、５，０００〜２００，０００が好ましく、７，０００〜１５０，０００がより好ましく、１０，０００〜１００，０００が更に好ましい。
【００６４】
紫外線吸収層は、紫外線吸収剤を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
紫外線吸収層における紫外線吸収剤の含有量は、耐光性の観点から、紫外線吸収層の全質量に対して、０．１質量％〜５０質量％が好ましく、０．３質量％〜３５質量％がより好ましく、１０質量％〜２５質量％が更に好ましい。
また、紫外線吸収層における紫外線吸収剤の含有量は、耐光性の観点から、０．１ｇ／ｍ２〜１０ｇ／ｍ２が好ましく、０．３ｇ／ｍ２〜８ｇ／ｍ２がより好ましく、０．５ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２が更に好ましく、２ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２が特に好ましい。
【００６５】
−他の成分−
紫外線吸収層は、必要に応じて、更に各種添加剤などの他の成分、例えば、バインダー、架橋触媒、界面活性剤、フィラー、光安定剤等を含んでもよい。
また、紫外線吸収層を形成する成分として、架橋剤を使用してもよい。
【００６６】
バインダーとしては、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂などが挙げられる。また、バインダーは、複合樹脂であってもよく、例えばアクリル樹脂とシリコーン樹脂とを複合したシロキサン含有アクリル樹脂であってもよい。
【００６７】
〜架橋剤〜
架橋剤としては、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、メラミン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤等の架橋剤を挙げることができる。これらの中でも、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤及びイソシアネート系架橋剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種以上の架橋剤であることが好ましい。
【００６８】
オキサゾリン系架橋剤としては、例えば、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−エチル−２−オキサゾリン、２，２’−ビス−（２−オキサゾリン）、２，２’−メチレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−エチレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−トリメチレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−テトラメチレンビス（２−オキサゾリン）、２、２’−ヘキサメチレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−オクタメチレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−エチレンビス（４，４’−ジメチル−２−オキサゾリン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（４，４’−ジメチル−２−オキサゾリン）、ビス（２−オキサゾリニルシクロヘキサン）スルフィド、ビス（２−オキサゾリニルノルボルナン）スルフィド等が挙げられる。更に、これらの化合物の（共）重合体も好ましく利用することができる。
【００６９】
また、オキサゾリン系架橋剤は、市販品を用いてもよく、例えば、エポクロス（登録商標）Ｋ−２０１０Ｅ、Ｋ−２０２０Ｅ、Ｋ−２０３０Ｅ、ＷＳ−５００、ＷＳ−７００〔いずれも日本触媒化学工業（株）製〕等を用いることができる。
架橋剤は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７０】
紫外線吸収層に架橋剤を用いる場合の添加量は、紫外線吸収層に含まれるバインダー１００質量部に対して、１０質量部以上４０質量部以下が好ましく、１５質量部以上３５質量部以下であることがより好ましい。架橋剤の添加量は、１０質量部以上であると、耐候性層の強度及び接着性を保持しながら充分な架橋効果が得られ、４０質量部以下であると、塗布液のポットライフを長く保て、３５質量部以下であると塗布面状を改良できる。
【００７１】
〜架橋触媒〜
紫外線吸収層が架橋剤を含む場合、架橋剤と共に、架橋触媒を併用してもよい。架橋触媒を含有することで、樹脂成分と架橋剤との架橋反応が促進され、耐溶剤性の向上が図られる。また、架橋が良好に進むことで、下塗り層の強度、寸法安定性がより改善できる。
特に、架橋剤としてオキサゾリン基を有する架橋剤（オキサゾリン系架橋剤）を用いる場合、架橋触媒を使用することがよい。
【００７２】
架橋触媒としては、オニウム化合物を挙げることができる。
オニウム化合物としては、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、ニトロニウム塩、ニトロソニウム塩、ジアゾニウム塩等が好適に挙げられる。
【００７３】
オニウム化合物の具体例としては、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、ｐ−トルエンスルホン酸アンモニウム、スルファミン酸アンモニウム、イミドジスルホン酸アンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、四フッ化ホウ素テトラブチルアンモニウム、六フッ化リンテトラブチルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、硫酸テトラブチルアンモニウム等のアンモニウム塩；
ヨウ化トリメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素トリメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素ジフェニルメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素ベンジルテトラメチレンスルホニウム、六フッ化アンチモン２−ブテニルテトラメチレンスルホニウム、六フッ化アンチモン３−メチル−２−ブテニルテトラメチレンスルホニウム等のスルホニウム塩；
四フッ化ホウ素トリメチルオキソニウム等のオキソニウム塩；
塩化ジフェニルヨードニウム、四フッ化ホウ素ジフェニルヨードニウム等のヨードニウム塩；
六フッ化アンチモンシアノメチルトリブチルホスホニウム、四フッ化ホウ素エトキシカルボニルメチルトリブチルホスホニウム等のホスホニウム塩；
四フッ化ホウ素ニトロニウム等のニトロニウム塩；
四フッ化ホウ素ニトロソニウム等のニトロソニウム塩；
塩化４−メトキシベンゼンジアゾニウム等のジアゾニウム塩；
等が挙げられる。
【００７４】
これらの中でも、オニウム化合物は、反応性の点で、アンモニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩がより好ましく、これらの中でもアンモニウム塩が更に好ましく、ｐＨ、及びコストの観点から、リン酸系、塩化ベンジル系のものが好ましい。オニウム化合物は第二リン酸アンモニウムであることがより特に好ましい。
架橋触媒は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７５】
架橋触媒の添加量は、使用する架橋剤の全質量に対して、０．１質量％以上１５質量％以下の範囲が好ましく、０．５質量％以上１２質量％以下の範囲がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下の範囲が特に好ましく、２質量％以上７質量％以下がより特に好ましい。架橋剤に対する架橋触媒の添加量が０．１質量％以上であることは、架橋触媒を積極的に含有していることを意味し、架橋触媒の含有によりバインダーである降伏点を有するポリマーと架橋剤の間の架橋反応がより良好に進行し、より優れた耐久性が得られる。また、架橋触媒の含有量が１５質量％以下であることで、溶解性、塗布液のろ過性、隣接する各層との密着性の点で有利である。
【００７６】
〜界面活性剤〜
界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤又はノニオン系界面活性剤等の公知の界面活性剤が挙げられる。界面活性剤を添加する場合、その添加量は０．１ｍｇ／ｍ２〜１０ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは０．５ｍｇ／ｍ２〜３ｍｇ／ｍ２である。界面活性剤の添加量は、０．１ｍｇ／ｍ２以上であると、ハジキの発生を抑えて良好な層形成が得られ、１０ｍｇ／ｍ２以下であると、基材などとの接着を良好に行なうことができる。
【００７７】
〜フィラー〜
フィラーとしては、シリカ粒子などの公知のフィラーを用いることができる。
フィラーの詳細は、後述のハードコート層で説明する。
【００７８】
〜光安定剤〜
光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤等の公知の光安定剤が挙げられる。市販品としては、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）１２３−ＤＷ（ＢＡＳＦ社製）、ユーダブル（登録商標）Ｅ−７７１ＳＩ（（株）日本触媒製）等を用いることができる。光安定剤を添加する場合、その添加量は０．１ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２が好ましく、０．３ｇ／ｍ２〜３ｇ／ｍ２がより好ましい。光安定剤の添加量は、０．１ｇ／ｍ２以上であると、良好な耐候性が得られ、５ｇ／ｍ２以下であると、ブリードアウトを抑制できる。
【００７９】
紫外線吸収層の形成方法は、特に制限されない。紫外線吸収層の形成方法としては、例えば、紫外線吸収剤及びバインダーポリマー等を含む塗布液を、基材の一方の面に塗布して乾燥させる方法が挙げられる。
【００８０】
塗布方法及び用いる塗布液の溶媒には、特に制限はない。塗布方法としては、例えばグラビアコーター又はバーコーターを用いた塗布が挙げられる。塗布液に用いる溶媒は、水でもよいし、トルエン又はメチルエチルケトン等の有機溶媒でもよい。環境負荷の観点から、水を溶媒とした水系塗布液に調製されることが好ましい。
塗布溶媒は１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。
【００８１】
また、紫外線吸収層の塗設前に、基材に表面処理（火炎処理、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等）を実施してもよい。
紫外線吸収層は、他の層（例えば、後述の下塗り層）を介して基材の上に配置されてもよい。
【００８２】
紫外線吸収層の厚さは、１００ｎｍ〜２０μｍが好ましく、２００ｎｍ〜１５μｍがより好ましく、５００ｎｍ〜４μｍが更に好ましい。
紫外線吸収層の厚さが１００ｎｍ以上であると、紫外線吸収層としての機能がより発現しやすく、２０μｍ以下であると紫外線吸収層における可視光線の透過率の観点でより優れる。
【００８３】
＜基材＞
本開示に係る熱線遮蔽材は、基材を有していてもよい。
基材としては、透明である基材が好ましい。
基材としては、材質を適宜選択することができるが、基材の材質は、ポリマーが好ましく、熱可塑性樹脂がより好ましい。ポリマーとしては、例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン、又はポリフッ化ビニルなどのフッ素系ポリマー等が挙げられる。中でも、コスト、機械強度及び光透過性の点から、ポリエステルが好ましい。
【００８４】
ポリエステルとしては、例えば、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが挙げられる。線状飽和ポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどが挙げられる。このうち、力学的物性及びコストのバランスの点で、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）が特に好ましい。
ポリエステルは、単独重合体であってもよいし、共重合体であってもよい。更に、ポリエステルに他の種類の樹脂、例えばポリイミド等を少量ブレンドしたものであってもよい。
ポリエステルの種類は、上記に限られるものではなく、公知のポリエステルを使用してもよい。公知のポリエステルとしては、ジカルボン酸成分と、ジオール成分とを用いて合成してもよいし、市販のポリエステルを用いてもよい。
【００８５】
ポリエステルを合成する場合は、例えば、（ａ）ジカルボン酸成分と、（ｂ）ジオール成分とを、周知の方法でエステル化反応及びエステル交換反応の少なくとも一方の反応をさせることによって得ることができる。
【００８６】
（ａ）ジカルボン酸成分としては、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸、ダイマー酸、エイコサンジオン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸等の脂肪族ジカルボン酸類；アダマンタンジカルボン酸、ノルボルネンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸；テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、フェニルインダンジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、フェナントレンジカルボン酸、９，９’−ビス（４−カルボキシフェニル）フルオレン酸等の芳香族ジカルボン酸；などのジカルボン酸若しくはそのエステル誘導体が挙げられる。
（ｂ）ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール等の脂肪族ジオール類；シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、イソソルビドなどの脂環式ジオール類；ビスフェノールＡ、１，３―ベンゼンジメタノール、１，４−ベンゼンジメタノール、９，９’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンなどの芳香族ジオール類；等のジオール化合物が挙げられる。
【００８７】
原料樹脂がポリエステルであるポリエステルフィルムは、カルボジイミド化合物及びケテンイミン化合物の少なくとも一方を含んでもよい。カルボジイミド化合物及びケテンイミン化合物は各々単独で使用してよく、両者を併用してもよい。これにより湿熱環境下におけるポリエステルの劣化を抑制することができる。
【００８８】
カルボジイミド化合物又はケテンイミン化合物は、ポリエステルに対して、０．１質量％〜１０質量％含有されていることが好ましく、０．１質量％〜４質量％含有されていることがより好ましく、０．１質量％〜２質量％含有されていることが更に好ましい。カルボジイミド化合物又はケテンイミン化合物の含有量を上記範囲内とすることにより、基材と隣接する層との間の密着性をより高めることができる。また、基材の耐熱性を高めることができる。
なお、カルボジイミド化合物とケテンイミン化合物が併用される場合は、２種類の化合物の含有率の合計が、上記範囲内であることが好ましい。
【００８９】
ポリカーボネートとしては、例えば、ジオールポリカーボネートが挙げられる。ジオールポリカーボネートは、ジアルコールとジメチルカーボネートとの脱メタノール縮合反応、ジアルコールとジフェニルカーボネートの脱フェノール縮合反応、または、ジアルコールとエチレンカーボネートの脱エチレングリコール縮合反応などの反応を経ても生成される。これらの反応で使用される多価アルコールとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、オクタンジオール、１，４−ブチンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール等の飽和若しくは不飽和の各種グリコール類、１，４−シクロヘキサンジグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどの脂環族グリコール等が挙げられる。
【００９０】
基材の厚さとしては、光透過性及びハンドリング性の観点から、２０μｍ〜１５０μｍであることが好ましく、３０μｍ〜１２０μｍであることがより好ましく、４０μｍ〜１００μｍであることが更に好ましく、５０μｍ〜８０μｍであることが特に好ましい。
【００９１】
＜下塗り層＞
本開示に係る熱線遮蔽材は、後述する各層との接着性を向上させるために、基材の表面等の各層の間に下塗り層を有していてもよい。
下塗り層に含まれる成分としては特に制限はないが、接着性の観点から、樹脂、界面活性剤、ｐＨ調製剤、滑り剤、ワックス等を含んでいることが好ましい。
上記下塗り層の厚さとしては、特に制限はないが、接着性の観点から、１ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが更に好ましい。
【００９２】
＜粘着剤層＞
本開示に係る熱線遮蔽材は、粘着剤層を有していてもよい。粘着剤層を有することにより、所望の箇所に本開示に係る熱線遮蔽材を容易に貼り付けることが可能となる。
本開示に用いられる粘着剤は、特に制限されない。
粘着剤の形態としては、溶剤系粘着剤であってもよく、無溶剤系粘着剤であってもよく、水分散系粘着剤であってもよく、固体系粘着剤であってもよい。
粘着剤の例としては、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤等が挙げられる。
【００９３】
粘着剤としては、市販品を用いることができる。
アクリル系粘着剤の市販品の例としては、東亞合成（株）のアロンタック（登録商標、以下同じ。）  ＨＶ−Ｃ３０５０、アロンタック  ＨＶ−Ｃ９５００、アロンタック  ＨＶ−Ｃ９５０６、アロンタック  ＨＶ−Ｃ３００６、アロンタック  ＨＶ−Ｃ６３２０、アロンタック  ＨＶ−Ｃ５１６６、アロンタック  ＲＰ−２７５、アロンタック  Ｓ−１６０１、アロンタック  Ｓ−１６１６、アロンタック  Ｓ−３４０３、アロンタック  Ｓ−１５１１改；（株）イーテックのアクアトラン（登録商標、以下同じ。）  ＥＸ２０２（Ａ）、アクアトラン  ＥＸ２０２（Ｂ）、アクアトラン  ＥＸ２０２（Ｄ）、Ｎ８０１−Ａ、Ｎ７３０−Ａ；サイデン化学（株）のＡＴ−１９３、ＡＴ−Ｄ４０、ＡＴ−Ｄ５０Ｎ、ＡＴ−Ｄ４５、ＡＴ−Ｄ３７、ＡＴ−Ｄ５４Ｎ、ＡＴ−１９１ＨＳ、ＡＴ−１９１、ＡＴ−２６０ＮＴ、ＡＴ−５２７、ＡＴ−２７、ＡＴ−１２０２、ＡＴ−１２０５、ＡＴ−２１Ａ、ＡＴ−２９０；日本ゼオン（株）のＮｉｐｏｌ（登録商標、以下同じ。）  ＬＸ  ８１１Ｈ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ  ８５１Ｅ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ  ８５７Ｘ２、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ  ８７４、Ｎｉｐｏｌ  ＳＸ１７０６Ａ等が挙げられる。
【００９４】
ウレタン系粘着剤の市販品の例としては、トーヨーケム（株）のオリバイン（登録商標、以下同じ。）  ＳＰ−２０５、オリバイン  ＳＨ−１０９、オリバイン  ＳＨ−１０１、オリバイン  ＳＨ−１０１Ｍ等が挙げられる。
シリコーン系粘着剤の市販品の例としては、東レダウコーニング（株）のＳＤ４５８４、ＳＤ４５８５、ＳＤ４５６０、ＳＤ４５７０、ＳＤ４５８０、ＳＤ４５８７等が挙げられる。
ゴム系粘着剤の市販品の例としては、日本ゼオン（株）のＮｉｐｏｌ（登録商標、以下同じ。）  ＬＸ４３０、Ｎｉｐｏｌ  ＫＸ４１５、Ｎｉｐｏｌ  ＳＸ１１０５Ａ；トーヨーケム（株）のオリバイン（登録商標）  ＢＰＳ５０７９−１等が挙げられる。
【００９５】
粘着剤層は、粘着剤を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
粘着剤層における粘着剤の含有量は、特に制限されず、例えば、粘着力の観点から、粘着剤層の全質量に対して、５０質量％以上９９質量％以下が好ましく、６０質量％以上９８質量％以下がより好ましく、７０質量％以上９７質量％以下が更に好ましい。
【００９６】
また、上述したように、粘着剤層は、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。粘着剤層が紫外線吸収剤を含むことにより、別途紫外線吸収層を形成する必要がなく、薄膜化が容易である。
紫外線吸収剤としては、紫外線吸収層において上述したものと同義であり、好ましい態様も同様である。
粘着剤層における紫外線吸収剤の含有量は、特に制限されないが、例えば、粘着剤層の全質量に対して、０．１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上１５質量％以下であることがより好ましい。
また、粘着剤層における紫外線吸収剤の含有量は、耐光性の観点から、０．１ｇ／ｍ２〜１０ｇ／ｍ２が好ましく、０．３ｇ／ｍ２〜８ｇ／ｍ２がより好ましく、０．５ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２が更に好ましく、２ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２が特に好ましい。
【００９７】
粘着剤層の厚さは、特に制限されず、用途、求められる性能等に応じて、適宜設定できる。
例えば、生産性の観点から、粘着剤層の厚さは、５μｍ〜１００μｍの範囲に設定することが好ましく、１０μｍ〜５０μｍの範囲に設定することがより好ましい。
【００９８】
＜剥離層＞
本開示に係る熱線遮蔽材は、取扱い性の観点から、表面に剥離層を有していてもよい。
剥離層は、剥離可能な層であることが好ましい。
剥離層の材質としては、例えば、樹脂フィルムや紙等が挙げられ、また、公知の剥離フィルム、剥離紙及び合紙等を好適に用いることができる。
剥離層の厚さは、特に制限はなく、適宜選択することができ、例えば、０．０１μｍ〜１００μｍが好適に挙げられる。
【００９９】
また、本開示に係る熱線遮蔽材は、上述した以外のその他の層を有していてもよい。
その他の層としては、公知の層が挙げられ、例えば、接着層、易接着層、ハードコート層、オーバーコート層、バックコート層等が挙げられる。
また、その他の層としては、例えば、特開２０１４−１９４４４６号公報を参照することができる。
【０１００】
−熱線遮蔽材の透過率−
本開示に係る熱線遮蔽材の可視光透過率は、汎用性の観点から、４０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、６０％以上であることが更に好ましい。
本開示に係る熱線遮蔽材の４００ｎｍ透過率は、耐光性の観点から、９０％以下であることが好ましく、８５％以下であることがより好ましく、８０％以下であることが更に好ましく、６０％以下であることが更に好ましい。
なお、本開示における可視光透過率は２５℃における５５０ｎｍの波長を有する可視光の透過率であり、４００ｎｍ透過率は２５℃における４００ｎｍの波長を有する光の透過率の透過率である。
【０１０１】
基材の可視光透過率及び４００ｎｍ透過率は、紫外可視近赤外分光光度計（日本分光（株）製、Ｖ−６７０）を用いて測定した。測定条件は、以下の通りである。なお、波長範囲を設定して、可視光透過率及び４００ｎｍ透過率を測定した。
・測定モード：％Ｔ
・測定範囲：２，５００ｎｍ〜３００ｎｍ
・ＵＶ／ＶＩＳバンド幅：５ｎｍ
・ＮＩＲバンド幅：２０ｎｍ
・走査速度：１，０００ｎｍ／ｍｉｎ
【０１０２】
上述したように、本開示に係る熱線遮蔽材における層構成は、基材上に、金属平板粒子を含む粒子含有層と、上記粒子含有層に隣接する隣接層とを有する以外には、特に制限はなく、必要に応じて、上述した各層を設けてもよい。
また、上述した各層以外に、更に公知の層を有していてもよい。
【０１０３】
−熱線遮蔽材の用途−
本開示に係る熱線遮蔽材は、単独で熱線遮蔽材として用いてもよく、他の機能層と積層してもよい。また、本開示に係る熱線遮蔽材はガラスなどと貼り合わせて遮熱ガラスとしてもよい。また、本開示に係る熱線遮蔽材は合わせガラスに挟み込んでも、合わせガラスとして用いてもよい。
本開示に係る熱線遮蔽材は、熱線（近赤外線）の少なくとも一部を選択的に反射（必要に応じて吸収）するために使用される態様であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよく、例えば、乗り物用フィルムや貼合せ構造体、建材用フィルムや貼合せ構造体、農業用フィルムなどが挙げられる。これらの中でも、省エネルギー効果の点で、乗り物用フィルムや貼合せ構造体、建材用フィルムや貼合せ構造体であることが好ましい。
なお、本開示において、熱線（近赤外線）とは、近赤外線（７８０ｎｍ〜１，８００ｎｍ）を意味する。太陽光には、７８０ｎｍ〜１，８００ｎｍの近赤外線が約５０％含まれる。
【０１０４】
（遮熱ガラス）
本開示に係る遮熱ガラスは、粘着剤層を有する本開示に係る熱線遮蔽材における上記粘着剤層上に、ガラスが設けられている。
本開示に係る熱線遮蔽材は、ガラス窓又は透明樹脂窓の内側に、日射入射側（太陽光側）から、紫外線吸収層と、金属平板粒子含有層とがこの順となるように貼り合わせることが好ましい。
また、本開示に係る熱線遮蔽材をガラスの日射入射側に貼り付けてもよい。その際、反射層を日射入射側に向けたほうが発熱を防ぐことになるので、金属平板粒子含有層よりも日射入射側に紫外線吸収層を有する本開示に係る熱線遮蔽材を用いることが好ましい。
【０１０５】
（合わせガラス用中間膜、及び、合わせガラス）
本開示に係る合わせガラス用中間膜は、本開示に係る熱線遮蔽材を含む。
また、本開示に係る合わせガラスは、本開示に係る合わせガラス用中間膜と、少なくとも２枚のガラス板を有し、上記２枚のガラスの間に上記合わせガラス用中間膜を有する。
【０１０６】
＜中間膜＞
本開示に係る合わせガラス用中間膜は、本開示に係る熱線遮蔽材以外に、中間膜（第一の中間膜）を更に含むことが好ましい。
また、本開示に係る合わせガラス用中間膜は、第二の中間膜を更に含むことがより好ましい。また、上記第一及び第二の中間膜の組成についても、同じであっても異なっていてもよい。
【０１０７】
上記第一及び第二の中間膜の厚さは、１００μｍ〜１，０００μｍであることが好ましく、２００μｍ〜８００μｍであることがより好ましい。また、上記第一及び第二の中間膜は、複数のシートを重ねることによって厚膜化してもよい。
また、上記第一及び第二の中間膜の引張り試験による破断伸びは、１００％〜８００％であることが好ましく、１００％〜６００％であることがより好ましく、２００％〜５００％であることが特に好ましい。
【０１０８】
上記第一及び第二の中間膜は、樹脂中間膜であることが好ましい。
上記樹脂中間膜は、主成分がポリビニルアセタールである樹脂フィルム（ポリビニルアセタール系樹脂フィルム）であることが好ましい。
上記ポリビニルアセタール系樹脂フィルムとしては特に制限はなく、例えば特開平６−０００９２６号公報や特開２００７−００８７９７号公報などに記載のものを好ましく用いることができる。上記ポリビニルアセタール系の樹脂フィルムの中でも、ポリビニルブチラール樹脂フィルムを用いることが好ましい。上記ポリビニルブチラール樹脂フィルムは、それぞれ、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂フィルムであれば、特に定めるものは無く、広く公知のポリビニルブチラール樹脂フィルムを採用できる。その中でも、上記樹脂中間膜は、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂中間膜又はエチレンビニルアセテートを主成分とする樹脂中間膜であることが好ましく、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂中間膜であることが特に好ましい。なお、主成分である樹脂とは、上記樹脂中間膜の５０質量％以上の割合を占める樹脂のことをいう。
【０１０９】
＜ガラス＞
本開示に係る遮熱ガラス、又は、本開示に係る合わせガラスに用いられるガラスとしては特に制限はなく、公知のガラスを用いることができる。
また、ガラスの形状は、特に制限はなく、用途に応じて適宜設定すればよいが、板ガラスであることが好ましい。
また、本開示に係る合わせガラスは、日射入射光側となる側のガラスとしてクリアガラスを用い、内側（日射入射光とは反対側、非日射入射側）となる側のガラスとしてグリーンガラスを用いることが好ましい。
ここで、本明細書中におけるガラスには、一般的にガラス代替樹脂が含まれる。すなわち、ガラス代替樹脂形成体、又は、ガラス代替樹脂形成体とガラスとを組み合わせたものを用いることができる。ガラス代替樹脂の例としては、ポリカーボネート樹脂やアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂などがあげられる。こうしたガラス代替樹脂上にハードコート層をコーティングしたものを用いることもできる。ハードコート層の例としては、アクリル系ハードコート材、シリコーン系ハードコート材、メラミン系ハードコート材や、これらのハードコート材の中にシリカやチタニア、アルミナ、ジルコニアなどの無機粒子を分散させたものが挙げられる。
ガラスの厚さは、特に制限はなく、所望に応じ、適宜設定すればよい。
【０１１０】
本開示に係る遮熱ガラスの製造方法、及び、本開示に係る合わせガラスの製造方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。
【０１１１】
本開示に係る合わせガラスの製造方法は、２枚のガラスに挟持された本開示に係る合わせガラス用中間膜を加熱しながら圧着する工程を含むことが好ましい。
ガラスに挟持された本開示に係る熱線遮蔽材とガラスとの貼りあわせは、例えば、真空バッグなどで減圧下において、温度８０℃〜１２０℃、時間３０分〜６０分で予備圧着した後、オートクレーブ中、１．０ＭＰａ〜１．５ＭＰａの加圧下で１２０℃〜１５０℃の温度で貼り合せ、２枚のガラスに積層体が挟まれた合わせガラスとする方法を好適に挙げることができる。また、粘着剤等を用いて貼り合わせてもよい。
このとき、１．０ＭＰａ〜１．５ＭＰａの加圧下で１２０℃〜１５０℃の温度での加熱圧着の時間は、２０分〜９０分であることが好ましい。
加熱圧着終了後、放冷の仕方については特に制限はなく、適宜圧力を開放しながら放冷して、合わせガラスを得てもよい。本開示では、加熱圧着終了後、圧力を保持した状態で降温を行うことが、得られる合わせガラス体のシワや割れを更に改善する観点から好ましい。ここで、圧力を保持した状態で降温するとは、加熱圧着時（好ましくは１３０℃）の装置内部圧力から、４０℃のときの装置内部圧力が加熱圧着時の７５％〜１００％となるように降温することを意味する。圧力を保持した状態で降温する方法としては、４０℃まで降温したときの圧力が上記範囲内であれば特に制限はないが、圧力装置内部圧力が温度減少に伴って自然と低下していくように装置内部から圧力を漏らさずに降温する態様や、装置内部圧力が温度減少に伴って減少しないように外部から更に加圧しながら降温する態様が好ましい。圧力を保持した状態で降温する場合、１２０℃〜１５０℃で加熱圧着した後、４０℃まで１時間〜５時間かけて放冷することが好ましい。
本開示では、圧力を保持した状態で降温を行った後、次いで圧力を開放する工程を含むことが好ましい。具体的には、圧力を保持した状態で降温を行った後、オートクレーブ内の温度が４０℃以下になった後に圧力を開放して降温することが好ましい。
以上より、本開示に係る合わせガラスの製造方法は、本開示に係る熱線遮蔽材を、少なくとも２枚のガラスで挟持する工程と、その後１．０ＭＰａ〜１．５ＭＰａの加圧下で１２０℃〜１５０℃の温度で加熱圧着する工程と、圧力を保持した状態で降温を行う工程と、圧力を開放する工程を含むことが好ましい。
【０１１２】
上記ガラスと本開示に係る合わせガラス用中間膜とを熱圧着させる範囲は、上記ガラスの一面の全面積にわたる範囲でもよいが、上記ガラスの周縁部のみでもよく、周縁部の熱圧着はシワの発生をより抑制することもできる。
【０１１３】
本開示に係る熱線遮蔽材の一例を図３に示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。
図３は、本開示に係る熱線遮蔽材の一例における模式断面図である。
図３に示す熱線遮蔽材１０は、基材２４上に、金属平板粒子含有層１（１２）、誘電体層１４、金属平板粒子含有層２（１６）、紫外線吸収層１８がこの順に設けられている。
金属平板粒子含有層１（１２）と金属平板粒子含有層２（１６）とは、どちらが上記金属平板粒子含有層Ａ又は上記金属平板粒子含有層Ｂであってもよいが、日射進入方向Ｌが図３に示す方向の場合、遮熱性能の観点から、金属平板粒子含有層１（１２）が上記金属平板粒子含有層Ａであり、金属平板粒子含有層２（１６）が上記金属平板粒子含有層Ｂであることが好ましい。
【０１１４】
本開示に係る合わせガラス用中間膜の一例を図４に示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。
図４は、本開示に係る合わせガラス用中間膜の一例における模式断面図である。
図４に示す合わせガラス用中間膜３０は、金属平板粒子含有層１（１２）、誘電体層１４、金属平板粒子含有層２（１６）、紫外線吸収層１８、及び、中間膜２０がこの順に設けられている。
また、金属平板粒子含有層１（１２）の外側に、更に中間膜２０が設けられている態様も好ましく挙げられる。
【０１１５】
本開示に係る合わせガラスの一例を、図５〜図７に示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。
図５は、本開示に係る合わせガラスの一例における模式断面図である。
図５に示す合わせガラス５０は、金属平板粒子含有層１（１２）、誘電体層１４、金属平板粒子含有層２（１６）、紫外線吸収層１８がこの順に設けられ、金属平板粒子含有層１（１２）側の外側、及び、紫外線吸収層１８側の外側にそれぞれ、中間膜２０、及び、ガラス２２がこの順に設けられている。
金属平板粒子含有層１（１２）と金属平板粒子含有層２（１６）とは、どちらが上記金属平板粒子含有層Ａ又は上記金属平板粒子含有層Ｂであってもよいが、日射進入方向Ｌが図５に示す方向の場合、遮熱性能の観点から、金属平板粒子含有層１（１２）が上記金属平板粒子含有層Ａであり、金属平板粒子含有層２（１６）が上記金属平板粒子含有層Ｂであることが好ましい。
図６は、本開示に係る合わせガラスの他の一例における模式断面図である。
図６に示す合わせガラス５０は、図５に示す合わせガラス５０から紫外線吸収層１８のない態様である。
図７は、本開示に係る合わせガラスの更に他の一例における模式断面図である。
図７に示す合わせガラス５０は、図５に示す合わせガラス５０において、中間膜２０と金属平板粒子含有層１（１２）との間に更に基材２４を有する態様である。
【実施例】
【０１１６】
以下、本開示を実施例により具体的に説明するが、本開示はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。【０１１７】
（実施例１）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、下記処方に従い調製したＢ−１溶液を、ワイヤーバーを用いて乾燥後の平均厚さが３０ｎｍになる量で塗布した。その後、１３０℃で１分間加熱し、乾燥、固化し、金属平板粒子含有層１を形成した。【０１１８】
−銀ナノディスク分散液ｂ２の調製−
１．銀ナノディスク分散液ｂ１の調液
まず、銀ナノディスク分散液ｂ１を調液する。
ＮＴＫＲ−４（ステンレス鋼、日新製鉄工業（株）製）製の反応容器に、イオン交換水１３Ｌ（リットル）を計量し、ステンレス鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）製のシャフトに、ＮＴＫＲ−４製のプロペラ４枚及びＮＴＫＲ−４製のパドル４枚を取り付けたアジターを備えるチャンバーを用いて、撹拌速度４００ｒｐｍ（ｒｅｖｏｌｕｔｉｏｎｓ  ｐｅｒ  ｍｉｎ：回転／分）で撹拌しながら、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液１．０Ｌを添加して３５℃に保温した。８．０ｇ／Ｌの濃度のポリスチレンスルホン酸水溶液０．６８Ｌを添加し、更に０．０４ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を用いて２３ｇ／Ｌに調製した水素化ホウ素ナトリウム水溶液０．０４１Ｌを添加した。０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液１３Ｌを５．０Ｌ／ｍｉｎで添加した。【０１１９】
次に、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液１．０Ｌとイオン交換水１１Ｌとを添加し、更に、８０ｇ／Ｌのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液０．６８Ｌを添加した。撹拌速度を８００ｒｐｍに上げて、０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．１Ｌを０．９５Ｌ／ｍｉｎで添加した後、３０℃に降温した。
その後、４４ｇ／Ｌのメチルヒドロキノン水溶液８．０Ｌを添加し、次いで、後述する４０℃のゼラチン水溶液を全量添加した。撹拌速度を１，２００ｒｐｍに上げて、後述する亜硫酸銀白色沈殿物混合液を全量添加した。
調製液のｐＨ変化が止まった段階で、１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液５．０Ｌを０．３３Ｌ／ｍｉｎで添加した。その後、２．０ｇ／Ｌの１−（ｍ−スルホフェニル）−５−メルカプトテトラゾールナトリウム水溶液（ＮａＯＨとクエン酸（無水物）とを用いてｐＨ＝７．０±１．０の範囲内に調整して溶解した水溶液）０．１８Ｌを添加し、更に、７０ｇ／Ｌの１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン水溶液（ＮａＯＨの水溶液を用いて、アルカリ性に調整した水溶液）０．０７８Ｌを添加した。このようにして銀ナノディスク分散液ｂ１を調製した。【０１２０】
２．ゼラチン水溶液の調製
ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水１６．７Ｌを計量した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のアジターで低速撹拌を行いながら、脱イオン処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ＧＰＣ重量平均分子量２０万）１．４ｋｇを添加した。
更に、脱イオン処理、蛋白質分解酵素処理、及び、過酸化水素による酸化処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ＧＰＣ重量平均分子量２．１万）０．９１ｋｇを添加した。その後４０℃に昇温し、ゼラチンの膨潤と溶解を同時に行って完全に溶解させ、既述の銀ナノディスク分散液ｂ１の調液に用いるゼラチン水溶液を得た。【０１２１】
３．亜硫酸銀白色沈殿物混合液の調製
ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水８．２Ｌを計量し、１００ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．２Ｌを添加した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のアジターで高速撹拌を行いながら、１４０ｇ／Ｌの亜硫酸ナトリウム水溶液２．７Ｌを短時間で添加して、亜硫酸銀の白色沈澱物を含む混合液、即ち、既述の銀ナノディスク分散液ｂ１の調液に用いる亜硫酸銀白色沈殿物混合液を調製した。この亜硫酸銀白色沈殿物混合液は、使用する直前に調製した。【０１２２】
４．銀ナノディスク分散液ｂ２の調製
既述で得た銀ナノディスク分散液ｂ１を、遠沈管に８００ｇ採取して、１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ及び０．５ｍｏｌ／Ｌの硫酸の少なくとも１種を用いて、２５℃における液のｐＨを、９．２±０．２の範囲に調整した。
遠心分離機（日立工機（株）製、ｈｉｍａｃＣＲ２２ＧＩＩＩ、アングルローターＲ９Ａ）を用いて、液温を３５℃に設定して、９，０００ｒｐｍにて６０分間の遠心分離操作を行った後、上澄み液を７８４ｇ分離除去した。沈殿した銀ナノディスクに０．２ｍｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を加えて合計４００ｇとし、撹拌棒を用いて手撹拌して粗分散液にした。
これと同様の操作で２４本分の粗分散液を調製して合計９，６００ｇとし、ＳＵＳ３１６Ｌ製のタンクに添加して混合した。
更に、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ３１Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）の１０ｇ／Ｌ溶液（メタノール：イオン交換水＝１：１（体積比）の混合液で希釈）を１０ｍｌ（ミリリットル）添加した。【０１２３】
プライミクス（株）製、オートミクサー２０型（撹拌部はホモミクサーＭＡＲＫＩＩ）を用いて、タンク中の粗分散液と、既述のＰｌｕｒｏｎｉｃ３１Ｒ１の溶液との混合物に、９，０００ｒｐｍで１２０分間のバッチ式分散処理を施した。分散中の液温は５０℃に保った。分散後、２５℃に降温してから、プロファイルＩＩフィルター（日本ポール（株）製、製品型式ＭＣＹ１００１Ｙ０３０Ｈ１３）を用いてシングルパスの濾過を行って、銀ナノディスク分散液ｂ２を得た。
すなわち、調液した銀ナノディスク分散液ｂ１に、既述の手順にて脱塩処理及び再分散処理を施して、銀ナノディスク分散液ｂ２（表１に示す分散液ｂ２）を調製した。【０１２４】
【表１】
2019003783.tif 000003
【０１２５】
また、表１の各成分の追加説明を、以下に記載する。
・ハイドランＨＷ−３５０：ポリエステル系ポリウレタン樹脂
・ラピゾールＡ−９０：アニオン界面活性剤
・ナロアクティーＣＬ−９５：ノニオン界面活性剤（ポリオキシアルキレンエーテル）【０１２６】
上記に従い得られた金属平板粒子含有層１の上に、表２に示すＣ−１溶液を、ワイヤーバーを用いて乾燥後の平均厚さが９０ｎｍになる量で塗布した。その後、１３０℃で１分間加熱し、乾燥、固化し、誘電体層を形成した。【０１２７】
【表２】
2019003783.tif 000004
【０１２８】
また、上述した以外の表２の各成分の追加説明を、以下に記載する。
・カルボジライトＶ−０２−Ｌ２：ポリカルボジイミド架橋剤
・ＡＳ−５６３Ａ：アクリル系エマルジョン
・オレスターＵＤ３５０：ウレタン樹脂【０１２９】
下記処方に従い調製したＡ−１溶液を、ワイヤーバーを用いて乾燥後の平均厚さが３０ｎｍになる量で塗布した。その後、１３０℃で１分間加熱し、乾燥、固化し、金属平板粒子含有層２を形成した。【０１３０】
−銀ナノディスク分散液ａ２の調製−
１．銀ナノディスク分散液ａ１の調液
まず、銀ナノディスク分散液ａ１を調液する。
ＮＴＫＲ−４（ステンレス鋼、日新製鉄工業（株）製）製の反応容器に、イオン交換水１．３Ｌ（リットル）を計量し、ステンレス鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）製のシャフトに、ＮＴＫＲ−４製のプロペラ４枚及びＮＴＫＲ−４製のパドル４枚を取り付けたアジターを備えるチャンバーを用いて、撹拌速度４００ｒｐｍ（revolutions per min：回転／分）で撹拌しながら、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液０．１Ｌを添加して３５℃に保温した。８．０ｇ／Ｌの濃度のポリスチレンスルホン酸水溶液０．０６８Ｌを添加し、更に０．０４ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を用いて２３ｇ／Ｌに調製した水素化ホウ素ナトリウム水溶液０．００４１Ｌを添加した。０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液１．３Ｌを５．０Ｌ／ｍｉｎで添加した。
次に、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液１．０Ｌとイオン交換水１１Ｌとを添加し、更に、８０ｇ／Ｌのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液０．６８Ｌを添加した。撹拌速度を８００ｒｐｍに上げて、０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．１Ｌを０．９５Ｌ／ｍｉｎで添加した後、３０℃に降温した。
その後、４４ｇ／Ｌのメチルヒドロキノン水溶液８．０Ｌを添加し、次いで、後述する４０℃のゼラチン水溶液を全量添加した。撹拌速度を１，２００ｒｐｍに上げて、後述する亜硫酸銀白色沈殿物混合液を全量添加した。
調製液のｐＨ変化が止まった段階で、１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液５．０Ｌを０．３３Ｌ／ｍｉｎで添加した。その後、２．０ｇ／Ｌの１−（ｍ−スルホフェニル）−５−メルカプトテトラゾールナトリウム水溶液（ＮａＯＨとクエン酸（無水物）とを用いてｐＨ＝７．０±１．０に調整して溶解した水溶液）０．１８Ｌを添加し、更に、７０ｇ／Ｌの１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン水溶液（ＮａＯＨ水溶液を用いて、アルカリ性に調整した水溶液）０．０７８Ｌを添加した。このようにして銀ナノディスク分散液ａ１を調製した。【０１３１】
２．ゼラチン水溶液の調製
ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水１６．７Ｌを計量した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のアジターで低速撹拌を行いながら、脱イオン処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ＧＰＣ重量平均分子量２０万）２．１ｋｇを添加した。
更に、脱イオン処理、蛋白質分解酵素処理、及び、過酸化水素による酸化処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ＧＰＣ重量平均分子量２．１万）１．４ｋｇを添加した。その後４０℃に昇温し、ゼラチンの膨潤と溶解を同時に行って完全に溶解させ、既述の銀ナノディスク分散液ａ１の調液に用いるゼラチン水溶液を得た。【０１３２】
３．亜硫酸銀白色沈殿物混合液の調製
ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水８．２Ｌを計量し、１００ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．２Ｌを添加した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のアジターで高速撹拌を行いながら、１４０ｇ／Ｌの亜硫酸ナトリウム水溶液２．７Ｌを短時間で添加して、亜硫酸銀の白色沈澱物を含む混合液、即ち、既述の銀ナノディスク分散液ａ１の調液に用いる亜硫酸銀白色沈殿物混合液を調製した。この亜硫酸銀白色沈殿物混合液は、使用する直前に調製した。【０１３３】
４．銀ナノディスク分散液ａ２の調製
銀ナノディスクｂ１の代わりに銀ナノディスク分散液ａ１を用いる以外は、上記分散液ｂ２と同様にして調製した。【０１３４】
【表３】
2019003783.tif 000005
【０１３５】
上記で得られた金属平板粒子含有層２上に、下記記載のＤ−１溶液を、ワイヤーバーを用いて乾燥後の平均厚さが１，０００ｎｍになる量で塗布した。その後、１３０℃で１分間加熱し、乾燥、固化し、紫外線（ＵＶ）吸収層を形成した。【０１３６】
【表４】
2019003783.tif 000006
【０１３７】
また、上述した以外の表４の各成分の追加説明を、以下に記載する。
・Ｔｉｎｕｖｉｎ  ４７７ＤＷ：トリアジン系紫外線吸収剤、下記化合物【０１３８】
【化１】
2019003783.tif 000007
【０１３９】
−合わせガラス用中間膜への転写−
次に、作製したフィルムと、表面がエンボス加工された合わせガラス用ポリビニルブチラール中間膜（厚さ０．３８ｍｍ、軟化点１３０℃、積水化学工業（株）製）と、厚さ２ｍｍのガラス基板（コーニング社製、クリアガラス）とをガラス基板側から合わせガラス用中間膜、作製したフィルム（熱線遮蔽材）の順で重ね合わせ、ラミネーター（大成ラミネーター（株）製）を用い、熱線遮蔽材とポリビニルブチラール中間膜とを熱接着させた。このとき、ラミネーターロールの温度は１２０℃、ニップ圧力は０．２ＭＰａ、搬送速度は０．１５ｍ／分であった。熱接着直後、積層体からＰＥＴフィルムを剥離することで、熱線遮蔽材と、合わせガラス用中間膜と、ガラス基板とからなる中間膜積層体を作製した。【０１４０】
＜合わせガラス化＞
−予備圧着−
作製した各中間膜積層体の上記熱線遮蔽材上に、合わせガラス用中間膜とガラス基板を重ね、ゴムバックに入れ、真空ポンプで減圧した。その後、減圧下で９０℃まで昇温し３０分間保持後、常温常圧まで戻し、予備圧着工程を完了した。【０１４１】
−本圧着−
予備圧着後の各合わせガラスをオートクレーブ内にて圧力１．３ＭＰａ、温度１２０℃の条件で２０分間保持し、その後常温常圧（２５℃１気圧）まで戻し、本圧着工程を完了した。【０１４２】
（実施例２〜８、比較例１及び２、並びに、参考例１〜４）
各層の形成の有無、各層の材質及び厚さ、並びに、金属平板粒子の種類及び使用量を表５又は表６に記載のものとなるように、それぞれ変更した以外は、実施例１と同様にして、熱線遮蔽材、及び、合わせガラスをそれぞれ作製した。なお、実施例６においては、合わせガラスを作製しなかった。
なお、実施例１〜５において得られた合わせガラスは、図５に示す合わせガラスである。【０１４３】
＜金属平板粒子の評価＞
−金属平板粒子の平均円相当径−
金属平板粒子の平均円相当径は、観察したＳＥＭ画像から任意に抽出した２００個の粒子に対し画像解析を行い、各粒子の円相当径を算出し、その平均値を平均円相当径とした。【０１４４】
−平均厚さ−
得られた銀平板粒子を含む分散液を、ガラス基板上に滴下して乾燥し、銀平板粒子１個の厚さを、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（ＮａｎｏｃｕｔｅＩＩ、セイコーインスツル社製）を用いて測定した。なお、ＡＦＭを用いた測定条件としては、自己検知型センサー、ＤＦＭモード、測定範囲は５μｍ、走査速度は１８０秒／１フレーム、データ点数は２５６×２５６とした。【０１４５】
−アスペクト比−
得られた銀平板粒子の平均円相当径及び平均厚さから、平均円相当径を平均厚さで除算して、アスペクト比を算出した。【０１４６】
−面密度−
金属平板粒子を含む層を塗布、乾燥後、その表面を（株）日立製作所製Ｓ４３００走査型電子顕微鏡を用いて表面ＳＥＭ像を観察し、その単位面積中の金属平板粒子の投影面積の割合を、面密度として求めた。【０１４７】
−誘電体層の厚さ（二層間距離）−
アルゴンイオンビームを照射するイオンミリング加工で実施例１の熱線遮蔽材を割断し、熱線遮蔽材の垂直方向断面試料を作製した。この垂直方向断面試料を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することで誘導体層の厚さｄ（ｎｍ）を求めた。【０１４８】
＜可視光線透過率、最大反射波長及び反射率＞
可視光線透過率及び反射率は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８「板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射取得率の試験方法」に記載の方法によって、３００ｎｍ〜２，１００ｎｍまで測定した。測定結果よりＪＩＳ−Ｒ３１０６に従って算定した。このとき、金属平板粒子含有層１を入射光側とした。
また、測定結果から得られる光学反射スペクトルより、反射最大値を求めて最大反射波長とした。【０１４９】
＜ＴＴＳ（Ｔｏｔａｌ  Ｓｏｌａｒ  Ｅｎｅｒｇｙ  Ｔｒａｎｓｍｉｔｔｅｄ  Ｔｈｒｏｕｇｈ  ａ  Ｇｌａｚｉｎｇ）＞
各合わせガラス、熱線遮蔽材及び合わせガラス用中間膜について、ＩＳＯ１３８３７記載の方法によりＴＴＳを算出した。ＴＴＳの値が小さいほど、遮熱性能に優れる。【０１５０】
【表５】
2019003783.tif 000008
【０１５１】
【表６】
2019003783.tif 000009
【０１５２】
なお、表５及び表６に記載の各金属平板粒子含有層における粒径は、含有する金属平板粒子の平均円相当径であり、各金属平板粒子含有層における厚さは、含有する金属平板粒子の平均厚さであり、各金属平板粒子含有層における面密度の単位は、面積％である。
また、実施例１〜８の熱線遮蔽材のλ１は、いずれも５５０ｎｍであり、また、実施例１〜８の熱線遮蔽材は、いずれも上記式１を満たしていた。
また、上述した以外の、後述する表５又は表６に記載の各材質又は素材は、以下の通りである。
ＩＴＯ含有ＰＶＢ：積水化学工業（株）製Ｓ−ＬＥＣ Ｓｏｌａｒ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｆｉｌｍ
グリーンガラス：図８に示す透過スペクトルを有するガラス（近赤外線を吸収するガラス）を用いた。
金属平板粒子ａ−２：銀平板粒子、平均円相当径１７０ｎｍ、平均厚さ１０ｎｍ、アス
ペクト比１７、下記方法により調製した。
金属平板粒子ａ−３：銀平板粒子、平均円相当径１１５ｎｍ、平均厚さ１０ｎｍ、アスペクト比１１．５、下記方法により調製した。
金属平板粒子ａ−４：銀平板粒子、平均円相当径１７８ｎｍ、平均厚さ１０．７ｎｍ、アスペクト比１６．６、下記方法により調製した。
金属平板粒子ｂ−２：銀平板粒子、平均円相当径２８０ｎｍ、平均厚さ５ｎｍ、アスペクト比５６、下記方法により調製した。【０１５３】
＜金属平板粒子ａ−２の調製＞
２．５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液５０ｍＬに０．５ｇ／Ｌのポリスチレンスルホン酸水溶液を２．５ｍＬ添加し、３５℃まで加熱した。この溶液に１０ｍＭの水素化ほう素ナトリウム水溶液を３ｍＬ添加し、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液５０ｍＬを２０ｍＬ／ｍｉｎで撹拌しながら添加した。この溶液を３０分間撹拌し、種溶液を作製した。
２．５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液１３２．７ｍＬにイオン交換水１２７．６ｍＬを添加し、３５℃まで加熱した。この溶液に１０ｍＭのアスコルビン酸水溶液を２ｍＬ添加し、上記種溶液を４２．４ｍＬ添加し、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液７９．６ｍＬを１０ｍＬ／ｍｉｎで撹拌しながら添加した。３０分間撹拌した後、０．３５Ｍのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液を７１．１ｍＬ添加し、７％ゼラチン水溶液を２００ｇ添加した。この溶液に、０．２５Ｍの亜硫酸ナトリウム水溶液１０７ｍＬと０．４７Ｍの硝酸銀水溶液１０７ｍＬを混合してできた白色沈殿物混合液を添加した。上記白色沈殿物混合液を添加した後すぐに０．０８ＭのＮａＯＨ水溶液７２ｍＬを添加した。このときｐＨが１０を超えないように添加速度を調節しながらＮａＯＨ水溶液を添加した。これを３００分間撹拌し、銀平板粒子分散液を得た。
この銀平板粒子分散液中には、平均円相当径１７０ｎｍの銀の六角平板粒子（以下、銀六角平板粒子と称する）が生成していることを確認した。また、原子間力顕微鏡（ＮａｎｏｃｕｔｅＩＩ、セイコーインスツル社製）で、銀六角平板粒子の厚みを測定したところ、平均１０ｎｍであり、アスペクト比が１７．０の銀六角平板粒子が生成していることが分かった。
上記銀平板粒子分散液１６ｍＬに１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨを０．７５ｍＬ添加し、イオン交換水２４ｍＬ添加し、遠心分離器（コクサン社製、Ｈ−２００Ｎ、アンブルローターＢＮ）で５，０００ｒｐｍで５分間遠心分離を行い、銀六角平板粒子を沈殿させた。遠心分離後の上澄み液を捨て、水を６ｍＬ添加し、沈殿した銀六角平板粒子を再分散させた。このようにして金属平板粒子ａ−２を調整した。【０１５４】
＜金属平板粒子ａ−３の調製＞
２．５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液５０ｍＬに０．５ｇ／Ｌのポリスチレンスルホン酸水溶液を２．５ｍＬ添加し、３５℃まで加熱した。この溶液に１０ｍＭの水素化ほう素ナトリウム水溶液を３ｍＬ添加し、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液５０ｍＬを２０ｍＬ／ｍｉｎで撹拌しながら添加した。この溶液を３０分間撹拌し、種溶液を作製した。
２．５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液２５５．２ｍＬにイオン交換水１２７．６ｍＬを添加し、３５℃まで加熱した。この溶液に１０ｍＭのアスコルビン酸水溶液を２ｍＬ添加し、上記種溶液を４２．４ｍＬ添加し、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液７９．６ｍＬを１０ｍＬ／ｍｉｎで撹拌しながら添加した。３０分間撹拌した後、０．３５Ｍのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液を７１．１ｍＬ添加し、７％ゼラチン水溶液を２００ｇ添加した。この溶液に、０．２５Ｍの亜硫酸ナトリウム水溶液１０７ｍＬと０．４７Ｍの硝酸銀水溶液１０７ｍＬを混合してできた白色沈殿物混合液を添加した。上記白色沈殿物混合液を添加した後すぐに０．０８ＭのＮａＯＨ水溶液７２ｍＬを添加した。このときｐＨが１０を超えないように添加速度を調節しながらＮａＯＨ水溶液を添加した。これを３００分間攪拌し、銀平板粒子分散液を得た。上記銀平板粒子分散液１６ｍＬに１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨを０．７５ｍＬ添加し、イオン交換水２４ｍＬ添加し、遠心分離器（コクサン社製、Ｈ−２００Ｎ、アンブルローターＢＮ）で５，０００ｒｐｍで５分間遠心分離を行い、銀六角平板粒子を沈殿させた。遠心分離後の上澄み液を捨て、水を６ｍＬ添加し、沈殿した銀六角平板粒子を再分散させた。このようにして金属平板粒子ａ−３を調整した。【０１５５】
＜金属平板粒子ａ−４の調製＞
−金属平板粒子分散液Ｅ１の調製−
２．５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液５００ｍＬに８ｇ／Ｌのポリスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液を２５ｍＬ添加し、３５℃まで加熱した。この溶液に３ｍＭの水素化ほう素ナトリウム水溶液を３０ｍＬ添加し、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液（Ａｇ−１）３００ｍＬを２０ｍＬ／ｍｉｎで撹拌しながら添加した。この溶液を３０分間撹拌した後、２．５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液５００ｍＬと５．０ｍＭのアスコルビン酸水溶液を２５ｍＬ添加した。更に０．５ｍＭの硝酸銀水溶液（Ａｇ−２）３００ｍＬを１０ｍＬ／ｍｉｎの速度で撹拌しながら添加した。３０分間撹拌した後、０．３５Ｍのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液を２８４ｍＬ及び１４質量％のゼラチン水溶液４００ｇを反応釜に添加した。次に、０．３０５Ｍの亜硫酸ナトリウム水溶液３４３ｍＬと０．５８８Ｍの硝酸銀水溶液３４３ｍＬを混合してできた亜硫酸銀の白色沈殿物混合液を添加した。この溶液を３００分間撹拌し、金属平板粒子分散液Ｅ１を得た。得られた金属平板粒子分散液Ｅ１中の金属粒子について平均粒子径、平均厚みを評価したところ、この金属平板粒子分散液Ｅ１中には、平均円相当径１０５ｎｍの銀の六角平板粒子（以下、六角銀平板粒子と称する。）が生成していることを確認した。【０１５６】
−金属平板粒子分散液Ｅ２の調製−
金属平板粒子分散液Ｅ１の調製において０．５ｍＭの硝酸銀水溶液（Ａｇ−１）の添加量を７５ｍＬに変更した以外は、金属平板粒子分散液Ｅ１の調製と同様にして金属平板粒子分散液Ｅ２を調製した。得られた金属平板粒子分散液Ｅ２中の金属粒子について平均粒子径、平均厚みを評価したところ、この金属平板粒子分散液Ｅ２中には、平均円相当径２５０ｎｍの銀の六角平板粒子（以下、六角銀平板粒子と称する。）が生成していることを確認した。【０１５７】
−金属平板粒子分散液Ｅ３の調製−
金属平板粒子分散液Ｅ１と金属平板粒子分散液Ｅ２とを１：１の質量比で混合して、金属平板粒子分散液Ｅ３を得た。【０１５８】
−金属平板粒子ａ−４の調製−
５００ｍＬの上記金属平板粒子分散液Ｅ３を、遠心分離器（コクサン社製Ｈ−２００Ｎ、アンブルローターＢＮ）で７，０００ｒｐｍ３０分間遠心分離を行い、六角銀平板粒子を沈殿させた。遠心分離後の上澄み液４５０ｍＬを捨て、純水を２００ｍＬ添加し、沈殿した六角銀平板粒子を再分散させ、金属平板粒子ａ−４を調製した。【０１５９】
＜金属平板粒子ｂ−２の調製＞
−銀ナノディスク分散液ｂ−２の調製−
１．銀ナノディスク分散液ｂ−２−１の調液
まず、銀ナノディスク分散液ｂ−２−１を調液する。
ＮＴＫＲ−４（ステンレス鋼、日新製鉄工業（株）製）製の反応容器に、イオン交換水０．７Ｌ（リットル）を計量し、ステンレス鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）製のシャフトに、ＮＴＫＲ−４製のプロペラ４枚及びＮＴＫＲ−４製のパドル４枚を取り付けたアジターを備えるチャンバーを用いて、撹拌速度４００ｒｐｍ（revolutions per min：回転／分）で撹拌しながら、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液０．０５Ｌを添加して３５℃に保温した。８．０ｇ／Ｌの濃度のポリスチレンスルホン酸水溶液０．０３４Ｌを添加し、更に０．０４ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を用いて２３ｇ／Ｌに調製した水素化ホウ素ナトリウム水溶液０．００２Ｌを添加した。０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液０．７Ｌを５．０Ｌ／ｍｉｎで添加した。【０１６０】
次に、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液１．０Ｌとイオン交換水１１Ｌとを添加し、更に、８０ｇ／Ｌのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液０．６８Ｌを添加した。撹拌速度を８００ｒｐｍに上げて、０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．１Ｌを０．９５Ｌ／ｍｉｎで添加した後、３０℃に降温した。
その後、４４ｇ／Ｌのメチルヒドロキノン水溶液８．０Ｌを添加し、次いで、後述する４０℃のゼラチン水溶液を全量添加した。撹拌速度を１，２００ｒｐｍに上げて、後述する亜硫酸銀白色沈殿物混合液を全量添加した。
調製液のｐＨ変化が止まった段階で、１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液５．０Ｌを０．３３Ｌ／ｍｉｎで添加した。その後、２．０ｇ／Ｌの１−（ｍ−スルホフェニル）−５−メルカプトテトラゾールナトリウム水溶液（ＮａＯＨとクエン酸（無水物）とを用いてｐＨ＝７．０±１．０に調整して溶解した水溶液）０．１８Ｌを添加し、更に、７０ｇ／Ｌの１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン水溶液（ＮａＯＨの水溶液を用いて、アルカリ性に調整した水溶液）０．０７８Ｌを添加した。このようにして銀ナノディスク分散液ｂ−２−１を調製した。【０１６１】
２．ゼラチン水溶液の調製
ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水１６．７Ｌを計量した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のアジターで低速撹拌を行いながら、脱イオン処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ＧＰＣ重量平均分子量２０万）２．８ｋｇを添加した。
更に、脱イオン処理、蛋白質分解酵素処理、及び、過酸化水素による酸化処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ＧＰＣ重量平均分子量２．１万）１．８ｋｇを添加した。その後４０℃に昇温し、ゼラチンの膨潤と溶解を同時に行って完全に溶解させ、既述の銀ナノディスク分散液ｂ−２−１の調液に用いるゼラチン水溶液を得た。【０１６２】
３．亜硫酸銀白色沈殿物混合液の調製
ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水８．２Ｌを計量し、１００ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．２Ｌを添加した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のアジターで高速撹拌を行いながら、１４０ｇ／Ｌの亜硫酸ナトリウム水溶液２．７Ｌを短時間で添加して、亜硫酸銀の白色沈澱物を含む混合液、すなわち、既述の銀ナノディスク分散液ｂ−２−１の調液に用いる亜硫酸銀白色沈殿物混合液を調製した。この亜硫酸銀白色沈殿物混合液は、使用する直前に調製した。【０１６３】
４．銀ナノディスク分散液ｂ−２の調製
銀ナノディスクｂ１の代わりに銀ナノディスク分散液ｂ−２−１を用いる以外は、上記分散液ｂ２と同様にして調製した。【０１６４】
＜参考例１〜４における誘電体層の形成＞
参考例１〜４において、誘電体層は下記の通り調製した。【０１６５】
−塗布液の調製−
下記表７の割合となるように混ぜて塗布液を調製した。【０１６６】
【表７】
2019003783.tif 000010
【０１６７】
得られた塗布液を、金属平板粒子含有層１の上に、ワイヤーバーを用いて乾燥後の平均厚さが７００ｎｍになる量で塗布した。その後、１３０℃で１分間加熱し、乾燥、固化し、誘電体層を形成した。【０１６８】
表５及び表６の結果から明らかなように、本開示に係る熱線遮蔽材は、遮熱性能に優れることが分かる。【０１６９】
（実施例８〜１０）
＜実施例９で使用した金被覆銀ナノディスクの調製＞
実施例９として、実施例８において銀ナノディスク分散液ａ２、銀ナノディスク分散液ｂ２を用いる代わりにそれぞれ下記金被覆ナノディスク分散液ａ２Ａ’、金被覆ナノディスク分散液ｂ２Ａ’を用いる以外は実施例８と同じ調製法にて熱線遮蔽材を調製し、合わせガラスを得た。可視光線透過率、ＴＴＳは実施例８と同じであった。【０１７０】
−銀ナノディスク分散液ａ２Ａ’の調製−
５０Ｌの銀ナノディスク分散液ａ２に対し、０．１質量％塩化金酸（和光純薬工業（株）製）水溶液２．７８Ｌを添加し、６０℃で４時間撹拌して銀ナノディスク分散液ａ２Ａ’を得た。【０１７１】
−銀ナノディスク分散液ｂ２Ａ’の調製−
５０Ｌの銀ナノディスク分散液ｂ２に対し、０．１質量％塩化金酸（和光純薬工業（株）製）水溶液２．７８Ｌを添加し、６０℃で４時間撹拌して銀ナノディスク分散液ｂ２Ａ’を得た。【０１７２】
＜実施例１０で使用した金被覆銀ナノディスクの調製＞
実施例１０として、実施例８において銀ナノディスク分散液ａ２、銀ナノディスク分散液ｂ２を用いる代わりにそれぞれ下記金被覆ナノディスク分散液ａ２Ａ”、金被覆ナノディスク分散液ｂ２Ａ”を用いる以外は実施例８と同じ調製法にて熱線遮蔽材を調製し、合わせガラスを得た。可視光線透過率、ＴＴＳは実施例８と同じであった。【０１７３】
＜金被覆銀ナノディスク分散液ａ２Ａ”の調製＞
１３０．４ｇの銀ナノディスク分散液ａ２に対し、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＣ）１３．６ｇを添加した銀平板状粒子分散液（銀濃度：０．５質量％≒４６ｍｍｏｌ／Ｌ）１４４ｇを、下記の反応容器内の金被覆処理液Ｆ１に添加し、６０℃で４時間撹拌することにより、金被覆銀ナノディスク分散液ａ２Ａ”を得た。【０１７４】
−金被覆処理液Ｆ１の調製−
水２６６．３ｇ、０．５ｍｏｌ／Ｌアスコルビン酸（還元剤）１７７ｇ、及び下記の金還元液Ｇ１  ６０８ｇを、反応容器に順次添加し、５分間撹拌した後、１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を用いてｐＨを１０以上となるように調整して、金被覆処理液Ｆ１を得た。【０１７５】
−金還元液Ｇ１の調製−
容器に、水１８．２ｇ、１．８８ｍｍｏｌ／Ｌの塩化金酸４水和物（水溶性金化合物）３５３．６ｇ、０．２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム（ｐＨ調整剤）１５．６ｇ及び０．１ｍｏｌ／Ｌの硫酸ナトリウム（錯化剤）２２０．６ｇを、軽く撹拌しながら順次添加し、金還元液Ｇ１を得た。【０１７６】
−金被覆銀ナノディスク分散液ａ２Ａ”の評価−
金被覆銀ナノディスク分散液ａ２Ａ”をＰＥＴ基材上に滴下して乾燥し、粒子断面方向のＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ（Ｈｉｇｈ−ａｎｇｌｅ  Ａｎｎｕｌａｒ  Ｄａｒｋ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  ＴＥＭ）像を撮影し、その撮影画像中で輝度の高い金被覆層の厚みを、主平面及び端面のそれぞれについて、１粒子中５点を画像解析ツールとしてＩｍａｇｅＪを用いて測定し、計２０個の粒子の厚みを算術平均することで、主平面の平均厚み（Ａ）、端面の平均厚み（Ｂ）、及び平均厚み（Ｂ）に対する平均厚み（Ａ）の比（Ａ／Ｂ）をそれぞれ算出した。
金被覆銀ナノディスク分散液ａ２Ａ”中の金被覆銀ナノディスクは、主平面の金平均厚みが０．７ｎｍであり、端面の金平均厚みが１．０ｎｍであった。【０１７７】
＜金被覆銀ナノディスク分散液ｂ２Ａ”の調製＞
１３０．４ｇの銀ナノディスク分散液ｂ２に対し、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＣ）１３．６ｇを添加した銀平板状粒子分散液（銀濃度：０．５質量％＝約４６ｍｍｏｌ／Ｌ）１４４ｇを、下記の反応容器内の金被覆処理液Ｆ１に添加し、６０℃で４時間撹拌することにより、金被覆銀ナノディスク分散液ｂ２Ａ”を得た。【０１７８】
＜高温耐候性試験後の遮熱性能評価＞
実施例８〜１０において得られた合わせガラスを、光源メタルハライドランプ、照度９００Ｗ／ｍ２、温度８５℃、湿度５０％ＲＨ、時間９６時間にて保管した後、ＩＳＯ１３８３７記載の方法により、高温耐候性試験後のＴＴＳを算出し、高温耐候性試験前のＴＴＳと高温耐候性試験後のＴＴＳとの変化量（ΔＴＴＳ）の値を算出した。ΔＴＴＳの値が小さいほど、高温耐候性に優れる。【０１７９】
【表８】
2019003783.tif 000011
【０１８０】
また、実施例８と実施例１０とでは、実施例１０のほうが上記高温耐候性試験後のＴＴＳ変化量（ΔＴＴＳ）が小さく、例えば、自動車用途として用いた場合に太陽光の照射によるＴＴＳ変化の小さい好適な構成であった。【０１８１】
２０１７年６月３０日に出願された日本国特許出願第２０１７−１２９４３７号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
【符号の説明】
【０１８２】
１０：熱線遮蔽材、１２：金属平板粒子含有層１、１４：誘電体層、１６：金属平板粒子含有層２、１８：紫外線吸収層、２０：中間膜、２２：ガラス、２４：基材、３０：合わせガラス用中間膜、３５Ａ，３５Ｂ：銀ナノディスク、５０：合わせガラス、Ｔ：厚さ、Ｄ：円相当径、Ｌ：日射進入方向
【図１】
2019003783.tif 000012
【図２】
2019003783.tif 000013
【図３】
2019003783.tif 000014
【図４】
2019003783.tif 000015
【図５】
2019003783.tif 000016
【図６】
2019003783.tif 000017
【図７】
2019003783.tif 000018
【図８】
2019003783.tif 000019
【国際調査報告】
2019003783.tif 000020
2019003783.tif 000021
2019003783.tif 000022
2019003783.tif 000023