(57)【要約】  本発明の下層膜形成用樹脂材料は、多層レジストプロセスに用いられるレジスト下層膜を形成するための下層膜形成用樹脂材料であって、環状オレフィンポリマー（Ｉ）を含み、レオメータを用いて、窒素雰囲気下、ずりモード、測定温度範囲３０〜３００℃、昇温速度３℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚの条件で測定される上記下層膜形成用樹脂材料の固体粘弾性における、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度が４０℃以上２００℃以下である。
2019069502.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層レジストプロセスに用いられるレジスト下層膜を形成するための下層膜形成用樹脂材料であって、
環状オレフィンポリマー（Ｉ）を含み、
レオメータを用いて、窒素雰囲気下、ずりモード、測定温度範囲３０〜３００℃、昇温速度３℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚの条件で測定される、前記下層膜形成用樹脂材料の固体粘弾性における、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度が４０℃以上２００℃以下である下層膜形成用樹脂材料。
【請求項２】
請求項１に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
レオメータを用いて、窒素雰囲気下、ずりモード、測定温度範囲３０〜３００℃、昇温速度３℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚの条件で測定される、前記下層膜形成用樹脂材料の固体粘弾性における、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度が６０℃以上２００℃以下である下層膜形成用樹脂材料。
【請求項３】
請求項１または２に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）は下記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］を有する下層膜形成用樹脂材料。
【化１】
2019069502.tif 000014
（前記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つが、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜１０のジアルキルアミノカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数８〜２０のアルキルアリールアミノカルボニル基、炭素数３〜３０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜３０のアルコキシカルボニルアリール基、炭素数８〜２０のアリールオキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシアルキルオキシカルボニル基および炭素数４〜３０のアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基、から選ばれ、Ｒ１〜Ｒ４は互いに結合して環構造を形成していてもよく、ｎは０〜２の整数を表す。）
【請求項４】
請求項３に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）は下記一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］をさらに有する下層膜形成用樹脂材料。
【化２】
2019069502.tif 000015
（前記一般式（２）中、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つが、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜１０のジアルキルアミノカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数８〜２０のアルキルアリールアミノカルボニル基、炭素数３〜３０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜３０のアルコキシカルボニルアリール基、炭素数８〜２０のアリールオキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシアルキルオキシカルボニル基および炭素数４〜３０のアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基から選ばれ、Ｒ５〜Ｒ８が互いに結合して環構造を形成していてもよく、ｎは０〜２の整数を表し、Ｘ１は−Ｏ−または−Ｓ−を表す。）
【請求項５】
請求項４に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）における前記構造単位［Ａ］と前記構造単位［Ｂ］とのモル比［Ａ］／［Ｂ］が５／９５以上９５／５以下である下層膜形成用樹脂材料。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）とは異なる熱可塑性樹脂（II）をさらに含む下層膜形成用樹脂材料。
【請求項７】
請求項６に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記熱可塑性樹脂（II）が芳香環構造を有する有機ポリマーおよび（メタ）アクリルポリマーから選択される少なくとも一種を含む下層膜形成用樹脂材料。
【請求項８】
請求項６または７に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記下層膜形成用樹脂材料における前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）と前記熱可塑性樹脂（II）との質量比（Ｉ／II）が５／９５以上８５／１５以下である下層膜形成用樹脂材料。
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記下層膜形成用樹脂材料中の前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）および前記熱可塑性樹脂（II）の合計含有量が、前記下層膜形成用樹脂材料の全体を１００質量％としたとき、５０質量％以上１００質量％以下である下層膜形成用樹脂材料。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
下記方法１により測定される、前記下層膜形成用樹脂材料中の揮発成分の発生量が、前記下層膜形成用樹脂材料の全体を１００質量％としたとき、０．０質量％以上１．０質量％以下である下層膜形成用樹脂材料。
（方法１：前記下層膜形成用樹脂材料をテトラヒドロフランに溶解して、前記下層膜形成用樹脂材料の濃度が２０質量％の溶液を作製し、得られた溶液をアルミ皿に計量し、次いで、窒素気流下、２００℃で３分間加熱してテトラヒドロフランを除去し、次いで、室温まで冷却して前記下層膜形成用樹脂材料を固化し、窒素雰囲気下で、３０〜３００℃の温度範囲、１０℃／ｍｉｎの昇温速度で前記下層膜形成用樹脂材料を加熱し、１００〜２５０℃の範囲における重量減少量から、前記下層膜形成用樹脂材料中の前記揮発成分の発生量を算出する）
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーを用いて測定される前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００以上２００００以下である下層膜形成用樹脂材料。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
下記方法２により測定される、前記下層膜形成用樹脂材料の波長１９３ｎｍにおける屈折率（ｎ値）が１．５以上２．０以下である下層膜形成用樹脂材料。
（方法２：前記下層膜形成用樹脂材料からなる厚み２５０ｎｍのコート膜をシリコンウェハー上に形成し、得られた前記コート膜の波長１９３ｎｍにおける屈折率（ｎ値）を前記下層膜形成用樹脂材料の前記屈折率（ｎ値）とする）
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
下記方法３により測定される、前記下層膜形成用樹脂材料の消衰係数（ｋ値）が０．０００１以上０．５以下である下層膜形成用樹脂材料。
（方法３：前記下層膜形成用樹脂材料からなる厚み２５０ｎｍのコート膜をシリコンウェハー上に形成し、得られた前記コート膜の消衰係数（ｋ値）を前記下層膜形成用樹脂材料の前記消衰係数（ｋ値）とする）
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
凹凸構造を有する基板の前記凹凸構造上に形成され、かつ、前記凹凸構造における凹部を埋めるための下層膜に用いられる下層膜形成用樹脂材料。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記下層膜形成用樹脂材料に含まれるポリマー成分の全含有量を１００質量部としたとき、前記下層膜形成用樹脂材料中の架橋剤の含有量が５質量部未満である下層膜形成用樹脂材料。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料を含むレジスト下層膜。
【請求項１７】
請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料を含む塗膜を基板上に形成する工程を含むレジスト下層膜の製造方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載のレジスト下層膜の製造方法において、
前記塗膜を加熱する工程をさらに含むレジスト下層膜の製造方法。
【請求項１９】
基板と、
前記基板の一方の面に形成された、請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の下層膜形成用樹脂材料を含むレジスト下層膜と、
を備える積層体。
【請求項２０】
請求項１９に記載の積層体において、
前記レジスト下層膜の前記基板とは反対側の表面（α）における下記式により算出される平坦度（△ＦＴ）が０％以上５％以下である積層体。
平坦度（ΔＦＴ）＝［（Ｈｍａｘ―Ｈｍｉｎ）／Ｈａｖ］×１００（％）
（ここで、前記表面（α）の任意の１０カ所において、前記レジスト下層膜の膜厚を測定し、それらの平均値をＨａｖとし、前記レジスト下層膜の膜厚の最大値をＨｍａｘとし、前記レジスト下層膜の膜厚の最小値をＨｍｉｎとする）
【請求項２１】
請求項１９または２０に記載の積層体において、
前記レジスト下層膜の膜厚の平均値Ｈａｖが５ｎｍ以上５００ｎｍ以下である積層体。
（ここで、前記レジスト下層膜の前記基板とは反対側の表面（α）の任意の１０カ所において、前記レジスト下層膜の膜厚を測定し、それらの平均値をＨａｖとする）
【請求項２２】
請求項１９乃至２１のいずれか一項に記載の積層体において、
前記基板は少なくとも一方の表面に凹凸構造を有し、
前記凹凸構造上に前記レジスト下層膜が形成されており、
前記凹凸構造は、高さが５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、凸凸間の間隔が１ｎｍ以上１０ｍｍ以下である積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、下層膜形成用樹脂材料、レジスト下層膜、レジスト下層膜の製造方法および積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造では、高い集積度を得るために多層レジストプロセスが用いられている。このプロセスでは、一般的に、まず基板上に下層膜形成用材料を用いてレジスト下層膜を形成し、次いで、レジスト下層膜の上面側にレジスト層を形成し、焼成、露光を経てレジストパターンを形成する。つづいて、エッチングにより上記レジストパターンをレジスト下層膜に転写し、レジスト下層膜パターンを基板に転写することにより所望のパターンを得ることができる。
基板としては平坦な形状の基板だけでなく、より複雑な回路の形成を行うために予備的に大きな回路形状を形成した凹凸構造を有する基板を用い、寸法サイズが大きな回路形状をさらに加工して、微細な回路を形成するマルチパターンニング法が最先端の回路形成プロセスでは導入されている。【０００３】
かかる多層レジストプロセスに用いられるレジスト下層膜には、凹凸構造を有する基板の凹凸部への埋め込み性、レジストを塗布する側の表面の平坦性、適度な屈折率や消衰係数等の光学特性、良好なエッチング耐性等の特性が要求される。【０００４】
近年、集積度をより高めるためにパターンの微細化がさらに進んでいる。この微細化に対応すべく、下層膜形成用材料に用いられる化合物等の構造や官能基等について種々の検討が行われている（例えば、特許文献１参照）。【０００５】
一方で、高い集積度を得るためのパターン形成の微細化において、現在主流のＡｒＦエキシマレーザーを用いるリソグラフィー工程では半導体基板からの乱反射や定在波の影響が大きな問題となっている。この問題を解決すべく、下層膜に求められる機能の一部として、反射防止機能を付与した材料が広く検討されている。当該反射防止機能を下層膜に付与する形態としては、例えば、ある種の材料で基板表面の凹凸構造を埋め込み、平坦性を持たせた層の上に反射防止膜（ＢＡＲＣ：Ｂｏｔｔｏｍ  Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ  Ｃｏａｔｉｎｇ）を設ける形態や、基板表面の凹凸構造を埋め込む材料自身に反射防止機能を付与する形態等が検討されている。【０００６】
特に、前者の反射防止膜の形成材料については、その使用の容易さ等から、吸光部位を有するポリマー等からなる有機反射防止膜について数多くの検討が行われている。例えば、特許文献２には、上層に形成するレジスト膜とのインターミキシングがなく、ＡｒＦエキシマレーザーを用いて露光する場合、所望の光学定数（屈折率、消衰係数）が得られ、かつレジスト膜に対して大きなドライエッチング速度の選択比が得られる、レジスト下層膜（反射防止膜）が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−１７７６６８号公報
【特許文献２】国際公開第２００９／００８４４６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
最近では、複数種のトレンチ、特に互いに異なるアスペクト比を有するトレンチを有する基板、すなわち、より微細な凹凸構造を有する基板を用いて、多層レジスト法によるマルチパターニングで微細パターンを形成する場合が増えてきている。このような場合、最上層に形成されるレジスト層はレチクル上のパターンを正確に転写するために高度な平坦性が要求される。近年のパターン微細化の流れの中で、レジスト現像工程におけるパターン倒れを避けるためにレジスト層の膜厚は薄膜化されてきており、レジスト層は下層膜の平坦性の影響をより一層強く受けるようになってきている。したがって、上記のような一般的に樹脂が侵入し難い表面構造の基板上に形成されるレジスト下層膜は、これらのトレンチを十分に埋め込んだものであると共に高い平坦性を有することが要求される。さらには、塗布後のベーク工程において、揮発成分（アウトガス）を発生しない材料が好ましいと考えられる。
本発明者らの検討によれば、従来のレジスト下層膜形成用材料では、平坦性の要求を満足させつつ、揮発成分を発生しない材料を実現することは困難な傾向にあることが分かってきた。
加えて、近年では同一基板上に微細凹凸パターンが「疎」にある領域と「密」にある領域が混在する状態（疎密があるパターンと呼ぶ）の基板を用い、一度の露光−現像工程により複数種の微細パターンを多層レジスト法により一挙に形成する場合が増えてきている。このような場合、レジスト下層膜にはパターンが「疎」にある領域から「密」にある領域へと切り替わる部分で凸パターン上の膜厚差が無く、平坦であることが要求される。前述のように最上層のレジスト層膜厚は薄膜化されてきており、疎密の切り替わり領域での膜厚差がそのままレジスト層の膜厚差へとつながりやすい状況になってきている。レジスト層の平坦性が十分でない場合、露光工程において焦点が合わない領域ができ基板全面において正確なパターン形成が困難となる。したがって、上記のような一般的に疎密パターンが混在する基板上に形成されるレジスト下層膜は、基板全面にわたって凸上パターン上の膜厚が均一であることが要求される。
本発明者らの検討によれば、従来のレジスト下層膜形成用材料では、基板全面にわたって凸上パターン上の膜厚が均一な材料を実現することは困難な傾向にあることが分かってきた。
従来の下層膜を上述のような基板上に、例えばスピンコートなどの溶液キャスト法で形成させると、特に基板の凹凸形状が複雑で凸凸間隔が広く、凹上パターン部の深さが深い、かつ、基板上で凹凸形状が疎な領域と密な領域が混在する場合、表面に微妙な凹凸が残り易い場合があることが、本発明者らの検討により分かってきた。これは、凸凸間隔が広く凹パターン部の深さが深い箇所程、乾燥前の溶媒の含有量が高く、乾燥時の体積収縮が大きくなる等を引き金として、下層膜表面の形状が単純な平面では無く、複雑な凹凸が出来やすい為であろうと予想された。
複雑な凹凸形状を有する基板を使用した多層レジスト法による微細パターン形成ほど、レジスト下層膜の平坦性の精度が最終製品の性能に反映され易い為、重要な課題と成り得る。【０００９】
一方、さらなる微細加工技術である、ＥＵＶ（極端紫外線の略称、波長１３．５ｎｍ）露光を採用したリソグラフィーでは、基板からの反射はないものの、特に、従来の埋め込み性に加えて、ＥＵＶ光の高エネルギー線露光用レジスト下層膜を形成する材料の揮発成分（アウトガス）発生が大きな問題となる可能性がある。
加えてＥＵＶ露光を採用したリソグラフィーでは、露光波長が現在主流のＡｒＦドライの１９３ｎｍあるいはＡｒＦ液浸の１３４ｎｍから短くなるため焦点深度が浅くなり、最上層レジスト表面の僅かな凹凸が正確なパターン形成に悪影響を与えてしまう。したがって、レジスト表面の平坦性の重要度がさらに増すと考えられる。【００１０】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、十分な光学特性およびエッチング耐性を満たすとともに平坦性に優れ、揮発分の発生量も抑制されたレジスト下層膜を実現できる下層膜形成用樹脂材料を提供するものである。加えて疎密パターンにおける膜厚差が小さくシリコンウェハー面内の凸パターン上の膜厚均一性にも優れた下層膜形成用樹脂材料を提供するものである。
また、本発明は、凹凸構造への埋め込み性に優れ、十分な光学特性およびエッチング耐性を満たすとともに平坦性に優れ、揮発分の発生量も抑制されたレジスト下層膜を複雑な形状の基板上に形成できる下層膜形成用樹脂材料を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明によれば、以下に示す下層膜形成用樹脂材料、レジスト下層膜、レジスト下層膜の製造方法および積層体が提供される。
本発明の構成であれば、Ｇ‘とＧ“の交点温度が特定の温度範囲の要件を満たすので、下記の推定理由により、課題を解決できると考えられる。
下層膜をスピンコートなどで形成する場合、膜形成工程における高温乾燥工程において、膜表面に流動性が生じ、膜材料の表面張力と、重力等の影響により、溶媒揮発による体積収縮が引き起こす下層膜表面凹凸が緩和されて、平面形状に近づく傾向がある。このため、表面精度の高い下層膜を安定的に製造することができる。【００１２】
［１］
多層レジストプロセスに用いられるレジスト下層膜を形成するための下層膜形成用樹脂材料であって、
環状オレフィンポリマー（Ｉ）を含み、
レオメータを用いて、窒素雰囲気下、ずりモード、測定温度範囲３０〜３００℃、昇温速度３℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚの条件で測定される、上記下層膜形成用樹脂材料の固体粘弾性における、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度が４０℃以上２００℃以下である下層膜形成用樹脂材料。
［２］
上記［１］に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
レオメータを用いて、窒素雰囲気下、ずりモード、測定温度範囲３０〜３００℃、昇温速度３℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚの条件で測定される、上記下層膜形成用樹脂材料の固体粘弾性における、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度が６０℃以上２００℃以下である下層膜形成用樹脂材料。
［３］
上記［１］または［２］に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
上記環状オレフィンポリマー（Ｉ）は下記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］を有する下層膜形成用樹脂材料。
【化１】
2019069502.tif 000003
（上記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つが、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜１０のジアルキルアミノカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数８〜２０のアルキルアリールアミノカルボニル基、炭素数３〜３０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜３０のアルコキシカルボニルアリール基、炭素数８〜２０のアリールオキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシアルキルオキシカルボニル基および炭素数４〜３０のアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基、から選ばれ、Ｒ１〜Ｒ４は互いに結合して環構造を形成していてもよく、ｎは０〜２の整数を表す。）
［４］
上記［３］に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
上記環状オレフィンポリマー（Ｉ）は下記一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］をさらに有する下層膜形成用樹脂材料。
【化２】
2019069502.tif 000004
（上記一般式（２）中、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つが、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜１０のジアルキルアミノカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数８〜２０のアルキルアリールアミノカルボニル基、炭素数３〜３０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜３０のアルコキシカルボニルアリール基、炭素数８〜２０のアリールオキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシアルキルオキシカルボニル基および炭素数４〜３０のアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基から選ばれ、Ｒ５〜Ｒ８が互いに結合して環構造を形成していてもよく、ｎは０〜２の整数を表し、Ｘ１は−Ｏ−または−Ｓ−を表す。）
［５］
上記［４］に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
上記環状オレフィンポリマー（Ｉ）における上記構造単位［Ａ］と上記構造単位［Ｂ］とのモル比［Ａ］／［Ｂ］が５／９５以上９５／５以下である下層膜形成用樹脂材料。
［６］
上記［１］乃至［５］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
上記環状オレフィンポリマー（Ｉ）とは異なる熱可塑性樹脂（II）をさらに含む下層膜形成用樹脂材料。
［７］
上記［６］に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
上記熱可塑性樹脂（II）が芳香環構造を有する有機ポリマーおよび（メタ）アクリルポリマーから選択される少なくとも一種を含む下層膜形成用樹脂材料。
［８］
上記［６］または［７］に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
上記下層膜形成用樹脂材料における上記環状オレフィンポリマー（Ｉ）と上記熱可塑性樹脂（II）との質量比（Ｉ／II）が５／９５以上８５／１５以下である下層膜形成用樹脂材料。
［９］
上記［６］乃至［８］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
上記下層膜形成用樹脂材料中の上記環状オレフィンポリマー（Ｉ）および上記熱可塑性樹脂（II）の合計含有量が、上記下層膜形成用樹脂材料の全体を１００質量％としたとき、５０質量％以上１００質量％以下である下層膜形成用樹脂材料。
［１０］
上記［１］乃至［９］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
下記方法１により測定される、上記下層膜形成用樹脂材料中の揮発成分の発生量が、上記下層膜形成用樹脂材料の全体を１００質量％としたとき、０．０質量％以上１．０質量％以下である下層膜形成用樹脂材料。
（方法１：上記下層膜形成用樹脂材料をテトラヒドロフランに溶解して、上記下層膜形成用樹脂材料の濃度が２０質量％の溶液を作製し、得られた溶液をアルミ皿に計量し、次いで、窒素気流下、２００℃で３分間加熱してテトラヒドロフランを除去し、次いで、室温まで冷却して上記下層膜形成用樹脂材料を固化し、窒素雰囲気下で、３０〜３００℃の温度範囲、１０℃／ｍｉｎの昇温速度で上記下層膜形成用樹脂材料を加熱し、１００〜２５０℃の範囲における重量減少量から、上記下層膜形成用樹脂材料中の上記揮発成分の発生量を算出する）
［１１］
上記［１］乃至［１０］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーを用いて測定される上記環状オレフィンポリマー（Ｉ）のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００以上２００００以下である下層膜形成用樹脂材料。
［１２］
上記［１］乃至［１１］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
下記方法２により測定される、上記下層膜形成用樹脂材料の波長１９３ｎｍにおける屈折率（ｎ値）が１．５以上２．０以下である下層膜形成用樹脂材料。
（方法２：上記下層膜形成用樹脂材料からなる厚み２５０ｎｍのコート膜をシリコンウェハー上に形成し、得られた上記コート膜の波長１９３ｎｍにおける屈折率（ｎ値）を上記下層膜形成用樹脂材料の上記屈折率（ｎ値）とする）
［１３］
上記［１］乃至［１２］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
下記方法３により測定される、上記下層膜形成用樹脂材料の消衰係数（ｋ値）が０．０００１以上０．５以下である下層膜形成用樹脂材料。
（方法３：上記下層膜形成用樹脂材料からなる厚み２５０ｎｍのコート膜をシリコンウェハー上に形成し、得られた上記コート膜の消衰係数（ｋ値）を上記下層膜形成用樹脂材料の上記消衰係数（ｋ値）とする）
［１４］
上記［１］乃至［１３］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
凹凸構造を有する基板の上記凹凸構造上に形成され、かつ、上記凹凸構造における凹部を埋めるための下層膜に用いられる下層膜形成用樹脂材料。
［１５］
上記［１］乃至［１４］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
上記下層膜形成用樹脂材料に含まれるポリマー成分の全含有量を１００質量部としたとき、上記下層膜形成用樹脂材料中の架橋剤の含有量が５質量部未満である下層膜形成用樹脂材料。
［１６］
上記［１］乃至［１５］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料を含むレジスト下層膜。
［１７］
上記［１］乃至［１５］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料を含む塗膜を基板上に形成する工程を含むレジスト下層膜の製造方法。
［１８］
上記［１７］に記載のレジスト下層膜の製造方法において、
上記塗膜を加熱する工程をさらに含むレジスト下層膜の製造方法。
［１９］
基板と、
上記基板の一方の面に形成された、上記［１］乃至［１５］のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料を含むレジスト下層膜と、
を備える積層体。
［２０］
上記［１９］に記載の積層体において、
上記レジスト下層膜の上記基板とは反対側の表面（α）における下記式により算出される平坦度（△ＦＴ）が０％以上５％以下である積層体。
平坦度（ΔＦＴ）＝［（Ｈｍａｘ―Ｈｍｉｎ）／Ｈａｖ］×１００（％）
（ここで、上記表面（α）の任意の１０カ所において、上記レジスト下層膜の膜厚を測定し、それらの平均値をＨａｖとし、上記レジスト下層膜の膜厚の最大値をＨｍａｘとし、上記レジスト下層膜の膜厚の最小値をＨｍｉｎとする）
［２１］
上記［１９］または［２０］に記載の積層体において、
上記レジスト下層膜の膜厚の平均値Ｈａｖが５ｎｍ以上５００ｎｍ以下である積層体。
（ここで、上記レジスト下層膜の上記基板とは反対側の表面（α）の任意の１０カ所において、上記レジスト下層膜の膜厚を測定し、それらの平均値をＨａｖとする）
［２２］
上記［１９］乃至［２１］のいずれか一つに記載の積層体において、
上記基板は少なくとも一方の表面に凹凸構造を有し、
上記凹凸構造上に上記レジスト下層膜が形成されており、
上記凹凸構造は、高さが５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、凸凸間の間隔が１ｎｍ以上１０ｍｍ以下である積層体。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、十分な光学特性およびエッチング耐性を満たすとともに平坦性に優れ、揮発分の発生量も抑制されたレジスト下層膜を実現できる下層膜形成用樹脂材料を提供することができる。
また、本発明の下層膜形成用樹脂材料は、凹凸構造への埋め込み性に優れ、十分な光学特性およびエッチング耐性を満たすとともに平坦性に優れ、揮発分の発生量も抑制されたレジスト下層膜を複雑な形状の基板上に形成することができる。
さらに、本発明の下層膜形成用樹脂材料は、疎密パターンにおける膜厚差が小さくシリコンウェハー面内の凸パターン上の膜厚均一性に優れたレジスト下層膜を複雑な形状の基板上に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。【００１５】
【図１】実施例１に記載のポリマー１の固体粘弾性測定における貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線、損失弾性率（Ｇ’’）曲線、およびそれらの交点を示す図である。
【図２】実施例５に記載の樹脂組成物１の固体粘弾性測定における貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線、損失弾性率（Ｇ’’）曲線、およびそれらの交点を示す図である。
【図３】本発明に係る実施形態の凸凸間の間隔や凸部の高さ、凸部幅が不均一な凹凸構造を説明するための模式図である。
【図４】本発明に係る実施形態の積層体におけるレジスト下層膜の厚み、凹凸構造の高さおよび凹凸構造の凸凸間の間隔を説明するための模式図である。
【図５】Ｏ２エッチングによる下層膜材料の除去特性評価を行ったポリマー１の除去前後のＳＥＭ観察像を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、数値範囲の「Ａ〜Ｂ」は特に断りがなければ、Ａ以上Ｂ以下を表す。
【００１７】
＜下層膜形成用樹脂材料＞
本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は、多層レジストプロセスに用いられるレジスト下層膜を形成するための下層膜形成用樹脂材料であって、環状オレフィンポリマー（Ｉ）を含み、レオメータを用いて、窒素雰囲気下、ずりモード、測定温度範囲３０〜３００℃（あるいは５０〜２５０℃）、昇温速度３℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚの条件で測定される、上記下層膜形成用樹脂材料の固体粘弾性における、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度が４０℃以上２００℃以下である（図１および図２参照）。
【００１８】
本発明者らは、下層膜形成用樹脂材料の固体粘弾性における、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度が上記範囲内であれば、下層膜形成用樹脂材料の溶融流動性が好適な範囲になり、その結果、基板の凹凸構造を埋め込む際にボイド等の発生を抑制でき、高い平坦性を維持しながら良好な状態の埋め込み性を実現できると考えている。
すなわち、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は、凹凸構造を有する基板の凹凸構造上に形成され、かつ、上記凹凸構造における凹部を埋めるための下層膜を形成するために特に好適に用いることができる。
【００１９】
ここで、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点は、物質（樹脂ともいう）のレオロジーの変化を示す尺度として用いることができる。一般的に、交点に至るまでの昇温過程では物質は弾性体としての特性を示し、樹脂は流動しない。そして、交点を経てさらに高温へ物質を加熱することで粘性流体としての特性を示し樹脂は流動する。つまり、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点は、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料の溶融流動性を示すという技術的意義がある。
貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点の下限値は４０℃以上であるが、好ましくは６０℃以上、より好ましくは７０℃以上、さらに好ましくは７５℃以上、特に好ましくは８０℃以上である。
また、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点の上限値は２００℃以下であるが、好ましくは１９５℃以下、より好ましくは１９０℃以下、さらに好ましくは１８０℃以下、さらにより好ましくは１５０℃以下、特に好ましくは１４０℃以下である。
貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点が上記範囲であると、半導体デバイス製造工程で通常用いられる２００〜２５０℃の加熱条件において、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は、基板表面の凹凸構造を均一に埋め込むために必要な適度な流動性を示すことができる。
【００２０】
すなわち、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点が上記上限値以下であると、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は粘性流体としての特性を示し樹脂は流動し、ボイド等の欠陥をより抑制しながら、基板の凹凸表面を均一な状態で埋め込むことができる。
また、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点が上記下限値以上であると、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料の流動性を抑制でき、その結果、基板の凹凸表面での引けを抑制でき、ボイド等の欠陥を抑制しながら、基板の凹凸表面を均一な状態で埋め込むことができる。
【００２１】
ここで、図３に示すように、基板１が、凸凸間の間隔６や凸部の高さ５、凸部幅８等が不均一な凹凸構造７を有する場合に、レジスト下層膜２の膜厚が不均一になりやすい。しかし、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料によれば、このような凸凸間の間隔６や凸部の高さ５、凸部幅８等が不均一な凹凸構造７の場合であっても、十分な光学特性およびエッチング耐性を満たすとともに平坦性に優れ、揮発分の発生量も抑制されたレジスト下層膜を、上記凹凸構造７上に形成することができる。
より詳しく説明すると、下層膜形成用樹脂材料の固体粘弾性における、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度が上記範囲内であれば、下層膜をスピンコートなどで図３−１に示すような基板上に形成する場合、膜形成工程における高温乾燥工程において、下層膜形成用樹脂材料の溶融流動性が好適な範囲にあり、溶媒揮発による体積収縮が引き起こす下層膜表面凹凸が緩和するように樹脂が流動し、平面形状に近づく傾向がある。このため、表面精度の高い下層膜を上記凹凸構造７上に形成することができる。
【００２２】
本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料とは、半導体デバイスの製造工程において、レジスト層と、基板（好ましくは凹凸構造を有する基板）との間に配置する層を形成するための材料である。レジスト層と基板との間に配置する層は、通常、フォトリソグラフィープロセスでマスクのパターンを転写するレジスト材料からなるレジスト層を基準にレジスト下層膜と呼ばれる。上記基板のレジスト下層膜と接する表面は、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）膜、ＳｉＣＮ膜、シリカ（ＳｉＯ２）にカーボン（Ｃ）をドープしたＳｉＯＣ膜や、メチルシロキサン系有機膜（ＳＯＧ）、数ｎｍ以下の微小な空孔が均一に分布したシリカ絶縁膜等の低誘電材料で被膜を形成した状態であってもよい。
【００２３】
（環状オレフィンポリマー（Ｉ））
本実施形態で用いられる環状オレフィンポリマー（Ｉ）は、室温〜５０℃、好ましくは室温で有機溶媒に溶解する重合体であれば特に制限されない。有機溶媒として好ましいのは、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒および環状炭化水素系溶媒からなる群から選ばれる溶媒である。より好ましいのはアルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒であり、更に好ましくはエーテル系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒である。特に好ましいのは、ポリエーテルモノエステル構造を有する溶媒である。
本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）としてより具体的には、ノルボルナン骨格やテトラシクロドデカン骨格を有する環状オレフィンポリマーを好ましい例として挙げることができる。また、上記の有機溶媒に含まれるようなヘテロ原子を有する置換基を含むことが好ましい。ヘテロ原子を含む置換基としては例えばアルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルアリールアミノカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルアリール基、アリールオキシカルボニルアルキル基、アルコキシアルキルオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基等を好ましい例として挙げる事が出来る。特に好ましい置換基としては上記のようなエステル基である。
本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）の他の例としては、下記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］を有することが好ましく、下記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］および下記一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］を有することがより好ましい。
本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）は、広い範囲のガラス転移温度を有するものが存在する。好ましくは４０〜２２０℃であり、より好ましくは５０〜２２０℃であり、さらに好ましくは６０〜２００℃であり、さらにより好ましくは７０〜１８０℃である。
本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料が、下記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］および下記一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］を有する環状オレフィンポリマー（Ｉ）を含むことで、十分な光学特性およびエッチング耐性を満たすとともに、より一層平坦性に優れ、加熱による揮発分の発生量もより一層抑制されたレジスト下層膜を形成することができる。
繰返し構造単位［Ａ］や繰返し構造単位［Ｂ］を有する環状オレフィンポリマー（Ｉ）は後述する熱可塑性樹脂（II）との相溶性に優れると考えられるため、平坦化効果等に優れた下層膜形成材料を得るのに有利な場合がある。特に環状オレフィンポリマー（Ｉ）のガラス転移温度が高い場合であっても、優れた平坦化効果を示す場合がある。熱可塑性樹脂（II）と組み合わせて用いる場合の高いガラス温度の範囲として、好ましくは１２０℃以上２００℃以下である。好ましい下限値は、１２５℃以上、さらに好ましくは１２８℃以上である。好ましい上限値は、１９０℃以下、さらに好ましくは１８０℃以下である。
本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は、繰返し構造単位［Ｂ］を含む環状オレフィンポリマー（Ｉ）を用いることが特に好ましい。
【００２４】
本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）が、下記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］および下記一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］を有する場合、環状オレフィンポリマー（Ｉ）における上記構造単位［Ａ］と上記構造単位［Ｂ］とのモル比［Ａ］／［Ｂ］は好ましくは５／９５以上９５／５以下であり、より好ましくは７／９３以上９３／７以下であり、さらに好ましくは１０／９０以上９０／１０以下である。
本発明者らは、環状オレフィンポリマー（Ｉ）の組成が上記範囲内であれば、ポリマー主鎖の酸素や硫黄等の元素の密度が好適な範囲になり、基板の凹凸構造を埋め込む際の基板界面との適度な密着性を発現でき、ボイド等の発生をより一層抑制でき、より高い平坦性を維持しながら良好な状態の埋め込み性を実現できると考えている。また、環状オレフィンポリマー（Ｉ）の主鎖に酸素や硫黄等の元素が存在することによる基板との相互作用は、環状オレフィンポリマー（Ｉ）が微細な凹凸構造に侵入するためのドライビングフォースとなっている可能性があるとも推測している。
【００２５】
本実施形態において一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］と一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］とは次式で表される。ここで、下記一般式（１）および一般式（２）において、主鎖部分の点線は、二重結合を構成する一つの共有結合を意味する、あるいは二重結合が水素化されて二重結合を構成する一つの共有結合が消失した状態を意味する。
【化３】
2019069502.tif 000005
【００２６】
（上記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つが、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基、炭素数２〜２０（好ましくは炭素数２〜１０）のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜１０のジアルキルアミノカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数８〜２０のアルキルアリールアミノカルボニル基、炭素数３〜３０（好ましくは炭素数３〜２０）のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜３０のアルコキシカルボニルアリール基、炭素数８〜２０のアリールオキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシアルキルオキシカルボニル基および炭素数４〜３０（好ましくは炭素数４〜２０）のアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基、から選ばれ、Ｒ１〜Ｒ４は互いに結合して環構造を形成していてもよく、ｎは０〜２の整数を表す。）
【００２７】
【化４】
2019069502.tif 000006
【００２８】
（上記一般式（２）中、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つが、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基、炭素数２〜２０（好ましくは炭素数２〜１０）のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜１０のジアルキルアミノカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数８〜２０のアルキルアリールアミノカルボニル基、炭素数３〜３０（好ましくは炭素数３〜２０）のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜３０のアルコキシカルボニルアリール基、炭素数８〜２０のアリールオキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシアルキルオキシカルボニル基および炭素数４〜３０（好ましくは炭素数４〜２０）のアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基から選ばれ、Ｒ５〜Ｒ８が互いに結合して環構造を形成していてもよく、ｎは０〜２の整数を表し、Ｘ１は−Ｏ−または−Ｓ−を表す。）
【００２９】
上記一般式（１）のＲ１〜Ｒ４における炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。炭素原子数が６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ビフェニル基、フェノ−ル基等が挙げられる。炭素素原子数１〜１０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、シクロペントキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基等が挙げられる。炭素原子数が６〜２０のアリールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントラセニルオキシ基、ｏ−トリルオキシ基、ｍ−トリルオキシ基、ｐ−トリルオキシ基、４−オキシ−１，１’−ビフェニル基、４−ヒドロキシフェニルオキシ基等が挙げられる。炭素原子数２〜１０のアルコキシアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、ｎ−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル基、シクロペンチルオキシメチル基、シクロヘキシルオキシメチル基、シクロオクチルオキシメチル基等が挙げられる。炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基としては、例えば、フェニルオキシメチル基、ナフチルオキシメチル基、アントラセニルオキシメチル基、ｏ−トリルオキシメチル基、ｍ−トリルオキシメチル基、ｐ−トリルオキシメチル基、４−オキシ−１，１’−ビフェニルメチル基、４−ヒドロキシフェニルオキシメチル基等が挙げられる。炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、３−メチルブトキシカルボニル基、２−メチルペントキシカルボニル基、３−メチルペントキシカルボニル基、４−メチルペントキシカルボニル基、１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル基、１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル基、ノルボルニルオキシカルボニル基、アダマンチルオキシカルボニル基等が挙げられる。炭素数３〜１０のジアルキルアミノカルボニル基としては、例えば、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、メチルブチルアミノカルボニル基、ブチルエチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルメチルアミノカルボニル基等が挙げられる。炭素原子数７〜２０のアリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、４−メチルフェノキシカルボニル基、３、４−ジメチルフェノキシカルボニル基、１−ナフトキシカルボニル基、２−ナフトキシカルボニル基、１−アントラセノキシカルボニル基等が挙げられる。炭素数８〜２０のアルキルアリールアミノカルボニル基としては、例えば、メチルフェニルアミノカルボニル基、エチルフェニルアミノカルボニル基、ブチルフェニルアミノカルボニル基、シクロヘキシルフェニルアミノカルボニル基等が挙げられる。炭素数３〜３０のアルコキシカルボニルアルキル基としては、例えば、メトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルエチル基、ｎ−プロポキシカルボニルメチル基、ｉ−プロポキシカルボニルメチル基、ｎ−ブトキシカルボニルメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、ｎ−オクチルオキシカルボニルメチル基、シクロオクチルオキシカルボニルメチル基、１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチル基、１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチル基等が挙げられる。炭素数８〜３０のアルコキシカルボニルアリール基としては、例えば、メトキシカルボニルフェニル基、メトキシカルボニル−ｏ−トリル基、メトキシカルボニル−ｍ−トリル基、メトキシカルボニル−ｐ−トリル基、メトキシカルボニルキシリル基、メトキシカルボニル−α−ナフチル基、メトキシカルボニル−β−ナフチル基、エトキシカルボニルフェニル基、プロポキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ｎ−プロポキシカルボニルフェニル基、ｉ−プロポキシカルボニルフェニル基、ｎ−ブトキシカルボニルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニルフェニル基、シクロペンチルオキシカルボニルフェニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニルフェニル基、シクロヘキシルオキシカルボニルフェニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニルフェニル基、シクロオクチルオキシカルボニルフェニル基、１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルフェニル基、１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルフェニル基、メトキシカルボニルナフチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルフナフチル基、ｎ−プロポキシカルボニルナフチル基、ｉ−プロポキシカルボニルナフチル基、ｎ−ブトキシカルボニルナフチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルナフチル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニルナフチル基、シクロペンチルオキシカルボニルナフチル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニルナフチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルナフチル基、ｎ−オクチルオキシカルボニルナフチル基、シクロオクチルオキシカルボニルナフチル基、１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルナフチル基、１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルナフチル基等が挙げられる。炭素数８〜２０のアリールオキシカルボニルアルキル基としては、例えば、フェノキシカルボニルメチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、４−メチルフェノキシカルボニルメチル基、３、４−ジメチルフェノキシカルボニルメチル基、１−ナフトキシカルボニルメチ��基、２−ナフトキシカルボニルメチル基、１−アントラセノキシカルボニルメチル基等が挙げられる。炭素数３〜２０のアルコキシアルキルオキシカルボニル基としては、例えば、メトキシメチルオキシカルボニル基、エトキシメチルオキシカルボニル基、ｎ−プロポキシメチルオキシカルボニル基、イソプロポキシメチルオキシカルボニル基、ｎ−ブトキシメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシメチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル基、シクロオクチルオキシメチルオキシカルボニル基、ノルボニルオキシメチルオキシカルボニル基、１−メチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル基、１−エチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル基、１−メチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル基、１−メチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル基、１−エチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル基、１−エトキシプロピルオキシメチルオキシカルボニル基、１−エトキシ−１−メチルエチルオキシメチルオキシカルボニル基、テトラヒドロフラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル基、テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル基、１−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル基、２−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル基等が挙げられる。炭素数４〜３０のアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、エトキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、シクロオクチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、ノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、１−メチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、１−メチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、１−エチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、１−エトキシプロピルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、１−エトキシ−１−メチルエチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、テトラヒドロフラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、１−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基、２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００３０】
さらに、Ｒ１〜Ｒ４は環構造を形成してもよく、具体的にはＲ１〜Ｒ４のうちそれぞれ独立に、または、少なくとも２つが結合し、その際、−Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＲ９−結合を介してもよい。例えば、環状アルキル構造、環状エステル構造、環状酸無水物構造、環状アミド構造、環状イミド構造等が挙げられる。
【００３１】
Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも２つが−Ｃ−の結合を介して環状アルキル構造を形成する場合、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンチル等が挙げられる。−Ｏ−の結合を介して環状エステル構造を形成する場合、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン等が挙げられる。環状酸無水物構造の場合、無水マレイン酸構造等が挙げられる。−ＮＲ９−の結合を介してラクタム環を形成する場合、γ−ラクタム、δ−ラクタム等が挙げられ、これらラクタム環や環状イミド構造であるマレイミド環を形成する場合、窒素原子上のＲ９としては、例えば、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられる。炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−メチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、４−メチルヘプチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。炭素数６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル、ナフチル、アントラセニル、ｏ−トリル、ｍ−トリル、ｐ−トリル、ビフェニル、フェノ−ル等が挙げられる。
これらの中でも、上記一般式（１）のＲ１〜Ｒ４としてはアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルアリール基、アルコキシアルキルオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基、γ−ブチロラクトン環、無水マレイン酸、マレイミド環が好ましい。
また、Ｘ１は、酸素および硫黄から選ばれる元素由来の構造を意味する。好ましくは酸素由来の構造である。前述の通り、このＸ１が上記の規定を満たす一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］を有する環状オレフィンポリマー（Ｉ）を含む本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は、基板の凹凸構造を埋め込む際の基板界面との適度な密着性を発現でき、ボイド等の発生を抑制でき、高い平坦性を維持しながら良好な状態の埋め込み性を実現できると考えている。また、環状オレフィンポリマー（Ｉ）の主鎖に酸素や硫黄等の元素が存在することによる基板との相互作用は、環状オレフィンポリマー（Ｉ）が微細な凹凸構造に侵入するためのドライビングフォースとなっている可能性があるとも推測している。
【００３２】
本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）は、一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］におけるＲ１〜Ｒ４の少なくとも１つが互いに異なる二種類以上の構造単位を含んでいてもよい。
【００３３】
本実施形態に係る上記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］において、ｎ＝０である環状オレフィンポリマーの例としては、Ｒ１〜Ｒ４が全て水素の場合は、ポリ（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルキル基の場合は、ポリ（５−メチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロピル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロピル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアリール基の場合は、ポリ（５−フェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ナフチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−アントラセニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｏ−トリル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｍ−トリル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｐ−トリル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ビフェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−ヒドロキシフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシ基の場合は、ポリ（５−メトキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシ）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシ）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシ）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペントキシ）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアリールオキシ基の場合は、ポリ（５−フェニルオキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ナフチルオキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−アントラセニルオキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｏ−トリルオキシ）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｍ−トリルオキシ）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｐ−トリルオキシ）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−オキシ−１，１‘−ビフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、（５−（４−ヒドロキシフェニルオキシ）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシアルキル基の場合、ポリ（５−メトキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシエチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシエチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソプロポキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソブトキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアリールオキシアルキル基の場合は、ポリ（５−フェニルオキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ナフチルオキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−アントラセニルオキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｏ−トリルオキシメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｍ−トリルオキシメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｐ−トリルオキシメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−オキシ−１，１‘−ビフェニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−ヒドロキシフェニルオキシメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシカルボニル基の場合は、ポリ（５−メトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソブトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，３，３−トリメチル−２−ブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３，４−ジメチル−３−ヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチルブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチルペントキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチルペントキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチルペントキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチル−３−ヘプチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロペンチルエトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロオクチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロオクチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，７，７−トリメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−７，７−ジメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−メチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−エチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがジアルキルアミノカルボニル基の場合は、ポリ（５−ジメチルアミノカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ジエチルアミノカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エチルメチルアミノカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メチ
ルブチルアミノカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ブチルエチルアミノカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルメチルアミノカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアリールオキシカルボニル基の場合は、ポリ（５−フェノキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ベンジルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチルフェノキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−ナフトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ナフトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アントラセノキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルキルアリールアミノカルボニル基の場合は、ポリ（５−メチルフェニルアミノカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エチルフェニルアミノカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ブチルフェニルアミノカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルフェニルアミノカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシカルボニルアルキル基の場合は、ポリ（５−メトキシカルボニルメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシカルボニルエチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルエチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）メチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）メチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシカルボニルメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシカルボニルメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−オクチルオキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシカルボニルメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）メチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）メチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）メチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）メチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）メチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）メチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシカルボニルアリール基の場合は、ポリ（５−メトキシカルボニルフェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルフェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシカルボニルナフチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルナフチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシカルボニルナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアリールオキシカルボニルアルキル基の場合は、ポリ（５−フェノキシカルボニルメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ベンジルオキシカルボニルメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチルフェノキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−ナフトキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ナフトキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アントラセノキシカルボニルメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシアルキルオキシカルボニル基の場合は、ポリ（５−メトキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソプロポキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ノルボニルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシプロピルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［
２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロフラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メトキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｎ−プロポキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−イソプロポキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｎ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロオクチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシプロピルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（テトラヒドロフラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基の場合は、ポリ（５−メトキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−シクロヘキシル−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシプロピルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロフラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−イソプロピル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（１−アダマンチル）−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−アダマンチル）−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（６−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−デカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（９−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（９−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられる。
【００３４】
Ｒ１〜Ｒ４は互いに結合して環構造を形成している場合、環状アルキル構造としては、例えば、ポリ（１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロ−１，４−メタノ−ナフタレン）等が挙げられ、ラクトン環を形成できる環状エステル構造としては、例えばγ−ブチロラクトン構造として、ポリ（４−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、δ−バレロラクトン構造として、ポリ（４−オキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）等が挙げられ、環状酸無水物構造としては、例えば、ポリ（４−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）が挙げられ、ラクタム環を形成できる環状アミド構造としては、例えばγ−ラクタムとして、ポリ（４−メチル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、またδ−ラクタムとして、ポリ（４−メチル−４−アザ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）等が挙げられ、マレイミド環を形成できる環状イミド構造としては、例えば、ポリ（４−メチル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−プロピ���）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）等が挙げられる。
これらの中でも、本実施形態に係る上記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］において、ｎ＝０である環状オレフィンポリマーとしては、ポリ（５−メトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソブトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，３，３−トリメチル−２−ブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３，４−ジメチル−３−ヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチルブトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチルペントキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチルペントキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチルペントキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチル−３−ヘプチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロペンチルエトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロオクチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロオクチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，７，７−トリメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−７，７−ジメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−メチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−エチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシカルボニルフェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルフェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシカルボニルナフチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルナフチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシカルボニルナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−フェノキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ベンジルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチルフェノキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−ナフトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ナフトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アントラセノキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソプロポキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル
−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ノルボニルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシプロピルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロフラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メトキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｎ−プロポキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−イソプロポキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｎ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロオクチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシプロピルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（テトラヒドロフラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−シクロヘキシル−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシプロピルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロフラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）エトキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−イソプロピル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（１−アダマンチル）−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−アダマンチル）−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）
、ポリ（５−（６−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−デカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（９−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（９−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）が好ましい。
さらに本実施形態に係る上記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］において、Ｒ１〜Ｒ４が互いに結合して環構造を形成している場合、ｎ＝０である環状オレフィンポリマーとして、ポリ（４−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−メチル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）が好ましい。
【００３５】
本実施形態に係る上記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］において、ｎ＝１である環状オレフィンポリマーの例としては、Ｒ１〜Ｒ４が全て水素の場合は、ポリ（テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルキル基の場合は、ポリ（８−メチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロピル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロピル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアリール基の場合は、ポリ（８−フェニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ナフチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−アントラセニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｏ−トリル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｍ−トリル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｐ−トリル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ビフェニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−ヒドロキシフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシ基の場合は、ポリ（８−メトキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシ）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシ）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシ）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペントキシ）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアリールオキシ基の場合は、ポリ（８−フェニルオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ナフチルオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−アントラセニルオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｏ−トリルオキシ）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｍ−トリルオキシ）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｐ−トリルオキシ）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−オキシ−１，１‘−ビフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、（８−（４−ヒドロキシフェニルオキシ）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシアルキル基の場合、ポリ（８−メトキシメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシエチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシエチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソプロポキシメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソブトキシメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアリールオキシアルキル基場合は、ポリ（８−フェニルオキシメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ナフチルオキシメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−アントラセニルオキシメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｏ−トリルオキシメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｍ−トリルオキシメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｐ−トリルオキシメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−オキシ−１，１‘−ビフェニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−ヒドロキシフェニルオキシメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシカルボニル基の場合は、ポリ（８−メトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソブトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，３，３−トリメチル−２−ブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３，４−ジメチル−３−ヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチルブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチルペントキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３
−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチルペントキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチルペントキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチル−３−ヘプチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロペンチルエトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロオクチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロオクチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，７，７−トリメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−７，７−ジメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−メチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−エチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがジアルキルアミノカルボニル基の場合は、ポリ（８−ジメチルアミノカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ジエチルアミノカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エチルメチルアミノカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メチルブチルアミノカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ブチルエチルアミノカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルメチルアミノカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアリールオキシカルボニル基の場合は、ポリ（８−フェノキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ベンジルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチルフェノキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−ナフトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ナフトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アントラセノキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルキルアリールアミノカルボニル基の場合は、ポリ（８−メチルフェニルアミノカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エチルフェニルアミノカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ブチルフェニルアミノカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルフェニルアミノカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシカルボニルアルキル基の場合は、ポリ（８−メトキシカルボニルメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシカルボニルエチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルエチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）メチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）メチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシカルボニルメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシカルボニルメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−オクチルオキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシカルボニルメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）メチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）メチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）メチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）メチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）メチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）メチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１
〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシカルボニルアリール基の場合は、ポリ（８−メトキシカルボニルフェニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルフェニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシカルボニルナフチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルナフチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシカルボニルナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアリールオキシカルボニルアルキル基の場合は、ポリ（８−フェノキシカルボニルメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ベンジルオキシカルボニルメチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチルフェノキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−ナフトキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ナフトキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アントラセノキシカルボニルメチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシアルキルオキシカルボニル基の場合は、ポリ（８−メトキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソプロポキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ノルボニルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシプロピルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロフラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メトキシ）エト
キシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｎ−プロポキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−イソプロポキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｎ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロオクチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシプロピルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（テトラヒドロフラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも一つがアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基の場合は、ポリ（８−メトキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−シクロヘキシル−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシプロピルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロフラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−メチル−２−アダマ
ンチルオキシカルボニル）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−イソプロピル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（１−アダマンチル）−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−アダマンチル）−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（６−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−デカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（９−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（９−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられる。
【００３６】
Ｒ１〜Ｒ４は互いに結合して環構造を形成している場合、環状アルキル構造としては、例えば、ポリ（１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ，９，９ａ，１０，１０ａ−ドデカヒドロ−１，４：９，１０−ジメタノ−アントラセン）等が挙げられ、ラクトン環を形成できる環状エステル構造としては、例えばγ−ブチロラクトン構造として、ポリ（４−オキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、δ−バレロラクトン構造としてポリ（４−オキシ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）等が挙げられ、環状酸無水物構造としては、例えば、ポリ（４−オキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３,５−ジオン）が挙げられ、ラクタム環を形成できる環状アミド構造としては、例えばγ−ラクタムとして、ポリ（４−メチル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、またδ−ラクタムとして、ポリ（４−メチル−４−アザ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）等が挙げられ、マレイミド環を形成できる環状イミド構造としては、例えば、ポリ（４−メチル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）等が挙げられる。
これらの中でも、本実施形態に係る上記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］において、ｎ＝１である環状オレフィンポリマーとしては、ポリ（８−メトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソブトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，３，３−トリメチル−２−ブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３，４−ジメチル−３−ヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチルブトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチルペントキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチルペントキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチルペントキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチル−３−ヘプチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロペンチルエトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロオクチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロオクチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，７，７−トリメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−７，７−ジメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−メチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−エチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシカルボニルフェニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルフェニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−メチルシクロペン
チルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシカルボニルナフチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルナフチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシカルボニルナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−フェノキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ベンジルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチルフェノキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−ナフトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ナフトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アントラセノキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソプロポキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ノルボニルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシプロピルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロフラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メトキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｎ−プロポキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−イソプロポキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｎ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロオクチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシプロピルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（テトラヒドロフラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−アダマンチルオ
キシ）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−シクロヘキシル−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシプロピルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロフラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−  アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカル���ニル）エトキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−イソプロピル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（１−アダマンチル）−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−アダマンチル）−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（６−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−デカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（９−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（９−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）が好ましい。
さらに本実施形態に係る上記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］において、Ｒ１〜Ｒ４が互いに結合して環構造を形成している場合、ｎ＝１である環状オレフィンポリマーとして、ポリ（４−オキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−オキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３,５−ジオン）、ポリ（４−メチル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）が好ましい。
【００３７】
上記一般式（２）においてＲ５〜Ｒ８は、上記の一般式（１）のＲ１〜Ｒ４と同義であり、また、Ｒ５〜Ｒ８は環構造を形成してもよく、具体的にはＲ５〜Ｒ８のうちそれぞれ独立に、または、少なくとも２つが結合し、その際、−Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＲ９−結合を介してもよい。例えば、環状アルキル構造、環状エステル構造、環状酸無水物構造、環状アミド構造、環状イミド構造等が挙げられる。
【００３８】
本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）は、一般式（２）で表される繰り返し構造単位［Ｂ］におけるＲ５〜Ｒ８の少なくとも１つが互いに異なる二種類以上の構造単位を含んでいてもよい。
【００３９】
本実施形態に係る上記一般式（２）で表される繰り返し構造単位［Ｂ］において、ｎ＝０である環状オレフィンポリマーの例としては、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルキル基の場合は、ポリ（５−メチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロピル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロピル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアリール基の場合は、ポリ（５−フェニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ナフチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−アントラセニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｏ−トリル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｍ−トリル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｐ−トリル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ビフェニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−ヒドロキシフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシ基の場合は、ポリ（５−メトキシ−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシ−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシ）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシ）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシ）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペントキシ）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシ−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシ−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシ−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアリールオキシ基の場合は、ポリ（５−フェニルオキシ−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ナフチルオキシ−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−アントラセニルオキシ−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｏ−トリルオキシ）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｍ−トリルオキシ）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｐ−トリルオキシ）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−オキシ−１，１‘−ビフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、（５−（４−ヒドロキシフェニルオキシ）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシアルキル基の場合、ポリ（５−メトキシメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシエチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシエチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソプロポキシメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソブトキシメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアリールオキシアルキル基の場合は、ポリ（５−フェニルオキシメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ナフチルオキシメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−アントラセニルオキシメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｏ−トリルオキシメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｍ−トリルオキシメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｐ−トリルオキシメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−オキシ−１，１‘−ビフェニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−ヒドロキシフェニルオキシメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシカルボニル基の場合は、ポリ（５−メトキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソブトキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，３，３−トリメチル−２−ブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ヘキシルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３，４−ジメチル−３−ヘキシルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチルブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチルペントキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチルペントキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチルペントキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチル−３−ヘプチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロペンチルエトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロオクチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロオクチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，７，７−トリメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン）、ポリ（５−（２−エチル−７，７−ジメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−メチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−エチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがジアルキルアミノカルボニル基の場合は、（５−ジメチルアミノカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ジエチルアミノカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エチルメチルアミノカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メチルブチルアミノカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ブチルエチルアミノカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルメチルアミノカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアリールオキシカルボニル基の場合は、ポリ（５−フェノキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ベンジルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチルフェノキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−ナフトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ナフトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アントラセノキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルキルアリールアミノカルボニル基の場合は、ポリ（５−メチルフェニルアミノカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エチルフェニルアミノカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ブチルフェニルアミノカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルフェニルアミノカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシカルボニルアルキル基の場合は、ポリ（５−メトキシカルボニルメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシカルボニルエチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルエチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）メチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）メチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシカルボニルメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシカルボニルメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−オクチルオキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシカルボニルメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）メチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）メチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）メチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）メチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）メチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）メチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも一つがアルコキシカルボニルアリール基の場合は、ポリ（５−メトキシカルボニルフェニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルフェニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシカルボニルナフチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルナフチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシカルボニルナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアリールオキシカルボニルアルキル基の場合は、ポリ（５−フェノキシカルボニルメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ベンジルオキシカルボニルメチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチルフェノキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−ナフ
トキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ナフトキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アントラセノキシカルボニルメチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシアルキルオキシカルボニル基の場合は、ポリ（５−メトキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソプロポキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ノルボニルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシプロピルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロフラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メトキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｎ−プロポキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−イソプロポキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｎ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロオクチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシプロピルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（テトラヒドロフラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基の場合は、ポリ（５−メトキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−シクロヘキシル−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシプロピルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロフラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）エトキシカルボニル）−７−オキシ−
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−イソプロピル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（１−アダマンチル）−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−アダマンチル）−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（６−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−デカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（９−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（９−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）等が挙げられる。
【００４０】
Ｒ５〜Ｒ８が互いに結合して環構造を形成している場合、環状アルキル構造としては、例えば、ポリ（１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロ−１，４−エポキシ−ナフタレン）等が挙げられ、ラクトン環を形成できる環状エステル構造としては、例えばγ−ブチロラクトン構造として、ポリ（４，１０−ジオキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、δ−バレロラクトン構造として、ポリ（４，１０−ジオキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）等が挙げられ、環状酸無水物構造としては、例えば、ポリ（４，１０−ジオキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）が挙げられ、ラクタム環を形成できる環状アミド構造としては、例えばγ−ラクタムとして、ポリ（４−メチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、またδ−ラクタムとして、ポリ（４−メチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［６．２．１．０２，７］−９−ウンデセン−３−オン）等���挙げられ、マレイミド環を形成できる環状イミド構造としては、例えば、ポリ（４−メチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）等が挙げられる。
これらの中でも、本実施形態に係る上記一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］において、ｎ＝０である環状オレフィンポリマーとしては、ポリ（５−メトキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソブトキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，３，３−トリメチル−２−ブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ヘキシルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３，４−ジメチル−３−ヘキシルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチルブトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチルペントキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチルペントキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチルペントキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−メチル−３−ヘプチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロペンチルエトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロオクチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロオクチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２，７，７−トリメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−７，７−ジメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−メチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−エチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシカルボニルフェニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルフェニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−メトキシカルボニルナフチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシカルボニルナフチル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシカルボニルナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｉ−プロポキシカルボニルナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−フェノキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ベンジルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシク
ロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−メチルフェノキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−ナフトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ナフトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アントラセノキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）ポリ（５−メトキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−エトキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−プロポキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−イソプロポキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ノルボニルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシプロピルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロフラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メトキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｎ−プロポキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−イソプロポキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｎ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−シクロオクチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−ノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシプロピルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（テトラヒドロフラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｎ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロペンチル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−シクロヘキシル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−シクロヘキシル−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１，１−ジシクロヘキシルプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−シクロオクチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−ノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−メチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシプロピルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロフラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−  アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−
オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）エトキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−イソプロピル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（２−（１−アダマンチル）−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−アダマンチル）−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（６−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−デカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（９−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）、ポリ（５−（９−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−７−オキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）が好ましい。
さらに本実施形態に係る上記一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］において、Ｒ５〜Ｒ８が互いに結合して環構造を形成している場合、ｎ＝０である環状オレフィンポリマーとして、ポリ（４，１０−ジオキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オン）、ポリ（４，１０−ジオキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−メチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン）が好ましい。
【００４１】
本実施形態に係る上記一般式（２）で表される繰り返し構造単位［Ｂ］において、ｎ＝１である環状オレフィンポリマーの例としては、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルキル基の場合は、ポリ（８−メチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロピル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロピル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアリール基の場合は、ポリ（８−フェニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ナフチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−アントラセニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｏ−トリル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｍ−トリル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｐ−トリル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ビフェニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−ヒドロキシフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシ基の場合は、ポリ（８−メトキシ−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシ−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシ）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシ）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシ）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペントキシ）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシ−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシ−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシ−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアリールオキシ基の場合は、ポリ（８−フェニルオキシ−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ナフチルオキシ−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−アントラセニルオキシ−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｏ−トリルオキシ）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｍ−トリルオキシ）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｐ−トリルオキシ）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−オキシ−１，１‘−ビフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、（８−（４−ヒドロキシフェニルオキシ）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシアルキル基の場合、ポリ（８−メトキシメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシエチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシエチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソプロポキシメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソブトキシメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアリールオキシアルキル基の場合は、ポリ（８−フェニルオキシメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ナフチルオキシメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−アントラセニルオキシメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｏ−トリルオキシメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｍ−トリルオキシメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｐ−トリルオキシメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−オキシ−１，１‘−ビフェニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−ヒドロキシフェニルオキシメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシカルボニル基の場合は、ポリ（８−メトキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソブトキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキ
シ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，３，３−トリメチル−２−ブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３，４−ジメチル−３−ヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチルブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチルペントキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチルペントキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチルペントキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチル−３−ヘプチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロペンチルエトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロオクチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロオクチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，７，７−トリメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−７，７−ジメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−メチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−エチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがジアルキルアミノカルボニル基の場合は、（５−ジメチルアミノカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（５−ジエチルアミノカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（５−エチルメチルアミノカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（５−メチルブチルアミノカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（５−ブチルエチルアミノカルボニル１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（５−シクロヘキシルメチルアミノカルボニル１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアリールオキシカルボニル基の場合は、ポリ（８−フェノキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ベンジルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチルフェノキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−ナフトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ナフトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アントラセノキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルキルアリールアミノカルボニル基の場合は、ポリ（５−メチルフェニルアミノカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（５−エチルフェニルアミノカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（５−ブチルフェニルアミノカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（５−シクロヘキシルフェニルアミノカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシカルボニルアルキル基の場合は、ポリ（８−メトキシカルボニルメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシカルボニルエチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルエチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］
−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）メチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）メチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシカルボニルメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシカルボニルメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−オクチルオキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシカルボニルメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）メチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）メチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）メチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）メチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）メチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）メチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも一つがアルコキシカルボニルアリール基の場合は、ポリ（８−メトキシカルボニルフェニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルフェニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシカルボニルナフチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルナフチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシカルボニルナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアリールオキシカルボニルアルキル基の場合は、ポリ（８−フェノキシカルボニルメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ベンジルオキシカルボニルメチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチルフェノキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３
、４−ジメチルフェノキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−ナフトキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ナフトキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アントラセノキシカルボニルメチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシアルキルオキシカルボニル基の場合は、ポリ（８−メトキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソプロポキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ノルボニルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシプロピルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロフラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メトキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｎ−プロポキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−イソプロポキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｎ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロオクチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシプロピルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（テトラヒドロフラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられ、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つがアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基の場合は、ポリ（８−メトキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポ
リ（８−（２−シクロヘキシル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−シクロヘキシル−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシプロピルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロフラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−イソプロピル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（１−アダマンチル）−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−アダマンチル）−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（６−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−デカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（９−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（９−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）等が挙げられる。
【００４２】
Ｒ５〜Ｒ８は互いに結合して環構造を形成している場合、環状アルキル構造としては、例えば、ポリ（１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ，９，９ａ，１０，１０ａ−ドデカヒドロ−１，４：９，１０−ジエポキシ−ナフタレン）等が挙げられ、ラクトン環を形成できる環状エステル構造としては、例えばγ−ブチロラクトン構造として、ポリ（４，１４，１５−トリオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、δ−バレロラクトン構造として、ポリ（４，１５，１６−トリオキシ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）等が挙げられ、環状酸無水物構造としては、例えば、ポリ（４，１４，１５−トリオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）が挙げられ、ラクタム環を形成できる環状アミド構造としては、例えばγ−ラクタムとして、ポリ（４−メチル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、またδ−ラクタムとして、ポリ（４−メチル−４−アザ−１５，１６−ジオキシ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−１５，１６−ジオキシ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−１５，１６−ジオキシ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−１５，１６−ジオキシ−ペンタシクロ���１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−１５，１６−ジオキシ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−１５，１６−ジオキシ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−１５，１６−ジオキシ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−１５，１６−ジオキシ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−１５，１６−ジオキシ−ペンタシクロ［１０．２．１．１１，８．０２，７．０９，１４］−１１−ヘキサデセン−３−オン）等が挙げられ、マレイミド環を形成できる環状イミド構造として、例えば、ポリ（４−メチル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）等が挙げられる。
これらの中でも、本実施形態に係る上記一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］において、ｎ＝１である環状オレフィンポリマーとしては、ポリ（８−メトキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソブトキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−３−メチル−３−ペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，３，３−トリメチル−２−ブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３，４−ジメチル−３−ヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチルブトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチルペントキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチルペントキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチルペントキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−メチル−３−ヘプチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロペンチルエトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロオクチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロオクチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルデカヒドロナフタレン−１−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチルデカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２，７，７−トリメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−７，７−ジメチル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−メチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−エチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシカルボニルフェニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルフェニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、
ポリ（８−（３−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）フェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシカルボニルナフチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシカルボニルナフチル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシカルボニルナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｉ−プロポキシカルボニルナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−メチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２，３−ジメチル−２−ブトキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ナフチル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−フェノキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ベンジルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−メチルフェノキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３、４−ジメチルフェノキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−ナフトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ナフトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アントラセノキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−メトキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−エトキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−プロポキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−イソプロポキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ノルボニルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルノルボニルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシプロピルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロフラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−アダマンチルオキシメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メトキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｎ−プロポキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−イソプロポキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｎ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−１
１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−シクロオクチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−ノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルシクロペンチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エチルノルボニルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシプロピルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（テトラヒドロフラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−アダマンチルオキシ）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｎ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロペンチル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−シクロヘキシル−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−シクロヘキシル−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−シクロヘキシル−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−ノルボルニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−ノルボルニル−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（４−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルエトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１，１−ジシクロヘキシルプロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−シクロオクチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−ノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−メチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エチルノルボニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシプロピルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−エトキシ−１−メチルエチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロフラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−  アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（２−（１−アダマンチル）−２−���ロポキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）−２−プロポキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル）エトキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５
．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−イソプロピル−２−アダマンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（１−アダマンチル）−２−プロポキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（２−（１−アダマンチル）−２−ブトキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−アダマンチル）−３−ペンチルオキシカルボニルメチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（３−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−１−シクロペンチルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−ノルボルニルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（１−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（６−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−デカヒドロナフタレン−２−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（９−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）、ポリ（８−（９−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］−ドデカン−４−イルオキシカルボニル）−１１，１２−ジオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン）が好ましい。
さらに本実施形態に係る上記一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］において、Ｒ５〜Ｒ８が互いに結合して環構造を形成している場合、ｎ＝１である環状オレフィンポリマーとして、ポリ（４，１４，１５−トリオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３−オン）、ポリ（４，１４，１５−トリオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−メチル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−エチル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−プロピル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（ｎ−ブチル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（１−メチルブチル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロペンチル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−シクロヘキシル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−フェニル−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）、ポリ（４−（４−ヒドロキシフェニル）−４−アザ−１４，１５−ジオキシ−ペンタシクロ［９．２．１．１１，７．０２，６．０８，１３］−１０−ペンタデセン−３，５−ジオン）が好ましい。
【００４３】
本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）は、例えば、以下に示す下記一般式（３）で表される環状オレフィンモノマーと下記一般式（４）で表される環状オレフィンモノマーとを開環メタセシス重合により重合することにより得ることができる。
【００４４】
【化５】
2019069502.tif 000007
上記一般式（３）中、Ｒ１〜Ｒ４およびｎは上記一般式（１）と同義である。
【００４５】
本実施形態に係る環状オレフィンモノマーは、一般式（３）で表される構造単位におけるＲ１〜Ｒ４の少なくとも１つが互いに異なる二種類以上の構造単位を含んでいてもよい。
【化６】
2019069502.tif 000008
上記一般式（４）中、Ｒ５〜Ｒ８、Ｘ１およびｎは上記一般式（２）と同義である。
【００４６】
本実施形態に係る環状オレフィンモノマーは、一般式（４）で表される構造単位におけるＲ５〜Ｒ８の少なくとも１つが互いに異なる二種類以上の構造単位を含んでいてもよい。
【００４７】
本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）を重合する際に使用される触媒は、上記環状オレフィンモノマーを開環メタセシス重合できる触媒であれば特に限定されないが、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、ルテニウム（Ｒｕ）等の有機遷移金属アルキリデン錯体触媒；有機遷移金属錯体と、助触媒としてのルイス酸との組合せによる開環メタセシス触媒等が挙げられ、好ましくはモリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、ルテニウム（Ｒｕ）等の有機遷移金属アルキリデン錯体触媒が用いられる。
【００４８】
本実施形態では、特に、ヘテロ原子を含有する、極性の高い環状オレフィンモノマーを共重合できる。例えば、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、ルテニウム（Ｒｕ）等の有機遷移金属アルキリデン錯体を開環メタセシス重合触媒に使用した場合に極性の高い環状オレフィンモノマーを効率よく共重合することができる。
【００４９】
上記有機遷移金属アルキリデン錯体の開環メタセシス重合触媒としては、例えば、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＢｕｔ）（ＯＢｕｔ）２、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＢｕｔ）（ＯＣＭｅ２ＣＦ３）２、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＢｕｔ）（ＯＣＭｅ（ＣＦ３）２）２、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＢｕｔ）２、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣＭｅ２ＣＦ３）２、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣＭｅ（ＣＦ３）２）２、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣ（ＣＦ３）３）２、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣ（ＣＦ３）３）２（式中のＰｒｉはｉｓｏ−プロピル基、Ｂｕｔはｔｅｒｔ−ブチル基、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。）等のタングステン系アルキリデン触媒；Ｗ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＭｅＰｈ）（ＯＢｕｔ）２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＭｅ２）（ＯＢｕｔ）２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＰｈ２）（ＯＢｕｔ）２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＭｅＰｈ）（ＯＣＭｅ２（ＣＦ３））２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＭｅ２）（ＯＣＭｅ２（ＣＦ３））２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＰｈ２）（ＯＣＭｅ２（ＣＦ３））２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＭｅ２）（ＯＣＭｅ（ＣＦ３）２）２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＭｅ２）（ＯＣＭｅ（ＣＦ３）２）２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＰｈ２）（ＯＣＭｅ（ＣＦ３）２）２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＭｅＰｈ）（ＯＣＭｅ２（ＣＦ３））２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＭｅＰｈ）（ＯＣＭｅ（ＣＦ３）２）２（ＰＭｅ３）、Ｗ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＨＣＭｅＰｈ）（ＯＰｈ）２（ＰＭｅ３）、（式中のＰｒｉはｉｓｏ−プロピル基、Ｂｕｔはｔｅｒｔ−ブチル基、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。）等のタングステン系アルキリデン触媒；Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＢｕｔ）（ＯＢｕｔ）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＢｕｔ）（ＯＣＭｅ２ＣＦ３）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＢｕｔ）（ＯＣＭｅ（ＣＦ３）２）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＢｕｔ）（ＯＣ（ＣＦ３）３）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６− Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＢｕｔ）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣＭｅ２ＣＦ３）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣＭｅ（ＣＦ３）２）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｐｒｉ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣ（ＣＦ３）３）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＢｕｔ）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６��３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣＭｅ２ＣＦ３）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣＭｅ（ＣＦ３）２）２、Ｍｏ（Ｎ−２，６−Ｍｅ２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣ（ＣＦ３）３）２（式中のＰｒｉはｉｓｏ−プロピル基、Ｂｕｔはｔｅｒｔ−ブチル基、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。）等のモリブデン系アルキリデン触媒；Ｒｕ（Ｐ（Ｃ６Ｈ１１）３）２（ＣＨＰｈ）Ｃｌ２（式中のＰｈはフェニル基を表す。）等のルテニウム系アルキリデン触媒等が挙げられる。上記開環メタセシス重合触媒は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用して使用してもよい。
【００５０】
本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）を重合する際の重合触媒金属成分としては、例えば、モリブデン、タングステン、レニウム、イリジウム、タンタル、ルテニウム、バナジウム、チタン、パラジウム、ロジウム等の遷移金属が挙げられる。好ましくはモリブデン、タングステン、ルテニウム、ロジウムであり、より好ましくはモリブデン、タングステンである。
【００５１】
重合反応において環状オレフィンモノマーと有機遷移金属アルキリデン錯体の開環メタセシス重合触媒のモル比は、環状オレフィンモノマーが開環メタセシス重合触媒１モルに対して例えば１０当量〜５００００当量であり、好ましくは５０当量〜３００００当量、より好ましくは１００当量〜２００００当量である。
【００５２】
重合反応は、無溶媒でおこなってもよいし、溶媒を使用しておこなってもよい。溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、デカリン等の脂肪族環状炭化水素；メチレンジクロライド、ジクロロエタン、ジクロロエチレン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル等が挙げられる。これらの溶媒は１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００５３】
また、重合反応は、オレフィン類やジエン類等の連鎖移動剤共存下で行ってもよい。連鎖移動剤として用いられるオレフィン類としては、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン等のα−オレフィン；ビニルトリメチルシラン、アリルトリメチルシラン、アリルトリエチルシラン、アリルトリイソプロピルシラン等のケイ素含有オレフィン等が挙げられる。また、ジエン類としては、例えば、１、４−ペンタジエン、１、５−ヘキサジエン、１、６−ヘプタジエン等の非共役系ジエンが挙げられる。連鎖移動剤はそれぞれ単独で使用してもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００５４】
共存させる連鎖移動剤の使用量は、環状オレフィンモノマー１モルに対して連鎖移動剤が、好ましくは０．００１当量〜１０００当量、より好ましくは０．０１当量〜１００当量の範囲である。また、連鎖移動剤が、開環メタセシス重合触媒１モルに対して、好ましくは０．１当量〜２０００当量、より好ましくは１当量〜１０００当量の範囲である。これら量比を任意に設定することにより、分子量の大きさを調整することができる。
【００５５】
重合反応におけるモノマー濃度は、環状オレフィンモノマーの反応性や重合溶媒ヘの溶解性等によっても異なるため特に限定されないが、溶媒１ｋｇに対する環状オレフィンモノマーの濃度は、例えば０．００１ｋｇ／ｋｇ〜３ｋｇ／ｋｇ、好ましくは０．０１ｋｇ／ｋｇ〜２ｋｇ／ｋｇ、さらに好ましくは０．０２ｋｇ／ｋｇ〜１ｋｇ／ｋｇの範囲である。反応温度は、環状オレフィンモノマーおよび開環メタセシス触媒の種類や量等によって異なるため特に限定されないが、例えば、−３０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜１２０℃、さらに好ましくは１５℃〜１００℃である。反応時間は、例えば、１分〜１０時間、好ましくは５分〜８時間、さらに好ましくは１０分〜６時間である。
【００５６】
重合反応後、ブチルアルデヒド等のアルデヒド類、アセトン等のケトン類、メタノール等のアルコール類等で反応を停止し、環状オレフィンポリマー溶液を得ることができる。その際、環状オレフィンモノマーの重合率は、得られる環状オレフィンポリマー中の未重合モノマーの量を減らし、揮発成分（アウトガス）の発生をより抑制する観点から、好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９５％以上であり、さらに好ましくは１００％である。
【００５７】
さらに、得られた環状オレフィンポリマーの溶液からポリマーを取得する方法は、特に制限はないが、例えば、撹拌下の貧溶剤に反応溶液を排出する方法、反応溶液中にスチームを吹き込むスチームストリッピング等の方法によってポリマーを析出させる方法、または、反応溶液から溶剤を加熱等によって蒸発除去する方法等が挙げられる。
【００５８】
また、本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）は主鎖の二重結合を水添（水素化ともいう）した形態であってもよい。これにより、主鎖の二重結合によりポリマー鎖の運動を制限している束縛をとき、例えば、ポリマーのガラス転移温度を低下させ、レオメータで測定した際の貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点の温度を適切な範囲に調整し、より一層良好な加熱溶融流動性を発現させることができる。その結果、ボイド等の欠陥がより一層抑制され、平坦性により一層優れ、より一層良好な状態の埋め込み性を発現した下層膜を形成することができる。
この際の水素化反応における水添率は好ましくは０．１〜１００モル％であり、より好ましくは１．０〜９５モル％、さらに好ましくは５〜９０モル％である。
【００５９】
開環メタセシス重合で得られたポリマーの主鎖の二重結合部を水素添加するための触媒は、水素添加できる触媒であれば、均一系金属錯体触媒でも不均一系の金属担持触媒のいずれであってもよい。この中で好ましくは、触媒を容易に分離できる不均一系金属担持触媒が好適であり、例えば、活性炭担持パラジウム、アルミナ担持パラジウム、活性炭担持ロジウム、アルミナ担持ロジウム、活性炭担持ルテニウム、アルミナ担持ルテニウム等が挙げられる。これらの触媒は、単独で用いてもよく、または二種類以上を組合せて使用することもできる。
【００６０】
水素添加に用いられる溶剤としては、ポリマーを溶解し、かつ、溶剤自身が水素添加されないものであれば特に制限はなく、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、デカリン等の脂肪族環状炭化水素；メチレンジクロライド、ジクロロエタン、ジクロロエチレン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル等が挙げられる。これらの溶剤は１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。また、好ましくは上記した重合反応で選ばれる溶剤と同種の溶剤を用いることで、溶剤置換工程を要せず生産性に適した工程を適用することができる。
【００６１】
上記の主鎖のオレフィン部の水素添加反応は、水素圧力が常圧〜１０ＭＰａであることが好ましく、０．５〜８ＭＰａであることがより好ましく、２〜５ＭＰａであることが特に好ましい。また、反応温度は、０〜２００℃の温度であることが好ましく、室温〜１５０℃であることがより好ましく、５０〜１００℃であることが特に好ましい。水素添加反応の実施様式は、特に制限はないが、例えば、触媒を溶剤中に分散または溶解して行う方法、触媒をカラム等に充填し、固定相としてポリマー溶液を流通させて行う方法等が挙げられる。
【００６２】
さらに、主鎖のオレフィン部の水素添加処理は、水素添加処理前のポリマーの重合溶液を貧溶剤に析出させポリマーを単離した後に、再度溶剤に溶解して水素添加処理を行なっても、重合溶液からポリマーを単離することなく、上記の水添触媒で水素添加処理を行なってもよく、特に制限はない。
【００６３】
水素添加後、特に、活性炭担持ロジウム、活性炭担持ルテニウム等の不均一系金属担持触媒を好ましく用いる場合のポリマー溶液からポリマーを取得する方法は、特に制限はないが、例えば、ろ過、遠心分離、デカンテーション等の方法で触媒を含有しないポリマー溶液を取得し、撹拌下の貧溶剤に反応溶液を排出する方法、反応溶液中にスチームを吹き込むスチームストリッピング等の方法によってポリマーを析出させる方法、または、反応溶液から溶剤を加熱等によって蒸発除去する方法等が挙げられる。
また、不均一系金属担持触媒を利用して水素添加反応を実施した場合は、合成液をろ過して金属担持触媒をろ別した後に、上記した方法でポリマーを取得することもできる。好ましくは、半導体デバイス製造工程で使用される特に金属を含まないポリマー溶液を得るためには、触媒成分を粗取りした溶液をろ過し、上記した方法でポリマーを取得してもよい。特に、触媒成分を精密ろ過することが、好適であり、ろ過フィルターの目開きは、好ましくは、１０μｍ〜０．０５μｍ、特に好ましくは、１０μｍ〜０．１０μｍ、さらに好ましくは、５μｍ〜０．１０μｍである。
【００６４】
本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）において、例えば試料濃度３．０〜９．０ｍｇ／ｍｌでゲルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が、好ましくは１０００〜２００００であり、より好ましくは１５００〜１９０００であり、さらに好ましくは２０００〜１８０００である。重量平均分子量（Ｍｗ）を上記範囲とすることにより、基板の凹凸構造の表面に本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料を塗布した後のベーク工程における、通常の半導体デバイス製造工程で適応される２００〜２５０℃の加熱において、より一層良好な加熱溶融流動性を発現することができる。その結果、ボイド等の欠陥がより一層抑制され、平坦性により一層優れ、より一層良好な状態の埋め込み性を発現した下層膜を形成することができる。さらに、疎密パターンにおける膜厚差が小さくシリコンウェハー面内の凸パターン上の膜厚均一性に優れたレジスト下層膜を複雑な形状の基板上に形成することができる。
【００６５】
また、上記範囲の分子量（Ｍｗ）とする際の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比である分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．３〜５．０であり、より好ましくは１．３〜４．０であり、さらに好ましくは１．３〜３．０である。分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を上記範囲とすることにより、ベーク工程での加熱に対して溶融ムラをより一層抑制でき、樹脂はより一層均一に溶融する。その結果、ボイド等の欠陥がより一層抑制され、平坦性により一層優れ、より一層良好な状態の埋め込み性を発現した下層膜を形成することができる。
【００６６】
（熱可塑性樹脂（II））
本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は、環状オレフィンポリマー（Ｉ）とは異なる熱可塑性樹脂（II）をさらに含むことが好ましい。これにより、例えば、図３に示すような、凸凸間の間隔６や凸部の高さ５、凸部幅８等が不均一な凹凸構造に対する埋め込み性をより一層良好にすることができる。加えて、疎密パターンにおける膜厚差が小さくシリコンウェハー面内の凸パターン上の膜厚均一性をより一層良好にすることができる。
【００６７】
本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料における環状オレフィンポリマー（Ｉ）と熱可塑性樹脂（II）との質量比（Ｉ／II）は、下層膜形成用樹脂材料のガラス転移温度を低下させ、レオメータで測定した際の貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点の温度を適切な範囲に調整し易くする観点から、好ましくは５／９５以上、より好ましくは１０／９０以上、さらに好ましくは１５／８５以上であり、好ましくは９５／５以下、より好ましくは９０／１０以下、さらに好ましくは８５／１５以下、さらにより好ましくは８０／２０以下、さらにより好ましくは７０／３０以下、さらにより好ましくは６３／３７以下、特に好ましくは６０／４０以下である。
【００６８】
熱可塑性樹脂（II）としては熱可塑性であれば特に限定されず、種々の有機ポリマーを使用することができる。このような有機ポリマーとしては、例えば、付加重合または縮重合等で得られるポリマーを使用することができる。好ましくは、ポリエステル、ポリスチレン、ポリイミド、アクリルポリマー、メタクリルポリマー（アクリルポリマーおよびメタクリルポリマーを合わせて（メタ）アクリルポリマーとも呼ぶ。）、ポリビニルエーテル、フェノールノボラック、ナフトールノボラック、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート等の付加重合ポリマーまたは縮重合ポリマーを使用することができる。屈折率（ｎ）および減衰係数（ｋ）等を調整するための吸光部位として、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、トリアジン環、キノリン環、及びキノキサリン環等の芳香環構造を有する有機ポリマーが好ましく使用される。
【００６９】
芳香環構造を有する有機ポリマーとしては、例えば、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、スチレン、ヒドロキシスチレン、ベンジルビニルエーテル及びＮ−フェニルマレイミド等の付加重合性モノマーをその構造単位として含む付加重合ポリマーや、フェノールノボラック及びナフトールノボラック等の縮重合ポリマーが挙げられる。 
【００７０】
また、熱可塑性樹脂（II）として付加重合ポリマーが使用される場合、そのポリマーは単独重合体であってもよいし、共重合体であってもよい。付加重合ポリマーの製造には付加重合性モノマーが使用される。そのような付加重合性モノマーとしてはアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、アクリルアミド化合物、メタクリルアミド化合物、ビニル化合物、スチレン化合物、マレイミド化合物、マレイン酸無水物、アクリロニトリル等が挙げられる。 
【００７１】
アクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ノルマルヘキシルアクリレート、イソプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、３-クロロ-２-ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２,２,２−トリフルオロエチルアクリレート、２,２,２−トリクロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メチル−２−アダマンチルアクリレート、５−アクリロイルオキシ−６−ヒドロキシノルボルネン−２−カルボキシリック−６−ラクトン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、グリシジルアクリレート等が挙げられる。
【００７２】
メタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ノルマルヘキシルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２,２,２−トリフルオロエチルメタクリレート、２,２,２−トリクロロエチルメタクリレート、２−ブロモエチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−メチル−２−アダマンチルメタクリレート、５−メタクリロイルオキシ−６−ヒドロキシノルボルネン−２−カルボキシリック−６−ラクトン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、グリシジルメタクリレート、２−フェニルエチルメタクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、ブロモフェニルメタクリレート等が挙げられる。
【００７３】
アクリルアミド化合物としては、例えば、アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−アントリルアクリルアミド等が挙げられる。
メタクリルアミド化合物としては、例えば、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−アントリルアクリルアミド等が挙げられる。
【００７４】
ビニル化合物としては、例えば、ビニルアルコール、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニル酢酸、ビニルトリメトキシシラン、２−クロロエチルビニルエーテル、２−メトキシエチルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン等が挙げられる。
スチレン化合物としては、例えば、スチレン、ヒドロキシスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メトキシスチレン、シアノスチレン、アセチルスチレン等が挙げられる。
マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−ヒドロキシエチルマレイミド等が挙げられる。
【００７５】
熱可塑性樹脂（II）として縮重合ポリマーが使用される場合、そのようなポリマーとしては、例えば、グリコール化合物とジカルボン酸化合物との縮重合ポリマー等が挙げられる。グリコール化合物としては、例えば、ジエチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ブチレングリコール等が挙げられる。ジカルボン酸化合物としては、例えば、コハク酸、アジピン酸、テレフタル酸、無水マレイン酸等が挙げられる。
また、縮重合ポリマーとしては、例えば、ポリピロメリットイミド、ポリ（ｐ−フェニレンテレフタルアミド）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミドが挙げられる。
【００７６】
これらの中でも、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料のエッチング耐性や、屈折率（ｎ）、減衰係数（ｋ）を良好に維持しながら、レオメータで測定した際の貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点の温度を適切な範囲により一層調整し易くする観点、および半導体製造プロセス導入の容易さの観点から、本実施形態に係る熱可塑性樹脂（II）としては、芳香環構造を有する有機ポリマーおよび（メタ）アクリルポリマーから選択される少なくとも一種が好ましく、（メタ）アクリルポリマーおよびポリヒドロキシスチレン系樹脂から選択される少なくとも一種がより好ましい。
【００７７】
本実施形態に係る（メタ）アクリルポリマーは、アクリル酸エステル化合物またはメタクリル酸エステル化合物に由来する構成単位を少なくとも有するポリマーである。
アクリル酸エステル化合物またはメタクリル酸エステル化合物としては、例えば、前述した化合物を使用することができる。
【００７８】
本実施形態に係るポリヒドロキシスチレン系樹脂は、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位を少なくとも有するポリマーである。本実施形態において、ヒドロキシスチレンとは、ヒドロキシスチレン、およびヒドロキシスチレンのα位に結合する水素原子がハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換されたもの、並びにそれらの誘導体のヒドロキシスチレン誘導体（モノマー）を含む概念とする。
【００７９】
上記ヒドロキシスチレン誘導体は、少なくともベンゼン環とこれに結合する水酸基とが維持されており、例えば、ヒドロキシスチレンのα位に結合する水素原子が、ハロゲン原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換されたもの、並びにヒドロキシスチレンの水酸基が結合したベンゼン環に、さらに炭素原子数１〜５のアルキル基が結合したものや、この水酸基が結合したベンゼン環に、さらに１〜２個の水酸基が結合したもの（このとき、水酸基の数の合計は２〜３である。）等が挙げられる。ここで、ヒドロキシスチレンのα位とは、特に断りがない限り、ベンゼン環が結合している炭素原子のことをいう。
上記ハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等が挙げられる。
【００８０】
本実施形態に係るポリヒドロキシスチレン系樹脂、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位の割合は、ポリヒドロキシスチレン系樹脂を構成する全構成単位に対して６０モル％以上１００モル％以下であることが好ましく、７０モル％以上１００モル％以下であることがより好ましく、８０モル％以上１００モル％以下であることがさらに好ましい。
【００８１】
ここで、一般的に、ポリヒドロキシスチレン系樹脂等の芳香環構造を有する有機ポリマーは、波長１９３ｎｍに非常に大きな吸収を示すため、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザーを光源に用いるＡｒＦフォトリソグラフィー工程には適していない。そのため、ＡｒＦフォトリソグラフィー工程に適している環状オレフィンポリマー（Ｉ）に、ポリヒドロキシスチレン系樹脂等の芳香環構造を有する有機ポリマーを組み合わせることは、当業者であれば通常考えないことである。
加えて、一般的に、異なる２種類のポリマーを混ぜると相分離が起こってしまい、それに伴い、組成物のガラス転移温度が混ぜた２種類のポリマーのガラス転移温度に由来する２つのピークとなり下層膜形成工程でベーク条件が複雑になる、あるいは下層膜内の不均一さにより（特に酸素プラズマでの）エッチングレートが一定とならない、平坦化材としての効果でも不利となることが見込まれる、などリソグラフィー工程には適さない材料となってしまう。そのため、ＡｒＦフォトリソグラフィー工程に適している環状オレフィンポリマー（Ｉ）に、ポリヒドロキシスチレン系樹脂等の芳香環構造を有する有機ポリマーを組み合わせることは、当業者であれば通常考えないことである。
しかし、本発明者らの検討によれば、環状オレフィンポリマー（Ｉ）にポリヒドロキシスチレン系樹脂を組み合わせることによって、下層膜形成用樹脂材料のエッチング耐性やエッチングレート、屈折率（ｎ）、減衰係数（ｋ）等を良好に維持しながら、レオメータで測定した際の貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点の温度を適切な範囲に調整しやすくなり、その結果、例えば図３に示すような、表面に凸凸間幅や凸部の高さが不均一な凹凸構造に対する下層膜形成用樹脂材料の埋め込み性をより一層効果的に向上させることができることを見出した。
【００８２】
本実施形態に係る熱可塑性樹脂（II）のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１０００〜１０００００であり、より好ましくは１０００〜５００００であり、さらに好ましくは１０００〜３００００である。
本実施形態に係る熱可塑性樹脂（II）は本発明の効果を損なわない範囲で、一種のみを使用することができ、または二種以上を組み合わせて使用することができる。 
【００８３】
また、下記方法１により測定される、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料中の揮発成分の発生量は、上記下層膜形成用樹脂材料の全体を１００質量％としたとき、好ましくは０．０質量％以上１．０質量％以下であり、より好ましくは０．０質量％以上０．７質量％以下、さらに好ましくは０．０質量％以上０．５質量％以下、特に好ましくは０．０質量％以上０．１質量％以下である。
これにより、加熱溶融時のポリマーの分解に伴う揮発成分（アウトガス）の発生を抑制できるので、より一層平坦性に優れたレジスト下層膜を形成することができる。
すなわち、上層に設ける中間層やレジスト層に用いる材料とのインターミキシングを抑制でき、ボイド等の発生を抑制でき、より一層良好な状態の埋め込み性で、平坦性により一層優れたレジスト下層膜を形成することができる。
方法１：本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料をテトラヒドロフランに溶解して、上記下層膜形成用樹脂材料の濃度が２０質量％の溶液を作製し、得られた溶液をアルミ皿に計量し、次いで、窒素気流下、２００℃で３分間加熱してテトラヒドロフランを除去し、次いで、室温まで冷却して上記下層膜形成用樹脂材料を固化し、窒素雰囲気下で、３０〜３００℃の温度範囲、１０℃／ｍｉｎの昇温速度で上記下層膜形成用樹脂材料を加熱し、１００〜２５０℃の範囲における重量減少量から、上記下層膜形成用樹脂材料中の上記揮発成分の発生量を算出する。
【００８４】
本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料の示差走査熱量分析によるガラス転移温度は好ましくは４０〜２２０℃であり、より好ましくは５０〜２２０℃であり、さらに好ましくは６０〜２００℃であり、さらにより好ましくは７０〜１８０℃である。ガラス転移温度が上記範囲であると、上記した貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点の温度を上記した範囲に調整しやすくなる。
【００８５】
また、レジスト下層膜の平坦性の評価は、例えば、スピンコート法による塗膜形成で基板の凹凸表面を埋め、焼成後のサンプルの断面を切り出したサンプルのＳＥＭ観察による方法が用いられる。この場合、好ましくは大気面の揺らぎの程度を示す尺度として、以下の平坦度（ΔＦＴ）を用いることができる。まず、基板の凹凸構造のうち凹部底面から大気面（後述する表面（α））までの高さを１０点測定し平均値（Ｈａｖ）を膜厚とする。次いで、揺らぎの膜厚の最大値（Ｈｍａｘ）と最小値（Ｈｍｉｎ）を計測した結果から、最大値と最小値の差（Ｈｍａｘ―Ｈｍｉｎ）を膜厚の平均値で除した値［（Ｈｍａｘ―Ｈｍｉｎ）／Ｈａｖ］×１００（％）を平坦度（ΔＦＴ）の尺度とする。ただし、基板に凹凸構造がないときは、上記の「凹部底面から大気面までの高さ」を「基板表面から大気面までの高さ」に置き換えればよい。
図４は、本発明に係る実施形態の積層体１０におけるレジスト下層膜２の膜厚４、凹凸構造７の高さ５および凹凸構造７の凸凸間の間隔６を説明するための模式図である。図４に示すように、基板１に凹凸構造７がある場合は、凹部底面から表面（α）３までの高さがレジスト下層膜２の膜厚４となり、基板１に凹凸構造７がない場合は、基板１の表面から表面（α）３までの高さがレジスト下層膜２の膜厚４となる。
【００８６】
この際の平坦度（ΔＦＴ）は、好ましくは０〜５％、より好ましくは０〜３％、さらに好ましくは０〜１％である。これにより、中間層の有無に関わらずレジスト層の厚みをより一層均一にでき、リソグラフィーにおいて所望のパターンを再現性良く得ることができる。
また、レジスト下層膜の疎密パターンにおける膜厚差の評価は、例えば、スピンコート法による塗膜形成で基板の凹凸表面を埋め、焼成後のサンプルの断面を切り出したサンプルのＳＥＭ観察による方法が用いられる。この場合、疎密パターンの切り替わり部とは、図３−２に示すように、基板上の凹凸構造のうち凸凸間幅（凹幅）＝ａ、凸幅＝ｂとしたとき、ａ＋ｂで表されるパターンピッチ幅に対する凸凸間幅の割合［ａ／（ａ＋ｂ）］をαとし、同一基板上の凸凸間幅と凸幅の異なるパターン領域のそれぞれのαの値、α１およびα２を求める。そのα１とα２の差の絶対値が、０＜｜α１−α２｜＜１の範囲にある場合を疎密パターンの切り替わり部とする。疎密パターンの切り替わり部における膜厚差とは、上記αの値が異なる同一基板上のパターン領域において、それぞれのパターン領域で凸上表面から大気面までの膜厚を１０点測定し、それぞれの平均値Ｈ１とＨ２を求め、２つのパターン領域の凸上平均膜厚の差の絶対値、｜Ｈ１−Ｈ２｜を疎密パターンの切り替わり部における膜厚差ΔＦＴ（疎密）とする。
図３−２において、ａ１／（ａ１＋ｂ１）＝α１、ａ２／（ａ２＋ｂ２）＝α２、Ｈ１とＨ２は上記のα１とα２の領域におけるそれぞれの凸上平均膜厚であり、｜Ｈ１−Ｈ２｜＝ΔＦＴ（疎密）である。
この際の疎密パターンの切り替わり部における膜厚差は、小さい程、基板の凸パターン上の膜厚均一性が良好であるといえ、好ましくは０ｎｍ以上２０ｎｍ以下、より好ましくは０ｎｍ以上１５ｎｍ以下、さらに好ましくは０ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。これにより、中間層の有無に関わらずレジスト層の厚みをより一層均一にでき、リソグラフィーにおいて所望のパターンを再現性良く得ることができる。
【００８７】
下層膜の上方に形成したレジスト材料からなる層に、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザーを光源にしてフォトマスクのパターンを転写するＡｒＦフォトリソグラフィー工程では、レジスト層から下層膜を通過した光が、半導体基板表面で反射し、再度、下層膜から上方のレジスト層に入射することがある。所謂、定在波の影響で光干渉が生じ、レジスト内部で発生する酸の濃度が不均一になることでパターンのラフネスが悪化する場合がある。また、複数種のトレンチ、特に互いに異なるアスペクト比のトレンチを有する基板を用いた場合、光の反射は特に段差部分で乱反射を引き起こし、乱反射した光が再度、下層膜からレジスト層に入射することで、本来、未露光部であるべきレジスト層内部に光が入射し発生した酸により転写精度を悪化させてしまう現象が生じることがある。
【００８８】
これらの下層膜からレジスト層への定在波や乱反射に起因して起こる、パターンのラフネス悪化や転写精度悪化を防止するためには、下層膜に反射防止膜としての機能を持たせる必要がある。実用的には、下層膜からレジスト膜内への反射率を１％以下に抑える必要があるとされている。
【００８９】
反射防止膜としての機能を発現させる具体的な方法としては、下層膜形成用樹脂材料の光学定数を制御する方法が知られている。
下記方法２により測定される本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料の波長１９３ｎｍに対する屈折率（ｎ値）および下記方法３により測定される本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料の消衰係数（ｋ値）は、好ましくはｎ値が１．５〜２．０、ｋ値が０．０００１〜０．５、より好ましくはｎ値が１．５５〜１．９５、ｋ値が０．０００１〜０．４、さらに好ましくはｎ値が１．６〜１．９、ｋ値が０．０００１〜０．３の範囲に制御されることで、下層膜からレジスト層への反射率を１％以下とすることができる。また、上記反射防止膜は平坦な形状であることが反射防止性能を発揮させる観点で好ましい。本実施形態であれば、上記下地膜表面を平坦な構造とすることができるので、反射防止膜を形成させるうえでも好ましい。
方法２：下層膜形成用樹脂材料からなる厚み２５０ｎｍのコート膜をシリコンウェハー上に形成し、得られたコート膜の波長１９３ｎｍにおける屈折率（ｎ値）を下層膜形成用樹脂材料の屈折率（ｎ値）とする。
方法３：下層膜形成用樹脂材料からなる厚み２５０ｎｍのコート膜をシリコンウェハー上に形成し、得られたコート膜の消衰係数（ｋ値）を下層膜形成用樹脂材料の消衰係数（ｋ値）とする。
【００９０】
また、この際に用いられる下層膜の膜厚（凹凸構造がない基板を用いるときは任意の十カ所において基板の上部から下層膜の表面まで距離を測定し、凹凸構造を有する基板を用いる場合は基板の凹凸表面の凹部底面から下層膜の表面までの距離を測定する）の平均値Ｈａｖ（ここで、レジスト下層膜の基板とは反対側の表面（α）の任意の１０カ所において、上記レジスト下層膜の膜厚を測定し、それらの平均値をＨａｖとする）は、好ましくは５〜５００ｎｍ、より好ましくは７〜４５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４００ｎｍの範囲である。上記したｎ値とｋ値の範囲、および下層膜の厚みの範囲内である場合、ＡｒＦフォトリソグラフィー工程において、フォトマスクのパターンをラフネス無く、精度良く転写した加工基板を得ることができる。
【００９１】
＜ワニス状の下層膜形成用樹脂材料の調製＞
本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は、例えば、本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）と、必要に応じて熱可塑性樹脂（II）と、を有機溶媒に溶解または分散させ、必要に応じて、所望のパターンのサイズに応じた細孔のフィルターを通して異物を除去することにより、基板上に塗布するのに好適なワニス状の下層膜形成用樹脂材料とすることができる。
【００９２】
この際に用いる有機溶媒としては、本実施形態に係る環状オレフィンポリマー（Ｉ）と、必要に応じて熱可塑性樹脂（II）とを、溶解または分散可能な溶媒であれば特に限定されない。
有機溶媒としては、例えば、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒等が挙げられる。
【００９３】
アルコール系溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、４−メチル−２−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール等の炭素数１〜１８の脂肪族モノアルコール系溶媒；シクロヘキサノール等の炭素数３〜１８の脂環式モノアルコール系溶媒；１，２−プロピレングリコール、１,３−ブチレングリコール等の炭素数２〜１８の多価アルコール系溶媒；２−メトキシエタノール、３−メトキシプロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシブタノール、プロピレングリコール−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコ−ルメチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコ−ルメチルエーテル、トリプロピレングリコール−ｎ−ブチルエーテル等の炭素数３〜１９の多価アルコール部分エーテル系溶媒等が挙げられる。
【００９４】
エーテル系溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のジアルキルエーテル系溶媒；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等の環状エーテル系溶媒；ジフェニルエーテル、アニソール等の芳香環含有エーテル系溶媒等が挙げられる。
【００９５】
ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、ジエチルケトン、メチル−ｉｓｏ−ブチルケトン、２−ヘプタノン、エチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジ−ｉｓｏ−ブチルケトン、トリメチルノナノン等の鎖状ケトン系溶媒；シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、メチルシクロヘキサノン等の環状ケトン系溶媒；２，４−ペンタンジオン、アセトニルアセトン、アセトフェノン等が挙げられる。
【００９６】
アミド系溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の環状アミド系溶媒；Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド等の鎖状アミド系溶媒等が挙げられる。
【００９７】
エステル系溶媒としては、例えば、酢酸ｎ−ブチル、乳酸エチル、シクロヘキサノールアセテート等のモノカルボン酸エステル系溶媒；酢酸プロピレングリコール、プロピレングリコールジアセテート、１，４−ブタンジオールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジアセテート、トリアセチン等の多価アルコールモノカルボキシレート系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等多価アルコール部分エーテルカルボキシレート系溶媒；シュウ酸ジエチル等の多価カルボン酸ジエステル系溶媒；γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒；ジエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒等が挙げられる。
【００９８】
炭化水素系溶媒としては、例えば、炭素数５〜１０の直鎖状または分岐鎖状炭化水素、炭素数５〜１２の脂環式炭化水素、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素等が挙げられる。脂環式炭化水素および芳香族炭化水素の環上の水素原子の一部または全部は、炭素数１〜５の直鎖状または分岐鎖状アルキル基によって置換されていてもよい。
【００９９】
これらの中から、塗工時の溶媒の揮発速度、プロセスへの適応性、生産性等を考慮して選択され、好ましくは鎖状ケトン系溶媒、環状ケトン系溶媒、鎖状エーテル、環状エーテル等の含酸素溶媒が選択される。本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は溶媒を１種または２種以上含んでいてもよい。
【０１００】
また、本実施形態に係るワニス状の下層膜形成用樹脂材料において、樹脂成分の濃度は、好ましくは０．０１〜５０．０質量％、より好ましくは０．１〜４５．０質量％、さらに好ましくは１．０〜４０．０質量％である。樹脂成分の濃度は、ポリマーの溶解性、ろ過プロセスへの適応性、製膜性、下層膜としての厚み等を考慮して選択することができる。
【０１０１】
さらに、エッチング耐性、光学特性等の下層膜としての材料物性を調整する目的で、本発明の効果を損なわない範囲で、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；熱硬化系のモノマー；ジルコニウム、ハフ二ウム、ルテニウム、チタニウム等金属の酸化物を本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料に混合してもよい。
【０１０２】
さらに、レジスト層とレジスト下層膜、あるいはレジスト層とレジスト下層膜の間に中間層を設ける場合には中間層とレジスト下層膜との間でのインターミキシングを抑制する目的で、本発明の効果を損なわない範囲で、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は架橋剤を含んでもよい。一方で、架橋剤の使用は硬化時の反応収縮の影響が顕著になることがある。例えば、凹凸のパターンが不規則な場合、架橋剤が多すぎると凸凸間が長い構造であると収縮の影響が無視できなくなる場合があり、平坦性が低下する可能性がある。そのための本実施形態に係る下層膜形成用材料中の架橋剤の含有量は、少ない方が好ましい。その観点から、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料中の架橋剤の含有量は、下層膜形成用樹脂材料に含まれるポリマー成分の全含有量を１００質量部としたとき、５質量部未満が好ましく、３質量部未満がより好ましく、２質量部未満がさらに好ましい。
【０１０３】
架橋剤としては多官能のエポキシ化合物、オキセタン化合物等が好適に用いられるが、これらの化合物に特に制限されるものではない。
多官能のエポキシ化合物としては、例えば、１，７−オクタジエンジエポキシド、リモネンジオキサイド、４−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ジ（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレン１，２−ジ（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸）エステル、３‘，４’−エポキシシクロヘエキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（3，4-エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ハロゲン化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ｏ−、ｍ−、ｐ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、多価アルコールのポリグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートといった脂環式エポキシ樹脂あるいは水添ビスフェノールＡのグリシジルエーテル等のエポキシ化合物等が挙げられる。
多官能のオキセタン化合物としては、例えば、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，２−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）］エタン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）］プロパン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）］−２，２−ジメチル−プロパン、１，４−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキサン、１，４−ビス［（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ］ベンゼン、１，３−ビス［（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ］ベンゼン、１，４−ビス｛［（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、１，４−ビス｛［（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝シクロヘキサン、４，４’−ビス｛［（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ビフェニル、４，４’−ビス｛［（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ビシクロヘキサン、２，３−ビス［（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ］ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，５−ビス［（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ］ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，６−ビス［（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ］ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］ベンゼン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］ベンゼン、１，４−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、１，４−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝シクロヘキサン、４，４’−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ビフェニル、４，４'−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ビシクロヘキサン、２，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，５−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，６−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］ビシクロ［２．２．１］ヘプタン等が挙げられる。また、これらの架橋剤は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０４】
また、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料、特にワニス状の下層膜形成用樹脂材料において、環状オレフィンポリマー（Ｉ）と熱可塑性樹脂（II）の合計含有量は、下層膜形成用樹脂材料の全体を１００質量％としたとき、好ましく５０．０〜１００．０質量％、より好ましくは６０．０〜１００．０質量％、さらに好ましくは７０．０〜１００．０質量％である。環状オレフィンポリマー（Ｉ）と熱可塑性樹脂（II）の合計含有量は、エッチング耐性、光学特性等の下層膜としての材料物性を考慮して選択することができる。
なお、上記の環状オレフィンポリマー（Ｉ）と熱可塑性樹脂（II）の合計含有量の比率は、ワニス状態に限らず、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料を形成する場合に好ましい比率であることは言うまでもない。
【０１０５】
次いで、上記した方法で調製したワニス状の下層膜形成用樹脂材料を、フィルターを通過させてろ過する。これによって、ワニス状の下層膜形成用樹脂材料からポリマー不溶分やゲル、異物等を除去でき、下層膜として均一な層をレジスト膜層と基板表面の間に形成することができる。
【０１０６】
ろ過フィルターの目開きは、好ましくは１μｍ〜０．００１μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜０．００１μｍ、さらに好ましくは０．１μｍ〜０．００１μｍである。ろ過のプロセスは、孔径の大きなフィルターから小さなフィルターへワニスを送る多段プロセスでおこなってもよいし、孔径の小さなフィルターへワニスを直接送る単一プロセスでおこなってもよい。フィルターの材質は、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、セルロース等の有機材料；ガラス繊維、金属等の無機材料；等が挙げられ、下層膜としての機能に影響を及ぼさなければ、ワニス特性、プロセス適応性等を考慮して選択することができる。
【０１０７】
また、ワニスをフィルターへ送る方法としては、例えば、圧力差を利用する方法、スクリュー等を介して機械的な駆動によってワニスをフィルターへ送液する方法等が挙げられる。さらに、ろ過の温度は、フィルター性能、溶液粘度、ポリマーの溶解性を考慮した範囲で選択でき、好ましくは−１０〜２００℃、より好ましくは０℃〜１５０℃、さらに好ましくは室温〜１００℃の範囲であり、溶解成分等の析出またはゲル化、加熱による熱分解等の組成物の変異がなければ、ワニス特性やプロセス適応性等を考慮して選択することができる。
【０１０８】
＜レジスト下層膜およびレジスト下層膜の製造方法＞
本実施形態に係るレジスト下層膜は、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料を用いて形成することができる。
本実施形態に係るレジスト下層膜の製造方法は、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料を含む塗膜を基板上に形成する工程（以下、「塗膜形成工程」ともいう）を含む。
また、必要に応じて、上記塗膜を加熱する工程（以下、「焼成工程」ともいう）をさらに含んでもよい。
【０１０９】
本実施形態に係るレジスト下層膜の製造方法によれば、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料を用いるため、十分な光学特性およびエッチング耐性を満たすとともに平坦性に優れ、揮発分の発生量も抑制されたレジスト下層膜を得ることができる。
また、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料は複雑な形状の基板に対する埋め込み性に優れるため、本実施形態に係るレジスト下層膜の製造方法によれば、段差を有する基板や、複数種のトレンチを有する基板等の複雑な形状の基板上に、十分な光学特性およびエッチング耐性を満たすとともに平坦性に優れ、揮発分の発生量も抑制されたレジスト下層膜を作製することができる。
以下、各工程について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１１０】
［塗膜形成工程］
本工程では、本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料を用いて、基板上に本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料を含む塗膜を形成する。
上記基板としては、例えば、シリコンウェハー、アルミニウムウェハー、ニッケルウェハー等が挙げられる。上記基板の表面には凹凸構造が付与されていてもよい。上記凹凸構造は、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）膜、ＳｉＣＮ膜、シリカ（ＳｉＯ２）にカーボン（Ｃ）をドープしたＳｉＯＣ膜や、メチルシロキサン系有機膜（ＳＯＧ）、数ｎｍ以下の微小な空孔が均一に分布したシリカ絶縁膜等の低誘電材料で被膜を形成した状態であってもよい。上記したように、本実施形態に係るレジスト下層膜の製造方法では、上記基板として、段差を有する基板や複数種のトレンチを有する基板等も好適に用いることができ、このような複雑な形状の基板を用いたとしても平坦性に優れるレジスト下層膜を形成することができる。
上記複数種のトレンチを有する基板としては、例えば、互いに異なるアスペクト比を有する基板も好適に用いることができる。上記アスペクト比は、種々の値が混在したものを用いることができ、例えば、基板のトレンチにおいて、アスペクト比における最大値と最小値の比としては、好ましくは１〜３０、より好ましくは１〜２５、さらに好ましくは１〜２０である。
【０１１１】
本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料を基板へ塗布する方法は特に限定されず、例えば、スピンコート、溶液流延塗布、ロール塗布、スリットコート、インクジェット塗布等の方法を用いて、前述したワニス状の下層膜形成用樹脂材料を基板へ塗布する方法等が挙げられる。この際に形成される塗膜の膜厚としては、好ましくは１〜２０００ｎｍ、より好ましくは１〜１０００ｎｍ、さらに好ましくは１〜５００ｎｍの範囲である。
【０１１２】
［焼成工程］
本工程においては、上記塗膜形成工程において形成した塗膜を加熱（焼成）する。この塗膜を焼成する方法としては、例えば、加熱する方法等が挙げられる。この加熱の温度は、好ましくは１００℃〜４００℃、より好ましくは１５０℃〜３００℃、さらに好ましくは１８０℃〜２５０℃である。加熱時間は好ましくは５秒〜６０分、より好ましくは１０秒〜１０分、さらに好ましくは３０秒〜３分である。上記加熱における雰囲気としては、例えば、空気中；窒素ガス中、アルゴンガス中等の不活性ガス中；等が挙げられる。
【０１１３】
また、本工程における加熱様式としては、例えば、塗膜中の溶剤を除去する目的で加熱し、その後の加熱で塗膜を流動させ基板の凹凸構造に塗膜を埋め込む態様；本発明の効果を損なわない範囲で機能を補うために混合した熱硬化系材料等の異種物質を硬化させ、その後の加熱で塗膜を流動させ基板の凹凸構造に塗膜を埋め込む態様；下層膜形成用樹脂材料の脱離基を脱離させる目的で加熱し、その後の加熱で塗膜を流動させ基板の凹凸構造に塗膜を埋め込む態様；等が挙げられる。
焼成工程の加熱は、段階的に温度を上げる多段プロセスを用いてもよい。
形成されるレジスト下層膜の膜厚の平均値Ｈａｖとしては、好ましくは５〜５００ｎｍ、より好ましくは７〜４５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４００ｎｍの範囲である。
【０１１４】
本実施形態に係るレジスト下層膜は、例えば、フォトリソグラフィーによるパターン形成のための工程部材として用いることができる。
【０１１５】
＜積層体＞
本実施形態に係る積層体は、基板（ａ）と、基板（ａ）の一方の面に形成された本実施形態に係る下層膜形成用樹脂材料を含むレジスト下層膜（ｂ）と、を備える。
基板（ａ）とレジスト下層膜（ｂ）とが接触する構造であることが好ましい。
ここで、レジスト下層膜（ｂ）およびその製造方法は、前述した本実施形態に係るレジスト下層膜およびレジスト下層膜の製造方法と同様のため、ここでの説明は省略する。
【０１１６】
図４は、本発明に係る実施形態の積層体１０におけるレジスト下層膜２の膜厚４、凹凸構造７の高さ５および凹凸構造７の凸凸間の間隔６を説明するための模式図である。
基板（ａ）は、平坦な表面を持つ構造であってもよいが、その片面または両面に、好ましくは５〜５００ｎｍ、より好ましくは７〜４５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４００ｎｍの範囲の高さを有する凹凸構造であることが好ましい。
ここで、上記高さは、図４に示す凹凸構造７の高さ５を意味し、例えば、凹凸構造７の高さ５を任意に１０点測定し、それらの平均値を採用することができる。
また、上記凹凸構造における凸凸間の間隔は、好ましくは１ｎｍ以上１０ｍｍ以下である。上記凹凸構造における凸凸間の間隔の下限値は３ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることがさらに好ましく、１０ｎｍ以上であることが特に好ましい。
ここで、上記凹凸構造における凸凸間の間隔は、図４に示す凹凸構造７における凸凸間の間隔６を意味し、凹凸構造７における凸凸間の間隔６を任意に１０点測定し、それらの平均値を採用することができる。
また、上記凹凸構造における凸凸間の間隔の上限値は５ｍｍ以下であることがより好ましく、１ｍｍ以下あることがさらに好ましく、０．５ｍｍ以下であることが特に好ましい。
基板（ａ）が上記のような凹凸構造を有する場合にレジスト下層膜（ｂ）の効果がより顕著に発現する傾向があるので好ましい。
【０１１７】
基板（ａ）の厚さは０．０１〜１００００μｍであることが好ましい。基板（ａ）の厚さの下限値は０．０３μｍ以上であることがより好ましく、０．０５μｍ以上であることがさらに好ましく、０．１０μｍ以上であることが特に好ましい。
基板（ａ）の厚さの上限値は５０００μｍ以下であることがより好ましく、３０００μｍ以下であることがさらに好ましく、１０００μｍ以下であることが特に好ましい。
【０１１８】
本実施形態に係る積層体において、レジスト下層膜（ｂ）の基板（ａ）とは反対側の表面（α）における下記式により算出される平坦度（△ＦＴ）が好ましくは０〜５％、より好ましくは０〜３％、さらに好ましくは０〜１％である。
平坦度（ΔＦＴ）＝［（Ｈｍａｘ―Ｈｍｉｎ）／Ｈａｖ］×１００（％）
ここで、表面（α）の任意の１０カ所において、レジスト下層膜（ｂ）の膜厚を測定し、それらの平均値をＨａｖとし、レジスト下層膜（ｂ）の膜厚の最大値をＨｍａｘとし、レジスト下層膜（ｂ）の膜厚の最小値をＨｍｉｎとする。
これにより、中間層の有無に関わらずレジスト層の厚みをより一層均一にでき、リソグラフィーにおいて所望のパターンを再現性良く得ることができる。
【０１１９】
＜パターン形成方法＞
本実施形態に係るパターン形成方法は、例えば、本実施形態に係るレジスト下層膜の上面側に、レジストパターンを形成する工程（以下、「レジストパターン形成工程」ともいう）と、上記レジストパターンをマスクとし、上記レジスト下層膜および基板を順次エッチングする工程（以下、「エッチング工程」ともいう）とを備える。
【０１２０】
また、本実施形態に係るパターン形成方法は、上記レジストパターン形成工程において、上記レジスト下層膜の上面側に中間層を形成し、この中間層の上面側にレジストパターンを形成し、上記エッチング工程において、さらに中間層をエッチングする工程であってもよい。
本実施形態に係るパターン形成方法によれば、十分な光学特性およびエッチング耐性を満たすとともに平坦性に優れ、揮発分の発生量も抑制された本実施形態に係るレジスト下層膜を用いるので、良好なパターンを形成することができる。
【０１２１】
以下、各工程について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１２２】
［レジストパターン形成工程］
本工程においては、上記レジスト下層膜の上面側にレジストパターンを形成する。上記レジスト下層膜の上面側に中間層を形成し、この中間層の上面側にレジストパターンを形成してもよい。
【０１２３】
上記中間層は、レジストパターン形成等において、レジスト下層膜および／またはレジスト膜が有する機能を補い、またはこれらが有していない機能を付与するためにこれらの機能を有する層のことである。例えば、反射防止膜（反射防止層ともいう）を中間層として形成した場合、レジスト下層膜の反射防止機能を補うことができる。また、ハードマスク層を中間層として形成した場合、現像工程の例えば、アルカリ現像液を使用する際のレジスト下層膜に対する影響を抑制し、および／または、本実施形態の下層膜をエッチング後、下層のシリコン、アルミニウム、ニッケル等からなる基板をエッチングする際のレジストパターン形成層のエッチング耐性不足を補うことができる。
さらには、本実施形態の下層膜の上に形成する中間層は、反射防止層とハードマスク層の何れか、または両方を備えた構成であってもよく、層構成は、本実施形態の下層膜の直上には反射防止層を形成しても、ハードマスク層を形成してもよい。レジスト材料、加工基板等の材料の特性や、生産性を考慮して好適に選ばれる。
上記中間層は、有機化合物や無機酸化物により形成することができる。上記有機化合物としては、例えば、ＤＵＶ−４２、ＤＵＶ−４４、ＡＲＣ−２８、ＡＲＣ−２９（何れも、Ｂｒｅｗｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ社製）や、ＡＲ−３、ＡＲ−１９（何れも、ロームアンドハース社製）等が挙げられる。また、上記無機酸化物としては、例えば、ＮＦＣ ＳＯＧシリーズ（ＪＳＲ社製）、ＣＶＤ法により形成されるポリシロキサン、酸化チタン、酸化アルミナ、酸化タングステン等を用いることができる。
【０１２４】
上記中間層を形成する方法は特に限定されないが、例えば、塗布法やＣＶＤ法等が挙げられる。これらの中で、塗布法が好ましい。塗布法を用いた場合、レジスト下層膜を形成後、中間層を連続して形成することができる。 
また、中間層の膜厚は特に限定されず、中間層に求められる機能に応じて適宜選択されるが、好ましくは１ｎｍ〜５μｍ、より好ましくは５ｎｍ〜３μｍ、さらに好ましくは１０ｎｍ〜０．３μｍの範囲である。
上記レジスト下層膜または中間層の上面側にレジストパターンを形成する方法としては、例えば、フォトリソグラフィーを用いる方法等が挙げられる。この方法について、以下、具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１２５】
フォトリソグラフィーを用いる方法は、例えばレジスト組成物を用い、上記レジスト下層膜の上面側にレジスト膜を形成する工程（以下、「レジスト膜形成工程」ともいう）、上記レジスト膜を露光する工程（以下、「露光工程」ともいう）、および上記露光されたレジスト膜を現像する工程（以下、「現像工程」ともいう）を有する。
【０１２６】
（レジスト膜形成工程）
本工程では、レジスト組成物を用い、レジスト下層膜の上面側にレジスト膜を形成する。具体的には、得られるレジスト膜が所定の膜厚となるようにレジスト組成物を塗布した後、プリベークすることによって塗膜中の溶媒を揮発させ、レジスト膜が形成される。
【０１２７】
レジスト組成物としては、例えば、光酸発生剤を含有するポジ型またはネガ型の化学増幅型レジスト組成物；アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド系感光剤とからなるポジ型レジスト組成物；アルカリ可溶性樹脂と架橋剤とからなるネガ型レジスト組成物；等が挙げられる。
【０１２８】
上記レジスト組成物の固形分濃度は、好ましくは０．１質量％〜５０質量％、より好ましくは０．５質量％〜５０質量％、さらに好ましくは１．０質量％〜５０質量％の範囲であり、対象とする膜厚や、生産性を考慮して適切な範囲で選択することができる。
【０１２９】
また、上記レジスト組成物は、孔径０．１μｍ程度のフィルターでろ過して調製されることが好ましい。なお、この工程では、市販のレジスト組成物をそのまま使用することもできる。レジスト組成物の塗布方法は特に限定されず、例えば、スピンコート、流延塗布、ロール塗布等の方法で実施することができる。
また、プリベークの温度は、使用されるレジスト組成物の種類等に応じて適宜選択されるが、３０℃〜２００℃が好ましく、５０℃〜１５０℃がより好ましい。
【０１３０】
（露光工程）
本工程では、上記レジスト膜形成工程で形成されたレジスト膜を露光する。この露光は、例えば、所定のマスクパターンおよび必要に応じて液浸液を介して行われる。
【０１３１】
露光光としては、レジスト組成物に使用される光酸発生剤の種類に応じて、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、γ線等の電磁波；電子線、分子線、イオンビーム、α線等の粒子線等から適切に選択されるが、遠紫外線が好ましく、ＫｒＦエキシマレーザー光（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー光（１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマレーザー光（波長１５７ｎｍ）、Ｋｒ２エキシマレーザー光（波長１４７ｎｍ）、ＡｒＫｒエキシマレーザー光（波長１３４ｎｍ）、極紫外線（波長１３ｎｍ等）がより好ましく、ＡｒＦエキシマレーザー光がさらに好ましい。
【０１３２】
上記露光後に、形成されるレジストパターンの解像度、パターンプロファイル、現像性等を向上させるため、ポストベークを行うことができる。このポストベークの温度は、使用されるレジスト組成物の種類等に応じて適宜調整されるが、５０℃〜２００℃が好ましく、７０℃〜１５０℃がより好ましい。
【０１３３】
（現像工程）
本工程では、上記露光工程で露光されたレジスト膜を現像する。 
上記現像に用いられる現像液としては、使用されるレジスト組成物の種類に応じて適宜選択される。アルカリ現像の場合、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、コリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン等のアルカリ性水溶液等が挙げられる。なお、上記中間層形成工程を行い中間層を形成しておくと、これらのアルカリ性水溶液のレジスト下層膜に対する影響を抑制することができる。
これらのアルカリ性水溶液には、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類等の水溶性有機溶媒や、界面活性剤を適量添加することもできる。
【０１３４】
また、現像液としては、有機溶媒を含有する現像液を用いることもできる。この有機溶媒としては、例えば、エステル類、ケトン類、エーテル類、アルコール類、アミド類、炭化水素類等が挙げられる。有機溶媒現像で使用する溶媒は、レジスト下層膜の特性に応じて適時選ばれる。
上記現像液を用いて現像した後、洗浄し、乾燥することによって、所定のレジストパターンが形成される。
【０１３５】
また、上記レジストパターン形成工程を行う方法として、上述のフォトリソグラフィーを用いる方法以外にも、ナノインプリント法を用いる方法、自己組織化組成物を用いる方法等も用いることができる。
【０１３６】
［エッチング工程］
本工程においては、上記レジストパターンをマスクとし、上記レジスト下層膜および基板を順次エッチングする。これにより、基板にパターンが形成される。なお、中間層を形成した場合は、さらに中間層もエッチングする。
【０１３７】
上記エッチングは、ドライエッチングでもよいし、ウェットエッチングでもよい。上記ドライエッチングは、公知のドライエッチング装置を用いて行うことができる。また、ドライエッチングをする際のソースガスとしては、被エッチング物の元素組成にもよるため特に限定されないが、例えば、Ｏ２、ＣＯ、ＣＯ２等の酸素原子を含むガス；Ｈｅ、Ｎ２、Ａｒ等の不活性ガス；Ｃｌ２、ＢＣｌ３等の塩素系ガス；ＣＨＦ３、ＣＦ４等のフッ素系ガス；Ｈ２、ＮＨ３のガス等を使用することができる。なお、これらのガスは混合して用いることもできる。
【０１３８】
［基板パターン形成後の下層膜材料の除去工程］
本工程では、上記エッチング工程により基板にレジストパターンを転写・形成後に、不要となったレジスト下層膜を除去する。
除去方法は、ドライ法でもよいし、溶剤等を用いるウェット法でもよく、材料の物性やプロセス適応性を考慮して好適に選ばれ、ドライとウェットの方法を併用して用いてもよい。
ドライ法の場合、上記エッチング工程で用いられるドライエッチング装置を使用することができる。従って、エッチング工程から下層膜材料の除去工程に移行する際、製造ラインを変更する必要性がなく、生産性の観点からドライ法が好ましく用いられる。
下層膜材料の除去工程においてドライエッチング装置を使用する際のガスソースとしては、被エッチング物の元素組成により好適に選ばれ、例えば、Ｏ２、ＣＯ、ＣＯ２等の酸素原子を含むガス；Ｈｅ、Ｎ２、Ａｒ等の不活性ガス；Ｃｌ２、ＢＣｌ３等の塩素系ガス；ＣＨＦ３、ＣＦ４等のフッ素系ガス；Ｈ２、ＮＨ３のガス等を使用することができ、上述の基板表面を皮膜した低誘電材料や、基板材料に応じてより好適に選ばれる。これらのガスは２種類以上を混合して用いることもできる。
【実施例】
【０１３９】
以下、本実施形態を、実施例・比較例を参照して詳細に説明する。本実施形態は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。【０１４０】
実施例・比較例における下層膜形成用樹脂材料（環状オレフィンポリマー（Ｉ）、または環状オレフィンポリマー（Ｉ）と熱可塑性樹脂（II）を所定の質量比で混合した樹脂組成物）に関する分析法、埋め込み性および平坦性の評価は以下の方法により実施した。【０１４１】
［重量平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）］
下記の条件でゲルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を使用して、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）またはトリフルオロトルエン（ＴＦＴ）に溶解したポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定し、ポリスチレンスタンダードによって分子量を較正して算出した。【０１４２】
検出器：日本分光社製ＲＩ−２０３１および８７５−ＵＶまたはＶｉｓｃｏｔｅｃ社製Ｍｏｄｅｌ２７０、直列連結カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ−８０６Ｍ、８０４、８０３、８０２．５、カラム温度：４０℃、流量：１．０ｍｌ／分、試料濃度：３．０〜９．０ｍｇ／ｍｌ。【０１４３】
[水素添加率測定]
ポリマー試料を重水素化クロロホルムに溶解し、２７０ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのケミカルシフトδ＝５．０〜７．０ｐｐｍ範囲で二重結合炭素の水素に帰属するピークの積分値で測定した。【０１４４】
［ガラス転移温度］
島津製作所社製ＤＳＣ−５０を用い、測定試料を窒素雰囲下で１０℃／分の昇温速度で加熱し測定した。【０１４５】
［揮発成分の評価方法］
濃度が２０質量％の下層膜形成用樹脂材料（環状オレフィンポリマー（Ｉ）、または環状オレフィンポリマー（Ｉ）と熱可塑性樹脂（II）を所定の質量比で混合した樹脂組成物）のＴＨＦ溶液を直径５ｍｍのアルミ皿に３０ｍｇ〜５０ｍｇの重量で計量し、窒素気流下で２００℃で３分間焼成してＴＨＦを除去した。次いで、室温まで冷却して重量（Ｗ０）を測定した。樹脂が固化した状態のサンプルを用いて、窒素雰囲気下で島津製作所社製ＴＧＡ−６０を用い、１０℃／ｍｉｎの昇温速度で３０〜３００℃まで試料を加熱して、温度の上昇とともに重量を連続的に測定し、温度対重量のチャートを得た。このうち、１００〜２５０℃の範囲での重量減少量（Ｗ１）をチャートから読み取り、下式により揮発成分の発生量を算出した。
揮発成分の発生量（質量％）＝Ｗ１／Ｗ０×１００【０１４６】
［固体粘弾性測定］
アントンパール社製ＭＣＲ３０２（レオメータ）を使用して、窒素雰囲気下、ずりモードで測定温度範囲３０〜３００℃、昇温速度３℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚの条件で測定した。より具体的には、以下の方法により測定した。
はじめに、本実施形態の下層膜形成用樹脂材料（環状オレフィンポリマー（Ｉ）、または環状オレフィンポリマー（Ｉ）と熱可塑性樹脂（II）を所定の質量比で混合した樹脂組成物）の白色粉末粉（１０ｍｇ）を、予め２３０℃に加熱した直径８ｍｍの平行円盤の中心に置いた。次いで、円盤で挟み窒素雰囲気下で溶融させ、一度、３０℃まで冷却した。その後、周波数１Ｈｚのずりモードで上記の昇温速度によりサンプルを３００℃まで加熱した。
得られた加熱温度と貯蔵弾性率（Ｇ’）、および損失弾性率（Ｇ’’）の関係をプロットしたグラフを作製し、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線との交点の温度を確認した。（図１および２参照）【０１４７】
［埋め込み性、平坦性および疎密パターンにおける膜厚差評価のための表面凹凸構造形成基板］
基板Ａ：基板表面に高さ２００ｎｍ、凸部幅４０〜８００ｎｍ、凸凸間幅４０〜１５００ｎｍのライン＆スペースパターンが形成された、サイズが３ｃｍ×３ｃｍのシリコン製基板を使用した。
基板Ｂ：基板表面に高さ２００ｎｍ、凸部幅４０ｎｍ〜１０００μｍ、凸凸間幅４０ｎｍ〜１０００μｍのライン＆スペースパターンが形成された、サイズが３ｃｍ×３ｃｍのシリコン製基板を使用した。【０１４８】
［埋め込み性評価］
焼成工程までを実施し、上記シリコン製基板Ａの凹凸表面上にレジスト下層膜を形成したサンプルを割り、断面観察用の面出しを実施した。その後、日本分光社製走査型電子顕微鏡ＪＳＭ−６７０１Ｆ（以下、ＳＥＭと表記する。）を使用して、高さ２００ｎｍ、凸部幅１２０ｎｍ、凸凸間幅４０ｎｍの基板断面を観察して埋め込み性を以下の基準で評価した。
均一：ＳＥＭにより断面を観察した結果、ボイド等の欠陥がない状態。
不均一：ＳＥＭにより断面を観察した結果、ボイド等の欠陥がある状態。【０１４９】
［平坦性の評価］
上記の埋め込み性を評価した基板Ａの断面のレジスト下層膜の膜厚を１０点計測し、平均値をＨａｖとした。次いで、１０点計測した高さのうち最大高さ（Ｈｍａｘ）と最小高さ（Ｈｍｉｎ）のそれぞれの値から以下の式により、平坦性の指標を示す平坦度を算出した。
平坦度（ΔＦＴ）＝［（Ｈｍａｘ―Ｈｍｉｎ）／Ｈａｖ］×１００（％）【０１５０】
［疎密パターンにおける膜厚差の評価］
上記シリコン製基板Ｂの凹凸表面上にレジスト下層膜を形成したサンプルを割り、断面観察用の面出し後、ＳＥＭを使用して、凹凸に疎密があるライン＆スペースが図３−２のように形成された部分の膜厚差を計測して評価した。図３−２中、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍである。それぞれのパターン領域で凸上表面から大気面までの膜厚を１０点測定し、それぞれの平均値Ｈ１とＨ２を求め、２つのパターン領域の凸上平均膜厚の差の絶対値ΔＦＴ（疎密）＝｜Ｈ１−Ｈ２｜を算出し、以下の基準で評価した。
◎：ΔＦＴ（疎密）の値が０ｎｍ以上１０ｎｍ以下の場合
○：ΔＦＴ（疎密）の値が１１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の場合
×：ΔＦＴ（疎密）の値が２１ｎｍ以上の場合【０１５１】
［ｎ値とｋ値の測定］
日本セミラボ株社製分光エリプソメーターＧＥＳ５Ｅを使用して、温度：２３〜２５℃、湿度：５０〜５５％の環境で、シリコンウェハーに２５０ｎｍの厚みでコートした２０ｍｍ×２０ｍｍのサイズの測定サンプルを用いて任意の３点を測定した。測定結果から、波長１９３ｎｍの屈折率（ｎ値）と消衰係数（ｋ値）を算出し３点の平均値からｎ値およびｋ値をそれぞれ求めた。
ここで、測定サンプルは以下の方法により作製した。
本実施形態の下層膜形成用樹脂材料として、環状オレフィンポリマー（Ｉ）を用いた場合、環状オレフィンポリマー（Ｉ）を濃度１０質量％で溶解したプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（以下、ＰＧＭＥＡと表記する。）溶液を調製し、得られた溶液を４インチのシリコンウェハーにスピンコートした。次いで、窒素雰囲気下２００℃で３分間焼成した。室温へ冷却後、サンプルを２０ｍｍ×２０ｍｍのサイズで切り出し測定用のサンプルとした。
また、本実施形態の下層膜形成用樹脂材料として、環状オレフィンポリマー（Ｉ）と熱可塑性樹脂（II）とを所定の質量比で混合した樹脂組成物を用いた場合、本実施形態の下層膜形成用樹脂材料を濃度１０質量％で、ＰＧＭＥＡとシクロヘキサノン（以下、ＣＨと表記する。）の質量比がＰＧＭＥＡ／ＣＨ＝５０／５０である混合溶媒に溶解した溶液を調製し、得られた溶液を４インチのシリコンウェハーにスピンコートした。次いで、窒素雰囲気下２００℃で３分間焼成した。室温へ冷却後、サンプルを２０ｍｍ×２０ｍｍのサイズで切り出し測定用のサンプルとした。【０１５２】
［プラズマエッチング特性評価］
アルバック社製ＲＩＨ１５１５Ｚ  並行平板型プラズマ処理装置を用いた。まず、チャンバー内にサンプルを入れ、チャンバー内を１Ｐａ以下に減圧し、次いで、チャンバー内にＣＨＦ３ガスを３０ｓｃｃｍで導入し、チャンバー内の圧力を７Ｐａに保持した。その後、１３．５６ＭＨｚ高周波電力を印加してプラズマ放電を行い、プラズマエッチング処理した。プラズマエッチング処理は３０秒間、６０秒間および９０秒間実施した。【０１５３】
［エッチングレートの測定方法］
日本セミラボ（株）社製分光エリプソメーターＧＥＳ５Ｅを使用して、エッチング後の基板の表面の膜厚を３点測定し、平均値から膜厚を算出した。次いで、エッチング前後の膜厚から、エッチングによる膜厚の減少量を算出し、横軸に時間（ｓｅｃ）、縦軸に減少膜厚量（ｎｍ）をプロットした。得られたグラフの傾きから、エッチングレート（ｎｍ／ｓｅｃ）を算出した。【０１５４】
［Ｏ２エッチングによる下層膜材料の除去評価］
基板表面に高さ２００ｎｍ、凸部幅１００ｎｍ、凸凸間幅１００ｎｍのライン＆スペースパターンが形成されたサイズが３ｃｍ×３ｃｍのシリコン製基板上に、本実施形態に係るレジスト下層膜を形成した。
上記シリコン製基板の凹凸表面上にレジスト下層膜を形成したサンプルを割り、その内の片方のサンプル片を下層膜材料の除去前の断面観察用としＳＥＭにより観察を行った。
上記サンプル片のもう片方のサンプル片を使用してＯ２エッチングによる下層膜材料の除去特性評価を以下の方法で実施した。
下層膜材料の除去特性評価は、上記プラズマエッチング特性評価で使用したものと同じプラズマ処理装置を用いた。まず、チャンバー内にサンプルを入れ、チャンバー内を１Ｐａ以下に減圧し、次いで、チャンバー内にＯ２ガスを３０ｓｃｃｍで導入し、チャンバー内の圧力を７Ｐａに保持した。その後、１３．５６ＭＨｚ高周波電力を印加してプラズマ放電を行い、プラズマエッチング処理した。プラズマエッチング処理は６０秒間実施した。
上記のプラズマエッチング処理後、下層膜材料の除去後の断面観察をＳＥＭにより行い、プラズマエッチング前後のＳＥＭ観察像を比較し下層膜材料の除去特性を評価した。【０１５５】
［実施例１］
窒素雰囲気下、磁気攪拌装置を備えた５Ｌのオートクレーブ内で、構造単位［Ａ］を有するテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンを３２０ｇ（２ｍｏｌ）、構造単位［Ｂ］を有する４，１０−ジオキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オンを３０４ｇ（２ｍｏｌ）、および１，５−ヘキサジエンを２１ｇ（０．２５ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す）３．４ｋｇに溶解し攪拌を行った。
これに開環メタセシス重合触媒としてＭｏ（Ｎ−２，６−Ｐｒi２Ｃ６Ｈ３）（ＣＨＣＭｅ２Ｐｈ）（ＯＣＭｅ（ＣＦ３）２）２を６１２ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ）加え、６０℃で３時間反応させた。その後、ｎ−ブチルアルデヒド１７３ｍｇ（２．４ｍｍｏｌ）を加えて冷却して、開環メタセシス重合体溶液４．０ｋｇを得た。得られたポリマーは、重合率＝１００％、Ｍｗ＝５７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６１、１ＨＮＭＲで解析した構造単位［Ａ］と構造単位［Ｂ］のモル比は［Ａ］／［Ｂ］＝５０／５０であった。【０１５６】
次いで、メタノールを用いて、得られた開環メタセシス重合体溶液から環状オレフィンポリマーを析出し、８０℃で減圧乾燥することにより白色粉末固体（ポリマー１）を得た。
ポリマー１のガラス転移温度は１５１℃であった。
また、ポリマー１の揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、ポリマー１の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１７３℃であった（図１参照）。【０１５７】
次いで、得られたポリマー１を１０質量％の濃度で溶解したプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（以下、ＰＧＭＥＡと表記する。）と、シクロヘキサノン（以下、ＣＨとも呼ぶ。）の質量比がＰＧＭＥＡ／シクロヘキサノン＝５／５となるよう溶液を調整し、１０００ｒｐｍ、１０ｓｅｃの条件で、上記シリコン基板Ａ及び基板Ｂ表面に塗布した。その後、窒素雰囲気下で２００℃、３分間加熱した。
エリプソメーターで測定したポリマー１の屈折率（ｎ値）は１．６６であり、消衰係数（ｋ値）は０．０８であった。【０１５８】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー１は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化したポリマー１の層の厚み（Ｈａｖ）は３００ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３０１ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は３００ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．３％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２１３ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２３０ｎｍであり、ポリマー１の疎密パターンにおける膜厚差は１７ｎｍであった。
また、ポリマー１を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表１に示す。【０１５９】
[実施例２]
構造単位［Ａ］を有するモノマーを８−メトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンに変更した以外は、実施例１と同様な方法で、開環メタセシス重合体溶液２．５ｋｇを得た。得られたポリマーは、重合率＝１００％、Ｍｗ＝６３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５０、１ＨＮＭＲで解析した構造単位［Ａ］と構造単位［Ｂ］のモル比は［Ａ］／［Ｂ］＝５０／５０であった。【０１６０】
次いで、実施例１と同様な方法で析出、乾燥して白色粉末固体（ポリマー２）を得た。
ポリマー２のガラス転移温度は１５０℃であった。
また、ポリマー２の揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、ポリマー２の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１６７℃であった。【０１６１】
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー２をコートしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定したポリマー２の屈折率（ｎ値）は１．６６であり、消衰係数（ｋ値）は０．０４であった。【０１６２】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー２は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測した何れの計測値も２９９ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．０％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２１６ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２３２ｎｍであり、ポリマー２の疎密パターンにおける膜厚差は１６ｎｍであった。
また、ポリマー２を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表１に示す。【０１６３】
［実施例３］
構造単位［Ａ］を有するモノマーを８−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンに変更した以外は、実施例１と同様な方法で、開環メタセシス重合体溶液４．１ｋｇを得た。得られたポリマーは、重合率＝１００％、Ｍｗ＝７２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５０、１ＨＮＭＲで解析した構造単位［Ａ］と構造単位［Ｂ］のモル比は［Ａ］／［Ｂ］＝５０／５０であった。【０１６４】
次いで、実施例１と同様な方法で析出、乾燥して白色粉末固体（ポリマー３）を得た。
ポリマー３のガラス転移温度は１３０℃であった。
また、ポリマー３の揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、ポリマー３の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１５１℃であった。【０１６５】
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー３をコートしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定したポリマー３の屈折率（ｎ値）は１．６８であり、消衰係数（ｋ値）は０．０２であった。
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー３は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化したポリマー３の層の厚み（Ｈａｖ）は３０２ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３０３ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は３０１ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．７％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２１１ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２２４ｎｍであり、ポリマー３の疎密パターンにおける膜厚差は１３ｎｍであった。
また、ポリマー３を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表１に示す。【０１６６】
［実施例４］
構造単位［Ａ］を有する８−メトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン４３７ｇ（２ｍｏｌ）、構造単位［Ｂ］を有する４−フェニル−４−アザ−１０−オキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３，５−ジオン１２１ｇ（０．５ｍｏｌ）、および１，５−ヘキサジエン２１ｇ（０．２５ｍｏｌ）をＴＨＦ３．７ｋｇに溶解し、実施例１と同様な方法で、開環メタセシス重合体溶液４．２ｋｇを得た。
次いで、得られた開環メタセシス重合体溶液に、水素添加触媒として含水率５０．７％の５％Ｒｈカーボン１１．４ｇ（乾燥質量５．６ｇ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１２時間水素添加反応を行った。得られたポリマーは、水素添加率＝１００モル％、Ｍｗ＝７８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５７、１ＨＮＭＲで解析した構造単位［Ａ］と構造単位［Ｂ］のモル比は［Ａ］／［Ｂ］＝８０／２０であった。
次いで、実施例１と同様な方法で析出、乾燥して白色粉末固体（ポリマー４）を得た。
ポリマー４のガラス転移温度は１７２℃であった。
また、ポリマー４の揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、ポリマー４の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１９０℃であった。【０１６７】
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー４をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定したポリマー４の屈折率（ｎ値）は１．７１であり、消衰係数（ｋ値）は０．０９であった。【０１６８】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー４は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化したポリマー４の層の厚み（Ｈａｖ）は３１０ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３１１ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は３０９ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．６％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２１９ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２３７ｎｍであり、ポリマー４の疎密パターンにおける膜厚差は１８ｎｍであった。
また、ポリマー４を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表１に示す。【０１６９】
［実施例５］
環状オレフィンポリマー（Ｉ）として実施例１で得られたポリマー１および熱可塑性樹脂（II）としてポリヒドロキシスチレン（Ｐｏｌｙｓｃｉｅｎｃｅｓ社製、製品名：Ｐｏｌｙ（４−ｖｉｎｙｌｐｈｅｎｏｌ）、スチレン換算の重量平均分子量：５３００）を質量比５０/５０で混合し、樹脂組成物１を得た。
樹脂組成物１を用いて、上記の揮発成分の評価方法と同様な方法で作製した測定用のサンプルのガラス転移温度は１０５℃であり、さらに揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、樹脂組成物１の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１２４℃であった（図２参照）。【０１７０】
ここで、実施例１で得られたポリマー１及びポリヒドロキシスチレンをそれぞれ５質量％（合計樹脂濃度：１０質量％）となるように、ＰＧＭＥＡ／ＣＨ＝５０／５０（質量比）である有機溶媒に溶解させて混合溶液を調製した。得られた混合溶液を孔径０．１μｍのメンブレンフィルターでろ過して下層膜形成用樹脂組成物１とした。この下層膜形成用樹脂組成物１を用いて１０００ｒｐｍ、１０ｓｅｃの条件で、上記シリコン基板Ａ及び基板Ｂ表面に塗布した。その後、窒素雰囲気下で２００℃、３分間加熱した。
エリプソメーターで測定した下層膜形成用樹脂組成物１の屈折率（ｎ値）は１．９７であり、消衰係数（ｋ値）は０．０２であった。【０１７１】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、樹脂組成物１は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化した樹脂組成物１の層の厚み（Ｈａｖ）は３０１ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３０３ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は３０１ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．７％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２２５ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２３０ｎｍであり、、樹脂組成物１の疎密パターンにおける膜厚差は５ｎｍであった。
また、樹脂組成物１を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表３に示す。【０１７２】
［実施例６］
ポリマー１の代わりに、実施例２で得られたポリマー２を用いた以外は実施例５と同様な方法で樹脂組成物２を作製した。樹脂組成物２のガラス転移温度は１０７℃であり、さらに揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
樹脂組成物２の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１２２℃であった。【０１７３】
次いで、実施例５と同様な方法で下層膜形成用樹脂組成物２を作製した。次いで、実施例５と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面に樹脂組成物２をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定した下層膜形成用樹脂組成物２の屈折率（ｎ値）は１．９４であり、消衰係数（ｋ値）は０．０５であった。【０１７４】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、樹脂組成物２は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化した樹脂組成物２の層の厚み（Ｈａｖ）は２９９ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３００ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は２９９ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．３％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２２５ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２３２ｎｍであり、樹脂組成物２の疎密パターンにおける膜厚差は７ｎｍであった。
また、樹脂組成物２を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表３に示す。【０１７５】
［実施例７］
ポリマー１の代わりに、実施例３で得られたポリマー３を用いた以外は実施例５と同様な方法で樹脂組成物３を作製した。樹脂組成物３のガラス転移温度は１０２℃であり、さらに揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
樹脂組成物３の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１１８℃であった。【０１７６】
次いで、実施例５と同様な方法で下層膜形成用樹脂組成物３を作製した。次いで、実施例５と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面に樹脂組成物３をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定した下層膜形成用樹脂組成物３の屈折率（ｎ値）は１．８５であり、消衰係数（ｋ値）は０．０４であった。【０１７７】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、樹脂組成物３は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化した樹脂組成物３の層の厚み（Ｈａｖ）は３０２ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３０３ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は３０１ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．７％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２１９ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２２５ｎｍであり、樹脂組成物３の疎密パターンにおける膜厚差は６ｎｍであった。
また、樹脂組成物３を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表３に示す。【０１７８】
［実施例８］
ポリマー１の代わりに、実施例４で得られたポリマー４を用いた以外は実施例５と同様な方法で樹脂組成物４を作製した。樹脂組成物４のガラス転移温度は１３２℃であり、さらに揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
樹脂組成物４の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１５０℃であった。【０１７９】
次いで、実施例５と同様な方法で下層膜形成用樹脂組成物４を作製した。次いで、実施例５と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面に樹脂組成物４をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定した下層膜形成用樹脂組成物４の屈折率（ｎ値）は１．８１であり、消衰係数（ｋ値）は０．０８であった。【０１８０】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、樹脂組成物４は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化した樹脂組成物４の層の厚み（Ｈａｖ）は３００ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３０２ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は３００ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．６％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２２０ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２２８ｎｍであり、樹脂組成物４の疎密パターンにおける膜厚差は８ｎｍであった。
また、樹脂組成物４を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表３に示す。【０１８１】
［実施例９］
構造単位［Ａ］を有するビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンを１８８ｇ（２ｍｏｌ）、構造単位［Ｂ］を有する４，１０−ジオキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オンを３０４ｇ（２ｍｏｌ）、および１，５−ヘキサジエンを３６ｇ（０．４４ｍｏｌ）をＴＨＦ２．８ｋｇに溶解し、実施例１と同様な方法で、開環メタセシス重合体溶液３．３ｋｇを得た。得られたポリマーは、重合率＝１００％、Ｍｗ＝６８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．８４、１ＨＮＭＲで解析した構造単位［Ａ］と構造単位［Ｂ］のモル比は［Ａ］／［Ｂ］＝５０／５０であった。【０１８２】
次いで、実施例１と同様な方法で析出、６０℃で減圧乾燥して白色粉末固体（ポリマー５）を得た。
ポリマー５のガラス転移温度は７２℃であった。
また、ポリマー５の揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、ポリマー５の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は８４℃であった。
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー５をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定したポリマー５の屈折率（ｎ値）は１．６８であり、消衰係数（ｋ値）は０．０１であった。【０１８３】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー５は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測した何れの計測値も３１５ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．０％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２２０ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２２６ｎｍであり、ポリマー５の疎密パターンにおける膜厚差は６ｎｍであった。
また、ポリマー５を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表１に示す。【０１８４】
［実施例１０］
実施例９で得られたポリマー５を７質量％の濃度でＰＧＭＥＡ／シクロヘキサノン＝５／５となるよう溶液を調製した以外は、実施例９と同様な方法で上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー５をコ−トしたサンプルを作製した。
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー５は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測した何れの計測値も２０８ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．０％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２０８ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２０８ｎｍであり、ポリマー５の疎密パターンにおける膜厚差は０ｎｍであった。
また、ポリマー５を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表１に示す。【０１８５】
［実施例１１］
実施例９で得られたポリマー５を２０質量％の濃度でＰＧＭＥＡ／シクロヘキサノン＝５／５となるよう溶液を調製し、６００ｒｐｍ、１０ｓｅｃの条件で塗布した以外は、実施例９と同様な方法で上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー５をコ−トしたサンプルを作製した。【０１８６】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー５は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測した何れの計測値も１６２２ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．０％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは１６２２ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは１６２２ｎｍであり、ポリマー５の疎密パターンにおける膜厚差は０ｎｍであった。
また、ポリマー５を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表１に示す。【０１８７】
［実施例１２］
構造単位［Ａ］を有する５−（１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンを４６９ｇ（２ｍｏｌ）、構造単位［Ｂ］を有する４，１０−ジオキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オンを３０４ｇ（２ｍｏｌ）、および１，５−ヘキサジエンを４２ｇ（０．５１ｍｏｌ）をＴＨＦ３．８ｋｇに溶解し、実施例１と同様な方法で、開環メタセシス重合体溶液４．５ｋｇを得た。得られたポリマーは、重合率＝１００％、Ｍｗ＝５６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９２、１ＨＮＭＲで解析した構造単位［Ａ］と構造単位［Ｂ］のモル比は［Ａ］／［Ｂ］＝５０／５０であった。【０１８８】
次いで、実施例１と同様な方法で析出、５０℃で減圧乾燥して白色粉末固体（ポリマー６）を得た。
ポリマー６のガラス転移温度は５６℃であった。
また、ポリマー６の揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、ポリマー６の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は７６℃であった。
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー６をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定したポリマー６の屈折率（ｎ値）は１．７８であり、消衰係数（ｋ値）は０．０２であった。【０１８９】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー６は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測した何れの計測値も３１１ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．０％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２１３ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２１８ｎｍであり、ポリマー６の疎密パターンにおける膜厚差は５ｎｍであった。
また、ポリマー６を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表２に示す。【０１９０】
［実施例１３］
構造単位［Ａ］を有する５−（１−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンを４６９ｇ（２ｍｏｌ）、構造単位［Ｂ］を有する４，１０−ジオキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オンを３０４ｇ（２ｍｏｌ）、および１，５−ヘキサジエンを４２ｇ（０．５１ｍｏｌ）をＴＨＦ３．８ｋｇに溶解し、実施例１と同様な方法で、開環メタセシス重合体溶液４．５ｋｇを得た。得られたポリマーは、重合率＝１００％、Ｍｗ＝７３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．１７、１ＨＮＭＲで解析した構造単位［Ａ］と構造単位［Ｂ］のモル比は［Ａ］／［Ｂ］＝５０／５０であった。【０１９１】
次いで、実施例１と同様な方法で析出、５０℃で減圧乾燥して白色粉末固体（ポリマー７）を得た。
ポリマー７のガラス転移温度は５８℃であった。
また、ポリマー７の揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、ポリマー７の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は８１℃であった。
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー７をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定したポリマー７の屈折率（ｎ値）は１．７８であり、消衰係数（ｋ値）は０．０１であった。【０１９２】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー７は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測した何れの計測値も３０５ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．０％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２１６ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２２３ｎｍであり、ポリマー７の疎密パターンにおける膜厚差は７ｎｍであった。
また、ポリマー７を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表２に示す。【０１９３】
［実施例１４］
実施例３で得られた開環メタセシス重合体溶液４．０ｋｇに、水素添加触媒として含水率５０．３％の５％Ｒｕカーボン３４ｇ（乾燥重量１６．９ｇ）、含水率５０．７％の５％Ｒｈカーボン１．８ｇ（乾燥質量０．８９ｇ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１２時間水素添加反応を行った。得られたポリマーは、水素添加率＝１００％、Ｍｗ＝９６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．０７、１ＨＮＭＲで解析した構造単位［Ａ］と構造単位［Ｂ］のモル比は［Ａ］／［Ｂ］＝５０／５０であった。
次いで、実施例１と同様な方法で析出、８０℃で減圧乾燥して白色粉末固体（ポリマー８）を得た。
ポリマー８のガラス転移温度は９１℃であった。
また、ポリマー８の揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、ポリマー８の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１１２℃であった。
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー８をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定したポリマー８の屈折率（ｎ値）は１．６６であり、消衰係数（ｋ値）は０．０２であった。【０１９４】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー８は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化したポリマー８の層の厚み（Ｈａｖ）は３１０ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３１１ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は３０９ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．６％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２２１ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２２８ｎｍであり、ポリマー８の疎密パターンにおける膜厚差は８ｎｍであった。
また、ポリマー８を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表２に示す。【０１９５】
［実施例１５］
実施例９で得られた開環メタセシス重合体溶液３．０ｋｇに、水素添加触媒として含水率５０．３％の５％Ｒｕカーボン６４ｇ（乾燥重量３１．８ｇ）、含水率５０．７％の５％Ｒｈカーボン３．５ｇ（乾燥質量１．７ｇ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１２時間水素添加反応を行った。得られたポリマーは、水素添加率＝１００％、Ｍｗ＝１０４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１８、１ＨＮＭＲで解析した構造単位［Ａ］と構造単位［Ｂ］のモル比は［Ａ］／［Ｂ］＝５０／５０であった。【０１９６】
次いで、実施例１と同様な方法で析出、５０℃で減圧乾燥して白色粉末固体（ポリマー９）を得た。
ポリマー９のガラス転移温度は４５℃であった。
また、ポリマー９の揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、ポリマー９の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は５０℃であった。
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー８をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定したポリマー９の屈折率（ｎ値）は１．６４であり、消衰係数（ｋ値）は０．０１であった。【０１９７】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー９は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測した何れの計測値も３１６ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．０％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２１１ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２１６ｎｍであり、ポリマー９の疎密パターンにおける膜厚差は５ｎｍであった。
また、ポリマー９を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表２に示す。【０１９８】
［実施例１６］
構造単位［Ａ］を有するビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンを７５ｇ（０．８ｍｏｌ）、構造単位［Ｂ］を有する４，１０−ジオキシ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］−８−デセン−３−オンを４８７ｇ（３．２ｍｏｌ）に変更した以外は、実施例５と同様な方法で、開環メタセシス重合体溶液３．３ｋｇを得た。得られたポリマーは、重合率＝１００％、Ｍｗ＝５９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３２、１ＨＮＭＲで解析した構造単位［Ａ］と構造単位［Ｂ］のモル比は［Ａ］／［Ｂ］＝２０／８０であった。【０１９９】
次いで、実施例５と同様な方法で析出、６０℃で乾燥して白色粉末固体（ポリマー１０）を得た。
ポリマー１０のガラス転移温度は６８℃であった。
また、ポリマー１０の揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
また、ポリマー１０の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は８２℃であった。
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー１０をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定したポリマー１０の屈折率（ｎ値）は１．６７であり、消衰係数（ｋ値）は０．０２であった。【０２００】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ポリマー１０は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測した何れの計測値も３２０ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．０％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２１７ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２２１ｎｍであり、ポリマー１０の疎密パターンにおける膜厚差は４ｎｍであった。
また、ポリマー１０を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表２に示す。【０２０１】
［実施例１７］
実施例５におけるポリマー１とポリヒドロキシスチレンの混合質量比を６０／４０に変更した以外は実施例５と同様な方法で樹脂組成物５を作製した。樹脂組成物５のガラス転移温度は１２７℃であり、さらに揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
樹脂組成物５の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１４５℃であった。【０２０２】
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー８をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定した下層膜形成用樹脂組成物５の屈折率（ｎ値）は１．７８であり、消衰係数（ｋ値）は０．０６であった。【０２０３】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、樹脂組成物５は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化した樹脂組成物５の層の厚み（Ｈａｖ）は３３６ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３３７ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は３３５ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．６％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２３２ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２４０ｎｍであり、樹脂組成物５の疎密パターンにおける膜厚差は８ｎｍであった。
また、樹脂組成物５を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表３に示す。【０２０４】
［実施例１８］
ポリヒドロキシスチレンの代わりに、熱可塑性樹脂（II）としてポリメチルメタクリレートを用いた以外は実施例５と同様な方法で樹脂組成物６を作製した。樹脂組成物６のガラス転移温度は１１０℃であり、さらに揮発成分の発生量は０．０質量％であった。
樹脂組成物６の固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度は１３５℃であった。【０２０５】
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面にポリマー８をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定した下層膜形成用樹脂組成物６の屈折率（ｎ値）は１．８０であり、消衰係数（ｋ値）は０．０２であった。【０２０６】
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、樹脂組成物６は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化した樹脂組成物６の層の厚み（Ｈａｖ）は３００ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３０１ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は３００ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．３％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２２７ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２３３ｎｍであり、樹脂組成物６の疎密パターンにおける膜厚差は６ｎｍであった。
また、樹脂組成物６を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表３に示す。【０２０７】
［実施例１９］
実施例１４で得られたポリマー８を１０質量％と、架橋剤として３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（ＥＥＣ）を０．３質量％の濃度で溶解したＰＧＭＥＡとシクロヘキサノンの質量比がＰＧＭＥＡ／シクロヘキサノン＝５／５となるよう溶液を調製し、樹脂組成物７を作製した。
上記の環状オレフィンポリマーが極性変化を起す温度は、Ｇ’とＧ’’の交点の温度に比して十分に高いことが分かっているので、上記環状オレフィンポリマー８と架橋剤とからなる樹脂組成物７のＧ’とＧ’’の交点の温度も同様の値であるとみなして構わない。
次いで、実施例１と同様な方法で、上記のシリコン基板ＡおよびＢの凹凸面に樹脂組成物７をコ−トしたサンプルを作製した。
エリプソメーターで測定した屈折率（ｎ値）は１．６７であり、消衰係数（ｋ値）は０．０２であった。
ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、樹脂組成物７は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対してボイド等の欠陥無く均一に埋め込まれていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化した樹脂組成物７の層の厚み（Ｈａｖ）は３１３ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３１３ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は３１２ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は０．３％であった。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２３９ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２４４ｎｍであり、樹脂組成物７の疎密パターンにおける膜厚差は５ｎｍであった。
また、樹脂組成物７を用いて各評価をおこなった。得られた結果を表３に示す。【０２０８】
［比較例１］
固体粘弾性測定の結果から算出される貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度が２５５℃であるノボラック樹脂ＫＡ１１６５（ＤＩＣ社製）を１０質量％で溶解したシクロヘキサノン溶液を調製し、実施例１と同様な方法でシリコン基板ＡおよびＢの凹凸表面にスピンコートし、２００℃で３分間焼成した。【０２０９】
次いで、実施例１と同様な方法で埋め込み性および平坦度の評価をそれぞれおこなった。ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、ノボラック樹脂は凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対して、凹部エッジの部分にボイドを生じていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化した厚みは３００ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は３１７ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は２８５ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は１０．７％であり大気面には歪みを生じていた。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２１３ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは２７５ｎｍであり、ノボラック樹脂の疎密パターンにおける膜厚差は６２ｎｍであった。得られた結果を表２に示す。【０２１０】
［比較例２］
メチルメタクリレートを１０質量％で溶解したシクロヘキサノン溶液に光重合開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンをメチルメタクリレートに対して２質量％溶解した溶液を調製した。
次いで実施例１と同様な方法でシリコン基板ＡおよびＢの凹凸表面にスピンコートし、サンプルを作製した。
次いで、１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量でＵＶ照射して塗布膜を硬化させた。【０２１１】
次いで、実施例１と同様な方法で埋め込み性および平坦度の評価をそれぞれおこなった。ＳＥＭにより基板Ａの断面を観察した結果、凸凸間の狭線幅４０ｎｍ（高さ２００ｎｍ）の溝に対して、凹部エッジの部分にボイドを生じていた。さらに、凹部底面から大気面までの距離を１０点計測して平均化した厚みは２５０ｎｍであり、最大高さ（Ｈｍａｘ）は２７５ｎｍ、最小高さ（Ｈｍｉｎ）は２４４ｎｍであり、平坦度（ΔＦＴ）は１２．４％であり大気面には歪みを生じていた。
またＳＥＭにより基板Ｂの断面を観察した結果、ａ１＝９００μｍ、ｂ１＝８００ｎｍ領域におけるＨ１層の厚みは２４２ｎｍ、ａ２＝４０ｎｍ、ｂ２＝８００ｎｍ領域におけるＨ２層の厚みは３１５ｎｍであり、ポリメチルメタクリレート樹脂の疎密パターンにおける膜厚差は７３ｎｍであった。得られた結果を表２に示す。【０２１２】
［プラズマエッチング耐性の評価］
実施例１、実施例２、実施例３、実施例４、実施例９、実施例１２、実施例１３、実施例１４、実施例１５および実施例１６で合成したポリマー１、ポリマー２、ポリマー３、、ポリマー４、ポリマー５、ポリマー６、ポリマー７、ポリマー８、ポリマー９およびポリマー１０をそれぞれ１０質量％で溶解したＰＧＭＥＡ／シクロヘキサノン＝５０／５０にとなるよう調整した溶液をシリコンウェハーに塗布し、窒素雰囲気下２００℃で３分間焼成した。次いで、それぞれのサンプルをＣＨＦ３ガス雰囲気下で３０秒間、６０秒間および９０秒間ドライエッチングした。エッチング前後の膜厚から、エッチングによる膜厚の減少量を算出し、横軸に時間（ｓｅｃ）、縦軸に減少膜厚量（ｎｍ）をプロットした。得られたグラフの傾きから各サンプルのエッチングレート（ｎｍ／ｓｅｃ）を算出した。
また、実施例５、実施例６、実施例７、実施例８、実施例１７、実施例１８および実施例１９で作製した樹脂組成物１、樹脂組成物２、樹脂組成物３、樹脂組成物４、樹脂組成物５、樹脂組成物６および樹脂組成物７をそれぞれ１０質量％で溶解したＰＧＭＥＡ／シクロヘキサノン＝５０／５０にとなるよう調整した溶液をシリコンウェハーに塗布し、窒素雰囲気下２００℃で３分間焼成した。次いで、それぞれのサンプルをＣＨＦ３ガス雰囲気下で３０秒間、６０秒間および９０秒間ドライエッチングした。エッチング前後の膜厚から、エッチングによる膜厚の減少量を算出し、横軸に時間（ｓｅｃ）、縦軸に減少膜厚量（ｎｍ）をプロットした。得られたグラフの傾きから各サンプルのエッチングレート（ｎｍ／ｓｅｃ）を算出した。【０２１３】
シリコンウェハー表面に形成したＳｉＯ２［テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を原料とし、シリコンウェハー表面に焼成して形成させる。］を対象物質としてエッチングレートを測定し、次いで、［ＳｉＯ２（ｎｍ／ｓｅｃ）／各サンプル（ｎｍ／ｓｅｃ）］の値によりエッチング耐性を評価した。［ＳｉＯ２（ｎｍ／ｓｅｃ）／各サンプル（ｎｍ／ｓｅｃ）］の値が高いほどエッチング耐性に優れることを意味する。
ポリマー１が４．５であり、ポリマー２が５．０であり、ポリマー３が５．０であり、ポリマー４が５．５であり、ポリマー５が４．３であり、ポリマー６が４．５であり、ポリマー７が５．１であり、ポリマー８が５．２であり、ポリマー９が５．１であり、ポリマー１０が４．３であり、いずれのポリマーもＳｉＯ２に対して高いエッチング耐性を示した。
また、樹脂組成物１が３．０であり、樹脂組成物２が２．５であり、樹脂組成物３が２．７であり、樹脂組成物４が３．５であり、樹脂組成物５が３．２であり、樹脂組成物６が２．７であり、樹脂組成物７が５．２であり、いずれの樹脂組成物もＳｉＯ２に対して高いエッチング耐性を示した。【０２１４】
［Ｏ２エッチングによる下層膜材料の除去特性の評価］
実施例１から実施例４、実施例９および実施例１２から実施例１６で合成したポリマー１からポリマー１０、実施例５から実施例８および実施例１７から実施例１９で作製した樹脂組成物１から樹脂組成物７をそれぞれＰＧＭＥＡ／シクロヘキサノン＝５０／５０に１０質量％で溶解させた溶液を基板表面に高さ２００ｎｍ、凸部幅１００ｎｍ、凸凸間幅１００ｎｍのライン＆スペースパターンを形成したシリコン基板表面に塗布し、窒素雰囲気下２００℃で３分間焼成した。次いで、それぞれのサンプルを割り、その内の片方を用いて下層膜材料の除去前のＳＥＭ観察を行い、もう片方を用いてＯ２ガス雰囲気下で６０秒間ドライエッチングして下層膜材料を除去した。次いで、除去後のＳＥＭ観察を行った。
下層膜材料の除去前後のＳＥＭ観察像の比較から、ポリマー１からポリマー１０、また樹脂組成物１から樹脂組成物７の何れにおいても基板上にポリマー残渣なく除去されていた。図５にポリマー１についてＯ２エッチングによる除去前後のＳＥＭ観察像を示す。
比較としてＳｉ上の置換基がプロポキシメタクリレートであるシロキサン樹脂を用いて、上記と同様な方法で下層膜材料の除去特性評価を実施したところ、ＳＥＭ観察で基板上にポリマー残渣が確認され、さらにエッチング時間を１８０秒まで伸ばしてもポリマー残渣なく除去することはできなかった。【０２１５】
【表１】
2019069502.tif 000009
【０２１６】
【表２】
2019069502.tif 000010
【０２１７】
【表３】
2019069502.tif 000011
【産業上の利用可能性】
【０２１８】
本発明の下層膜形成用樹脂材料は、十分な光学特性およびエッチング耐性を満たすとともに平坦性に優れ、揮発分の発生量も抑制されたレジスト下層膜を提供することができる。これにより、半導体デバイス製造工程において、高い集積度の半導体回路を得ることができる。【０２１９】
この出願は、２０１７年１０月６日に出願された日本出願特願２０１７−１９６４５２号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。【０２２０】
本発明は、以下の態様を含む。
１．
多層レジストプロセスに用いられるレジスト下層膜を形成するための下層膜形成用樹脂材料であって、
環状オレフィンポリマー（Ｉ）を含み、
レオメータを用いて、窒素雰囲気下、ずりモード、測定温度範囲５０〜２５０℃、昇温速度３℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚの条件で測定される、前記下層膜形成用樹脂材料の固体粘弾性における、貯蔵弾性率（Ｇ’）曲線と損失弾性率（Ｇ’’）曲線の交点を示す温度が６０℃以上２００℃以下である下層膜形成用樹脂材料。
２．
１．に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）は下記一般式（１）で表される繰返し構造単位［Ａ］を有する下層膜形成用樹脂材料。
【化７】
2019069502.tif 000012
（上記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つが、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜１０のジアルキルアミノカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数８〜２０のアルキルアリールアミノカルボニル基、炭素数３〜３０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜３０のアルコキシカルボニルアリール基、炭素数８〜２０のアリールオキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシアルキルオキシカルボニル基および炭素数４〜３０のアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基、から選ばれ、Ｒ１〜Ｒ４は互いに結合して環構造を形成していてもよく、ｎは０〜２の整数を表す。）
３．
２．に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）は下記一般式（２）で表される繰返し構造単位［Ｂ］をさらに有する下層膜形成用樹脂材料。
【化８】
2019069502.tif 000013
（上記一般式（２）中、Ｒ５〜Ｒ８のうち少なくとも１つが、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜１０のジアルキルアミノカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数８〜２０のアルキルアリールアミノカルボニル基、炭素数３〜３０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜３０のアルコキシカルボニルアリール基、炭素数８〜２０のアリールオキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシアルキルオキシカルボニル基および炭素数４〜３０のアルコキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基から選ばれ、Ｒ５〜Ｒ８が互いに結合して環構造を形成していてもよく、ｎは０〜２の整数を表し、Ｘ１は−Ｏ−または−Ｓ−を表す。）
４．
３．に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）における前記構造単位［Ａ］と前記構造単位［Ｂ］とのモル比［Ａ］／［Ｂ］が５／９５以上９５／５以下である下層膜形成用樹脂材料。
５．
１．乃至４．のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）とは異なる熱可塑性樹脂（II）をさらに含む下層膜形成用樹脂材料。
６．
５．に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記熱可塑性樹脂（II）が芳香環構造を有する有機ポリマーおよび（メタ）アクリルポリマーから選択される少なくとも一種を含む下層膜形成用樹脂材料。
７．
５．または６．に記載の下層膜形成用樹脂材料において、
前記下層膜形成用樹脂材料における前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）と前記熱可塑性樹脂（II）との質量比（Ｉ／II）が５／９５以上９５／５以下である下層膜形成用樹脂材料。
８．
１．乃至７．のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
下記方法１により測定される、前記下層膜形成用樹脂材料中の揮発成分の発生量が、前記下層膜形成用樹脂材料の全体を１００質量％としたとき、０．０質量％以上１．０質量％以下である下層膜形成用樹脂材料。
（方法１：前記下層膜形成用樹脂材料をテトラヒドロフランに溶解して、前記下層膜形成用樹脂材料の濃度が２０質量％の溶液を作製し、得られた溶液をアルミ皿に計量し、次いで、窒素気流下、２００℃で３分間加熱してテトラヒドロフランを除去し、次いで、室温まで冷却して前記下層膜形成用樹脂材料を固化し、窒素雰囲気下で、３０〜３００℃の温度範囲、１０℃／ｍｉｎの昇温速度で前記下層膜形成用樹脂材料を加熱し、１００〜２５０℃の範囲における重量減少量から、前記下層膜形成用樹脂材料中の前記揮発成分の発生量を算出する）
９．
１．乃至８．のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーを用いて測定される前記環状オレフィンポリマー（Ｉ）のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００以上２００００以下である下層膜形成用樹脂材料。
１０．
１．乃至９．のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
下記方法２により測定される、前記下層膜形成用樹脂材料の波長１９３ｎｍにおける屈折率（ｎ値）が１．５以上２．０以下である下層膜形成用樹脂材料。
（方法２：前記下層膜形成用樹脂材料からなる厚み２５０ｎｍのコート膜をシリコンウェハー上に形成し、得られた前記コート膜の波長１９３ｎｍにおける屈折率（ｎ値）を前記下層膜形成用樹脂材料の前記屈折率（ｎ値）とする）
１１．
１．乃至１０．のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
下記方法３により測定される、前記下層膜形成用樹脂材料の消衰係数（ｋ値）が０．０００１以上０．５以下である下層膜形成用樹脂材料。
（方法３：前記下層膜形成用樹脂材料からなる厚み２５０ｎｍのコート膜をシリコンウェハー上に形成し、得られた前記コート膜の消衰係数（ｋ値）を前記下層膜形成用樹脂材料の前記消衰係数（ｋ値）とする）
１２．
１．乃至１１．のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料において、
凹凸構造を有する基板の前記凹凸構造上に形成され、かつ、前記凹凸構造における凹部を埋めるための下層膜に用いられる下層膜形成用樹脂材料。
１３．
１．乃至１２．のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料を含むレジスト下層膜。
１４．
１．乃至１２．のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料を含む塗膜を基板上に形成する工程を含むレジスト下層膜の製造方法。
１５．
１４．に記載のレジスト下層膜の製造方法において、
前記塗膜を加熱する工程をさらに含むレジスト下層膜の製造方法。
１６．
基板と、
前記基板の一方の面に形成された、１．乃至１２．のいずれか一つに記載の下層膜形成用樹脂材料を含むレジスト下層膜と、
を備える積層体。
１７．
１６．に記載の積層体において、
前記レジスト下層膜の前記基板とは反対側の表面（α）における下記式により算出される平坦度（△ＦＴ）が０％以上５％以下である積層体。
平坦度（ΔＦＴ）＝［（Ｈｍａｘ―Ｈｍｉｎ）／Ｈａｖ］×１００（％）
（ここで、前記表面（α）の任意の１０カ所において、前記レジスト下層膜の膜厚を測定し、それらの平均値をＨａｖとし、前記レジスト下層膜の膜厚の最大値をＨｍａｘとし、前記レジスト下層膜の膜厚の最小値をＨｍｉｎとする）
１８．
１６．または１７．に記載の積層体において、
前記レジスト下層膜の膜厚の平均値Ｈａｖが５ｎｍ以上５００ｎｍ以下である積層体。
（ここで、前記レジスト下層膜の前記基板とは反対側の表面（α）の任意の１０カ所において、前記レジスト下層膜の膜厚を測定し、それらの平均値をＨａｖとする）
１９．
１６．乃至１８．のいずれか一つに記載の積層体において、
前記基板は少なくとも一方の表面に凹凸構造を有し、
前記凹凸構造上に前記レジスト下層膜が形成されており、
前記凹凸構造は、高さが５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、凸凸間の間隔が１ｎｍ以上１０ｍｍ以下である積層体。
【図１】
2019069502.tif 000016
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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2019069502.tif 000022