(57)【要約】小型化を実現しつつ溶接を使用せずに製造が可能な継手ブロックを提供する。ブロック本体（１０）と、ブロック本体（１０）の長手方向の他端側に形成された凹部（１５）に装着された閉塞部材（５０）と、を有し、ブロック本体（１０）の対向面（１５ｂ）に形成された円環状突起（１３）を有し、第１の流路（１２ｃ）の開口（１２ｐ）の周囲において円環状突起（１３）が他方の対向面（５０ｅ）に食い込むことによりブロック本体（１０）と閉塞部材（５０）との間をシールするシール機構と、閉塞部材（５０）をブロック本体（１０）の対向面（１５ｂ）に向けて押圧する、ブロック本体（１０）に形成されたかしめ部（１６）と、凹部（１５）の内周部（１５ａ）とこれに係合する閉塞部材（５０）の外周部（５１）とで形成される係合部（ＥＮ）と、を有し、シール機構の円環状突起（１３）を他方の対向面（５０ｅ）に押圧する押圧力を、かしめ部（１６）と係合部（ＥＮ）により分担している。
2019044541.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１および第２の開口部と、前記第１および第２の開口部を結ぶ流路を有する継手ブロックであって、  長手方向に延在し、かつ、当該長手方向の一端側で閉塞し他端側で開口する第１の流路と、前記第１の流路と前記長手方向の一端側で接続されかつ前記第１の開口部に連通する第２の流路と、前記第１の流路と前記長手方向の他端側で接続されかつ前記第２の開口部に連通する第３の流路と、を画定するブロック本体と、  前記ブロック本体の長手方向の他端側に形成された凹部に装着された閉塞部材と、を有し、  前記ブロック本体および閉塞部材の互いに対向する対向面の一方に形成された環状突起を有し、前記第１の流路の開口の周囲において前記環状突起が他方の対向面に食い込むことにより前記ブロック本体と前記閉塞部材との間をシールするシール機構と、  前記閉塞部材を前記ブロック本体の対向面に向けて押圧する、前記ブロック本体に形成されたかしめ部と、  前記凹部の内周部とこれに係合する前記閉塞部材の外周部とで形成される係合部と、を有し、  前記シール機構の環状突起を前記他方の対向面に押圧する押圧力を、前記かしめ部と前記係合部により分担している、ことを特徴とする継手ブロック。
【請求項２】
前記係合部は、前記凹部の内周面と当該内周面への圧入により塑性変形した前記閉塞部材の外周部とで形成される、ことを特徴とする請求項１に記載の継手ブロック。
【請求項３】
前記係合部は、一方に前記凹部の内周面または前記閉塞部材の外周面に形成された突起と、他方に前記凹部の内周面または前記閉塞部材の外周面に形成され前記突起が嵌る溝とを有する、ことを特徴とする請求項１に記載の継手ブロック。
【請求項４】
前記かしめ部は、前記閉塞部材の周囲に沿って分散配置されている、ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の継手ブロック。
【請求項５】
前記かしめ部は、前記凹部内に収まるように形成される、ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の継手ブロック。
【請求項６】
前記かしめ部は、前記閉塞部材の前記対向面とは反対側の背面を前記ブロック本体の対向面に向けて押圧するように形成されている、ことを特徴とする請求項４又は５に記載の継手ブロック。
【請求項７】
前記かしめ部は、前記凹部の内周面と前記閉塞部材の外周面との間を埋めるように形成されている、ことを特徴とする請求項４又は５に記載の継手ブロック。
【請求項８】
第１および第２の開口部と、前記第１および第２の開口部を結ぶ流路を有する継手ブロックの製造方法であって、  長手方向に延在し、かつ、当該長手方向の一端側で閉塞し他端側で開口する第１の流路と、前記第1の流路と前記長手方向の一端側で接続されかつ前記第1の開口部に連通する第２の流路と、前記第1の流路と前記長手方向の他端側で接続されかつ前記第２の開口部に連通する第３の流路とを画定するブロック本体と、閉塞部材とを用意し、  前記閉塞部材を、前記ブロック本体の長手方向の他端側に形成された凹部に位置決めし、  前記閉塞部材を前記凹部に圧入して、前記凹部の内周部と前記閉塞部材の外周部とが係合する係合部を形成し、  前記ブロック本体に形成されたかしめ部を変形させて前記閉塞部材を前記ブロック本体の対向面に向けて押圧し、  前記ブロック本体および閉塞部材の互いに対向する対向面の一方に形成された環状突起を、前記第１の流路の開口の周囲において他方の対向面に食い込ませてシールする、ことを特徴とする継手ブロックの製造方法。
【請求項９】
前記係合部を形成する工程と、前記かしめ部を変形させる工程と、を共通の工程で実施することを特徴とする請求項８に記載の継手ブロックの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれかに記載の継手ブロックを用いて流体機器間の流路が接続されている流体制御装置。
【請求項１１】
請求項１０の流体制御装置を用いて流体の流量制御をする流量制御方法。
【請求項１２】
密閉されたチャンバ内においてプロセスガスによる処理工程を要する半導体装置の製造プロセスにおいて、前記プロセスガスの制御に請求項１０に記載の流体制御装置を用いる半導体製造装置。
【請求項１３】
密閉されたチャンバ内においてプロセスガスによる処理工程を要する半導体装置の製造プロセスにおいて、前記プロセスガスの流量制御に請求項１０に記載のバルブ装置を用いる半導体製造方法。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、バルブ装置およびこのバルブ装置を含む流体機器が集積化された流体制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】  半導体製造プロセス等の各種製造プロセスにおいては、正確に計量したプロセスガスをプロセスチャンバに供給するために、開閉バルブ、レギュレータ、マスフローコントローラ等の各種の流体機器を集積化してボックスに収容した集積化ガスシステムと呼ばれる流体制御装置が用いられている。この集積化ガスシステムをボックスに収容したものがガスボックスと呼ばれている。  上記のような集積化ガスシステムでは、管継手の代わりに、流路を形成した継手ブロックをベースプレートの長手方向に沿って配置し、この継手ブロック上に各種流体機器を設置することで、集積化を実現している(例えば、特許文献１、２参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２２７３６８公報
【特許文献２】特開２００８−２９８１７７号公報
【特許文献３】特開２０１５−１５１９２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】  各種製造プロセスにおけるプロセスガスの供給制御には、より高い応答性が求められており、そのためには流体制御装置をできるだけ小型化、集積化して、流体の供給先であるプロセスチャンバのより近くに設置する必要がある。  半導体ウエハの大口径化等の処理対象物の大型化が進んでおり、これに合わせて流体制御装置からプロセスチャンバ内へ供給する流体の供給流量も増加させる必要がある。  流体制御装置の小型化、集積化を進めていくには、流体機器の小型化を進展させるだけでなく、小型化された流体機器が設置される継手ブロックの寸法も小さくする必要がある。  加えて、継手ブロックに２カ所で開口する流路を形成するのも難しくなる。従来においては、例えば、継手ブロックの長手方向の一端側で閉塞し他端側で開口する孔を加工し、この孔の開口部に閉塞部材を溶接により固定して開口部を閉塞することで、継ぎ手ブロックの長手方向に延びる流路を形成している。  しかし、この方法では、流路表面が溶接により焼ける、溶接残滓が流路に残存する等の問題がある。継手ブロックの小型化を進めると、加工後の流路の研磨やクリーニングをするのが困難である。  特許文献３は、溶接を使用せずに、閉塞部材を流路端の開口に設け、かしめにより閉塞部材を固定する閉塞技術を開示しているが、この方法では、継手ブロックの寸法を縮小していくと、かしめ部に相対的に大きな力が印可されるため、継手ブロック自体が変形してしまう可能性がある。【０００５】  本発明の目的の一つは、小型化を実現しつつ溶接を使用せずに製造が可能な継手ブロックを提供することにある。  本発明のさらに他の目的は、小型化を実現しつつ溶接を使用せずに継ぎ手ブロックを製造する継手ブロックの製造方法を提供することにある。  本発明のさらに他の目的は、上記の継手ブロックを含む小型化、集積化された流体制御装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】  本発明の継手ブロックは、  第１および第２の開口部と、前記第1および第２の開口部を結ぶ流路を有する継手ブロックであって、  長手方向に延在し、かつ、当該長手方向の一端側で閉塞し他端側で開口する第１の流路と、前記第1の流路と前記長手方向の一端側で接続されかつ前記第1の開口部に連通する第２の流路と、前記第1の流路と前記長手方向の他端側で接続されかつ前記第２の開口部に連通する第３の流路と、を画定するブロック本体と、  前記ブロック本体の長手方向の他端側に形成された凹部に装着された閉塞部材と、を有し、  前記ブロック本体および閉塞部材の互いに対向する対向面の一方に形成された環状突起を有し、前記第１の流路の開口の周囲において前記環状突起が他方の対向面に食い込むことにより前記ブロック本体と前記閉塞部材との間をシールするシール機構と、  前記閉塞部材を前記ブロック本体の対向面に向けて押圧する、前記ブロック本体に形成されたかしめ部と、  前記凹部の内周部とこれに係合する前記閉塞部材の外周部とで形成される係合部と、を有し、  前記シール機構の環状突起を前記他方の対向面に押圧する押圧力を、前記かしめ部と前記係合部により分担している、ことを特徴とする。【０００７】  本発明の継手ブロックの製造方法は、  第１および第２の開口部と、前記第1および第２の開口部を結ぶ流路を有する継手ブロックの製造方法であって、  長手方向に延在し、かつ、当該長手方向の一端側で閉塞し他端側で開口する第１の流路と、前記第1の流路と前記長手方向の一端側で接続されかつ前記第1の開口部に連通する第２の流路と、前記第1の流路と前記長手方向の他端側で接続されかつ前記第２の開口部に連通する第３の流路とを画定するブロック本体と、閉塞部材とを用意し、  前記閉塞部材を、前記ブロック本体の長手方向の他端側に形成された凹部に位置決めし、  前記閉塞部材を前記凹部に圧入して、前記凹部の内周部と前記閉塞部材の外周部とが係合する係合部を形成し、  前記ブロック本体に形成されたかしめ部を変形させて前記閉塞部材を前記ブロック本体の対向面に向けて押圧し、  前記ブロック本体および閉塞部材の互いに対向する対向面の一方に形成された環状突起を、前記第１の流路の開口の周囲において他方の対向面に食い込ませてシールする、ことを特徴とする。【０００８】  本発明の流体制御装置は、上記構成の継手ブロックを用いて流体機器間の流路が接続されている。【０００９】  本発明の半導体製造方法は、密閉されたチャンバ内においてプロセスガスによる処理工程を要する半導体装置の製造プロセスにおいて、前記プロセスガスの制御に上記構成の流体制御装置を用いる。  本発明の半導体製造装置は、密閉されたチャンバ内においてプロセスガスによる処理工程を要する半導体装置の製造プロセスにおいて、前記プロセスガスの制御に上記構成の流体制御装置を用いる。
【発明の効果】
【００１０】  本発明によれば、シール機構に要する力をかしめ部と係合部とに分担させることで応力分散が可能となり、溶接を使用せずとも、過大な機械的力によるブロック本体の変形を防ぎつつ小型化された継手ブロックの製造が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明が適用された流体制御装置の一例を示す斜視図。
【図２Ａ】本発明の第1実施形態に係る継手ブロックの上面図。
【図２Ｂ】図２Ａの継手ブロックの長手方向に沿う断面図。
【図２Ｃ】図２Ａの継手ブロックの閉塞部材側の側面図。
【図３】図２Ａの継手ブロックのブロック本体の要部拡大断面図。
【図４】図２Ａの継手ブロックの閉塞部材の正面図。
【図５Ａ】本発明の第1実施形態に係る継手ブロックの組立工程を説明する一部断面を含む側面図。
【図５Ｂ】図５Ａに続く組立工程を示す側面図。
【図５Ｃ】図５Ｂに続く組立工程を示す側面図。
【図５Ｄ】図５Ｃに続く組立工程を示す側面図。
【図５Ｅ】本発明の第1実施形態に係る継手ブロックの組立工程完了後の状態を示す一部断面を含む側面図。
【図６Ａ】ブロック本体の突出片の変形例を示す要部拡大断面図。
【図６Ｂ】ブロック本体の突出片の変形例を示す要部拡大断面図。
【図６Ｃ】ブロック本体の突出片の変形例を示す要部拡大断面図。
【図７Ａ】本発明の第２実施形態に係る継手ブロックのブロック本体の正面図。
【図７Ｂ】本発明の第２実施形態に係る継手ブロックのブロック本体の要部拡大断面図。
【図８Ａ】図７Ａのブロック本体を用いた継手ブロックの組立工程を説明する一部断面を含む側面図。
【図８Ｂ】図８Ａに続く組立工程を示す側面図。
【図８Ｃ】図８Ｂに続く組立工程を示す側面図。
【図８Ｄ】図８Ｃに続く組立工程を示す側面図。
【図９Ａ】図７Ａのブロック本体を用いた継手ブロックの他の組立工程を説明する一部断面を含む側面図。
【図９Ｂ】図９Ａに続く組立工程を示す側面図。
【図１０】本発明の第２実施形態に係るブロック本体の変形例を示す要部拡大断面図。
【図１１Ａ】本発明の第２実施形態に係るブロック本体の変形例を示す側面図。
【図１１Ｂ】図１１Ａのブロック本体を用いた継手ブロックの一部断面を含む側面図。
【図１２Ａ】本発明の第３実施形態に係る閉塞部材の正面図。
【図１２Ｂ】本発明の第３実施形態に係るブロック本体の要部拡大断面図。
【図１２Ｃ】本発明の第３実施形態に係る継手ブロックの要部拡大断面図。
【図１３Ａ】本発明の第４実施形態に係る継手ブロックの閉塞部材の正面図。
【図１３Ｂ】本発明の第４実施形態に係る継手ブロックのブロック本体の要部拡大断面図。
【図１３Ｃ】本発明の第４実施形態に係る継手ブロックの組立工程を説明する一部断面を含む側面図。
【図１３Ｄ】図１３Ｃに続く組立工程を示す側面図。
【図１４Ａ】本発明の第５実施形態に係る継手ブロックの閉塞部材の正面図。
【図１４Ｂ】図１４Ａの閉塞部材の側面図。
【図１４Ｃ】本発明の第５実施形態に係る継手ブロックのブロック本体の要部拡大断面図。
【図１４Ｄ】本発明の第５実施形態に係る継手ブロックの説明する正面図。
【図１４Ｅ】図１４Ｄに続く組立工程を示す正面図。
【図１４Ｆ】図１４Ｅに続く組立工程を示す要部断面図。
【図１５Ａ】本発明の第６実施形態に係る閉塞部材の正面図。
【図１５Ｂ】本発明の第６実施形態に係る閉塞部材を用いた継手ブロックの組立工程を説明する要部拡大断面図。
【図１５Ｃ】図１５Ｂに続く組立工程を示す要部拡大断面図。
【図１６Ａ】本発明の継手ブロックの閉塞部材の変形例を示す正面図。
【図１６Ｂ】図１６Ａの閉塞部材の側面図。
【図１７】本発明の継手ブロックの閉塞部材の他の変形例を示す正面図。
【図１８】本発明の継手ブロックの閉塞部材のさらに他の変形例を示す正面図。
【図１９】本発明の一実施形態に係る流体装置の半導体製造プロセスへの適用例を示す概略図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】  以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。第1実施形態  先ず、図１を参照して、本発明が適用される流体制御装置の一例を説明する。  図１に示す流体制御装置は、金属製のベースプレートＢＳ上には、幅方向Ｗ１，Ｗ２に沿って配列され長手方向Ｇ１，Ｇ２に延びる５本のレール部材５００が設けられている。なお、Ｗ１は正面側、Ｗ２は背面側，Ｇ１は上流側、Ｇ２は下流側の方向を示している。各レール部材５００には、複数の継手ブロック２００を介して各種流体機器１１０Ａ〜１１０Ｅが設置され、複数の継手ブロック２００によって、上流側から下流側に向かって流体が流通する図示しない流路がそれぞれ形成されている。  ここで、「流体機器」とは、流体の流れを制御する流体制御装置に使用される機器であって、流路を画定するボディを備え、このボディの表面で開口する少なくとも２つの流路口を有する機器である。具体的には、開閉弁（２方弁）１１０Ａ、レギュレータ１１０Ｂ、プレッシャーゲージ１１０Ｃ、開閉弁（３方弁）１１０Ｄ、マスフローコントローラ１１０Ｅ等が含まれるが、これらに限定されるわけではない。なお、導入管３１０は、上記した図示しない流路の上流側の流路口に接続されている。
【００１３】  図２Ａ〜図２Ｃに、上記した継手ブロック２００の構造の一例を示す。  継手ブロック２００は、ステンレス合金等の金属製のブロック本体１０とステンレス合金等の金属製の閉塞部材５０とを有する。なお、本実施形態では、ブロック本体１０を構成する金属は、閉塞部材５０を構成する金属よりも硬い（例えば、４倍程度）金属を使用するものとする。また、以下の図において、矢印Ａ１、Ａ２はブロック本体１０の長手方向を示し、Ａ１は閉塞部材５０の非設置側（以下、一端側とする）を示し、Ａ２は閉塞部材５０の設置側（以下、他端側とする）を示す。  ブロック本体１０は、互いに対向する平面からなる上面１０ａおよび平面からなる底面１０ｂ、上面１０ａに対してそれぞれ直交する側面１０e１、１０e２、これらの面に直交する長手方向Ａ１，Ａ２の両端部に配置された端面１０ｃ、１０ｄを有する。なお、ブロック本体１０が直方体形状の場合を例に挙げたが他の形状を採用することもできる。
【００１４】  底面１０ｂ側に突出するように形成された係合部１０ｔは、レール部材５００の図示しないガイド部に嵌合する形状を有し、レール部材５００の長手方向Ｇ１,Ｇ２の両端部からそれぞれ挿入可能である。これによりブロック本体１０はレール部材５００上に拘束される。
【００１５】  ブロック本体１０の画定する流路１２は、長手方向Ａ１，Ａ２に延在し、かつ、当該長手方向Ａ１，Ａ２の一端側Ａ１で閉塞し他端側Ａ２で開口する第１の流路１２ｃと、第1の流路１２ｃと長手方向Ａ１，Ａ２の一端側Ａ１で接続されかつ第1の開口部１２ｄに連通する第２の流路１２ａと、第1の流路１２ｃと長手方向Ａ１，Ａ２の他端側Ａ２で接続されかつ第２の開口部１２ｅに連通する第３の流路１２ｂとを含む。  なお、第２の流路１２ａおよび第３の流路１２ｂは、上面１０ａに対して垂直に形成され、第１の流路１２ｃは上面１０ａに対して平行に形成されているが、これに限定されるわけではなく、垂直、水平としないことも可能である。  第２の流路１２ａおよび第３の１２ｂの加工方法は、例えば、ブロック本体１０の上面１０ａに垂直な方向にドリルで穴を穿ち、ブラインドホールを形成すればよい。第１の流路１２ｃは、ブロック本体１０の端面１０ｄに垂直な方向にドリルで穴を穿ち、ブラインドホールを形成すればよい。このとき、第２の流路１２ａおよび第３の流路１２ｂの先端部と接続される高さに第１の流路１２ｃを加工する。第１の流路１２ｃを形成するための穴をブロック本体１０の端面１０ｄから開けると、ブロック本体１０の他端側Ａ２に第１の流路１２ｃの開口が形成される。この第１の流路１２ｃの開口は、後述するように、閉塞部材５０で閉塞され、第２の流路１２ａおよび第３の流路１２ｂと第１の流路１２ｃとからなるＵ状流路が形成される。なお、第１の流路１２ｃの開口の周辺の構造については後述する。
【００１６】  ブロック本体１０の上面１０ａ側で開口する開口部１２ｄ、１２ｅの周囲には、ガスケットをそれぞれ保持するための保持凹部１４ａ，１４ｂが形成されている。保持凹部１４ａ，１４ｂの底面の開口部１２d、１２eの外周には、図示しないが、ガスケットを押し潰すためにガスケットよりも硬度を十分に高くする硬化処理した円環状の突起を形成してもよい。  ブロック本体１０には、長手方向Ａ１，Ａ２において、上面１０ａで開口し底面１０ｂ側に向けて延びる２つのネジ穴１８ａ、１８ｂが形成されている。ネジ穴１８ａ、１８ｂは、上面１０ａで開口する２つの開口部１２d、１２eの間に位置する。ネジ穴１８ａ、１８ｂは、例えば、Ｍ５で少なくとも３つのネジ山を有し、深さが３ｍｍ程度であるがこれに限定されるわけではない。ブロック本体１０の寸法仕様は、例えば、幅が１０ｍｍ程度、長さが３０ｍｍ程度、流路１２の直径が２．６ｍｍ程度であり、係合部１０ｔを含まない高さが１３ｍｍ程度であるが、これに限定されるわけではない。ネジ穴１８ａ、１８ｂは、継手ブロック２００に、異なる流体機器のボディを連結するのに用いられる。ブロック本体１０およびレール部材５００の幅は、約１０ｍｍで略一致している。
【００１７】  図３にブロック本体１０の長手方向Ａ１，Ａ２の他端側Ａ２の要部拡大断面図を示す。  図３に示すように、凹部１５はブロック本体１０の第１の流路１２ｃの開口１２ｐに隣接して形成されている。凹部１５は、開口１２ｐと同心状に配置される円周面１５ａと第１の流路１２ｃの軸線に直交する対向面１５ｂを画定している。加えて、開口１２ｐの周囲には、後述するシール機構を構成する円環状突起１３が形成されている。さらに、ブロック本体１０の端面１０ｄには、長手方向の他端側Ａ２に突出するかしめ部としての複数の突出片１６が凹部１５の内周面１５ａに隣接して一体的に形成されている。図２Ｃに示したように、突出片１６は内周面１５ａに沿って等間隔に分散配置されている。
【００１８】  図４に閉塞部材５０の構造を示す。  閉塞部材５０は円盤状の金属部材であり、周面５０ａの幅方向の略中央位置に突起５１が全周にわたり形成されている。閉塞部材５０は表裏対称に形成されており、いずれの端面５０ｅも上記のブロック本体１０の対向面１５ｂに対向する対向面として使用可能である。
【００１９】  次に、図５Ａ〜図５Ｅを参照して、上記構成のブロック本体１０と閉塞部材５０を用いた継手ブロック２００の組立工程を説明する。  先ず、図５Ａに示すように、ブロック本体１０の凹部１５に対して閉塞部材５０を位置決めする。なお、組立の際には、ブロック本体１０は、凹部１５が上方を向くように図示しないホルダーに固定される。  図５Ａから分かるように、閉塞部材５０の周面５０ａの外径は、凹部１５の内周面１５ａの内径よりも若干小さく、突起５１の外径は凹部１５の内周面１５ａの内径よりも若干大きく形成されている。このため、閉塞部材５０の突起５１より一端側Ａ１の部分は、凹部１５に嵌合挿入されるが、突起５１は端面１０ｄおよび内周面１５ａと干渉するので、位置決めしただけでは、突起５１は凹部１５に入り込まない。
【００２０】  次に、図５Ｂに示すように、冶具６００を下降させて閉塞部材５０の上側の端面５０ｅに冶具６００の押圧面６０１を当接させる。このとき、冶具６００はブロック本体１０に形成された突出片１６と当接していない。  次いで、図５Ｃに荷重Ｆ１の力で、閉塞部材５０を凹部１５内に圧入する。このとき、閉塞部材５０の突起５１は凹部１５の内周面１５ａと係合し、内周面１５ａにより潰されて塑性変形する。荷重Ｆ１は突起５１が塑性変形するのに必要十分な大きさとする。これにより係合部ＥＮが形成される。  図５Ｃから分かるように、冶具６００には、突出片１６に係合する係合凹部６１０が形成されており、係合部ＥＮの形成工程において、突出片１６も塑性変形し、凹部１５側に向けて傾斜する。  また、閉塞部材５０の対向面である下側の端面５０ｅは、開口１２ｐの周囲に形成された円環状突起１３に向けて押圧され、図に示すように、円環状突起１３が下側の端面５０ｅに食い込み、ブロック本体１０と閉塞部材５０との間をシールするシール機構が構成される。
【００２１】  次いで、図５Ｄに示すように、別の冶具７００を下降させ、荷重Ｆ２の力で冶具７００の押圧面７１０を用いて突出片１６をさらに塑性変形させると、突出片１６は屈曲して凹部１５内に収まり、本発明のかしめ部となる。  図５Ｅに示すように、突出片１６は凹部１５内に収まり、端面１０ｄと突出片１６は共通平面に配置される。  図から分かるように、閉塞部材５０の対向面である端面５０ｅを円環状突起１３へ押圧する押圧力は、かしめ部として変形した複数の突出片１６と係合部ＥＮにより分担される。すなわち、シール機構のシール力を保持する力をかしめ部と係合部ＥＮとに分担させることで、冶具６００の荷重Ｆ１と冶具７００の荷重Ｆ２とを相対的に小さくできるので、ブロック本体１０に過大な荷重が印可されるのを回避できる。
【００２２】  図６Ａ〜図６Ｃにブロック本体１０に形成される突出片の変形例を示す。なお、図６Ａ〜図６Ｃにおいて、上記実施形態と同様の構成部分については同じ符号を使用している。  図６Ａに示す突出片１６Ａは、先端に向けて厚みが減少する先細り形状に形成されており、加えて、端面１０ｄの突出片１６Ａの根元には凹状に湾曲した溝１０ｒが形成されている。このような構成とすることで、上記実施形態と比べて突出片１６Ａを塑性変形させる力を小さくすることができる。  図６Ｂに示す突出片１６Ｂは、先端部が丸みを持つように形成されている。このような構成によれば、突出片１６Ｂを折り曲げた際に、突出片１６Ｂのエッジが閉塞部材５０の端面５０eに突き刺さりにくくなり、余計な負荷が閉塞部材５０にかかるのを避けることができる。  図６Ｃに示す突出片１６Ｃは、先端部に面積が拡大する拡大面積部が形成されている。このような構成によれば、突出片１６Ｃの閉塞部材の端面５０ｅを押圧する面積が拡大するため、シール機構のシール性能をより安定化することができる。
【００２３】第２実施形態  図７Ａおよび図７Ｂに、本発明の第２実施形態に係る継手ブロックのブロック本体を示す。なお、図７Ａ，図７Ｂにおいて、上記実施形態と同様の構成部分については同じ符号を使用している。  ブロック本体１０Ｄは、凹部１５の外方に延びる突出片１６に代えて、かしめの際に、押圧により押しつぶされる複数の突出部１６Ｄを有する。
【００２４】  図８Ａ〜図８Ｄに、上記構成のブロック本体１０Ｄと上記した閉塞部材５０を用いた継手ブロックの組立工程を示す。  先ず、図８Ａに示すように、凹部１５に対して閉塞部材５０を位置決めすると、図５Ａで説明した場合と同様の状態となる。  次いで、冶具７００の押圧面７１０を閉塞部材５０の上側の端面５０ｅに当接させつつ閉塞部材５０を凹部１５内に荷重Ｆの力で圧入していくと、閉塞部材５０の下側の端面５０ｅに円環状突起１３が食い込むとともに、閉塞部材５０の突起５１が凹部１５の内周面１５aにより圧し潰され塑性変形する。  さらに、冶具７００を下降させていくと、ブロック本体１０Ｄの複数の突出部１６Ｄも圧し潰され、圧し潰された突出部１６Ｄは閉塞部材５０の周面５０aを変形させつつ、凹部１５の内周面１５ａと閉塞部材５０の周面５０ａとの間を埋めるように塑性変形する。この結果、図８Ｄに示すように、円環状突起１３が下側の端面５０ｅに食い込み、ブロック本体１０Ｄと閉塞部材５０との間をシールするシール機構が構成されるとともに、シール機構のシール力を保持する力を分担するかしめ部１６と係合部ＥＮが構成される。
【００２５】  次に、図９Ａおよび図９Ｂに、図８Ａ〜図８Ｄで説明したのとは異なる組立工程を示す。  図８Ａ〜図８Ｄでは、共通の冶具７００を用いて閉塞部材５０の圧入および突出部１６Ｄのかしめを共通の工程で実施した。  図９Ａに示すように、冶具８００を用いて閉塞部材５０の圧入のみを先ず実施する。  次いで、図９Ｂに示すように、冶具７００を用いて、突出部１６Ｄのかしめを実施する。このように、工程を分けることで、荷重Ｆ３，Ｆ４を別々に設定できるというメリットがある。
【００２６】  図１０に、図７Ａおよび図７Ｂに示したブロック本体１０Ｄの変形例を示す。  ブロック本体１０Ｅの複数の突起１６Ｅは、半球状に形成されている。このように、突起１６Ｅの形状を最適化することも可能である。
【００２７】  図１１Ａおよび図１１Ｂに、ブロック本体１０Ｄのさらに他の変形例を示す。なお、図１１Ａ，図１１Ｂにおいて、上記実施形態と同様の構成部分については同じ符号を使用している。  図１１Ａに示すブロック本体１０Ｆは、凹部１５の内周面１５ａに一条の溝１５ｃを備える。閉塞部材としては、第１実施形態で説明したのと同様の閉塞部材５０を使用する。  第２実施形態と同様の組立方法（２種類の方法）で組立可能である。  図１１Ｂに示すように、凹部１５の溝１５ｃに閉塞部材５０の突起５１が嵌り込むことにより、係合部ＥＮが形成される。
【００２８】第３実施形態  図１２Ａ〜図１２Ｃに本発明の第３実施形態に係る閉塞部材、ブロック本体および「継手ブロックを示す。なお、図１２Ａ〜図１２Ｃにおいて、上記実施形態と同様の構成部分については同じ符号を使用している。  閉塞部材５０Ａは、円盤状で周面５０ａはフラットに形成されている。  ブロック本体１０Ｇは、凹部１５の内周面１５ａに突条１５ｔが形成されている。  第２実施形態と同様の組立方法（２種類の方法）を採用して、閉塞部材５０Ａを凹部１５内に圧入し、突出部１６Ｄをかしめると、図１２Ｃに示すように、シール機構が構成されるとともに、突条１５ｔが閉塞部材５０Ａの周面５０ａに食い込むことにより、係合部ＥＮが形成される。また、突出部１６Ｄがかしめ部を構成する。
【００２９】第４実施形態  図１３Ａ〜図１３Ｄに本発明の第４実施形態を示す。なお、図１３Ａ〜図１２Ｄにおいて、上記実施形態と同様の構成部分については同じ符号を使用している。  図１３Ａに示す閉塞部材５０Ｂは、一端面５０ｅ２に円環状突起５２が形成されており、他端面５０ｅ１は平坦面となっている。円環状突起５２は、硬化処理により、閉塞部材５０Ｂの他の部分よりも十分に硬度が高くなっており、また、ブロック本体を形成する金属よりも硬くなっている。  図１３Ｂに示すように、ブロック本体１０Ｈの対向面１５ｂは平坦面となっている。  図１３Ｃに示すように、凹部１５に対して閉塞部材５０Ｂを位置決めすると、閉塞部材５０Ｂの突起５２が端面１０ｄに干渉する。この状態から、上記した組立方法を用いて閉塞部材５０Ｂを凹部１５内に圧入するとともに突出部１６Ｄをかしめると、図１３Ｄに示すように、円環状の突起５２は対向面１５ｂに食い込んでシール機構を構成し、突起５１が圧し潰されて係合部ＥＮを構成し、突出部１６Ｄがかしめ部を構成する。
【００３０】第５実施形態  図１４Ａ〜図１４Ｆに本発明の第５実施形態を示す。なお、図１４Ａ〜図１４Ｆにおいて、上記実施形態と同様の構成部分については同じ符号を使用している。  図１４Ａおよび図１４Ｂに示す閉塞部材５０Ｃは、一端面５０ｅ２とは反対側の他端面５０ｅ１に周面５０ａおよび突起５１よりも外径が大きい拡径部５３を有する。拡径部５３の外周縁部には、凹部５３ｔが周方向に等間隔に形成されている。  図１４Ｃに示すブロック本体１０Ｊは、凹部１５の端面１０ｄ側に、上記した拡径部５３を収容可能な拡大凹部１５ｍが形成されている。また、複数の突起１６Ｆが、凹部５３ｔに対応する位置に形成されている。  図１４Ｄに示すように、閉塞部材５０Ｃの凹部５３tとブロック本体１０Ｊの突起１６Ｆを位置合わせし挿入すると、各凹部５３ｔが各突起１６Ｆを通過することで、閉塞部材５０Ｃが凹部１５に収容される。  次いで、図１４Ｅに示すように、閉塞部材５０Ｃを一方向に回転させて凹部５３tと突起１６Ｆの位置をずらす。  その後、突起１６Ｆをかしめることで、図１４Ｆに示すように、シール機構、係合部ＥＮおよびかしめ部１６Ｆが形成される。
【００３１】第６実施形態  図１５Ａ〜図１５Ｃに本発明の第６実施形態を示す。なお、図１５Ａ〜図１５Ｃにおいて、上記実施形態と同様の構成部分については同じ符号を使用している。  図１５Ａに示す閉塞部材５０Ｄは、円盤状であるが、テーパ状の周面５０ｂを有する。  図１５Ｂに示すように、閉塞部材５０Ｄをブロック本体１０Ｄの凹部１５に位置決めすると、テーパ状の周面５０ｂの小径側の一部のみが凹部１５内に入り、途中で干渉するようになっている。  図１５Ｃに示すように、閉塞部材５０Ｄをブロック本体１０Ｄの凹部１５内に圧入すると、テーパ状の周面５０ｂの大径側が塑性変形し、係合部ＥＮが形成される。突出部１６Ｄをかしめるとかしめ部が形成される。
【００３２】  図１６Ａおよび図１６Ｂに閉塞部材の変形例を示す。  閉塞部材５０Ｅは、周面５０ａ上に周方向に延在し、等間隔に配列された複数の突条５０ｃを有する。
【００３３】  図１７に示すように、閉塞部材５０Ｆの周面５０ａに周方向に半球状の突起５０ｄを等間隔に形成することも可能である。
【００３４】  図１８に示すように、凸状に湾曲した周面５０ｒをもつ閉塞部材５０Ｇを採用することも可能である。
【００３５】  次に、図１９を参照して、図１に示した流体制御装置の適用例について説明する。  図１９に示す半導体製造装置１０００は、ＡＬＤ法による半導体製造プロセスを実行するための装置であり、９００はプロセスガス供給源、９０１はガスボックス（流体制御装置）、９０２はタンク、９０３は開閉バルブ、９０４は制御部、９０５は処理チャンバ、９０６は排気ポンプを示している。  ＡＬＤ法による半導体製造プロセスでは、処理ガスの流量を精密に調整する必要があるとともに、基板の大口径化により、処理ガスの流量をある程度確保する必要もある。  ガスボックス９０１は、正確に計量したプロセスガスを処理チャンバ９０５に供給するために、開閉バルブ、レギュレータ、マスフローコントローラ等の各種の流体機器を集積化してボックスに収容した上記の流体制御装置を内蔵している。  タンク９０２は、ガスボックス９０１から供給される処理ガスを一時的に貯留するバッファとして機能する。  開閉バルブ９０３は、ガスボックス９０１で計量されたガスの流量を制御する。  制御部９０４は、開閉バルブ９０３を制御して流量制御を実行する。  処理チャンバ９０５は、ＡＬＤ法による基板への膜形成のための密閉処理空間を提供する。  排気ポンプ９０６は、処理チャンバ９０３内を真空引きする。
【００３６】  上記適用例では、流体制御装置をＡＬＤ法による半導体製造プロセスに用いる場合について例示したが、これに限定されるわけではなく、本発明は、例えば原子層エッチング法（ＡＬＥ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｅｔｃｈｉｎｇ  法）等の精密な流量調整が必要なあらゆる対象に適用可能である。
【符号の説明】
【００３７】１０〜１０Ｊ  ：ブロック本体１０ａ    ：上面１０ｂ    ：底面１０ｃ    ：端面１０ｄ    ：端面１０e１  ：側面１０e２  ：側面１０ｒ    ：溝１０ｔ    ：係合部１２      ：流路１２ａ    ：第２の流路１２ｂ    ：第３の流路１２ｃ    ：第１の流路１２ｄ    ：第１の開口部１２ｅ    ：第２の開口部１２ｐ    ：開口１３      ：円環状突起１４ａ    ：保持凹部１４ｂ    ：保持凹部１５      ：凹部１５a    ：内周面１５ｂ    ：対向面１５ｃ    ：溝１５ｍ    ：拡大凹部１５ｔ    ：突条１６、１６Ａ〜１６Ｃ  突出片（かしめ部）１６Ｄ    ：突出部（かしめ部）１６Ｅ    ：突起１６Ｆ    ：突起１８ａ    ：ネジ穴１８ｂ    ：ネジ穴５０〜５０Ｇ  ：閉塞部材５０ａ    ：周面５０ｂ    ：周面５０ｃ    ：突条５０ｄ    ：突起５０ｅ    ：端面５０ｅ１  ：他端面５０ｅ２  ：一端面５０ｒ    ：周面５１      ：突起５２      ：突起５３      ：拡径部５３ｔ    ：凹部１１０Ａ〜１１０Ｅ  ：流体機器２００    ：継手ブロック３１０    ：導入管５００    ：レール部材６００    ：冶具６０１    ：押圧面６１０    ：係合凹部７００    ：冶具７１０    ：押圧面８００    ：冶具９００    ：プロセスガス供給源９０１    ：ガスボックス（流体制御装置）９０２    ：タンク９０３    ：開閉バルブ９０４    ：制御部９０５    ：処理チャンバ９０６    ：排気ポンプ１０００  半導体製造装置Ａ１，Ａ２    ：長手方向ＢＳ      ：ベースプレートＥＮ      ：係合部Ｇ１，Ｇ２      ：長手方向Ｗ１，Ｗ２      ：幅方向
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１３Ｃ】
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【図１３Ｄ】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１４Ｃ】
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【図１４Ｄ】
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【図１４Ｅ】
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【図１４Ｆ】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【国際調査報告】
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