(57)【要約】本発明の目的は、屈折率が高く、複屈折量が小さく、加工性、透明性に優れたコポリカーボネートおよびそれからなる光学レンズを提供することにある。  本発明は、下記式（Ｉ）で表される単位および下記式（ＩＩ）で表される単位の合計が全繰り返し単位の８０モル％以上であり、且つ式（Ｉ）で表される単位と式（ＩＩ）で表される単位とのモル比が９８：２〜３５：６５の範囲であるコポリカーボネートである。2010101265.tif 000021（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基等である。Ｘは炭素数２〜８のアルキレン基等である。ｍおよびｎはそれぞれ独立に１〜１０の整数である。）2010101265.tif 000022（式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基等である。）
2010101265.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）で表される単位および下記式（ＩＩ）で表される単位の合計が全繰り返し単位の８０モル％以上であり、且つ式（Ｉ）で表される単位と式（ＩＩ）で表される単位とのモル比が９８：２〜３５：６５の範囲であるコポリカーボネート。
2010101265.tif 000017
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。Ｘは炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基または炭素数６〜２０のアリーレン基である。ｍおよびｎはそれぞれ独立に１〜１０の整数である。）
2010101265.tif 000018
（式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
【請求項２】
式（ＩＩ）で表される単位において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基である請求項１記載のコポリカーボネート。
【請求項３】
式（Ｉ）で表される単位において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４が水素原子、Ｘがエチレン基、ｎが１、ｍが１である請求項１または２に記載のコポリカーボネート。
【請求項４】
式（Ｉ）で表される単位と式（ＩＩ）で表される単位の割合がモル比で９５：５〜４０：６０の範囲である請求項１〜３のいずれか一項に記載のコポリカーボネート。
【請求項５】
その０．７ｇを１００ｍｌの塩化メチレンに溶解し、２０℃で測定した比粘度が０．１２〜０．５５である請求項１〜４のいずれか一項に記載のコポリカーボネート。
【請求項６】
屈折率が１．６１〜１．６６、かつガラス転移温度が１３０〜１６０℃である請求項１〜５のいずれか一項に記載のコポリカーボネート。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のコポリカーボネートより形成された光学レンズ。
【請求項８】
ジヒドロキシ化合物とカーボネート前駆物質を反応させコポリカーボネートを製造する方法であって、ジヒドロキシ化合物として、下記式（１）で表される化合物および下記式（２）で表される化合物の合計量が全ジヒドロキシ化合物の８０モル％以上であり、且つ式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物とのモル比が９８：２〜３５：６５であるジヒドロキシ化合物を用いることを特徴とするコポリカーボネートの製造方法。
2010101265.tif 000019
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。Ｘは炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基または炭素数６〜２０のアリーレン基である。ｍおよびｎはそれぞれ独立に１〜１０の整数である。）
2010101265.tif 000020
（式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
【請求項９】
請求項１記載のコポリカーボネートを射出成形する光学レンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、屈折率の高いコポリカーボネートおよび該コポリカーボネートから形成された光学レンズに関する。
【背景技術】
【０００２】
カメラ、フィルム一体型カメラ、ビデオカメラ等の各種カメラの光学系に使用される光学素子の材料として、光学ガラスあるいは光学用透明樹脂が使用されている。光学ガラスは、耐熱性や透明性、寸法安定性、耐薬品性等に優れ、様々な屈折率やアッベ数を有する多種類の材料が存在しているが、材料コストが高い上、成形加工性が悪く、また生産性が低いという問題点を有している。とりわけ、収差補正に使用される非球面レンズに加工するには、極めて高度な技術と高いコストがかかるため実用上大きな障害となっている。
一方、光学用透明樹脂からなる光学レンズは、射出成形により大量生産が可能で、しかも非球面レンズの製造も容易であるという利点を有しており、現在カメラ用レンズ用途として使用されている。例えば、ビスフェノールＡからなるポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ−４−メチルペンテン、ポリメチルメタクリレートあるいは非晶質ポリオレフィンなどが例示される。
しかしながら、光学用透明樹脂を光学レンズとして用いる場合、屈折率やアッベ数以外にも、耐熱性、透明性、低吸水性、耐薬品性、耐光性、低複屈折性が求められるため、樹脂の特性バランスによって使用箇所が限定されてしまうという弱点がある。例えば、ポリスチレンは耐熱性が低く複屈折が大きい、ポリ−４−メチルペンテンは耐熱性が低い、ポリメチルメタクリレートは耐熱性が低い、ビスフェノールＡからなるポリカーボネートは複屈折が大きい等の欠点を有するため使用箇所が限られてしまう。
一般に光学材料の屈折率が高いと、同一の屈折率を有するレンズエレメントをより曲率の小さい面で実現できるため、この面で発生する収差量を小さくでき、レンズの枚数を減らしたり、レンズの偏心感度を低減したり、レンズ厚みを薄くしてレンズ系を小型軽量化したりすることが可能になる。例えば、下式（ａ）において、焦点距離ｆ＝３０ｍｍ、凸面曲率半径Ｒ１＝５ｍｍ、凹面曲率半径Ｒ２＝４ｍｍ、屈折率ｎ＝１．６１０とした場合、レンズの厚みｄは０．２４ｍｍだが、屈折率ｎ＝１．６４０の場合、レンズの厚みｄは０．１０ｍｍまで薄肉軽量化できる。
レンズの主点から焦点距離までの距離は下記の式で表される。
2010101265.tif 000003
（ｆ；焦点距離、  ｎ；レンズの材質の屈折率、  ｄ；レンズの厚さ
Ｒ１；レンズの表面の曲率半径、  Ｒ２；裏面の曲率半径）
そのため、屈折率が高く、低複屈折でかつ物性バランスに優れた光学レンズ向け樹脂の開発が幅広く行われてきた。
光学レンズ用途に実用化されている光学用透明樹脂の中で屈折率が高いものとしては、ビスフェノールＡからなるポリカーボネート（ｎＤ＝１．５８６、ｖＤ＝２９）、ポリスチレン（ｎＤ＝１．５７８、ｖＤ＝３４）がある。とりわけ、ビスフェノールＡからなるポリカーボネートは高屈折率で、なおかつ優れた耐熱性および優れた機械特性を有するため光学レンズ用途に幅広く検討されてきた。しかしながら、ビスフェノールＡからなるポリカーボネート、ポリスチレンとも、複屈折が大きいという弱点を有する。
光学用のポリカーボネートとして、フルオレン構造を有するものが提案されている。例えば、光ディスクなどの光学材料基盤用として提案されている（特許文献１）。また、フルオレン構造を有するポリカーボネートからなる光学レンズも提案されている（特許文献２）。しかし、このポリカーボネートは屈折率が１．６１程度であり、光学レンズとして屈折率が十分に高いとは言えない。また、フルオレンおよびビスフェノールＡ由来の単位を含むコポリカーボネートも提案されている（特許文献３）。
また、フルオレン含有ポリエステルに硫黄含有化合物をブレンド（混合、添加）することで簡便に屈折率を向上させる手法が提案されている（特許文献４）。しかしながら、上記手法では低分子量成分を添加するために熱安定性が低下し、ブレンドする二成分の相溶性が悪い場合、透明性が低下する欠点がある。
【特許文献１】特開平１０−１０１７８６号公報
【特許文献２】特開２００５−２４１９６２号公報
【特許文献３】国際公開第２００７／１４２１４９号パンフレット
【特許文献４】特開２００５−１８７６６１号公報
【発明の開示】
【０００３】
本発明の目的は、屈折率が高く、複屈折量が小さく、加工性、透明性に優れたコポリカーボネートを提供することにある。また本発明の目的は、コポリカーボネートからなる光学レンズを提供することにある。
本発明者らは、フルオレン構造を有するジヒドロキシ化合物と、スルフィド結合を有するジヒドロキシ化合物とを共重合すると、屈折率が高く、複屈折量が小さく、加工性、透明性に優れたコポリカーボネートが得られることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、下記式（Ｉ）で表される単位および下記式（ＩＩ）で表される単位の合計が全繰り返し単位の８０モル％以上であり、且つ式（Ｉ）で表される単位と式（ＩＩ）で表される単位とのモル比が９８：２〜３５：６５の範囲であるコポリカーボネートである。
2010101265.tif 000004
式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。Ｘは炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基または炭素数６〜２０のアリーレン基である。ｍおよびｎはそれぞれ独立に１〜１０の整数である。
2010101265.tif 000005
式（ＩＩ）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。
本発明は該コポリカーボネートより形成された光学レンズを包含する。また本発明は、該コポリカーボネートを射出成形する光学レンズの製造方法を包含する。
【図面の簡単な説明】
【０００４】
図１は、実施例１のＥＸ−ＰＣ１のプロトンＮＭＲである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００５】
（式（Ｉ））
本発明のコポリカーボネートは、下記式（Ｉ）で表される単位を含有する。
2010101265.tif 000006
式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。
炭素数１〜２０のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基などが挙げられる。
炭素数１〜２０のアルコキシル基として、メトキシ基、エトシキ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基などが挙げられる。
炭素数５〜２０のシクロアルキル基として、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリデシル基、シクロテトラデシル基、シクロペンタデシル基、シクロヘキサデシル基、シクロヘプタデシル基、シクロオクタデシル基、シクロノナデシル基、シクロイコシル基などが挙げられる。
炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基として、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、シクロノニルオキシ基、シクロデシルオキシ基、シクロウンデシルオキシ基、シクロドデシルオキシ基、シクロトリデシルオキシ基、シクロテトラデシルオキシ基、シクロペンタデシルオキシ基、シクロヘキサデシルオキシ基、シクロヘプタデシルオキシ基、シクロオクタデシルオキシ基、シクロノナデシルオキシ基、シクロイコシルオキシ基などが挙げられる。
炭素数６〜２０のアリール基として、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。炭素数６〜２０のアリールオキシ基として、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基などが挙げられる。
Ｘは炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基または炭素数６〜２０のアリーレン基である。炭素数２〜８のアルキレン基として、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基などが挙げられる。炭素数５〜１２のシクロアルキレン基として、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロウンデシレン基、シクロドデシレン基などが挙げられる。炭素数６〜２０のアリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。
ｍおよびｎはそれぞれ独立に、１〜１０の整数である。ｍおよびｎは、好ましくはそれぞれ独立に１〜５の整数、より好ましくはそれぞれ独立に１〜２の整数である。
式（Ｉ）で表される単位において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４が水素原子、Ｘがエチレン基、ｎが１、ｍが１であることが好ましい。
（式（ＩＩ））
本発明のコポリカーボネートは、下記式（ＩＩ）で表される単位を含有する。
2010101265.tif 000007
式（ＩＩ）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。
炭素数１〜２０のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基などが挙げられる。
炭素数１〜２０のアルコキシル基として、メトキシ基、エトシキ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基などが挙げられる。
炭素数５〜２０のシクロアルキル基として、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリデシル基、シクロテトラデシル基、シクロペンタデシル基、シクロヘキサデシル基、シクロヘプタデシルシ基、シクロオクタデシル基、シクロノナデシル基、シクロイコシル基などが挙げられる。
炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基として、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、シクロノニルオキシ基、シクロデシルオキシ基、シクロウンデシルオキシ基、シクロドデシルオキシ基、シクロトリデシルオキシ基、シクロテトラデシルオキシ基、シクロペンタデシルオキシ基、シクロヘキサデシルオキシ基、シクロヘプタデシルオキシ基、シクロオクタデシルオキシ基、シクロノナデシルオキシ基、シクロイコシルオキシ基などが挙げられる。
炭素数６〜２０のアリール基として、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。炭素数６〜２０のアリールオキシ基として、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基などが挙げられる。
式（ＩＩ）で表される単位において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基であることが好ましい。
（式（ＩＩＩ））
本発明のコポリカーボネートは、下記式（ＩＩＩ）で表される単位を含有していても良い。式（ＩＩＩ）で表される単位の含有量は、全繰り返し単位の好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１０モル％以下、さらに好ましくは５モル％以下である。
2010101265.tif 000008
式（ＩＩＩ）中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２はそれぞれ独立に、式（ＩＩ）のＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８と同じ置換基から選ばれる。
Ｙは、単結合あるいは下記式
2010101265.tif 000009
で表される基である。
式中Ｒ１３、Ｒ１４はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。
炭素数１〜２０のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基などが挙げられる。
炭素数１〜２０のアルコキシル基として、メトキシ基、エトシキ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基などが挙げられる。
炭素数５〜２０のシクロアルキル基として、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリデシル基、シクロテトラデシル基、シクロペンタデシル基、シクロヘキサデシル基、シクロヘプタデシル基、シクロオクタデシル基、シクロノナデシル基、シクロイコシル基などが挙げられる。
炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基として、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、シクロノニルオキシ基、シクロデシルオキシ基、シクロウンデシルオキシ基、シクロドデシルオキシ基、シクロトリデシルオキシ基、シクロテトラデシルオキシ基、シクロペンタデシルオキシ基、シクロヘキサデシルオキシ基、シクロヘプタデシルオキシ基、シクロオクタデシルオキシ基、シクロノナデシルオキシ基、シクロイコシルオキシ基などが挙げられる。
炭素数６〜２０のアリール基として、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。炭素数６〜２０のアリールオキシ基として、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基などが挙げられる。
Ｒ１５、Ｒ１６はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアラルキル基を表す。それらはシクロ環を構成している炭素原子ごとに異なっていてもよい。Ｒ１５、Ｒ１６の具体例として、Ｒ１３、Ｒ１４で挙げられた置換基が挙げられる。ｑは３〜１１の整数を表す。
本発明のコポリカーボネートは、式（Ｉ）で表される単位および式（ＩＩ）で表される単位の合計が全繰り返し単位の８０モル％以上、好ましくは９０〜１００モル％、より好ましくは９５〜１００モル％である。
本発明のコポリカーボネートは、式（Ｉ）で表される単位と式（ＩＩ）で表される単位とのモル比が９８：２〜３５：６５、好ましくは９５：５〜３５：６５、より好ましくは９５：５〜４０：６０、さらに好ましくは９５：５〜５０：５０である。式（Ｉ）で表される単位の上限は、好ましくは９８モル％、より好ましくは９５モル％、さらに好ましくは９０モル％、特に好ましくは８５モル％である。式（Ｉ）で表される単位の下限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは４０モル％、さらに好ましくは５０モル％である。
本発明のコポリカーボネートは、式（Ｉ）で表される単位および式（ＩＩ）で表される単位のみからなる場合、式（Ｉ）で表される単位が９８モル％を超える場合、Ｔｇが１６０℃より高くなり射出成形を行う際の成形条件が狭くなるため好ましくない。また、式（Ｉ）で表される単位が３５モル％未満の場合、Ｔｇが１３０℃より低くなりレンズ材料として不満足となり好ましくない。
（比粘度）
本発明のコポリカーボネートはその０．７ｇを１００ｍｌの塩化メチレンに溶解し、２０℃で測定した比粘度が０．１２〜０．５５の範囲のものが好ましく、０．１５〜０．４５の範囲のものがより好ましい。比粘度が０．１２未満では成形品が脆くなり、０．５５より高くなると溶融粘度および溶液粘度が高くなり、取扱いが困難になるので好ましくない。
（ガラス転移温度）
本発明のコポリカーボネートの昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１３０〜１５８℃、より好ましくは１３５〜１６０℃である。Ｔｇが１３０℃未満では、該共重合体を用いて形成した光学部品の使用する用途によっては耐熱性が十分でなく、一方Ｔｇが１６０℃より高い場合では溶融粘度が高くなり、成形体を形成する上での取扱いが困難となるので好ましくない。
（屈折率）
本発明のコポリカーボネートの２５℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率（ｎｄ）は、好ましくは１．６１〜１．６６、より好ましくは１．６２〜１．６６、さらに好ましくは１．６３〜１．６６、特に好ましくは１．６３５〜１．６６である。
本発明のコポリカーボネートは、屈折率（ｎｄ）が高く、光学レンズ材料に適している。例えば、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（ＢＰＥＦ）とビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド（ＴＤＰ）との共重合体は、屈折率（ｎｄ）が下表に示すように１．６３９〜１．６４１程度となる。
2010101265.tif 000010
一方、従来のＢＰＥＦとビスフェノールＡ（ＢＰＡ）との共重合体においては、屈折率（ｎｄ）が下表に示すように１．６１５〜１．６３７程度となる。
2010101265.tif 000011
本発明のコポリカーボネートは、屈折率が１．６１〜１．６６、かつガラス転移温度が１３０〜１６０℃であることが好ましい。屈折率は、厚さ０．１ｍｍの成形板をＡＴＡＧＯ製ＤＲＭ２のアッベ屈折計を用いて、中間液として１−ブロモナフタレンを使用し、２５℃，５８９ｎｍの波長における屈折率を測定した。ガラス転移点は、重合終了後に得られたコポリカーボネートをペレット化したサンプルをデュポン社製９１０型ＤＳＣにより測定する。
（Δｎ）
本発明のコポリカーボネートは複屈折量の尺度である配向複屈折（＝Δｎ）が、好ましくは０〜１０ｎｍ、より好ましくは０〜５ｎｍ、さらに好ましくは０〜１ｎｍである。
Δｎは、厚さ１００μｍのキャストフィルムをキャスト方向（長手方向）に７ｃｍ、キャスト方向に直交する方向（巾方向）に１．５ｃｍにカットした後、長手方向の両端をチャックに挟み（チャック間４．５ｃｍ）、コポリカーボネートのＴｇ＋１０℃でキャスト方向に２倍延伸し、日本分光（株）製エリプソメーターＭ−２２０を用いて５８９ｎｍにおける位相差（Ｒｅ）を測定し、下記式より配向複屈折（Δｎ）を求める。
Δｎ＝Ｒｅ／ｄ
Δｎ：配向複屈折
Ｒｅ：位相差
ｄ：厚さ
（位相差）
本発明のコポリカーボネートは複屈折量の尺度である位相差が、好ましくは０〜１３０ｎｍ、より好ましくは０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは０〜３０ｎｍである。位相差は、１ｍｍ厚の成形片を王子計測機器（株）製ＫＯＢＲＡ−ＣＣＤを用いて測定する。
（全光線透過率）
本発明のコポリカーボネートの全光線透過率は、好ましくは８０〜１００％、より好ましくは８５〜１００％、さらに好ましくは８７〜１００％である。全光線透過率は、１ｍｍ厚の成形片を日本電色（株）製ＭＤＨ−３００Ａを用いて測定する。
（５％重量減少温度）
本発明のコポリカーボネートは、熱安定性の指標として、昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定した５％重量減少温度が３５０℃以上であることが好ましい。さらには４００℃以上であることが好ましい。５％重量減少温度が３５０℃より低い場合は、成形の際の熱分解が激しく、良好な成形体を得ることが困難となるため好ましくない。
〈コポリカーボネートの製造〉
本発明のコポリカーボネートは、下記式（１）で表される化合物および下記式（２）で表される化合物の合計量が全ジヒドロキシ化合物の８０モル％以上であり、且つ式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物とのモル比が９８：２〜３５：６５であるジヒドロキシ化合物を用いて製造することができる。
2010101265.tif 000012
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ、ｍ、ｎは、式（Ｉ）と同じである。
（式（１）で表されるジヒドロキシ化合物）
式（１）で表されるジヒドロキシ化合物として、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン等が挙げられる。なかでも９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンが好ましい。これらは単独または二種以上組み合わせて用いてもよい。
（式（２）で表されるジヒドロキシ化合物）
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式（２）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、式（ＩＩ）と同じである。
式（２）で表されるジヒドロキシ化合物としては、硫黄含有ジヒドロキシ成分であれば良く、なかでもビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィドが好ましい。これらは単独または二種以上組み合わせて用いてもよい。
式（１）で表されるジヒドロキシ化合物と式（２）で表されるジヒドロキシ化合物の割合は、モル比で９８：２〜３５：６５、好ましくは９５：５〜３５：６５、より好ましくは９５：５〜４０：６０、さらに好ましくは９５：５〜５０：５０の範囲である。
（他のジヒドロキシ化合物）
本発明においては、ジヒドロキシ化合物として式（１）および（２）の化合物と共重合可能な他のジヒドロキシ化合物を加えても良い。他のジヒドロキシ化合物の使用量は、全ジヒドロキシ化合物の好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１０モル％以下、さらに好ましくは５モル％以下である。
他のジヒドロキシ化合物として、ハイドロキノン、レゾルシノール、４，４’−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＥ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（ビスフェノールＣ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＺ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール、ａ，ａ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン（ビスフェノールＭ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン等が挙げられる。特に９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンが好ましい。
他のジヒドロキシ化合物として下記式（３）で表される化合物が挙げられる。
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式中、Ｙ、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、式（ＩＩＩ）と同じである。
本発明のコポリカーボネートは、ジヒドロキシ化合物にホスゲンや炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を反応させる方法により製造することができる。
カーボネート前駆物質として、例えばホスゲンを使用する反応では、通常、酸結合剤および溶媒の存在下に反応を行う。酸結合剤としては、例えば、ピリジンなどのアミン化合物が用いられる。溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素が用いられる。その際、反応温度は通常０〜４０℃であり、反応時間は数分〜５時間である。
カーボネート前駆物質として炭酸ジエステルを用いるエステル交換反応は、２種以上のジヒドロキシ化合物を炭酸ジエステルと塩基性化合物触媒、エステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下、反応させる公知の溶融重縮合法により製造することができる。炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも特にジフェニルカーボネートが好ましい。炭酸ジエステルは、ジオール成分１モルに対して０．９７〜１．２０モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０．９８〜１．１０モルの比率である。
塩基性化合物触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、および含窒素化合物等が挙げられる。このような化合物としては、アルカリ金属およびアルカリ土類金属化合物等の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコキシド、または４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。
本発明に使用されるアルカリ金属化合物としては、例えば、アルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物またはアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩、２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が用いられる。
アルカリ土類金属化合物としては、例えば、アルカリ土類金属化合物の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物またはアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。
含窒素化合物としては、例えば、４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類、プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類、あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアシモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が用いられる。
エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。
エステル交換触媒としては、具体的には、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＶ）、酢酸スズ（ＩＩ）、酢酸スズ（ＩＶ）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（ＩＩ）、酢酸鉛（ＩＶ）等が用いられる。
これらの触媒は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して、１０−９〜１０−３モルの比率で、好ましくは１０−７〜１０−４モルの比率で用いられる。
本発明にかかわる溶融重縮合法は、前記の原料、および触媒を用いて、加熱下に常圧または減圧下にエステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。反応は、一般には二段以上の多段行程で実施される。
具体的には、第一段目の反応を１２０〜２６０℃、好ましくは１８０〜２４０℃の温度で０．１〜５時間、好ましくは０．５〜３時間反応させる。次いで反応系の減圧度を上げながら反応温度を高めてジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には１ｍｍＨｇ以下の減圧下、２００〜３５０℃の温度で０．０５〜２時間重縮合反応を行う。このような反応は、連続式で行っても良くまたバッチ式で行ってもよい。上記の反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であってもスクリューを装備した押出機型であってもよく、また、これらを重合物の粘度を勘案して適宜組み合わせた反応装置を使用することが好適に実施される。
本発明のコポリカーボネートは、重合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させることが好ましい。一般的には、公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法が好適に実施される。これらの物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類、ｐ−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類、亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類が挙げられる。また亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ−プロピル、亜リン酸ジｎ−ブチル、亜リン酸ジｎ−ヘキシル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類が挙げられる。またリン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類が挙げられる。またジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類、フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類、トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類が挙げられる。またホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類が挙げられる。またステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物、ジメチル硫酸等のアルキル硫酸、塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。
これらの失活剤は、触媒量に対して０．０１〜５０倍モル、好ましくは０．３〜２０倍モル使用される。触媒量に対して０．０１倍モルより少ないと、失活効果が不充分となり好ましくない。また、触媒量に対して５０倍モルより多いと、耐熱性が低下し、成形体が着色しやすくなるため好ましくない。
触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を０．１〜１ｍｍＨｇの圧力、２００〜３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けても良く、このためには、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。
〈光学レンズ〉
本発明のコポリカーボネートからなる光学レンズは、例えば、射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成形法など任意の方法により成形される。
本発明のコポリカーボネートから形成された光学レンズには、本発明の目的を損なわない範囲で各種特性を付与する為に、各種添加剤を使用することができる。添加剤としては、離型剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、ブルーイング剤、帯電防止剤、難燃剤、熱線遮蔽剤、蛍光染料（蛍光増白剤含む）、顔料、光拡散剤、強化充填剤、他の樹脂やエラストマー等を配合することができる。
（離型剤）
離型剤としては、その９０重量％以上がアルコールと脂肪酸のエステルからなるものが好ましい。アルコールと脂肪酸のエステルとしては、具体的には一価アルコールと脂肪酸のエステルおよび／または多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルが挙げられる。一価アルコールと脂肪酸のエステルとは、炭素原子数１〜２０の一価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸とのエステルが好ましい。また、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルとは、炭素原子数１〜２５の多価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルが好ましい。
一価アルコールと飽和脂肪酸とのエステルとしては、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート等が挙げられる。なかでもステアリルステアレートが好ましい。
多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、ビフェニルビフェネート、ソルビタンモノステアレート、２−エチルヘキシルステアレートや、ジペンタエリスリトールヘキサステアレート等のジペンタエリスルトールの全エステルまたは部分エステル等が挙げられる。これらのエステルのなかでも、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ステアリン酸トリグリセリドとステアリルステアレートの混合物が好ましく用いられる。
離型剤中のエステルの量は、離型剤を１００重量％とした時、９０重量％以上が好ましく、９５重量％以上がより好ましい。
コポリカーボネート中の離型剤の含有量としては、コポリカーボネート１００重量部に対して０．００５〜２．０重量部の範囲が好ましく、０．０１〜０．６重量部の範囲がより好ましく、０．０２〜０．５重量部の範囲がさらに好ましい。
（熱安定剤）
熱安定剤としては、リン系熱安定剤、硫黄系熱安定剤およびヒンダードフェノール系熱安定剤が挙げられる。
リン系熱安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステル等が挙げられる。具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等が挙げられる。なかでも、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイトが使用される。特に好ましくはテトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトが使用される。
コポリカーボネート中のリン系熱安定剤の含有量としては、コポリカーボネート１００重量部に対して０．００１〜０．２重量部が好ましい。
硫黄系熱安定剤としては、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ステアリルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート等が挙げられる。なかでもペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネートが好ましい。特に好ましくはペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）である。該チオエーテル系化合物は住友化学工業（株）からスミライザーＴＰ−Ｄ（商品名）およびスミライザーＴＰＭ（商品名）等として市販されており、容易に利用できる。
コポリカーボネート中の硫黄系熱安定剤の含有量としては、コポリカーボネート１００重量部に対して０．００１〜０．２重量部が好ましい。
ヒンダードフェノール系熱安定剤としては、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートおよび３，９−ビス｛１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカンなどが挙げられる。オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートが特に好ましく用いられる。
コポリカーボネート中のヒンダードフェノール系熱安定剤の含有量としては、コポリカーボネート１００重量部に対して０．００１〜０．３重量部が好ましい。
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤およびシアノアクリレート系からなる群より選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤が好ましい。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｎ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス（４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾ−ルが挙げられる。これらを単独あるいは２種以上の混合物で用いることができる。
好ましくは、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾ−ルである。より好ましくは、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］である。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（オクチル）オキシ］−フェノール等が挙げられる。
環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などが例示される。なかでも２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好適である。特に２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好適である。かかる化合物は竹本油脂（株）からＣＥｉ−Ｐ（商品名）として市販されており、容易に利用できる。
シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、１，３−ビス−［（２’−シアノ−３’，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ］−２，２−ビス［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル）プロパン、および１，３−ビス−［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］ベンゼンなどが例示される。
紫外線吸収剤の配合量は、コポリカーボネート１００重量部に対して好ましくは０．０１〜３．０重量部であり、より好ましくは０．０２〜１．０重量部であり、さらに好ましくは０．０５〜０．８重量部である。かかる配合量の範囲であれば、用途に応じ、コポリカーボネート成形品に十分な耐候性を付与することが可能である。
（ブルーイング剤）
ブルーイング剤としては、バイエル社のマクロレックスバイオレットＢおよびマクロレックスブルーＲＲ並びにクラリアント社のポリシンスレンブル−ＲＬＳ等が挙げられる。ブルーイング剤は、コポリカーボネートの黄色味を消すために有効である。特に耐候性を付与したコポリカーボネートの場合は、一定量の紫外線吸収剤が配合されているため「紫外線吸収剤の作用や色」によってコポリカーボネート成形品が黄色味を帯びやすい現実があり、特にシートやレンズに自然な透明感を付与するためにはブルーイング剤の配合は非常に有効である。
ブルーイング剤の配合量は、コポリカーボネートに対して好ましくは０．０５〜１．５ｐｐｍであり、より好ましくは０．１〜１．２ｐｐｍである。
本発明におけるコポリカーボネートから形成された光学レンズは、成形片の５５０ｎｍにおける透過率が８０％以上であることが好ましい。更には８５％以上であることが好ましい。透過率が８０％より低いと、光学レンズとして使用することは困難である。本発明の光学レンズの全光線透過率は、好ましくは８０〜１００％、より好ましくは８５〜１００％、さらに好ましくは８７〜１００％である。
また、本発明の光学レンズは、光学歪みが小さいことが好ましい。一般的なビスフェノールＡタイプのポリカーボネート樹脂からなる光学レンズは光学歪みが大きく、成形条件によりその値を低減することは可能である場合もあるが、通常その条件幅は非常に小さく、したがって成形が非常に困難である。本発明のコポリカーボネートは、樹脂の配向により生じる光学歪みが小さく、また成形歪みも小さいため、成形条件を厳密に設定しなくても良好な光学素子を得ることができる。
本発明の光学レンズは、必要に応じて非球面レンズの形で用いることが好適に実施される。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせで球面収差を取り除く必要がなく、軽量化および生産コストの低減化が可能になる。従って、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。
本発明の光学レンズの表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。
【実施例】
【０００６】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに説明する。なお、評価は下記の方法によった。
（１）比粘度
ポリマー０．７ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解し２０℃の温度で測定した。
（２）共重合比
日本電子（株）製ＪＮＭ−ＡＬ４００のプロトンＮＭＲを用いて測定した。図１に示すように３．８〜４．６ｐｐｍの９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンに起因するピークと６．５〜７．８ｐｐｍの９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンおよびビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィドに起因するピークの積分比から求めた。
（３）ガラス転移点（Ｔｇ）
重合終了後に得られたコポリカーボネートをペレット化したサンプルをデュポン社製９１０型ＤＳＣにより測定した。
（４）屈折率（ｎｄ）
厚さ１００μｍのフィルムをＡＴＡＧＯ製ＤＲＭ２のアッベ屈折計を用いて、中間液として１−ブロモナフタレンを使用し、２５℃，５８９ｎｍの波長における屈折率を測定した。
（５）Δｎ
厚さ１００μｍのキャストフィルムをキャスト方向に７ｃｍ、キャスト方向に直交する方向（巾方向）に１．５ｃｍにカットした後、長手方向の両端をチャックに挟み（チャック間４．５ｃｍ）、コポリカーボネート樹脂のＴｇ＋１０℃でキャスト方向に２倍延伸し、日本分光（株）製エリプソメーターＭ−２２０を用いて５８９ｎｍにおける位相差（Ｒｅ）を測定し、下記式より配向複屈折（Δｎ）を求めた。
Δｎ＝Ｒｅ／ｄ
Δｎ：配向複屈折
Ｒｅ：位相差
ｄ：厚さ
（６）位相差
１ｍｍ厚の成形片を王子計測機器（株）製ＫＯＢＲＡ−ＣＣＤを用いて測定した。
（７）光学歪み
成形したレンズを二枚の偏光板の間に挟み直行ニコル法で後ろからの光漏れを目視し、以下の基準で評価した。
◎：殆ど光漏れがない。
○：僅かに光漏れが認められる。
△：少し光漏れが認められる。
×：光漏れが顕著である。
（８）全光線透過率
１ｍｍ厚の成形片を日本電色（株）製ＭＤＨ−３００Ａを用いて測定した。
（９）分子量保持率
１ｍｍ厚の成形片を８５℃、８５％ＲＨの条件下で４００時間放置した後、外観を目視評価した。また、該成形片０．７ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解した溶液から、その溶液の２０℃における比粘度（ηｓｐ）を測定し、下記式より湿熱試験後の比粘度保持率（分子量保持率）を求めた。
Δηｓｐ＝（ηｓｐ１／ηｓｐ０）×１００
Δηｓｐ：比粘度保持率
ηｓｐ０：試験前の比粘度
ηｓｐ１：試験後の比粘度
実施例１（ＥＸ−ＰＣ１）
９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（以下“ＢＰＥＦ”と省略することがある）２１．９３重量部、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド（以下“ＴＤＰ”と省略することがある）１０．９０重量部、ジフェニルカーボネート２１．８５重量部、炭酸水素ナトリウム５．０４×１０−５重量部およびテトラメチルアンモニウムヒドロキシド５．５２×１０−３重量部を攪拌機および留出装置付きの１０リットル反応器に入れ、窒素雰囲気７６０Ｔｏｒｒの下１時間かけて２１５℃に加熱し撹拌した。
その後、１５分かけて減圧度を１５０Ｔｏｒｒに調整し、２１５℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で２０分間保持しエステル交換反応を行った。さらに３７．５℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃、１５０Ｔｏｒｒで１０分間保持した。その後、１０分かけて１２０Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１２０Ｔｏｒｒで７０分間保持した。その後、１０分かけて１００Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１００Ｔｏｒｒで１０分間保持した。更に４０分かけて１Ｔｏｒｒ以下とし、２４０℃、１Ｔｏｒｒ以下の条件下で１０分間撹拌下重合反応を行った。
反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み加圧にした後、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を７．０１×１０−４重量部添加し触媒を失活させた。その後、生成したコポリカーボネートをペレタイズしながら抜き出した。該コポリカーボネートはＢＰＥＦとＴＤＰとの構成単位の比がモル比で５０：５０であり、比粘度は０．３６、Ｔｇは１３７℃であった。
またコポリカーボネートから厚さ１００μｍのフィルムを成形し、得られたフィルムの屈折率（ｎｄ）および配向複屈折（Δｎ）を測定した。結果を表１に示す。
実施例２（ＥＸ−ＰＣ２）
ＥＸ−ＰＣ１のＢＰＥＦの使用量を３０．７０重量部、ＴＤＰの使用量を６．５４重量部とする以外は実施例１と同様にしてコポリカーボネートを合成した。該コポリカーボネートはＢＰＥＦとＴＤＰの比がモル比で７０：３０であり、比粘度は０．２７、Ｔｇは１４７℃であった。
またコポリカーボネートから厚さ１００μｍのフィルムを成形し、得られたフィルムの屈折率（ｎｄ）および配向複屈折（Δｎ）を測定した。結果を表１に示す。
実施例３（ＥＸ−ＰＣ３）
ＥＸ−ＰＣ１のＢＰＥＦの使用量を３７．２７重量部、ＴＤＰの使用量を３．２７重量部とする以外は実施例１と同様にしてコポリカーボネートを合成した。該コポリカーボネートはＢＰＥＦとＴＤＰの比がモル比で８５：１５であり、比粘度は０．２７、Ｔｇは１５３℃であった。
またコポリカーボネートから厚さ１００μｍのフィルムを成形し、得られたフィルムの屈折率（ｎｄ）および配向複屈折（Δｎ）を測定した。結果を表１に示す。
実施例４（ＥＸ−ＰＣ４）
ＥＸ−ＰＣ１のＢＰＥＦの使用量を４１．６６重量部、ＴＤＰの使用量を１．０８重量部とする以外は実施例１と同様にしてコポリカーボネートを合成した。該コポリカーボネートはＢＰＥＦとＴＤＰの比がモル比で９５：５であり、比粘度は０．２８、Ｔｇは１５８℃であった。
またコポリカーボネートから厚さ１００μｍのフィルムを成形し、得られたフィルムの屈折率（ｎｄ）および配向複屈折（Δｎ）を測定した。結果を表１に示す。
実施例５（ＥＸ−ＰＣ５）
ＥＸ−ＰＣ１のＢＰＥＦの使用量を３５．０８重量部、ＴＤＰをビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド（以下“ＨＭＰＳ”と略称することがある）に変更し、ＨＭＰＳの使用量を４．９２重量部とする以外は実施例１と同様にしてコポリカーボネートを合成した。該コポリカーボネートはＢＰＥＦとＨＭＰＳの比がモル比で８０：２０であり、比粘度は０．３０、Ｔｇは１４７℃であった。
またコポリカーボネートから厚さ１００μｍのフィルムを成形し、得られたフィルムの屈折率（ｎｄ）および配向複屈折（Δｎ）を測定した。結果を表１に示す。
実施例６（ＥＸ−ＰＣ６）
ＢＰＥＦ２１．９３重量部、ＴＤＰ８．７２重量部、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（以下“ＢＣＦ”と省略することがある）３．７８重量部、ジフェニルカーボネート２１．８５重量部、炭酸水素ナトリウム５．０４×１０−５重量部およびテトラメチルアンモニウムヒドロキシド５．５２×１０−３重量部を攪拌機および留出装置付きの１０リットル反応器に入れ、窒素雰囲気７６０Ｔｏｒｒの下１時間かけて２１５℃に加熱し撹拌した。
その後、１５分かけて減圧度を１５０Ｔｏｒｒに調整し、２１５℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で２０分間保持しエステル交換反応を行った。さらに３７．５℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃、１５０Ｔｏｒｒで１０分間保持した。その後、１０分かけて１２０Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１２０Ｔｏｒｒで７０分間保持した。その後、１０分かけて１００Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１００Ｔｏｒｒで１０分間保持した。更に４０分かけて１Ｔｏｒｒ以下とし、２４０℃、１Ｔｏｒｒ以下の条件下で１０分間撹拌下重合反応を行った。
反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み加圧にした後、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を７．０１×１０−４重量部添加し触媒を失活させた。その後、生成したコポリカーボネートをペレタイズしながら抜き出した。得られたコポリカーボネートはＢＰＥＦとＴＤＰとＢＣＦの構成単位の比がモル比で５０：４０：１０であり、比粘度は０．２７、Ｔｇは１５１℃であった。
またコポリカーボネートから厚さ１００μｍのフィルムを成形し、得られたフィルムの屈折率（ｎｄ）および配向複屈折（Δｎ）を測定した。結果を表１に示す。
比較例１（ＣＥＸ−ＰＣ１）
ＢＰＥＦ１７．５４重量部、ＴＤＰ６．５４重量部、ビスフェノールＡ（以下、“ＢＰＡ”と略称することがある）６．８４重量部、ジフェニルカーボネート２１．８５重量部、炭酸水素ナトリウム５．０４×１０−５重量部およびテトラメチルアンモニウムヒドロキシド５．５２×１０−３重量部を攪拌機および留出装置付きの１０リットル反応器に入れ、窒素雰囲気７６０Ｔｏｒｒの下１時間かけて２１５℃に加熱し撹拌した。
その後、１５分かけて減圧度を１５０Ｔｏｒｒに調整し、２１５℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で２０分間保持しエステル交換反応を行った。さらに３７．５℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃、１５０Ｔｏｒｒで１０分間保持した。その後、１０分かけて１２０Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１２０Ｔｏｒｒで７０分間保持した。その後、１０分かけて１００Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１００Ｔｏｒｒで１０分間保持した。更に４０分かけて１Ｔｏｒｒ以下とし、２４０℃、１Ｔｏｒｒ以下の条件下で１０分間撹拌下重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み加圧にした後、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を７．０１×１０−４重量部添加し触媒を失活させた。その後、生成したコポリカーボネートをペレタイズしながら抜き出した。得られたコポリカーボネートはＢＰＥＦとＴＤＰとＢＰＡの構成単位の比がモル比で４０：３０：３０であり、比粘度は０．２７、Ｔｇは１４０℃であった。
またコポリカーボネートから厚さ１００μｍのフィルムを成形し、得られたフィルムの屈折率（ｎｄ）および配向複屈折（Δｎ）を測定した。結果を表１に示す。
比較例２（ＣＥＸ−ＰＣ２）
ＢＰＥＦ４３．８５重量部、ジフェニルカーボネート２１．８５重量部、炭酸水素ナトリウム５．０４×１０−５重量部およびテトラメチルアンモニウムヒドロキシド５．５２×１０−３重量部を攪拌機および留出装置付きの１０リットル反応器に入れ、窒素雰囲気７６０Ｔｏｒｒの下１時間かけて２１５℃に加熱し撹拌した。
その後、１５分かけて減圧度を１５０Ｔｏｒｒに調整し、２１５℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で２０分間保持しエステル交換反応を行った。さらに３７．５℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃、１５０Ｔｏｒｒで１０分間保持した。その後、１０分かけて１２０Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１２０Ｔｏｒｒで７０分間保持した。その後、１０分かけて１００Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１００Ｔｏｒｒで１０分間保持した。更に４０分かけて１Ｔｏｒｒ以下とし、２４０℃、１Ｔｏｒｒ以下の条件下で１０分間撹拌下重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み加圧にした後、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を７．０１×１０−４重量部添加し触媒を失活させた。その後、生成したコポリカーボネートをペレタイズしながら抜き出し、ＢＰＥＦホモポリマーを得た。得られたポリマーの比粘度は０．３７、Ｔｇは１６１℃であった。
またコポリカーボネートから厚さ１００μｍのフィルムを成形し、得られたフィルムの屈折率（ｎｄ）および配向複屈折（Δｎ）を測定した。結果を表１に示す。
比較例３（ＣＥＸ−ＰＣ３）
ＣＥＸ−ＰＣ２のＢＰＥＦをＢＰＡに変更し、ＢＰＡの使用量を２２．８０重量部とする以外はＣＥＸ−ＰＣ１と同様にしてＢＰＡホモポリマーを得た。得られたポリマーの比粘度は０．２８、Ｔｇは１４４℃であった。
またコポリカーボネートから厚さ１００μｍのフィルムを成形し、得られたフィルムの屈折率（ｎｄ）および配向複屈折（Δｎ）を測定した。結果を表１に示す。
比較例４（ＣＥＸ−ＰＣ４）
ＥＸ−ＰＣ１のＴＤＰをＢＰＡに変更し、その使用量を１１．４０重量部とする以外はＥＸ−ＰＣ１と同様にして、ＢＰＥＦとＢＰＡの構成単位のモル比が５０：５０であるＣＥＸ−ＰＣ４を得た。得られたポリマーの比粘度は０．３０、Ｔｇは１５０℃であった。
またコポリカーボネートから厚さ１００μｍのフィルムを成形し、得られたフィルムの屈折率（ｎｄ）および配向複屈折（Δｎ）を測定した。結果を表１に示す。
ＥＸ−ＰＣ１〜６、ＣＥＸ−ＰＣ１およびＣＥＸ−ＰＣ４は、ＩＲ測定より、１，７６０ｃｍ−１付近にカーボネート結合由来の吸収が確認された。また、ＤＳＣ測定より得られるＴｇに起因するピークが１つであることからランダム共重合体であることが確認できた。また、ＥＸ−ＰＣ１は図１のプロトンＮＭＲからＢＰＥＦとＴＤＰとのコポリカーボネートであることを示している。
実施例７〜１２、比較例５〜８
製造したコポリカーボネートを１２０℃で２４時間真空乾燥した後、コポリカーボネート１００重量部に対し、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．０５０重量部、ペンタエリスリトールテトラステアレートを０．１０重量部加えて、ベント付きφ３０ｍｍ単軸押出機を用いてペレット化した。
その後、表１に示す成形条件にて、住友重機械（株）製ＳＥ３０ＤＵ射出成形機を用いて厚さ０．３ｍｍ、凸面曲率半径５ｍｍ、凹向曲率半径４ｍｍ、φ５ｍｍのレンズを射出成形した。またＪＳＷ（株）製Ｎ−２０Ｃ射出成形機を用いて厚さ１．０ｍｍ、幅２．５ｃｍ、長さ５．０ｃｍの成形片を射出成形した。
上記レンズを二枚の偏光板の間に挟み直行ニコル法で後ろからの光漏れを目視することにより光学歪みを評価した。また、上記成形片を用いて、位相差、全光線透過率、分子量保持率を測定した。結果を表１に示す。
実施例７〜１２のコポリカーボネートはＴｇが適度な範囲であり得られたレンズは耐熱性に優れ、加工性にも優れる。また、該コポリカーボネートは、屈折率が高く、光学歪みも小さいことからレンズとして適している。
本発明のコポリカーボネートは、Ｔｇが１３０〜１６０℃で、屈折率（ｎｄ）が１．６３０〜１．６５で、位相差が０〜１３０ｎｍであるものが好ましい。
これに対して、比較例５レンズは光学歪みが大きいこと、比較例６のレンズはＴｇが高く加工性に劣ること、比較例７、８のレンズは屈折率が低く、光学歪みも大きいことからレンズとしての使用範囲が限定される。
【表１】
2010101265.tif 000015
【表１】
2010101265.tif 000016
発明の効果
本発明のコポリカーボネートは、屈折率（ｎｄ）が高く、光学レンズに適している。また本発明のコポリカーボネートは、複屈折量（位相差）が小さい。また本発明のコポリカーボネートは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が低く、成形温度を低くすることができ加工性に優れる。本発明のコポリカーボネートは、全光線透過率が高く透明性に優れる。本発明のコポリカーボネートは、分子量保持率に優れる。
本発明のコポリカーボネートから形成された光学レンズは、屈折率（ｎｄ）が高く、複屈折量（位相差）が小さく、透明性に優れる。本発明の光学レンズは、射出成形可能で生産性が高く安価である。
本発明によれば、ガラスレンズでは技術的に加工の困難な、高屈折率、低複屈折、非球面レンズを射出成形により簡便に得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【０００７】
本発明の光学レンズは、カメラ、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができる。
【図１】
2010101265.tif 000023
【国際調査報告】
2010101265.tif 000024
2010101265.tif 000025