(57)【要約】  薬液処理された基板に純水などの洗浄液を供給する洗浄室を備えた基板処理装置において、洗浄室から排出される濃厚排液を減少させると共に、洗浄室から回収される希釈排液の利用効率を向上させることができる基板処理装置を提供すること。  直立状態から裏面側に所定角度傾倒させて搬送される基板表面に洗浄液吐出手段により洗浄液を供給する洗浄室を備えた基板処理装置において、洗浄室は、底壁に立設された仕切板により上流側の粗洗浄室（１０３）と下流側の精密洗浄室（１０４）とに区切られ、粗洗浄室と精密洗浄室のぞれぞれの底壁には排液口が設けられると共に、粗洗浄室には、洗浄液吐出手段から吐出され基板表面を経由しない洗浄液を受ける回収樋（１１２）が、精密洗浄室側に向かって下傾するように設けられ、回収樋内を流れる洗浄液を排出する該回収樋の排出口が、仕切板を越えて精密洗浄室内に臨むように設けられている。
2010087435.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を直立状態から裏面側に所定角度傾倒させて搬送する基板搬送手段と、該基板搬送手段により搬送される前記基板表面に洗浄液吐出手段により洗浄液を供給する洗浄室とを備えた基板処理装置において、前記洗浄室は、底壁に立設された仕切板により上流側の粗洗浄室と下流側の精密洗浄室とに区切られ、前記粗洗浄室と前記精密洗浄室のぞれぞれの底壁には排液口が設けられると共に、前記粗洗浄室には、前記洗浄液吐出手段から吐出され前記基板表面を経由しない洗浄液を受ける回収樋が、前記精密洗浄室側に向かって下傾するように設けられ、前記回収樋内を流れる洗浄液を排出する該回収樋の排出口が、前記仕切板を越えて前記精密洗浄室内に臨むように設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記基板搬送手段は、前記基板の裏面を支持する複数の支持ローラと、前記基板の下端を支持しつつ搬送する複数の搬送ローラとを備え、前記支持ローラはローラ軸に回転自在に軸支されると共に、該ローラ軸の途中部位が、前記粗洗浄室の後壁に立設されたローラ軸支持板の前端縁に当接されて支持されており、前記ローラ軸支持板には前記粗洗浄室の後壁を流れ落ちる洗浄水が通る開口部が形成されると共に、該開口部の下方に前記回収樋が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記回収樋の後端部が前記粗洗浄室の後壁に固定されると共に、前端部が前記ローラ軸支持板に固定されていること特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記回収樋の後端部が前記粗洗浄室の後壁に固定されると共に、前端部が前記ローラ軸にブラケットを介して固定されていることを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記基板裏面に洗浄液を供給する洗浄液吐出手段が更に備えられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記洗浄室の上流側には、該洗浄室とは隔壁を介して仕切られて前記基板表面に薬液を供給する薬液処理室を備えると共に、前記隔壁にスリット状に開口形成された基板挿通口の上流側および下流側の近傍には前記基板表面にエアを噴出するエア噴出手段が備えられていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記薬液は前記基板表面に形成されたレジストを剥離する剥離液であることを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記洗浄液は純水であることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の基板処理装置。  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルに用いられるガラス基板などの基板を搬送しながらその基板に薬液や洗浄液を供給する基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータやテレビなどの家電製品の表示部として、液晶表示パネルが広く用いられている。液晶表示パネルは、一般的に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板とカラーフィルタ（ＣＦ）基板とからなる一対のガラス基板が所定の間隔を置いて平行に対向配置され、両基板間に液晶が充填された構成をなしている。【０００３】
例えばＴＦＴ基板を製造するにあたっては、ガラス基板表面への成膜処理、レジスト膜形成処理、露光処理、レジスト現像処理、エッチング処理、レジスト剥離処理等の複数の処理工程を順次経ることによりガラス基板表面にＴＦＴ等が形成される。【０００４】
ガラス基板表面にＴＦＴ等の回路を形成するためには、ガラス基板表面に金属膜を成膜処理により形成した後に、この金属膜を所定のパターンにエッチング処理する方法が採られている。このエッチング処理の際のマスクとして感光性樹脂であるレジストが用いられており、エッチング処理後にレジストは剥離処理により除去されることになる。【０００５】
ガラス基板表面のレジスト剥離処理には、剥離液をガラス基板の表面および裏面にシャワー方式で供給する剥離処理装置が採用されている。一般的なレジスト剥離処理装置は、複数の剥離室が順に並設された構成となっており、ガラス基板はニュートラル室から１枚ずつ順に各剥離室に搬送されて、剥離液によるレジスト剥離処理が施され、レジスト剥離処理が施された後、洗浄室に搬送され純水により水洗処理が施される。この場合、ガラス基板はレジスト剥離装置の最上流側に配置されたニュートラル室から最下流側に配置された洗浄室に向けて各剥離室を経て搬送されるようになっている。【０００６】
図７は、レジスト剥離装置２０１が備える剥離室９０と洗浄室１００を正面から見た概略構成を示しており、図８は図７のＢ−Ｂ線における断面図を示している。このレジスト剥離装置２０１は、図８に示されるようにガラス基板２を垂直に立てた直立状態から裏面２ｂ側に例えば１５度の角度で傾倒させた状態、つまり水平方向に対して７５度の角度に立てた状態で搬送しながらレジスト剥離を行う装置である。図７に示されるように、剥離室９０と洗浄室１００との間は隔壁１０１で仕切られており、隔壁１０１にはスリット状に開口した基板挿通口１０１ａが設けられている。【０００７】
剥離室９０には、剥離液をガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂに供給する剥離液吐出バー７が設けられている。また、基板挿通口１０１ａの上流側と下流側の近傍にはエア噴出バー１２が設けられており、エア噴出バー１２から高圧のエアを噴出させてガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂに付着した剥離液を除去することで、剥離液が隣りの洗浄室１００に持ち込まれないようにされている。【０００８】
図示されるように洗浄室１００は、上流側の粗洗浄室１０３と下流側の精密洗浄室１０４の２室に、底壁１０５に立設された仕切板１０６によって区切られており、各洗浄室１０３，１０４には、純水５をガラス基板２の表面２ａに供給する２本の表側純水吐出バー１８と、純水５をガラス基板２の裏面２ｂに供給する１本の裏側純水吐出バー１９が配置されている。各純水吐出バー１８，１９には、純水５をシャワー状に吐出する複数のノズル１８ａ，１９ａが設けられている。【０００９】
また、各洗浄室１０３，１０４には、図７および図８に示されるようにガラス基板２の裏面２ｂを支持する支持ローラ９と、ガラス基板２の下端を支持しつつガラス基板２を搬送する搬送ローラ１０が搬送方向に沿って複数設けられている。【００１０】
支持ローラ９は、ガラス基板２の傾斜方向下側となる裏面２ｂ側に配されており、その軸線が搬送されるガラス基板２と平行、つまり７５度の角度で傾斜されている。この場合、図示されるように支持ローラ９はボールベアリング９ｂによってローラ軸９ａに回転可能に軸支されており、ローラ軸９ａはその上端と下端が洗浄室１００の上壁１０７と下壁１０８に固定されている。ローラ軸９ａは、搬送方向に沿って所定間隔をおいて複数本設けられている。【００１１】
また、ローラ軸９ａの途中部位は、洗浄室１００の後壁１０９に立設されたローラ軸支持板１１０の前端に支持されて偏心が防止されており、ガラス基板２の搬送中に軸心がずれないようになっている。このローラ軸支持板１１０には、図９に示されるように洗浄室１００の後壁１０９を流れ落ちる純水５が通る開口部１１０ａが複数形成されている。洗浄室１００の後壁１０９や前壁１１１等を流れ落ちた純水５は、各洗浄室１０３の底壁１０５に開口形成された排液口２１，２２から排出される。【００１２】
ガラス基板２の下端を支持する搬送ローラ１０は、駆動軸１０ａの一端に固定されている。駆動軸１０ａの他端には歯車１０ｂが取り付けられており、この歯車１０ｂに噛合する歯車１１ｂがモータ１１の回転軸１１ａに取り付けられている。このモータ１１によって搬送ローラ１０を回転駆動させることで、搬送ローラ１０とガラス基板２の下端との間に生じる摩擦力でガラス基板２を搬送することができるようになっている。【００１３】
剥離室９０から洗浄室１００に搬送されるガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂには、隔壁１０１の上流側に配置されたエア噴出バー１２によってエアが噴出され、付着した剥離液の除去が行われている。【００１４】
一般的に、エア噴出バー１２による剥離液の除去では、ガラス基板２が大きく撓んで隔壁１０１の基板挿通口１０１ａに接触しないようにするため、噴出するエアの圧力を大きくできないことから、ガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂには、相当量の剥離液が付着残存し、これがガラス基板２と共に洗浄室１００に持ち込まれている。【００１５】
この洗浄室１００に持ち込まれた剥離液により、上流側の粗洗浄室１０３では、剥離液の混合率が高い剥離液と純水５との混合液（濃厚排液）Ｈが生じ、下流側の精密洗浄室１０４では、粗洗浄室１３で剥離液が適度に除去されているため、剥離液の混合率が低い剥離液と純水５との混合液（希釈排液）Ｌが生じることになる。【００１６】
通常、粗洗浄室１０３の排液口２１から回収された濃厚排液Ｈは、廃棄処理が為される。具体的には、濃厚排液Ｈはボイラーによって煮沸され、粉末状の廃物にされてから廃棄されるようになっている。一方、精密洗浄室１０４の排液口２２から回収された希釈排液Ｌは、バクテリアなどにより比較的簡単に剥離液成分を除去することが可能であることから、洗浄室１００で用いられる純水５として再度利用されている。図１に示されるように、希釈排液Ｌは、回収タンク２５に一旦回収され、バクテリアなどにより浄化されて、ポンプ２６およびフィルタ２７を介して再度純水吐出バー１８，１９へと送液される。尚、本発明に関連する先行技術文献として下記特許文献が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特開２００４−６６３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
しかしながら、図８に示されるように、ガラス基板２が、粗洗浄室１０３に設けられた各洗浄水吐出バー１８，１９を通過している最中は、吐出された純水５はガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂに残存する剥離液と混合された濃厚排液Ｈとして粗洗浄室１０３の底壁１０５の排液口２１から排出されるが、図７および図９に示されるように、ガラス基板２の上流端２ｃが各純水吐出バー１８，１９を通過して、次のガラス基板２の下流端２ｄが各純水吐出バー１８，１９位置まで搬送されてくるまでの間は、吐出された純水５はガラス基板２を経由せずに後壁１０９や前壁１１１に当たって流れ落ちることになる。【００１９】
つまりガラス基板２を経由せずに後壁１０９や前壁１１１を流れ落ちる純水５は、ほとんど剥離液が含まれない状態のまま、底壁１０５の排液口２１から排出されるため、先に排出された濃厚排液Ｈを薄めてしまい、その結果、廃棄処理のためのボイラーによる煮沸する液量が増大するため、コスト増になってしまっていた。【００２０】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、薬液処理された基板に純水などの洗浄液を供給する洗浄室を備えた基板処理装置において、洗浄室から排出される濃厚排液を減少させると共に、洗浄室から回収される希釈排液の利用効率を向上させることができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上記課題を解決するため、本発明に係る基板処理装置は、基板を直立状態から裏面側に所定角度傾倒させて搬送する基板搬送手段と、該基板搬送手段により搬送される前記基板表面に洗浄液吐出手段により洗浄液を供給する洗浄室とを備えた基板処理装置において、前記洗浄室は、底壁に立設された仕切板により上流側の粗洗浄室と下流側の精密洗浄室とに区切られ、前記粗洗浄室と前記精密洗浄室のぞれぞれの底壁には排液口が設けられると共に、前記粗洗浄室には、前記洗浄液吐出手段から吐出され前記基板表面を経由しない洗浄液を受ける回収樋が、前記精密洗浄室側に向かって下傾するように設けられ、前記回収樋内を流れる洗浄液を排出する該回収樋の排出口が、前記仕切板を越えて前記精密洗浄室内に臨むように設けられていることを要旨とするものである。【００２２】
このような構成の基板処理装置によれば、上流側の粗洗浄室には、洗浄液吐出手段から吐出され基板表面を経由せずに、つまり例えば薬液等が付着された基板表面に当たらずに流れ落ちる洗浄液を受ける回収樋が、下流側の精密洗浄室側に向かって下傾するように設けられると共に、回収樋内を流れる洗浄液を排出する該回収樋の排出口が、粗洗浄室と精密洗浄室とを区切るように底壁に立設された仕切板を越えて精密洗浄室内に臨むように設けられている構成なので、搬送される基板の上流端が粗洗浄室の洗浄液吐出手段を通過して、次の基板の下流端が洗浄液吐出手段の位置まで搬送されてくるまでの間に、洗浄液吐出手段から吐出されて流れ落ちる洗浄液が、回収樋によって受けられて、精密洗浄室内へと導かれて排出されることになる。【００２３】
これにより、粗洗浄室の底壁に設けられた排液口から回収される濃厚排液は、基板表面を経由しないで流れ落ちる洗浄液によって希釈されないので、廃棄処理が必要な液量を減少させることができる。また、回収樋によって受けられた洗浄液は精密洗浄室へと排出されるので、精密洗浄室の底壁に設けられた排液口から回収される再利用可能な希釈排液を増大させることができ、洗浄室から回収される希釈排液の利用効率を向上させることができる。【００２４】
この場合、前記基板搬送手段は、前記基板の裏面を支持する複数の支持ローラと、前記基板の下端を支持しつつ搬送する複数の搬送ローラとを備え、前記支持ローラはローラ軸に回転自在に軸支されると共に、該ローラ軸の途中部位が、前記粗洗浄室の後壁に立設されたローラ軸支持板の前端縁に当接されて支持されており、前記ローラ軸支持板には前記粗洗浄室の後壁を流れ落ちる洗浄水が通る開口部が形成されると共に、該開口部の下方に前記回収樋が配置されている構成にすれば、基板表面を経由しないで粗洗浄室の後壁を流れ落ちる洗浄水が、ローラ軸の偏心防止用に設けられたローラ軸支持板によって遮られることなく回収樋によって受けられる。【００２５】
また、前記回収樋の後端部が前記粗洗浄室の後壁に固定されると共に、前端部が前記ローラ軸支持板に固定されている構成や、前記回収樋の後端部が前記粗洗浄室の後壁に固定されると共に、前端部が前記ローラ軸にブラケットを介して固定されている構成にすれば、粗洗浄室内への回収樋の取付が容易であると共に、回収樋の前後端部が固定されているので、回収樋内を流れる洗浄液量の重さによって回収樋が撓んでしまうことが防止される。【００２６】
この場合、前記基板裏面に洗浄液を供給する洗浄液吐出手段が更に備えられている構成にすると良い。また、前記洗浄室の上流側には、該洗浄室とは隔壁を介して仕切られて前記基板表面に薬液を供給する薬液処理室を備えると共に、前記隔壁にスリット状に開口形成された基板挿通口の上流側および下流側の近傍には前記基板表面にエアを噴出するエア噴出手段が備えられている構成にすると良い。更に、前記薬液は前記基板表面に形成されたレジストを剥離する剥離液である構成や、前記洗浄液は純水である構成にすると良い。
【発明の効果】
【００２７】
上記構成を有する本発明によれば、搬送されてきた基板の上流端が粗洗浄室の洗浄液吐出手段を通過して、次の基板の下流端が洗浄液吐出手段の位置まで搬送されてくるまでの間に、洗浄液吐出手段から吐出され基板表面を経由しない洗浄液が、回収樋によって受けられて精密洗浄室内へと導かれて排出される構成により、粗洗浄室の底壁に設けられた排液口から回収される濃厚排液は、基板表面を経由せずに流れ落ちる洗浄液によって希釈されないので、廃棄処理が必要な濃厚廃液の液量を減少させることができる。更に、回収樋によって受けられた洗浄液は精密洗浄室へと排出されるので、精密洗浄室の底壁に設けられた排液口から回収される再利用可能な希釈排液を増大させることができ、洗浄室から回収される希釈排液の利用効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置としてのレジスト剥離装置を上方から見た概略構成を示した図である。
【図２】図１のレジスト剥離装置が備える洗浄室を正面から見た概略構成を示した図である。
【図３】図２の粗洗浄室の内部の概略構成を示した斜視図である。
【図４】図２の粗洗洗室のＡ−Ａ線における断面を示した図である。
【図５】図１のレジスト剥離装置が備えるエア噴出バーの概略構成を示した図である。
【図６】図２の粗洗浄室のＡ−Ａ線における断面を示した図であり、粗洗浄室の後壁を流れ落ちる純水を回収樋により受ける状態を示した図である。
【図７】従来用いられてきたレジスト剥離装置が備える洗浄室を正面から見た概略構成を示した図である。
【図８】図７の粗洗浄室のＢ−Ｂ線における断面を示した図である。
【図９】図７の粗洗浄室のＢ−Ｂ線における断面を示した図であり、粗洗浄室の後壁を純水が流れ落ちる状態を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下に、本発明に係る基板処理装置の一実施形態ついて、図面を参照して詳細に説明する。本実施形態の基板処理装置は、液晶表示パネル用のガラス基板を製造する際に用いられるレジスト剥離装置である。
【００３０】
図１に示されるレジスト剥離装置１は、ガラス基板２を垂直に立てた直立状態から裏面２ｂ側に例えば１５度の角度で傾倒させた状態、つまり水平方向に対して７５度の角度に立てた状態で搬送しながらガラス基板２の表面２ａに形成されたレジストに剥離液４を供給する。
【００３１】
図示されるようにレジスト剥離装置１は、複数の剥離室４０〜９０が順に並設された構成となっており、ガラス基板２はニュートラル室３０から１枚ずつ順に各剥離室４０〜９０に搬送されて、剥離液４によるレジスト剥離処理が施される。各剥離室４０〜９０間は隔壁５１〜９１で仕切られており、隔壁５１〜９１にはスリット状に開口した基板挿通口５１ａ〜９１ａが設けられている。また、ニュートラル室３０と剥離室４０との間は隔壁４１で仕切られ、剥離室９０と洗浄室１００との間は隔壁１０１で仕切られており、それぞれの隔壁４１，１０１にはスリット状に開口した基板挿通口４１ａ，１０１ａが設けられている。
【００３２】
ニュートラル室３０の上流側の隔壁３１にはスリット状に開口した基板挿通口３１ａが設けられている。ニュートラル室３０の上流側と下流側の基板挿通口３１ａ，４１ａにはシャッタ３，３が設けられており、このシャッタ３，３により基板挿通口３１ａ，４１ａを塞ぐことができるようになっている。また、洗浄室１００の下流側の隔壁１０２にはスリット状に開口した基板挿通口１０２ａが設けられており、シャッタ３によりこの基板挿通口１０２ａを塞ぐことができるようになっている。
【００３３】
各剥離室４０〜９０にはエア噴出バー１２が設けられており、このエア噴出バー１２から高圧のエアを噴出させてガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂに付着した剥離液４を除去することが行われている。
【００３４】
図２に示されるようにエア噴出バー１２は、ガラス基板２の搬送方向と直交するように配置されている。このようなエア噴出バー１２は、図５に示されるように、内部にエア供給口１２ａから供給されたエアを一旦滞留させるエア収容室１２ｂを有し、このエア収容室１２ｂに連通すると共に、ガラス基板２に対して線状にエアを噴出するためのスリット状のエア噴出口１２ｃが形成されている。そして、エア噴出バー１２のエア供給口１２ａには図示しない空圧ポンプが接続され、圧縮エアが供給されている。
【００３５】
このようなエア噴出バー１２は、例えば剥離室９０で用いられた剥離液４が隣りの剥離室８０に持ち込まれないようにするために隔壁９１に形成された基板挿通口９１ａの下流側の近傍に配置されている。また、同様に、エア噴出バー１２は、剥離室９０で用いられた剥離液４が隣りの洗浄室１００に持ち込まれないようにするために隔壁１０１に形成された基板挿通口１０１ａの上流側の近傍に配置されている。
【００３６】
一般的に、ガラス基板２に供給される剥離液４は、その温度が高いほどレジストを剥離するのに要する時間を短縮することができるため、例えば各剥離室４０〜９０においては剥離液４の温度は８０℃の高温に設定されている。各剥離室４０〜９０に供給される剥離液４は、貯留タンク６からポンプ１４を介して剥離液供給バー７からシャワー状にガラス基板２に向けて供給される。
【００３７】
貯留タンク６には、剥離液４を加熱するための剥離液加熱手段８が設けられている。剥離液加熱手段８は、スチーム配管８ａを備えており、このスチーム配管８ａを剥離液４に浸漬させて貯留タンク６内の剥離液４の温度を８０℃に昇温させている。この場合、スチーム配管８ａの中には高温の水蒸気が流れている。
【００３８】
図２に示されるように剥離液吐出バー７は、ガラス基板２の搬送方向と直交するように配置されており、剥離液４を剥離液吐出ノズル７ａからガラス基板２の表面２ａと裏面２ｂにシャワー状に供給する。また、剥離液吐出バー７は搬送方向に沿って所定間隔をおいて複数設けられている。剥離液吐出バー７は、図１に示されるような剥離液供給管１３によって貯留タンク６と接続されており、ポンプ１４によって剥離液吐出バー７に剥離液４が送液される。
【００３９】
また、図示しないがポンプ１４と剥離液吐出バー７との間の剥離液供給管１３の途中には、その剥離液供給管１３を通る剥離液４を濾過するためのフィルタや剥離液４の流量を調整する流量調整弁等が設けられている。
【００４０】
各剥離室４０〜９０の底壁４２〜９２には排液口１５が開口形成されており、排液管１６を介して貯留タンク６に接続されている。排液管１６を通って回収される剥離液４は、貯留タンク６に一旦貯留されたあと、ポンプ１４により再度剥離液吐出バー７に送液されるようになっている。
【００４１】
また、各剥離室４０〜９０の内部は、上壁に開口形成された図示しない排気口から同じく図示しない排気手段により各剥離室４０〜９０内部の排気が強制的に行われている。このように剥離室内部の排気が行われることにより、剥離室内で上方に広がった剥離液４の蒸気やミストが排気されている。剥離液４は通常、人体に毒性がある薬液であるため、剥離室から外部に漏れ出さないようにするためにこのような排気が行われている。
【００４２】
また、このような排気は、例えば剥離室９０で用いられた剥離液４の蒸気やミスト、およびそれらに含まれる異物が隣りの剥離室８０や洗浄室１００に漏れ出さないようにするために行われる。特定の剥離室で異物が大量に発生した場合に、その異物が他の剥離室や洗浄室に進入してしまうと、レジスト剥離装置１全体をメンテナンスすることになってしまうからである。
【００４３】
そして、各剥離室４０〜９０を経たガラス基板２は、洗浄室１００に搬送され、純水５によりガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂが水洗され、その後図示しない基板乾燥室において、エア等により乾燥が行われる。
【００４４】
図２に示されるように洗浄室１００は、底壁１０５に立設された仕切板１０６によって上流側の粗洗浄室１０３と下流側の精密洗浄室１０４の２室に区切られており、各洗浄室１０３，１０４には、純水５をガラス基板２の表面２ａに供給する２本の表側純水吐出バー１８と、純水５をガラス基板２の裏面２ｂに供給する１本の裏側純水吐出バー１９が配設されている。各純水吐出バー１８，１９には、純水５をシャワー状に吐出する複数のノズル１８ａ，１９ａが設けられている。
【００４５】
図４に示されるように、表側純水吐出バー１８はガラス基板２の表面２ａに対向するように配され、裏側純水吐出バー１９はガラス基板２の裏面２ｂに対向するように配されている。また、図２に示されるように各洗浄室１０３，１０４では、２本の表側純水吐出バー１８，１８の間の中央に１本の裏側純水吐出バー１９が配置されている。
【００４６】
また、各洗浄室１０３，１０４には、図３および図４に示されるようにガラス基板２の裏面２ａを支持する支持ローラ９と、ガラス基板２の下端を支持しつつガラス基板２を搬送する搬送ローラ１０が搬送方向に沿って複数設けられている。尚、図３は、図の簡略化のためにエア噴出バー１２、表側純水吐出バー１８、裏側純水吐出バー１９が省略された状態を示した斜視図となっている。
【００４７】
支持ローラ９は、ガラス基板２の傾斜方向下側となる裏面２ａ側に配されており、その軸線が搬送されるガラス基板２と平行、つまり７５度の角度で傾斜されている。この場合、図４に示されるように支持ローラ９はボールベアリング９ｂによってローラ軸９ａに回転可能に軸支されており、ローラ軸９ａはその上端と下端が洗浄室１００の上壁１０７と下壁１０８に固定されている。このローラ軸９ａは、ガラス基板２の搬送方向に沿って所定間隔をおいて複数本設けられている。
【００４８】
また、ローラ軸９ａの途中部位は、洗浄室１００の後壁１０９に立設されたローラ軸支持板１１０の前端に支持されて偏心が防止されており、ガラス基板２の搬送中に軸心がずれないようになっている。このローラ軸支持板１１０には、洗浄室１００の後壁１０９を流れ落ちる純水５が通る開口部１１０ａが複数開口形成されている。
【００４９】
図３に示されるように、ガラス基板２の下端を支持する搬送ローラ１０は、駆動軸１０ａの一端に固定されている。駆動軸１０ａの他端には歯車１０ｂが取り付けられており、この歯車１０ｂに噛合する歯車１１ｂがモータ１１の回転軸１１ａに取り付けられている。このモータ１１によって搬送ローラ１０を回転駆動させることで、搬送ローラ１０とガラス基板２の下端との間に生じる摩擦力でガラス基板２を搬送することができるようになっている。
【００５０】
粗洗浄室１０３の底壁１０５には、排液口２１が開口形成されている。粗洗浄室１０３では、隣りの剥離室９０から搬送されてきたガラス基板２によって持ち込まれた剥離液４と、この剥離液４を洗い流す純水５とが混ざった濃厚排液Ｈが生じて、この濃厚排液Ｈが排液口２１から排出される。
【００５１】
図１に示されるように粗洗浄室１０３の排液口２１には濃厚排液管２３が接続されており、この濃厚排液管２３を通って回収された濃厚排液Ｈは、ボイラー等を備えた廃棄処理施設で粉末状の廃物にされて廃棄される。
【００５２】
また、精密洗浄室１０４の底壁１０５には、排液口２２が開口形成されている。精密洗浄室１０４では、粗洗浄室１０３で剥離室９０から持ち込まれた剥離液４が適度に除去されているため、濃厚排液Ｈよりも剥離液４の混合率が低い希釈排液Ｌが生じて、この希釈排液Ｌが排液口２２から排出される。
【００５３】
図１に示されるように精密洗浄室１０４の排液口２２には希釈排液管２４が接続されており、この希釈排液管２４を通って回収タンク２５に希釈排液Ｌは回収される。回収タンク２５に回収された希釈排液Ｌは、バクテリアなどにより浄化されて、ポンプ２６、フィルタ２７、純水供給管２０を介して純水吐出バー１８，１９へと再度送液されるようになっている。
【００５４】
そして、図６に示されるように、表側純水吐出バー１８から吐出されガラス基板２の表面２ａを経由せずに、つまり剥離液４が付着されたガラス基板２の表面２ａに当たらずに、粗洗浄室１０３の後壁１０９に当たって流れ落ちる純水５を受ける回収樋１１２が、下流側の精密洗浄室１０４側に向かって下傾するように設けられている。
【００５５】
この回収樋１１２は、図２に示されるように搬送されるガラス基板２の上流端２ｃが粗洗浄室１０３に設けられた表側純水吐出バー１８を通過して、次のガラス基板の下流端２ｄがその表側純水吐出バー１８まで搬送されてくるまでの間に、表側純水吐出バー１８から吐出され粗洗浄室１０３の後壁１０９に当たって流れ落ちる純水５がそのまま底壁１０５に開口形成された排液口２１へ流れてしまうのを堰き止めるためのもので、回収樋１１２によって粗洗浄室１０３の後壁１０９を流れ落ちる純水５を受けて、受けた純水５を精密洗浄室１０４へと導くことができるようになっている。
【００５６】
この場合、回収樋１１２は、上方に配設されたローラ軸支持板１１０の下側と下方に配設されたローラ軸支持板１１０の下側に設けられると共に、上方のローラ軸支持板１１０と下方のローラ軸支持板１１０との間にも設けられている。
【００５７】
この回収樋１１２は、金属板を折曲加工により断面が略Ｌ字状になるように成形されており、下流側の精密洗浄室１０４に向かって下傾した底部１１２ａ有している。
【００５８】
底部１１２ａの後端には上方に向かって突出した後側取付部１１２ｂが設けられており、この後側取付部１１２ｂが、粗洗浄室１０３の後壁１０９に固定ネジ２８によって固定されている。また、底部１１２ａの前端には手前側に向かって突出した前側取付部１１２ｃが設けられている。
【００５９】
この場合、上方のローラ軸支持板１１０の下側と、下方のローラ軸支持板１１０の下側に配置される回収樋１１２は、その前側取付部１１２ｃがローラ軸支持板１１０に固定ネジ２８によって固定されている。
【００６０】
また、上方のローラ軸支持板１１０と下方のローラ軸支持板１１０との間に配置される回収樋１１２は、その前側取付部１１２ｃがブラケット２９によってローラ軸９ａに固定されている。この場合、前側取付部１１２ｃはブラケット２９の後端に固定ネジ２８により固定されると共に、ブラケット２９の前端がローラ軸９ａを挟持することで、回収樋１１２の前側取付部１１２ｃはブラケット２９を介してローラ軸９ａに固定されている。
【００６１】
このような構成により、粗洗浄室１０３の後壁１０９への回収樋１１２の取付が容易であると共に、回収樋１１２の前後端部が固定されているので、回収樋１１２内を流れる純水の液量の重さによって回収樋１１２が撓んでしまうことが防止されている。
【００６２】
回収樋１１２の上流側の端部は閉塞されており、下流側の端部は開口された排出口１１２ｄが形成されている。また、回収樋１１２はローラ軸支持板１１０よりも長く形成されており、回収樋１１２の上流側端部はローラ軸支持板１１０の上流側端部よりも上流側に配置されると共に、回収樋１１２の下流側端部はローラ軸支持板１１０の下流側端部よりも下流側に配置されている。これにより回収樋１１２は、ローラ軸支持板１１０の開口部１１０ａから流れ落ちる純水５を受けることができるのは勿論のこと、ローラ軸支持板１１０の上流側端部から溢れて流れ落ちる純水５や下流側端部から溢れて流れ落ちる純水５も受けることができるようになっている。
【００６３】
この場合、回収樋１１２の排出口１１２ｄは、図２および図３に示されるように、仕切板１０６を越えて精密洗浄室１０４内へと臨むように配置されているので、回収樋１１２内を流れる純水５は、全て精密洗浄室１０４の底壁１０５に流れ落ちるようになっている。
【００６４】
図４に示されるように直立状態から裏面２ｂ側にやや傾斜されたガラス基板２の表面２ａに対向して設けられた表側純水吐出バー１８から吐出される純水５は、図６に示されるようにガラス基板２が表側純水吐出バー１８を通過した後では、粗洗浄室１０３の後壁１０９に直接当たって後壁１０９を流れ落ちることになるが、後壁１０９を流れ落ちる純水５は回収樋１１２によって堰き止められているので、従来技術で説明した図９に示されるように粗洗浄室１０３の底壁１０５に設けられた排液口２２から排出されることが防止されている。
【００６５】
したがって、粗洗浄室１０３の底壁１０５に設けられた排液口２１から回収される濃厚排液Ｈは、表側純水吐出バー１８から吐出されてガラス基板２の表面２ａを経由せずに後壁１０９を流れ落ちる純水５によって希釈されないので、廃棄処理が必要な濃厚排液Ｈの液量を減少させることができ、廃棄処理にかかるコストを削減することができる。
【００６６】
また、粗洗浄室１０３の後壁１０９を流れ落ちる純水５は回収樋１１２によって精密洗浄室１０４へと排出されるので、精密洗浄室１０４の底壁１０５に設けられた排液口２２から回収される再利用可能な希釈排液Ｌを増大させることができ、その結果、洗浄室１００から回収される希釈排液Ｌの利用効率を向上させることができる。
【００６７】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施できることは勿論である。例えば、上述した実施の形態では、レジスト剥離装置に本発明を適用した場合について説明したが、薬液を基板に供給して薬液処理した後、洗浄液を基板に供給して水洗処理する構成を有した基板処理装置であれば本発明を適用することができる。また、薬液処理室としての剥離室および洗浄室の構成やその数についても上述した実施の形態には限定されない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
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【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
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【国際調査報告】
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