(57)【要約】  重合体と特定の化合物１とを含む光学異方性層であって、前記重合体は、前記重合体の溶液を用いた塗工法により前記重合体の膜を形成した場合に、前記膜の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ｐ）、前記膜の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ｂ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ｐ）、及び、前記膜の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ｐ）が、ｎｚ（Ｐ）＞ｎｘ（Ｐ）≧ｎｙ（Ｐ）を満たすものである。前記光学異方性層のＲｔｈ（Ａ４５０）、Ｒｔｈ（Ａ５５０）、及びＲｔｈ（Ａ６５０）は、特定の関係を有する。
2019069855.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合体と、配向状態が固定されていてもよい化合物１とを含む光学異方性層であって、
前記重合体は、前記重合体の溶液を用いた塗工法により前記重合体の膜を形成した場合に、前記膜の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ｐ）、前記膜の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ｐ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ｐ）、及び、前記膜の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ｐ）が、ｎｚ（Ｐ）＞ｎｘ（Ｐ）≧ｎｙ（Ｐ）を満たすものであり、
前記光学異方性層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ａ）、前記光学異方性層の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ａ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ａ）、及び、前記光学異方性層の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ａ）が、ｎｚ（Ａ）＞ｎｘ（Ａ）≧ｎｙ（Ａ）を満たし、
波長４５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ４５０）、波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ６５０）が、下記式（１）及び（２）：
０．５０＜Ｒｔｈ（Ａ４５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）＜１．００  （１）
１．００≦Ｒｔｈ（Ａ６５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）＜１．２５  （２）
を満たし、前記化合物１は、式（Ｉａ）で表される化合物、式（Ｉｂ）で表される化合物、又はこれらの混合物である、光学異方性層：
【化１】
2019069855.tif 000027
但し、
Ｇａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の２価の有機基を表し、
Ｙａは、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｆｘ１およびＦｘ２は、それぞれ独立して、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基を表し、
Ｑは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表し、
ＲＩ〜ＲＩＶは、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、Ｒａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、
Ｒ０は、ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、
ｐは０〜３の整数を表し、
ｐ１は０〜４の整数を表し、
ｐ２は０または１を表し、
Ｙ１〜Ｙ8は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１３−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１３−、−ＣＦ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＦ２−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１３は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜３０の２価の脂肪族炭化水素基、および、炭素数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基のいずれかの有機基を表し、但し−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除き、Ｒ１４は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｐ１およびＰ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表し、
ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０または１である。
【請求項２】
前記化合物１が、下記式（Ｂ１）〜（Ｂ５）のいずれかで表される化合物である、請求項１に記載の光学異方性層。
【化２】
2019069855.tif 000028
【化３】
2019069855.tif 000029
【請求項３】
前記重合体が、ポリビニルカルバゾール、ポリフマル酸エステル及びセルロース誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種類の重合体である、請求項１又は２に記載の光学異方性層。
【請求項４】
前記光学異方性層の全固形分における前記化合物１の比率が、４０重量％〜７０重量％である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学異方性層。
【請求項５】
波長５９０ｎｍにおける前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ５９０）、及び、波長５９０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５９０）が、下記式（３）及び（４）：
Ｒｅ（Ａ５９０）≦１０ｎｍ  （３）
−２００ｎｍ≦Ｒｔｈ（Ａ５９０）≦−１０ｎｍ  （４）
を満たす、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学異方性層。
【請求項６】
基材と、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学異方性層とを備えた、光学異方性転写体。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学異方性層と、位相差層とを備え、
前記位相差層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ｂ）、前記位相差層の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ｂ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ｂ）、及び、前記位相差層の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ｂ）が、ｎｘ（Ｂ）＞ｎｙ（Ｂ）≧ｎｚ（Ｂ）を満たす、光学異方性積層体。
【請求項８】
前記位相差層が、脂環式構造含有重合体を含む延伸フィルム層である、請求項７記載の光学異方性積層体。
【請求項９】
前記位相差層が、斜め延伸フィルム層である、請求項８記載の光学異方性積層体。
【請求項１０】
前記位相差層が、複層構造を有する延伸フィルム層である、請求項７〜９のいずれか一項に記載の光学異方性積層体。
【請求項１１】
波長４５０ｎｍにおける前記位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ４５０）、波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける前記位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ６５０）が、下記式（５）及び（６）：
０．７５＜Ｒｅ（Ｂ４５０）／Ｒｅ（Ｂ５５０）＜１．００  （５）
１．０１＜Ｒｅ（Ｂ６５０）／Ｒｅ（Ｂ５５０）＜１．２５  （６）
を満たす、請求項７記載の光学異方性積層体。
【請求項１２】
前記位相差層が、配向状態が固定されていてもよい、化合物２を含み、前記化合物２は、式（ＩＩａ）で表される化合物、式（ＩＩｂ）で表される化合物、又はこれらの混合物である、請求項９又は１１記載の光学異方性積層体：
【化４】
2019069855.tif 000030
但し、
Ｇａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の２価の有機基を表し、
Ｙａは、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｆｘ１およびＦｘ２は、それぞれ独立して、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基を表し、
Ｑは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表し、
ＲＩ〜ＲＩＶは、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、Ｒａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、
Ｒ０は、ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、
ｐは０〜３の整数を表し、
ｐ１は０〜４の整数を表し、
ｐ２は０または１を表し、
Ｙ１〜Ｙ8は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１３−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１３−、−ＣＦ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＦ２−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１３は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜３０の２価の脂肪族炭化水素基、および、炭素数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基のいずれかの有機基を表し、但し−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除き、Ｒ１４は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｐ１およびＰ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表し、
ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０または１である。
【請求項１３】
波長５９０ｎｍにおける前記位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５９０）、波長５９０ｎｍにおける前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ５９０）、及び、波長５９０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５９０）が、下記式（７）、（８）及び（９）：
１１０ｎｍ≦Ｒｅ（Ｂ５９０）≦１７０ｎｍ  （７）
Ｒｅ（Ａ５９０）≦１０ｎｍ  （８）
−１１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（Ａ５９０）≦−２０ｎｍ  （９）
を満たす、請求項７〜１２のいずれか一項に記載の光学異方性積層体。
【請求項１４】
直線偏光子と、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学異方性層、請求項６記載の光学異方性転写体、又は、請求項７〜１３のいずれか一項に記載の光学異方性積層体と、を備える、偏光板。
【請求項１５】
請求項１４記載の偏光板を備える、画像表示装置。
【請求項１６】
請求項７〜１３のいずれか一項に記載の光学異方性積層体と、
直線偏光子と、
画像表示素子と、を、この順に備え、
前記画像表示素子が、液晶セル又は有機エレクトロルミネッセンス素子である、画像表示装置。
【請求項１７】
直線偏光子と、
請求項７〜１３のいずれか一項に記載の光学異方性積層体と、
有機エレクトロルミネッセンス素子と、を、この順に備える、画像表示装置。
【請求項１８】
重合体、化合物１及び溶媒を含む塗工液を、支持面上に塗工して、塗工液層を得る工程と、
前記塗工液層を乾燥させる工程と、を含む、光学異方性層の製造方法であって、
前記重合体は、前記重合体の溶液を用いた塗工法により前記重合体の膜を形成した場合に、前記膜の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ｐ）、前記膜の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ｐ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ｐ）、及び、前記膜の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ｐ）が、ｎｚ（Ｐ）＞ｎｘ（Ｐ）≧ｎｙ（Ｐ）を満たすものであり、
前記光学異方性層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ａ）、前記光学異方性層の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ａ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ａ）、及び、前記光学異方性層の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ａ）が、ｎｚ（Ａ）＞ｎｘ（Ａ）≧ｎｙ（Ａ）を満たし、
波長４５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ４５０）、波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ６５０）が、下記式（１）及び（２）：
０．５０＜Ｒｔｈ（Ａ４５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）＜１．００  （１）
１．００≦Ｒｔｈ（Ａ６５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）＜１．２５  （２）
を満たし、前記化合物１は、式（Ｉａ）で表される化合物、式（Ｉｂ）で表される化合物、又はこれらの混合物である、光学異方性層の製造方法：
【化５】
2019069855.tif 000031
但し、
Ｇａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の２価の有機基を表し、
Ｙａは、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｆｘ１およびＦｘ２は、それぞれ独立して、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基を表し、
Ｑは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表し、
ＲＩ〜ＲＩＶは、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、Ｒａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、
Ｒ０は、ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、
ｐは０〜３の整数を表し、
ｐ１は０〜４の整数を表し、
ｐ２は０または１を表し、
Ｙ１〜Ｙ8は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１３−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１３−、−ＣＦ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＦ２−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１３は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜３０の２価の脂肪族炭化水素基、および、炭素数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基のいずれかの有機基を表し、但し−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除き、Ｒ１４は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｐ１およびＰ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表し、
ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０または１である。
【請求項１９】
請求項６記載の光学異方性転写体の光学異方性層と、位相差層とを、貼り合わせる工程と、
前記光学異方性転写体の基材を剥離する工程と、を含む、光学異方性積層体の製造方法であって、
前記位相差層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ｂ）、前記位相差層の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ｂ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ｂ）、及び、前記位相差層の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ｂ）が、ｎｘ（Ｂ）＞ｎｙ（Ｂ）≧ｎｚ（Ｂ）を満たす、光学異方性積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学異方性層及びその製造方法；前記の光学異方性層を備えた光学異方性積層体及びその製造方法；並びに、前記の光学異方性層を備えた光学異方性転写体、偏光板及び画像表示装置；に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の画像表示装置には、様々な光学フィルムが設けられる。以下、「有機エレクトロルミネッセンス」のことを、適宜「有機ＥＬ」ということがある。このような光学フィルムに係る技術について、特許文献１〜１０に示すように、従来から検討がなされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１４７１２号公報
【特許文献２】特開２０１５−５７６４６号公報（対応公報：米国特許出願公開第２０１５／０４１０５１号明細書）
【特許文献３】特表２０１４−５１３３２３号公報
【特許文献４】特表２０１４−５２０１９２号公報（対応公報：米国特許出願公開第２０１４／１１６２９２号明細書）
【特許文献５】特表２０１４−５２０２８８号公報（対応公報：米国特許出願公開第２０１４／１１６２９３号明細書）
【特許文献６】特開２０１０−２０２６９号公報（対応公報：米国特許出願公開第２００９／０８６１３１号明細書）
【特許文献７】特開２０１０−１９５８５８号公報
【特許文献８】特開２０１０−２３５８７８号公報（対応公報：米国特許出願公開第２０１０／２４５７２８号明細書）
【特許文献９】特開２０１０−２５４９４９号公報（対応公報：米国特許出願公開第２０１０／２４５７４４号明細書）
【特許文献１０】特開２００８−２６８３３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
画像表示装置の表示面には、円偏光板が設けられることがある。ここで、用語「円偏光板」には、狭義の円偏光板だけでなく、楕円偏光板も含む。前記の円偏光板としては、通常、直線偏光子と、光学異方性層とを備える光学フィルムが用いられる。画像表示装置の表示面に円偏光板を設けることにより、表示面を正面方向から見た場合に、外光の反射を抑制したり、画像を表示する光が偏光サングラスを透過できるようにしたりできるので、画像の視認性を高めることが可能である。【０００５】
しかし、従来の一般的な円偏光板を画像表示装置の表示面に設けても、表示面を傾斜方向から見た場合には、外光の反射の抑制が難しく、また、画像を表示する光に偏光サングラスを透過させることが難しかった。【０００６】
そこで、円偏光板に、ポジティブＣフィルムを設けることが考えられる。ポジティブＣフィルムとは、屈折率ｎｘ、ｎｙ及びｎｚが、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満たすフィルムである。ポジティブＣフィルムを円偏光板に設けることにより、表示面を傾斜方向から見た場合に、外光の反射を抑制したり、画像を表示する光に偏光サングラスを透過させたりすることができる。【０００７】
さらに、前記のポジティブＣフィルムとしては、厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すフィルムが好ましい。ここで、厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示す、とは、波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ（４５０）及びＲｔｈ（５５０）が、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．００を満たすことをいう。このように厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すポジティブＣフィルムを円偏光板に設けることにより、表示面を傾斜方向から見た場合に、広い波長範囲において、外光の反射を抑制したり、画像を表示する光に偏光サングラスを透過させたりすることができる。そのため、表示面に表示される画像の視認性を、特に効果的に向上させることができる。【０００８】
ところが、従来の技術では、厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すポジティブＣフィルムを製造することは、容易ではなかった。例えば、特許文献１及び２に記載のように、液晶化合物を用いた製造方法が考えられる。ところが、特許文献１及び２に記載のように配向膜を用いる方法では、配向膜と液晶化合物との相性を調整することが求められるので、その調整が煩雑である。さらに、配向膜を基材上に塗工する工程が増えるため、配向膜の使用は、コストの上昇を招く可能性がある。【０００９】
本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたもので、配向膜を用いることなく製造可能な、厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すポジティブＣプレートとして用いることができる光学異方性層及びその製造方法；前記の光学異方性層を備えた光学異方性積層体及びその製造方法；並びに、前記の光学異方性層を備えた光学異方性転写体、偏光板及び画像表示装置；を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、下記のとおりである。
〔１〕  重合体と、配向状態が固定されていてもよい化合物１とを含む光学異方性層であって、
前記重合体は、前記重合体の溶液を用いた塗工法により前記重合体の膜を形成した場合に、前記膜の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ｐ）、前記膜の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ｐ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ｐ）、及び、前記膜の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ｐ）が、ｎｚ（Ｐ）＞ｎｘ（Ｐ）≧ｎｙ（Ｐ）を満たすものであり、
前記光学異方性層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ａ）、前記光学異方性層の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ａ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ａ）、及び、前記光学異方性層の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ａ）が、ｎｚ（Ａ）＞ｎｘ（Ａ）≧ｎｙ（Ａ）を満たし、
波長４５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ４５０）、波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ６５０）が、下記式（１）及び（２）：
０．５０＜Ｒｔｈ（Ａ４５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）＜１．００  （１）
１．００≦Ｒｔｈ（Ａ６５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）＜１．２５  （２）
を満たし、前記化合物１は、式（Ｉａ）で表される化合物、式（Ｉｂ）で表される化合物、又はこれらの混合物である、光学異方性層：
【化１】
2019069855.tif 000003
但し、
Ｇａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の２価の有機基を表し、
Ｙａは、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｆｘ１およびＦｘ２は、それぞれ独立して、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基を表し、
Ｑは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表し、
ＲＩ〜ＲＩＶは、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、Ｒａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、
Ｒ０は、ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、
ｐは０〜３の整数を表し、
ｐ１は０〜４の整数を表し、
ｐ２は０または１を表し、
Ｙ１〜Ｙ8は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１３−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１３−、−ＣＦ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＦ２−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１３は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜３０の２価の脂肪族炭化水素基、および、炭素数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基のいずれかの有機基を表し、但し−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除き、Ｒ１４は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｐ１およびＰ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表し、
ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０または１である。
〔２〕  前記化合物１が、下記式（Ｂ１）〜（Ｂ５）のいずれかで表される化合物である、〔１〕に記載の光学異方性層。
【化２】
2019069855.tif 000004
【化３】
2019069855.tif 000005
〔３〕  前記重合体が、ポリビニルカルバゾール、ポリフマル酸エステル及びセルロース誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種類の重合体である、〔１〕又は〔２〕に記載の光学異方性層。
〔４〕  前記光学異方性層の全固形分における前記化合物１の比率が、４０重量％〜７０重量％である、〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載の光学異方性層。
〔５〕  波長５９０ｎｍにおける前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ５９０）、及び、波長５９０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５９０）が、下記式（３）及び（４）：
Ｒｅ（Ａ５９０）≦１０ｎｍ  （３）
−２００ｎｍ≦Ｒｔｈ（Ａ５９０）≦−１０ｎｍ  （４）
を満たす、〔１〕〜〔４〕のいずれか一項に記載の光学異方性層。
〔６〕  基材と、〔１〕〜〔５〕のいずれか一項に記載の光学異方性層とを備えた、光学異方性転写体。
〔７〕  〔１〕〜〔５〕のいずれか一項に記載の光学異方性層と、位相差層とを備え、
前記位相差層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ｂ）、前記位相差層の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ｂ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ｂ）、及び、前記位相差層の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ｂ）が、ｎｘ（Ｂ）＞ｎｙ（Ｂ）≧ｎｚ（Ｂ）を満たす、光学異方性積層体。
〔８〕  前記位相差層が、脂環式構造含有重合体を含む延伸フィルム層である、〔７〕記載の光学異方性積層体。
〔９〕  前記位相差層が、斜め延伸フィルム層である、〔８〕記載の光学異方性積層体。
〔１０〕  前記位相差層が、複層構造を有する延伸フィルム層である、〔７〕〜〔９〕のいずれか一項に記載の光学異方性積層体。
〔１１〕  波長４５０ｎｍにおける前記位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ４５０）、波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける前記位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ６５０）が、下記式（５）及び（６）：
０．７５＜Ｒｅ（Ｂ４５０）／Ｒｅ（Ｂ５５０）＜１．００  （５）
１．０１＜Ｒｅ（Ｂ６５０）／Ｒｅ（Ｂ５５０）＜１．２５  （６）
を満たす、〔７〕記載の光学異方性積層体。
〔１２〕  前記位相差層が、配向状態が固定されていてもよい、化合物２を含み、前記化合物２は、式（ＩＩａ）で表される化合物、式（ＩＩｂ）で表される化合物、又はこれらの混合物である、〔９〕又は〔１１〕記載の光学異方性積層体：
【化４】
2019069855.tif 000006
但し、
Ｇａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の２価の有機基を表し、
Ｙａは、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｆｘ１およびＦｘ２は、それぞれ独立して、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基を表し、
Ｑは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表し、
ＲＩ〜ＲＩＶは、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、Ｒａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、
Ｒ０は、ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、
ｐは０〜３の整数を表し、
ｐ１は０〜４の整数を表し、
ｐ２は０または１を表し、
Ｙ１〜Ｙ8は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１３−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１３−、−ＣＦ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＦ２−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１３は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜３０の２価の脂肪族炭化水素基、および、炭素数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基のいずれかの有機基を表し、但し−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除き、Ｒ１４は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｐ１およびＰ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表し、
ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０または１である。
〔１３〕  波長５９０ｎｍにおける前記位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５９０）、波長５９０ｎｍにおける前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ５９０）、及び、波長５９０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５９０）が、下記式（７）、（８）及び（９）：
１１０ｎｍ≦Ｒｅ（Ｂ５９０）≦１７０ｎｍ  （７）
Ｒｅ（Ａ５９０）≦１０ｎｍ  （８）
−１１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（Ａ５９０）≦−２０ｎｍ  （９）
を満たす、〔７〕〜〔１２〕のいずれか一項に記載の光学異方性積層体。
〔１４〕  直線偏光子と、
〔１〕〜〔５〕のいずれか一項に記載の光学異方性層、〔６〕記載の光学異方性転写体、又は、〔７〕〜〔１３〕のいずれか一項に記載の光学異方性積層体と、を備える、偏光板。
〔１５〕  〔１４〕記載の偏光板を備える、画像表示装置。
〔１６〕  〔７〕〜〔１３〕のいずれか一項に記載の光学異方性積層体と、
直線偏光子と、
画像表示素子と、を、この順に備え、
前記画像表示素子が、液晶セル又は有機エレクトロルミネッセンス素子である、画像表示装置。
〔１７〕  直線偏光子と、
〔７〕〜〔１３〕のいずれか一項に記載の光学異方性積層体と、
有機エレクトロルミネッセンス素子と、を、この順に備える、画像表示装置。
〔１８〕  重合体、化合物１及び溶媒を含む塗工液を、支持面上に塗工して、塗工液層を得る工程と、
前記塗工液層を乾燥させる工程と、を含む、光学異方性層の製造方法であって、
前記重合体は、前記重合体の溶液を用いた塗工法により前記重合体の膜を形成した場合に、前記膜の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ｐ）、前記膜の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ｐ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ｐ）、及び、前記膜の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ｐ）が、ｎｚ（Ｐ）＞ｎｘ（Ｐ）≧ｎｙ（Ｐ）を満たすものであり、
前記光学異方性層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ａ）、前記光学異方性層の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ａ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ａ）、及び、前記光学異方性層の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ａ）が、ｎｚ（Ａ）＞ｎｘ（Ａ）≧ｎｙ（Ａ）を満たし、
波長４５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ４５０）、波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける前記光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ６５０）が、下記式（１）及び（２）：
０．５０＜Ｒｔｈ（Ａ４５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）＜１．００  （１）
１．００≦Ｒｔｈ（Ａ６５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）＜１．２５  （２）
を満たし、前記化合物１は、式（Ｉａ）で表される化合物、式（Ｉｂ）で表される化合物、又はこれらの混合物である、光学異方性層の製造方法：
【化５】
2019069855.tif 000007
但し、
Ｇａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の２価の有機基を表し、
Ｙａは、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｆｘ１およびＦｘ２は、それぞれ独立して、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基を表し、
Ｑは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表し、
ＲＩ〜ＲＩＶは、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、Ｒａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、
Ｒ０は、ハロゲン原子；炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表し、
ｐは０〜３の整数を表し、
ｐ１は０〜４の整数を表し、
ｐ２は０または１を表し、
Ｙ１〜Ｙ8は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１３−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１３−、−ＣＦ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＦ２−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒ１３は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜３０の２価の脂肪族炭化水素基、および、炭素数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基のいずれかの有機基を表し、但し−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除き、Ｒ１４は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｐ１およびＰ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表し、
ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０または１である。
〔１９〕  〔６〕記載の光学異方性転写体の光学異方性層と、位相差層とを、貼り合わせる工程と、
前記光学異方性転写体の基材を剥離する工程と、を含む、光学異方性積層体の製造方法であって、
前記位相差層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ｂ）、前記位相差層の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ｂ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ｂ）、及び、前記位相差層の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ｂ）が、ｎｘ（Ｂ）＞ｎｙ（Ｂ）≧ｎｚ（Ｂ）を満たす、光学異方性積層体の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、配向膜を用いることなく製造可能な、厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すポジティブＣプレートとして用いることができる光学異方性層及びその製造方法；前記の光学異方性層を備えた光学異方性積層体及びその製造方法；並びに、前記の光学異方性層を備えた光学異方性転写体、偏光板及び画像表示装置；を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の第一実施形態に係る画像表示装置としての有機ＥＬ表示装置を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の第二実施形態に係る画像表示装置としての有機ＥＬ表示装置を模式的に示す断面図である。
【図３】図３は、本発明の第三実施形態に係る画像表示装置としての液晶表示装置を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
【００１４】
以下の説明において、ある面の正面方向とは、別に断らない限り、当該面の法線方向を意味し、具体的には前記面の極角０°且つ方位角０°の方向を指す。
【００１５】
以下の説明において、ある面の傾斜方向とは、別に断らない限り、当該面に平行でも垂直でもない方向を意味し、具体的には前記面の極角が０°より大きく９０°より小さい範囲の方向を指す。
【００１６】
以下の説明において、別に断らない限り、ある層の面内レターデーションＲｅは、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される値を示し、また、ある層の厚み方向のレターデーションＲｔｈとは、Ｒｔｈ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］×ｄで表される値を示す。ここで、ｎｘは、層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表し、ｎｙは、層の前記面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、層の厚み方向の屈折率を表し、ｄは、層の厚みを表す。また、面内方向とは、厚み方向に垂直な方向を示す。
【００１７】
以下の説明において、別に断らない限り、屈折率の測定波長は、５９０ｎｍである。
【００１８】
以下の説明において、「長尺」のものとは、幅に対して、通常５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。幅に対する長さの割合の上限は、特に限定されないが、例えば１００，０００倍以下としうる。
【００１９】
以下の説明において、「偏光板」及び「波長板」とは、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。
【００２０】
以下の説明において、別に断らない限り、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」、「メタクリル」及びこれらの組み合わせを包含する用語である。
【００２１】
以下の説明において、要素の方向が「平行」及び「垂直」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±５°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
【００２２】
以下の説明において、正の固有複屈折値を有する樹脂とは、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも大きくなる樹脂を意味する。また、負の固有複屈折値を有する樹脂とは、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも小さくなる樹脂を意味する。固有複屈折値は、誘電率分布から計算しうる。
【００２３】
［１．光学異方性層］
本発明の光学異方性層は、所定の重合体と、所定の化合物１とを含み、所定の光学特性を有する。光学異方性層が含む前記の重合体を、以下、適宜「ポジＣ重合体」ということがある。
【００２４】
〔１．１．ポジＣ重合体〕
ポジＣ重合体は、当該ポジＣ重合体の溶液を用いた塗工法によりポジＣ重合体の膜を形成した場合に、その膜の屈折率ｎｘ（Ｐ）、ｎｙ（Ｐ）及びｎｚ（Ｐ）が、ｎｚ（Ｐ）＞ｎｘ（Ｐ）≧ｎｙ（Ｐ）を満たす重合体である。ここで、ｎｘ（Ｐ）は、前記膜の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表し、ｎｙ（Ｐ）は、前記膜の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ｐ）の方向に垂直な方向の屈折率を表し、ｎｚ（Ｐ）は、前記膜の厚み方向の屈折率を表す。このようなポジＣ重合体を、化合物１と組み合わせて用いることにより、配向膜を用いることなく製造可能な、厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すポジティブＣプレートとして用いられる光学異方性層を実現できる。
【００２５】
ある重合体が、ポジＣ重合体に該当するか否かは、下記の方法によって確認できる。
まず、試料としての重合体を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、１，３−ジオキソラン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等の溶媒に、重合体の濃度が１０重量％〜２０重量％になるように加え、室温にて溶解させて、重合体溶液を得る。
この重合体溶液を、樹脂からなる未延伸フィルム上に、アプリケーターを用いて塗工して、重合体溶液の層を形成する。その後、８５℃オーブンで１０分ほど乾燥させて、溶媒を蒸発させることにより、厚み１０μｍ程度の重合体膜を得る。
そして、この重合体膜の屈折率ｎｘ（Ｐ）、屈折率ｎｙ（Ｐ）及び屈折率ｎｚ（Ｐ）が、ｎｚ（Ｐ）＞ｎｘ（Ｐ）≧ｎｙ（Ｐ）を満たすか否かを評価し、満たす場合に、その試料としての重合体は、ポジＣ重合体に該当すると判定できる。
【００２６】
中でも、前記の屈折率ｎｘ（Ｐ）と屈折率ｎｙ（Ｐ）とは、値が同じであるか近いことが好ましい。具体的には、屈折率ｎｘ（Ｐ）と屈折率ｎｙ（Ｐ）の差ｎｘ（Ｐ）−ｎｙ（Ｐ）は、好ましくは０．０００００〜０．００１００、より好ましくは０．０００００〜０．０００５０、特に好ましくは０．０００００〜０．０００２０である。屈折率差ｎｘ（Ｐ）−ｎｙ（Ｐ）が前記の範囲に収まることにより、本発明の光学異方性層を容易に得ることができる。
【００２７】
ポジＣ重合体としては、前記の式ｎｚ（Ｐ）＞ｎｘ（Ｐ）≧ｎｙ（Ｐ）を満たす屈折率を有する任意の重合体を用いうる。中でも、ポジＣ重合体としては、ポリビニルカルバゾール、ポリフマル酸エステル及びセルロース誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種類の重合体が好ましい。これらの重合体をポジＣ重合体として用いることにより、塗工によって厚み方向のレターデーションＲｔｈが大きい光学異方性層を、容易に得ることができる。
【００２８】
ポジＣ重合体の具体例としては、ポリ（９−ビニルカルバゾール）；フマル酸ジイソプロピルとアクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチルとの共重合体；フマル酸ジイソプロピルとケイ皮酸エステルとの共重合体；などが挙げられる。
また、ポジＣ重合体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００２９】
光学異方性層の全固形分におけるポジＣ重合体の比率は、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは３５重量％以上、更に好ましくは４０重量％以上であり、好ましくは６０重量％以下、より好ましくは５５重量％以下、更に好ましくは５０重量％以下である。ポジＣ重合体の比率が、前記範囲の下限値以上であることにより、光学異方性層において、化合物１を均一に分散させたり、光学異方性層の機械的強度を高くしたりでき、また、前記範囲の上限値以下であることにより、光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈの波長分散性を逆分散性に近づけ易くできる。ここで、ある層の固形分とは、その層を乾燥した場合に残留する成分のことをいう。
【００３０】
〔１．２．化合物１〕
化合物１は式（Ｉａ）で表される化合物、式（Ｉｂ）で表される構造を有する化合物、又はこれらの混合物である。
【００３１】
【化６】
2019069855.tif 000008
【００３２】
式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、Ｇａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の２価の有機基を表し、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の２価の有機基であることが好ましい。
【００３３】
Ｇａの前記２価の有機基が有する置換基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜５のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１〜５のアルコキシ基；シアノ基；フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子が挙げられる。
【００３４】
Ｇａの好ましい例としては、下記Ｇａ−１〜Ｇａ−２が挙げられる。
Ｇａ−１：置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の２価の脂肪族炭化水素基。
Ｇａ−２：置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１２−、−ＮＲ１２−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基。ただし、Ｇａ−２は、−Ｏ−が２以上隣接して介在する場合、及び−Ｓ−が２以上隣接して介在する場合を除く。Ｒ１２は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇａに関し、前記「２価の脂肪族炭化水素基」は、２価の鎖状の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましい。
【００３５】
ここで、Ｇａの炭素数が３以上の場合、Ｇａの両末端は−ＣＨ２−であること（Ｇａの両末端が置換されていないこと）が好ましい。また、Ｇａ−２において、−Ｏ−および−Ｓ−は、脂肪族炭化水素基中の連続した−ＣＨ２−を置換しない（すなわち、−Ｏ−Ｏ−および−Ｓ−Ｓ−の構造を形成しない）ことが好ましい（つまり、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除くことが好ましい）。また、Ｇａ−２において、−Ｃ（＝Ｏ）−は、脂肪族炭化水素基中の連続した−ＣＨ２−を置換しない（すなわち、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｏ）−の構造を有しない）ことが好ましい。
【００３６】
Ｇａの２価の脂肪族炭化水素基が有する置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜５のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜５のアルコキシ基；シアノ基；フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子が挙げられる。
【００３７】
式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、Ｙａは、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表す。ここで、Ｒ１１は、水素原子、または、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。中でも、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましく、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊が特に好ましい。ここで、＊は、ＦＸ１あるいは、ＦＸ２と結合する位置を表す。
【００３８】
式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、Ｆｘ１およびＦｘ２は、それぞれ独立して、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基を表す。
【００３９】
ここで、Ｆｘ１の有機基の炭素数、およびＦｘ２の有機基の炭素数のそれぞれは、２以上３０以下であることが好ましく、７以上であることが好ましく、８以上であることが更に好ましく、１０以上であることが特に好ましい。
上に述べた、Ｆｘ１およびＦｘ２の芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基自体の炭素数（有機基が有する芳香族炭化水素環および芳香族複素環を構成する炭素の数を含む炭素数）を意味する。
Ｆｘ１全体の炭素数（即ち、Ｆｘ１が有する置換基の炭素原子数をも含む、Ｆｘ１の炭素数）は、好ましくは４以上であり、一方好ましくは３８以下、より好ましくは２０以下である。Ｆｘ２全体の炭素数は、好ましくは３以上であり、一方好ましくは３８以下、より好ましくは２０以下である。
【００４０】
Ｆｘ１およびＦｘ２の有機基は、少なくとも一つの水素原子が芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する環含有基で置換された炭素数１〜１８のアルキル基、或いは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する炭素数２〜２０の環状基であることが好ましい。環含有基で置換された炭素数１〜１８のアルキル基は、前記環含有基以外の置換基を有していてもよく、また、炭素数２〜２０の環状基も、置換基を有していてもよい。環含有基で置換された炭素数１〜１８のアルキル基および炭素数２〜２０の環状基が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は互いに同一でも、相異なっていてもよい。また、Ｆｘ１およびＦｘ２が、複数の芳香族炭化水素環および／または複数の芳香族複素環を有する場合、それらは、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００４１】
ここで、上記環含有基および環状基の芳香族炭化水素環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、フルオレン環等の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環が挙げられる。
【００４２】
また、上記環含有基および環状基の芳香族複素環の具体例としては、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、アクリジン環、イソキノリン環、イミダゾール環、インドール環、オキサジアゾール環、オキサゾール環、オキサゾロピラジン環、オキサゾロピリジン環、オキサゾロピリダジル環、オキサゾロピリミジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、キノリン環、シンノリン環、チアジアゾール環、チアゾール環、チアゾロピラジン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、チオフェン環、トリアジン環、トリアゾール環、ナフチリジン環、ピラジン環、ピラゾール環、ピラノン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピロール環、フェナントリジン環、フタラジン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアジン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾピラゾール環、ペンゾピラノン環等の炭素数２〜３０の芳香複素環が挙げられる。
【００４３】
ここで、環含有基で置換された炭素数１〜１８のアルキル基および炭素数２〜２０の環状基の置換基の例としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ等が挙げられる。そして、Ｒａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。
Ｆｘ１およびＦｘ２は、上述した置換基から選ばれる複数の置換基を有していてもよい。Ｆｘ１およびＦｘ２が複数の置換基を有する場合、置換基は同一でも相異なっていてもよい。
【００４４】
環含有基で置換された炭素数１〜１８のアルキル基の炭素数１〜１８のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などが挙げられる。
【００４５】
環含有基が有する芳香族炭化水素環および／または芳香族複素環は、炭素数１〜１８のアルキル基の炭素原子に直接結合していてもよいし、−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１１などの連結基を介して炭素数１〜１８のアルキル基の炭素原子に結合していてもよい。ここで、Ｒ１１は、水素原子、または、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
即ち、上記環含有基は、置換されていてもよい芳香族炭化水素環基および／または置換されていてもよい芳香族複素環基であってもよいし、置換されていてもよい、連結基を有する芳香族炭化水素環よりなる基、および／または、置換されていてもよい、連結基を有する芳香族複素環よるなる基であってもよい。
【００４６】
ここで、上述した環含有基の具体例である芳香族炭化水素環基の例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、および、フルオレニル基等が挙げられる。
【００４７】
また、上述した環含有基の具体例である芳香族複素環基の例としては、フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ペンゾピラノンニル基等が挙げられる。
【００４８】
更に、環含有基の具体例である、連結基を有する芳香族炭化水素環よりなる基および／または連結基を有する芳香族複素環よりなる基の例としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アントラセニルチオ基、フェナントレニルチオ基、ピレニルチオ基、フルオレニルチオ基、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントラセニルオキシ基、フェナントレニルオキシ基、ピレニルオキシ基、フルオレニルオキシ基、ベンゾイソオキサゾリルチオ基、ベンゾイソチアゾリルチオ基、ベンゾオキサジアゾリルチオ基、ベンゾオキサゾリルチオ基、ベンゾチアジアゾリルチオ基、ベンゾチアゾリルチオ基、ベンゾチエニルチオ基、ベンゾイソオキサゾリルオキシ基、ベンゾイソチアゾリルオキシ基、ベンゾオキサジアゾリルオキシ基、ベンゾオキサゾリルオキシ基、ベンゾチアジアゾリルオキシ基、ベンゾチアゾリルオキシ基、ベンゾチエニルオキシ基等が挙げられる。
【００４９】
そして、環含有基の「芳香族炭化水素環基」が有し得る置換基、環含有基の「芳香族複素環基」が有し得る置換基、並びに、環含有基の「連結基を有する芳香族炭化水素環よりなる基」および「連結基を有する芳香族複素環よりなる基」が有し得る置換基は、上記Ｆｘ１およびＦｘ２の環含有基で置換された炭素数１〜１８のアルキル基および炭素数２〜２０の環状基が有し得る置換基と同じものが挙げられる。
【００５０】
「少なくとも一つの水素原子が芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する環含有基で置換された炭素数１〜１８のアルキル基」の好ましい具体例としては、下記式（１−１）〜（１−１０）で表される構造が挙げられる。但し、本発明は以下に示すものに限定されるものではない。下記式中、「＊」は環の任意の位置からのびる、Ｙａとの結合手を表す。下記式（１−１）〜（１−１０）で表される基は、上述した置換基を有していてもよい。
【００５１】
【化７】
2019069855.tif 000009
【００５２】
また、「芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方を有する炭素数２〜２０の環状基」の例としては、
１）少なくとも一つの炭素数６〜１８の芳香族炭化水素環を有する炭素数６〜２０の炭化水素環基、及び
２）炭素数６〜１８の芳香族炭化水素環および炭素数２〜１８の芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜２０の複素環基、
が挙げられる。これらの基は、上述した置換基を有していてもよい。
【００５３】
本発明において、「芳香環」とは、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、および、チオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示す環状構造を意味する。
【００５４】
上記１）の炭化水素環基の例としては、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素環基（フェニル基（炭素数６）、ナフチル基（炭素数１０）、アントラセニル基（炭素数１４）、フェナントレニル基（炭素数１４）、ピレニル基（炭素数１６）、フルオレニル基（炭素数１３）等）、インダニル基（炭素数９）、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル基（炭素数１０）、１，４−ジヒドロナフチル基（炭素数１０）などが挙げられる。
【００５５】
１）の炭化水素環基の具体例としては、下記式（２−１）〜（２−２１）で表される構造が挙げられる。下記式（２−１）〜（２−２１）で表される基は、上述した置換基を有していてもよい。
【００５６】
【化８】
2019069855.tif 000010
【００５７】
上記２）の複素環基の例としては、炭素数２〜１８の芳香族複素環基（フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジニル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ペンゾピラノンニル基等）、キサンテニル基、２，３−ジヒドロインドーリル基、９，１０−ジヒドロアクリジニル基、１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基、ジヒドロピラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジヒドロフラニル基、および、テトラヒドロフラニル基などが挙げられる。
【００５８】
２）の複素環基の具体例としては、下記式（３−１）〜（３−５１）で表される構造等が挙げられる。下記式（３−１）〜（３−５１）で表される基は、上述した置換基を有していてもよい。
【００５９】
【化９】
2019069855.tif 000011
【００６０】
〔各式中、Ｘは、−ＣＨ２−、−ＮＲｃ−、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−または−ＳＯ２−を表し、
ＹおよびＺは、それぞれ独立して、−ＮＲｃ−、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−または−ＳＯ２−を表し、
Ｅは、−ＮＲｃ−、酸素原子または硫黄原子を表す。
ここで、Ｒｃは、水素原子、または、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。（但し、各式中において酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ２−は、それぞれ隣接しないものとする。）〕
【００６１】
Ｆｘ１中の環構造に含まれるπ電子の総数は、８以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましい。
また、Ｆｘ２中の環構造に含まれるπ電子の総数は、４以上であることが好ましく、６以上であることがより好ましく、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましい。
【００６２】
そして、Ｆｘ１は、下記式（ｉ−１）〜（ｉ−９）のいずれかであることが好ましく、Ｆｘ２は、下記（ｉ−１）〜（ｉ−１１）のいずれかであることが好ましい。下記式（ｉ−１）〜（ｉ−１１）で表される基は、上述した置換基を有していてもよい。
【００６３】
【化１０】
2019069855.tif 000012
【００６４】
〔式中、Ｙは、上記と同じ意味を表す。〕
【００６５】
更に、式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、Ｑは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。ここで、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基の炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基等が挙げられ、置換基としては、フェニル基およびナフタレン基等の、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基が挙げられる。中でもＱとしては、水素原子、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が特に好ましい。
【００６６】
また、式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、ＲＩ〜ＲＩＶは、それぞれ独立して、水素原子；フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表す。また、Ｒａは、前記と同じ意味を表し、その好適例も前記と同じである。
ＲＩ〜ＲＩＶは、すべて同一であっても、相異なっていてもよく、環を構成する少なくとも１つのＣ−ＲＩ〜Ｃ−ＲＩＶは、窒素原子に置き換えられていてもよい。ここで、Ｃ−ＲＩ〜Ｃ−ＲＩＶのうちの少なくとも１つが窒素原子に置き換えられた基の具体例を下記に示す。但し、Ｃ−ＲＩ〜Ｃ−ＲＩＶのうちの少なくとも１つが窒素原子に置き換えられた基はこれらに限定されるものではない。
【００６７】
【化１１】
2019069855.tif 000013
【００６８】
更に、式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、Ｒ０は、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒａ；または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａを表す。ここで、Ｒａは、前記と同じ意味を表し、その好適例も前記と同じである。Ｒ０が複数の場合は、複数のＲ０は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００６９】
式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、ｐは０〜３の整数を表し、ｐ１は０〜４の整数を表し、ｐ２は０または１を表す。そして、ｐ、ｐ１およびｐ２は、いずれも０であることが好ましい。
【００７０】
また、式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、Ｙ１〜Ｙ8は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１３−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１３−、−ＣＦ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＦ２−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表す。ここで、Ｒ１３は、水素原子、または、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００７１】
更に、式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。そして、Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０の芳香族基であることが好ましい。
【００７２】
ここで、Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２の環状脂肪族基の具体例としては、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基、シクロオクタン−１，５−ジイル基等の炭素数５〜２０のシクロアルカンジイル基；デカヒドロナフタレン−１，５−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基等の炭素数５〜２０のビシクロアルカンジイル基等が挙げられる。中でも、シクロヘキサン−１，４−ジイル基が好ましい。環状脂肪族基は、トランス体であっても、シス体であっても、或いは、シス体とトランス体との混合物であってもよいが、トランス体であることが好ましい。
【００７３】
また、Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２の芳香族基の具体例としては、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、４，４’−ビフェニレン基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フラン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基等の炭素数２〜２０の芳香族複素環基；等が挙げられる。中でも、１，４−フェニレン基、２，６−ナフチレン基が好ましく、１，４−フェニレン基が特に好ましい。
【００７４】
ｎおよびｍが１の時の（Ａ１およびＡ２）並びに（Ｂ１およびＢ２）の組み合わせとしては、Ａ１およびＡ２が環状脂肪族基であって、Ｂ１およびＢ２が芳香族基である組み合わせが好ましく、Ａ１およびＡ２がシクロヘキサン−１，４−ジイル基であって、Ｂ１およびＢ２が１，４−フェニレン基である組み合わせがより好ましく、Ａ１およびＡ２がトランス（シクロヘキサン−１，４−ジイル）基であって、Ｂ１およびＢ２が１，４−フェニレン基である組み合わせが特に好ましい。
【００７５】
Ａ１およびＡ２並びにＢ１およびＢ２の環状脂肪族基および芳香族基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜５のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基等が挙げられる。前記環状脂肪族基および芳香族基は、上述した置換基から選ばれる少なくとも１つの置換基を有していてもよい。前記環状脂肪族基および芳香族基が置換基を複数有する場合は、各置換基は同一でも相異なっていてもよい。
【００７６】
また、式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜３０の２価の脂肪族炭化水素基、および、炭素数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基のいずれかの有機基を表す。但し、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除くものとする。ここで、Ｒ１４は、水素原子、または、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００７７】
Ｇ１およびＧ２が、それぞれ独立して、炭素数が３以上の場合、Ｇ１およびＧ２の両末端は−ＣＨ２−であること（Ｇ１およびＧ２の両末端が置換されていないこと）が好ましい。
【００７８】
また、「炭素数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基」において、−Ｏ−および−Ｓ−は、脂肪族炭化水素基中の連続した−ＣＨ２−を置換しない（すなわち、−Ｏ−Ｏ−および−Ｓ−Ｓ−の構造を形成しない）ことが好ましく（つまり、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除くことが好ましく）、−Ｃ（＝Ｏ）−は、脂肪族炭化水素基中の連続した−ＣＨ２−を置換しない（すなわち、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｏ）−の構造を形成しない）ことが好ましい。Ｒ１４は、前記と同じである。
【００７９】
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立して、（ｉ）「炭素数１〜１８の２価の脂肪族炭化水素基、および、炭素数３〜１８の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−（好ましくは、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−）に置換された基のいずれかの有機基であること」が好ましく、（ｉｉ）「置換基を有していてもよい炭素数１〜１８のアルキレン基であること」がより好ましい。Ｒ１４は、前記と同じである。
【００８０】
Ｇ１およびＧ２の前記有機基に含まれる水素原子は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜５のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１〜５のアルコキシ基；シアノ基；または、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子に置換されていてもよい。
【００８１】
また、Ｇ１およびＧ２の炭素数１〜１８のアルキレン基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜５のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１〜５のアルコキシ基；シアノ基；または、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子が挙げられる。
【００８２】
更に、式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、Ｐ１およびＰ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
ここで、Ｐ１およびＰ２の炭素数２〜１０のアルケニル基が有し得る置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、または、メチル基、エチル基などのアルキル基が挙げられる。これら置換基の中でも、塩素原子または、メチル基が好ましい。
また、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基の炭素数２〜１０のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基等が挙げられる。中でもビニル基が好ましい。
【００８３】
そして、式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中、ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０または１であり、１がより好ましい。
ｎおよびｍの両方が１である場合、前述した式（Ｉａ）および（Ｉｂ）中のＢ１およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基であることが好ましく、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の環状脂肪族基であることがより好ましい。
【００８４】
上述した重合性液晶化合物は、既知の合成反応を組み合わせて合成することができる。即ち、様々な文献（例えば、国際公開第２０１４／１０３２５号、国際公開第２０１２／１４７９０４号、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２００８−２７３９２５号公報、特開２００９−１７９５６３号公報）等に記載の方法を参照して合成できる。
【００８５】
また、固形分換算で、重合性液晶材料中に占める重合性液晶化合物の割合は、通常、７０質量％以上１００質量％未満であり、例えば８０質量％以上９９質量％以下とすることができる。
【００８６】
光学異方性層において、化合物１は、その配向状態が固定されていてもよい。例えば、化合物１は、重合によって、当該化合物１の配向状態が固定されていてもよい。通常、重合により、化合物１は、その化合物１の配向状態を維持したまま重合体となりうるので、前記の重合により、化合物１の配向状態が固定される。よって、用語「配向状態が固定された化合物１」には、化合物１の重合体が包含される。したがって、化合物１が液晶性を有する液晶化合物である場合、この液晶化合物は、光学異方性層において、液晶相を呈していてもよく、配向状態が固定化されることによって液晶相を呈していなくてもよい。
【００８７】
化合物１を用いることにより、配向膜を用いることなく製造可能な、厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すポジティブＣプレートとして用いられる光学異方性層を実現できる。
【００８８】
化合物１は、光重合性の逆波長分散液晶化合物であることが好ましい。以下、逆波長分散液晶化合物について説明する。
逆波長分散液晶化合物は、ホモジニアス配向した場合に、逆波長分散性の面内レターデーションを示す。ここで、液晶化合物をホモジニアス配向させる、とは、当該液晶化合物を含む層を形成し、その層における液晶化合物の分子のメソゲン骨格の長軸方向を、前記層の面に平行なある一の方向に配向させることをいう。液晶化合物が配向方向の異なる複数種類のメソゲン骨格を含む場合は、それらのうち最も長い種類のメソゲンが配向する方向が、前記の配向方向となる。液晶化合物がホモジニアス配向しているか否か、及びその配向方向は、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）に代表されるような位相差計を用いた遅相軸方向の測定と、遅相軸方向における入射角毎のレターデーション分布の測定とにより確認しうる。メソゲン骨格については、Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．２００１、７３巻（５号）、８８８頁およびＣ．Ｔｓｃｈｉｅｒｓｋｅ、Ｇ．Ｐｅｌｚｌ、Ｓ．Ｄｉｅｌｅ、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．２００４年、１１６巻、６３４０〜６３６８頁を参照しうる。
【００８９】
また、面内レターデーションＲｅが逆波長分散性を示す、とは、波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）及びＲｅ（５５０）が、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００を満たすことをいう。
【００９０】
よって、逆波長分散液晶化合物を含む液晶層を形成し、その液晶層における液晶化合物の分子のメソゲン骨格の長軸方向を、前記液晶層の面に平行なある一の方向に配向させた場合には、その液晶層の波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（Ｌ４５０）及びＲｅ（Ｌ５５０）は、通常、Ｒｅ（Ｌ４５０）／Ｒｅ（Ｌ５５０）＜１．００を満たす。
【００９１】
さらに、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍにおける前記の液晶層の面内レターデーションＲｅ（Ｌ４５０）、Ｒｅ（Ｌ５５０）及びＲｅ（Ｌ６５０）は、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｒｅ（Ｌ４５０）＜Ｒｅ（Ｌ５５０）≦Ｒｅ（Ｌ６５０）を満たすことがより好ましい。
【００９２】
式（Ｉａ）及び式（Ｉｂ）に示される通り、逆波長分散液晶化合物は、当該逆波長分散液晶化合物の分子中に、主鎖メソゲン骨格と、前記主鎖メソゲン骨格に結合した側鎖メソゲン骨格とを含みうる。主鎖メソゲン骨格及び側鎖メソゲン骨格を含む前記の逆波長分散液晶化合物は、当該逆波長分散液晶化合物が配向した状態において、側鎖メソゲン骨格が主鎖メソゲン骨格と異なる方向に配向しうる。このような場合、複屈折は主鎖メソゲン骨格に対応する屈折率と側鎖メソゲン骨格に対応する屈折率との差として発現するので、結果として、逆波長分散液晶化合物は、ホモジニアス配向した場合に、逆波長分散性の面内レターデーションを示すことができる。
【００９３】
式（Ｉａ）及び式（Ｉｂ）に示される通り、逆波長分散液晶化合物は、通常、一般的な順波長分散液晶化合物の立体形状とは異なる特異的な立体形状を有する。ここで、「順波長分散液晶化合物」とは、ホモジニアス配向した場合に、順波長分散性の面内レターデーションを示しうる液晶化合物をいう。また、順波長分散性の面内レターデーションとは、測定波長が大きいほど面内レターデーションが小さくなる面内レターデーションを表す。逆波長分散液晶化合物がこのように特異的な立体形状を有することが、本発明の効果が得られる一因になっているものと推察される。
【００９４】
化合物１のＣＮ点は、好ましくは２５℃以上、より好ましくは４５℃以上、特に好ましくは６０℃以上であり、好ましくは１２０℃以下、より好ましくは１１０℃以下、特に好ましくは１００℃以下である。ここで、「ＣＮ点」とは、結晶−ネマチック相転移温度のことをいう。前記の範囲にＣＮ点を有する化合物１を用いることにより、光学異方性層を容易に製造することが可能である。
【００９５】
化合物１の分子量は、単量体である場合は、好ましくは３００以上、より好ましくは７００以上、特に好ましくは１０００以上であり、好ましくは２０００以下、より好ましくは１８００以下、特に好ましくは１６００以下である。化合物１が前記のような分子量を有することにより、光学異方性層を形成するための塗工液の塗工性を特に良好にできる。
【００９６】
化合物１としては、１種類の化合物を単独で用いてもよく、２種類以上の化合物を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。具体的には、１種類の式（Ｉａ）で表される化合物又は式（Ｉｂ）で表される化合物を単独で用いてもよく、２種類以上の式（Ｉａ）で表される化合物を組み合わせて用いてもよく、２種類以上の式（Ｉｂ）で表される化合物を組み合わせて用いてもよく、１種類以上の式（Ｉａ）で表される化合物及び１種類以上の式（Ｉｂ）で表される化合物を組み合わせて用いてもよい。
【００９７】
光学異方性層の全固形分における化合物１の比率は、好ましくは４０重量％以上、より好ましくは４５重量％以上、更に好ましくは５０重量％以上であり、好ましくは７０重量％以下、より好ましくは６５重量％以下、更に好ましくは６０重量％以下である。メソゲン化合物の比率が、前記範囲の下限値以上であることにより、光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈの波長分散性を逆分散性に近づけ易くでき、また、前記範囲の上限値以下であることにより、光学異方性層において、メソゲン化合物を均一に分散させたり、光学異方性層の機械的強度を高くしたりできる。
【００９８】
〔１．３．任意の成分〕
光学異方性層は、ポジＣ重合体及び化合物１に組み合わせて、更に、任意の成分を含みうる。
【００９９】
〔１．４．光学異方性層の特性〕
光学異方性層は、その屈折率ｎｘ（Ａ）、ｎｙ（Ａ）及びｎｚ（Ａ）が、ｎｚ（Ａ）＞ｎｘ（Ａ）≧ｎｙ（Ａ）を満たす。ここで、ｎｘ（Ａ）は、光学異方性層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表し、ｎｙ（Ａ）は、光学異方性層の前記面内方向であって前記ｎｘ（Ａ）の方向に垂直な方向の屈折率を表し、ｎｚ（Ａ）は、光学異方性層の厚み方向の屈折率を表す。このような屈折率ｎｘ（Ａ）、ｎｙ（Ａ）及びｎｚ（Ａ）を有する光学異方性層は、ポジティブＣフィルムとして用いうる。そのため、この光学異方性層を円偏光板に組み込んで画像表示装置に適用した場合に、画像表示装置の表示面の傾斜方向において、外光の反射を抑制したり、画像を表示する光が偏光サングラスを透過できるようにしたりできる。さらに、画像表示装置が液晶表示装置である場合には、通常、視野角を広げることができる。そのため、画像表示装置の表示面を傾斜方向から見た場合に、画像の視認性を高めることができる。
【０１００】
中でも、光学異方性層の屈折率ｎｘ（Ａ）と屈折率ｎｙ（Ａ）とは、値が同じであるか近いことが好ましい。具体的には、屈折率ｎｘ（Ａ）と屈折率ｎｙ（Ａ）の差ｎｘ（Ａ）−ｎｙ（Ａ）は、好ましくは０．０００００〜０．００１００、より好ましくは０．０００００〜０．０００５０、特に好ましくは０．０００００〜０．０００２０である。屈折率差ｎｘ（Ａ）−ｎｙ（Ａ）が前記の範囲に収まることにより、光学異方性層を画像表示装置に設ける場合の光学設計をシンプルにすることができ、かつ他の位相差フィルムとの貼合時に貼り合せ方向の調整を不要にできる。
【０１０１】
波長４５０ｎｍにおける光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ４５０）、波長５５０ｎｍにおける光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ６５０）は、通常、下記式（１）及び（２）を満たす。
０．５０＜Ｒｔｈ（Ａ４５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）＜１．００  （１）
１．００≦Ｒｔｈ（Ａ６５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）＜１．２５  （２）
【０１０２】
前記式（１）を詳細に説明すると、Ｒｔｈ（Ａ４５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）は、通常０．５０より大きく、好ましくは０．６０より大きく、より好ましくは０．７０より大きく、また、通常１．００未満、好ましくは０．９５未満、より好ましくは０．９０未満である。
【０１０３】
さらに、前記式（２）を詳細に説明すると、Ｒｔｈ（Ａ６５０）／Ｒｔｈ（Ａ５５０）は、通常１．００以上、好ましくは１．０１以上であり、通常１．２５未満、好ましくは１．１０未満である。
【０１０４】
前記の式（１）及び式（２）を満たす厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ４５０）、Ｒｔｈ（Ａ５５０）及びＲｔｈ（Ａ６５０）を有する光学異方性層は、その厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示す。このように厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示す光学異方性層は、円偏光板に組み込んで画像表示装置に適用した場合に、画像表示装置の表示面の傾斜方向において、外光の反射を抑制したり、画像を表示する光に偏光サングラスを透過させたりする機能を、広い波長範囲において発揮できる。さらに、画像表示装置が液晶表示装置である場合には、通常、視野角を効果的に広げることができる。そのため、表示面に表示される画像の視認性を、特に効果的に向上させることができる。
【０１０５】
ポジＣ重合体及び化合物１を組み合わせて含む光学異方性層が、上述した光学特性を発揮できる仕組みは、本発明者の検討によれば、下記のとおりであると推察される。ただし、本発明の技術的範囲は、下記に説明する仕組みによって制限されるものでは無い。
【０１０６】
一般に、液晶化合物を含む液晶層の複屈折は、その液晶層における液晶化合物の分子の配向状態に依存する。そのため、厚み方向に大きい屈折率を有するフィルムであるポジティブＣフィルムを得ようとする場合、液晶化合物の分子を、液晶層の厚み方向に配向させることが多い。このように厚み方向に液晶化合物の分子を配向させたい場合には、従来、垂直配向剤が用いられてきた。
【０１０７】
垂直配向剤を用いて液晶層を形成する場合、通常は、液晶化合物及び垂直配向剤を含む塗工液を用意し、この塗工液を塗布及び乾燥して、液晶層を得る。ところが、逆波長分散液晶化合物の分子は、特異的な立体形状を有するので、垂直配向剤を用いた従来の方法で液晶層を形成しても、液晶化合物の分子のチルト角にムラが生じ、良好な液晶層を得ることが難しかった。具体的には、従来の製造方法で製造された液晶層では、同じチルト角の液晶化合物の集合として複数の液晶ドメインが形成されるが、液晶ドメイン間のチルト角が異なるため、液晶層全体として光の反射、屈折又は分散を生じ、液晶層の白濁を生じていた。ここで、チルト角とは、ある基準面に対して液晶化合物の分子の配向軸がなす角をいう。
【０１０８】
これに対して、本発明の光学異方性層が含むポジＣ重合体は、一般に、主鎖に対して交差したナフタレン環及びビフェニル基等の剛直な構造を有する側鎖を含む。そして、ポジＣ重合体を含む光学異方性層では、ポジＣ重合体の主鎖が光学異方性層の面内方向に平行に横たわり、その側鎖が光学異方性層の厚み方向に立つ。そのため、ポジＣ重合体と化合物１とを組み合わせると、ポジＣ重合体の側鎖によって化合物１の分子の向きが矯正されることにより、化合物１の分子は、分子の長軸方向が光学異方性層の厚み方向と平行になるように配向する。よって、光学異方性層の厚み方向に大きな屈折率が発現するので、本発明の光学異方性層は、ポジティブＣフィルムとして機能できる屈折率を示す。
【０１０９】
さらに、化合物１は、逆波長分散性の面内レターデーションを示しうるものである。そのため、分子が厚み方向に配向した化合物１を含む光学異方性の厚み方向のレターデーションは、逆波長分散性を示すことができる。
このような仕組みにより、本発明の光学異方性層は、上述した光学特性を発揮できると考えられる。
【０１１０】
波長５９０ｎｍにおける光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ５９０）は、下記式（３）を満たすことが好ましい。
Ｒｅ（Ａ５９０）≦１０ｎｍ  （３）
前記式（３）を詳細に説明すると、Ｒｅ（Ａ５９０）は、好ましくは０ｎｍ〜１０ｎｍ、より好ましくは０ｎｍ〜５ｎｍ、特に好ましくは０ｎｍ〜２ｎｍである。Ｒｅ（Ａ５９０）が前記の範囲に収まることにより、光学異方性層を画像表示装置に設ける場合の光学設計をシンプルにすることができ、かつ、他の位相差フィルムとの貼合時に貼り合せ方向の調整を不要にできる。
【０１１１】
波長５９０ｎｍにおける光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５９０）は、下記式（４）を満たすことが好ましい。
−２００ｎｍ≦Ｒｔｈ（Ａ５９０）≦−１０ｎｍ  （４）
前記式（４）を詳細に説明すると、Ｒｔｈ（Ａ５９０）は、好ましくは−２００ｎｍ以上、より好ましくは−１３０ｎｍ以上、特に好ましくは−１００ｎｍ以上であり、好ましくは−１０ｎｍ以下、より好ましくは−３０ｎｍ以下、特に好ましくは−５０ｎｍ以下である。このようなＲｔｈ（Ａ５９０）を有する光学異方性層は、円偏光板に組み込んで画像表示装置に適用した場合に、画像表示装置の表示面の傾斜方向において、外光の反射を抑制し、反射光の色味変化を小さくできたり、画像を表示する光が偏光サングラスを透過できるようにしたりできる。さらに、画像表示装置が液晶表示装置である場合には、通常は、視野角を広げることができる。そのため、画像表示装置の表示面を傾斜方向から見た場合に、画像の視認性を高めることができる。
【０１１２】
光学異方性層の全光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、特に好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で測定しうる。
【０１１３】
光学異方性層のヘイズは、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下であり、理想的には０％である。ここで、ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１９９７に準拠して、日本電色工業社製「濁度計  ＮＤＨ−３００Ａ」を用いて、５箇所測定し、それから求めた平均値を採用しうる。
【０１１４】
光学異方性層は、液晶性を示さないことが好ましい。光学異方性層が液晶性を示さないことにより、光学異方性層においてポジＣ重合体及び化合物１の分散を良好にできる。また、液晶性を有さない光学異方性層は、塗工液を用いて光学異方性層を製造する際に、乾燥風等の空気の揺らぎの影響による、化合物１の配向ムラの発生を抑制できる。
【０１１５】
光学異方性層の厚みは、所望のレターデーションが得られるように、適切に調整しうる。光学異方性層の具体的な厚みは、好ましくは１．０μｍ以上、より好ましくは３．０μｍ以上であり、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下、特に好ましくは３０μｍ以下である。
【０１１６】
〔１．５．光学異方性層の製造方法〕
光学異方性層は、ポジＣ重合体、化合物１及び溶媒を含む塗工液を用意する工程と；この塗工液を支持面上に塗工して、塗工液層を得る工程と；塗工液層を乾燥させる工程と；を含む製造方法によって、製造しうる。
【０１１７】
塗工液を用意する工程では、通常、ポジＣ重合体、化合物１及び溶媒を混合して、塗工液を得る。塗工液の全固形分におけるポジＣ重合体及び化合物１の比率は、光学異方性層の全固形分におけるポジＣ重合体及び化合物１の比率と同様の範囲に調整しうる。
【０１１８】
溶媒としては、通常、有機溶媒を用いる。かかる有機溶媒の例としては、シクロペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素溶媒；シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチルピロリドン等のケトン溶媒；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素溶媒；及びこれらの混合物が挙げられる。溶媒の沸点は、取り扱い性に優れる観点から、６０℃〜２５０℃であることが好ましく、６０℃〜１５０℃であることがより好ましい。また、溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１１９】
溶媒の量は、塗工液の固形分濃度を所望の範囲にできるように調整することが好ましい。塗工液の固形分濃度は、好ましくは６重量％以上、より好ましくは８重量％以上、特に好ましくは１０重量％以上であり、好ましくは２０重量％以下、より好ましくは１８重量％以下、特に好ましくは１５重量％以下である。塗工液の固形分濃度を前記の範囲に収めることにより、所望の光学特性を有する光学異方性層を容易に形成できる。
【０１２０】
光学異方性層を形成するための塗工液は、ポジＣ重合体、化合物１及び溶媒に組み合わせて、任意の成分を含んでいてもよい。また、任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１２１】
塗工液は、例えば、任意の成分として、可塑剤を含みうる。可塑剤としては、リン酸トリフェニル、グリセリルトリアセテート等が挙げられる。また、可塑剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１２２】
可塑剤の量は、ポジＣ重合体１００重量部に対して、好ましくは２重量部以上、より好ましくは５重量部以上、特に好ましくは８重量部以上であり、好ましくは１５重量部以下、より好ましくは１２重量部以下、特に好ましくは１０重量部以下である。可塑剤の量を前記の範囲に調整することにより、光学異方性層の脆化を抑制して、機械的強度を高めることができる。
【０１２３】
塗工液は、例えば、任意の成分として、重合開始剤を含みうる。重合開始剤の種類は、塗工液中の重合性化合物が有する重合性基の種類に応じて適宜選択しうる。ここで、重合性化合物とは、重合性を有する化合物の総称である。中でも、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤などが挙げられる。市販の光重合開始剤の具体的な例としては、ＢＡＳＦ社製の、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９ＥＧ、及び商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＯＸＥ０２；ＡＤＥＫＡ社製の、商品名：アデカオプトマーＮ１９１９等が挙げられる。また、重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１２４】
重合開始剤の量は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは０．５重量部以上であり、好ましくは３０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下である。
【０１２５】
塗工液は、任意の成分として、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等の任意の添加剤を含みうる。かかる任意の添加剤の割合は、ポジＣ重合体１００重量部に対し、好ましくは、各々０．１重量部〜２０重量部である。
【０１２６】
塗工液は、液晶性を示さないことが好ましい。液晶性を示さない塗工液を用いることにより、光学異方性層においてポジＣ重合体及び化合物１の分散を良好にできる。また、液晶性を有さない塗工液を用いることにより、乾燥風等の空気の揺らぎの影響による、化合物１の配向ムラの発生を抑制できる。
【０１２７】
前記のような塗工液を用意した後で、この塗工液を支持面上に塗工して、塗工液層を得る工程を行う。支持面としては、塗工液層を支持できる任意の面を用いうる。この支持面としては、光学異方性層の面状態を良好にする観点から、通常、凹部及び凸部の無い平坦面を用いる。前記の支持面としては、長尺の基材の表面を用いることが好ましい。長尺の基材を用いる場合、連続的に搬送される基材上に、塗工液を連続的に塗工することが可能である。よって、長尺の基材を用いることにより、光学異方性層を連続的に製造できるので、生産性を向上させることが可能である。
【０１２８】
塗工液を基材上に塗工する場合、基材に適度の張力（通常、１００Ｎ／ｍ〜５００Ｎ／ｍ）を掛けて、基材の搬送ばたつきを少なくし、平面性を維持したまま塗布することが好ましい。平面性とは、基材の幅方向および搬送方向に垂直な上下方向の振れ量であり、理想的には０ｍｍであるが、通常、１ｍｍ以下である。
【０１２９】
基材としては、通常、基材フィルムを用いる。基材フィルムとしては、光学的な積層体の基材として用いうるフィルムを、適切に選択して用いうる。中でも、基材フィルム及び光学異方性層を備える複層フィルムを光学フィルムとして利用可能にして、基材フィルムからの光学異方性層の剥離を不要にする観点から、基材フィルムとしては透明なフィルムが好ましい。具体的には、基材フィルムの全光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、特に好ましくは８８％以上である。
【０１３０】
基材フィルムの材料は、特に限定されず、種々の樹脂を用いうる。樹脂の例としては、各種の重合体を含む樹脂が挙げられる。当該重合体としては、脂環式構造含有重合体、セルロースエステル、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ＵＶ透過アクリル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、エポキシ重合体、ポリスチレン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらの中でも、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性の観点から、脂環式構造含有重合体及びセルロースエステルが好ましく、脂環式構造含有重合体がより好ましい。
【０１３１】
脂環式構造含有重合体は、繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体であり、通常は非晶質の重合体である。脂環式構造含有重合体としては、主鎖中に脂環式構造を含有する重合体及び側鎖に脂環式構造を含有する重合体のいずれも用いうる。
脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。
１つの脂環式構造の繰り返し単位を構成する炭素数に特に制限はないが、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上、特に好ましくは６個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２０個以下、特に好ましくは１５個以下である。
【０１３２】
脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択されうるが、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位を前記のように多くすることにより、基材フィルムの耐熱性を高くできる。
【０１３３】
脂環式構造含有重合体は、例えば、（１）ノルボルネン重合体、（２）単環の環状オレフィン重合体、（３）環状共役ジエン重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、透明性及び成形性の観点から、ノルボルネン重合体がより好ましい。
【０１３４】
ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネンモノマーの開環重合体、ノルボルネンモノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物；ノルボルネンモノマーの付加重合体、ノルボルネンモノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネンモノマーの開環重合体水素添加物が特に好ましい。
【０１３５】
上記の脂環式構造含有重合体は、例えば特開２００２−３２１３０２号公報等に開示されている公知の重合体から選ばれる。
【０１３６】
脂環式構造含有重合体のガラス転移温度は、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００℃〜２５０℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある脂環式構造含有重合体は、高温下での使用における変形及び応力を生じ難く、耐久性に優れる。
【０１３７】
脂環式構造含有重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１０，０００〜１００，０００、より好ましくは２５，０００〜８０，０００、さらにより好ましくは２５，０００〜５０，０００である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、基材フィルムの機械的強度及び成形加工性が高度にバランスされ好適である。前記の重量平均分子量は、溶媒としてシクロヘキサンを用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と略す。）により、ポリイソプレン換算の値で測定しうる。また、樹脂がシクロヘキサンに溶解しない場合には、前記の重量平均分子量は、溶媒としてトルエンを用いたＧＰＣにより、ポリスチレン換算の値で測定しうる。
【０１３８】
脂環式構造含有重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は、好ましくは１以上、より好ましくは１．２以上であり、好ましくは１０以下、より好ましくは４以下、特に好ましくは３．５以下である。
【０１３９】
基材フィルムの材質として脂環式構造含有重合体を含む樹脂を用いた場合の、基材フィルムの厚みは、生産性の向上、薄型化及び軽量化を容易にする観点から、好ましくは１μｍ〜１０００μｍ、より好ましくは５μｍ〜３００μｍ、特に好ましくは３０μｍ〜１００μｍである。
【０１４０】
脂環式構造含有重合体を含む樹脂は、脂環式構造含有重合体のみからなってもよいが、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の配合剤を含んでもよい。脂環式構造含有重合体を含む樹脂中の、脂環式構造含有重合体の割合は、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上である。
脂環式構造含有重合体を含む樹脂の好適な具体例としては、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０」、「ゼオノア１４２０Ｒ」を挙げうる。
【０１４１】
セルロースエステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステル（例：セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレートおよびセルロースアセテートプロピオネート）が代表的である。低級脂肪酸は、１分子あたりの炭素原子数６以下の脂肪酸を意味する。セルロースアセテートには、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）及びセルロースジアセテート（ＤＡＣ）が含まれる。
【０１４２】
セルロースアセテートの酢化度は、５０％〜７０％が好ましく、特に５５％〜６５％が好ましい。重量平均分子量は、７００００〜１２００００が好ましく、特に８００００〜１０００００が好ましい。また、上記セルロースアセテートは、酢酸だけでなく、一部プロピオン酸、酪酸等の脂肪酸でエステル化されていてもよい。また、基材フィルムを構成する樹脂は、セルロースアセテートと、セルロースアセテート以外のセルロースエステル（セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート等）とを組み合わせて含んでもよい。その場合、これらのセルロースエステルの全体が、上記酢化度を満足することが好ましい。
【０１４３】
基材フィルムとして、トリアセチルセルロースのフィルムを用いる場合、かかるフィルムとしては、トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶媒に溶解することで調製されたトリアセチルセルロースドープを用いて作製されたトリアセチルセルロースフィルムが、環境保全の観点から特に好ましい。トリアセチルセルロースのフィルムは、共流延法により作製しうる。共流延法は、トリアセチルセルロースの原料フレーク及び溶媒並びに必要に応じて任意の添加剤を含む溶液（ドープ）を調製し、当該ドープをドープ供給器（ダイ）から支持体の上に流延し、流延物をある程度乾燥して剛性が付与された時点でフィルムとして支持体から剥離し、当該フィルムをさらに乾燥して溶媒を除去することにより行いうる。原料フレークを溶解する溶媒の例としては、ハロゲン化炭化水素溶媒（ジクロロメタン等）、アルコール溶媒（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル溶媒（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル溶媒（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等が挙げられる。ドープが含む添加剤の例としては、レターデーション上昇剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化抑制剤、滑り剤、剥離促進剤等が挙げられる。ドープを流延する支持体の例としては、水平式のエンドレスの金属ベルト、及び回転するドラムが挙げられる。流延に際しては、単一のドープを単層流延することもできるが、複数の層を共流延することもできる。複数の層を共流延する場合、例えば、低濃度のセルロースエステルドープの層と、そのおもて面及び裏面に接して設けられた高濃度のセルロースエステルドープの層が形成されるよう、複数のドープを順次流延しうる。フィルムを乾燥して溶媒を除去する方法の例としては、フィルムを搬送して、内部を乾燥に適した条件に設定した乾燥部を通過させる方法が挙げられる。
【０１４４】
トリアセチルセルロースのフィルムの好ましい例としては、富士写真フィルム社製「ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ」、及び、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号にて公開されたものが挙げられる。トリアセチルセルロースのフィルムの厚みは特に限定されないが、２０μｍ〜１５０μｍが好ましく、４０μｍ〜１３０μｍがより好ましく、７０μｍ〜１２０μｍが更に好ましい。
【０１４５】
塗工液の塗工方法の例としては、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、ギャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。塗工される塗工液の厚みは、光学異方性層に求められる所望の厚さに応じて適切に設定しうる。
【０１４６】
塗工液を支持面上に塗工して塗工液層を得た後で、塗工液層を乾燥させる工程を行う。乾燥により、塗工液層から溶媒が除去されて、光学異方性層が得られる。乾燥方法としては、加熱乾燥、減圧乾燥、加熱減圧乾燥、自然乾燥など、任意の乾燥方法を採用しうる。
【０１４７】
上述した光学異方性層の製造方法は、ポジＣ重合体及び化合物１を組み合わせて含む塗工液を塗工し、乾燥するというシンプルな操作によって、光学異方性層を製造できる。そのため、特許文献１に記載のような配向膜が不要である。したがって、逆波長分散液晶と配向膜との相性の調整、配向膜の形成、といった操作が必要ないので、光学異方性層を容易に製造できる。
【０１４８】
さらに、ポジＣ重合体及び化合物１を組み合わせて含む塗工液は、乾燥の際、空気の揺らぎの影響による、化合物１の配向ムラの発生を抑制できる。そのため、面内方向の広い範囲において配向状態が均一な光学異方性層を容易に得ることができるので、面状態に優れる光学異方性層を得やすい。よって、光学異方性層の配向ムラによる白濁を抑制することが可能である。
【０１４９】
光学異方性層の製造方法は、上述した工程に加えて、更に任意の工程を含みうる。例えば、光学異方性層の製造方法は、乾燥後に得られた光学異方性層において、化合物１の配向状態を固定する工程を行ってもよい。この工程では、通常、化合物１を重合させることにより、化合物１の配向状態を固定する。
【０１５０】
化合物１の重合は、重合性化合物及び重合開始剤等の、塗工液が含む成分の性質に適合した方法を適切に選択しうる。例えば、光を照射する方法が好ましい。ここで、照射される光には、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光が含まれうる。なかでも、操作が簡便なことから、紫外線を照射する方法が好ましい。紫外線照射強度は、好ましくは０．１ｍＷ／ｃｍ２〜１０００ｍＷ／ｃｍ２の範囲、より好ましくは０．５ｍＷ／ｃｍ２〜６００ｍＷ／ｃｍ２の範囲である。紫外線照射時間は、好ましくは１秒〜３００秒の範囲、より好ましくは５秒〜１００秒の範囲である。紫外線積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）は、紫外線照射強度（ｍＷ／ｃｍ２）×照射時間（秒）で求められる。紫外線照射光源としては、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、低圧水銀灯を用いることができる。化合物１の重合は、窒素雰囲気下等の不活性ガス雰囲気下で行ったほうが、残留モノマー割合が低減される傾向にあるので、好ましい。
【０１５１】
また、光学異方性層の製造方法は、例えば、光学異方性層を基材から剥離する工程を含んでいてもよい。
【０１５２】
［２．光学異方性転写体］
本発明の光学異方性転写体は、基材と、上述した光学異方性層とを備える。ここで、光学異方性転写体とは、複数の層を含む部材であって、かかる複数の層のうち一部の層を転写して、かかる一部の層を含む製品の製造に供するものである。本発明の光学異方性転写体においては、光学異方性層が、前記の製品の製造に供される。
【０１５３】
基材としては、光学異方性層の製造方法において説明した基材と同様のものを用いうる。中でも、基材としては、剥離可能なものが好ましい。このような基材を備える光学異方性転写体は、基材を用いた前記の光学異方性層の製造方法を行うことにより、製造しうる。
【０１５４】
光学異方性転写体は、光学フィルムの製造に用いうる。例えば、光学異方性転写体の光学異方性層と樹脂フィルムとを貼り合わせた後、基材を剥離することにより、光学異方性層及び樹脂フィルムを備えた光学フィルムを製造できる。
【０１５５】
［３．光学異方性積層体］
本発明の光学異方性積層体は、上述した光学異方性層と、位相差層とを備える。
【０１５６】
〔３．１．光学異方性積層体における光学異方性層〕
光学異方性積層体の光学異方性層としては、上述したものを用いる。ただし、光学異方性積層体においては、波長５９０ｎｍにおける光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ５９０）、及び、波長５９０ｎｍにおける光学異方性層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ａ５９０）が、下記式（８）及び（９）を満たすことが好ましい。
Ｒｅ（Ａ５９０）≦１０ｎｍ  （８）
−１１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（Ａ５９０）≦−２０ｎｍ  （９）
【０１５７】
前記式（８）を詳細に説明すると、Ｒｅ（Ａ５９０）は、好ましくは０ｎｍ〜１０ｎｍ、より好ましくは０ｎｍ〜５ｎｍ、特に好ましくは０ｎｍ〜２ｎｍである。Ｒｅ（Ａ５９０）が前記の範囲に収まることにより、光学異方性積層体を画像表示装置に設ける場合の光学設計をシンプルにすることができる。
【０１５８】
また、前記式（９）を詳細に説明すると、Ｒｔｈ（Ａ５９０）は、好ましくは−１１０ｎｍ以上、より好ましくは−１００ｎｍ以上であり、好ましくは−２０ｎｍ以下、より好ましくは−４０ｎｍ以下、特に好ましくは−５０ｎｍ以下である。このようなＲｔｈ（Ａ５９０）を有する光学異方性層を備えた光学異方性積層体は、円偏光板に組み込んで画像表示装置に適用した場合に、画像表示装置の表示面の傾斜方向において、外光の反射を抑制したり、画像を表示する光が偏光サングラスを透過させたりする機能を、効果的に発揮できる。そのため、画像表示装置の表示面を傾斜方向から見た場合に、画像の視認性を効果的に高めることができる。
【０１５９】
〔３．２．光学異方性積層体における位相差層〕
（３．２．１．位相差層の光学特性）
位相差層は、その屈折率ｎｘ（Ｂ）、ｎｙ（Ｂ）及びｎｚ（Ｂ）が、ｎｘ（Ｂ）＞ｎｙ（Ｂ）≧ｎｚ（Ｂ）を満たす層である。ここで、ｎｘ（Ｂ）は、位相差層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表し、ｎｙ（Ｂ）は、位相差層の面内方向であって前記ｎｘ（Ｂ）の方向に垂直な方向の屈折率を表し、ｎｚ（Ｂ）は、位相差層の厚み方向の屈折率を表す。このような位相差層を備える光学異方性積層体は、直線偏光子と組み合わせることによって円偏光板を製造できる。この円偏光板は、画像表示装置の表示面に設けることにより、表示面を正面方向から見た場合に、外光の反射を抑制したり、画像を表示する光が偏光サングラスを透過できるようにしたりできるので、画像の視認性を高めることが可能である。
【０１６０】
中でも、位相差層の屈折率ｎｙ（Ｂ）と屈折率ｎｚ（Ｂ）とは、値が同じであるか近いことが好ましい。具体的には、屈折率ｎｙ（Ｂ）と屈折率ｎｚ（Ｂ）の差の絶対値｜ｎｙ（Ｂ）−ｎｚ（Ｂ）｜は、好ましくは０．０００００〜０．００１００、より好ましくは０．０００００〜０．０００５０、特に好ましくは０．０００００〜０．０００２０である。屈折率差の絶対値｜ｎｙ（Ｂ）−ｎｚ（Ｂ）｜が前記の範囲に収まることにより、光学異方性積層体を画像表示装置に設ける場合の光学設計をシンプルにすることができる。
【０１６１】
波長５９０ｎｍにおける位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５９０）は、下記式（７）を満たすことが好ましい。
１１０ｎｍ≦Ｒｅ（Ｂ５９０）≦１７０ｎｍ  （７）
【０１６２】
前記式（７）を詳細に説明すると、Ｒｅ（Ｂ５９０）は、好ましくは１１０ｎｍ以上、より好ましくは１２０ｎｍ以上、特に好ましくは１３０ｎｍ以上であり、好ましくは１７０ｎｍ以下、より好ましくは１６０ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下である。このようなＲｅ（Ｂ５９０）を有する位相差層を備えた光学異方性積層体は、直線偏光子と組み合わせて円偏光板を得ることができる。この円偏光板を画像表示装置の表示面に設けることにより、表示面を正面方向から見た場合に、外光の反射を抑制したり、画像を表示する光が偏光サングラスを透過できるようにしたりできるので、画像の視認性を高めることが可能である。
【０１６３】
波長４５０ｎｍにおける位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ４５０）、波長５５０ｎｍにおける位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ６５０）は、下記の式（５）及び（６）を満たすことが好ましい。
０．７５＜Ｒｅ（Ｂ４５０）／Ｒｅ（Ｂ５５０）＜１．００  （５）
１．０１＜Ｒｅ（Ｂ６５０）／Ｒｅ（Ｂ５５０）＜１．２５  （６）
【０１６４】
前記式（５）を詳細に説明すると、Ｒｅ（Ｂ４５０）／Ｒｅ（Ｂ５５０）は、好ましくは０．７５より大きく、より好ましくは０．７８より大きく、特に好ましくは０．８０より大きく、また、好ましくは１．００未満、より好ましくは０．９５未満、特に好ましくは０．９０未満である。
【０１６５】
前記式（６）を詳細に説明すると、Ｒｅ（Ｂ６５０）／Ｒｅ（Ｂ５５０）は、好ましくは１．０１より大きく、好ましくは１．０２より大きく、特に好ましくは１．０４より大きく、また、好ましくは１．２５未満、より好ましくは１．２２未満、特に好ましくは１．１９未満である。
【０１６６】
前記の式（５）及び式（６）を満たす面内レターデーションＲｅ（Ｂ４５０）、Ｒｅ（Ｂ５５０）及びＲｅ（Ｂ６５０）を有する位相差層は、その面内レターデーションＲｅが逆波長分散性を示す。このように面内レターデーションＲｅが逆波長分散性を示す位相差層を備える光学異方性積層体は、円偏光板に組み込んで画像表示装置に適用した場合に、画像表示装置の表示面の正面方向において、外光の反射を抑制したり、画像を表示する光に偏光サングラスを透過させたりする機能を、広い波長範囲において発揮できる。そのため、表示面に表示される画像の視認性を、特に効果的に向上させることができる。
【０１６７】
位相差層の面内の遅相軸方向は、任意であり、光学異方性積層体の用途に応じて任意に設定しうる。中でも、光学異方性積層体が長尺のフィルムである場合、位相差層の遅相軸とフィルム幅方向とがなす角度は、０°超９０°未満であることが好ましい。また、ある態様において、位相差層の面内の遅相軸とフィルム幅方向とがなす角度は、好ましくは１５°±５°、２２．５°±５°、４５°±５°、又は７５°±５°、より好ましくは１５°±４°、２２．５°±４°、４５°±４°、又は７５°±４°、さらにより好ましくは１５°±３°、２２．５°±３°、４５°±３°、又は７５°±３°といった特定の範囲としうる。このような角度関係を有することにより、長尺の直線偏光子に光学異方性積層体をロールツーロールで貼り合わせて、円偏光板の効率的な製造が可能となる。
【０１６８】
位相差層の全光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、特に好ましくは９０％以上である。また、位相差層のヘイズは、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下であり、理想的には０％である。
【０１６９】
（３．２．２．位相差層としての延伸フィルム層）
前記のような位相差層としては、延伸フィルム層を用いうる。位相差層として延伸フィルム層を用いる場合、当該延伸フィルム層は、光学異方性層の製造方法において説明した基材フィルムの材料である樹脂を含みうる。このような樹脂を含むフィルム層は、延伸処理を施すことにより、レターデーション等の光学特性を発現しうる。中でも、前記の延伸フィルム層は、脂環式構造含有重合体を含むことが好ましい。
【０１７０】
延伸フィルム層の延伸方向は、任意である。よって、延伸方向は、長手方向でもよく、幅方向でもよく、斜め方向でもよい。さらに、これらの延伸方向のうち、２以上の方向に延伸が施されていてもよい。ここで、斜め方向とは、フィルムの面内方向であって、長手方向及び幅方向のいずれとも非平行な方向をいう。
【０１７１】
中でも、延伸フィルム層は、斜め延伸フィルム層であることが好ましい。すなわち、延伸フィルム層は、長尺のフィルムであり、且つフィルムの長手方向及び幅方向のいずれとも非平行な方向に延伸されたフィルムであることが好ましい。斜め延伸フィルム層である場合の、フィルム幅方向と延伸方向とがなす角度は、具体的には０°超９０°未満としうる。このような斜め延伸フィルム層を位相差層として用いることにより、長尺の直線偏光子に光学異方性積層体をロールツーロールで貼り合わせて、円偏光板の効率的な製造が可能となる。
【０１７２】
延伸方向とフィルム幅方向とがなす角度は、好ましくは１５°±５°、２２．５±５°、４５°±５°、又は７５°±５°、より好ましくは１５°±４°、２２．５°±４°、４５°±４°、又は７５°±４°、さらにより好ましくは１５°±３°、２２．５°±３°、４５°±３°、又は７５°±３°といった特定の範囲としうる。このような角度関係を有することにより、光学異方性積層体を、円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。
【０１７３】
さらに、前記の延伸フィルム層は、複数の層を含む複層構造を有することが好ましい。複層構造を有する延伸フィルム層は、延伸フィルム層に含まれる各層の機能の組み合わせによって、多様な特性を発揮できる。例えば、延伸フィルム層は、重合体を含む樹脂からなる第一外側層、重合体及び紫外線吸収剤を含む樹脂からなる中間層、及び、重合体を含む樹脂からなる第二外側層を、この順に備えることが好ましい。この際、各層に含まれる重合体は、異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。このような第一外側層、中間層及び第二外側層を備える延伸フィルム層は、紫外線の透過を抑制できる。また、中間層の両側に第一外側層及び第二外側層が設けられているので、紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できる。
【０１７４】
中間層に含まれる樹脂における紫外線吸収剤の量は、好ましくは３重量％以上、より好ましくは４重量％以上、特に好ましくは５重量％以上であり、好ましくは２０重量％以下、より好ましくは１８重量％以下、特に好ましくは１６重量％以下である。紫外線吸収剤の量が、前記範囲の下限値以上であることにより、紫外線の透過を妨げる延伸フィルム層の能力を特に高めることができ、前記範囲の上限値以下であることにより、延伸フィルム層の可視光に対する透明性を高めることができる。
【０１７５】
中間層の厚みは、「中間層の厚み」／「延伸フィルム層全体の厚み」で表される比が、所定の範囲に収まるように設定することが好ましい。前記の所定の範囲は、好ましくは１／５以上、より好ましくは１／４以上、特に好ましくは１／３以上であり、好ましくは８０／８２以下、より好ましくは７９／８２以下、特に好ましくは７８／８２以下である。前記の比が、前記範囲の下限値以上であることにより、紫外線の透過を妨げる延伸フィルム層の能力を特に高めることができ、前記範囲の上限値以下であることにより、延伸フィルム層の厚みを薄くできる。
【０１７６】
位相差層としての延伸フィルム層の厚みは、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１３μｍ以上、特に好ましくは１５μｍ以上であり、好ましくは６０μｍ以下、より好ましくは５８μｍ以下、特に好ましくは５５μｍ以下である。延伸フィルム層の厚みが、前記範囲の下限値以上であることにより所望のレターデーションの発現ができ、また、前記範囲の上限値以下であることにより薄膜化ができる。
【０１７７】
延伸フィルム層は、例えば、延伸前フィルム層を用意する工程と、用意した延伸前フィルム層を延伸する工程と、を含む方法により、製造しうる。
【０１７８】
延伸前フィルム層は、例えば、適切な成形方法によって延伸フィルム層の材料となる樹脂を成形することにより、製造しうる。成形方法としては、例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。中でも、溶媒を使用しない溶融押出法が、残留揮発成分量を効率よく低減させることができ、地球環境及び作業環境の観点、並びに製造効率に優れる観点から好ましい。溶融押出法としては、ダイスを用いるインフレーション法などが挙げられ、中でも生産性や厚み精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。
【０１７９】
複層構造を有する延伸フィルム層を製造する場合、通常は、延伸前フィルム層として、複層構造を有するものを用意する。このように複層構造を有する延伸前フィルム層は、例えば、共押出法及び共流延法などの成形方法によって、複層構造に含まれる各層に対応する樹脂を成形することで製造しうる。これらの成形方法の中でも、共押出法は、製造効率に優れ、フィルム中に揮発性成分を残留させ難いので、好ましい。共押出法としては、例えば、共押出Ｔダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法等が挙げられる。中でも、共押出Ｔダイ法が好ましい。共押出Ｔダイ法には、フィードブロック方式及びマルチマニホールド方式があり、厚みのばらつきを少なくできる点で、マルチマニホールド方式が特に好ましい。
【０１８０】
前記のように樹脂を成形することにより、長尺の延伸前フィルムが得られる。この延伸前フィルムを延伸することにより、延伸フィルム層が得られる。延伸は、通常、延伸前フィルムを長手方向に搬送しながら、連続的に行う。この際、延伸方向は、フィルムの長手方向でもよく、幅方向でもよいが、斜め方向であることが好ましい。また、延伸は、延伸方向以外に拘束力の加わらない自由一軸延伸であってもよく、延伸方向以外にも拘束力が加わる延伸であってもよい。これらの延伸は、ロール延伸機、テンター延伸機等の任意の延伸機を用いて行いうる。
【０１８１】
延伸倍率は、好ましくは１．１倍以上、より好ましくは１．１５倍以上、特に好ましくは１．２倍以上であり、好ましくは３．０倍以下、より好ましくは２．８倍以下、特に好ましくは２．６倍以下である。延伸倍率を前記範囲の下限値以上にすることにより、延伸方向の屈折率を大きくできる。また、上限値以下にすることにより、延伸フィルム層の遅相軸方向を容易に制御することができる。
【０１８２】
延伸温度は、好ましくはＴｇ−５℃以上、より好ましくはＴｇ−２℃以上、特に好ましくはＴｇ℃以上であり、好ましくはＴｇ＋４０℃以下、より好ましくはＴｇ＋３５℃以下、特に好ましくはＴｇ＋３０℃以下である。ここで「Ｔｇ」は、延伸前フィルム層に含まれる重合体のガラス転移温度のうち、最も高い温度を表す。延伸温度を前記の範囲にすることにより、延伸前フィルム層に含まれる分子を確実に配向させることができるので、所望の光学特性を有する位相差層として機能できる延伸フィルム層を、容易に得ることができる。
【０１８３】
（３．２．３．位相差層としての液晶層）
前記のような位相差層としては、配向状態が固定されていてもよい液晶化合物（以下、適宜「位相差層用液晶化合物」ということがある。）を含む液晶層を用いうる。この際、位相差層用液晶化合物としては、ホモジニアス配向した前記の逆波長分散液晶化合物を用いることが好ましい。これにより、光学異方性層の項において説明したのと同様の利点を、位相差層においても得ることができる。中でも、位相差層としての液晶層は、配向状態が固定されていてもよい式（ＩＩａ）で表される化合物、式（ＩＩｂ）で表される化合物、又はこれらの混合物を含むことが、特に好ましい。
【０１８４】
【化１２】
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【０１８５】
前記式（ＩＩａ）及び式（ＩＩｂ）において、Ｇａ、Ｙａ、Ｆｘ１、Ｆｘ２、Ｑ、ＲＩ〜ＲＩＶ、ｐ、ｐ１、ｐ２、Ｙ１〜Ｙ8、Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｇ１、Ｇ２、Ｐ１、Ｐ２、ｎおよびｍは、式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）における意味と同様の意味を表す。よって、式（ＩＩａ）で表される化合物及び式（ＩＩｂ）で表される化合物は、式（Ｉａ）で表される化合物及び式（Ｉｂ）で表される化合物と同様の化合物を表す。
【０１８６】
位相差層としての液晶層の厚みは、特に限定されず、レターデーションなどの特性を所望の範囲とできるように適切に調整しうる。液晶層の具体的な厚みは、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１．０μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは７μｍ以下、特に好ましくは５μｍ以下である。
【０１８７】
位相差層としての液晶層は、例えば、位相差層用液晶化合物を含む液晶組成物を用意する工程；支持体上に液晶組成物を塗工して、液晶組成物の層を得る工程；及び、液晶組成物の層に含まれる位相差層用液晶化合物を配向させる工程；を含む方法によって、製造しうる。
【０１８８】
液晶組成物を用意する工程では、通常、位相差層用液晶化合物と、必要に応じて用いられる任意の成分とを混合して、液晶組成物を得る。
【０１８９】
液晶組成物は、任意の成分として、重合性モノマーを含みうる。「重合性モノマー」とは、重合能を有しモノマーとして働きうる化合物のうち、特に、上述した位相差層用液晶化合物以外の化合物をいう。重合性モノマーとしては、例えば、１分子当たり１以上の重合性基を有するものを用いうる。重合性モノマーが１分子当たり２以上の重合性基を有する架橋性モノマーである場合、架橋的な重合を達成することができる。かかる重合性基の例としては、化合物１中の基Ｐ１−Ｙ７−及びＰ２−Ｙ８−と同様の基を挙げることができ、より具体的には例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びエポキシ基を挙げることができる。また、重合性モノマーは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
液晶組成物において、重合性モノマーの割合は、位相差層用液晶化合物１００重量部に対し、好ましくは１重量部〜１００重量部、より好ましくは５重量部〜５０重量部である。
【０１９０】
液晶組成物は、任意の成分として、光重合開始剤を含みうる。重合開始剤としては、例えば、光学異方性層の製造のための塗工液が含みうる重合開始剤と同様のものが挙げられる。また、重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
液晶組成物において、重合開始剤の割合は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは０．１重量部〜３０重量部、より好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。
【０１９１】
液晶組成物は、任意の成分として、界面活性剤を含みうる。界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましい。ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いうる。例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤を用いうる。これらの界面活性剤の具体例としては、ＯＭＮＯＶＡ社ＰｏｌｙＦｏｘの「ＰＦ−１５１Ｎ」、「ＰＦ−６３６」、「ＰＦ−６３２０」、「ＰＦ−６５６」、「ＰＦ−６５２０」、「ＰＦ−３３２０」、「ＰＦ−６５１」、「ＰＦ−６５２」；ネオス社フタージェントの「ＦＴＸ−２０９Ｆ」、「ＦＴＸ−２０８Ｇ」、「ＦＴＸ−２０４Ｄ」、「６０１ＡＤ」；セイミケミカル社サーフロンの「ＫＨ−４０」、「Ｓ−４２０」等を用いることができる。また、界面活性剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
液晶組成物において、界面活性剤の割合は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは０．０１重量部〜１０重量部、より好ましくは０．１重量部〜２重量部である。
【０１９２】
液晶組成物は、任意の成分として、溶媒を含みうる。溶媒としては、例えば、光学異方性層の製造のための塗工液が含みうる溶媒と同様のものが挙げられる。また、溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
液晶組成物において、溶媒の割合は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは１００重量部〜１０００重量部である。
【０１９３】
液晶組成物は、さらに、任意の成分として、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等の添加剤を含みうる。かかる添加剤の割合は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは、各々０．１重量部〜２０重量部である。
【０１９４】
前記のような液晶組成物を用意した後で、この液晶組成物を、支持体上に塗工して、液晶組成物の層を得る工程を行う。支持体としては、長尺の支持体を用いることが好ましい。長尺の支持体を用いる場合、連続的に搬送される支持体上に、液晶組成物を連続的に塗工することが可能である。よって、長尺の支持体を用いることにより、位相差層としての液晶層を連続的に製造できるので、生産性を向上させることが可能である。
【０１９５】
液晶組成物を支持体上に塗工する場合、支持体に適度の張力（通常、１００Ｎ／ｍ〜５００Ｎ／ｍ）を掛けて、支持体の搬送ばたつきを少なくし、平面性を維持したまま塗布することが好ましい。平面性とは、支持体の幅方向および搬送方向に垂直な上下方向の振れ量であり、理想的には０ｍｍであるが、通常、１ｍｍ以下である。
【０１９６】
支持体としては、通常、支持体フィルムを用いる。支持体フィルムとしては、光学的な積層体の支持体として用いうるフィルムを、適切に選択して用いうる。中でも、支持体フィルム、位相差層及び光学異方性層を備える光学異方性積層体を光学フィルムとして利用可能にして、支持体フィルムの剥離を不要にする観点から、支持体フィルムとしては透明なフィルムが好ましい。具体的には、支持体フィルムの全光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、特に好ましくは８８％以上である。
【０１９７】
支持体フィルムの材料は、特に限定されず、種々の樹脂を用いうる。樹脂の例としては、光学異方性層の形成に用いうる基材の材料として説明した重合体を含む樹脂が挙げられる。これらの中でも、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性の観点から、樹脂が含む重合体としては、脂環式構造含有重合体及びセルロースエステルが好ましく、脂環式構造含有重合体がより好ましい。
【０１９８】
支持体としては、配向規制力を有するものを用いうる。支持体の配向規制力とは、支持体の上に塗工された液晶組成物中の位相差層用液晶化合物を配向させうる、支持体の性質をいう。
【０１９９】
配向規制力は、支持体の材料となるフィルム等の部材に、配向規制力を付与する処理を施すことにより付与しうる。かかる処理の例としては、延伸処理及びラビング処理が挙げられる。
【０２００】
好ましい態様において、支持体は延伸フィルムである。かかる延伸フィルムとすることにより、延伸方向に応じた配向規制力を有する支持体としうる。
【０２０１】
延伸フィルムの延伸方向は、任意である。よって、延伸方向は、長手方向でもよく、幅方向でもよく、斜め方向でもよい。さらに、これらの延伸方向のうち、２以上の方向に延伸が施されていてもよい。延伸倍率は、支持体の表面に配向規制力が生じる範囲で適宜設定しうる。支持体の材料が正の固有複屈折値を有する樹脂である場合、延伸方向に分子が配向して延伸方向に遅相軸が発現する。延伸は、テンター延伸機などの既知の延伸機を用いて行いうる。
【０２０２】
更に好ましい態様において、支持体は斜め延伸フィルムである。支持体が斜め延伸フィルムである場合の、延伸方向と延伸フィルムの幅方向とがなす角度は、具体的には０°超９０°未満としうる。このような斜め延伸フィルムを支持体として用いることにより、光学異方性積層体を、円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。
【０２０３】
また、ある態様において、延伸方向と延伸フィルムの幅方向とがなす角度を、好ましくは１５°±５°、２２．５±５°、４５°±５°、又は７５°±５°、より好ましくは１５°±４°、２２．５°±４°、４５°±４°、又は７５°±４°、さらにより好ましくは１５°±３°、２２．５°±３°、４５°±３°、又は７５°±３°といった特定の範囲としうる。このような角度関係を有することにより、光学異方性積層体を、円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。
【０２０４】
液晶組成物の塗工方法の例としては、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、ギャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。塗工される液晶組成物の層の厚みは、位相差層としての液晶層に求められる所望の厚さに応じて適切に設定しうる。
【０２０５】
支持体上に液晶組成物を塗工して液晶組成物の層を得た後で、液晶組成物の層に含まれる位相差層用液晶化合物を配向させる工程を行う。これにより、液晶組成物の層に含まれる位相差層用液晶化合物は、支持体の配向規制力に応じた配向方向に配向する。例えば、支持体として延伸フィルムを用いた場合、延伸フィルムの延伸方向と平行に、液晶組成物の層に含まれる位相差層用液晶化合物が配向する。
【０２０６】
位相差層用液晶化合物の配向は、塗工により直ちに達成される場合もありえるが、必要に応じて、塗工の後に、加温などの配向処理を施すことにより達成される場合もありえる。配向処理の条件は、使用する液晶組成物の性質に応じて適宜設定しうるが、例えば、５０℃〜１６０℃の温度条件において３０秒間〜５分間処理する条件としうる。
【０２０７】
上述したように液晶組成物の層において位相差層用液晶化合物を配向させることで、液晶組成物の層において所望の光学特性が発現するので、位相差層として機能しうる液晶層が得られる。
【０２０８】
上述した位相差層としての液晶層の製造方法は、更に、任意の工程を含みうる。液晶層の製造方法は、例えば、液晶組成物の層又は液晶層を乾燥させる工程を行なってもよい。かかる乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法で達成しうる。
【０２０９】
また、位相差層としての液晶層の製造方法は、例えば、液晶組成物に含まれる位相差層用液晶化合物を配向させた後で、位相差層用液晶化合物の配向状態を固定する工程を行ってもよい。この工程では、通常、位相差層用液晶化合物を重合させることにより、位相差層用液晶化合物の配向状態を固定する。また、位相差層用液晶化合物を重合させることにより、液晶層の剛性を高めて、機械的強度を向上させることができる。
【０２１０】
位相差層用液晶化合物の重合は、液晶組成物の成分の性質に適合した方法を適切に選択しうる。例えば、光を照射する方法が好ましい。なかでも、操作が簡便なことから、紫外線を照射する方法が好ましい。紫外線照射強度、紫外線照射時間、紫外線積算光量、及び、紫外線照射光源などの照射条件は、光学異方性層の製造方法における照射条件と同様の範囲に調整しうる。
【０２１１】
重合の際、位相差層用液晶化合物は、通常、その分子の配向を維持したままで重合する。よって、前記の重合により、重合前の液晶組成物に含まれていた位相差層用液晶化合物の配向方向と平行な方向に配向した位相差層用液晶化合物の重合体を含む液晶層が得られる。したがって、例えば、支持体として延伸フィルムを用いた場合には、延伸フィルムの延伸方向と平行な配向方向を有する液晶層を得ることができる。ここで平行とは、延伸フィルムの延伸方向と位相差層用液晶化合物の重合体の配向方向のズレが、通常±３°、好ましくは±１°、理想的には０°をいう。
【０２１２】
上述した製造方法で製造された位相差層としての液晶層において、位相差層用液晶化合物から得られた重合体の分子は、好ましくは、支持体フィルムに対して水平配向した配向規則性を有する。例えば、支持体フィルムとして配向規制力を有するものを用いた場合、液晶層において位相差層用液晶化合物の重合体の分子を水平配向させることができる。ここで、位相差層用液晶化合物の重合体の分子が支持体フィルムに対して「水平配向」するとは、重合体が含む位相差層用液晶化合物由来の構造単位のメソゲン骨格の長軸方向の平均方向が、フィルム面と平行又は平行に近い（例えばフィルム面となす角度が５°以内）、ある一の方向に配向することをいう。位相差層用液晶化合物として式（II）で表される化合物を用いた場合のように、液晶層中に、配向方向の異なる複数種類のメソゲン骨格が存在する場合は、通常、それらのうち最も長い種類のメソゲン骨格の長軸方向が配向する方向が、当該配向方向となる。
【０２１３】
さらに、位相差層としての液晶層の製造方法は、液晶層を得た後で、支持体を剥離する工程を含んでいてもよい。
【０２１４】
〔３．３．光学異方性積層体における任意の層〕
光学異方性積層体は、光学異方性層及び位相差層に組み合わせて、更に任意の層を備えうる。任意の層としては、例えば、接着層、ハードコート層等が挙げられる。
【０２１５】
〔３．４．光学異方性積層体の製造方法〕
光学異方性積層体は、例えば、下記の製造方法１又は２によって製造しうる。
【０２１６】
・製造方法１：
位相差層を製造する工程と、
前記位相差層を基材として用いて、上述した光学異方性層の製造方法を行うことにより、位相差層上に光学異方性層を形成して、光学異方性積層体を得る工程と、を含む、製造方法。
【０２１７】
製造方法１のように位相差層上に塗工液を塗工した場合は、塗工液層の乾燥によって、位相差層上に光学異方性層が形成されて、光学異方性積層体が得られる。
【０２１８】
・製造方法２：
位相差層を製造する工程と、
光学異方性転写体を製造する工程と、
光学異方性転写体の光学異方性層と、位相差層とを、貼り合わせて、光学異方性積層体を得る工程と、
光学異方性転写体の基材を剥離する工程と、を含む、製造方法。
【０２１９】
製造方法２のように、光学異方性層と位相差層とを貼り合わせて光学異方性積層体を製造する場合、貼り合わせには、適切な接着剤を用いうる。この接着剤としては、例えば、後述する偏光板において用いるのと同様の接着剤を用いうる。
【０２２０】
また、前記の光学異方性積層体の製造方法は、上述した工程に加えて、任意の工程を含んでいてもよい。例えば、前記の製造方法は、ハードコート層等の任意の層を設ける工程、を含んでいてもよい。
【０２２１】
［４．偏光板］
本発明の偏光板は、直線偏光子と、上述した光学異方性層、光学異方性転写体又は光学異方性積層体と、を備える。このような偏光板は、画像表示装置に設けることにより、画像表示装置を傾斜方向から見た場合の画像の視認性を高めることができる。
【０２２２】
直線偏光子としては、液晶表示装置、及びその他の光学装置等の装置に用いられている既知の直線偏光子を用いうる。直線偏光子の例としては、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させた後、ホウ酸浴中で一軸延伸することによって得られるフィルム；ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させ延伸しさらに分子鎖中のポリビニルアルコール単位の一部をポリビニレン単位に変性することによって得られるフィルム；が挙げられる。また、直線偏光子の他の例としては、グリッド偏光子、多層偏光子、コレステリック液晶偏光子などの、偏光を反射光と透過光に分離する機能を有する偏光子が挙げられる。これらのうち、直線偏光子としては、ポリビニルアルコールを含有する偏光子が好ましい。
【０２２３】
直線偏光子に自然光を入射させると、一方の偏光だけが透過する。この直線偏光子の偏光度は特に限定されないが、好ましくは９８％以上、より好ましくは９９％以上である。
また、直線偏光子の厚みは、好ましくは５μｍ〜８０μｍである。
【０２２４】
偏光板は、更に、直線偏光子と、光学異方性層、光学異方性転写体又は光学異方性積層体とを貼り合わせるための、接着層を備えていてもよい。接着層としては、硬化性接着剤を硬化させてなる層を用いうる。硬化性接着剤としては、熱硬化性接着剤を用いてもよいが、光硬化性接着剤を用いることが好ましい。光硬化性接着剤としては、重合体又は反応性の単量体を含んだものを用いうる。また、接着剤は、必要に応じて溶媒、光重合開始剤、その他の添加剤等を含みうる。
【０２２５】
光硬化性接着剤は、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光を照射すると硬化しうる接着剤である。中でも、操作が簡便なことから、紫外線で硬化しうる接着剤が好ましい。
【０２２６】
接着層の厚みは、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上であり、好ましくは３０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下、さらに好ましくは１０μｍ以下である。接着層の厚みを前記範囲内とすることにより、光学異方性層の光学的性質を損ねずに、良好な接着を達成しうる。
【０２２７】
また、偏光板が光学異方性積層体を備える場合、その偏光板は、円偏光板として機能しうる。このような円偏光板は、直線偏光子、光学異方性層及び位相差層を、この順で備えていてもよい。また、このような円偏光板は、直線偏光子、位相差層及び光学異方性層を、この順で備えていてもよい。
【０２２８】
前記のような円偏光板において、直線偏光子の偏光吸収軸に対して位相差層の遅相軸がなす角度は、４５°またはそれに近い角度であることが好ましい。前記の角度は、具体的には、好ましくは４５°±５°、より好ましくは４５°±４°、特に好ましくは４５°±３°である。
【０２２９】
上述した偏光板は、更に、任意の層を含みうる。任意の層としては、例えば、偏光子保護フィルム層が挙げられる。偏光子保護フィルム層としては、任意の透明フィルム層を用いうる。中でも、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性等に優れる樹脂のフィルム層が好ましい。そのような樹脂としては、トリアセチルセルロース等のアセテート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、鎖状オレフィン樹脂、環式オレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂等が挙げられる。さらに、偏光板が含みうる任意の層としては、例えば、耐衝撃性ポリメタクリレート樹脂層などのハードコート層、フィルムの滑り性を良くするマット層、反射抑制層、防汚層等が挙げられる。これらの任意の層は、１層だけを設けてもよく、２層以上を設けてもよい。
【０２３０】
偏光板は、直線偏光子と、光学異方性層、光学異方性転写体又は光学異方性積層体とを、必要に応じて接着剤を用いて、貼り合わせることによって、製造しうる。
【０２３１】
［５．画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、画像表示素子と、上述した本発明の偏光板とを備える。画像表示装置において、偏光板は、通常、画像表示素子の視認側に設けられる。この際、偏光板の向きは、その偏光板の用途に応じて任意に設定しうる。よって、画像表示装置は、光学異方性層、光学異方性転写体又は光学異方性積層体と；偏光子と；画像表示素子と；を、この順に備えていてもよい。また、画像表示装置は、偏光子と；光学異方性層、光学異方性転写体又は光学異方性積層体と；画像表示素子と；を、この順に備えていてもよい。
【０２３２】
画像表示装置としては、画像表示素子の種類に応じて様々なものがあるが、代表的な例としては、画像表示素子として液晶セルを備える液晶表示装置、及び、画像表示素子として有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ表示装置が挙げられる。
以下、画像表示装置の好ましい実施形態について、図面を示して説明する。
【０２３３】
図１は、本発明の第一実施形態に係る画像表示装置としての有機ＥＬ表示装置１００を模式的に示す断面図である。
図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１００は、画像表示素子としての有機ＥＬ素子１１０；位相差層１２１及び光学異方性層１２２を備える光学異方性積層体１２０；並びに、直線偏光子１３０を、この順に備える。図１には、有機ＥＬ素子１１０側から位相差層１２１及び光学異方性層１２２がこの順に設けられた例を示したが、逆に、有機ＥＬ素子１１０側から光学異方性層１２２及び位相差層１２１がこの順に設けられていてもよい。
【０２３４】
有機ＥＬ表示装置１００において、位相差層１２１は、直線偏光子１３０の偏光吸収軸に対して位相差層１２１の遅相軸がなす角度が、４５°またはそれに近い角度となるように設けられる。前記の４５°またはそれに近い角度は、例えば、好ましくは４５°±５°、より好ましくは４５°±４°、特に好ましくは４５°±３°である。これにより、位相差層１２１と直線偏光子１３０との組み合わせによって、円偏光板の機能が発現して、外光の反射による表示面１００Ｕのぎらつきを抑制できる。
【０２３５】
具体的には、装置外部から入射した光は、その一部の直線偏光のみが直線偏光子１３０を通過し、次にそれが位相差層１２１を含む光学異方性積層体１２０を通過することにより、円偏光となる。円偏光は、表示装置内の光を反射する構成要素（有機ＥＬ素子１１０中の反射電極（図示せず）等）により反射され、再び光学異方性積層体１２０を通過することにより、入射した直線偏光の振動方向と直交する振動方向を有する直線偏光となり、直線偏光子１３０を通過しなくなる。ここで、直線偏光の振動方向とは、直線偏光の電場の振動方向を意味する。これにより、反射抑制の機能が達成される（有機ＥＬ表示装置における反射抑制の原理は、特開平９-１２７８８５号公報参照）。
【０２３６】
さらに、有機ＥＬ表示装置１００は、光学異方性積層体１２０がポジティブＣフィルムとして機能しうる光学異方性層１２２を備えるので、前記の反射抑制の機能を、表示面１００Ｕの正面方向だけでなく、傾斜方向においても発揮できる。さらに、光学異方性層１２２は、その厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すので、広い波長範囲の光の反射を抑制することが可能である。さらに、厚み方向のレターデーションが順波長分散性を示すポジティブＣフィルムを用いた有機ＥＬ表示装置に比べて、表示面１００Ｕの傾斜方向から見た場合の反射光の色味変化を抑制できる。したがって、有機ＥＬ表示装置１００は、表示面１００Ｕの正面方向及び傾斜方向の両方において外光の反射を効果的に抑制して、画像の視認性を高めることが可能である。
【０２３７】
図２は、本発明の第二実施形態に係る画像表示装置としての有機ＥＬ表示装置２００を模式的に示す断面図である。
図２に示すように、有機ＥＬ表示装置２００は、画像表示素子としての有機ＥＬ素子２１０；λ／４波長板２２０；直線偏光子２３０；並びに、位相差層２４１及び光学異方性層２４２を備える光学異方性積層体２４０；を、この順に備える。図２には、有機ＥＬ素子２１０側から位相差層２４１及び光学異方性層２４２がこの順に設けられた例を示したが、逆に、有機ＥＬ素子２１０側から光学異方性層２４２及び位相差層２４１がこの順に設けられていてもよい。
【０２３８】
λ／４波長板２２０としては、直線偏光子２３０を透過した直線偏光を円偏光に変換しうる部材を用いうる。このようなλ／４波長板２２０としては、例えば、位相差層２４１が有しうる面内レターデーションＲｅの範囲と同様の範囲の面内レターデーションＲｅを有するフィルムを用いうる。また、λ／４波長板２２０は、直線偏光子２３０の偏光吸収軸に対してλ／４波長板２２０の遅相軸がなす角度が、４５°またはそれに近い角度となるように設けられる。前記の４５°またはそれに近い角度は、例えば、好ましくは４５°±５°、より好ましくは４５°±４°、特に好ましくは４５°±３°である。これにより、λ／４波長板２２０と直線偏光子２３０との組み合わせによって、円偏光板の機能が発現して、外光の反射による表示面２００Ｕのぎらつきを抑制できる。
【０２３９】
また、有機ＥＬ表示装置２００において、位相差層２４１は、直線偏光子２３０の偏光吸収軸に対して位相差層２４１の遅相軸がなす角度が、４５°またはそれに近い角度となるように設けられる。前記の４５°またはそれに近い角度は、例えば、好ましくは４５°±５°、より好ましくは４５°±４°、特に好ましくは４５°±３°である。
【０２４０】
このような有機ＥＬ表示装置２００においては、有機ＥＬ素子２１０から発せられ、λ／４波長板２２０、直線偏光子２３０及び光学異方性積層体２４０を通過した光によって、画像が表示される。よって、画像を表示する光は、直線偏光子２３０を通過した時点では直線偏光であるが、位相差層２４１を含む光学異方性積層体２４０を通過することによって、円偏光に変換される。したがって、前記の有機ＥＬ表示装置２００では、円偏光によって画像が表示されるので、偏光サングラスを通して表示面２００Ｕを見た場合に、画像を視認することが可能である。
【０２４１】
さらに、有機ＥＬ表示装置２００は、光学異方性積層体２４０がポジティブＣフィルムとして機能しうる光学異方性層２４２を備えるので、画像を表示する光は、表示面２００Ｕの正面方向だけでなく、傾斜方向においても、偏光サングラスを透過できる。さらに、光学異方性層２４２は、その厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すので、広い波長範囲の光が、偏光サングラスを透過できる。したがって、有機ＥＬ表示装置２００は、表示面２００Ｕの正面方向及び傾斜方向の両方において、偏光サングラスを通した画像の視認性を高めることが可能である。
【０２４２】
前記の有機ＥＬ素子１１０及び２１０は、透明電極層、発光層及び電極層をこの順に備え、透明電極層及び電極層から電圧を印加されることにより発光層が光を生じうる。有機発光層を構成する材料の例としては、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリフルオレン系、およびポリビニルカルバゾール系の材料を挙げることができる。また、発光層は、複数の発光色が異なる層の積層体、あるいはある色素の層に異なる色素がドーピングされた混合層を有していてもよい。さらに、有機ＥＬ素子１１０及び２１０は、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、等電位面形成層、電荷発生層等の機能層を備えていてもよい。
【０２４３】
図３は、本発明の第三実施形態に係る画像表示装置としての液晶表示装置３００を模式的に示す断面図である。
図３に示すように、液晶表示装置３００は、光源３１０；光源側直線偏光子３２０；画像表示素子としての液晶セル３３０；視認側直線偏光子３４０；並びに、位相差層３５１及び光学異方性層３５２を備える光学異方性積層体３５０；を、この順に備える。図３には、液晶セル３３０側から位相差層３５１及び光学異方性層３５２がこの順に設けられた例を示したが、逆に、液晶セル３３０側から光学異方性層３５２及び位相差層３５１がこの順に設けられていてもよい。
【０２４４】
液晶表示装置３００において、位相差層３５１は、視認側直線偏光子３４０の偏光吸収軸に対して位相差層３５１の遅相軸がなす角度が、４５°またはそれに近い角度となるように設けられる。４５°またはそれに近い角度は、例えば、好ましくは４５°±５°、より好ましくは４５°±４°、特に好ましくは４５°±３°である。
【０２４５】
このような液晶表示装置３００においては、光源３１０から発せられ、光源側直線偏光子３２０、液晶セル３３０、視認側直線偏光子３４０、及び光学異方性積層体３５０を通過した光によって、画像が表示される。よって、画像を表示する光は、視認側直線偏光子３４０を通過した時点では直線偏光であるが、位相差層３５１を含む光学異方性積層体３５０を通過することによって、円偏光に変換される。したがって、前記の液晶表示装置３００では、円偏光によって画像が表示されるので、偏光サングラスを通して表示面３００Ｕを見た場合に、画像を視認することが可能である。
【０２４６】
さらに、液晶表示装置３００は、光学異方性積層体３５０がポジティブＣフィルムとして機能しうる光学異方性層３５２を備えるので、画像を表示する光は、表示面３００Ｕの正面方向だけでなく、傾斜方向においても、偏光サングラスを透過できる。さらに、光学異方性層３５２は、その厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すので、広い波長範囲の光が、偏光サングラスを透過できる。したがって、液晶表示装置３００は、表示面３００Ｕの正面方向及び傾斜方向の両方において、偏光サングラスを通した画像の視認性を高めることが可能である。
【０２４７】
液晶セル３３０は、例えば、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、バーチカルアラインメント（ＶＡ）モード、マルチドメインバーチカルアラインメント（ＭＶＡ）モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント（ＣＰＡ）モード、ハイブリッドアラインメントネマチック（ＨＡＮ）モード、ツイステッドネマチック（ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド（ＯＣＢ）モードなど、任意のモードの液晶セルを用いうる。中でも、ＩＰＳモードの液晶セル３３０は、光学異方性層３５２によって視野角を効果的に広くでき、更には表示面３００Ｕを傾斜方向から見たときのコントラスト及び色味変化に改善効果があることから、好ましい。
【実施例】
【０２４８】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中において行った。【０２４９】
［評価方法］
〔レタデーション及び屈折率の測定方法、及び、それらの逆波長分散性の評価方法〕
あるフィルム（基材フィルム；支持体フィルム；支持体フィルム及び位相差層からなる複層フィルム；等）上に形成された試料層（光学異方性層、位相差層等）のレターデーション及び逆波長分散特性は、下記の方法で測定した。【０２５０】
評価対象となる試料層を、粘着剤付スライドガラス（粘着剤は、日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）に貼り合せた。その後、フィルムを剥離し、スライドガラス及び試料層を備えるサンプルを得た。このサンプルを、位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）のステージに設置して、試料層の面内レターデーションＲｅの波長分散を測定した。ここで、面内レターデーションＲｅの波長分散とは、波長毎の面内レターデーションＲｅを表すグラフであり、例えば、横軸を波長、縦軸を面内レターデーションＲｅとした座標においてグラフとして示される。こうして得られた試料層の面内レターデーションＲｅの波長分散から、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ及び６５０ｎｍにおける試料層の面内レターデーションＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（５９０）及びＲｅ（６５０）を求めた。【０２５１】
また、試料層の遅相軸を回転軸として、ステージを４０°傾けて、試料層の厚み方向に対して４０°の角度をなす傾斜方向での試料層のレタデーションＲｅ４０の波長分散を測定した。ここで、レターデーションＲｅ４０の波長分散とは、波長毎のレターデーションＲｅ４０を表すグラフであり、例えば、横軸を波長、縦軸を面内レターデーションＲｅ４０とした座標においてグラフとして示される。【０２５２】
さらに、プリズムカプラ（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製）を用いて、試料層の、面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ、前記面内方向であって前記ｎｘの方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ、及び、厚み方向の屈折率ｎｚを、波長４０７ｎｍ、５３２ｎｍ及び６３３ｎｍで測定し、コーシーフィッティングすることにより、屈折率ｎｘ、ｎｙ及びｎｚの波長分散を得た。ここで、屈折率の波長分散とは、波長毎の屈折率を表すグラフであり、例えば、横軸を波長、縦軸を屈折率とした座標においてグラフとして示される。【０２５３】
その後、レターデーションＲｅ４０及び屈折率の波長分散のデータを基に、試料層の厚み方向のレタデーションＲｔｈの波長分散を計算した。ここで、厚み方向のレタデーションＲｔｈの波長分散とは、波長毎の厚み方向のレタデーションＲｔｈを表すグラフであり、例えば、横軸を波長、縦軸を厚み方向のレタデーションＲｔｈとした座標においてグラフとして示される。そして、こうして求められた試料層の厚み方向のレターデーションＲｔｈの波長分散から、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ及び６５０ｎｍにおける試料層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（４５０）、Ｒｔｈ（５５０）、Ｒｔｈ（５９０）及びＲｔｈ（６５０）を求めた。【０２５４】
〔厚みの測定方法〕
あるフィルム（基材フィルム；支持体フィルム；支持体フィルム及び位相差層からなる複層フィルム；等）上に形成された試料層（光学異方性層、位相差層等）の厚みは、膜厚測定装置（フィルメトリクス社製「フィルメトリクス」）を用いて、測定した。【０２５５】
〔面状態の評価方法〕
光学粘着剤（日東電工社製ＣＳ９６２１）付きの平板ガラスを用意した。この平板ガラスに、光学異方性転写体（実施例１〜２、４〜５及び７〜８、並びに、比較例１〜４）又は光学異方性積層体（実施例３）の光学異方性層を転写し、ヘイズ測定用積層体を得た。このヘイズ測定用積層体を用いて、光学異方性層のヘイズを、ヘイズメーター（東洋精機製作所製「ヘイズガードII」）により測定した。測定の結果、ヘイズが０．５％未満であれば面状態が「良好」と判定し、ヘイズが０．５％以上１．０％未満であれば面状態が「少し白濁」と判定し、ヘイズが１．０％以上であれば面状態が「白濁」であると判定した。
また、実施例６では、光学異方性層の面状態を、蛍光灯下で目視観察し、フィルムの収縮シワ及び白濁が観察されない場合は「良好」、観察された場合は「不良」と判断した。【０２５６】
［実施例１］
下記式（Ｂ１）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物（ＣＮ点は９９℃）５５重量部、及び、ポジＣ重合体としてのポリ（９−ビニルカルバゾール）４５重量部を、固形分濃度が１２％となるように１，３−ジオキソラン（ＤＯＬ）に溶解させて、塗工液を作製した。【０２５７】
【化１３】
2019069855.tif 000015
【０２５８】
基材フィルムとして、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる未延伸フィルム（日本ゼオン社製、樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）１６３℃、厚み１００μｍ）を用意した。前記の基材フィルムの面上に、塗工液を、アプリケーターを用いて塗工して、塗工液層を形成した。塗工液層の厚みは、得られる光学異方性層の厚みが１０μｍ程度になるように調整した。【０２５９】
その後、塗工液層を、８５℃オーブンで１０分ほど乾燥させて、塗工液層中の溶媒を蒸発させた。これにより、基材フィルム上に光学異方性層が形成されて、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体を得た。こうして得られた光学異方性転写体を用いて、上述した方法により、光学異方性層の評価を行った。【０２６０】
［実施例２］
ポジＣ重合体の種類を、フマル酸ジイソプロピルとケイ皮酸エステルの共重合体に変更した。この共重合体は、下記式（Ｐ１）で表される繰り返し単位及び下記式（Ｐ２）で表される繰り返し単位を有するポリフマル酸エステル（重量平均分子量７２，０００）であった。また、下記の式（Ｐ１）及び式（Ｐ２）において、Ｒはイソプロピル基を表し、繰り返し単位の数ｍ及びｎの比率は、ｍ：ｎ＝８５：１５であった。【０２６１】
【化１４】
2019069855.tif 000016
【０２６２】
【化１５】
2019069855.tif 000017
【０２６３】
以上の事項以外は、実施例１と同様にして、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体の製造、並びに、光学異方性層の評価を行った。【０２６４】
［実施例３］
支持体フィルム及び位相差層を備える複層フィルムを、下記の方法で製造した。【０２６５】
前記式（Ｂ１）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物（ＣＮ点は９９℃）１００重量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９ＥＧ」）３重量部、及び、界面活性剤（ＤＩＣ社製「メガファックＦ−５６２」）０．３重量部を混合し、更に、溶媒としてシクロペンタノン及び１，３−ジオキソランの混合溶媒（重量比シクロペンタノン：１，３−ジオキソラン＝４：６）を、固形分が２２重量％になるように加え、５０℃に加温し溶解させた。得られた混合物を、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターでろ過して、液状の液晶組成物を得た。【０２６６】
支持体フィルムとして、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる長尺の斜め延伸フィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」、樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）１２６℃、厚み４７μｍ、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション１４１ｎｍ、延伸方向は、幅方向に対して４５°の方向）を用意した。【０２６７】
前記の支持体フィルム上に、前記の液状の液晶組成物を、ダイコーターで塗工し、液晶組成物の層を形成した。液晶組成物の層の厚みは、得られる位相差層の厚みが２．５μｍ程度になるように調整した。【０２６８】
その後、液晶組成物の層を、１１０℃オーブンで４分ほど乾燥させて、液晶組成物の層中の溶媒を蒸発させると同時に、液晶組成物の層に含まれる液晶化合物を、支持体フィルムの延伸方向にホモジニアス配向させた。【０２６９】
その後、液晶組成物の層に、紫外線照射装置を用いて紫外線を照射した。この紫外線の照射は、窒素雰囲気下において、６０℃に加熱されたＳＵＳ板に支持体フィルムをテープで固定した状態で行った。紫外線の照射により液晶組成物の層を硬化させて、支持体フィルム上に位相差層を形成した。これにより、支持体フィルム及び位相差層を備える複層フィルムを得た。【０２７０】
得られた複層フィルムの位相差層のレターデーションを上述した方法で測定したところ、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ及び６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（Ｂ４５０）、Ｒｅ（Ｂ５５０）、Ｒｅ（Ｂ５９０）及びＲｅ（Ｂ６５０）は、下記表１のとおりであった。また、前記の位相差層の屈折率を上述した方法で測定したところ、位相差層の面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ（Ｂ）、位相差層の面内方向であって前記ｎｘ（Ｂ）の方向に垂直な方向の屈折率ｎｙ（Ｂ）、及び、位相差層の厚み方向の屈折率ｎｚ（Ｂ）は、下記表１のとおりであった。【０２７１】
【表１】
2019069855.tif 000018
【０２７２】
基材フィルムとして、実施例１で用いた未延伸フィルムの代わりに、支持体フィルム及び位相差層を備える複層フィルムを用いた。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、支持体フィルム、位相差層及び光学異方性層をこの順に備える光学異方性積層体の製造を行った。こうして得られた光学異方性積層体を用いて、上述した方法により、光学異方性層の評価を行った。【０２７３】
［実施例４］
基材フィルムとして、実施例１で用いた未延伸フィルムの代わりに、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる長尺の斜め延伸フィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」、樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）１２６℃、厚み４７μｍ、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション１４１ｎｍ、延伸方向は、幅方向に対して４５°の方向）を用いた。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、基材フィルム及び光学異方性層をこの順に備える光学異方性転写体の製造、並びに、光学異方性層の評価を行った。【０２７４】
［実施例５］
前記式（Ｂ１）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物５５重量部の代わりに、下記式（Ｂ２）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物（ＣＮ点は１０５℃）５０重量部を用いた。さらに、ポジＣ重合体としてのポリ（９−ビニルカルバゾール）の量を４５重量部から５０重量部に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体の製造、並びに、光学異方性層の評価を行った。【０２７５】
【化１６】
2019069855.tif 000019
【０２７６】
［実施例６］
位相差層としての延伸フィルム層として、斜め延伸フィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」、樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）１２６℃、厚み４７μｍ、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション１４１ｎｍ、屈折率ｎｘ（Ｂ）＞ｎｙ（Ｂ）≧ｎｚ（Ｂ）、延伸方向は、幅方向に対して４５°の方向）を用意した。【０２７７】
実施例１で作製した光学異方性転写体の光学異方性層側の面と、前記の斜め延伸フィルムの一方の面とを、粘着層（日東電工製「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して貼合し、基材フィルム、光学異方性層、粘着層及び斜め延伸フィルムをこの順に備える積層体を得た。この際、貼合には、ラミネーターを用いた。【０２７８】
続いて、前記積層体から基材フィルムを剥離することにより、光学異方性層、粘着層及び斜め延伸フィルムをこの順に備える光学異方性積層体を得た。こうして得られた光学異方性積層体の面状態を、上述した方法によって評価したところ、結果は良好であった。【０２７９】
［実施例７］
式（Ｂ１）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物の量を、５５重量部から６０重量部に変更した。また、ポジＣ重合体としてのポリ（９−ビニルカルバゾール）の量を４５重量部から４０重量部に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体の製造、並びに、光学異方性層の評価を行った。【０２８０】
［実施例８］
式（Ｂ１）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物の量を、５５重量部から６５重量部に変更した。また、ポジＣ重合体としてのポリ（９−ビニルカルバゾール）の量を４５重量部から３５重量部に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体の製造、並びに、光学異方性層の評価を行った。【０２８１】
［実施例９］
前記式（Ｂ１）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物５５重量部の代わりに、下記式（Ｂ３）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物（ＣＮ点は１１０℃）６０重量部を用いた。さらに、ポジＣ重合体としてのポリ（９−ビニルカルバゾール）の量を４５重量部から４０重量部に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体の製造、並びに、光学異方性層の評価を行った。【０２８２】
【化１７】
2019069855.tif 000020
【０２８３】
［実施例１０］
前記式（Ｂ３）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物５５重量部の代わりに、下記式（Ｂ４）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物（ＣＮ点は１２３℃）６０重量部を用いた。さらに、ポジＣ重合体としてのポリ（９−ビニルカルバゾール）の量を４５重量部から４０重量部に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体の製造、並びに、光学異方性層の評価を行った。【０２８４】
【化１８】
2019069855.tif 000021
【０２８５】
［実施例１１］
前記式（Ｂ４）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物５５重量部の代わりに、下記式（Ｂ５）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物（ＣＮ点は１１１℃）６０重量部を用いた。さらに、ポジＣ重合体としてのポリ（９−ビニルカルバゾール）の量を４５重量部から４０重量部に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体の製造、並びに、光学異方性層の評価を行った。【０２８６】
【化１９】
2019069855.tif 000022
【０２８７】
［比較例１］
塗工液の作製に際し、前記式（Ｂ１）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物を用いなかった。
また、基材フィルムとして、樹脂のガラス転移温度以外は実施例１で用いた未延伸フィルムと同様のフィルム｛脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる未延伸フィルム（日本ゼオン社製、樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）１２６℃、厚み１００μｍ）｝を用いた。
以上の事項以外は、実施例１と同様にして、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体の製造、並びに、光学異方性層の評価を行った。【０２８８】
［比較例２］
前記式（Ｂ１）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物（ＣＮ点は９９℃）１００重量部及び光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９ＥＧ」）３重量部を混合し、さらに、溶媒としてシクロペンタノン及び１，３−ジオキソランの混合溶媒（重量比シクロペンタノン：１，３−ジオキソラン＝４：６）を、固形分が２２重量％になるように加え、５０℃に加温し溶解させた。得られた混合物を、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターでろ過して、塗工液を得た。【０２８９】
実施例１で用いたのと同様の未延伸フィルムの表面に、コロナ処理を施した。コロナ処理を施した未延伸フィルムの表面上に、垂直配向膜用のシランカップリング系材料（ＪＮＣ社製「ＤＭＯＡＰ」）を、バーコーターで塗布し、１００℃で１時間焼成した。これにより、延伸フィルム及び垂直配向膜を備える垂直配向基材フィルムを得た。【０２９０】
得られた垂直配向基材フィルムに、バーコーターを用いて、塗工液を塗布し、１１０℃で４分乾燥した。その後、乾燥した塗工液層に、紫外線照射装置を用いて紫外線を照射した。この紫外線の照射は、窒素雰囲気下において、ＳＵＳ板に垂直配向基材フィルムをテープで固定した状態で行った。紫外線の照射により、塗工液層を硬化させた。これにより、垂直配向基材フィルム上に光学異方性層が形成されて、垂直配向基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体を得た。こうして得られた光学異方性転写体を用いて、上述した方法により、光学異方性層の評価を行った。【０２９１】
［比較例３］
前記式（Ｂ１）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物（ＣＮ点は９９℃）５０重量部、支持体フィルムに対して強い垂直配向性を示す液晶性モノマー化合物としての６−（４−ｃｙａｎｏｂｉｐｈｅｎｙｌ−４−ｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ（ＤＫＳＨ社製「ＳＴ０３４７４」）５０重量部、及び、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９ＥＧ」）３重量部を混合し、更に、溶媒としてシクロペンタノン及び１，３−ジオキソランの混合溶媒（重量比シクロペンタノン：１，３−ジオキソラン＝４：６）を、固形分が２２重量％になるように加え、５０℃に加温し溶解させた。得られた混合物を、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターでろ過して、塗工液を得た。【０２９２】
実施例１で用いたのと同様の基材フィルム上に、塗工液を、スピンコーターで塗工し、塗工液層を形成した。塗工液層の厚みは、得られる光学異方性層の厚みが２．５μｍ程度になるように調整した。【０２９３】
その後、塗工液層を、１１０℃オーブンで４分ほど乾燥させて、塗工液層中の溶媒を蒸発させると同時に、塗工液層に含まれる液晶化合物を、基材フィルムの面に対して垂直に配向させた。【０２９４】
その後、塗工液層に、紫外線照射装置を用いて紫外線を照射した。この紫外線の照射は、窒素雰囲気下において、ＳＵＳ板に基材フィルムをテープで固定した状態で行った。紫外線の照射により、塗工液層を硬化させた。これにより、基材フィルム上に光学異方性層が形成されて、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体を得た。こうして得られた光学異方性転写体を用いて、上述した方法により、光学異方性層の評価を行った。【０２９５】
［比較例４］
前記式（Ｂ１）で表される光重合性の逆波長分散液晶化合物の代わりに、式（Ｃ１）で表される光重合性の順波長分散液晶化合物（ＣＮ点は６６℃）を用いた。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性転写体の製造、並びに、光学異方性層の評価を行った。【０２９６】
【化２０】
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【０２９７】
［結果］
上述した実施例及び比較例の結果を、下記の表２〜表４に示す。表２〜表４において、略称の意味は、下記のとおりである。
未延伸フィルム：脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる未延伸フィルム。
斜め延伸フィルム：脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる斜め延伸フィルム。
ポジＡフィルム：支持体フィルム及び位相差層を備える複層フィルム。
ＰＶＣ：ポリ（９−ビニルカルバゾール）。
ＰＦＤＥ：フマル酸ジイソプロピルとケイ皮酸エステルの共重合体。
化合物Ｂ１：前記式（Ｂ１）で示される逆波長分散液晶化合物。
化合物Ｂ２：前記式（Ｂ２）で示される逆波長分散液晶化合物。
化合物Ｃ１：前記式（Ｃ１）で示される化合物。
化合物比率：塗工液の全固形分における化合物１の比率。
ブレンド塗工：ポジＣ重合体及び化合物１を含む塗工液の塗工による成膜。
重合体塗工：ポジＣ重合体を含み化合物１を含まない塗工液の塗工による成膜。
配向膜上への塗工：配向膜上への、化合物１を含みポジＣ重合体を含まない塗工液の塗工による成膜。
垂直配向剤塗工：化合物１及び強い垂直配向性を示す液晶性モノマー化合物を含み、ポジＣ重合体を含まない塗工液の塗工による成膜。
ポジＣ：屈折率ｎｘ（Ａ）、ｎｙ（Ａ）及びｎｚ（Ａ）が、ｎｚ（Ａ）＞ｎｘ（Ａ）≧ｎｙ（Ａ）を満たす。
波長分散性：厚み方向のレターデーションＲｔｈの波長分散性。【０２９８】
【表２】
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【０２９９】
【表３】
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【０３００】
【表４】
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【０３０１】
比較例２及び３における面状評価においては、光学異方性層において液晶化合物の分子は、基材フィルムの面に対して垂直に配向していたが、液晶化合物の分子のチルト角にムラがあり、光学異方性層が白濁していた。【０３０２】
比較例３から分かるように、逆波長分散液晶化合物は、支持体フィルムに対して強い垂直配向性を示す液晶性モノマー化合物を用いても、配向の均一な液晶層を得ることが難しかった。これは、順波長分散液晶化合物が、一般に、支持体フィルムに対して強い垂直配向性を示す液晶性モノマー化合物と組み合わせれば配光の均一な液晶層を形成できていたこととは、対照的である。【０３０３】
また、比較例２から分かるように、逆波長分散液晶化合物は、配向膜を用いても、その配向膜と逆波長分散液晶化合物との相性の調整が行われていないと、配向の均一な液晶層を得ることが難しかった。そのため、厚み方向に平行に配向した逆波長分散液晶化合物を含む液晶層により、ポジティブＣフィルムを得ようとしても、従来の製造方法では、その実現は困難であった。【０３０４】
これに対し、実施例１〜５、７及び８では、逆波長分散液晶化合物とポジＣ重合体とを組み合わせることにより、配向の均一な液晶層を光学異方性層として得ることができ、また、この光学異方性層は、ポジティブＣフィルムとして機能できる。【０３０５】
よって、上記の実施例からは、本発明により、配向膜を用いることなく製造可能な、厚み方向のレターデーションＲｔｈが逆波長分散性を示すポジティブＣプレートとして用いることができる光学異方性層を実現できることが確認された。
【符号の説明】
【０３０６】
１００  有機ＥＬ表示装置
１１０  有機ＥＬ素子
１２０  光学異方性積層体
１２１  位相差層
１２２  光学異方性層
１３０  直線偏光子
２００  有機ＥＬ表示装置
２１０  有機ＥＬ素子
２２０  λ／４波長板
２３０  直線偏光子
２４０  光学異方性積層体
２４１  位相差層
２４２  光学異方性層
３００  液晶表示装置
３１０  光源
３２０  光源側直線偏光子
３３０  液晶セル
３４０  視認側直線偏光子
３５０  光学異方性積層体
３５１  位相差層
３５２  光学異方性層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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