(57)【要約】  浸炭装置（Ａ）は、被処理物を収容する炉体（１）と、炉体内に設けられた複数のヒータ（４ａ）と、複数のヒータを覆う複数の保護部材（４ｂ）と、炉体内に浸炭ガスを供給する浸炭ガス供給部（１３）と、ヒータと保護部材との隙間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、ヒータと保護部材との隙間にバーンアウト用の空気を供給する空気供給部と、を備える。
2019064975.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を収容する炉体と、
前記炉体内に設けられた複数のヒータと、
前記複数のヒータを覆う複数の保護部材と、
前記炉体内に浸炭ガスを供給する浸炭ガス供給部と、
前記ヒータと前記保護部材との隙間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、
前記ヒータと前記保護部材との隙間にバーンアウト用の空気を供給する空気供給部と、
を備える浸炭装置。
【請求項２】
前記複数のヒータは、前記炉体内で水平方向に延在する棒状部材であり、前記被処理物を鉛直方向に挟むように配置されている請求項１に記載の浸炭装置。
【請求項３】
前記複数のヒータは、前記炉体内で鉛直方向に延在する棒状部材であり、前記被処理物を水平方向に挟むように配置されている請求項１に記載の浸炭装置。
【請求項４】
前記ヒータは、第１端が電源に接続され、第２端が接地される電気ヒータであり、
前記不活性ガス供給部は、前記ヒータの前記第１端から前記第２端に向けて不活性ガスを供給するよう構成される請求項１〜３のいずれか一項に記載の浸炭装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、浸炭装置に関する。
本願は、２０１７年９月２７日に日本に出願された特願２０１７−１８６２０６号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
下記特許文献１には、浸炭装置におけるバーンアウトについて記載されている。すなわち、被処理物に浸炭処理を行った場合に浸炭ガスに起因する炭素分（つまり煤）が浸炭装置の内部に付着するが、バーンアウトは、浸炭装置内に空気を導入することにより浸炭装置の内部（特にヒータ等）に付着した炭素（煤）を燃焼させて除去する処理である。
なお、このようなバーンアウトについては、特許文献１の他に特許文献２にも開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】日本国特許第５８３０５８６号公報
【特許文献２】日本国特開２００７−１３１９３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、バーンアウトは、浸炭装置を用いた被処理物への浸炭処理の合間に行われるため、バーンアウトが浸炭装置の稼働率（つまり被処理物の処理効率）を低下させる一因になり得る。したがって、浸炭装置の運用者には、バーンアウトの時間や回数を少しでも削減したいという要求がある。特に、浸炭装置のヒータは、表面温度が他の部品よりも高いため、炭素（煤）の付着が他の部品よりも著しい。したがって、ヒータへの炭素（煤）の付着によって浸炭装置の稼働率（被処理物の処理効率）を低下させ易い。【０００５】
本開示は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、ヒータへの炭素（煤）の付着を抑制あるいは防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の一態様の浸炭装置は、被処理物を収容する炉体と、前記炉体内に設けられた複数のヒータと、前記複数のヒータを覆う複数の保護部材と、前記炉体内に浸炭ガスを供給する浸炭ガス供給部と、前記ヒータと前記保護部材との隙間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、前記ヒータと前記保護部材との隙間にバーンアウト用の空気を供給する空気供給部と、を備える。【０００７】
上記一態様の浸炭装置において、前記複数のヒータは、前記炉体内で水平方向に延在する棒状部材であり、前記被処理物を鉛直方向に挟むように配置されていてもよい。【０００８】
上記一態様の浸炭装置において、前記複数のヒータは、前記炉体内で鉛直方向に延在する棒状部材であり、前記被処理物を水平方向に挟むように配置されていてもよい。【０００９】
上記一態様の浸炭装置において、前記ヒータは、第１端が電源に接続され、第２端が接地される電気ヒータであり、前記不活性ガス供給部は、前記第１端から前記第２端に向けて不活性ガスを供給するよう構成されていてもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、ヒータと保護部材との隙間に不活性ガスを供給するので、ヒータへの炭素（煤）の付着を抑制あるいは防止することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本開示の一実施形態に係る浸炭装置の正断面図である。
【図２Ａ】本開示の一実施形態における上電極部の側断面電図である。
【図２Ｂ】本開示の一実施形態における上電極部の上断面図である。
【図３Ａ】本開示の一実施形態における下電極部の側断面電図である。
【図３Ｂ】本開示の一実施形態における下電極部の上断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して、本開示の一実施形態について説明する。
本実施形態に係る浸炭装置Ａは、図１に示すように、チャンバー１、断熱容器２、炉床３、複数のヒータユニット４、上電極部５、上アース部６、下電極部７、下アース部８、浸炭ガス管９、排気管１０、ガス供給部１１、ガス回収部１２及び浸炭ガス供給部１３等を備えている。
【００１３】
これら構成要素のうち、チャンバー１は、本開示の炉体に相当する。また、ガス供給部１１は、本開示の不活性ガス供給部及び空気供給部に相当する。
【００１４】
浸炭装置Ａは、チャンバー１内に収容された被処理物Ｘに浸炭処理を施す。すなわち、浸炭装置Ａは、被処理物Ｘを５００℃を超える高温まで加熱すると共に浸炭室を浸炭ガス雰囲気とすることによって被処理物Ｘの表面に炭素（炭素原子）を浸入させて所定深さの浸炭層を形成する。なお、浸炭装置Ａの処理対象である被処理物Ｘは、浸炭層によって表面硬度が上昇する金属部品である。
【００１５】
チャンバー１は、直方体形状の本体容器（金属製容器）であり、一側面（図１における手前側の面）に開閉ドア（図示略）が設けられている。また、チャンバー１は、電気的に接地（アース）されている。断熱容器２は、チャンバー１内に設けられ、直方体形状を有し、所定の断熱性能を有する断熱材（セラミックス材）から形成されている。断熱容器２の内部空間（直方体空間）は、被処理物Ｘを収容する浸炭室Ｐである。炉床３は、被処理物Ｘが載置される載置台であり、断熱容器２の内側かつ下部に備えられている。炉床３は、アルミナ等のセラミックス材から形成されている。
【００１６】
上述した開閉ドアの内側には、断熱容器２の一側面を形成する断熱板が設けられている。すなわち、断熱容器２は、開閉ドアの内側に設けられた開閉自在な断熱板と固定設置された５つの断熱板とから構成されている。浸炭装置Ａでは、図１の手前側に設けられた開閉ドアを開けることにより被処理物Ｘを浸炭室Ｐに収容する。
【００１７】
ここで、図１における左右方向は浸炭装置Ａつまりチャンバー１及び断熱容器２の幅方向であり、図１における上下方向は浸炭装置Ａの高さ方向であり、また図１における左右方向及び上下方向に直交する方向は浸炭装置Ａの奥行方向である。
【００１８】
複数のヒータユニット４は、所定長さを有すると共に水平方向に延在する棒状部材であり、被処理物Ｘを鉛直方向に挟むように上下に配置されている。すなわち、複数のヒータユニット４は、図１に示すように軸線方向を浸炭装置Ａ（チャンバー１及び断熱容器２）の幅方向とした姿勢で断熱容器２内の上部及び下部に備えられている。ヒータユニット４は、図２Ａ、２Ｂ及び図３Ａ、３Ｂに示されているように、浸炭装置Ａ（チャンバー１及び断熱容器２）の奥行方向に所定間隔を空けて設けられている。
【００１９】
また、ヒータユニット４は、図２Ａ、２Ｂに示すように断熱容器２内の上部（浸炭室Ｐの上部）の奥行き方向に７本設けられ、また図３Ａ、３Ｂに示すように断熱容器２内の下部の奥行き方向に８本設けられている。浸炭室Ｐの上部に設けられた７本のヒータユニット４は、上部ヒータユニット４Ａである。上部ヒータユニット４Ａは、第１端（左端）が上電極部５によって支持され、第２端（右端）が上アース部６によって支持されている。浸炭室Ｐの下部に設けられた８本のヒータユニット４は、下部ヒータユニット４Ｂである。下部ヒータユニット４Ｂは、第１端（左端）が下電極部７によって支持され、第２端（右端）が下アース部８によって支持されている。
【００２０】
ヒータユニット４（上部ヒータユニット４Ａ及び下部ヒータユニット４Ｂ）は、各々にヒータ本体４ａ及び保護管４ｂを備えている。ヒータ本体４ａは、上電極部５あるいは下電極部７側に位置する第１端が電源に接続され、また上アース部６あるいは下アース部８側に位置する第２端が接地されている。ヒータ本体４ａは、電源から第１端への通電によって発熱する円柱状の電気ヒータ（抵抗発熱体）であり、例えばセラミックス製のセラミックスヒータあるいはグラファイト製のグラファイトヒータである。なお、ヒータ本体４ａは本開示のヒータに相当し、保護管４ｂは本開示の保護部材に相当する。
【００２１】
保護管４ｂは、ヒータ本体４ａの直径よりも大きな内径を有するセラミックス製の円管状部材（直管）であり、ヒータ本体４ａを覆うように設けられている。保護管４ｂの内面とヒータ本体４ａの表面とは、同心状かつ所定間隔を空けて平行対峙する円環状面と円柱状面とである。なお、詳細については後述するが、保護管４ｂの内面とヒータ本体４ａの表面との間には、不活性ガスＧあるいはバーンアウト用の圧縮空気Ｋが流通する。
【００２２】
上電極部５は、上部ヒータユニット４Ａの第１端（左端）を機械的に支持する構造体であり、図１及び図２Ａ、２Ｂに示すようにチャンバー１の左上部に、７つの上部ヒータユニット４Ａの第１端（左端）を全体として覆うように設けられている。上電極部５は、囲い部材５ａ及び７つの受部材５ｂ等を備えている。
【００２３】
囲い部材５ａは、略直方体状に形成された金属部材であり、７つの上部ヒータユニット４Ａの第１端（左端）を全体として囲むようにチャンバー１の左上部に設けられている。囲い部材５ａの内部、つまり７つの上部ヒータユニット４Ａの第１端（左端）を収容する空間は、略密閉空間であり、ガス供給部１１から不活性ガスＧあるいはバーンアウト用の圧縮空気Ｋが供給されるガス供給室Ｓ１である。
【００２４】
受部材５ｂは、各上部ヒータユニット４Ａに対応して設けられており、上部ヒータユニット４Ａの第１端（左端）の荷重を受ける絶縁材である。受部材５ｂは、図２Ａに示すように上部にＶ字状の溝が形成された略直方体状の成形体であり、このＶ字状の溝に上部ヒータユニット４Ａの第１端（左端）が係合した状態で載置されている。
【００２５】
上アース部６は、上部ヒータユニット４Ａの第２端（右端）を支持する構造体であり、図１に示すようにチャンバー１の右上部に、７つの上部ヒータユニット４Ａの第２端（右端）を全体として覆うように設けられている。上アース部６は、囲い部材６ａ及び各上部ヒータユニット４Ａに対応して設けられた７つの受部材６ｂ等を備えている。
【００２６】
囲い部材６ａは、略直方体状に形成された金属部材であり、７つの上部ヒータユニット４Ａの第２端（右端）を全体として囲むようにチャンバー１の右上部に設けられている。囲い部材６ａの内部、つまり７つの上部ヒータユニット４Ａの第２端（右端）を収容する空間は、略密閉空間であり、不活性ガスＧあるいはバーンアウト用の圧縮空気Ｋ等を回収するガス回収室Ｃ１である。
【００２７】
受部材６ｂは、上部ヒータユニット４Ａの第２端（右端）の荷重を受ける絶縁材である。受部材６ｂは、上述した受部材５ｂと同様に上部にＶ字状の溝が形成された略直方体状の成形体であり、このＶ字状の溝に上部ヒータユニット４Ａの第２端（右端）が係合した状態で載置される。
【００２８】
下電極部７は、下部ヒータユニット４Ｂの第１端（左端）を支持する構造体であり、図１及び図３Ａ、３Ｂに示すようにチャンバー１の左下部に、８つの下部ヒータユニット４Ｂの第１端（左端）を全体として覆うように設けられている。下電極部７は、囲い部材７ａ及び８つの受部材７ｂ等を備えている。
【００２９】
囲い部材７ａは、略直方体状に形成された金属部材であり、８つの下部ヒータユニット４Ｂの第１端（左端）を全体として囲むようにチャンバー１の左下部に設けられている。囲い部材７ａの内部、つまり８つの下部ヒータユニット４Ｂの第１端（左端）を収容する空間は、略密閉空間であり、ガス供給部１１から不活性ガスＧあるいはバーンアウト用の圧縮空気Ｋが供給されるガス供給室Ｓ２である。
【００３０】
受部材７ｂは、各下部ヒータユニット４Ｂに対応して設けられており、下部ヒータユニット４Ｂの第１端（左端）の荷重を受ける絶縁材である。受部材５ｂは、図３Ａに示すように上部にＶ字状の溝が形成された略直方体状の成形体であり、このＶ字状の溝に下部ヒータユニット４Ｂの第１端（左端）が係合した状態で載置されている。
【００３１】
下アース部８は、下部ヒータユニット４Ｂの第２端（右端）を支持する構造体であり、図１に示すようにチャンバー１の右下部に、８つの下部ヒータユニット４Ｂの第２端（右端）を全体として覆うように設けられている。下アース部８は、囲い部材８ａ及び各下部ヒータユニット４Ｂに対応して設けられた８つの受部材８ｂ等を備えている。
【００３２】
囲い部材８ａは、略直方体状に形成された部材であり、８つの下部ヒータユニット４Ｂの第２端（右端）を全体として囲むようにチャンバー１の右下部に設けられている。囲い部材８ａの内部、つまり８つの下部ヒータユニット４Ｂの第２端（右端）を収容する空間は、略密閉空間であり、不活性ガスＧあるいはバーンアウト用の圧縮空気Ｋを回収するガス回収室Ｃ２である。
【００３３】
受部材８ｂは、下部ヒータユニット４Ｂの第２端（右端）の荷重を受ける絶縁材である。受部材８ｂは、上述した受部材６ｂと同様に上部にＶ字状の溝が形成された略直方体状の成形体であり、このＶ字状の溝に下部ヒータユニット４Ｂの第２端（右端）が係合した状態で載置されている。
【００３４】
浸炭ガス管９は、浸炭ガスを浸炭室Ｐ内に導入するための管状部材である。浸炭ガス管９の先端が浸炭室Ｐ内に開口し、浸炭ガス管９の後端が浸炭ガス供給部１３に連通する。浸炭ガス管９は、浸炭ガス供給部１３から供給された所定流量の浸炭ガスを浸炭室Ｐに吐出する。排気管１０は、一端が浸炭室Ｐに開口し、他端が真空ポンプ（図示略）に接続された管状部材である。排気管１０は、浸炭室Ｐ内のガス（浸炭ガスや浸炭ガスが熱分解した熱分解ガス等）を真空ポンプを介して外部に排気する。
【００３５】
ガス供給部１１は、２つのガス供給室Ｓ１，Ｓ２に接続されており、ガス供給室Ｓ１，Ｓ２に不活性ガスＧあるいはバーンアウト用の圧縮空気Ｋを供給する。なお、不活性ガスＧは、例えば常圧以上の所定圧に加圧された窒素ガス（Ｎ２）であり、また圧縮空気Ｋは、常圧以上の所定圧に加圧された空気である。ガス回収部１２は、２つのガス回収室Ｃ１，Ｃ２に接続されており、ガス回収室Ｃ１，Ｃ２の不活性ガスＧあるいは圧縮空気Ｋ等を回収する。浸炭ガス供給部１３は、浸炭ガス管９を介して浸炭室Ｐに浸炭ガスを供給する。浸炭ガスは、例えばアセチレンガス（Ｃ２Ｈ２）である。
【００３６】
次に、本実施形態に係る浸炭装置Ａの動作について詳しく説明する。
浸炭装置Ａを用いて被処理物Ｘに浸炭処理を施す場合、被処理物Ｘはチャンバー１に備えられた開閉ドアを開放することにより、浸炭室Ｐに収容されて炉床３上に載置される。そして、開閉ドアが閉鎖されることによって、浸炭室Ｐは密閉状態となる。この状態で真空ポンプが作動することによって浸炭室Ｐは所定圧力（浸炭圧）に設定される。
【００３７】
また、真空ポンプによる浸炭室Ｐの真空引きに並行して、加熱用電源から各ヒータユニット４（上部ヒータユニット４Ａ及び下部ヒータユニット４Ｂ）に電力が供給されることにより、浸炭室Ｐが所定温度（浸炭温度）まで加熱される。そして、このような圧力環境及び温度環境において浸炭ガス供給部１３が作動することにより浸炭ガス管９から浸炭室Ｐに所定流量の浸炭ガスが連続的に供給され、また真空ポンプが作動することによって浸炭室Ｐに存在するガスが排気管１０から外部に排気される。すなわち、浸炭ガス供給部１３及び真空ポンプが同時に作動することによって浸炭室Ｐは所定の浸炭圧に維持される。
【００３８】
そして、浸炭室Ｐが所定時間（浸炭時間）に亘って浸炭圧及び浸炭温度に維持され、この間に浸炭ガスに由来する炭素原子が被処理物Ｘの表面から内部に浸入することによって、被処理物Ｘの表面から所定深さ（浸炭深さ）に亘る浸炭層が形成される。すなわち、浸炭室Ｐでは、浸炭ガスが熱分解することにより炭素原子と熱分解ガスが生成され、この熱分解によって生成された炭素原子（炭素）の一部が浸炭層を形成する。
【００３９】
浸炭装置Ａでは、浸炭層の形成と並行してガス供給部１１が作動することにより圧縮状態の不活性ガスＧが上電極部５及び下電極部７に供給され、またガス回収部１２が作動することにより上アース部６及び下アース部８から不活性ガスＧが回収される。すなわち、各ヒータユニット４（上部ヒータユニット４Ａ及び下部ヒータユニット４Ｂ）におけるヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間には、不活性ガスＧが上電極部５から上アース部６に向けて、また下電極部７から下アース部８に向けて常に流通している。
【００４０】
一方、浸炭ガスの熱分解によって生成された熱分解ガス及び浸炭ガスの一部は、排気管１０から外部に排気される。例えば、浸炭ガスがアセチレン（Ｃ２Ｈ２）の場合、熱分解ガスとして水素ガス（Ｈ２）が生成され、この水素ガス（Ｈ２）は排気管１０を介して浸炭室Ｐから排気される。
【００４１】
ここで、浸炭ガスの熱分解によって生成された炭素の一部は、各ヒータユニット４（上部ヒータユニット４Ａ及び下部ヒータユニット４Ｂ）のヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間に侵入して煤化する。この煤（炭素）は、導電性であり、ヒータ本体４ａの電気抵抗を変化させ得る物質である。すなわち、浸炭装置Ａを長時間に亘って運転した場合に、ヒータ本体４ａの電気抵抗は、煤（炭素）によって初期状態から徐々に変化するので、ヒータ本体４ａの発熱量が徐々に変化し得る。この場合に浸炭装置Ａでは浸炭室Ｐを所望の浸炭温度に加熱することが困難になる。
【００４２】
本実施形態に係る浸炭装置Ａでは、被処理物Ｘの浸炭処理中において各ヒータユニット４（上部ヒータユニット４Ａ及び下部ヒータユニット４Ｂ）におけるヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間に不活性ガスＧが常時流通するので、ヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間に煤（炭素）が堆積することを抑制あるいは防止することができる。したがって、本実施形態によれば、ヒータ本体４ａの表面に煤（炭素）が付着することを抑制あるいは防止することが可能である。
【００４３】
本実施形態によれば、浸炭処理中にヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間に不活性ガスＧを流通させるので、ヒータ本体４ａへの煤（炭素）の付着を抑制あるいは防止ることが可能であり、以って浸炭装置の稼働率を従来よりも向上させることが可能である。
【００４４】
また、浸炭装置Ａでは、定期的あるいは非定期にバーンアウト処理を行う。すなわち、不活性ガスＧの流通だけではヒータ本体４ａの表面への煤（炭素）の付着を十分に防止できない場合がある。浸炭装置Ａでは、このような懸念を払拭するために、上電極部５及び下電極部７にガス供給部１１から圧縮空気を供給することにより、ヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間に存在する煤（炭素）を上アース部６及び下アース部８に圧送すると共に、上アース部６及び下アース部８から圧縮空気及び煤（炭素）をガス回収部１２に回収する。
【００４５】
このようなバーンアウト処理によれば、ヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間に存在する煤（炭素）が十分に除去され、ヒータ本体４ａの電気抵抗が初期状態に復帰する。すなわち、本実施形態によれば、このバーンアウト処理によって、ヒータ本体４ａへの煤（炭素）の堆積をより確実に防止することができる。
【００４６】
また、本実施形態によれば、不活性ガスＧを上電極部５及び下電極部７に供給して上アース部６及び下アース部８から回収するので、ヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間に存在する煤を効果的に除去することができる。すなわち、ヒータ本体４ａは所定の電気抵抗を有しているので、加熱用電源に接続される上電極部５及び下電極部７は電圧的に高圧側であり、これに対して上アース部６及び下アース部８は電圧的に低圧側である。
【００４７】
このようなヒータ本体４ａの電圧分布に対して、煤は、低圧側よりも高圧側に付着する傾向がある。本実施形態によれば、ヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間を通過する際の圧損の影響のない状態で煤が付着し易い高圧側に不活性ガスＧを供給するので、ヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間に存在する煤を効果的に除去することができる。
【００４８】
なお、本開示は上記実施形態に限定されるものではなく、例えば以下のような変形例が考えられる。
（１）上記実施形態では、複数のヒータユニット４を断熱容器２内で水平方向に延在すると共に被処理物Ｘを鉛直方向に挟むように配置したが、本開示はこれに限定されない。複数のヒータユニット４を断熱容器２内で鉛直方向に延在すると共に被処理物Ｘを水平方向に挟むように配置してもよい。
【００４９】
（２）上記実施形態では、不活性ガスＧを上電極部５及び下電極部７に供給して上アース部６及び下アース部８から回収するように構成したが、本開示はこれに限定されない。例えばヒータユニット４（ヒータ本体４ａ）の長さが比較的短い場合、つまり浸炭装置Ａの幅が比較的小さい場合には、不活性ガスＧを上アース部６及び下アース部８に供給して上電極部５及び下電極部７から回収するようにしてもよい。
【００５０】
（３）断熱容器２内の下部には炉床３が存在するので、被処理物Ｘの下部は、上部よりも加熱され難い。上記実施形態では、このような事情を考慮し、下部ヒータユニット４Ｂの本数（８本）を上部ヒータユニット４Ａの本数（７本）よりも多くした。しかしながら、本開示はこれに限定されない。上部ヒータユニット４Ａ及び下部ヒータユニット４Ｂの本数を同一としてもよい。
【００５１】
（４）上記実施形態では、被処理物Ｘの浸炭処理中においてヒータ本体４ａと保護管４ｂとの隙間に不活性ガスＧを常時流通させたが、本開示はこれに限定されない。例えば、間欠的に不活性ガスＧを流通させたり、あるいは所定期間に亘る浸炭処理のうち特定の時間帯のみ、例えば浸炭処理の後半の時間帯のみに不活性ガスＧを流通させてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本開示によれば、ヒータへの炭素（煤）の付着を抑制あるいは防止することが可能である。
【符号の説明】
【００５３】
Ａ  浸炭装置
Ｇ  不活性ガス
Ｋ  圧縮空気
Ｓ１，Ｓ２  ガス供給室
Ｃ１，Ｃ２  ガス回収室
Ｐ  浸炭室
Ｘ  被処理物
１  チャンバー１（炉体）
２  断熱容器
３  炉床
４  ヒータユニット
４Ａ  上部ヒータユニット
４Ｂ  下部ヒータユニット
４ａ  ヒータ本体（ヒータ）
４ｂ  保護管（保護部材）
５  上電極部
５ａ  囲い部材
５ｂ  受部材
６  上アース部
６ａ  囲い部材
６ｂ  受部材
７  下電極部
７ａ  囲い部材
７ｂ  受部材
８  下アース部
８ａ  囲い部材
８ｂ  受部材
９  浸炭ガス管
１０  排気管
１１  ガス供給部
１２  ガス回収部
１３  浸炭ガス供給部
【図１】
2019064975.tif 000003
【図２Ａ】
2019064975.tif 000004
【図２Ｂ】
2019064975.tif 000005
【図３Ａ】
2019064975.tif 000006
【図３Ｂ】
2019064975.tif 000007
【国際調査報告】
2019064975.tif 000008
2019064975.tif 000009
2019064975.tif 000010
2019064975.tif 000011