(57)【要約】  帯状の可撓性基板（１）を縦姿勢で横方向に搬送し、前記基板の搬送経路に設置された処理部にて、前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の位置制御装置（１００）は、前記基板の上側縁部を挟持する一対の挟持ローラ（１３１，１３２）と、前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構（１４０）と、前記支持機構を介して前記一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段（１５０）と、前記付勢手段による前記加圧力の調整手段（１６０）とを備えている。前記一対の挟持ローラは、前記基板の挟持面に対する加圧方向が基板幅方向縁端側に向かう傾斜を有しかつ前記挟持面における回転方向が搬送方向と略同方向になるように支持されている。帯状可撓性基板の下垂や皺の発生を抑制でき、高品質の処理を行えると共に、可撓性基板の逆方向への搬送にも対応可能である。
2010087218.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送し、前記基板の搬送経路に設置された処理部にて、前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の位置制御装置であって、
前記基板の上側縁部を挟持する一対の挟持ローラと、
前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構と、
前記支持機構を介して前記一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段と、
前記付勢手段による前記加圧力の調整手段と、を備え、
前記一対の挟持ローラは、前記基板の挟持面に対する加圧方向が基板幅方向縁端側に向かう傾斜を有しかつ前記挟持面における回転方向が前記基板の搬送方向と同方向になるように、前記支持機構によって支持されている、可撓性基板の位置制御装置。
【請求項２】
帯状の可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送しながら、前記基板の搬送経路に設置された処理部にて、前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の位置制御装置であって、
前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構と、
前記支持機構を介して前記一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段と、
前記付勢手段による前記加圧力の調整手段と、を備え、
前記一対の挟持ローラは、それぞれの軸方向が前記基板の挟持面に対して基板幅方向縁端側に向かって離れる傾斜を有しかつ前記挟持面における回転方向が前記基板の搬送方向と同方向になるように、前記支持機構によって支持されている、可撓性基板の位置制御装置。
【請求項３】
前記一対の挟持ローラを構成する各ローラの周面が断面円弧状をなし、かつ、前記支持機構によって、軸方向にオフセットして接離可能に支持されている、請求項１に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項４】
前記一対の挟持ローラを構成する少なくとも一方のローラが、その軸方向に対して傾斜した周面を有する円錐ローラである、請求項１に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項５】
前記一対の挟持ローラを構成する各ローラが、その軸方向に対して傾斜した周面を有する円錐ローラである、請求項２に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項６】
前記一対の挟持ローラは、前記挟持面が基板幅方向に対して傾斜を有するように、前記支持機構によって支持されている、請求項５に記載の薄膜積層体製造装置の基板位置制御装置。
【請求項７】
前記支持機構は、前記一対の挟持ローラの一方または両方を相互に接離する方向に移動可能にする第１リンクと、該挟持ローラを前記基板幅方向に移動可能にする第２リンクとを含み、前記付勢手段は、前記第１リンクを前記挟持ローラの圧接方向に付勢する第１付勢部材と、前記第２リンクを前記基板幅方向縁端側に向かう展張方向に付勢する第２付勢部材とを含み、前記加圧力の調整手段は、前記第２付勢部材の付勢力調整手段を含む、請求項１または２に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項８】
前記支持機構は、前記第１リンクの支持点を、前記基板幅方向に移動可能にする第３リンクをさらに含む、請求項７に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項９】
前記支持機構は、前記一対の挟持ローラの一方または両方を相互に接離する方向に移動可能にする第１リンクと、前記一対の挟持ローラの一方または両方を前記基板幅方向に揺動可能に支持する第２リンクと、前記第２リンクを介して前記一方または両方の挟持ローラを前記基板幅方向縁端側と反対方向に付勢するリターンスプリングとを含み、前記付勢手段は、前記第１リンクを前記挟持ローラの圧接方向に付勢する第１付勢部材を含んでおり、前記一方または両方の挟持ローラは、前記第１付勢部材による加圧力と前記リターンスプリングによる復元力とが平衡した揺動角度で圧接されるように構成されている、請求項１または２に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項１０】
前記基板の前記下側縁部を挟持する一対の下側挟持ローラと、前記支持機構および前記付勢手段と同様に構成された前記一対の下側挟持ローラのための支持機構および付勢手段と、をさらに備えている、請求項１または２に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項１１】
前記処理装置が、前記処理部として前記基板の搬送経路に沿って等ピッチで並設された複数の成膜部を備え、前記基板を前記成膜部に対応したピッチで間欠的に搬送しながら、前記基板の表面に薄膜を順次積層形成する薄膜積層体製造装置であり、前記一対の上側挟持ローラと、前記一対の下側挟持ローラとが、前記複数の成膜部の間に配設されている、請求項１０に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項１２】
前記処理装置が、前記基板を連続的に搬送し、前記処理部としての成膜部にて、前記基板の表面に薄膜を積層形成する薄膜積層体製造装置であり、前記一対の上側挟持ローラと、前記一対の下側挟持ローラとが、前記成膜部の上下に搬送方向に沿って複数列設されている、請求項１０に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項１３】
前記基板の薄膜形成領域と前記複数対の上側挟持ローラとの間および前記複数対の下側挟持ローラとの間でそれぞれ前記基板を支持すべく搬送方向に沿って列設された複数の支持ローラをさらに備えている、請求項１２に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【請求項１４】
帯状の可撓性基板を搬送し、前記基板の搬送経路に設置された処理部にて、前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の位置制御装置であって、
前記基板の各側縁部をそれぞれ挟持する各一対の挟持ローラと、
前記各一対の挟持ローラをそれぞれ回転可能かつ各対において相互に接離可能に支持する各支持機構と、
前記各支持機構を介して前記各一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段と、
前記付勢手段による前記加圧力の調整手段と、を備え、
前記各一対の挟持ローラは、それぞれの軸方向が前記基板の挟持面に対して基板幅方向縁端側に向かって離れる傾斜を有しかつ前記挟持面における回転方向が前記基板の搬送方向と同方向になるように、前記各支持機構によって支持されている、可撓性基板の位置制御装置。
【請求項１５】
前記各一対の挟持ローラを構成する各ローラが、その軸方向に対して傾斜した周面を有する円錐ローラである、請求項１４に記載の可撓性基板の位置制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可撓性基板の位置制御装置に関し、さらに詳しくは、帯状の可撓性基板を搬送しながら成膜などの処理を行なう処理装置において、前記可撓性基板の幅方向位置を制御する制御装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体薄膜などの薄膜積層体の基板には、通常、剛性基板が用いられるが、軽量でロールを介した取り扱いの利便性による生産性向上やコスト低減を目的として、プラスチックフィルムなどの可撓性基板が用いられる場合がある。例えば、特許文献１には、巻出しロールから供給される帯状可撓性基板（ポリイミドフィルム）を所定のピッチで間欠的に搬送しながら、前記可撓性基板の搬送方向に配列された複数の成膜ユニットで、前記可撓性基板上に性質の異なる複数の薄膜を積層形成し、製品ロールとして巻取る薄膜積層体（薄膜光電変換素子）の製造装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−７２４０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような薄膜積層体の製造装置には、横姿勢すなわち帯状可撓性基板の幅方向を水平方向にして搬送しつつ成膜を行なうタイプと、縦姿勢すなわち帯状可撓性基板の幅方向を上下方向にして搬送しつつ成膜を行なうタイプがある。後者は、前者に比べて設置面積が小さく、基板表面が汚染されにくい等の利点があるが、搬送スパンが長くなると、重力に抗して搬送高さを一定に維持するのが困難になり、可撓性基板の表面に皺が発生したり、可撓性基板が垂れ下がったりする傾向が顕著になる。【０００５】
特許文献１には、可撓性基板のステップ搬送における停止期間中に、可撓性基板の上下の側縁部を把持部材（パッド）で把持して幅方向に引張する装置が開示されている。しかし、この装置は、可撓性基板の把持と引張、解放を反復するため、可撓性基板の搬送高さを一定に維持することは困難であり、また、可撓性基板を連続的に搬送しつつ成膜を行なう連続成膜装置には実施できない。【０００６】
そこで、図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、薄膜積層体製造装置を構成する各成膜ユニット２０，２０間に、可撓性基板１の上下の側縁部を挟持する上側および下側挟持ローラ対３０，３０′を配設し、それぞれの挟持ローラの挟持部における回転方向を、可撓性基板１の搬送方向Ｆに対して斜上方および斜下方に向かう偏角＋θ，−θを有するようにして、可撓性基板１の上下の側縁部に上方および下方に向かう持ち上げ力および引き下げ力を作用させ、可撓性基板１の搬送高さを調整する装置が、本発明者らによって開発されている。【０００７】
この装置は、可撓性基板を展張しかつ可撓性基板の搬送高さを調整するうえで有利であるが、可撓性基板の逆方向への搬送を含む往復成膜プロセスには適用できない。可撓性基板を逆方向に搬送すると、上記偏角による持ち上げ力および引き下げ力が逆方向に作用し、各挟持ローラ対３０，３０′から可撓性基板が離脱する問題を生じる。【０００８】
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、帯状可撓性基板を縦姿勢で搬送しつつも可撓性基板の下垂や皺の発生を抑制でき、高品質の処理を可能にすると共に、可撓性基板の逆方向への搬送にも対応可能な可撓性基板の位置制御装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の第1の態様は、帯状の可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送しながら、前記基板の搬送経路に設置された処理部にて、前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の位置制御装置であって、前記基板の上側縁部を挟持する一対の挟持ローラと、前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構と、前記支持機構を介して前記一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段と、前記付勢手段による前記加圧力の調整手段と、を備え、前記一対の挟持ローラは、前記基板の挟持面に対する加圧方向が基板幅方向縁端側に向かう傾斜を有しかつ前記挟持面における回転方向が前記基板の搬送方向と同方向になるように、前記支持機構によって支持されている、可撓性基板の位置制御装置にある。【００１０】
また、上記目的を達成するために、本発明の第２の態様は、帯状の可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送しながら、前記基板の搬送経路に設置された処理部にて、前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の位置制御装置であって、前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構と、前記支持機構を介して前記一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段と、前記付勢手段による前記加圧力の調整手段と、を備え、前記一対の挟持ローラは、それぞれの軸方向が前記基板の挟持面に対して基板幅方向縁端側に向かって離れる傾斜を有しかつ前記挟持面における回転方向が前記基板の搬送方向と同方向になるように、前記支持機構によって支持されている、可撓性基板の位置制御装置にある。【００１１】
上記処理装置において、可撓性基板は、処理部（成膜部）の上流側および下流側それぞれに配置されたフィードロール等の搬送手段により、縦姿勢すなわち幅方向を上下方向にして横方向に搬送され、搬送経路に設置された処理部にて成膜等の処理がなされる。その際、位置制御装置を構成する挟持ローラ対で可撓性基板の上側縁部が挟持される。前記第1の態様では、前記挟持ローラ対は、基板の挟持面に対する加圧方向が基板幅方向縁端側に向かう傾斜を有するので、付勢手段による加圧力は、基板の挟持面に対して垂直な加圧成分と、基板の挟持面に沿って基板縁端側に向かう展張成分を有する。したがって、付勢手段による加圧力を調整し、加圧成分と共に基板縁端側に向かう展張成分（分力）を調整することにより、可撓性基板の上下幅方向の位置が調整され、搬送高さを一定に維持することが可能となる。【００１２】
また、前記第２の態様では、前記挟持ローラ対は、それぞれの軸方向が前記基板の挟持面に対して基板幅方向縁端側に向かって離れる傾斜を有するので、挟持ローラの従動回転によって、基板の挟持面に対して基板縁端側に向かう展張力が生じる。したがって、付勢手段による加圧力を調整し、前記展張力を調整することにより、可撓性基板の上下幅方向の位置が調整され、搬送高さを一定に維持することが可能となる。【００１３】
このように、いずれの態様においても、可撓性基板の上側縁部が縁端側に向かって展張され、搬送スパンの中間部で自重による垂れ下がりや皺が抑制される。しかも、上記制御は、各挟持ローラの挟持面における回転方向に依存せず、挟持面における回転方向が基板の搬送方向と同方向であるので、逆方向の搬送においても同様の位置制御を行なうことができ、可撓性基板の逆方向への搬送を含む往復成膜プロセスなどの各種往復プロセスに低コストで対応可能である。【００１４】
本発明の好適な態様では、前記一対の挟持ローラを構成する各ローラの周面が断面円弧状をなし、かつ、前記支持機構によって、軸方向にオフセットして接離可能に支持されている。この態様では、加圧方向の傾斜が、各挟持ローラの断面形状によって与えられるため、各挟持ローラの軸方向を傾斜させる必要がなく、例えば、挟持状態における各挟持ローラの軸方向を搬送面と平行な鉛直方向に設定でき、支持機構を簡素化するうえで有利である。しかも、各挟持ローラの軸方向を平行に維持した状態で、オフセット量に応じて加圧方向の傾斜角を容易に設定でき、かつ、加圧力を変化させるだけで、基板縁端側に向かう展張成分を広範囲に亘って変化させることができる。【００１５】
本発明の好適な態様では、前記一対の挟持ローラを構成する一方または両方のローラが、その軸方向に対して傾斜した周面を有する円錐ローラである。これらの態様においても、加圧方向の傾斜が、各挟持ローラの断面形状によって与えられるため、支持機構を簡素化するうえで有利であり、かつ、加圧力を変化させるだけで、基板縁端側に向かう展張成分を広範囲に亘って変化させることができる。【００１６】
上記各態様において、前記各一対の挟持ローラは、前記挟持面が基板幅方向に対して傾斜を有するように、前記支持機構によって支持されることが好適である。この態様では、可撓性基板の縁部が、成膜領域を含む基板中央部に対して撓曲された状態で挟持されるので、挟持ローラの接圧に比較して大きな挟持力を得ることができる。【００１７】
本発明の好適な態様では、前記支持機構は、前記一対の挟持ローラの一方または両方を相互に接離する方向に移動可能にする第１リンクと、該挟持ローラを前記基板幅方向に移動可能にする第２リンクとを含み、前記付勢手段は、前記第１リンクを前記挟持ローラの圧接方向に付勢する第１付勢部材と、前記第２リンクを前記基板幅方向縁端側に向かう方向に付勢する第２付勢部材とを含み、前記加圧力の調整手段は、前記第２付勢部材の付勢力調整手段を含む。【００１８】
先述した第1の態様では、付勢手段（付勢部材）の付勢による挟持ローラの加圧方向（接離方向）が、挟持面に対する傾斜を有することで、加圧成分と展張成分（分力）を生じさせる構成であったのに対し、この態様では、挟持面に対して略垂直な接離方向と挟持面に対して略平行な方向との２方向への付勢に対応した２つのリンクおよび付勢部材で加圧力および展張力を個別に発生させる構成により、第１リンクと第１付勢部材による加圧力を略一定に保った状態で、第２リンクまたは第２付勢部材の変位に応じて展張力を変化させ、可撓性基板の縁部を上昇または降下させて、可撓性基板の上下幅方向の位置を調整し、搬送高さを一定に維持することが可能となる。【００１９】
本発明の好適な態様では、前記支持機構は、前記第１リンクの支持点を、前記基板幅方向に移動可能にする第３リンクをさらに含む。この態様では、第３リンクで第１リンクの支持点を変位させることにより、挟持ローラの挟持面上での実体的な移動を伴って可撓性基板を展張させることが可能となり、基板の搬送高さや展張度を一層広範囲に亘って調整することができる。また、第３リンクを加圧時と反対方向に移動させることで、挟持ローラを離反させ、挟持を解除する操作を行える利点もある。【００２０】
本発明の好適な態様では、前記支持機構は、前記一対の挟持ローラの一方または両方を相互に接離する方向に移動可能にする第１リンクと、前記一対の挟持ローラの一方または両方を前記基板幅方向に揺動可能に支持する第２リンクと、前記第２リンクを介して前記一方または両方の挟持ローラを前記基板幅方向縁端側と反対方向に付勢するリターンスプリングとを含み、前記付勢手段は、前記第１リンクを前記挟持ローラの圧接方向に付勢する第１付勢部材を含んでおり、前記一方または両方の挟持ローラは、前記第１付勢部材による加圧力と前記リターンスプリングによる復元力とが平衡した揺動角度で圧接されるように構成されている。【００２１】
この態様では、第１付勢部材による加圧力を調整して前記揺動角度を変化させ、挟持面を基板幅方向に変位させることにより、可撓性基板の上下方向の位置を調整可能である。すなわち、第１付勢部材による加圧力の調整のみで、一対の挟持ローラの挟持面の基板幅方向への変位を伴って可撓性基板を展張しつつ上下幅方向位置を調整可能であり、基板の搬送高さや展張度を一層広範囲に亘って調整することができる。【００２２】
上述した支持機構が複数のリンクおよび付勢部材を含む態様では、前記各挟持ローラのそれぞれに対応したリンクおよび付勢部材が設定されても良い。【００２３】
本発明は、可撓性基板の上下各側に挟持ローラ対が配設される態様をも対象としている。すなわち、本発明の好適な態様では、前記基板の前記下側縁部を挟持する一対の下側挟持ローラと、前記支持機構および前記付勢手段と同様に構成された前記一対の下側挟持ローラのための支持機構および付勢手段と、をさらに備えている。この態様では、前記加圧力の調整により、可撓性基板を幅方向の上下両方向に展張しつつ、上下各側の挟持面に作用する加圧力の展張成分の差によって可撓性基板を上昇または降下させ、搬送高さの制御を行なうことができ、これにより、可撓性基板の皺を効果的に抑制し、可撓性基板の位置精度を一層向上できる。【００２４】
本発明の好適な態様では、前記処理装置が、前記処理部として前記基板の搬送経路に沿って等ピッチで並設された複数の成膜部を備え、前記基板を前記成膜部に対応したピッチで間欠的に搬送しながら、前記基板の表面に薄膜を順次積層形成する薄膜積層体製造装置であり、前記一対の上側挟持ローラと、前記一対の下側挟持ローラとが、前記複数の成膜部の間に配設されている。【００２５】
本発明の好適な態様では、前記処理装置が、前記基板を連続的に搬送しながら、前記処理部としての成膜部にて、前記基板の表面に薄膜を積層形成する薄膜積層体製造装置であり、前記一対の上側挟持ローラと、前記一対の下側挟持ローラとが、前記成膜部の上下に搬送方向に沿って複数列設されている。【００２６】
上記態様において、前記基板の薄膜形成領域と前記複数対の上側挟持ローラとの間および前記複数対の下側挟持ローラとの間でそれぞれ前記基板を支持すべく搬送方向に沿って列設された複数の支持ローラをさらに備えることが好適である。この態様では、加圧力調節のための可動部を含まない耐熱性の支持ローラにより、成膜部の近傍で可撓性基板を確実に支持可能であるとともに、挟持ローラ対群を高温度の成膜部から離隔して配設可能となり、挟持ローラに対する輻射熱の影響を低減でき、挟持ローラの材質選択の自由度を向上するうえで有利である。【００２７】
本発明は、帯状の可撓性基板を、平姿勢など、縦姿勢以外の姿勢で横方向や上下方向あるいは斜方向に搬送し、成膜等の処理を行なう処理装置における可撓性基板の位置制御装置にも適用できる。【００２８】
例えば、上述した本発明の第２の態様は、帯状の可撓性基板を搬送しながら、前記基板の搬送経路に設置された処理部にて、前記基板に処理を行なう処理装置における可撓性基板の位置制御装置であって、前記基板の各側縁部をそれぞれ挟持する各一対の挟持ローラと、前記各一対の挟持ローラをそれぞれ回転可能かつ各対において相互に接離可能に支持する各支持機構と、前記各支持機構を介して前記各一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段と、前記付勢手段による前記加圧力の調整手段と、を備え、前記各一対の挟持ローラは、それぞれの軸方向が前記基板の挟持面に対して基板幅方向縁端側に向かって離れる傾斜を有しかつ前記挟持面における回転方向が前記基板の搬送方向と同方向になるように、前記各支持機構によって支持されている、可撓性基板の位置制御装置としても適用されうる。【００２９】
この態様では、可撓性基板の各側縁部をそれぞれ挟持する各一対の挟持ローラの従動回転によって、各側縁部の挟持面に対してそれぞれ基板縁端側に向かう展張力が生じ、この展張力によって可撓性基板が幅方向に展張される。さらに、この展張力は、それぞれの付勢手段による加圧力に応じて変化するので、各側の付勢手段による加圧力をそれぞれ調整することにより、可撓性基板の幅方向の位置を調整可能であり、可撓性基板を幅方向に展張しつつその蛇行を抑制できる。これらの作用は各挟持ローラの回転方向に依存せず、各挟持面における回転方向が基板の搬送方向と同方向であるので、逆方向の搬送においても同様の位置制御を行なうことができる。【００３０】
この態様においても、前記各一対の挟持ローラを構成する各ローラが、その軸方向に対して傾斜した周面を有する円錐ローラであることが好適である。
【発明の効果】
【００３１】
本発明に係る可撓性基板の位置制御装置は、上述したように、帯状の可撓性基板を搬送しながら成膜等の処理を行なうに際して、可撓性基板の下垂や皺の発生を効果的に抑制でき、幅方向位置を一定に維持して高品質の処理を可能にするとともに、可撓性基板の逆方向への搬送を含む往復プロセスにも低コストで対応可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】（ａ）は薄膜積層体製造装置の一部を示す概略平面図、（ｂ）は概略側面図、（ｃ）は（ｂ）のＡ−Ａ断面図である。
【図２】本発明第１実施形態に係る基板位置制御装置を示す正面図である。
【図３】図２の要部拡大図である。
【図４】（ａ）は本発明第１実施形態に係る基板位置制御装置を実施したステップ式成膜装置の１つの成膜部を示す概略平面図、（ｂ）は概略側面図である。
【図５】図４（ｂ）のＢ−Ｂ断面図である。
【図６】（ａ）は本発明第１実施形態に係る基板位置制御装置を実施した連続式成膜装置の１つの成膜部を示す概略平面図、（ｂ）は概略側面図である。
【図７】図６（ｂ）のＣ−Ｃ断面図である。
【図８】本発明第２実施形態に係る基板位置制御装置を示す正面図である。
【図９】図８の要部拡大図である。
【図１０】本発明第２実施形態に係る基板位置制御装置を連続式成膜装置に実施する場合の変形例を示す搬送方向上流側から見た断面図である。
【図１１】本発明第２実施形態に係る基板位置制御装置を連続式成膜装置に実施する場合の別の変形例を示す搬送方向上流側から見た断面図である。
【図１２】本発明第３実施形態に係る基板位置制御装置を示す正面図である。
【図１３】図１２の要部拡大図である。
【図１４】本発明第４実施形態に係る基板位置制御装置を示す正面図である。
【図１５】図１４の要部拡大図である。
【図１６】本発明第５実施形態に係る基板位置制御装置を示す正面図であり、（ａ）は解除状態、（ｂ）は加圧力作用状態、（ｃ）は展張力作用状態を示している。
【図１７】本発明第６実施形態に係る基板位置制御装置を示す正面図であり、（ａ）は解除状態、（ｂ）は加圧力作用状態、（ｃ）は展張力作用状態を示している。
【図１８】本発明第７実施形態に係る基板位置制御装置を示す正面図であり、（ａ）は加圧開始状態、（ｂ）はその要部拡大図、（ｃ）は展張力作用状態を示している。
【図１９】本発明第８実施形態に係る基板位置制御装置を示す正面図であり、（ａ）は解除状態、（ｂ）は加圧開始状態の要部拡大図、（ｃ）は展張力作用状態を示している。
【図２０】本発明第９実施形態に係る基板位置制御装置を示す正面図である。
【図２１】（ａ）は軸方向の傾斜角が異なる本発明第９実施形態に係る挟持ローラ対の要部拡大図、（ｂ）はその正逆両方向への展張作用を示す模式的な側面図である。
【図２２】（ａ）は本発明第９実施形態に係る基板位置制御装置を実施したステップ式成膜装置の一部を示す概略平面図、（ｂ）は概略側面図、（ｃ）は（ｂ）のＤ−Ｄ断面図である。
【図２３】本発明第９実施形態に係る基板位置制御装置を実施した連続式成膜装置を示す断面図である。
【図２４】本発明第９実施形態に係る基板位置制御装置を別の形態で実施した連続式成膜装置を示す断面図である。
【図２５】本発明第９実施形態に係る基板位置制御装置を実施した他の連続式成膜装置を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、本発明の実施形態について、本発明を太陽電池用の薄膜光電変換素子を構成する薄膜積層体の製造装置の基板位置制御装置に実施する場合を例にとり、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下において、各実施形態に共通または対応する構成には、共通または対応する符号を付すことで説明を省略する場合がある。
【００３４】
（第１実施形態）
図２は、本発明第１実施形態に係る基板位置制御装置１００を示す搬送方向上流側から見た正面図である。薄膜積層体の製造装置は、図１に部分的に示したように、所定の真空度に維持された真空室１０の内部に、帯状の可撓性基板１（フレキシブルフィルム）を、その幅方向を鉛直方向にして水平方向に搬送する搬送手段を備え、可撓性基板１の搬送経路に沿って並設された複数の成膜ユニット２０（成膜部）で、可撓性基板１の表面に薄膜を積層形成するものである。
【００３５】
成膜部の搬送方向上流側および下流側には、搬送手段を構成するフィードロールやテンションロールなどが配設され、さらにそれらの搬送方向上流側および下流側に、可撓性基板１の巻出しロールおよび巻取りロールが配設されている。また、上流側および下流側のフィードロールと成膜部との間には、成膜部の上流側および下流側で可撓性基板１を折り返すように案内し、成膜部での可撓性基板１の直線的な搬送経路を設定するガイドロール（アイドルロール）が配設されている。これらの構成は、従来と同様であるため、図示を省略する。
【００３６】
基板位置制御装置１００は、上記ガイドロール間に張架されて成膜部を通って搬送される可撓性基板１の上下方向の位置を制御し搬送高さを一定に維持するとともに、可撓性基板１を幅方向すなわち上下方向に展張するために、成膜部における搬送経路の上部に配置されており、可撓性基板１の上側縁部を挟持する挟持ローラ１３０対、挟持ローラ１３０対を構成する各ローラ１３１，１３２を回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構１４０、該支持機構１４０を介して挟持ローラ対１３０（１３１，１３２）に加圧力を付与する付勢手段（１５０）および加圧力調整手段（１６０）などで構成される。
【００３７】
本発明第１実施形態に係る基板位置制御装置１００は、挟持ローラ対１３０を構成する各ローラの一方は固定ローラ１３１、他方が可動ローラ１３２であり、固定ローラ１３１は、軸１３１ａで回転可能に支持され、可動ローラ１３２は、軸１３２ａで回転可能に支持されている。固定ローラ１３１の軸１３１ａは、可撓性基板１の搬送面に平行な上下方向に配向され、固定側支持部材１４１の下端部から、搬送方向と直交する方向に突設された略コ字状の支持部１４１ａで上下端部を支持されている。固定側支持部材１４１は、真空室の構造要素１１に固定されている。
【００３８】
一方、可動ローラ１３２の軸１３２ａは、可動側支持部材１４２の先端部から、前記支持部１４１ａに対向して突設された同形状の支持部１４２ａで上下端部を支持され、挟持ローラ対１３０が圧接される作動状態で、固定ローラ１３１の軸１３１ａと平行になるよう設定されている。可動側支持部材１４２は、前記支持部１４２ａを突設した先端部から上方に延びさらに屈曲して前記固定側支持部材１４１の上端部に向かって延び、搬送面の上方に位置したヒンジ部１４２ｂにおいて、固定側支持部材１４１の上端部に揺動可能に連結されており、ヒンジ部１４２ｂを中心とした可動側支持部材１４２の揺動により、可動ローラ１３２が固定ローラ１３１に対して接離可能となっている。
【００３９】
固定側支持部材１４１と可動側支持部材１４２との間には、付勢手段としてスプリング１５０（引張スプリング）が介装されている。スプリング１５０の一端部は、固定側支持部材１４１に連結され、スプリング１５０の他端部は、加圧力調整ネジ１６０を介して可動側支持部材１４２に連結され、この加圧力調整ネジ１６０を回動させてスプリング１５０の初期変位を調整することにより、固定ローラ１３１に対する可動ローラ１３２の加圧力（接圧）を調整可能である。
【００４０】
本発明第１実施形態に係る挟持ローラ対１３０の各ローラ１３１，１３２は、図２および図３に示すように、可撓性基板１を挟持する周面１３１ｂ，１３２ｂが断面円弧状をなし、かつ、軸方向に相互にオフセットしてそれぞれの軸１３１ａ，１３２ａに支持されている。図示を省略するが、各ローラ１３１，１３２は、例えば、金属、セラミック、プラスチックなどで形成されるか、または、それらの材料で形成された芯体の周囲に、ゴムなどの弾性体を被着することにより構成される。
【００４１】
各ローラ１３１，１３２は、それぞれの軸１３１ａ，１３２ａ（支軸）に対して、前記オフセットした軸方向位置に保持されるように、スラスト荷重を受圧可能にベアリングを介して回転自在に支持される。あるいは、それぞれの軸１３１ａ，１３２ａ（回転軸）に対して、前記オフセットした軸方向位置に固着され、各軸１３１ａ，１３２ａが、スラスト荷重を受圧可能にベアリングを介してそれぞれの支持部１４１ａ，１４２ａに回転自在に支持されても良い。
【００４２】
上記構成により、図３に示されるように、可撓性基板１の上側縁部は、軸方向にオフセットした固定ローラ１３１と可動ローラ１３２で、鉛直方向に対して斜めに屈曲された状態で挟持される。このため、基板搬送面と交差するように略水平方向に付与される可動ローラ１３２の加圧力Ｐｘによって、可撓性基板１の挟持面に対して垂直に入力される加圧成分ｐｘに対して、可撓性基板１の挟持面に対して平行な展張成分τｘ（剪断成分）が生じ、この可撓性基板１の縁端に向かう展張成分τｘによって、可撓性基板１の上側縁部が上方に展張される。
【００４３】
可動ローラ１３２による加圧力Ｐｘは、スプリング１５０の弾性変位（ｘ）に比例するので、加圧力調整ネジ１６０を回動してスプリング１５０の初期変位ｘを調整することにより、加圧成分ｐｘと共に展張成分τｘが調整され、可撓性基板１の上側縁部に対する展張力を調整可能であり、この展張力（τｘ）は、可撓性基板１の上側縁部を自重に抗して上昇させる持ち上げ力となることから、可撓性基板１の上側縁部の位置を調整可能である。
【００４４】
なお、図示例では、加圧力の調整手段として手動操作用の加圧力調整ネジ１６０を用い、加圧力を、試験運転などで求めた最適値に予め設定して運転する場合を示したが、加圧力調整ネジ１６０を回動させるかまたはスプリング１５０の支持点を直接もしくは機構を介して間接的に変位させるアクチュエータ、可撓性基板１の上側縁部の位置を検出するセンサ、該センサの検出値に基づいて前記アクチュエータを制御する制御装置を併設し、フィードバック制御により、可撓性基板１の搬送高さを制御可能に構成することもできる。
【００４５】
図４（ａ）（ｂ）および図５は、上記第１実施形態の基板位置制御装置１００を、図１に示したのと同様のステップ成膜方式の製造装置１１０に適用した実施形態を示している。図４には、１つの成膜ユニット２０のみ示されているが、先述したように、共通真空室１０の内部に多数の成膜ユニット２０が搬送方向に沿って並設されている。各成膜ユニット２０は、プラズマＣＶＤなどの化学蒸着（ＣＶＤ）や、スパッタなどの物理蒸着（ＰＶＤ）を行なうための真空蒸着ユニットで構成される。
【００４６】
各成膜ユニット２０は、可撓性基板１を挟んでその両側に対向配置された電極２１（表面に多数の原料ガス噴出孔を有する高周波電極またはターゲット）と、ヒータを内蔵した接地電極２２で構成され、これら電極２１および接地電極２２は、それぞれが、可撓性基板１の搬送面に向かって開口したチャンバーに収容されている。ステップ成膜プロセスでは、１つの成膜ユニット２０に対応したステップ搬送の停止時に、チャンバーを開閉すべく電極２１および／または接地電極２２が進退するので、電極２１と接地電極２２との間には挟持ローラ対１３０を設置できない。
【００４７】
そこで、ステップ成膜方式の製造装置１１０では、成膜ユニット２０を避けてその前後に、すなわち、各成膜ユニット２０の間に、基板位置制御装置１００が設置される。図示例では、搬送経路の上下各側に、それぞれ挟持ローラ対１３０，１３０′を配置している。下側の挟持ローラ対１３０′は、上側の挟持ローラ対１３０と同構造のものを上下反対にして用いることができる。
【００４８】
この態様では、上側挟持ローラ対１３０による可撓性基板１の上側縁部に対する上方への展張力τｘと同時に、下側挟持ローラ対１３０′による可撓性基板１の下側縁部に対する下方への展張力−τｘを作用させ、可撓性基板１を上下両方に展張可能であるとともに、それらの差が、可撓性基板１を自重に抗して持ち上げる力となる。したがって、上下各側の挟持ローラ対１３０，１３０′は、搬送スパンが長い場合など、自重による影響が大きい場合には、上側挟持ローラ対１３０の展張力が下側挟持ローラ対１３０′よりも大きくなる範囲で設定されることになる。
【００４９】
図６（ａ）（ｂ）および図７は、上記第１実施形態の基板位置制御装置１００を、連続成膜方式の製造装置１１２に適用した実施形態を示している。連続成膜方式の製造装置１１２の各成膜部２４でも、可撓性基板１を挟んでその両側に電極２５（ターゲット）と、ヒータを内蔵した接地電極２６とが対向配置される。しかし、これら電極２５および接地電極２６は、可撓性基板１に対して所定のギャップを有して固定されており、非接触で連続成膜を行なう。このため、可撓性基板１上の成膜領域は搬送方向に区分されず、成膜部２４の搬送方向上流側および下流側に、可撓性基板１を案内するロール２３，２３を配置できる。
【００５０】
したがって、連続成膜方式の製造装置１１２では、可撓性基板１の自重による垂下よりも、張力および熱により可撓性基板１に生じる皺を抑制すべく幅方向に展張することに重点が置かれ、図示のように、成膜部２４の上下両側に沿ってそれぞれ複数の上側および下側挟持ローラ対１３０、１３０′が一直線上に列設される。しかし、連続成膜方式の製造装置１１２では、ヒータからの輻射熱により、電極２５周辺が３００℃程度まで温度上昇する。そこで、挟持ローラ対１３０、１３０′への輻射熱の影響を考慮して、電極２５と上下の各挟持ローラ対１３０、１３０′との間に、搬送方向に沿って列設された複数の支持ローラ２７を配設し、各挟持ローラ対１３０、１３０′を電極２５の外に配置している。
【００５１】
支持ローラ２７は、好適には耐熱性が良好な金属ローラで構成され、電極２５の枠部から突設されたブラケット２８の先端に設けた軸２７ａで回転自在に支持されている。また、図７に示すように、上下の各挟持ローラ対１３０、１３０′は、支持ローラ２７よりも搬送面から離れて配置され、可撓性基板１が支持ローラ２７で安定的に支持されようにしている。
【００５２】
（第２実施形態）
次に、図８は、本発明第２実施形態に係る基板位置制御装置２００を示す搬送方向上流側から見た正面図、図９はその要部拡大図である。図示のように、第２実施形態の基板位置制御装置２００の挟持ローラ対２３０を構成する各ローラ２３１，２３２は、それぞれ軸方向に対して傾斜した周面２３１ｂ，２３２ｂを有する円錐ローラであり、挟持ローラ対２３０が相互に圧接される作動状態で、可動ローラ２３２は、その軸２３２ａが、搬送面と平行になるよう設定されているのに対し、固定ローラ２３１の軸２３１ａは、可動ローラ２３２の軸２３２ａと直交する方向に設定されることで、軸方向に対して傾斜したそれぞれの周面２３１ｂ，２３２ｂが、鉛直方向に対して傾斜した挟持面をなして相互に圧接され、可撓性基板１を挟持しつつ送出可能となっている。
【００５３】
また、可動ローラ２３２の軸２３２ａを支持する支持部２４２ａは、可動側支持部材２４２に対してヒンジ部２４２ｅを介して回動可能に支持され、かつ、支持部２４２ａの他端２４２ｄに、上下両側から当接可能に設けた調整ネジ２６１，２６２を調整することによって、固定ローラ２３１に対する可動ローラ２３２の位置を調節可能としている。
【００５４】
各挟持ローラ２３１，２３２は、それぞれの軸２３１ａ，２３２ａ（支軸）に、スラスト荷重を受圧可能にベアリングを介して回転自在に支持されるか、もしくは、それぞれの軸２３１ａ，２３２ａ（回転軸）に対して軸方向に固定され、各軸２３１ａ，２３２ａが、スラスト荷重を受圧可能にベアリングを介してそれぞれの支持部２４１ａ，２４２ａに回転自在に支持される点を含め、他の構成は、第１実施形態と同様である。
【００５５】
上記構成により、図９に示されるように、可撓性基板１の上側縁部は、固定ローラ２３１と可動ローラ２３２により、鉛直方向に対して斜めに屈曲された状態で挟持され、略水平方向に付与される可動ローラ２３２の加圧力Ｐｘによって、可撓性基板１の挟持面に対して垂直に入力される加圧成分ｐｘに対し、可撓性基板１の挟持面に沿った展張成分τｘ（剪断成分）が生じ、この可撓性基板１の縁端に向かう展張成分τｘによって、可撓性基板１の上側縁部が上方に展張されることになり、先述した第１実施形態と同様、スプリング２５０の初期変位ｘを調整することで、加圧成分ｐｘと共に展張成分τｘが調整され、可撓性基板１の上側縁部の位置を調整可能である。
【００５６】
第２実施形態の基板位置制御装置２００も、第１実施形態と同様に、ステップ成膜方式の製造装置および連続成膜方式の製造装置に実施可能であり、図１０および図１１は、基板位置制御装置２００を連続成膜方式の製造装置に実施する場合の変形例を示している。
【００５７】
図１０に示す変形例２０２では、電極２５および接地電極２６（ヒータ）に隣接した各挟持ローラ２３１，２３２の固定側および可動側支持部材２４１，２４２に、輻射熱保護カバー２４１ｃ，２４２ｃを設けることで、支持ローラ（２７）を省略し、構造の簡素化を図っている。輻射熱保護カバー２４１ｃ，２４２ｃは、好適には、耐熱性および断熱性を有する部材で構成され、また、各挟持ローラ２３１，２３２の直径に対し、搬送方向上流側および下流側に延出され、隣接する挟持ローラ２３１，２３２の輻射熱保護カバー２４１ｃ，２４２ｃ同士が相互に近接配置されることが好ましい。この変形例は、先述した第１実施形態を始め、後述する他の実施形態にも適用可能である。
【００５８】
また、図１１に示す変形例２０３では、固定側支持部材２４１の支持部２４１ａから下方に突設した支軸２７ａに支持ローラ２７を回転自在に取付けることで、支持ローラ２７のブラケット（２８）を省略する一方、可動側支持部材２４２に輻射熱保護カバー２４２ｃを設けることで、構造の簡素化を図っている。この変形例は、先述した第１実施形態の基板位置制御装置１００を始め、挟持ローラ対に固定ローラを含む各実施形態に適用可能である。
【００５９】
（第３実施形態）
次に、図１２は、本発明第３実施形態に係る基板位置制御装置３００を示す搬送方向上流側から見た正面図、図１３はその要部拡大図である。第３実施形態の基板位置制御装置３００の挟持ローラ対３３０を構成する各ローラ３３１，３３２は、相互に形状が異なっている。固定ローラ３３１は、軸方向に平行な周面３３１ｂを有する円筒ローラであり、軸３３２ａが鉛直方向に設定されている。
【００６０】
これに対し、可動ローラ３３２は、軸方向に対して傾斜した周面３３２ｂを有する円錐ローラであり、作動状態で、傾斜した周面３３２ｂが、固定ローラ３３１の平行な周面３３１ｂに沿って圧接されるように、軸３３２ａが、周面３３２ｂに応じた傾斜を有するように設定されている。さらに、可動ローラ３３２を回転自在に支持する可動側支持部材３４２は、固定側支持部材３４１の上端から可動ローラ３３２側に延出した延出部でヒンジ部３４２ｂを介して揺動可能に連結されており、ヒンジ部３４２ｂを中心とした可動側支持部材３４２の揺動により、可動ローラ３３２が固定ローラ３３１に対して接離可能となっている。
【００６１】
固定側支持部材３４１と可動側支持部材３４２との間に、付勢手段としてスプリング３５０が介装され、スプリング３５０の端部が加圧力調整ネジ３６０を介して可動側支持部材３４２に連結される点は、第１および第２実施形態と同様であるが、本実施形態では、可動側支持部材３４２の揺動方向に沿ってスプリング３５０が斜めに張架され、加圧力調整ネジ３６０も斜めに螺合されている。
【００６２】
上記構成により、可撓性基板１の上側縁部は固定ローラ３３１と可動ローラ３３２により平坦な状態で挟持されるものの、可撓性基板１の搬送面からオフセットしたヒンジ部３４２ｂを中心として斜上方に向かう可動ローラ３３２の加圧力Ｐｘによって、可撓性基板１の挟持面に対して垂直すなわち略水平に入力される加圧成分ｐｘと、可撓性基板１の挟持面に対して平行な展張成分τｘ（剪断成分）が生じ、この展張成分τｘによって、可撓性基板１の上側縁部が上方に展張され、先述した各実施形態と同様に、スプリング３５０の初期変位ｘを調整することで、加圧成分ｐｘと共に展張成分τｘが調整され、可撓性基板１の上側縁部の位置を調整可能である。
【００６３】
（第４実施形態）
次に、図１４は、本発明第４実施形態に係る基板位置制御装置４００を示す搬送方向上流側から見た正面図、図１５はその要部拡大図である。第４実施形態の基板位置制御装置４００の挟持ローラ対４３０を構成する各ローラ４３１，４３２は、いずれも円錐ローラで構成され、かつ、いずれも可動ローラ４３１，４３２であり、それぞれ、可動側支持部材４４１，４４２の先端部４４１ａ，４４２ａに設けた軸４３１ａ，４３２ａで回転自在に支持されている。各可動ローラ４３１，４３２が相互に圧接される作動状態で、可撓性基板１の上側縁部が搬送面に対して平坦な挟持面で挟持されるように、各可動ローラ４３１，４３２の軸４３１ａ，４３２ａは、挟持面に対して周面４３１ｂ，４３２ｂの傾斜に応じて斜めに配向されている。
【００６４】
可動側支持部材４４１，４４２は、Ｌ字状に屈曲した中間部において、固定ブラケット４７０に対して固定された軸４７１，４７２により揺動可能に支持され、かつ、付勢手段としてスプリング４５０が介装されている。スプリング４５０の一方の端部が加圧力調整ネジ４６０を介して可動側支持部材４４２に連結される点は、前記各実施形態と同様である。
【００６５】
さらに、可動側支持部材４４１，４４２は、それぞれの中間部（軸４７１，４７２）から搬送面の上方に延出した腕部４４１ｃ，４４２ｃの交差部分に、相互に摺動かつ回動可能に係合するピン４４７ａと長孔４４７ｂが設けられており、一方の可動側支持部材４４１の操作部４４１ｄを、スプリング４５０の付勢力に抗して下方に押圧操作することで、可動ローラ４３１，４３２を相互に離反させることができ、押圧操作を解除すれば、ピン４４７ａと長孔４４７ｂの上記係合によって、一対の可動側支持部材４４１，４４２が相互に連動し、スプリング４５０の付勢力によって一対の可動ローラ４３１，４３２が相互に圧接され、可撓性基板１の上側縁部を挟持可能である。
【００６６】
上記のように構成された第４実施形態の基板位置制御装置４００では、可撓性基板１の上側縁部が一対の可動ローラ４３１，４３２により平坦な状態で挟持されるものの、可撓性基板１の搬送面から共にオフセットされた軸４７１，４７２を中心として相互に斜上方に向かう加圧力Ｐｘ，Ｐｘによって、可撓性基板１の挟持面に対して垂直すなわち略水平に入力される加圧成分ｐｘ，ｐｘと、可撓性基板１の挟持面に対して平行な展張成分τｘ，τｘとが生じ、この展張成分τｘ，τｘによって、可撓性基板１の上側縁部が上方に展張され、先述した各実施形態と同様に、スプリング４５０の初期変位ｘを調整することで、加圧成分ｐｘ，ｐｘと共に展張成分τｘ，τｘが調整され、可撓性基板１の上側縁部の位置を調整可能である。
【００６７】
上述した第１〜第４実施形態の基板位置制御装置では、いずれも１つの付勢手段（スプリング）による挟持ローラ対の加圧方向（接離方向）が、挟持面に対して可撓性基板１の縁端側に向かう傾斜を有することによって、挟持面に垂直な加圧成分ｐｘと、挟持面と平行な展張成分τｘ、すなわち分力を生じさせる構成であった。これに対し、以下に述べる第５〜第８実施形態の基板位置制御装置では、支持機構が、挟持面に対して略垂直な挟持ローラ対５３０の接離方向と、挟持面に対して略平行な展張方向の２方向への付勢に対応した２つのリンクと２つの付勢部材とを備える構成により、加圧力ｐｘと展張力τｘを個別に発生させ、個別に調整できる点に特徴がある。加圧力ｐｘと展張力τｘの合力が、挟持面に対して傾斜方向に作用するＰｘに相当すると見ることもできる。以下、本発明の第５〜第８実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００６８】
（第５実施形態）
図１６は、本発明第５実施形態に係る基板位置制御装置５００を示す搬送方向上流側から見た正面図であり、（ａ）は挟持ローラ対５３０の解除状態、（ｂ）は該挟持ローラ対５３０による加圧力作用状態、（ｃ）は展張力作用状態を示している。第５実施形態の基板位置制御装置５００の挟持ローラ対５３０を構成する固定ローラ５３１，可動ローラ５３２は、共に円筒ローラとして図示されているが、いずれかまたは両方を、断面円弧状ローラや円錐ローラとすることもできる。固定ローラ５３１は第３実施形態と同様である。
【００６９】
可動ローラ５３２は、第２リンク５４２先端の支持部５４２ａに、軸５３２ａを介して回転可能かつ軸方向に移動不可能に支持されている。第２リンク５４２は、その基端のヒンジ部５４２ｂにおいて第１リンク５４４の先端に揺動可能に支持され、かつ、第１リンク５４４との間に介装された第２スプリング５５２（展張スプリング）によって、展張方向すなわち可撓性基板１の幅方向縁端側となる図中上方に付勢され、図１６（ａ）に示す挟持ローラ対５３０の解除状態では、第１リンク５４４に設けたストッパー５４４ａに当接している。
【００７０】
第１リンク５４４は、その長手方向中間のヒンジ部５４４ｂにおいて、第３リンク５４６の先端に揺動可能に支持され、かつ、ヒンジ部５４４ｂよりも先端側（図示例では第２スプリング５５２の連結点）と固定側支持部材５４１との間に加圧力調整ネジ５６０を介して介装された第１スプリング５５０（加圧スプリング）によって、固定側支持部材５４１に近接する方向に付勢されている。第３リンク５４６は、その基端部において、固定ブラケット５７０に対して固定された軸５７１で揺動可能に支持され、その他端の操作部５４６ａには、図示しない駆動手段により昇降操作される操作部材５４８が連結されている。
【００７１】
上記構成により、第５実施形態の基板位置制御装置５００は、図１６（ａ）に示す挟持ローラ対５３０の解除状態では、操作部材５４８が降下し、第３リンク５４６は、軸５７１を中心に図中下方に揺動しており、この状態で、第１リンク５４４の他端側に延設された操作部５４４ｃを、第１スプリング５５０の付勢力に抗して図中左方向に押圧５４４ｄすることにより、第１リンク５４４がヒンジ部５４４ｂを中心に図中反時計方向に回動し、可動ローラ５３２が固定ローラ５３１から離反しており、それらの間に可撓性基板１を導入可能である。
【００７２】
この状態から、先ず、操作部５４４ｃの押圧５４４ｄを解除すると、第１リンク５４４がヒンジ部５４４ｂを中心に図中時計方向に回動し、図１６（ｂ）に示すように、可動ローラ５３２が第１スプリング５５０による所定の加圧力で固定ローラ５３１に圧接され、それらの間に可撓性基板１が挟持される。しかし、第３リンク５４６が依然として降下位置にあり、ストッパー５４４ａにより第２リンク５４２の上方への揺動が規制されていることにより、可動ローラ５３２が固定ローラ５３１に対して下方に変位して圧接されている。
【００７３】
次いで、この状態から、図１６（ｃ）に示すように、操作部材５４８により、第３リンク５４６の操作部５４６ａを上昇させると、第３リンク５４６の図中上方への回動によって、第１リンク５４４のヒンジ部５４４ｂも上方に移動し、第１リンク５４４が上方に引き上げられる。それに伴い、第２リンク６４２がストッパー５４４ａから開放され、第２スプリング５５２の付勢力（展張力）によって可動ローラ５３２が図中上方に付勢され、可撓性基板１の挟持面に展張力τｘが作用し、該展張力τｘによって、可撓性基板１の上側縁部が上方に展張される。
【００７４】
第５実施形態の基板位置制御装置５００では、加圧力調整ネジ５６０で第１スプリング５５０の初期変位ｘを調整し、挟持ローラ対５３０の加圧力Ｐｘを調整可能であるが、加圧力Ｐｘは、挟持面に垂直に付加されるため、それ自体は傾斜方向成分を有さない。しかし、加圧力Ｐｘの調整により挟持面での摩擦力が変化し、展張力τｘに反映される。また、図示例では、操作部材５４８が上昇限度であるピン５７４に当接しているが、ピン５７４の範囲内において、操作部材５４８の上下方向の位置を調整または制御可能に構成し、展張力τｘの調整または制御を行なうこともできる。あるいは、第２スプリング５５２の一端に、第１スプリング５５０と同様の加圧力調整ネジを設け、第２スプリング５５２の初期変位ｘを調整することで、展張力τｘを調整可能としても良い。
【００７５】
（第６実施形態）
次に、図１７は、本発明第６実施形態に係る基板位置制御装置６００を示す搬送方向上流側から見た正面図であり、（ａ）は挟持ローラ対６３０の解除状態、（ｂ）は該挟持ローラ対６３０による加圧力作用状態、（ｃ）は展張力作用状態を示している。第６実施形態の基板位置制御装置６００は、基本的な操作は第５実施形態と同様であるが、挟持ローラ対６３０を構成する各ローラ６３１，６３２が、何れも可動ローラであり、相互に接離する方向および展張作用に係る上下方向に揺動可能に構成されている。
【００７６】
可動ローラ６３１，６３２は、それぞれ、第２リンク６４１，６４２の各支持部６４１ａ，６４２ａに、軸６３１ａ，６３２ａを介して回転可能かつ軸方向に移動不可能に支持されている。第２リンク６４１，６４２は、それぞれの基端のヒンジ部６４１ｂ，６４２ｂにおいて、第１リンク６４３，６４４の先端にそれぞれ揺動可能に支持され、かつ、それぞれの第１リンク６４４との間に介装された第２スプリング６５１，６５２（展張スプリング）によって、展張方向すなわち可撓性基板１の幅方向縁端側となる図中上方に付勢され、図１７（ａ）に示す挟持ローラ対６３０の解除状態では、それぞれの第１リンク６４３，６４４に設けたストッパー６４３ａ，６４４ａに当接している。
【００７７】
第１リンク６４３，６４４は、それぞれの長手方向中間のヒンジ部６４３ｂ，６４４ｂにおいて、第３リンク６４５，６４６の先端にそれぞれ揺動可能に支持され、かつ、ヒンジ部６４３ｂ，６４４ｂよりも先端側において、加圧力調整ネジ６６０を介して第１スプリング６５０（加圧スプリング）が介装され、該第１スプリング６５０によって、相互に近接する方向に付勢されている。また、一方の第１リンク６４４は、ヒンジ部６４４ｂからさらに延設された操作部６４４ｃを有している。
【００７８】
第３リンク６４５，６４６は、それぞれの基端部において、固定ブラケット６７０に対して固定された共通の軸６７１で揺動可能に支持され、かつ、ピン６７３，６７４によって、それぞれの揺動範囲が規制されている。一方の第３リンク６４５は、基端部からさらに延設された操作部６４５ａを有し、該操作部６４５ａには、図示しない駆動手段により昇降操作される操作部材６４８が連結されている。
【００７９】
上記構成により、第６実施形態の基板位置制御装置６００は、図１７（ａ）に示す挟持ローラ対６３０の解除状態では、操作部材６４８が上昇し、各第３リンク６４５、６４６は、共に図中下方に揺動し、それぞれの他端側がピン６７３，６７３に当接する降下位置にある。この状態で、第１リンク６４４の操作部６４４ｃを、第１スプリング６５０の付勢力に抗して図中左方向に押圧６４４ｄすることにより、一方の可動ローラ６３２が他の可動ローラ６３１から離反し、それらの間に可撓性基板１を導入可能である。
【００８０】
この状態から、操作部６４４ｃの押圧６４４ｄを解除すると、第１リンク６４４がヒンジ部６４４ｂを中心に図中時計方向に回動し、図１７（ｂ）に示すように、可動ローラ６３２が第１スプリング６５０による所定の加圧力で他の可動ローラ６３１に圧接され、それらの間に可撓性基板１が挟持される。先述した第５実施形態では、一対の挟持ローラの位置が上下にずれていたが、この第６実施形態では、一対の挟持ローラ６３１，６３２の支持機構６４０の各リンクが、搬送面について対称にレイアウトされているため、ずれは生じず、挟持ローラ６３１，６３２は、同じ高さ位置（降下位置）にあって、可撓性基板１を挟持している。
【００８１】
次いで、操作部材６４８により、一方の第３リンク６４５の操作部６４６ａを降下させると、図１７（ｃ）に示すように、各第３リンク６４５，６４６先端のヒンジ部６４３ｂ，６４４ｂが共に図中上方に揺動し、各第１リンク６４３，６４４が上方に引き上げられる。これに伴い、各第２リンク６４１，６４２が対応するストッパー６４３ａ，６４４ａから開放され、それぞれの第２リンク６４１，６４２に、第２スプリング６５１，６５２の付勢力が負荷されることにより、各可動ローラ６３１，６３２が共に図中上方に付勢され、可撓性基板１の挟持面に作用する展張力τｘによって、可撓性基板１の上側縁部が上方に展張される。
【００８２】
第６実施形態の基板位置制御装置６００においても、先述した第５実施形態と同様、加圧力調整ネジ６６０による第１スプリング６５０の初期変位ｘの調整、操作部材６４８の上下方向位置の調整または制御、第２スプリング６５１，６５２に付設される加圧力調整ネジなどにより、展張力τｘを調整できる。
【００８３】
（第７実施形態）
次に、図１８は、本発明第７実施形態に係る基板位置制御装置７００を示す搬送方向上流側から見た正面図であり、（ａ）（ｂ）は挟持ローラ対７３０による加圧開始状態、（ｃ）は展張力作用状態を示している。第７実施形態の基板位置制御装置７００の挟持ローラ対７３０は、固定ローラ７３１と可動ローラ７３２とで構成され、図示例では何れも円筒ローラとしているが、いずれかまたは両方を円錐ローラとすることもできる。
【００８４】
可動ローラ７３２は、第２リンク７４２先端の支持部７４２ａに、軸７３２ａを介して回転可能かつ軸方向に移動不可能に支持されている。第２リンク７４２は、その中間のヒンジ部７４２ｂにおいて第１リンク７４４の先端に揺動可能に支持され、かつ、ヒンジ部７４２ｂを越えた他端部７４２ｃと、第１リンク７４４の延出部７４４ｃとの間には、可動ローラ７３２を、可撓性基板１の展張方向とは反対方向となる図中下方に付勢するリターンスプリング７５２が介装されている。リターンスプリング７５２の付勢力（復元力）は、延出部７４４ｃに螺合する調整ネジ７６４で調節可能である。
【００８５】
第１リンク７４４は、中間で屈曲したＬ字状をなし、上端のヒンジ部７４４ｂにおいて、固定側支持部材７４１の上端に揺動可能に支持され、かつ、固定側支持部材７４１との間に加圧力調整ネジ７６０を介して介装された第１スプリング７５０（加圧スプリング）によって、固定側支持部材７４１に近接する方向に付勢されている。
【００８６】
上記構成により、第７実施形態の基板位置制御装置７００は、挟持ローラ対７３０が相互に離反した解除状態から加圧開始状態においては、図１８（ａ）に示すように、リターンスプリング７５２の付勢により、第２リンク７４２は、支持部７４２ａの角が第１リンク７４４の内側に当接または近接する位置に角変位しており、可動ローラ７３２は、固定ローラ７３１の周面７３１ｂに傾斜した状態で当接し、それらの間に可撓性基板１が挟持される。
【００８７】
この状態で、可動ローラ７３２が、第１スプリング７５０による所定の加圧力Ｐｘで固定ローラ７３１に圧接されると、可動ローラ７３２には、図１８（ｂ）に示すように、リターンスプリング７５２の付勢力に抗して角変位を解消するような、第２リンク７４２のヒンジ部７４２ｂを中心とする回転力を生じ、この回転力は、可撓性基板１の挟持面に沿って図中上方に向かう展張力τｘ（剪断力）として作用し、該展張力τｘによって、可撓性基板１の上側縁部が上方に展張される。
【００８８】
したがって、第７実施形態の基板位置制御装置７００では、可撓性基板１の上側縁部に対する上記展張力τｘは、第１スプリング７５０の加圧力Ｐｘと、リターンスプリング７５２の復元力との差に比例するので、加圧力調整ネジ７６０で第１スプリング７５０の初期変位ｘを調整し、挟持ローラ対７３０の加圧力Ｐｘを調整すること、および／または調整ネジ７６４でリターンスプリング７５２の復元力を調整することによって、展張力τｘを調整可能である。
【００８９】
（第８実施形態）
次に、図１９は、本発明第８実施形態に係る基板位置制御装置８００を示す搬送方向上流側から見た正面図であり、（ａ）は挟持ローラ対８３０の解除状態、（ｂ）は該挟持ローラ対８３０による加圧力作用状態、（ｃ）は展張力作用状態を示している。上記第７実施形態では、固定ローラ（７３１）が固定側支持部材（７４１）に固定的に支持されていたのに対し、第８実施形態の基板位置制御装置８００では、固定ローラ８３１が、固定側支持部材８４３に第２リンク８４１を介して支持され、可撓性基板１の展張方向に限定的に揺動可能であるとともに、上記固定側の第２リンク８４１は、可動側の第２リンク８４２と同様に、ヒンジ部８４１ｂを越えた他端部８４１ｃと、固定側支持部材８４３の延出部８４３ｃとの間に、調整ネジ８６３を伴うリターンスプリング８５３が介装されている。
【００９０】
上記構成により、第８実施形態の基板位置制御装置８００は、挟持ローラ対８３０が相互に離反した解除状態では、図１９（ａ）に示すように、リターンスプリング８５３，８５４の付勢により、それぞれの第２リンク８４１，８４２は、支持部８４１ａ，８４２ａの角が固定側支持部材８４３または第１リンク８４４の内側に当接する位置に角変位している。
【００９１】
このような解除状態から、第１スプリング８５０による所定の加圧力Ｐｘで、可動ローラ８３２が固定ローラ８３１に圧接されると、先ず、図１９（ｂ）に示すように、固定ローラ８３１と可動ローラ８３２とが、共に傾斜した状態で当接し、それぞれの周面８３１ｂ，８３２ｂの上端側で可撓性基板１が挟持され、さらに、固定ローラ８３１および可動ローラ８３２には、それぞれ、リターンスプリング８５３，８５４の付勢力に抗して角変位を解消するような、第２リンク８４１，８４２のヒンジ部８４１ｂ，８４２ｂを中心とする回転力を生じ、この回転力は、可撓性基板１の挟持面に沿って図中上方に向かう展張力τｘとして作用し、該展張力τｘによって、可撓性基板１の上側縁部が上方に展張される。
【００９２】
したがって、第８実施形態の基板位置制御装置８００では、可撓性基板１の上側縁部に対する上記展張力τｘは、挟持面自体を上方に移動させる作用を伴うことになる。展張力τｘの調整は、前記同様に、加圧力調整ネジ８６０による第１スプリング８５０の初期変位ｘ調整、および／または調整ネジ８６３，８６４によるリターンスプリング８５３，８５４の調整によって行うことができる。
【００９３】
（第９実施形態）
次に、図２０は、本発明第９実施形態に係る基板位置制御装置９００を示す搬送方向上流側から見た正面図である。第９実施形態の基板位置制御装置９００の挟持ローラ対９３０を構成する各ローラ９３１，９３２は、いずれも軸方向に対して傾斜した周面９３１ｂ，９３２ｂを有する円錐ローラであり、一方が固定ローラ９３１、他方が可動ローラ９３２である。各挟持ローラ９３１，９３２は、作動状態で、傾斜した周面９３１ｂ，９３２ｂが可撓性基板１を介して相互に圧接されるように、それぞれの軸９３１ａ，９３２ａが、搬送面（可撓性基板１）に対して周面９３１ｂ，９３２ｂに応じた傾斜を有するように固定側支持部材９４１、可動側支持部材９４２の先端部に保持されている。図示例では、可撓性基板１の裏面側に固定ローラ９３１が接し、表面側に可動ローラ９３２が接するように、各ローラ９３１，９３２が配設されている。
【００９４】
各挟持ローラ９３１，９３２は、金属、セラミック、プラスチックなどで形成されるか、または、それらの材料で形成された芯体の周囲に、ゴムなどの弾性体を被着することにより構成され、それぞれの軸９３１ａ，９３２ａ（支軸）に、スラスト荷重を受圧可能なベアリングを介して回転自在に支持されている。各軸９３１ａ，９３２ａは、それぞれの支持部材９４１，９４２に形成された保持部９４１ａ，９４２ａ（保持孔または保持溝、チャック）に挿通された状態で、図示しないネジ等の着脱可能な締結手段で固定され、それぞれの軸方向の位置を調整可能とすることが好ましい。代替的に、各挟持ローラ９３１，９３２がそれぞれの軸９３１ａ，９３２ａ（回転軸）に固定され、各軸９３１ａ，９３２ａが、スラスト荷重を受圧可能なベアリングを介してそれぞれの支持部（９４１ａ，９４２ａ）に回転自在に支持されても良いことは、他の実施形態で述べた通りである。
【００９５】
固定側支持部材９４１は固定ブラケット９７０を介して真空室の構造要素１１に固定されている。可動側支持部材９４２は、固定側支持部材９４１の上端から延出した延出部にヒンジ部９４２ｂを介して揺動可能に支持されており、ヒンジ軸（９４２）を中心とした可動側支持部材９４２の揺動により、可動ローラ９３２が固定ローラ９３１に対して接離可能となっている。
【００９６】
さらに、固定側支持部材９４１と可動側支持部材９４２の中間部には付勢手段としてスプリング９５０が介装されている。スプリング９５０の一方の端部は、加圧力調整ネジ９６０を介して可動側支持部材９４２に連結され、この加圧力調整ネジ９６０を回動させてスプリング９５０の初期変位を調整することにより、固定ローラ９３１に対する可動ローラ９３２の加圧力（接圧）を調整可能である。
【００９７】
上記のように構成された基板位置制御装置９００では、各挟持ローラ９３１，９３２の大径側と小径側で周長差がある。これにより、各挟持ローラ９３１，９３２は、図２１（ｂ）に示されるように、搬送方向Ｆ（Ｒ）に移動する可撓性基板１との接触によって従動回転される際には、接触面（挟持面）内で右回りの回転力ｖＦ（ｖＲ）が生じるが、可撓性基板１は図示しないフィードロールで所定の張力を付与された状態で直線的に搬送されるので、回転力ｖＦ（ｖＲ）の垂直方向に分力ｕｘ（展張力）のみが可撓性基板１の接触面に伝達され、この上方に向かう展張力ｕｘによって、可撓性基板１の上側縁部が上方に展張されることになる。
【００９８】
上記各挟持ローラ９３１，９３２によって可撓性基板１に伝達される展張力ｕｘは、各挟持ローラ９３１，９３２による加圧力Ｐｘに比例し、加圧力Ｐｘが大きくなれば各挟持ローラ９３１，９３２の形状通りに傾斜角αに応じた展張力ｕｘが可撓性基板１に伝達されるが、加圧力Ｐｘが小さい場合には、接触面内での滑りが主体的になり、伝達される展張力ｕｘが減少することになる。各挟持ローラ９３１，９３２による加圧力Ｐｘは、スプリング９５０の弾性変位に比例するので、加圧力調整ネジ９６０を回動してスプリング９５０の初期変位を調整することにより、可撓性基板１の上側縁部に対する展張力ｕｘを調整可能であり、この展張力ｕｘは、可撓性基板１の上側縁部を自重に抗して上昇させる持ち上げ力となることから、可撓性基板１の上側縁部の位置を調整可能である。
【００９９】
図２２（ａ）〜（ｃ）は、上記第９実施形態の基板位置制御装置９００（９３０，９３０′）を、図１に示したのと同様のステップ成膜方式の製造装置９１０に適用した実施形態を示している。共通真空室１０の内部に多数の成膜ユニット２０が搬送方向Ｆ（Ｒ）に沿って並設されていることは既に述べた通りである。基板位置制御装置（９３０，９３０′）は、各成膜ユニット２０の間における搬送経路の上下各側に配設された挟持ローラ対９３０，９３０′で構成され、下側の挟持ローラ対９３０′は、上側の挟持ローラ対９３０と同構造のものを上下反対に設置してなる。
【０１００】
上記構成により、各成膜ユニット２０の間で、搬送方向Ｆ（Ｒ）に対して同位置で、上側挟持ローラ対９３０による可撓性基板１の上側縁部に対する上方への展張力ｕｘと同時に、下側挟持ローラ対９３０′による可撓性基板１の下側縁部に対する下方への展張力−ｕｘを作用させ、可撓性基板１を上下幅方向に展張し、可撓性基板１の加熱皺や搬送張力による張力皺を抑制できる。また、上下各側の挟持ローラ対９３０，９３０′の展張力ｕｘ，−ｕｘの差が、可撓性基板１を自重に抗して持ち上げる力となるので、可撓性基板１の上下方向位置に応じて上側挟持ローラ対９３０の加圧力を制御することで、可撓性基板１の搬送高さを一定に維持することができる。
【０１０１】
しかも、上記挟持ローラ対９３０，９３０′による可撓性基板１に対する上下幅方向への展張作用は、可撓性基板１のいずれの搬送方向Ｆ，Ｒに対しても同様に作用し、かつ、可撓性基板１の上下方向の位置制御も、可撓性基板１のいずれの搬送方向Ｆ，Ｒに対しても同様に実施可能であるので、可撓性基板１の正逆両方向への搬送を含む成膜プロセスに直ちに対応できる利点がある。
【０１０２】
なお、上記のような可撓性基板１に対する展張作用および可撓性基板１の位置制御は、各挟持ローラ９３１，９３２の周面が大径側と小径側の何れかで片当たりせず、加圧力が挟持面に直交する成分を含む限り、各挟持ローラ９３１，９３２の加圧方向には依存しない。したがって、先述した第２実施形態の基板位置制御装置２００（挟持ローラ２３１，２３２）や第４実施形態の基板位置制御装置４００（挟持ローラ４３１，４３２）においても上記第９実施形態と同様の展張作用が得られる。
【０１０３】
上記実施形態では、スプリング９５０の初期変位が調整ネジ９６０で予め調整される場合を例示したが、以下に述べる各実施形態のように、駆動装置（アクチュエータやその駆動伝達機構）を用いてスプリング９５０の初期変位（加圧力）を積極的に制御可能な基板位置制御装置を構成することもできる。
（第９実施形態の応用例）
【０１０４】
図２３は、上述した本発明第９実施形態に係る基板位置制御装置９００を、連続成膜方式の製造装置９１２に適用した実施形態を示す搬送方向上流側から見た断面図である。製造装置９１２は、図６や図７に示した製造装置１１２と同様に、所定の真空度に維持された真空室の内部に、可撓性基板１を挟んでその両側に対向配置された電極９２５（ターゲット）と、接地電極９２６とを備えている。この実施形態では、下側の基板位置制御装置９００′は、スプリング９５０′の初期変位を調整ネジ９６０′で予め調整するプリセットタイプとして構成される一方、上側の基板位置制御装置９００にはアクチュエータ９６６およびセンサ９６７が付設され、スプリング９５０による加圧力を積極的に制御可能に構成されている。
【０１０５】
図２３において、上側の基板位置制御装置９００のスプリング９５０の一方の端部は、前記同様に加圧力調整ネジ９６０を介して可動側支持部材９４２に連結されているが、他方の端部は、固定側支持部材９４１に連結される代わりに、固定側支持部材９４１に進退変位可能に支持された可動軸９６５に連結されている。可動軸９６５は、送りねじ機構を介して固定側支持部材９４１に支持され、かつ、概略的に示されたアクチュエータ９６６によって進退駆動されるように構成されている。
【０１０６】
アクチュエータ９６６としては、流体圧アクチュエータや電磁アクチュエータなどの既知の形式を使用できる。しかし、真空室内は減圧されかつ高温に曝されるので、アクチュエータ９６６は真空室の外部に配設され、可動軸９６５は、プッシュまたはプルロッド、レバーやリンク、送りねじ機構などの駆動伝達機構を介して遠隔的に駆動されることが好ましい。
【０１０７】
さらに、基板位置制御装置９００は、挟持ローラ９３１，９３２の近傍、または、搬送方向上流側あるいは下流側に離間して、可撓性基板１の上端位置を検出するセンサ９６７を備え、該センサ９６７は、アクチュエータ９６６の制御装置（図示せず）に接続されている。センサ９６７の形式は特に限定されるものではなく、既知の各種センサを使用できる。
【０１０８】
例えば、センサ９６７が、可撓性基板１の上端位置の上限値と下限値とに対応して上下に隣接配置された２つの検出部（光学センサなど）を含み、（i）上下両方の検出部に可撓性基板１が検出された場合に、可撓性基板１の上端位置が上限以上であると判断し、（ii）上下両方の検出部に可撓性基板１が検出されなくなった場合に、可撓性基板１の上端位置が下限よりも下であると判断し、（iii）下側の検出部のみに可撓性基板１が検出されている場合に可撓性基板１の上端位置が適正範囲内にあると判断するように構成できる。代替的に、センサ９６７が１つのイメージセンサを含み、可撓性基板１の上端位置を画像処理によって検知するように構成しても良い。
【０１０９】
そして、可撓性基板１の上端位置が上限以上であると判断された場合（i）には、アクチュエータ９６６の駆動によって可動軸９６５を前進させ、スプリング９５０による挟持ローラ９３１，９３２の加圧力を減少させれば、挟持ローラ９３１，９３２を介して可撓性基板１の上側縁部に付与される上方への展張力（ｕｘ）が減少し、下側の基板位置制御装置９００′の挟持ローラ９３１，９３２を介して可撓性基板１の下側縁部に付与される下方への展張力（−ｕｘ）が優勢になり、可撓性基板１が下方に誘導される。
【０１１０】
反対に、可撓性基板１の上端位置が下限よりも下であると判断された場合（ii）には、アクチュエータ９６６の駆動によって可動軸９６５を後退させ、スプリング９５０による挟持ローラ９３１，９３２の加圧力を増加させれば、挟持ローラ９３１，９３２を介して可撓性基板１の上側縁部に付与される上方への展張力（ｕｘ）が増加し、下側の基板位置制御装置９００′の挟持ローラ９３１，９３２による下方への展張力（−ｕｘ）に対して上方への展張力（ｕｘ）が優勢になり、可撓性基板１が上方に誘導される。
【０１１１】
このように、センサ９６７とアクチュエータ９６６および制御装置を用いて、上側の基板位置制御装置９００のスプリング９５０による挟持ローラ９３１，９３２の加圧力をフィードバック制御することにより、可撓性基板１の上端位置を適正範囲内に維持することができる。なお、スプリング９５０による加圧力を制御する機構は上記に限定されるものではなく、スプリング９５０の初期変位を制御しうる他の機構とすることができる。
【０１１２】
また、スプリング９５０の初期変位を制御する代わりに、可動側支持部材９４２をスプリング９５０（第１のスプリング）と同方向（または反対方向）に付勢する第２のスプリングを付設し、この第２のスプリングをアクチュエータで進退駆動することで、挟持ローラ９３１，９３２の加圧力を制御するように構成することもできる。
【０１１３】
上記実施形態では、上側の基板位置制御装置９００のみにアクチュエータ９６６が付設され、下側の基板位置制御装置９００′がプリセットタイプの場合を示したが、図２４に示すように、上下各側の基板位置制御装置９００，９００′にアクチュエータ９６６，９６６′およびセンサ９６７，９６７′を付設し、それらを共通の制御装置で制御することにより、可撓性基板１の上端位置と下端位置とを積極的に制御し、可撓性基板１の上下幅方向（高さ方向）の位置と共に、幅方向の展張度を積極的に制御することもできる。但し、可撓性基板１に作用する重力の影響を考慮して、上下各側の基板位置制御装置９００，９００′における上下各側のスプリングの初期変位および制御量は、上下各側で個別に設定される必要がある。
【０１１４】
また、上記実施形態では、連続成膜方式の製造装置９１２において、スプリング９５０の初期変位（加圧力）を積極的に制御可能な基板位置制御装置を構成する場合について述べたが、図２２に示したステップ成膜方式の製造装置９１０に対しても同様に基板位置制御装置を構成できる。但し、ステップ成膜方式の製造装置９１０では、可撓性基板１の位置検出および位置制御をステップ搬送に同期して間欠的に実行することができる。
【０１１５】
すなわち、１ステップの搬送が終了し、１ステップの成膜プロセスが実施されるステップ搬送の停止期間中に、センサ９６７による可撓性基板１の上端あるいは上下両端の位置検出が行なわれ、センサ９６７に可撓性基板１の変位が検出された場合には、その検出に基づいた制御信号がアクチュエータ９６６に出力され、アクチュエータ９６６によるスプリング９５０の初期変位（加圧力）の補正が行なわれる。この時、可撓性基板１は停止しているので、挟持ローラ９３１，９３２の加圧力のみが変化し、可撓性基板１が上下に移動することはない。
【０１１６】
次いで、１ステップの成膜プロセスが終了し、可撓性基板１に対して次の１ステップの搬送が実施されると、加圧力が補正された挟持ローラ９３１，９３２によって、可撓性基板１が上方向または下方向に誘導され、その上下方向位置が修正される。したがって、このような制御では、基本的に可撓性基板１の位置検出と位置補正が交互に実施される。
【０１１７】
また、ステップ成膜方式の製造装置９１０においても、各ステップにおける可撓性基板１の搬送中にセンサ９６７による位置検出を行うと同時に、アクチュエータ９６６によるスプリング９５０の初期変位（加圧力）の補正を行い、可撓性基板１の位置制御をリアルタイムで実施することもでき、かつ、これら２つの制御を併用することもできる。
【０１１８】
上記各実施形態では、本発明に係る基板位置制御装置を、可撓性基板１を縦姿勢で横方向に搬送しつつ成膜処理を行なう製造装置９１２に実施する場合について述べたが、本発明に係る基板位置制御装置は、可撓性基板１を横姿勢（平姿勢）で水平方向や上下方向あるいは斜方向に搬送しつつ成膜等の処理を行なう各種処理装置あるいは製造装置に実施することもできる。
【０１１９】
（第１０実施形態）
図２５は、本発明第９実施形態と同様の基板位置制御装置１０００を、横姿勢で搬送する連続成膜方式の製造装置１０１２に適用した実施形態を示す搬送方向上流側から見た断面図である。製造装置１０１２は、所定の真空度に維持された真空室の内部に、可撓性基板１を挟んでその上下に対向配置された電極１０２５（ターゲット）と、接地電極１０２６とからなる成膜部が配設されている。成膜部の搬送方向上流側および下流側には、搬送手段を構成するガイドロール（アイドルロール）やフィードロール、テンションロールなどが配設され、さらにそれらの搬送方向上流側および下流側に、可撓性基板１の巻出しロールおよび巻取りロールが配設されている。これらの構成は、従来と同様であるため、図示を省略する。
【０１２０】
図２５において、製造装置１０１２の基板位置制御装置は、可撓性基板１の搬送経路の幅方向両側に配置された２つの基板位置制御装置１０００，１０００で構成されており、２つの基板位置制御装置１０００，１０００は、固定側の挟持ローラ１０３１（固定側支持部材１０４１）が下になるように横向きに配置されている点を除けば、基本的に第９実施形態の基板位置制御装置９００と同じ構造であり、かつ、何れも、アクチュエータ１０６６およびセンサ１０６７が付設され、スプリング１０５０による加圧力を積極的に制御可能に構成されている。
【０１２１】
この製造装置１０１２では、可撓性基板１の下面側に接地電極１０２６が配設され、可撓性基板１の自重による影響は小さく、かつ、各側の基板位置制御装置１０００，１０００に同様である。したがって、各側の基板位置制御装置１０００，１０００におけるスプリング１０５０，１０５０の初期変位および各アクチュエータ１０６６の制御量は、基本的に同等に設定される。
【０１２２】
一方、各アクチュエータ１０６６による加圧力の制御は、可撓性基板１を幅方向に展張しつつ、可撓性基板１の幅方向の変位や蛇行を補正するために、各側センサ１０６７の検知に基づいて制御装置により個別にかつ連携して実施されることになる。したがって、各側センサ１０６７は、可撓性基板１の各側縁位置の許容される最大値と最小値とに対応して幅方向に隣接配置された２つの検出部をそれぞれ備えるか、代替的に、各側センサ１０６７がそれぞれ１つのイメージセンサからなり、可撓性基板１の各側縁位置を画像処理によって検知するように構成されることが好ましい。
【０１２３】
以上、本発明の実施の形態につき述べたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、上記以外にも本発明の技術的思想に基づいてさらに各種の変形および変更が可能である。
【０１２４】
例えば、上記各実施形態では、付勢手段として引張スプリングを用いる場合を示したが、各固定側および可動側支持部材や各リンクおよび可動軸に対する連結点を適宜変更することで、圧縮スプリングとして装置を構成することもできる。その場合、各固定側または可動側支持部材、あるいは各リンクや可動軸に必要に応じて腕部等が追加されても良い。また、コイルスプリングは、スパイラルスプリング、トーションスプリング、リーフスプリング等、周知の各種スプリングに変更されても良い。各固定側および可動側支持部材や各リンクが相互に接離する形態を、直線的な摺動で代替することもできるが、効率的には揺動（枢回動）が好ましい。
【０１２５】
また、上記各実施形態では、本発明に係る基板位置制御装置を太陽電池用の薄膜積層体の製造装置に実施する場合について述べたが、本発明に係る基板位置制御装置は、有機ＥＬ等の半導体薄膜の製造装置は勿論、塗装、洗浄、乾燥、熱処理、表面加工など、成膜以外にも、可撓性基板の位置制御や展張が求められる各種処理装置に適用できる。
【符号の説明】
【０１２６】
１  可撓性基板
１０  真空室
１１  構造要素
２０  成膜ユニット
２１，２５，９２５，１０２５  電極
２２，２６，９２６，１０２６  接地電極
２４  成膜部
２７  支持ローラ
１００，２００，２０２，２０３，３００，４００，５００，６００，７００，８００，９００，１０００  基板位置制御装置
１３０、２３０，３３０，４３０，５３０，６３０，７３０，８３０，９３０  挟持ローラ対
１３１，２３１，３３１，５３１，７３１，８３１，９３１，１０３１  固定ローラ
１３２，２３２，３３２，４３１，４３２，５３２，６３１，６３２，７３２，８３２，９３２，１０３２  可動ローラ
１４０，２４０，３４０，５４０，６４０，７４０，８４０，９４０，１０４０  支持機構
１４１，２４１，３４１，５４１，７４１，８４３，９４３，１０４１  固定側支持部材
１４２，２４２，３４２，４４１，４４２，９４２，１０４２  可動側支持部材
１５０，２５０，３５０，４５０，９５０，１０５０  スプリング（付勢手段）
１６０，２６０，３６０，４６０，５６０，６６０，７６０，８６０，９６０  加圧力調整ネジ
５４２，６４１，６４２，７４２，８４１，８４２  第２リンク
５４４，６４３，６４４，７４４，８４４  第１リンク
５４６，６４５，６４６  第３リンク
５５０，６５０，７５０，８５０  第１スプリング（加圧スプリング）
５５２，６５１，６５２  第２スプリング（展張スプリング）
５４４ａ，６４３ａ，６４４ａ  ストッパー
７５４，８５３，８５４  リターンスプリング
７６４，８６３，８６４  調整ネジ
９６５，１０６５  可動軸
９６６，１０６６  アクチュエータ
９６７，１０６７  センサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【国際調査報告】
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