(57)【要約】  光学部品は、主面及び主面の背面側に形成された第二の面を備えた基板と、主面及び第二の面の少なくとも主面に形成された多層膜とを有し、基板は、少なくともＧｅを含んで形成されており、多層膜は、基板に近い側から順に、酸化物膜、フッ化物アモルファス膜、Ｇｅ膜及びＤＬＣ膜の少なくとも４層が積層された膜を含む。これにより、耐熱性を向上させて、熱の影響で光学特性が悪化せず、安定した光学性能を発揮する光学部品を提供することができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面及び前記主面の背面側に形成された第二の面を備えた基板と、
前記主面及び前記第二の面のうち、少なくとも主面に形成された多層膜と、を有する光学部品であって、
前記基板は、Ｇｅを含んで形成されており、
前記多層膜は、前記基板に近い側から順に、酸化物膜、フッ化物アモルファス膜、Ｇｅ膜及びＤＬＣ膜の少なくとも４層が積層された膜を含む、光学部品。
【請求項２】
前記酸化物膜は、Ｙ2Ｏ3、ＨｆＯ2及びＺｒＯ2のうちのいずれか１つを含んで形成されており、
前記フッ化物アモルファス膜は、ＹＦ3、ＹｂＦ3及びＭｇＦ2のうちのいずれか１つを含んで形成されている、
請求項１に記載の光学部品。
【請求項３】
前記酸化物膜は、厚みが５〜１５０ｎｍであり、
前記フッ化物アモルファス膜は、厚みが５００〜９５０ｎｍであり、
前記Ｇｅ膜は、厚みが５０〜１５０ｎｍであり、
前記ＤＬＣ膜は、厚みが５０〜３００ｎｍである、
請求項２に記載の光学部品。
【請求項４】
前記フッ化物アモルファス膜と前記Ｇｅ膜との間に、第２の酸化物膜を有し、
前記第２の酸化物膜は、Ｙ2Ｏ3、ＨｆＯ2及びＺｒＯ2のうちのいずれか１つを含んで形成されている、
請求項３に記載の光学部品。
【請求項５】
前記第２の酸化物膜は、厚みが５〜１５０ｎｍである、請求項４に記載の光学部品。
【請求項６】
レーザ発振器と、前記レーザ発振器から照射されるレーザ光の光学系とを有するレーザ加工機であって、
前記光学系は、請求項３または請求項５に記載の光学部品を有し、
前記光学部品は、前記主面を加工空間側に向けて配置されている、レーザ加工機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高温環境下においても安定した光学性能を発揮することが可能な光学部品、および、該光学部品を搭載したレーザ加工機に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、スマートフォン、またはタブレットＰＣに代表される電子デバイスに内蔵されたプリント配線板への穴あけ加工には、レーザ加工機が用いられている。レーザ加工機に用いられるレーザは、主に、発振波長が９〜１１μｍである赤外光のＣＯ2レーザである。ＣＯ2レーザは、高出力発振が可能で、樹脂への吸収率が高い。【０００３】
穴あけ加工用のレーザ加工機は、集光レンズが加工エリアの上方に配置されている。このため、穴あけ加工時に発生する粉塵、スパッタリングにより、集光レンズが損傷、劣化することがある。そこで、被加工物と集光レンズとの間に、保護窓と呼ばれる光学部品を配置することで、集光レンズの損傷、劣化を防止している。【０００４】
保護窓には、穴あけ加工時に発生する粉塵及びスパッタリングが付着しやすい。また、ＣＯ2レーザの光路上に付着した粉塵及びスパッタリングは、ＣＯ2レーザを吸収して温度が上昇するため、保護窓は高温になる。そこで、保護窓には、赤外光であるＣＯ2レーザに対する透過性と耐環境性が要求される。耐環境性とは、付着した樹脂スパッタ、又は銅スパッタの拭き取りによっても、表面に損傷が生じない耐摩耗性と、高温環境にさらされても、安定した光学性能を発揮する耐熱性のことを指す。【０００５】
例えば、赤外線センサーなどに用いられ、被覆の耐摩耗性と赤外線の透過率とに優れた光学部品として、ＺｎＳ（硫化亜鉛）製基板の表面側に、基板面から順に、第１のＹ2Ｏ3（酸化イットリウム）層、ＹＦ3（フッ化イットリウム）層、第２のＹ2Ｏ3（酸化イットリウム）層、Ｇｅ（ゲルマニウム）層、ＤＬＣ（ダイヤモンド状炭素）層を積層した多層膜を形成するものが知られている。多層膜を形成するＤＬＣ層は、圧縮応力を有するため、多層膜全体に荷重がかかり、多層膜中の密着性の低い界面において、膜の剥離が生じる恐れがある。そこで、このような光学部品では、ＤＬＣ層の密着層としてＧｅ層を形成し、さらにＹＦ3層の密着層として酸化物によるＹ2Ｏ3層を形成して、多層膜の密着性を確保している（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２６８２７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載された光学部品は、耐熱性が考慮されていない。このため、熱の影響で多層膜中のＹＦ3層とＹ2Ｏ3層が界面において原子相互拡散を生じ、膜が変質する。このため、高温環境にさらされるレーザ加工機の保護窓として特許文献１に記載された光学部品を使用した場合には、安定した光学特性を得ることができないという課題があった。【０００８】
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、高温環境下においても、安定して光学性能を発揮することのできる光学部品を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る光学部品は、主面及び主面の背面側に形成された第二の面を備えた基板と、主面及び第二の面のうち少なくとも主面に形成された多層膜とを有し、基板は、Ｇｅ（ゲルマニウム）を含んで形成されており、多層膜は、基板に近い側から順に、酸化物膜、フッ化物アモルファス膜、Ｇｅ膜及びＤＬＣ膜が積層された膜を含む。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、Ｇｅを含む基板の表面に、基板に近い側から順に、酸化物膜、フッ化物アモルファス膜、Ｇｅ膜及びＤＬＣ膜が積層された層を有することにより、光学部品の耐熱性を向上させることができる。これにより、熱の影響で光学特性が悪化せず、安定した光学性能を発揮する光学部品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施の形態１による光学部品が搭載されたレーザ加工機の模式図である。
【図２】実施の形態１の光学部品の断面を示す模式図である。
【図３】実施の形態１による光学部品の変形例を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態２の光学部品の断面を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の光学部品の好適な実施の形態につき、図面を用いて説明する。
【００１３】
実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１による光学部品としての保護窓１５が搭載された、レーザ加工機１の模式図である。図２は、図１の保護窓１５の断面を示す模式図である。
【００１４】
図１に示すように、レーザ加工機１は、レーザ発振器１１と、集光レンズ１３と、保護窓１５とを有している。レーザ発振器１１には、ＣＯ2レーザが用いられている。このＣＯ2レーザの発振波長は９．３μmである。レーザ発振器１１から照射されるレーザ光１１Ａは、集光レンズ１３で集光され、保護窓１５を透過して、プリント配線板等の被加工物１００の表面で結像される。そして、レーザ光１１Ａによって、被加工物１００には、穴あけ加工などが施される。
【００１５】
ＣＯ2レーザを用いたレーザ加工機の集光系の光学材料は、比較的高い屈折率を有するものが多い。従って、集光レンズ１３は、被加工物１００に近い位置に配置される。また、保護窓１５は、穴あけ加工時に発生する粉塵及びスパッタから集光レンズ１３を保護するため、集光レンズ１３と被加工物１００との間に配置される。このため、保護窓１５は、被加工物１００からの距離が約１００ｍｍ程度の位置に配置される。よって、保護窓１５は、レーザ加工時に大量の粉塵及びスパッタという過酷な環境にさらされる。保護窓１５に付着した粉塵及びスパッタは、レーザ光１１Ａを吸収して発熱することから、保護窓１５には、レーザ光１１Ａの透過性に加え、耐熱性が求められる。
【００１６】
図２に示すように、保護窓１５は、一方の面に主面１５０Ａが形成され、主面１５０Ａの背面側に第二の面１５０Ｂが形成された基板１５０を有している。主面１５０Ａは、被加工物１００と対向する、加工空間側の面であり、第二の面１５０Ｂは、集光レンズ１３と対向する面である。
【００１７】
従来、光学部品の基板としては、ＺｎＳ（硫化亜鉛）が主に用いられていたが、実施の形態１の保護窓１５は、ＺｎＳよりも高い赤外レーザ光透過率が得られるＧｅ（ゲルマニウム）によって基板１５０が形成されている。また、ＺｎＳは熱伝導率が低いため、レーザ加工を連続的に行う際に、基板に大きな温度勾配が生じる。この基板に生じる温度勾配によって、光学部品には屈折率の分布が生じる。すると、光学部品に熱レンズ効果と呼ばれる現象が生じ、レーザ加工の精度が低下する。従って、レーザ加工機１の保護窓１５の基板１５０の材料として、ＺｎＳは適当でない。基板１５０を形成するＧｅは、ＺｎＳよりも熱伝導率が高い。なお、基板１５０の材料には、Ｇｅとともに、Ｇｅ以外の他元素が添加されていてもよい。
【００１８】
基板１５０の主面１５０Ａ及び第二の面１５０Ｂには、それぞれ多層膜２が形成されている。そして、保護窓１５は、基板１５０の主面１５０Ａを、被加工物１００の側に向けて配置されている。
【００１９】
多層膜２は、基板１５０に近い側から順に、酸化物膜２１、フッ化物アモルファス膜２２、Ｇｅ膜２３及びＤＬＣ膜２４の４層が積層された膜を含んでいる。これらの膜は主面１５０Ａ及び第二の面１５０Ｂを基材１５０が露出しないように全面を覆って形成してもよく、また基材の一部が露出するように一部の面を覆って形成してもよい。
【００２０】
酸化物膜２１を形成する材料としては、例えばＹ2Ｏ3（酸化イットリウム）、ＨｆＯ2（酸化ハフニウム）、ＺｒＯ2（酸化ジルコニウム）、Ｔａ2Ｏ3（酸化タンタル）、ＴｉＯ2（酸化チタン）、ＳｉＯ（酸化ケイ素）、Ａｌ2Ｏ3（酸化アルミニウム）などが挙げられる。赤外光のＣＯ2レーザを使用する場合、赤外光の透過性に優れた、Ｙ2Ｏ3、ＨｆＯ2、ＺｒＯ2のうちのいずれかを用いることが好ましい。酸化物膜２１の膜厚は、膜の密着性を確保するため、５ｎｍ以上が好ましい。また、酸化物膜２１の膜厚は、赤外光の透過性を確保するため、１５０ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００２１】
フッ化物アモルファス膜２２を形成する材料としては、例えばＹＦ3（フッ化イットリウム）、ＹｂＦ3（フッ化イッテルビウム）、ＭｇＦ2（フッ化マグネシウム）、ＢａＦ2（フッ化バリウム）、ＣａＦ2（フッ化カルシウム）などのフッ化物が挙げられる。赤外光のＣＯ2レーザを使用する場合、赤外光の透過性に優れた、ＹＦ3、ＹｂＦ3またはＭｇＦ2のうちいずれかを用いることが好ましい。フッ化物アモルファス膜２２の膜厚は、赤外光の透過性を確保するため、５００ｎｍ〜９５０ｎｍとすることが好ましい。
【００２２】
Ｇｅ膜２３は、ＤＬＣ膜２４に対する付着性が良い。このため、Ｇｅ膜２３を形成することによって、ＤＬＣ膜２４の基板１５０への密着性を確保することができる。Ｇｅ膜２３の膜厚は、膜の密着性と赤外光の透過性との両者を満たすため、５０ｎｍ〜１５０ｎｍとすることが好ましい。
【００２３】
ＤＬＣ膜２４は硬度が高い。よって、膜に付着した汚れをふき取る際の耐摩耗性に優れている。また、ＤＬＣ膜２４は、物質としての安定性が高く、他材料と反応しにくい。よって、ＤＬＣ膜２４には、プリント基板等の穴あけ加工時に発生する粉塵及び金属スパッタ等が付着しにくい。このため、ＤＬＣ膜２４を形成することによって、保護窓１５への汚れの固着を抑制することができる。また、ＤＬＣ膜２４を形成することによって、保護窓１５に付着した汚れを、容易に除去することができる。ＤＬＣ膜２４の膜厚は、耐摩耗性を確保するため、５０ｎｍ以上の膜厚が好ましい。また、ＤＬＣ膜２４の膜厚は、赤外光の透過性を確保するため、３００ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００２４】
また、酸化物膜２１は、Ｇｅ製の基板１５０及びフッ化物アモルファス膜２２との密着性に優れている。従って、酸化物膜２１により、フッ化物アモルファス膜２２と基板１５０との密着性を確保することができる。なお、多層膜２の透過性、耐熱性を低下させることがなければ、これらの４層に他の元素が添加されていても問題はない。さらに、多層膜２の透過性、耐熱性を低下させることがなければ、これらの４層に加えて他の薄膜が形成されていても問題はない。
【００２５】
このように、実施の形態１の保護窓１５は、その表面に、基板１５０に近い側から順に、酸化物膜２１、フッ化物アモルファス膜２２、Ｇｅ膜２３及びＤＬＣ膜２４の４層が積層された多層膜２を備えている。そして、酸化物膜２１とＧｅ膜２３との間に、フッ化物の構造を制御してアモルファス（非晶質）とした、フッ化物アモルファス膜２２を配置している。そして、フッ化物の結晶粒界などの高速拡散路をなくし、酸化物膜２１とフッ化物アモルファス膜２２間における原子相互拡散を抑制している。これにより、レーザ加工時に、保護窓１５が高温になっても、多層膜２は原子拡散による膜質の変化が生じない。よって、保護窓１５が、安定した光学性能を発揮することができる。
【００２６】
なお、実施の形態１では、保護窓１５の基板１５０の主面１５０Ａと第二の面１５０Ｂの両面に多層膜２を形成したが、多層膜２は、基板１５０の第二の面１５０Ｂには形成しなくてもよい。例えば、図３に示す第１変形例の保護窓１５Ａのように、基板１５０の主面１５０Ａに多層膜２を形成し、第二の面１５０Ｂには、多層膜２とは異なる反射防止膜３０を形成してもよい。
【００２７】
次に、実施の形態１の光学部品である保護窓１５と、比較例１としての従来の光学部品とを作成し、それぞれの特性を比較した結果について説明する。
【００２８】
光学部品の基板の表面に膜を形成する方法としては、真空蒸着法及びスパッタ法に代表されるＰＶＤ法（物理的気相成長法）、またはプラズマＣＶＤ法に代表されるＣＶＤ法（化学的気相成長法）といった、一般的に知られた成膜方法がある。しかしながら、基板に膜を形成できる方法であれば、どのような方法であってもよい。
【００２９】
まず、実施の形態１の保護窓１５について説明する。保護窓１５の基板１５０は、Ｇｅで形成した。基板１５０の形状は、直径１２０ｍｍ、厚み５ｍｍの円板形状とした。そして、基板１５０の主面１５０Ａには、多層膜２を形成した。多層膜２のうち、酸化物膜２１にはＹ2Ｏ3を用いた。また、多層膜２のうち、フッ化物アモルファス膜２２にはＹＦ3を用いた。
【００３０】
そして、基板１５０の主面１５０Ａに、基板１５０の主面１５０Ａに近い側から順に、酸化物膜２１（Ｙ2Ｏ3：膜厚５０ｎｍ）、フッ化物アモルファス膜２２（ＹＦ3：膜厚５７０ｎｍ）、Ｇｅ膜２３（膜厚１２０ｎｍ）、ＤＬＣ膜２４（膜厚１５０ｎｍ）が積層された多層膜２を形成した。
【００３１】
一方、基板１５０の第二の面１５０Ｂには、波長９．３μｍにおける透過率が９９％以上の反射防止膜３０を形成した。反射防止膜３０は、基板１５０の第二の面１５０Ｂに近い側から順に、ＹＦ3膜（膜厚６７０ｎｍ）、Ｇｅ膜（膜厚１３０ｎｍ）、ＭｇＦ2膜（膜厚２００ｎｍ）が積層された構成とした。なお、反射防止膜３０の構成は、これに限定されるものではない。
【００３２】
フッ化物アモルファス膜２２と、Ｇｅ膜２３及び反射防止膜３０は、真空蒸着法を用いて形成した。また、ＤＬＣ膜２４は、スパッタ法を用いて形成した。
【００３３】
一般に、成膜温度を高くして、膜材料を基板上で徐冷すると、その構造は結晶質になる。一方、成膜温度を低くして、膜材料を基板上で急冷すると、結晶構造を持たない非晶質のアモルファスになる。フッ化物アモルファス膜２２の形成においては、ＹＦ3の構造をアモルファスにするため、真空蒸着法におけるＹＦ3の成膜温度を１５０℃に設定した。
【００３４】
次に、比較例１の光学部品について説明する。比較例１の光学部品は、多層膜２を構成するフッ化物アモルファス膜２２のＹＦ3を、アモルファスではなく結晶質とした点が、実施の形態１の保護窓１５とは異なる。他の構成は、実施の形態１の保護窓１５と同様である。比較例１の光学部品では、ＹＦ3の構造を結晶質にするため、真空蒸着法におけるＹＦ3の成膜温度を２１０℃に設定した。
【００３５】
以上により、比較例１の光学部品の基板の主面に形成された多層膜は、基板の主面に近い側から順に、酸化物膜（Ｙ2Ｏ3：膜厚５０ｎｍ）、フッ化物結晶膜（ＹＦ3：膜厚５７０ｎｍ）、Ｇｅ膜（膜厚１２０ｎｍ）、ＤＬＣ膜（膜厚１５０ｎｍ）が積層された構成となった。一方、比較例１の光学部品の基板の第二の面には、実施の形態１の保護窓１５と同様の反射防止膜３０を形成した。
【００３６】
次に、実施の形態１の保護窓１５と、比較例１の光学部品について、主面のＹＦ3の構造の分析と、赤外線吸収率の算出を実施した。
【００３７】
構造の分析にはＸＲＤ分析を用いた。そして、ＸＲＤ分析の結果、ＹＦ3の結晶に起因する回折ピークが現れたものを結晶質とし、ＹＦ3の結晶に起因する回折ピークが現れないものを非晶質のアモルファスとした。
【００３８】
赤外線吸収率の算出には、波長λ＝９．３μｍのレーザ光の透過率及び反射率を用いた。また、レーザ光の透過率及び反射率の測定には、フーリエ変換型赤外分光光度計を用いた。
【００３９】
赤外線吸収率は、フーリエ変換型赤外分光光度計を用いて測定したレーザ光の透過率および反射率に基づいて、
（赤外線吸収率）＝１００％−（透過率）−（反射率）
の式により算出した。赤外線吸収率の算出は、実施の形態１の保護窓１５と比較例１の光学部品について、熱処理を実施する前と後の２回行った。なお、熱処理の条件は、２００℃の大気中に１２時間とした。
【００４０】
表１は、実施の形態１の保護窓１５と、比較例１の光学部品における、主面のＹＦ3の構造の分析結果と、赤外線吸収率の算出結果である。
【００４１】
【表１】
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【００４２】
表１のＸＲＤ分析結果に示すように、実施の形態１の保護窓１５は、ＹＦ3の構造がアモルファスとなっている。これに対し、比較例１の光学部品は、ＹＦ3の構造が結晶質である。
【００４３】
また、表１より、実施の形態１の保護窓１５の赤外線吸収率の算出結果は、熱処理前が２．２％、熱処理後が２．１％であった。これに対し、比較例１の光学部品の赤外線吸収率の算出結果は、熱処理前が２．８％、熱処理後が４．１％であった。
【００４４】
レーザ加工機の保護窓としては、赤外線吸収率が３．０％以下であることが望ましく、低いほど好ましい。実施の形態１の保護窓１５は、熱処理前後において赤外線吸収率が３．０％未満であることから、レーザ加工機１の保護窓１５として十分な光学性能を有している。さらに、実施の形態１の保護窓１５は、従来の光学部品である比較例１に対して、熱処理後の赤外線吸収率が約半分となっている。以上の結果より、実施の形態１の保護窓１５は、従来の光学部品に対して、耐熱性が向上していることが確認された。
【００４５】
このように、実施の形態１の保護窓１５によれば、Ｇｅを基板１５０として、少なくとも基板１５０の主面１５０Ａに近い側から順に、酸化物膜２１、フッ化物アモルファス膜２２、Ｇｅ膜２３、及びＤＬＣ膜２４を形成している。これにより、実施の形態１の保護窓１５は、高い透過率と耐熱性、及び耐摩耗性を有する。よって、実施の形態１の保護窓１５は、レーザ加工機のレーザ光の損失を少なくすることができる。また、実施の形態１の保護窓１５は、レーザ加工中に高熱にさらされた場合であっても、安定した光学性能を発揮することができる。
【００４６】
実施の形態２．
次に、実施の形態２の保護窓１５Ｂについて、図４を用いて説明する。実施の形態２の保護窓１５Ｂは、基板１５０の主面１５０Ａに形成される多層膜２Ｂの構成が、実施の形態１の保護窓１５とは異なる。他の構成は、実施の形態１と同様である。
【００４７】
実施の形態１の多層膜２は、基板１５０に近い側から順に、酸化物膜２１、フッ化物アモルファス膜２２、Ｇｅ膜２３及びＤＬＣ膜２４の４層が積層された膜を含んで形成されていた。これに対し、実施の形態２の多層膜２Ｂは、図４に示すように、基板１５０に近い側から順に、酸化物膜２１、フッ化物アモルファス膜２２、第二酸化物膜２５、Ｇｅ膜２３及びＤＬＣ膜２４の５層を積層した膜を含んで形成されている。
【００４８】
第二酸化物膜２５は、多層膜２Ｂにおいて、最も弱い界面であるフッ化物アモルファス膜２２とＧｅ膜２３との間を密着させ、多層膜２Ｂの剥離を抑制する効果を有する。
【００４９】
図４に示す保護窓１５Ｂは、基板１５０の主面１５０Ａに多層膜２Ｂが形成されており、第二の面１５０Ｂに多層膜２Ｂとは異なる反射防止膜３０が形成されている。基板１５０の主面１５０Ａに形成された多層膜２Ｂは、例えば、基板１５０の主面１５０Ａに近い側から順に、酸化物膜２１（Ｙ2Ｏ3：膜厚２５ｎｍ）、フッ化物アモルファス膜２２（ＹＦ3：膜厚５７０ｎｍ）、第二酸化物膜２５（Ｙ2Ｏ3：膜厚２５ｎｍ）、Ｇｅ膜２３（膜厚１２０ｎｍ）、ＤＬＣ膜２４（膜厚１５０ｎｍ）を積層して形成されている。
【００５０】
一方、基板１５０の第二の面１５０Ｂには、波長９．３μｍにおける透過率が９９％以上の反射防止膜３０が形成されている。反射防止膜３０は、基板１５０の第二の面１５０Ｂに近い側から順に、ＹＦ3膜（膜厚６７０ｎｍ）、Ｇｅ膜（膜厚１３０ｎｍ）、ＭｇＦ2膜（膜厚２００ｎｍ）、が積層された構成とした。なお、反射防止膜３０の構成は、これに限定されるものではない。
【００５１】
ここで、多層膜２Ｂの光学性能及び機械特性を低下させる影響がなければ、多層膜２Ｂを構成する層に他元素が添加されていてもよい。また、多層膜２Ｂの光学性能及び機械特性を低下させる影響がなければ、多層膜２Ｂを構成する層以外に、他の薄膜が形成されていてもよい。さらに、酸化物膜２１と第二酸化物膜２５とは、同一の酸化物を用いた膜であってもよいし、異なる種類の酸化物を用いた膜であってもよい。
【００５２】
このように、実施の形態２の多層膜２Ｂは、基板１５０に近い側から順に、酸化物膜２１、フッ化物アモルファス膜２２、第二酸化物膜２５、Ｇｅ膜２３及びＤＬＣ膜２４の５層を積層した膜を含んで形成されている。これにより、実施の形態２の保護窓１５Ｂは、優れた耐熱性を有し、高温環境下においても安定して光学性能を発揮することができる。
【００５３】
さらに、実施の形態２の保護窓１５Ｂは、フッ化物アモルファス膜２２とＧｅ膜２３との間に、第二酸化物膜２５を有することにより、フッ化物アモルファス膜２２とＧｅ膜２３との間を密着させて、多層膜２Ｂの剥離を抑制することができる。
【符号の説明】
【００５４】
１  レーザ加工機、１１  レーザ発振器、１１Ａ  レーザ光、１３  集光レンズ、１５，１５Ａ，１５Ｂ  保護窓（光学部品）、２，２Ｂ  多層膜、２１  酸化物膜、２２  フッ化物アモルファス膜、２３  Ｇｅ膜、２４  ＤＬＣ膜、２５  第二酸化物膜、３０  反射防止膜、１００  被加工物、１５０  基板、１５０Ａ  主面、１５０Ｂ  第二の面。
【図１】
2019146500.tif 000004
【図２】
2019146500.tif 000005
【図３】
2019146500.tif 000006
【図４】
2019146500.tif 000007
【国際調査報告】
2019146500.tif 000008
2019146500.tif 000009
2019146500.tif 000010