(57)【要約】  塗布ヘッドのノズルから吐出される溶液の液滴を基板に塗布する塗布装置（１００）において、  基板（Ｋ）を保持し、該基板（Ｋ）を、塗布ヘッド（７）による溶液の吐出作業位置と、カメラ２３による撮像作業位置と、洗浄装置２６による洗浄作業位置のそれぞれに順に位置付けるように循環的に移動する基板保持移動手段３０を有する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布ヘッドのノズルから吐出される溶液の液滴を基板に塗布する塗布装置において、
基板に塗布された溶液の液滴の塗布状態に基づいて該液滴の吐出状態を検出する検出手段と、
前記溶液の液滴が塗布された基板を洗浄する洗浄手段と、
前記基板を保持し、該基板を、前記塗布ヘッドによる溶液の吐出作業位置と、検出手段による検出作業位置と、洗浄手段による洗浄作業位置のそれぞれに順に位置付けるように循環的に移動させる基板保持移動手段と
を有することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記洗浄手段による洗浄後の基板を乾燥する乾燥手段を有し、基板保持移動手段は、基板を、塗布ヘッドによる溶液の吐出作業位置と、検出手段による検出作業位置と、洗浄手段による洗浄作業位置と、乾燥手段による乾燥作業位置のそれぞれに順に位置付けるように循環的に移動することを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記基板保持移動手段は、複数の基板のそれぞれを基板の移動方向に沿う複数位置のそれぞれに並べて保持する複数の基板保持部を備え、各基板保持部に保持された基板を各作業位置に順に位置付けることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記基板の移動方向は、前記ノズルからの液滴の吐出方向に直交する軸を中心とする回転方向であり、
前記基板保持移動手段は、前記複数の基板を、前記軸を中心とする９０度間隔で保持するとともに、前記軸を中心に９０度毎に間欠回転させるものであり、
前記各作業位置は、前記間欠回転による前記基板の停止位置に対応して配置されることを特徴とする請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
上記塗布ヘッドの下方を水平方向に直線駆動されるテーブルを有し、このテーブルの上面には上記塗布ヘッドのノズルから吐出される上記溶液の液滴が塗布される製品用基板が保持されていて、
上記検出手段、上記洗浄手段及び上記乾燥手段は上記テーブルと一体的に設けられていることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
【請求項６】
前記基板は、検査用の基板であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布ヘッドのノズルから吐出される溶液の液滴を基板に塗布する塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの基板に回路パターンを形成するための成膜プロセスがある。この成膜プロセスでは、基板の板面にたとえば配向膜やレジストなどの機能性薄膜が形成される。【０００３】
基板に機能性薄膜を形成する場合、この機能性薄膜を形成する溶液をノズルから吐出して基板に塗布するインクジェット方式の塗布装置が用いられることがある。【０００４】
この塗布装置は、特許文献１に記載の如く、基板を搬送する搬送テーブルを有しており、この搬送テーブルの上方には、上記ノズルが穿設された複数の塗布ヘッドが基板の搬送方向に対して直交する方向に沿って並設されている。各塗布ヘッドには供給管を介して接続された溶液タンクから溶液が供給される。それによって、搬送される基板の上面には複数のノズルから溶液の液滴が所定量、所定ピッチで吐出される。【０００５】
このような従来技術では、基板の不良品の発生を防止するため、基板に塗布された溶液の液滴をカメラによって撮像し、カメラの撮像結果に基づく該液滴の吐出状態を画像処理装置により測定して検査することが行われる。また、検査に供した基板は洗浄して繰り返し使用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−２２３３５６号公報  従来技術では、塗布装置内で、基板保持装置により保持した基板に塗布ヘッドの各ノズルから吐出される液滴を塗布し、この基板に塗布された液滴をカメラにより撮像した後、この基板を基板保持装置から取出して塗布装置外の洗浄手段に投入することとしている。
【０００７】
しかしながら、検査に供した基板を洗浄手段に投入するときには、その基板を基板保持装置から取外さなければならず、検査を行なうときに基板保持装置に新たな基板を取付ける必要があるため、基板の取り付けや取外しに手間が掛かり、生産性が悪いということがあった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題は、塗布ヘッドのノズルから吐出される液滴の吐出状態の検査を生産性良く行うことにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明は、塗布ヘッドのノズルから吐出される溶液の液滴を基板に塗布する塗布装置において、
基板に塗布された溶液の液滴の塗布状態に基づいて該液滴の吐出状態を検出する検出手段と、
前記溶液の液滴が塗布された基板を洗浄する洗浄手段と、
前記基板を保持し、該基板を、前記塗布ヘッドによる溶液の吐出作業位置と、検出手段による検出作業位置と、洗浄手段による洗浄作業位置のそれぞれに順に位置付けるように循環的に移動させる基板保持移動手段と
を有する塗布装置を提供することにある。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、基板を基板保持移動手段に保持したまま、この基板に、ノズルによる溶液の吐出、検出手段による検出、洗浄手段による洗浄の各作業を順に施すことができ、生産性を高くするものになる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は本発明の一実施の形態の塗布装置を示す模式正面図である。
【図２】図２は塗布装置を示す模式側面図である。
【図３】図３は塗布ヘッドを示す断面図である。
【図４】図４は塗布ヘッドを示す下面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１と図２に示すこの発明の溶液の塗布装置１００はベース１を有する。ベース１の上面には所定間隔で離間した一対のレール２がベース１の長手方向に沿って敷設されている。上記レール２にはテーブル３が走行可能に設けられ、図示しない駆動源によって走行駆動されるようになっている。テーブル３の上面には多数の支持ピン４が設けられ、これら支持ピン４にはたとえば液晶表示装置に用いられるガラス製の製品用基板Ｗが供給支持される。
【００１３】
上記テーブル３とともに移動される基板Ｗの上方には、上記基板Ｗに機能性薄膜を形成するための溶液をインクジェット方式で吐出塗布する複数の塗布ヘッド、この実施の形態では３つの塗布ヘッド７が基板Ｗの走行方向と交差する方向、例えば、直交する方向に沿って一列に配設されている。
【００１４】
上記塗布ヘッド７は図３に示すように塗布ヘッド本体８を備えている。塗布ヘッド本体８は筒状に形成され、その下面開口は可撓板９によって閉塞されている。この可撓板９はノズルプレート１１によって覆われており、このノズルプレート１１と上記可撓板９との間に複数の液室１２が区画形成されている。
【００１５】
上記塗布ヘッド本体８の長手方向一端部には上記液室１２に連通する給液孔１３が形成されている。この給液孔１３から上記液室１２にはたとえば配向膜やレジストなどの機能性薄膜を形成する溶液が洪給される。それによって、上記液室１２内は溶液で満たされるようになっている。
【００１６】
図４に示すように、上記ノズルプレート１１には、基板Ｗの搬送方向に直交する方向に沿って複数のノズル１４が千鳥状に穿設されている。上記可撓板９の上面には、図３に示すように上記各ノズル１４にそれぞれ対向して複数の圧電素子１５が設けられている。
【００１７】
各圧電素子１５は上記塗布ヘッド本体８内に設けられた駆動部１６によって駆動電圧が供給される。それによって、圧電素子１５は伸縮し、可撓板９を部分的に変形させてその部分に対向する液室１２内の溶液を加圧するから、その圧電素子１５に対向位置するノズル１４から溶液が搬送される基板Ｗの上面に吐出塗布される。
【００１８】
図３に示すように、上記塗布ヘッド本体８の長手方向他端部には上記液室１２に連通する回収孔１７が形成されている。上記給液孔１３から液室１２に供給された溶液は、上記回収孔１７から回収することができるようになっている。即ち、上記塗布ヘッド７は上記液室１２に供給された溶液をノズル１４から吐出させるだけでなく、上記液室１２を通じて上記回収孔１７から回収することが可能となっている。
【００１９】
従って、基板Ｗがテーブル３によって塗布ヘッド７の下方に搬送されてきたならば、駆動部１６によって圧電素子１５に通電すれば、塗布ヘッド７の液室１２に供給された溶液Ｌがノズル１４から基板Ｗに吐出され、基板Ｗに溶液を吐出塗布することができる。基板Ｗが塗布ヘッド７の下方に搬送されていないときには上記液室１２に供給された溶液を上記回収孔１７から回収することができる。
【００２０】
前記塗布装置１００の上記テーブル３には、塗布ヘッド７の各ノズル１４から吐出される液滴の吐出状態を検査する検査装置２０が一体的に設けられている。
【００２１】
すなわち、上記検査装置２０は、図１、図２に示す如く、テーブル３の走行方向に沿う一方の側面に固定されたＬ字状の取付部材２１を有する。この取付部材２１の水平な部分の上面には洗浄槽２２が固定的に配置されている。洗浄槽２２は一列をなす各塗布ヘッド７の下方に配置されている。この洗浄槽２２の平面寸法は全ての塗布ヘッド７に同時に臨む範囲より大きくされている。
【００２２】
上記検査装置２０は、基板保持移動手段３０を備えている。この基板保持移動手段３０は、洗浄槽２２における各塗布ヘッド７が一列をなす方向に沿う一方の端面に設けられたモータなどの間欠回転装置３１を有する。この間欠回転装置３１の回転軸３２は洗浄槽２２の内部において各塗布ヘッド７が一列をなす方向（ノズル１４からの液滴の吐出方向に直交する方向）に沿って延在させている。この回転軸３２には各塗布ヘッド７のそれぞれに対応する複数の基板保持体、この実施の形態では３つの基板保持体３３が固定されている。各基板保持体３３は、検査用基板Ｋを真空吸着手段や機械的保持手段等により保持する基板保持部３４を備える。なお、検査用基板Ｋは上記テーブル３の上面に保持される製品用の基板Ｗに比べて小さなサイズに形成されている。
【００２３】
上記基板保持移動手段３０は、複数の検査用基板、この実施の形態では４つの検査用基板Ｋのそれぞれを、間欠回転装置３１により駆動される回転軸３２の回転方向である基板Ｋの移動方向に沿う複数位置、この実施の形態では４つの位置のそれぞれに並べて保持する４つの基板保持部３４を備える。
【００２４】
すなわち、基板保持体３３は、図１に示すように、正面視で正方形をなし、４つの側壁面をそれぞれ基板保持部３４として構成することで、４枚の基板Ｋを回転軸３２を中心にして９０°間隔で保持可能とされる。なお、基板保持部３４は、４つに限らず、それ以下でも、それ以上でも良く、少なくとも１つあれば良い。
【００２５】
上記検査装置２０は、洗浄槽２２、基板保持移動手段３０をテーブル３の移動によって塗布ヘッド７の下方に搬送し、塗布ヘッド７の各ノズル１４が吐出する溶液の液滴を検査用の基板Ｋに塗布できる。このとき、基板保持移動手段３０の間欠回転装置３１は、４つ基板保持部３４のうちの２つの基板保持部３４を、塗布ヘッド７の各ノズル１４が溶液を吐出する鉛直方向に沿う上下２位置に位置付け、他の２つの基板保持部３４を水平方向に沿う左右２位置に位置付けるように、回転軸３２を９０度間隔で間欠回転する。
【００２６】
上記検査装置２０は、基板Ｋに塗布された溶液の液滴Ｅ（図２では塗布ヘッド７が５つのノズル１４を備えているものと仮定して、５つの液滴Ｅを示している。）を撮像する撮像装置としてのカメラ２３（検出手段）を備えている。このカメラ２３は、上記洗浄槽２２の一方の側壁（テーブル３とは反対側に位置する側壁）に固定されている。なお、ここで、塗布ヘッド７の個々のノズル１４から基板Ｋに塗布する溶液の液滴Ｅの数は１滴ずつであるものとする。
【００２７】
上記カメラ２３の光軸は、基板保持移動手段３０の回転軸３２に直交する水平軸上に設定される。カメラ２３は基板保持移動手段３０の３つの基板保持体３３それぞれに対応して個別に設けられ、各基板保持体３３の右位置（図１に示す右位置）に位置付けられた基板保持部３４が保持する基板Ｋの全塗布範囲を一度に測定できる視野をもち、５つの液滴Ｅの画像を一括して取り込むことができる。但し、カメラ２３を基板Ｋの一端側から他端側への水平方向に移動可能に設け、カメラ２３を水平方向に移動させつつ、基板Ｋの全塗布範囲を一端側から他端側に向けて走査しながら撮像するものでも良い。
【００２８】
また、上記検査装置２０は、カメラ２３の撮像結果に基づいて該液滴Ｅの塗布状態を測定する画像処埋装置２４（検出手段）を備える。画像処理装置２４は、基板Ｋにおいて塗布ヘッド７の各ノズル１４に対応する位置における液滴Ｅの有無、基板Ｋ上での各液滴Ｅ個々の投影面積から算出される当該液滴Ｅ個々の吐出量、基板Ｋ上での各液滴Ｅの間のピッチ等の塗布状態に基づいて各ノズル１４からの液滴の吐出状態を検出する。
【００２９】
上記検査装置２０は、画像処理装置２４の検出結果を制御装置２５に転送する。制御装置２５は、画像処理装置２４の検出結果から各ノズル１４からの液滴Ｅの吐出状態の異常（ノズル１４からの液滴Ｅの吐出無し、吐出量の目標値に対する異常、液滴ピッチの目標値に対する異常）を検出する。
【００３０】
上記御装置２５は、各塗布ヘッド７のいずれかに対応する基板Ｋにおいて、液滴Ｅの吐出状態の異常が検出されると、当該塗布ヘッド７を再検査対象とし、当該塗布ヘッド７のノズル１４の清浄化、交換、当該塗布ヘッド７のノズル１４に対向する圧電素子１５の駆動電圧の調整等のメンテナンス指令を出力する。
【００３１】
上記制御装置２５は、例えば、画像処理装置２４が算出した液滴Ｅの投影面積から各液滴Ｅの量、即ち各塗布ヘッド７のノズル１４からの実際の吐出量を算出する。制御装置２５は、算出した実際の吐出量と、予め記憶されている各ノズル１４から吐出されるべき吐出量（目標の吐出量）とを比較してその差を求める。
【００３２】
そして、許容値以上の差がある場合、この差と、予め実験により求められている吐出量と圧電素子１５の駆動電圧との関係に基づいて、圧電素子１５に印加すべき駆動電圧を求め、現在の駆動電圧を新たな駆動電圧に補正するメンテナンス指令を塗布ヘッド７の駆動部１６に出力する。
【００３３】
メンテナンス指令を出力された塗布ヘッド７は、再検査に供され、補正した圧電素子１５の駆動電圧で当該ノズル１４の吐出状態を再検査すべく、実際の吐出量を測定し、目標値との差の有無の確認を行なう。
【００３４】
このとき、再検査対象とならなかった他の塗布ヘッド７については、メンテナンス指令が出力された塗布ヘッド７と一緒に液滴Ｅの吐出を行なって吐出状態を再確認しても良いし、吐出を行わなくても良い。
【００３５】
上記検査装置２０は、カメラ２３による撮像後の液滴Ｅが塗布された基板Ｋを洗浄する洗浄装置２６（洗浄手段）を有する。洗浄装置２６は、洗浄槽２２の底面に固定される超音波振動子２６Ａと、洗浄槽２２に貯留される洗浄液２６Ｂにより構成される。
【００３６】
上記超音波振動子２６Ａは基板保持移動手段３０の基板保持体３３毎に個別に設けられ、各基板保持体３３の下位置に位置付けられた基板保持部３４が保持する基板Ｋに相対する。洗浄液２６Ｂの液面レベルは各基板保持体３３の下位置に位置付けられた基板保持部３４が保持する基板Ｋを完全に浸漬する。
【００３７】
上記検査装置２０は、洗浄装置２６により洗浄後の基板Ｋを乾燥する乾燥装置２７（乾燥手段）を有する。乾燥装置２７は、洗浄槽２２の他方の側壁に固定されるブロア等からなる。乾燥装置２７は基板保持移動手段３０の基板保持体３３毎に個別に設けられ、各基板保持体３３の左位置（図１における左位置）に位置付けられた基板保持部３４が保持する基板Ｋの全塗布範囲に乾燥空気を吹付ける等の乾燥処理を行なう。
【００３８】
従って、検査装置２０は、基板保持移動手段３０の回転軸３２を９０度間隔で間欠回転し、各基板保持体３３の４つの基板保持部３４を、図１において、上位置、右位置、下位置、左位置のそれぞれに順に位置付けることにより、それらの４つの基板保持部３４が保持する基板Ｋのそれぞれを、（１）塗布ヘッド７の各ノズル１４による溶液の吐出作業位置（上位置）と、（２）カメラ２３に対向し、そのカメラ２３による液滴Ｅの撮像（検出）作業位置（右位置）と、（３）洗浄装置２６による基板Ｋの洗浄作業位置（下位置）と、（４）乾燥装置２７に対向し、その乾燥装置２７による基板Ｋの乾燥作業位置（左位置）のそれぞれに順に位置付けるように循環的に移動する。
【００３９】
尚、検査装置２０に用いられる検査用の基板Ｋは、フッ素樹脂製としたり、ガラス基板の表面にフッ素樹脂等の撥水性材料の膜を形成すると良い。この場合、基板Ｋに塗布された液滴Ｅは、基板Ｋの撥水性によって濡れ広がらずに球形状になるから、吐出量が同じであれば、ほぼ同じ直径の球形状となる。
【００４０】
そのため、カメラ２３が撮像する基板Ｋ上における液滴Ｅの投影面積のバラツキを小さくし、この投影面積による吐出量の算出精度を向上できる。
【００４１】
検査装置２０による検査手順は以下の如くになる。
【００４２】
（１）検査装置２０の洗浄槽２２、基板保持移動手段３０をテーブル３の移動によって各塗布ヘッド７の下方に搬送する。基板保持移動手段３０により、基板保持体３３の上位置（吐出作業位置）に位置付けられた基板保持部３４に保持されている基板Ｋに、対応する塗布ヘッド７の各ノズル１４から溶液の液滴Ｅを１滴ずつ吐出させて塗布する。
【００４３】
（２）基板保持移動手段３０の回転軸３２を９０度間欠回転し、上述（１）の基板Ｋを、カメラ２３による撮像作業位置（右位置）に位置付け、各ノズル１４から吐出されて基板Ｋに塗布された液滴Ｅを撮像する。画像処理装置２４がカメラ２３の撮像結果に基づいて、各ノズル１４から吐出された液滴Ｅの吐出状態を検出し、制御装置２５が画像処理装置２４の検出結果に基づいて必要とされるノズル１４のメンテナンスを行なう。
【００４４】
（３）基板保持移動手段３０の回転軸３２を９０度間欠回転し、上述（２）の基板Ｋを、洗浄装置２６による洗浄作業位置（下位置）に位置付け、カメラ２３による撮像後の液滴Ｅが塗布された基板Ｋを洗浄する。すなわち、制御装置２５は、超音波振動子２６Ａを所定の周波数で発振させ、この振動と洗浄液２６Ｂによる洗浄力とによって、基板Ｋに塗布された液滴Ｅを洗い流す。
【００４５】
（４）基板保持移動手段３０の回転軸３２を９０度間欠回転し、上述（３）の基板Ｋを、乾燥装置２７による乾燥作業位置（左位置）に位置付け、洗浄装置２６による洗浄後の基板Ｋを乾燥する。
【００４６】
（５）洗浄乾燥された基板Ｋは、循環的に次の検査（同一ノズル１４の異常吐出状態に基づき、制御装置２５が出力した前述のメンテナンス指令に起因する再検査を含む）に供されるように、再び上述（１）〜（４）の吐出作業位置、撮像作業位置、洗浄作業位置、乾燥作業位置に順に位置付けられる。
【００４７】
本実施例によれば以下の作用効果を奏する。
【００４８】
（ａ）基板Ｋは、塗布装置１００内で、基板保持移動手段３０に保持されたまま、塗布ヘッド７による溶液の吐出作業位置と、カメラ２３による撮像作業位置と、洗浄装置２６による洗浄作業位置のそれぞれに順に位置付けるように循環的に移動され、繰り返し検査に供される。
【００４９】
基板Ｋを基板保持移動手段３０に保持したまま、この基板Ｋに、ノズル１４による溶液の吐出、カメラ２３による撮像、洗浄装置２６による洗浄の各作業を順に施すことができ、基板Ｋを基板保持部３４に対して取付けたり取外したりする手間を省くことができ、この分だけ生産性を向上させることができる。
【００５０】
洗浄装置２６を塗布装置１００内に配置するものであり、設備スペースの増大を防止することができるものになる。
【００５１】
また、基板保持移動手段３０の基板保持体３３を間欠回転させることによって、基板保持部３４に保持された基板Ｋを吐出作業位置、撮像作業位置、洗浄作業位置へ順次位置付ける構成としたので、回転という単純な移動形態で作業位置の切り換えを行なうことができ、装置構成の簡素化を図ることができる。
【００５２】
（ｂ）基板保持移動手段３０は、塗布装置１００内で、洗浄装置２６による洗浄後の基板Ｋを乾燥装置２７による乾燥作業位置に位置付ける。
【００５３】
基板Ｋを基板保持移動手段３０に保持したまま、洗浄後の基板Ｋに、乾燥装置２７による乾燥を施すことができる。これにより、洗浄後の基板Ｋの乾燥時間の短縮を図ることができ、洗浄後の基板Ｋを検査に供することが可能となるまでの時間が短縮できるので、これによっても、生産生を高くするものになる。
【００５４】
乾燥装置２７を塗布装置１００内に配置するものであり、設備スペースを小さくするものになる。
【００５５】
（ｃ）基板保持移動手段３０が、複数の基板Ｋのそれぞれを基板Ｋの移動方向に沿う複数位置のそれぞれに並べて保持する複数の基板保持部３４を備え、各基板Ｋを各作業位置に順に位置付ける。従って、複数の基板Ｋのそれぞれに対し、ノズル１４による溶液の吐出、カメラ２３による撮像、洗浄装置２６による洗浄の各作業、更に必要によれば、乾燥装置２７による乾燥作業を、同時並行して施すことができ、生産性を一層高くするものになる。
【００５６】
以上、本発明の実施の形態を図面により詳述したが、本発明の具体的な構成はこの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。例えば、検出手段としてカメラ２３を用いたが、これに限られるものではなく、例えば、ラインセンサやレーザ変位計などの距離測定手段を用いても良い。ラインセンサを用いる場合には、ラインセンサを基板Ｋ上に塗布された液滴を横切るように走査させることで基板Ｋ上に滴下された液滴Ｅの平面画像を取り込むようにすれば良い。また、距離測定手段を用いる場合には、やはり、距離測定手段を基板Ｋ上に塗布された液滴Ｅを横切るように走査させ、そのときの距離測定値の変化に基づいて液滴Ｅの直径や塗布高さ等の外径寸法を求めるようにすれば良い。
【００５７】
また、検査装置２０がテーブル３とともに塗布ヘッド７に対して水平移動するものとしたが、検査装置２０がテーブル３とは独立して塗布ヘッド７に対して水平移動するように構成しても良いし、検査装置２０をベース上に固定配置し、塗布ヘッド７が水平移動して検査装置２０の情報に移動するようにしても良い。
【００５８】
また、検査装置２０の基板Ｋ上に各ノズル１４から溶液の液滴Ｅを１滴塗布するものとしたが、１滴に限られるものではなく、複数的であっても良い。この場合、複数滴の液滴Ｅを基板Ｋ上の同一箇所に塗布するようにしても良いし、異なる位置に個別に塗布するようにしても良い。
【００５９】
複数的の液滴Ｅを基板Ｋ上の同一箇所に塗布した場合、複数滴分の液滴の投影面積から求めた吐出量を同一箇所に塗布した液滴数で割った値を液滴１滴当りの吐出量として求める。複数の液滴を異なる位置に個別に塗布した場合、個々の液滴の投影面積から個別に求めた吐出量の平均値を液滴１滴当りの吐出量として求めると良い。
【００６０】
ない、複数の液滴を異なる位置に塗布する場合、テーブル３を所定の速度で移動させながら各ノズル１４から設定された吐出間隔で、設定された回数だけ液滴を吐出させればよい。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、塗布ヘッドのノズルから吐出される液滴の吐出状態の検査を生産性良く行うことができる。
【符号の説明】
【００６２】
７  塗布ヘッド、１４…ノズル、２３…カメラ（検出手段）、２４…画像処理装置（検出手段）、２６…洗浄装置（洗浄手段）、２７…乾燥装置（乾燥手段）、３０…基板保持移動手段、３４…基板保持部、Ｋ…検査用基板。
【図１】
2010087314.tif 000003
【図２】
2010087314.tif 000004
【図３】
2010087314.tif 000005
【図４】
2010087314.tif 000006
【国際調査報告】
2010087314.tif 000007
2010087314.tif 000008