(57)【要約】  耐久性の高い反射防止膜、反射防止膜を備えた光学素子、およびその光学素子を備えた光学系を提供する。  基材側から、中間層、銀を含有する銀含有金属層、および誘電体層が順に積層され、中間層が、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層と、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層とが交互に積層された２層以上の多層膜であり、誘電体層は空気への露出面を有し、誘電体層は、シリコンを含む酸化物層と、フッ化マグネシウム層と、シリコンを含む酸化物層およびフッ化マグネシウム層の間に設けられた密着層であって、シリコンを含む酸化物層とフッ化マグネシウム層との密着性を高める密着層とを含む多層膜である、反射防止膜とする。
2019058825.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に設けられる反射防止膜であって、
前記基材側から、中間層、銀を含有する銀含有金属層、および誘電体層が順に積層され、
前記中間層が、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層と、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層とが交互に積層された２層以上の多層膜であり、
前記誘電体層は空気への露出面を有し、
該誘電体層は、シリコンを含む酸化物層、フッ化マグネシウム層、および、前記シリコンを含む酸化物層と前記フッ化マグネシウム層の間に設けられた密着層であって、前記シリコンを含む酸化物層と前記フッ化マグネシウム層との密着性を高める密着層を含む多層膜である反射防止膜。
【請求項２】
前記フッ化マグネシウム層が前記シリコンを含む酸化物層よりも前記銀含有金属層側に配置されている請求項１に記載の反射防止膜。
【請求項３】
前記誘電体層が、前記シリコンを含む酸化物層へのシランカップリング反応により形成された自己組織化膜であるフルオロカーボン層を備えた請求項２に記載の反射防止膜。
【請求項４】
前記密着層が酸化物からなる請求項１から３いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項５】
前記酸化物が、アルミナまたは酸化マグネシウムを含む請求項４に記載の反射防止膜。
【請求項６】
前記密着層の膜厚が２０ｎｍ以下である請求項１から５いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項７】
前記シリコンを含む酸化物層と前記密着層との合計膜厚が２５ｎｍ以下である請求項１から６いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項８】
前記銀含有金属層の厚みが６ｎｍ以下である請求項１から７いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項９】
前記銀含有金属層と前記中間層との間に、アンカー層を有する請求項１から８いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項１０】
前記銀含有金属層と前記中間層との間に、アンカー金属の酸化物を含むアンカー領域を備え、
前記銀含有金属層と前記誘電体層との間に、前記アンカー金属の酸化物を含むキャップ領域を備えた請求項１から８いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項１１】
前記銀含有金属層に２０原子％以下の貴金属が含まれている請求項１から１０いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項１２】
請求項１から１１いずれか１項に記載の反射防止膜を備えた光学素子。
【請求項１３】
請求項１２に記載の光学素子を含む組レンズであって、該光学素子の前記反射防止膜が設けられた面が最表面に配置されてなる組レンズを備えた光学系。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、反射防止膜、反射防止膜を備えた光学素子およびその光学素子を備えた光学系に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ガラスおよびプラスチックなどの透光性部材を用いたレンズ（透明基材）においては、表面反射による透過光の損失を低減するために光入射面に反射防止膜が設けられている。【０００３】
可視光に対する反射防止膜として、可視光の波長よりも短いピッチの微細凹凸構造あるいは多数の孔が形成されたポーラス構造を最上層に備えた構成が知られている。微細凹凸構造やポーラス構造などの構造層を低屈折率層として最上層に有する反射防止膜を用いれば可視光域の広い波長帯域において０．２％以下の超低反射率を得ることができる。しかしながら、これらは表面に微細な構造をもつために、機械的強度が小さく、拭き取りなどの外力に非常に弱いという欠点がある。そのため、カメラレンズなどとして用いられる組レンズの最表面（第１レンズ表面および最終レンズ後面）などのユーザが触れる箇所には構造層を備えた超低反射率コートを施すことができなかった。【０００４】
一方、表面に構造層を備えていない反射防止膜として、誘電体膜の積層体中に金属層を含む反射防止膜が特開２０１３−２３８７０９号公報（以下において、特許文献１という。）および国際公開第２０１６／１８９８４８号（以下において、特許文献２という。）などに提案されている。【０００５】
特許文献１には、より低い反射率を実現するために、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層してなる積層体と、空気への露出面を有する誘電体層との間に銀を含有する金属層を備えた構成が提案されている。【０００６】
特許文献２には、特許文献１と同様の構成において、誘電体層として、酸化シリコンまたはフッ化マグネシウムを備えた構成が提案されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１および２に記載の反射防止膜は、積層体、銀を含有する金属層、誘電体層が順に積層されており、非常に良好な反射防止性能を得ることが可能である。【０００８】
しかしながら、特許文献１および２においては、反射防止膜の耐摩耗性については検討されていない。【０００９】
本開示は、上記事情に鑑みてなされたものであって、耐摩耗性を向上した耐久性の高い反射防止膜、反射防止膜を備えた光学素子、およびその光学素子を備えた光学系を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示による反射防止膜は、基材上に設けられる反射防止膜であって、
基材側から、中間層、銀を含有する銀含有金属層、および誘電体層が順に積層され、
中間層が、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層と、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層とが交互に積層された２層以上の多層膜であり、
誘電体層は空気への露出面を有し、
誘電体層は、シリコンを含む酸化物層、フッ化マグネシウム層、および、シリコンを含む酸化物層とフッ化マグネシウム層の間に設けられた密着層であって、シリコンを含む酸化物層とフッ化マグネシウム層と密着性を高める密着層を含む多層膜である。【００１１】
ここで「銀を含有する」とは、銀含有金属層中において銀を５０原子％以上含むこととする。
また、「相対的に高い屈折率を有する」、「相対的に低い屈折率を有する」とは、高屈折率層と低屈折率層との間の関係をいい、高屈折率層が低屈折率層よりも高い屈折率を有し、低屈折率層が高屈折率層よりも低い屈折率を有することを意味する。【００１２】
「中間層が…２層以上の多層膜である」とは、中間層が少なくとも１層の高屈折率層と１層の低屈折率層を含むことを意味する。【００１３】
本開示による反射防止膜においては、フッ化マグネシウム層がシリコンを含む酸化物層よりも銀含有金属層側に配置されていることが好ましい。【００１４】
本開示による反射防止膜においては、誘電体層が、シリコンを含む酸化物層へのシランカップリング反応により形成された自己組織化膜であるフルオロカーボン層を備えていることが好ましい。【００１５】
ここで「シリコンを含む酸化物層へのシランカップリング反応により形成された自己組織化膜であるフルオロカーボン層」は、フルオロカーボン基を有するシランカップリング剤が酸化物層とシランカップリング反応して自己組織化的に形成された単分子膜である。【００１６】
本開示による反射防止膜においては、密着層が酸化物からなることが好ましい。【００１７】
密着層が酸化物からなる場合、酸化物がアルミナまたは酸化マグネシウムを含むことが好ましい。【００１８】
本開示による反射防止膜においては、密着層の膜厚が２０ｎｍ以下であることが好ましい。【００１９】
本開示による反射防止膜においては、シリコンを含む酸化物層と密着層との合計膜厚が２５ｎｍ以下であることが好ましい。【００２０】
本開示による反射防止膜においては、銀含有金属層の厚みが６ｎｍ以下であることが好ましい。【００２１】
本開示による反射防止膜においては、銀含有金属層と中間層との間に、アンカー層を有していてもよい。【００２２】
本開示による反射防止膜においては、銀含有金属層と中間層との間に、アンカー金属の酸化物を含むアンカー領域を備え、銀含有金属層と誘電体層との間に、アンカー金属の酸化物を含むキャップ領域を備えていてもよい。【００２３】
本開示による反射防止膜においては、銀含有金属層に２０原子％以下の貴金属が含まれていることが好ましい。【００２４】
本開示による光学素子は、上記の本発明の一実施形態の反射防止膜を備えたものである。【００２５】
本開示による光学系は、上記本発明の一実施形態の光学素子を含む組レンズであって、その光学素子の反射防止膜が設けられた面が最表面に配置されてた組レンズを備えたものである。
ここで、最表面とは、複数のレンズからなる組レンズの両端に配置されるレンズの一面であって、組レンズの両端面となる面をいう。
【発明の効果】
【００２６】
本開示の一実施形態の反射防止膜は、基材上に設けられる反射防止膜であって、基材側から、中間層、銀を含有する銀含有金属層、および誘電体層が順に積層され、中間層が、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層と、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層とが交互に積層された２層以上の多層膜であり、誘電体層は空気への露出面を有し、誘電体層は、シリコンを含む酸化物層と、フッ化マグネシウム層と、シリコンを含む酸化物層およびフッ化マグネシウム層の間に設けられた両層の密着性を高める密着層とを含む多層膜である。銀含有金属層の基材とは反対側に設けられる誘電体層を、低い屈折率を有するフッ化マグネシウム層とシリコンを含む酸化物層との積層構造とすることにより、良好な反射防止性を得ることができる。また、フッ化マグネシウム層とシリコンを含む酸化物層との密着性を向上させる密着層を備えているので、両者間の密着性を向上し、耐摩耗性を向上させることができ、高い耐久性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る反射防止膜を備えた光学素子の断面模式図である。
【図２】本発明の第２の実施形態に係る反射防止膜を備えた光学素子の断面模式図である。
【図３】本発明の第３の実施形態に係る反射防止膜を備えた光学素子の断面模式図である。
【図４】第３の実施形態に反射防止膜の製造工程図である。
【図５】本発明の一実施形態の光学素子を備えた組レンズからなる光学系の構成を示す図である。
【図６】実施例１の反射防止膜の反射率の波長依存性を示す図である。
【図７】実施例１の反射防止膜の耐摩耗性試験後の表面画像である。
【図８】比較例３の反射防止膜の耐摩耗性試験後の表面画像である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る反射防止膜１を備えた光学素子５１の概略構成を示す断面模式図である。図１に示すように、本実施形態の反射防止膜１は、基材２上に中間層４、アンカー層６、銀（Ａｇ）を含有する銀含有金属層８および誘電体層１０がこの順に積層されている。中間層４は、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層４１と、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層４２とが交互に積層された２層以上の多層膜である。また、誘電体層１０は、空気への露出面を有する層である。誘電体層１０は、シリコンを含む酸化物層１４と、フッ化マグネシウム層１２と、シリコンを含む酸化物層１４およびフッ化マグネシウム層１２の間に設けられた密着層１５とを含む多層膜である。密着層１５は、フッ化マグネシウム層１２とシリコンを含む酸化物層１４との密着性を高める層である。そして、光学素子５１は、基材２とその一表面に形成された反射防止膜１とからなる。
【００２９】
本発明の一実施形態の反射防止膜において、反射すべき光は、用途によって異なるが、一般的には可視光領域（４００ｎｍ〜７８０ｎｍ）の光であり、必要に応じて赤外線領域の光の場合もある。
【００３０】
基材２の形状は、特に限定なく、平板、凹レンズまたは凸レンズなど、主として光学装置において用いられる透明な光学部材、可撓性の透明フィルムなどである。基材の材料としては、ガラスやプラスチックなどを用いることができる。
【００３１】
基材２の屈折率は、特に問わないが、１．４５以上であることが好ましい。基材２の屈折率は１．６１以上、１．７４以上、さらには１．８４以上であってもよい。基材２としては、例えば、カメラの組レンズの第１レンズなどの高パワーレンズであってもよい。なお、本明細書において、屈折率は全て波長５００ｎｍの光に対する屈折率で示している。
【００３２】
中間層４は、高屈折率層４１と低屈折率層４２とが交互に積層された多層膜であり、少なくとも１層の高屈折率層４１および低屈折率層４２を備えればよい。本実施形態においては、高屈折率層４１と低屈折率層４２が交互に計４層積層されている。なお、図１中（ａ）に示すように基材２側から低屈折率層４２、高屈折率層４１の順に積層されていてもよいし、図１中（ｂ）に示すように基材２側から高屈折率層４１、低屈折率層４２の順に積層されていてもよい。また、中間層４の層数に制限はないが、１６層以下とすることがコスト抑制の観点から好ましい。
高屈折率層４１は低屈折率層４２の屈折率に対して高い屈折率を有するものであり、低屈折率層４２は高屈折率層４１の屈折率に対して低い屈折率を有するものであればよいが、高屈折率層４１の屈折率が基材２の屈折率よりも高く、低屈折率層４２の屈折率が基材２の屈折率よりも低いものであることがより好ましい。
【００３３】
高屈折率層４１同士、または低屈折率層４２同士は、同一の材料から構成されていなくても構わないが、同一材料とすれば、材料コストおよび成膜コスト等を抑制する観点から好ましい。
【００３４】
低屈折率層４２を構成する材料の一例としては、シリコン酸化物（ＳｉＯ２）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）、酸化ガリウム（Ｇａ２Ｏ３）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）およびフッ化ナトリウムアルミニウム（Ｎａ３ＡｌＦ６）などが挙げられる。
高屈折率層４１を構成する材料の一例としては、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）、窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）および酸化シリコンニオブ（ＳｉＮｂＯ）、Ｓｕｂｓｔａｎｃｅ  Ｈ４（メルク社製）などが挙げられる。
いずれの化合物も化学量論比の組成比からずれた構成元素比となるように制御したり、成膜密度を制御したりして成膜することにより、屈折率をある程度変化させることができる。なお、低反射率層および高反射率層を構成する材料としては、上述の屈折率の条件を満たすものであれば、上記化合物に限らない。また、不可避不純物が含まれていてもよい。
【００３５】
中間層４の各層の成膜には、真空蒸着、プラズマスパッタ、電子サイクロトロンスパッタおよびイオンプレーティングなどの気相成長法を用いることが好ましい。気相成長法によれば多様な屈折率および層厚の積層構造を容易に形成することができる。
【００３６】
銀含有金属層８は、構成元素の５０原子％以上が銀からなるものとする。銀以外にパラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、ネオジウム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、ビスマス（Ｂｉ）、白金（Ｐｔ）、錫（Ｓｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）および鉛（Ｐｂ）のうちの少なくとも１種を含有していてもよい。特に、Ａｕ、ＰｄおよびＰｔなどの貴金属を含有することが好ましい。これらの金属のうち、Ａｕが最も標準電極電位が大きく腐食防止に適している。また、屈折率および消光係数の観点からもＡｕが好ましい。Ａｕの屈折率はＡｇ同様に小さいため、反射防止性能への影響は小さい。一方、消光係数（吸収率）はＡｇと比較して大きいため、Ａｕ量の増加に伴い透過率が低下する傾向がある。
【００３７】
反射防止の観点からは、銀の組成比が高い方が好ましく、銀の割合が８０原子％以上であることが好ましく、９０原子％以上であることがより好ましい。
高標準電極電位金属は、少量でも含まれれば防食効果が得られ、量が多いほど耐久性は向上する。一方で、高標準電極電位金属の量（以下において、「添加金属量」という。）と光吸収量とに相関があるため、透過率の観点からは添加金属量が少ない方ほど透明性が向上する。例えば、反射防止膜に適用することを想定した場合、波長５５０ｎｍにおける吸収率は１０％以下であることが望ましい。腐食防止性と透明性を両立させる観点から添加金属量は銀量に対して２０原子％以下、１０原子％以下が好ましく、５原子％以下１原子％以上とすることがより好ましい。
【００３８】
なお、銀含有金属層８の膜厚は６ｎｍ以下が好ましく、０．５ｎｍ以上であることが好ましい。さらには、２．０ｎｍ以上が好ましく、２．５ｎｍ以上がより好ましく、３ｎｍ以上が特に好ましい。なお、ここでいう膜厚は製造後の反射防止膜における銀含有金属層８の膜厚であり、断面ＴＥＭ−ＥＤＸ：（透過型電子顕微鏡（Transmission Electron Microscope:ＴＥＭ）−エネルギー分散型Ｘ線分光法（Energy Dispersive X-ray Spectroscopy：ＥＤＸ））解析で得られる膜厚と組成によって確認することができる。上下層間で金属の移動が生じ混合層が形成されている場合、含有金属のうちＡｇの組成比が他の金属よりも高い範囲の膜厚をＡｇの膜厚と定義する。なお、銀含有金属層８は非常に薄く形成される膜であるため、実際には、不連続となっている領域や、欠落した領域が形成されている場合がある。また、成膜表面は完全な平滑面ではなく、通常は、粒状の凹凸を有する面である。
【００３９】
銀含有金属層８の形成においても、真空蒸着、プラズマスパッタ、電子サイクロトロンスパッタおよびイオンプレーティングなどの気相成長法を用いることが好ましい。
【００４０】
なお、本実施形態の反射防止膜１においては、図１に示す通り、中間層４と銀含有金属層８との間にアンカー層６を備えている。銀含有金属層８は、銀含有濃度が高いほど、平滑な膜ではなく粒状に成長する場合がある。アンカー層６を形成後、その上に銀を含む膜を形成することにより、粒状化を抑制し、平滑性の高い薄膜を形成することができる。また、既述の通り、銀以外の金属元素を含む金属層は、純銀を用いて形成した膜と比較して平滑性が高く、そのような金属層をアンカー層上に形成することにより、より高い平滑性を得ることができる。アンカー層を構成する材料の一例として具体的には、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、ビスマス（Ｂｉ）、鉛（Ｐｂ）、錫（Ｓｎ）、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）およびシリコン（Ｓｉ）などが挙げられる。これらのうち、ビスマス（Ｂｉ）、鉛（Ｐｂ）、錫（Ｓｎ）、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）およびシリコン（Ｓｉ）が好ましく、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｚｎ、ＧａおよびＧｅがより好ましい。なお、本発明者らの検討によれば、Ａｇの粒径増大を抑制する観点で、Ｉｎ、ＧａおよびＧｅがさらに好ましく、特にＧｅが好ましい。
【００４１】
アンカー層の厚みとしては特に制限はないが、特に０．２ｎｍ〜２ｎｍとすることが好ましい。０．２ｎｍ以上であればその上に形成される金属層の粒状化を十分に抑制することができる。また２ｎｍ以下であればアンカー層自体による入射光の吸収を抑制することができるので、反射防止膜の透過率の低下を抑制することができる。なお、アンカー金属としては単独の金属ではなく、２種以上の金属を含むものであってもよい。この場合、アンカー層成膜時において、２種以上の金属からなる合金層として成膜してもよいし、アンカー層成膜時において、単一の金属からなる層を複数層積層してもよい。
【００４２】
なお、アンカー層６は、作製の過程において、そのアンカー層を構成するアンカー金属の一部が銀含有金属層の中間層側に留まり、一部が銀含有金属層を通過して銀含有金属層の誘電体層側に移動することにより、銀含有金属層と中間層との界面領域、銀含有金属層と誘電体層との界面領域におけるアンカー領域、キャップ領域に変質する場合がある。なお、アンカー領域およびキャップ領域においては、アンカー金属の一部あるいは全部が酸化された状態で存在してもよい。なお、アンカー金属の移動の有無はアンカー金属、およびアニール温度等の作製条件によって異なる。本発明者らの検討によれば、上記アンカー金属の具体例として挙げた金属のうち、好ましい例として挙げた金属が、比較的移動しやすく、アンカー層からアンカー領域およびキャップ領域への変質が生じやすい金属である。また、微量のアンカー層金属がＡｇ中に留まる場合もある。
【００４３】
誘電体層１０は、銀含有金属層８側から、フッ化マグネシウム層１２、密着層１５およびシリコンを含む酸化物層１４である。シリコンを含む酸化物は、ここではシリコン酸化物（ＳｉＯ２）であり、以下においてシリコン酸化物層１４とする。誘電体層１０は、３層超える多層膜であってもよい。
なお、この場合、誘電体層１０を構成する多層膜の平均的な屈折率は、反射防止の観点から、比較的低い、おおむね１．５以下、好ましくは１．４以下の低屈折率を有することが好ましい。
【００４４】
銀含有金属層上に設けられる誘電体層は単層であることが一般的であった（たとえば、特許文献１、２）。誘電体層１０において、フッ化マグネシウム層１２とシリコン酸化物層１４とを積層することにより、高い反射防止効果を維持しつつ、耐久性（塩水耐性）を高めることができる。一方で、フッ化マグネシウム層とシリコン酸化物層とは密着性が低く、剥離が生じやすいことを本発明者らは見出した。本発明の一実施形態の反射防止膜はフッ化マグネシウム層とシリコン酸化物層との両層の密着性を向上するための密着層を備える。
【００４５】
フッ化マグネシウムはイオン結合化合物であり、シリコン酸化物は共有結合化合物である。このため、フッ化マグネシウム層とシリコン酸化物層とを直接接触させた場合、十分な密着性が得られないと推測される。密着層としては、両層を直接積層した場合よりも密着性を向上させることができるものであれば、特に制限はない。但し、シリコンよりも電気陰性度の小さい元素の酸化物はシリコン酸化物よりもフッ化マグネシウムへの密着性がよく、密着層として好適である。
【００４６】
密着層としては、例えば、Ａｌ，Ｚｒ，Ｍｇ，Ｙ，Ｌａ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｎｂ，ＣｅおよびＷのいずれかの金属の酸化物、または複数の金属の酸化物など、光学材料として広く用いられている金属酸化物を用いることができる。
一方で、反射防止膜の反射防止性能を向上させるためには、誘電体層が低屈折率であることが好ましい。そのため、密着層としては、ＡｌもしくはＭｇの酸化物であるアルミナまたは酸化マグネシウムを含むことが特に好ましい。
【００４７】
密着層１５は、シリコン酸化物やフッ化マグネシウムよりも屈折率が高いため、膜厚が薄い方が好ましく、膜厚が２０ｎｍ以下であることが好ましい。また、十分に密着層としての機能を発揮させるために、５ｎｍ以上であることが好ましい。
【００４８】
上記第１の実施形態においては、誘電体層１０が、フッ化マグネシウム層１２、密着層１５およびシリコン酸化物層１４の３層構造としたが、誘電体層１０は４層以上の層構成であってもよい。
【００４９】
誘電体層１０の厚み（総厚）は対象とする波長をλ、誘電体層の屈折率をｎとした場合、λ／４ｎ程度であることが好ましい。具体的には７０ｎｍ〜１００ｎｍ程度である。
【００５０】
図２および図３は、それぞれ第２の実施形態の反射防止膜２１を備えた光学素子５２および第３の実施形態の反射防止膜３１を備えた光学素子５３の模式断面図である。各図において、第１の実施形態の反射防止膜１を備えた光学素子５１中の構成要素と同等の構成要素には同一符号を付し詳細な説明は省略する。
【００５１】
図２に示す第２の実施形態の反射防止膜２１は、アンカー層６に代えて、銀含有金属層８の中間層４側にアンカー領域７、誘電体層１０側にキャップ領域９を備えており、誘電体層１０として、シリコン酸化物層１４が銀含有金属層８側、フッ化マグネシウム層１２が露出面に配置されている点で第１の実施形態の反射防止膜１と異なる。
【００５２】
第１の実施形態に係る反射防止膜におけるアンカー層は、中間層４の積層後、銀含有金属層８の積層前にこの銀含有金属層を平滑に成膜するために設けられている。本実施形態におけるアンカー領域７は、第１の実施形態の反射防止膜におけるアンカー層が製造過程において変質することで得られた領域であり、中間層４と銀含有金属層８との界面領域である。
同様にキャップ領域９は、アンカー層を構成するアンカー金属が製造過程において、銀含有金属層８中を通り抜け、銀含有金属層８表面で環境下の酸素により酸化されたアンカー金属の酸化物を含む、銀含有金属層８と誘電体層１０との界面領域である。
ここで、変質するとは、中間層や銀含有金属層の構成元素との混合や、金属元素の酸化などが生じて、アンカー層が成膜時の状態とは異なる状態となることを意味する。
なお、アンカー層６がアンカー領域７およびキャップ領域９へと変質した後には、アンカー金属の酸化に伴い、アンカー層６の膜厚に対して、両領域７および９の合計膜厚は２倍程度に増加する場合もある。
【００５３】
従って、アンカー領域７にはアンカー金属およびその酸化物に加えて、銀含有金属層８と中間層４に存在する原子が混在し、キャップ領域９には、アンカー酸化物に加えて、銀含有金属層８と誘電体層１０に存在する原子が混在している。アンカー領域７およびキャップ領域９は、アンカー金属について深さ方向（積層方向）における含有率を測定したとき、その深さ方向の位置に対する含有率の変化を示すラインプロファイルにおいてピークを示す位置（深さ方向位置）を中心として２ｎｍ程度以下の領域である。ラインプロファイルにおいては、２つのピークが観察されるが、そのうち基材に近い側がアンカー領域であり、基材から遠い側がキャップ領域のピークである。なお、アンカー金属含有率ピーク位置は、例えば、ＴＥＭ−ＥＤＸのラインプロファイルより算出できる。ラインプロファイルにおいてアンカー金属の信号が強く出る点（極大値）をピーク位置として算出する。
【００５４】
なお、アンカー領域には酸化されたアンカー金属（アンカー金属酸化物）および酸化されていないアンカー金属が混在している場合もあるが、アンカー金属酸化物の含有量が酸化されていないアンカー金属の含有量よりも大きいことが望ましく、アンカー領域に含まれているアンカー金属が全て酸化されていることが特に好ましい。
一方、キャップ領域に含まれているアンカー金属は全て酸化され、アンカー金属酸化物となっていることが好ましい。
【００５５】
キャップ領域は、アニール時において銀が凝集して粒状になるのを抑制する効果もあると考えられる。製造過程において、アンカー層、銀含有金属層を順次形成した段階で、アンカー金属の移動は生じ、また、その段階で大気中に露出することにより表面に移動したアンカー金属の酸化が生じる。アンカー金属が酸化物となることにより、安定なものとなり、銀の移動を抑制、凝集抑制、長期安定性、耐水性および耐湿性等のキャップ性能が向上するものと考えられる。なお、酸素存在化下にてアニールされることにより、キャップ領域のアンカー金属の大部分が酸化物となる。この場合、キャップ領域に含まれているアンカー金属の８０％以上が酸化されていることが好ましく、キャップ領域に含まれているアンカー金属の全てが酸化され、アンカー金属酸化物となっていることがより好ましい。
【００５６】
以上のようなアンカー領域およびキャップ領域を備えることにより、平坦性と透明性を両立させた銀の超薄膜構造の実現が可能である。
【００５７】
また、本実施形態においては、誘電体層２０が銀含有金属層８側から、シリコン酸化物層１４、密着層１５およびフッ化マグネシウム層１２の順に備えられている。このように、誘電体層２０において、シリコン酸化物層１４とフッ化マグネシウム層１２の位置が逆であっても、密着層１５による、シリコン酸化物層１４とフッ化マグネシウム層１２の密着性向上の効果は同様である。したがって、第１の実施形態の反射防止膜１と同様に、耐摩耗性の効果を得ることができる。
【００５８】
図３に示す第３の実施形態の反射防止膜３１は、銀含有金属層８の中間層４側にアンカー領域７、誘電体層１０側にキャップ領域９を備えており、シリコン酸化物層１４の上層に、シリコンを含む酸化物層へのシランカップリング反応により形成された自己組織化膜であるフルオロカーボン層１６を誘電体層３０として備えた点で第１の実施形態の反射防止膜１と異なる。
【００５９】
また、本実施形態においては、誘電体層３０は、フッ化マグネシウム層１２、密着層１５、シリコン酸化物層１４およびシリコン酸化物層１４上に自己組織化膜として設けられたフルオロカーボン層１６から構成されている。
【００６０】
フルオロカーボン層１６は、フルオロカーボン基を有するシランカップリング剤を用いて、シリコン酸化物層の表面にシランカップリング反応して自己組織化膜として形成されるものである。フルオロカーボン層の厚みは２０ｎｍ以下であることが好ましい。単分子膜であれば、概ね２０ｎｍ以下の厚みとなる。
【００６１】
フルオロカーボンは疎水性が強く、水分や塩素などのハロゲンイオンなど、親水性分子の侵入を抑制する効果が大きい。本発明の一実施形態の構成のように、緻密な自己組織化膜として設けることで、高い保護性能を実現することができる。また、自己組織化膜であれば、均一な膜とすることができるので光学用途として好ましい。
【００６２】
フルオロカーボン層の作製方法の一例としては、真空蒸着または溶液プロセス（塗布法）などがある。溶液プロセスとしては、ディップコートまたはスピンコートなどが挙げられる。
フルオロカーボン基を有するシランカップリング剤の具体例としては、キャノンオプトロン社製ＳｕｒｆＣｌｅａｒ１００、ダイキン社製オプツールＨＤシリーズ、３Ｍ社製Ｎｏｖｅｃ１７２０、およびフロロテクノロジー社製フロロコートの一部（シランカップリング反応するもの）などが挙げられる。
なお、シランカップリング反応により形成された自己組織化膜としてのフルオロカーボン層の存在の有無については、断面ＴＥＭ−ＥＤＸ：（透過型電子顕微鏡（Transmission Electron Microscope:ＴＥＭ）−エネルギー分散型Ｘ線分光法（Energy Dispersive X-ray Spectroscopy：ＥＤＸ））解析で得られる膜厚と組成によって確認することができる。
【００６３】
銀含有金属層８中の銀は酸化されやすく、特に、塩水などのハロゲン耐性が低い。水分や塩素イオンは主として、反射防止膜の空気露出面から侵入し、銀を含む金属層に到達し、銀が酸化され、結果として反射防止機能が低下する場合がある。本実施形態のようにシランカップリング反応して自己組織化膜として形成されたフルオロカーボン層を備えることにより、銀の劣化抑制の顕著な効果を得ることができる。
【００６４】
第３の実施形態のようにシランカップリング反応による自己組織化膜としてのフルオロカーボン層を設けることにより銀の劣化を効果的に抑制し耐久性を得るためには、下地層としてシリコン酸化物層などのシランカップリングのための酸化物層が必須である。本発明の一実施形態の構成によれば、そのようなシリコン酸化物層とフルオロカーボン層を備えた構成に、さらにフッ化マグネシウム層を備えることにより、高い反射防止性を得ることができる。さらに、フッ化マグネシウム層とシリコン酸化物層との密着性を高める密着層を備えているため、高い耐摩耗性が得られ、剥離耐性も高い。したがって、非常に耐久性の高い反射防止膜を得ることができる。
【００６５】
なお、本発明の一実施形態の反射防止膜は、上記各層以外に、銀含有金属層の酸化を抑制する保護機能を有する保護層など、他の機能層を備えていてもよい。また、本発明の一実施形態の反射防止膜を構成する各層の成膜において、ｎｍオーダーの極薄い層を形成する場合には、一様膜に形成しがたく、現実には凹凸膜あるいは海島状に部分的に形成されていない部分（海）があるが、本発明はこのような形態を包含するものとする。
【００６６】
図３に示した第３の実施形態の反射防止膜３１の製造方法を例について説明する。図４は製造工程を示す図である。
【００６７】
基材２上に、中間層４を成膜し（Ｓｔｅｐ１）、その後、アンカー領域およびキャップ領域に含まれる金属の酸化物における金属をアンカー層６として成膜し、さらに銀層８ａ、金層８ｂを順次成膜する（Ｓｔｅｐ２）。アンカー層６および銀層８ａ、金層８ｂの成膜は酸素が存在しない雰囲気下で行う。アンカー層６の成膜厚みは０．２ｎｍ〜２．０ｎｍ程度とすることが好ましい。
【００６８】
その後、中間層４、アンカー層６、銀層８ａおよび金層８ｂの順に積層された基材２を大気中に曝露し、大気中にてアニールを行う。アニール温度は１００℃〜４００℃、アニール時間は１分〜２時間程度が好ましい。このアニールにより、銀層８ａと金層８ｂとは金銀合金層からなる銀含有金属層８となる。また、アニールによりアンカー層６はアンカー領域７に変質し、アンカー金属の一部が銀含有金属層８中を通過して積層体の表面側に移動し、表面に移動したアンカー金属が酸化されて金属酸化物からなるキャップ領域９が形成される（Ｓｔｅｐ３）。
【００６９】
その後、積層体の最表面となるキャップ領域９上に誘電体層のうち、フッ化マグネシウム層１２、密着層１５およびシリコン酸化物層１４を成膜する。（Ｓｔｅｐ４）。
さらに、シリコン酸化物層１４の表面に、フルオロカーボン基を有するシランカップリング剤を真空成膜し、シランカップリング反応による自己組織化膜であるフルオロカーボン層１６の形成を行う（Ｓｔｅｐ５）。フルオロカーボン層は溶液法により形成してもよい。
【００７０】
以上の工程により、図３に示した実施形態の反射防止膜３１を作製することができる。
【００７１】
本発明の一実施形態の反射防止膜は種々の光学部材の表面に適用することができる。高屈折率のレンズ表面への適用が可能であるため、例えば、特開２０１１−１８６４１７号公報等に記載の公知のズームレンズの最表面に好適である。
【００７２】
上述した第１の実施形態の反射防止膜１を備えた組レンズからなる光学系の実施形態を説明する。
図５（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は、本発明の光学系の一実施形態であるズームレンズの構成例を示している。図５（Ａ）は広角端（最短焦点距離状態）での光学系配置、図５（Ｂ）は中間域（中間焦点距離状態）での光学系配置、図５（Ｃ）は望遠端（最長焦点距離状態）での光学系配置に各々対応している。
【００７３】
このズームレンズは、光軸Ｚ１に沿って物体側から順に、第１レンズ群Ｇ１と、第２レンズ群Ｇ２と、第３レンズ群Ｇ３と、第４レンズ群Ｇ４と、第５レンズ群Ｇ５とを備えている。光学的な開口絞りＳ１は、第２レンズ群Ｇ２と第３レンズ群Ｇ３との間で、第３レンズ群Ｇ３の物体側近傍に配設されていることが好ましい。各レンズ群Ｇ１〜Ｇ５は１枚または複数のレンズＬijを備えている。符合Ｌijは第ｉレンズ群中の最も物体側のレンズを１番目として結像側に向かうに従い順次増加するようにして符号を付したｊ番目のレンズを示す。
【００７４】
このズームレンズは、例えばビデオカメラ、およびデジタルスチルカメラ等の撮影機器のほか、情報携帯端末にも搭載可能である。このズームレンズの像側には、搭載されるカメラの撮影部の構成に応じた部材が配置される。例えば、このズームレンズの結像面（撮像面）には、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）またはＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）等の撮像素子１００が配置される。最終レンズ群（第５レンズ群Ｇ５）と撮像素子１００との間には、レンズを装着するカメラ側の構成に応じて、種々の光学部材ＧＣが配置されていても良い。
【００７５】
このズームレンズは、少なくとも第１レンズ群Ｇ１、第３レンズ群Ｇ３、および第４レンズ群Ｇ４を光軸Ｚ１に沿って移動させて、各群間隔を変化させることにより変倍を行うようになされている。また第４レンズ群Ｇ４を合焦時に移動させるようにしても良い。第５レンズ群Ｇ５は、変倍および合焦の際に常時固定であることが好ましい。開口絞りＳ１は、例えば第３レンズ群Ｇ３と共に移動するようになっている。より詳しくは、広角端から中間域へ、さらに望遠端へと変倍させるに従い、各レンズ群および開口絞りＳ１は、例えば図５（Ａ）の状態から図５（Ｂ）の状態へ、さらに図５（Ｃ）の状態へと、図に実線で示した軌跡を描くように移動する。
【００７６】
このズームレンズの最表面は、第１レンズ群Ｇ１のレンズＬ１１の外側面（物体側面）および最終レンズ群である第５レンズ群Ｇ５のレンズＬ５１に反射防止膜１が備えられている。なお、他のレンズ面にも同様に反射防止膜１を備えていてもよい。
【００７７】
本実施形態の反射防止膜１は機械的強度が大きいので、ユーザが触れる可能性のあるズームレンズの最表面に備えることができ、非常に反射防止性能の高いズームレンズを構成することができる。
また、微細凹凸構造を備えた反射防止膜においては、凹凸構造ゆえに屈折率揺らぎが存在し、その屈折率揺らぎにより散乱が生じるおそれがあるが、凹凸構造を有していない本発明の一実施形態の反射防止膜は屈折率揺らぎがほとんど存在しないため、散乱もほとんど生じない。カメラレンズにおける反射防止膜において、散乱はフレアを発生し画像のコントラストを低下させることから、本発明の一実施形態の反射防止膜を備えることにより散乱を抑制し、結果として画像のコントラストの低下を抑制することができる。
【実施例】
【００７８】
本発明の一実施形態の反射防止膜における反射防止性能に寄与する具体的な層構成の実施例を説明する。【００７９】
＜実施例１〜１１および比較例１〜４の反射防止膜の作製方法＞
基材としてＳ−ＮＢＨ５（オハラ社製：屈折率１．６６３９３）を用いた。基材上に下記表１に示す、各材料を真空蒸着にて成膜した。真空蒸着にはアルバック社製ＥＢＸ−１０００を用いた。【００８０】
まず、最初に、基材を洗浄した後に、中間層を真空蒸着により成膜した。成膜時の成膜温度は３００℃とした。低屈折率層としてシリコン酸化物（ＳｉＯ２：屈折率１．４６２３５）、高屈折率層として酸化チタン（ＴｉＯ２：屈折率２．２９１）を交互に積層し、所望の膜厚となるように成膜した。各層は水晶振動子による膜厚制御を行って成膜した。【００８１】
その後、基板を一旦室温まで冷却した後、アンカー材料としてＧｅを１ｎｍ成膜し、引き続き、Ａｇを４ｎｍ、Ａｕを０．４ｎｍをそれぞれ真空蒸着にて成膜し、その後、ホットプレートを用いて大気雰囲気下で５分、３００℃に加熱した。加熱により、Ｇｅ、ＡｇおよびＡｕの各材料は拡散混合し、Ｇｅ、ＧｅＯ２からなるアンカー領域、ＧｅＯ２からなるキャップ層、Ａｇ，Ａｕからなる銀含有金属層がそれぞれ形成された（図２参照）。【００８２】
その後、誘電体層として、表１に記載の誘電体１、密着層、誘電体２および誘電体３を順次、真空蒸着にて成膜した。各材料および膜厚は表１に記載の通りである。本実施例、比較例において誘電体１はフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）層、誘電体２はシリコン酸化物（ＳｉＯ２）層とした。また、密着層にはアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）もしくは酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を用いた。比較例１−４については密着層を形成していない。フッ化マグネシウム層、シリコン酸化物層および密着層は、基板温度３００℃にて成膜し、ＳｕｒｆＣｌｅａｒ１００（キャノンオプトロン社製、フルオロカーボン基を有するシランカップリング剤）は、室温にて成膜した。フルオロカーボン層の膜厚は単分子膜厚みである。
最後にＩＰＡ（イソプロピルアルコール）にて未反応のＳｕｒｆＣｌｅａｒ１００を洗い流し、各実施例および比較例の反射防止膜を作製した。【００８３】
＜反射性能評価＞
下記表１に、各実施例および比較例の層構成における反射率をEssential Macleod (Thin Film Center社製）を用いて算出した。反射率の波長依存性のシミュレーションから求めた波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍにおける反射率の平均値（平均反射率）を表１に示す。図６に、一例としてシミュレーションによる反射率の波長依存性（反射スペクトル）を示す。【００８４】
＜耐摩耗性（密着性）評価＞
密着性を摩耗試験にて評価した。耐摩耗性と密着性には、密着性が改善すれば、耐摩耗性が改善するという相関がある。
反射防止膜の表面（ＳｕｒｆＣｌｅａｒの表面）に０．５ｋｇＷ／ｃｍ２の加重を消しゴムにかけて一方向に２０往復する摩耗試験を実施後、５０倍の顕微鏡にて１ｃｍ角視野を観察し、キズの数を数えた。
図７は実施例１の反射防止膜の表面の摩耗試験後の顕微鏡画像であり、図８は比較例３の反射防止膜の表面の摩耗試験後の顕微鏡画像である。画像中白く見えるのがキズである。比較例３に対し、実施例１は格段にキズが少ないことが明らかである。【００８５】
キズの数について以下の基準で耐摩耗性を評価した結果を表１に示す。
（評価基準）
Ａ：１０本未満
Ｂ：１０本以上、２０本未満
Ｃ：２０本以上、５０本未満
Ｄ：５０本以上、１００本未満
Ｅ：１００本以上
【表１】
2019058825.tif 000003
【００８６】
表１に示すように、密着層を備えていない比較例１−４では、耐摩耗性が低く、密着層を備えることにより明らかに耐摩耗性が向上した。密着層の厚みが厚くなると反射率が大きくなる傾向にある。密着層の厚みのみ変化させた実施例２−４、あるいは実施例５−７の結果から、密着層の厚みを２０ｎｍ以下に抑えることにより反射率を０．２％以下に抑制することが可能であり、また、膜厚が５ｎｍ、１０ｎｍ程度の方が耐摩耗性がよいといえる。密着層とＳｉＯ２の合計膜厚が２５ｎｍ以下であることが反射率および耐摩耗性の観点から好ましい。【００８７】
次に、誘電体層が、誘電体１、密着層および誘電体２の三層構造である比較例および実施例の反射防止膜を作製し、耐摩耗性およびテープ剥離性について試験した。【００８８】
上記比較例１、２、３および実施例１、２、５、６、９および１０について、誘電体３（ＳｕｅｒｆＣｌｅａｒ）を備えない構成の反射防止膜をそれぞれ、比較例１−２、２−２、３−２、実施例１−２、２−２、５−２、６−２、９−２および１０−２として用意した。各実施例および比較例は、誘電体３を備えていないのみで他は上記同様の方法で作製した。また、比較例１−２、２−２、３−２、実施例１−２、２−２、５−２、６−２、９−２および１０−２において、誘電体１をＳｉＯ２層とし、誘電体２をＭｇＦ２とした構成の反射防止膜をそれぞれ、比較例１−３、２−３、３−３、実施例１−３、２−３、５−３、６−３、９−３および１０−３として用意した。各実施例および比較例の反射防止膜について、以下の評価を行った。【００８９】
＜耐摩耗性（密着性）評価＞
上記と同様の方法で、反射防止膜の表面に摩耗試験を実施して、表面を観察した。結果を表２および表３に示す。反射防止膜の表面は、表２の場合はＳｉＯ２層の表面となり、表３の場合はＭｇＦ２の表面となる。【００９０】
＜テープ剥離試験＞
下記表２および表３に示す実施例および比較例の反射防止膜について、誘電体層の最表面となるＳｉＯ２の面または、ＭｇＦ２の面に粘着テープを貼着し、その後、粘着テープを剥がすテープ剥離試験を実施した。粘着テープを剥がした際に、反射防止膜に剥離が生じたか否かを表２および表３に示す。【００９１】
層構成および評価結果を表２、表３にそれぞれまとめて示す。
【表２】
2019058825.tif 000004
【表３】
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【００９２】
表２に示すように、誘電体３を備えていない場合と比較すると、耐摩耗性は低下しているが、密着層を備えることによる耐摩耗性向上の効果は誘電体３の有無にかかわらず示された。また、テープによる剥離性の試験においても比較例はいずれも剥離があったが、実施例はいずれも剥離がなく、密着性が十分に向上していることが明らかである。なお、この剥離は、密着層の有無によって大きく変化することから、誘電体層中のＭｇＦ２層とＳｉＯ２層との間で生じていることも明白である。【００９３】
また、表３に示されるように、ＳｉＯ２とＭｇＦ２の積層順が逆の場合であっても、密着層を備えることによって、密着性を向上させることができ、耐摩耗性を向上させることができた。なお、ＭｇＦ２を銀含有金属層側とした構成が、ＳｉＯ２を銀含有金属層側とした構成よりも耐摩耗性は高かった。【００９４】
以上の通り、密着層なしの場合と比較して、総じて反射率が上がる傾向にある。しかし、例えば、カメラレンズへの適用を想定した場合、レンズ筐体内のレンズと比較して、最外レンズ表面（最表面）は耐摩耗性が高いことが優先される。また、レンズ凹面、凸面においても、製造時の歩留り等のコストの観点から、凸面では耐摩耗性が優先される場合がある。このように、用途、コストに応じて、反射防止性能が優先される光学面、耐摩耗性が優先される光学面があり、本発明の一実施形態の反射防止膜は、耐摩耗性を優先する光学面に好適である。
【図１】
2019058825.tif 000006
【図２】
2019058825.tif 000007
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【手続補正書】
【提出日】平成31年2月6日(2019.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に設けられる反射防止膜であって、
前記基材側から、中間層、銀を含有する銀含有金属層、および誘電体層が順に積層され、
前記中間層が、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層と、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層とが交互に積層された２層以上の多層膜であり、
前記誘電体層は空気への露出面を有し、
該誘電体層は、シリコンを含む酸化物層、フッ化マグネシウム層、および、前記シリコンを含む酸化物層と前記フッ化マグネシウム層の間に、前記シリコンを含む酸化物層と前記フッ化マグネシウム層とは別途に設けられた密着層であって、金属の酸化物からなり、前記シリコンを含む酸化物層と前記フッ化マグネシウム層との密着性を高める密着層を含む多層膜である反射防止膜。
【請求項２】
前記フッ化マグネシウム層が前記シリコンを含む酸化物層よりも前記銀含有金属層側に配置されている請求項１に記載の反射防止膜。
【請求項３】
前記誘電体層が、前記シリコンを含む酸化物層へのシランカップリング反応により形成された自己組織化膜であるフルオロカーボン層を備えた請求項２に記載の反射防止膜。
【請求項４】
前記密着層が、Ａｌ，Ｚｒ，Ｙ，Ｌａ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｎｂ，ＣｅおよびＷのいずれかの金属の酸化物、または複数の金属の酸化物からなる請求項１から３いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項５】
前記密着層を構成する前記酸化物が、アルミナを含む請求項４に記載の反射防止膜。
【請求項６】
前記密着層の膜厚が２０ｎｍ以下である請求項１から５いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項７】
前記シリコンを含む酸化物層と前記密着層との合計膜厚が２５ｎｍ以下である請求項１から６いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項８】
前記銀含有金属層の厚みが６ｎｍ以下である請求項１から７いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項９】
前記銀含有金属層と前記中間層との間に、アンカー層を有する請求項１から８いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項１０】
前記銀含有金属層と前記中間層との間に、アンカー金属の酸化物を含むアンカー領域を備え、
前記銀含有金属層と前記誘電体層との間に、前記アンカー金属の酸化物を含むキャップ領域を備えた請求項１から８いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項１１】
前記銀含有金属層に２０原子％以下の貴金属が含まれている請求項１から１０いずれか１項に記載の反射防止膜。
【請求項１２】
請求項１から１１いずれか１項に記載の反射防止膜を備えた光学素子。
【請求項１３】
請求項１２に記載の光学素子を含む組レンズであって、該光学素子の前記反射防止膜が設けられた面が最表面に配置されてなる組レンズを備えた光学系。
【国際調査報告】
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