(57)【要約】  密閉空間の真空度の低下を効果的に抑えることのできるガラスパネルユニットを提供する。ガラスパネルユニットは、第一パネル（１）、第二パネル（２）、枠状のシール部（４１）、複数のピラー（４３）及びガス吸着体（４４）を備える。枠状のシール部（４１）は、第一パネル（１）と第二パネル（２）の間に減圧状態の密閉空間（５１）を形成するように、第一パネル（１）と第二パネル（２）の互いの周縁部を気密に接合する。複数のピラー（４３）とガス吸着体（４４）は密閉空間（５１）に配置されている。ガス吸着体（４４）は、気体分子を吸着することのできる多孔質構造を有する非金属ゲッター材と、気体分子を吸着することのできる金属表面を有する金属ゲッター材を、共に含む。
2019004174.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスパネルを含む第一パネルと、
ガラスパネルを含み、前記第一パネルに対向して位置する第二パネルと、
前記第一パネルと前記第二パネルの間に減圧状態の密閉空間を形成するように、前記第一パネルと前記第二パネルの互いの周縁部を気密に接合する枠状のシール部と、
前記第一パネルと前記第二パネルの距離を維持するために前記密閉空間に配置された複数のピラーと、
前記密閉空間に配置されたガス吸着体と、を備え、
前記ガス吸着体は、
気体分子を吸着することのできる多孔質構造を有する非金属ゲッター材と、
気体分子を吸着することのできる金属表面を有する金属ゲッター材と、を含む
ガラスパネルユニット。
【請求項２】
前記非金属ゲッター材は、ゼオライト系、活性炭素又は酸化マグネシウムのゲッター材である
請求項１のガラスパネルユニット。
【請求項３】
前記金属ゲッター材は、ジルコニウム系又はチタン系のゲッター材である
請求項１又は２のガラスパネルユニット。
【請求項４】
前記ガス吸着体は、前記非金属ゲッター材を含む第一ガス吸着体と、前記金属ゲッター材を含む第二ガス吸着体の一体化物を備える
請求項１から３のいずれか一つのガラスパネルユニット。
【請求項５】
前記ガス吸着体は、前記非金属ゲッター材を含む第一ガス吸着体と、前記金属ゲッター材を含む第二ガス吸着体と、金属シートの一体化物を備える
請求項１から３のいずれか一つのガラスパネルユニット。
【請求項６】
前記第二ガス吸着体は、前記第一ガス吸着体で覆われている
請求項４のガラスパネルユニット。
【請求項７】
前記ガス吸着体は、前記非金属ゲッター材を含む第一ガス吸着体と、前記金属ゲッター材を含む第二ガス吸着体を、別体で備える
請求項１から３のいずれか一つのガラスパネルユニット。
【請求項８】
前記密閉空間に、樹脂を含んだ部分が露出している
請求項１から７のいずれか一つのガラスパネルユニット。
【請求項９】
前記部分は、前記複数のピラーである
請求項８のガラスパネルユニット。
【請求項１０】
ガラスパネルを含み、前記第一パネルと前記第二パネルのうち一つのパネルに対向して位置する第三パネルと、
前記一つのパネルと前記第三パネルの間に密閉された空間を形成するように、前記一つのパネルと前記第三パネルに気密に接合された枠状の第二シール部を、更に備える
請求項１から９のいずれか一つのガラスパネルユニット。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一つのガラスパネルユニットと、
前記ガラスパネルユニットの周縁部に嵌め込まれた枠を備える
建具。
【請求項１２】
請求項１から１０のいずれか一つのガラスパネルユニットに形成された前記密閉空間の内部において、前記ガス吸着体に含まれる前記非金属ゲッター材と前記金属ゲッター材の両方を、加熱する
ガス吸着体の活性化方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ガラスパネルユニット、建具、及びガス吸着体の活性化方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
断熱性の高いガラスパネルユニットが、従来提案されている。例えば特許文献１に開示されるガラスパネルユニットは、一対のパネルの間に、減圧状態の密閉空間を形成することで、全体の断熱性を高めている。このガラスパネルユニットでは、気体を吸着することのできるガス吸着体を、密閉空間に露出するように配置している。【０００３】
上記した従来のガラスパネルユニットが備えるガス吸着体は、Ｚｒ等の金属から成る。この種の金属製のガス吸着体によれば、Ｈ２０、Ｎ２、Ｏ２、Ｈ２、ＣＯ２等のガスを金属表面に化学吸着することができる。しかし、金属製のガス吸着体は、炭化水素系ガス（ＣＨ４等）、アンモニアガス（ＮＨ３）等の分子量の大きなガスは吸着し難いという性質を有する。そのため、炭化水素系ガスやアンモニアガスが発生しやすい条件下のガラスパネルユニットでは、この種の気体吸着体を密閉空間に配していると、密閉空間の真空度が低下しやすい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】日本国公開特許公報２００１−１８０９８５号
【発明の概要】
【０００５】
上記事情に鑑み、本開示は、密閉空間の真空度の低下を効果的に抑えることのできるガラスパネルユニット、建具、及びガス吸着体の活性化方法を提供することを、目的とする。
【０００６】
本開示の一態様に係るガラスパネルユニットは、ガラスパネルを含む第一パネルと、ガラスパネルを含み、前記第一パネルに対向して位置する第二パネルと、前記第一パネルと前記第二パネルの間に減圧状態の密閉空間を形成するように、前記第一パネルと前記第二パネルの互いの周縁部を気密に接合する枠状のシール部と、前記第一パネルと前記第二パネルの距離を維持するために前記密閉空間に配置された複数のピラーと、前記密閉空間に配置されたガス吸着体と、を備える。
【０００７】
前記ガス吸着体は、気体分子を吸着することのできる多孔質構造を有する非金属ゲッター材と、気体分子を吸着することのできる金属表面を有する金属ゲッター材と、を含む。
【０００８】
本開示の一様態に係る建具は、前記ガラスパネルユニットと、前記ガラスパネルユニットの周縁部に嵌め込まれた枠を備える。
【０００９】
本開示の一様態に係るガス吸着体の活性化方法は、前記ガラスパネルユニットに形成された前記密閉空間の内部において、前記ガス吸着体に含まれる前記非金属ゲッター材と前記金属ゲッター材の両方を、加熱する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、一実施形態のガラスパネルユニットを示す斜視図である。
【図２】図２は、同上のガラスパネルユニットを示す平面図である。
【図３】図３は、図２のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】図４は、図２のＢ−Ｂ線断面図である。
【図５】図５は、同上のガラスパネルユニットを製造する一過程を示す斜視図である。
【図６】図６は、同上のガラスパネルユニットの仕掛品を示す平面図である。
【図７】図７は、図６のＣ−Ｃ線断面図である。
【図８】図８は、同上の仕掛品の内部空間を減圧する様子を一部破断して示す要部側面図である。
【図９】図９は、同上の仕掛品の内部空間を封止する様子を一部破断して示す要部側面図である。
【図１０】図１０は、同上の内部空間に配されるガス吸着体を活性化させる様子を一部破断して示す要部側面図である。
【図１１】図１１は、同上のガラスパネルユニットの変形例１の製造過程で得られた仕掛品を示す斜視図である。
【図１２】図１２は、変形例１における炉内の加熱温度の時間変化を示すグラフである。
【図１３】図１３は、変形例１の製造過程で得られたガラス複合体を示す斜視図である。
【図１４】図１４は、同上のガラス複合体を切断する様子を示す斜視図である。
【図１５】図１５Ａは、同上のガラスパネルユニットの変形例２の要部を示す断面図であり、図１５Ｂは、同上のガラスパネルユニットの変形例３の要部を示す断面図であり、図１５Ｃは、同上のガラスパネルユニットの変形例４の要部を示す断面図であり、図１５Ｄは、同上のガラスパネルユニットの変形例５の要部を示す断面図である。
【図１６】図１６は、同上のガラスパネルユニットの変形例６の要部を示す断面面である。
【図１７】図１７Ａは、同上のガラスパネルユニットの変形例７の要部を示す断面図であり、図１７Ｂは、同上のガラスパネルユニットの変形例８の要部を示す断面図であり、図１７Ｃは、同上のガラスパネルユニットの変形例９の要部を示す断面図であり、図１７Ｄは、同上のガラスパネルユニットの変形例１０の要部を示す断面図である。
【図１８】図１８は、同上のガラスパネルユニットの変形例１１を示す平面図である。
【図１９】図１９は、図１８のＤ−Ｄ線断面図である。
【図２０】図２０は、同上のガラスパネルユニットを備える建具を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［ガラスパネルユニット］
（一実施形態）
一実施形態のガラスパネルユニットについて、添付図面に基づいて説明する。添付図面においては、一実施形態のガラスパネルユニットの各構成を、模式的に示している。
【００１２】
図１から図４に示すように、一実施形態のガラスパネルユニットは、第一パネル１、第二パネル２、シール部４１、孔封止材４２、複数のピラー４３、及びガス吸着体４４を備える。
【００１３】
第一パネル１と第二パネル２は、僅かな距離をあけて互いに対向して位置する。第一パネル１と第二パネル２は互いに平行であり、第一パネル１と第二パネル２の間に、シール部４１、複数のピラー４３、及びガス吸着体４４が位置する。
【００１４】
第一パネル１は、ガラスパネル１５と、ガラスパネル１５に接合された低放射膜４５（図３等参照）を含む。低放射膜４５は、銀等の低放射性を有する金属を含有する膜であり、放射による伝熱を抑制する機能を有する。第二パネル２は、ガラスパネル２５を含む。
【００１５】
ガラスパネル１５とガラスパネル２５には、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラス等の材料で形成された各種パネルが、用いられる。
【００１６】
第一パネル１の第二パネル２に対向する対向面１２の大部分は、低放射膜４５の表面で構成されている。第二パネル２の第一パネル１に対向する対向面２２は、ガラスパネル２５の表面で構成されている。
【００１７】
シール部４１は、例えば低融点のガラスフリットを用いて、枠状に形成されている。シール部４１は、第一パネル１の周縁部と、第二パネル２の周縁部に、それぞれ気密に接合されている。第一パネル１と第二パネル２の互いの周縁部は、シール部４１を介して気密に接合されている。
【００１８】
複数のピラー４３は、互いに距離をあけて分散配置されている。複数のピラー４３の各々は、第一パネル１と第二パネル２の互いの対向面１２，２２に当たって位置している。
【００１９】
複数のピラー４３は、枠状のシール部４１に囲まれて位置し、第一パネル１と第二パネル２の間の距離を、所定距離に維持するように機能する。ピラー４３は、その全部又は一部が、ポリイミド等の樹脂で形成されていることが好ましい。
【００２０】
各ピラー４３の材質として樹脂を採用することで、各ピラー４３の熱伝導を抑えることができるという利点がある。更に、各ピラー４３の材質としてポリイミドを採用した場合には、耐熱性に優れる（加熱処理過程で形状を維持しやすい）という利点がある。
【００２１】
ガス吸着体４４は、非金属ゲッター材を含む第一ガス吸着体４４１と、金属ゲッター材を含む第二ガス吸着体４４２を、一体に備える。ガス吸着体４４は、第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２の一体化物である。
【００２２】
非金属ゲッター材は、気体分子を吸着することのできる多孔質構造を有する非金属製のゲッター材であり、一例としてゼオライト系、活性炭素、酸化マグネシウムのゲッター材である。ゼオライト系のゲッター材は、イオン交換されたゼオライトを含む。イオン交換物質は、例えばＫ、ＮＨ４、Ｂａ、Ｓｒ、Ｎａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｈ、Ｃｕである。
【００２３】
第一ガス吸着体４４１は、非金属ゲッター材を含んでいることから、金属ゲッター材では吸着しにくい炭化水素系ガス（ＣＨ４、Ｃ２Ｈ６等）、アンモニアガス（ＮＨ３）の気体分子を、有効に吸着することができる。
【００２４】
第一ガス吸着体４４１は、非金属ゲッター材を含んでいることから、加熱による活性化の際には、非金属ゲッター材の多孔質構造に吸着していた気体分子を、脱離させる性質を有する。本開示において、第一ガス吸着体４４１を活性化させることは、非金属ゲッター材を活性化させることを意味する。
【００２５】
金属ゲッター材は、気体分子を化学的に吸着することのできる金属表面を有する金属製のゲッター材であり、一例としてジルコニウム系（Ｚｒ−Ａｌ、Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ等）のゲッター材や、チタン系のゲッター材が挙げられる。
【００２６】
第二ガス吸着体４４２は、金属ゲッター材を含んでいることから、Ｈ２０、Ｎ２、Ｏ２、Ｈ２、ＣＯ２等の気体分子を、非金属ゲッター材よりも有効に吸着することができる。
【００２７】
第二ガス吸着体４４２は、金属ゲッター材を含んでいることから、加熱による活性化の際には、金属ゲッター材の金属表面に吸着（化学吸着）していた気体分子を、金属ゲッター材の内部に拡散させる性質を有する。本開示において、第二ガス吸着体４４２を活性化させることは、金属ゲッター材を活性化させることを意味する。
【００２８】
第二パネル２の対向面２２の一部には、有底の溝２２１が形成されている。溝２２１の底面は、対向面２２の残りの部分よりも一段低く設けられており、この底面に、ガス吸着体４４が配置されている（図４等参照）。
【００２９】
具体的には、溝２２１の底面に第一ガス吸着体４４１が固定され、第一ガス吸着体４４１に対して第二ガス吸着体４４２が固定されている。
【００３０】
一実施形態のガラスパネルユニットでは、第一パネル１と第二パネル２のうち、第一パネル１の側が排気孔５０を有している。排気孔５０は孔封止材４２によって気密に封止されている。孔封止材４２は、例えばガラスフリットを用いて形成されている。排気孔５０は、ガラスパネルユニットを製造する過程（後述の減圧工程）で、排気作業を行うために用いられる孔である。排気孔５０は、第一パネル１を貫通している。
【００３１】
第一パネル１と第二パネル２とシール部４１に囲まれる密閉空間５１は、排気孔５０の封止によって、その全体が気密に封止されている。密閉空間５１は、例えば０．１Ｐａ以下の真空度に至るまで減圧された断熱空間である。
【００３２】
排気孔５０内に配置されたプレート４６は、ガラスパネルユニットを製造する過程（後述の封止工程）で用いられた部材である。排気孔５０には、更にプレート４６を覆うように樹脂が詰められてもよい。
【００３３】
次に、一実施形態のガラスパネルユニットを製造する方法について、説明する。
【００３４】
一実施形態のガラスパネルユニットの製造方法は、準備工程、ピラー配置工程、ガス吸着体配置工程、接合工程、減圧工程、封止工程及び活性化工程を含む。
【００３５】
準備工程では、第一基板１０と第二基板２０を準備する（図５等参照）。第一基板１０は、各工程を経た後に、ガラスパネルユニットの第一パネル１を構成する。第二基板２０は、各工程を経た後に、ガラスパネルユニットの第二パネル２を構成する。
【００３６】
第一基板１０は、ガラスパネル１０５と、ガラスパネル１０５に接合された低放射膜４５０を含む（図７参照）。第二基板２０は、ガラスパネル２０５を含む。第二基板２０（ガラスパネル２０５）の一面(上面)には、有底の溝２２１が形成されている。
【００３７】
ガラスパネル１０５は、各工程を経た後に、第一パネル１のガラスパネル１５を構成する。低放射膜４５０は、各工程を経た後に、第一パネル１の低放射膜４５を構成する。ガラスパネル２０５は、各工程を経た後に、第二パネル２のガラスパネル２５を構成する。
【００３８】
ピラー配置工程においては、図５等に示すように、第二基板２０の一面（上面）に、複数のピラー４３を互いに距離をあけて配置する。
【００３９】
ガス吸着体配置工程においては、第二基板２０の溝２２１に、ガス吸着体４４を配置する。
【００４０】
具体的には、ディスペンサー等の塗布装置を用いて、ペースト状の第一ガス吸着体４４１を溝２２１の底面に塗布する。次いで、塗布した第一ガス吸着体４４１の上に、固形の第二ガス吸着体４４２を配置し、第一ガス吸着体４４１に第二ガス吸着体４４２を固定する。ガス吸着体４４の配置の仕方はこれに限定されず、後述の変形例で示すように、多様な配置が可能である。
【００４１】
ピラー配置工程とガス吸着体配置工程は、いずれが先に行われてもよいし、両工程が並行して行われてもよい。
【００４２】
接合工程では、第一基板１０と第二基板２０を、枠状の封着材４１０を介して接合する。具体的には、封着材４１０と複数のピラー４３を挟み込んだ状態でセットされた第一基板１０と第二基板２０が、封着材４１０の融点を超える所定温度に至るまで、炉内で加熱される。
【００４３】
接合工程において、第一基板１０と第二基板２０に対して封着材４１０が接合することにより、第一基板１０と第二基板２０と封着材４１０の間には、内部空間５１０が形成される。内部空間５１０には、複数のピラー４３とガス吸着体４４が位置する。封着材４１０は、各工程を経た後に、ガラスパネルユニットのシール部４１を構成する。
【００４４】
封着材４１０は、適宜の塗布装置を用いて、第二基板２０（ガラスパネル２０５）の一面の外周部に、枠状に配置される（図５参照）。加えて、第二基板２０の一面の所定箇所には、適宜の塗布装置を用いて堰４７が配置される。堰４７は、一部が切り欠かれた環状（例えばＣ字状）の形態を有する。封着材４１０と堰４７の材料は、ガラスフリット等の同一の材料であることが好ましい。
【００４５】
封着材４１０と堰４７は、ピラー配置工程の前に配置してもよいし、ピラー配置工程の後に配置してもよいし、ピラー配置工程と並行して配置してもよい。封着材４１０と堰４７は、ガス吸着体配置工程（つまり第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２を第二基板２０に配置する工程）の前に配置してもよいし、ガス吸着体配置工程の後に配置してもよいし、ガス吸着体配置工程と並行して配置してもよい。
【００４６】
上記の各工程を経ることで、図６、図７に示す仕掛品８が形成される。仕掛品８は、ガラスパネルユニットを製造する途中の物品である。
【００４７】
この仕掛品８に対して、更に減圧工程、封止工程及び活性化工程を実行する。
【００４８】
減圧工程と封止工程は、図８、図９に示す装置を用いて実行する。この装置は、減圧機構７１、加熱機構７２及び押圧機構７３を備える。
【００４９】
減圧機構７１は、仕掛品８に押し当てられる排気ヘッド７５と、排気ヘッド７５に繋がる接続部７５３を備える。減圧機構７１は、仕掛品８に形成された内部空間５１０を、排気孔５０を通じて減圧し、かつ、減圧状態で維持するように構成されている。
【００５０】
加熱機構７２は、仕掛品８に対して排気ヘッド７５とは反対側に配置される（図９参照）。加熱機構７２は、排気孔５０に挿入された孔封止材４２を、非接触で局所的に加熱するように構成されている。
【００５１】
加熱機構７２は、照射器７２０を含む。照射器７２０は、排気孔５０に挿入された孔封止材４２に対して、第二基板２０（ガラスパネル２０５）を通じて外部から赤外線を照射し、孔封止材４２を加熱するように構成されている。赤外線は、近赤外線であることが好ましい。
【００５２】
押圧機構７３は、排気ヘッド７５に設けられている。押圧機構７３は、減圧機構７１によって内部空間５１０が減圧された状態で、排気孔５０に挿入された孔封止材４２を、第二基板２０に向けて押し込むように構成されている。
【００５３】
減圧工程においては、仕掛品８の排気孔５０に、排気孔５０よりも径の小さな孔封止材４２とプレート４６を挿入する（図８参照）。孔封止材４２は、例えばガラスフリットを用いて形成された固形の封止材である。孔封止材４２は、ブロック状の形状を有するが、上下に貫通した筒状の形状を有してもよい。プレート４６は、孔封止材４２を挟んで第二基板２０とは反対側に配置する。
【００５４】
排気ヘッド７５は、第一基板１０のうち排気孔５０の開口を囲む部分に、気密に押し当てられる。このとき、孔封止材４２とプレート４６は、第二基板２０に向けて弾性的に押し込まれる。
【００５５】
この状態で、排気ヘッド７５内の空気を、接続部７５３を通じて吸引すると（図８中の白抜き矢印参照）、排気孔５０を通じて、内部空間５１０の空気が真空引きされる。
【００５６】
封止工程においては、加熱機構７２と押圧機構７３を用いて、内部空間５１０を減圧状態のままで封止する。
【００５７】
封止工程では、加熱機構７２によって孔封止材４２を軟化させ、かつ、押圧機構７３がプレート４６を介して及ぼす付勢力によって、孔封止材４２を第二基板２０に向けて押し付ける。孔封止材４２は、内部空間５１０において堰４７の内周面に当たるまで変形する。堰４７に設けられた切欠き部分は、変形した孔封止材４２によって封止される。
【００５８】
これにより、排気孔５０は孔封止材４２によって封止され、内部空間５１０は、減圧状態のままで気密に封止される。この内部空間５１０が、各工程を経た後に、ガラスパネルユニットの密閉空間５１を構成する。
【００５９】
次に、活性化工程について説明する。
【００６０】
活性化工程においては、仕掛品８の内部空間５１０に配置されたガス吸着体４４を、図１０に示す局所加熱機構６によって、所定の活性化温度に至るまで局所加熱する。
【００６１】
活性化温度は、接合工程において封着材４１０を溶融させるときの所定温度よりも高い温度であり、かつ、ガス吸着体４４に含まれる非金属ゲッター材と金属ゲッター材を十分に活性化させることができる温度である。
【００６２】
一例として、局所加熱機構６は、レーザーを出射するように構成された照射器６１を含む。照射器６１は、内部空間５１０に配置されたガス吸着体４４に対して、第二基板２０（ガラスパネル２０５）を通じて外部からレーザーを照射することができる。これにより、ガス吸着体４４が非接触で加熱される。
【００６３】
活性化工程は、減圧工程と並行して行う。つまり、排気ヘッド７５を用いて内部空間５１０を減圧させている最中に、ガス吸着体４４を局所加熱する。
【００６４】
第一ガス吸着体４４１には、多孔質構造を有する非金属ゲッター材（例えばＣｕイオン交換されたゼオライト）が含まれているので、局所加熱により、吸着されていた炭化水素系ガス、アンモニアガス等の気体分子が脱離する。これにより、第一ガス吸着体４４１が活性化する。第一ガス吸着体４４１から脱離した気体分子は、減圧機構７１によって排気孔５０を通じて吸引される。
【００６５】
第二ガス吸着体４４２には、金属ゲッター材（例えばジルコニウム系の金属ゲッター材）が含まれているので、局所加熱により、第二ガス吸着体４４２に吸着されていた気体分子が第二ガス吸着体４４２の内部に拡散する。これにより、第二ガス吸着体４４２が活性化する。
【００６６】
活性化工程によって、少なくとも第一ガス吸着体４４１が十分に活性化された段階で、封止工程を実行する。活性化工程を、封止工程と並行して行うことも可能であるし、封止工程の後に行うことも可能である。
【００６７】
以上の各工程を経て得られたガラスパネルユニットにおいては、活性化された第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２の両方が密閉空間５１に位置するので、密閉空間５１内の多様な種類のガスを吸着して、密閉空間５１の真空度の低下を抑えることができる。つまり、第二ガス吸着体４４２では吸着しにくい炭化水素系ガス、アンモニアガスの気体分子を第一ガス吸着体４４１で効率的に吸着し、Ｈ２０、Ｎ２、Ｏ２、Ｈ２、ＣＯ２等の気体分子については第二ガス吸着体４４２で効率的に吸着することができる。
【００６８】
特に、ガラスパネルユニットを製造するための接合工程において、炉内の温度が、コットンの発火点である４０７℃以下に抑えられていた場合には、ガラスパネルユニットの密閉空間５１に糸屑等の有機物が残存し、残存した有機物から炭化水素系ガスが発生しやすくなる。また、炉内の温度が抑制されると、封着材４１０の溶媒が蒸発しきらずに残存することからも、炭化水素系ガスが発生しやすくなる。
【００６９】
加えて、各ピラー４３に含まれる樹脂からも、炭化水素系ガスが発生しやすい。樹脂が窒素原子を含む材料（イミド、イミダゾール、オキサゾールのうち少なくとも一つを含む樹脂材料）である場合には、アンモニアガスが発生する可能性もある。シール部４１の材料に樹脂が含まれている場合には、シール部４１からも炭化水素系ガスやアンモニアガスが発生する可能性がある。つまり、一実施形態のガラスパネルユニットでは、樹脂を含んだ部分（複数のピラー４３、シール部４１等）が密閉空間５１に露出しており、この部分からも炭化水素系ガスやアンモニアガスが発生する可能性がある。
【００７０】
これに対して、ガラスパネルユニットの密閉空間５１には、第一ガス吸着体４４１が配置されているので、製造後に密閉空間５１内で発生した炭化水素系ガス、アンモニアガスの気体分子は、第一ガス吸着体４４１に効率的に吸着される。したがって、密閉空間５１の真空度の低下は、効果的に抑制される。
【００７１】
また、一実施形態のガラスパネルユニットでは、第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２が共に密閉空間５１に配置されているので、密閉空間５１の内部において第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２を加熱したときには、以下に述べるように、第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２の両方が、効果的に活性化する。
【００７２】
第一ガス吸着体４４１に吸着されていた気体分子は、加熱により第一ガス吸着体４４１から脱離する。第一ガス吸着体４４１から脱離した気体分子の少なくとも一部は、第二ガス吸着体４４２に吸着され、加熱により第二ガス吸着体４４２の内部に拡散される。したがって、一実施形態のガラスパネルユニットでは、密閉空間５１において第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２を局所加熱することで、第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２の両方を効果的に活性化させることができる。
【００７３】
（変形例）
上述したガラスパネルユニットとその製造方法は、以下に説明するように、適宜に設計変更することが可能である。変形例の説明において、上述した構成と同様の構成には同一符号を付し、詳しい説明を省略する。
【００７４】
まず、ガラスパネルユニットの製造方法の各種の変形例について、説明する。
【００７５】
上述したガラスパネルユニットの製造方法では、ピラー配置工程において、第二基板２０の一面に複数のピラー４３を配置しているが、複数のピラー４３を配置する箇所は、第一基板１０と第二基板２０の少なくとも一方でよい。つまり、複数のピラー４３を第一基板１０に配置することも有り得るし、複数のピラー４３を第一基板１０と第二基板２０に分散して配置することも有り得る。
【００７６】
同様に、上述したガラスパネルユニットの製造方法では、ガス吸着体配置工程において、第二基板２０の一面にガス吸着体４４を配置しているが、ガス吸着体４４を配置する箇所は、第一基板１０と第二基板２０の少なくとも一方でよい。つまり、第一基板１０にガス吸着体４４を配置することも有り得るし、第一基板１０と第二基板２０の両方にガス吸着体４４を配置することも有り得る。ガス吸着体４４は２個以上でも構わない。
【００７７】
上記したガラスパネルユニットの製造方法では、活性化工程において、第二基板２０を通じてガス吸着体４４にレーザーを照射しているが、レーザーの照射は、第一基板１０と第二基板２０の少なくとも一方を通じて行えばよい。赤外線（好ましくは近赤外線）を照射することで、ガス吸着体４４を局所加熱することも可能である。また、第二ガス吸着体４４２に含まれる金属ゲッター材を誘導加熱することで、ガス吸着体４４を局所加熱することも可能である。
【００７８】
上述したガラスパネルユニットの製造方法では、内部空間５１０にてガス吸着体４４を活性化させているが、活性化処理済みのガス吸着体４４をパッケージで封止したものを用い、これを内部空間５１０に配置した後にパッケージを破断させることも可能である。内部空間５１０においてパッケージを破断させる手段としては、パッケージを、該パッケージとは熱膨張係数が異なる部材に接合させておき、製造過程の温度変化によってパッケージに発生する熱応力を利用して、パッケージを破断させることが考えられる。
【００７９】
また、上記したガラスパネルユニットの製造方法では、封止工程において、孔封止材４２で排気孔５０を塞ぐことによって、内部空間５１０を封止しているが、他の手段で内部空間５１０を封止することも可能である。例えば、図１１から図１４に示すガラスパネルユニットの変形例１では、製造過程での封着材４１０の変形を利用して、内部空間５１０を封止している。
【００８０】
図１１に示すように、変形例１では、第二基板２０に配置される封着材４１０が、枠４１０ａと仕切り４１０ｂ含んでいる。仕切り４１０ｂは枠４１０ａよりも高い融点を有することが好ましいが、仕切り４１０ｂと枠４１０ａの融点が同一でもよい。
【００８１】
変形例１では、封着材４１０の材料は、３００℃以下の融点を有する材料であることが好ましい。封着材４１０の材料としては、例えばバナジウム系のシールフリットを用いることが好ましい。仕切り４１０ｂは、枠４１０ａに囲まれる位置で、直線状に形成されている。
【００８２】
変形例１では、接合工程を経て形成された仕掛品８ａにおいて、第一基板１０と第二基板２０と枠４１０ａの間に、内部空間５１０が形成されている。仕切り４１０ｂは、内部空間５１０に位置する。仕切り４１０ｂは、内部空間５１０を、第一空間５１０ａと第二空間５１０ｂに仕切っている。ただし、仕切り４１０ｂの両端は、枠４１０ａに接触していない。
【００８３】
変形例１では、排気孔５０は、内部空間５１０のうち第二空間５１０ｂの側につながるように、第二基板２０に貫通形成されている。ガス吸着体４４と複数のピラー４３は、内部空間５１０のうち第一空間５１０ａの側に配置されている。
【００８４】
仕掛品８ａの内部空間５１０は、二つの通気路５１０ｃ，５１０ｄを含んでいる。二つの通気路５１０ｃ，５１０ｄの各々は、第一空間５１０ａと第二空間５１０ｂをつないでいる。二つの通気路５１０ｃ，５１０ｄの各々は、仕切り４１０ｂと枠４１０ａとの間に形成された隙間である。
【００８５】
変形例１の接合工程では、枠４１０ａが加熱によりいったん軟化した後に硬化し、第一基板１０と第二基板２０に対して気密に接合する。接合工程では、仕切り４１０ｂはほぼ変形しない。
【００８６】
図１２は、加熱温度（炉内温度）の時間変化を示すグラフである。接合工程では、第一温度ｔ１での加熱を第一所定時間Ｔ１だけ行う。
【００８７】
第一温度ｔ１は、枠４１０ａの融点よりも高い温度である。第一温度ｔ１は、例えば２７０℃である。第一所定時間Ｔ１は、例えば１５分である。
【００８８】
変形例１の減圧工程では、仕掛品８ａの通気路５１０ｃ，５１０ｄと第二空間５１０ｂと排気孔５０を介して、第一空間５１０ａを真空引きする。ここでの真空引きは、例えば、排気孔５０に接続した排気管８１を介して、真空ポンプによって行う。
【００８９】
減圧工程では、仕掛品８ａを、第一温度ｔ１よりも低い第二温度ｔ２（図１２参照）で、第二所定時間Ｔ２だけ加熱する。第二温度ｔ２は、例えば２５０℃である。第二所定時間Ｔ２は、例えば６０分である。
【００９０】
変形例１では、活性化工程を、減圧工程と並行して行う。
【００９１】
活性化工程においては、仕掛品８ａの内部空間５１０（第一空間５１０ａ）に配置したガス吸着体４４に、例えばレーザー光を照射することによって、ガス吸着体４４（つまり第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２）を、所定の活性化温度に至るまで局所加熱する。
【００９２】
ガス吸着体４４の活性化温度は、接合工程において封着材４１０を溶融させるときの第一温度ｔ１よりも十分に高い温度である。ガス吸着体４４の活性化温度は、第二温度ｔ２よりも十分に高い温度であり、また、後述の封止工程で仕掛品８ａを加熱するときの第三温度ｔ３よりも十分に高い温度である。
【００９３】
変形例１では、活性化工程を完了した後に、封止工程を行う。封止工程は、減圧工程と並行して行う。
【００９４】
封止工程では、内部空間５１０を減圧している最中に、仕切り４１０ｂを加熱により溶融させ、ここで変形した仕切り４１０ｂによって通気路５１０ｃ，５１０ｄを塞ぐ。封止工程が完了した段階で、内部空間５１０に通気路５１０ｃ，５１０ｄは存在しない（図１３参照）。
【００９５】
封止工程が完了した段階で、第一空間５１０ａと第二空間５１０ｂは、変形した仕切り４１０ｂによって、気密に分離されている。本開示において「内部空間を封止する」とは、変形例１のように、内部空間５１０の一部（第一空間５１０ａ）だけを封止する場合を含む。
【００９６】
図１２に示すように、封止工程では、仕掛品８ａを、第三温度ｔ３で第三所定時間Ｔ３だけ加熱する。第三温度ｔ３は、第一温度ｔ１と第二温度ｔ２よりも高く、かつ、仕切り４１０ｂの融点よりも高い温度である。第三温度ｔ３は、例えば３００℃である。第三所定時間Ｔ３は、例えば３０分である。
【００９７】
変形例１では、上述した各工程を経ることで、図１３に示すガラス複合体８００を得る。このガラス複合体８００から、第二空間５１０ｂと排気孔５０を有する部分８０５を除去することで、減圧状態の第一空間５１０ａを有するガラスパネルユニットが得られる。
【００９８】
図１４に示すように、部分８０５を除去する工程（除去工程）では、仕切り４１０ｂが位置する部分でガラス複合体８００を切断する。第二空間５１０ｂが位置する部分でガラス複合体８００を切断することも可能である。
【００９９】
変形例１では、第一基板１０のうち部分８０５に含まれない部分が、ガラスパネルユニットの第一パネル１ａを構成する。第一パネル１ａはガラスパネル１５ａを含む。第二基板２０のうち部分８０５に含まれない部分が、ガラスパネルユニットの第二パネル２ａを構成する。第二パネル２ａはガラスパネル２５ａを含む。
【０１００】
同様に、封着材４１０（枠４１０ａ及び仕切り４１０ｂ）のうち部分８０５に含まれない部分が、ガラスパネルユニットのシール部４１ａを構成する。第一空間５１０ａが、ガラスパネルユニットの密閉空間５１ａを構成する。
【０１０１】
変形例１では、炉内において第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２の両方を活性化させているが、活性化のタイミングはこれに限定されない。
【０１０２】
例えば、炉内での接合工程、減圧工程、及び封止工程を経てガラス複合体８００を形成した後に、炉外において第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２を局所加熱することで、第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２の両方を活性化させてもよい。
【０１０３】
また、炉内での減圧工程と並行して第一ガス吸着体４４１を活性化させ、ガラス複合体８００を形成した後に、炉外において第二ガス吸着体４４２を活性化させることも可能である。この場合、炉内の加熱温度によって第一ガス吸着体４４１を活性化させ、炉外において第二ガス吸着体４４２を局所加熱することで、第二ガス吸着体４４２を活性化させる。
【０１０４】
また、炉内での減圧工程と並行して第一ガス吸着体４４１をある程度だけ活性化させ、ガラス複合体８００を形成した後に、炉外において、第一ガス吸着体４４１を更に活性化させ、かつ、第二ガス吸着体４４２を活性化させることも可能である。この場合、炉内の加熱温度によって第一ガス吸着体４４１をある程度活性化させる。炉外においては、第一ガス吸着体４４１と第二ガス吸着体４４２を局所加熱する。
【０１０５】
上記したいずれの活性化のタイミングにおいても、炉外での局所加熱を、レーザー又は赤外線を照射して行ってもよいし、第二ガス吸着体４４２に含まれる金属ゲッター材を誘導加熱することで行ってもよい。
【０１０６】
次に、ガラスパネルユニットの変形例２−１１について説明する。
【０１０７】
図１５Ａから図１５Ｄには、上述したガス吸着体４４とは異なるガス吸着体４４ａ，４４ｂ，４４ｃ，４４ｄを示している。
【０１０８】
図１５Ａに示す変形例２において、ガス吸着体４４ａは、第一ガス吸着体４４１ａと第二ガス吸着体４４２ａの一体化物として形成され、配置工程において、この一体化物が溝２２１の底面に固定されている。
【０１０９】
ガス吸着体４４ａは、ブロック状の第二ガス吸着体４４２ａの上に、ペースト状の第一ガス吸着体４４１ａを塗布することで形成可能である。変形例２では、ガス吸着体４４ａのうち、第二ガス吸着体４４２ａの側を第二基板２０に固定しているが、第一ガス吸着体４４１ａの側を第二基板２０に固定してもよい。
【０１１０】
図１５Ｂに示す変形例３において、ガス吸着体４４ｂは、第一ガス吸着体４４１ｂと第二ガス吸着体４４２ｂと金属シート４４３の一体化物として形成され、配置工程において、この一体化物が溝２２１の底面に固定されている。変形例３では、ガス吸着体４４ｂのうち金属シート４４３の側が、第二基板２０に固定されている。
【０１１１】
ガス吸着体４４ｂは、ブロック状の第二ガス吸着体４４２ｂの上に、ペースト状の第一ガス吸着体４４１ｂを塗布することで、第二ガス吸着体４４２ｂと第一ガス吸着体４４１ｂの一体化物をまず形成し、該一体化物を金属シート４４３に固定することで、製造することができる。変形例３では、該一体化物のうち第二ガス吸着体４４２ｂの側を金属シート４４３に固定しているが、該一体化物のうち第一ガス吸着体４４１ｂの側を金属シート４４３に固定してもよい。
【０１１２】
ガス吸着体４４ｂが金属シート４４３を含む場合、活性化工程において金属シート４４３を誘導加熱し、金属シート４４３を介して、第一ガス吸着体４４１ｂと第二ガス吸着体４４２ｂを局所加熱することも可能である。
【０１１３】
図１５Ｃに示す変形例４において、ガス吸着体４４ｃは、第二ガス吸着体４４２ｃが第一ガス吸着体４４１ｃで覆われた構造を有する。変形例４では、ガス吸着体４４ｃの第一ガス吸着体４４１ｃの表面が、溝２２１の底面に固定されている。
【０１１４】
ガス吸着体４４ｃは、ブロック状の第二ガス吸着体４４２ｃを、非金属ゲッター材の粉体を含む溶液中に浸し、第二ガス吸着体４４２ｃを覆うように第一ガス吸着体４４１ｃの層を形成することで、製造することができる。
【０１１５】
図１５Ｄに示す変形例５においては、第一ガス吸着体４４１ｄと第二ガス吸着体４４２ｄを別体に設け、第一ガス吸着体４４１ｄと第二ガス吸着体４４２ｄを、第二パネル２の別々の箇所に固定している。第一ガス吸着体４４１ｄと第二ガス吸着体４４２ｄは、互いに離れて位置する。変形例５では、溝２２１の底面にブロック状の第二ガス吸着体４４２ｄを固定し、第二基板２０のうち溝２２１とは異なる箇所に第一ガス吸着体４４１ｄを固定しているが、第一ガス吸着体４４１ｄと第二ガス吸着体４４２ｄの配置はこれに限定されない。
【０１１６】
また、上述したガラスパネルユニットでは、第二パネル２の溝２２１を形成しているが、以下の変形例６から１０に示すように、溝２２１は必須ではない。
【０１１７】
図１６に示す変形例６では、一実施形態で説明したものと同様のガス吸着体４４を、第二パネル２の対向面２２の平坦な箇所に固定している。つまり、変形例６では、第二パネル２の対向面２２の平坦な箇所にペースト状の第一ガス吸着体４４１を塗布し、塗布した第一ガス吸着体４４１の上に、固形の第二ガス吸着体４４２を配置している。
【０１１８】
図１７Ａに示す変形例７では、変形例２と同様のガス吸着体４４ａを、第二パネル２の対向面２２の平坦な箇所に固定している。変形例７では、ガス吸着体４４ａのうち、第二ガス吸着体４４２ａの側を第二基板２０に固定しているが、第一ガス吸着体４４１ａの側を第二基板２０に固定してもよい。
【０１１９】
図１７Ｂに示す変形例８では、変形例３と同様のガス吸着体４４ｂを、第二パネル２の対向面２２の平坦な箇所に固定している。変形例７では、ガス吸着体４４ｂのうち第二ガス吸着体４４２ｂの側を金属シート４４３に固定しているが、ガス吸着体４４ｂのうち第一ガス吸着体４４１ｂの側を金属シート４４３に固定してもよい。
【０１２０】
図１７Ｃに示す変形例９では、変形例４と同様のガス吸着体４４ｃを、第二パネル２の対向面２２の平坦な箇所に固定している。
【０１２１】
図１７Ｄに示す変形例１０では、変形例５と同様の第一ガス吸着体４４１ｄと第二ガス吸着体４４２ｄを、第二パネル２の対向面２２の平坦な箇所に、別々に固定している。
【０１２２】
次に、図１８、図１９に基づいて、ガラスパネルユニットの変形例１１について説明する。
【０１２３】
ガラスパネルユニットの変形例１１は、図１から図３に示すガラスパネルユニットの第一パネル１と第二パネル２に加えて、第三パネル３を備えている。
【０１２４】
変形例１１では、第一パネル１に対して第三パネル３が重なり、第一パネル１と第三パネル３の間に、密閉された空間５２が形成されている。なお、第三パネル３の配置はこれに限定されず、第二パネル２に対して第三パネル３が重なり、第二パネル２と第三パネル３の間に、密閉された空間が形成されることも有り得る。
【０１２５】
第三パネル３は、少なくともガラスパネル３５を含む。ガラスパネル３５には、適宜のコーティングが施されてもよい。
【０１２６】
第三パネル３と第一パネル１の互いの周縁部の間には、中空部分を有する枠状のスペーサー３４と、スペーサー３４の外側を覆うように枠状に形成された第二シール部３８とが介在している。スペーサー３４の中空部分には、乾燥剤３６が充填されている。空間５２は、第二シール部３８とスペーサー３４に全周を囲まれた空間である。
【０１２７】
スペーサー３４はアルミニウム等の金属で形成され、通気孔３４１を内周側に有する。スペーサー３４の中空部分は、通気孔３４１を介して空間５２に連通する。乾燥剤３６は、例えばシリカゲルである。第二シール部３８は、例えばシリコン樹脂、ブチルゴム等の高気密性の樹脂で形成される。空間５２には、乾燥ガス（アルゴン等の乾燥した希ガス、乾燥空気等）が充填されている。
【０１２８】
ガラスパネルユニットの変形例１１を製造する方法は、上記した各工程に加えて、第二接合工程を含む。第二接合工程は、第一パネル１と第三パネル３（又は第二パネル２と第三パネル３）を、スペーサー３４を挟み込んだ状態で、第二シール部３８を介して気密に接合する工程である。
【０１２９】
変形例１１では、図１から図３に示すガラスパネルユニットに対して、更に第三パネル３を重ねているが、第三パネル３を重ねる対象はこれに限定されない。例えば、変形例１から変形例１０のいずれかの構成を備えるガラスパネルユニットに対して、第三パネル３を重ねることも有り得る。
【０１３０】
［建具］
図２０には、一実施形態のガラスパネルユニットを備える建具を、示している。この建具では、図１から図３に示すガラスパネルユニットに、枠９が嵌め込まれている。
【０１３１】
一例として枠９は窓枠であり、図２０に示す建具は、一実施形態のガラスパネルユニットを備えるガラス窓である。ガラス窓は、可動式の窓に限定されず、陳列窓等の固定式の窓も含む。
【０１３２】
また、一実施形態のガラスパネルユニットを備える建具は、ガラス窓に限定されず、玄関ドア、室内ドア等の、他の建具も含む。
【０１３３】
一実施形態のガラスパネルユニットを備える建具の製造方法は、一実施形態のガラスパネルユニットの製造方法の各工程に加えて、組立工程を備える。組立工程は、ガラスパネルユニットの周縁部に、矩形状の枠９を嵌め込む工程である。これらの工程を経て製造される建具は、高い断熱性を発揮する。
【０１３４】
図２０に示す建具では、図１から図３に示すガラスパネルユニットに対して、更に枠９を嵌め込んでいるが、枠９を嵌め込む対象はこれに限定されない。例えば、変形例１から変形例１１のいずれかの構成を備えるガラスパネルユニットに、枠９を嵌め込むことも有り得る。
【０１３５】
なお、ガラスパネルユニット及びこれを備える建具は、上述した実施形態と変形例のいずれにも限定さない。例えば、上述した複数の変形例の構成を組み合わせることも可能である。
【０１３６】
［態様］
上述した実施形態及びこれの各変形例から理解されるように、第１の態様のガラスパネルユニットは、第一パネル（１；１ａ）、第二パネル（２；２ａ）、枠状のシール部（４１；４１ａ）、複数のピラー（４３）、及びガス吸着体（４４；４４ａ；４４ｂ；４４ｃ；４４ｄ）を備える。第一パネル（１；１ａ）は、ガラスパネル（１５；１５ａ）を含む。第二パネル（２；２ａ）は、ガラスパネル（２５；２５ａ）を含み、第一パネル（１；１ａ）に対向して位置する。枠状のシール部（４１；４１ａ）は、第一パネル（１；１ａ）と第二パネル（２；２ａ）の間に減圧状態の密閉空間（５１；５１ａ）を形成するように、第一パネル（１；１ａ）と第二パネル（２；２ａ）の互いの周縁部を気密に接合する。複数のピラー（４３）は、第一パネル（１；１ａ）と第二パネル（２；２ａ）の距離を維持するために密閉空間（５１；５１ａ）に配置されている。ガス吸着体（４４；４４ａ；４４ｂ；４４ｃ；４４ｄ）は、密閉空間（５１；５１ａ）に配置されている。ガス吸着体（４４；４４ａ；４４ｂ；４４ｃ；４４ｄ）は、気体分子を吸着することのできる多孔質構造を有する非金属ゲッター材と、気体分子を吸着することのできる金属表面を有する金属ゲッター材と、を含む。
【０１３７】
第１の態様のガラスパネルユニットによれば、密閉空間（５１；５１ａ）に非金属ゲッター材と金属ゲッター材の両方が存在するので、密閉空間（５１；５１ａ）において多様な種類のガスが発生してもこれを吸着することができる。そのため、密閉空間（５１；５１ａ）の真空度の低下が効果的に抑えられる。加えて、第１の態様のガラスパネルユニットでは、密閉空間（５１；５１ａ）においてガス吸着体（４４；４４ａ；４４ｂ；４４ｃ；４４ｄ）を加熱したときには、非金属ゲッター材から離脱した気体分子を、金属ゲッター材に吸着させ、金属ゲッター材の内部に拡散させることができる。第１の態様のガラスパネルユニットによれば、密閉空間（５１；５１ａ）の内部において、ガス吸着体（４４；４４ａ；４４ｂ；４４ｃ；４４ｄ）に含まれる非金属ゲッター材と金属ゲッター材の両方を、加熱により効果的に活性化させることができる。
【０１３８】
第２の態様のガラスパネルユニットは、第１の態様のガラスパネルユニットにおいて、以下の構成を更に備える。第２の態様のガラスパネルユニットにおいて、非金属ゲッター材は、ゼオライト系、活性炭素又は酸化マグネシウムのゲッター材である。
【０１３９】
第２の態様のガラスパネルユニットによれば、ガス吸着体（４４；４４ａ；４４ｂ；４４ｃ；４４ｄ）に含まれる非金属ゲッター材によって炭化水素系ガス、アンモニアガスの気体分子を有効に吸着することができる。
【０１４０】
第３の態様のガラスパネルユニットは、第１又は第２の態様のガラスパネルユニットにおいて、以下の構成を更に備える。第３の態様のガラスパネルユニットにおいて、金属ゲッター材は、ジルコニウム系又はチタン系のゲッター材である。
【０１４１】
第３の態様のガラスパネルユニットによれば、ガス吸着体（４４；４４ａ；４４ｂ；４４ｃ；４４ｄ）に含まれる金属ゲッター材によってＨ２０、Ｎ２、Ｏ２、Ｈ２、ＣＯ２等の気体分子を吸着することができる。
【０１４２】
第４の態様のガラスパネルユニットは、第１から第３のいずれか一つの態様のガラスパネルユニットにおいて、以下の構成を更に備える。第４の態様のガラスパネルユニットにおいて、ガス吸着体（４４；４４ａ；４４ｂ；４４ｃ）は、非金属ゲッター材を含む第一ガス吸着体（４４１；４４１ａ；４４１ｂ；４４１ｃ）と、金属ゲッター材を含む第二ガス吸着体（４４２；４４２ａ；４４２ｂ；４４２ｃ）の一体化物である。
【０１４３】
第４の態様のガラスパネルユニットによれば、第一ガス吸着体（４４１；４４１ａ；４４１ｂ；４４１ｃ）と第二ガス吸着体（４４２；４４２ａ；４４２ｂ；４４２ｃ）が一体化したガス吸着体（４４；４４ａ；４４ｂ；４４ｃ）によって、多様な種類のガスを有効に吸着することができる。
【０１４４】
第５の態様のガラスパネルユニットは、第１から第３のいずれか一つの態様のガラスパネルユニットにおいて、以下の構成を更に備える。第５の態様のガラスパネルユニットにおいて、ガス吸着体（４４ｂ）は、非金属ゲッター材を含む第一ガス吸着体（４４１ｂ）と、金属ゲッター材を含む第二ガス吸着体（４４２ｂ）と、金属シート（４４３）の一体化物を備える。
【０１４５】
第５の態様のガラスパネルユニットによれば、金属シート（４４３）を介して金属ゲッター材と非金属ゲッター材を加熱し、金属ゲッター材と非金属ゲッター材の両方を活性化させることができる。
【０１４６】
第６の態様のガラスパネルユニットは、第４の態様のガラスパネルユニットにおいて、以下の構成を更に備える。第６の態様のガラスパネルユニットにおいて、第二ガス吸着体（４４２ｃ）は、第一ガス吸着体（４４１ｃ）で覆われている。
【０１４７】
第６の態様のガラスパネルユニットによれば、第一ガス吸着体（４４１ｃ）と第二ガス吸着体（４４２ｃ）の一体化物を含んだガス吸着体（４４ｃ）によって、密閉空間（５１）の真空度の低下を効果的に抑えることができる。
【０１４８】
第７の態様のガラスパネルユニットは、第１から第３のいずれか一つの態様のガラスパネルユニットにおいて、以下の構成を更に備える。第７の態様のガラスパネルユニットにおいて、ガス吸着体（４４ｄ）は、非金属ゲッター材を含む第一ガス吸着体（４４１ｄ）と、金属ゲッター材を含む第二ガス吸着体（４４２ｄ）を、別体で備える。
【０１４９】
第７の態様のガラスパネルユニットによれば、非金属ゲッター材と金属ゲッター材を個別に加熱し、個別に活性化させることができる。
【０１５０】
第８の態様のガラスパネルユニットは、第１から第７のいずれか一つの態様のガラスパネルユニットにおいて、以下の構成を更に備える。第８の態様のガラスパネルユニットにおいて、密閉空間（５１；５１ａ）には、樹脂を含んだ部分が露出している。
【０１５１】
第８の態様のガラスパネルユニットでは、樹脂を含んだ部分から炭化水素系ガスやアンモニアガスが発生する可能性があるが、ここで発生したガスは非金属ゲッター材に吸着されるので、密閉空間（５１；５１ａ）の真空度の低下は抑えられる。
【０１５２】
第９の態様のガラスパネルユニットは、第８の態様のガラスパネルユニットにおいて、以下の構成を更に備える。第９の態様のガラスパネルユニットにおいて、樹脂を含んだ部分は、複数のピラー（４３）である。
【０１５３】
第９の態様のガラスパネルユニットによれば、複数のピラー（４３）を通じて第一パネル（１）と第二パネル（２）の間で熱が伝わることが抑えられる。樹脂からは炭化水素系ガスやアンモニアガスが発生しやすいが、これらのガスは非金属ゲッター材に吸着されるので、密閉空間（５１）の真空度の低下は抑えられる。
【０１５４】
第１０の態様のガラスパネルユニットは、第１から第９のいずれか一つの態様のガラスパネルユニットにおいて、以下の構成を更に備える。第１０の態様のガラスパネルユニットは、第三パネル（３）と、枠状の第二シール部（３８）を更に備える。第三パネル（３）は、ガラスパネル（３５）を含み、第一パネル（１；１ａ）と第二パネル（２；２ａ）のうち一つのパネルに対向して位置する。枠状の第二シール部（３８）は、当該一つのパネルと第三パネル（３）の間に密閉された空間（５２）を形成するように、当該一つのパネルと第三パネル（３）に気密に接合される。
【０１５５】
第１０の態様のガラスパネルユニットによれば、より断熱性の高いガラスパネルユニットが得られる。
【０１５６】
第１の態様の建具は、第１から第１０のいずれか一つの態様のガラスパネルユニットと、当該ガラスパネルユニットの周縁部に嵌め込まれた枠（９）を備える。
【０１５７】
第１の態様の建具によれば、断熱性の高いガラスパネルユニットを備えた建具を得ることができる。
【０１５８】
第１の態様のガス吸着体の活性化方法は、第１から第１０のいずれか一つの態様のガラスパネルユニットに形成された密閉空間（５１；５１ａ）の内部において、ガス吸着体（４４；４４ａ；４４ｂ；４４ｃ；４４ｄ）に含まれる非金属ゲッター材と金属ゲッター材の両方を、加熱する。
【０１５９】
第１の態様のガス吸着体の活性化方法によれば、非金属ゲッター材から離脱した気体分子を、金属ゲッター材に吸着させ、金属ゲッター材の内部に拡散させることができる。したがって、密閉空間（５１；５１ａ）の内部において、非金属ゲッター材と金属ゲッター材の両方を効果的に活性化させることができる。
【符号の説明】
【０１６０】
１，１ａ  第一パネル
１５，１５ａ  ガラスパネル
２，２ａ  第二パネル
２５，２５ａ  ガラスパネル
３  第三パネル
３５  ガラスパネル
３８  第二シール部
４１，４１ａ  シール部
４３  ピラー
４４，４４ａ，４４ｂ，４４ｃ，４４ｄ  ガス吸着体
４４１，４４１ａ，４４１ｂ，４４１ｃ，４４１ｄ  第一ガス吸着体
４４２，４４２ａ，４４２ｂ，４４２ｃ，４４２ｄ  第二ガス吸着体
５１，５１ａ  密閉空間
５２  空間
９  枠
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【国際調査報告】
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