(57)【要約】  フィルムにプラズマ処理を施すことが可能なプラズマ処理部と、プラズマ処理部から送出されたフィルムを裏返してプラズマ処理部に戻すことが可能な反転部と、を備え；プラズマ処理部が、反転部へと送出されるフィルム及び反転部から戻されたフィルムが接触可能な周面を有し且つ温度調整可能に設けられた冷却ロールと、冷却ロールの周面に対向して設けられた複数の電極と、を備え；複数の電極が、第一電極及び第二電極を含み；第一電極が、反転部へと送出されるフィルムが冷却ロールの周面に接触した状態で第一電極と冷却ロールとの間を通って搬送されるように設けられ；第二電極が、反転部から戻されたフィルムが冷却ロールの周面に接触した状態で第二電極と冷却ロールとの間を通って搬送されるように設けられている、プラズマ処理装置。
2018221248.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムにプラズマ処理を施すことが可能なプラズマ処理部と、前記プラズマ処理部から送出された前記フィルムを裏返して前記プラズマ処理部に戻すことが可能な反転部と、を備え、
前記プラズマ処理部が、前記反転部へと送出される前記フィルム及び前記反転部から戻された前記フィルムが接触可能な周面を有し且つ温度調整可能に設けられた冷却ロールと、前記冷却ロールの周面に対向して設けられた複数の電極と、を備え、
前記複数の電極が、第一電極及び第二電極を含み、
前記第一電極が、前記反転部へと送出される前記フィルムが前記冷却ロールの周面に接触した状態で前記第一電極と前記冷却ロールとの間を通って搬送されるように設けられ、
前記第二電極が、前記反転部から戻された前記フィルムが前記冷却ロールの周面に接触した状態で前記第二電極と前記冷却ロールとの間を通って搬送されるように設けられている、プラズマ処理装置。
【請求項２】
前記複数の電極に含まれる電極の合計数をｎ個とした場合、隣り合う前記電極の組が前記冷却ロールの中心軸に対してなす中心角が、いずれも、０．８×（３６０°／ｎ）以上である、請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記複数の電極に含まれる電極の合計数が、１２個以下である、請求項１又は２記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置を用いた表面処理フィルムの製造方法であって、
前記プラズマ処理部に、第一表面及び第二表面を有する対象フィルムを供給する工程と、
前記対象フィルムの第一表面を前記冷却ロールの周面に接触させた状態で、前記対象フィルムを、前記第一電極と前記冷却ロールとの間を通るように搬送しながら、前記対象フィルムの第二表面にプラズマ処理を施す工程と、
前記対象フィルムを、前記プラズマ処理部から前記反転部に送出する工程と、
前記対象フィルムを、前記反転部において裏返す工程と、
前記対象フィルムを、前記反転部から前記プラズマ処理部に戻す工程と、
前記対象フィルムの第二表面を前記冷却ロールの周面に接触させた状態で、前記対象フィルムを、前記第二電極と前記冷却ロールとの間を通るように搬送しながら、前記対象フィルムの第一表面にプラズマ処理を施す工程と、を含む、表面処理フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ処理装置、及び、そのプラズマ処理装置を用いた表面処理フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、フィルムにプラズマ処理を施す技術が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−４９４６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
フィルムに対してプラズマ処理を行うと、通常は、フィルムが加熱される。フィルムが加熱されると、寸法変化が生じて、フィルムが変形する可能性がある。例えば、樹脂フィルムは、加熱されると収縮することがある。そこで、フィルムを冷却して変形を抑制する観点から、プラズマ処理を、フィルムを冷却ロールに接触させた状態で行うことがある。【０００５】
フィルムの片面のみにプラズマ処理を施す場合、通常、冷却ロールを１個用いる。しかし、フィルムの両面にプラズマ処理を施す場合には、従来、冷却ロールは複数個用いることが求められていた。具体的には、ある冷却ロールにフィルムの一方の表面を接触させた状態で、フィルムの他方の表面にプラズマ処理を行い、その後、別の冷却ロールにフィルムの他方の面を接触させた状態で、フィルムの一方の表面にプラズマ処理を行うことで、フィルム両面のプラズマ処理を達成していた。【０００６】
このように、フィルムの一方の表面にプラズマ処理を施す際に用いる冷却ロール、及び、フィルムの他方の表面にプラズマ処理を施す際に用いられる冷却ロールという、複数の冷却ロールを用いた従来の方法では、設備が大型化する傾向がある。具体例を挙げると、複数個の冷却ロールを用いると、冷却ロール自体の設置スペースが広く要求される。また、冷却ロールに冷媒を供給するための装置、及び、冷却ロールを駆動するための装置を複数設置することが求められ、それらの装置の分だけ、設備が大型化する。【０００７】
さらに、複数の冷却ロールを用いた従来の方法では、処理条件の制御が複雑になる傾向がある。具体例を挙げると、複数個の冷却ロールを用いると、通常は、それぞれの冷却ロール上を搬送されるフィルムの搬送速度を一致させるための搬送制御が求められる。しかし、搬送速度を一致させるための制御は複雑であり、その簡素化が望まれる。【０００８】
また、一般に、プラズマ処理では、処理雰囲気の制御を行うことが求められる。そこで、冷却ロールはケース内に収納され、そのケース内で処理雰囲気の制御を行いながらプラズマ処理を行うことが一般的である。よって、複数の冷却ロールを用いる場合、通常は、ケースを複数用意し、それらケースそれぞれにおいて処理雰囲気の制御を行う。この場合、雰囲気ガスの供給及び排気をケース毎に行うので、排気風量が増大したり、ケース内の圧力の調整が難しかったりする。よって、例えば、フィルムの両面に同一条件でプラズマ処理を行おうとしても、両面の処理条件を同じになるように制御することが困難であった。【０００９】
本発明は前記の課題に鑑みて創案されたもので、フィルムの両面にプラズマ処理を施すことが可能であって、且つ、設備の小型化及び制御の簡素化が可能な、プラズマ処理装置；並びに、両面にプラズマ処理を施された表面処理フィルムを前記のプラズマ処理装置を用いて製造できる、表面処理フィルムの製造方法；を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
〔１〕  フィルムにプラズマ処理を施すことが可能なプラズマ処理部と、前記プラズマ処理部から送出された前記フィルムを裏返して前記プラズマ処理部に戻すことが可能な反転部と、を備え、
前記プラズマ処理部が、前記反転部へと送出される前記フィルム及び前記反転部から戻された前記フィルムが接触可能な周面を有し且つ温度調整可能に設けられた冷却ロールと、前記冷却ロールの周面に対向して設けられた複数の電極と、を備え、
前記複数の電極が、第一電極及び第二電極を含み、
前記第一電極が、前記反転部へと送出される前記フィルムが前記冷却ロールの周面に接触した状態で前記第一電極と前記冷却ロールとの間を通って搬送されるように設けられ、
前記第二電極が、前記反転部から戻された前記フィルムが前記冷却ロールの周面に接触した状態で前記第二電極と前記冷却ロールとの間を通って搬送されるように設けられている、プラズマ処理装置。
〔２〕  前記複数の電極に含まれる電極の合計数をｎ個とした場合、隣り合う前記電極の組が前記冷却ロールの中心軸に対してなす中心角が、いずれも、０．８×（３６０°／ｎ）以上である、〔１〕記載のプラズマ処理装置。
〔３〕  前記複数の電極に含まれる電極の合計数が、１２個以下である、〔１〕又は〔２〕記載のプラズマ処理装置。
〔４〕  〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置を用いた表面処理フィルムの製造方法であって、
前記プラズマ処理部に、第一表面及び第二表面を有する対象フィルムを供給する工程と、
前記対象フィルムの第一表面を前記冷却ロールの周面に接触させた状態で、前記対象フィルムを、前記第一電極と前記冷却ロールとの間を通るように搬送しながら、前記対象フィルムの第二表面にプラズマ処理を施す工程と、
前記対象フィルムを、前記プラズマ処理部から前記反転部に送出する工程と、
前記対象フィルムを、前記反転部において裏返す工程と、
前記対象フィルムを、前記反転部から前記プラズマ処理部に戻す工程と、
前記対象フィルムの第二表面を前記冷却ロールの周面に接触させた状態で、前記対象フィルムを、前記第二電極と前記冷却ロールとの間を通るように搬送しながら、前記対象フィルムの第一表面にプラズマ処理を施す工程と、を含む、表面処理フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、フィルムの両面にプラズマ処理を施すことが可能であって、且つ、設備の小型化及び制御の簡素化が可能な、プラズマ処理装置；並びに、両面にプラズマ処理を施された表面処理フィルムを前記のプラズマ処理装置を用いて製造できる、表面処理フィルムの製造方法；を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係るプラズマ処理装置を模式的に示す正面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態に係るプラズマ処理装置の反転部が備えるフィルム反転装置を模式的に示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、実施形態及び例示物を示して本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものでは無く、請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、別に断らない限り、「上流」及び「下流」とは、フィルム搬送方向における上流及び下流を示す。
【００１４】
図１は、本発明の一実施形態に係るプラズマ処理装置１０を模式的に示す正面図である。図１に示すように、本発明の一実施形態に係るプラズマ処理装置１０は、プラズマ処理部１００及び反転部２００を備える。
【００１５】
プラズマ処理部１００は、第一表面２０Ｆ及び第二表面２０Ｓを有するフィルム２０にプラズマ処理を施すことが可能に設けられており、ケース１１０；冷却ロール１２０；複数の電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３；並びに、押えロール１５１、１５２、１６１及び１６２；を備える。ここで、フィルム２０の第一表面２０Ｆとは、フィルム２０のオモテ面及びウラ面の一方をいい、フィルム２０の第二表面２０Ｓとは、フィルム２０のオモテ面及びウラ面の他方をいう。フィルム２０のオモテ面及びウラ面のいずれを第一表面２０Ｆとし、いずれを第二表面２０Ｓとするかは、任意に設定しうる。
【００１６】
ケース１１０は、フィルム２０にプラズマ処理を施すための部屋を外部から区画する筐体である。冷却ロール１２０；電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３；並びに、押えロール１５１、１５２、１６１及び１６２；は、このケース１１０内に収納されている。
【００１７】
ケース１１０には、フィルム２０の取り込み及び送り出しを行うための出入口が形成されている。また、ケース１１０には、プラズマ処理用の雰囲気ガスの取込口（図示省略）及び排出口（図示省略）が形成されている。ケース１１０は、図示しないガス供給装置から供給される雰囲気ガスを取込口を通して取り込み、排出口を通して排出できるように設けられている。
【００１８】
冷却ロール１２０は、フィルム２０の搬送方向と同じ向きで、周方向に回転可能に設けられている。この冷却ロール１２０は、プラズマ処理を施される期間にフィルム２０を支持するための支持体として設けられている。よって、冷却ロール１２０は、反転部２００へと送出されるフィルム２０及び反転部２００から戻されたフィルム２０が接触可能な周面１２０Ｐを有している。前記の「反転部２００へと送出されるフィルム２０」とは、フィルム２０の搬送路において反転部２００よりも上流のフィルム２０を指す。また、前記の「反転部２００から戻されたフィルム２０」とは、フィルム２０の搬送路において反転部２００よりも下流のフィルム２０を指す。
【００１９】
通常、冷却ロール１２０は、プラズマを発生させるためのロール電極として機能できるように、金属等の導電性材料を含むように形成される。例えば、冷却ロール１２０は、導電性材料で形成されたロールであってもよい。また、例えば、冷却ロール１２０は、導電性材料で形成されたロール本体に、ガラス、セラミックス等の誘電体を被覆したロールであってもよい。冷却ロール１２０は、通常は接地され、電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３との間にプラズマ放電領域を形成できるように設けられる。
【００２０】
冷却ロール１２０は、温度調整可能に設けられている。より詳しくは、冷却ロール１２０は、プラズマ処理時に熱が生じても、その熱によるフィルム２０の昇温を抑制できるように、冷却可能に設けられている。通常は、冷却ロール１２０内に水等の冷媒が流通可能な流路（図示省略）が設けられている。そして、図示しない冷媒供給装置から供給される冷媒が前記の流路を流通することにより、冷却ロール１２０は、冷却ロール１２０の温度を調整できるように設けられている。
【００２１】
電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３は、冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに対向して、設けられる。通常、これらの電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３は、冷却ロール１２０の軸方向に平行に延在する電極として設けられる。また、これらの電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３は、通常、冷却ロール１２０の周面１２０Ｐからの距離が同じになるように設けられる。さらに、電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３としては、通常、同じ材料、同じ寸法、同じ形状のものを用いる。
【００２２】
前記の複数の電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３は、フィルム２０の両表面２０Ｆ及び２０Ｓのうちの一方にプラズマ処理を施すための第一電極と他方にプラズマ処理を施すための第二電極とを含む。本実施形態では、電極１３１、１３２及び１３３が第一電極に分類され、電極１４１、１４２及び１４３が第二電極に分類される。第一電極１３１、１３２及び１３３は、反転部２００へと送出されるフィルム２０が、これら第一電極１３１、１３２及び１３３と冷却ロール１２０との間を通って搬送されるように設けられている。また、第二電極１４１、１４２及び１４３は、反転部２００から戻されたフィルム２０が、これら第二電極１４１、１４２及び１４３と冷却ロール１２０との間を通って搬送されるように設けられている。
【００２３】
フィルム２０の両表面２０Ｆ及び２０Ｓに同じ条件でプラズマ処理を施す観点では、第一電極１３１、１３２及び１３３の数と、第二電極１４１、１４２及び１４３の数とは、同じにすることが好ましい。また、前記と同じ観点では、第一電極１３１、１３２及び１３３の位置と、第二電極１４１、１４２及び１４３の位置とは、冷却ロール１２０の中心軸１２０Ｃに対して対称であることが好ましい。ここで、「冷却ロール１２０の中心軸１２０Ｃに対して対称」であるとは、冷却ロール１２０の中心軸Ｃに垂直な断面において、冷却ロール１２０の中心軸Ｃを対称中心として点対称であることをいう。
【００２４】
第一電極及び第二電極をそれぞれ少なくとも１個有することが求められるので、プラズマ処理部１００が備える電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３の数は、通常２個以上である。他方、メンテナンスを容易にする観点では、電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３の数は、１２個以下が好ましい。
【００２５】
電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３の合計数をｎ個とした場合、隣り合う電極の組が冷却ロール１２０の中心軸１２０Ｃに対してなす中心角θは、いずれも、所定の範囲に収まることが好ましい。ただし、この中心角θは、０＜θ≦１８０°である。ここで、隣り合う電極の組とは、例えば、電極１３１と電極１３２の組、電極１３１と電極１４３の組、などが挙げられる。また、「隣り合う電極の組が冷却ロール１２０の中心軸１２０Ｃに対してなす中心角θ」とは、「冷却ロール１２０の中心軸１２０Ｃに垂直な断面において、冷却ロール１２０の中心軸１２０Ｃと、隣り合う電極それぞれの中心とを結ぶ２本の線がなす角」のことをいう。以下の説明では、この中心角θを、「電極間中心角θ」ということがある。図１では、冷却ロール１２０の中心軸１２０Ｃと電極１３１の中心１３１Ｃとを結ぶ線Ｌ１と、冷却ロール１２０の中心軸１２０Ｃと前記電極１３１に隣り合う電極１３２の中心１３２Ｃとを結ぶ線Ｌ２と、がなす角を、前記の電極間中心角θの例として示す。
【００２６】
電極間中心角θは、具体的には、好ましくは「０．８×（３６０°／ｎ）」以上であり、更に好ましくは「０．９×（３６０°／ｎ）」以上である。中でも、電極間中心角θは、隣り合ういずれの電極の組についても同じであることが特に好ましく、したがって、前記の電極間中心角θは「１．０×（３６０°／ｎ）」であることが特に好ましい。これにより、電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３毎のプラズマ処理温度のバラツキを抑制できる。
【００２７】
押えロール１５１、１５２、１６１及び１６２は、フィルム２０の搬送方向と同じ向きで、周方向に回転可能に設けられている。また、押えロール１５１、１５２、１６１及び１６２は、その中心軸（図示省略）が、冷却ロール１２０の軸方向に延在するように設けられている。
【００２８】
押えロール１５１、１５２、１６１及び１６２は、フィルム２０を押さえ付けることで、プラズマ処理を施される期間に、フィルム２０を冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに接触させることが可能に設けられている。具体的には、押えロール１５１及び１５２が、当該押えロール１５１及び１５２でフィルム２０を押さえ付けることによって、第一電極１３１、１３２及び１３３と冷却ロール１２０との間を通って搬送されるフィルム２０を、冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに接触した状態にできるように設けられている。また、押えロール１６１及び１６２が、当該押えロール１６１及び１６２でフィルム２０を押さえ付けることによって、第二電極１４１、１４２及び１４３と冷却ロール１２０との間を通って搬送されるフィルム２０を、冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに接触した状態にできるように設けられている。
【００２９】
反転部２００は、プラズマ処理部１００から送出されたフィルム２０を裏返して、プラズマ処理部１００に戻すことが可能に設けられている。ここで、フィルム２０を「裏返す」とは、冷却ロール１２０を基準としたフィルム２０の第一表面２０Ｆ及び第二表面２０Ｓの位置関係を逆転させることをいう。
【００３０】
図２は、本発明の一実施形態に係るプラズマ処理装置１０の反転部２００が備えるフィルム反転装置２１０を模式的に示す斜視図である。また、図２においては、フィルム２０の第一表面２０Ｆと第二表面２０Ｓとの区別を容易にするために、第二表面２０Ｓに斜線を付して示す。
【００３１】
図２に示すように、反転部２００は、複数のターンバー２１１、２１２及び２１３を備えるフィルム反転装置２１０を備える。ターンバー２１１、２１２及び２１３は、搬送されるフィルム２０を折り返すことができる部材である。フィルム反転装置２１０は、前記のターンバー２１１、２１２及び２１３による折り返しを組み合わせることで、フィルム２０を裏返すことが可能に設けられている。このようなフィルム反転装置２１０としては、例えば、ベルマチック社製のクロスインバータ等を用いうる。ただし、反転部２００がフィルム２０を裏返すのに用いる機構に制限は無く、前記のフィルム反転装置２１０以外の機構によってフィルム２０の裏返しを実現してもよい。
【００３２】
本発明の一実施形態に係るプラズマ処理装置１０は、以上のように設けられている。このプラズマ処理装置１０を用いれば、第一表面及び第二表面の両方にプラズマ処理を施された表面処理フィルムを製造できる。以下、その製造方法を説明する。また、以下の説明では、表面処理フィルムとの区別のため、第一表面及び第二表面の両方にプラズマ処理を施される前のフィルムを「対象フィルム」と呼ぶことがある。
【００３３】
図１に示すように、上記のプラズマ処理装置１０を用いた表面処理フィルムの製造方法では、第一表面２０Ｆ及び第二表面２０Ｓを有する対象フィルム２０を用意する。対象フィルム２０としては、通常、長尺のフィルムを用いる。ここで、「長尺」のフィルム２０とは、幅に対して、通常５倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して１０万倍以下としうる。また、対象フィルム２０としては、通常、樹脂フィルムを用いる。
【００３４】
樹脂フィルムに含まれる樹脂としては、例えば、スチレン樹脂；アクリル樹脂；メタクリル樹脂；ハロゲン含有樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン樹脂；脂環式構造を有する樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリアミド樹脂；熱可塑性ポリウレタン樹脂；ポリエーテルスルホン、ポリスルホン等のポリスルホン樹脂；２，６−キシレノールの重合体等のポリフェニレンエーテル樹脂；セルロースエステル類、セルロースカーバメートル類、セルロースエーテル類等のセルロース誘導体；ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン等のシリコーン樹脂；などが挙げられる。
【００３５】
対象フィルム２０を用意した後で、その対象フィルム２０を、プラズマ処理部１００に供給する工程を行う。供給された対象フィルム２０は、ケース１１０内に進入し、押えロール１５１を経て冷却ロール１２０に接触する。そして、対象フィルム２０は、押えロール１５１及び１５２によって押さえられ、対象フィルム２０の第一表面２０Ｆを冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに強く接触させた状態で、搬送される。
【００３６】
対象フィルム２０の第一表面２０Ｆを冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに接触させた状態で、対象フィルム２０を、第一電極１３１、１３２及び１３３と冷却ロール１２０との間を通るように搬送しながら、対象フィルム２０の第二表面２０Ｓにプラズマ処理を施す工程を行う。ケース１１０内には、図示しない取込口を通じて適切な種類及び量の雰囲気ガスが供給されている。また、供給された雰囲気ガスは、ケース１１０内を流通した後、図示しない排出口を通じて排出されている。このような状態で、第一電極１３１、１３２及び１３３とロール電極としての冷却ロール１２０との間に、図示しない電源によって電圧を印加する。この電圧により、第一電極１３１、１３２及び１３３と冷却ロール１２０との間にプラズマが生じる。そして、このプラズマによって、冷却ロール１２０とは反対側の対象フィルム２０の表面としての第二表面２０Ｓに対するプラズマ処理が行われる。この際、雰囲気ガスの種類及び量、並びに、印加する電圧の大きさは、対象フィルム２０の材質、及び、プラズマ処理によって対象フィルム２０に与えたい性質に応じて設定しうる。
【００３７】
第二表面２０Ｓにプラズマ処理を施した後で、対象フィルム２０を、プラズマ処理部１００から反転部２００に送出する工程を行う。具体的には、第二表面２０Ｓにプラズマ処理が施された対象フィルム２０は、押えロール１５２を経て、ケース１１０の外へと進み、反転部２００へと送られる。
【００３８】
その後、送られてきた対象フィルム２０を、反転部２００において裏返す工程を行う。本実施形態では、図２に示すように、複数のターンバー２１１、２１２及び２１３による折り返しによって、対象フィルム２０は裏返される。このような裏返しにより、対象フィルム２０の状態は、第一表面２０Ｆで冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに接触できる状態から、第二表面２０Ｓで冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに接触できる状態へと変化する。
【００３９】
裏返しの後で、図１に示すように、対象フィルム２０を、反転部２００からプラズマ処理部１００に戻す工程を行う。プラズマ処理部１００に戻された対象フィルム２０は、ケース１１０内に進入し、押えロール１６１を経て冷却ロール１２０に接触する。そして、対象フィルム２０は、押えロール１６１及び１６２によって押さえられ、対象フィルム２０の第二表面２０Ｓを冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに強く接触させた状態で、搬送される。
【００４０】
対象フィルム２０の第二表面２０Ｓを冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに接触させた状態で、対象フィルム２０を、第二電極１４１、１４２及び１４３と冷却ロール１２０との間を通るように搬送しながら、対象フィルム２０の第一表面２０Ｆにプラズマ処理を施す工程を行う。前述したように、ケース１１０内には、適切な種類及び量の雰囲気ガスが流通している。このような状態で、第二電極１４１、１４２及び１４３とロール電極としての冷却ロール１２０との間に、図示しない電源によって電圧を印加することにより、第二表面２０Ｓに対するプラズマ処理と同じ要領で、対象フィルム２０の第一表面２０Ｆに対するプラズマ処理が行われる。そして、これにより、対象フィルム２０の第一表面２０Ｆ及び第二表面２０Ｓの両方へのプラズマ処理が行われて、表面処理フィルム２０が得られる。
【００４１】
こうして得られた表面処理フィルム２０は、プラズマ処理部１００から送出され、適切な回収装置（図示省略）によって回収される。得られた表面処理フィルム２０の第一表面２０Ｆ及び第二表面２０Ｓには、プラズマ処理によって官能基が生成しており、その接着性が高められている。
【００４２】
上述した実施形態に係るプラズマ処理装置１０では、第一表面２０Ｆに対するプラズマ処理と第二表面２０Ｓに対するプラズマ処理とで共通の冷却ロール１２０を用いているので、設備の小型化が可能である。例えば、冷却ロール１２０を１個しか使わないので、冷却ロール１２０自体の設置スペースを小さくしたり、冷却ロール１２０に冷媒を供給するための冷却系を小型化したり、電圧印加のための電源系を簡素化したり、冷却ロール１２０を回転駆動するための装置を減らしたりして、設備の小型化を達成できる。
【００４３】
さらに、上述した実施形態に係るプラズマ処理装置１０では、プラズマ処理に係る制御を簡素化することができる。例えば、第一表面２０Ｆに対するプラズマ処理と第二表面２０Ｓに対するプラズマ処理とで共通の冷却ロール１２０を用いているので、異なる冷却ロール上を搬送される対象フィルムの搬送速度を一致させるための従来法のような搬送制御が不要である。そのため、対象フィルムの搬送速度の制御を簡素化することができる。
【００４４】
また、上述した実施形態に係るプラズマ処理装置１０では、共通のケース１１０内で第一表面２０Ｆに対するプラズマ処理と第二表面２０Ｓに対するプラズマ処理とを行うことができる。よって、複数のケースを用いた従来法よりも雰囲気ガスの排気風量を減らすことができる。また、上述した実施形態に係るプラズマ処理装置１０では、複数のケースを用いた従来法に比べ、ケース１１０内の雰囲気ガスの圧力の制御が容易である。例えば、対象フィルム２０の第一表面２０Ｆ及び第二表面２０Ｓに同じ条件でプラズマ処理を施そうとする場合に、特段の調整を行わなくても通常は雰囲気ガスの種類及び圧力を両方のプラズマ処理において同じにできるので、圧力制御が容易である。
【００４５】
さらに、上述した実施形態に係るプラズマ処理装置１０では、プラズマ処理による対象フィルム２０の昇温を冷却ロール１２０によって抑制しているので、熱による対象フィルム２０の寸法変化を抑制できる。この際、電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３の電極間中心角θを適切に設定すると、電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３毎のプラズマ処理温度のバラツキを抑制できるので、電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３毎のプラズマ処理の条件を均一化できる。そのため、プラズマ処理の処理条件の制御が容易となり、意図したとおりの表面処理フィルム２０を容易に得ることができる。この点に関しては、例えば、電極間中心角θが小さい場合を考えると理解できる。電極間中心角θが小さいと、対象フィルム２０は、ある電極によってプラズマ処理を受けて加熱された後、冷却ロール１２０によって十分に冷却される前に、次の電極によってプラズマ処理を受けるので、プラズマ処理を受ける時点での温度が意図したよりも高くなる可能性がある。しかし、電極間中心角θを適切に設定することで、このような意図しない高温を避け易くなり、プラズマ処理温度のバラツキを抑制することができる。
【００４６】
また、上述した実施形態に係るプラズマ処理装置１０では、対象フィルム２０が、押えロール１５１、１５２、１６１及び１６２に押さえ付けられる。そのため、対象フィルム２０は、第一電極１３１、１３２及び１３３と冷却ロール１２０との間を通る期間、並びに、第二電極１４１、１４２及び１４３と冷却ロール１２０との間を通る期間に、冷却ロール１２０の周面１２０Ｐに強く接触する。よって、冷却ロール１２０と対象フィルム２０との間には、大きな摩擦力が働く。したがって、プラズマ処理による加熱によって対象フィルム２０に膨張又は収縮を生じようとする応力が生じても、前記の摩擦力が応力に抗するので、対象フィルム２０の寸法変化を効果的に抑制できる。
【００４７】
さらに、上述した実施形態に係るプラズマ処理装置１０では、いずれの電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３も、冷却ロール１２０の周面１２０Ｐから等しい距離で設けられているので、各電極１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３による処理条件を均一化できる。よって、プラズマ処理の処理条件の制御を特に容易に行うことができる。
【００４８】
上述した実施形態において、処理フィルム２０の材料、厚み及び搬送速度；雰囲気ガスの種類及び圧力；プラズマ生成のための印加電圧の大きさ；などの条件は、所望の表面処理フィルムが得られる範囲で、任意に設定しうる。
【符号の説明】
【００４９】
１０  プラズマ処理装置
２０  フィルム
２０Ｆ  第一表面
２０Ｓ  第二表面
１００  プラズマ処理部
１１０  ケース
１２０  冷却ロール
１２０Ｐ  周面
１２０Ｃ  中心軸
１３１、１３２、１３３、１４１、１４２及び１４３  電極
１５１、１５２、１６１及び１６２  押えロール
２００  反転部
２１０  フィルム反転装置
２１１、２１２及び２１３  ターンバー
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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