(57)【要約】  フィルム表面へのオリゴマーの析出を防止する簡易な方法を提供する。  フィルム基材１１に紫外線を１５００ｍＪ／ｃｍ２  以上の露光量で照射し、フィルム基材１１の少なくとも一部を改質させ、被膜１２を形成させることにより、フィルム基材１１表面へのオリゴマーの析出を防止する。【選択図】  図１
2010061851.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム基材の少なくとも一部が改質されてなる被膜を持つシートを製造する方法であって、前記フィルム基材に紫外線を照射し、前記被膜を形成させることを特徴とするシートの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載のシートの製造方法において、
前記紫外線を１５００ｍＪ／ｃｍ２  以上の露光量で照射することを特徴とするシートの製造方法。
【請求項３】
請求項２記載のシートの製造方法において、
前記紫外線を複数回に分けて照射することを特徴とするシートの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項記載のシートの製造方法において、
前記紫外線として、発光波長域が２００〜４５０ｎｍであり、３６０〜３７０ｎｍにピーク出力特性を持つ光線を用いることを特徴とするシートの製造方法。
【請求項５】
請求項４記載のシートの製造方法において、
前記紫外線は、さらに２５０〜３２０ｎｍにピーク出力特性を持つことを特徴とするシートの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項記載のシートの製造方法において、
前記フィルム基材として、透明ポリエステルフィルムを用いることを特徴とするシートの製造方法。
【請求項７】
フィルム基材表面へのオリゴマーの析出を防止する方法であって、前記フィルム基材に紫外線を照射し、前記フィルム基材の少なくとも一部を改質させ、被膜を形成させることを特徴とするオリゴマーの析出防止方法。
【請求項８】
フィルム基材の少なくとも一部が改質されてなる被膜を持つシートであって、
前記被膜は、前記フィルム基材に紫外線を照射することにより形成されることを特徴とするシート。
【請求項９】
請求項８記載のシートにおいて、
前記被膜は、マルテンス硬さが２００Ｎ／ｍｍ２  以上、押し込み弾性率が４３００ＭＰａ以下、厚みが０．１μｍ以上であることを特徴とするシート。
【請求項１０】
請求項８又は９記載のシートにおいて、
前記マルテンス硬さ及び前記押し込み弾性率の値は、最大試験荷重が１ｍＮの条件での測定値であることを特徴とするシート。
【請求項１１】
請求項８〜１０の何れか一項記載のシートの表面に機能層を有する積層体。
【請求項１２】
請求項１１記載の積層体において、
前記機能層が、前記シートの前記被膜側に積層された粘着層を含むことを特徴とする積層体。
【請求項１３】
請求項１１記載の積層体において、
前記機能層が、前記シートの前記被膜とは反対側に積層されたハードコート層を含むことを特徴とする積層体。
【請求項１４】
第１の透明導電膜が第１の透明基板に形成された第１の電極基板と、
第２の透明導電膜が前記第１の透明導電膜と所定の間隙を空けて対向するように第２の透明基板に形成された第２の電極基板とを、有するタッチパネルであって、
前記第１の透明基板及び前記第２の透明基板のうち何れか一方の可動側電極基板が、請求項１３記載の積層体を含むことを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、被膜を持つシート及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステルフィルムは、ＬＣＤ部材のプリズムシート、レンズシート、拡散板、反射板、タッチパネル等のベースフィルムとしてや、反射防止用やディスプレイ防爆用のベースフィルムなど、各種光学用途に広く使用されている。これら光学用途において明るく鮮明な画像を得るために、光学用フィルムとして用いられるベースフィルムは、その使用形態から透明性が良好で、かつ画像に影響を与える異物やキズ等の欠陥がないことが必要となる。【０００３】
ところが近年、その用途が多様化するにつれて、フィルムの加工条件や使用条件が多様化し、ポリエステルフィルムを加熱処理した際に、フィルム表面に、該フィルムの非架橋成分であるオリゴマーと称される重合体（環状三量体）が析出するとの問題が生じている。フィルム表面へのオリゴマーの析出が激しい場合、フィルム加工時にオリゴマーが工程内に付着して汚染したり、高度な透明性が必要な用途に使用できなくなるなどの諸問題を生じる。【０００４】
従来、フィルム表面へのオリゴマーの析出を防止する方法として種々の提案がなされている。例えば特許文献１では、抵抗膜方式の透明タッチパネルにおいて、固定電極支持体と対向して配置され、上面にハードコート層が形成された可動電極フィルムの下面に透明な収縮性樹脂層を介して可動電極を形成する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平７−１３６９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した従来手法では、可動電極フィルムの下面に透明な収縮性樹脂層を形成することにより、可動電極フィルムの非架橋成分であるオリゴマーが可動電極側へ析出し、白化状態となって透明性が失われ、外観及び視認性が悪化することを防止するというものである。なお、可動電極フィルムの上面にはハードコート層が形成してあるので、このハードコート層によって可動電極フィルム内部からオリゴマーが可動電極フィルムの上面側に析出することが防止される。【０００７】
しかしながら、上記従来手法では、収縮性樹脂層を形成するために所定の塗料を調合し、これを可動電極フィルムの下面に塗布、乾燥、必要であれば紫外線などを照射して硬化させることが必要であり、工程が増加し、生産性が悪化することが懸念される。従って、生産性を向上させることが可能な技術の開発が望まれている。【０００８】
発明が解決しようとする課題は、簡易な方法でフィルム表面へのオリゴマーの析出を防止することができる被膜を持つシートの製造方法と、この方法を用いた被膜を持つシートを提供することである。また、このシートを含む積層体と、この積層体を含むタッチパネルを提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明は、以下の解決手段によって上記課題を解決する。なお、以下の解決手段では、発明の実施形態を示す図面に対応する符号を付して説明するが、この符号は発明の理解を容易にするためだけのものであって発明を限定する趣旨ではない。【００１０】
発明に係るシート（１０）の製造方法は、フィルム基材（１１）の少なくとも一部が改質されてなる被膜（１２）を持つシートを製造する方法であって、フィルム基材（１１）に紫外線を照射し、被膜（１２）を形成させることを特徴とする。【００１１】
上記発明において、紫外線を１５００ｍＪ／ｃｍ２  以上の露光量で照射することができる。
上記発明において、紫外線を複数回に分けて照射することができる。【００１２】
上記発明において、紫外線として、発光波長域が２００〜４５０ｎｍで、３６０〜３７０ｎｍにピーク出力特性を持つ光線を用いることができる。
上記発明において、紫外線として、波長域が２００〜４５０ｎｍで、３６０〜３７０ｎｍ及び２５０〜３２０ｎｍにピーク出力特性を持つ光線を用いることができる。【００１３】
上記発明において、フィルム基材（１１）として、透明ポリエステルフィルムを用いることができる。すなわち、フィルム基材（１１）に紫外線を照射し、フィルム基材（１１）の少なくとも一部を改質させ、被膜（１２）を形成させることにより、フィルム基材（１１）表面へのオリゴマーの析出を防止することができる。【００１４】
発明に係るシート（１０）は、フィルム基材（１１）の少なくとも一部が改質されてなる被膜（１２）を持ち、被膜（１２）は、フィルム基材（１１）に紫外線を照射することにより形成されることを特徴とする。【００１５】
上記発明において、被膜（１２）は、マルテンス硬さを２００Ｎ／ｍｍ２  以上、押し込み弾性率を４３００ＭＰａ以下、厚みを０．１μｍ以上とすることができる。
上記発明において、マルテンス硬さ及び押し込み弾性率の値は、最大試験荷重が１ｍＮの条件での測定することができる。【００１６】
発明に係る積層体（２０）は、上記何れかのシート（１０）の表面に、各種機能が付与された機能層（２２，２４）を有する。【００１７】
上記発明において、機能層（２２，２４）は、例えば、シート（１０）の被膜（１２）側に積層された粘着層や、シート（１０）の被膜（１２）とは反対側に積層されたハードコート層などを含むことができる。【００１８】
発明に係るタッチパネル（５）は、第１の透明導電膜（５２４）が第１の透明基板（５２２）に形成された第１の電極基板（５２）と、第２の透明導電膜（５４４）が第１の透明導電膜（５２４）と所定の間隙を空けて対向するように第２の透明基板（５４２）に形成された第２の電極基板（５４）とを有する。そして、第１の透明基板（５２２）及び第２の透明基板（５４２）のうち何れか一方の可動側電極基板が積層体（２０）を含む。
【発明の効果】
【００１９】
上記発明によれば、フィルム基材に紫外線を照射することにより、そのフィルム基材の少なくとも一部を改質させて被膜を形成する。形成された被膜により、フィルム基材の内部からオリゴマーの析出が防止される。すなわち上記発明によれば、従来手法と比較して、別途の塗料の調合、塗布その他の工程など生産性を悪化させる要因を有することなく、簡易な方法でフィルム表面へのオリゴマーの析出を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は本実施形態に係るシートを示す断面図である。
【図２】図２は図１のシートを有する積層体の一例を示す断面図である。
【図３】図３は図１のシートを有する積層体の他の例を示す断面図である。
【図４】図４は図２の積層体を有するタッチパネルを示す断面図である。
【図５】図５は紫外線照射前のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。
【図６】図６は紫外線照射後（１ｐａｓｓ）のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。
【図７】図７は紫外線照射後（２ｐａｓｓ）のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。
【図８】図８は紫外線照射後（３ｐａｓｓ）のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。
【図９】図９は紫外線照射後（１０ｐａｓｓ）のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。
【図１０】図１０は紫外線照射後（２０ｐａｓｓ）のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。
【図１１】図１１は紫外線照射前のフィルムｂ断面のＳＥＭ画像である。
【図１２】図１２は紫外線照射後（３ｐａｓｓ）のフィルムｂ断面のＳＥＭ画像である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に、上記発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２２】
《シート》
図１に示すように、本実施形態に係るシート１０は、例えば透明ポリエステルフィルムなどのフィルム基材１１を有する。本実施形態では、フィルム基材１１表面の少なくとも一部が改質されており、ここに被膜１２が形成されている。この被膜１２が、本実施形態ではフィルム基材１１の内部からフィルム基材１１表面へのオリゴマーの析出を防止する機能を司る。
【００２３】
本実施形態の被膜１２は、第１に、その表面硬度が適切に調整されている。具体的には、マルテンス硬さ（ＨＭ）が特定の値より大きく、押し込み弾性率（ＥＩＴ）が特定の値より小さく調整されている。
【００２４】
マルテンス硬さ（ＨＭ）は、ビッカース圧子により被膜１２の表面を押し込んだときの試験荷重と押し込み表面積から求められる被膜１２の硬さ（凹み難さ）を表し、被膜１２の表面の硬さの指標となる。本実施形態では、被膜１２のＨＭの値は、フィルム基材の材質によって異なってくるので一概には言えないが、好ましくは２００Ｎ／ｍｍ２  以上、より好ましくは２１０Ｎ／ｍｍ２  以上に調整されている。本発明者らは、被膜１２のＨＭを所定値以上に調整することで、傷付き難くなると共に、フィルム基材１１の内部から外部へのオリゴマーの析出を効果的に防止することができることを見出した。一方で、フィルム基材１１が劣化することによるシート１０の平面性を考慮すると、被膜１２のＨＭは、好ましくは３５０Ｎ／ｍｍ２  以下、より好ましくは３００Ｎ／ｍｍ２  以下に調整されることが望ましい。
【００２５】
なお、本実施形態においてＨＭの値は、温度２０度及び相対湿度６０％の雰囲気下で、超微小硬さ試験装置（フィッシャー・インストルメンツ社、商品名：フィッシャー・スコープ・ＨＭ２０００）により、ＩＳＯ−１４５７７−１に準拠した方法で被膜１２の表面の硬さを測定した値である。ただし、最大試験荷重：１ｍＮで測定した値である。
【００２６】
押し込み弾性率（ＥＩＴ）は、ヤング率に相当し、被膜１２の撓み易さ（柔軟性）を表し、被膜１２の脆さの指標となる。本実施形態では、被膜１２のＥＩＴが、好ましくは４３００ＭＰａ以下、より好ましくは４２００ＭＰａ以下、さらに好ましくは４１００ＭＰａ以下に調整されている。被膜１２のＥＩＴを所定値以下に調整することで、折り曲げてもクラックなどを生じない柔軟性に優れたシート１０とすることができる。一方で、被膜１２のＥＩＴが小さすぎると、上述したＨＭの適正範囲と両立させることが難しくなるとともに、オリゴマーの析出防止性も低下する傾向にある。このため、被膜１２のＥＩＴは、好ましくは３４００ＭＰａ以上、より好ましくは３５００ＭＰａ以上に調整されることが望ましい。
【００２７】
なお、ＥＩＴの値は、上述したＨＭの場合と同じ装置を用い、ＩＳＯ−１４５７７−１に準拠して測定されるヤング率に相当する値であり、被膜１２に対して圧子を押し込んだときの圧痕の戻りやすさ（弾性率）を測定することで算出される、被膜１２そのもののヤング率のことである。ただし、ＨＭと同様に、最大試験荷重：１ｍＮで測定した値である。
【００２８】
本実施形態の被膜１２は、第２に、その厚み（ｔ）が適切に調整されている。具体的には、その厚み（ｔ）は、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．２μｍ以上である。厚みが薄すぎると、オリゴマーの析出防止効果を発揮することができないからである。その一方で厚みが厚すぎると、シート１０の平面性が損なわれることもある。このため、被膜１２の厚みｔは、好ましくは１．５μｍ以下、より好ましくは１．２μｍ以下とする。
【００２９】
シート１０の耐屈曲試験の値（耐クラック性１）は、被膜１２の厚みｔやフィルム基材１１の種類や厚みによって異なってくるが、好ましくは２ｍｍ以下に調整されていることが望ましい。耐屈曲試験の値が所定値以下に調整されることにより、被膜１２の耐クラック性を向上させることができる。なお、耐屈曲試験の値は、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−１（１９９９）に準拠した円筒形マンドレル法で測定した値である。
【００３０】
シート１０の折曲試験による状態（耐クラック性２）は、被膜１２の厚みｔやフィルム基材１１の種類や厚みによって異なるが、シート１０の任意箇所を被膜１２が外側になるよう２つに折り曲げたときに、その折り曲げた箇所にクラックが生じない程度の柔軟性を備えていることが望ましい。
【００３１】
《シートの製造方法》
本実施形態の被膜１２は、フィルム基材１１の表面に電離放射線を所定の露光量で照射し、フィルム基材１１表面の少なくとも一部を改質させることによって形成することができる。以下では、電離放射線として紫外線を用いる場合を例示し、シート１０の製造方法の一例を説明する。
【００３２】
まず、フィルム基材１１の準備する。フィルム基材１１としては、例えば透明ポリエステルフィルムなどが用いられる。フィルム基材１１は、その表面に易接着処理が施されていてもよい。フィルム基材１１の厚みは特に限定されない。
【００３３】
次に、準備したフィルム基材１１に紫外線を照射する。フィルム基材１１として、その表面に易接着処理が施されているものを用いる場合、紫外線照射面はフィルム基材１１の易接着処理面でもよいし、非易接着処理面でもよい。
【００３４】
本発明者らは、フィルム基材１１に紫外線を所定露光量以上で照射することにより、フィルム基材１１の紫外線照射部分の少なくとも一部が表面改質し、その結果、フィルム基材１１の内部から外部へのオリゴマーの析出を防止する被膜１２を、フィルム基材１１とは別被膜として形成することができることを見出した。
【００３５】
なお、本実施形態において「オリゴマー」とは、加熱処理後、結晶化してフィルム基材１１の表面に析出する低分子量物のうちフィルム基材１１を構成するポリマーの三量体成分を主とするものと定義する。「オリゴマーの析出を防止する」とは、フィルム基材１１を１５０℃の温度で１時間、加熱処理した後、フィルム基材１１の被膜１２形成面側を２００倍の顕微鏡で観察した際に１０視野当たり（面積０．５ｍｍ２  ）、円相当径で２μｍφ以上の析出物が５０個未満、好ましくは２０個以下、さらに好ましくは１０個以下であることをいう。
【００３６】
紫外線を照射するには、紫外線ランプを用い、例えば１００〜５００ｎｍ、好ましくは２００〜４５０ｎｍの発光波長域で紫外線を発生させ、これを所定露光量で照射することにより行われる。紫外線ランプとしては、例えば超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、無電極ランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプなどが挙げられる。
本実施形態では、発光波長域が上述した範囲にあり、少なくとも３６０〜３７０ｎｍにピーク出力（ピーク強度）を発生させる紫外線ランプを用いることが望ましい。また、発光波長域が上述した範囲にあり、３６０〜３７０ｎｍに加えて、さらに２５０〜３２０ｎｍにもピーク出力を発生させる紫外線ランプ（例えば高圧水銀灯、無電極ランプなど）を用いることもできる。３６０〜３７０ｎｍに、上述した発光波長域内でのランプ出力（ｗ／１０ｎｍ）が最大となるピーク（最大ピーク）を有することとなるものが望ましいが、２５０〜３２０ｎｍに最大ピークを有するものであってもよい。３６０〜３７０ｎｍや２５０〜３２０ｎｍには存在すべきピークは１つに限らず、２つ以上の場合も含まれる。こうした特定の波長域にピーク（最大ピークを含む）を持つ光線を用いることにより、形成される被膜１２に対して付与されるオリゴマーの析出防止効果が一層向上する。
【００３７】
紫外線の積算照射量は、露光量で、例えば１５００ｍＪ／ｃｍ２  以上、好ましくは２０００ｍＪ／ｃｍ２  以上、より好ましくは２５００ｍＪ／ｃｍ２  以上である。ただし、照射露光量があまりに大きいとフィルム基材１１が劣化しシート１０の平面性が損なわれるおそれがあるため、好ましくは３００００ｍＪ／ｃｍ２  以下、より好ましくは２５０００ｍＪ／ｃｍ２  以下の露光量で照射することができる。一度にこの量で照射する必要はなく、小さな露光量を数度に分けて照射することもできる。所定露光量を数回に分けて照射することにより、大きな露光量を一度に照射する場合と比較して、積算照射量が同じでも、フィルム基材１１が受けるダメージを低減することができる。
【００３８】
なお、本実施形態では紫外線の照射は、フィルム基材１１の一方の面にのみ行ってもよいし、あるいは両面に行ってもよい。紫外線をフィルム基材１１の両面に照射する場合、各面ごとに照射露光量を変えてもよい。
【００３９】
本実施形態では、フィルム基材１１に紫外線を所定露光量以上で照射する。これにより、フィルム基材１１の紫外線照射部分の少なくとも一部が改質され、ここに被膜１２が形成される。形成された被膜１２は、上述したように、適切な表面硬度と厚みを有するので、フィルム基材１１の内部からフィルム基材１１表面へのオリゴマーの析出が効果的に防止される。従って、本実施形態によれば、別途の塗料の調合、塗布その他の工程など生産性を悪化させる要因を含む従来手法と比較して、簡易な方法でフィルム基材１１表面へのオリゴマーの析出を防止することができる。
【００４０】
また、形成される被膜１２は、その表面硬度と厚みｔが適切に調整されているので、本実施形態のシート１０を光学用途のベースフィルムに使用する場合に必要な耐クラック性、耐ブロッキング性、耐溶剤性、ぬれ性改良などの諸性能をも充足することができる。
【００４１】
《積層体》
図２及び図３に示す積層体２０は、何れも、上述した図１に示すシート１０を有する。以下の説明では、シート１０として、フィルム基材１１の一方の面に被膜１２を有する場合を例示する。
【００４２】
図２に示すように、本実施形態の第１の観点では、シート１０の被膜１２とは反対面に各種機能が付与される第１機能層２２が積層してある。第１機能層２２としては、例えばハードコート層、反射防止層などの単層膜又は多層膜が挙げられる。
【００４３】
図３に示すように、本実施形態の第２の観点では、シート１０の被膜１２の面に上述した粘着層や透明導電層などの第２機能層２４が形成してある。この場合、シート１０の被膜１２とは反対面に、さらに図２に示す第１機能層２２が積層してあってもよい。
【００４４】
《ハードコート層》
ハードコート層は、積層体２０の表面硬度を高くし、表面に傷が発生することを防止するために設けられる。従って、第１機能層２２としてハードコート層を用いる場合の当該ハードコート層の表面硬度は、好ましくはＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上、さらに好ましくは３Ｈ以上である。表面硬度の値は、ＪＩＳ−Ｋ５４００（１９９０）に準拠した方法で測定した鉛筆引っかき値（鉛筆硬度）で示される。
【００４５】
ハードコート層は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの樹脂で構成される。特に、電離放射線硬化性樹脂で構成した場合には、表面硬度等に代表されるハードコート性を発揮できるため好ましい。
【００４６】
熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂としては、例えばポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアタリレート系樹脂、ポリウレタンアタリレート系樹脂、エポキシアタリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。
【００４７】
電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線（紫外線または電子線）の照射によって架橋硬化する光重合性プレポリマーを用いることができる。この実施形態では、後述の光重合性プレポリマーを単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。
【００４８】
光重合性プレポリマーには、カチオン重合型とラジカル重合型とがある。
【００４９】
カチオン重合型光重合性プレポリマーとしては、エポキシ系樹脂やビニルエーテル系樹脂などが挙げられる。エポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００５０】
ラジカル重合型光重合性プレポリマーとしては、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有し、架橋硬化することにより３次元網目構造となるアクリル系プレポリマー（硬質プレポリマー）が、ハードコート性の観点から特に好ましく使用される。
【００５１】
アクリル系プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、ポリフルオロアルキルアクリレート、シリコーンアクリレート等が挙げられる。
【００５２】
ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えばポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、又は、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラックエポキシ樹脂のオキシラン環と、（メタ）アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。アクリル系プレポリマーは単独でも使用可能であるが、架橋硬化性の向上や、硬化収縮の調整等、種々の性能を付与するために、光重合性モノマーを加えることが好ましい。
【００５３】
光重合性モノマーとしては、単官能アクリルモノマー（例えば２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート等）、２官能アクリルモノマー（例えば１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等）、３官能以上のアクリルモノマー（例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等）が挙げられる。なお、「アクリレート」には、文字通りのアクリレートの他、メタクリレートも含む。これらの光重合性モノマーは単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。
【００５４】
ハードコート層を形成する際に、紫外線照射によって硬化させて使用する場合には、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの他に、光重合開始剤、光重合促進剤、紫外線増感剤等の添加剤を配合することが好ましい。
【００５５】
光重合開始剤としては、ラジカル重合型光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等が挙げられる。カチオン重合型光重合性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。光重合促進剤としては、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどが挙げられる。紫外線増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンなどが挙げられる。
【００５６】
これら添加剤の配合量は、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの合計１００重量部に対して、通常０．２〜１０重量部の範囲で選ばれる。
【００５７】
この実施形態のハードコート層には、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、必要に応じて、添加成分を適宜配合してもよい。添加成分としては、例えば、表面調整剤、滑剤、着色剤、顔料、染料、蛍光増白剤、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、可塑剤、レベリング剤、流動調整剤、消泡剤、分散剤、貯蔵安定剤、架橋剤、シランカップリング剤等が挙げられる。
【００５８】
ハードコート層は、その厚みが、０．１〜３０μｍ程度であることが好ましい。より好ましくは０．５〜１５μｍ、さらに好ましくは２〜１０μｍとする。厚みを０．１μｍ以上とすることで、ハードコート層側にも十分な表面硬度（ハードコート性）を発揮させることができる。
【００５９】
《反射防止層》
反射防止層は、ハードコート層の表面に設けられ、ハードコート層の表面部分での映り込みを減少させ、積層体２０全体の全光線透過率を向上させるために設けられる。表面部分での映り込みを防止するためにハードコート層の屈折率を小さく設計することも考えられる。ところが、屈折率が小さくなるようにハードコート層を設計すると、ハードコート層のハードコート性が低下することがあるので、ハードコート層の表面に、ハードコート層の屈折率より低い屈折率を持つ反射防止層を薄い厚みで形成することが好ましい。
【００６０】
反射防止層は、ハードコート層よりも屈折率の低い材料で構成されればよく、例えばケイ素系樹脂、フッ素系樹脂、金属酸化物ゾルや、これらに金属酸化物微粒子、好ましくは多孔状または中空状の金属酸化物微粒子を加えたものが挙げられる。またハードコート層の説明欄で列挙した樹脂に前記金属酸化物微粒子を加えたものも使用可能である。
【００６１】
金属酸化物ゾルとしては、シリカ、アルミナゾルなどが挙げられる。これら金属酸化物ゾルの中でも、屈折率、流動性、コストの観点から、シリカゾルが好適に使用される。なお、金属酸化物ゾルとは、金属酸化物の存在によってチンダル現象を観測できない材料をいい、いわゆる均一溶液のことをいう。例えば、一般にコロイダルシリカゾルと言われる材料であっても、チンダル現象が観測されるものであれば、この実施形態では金属酸化物ゾルに含まれないものとする。
【００６２】
このような金属酸化物ゾルは、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジルコニアプロポキシド、アルミニウムイソプロポキシド、チタンブトキシド、チタンイソプロポキシドなどの金属アルコキシドを加水分解して調整することができる。金属酸化物ゾルの溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、アセトン、１，４一ジオキサンなどが挙げられる。
【００６３】
金属酸化物微粒子は、上述した金属酸化物を微粉末化したものであり、シリカ微粒子、アルミナ微粒子などが挙げられる。これらの中でも屈折率、流動性、コストの観点から、シリカ微粒子が好適に使用される。また、金属酸化物微粒子の形状は特に制限されることはないが、屈折率の低い多孔状又は中空状の金属酸化物微粒子が好適に使用される。
【００６４】
このような金属酸化物微粒子としては、これを分散液とした際にチンダル現象が観測されるような一定の粒子径を有するものを使用する。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、前記条件を満たす限り特に制限されることはないが、４０〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。平均粒子径が４０ｎｍ以上の微粒子を用いることにより、反射防止層の表面に浮上する金属酸化物粒子がなくなり、表面硬度の低下を防止することができ、１００ｎｍ以下の微粒子を用いることで、反射防止層から金属酸化物微粒子がはみ出すことがなくなり、表面硬度の低下を防止することができる。また、透明性を良好なものとするために、金属酸化物微粒子の平均粒子径は、さらに好ましくは４０〜７０ｎｍの範囲とする。
【００６５】
金属酸化物ゾルと金属酸化物微粒子の混合割合は、特に限定されるものではないが、金属酸化物ゾル中の金属酸化物成分１００重量部に対し、金属酸化物微粒子が、好ましくは５重量部以上、より好ましくは２０重量部以上であり、好ましくは２００重量部以下、より好ましくは１００重量部以下である。
【００６６】
反射防止層の厚みは、光の反射防止理論より次式を満たすことが好ましい。
［数１］  ｄ＝（ａ十１）λ／４ｎ
ここで、ｄは反射防止層の厚み（単位は「ｎｍ」）、ａは０又は正の偶数、λは反射を防止しようとする光の中心波長、ｎは反射防止層の屈折率である。具体的には、例えば２μｍ程度以下が好ましく、より好ましくは１μｍ以下、さらに好ましくは０．８μｍ以下、特に好ましくは０．５μｍ以下、最も好ましくは０．３μｍ以下である。反射防止層の厚みが厚くなると、厚みムラに起因する干渉ムラが発生し難くなる反面、下面に設けられるハードコート層のハードコート性が発揮され難くなる。
【００６７】
上述したハードコート層、反射防止層の形成方法としては、各々の構成成分や必要に応じて他の成分を配合して、さらに適当な溶媒に溶解又は分散させて塗布液を調製し、当該塗布液をロールコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、エアナイフコーティング法、ダイコーティング法、ブレードコーティング法、スピンコーティング法、グラビアコーティング法、フローコーティング法、スクリーン印刷法などの公知の方法によりシート１０に順次塗布して乾燥させ、必要であれば適宜必要な硬化方法で硬化させることにより形成することができる。
【００６８】
《粘着層》
粘着層としては、例えば、天然ゴム系、再生ゴム系、クロロプレンゴム系、ニトリルゴム系、スチレン・ブタジエン系などのエラストマー粘着剤、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ウレタン系、シアノアクリレート系などの合成樹脂粘着剤のほか、エマルジョン系粘着剤などの公知の粘着剤で構成することができる。粘着層は、粘着性を発揮させるために厚み５μｍ以上にするのが一般的である。このような粘着層は、粘着性成分、および必要に応じて加えた架橋剤や他の添加剤を溶剤に溶解または分散して粘着層用塗布液を調製し、上述した反射防止層と同様の従来公知のコーティング方法により、シート１０の被膜１２上に塗布、乾燥することにより作製することができる。また、上記粘着層用塗布液をセパレーター等に塗布、乾燥した後、シート１０の被膜１２上にラミネートすることにより作製することもできる。
【００６９】
上述した第１機能層２２には、紫外線吸収性能をもたせることも可能である。特に３５０〜３８０ｎｍの範囲の光線透過率を０．１％〜７０％程度とした場合、ハードコート性を保持しながら、耐候性を付与することができる。ハードコート層に電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、電離放射線硬化性樹脂が硬化する紫外線領域と吸収する紫外線領域を調整することにより、ハードコート層の硬化に影響を与えることなく、紫外線吸収性の付与できる。例えば、紫外線吸収剤の吸収波長域のピークと２０ｎｍ以上異なる位置に吸収波長域のピークを有する光重合開始剤を用いることが好ましい。このようにすることによりハードコート層を十分に硬化させることができ、優れたハードコート性を付与することができる。
【００７０】
《透明導電層》
透明導電層としては、例えば一般的に広く知られた透明導電性材料や有機導電性材料などで構成することができる。透明導電性材料としては、例えば、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫、金、銀、パラジウムなどの透明導電性物質が挙げられる。有機導電性材料としては、例えばポリパラフェニレン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリピロール、ポリフラン、ポリセレノフェン、ポリピリジン等の導電性高分子が挙げられる。中でも、透明性と導電性に優れ、比較的低コストに得られる酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫のいずれかを主成分とした透明導電性材料で構成されていることが好ましい。
【００７１】
透明導電層は、上述した導電性材料を用いて、ドライプロセス（例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法など）やウェットプロセス（例えば溶液塗布法など）により、薄膜状態で形成することができる。
【００７２】
透明導電層の厚みは、適用する材料によっても異なるため一概には言えないが、表面抵抗率で１０００Ω以下、好ましくは５００Ω以下になるような厚みとする。例えば、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。経済性を考慮すると、８０ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下の範囲が好適である。このような薄膜においては透明導電層の厚みムラに起因する可視光の干渉縞は発生しにくい。また、全光線透過率は通常８０％以上であることが好ましく、８５％以上がさらに好ましく、８８％以上が特に好ましい。
【００７３】
本実施形態では特に、シート１０の被膜１２とは反対面側に、透明ハードコート層と反射防止層が順次積層された第１機能層２２が形成してあり、被膜１２の表面側に、透明導電層で構成される第２機能層２４が形成してある構造の積層体２０は、帯電防止フィルムや赤外線遮蔽フィルム、反射防止フィルム、電磁波シールドフィルム、タッチパネルなどの電極基板として使用することができる。
【００７４】
以下の説明では、シート１０の被膜１２とは反対面側に透明ハードコート層と反射防止層が順次積層された第１機能層２２が形成してあり、被膜１２の表面側に透明導電層で構成される第２機能層２４が形成してある積層体２０を、タッチパネルに使用する場合を例示する。
【００７５】
《タッチパネル》
図４に示すタッチパネル５は、各種電子機器（例えば携帯電話やカーナビ等）に設けられる液晶等の表示素子９の前面に装着される抵抗膜方式のタッチパネルである。このタッチパネル５を通して背面の表示素子９に表示された文字や記号、絵柄等の視認や選択を行い、指や専用ペン等で押圧操作することによって、機器の各機能の切換えを行うことができる。
【００７６】
この実施形態のタッチパネル５は、上電極基板（第１の電極基板）５２と、下電極基板（第２の電極基板）５４とを有する。上電極基板５２は、上透明基板（第１の透明基板）５２２を有する。上透明基板５２２の下面には、上透明導電膜（第１の透明導電膜）５２４が形成されている。下電極基板（第２の電極基板）５４は、下透明基板（第２の透明基板）５４２を有する。下透明基板５４２の上面には、下透明導電膜（第２の透明導電膜）５４４が形成されている。
【００７７】
タッチパネル５は、上電極基板５２側と下電極基板５４側の何れかが可動電極であってもよいが、この実施形態では、上電極基板５２を可動電極とし、下電極基板５４を固定（非可動）電極とする場合を例示する。
【００７８】
この実施形態では、上電極基板５２の下面と下電極基板５４の上面のそれぞれの外周部分は、略額縁状のスペーサ５６を介して貼り合わされている。また、上電極基板５２の上透明導電膜５２４と、下電極基板５４の下透明導電膜５４４とが、所定の間隙を空けて対向するように配置されている。下透明導電膜５４４の上面には、必要に応じてドット状のスペーサ５８が所定間隔で複数配置される。なお、スペーサ５８は必要に応じて配置すれば良く、スペーサ５８を配置しない構成にすることも可能である。
【００７９】
上下透明導電膜５２４，５４４の両端には、それぞれ一対の電極（図示省略）が形成されている。この実施形態では、上透明導電膜５２４に形成される一対の上電極（図示省略）と、下透明導電膜５４４に形成される一対の下電極（図示省略）とは、互いに交差する方向に配置されている。
【００８０】
なお、この実施形態では、下電極基板５４の下面には、接着層７を介してセパレータ（図示省略）が貼付してあってもよい。
【００８１】
この実施形態のタッチパネル５を、例えばカラー液晶等の表示素子９の前面に搭載するには、まずこの実施形態のタッチパネル５のセパレータ（図示省略）を剥がして接着層７を露出させ、表示素子９の前面に対向するように接触させる。これにより、タッチパネル付きカラー液晶表示素子を形成することができる。
【００８２】
このタッチパネル付き液晶表示素子では、ユーザがタッチパネル５の背面に配置される表示素子９の表示を視認しながら、指やペン等で上電極基板５２の上面を押圧操作すると、上電極基板５２が撓み、押圧された箇所の上透明導電膜５２４が下透明導電膜５４４に接触する。この接触を上述した一対の上下電極を介して電気的に検出することにより、押圧された位置が検出される。
【００８３】
この実施形態では、可動電極としての上電極基板５２を、上述した積層体２０（＝下から上へ向けて順次、第２機能層２４（透明導電層）、被膜１２、フィルム基材１１、第１機能層２２（透明ハードコート層及び反射防止層）が積層してある構造）で構成してある。積層体２０の第２機能層２４（透明導電層）が上透明導電膜５２４に相当する。
【００８４】
この実施形態では、固定電極としての下電極基板５４の下透明基板５４２は、例えばガラスなどで構成される。
【００８５】
なお、この実施形態では、可動電極に加えて、固定電極（下電極基板５４）にも、上述した積層体２０を用いることもできる。これにより、より軽く、より薄型で、割れにくいタッチパネルとすることができる。
【００８６】
以上説明した実施形態は、上記発明の理解を容易にするために記載されたものであって、上記発明を限定するために記載されたものではない。従って、上記の実施形態に開示された各要素は、上記発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【実施例】
【００８７】
次に、上記発明の実施形態をより具体化した実施例を挙げ、さらに詳細に説明する。【００８８】
《実験例１〜６》
まず、フィルム基材１１として、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（Ｕ３４、東レ社製、易接着層あり。以下「フィルムａ」とする）を準備する。【００８９】
次に、準備したフィルムａを２ｍ／分の速度で送り出すとともに、この送り出されているフィルムａの易接着層面に対し、高圧水銀灯を用いて１２０Ｗ／ｃｍ２  の出力で発生させた紫外線（発光波長域：２５０〜４００ｎｍ、ピーク波長：３６０〜３７０ｎｍ（最大）、２５０〜２６０ｎｍ、３００〜３２０ｎｍ）を約６秒、照射した（照射露光量＝約９６０ｍＪ／ｃｍ２  ）。この照射サイクルを「１ｐａｓｓ」とし、表１に示すｐａｓｓ数の紫外線の照射を行い、フィルム試料を得た。【００９０】
得られたフィルム試料の断面をＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、走査型電子顕微鏡）を用いて観察した。紫外線照射前（０ｐａｓｓ）、１ｐａｓｓ後、２ｐａｓｓ後、３ｐａｓｓ後、１０ｐａｓｓ後、２０ｐａｓｓ後のＳＥＭ画像を図５〜１０に示す。図６〜１０に示すように、紫外線を照射した場合には、フィルムａの紫外線照射面に被膜が形成されていることが確認できた。なお、図５に示すように、紫外線を照射する前では、当然にフィルムａに被膜が形成されていない。【００９１】
《実験例７〜１２》
フィルム基材１１として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（Ｔ−６０、東レ社製、易接着層なし。以下「フィルムｂ」とする）を用いた以外は、実験例１〜６と同様の条件で紫外線照射を行い、フィルム試料を得た。【００９２】
得られたフィルム試料の断面をＳＥＭを用いて観察した。紫外線照射前（０ｐａｓｓ）、３ｐａｓｓ後のＳＥＭ画像を図１１及び図１２に示す。図１２に示すように、紫外線を照射した場合には、フィルムｂの紫外線照射面に被膜が形成されていることが確認できた。なお、図１１に示すように、紫外線を照射する前では、当然にフィルムｂに被膜が形成されていない。【００９３】
《実験例１３〜１８》
フィルム基材１１として、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（Ａ４３００、東洋紡績社製、易接着層あり。以下「フィルムｃ」とする）を用いた以外は、実験例１〜６と同様の条件で紫外線照射を行い、フィルム試料を得た。【００９４】
《特性の評価》
上記実験例１〜１８により得られたフィルム試料について、下記特性を評価した。結果を表１に示す。【００９５】
（１）マルテンス硬さ（ＨＭ）及び押し込み弾性率（ＥＩＴ）
いずれも超微小硬さ試験装置（フィッシャー・インストルメンツ社、商品名：フィッシャー・スコープ・ＨＭ２０００）を用い、ＩＳＯ−１４５７７−１に準拠した方法により後述の測定条件で、得られたフィルム試料に形成された被膜の表面（紫外線照射をしていない試料の場合はフィルム面）の硬さやヤング率を測定した。ＨＭ及びＥＩＴの何れも測定条件を、圧子形状：ビッカース圧子（ａ＝１３６°）、測定環境：温度２０℃・相対湿度６０％、最大試験荷重：１ｍＮ、荷重速度：１ｍＮ／２０秒、最大荷重クリープ時間：５秒、除荷速度：１ｍＮ／２０秒、とした。【００９６】
（２）耐熱性（オリゴマー析出防止性、顕微鏡）
まず、得られたフィルム試料の紫外線照射面とは反対面に、厚さ６μｍの紫外線硬化型アクリル系ハードコート層を形成した。次に、ハードコート層を形成したフィルム試料を１５０℃のオーブンに投入し、１時間後に取り出した。次に、取り出したフィルム試料の紫外線照射面（紫外線照射をしていない試料の場合はフィルム面）を顕微鏡（２００倍）で観察し、１０視野当たり（面積０．５ｍｍ２  ）に、円相当径で２μｍφ以上の析出物が１０個以下であった（オリゴマーの析出が全く認められなかった）ものを「○」、上記析出物が２０個を超え５０個未満であった（オリゴマーの析出がやや認められたが問題なしと考えられる）ものを「△」、上記析出物が５０個を超えた（オリゴマーの析出が認められた）ものを「×」として評価した。【００９７】
（３）耐熱性（オリゴマー析出防止性、ヘーズ）
まず、上記（２）と同様に、得られたフィルム試料にハードコート層を形成した。次に、ハードコート層を形成したフィルム試料に対し、ヘーズメーター（ＮＤＨ２０００、日本電色社）を用いてヘーズ値「％」（ＪＩＳ−Ｋ７１３６：２０００）を測定した。その後、ヘーズ値測定後のフィルム試料を上記（２）と同様に１５０℃のオーブンに投入して１時間後に取り出した。次に、取り出したフィルム試料に対して上記同様にヘーズ値を測定した。【００９８】
（４）耐クラック性
（４−１）マンドレル
ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−１（１９９９）に準拠した耐屈曲性（円筒形マンドレル法）に基づき、直径が２ｍｍの鉄棒に、フィルム試料を被膜が外側になるように巻き付け、その巻き付けた部分の被膜にクラックを生じるか否かを目視で観察する。その結果、クラックが確認できなかったものを「○」、クラックを確認できたものを「×」として評価した。
（４−２）折り曲げ
フィルム試料を被膜が外側になるように２つに折り曲げ、その折り曲げた部分の被膜にクラックを生じるか否かを目視で観察する。その結果、クラックが確認できなかったものを「○」、クラックを確認できたものを「×」として評価した。【００９９】
（５）耐ブロッキング性
まず、上記（２）と同様に、フィルム試料にハードコート層を形成した。次に、ハードコート層を形成したフィルム試料のハードコート層面に、別途用意したフィルム試料の紫外線照射面を重ね合わせた。次に、両フィルム試料をガラス板で挟み込み、約２ｋｇの重りを載せて５０℃の雰囲気下に２４時間放置した。次に、重ね合わせ面を目視により観察しニュートンリングの発生状況を確認した後、両者を剥離した。その結果、剥離前はニュートンリングが発生しておらず、剥離時には剥離音を立てずに軽く剥離されるものを「○」、剥離前は一部ニュートンリングが発生しており、剥離時には小さな剥離音を立てながら剥離されるものを「△」、剥離前は全面にニュートンリングが発生しており、剥離時には大きな剥離音を立てて剥離されるものを「×」として評価した。【０１００】
（６）屈折率の測定
フィルム試料の紫外線照射面に対し、自動波長走査型エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光社製）を用い、２５℃における６３３ｎｍでの屈折率を測定した。【０１０１】
（７）耐溶剤性
まず、上記（２）と同様に、フィルム試料にハードコート層を形成した。次に、ハードコート層を形成したフィルム試料の紫外線照射面を、メチルエチルケトンをしみ込ませた綿布で往復３０回擦った。次に、上記（２）と同様にフィルム試料の紫外線照射面を顕微鏡で観察し、オリゴマーの析出が、上記（２）の評価と同程度であったものを「○」、上記（２）の評価よりも悪くなったものを「×」として評価した。なお、各フィルム基材の０ｐａｓｓ、１ｐａｓｓについては、後述するように、上記（２）の評価が「×」であったため、ここでは評価しなかった。
（８）耐熱耐湿性（オリゴマー析出防止性、顕微鏡）
まず、実験例１３〜１８で得られたフィルム試料に、上記（２）と同様にしてハードコート層を形成した。
次に、ポリエステルフィルムの一方の面にハードコート層、もう一方の面にアンチブロッキング層を有するハードコートフィルム（ＫＢフィルムＧＳＡＢ：きもと社）のアンチブロッキング層上に、乾燥厚み約２０μｍとなるようにアクリル系粘着剤層を設けた。次いで、当該粘着剤層とハードコート層を形成した実験例１３〜１８のフィルム試料の被膜面とを貼り合わせ、１５０℃の環境に２時間放置した後、６０℃、９５％ＲＨの環境（恒温恒湿器）に２４０時間放置し、取り出した。そして、ハードコートフィルム側から、上記（２）と同様にして顕微鏡で観察し同様の評価を行った。【０１０２】
【表１】
2010061851.tif 000003
【０１０３】
表１に示すように、易接着層の有無にかかわらず何れのフィルム基材を用いた場合でも、少なくとも１ｐａｓｓの紫外線照射を行うことで（実験例２〜６，８〜１２，１４〜１８，図６〜１０及び図１２）、紫外線照射を行わない場合（実験例１，７，１３，図５及び図１１）と比較して、フィルム基材の表面の一部が改質され、ここに被膜が形成されることが確認できた。フィルム基材の表面の一部が改質されて形成された被膜は、紫外線を２ｐａｓｓ以上照射した場合（紫外線の積算露光量が１５００ｍＪ／ｃｍ２  以上）、高温環境においてもオリゴマーの析出を防止するなど、種々の特性向上が見られることが確認できた。
なお、被膜の上層に、粘着層を有する場合でも、紫外線を２ｐａｓｓ以上照射した場合には、高温高湿環境においてもオリゴマーの析出を防止する効果が確認された。【０１０４】
なお、フィルム基材１１として、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（Ａ４３５０、東洋紡社製、易接着層あり）、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（Ｏ３００Ｅ、三菱化学ポリエステルフィルム社製、易接着層あり）、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（ＯＦＷ、帝人社製、易接着層あり）についても、上述した実験例１〜１８と同様に紫外線照射を行い、同様の評価を行ったところ、同様の傾向があることが確認できた。
また、紫外線照射源として、高圧水銀灯に代え、無電極ランプＡ〜Ｄを用い、上述した実験例１〜１８と同条件で紫外線照射を行い、同様の評価を行ったところ、高圧水銀灯を用いた場合と同様の傾向があることが確認できた。
各ランプを用いて発生させた紫外線は以下のとおりであった。ランプＡ（発光波長域：２２０〜４４０ｎｍ、ピーク波長：３６０〜３７０ｎｍ（最大）、２５０〜２７０ｎｍ、３１０〜３２０ｎｍ）、ランプＢ（発光波長域：２００〜４４０ｎｍ、ピーク波長：３６０〜３７０ｎｍ（最大）、２５０〜２６０ｎｍ、３１０〜３２０ｎｍ）、ランプＣ（発光波長域：２５０〜４５０ｎｍ、ピーク波長：３５０〜３９０ｎｍ（最大）、３９０〜４５０ｎｍ）、ランプＤ（発光波長域：２５０〜４５０ｎｍ、ピーク波長：３６０〜３７０ｎｍ（最大）、４００〜４１０ｎｍ（最大））。【０１０５】
《実験例１９》
まず、実験例４（紫外線３ｐａｓｓ照射）で得られたフィルム試料の紫外線照射面とは反対面に、厚さ６μｍの紫外線硬化型アクリル系ハードコート層を形成した。次に、ハードコート層の上に、波長５５０ｎｍの付近で最小反射率となるように厚さ約０．１μｍの反射防止層（屈折率：１．３６）を形成した。次に、フィルム試料の紫外線照射面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成した。【０１０６】
このようにして得られた第１積層体試料で、図４に示す上電極基板５２を構成した。【０１０７】
次に、図４に示す下電極基板５４としての第２積層体試料を、厚み１ｍｍ強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成した後、これを４型の大きさ（縦８７．３ｍｍ×横６４．０ｍｍの長方形）に切り取ることにより作製した。【０１０８】
次に、第２積層体試料のＩＴＯ膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化性樹脂（ＤｏｔＣｕｒｅＴＲ５９０３：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサ５８を１ｍｍの間隔で配列させた。【０１０９】
次に、両試料のＩＴＯ膜が所定のギャップを隔てて対向するように、第１積層体試料と、スペーサ５８を配列させた第２積層体試料とを配置し、厚み３０μｍ、幅３ｍｍ両面接着テープで縁を接着し、図４に示すタッチパネル５に相当するタッチパネル試料を作製した。なお、この実験例では、両試料の接着部分がタッチパネル試料の表示面の領域外となるようにした。【０１１０】
作製したタッチパネル試料では、干渉ムラが目立たず、その結果、良好に操作をすることができることが確認できた。
【符号の説明】
【０１１１】
１０…シート、１１…フィルム基材、１２…被膜、２０…積層体、２２…第１機能層（機能層）、２４…第２機能層（機能層）、５…タッチパネル、５２…上電極基板（第１の電極基板）、５２２…上透明基板（第１の透明基板）、５２４…上透明導電膜（第１の透明導電膜）、５４…下電極基板（第２の電極基板）、５４２…下透明基板（第２の透明基板）、５４４…下透明導電膜（第２の透明導電膜）、５６，５８…スペーサ、７…接着層、９…表示素子。
【図１】
2010061851.tif 000004
【図２】
2010061851.tif 000005
【図３】
2010061851.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2010061851.tif 000012
【図１０】
2010061851.tif 000013
【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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