(57)【要約】  この圧電振動子は、互いに接合され、間にキャビティが形成されたベース基板及びリッド基板と平行に延在した一対の振動腕部を有し、前記キャビティ内で前記ベース基板上にマウントされた圧電振動片と前記キャビティ内に配置されるように前記ベース基板上又は前記リッド基板上に形成され、加熱されることでキャビティ内の真空度を向上させる金属膜のゲッター材とを備える。前記ベース基板又は前記リッド基板には、前記キャビティ内に配置されると共に、加熱によって蒸発する前記ゲッター材の飛散方向を規制して前記振動腕部に向かって飛散する飛散量を抑制する規制部が形成されている。
2010023727.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに接合され、間にキャビティが形成されたベース基板及びリッド基板と平行に延在した一対の振動腕部を有し、キャビティ内でベース基板上にマウントされた圧電振動片と加熱されることで前記キャビティ内の真空度を向上させる金属膜のゲッター材とを備えた圧電振動子を製造する方法であって、
前記ゲッター材を、前記キャビティ内に配置されるように前記ベース基板上又は前記リッド基板上に形成するゲッター材形成工程と
加熱によって蒸発する前記ゲッター材の飛散方向を規制して前記振動腕部に向かって飛散する飛散量を抑制する規制部を、前記キャビティ内に配置されるように前記ベース基板又は前記リッド基板に形成する規制部形成工程と
前記ゲッター材形成工程及び前記規制部形成工程が終了した後、前記圧電振動片を前記ベース基板上にマウントし、その後、圧電振動片、前記ゲッター材及び前記規制部を前記キャビティ内にそれぞれ収容するように前記ベース基板と前記リッド基板とを互いに接合する接合工程とを備えることを特徴とする圧電振動子の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の圧電振動子の製造方法であって、
前記規制部形成工程の際、前記規制部を、前記ベース基板と前記リッド基板とのうち一方の基板から他方の基板に向かって突出し、且つ、前記キャビティの側壁から離間した状態で前記振動腕部に沿って延在するように、一方の基板側に壁状に形成し
前記ゲッター材形成工程の際、前記ゲッター材を、前記規制部よりも短い長さで規制部と前記側壁との間に配置されるように、前記一方の基板に形成する。
【請求項３】
請求項１に記載の圧電振動子の製造方法であって、
前記規制部形成工程の際、前記規制部を、前記ベース基板と前記リッド基板とのうち一方の基板から他方の基板に向かって突出し、且つ、前記振動腕部に沿って延在するように、一方の基板側に形成し
前記ゲッター材形成工程の際、前記ゲッター材を、互いに対向する前記規制部と前記他方の基板との隙間に収容するように、規制部上又は他方の基板上に形成する。
【請求項４】
互いに接合され、間にキャビティが形成されたベース基板及びリッド基板と
平行に延在した一対の振動腕部を有し、前記キャビティ内で前記ベース基板上にマウントされた圧電振動片と
前記キャビティ内に配置されるように前記ベース基板上又は前記リッド基板上に形成され、加熱されることでキャビティ内の真空度を向上させる金属膜のゲッター材とを備え、
前記ベース基板又は前記リッド基板には、前記キャビティ内に配置されると共に、加熱によって蒸発する前記ゲッター材の飛散方向を規制して前記振動腕部に向かって飛散する飛散量を抑制する規制部が形成されていることを特徴とする圧電振動子。
【請求項５】
請求項４に記載の圧電振動子であって、
前記規制部は、前記ベース基板と前記リッド基板とのうち一方の基板から他方の基板に向かって突出し、且つ、前記キャビティの側壁から離間した状態で前記振動腕部に沿って延在するように、一方の基板側に壁状に形成され
前記ゲッター材は、前記規制部よりも短い長さで規制部と前記側壁との間に配置されるように、前記一方の基板側に形成されている。
【請求項６】
請求項４に記載の圧電振動子であって、
前記規制部は、前記ベース基板と前記リッド基板とのうち一方の基板から他方の基板に向かって突出し、且つ、前記振動腕部に沿って延在するように、一方の基板側に形成され
前記ゲッター材は、互いに対向する前記規制部と前記他方の基板との隙間に収容された状態で、規制部上又は他方の基板上に形成されている。
【請求項７】
請求項４から６のいずれか１項に記載の圧電振動子が、発振子として集積回路に電気的に接続されていることを特徴とする発振器。
【請求項８】
請求項４から６のいずれか１項に記載の圧電振動子が、計時部に電気的に接続されていることを特徴とする電子機器。
【請求項９】
請求項４から６のいずれか１項に記載の圧電振動子が、フィルタ部に電気的に接続されていることを特徴とする電波時計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、接合された２枚の基板の間に形成されたキャビティ内に圧電振動片が封止された表面実装型（ＳＭＤ）の圧電振動子と、この圧電振動子を製造する圧電振動子の製造方法と、圧電振動子を有する発振器、電子機器及び電波時計とに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話や携帯情報端末機器には、時刻源や制御信号等のタイミング源、リファレンス信号源等として水晶等を利用した圧電振動子が用いられている。この種の圧電振動子は、様々なものが知られているが、その１つとして、表面実装型の圧電振動子が知られている。この種の圧電振動子としては、一般的に圧電振動片が形成された圧電基板を、ベース基板とリッド基板とで上下から挟み込むように接合した３層構造タイプのものが知られている。この場合、圧電振動片は、ベース基板とリッド基板との間に形成されたキャビティ（密閉室）内に収容されている。【０００３】
また、近年では、このような３層構造タイプのものではなく、２層構造タイプのものも開発されている。このタイプの圧電振動子は、ベース基板とリッド基板とが直接接合されることで２層構造となっており、両基板の間に形成されたキャビティ内に圧電振動片が収容されている。この２層構造タイプの圧電振動子は、３層構造のものに比べて薄型化を図ることができる等の点において優れており、好適に使用されている。【０００４】
ところで、圧電振動子を製造するにあたって、キャビティ内の真空度を高めて、直列共振抵抗値（Ｒ１）を所定の範囲内に追い込む工程を行う必要がある。キャビティ内の真空度は、圧電振動片の周波数（共振周波数）に影響を与えてしまう一要因であるので、この工程は非常に重要な工程の１つである。
通常、この工程は微調工程（圧電振動片が最終的に公称周波数の範囲内で振動するように周波数を微細に調整する工程）の前に行うものであり、微調工程を行う時点で、直列共振抵抗値（Ｒ１）を既に適正な所定範囲内に収めておく必要がある。【０００５】
ここで、直列共振抵抗値（Ｒ１）を調整する方法として、キャビティ内に設けられたアルミニウム等の金属膜であるゲッター材を利用する方法が知られている（例えば、特許文献１参照)。
この方法は、まずゲッター材をレーザ等で加熱して蒸発させ活性化させる。すると、活性化したゲッター材が、蒸発しながらキャビティ内の主に酸素からなるガスを化学反応により吸収する。その結果、キャビティ内の真空度を高めることができ、直列共振抵抗値（Ｒ１）を調整することができる。なお、ゲッター材を利用して、直列共振抵抗値（Ｒ１）を調整する方法を、ゲッタリングと呼ぶ。
【特許文献１】特開２００３−１４２９７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来のゲッタリングには、まだ以下の課題が残されていた。
まず、ゲッター材が圧電振動片に形成されている場合には、ゲッター材をレーザ等で加熱する際に圧電振動片をあわせて加熱してしまう。そのため、圧電振動片が加熱による影響を受けてしまう可能性があった。【０００７】
一方、ゲッター材が圧電振動片の周辺の基板に形成されている場合には、ゲッター材をレーザ等で加熱したときに、蒸発して飛散するゲッター材の一部が圧電振動片に付着する可能性が高かった。特に、レーザを照射する位置に近いほど蒸発したゲッター材が付着し易かった。ところで、圧電振動片にゲッター材が付着してしまうと、圧電振動片の周波数が変化してしまう不都合がある。この周波数の変化は、ゲッター材が付着する位置に応じて異なるものであり、特に振動腕部の先端側に付着すると周波数が低くなり、振動腕部の基端側に付着すると周波数が高くなる傾向がある。また、付着する量が多いほど、変化量も多くなることが知られている。【０００８】
このように、ゲッター材が付着することで、ゲッタリングの前後で圧電振動片の周波数が変化する可能性が高かった。通常、圧電振動片は、ゲッタリングの前に粗調工程が行われており、目標とする公称周波数よりも若干広い範囲に収まるように周波数調整が行われている。そして、ゲッタリングによって直列共振抵抗値（Ｒ１）を調整した後、微調工程を行って、周波数を最終的に公称周波数の範囲に追い込んでいる。そのため、ゲッタリングの前後で周波数が変化してしまうと、粗調工程である程度まで追い込んだ周波数が変化してしまう。よって、微調工程が非常に困難になるだけでなく、安定した振動特性を得ることができなくなる恐れがあった。【０００９】
本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、圧電振動片に対して加熱による負荷を与えることがないうえ、周波数変化を生じさせることなくゲッタリングを行うことができる圧電振動子を提供することである。
更には、この圧電振動子を有する発振器、電子機器及び電波時計と、圧電振動子を製造する製造方法と提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、前記課題を解決して係る目的を達成するために以下の手段を提供する。
（１）本発明に係る圧電振動子の製造方法は、互いに接合され、間にキャビティが形成されたベース基板及びリッド基板と平行に延在した一対の振動腕部を有し、キャビティ内でベース基板上にマウントされた圧電振動片と加熱されることで前記キャビティ内の真空度を向上させる金属膜のゲッター材とを備えた圧電振動子を製造する方法であって、前記ゲッター材を、前記キャビティ内に配置されるように前記ベース基板上又は前記リッド基板上に形成するゲッター材形成工程と加熱によって蒸発する前記ゲッター材の飛散方向を規制して前記振動腕部に向かって飛散する飛散量を抑制する規制部を、前記キャビティ内に配置されるように前記ベース基板又は前記リッド基板に形成する規制部形成工程と前記ゲッター材形成工程及び前記規制部形成工程が終了した後、前記圧電振動片を前記ベース基板上にマウントし、その後、圧電振動片、前記ゲッター材及び前記規制部を前記キャビティ内にそれぞれ収容するように前記ベース基板と前記リッド基板とを互いに接合する接合工程とを備えている。【００１１】
上記製造方法によれば、まず、ベース基板上又はリッド基板上にゲッター材を形成するゲッター材形成工程を行う。この際、後に形成されるキャビティ内に配置されるようにゲッター材を形成する。また、この工程と同時或いは前後のタイミングで、ベース基板又はリッド基板に、加熱によって飛散するゲッター材の飛散方向を規制して振動腕部に向かって飛散する飛散量を抑制する規制部を形成する規制部形成工程を行う。この際、やはり後に形成されるキャビティ内に配置されるように規制部を形成する。【００１２】
そして、上述した２つの工程が終了した後、接合工程を行う。この工程としては、まず、圧電振動片をベース基板上にマウントする。これにより、圧電振動片は、ベース基板に対して機械的及び電気的に接合される。そして、圧電振動片をマウントした後、圧電振動片、ゲッター材及び規制部をそれぞれキャビティ内に収容するようにベース基板とリッド基板とを互いに接合する。これにより、リッド基板及びベース基板の間に形成されたキャビティ内に圧電振動片が収容された圧電振動子を得ることができる。【００１３】
特に、この圧電振動子によれば、周波数変化を生じさせることなくゲッタリングを行うことができる。つまり、レーザ等によりゲッター材を加熱すると、ゲッター材の一部が蒸発して周囲に飛散するが、キャビティ内に規制部が形成されているので、飛散方向が規制される。具体的には、規制部によって、圧電振動片の振動腕部に向かって飛散するゲッター材の飛散量を抑制することができる。そのため、ゲッタリング時に圧電振動片、特に、振動腕部にゲッター材が付着してしまうことを抑制することができる。従って、ゲッター材の付着に起因する周波数変化を生じ難くすることができる。
よって、ゲッタリング前後で周波数が変化してしまうことを極力防止することができ、後に行う微調工程が容易になるだけでなく、安定した振動特性を得ることができる。【００１４】
また、ゲッター材は、圧電振動片ではなくベース基板又はリッド基板のいずれか一方の基板上に形成されている。従って、ゲッタリングを行う際に、ゲッター材をレーザ等で加熱しても、圧電振動片に対して加熱の影響（負荷）を何ら与えることがない。このため、圧電振動子の品質や特性に何ら影響を与えることがないので、圧電振動子の高品質化を図ることができる。【００１５】
（２）前記規制部形成工程の際、前記規制部を、前記ベース基板と前記リッド基板とのうち一方の基板から他方の基板に向かって突出し、且つ、前記キャビティの側壁から離間した状態で前記振動腕部に沿って延在するように、一方の基板側に壁状に形成し前記ゲッター材形成工程の際、前記ゲッター材を、前記規制部よりも短い長さで規制部と前記側壁との間に配置されるように、前記一方の基板に形成する構成を採用しても良い。【００１６】
この場合、規制部を一方の基板（例えばリッド基板）から他方の基板（例えばベース基板）に向かって突出するように、一方の基板側に壁状に形成する。しかもこの際、キャビティの側壁から離間した状態で振動腕部に沿って延在するように形成する。つまり、振動腕部とキャビティの側壁との間の空間をあたかも２つの空間に間仕切るように規制部を形成する。
そして、この規制部とキャビティの側壁との間に配置されるように、一方の基板側にゲッター材を形成する。この際、規制部の長さよりも短い長さでゲッター材を形成する。よって、ゲッター材の隣に必ず規制部を存在させることができる。【００１７】
そのため、ゲッタリングの際、ゲッター材が直接振動腕部に向かって飛散してしまうことを規制部によって規制することができる。つまり、飛散したゲッター材は、規制部を回り込まない限り振動腕部に到達することができない。そのため、振動腕部に達するゲッター材の飛散量を抑制することができる。従って、振動腕部に対してゲッター材を付着し難くすることができ、周波数変化を生じ難くさせることができる。【００１８】
（３）前記規制部形成工程の際、前記規制部を、前記ベース基板と前記リッド基板とのうち一方の基板から他方の基板に向かって突出し、且つ、前記振動腕部に沿って延在するように、一方の基板側に形成し前記ゲッター材形成工程の際、前記ゲッター材を、互いに対向する前記規制部と前記他方の基板との隙間に収容するように、規制部上又は他方の基板上に形成する構成を採用しても良い。【００１９】
この場合、規制部を一方の基板（例えばリッド基板）から他方の基板（例えばベース基板）に向かって突出するように、一方の基板側に形成する。しかもこの際、振動腕部に沿って延在するように形成する。
そして、互いに対向する規制部と他方の基板との隙間に収容するように、ゲッター材を規制部上又は他方の基板上にゲッター材を形成する。つまり、規制部と他方の基板との間に形成された微小な隙間に収まるようにゲッター材を形成する。これにより、規制部又は他方の基板を、ゲッター材に近接させた状態で対向させることができる。【００２０】
そのため、ゲッタリングの際、加熱によって飛散したゲッター材は、大部分が真っ直ぐに飛散して規制部又は他方の基板に付着する。一方、残りの一部は略水平に広がるように飛散する。ところが、ゲッター材の大部分が真っ直ぐに飛散して対向した規制部又は他方の基板に付着するので、略水平に広がる飛散量は僅かである。そのため、振動腕部に達するゲッター材の飛散量を抑制することができる。従って、振動腕部に対してゲッター材を付着し難くすることができ、周波数変化を生じ難くさせることができる。【００２１】
（４）また、本発明に係る圧電振動子は、互いに接合され、間にキャビティが形成されたベース基板及びリッド基板と平行に延在した一対の振動腕部を有し、前記キャビティ内で前記ベース基板上にマウントされた圧電振動片と前記キャビティ内に配置されるように前記ベース基板上又は前記リッド基板上に形成され、加熱されることでキャビティ内の真空度を向上させる金属膜のゲッター材とを備え、前記ベース基板又は前記リッド基板には、前記キャビティ内に配置されると共に、加熱によって蒸発する前記ゲッター材の飛散方向を規制して前記振動腕部に向かって飛散する飛散量を抑制する規制部が形成されている。【００２２】
この場合、上記（１）に記載の圧電振動子の製造方法と同様の作用効果を奏することができる。【００２３】
（５）前記規制部が、前記ベース基板と前記リッド基板とのうち一方の基板から他方の基板に向かって突出し、且つ、前記キャビティの側壁から離間した状態で前記振動腕部に沿って延在するように、一方の基板側に壁状に形成され前記ゲッター材が、前記規制部よりも短い長さで規制部と前記側壁との間に配置されるように、前記一方の基板側に形成されている構成を採用しても良い。【００２４】
この場合、上記（２）に記載の圧電振動子の製造方法と同様の作用効果を奏することができる。【００２５】
（６）前記規制部が、前記ベース基板と前記リッド基板とのうち一方の基板から他方の基板に向かって突出し、且つ、前記振動腕部に沿って延在するように、一方の基板側に形成され前記ゲッター材が、互いに対向する前記規制部と前記他方の基板との隙間に収容された状態で、規制部上又は他方の基板上に形成されている構成を採用しても構わない。【００２６】
この場合、上記（３）に記載の圧電振動子の製造方法と同様の作用効果を奏することができる。【００２７】
（７）また、本発明に係る発振器は、上記（４）から（６）のいずれか１項に記載の圧電振動子が、発振子として集積回路に電気的に接続されている。【００２８】
（８）また、本発明に係る電子機器は、上記（４）から（６）のいずれか１項に記載の圧電振動子が、計時部に電気的に接続されている。【００２９】
（９）また、本発明に係る電波時計は、上記（４）から（６）のいずれか１項に記載の圧電振動子が、フィルタ部に電気的に接続されている。【００３０】
上記発振器、電子機器及び電波時計によれば、圧電振動片に対して加熱による負荷を与えることがないうえ、周波数変化を生じさせることなくゲッタリングを行える高品質な圧電振動子を備えているので、同様に高品質化を図ることができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明に係る圧電振動子によれば、圧電振動片に対して加熱による負荷を与えることがないうえ、周波数変化を生じさせることなくゲッタリングを行うことができる。よって、高品質化を図ることができる。【００３２】
また、本発明に係る圧電振動子の製造方法によれば、上記圧電振動子を確実に製造することができる。【００３３】
また、本発明に係る発振器、電子機器及び電波時計によれば、上記圧電振動子を備えているので、同様に高品質化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】図１は、本発明の一実施形態を示す図であって、圧電振動子の外観斜視図である。
【図２】図２は、図１に示す圧電振動子の内部構成図であって、リッド基板を取り外した状態で圧電振動片を上方から見た図である。
【図３】図３は、図２に示すＡ−Ａ線に沿った圧電振動子の断面図である。
【図４】図４は、図２に示すＢ−Ｂ線に沿った圧電振動子の断面図である。
【図５】図５は、図１に示す圧電振動子の分解斜視図である。
【図６】図６は、図１に示す圧電振動子を構成する圧電振動片の上面図である。
【図７】図７は、図５に示す圧電振動片の下面図である。
【図８】図８は、図６に示す断面矢視Ｃ−Ｃ図である。
【図９】図９は、図１に示す圧電振動子を製造する際の流れを示すフローチャートである。
【図１０】図１０は、図９に示すフローチャートに沿って圧電振動子を製造する際の一工程を示す図であって、リッド基板の元となるリッド基板用ウエハに凹部、規制部及びゲッター材を形成した状態を示す図である。
【図１１】図１１は、図９に示すフローチャートに沿って圧電振動子を製造する際の一工程を示す図であって、ベース基板の元となるベース基板用ウエハに一対のスルーホールを形成した状態を示す図である。
【図１２】図１２は、図１１に示す状態の後、一対のスルーホール内に貫通電極を形成すると共に、ベース基板用ウエハの上面に接合膜及び引き回し電極をパターニングした状態を示す図である。
【図１３】図１３は、図１２に示す状態のベース基板用ウエハの全体図である。
【図１４】図１４は、図９に示すフローチャートに沿って圧電振動子を製造する際の一工程を示す図であって、圧電振動片をキャビティ内に収容した状態でベース基板用ウエハとリッド基板用ウエハとが陽極接合されたウエハ体の分解斜視図である。
【図１５】図１５は、本発明の一実施形態を示す図であって、発振器の構成図である。
【図１６】図１６は、本発明の一実施形態を示す図であって、電子機器の構成図である。
【図１７】図１７は、本発明の一実施形態を示す図であって、電波時計の構成図である。
【図１８】図１８は、本発明の圧電振動子の変形例を示す断面図である。
【図１９】図１９は、図１８に示す圧電振動子の分解斜視図である。
【図２０】図２０は、本発明の圧電振動子の別の変形例を示す断面図である。
【図２１】図２１は、図２０に示す圧電振動子の分解斜視図である。
【符号の説明】
【００３５】
Ｃ  キャビティ
１  圧電振動子
２  ベース基板
３  リッド基板
４  圧電振動片
１０、１１  振動腕部
２０  ゲッター材
２１  規制部
１０１  発振器の集積回路
１００  発振器
１１３  電子機器の計時部
１１０  携帯情報機器（電子機器）
１３１  電波時計のフィルタ部
１３０  電波時計
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下、本発明に係る一実施形態を、図１から図１５を参照して説明する。
本実施形態の圧電振動子１は、図１から図５に示すように、ベース基板２とリッド基板３とで２層に積層された箱状に形成されており、内部のキャビティＣ内に圧電振動片４が収納された表面実装型の圧電振動子である。
なお、図２においては、リッド基板３側に形成される規制部２１及びゲッター材２０を併せて図示している。また、図５においては、図面を見易くするために後述する励振電極１３、引き出し電極１６、マウント電極１４及び重り金属膜１７の図示を省略している。【００３７】
圧電振動片４は、図６から図８に示すように、水晶、タンタル酸リチウムやニオブ酸リチウム等の圧電材料から形成された音叉型の振動片であり、所定の電圧が印加されたときに振動するものである。
この圧電振動片４は、平行に配置された一対の振動腕部１０、１１と、この一対の振動腕部１０、１１の基端側を一体的に固定する基部１２と、一対の振動腕部１０、１１の外表面上に形成されて一対の振動腕部１０、１１を振動させる励振電極１３と、この励振電極１３に電気的に接続されたマウント電極１４とを有している。
また、本実施形態の圧電振動片４は、一対の振動腕部１０、１１の両主面上に、この振動腕部１０、１１の長手方向に沿ってそれぞれ形成された溝部１５を備えている。この溝部１５は、振動腕部１０、１１の基端側から略中間付近まで形成されている。【００３８】
上記励振電極１３は、一対の振動腕部１０、１１を互いに接近又は離間する方向に所定の共振周波数で振動させる電極であり、一対の振動腕部１０、１１の外表面に、それぞれ電気的に切り離された状態でパターニングされて形成されている。具体的には、図８に示すように、一方の励振電極１３が、一方の振動腕部１０の溝部１５上と、他方の振動腕部１１の両側面上とに主に形成され、他方の励振電極１３が、一方の振動腕部１０の両側面上と他方の振動腕部１１の溝部１５上とに主に形成されている。【００３９】
また、励振電極１３は、図６及び図７に示すように、基部１２の両主面上において、それぞれ引き出し電極１６を介してマウント電極１４に電気的に接続されている。そして圧電振動片４は、このマウント電極１４を介して電圧が印加されるようになっている。
なお、上述した励振電極１３、マウント電極１４及び引き出し電極１６は、例えば、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミニウム（Ａｌ）やチタン（Ｔｉ）等の導電性膜の被膜により形成されたものである。【００４０】
また、一対の振動腕部１０、１１の先端には、自身の振動状態を所定の周波数の範囲内で振動するように調整（周波数調整）を行うための重り金属膜１７が被膜されている。なお、この重り金属膜１７は、周波数を粗く調整する際に使用される粗調膜１７ａと、微小に調整する際に使用される微調膜１７ｂとに分かれている。これら粗調膜１７ａ及び微調膜１７ｂを利用して周波数調整を行うことで、一対の振動腕部１０、１１の周波数をデバイスの公称周波数の範囲内に収めることができる。【００４１】
このように構成された圧電振動片４は、図２、図３及び図５に示すように、金等のバンプＢを利用して、ベース基板２の上面にバンプ接合されている。より具体的には、後述する引き回し電極２８上に形成された２つのバンプＢ上に、一対のマウント電極１４がそれぞれ接触した状態でバンプ接合されている。これにより、圧電振動片４は、ベース基板２の上面から浮いた状態で支持されると共に、マウント電極１４と引き回し電極２８とがそれぞれ電気的に接続された状態となっている。【００４２】
上記リッド基板３は、ガラス材料、例えばソーダ石灰ガラスからなる透明の絶縁基板であり、図１、図３、図４及び図５に示すように、板状に形成されている。そして、リッド基板３の下面側（ベース基板２が接合される接合面側）には、圧電振動片４が収まる矩形状の凹部３ａが形成されている。この凹部３ａは、両基板２、３が重ね合わされたときに、圧電振動片４を収容するキャビティＣとなるキャビティ用の凹部である。そして、リッド基板３は、この凹部３ａをベース基板２側に対向させた状態でベース基板２に対して陽極接合されている。【００４３】
また、リッド基板３の下面側には、加熱されることでキャビティＣ内の真空度を向上させる金属膜のゲッター材２０と、加熱によって蒸発するゲッター材２０の飛散方向を規制して一対の振動腕部１０、１１に向かって飛散する飛散量を抑制する規制部２１と、が形成されている。
規制部２１は、リッド基板３からベース基板２に向かって突出し、且つ、キャビティＣの側壁Ｃ１（凹部３ａの側壁）から離間した状態で一対の振動腕部１０、１１に沿って延在するように壁状に２つ形成されている。つまり、この規制部２１は、振動腕部１０、１１とキャビティＣの側壁Ｃ１との間の空間をあたかも２つに空間に間仕切るように形成されている。
なお、本実施形態では、規制部２１が振動腕部１０、１１と略同じ長さだけ延在しており、振動腕部１０、１１に対して隣り合った状態となっている。また、規制部２１は、ベース基板２に近接するように突出しており、ベース基板２との間に若干の隙間があいた状態となっている。【００４４】
ゲッター材２０は、例えばアルミニウムからなる金属膜であり、規制部２１よりも短い長さで、この規制部２１とキャビティＣの側壁Ｃ１との間に配置されるように形成されている。特に、ゲッター材２０の長さは規制部２１よりも短いので、ゲッター材２０の隣に必ず規制部２１が存在している。【００４５】
上記ベース基板２は、リッド基板３と同様にガラス材料、例えばソーダ石灰ガラスからなる透明な絶縁基板であり、図１から図５に示すように、リッド基板３に対して重ね合わせ可能な大きさで板状に形成されている。
このベース基板２には、このベース基板２を貫通する一対のスルーホール２５が形成されている。この際、一対のスルーホール２５は、キャビティＣ内に収まるように形成されている。より詳しく説明すると、マウントされた圧電振動片４の基部１２側に一方のスルーホール２５が位置し、振動腕部１０、１１の先端側に他方のスルーホール２５が位置するように形成されている。
なお、本実施形態では、ベース基板２を真っ直ぐに貫通したスルーホール２５を例に挙げて説明するが、この場合に限られず、例えばベース基板２の下面に向かって漸次径が縮径又は拡径するテーパー状に形成しても構わない。いずれにしても、ベース基板２を貫通していれば良い。【００４６】
そして、これら一対のスルーホール２５には、このスルーホール２５を埋めるように形成された一対の貫通電極２６が形成されている。この貫通電極２６は、スルーホール２５を完全に塞いでキャビティＣ内の気密を維持していると共に、後述する外部電極２９と引き回し電極２８とを導通させる役割を担っている。
ベース基板２の上面側（リッド基板３が接合される接合面側）には、導電性材料（例えば、アルミニウム）により、陽極接合用の接合膜２７と、一対の引き回し電極２８とがパターニングされている。このうち接合膜２７は、リッド基板３に形成された凹部３ａの周囲を囲むようにベース基板２の周縁に沿って形成されている。【００４７】
また、一対の引き回し電極２８は、一対の貫通電極２６のうち、一方の貫通電極２６と圧電振動片４の一方のマウント電極１４とを電気的に接続すると共に、他方の貫通電極２６と圧電振動片４の他方のマウント電極１４とを電気的に接続するようにパターニングされている。より詳しく説明すると、図２及び図５に示すように、一方の引き回し電極２８は、圧電振動片４の基部１２の真下に位置するように一方の貫通電極２６の真上に形成されている。また、他方の引き回し電極２８は、一方の引き回し電極２８に隣接した位置から、振動腕部１１に沿って先端側に引き回しされた後、他方の貫通電極２６の真上に位置するように形成されている。【００４８】
そして、これら一対の引き回し電極２８上にバンプＢが形成されており、このバンプＢを利用して圧電振動片４がマウントされている。これにより、圧電振動片４の一方のマウント電極１４が、一方の引き回し電極２８を介して一方の貫通電極２６に導通し、他方のマウント電極１４が、他方の引き回し電極２８を介して他方の貫通電極２６に導通するようになっている。【００４９】
また、ベース基板２の下面には、図１、図３及び図５に示すように、一対の貫通電極２６に対してそれぞれ電気的に接続される外部電極２９が形成されている。つまり、一方の外部電極２９は、一方の貫通電極２６及び一方の引き回し電極２８を介して圧電振動片４の一方の励振電極１３に電気的に接続されている。また、他方の外部電極２９は、他方の貫通電極２６及び他方の引き回し電極２８を介して、圧電振動片４の他方の励振電極１３に電気的に接続されている。【００５０】
このように構成された圧電振動子１を作動させる場合には、ベース基板２に形成された外部電極２９に対して、所定の駆動電圧を印加する。これにより、圧電振動片４の励振電極１３に電流を流すことができ、一対の振動腕部１０、１１を接近・離間させる方向に所定の周波数で振動させることができる。そして、この一対の振動腕部１０、１１の振動を利用して、時刻源、制御信号のタイミング源やリファレンス信号源等として利用することができる。【００５１】
次に、上述した圧電振動子１を、図９に示すフローチャートを参照しながら、ベース基板用ウエハ４０とリッド基板用ウエハ５０とを利用して一度に複数製造する製造方法について以下に説明する。【００５２】
初めに、圧電振動片作製工程を行って図６から図８に示す圧電振動片４を作製する（Ｓ１０）。具体的には、まず水晶のランバート原石を所定の角度でスライスして一定の厚みのウエハとする。続いて、このウエハをラッピングして粗加工した後、加工変質層をエッチングで取り除き、その後、ポリッシュ等の鏡面研磨加工を行って、所定の厚みのウエハとする。続いて、ウエハに洗浄等の適切な処理を施した後、このウエハをフォトリソグラフィ技術によって圧電振動片４の外形形状でパターニングすると共に、金属膜の成膜及びパターニングを行って、励振電極１３、引き出し電極１６、マウント電極１４及び重り金属膜１７を形成する。これにより、複数の圧電振動片４を作製することができる。【００５３】
また、圧電振動片４を作製した後、共振周波数の粗調を行っておく。これは、重り金属膜１７の粗調膜１７ａにレーザ光を照射して一部を蒸発させ、重量を変化させることで行う。これにより、目標とする公称周波数よりも若干広い範囲に周波数を収めることができる。なお、共振周波数をより高精度に調整して、周波数を最終的に公称周波数の範囲内に追い込む微調に関しては、マウント後に行う。これについては、後に説明する。【００５４】
次に、後にリッド基板３となるリッド基板用ウエハ５０を、陽極接合を行う直前の状態まで作製する第１のウエハ作製工程を行う（Ｓ２０）。まず、ソーダ石灰ガラスを所定の厚さまで研磨加工して洗浄した後に、図１０に示すように、エッチング等により最表面の加工変質層を除去した円板状のリッド基板用ウエハ５０を形成する（Ｓ２１）。次いで、リッド基板用ウエハ５０の接合面に、行列方向にキャビティＣ用の凹部３ａを複数形成する凹部形成工程を行う（Ｓ２２）と共に、各凹部３ａ内に２つの規制部２１をそれぞれ形成する規制部形成工程を行う（Ｓ２３）。【００５５】
この際、リッド基板用ウエハ５０をエッチング加工することで、凹部３ａと規制部２１とを同時に形成しても構わない。また、治具を利用して、リッド基板用ウエハ５０を加熱しながら上下からプレスすることで、凹部３ａと規制部２１とを同時に形成しても構わない。更には、リッド基板用ウエハ５０上の必要箇所にガラスペーストをスクリーン印刷することで、凹部３ａと規制部２１とを同時に形成しても構わない。いずれの方法であっても構わない。
また、規制部２１を形成する際には、上述したようにベース基板２に向かって突出し、キャビティＣの側壁Ｃ１から離間した状態で振動腕部１０、１１に沿って延在するように形成する。【００５６】
続いて、リッド基板用ウエハ５０の接合面に形成された複数の凹部３ａ内に、金属膜を成膜してゲッター材２０を形成するゲッター材形成工程を行う（Ｓ２３）。この際、凹部３ａ内に形成された規制部２１よりも短い長さで、この規制部２１とキャビティＣの側壁Ｃ１との間に配置されるようにゲッター材２０を形成する。
この時点で、第１のウエハ作製工程が終了する。【００５７】
次に、上記工程と同時或いは前後のタイミングで、後にベース基板２となるベース基板用ウエハ４０を、陽極接合を行う直前の状態まで作製する第２のウエハ作製工程を行う（Ｓ３０）。まず、ソーダ石灰ガラスを所定の厚さまで研磨加工して洗浄した後に、エッチング等により最表面の加工変質層を除去した円板状のベース基板用ウエハ４０を形成する（Ｓ３１）。次いで、図１１に示すように、ベース基板用ウエハ４０を貫通する一対のスルーホール２５を複数形成する貫通孔形成工程（Ｓ３２）を行う。なお、図１１に示す点線Ｍは、後に行う切断工程で切断する切断線を図示している。
この際、後に両ウエハ４０、５０を重ね合わせたときに、リッド基板用ウエハ５０に形成した凹部３ａ内に収まるように一対のスルーホール２５を複数形成する。しかも、一方のスルーホール２５が後にマウントする圧電振動片４の基部１２側に位置し、他方のスルーホール２５が振動腕部１１の先端側に位置するように形成する。【００５８】
なお、スルーホール２５を形成するには、サンドブラスト法や治具を利用したプレス加工等の方法を利用して形成すれば良い。【００５９】
続いて、複数の一対のスルーホール２５を図示しない導電体で埋めて、一対の貫通電極２６を形成する貫通電極形成工程を行う（Ｓ３３）。続いて、ベース基板用ウエハ４０の上面に導電性材料をパターニングして、図１２及び図１３に示すように、接合膜２７を形成する接合膜形成工程（Ｓ３４）を行うと共に、一対の貫通電極２６にそれぞれ電気的に接続された引き回し電極２８を複数形成する引き回し電極形成工程を行う（Ｓ３５）。なお、図１２及び図１３に示す点線Ｍは、後に行う切断工程で切断する切断線を図示している。また、図１３では、接合膜２７の図示を省略している。
この工程を行うことにより、一方の貫通電極２６と一方の引き回し電極２８とが導通すると共に、他方の貫通電極２６と他方の引き回し電極２８とが導通した状態となる。この時点で第２のウエハ作製工程が終了する。【００６０】
ところで、図９では、接合膜形成工程（Ｓ３４）の後に、引き回し電極形成工程（Ｓ３５）を行う工程順序としているが、これとは逆に、引き回し電極形成工程（Ｓ３５）の後に、接合膜形成工程（Ｓ３４）を行っても構わないし、両工程を同時に行っても構わない。いずれの工程順序であっても、同一の作用効果を奏することができる。よって、必要に応じて適宜、工程順序を変更して構わない。【００６１】
次に、作製した複数の圧電振動片４を、それぞれ引き回し電極２８を介してベース基板用ウエハ４０の上面にバンプ接合するマウント工程を行う（Ｓ４０）。まず、一対の引き回し電極２８上にそれぞれ金等のバンプＢを形成する。そして、圧電振動片４の基部１２をバンプＢ上に載置した後、バンプＢを所定温度に加熱しながら圧電振動片４をバンプＢに押し付ける。これにより、圧電振動片４は、バンプＢに機械的に支持されると共に、マウント電極１４と引き回し電極２８とが電気的に接続された状態となる。よって、この時点で圧電振動片４の一対の励振電極１３は、一対の貫通電極２６に対してそれぞれ導通した状態となる。特に、圧電振動片４は、バンプ接合されるので、ベース基板用ウエハ４０の上面から浮いた状態で支持される。【００６２】
圧電振動片４のマウントが終了した後、ベース基板用ウエハ４０に対してリッド基板用ウエハ５０を重ね合わせる重ね合わせ工程を行う（Ｓ５０）。具体的には、図示しない基準マーク等を指標としながら、両ウエハ４０、５０を正しい位置にアライメントする。これにより、マウントされた圧電振動片４、規制部２１及びゲッター材２０が、ベース基板用ウエハ４０に形成された凹部３ａと両ウエハ４０、５０とで囲まれるキャビティＣ内に収容された状態となる。【００６３】
重ね合わせ工程後、重ね合わせた２枚のウエハ４０、５０を図示しない陽極接合装置に入れ、所定の温度雰囲気で所定の電圧を印加して陽極接合する接合工程を行う（Ｓ６０）。具体的には、接合膜２７とリッド基板用ウエハ５０との間に所定の電圧を印加する。すると、接合膜２７とリッド基板用ウエハ５０との界面に電気化学的な反応が生じ、両者がそれぞれ強固に密着して陽極接合される。これにより、圧電振動片４をキャビティＣ内に封止することができ、ベース基板用ウエハ４０とリッド基板用ウエハ５０とが接合した図１４に示すウエハ体６０を得ることができる。
なお、図１４においては、図面を見易くするために、ウエハ体６０を分解した状態を図示しており、ベース基板用ウエハ４０から接合膜２７の図示を省略している。なお、図１４に示す点線Ｍは、後に行う切断工程で切断する切断線を図示している。
ところで、陽極接合を行う際、ベース基板用ウエハ４０に形成されたスルーホール２５は、貫通電極２６によって完全に塞がれているので、キャビティＣ内の気密がスルーホール２５を通じて損なわれることがない。【００６４】
そして、上述した陽極接合が終了した後、ベース基板用ウエハ４０の下面に導電性材料をパターニングして、一対の貫通電極２６にそれぞれ電気的に接続された一対の外部電極２９を複数形成する外部電極形成工程を行う（Ｓ７０）。この工程により、外部電極２９を利用してキャビティＣ内に封止された圧電振動片４を作動させることができる。【００６５】
次に、ウエハ体６０の各キャビティＣ内に収容されたゲッター材２０を加熱してキャビティＣ内の真空度を調整するゲッタリング工程を行う（Ｓ８０）。具体的には、ベース基板用ウエハ４０側からレーザ光を複数回照射して、ゲッター材２０を加熱させる。すると、加熱によって蒸発したゲッター材２０が、キャビティＣ内のガスを吸収するので真空度が向上する。これにより、圧電振動片４の直列共振抵抗値（Ｒ１）を調整することができる。【００６６】
ところで、本実施形態では、ゲッタリングを行う際に、圧電振動片４の周波数変化を生じさせることなくゲッタリングを行うことができる。この点について詳細に説明すると、レーザ光によりゲッター材２０を加熱すると、ゲッター材２０の一部が蒸発して周囲に飛散するが、キャビティＣ内に規制部２１が形成されているので飛散方向が規制される。つまり、ゲッター材２０が直接振動腕部１０、１１に向かって飛散してしまうことを規制部２１によって規制することができる。即ち、飛散したゲッター材２０は、規制部２１を回り込まない限り振動腕部１０、１１に到達することができない。そのため、振動腕部１０、１１に向かって飛散するゲッター材２０の飛散量を抑制することができ、振動腕部１０、１１に到達する量を少なくすることができる。【００６７】
よって、ゲッタリング時に、圧電振動片４、特に振動腕部１０、１１にゲッター材２０が付着してしまうことを抑制することができる。従って、ゲッター材２０の付着に起因する周波数変化を生じ難くすることができる。【００６８】
次に、ウエハ体６０の状態で、キャビティＣ内に封止された個々の圧電振動子１の周波数を微調整して所定の範囲内に収める微調工程を行う（Ｓ９０）。具体的に説明すると、外部電極２９に電圧を印加して圧電振動片４を振動させる。そして、周波数を計測しながらリッド基板用ウエハ５０を通して外部からレーザ光を照射し、重り金属膜１７の微調膜１７ｂを蒸発させる。これにより、一対の振動腕部１０、１１の先端側の重量が変化するので、圧電振動片４の周波数を、公称周波数の所定範囲内に収まるように微調整することができる。【００６９】
周波数の微調が終了した後、接合されたウエハ体６０を図１４に示す切断線Ｍに沿って切断して小片化する切断工程を行う（Ｓ１００）。その結果、互いに陽極接合されたベース基板２とリッド基板３との間に形成されたキャビティＣ内に圧電振動片４が封止された、図１に示す表面実装型の圧電振動子１を一度に複数製造することができる。
なお、切断工程（Ｓ１００）を行って個々の圧電振動子１に小片化した後に、微調工程（Ｓ９０）を行う工程順序でも構わない。但し、上述したように、微調工程（Ｓ９０）を先に行うことで、ウエハ体６０の状態で微調を行うことができるので、複数の圧電振動子１をより効率よく微調することができる。よって、スループットの向上化を図ることができるので、より好ましい。【００７０】
その後、内部の電気特性検査を行う（Ｓ１１０）。即ち、圧電振動片４の共振周波数、共振抵抗値、ドライブレベル特性（共振周波数及び共振抵抗値の励振電力依存性）等を測定してチェックする。また、絶縁抵抗特性等を併せてチェックする。そして、最後に圧電振動子１の外観検査を行って、寸法や品質等を最終的にチェックする。これをもって圧電振動子１の製造が終了する。【００７１】
特に、本実施形態の圧電振動子１によれば、上述したようにゲッタリング時に、ゲッター材２０の付着に起因する周波数変化が生じ難いので、ゲッタリング前後で周波数が変化してしまうことを極力防止することができる。従って、粗調工程である程度まで追い込んだ周波数がゲッタリング時に変化してしまうことを防止することができる。その結果、微調工程によって周波数を公称周波数に速やか且つ確実に追い込むことができ、安定した振動特性を得ることができる。よって、高品質化を図ることができる。【００７２】
更に、ゲッター材２０は、圧電振動片４ではなくリッド基板３上に形成されている。従って、ゲッタリングを行う際に、ゲッター材２０を加熱しても圧電振動片４に対して加熱の影響（負荷）を何ら与えることがない。このため、圧電振動子１の品質や特性に何ら影響を与えることがないので、この点においても高品質化を図ることができる。【００７３】
次に、本発明に係る発振器の一実施形態について、図１５を参照しながら説明する。
本実施形態の発振器１００は、図１５に示すように、圧電振動子１を、集積回路１０１に電気的に接続された発振子として構成したものである。この発振器１００は、コンデンサ等の電子部品１０２が実装された基板１０３を備えている。基板１０３には、発振器用の上記集積回路１０１が実装されており、この集積回路１０１の近傍に、圧電振動子１の圧電振動片４が実装されている。これら電子部品１０２、集積回路１０１及び圧電振動子１は、図示しない配線パターンによってそれぞれ電気的に接続されている。なお、各構成部品は、図示しない樹脂によりモールドされている。【００７４】
このように構成された発振器１００において、圧電振動子１に電圧を印加すると、この圧電振動子１内の圧電振動片４が振動する。この振動は、圧電振動片４が有する圧電特性により電気信号に変換されて、集積回路１０１に電気信号として入力される。入力された電気信号は、集積回路１０１によって各種処理がなされ、周波数信号として出力される。これにより、圧電振動子１が発振子として機能する。
また、集積回路１０１の構成を、例えば、ＲＴＣ（リアルタイムクロック）モジュール等を要求に応じて選択的に設定することで、時計用単機能発振器等の他、当該機器や外部機器の動作日や時刻を制御したり、時刻やカレンダー等を提供したりする機能を付加することができる。【００７５】
上述したように、本実施形態の発振器１００によれば、高品質化された圧電振動子１を備えているので、発振器１００自体も同様に高品質化することができる。さらにこれに加え、長期にわたって安定した高精度な周波数信号を得ることができる。【００７６】
次に、本発明に係る電子機器の一実施形態について、図１６を参照して説明する。なお電子機器として、上述した圧電振動子１を有する携帯情報機器１１０を例にして説明する。始めに本実施形態の携帯情報機器１１０は、例えば、携帯電話に代表されるものであり、従来技術における腕時計を発展、改良したものである。外観は腕時計に類似し、文字盤に相当する部分に液晶ディスプレイを配し、この画面上に現在の時刻等を表示させることができるものである。また、通信機として利用する場合には、手首から外し、バンドの内側部分に内蔵されたスピーカ及びマイクロフォンによって、従来技術の携帯電話と同様の通信を行うことが可能である。しかしながら、従来の携帯電話と比較して、格段に小型化及び軽量化されている。【００７７】
次に、本実施形態の携帯情報機器１１０の構成について説明する。この携帯情報機器１１０は、図１６に示すように、圧電振動子１と、電力を供給するための電源部１１１とを備えている。電源部１１１は、例えば、リチウム二次電池からなっている。この電源部１１１には、各種制御を行う制御部１１２と、時刻等のカウントを行う計時部１１３と、外部との通信を行う通信部１１４と、各種情報を表示する表示部１１５と、それぞれの機能部の電圧を検出する電圧検出部１１６とが並列に接続されている。そして、電源部１１１によって、各機能部に電力が供給されるようになっている。【００７８】
制御部１１２は、各機能部を制御して音声データの送信及び受信、現在時刻の計測や表示等、システム全体の動作制御を行う。また、制御部１１２は、予めプログラムが書き込まれたＲＯＭと、このＲＯＭに書き込まれたプログラムを読み出して実行するＣＰＵと、このＣＰＵのワークエリアとして使用されるＲＡＭ等とを備えている。【００７９】
計時部１１３は、発振回路、レジスタ回路、カウンタ回路及びインターフェース回路等を内蔵する集積回路と、圧電振動子１とを備えている。圧電振動子１に電圧を印加すると圧電振動片４が振動し、この振動が水晶の有する圧電特性により電気信号に変換されて、発振回路に電気信号として入力される。発振回路の出力は二値化され、レジスタ回路とカウンタ回路とにより計数される。そして、インターフェース回路を介して、制御部１１２と信号の送受信が行われ、表示部１１５に、現在時刻や現在日付或いはカレンダー情報等が表示される。【００８０】
通信部１１４は、従来の携帯電話と同様の機能を有し、無線部１１７、音声処理部１１８、切替部１１９、増幅部１２０、音声入出力部１２１、電話番号入力部１２２、着信音発生部１２３及び呼制御メモリ部１２４を備えている。
無線部１１７は、音声データ等の各種データを、アンテナ１２５を介して基地局と送受信のやりとりを行う。音声処理部１１８は、無線部１１７又は増幅部１２０から入力された音声信号を符号化及び複号化する。増幅部１２０は、音声処理部１１８又は音声入出力部１２１から入力された信号を、所定のレベルまで増幅する。音声入出力部１２１は、スピーカやマイクロフォン等からなり、着信音や受話音声を拡声したり、音声を集音したりする。【００８１】
また、着信音発生部１２３は、基地局からの呼び出しに応じて着信音を生成する。切替部１１９は、着信時に限って、音声処理部１１８に接続されている増幅部１２０を着信音発生部１２３に切り替えることによって、着信音発生部１２３において生成された着信音が増幅部１２０を介して音声入出力部１２１に出力される。
なお、呼制御メモリ部１２４は、通信の発着呼制御に係るプログラムを格納する。また、電話番号入力部１２２は、例えば、０から９の番号キー及びその他のキーを備えており、これら番号キー等を押下することにより、通話先の電話番号等が入力される。【００８２】
電圧検出部１１６は、電源部１１１によって制御部１１２等の各機能部に対して加えられている電圧が、所定の値を下回った場合に、その電圧降下を検出して制御部１１２に通知する。このときの所定の電圧値は、通信部１１４を安定して動作させるために必要な最低限の電圧として予め設定されている値であり、例えば、３Ｖ程度となる。電圧検出部１１６から電圧降下の通知を受けた制御部１１２は、無線部１１７、音声処理部１１８、切替部１１９及び着信音発生部１２３の動作を禁止する。特に、消費電力の大きな無線部１１７の動作停止は、必須となる。更に、表示部１１５に、通信部１１４が電池残量の不足により使用不能になった旨が表示される。【００８３】
即ち、電圧検出部１１６と制御部１１２とによって、通信部１１４の動作を禁止し、その旨を表示部１１５に表示することができる。この表示は、文字メッセージであっても良いが、より直感的な表示として、表示部１１５の表示面の上部に表示された電話アイコンに、×（バツ）印を付けるようにしても良い。
なお、通信部１１４の機能に係る部分の電源を、選択的に遮断することができる電源遮断部１２６を備えることで、通信部１１４の機能をより確実に停止することができる。【００８４】
上述したように、本実施形態の携帯情報機器１１０によれば、高品質化された圧電振動子１を備えているので、携帯情報機器自体も同様に高品質化することができる。さらにこれに加え、長期にわたって安定した高精度な時計情報を表示することができる。【００８５】
次に、本発明に係る電波時計の一実施形態について、図１７を参照して説明する。
本実施形態の電波時計１３０は、図１７に示すように、フィルタ部１３１に電気的に接続された圧電振動子１を備えたものであり、時計情報を含む標準の電波を受信して、正確な時刻に自動修正して表示する機能を備えた時計である。
日本国内には、福島県（４０ｋＨｚ）と佐賀県（６０ｋＨｚ）とに、標準の電波を送信する送信所（送信局）があり、それぞれ標準電波を送信している。４０ｋＨｚ若しくは６０ｋＨｚのような長波は、地表を伝播する性質と、電離層と地表とを反射しながら伝播する性質とを併せもつため、伝播範囲が広く、上述した２つの送信所で日本国内を全て網羅している。【００８６】
以下、電波時計１３０の機能的構成について詳細に説明する。
アンテナ１３２は、４０ｋＨｚ若しくは６０ｋＨｚの長波の標準電波を受信する。長波の標準電波は、タイムコードと呼ばれる時刻情報を、４０ｋＨｚ若しくは６０ｋＨｚの搬送波にＡＭ変調をかけたものである。受信された長波の標準電波は、アンプ１３３によって増幅され、複数の圧電振動子１を有するフィルタ部１３１によって濾波、同調される。
本実施形態における圧電振動子１は、上記搬送周波数と同一の４０ｋＨｚ及び６０ｋＨｚの共振周波数を有する水晶振動子部１３８、１３９をそれぞれ備えている。【００８７】
更に、濾波された所定周波数の信号は、検波、整流回路１３４により検波復調される。続いて、波形整形回路１３５を介してタイムコードが取り出され、ＣＰＵ１３６でカウントされる。ＣＰＵ１３６では、現在の年、積算日、曜日、時刻等の情報を読み取る。読み取られた情報は、ＲＴＣ１３７に反映され、正確な時刻情報が表示される。
搬送波は、４０ｋＨｚ若しくは６０ｋＨｚであるから、水晶振動子部１３８、１３９は、上述した音叉型の構造を持つ振動子が好適である。【００８８】
なお、上述の説明は、日本国内の例で示したが、長波の標準電波の周波数は、海外では異なっている。例えば、ドイツでは７７．５ＫＨｚの標準電波が用いられている。従って、海外でも対応可能な電波時計１３０を携帯機器に組み込む場合には、さらに日本の場合とは異なる周波数の圧電振動子１を必要とする。【００８９】
上述したように、本実施形態の電波時計１３０によれば、高品質化された圧電振動子１を備えているので、電波時計自体も同様に高品質化することができる。さらにこれに加え、長期にわたって安定して高精度に時刻をカウントすることができる。【００９０】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。【００９１】
例えば、上記実施形態では、規制部２１及びゲッター材２０を共にリッド基板３に形成した構成としたが、ベース基板２側に形成しても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。【００９２】
また、規制部２１の一例として、キャビティＣの側壁Ｃ１から離間した状態で振動腕部１０、１１に沿って延在する壁状の規制部２１を例に挙げて説明したが、この場合に限られるものではない。例えば、図１８及び図１９に示すように、規制部２１を、ベース基板２に向けて突出し、且つ、振動腕部１０、１１に沿って延在するようにリッド基板３に形成しても構わない。この場合には、ゲッター材２０を、互いに対向する規制部２１とベース基板２との間に形成された隙間に収容されるようにベース基板２上に形成すれば良い。これにより、規制部２１をゲッター材２０に近接した状態で対向させることができる。【００９３】
このように構成した場合には、ゲッタリングの際、加熱によって飛散したゲッター材２０は大部分が真っ直ぐに飛散して規制部２１に付着する。一方、残りの一部は、略水平に広がるように飛散する。ところが、ゲッター材２０の大部分が真っ直ぐに飛散して規制部２１に付着するので、略水平に広がるように飛散する飛散量は僅かである。そのため、振動腕部１０、１１に達するゲッター材２０の飛散量をやはり抑制することができる。従って、この場合であっても、振動腕部１０、１１に対してゲッター材２０を付着し難くすることができ、ゲッタリング前後で周波数変化を同様に生じ難くさせることができる。
なお、この場合において、ゲッター材２０を規制部２１側に形成しても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。【００９４】
また、図２０及び図２１に示すように、規制部２１をリッド基板３側でなくベース基板２側に形成すると共に規制部２１上にゲッター材２０を形成しても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。なお、この場合において、ゲッター材２０をリッド基板３側に形成しても良い。【００９５】
また、上記実施形態では、圧電振動片４の一例として振動腕部１０、１１の両面に溝部１５が形成された溝付きの圧電振動片４を例に挙げて説明したが、溝部１５がないタイプの圧電振動片でも構わない。但し、溝部１５を形成することで、一対の励振電極１３に所定の電圧を印加させたときに、一対の励振電極１３間における電界効率を上げることができるので、振動損失をより抑えて振動特性をさらに向上することができる。つまり、ＣＩ値（Crystal Impedance）をさらに低くすることができ、圧電振動片４のさらなる高性能化を図ることができる。この点において、溝部１５を形成する方が好ましい。【００９６】
また、上記実施形態では、ベース基板２とリッド基板３とを接合膜２７を介して陽極接合したが、陽極接合に限定されるものではない。但し、陽極接合することで、両基板２、３を強固に接合できるので好ましい。
また、上記実施形態では、圧電振動片４をバンプ接合したが、バンプ接合に限定されるものではない。例えば、導電性接着剤により圧電振動片４を接合しても構わない。但し、バンプ接合することで、圧電振動片４をベース基板２上から浮かすことができ、振動に必要な最低限の振動ギャップを自然と確保することができる。よって、この点において、バンプ接合することが好ましい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【国際調査報告】
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