(57)【要約】  偏向器の偏向面の損傷や汚れ付着を有効に避けつつも偏向器を高精度に調整するため、偏向器調整方法を、偏向器の位置又は角度を調整できるように該偏向器を保持した基台を所定の基準位置に配置する基台配置ステップと、基台が基準位置に配置されたとき、偏向器のレーザー光を偏向する偏向面の裏面が所定の測定機に略正対するように該偏向器を回転させる第一の偏向器回転ステップと、裏面が有する指標の特定位置が測定機の基準軸上に合うように、基台による偏向器の位置調整を行う偏向器位置調整ステップと、偏向面が測定機に略正対するように偏向器を回転させる第二の偏向器回転ステップと、測定機により照射された測定光の偏向面上での反射光が該測定機の基準軸上に戻るように、基台による偏向器の角度調整を行う偏向器角度調整ステップを含む方法とした。
2010058463.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被走査面上にレーザー光を走査する光学機器に搭載される偏向器の調整を行う偏向器調整方法において、
前記偏向器の位置又は角度を調整できるように該偏向器を保持した基台を所定の基準位置に配置する基台配置ステップと、
前記基台が前記基準位置に配置されたとき、前記偏向器の前記レーザー光を偏向する偏向面の裏面が所定の測定機に略正対するように該偏向器を回転させる第一の偏向器回転ステップと、
前記裏面が有する指標の特定位置が前記測定機の基準軸上に合うように、前記基台による前記偏向器の位置調整を行う偏向器位置調整ステップと、
前記偏向面が前記測定機に略正対するように前記偏向器を回転させる第二の偏向器回転ステップと、
前記測定機により照射された測定光の前記偏向面上での反射光が該測定機の基準軸上に戻るように、前記基台による前記偏向器の角度調整を行う偏向器角度調整ステップと、
を含むことを特徴とする偏向器調整方法。
【請求項２】
前記指標は、前記裏面から臨んだときに所定の模様をなすように該裏面に形成された溝部又は凸部であることを特徴とする、請求項１に記載の偏向器調整方法。
【請求項３】
前記指標は、前記裏面にプリントされた所定のマークであることを特徴とする、請求項１に記載の偏向器調整方法。
【請求項４】
前記指標は、前記偏向面を露出するカバーを前記偏向器に装着したときに、前記裏面を覆う該カバーの面に付された模様、又は形成された模様であることを特徴とする、請求項１に記載の偏向器調整方法。
【請求項５】
前記裏面に反射防止処理を施すことを特徴とする、請求項１から請求項４の何れかに記載の偏向器調整方法。
【請求項６】
前記第一の偏向器回転ステップ又は前記第二の偏向器回転ステップにおいて、前記偏向器を前記基台に実装されたアクチュエータを駆動させて電気的に回転させるか、又は該偏向器を手動で回転させるかし、或いは該アクチュエータによる電気的回転と手動による回転とを併用して該偏向器を回転させるかすることにより、該第二の偏向器回転ステップの実行時に該偏向面を前記測定機に略正対させたとき、該アクチュエータを該アクチュエータの回転可能範囲の略中心で停止させた状態にすることを特徴とする、請求項１から請求項５の何れかに記載の偏向器調整方法。
【請求項７】
被走査面上にレーザー光を走査する光学機器に搭載される偏向ユニットにおいて、
前記レーザー光を偏向する偏向面を有する偏向器と、
前記偏向器の位置又は角度を調整できるように該偏向器を保持した基台と、
を有し、
前記基台による前記偏向器の位置調整を行う際に、所定の測定機の基準軸上に合わせられるべき特定位置を持つ指標を、前記偏向面の裏面に有することを特徴とする偏向ユニット。
【請求項８】
前記指標は、前記裏面から臨んだときに所定の模様をなすように該裏面に形成された溝部又は凸部であることを特徴とする、請求項７に記載の偏向ユニット。
【請求項９】
前記指標は、前記裏面にプリントされた所定のマークであることを特徴とする、請求項７に記載の偏向ユニット。
【請求項１０】
被走査面上にレーザー光を走査する光学機器に搭載される偏向ユニットにおいて、
前記レーザー光を偏向する偏向面を有する偏向器と、
前記偏向器の位置又は角度を調整できるように該偏向器を保持した基台と、
前記偏向面を露出しつつも該偏向面の裏面を覆うように前記偏向器に装着されるカバーと、
を有し、
前記裏面を覆う前記カバーの面上に、前記基台による前記偏向器の位置調整を行う際に、所定の測定機の基準軸上に合わせられるべき特定位置を持つ指標を有することを特徴とする偏向ユニット。
【請求項１１】
前記裏面に反射防止処理を施すことを特徴とする、請求項７から請求項１０の何れかに記載の偏向ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、被走査面上にレーザー光を走査する光学機器に搭載される偏向器の調整を行う偏向器調整方法、および該方法による調整を行うのに適した偏向器を持つ偏向ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザープリンタやプロジェクタ等の光学機器には、例えば特開昭５９−３８７２３号公報に開示されるように、被走査面上に走査線を描画するため、光源から照射されたレーザー光を偏向する偏向器が搭載されている。偏向器は、レーザー光が被走査面上に精度良く走査されるよう、精密な調整工程を経て光学機器の筐体に取り付けられている。【０００３】
図１は、被調整部品である偏向器１（例えばガルバノミラー）を搭載した偏向ユニット１０の構成を示す斜視図である。以下、図１を参照して、従来実施されている調整工程を説明する。調整工程において偏向ユニット１０は、図示省略された光学機器の筐体又は調整用治具に取り付けられる。図１又は以降の各図中一点鎖線は、偏向ユニットが搭載される光学機器の中心軸（光軸）ＡＸである。本明細書において、中心軸ＡＸと平行な方向を「Ｙ方向」と定義し、Ｙ方向と直交し且つ互いに直交する二方向を「Ｘ方向」、「Ｚ方向」と定義する。【０００４】
偏向器１の調整には、図示省略された調整用望遠鏡が用いられる。調整用望遠鏡は、偏向器１の調整に先立つキャリブレーションにより、該望遠鏡の光軸が光学機器の中心軸ＡＸ上に合わせ込まれている。偏向ユニット１０は、偏向器１の位置又は角度を４軸方向で微調整する微調整用精密ステージ２を有している。微調整用精密ステージ２は、偏向器１をＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向に移動自在に、かつＸＹ平面上で回転自在に保持している。調整工程において作業者は、微調整用精密ステージ２を操作して偏向器１の位置調整や角度調整を行う。【０００５】
調整工程における作業者の具体的作業は次の通りである。作業者は、偏向器１全体をカバーするカバーキャップ３を偏向器１に取り付ける。カバーキャップ３の外面には、十字型の指標３ｉが付されている。作業者は、偏向器１の偏向面１ｒの中心を中心軸ＡＸに合わせるべく、調整用望遠鏡のアイピースを覗きながら微調整用精密ステージ２を操作して、偏向器１を（主にＸ方向又はＺ方向に）移動させる。作業者は、指標３ｉの中心（十字をなす各線の交点）が該望遠鏡のレチクルの中心に合うように偏向器１の位置を微調整する。作業者は、次いで、偏向器１からカバーキャップ３を取り外す。その上で調整用望遠鏡の光源を点灯させて、偏向器１の偏向面１ｒ上に測定光を照射させる。作業者は、調整用望遠鏡のアイピースを再び覗いて、偏向面１ｒ上に照射された測定光の反射光を観察する。作業者は、偏向面１ｒを適切な角度に、具体的には偏向面１ｒを中心軸ＡＸと直交する角度に（別の表現によればＸＺ平面と平行になるように）調整すべく、微調整用精密ステージ２を操作して偏向器１をＸＹ平面上で回転させる。作業者は、反射光がレチクルの中心に戻るように偏向面１ｒの角度を微調整する。以上に説明された調整工程を経て、偏向器１は、適切な位置および角度に調整される。
【発明の開示】
【０００６】
作業者は、このような方法で偏向器１の調整を行う場合、偏向器１の位置調整や偏向面１ｒの角度調整を行う都度、指標３ｉの取り付け又は取り外しを行う必要がある。これは、作業者にとって煩雑な作業である。また、かかる調整方法では、指標３ｉの個体差や取付誤差に起因して、偏向器１の調整精度が低下する点が問題視されている。さらに、指標３ｉを取り付けし又は取り外す際に、指標３ｉの内壁が偏向面１ｒに擦れて、偏向面１ｒを損傷させたり偏向面１ｒに汚れを付着させたりする点も問題視されている。このような偏向面１ｒの損傷や汚れ付着等は、偏向器１の光学性能を低下させる要因であり、有効に避けることが望まれている。
【０００７】
なお、偏向器を搭載する光学機器そのものに関する文献は多々あるものの、以上に述べた背景技術および問題点に関する適切な先行技術文献を見出すことはできなかった。
【０００８】
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、偏向面の損傷や汚れ付着を有効に避けつつも偏向器を高精度に調整するのに好適な偏向器調整方法、および該方法による調整を行うのに適した偏向器を持つ偏向ユニットを提供することである。
【０００９】
上記の課題を解決する本発明の一形態に係る偏向器調整方法は、被走査面上にレーザー光を走査する光学機器に搭載される偏向器の調整を行う方法であり、以下の特徴を有する。すなわち、かかる偏向器調整方法は、偏向器の位置又は角度を調整できるように該偏向器を保持した基台を所定の基準位置に配置する基台配置ステップと、基台が基準位置に配置されたとき、偏向器のレーザー光を偏向する偏向面の裏面が所定の測定機に略正対するように該偏向器を回転させる第一の偏向器回転ステップと、裏面が有する指標の特定位置が測定機の基準軸上に合うように、基台による偏向器の位置調整を行う偏向器位置調整ステップと、偏向面が測定機に略正対するように偏向器を回転させる第二の偏向器回転ステップと、測定機により照射された測定光の偏向面上での反射光が該測定機の基準軸上に戻るように、基台による偏向器の角度調整を行う偏向器角度調整ステップを含むことを特徴としている。
【００１０】
本発明に係る偏向器調整方法によれば、指標を用いた偏向器の位置調整を行う際、偏向器を回転させて該偏向器の裏面を測定機に向けるだけでよい。偏向器に直接手を触れたり、或いは従来実施されていた調整作業と異なり、指標付きのカバーキャップを偏向器に取り付けたり偏向器から取り外したりする必要がない。そのため、偏向器の調整作業時に、偏向面を損傷させたり偏向面に汚れを付着させたりする問題の発生が好適に抑えられることとなる。さらに、指標付きのカバーキャップ自体を使用しないため、該カバーキャップの個体差や取付誤差に起因する偏向器の調整精度の低下が起こり得ない。別の側面によれば、偏向器自体が指標を有するため、指標と偏向器との相対的なズレが生じ得ない。
【００１１】
ここで指標は、例えば偏向器の裏面から臨んだときに所定の模様をなすように該裏面に形成された溝部又は凸部であってもよく、或いは該裏面にプリントされた所定のマークであってもよい。
【００１２】
また、指標は、偏向面を露出するカバーを偏向器に装着したときに、裏面を覆う該カバーの面に付された模様、又は形成された模様であってもよい。
【００１３】
偏向器の裏面には光学機器内部の不要な乱反射等を防ぐべく、反射防止処理を施すことが望ましい。
【００１４】
また、第一の偏向器回転ステップ又は第二の偏向器回転ステップにおいて、偏向器を基台に実装されたアクチュエータを駆動させて電気的に回転させるか、又は該偏向器を手動で回転させるかし、或いは該アクチュエータによる電気的回転と手動による回転とを併用して該偏向器を回転させるかすることにより、該第二の偏向器回転ステップの実行時に該偏向面を測定機に略正対させたとき、該アクチュエータを該アクチュエータの回転可能範囲の略中心で停止させた状態にすることが好ましい。
【００１５】
また、上記の課題を解決する本発明の一形態に係る偏向ユニットは、被走査面上にレーザー光を走査する光学機器に搭載されるユニットであり、以下の特徴を有する。すなわち、かかる偏向ユニットは、レーザー光を偏向する偏向面を有する偏向器と、偏向器の位置又は角度を調整できるように該偏向器を保持した基台とを有している。当該偏向器は、基台による偏向器の位置調整を行う際に、所定の測定機の基準軸上に合わせられるべき特定位置を持つ指標を、該偏向面の裏面に有することを特徴としている。
【００１６】
また、上記の課題を解決する本発明の別の形態に係る偏向ユニットは、被走査面上にレーザー光を走査する光学機器に搭載されるユニットであり、以下の特徴を有する。すなわち、かかる偏向ユニットは、レーザー光を偏向する偏向面を有する偏向器と、偏向器の位置又は角度を調整できるように該偏向器を保持した基台と、偏向面を露出しつつも該偏向面の裏面を覆うように偏向器に装着されるカバーとを有している。当該カバーは、偏向器の裏面を覆う該カバーの面上に、基台による偏向器の位置調整を行う際に、所定の測定機の基準軸上に合わせられるべき特定位置を持つ指標を有することを特徴としている。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】被調整部品である偏向器を搭載した従来の偏向ユニットの構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施形態の偏向器を搭載する偏向ユニット、および該偏向器の調整に用いられる調整用望遠鏡の構成を示す側面図である。
【図３】本発明の実施形態の偏向器を搭載する偏向ユニット、および該偏向器の調整に用いられる調整用望遠鏡の構成を示す斜視図である。
【図４】調整用望遠鏡が有するレチクルのパターンの一例を示す図である。
【図５】調整用望遠鏡側から臨んだ本発明の実施形態の偏向ユニットの側視図である。
【図６】本発明の実施形態の偏向ユニットの斜視図である。
【図７】本発明の実施形態の偏向ユニットの斜視図である。
【図８】図８（ａ）は、指標が付された裏面カバーを装着した偏向器の側断面図であり、図８（ｂ）は、該裏面カバーの指標面を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照して、本発明に係る光学機器に搭載される偏向ユニットおよび偏向器の調整方法を説明する。【００１９】
図２、図３はそれぞれ、本発明の実施形態の被調整部品である偏向器１１（ガルバノミラーであり、金属製の矩形板）を搭載する偏向ユニット１００、および偏向器１１の調整に用いられる調整用望遠鏡５０の構成を示す側面図、斜視図である。偏向ユニット１００は、偏向器１１の調整を行うにあたり、所定の基準位置に、具体的には光学機器の筐体内の偏向ユニット取付位置（又は調整作業用の筐体治具）に取り付けられる。但し、図２、図３を含む各図においては、図面を明瞭化するため、光学機器の筐体（又は調整作業用の筐体治具）の図示を省略している。また、図２は、調整用望遠鏡５０の構成を概略的に説明するため、調整用望遠鏡５０に内蔵される一部の部品を破線で示している。【００２０】
調整用望遠鏡５０には、例えばコースタル・オプティカル・システム社のアライメントテレスコープ（[平成２０年１１月検索]、インターネット、URL:参照）が使用される。調整用望遠鏡５０は、偏向器１１の調整に先立つキャリブレーションにより、該望遠鏡５０の光軸が光学機器の中心軸ＡＸ上に（又は中心軸ＡＸと等価関係にある調整作業用の筐体治具の中心軸上に）合わせ込まれている。【００２１】
図２に示されるように、調整用望遠鏡５０は、測定光を照射する光源部５１を有している。光源部５１から照射された測定光は、折返しミラー５２、５３に順に折り返されて中心軸ＡＸ上を進み、対物光学系５４を介して調整用望遠鏡５０の前方に配置された被測定物を照射する。かかる測定光は、被測定物上で反射されて、対物光学系５４に入射される。ここで折返しミラー５３のサイズは微小である。そのため、被測定物からの反射光は、折返しミラー５３のケラレによる光量低下が実質的に生じること無く折返しミラー５３を通過して、レチクル５５上に中間像を結ぶ。作業者は、接眼光学系５６を通じてレチクル５５およびレチクル５５上に結ばれる像を観察する。なお、対物光学系５４、接眼光学系５６はそれぞれ、図２中単レンズで示されているが、実際には複数枚のレンズによって構成されている。【００２２】
図２又は図３に示されるように、調整用望遠鏡５０は、フォーカシングノブ５７を有している。対物光学系５４は、作業者によるフォーカシングノブ５７の操作量に応じて、一部のレンズ群が移動する。フォーカシングノブ５７に連動したレンズ群の移動により、対物光学系５４の焦点位置の調節がなされる。本実施形態において対物光学系５４の焦点位置は、被調整部品である偏向器１１の偏向面１１ｒ近傍に予め調節されている。【００２３】
また、調整用望遠鏡５０は、垂直方向調整用マイクロメータ５８、水平方向調整用マイクロメータ５９を有している。垂直方向調整用マイクロメータ５８、水平方向調整用マイクロメータ５９は、レチクル５５と連動している。レチクル５５は、作業者による垂直方向調整用マイクロメータ５８又は水平方向調整用マイクロメータ５９の操作量に応じて、Ｚ方向又はＸ方向に移動する。図４に、調整用望遠鏡５０を覗いたときの該望遠鏡５０の視野範囲６０に写るレチクル５５のパターンの一例を示す。レチクル５５は、偏向器１１の調整に適した位置（例えば図４に示されるようにレチクル５５のパターン中心５５ｃが視野範囲６０の中心に位置するよう）に予め調節されている。【００２４】
偏向ユニット１００は、偏向器１１に加えて微調整用精密ステージ２を有している。微調整用精密ステージ２には、被調整部品の位置又は角度を４軸方向で微調整する汎用的なステージ（例えばシグマ光機株式会社のＴＳＤ−４０９Ｃ、ＴＳＤ−４０９Ｓ、ＴＳＤ−６０９Ｃ、ＴＳＤ−６０９Ｓ等（[平成２０年１１月検索]、インターネット、URL:<http://www.sigma-koki.com/english/C/ManualStages/MultiAxezStages/TSD-XYZQ/TSD-XYZQ.html>参照））が使用される。【００２５】
以下、本実施形態の偏向ユニット１００に利用されている微調整用精密ステージ２について概略的に説明する。図５は、調整用望遠鏡５０側から臨んだ偏向ユニット１００の側視図である。また、図６、図７の各図は、偏向ユニット１００の構成を示す斜視図である。図５から図７の各図に示されるように、微調整用精密ステージ２は、該ステージ２の下側から順に、Ｚステージ２０ｚ、ＸＹステージ２０ｘｙ、θステージ２０θの各種ステージが積層され、連結した構成を有している。θステージ２０θには被調整部品である偏向器１１が保持されている。【００２６】
図５に示されるように、Ｚステージ２０ｚは、Ｚ軸ブロック基台２１ｚ、Ｚ軸マイクロメータ２２ｚ、Ｚ軸クランプ２３ｚを有している。Ｚ軸ブロック基台２１ｚは、作業者によるＺ軸マイクロメータ２２ｚの操作量に応じて、Ｚ方向に迫り上がる（又は下がる）ように移動する連結面（不図示）を有している。かかる連結面にはＸＹステージ２０ｘｙが連結されている。連結面の移動に伴い、該連結面に連結されたＸＹステージ２０ｘｙ、ＸＹステージ２０ｘｙ上に連結されたθステージ２０θ、さらには、θステージ２０θに保持された偏向器１１が一体となってＺ方向に移動する。すなわち、作業者は、Ｚ軸マイクロメータ２２ｚを操作して、中心軸ＡＸに対する偏向器１１のＺ方向の位置を微調整することができる。なお、Ｚ軸ブロック基台２１ｚの連結面は、Ｚ軸クランプ２３ｚをクランプすることにより、Ｚ方向の移動が阻止される。【００２７】
ＸＹステージ２０ｘｙは、ＸＹ軸ブロック基台２１ｘｙ、Ｘ軸マイクロメータ２２ｘ、Ｙ軸マイクロメータ２２ｙ、ＸＹ軸直進型ステージ２３ｘｙ、ＸＹ軸クランプ２４ｘｙを有している。ＸＹ軸直進型ステージ２３ｘｙは、作業者によるＸ軸マイクロメータ２２ｘ又はＹ軸マイクロメータ２２ｙの操作量に応じて、Ｘ方向又はＹ方向に直進移動する。ＸＹ軸直進型ステージ２３ｘｙにはθステージ２０θが連結されている。ＸＹ軸直進型ステージ２３ｘｙの直進移動に伴い、ＸＹ軸直進型ステージ２３ｘｙに連結されたθステージ２０θ、およびθステージ２０θに保持された偏向器１１が一体となってＸ方向又はＹ方向に直進移動する。すなわち、作業者は、Ｘ軸マイクロメータ２２ｘ又はＹ軸マイクロメータ２２ｙを操作して、中心軸ＡＸに対する偏向器１１のＸ方向の位置、又は調整用望遠鏡５０の焦点位置に対する偏向器１１のＹ方向の位置を微調整することができる。なお、ＸＹ軸直進型ステージ２３ｘｙは、ＸＹ軸クランプ２４ｘｙをクランプすることにより、Ｘ方向又はＹ方向の移動が阻止される。【００２８】
θステージ２０θは、回転ブロック基台２１θ、回転用マイクロメータ２２θ、回転型ステージ２３θ、回転用クランプ２４θを有している。回転型ステージ２３θは、作業者による回転用マイクロメータ２２θの操作量に応じて、図５から図７の各図中二点鎖線で示されるα軸を中心にＸＹ平面上で回転する。θステージ２０θに保持された偏向器１１は、回転型ステージ２３θの回転に伴ってＸＹ平面上で回転する。すなわち、作業者は、回転用マイクロメータ２２θを操作して、中心軸ＡＸに対して偏向面１１ｒがなす角度を変えることができる。なお、回転型ステージ２３θは、回転用クランプ２４θをクランプすることにより、ＸＹ平面上の回転が阻止される。【００２９】
回転型ステージ２３θには、ヒートシンク３１が４本のネジ３２によりネジ止めされている。回転型ステージ２３θとヒートシンク３１との間には、円筒状の保持ケース３３が狭持されている。保持ケース３３の一端にはチャック３４が保持されている。チャック３４には、偏向器１１がチャッキングされている。チャック３４による保持力をより一層高めるため、偏向器１１とチャック３４との間には接着剤が流し込まれている。【００３０】
保持ケース３３の内部には、チャック３４に連結された偏向器駆動用アクチュエータ（不図示）が保持されている。偏向器駆動用アクチュエータは、保持ケース３３の他端から延びる信号ケーブルを介して電源装置（ともに図示省略）に接続されており、該電源装置から駆動電圧が供給される。偏向器駆動用アクチュエータの駆動により、チャック３４、およびチャック３４にチャッキングされた偏向器１１が、図５から図７の各図中二点鎖線で示されるβ軸を中心として、保持ケース３３に対して回転する。【００３１】
なお、ヒートシンク３１には、保持ケース３３を保持するだけでなく偏向器駆動用アクチュエータの発熱を効率良く抑える役割も要求されるため、例えば熱放出性に優れたアルミダイカスト品が適している。光学機器を実際に使用する際、偏向面１１ｒに入射されるレーザー光は、β軸中心の回転に伴う偏向面１１ｒの角度変化に応じて偏向されて、光学機器が持つ後段の光学系を介して被走査面上を走査する。【００３２】
次に、本実施形態における偏向器１１の具体的調整作業を説明する。作業者は、図６に示されるように、偏向器１１の裏面１１ｂ（偏向面１１ｒの反対側の面）を調整用望遠鏡５０に略正対させるべく、偏向器１１をβ軸中心に回転させる。このとき作業者は、偏向器駆動用アクチュエータを駆動させて電気的に、又は手動により偏向器１１を回転させる。ここでネジ３２が仮締め状態にあるとき、回転型ステージ２３θとヒートシンク３１とが規定するスペースと、保持ケース３３との間にあそびが生じる。そのため、保持ケース３３の手動によるβ軸中心の回転が許容される。すなわち、作業者は、偏向器１１を保持ケース３３ごと手動で回転させて、偏向器１１のβ軸中心の回転角度を調整することができる。手動による回転作業の後、ネジ３２は、回転型ステージ２３θとヒートシンク３１との狭持により保持ケース３３を固定するため、本締めされる。なお、偏向器１１を回転させて裏面１１ｂを調整用望遠鏡５０に略正対させるとき、電気的回転と手動による回転とを併用しても構わない。【００３３】
偏向器１１の裏面１１ｂには、例えばエンドミルによる切削加工により十字型溝形状である指標１１ｉが形成されている。指標１１ｉの十字をなす各線の交点１１ｃは、裏面１１ｂの中心に位置している。なお、偏向器１１における裏面１１ｂおよび偏向器１１の各側面（つまり、偏向面１１ｒ以外の面）は、光学機器に必要な光学性能を持つ面でないため、光学機器内部の不要な乱反射等を防ぐべく、反射防止処理が施されている。【００３４】
作業者は、調整用望遠鏡５０を覗きながらＸ軸マイクロメータ２２ｘ、Ｚ軸マイクロメータ２２ｚを操作して、偏向器１１をＸ方向又はＺ方向に移動させる。作業者は、指標１１ｉの交点１１ｃを調整用望遠鏡５０のレチクル５５のパターン中心５５ｃに合わせるため、偏向器１１の位置を微調整する。作業者は、指標１１ｉがぼやけて観察される場合にはＹ軸マイクロメータ２２ｙを操作して、調整用望遠鏡５０のピント調整も併せて行う。【００３５】
作業者は、指標１１ｉの交点１１ｃを調整用望遠鏡５０のレチクル５５のパターン中心５５ｃに合わせ込むと次いで、偏向器駆動用アクチュエータを駆動させて、偏向器１１をβ軸中心に１８０度回転させる。すなわち、作業者は、図７に示されるように、偏向器１１の偏向面１１ｒを調整用望遠鏡５０に略正対させる。このときの作業には、手動による保持ケース３３ごとの回転を必要に応じて併用してもよい。なお、作業者は、偏向器駆動用アクチュエータによる偏向器１１の回転可能範囲を鑑みて、偏向器１１を電気的に回転させたり手動により回転させたりすることが好ましい。具体的には、交点１１ｃとパターン中心５５ｃとを一致させて偏向面１１ｒを調整用望遠鏡５０に略正対させたときに、偏向器駆動用アクチュエータが回転可能範囲の略中心で停止した状態にあることが好ましい。【００３６】
作業者は、調整用望遠鏡５０の光源５１を点灯させて、偏向器１１の偏向面１１ｒに測定光を照射させる。作業者は、調整用望遠鏡５０を再び覗いて、偏向面１１ｒに照射された測定光の反射光を観察する。作業者は、偏向面１１ｒを適切な角度に、具体的には偏向面１１ｒを中心軸ＡＸと直交する角度に（別の表現によればＸＺ平面と平行になるように）調整すべく、回転用マイクロメータ２２θを操作して偏向器１１をＸＹ平面上で回転させる。作業者は、反射光がレチクル５５のパターン中心５５ｃに戻るように偏向面１１ｒの角度を微調整する。偏向面１１ｒは、ここでの角度の微調整作業を経て、極めて高精度に中心軸ＡＸに直交した状態に調整される。【００３７】
このように本実施形態によれば、指標を用いた偏向器の位置調整を行う際には、偏向器を回転させて裏面を調整用望遠鏡に向けるだけでよい。偏向器に直接手を触れたり、或いは従来実施されていた調整作業と異なり、偏向器全体をカバーする指標付きのカバーキャップを偏向器に取り付けたり偏向器から取り外したりする必要がない。そのため、偏向器の調整作業時に、偏向面を損傷させたり偏向面に汚れを付着させたりする問題の発生が好適に抑えられることとなる。【００３８】
さらに、本実施形態によれば、上記カバーキャップ自体を使用しないため、該カバーキャップの個体差や取付誤差に起因する偏向器の調整精度の低下が起こり得ない。別の側面によれば、指標１１ｉは、偏向器１１の裏面１１ｂ自体に形成されており、偏向器１１との相対的なズレが生じ得ない。すなわち、指標１１ｉを偏向器１１に直接付すことにより、偏向器１１の調整精度が保障されている。【００３９】
以上が本発明の実施形態である。本発明に係る光学機器に搭載される偏向ユニットおよび偏向器の調整方法は、上記の構成又は方法に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲において様々な変形が可能である。例えば偏向器１１の調整作業は、偏向面１１ｒの角度調整、偏向器１１の位置調整の順に行われてもよい。また、当該位置調整と角度調整の各調整作業は、偏向器１１が高精度に調整されるまで複数回繰り返し行われてもよい。【００４０】
偏向器１１は、製造容易性やコストダウンを鑑みて、例えば偏向面１１ｒに反射膜がコーティングされた低反射性の樹脂成形品であってもよい。【００４１】
また、指標１１ｉの形は十字型に限定されない。指標１１ｉは、例えば作業者が偏向器１１の裏面１１ｂの中心を特定できる形を有していればよい。また、指標１１ｉは溝形状に限らず、例えば裏面１１ｂから突出した凸形状であってもよい。さらに、指標１１ｉは、裏面１１ｂに形成された形状である必要はなく、例えば裏面１１ｂにプリントされたマーク（例えば十字マーク）であってもよい。【００４２】
また、指標１１ｉは、偏向器１１の裏面１１ｂ上に無く、偏向器１１に着脱自在に構成された部品が有していてもよい。図８に、指標１１ｉを有する部品（偏向器１１の裏面１１ｂをカバーする裏面カバー３ｃｐ）の構成を示す。図８（ａ）は、かかる裏面カバー３ｃｐを装着した偏向器１１の側断面図である。また、図８（ｂ）は、指標１１ｉが付された（又は形成された）裏面カバー３ｃｐの指標面３ｓを示す図である。【００４３】
裏面カバー３ｃｐは、例えばヤング率が比較的低い樹脂によって成形された樹脂成形品である。図８（ａ）に示されるように、裏面カバー３ｃｐは、偏向器１１の周辺部に係合する係合爪部３ａを有している。係合爪部３ａは、裏面カバー３ｃｐの各辺沿いに（裏面カバー３ｃｐが略矩形状に形成されているため合計４つ）形成されている。各係合爪部３ａは、偏向器１１の各辺に引っ掛けられて弾性変形されつつ、偏向器１１の周辺部に係合される。これにより、裏面カバー３ｃｐは、偏向面１１ｒの有効領域（つまり、レーザー光の走査に実際に使用される領域）を露出させつつ、偏向器１１の各側面および裏面１１ｂの各面全域に覆い被さる状態で偏向器１１に装着される。なお、裏面カバー３ｃｐは、光学機器内部の不要な乱反射等を防ぐべく、反射率の低い樹脂によって成形されている。【００４４】
偏向器１１の調整は、裏面カバー３ｃｐが偏向器１１に装着された状態で、既に説明された方法と同じ方法で行われる。すなわち、作業者は、裏面カバー３ｃｐの指標面３ｓを調整用望遠鏡５０に略正対させ、調整用望遠鏡５０を覗きながら裏面カバー３ｃｐの指標１１ｉの交点１１ｃを調整用望遠鏡５０のレチクル５５のパターン中心５５ｃに合わせるため、偏向器１１の位置を微調整する。作業者は、次いで、裏面カバー３ｃｐから露出された偏向面１１ｒを調整用望遠鏡５０に略正対させ、調整用望遠鏡５０を再び覗きながら偏向面１１ｒの角度を微調整する。【００４５】
裏面カバー３ｃｐは偏向器１１の調整作業終了後に、偏向器１１から取り外されてもよく、或いは偏向器１１に装着されたままでもよい。裏面カバー３ｃｐは、取付時又は取り外し時の何れにおいても偏向面１１と擦れないため、偏向面１１を損傷させたり偏向面に汚れを付着させたりしない。なお、偏向器１１の調整作業終了後も裏面カバー３ｃｐを装着し続ける場合、偏向器１１の各側面および裏面１１ｂの各面に反射防止処理を施す必要がないといったメリットがある。よって、図８に示す変形例は、裏面に調整用の加工が何ら施されていない既存の偏向器に対して位置調整を行う場合に有効である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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