(57)【要約】  熱対策及び電磁ノイズ対策を同時に実現できるとともに、高周波の電磁波シールド性に優れたグラファイト複合フィルムを提供する。グラファイト複合フィルム（１）は、グラファイト層（４０Ｌ）、第一の導電性接着層（３０Ｌ）と、第一の金属を含む第一の金属層（２０）と、第二の金属を含む第二の金属層（８０）とがこの順に配置されて構成される。第一の金属層（２０）の第一の導電性接着層（３０Ｌ）が配置されている側の表面（２０Ａ）の算術平均粗さＲａ１、及び第二の金属層（８０）の第一の金属層（２０）が配置されている側の面とは反対側の表面（８０Ｂ）の算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
グラファイト層と、第一の導電性接着層と、第一の金属を含む第一の金属層と、第二の金属を含む第二の金属層とがこの順に配置されてなり、
前記第一の金属層の前記第一の導電性接着層が配置されている側の表面の算術平均粗さＲａ１、及び前記第二の金属層の前記第一の金属層が配置されている側の面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下である
グラファイト複合フィルム。
【請求項２】
前記第一の金属は銅である
請求項１に記載のグラファイト複合フィルム。
【請求項３】
前記第二の金属は亜鉛、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、金、銀、パラジウム及びこれらの合金よりなる群から選択された少なくとも一つの金属である
請求項１又は２に記載のグラファイト複合フィルム。
【請求項４】
前記第二の金属層の厚みは前記第一の金属層の厚み以下である
請求項１から３のいずれか一項に記載のグラファイト複合フィルム。
【請求項５】
前記第一の金属層の厚みは０．１０μｍ以上かつ５．００μｍ以下である
請求項４に記載のグラファイト複合フィルム。
【請求項６】
前記第二の金属層の厚みは０．００２μｍ以上かつ０．１００μｍ以下である
請求項４又は５に記載のグラファイト複合フィルム。
【請求項７】
第一面及び第二面を有する保護フィルムの前記第一面に第一の金属を蒸着して第一の金属層を形成し、前記第一の金属層の表面に第一の導電性接着シートを配置してラミネートし、前記保護フィルムを剥離して、前記第一の金属層の前記第一の導電性接着シートが配置されている側の面とは反対側の表面に第二の金属を蒸着して第二の金属層を形成することにより導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程と、
第一面及び第二面を有するグラファイトフィルムの前記第一面に第二の導電性接着シートを配置してラミネートすることにより導電性接着シート付きグラファイトフィルムを準備する工程と、
前記導電性接着シート付き金属蒸着フィルム及び前記導電性接着シート付きグラファイトフィルムを、前記第一の導電性接着シートの表面と前記グラファイトフィルムの前記第二面とが重なるように配置してラミネートする工程とを含み、
前記第一の金属層の前記第一の導電性接着シートが配置されている側の表面の算術平均粗さＲａ１、及び前記第二の金属層の前記第一の金属層が配置されている側の面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下である
グラファイト複合フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記第一の金属は銅である
請求項７に記載のグラファイト複合フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記第二の金属は亜鉛、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、金、銀、パラジウム及びこれらの合金よりなる群から選択された少なくとも一つの金属である
請求項７又は８に記載のグラファイト複合フィルムの製造方法。
【請求項１０】
第一面及び第二面を有する保護フィルムの前記第一面に第二の金属と第一の金属とをこの順に蒸着して、前記第二の金属を含む第二の金属層と前記第一の金属を含む第一の金属層とを形成し、前記第一の金属層の表面に第一の導電性接着シートを配置してラミネートし、前記保護フィルムを剥離することにより導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程と、
第一面及び第二面を有するグラファイトフィルムの前記第一面に第二の導電性接着シートを配置してラミネートすることにより導電性接着シート付きグラファイトフィルムを準備する工程と、
前記導電性接着シート付き金属蒸着フィルム及び前記導電性接着シート付きグラファイトフィルムを、前記第一の導電性接着シートの表面と前記グラファイトフィルムの前記第二面とが重なるように配置してラミネートする工程とを含み、
前記第一の金属層の前記第一の導電性接着シートが配置されている側の表面の算術平均粗さＲａ１、及び前記第二の金属層の前記第一の金属層が配置されている側の面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下である
グラファイト複合フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記第一の金属は銅である
請求項１０に記載のグラファイト複合フィルムの製造方法。
【請求項１２】
前記第二の金属は亜鉛、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、金、銀、パラジウム及びこれらの合金よりなる群から選択された少なくとも一つの金属である
請求項１０又は１１に記載のグラファイト複合フィルムの製造方法。
【請求項１３】
グラファイト層と、第一の導電性接着層と、金属を含み第一面及び第二面を有する金属層と、保護フィルムとがこの順に、前記金属層の第一面側に前記保護フィルムが位置するように配置されてなり、
前記金属層の第一面及び第二面の少なくとも一方の算術平均粗さが５０ｎｍ以下である
グラファイト複合フィルム。
【請求項１４】
前記金属は銅である請求項１３に記載のグラファイト複合フィルム。
【請求項１５】
前記金属層の厚さは０．１０μｍ以上かつ５．００μｍ以下である請求項１３又は１４に記載のグラファイト複合フィルム。
【請求項１６】
前記グラファイト層の前記第一の導電性接着層が配置されている側の面とは反対側の面に、さらに第二の導電性接着層を有する請求項１３から１５のいずれか１項に記載のグラファイト複合フィルム。
【請求項１７】
第一面及び第二面を有する保護フィルムの第一面に金属を蒸着して、第一面及び第二面を有する金属層を形成し、前記金属層の第二面に第一の導電性接着シートを配置してラミネートすることにより導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程と、
第一面及び第二面を有するグラファイトフィルムの第一面に第二の導電性接着シートを配置してラミネートすることにより導電性接着シート付きグラファイトフィルムを準備する工程と、
前記導電性接着シート付き金属蒸着フィルム及び前記導電性接着シート付きグラファイトフィルムを、前記第一の導電性接着シートの表面と前記グラファイトフィルムの第二面とが重なるように配置してラミネートする工程を含み、
前記金属層の第一面及び第二面の少なくとも一方の算術平均粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下である
グラファイト複合フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、グラファイト複合フィルム及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、通信機器、パーソナルコンピューターなどの電子機器の高性能化、小型化、薄型化の要求に伴い、回路の動作周波数が高くなり、電子機器の筐体内部の限られたスペースに、数多くの電子部品が隙間なく配置されている。これら電子部品が熱源や電磁ノイズ源となり、電子機器の誤作動を引き起こしたり、テレビなどの受信に障害を与えたりするおそれがある。また、無線ＬＡＮなどの普及に伴い、電子機器の外部には高周波の電磁波が飛び交っており、このような電磁波が電子機器の内部へ侵入し、電子機器の誤作動を引き起こすおそれがある。そのため、熱対策及び電磁ノイズ対策が重要な課題となっている。【０００３】
このような熱対策及び電磁ノイズ対策として、特許文献１には、所定の導電性粘着剤組成物からなる粘着層、３５μｍの圧延銅箔、前記導電性粘着剤組成物からなる粘着層及びグラファイトシートがこの順で積層されてなるグラファイトシート複合シートが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−５６９６７号公報
【発明の概要】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載のようなグラファイトシート複合シートでは、５ＧＨｚ以上の高周波での電磁波に対する電磁波シールド性が十分ではないおそれがある。
【０００６】
そこで、本開示は、熱対策及び電磁ノイズ対策を同時に実現できるとともに、高周波での電磁波シールド性に優れるグラファイト複合フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
本開示の第一の態様に係るグラファイト複合フィルムは、グラファイト層と、第一の導電性接着層と、第一の金属を含む第一の金属層と、第二の金属を含む第二の金属層とがこの順に配置された構成を有する。第一の金属層の第一の導電性接着層が配置されている側の表面の算術平均粗さＲａ１、及び第二の金属層の第一の金属層が配置されている側の面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下である。
【０００８】
本開示の第二の態様に係るグラファイト複合フィルムの製造方法は、以下の工程を含む。すなわち、第一面及び第二面を有する保護フィルムの第一面に第一の金属を蒸着して第一の金属層を形成し、第一の金属層の表面に第一の導電性接着シートを配置してラミネートし、保護フィルムを剥離して、第一の金属層の第一の導電性接着シートが配置されている側の面とは反対側の表面に第二の金属を蒸着して第二の金属層を形成することにより導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程を含む。第一面及び第二面を有するグラファイトフィルムの第一面に第二の導電性接着シートを配置してラミネートすることにより導電性接着シート付きグラファイトフィルムを準備する工程を含む。そして、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム及び導電性接着シート付きグラファイトフィルムを、第一の導電性接着シートの表面とグラファイトフィルムの第二面とが重なるように配置してラミネートする工程を含む。このとき、第一の金属層の第一の導電性接着シートが配置されている側の表面の算術平均粗さＲａ１、及び第二の金属層の第一の金属層が配置されている側の面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下である。
【０００９】
本開示の第三の態様に係るグラファイト複合フィルムの製造方法は、以下の工程を含む。すなわち、第一面及び第二面を有する保護フィルムの第一面に第二の金属と第一の金属とをこの順に蒸着して、第二の金属を含む第二の金属層と第一の金属を含む第一の金属層とを形成し、第一の金属層の表面に第一の導電性接着シートを配置してラミネートし、保護フィルムを剥離することにより導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程を含む。第一面及び第二面を有するグラファイトフィルムの第一面に第二の導電性接着シートを配置してラミネートすることにより導電性接着シート付きグラファイトフィルムを準備する工程を含む。そして、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム及び導電性接着シート付きグラファイトフィルムを、第一の導電性接着シートの表面とグラファイトフィルムの第二面とが重なるように配置してラミネートする工程を含む。このとき、第一の金属層の第一の導電性接着シートが配置されている側の表面の算術平均粗さＲａ１、及び第二の金属層の第一の金属層が配置されている側の面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下である。
【００１０】
本開示の第四の態様に係るグラファイト複合フィルムは、グラファイト層と、第一の導電性接着層と、金属を含み第一面及び第二面を有する金属層と、保護フィルムとがこの順に、金属層の第一面側に保護フィルムが位置するように配置された構成を有する。金属層の第一面及び第二面の少なくとも一方の算術平均粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下である。
【００１１】
本開示の第五の態様に係るグラファイト複合フィルムの製造方法は、以下の工程を含む。第一面及び第二面を有する保護フィルムの第一面に金属を蒸着して、第一面及び第二面を有する金属層を形成し、金属層の第二面に第一の導電性接着シートを配置してラミネートすることにより導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程を含む。第一面及び第二面を有するグラファイトフィルムの第一面に第二の導電性接着シートを配置してラミネートすることにより導電性接着シート付きグラファイトフィルムを準備する工程を含む。そして、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム及び導電性接着シート付きグラファイトフィルムを、第一の導電性接着シートの表面とグラファイトフィルムの第二面とが重なるように配置してラミネートする工程を含む。このとき、金属層の第一面及び第二面の少なくとも一方の算術平均粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下である。
【００１２】
本開示にかかる技術は、熱対策及び電磁ノイズ対策を同時に実現できるとともに、高周波での電磁波シールド性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１Ａ】図１Ａは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの本体部の概略断面図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの端部の概略断面図である。
【図２Ａ】図２Ａは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第１の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第１の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図２Ｃ】図２Ｃは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第１の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図２Ｄ】図２Ｄは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第１の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図２Ｅ】図２Ｅは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第１の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図２Ｆ】図２Ｆは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第１の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図３Ａ】図３Ａは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図３Ｄ】図３Ｄは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図３Ｅ】図３Ｅは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図３Ｆ】図３Ｆは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程の一例を説明するための概略断面図である。
【図４Ａ】図４Ａは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第１および第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付きグラファイトフィルムを準備する工程を説明するための概略断面図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第１および第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付きグラファイトフィルムを準備する工程を説明するための概略断面図である。
【図４Ｃ】図４Ｃは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第１および第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルム及び導電性接着シート付きグラファイトフィルムをラミネートする工程を説明するための概略断面図である。
【図４Ｄ】図４Ｄは、本開示の第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの、第１および第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図であり、具体的には、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム及び導電性接着シート付きグラファイトフィルムをラミネートする工程を説明するための概略断面図である。
【図５Ａ】図５Ａは、本開示の第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの本体部の概略断面図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、本開示の第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの端部の概略断面図である。
【図６Ａ】図６Ａは、本開示の第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの製造方法を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程を説明するための概略断面図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、本開示の第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの製造方法を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程を説明するための概略断面図である。
【図６Ｃ】図６Ｃは、本開示の第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの製造方法を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程を説明するための概略断面図である。
【図６Ｄ】図６Ｄは、本開示の第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの製造方法を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルムを準備する工程を説明するための概略断面図である。
【図６Ｅ】図６Ｅは、本開示の第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの製造方法を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付きグラファイトフィルムを準備する工程を説明するための概略断面図である。
【図６Ｆ】図６Ｆは、本開示の第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの製造方法を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付きグラファイトフィルムを準備する工程を説明するための概略断面図である。
【図６Ｇ】図６Ｇは、本開示の第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの製造方法を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルム及び導電性接着シート付きグラファイトフィルムをラミネートする工程を説明するための概略断面図である。
【図６Ｈ】図６Ｈは、本開示の第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルムの製造方法を説明するための概略断面図であり、具体的には導電性接着シート付き金属蒸着フィルム及び導電性接着シート付きグラファイトフィルムをラミネートする工程を説明するための概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本開示の実施形態を以下に説明する。
【００１５】
（第１の実施形態）
［本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１］
図１Ａは、第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の本体部の概略断面図である。図１Ｂは、グラファイト複合フィルム１の端部の概略断面図である。
【００１６】
本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１は、図１Ａに示すように、第二の導電性接着層５０Ｌと、グラファイト層４０Ｌと、第一の導電性接着層３０Ｌと、第一の金属を含む第一の金属層２０と、第二の金属層を含む第二の金属層８０とがこの順に積層された構成を有する。第一の金属層２０の第一の導電性接着層３０Ｌが配置されている側の表面２０Ａの算術平均粗さＲａ１、及び第二の金属層８０の第一の金属層２０が配置されている側の表面８０Ａとは反対側の表面８０Ｂの算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下である。さらに、第一の剥離シート６０が第二の導電性接着層５０Ｌの表面１Ａに取り付けられている。ここで、本実施形態における算術平均粗さ（Ｒａ１及びＲａ２）は、ＪＩＳＢ０６０１  ２０１３に準拠する。算術平均粗さ（Ｒａ１及びＲａ２）の測定方法は、実施例に記載の算術平均粗さ（Ｒａ１及びＲａ２）の測定方法と同一であり、測定範囲は１μｍ×１μｍである。
【００１７】
グラファイト複合フィルム１はこのような構成であるので、被着体に貼り付けるだけで、電磁機器の熱対策及び電磁ノイズ対策を同時に実現できる。すなわち、熱伝導性に優れるグラファイト層４０Ｌを有するので、被着体の熱をグラファイト複合フィルム１の面方向に放散させて、被着体の温度を低下させることができる。なお、ここで面方向とは、グラファイト層４０Ｌの厚み方向に対して垂直な方向すなわちグラファイト層４０Ｌの表面に平行な一方向をいう。また、第一の金属層２０の表面２０Ａの算術平均粗さＲａ１、及び第二の金属層８０の表面８０Ｂの算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下であることで、高周波での電磁波シールド性に優れる。これは、第一の金属層２０又は第二の金属層８０に侵入しようとする電磁界（以下、外部電磁界）が高周波になると、本実施形態では、外部電磁界が第一の金属層２０又は第二の金属層８０に侵入しても第一の金属層２０又は第二の金属層８０の内部で速やかに減衰しやすいため、すなわち外部電磁界に対する表皮効果が増大するためと推測される。具体的に、高周波の磁界（以下、外部磁界）が第一の金属層２０又は第二の金属層８０に侵入すると、第一の金属層２０の表面２０Ａ又は第二の金属層８０の表面８０Ｂに誘導される電流（以下、渦電流）が、高周波の磁界を生じて外部磁界を打ち消し、外部磁界の第一の金属層２０又は第二の金属層８０の内部への侵入を遮断しようとする。本実施形態では、第一の金属層２０の表面２０Ａの算術平均粗さＲａ１、及び第二の金属層８０の表面８０Ｂの算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下である。すなわち、表面２０Ａおよび表面８０Ｂのうちの少なくとも一方は平滑であるため、渦電流の損失が少なく、外部磁界を打ち消そうとする高周波の磁界が発生しやすいことが主要因であると推測される。このように本実施形態は高周波での電磁波シールド性に優れるので、外部電磁界に起因する電磁雑音が被着体の回路内に侵入することを抑制することができると同時に、被着体自体の電磁エミッションも抑制することができる。特に、本実施形態の電磁波シールド性は、外部電磁界の周波数が高ければ高いほど、特許文献１に記載のような従来のグラファイトシート複合シートと比較して、より優れる。被着体が導電性を有する場合、第一の金属層２０及び第二の金属層８０は被着体と電気的に接続されて接地されるので、第一の金属層２０又は第二の金属層８０の内部に生じた渦電流は被着体へ解放（グランド）され、より優れた電磁波シールド性を発現する。
【００１８】
グラファイト複合フィルム１の端面において、図１Ｂに示すように、グラファイト層４０Ｌの端面４０Ｅは露出していない。すなわち、グラファイト層４０Ｌの端面４０Ｅは第一の導電性接着層３０Ｌ及び第二の導電性接着層５０Ｌで覆われている。これにより、グラファイト層４０Ｌ内の層間剥離に起因するグラファイト複合フィルム１の断裂を防ぐと同時に、グラファイト層４０Ｌの粉落ちを防ぐことができる。
【００１９】
グラファイト複合フィルム１の厚みは、好ましくは１５μｍ以上かつ８００μｍ以下である。グラファイト複合フィルム１の厚みは、グラファイト複合フィルム１の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察して得られた画像に基づいて測定することができる。以下のグラファイト複合フィルム１を構成する各層の厚みも同様に測定することができる。
【００２０】
グラファイト複合フィルム１は、例えば、使用直前に第一の剥離シート６０をグラファイト複合フィルム１から剥離して、被着体に貼り付けて使用することができる。被着体としては、例えば、電子機器の筐体内部に配置された電子部品などが挙げられる。電子部品としては、例えば、液晶ユニットの背面シャーシ、液晶画像表示装置のバックライトなどに使用される発光ダイオード（ＬＥＤ）光源を備えたＬＥＤ基板、パワーアンプ、大規模集積回路（ＬＳＩ）などが挙げられる。第一の剥離シート６０としては、クラフト紙、グラシン紙、上質紙などの紙；ポリエチレン、ポリプロピレン（ＯＰＰ、ＣＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの樹脂フィルム；紙と樹脂フィルムとを積層したラミネート紙、紙にクレーやポリビニルアルコールなどで目止め処理を施したものの片面又は両面に、シリコーン系樹脂等の剥離処理を施したものなどを用いることができる。
【００２１】
本実施形態は、第二の導電性接着層５０Ｌ、グラファイト層４０Ｌ、第一の導電性接着層３０Ｌ、第一の金属層２０、及び第二の金属層８０がこの順に積層されてなるが、本実施形態はこれに限定されず、グラファイト層４０Ｌ、第一の導電性接着層３０Ｌ、第一の金属層２０、及び第二の金属層８０がこの順に配置された構成であればよい。また、これらの層の間には、本開示技術の効果を阻害しない層が積層されていてもよい。その例として、防錆処理層が第一の金属層２０と第一の導電性接着層３０Ｌとの間に介在していてもよい。防錆処理層としては、例えば、有機皮膜、金属皮膜などを用いることができる。有機皮膜としては、例えば、ベンゾトリアゾール皮膜などが挙げられる。ベンゾトリアゾール皮膜の原料としては、例えば、ベンゾトリアゾール、その誘導体などを用いることができる。金属皮膜の原料としては、例えば、亜鉛、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、金、銀、パラジウムなどの純金属；これら純金属を含んでなる合金などを用いることができる。
【００２２】
本実施形態は、グラファイト層４０Ｌの端面４０Ｅは第一の導電性接着層３０Ｌ及び第二の導電性接着層５０Ｌで覆われているが、本実施形態はこれに限定されず、グラファイト層４０Ｌの端面４０Ｅは露出していてもよい。また、本実施形態では、図１Ｂに示すように、第一の金属層２０及び第二の金属層８０の端面は露出しているが、本実施形態はこれに限定されない。例えば、第一の金属層２０の端面は第二の金属層８０で覆われていてもよい。また、第一の金属層２０及び第二の金属層８０の端面は、第二の金属層８０の表面８０Ｂに配置される保護フィルムで覆われていてもよい。
【００２３】
（第一の金属層２０及び第二の金属層８０）
グラファイト複合フィルム１は、図１Ａに示すように、第一の金属層２０と、第二の金属層８０とを備える。これにより、グラファイト複合フィルム１は電磁波シールド性を有する。また、第二の金属層８０は、第一の金属層２０の第二面２０Ｂに傷が付くことなどを防止することができる。第二の金属層８０は、第一の金属層２０の第二面２０Ｂに配置されている。
【００２４】
第一の金属層２０は、第一の金属を含む。第一の金属としては、グラファイト複合フィルム１の原料に応じて適宜選択すればよく、例えば、銀、銅、金、アルミニウム、マグネシウム、タングステン、コバルト、亜鉛、ニッケル、黄銅、カリウム、リチウム、鉄、白金、スズ、クロム、鉛、チタンなどを用いることができる。なかでも、第一の金属は、グラファイト複合フィルム１の電磁波シールド性を向上させるなどの点から、グラファイト複合フィルム１の原料の中で導電性が高い原料であることが好ましく、導電性が高く、かつ比較的安価などの点で、銅であることがより好ましい。
【００２５】
第二の金属層８０は、第二の金属を含む。第二の金属としては、例えば、銀、銅、金、アルミニウム、マグネシウム、タングステン、コバルト、亜鉛、ニッケル、黄銅、カリウム、リチウム、鉄、白金、スズ、クロム、鉛、チタン、パラジウムなどを用いることができる。
【００２６】
第二の金属は亜鉛、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、金、銀、パラジウム及びこれらの合金よりなる群から選択された少なくとも一つの金属であることが好ましい。すなわち、第二の金属層８０は亜鉛、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、金、銀、パラジウム及びこれらの合金よりなる群から選択された少なくとも一つの金属を含むことが好ましい。これらの金属は、防錆性に優れるため、第二の金属層８０が亜鉛、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、金、銀、パラジウム及びこれらの合金よりなる群から選択された少なくとも一つの金属を含むことで、第一の金属層２０の第二面２０Ｂが腐食しにくくなる。これは、第二の金属層８０が防錆性に優れた金属を含むため、第二の金属層８０により、主として、外からの水分及び酸素の成分などが第一の金属層２０の第二面２０Ｂに到達しにくくなり、第一の金属層２０の原料と、外からの成分との電気化学反応が進行しにくいためと推測される。
【００２７】
第二の金属はニッケルであることが好ましい。すなわち、第二の金属層８０はニッケルを含むことが好ましい。この場合、ニッケルは防錆性が高いため、銅からなる第一の金属層２０はさらに腐食しにくくなる。また、ニッケルは銅との密着性が高いため、ニッケルを含む第二の金属層８０の、銅からなる第一の金属層２０との密着性を向上することができる。このため、図１Ｂに示すように、第一の金属層２０の端面が露出している場合でも、第二の金属層８０と第一の金属層２０との界面から水分及び酸素の成分などが第一の金属層２０の表面に到達しにくくなる。
【００２８】
第二の金属層８０の第一の金属層２０が配置されている側の面とは反対側の表面８０Ｂに、ショート不良を防止するための絶縁層が配置されてもよい。この場合、絶縁層の一部に穴を開け、そこからグラファイト層４０Ｌのグランドを取ることができる。第一の金属層２０上に直接絶縁層を配置し、絶縁層に穴を開けてグランドを取る場合には、銅からなる第一の金属層２０が外からの水分及び酸素の成分などと電気化学反応を起こして腐食してしまう。このため、第二の金属層８０が防錆性に優れた金属を含む場合、第一の金属層２０の腐食を防ぐとともに、グラファイト層４０Ｌのグランドを取ることが可能になる。
【００２９】
第一の金属層２０の第一の導電性接着層３０Ｌが配置されている側の表面２０Ａの算術平均粗さＲａ１、及び第二の金属層８０の第一の金属層２０が配置されている側の表面８０Ａとは反対側の表面８０Ｂの算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、５０ｎｍ以下である。すなわち、第一の金属層２０の表面２０Ａの算術平均粗さＲａ１のみが５０ｎｍ以下であってもよいし、第二の金属層８０の表面８０Ｂの算術平均粗さＲａ２のみが５０ｎｍ以下であってもよいし、第一の金属層２０の表面２０Ａの算術平均粗さＲａ１及び第二の金属層８０の表面８０Ｂの算術平均粗さＲａ２の両方が５０ｎｍ以下であってもよい。渦電流は、第一の金属層２０の表面２０Ａと第二の金属層８０の表面８０Ｂとのうちの、算術平均粗さが小さい方の面側の表面に、すなわち損失が少ない側の面側の表面に誘導されやすいと推測される。これにより、グラファイト複合フィルム１は、高周波の電磁波シールド性に優れる。第一の金属層２０の表面２０Ａの算術平均粗さＲａ１、及び第二の金属層８０の表面８０Ｂの算術平均粗さＲａ２のうちの少なくとも一方が、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００３０】
第一の金属層２０の第一の導電性接着層３０Ｌが配置されている側の表面２０Ａの最大高さ粗さＲｚ１、及び第二の金属層８０の第一の金属層２０が配置されている側の表面８０Ａとは反対側の表面８０Ｂの最大高さ粗さＲｚ２のうちの少なくとも一方が、２００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましい。ここで、本願における最大高さ粗さ（Ｒｚ１及びＲｚ２）は、ＪＩＳＢ０６０１  ２０１３に準拠する。最大高さ粗さ（Ｒｚ１及びＲｚ２）の測定方法は、実施例に記載の最大高さ粗さ（Ｒｚ１及びＲｚ２）の測定方法と同一である。
【００３１】
第一の金属層２０の第一の導電性接着層３０Ｌが配置されている側の表面２０Ａの十点平均粗さＲｚｊｉｓ１、及び第二の金属層８０の第一の金属層２０が配置されている側の表面８０Ａとは反対側の表面８０Ｂの十点平均粗さＲｚｊｉｓ２のうちの少なくとも一方が、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。ここで、本願における十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ１及びＲｚｊｉｓ２）は、ＪＩＳＢ０６０１  ２０１３に準拠する。十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ１及びＲｚｊｉｓ２）の測定方法は、実施例に記載の十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ１及びＲｚｊｉｓ２）の測定方法と同一である。
【００３２】
第二の金属層８０の厚みＴ８０は、第一の金属層２０の厚みＴ２０以下であることが好ましい。これにより、グラファイト複合フィルム１のフレキシブル性を確保できると同時に、グラファイト複合フィルム１を軽量化することができる。これにより、被着面が平坦な面でなくとも、グラファイト複合フィルム１を被着体に容易に貼り付けることができ、グラファイト複合フィルム１の設置の自由度を広げることができる。具体的に、第一の金属層２０の厚みＴ２０は、好ましくは０．１０μｍ以上かつ５．００μｍ以下、より好ましくは０．５０μｍ以上かつ２．００μｍ以下である。第二の金属層８０の厚みＴ８０は、好ましくは０．００２μｍ以上かつ０．１００μｍ以下、より好ましくは０．００２μｍ以上かつ０．０４０μｍ以下である。
【００３３】
本実施形態では、グラファイト複合フィルム１の厚み方向Ｔから見た第一の金属層２０の表面形状はベタ状であるが、本実施形態はこれに限定されない。その例として、メッシュ状、ワイヤー状などをさらに挙げることができる。なお、ベタ状とは、グラファイト複合フィルム１の厚み方向Ｔから見て、第一の金属層２０が一面に隙間なく設けられた状態である。
【００３４】
本実施形態では、グラファイト複合フィルム１の厚み方向Ｔから見た第二の金属層８０の表面形状はベタ状である。すなわち、グラファイト複合フィルム１の厚み方向Ｔから見て、第二の金属層８０が第一の金属層２０の第二面２０Ｂの全領域に隙間なく設けられており、第一の金属層２０の第二面２０Ｂは露出していない。ただし、本実施形態では、第二の金属層８０の表面形状はこれに限定されず、例えば、メッシュ状、ワイヤー状などであってもよい。
【００３５】
（第一の導電性接着層３０Ｌ）
グラファイト複合フィルム１は、図１Ａに示すように、第一の導電性接着層３０Ｌを備える。これにより、第一の金属層２０と、グラファイト層４０Ｌとを、接着固定できると同時に電気的に接続できる。
【００３６】
第一の導電性接着層３０Ｌは、図１Ａに示すように、第一の粘着層３１、第一の金属基材３２及び第二の粘着層３３がこの順で積層されてなる。第一の導電性接着層３０Ｌは、第一の金属基材３２を含むので、第一の導電性接着層３０Ｌは導電性に優れる。第一の導電性接着層３０Ｌの厚みは、好ましくは２μｍ以上かつ３００μｍ以下である。グラファイト複合フィルム１の厚み方向Ｔから見た第一の導電性接着層３０Ｌの表面形状はベタ状である。
【００３７】
第一の粘着層３１は、導電性及び粘着性を有する導電性粘着剤からなる。導電性粘着剤としては、例えば、重合体及び導電性フィラーを含有し、必要に応じて、架橋剤、添加剤、溶剤をさらに含有してもよい。重合体としては、アクリル系重合体、ゴム系重合体、シリコーン系重合体、ウレタン系重合体などを用いることができる。なかでも、グラファイト複合フィルム１を発熱材に貼付した場合であっても熱の影響による剥がれを起こしにくい点で、アクリル系重合体及びゴム系重合体を用いることが好ましい。アクリル系重合体としては、（メタ）アクリル単量体などのビニル単量体を重合して得られるものを用いることができる。導電性フィラーとしては、例えば、金属系フィラー、カーボン系フィラー、金属複合系フィラー、金属酸化物系フィラー、チタン酸カリウム系フィラーなどを用いることができる。金属系フィラーの原料としては、銀、ニッケル、銅、スズ、アルミニウム、ステンレスなどが挙げられる。カーボン系フィラーの原料としては、ケッチェンブラック、アセチレンブラック、黒鉛などを用いることができる。金属複合系フィラーの原料としては、アルミニウムコートガラス、ニッケルコートガラス、銀コートガラス、ニッケルコート炭素などを用いることができる。金属酸化物系フィラーの原料としては、アンチモンドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アルミニウムドープ酸化亜鉛などを用いることができる。導電性フィラーの形状は、特に限定されず、例えば、粉末、フレーク、繊維などが挙げられる。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、キレート系架橋剤、アジリジン系架橋剤などを用いることができる。添加剤としては、第一の粘着層３１の粘着力をより一層向上させることを目的として、粘着付与樹脂を使用することができる。粘着付与樹脂としては、例えばロジン系樹脂；テルペン系樹脂；脂肪族（Ｃ５系）又は芳香族（Ｃ９系）などの石油樹脂；スチレン系樹脂フェノール系樹脂；キシレン系樹脂；メタクリル系樹脂などを用いることができる。第一の粘着層３１の厚みは、好ましくは０．２μｍ以上かつ５０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上かつ２０μｍ以下である。
【００３８】
第一の金属基材３２の原料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、錫、これらの合金などを用いることができる。なかでも、第一の金属基材３２の原料は、柔軟性、熱導電性などの点で、アルミニウム又は銅であることが好ましく、金属の不動態化により腐食が進行しにくいなどの点でアルミニウムであることがさらに好ましい。アルミニウムからなる金属基材としては、硬質アルミニウムからなる硬質アルミニウム基材、軟質アルミニウムからなる軟質アルミニウム基材を用いることができる。硬質アルミニウム基材は、アルミニウムを圧延して得たアルミ箔からなる。軟質アルミニウム基材は、アルミニウムを圧延し、焼鈍処理をして得られたアルミニウム箔からなる。銅からなる金属基材としては、例えば電解銅からなる基材、圧延銅からなる基材を用いることができる。第一の金属基材３２の厚みは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下である。
【００３９】
第二の粘着層３３は、導電性及び粘着性を有し、例えば、重合体及び導電性フィラーを含有する。第二の粘着層３３は、第一の粘着層３１と同様の構成である。
【００４０】
本実施形態では、第一の導電性接着層３０Ｌは、図１Ａに示すように、第一の粘着層３１、第一の金属基材３２及び第二の粘着層３３がこの順で積層されてなるが、本実施形態はこれに限定されない。その例として、第一の導電性接着層３０Ｌは導電性樹脂からなる単層であってもよい。また、本実施形態では、第二の粘着層３３は第一の粘着層３１と同じ構成であるが、本実施形態ではこれに限定されず、導電性及び粘着性を有すれば、第一の粘着層３１と異なる構成であってもよい。
【００４１】
（グラファイト層４０Ｌ）
グラファイト複合フィルム１は、図１Ａに示すように、グラファイト層４０Ｌを備える。これにより、被着体の熱を効率良く伝導し放散することができると同時に、グラファイト複合フィルム１の電磁波シールド性を向上させることができる。
【００４２】
グラファイト層４０Ｌは、面方向において優れた電気伝導性及び熱伝導性を有する。グラファイト層４０Ｌの原料としては、例えば、炭素の層状結晶体グラファイト（黒鉛）；黒鉛を母体とし、その層間に化学種が侵入して形成された黒鉛層間化合物（Graphite Intercalation Compound）などを用いることができる。化学種としては、例えば、カリウム、リチウム、臭素、硝酸、塩化鉄（III）、六塩化タングステン、五フッ化ヒ素などが挙げられる。また、グラファイト層４０Ｌは、例えば、グラファイトフィルムを１枚又は複数枚を積層したものであってもよい。グラファイトフィルムとしては、例えば、高分子フィルムを高温で焼成して生成された熱分解性グラファイトシート；膨張グラファイト法により生成された膨張グラファイトシートなどを用いることができる。なかでも、熱伝導率が高く、軽量で柔軟性があり、加工が容易であるなどの点で、グラファイトフィルムとして、高分子フィルムを高温で焼成して生成された熱分解性グラファイトシートを用いることが好ましい。高分子フィルムとしては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミドなどの耐熱性の芳香族高分子などを用いることができる。高分子フィルムを焼成する温度は、好ましくは２６００℃以上かつ３０００℃以下である。膨張グラファイト法は、天然グラファイト鉛を硫酸などの強酸で処理することで層間化合物を形成させ、これを加熱及び膨張させた際に生じる膨張グラファイトを圧延してシート状にする方法である。グラファイトフィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ以上かつ１００μｍ以下である。
【００４３】
熱分解性グラファイトシートの熱伝導率は、ａ−ｂ面方向が好ましくは７００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上かつ１９５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下、ｃ軸方向が好ましくは８Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上かつ１５Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下である。熱分解性グラファイトシートの密度は、好ましくは０．８５ｇ／ｃｍ３以上かつ２．１３ｇ／ｃｍ３以下である。このような熱分解性グラファイトシートとしては、例えば、パナソニック株式会社製の「ＰＧＳ（登録商標）グラファイトシート」を用いることができる。
【００４４】
グラファイト層４０Ｌの厚みは、好ましくは５μｍ以上かつ５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上かつ２００μｍ以下である。グラファイト複合フィルム１の厚み方向Ｔから見たグラファイト層４０Ｌの表面形状はベタ状である。
【００４５】
（第二の導電性接着層５０Ｌ）
グラファイト複合フィルム１は、図１Ａに示すように、第二の導電性接着層５０Ｌを備えることが好ましい。これにより、グラファイト複合フィルム１を被着体に密着させることができ、グラファイト複合フィルム１の優れた放熱性を発現させやすくなると同時に、グラファイト層４０Ｌと被着体とを電気的に接続することができる。このように、第一の金属層２０及び第二の金属層８０と被着体とは電気的に接続されるので、被着体が導電性を有する場合、グラファイト複合フィルム１の電磁波シールド性はより優れる。
【００４６】
第二の導電性接着層５０Ｌは、図１Ａに示すように、第三の粘着層５１、第二の金属基材５２及び第四の粘着層５３がこの順で積層されてなる。第二の導電性接着層５０Ｌの構成は、第一の導電性接着層３０Ｌと同様の構成である。
【００４７】
本実施形態では、第二の導電性接着層５０Ｌは、図１Ａに示すように、第三の粘着層５１、第二の金属基材５２及び第四の粘着層５３がこの順で積層されてなるが、本実施形態はこれに限定されない。その例として、第二の導電性接着層５０Ｌは導電性樹脂からなる単層であってもよい。また、本実施形態では、第二の導電性接着層５０Ｌの構成は、第一の導電性接着層３０Ｌと同様の構成であるが、本実施形態はこれに限定されず、導電性及び粘着性を有すれば、第一の導電性接着層３０Ｌと異なる構成であってもよい。
【００４８】
［第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の、第１の製造方法］
図２Ａ〜図２Ｆは、本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の、第１の製造方法の一部を説明するための概略断面図である。具体的に、図２Ａ〜図２Ｆは、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する工程（Ａ）を説明するための概略断面図である。
【００４９】
図４Ａ〜図４Ｄは、本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の、第１の製造方法の一部を説明するための概略断面図である。具体的に、図４Ａ及び図４Ｂは、導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を準備する工程（Ｂ）を説明するための概略断面図である。図４Ｃ及び図４Ｄは、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００をラミネートする工程（Ｃ）を説明するための概略断面図である。図２Ａ〜図２Ｆ及び図４Ａ〜図４Ｄにおいて、図１Ａに示す実施形態の構成部材と同一の構成部材には同一符号を付して説明を省略する。なお、グラファイトフィルム４０はグラファイト層４０Ｌに対応し、第一の導電性接着シート３０は第一の導電性接着層３０Ｌに対応し、第二の導電性接着シート５０は第二の導電性接着層５０Ｌに対応する。
【００５０】
第１の方法に係るグラファイト複合フィルム１の製造方法は、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する工程（Ａ）と、導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を準備する工程（Ｂ）と、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００をラミネートする工程（Ｃ）とを含み、工程（Ａ）、工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）をこの順で行う。これにより、熱対策及び電磁ノイズ対策を同時に実現できるとともに、高周波での電磁波シールド性に優れるグラファイト複合フィルム１が得られる。
【００５１】
工程（Ａ）：第一面１０Ａ及び第二面１０Ｂを有する保護フィルム１０の第一面１０Ａに第一の金属を蒸着して第一の金属層２０を形成して第一の積層体１１１を準備する（以下、工程（ａ１））。第一の金属層２０の表面２０Ａに第一の導電性接着シート３０を配置しラミネートして第二の積層体１１２を準備する（以下、工程（ａ２））。この第二の積層体１１２の保護フィルム１０を剥離してから、第一の金属層２０の第二面２０Ｂに第二の金属を蒸着して第二の金属層８０を形成する（以下、工程（ａ３））。そして、金属蒸着フィルム１１０と第一の導電性接着シート３０とを有する導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する。
【００５２】
工程（Ｂ）：第一面４０Ａ及び第二面４０Ｂを有するグラファイトフィルム４０の第一面４０Ａに、第二の導電性接着シート５０を配置してラミネートする。
【００５３】
工程（Ｃ）：導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａとグラファイトフィルム４０の第二面４０Ｂとが重なるように配置してラミネートする。
【００５４】
本実施形態では、工程（Ａ）、工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）をこの順で行うが、本実施形態はこれに限定されない。その例として、工程（Ｂ）、工程（Ａ）及び工程（Ｃ）をこの順に行ってもよい。
【００５５】
〔工程（Ａ）〕
工程（Ａ）では、保護フィルム１０上に第一の金属層２０を形成して第一の積層体１１１を準備する工程（ａ１）と、第一の積層体１１１と第一の導電性接着シート３０とをラミネートして第二の積層体１１２を準備する工程（ａ２）と、保護フィルム１０を剥離して第二の金属層８０を形成する工程（ａ３）とをこの順で行う。これにより、第一の金属層２０及び第二の金属層８０の積層体である金属蒸着フィルム１１０と第一の導電性接着シート３０とを有する導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する。
【００５６】
（工程（ａ１））
工程（ａ１）では、図２Ａに示す保護フィルム１０の第一面１０Ａに第一の金属を蒸着して、図２Ｂに示すような第一の金属層２０を形成する。この工程（ａ１）を経て、図２Ｂに示す保護フィルム１０と第一の金属層２０とを有する第一の積層体１１１が得られる。
【００５７】
保護フィルム１０の原料としては、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、オレフィン系樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂（ＡＳ樹脂）、ポリアクリロニトリル、ブタジエン樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂（ＡＢＳ樹脂）、アクリル樹脂、ポリアセタール、ポリフェニレンエーテル、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイミド、ポリスルフィド、ポリウレタン、酢酸ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、脂肪族ポリアミド、合成ゴム、芳香族ポリアミド、ポリビニルアルコールなどを用いることができる。必要に応じて、保護フィルム１０は、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、可塑剤、滑剤などをさらに含有してもよい。保護フィルム１０の厚みは、好ましくは０．５μｍ以上かつ２００μｍ以下である。
【００５８】
保護フィルム１０は、離型フィルムであることが好ましい。離型フィルムとしては、例えば、フィルムに離型剤を塗布したものを用いることができる。離型フィルムに用いるフィルムの原料としては、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、オレフィン系樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂（ＡＳ樹脂）、ポリアクリロニトリル、ブタジエン樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂（ＡＢＳ樹脂）、アクリル樹脂、ポリアセタール、ポリフェニレンエーテル、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイミド、ポリスルフィド、ポリウレタン、酢酸ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、脂肪族ポリアミド、合成ゴム、芳香族ポリアミド、ポリビニルアルコールなどを用いることができる。離型剤としては、例えば、シリコーン等を用いることができる。保護フィルム１０が離型フィルムであることで、保護フィルム１０の剥離が容易になる。
【００５９】
第一の金属を蒸着する方法は、真空蒸着法が好ましい。第一の金属層２０の表面２０Ａの算術平均粗さＲａ１を５０ｎｍ以下とする方法は、例えば、真空炉内の真空度、真空炉内の温度などを適宜調整する方法などが挙げられる。
【００６０】
工程（ａ１）では、例えば、長尺状の保護フィルム１０の第一面１０Ａに第一の金属を蒸着させ、第一の積層体１１１を連続的に形成してもよい。
【００６１】
（工程（ａ２））
工程（ａ２）では、図２Ｃに示すように、第一の積層体１１１の表面２０Ａに第一の導電性接着シート３０を配置してラミネートする。この際、図２Ｃに示すように、取扱い性に優れるなどの点で、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａに、第二の剥離シート１２０が取り付けられている。この工程（ａ２）を経て、図２Ｄに示す、第一の積層体１１１と第一の導電性接着シート３０とを有する第二の積層体１１２が得られる。
【００６２】
図２Ｃに示す第二の剥離シート１２０が取り付けられた第一の導電性接着シート３０の製造方法としては、例えば、以下に示す方法などが挙げられる。すなわち、第三の剥離シートの表面上に、導電性粘着剤を塗布して第一の粘着層３１を形成する工程を含む。第二の剥離シート１２０の表面１２０Ａ上に、導電性粘着剤を塗布し、乾燥して第二の粘着層３３を形成する工程を含む。第一面３２Ａ及び第二面３２Ｂを有する第一の金属基材３２の第一面３２Ａに第一の粘着層３１を、第二面３２Ｂに第二の粘着層３３をそれぞれ貼り合わせて積層フィルムとし、養生させた後、この積層フィルムから第三の剥離シートを剥離する工程と、を含むのである。導電性粘着剤の塗布方法としては、ロールコーター、ダイコーターなどを用いる方法などが挙げられる。導電性粘着剤が溶剤を含有する場合には、５０℃〜１２０℃程度の環境下で乾燥して溶媒を除去することが好ましい。養生の処理条件は、処理温度が好ましくは１５℃以上かつ５０℃以下、処理時間が好ましくは４８時間以上かつ１６８時間以内である。第二の剥離シート１２０及び第三の剥離シートの構成は、第一の剥離シート６０と同様の構成である。
【００６３】
第一の積層体１１１と、第一の導電性接着シート３０とをラミネートする方法としては、例えば、第一の積層体１１１の表面２０Ａと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとが対向するように、第一の積層体１１１及び第一の導電性接着シート３０を配置し、第一の積層体１１１の表面２０Ａと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとを接触加圧して密着させる方法などが挙げられる。
【００６４】
工程（ａ２）では、例えば、長尺状の第一の積層体１１１及び長尺状の第一の導電性接着シート３０を一対のロール間に繰り出し、一対のロール間に挟み込んで第一の積層体１１１及び第一の導電性接着シート３０を面接触させることでラミネートし、第二の積層体１１２を連続的に形成してもよい。
【００６５】
本実施形態では、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａに第二の剥離シート１２０が取り付けられているが、本実施形態はこれに限定されず、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａに第二の剥離シート１２０が取り付けられていなくてもよい。
【００６６】
（工程（ａ３））
工程（ａ３）では、図２Ｅに示すように第二の積層体１１２から保護フィルム１０を剥離し、第一の金属層２０の第二面２０Ｂに第二の金属を蒸着して図２Ｆに示すような第二の金属層８０を形成する。この工程（ａ３）を経て、図２Ｆに示す金属蒸着フィルム１１０と第一の導電性接着シート３０とを有する導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００が得られる。
【００６７】
第二の金属を蒸着する方法は、真空蒸着法が好ましい。第二の金属層８０の表面８０Ｂの算術平均粗さＲａ２を５０ｎｍ以下とする方法は、例えば、真空炉内の真空度、真空炉内の温度などを適宜調整する方法などが挙げられる。
【００６８】
本実施形態では、工程（Ａ）は、工程（ａ１）、工程（ａ２）、及び工程（ａ３）を含むが、本実施形態はこの工程順に限定されず、例えば、工程（ａ１）の後に、保護フィルム１０を剥離して第二の金属層８０を形成することにより金属蒸着フィルム１１０を作製してから金属蒸着フィルム１１０と第一の導電性接着シート３０とをラミネートする方法がある。また、工程（ａ１）の後に保護フィルム１０を剥離し、第一の金属層２０と第一の導電性接着シート３０とをラミネートしてから第二の金属層８０を形成する方法などによって導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を作製してもよい。
【００６９】
〔工程（Ｂ）〕
工程（Ｂ）では、図４Ａに示すように、第一面４０Ａ及び第二面４０Ｂを有するグラファイトフィルム４０の第一面４０Ａに第二の導電性接着シート５０を配置してラミネートする。この際、図４Ａに示すように、取扱い性に優れるなどの点で、第二の導電性接着シート５０の表面５３Ａに、第一の剥離シート６０が取り付けられている。この工程（Ｂ）を経て、図４Ｂに示す、導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００が得られる。
【００７０】
図４Ａに示す第一の剥離シート６０が取り付けられた第二の導電性接着シート５０の製造方法としては、例えば、上述した図２Ｄに示す第二の剥離シート１２０が取り付けられた第一の導電性接着シート３０の製造方法と同様の方法が挙げられる。
【００７１】
グラファイトフィルム４０と第二の導電性接着シート５０とをラミネートする方法としては、例えば、図４Ａに示すように、第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａが上向きとなるように第二の導電性接着シート５０を配置し、所定の寸法にカットされたグラファイトフィルム４０を第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａ上に置く方法などが挙げられる。カットされたグラファイトフィルム４０の寸法は、図４Ｄに示すように、グラファイトフィルム４０の全体が導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００で覆われる寸法であればよい。グラファイトフィルム４０の全体を導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００で覆うことで、グラファイト層４０Ｌ内の層間剥離に起因するグラファイト複合フィルム１の断裂を防ぐとともに、グラファイト層４０Ｌの粉落ちを防ぐことができる。
【００７２】
工程（Ｂ）では、例えば、第二の導電性接着シート５０を連続的にラミネート製造工程へ繰り出し、カットされたグラファイトフィルム４０を第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａに所定間隔を空けて連続的に置くことで、連続的に導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を製造してもよい。
【００７３】
本実施形態では、カットされたグラファイトフィルム４０を第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａ上に置いてラミネートするが、本実施形態はこれに限定されず、長尺状のグラファイトフィルム４０及び長尺状の第二の導電性接着シート５０をそれぞれ連続的に一対のロール間へ繰り出し、一対のロール間に挟み込んでグラファイトフィルム４０及び第二の導電性接着シート５０を面接触させることでラミネートしてもよい。
【００７４】
〔工程（Ｃ）〕
工程（Ｃ）では、図４Ｃに示すように、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａとグラファイトフィルム４０の第二面４０Ｂとが重なるように配置してラミネートする。この際、図４Ｃに示すように、第二の剥離シート１２０は剥離されている。第一の剥離シート６０はグラファイト複合フィルム１の取扱い性に優れるなどの点で、取り付けられたままである。この工程（Ｃ）を経て、図４Ｄに示す、グラファイト複合フィルム１が得られる。
【００７５】
導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００と、導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００とをラミネートする方法としては、例えば、図４Ｃに示すような方法が挙げられる。すなわち、グラファイトフィルム４０が配置された側の表面２００Ａが上向きとなるように導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を配置し、グラファイトフィルム４０全体を覆うように導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００の表面２００Ａ上に置く方法などが挙げられる。
【００７６】
工程（Ｃ）では、例えば、長尺状の導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び長尺状の導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を一対のロール間に繰り出し、一対のロール間に挟み込んで導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を面接触させることでラミネートし、必要なサイズにカットすることで、グラファイト複合フィルム１を連続的に製造してもよい。
【００７７】
本実施形態では、工程（Ａ）、工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）を含むが、本実施形態はこの積層順に限定されず、例えば、以下の方法が挙げられる。第一の積層体１１１、第一の導電性接着シート３０、グラファイトフィルム４０、及び第二の導電性接着シート５０を同時にラミネートした後に、保護フィルム１０を剥離して第二の金属層８０を形成することで、グラファイト複合フィルム１を製造する方法が挙げられる。また、第一の導電性接着シート３０、グラファイトフィルム４０、及び第二の導電性接着シート５０をラミネートすることで積層フィルムを得、得られた積層フィルムと金属蒸着フィルム１１０とをラミネートすることで、グラファイト複合フィルム１を製造する方法があげられる。また、金属蒸着フィルム１１０、第一の導電性接着シート３０及びグラファイトフィルム４０をラミネートすることで積層フィルムを得、得られた積層フィルムと、第二の導電性接着シート５０とをラミネートすることで、グラファイト複合フィルム１を製造する方法などが挙げられる。
【００７８】
［第１の実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の、第２の製造方法］
図３Ａ〜図３Ｆは、本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の、第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図である。具体的に、図３Ａ〜図３Ｆは、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する工程（Ａ）を説明するための概略断面図である。
【００７９】
図４Ａ〜図４Ｄは、本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の、第２の製造方法の一部を説明するための概略断面図である。具体的に、図４Ａ及び図４Ｂは、導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を準備する工程（Ｂ）を説明するための概略断面図である。図４Ｃ及び図４Ｄは、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００をラミネートする工程（Ｃ）を説明するための概略断面図である。図３Ａ〜図３Ｆ及び図４Ａ〜図４Ｄにおいて、図１Ａに示す実施形態の構成部材と同一の構成部材には同一符号を付して説明を省略する。具体的に、グラファイトフィルム４０はグラファイト層４０Ｌに対応し、第一の導電性接着シート３０は第一の導電性接着層３０Ｌに対応し、第二の導電性接着シート５０は第二の導電性接着層５０Ｌに対応する。
【００８０】
本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の、第２の製造方法は、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する工程（Ａ）と、導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を準備する工程（Ｂ）と、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００をラミネートする工程（Ｃ）とを含み、工程（Ａ）、工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）をこの順で行う。これにより、熱対策及び電磁ノイズ対策を同時に実現できるとともに、高周波での電磁波シールド性に優れるグラファイト複合フィルム１が得られる。
【００８１】
工程（Ａ）：第一面１０Ａ及び第二面１０Ｂを有する保護フィルム１０の第一面１０Ａに第二の金属と第一の金属とをこの順に蒸着して、第二の金属を含む第二の金属層８０及び第一の金属を含む第一の金属層２０を有する金属蒸着フィルム１１０と保護フィルム１０との積層体１１３を準備する（以下、工程（ａ１））。この積層体１１３の第一の金属層２０の表面２０Ａに、第一の導電性接着シート３０を配置してラミネートしてから、保護フィルム１０を剥離する（以下、工程（ａ２））。そして、金属蒸着フィルム１１０と第一の導電性接着シート３０とを有する導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する。
【００８２】
工程（Ｂ）：第一面４０Ａ及び第二面４０Ｂを有するグラファイトフィルム４０の第一面４０Ａに、第二の導電性接着シート５０を配置してラミネートする。
【００８３】
工程（Ｃ）：導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａとグラファイトフィルム４０の第二面４０Ｂとが重なるように配置してラミネートする。
【００８４】
本実施形態では、工程（Ａ）、工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）をこの順で行うが、本実施形態はこれに限定されない。その例として、工程（Ｂ）、工程（Ａ）及び工程（Ｃ）をこの順に行ってもよい。
【００８５】
なお、本実施形態における工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）は、第１の方法における工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）と同様の工程であるため、説明を省略する。
【００８６】
〔工程（Ａ）〕
工程（Ａ）では、第二の金属層８０及び第一の金属層２０を形成して積層体１１３を準備する工程（ａ１）と、積層体１１３と第一の導電性接着シート３０とをラミネートしてから保護フィルム１０を剥離する工程（ａ２）とをこの順で行う。これにより、第一の金属層２０及び第二の金属層８０の積層体である金属蒸着フィルム１１０と第一の導電性接着シート３０とを有する導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する。
【００８７】
（工程（ａ１））
工程（ａ１）では、図３Ａに示す保護フィルム１０の第一面１０Ａに第二の金属を蒸着して、図３Ｂに示すような第二の金属層８０を形成し、第二の金属層８０の表面８０Ａに第一の金属を蒸着して、図３Ｃに示すような第一の金属層２０を形成する。この工程（ａ１）を経て、図３Ｃに示す保護フィルム１０と金属蒸着フィルム１１０とを有する積層体１１３が得られる。
【００８８】
本方法で使用される保護フィルム１０は、第１の方法で使用される保護フィルム１０と同じであってよい。
【００８９】
第二の金属を蒸着する方法は、真空蒸着法が好ましい。第二の金属層８０の表面８０Ｂの算術平均粗さＲａ２を５０ｎｍ以下とする方法は、例えば、真空炉内の真空度、真空炉内の温度などを適宜調整する方法などが挙げられる。真空蒸着法により第二の金属層８０を形成する場合、第二の金属層８０の表面８０Ｂの表面性状は、保護フィルム１０の第一面１０Ａの表面性状に完全に追従せず、第二の金属層８０の表面８０Ｂの算術平均粗さＲａ２は、保護フィルム１０の第一面１０Ａの算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さくなる傾向にある。
【００９０】
第一の金属を蒸着する方法は、真空蒸着法が好ましい。第一の金属層２０の表面２０Ａの算術平均粗さＲａ１を５０ｎｍ以下とする方法は、例えば、真空炉内の真空度、真空炉内の温度などを適宜調整する方法などが挙げられる。
【００９１】
工程（ａ１）では、例えば、長尺状の保護フィルム１０を第二の金属を蒸着する製造工程へ連続的に繰り出し、第二の金属を蒸着する製造工程及び第一の金属を蒸着する製造工程をこの順に経由させ、第二の金属層８０及び第一の金属層２０を連続的に製造してもよい。
【００９２】
（工程（ａ２））
工程（ａ２）では、積層体１１３の第一の金属層２０の表面２０Ａに第一の導電性接着シート３０を配置してラミネートする。この際、図３Ｄに示すように、取扱い性に優れるなどの点で、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａに、第二の剥離シート１２０が取り付けられている。その後、保護フィルム１０を剥離し、図３Ｆに示す金属蒸着フィルム１１０と第一の導電性接着シート３０とを有する導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００が得られる。
【００９３】
図３Ｄに示す第二の剥離シート１２０が取り付けられた第一の導電性接着シート３０の製造方法としては、図２Ｄに示す第一の導電性接着シート３０の製造方法を同じであってよい。
【００９４】
積層体１１３と、第一の導電性接着シート３０とをラミネートする方法としては、例えば、積層体１１３の表面２０Ａと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとが対向するように、積層体１１３及び第一の導電性接着シート３０を配置し、積層体１１３の表面２０Ａと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとを接触加圧して密着させる方法などが挙げられる。
【００９５】
工程（ａ２）では、例えば、積層体１１３及び長尺状の第一の導電性接着シート３０を一対のロール間に繰り出し、一対のロール間に挟み込んで積層体１１３及び第一の導電性接着シート３０を面接触させることでラミネートしてもよい。
【００９６】
本実施形態では、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａに第二の剥離シート１２０が取り付けられているが、本実施形態はこれに限定されず、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａに第二の剥離シート１２０が取り付けられていなくてもよい。
【００９７】
本実施形態では、工程（Ａ）は、工程（ａ１）及び工程（ａ２）を含むが、本実施形態はこの工程順に限定されず、例えば、工程（ａ１）の後に、積層体１１３から保護フィルム１０を剥離することにより金属蒸着フィルム１１０を作製してから金属蒸着フィルム１１０と第一の導電性接着シート３０とをラミネートする方法などによって導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を作製してもよい。
【００９８】
本実施形態では、工程（Ａ）、工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）を含むが、本実施形態はこの積層順に限定されず、例えば、以下のような方法が挙げられる。積層体１１３、第一の導電性接着シート３０、グラファイトフィルム４０、及び第二の導電性接着シート５０を同時にラミネートした後に、保護フィルム１０を剥離することで、グラファイト複合フィルム１を製造する方法が挙げられる。また、第一の導電性接着シート３０、グラファイトフィルム４０、及び第二の導電性接着シート５０をラミネートすることで積層フィルムを得、得られた積層フィルムと、金属蒸着フィルム１１０とをラミネートすることで、グラファイト複合フィルム１を製造する方法が挙げられる。また、金属蒸着フィルム１１０、第一の導電性接着シート３０及びグラファイトフィルム４０をラミネートすることで積層フィルムを得、得られた積層フィルムと、第二の導電性接着シート５０とをラミネートすることで、グラファイト複合フィルム１を製造する方法などが挙げられる。
【００９９】
［実施例］
以下、本実施形態を実施例によって具体的に説明する。
【０１００】
［表面性状の測定］
金属層の算術平均粗さ（Ｒａ）、最大高さ粗さ（Ｒｚ）、及び十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）の各測定には、走査型プローブ顕微鏡（株式会社島津製作所製の「ＳＰＭ−９６００」）を用いた。具体的に、測定するサンプルを金属プレートに固定して、表面の測定箇所Ａ、測定箇所Ｂ及び測定箇所Ｃの三点を選び、測定範囲を１μｍ×１μｍ、又は１０μｍ×１０μｍとし、走査型プローブ顕微鏡に内蔵の表面解析ソフトウェアにより、各点での算術平均粗さ（Ｒａ）、最大高さ粗さ（Ｒｚ）、及び十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）を測定した。これら３点での測定値の平均値を算術平均粗さ（Ｒａ）、最大高さ粗さ（Ｒｚ）、及び十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）とした。
【０１０１】
［実施例１］
〔工程（Ａ）〕
（工程（ａ１））
保護フィルム１０として、ポリエステルフィルム（東レ株式会社製の「ＣＸ４０」、主な原料：ＰＥＴ、厚み：６μｍ）を準備した。このポリエステルフィルムを真空容器内に配置し、第二の金属としてニッケル（住友金属鉱山製の電解ニッケル）を用いて、真空蒸着内の真空度及び温度を調整して、保護フィルム１０の第一面１０Ａに第二の金属を付着、堆積させ、第二の金属層８０（厚み：４０ｎｍ）を形成した。次いで、第一の金属として銅（日立マテリアル社製の無酸素銅）を用いて、真空溶液内の真空度及び温度を再度調整して、第二の金属層８０の表面８０Ａに第一の金属を付着、堆積させ、第一の金属層２０（厚み：１μｍ）を形成した。これにより、図３Ｃに示す積層体１１３を得た。得られた積層体１１３の第一の金属層２０の表面２０Ａの表面性状（Ｒａ１、Ｒｚ１、Ｒｚｊｉｓ１）を測定した。その結果を表１に示す。
【０１０２】
（工程（ａ２））
第二の剥離シート１２０が取り付けられた第一の導電性接着シート３０として、導電性両面接着シート（ＤＩＣ株式会社製のＤＡＩＴＡＣ（登録商標）「＃８５０６ＡＤＷ−１０−Ｈ２」、金属基材：アルミニウムからなる基材、厚み：１０μｍ）の一方の表面３１Ａから剥離シートを剥離したシートを準備した。
【０１０３】
図３Ｄに示すように、積層体１１３の表面２０Ａと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとが対向するように、積層体１１３及び第一の導電性接着シート３０を配置し、積層体１１３の表面２０Ａと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとを接触加圧して密着させた。次いで、保護フィルム１０であるポリエステルフィルムを剥離ローラーに押しあてて剥離した。これにより、図３Ｆに示す導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を得た。得られた導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００の第二の金属層８０の表面８０Ｂの表面性状（Ｒａ２、Ｒｚ２、Ｒｚｊｉｓ２）を測定した。その結果を表１に示す。
【０１０４】
〔工程（Ｂ）〕
第一の剥離シート６０が取り付けられた第二の導電性接着シート５０として、第一の導電性接着シート３０と同じ製品である導電性両面接着シートの一方の表面５１Ａから剥離シートを剥離したシートを準備した。グラファイトフィルム４０として、１０ｃｍ×１２ｃｍのサイズカットしたグラファイトフィルム（パナソニック株式会社製の「ＰＧＳ（登録商標）グラファイトシート」、厚み：２５μｍ）を準備した。
【０１０５】
図４Ａに示すように、第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａが上向きとなるように第二の導電性接着シート５０を配置し、グラファイトフィルム４０を第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａ上に置いた。これにより、図４Ｂに示す導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を得た。
【０１０６】
〔工程（Ｃ）〕
図４Ｃに示すように、グラファイトフィルム４０が配置された側の表面２００Ａが上向きとなるように導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を配置し、グラファイトフィルム４０全体を覆うように導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００の表面２００Ａ上に置き、１０ｃｍ×１２ｃｍのサイズにカットした。これにより、図４Ｄに示すグラファイト複合フィルム１を得た。
【０１０７】
［比較例１］
第一の金属層２０として、電解銅箔（古河電気工業株式会社製の「Ｆ２−ＷＳ」）を準備した。電解銅箔の表面２０Ａの表面形状（Ｒａ１、Ｒｚ１、Ｒｚｊｉｓ１）を測定した。その結果を表２に示す。
【０１０８】
次いで、第二の剥離シート１２０が取り付けられた第一の導電性接着シート３０として、導電性両面接着シート（ＤＩＣ株式会社製のＤＡＩＴＡＣ（登録商標）「＃８５０６ＡＤＷ−１０−Ｈ２」、金属基材：アルミニウムからなる基材、厚み：１０μｍ）の一方の表面３１Ａから剥離シートを剥離したシートを準備した。
【０１０９】
電解銅箔の表面２０Ａと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとが対向するように、電解銅箔及び第一の導電性接着シート３０を配置し、電解銅箔の表面２０Ａと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとを接触加圧して密着させた。これにより、導電性接着シート付き電解銅箔を得た。得られた導電性接着シート付き電解銅箔における電解銅箔の表面２０Ａとは反対側の第二面２０Ｂの表面性状（Ｒａ２、Ｒｚ２、Ｒｚｊｉｓ２）を測定した。その結果を表２に示す。
【０１１０】
導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００に代えて導電性接着シート付き電解銅箔を用いた他は、実施例１と同様にして、グラファイト複合フィルム１を得た。
【０１１１】
［電磁波シールド性の測定試験］
得られたグラファイト複合フィルム１から第一の剥離シート６０を剥離したサンプルの、８ＭＨｚの周波数帯域での電磁界シールド性能を、同軸管法に準拠して測定した。
【０１１２】
サンプルの電磁界シールド性能の測定結果を表３に示す。
【０１１３】
【表１】
2018186156.tif 000003
【０１１４】
【表２】
2018186156.tif 000004
【０１１５】
【表３】
2018186156.tif 000005
【０１１６】
（第２の実施形態）
以下、本開示の、第２の実施形態を説明する。
【０１１７】
［本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１］
図５Ａは、第２の実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の本体部の概略断面図である。図５Ｂは、グラファイト複合フィルム１の端部の概略断面図である。
【０１１８】
本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１は、図５Ａに示すように、第二の導電性接着層５０Ｌと、グラファイト層４０Ｌと、第一の導電性接着層３０Ｌと、第一の金属を含み第一面２１Ａ及び第二面２１Ｂを有する金属層２１と、保護フィルム１０とがこの順に、金属層２１の第一面２１Ａ側に保護フィルム１０が位置するように配置されている。金属層２１の第二面２１Ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下である。さらに、第一の剥離シート６０が第二の導電性接着層５０Ｌの表面５０Ａに取り付けられている。ここで、本願における算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳＢ０６０１：２０１３に準拠する。算術平均粗さ（Ｒａ）の測定方法は、実施例に記載の算術平均粗さ（Ｒａ）の測定方法と同一であり、測定範囲は１μｍ×１μｍである。
【０１１９】
グラファイト複合フィルム１はこのような構成であるので、被着体に貼り付けるだけで、電子機器の熱対策及び電磁ノイズ対策を同時に実現できる。すなわち、熱伝導性に優れるグラファイト層４０Ｌを有するので、被着体の熱をグラファイト複合フィルム１の面方向に放散させて、被着体の温度を低下させることができる。また、第二面２１Ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下である金属層２１を有するので、高周波での電磁波シールド性に優れる。これは、金属層２１に侵入する電磁界（以下、外部電磁界）が高周波になると、本実施形態では、外部電磁界が金属層２１に侵入しても金属層２１の内部で速やかに減衰しやすいため、すなわち外部電磁界に対する表皮効果が増大するためと推測される。具体的に、高周波の磁界（以下、外部磁界）が金属層２１に侵入すると、金属層２１の表面に誘導される電流（以下、渦電流）が、高周波の磁界を生じて外部磁界を打ち消し、外部磁界の金属層２１の内部への侵入を遮断しようとする。本実施形態では、第二面２１Ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下で、第二面２１Ｂは平滑であるため、渦電流の損失が少なく、外部磁界を打ち消そうとする高周波の磁界が発生しやすいことが主要因であると推測される。このように本実施形態は高周波での電磁波シールド性に優れるので、外部電磁界に起因する電磁雑音が被着体の回路内に侵入することを抑制することができると同時に、被着体自体の電磁エミッションも抑制することができる。特に、本実施形態の電磁波シールド性は、外部電磁界の周波数が高ければ高いほど、特許文献１に記載のような従来のグラファイトシート複合シートと比較して、より優れる。被着体が導電性を有する場合、金属層２１は被着体と電気的に接続されて接地されるので、金属層２１内に生じた渦電流は被着体へ解放（グランド）され、より優れた電磁波シールド性を発現する。なお、ここで面方向とは、グラファイト層４０Ｌの厚み方向に対して垂直な方向すなわちグラファイト層４０Ｌの表面に平行な一方向をいう。
【０１２０】
グラファイト複合フィルム１の端面において、図５Ｂに示すように、グラファイト層４０Ｌの端面４０Ｅは露出していない。すなわち、グラファイト層４０Ｌの端面４０Ｅは第一の導電性接着層３０Ｌ及び第二の導電性接着層５０Ｌで覆われている。これにより、グラファイト層４０Ｌ内の層間剥離に起因するグラファイト複合フィルム１の断裂を防ぐと同時に、グラファイト層４０Ｌの粉落ちを防ぐことができる。
【０１２１】
グラファイト複合フィルム１の厚みは、好ましくは１５μｍ以上かつ８００μｍ以下である。グラファイト複合フィルム１の厚さは、グラファイト複合フィルム１の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察して得られた画像に基づいて測定することができる。以下のグラファイト複合フィルム１を構成する各層の厚さも同様に測定することができる。
【０１２２】
グラファイト複合フィルム１は、例えば、使用直前に第一の剥離シート６０をグラファイト複合フィルム１から剥離して、被着体に貼り付けて使用することができる。被着体としては、例えば、電子機器の筐体内部に配置された電子部品などが挙げられる。電子部品としては、例えば、液晶ユニットの背面シャーシ、液晶画像表示装置のバックライトなどに使用される発光ダイオード（ＬＥＤ）光源を備えたＬＥＤ基板、パワーアンプ、大規模集積回路（ＬＳＩ）などが挙げられる。第一の剥離シート６０としては、クラフト紙、グラシン紙、上質紙などの紙；ポリエチレン、ポリプロピレン（ＯＰＰ、ＣＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの樹脂フィルム；紙と樹脂フィルムとを積層したラミネート紙、紙にクレーやポリビニルアルコールなどで目止め処理を施したものの片面又は両面に、シリコーン系樹脂等の剥離処理を施したものなどを用いることができる。
【０１２３】
本実施形態は、第二の導電性接着層５０Ｌ、グラファイト層４０Ｌ、第一の導電性接着層３０Ｌ、金属層２１、及び保護フィルム１０がこの順に積層されてなるが、本発明はこれに限定されず、グラファイト層４０Ｌ、第一の導電性接着層３０Ｌ、金属層２１、及び保護フィルム１０がこの順に配置された構成であればよい。また、これらの層の間には、本開示技術の効果を阻害しない層が積層されていてもよい。その例として、防錆処理層が金属層２１と第一の導電性接着層３０Ｌとの間に介在していてもよい。防錆処理層としては、例えば、有機皮膜、金属皮膜などを用いることができる。有機皮膜としては、例えば、ベンゾトリアゾール皮膜などが挙げられる。ベンゾトリアゾール皮膜の原料としては、例えば、ベンゾトリアゾール、その誘導体などを用いることができる。金属皮膜の原料としては、例えば、亜鉛、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、金、銀、パラジウムなどの純金属；これら純金属を含んでなる合金などを用いることができる。
【０１２４】
本実施形態は、グラファイト層４０Ｌの端面４０Ｅは第一の導電性接着層３０Ｌ及び第二の導電性接着層５０Ｌで覆われているが、本開示技術はこれに限定されず、グラファイト層４０Ｌの端面４０Ｅは露出していてもよい。また、本実施形態では、図５Ｂに示すように、金属層２１の端面は露出しているが、本開示技術はこれに限定されず、金属層２１の端面は保護フィルム１０で覆われていてもよい。金属層２１の端面が保護フィルム１０で覆われることで、金属層２１の端面は腐食しにくくなり、グラファイト複合フィルム１の電磁波シールド性がより劣化しにくくなる。
【０１２５】
（保護フィルム１０）
グラファイト複合フィルム１は、図５Ａに示すように、保護フィルム１０を備える。これにより、金属層２１の保護フィルム１０が配置される側の第一面２１Ａの酸化の進行を抑止することができるとともに、金属層２１の第一面２１Ａに傷が付くことなどを防止することができる。さらに、グラファイト複合フィルム１の表面１Ｂに電気的絶縁性を付与することができる。
【０１２６】
保護フィルム１０の原料としては、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、オレフィン系樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂（ＡＳ樹脂）、ポリアクリロニトリル、ブタジエン樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂（ＡＢＳ樹脂）、アクリル樹脂、ポリアセタール、ポリフェニレンエーテル、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイミド、ポリスルフィド、ポリウレタン、酢酸ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、脂肪族ポリアミド、合成ゴム、芳香族ポリアミド、ポリビニルアルコールなどを用いることができる。必要に応じて、保護フィルム１０は、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、可塑剤、滑剤などをさらに含有してもよい。保護フィルム１０の厚さは、好ましくは０．５μｍ以上かつ２００μｍ以下である。
【０１２７】
グラファイト複合フィルム１の厚み方向Ｔから見た保護フィルム１０の表面形状はベタ状である。すなわち、保護フィルム１０の厚み方向Ｔから見て、保護フィルム１０がグラファイト複合フィルム１の表面の全領域に隙間なく設けられた状態であり、金属層２１は露出していない。
【０１２８】
（金属層２１）
グラファイト複合フィルム１は、図５Ａに示すように、金属層２１を備える。これにより、グラファイト複合フィルム１は電磁波シールド性を有する。
【０１２９】
金属層２１は、第一の金属からなる。第一の金属としては、グラファイト複合フィルム１の原料に応じて適宜調整すればよく、例えば、銀、銅、金、アルミニウム、マグネシウム、タングステン、コバルト、亜鉛、ニッケル、黄銅、カリウム、リチウム、鉄、白金、スズ、クロム、鉛、チタンなどを用いることができる。なかでも、第一の金属は、グラファイト複合フィルム１の電磁波シールド性を向上させるなどの点から、グラファイト複合フィルム１の原料の中で導電性が高い原料であることが好ましく、導電性が高く、かつ比較的安価などの点で、銅であることがより好ましい。
【０１３０】
金属層２１の第二面２１Ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）は、５０ｎｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下である。
【０１３１】
金属層２１の第二面２１Ｂの最大高さ粗さ（Ｒｚ）は、好ましくは２００ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以下である。ここで、本願における最大高さ粗さ（Ｒｚ）は、ＪＩＳＢ０６０１：２０１３に準拠する。最大高さ粗さ（Ｒｚ）の測定方法は、実施例に記載の最大高さ粗さ（Ｒｚ）の測定方法と同一である。
【０１３２】
金属層２１の第二面２１Ｂの十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）は、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。ここで、本願における十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）は、ＪＩＳＢ０６０１：２０１３に準拠する。十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）の測定方法は、実施例に記載の十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）の測定方法と同一である。
【０１３３】
金属層２１の第一面２１Ａの算術平均粗さ（Ｒａ）は、好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下である。金属層２１の第一面２１Ａの算術平均粗さ（Ｒａ）は、保護フィルム１０を除去し、実施例に記載の算術平均粗さ（Ｒａ）の測定方法と同一の方法で測定する。保護フィルム１０を除去する方法としては、例えば、ヘキサフルオロイソプロパノールで溶解する方法などが挙げられる。
【０１３４】
金属層２１の第一面２１Ａの最大高さ粗さ（Ｒｚ）は、好ましくは２００ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以下である。金属層２１の第一面２１Ａの最大高さ粗さ（Ｒｚ）は、保護フィルム１０を除去し、実施例に記載の最大高さ粗さ（Ｒｚ）の測定方法と同一の方法で測定する。
【０１３５】
金属層２１の第一面２１Ａの十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）は、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。金属層２１の第一面２１Ａの十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）は、保護フィルム１０を除去し、実施例に記載の十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）の測定方法と同一の方法で測定する。
【０１３６】
金属層２１の厚さは、好ましくは０．１０μｍ以上かつ５．００μｍ以下、より好ましくは０．５０μｍ以上かつ２.００μｍ以下である。金属層２１の厚さが上記範囲内であれば、グラファイト複合フィルム１は、軽量で、フレキシブル性により優れる。これにより、被着面が平坦な面でなくとも、グラファイト複合フィルム１を被着体に容易に貼り付けることができ、グラファイト複合フィルム１の設置の自由度を広げることができる。
【０１３７】
本実施形態では、金属層２１の第二面２１Ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）は、５０ｎｍ以下であるが本開示技術はこれに限定されず、金属層２１の第一面２１Ａ及び第二面２１Ｂの少なくとも一方の算術平均粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下であればよい。その例として、金属層２１の第一面２１Ａのみの算術平均粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下であってもよいし、金属層２１の第一面２１Ａ及び第二面２１Ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下であってもよい。渦電流は、算術平均粗さ（Ｒａ）が小さい方の面側の表面に、すなわち損失が少ない側の面側の表面に誘導されやすいと推測される。
【０１３８】
本実施形態では、金属層２１の厚み方向Ｔから見た表面形状はベタ状であるが、本開示技術はこれに限定されない。その例として、メッシュ状、ワイヤー状などをさらに挙げることができる。なお、金属層２１の厚みＴ２１は、好ましくは０．１０μｍ以上かつ５．００μｍ以下、より好ましくは０．５０μｍ以上かつ２．００μｍ以下である。第二の金属層８０の厚みＴ８０は、好ましくは０．００２μｍ以上かつ０．１００μｍ以下、より好ましくは０．００２μｍ以上かつ０．０４０μｍ以下である。
【０１３９】
（第一の導電性接着層３０Ｌ）
グラファイト複合フィルム１は、図５Ａに示すように、第一の導電性接着層３０Ｌを備える。これにより、金属層２１と、グラファイト層４０Ｌとを、接着固定できると同時に電気的に接続できる。
【０１４０】
第一の導電性接着層３０Ｌは、図５Ａに示すように、第一の粘着層３１、第一の金属基材３２及び第二の粘着層３３がこの順で積層されてなる。第一の導電性接着層３０Ｌは、第一の金属基材３２を含むので、第一の導電性接着層３０Ｌは導電性に優れる。第一の導電性接着層３０Ｌの厚みは、好ましくは２μｍ以上かつ３００μｍ以下である。グラファイト複合フィルム１の厚み方向Ｔから見た第一の導電性接着層３０Ｌの表面形状はベタ状である。
【０１４１】
第一の粘着層３１は、導電性及び粘着性を有する導電性粘着剤からなる。導電性粘着剤としては、例えば、重合体及び導電性フィラーを含有し、必要に応じて、架橋剤、添加剤、溶剤をさらに含有してもよい。重合体としては、アクリル系重合体、ゴム系重合体、シリコーン系重合体、ウレタン系重合体などを用いることができる。なかでも、グラファイト複合フィルム１を発熱材に貼付した場合であっても熱の影響による剥がれを起こしにくい点で、アクリル系重合体及びゴム系重合体を用いることが好ましい。アクリル系重合体としては、（メタ）アクリル単量体などのビニル単量体を重合して得られるものを用いることができる。導電性フィラーとしては、例えば、金属系フィラー、カーボン系フィラー、金属複合系フィラー、金属酸化物系フィラー、チタン酸カリウム系フィラーなどを用いることができる。金属系フィラーの原料としては、銀、ニッケル、銅、スズ、アルミニウム、ステンレスなどが挙げられる。カーボン系フィラーの原料としては、ケッチェンブラック、アセチレンブラック、黒鉛などを用いることができる。金属複合系フィラーの原料としては、アルミニウムコートガラス、ニッケルコートガラス、銀コートガラス、ニッケルコート炭素などを用いることができる。金属酸化物系フィラーの原料としては、アンチモンドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アルミニウムドープ酸化亜鉛などを用いることができる。導電性フィラーの形状は、特に限定されず、例えば、粉末、フレーク、繊維などが挙げられる。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、キレート系架橋剤、アジリジン系架橋剤などを用いることができる。添加剤としては、第一の粘着層３１の粘着力をより一層向上させることを目的として、粘着付与樹脂を使用することができる。粘着付与樹脂としては、例えばロジン系樹脂；テルペン系樹脂；脂肪族（Ｃ５系）又は芳香族（Ｃ９系）などの石油樹脂；スチレン系樹脂フェノール系樹脂；キシレン系樹脂；メタクリル系樹脂などを用いることができる。第一の粘着層３１の厚みは、好ましくは０．２μｍ以上かつ５０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上かつ２０μｍ以下である。
【０１４２】
第一の金属基材３２の原料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、錫、これらの合金などを用いることができる。なかでも、第一の金属基材３２の原料は、柔軟性、熱導電性などの点で、アルミニウム又は銅であることが好ましく、金属の不動態化により腐食が進行しにくいなどの点でアルミニウムがさらに好ましい。アルミニウムからなる金属基材としては、硬質アルミニウムからなる硬質アルミニウム基材、軟質アルミニウムからなる軟質アルミニウム基材を用いることができる。硬質アルミニウム基材は、アルミニウムを圧延して得たアルミ箔からなる。軟質アルミニウム基材は、アルミニウムを圧延し、焼鈍処理をして得られたアルミニウム箔からなる。銅からなる金属基材としては、例えば電解銅からなる基材、圧延銅からなる基材を用いることができる。第一の金属基材３２の厚みは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下である。
【０１４３】
第二の粘着層３３は、導電性及び粘着性を有し、例えば、重合体及び導電性フィラーを含有する。第二の粘着層３３は、第一の粘着層３１と同様の構成である。
【０１４４】
本実施形態では、第一の導電性接着層３０Ｌは、図５Ａに示すように、第一の粘着層３１、第一の金属基材３２及び第二の粘着層３３がこの順で積層されてなるが、本開示技術はこれに限定されない。その例として、第一の導電性接着層３０Ｌは導電性樹脂からなる単層であってもよい。また、本実施形態では、第二の粘着層３３は第一の粘着層３１と同じ構成であるが、本開示技術ではこれに限定されず、導電性及び粘着性を有すれば、第一の粘着層３１と異なる構成であってもよい。
【０１４５】
（グラファイト層４０Ｌ）
グラファイト複合フィルム１は、図５Ａに示すように、グラファイト層４０Ｌを備える。これにより、被着体の熱を効率良く伝導し放散することができると同時に、グラファイト複合フィルム１の電磁波シールド性を向上させることができる。
【０１４６】
グラファイト層４０Ｌは、面方向において優れた電気伝導性及び熱伝導性を有する。グラファイト層４０Ｌの原料としては、例えば、炭素の層状結晶体グラファイト（黒鉛）；黒鉛を母体とし、その層間に化学種が侵入して形成された黒鉛層間化合物（Graphite Intercalation Compound）などを用いることができる。化学種としては、例えば、カリウム、リチウム、臭素、硝酸、塩化鉄（III）、六塩化タングステン、五フッ化ヒ素などが挙げられる。また、グラファイト層４０Ｌは、例えば、グラファイトフィルムを１枚又は複数枚を積層したものであってもよい。グラファイトフィルムとしては、例えば、高分子フィルムを高温で焼成して生成された熱分解性グラファイトシート；膨張グラファイト法により生成された膨張グラファイトシートなどを用いることができる。なかでも、熱伝導率が高く、軽量で柔軟性があり、加工が容易であるなどの点で、グラファイトフィルムとして、高分子フィルムを高温で焼成して生成された熱分解性グラファイトシートを用いることが好ましい。高分子フィルムとしては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミドなどの耐熱性の芳香族高分子などを用いることができる。高分子フィルムを焼成する温度は、好ましくは２６００℃以上かつ３０００℃以下である。膨張グラファイト法は、天然グラファイト鉛を硫酸などの強酸で処理することで層間化合物を形成させ、これを加熱及び膨張させた際に生じる膨張グラファイトを圧延してシート状にする方法である。グラファイトフィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ以上かつ１００μｍ以下である。
【０１４７】
熱分解性グラファイトシートの熱伝導率は、ａ−ｂ面方向が好ましくは７００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上かつ１９５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下、ｃ軸方向が好ましくは８Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上かつ１５Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下である。熱分解性グラファイトシートの密度は、好ましくは０．８５ｇ／ｃｍ３以上かつ２．１３ｇ／ｃｍ３以下である。このような熱分解性グラファイトシートとしては、例えば、パナソニック株式会社製の「ＰＧＳ（登録商標）グラファイトシート」を用いることができる。
【０１４８】
グラファイト層４０Ｌの厚みは、好ましくは５μｍ以上かつ５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上かつ２００μｍ以下である。グラファイト複合フィルム１の厚み方向Ｔから見たグラファイト層４０Ｌの表面形状はベタ状である。
【０１４９】
（第二の導電性接着層５０Ｌ）
グラファイト複合フィルム１は、図５Ａに示すように、第二の導電性接着層５０Ｌを備える。これにより、グラファイト複合フィルム１を被着体に密着させることができ、グラファイト複合フィルム１の優れた放熱性を発現させやすくなると同時に、グラファイト層４０Ｌと被着体とを電気的に接続することができる。このように、金属層２１と被着体とは電気的に接続されるので、被着体が導電性を有する場合、グラファイト複合フィルム１の電磁波シールド性はより優れる。
【０１５０】
第二の導電性接着層５０Ｌは、図５Ａに示すように、第三の粘着層５１、第二の金属基材５２及び第四の粘着層５３がこの順で積層されてなる。第二の導電性接着層５０Ｌの構成は、第一の導電性接着層３０Ｌと同様の構成である。
【０１５１】
本実施形態では、第二の導電性接着層５０Ｌは、図５Ａに示すように、第三の粘着層５１、第二の金属基材５２及び第四の粘着層５３がこの順で積層されてなるが、本開示技術はこれに限定されない。その例として、第二の導電性接着層５０Ｌは導電性樹脂からなる単層であってもよい。また、本実施形態では、第二の導電性接着層５０Ｌの構成は、第一の導電性接着層３０Ｌと同様の構成であるが、本開示技術はこれに限定されず、導電性及び粘着性を有すれば、第一の導電性接着層３０Ｌと異なる構成であってもよい。
【０１５２】
［本実施形態に係るグラファイト複合フィルムの製造方法］
図６Ａ〜図６Ｈは、本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の製造方法を説明するための概略断面図である。具体的に、図６Ａ〜図６Ｄは、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する工程（Ａ）を説明するための概略断面図である。図６Ｅ及び図６Ｆは、導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を準備する工程（Ｂ）を説明するための概略断面図である。図６Ｇ及び図６Ｈは、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００をラミネートする工程（Ｃ）を説明するための概略断面図である。図６Ａ〜図６Ｈにおいて、図５Ａに示す実施形態の構成部材と同一の構成部材には同一符号を付して重複説明を省略する場合がある。なお、グラファイトフィルム４０はグラファイト層４０Ｌに対応し、第一の導電性接着シート３０は第一の導電性接着層３０Ｌに対応し、第二の導電性接着シート５０は第二の導電性接着層５０Ｌに対応する。
【０１５３】
本実施形態に係るグラファイト複合フィルム１の製造方法は、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する工程（Ａ）と、導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を準備する工程（Ｂ）と、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００をラミネートする工程（Ｃ）とを含み、工程（Ａ）、工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）をこの順で行う。これにより、熱対策及び電磁ノイズ対策を同時に実現できるとともに、高周波での電磁波シールド性に優れるグラファイト複合フィルム１が得られる。
【０１５４】
工程（Ａ）：第一面１０Ａ及び第二面１０Ｂを有する保護フィルム１０の第一面１０Ａに第一の金属を蒸着して、第一面２１Ａ及び第二面２１Ｂを有する金属層２１を形成して金属蒸着フィルム１１０を準備し（以下、工程（ａ１））、この金属蒸着フィルム１１０の金属層２１の第二面２１Ｂに、第一の導電性接着シート３０を配置してラミネートする（以下、工程（ａ２））。
【０１５５】
工程（Ｂ）：第一面４０Ａ及び第二面４０Ｂを有するグラファイトフィルム４０の第一面４０Ａに、第二の導電性接着シート５０を配置してラミネートする。
【０１５６】
工程（Ｃ）：導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａとグラファイトフィルム４０の第二面４０Ｂとが重なるように配置してラミネートする。
【０１５７】
本実施形態は、工程（Ａ）、工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）をこの順で行うが、本開示技術はこれに限定されない。その例として、工程（Ｂ）、工程（Ａ）及び工程（Ｃ）をこの順に行ってもよい。
【０１５８】
〔工程（Ａ）〕
工程（Ａ）では、金属蒸着フィルム１１０を準備する工程（ａ１）と、金属蒸着フィルム１１０と第一の導電性接着シート３０とをラミネートする工程（ａ２）とをこの順で行う。これにより、図６Ｄに示す導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を準備する。
【０１５９】
（工程（ａ１））
工程（ａ１）では、図６Ａに示す保護フィルム１０の第一面１０Ａに第一の金属を蒸着して、図６Ｂに示すような金属層２１を形成する。この工程（ａ１）を経て、図６Ｂに示す金属蒸着フィルム１１０が得られる。
【０１６０】
第一の金属を蒸着する方法は、真空蒸着法が好ましい。金属層２１の第二面２１Ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）を５０ｎｍ以下とする方法は、例えば、真空炉内の真空度、真空炉内の温度などを適宜調整する方法などが挙げられる。真空蒸着法により金属層２１を形成する場合、金属層２１の第一面２１Ａの表面性状は、保護フィルム１０の第一面１０Ａの表面性状に完全に追従せず、金属層２１の第一面２１Ａの算術平均粗さ（Ｒａ）は、保護フィルム１０の第一面１０Ａの算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さくなる傾向にある。また、真空度を調整することで、第一面２１Ａの算術平均粗さ（Ｒａ）と、第二面２１Ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）とが異なる金属層２１を形成することができる。その例として、真空容器内において、長尺状の保護フィルム１０を搬送させながら、気化又は昇華した第一の金属を保護フィルム１０の第一面１０Ａに付着、堆積させて金属層２１を形成する場合、堆積の初期段階での真空度を堆積の末期段階での真空度よりも高くなるように真空度を部分的に調整することで、第一面２１Ａの算術平均粗さ（Ｒａ）が、第二面２１Ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さい金属層２１を形成することができる。
【０１６１】
工程（ａ１）では、例えば、長尺状の保護フィルム１０の第一面２１Ａに第一の金属を蒸着させ、金属層２１を連続的に形成してもよい。
【０１６２】
（工程（ａ２））
工程（ａ２）では、図６Ｃに示すように、金属蒸着フィルム１１０の金属層２１の第二面２１Ｂに第一の導電性接着シート３０を配置してラミネートする。この際、図６Ｃに示すように、取扱い性に優れるなどの点で、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａに、第二の剥離シート１２０が取り付けられている。この工程（ａ２）を経て、図６Ｄに示す、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００が得られる。
【０１６３】
図６Ｃに示す第二の剥離シート１２０が取り付けられた第一の導電性接着シート３０の製造方法としては、例えば、以下の工程を備えた方法が挙げられる。例えば、第三の剥離シートの表面上に、導電性粘着剤を塗布して第一の粘着層３１を形成する工程を備える。第二の剥離シート１２０の表面１２０Ａ上に、導電性粘着剤を塗布し、乾燥して第二の粘着層３３を形成する工程を備える。そして、第一面３２Ａ及び第二面３２Ｂを有する第一の金属基材３２の第一面３２Ａに第一の粘着層３１を、第二面３２Ｂに第二の粘着層３３をそれぞれ貼り合わせて積層フィルムとし、養生させた後、この積層フィルムから第三の剥離シートを剥離する工程とを備える。導電性粘着剤の塗布方法としては、ロールコーター、ダイコーターなどを用いる方法などが挙げられる。導電性粘着剤が溶剤を含有する場合には、５０℃〜１２０℃程度の環境下で乾燥して溶媒を除去することが好ましい。養生の処理条件は、処理温度が好ましくは１５℃以上かつ５０℃以下、処理時間が好ましくは４８時間以上かつ１６８時間以内である。第二の剥離シート１２０及び第三の剥離シートの構成は、第一の剥離シート６０と同様の構成である。
【０１６４】
金属蒸着フィルム１１０と、第一の導電性接着シート３０とをラミネートする方法としては、例えば、金属蒸着フィルム１１０の第二面２０Ｂと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとが対向するように、金属蒸着フィルム１１０及び第一の導電性接着シート３０を配置し、金属蒸着フィルム１１０の第二面２０Ｂと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとを接触加圧して密着させる方法などが挙げられる。
【０１６５】
工程（ａ２）では、例えば、長尺状の金属蒸着フィルム１１０及び長尺状の第一の導電性接着シート３０を一対のロール間に繰り出し、一対のロール間に挟み込んで金属蒸着フィルム１１０及び第一の導電性接着シート３０を面接触させることでラミネートし、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を連続的に製造してもよい。
【０１６６】
本実施形態では、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａに第二の剥離シート１２０が取り付けられているが、本開示技術はこれに限定されず、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａに第二の剥離シート１２０が取り付けられていなくてもよい。
【０１６７】
〔工程（Ｂ）〕
工程（Ｂ）では、図６Ｅに示すように、第一面４０Ａ及び第二面４０Ｂを有するグラファイトフィルム４０の第一面４０Ａに第二の導電性接着シート５０を配置してラミネートする。この際、図６Ｅに示すように、取扱い性に優れるなどの点で、第二の導電性接着シート５０の表面５３Ａに、第一の剥離シート６０が取り付けられている。この工程（Ｂ）を経て、図６Ｆに示す、導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００が得られる。
【０１６８】
図６Ｅに示す第一の剥離シート６０が取り付けられた第二の導電性接着シート５０の製造方法としては、例えば、上述した図６Ｃに示す第二の剥離シート１２０が取り付けられた第一の導電性接着シート３０の製造方法と同様の方法が挙げられる。
【０１６９】
グラファイトフィルム４０と第二の導電性接着シート５０とをラミネートする方法としては、例えば、図６Ｅに示すように、第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａが上向きとなるように第二の導電性接着シート５０を配置し、所定の寸法にカットされたグラファイトフィルム４０を第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａ上に置く方法などが挙げられる。カットされたグラファイトフィルム４０の寸法は、図６Ｈに示すように、グラファイトフィルム４０の全体が導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００で覆われる寸法であればよい。グラファイトフィルム４０の全体を導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００で覆うことで、グラファイト層４０Ｌ内の層間剥離に起因するグラファイト複合フィルム１の断裂を防ぐとともに、グラファイト層４０Ｌの粉落ちを防ぐことができる。
【０１７０】
工程（Ｂ）では、例えば、第二の導電性接着シート５０を連続的にラミネート製造工程へ繰り出し、カットされたグラファイトフィルム４０を第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａに所定間隔を空けて連続的に置くことで、連続的に導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を製造してもよい。
【０１７１】
本実施形態では、カットされたグラファイトフィルム４０を第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａ上に置いてラミネートするが、本開示技術はこれに限定されない。例えは、長尺状のグラファイトフィルム４０及び長尺状の第二の導電性接着シート５０をそれぞれ連続的に一対のロール間へ繰り出し、一対のロール間に挟み込んでグラファイトフィルム４０及び第二の導電性接着シート５０を面接触させることでラミネートしてもよい。
【０１７２】
〔工程（Ｃ）〕
工程（Ｃ）では、図６Ｇに示すように、導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を、第一の導電性接着シート３０の表面３３Ａとグラファイトフィルム４０の第二面４０Ｂとが重なるように配置してラミネートする。この際、図６Ｇに示すように、第二の剥離シート１２０は剥離されている。第一の剥離シート６０はグラファイト複合フィルム１の取扱い性に優れるなどの点で、取り付けられたままである。この工程（Ｃ）を経て、図６Ｈに示す、グラファイト複合フィルム１が得られる。
【０１７３】
導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００と、導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００とをラミネートする方法としては、例えば、以下のような方法が挙げられる。例えば、図６Ｇに示すように、グラファイトフィルム４０が配置された側の表面２００Ａが上向きとなるように導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を配置し、グラファイトフィルム４０全体を覆うように導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００の表面２００Ａ上に置く方法などが挙げられる。
【０１７４】
工程（Ｃ）では、例えば、長尺状の導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び長尺状の導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を一対のロール間に繰り出す。そして、一対のロール間に挟み込んで導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００及び導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を面接触させることでラミネートし、必要なサイズにカットすることで、グラファイト複合フィルム１を連続的に製造してもよい。
【０１７５】
本実施形態では、工程（Ａ）、工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）を含むが、本開示技術はこの積層順に限定されず、例えば、以下のような方法が挙げられる。金属蒸着フィルム１１０、第一の導電性接着シート３０、グラファイトフィルム４０、及び第二の導電性接着シート５０を同時にラミネートすることで、グラファイト複合フィルム１を製造する方法も挙げられる。また、第一の導電性接着シート３０、グラファイトフィルム４０、及び第二の導電性接着シート５０をラミネートすることで積層フィルムを得、得られた積層フィルムと、金属蒸着フィルム１１０とをラミネートすることで、グラファイト複合フィルム１を製造する方法が挙げられる。金属蒸着フィルム１１０、第一の導電性接着シート３０及びグラファイトフィルム４０をラミネートすることで積層フィルムを得、得られた積層フィルムと、第二の導電性接着シート５０とをラミネートすることで、グラファイト複合フィルム１を製造する方法なども挙げられる。
【０１７６】
［実施例］
以下、本実施形態を実施例によって具体的に説明する。
【０１７７】
〔表面性状の測定〕
金属層の算術平均粗さ（Ｒａ）、最大高さ粗さ（Ｒｚ）、及び十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）の各測定には、走査型プローブ顕微鏡（株式会社島津製作所製の「ＳＰＭ−９６００」）を用いた。具体的に、金属蒸着フィルム又は金属フィルムを金属プレートに固定して、表面の測定箇所Ａ、測定箇所Ｂ及び測定箇所Ｃの三点を選び、測定範囲を１μｍ×１μｍ、又は１０μｍ×１０μｍとし、走査型プローブ顕微鏡に内蔵の表面解析ソフトウェアにより、各点での算術平均粗さ（Ｒａ）、最大高さ粗さ（Ｒｚ）、及び十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）を測定した。これら３点での測定値の平均値を算術平均粗さ（Ｒａ）、最大高さ粗さ（Ｒｚ）、及び十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）とした。
【０１７８】
［実施例２］
〔工程（Ａ）〕
（工程（ａ１））
保護フィルム１０として、ポリエステルフィルム（東レ株式会社製の「ＣＸ４０」、主な原料：ＰＥＴ、厚み：６μｍ）を準備した。このポリエステルフィルムを真空容器内に配置し、第一の金属として銅（日立マテリアル社製の無酸素銅）を用いて、真空蒸着内の真空度及び温度を調整して、保護フィルム１０の第一面１０Ａに第一の金属を付着、堆積させ、金属層２１（厚み：１μｍ）を形成した。これにより、図６Ｂに示す金属蒸着フィルム１１０を得た。得られた金属蒸着フィルム１１０の金属層２１の第二面２１Ｂの表面性状を測定した。その結果を表４に示す。
【０１７９】
（工程（ａ２））
第二の剥離シート１２０が取り付けられた第一の導電性接着シート３０として、導電性両面接着シート（ＤＩＣ株式会社製のＤＡＩＴＡＣ（登録商標）「＃８５０６ＡＤＷ−１０−Ｈ２」、金属基材：アルミニウムからなる基材、厚み：１０μｍ）の一方の表面３１Ａから剥離シートを剥離したシートを準備した。
【０１８０】
図６Ｃに示すように、金属蒸着フィルム１１０の第二面２０Ｂと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとが対向するように、金属蒸着フィルム１１０及び第一の導電性接着シート３０を配置し、金属蒸着フィルム１１０の第２面２１Ｂと、第一の導電性接着シート３０の表面３１Ａとを接触加圧して密着させた。これにより、図６Ｄに示す導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を得た。
【０１８１】
〔工程（Ｂ）〕
第一の剥離シート６０が取り付けられた第二の導電性接着シート５０として、第一の導電性接着シート３０と同じ製品である導電性両面接着シートの一方の表面５１Ａから剥離シートを剥離したシートを準備した。グラファイトフィルム４０として、１０ｃｍ×１２ｃｍのサイズカットしたグラファイトフィルム（パナソニック株式会社製の「ＰＧＳ（登録商標）グラファイトシート」、厚み：２５μｍ）を準備した。
【０１８２】
図６Ｅに示すように、第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａが上向きとなるように第二の導電性接着シート５０を配置し、グラファイトフィルム４０を第二の導電性接着シート５０の表面５１Ａ上に置いた。これにより、図６Ｆに示す導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を得た。
【０１８３】
〔工程（Ｃ）〕
図６Ｇに示すように、グラファイトフィルム４０が配置された側の表面２００Ａが上向きとなるように導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００を配置し、グラファイトフィルム４０全体を覆うように導電性接着シート付き金属蒸着フィルム１００を導電性接着シート付きグラファイトフィルム２００の表面２００Ａ上に置き、１０ｃｍ×１２ｃｍのサイズにカットした。これにより、図６Ｈに示すグラファイト複合フィルム１を得た。
【０１８４】
［比較例２］
保護フィルム１０として、ポリエステルフィルム（東レ株式会社製の「ＣＸ４０」、主な原料：ＰＥＴ、厚み：６μｍ）を準備した。金属層２１を形成するシート（以下、金属層形成シート）として、電解銅箔（古河電気工業株式会社製の「Ｆ２−ＷＳ」）を準備した。保護フィルム１０の第一面１０Ａに接着剤（ＤＩＣ株式会社製の「ＣＴ−４０４０」）を塗布して接着層を形成し、この接着層の表面と、金属層形成シートの電解銅箔側に面とを接触加圧して密着させて積層物を得、得られた積層物から金属層形成シートを得た。接着層の厚みは２０μｍであった。得られた金属フィルムの金属層の表面の表面性状を測定した。その結果を表５に示す。
【０１８５】
金属蒸着フィルム１１０に代えて金属フィルムを用いた他は、実施例２と同様にして、グラファイト複合フィルム１を得た。
【０１８６】
［電磁波シールド性の測定試験］
得られたグラファイト複合フィルム１から第一の剥離シート６０を剥離したサンプルの、８ＧＨｚの周波数帯域での電磁界シールド性能を同軸管法に準拠して測定した。
【０１８７】
サンプルの電磁界シールド性能の測定結果を表６に示す。
【０１８８】
【表４】
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【０１８９】
【表５】
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【０１９０】
【表６】
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【産業上の利用可能性】
【０１９１】
本開示にかかるグラファイト複合フィルムおよびその製造方法は、熱対策及び電磁ノイズ対策を同時に実現できるとともに、高周波での電磁波シールド性に優れるグラファイト複合フィルムを得ることができる。このように、本開示にかかるグラファイト複合フィルムおよびその製造方法は、産業上有用である。
【符号の説明】
【０１９２】
１    グラファイト複合フィルム
１Ａ、１Ｂ、２０Ａ、３１Ａ、３３Ａ、５０Ａ、５１Ａ、５３Ａ、８０Ａ、８０Ｂ、１２０Ａ、２００Ａ    表面
１０    保護フィルム
１０Ａ、２１Ａ    第一面
１０Ｂ、２０Ｂ、２１Ｂ    第二面
２０    第一の金属層
２１    金属層
３０    第一の導電性接着シート
３０Ｌ    第一の導電性接着層
３１    第一の粘着層
３２    第一の金属基材
３３    第二の粘着層
４０    グラファイトフィルム
４０Ｌ    グラファイト層
５０    第二の導電性接着シート
５０Ｌ    第二の導電性接着層
５１    第三の粘着層
５２    第二の金属基材
５３    第四の粘着層
６０    第一の剥離シート
８０    第二の金属層
１００    導電性接着シート付き金属蒸着フィルム
１１０    金属蒸着フィルム
１２０    第二の剥離シート
２００    導電性接着シート付きグラファイトフィルム
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図２Ｆ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図３Ｅ】
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【図３Ｆ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図６Ｅ】
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【図６Ｆ】
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【図６Ｇ】
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【図６Ｈ】
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【国際調査報告】
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