(57)【要約】  はんだ付け装置（１）は、噴流部（１２）と、測定部（２０）とを備える。噴流部（１２）は、ノズル（１２ａ）を含む。測定部（２０）は、ノズル（１２ａ）から噴流する溶融はんだ（１４）の表面上に形成された拡散反射領域（１６）の第１の表面形状を測定するように構成されている。そのため、溶融はんだ（１４）の表面形状に対応する拡散反射領域（１６）の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切なはんだ付けが可能になる。
2019078021.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルを含む噴流部と、
前記ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に形成される拡散反射領域の第１の表面形状を測定するように構成されている測定部とを備える、はんだ付け装置。
【請求項２】
前記溶融はんだの前記表面上に前記拡散反射領域を形成するように構成されている拡散反射領域形成部をさらに備える、請求項１に記載のはんだ付け装置。
【請求項３】
前記拡散反射領域形成部は、部材と、駆動部とを含み、
前記駆動部は、前記部材の少なくとも一部を前記溶融はんだに浸漬させながら、前記溶融はんだの前記表面に沿って前記部材を一方向に移動させるように構成されており、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２に記載のはんだ付け装置。
【請求項４】
前記拡散反射領域形成部は、部材と、振動子とを含み、
前記振動子は、前記部材の少なくとも一部を前記溶融はんだに浸漬させながら、前記溶融はんだの前記表面に沿って前記部材を振動させるように構成されており、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２に記載のはんだ付け装置。
【請求項５】
前記部材は、はんだ付けされる対象物の搬送方向に沿って延在しており、
前記部材は、前記はんだ付けされる対象物の裏面に接触するように構成されており、前記裏面は、前記溶融はんだに対向する前記はんだ付けされる対象物の面である、請求項４に記載のはんだ付け装置。
【請求項６】
前記拡散反射領域形成部は、前記溶融はんだの前記表面の一部に選択的に酸素を含むガスを吹き付けるように構成されているガス吹き付け部を含み、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２に記載のはんだ付け装置。
【請求項７】
前記拡散反射領域形成部は、静止部材を含み、
前記静止部材の一部が前記溶融はんだに浸漬されるように前記静止部材は前記ノズルの上方に配置されており、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２に記載のはんだ付け装置。
【請求項８】
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記静止部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項７に記載のはんだ付け装置。
【請求項９】
前記静止部材は、前記静止部材の中央部が前記ノズルに向かって突出するように曲げられた形状を有している、請求項７または請求項８に記載のはんだ付け装置。
【請求項１０】
前記拡散反射領域形成部は、前記ノズル内に設けられた筒部材を含み、
前記筒部材の内部に前記拡散反射領域が形成されるように、前記筒部材は配置されており、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２に記載のはんだ付け装置。
【請求項１１】
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記筒部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項１０に記載のはんだ付け装置。
【請求項１２】
前記拡散反射領域形成部は、前記溶融はんだの流れ圧力を低減させる流れ圧力低減部材をさらに含み、
前記筒部材は、前記溶融はんだが流入する流入口を有し、
前記流れ圧力低減部材は前記流入口に設けられている、請求項１０または請求項１１に記載のはんだ付け装置。
【請求項１３】
前記拡散反射領域は、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の一部が接触することによって形成され、
前記測定部は、前記ノズルよりも、前記はんだ付けされる対象物の搬送方向の下流側に配置されており、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項１に記載のはんだ付け装置。
【請求項１４】
前記拡散反射領域は、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の少なくとも一部が接触することによって形成され、
前記拡散反射領域は、前記はんだ付けされる対象物に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜を含む、請求項１に記載のはんだ付け装置。
【請求項１５】
前記測定部は、前記拡散反射領域に光を照射するように構成されている光源部と、前記拡散反射領域で拡散反射される前記光を検出するように構成されている光検出部とを含み、
前記光検出部は、前記拡散反射領域の前記第１の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である、請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載のはんだ付け装置。
【請求項１６】
前記測定部に向けて送風するように構成されている送風部をさらに備える、請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載のはんだ付け装置。
【請求項１７】
制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第１の表面形状に基づいて、前記噴流部を制御するように構成されている、請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載のはんだ付け装置。
【請求項１８】
前記ノズルから噴流する前記溶融はんだの第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データが格納されているメモリをさらに備え、
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第１の表面形状と前記第１の形状基準データとを比較するように構成されており、
前記制御部は、前記拡散反射領域の前記第１の表面形状と前記第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて前記噴流部を制御するように構成されている、請求項１７に記載のはんだ付け装置。
【請求項１９】
前記測定部は、前記ノズルの第２の表面形状をさらに測定するように構成されており、
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記ノズルの前記第２の表面形状に基づいて、前記ノズルを制御するように構成されている、請求項１７または請求項１８に記載のはんだ付け装置。
【請求項２０】
ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に拡散反射領域を形成することと、
測定部によって前記拡散反射領域の第１の表面形状を測定することとを備える、はんだ付け方法。
【請求項２１】
前記拡散反射領域を形成することは、部材の少なくとも一部を前記溶融はんだに浸漬させながら、前記溶融はんだの前記表面に沿って前記部材を一方向に移動させることを含み、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２０に記載のはんだ付け方法。
【請求項２２】
前記拡散反射領域を形成することは、部材の少なくとも一部を前記溶融はんだに浸漬させながら、前記溶融はんだの前記表面に沿って前記部材を振動させることを含み、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２０に記載のはんだ付け方法。
【請求項２３】
前記部材は、はんだ付けされる対象物の搬送方向に沿って延在しており、
前記はんだ付けされる対象物の裏面が前記部材に接触しながら、前記はんだ付けされる対象物は搬送され、前記裏面は、前記溶融はんだに対向する前記はんだ付けされる対象物の面である、請求項２２に記載のはんだ付け方法。
【請求項２４】
前記拡散反射領域を形成することは、前記溶融はんだの前記表面の一部に選択的に酸素を含むガスを吹き付けることを含み、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２０に記載のはんだ付け方法。
【請求項２５】
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズルの上方に配置された静止部材に沿って前記溶融はんだを流すことを含み、
前記静止部材の一部が前記溶融はんだに浸漬されており、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２０に記載のはんだ付け方法。
【請求項２６】
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記静止部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項２５に記載のはんだ付け方法。
【請求項２７】
前記静止部材は、前記静止部材の中央部が前記ノズルに向かって突出するように曲げられた形状を有している、請求項２５または請求項２６に記載のはんだ付け方法。
【請求項２８】
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズル内に設けられた筒部材の内部に前記溶融はんだを流すことを含み、
前記筒部材の内部に前記拡散反射領域が形成されるように、前記筒部材は配置されており、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２０に記載のはんだ付け方法。
【請求項２９】
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記筒部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項２８に記載のはんだ付け方法。
【請求項３０】
前記拡散反射領域を形成することは、前記筒部材に流入する前記溶融はんだの流れ圧力を低減させることをさらに含む、請求項２８または請求項２９に記載のはんだ付け方法。
【請求項３１】
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の一部を接触させることを含み、
前記測定部は、前記ノズルよりも、前記はんだ付けされる対象物の搬送方向の下流側に配置されており、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２０に記載のはんだ付け方法。
【請求項３２】
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の少なくとも一部を接触させることを含み、
前記拡散反射領域は、前記はんだ付けされる対象物に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜を含む、請求項２０に記載のはんだ付け方法。
【請求項３３】
前記拡散反射領域の前記第１の表面形状を測定することは、前記拡散反射領域に光を照射することと、前記拡散反射領域によって拡散反射される前記光を検出することとを含み、
拡散反射される前記光を検出することは、撮像部によって前記拡散反射領域の前記第１の表面形状の画像することを含む、請求項２０から請求項３２のいずれか１項に記載のはんだ付け方法。
【請求項３４】
前記測定部に向けて送風することをさらに備える、請求項２０から請求項３３のいずれか１項に記載のはんだ付け方法。
【請求項３５】
前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第１の表面形状に基づいて、前記ノズルを含む噴流部を制御することをさらに備える、請求項２０から請求項３４のいずれか１項に記載のはんだ付け方法。
【請求項３６】
前記噴流部を制御することは、前記拡散反射領域の前記第１の表面形状と前記ノズルから噴流する前記溶融はんだの第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データとを比較することと、前記拡散反射領域の前記第１の表面形状と前記第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて前記噴流部を制御することとを含む、請求項３５に記載のはんだ付け方法。
【請求項３７】
前記測定部によって前記ノズルの第２の表面形状を測定することと、
前記測定部によって得られる前記ノズルの前記第２の表面形状に基づいて、前記ノズルを制御することとをさらに備える、請求項３５または請求項３６に記載のはんだ付け方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、はんだ付け装置及びはんだ付け方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
国際公開第２０１３／１１１６５１号（特許文献１）は、ノズルから噴流する溶融はんだの高さを測定する方法を開示している。特許文献１では、導電性のゲージ部材を用いて、ノズルから噴流する溶融はんだの高さが測定されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１３／１１１６５１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ノズルから噴流する溶融はんだの高さを同じであっても、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状が変化すると、溶融はんだとプリント基板のようなはんだ付けされる対象物との間の接触の態様が変化する。そのため、はんだ付け不良が発生し得る。本発明の目的は、より適切なはんだ付けを可能にするはんだ付け装置及びはんだ付け方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のはんだ付け装置は、噴流部と、測定部とを備える。噴流部は、ノズルを含む。測定部は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に形成される拡散反射領域の第１の表面形状を測定するように構成されている。【０００６】
本発明のはんだ付け方法は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に拡散反射領域を形成することと、測定部によって拡散反射領域の第１の表面形状を測定することとを備える。
【発明の効果】
【０００７】
拡散反射領域の第１の表面形状は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状に追従する。測定部によって拡散反射領域の第１の表面形状を測定することにより、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状が測定され得る。本発明のはんだ付け装置及びはんだ付け方法は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状に対応する拡散反射領域の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切なはんだ付けを可能にする。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施の形態１に係るはんだ付け装置の概略斜視図である。
【図２】実施の形態１に係るはんだ付け装置の概略断面図である。
【図３】実施の形態１に係るはんだ付け装置の概略断面図である。
【図４】実施の形態１の一変形例に係るはんだ付け装置の概略断面図である。
【図５】実施の形態１に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。
【図６】実施の形態１に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。
【図７】実施の形態１に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。
【図８】実施の形態１に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。
【図９】実施の形態１に係るはんだ付け装置を用いてノズルの第２の表面形状を測定する工程を示す概略部分拡大斜視図である。
【図１０】実施の形態１に係るはんだ付け装置の制御ブロック図である。
【図１１】実施の形態１から実施の形態５、実施の形態７及び実施の形態８に係るはんだ付け方法のフローチャートを示す図である。
【図１２】実施の形態２に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。
【図１３】実施の形態２に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。
【図１４】実施の形態３に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。
【図１５】実施の形態３に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。
【図１６】実施の形態４に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。
【図１７】実施の形態４に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。
【図１８】実施の形態４に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。
【図１９】実施の形態４に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。
【図２０】実施の形態４に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。
【図２１】実施の形態４に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。
【図２２】実施の形態５に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。
【図２３】実施の形態５に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。
【図２４】実施の形態５に係るはんだ付け装置の概略部分拡大平面図である。
【図２５】実施の形態５に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。
【図２６】実施の形態５の第１変形例に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。
【図２７】実施の形態５の第２変形例に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。
【図２８】実施の形態６に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。
【図２９】実施の形態６に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大斜視図である。
【図３０】実施の形態６に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。
【図３１】実施の形態６に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大斜視図である。
【図３２】実施の形態６に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。
【図３３】実施の形態６に係るはんだ付け方法のフローチャートを示す図である。
【図３４】実施の形態７に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。
【図３５】実施の形態７に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。
【図３６】実施の形態７に係るはんだ付け装置に含まれる拡散反射領域形成部の概略部分拡大断面図である。
【図３７】実施の形態７に係るはんだ付け装置に含まれる拡散反射領域形成部の概略部分拡大底面図である。
【図３８】実施の形態７に係るはんだ付け装置に含まれる拡散反射領域形成部の概略部分拡大断面図である。
【図３９】実施の形態７に係るはんだ付け装置に含まれる拡散反射領域形成部の概略部分拡大底面図である。
【図４０】実施の形態８に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、同一の構成には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。
【００１０】
実施の形態１．
図１から図１０を参照して、実施の形態１に係るはんだ付け装置１を説明する。
【００１１】
はんだ付け装置１は、ノズル１２ａを含む噴流部１０と、拡散反射領域形成部３０（図５参照）と、測定部２０とを主に備える。はんだ付け装置１は、搬送部４と、予備加熱部９と、筐体３と、表示部４１と、制御部４０（図１０参照）と、メモリ４３（図１０参照）とをさらに備えてもよい。
【００１２】
搬送部４は、ノズル１２ａの上方へ配線基板６を搬送する。搬送部４は、例えば、搬送コンベアであってもよい。はんだ付け装置１は、配線基板６の裏面６ｂにノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４を接触させて、配線基板６のおもて面６ａに搭載されている部品７を、配線基板６の裏面６ｂ上に設けられている電気配線にはんだ付けしてもよい。部品７は、例えば、コンデンサまたは抵抗のような電子部品であってもよい。配線基板６は、プリント基板であってもよい。
【００１３】
溶融はんだ１４は、例えば、錫−鉛または錫−銀−銅のような錫を主成分とするはんだ合金で構成されてもよい。溶融はんだ１４は、例えば、錫−銅系合金、錫−銀系合金、またはこれらの合金にアンチモン、ビスマス、ニッケルもしくはゲルマニウムなどを添加したはんだ合金で構成されてもよい。
【００１４】
図１から図３に示されるように、噴流部１０は、溶融はんだ１４が貯留されているはんだ槽１０ｓと、ダクト１１と、ノズル部１２と、ポンプ１３ｐとを含む。ダクト１１は、はんだ槽１０ｓに係止または固定されている。ダクト１１は、頂部１１ｔと底部１１ｂとを含む。ダクト１１は、底部１１ｂに開口１１ａを有する。ダクト１１は、開口１１ａを通じて、はんだ槽１０ｓに連通している。ポンプ１３ｐは、はんだ槽１０ｓ内に貯留されている溶融はんだ１４を、ダクト１１及びノズル１２ａに送り出す。ポンプ１３ｐは、インペラ１３ｎと、インペラ１３ｎに接続されているモータ１３ｍとを含んでもよい。インペラ１３ｎは、ダクト１１内に配置されている。インペラ１３ｎは、開口１１ａに面するように配置されてもよい。モータ１３ｍがインペラ１３ｎを回転させることによって、溶融はんだ１４がはんだ槽１０ｓからダクト１１及びノズル１２ａに送り出される。
【００１５】
図５に示されるように、ノズル部１２は、ノズル１２ａを含む。ノズル１２ａは、高さ方向（ｚ方向）に突出している。高さ方向（ｚ方向）は、ノズル１２ａから配線基板６に向かって溶融はんだ１４が噴出する方向である。ノズル１２ａの開口１２ｂから、溶融はんだ１４が噴流する。ノズル１２ａの開口１２ｂは、細長い矩形またはスリットの形状を有してもよい。ノズル１２ａの開口１２ｂは、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）及び高さ方向（ｚ方向）に交差する幅方向（ｙ方向）に沿って延在してもよい。溶融はんだ１４は、ノズル１２ａから、配線基板６の搬送方向の上流側（−ｘ方向）と下流側（＋ｘ方向）とに向けて流出する。ノズル１２ａの開口１２ｂは、円形の形状を有してもよい。ノズル１２ａは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４によって覆われる。
【００１６】
図２及び図３に示されるように、ノズル１２ａは、配線基板６に対するノズル１２ａの相対的な高さｄが変化するように構成されてもよい。ノズル１２ａは、搬送部４に対するノズル１２ａの相対的な高さが変化するように構成されてもよい。ノズル１２ａは、ダクト１１に対するノズル１２ａの相対的な高さが変化するように構成されてもよい。ノズル１２ａは、ダクト１１に対して移動するようにダクト１１の頂部１１ｔに設けられてもよい。
【００１７】
具体的には、ダクト１１は、高さ方向（ｚ方向）に延在する支柱１１ｆと、支柱１１ｆの端部に設けられているボルト１１ｈとを含んでもよい。ノズル部１２は、孔１２ｅを有する板部１２ｄを含む。板部１２ｄは、高さ方向（ｚ方向）と配線基板６の搬送方向（ｘ方向）とに交差する幅方向（ｙ方向）に延在している。ボルト１１ｈは孔１２ｅに挿入されている。ボルト１１ｈを回転させることによって、ボルト１１ｈは支柱１１ｆに対して高さ方向（ｚ方向）に移動することができる。ノズル１２ａ（ノズル部１２）は、ボルト１１ｈとともに高さ方向（ｚ方向）に移動することができる。こうして、配線基板６に対するノズル１２ａ（ノズル部１２）の相対的な高さｄを変化させ得る。
【００１８】
図４に示されるように、本実施の形態の一変形例では、噴流部１０の下方に、昇降部１８が設けられてもよい。昇降部１８は、噴流部１０を高さ方向（ｚ方向）に移動させる。こうして、配線基板６に対するノズル１２ａの相対的な高さｄを変化させてもよい。
【００１９】
図５に示されるように、ノズル部１２はガイド板１２ｃを含んでもよい。ガイド板１２ｃは、ノズル１２ａから配線基板６の搬送方向（ｘ方向）に沿って延在している。ガイド板１２ｃは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４を配線基板６の搬送方向（ｘ方向）に沿ってガイドする。ガイド板１２ｃは、ノズル１２ａに対する取り付け位置（ノズル１２ａの頂部に対する相対的な高さ）が変化するように構成されてもよい。ガイド板１２ｃは、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）における長さが変化するように構成されてもよい。
【００２０】
図２及び図３に示されるように、噴流部１０は、はんだ槽１０ｓ内に第１のヒータ１３ｈをさらに含んでもよい。第１のヒータ１３ｈは、溶融はんだ１４を加熱して、はんだを溶融状態に保つ。
【００２１】
ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４は、酸素を含むガス（例えば、空気）に曝されている。そのため、図６に示されるように、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、はんだ酸化膜１５が形成されている。はんだ酸化膜１５は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４がこのガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。はんだの自然酸化膜は、約２ｎｍから約３ｎｍの厚さを有してもよい。はんだ酸化膜１５は、例えば、酸化錫膜であってもよい。
【００２２】
図５から図７に示されるように、拡散反射領域形成部３０は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に拡散反射領域１６を形成するように構成されている。拡散反射領域形成部３０は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面の一部上に選択的に拡散反射領域１６を形成するように構成されてもよい。
【００２３】
拡散反射領域形成部３０は、部材３１と、部材３１を移動させるように構成されている駆動部３２とを含んでもよい。部材３１は、ノズル１２ａに対して移動するように構成されている。部材３１は、連結部３３を介して駆動部３２に接続されてもよい。部材３１は、例えば、板部材であってもよい。駆動部３２は、例えば、モータであってもよい。
【００２４】
駆動部３２は、部材３１の少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１を一方向に移動させるように構成されている。具体的には、駆動部３２は、部材３１を高さ方向（ｚ方向）に移動させる。図６に示されるように、部材３１は、溶融はんだ１４の表面に形成されているはんだ酸化膜１５を貫通して、部材３１の一部が溶融はんだ１４に浸漬される。続いて、図７に示されるように、駆動部３２は、部材３１の少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、部材３１を溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１を一方向に移動させる。特定的には、駆動部３２は、部材３１の少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、高さ方向（ｚ方向）及び溶融はんだ１４がノズル１２ａから流れ出す方向（ｘ方向）に交差する幅方向（ｙ方向）に沿って、部材３１を移動させてもよい。
【００２５】
はんだ酸化膜１５が折り重なって、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、拡散反射領域１６が形成される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含み、拡散反射領域形成部３０は拡散反射膜形成部である。拡散反射膜１５ａは、例えば、はんだ酸化膜１５の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。
【００２６】
拡散反射領域１６は、溶融はんだ１４の表面上に直線状または曲線状に延在してもよい。特定的には、拡散反射領域１６は、ノズル１２ａから溶融はんだ１４が流出する方向に沿って延在してもよい。拡散反射領域１６は、ノズル１２ａから、配線基板６の搬送方向の上流方向（−ｘ方向）及び下流方向（＋ｘ方向）の少なくとも一つに向かって延在してもよい。
【００２７】
図８に示されるように、測定部２０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定するように構成されている。本明細書において、表面形状は、表面の位置も含む。測定部２０は、光学的測定部であってもよい。具体的には、測定部２０は、拡散反射領域１６に光２２を照射するように構成されている光源部２１と、拡散反射領域１６によって拡散反射される光２２を検出するように構成されている光検出部２３とを含んでもよい。測定部２０は、例えば、レーザ変位計であってもよく、特定的には二次元レーザ変位計であってもよい。
【００２８】
光源部２１は、例えば、半導体レーザであってもよい。光源部２１は、走査される光２２を出射してもよい。特定的には、光源部２１から出射される光２２は、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）と幅方向（ｙ方向）とに沿って走査されてもよい。
【００２９】
光源部２１から出射された光２２は、拡散反射領域１６において拡散反射される。拡散反射領域１６は、拡散反射領域１６に隣接する領域におけるはんだ酸化膜１５と比べて、拡散反射の割合が大きく、鏡面反射の割合が小さい。なお、表面の拡散反射の割合は、当該表面に垂直に入射する光に対する、当該入射方向と異なる方向へ反射される光の割合を意味する。表面の鏡面反射の割合は、当該表面に垂直に入射する光に対する、当該光の入射方向に反射される光の割合を意味する。
【００３０】
光検出部２３は、拡散反射領域１６において拡散反射された光２２を検出する。こうして、測定部２０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定することができる。光検出部２３は、例えば、ＣＭＯＳ位置センサであってもよい。測定部２０は、三角測量方式によって、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定してもよい。具体的には、拡散反射領域１６で拡散反射された光２２を光検出部２３で検出することにより、光検出部２３に対する拡散反射領域１６の表面の角度及び距離の情報が得られる。この情報に基づいて、拡散反射領域１６の第１の表面形状が測定され得る。
【００３１】
拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）は、溶融はんだ１４の表面上に浮遊している。拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）の第１の表面形状は、溶融はんだ１４の表面形状に追従している。拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）の第１の表面形状は、溶融はんだ１４の表面形状と実質的に等価であると見なされ得る。測定部２０を用いて拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）の第１の表面形状を測定することによって、溶融はんだ１４の表面形状が測定され得る。
【００３２】
ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面は、絶えず揺らいでいる。そのため、拡散反射領域１６を含まないはんだ酸化膜１５で鏡面反射される光を光検出部２３によって受光して、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面の形状を正確に測定することは困難である。これに対し、本実施の形態では、測定部２０は、拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）で拡散反射される光２２を検出する。ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面が揺らいでも、拡散反射領域１６で拡散反射される光２２は、光検出部２３によって安定的に受光され得る。拡散反射領域１６において拡散反射された光２２によって、噴流する溶融はんだ１４の表面の形状は正確かつ容易に測定され得る。
【００３３】
拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）を観察することにより、測定部２０はノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４に対して容易に位置決めされ得る。溶融はんだ１４が噴流していても、拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）はほとんど移動しない。なぜなら、はんだ酸化膜１５は、粘性流体とみなすことができる溶融はんだ１４に対して壁として機能し、粘性流体は、一般に、壁の近傍において実質的にゼロの流速を有するからである。そのため、溶融はんだ１４の表面の形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状は、正確かつ容易に測定され得る。
【００３４】
部品７を配線基板６にはんだ付けするために配線基板６をノズル１２ａの上方に搬送すると、拡散反射膜１５ａは、配線基板６に押し流される。そのため、拡散反射膜１５ａは、配線基板６に対する部品７のはんだ付けに悪影響を及ぼさない。駆動部３２は、例えば、測定部２０によって拡散反射領域１６の第１の表面形状が測定する前に、部材３１を溶融はんだ１４から引き上げる。駆動部３２は、拡散反射領域１６の第１の表面形状が計測された後に、部材３１を溶融はんだ１４から引き上げてもよい。
【００３５】
図９に示されるように、測定部２０は、ノズル１２ａの第２の表面形状をさらに測定するように構成されてもよい。溶融はんだ１４がノズル１２ａから噴流する前に、測定部２０によって、ノズル１２ａの位置及び形状が測定され得る。そのため、適切な形状を有するノズル１２ａが、配線基板６に対して正確に位置決めされ得る。
【００３６】
図１０に示されるように、制御部４０は、測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状に基づいて、噴流部１０を制御するように構成されている。本明細書において、噴流部１０を制御することは、ポンプ１３ｐに接続されるモータ１３ｍの回転数、第１のヒータ１３ｈの温度、配線基板６に対するノズル１２ａの相対的な高さ、ノズル１２ａの頂部に対するガイド板１２ｃの相対的な高さ及びガイド板１２ｃの長さの少なくとも一つを調整することを意味する。
【００３７】
具体的には、メモリ４３には、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データが格納されている。制御部４０は、測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状と第１の形状基準データとを比較するように構成されている。制御部４０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状と第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部１０を制御するように構成されている。制御部４０は、測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状が第１の形状基準データに一致するように、噴流部１０を制御してもよい。
【００３８】
制御部４０は、測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状に基づいて、ノズル１２ａを制御するように構成されてもよい。本明細書において、ノズル１２ａを制御することは、配線基板６に対するノズル１２ａの相対的な高さ、ノズル１２ａの頂部に対するガイド板１２ｃの相対的な高さ及びガイド板１２ｃの長さの少なくとも一つを調整することを意味する。
【００３９】
具体的には、メモリ４３には、ノズル１２ａの第２の目標表面形状に関する第２の形状基準データが格納されている。制御部４０は、測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状と第２の形状基準データとを比較するように構成されている。制御部４０は、ノズル１２ａの第２の表面形状と第２の形状基準データとの間の比較結果に基づいてノズル１２ａを制御するように構成されている。制御部４０は、測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状がノズル１２ａの第２の形状基準データに一致するように、ノズル１２ａを制御してもよい。メモリ４３には、配線基板６の種類に関するデータがさらに格納されてもよい。
【００４０】
図１及び図４に示されるように、予備加熱部９は、ノズル１２ａに対して、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）における上流側（−ｘ方向）に配置されている。噴流部１０におけるはんだ付けに先立って、予備加熱部９は、配線基板６を加熱する。予備加熱部９は、第２のヒータ９ｈと、温度センサ９ｓとを含む。配線基板６は、予備加熱部９内を搬送部４によって搬送されながら、予備加熱部９において加熱される。第２のヒータ９ｈは、予備加熱部９内に搬送される配線基板６を加熱する。温度センサ９ｓは、予備加熱部９内の温度を検出する。図１０に示されるように、予備加熱部９は、制御部４０に接続されてもよい。制御部４０は、予備加熱部９を制御してもよい。制御部４０は、温度センサ９ｓの出力を受信して、温度センサ９ｓの出力に基づいて第２のヒータ９ｈを制御してもよい。
【００４１】
図１に示されるように、筐体３は、噴流部１０と、測定部２０と、予備加熱部９とを収容している。搬送部４の一部及び制御部４０もまた、筐体３内に収容されている。制御部４０は、搬送部４を制御してもよい。例えば、制御部４０は、搬送部４による配線基板６の搬送速度を制御してもよい。
【００４２】
図１に示されるように、表示部４１は、筐体３上に設けられている。図１０に示されるように、表示部４１は、制御部４０に接続されている。制御部４０は、測定部２０によって得られた拡散反射領域１６の第１の表面形状、ノズル１２ａの第２の表面形状、ポンプ１３ｐに接続されるモータ１３ｍの回転数、第１のヒータ１３ｈの温度、第２のヒータ９ｈの温度、配線基板６に対するノズル１２ａの相対的な高さ、ノズル１２ａの頂部に対するガイド板１２ｃの相対的な高さ、ガイド板１２ｃの長さ、配線基板６の種類及び搬送部４における配線基板６の搬送速度などを含むデータを、表示部４１に出力する。表示部４１は、これらデータを表示する。
【００４３】
図５から図１１を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。
本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）を備える。拡散反射領域１６は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面の一部上に選択的に形成されてもよい。
【００４４】
図５から図７に示されるように、拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、部材３１の少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１を一方向に移動させることを含んでもよい。具体的には、駆動部３２は、部材３１を高さ方向（ｚ方向）に移動させる。図６に示されるように、部材３１は、溶融はんだ１４の表面に形成されているはんだ酸化膜１５を貫通して、部材３１の一部が溶融はんだ１４に浸漬される。続いて、図７に示されるように、駆動部３２は、部材３１の少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、部材３１を溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１を一方向に移動させる。特定的には、駆動部３２は、部材３１の少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、幅方向（ｙ方向）に沿って、部材３１を移動させてもよい。
【００４５】
はんだ酸化膜１５が折り重なって、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、拡散反射領域１６が形成される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含んでもよい。拡散反射膜１５ａは、例えば、はんだ酸化膜１５の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。
【００４６】
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部２０によって拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定すること（Ｓ１２）を備える。図８に示されるように、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定すること（Ｓ１２）は、拡散反射領域１６に光２２を照射することと、拡散反射領域１６によって拡散反射された光２２を検出することとを含んでもよい。
【００４７】
拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）は、溶融はんだ１４の表面上に浮遊している。拡散反射領域１６の第１の表面形状は、溶融はんだ１４の表面形状に追従している。拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）の第１の表面形状は、溶融はんだ１４の表面形状と実質的に等価であると見なされ得る。測定部２０を用いて拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）の第１の表面形状を測定することによって、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状が測定され得る。測定部２０によって拡散反射領域１６の第１の表面形状が測定された後に、駆動部３２は、部材３１を、溶融はんだ１４から引き上げてもよい。
【００４８】
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状に基づいて、ノズル１２ａを含む噴流部１０を制御すること（Ｓ１３、Ｓ１４）をさらに備えてもよい。噴流部１０を制御すること（Ｓ１３、Ｓ１４）は、拡散反射領域１６の第１の表面形状とノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データとを比較すること（Ｓ１３）と、拡散反射領域１６の第１の表面形状と第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部１０を制御すること（Ｓ１４）とを含んでもよい。ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データは、例えば、後述するノズル１２ａをクリーニングした直後にノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に関する過去のデータであってもよい。
【００４９】
具体的には、メモリ４３には、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データが格納されている。制御部４０は、測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状とメモリ４３に格納されている第１の形状基準データとを比較する。制御部４０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状と第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部１０を制御する。
【００５０】
特定的には、制御部４０は、測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状がノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の形状基準データに一致するように、噴流部１０を制御してもよい。測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状がノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の形状基準データに一致しない場合（図１１のＮＧ１の場合）には、噴流部１０を制御し（Ｓ１４）、それから、工程（Ｓ１１）から工程（Ｓ１３）によって、拡散反射領域１６の第１の表面形状が第１の形状基準データに一致しているか否かを確認する。測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状がノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の形状基準データに一致するまで、工程（Ｓ１１）から工程（Ｓ１４）を繰り返す。
【００５１】
測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状を第１の形状基準データに一致させた後に、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４によって、部品７を配線基板６にはんだ付けする（Ｓ３０）。具体的には、配線基板６は、搬送部４によって、ノズル１２ａの上方へ搬送される。配線基板６の裏面６ｂにノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４を接触させて、配線基板６のおもて面６ａに搭載されている部品７は、配線基板６の裏面６ｂ上に設けられている電気配線にはんだ付けされる。
【００５２】
はんだ付け装置１を何度も使用すると、ノズル１２ａの開口１２ｂ内にはんだ酸化物が堆積する。この堆積されたはんだ酸化物は、ノズル１２ａの開口１２ｂ内の溶融はんだ１４の流れを阻害し、はんだ付け不良を引き起こす。堆積されたはんだ酸化物を除去するために、ノズル１２ａがはんだ付け装置１から取り外されて、分解及びクリーニングされる。ノズル１２ａをクリーニングし終えた後、ノズル１２ａを再び組み立てて、はんだ付け装置１に取り付ける。ノズル１２ａを組み立てる時に、組立誤差が発生することがある。ノズル１２ａをはんだ付け装置１に取り付ける際に、取り付け誤差が発生することがある。これらの誤差により、クリーニング後のノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状は、クリーニング前のノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状と異なり得る。これらの誤差は、ノズル１２ａをクリーニングした後に、はんだ不良を引き起こし得る。
【００５３】
図１１に示されるように、これらの誤差が発生しないように、本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部２０によってノズル１２ａの第２の表面形状を測定すること（Ｓ２１）と、測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状に基づいて、ノズル１２ａを制御すること（Ｓ２２，Ｓ２３）とをさらに備えてもよい。
【００５４】
測定部２０によってノズル１２ａの第２の表面形状を測定する工程（Ｓ２１）では、図９に示されるように、ノズル１２ａから溶融はんだ１４を噴流させずに、ノズル１２ａの第２の表面形状が測定部２０によって測定されてもよい。ノズル１２ａは、例えば、表面が窒化処理されたステンレス鋼によって構成されている。ノズル１２ａは、はんだ酸化膜１５よりも、表面における拡散反射の割合が大きく、かつ、表面における鏡面反射の割合が小さい。そのため、ノズル１２ａの第２の表面形状は、測定部２０によって直接測定され得る。
【００５５】
ノズル１２ａを制御すること（Ｓ２２，Ｓ２３）は、ノズル１２ａの第２の表面形状と、ノズル１２ａの第２の目標表面形状に関する第２の形状基準データとを比較すること（Ｓ２２）と、ノズル１２ａの第２の表面形状と第２の形状基準データとの間の比較結果に基づいてノズル１２ａを制御すること（Ｓ２３）とを含んでもよい。ノズル１２ａの第２の目標表面形状に関する第２の形状基準データは、例えば、ノズル１２ａをクリーニングした直後におけるノズル１２ａの第２の表面形状に関する過去のデータであってもよい。
【００５６】
具体的には、メモリ４３には、ノズル１２ａの第２の目標表面形状に関する第２の形状基準データが格納されている。制御部４０は、測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状とメモリ４３に格納されている第２の形状基準データとを比較する。制御部４０は、ノズル１２ａの第２の表面形状と第２の形状基準データとの間の比較結果に基づいてノズル１２ａを制御する。
【００５７】
特定的には、制御部４０は、測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状がノズル１２ａの第２の形状基準データに一致するように、ノズル１２ａを制御してもよい。測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状がノズル１２ａの第２の形状基準データに一致しない場合（図１１のＮＧ３の場合）には、ノズル１２ａを制御し（Ｓ２３）、それから、工程（Ｓ２１）及び工程（Ｓ２２）によって、ノズル１２ａの第２の表面形状が第２の形状基準データに一致しているか否かを確認する。測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状がノズル１２ａの第２の形状基準データに一致するまで、工程（Ｓ２１）から工程（Ｓ２３）を繰り返す。測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状をノズル１２ａの第２の形状基準データに一致させた後に、ノズル１２ａから溶融はんだ１４を噴流させて、溶融はんだ１４の表面上に拡散反射領域１６を形成する（Ｓ１１）。
【００５８】
図１１に示されるように、工程（Ｓ１１）から工程（Ｓ１４）のみでは測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状を第１の形状基準データに一致させることができない場合（図１１のＮＧ２の場合）には、工程（Ｓ２１）から工程（Ｓ２３）によって、ノズル１２ａを再び制御し、それから、工程（Ｓ１１）から工程（Ｓ１４）によって、拡散反射領域１６の第１の表面形状を第１の形状基準データに一致させてもよい。
【００５９】
配線基板６の種類が変更される場合も、ノズル１２ａを分解及びクリーニングする場合と同様の工程が行われてもよい。具体的には、配線基板６の種類が変更される時、工程（Ｓ２１）から工程（Ｓ２３）を行う。測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状が、異なる種類の配線基板６に対応する第２の形状基準データに一致するように、ノズル１２ａが制御される。続いて、工程（Ｓ１１）から工程（Ｓ１４）を行う。測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状が、異なる種類の配線基板６に対応する第１の形状基準データに一致するように、ノズル１２ａが制御される。制御部４０は、配線基板６の種類をメモリ４３から読み出して、第１の形状基準データ及び第２の形状基準データを、異なる種類の配線基板６に対応する第１の形状基準データ及び第２の形状基準データに置き換えてもよい。こうして、配線基板６の種類が変更されても、はんだ付け不良の発生が抑制され得る。
【００６０】
測定部２０によって得られた拡散反射領域１６の第１の表面形状と第１の形状基準データとを比較する工程（Ｓ１３）は、以下に例示する方法によって行われてもよい。第１の例では、電子計算機を用いて、拡散反射領域１６の第１の表面形状のデータから、特徴的な部分のデータ（例えば、拡散反射領域１６の第１の表面形状の最も高い位置のデータなど）を抽出する。電子計算機を用いて、当該特徴的な部分のデータが、当該特徴的な部分の第１の形状基準データと比較されてもよい。第２の例では、工程（Ｓ１３）において、拡散反射領域１６の第１の表面形状と第１の形状基準データとが表示部４１に表示され、これらが目視によって比較されてもよい。同様に、測定部２０によって得られたノズル１２ａの第２の表面形状と第２の形状基準データとを比較する工程（Ｓ２２）においても、電気計算機または目視によって、これらが比較されてもよい。
【００６１】
本実施の形態の一変形例のはんだ付け装置１及びはんだ付け方法では、実施の形態３に開示された拡散反射領域形成部３０ｃを用いて、本実施の形態の拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ａ）が形成されてもよい。
【００６２】
本実施の形態のはんだ付け装置１及びはんだ付け方法の効果を説明する。
本実施の形態のはんだ付け装置１は、噴流部１０と、測定部２０とを備える。噴流部１０は、ノズル１２ａを含む。測定部２０は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に形成される拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定するように構成されている。拡散反射領域１６の第１の表面形状は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に追従する。測定部２０によって拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定することにより、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状が容易に測定され得る。本実施の形態のはんだ付け装置１は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００６３】
本実施の形態のはんだ付け装置１は、溶融はんだ１４の表面上に拡散反射領域１６を形成するように構成されている拡散反射領域形成部３０をさらに備えてもよい。そのため、拡散反射領域１６が溶融はんだ１４の表面上に容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置１は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００６４】
本実施の形態のはんだ付け装置１では、拡散反射領域形成部３０は、部材３１と、駆動部３２とを含んでもよい。駆動部３２は、部材３１の少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１を一方向に移動させるように構成されてもよい。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。そのため、拡散反射領域１６が溶融はんだ１４の表面上に容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置１は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００６５】
本実施の形態のはんだ付け装置１は、制御部４０をさらに備えてもよい。制御部４０は、測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状に基づいて、噴流部１０を制するように構成されてもよい。本実施の形態のはんだ付け装置１は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００６６】
本実施の形態のはんだ付け装置１は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データが格納されているメモリ４３をさらに備えてもよい。制御部４０は、測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状と第１の形状基準データとを比較するように構成されてもよい。制御部４０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状と第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部１０を制御するように構成されてもよい。本実施の形態のはんだ付け装置１は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００６７】
本実施の形態のはんだ付け装置１では、測定部２０は、ノズル１２ａの第２の表面形状をさらに測定するように構成されてもよい。制御部４０は、測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状に基づいて、ノズル１２ａを制御するように構成されてもよい。本実施の形態のはんだ付け装置１は、ノズル１２ａの第２の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００６８】
本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）と、測定部２０によって拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定すること（Ｓ１２）とを備える。拡散反射領域１６の第１の表面形状は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に追従する。測定部２０によって拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定することにより、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状が測定され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００６９】
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１２）は、部材３１の少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１を移動させることを含んでもよい。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。そのため、拡散反射領域１６が溶融はんだ１４の表面上に容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００７０】
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部２０によって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状に基づいて、ノズル１２ａを含む噴流部１０を制御すること（Ｓ１３，Ｓ１４）をさらに備えてもよい。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００７１】
本実施の形態のはんだ付け方法では、噴流部１０を制御すること（Ｓ１３，Ｓ１４）は、拡散反射領域１６の第１の表面形状とノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データとを比較すること（Ｓ１３）と、拡散反射領域１６の第１の表面形状と第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部１０を制御すること（Ｓ１４）とを含んでもよい。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００７２】
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部２０によってノズル１２ａの第２の表面形状を測定すること（Ｓ２１）と、測定部２０によって得られるノズル１２ａの第２の表面形状に基づいて、ノズル１２ａを制御すること（Ｓ２２，Ｓ２３）とをさらに備えてもよい。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａの第２の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００７３】
実施の形態２．
図１２及び図１３を参照して、実施の形態２に係るはんだ付け装置１ｂを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｂは、実施の形態１のはんだ付け装置１と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
【００７４】
はんだ付け装置１ｂは、実施の形態１の測定部２０に代えて、測定部２０ｂを備えている。測定部２０ｂは、光源部２１ｂと、光検出部２３ｂとを含む。光源部２１ｂは、拡散反射領域１６に光２２ｂを照射するように構成されている。光源部２１ｂは、細長い矩形またはスリットの断面形状を有する光２２ｂを出射してもよい。光源部２１ｂは、例えば、レーザ墨出し器であってもよい。光検出部２３ｂは、拡散反射領域１６によって拡散反射される光２２ｂを検出するように構成されている。光検出部２３ｂは、拡散反射領域１６の第１の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である。撮像部は、例えば、ＣＣＤカメラであってもよい。拡散反射領域１６で拡散反射される光２２ｂを光検出部２３ｂで検出することにより、拡散反射領域１６の第１の表面形状が容易に測定され得る。
【００７５】
図１１から図１３を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。
【００７６】
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部２０ｂによって拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定すること（Ｓ１２）を備える。拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定すること（Ｓ１２）は、拡散反射領域１６に光２２ｂを照射することと、拡散反射領域１６によって拡散反射される光２２ｂを検出することとを含む。測定部２０ｂは、光検出部２３ｂを含む。光検出部２３ｂは、拡散反射領域１６の第１の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である。拡散反射された光２２ｂを検出することは、撮像部によって拡散反射領域１６の第１の表面形状の画像を取得することを含む。
【００７７】
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部２０ｂによって得られる拡散反射領域１６の第１の表面形状とノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データとを比較すること（Ｓ１３）を備える。具体的には、制御部４０は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の画像を、メモリ４３に格納されている第１の形状基準データ（第１の基準画像）と比較してもよい。特定的には、拡散反射領域１６の第１の表面形状の画像と第１の形状基準データ（第１の基準画像）とを重ね合わせて、これら画像の差分に相当する面積を算出する。この面積に基づいて、測定部２０ｂによって得られた拡散反射領域１６の第１の表面形状の画像が、第１の形状基準データ（第１の基準画像）と比較されてもよい。
【００７８】
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部２０ｂによってノズル１２ａの第２の表面形状を測定すること（Ｓ２１）を備えてもよい。測定部２０ｂは、ノズル１２ａの第２の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である光検出部２３ｂを含む。
【００７９】
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部２０ｂによって得られるノズル１２ａの第２の表面形状と、ノズル１２ａの第２の目標表面形状に関する第２の形状基準データとを比較すること（Ｓ２２）を備える。具体的には、制御部４０は、ノズル１２ａの第２の表面形状の画像を、メモリ４３に格納されている第２の形状基準データ（第２の基準画像）と比較してもよい。特定的には、ノズル１２ａの第２の表面形状の画像と、第２の形状基準データ（第２の基準画像）とを重ね合わせて、これら画像の差分に相当する面積を算出する。この面積に基づいて、測定部２０ｂによって得られたノズル１２ａの第２の表面形状の画像が、第２の形状基準データ（第２の基準画像）と比較されてもよい。
【００８０】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｂ及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｂ及びはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け装置１及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
【００８１】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｂでは、測定部２０ｂは、拡散反射領域１６に光２２ｂを照射するように構成されている光源部２１ｂと、拡散反射領域１６によって拡散反射される光２２ｂを検出するように構成されている光検出部２３ｂとを含む。光検出部２３ｂは、拡散反射領域１６の第１の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である。本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定すること（Ｓ１２）は、拡散反射領域１６に光２２ｂを照射することと、拡散反射領域１６によって拡散反射される光２２ｂを検出することとを含む。拡散反射された光２２ｂを検出することは、撮像部によって拡散反射領域１６の第１の表面形状の画像を取得することを含む。本実施の形態のはんだ付け装置１ｂ及びはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００８２】
実施の形態３．
図１４及び図１５を参照して、実施の形態３に係るはんだ付け装置１ｃを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｃは、実施の形態１のはんだ付け装置１と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
【００８３】
図１４に示されるように、はんだ付け装置１ｃは、実施の形態１の拡散反射領域形成部３０に代えて、拡散反射領域形成部３０ｃを備えている。拡散反射領域形成部３０ｃは、溶融はんだ１４の表面に向けて酸素を含むガス３４を吹き付けるように構成されているガス吹き付け部３５を含む。ガス吹き付け部３５は、溶融はんだ１４の表面の一部に選択的に酸素を含むガス３４を吹き付けるように構成されてもよい。酸素を含むガス３４は、例えば、空気であってもよい。ガス吹き付け部３５の噴出口は、例えば、溶融はんだ１４がノズル１２ａから流れ出す方向（ｘ方向）に沿って延在する細長い形状を有してもよいし、円の形状を有してもよい。ガス吹き付け部３５は、ノズル１２ａに対して移動するように構成されている。
【００８４】
溶融はんだ１４の表面のうちガス３４が吹き付けられた部分は、他の部分よりも優先的に酸化される。ガス３４は、溶融はんだ１４の酸化を促進する。図１５に示されるように、溶融はんだ１４の表面のうちガス３４が吹き付けられた部分に、選択的に、拡散反射領域１６が形成される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ｃを含んでもよく、拡散反射領域形成部３０ｃは拡散反射膜形成部であってもよい。拡散反射膜１５ｃは、拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ｃ）に隣接する領域におけるはんだ酸化膜１５よりも厚いはんだ酸化厚膜である。
【００８５】
光源部２１ｂから出射される光２２をはんだ酸化厚膜に照射すると、はんだ酸化厚膜において、光２２の干渉縞が形成されて、より多くの割合の光２２が拡散反射する。こうして、はんだ酸化厚膜は、拡散反射膜１５ｃとして機能する。拡散反射膜１５ｃ（はんだ酸化厚膜）の厚さは、拡散反射膜１５ｃ（はんだ酸化厚膜）に隣接するはんだ酸化膜１５の厚さの２倍以上であってもよく、３倍以上であってもよく、５倍以上であってもよく、１０倍以上であってもよい。拡散反射膜１５ｃ（はんだ酸化厚膜）の厚さは、光２２の波長の０．１０倍以上であってもよく、０．１２倍以上であってもよく、０．１５倍以上であってもよく、０．１８倍以上であってもよく、０．２０倍以上であってもよい。
【００８６】
図１１、図１４及び図１５を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。
【００８７】
本実施の形態のはんだ付け方法では、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、図１４に示されるように、溶融はんだ１４の表面の一部に選択的に酸素を含むガス３４を吹き付けることを含む。ガス３４は、溶融はんだ１４の酸化を促進する。図１５に示されるように、溶融はんだ１４の表面のうちガス３４が吹き付けられた部分に、選択的に、拡散反射領域１６が形成される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ｃを含む。拡散反射膜１５ｃは、拡散反射領域１６に隣接する領域におけるはんだ酸化膜１５よりも厚いはんだ酸化厚膜である。はんだ酸化厚膜において、光２２の干渉縞が形成されて、より多くの割合の光２２が拡散反射するため、はんだ酸化厚膜は、拡散反射膜１５ｃとして機能する。
【００８８】
本実施の形態の一変形例のはんだ付け装置１ｃ及びはんだ付け方法では、測定部２０は実施の形態２の測定部２０ｂに置き換えられてもよい。本実施の形態の別の変形例のはんだ付け装置１ｃ及びはんだ付け方法では、実施の形態１に開示された拡散反射領域形成部３０を用いて、本実施の形態の拡散反射領域１６（拡散反射膜１５ｃ）が形成されてもよい。
【００８９】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｃ及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｃ及びはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け装置１及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
【００９０】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｃでは、拡散反射領域形成部３０ｃは、溶融はんだ１４の表面に向けて酸素を含むガス３４を吹き付けるように構成されているガス吹き付け部３５を含む。本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６を形成することは、溶融はんだ１４の表面の一部に選択的に酸素を含むガス３４を吹き付けることを含む。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜（はんだ酸化厚膜）によって構成される拡散反射膜１５ｃを含む。そのため、拡散反射領域１６が容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置１ｃ及びはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【００９１】
実施の形態４．
図１６から図２１を参照して、実施の形態４に係るはんだ付け装置１ｄを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｄは、実施の形態１のはんだ付け装置１と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
【００９２】
はんだ付け装置１ｄは、実施の形態１の拡散反射領域形成部３０に代えて、拡散反射領域形成部３０ｄを備えている。拡散反射領域形成部３０ｄは、部材３１ｄと、振動子３２ｄとを含む。振動子３２ｄは、部材３１ｄの少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１ｄを振動させるように構成されている。振動子３２ｄは、部材３１ｄを、例えば、幅方向（ｙ方向）に振動させる。振動子３２ｄは、例えば、チタン酸ジルコン酸塩、チタン酸バリウムまたはチタン酸塩などのセラミックス材料で構成された圧電素子であってもよいし、電磁モータ、静電モータまたは超音波モータで構成された振動モータであってもよい。
【００９３】
ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４は、酸素を含むガス（例えば、空気）に曝されている。そのため、図１６及び図１７に示されるように、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、はんだ酸化膜１５が形成されている。はんだ酸化膜１５は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４がこのガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。
【００９４】
図１８から図２０に示されるように、部材３１ｄの少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、振動子３２ｄを用いて、部材３１ｄを溶融はんだ１４の表面に沿って振動させる。はんだ酸化膜１５が折り重なって、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、拡散反射領域１６が形成される。拡散反射領域１６は、部材３１ｄの幅方向（ｙ方向）の両側に形成される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含み、拡散反射領域形成部３０ｄは拡散反射膜形成部である。拡散反射膜１５ａは、例えば、はんだ酸化膜１５の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜１５ａは、はんだ酸化膜１５よりも、光２２（図１６を参照）をより多く拡散反射しやすい。測定部２０は、拡散反射領域１６において拡散反射された光２２を検出する。こうして、測定部２０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定することができる。
【００９５】
図１８から図２０に示されるように、部材３１ｄの振動回数が増加するにつれて、拡散反射膜１５ａの幅も増加する。拡散反射膜１５ａの幅は、幅方向（ｙ方向）における拡散反射膜１５ａの長さである。拡散反射膜１５ａが細切れに形成されることなく、広い面積を有する拡散反射膜１５ａが得られる。広い面積にわたって、拡散反射領域１６の第１の表面形状（溶融はんだ１４の表面形状）が安定的に測定され得る。
【００９６】
部材３１ｄは、ＳＵＳ３１６またはチタンのような溶融はんだ１４に溶けにくい材料で構成されている。部材３１ｄは、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）に沿って延在している棒部材であってもよい。部材３１ｄは、配線基板６がノズル１２ａの上方を搬送される際、配線基板６の裏面６ｂに接触するように構成されている。裏面６ｂは、溶融はんだ１４に対向する配線基板６の面である。具体的には、部材３１ｄは、ノズル１２ａの上方に延在している。配線基板６に向けてノズル１２ａが突出する方向（ｚ方向）からの平面視において、部材３１ｄは、配線基板６の搬送経路内に配置されている。配線基板６の搬送経路の幅は、配線基板６の幅と同じ幅を有している。配線基板６の幅は、幅方向（ｙ方向）における配線基板６の長さである。配線基板６の搬送経路の幅は、幅方向（ｙ方向）における配線基板６の搬送経路の長さである。
【００９７】
配線基板６の側面６ｃは、搬送部４の腕部４ａによって把持されているが、配線基板６のおもて面６ａと裏面６ｂとは、搬送部４の腕部４ａによって把持されていない。配線基板６の裏面６ｂは、溶融はんだ１４に接触しているのに対し、配線基板６のおもて面６ａは、溶融はんだ１４に接触していない。配線基板６の裏面６ｂの温度は、配線基板６のおもて面６ａの温度よりも高い。配線基板６のおもて面６ａと裏面６ｂとの間の温度差に起因して、配線基板６は、ノズル１２ａに向けて突出するように反ろうとする。部材３１ｄは、配線基板６の裏面６ｂに接触して、配線基板６が反ることを防止し得る。
【００９８】
図１１及び図１６から図２１を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。
【００９９】
本実施の形態のはんだ付け方法では、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、図１６から図２０に示されるように、部材３１ｄの少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１ｄを振動させることを含む。
【０１００】
溶融はんだ１４の表面上に、はんだ酸化膜１５（はんだ自然酸化膜）が形成されている。部材３１ｄの少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１ｄを振動させると、はんだ酸化膜１５が折り重なって、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、拡散反射領域１６が形成される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。拡散反射膜１５ａは、例えば、はんだ酸化膜１５の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜１５ａは、はんだ酸化膜１５よりも、光２２（図１６を参照）をより多く拡散反射しやすい。
【０１０１】
測定部２０は、拡散反射領域１６において拡散反射された光２２を検出する。こうして、測定部２０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定する（Ｓ１２）。配線基板６が部材３１ｄに接触していないときに、拡散反射領域１６を形成し（Ｓ１１）、かつ、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定する（Ｓ１２）。
【０１０２】
本実施の形態のはんだ付け方法では、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４によって部品７を配線基板６にはんだ付けする（Ｓ３０）工程において、配線基板６の裏面６ｂが部材３１ｄに接触しながら、配線基板６は搬送される。部材３１ｄは、配線基板６が反ることを防止し得る。
【０１０３】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｄ及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｄ及びはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け装置１及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
【０１０４】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｄでは、拡散反射領域形成部３０ｄは、部材３１ｄと、振動子３２ｄとを含む。振動子３２ｄは、部材３１ｄの少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１ｄを振動させるように構成されている。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。本実施の形態のはんだ付け装置１ｄは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１０５】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｄでは、部材３１ｄは、はんだ付けされる対象物（配線基板６）の搬送方向（ｘ方向）に沿って延在している。部材３１ｄは、対象物（配線基板６）の裏面６ｂに接触するように構成されている。裏面６ｂは、溶融はんだ１４に対向するはんだ付けされる対象物（配線基板６）の面である。部材３１ｄは、はんだ付けされる対象物（配線基板６）の裏面６ｂに接触して、はんだ付けされる対象物（配線基板６）が反ることを防止し得る。本実施の形態のはんだ付け装置１ｄは、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１０６】
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６を形成することは、部材３１ｄの少なくとも一部を溶融はんだ１４に浸漬させながら、溶融はんだ１４の表面に沿って部材３１ｄを振動させることを含む。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１０７】
本実施の形態のはんだ付け方法では、部材３１ｄは、はんだ付けされる対象物（配線基板６）の搬送方向（ｘ方向）に沿って延在している。はんだ付けされる対象物（配線基板６）の裏面６ｂが部材３１ｄに接触しながら、はんだ付けされる対象物（配線基板６）は搬送される。裏面６ｂは、溶融はんだ１４に対向するはんだ付けされる対象物（配線基板６）の面である。部材３１ｄは、はんだ付けされる対象物（配線基板６）が反ることを防止し得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１０８】
実施の形態５．
図２２から図２７を参照して、実施の形態５に係るはんだ付け装置１ｅを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｅは、実施の形態１のはんだ付け装置１と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
【０１０９】
はんだ付け装置１ｅは、実施の形態１の拡散反射領域形成部３０に代えて、拡散反射領域形成部３０ｅを備えている。拡散反射領域形成部３０ｅは、２つの静止部材３６を含む。静止部材３６は、例えば、搬送部４に取り付けられている。一方の静止部材３６は、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）におけるノズル１２ａの開口１２ｂの中心線１２ｍ（図２３を参照）に対して、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）の下流側に配置されている。他方の静止部材３６は、ノズル１２ａの開口１２ｂの中心線１２ｍに対して、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）の上流側に配置されている。静止部材３６の一部が溶融はんだ１４に浸漬されるように、静止部材３６はノズル１２ａの上方に配置されている。静止部材３６の残部は、溶融はんだ１４から露出している。
【０１１０】
配線基板６に向けてノズル１２ａが突出する方向（ｚ方向）からの平面視において、静止部材３６は配線基板６の搬送経路の外側に配置されている。そのため、静止部材３６がはんだ付けを妨げることが防止される。静止部材３６は、ＳＵＳ３１６またはチタンのような溶融はんだ１４に溶けにくい材料で構成されている。配線基板６に向けてノズル１２ａが突出する方向（ｚ方向）からの平面視において、静止部材３６は、例えば、長方形の形状を有している。配線基板６に向けてノズル１２ａが突出する方向（ｚ方向）からの平面視において、静止部材３６は、多角形の形状を有してもよいし、円形の形状を有してもよいし、流線形の形状を有してもよい。
【０１１１】
ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４は、酸素を含むガス（例えば、空気）に曝されている。そのため、図２２から図２５に示されるように、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、はんだ酸化膜１５が形成されている。はんだ酸化膜１５は、溶融はんだ１４が、このガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。
【０１１２】
静止部材３６の周りで、はんだ酸化膜１５が折り重なって、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、拡散反射領域１６が形成される。拡散反射領域１６が形成される理由は、溶融はんだ１４が静止部材３６に沿って流れる際、溶融はんだ１４は静止部材３６に接触し、溶融はんだ１４の流れは静止部材３６の周りで乱れ、静止部材３６の周りで溶融はんだ１４の流速が減少するためであると推測される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含み、拡散反射領域形成部３０ｅは拡散反射膜形成部である。拡散反射膜１５ａは、例えば、はんだ酸化膜１５の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜１５ａは、はんだ酸化膜１５よりも、光２２（図２２を参照）をより多く拡散反射しやすい。測定部２０は、拡散反射領域１６において拡散反射された光２２を検出する。こうして、測定部２０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定することができる。
【０１１３】
図１１及び図２２から図２７を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。
【０１１４】
本実施の形態に係るはんだ付け方法では、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、ノズル１２ａの上方に配置された静止部材３６に沿って溶融はんだ１４を流すことを含む。静止部材３６の一部が溶融はんだ１４に浸漬されている。静止部材３６に沿って溶融はんだ１４を流すことによって、静止部材３６の周りで、はんだ酸化膜１５が折り重なって、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、拡散反射領域１６が形成される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。拡散反射膜１５ａは、例えば、はんだ酸化膜１５の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜１５ａは、はんだ酸化膜１５よりも、光２２（図１６を参照）をより多く拡散反射しやすい。
【０１１５】
測定部２０は、拡散反射領域１６において拡散反射された光２２を検出する。こうして、測定部２０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定する（Ｓ１２）。
【０１１６】
本実施の形態に係るはんだ付け方法では、配線基板６に向けてノズル１２ａが突出する方向（ｚ方向）からの平面視において、静止部材３６は配線基板６の搬送経路の外側に配置されている。そのため、静止部材３６がはんだ付けを妨げることが防止される。
【０１１７】
図２６を参照して、本実施の形態の第１変形例では、拡散反射領域形成部３０ｅは、１つの静止部材３６を含んでもよい。拡散反射領域形成部３０ｅは、３つ以上の静止部材３６を含んでもよい。
【０１１８】
図２７を参照して、本実施の形態の第２変形例では、静止部材３６は、静止部材３６の中央部がノズル１２ａに向かって突出するように曲げられた形状を有している。溶融はんだ１４の表面の高さ（ｚ方向の位置）が変化しても、溶融はんだ１４の表面が静止部材３６に接触し続けることができるため、静止部材３６の周りに拡散反射領域１６が安定的に形成され得る。
【０１１９】
本実施の形態の第３変形例では、静止部材３６の周りに、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜１５ｃ（図１５）が形成されてもよく、拡散反射領域１６は、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜１５ｃ（図１５）を含んでもよい。
【０１２０】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｅ及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｅ及びはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け装置１及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
【０１２１】
本実施の形態に係るはんだ付け装置１ｅでは、拡散反射領域形成部３０ｅは、静止部材３６を含む。静止部材３６の一部が溶融はんだ１４に浸漬されるように静止部材３６はノズル１２ａの上方に配置されている。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。本実施の形態のはんだ付け装置１ｅは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１２２】
本実施の形態に係るはんだ付け方法では、拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、ノズル１２ａの上方に配置された静止部材３６に沿って溶融はんだ１４を流すことを含む。静止部材３６の一部が溶融はんだ１４に浸漬されている。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１２３】
本実施の形態に係るはんだ付け装置１ｅ及びはんだ付け方法では、はんだ付けされる対象物（配線基板６）に向けてノズル１２ａが突出する方向（ｚ方向）からの平面視において、静止部材３６は対象物（配線基板６）の搬送経路の外側に配置されている。そのため、静止部材３６がはんだ付けを妨げることが防止される。本実施の形態のはんだ付け装置１ｅ及びはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１２４】
本実施の形態に係るはんだ付け装置１ｅ及びはんだ付け方法では、静止部材３６は、静止部材３６の中央部がノズル１２ａに向かって突出するように曲げられた形状を有している。溶融はんだ１４の表面の高さ（ｚ方向の位置）が変化しても、溶融はんだ１４の表面が静止部材３６に接触し続けることができるため、静止部材３６の周りに拡散反射領域１６が安定的に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置１ｅ及びはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１２５】
実施の形態６．
図２８から図３２を参照して、実施の形態６に係るはんだ付け装置１ｆを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｆは、実施の形態１のはんだ付け装置１と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
【０１２６】
はんだ付け装置１ｆでは、実施の形態１の拡散反射領域形成部３０が省略されている。測定部２０は、ノズル１２ａよりも、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）の下流側（＋ｘ方向）に配置されている。
【０１２７】
図２８から図３０を参照して、拡散反射領域１６は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４に配線基板６の一部（例えば、配線基板６の裏面６ｂまたは前側面６ｆ）が接触することによって形成されている。配線基板６の前側面６ｆは、配線基板６の搬送方向側にある配線基板６の側面である。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。
【０１２８】
具体的には、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４は、酸素を含むガス（例えば、空気）に曝されている。そのため、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、はんだ酸化膜１５が形成されている。はんだ酸化膜１５は、溶融はんだ１４が、このガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。
【０１２９】
搬送部４によって配線基板６が搬送されながら、配線基板６の一部が溶融はんだ１４の表面に接触する。そのため、はんだ酸化膜１５が折り重なって、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、拡散反射領域１６が形成される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。拡散反射膜１５ａは、例えば、はんだ酸化膜１５の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。拡散反射膜１５ａは、はんだ酸化膜１５よりも、光２２（図２２を参照）をより多く拡散反射しやすい。測定部２０は、拡散反射領域１６において拡散反射された光２２を検出する。こうして、測定部２０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定することができる。測定部２０は、ノズル１２ａよりも、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）の下流側に配置されているため、配線基板６に妨げられることなく、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定することができる。
【０１３０】
図２９、図３１及び図３２を参照して、拡散反射領域１６ｓは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４に配線基板６の少なくとも一部（例えば、配線基板６の裏面６ｂまたは前側面６ｆ）が接触することによって形成されている。拡散反射領域１６ｓは、配線基板６に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜４６を含む。
【０１３１】
具体的には、図２９に示されるように、搬送部４によって配線基板６が搬送されながら、配線基板６の裏面６ｂまたは前側面６ｆが溶融はんだ１４の表面に接触する。図３１及び図３２に示されるように、配線基板６に付着していたフラックスの残渣が、はんだ酸化膜１５の一部を溶かして、溶融はんだ１４の表面に残留する。ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、拡散反射領域１６ｓが形成される。拡散反射領域１６ｓは、配線基板６に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜４６を含む。フラックスの残渣によって構成される拡散反射膜４６ははんだ酸化膜１５よりも厚いため、拡散反射膜４６は、はんだ酸化膜１５よりも、光２２（図３１を参照）をより多く拡散反射しやすい。
【０１３２】
測定部２０は、拡散反射領域１６ｓにおいて拡散反射された光２２を検出する。こうして、測定部２０は、拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状を測定することができる。ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状の測定結果を用いて、配線基板６ｓに続いて搬送部４によって搬送される別の配線基板６ｓ（図３１を参照）に搭載されている部品７がより適切に（より良好に）はんだ付けされる。
【０１３３】
図２８から図３３を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。
【０１３４】
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４に配線基板６の一部（例えば、配線基板６の裏面６ｂまたは前側面６ｆ）を接触させることを含む。測定部２０は、ノズル１２ａよりも、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）の下流側に配置されている。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。
【０１３５】
溶融はんだ１４の表面上に、はんだ酸化膜１５（はんだ自然酸化膜）が形成されている。搬送部４によって配線基板６が搬送されながら、配線基板６の一部が溶融はんだ１４の表面に接触する。そのため、はんだ酸化膜１５が折り重なって、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、拡散反射領域１６が形成される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。拡散反射膜１５ａは、例えば、はんだ酸化膜１５の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。拡散反射膜１５ａは、はんだ酸化膜１５よりも、光２２（図２２を参照）をより多く拡散反射しやすい。
【０１３６】
測定部２０は、拡散反射領域１６において拡散反射された光２２を検出する。こうして、測定部２０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定する（Ｓ１２）。測定部２０は、ノズル１２ａよりも、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）の下流側に配置されているため、配線基板６に妨げられることなく、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定することができる。
【０１３７】
本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に拡散反射領域１６ｓを形成すること（Ｓ３１)と、測定部２０によって拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状を測定すること（Ｓ３２）と、ノズル１２ａを含む噴流部１０を制御すること（Ｓ３３、Ｓ３４）をさらに備える。噴流部１０を制御すること（Ｓ３３、Ｓ３４）は、拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状とノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データとを比較すること（Ｓ３３）と、拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状と第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部１０を制御すること（Ｓ３４）とを含む。
【０１３８】
具体的には、図２９に示されるように、搬送部４によって配線基板６が搬送されながら、配線基板６一部（例えば、配線基板６の裏面６ｂまたは前側面６ｆ）が溶融はんだ１４の表面に接触する。図３１及び図３２に示されるように、配線基板６に付着していたフラックスの残渣が、はんだ酸化膜１５の一部を溶かして、溶融はんだ１４の表面に残留する。ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面上に、拡散反射領域１６ｓが形成される（Ｓ３１）。すなわち、拡散反射領域１６ｓを形成すること（Ｓ３１）は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４に配線基板６の少なくとも一部を接触させることを含む。拡散反射領域１６ｓは、配線基板６に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜４６を含む。フラックスの残渣によって構成される拡散反射膜４６ははんだ酸化膜１５よりも厚いため、拡散反射膜４６は、はんだ酸化膜１５よりも、光２２（図３１を参照）をより多く拡散反射しやすい。
【０１３９】
測定部２０は、拡散反射領域１６ｓにおいて拡散反射された光２２を検出する。こうして、測定部２０は、拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状を測定する（Ｓ３２）。
【０１４０】
拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状とノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データとを比較すること（Ｓ３３）は、拡散反射領域１６の第１の表面形状とノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データとを比較すること（Ｓ１３）と同様である。拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状と第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部１０を制御すること（Ｓ３４）は、拡散反射領域１６の第１の表面形状と第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部１０を制御すること（Ｓ１４）と同様である。
【０１４１】
ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４によって、部品７を別の配線基板６ｓにはんだ付けすること（Ｓ４０）は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４によって、部品７を配線基板６にはんだ付けすること（Ｓ３０）と同様である。別の配線基板６ｓは、配線基板６ｓに続いて搬送部４によって搬送される。ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状の測定結果を用いて、別の配線基板６ｓに搭載されている部品７がより適切に（より良好に）はんだ付けされる。
【０１４２】
本実施の形態では、拡散反射領域１６の第１表面形状と拡散反射領域１６ｓの第１表面形状とは、同一の測定部２０を用いて測定されているが、拡散反射領域１６ｓの第１表面形状は、測定部２０とは別の測定部（図示せず）を用いて測定されてもよい。この別の測定部は、測定部２０と同じ構成を有しているが、ノズル１２ａよりも、配線基板６の搬送方向（ｘ方向）の下流側に配置されていなくてもよい。
【０１４３】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｆ及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｆ及びはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け装置１及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
【０１４４】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｆでは、拡散反射領域１６は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４にはんだ付けされる対象物の一部（例えば、配線基板６の裏面６ｂまたは前側面６ｆ）が接触することによって形成されている。測定部２０は、ノズル１２ａよりも、はんだ付けされる対象物（配線基板６）の搬送方向（ｘ方向）の下流側に配置されている。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。本実施の形態のはんだ付け装置１ｆは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１４５】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｆでは、拡散反射領域１６ｓは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４にはんだ付けされる対象物の少なくとも一部（例えば、配線基板６の裏面６ｂまたは前側面６ｆ）が接触することによって形成されている。拡散反射領域１６ｓは、はんだ付けされる対象物（配線基板６）に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜４６を含む。本実施の形態のはんだ付け装置１ｆは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１４６】
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４にはんだ付けされる対象物の一部（例えば、配線基板６の裏面６ｂまたは前側面６ｆ）を接触させることを含む。測定部２０は、ノズル１２ａよりも、はんだ付けされる対象物（配線基板６）の搬送方向（ｘ方向）の下流側に配置されている。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜１５ａを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１４７】
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６ｓを形成すること（Ｓ３１）は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４にはんだ付けされる対象物の少なくとも一部（例えば、配線基板６の裏面６ｂまたは前側面６ｆ）を接触させることを含む。拡散反射領域１６ｓは、はんだ付けされる対象物（配線基板６）に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜４６を含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６ｓの第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１４８】
実施の形態７．
図３４から図３９を参照して、実施の形態７に係るはんだ付け装置１ｇを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｇは、実施の形態１のはんだ付け装置１と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
【０１４９】
はんだ付け装置１ｇでは、拡散反射領域形成部３０ｇは、ノズル１２ａ内に設けられた筒部材３７を含む。筒部材３７の内部に拡散反射領域１６が形成されるように、筒部材３７は配置されている。具体的には、筒部材３７は、流入口３７ｉと、上端開口３７ｊとを有している。ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４は、流入口３７ｉから筒部材３７の内部に流れる。ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４は、筒部材３７の外部にも流れる。筒部材３７の上端開口３７ｊは、溶融はんだ１４から露出している。筒部材３７は、ＳＵＳ３１６またはチタンのような溶融はんだ１４に溶けにくい材料で構成されている。
【０１５０】
ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面は、絶えず揺らいでいる。筒部材３７の内部は、筒部材３７によって取り囲まれている。そのため、筒部材３７の内部における溶融はんだ１４の表面の揺らぎは、筒部材３７の外部における溶融はんだ１４の表面の揺らぎよりも小さくなる。また、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４は、酸素を含むガス（例えば、空気）に曝されている。そのため、筒部材３７の外部では、溶融はんだ１４の表面上にはんだ酸化膜１５が形成されるが、筒部材３７の内部では、溶融はんだ１４の表面上にはんだ酸化膜１５よりも厚いはんだ酸化厚膜が形成される。測定部２０から出射される光２２をはんだ酸化厚膜に照射すると、はんだ酸化厚膜において、光２２の干渉縞が形成されて、より多くの割合の光２２が拡散反射する。こうして、はんだ酸化厚膜は、拡散反射膜１５ｃとして機能する。拡散反射領域１６は、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜１５ｃを含む。
【０１５１】
測定部２０は、筒部材３７の上端開口３７ｊから光２２を入射させて、拡散反射領域１６において拡散反射された光２２を検出する。こうして、測定部２０は、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定することができる。
【０１５２】
はんだ付け装置１ｇでは、配線基板６に向けてノズル１２ａが突出する方向（ｚ方向）からの平面視において、筒部材３７は配線基板６の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材３７がはんだ付けを妨げることが防止される。筒部材３７は、例えば、ノズル１２ａの開口１２ｂの中に配置されている。複数の筒部材３７が、はんだ付け装置１ｇに設けられてもよい。複数の筒部材３７は、溶融はんだ１４がノズル１２ａから流れ出す方向（ｘ方向）に沿って配置されてもよい。複数の筒部材３７は、溶融はんだ１４がノズル１２ａから流れ出す方向（ｘ方向）に交差する幅方向（ｙ方向）に沿って配置されてもよい。筒部材３７は、例えば、円筒部材である。筒部材３７は、角筒部材であってもよいし、楕円筒部材であってもよい。
【０１５３】
図３６及び図３７を参照して、拡散反射領域形成部３０ｇは、溶融はんだ１４の流れ圧力を低減させる流れ圧力低減部材３８をさらに含んでもよい。流れ圧力低減部材３８は、筒部材３７の流入口３７ｉに設けられている。流れ圧力低減部材３８は、筒部材３７の内部に流れ込む溶融はんだ１４に圧力損失を与えて、溶融はんだ１４の流れ圧力を低減させるように構成されている。そのため、流れ圧力低減部材３８は、筒部材３７の内部における溶融はんだ１４の表面の揺らぎを減少させる。はんだ酸化厚膜である拡散反射膜１５ｃがより短時間でかつより確実に形成され得る。流れ圧力低減部材３８は、ＳＵＳ３１６またはチタンのような溶融はんだ１４に溶けにくい材料で構成されている。
【０１５４】
図３６及び図３７に示されるように、流れ圧力低減部材３８は、溶融はんだ１４が流れる複数の微小貫通穴３９ａを有する板部材３９ｂ（例えば、パンチングメタル構造を有する板部材）で構成されてもよい。図３８及び図３９に示されるように、流れ圧力低減部材３８は、複数の板部材３９ｄで構成されてもよい。複数の板部材３９ｄは、筒部材３７の内部に、筒部材３７の長手方向（ｚ方向）に沿って千鳥状に配置されている。複数の板部材３９ｄの各々は、筒部材３７の内径よりも小さなサイズを有しており、複数の板部材３９ｄの各々と筒部材３７の内壁との間に、溶融はんだ１４が流れる隙間が形成されている。
【０１５５】
図１１及び図３４から図３９を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。
【０１５６】
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、ノズル１２ａ内に設けられた筒部材３７の内部に溶融はんだ１４を流すことを含む。筒部材３７の内部に拡散反射領域１６が形成されるように、筒部材３７は配置されている。具体的には、筒部材３７は、流入口３７ｉと、上端開口３７ｊとを有している。ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４は、流入口３７ｉから筒部材３７の内部に流れる。ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４は、筒部材３７の外部にも流れる。筒部材３７の上端開口３７ｊは、溶融はんだ１４から露出している。
【０１５７】
ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面は、絶えず揺らいでいる。筒部材３７の内部は、筒部材３７によって取り囲まれている。そのため、筒部材３７の内部における溶融はんだ１４の表面の揺らぎは、筒部材３７の外部における溶融はんだ１４の表面の揺らぎよりも小さくなる。そして、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４は、酸素を含むガス（例えば、空気）に曝されている。そのため、筒部材３７の外部では、溶融はんだ１４の表面上にはんだ酸化膜１５が形成されるが、筒部材３７の内部では、溶融はんだ１４の表面上にはんだ酸化膜１５よりも厚いはんだ酸化厚膜が形成される。拡散反射領域１６は、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜１５ｃを含む。
【０１５８】
本実施の形態のはんだ付け方法では、配線基板６に向けてノズル１２ａが突出する方向（ｚ方向）からの平面視において、筒部材３７は配線基板６の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材３７がはんだ付けを妨げることが防止される。
【０１５９】
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、流れ圧力低減部材３８を用いて、筒部材３７に流入する溶融はんだ１４の流れ圧力を低減させることをさらに含む。流れ圧力低減部材３８は、筒部材３７の内部に流れ込む溶融はんだ１４の流れ圧力を低減させる。流れ圧力低減部材３８は、筒部材３７の内部における溶融はんだ１４の表面の揺らぎを減少させる。はんだ酸化厚膜である拡散反射膜１５ｃがより短時間でかつより確実に形成され得る。
【０１６０】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｇ及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｇ及びはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け装置１及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
【０１６１】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｇでは、拡散反射領域形成部３０ｇは、ノズル１２ａ内に設けられた筒部材３７を含む。筒部材３７の内部に拡散反射領域１６が形成されるように、筒部材３７は配置されている。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜（はんだ酸化厚膜）によって構成される拡散反射膜１５ｃを含む。本実施の形態のはんだ付け装置１ｇは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１６２】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｇでは、はんだ付けされる対象物（配線基板６）に向けてノズル１２ａが突出する方向（ｚ方向）からの平面視において、筒部材３７ははんだ付けされる対象物（配線基板６）の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材３７がはんだ付けを妨げることが防止される。本実施の形態のはんだ付け装置１ｇは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１６３】
本実施の形態のはんだ付け装置１ｇでは、拡散反射領域形成部３０ｇは、溶融はんだ１４の流れ圧力を低減させる流れ圧力低減部材３８をさらに含む。筒部材３７は、溶融はんだ１４が流入する流入口３７ｉを有している。流れ圧力低減部材３８は、流入口３７ｉに設けられている。そのため、拡散反射膜１５ｃがより短時間でかつより確実に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置１ｇは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１６４】
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、ノズル１２ａ内に設けられた筒部材３７の内部に溶融はんだ１４を流すことを含む。筒部材３７の内部に拡散反射領域１６が形成されるように、筒部材３７は配置されている。拡散反射領域１６は、はんだ酸化膜（はんだ酸化厚膜）によって構成される拡散反射膜１５ｃを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１６５】
本実施の形態のはんだ付け方法では、はんだ付けされる対象物（配線基板６）に向けてノズル１２ａが突出する方向（ｚ方向）からの平面視において、筒部材３７ははんだ付けされる対象物（配線基板６）の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材３７がはんだ付けを妨げることが防止される。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１６６】
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域１６を形成すること（Ｓ１１）は、筒部材３７に流入する溶融はんだ１４の流れ圧力を低減させることをさらに含む。そのため、拡散反射膜１５ｃがより短時間でかつより確実に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１６７】
実施の形態８．
図４０を参照して、実施の形態８に係るはんだ付け装置１ｈを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置１ｈは、実施の形態１のはんだ付け装置１と同様の構成を備え、同様の効果を奏するが、主に以下の点で異なる。
【０１６８】
はんだ付け装置１ｈは、送風部５０をさらに備える。送風部５０は、測定部２０に向けて送風するように構成されている。送風部５０は、配線基板６の搬送経路に平行に送風してもよい。送風部５０は、例えば、軸流ファン、遠心ファン、斜流ファンまたは横流ファンである。溶融はんだ１４からの輻射熱に起因して、測定部２０の温度が過度に上昇して、測定部２０が故障または誤動作することがある。送風部５０は、測定部２０に向けて送風することによって、測定部２０を冷却して、測定部２０が故障または誤動作することを防止する。さらに、送風部５０は、筐体３内に舞っているフラックスの残渣の粉じん及びはんだ酸化物の粉じんが測定部２０に付着することを防止する。そのため、測定部２０を用いて、拡散反射領域１６の第１の表面形状が正確にかつ安定的に測定され得る。本実施の形態のはんだ付け装置１ｈは、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１６９】
図１１及び図４０を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態１のはんだ付け方法と同様の工程を備え、同様の効果を奏するが、以下の点で異なる。
【０１７０】
本実施の形態のはんだ付け方法は、送風部５０を用いて、測定部２０に向けて送風することをさらに備える。測定部２０に向けて送風しながら、測定部２０を用いて、拡散反射領域１６の第１の表面形状を測定（Ｓ１２）してもよい。測定部２０に向けて送風することによって、測定部２０が冷却されて、測定部２０が故障または誤動作することを防止する。筐体３内に舞っているフラックスの残渣の粉じん及びはんだ酸化物の粉じんが測定部２０に付着することが防止される。そのため、測定部２０を用いて、拡散反射領域１６の第１の表面形状が正確にかつ安定的に測定され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル１２ａから噴流する溶融はんだ１４の表面形状に対応する拡散反射領域１６の第１の表面形状の測定結果を用いて、より適切な（より良好な）はんだ付けを可能にする。
【０１７１】
今回開示された実施の形態１−８はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。矛盾のない限り、今回開示された実施の形態１−８の少なくとも２つを組み合わせてもよい。例えば、実施の形態２−７のはんだ付け装置１ｂ−１ｇに、実施の形態８の送風部５０をさらに設けてもよい。実施の形態３−８の測定部２０を、実施の形態２の測定部２０ｂに置き換えてもよい。本発明の範囲は、上記した説明ではなく請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることを意図される。
【符号の説明】
【０１７２】
１，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆ，１ｇ，１ｈ  はんだ付け装置、３  筐体、４  搬送部、４ａ  腕部、６，６ｓ  配線基板、６ａ  おもて面、６ｂ  裏面、６ｃ  側面、６ｆ  前側面、７  部品、９  予備加熱部、９ｈ  第２のヒータ、９ｓ  温度センサ、１０  噴流部、１０ｓ  はんだ槽、１１  ダクト、１１ａ  開口、１１ｂ  底部、１１ｆ  支柱、１１ｈ  ボルト、１１ｔ  頂部、１２  ノズル部、１２ａ  ノズル、１２ｂ  開口、１２ｃ  ガイド板、１２ｄ  板部、１２ｍ  中心線、１２ｅ  孔、１３ｈ  第１のヒータ、１３ｍ  モータ、１３ｎ  インペラ、１３ｐ  ポンプ、１４  溶融はんだ、１５  はんだ酸化膜、１５ａ，１５ｃ，４６  拡散反射膜、１６，１６ｓ  拡散反射領域、１８  昇降部、２０，２０ｂ  測定部、２１，２１ｂ  光源部、２２，２２ｂ  光、２３，２３ｂ  光検出部、３０，３０ｃ，３０ｄ，３０ｅ，３０ｇ  拡散反射領域形成部、３１，３１ｄ  部材、３２  駆動部、３２ｄ  振動子、３３  連結部、３４  ガス、３５  ガス吹き付け部、３６  静止部材、３７  筒部材、３７ｉ  流入口、３７ｊ  上端開口、３８  流れ圧力低減部材、３９ａ  微小貫通穴、３９ｂ，３９ｄ  板部材、４０  制御部、４１  表示部、４３  メモリ、５０  送風部。
【図１】
2019078021.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2019078021.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
2019078021.tif 000020
【図１９】
2019078021.tif 000021
【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
2019078021.tif 000032
【図３１】
2019078021.tif 000033
【図３２】
2019078021.tif 000034
【図３３】
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【図３４】
2019078021.tif 000036
【図３５】
2019078021.tif 000037
【図３６】
2019078021.tif 000038
【図３７】
2019078021.tif 000039
【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
2019078021.tif 000042
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月18日(2020.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルを含む噴流部と、
前記ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に形成される拡散反射領域の第１の表面形状を測定するように構成されている測定部とを備え、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け装置。
【請求項２】
前記溶融はんだの前記表面上に前記拡散反射領域を形成するように構成されている拡散反射領域形成部をさらに備える、請求項１に記載のはんだ付け装置。
【請求項３】
前記拡散反射領域形成部は、部材と、振動子とを含み、
前記振動子は、前記部材の少なくとも一部を前記溶融はんだに浸漬させながら、前記溶融はんだの前記表面に沿って前記部材を振動させるように構成されている、請求項２に記載のはんだ付け装置。
【請求項４】
前記部材は、はんだ付けされる対象物の搬送方向に沿って延在しており、
前記部材は、前記はんだ付けされる対象物の裏面に接触するように構成されており、前記裏面は、前記溶融はんだに対向する前記はんだ付けされる対象物の面である、請求項３に記載のはんだ付け装置。
【請求項５】
前記拡散反射領域形成部は、静止部材を含み、
前記静止部材の一部が前記溶融はんだに浸漬されるように前記静止部材は前記ノズルの上方に配置されている、請求項２に記載のはんだ付け装置。
【請求項６】
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記静止部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項５に記載のはんだ付け装置。
【請求項７】
前記静止部材は、前記静止部材の中央部が前記ノズルに向かって突出するように曲げられた形状を有している、請求項５または請求項６に記載のはんだ付け装置。
【請求項８】
前記拡散反射領域形成部は、前記ノズル内に設けられた筒部材を含み、
前記筒部材の内部に前記拡散反射領域が形成されるように、前記筒部材は配置されている、請求項２に記載のはんだ付け装置。
【請求項９】
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記筒部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項８に記載のはんだ付け装置。
【請求項１０】
前記拡散反射領域形成部は、前記溶融はんだの流れ圧力を低減させる流れ圧力低減部材をさらに含み、
前記筒部材は、前記溶融はんだが流入する流入口を有し、
前記流れ圧力低減部材は前記流入口に設けられている、請求項８または請求項９に記載のはんだ付け装置。
【請求項１１】
前記拡散反射領域は、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の一部が接触することによって形成され、
前記測定部は、前記ノズルよりも、前記はんだ付けされる対象物の搬送方向の下流側に配置されている、請求項１に記載のはんだ付け装置。
【請求項１２】
ノズルを含む噴流部と、
前記ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に形成される拡散反射領域の第１の表面形状を測定するように構成されている測定部とを備え、
前記拡散反射領域は、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の少なくとも一部が接触することによって形成され、
前記拡散反射領域は、前記はんだ付けされる対象物に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け装置。
【請求項１３】
前記測定部は、前記拡散反射領域に光を照射するように構成されている光源部と、前記拡散反射領域で拡散反射される前記光を検出するように構成されている光検出部とを含み、
前記光検出部は、前記拡散反射領域の前記第１の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である、請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載のはんだ付け装置。
【請求項１４】
前記測定部に向けて送風するように構成されている送風部をさらに備える、請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載のはんだ付け装置。
【請求項１５】
制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第１の表面形状に基づいて、前記噴流部を制御するように構成されている、請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載のはんだ付け装置。
【請求項１６】
前記ノズルから噴流する前記溶融はんだの第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データが格納されているメモリをさらに備え、
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第１の表面形状と前記第１の形状基準データとを比較するように構成されており、
前記制御部は、前記拡散反射領域の前記第１の表面形状と前記第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて前記噴流部を制御するように構成されている、請求項１５に記載のはんだ付け装置。
【請求項１７】
前記測定部は、前記ノズルの第２の表面形状をさらに測定するように構成されており、
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記ノズルの前記第２の表面形状に基づいて、前記ノズルを制御するように構成されている、請求項１５または請求項１６に記載のはんだ付け装置。
【請求項１８】
ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に拡散反射領域を形成することと、
測定部によって前記拡散反射領域の第１の表面形状を測定することとを備え、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け方法。
【請求項１９】
前記拡散反射領域を形成することは、部材の少なくとも一部を前記溶融はんだに浸漬させながら、前記溶融はんだの前記表面に沿って前記部材を振動させることを含む、請求項１８に記載のはんだ付け方法。
【請求項２０】
前記部材は、はんだ付けされる対象物の搬送方向に沿って延在しており、
前記はんだ付けされる対象物の裏面が前記部材に接触しながら、前記はんだ付けされる対象物は搬送され、前記裏面は、前記溶融はんだに対向する前記はんだ付けされる対象物の面である、請求項１９に記載のはんだ付け方法。
【請求項２１】
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズルの上方に配置された静止部材に沿って前記溶融はんだを流すことを含み、
前記静止部材の一部が前記溶融はんだに浸漬されている、請求項１８に記載のはんだ付け方法。
【請求項２２】
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記静止部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項２１に記載のはんだ付け方法。
【請求項２３】
前記静止部材は、前記静止部材の中央部が前記ノズルに向かって突出するように曲げられた形状を有している、請求項２１または請求項２２に記載のはんだ付け方法。
【請求項２４】
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズル内に設けられた筒部材の内部に前記溶融はんだを流すことを含み、
前記筒部材の前記内部に前記拡散反射領域が形成されるように、前記筒部材は配置されている、請求項１８に記載のはんだ付け方法。
【請求項２５】
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記筒部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項２４に記載のはんだ付け方法。
【請求項２６】
前記拡散反射領域を形成することは、前記筒部材に流入する前記溶融はんだの流れ圧力を低減させることをさらに含む、請求項２４または請求項２５に記載のはんだ付け方法。
【請求項２７】
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の一部を接触させることを含み、
前記測定部は、前記ノズルよりも、前記はんだ付けされる対象物の搬送方向の下流側に配置されている、請求項１８に記載のはんだ付け方法。
【請求項２８】
ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に拡散反射領域を形成することと、
測定部によって前記拡散反射領域の第１の表面形状を測定することとを備え、
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の少なくとも一部を接触させることを含み、
前記拡散反射領域は、前記はんだ付けされる対象物に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け方法。
【請求項２９】
前記拡散反射領域の前記第１の表面形状を測定することは、前記拡散反射領域に光を照射することと、前記拡散反射領域によって拡散反射される前記光を検出することとを含み、
拡散反射される前記光を検出することは、撮像部によって前記拡散反射領域の前記第１の表面形状の画像することを含む、請求項１８から請求項２８のいずれか１項に記載のはんだ付け方法。
【請求項３０】
前記測定部に向けて送風することをさらに備える、請求項１８から請求項２９のいずれか１項に記載のはんだ付け方法。
【請求項３１】
前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第１の表面形状に基づいて、前記ノズルを含む噴流部を制御することをさらに備える、請求項１８から請求項３０のいずれか１項に記載のはんだ付け方法。
【請求項３２】
前記噴流部を制御することは、前記拡散反射領域の前記第１の表面形状と前記ノズルから噴流する前記溶融はんだの第１の目標表面形状に関する第１の形状基準データとを比較することと、前記拡散反射領域の前記第１の表面形状と前記第１の形状基準データとの間の比較結果に基づいて前記噴流部を制御することとを含む、請求項３１に記載のはんだ付け方法。
【請求項３３】
前記測定部によって前記ノズルの第２の表面形状を測定することと、
前記測定部によって得られる前記ノズルの前記第２の表面形状に基づいて、前記ノズルを制御することとをさらに備える、請求項３１または請求項３２に記載のはんだ付け方法。
【請求項３４】
請求項１８から請求項３３のいずれか１項に記載のはんだ付け方法を用いて、部品を配線基板にはんだ付けすることを備える、部品付き配線基板の製造方法。
【国際調査報告】
2019078021.tif 000043
2019078021.tif 000044
2019078021.tif 000045