(57)【要約】  ガラス光ファイバと被覆層との間の界面密着力を向上させることができ、かつ容易に被覆できる光ファイバ用被覆材料、並びに該被覆材料を含む被覆光ファイバ及びその製造方法を提供する。光ファイバ用被覆材料は、紫外線硬化型樹脂と、シランカップリング剤と、光の照射によって酸を発生する光酸発生剤及び熱によって酸を発生する熱酸発生剤の少なくとも一方と、エポキシ基を有する化合物と、を含む。被覆光ファイバは、ガラス光ファイバと、ガラス光ファイバを被覆する被覆層と、を備え、被覆層を構成する少なくとも一層が、前記の光ファイバ用被覆材料からなる。
2019038977.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線硬化型樹脂と、
シランカップリング剤と、
光の照射によって酸を発生する光酸発生剤及び熱によって酸を発生する熱酸発生剤の少なくとも一方と、
エポキシ基を有する化合物と、
を含むことを特徴とする光ファイバ用被覆材料。
【請求項２】
前記光酸発生剤の量は、前記光ファイバ用被覆材料に対して０．０１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下であることを特徴とする、請求項１に記載の光ファイバ用被覆材料。
【請求項３】
前記熱酸発生剤の量は、前記光ファイバ用被覆材料に対して０．０１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下であることを特徴とする、請求項１に記載の光ファイバ用被覆材料。
【請求項４】
前記エポキシ基を有する化合物の量は、前記光ファイバ用被覆材料に対してエポキシ基濃度が０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上５．０ｍｍｏｌ／ｇ以下となる量であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光ファイバ用被覆材料。
【請求項５】
前記紫外線硬化型樹脂の重合を開始させる光重合開始剤をさらに含み、
前記光ファイバ用被覆材料に含まれる前記光酸発生剤及び前記熱酸発生剤の量は、前記光重合開始剤の量以下であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光ファイバ用被覆材料。
【請求項６】
前記紫外線硬化型樹脂を硬化させる光の波長領域と、前記光酸発生剤に前記酸を発生させる光の波長領域との少なくとも一部が重複していることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光ファイバ用被覆材料。
【請求項７】
前記光酸発生剤は、オニウム塩系光酸発生剤及び非イオン性光酸発生剤の少なくとも一方を含むことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光ファイバ用被覆材料。
【請求項８】
前記光酸発生剤とは異なる波長領域の光を吸収する光増感剤をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の光ファイバ用被覆材料。
【請求項９】
前記熱酸発生剤が前記酸を発生する温度は、６０℃以上２００℃以下であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の光ファイバ用被覆材料。
【請求項１０】
前記熱酸発生剤は、オニウム塩系熱酸発生剤を含むことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の光ファイバ用被覆材料。
【請求項１１】
前記光酸発生剤及び前記熱酸発生剤の両方を含むことを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光ファイバ用被覆材料。
【請求項１２】
ガラス光ファイバと、
前記ガラス光ファイバを被覆する被覆層と、
を備え、
前記被覆層を構成する少なくとも一層が、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光ファイバ用被覆材料からなることを特徴とする被覆光ファイバ。
【請求項１３】
ガラス光ファイバを線引きする工程と、
前記ガラス光ファイバに、紫外線硬化型樹脂、シランカップリング剤、光の照射によって酸を発生する光酸発生剤及び熱によって酸を発生する熱酸発生剤の少なくとも一方、並びにエポキシ基を有する化合物を含む被覆材料を被覆する工程と、
前記被覆材料が被覆された前記ガラス光ファイバに紫外線を照射することによって、前記紫外線硬化型樹脂を硬化させる工程と、
前記光酸発生剤及び前記熱酸発生剤の少なくとも一方に前記酸を発生させる工程と、
を含むことを特徴とする被覆光ファイバの製造方法。
【請求項１４】
前記被覆材料を加熱する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１３に記載の被覆光ファイバの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバ用被覆材料、該被覆材料を含む被覆光ファイバ、及び該被覆光ファイバの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバは、一般的にプリフォーム（光ファイバ母材ともいう）から線引きされたガラス光ファイバの外周に紫外線硬化型樹脂を被覆し、紫外線照射により硬化させることによって製造される。光ファイバの被覆層は、導波路であるガラス光ファイバの破断を防止すること、ホコリなどのゴミや湿気の進入を防止すること、及び光ファイバ外部から加わる力でガラス光ファイバが微小変形（マイクロベンド）を起こして生じる光の伝送損失を防止することを目的とする。これらの目的を達成するためには、ガラス光ファイバと被覆層との間に高い界面密着力が要求される。【０００３】
光ファイバは屋外を含む様々な環境で用いられる。そのため、ガラス光ファイバと被覆層との間の界面密着力は高湿度雰囲気下でも保たれることが望ましい。しかしながら、光ファイバの被覆層に適した紫外線硬化型樹脂は、そのままではガラスの表面に強く接着しない。さらに、被覆層に水分が入り込むと、ガラス光ファイバと被覆層との間の接着力が著しく低下してしまう。【０００４】
ガラス光ファイバと被覆層との間の界面密着力を向上させるために、例えば特許文献１、２に記載の技術は、紫外線硬化型樹脂を含む被覆材料にシランカップリング剤を添加する。シランカップリング剤は、加水分解反応及び脱水縮合反応によってガラス光ファイバの表面と反応又は相互作用し、界面密着力を向上させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭５９−９２９４７号公報
【特許文献２】特表２００５−５０４６９８号公報
【特許文献３】特開２０１３−９１５７５号公報
【特許文献４】特表２００３−５３１７９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
シランカップリング剤の加水分解反応及び脱水縮合反応の反応速度は、一般的に酸又は塩基の環境下で上昇することが知られている。そこで、シランカップリング剤の反応を促進して界面密着力を向上させるために、被覆材料として用いられる樹脂組成物を酸性又は塩基性とする方法が考えられる。【０００７】
しかしながら、樹脂組成物を酸性にすると粘度が非常に高くなり、ガラス光ファイバに均一に塗布できない。また、樹脂組成物を塩基性にするとガラス光ファイバがダメージを受けるため、ガラス光ファイバの強度が低下する。さらに、樹脂組成物を酸性又は塩基性にすると、保管時にシランカップリング剤の反応が自然と進行し、樹脂組成物が白濁する。すなわち、樹脂組成物を酸性又は塩基性とする方法では、樹脂組成物自体の保存安定性や性能に著しい変化が生じ、樹脂組成物の取り扱いが難しいため、被覆光ファイバの製造が従来よりも難しくなるという問題がある。【０００８】
特許文献３に記載の技術は、樹脂組成物自体を酸性とするのではなく、ガラス光ファイバの表面に酸性付与物質を塗布することによって、シランカップリング剤の反応を促進させる。しかしながら、この方法では、酸性付与物質の塗布工程が増加するだけでなく、酸性付与物質によって設備が劣化しやすく、また酸性付与物質の塗布量のコントロールが難しいため、やはり被覆光ファイバの製造が従来よりも難しくなるという問題が生じる。【０００９】
また、特許文献４に記載の技術は、被覆組成物においてポリ（アルコキシ）シラン等の成分とともに、放射光に暴露したときに陽子を発生してその成分を加水分解する触媒化合物を含ませる。【００１０】
しかしながら、特許文献４に記載される触媒化合物のような光酸発生剤がシランカップリング剤の反応を促進するとしても、発生した酸自体は、ガラス光ファイバと被覆層との界面の相互作用には関与しない。特許文献４に記載の技術において、ガラス光ファイバと被覆層との間の界面密着力は、被覆組成物に含まれるシランカップリング剤の種類や量に依存することになる。【００１１】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、ガラス光ファイバと被覆層との間の界面密着力を向上させることができ、かつ容易に被覆できる光ファイバ用被覆材料、並びに該被覆材料を含む被覆光ファイバ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の第１の態様は、光ファイバ用被覆材料であって、紫外線硬化型樹脂と、シランカップリング剤と、光の照射によって酸を発生する光酸発生剤及び熱によって酸を発生する熱酸発生剤の少なくとも一方と、エポキシ基を有する化合物と、を含む。【００１３】
本発明の第２の態様は、被覆光ファイバであって、ガラス光ファイバと、前記ガラス光ファイバを被覆する被覆層と、を備え、前記被覆層を構成する少なくとも一層が、上記光ファイバ用被覆材料からなる。【００１４】
本発明の第３の態様は、被覆光ファイバの製造方法であって、ガラス光ファイバを線引きする工程と、前記ガラス光ファイバに、紫外線硬化型樹脂、シランカップリング剤、光の照射によって酸を発生する光酸発生剤及び熱によって酸を発生する熱酸発生剤の少なくとも一方、並びにエポキシ基を有する化合物を含む被覆材料を被覆する工程と、前記被覆材料が被覆された前記ガラス光ファイバに紫外線を照射することによって、前記紫外線硬化型樹脂を硬化させる工程と、前記光酸発生剤及び前記熱酸発生剤の少なくとも一方に前記酸を発生させる工程と、を含む。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ガラス光ファイバと被覆層との間の界面密着力を向上させることができ、かつ光ファイバ用被覆材料を容易に被覆できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】第１の実施形態に係る被覆光ファイバの断面図である。
【図２】第１の実施形態に係る被覆光ファイバの製造方法に用いる製造装置の模式図である。
【図３】第１の実施形態に係る被覆光ファイバの製造方法のフローチャートを示す図である。
【図４】第２の実施形態に係る被覆光ファイバの製造方法に用いる製造装置の模式図である。
【図５】第２の実施形態に係る被覆光ファイバの製造方法に用いる製造装置の模式図である。
【図６】第２の実施形態に係る被覆光ファイバの製造方法に用いる製造装置の模式図である。
【図７】第２の実施形態に係る被覆光ファイバの製造方法のフローチャートを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態を説明するが、本発明は本実施形態に限定されるものではない。なお、以下で説明する図面で、同機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略することもある。
【００１８】
（第１の実施形態）
図１は、本実施形態に係る被覆光ファイバ１０の断面図である。図１に示すように、被覆光ファイバ１０は、ガラス光ファイバ１１と、ガラス光ファイバ１１の外周に被覆された軟質層であるプライマリ層１２（１次被覆層）及び硬質層であるセカンダリ層１３（２次被覆層）を含む２層の被覆層１４とを有する。
【００１９】
プライマリ層１２は、０．２ＭＰａ以上３．０ＭＰａ以下のヤング率、好ましくは０．３ＭＰａ以上１．５ＭＰａ以下のヤング率を有する柔軟な軟質層である。一方、セカンダリ層１３は、５００ＭＰａ以上２５００ＭＰａ以下のヤング率、好ましくは８００ＭＰａ以上１８００ＭＰａ以下のヤング率を有する比較的硬い硬質層である。プライマリ層１２及びセカンダリ層１３は、それぞれ紫外線硬化型樹脂を含む光ファイバ用被覆材料に紫外線を照射して硬化させることによって形成される層からなり、ガラス光ファイバ１１を保護する機能を有している。
【００２０】
被覆光ファイバ１０は、図１に示した構成に限定されない。例えば、被覆層１４は、０．２ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下のヤング率、好ましくは３０ＭＰａ以上１０００ＭＰａ以下のヤング率を有する単層からなってよい。また、被覆層１４は、３層以上の層を含んでもよい。また、被覆光ファイバ１０は、被覆層１４の外周に被覆された着色層をさらに有する光ファイバ心線の形態をとってよい。また、被覆光ファイバ１０は、複数の被覆光ファイバ１０を束ねる一括被覆層をさらに有する光ファイバテープ心線の形態をとってよい。
【００２１】
ガラス光ファイバ１１の直径は、通常８０μｍ以上１５０μｍ以下であり、１２４μｍ以上１２６μｍ以下であることが一般的である。プライマリ層１２の厚さは、通常５μｍ以上５０μｍ以下である。また、セカンダリ層１３の厚さは、通常５μｍ以上５０μｍ以下である。また、被覆光ファイバ１０の直径（すなわち、セカンダリ層１３の外径）は、通常２４５μｍ以上２５５μｍ以下である。
【００２２】
本実施形態に係る光ファイバ用被覆材料は、被覆層１４の被覆材料として用いられ、被覆層１４を構成する少なくとも一層が本実施形態に係る光ファイバ用被覆材料からなる。本実施形態に係る光ファイバ用被覆材料は、好適には、例えば、プライマリ層１２の被覆材料、単層からなる被覆層１４等のガラス光ファイバ１１と接触する被覆層の被覆材料として用いられる。以下、本実施形態に係る光ファイバ用被覆材料として、被覆層１４の被覆材料について詳述する。「被覆層１４の被覆材料」とは、被覆層１４がプライマリ層１２及びセカンダリ層１３を含む場合におけるプライマリ層１２の被覆材料を意味することができ、また、被覆層１４が単層からなる場合における当該被覆層１４の被覆材料を意味することができる。
【００２３】
被覆層１４の被覆材料は、紫外線硬化型樹脂を含む。光ファイバ用被覆材料に含まれる紫外線硬化型樹脂は、光によって重合可能なものであれば特に限定されるものではない。紫外線硬化型樹脂は、例えば光ラジカル重合などにより重合可能なものである。紫外線硬化型樹脂は、例えば、ポリエーテル系ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル系ウレタン（メタ）アクリレートのようなウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどの紫外線で重合及び硬化するエチレン性不飽和基などの重合性不飽和基を有する紫外線硬化型樹脂であり、重合性不飽和基を少なくとも２つ有するものであることが好ましい。紫外線硬化型樹脂における重合性不飽和基としては、例えば、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの不飽和二重結合を有する基、プロパルギル基などの不飽和三重結合を有する基などが挙げられる。これらの中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基が重合性の面で好ましい。紫外線硬化型樹脂は、紫外線の照射により重合を開始して硬化するモノマー、オリゴマー又はポリマーでありうるが、好ましくはオリゴマーである。なお、オリゴマーとは、重合度が２〜１００の重合体である。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートの一方又は両方を意味する。
【００２４】
ポリエーテル系ウレタン（メタ）アクリレートとは、ポリエーテル骨格を有するポリオールと、有機ポリイソシアネート化合物及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと、の反応物のように、ポリエーテルセグメント、（メタ）アクリレート及びウレタン結合を有する化合物である。また、ポリエステル系ウレタン（メタ）アクリレートとは、ポリエステル骨格を有するポリオールと、有機ポリイソシアネート化合物及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとの反応物のように、ポリエステルセグメント、（メタ）アクリレート及びウレタン結合を有する化合物である。
【００２５】
さらに、紫外線硬化樹脂は、オリゴマー及び光重合開始剤に加えて、例えば希釈モノマー、光増感剤、連鎖移動剤及び各種添加剤を含んでもよい。希釈モノマーとしては、単官能（メタ）アクリレート又は多官能（メタ）アクリレートが用いられる。ここで、希釈モノマーとは、紫外線硬化樹脂を希釈するためのモノマーを意味する。
【００２６】
希釈モノマーとしての単官能（メタ）アクリレート又は多官能（メタ）アクリレートには、以下のものを挙げることができる。例えば、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、アダマンチルモノ（メタ）アクリレートなどのモノ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の多官能（メタ）アクリレート；前記（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００２７】
上記希釈モノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。希釈モノマーの添加量は、得られる塗膜である被覆層１４の耐摩耗性を考慮して、オリゴマー１００質量部に対して１００質量部以下であることが好ましく、１０〜７０質量部であることがより好ましい。
【００２８】
また、被覆層１４の被覆材料は、加水分解及び脱水縮合によりガラス光ファイバ１１の表面と相互作用するシランカップリング剤、及びエネルギーの付与によりルイス酸やブレンステッド酸などの酸を発生する酸発生剤を含む。酸発生剤から発生した酸により、シランカップリング剤の加水分解及び脱水縮合が促進され、被覆層１４に含まれる樹脂とガラス光ファイバ１１との間の密着力が向上する。
【００２９】
エネルギーの付与により酸を発生する酸発生剤は、具体的には、光の照射によって酸を発生する光酸発生剤、熱によって酸を発生する熱酸発生剤である。被覆層１４の被覆材料は、光酸発生剤及び熱酸発生剤の少なくとも一方を含む。被覆層１４の被覆材料は、光酸発生剤及び熱酸発生剤の両方を含むこともできる。以下、被覆層１４の被覆材料に含まれる光酸発生剤及び熱酸発生剤について順次説明する。
【００３０】
［光酸発生剤］
光酸発生剤は、照射された光（通常は紫外線）を吸収し、次いで分解して、溶媒又は光酸発生剤自身から水素を引き抜くことで、酸を発生する。光酸発生剤が吸収する光は、光酸発生剤の種類によって異なるが、例えば約１０ｎｍ以上４０５ｎｍ以下の波長領域の紫外線である。被覆層１４の被覆材料に含まれる紫外線硬化型樹脂を硬化させる光の波長領域と、光酸発生剤に酸を発生させる光の波長領域との少なくとも一部が重複していることが好ましい。これにより、一種類の光源からの光によって紫外線硬化型樹脂の硬化と光酸発生剤による酸の発生とを同時に行うことができる。
【００３１】
被覆層１４の被覆材料に使用できる光酸発生剤は、光の照射によって酸を発生するものであれば特に限定されない。光酸発生剤は、オニウム塩系光酸発生剤と非イオン性光酸発生剤とに大別できる。本実施形態ではオニウム塩系光酸発生剤及び非イオン性光酸発生剤の少なくとも一方が用いられるが、それ以外の種類の光酸発生剤が用いられてもよい。
【００３２】
被覆層１４の被覆材料に使用できるオニウム塩系光酸発生剤としては、特に限定されないが、例えば、有機スルホニウム塩化合物、有機ヨードニウム塩化合物、有機オキソニウム塩化合物、有機アンモニウム塩化合物、有機ホスホニウム塩化合物であって、ヘキサフルオロアンチモネートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、ヘキサクロロアンチモネートアニオン、トリフルオロメタンスルフォン酸イオン、又はフルオロスルフォン酸イオンなどのカウンターアニオンを有するものが挙げられる。カウンターアニオンは、具体的には、例えば、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−、ＳｂＦ６−、ＳｂＦ４−、ＡｓＦ６−、ＰＦ６−、ＢＦ４−、ＣＦ３ＳＯ３−などである。これらは１種のみで用いられてよく、あるいは２種以上を混合して用いられてよい。
【００３３】
オニウム塩系光酸発生剤の市販品としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標、以下省略）  ２５０、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２７０、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＰＡＧ  ２９０、ＧＳＩＤ２６−１（以上、ＢＡＳＦ社製、商品名）、ＷＰＩ−１１３、ＷＰＩ−１１６、ＷＰＩ−１６９、ＷＰＩ−１７０、ＷＰＩ−１２４、ＷＰＡＧ−３３６、ＷＰＡＧ−３６７、ＷＰＡＧ−３７０、ＷＰＡＧ−４６９、ＷＰＡＧ−６３８（以上、和光純薬工業株式会社製、商品名）、Ｂ２３８０、Ｂ２３８１、Ｃ１３９０、Ｄ２２３８、Ｄ２２４８、Ｄ２２５３、Ｉ０５９１、Ｎ１０６６、Ｔ１６０８、Ｔ１６０９、Ｔ２０４１、Ｔ２０４２（以上、東京化成工業株式会社製、商品名）、ＣＰＩ−１００、ＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−１０１Ａ、ＣＰＩ−２００Ｋ、ＣＰＩ−２１０Ｓ、ＩＫ−１、ＩＫ−２、ＣＰＩ−３１０Ｂ、ＣＰＩ−４１０Ｓ（以上、サンアプロ株式会社製、商品名）、ＳＰ−０５６、ＳＰ−０６６、ＳＰ−１３０、ＳＰ−１４０、ＳＰ−１５０、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、ＳＰ−１７２（以上、ＡＤＥＫＡ株式会社製、商品名）、ＣＤ−１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２（以上、サートマー社製、商品名）、ＰＩ２０７４（ローディアジャパン株式会社製、商品名）などが挙げられる。
【００３４】
被覆層１４の被覆材料に使用できる非イオン性光酸発生剤としては、特に限定されないが、例えば、フェナシルスルホン型光酸発生剤、ｏ−ニトロベンジルエステル型光酸発生剤、イミノスルホナート型光酸発生剤、Ｎ−ヒドロキシイミドのスルホン酸エステル型光酸発生剤などが挙げられる。これらは１種のみで用いられてよく、あるいは２種以上を混合して用いられてもよい。非イオン性光酸発生剤の具体的な化合物としては、例えば、スルホニルジアゾメタン、オキシムスルホネート、イミドスルホネート、２−ニトロベンジルスルホネート、ジスルホン、ピロガロールスルホネート、ｐ−ニトロベンジル−９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホネート、Ｎ−スルホニル−フェニルスルホンアミド、トリフルオロメタンスルフォン酸−１，８−ナフタルイミド、ノナフルオロブタンスルホン酸−１，８−ナフタルイミド、パーフルオロオクタンスルホン酸−１，８−ナフタルイミド、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸−１，８−ナフタルイミド、ノナフルオロブタンスルホン酸−１，３，６−トリオキソ−３，６−ジヒドロ−１Ｈ−１１−チア−アザシクロペンタアントラセン−２−イルエステル、ノナフルオロブタンスルホン酸−８−イソプロピル−１，３，６−トリオキソ−３，６−ジヒドロ−１Ｈ−１１−チア−２−アザシクロペンタアントラセン−２−イルエステル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸ナトリウム、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸カリウム、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カリウム、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カリウム、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸メチル、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸メチルなどが挙げられる。
【００３５】
非イオン性光酸発生剤の市販品としては、例えば、ＷＰＡＧ−１４５、ＷＰＡＧ−１４９、ＷＰＡＧ−１７０、ＷＰＡＧ−１９９（以上、和光純薬工業株式会社製、商品名）、Ｄ２９６３、Ｆ０３６２、Ｍ１２０９、Ｍ１２４５（以上、東京化成工業株式会社製、商品名）、ＳＰ−０８２、ＳＰ−１０３、ＳＰ−６０１、ＳＰ−６０６（以上、ＡＤＥＫＡ株式会社製、商品名）、ＳＩＮ−１１（株式会社三宝化学研究所製、商品名）、ＮＴ−１ＴＦ（サンアプロ株式会社製、商品名）などが挙げられる。
【００３６】
［熱酸発生剤］
熱酸発生剤は、熱潜在性カチオン開始剤としてエポキシ樹脂の熱硬化などに使用され、所定の温度以上に加熱されると分解し、酸を発生する。本実施形態で用いる熱酸発生剤の酸発生温度（分解温度）は、熱酸発生剤の種類によって異なるが、被覆光ファイバ１０への影響を低減するために、６０℃以上２００℃以下であることが好ましく、８０℃以上１５０℃以下であることが特に好ましい。
【００３７】
被覆層１４の被覆材料に使用できる熱酸発生剤は、熱分解によって酸を発生するものであれば特に限定されない。例えば熱酸発生剤として、カチオン成分とアニオン成分とが対になった有機オニウム塩化合物などのオニウム塩系熱酸発生剤が用いられる。熱酸発生剤のカチオン成分としては、例えば、有機スルホニウム塩化合物、有機オキソニウム塩化合物、有機アンモニウム塩化合物、有機ホスホニウム塩化合物、有機ヨードニウム塩化合物などの各種オニウム塩系化合物などが挙げられる。また、熱酸発生剤のアニオン成分としては、例えば、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−、ＳｂＦ６−、ＳｂＦ４−、ＡｓＦ６−、ＰＦ６−、ＢＦ４−、ＣＦ３ＳＯ３−などが挙げられる。また、例えば、アルミニウムキレート錯体、鉄−アレン錯体、チタノセン錯体、アリールシラノール−アルミニウム錯体などの有機金属錯体、オキシムスルホネート系酸発生剤、ビスアルキル又はビスアリールスルホニルジアゾメタン類、ポリ（ビススルホニル）ジアゾメタン類などのジアゾメタン系酸発生剤、ニトロベンジルスルホネート系酸発生剤、イミノスルホネート系酸発生剤、ジスルホン系酸発生剤なども熱酸発生剤として機能する。これらは１種のみで用いられてよく、あるいは２種以上を混合して用いられてよい。
【００３８】
熱酸発生剤の市販品としては、例えば、Ｋ−ＰＵＲＥ（登録商標、以下省略）  ＣＸＣ−１６１２、Ｋ−ＰＵＲＥ  ＣＸＣ−１６１３、Ｋ−ＰＵＲＥ  ＣＸＣ−１６１４、Ｋ−ＰＵＲＥ  ＣＸＣ−１７３８、Ｋ−ＰＵＲＥ  ＣＸＣ−２７００、Ｋ−ＰＵＲＥ  ＴＡＧ−２６８９、Ｋ−ＰＵＲＥ  ＴＡＧ−２６８１、Ｋ−ＰＵＲＥ  ＴＡＧ−２６８５、Ｋ−ＰＵＲＥ  ＴＡＧ−２６９０、Ｋ−ＰＵＲＥ  ＴＡＧ−２７１２、Ｋ−ＰＵＲＥ  ＴＡＧ−２７１３（以上、ＫＩＮＧ  ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ社製、商品名）、サンエイドＳＩ−４５Ｌ、サンエイドＳＩ−６０Ｌ、サンエイドＳＩ−８０Ｌ、サンエイドＳＩ−１００Ｌ、サンエイドＳＩ−１１０Ｌ、サンエイドＳＩ−１５０Ｌ、サンエイドＳＩ−３００、サンエイドＳＩ−３６０、サンエイドＳＩ−Ｂ２Ａ、サンエイドＳＩ−Ｂ３Ａ、サンエイドＳＩ−Ｂ３、サンエイドＳＩ−Ｂ４、サンエイドＳＩ−Ｂ５、サンエイドＳＩ−Ｂ７（以上、三新化学工業株式会社製、商品名）などが挙げられる。
【００３９】
上述したエネルギーの付与により酸を発生する酸発生剤である光酸発生剤及び熱酸発生剤の添加量は、それぞれ以下のように設定することができる。
【００４０】
光酸発生剤の添加量は、被覆層１４の被覆材料に対して好ましくは０．０１ｗｔ％以上、より好ましくは０．１ｗｔ％以上である。これよりも光酸発生剤が少ない場合には、光酸発生剤から発生する酸の量が少ないためにシランカップリング剤の加水分解反応及び脱水縮合反応の進行速度が低下し、被覆層１４とガラス光ファイバ１１との間の密着性発現に時間を要する。なお、「ｗｔ％」とは、重量パーセント濃度を示している（以下、同じ）。
【００４１】
また、光酸発生剤の添加量は、被覆層１４の被覆材料に含まれる後述の光重合開始剤の添加量以下であることが好ましく、光重合開始剤の添加量よりも少ないことがより好ましい。光酸発生剤を光重合開始剤よりも多く添加する場合には、同じく紫外線を吸収してラジカル種を発生する光重合開始剤の反応を阻害するため、被覆層１４の硬化性が低下して弾性率が低下するおそれがある。具体的には、光酸発生剤の添加量は、被覆層１４の被覆材料に対して好ましくは１０ｗｔ％以下、より好ましくは５ｗｔ％以下である。このような添加量で光酸発生剤を添加することにより、光重合開始剤を十分に反応させることができ、プライマリ層１２について十分な硬化性を得ることができる。なお、プライマリ層１２の十分な硬化性とは、被覆光ファイバ１０が特性及び機能を保持するために、プライマリ層１２が硬化後に０．２ＭＰａ以上３．０ＭＰａ以下のヤング率、好ましくは０．３ＭＰａ以上１．５ＭＰａ以下のヤング率を有する状態をいう。
【００４２】
熱酸発生剤の添加量は、被覆層１４の被覆材料に対して好ましくは０．０１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下、より好ましくは０．１ｗｔ％以上５ｗｔ％以下である。この範囲よりも少ないと発生する酸の量が少ないためシランカップリング剤の加水分解及び重縮合反応の促進効果が低く、被覆層１４（プライマリ層１２）とガラス光ファイバ１１との間の密着性発現に時間を要する。この範囲よりも多いと被覆材料の保存安定性が低下するおそれがある。
【００４３】
上述した光酸発生剤及び熱酸発生剤は、互いに併用してもよい。過剰の光酸発生剤の添加は、同じく紫外線を吸収しラジカル種を発生する後述の光重合開始剤の反応を阻害する場合がある。そこで、光酸発生剤と熱酸発生剤とを併用することにより、光重合開始剤の反応の阻害を抑制しつつ、光酸発生剤の効果を補填することができる。
【００４４】
なお、被覆層１４の被覆材料における酸発生剤の添加量は、光重合開始剤の添加量以下であることが好ましく、光重合開始剤の添加量よりも少ないことがより好ましい。なお、ここにいう酸発生剤の添加量とは、光酸発生剤及び熱酸発生剤のうちの光酸発生剤を単独で添加する場合の光酸発生剤の添加量、及び光酸発生剤及び熱酸発生剤のうちの熱酸発生剤を単独で添加する場合の熱酸発生剤の添加量を意味する。さらに、ここにいう酸発生剤の添加量とは、光酸発生剤と熱酸発生剤とを併用する場合の光酸発生剤及び熱酸発生剤の添加量の総量を意味する。光酸発生剤の単独での添加量については、上述のとおりである。熱酸発生剤の単独での添加量については、保管中に酸が発生しシランカップリング剤の重縮合反応を促進して被覆材料の長期保存安定性を低下させるおそれがあるためである。また、光酸発生剤と熱酸発生剤とを併用する場合は、これら光酸発生剤及び熱酸発生剤の光重合開始剤に対する影響を低減するため、光酸発生剤及び熱酸発生剤の添加量の総量を光重合開始剤の添加量以下とすることが好ましい。
【００４５】
本実施形態では、被覆層１４の被覆材料に光酸発生剤及び熱酸発生剤の少なくとも一方を添加するため、光ファイバの製造時に光及び熱の少なくとも一方を加えることによってシランカップリング剤の反応を促進させることができる。さらに、発生した酸により、エポキシ化合物のエポキシ基の反応を進行させることができる。光及び熱を加えていない状態では光酸発生剤及び熱酸発生剤から酸がほとんど発生しないため被覆材料の取り扱いが容易である。
【００４６】
熱酸発生剤は、紫外線硬化型樹脂の硬化時の光源からの熱や樹脂自身の反応熱により、特別な工程を追加する必要なく酸を発生しうる。また、熱酸発生剤から酸を発生させるための加熱工程を別途設定してよい。その場合は、後述の加熱エージングのように、紫外線硬化型樹脂の硬化後に光ファイバ心線を加熱する装置を紫外線照射装置の後ろに設置したり、製造後に光ファイバ心線を恒温槽に入れたりして加熱エージングを行う。これにより、被覆層１４とガラス光ファイバ１１との間の密着性の向上を加速できる。
【００４７】
加熱による紫外線硬化型樹脂への影響を低減する点から、熱酸発生剤の酸発生温度（分解温度）は、上述のように、６０〜２００℃が好ましく、８０〜１５０℃が特に好ましい。
【００４８】
なお、光酸発生剤と熱酸発生剤とを併用する場合であっても、光酸発生剤及び熱酸発生剤は、それぞれ上述した範囲の添加量で添加することができる。ただし、過剰な熱酸発生剤の添加は、発生した酸によりシランカップリング剤の単独重合を促進し紫外線硬化型樹脂の保存安定性を損ねる場合がある。このため、光酸発生剤と熱酸発生剤とを併用する場合は、熱酸発生剤の添加量は、被覆層１４の被覆材料に対して１０ｗｔ％以下であることが好ましく、光酸発生剤の添加量よりも少ないことがより好ましい。
【００４９】
［エポキシ化合物］
また、被覆層１４の被覆材料は、酸触媒反応を行うエポキシ基を有する化合物であるエポキシ化合物を含む。エポキシ化合物では、光酸発生剤又は熱酸発生剤から発生した酸を触媒としたエポキシ基の開環反応が起こり、水酸基が生成される。エポキシ基の開環反応により生成された水酸基は、例えば、ガラス光ファイバ１１の表面の水酸基と共有結合や水素結合を形成して、ガラス光ファイバ１１の表面と相互作用する。その結果、被覆層１４（プライマリ層１２）に含まれる樹脂とガラス光ファイバ１１との間の密着力が向上する。
【００５０】
エポキシ化合物は、酸触媒により反応を行うエポキシ基とは別に、紫外線硬化型樹脂と反応又は相互作用する化学構造、官能基を有する化合物であることが好ましい。例えば、エポキシ化合物は、ラジカル重合反応やエン−チオール反応によって紫外線硬化型樹脂中に取り込まれる化合物であることが好ましい。
【００５１】
また、エポキシ化合物は、光重合性官能基を有し、紫外線の照射によって光重合開始剤から発生したラジカルによりラジカル重合する化合物であることが好ましい。光重合性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、マレイミド基、スチリル基、無水マレイン酸残基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基及びメタクリロイル基の一方又は両方を意味する。
【００５２】
エポキシ化合物は、光重合性官能基を有することで、ラジカル重合により前記の紫外線硬化型樹脂のオリゴマーと反応してポリマー鎖に取り込まれる。これにより、光酸発生剤から発生した酸によるエポキシ化合物のエポキシ基同士の反応が、例えば立体障害などで抑制され、その結果、エポキシ基に由来する水酸基とガラス光ファイバ１１の表面との相互作用が優先的に起こる。
【００５３】
エポキシ化合物としては、特に限定されないが、エポキシ基と光重合性官能基とを有する化合物であることが好ましく、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジエーテル、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、３−メチル−３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、３−エチル−３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、４−メチル−４，５−エポキシペンチル（メタ）アクリレート、５−メチル−５，６−エポキシヘキシル（メタ）アクリレート、α−エチルアクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、クロトニルグリシジルエール、（イソ）クロトン酸グリシジルエーテル、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−（３，５−ジメチル−４−グリシジル）ベンジルアクリルアミド、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３−ジグリシジルオキシメチルスチレン、２，４−ジグリシジルオキシメチルスチレン、２，５−ジグリシジルオキシメチルスチレン、２，６−ジグリシジルオキシメチルスチレン、２，３，４−トリグリシジルオキシメチルスチレン、２，３，５−トリグリシジルオキシメチルスチレン、２，３，６−トリグリシジルオキシメチルスチレン、３，４，５−トリグリシジルオキシメチルスチレン、２，４，６−トリグリシジルオキシメチルスチレンなどが挙げられる。
【００５４】
また、エポキシ化合物としては、モノマーのみならず、相溶性を損なわない範囲でポリマーやオリゴマーを用いてもよい。このようなポリマーやオリゴマーとしては、例えば、光重合性官能基を有するエポキシ基化合物のモノマーと各種ビニルモノマーとの共重体が挙げられ、具体的には、市販品として、例えば、マープルーフＧ−０１１５Ｓ、マープルーフＧ−０１３０Ｓ、マープルーフＧ−０２５０Ｓ、マープルーフＧ−０１５０Ｍ、マープルーフＧ−１００５Ｓ、マープルーフＧ０１０１０Ｓ、マープルーフＧ−１００５ＳＡ、マープルーフＧ−０１１００（以上、日油株式会社製、商品名）、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＧ−４０１０、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＧ−４０３５、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＧ−４０４０、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＧ−４０７０（以上、東亞合成株式会社製、商品名）、エポフレンドＡＴ５０１、エポフレンドＣＴ３１０（以上、株式会社ダイセル製、商品名）などが挙げられる。
【００５５】
エポキシ化合物の添加量は、被覆層１４の被覆材料に対してエポキシ基濃度が０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上５．０ｍｍｏｌ／ｇ以下となる量であることが好ましく、エポキシ基濃度が０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上２．５ｍｍｏｌ／ｇ以下となる量であることがより好ましい。この範囲よりもエポキシ化合物の添加量が少ない場合には、エポキシ基の酸触媒反応量が少なく被覆層１４とガラス光ファイバ１１との間の密着性が低下したり、密着性の発現に時間を要したりする。この範囲よりもエポキシ化合物の添加量が多い場合には、エポキシ基同士の反応が懸念され、紫外線硬化型樹脂の反応性が低下する可能性や、設計どおりの重合性が得られない可能性がある。なお、本明細書において、「エポキシ基濃度」とは、エポキシ化合物が有するエポキシ基のｍｍｏｌ（ミリモル）数を、被覆材料樹脂組成物のグラム（ｇ）数で除した値を意味する。
【００５６】
エポキシ化合物の添加量は、被覆層１４の被覆材料に対してエポキシ基濃度が上記範囲となるように決定されうるものである。具体的には、エポキシ化合物の添加量は、被覆層１４の被覆材料１００ｗｔ％に対して０．５ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下であることが好ましく、１．０ｗｔ％以上２０ｗｔ％以下であることがより好ましい。エポキシ化合物の添加量は、目的とする被覆層１４の物性に応じて調整することができる。この範囲よりもエポキシ化合物の添加量が少ない場合には、エポキシ基の開環反応により生成される水酸基量が少なくなるため、被覆層１４とガラス光ファイバ１１との間の密着性の発現に時間を要する。この範囲よりもエポキシ化合物の添加量が多い場合にはエポキシ基同士の反応が懸念される。
【００５７】
［シランカップリング剤］
シランカップリング剤としては、本発明の効果の妨げにならないものであれば、公知公用のものを含め任意のものを用いることができる。シランカップリング剤の添加量は、実験等によって適宜決定される。シランカップリング剤の具体的な化合物としては、特に限定されないが、例えば、テトラメチルシリケート、テトラエチルシリケート、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
【００５８】
シランカップリング剤の添加量は、被覆層１４に対して０．１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下であることが好ましく、０．５ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下であることがより好ましい。上記範囲であると、ガラス光ファイバ１１と被覆層１４との密着力が十分となり、且つ被覆材の保存安定性に優れる。
【００５９】
さらに、被覆層１４の被覆材料は、希釈モノマー、光重合開始剤、光増感剤、連鎖移動剤及び各種添加剤を含んでもよい。希釈モノマーとしては、単官能（メタ）アクリレート又は多官能（メタ）アクリレートが用いられる。希釈モノマーとは、紫外線硬化型樹脂を希釈するためのモノマーである。
【００６０】
［光重合開始剤］
光重合開始剤は、紫外線照射装置から発せられる波長領域の光を吸収し、ラジカルを発生することによって紫外線硬化型樹脂に重合を開始させる。光重合開始剤の種類は、特に限定されず、適切に選択することができる。光重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、ベンジルケタール系光重合開始剤、α−ヒドロキシケトン系光重合開始剤、α−アミノケトン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、アクリジン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、芳香族ケトエステル系光重合開始剤、安息香酸エステル系光重合開始剤などを用いることができる。
【００６１】
ベンジルケタール系光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンが挙げられる。
【００６２】
α−ヒドロキシケトン系光重合開始剤としては、例えば、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−［４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル］−２−メチルプロパン−１−オンが挙げられる。
【００６３】
α−アミノケトン系光重合開始剤としては、例えば、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ジエチルアミノ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１−（４−メチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−エチルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−イソプロピルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ブチルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−メトキシフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−ジメチルアミノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォルニル）フェニル］−１−ブタノンが挙げられる。
【００６４】
アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤としては、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィンオキシドが挙げられる。
【００６５】
オキシムエステル系光重合開始剤としては、例えば、１−フェニルプロパン−１，２−ジオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニルブタン−１，２−ジオン−２−（Ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニルプロパン−１，２，３−トリオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］オクタン−１，２−ジオン−２−（Ｏ−ベンゾイル）オキシム、１−［４−［４−（カルボキシフェニル）チオ］フェニル］プロパン−１，２−ジオン−２−（Ｏ−アセチル）オキシム、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン−１−（Ｏ−アセチル）オキシム、１−［９−エチル−６−［２−メチル−４−［１−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチルオキシ］ベンゾイル］−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン−１−（Ｏ−アセチル）オキシムが挙げられる。
【００６６】
アクリジン系光重合開始剤としては、例えば、１，７−ビス（アクリジン−９−イル）−ｎ−ヘプタンが挙げられる。
【００６７】
ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、アルキル化ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラキス（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、ジベンジルケトン、フルオレノンが挙げられる。
【００６８】
アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、４−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ベンザルアセトフェノン、４−アジドベンザルアセトフェノンが挙げられる。
【００６９】
芳香族ケトエステル系光重合開始剤としては、例えば、２−フェニル−２−オキシ酢酸メチルが挙げられる。
【００７０】
安息香酸エステル系光重合開始剤としては、例えば、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（２−エチル）ヘキシル、４−ジエチルアミノ安息香酸エチル、２−ベンゾイル安息香酸メチルが挙げられる。
【００７１】
光重合開始剤の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標、以下省略）６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３７９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＭＢＦ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ７５４（以上、ＢＡＳＦ社製、商品名）、アデカアークルズ（登録商標）ＮＣＩ−８３１（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）などが挙げられる。
【００７２】
光重合開始剤の添加量は、実験等によって適宜決定しうるが、被覆層１４の被覆材料に対して０．０１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下であることが好ましく、０．１ｗｔ％以上８ｗｔ％以下であることがより好ましい。光重合開始剤の添加量が過小である場合には、得られる樹脂組成物のラジカル重合の反応速度、すなわち硬化速度が低くなって硬化に時間を要したり、硬化特性が低下したりする傾向がある。一方、光重合開始剤の添加量が過大である場合には、過剰量の光重合開始剤が樹脂層の深部硬化性を低下させることがある。
【００７３】
［光増感剤］
光増感剤は、光酸発生剤の感光性を向上させる目的で被覆層１４の被覆材料に添加される。光増感剤は、光酸発生剤とは異なる波長領域の光を吸収するものであることが好ましい。光増感剤は、光酸発生剤では吸収できない波長領域の光を吸収することによって、光酸発生剤の感光性を向上させる。そのため、光増感剤の吸収波長域と光酸発生剤の吸収波長域とは異なっており、それらの重なりが少ないほど好ましい。
【００７４】
光増感剤の添加量は、被覆層１４の被覆材料に対して０．１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下であることが好ましく、０．５ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下であることがより好ましい。光増感剤の添加量が０．１ｗｔ％以上であると、所望の感度が得やすく、また、１０ｗｔ％以下であると、被膜の透明性を確保しやすい。
【００７５】
被覆層１４の被覆材料に使用できる光増感剤としては、特に限定されないが、例えば、アントラセン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラキノン誘導体、ベンゾイン誘導体などが挙げられる。
【００７６】
光増感剤の具体的な化合物としては、特に限定されないが、例えば、９，１０−ジアルコキシアントラセン、２−アルキルチオキサントン、２，４−ジアルキルチオキサントン、２−アルキルアントラキノン、２，４−ジアルキルアントラキノン、ｐ，ｐ′−ジアミノベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アルコキシベンゾフェノン、ベンゾインエ−テル、アントロン、アントラセン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９−エトキシアントラセン、ピレン、ペリレン、コロネン、フェナントレン、ベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、２−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイル安息香酸ブチル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｉ−ブチルエーテル、９−フルオレノン、アセトフェノン、ｐ，ｐ′−テトラメチルジアミノベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−テトラエチルアミノベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フェノチアジン、アクリジンオレンジ、ベンゾフラビン、セトフラビン−Ｔ、２−ニトロフルオレン、５−ニトロアセナフテン、ベンゾキノン、２−クロロ−４−ニトロアニリン、Ｎ−アセチル−ｐ−ニトロアニリン、ｐ−ニトロアニリン、Ｎ−アセチル−４−ニトロ−１−ナフチルアミン、ピクラミド、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロン、ジベンザルアセトン、１，２−ナフトキノン、３，３′−カルボニル−ビス（５，７−ジメトキシカルボニルクマリン）、９，１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ジプロポキシアントラセンなどが挙げられる。これらは１種のみで用いられてよく、あるいは２種以上を混合して用いられてよい。
【００７７】
上述した酸発生剤から発生した酸によるシランカップリング剤の加水分解及び脱水縮合や、エポキシ基の酸触媒反応は、熱により促進される。そこで、後述するように、樹脂硬化後に被覆光ファイバ又は光ファイバ心線を加熱する加熱装置を紫外線照射装置の後段に設置してその加熱装置により加熱エージングを行うことができる。また、製造後に光ファイバ心線を恒温槽にいれて加熱エージングを行ったりすることができる。これにより、被覆層１４とガラス光ファイバ１１との間の密着性の向上を加速することができる。
【００７８】
図２は、本実施形態に係る被覆光ファイバ１０の製造方法に用いる製造装置２０の模式図である。光ファイバ母材２１は、例えば石英系のガラスからなり、ＶＡＤ法、ＯＶＤ法、ＭＣＶＤ法など周知の方法で製造される。光ファイバ母材２１の端部は、光ファイバ母材２１の周囲に配置された加熱装置であるヒータ２２によって加熱されて溶融し、線引きされてガラス光ファイバ２３（すなわち、図１のガラス光ファイバ１１）が引き出される。
【００７９】
ヒータ２２の下方には、ガラス光ファイバ２３の外周に紫外線硬化型樹脂を塗布する樹脂塗布装置２４（ダイス）が設けられる。樹脂塗布装置２４には、プライマリ層１２用の被覆材料（プライマリ層材料ともいう）とセカンダリ層１３用の被覆材料（セカンダリ層材料ともいう）とが別々に保持される。ここで、少なくともプライマリ層材料は、上述のシランカップリング剤、光酸発生剤及び熱酸発生剤の少なくとも一方及びエポキシ化合物を含む本実施形態に係る光ファイバ用被覆材料である。セカンダリ層材料は上述の構成に限られず、例えばシランカップリング剤、光酸発生剤、熱酸発生剤及びエポキシ化合物を含まなくてよい。光ファイバ母材２１から引き出されたガラス光ファイバ２３には、樹脂塗布装置２４によってプライマリ層材料とセカンダリ層材料とが一括して塗布される。
【００８０】
樹脂塗布装置２４の下方には、プライマリ層材料及びセカンダリ層材料が被覆されたガラス光ファイバ２５に対して紫外線を照射する紫外線照射装置２６が設けられる。紫外線照射装置２６は、半導体発光素子、水銀ランプなどの任意の紫外線光源を備える。樹脂塗布装置２４によって紫外線硬化型樹脂が塗布されたガラス光ファイバ２５は、紫外線照射装置２６に入り、紫外線が照射される。その結果、ガラス光ファイバ２５の外周に被覆された２層の紫外線硬化型樹脂は硬化され、該２層の紫外線硬化型樹脂はプライマリ層１２及びセカンダリ層１３になる。
【００８１】
本実施形態では、被覆層１４（特にプライマリ層１２）に用いる被覆材料が、光酸発生剤及び熱酸発生剤の少なくとも一方を含む。被覆材料が光酸発生剤を含む場合、紫外線照射装置２６による紫外線照射により、被覆材料に含まれる光酸発生剤から酸を発生させる。被覆材料が熱酸発生剤を含む場合、紫外線照射装置２６に含まれる光源からの熱や樹脂自身の反応熱により、被覆材料に含まれる熱酸発生剤から酸を発生させる。熱酸発生剤の種類に応じてより高い温度が必要な場合には、紫外線照射装置２６内にヒータなどの熱源を設け、紫外線照射と同時に加熱を行ってもよい。
【００８２】
外周にプライマリ層１２とセカンダリ層１３が形成されたガラス光ファイバ（すなわち、被覆光ファイバ１０）は、ガイドローラ２７にガイドされ、巻取り装置２８に巻き取られる。
【００８３】
本実施形態に係る被覆光ファイバ１０の製造方法は、プライマリ層１２及びセカンダリ層１３を１つのダイスで塗布して硬化させるＷｅｔ−Ｏｎ−Ｗｅｔ法を用いているが、プライマリ層１２及びセカンダリ層１３を別々のダイスで塗布して硬化させるＷｅｔ−Ｏｎ−Ｄｒｙ法を用いてもよい。
【００８４】
図３は、本実施形態に係る被覆光ファイバ１０の製造方法のフローチャートを示す図である。まず、ユーザは製造装置２０に光ファイバ母材２１を設置する（ステップＳ１１）。次に、ヒータ２２は光ファイバ母材２１を加熱し、ガラス光ファイバ２３の線引きを開始する（ステップＳ１２）。
【００８５】
樹脂塗布装置２４は、線引きされたガラス光ファイバ２３にプライマリ層材料を被覆し（ステップＳ１３）、次いでセカンダリ層材料を被覆する（ステップＳ１４）。紫外線照射装置２６は、プライマリ層材料及びセカンダリ層材料が被覆されたガラス光ファイバ２５に対して紫外線を照射するとともに、加熱を行う（ステップＳ１５）。紫外線の照射によって、プライマリ層材料及びセカンダリ層材料が硬化し、プライマリ層１２とセカンダリ層１３を備える被覆光ファイバ１０が形成される。
【００８６】
紫外線照射装置２６による紫外線照射により、被覆材料に含まれる光酸発生剤から酸が発生し、また、紫外線照射装置２６に含まれる光源からの熱や樹脂自身の反応熱によって被覆材料に含まれる熱酸発生剤から酸が発生する。すなわち、本実施形態では、紫外線照射装置２６により紫外線を照射することにより紫外線硬化型樹脂を硬化させる工程が、光酸発生剤から酸を発生させ、また、熱酸発生剤から酸を発生させる工程としても機能している。こうして、光酸発生剤又は熱酸発生剤から発生した酸により、シランカップリング剤の加水分解及び脱水縮合が促進されるとともに、エポキシ化合物のエポキシ基の開環反応が進行する。このように、本実施形態では、加熱工程が紫外線照射工程に含まれている。
【００８７】
本実施形態に係る被覆光ファイバ１０の被覆層１４（特にプライマリ層１２）に用いる被覆材料は、光酸発生剤及び熱酸発生剤の少なくとも一方を含む。被覆材料が光酸発生剤を含む場合、光酸発生剤は紫外線照射によって初めて酸を発生するため、被覆材料の紫外線硬化と同時に酸が発生する。被覆材料が熱酸発生剤を含む場合、熱酸発生剤は加熱によって初めて酸を発生するため、被覆材料の紫外線硬化時の反応熱や紫外線照射後の加熱により酸が発生する。発生した酸によってシランカップリング剤の加水分解反応及び脱水縮合反応の進行が促進される。加えて、発生した酸が触媒となり、エポキシ化合物のエポキシ基の開環反応により水酸基が生成し、生成した水酸基がガラス光ファイバ１１の表面と相互作用する。これらの結果、ガラス光ファイバ１１と被覆層１４との高い密着性が得られる。
【００８８】
また、光酸発生剤は、紫外線硬化型樹脂を硬化させるために紫外線照射装置２６から照射される紫外線を吸収して分解することにより酸を発生する。このため、被覆材料が光酸発生剤を含む場合には、製造工程を追加したり変更したりする必要がない。また、熱酸発生剤は、紫外線照射装置２６に含まれる光源からの熱や樹脂自身の反応熱により分解して酸を発生しうる。このため、被覆材料が熱酸発生剤を含む場合であっても、必ずしも製造工程を追加したり変更したりする必要がない。
【００８９】
従来の光ファイバ心線において、浸水によって光損失が増すことが少なからず報告されている。光ファイバ心線が長期間浸水した場合、浸水により例えばガラス光ファイバ／プライマリ層界面の密着力が低下して部分的な剥離が生じ、それにより形成された空間に水が溜まってさらに剥離が拡大する。ガラス光ファイバ／プライマリ層界面に剥離が発生し、水が溜まるとガラス光ファイバに側圧を与えるため、マイクロベンドによる光損失増加が発生する。本実施形態に係る被覆光ファイバ１０を用いた光ファイバ心線では、ガラス光ファイバ／プライマリ層界面の密着性が向上しているため、光ファイバ心線の浸水による光損失増加を抑制することができる。
【００９０】
また、本実施形態に係る被覆光ファイバ１０ではガラス光ファイバ／プライマリ層界面の密着性が向上しているため、ガラス光ファイバ１１の破断強度の耐久性（動疲労特性で表される）を長期間にわたって安定的に維持できる。
【００９１】
シランカップリング剤の反応を促進するために被覆材料を予め酸性又は塩基性にするような構成では、保管時にシランカップリング剤の反応が自然と進行するという問題がある。それに対して、本実施形態に係る被覆材料では、暗所で保管すれば光酸発生剤からほとんど酸が発生しない。また、本実施形態に係る被覆材料では、冷暗所で保管すれば熱酸発生剤からほとんど酸が発生しない。このため、本実施形態に係る被覆材料は、保存安定性が良好である。
【００９２】
（第２の実施形態）
第１の実施形態では紫外線照射工程と加熱工程とが同一工程であったが、本実施形態では紫外線照射工程とは別の加熱工程を行う。加熱工程は、熱酸発生剤を分解して酸を発生させる。加熱工程は、被覆材料を加熱できればよく、ガラス光ファイバに紫外線樹脂を塗布する被覆工程から硬化のための紫外線照射工程の前後を含むいずれかのタイミングで行われる。例えば、被覆工程、加熱工程及び紫外線照射工程をこの順に行ってよく、それらの順番を入れ替えてよい。また、被覆工程、加熱工程及び紫外線照射工程の全部又は一部が繰り返されてもよい。また、被覆工程及び加熱工程を同時に行ってよく、あるいは加熱工程及び紫外線照射工程を同時に行ってよい。
【００９３】
図４〜６は、本実施形態に係る被覆光ファイバ１０の製造方法に用いる製造装置２０の模式図である。図４〜６の製造装置２０は、被覆材料を加熱する加熱装置２９の位置が互いに異なる。
【００９４】
図４の製造装置２０では、第１の実施形態の構成に加えて、紫外線照射装置２６の下方に筒状の加熱装置２９が設けられる。加熱装置２９は、紫外線照射装置２６から紫外線が照射された後のガラス光ファイバ２５が内部を通過する際に加熱を行う。
【００９５】
図５の製造装置２０では、第１の実施形態の構成に加えて、樹脂塗布装置２４の側方を取り囲むように加熱装置２９が設けられる。加熱装置２９は樹脂塗布装置２４のダイスを加熱することによって被覆材料を加熱し、樹脂塗布装置２４は加熱された状態の被覆材料をガラス光ファイバ２３に被覆する。
【００９６】
図６の製造装置２０では、第１の実施形態の構成に加えて、樹脂塗布装置２４と紫外線照射装置２６との間に筒状の加熱装置２９が設けられる。加熱装置２９は、樹脂塗布装置２４によって被覆材料が被覆された後のガラス光ファイバ２５が内部を通過する際に加熱を行う。
【００９７】
図４〜６の加熱装置２９は、テープヒータ、リボンヒータ、ラバーヒータ、オーブンヒータ、セラミックヒータ、赤外線照射ユニット、紫外線照射ユニット、電熱線ヒータ、カーボンヒータ、ハロゲンヒータなどの任意の熱源を備える。加熱装置２９による加熱温度は、被覆光ファイバ１０へのダメージを抑制するために、６０℃以上２００℃以下であることが好ましく、８０℃以上１５０℃以下であることが特に好ましい。
【００９８】
図７は、図４の製造装置２０を用いた被覆光ファイバ１０の製造方法のフローチャートを示す図である。ステップＳ１１〜Ｓ１５は第１の実施形態と同様である。ステップＳ１５において紫外線を照射した後、加熱装置２９は、被覆光ファイバ１０（すなわち被覆層１４の被覆材料）を所定の温度で加熱する（ステップＳ１６）。
【００９９】
図５の製造装置２０を用いる場合には、図７のフローチャートにおいて加熱工程（ステップＳ１６）は被覆工程（ステップＳ１３〜Ｓ１４）と同時に行われる。また、図６の製造装置２０を用いる場合には、図７のフローチャートにおいて加熱工程（ステップＳ１６）は被覆工程（ステップＳ１３〜Ｓ１４）と紫外線照射工程（ステップＳ１５）との間に行われる。本実施形態では被覆工程、紫外線照射工程及び加熱工程が一度ずつ行われているが、それらのうち少なくとも一部が２回以上繰り返されてもよい。
【０１００】
本実施形態によれば、被覆材料が熱酸発生剤を含む場合において、紫外線照射工程の温度では熱酸発生剤の分解温度に達しないときであっても、加熱工程において被覆材料を熱酸発生剤の分解温度まで加熱して酸を発生させる。これにより、シランカップリング剤の加水分解反応及び脱水縮合反応を促進させるとともに、エポキシ化合物のエポキシ基の開環反応を進行させる。また、光酸発生剤や熱酸発生剤から発生した酸によるシランカップリング剤の加水分解及び脱水縮合や、エポキシ基の酸触媒反応は、加熱工程において熱により促進される。こうして、本実施形態によれば、ガラス光ファイバ１１と被覆層１４との高い密着性を得ることができる。
【０１０１】
また、被覆光ファイバ１０の製造後に加熱工程を行ってもよい。具体的には、第１の実施形態に係る製造方法により被覆光ファイバ１０を製造した後に、被覆光ファイバ１０を所定の温度に設定された恒温槽に入れることによって加熱を行ってよい。これにより、製造装置２０を第１の実施形態から変更することなく、加熱による界面密着力の向上効果を得ることができる。
【０１０２】
（実施例）
１．被覆材料の配合
被覆材料の紫外線硬化型樹脂として、紫外線硬化型のポリエーテル系ウレタンアクリレート系樹脂を使用した。オリゴマー中のポリエーテル部分の分子量、希釈モノマー及び反応性モノマーの種類及び配合量を変えることによって、ヤング率が１．０ＭＰａになるように調整した。光重合開始剤としてＬｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、商品名）３．０ｗｔ％を使用し、シランカップリング剤としてＫＢＭ−５１０３（信越化学工業株式会社製、商品名）１．５ｗｔ％を使用した。
【０１０３】
被覆材料に添加する光酸発生剤として、４−イソブチルフェニル（４−メチルフェニル）ヨードニウム・ヘキサフルオロホスファート（ＢＡＳＦ社製、商品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２５０）を使用した。また、被覆材料に添加する熱酸発生剤として、１−ナフチルメチルメチル−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート（三新化学工業株式会社製、商品名サンエイドＳＩ−６０Ｌ、分解温度６０℃）を使用した。ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２５０の添加量は、単独で使用する場合は０．３ｗｔ％、ＳＩ−６０Ｌと併用する場合は０．２ｗｔ％とした。一方、ＳＩ−６０Ｌの添加量は、単独で使用する場合は０．３ｗｔ％、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２５０と併用する場合は０．１ｗｔ％とした。
【０１０４】
被覆材料に添加するエポキシ化合物として、グリシジルメタクリレート（東京化成工業株式会社製）を使用した。
【０１０５】
各実施例及び比較例において、被覆材料に添加した酸発生剤の種類及び量は後述の表１のように様々に設定した。また、被覆材料に添加したエポキシ化合物の量は、エポキシ基濃度が表１に示す値になるように設定した。
【０１０６】
２．フィルムの作製
板状のガラス基材に各実施例及び比較例に係る被覆材料を１００μｍの厚さでスピンコートした。作製された試料をパージボックスに入れて窒素雰囲気にし、コンベヤ型紫外線照射装置にて積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２（測定波長３６５ｎｍ、無電極ＵＶランプ、Ｄバルブ）になるように照度及び速度を調整して紫外線を照射した。これにより硬化された被覆材料を各実施例及び比較例に係るフィルムとした。
【０１０７】
３．ヤング率の測定
被覆材料の硬化性の判定のために、フィルムのヤング率（引張弾性率）を用いた。各実施例及び比較例に係るフィルムをガラス基材より剥がし、６ｍｍ幅に切断して短冊状にし、それの２．５％モジュラスをＪＩＳ  Ｋ７１６１に準拠して測定した。
【０１０８】
４．ガラス密着力の測定
被覆材料とガラス基材との界面密着力の判定のために、ガラス密着力を用いた。各実施例及び比較例に係るフィルムを１０ｍｍ幅に切り、常温にて５０ｍｍ／ｍｉｎでガラス基材の表面から９０°の方向に引っ張ってガラス基材より剥がした際の力をガラス密着力として測定した。測定は、フィルム作製から１日後、３日後、１４日後の３条件で行った。
【０１０９】
各実施例及び比較例の条件及び測定結果を表１に示す。
【０１１０】
【表１】
2019038977.tif 000003
【０１１１】
実施例１〜６では、光酸発生剤とエポキシ化合物とを併用することにより、光酸発生剤及びエポキシ化合物の両者が添加されていない比較例１、並びにいずれか一方が添加されていない比較例２〜３と比較して、ガラス密着力が向上することが確認された。さらに、実施例１〜６では、エポキシ化合物の添加量の増加に伴いガラス密着力が増加する傾向にあることも確認された。
【０１１２】
また、実施例７〜８では、光酸発生剤に代えて熱酸発生剤を添加しても、光酸発生剤を添加した場合と同様の効果が得られることが確認された。この場合、熱酸発生剤は、紫外線照射時の樹脂の反応熱と照射装置からの熱で酸を発生している。
【０１１３】
また、実施例９では、光酸発生剤と熱酸発生剤とを併用しても、いずれか一方を添加した場合と同様の効果が得られることが確認された。
【０１１４】
一方、比較例１では、酸発生剤及びエポキシ化合物のいずれも添加しないと、シランカップリング剤の作用によりある程度のガラス密着力が発現するものの、その発現までに時間が要することが確認された。
【０１１５】
また、比較例２では、光酸発生剤を添加すると、ガラス密着力発現が速くなり、比較例１と比較してガラス密着力が向上するが、エポキシ化合物をも添加した各実施例よりもガラス密着力が小さいことが確認された。
【０１１６】
また、比較例３では、エポキシ化合物だけ添加しても、ガラス密着力がみられないことが確認された。これは、酸のような触媒がなく、エポキシ基が反応しにくいためである。
【０１１７】
本発明は、上述の実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
【符号の説明】
【０１１８】
１０  被覆光ファイバ
１１  ガラス光ファイバ
１２  プライマリ層
１３  セカンダリ層
１４  被覆層
【図１】
2019038977.tif 000004
【図２】
2019038977.tif 000005
【図３】
2019038977.tif 000006
【図４】
2019038977.tif 000007
【図５】
2019038977.tif 000008
【図６】
2019038977.tif 000009
【図７】
2019038977.tif 000010
【国際調査報告】
2019038977.tif 000011
2019038977.tif 000012
2019038977.tif 000013