(57)【要約】  偏光フィルムの製造方法は、基材層の少なくとも片面側に、パターン化撥液層を形成してパターン化撥液層付き基材層を得るパターン化撥液層形成工程と、パターン化撥液層付き基材層のパターン化撥液層側の面に、配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層を有するパターン化配向層付き基材層を得るパターン化配向層形成工程と、パターン化配向層付き基材層のパターン化配向層側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有する。パターン化撥液層は、配向層形成用組成物及び偏光層形成用組成物に対して撥液性を示す。
2019082746.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層の少なくとも片面側にパターン化撥液層を形成してパターン化撥液層付き基材層を得るパターン化撥液層形成工程と、
前記パターン化撥液層付き基材層の前記パターン化撥液層側の面に、配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層を有するパターン化配向層付き基材層を得るパターン化配向層形成工程と、
前記パターン化配向層付き基材層の前記パターン化配向層側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有し、
前記パターン化撥液層は、前記配向層形成用組成物及び前記偏光層形成用組成物に対して撥液性を示す、偏光フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記パターン化撥液層形成工程は、
前記基材層の少なくとも片面側に、前記基材層を被覆するための被覆領域と前記基材層を露出させるための露出領域とを有する保護層を積層することにより保護層付き基材層を得る基材層被覆工程と、
前記保護層付き基材層の前記保護層側の面に撥液剤を塗工して撥液層が形成された撥液層付き基材層を得る撥液層形成工程と、
前記撥液層付き基材層から前記保護層を剥離することにより、前記撥液層の一部を除去して前記パターン化撥液層を形成する保護層除去工程と、を含む、請求項１に記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記露出領域は、平面視形状が円形、楕円形、長円形又は多角形であり、
前記露出領域が円形である場合の直径は、５ｃｍ以下であり、
前記露出領域が楕円形又は長円形である場合の長径は、５ｃｍ以下であり、
前記露出領域が多角形である場合、前記多角形が内接されるように描いた仮想円の直径は、５ｃｍ以下である、請求項２に記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記パターン化撥液層形成工程は、前記基材層の少なくとも片面側に、撥液剤を滴下塗布して前記パターン化撥液層を形成する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記配向層形成用組成物は、光配向性ポリマーを含み、
前記パターン化配向層形成工程は、前記配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層用塗工層に偏光照射を行って前記パターン化配向層を形成する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記液晶化合物は、重合性液晶化合物であり、
前記パターン化偏光層形成工程は、前記偏光層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化偏光層用塗工層に活性エネルギー線照射を行って前記パターン化偏光層を形成する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記パターン化偏光層は、Ｘ線回折測定においてブラッグピークを示す、請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記偏光フィルムの長さは１０ｍ以上である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記基材層は、１／４波長板機能を有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法で製造された偏光フィルムと、１／４波長板機能を有する位相差層とを積層する位相差層積層工程を有する、円偏光板の製造方法。
【請求項１１】
前記偏光フィルムは、長さが１０ｍ以上の長尺偏光フィルムであり、
前記位相差層は、長さが１０ｍ以上の長尺位相差層であり、
前記位相差層積層工程は、前記長尺偏光フィルムと前記長尺位相差層とを積層することにより長尺積層体を形成し、
さらに、前記長尺積層体を枚葉に裁断する裁断工程を有する、請求項１０に記載の円偏光板の製造方法。
【請求項１２】
基材層上に、偏光領域と、偏光領域よりも低い視感度補正偏光度を有する低偏光領域とを有する偏光フィルムであって、
前記偏光領域は、液晶化合物及び二色性色素を含むとともに、視感度補正偏光度が９０％以上であり、
前記低偏光領域は、撥液層を有する、偏光フィルム。
【請求項１３】
前記低偏光領域は、視感度補正偏光度が１０％以下である、請求項１２に記載の偏光フィルム。
【請求項１４】
前記偏光領域は、視感度補正単体透過率が３５％以上であり、
前記低偏光領域は、視感度補正単体透過率が８０％以上である、請求項１２又は１３に記載の偏光フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムに関し、特に液晶化合物と二色性色素とを含む層を有する偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を用いた有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置等に比べて軽量化や薄型化が可能であるだけでなく、幅広い視野角、速い応答速度、高いコントラスト等の高画質を実現できるため、スマートフォンやテレビ、デジタルカメラ等、様々な分野で用いられている。有機ＥＬ表示装置では、外光の反射による視認性の低下を抑制するために、円偏光板等を用いて反射防止性能を向上させることが知られている。【０００３】
このような円偏光板に用いられる偏光フィルムとして、特開２０１５−２０６８５２号公報（特許文献１）及び特開２０１５−２１２８２３号公報（特許文献２）には、基材上にパターン化した液晶硬化膜を積層したパターン偏光フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−２０６８５２号公報
【特許文献２】特開２０１５−２１２８２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、視感度補正偏光度が互いに異なる少なくとも２つの領域を有する新規な偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下に示す偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムを提供する。
〔１〕  基材層の少なくとも片面側にパターン化撥液層を形成してパターン化撥液層付き基材層を得るパターン化撥液層形成工程と、
前記パターン化撥液層付き基材層の前記パターン化撥液層側の面に、配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層を有するパターン化配向層付き基材層を得るパターン化配向層形成工程と、
前記パターン化配向層付き基材層の前記パターン化配向層側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有し、
前記パターン化撥液層は、前記配向層形成用組成物及び前記偏光層形成用組成物に対して撥液性を示す、偏光フィルムの製造方法。
〔２〕  前記パターン化撥液層形成工程は、
前記基材層の少なくとも片面側に、前記基材層を被覆するための被覆領域と前記基材層を露出させるための露出領域とを有する保護層を積層することにより保護層付き基材層を得る基材層被覆工程と、
前記保護層付き基材層の前記保護層側の面に撥液剤を塗工して撥液層が形成された撥液層付き基材層を得る撥液層形成工程と、
前記撥液層付き基材層から前記保護層を剥離することにより、前記撥液層の一部を除去して前記パターン化撥液層を形成する保護層除去工程と、を含む、〔１〕に記載の偏光フィルムの製造方法。
〔３〕  前記露出領域は、平面視形状が円形、楕円形、長円形又は多角形であり、
前記露出領域が円形である場合の直径は、５ｃｍ以下であり、
前記露出領域が楕円形又は長円形である場合の長径は、５ｃｍ以下であり、
前記露出領域が多角形である場合、前記多角形が内接されるように描いた仮想円の直径は、５ｃｍ以下である、〔２〕に記載の偏光フィルムの製造方法。
〔４〕  前記パターン化撥液層形成工程は、前記基材層の少なくとも片面側に、撥液剤を滴下塗布して前記パターン化撥液層を形成する、〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
〔５〕  前記配向層形成用組成物は、光配向性ポリマーを含み、
前記パターン化配向層形成工程は、前記配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層用塗工層に偏光照射を行って前記パターン化配向層を形成する、〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
〔６〕  前記液晶化合物は、重合性液晶化合物であり、
前記パターン化偏光層形成工程は、前記偏光層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化偏光層用塗工層に活性エネルギー線照射を行って前記パターン化偏光層を形成する、〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
〔７〕  前記パターン化偏光層は、Ｘ線回折測定においてブラッグピークを示す、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
〔８〕  前記偏光フィルムの長さは１０ｍ以上である、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
〔９〕  前記基材層は、１／４波長板機能を有する、〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
〔１０〕  〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法で製造された偏光フィルムと、１／４波長板機能を有する位相差層とを積層する位相差層積層工程を有する、円偏光板の製造方法。
〔１１〕  前記偏光フィルムは、長さが１０ｍ以上の長尺偏光フィルムであり、
前記位相差層は、長さが１０ｍ以上の長尺位相差層であり、
前記位相差層積層工程は、前記長尺偏光フィルムと前記長尺位相差層とを積層することにより長尺積層体を形成し、
さらに、前記長尺積層体を枚葉に裁断する裁断工程を有する、〔１０〕に記載の円偏光板の製造方法。
〔１２〕  基材層上に、偏光領域と、偏光領域よりも低い視感度補正偏光度を有する低偏光領域とを有する偏光フィルムであって、
前記偏光領域は、液晶化合物及び二色性色素を含むとともに、視感度補正偏光度が９０％以上であり、
前記低偏光領域は、撥液層を有する、偏光フィルム。
〔１３〕  前記低偏光領域は、視感度補正偏光度が１０％以下である、〔１２〕に記載の偏光フィルム。
〔１４〕  前記偏光領域は、視感度補正単体透過率が３５％以上であり、
前記低偏光領域は、視感度補正単体透過率が８０％以上である、〔１２〕又は〔１３〕に記載の偏光フィルム。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、視感度補正偏光度が互いに異なる少なくとも２つの領域を有する偏光フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の偏光フィルムの一例を示す概略平面図である。
【図２】（ａ）〜（ｅ）は本発明の偏光フィルムの製造工程の各工程で得られる層構造の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の偏光フィルムの製造方法におけるパターン化撥液層形成工程の一例を示す概略断面図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ本発明の円偏光板の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して、本発明の偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムの好ましい実施形態について説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。
【００１０】
［第１の実施形態（偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルム）］
本発明の偏光フィルムの製造方法は、
基材層の少なくとも片面側に、パターン化撥液層を形成してパターン化撥液層付き基材層を得るパターン化撥液層形成工程と、
撥液層付き基材層のパターン化撥液層側の面に、配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層を有するパターン化配向層付き基材層を得るパターン化配向層形成工程と、
パターン化配向層付き基材層のパターン化配向層側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有する。パターン化撥液層は、配向層形成用組成物及び偏光層形成用組成物に対して撥液性を示す。
【００１１】
上記のパターン化撥液層形成工程でのパターン化撥液層の形成方法としては、保護層を用いてパターン化撥液層を形成する方法と、撥液剤を滴下塗布してパターン化撥液層を形成する方法とを挙げることができる。以下、各方法について詳述する。
【００１２】
＜偏光フィルムの第１の製造方法＞
図１は、本発明の偏光フィルムの一例を示す概略平面図である。図２（ａ）〜（ｅ）は、図１に示す偏光フィルムの第１の製造方法の製造工程の各工程で得られる層構造を示す概略断面図である。図２（ｅ）は、図１のＸ−Ｘ断面図である。偏光フィルム２の第１の製造方法におけるパターン化撥液層形成工程は、
基材層１３の少なくとも片面側に、基材層１３を被覆するための被覆領域３７ａと基材層１３を露出させるための露出領域３７ｂとを有する保護層３７を積層することにより保護層付き基材層８１（図２（ａ））を得る基材層被覆工程と、
保護層付き基材層８１の保護層３７側の面に撥液剤を塗工して撥液層４７が形成された撥液層付き基材層８２（図２（ｂ））を得る撥液層形成工程と、
撥液層付き基材層８２から保護層を剥離することにより、撥液層４７の一部を除去してパターン化撥液層４７ｂ（図２（ｃ））を形成する保護層除去工程と、を有する。
【００１３】
偏光フィルム２の第１の製造方法は、上記のようなパターン化撥液層形成工程を経て得られたパターン化撥液層付き基材層８３（図２（ｃ））のパターン化撥液層４７ｂ側の面に、配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層２２を有するパターン化配向層付き基材層８４（図２（ｄ））を得るパターン化配向層形成工程と、
パターン化配向層付き基材層８４のパターン化配向層２２側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層２１を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有する。これにより、例えば、図１及び図２（ｅ）に示す、パターン化偏光層を有する偏光フィルム２を製造することができる。
【００１４】
（偏光フィルム）
上記の製造方法によって得られる偏光フィルムの一例について説明する。図１に示す偏光フィルム２は、光吸収異方性の機能を有するフィルムであって、基材層１３上に、パターン化偏光層２１を有する。パターン化偏光層２１は、偏光領域２１ａと、偏光領域２１ａよりも低い視感度補正偏光度（Ｐｙ）を有する低偏光領域２１ｂとを有する。偏光領域２１ａは、液晶化合物及び二色性色素を含むとともに、視感度補正偏光度（Ｐｙ）が９０％以上である。低偏光領域２１ｂは、パターン化撥液層（撥液層）４７ｂを有し、液晶化合物及び二色性色素を含有しないことが好ましい。
【００１５】
偏光フィルム２は、基材層１３上にパターン化偏光層２１を有するものであるが、さらにパターン化配向層２２、その他の層等を有していてもよい。パターン化配向層２２の詳細については後述する。その他の層としては、例えば、パターン化偏光層２１の基材層１３とは反対側の面に、パターン化偏光層２１の表面を保護する等の目的で設けられた表面保護層を挙げることができる。また、基材層１３を剥離して用いる場合には、パターン化偏光層２１の基材層１３を剥離した側の面に表面保護層を設けてもよい。表面保護層は１層構造であってもよく、多層構造であってもよい。表面保護層が多層構造である場合、各層は同じ材料から形成されていてもよく、互いに異なる材料から形成されていてもよい。
【００１６】
なお、図２（ｅ）に示す偏光フィルム２では、基材層１３の片面側に配向層及びパターン化偏光層２１を有する例を示しているが、基材層１３の両面に配向層及びパターン化偏光層を有していてもよい。基材層１３の両面に設けられるパターン化偏光層の構造は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
【００１７】
偏光フィルム２は、長さが１０ｍ以上の長尺状の偏光フィルムであってもよく、この場合、偏光フィルム２はロール状に巻回された巻回体とすることができる。この巻回体から偏光フィルムを連続的に繰り出して、後述する位相差層と積層する、枚葉に切断する等の工程を行うことができる。巻回体とする長尺状の偏光フィルムの長さは１０ｍ以上であれば特に限定されないが、例えば１００００ｍ以下とすることができる。
【００１８】
偏光領域２１ａは、基材層１３上に形成され、液晶化合物及び二色性色素を含有する。偏光領域２１ａと基材層１３との間には配向層２２ａが設けられていてもよい。偏光領域２１ａは、視感度補正偏光度（Ｐｙ）が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることがさらに好ましく、通常１００％以下である。また、偏光領域２１ａは、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）を例えば３５％以上とすることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、４４％以上であることがさらに好ましく、通常５０％未満である。
【００１９】
低偏光領域２１ｂは、基材層１３上に形成された撥液層（パターン化撥液層）４７ｂを有し、配向層や偏光層を有しないものであることが好ましい。低偏光領域２１ｂは、視感度補正偏光度（Ｐｙ）を、例えば１０％以下とすることができ、５％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましく、０％であってもよい。また、低偏光領域２１ｂの視感度補正単体透過率（Ｔｙ）は、例えば８０％以上とすることができ、８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、通常９８％以下である。
【００２０】
本明細書における視感度補正偏光度（Ｐｙ）及び視感度補正単体透過率（Ｔｙ）は、分光光度計を用いて測定した偏光度及び単体透過率に基づいて算出することができる。例えば、可視光である波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で透過軸方向（配向垂直方向）の透過率（Ｔ１）及び吸収軸方向（配向同一方向）の透過率（Ｔ２）を、分光光度計に偏光子付フォルダーをセットした装置を用いてダブルビーム法で測定することができる。可視光範囲での偏光度及び単体透過率は、下記式（式１）及び（式２）を用いて各波長における偏光度及び単体透過率を算出し、さらにＪＩＳ  Ｚ  ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により視感度補正を行うことで、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）で算出することができる。
【００２１】
偏光度［％］＝｛（Ｔ１−Ｔ２）／（Ｔ１＋Ｔ２）｝×１００      （式１）
単体透過率［％］＝（Ｔ１＋Ｔ２）／２      （式２）
【００２２】
偏光領域２１ａの占有面積及び低偏光領域２１ｂの占有面積は、偏光フィルム２に要求される特性に応じて適宜選択すればよい。偏光フィルム２の表面積に対する、偏光領域２１ａ及び低偏光領域２１ｂの占有面積の合計の割合は、９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましく、９９％以上であることがさらに好ましい。また、偏光領域２１ａの占有面積と低偏光領域２１ｂの占有面積の合計面積に対して、偏光領域２１ａの占有面積は、５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。例えば、図１に示すように、低偏光領域２１ｂの専有面積が偏光領域２１ａの専有面積よりも小さく、低偏光領域２１ｂを取り囲むように偏光領域２１ａを設けてもよい。図１に示す偏光フィルム２では、１つの円形の低偏光領域２１ｂを取り囲むように偏光領域２１ａを設けているが、低偏光領域２１ｂはそれぞれ独立に複数設けられていてもよい。
【００２３】
偏光領域２１ａの形状及び低偏光領域２１ｂの形状は特に限定されないが、例えば、図１に示すように、低偏光領域２１ｂを取り囲むように偏光領域２１ａを設ける場合、低偏光領域２１ｂは、平面視形状が、円形；楕円形；長円形；三角形、正方形、矩形、菱形等の多角形；文字形状；これらの組み合わせ等、任意の形状に形成することができる。
【００２４】
低偏光領域２１ｂは、平面視形状が円形、楕円形、長円形、又は多角形であることが好ましい。低偏光領域２１ｂが円形である場合、その直径は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。低偏光領域２１ｂが楕円形又は長円形である場合、その長軸は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。低偏光領域２１ｂが多角形である場合、この多角形が内接されるように描いた仮想円の直径は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。上記した形状の低偏光領域２１ｂは、スマートフォンやタブレット等に設けられたカメラのレンズ位置に対応させる領域として好適に用いることができる。この際、低偏光領域２１ｂを、視感度補正偏光度（Ｐｙ）が１０％以下であり、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）が８０％以上の領域とすることにより、低偏光領域２１ｂの着色を低減し、優れた透明性を得ることができるため、カメラの性能を向上させることができる。
【００２５】
さらに、偏光領域２１ａと低偏光領域２１ｂとを、それぞれ平面視形状が線状、帯状、波形状等の形状となるように設けてもよい。この場合、偏光領域２１ａと低偏光領域２１ｂとはそれぞれ交互に複数設けられていてもよい。この場合、偏光領域２１ａ及び低偏光領域２１ｂの幅は、それぞれ独立して、１μｍ〜１０ｍｍであることが好ましく、１μｍ〜１ｍｍであることがより好ましく、１μｍ〜１００μｍであることがさらに好ましい。
【００２６】
なお、偏光フィルムが長尺状の偏光フィルムである場合、長尺状の偏光フィルムは通常、偏光フィルムの用途等に応じて所定サイズに裁断されるため、裁断後の偏光フィルムの所定の位置に偏光領域２１ａや低偏光領域２１ｂが形成されるように、長尺状の偏光フィルムにおける偏光領域や低偏光領域の配置を設定することが好ましい。例えば、裁断後の偏光フィルムが図１に示す偏光フィルム２である場合には、長尺状の偏光フィルムの長さ方向及び／又は幅方向に、所定の間隔で複数の低偏光領域２１ｂを設けることが好ましい。
【００２７】
パターン化偏光層２１の偏光領域２１ａの厚みは、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましく、また、５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましい。また、パターン化撥液層４７ｂの厚みは、通常１〜２００ｎｍであり、１〜２０ｎｍであることが好ましい。偏光領域２１ａの厚み及びパターン化撥液層４７ｂの厚みは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡、又は触針式膜厚計等で測定することができる。
【００２８】
次に、図２（ａ）〜（ｅ）に基づいて、偏光フィルム２の製造方法の各工程について説明する。
（基材層被覆工程）
基材層被覆工程では、図２（ａ）に示すように、基材層１３の少なくとも片面側に、基材層１３を被覆するための被覆領域３７ａと基材層１３を露出させるための露出領域３７ｂとを有する保護層３７を積層する。これにより、保護層付き基材層８１を得ることができる。
【００２９】
保護層３７が有する露出領域３７ｂは、例えば保護層３７の開口部とすることができる。被覆領域３７ａは、保護層付き基材層８１上に、後述する撥液剤を塗工したときに、基材層１３上に撥液剤が塗工されることを抑制することができる。一方、保護層３７の露出領域３７ｂでは、基材層１３上に撥液剤を塗工することができる。
【００３０】
後述するように、露出領域３７ｂに塗工された撥液剤により、基材層１３上にはパターン化撥液層４７ｂが形成される。このパターン化撥液層４７ｂ上には、後述するように、配向層や偏光層が形成されにくい。そのため、露出領域３７ｂは、偏光フィルム２の低偏光領域２１ｂに対応させて形成することが好ましい。例えば、図１及び図２（ｅ）に示す偏光フィルム２を製造する場合には、低偏光領域２１ｂの形状に合わせてその形状を決定することが好ましい。例えば、低偏光領域２１ｂの平面視形状が、円形；楕円形；長円形；三角形、正方形、矩形、菱形等の多角形；線状；帯状；波形状であれば、露出領域３７ｂは、これらの形状に対応して形成すればよい。
【００３１】
例えば、露出領域３７ｂが円形である場合、その直径は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。露出領域３７ｂが楕円形又は長円形である場合、その長軸は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。露出領域３７ｂが多角形である場合、この多角形が内接されるように描いた仮想円の直径は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
【００３２】
また、保護層３７の被覆領域３７ａでは、被覆領域３７ａ上に撥液層４７が形成されるため、基材層１３上の、撥液層４７を形成しない領域に対応させて形成することが好ましい。パターン化撥液層４７ｂ上には配向層や偏光層が形成されにくいため、例えば、図１及び図２（ｅ）に示す偏光フィルム２を製造する場合には、偏光領域２１ａの形状に合わせてその形状を決定することが好ましい。
【００３３】
（基材層）
基材層１３は、偏光フィルム２を製造する際に、パターン化配向層２２やパターン化偏光層２１を支持するために用いることができ、また、偏光フィルム２のパターン化偏光層２１を支持するために用いることができる。
【００３４】
基材層１３は、ガラス基材であっても樹脂基材であってもよいが、樹脂基材であることが好ましい。また、偏光フィルム２を連続的に製造できる点から、基材層１３は、ロール状に巻回した長尺の樹脂基材を巻き出したものであることがより好ましい。樹脂基材は、可視光を透過し得る透光性を有する基材であることが好ましい。ここで、透光性とは、波長３８０〜７８０ｎｍの波長域の光に対して視感度補正単体透過率が８０％以上であることをいう。
【００３５】
基材層１３の厚みは、実用的な取り扱いができる程度の質量である点では、薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。基材層１３の厚みは、通常、５μｍ〜３００μｍであり、好ましくは２０μｍ〜２００μｍである。また、基材層１３は、剥離可能に設けられていてもよく、例えば、偏光フィルム２のパターン化偏光層２１を、表示装置をなす部材や後述する位相差層等に貼合した後、偏光フィルム２から剥離できるものであってもよい。これにより、偏光フィルム２のさらなる薄膜化効果が得られる。
【００３６】
樹脂基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ノルボルネン系ポリマー等の環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド；等を挙げることができる。
【００３７】
市販のセルロースエステルの樹脂基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム株式会社製）；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が挙げられる。
【００３８】
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、樹脂基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂の樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂の樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。
【００３９】
基材層１３は、１層構造であってもよく２層以上の多層構造であってもよい。基材層１３が多層構造である場合、各層は同じ材料から形成されていてもよく、互いに異なる材料から形成されていてもよい。
【００４０】
また、基材層１３は１／４波長板機能を有していてもよい。基材層１３が１／４波長板機能を有することにより、基材層１３とパターン化偏光層２１との組み合わせにより、円偏光板の機能を有する偏光フィルムを得ることができる。これにより、偏光フィルム２に、基材層１３とは別に１／４波長板機能を有する位相差層を貼合しなくても、円偏光板を得ることができる。また、基材層１３が多層構造である場合、１／２波長板機能を有する層と１／４波長板機能を有する層とが積層されたものを用い、パターン化偏光層２１を１／２波長板機能を有する層側に積層することにより、円偏光板を得ることができる。あるいは、基材層１３が多層構造である場合、逆波長分散性の１／４波長板機能を有する層とポジティブＣプレート機能を有する層とが積層されたものを用いることによっても、円偏光板を得ることができる。
【００４１】
（保護層）
保護層３７としては、シート状基材に露出領域３７ｂとなる領域を形成したものを用いることができる。露出領域３７ｂとなる領域は、シート状基材の所定部分を、パンチング、カッティングプロッタ、ウォータージェット等によって機械的に打ち抜く方法、シート状基材の所定部分をレーザーアブレーション、化学的溶解等によって除去する方法等によって形成することができる。
【００４２】
保護層３７を形成するシート状基材としては、後述の撥液層形成工程において撥液剤を塗工したときに撥液剤に不溶であるものであれば、その材料は特に限定されない。保護層３７を形成するシート状基材としては、例えば、上記した基材層１３と同じ材料を用いて形成することができ、特に樹脂基材を用いて形成されることが好ましく、保護層３７の露出領域３７ｂとなる領域（例えば、開口部）の変形を抑制しやすいポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂を用いることがより好ましい。
【００４３】
保護層３７は、基材層１３に貼合するための粘着層を有していることが好ましい。保護層は、後述するように剥離されるため、粘着層は、基材層１３に対して剥離可能であることが好ましい。また、保護層３７の厚みは、通常２０μｍ以上であり、３０μｍ以上であることが好ましく、また、通常２５０μｍ以下であり、２００μｍ以下であることが好ましい。
【００４４】
（撥液層形成工程）
撥液層形成工程では、保護層付き基材層８１の保護層３７側の面に、撥液剤を塗工して撥液層４７が形成された撥液層付き基材層８２を得る（図２（ｂ））。
【００４５】
（撥液剤）
撥液剤としては、撥液剤を塗工して形成される撥液層（パターン化撥液層４７ｂ）が配向層形成用組成物及び偏光層形成用組成物に対して撥液性を示すものであれば特に限定されない。本明細書における撥液性は、パターン化撥液層４７ｂ上に配向層形成用組成物や偏光層形成用組成物を塗工したときに、パターン化撥液層４７ｂがこれらの組成物をはじき、パターン化撥液層４７ｂ上にこれらの組成物の塗工層が形成されないことをいう。パターン化撥液層４７ｂが有する撥液性は、例えば、パターン化撥液層４７ｂの表面において水滴量３μＬでθ／２法により測定した接触角が９０°以上であるものをいい、接触角は１００°以上であってもよく、１１０°以上であってもよく、通常１２０°未満である。
【００４６】
撥液剤としては、例えば、パーフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基を自由端側に有する含フッ素基と、加水分解性基とがケイ素原子に結合している第１の有機ケイ素化合物、加水分解性シランオリゴマー、又は、フッ化炭素含有基と加水分解性基とがケイ素原子に結合した第２の有機ケイ素化合物とを含んでいてもよい。
【００４７】
パーフルオロアルキル基の炭素数（特に最も長い直鎖部分の炭素数）は、例えば３以上であることが好ましく、５以上がより好ましく、より好ましくは７以上であり、炭素数の上限は特に限定されない。パーフルオロポリエーテル基とは、ポリアルキレンエーテル基又はポリアルキレングリコールジアルキルエーテル残基の全部の水素原子がフッ素原子に置換された基であり、パーフルオロポリアルキレンエーテル基、又はパーフルオロポリアルキレングリコールジアルキルエーテル残基ということもできる。パーフルオロポリエーテル基の最も長い直鎖部分に含まれる炭素数は、５以上であることが好ましく、１０以上がより好ましく、より好ましくは２０以上である。炭素数の上限は特に限定されず、例えば２００程度であってもよい。
【００４８】
含フッ素基は、上記パーフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基を自由端側に有していればよい。したがって、ケイ素原子と結合する側には、適当な連結基が存在していてもよく、当該連結基なしで上記パーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基が直接ケイ素原子に結合してもよい。連結基としては、例えば、アルキレン基、芳香族炭化水素基等の炭化水素基、（ポリ）アルキレングリコール基、又はこれらの水素原子の一部がＦに置換された基、及びこれらが適当に連結した基等が挙げられる。連結基の炭素数は、例えば１以上、２０以下であり、好ましくは２以上、１０以下である。
【００４９】
なお、一つの連結基には複数のケイ素原子が結合してもよく、一つの連結基に複数のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基が結合してもよい。ケイ素原子に結合する含フッ素基の数は、１つ以上であればよく、２又は３であってもよいが、１又は２であるのが好ましく、１であるのが特に好ましい。
【００５０】
加水分解性基は、加水分解・脱水縮合反応を通じて、（１）第１の有機ケイ素化合物同士を、又は（２）第１の有機ケイ素化合物と基材表面の活性水素（水酸基等）とを、又は（３）第１の有機ケイ素化合物と第２の有機ケイ素化合物とを結合する作用を有する。こうした加水分解性基としては、例えばアルコキシ基（特に炭素数１〜４のアルコキシ基）、ヒドロキシ基、アセトキシ基、アリル基、ハロゲン原子（特に塩素原子）等が挙げられる。好ましい加水分解性基は、アルコキシ基、アリル基、及びハロゲン原子であり、特にメトキシ基、エトキシ基、アリル基、塩素原子が好ましい。
【００５１】
ケイ素原子に結合する加水分解性基の数は、１つ以上であればよく、２又は３であってもよいが、２又は３であるのが好ましく、３であるのが特に好ましい。２つ以上の加水分解性基がケイ素原子に結合している場合、異なる加水分解性基がケイ素原子に結合していてもよいが、同じ加水分解性基がケイ素原子に結合しているのが好ましい。ケイ素原子に結合する含フッ素基と加水分解性基との合計数は、通常４であるが、２又は３（特に３）であってもよい。３以下の場合、残りの結合手には、例えば、アルキル基（特に炭素数が１〜４のアルキル基）、Ｈ、ＮＣＯ等が結合できる。
【００５２】
第１の有機ケイ素化合物の含フッ素基は、直鎖状であってもよいし、側鎖を有していてもよい。撥液剤の具体例としては、国際公開２０１６／０７６２４５号に記載された撥水撥油コーティング組成物を挙げることができる。
【００５３】
撥液剤は、保護層付き基材層８１の保護層３７側の面に、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法等によって塗工することができる。撥液剤として、第１の有機ケイ素化合物と第２の有機ケイ素化合物とを含む組成物を用いた場合、保護層付き基材層８１に撥液剤を塗工して形成された塗工層を空気中で静置する、及び／又は、加温乾燥することにより、撥液層４７を形成することができる。
【００５４】
撥液剤は、保護層３７の被覆領域３７ａ上、及び、保護層３７の露出領域３７ｂでは基材層１３上に塗工される。これにより、図２（ｂ）に示すように、保護層３７の被覆領域３７ａ上、及び、保護層３７の露出領域３７ｂでは基材層１３上にそれぞれ撥液層４７が形成された、撥液層付き基材層８２を得ることができる。
【００５５】
（保護層除去工程）
保護層除去工程では、撥液層形成工程で得られた撥液層付き基材層８２から保護層３７を剥離する。これにより、撥液層４７の一部を除去して形成したパターン化撥液層４７ｂを有するパターン化撥液層付き基材層８３を得ることができる（図２（ｃ））。撥液層付き基材層８２から保護層３７を剥離することにより、被覆領域３７ａ上の撥液層４７が保護層３７とともに除去され、保護層３７の露出領域３７ｂの部分では、基材層１３上に撥液層４７を残存させて、パターン化撥液層４７ｂを形成することができる。これにより、図２（ｃ）に示すように、パターン化撥液層４７ｂを有するパターン化撥液層付き基材層８３を得ることができる。
【００５６】
（パターン化配向層形成工程）
パターン化配向層形成工程では、保護層除去工程で得られたパターン化撥液層付き基材層８３のパターン化撥液層４７ｂ側の面に、配向層形成用組成物を塗工する。これにより、パターン化配向層２２を有するパターン化配向層付き基材層８４を得ることができる（図２（ｄ））。パターン化配向層形成工程で形成されるパターン化配向層２２は、その上に積層される液晶化合物を、所望の方向に液晶配向させる配向規制力を有することができる。配向層形成用組成物としては、後述する配向性ポリマー組成物、光配向膜形成用組成物、グルブ配向膜を形成するための樹脂材料を含む組成物等を用いることができる。
【００５７】
上記したように、パターン化撥液層４７ｂは、配向層形成用組成物に対して撥液性を示す。そのため、パターン化配向層形成工程において、パターン化撥液層付き基材層８３のパターン化撥液層４７ｂ側の面に、配向層形成用組成物を塗工すると、パターン化撥液層４７ｂ上では、配向層形成用組成物がはじかれてこの組成物の塗工層が形成されない。一方、パターン化撥液層付き基材層８３のパターン化撥液層４７ｂが形成されていない領域では、配向層形成用組成物の塗工層を形成することができる。したがって、パターン化配向層形成工程では、基材層１３上に、パターン化撥液層４７ｂが形成された領域と、パターン化撥液層４７ｂが形成されていない領域に配向層２２ａが形成されたパターン化配向層２２と、を有するパターン化配向層付き基材層を得ることができる。
【００５８】
パターン化配向層２２は、液晶化合物の液晶配向を容易にする。水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の液晶配向の状態は、パターン化配向層２２及び液晶化合物の性質によって変化し、その組み合わせは任意に選択することができる。例えば、パターン化配向層２２が配向規制力として水平配向を発現させる材料であれば、液晶化合物は水平配向又はハイブリッド配向を形成することができ、パターン化配向層２２が垂直配向を発現させる材料であれば、液晶化合物は垂直配向又は傾斜配向を形成することができる。水平、垂直等の表現は、偏光フィルム２平面を基準とした場合の、配向した液晶化合物の長軸の方向を表す。例えば、垂直配向とは偏光フィルム２平面に対して垂直な方向に、配向した重合性液晶の長軸を有することである。ここでいう垂直とは、偏光フィルム２平面に対して９０°±２０°のことを意味する。偏光フィルム２は、偏光フィルム２平面の偏光特性を有することが好ましいため、パターン化配向層２２は水平配向を発現させる材料を用いて形成することが好ましい。
【００５９】
パターン化配向層２２の配向規制力は、パターン化配向層２２が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶化合物の表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。
【００６０】
パターン化配向層２２の厚みは、通常１０ｎｍ〜５０００ｎｍであり、１０ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましく、３０ｎｍ〜３００ｎｍであることがより好ましい。また、基材層１３とパターン化偏光層２１との間に形成されるパターン化配向層２２は、パターン化配向層２２上にパターン化偏光層２１を形成する際に使用される溶剤に不溶であり、また、溶剤の除去や液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。
【００６１】
パターン化配向層２２としては、配向性ポリマーからなる配向膜、光配向膜、又は、グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜等が挙げられる。基材層１３が長尺の樹脂基材を巻回した巻回体から巻き出されたものである場合には、パターン化配向層２２は、その配向方向を容易に制御できる点から光配向膜であることが好ましい。
【００６２】
配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド、その加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、又は、ポリアクリル酸エステル類等が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。これらの配向性ポリマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６３】
配向性ポリマーからなる配向膜は、通常、配向性ポリマーを溶剤に溶解させた組成物（以下、「配向性ポリマー組成物」ということがある。）をパターン化撥液層付き基材層８３に塗布し、溶剤を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を基材層１３に塗布し、溶剤を除去し、ラビングすること（ラビング法）によって得ることができる。
【００６４】
配向性ポリマー組成物に用いられる溶剤としては、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ又はプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム又はクロロベンゼン等の塩素置換炭化水素溶剤；等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６５】
配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの含有量は、配向性ポリマーが、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１〜２０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましい。
【００６６】
配向性ポリマー組成物としては、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標）（日産化学工業株式会社製）又はオプトマー（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）等が挙げられる。
【００６７】
配向性ポリマー組成物をパターン化撥液層付き基材層８３に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法又はアプリケータ法等の塗布方法や、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法が挙げられる。偏光フィルム２を、Ｒｏｌｌ−ｔｏ−Ｒｏｌｌ形式の連続的製造方法により製造する場合、当該塗布方法には通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法等の印刷法を採用することができる。
【００６８】
配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去することにより、配向性ポリマーの乾燥被膜が形成される。溶剤の除去方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及び減圧乾燥法等が挙げられる。その後、上記乾燥被膜を、ラビング布が巻きつけられた回転しているラビングロールに接触させて、パターン化配向層２２を形成することができる。
【００６９】
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと、溶剤とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ということがある。）をパターン化撥液層付き基材層８３に塗工して形成された配向層用塗工層に、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することによって得ることができる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。
【００７０】
光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、又は光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れる点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）、及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基がより好ましい。
【００７１】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基又はシンナモイル基等が挙げられる。反応性の制御が容易であるという点や光配向時の配向規制力発現の観点から、カルコン基又はシンナモイル基であることが好ましい。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基又は芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基又はホルマザン基等や、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基又はマレイミド基等を挙げることができる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基又はハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
【００７２】
光配向膜形成用組成物の溶剤としては、光反応性基を有するポリマー及びモノマーを溶解するものが好ましく、該溶剤としては、例えば、前記の配向性ポリマー組成物の溶剤として挙げられた溶剤等が挙げられる。
【００７３】
光配向膜形成用組成物中の、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、当該光反応性基を有するポリマー又はモノマーの種類や製造しようとする光配向膜の厚さによって適宜調節できるが、０．２質量％以上とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲が特に好ましい。また、光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、ポリビニルアルコールやポリイミド等の高分子材料や光増感剤が含まれていてもよい。
【００７４】
光配向膜形成用組成物をパターン化撥液層付き基材層８３に塗工する方法としては、上記した配向性ポリマー組成物をパターン化撥液層付き基材層８３に塗工する方法と同様の方法が挙げられる。塗工された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、例えば、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。
【００７５】
偏光照射は、パターン化撥液層付き基材層８３の上に塗工された光配向膜形成用組成物から溶剤を除去した乾燥被膜上から直接行ってもよく、基材層１３を透過した偏光が乾燥被膜に照射されるように基材層１３側から行ってもよい。また、偏光照射に用いられる偏光は、実質的に平行光であることが特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外光）が特に好ましい。偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ又はメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長３１３ｎｍの紫外光の発光強度が大きいため好ましい。光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光を照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラー等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。
【００７６】
なお、ラビングや偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。
【００７７】
グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に液晶分子を置いた場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
【００７８】
グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化性樹脂の層を形成し、樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、基材上に形成した硬化前のＵＶ硬化性樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。具体的には、特開平６−３４９７６号公報及び特開２０１１−２４２７４３号公報記載の方法等が挙げられる。
【００７９】
配向乱れの小さな配向を得るためには、グルブ配向膜の凸部の幅は０．０５μｍ〜５μｍであることが好ましく、凹部の幅は０．１μｍ〜５μｍであることが好ましく、凹凸の段差の深さは２μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ〜１μｍ以下であることが好ましい。
【００８０】
（パターン化偏光層形成工程）
パターン化偏光層形成工程では、パターン化配向層形成工程で得られたパターン化配向層付き基材層８４のパターン化配向層２２側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することにより、パターン化偏光層２１が形成された偏光フィルム２を得る（図２（ｅ））。偏光層形成用組成物は、液晶化合物及び二色性色素を含む組成物であって、溶剤及び重合開始剤を含むことが好ましく、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤、反応性添加剤等を含んでいてもよい。
【００８１】
上記したように、パターン化撥液層４７ｂは、偏光層形成用組成物に対して撥液性を示す。そのため、パターン化偏光層形成工程において、パターン化配向層付き基材層８４のパターン化撥液層４７ｂ側の面に、偏光層形成用組成物を塗工すると、パターン化撥液層４７ｂ上では、偏光層形成用組成物がはじかれて、この組成物の塗工層が形成されない。一方、パターン化配向層付き基材層８４のパターン化撥液層４７ｂが形成されていない領域では、偏光層形成用組成物の塗工層を形成することができる。したがって、パターン化偏光層形成工程では、基材層１３上に、パターン化撥液層４７ｂが形成された領域と、パターン化配向層２２の配向層２２ａ上に偏光領域２１ａが形成されたパターン化偏光層２１と、を有する偏光フィルム２を得ることができる。
【００８２】
図１及び図２（ｅ）に示す偏光フィルム２は、さらに、基材層１３を剥離して用いることもできる。この場合、基材層１３とともに配向層２２ａも剥離してもよい。例えば、基材層１３の剥離は、偏光フィルム２のパターン化偏光層２１を、表示装置をなす部材や位相差層等に貼合した後に行うこともできる。
【００８３】
（パターン化偏光層）
パターン化偏光層２１は液晶化合物を含み、液晶化合物と二色性色素とを含有する領域を有する。パターン化偏光層２１が偏光フィルム２平面の偏光特性を有する場合、二色性色素と液晶化合物が偏光フィルム２平面に対して水平配向した状態である領域を有することが好ましい。また、パターン化偏光層２１が偏光フィルム２の膜厚方向の偏光特性を有する場合、二色性色素と液晶化合物が偏光フィルム２平面に対して水平配向した状態である領域を有することが好ましい。
【００８４】
パターン化偏光層２１のうち、二色性色素と液晶化合物が偏光フィルム２面に対して水平配向した状態である領域は、波長λｎｍの光に対する液晶配向水平方向の吸光度Ａ１（λ）と液晶配向面内垂直方向の吸光度Ａ２（λ）の比である二色比（＝Ａ１（λ）／Ａ２（λ））が７以上であれば好ましく、２０以上であればより好ましく、さらに好ましくは３０以上である。この値が高ければ高い程、吸収選択性の優れる偏光特性を有することを示す。二色性色素の種類にもよるが、パターン化偏光層２１がネマチック液晶相である場合には、上記比は５〜１０程度である。なお、パターン化偏光層２１がネマチック液晶相及びスメクチック液晶相である場合、液晶化合物と二色性色素とが相分離していないことは、例えば、各種顕微鏡による表面観察やヘイズメーターによる散乱度測定により確認できる。
【００８５】
パターン化偏光層２１の厚みは、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましく、また、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。パターン化偏光層２１の厚みは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡、又は触針式膜厚計等で測定することができる。
【００８６】
（液晶化合物）
偏光層形成用組成物に含まれる液晶化合物としては、公知の液晶化合物を用いることができる。液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。また、液晶化合物は、高分子液晶化合物であってもよく、重合性液晶化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。
【００８７】
液晶化合物としては、重合性液晶化合物を用いることが好ましい。重合性液晶化合物を用いることにより、偏光フィルムの色相を任意に制御することができるとともに、偏光フィルムを大幅に薄型化できる。また、延伸処理を行うことなく偏光フィルムを製造することができるので、熱による延伸緩和のない非伸縮性の偏光フィルムとすることができる。
【００８８】
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物をいう。重合性基は、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性は、サーモトロピック液晶でもリオトロピック液晶でもよいが、本実施の形態のパターン化偏光層２１のように二色性色素と混合する場合には、サーモトロピック液晶を用いることが好ましい。
【００８９】
重合性液晶化合物がサーモトロピック液晶である場合は、ネマチック液晶相を示すサーモトロピック性液晶化合物であってもよいし、スメクチック液晶相を示すサーモトロピック性液晶化合物であってもよい。重合性液晶化合物が示す液晶状態は、スメクチック相であることが好ましく、高性能化の観点から高次スメクチック相であることがより好ましい。中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相又はスメクチックＬ相を形成する高次スメクチック液晶化合物がより好ましく、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相又はスメクチックＩ相を形成する高次スメクチック液晶化合物がさらに好ましい。重合性液晶化合物が形成するパターン化偏光層２１がこれらの高次スメクチック相であると、パターン化偏光層２１に偏光性能のより高い領域を形成することができる。また、このように偏光性能の高い領域は、Ｘ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られるものである。当該ブラッグピークは分子配向の周期構造に由来するピークであり、その周期間隔が３〜６Åである膜を得ることができる。本実施の形態の偏光フィルム２では、パターン化偏光層２１が重合性液晶化合物がスメクチック相の状態で重合された重合体を含むことにより、パターン化偏光層２１により高い偏光特性を付与できるため好ましい。
【００９０】
重合性液晶化合物が、ネマチック液晶相やスメクチック液晶相を示すか否かは、例えば、以下のようにして確認できる。基材に偏光膜形成用組成物を塗布して塗布膜を形成した後、重合性液晶化合物が重合しない条件で加熱処理することで塗布膜に含有される溶剤を除去する。続いて、基材上に形成された塗布膜を等方相温度まで加熱し、徐々に冷却することで発現する液晶相を、偏光顕微鏡によるテクスチャー観察、Ｘ線回折測定又は示差走査熱量測定により検査する。
【００９１】
このような重合性液晶化合物としては、具体的には、下記式（Ａ）
Ｕ１−Ｖ１−Ｗ１−Ｘ１−Ｙ１−Ｘ２−Ｙ２−Ｘ３−Ｗ２−Ｖ２−Ｕ２      （Ａ）
［式（Ａ）中、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ独立に、２価の芳香族基又は２価の脂環式炭化水素基を表し、ここで、該２価の芳香族基又は２価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該２価の芳香族基又は２価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。ただし、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基又は置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基である。
Ｙ１、Ｙ２、Ｗ１及びＷ２は、互いに独立に、単結合又は二価の連結基である。
Ｖ１及びＶ２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又はＮＨ−に置き換わっていてもよい。
Ｕ１及びＵ２は、互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。］
で表される化合物（以下、化合物（Ａ）ということがある。）等が挙げられる。
【００９２】
化合物（Ａ）において、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基、又は、置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基である。特に、Ｘ１及びＸ３は置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが好ましく、該シクロへキサン−１，４−ジイル基は、トランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基であることがさらに好ましい。トランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基の構造を含む場合、スメクチック液晶性が発現しやすい傾向にある。また、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基及び置換基を有していてもよいシクロへキサン−１，４−ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、シアノ基、塩素原子又はフッ素原子等のハロゲン原子が挙げられる。好ましくは無置換である。
【００９３】
Ｙ１及びＹ２は、互いに独立に、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、−Ｃ≡Ｃ−又はＣＲａ＝Ｎ−が好ましく、Ｒａ及びＲｂは、互いに独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｙ１及びＹ２は、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合であるとより好ましく、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３が全てシクロヘキサン−１，４−ジイル基を含まない場合、Ｙ１及びＹ２が互いに異なる結合方式であることがより好ましい。Ｙ１及びＹ２が互いに異なる結合方式である場合には、スメクチック液晶性が発現しやすい傾向にある。
【００９４】
Ｗ１及びＷ２は、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−又はＯＣＯ−が好ましく、互いに独立に単結合又は−Ｏ−であることがより好ましい。
【００９５】
Ｖ１及びＶ２で表される炭素数１〜２０のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、テトラデカン−１，１４−ジイル基又はイコサン−１，２０−ジイル基等を挙げることができる。Ｖ１及びＶ２は、好ましくは炭素数２〜１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは直鎖状の炭素数６〜１２のアルカンジイル基である。直鎖状の炭素数６〜１２のアルカンジイル基とすることで結晶性が向上し、スメクチック液晶性を発現しやすい傾向にある。
【００９６】
置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基及び塩素原子、フッ素原子等のハロゲン原子等が挙げられるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換かつ直鎖状のアルカンジイル基であることがより好ましい。
【００９７】
Ｕ１及びＵ２は、ともに重合性基であることが好ましく、ともに光重合性基であることがより好ましい。光重合性基を有する重合性液晶化合物は、熱重合性基よりも低温条件下で重合できるため、秩序度の高い状態で重合性液晶化合物の重合体を形成できる点で有利である。
【００９８】
Ｕ１及びＵ２で表される重合性基は互いに異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基又はオキセタニル基が好ましく、メタクリロイルオキシ基、あるいは、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【００９９】
このような重合性液晶化合物としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。
【０１００】
【化１】
2019082746.tif 000003
【０１０１】
【化２】
2019082746.tif 000004
【０１０２】
【化３】
2019082746.tif 000005
【０１０３】
【化４】
2019082746.tif 000006
【０１０４】
例示した前記化合物の中でも、式（１−２）、式（１−３）、式（１−４）、式（１−６）、式（１−７）、式（１−８）、式（１−１３）、式（１−１４）及び式（１−１５）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【０１０５】
例示した化合物（Ａ）は、単独又は組み合わせて、パターン化偏光層２１に用いることができる。また、２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせる場合には、少なくとも１種が化合物（Ａ）であることが好ましく、２種以上が化合物（Ａ）であることがより好ましい。２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせることにより、液晶−結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。２種類の重合性液晶化合物を組み合わせる場合の混合比としては、通常、１：９９〜５０：５０であり、５：９５〜５０：５０であることが好ましく、１０：９０〜５０：５０であることがさらに好ましい。
【０１０６】
化合物（Ａ）は、例えば、Ｌｕｂ  eｔ  aｌ.  Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ，１１５,  ３２１−３２８（１９９６）、又は特許第４７１９１５６号等に記載の公知方法で製造することができる。
【０１０７】
パターン化偏光層２１中における重合性液晶化合物の含有量は、パターン化偏光層２１の固形分１００質量部に対して、通常５０〜９９．５質量部であり、好ましくは６０〜９９質量部であり、より好ましくは７０〜９８質量部であり、さらに好ましくは８０〜９７質量部である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であれば、配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、後述する偏光層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。
【０１０８】
（二色性色素）
二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。二色性色素は、液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であり、二色性色素自身が重合性を有していてもよいし、液晶性を有していてもよい。二色性色素としては、可視光を吸収する特性を有する特性を有することが好ましく、３８０〜６８０ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものがより好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素又はアントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素又はスチルベンアゾ色素等が挙げられ、好ましくはビスアゾ色素又はトリスアゾ色素である。二色性色素は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、可視光全域で吸収を得るためには、３種類以上の二色性色素を組み合わせることが好ましく、３種類以上のアゾ色素を組み合わせることがより好ましい。
【０１０９】
アゾ色素としては、例えば、式（Ｉ）
Ｔ１−Ａ１（−Ｎ＝Ｎ−Ａ２）ｐ−Ｎ＝Ｎ−Ａ３  −Ｔ２      （Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ａ１、Ａ２及びＡ３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基、又は、置換基を有していてもよい２価の複素環基を表し、Ｔ１及びＴ２は、互いに独立に電子吸引基又は電子放出基であり、アゾ結合面内に対して実質的に１８０°の位置に有する。ｐは０〜４の整数を表す。ｐが２以上である場合、各々のＡ２は互いに同一でも異なっていてもよい。可視域に吸収を示す範囲で−Ｎ＝Ｎ−結合が−Ｃ＝Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−又は−Ｎ＝ＣＨ−結合に置き換わっていてもよい。］
で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ）」ということもある）が挙げられる。
【０１１０】
Ａ１、Ａ２及びＡ３における１，４−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基及び２価の複素環基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基又はブトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；塩素原子、フッ素原子等のハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基及びピロリジノ基等の置換又は無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１〜６のアルキル基を１つ又は２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、−ＮＨ２である。）が挙げられる。なお、炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基又はヘキシル基等が挙げられる。炭素数２〜８のアルカンジイル基としては、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、又は、オクタン−１，８−ジイル基等が挙げられる。スメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に化合物（Ｉ）を包摂するためには、Ａ１、Ａ２及びＡ３は、互いに独立に、無置換、水素がメチル基又はメトキシ基で置換された１，４−フェニレン基、若しくは２価の複素環基が好ましく、ｐは０又は１であることが好ましい。中でもｐが１であり、かつ、Ａ１、Ａ２及びＡ３の３つの構造のうち少なくとも２つが１，４−フェニレン基であることが分子合成の簡便さと高い性能の両方を有するという点でより好ましい。
【０１１１】
２価の複素環基としては、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾール及びベンゾオキサゾールから２個の水素原子を除いた基が挙げられる。Ａ２が２価の複素環基の場合には、分子結合角度が実質的に１８０°となる構造が好ましく、具体的には、二つの５員環が縮合したベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール構造がより好ましい。
【０１１２】
Ｔ１及びＴ２は、互いに独立に電子吸引基又は電子放出基であって、互いに異なる構造であることが好ましく、Ｔ１が電子吸引基であってＴ２が電子放出基である、あるいは、Ｔ１が電子放出基であってＴ２が電子吸引基であることがさらに好ましい。具体的には、Ｔ１及びＴ２は、互いに独立に炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基を１つ又は２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基、又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、中でもスメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に包摂するためには、分子の排除体積がより小さい構造体である必要があるため、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基を１つ又は２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基が好ましい。
【０１１３】
このようなアゾ色素としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。
【０１１４】
【化５】
2019082746.tif 000007
【０１１５】
【化６】
2019082746.tif 000008
【０１１６】
［式（２−１）〜（２−６）中、Ｂ１〜Ｂ２０は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基（置換アミノ基及び無置換アミノ基の定義は前記のとおり）、塩素原子又はトリフルオロメチル基を表す。また、高い偏光性能が得られる観点から、Ｂ２、Ｂ６、Ｂ９、Ｂ１４、Ｂ１８、Ｂ１９は水素原子又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
ｎ１〜ｎ４は、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。
ｎ１が２以上である場合、複数のＢ２はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ２が２以上である場合、複数のＢ６はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ３が２以上である場合、複数のＢ９はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ４が２以上である場合、複数のＢ１４はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【０１１７】
前記アントラキノン色素としては、式（２−７）で表される化合物が好ましい。
【０１１８】
【化７】
2019082746.tif 000009
【０１１９】
［式（２−７）中、Ｒ１〜Ｒ８は、互いに独立に、水素原子、−Ｒｘ、−ＮＨ２、−ＮＨＲｘ、−ＮＲｘ２、−ＳＲｘ又はハロゲン原子を表す。
Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。］
【０１２０】
前記オキサジン色素としては、式（２−８）で表される化合物が好ましい。
【０１２１】
【化８】
2019082746.tif 000010
【０１２２】
［式（２−８）中、Ｒ９〜Ｒ１５は、互いに独立に、水素原子、−Ｒｘ、−ＮＨ２、−ＮＨＲｘ、−ＮＲｘ２、−ＳＲｘ又はハロゲン原子を表す。］
Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。］
【０１２３】
前記アクリジン色素としては、式（２−９）で表される化合物が好ましい。
【０１２４】
【化９】
2019082746.tif 000011
【０１２５】
［式（２−９）中、Ｒ１６〜Ｒ２３は、互いに独立に、水素原子、−Ｒｘ、−ＮＨ２、−ＮＨＲｘ、−ＮＲｘ２、−ＳＲｘ又はハロゲン原子を表す。
Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。］
【０１２６】
式（２−７）、式（２−８）及び式（２−９）における、Ｒｘで表される炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基等が挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基又はナフチル基等が挙げられる。
【０１２７】
前記シアニン色素としては、式（２−１０）で表される化合物及び式（２−１１）で表される化合物が好ましい。
【０１２８】
【化１０】
2019082746.tif 000012
【０１２９】
［式（２−１０）中、Ｄ１及びＤ２は、互いに独立に、式（２−１０ａ）〜式（２−１０ｄ）のいずれかで表される基を表す。
【０１３０】
【化１１】
2019082746.tif 000013
ｎ５は１〜３の整数を表す。］
【０１３１】
【化１２】
2019082746.tif 000014
【０１３２】
［式（２−１１）中、Ｄ３及びＤ４は、互いに独立に、式（２−１１ａ）〜式（２−１１ｈ）のいずれかで表される基を表す。
【化１３】
2019082746.tif 000015
ｎ６は１〜３の整数を表す。］
【０１３３】
二色性色素の含有量（複数種含む場合にはその合計量）は、良好な光吸収特性を得る観点から、パターン化偏光層２１中の重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であることが好ましく、１〜２０質量部であることがより好ましく、３〜１５質量部であることがさらに好ましい。二色性色素の含有量がこの範囲より少ないと光吸収が不十分となり、十分な偏光性能が得られず、この範囲よりも多いと液晶分子の配向を阻害する場合がある。
【０１３４】
（溶剤）
偏光層形成用組成物は溶剤を含有していてもよい。一般に重合性液晶化合物は粘度が高いため、液晶化合物として重合性液晶化合物を用いる場合は、溶剤を含む偏光層形成用組成物を用いることで塗工が容易になり、結果としてパターン化偏光層２１を形成しやすくなる。溶剤としては、重合性液晶化合物及び二色性色素を完全に溶解し得るものが好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。
【０１３５】
溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル又はプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン又はメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム又はクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のアミド系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３６】
偏光層形成用組成物に含まれる溶剤の含有量は、偏光層形成用組成物の総量に対して５０〜９８質量％が好ましい。換言すると、偏光層形成用組成物における固形分の含有量は、２〜５０質量％が好ましい。固形分の含有量が５０質量％以下であると、偏光層形成用組成物の粘度が低くなることから、パターン化偏光層２１の厚さが略均一になり、パターン化偏光層２１にムラが生じにくくなる傾向がある。また、かかる固形分の含有量は、製造しようとするパターン化偏光層２１の厚みを考慮して定めることができる。
【０１３７】
（重合開始剤）
偏光層形成用組成物は重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤は、液晶化合物として重合性液晶化合物を用いている場合に用いることができ、重合性液晶化合物等の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、サーモトロピック液晶の相状態に依存しないという観点から、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
【０１３８】
重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられる。
【０１３９】
ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル又はベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。
【０１４０】
ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン及び２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１４１】
アルキルフェノン化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン又は２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。
【０１４２】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド又はビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０１４３】
トリアジン化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン又は２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【０１４４】
重合開始剤は市販のものを用いることもできる。市販の重合開始剤としては、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７、１８４、６５１、８１９、２５０、３６９、３７９、１２７、７５４、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、又はＯＸＥ０３（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）；セイクオール（登録商標）ＢＺ、Ｚ、又はＢＥＥ（精工化学株式会社製）；カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００、又はＵＶＩ−６９９２（ダウ・ケミカル株式会社製）；アデカオプトマーＳＰ−１５２、Ｎ−１７１７、Ｎ−１９１９、ＳＰ−１７０、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）；ＴＡＺ−Ａ、又はＴＡＺ−ＰＰ（日本シイベルヘグナー株式会社製）；ＴＡＺ−１０４（株式会社三和ケミカル製）；等が挙げられる。偏光層形成用組成物中の重合開始剤は、１種類を用いてもよく、光の光源に合わせて２種類以上の複数の重合開始剤を混合して用いてもよい。
【０１４５】
偏光層形成用組成物中の重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の種類やその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部、より好ましくは０．５〜８質量部である。重合開始剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合を行うことができる。
【０１４６】
（増感剤）
偏光層形成用組成物は増感剤を含有してもよい。増感剤は、液晶化合物として重合性液晶化合物を用いている場合に好適に用いることができ、光重合性基を有する重合性液晶化合物を用いている場合には、増感剤は光増感剤であることが好ましい。増感剤としては、例えば、キサントン及びチオキサントン等のキサントン化合物（例えば、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等）；アントラセン及びアルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセン等)等のアントラセン化合物；フェノチアジン又はルブレン等が挙げられる。
【０１４７】
偏光層形成用組成物が増感剤を含有する場合、偏光層形成用組成物に含有される重合性液晶化合物の重合反応をより促進することができる。かかる増感剤の使用量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましく、０．５〜５質量部がより好ましく、０．５〜３質量部がさらに好ましい。
【０１４８】
（重合禁止剤）
偏光層形成用組成物は、重合反応を安定的に進行させる観点から重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤は、液晶化合物として重合性液晶化合物を用いている場合に好適に用いることができ、重合禁止剤により、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。
【０１４９】
重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコール等）、ピロガロール、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル捕捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類又はβ−ナフトール類等が挙げられる。
【０１５０】
偏光層形成用組成物が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１０質量部、より好ましくは０．５〜５質量部、さらに好ましくは０．５〜３質量部である。重合禁止剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合を行うことができる。
【０１５１】
（レベリング剤）
偏光層形成用組成物はレベリング剤を含有してもよい。レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系又はパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ  パフォーマンス  マテリアルズ  ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３又はＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。中でも、ポリアクリレート系レベリング剤又はパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましい。
【０１５２】
偏光層形成用組成物がレベリング剤を含有する場合、液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜５質量部、より好ましくは０．１〜５質量部、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。レベリング剤の含有量が上記範囲内であると、液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られるパターン化偏光層がより平滑となる傾向がある。液晶化合物に対するレベリング剤の含有量が上記範囲を超えると、得られるパターン化偏光層にムラが生じやすい傾向がある。なお、偏光層形成用組成物は、レベリング剤を２種以上含有していてもよい。
【０１５３】
（反応性添加剤）
偏光層形成用組成物は反応性添加剤を含んでもよい。反応性添加剤としては、その分子内に炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、水酸基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する、炭素−炭素不飽和結合又は活性水素反応性基の個数は、通常、それぞれ１〜２０個であり、好ましくはそれぞれ１〜１０個である。
【０１５４】
反応性添加剤において、活性水素反応性基が少なくとも２つ存在することが好ましく、この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。
【０１５５】
反応性添加剤が有する炭素−炭素不飽和結合とは、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、又はそれらの組み合わせであってよいが、炭素−炭素二重結合であることが好ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として炭素−炭素不飽和結合を含むことが好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種である反応性添加剤が好ましく、アクリル基とイソシアネート基とを有する反応性添加剤がより好ましい。
【０１５６】
反応性添加剤の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテル等の、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリン等の、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート又は２−イソシアナトエチルメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸又はビニル無水マレイン酸等の、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物等が挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２−イソシアナトエチルアクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレート又は上記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート又は上記のオリゴマーが特に好ましい。
【０１５７】
具体的には、下記式（Ｙ）で表される化合物が好ましい。
【０１５８】
【化１４】
2019082746.tif 000016
【０１５９】
［式（Ｙ）中、ｎは１〜１０までの整数を表わし、Ｒ１’は、炭素数２〜２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰返し単位にある２つのＲ２’は、一方が−ＮＨ−であり、他方が＞Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３’で示される基である。Ｒ３’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｙ）中のＲ３’のうち、少なくとも１つのＲ３’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。］
【０１６０】
前記式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、下記式（ＹＹ）で表される化合物（以下、化合物（ＹＹ）ということがある。）が特に好ましい（なお、ｎは前記と同じ意味である）。
【０１６１】
【化１５】
2019082746.tif 000017
【０１６２】
化合物（ＹＹ）には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる。市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。
【０１６３】
偏光層形成用組成物が反応性添加剤を含有する場合、反応性添加剤の含有量は、液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜５質量部である。
【０１６４】
（偏光層形成用組成物の塗工方法）
偏光層形成用組成物を塗工する方法としては、押出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗工する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗工する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗工方法が好ましく、ガラス等の枚葉基材に塗工する場合には、均一性の高いスピンコーティング法が好ましい。Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ形式で塗工する場合、パターン化撥液層付き基材層８３に配向膜形成用組成物等を塗工してパターン化配向層２２を形成し、さらに得られたパターン化配向層２２上に偏光層形成用組成物を連続的に塗工することもできる。
【０１６５】
偏光層形成用組成物を塗工してパターン化偏光層２１を形成する際には、塗工された偏光層形成用組成物から溶剤を除去して偏光層用塗工層を形成する。溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法を用いることができるが、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥及びこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥又は加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０〜２００℃の範囲が好ましく、２０〜１５０℃の範囲がより好ましく、５０〜１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間〜１０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間〜５分間である。
【０１６６】
偏光層形成用組成物に含まれる液晶化合物が重合性液晶化合物である場合、偏光層形成工程で形成された偏光層用塗工層に、活性エネルギー線照射を行い、重合性液晶化合物を光重合させてパターン化偏光層２１を形成することが好ましい。照射する活性エネルギー線としては、偏光層用塗工層に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御しやすい点、及び光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。
【０１６７】
活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【０１６８】
活性エネルギー線の照射強度は、通常、１０ｍＷ／ｃｍ２〜３０００ｍＷ／ｃｍ２である。活性エネルギー線の照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。活性エネルギー線を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分であり、より好ましくは０．１秒〜３分であり、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。このような活性エネルギー線の照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ２〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２とすることができる。積算光量がこの範囲以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、良好な転写性が得られない場合がある。逆に、積算光量がこの範囲以上である場合には、パターン化偏光層が着色する場合がある。
【０１６９】
（偏光フィルムを連続的に製造する方法）
偏光フィルム２の製造方法は、好ましくは、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ形式により連続的に製造することができる。この場合、基材層被覆工程において、ロール状に巻回された基材層を巻出しながら搬送し、また、ロール状に巻回された第２保護層を巻出しながら搬送して、基材層と保護層とを積層して、保護層付き基材層を得ればよい。撥液層形成工程では、保護層付き基材層を連続的に搬送しながら撥液剤を塗工して、撥液層付き基材層を得、保護層除去工程では、撥液層付き基材層を搬送しながら連続的に保護層を剥離すればよい。パターン化配向層形成工程では、パターン化撥液層付き基材層を搬送しながら、塗布装置により連続的に配向層形成用組成物を塗工してパターン化配向層を形成すればよい。パターン化偏光層形成工程では、パターン化配向層付き基材層を搬送しながら、塗布装置により連続的に偏光層形成用組成物を塗工してパターン化偏光層を形成すればよい。上記のように連続的に製造された偏光フィルムは、例えば１０ｍ以上の長さを有することができる。
【０１７０】
＜偏光フィルムの第２の製造方法＞
偏光フィルム２は、上記した第１の製造方法のほか、下記に示す第２の製造方法によって製造することもできる。図３は、図１に示す偏光フィルム２の製造方法におけるパターン化撥液層形成工程の一例を示す概略断面図である。偏光フィルム２の第２の製造方法におけるパターン化撥液層形成工程は、第１の製造方法で用いた保護層３７を用いずに、基材層１３の少なくとも片面側に撥液剤を滴下塗布して（図３）、図２（ｃ）に示すパターン化撥液層４７ｂを形成することができる。
【０１７１】
偏光フィルム２の第２の製造方法は、上記のようなパターン化撥液層形成工程を経て得られたパターン化撥液層付き基材層８３（図２（ｃ））のパターン化撥液層４７ｂ側の面に、上記第１の製造方法と同様に、
配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層２２を有するパターン化配向層付き基材層８４（図２（ｄ））を得るパターン化配向層形成工程と、
パターン化配向層付き基材層８４のパターン化配向層２２側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層２１を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有する。これにより、例えば、図１及び図２（ｅ）に示す、パターン化偏光層を有する偏光フィルム２を製造することができる。
【０１７２】
この第２の製造方法のパターン化撥液層形成工程で用いる基材層１３及び撥液剤は、上記第１の製造方法で用いた基材層１３及び撥液剤と同様の基材層及び撥液剤を用いることができる。基材層１３の少なくとも片面側に、撥液剤を滴下塗布してパターン化撥液層４７ｂを形成する方法としては、例えば図３に示すように、この一部の領域に液状物を滴下して塗布する、いわゆるインクジェット法等を挙げることができる。基材層１３上に撥液剤を滴下塗布することにより、基材層１３上にパターン化撥液層４７ｂを形成し、パターン化撥液層付き基材層８３を得ることができる（図２（ｃ））
【０１７３】
第２の製造方法のパターン化配向層形成工程及びパターン化偏光層形成工程は、上記第１の製造方法におけるパターン化配向層形成工程及びパターン化偏光層形成工程と同様である。
【０１７４】
第２の製造方法についても、第１の製造方法と同様に、例えばＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ形式により偏光フィルム２を連続的に製造することができる。この場合、パターン化撥液層形成工程においてロール状に巻回された基材層を巻出しながら搬送し、撥液剤を滴下塗布して、基材層上にパターン化撥液層を形成し、パターン化撥液層付き基材層を得ればよい。パターン化配向層形成工程では、パターン化撥液層付き基材層を搬送しながら、塗布装置により連続的に配向層形成用組成物を塗工してパターン化配向層を形成すればよい。パターン化偏光層形成工程では、パターン化配向層付き基材層を搬送しながら、塗布装置により連続的に偏光層形成用組成物を塗工してパターン化偏光層を形成すればよい。上記のように連続的に製造された偏光フィルムは、例えば１０ｍ以上の長さを有することができる。
【０１７５】
［第２の実施形態（円偏光板及びその製造方法）］
（円偏光板）
図４（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ本発明の円偏光板の一例を示す概略断面図である。図２（ｅ）に示す偏光フィルム２は、１／４波長板機能を有する位相差層１５を積層することにより、図４（ａ）及び（ｂ）に示す円偏光板５ａ、５ｂとすることができる。位相差層１５は、偏光フィルム２のパターン化偏光層２１側に積層してもよく（図４（ａ））、基材層１３側に積層してもよい（図４（ｂ））。また、図４（ａ）に示す円偏光板５ａから、基材層１３を剥離したものを円偏光板５ｃ（図４（ｃ））として用いることもでき、この場合、基材層１３とともにパターン化配向層２２も剥離してもよい。
【０１７６】
また、円偏光板は、偏光フィルム２と多層構造の位相差層とを積層したものであってもよい。この場合、多層構造の位相差層として、１／２波長板機能を有する層と１／４波長板機能を有する層とを積層した位相差層を用いることができ、多層構造の位相差層の１／２波長板機能を有する層側と偏光フィルム２とを積層することにより、円偏光板とすることができる。あるいは、多層構造の位相差層として、逆波長分散性の１／４波長板機能を有する層とポジティブＣプレート機能を有する層とを積層した位相差層を用いることによっても、円偏光板を得ることができる。
【０１７７】
また、偏光フィルム２の基材層１３として位相差層としての機能を有するものを用い、さらに位相差層を積層して円偏光板としてもよい。この場合、円偏光板における基材層１３及び位相差層の積層位置に応じて、基材層１３及び位相差層が有する、位相差層としての機能を選択すればよい。
【０１７８】
偏光フィルムと位相差層とは、公知の粘着剤又は接着剤を用いた接着層を介して積層することができる。
【０１７９】
（円偏光板の製造方法）
円偏光板は、偏光フィルムと位相差層とを積層することによって製造することができる。偏光フィルムが連続的に製造された長さ１０ｍ以上の長尺偏光フィルムである場合、上記位相差層として、長さ１０ｍ以上の長尺位相差層を用い、両者を連続的に搬送しながら長尺偏光フィルムと長尺位相差層とを積層することにより、長尺積層体を形成することが好ましい。このとき、長尺偏光フィルム及び長尺位相差層の少なくとも一方に、粘着剤又は接着剤を塗工して両者を積層することが好ましい。
【０１８０】
円偏光板の製造方法は、長尺偏光フィルムと長尺位相差層とを積層して得られた長尺積層体を、偏光フィルムを所定サイズの表示装置等に取付けるために所定サイズの枚葉に裁断する工程を有していてもよい。裁断工程では、長尺積層体の長さ方向及び幅方向の少なくとも一方において、長尺積層体を裁断することが好ましい。この場合、裁断された枚葉において低偏光領域が所定の位置に配置されるように、長尺積層体における裁断位置を決定することが好ましい。
【実施例】
【０１８１】
本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。
実施例、比較例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。【０１８２】
［視感度補正偏光度（Ｐｙ）及び視感度補正透過率（Ｔｙ）］
（評価用サンプルの作製）
各実施例、比較例及び参考例で用いた配向層形成用組成物及び偏光層形成用組成物を準備した。また、各実施例、比較例及び参考例で基材層として用いたものと同じフィルムを、４０ｍｍ×４０ｍｍに切り出したものを評価用サンプルの基材層として準備した。これらを用い、保護層を用いないこと以外は、各実施例、比較例及び参考例の偏光フィルムの製造と同様の手順を行い評価用サンプルを得た。【０１８３】
（視感度補正偏光度（Ｐｙ）及び視感度補正透過率（Ｔｙ））
評価用サンプルについて、以下の手順で視感度補正単体透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で透過軸方向の透過率（Ｔ１）及び吸収軸方向の透過率（Ｔ２）を、分光光度計（島津製作所株式会社製  ＵＶ−３１５０）に偏光子付フォルダーをセットした装置を用いてダブルビーム法で測定した。該フォルダーは、リファレンス側は光量を５０％カットするメッシュを設置した。下記（式１）及び（式２）を用いて、各波長における透過率、偏光度を算出し、さらにＪＩＳ  Ｚ  ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により視感度補正を行い、視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。
偏光度［％］＝｛（Ｔ１−Ｔ２）／（Ｔ１＋Ｔ２）｝×１００      （式１）
単体透過率［％］＝（Ｔ１＋Ｔ２）／２      （式２）【０１８４】
〔実施例１〕
（撥液剤の製造）
特開２０１４−１５６０９号公報の合成例１、２に記載された方法により、下記式（ａ）で表される第１の有機ケイ素化合物（Ｓ１）（分子量約８０００）を合成した。式（ａ）において、ｎは４３であり、ｍは１〜６の整数である。
【化１６】
2019082746.tif 000018
【０１８５】
第１の有機ケイ素化合物（Ｓ１）として上記式（ａ）で表される化合物（以下、化合物（ａ））、第２の有機ケイ素化合物（Ｓ２）としてＦＡＳ９Ｅ（Ｃ４Ｆ９−Ｃ２Ｈ４−Ｓｉ−（ＯＣ２Ｈ５）３、沸点２４１℃、東京化成工業社製）、溶剤としてノベック７２００（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、３Ｍ社製）を混合し、室温で所定の時間撹拌して撥液剤を得た。この撥液剤１００部中、第１の有機ケイ素化合物（Ｓ１）の比率は０．０３部であり、第２の有機ケイ素化合物（Ｓ２）の比率は０．０７部である。【０１８６】
（配向層形成用組成物の製造）
下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物である配向層形成用組成物を得た。
・下記に示す光反応性基を有するポリマー  ２部
【化１７】
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・溶剤：ｏ−キシレン  ９８部【０１８７】
（偏光層形成用組成物の製造）
下記の成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、偏光層形成用組成物を得た。二色性色素には、特開２０１３−１０１３２８号公報の実施例に記載のアゾ系色素を用いた。
・式（１−６）で表される重合性液晶化合物  ７５部
【化１８】
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・式（１−７）で表される重合性液晶化合物  ２５部
【化１９】
2019082746.tif 000021
・下記に示す二色性色素（１）  ２．８部
【化２０】
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・下記に示す二色性色素（２）  ２．８部
【化２１】
2019082746.tif 000023
・下記に示す二色性色素（３）  ２．８部
【化２２】
2019082746.tif 000024
・下記に示す重合開始剤  ６部
２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；チバスペシャルティケミカルズ社製）
・下記に示すレベリング剤  １．２部
ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）
・下記に示す溶剤  ２５０部
シクロペンタノン【０１８８】
（偏光フィルムの製造）
トリアセチルセルロースフィルムを２０×２０ｍｍに切り出し、その表面にコロナ処理（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を施した。基材層上に、穴あけパンチにて穴をあけて開口部を形成した保護層として藤森工業株式会社製のＡＹ−６３８（厚みが３８μｍのポリエステルフィルム上に厚みが１５μｍの粘着剤層とで構成されている）を貼合した後、撥液剤を塗布して１２０℃１０分で乾燥させて撥液層を形成した。続いて、保護層を剥離してパターン化撥液層を形成したパターン化撥液層付き基材層を得た。得られたパターン化撥液層付き基材層のパターン化撥液層が形成された側の面に、配向層形成用組成物を塗布した後、１２０℃に設定した乾燥オーブンで１２０℃に設定した乾燥オーブンで１分間乾燥し、配向層用塗工層を得た。配向層用塗工層上に偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ  ＣＵＲＥ  ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、フィルム辺に対して０°方向の偏光ＵＶを、５０ｍＪ／ｃｍ2（３１３ｎｍ基準）の積算光量で照射しパターン化配向層を形成した。得られたパターン化配向層上に、バーコーターを用いて偏光層形成用組成物を塗布した後、１１０℃に設定した乾燥オーブンで１分間乾燥した。その後高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ2）することにより、液晶化合物及び二色性色素が配向したパターン化偏光層を形成して、偏光フィルムを得た。【０１８９】
得られた偏光フィルムの外観を目視で観察したところ、偏光層の存在しない円形の領域（低偏光領域）を明確に確認することができた。また、上記した手順で、偏光フィルムの偏光領域の視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。その結果を表１に示す。【０１９０】
〔実施例２〕
穴あけパンチにて穴をあけて開口部を形成した保護層を貼合することに代えて、スポイトを用いて、基材層上に部分的に撥液剤を滴下塗布したこと以外は、実施例１と同様に偏光フィルムを得た。得られた偏光フィルムの外観を目視で観察したところ、偏光層の存在しない円形の領域（低偏光領域）を明確に確認することができた。また、上記した手順で、偏光フィルムの偏光領域の視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。その結果を表１に示す。【０１９１】
〔比較例〕
撥液剤を用いず撥液層を形成しないこと以外は、実施例１と同様にして偏光フィルムを得た。得られた偏光フィルムの外観を目視で観察したところ、偏光層の存在しない領域を確認することができず、偏光領域と低偏光領域とを有する偏光フィルムが得られていないことがわかった。また、上記した手順で評価用サンプルを作製し、その視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。その結果を表１に示す。【０１９２】
なお、表１中に示す各実施例、比較例及び参考例で測定した視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）の値は、基材層の視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）の値を含めた値であるが、基材層単体の視感度補正透過率（Ｔｙ）は９２％であり、基材層の視感度補正偏光度（Ｐｙ）の値は０％であるため、表１中に示す各実施例、比較例及び参考例において基材層を除いた場合、視感度補正透過率（Ｔｙ）の値は表１に示す値よりも大きくなり、視感度補正偏光度（Ｐｙ）の値は表１に示す値と同じになると考えられる。【０１９３】
【表１】
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【符号の説明】
【０１９４】
２  偏光フィルム、５ａ〜５ｃ  円偏光板、１３  基材層、１５  位相差層、２１  パターン化偏光層、２１ａ  偏光領域、２１ｂ  低偏光領域、２２  パターン化配向層、２２ａ  配向層、３７  保護層、３７ａ  被覆領域、３７ｂ  露出領域、４７  撥液層、４７ｂ  パターン化撥液層（撥液層）、８１  保護層付き基材層、８２  撥液層付き基材層、８３  パターン化撥液層付き基材層、８４  パターン化配向層付き基材層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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