(57)【要約】本発明により、一般式１で表される化合物を含む硬化性組成物を硬化させた硬化物であって、複屈折Δｎ（５８７ｎｍ）が０．００≦Δｎ（５８７ｎｍ）≦０．０１である、光学部材の製造に適した硬化物が提供される；2019044863.tif 000048式中、Ａｒは一般式２−２等で表される芳香環基であり、2019044863.tif 000049式中、Ｚ１及びＺ２は、水素原子又はメチル基等を表し、Ａ１及びＡ２は−Ｓ−等を表し、ＸはＣ（Ｒｚ）２等（Ｒｚは置換基であり、２つのＲｚは環を形成していてもよい）を表し、Ｌ１、Ｌ２は単結合、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−等を表し、Ｓｐ１、Ｓｐ２は単結合又は２価の連結基を表し、Ｐｏｌ１、Ｐｏｌ２は水素原子又は重合性基を表し、一般式１で表される化合物は、少なくとも一つの重合性基を有する。
2019044863.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式１で表される化合物を含む硬化性組成物を硬化させてなる硬化物であって、波長５８７ｎｍにおける複屈折Δｎが０．００≦Δｎ≦０．０１である硬化物。
【化１】
2019044863.tif 000044
式中、Ａｒは、下記一般式２−１〜２−４で表されるいずれかの芳香環基であり；
【化２】
2019044863.tif 000045
式中、Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、又はＮＲ１１−を表し、Ｒ１１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表し、
Ｚ１，Ｚ２，及びＺ３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３又はＳＲ１２を表し、Ｚ１及びＺ２は、互いに結合して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環又は置換基を有していてもよい芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１及びＡ２は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｒ２１は水素原子又は置換基を表し、
ＸはＯ、Ｓ、水素原子もしくは置換基が結合しているＣ、又は水素原子もしくは置換基が結合しているＮ、を表し、
Ａｘは芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数１〜３０の有機基を表し、Ａｙは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数１〜３０の有機基を表し、Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは互いに結合して、置換基を有していてもよい環を形成していてもよく、
Ｑ２は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｌ１、Ｌ２はそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ１０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ１０３−、−ＮＲ１０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）Ｓ−からなる群から選択される連結基を表し、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４は、それぞれ独立に、−Ｓｐ３−Ｐｏｌ３又はハロゲン原子を表し、
Ｓｐ１、Ｓｐ２、Ｓｐ３はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表し、
Ｐｏｌ１、Ｐｏｌ２、Ｐｏｌ３はそれぞれ独立に水素原子又は重合性基を表し、
一般式１で表される化合物は、少なくとも一つの重合性基を有する。
【請求項２】
Ａｒが一般式２−２で表される芳香環基である請求項１に記載の硬化物。
【請求項３】
Ｓｐ１、Ｓｐ２が、単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数１から３０の直鎖アルキレン基、及び置換基を有していてもよい炭素数２から３０の直鎖アルキレン基において１つもしくは隣接しない２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ２０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ２０３−、−ＮＲ２０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−で置換された基からなる群から選択される連結基であり、Ｒ２０１、Ｒ２０２、Ｒ２０３、Ｒ２０４は、それぞれ独立に、−Ｓｐ４−Ｐｏｌ４又はハロゲン原子を表し、
Ｓｐ４は単結合又は２価の連結基を表し、
Ｐｏｌ４は水素原子又は重合性基を表す、請求項１又は２に記載の硬化物。
【請求項４】
Ｌ１、Ｌ２がいずれも−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、又はＯ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−である請求項１〜３のいずれか一項に記載の硬化物。
【請求項５】
Ｌ１、Ｌ２がいずれも−Ｏ−である請求項４に記載の硬化物。
【請求項６】
前記重合性基がいずれも（メタ）アクリロイルオキシ基である請求項１〜５のいずれか一項に記載の硬化物。
【請求項７】
Ｐｏｌ１又はＰｏｌ２のいずれかが（メタ）アクリロイルオキシ基である請求項１〜６のいずれか一項に記載の硬化物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の硬化物を含む光学部材。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の硬化物を含むレンズ。
【請求項１０】
下記一般式１で表される化合物。
【化３】
2019044863.tif 000046
式中、Ａｒは、下記一般式２−１〜２−４で表されるいずれかの芳香環基であり；
【化４】
2019044863.tif 000047
式中、Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、又はＮＲ１１−を表し、Ｒ１１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表し、
Ｚ１，Ｚ２，及びＺ３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３、又はＳＲ１２を表し、Ｚ１及びＺ２は、互いに結合して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環又は置換基を有していてもよい芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、 
Ａ１及びＡ２は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｒ２１は水素原子又は置換基を表し、
ＸはＯ、Ｓ、水素原子もしくは置換基が結合しているＣ、または水素原子もしくは置換基が結合しているＮを表し、
Ａｘは芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数１〜３０の有機基を表し、Ａｙは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数１〜３０の有機基を表し、Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは互いに結合して、置換基を有していてもよい環を形成していてもよく、
Ｑ２は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表し；
Ｌ１、Ｌ２はそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ１０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ１０３−、−ＮＲ１０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）Ｓ−からなる群から選択される連結基を表し、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４は、それぞれ独立に、−Ｓｐ３−Ｐｏｌ３又はハロゲン原子を表し；
Ｓｐ１、Ｓｐ２は、単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数１から３０の直鎖アルキレン基、及び置換基を有していてもよい炭素数２から３０の直鎖アルキレン基において１つもしくは隣接しない２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ２０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ２０３−、−ＮＲ２０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−で置換された基からなる群から選択される連結基を表し、Ｒ２０１、Ｒ２０２、Ｒ２０３、Ｒ２０４は、それぞれ独立に、−Ｓｐ４−Ｐｏｌ４又はハロゲン原子を表し、
Ｓｐ３、Ｓｐ４はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表し、
Ｐｏｌ１、Ｐｏｌ２、Ｐｏｌ３、Ｐｏｌ４はそれぞれ独立に水素原子又は重合性基を表し、
一般式１で表される化合物は、少なくとも一つの重合性基を有する。
【請求項１１】
Ａｒが一般式２−２で表される芳香環基である請求項１０に記載の化合物。
【請求項１２】
Ｌ１、Ｌ２がいずれも−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、又はＯ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−である請求項１０又は１１に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｌ１、Ｌ２がいずれも−Ｏ−である請求項１２に記載の化合物。
【請求項１４】
前記重合性基がいずれも（メタ）アクリロイルオキシ基である請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１５】
Ｐｏｌ１又はＰｏｌ２のいずれかが（メタ）アクリロイルオキシ基である請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１６】
請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の化合物及び分子中に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを含む硬化性組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化物、光学部材、レンズ、化合物、及び硬化性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、カメラ、ビデオカメラあるいはカメラ付携帯電話、テレビ電話あるいはカメラ付ドアホンなどの撮像モジュールの光学部材にはガラス材料が用いられていた。ガラス材料は様々な光学特性を備えており、環境耐性に優れるため好ましく用いられてきたが、軽量化や小型化が容易ではなく、加工性や生産性が悪いという欠点を有していた。これに対し、樹脂硬化物は、大量生産が可能であり、加工性にも優れているため、近年、様々な光学部材に用いられるようになってきている。【０００３】
近年、撮像モジュールの小型化に伴い、撮像モジュールに用いられる光学部材を小型化することが求められているが、光学部材を小型化していくと、色収差の問題が生じる。樹脂硬化物を用いた光学部材においては、硬化性組成物に種々の添加物を加えて硬化後の特性を変えることで、アッベ数を調整して色収差の補正を行うことが検討されている。【０００４】
例えば、特許文献１には、４，４’−ビス（アリール）ジフェニルスルホン骨格モノマーを用いて、アッベ数（νｄ）及び部分分散比（θｇ，Ｆ）が高く、かつ複屈折率が低い色収差補正機能の高い特性を有する成形体、光学素子及び上記成形体を得るための光学用組成物を提供することができることが開示されている。【０００５】
一方、特許文献２には、ベンゾジチオール、ベンゾチアゾール等の芳香環基を有する液晶モノマーが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１４−０４３５６５号公報
【特許文献２】ＷＯ２０１６／１１４３４７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、光学部材製造のための、アッベ数（νｄ）が低く、かつ部分分散比（θｇ，Ｆ）が高い硬化物を提供することを課題とする。特に、特許文献１に記載の硬化物と比較しても部分分散比が高く、特許文献２に記載の硬化物のような複屈折性を示さない硬化物を提供することを課題とする。本発明はまた、高機能の光学部材及びレンズを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記課題の解決のために鋭意検討し、ベンゾジチオール、ベンゾチアゾールを含む芳香族環基等を有する化合物を用いることによりアッベ数が低く、かつ高い部分分散比の硬化物を得ることができることを見出した。
すなわち、上記の課題を解決するための具体的手段は、以下の通りである。【０００９】
［１］下記一般式１で表される化合物を含む硬化性組成物を硬化させてなる硬化物であって、波長５８７ｎｍにおける複屈折Δｎが０．００≦Δｎ≦０．０１である硬化物。【００１０】
【化１】
2019044863.tif 000003
式中、Ａｒは、下記一般式２−１〜２−４で表されるいずれかの芳香環基であり；【００１１】
【化２】
2019044863.tif 000004
【００１２】
式中、Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、又はＮＲ１１−を表し、Ｒ１１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表し、
Ｚ１，Ｚ２，及びＺ３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３又はＳＲ１２を表し、Ｚ１及びＺ２は、互いに結合して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環又は置換基を有していてもよい芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１及びＡ２は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｒ２１は水素原子又は置換基を表し、
ＸはＯ、Ｓ、水素原子もしくは置換基が結合しているＣ、又は水素原子もしくは置換基が結合しているＮを表し、
Ａｘは芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数１〜３０の有機基を表し、Ａｙは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数１〜３０の有機基を表し、Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは互いに結合して、置換基を有していてもよい環を形成していてもよく、
Ｑ２は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｌ１、Ｌ２はそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ１０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ１０３−、−ＮＲ１０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）Ｓ−からなる群から選択される連結基を表し、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４は、それぞれ独立に、−Ｓｐ３−Ｐｏｌ３又はハロゲン原子を表し、
Ｓｐ１、Ｓｐ２、Ｓｐ３はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表し、
Ｐｏｌ１、Ｐｏｌ２、Ｐｏｌ３はそれぞれ独立に水素原子又は重合性基を表し、
一般式１で表される化合物は、少なくとも一つの重合性基を有する。【００１３】
［２］Ａｒが一般式２−２で表される芳香環基である［１］に記載の硬化物。
［３］Ｓｐ１、Ｓｐ２が、単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数１から３０の直鎖アルキレン基、及び置換基を有していてもよい炭素数２から３０の直鎖アルキレン基において１つもしくは隣接しない２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ２０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ２０３−、−ＮＲ２０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−で置換された基からなる群から選択される連結基であり、Ｒ２０１、Ｒ２０２、Ｒ２０３、Ｒ２０４は、それぞれ独立に、−Ｓｐ４−Ｐｏｌ４又はハロゲン原子を表し、
Ｓｐ４は単結合又は２価の連結基を表し、
Ｐｏｌ４は水素原子又は重合性基を表す、［１］又は［２］に記載の硬化物。
［４］Ｌ１、Ｌ２がいずれも−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、又はＯ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−である［１］〜［３］のいずれかに記載の硬化物。
［５］Ｌ１、Ｌ２がいずれも−Ｏ−である［４］に記載の硬化物。
［６］上記重合性基がいずれも（メタ）アクリロイルオキシ基である［１］〜［５］のいずれかに記載の硬化物。
［７］Ｐｏｌ１又はＰｏｌ２のいずれかが（メタ）アクリロイルオキシ基である［１］〜［６］のいずれかに記載の硬化物。
［８］［１］〜［７］のいずれかに記載の硬化物を含む光学部材。
［９］［１］〜［７］のいずれかに記載の硬化物を含むレンズ。
［１０］下記一般式１で表される化合物。【００１４】
【化３】
2019044863.tif 000005
式中、Ａｒは、下記一般式２−１〜２−４で表されるいずれかの芳香環基であり；【００１５】
【化４】
2019044863.tif 000006
【００１６】
式中、Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、又はＮＲ１１−を表し、Ｒ１１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表し、
Ｚ１，Ｚ２，及びＺ３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３、又はＳＲ１２を表し、Ｚ１及びＺ２は、互いに結合して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環又は置換基を有していてもよい芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１及びＡ２は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｒ２１は水素原子又は置換基を表し、
ＸはＯ、Ｓ、水素原子もしくは置換基が結合しているＣ、又は水素原子もしくは置換基が結合しているＮを表し、
Ａｘは芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数１〜３０の有機基を表し、Ａｙは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数１〜３０の有機基を表し、Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは互いに結合して、置換基を有していてもよい環を形成していてもよく、
Ｑ２は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表し；
Ｌ１、Ｌ２はそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ１０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ１０３−、−ＮＲ１０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）Ｓ−からなる群から選択される連結基を表し、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４は、それぞれ独立に、−Ｓｐ３−Ｐｏｌ３又はハロゲン原子を表し；
Ｓｐ１、Ｓｐ２は、単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数１から３０の直鎖アルキレン基、及び置換基を有していてもよい炭素数２から３０の直鎖アルキレン基において１つもしくは隣接しない２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ２０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ２０３−、−ＮＲ２０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−で置換された基からなる群から選択される連結基を表し、Ｒ２０１、Ｒ２０２、Ｒ２０３、Ｒ２０４は、それぞれ独立に、−Ｓｐ４−Ｐｏｌ４又はハロゲン原子を表し、
Ｓｐ３、Ｓｐ４はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表し、
Ｐｏｌ１、Ｐｏｌ２、Ｐｏｌ３、Ｐｏｌ４はそれぞれ独立に水素原子又は重合性基を表し、
一般式１で表される化合物は、少なくとも一つの重合性基を有する。【００１７】
［１１］Ａｒが一般式２−２で表される芳香環基である［１０］に記載の化合物。
［１２］Ｌ１、Ｌ２がいずれも−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、又はＯ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−である［１０］又は［１１］に記載の化合物。
［１３］Ｌ１、Ｌ２がいずれも−Ｏ−である［１２］に記載の化合物。
［１４］上記重合性基がいずれも（メタ）アクリロイルオキシ基である［１０］〜［１３］のいずれかに記載の化合物。
［１５］Ｐｏｌ１又はＰｏｌ２のいずれかが（メタ）アクリロイルオキシ基である［１０］〜［１４］のいずれかに記載の化合物。
［１６］［１０］〜［１５］のいずれかに記載の化合物及び分子中に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを含む硬化性組成物。
【発明の効果】
【００１８】
本発明により、アッベ数（νｄ）が低く、かつ部分分散比（θｇ，Ｆ）が高い硬化物が提供される。本発明の硬化物により、高機能の光学部材及びレンズを提供することができる。また、本発明によって、アッベ数（νｄ）が低く、かつ部分分散比（θｇ，Ｆ）が高い硬化物を提供することができる新規化合物が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は「〜」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００２０】
なお、本明細書中において、“（メタ）アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートのいずれか一方又は双方を表し、“（メタ）アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルのいずれか一方又は双方を表す。本発明におけるモノマーは、オリゴマー及びポリマーと区別され、重量平均分子量が１，０００以下の化合物をいう。
【００２１】
本明細書において、脂肪族炭化水素基というときは、直鎖もしくは分岐のアルカン、直鎖もしくは分岐のアルケン、又は直鎖もしくは分岐のアルキンから、任意の水素原子を１つ除いて得られる基を表す。本明細書において、脂肪族炭化水素基は好ましくは、直鎖もしくは分岐のアルカンから、任意の水素原子を１つ除いて得られるアルキル基である。
【００２２】
本明細書において、アルキル基というときは、直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、３−メチルブチル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、オクチル基、１−メチルヘプチル基、ノニル基、１−メチルオクチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。アルキル基を含む基（アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基等）中のアルキル基についても同様である。
また、本明細書において、直鎖アルキレン基の例としては、上記アルキル基のうち、直鎖アルキル基から末端の炭素に結合する水素原子をそれぞれ１つずつ除いて得られる基が挙げられる。
【００２３】
本明細書において、脂環式炭化水素環の例としては、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカンが挙げられる。
本明細書において、不飽和炭化水素環の例としては、インデン、インダン、フルオレンが挙げられる。
【００２４】
本明細書において、脂環式炭化水素基というとき、シクロアルカンから、任意の水素原子を１つ除いて得られるシクロアルキル基を表す。脂環式炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等が挙げられ、炭素数３〜１２のシクロアルキル基が好ましい。
本明細書において、シクロアルキレン基は、シクロアルカンから、任意の水素原子を２つ除いて得られる２価の基を表す。シクロアルキレン基の例としては、シクロヘキシレン基が挙げられる。
【００２５】
本明細書において、芳香環というとき、芳香族炭化水素環および芳香族複素環のいずれか、または双方を意味する。
本明細書において、芳香族炭化水素環の例としては、ベンゼン、ビフェニル、ビフェニレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレンが挙げられる。
【００２６】
本明細書において、芳香族炭化水素基というとき、芳香族炭化水素環から、任意の水素原子を１つ除いて得られる１価の基を表す。例としては、フェニル基、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、３−アントラセニル基、４−アントラセニル基、９−アントラセニル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、９−フェナントリル基等が挙げられる。本明細書において、２価の芳香族炭化水素基というときは、芳香族炭化水素環から、任意の水素原子を２つ除いて得られる２価の基を表し、例としては上記の（１価の）芳香族炭化水素基から任意の水素原子を１つ除いて得られる２価の基が挙げられる。
【００２７】
本明細書において、芳香族複素環の例としては、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピリジン、ピラジン、キノリン、ベンゾフラン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール等が挙げられる。
【００２８】
本明細書において、芳香族複素環基というとき、芳香族複素環から、任意の水素原子を１つ除いて得られる１価の基を表す。１価の芳香族複素環基の例としては、フリル基、チエニル基（好ましくは２−チエニル基）、ピロリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、キノリル基、ベンゾフラニル基（好ましくは、２−ベンゾフラニル基）、ベンゾチアゾリル基（好ましくは２−ベンゾチアゾリル基）、ベンゾオキサゾリル基（好ましくは２−ベンゾオキサゾリル基）等が挙げられる。本明細書において、２価の芳香族複素環基というときは、芳香族複素環から、任意の水素原子を２つ除いて得られる２価の基を表し、例としては上記の（１価の）芳香族複素環基から任意の水素原子を１つ除いて得られる２価の基が挙げられる。
【００２９】
＜硬化物＞
本発明の硬化物は、一般式１で表される化合物を含有する硬化性組成物から形成されるものである。本発明の硬化物は一般式１で表される化合物が重合することにより得られるものであるが、本発明の硬化物は未反応の一般式１で表される化合物を含んでいてもよい。
【００３０】
一般式１で表される化合物は、その構造中にベンゾジチオールもしくはベンゾチアゾール等のベンゼンとヘテロ環との縮合環又はヒドラゾン等を置換基として有するベンゼン環を含む。本発明者らは、一般式１で表される化合物を含有する硬化性組成物から形成された硬化物は、アッベ数（νｄ）が低く、かつ部分分散比（θｇ，Ｆ）が高いことを見出した。上記化合物は近紫外領域に吸収を持つことから、屈折率の異常分散性を示し、これにより、複合レンズとして用いた場合に色収差補正機能を高めることができると考えられる。本発明者らは、さらに、一般式１で表される化合物を含有する硬化性組成物から形成された硬化物はヒートショック耐性が高いことを見出した。なお、本明細書において、ヒートショック耐性は、硬化物の熱変化時の応力を緩和する能力を表す。
【００３１】
硬化物のアッベ数（νｄ）及び部分分散比（θｇ，Ｆ）は、カルニュー精密屈折計ＫＰＲ−２０００（株式会社島津デバイス製造製）を用いて測定した値である。具体的には、硬化性組成物を、直径２０ｍｍ、厚み２ｍｍの透明ガラス型に注入し、酸素濃度１％以下の雰囲気下２００℃で加熱することで硬化物を成形し（加熱工程）、この硬化物についてアッベ数（νｄ）及び部分分散比（θｇ，Ｆ）を測定する。硬化物のアッベ数（νｄ）及び部分分散比（θｇ，Ｆ）は、下記式により算出される。なお、硬化物を成形する際には、上記加熱工程に代えて紫外線照射工程を採用してもよく、加熱工程と紫外線照射工程の両方を採用してもよい。
νｄ＝（ｎｄ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
θｇ，Ｆ＝（ｎｇ−ｎＦ）／（ｎＦ−ｎＣ）
ここで、ｎｄは波長５８７．５６ｎｍにおける屈折率、ｎＦは波長４８６．１３ｎｍにおける屈折率、ｎＣは波長６５６．２７ｎｍにおける屈折率、ｎｇは波長４３５．８３ｎｍにおける屈折率を表す。
【００３２】
本発明の硬化物のアッベ数は、特に限定されるものではないが、３０以下であることが好ましく、２７以下であることがより好ましく、２５以下であることがさらに好ましく、２３以下であることが特に好ましい。また、本発明の硬化物のアッベ数は、特に限定されるものではないが、１以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、５以上であることがさらに好ましく、７以上であることが特に好ましい。
【００３３】
本発明の硬化物の部分分散比θｇ，Ｆは特に限定されるものではないが、０．６５以上であることが好ましく、０．７０以上であることがより好ましく、０．７５以上であることが特に好ましい。また、本発明の硬化物の部分分散比θｇ，Ｆは特に限定されるものではないが、２以下であることが好ましく、１．８以下であることがより好ましく、１．７以下であることが特に好ましい。
【００３４】
本発明の硬化物の波長５８７ｎｍにおける複屈折Δｎ（本明細書において、複屈折Δｎ（５８７ｎｍ）ということがある）は０．００≦Δｎ≦０．０１である。複屈折Δｎ（５８７ｎｍ）は、０．００１以下であることが好ましく、０．００１未満であることがさらに好ましい。このように複屈折率が小さい硬化物を撮像モジュールの光学部材に使用することにより、結像位置がずれにくく鮮明な像を得ることができる。複屈折Δｎ（５８７ｎｍ）の下限値は０．００００１又は０．０００１であってもよい。
【００３５】
硬化物の複屈折Δｎ（５８７ｎｍ）は以下の方法で求めることができる。フィルム状のサンプルを作製し、複屈折評価装置（例えば、ＷＰＡ−１００、株式会社フォトニックラティス社製）を用いて、サンプルの中心を含む直径１０ｍｍ円内の複屈折を測定し、波長５８７ｎｍにおける複屈折の平均値を求めることにより複屈折Δｎ（５８７ｎｍ）を得ることができる。
【００３６】
＜一般式１で表される化合物＞
本発明の硬化物は、下記一般式１で表される化合物を含む硬化性組成物を硬化させたものである。
【００３７】
【化５】
2019044863.tif 000007
【００３８】
式中、Ａｒは、下記一般式２−１〜２−４で表されるいずれかの芳香環基である。
【化６】
2019044863.tif 000008
【００３９】
一般式２−１〜２−４中、Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、又はＮＲ１１−を表し、Ｒ１１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表し、
Ｚ１，Ｚ２，及びＺ３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３又はＳＲ１２を表し、Ｚ１及びＺ２は、互いに結合して置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環又は置換基を有していてもよい芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１及びＡ２は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−（Ｒ２１は水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及び−Ｃ（＝Ｏ）−からなる群から選ばれる基を表し、ＸはＯ、Ｓ、水素原子もしくは置換基が結合しているＣ、又は水素原子もしくは置換基が結合しているＮを表し、
Ａｘは芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数１〜３０の有機基を表し、Ａｙは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数１〜３０の有機基を表し、Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは互いに結合して、置換基を有していてもよい環を形成していてもよく、
Ｑ２は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
なお、＊はＬ１又はＬ２との結合位置を示す。
【００４０】
一般式２−１〜２−４中の各置換基の定義及び好ましい範囲については、特開２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＹ１、Ｑ１、Ｑ２に関する記載をそれぞれＹ１、Ｚ１、Ｚ２について参照でき、特開２００８−１０７７６７号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡ１、Ａ２、及びＸに関する記載をそれぞれＡ１、Ａ２、及びＸについて参照でき、ＷＯ２０１３／０１８５２６に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡｘ、Ａｙ、Ｑ１に関する記載をそれぞれ一般式２−３のＡｘ、Ａｙ、Ｑ２について参照でき、ＷＯ２０１３／０１８５２６に記載の一般式（ＩＩ）で表される化合物についてのＡａ、Ａｂ、Ｑ１１に関する記載をそれぞれ一般式２−４のＡｘ、Ａｙ、Ｑ２について参照できる。Ｚ３については特開２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＱ１に関する記載を参照できる。
【００４１】
一般式２−２におけるＸは２つの置換基が結合しているＣであることが好ましく、Ａ1、Ａ2はいずれも−Ｓ−であることが好ましい。一般式２−３においてＡｘ、Ａｙが互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成しているときの環としては、脂環式炭化水素環、芳香族炭化水素環または芳香族複素環が好ましく、芳香族複素環がより好ましい。一般式２−４においてＡｘ、Ａｙが互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成しているときの環としては、不飽和炭化水素環が好ましい。
【００４２】
一般式１におけるＡｒは、一般式２−２で表される芳香環基であることが好ましい。
一般式２−２で表される芳香環基としては、特に、下記一般式２−２−１で表される芳香環基が好ましい。
【００４３】
【化７】
2019044863.tif 000009
【００４４】
式中、Ｒｚは置換基を表す。Ｒｚが示す置換基の例としては、後述するＳｐ１の置換基として例示する置換基などが挙げられる。２つのＲｚは同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲｚが結合して環を形成していてもよい。このとき形成される環は５員環または６員環であることが好ましく、窒素または酸素を環を構成する元素として含む５員環または６員環であることが、より好ましい。特に以下のいずれかの式で示される環であることが好ましい。
【００４５】
【化８】
2019044863.tif 000010
【００４６】
上記式において、＊はそれぞれ、一般式２−２−１において、２つのＲｚが結合する炭素原子の位置を示す。また、上記式で表される環は窒素または炭素において置換基を有していてもよい。このときの置換基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、直鎖の炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。
【００４７】
一般式２−２−１で表される芳香環基としては、少なくともいずれか一方のＲｚがシアノ基である芳香環基または２つのＲｚが結合して環を形成している芳香環基が好ましく、２つのＲｚがいずれもシアノ基である芳香環基がより好ましい。
【００４８】
一般式１中、Ｌ１、Ｌ２はそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ１０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ１０３−、−ＮＲ１０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）Ｓ−からなる群から選択される連結基を表す。なお、上記の連結基の記載において、左側がＡｒに結合し、右側がＳｐ１又はＳｐ２に結合するものとする。Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４は、それぞれ独立に、−Ｓｐ３−Ｐｏｌ３又はハロゲン原子を表す。Ｌ１、Ｌ２はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ１０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ１０３−、−ＮＲ１０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−であることが好ましく、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ１０３−であることがより好ましく、−Ｏ−であることがさらに好ましい。Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ２０３、Ｒ１０４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子であることが好ましい。
Ｌ１及びＬ２は、同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【００４９】
Ｓｐ１、Ｓｐ２、Ｓｐ３はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基としては、以下の連結基、及び以下の連結基の二つ以上の組み合わせからなる群より選択される連結基が挙げられる：
【００５０】
置換基を有していてもよい直鎖アルキレン基；置換基を有していてもよいシクロアルキレン基（例えば、トランス−１，４−シクロヘキシレン基）；置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基（例えば、１，４−フェニレン基）；置換基を有していてもよい２価の芳香族複素環基；−Ｏ−；−Ｓ−；−Ｃ（＝Ｏ）−；−ＯＣ（＝Ｏ）−；−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−；−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−；−ＮＲ２０１Ｃ（＝Ｏ）−；−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２０２−；−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ２０３−；−ＮＲ２０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−；−ＳＣ（＝Ｏ）−；−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−。
【００５１】
２価の連結基であるＳｐ１、Ｓｐ２、Ｓｐ３の例としては、置換基を有していてもよい直鎖アルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい２価の芳香族複素環基、ならびに、置換基を有していてもよい直鎖アルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基、および置換基を有していてもよい２価の芳香族複素環基、からなる群より選択される二つ以上の連結基が、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ２０１Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２０２−からなる群より選択される連結基を介して結合した連結基等が挙げられる。
【００５２】
なお、上記の連結基の記載において、左側がＬ１、Ｌ２又はＮ（Ｓｐ３の場合）に結合し、右側がＰｏｌ１、Ｐｏｌ２又はＰｏｌ３に結合するものとする。
Ｒ２０１、Ｒ２０２、Ｒ２０３、Ｒ２０４は、それぞれ独立に、−Ｓｐ４−Ｐｏｌ４又はハロゲン原子を表す。Ｓｐ４及びＰｏｌ４は、それぞれＳｐ３及びＰｏｌ３と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ２０１、Ｒ２０２、Ｒ２０３、Ｒ２０４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子であることが好ましい。
【００５３】
Ｓｐ１、Ｓｐ２、Ｓｐ３、および一般式２−１〜２−４中の置換基について「置換基を有していてもよい」というときの置換基は、特に限定されず、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミド基、アミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基ならびに、上記の置換基を２つ以上組み合わせて構成される基からなる群から選択される置換基が挙げられる。置換基は−Ｓｐ５−Ｐｏｌ５で表される基であってもよい。Ｓｐ５及びＰｏｌ５は、それぞれＳｐ１及びＰｏｌ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。置換基の数は特に限定されず、置換基を１〜４個有していてもよい。２個以上の置換基を有するとき、２個以上の置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００５４】
Ｓｐ１、Ｓｐ２で表される２価の連結基としては、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１から３０の直鎖アルキレン基、及び置換基を有していてもよい炭素数２から３０の直鎖アルキレン基において１つ又は隣接しない２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ２０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ２０３−、−ＮＲ２０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−で置換された基からなる群から選択される連結基が好ましい。このようにＳｐ１、Ｓｐ２が主鎖に環状基を有していない連結基である化合物を用いることにより、硬化物の複屈折Δｎ（５８７ｎｍ）を０．００≦Δｎ（５８７ｎｍ）≦０．０１に調整することが容易になる。
【００５５】
Ｓｐ１及びＳｐ２は同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
炭素数２から３０の直鎖アルキレン基において−ＣＨ２−が上記の−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ２０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ２０３−、−ＮＲ２０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−および−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−からなる群より選択される他の２価の基に置換されている基であるＳｐ１及びＳｐ２において、置換された他の２価の基はＬ１又はＬ２に直接結合していないことが好ましい。すなわち、上記の他の２価の基に置換された部位はＳｐ１のＬ１側末端及びＳｐ２のＬ２側末端ではないことが好ましい。
【００５６】
Ｓｐ１、Ｓｐ２で表される２価の連結基としては、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１から２０の直鎖アルキレン基、及び置換基を有していてもよい炭素数２から２０の直鎖アルキレン基において１つ又は隣接しない２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ２０１Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２０２−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ２０３−、−ＮＲ２０４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基がより好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１から１０の直鎖アルキレン基、及び置換基を有していてもよい炭素数２から１０の直鎖アルキレン基において１つ又は隣接しない２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基がさらに好ましく、置換基を有していないか、又はメチル基を置換基として有する炭素数１から１０の直鎖アルキレン基、及び置換基を有していないか、又はメチル基を置換基として有する炭素数２から１０の直鎖アルキレン基において１つ又は隣接しない２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基が特に好ましい。
【００５７】
Ｓｐ３で表される２価の連結基としては、単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数１から１０の直鎖アルキレン基が好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１から５の直鎖アルキレン基がより好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１から３の直鎖アルキレン基がさらに好ましく、無置換の直鎖アルキレン基が特に好ましい。
【００５８】
Ｐｏｌ１、Ｐｏｌ２、Ｐｏｌ３は、それぞれ独立に水素原子又は重合性基を表す。重合性基としては、例えば以下式Ｐｏｌ−１〜式Ｐｏｌ−６で表される重合性基が挙げられる。
【００５９】
【化９】
2019044863.tif 000011
【００６０】
これらのうち、（メタ）アクリロイルオキシ基（Ｐｏｌ−１、Ｐｏｌ−２）が好ましい。
重合性基Ｐｏｌ１又はＰｏｌ２のいずれか一方は（メタ）アクリロイルオキシ基であることが好ましく、双方が（メタ）アクリロイルオキシ基であることがより好ましい。
Ｐｏｌ１及びＰｏｌ２は同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【００６１】
一般式１で表される化合物は、少なくとも一つの重合性基を有する。一般式１で表される化合物は、少なくとも二つの重合性基を有することが好ましい。
【００６２】
−Ｓｐ３−Ｐｏｌ３および−Ｓｐ４−Ｐｏｌ４としては、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。
【００６３】
Ｐｏｌ１−Ｓｐ１−Ｌ１−又はＰｏｌ２−Ｓｐ２−Ｌ２−の具体的な構造の例としては、以下の構造が挙げられる。
なお、Ｐｏｌ１−Ｓｐ１−Ｌ１−及びＰｏｌ２−Ｓｐ２−Ｌ２−は同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【００６４】
【化１０】
2019044863.tif 000012
（Ｒは水素原子又はメチル基である。また、＊はＡｒとの結合位置を示す。）
【００６５】
なお、本明細書において、以下の構造は、エチレン基のいずれか一方の炭素にメチル基がそれぞれ結合した２つの部分構造が混在していることを示す。
【００６６】
【化１１】
2019044863.tif 000013
【００６７】
このように、一般式１で表される化合物では、直鎖アルキレン基に置換基が置換した構造を有している場合、その置換基の置換位置が相違する構造異性体が存在しうる。一般式１で表される化合物は、このような構造異性体の混合物であってもよい。
【００６８】
一般式１で表される化合物は非液晶性の化合物であることが好ましい。
【００６９】
以下において、本発明の硬化性組成物に好ましく用いられる一般式１で表される化合物の具体例を列挙するが、以下の化合物に限定されるものではない。なお、以下の構造式におけるＭｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、ｎＰｒはｎ−プロピル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｎＢｕはｎ−ブチル基、ｔＢｕはｔ−ブチル基を表す。
【００７０】
【化１２】
2019044863.tif 000014
【００７１】
【化１３】
2019044863.tif 000015
【００７２】
【化１４】
2019044863.tif 000016
【００７３】
【化１５】
2019044863.tif 000017
【００７４】
【化１６】
2019044863.tif 000018
【００７５】
【化１７】
2019044863.tif 000019
【００７６】
【化１８】
2019044863.tif 000020
【００７７】
一般式１で表される化合物は、１個又は２個以上の不斉炭素を有する場合があるが、このような不斉炭素の立体化学についてはそれぞれ独立して（Ｒ）体又は（Ｓ）体のいずれかをとることができる。また、式（Ａ）で表される化合物は光学異性体又はジアステレオ異性体などの立体異性体の混合物であってもよい。すなわち、式（Ａ）で表される化合物は任意の一種の立体異性体であってもよく、立体異性体の任意の混合物であってもよく、ラセミ体であってもよい。
【００７８】
硬化性組成物中における一般式１で表される化合物の含有量は、硬化性組成物の全質量に対して、５〜９９質量％であることが好ましく、２０〜９９質量％であることがより好ましく、２５質量％〜９８質量％であることがさらに好ましく、３０〜９６質量％であることが特に好ましい。一般式１で表される化合物の含有量を上記範囲内とすることにより、所定のアッベ数を有する硬化物において、予測される部分分散比（θｇ，Ｆ）よりも高い部分分散比（θｇ，Ｆ）が達成されやすくなる。
【００７９】
硬化性組成物中には、一般式１で表される化合物が２種以上含有されていてもよい。一般式１で表される化合物が２種以上含有されている場合は、合計の含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００８０】
＜その他の成分＞
硬化性組成物は、一般式１で表される化合物の他に、さらにその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリレートモノマー、光ラジカル重合開始剤及び熱ラジカル重合開始剤から選択される少なくとも１種等が挙げられる。
【００８１】
［（メタ）アクリレートモノマー］
硬化性組成物は、（メタ）アクリレートモノマーを含んでもよい。（メタ）アクリレートモノマーは、分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーであってもよく、分子中に１つの（メタ）アクリロイル基を有する単官能（メタ）アクリレートモノマーであってもよい。
（メタ）アクリレートモノマーの具体例としては、例えば、以下のモノマー１（フェノキシエチルアクリレート）、モノマー２（ベンジルアクリレート）でモノマー３（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）モノマー４（ジシクロペンタニルアクリレート）、および特開２０１２−１０７１９１号公報の段落００３７〜００４６に記載の（メタ）アクリレートモノマーなどを挙げることができる。（メタ）アクリレートモノマーの分子量は１００〜５００であることが好ましい。
【００８２】
【化１９】
2019044863.tif 000021
【００８３】
（メタ）アクリレートモノマーの入手方法については特に制限は無く、商業的に入手してもよく、合成により製造してもよい。商業的に入手する場合は、例えば、ビスコート＃１９２  ＰＥＡ（モノマー１）（大阪有機化学工業株式会社製）、ビスコート＃１６０  ＢＺＡ（モノマー２）（大阪有機化学工業株式会社製）、Ａ−ＤＣＰ（モノマー３）（新中村化学工業株式会社製）、ＦＡ−５１３ＡＳ（モノマー４）（日立化成工業株式会社製）を好ましく用いることができる。
【００８４】
また、硬化物の表面の硬度や耐擦性を高める必要がある場合には、硬化性組成物は、分子中に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを含むことが好ましい。分子中に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを含むことにより、硬化物の架橋密度を効果的に向上させることができるため、高い部分分散比を維持したまま表面硬度や耐擦性を高めることができる。分子中に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマー（メタ）アクリロイル基の数の上限は特に限定されないが、８であることが好ましく、６であることがより好ましい。商業的に入手する場合は、例えば、Ａ−ＴＭＰＴ（モノマー５）、Ａ−ＴＭＭＴ（モノマー６）、ＡＤ−ＴＭＰ（モノマー７）、Ａ−ＤＰＨ（モノマー８）（新中村化学工業株式会社製）を好ましく用いることができる。
【００８５】
【化２０】
2019044863.tif 000022
【００８６】
硬化性組成物が（メタ）アクリレートモノマーを含有する場合、（メタ）アクリレートモノマーの含有量は、硬化性組成物の全質量に対して、１〜８０質量％であることが好ましく、２〜５０質量％であることがより好ましく、３〜４０質量％であることがさらに好ましい。硬化性組成物中の（メタ）アクリレートモノマー量を調整して硬化物が熱変化時の応力を緩和する機能を調整することができる。
【００８７】
特に、硬化物の表面の硬度や耐擦性を高める必要がある場合、硬化性組成物は分子中に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを、硬化性組成物の全質量に対して、５〜９５質量％含むことが好ましく、１０〜８０質量％含むことがより好ましく、２５〜７０質量％含むことがさらに好ましい。このとき、硬化性組成物中における一般式１で表される化合物の含有量は、硬化性組成物の全質量に対して、５〜９５質量％であることが好ましく、２０〜９５質量％であることがより好ましく、３０〜７５質量％であることがさらに好ましい。このような組成物はハードコート形成用組成物として用いることができる。
【００８８】
［ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体］
一般式１で表される化合物を含む硬化性組成物は、上述した化合物とは別に、ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体をさらに含んでもよい。ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体は硬化性組成物の粘度を高める働きをするため、増粘剤もしくは増粘ポリマーと呼ぶこともできる。ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体は、硬化性組成物の粘度の調整のために添加することができる。
【００８９】
ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体は、単独重合体であってもよく、共重合体であってもよい。中でも、ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体は共重合体であることが好ましい。ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体が共重合体である場合は、少なくとも一方の共重合成分がラジカル重合性基を有していればよい。また、ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体が共重合体である場合は、側鎖にラジカル重合性基を有する単量体単位と、側鎖にアリール基を有する単量体単位を含む共重合体であることがより好ましい。
【００９０】
ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリレート基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を挙げることができる。ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体には、ラジカル重合性基を有する繰り返し単位が、５〜１００質量％含まれていることが好ましく、１０〜９０質量％含まれていることがより好ましく、２０〜８０質量％含まれていることがさらに好ましい。
【００９１】
以下において、本発明に好ましく用いられるラジカル重合性基を側鎖に有する重合体の具体例を列挙するが、ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体は以下の構造に限定されるものではない。以下に示す具体例はいずれも共重合体であり、それぞれ２つ又は３つ近接して記載される構造単位を含むものである。例えば、最も上に記載されている具体例はメタクリル酸アリル−メタクリル酸ベンジルの共重合体である。
以下の構造式において、Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立に、水素又はメチル基を表す。なお、１つのポリマー中における複数のＲａは同一であっても、異なっていてもよい。また、ｎは０〜１０の整数を表し、０〜２であることが好ましく、０又は１であることがより好ましい。
【００９２】
【化２１】
2019044863.tif 000023
【００９３】
【化２２】
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【００９４】
ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体の分子量（重量平均分子量）は、１，０００〜１０，０００，０００であることが好ましく、５，０００〜３００，０００であることがより好ましく、１０，０００〜２００，０００であることがさらに好ましい。また、ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体のガラス転移温度は、５０〜４００℃であることが好ましく、７０〜３５０℃であることがより好ましく、１００〜３００℃であることがさらに好ましい。
【００９５】
ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体の含有量は、硬化性組成物の全質量に対して、４０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。なお、ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体の含有量は、０質量％であってもよく、ラジカル重合性基を側鎖に有する重合体を添加しない態様も好ましい。
【００９６】
［重合開始剤］
一般式１で表される化合物を含む硬化性組成物は、熱ラジカル重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤から選択される少なくとも１種を含んでいることが好ましい。
【００９７】
（熱ラジカル重合開始剤）
硬化性組成物は、熱ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。この作用によって、硬化性組成物を熱重合することにより、耐熱性が高い硬化物を成形することができる。
【００９８】
熱ラジカル重合開始剤としては、具体的には以下の化合物を用いることができる。例えば、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、２，２−ジ（４，４−ジ−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキシル）プロパン、ｔ−ヘキシルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルペルオキシラウレート、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシル、２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン等を挙げることができる。
【００９９】
熱ラジカル重合開始剤の含有量は、硬化性組成物の全質量に対して、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．０５〜５．０質量％であることがより好ましく、０．０５〜２．０質量％であることがさらに好ましい。
【０１００】
（光ラジカル重合開始剤）
硬化性組成物は、光ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。光ラジカル重合開始剤としては、具体的には以下の化合物を用いることができる。例えば、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメチルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニルエタンジオン、メチルフェニルグリオキシレート、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【０１０１】
中でも、本発明では、光ラジカル重合開始剤として、ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）、イルガキュア８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド）、イルガキュア６５１（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン）、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンを好ましく用いることができる。
【０１０２】
光ラジカル重合開始剤の含有量は、硬化性組成物の全質量に対して、０．０１〜５．０質量％であることが好ましく、０．０５〜１．０質量％であることがより好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがさらに好ましい。
なお、硬化性組成物は、光ラジカル重合開始剤と熱ラジカル重合開始剤の両方を含むことが好ましく、この場合、光ラジカル重合開始剤と熱ラジカル重合開始剤の合計含有量は、硬化性組成物の全質量に対して、０．０１〜５質量％であることが好ましく、０．０５〜１．０質量％であることがより好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがさらに好ましい。
【０１０３】
（その他の添加剤等）
本発明の趣旨に反しない限りにおいて、一般式１で表される化合物を含む硬化性組成物は上述した成分以外のポリマーやモノマー、分散剤、可塑剤、熱安定剤、離型剤等の添加剤を含んでいてもよい。
【０１０４】
一般式１で表される化合物を含む硬化性組成物の粘度は、２０，０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、１５，０００ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、１３，０００ｍＰａ・ｓ以下であることがさらに好ましく、１０，０００ｍＰａ・ｓ以下であることが特に好ましい。硬化性組成物の粘度を上記範囲内とすることにより、硬化物を成形する際のハンドリング性を高め、高品質な硬化物を形成することができる。なお、硬化性組成物の粘度は、２，０００ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましく、３，０００ｍＰａ・ｓ以上であることがより好ましく、４，０００ｍＰａ・ｓ以上であることがさらに好ましく、５，０００ｍＰａ・ｓ以上であることが特に好ましい。
【０１０５】
＜硬化物の製造方法＞
硬化物の製造方法は、上述した硬化性組成物を光硬化する工程及び／又は熱硬化する工程を含む。中でも、硬化物の製造方法は、硬化性組成物に光照射するか又は硬化性組成物を加熱することによって半硬化物を形成する工程と、得られた半硬化物に光照射するか又は半硬化物を加熱することによって硬化物を形成する工程と、を含むことが好ましい。
【０１０６】
［半硬化物を形成する工程］
半硬化物を形成する工程は転写工程を含むことが好ましい。転写工程は、上述した硬化性組成物に金型を押し当てる工程である。転写工程では、一対の金型の一方に注入された硬化性組成物に他方の金型を押し当てて硬化性組成物を押し広げる。
【０１０７】
硬化物の製造方法で用いる金型は、窒化クロム処理が施されたものであることが好ましい。これにより、後工程で行う離型工程で、良好な金型離型性を得ることができ、光学部材の製造効率を高めることができる。
【０１０８】
窒化クロム処理としては、例えば金型表面に窒化クロム膜を成膜する方法を挙げることができる。金型表面に窒化クロム膜を製膜する方法としては、例えばＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法とＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法とがある。ＣＶＤ法は、クロムを含む原料ガスと窒素を含む原料ガスとを高温で反応させて基体表面に窒化クロム膜を形成する方法である。また、ＰＶＤ法は、アーク放電を利用して基体表面に窒化クロム膜を形成する方法（アーク式真空蒸着法）である。アーク式真空蒸着法は、具体的には以下のような手順で行うことができる。真空容器内に例えばクロムよりなる陰極（蒸発源）を配置し、陰極と真空容器の壁面との間でトリガを介してアーク放電を起こさせ、陰極を蒸発させると同時にアークプラズマに基づく金属のイオン化を行う。一方、基体に負の電圧をかけておき、かつ真空容器に反応ガス（例えば窒素ガス）を数１０ｍＴｏｒｒ（１．３３Ｐａ）程度入れる。上記のイオン化した金属と上記反応ガスを上記基体の表面で反応させて化合物の膜を作る。
本発明における金型表面の窒化クロム処理は、上記ＣＶＤ法、又はＰＶＤ法により実施されている。
【０１０９】
ここで、金型は、一般的に２つの金型を組み合わせて内容物に加圧しながら加熱することができるようになっており、金型に低粘度の組成物を注入すると、成形型クリアランスへの漏れの原因となる。このため、金型に注入される硬化性組成物は、一定以上の粘度を有していることが好ましい。硬化性組成物の粘度を調整するために、硬化性組成物に上述したラジカル重合性基を側鎖に有する重合体を添加してもよい。
【０１１０】
金型を押し当てる工程の後には、半硬化物を形成する工程が設けられる。半硬化物は、金型内に注入された硬化性組成物を半硬化することで得られる。半硬化物を形成する工程では、光照射又は加熱を行う。本明細書では、このような工程を半硬化工程と呼ぶこともできる。
【０１１１】
半硬化工程では、本発明の硬化性組成物に対して光照射及び加熱のうち少なくとも一方を行う。半硬化において、光照射を行なった場合であっても加熱を行なった場合であっても、最終的に得られる硬化物のアッベ数、及び部分分散比（θｇ，Ｆ）には通常差異がない。半硬化工程では、２５℃、周波数１０Ｈｚにおける複素粘度が１０５〜１０８ｍＰａ・ｓの半硬化物を形成することが好ましい。
【０１１２】
ここで、本明細書中において「半硬化物」とは、硬化性組成物を重合したものであり、完全に固体となっておらず、ある程度流動性を有する状態の物を意味する。硬化性組成物の重合体の、２５℃、周波数１０Ｈｚにおける複素粘度が１０５〜１０８ｍＰａ・ｓである場合、その重合体は半硬化物である。すなわち、２５℃、周波数１０Ｈｚにおける複素粘度の上限値として１．０×１０９ｍＰａ・ｓ未満の物までを半硬化物とみなせる。一方、「硬化物」とは、硬化性組成物を重合により硬化させたものであり、完全に固体となっている状態の物を意味する。
【０１１３】
光照射に用いられる光は、紫外線又は可視光線であることが好ましく、紫外線であることがより好ましい。例えばメタルハライドランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、殺菌ランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）光源ランプなどが好適に使用される。光照射時の雰囲気は、空気又は不活性ガス置換雰囲気であることが好ましく、酸素濃度１％以下になるまで空気を窒素置換した雰囲気であることがより好ましい。
【０１１４】
半硬化工程において、加熱半硬化工程を設ける場合、加熱半硬化は、加熱後の半硬化物の２５℃、周波数１０Ｈｚにおける複素粘度が、１０５〜１０８ｍＰａ・ｓとなるように行うことが好ましい。
【０１１５】
本発明は、上述した方法で製造される半硬化物に関するものであってもよい。このような半硬化物は、後述する硬化物の製造方法に好ましく用いることができる。ここで、半硬化物の複素粘度の好ましい範囲は、上述した半硬化物を形成する工程における半硬化物の複素粘度の好ましい範囲と同様である。
【０１１６】
半硬化物には、光照射工程後において、光ラジカル重合開始剤が全て消費されていて全く含まれていなくてもよく、光ラジカル重合開始剤が残留していてもよい。
【０１１７】
また、半硬化物のガラス転移温度は、−１５０〜０℃であることが好ましく、−５０〜０℃であることがより好ましく、−２０〜０℃であることが特に好ましい。
【０１１８】
［硬化物を形成する工程］
硬化物を形成する工程は、半硬化物を成形型に入れ加圧変形し、加熱して熱重合させるか、もしくは光照射を行うことで光重合させることにより硬化物を得る重合工程を含むことが好ましい。本明細書では、このような工程を硬化工程と呼ぶこともできる。なお、硬化物を形成する工程における光照射の条件と加熱条件は、上述した半硬化工程における条件と同様である。
【０１１９】
硬化工程が熱重合工程である場合、重合工程で用いられる成形型のことを、熱成形用成形型とも言う。熱成形用成形型は、一般に２つの成形型を組み合わせて内容物に加圧しながら加熱することができる構成となっていることが好ましい。また、硬化物の製造方法では、硬化物を得る熱重合工程において、成形型として金型を用いることがより好ましい。このような熱成形用成形型としては、例えば、特開２００９−１２６０１１号公報に記載のものを用いることができる。また、金型は、窒化クロム処理が施されたものであることが好ましい。
【０１２０】
熱重合工程では、成形型に入れた半硬化物を、加圧変形し、加熱して熱重合させて硬化物を得る。ここで、加圧変形と加熱は同時に行ってもよく、加圧変形した後で加熱を行ってもよく、加熱した後で加圧変形を行ってもよいが、その中でも加圧変形と加熱を同時に行うことが好ましい。また、加圧変形と加熱を同時に行った上で、加圧が安定してからさらに高温に加熱することも好ましい。
【０１２１】
熱重合工程では、半硬化物を１５０℃以上の温度で加熱して硬化させ、硬化物を得る。
加熱温度は、１５０℃以上であり、１６０〜２７０℃であることが好ましく、１６５〜２５０℃であることがより好ましく、１７０〜２３０℃であることがさらに好ましい。
この硬化工程では、加熱を行うとともに加圧変形を行うことが好ましい。これにより金型内面の反転形状を硬化物に精度よく転写することができる。
【０１２２】
加圧変形における圧力は、０．０９８ＭＰａ〜９．８ＭＰａであることが好ましく、０．２９４ＭＰａ〜４．９ＭＰａであることがより好ましく、０．２９４ＭＰａ〜２．９４ＭＰａであることが特に好ましい。
熱重合の時間は、３０〜１０００秒であることが好ましく、３０〜５００秒であることがより好ましく、６０〜３００秒であることが特に好ましい。熱重合時の雰囲気は、空気又は不活性ガス置換雰囲気であることが好ましく、酸素濃度１％以下になるまで窒素置換した雰囲気であることがより好ましい。
【０１２３】
硬化工程の後には、離型工程が設けられる。硬化工程で熱重合を行った場合、離型工程では、１５０〜２５０℃の温度範囲で硬化物から金型を引き離すことが好ましい。離型工程における温度を上記範囲内とすることにより、硬化物から金型を容易に引き離すことができ、製造効率を高めることができる。
【０１２４】
以上、本発明の硬化物の製造方法の一例について説明したが、本発明の構成はこれに限るものではなく、本発明を逸脱しない範囲で適宜変更が可能である。例えば、転写工程と半硬化工程で用いた金型を、そのまま硬化工程で用いてもよく、半硬化工程を行った後、半硬化物から金型を引き離し、この半硬化物を別の金型（熱成形用成形型）に移動させて硬化工程を行ってもよい。この場合、半硬化工程及び硬化工程で用いる金型には上述したクロム処理が施されていることが好ましい。
また、半硬化工程で、金型内の硬化性組成物に光照射を行うとともに、加熱を行うようにしてもよい。これにより、所望の硬化度を有する半硬化物を確実に得ることができる。
【０１２５】
＜半硬化物＞
半硬化物は、上述した硬化性組成物を半硬化することで形成することができる。半硬化物は、上述した半硬化物の製造方法によって製造されたものであることが好ましい。また、半硬化物は、２５℃、周波数１０Ｈｚにおける複素粘度が１０５〜１０８ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
本発明の硬化物は、上述した半硬化物を硬化することで形成されたものであってもよい。
【０１２６】
＜硬化物の用途＞
本発明の硬化物は、複屈折率が低くヒートショック耐性が高いため、様々な用途に用いることができる。例えば、ハードコート層などの被覆層に用いることができる。
また、低アッベ数（νｄ）および高部分分散比（θｇ，Ｆ）である本発明の硬化物は、光学部材に好ましく用いることができる。
【０１２７】
［光学部材］
光学部材の種類は、特に制限されないが、特に光を透過する光学部材（いわゆるパッシブ光学部材）として好適に利用することができる。このような光学部材を備えた光学機能装置としては、例えば、各種ディスプレイ装置（液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等）、各種プロジェクタ装置（ＯＨＰ（Ｏｖｅｒｈｅａｄ  ｐｒｏｊｅｃｔｏｒ）、液晶プロジェクタ等）、光ファイバー通信装置（光導波路、光増幅器等）、カメラやビデオ等の撮影装置等が例示される。
【０１２８】
パッシブ光学部材としては、例えば、レンズ、プリズム、プリズムシート、パネル（板状成形体）、フィルム、光導波路（フィルム状やファイバー状等）、光ディスク、ＬＥＤの封止剤等が例示される。パッシブ光学部材には、必要に応じて任意の被覆層または任意の付加機能層が設けられていてもよい。例えば、パッシブ光学部材には、摩擦または摩耗を原因とする塗布面の機械的損傷を防止する保護層、無機粒子や基材等の劣化原因となる望ましくない波長の光線を吸収する光線吸収層、水分や酸素ガス等の反応性低分子の透過を抑制あるいは防止する透過遮蔽層、防眩層、反射防止層、低屈折率層等が設けられてもよい。被覆層の具体例としては、無機酸化物または無機窒化物コーティング層からなる透明導電膜やガスバリア膜、有機物コーティング層からなるガスバリア膜やハードコート膜等が挙げられる。コーティング層を形成するためのコーティング法としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、ディップコート法、スピンコート法等公知のコーティング法を用いることができる。
【０１２９】
［レンズ基材］
光学部材は、レンズ基材であってもよい。すなわち、本発明の硬化物は、レンズ基材として用いられていてもよい。本明細書において「レンズ基材」は、レンズ機能を発揮することができる単一部材を意味する。本発明の硬化物を用いて製造されたレンズ基材は低アッベ数かつ高部分分散比を示す。好ましくは、また、硬化性組成物を構成するモノマーの種類を適宜調整することにより、レンズ基材の屈折率を任意に調節することが可能であり、また、さらに高屈折性、光線透過性、および軽量性を併せ持つレンズ基材とすることができる。
【０１３０】
レンズ基材の表面や周囲には、レンズの使用環境や用途に応じて膜や部材を設けることができる。例えば、レンズ基材の表面には、保護膜、反射防止膜、ハードコート膜等を形成することができる。また、本発明の硬化物を用いて製造されたレンズ基材を、ガラスレンズ基材およびプラスチックレンズ基材などから選択される他の1つ以上のレンズ基材と積層させた複合レンズにすることができる。
レンズ基材の周囲は基材保持枠などに嵌入され固定されていてもよい。但し、これらの膜や枠などは、レンズ基材に付加される部材であり、本明細書中でいうレンズ基材そのものとは区別される。
【０１３１】
レンズ基材をレンズとして利用するに際しては、レンズ基材そのものを単独でレンズとして用いてもよいし、上述した膜や枠、その他レンズ基材などを付加してレンズとして用いてもよい。レンズ基材を用いたレンズの種類や形状は、特に制限されないが、最大厚みが０．１〜１０ｍｍであることが好ましい。最大厚みは、より好ましくは０．１〜５ｍｍであり、特に好ましくは０．１５〜３ｍｍである。また、レンズ基材は、最大直径が１〜１０００ｍｍの円形状のものであることが好ましい。最大直径は、より好ましくは２〜２００ｍｍであり、特に好ましくは２．５〜１００ｍｍである。
【０１３２】
レンズ基材は携帯電話やデジタルカメラ等の撮像用レンズやテレビ、ビデオカメラ等の撮映レンズ、さらには車載レンズ、内視鏡レンズに使用されることが好ましい。
【実施例】
【０１３３】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。【０１３４】
【化２３】
2019044863.tif 000025
【０１３５】
＜化合物（Ｉ−１Ｄ）の合成＞
化合物（Ｉ−１Ｄ）の合成は、“Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ”（１９９７）；２７（９）；ｐ．５１５−５２６．に記載の方法で行った。【０１３６】
＜化合物（Ｉ−４Ａ）の合成＞
化合物（Ｉ−４Ａ）は特開２０１６−８１０３５号公報記載の化合物（Ｉ−４Ａ）の合成法に従い合成した。【０１３７】
＜化合物（Ｉ−４）の合成＞
カルボン酸化合物（Ｉ−４Ａ）１５．５ｇ（６７．４ｍｍｏｌ）、酢酸エチル１８５ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド４６ｍＬ、および、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール６０ｍｇを混合し、内温を０℃まで冷却した。混合物に、塩化チオニル７．７５ｇ（６５．１ｍｍｏｌ）を内温０〜５℃にて滴下した。５℃で６０分間撹拌した後、化合物（Ｉ−１Ｄ）６．８５ｇ（２７．６ｍｍｏｌ）および、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）５２ｍＬの溶液を、内温０〜８℃にて滴下した。
その後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン１６．８ｇを内温０〜１０℃にて滴下した。内温２０〜２５℃で１時間撹拌した後、酢酸エチル４０ｍＬ、水１６５ｍＬ、および、濃塩酸１４ｍＬを加え、洗浄した。有機層を飽和食塩水１４０ｍＬで洗浄、分液し、続いて、飽和食塩水１００ｍＬ、７．５質量％炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍＬで洗浄、分液した。その後、濃縮を行い、オイル状の組成物を得たのち、カラムクロマトグラフィーで精製し、化合物（Ｉ−４）を得た（収率８５％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．２５−１．３５（ｄ，６Ｈ）、２．７８（ｔ，４Ｈ）、２．９５（ｔ，４Ｈ）、４．１０−４．３５（ｍ，４Ｈ）、５．２５（ｓｅｘｔ，２Ｈ）、５．８３（ｄ，２Ｈ）、６．０５−６．１５（ｍ，２Ｈ）、６．４０（ｄ，２Ｈ）、７．３３（ｓ，２Ｈ）【０１３８】
【化２４】
2019044863.tif 000026
【０１３９】
＜化合物（ＩＩＩ-３Ｄｂ）の合成＞
化合物（ＩＩＩ−３Ｄｂ）の合成は、“Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”（２００４）；６９（６）；ｐ．２１６４−２１７７．に記載の方法で行った。【０１４０】
＜化合物（ＩＩＩ−３Ｄ）の合成＞
化合物（ＩＩＩ−３Ｄｂ）５．０ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）、シアノ酢酸メチル１．６６ｇ（１６．８０ｍｍｏｌ）、イソプロピルアルコール２５ｍＬを混合し、加熱還流下で３時間撹拌した。その後室温まで冷却し、混合物に水５０ｍＬを加え、析出した結晶をろ過した。得られた結晶を、水−イソプロピルアルコール（１０対１）の混合溶液、０．５Ｎ塩酸溶液で洗浄した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶解させて濾過を行った。得られた濾液に水を加え、析出した結晶をろ過することで化合物（ＩＩＩ−３Ｄ）２．２ｇ（７．８２ｍｍｏｌ）を得た（収率５１％）。【０１４１】
＜化合物（ＩＩＩ−３）の合成＞
実施例１に記載されている化合物（Ｉ−４）の合成法における化合物（Ｉ−１Ｄ）を、化合物（ＩＩＩ−３Ｄ）に変更した以外は実施例１と同様の方法で化合物（ＩＩＩ−３）を得た。（収率８６％）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．２５−１．３５（ｄ，６Ｈ）、２．７８（ｔ，４Ｈ）、２．９５（ｔ，４Ｈ）、３．８９（ｓ，３Ｈ）、４．１０−４．３５（ｍ，４Ｈ）、５．２５（ｓｅｘｔ，２Ｈ）、５．８３（ｄ，２Ｈ）、６．０５−６．１５（ｍ，２Ｈ）、６．４０（ｄ，２Ｈ）、７．２８（ｓ，２Ｈ）【０１４２】
【化２５】
2019044863.tif 000027
【０１４３】
＜化合物ＩＶ−１Ｄｂの合成＞
１−ピロリジンカルボジチオ酸アンモニウム８．２ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍＬを混合し、５℃に冷却した。混合物に、トルキノン（ＩＶ −１Ｄａ）６．７ｇ（５５．０ｍｍｏｌ）の酢酸４０ｍＬ溶液を滴下して、室温で二時間撹拌した。その後、内温を５℃まで冷却し、１，４−ベンゾキノン５．９ｇ（５５．０ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド４０ｍＬ溶液を、内温が１５℃を越えないようにゆっくりと滴下した。室温で１時間撹拌した後、水１Ｌを加えた。そこに、２８質量％の水酸化ナトリウム水溶液を結晶が析出するまで加え、析出した結晶をろ過し、水とメタノールによって洗浄することで化合物（ＩＶ−１Ｄｂ）５．４ｇ（２０．１ｍｍｏｌ）を得た（収率４０％）。【０１４４】
＜化合物ＩＶ−１Ｄの合成＞
化合物（ＩＶ−１Ｄｂ）１．５ｇ（５．６ｍｍｏｌ）、マロノニトリル４１０ｍｇ（６．２ｍｍｏｌ）、イソプロピルアルコール１６ｍＬ、酢酸０．３ｍＬと無水酢酸０．２ｍＬを混合し、加熱還流下で３時間撹拌した。その後室温まで冷却し、混合物に水を加え、析出した結晶をろ過して、化合物（ＩＶ−１Ｄ）１．１ｇ（４．２ｍｍｏｌ）を得た（収率７５％）。【０１４５】
＜化合物ＩＶ−１の合成＞
実施例１に記載されている化合物（Ｉ−４）の合成法における化合物（Ｉ−１Ｄ）を、化合物（ＩＶ−１Ｄ）に変更した以外は実施例１と同様の方法で化合物（ＩＶ−１）を得た。（収率８０％）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．２５−１．３５（ｄ，６Ｈ）、２．７８（ｍ，４Ｈ）、２．９５（ｍ，４Ｈ）、４．１０−４．３５（ｍ，４Ｈ）、５．２４（ｓｅｘｔ，２Ｈ）、５．８３（ｄ，２Ｈ）、６．０５−６．１５（ｍ，２Ｈ）、６．４０（ｄ，２Ｈ）、７．２０（ｓ，２Ｈ）【０１４６】
【化２６】
2019044863.tif 000028
【０１４７】
＜Ｖ−３Ｄの合成＞
化合物（Ｖ−３Ｄ）の合成は、特開２０１３−７１９５６号公報の段落０２８２記載の化合物（１１−ｄ）の合成方法を参考に実施した。【０１４８】
＜化合物（Ｖ−３）の合成＞
実施例１に記載されている化合物（Ｉ−４）の合成法における化合物（Ｉ−１Ｄ）を、化合物（Ｖ−３Ｄ）に変更した以外は実施例１と同様の方法で化合物（Ｖ−３）を得た（収率８２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ（ｐｐｍ）１．２５−１．３５（ｄ，６Ｈ）、２．７８（ｔ，４Ｈ）、２．９５（ｔ，４Ｈ）、４．１０−４．３５（ｍ，４Ｈ）、５．２５（ｓｅｘｔ，２Ｈ）、５．８３（ｄ，２Ｈ）、６．０５−６．１５（ｍ，２Ｈ）、６．４０（ｄ，２Ｈ）、７．０３（ｓ，１Ｈ）、７．３５−７．４５（ｍ，３Ｈ）７．８０（ｓ，１Ｈ）【０１４９】
【化２７】
2019044863.tif 000029
【０１５０】
＜化合物（ＶＩ−１Ｂ）の合成＞
合成例１に記載されている化合物（Ｉ−４）の合成法における化合物（Ｉ−１Ｄ）を、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド（ＶＩ−１Ｄ）に変更した以外は、合成例１と同様の方法で化合物（ＶＩ−１Ｂ）を得た（収率７４％）。【０１５１】
＜化合物（ＶＩ−１）の合成＞
化合物（ＶＩ−１Ｂ）０．２６ｇ（０．４６ｍｍｏｌ）、２−ヒドラジノベンゾチアゾール９９ｍｇ（０．６０ｍｍｏｌ）、１０−カンファースルホン酸５．４ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン１０ｍＬを混合し、室温で１２時間撹拌した。混合物に酢酸エチルと水を加えて分液を行い、集めた有機層を１Ｎ塩酸、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別して、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィに精製を行うことで化合物（ＶＩ−１）を０．２２ｇ（０．３１ｍｍｏｌ）得た（収率６７％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２５−１．３５（ｄ，６Ｈ）、２．７８（ｔ，４Ｈ）、２．８５（ｔ，４Ｈ）、４．１０−４．３５（ｍ，２Ｈ）、５．２５（ｓｅｘｔ，２Ｈ）、７．３０（ｄ，４Ｈ）、７．４７（ｂｒ ｓ，１Ｈ）、７．６０（ｄ，１Ｈ）、７．８０（ｂｒ ｄ，１Ｈ）、８．０９（ｓ，１Ｈ）、１２．５（ｂｒ ｓ，１Ｈ）【０１５２】
（合成例６）
＜化合物（ＩＩ−２）の合成＞
特開２０１６−８１０３５号公報に記載される実施例４の合成法に従い、化合物（ＩＩ−２）を合成した。【０１５３】
【化２８】
2019044863.tif 000030
【０１５４】
＜化合物（Ｉ−７）の合成＞
カレンズＭＯＩ−ＥＧ（Ｉ−７Ａ，昭和電工株式会社製）３．９ｇ（１９．５ｍｍｏｌ）、化合物（Ｉ−１Ｄ）２．７ｇ（１０．９ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２ｍＬ、クロロホルム２０ｍＬを混合し、内温を６０℃まで加熱した。１２時間撹拌した後、室温へと冷却してさらに１２時間撹拌した。次に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて１時間撹拌した後、分液を行った。集めた有機層を１Ｎ塩酸、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターにて溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィに精製を行うことで化合物（Ｉ−７）を５．７ｇ（８．９０ｍｍｏｌ）得た（収率８２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．９５（ｓ，６Ｈ）、３．３７（ｍ，４Ｈ）、３．６０−３．７０（ｍ，８Ｈ）、４．２０（ｔ，４Ｈ）、５．１５（ｂｒ，ｓ，２Ｈ）、５．５８（ｓ，２Ｈ）、６．１３（ｓ，２Ｈ）、７．３２（ｓ，２Ｈ）【０１５５】
【化２９】
2019044863.tif 000031
【０１５６】
＜化合物（Ｉ−１４Ｂ）の合成＞
カルボン酸化合物（Ｉ−４Ａ）８．００ｇ（２９．２ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ２８ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド７ｍＬ、および、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール６０ｍｇを混合し、内温を０℃まで冷却した。混合物に、塩化チオニル４．００ｇ（３３．６ｍｍｏｌ）を内温０〜５℃にて滴下し、５℃で６０分間撹拌した。得られた混合物に、エチレングリコール１０．３ｇ（１６６ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ２０ｍＬの溶液を、内温０〜８℃にて滴下したのち、内温２０℃〜２５℃で８時間撹拌した。
その後、酢酸エチル１００ｍＬを加えた反応液を、１Ｎ塩酸１００ｍＬ、７質量％炭酸ナトリウム水溶液３０ｍＬで洗浄・分液した。その後、濃縮を行い、オイル状の組成物を得たのち、カラムクロマトグラフィーで精製し、化合物（Ｉ−１４Ｂ）を５．８ｇ得た（収率７２％）。【０１５７】
＜化合物（Ｉ−１４Ｃ）の合成＞
トリホスゲン１．８３ｇ（６．１９ｍｍｏｌ）、酢酸エチル２２．５ｍＬに、化合物（Ｉ−１４Ｂ）４．９０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン２．９ｇ（１９．６ｍｍｏｌ）、酢酸エチル１１ｍＬの混合溶液を２５℃〜３０℃で滴下した。２時間撹拌したのち、０℃に冷却し、２Ｎ塩酸１７ｍＬ、飽和食塩水１７ｍＬで洗浄・分液した。無水硫酸ナトリウムで乾燥をし、ロータリーエバポレーターにて溶媒を除去し、透明なオイルである化合物（Ｉ−１４Ｃ）を５．４ｇ得た（収率９０％）。【０１５８】
＜化合物（Ｉ−１４）の合成＞
クロロ炭酸エステル化合物（Ｉ−１４Ｃ）（純度８８．４％）６．７５ｇ、酢酸エチル５０ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１２．５ｍＬ、および、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール５５ｍｇを混合し、内温を０℃まで冷却した。混合物に、化合物（Ｉ−１Ｄ）１．８７ｇおよび、ＴＨＦ２５ｍＬの溶液を、内温０〜８℃にて滴下した。
その後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン４．６０ｇを内温０〜１０℃にて滴下した。内温２０〜２５℃で１時間撹拌した後、酢酸エチル１０ｍＬ、水４５ｍＬ、および、濃塩酸４．５ｍＬを加え、洗浄した。有機層を飽和食塩水５０ｍＬで洗浄・分液し、続いて、飽和食塩水５０ｍＬ、７．５質量％炭酸水素ナトリウム水溶液５ｍＬで洗浄・分液した。その後、濃縮を行い、オイル状の組成物を得たのち、カラムクロマトグラフィーで精製し、化合物（Ｉ−１４）を得た（収率７５％）。【０１５９】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．２５−１．３５（ｄ，６Ｈ）、２．６５−２．７５（ｍ，８Ｈ）、４．１０−４．２０（ｍ，２Ｈ）、４．２３（ｔ，２Ｈ）、４．４３（ｄ，４Ｈ）、４．５２（ｄ，４Ｈ）、５．１５−５．２５（ｍ，２Ｈ）、５．８３（ｍ，２Ｈ）、６．０５−６．１５（ｍ，２Ｈ）、６．４０（ｄ，２Ｈ）、７．４８（ｓ，２Ｈ）【０１６０】
【化３０】
2019044863.tif 000032
【０１６１】
＜化合物（ＩＶ−１３）の合成＞
２−ブロモエチルアクリレート（ＩＶ−１３Ａ）２．０６ｇ（１１．５ｍｍｏｌ）、化合物（ＩＶ−１Ｄ）１．２６ｇ（４．８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム２．０ｇ（１４．４ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール１０ｍｇ、ＴＨＦ２０ｍＬを混合し、内温を６５℃まで加熱した。８時間撹拌したのち、２５℃に冷却し、酢酸エチル１００ｍＬを加え、有機層を１Ｎ塩酸、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターにて溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィに精製を行うことで化合物（ＩＶ−１３）を１．５８ｇ得た（収率７２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）２．３５（ｓ，３Ｈ）、４．１５（ｍ，２Ｈ）、４．３３（ｍ，２Ｈ）、４．４５−４．６０（ｍ，４Ｈ）、５．９２（ｄｄ，２Ｈ）、６．１８（ｍ，２Ｈ）、６．４８（ｄｄ，２Ｈ）、６．７３（ｓ，１Ｈ）【０１６２】
【化３１】
2019044863.tif 000033
【０１６３】
＜化合物（Ｉ−１９Ａ）の合成＞
トリエチレングリコール３３．２ｇ（０．２２ｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール４９０ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド４３ｍＬ、ＴＨＦ２００ｍＬを混合し、内温を０℃まで冷却した。塩化アクリロイル２０ｇ（０．２２ｍｏｌ）を３０分かけて滴下したのち、内温を４０℃にし３時間撹拌した。析出した塩をろ過したのち、ロータリーエバポレーターにて溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィで精製を行うことで、化合物（Ｉ−１９Ａ）を２０．３ｇ得た（収率４５％）。【０１６４】
＜化合物（Ｉ−１９Ｂ）の合成＞
化合物（Ｉ−１９Ａ）５．０ｇ（２４．５ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸クロリド４．９５ｇ（２６．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン２．９ｇ（２８．７ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール１１０ｍｇ、酢酸エチル２５ｍＬを混合し、内温を５０℃にまで加熱した。５時間撹拌したのち、２５℃に冷却し、有機層を１Ｎ塩酸、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターにて溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィに精製を行うことで化合物（Ｉ−１９Ｂ）を８．０ｇ得た（収率９１％）。【０１６５】
＜化合物（Ｉ−１９）の合成＞
化合物（Ｉ−１９Ｂ）７．０ｇ（１９．５ｍｍｏｌ）、化合物（Ｉ−１Ｄ）２．２０ｇ（８．８ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム９．５５ｇ（２９．３ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール５０ｍｇ、ＴＨＦ５０ｍＬを混合し、内温を７０℃にまで加熱した。５時間撹拌したのち、２５℃に冷却し、酢酸エチル１００ｍＬを加え、有機層を１Ｎ塩酸、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターにて溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィに精製を行うことで化合物（Ｉ−１９）を４．２ｇ得た（収率７７％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：３．５５−３．６５（ｍ，８Ｈ）、３．６５（ｄ，４Ｈ）、３．７６（ｄ，４Ｈ）、４．２０（ｄ，４Ｈ）、４．２６（ｄ，４Ｈ）、５．９３（ｄ，２Ｈ）、６．１０−６．２０（ｍ，２Ｈ）、６．３２（ｄ，２Ｈ）、７．２１（ｓ，２Ｈ）【０１６６】
【化３２】
2019044863.tif 000034
【０１６７】
＜化合物（ＩＩＩ−２７）の合成＞
化合物（Ｉ−１９）の合成法における化合物（Ｉ−１Ｄ）を、化合物（ＩＩＩ−３Ｄ）に変更した以外は同様の方法で化合物（ＩＩＩ−２７）を得た。（収率６４％）
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：３．５５−３．７０（ｍ，１２Ｈ）、３．７５−３．８０（ｍ，４Ｈ）、３．８０（ｓ，３Ｈ）、４．２０（ｄ，４Ｈ）、４．２６（ｄ，４Ｈ）、５．９２（ｄ，２Ｈ）、６．１０−６．２０（ｍ，２Ｈ）、６．３２（ｄ，２Ｈ）、７．１４（ｓ，２Ｈ）【０１６８】
【化３３】
2019044863.tif 000035
【０１６９】
＜化合物（ＩＩＩ−２１Ａ）の合成＞
化合物（ＩＩＩ−３Ｄ）の合成法におけるシアノ酢酸メチルをシアノ酢酸ヒドロキシブチルに変更した以外は実施例１０と同様の方法で化合物（ＩＩＩ−２１Ａ）を得た。（収率６４％）【０１７０】
＜化合物(ＩＩＩ−２１Ｂ)の合成＞
化合物（ＩＩＩ−２１Ａ）１．８１ｇ（５．３４ｍｍｏｌ）、ヨウ化エチル１．８３ｇ（１１．８ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム５．２２ｇ（１６．０ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール３０ｍｇ、ＴＨＦ３０ｍＬを混合し、内温を７０℃にまで加熱した。５時間撹拌したのち、２５℃に冷却し、酢酸エチル１００ｍＬを加え、有機層を１Ｎ塩酸、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、ロータリーエバポレーターにて溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィに精製を行うことで化合物（ＩＩＩ−２１Ｂ）を１．３ｇ得た（収率６２％）。【０１７１】
＜化合物（ＩＩＩ−２１）の合成＞
化合物（ＩＩＩ−２１Ｂ）１ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール２０ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド４０ｍＬ、ＴＨＦ２００ｍＬを混合し、内温を０℃まで冷却した。塩化アクリロイル０．２５ｇ（２．７５ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下したのち、内温を４０℃にし３時間撹拌した。析出した塩をろ過したのち、ロータリーエバポレーターにて溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィで精製を行うことで、化合物（ＩＩＩ−２１）を得た（収率７８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．４３（ｔ，６Ｈ）、１．６５−１．７５（ｍ，４Ｈ）、４．１１（ｑ，４Ｈ）、４．１５−４．２５（ｍ，４Ｈ）、５．８３（ｄ，１Ｈ）、６．０５−６．１５（ｍ，１Ｈ）、６．３８（ｄ，１Ｈ）、６．７５（ｓ，２Ｈ）【０１７２】
【化３４】
2019044863.tif 000036
【０１７３】
＜化合物（ＩＶ−１４Ａ）の合成＞
ブロモ酢酸ｔ−ブチル  ５５．８ｇ（２８５．９ｍｍｏｌ）、化合物（ＩＶ−１Ｄ）３０ｇ（１１４．４ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム１１１．８ｇ（３４３．１ｍｍｏｌ）、臭化テトラブチルアンモニウム３．７ｇ（１１．４ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ３００ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１５０ｍＬを混合し、内温を７５℃まで加熱した。５時間撹拌したのち、２５℃に冷却し、水７５０ｍＬを加え、析出した固体をろ過した。水とメタノールで洗浄することで、化合物（ＩＶ−１４Ａ）を得た。収率９２％【０１７４】
＜化合物（ＩＶ−１４Ｂ）の合成＞
ｔ−ブチルエステル化合物（ＩＶ−１４Ａ）５０ｇ（１０２ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン５００ｍＬを混合後、トリフルオロ酢酸１５０ｍＬを添加し２５℃で２時間撹拌した。内温を５℃に冷却し、析出した結晶をろ過したのち、ジクロロメタンで洗浄することで、化合物（ＩＶ−１４Ａ）を得た。収率９８％【０１７５】
＜化合物（ＩＶ−１４）の合成＞
カルボン酸化合物（Ｉ−１４Ｂ）３３．０ｇ（８７．２ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン５００ｍＬ、ヒドロキシプロピルアクリレート２６．１ｇ（２００．６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１．１ｇ（８．７ｍｍｏｌ）、および、塩酸１−エチル−３−(３−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド３８．３ｇ（２００．６ｍｍｏｌ、略称：ＥＤＡＣ）を混合した。４０℃で２時間撹拌したのち、１Ｎ塩酸水３００ｍｌを加え、洗浄、分液した。硫酸マグネシウムを用いた脱水、ろ過、及び濃縮を行うことでオイル状の組成物を得たのち、カラムクロマトグラフィーで精製した。収率６０％【０１７６】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．２５−１．３５（ｄ，６Ｈ）、２．３６（ｓ，３Ｈ）、４．１０−４．３０（ｍ，２Ｈ）、４．３０−４．４５（ｍ，２Ｈ）、４．５２（ｄ，２Ｈ）、４．７２（ｄ，２Ｈ）、５．２０−５．４０（ｍ，２Ｈ）、５．８３（ｍ，２Ｈ）、６．０５−６．１５（ｍ，２Ｈ）、６．４０（ｄ，２Ｈ）、６．６５（ｄ，１Ｈ）【０１７７】
【化３５】
2019044863.tif 000037
【０１７８】
＜化合物（ＩＶ−１５Ａ）の合成＞
合成例１１に記載されている化合物（ＩＶ−１４Ａ）の合成法におけるブロモ酢酸ｔ−ブチルを４-ブロモ酢酸エチルに変更した以外は、同様の方法で化合物（ＩＶ−１５Ａ）を得た（収率７５％）。【０１７９】
＜化合物（ＩＶ−１５Ｂ）の合成＞
エステル化合物（ＩＶ−１５Ａ）２．５ｇ（１０２ｍｍｏｌ）、濃塩酸５ｍＬ、酢酸２５ｍＬを混合後、６０℃で１時間撹拌した。その後、水８０ｍＬを添加し析出した固体をろ過した。得られた固体をカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物（ＩＶ−１５Ｂ）を得た。収率８０％【０１８０】
＜化合物（ＩＶ−１５）の合成＞
合成例１１に記載されている化合物（ＩＶ−１４）の合成法における化合物（ＩＶ−１４Ｂ）を、化合物（ＩＶ−１５Ｂ）に変更した以外は、同様の方法で化合物（ＩＶ−１５）を得た。（収率５５％）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）１．２０−１．３５（ｍ，６Ｈ）、２．１０−２．２０（ｍ，４Ｈ）、２．３２（ｓ，３Ｈ）、２．６０−２．７５（ｍ，４Ｈ）、３．９１（ｔ，２Ｈ）、４．１０−４．３０（ｍ，６Ｈ）、５．２４（ｓｅｘｔ，２Ｈ）、５．８４（ｄ，２Ｈ）、６．０５−６．１５（ｍ，２Ｈ）、６．４０（ｄ，２Ｈ）、６．７０（ｓ，１Ｈ）【０１８１】
（合成例１５）
＜化合物（ＩＩＩ−３１）の合成＞
化合物（ＩＩＩ−３１Ａ）の合成は、特開２００９−２６３６１７号公報に記載の段落０２２２〜０２２３に記載の方法で行った（収量２４．９ｇ（収率１００％））。
次に、反応容器に、化合物（ＩＩＩ−３１Ａ）の５ｇ（０．０１２７モル）と、塩化メチレン８０ｍＬ、２−アクリロイロキシエチル−コハク酸（共栄社化学社製、商品名ＨＯＡ−ＭＳ（Ｎ））の６．５８ｇ（０．０３０モル）、およびＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン０．１５５ｇ（０．００１３モル）を加えた。この混合液を室温で撹拌しながら、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩の５．８ｇ（０．０３０モル）を加えた後、４０℃で1時間反応させた。得られた反応溶液に、酢酸エチル２００ｍＬおよび水１００ｍＬを加えて分液を行った後、集めた有機層を飽和重層水１００ｍＬで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。ロータリーエバポレーターで有機層中に含まれる有機溶剤を除去し、シリカゲルクロマトグラフィに精製を行うことで化合物（ＩＩＩ−３１）を４．２ｇ得た。【０１８２】
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）０．９２（ｔ，６Ｈ）、１．３１（ｓｅｘｔ，４Ｈ）、１．５５（ｑｕｉｎ，４Ｈ）、２．８２（ｔ，４Ｈ）、２．９７（ｔ，４Ｈ）、３．６６（ｔ，４Ｈ）、４．４０（ｓ，８Ｈ）５．８２（ｄ，２Ｈ）、６．０５−６．１５（ｍ，２Ｈ）、６．４１（ｄ，２Ｈ）、７．３０（ｓ，２Ｈ）【０１８３】
【化３６】
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【０１８４】
＜比較化合物（Ｚ−１）の合成＞
特開２０１４−４３５６５号公報に記載される方法で下記構造を有する化合物を合成した。これを比較化合物Ｚ−１とした。
【化３７】
2019044863.tif 000039
【０１８５】
（実施例１〜１５及び比較例１）
＜硬化性樹脂組成物の調製＞
下記表に記載の組成となるように、成分（Ａ）、成分（Ｂ）としてモノマー１（（メタ）アクリレートモノマー）、及び光開始剤（イルガキュア８１９）を混合し、撹拌して均一にし、硬化性組成物を調製した。【０１８６】
【化３８】
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【０１８７】
＜光学特性測定用硬化物サンプル作製＞
調製した硬化性樹脂組成物を、硬化物の厚みが２ｍｍとなるように、直径２０ｍｍの円形の透明ガラス型に注入し、酸素濃度１％以下の雰囲気下でＵＶ照射装置（ＥＸＥＣＵＲＥ３０００、ＨＯＹＡ株式会社製）を用いて、１５ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１５０秒照射し、硬化物を得た。【０１８８】
＜光学特性測定＞
「複屈折Δｎ」は複屈折評価装置（ＷＰＡ−１００、株式会社フォトニックラティス社製）を用いて、作製した硬化物の中心を含む直径１０ｍｍ円内の複屈折を測定し、平均値を測定した。
「屈折率（ｎｄ）」、「アッベ数（νｄ）」及び「部分分散比（θｇ，Ｆ）」は、硬化物サンプル作製方法（２）により得られた硬化物をＶ字ブロック状に加工し、カルニュー精密屈折計ＫＰＲ−２０００（株式会社島津デバイス製造製）を用いて測定した。各サンプルについて２５℃で３回測定を行い、平均値を測定結果とした。
「屈折率（ｎｄ）」は、波長５８７．５６ｎｍにおける屈折率である。また、「アッベ数（νｄ）」及び「部分分散比（θｇ，Ｆ）」は、異なる波長における屈折率測定値から下記式により算出される値である。
νｄ＝（ｎｄ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
θｇ，Ｆ＝（ｎｇ−ｎＦ）／（ｎＦ−ｎＣ）
ここで、ｎｄは波長５８７．５６ｎｍにおける屈折率、ｎＦは波長４８６．１３ｎｍにおける屈折率、ｎＣは波長６５６．２７ｎｍにおける屈折率、ｎｇは波長４３５．８３ｎｍにおける屈折率を表す。【０１８９】
＜ヒートショック耐性試験用硬化物サンプル作製＞
調製した硬化性樹脂組成物を、硬化物の厚みが２ｍｍとなるように、直径１５ｍｍの円形の透明ガラス型に注入し、酸素濃度１％以下の雰囲気下でＵＶ照射装置（ＥＸＥＣＵＲＥ３０００、ＨＯＹＡ株式会社製）を用いて、１５ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１００秒照射し、硬化物を得た。【０１９０】
＜ヒートショック耐性試験＞
作製した硬化物１０個を１００℃で４８時間加熱したのち、室温に戻し、更に−４０℃に冷却し、４８時間経時させたのち室温に戻した。サンプルの形態観察をキーエンス社製デジタルマイクロスコープ及び、レーザー顕微鏡で行なった。ゆがみやヒビといった形状変化が認められるものを不良品とし、発生していないものを良品とした。１０個の硬化物を評価し、その良品の割合を良品率とし、以下の基準で評価した。
Ａ：良品率が８０％以上であった。
Ｂ：良品率が７０％以上８０％未満であった。
Ｃ：良品率が７０％未満であった。
【０１９１】
【表１】
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【０１９２】
表１に示す結果から、実施例１〜１５は比較例１に比べ、θｇ，Ｆが高いことがわかる。
実施例１、２、４〜１２、１４、１５においては、いずれもθｇ，Ｆが０．７５以上となり、好ましい結果が得られた。【０１９３】
実施例３（液晶）と実施例４とを比較すると、実施例４の方がθｇ，Ｆが高い。成分Ａにおいて化合物のコア部分に対して側鎖部の割合が少なく、Ｓｐ１及びＳｐ２に環構造がないためと考えられる。
一般式１において、Ｌ１及びＬ２が−Ｏ−である化合物は、θｇ，Ｆが高くなりより好ましい（実施例４および実施例５と実施例１０および実施例１１との比較）。【０１９４】
実施例１１に対して、成分Ａの添加量を２０質量％まで減らした実施例１３においても、高いヒートショック耐性が維持される結果が得られた。
実施例１１に対して、成分Ａの添加量を９９質量％に増やした実施例１４では、ヒートショック耐性は比較例１に比べ高く、９６質量％にした実施例１５では、よりヒートショック耐性が高い結果が得られた。【０１９５】
（実施例１６〜２０、比較例２）
＜硬化性樹脂組成物の調整２＞
下記表２に記載の組成となるように、成分（Ａ）、成分（Ｂ）としてモノマー８（（メタ）アクリレートモノマー）、および２種の光開始剤（イルガキュア８１９、イルガキュア１８４）を混合し、撹拌して均一にし、硬化性組成物を調製した。【０１９６】
【化３９】
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【０１９７】
＜耐擦試験および耐光性試験用硬化物サンプル作製＞
調整した硬化性樹脂組成物を、硬化物の厚みが２０μｍとなるように、直径５０ｍｍの円形の透明ガラス型に注入し、酸素濃度１％以下の雰囲気下でＵＶ照射装置（ＥＸＥＣＵＲＥ３０００，ＨＯＹＡ株式会社製）を用いて、１５ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１００秒照射し、硬化物を得た。【０１９８】
＜耐擦試験＞
耐摩耗試験機を用いて室温（２５℃）下、旭化成株式会社製のベンコット（登録商標；クリーンルーム用ワイパー）を、２００ｇの荷重で硬化物の表面を２０００回往復させることによって硬化物の表面を擦った。耐擦試験前後の硬化物の中心部（直径５ｍｍ）の紫外−可視透過率測定を行い、波長５８９ｎｍにおける透過率の低下幅（耐擦試験前の透過率−耐擦試験後の透過率）を求めることにより、耐擦性を評価した。耐擦性がよい場合、硬化物の表面に傷がつきにくいため、透過率の低下幅は小さくなる。【０１９９】
＜耐光性試験＞
調製した硬化物に、Ｅｘｅｃｕｒｅ３０００により２００Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射した。紫外線照射前後で、硬化物の中心部（直径５ｍｍ）の紫外−可視透過率測定を行い、波長４３０ｎｍにおける透過率の低下幅（紫外線照射前の透過率−紫外線照射後の透過率）を求めた。【０２００】
【表２】
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【国際調査報告】
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