(57)【要約】  本発明は、金属膜上に基材を有し、該基材側からの太陽光を反射する太陽熱発電用反射鏡であって、該基材は、マイクロフィブリル化セルロースを含有する樹脂からなるフィルムであることを特徴とし、屋外で太陽光を集光する際、気象条件の変化に対して、集光性能、特に正反射率を高く、安定して保ち、長期間に亘り使用可能な、耐久性に優れる太陽熱発電用反射鏡が提供できる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属膜上に基材を有し、該基材側からの太陽光を反射する太陽熱発電用反射鏡であって、該基材は、マイクロフィブリル化セルロースを含有する樹脂からなるフィルムであることを特徴とする太陽熱発電用反射鏡。
【請求項２】
前記基材の、前記金属膜と反対側に防汚層を有することを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用反射鏡。
【請求項３】
前記基材と前記金属膜との間に防湿層を有することを特徴とする請求項１または２に記載の太陽熱発電用反射鏡。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽光を集光して発生する熱を利用して発電する太陽熱発電システムに用いられる集光用の反射鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気エネルギーを得るシステムの一つとして、環境負荷の少ない、太陽光を利用する光−電気変換システムが検討されている。【０００３】
太陽光を利用するシステムには、太陽光を直接電気に変換する太陽光発電システムと、太陽光の熱を利用して電気に変換する太陽熱発電（集光型太陽熱発電）システムとがある。【０００４】
このうち、太陽熱発電システムは、環境負荷が少なく、蓄えた熱により２４時間発電が可能である、エネルギー変換効率が比較的高いなどの長所を有する。【０００５】
太陽熱発電システムは、鏡などの反射体を用いて太陽光を集光し、集光した光の熱を熱媒体に伝達し、熱媒体を介して発電するシステムである。【０００６】
発電の方法としては、例えば、熱媒体として水、オイル、溶融塩などを用い、加熱されたこれらの媒体で、水を蒸発させ、蒸気タービンを回転させて発電を行う方法などが知られている。【０００７】
太陽熱発電システムは、太陽光発電システムに比べて、日照時間が長く、広い土地が必要であること、過酷な気象条件でも安定した性能で動作する大型の設備が必要である等の短所を有している。【０００８】
過酷な気象条件でも安定した性能で動作することが求められる設備の一つとして、太陽光の集光に用いられる反射鏡がある。【０００９】
一般に、反射鏡としては、反射体を、ガラス上に設けたガラスミラーあるいはガラス以外の例えばプラスチックフィルムに設けたフィルムミラーなどが知られておりその用途により使い分けられている。【００１０】
フィルムミラーとしては、例えば特開２００４−７７６４３号公報に記載のベースフィルム上にアンカー膜を形成し、その上に銀蒸着膜を形成し、さらにその上に腐食防止などのための膜を形成し、裏面には裏面コート膜を形成したフィルムミラーが知られている。【００１１】
一方、太陽光の集光に用いられる反射鏡としては、例えば特開２００５−１０６４３２号公報に記載のＦＲＰなどの合成樹脂を、メッキして鏡面仕上げしたもの、特開２００８−２４９１６６号公報に記載のフェノール樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂などの耐熱性の樹脂を、アルミ蒸着や、アルミメッキで鏡面仕上げしたものが知られている。【００１２】
また、光学特性の温度変化が小さく、軽量で量産性に優れる、光学部品（凹面反射鏡）として以下のような凹面反射鏡が知られている。【００１３】
ミクロフィブリル化セルロースの集合に合成樹脂を含浸させて作るナノコンポジットを素材として基体を作製し、その基体に形成した平滑面に金属薄膜をもって反射面を形成した凹面鏡が知られている（特許文献１、２参照）。【００１４】
しかしながら、これらの反射鏡を、太陽熱発電用に用いられる集光用の反射鏡として用いた場合、設置される場所における温度および湿度の変化に対して、集光性能の劣化が大きく、さらに安定した集光能力をもつ反射鏡が望まれていた。【００１５】
特に、ヘリオスタットを用い集光する場合には、反射鏡の正反射率が高いことが望まれ、また設置される場所の熱、湿度の変化に対する反射鏡の集光能力の安定性、特に正反射率の安定性の確保が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開２００８−１６５０９４号公報
【特許文献２】特開２００８−２３３８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明の目的は、屋外で太陽光を集光する際、長時間に渡る太陽光の照射および気象条件の変化に対して、集光性能、特に正反射率を高く、安定して保ち、長期間に亘り使用可能な、耐久性に優れる太陽熱発電用反射鏡を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明の上記課題は、下記の手段により達成される。【００１９】
１．金属膜上に基材を有し、該基材側からの太陽光を反射する太陽熱発電用反射鏡であって、該基材は、マイクロフィブリル化セルロースを含有する樹脂からなるフィルムであることを特徴とする太陽熱発電用反射鏡。【００２０】
２．前記基材と前記金属膜との間に防湿層を有し、前記基材の金属膜側と反対側に防汚層を有することを特徴とする前記１に記載の太陽熱発電用反射鏡。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の上記手段により、屋外で太陽光を集光する際、温度および湿度の変化に対して、集光性能を高く、安定して保ち、長期間に亘り使用可能な、耐久性に優れる太陽熱発電用反射鏡が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の太陽熱発電用反射鏡の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明は、金属膜上に基材を有し、該基材側からの太陽光を反射する太陽熱発電用反射鏡であって、該基材は、マイクロフィブリル化セルロースを含有する樹脂からなるフィルムであることを特徴とする。
【００２４】
本発明では、特に金属薄膜とマイクロフィブリル化セルロースを含有する樹脂からなるフィルムとを組み合わせ有する反射鏡を用いることで、耐久性に優れる太陽熱発電用反射鏡が提供できる。
【００２５】
図１は、本発明の太陽熱発電用反射鏡の概略断面図である。
【００２６】
本発明の太陽熱発電用反射鏡１０は、金属膜１上に基材２を有する。太陽光１０１は、基材２の金属膜１と反対側から入射し、金属膜１により反射される。
【００２７】
太陽熱発電用反射鏡は、金属膜１と基材２との間に、後述する防湿層３を有することが好ましく、基材２の、金属層側とは反対側に防汚層４を有していてもよい。
【００２８】
また、金属膜１の基材側と反対側には防錆層を有していてもよい。
【００２９】
本発明の太陽熱発電用反射鏡は、金属膜上に基材を有する形態そのまま、もしくは太陽熱発電用反射を鏡支持体（図示せず）上に設置し、太陽熱発電の反射鏡として機能する。
【００３０】
以下、基材、金属膜、防湿層、防汚層について説明する。
【００３１】
（基材）
本発明の太陽熱発電用反射鏡は、金属膜上に基材を有する。
【００３２】
本発明に係る基材は、マイクロフィブリル化セルロース（以下、ＭＦＣと略すこともある。）を含有する樹脂からなるフィルムである。
【００３３】
本発明において、フィルムとは、厚さ３００μｍ以下の板状体をいう。
【００３４】
〈ＭＦＣ〉
本発明に係るＭＦＣとは、繊維として、好ましくは平均繊維径４〜２００ｎｍであるセルロース系繊維をいう。この繊維は、単繊維が、引き揃えられることなく、かつ相互間に入り込むように十分に離隔して存在するものより成ってもよい。この場合、平均繊維径は、単繊維の平均径となる。また、本発明に係る繊維は、複数（多数であってもよい。）本の単繊維が束状に集合して１本の糸条を構成しているものであってもよく、この場合、平均繊維径は１本の糸条の径の平均値として定義される。
【００３５】
繊維の平均繊維径は、好ましくは４〜１００ｎｍであり、より好ましくは４〜６０ｎｍである。
【００３６】
なお、繊維は、平均繊維径が４〜２００ｎｍの範囲内であれば、繊維中に４〜２００ｎｍの範囲外の繊維径のものが含まれていても良いが、その割合は３０質量％以下であることが好ましく、望ましくは、すべての繊維の繊維径が２００ｎｍ以下、特に１００ｎｍ以下、とりわけ６０ｎｍ以下であることが望ましい。
【００３７】
繊維の長さについては特に限定されないが、平均長さで１００ｎｍ以上が好ましい。繊維の平均長さが１００ｎｍより短いと、補強効果が低く、繊維強化複合材料の強度が不十分となるおそれがある。なお、繊維中には繊維長さ１００ｎｍ未満のものが含まれていても良いが、その割合は３０質量％以下であることが好ましい。
【００３８】
上記繊維径、繊維長の測定は市販の顕微鏡、電子顕微鏡により測定することができる。例えば、走査型電子顕微鏡により２０００倍にＭＦＣを拡大した写真を撮影し、ついでこの写真に基づいて「ＳＣＡＮＮＩＮＧ  ＩＭＡＧＥ  ＡＮＡＬＹＺＥＲ」（日本電子社製）を使用して写真画像の解析を行うことにより測定した。この際、１００個のＭＦＣを使用して繊維径、繊維長の平均値を求めることができる。
【００３９】
セルロース系繊維とは、植物細胞壁の基本骨格等を構成するセルロースのミクロフィブリル又はこれの構成繊維をいい、通常繊維径４ｎｍ程度の単位繊維の集合体である。このセルロース繊維は、結晶構造を４０％以上含有するものが、高い強度と低い熱膨張を得る上で好ましい。
【００４０】
本発明において、用いるセルロース系繊維は、植物から分離されるものであっても、バクテリアセルロースによって産生されるバクテリアセルロースであっても好適に用いることができる。
【００４１】
ＭＦＣの原料として用いられるパルプは、機械的方法で得られたパルプ（砕木パルプ、リファイナ・グランド・パルプ、サーモメカニカルパルプ、セミケミカルパルプ、ケミグランドパルプなど）、又は、化学的方法で得られたパルプ（クラフトパルプ、亜硫酸パルプなど）などが使用できる。パルプとしては、通常、木材パルプやリンターパルプ、古紙パルプなどが使用される。また、セルロースを含有する素材が広く使用できる。例えば、竹パルプ、バガスパルプのような脱リグニン処理を施した精製パルプ、コットン繊維、コットンリンター、麻繊維のようなセルロース系天然繊維、それらに脱リグニン処理を施した精製天然繊維、ビスコースやレーヨン、テンセル、ポリノジック繊維などの再生セルロース成形物、または穀物又は果実由来の食物繊維（例えば、小麦フスマ、えん麦フスマ、とうもろこし外皮、米ぬか、ビール粕、大豆粕、えんどう豆繊維、おから、リンゴ繊維など）、又は、木材や稲ワラに代表されるようなリグノセルロース材料である。
【００４２】
また、非木材繊維である、ケナフ、シオグサ、エスパルト、楮、三椏、雁皮、ラミーなどを用いても良く、微生物産生セルロース、バロニアセルロース、ホヤセルロースなどでも使用できる。
【００４３】
上記の中では、木材パルプを主原料とすることが好ましく、必要に応じてポリプロピレンなどの合成パルプを加えてもよい。好ましく用いられるのは無機物担持パルプであり、この製造のため用いられるセルロースパルプは、例えば、広葉樹材及び針葉樹材から得られるサルファイトパルプ（ＳＰ）、アルカリパルプ（ＡＰ）、クラフトパルプ（ＫＰ）等の化学パルプ、セミケミカルパルプ、セミメカニカルパルプ、機械パルプ等が挙げられる。また、パルプは未漂白パルプ、漂白パルプの区別及び叩解、未叩解の区別なく使用可能である。品質とコストから広葉樹晒クラフトパルプ（以下、ＬＢＫＰともいう）、或いは針葉樹晒クラフトパルプが最も適している。木材パルプとしてはＬＢＫＰ、ＬＢＳＰ、ＮＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＤＰ、ＮＤＰ、ＬＵＫＰ、ＮＵＫＰのいずれも用いることができるが短繊維分の多いＬＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＢＳＰ、ＮＤＰ、ＬＤＰをより多く用いることが好ましい。但し、ＬＢＳＰおよびまたはＬＤＰの比率は１０質量％以上、７０質量％以下が好ましい。
【００４４】
パルプの濾水度は、ＣＳＦの規定で、２００〜５００ｍｌが好ましく、また、叩解後の繊維長がＪＩＳ−Ｐ−８２０７に規定される２４メッシュ残分質量％と４２メッシュ残分質量％との和が３０〜７０％がＭＦＣを作製する上で好ましい。なお、４メッシュ残分質量％は２０質量％以下であることが好ましい。
【００４５】
また、竹パルプも好ましく用いられるが、特に限定されるものではないが、孟宗竹よりも真竹を用いることの方が、繊維直径が小さい（１５μｍ以下）ため、ＭＦＣを作製する上で好ましい。
【００４６】
また、セルロース系素材にキサンタンガム、カラヤガム、カラギーナン、ペクチン、繊維素グリコール酸ナトリウム等の水溶性のガム類、澱粉加水分解物、デキストリン類等の親水性物質等を適宜配合することができる。これらの水溶性のガム類、親水性物質は磨砕後の微細セルロースに添加配合してもよい。
【００４７】
本発明では、分散助剤を配合することもできる。含有量は１質量部迄とするのが通常であるが、分散助剤として、グルコース、ブドウ糖、庶糖、果糖、乳糖、麦芽糖、セロビオース、セロトリオース、セロテトラオース、マルトトリオース、フラクトース、キシロース、各種オリゴ糖、ソルビット、デキストリン類、デンプン類、ソルボース、ガム分解物、各種ガム類、プルラン、カードラン、寒天、ペクチン、デキストラン、ゼラチン、セルロース誘導体、アルギン酸、ファーセレラン、マルメロ、等の水溶性物質又は水膨潤性物質等が使用できる。
【００４８】
また、リン酸塩等による処理を用いることができ、これは植物細胞壁等の表面をリン酸エステル化することにより、セルロース繊維間の結合力を弱め、次いで、リファイナー処理を行うことにより、繊維をバラバラにし、セルロース繊維を得る処理法である。例えば、リグニン等を除去した植物細胞壁を５０質量％の尿素と３２質量％のリン酸を含む溶液に浸漬し、６０℃で溶液をセルロース繊維間に十分に染み込ませた後、１８０℃で加熱してリン酸化を進める。これを水洗した後、３質量％の塩酸水溶液中、６０℃で２時間、加水分解処理をして、再度水洗を行う。その後、３質量％の炭酸ナトリウム水溶液中において、室温で２０分間程処理することで、リン酸化を完了させる。そして、この処理物をリファイナーで解繊することにより、セルロース繊維が得られる。
【００４９】
また、本発明において用いられる繊維は、このようなセルロース繊維を化学修飾及び／又は物理修飾して機能性を高めたものであっても良い。ここで、化学修飾としては、アセチル化、シアノエチル化、アセタール化、エーテル化、イソシアネート化等によって官能基を付加させること、シリケートやチタネート等の無機物を化学反応やゾルゲル法等によって複合化や被覆化させること等が挙げられる。化学修飾の方法としては、例えば、セルロース繊維を無水酢酸中に浸漬して加熱する方法が挙げられ、アセチル化により、光線透過率を低下させることなく、吸水性の低下、耐熱性の向上を図ることができる。また、物理修飾としては、金属やセラミック原料を、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の物理蒸着法（ＰＶＤ法）、化学蒸着法（ＣＶＤ法）、無電解メッキや電解メッキ等のメッキ法等によって表面被覆させることが挙げられる。
【００５０】
本発明に係るＭＦＣは、バクテリアからの産生物をアルカリ処理してバクテリアを溶解除去して得られるものを離解処理することなく用いることもできる。
【００５１】
地球上においてセルロースを生産し得る生物は、植物界は言うに及ばず、動物界ではホヤ類、原生生物界では、各種藻類、卵菌類、粘菌類など、またモネラ界では藍藻及び酢酸菌、土壌細菌の一部に分布している。現在のところ、菌界（真菌類）にはセルロース生産能は確認されていない。このうち酢酸菌としては、アセトバクター（Ａｃｅｔｏｂａｃｔｅｒ）属等が挙げられ、より具体的には、アセトバクターアセチ（Ａｃｅｔｏｂａｃｔｅｒ  ａｃｅｔｉ）、アセトバクターサブスピーシーズ（Ａｃｅｔｏｂａｃｔｅｒ  ｓｕｂｓｐ．）、アセトバクターキシリナム（Ａｃｅｔｏｂａｃｔｅｒ  ｘｙｌｉｎｕｍ）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５２】
このようなバクテリアを培養することにより、バクテリアからセルロースが産生される。得られた産生物は、バクテリアとこのバクテリアから産生されて該バクテリアに連なっているセルロース繊維（バクテリアセルロース）とを含むものであるため、この産生物を培地から取り出し、それを水洗、又はアルカリ処理などしてバクテリアを除去することにより、バクテリアを含まない含水バクテリアセルロースを得ることができる。この含水バクテリアセルロースから水分を除去することによりバクテリアセルロースを得ることができる。
【００５３】
バクテリアセルロース中に残存するバクテリアを除去する方法として、水洗またはアルカリ処理などが挙げられる。バクテリアを溶解除去するためのアルカリ処理としては、培養液から取り出したバクテリアセルロースを０．０１〜１０質量％程度のアルカリ水溶液に１時間以上注加する方法が挙げられる。そして、アルカリ処理した場合は、アルカリ処理液からバクテリアセルロースを取り出し、十分水洗し、アルカリ処理液を除去する。
【００５４】
このようにして得られた含水バクテリアセルロース（通常、含水率９５〜９９質量％のバクテリアセルロース）は、次いで、水分除去処理を行う。
【００５５】
この水分除去法としては、特に限定されないが、放置やコールドプレス等でまず水をある程度抜き、次いで、そのまま放置するか、又はホットプレス等で残存の水を完全に除去する方法、コールドプレス法の後、乾燥機にかけたり、自然乾燥させたりして水を除去する方法等が挙げられる。
【００５６】
上記コールドプレスとは、熱をかけずに圧力を加えて、水を抜き出す方法であり、ある程度の水を絞り出すことができる。このコールドプレスにおける圧力は、０．０１〜１０ＭＰａが好ましく、０．１〜３ＭＰａがより好ましい。圧力が０．０１ＭＰａより小さいと、水の残存量が多くなる傾向があり、１０ＭＰａより大きいと、得られるバクテリアセルロースが破壊される場合がある。また、温度は特に限定されないが、操作の便宜上、常温が好ましい。
【００５７】
上記ホットプレスとは、熱を加えながら圧力をかけることにより、水を抜き出す方法であり、残存の水を完全に除去することができる。このホットプレスにおける圧力は、０．０１〜１０ＭＰａが好ましく、０．２〜３ＭＰａがより好ましい。圧力が０．０１ＭＰａより小さいと、水を除去できなくなる場合があり、１０ＭＰａより大きいと、得られるバクテリアセルロースが破壊される場合がある。また、温度は１００〜３００℃が好ましく、１１０〜２００℃がより好ましい。温度が１００℃より低いと、水の除去に時間を要し、一方、３００℃より高いと、バクテリアセルロースの分解等が生じるおそれがある。
【００５８】
また、上記乾燥機による乾燥温度についても、１００〜３００℃が好ましく、１１０〜２００℃がより好ましい。乾燥温度が１００℃より低いと、水の除去ができなくなる場合があり、一方、３００℃より高いと、セルロース繊維の分解等が生じるおそれがある。
【００５９】
ＭＦＣは、製紙用パルプ等のセルロース繊維に強力な機械的せん断力を与えることにより得られることが知られており、その製造方法も数多く提案されている。例えば特公昭６０−１９９２１号公報では、繊維状セルロースの懸濁液を小径のオリフィスを通過させて、その懸濁液に少なくとも３０００ｐｓｉの圧力差で高速度を与え、次にこれを衝突させて急速に減速させることにより切断作用を行わせる工程と、この工程を繰返して前記セルロース懸濁液が実質的に安定な懸濁液となるようにする工程とからなる微小繊維状セルロースの製造方法を提案している。
【００６０】
特開平４−８２９０７号公報では、乾燥状態で天然セルロース繊維の短繊維を解砕させることによりフィブリル化天然セルロースを製造する方法を提案している。さらに特開平０６−１０２８６号では、ガラス、アルミナ、ジルコニア、ジルコン、スチール、チタニア等の材質のビーズまたはボールを粉砕媒体として用いた振動ミル粉砕装置によって、繊維状セルロースの懸濁液に湿式粉砕処理を施す微細繊維状セルロースの製造方法が開示されている。
【００６１】
ＭＦＣは、前記セルロース系原料を複数の粉砕手段を用いて微細化することが好ましい。粉砕手段は限定されないが、本発明の目的に合う粒径まで微細に粉砕するためには、高圧ホモジナイザーや媒体ミル、砥石回転型粉砕機、石臼式グラインダーのような強い剪断力が得られる方式が好ましく用いられる。
【００６２】
高圧ホモジナイザーとは、加速された高流速によるせん断力、急激な圧力降下（キャビテーション）および高流速の粒子同士が微細オリフィス内で対面衝突することによる衝撃力によって磨砕を行う装置であり、市販されている装置としては、ナノマイザー（ナノマイザー株式会社製）、マイクロフルイダイザー（Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ社製）等を用いることができる。
【００６３】
高圧ホモジナイザーによるセルロースのフィブリル化と均質化の程度は、高圧ホモジナイザーへ圧送する圧力と高圧ホモジナイザーに通過させる回数（パス回数）に依存する。圧送圧力は、通常、５００〜２０００ｋｇ／ｃｍ２程度の範囲で行うことが超微細化処理に適するが、生産性を考慮すると１０００〜２０００ｋｇ／ｃｍ２がより好ましい。パス回数は、例えば、５〜５０回、好ましくは１０〜４０回、特に２０〜３０回程度である。媒体ミルは湿式振動ミル、湿式遊星振動ミル、湿式ボールミル、湿式ロールミル、湿式コボールミル、湿式ビーズミル、湿式ペイントシェーカー等である。これらの中で例えば湿式ビーズミルとは、金属製、セラミック製等の媒体を容器に内蔵し、これを強制撹拌することによって湿式磨砕する装置であるが、例えば市販されている装置としては、アペックスミル（コトブキ技研工業株式会社製）、パールミル（アシザワ株式会社製）、ダイノーミル（株式会社シンマルエンタープライゼス製）等を用いることができる。
【００６４】
砥石回転型粉砕機とは、コロイドミル或いは石臼型粉砕機の一種であり、例えば、粒度が１６〜１２０番の砥粒からなる砥石をすりあわせ、そのすりあわせ部に前述の水分散液を通すことで、粉砕処理される装置のことである。必要に応じて、複数回処理を行ってもよい。砥石を適宜変更するのは好ましい実施態様の一つである。砥石回転型粉砕機は、「短繊維化」と「微細化」の両作用を有するが、その作用は砥粒の粒度に影響を受ける。短繊維化を目的とする場合は４６番以下の砥石が有効であり、微細化を目的とする場合は４６番以上の砥石が有効である。４６番はいずれの作用も有する。具体的な装置としては、ピュアファインミル（グラインダーミル）（株式会社栗田機械製作所）、セレンディピター、スーパーマスコロイダー、スーパーグラインデル（以上、増幸産業株式会社）などがあげられる。
【００６５】
本発明において、得られたＭＦＣは、直接、または分散液として樹脂に添加されるが、その含有量は０．１から５０質量％の範囲であることが好ましい。より好ましくは５〜５０質量％であり、特に１０〜４０質量％が好ましい。
【００６６】
樹脂にＭＦＣを含有させる方法は特に限定されるものではないが、後述する溶液流延法においては、ドープ液を調製する際に分散液として含有させる方法、溶融流延法においては、樹脂を含有する組成物であるペレットに含有させておく方法が用いられる。
【００６７】
本発明に係る基材は、ＭＦＣを含有する樹脂からなるフィルムである。
【００６８】
当該樹脂としては、セルロースエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、および脂環式オレフィンポリマーなどを挙げることができる。この中でも、セルロースエステル樹脂、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂等の熱可塑性樹脂が好ましい。
【００６９】
〈セルロースエステル樹脂（以下、単にセルロースエステルとも称する）〉
本発明に用いることができるセルロースエステルは、セルロースエステルの構造を有し、脂肪酸アシル基、置換もしくは無置換の芳香族アシル基の中から少なくともいずれかの構造を含む、セルロースの前記単独または混合酸エステルであることが好ましい。
【００７０】
以下、本発明において特に有用なセルロースエステルについて例示するがこれらに限定されるものではない。
【００７１】
芳香族アシル基において、芳香族環がベンゼン環であるとき、ベンゼン環の置換基の例としてハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニトロ、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基及びアリールオキシスルホニル基、−Ｓ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＯＲ、−ＰＨ−Ｒ、−Ｐ（−Ｒ）２、−ＰＨ−Ｏ−Ｒ、−Ｐ（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｐ（−Ｏ−Ｒ）２、−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）２、−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ、−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）２、−Ｏ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）２−Ｏ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）２、−ＮＨ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ、−ＮＨ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−ＮＨ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）２、−ＳｉＨ２−Ｒ、−ＳｉＨ（−Ｒ）２、−Ｓｉ（−Ｒ）３、−Ｏ−ＳｉＨ２−Ｒ、−Ｏ−ＳｉＨ（−Ｒ）２及び−Ｏ−Ｓｉ（−Ｒ）３が含まれる。上記Ｒは脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基である。置換基の数は、一個〜五個であることが好ましく、一個〜四個であることがより好ましく、一個〜三個であることがさらに好ましく、一個または二個であることが最も好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基及びウレイド基が好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基及びカルボンアミド基がより好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基及びアリールオキシ基がさらに好ましく、ハロゲン原子、アルキル基及びアルコキシ基が最も好ましい。
【００７２】
上記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が含まれる。
【００７３】
上記アルキル基は、環状構造或いは分岐を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜６であることがさらに好ましく、１〜４であることが最も好ましい。アルキル基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル及び２−エチルヘキシルが含まれる。上記アルコキシ基は、環状構造或いは分岐を有していてもよい。アルコキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜６であることがさらに好ましく、１〜４であることが最も好ましい。アルコキシ基は、さらに別のアルコキシ基で置換されていてもよい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メトキシ−２−エトキシエトキシ、ブチルオキシ、ヘキシルオキシ及びオクチルオキシが含まれる。
【００７４】
上記アリール基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。アリール基の例には、フェニル及びナフチルが含まれる。上記アリールオキシ基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシ及びナフトキシが含まれる。上記アシル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。アシル基の例には、ホルミル、アセチル及びベンゾイルが含まれる。上記カルボンアミド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。カルボンアミド基の例には、アセトアミド及びベンズアミドが含まれる。上記スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド及びｐ−トルエンスルホンアミドが含まれる。上記ウレイド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。ウレイド基の例には、（無置換）ウレイドが含まれる。
【００７５】
上記アラルキル基の炭素原子数は、７〜２０であることが好ましく、７〜１２であることがさらに好ましい。アラルキル基の例には、ベンジル、フェネチル及びナフチルメチルが含まれる。上記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルが含まれる。上記アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は、７〜２０であることが好ましく、７〜１２であることがさらに好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニルが含まれる。上記アラルキルオキシカルボニル基の炭素原子数は、８〜２０であることが好ましく、８〜１２であることがさらに好ましい。アラルキルオキシカルボニル基の例には、ベンジルオキシカルボニルが含まれる。上記カルバモイル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。カルバモイル基の例には、（無置換）カルバモイル及びＮ−メチルカルバモイルが含まれる。上記スルファモイル基の炭素原子数は、２０以下であることが好ましく、１２以下であることがさらに好ましい。スルファモイル基の例には、（無置換）スルファモイル及びＮ−メチルスルファモイルが含まれる。上記アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。アシルオキシ基の例には、アセトキシ及びベンゾイルオキシが含まれる。
【００７６】
上記アルケニル基の炭素原子数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。アルケニル基の例には、ビニル、アリル及びイソプロペニルが含まれる。上記アルキニル基の炭素原子数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。アルキニル基の例には、チエニルが含まれる。上記アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。上記アリールスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。上記アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。上記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。
【００７７】
セルロースエステルにおいて、セルロースの水酸基部分の水素原子が脂肪族アシル基との脂肪酸エステルであるとき、脂肪族アシル基は炭素原子数が２〜２０で具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられる。
【００７８】
本発明において前記脂肪族アシル基とはさらに置換基を有するものも包含する意味であり、置換基としては上述の芳香族アシル基において、芳香族環がベンゼン環であるとき、ベンゼン環の置換基として例示したものが挙げられる。
【００７９】
また、上記セルロースエステルのエステル化された置換基が芳香環であるとき、芳香族環に置換する置換基Ｘの数は０または１〜５個であり、好ましくは１〜３個で、特に好ましいのは１又は２個である。さらに、芳香族環に置換する置換基の数が２個以上の時、互いに同じでも異なっていてもよいが、また、互いに連結して縮合多環化合物（例えばナフタレン、インデン、インダン、フェナントレン、キノリン、イソキノリン、クロメン、クロマン、フタラジン、アクリジン、インドール、インドリンなど）を形成してもよい。
【００８０】
上記セルロースエステルにおいて置換もしくは無置換の脂肪族アシル基、置換もしくは無置換の芳香族アシル基の少なくともいずれか１種選択された構造を有する構造を有することが本発明のセルロースエステルに用いる構造として用いられ、これらは、セルロースの単独または混合酸エステルでもよく、２種以上のセルロースエステルを混合して用いてもよい。
【００８１】
セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【００８２】
これらの中で特に好ましいセルロースエステルは、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートが挙げられる。
【００８３】
混合脂肪酸エステルの置換度として、さらに好ましいセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートの低級脂肪酸エステルは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂であることが好ましい。
【００８４】
式（Ｉ）    ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）    １．０≦Ｘ≦２．５
この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５であり、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。
【００８５】
さらに、セルロースエステルは、重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは２．０〜５．０であり、さらに好ましくは２．５〜５．０であり、さらに好ましくは３．０〜５．０のセルロースエステルが好ましく用いられる。
【００８６】
セルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。
【００８７】
例えば、綿花リンター由来セルロースエステル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることができる。
【００８８】
セルロースエステルは、２０ｍｌの純水（電気伝導度０．１μＳ／ｃｍ以下、ｐＨ６．８）に１ｇ投入し、２５℃、１ｈｒ、窒素雰囲気下にて攪拌した時のｐＨが６〜７、電気伝導度が１〜１００μＳ／ｃｍであることが好ましい。
【００８９】
〈アクリル樹脂〉
本発明に用いられるアクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。樹脂としては特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、およびこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。
【００９０】
共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して用いることができる。
【００９１】
これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。
【００９２】
アクリル樹脂は、フィルムとしての機械的強度、フィルムを生産する際の流動性の点から重量平均分子量（Ｍｗ）が８００００〜１００００００であることが好ましい。この分子量とすることで、耐熱性と脆性の両立を図ることができる。
【００９３】
アクリル樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。測定条件は以下の通りである。
【００９４】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝２，８００，０００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００９５】
アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系およびアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁または乳化重合では３０〜１００℃、塊状または溶液重合では８０〜１６０℃で実施しうる。さらに、生成共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。
【００９６】
アクリル樹脂としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０、ＢＲ８３、ＢＲ８５、ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００９７】
〈環状オレフィン樹脂〉
本発明においては、環状オレフィン樹脂を用いることも好ましい。環状オレフィン樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系樹脂は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。
【００９８】
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体又はそれらの水素化物、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体又はそれらの水素化物等を挙げることができる。
【００９９】
これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環（共）重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。
【０１００】
ノルボルネン構造を有する単量体としては、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、およびこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０１】
極性基の種類としては、ヘテロ原子、またはヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン基などが挙げられる。
【０１０２】
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類及びその誘導体、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエン及びその誘導体などが挙げられる。
【０１０３】
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に（共）重合することにより得ることができる。
【０１０４】
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィンおよびこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエンなどの非共役ジエンなどが挙げられる。これらの単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。
【０１０５】
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。
【０１０６】
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素添加物、ノルボルネン構造を有する単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体の水素添加物、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の水素添加物、およびノルボルネン構造を有する単量体とこれと付加共重合可能なその他の単量体との付加共重合体の水素添加物は、これらの重合体の溶液に、ニッケル、パラジウムなどの遷移金属を含む公知の水素添加触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは９０％以上水素添加することによって得ることができる。
【０１０７】
ノルボルネン系樹脂の中でも、繰り返し単位として、Ｘ：ビシクロ［３．３．０］オクタン−２，４−ジイル−エチレン構造と、Ｙ：トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカン−７，９−ジイル−エチレン構造とを有し、これらの繰り返し単位の含有量が、ノルボルネン系樹脂の繰り返し単位全体に対して９０質量％以上であり、かつ、Ｘの含有割合とＹの含有割合との比が、Ｘ：Ｙの質量比で１００：０〜４０：６０であるものが好ましい。このような樹脂を用いることにより、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れる位相差フィルム（光学フィルム）を得ることができる。
【０１０８】
環状オレフィン樹脂の分子量は使用目的に応じて適宜選定される。溶媒としてシクロヘキサン（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン）を用いるゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常２０，０００〜１５０，０００である。好ましくは２５，０００〜１００，０００、より好ましくは３０，０００〜８０，０００である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度および成型加工性とが高度にバランスされ好適である。
【０１０９】
環状オレフィン樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよい。好ましくは１３０〜１６０℃、より好ましくは１３５〜１５０℃の範囲である。ガラス転移温度が１３０℃を下回ると高温下における耐久性が悪化し、１６０℃を上回るものは耐久性は向上するが通常の延伸加工が困難となる。
【０１１０】
環状オレフィン樹脂の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は１．２〜３．５、好ましくは１．５〜３．０、さらに好ましくは１．８〜２．７である。この数値が３．５を超えると低分子成分が増すため緩和時間の短い成分が増加し、一見同じ面内リターデーションを有するフィルムであっても高温暴露時の緩和が短時間で大きくなってしまうことが推定される。一方１．２を下回るような分子量分布のものは樹脂の生産性の低下とコスト増につながりディスプレイ部材としては現実的でない。
【０１１１】
環状オレフィン樹脂は、光弾性係数の絶対値が１０×１０−１２Ｐａ−１以下であることが好ましく、７×１０−１２Ｐａ−１以下であることがより好ましく、４×１０−１２Ｐａ−１以下であることが特に好ましい。光弾性係数Ｃは、複屈折をΔｎ、応力をσとしたとき、Ｃ＝Δｎ／σで表される値である。
【０１１２】
なお、基材には、上記の樹脂以外の高分子材料やオリゴマーを適宜選択して混合してもよい。高分子材料やオリゴマーとしては、セルロースエステル樹脂等と相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が８０％以上、さらに好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９２％以上であることが好ましい。
【０１１３】
（酸化防止剤）
基材は、酸化防止剤を含むことも好ましい。
【０１１４】
好ましい酸化防止剤はリン系またはフェノール系であり、リン系とフェノール系を同時に組み合わせるとより好ましい。
【０１１５】
以下、本発明において好適に用いることができる酸化防止剤について説明する。
【０１１６】
〈フェノール系酸化防止剤〉
本発明においては、フェノール系の酸化防止剤が好ましく用いられ、特にヒンダードフェノール化合物が好ましく用いられる。
【０１１７】
ヒンダードフェノール化合物の具体例には、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミド−Ｎ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノ−Ｎ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリトリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ���ニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのヒンダードフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン（株）から、”Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６”及び”Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０”という商品名で市販されている。
【０１１８】
〈リン系酸化防止剤〉
リン系酸化防止剤としては、ホスファイト（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスホナイト（ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｔｅ）、ホスフィナイト（ｐｈｏｓｐｈｉｎｉｔｅ）、または第３級ホスファン（ｐｈｏｓｐｈａｎｅ）等のリン系化合物を使用することができる。リン系化合物のとしては、従来既知の化合物を用いることができる。例えば、特開２００２−１３８１８８号、特開２００５−３４４０４４号段落番号００２２〜００２７、特開２００４−１８２９７９号段落番号００２３〜００３９、特開平１０−３０６１７５号、特開平１−２５４７４４号、特開平２−２７０８９２号、特開平５−２０２０７８号、特開平５−１７８８７０号、特表２００４−５０４４３５号、特表２００４−５３０７５９号、および特願２００５−３５３２２９号公報の明細書中に記載されているものが好ましい。
【０１１９】
リン系化合物の添加量は、樹脂１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部、好ましくは０．０５〜５質量部、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。
【０１２０】
リン系化合物としては、上記一般式で表される化合物のほかに、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；トリフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物；トリフェニルホスフィナイト、２，６−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物；トリフェニルホスフィン、トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン系化合物；等が挙げられる。
【０１２１】
上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−２４Ｇ”、“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−３６”及び“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ３０１０”、チバ・ジャパン株式会社から“ＩＲＧＡＦＯＳ  Ｐ−ＥＰＱ”、堺化学工業株式会社から“ＧＳＹ−Ｐ１０１”という商品名で市販されている。
【０１２２】
（その他の酸化防止剤）
また、ジラウリル−３，３′−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３′−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３′−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）等のイオウ系酸化防止剤、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート等の耐熱加工安定剤、特公平０８−２７５０８号記載の３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１−ベンゾピラン系化合物、３，３′−スピロジクロマン系化合物、１，１−スピロインダン系化合物、モルホリン、チオモルホリン、チオモルホリンオキシド、チオモルホリンジオキシド、ピペラジン骨格を部分構造に有する化合物、特開平０３−１７４１５０記載のジアルコキシベンゼン系化合物等の酸素スカベンジャー等が挙げられる。これら酸化防止剤の部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸捕捉剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【０１２３】
（その他添加剤）
本発明に係る基材には、上記の化合物等の他に、目的に応じて種々の化合物等を添加剤として含有させることができる。
【０１２４】
〈酸捕捉剤〉
酸捕捉剤としては、米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されている酸捕捉剤としてのエポキシ化合物を含んでなるのが好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２この炭素原子の脂肪酸の４〜２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）など）、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど（例えば、エポキシ化大豆油などの組成物によって代表され、例示され得る、エポキシ化植物油及び他の不飽和天然油（これらは時としてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している））が含まれる。
【０１２５】
〈光安定剤〉
光安定剤としては、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）化合物が挙げられ、これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，６１９，９５６号明細書の第５〜１１欄及び米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第３〜５欄に記載されているように、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン化合物、またはそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。さらに、特開２００７−６３３１１号公報に記載されている光安定剤を用いることができる。
【０１２６】
〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収剤としては、紫外線による劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
【０１２７】
ベンゾトリアゾール系化合物の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（１−メチル−１−フェニルエチル）−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１２８】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもチバ・ジャパン社製）、ＬＡ３１（ＡＤＥＫＡ社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ２５０（住友化学社製）、ＲＵＶＡ−１００（大塚化学製）が挙げられる。
【０１２９】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１３０】
本発明においては、紫外線吸収剤は０．１〜２０質量％添加することが好ましく、さらに０．５〜１０質量％添加することが好ましく、さらに１〜５質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。
【０１３１】
〈マット剤〉
本発明に係る基材には、マット剤等の微粒子を添加することができ、微粒子としては、無機化合物の微粒子又は有機化合物の微粒子が挙げられる。マット剤はできるだけ微粒子のものが好ましく、微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。中でも、二酸化ケイ素が樹脂基板のヘイズを低くできるので好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものは樹脂基板のヘイズを低下できるため好ましい。
【０１３２】
表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。
【０１３３】
また、微粒子の二次粒子の平均粒径は、０．０５〜１．０μｍの範囲である。好ましい微粒子の二次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、７〜１４ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、セルロースエステルフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させる為に好ましく用いられる。微粒子のセルロースエステル中の含有量はセルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。
【０１３４】
二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル（株）製のアエロジル（ＡＥＲＯＳＩＬ）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることができ、好ましくはアエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９：０．１の範囲で使用できる。
【０１３５】
上記マット剤として用いられる基材中の微粒子の存在は、別の目的として基材の強度向上のために用いることもできる。
【０１３６】
（基材の製造方法）
基材の製造方法としては、通常のインフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、流延法による溶液流延法、溶融流延法が好ましく用いられる。
【０１３７】
以下、フィルムである基材の典型的な例を以下に詳述する。
【０１３８】
＜溶液流延法による基材の製造方法＞
（有機溶媒）
本発明の基材を溶液流延法で製造する場合、ドープを形成するのに有用な有機溶媒は、樹脂の熱可塑性樹脂を溶解するものであれば制限なく用いることができる。
【０１３９】
例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、乳酸エチル、乳酸、ジアセトンアルコール等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、乳酸エチル等を好ましく使用し得る。
【０１４０】
ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させてもよい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系での熱可塑性樹脂の溶解を促進する役割もある。
【０１４１】
特に、メチレンクロライド、および炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、熱可塑性樹脂は、少なくとも計１０〜４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。
【０１４２】
炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。
【０１４３】
以下、本発明に係る基材の好ましい製膜方法について説明する。
【０１４４】
１）溶解工程
熱可塑性樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で熱可塑性樹脂、熱収縮材料、その他の添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程である。
【０１４５】
熱可塑性樹脂の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、または特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。
【０１４６】
返材とは、フィルムを細かく粉砕した物で、フィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでスペックアウトしたフィルム原反のことをいい、これも再使用される。
【０１４７】
２）流延工程
ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレスベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
【０１４８】
ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。あるいは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造のフィルムを得ることも好ましい。
【０１４９】
３）溶媒蒸発工程
ウェブ（流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜をウェブと呼ぶ）を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。
【０１５０】
溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法および／または支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法の乾燥効率が良く好ましい。又、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを４０〜１００℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。４０〜１００℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。
【０１５１】
面品質、透湿性、剥離性の観点から、３０〜１２０秒以内で該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。
【０１５２】
４）剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。
【０１５３】
金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは１０〜４０℃であり、さらに好ましくは１１〜３０℃である。
【０１５４】
なお、剥離する時点での金属支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により５０〜１２０質量％の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易いため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。
【０１５５】
ウェブの残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１５６】
残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。
【０１５７】
金属支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常、１９６〜２４５Ｎ／ｍであるが、剥離の際に皺が入り易い場合、１９０Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましく、さらには、剥離できる最低張力〜１６６．６Ｎ／ｍ、次いで、最低張力〜１３７．２Ｎ／ｍで剥離することが好ましいが、特に好ましくは最低張力〜１００Ｎ／ｍで剥離することである。
【０１５８】
本発明においては、当該金属支持体上の剥離位置における温度を−５０〜４０℃とするのが好ましく、１０〜４０℃がより好ましく、１５〜３０℃とするのが最も好ましい。
【０１５９】
５）乾燥および延伸工程
剥離後、ウェブを乾燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置３５、および／またはクリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター延伸装置３４を用いて、ウェブを乾燥する。
【０１６０】
乾燥手段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平面性を損ね易い。高温による乾燥は残留溶媒が８質量％以下くらいから行うのがよい。全体を通し、乾燥は概ね４０〜２５０℃で行われる。特に４０〜１６０℃で乾燥させることが好ましい。
【０１６１】
テンター延伸装置を用いる場合は、テンターの左右把持手段によってフィルムの把持長（把持開始から把持終了までの距離）を左右で独立に制御できる装置を用いることが好ましい。また、テンター工程において、平面性を改善するため意図的に異なる温度を持つ区画を作ることも好ましい。
【０１６２】
また、異なる温度区画の間にそれぞれの区画が干渉を起こさないように、ニュートラルゾーンを設けることも好ましい。
【０１６３】
なお、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することも好ましい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。
【０１６４】
この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。即ち、例えば、次のような延伸ステップも可能である。
【０１６５】
・流延方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
・幅手方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
また、同時２軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時２軸延伸の好ましい延伸倍率は幅手方向、長手方向ともに×１．０１倍〜×１．５倍の範囲でとることができる。
【０１６６】
テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量は、テンター開始時に２０〜１００質量％であるのが好ましく、かつウェブの残留溶媒量が１０質量％以下になる迄テンターを掛けながら乾燥を行うことが好ましく、さらに好ましくは５質量％以下である。
【０１６７】
テンターを行う場合の乾燥温度は、３０〜１６０℃が好ましく、５０〜１５０℃がさらに好ましく、７０〜１４０℃が最も好ましい。
【０１６８】
テンター工程において、雰囲気の幅手方向の温度分布が少ないことが、フィルムの均一性を高める観点から好ましく、テンター工程での幅手方向の温度分布は、±５℃以内が好ましく、±２℃以内がより好ましく、±１℃以内が最も好ましい。
【０１６９】
６）巻き取り工程
ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってからフィルムとして巻き取り機３７により巻き取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。特に０．００〜０．１０質量％で巻き取ることが好ましい。
【０１７０】
巻き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使いわければよい。
【０１７１】
本発明に係る基材であるフィルムは、長尺フィルムであることが好ましく、具体的には、１００ｍ〜５０００ｍ程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。また、フィルムの幅は１．３〜４ｍであることが好ましく、１．４〜２ｍであることがより好ましい。
【０１７２】
本発明に係る基材であるフィルムは、の厚さは３００μｍ以下であるが、２０〜２００μｍであることが好ましく、２５〜１５０μｍであることがより好ましい。
【０１７３】
＜溶融流延製膜法による基材の製造方法＞
本発明の基材を溶融流延製膜法により製造する場合の方法について説明する。
【０１７４】
〈溶融ペレット製造工程〉
溶融押出に用いる、樹脂を含む組成物は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。
【０１７５】
ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥した熱可塑性樹脂と熱収縮材料等からなる添加剤をフィーダーで押出機に供給し１軸や２軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることでできる。
【０１７６】
原材料は、押出する前に乾燥しておくことが原材料の分解を防止する上で重要である。特にセルロースエステルは吸湿しやすいので、除湿熱風乾燥機や真空乾燥機で７０〜１４０℃で３時間以上乾燥し、水分率を２００ｐｐｍ以下、さらに１００ｐｐｍ以下にしておくことが好ましい。
【０１７７】
添加剤は、押出機に供給押出機合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、こと前に混合しておくことが好ましい。
【０１７８】
酸化防止剤の混合は、固体同士で混合してもよいし、必要により、酸化防止剤を溶剤に溶解しておき、熱可塑性樹脂に含浸させて混合してもよく、あるいは噴霧して混合してもよい。
【０１７９】
真空ナウターミキサーなどが乾燥と混合を同時にできるので好ましい。また、フィーダー部やダイからの出口など空気と触れる場合は、除湿空気や除湿したＮ２ガスなどの雰囲気下にすることが好ましい。
【０１８０】
押出機は、せん断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
【０１８１】
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。ペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。
【０１８２】
〈溶融混合物をダイから冷却ロールへ押し出す工程〉
まず、作製したペレットを１軸や２軸タイプの押出機を用いて、押し出す際の溶融温度Ｔｍを２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどでろ過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に共押出し、冷却ロール上で固化し、弾性タッチロールと押圧しながら流延する。
【０１８３】
供給ホッパーから押出機へ導入する際は真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。なお、Ｔｍは、押出機のダイ出口部分の温度である。
【０１８４】
ダイに傷や可塑剤の凝結物等の異物が付着するとスジ状の欠陥が発生する場合がある。このような欠陥のことをダイラインとも呼ぶが、ダイライン等の表面の欠陥を小さくするためには、押出機からダイまでの配管には樹脂の滞留部が極力少なくなるような構造にすることが好ましい。ダイの内部やリップにキズ等が極力無いものを用いることが好ましい。
【０１８５】
押出機やダイなどの溶融樹脂と接触する内面は、表面粗さを小さくしたり、表面エネルギーの低い材質を用いるなどして、溶融樹脂が付着し難い表面加工が施されていることが好ましい。具体的には、ハードクロムメッキやセラミック溶射したものを表面粗さ０．２Ｓ以下となるように研磨したものが挙げられる。
【０１８６】
冷却ロールには特に制限はないが、高剛性の金属ロールで内部に温度制御可能な熱媒体または冷媒体が流れるような構造を備えるロールであり、大きさは限定されないが、溶融押し出されたフィルムを冷却するのに十分な大きさであればよく、通常冷却ロールの直径は１００ｍｍから１ｍ程度である。
【０１８７】
冷却ロールの表面材質は、炭素鋼、ステンレス、アルミニウム、チタンなどが挙げられる。さらに表面の硬度を上げたり、樹脂との剥離性を改良するため、ハードクロムメッキや、ニッケルメッキ、非晶質クロムメッキなどや、セラミック溶射等の表面処理を施すことが好ましい。
【０１８８】
冷却ロール表面の表面粗さは、Ｒａで０．１μｍ以下とすることが好ましく、さらに０．０５μｍ以下とすることが好ましい。ロール表面が平滑であるほど、得られるフィルムの表面も平滑にできるのである。もちろん表面加工した表面はさらに研磨し上述した表面粗さとすることが好ましい。
【０１８９】
弾性タッチロールとしては、特開平０３−１２４４２５号、特開平０８−２２４７７２号、特開平０７−１００９６０号、特開平１０−２７２６７６号、ＷＯ９７／０２８９５０号、特開平１１−２３５７４７号、特開２００２−３６３３２号、特開２００５−１７２９４０号や特開２００５−２８０２１７号公報に記載されているような表面が薄膜金属スリーブ被覆シリコンゴムロールを使用することができる。
【０１９０】
冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
【０１９１】
〈延伸工程〉
上記のようにして得られたフィルムは冷却ロールに接する工程を通過後、さらに少なくとも１方向に１．０１〜３．０倍延伸することもできる。
【０１９２】
好ましくは縦（フィルム搬送方向）、横（巾方向）両方向にそれぞれ１．１〜２．０倍延伸することが好ましい。
【０１９３】
延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。特に光学フィルムが、偏光板保護フィルムを兼ねる場合は、延伸方向を巾方向とすることで偏光フィルムとの積層がロール形態でできるので好ましい。
【０１９４】
巾方向に延伸することで光学フィルムの遅相軸は巾方向になる。
【０１９５】
通常、延伸倍率は１．１〜３．０倍、好ましくは１．２〜１．５倍であり、延伸温度は、通常、フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋５０℃、好ましくはＴｇ〜Ｔｇ＋５０℃の温度範囲で行われる。
【０１９６】
延伸は、長手方向もしくは幅手方向で制御された均一な温度分布下で行うことが好ましい。好ましくは±２℃以内、さらに好ましくは±１℃以内、特に好ましくは±０．５℃以内である。
【０１９７】
本発明の基材を作製する場合、基材は、長尺フィルムであることが好ましく、具体的には、１００ｍ〜５０００ｍ程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものが好ましい。また、フィルムの幅は１．３〜４ｍであることが好ましく、１．４〜２ｍであることがより好ましい。
【０１９８】
（金属膜）
本発明において、太陽熱発電用反射鏡は、金属膜上に基材を有する構成を有するが、この構成は基材に金属箔を貼付する方法、基材に金属蒸着を行う方法、金属めっきを行う方法により得られる。
【０１９９】
金属蒸着、金属めっき、金属箔を貼付する方法は、従来公知の方法を用いることができる。
【０２００】
金属膜に用いられる金属としては、銀、アルミニウム、ニッケルが好ましく用いられる。金属としては、銀またはアルミニウムが特に好ましく用いることができる。金属膜の厚さとしては、０．１μｍから１００μｍが好ましく、１μｍから１０μｍが好ましい。
【０２０１】
（太陽熱発電用反射鏡）
本発明の太陽熱発電用反射鏡は、金属膜上に上記のフィルム状の基材を有し、基材側から太陽光を入射して金属膜上で太陽光を反射する。
【０２０２】
太陽熱発電用反射鏡の形状としては、用いられるソーラ集光集熱器の構成により異なるが、例えば、点集合型に用いられるパラボラ形、線集光型に用いられる、円筒形、単なる平面形などが挙げられる。
【０２０３】
これらの形で使用するには、基材を上記形状に成形してもよいし、太陽熱発電用反射鏡を上記形状を有する鏡支持体に設置してもよい。
【０２０４】
本発明の太陽熱発電用反射鏡は、フィルム状で軽量であるため、太陽光を追尾するためのヘリオスタット鏡として好適に用いることができる。
【０２０５】
本発明の太陽熱発電用反射鏡が、耐久性に優れる理由は、明確ではないが以下のように推測される。
【０２０６】
金属膜の反射面を基材が保護しており、かつ金属膜は、気象条件の変化、特に温度の変化に対して伸縮するが、本発明において基材は、フィルム状であってかつＭＦＣを含有することのために、基材の伸縮と金属膜の伸縮のずれが極めて僅かになっており、金属膜の変形が抑制されているためと推測される。
【０２０７】
本発明の太陽熱発電用反射鏡は、基材と金属膜との間に防湿層を有することが好ましく、また基材の金属膜側と反対側に防垢層を有することが好ましい。
【０２０８】
（防湿層）
本発明に係る防湿層により、湿度の変動、特に高湿度による基材の劣化を軽減することができる。防湿層としては、太陽光に対する透明性を有するガスバリア層が好ましく用いられる。
【０２０９】
ガスバリア層としては、金属酸化物、金属窒化物あるいは金属酸窒化物を含有する膜が好ましく挙げられ、これを基材上に設け、ガスバリア層上に金属膜が設けられる。
【０２１０】
金属酸化物、金属窒化物あるいは金属酸窒化物を含有するとは、これを主成分として有することであり、即ち、全構成成分中８０％以上を金属酸化物、金属窒化物あるいは金属酸窒化物が占めるということである。
【０２１１】
こうした膜に使用される金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物としてはケイ素、ジルコニウム、チタン、タングステン、タンタル、アルミニウム、亜鉛、インジウム、クロム、バナジウム、スズ、ニオブから選ばれる１種類以上の元素の酸化物あるいは窒化物、酸窒化物が挙げられ、さらに具体的には、酸化珪素、酸化チタン、酸化スズ、アルミナ等金属酸化物、窒化珪素等の金属窒化物、また酸窒化珪素、酸窒化チタン等の金属酸窒化物等である。特に好ましくは酸化ケイ素が主たる成分である金属酸化物膜である。主たる成分であるとは、防湿膜の成分内の比率が８０質量％以上であることをいう。
【０２１２】
金属酸化物あるいは窒化物、酸窒化物を含有する膜は、例えば、ゾルゲル法といわれる溶液を塗設する方法、又、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ法（化学蒸着）等如何なる方法で形成してもよいが、大気圧あるいは大気圧近傍でのプラズマ処理による方法で形成するのが好ましい。
【０２１３】
即ち有機金属化合物を反応性ガスとして用い、対向する電極間でプラズマ状態とした反応性ガスにフィルム支持体を曝すことでフィルム支持体上に膜形成を行う大気圧プラズマ法が、緻密な膜を形成できることと、反応性ガスの選択、さらにプラズマ発生条件によって、膜の物性等を制御できるため好ましい。
【０２１４】
酸化珪素は透明性が高いものの、水分等のガスバリア性をさらに向上させるため窒素原子を含有させる方が好ましい。窒素源としては後述するシラザンや窒素ガス等を用いることができる。
【０２１５】
但し、窒素の比率を上昇させるとバリア性は増強されるが、逆に光の透過率が低下するため、例えば、酸窒化珪素、又、酸窒化チタンの場合、ＳｉＯｘＮｙ、ＴｉＯｘＮｙという組成で表すとｘ、ｙを以下の式を満足するような値とし光透過性を余り低下させない領域で用いることが好ましい。
０．４≦ｘ／（ｘ＋ｙ）≦０．８
例えばｘ＝０である場合、すなわちＳｉＮでは殆ど光を通さない。酸素原子、窒素原子の比率はＸＰＳ（ＶＧサイエンティフィック社製ＥＳＣＡＣＡＢ−２００Ｒ）を用いて測定できる。
【０２１６】
水分の透過性が特に少ないことから、金属酸化物あるいは窒化物を含有する膜の主成分としては酸化珪素が好ましい。
【０２１７】
これらの金属酸化物あるいは窒化物を含有する膜は、大気圧若しくはその近傍の圧力下、プラズマＣＶＤ法により不活性ガスおよび金属化合物ガス、例えば有機金属化合物、金属水素化合物等を含有する反応性ガスを用いてフィルム支持体上に形成することが好ましい。
【０２１８】
有機金属化合物等の、金属水素化合物等の化合物は常温常圧で、気体、液体、固体いずれの状態であっても構わないが、気体の場合にはそのまま放電空間に導入できる、液体、固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の手段により気化させて使用する。又、溶媒によって希釈して使用してもよく、溶媒は、メタノール、エタノール、ｎ−ヘキサンなどの有機溶媒およびこれらの混合溶媒が使用できる。
【０２１９】
なお、これらの希釈溶媒は、プラズマ放電処理中において、分子状、原子状に分解されるため、影響は殆ど無視することができる。
【０２２０】
金属酸化物（例えばシリカ）、金属窒化物あるいは酸窒化物の膜については、防湿性の７０ｎｍ〜１５００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜１０００ｎｍの膜厚であることが好ましい。
【０２２１】
（防汚層）
本発明に係る防汚層により、基材への汚れ付着が軽減でき、基材の劣化を軽減することができる。防汚れ層としては、透明性の有機物層、無機物層が用いられる。無機物層としては、上述のガスバリア層と同様のものを用いることができる。有機物層としては、例えば、有機ケイ素化合物を含有する層が、好ましく用いられ、有機ケイ素化合物としては、特開２００５−２１９２２３号公報明細書の段落５４から段落６０に記載のものを用いることができる。
【０２２２】
また防汚層を作製する方法としては、特開２００５−２１９２２３号公報明細書の段落６０から段落６４に記載のプラズマ法などを用い、基材上に防汚層を形成することができる。
【０２２３】
防汚層の膜としては、５０ｎｍ〜２０００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜１０００ｎｍの膜厚であることが好ましい。
【０２２４】
防汚層としては、これらの中でも特に、無機物層が好ましく用いられる。
【０２２５】
本発明の太陽熱発電用反射鏡は、金属膜の基材側と反対側には防錆層を有していてもよい。防錆層としては、例えばポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂などの樹脂層を用いることができる。
【実施例】
【０２２６】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０２２７】
実施例１
（反射鏡１の作製）
＜基材の作製＞
まずＭＦＣ、及びその分散液を下記手順にて作製した。【０２２８】
（ＭＦＣ分散液１の調製）
日本製紙ケミカル（株）の針葉樹クラフトパルプＮＤＰ−Ｔを高圧ホモジナイザーで平均繊維径１μｍ以下になるまで粉砕処理した後、グラインダー（栗田機械製作所製「ＫＭ１−１０」）にて、この水懸濁液を、ほぼ接触させた状態の１２００ｒｐｍで回転するディスク間を、中央から外に向かって通過させる操作を３０回（３０ｐａｓｓ）行った。得られた縣濁液をいったん乾燥し、バルク上のセルロースをメチレンクロライドに投入し、高圧ホモジナイザーで解砕処理し、得られた分散液を濃縮し、固形分濃度が５０質量％になるように調整した。【０２２９】
次いで作製したＭＦＣ分散液１を用いて、下記ドープ液を用い、溶液流延法により、膜厚８０μｍ、５０００ｍの基材フィルムを作製した。【０２３０】
（ドープ液の調製）
トリアセチルセルロース                                １００質量部
ＭＦＣ分散液１                                          ８０質量部
（ＭＦＣ固形分として                                  ４０質量部）
可塑剤（トリメチロールプロパントリベンゾエート）        １０質量部
紫外線吸収剤（チヌビン１０９（チバ・ジャパン（株）製））  ２質量部
メチレンクロライド                                    ３００質量部
エタノール                                              ４０質量部
上記で作製した基材フィルム上に、プラズマ発生スパッタロールコート装置を使用し、ＤＣマグネトロンスパッタにより、Ｓｉをターゲットとして用いて、成膜温度１８０℃でプロセスガスとしてアルゴンガスと酸素ガスを導入し反応性スパッタで膜厚７０ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝１．８，ＸＰＳによる）のガスバリア層を両面（防湿層および防汚層）に形成した。（防湿層）を形成した。ガスバリア層の膜厚は、反応時間によって調整した。【０２３１】
〈金属層の作製〉
上記ガスバリア層を形成した基材フィルムに、下記の現像液（Ｄ−１）を用いて２５℃６０秒間の現像処理を、ついで下記の物理現像液（Ｐ−１）を用いて４５℃６０秒間の物理現像処理（無電解銀メッキ処理）を、次いで定着液（Ｆ−１）を用いて２５℃１２０秒間の定着処理を行った後、４０℃の温純水で５分洗浄したのち、４０℃の温風で３０分間の乾燥を行い、さらに架橋剤（Ｃ−１）を用い、架橋処理を行い、片面に金属膜層を形成し、反射鏡１を得た。
（現像液Ｄ−１）
純水  ５００ｍｌ
メトール  ２ｇ
無水亜硫酸ナトリウム  ８０ｇ
ハイドロキノン  ４ｇ
ホウ砂  ４ｇ
チオ硫酸ナトリウム  １０ｇ
臭化カリウム  ０．５ｇ
水を加えて全量を１リットルとする
（物理現像液Ｐ−１）
ハイドロキノン５ｇおよびクエン酸１０ｇを含む水溶液  １Ｌ
硝酸銀３５ｇを含む水溶液  １Ｌ
上記２つの水溶液を混合して３０分以内の水溶液
（定着液Ｆ−１）
純水  ７５０ｍｌ
チオ硫酸ナトリウム  ２５０ｇ
無水亜硫酸ナトリウム  １５ｇ
氷酢酸  １５ｍｌ
カリミョウバン  １５ｇ
水を加えて全量を１リットルとする
（架橋剤Ｃ−１）
純水  ７５０ｍｌ
グルタルアルデヒド  １５ｇ
（反射鏡２の作製）
反射鏡１において、ドープ液のトリアセチルセルロースに変えて、メタクリレートとアクリレートが９５：５（モル比）であり、質量平均分子量が２２万であるアクリル樹脂を用いた他は、反射鏡１と同様にして反射鏡２を作製した。【０２３２】
（反射鏡３の作製）
反射鏡１において、ドープ液のＭＦＣ分散液１を用いない他は、反射鏡１と同様にして、反射鏡３を作製した。【０２３３】
（反射鏡４の作製）
また、下記組成を有する混合組成物を２００℃で溶融し、２０℃まで冷却して、厚さ２０ｃｍを有し、５０ｃｍ×５０ｃｍの板状体を得た。この表面に反射鏡１と同様にして、銀の金属膜を形成し、反射鏡４を作製した。【０２３４】
トリアセチルセルロース                                    １００部
反射鏡１で用いたＭＦＣ                                      ４０部
可塑剤（トリメチロールプロパントリベンゾエート）            １０部
紫外線吸収剤（チヌビン１０９（チバ・ジャパン（株）製））      ２部
（耐久性評価）
反射鏡１の基材側から（基材に対して、金属層と反対側）、波長４００から８００ｎｍの光を用い、積分球による濃度計を用い反射率Ｄ１を測定し、下記の条件下に２４時間置いた後の反射鏡１の反射率Ｄ２を測定し反射率の低下度（Ｄ２／Ｄ１）を求め、耐久性の指標とした。【０２３５】
条件：
−２０℃と９０℃の雰囲気を３時間毎に繰り返すサイクルサーモ室（−２０度で３０分、９０℃で３０分維持する）に、反射鏡を設置し、９０℃の３０分の間では、９０℃、湿度１００％の空気を基材側に３０ｃｍの距離から風速１０ｍ／秒にて吹きつける。【０２３６】
反射鏡２、３、４についても同様にして反射率の低下度を測定した。基材４については、金属層側（基材に対して、金属層と同じ側）から空気を吹きつけ、金属層側から反射率を測定した。【０２３７】
反射率の低下度を下記のランクで評価した。ランクＢ以上が実用的に良好な範囲と評価した。結果を表１に示す。
Ａ：反射率の低下度が０．９８以上〜１．００以下
Ｂ：反射率の低下度が０．９５以上〜０．９８未満
Ｃ：反射率の低下度が０．９０以上〜０．９５未満
Ｄ：反射率の低下度が０．８０以上〜０．９０未満
Ｅ：反射率の低下度が０．８０未満【０２３８】
【表１】
2010106844.tif 000002
【０２３９】
表１から、本発明の太陽熱発電用反射鏡は、耐久性に優れることが分かる。【０２４０】
実施例２
（反射鏡１１の作製）
＜基材の作製＞
まずＭＦＣ、及びその分散液を下記手順にて作製した。【０２４１】
（ＭＦＣ分散液１の調製）
日本製紙ケミカル（株）の針葉樹クラフトパルプＮＤＰ−Ｔを高圧ホモジナイザーで平均繊維径１μｍ以下になるまで粉砕処理した後、グラインダー（栗田機械製作所製「ＫＭ１−１０」）にて、この水懸濁液を、ほぼ接触させた状態の１２００ｒｐｍで回転するディスク間を、中央から外に向かって通過させる操作を３０回（３０ｐａｓｓ）行った。得られた縣濁液をいったん乾燥し、バルク上のセルロースをメチレンクロライドに投入し、高圧ホモジナイザーで解砕処理し、得られた分散液を濃縮し、固形分濃度が５０質量％になるように調整した。【０２４２】
次いで作製したＭＦＣ分散液１を用いて、下記ドープ液を用い、溶液流延法により、膜厚８０μｍ、５０００ｍの基材フィルムを作製した。【０２４３】
（ドープ液の調製）
トリアセチルセルロース                                １００質量部
ＭＦＣ分散液１                                          ８０質量部
（ＭＦＣ固形分として                                  ４０質量部）
可塑剤（トリメチロールプロパントリベンゾエート）        １０質量部
紫外線吸収剤（チヌビン１０９（チバ・ジャパン（株）製））  ２質量部
メチレンクロライド                                    ３００質量部
エタノール                                              ４０質量部
〈金属層の作製〉
上記、基材フィルムに、下記の現像液（Ｄ−１）を用いて２５℃６０秒間の現像処理を、ついで下記の物理現像液（Ｐ−１）を用いて４５℃６０秒間の物理現像処理（無電解銀メッキ処理）を、次いで定着液（Ｆ−１）を用いて２５℃１２０秒間の定着処理を行った後、４０℃の温純水で５分洗浄したのち、４０℃の温風で３０分間の乾燥を行い、さらに架橋剤（Ｃ−１）を用い、架橋処理を行い、片面に金属膜層を形成し、反射鏡１１を得た。
（現像液Ｄ−１）
純水  ５００ｍｌ
メトール  ２ｇ
無水亜硫酸ナトリウム  ８０ｇ
ハイドロキノン  ４ｇ
ホウ砂  ４ｇ
チオ硫酸ナトリウム  １０ｇ
臭化カリウム  ０．５ｇ
水を加えて全量を１リットルとする
（物理現像液Ｐ−１）
ハイドロキノン５ｇおよびクエン酸１０ｇを含む水溶液  １Ｌ
硝酸銀３５ｇを含む水溶液  １Ｌ
上記２つの水溶液を混合して３０分以内の水溶液
（定着液Ｆ−１）
純水  ７５０ｍｌ
チオ硫酸ナトリウム  ２５０ｇ
無水亜硫酸ナトリウム  １５ｇ
氷酢酸  １５ｍｌ
カリミョウバン  １５ｇ
水を加えて全量を１リットルとする
（架橋剤Ｃ−１）
純水  ７５０ｍｌ
グルタルアルデヒド  １５ｇ
（反射鏡１２の作製）
反射鏡１１において、下記のように、基材フィルムと金属層との間に防湿層を形成した以外は、反射鏡１１の作製と同様にして、反射鏡１２を作製した。【０２４４】
プラズマ発生スパッタロールコート装置を使用し、ＤＣマグネトロンスパッタにより、Ｓｉをターゲットとして用いて、成膜温度１８０℃でプロセスガスとしてアルゴンガスと酸素ガスを導入し反応性スパッタで膜厚７０ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝１．８，ＸＰＳによる）のガスバリア層を両面（防湿層および防汚層）に形成した。（防湿層）を形成した。ガスバリア層の膜厚は、反応時間によって調整した。【０２４５】
（反射鏡１３の作製）
反射鏡１１において、ドープ液のトリアセチルセルロースに変えて、メタクリレートとアクリレートが９５：５（モル比）であり、質量平均分子量が２２万であるアクリル樹脂を用いた他は、反射鏡１１と同様にして反射鏡１３を作製した。【０２４６】
（反射鏡１４の作製）
反射鏡１１において、ドープ液のトリアセチルセルロースに変えて、メタクリレートとアクリレートが９５：５（モル比）であり、質量平均分子量が２２万であるアクリル樹脂を用いた他は、反射鏡１１と同様にして反射鏡１４を作製した。【０２４７】
（反射鏡１５の作製）
反射鏡１１において、ドープ液にＭＦＣを含まない他は、反射鏡１１と同様にして反射鏡１５を作製した。【０２４８】
（反射鏡１６の作製）
反射鏡１２において、ドープ液にＭＦＣを含まない他は、反射鏡１２と同様にして反射鏡１６を作製した。【０２４９】
（反射鏡１７の作製）
反射鏡１３において、ドープ液にＭＦＣを含まない他は、反射鏡１３と同様にして反射鏡１７を作製した。【０２５０】
（反射鏡１８の作製）
反射鏡１４において、ドープ液にＭＦＣを含まない他は、反射鏡１４と同様にして反射鏡１８を作製した。【０２５１】
（反射鏡１９の作製）
反射鏡１２において、ドープ液にＵＶ吸収剤を含まない他は、反射鏡１２と同様にして反射鏡１９を作製した。【０２５２】
（反射鏡２０の作製）
また、下記組成を有する混合組成物を２００℃で溶融し、２０℃まで冷却して、厚さ８０μｍ、５０ｃｍ×５０ｃｍのフィルムを得た。この表面に反射鏡１１と同様にして、銀の金属膜を形成し、反射鏡２０を作製した。【０２５３】
トリアセチルセルロース                                    １００部
反射鏡１で用いたＭＦＣ                                      ４０部
可塑剤（トリメチロールプロパントリベンゾエート）            １０部
紫外線吸収剤（チヌビン１０９（チバ・ジャパン（株）製））      ２部
（太陽光集光ミラーの作製）
厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのステンレス（ＳＵＳ３０４）板上に、上記反射鏡１１〜１９を各々、厚さ３μｍの粘着層を介して、ステンレスに対して金属膜より基材が遠い位置となるように、貼り付け、太陽光集光ミラー１１〜１９を作製した。また、上記反射鏡２０を基材より金属膜が遠い位置となるように、貼り付け、太陽光集光ミラー２０を作製した。【０２５４】
［評価］
上記で得た太陽光集光ミラーについて、下記の方法により正反射率及び耐候性、耐光性の測定をそれぞれ行った。【０２５５】
＜正反射率の測定＞
島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。【０２５６】
＜耐候性試験（正反射率の変化）＞
温度８５℃、湿度８５％ＲＨの条件で３０日間放置後のフィルムミラーの正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率の比から、耐候性試験前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。ランクＢ以上が実用的に良好な範囲と評価した。結果を表２に示す。
Ａ：正反射率の低下率が５％未満
Ｂ：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
Ｃ：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
Ｄ：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
Ｅ：正反射率の低下率が２０％以上
＜耐光性試験（正反射率の変化）＞
得られたサンプルを、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行ったのち、上記方法により正反射率を測定し、紫外線照射前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐光性試験の評価基準を記す。ランクＢ以上が実用的に良好な範囲と評価した。結果を表２に示す。
Ａ：正反射率の低下率が５％未満
Ｂ：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
Ｃ：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
Ｄ：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
Ｅ：正反射率の低下率が２０％以上
＜鉛筆硬度試験＞
ＪＩＳ−Ｋ５４００に基づいて、各反射鏡の４５°傾斜、１ｋｇ荷重における鉛筆硬度を測定し、耐久性評価の一つの尺度とした。測定結果を表２に示す。【０２５７】
表から、本発明の太陽熱発電用反射鏡は、耐候性および耐光性が良好で、またその表面硬度も高く、耐久性に優れることが分かる。【０２５８】
【表２】
2010106844.tif 000003
【符号の説明】
【０２５９】
１  金属膜
２  基材
３  防湿層
４  防汚層
１０  太陽熱発電用鏡
【図１】
2010106844.tif 000004
【国際調査報告】
2010106844.tif 000005
2010106844.tif 000006
2010106844.tif 000007
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