(57)【要約】  ８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するようにコレステリック規則性が調整された２層のコレステリック樹脂層と、該２層のコレステリック樹脂層の間に１／２波長の位相差を有する樹脂層を備えることを特徴とする断熱部材、並びにこれを備える断熱ガラス。
2011007796.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するようにコレステリック規則性が調整された２層のコレステリック樹脂層と、該２層のコレステリック樹脂層の間に１／２波長の位相差を有する樹脂層を備えることを特徴とする断熱部材。
【請求項２】
前記１／２波長の位相差を有する樹脂層がネマチック配向を有する樹脂層、または透明樹脂を延伸したフィルムであることを特徴とする請求項１に記載の断熱部材。
【請求項３】
前記コレステリック樹脂層が、屈折率異方性Δｎが０．２１以上の液晶性化合物を含む液晶組成物を硬化してなる樹脂層であることを特徴とする請求項１に記載の断熱部材。
【請求項４】
４２０〜７８０ｎｍの波長領域における入射光の平均透過率が５０％以上であることを特徴とする請求項１に記載の断熱部材。
【請求項５】
前記コレステリック樹脂層及び前記１／２波長の位相差を有する樹脂層の少なくとも１層が、式（１）
【化１】
2011007796.tif 000009
（式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、−ＯＲ３、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ３を表す。ここで、Ｒ３は、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ３がアルキル基である場合、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ４−、−ＮＲ４−、または−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及び−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ４は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｎは２から１２の整数を表す。）
で表される化合物を含有するコレステリック液晶組成物から形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載の断熱部材。
【請求項６】
前記式（１）で表される化合物が、式（２）
【化２】
2011007796.tif 000010
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−および−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。）
で表される化合物であることを特徴とする請求項５に記載の断熱部材。
【請求項７】
２枚のガラス基板、およびそれらの間に設けられた請求項１に記載の断熱部材を備えることを特徴とする断熱ガラス。
【請求項８】
前記２枚のガラス基板の間にさらに合わせガラス用中間膜を備えることを特徴とする請求項７に記載の断熱ガラス。
【請求項９】
前記２枚のガラス基板の間に空気層を備えることを特徴とする請求項７に記載の断熱ガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽エネルギー量の高い約９００〜約１３００ｎｍ付近の波長領域にある赤外線の反射率が高く、かつ、可視光線領域の光線透過率の高いコレステリック樹脂層を有する断熱部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、省エネルギー化を推進する観点から、冷暖房効率を向上させる赤外線の断熱層が注目されている。赤外線の断熱層を自動車やビルの窓ガラスに使用することを考慮する場合、可視光線領域である約４００ｎｍ〜約７５０ｎｍの波長領域においては、光線透過率を高めることが重要であるが、太陽エネルギー量の高い約９００〜約１３００ｎｍの領域にある近赤外線においては、断熱効果の観点から、より多く反射することが望ましい。近赤外線領域は可視光線領域に極めて近い波長域であるため、これら両者のバランスを達成するためには、用いる断熱層の反射特性が、近赤外線領域と可視光線領域とにおいて極めて鋭く変化する必要がある。
しかしながら、従来の断熱層の材料では、可視光線領域と近赤外線領域との間において、ブロードな反射特性の変化しか得ることができないので、両者のバランスを達成することは困難であった。【０００３】
この課題を解決する方策の一つとして、コレステリック液晶を用いる断熱層が知られている。コレステリック液晶によって反射される光は以下の式によって決まり、すなわち、選択反射の中心波長λは、λ＝ｎ×ｐ（式中、ｎはコレステリック液晶層の平均屈折率、ｐはらせん１周期の長さ）で表され、その反射帯域の帯域幅Δλは、Δλ＝Δｎ×ｐ（式中、Δｎはコレステリック液晶層の屈折率異方性、ｐはらせん１周期の長さ）で表される。また、選択反射の反射係数Ｑは、Ｑ＝π×Δｎ／ｎで表される。つまり、コレステリック液晶を用いて近赤外線及び赤外線を十分に反射させるためにはΔｎの高い、すなわち通常Δｎ０．２１以上のコレステリック液晶を用いて、厚い層、すなわち通常８μｍ以上の層を形成することが必要である。しかしながら、配向欠陥なくコレステリック液晶を配向できるのはせいぜい６μｍ程度であり、十分に近赤外線及び赤外線を反射することができない。また、これ以上の膜厚になると配向欠陥が生じてヘイズを高くしてしまう問題がある。特許文献１ではヘイズ３％未満の赤外線反射フィルムが開示されているが、赤外線を反射するコレステリック層の厚みは最大で６μｍ程度であり、ヘイズは低く抑えられているが赤外線の反射率が低く、十分な断熱機能を有していない。また、コレステリック液晶のΔｎが０．２１未満であり、反射帯域幅も狭い欠点がある。特許文献２では１／２λ波長板を２層のコレステリック層間に配置することで反射率を高める方法が開示されているが、コレステリック液晶のΔｎが０．２１未満であるため反射帯域幅が狭く、十分な断熱機能を有していない。特許文献３では、選択反射帯域の異なるコレステリック液晶ポリマーを５層積層することで広い反射帯域幅が得られている。しかし、液晶ポリマーを使用しているため配向処理に長時間を要すること、さらには５層ものコレステリック液晶層が必要であり、生産性に欠ける問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００９−５１４０２２号公報（対応公報：国際公開ＷＯ２００７／０５０４３３号）
【特許文献２】特表２００８−５４２０６５号公報（対応公報：国際公開ＷＯ２００６／１２８０９１号）
【特許文献３】特許４１０９９１４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、コレステリック樹脂層の数が少なくても、太陽エネルギー量の高い約９００〜約１３００ｎｍ付近の波長領域にある赤外線の反射率が高く、かつ、可視光線領域の光線透過率の高い（すなわち、極めて鋭い反射特性変化を有する）コレステリック樹脂層を有する断熱部材を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、コレステリック規則性を調整して、８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射する放射の少なくとも４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するようにコレステリック規則性が調整されたコレステリック樹脂層と該２層のコレステリック樹脂層の間に１／２波長の位相差を有する樹脂層を用いると、該コレステリック樹脂層の数が少なくても、赤外線領域と可視光線領域との間において極めて鋭い反射特性変化を有し、耐熱性に優れた実用的な断熱部材が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。【０００７】
かくして、本発明によれば、下記〔１〕〜〔９〕が提供される。
〔１〕８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するようにコレステリック規則性が調整された２層のコレステリック樹脂層と、該２層のコレステリック樹脂層の間に１／２波長の位相差を有する樹脂層を備えることを特徴とする断熱部材。【０００８】
〔２〕前記１／２波長の位相差を有する樹脂層がネマチック配向を有する樹脂層、または透明樹脂を延伸したフィルムであることを特徴とする〔１〕に記載の断熱部材。
〔３〕前記コレステリック樹脂層が、屈折率異方性Δｎが０．２１以上の液晶性化合物を含む液晶組成物を硬化してなる樹脂層であることを特徴とする〔１〕又は〔２〕に記載の断熱部材。【０００９】
〔４〕４２０〜７８０ｎｍの波長領域における入射光の平均透過率が５０％以上であることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の断熱部材。
〔５〕前記コレステリック樹脂層及び前記１／２波長の位相差を有する樹脂層の少なくとも１層が、式（１）【００１０】
【化１】
2011007796.tif 000003
【００１１】
（式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、−ＯＲ３、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ３を表す。ここで、Ｒ３は、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ３がアルキル基である場合、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ４−、−ＮＲ４−、または−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及び−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ４は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｎは２から１２の整数を表す。）
で表される化合物を含有するコレステリック液晶組成物から形成されたものであることを特徴とする〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の断熱部材。【００１２】
〔６〕前記式（１）で表される化合物が、式（２）【００１３】
【化２】
2011007796.tif 000004
【００１４】
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−および−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。）
で表される化合物であることを特徴とする〔５〕に記載の断熱部材。【００１５】
〔７〕２枚のガラス基板、およびそれらの間に設けられた〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の断熱部材を備えることを特徴とする断熱ガラス。
〔８〕前記２枚のガラス基板の間にさらに合わせガラス用中間膜を備えることを特徴とする〔７〕に記載の断熱ガラス。
〔９〕前記２枚のガラス基板の間に空気層を備えることを特徴とする〔７〕に記載の断熱ガラス。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、コレステリック樹脂層の数が２層といった少ない数であっても、太陽エネルギー量の高い約９００〜約１３００ｎｍ付近の波長領域にある赤外線を高度に反射でき、かつ、可視光線領域の光線透過率の高い、実用的な断熱部材が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明の断熱部材の層構成の例を概略的に示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の断熱部材の層構成の例を概略的に示す断面図である。
【図３】図３は、本発明の断熱部材の層構成の例を概略的に示す断面図である。
【図４】図４は、本発明の断熱部材の層構成の例を概略的に示す断面図である。
【図５】図５は、実施例１の断熱ガラス１０１の層構成を概略的に示す断面図である。
【図６】図６は、実施例２の断熱ガラス１０２の層構成を概略的に示す断面図である。
【図７】図７は、実施例３の断熱ガラス１０３の層構成を概略的に示す断面図である。
【図８】図８は、実施例１の断熱ガラス１０１の透過スペクトルを示すグラフである。
【図９】図９は、実施例３の断熱ガラス１０３の透過スペクトルを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の断熱部材は、８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するようにコレステリック規則性が調整されたコレステリック樹脂層を有することを特徴とする。
即ち、コレステリック樹脂層のコレステリック規則性が調整されることにより、本発明の断熱部材は、８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域を２００ｎｍ以上有する。
【００１９】
本願においてコレステリック樹脂層と呼ぶ層は、コレステリック規則性を有する樹脂層である。「コレステリック規則性」とは、一平面上では分子軸が一定の方向に並んでいるが、次の平面では分子軸の方向が少し角度をなしてずれ、さらに次の平面ではさらに角度がずれるという具合に、該平面の法線方向に分子軸の角度が次々にずれて（ねじれて）いく構造である。このように分子軸の方向がねじれてゆく構造はカイラルな構造と呼ばれる。該平面の法線（カイラル軸）はコレステリック樹脂層の厚さ方向に略平行になっていることが好ましい。
【００２０】
また、「８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するようにコレステリック規則性を調整する」とは、コレステリック規則性の周期を変化させることにより、８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域を２００ｎｍ以上有するコレステリック樹脂層を形成することをいう。
入射光の４０％以上を反射する帯域の広さの上限は、特に限定されないが、１１００ｎｍ以下とすることができる。
【００２１】
コレステリック規則性を持つコレステリック樹脂層に光が入射すると、特定波長領域の左回りまたは右回りの何れかの円偏光のみが反射される。反射された円偏光以外の光は透過する。この円偏光が反射される特定波長領域が選択反射帯域である。
【００２２】
カイラル構造において分子軸が捩れる時の回転軸を表す螺旋軸と、コレステリック樹脂層の法線とが平行である場合、カイラル構造のピッチ長ｐと反射される円偏光の波長λとは式（Ａ）および式（Ｂ）の関係を有する。
【００２３】
式（Ａ）：λｃ＝ｎ×ｐ×ｃｏｓθ
式（Ｂ）：ｎｏ×ｐ×ｃｏｓθ≦λ≦ｎｅ×ｐ×ｃｏｓθ
【００２４】
式中、ｎｏは棒状液晶化合物の短軸方向の屈折率を表し、ｎｅは棒状液晶化合物の長軸方向の屈折率を表し、ｎは（ｎｅ＋ｎｏ）／２であり、ｐはカイラル構造のピッチ長を表し、θは光の入射角（面の法線からの角度）を表す。
【００２５】
すなわち、選択反射帯域の中心波長λｃは、コレステリック樹脂層におけるカイラル構造のピッチ長ｐに依存する。このカイラル構造のピッチ長を変えることによって、選択波長帯域を変えることができる。
【００２６】
本発明においては、室内あるいは車内などにおいて、明度を維持するために、可視光線の領域である４２０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長領域における入射光の平均透過率が、５０％以上であることが好ましい。さらに、自動車においては、ガラス窓を通しての視界が良好であることが好ましく、且つ法律により所定以上の透過率が求められる場合もある（例えば日本における道路交通法による規制）ため、平均透過率は６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがさらに好ましい。
【００２７】
（コレステリック樹脂層）
本発明の断熱部材が有するコレステリック樹脂層は、液晶性化合物を含む液晶組成物を硬化して得ることができる。かかる液晶性化合物は、その屈折率異方性Δｎが０．２１以上のものであることが好ましい。また、屈折率異方性Δｎの上限は、特に限定されないが、０．３５以下とすることができる。
具体的には、コレステリック樹脂層は、液晶ポリマー溶液、又は重合性液晶組成物等の液晶組成物を、基材上に塗布・乾燥することにより形成することができる。
【００２８】
より具体的には、例えば、（ａ）液晶ポリマー、並びに必要に応じてカイラル剤、界面活性剤、及び配向調整剤等の任意の成分を溶剤に溶解させた液晶ポリマー溶液（塗布液）を基材上に膜状に塗布し、乾燥させ、得られた塗膜について、８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するようにコレステリック規則性を調整する方法、或いは、（ｂ）重合性液晶化合物、重合開始剤およびカイラル剤、並びに必要に応じて界面活性剤、及び配向調整剤等の任意の成分を溶剤に溶解させた重合性液晶組成物（塗布液）を得、これを基材上に膜状に塗布し、乾燥させ、得られた塗膜を重合した後、８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するようにコレステリック規則性を調整する方法によって形成することができる。
【００２９】
これらの中でも、より効率よく目的とするコレステリック樹脂層を形成できることから、（ｂ）の方法が好ましい。
（ａ）、（ｂ）いずれの方法においても、得られるコレステリック樹脂層の厚みは、１μｍ〜２０μｍが好ましく、３μｍ〜１５μｍが特に好ましい。
【００３０】
（液晶ポリマー溶液）
（ａ）の方法で用いることができる液晶ポリマー溶液としては、低分子カイラル剤及びネマチック液晶ポリマーを含有するもの；カイラル成分が導入された液晶ポリマーを含有するもの；ネマチック液晶ポリマーとコレステリック液晶ポリマーの混合物；等が挙げられる。カイラル成分が導入された液晶ポリマーとは、それ自体がカイラル剤の機能を果たす液晶ポリマーである。ネマチック液晶ポリマーとコレステリック液晶ポリマーの混合物は、それらの混合比率を変えることによって、ネマチック液晶ポリマーのカイラル構造のピッチを調整することができるものである。
【００３１】
また、アゾメチン形、アゾ形、アゾキシ形、エステル形、ビフェニル形、フェニルシクロヘキサン形、およびビシクロヘキサン形のようなパラ置換芳香族単位やパラ置換シクロヘキシル単位等からなるネマチック配向性を付与するパラ置換環状化合物を有するポリマーに、不斉炭素を有する化合物等からなる適宜なカイラル成分や低分子カイラル剤等を導入する方法等により、コレステリック規則性を付与したもの（特開昭５５−２１４７９号公報、米国特許第５３３２５２２号公報等を参照）も用いることができる。なお、パラ置換環状化合物におけるパラ位の末端置換基としては、シアノ基やアルキル基、アルコキシル基等が挙げられる。
【００３２】
液晶ポリマーはその製法によって制限されない。液晶ポリマーは、例えば、メソゲン構造を有するモノマーをラジカル重合、カチオン重合またはアニオン重合することによって得られる。メソゲン構造を有するモノマーは、例えばアクリル酸エステルやメタクリル酸エステルのようなビニル系モノマーに、直接にまたはスペーサー部を介してメソゲン基を公知の方法で導入することによって得ることができる。また、液晶ポリマーは、ポリオキシメチルシリレンのＳｉ−Ｈ結合を介し白金系触媒の存在下にビニル置換メソゲンモノマーを付加反応させることによって；主鎖ポリマーに付与した官能基を介して相間移動触媒を用いたエステル化反応によりメソゲン基を導入することによって；又はマロン酸の一部に必要に応じスペーサー部を介してメソゲン基を導入したモノマーとジオールとを重縮合反応させることによって得ることができる。
【００３３】
（液晶ポリマーに導入または含有させるカイラル剤）
液晶ポリマーに導入または含有させるカイラル剤（即ち、液晶ポリマーの分子の一部として導入するか、液晶ポリマーと共に混合物として用いるカイラル剤）としては、従来公知のものを使用することができる。例えば、特開平６−２８１８１４号公報に記載されたカイラルモノマー、特開平８−２０９１２７号公報に記載されたカイラル剤、特開２００３−１３１１８７号公報に記載の光反応型カイラル化合物等が挙げられる。
【００３４】
またカイラル剤としては、カイラル剤の添加によって意図しない相転移温度の変化が生じることを避けるために、カイラル剤自身が液晶性を示すものが好ましい。さらに、経済性の観点からは、液晶ポリマーを捩じる効率を表す指標であるＨＴＰ（＝１／ｐ・ｃ）の大きなものが好ましい。ここで、ｐはカイラル構造のピッチ長を表し、ｃはカイラル剤の濃度を表す。カイラル構造のピッチ長とは、カイラル構造において分子軸の方向が平面を進むに従って少しずつ角度がずれていき、そして再びもとの分子軸方向に戻るまでのカイラル軸方向の距離のことである。
【００３５】
基材としては、有機、無機を問わず、公知慣用の材質のものを使用することができるが、透明基材が好ましい。透明基材の材質としては、例えば、有機材料としてはポリシクロオレフィン〔例えば、ゼオネックス、ゼオノア（登録商標；日本ゼオン株式会社製）、アートン（登録商標；ＪＳＲ社製）、及びアペル（登録商標；三井化学社製）〕、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース、三酢酸セルロース、ポリエーテルスルホン等の透明樹脂基材が挙げられ、無機材料としてはシリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。
また、用いる基材は、単層のものであっても、積層体であってもよい。積層体の場合、有機材料と無機材料の組み合わせ、有機材料のみの組み合わせ、無機材料のみの組み合わせであってもよい。例えば、有機材料を基材として使用して断熱部材を作製し、その基材付の断熱部材をガラスに積層して、断熱ガラスを作製することもできる。
ここで基材は、本発明の断熱部材の任意の構成要素として断熱部材に含まれていてもよい。
また、本発明の断熱部材と、それ以外の構成要素としてのガラス基板とを組み合わせて、後述する本発明の断熱ガラスを構成してもよい。例えば、本発明の断熱ガラスの構成要素であって本発明の断熱部材の構成要素以外の要素（ガラス基板等）を、コレステリック樹脂層を形成するための基材として用い、この基材の上に本発明の断熱部材を構成し、これにより本発明の断熱ガラスを構成することができる。
【００３６】
本発明においては、コレステリック樹脂層（断熱層）は、（ａ）及び（ｂ）の方法と同様にして他の基材に形成したものを転写して用いることもできる。
他の基材としては、前述した基材と同様のものが使用できるが、透明基材が好ましく、透明有機材料がより好ましく、更にはこの有機材料をフィルムとした樹脂フィルムが更に好ましい。
【００３７】
本発明においては、コレステリック樹脂層を形成するために、配向膜を用いることができる。配向膜は、コレステリック規則性を持つコレステリック樹脂層を面内で一方向に配向規制するために透明基材の表面に形成される。
配向膜は、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドなどのポリマーを含有するものである。配向膜は、このようなポリマーを含有する溶液（配向膜用組成物）を基材上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで、得ることができる。
配向膜の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。
【００３８】
本発明ではコレステリック樹脂層を形成する際に、配向膜あるいは基材にラビング処理を施すことができる。ラビング処理の方法は、特に制限されないが、例えばナイロンなどの合成繊維、木綿などの天然繊維からなる布やフェルトを巻き付けたロールで一定方向に配向膜を擦る方法が挙げられる。ラビング処理した時に発生する微粉末（異物）を除去して配向膜の表面を清浄な状態とするために、ラビング処理後に配向膜をイソプロピルアルコールなどによって洗浄することが好ましい。
また、ラビング処理する方法以外に、配向膜の表面に偏光紫外線を照射する方法によっても、配向膜にコレステリック規則性を持つコレステリック樹脂層を面内で一方向に配向規制する機能を持たせることができる。
【００３９】
（ａ）の方法において、液晶ポリマーを基材上に膜状に積層するには、前記液晶ポリマーの有機溶媒溶液を、基材上に、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延製膜法、バーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法などの公知の塗工方法により塗工し、乾燥すればよい。
【００４０】
（ａ）の方法において、基材上に膜状に形成した液晶ポリマー層を、８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するようにコレステリック規則性を調整するには、液晶ポリマーに含有させるカイラル剤の種類、添加量を適宜設定することにより、あるいは、導入するカイラル成分として適宜なものを選定することにより、行うことができる。また、ネマチック液晶ポリマーとコレステリック液晶ポリマーの混合物は、それらの混合比率を変えることによって、ネマチック液晶ポリマーのカイラル構造のピッチを調整することができる。
【００４１】
（重合性液晶組成物）
（ｂ）の方法に用いる重合性液晶化合物としては、特に制約はなく、例えば、特開平１１−１３０７２９号公報、特開平８−１０４８７０号公報、特開２００５−３０９２５５号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特表２００１−５１９３１７号公報、特表２００２−５３３７４２号公報、特開２００２−３０８８３２号公報、特開２００２−２６５４２１号公報、特開昭６２−０７０４０６号公報、特開平１１−１００５７５号公報、特開２００８−２９１２１８号公報、特開２００８−２４２３４９号公報、ＷＯ２００９／１３３２９０号パンフレット、特願２００８−１７０８３５号等に記載のものを用いることができる。
【００４２】
これらの中でも、本発明においては、前記式（１）で表される化合物が好ましく、前記式（２）で表される化合物がより好ましい。本発明においては、コレステリック樹脂層及び１／２波長の位相差を有する樹脂層のうちの１層以上が、式（１）で表される化合物を含有するコレステリック液晶組成物から形成されたものであることが好ましく、式（１）で表される化合物が式（２）で表される化合物であることがより好ましい。
式（１）中、Ｒ１は、水素原子；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基、ｎ−へプチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基；−ＯＲ３；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ３；を表す。
【００４３】
ここで、Ｒ３は、水素原子；又は置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ３としての、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基の炭素数１〜１０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
【００４４】
Ｒ３としての、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；等が挙げられる。
【００４５】
また、Ｒ３がアルキル基である場合、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ４−、−ＮＲ４−、または−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−および−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。
【００４６】
Ｒ４は、水素原子；または、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基；を表す。
また、ｎは２〜１２の整数を表し、６であるのが好ましい。
【００４７】
なかでも、Ｒ１は、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ２で表される基であるのが好ましい。ここで、Ｒ２は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−および−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。Ｒ２としては、メチル基が好ましい。
【００４８】
前記式（１）で表される化合物は、有機合成化学における公知の方法を組み合わせることによって、例えば、特開２００８−２９１２１８号公報に記載の方法により製造することができる。
【００４９】
（ｂ）の方法による場合、重合性液晶組成物に含まれる化合物を重合して得られる液晶性高分子化合物としては、重合性液晶化合物の単独重合体、重合性液晶化合物の２種以上からなる共重合体、又は、重合性液晶化合物と他の共重合可能な単量体との共重合体などが挙げられる。
【００５０】
前記他の共重合可能な単量体としては、特に限定されるものではなく、例えば、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−メトキシフェニル、４−（６−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸ビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−３’，４’−ジフルオロフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸ナフチル、４−アクリロイルオキシ−４’−デシルビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−シアノビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−メトキシビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−（４”−フルオロベンジルオキシ）−ビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−プロピルシクロヘキシルフェニル、４−メタクリロイル−４’−ブチルビシクロヘキシル、４−アクリロイル−４’−アミルトラン、４−アクリロイル−４’−（３，４−ジフルオロフェニル）ビシクロヘキシル、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−アミルフェニル）、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−（４’−プロピルシクロヘキシル）フェニル）等が挙げられる。
【００５１】
他の共重合可能な単量体の含有量は、特に限定されるものではないが、全単量体の５０重量％以下が好ましく、３０重量％以下がより好ましい。かかる範囲にあると、ガラス転移温度（Ｔｇ）が高く、高い膜硬度を有する液晶性高分子化合物を得ることができる。
【００５２】
（ｂ）の方法に用いる重合性液晶組成物に含有させる重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤のいずれでもよいが、より容易且つ効率よくコレステリック規則が調整されたコレステリック樹脂層を形成できることから、光重合開始剤が好ましい。
【００５３】
光重合開始剤としては、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号公報、同第２９５１７５８号公報）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号公報）、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号公報、同第２３６７６７０号公報）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号公報）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号公報）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号公報）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号公報）などが挙げられる。
【００５４】
重合開始剤の配合量は、全重合性単量体１００重量部に対して１〜１０重量部であることが好ましく、１〜５重量部であることがさらに好ましい。
【００５５】
また、光重合開始剤を用いたときには、照射光として紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、０．１ｍＪ／ｃｍ２〜５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、０．１ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることがさらに好ましい。
紫外線の照射方法は、特に制限されない。また、紫外線照射エネルギーは、重合性液晶化合物の種類によって適宜選択される。
【００５６】
（重合性液晶組成物に含有させるカイラル剤）
前記重合性液晶組成物に含有させるカイラル剤としては、特開２００３−６６２１４号公報、特開２００３−３１３１８７号公報、米国特許第６４６８４４４号公報、ＷＯ第９８／００４２８号公報等に掲載されるものを適宜使用することが出来るが、液晶化合物を捩じる効率を表す指標であるＨＴＰの大きなものが経済性の観点から好ましい。ＨＴＰは、式：ＨＴＰ＝１／（ｐ・ｃ）で表される。ここで、ｐはカイラル構造のピッチ長を表し、ｃはカイラル剤の濃度を表す。また、カイラル剤の添加による意図しない相転移温度の変化を避けるために、カイラル剤自身が液晶性を示すものを用いることが好ましい。
【００５７】
（重合性液晶組成物に含有させるその他の配合剤）
他の配合剤としては、界面活性剤、配向調整剤などが挙げられる。
界面活性剤は、重合性液晶組成物の塗膜の表面張力を調整するために用いられる。界面活性剤としては、ノニオン系の界面活性剤が好ましく、分子量が数千程度のオリゴマーであることが好ましい。
【００５８】
配向調整剤は、基材上に形成されたコレステリック樹脂層の空気側表面の配向状態を制御するためのものである。配向調整剤としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、あるいはこれらの変性物が挙げられる。
【００５９】
重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物、重合開始剤およびカイラル剤、さらに必要に応じて界面活性剤、配向調整剤等を溶媒に溶解させることにより調製することができる。
【００６０】
用いる溶媒としては、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、およびエーテル類などの有機溶媒が挙げられる。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が好ましい。また、二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００６１】
重合性液晶組成物を膜状に積層するには、基材上に、重合性液晶組成物を、（ａ）の方法と同様に、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延製膜法、バーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法等の公知の塗工法により塗工し、得られた塗膜を乾燥させればよい。乾燥温度は、４０〜１５０℃の範囲である。
【００６２】
上述のように、（ｂ）の方法において、８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するように、コレステリック規則性を調整する工程は、ＷＯ２００８／００７７８２号に開示されている方法と同様に行うことが好ましい。
【００６３】
すなわち、重合性液晶化合物、光重合開始剤およびカイラル剤、さらに必要に応じて界面活性剤、配向調整剤等を溶剤に溶解させた重合性液晶組成物を基材上に膜状に塗布し、乾燥させることで光重合性塗膜を形成する工程（塗膜形成工程（Ｉ））、得られた塗膜に、２０〜４０℃の温度下で、０．５ｍＪ／ｃｍ２以上５０ｍＪ／ｃｍ２未満の選択紫外線を照射し、重合性液晶組成物を重合する工程（選択紫外線照射工程（ＩＩ））、前記塗膜のコレステリック規則性の周期を変化させる工程（コレステリック規則性調整工程（ＩＩＩ））、及び、前記塗膜を硬化させる工程（塗膜硬化工程（ＩＶ））により、８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するように、コレステリック規則性が調整されたコレステリック液相層を好適に形成することができる。
また、前記選択紫外線照射工程（ＩＩ）及び前記コレステリック規則性調整工程（ＩＩＩ）を複数回繰り返すことが好ましい。
【００６４】
選択紫外線照射工程（ＩＩ）として、前記光重合性塗膜に、２０〜４０℃の温度下で、０．５ｍＪ／ｃｍ２以上５０ｍＪ／ｃｍ２未満の選択紫外線を照射する。積算光量は、基材面において、選択紫外線の波長にピーク感度を持つ（具体的には、例えば３６０ｎｍにピーク感度を持つ）照度計を使用して測定する。
【００６５】
ここで、選択紫外線（広帯域化用紫外線ともいう）とは、先に説明した光重合性塗膜の中の液晶の架橋度を膜の厚さ方向に異ならせることが可能な波長範囲もしくは照度を選択的に制御した紫外線を意味する。なお、この選択紫外線の照射によって、光重合性塗膜が完全に硬化（１００％重合）することはない。
選択紫外線の照射により、塗膜の中の液晶の架橋度を膜の厚さ方向に異ならせることが可能となり、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するように、コレステリック規則性を調整することが容易となる。
【００６６】
前記選択紫外線照射工程に用いる選択紫外線としては、波長範囲の幅を１００ｎｍ以内とした紫外線を用いることが好ましい。具体的には、３００ｎｍ以上４００ｎｍ未満の波長のみを有する紫外線を用いることが好ましい。
光源としては、水銀ランプ光源、メタルハライドランプ光源等を用いることができる。
【００６７】
このように、紫外線を、０．５ｍＪ／ｃｍ２以上５０ｍＪ／ｃｍ２未満の照射条件にて、バンドパスフィルターを用いる等により波長範囲の幅を１００ｎｍ以内とし、選択紫外線照射工程（ＩＩ）において用いることが好ましい。また、条件によっては波長範囲の幅を制御せずに用いることも可能である。なお、前記波長範囲の幅は、半値幅（透過率のピーク値の半分の値の幅）とする。
なお、前記波長範囲の制御は、具体的には、例えば中心波長３６５ｎｍのバンドパスフィルターを用いる方法、塗膜に含まれる重合開始剤が最大の吸収を示す波長を中心とした、波長範囲の幅を１００ｎｍ以内とする方法等が挙げられる。
【００６８】
また、選択紫外線は、塗膜側から照射しても、基材側から照射しても、あるいは塗膜側、基材側の両側から照射して良いが、酸素による重合阻害を小さくする点で、基材側から照射することが好ましい。
塗膜側から照射する湯合は、照度・照射時間安定度をよりシビアに制御する必要がある（具体的には±３％以下）ので、生産性の面からも、基材側から照射するのが好ましい。
【００６９】
更に基材側から照射する場合、前記選択紫外線照射工程の前に、基材上の光重合性塗膜を冷却して塗膜の温度を２０℃〜４０℃とする工程を有することが好ましい。２０℃〜４０℃に維持された光重合性塗膜に上述の選択紫外線を照射することにより、塗膜の厚さ方向に光の強度分布が生じ、その結果、膜の厚さ方向に架橋度が異なるコレステリック樹脂層を形成することができる。塗膜を冷却する方法としては、冷風給気による冷却、冷却ロールによる冷却等を挙げることができる。
【００７０】
次に、前記塗膜のコレステリック規則性のピッチを変化させる（コレステリック規則性調整工程（ＩＩＩ））。
「塗膜のコレステリック規則性の周期を変化させる」とは、コレステリック規則性を有するコレステリック樹脂層のピッチを厚さ方向に変化させるということである。
【００７１】
コレステリック規則性の周期を変化させる方法としては、（ｉ）塗膜を液晶相を示す温度以上で加熱処理を行う方法、（ｉｉ）前記塗膜にさらに液晶化合物を塗布する方法、（ｉｉｉ）前記塗膜に、さらに非液晶化合物を塗布する方法などが挙げられる。これらの方法は１種類であってもよいし、それぞれを繰り返してもよいし、あるいは２種以上の方法を組み合わせてもよい。
【００７２】
これらの中で、操作が簡単で、かつ効果の点から、前記（ｉ）の方法が好ましい。
加熱処理条件としては、広帯域化の効果と共に生産性を考慮すると、通常５０〜１１５℃の温度で０．００１〜２０分間程度、好ましくは６５〜１１５℃の温度で０．００１〜１０分間、より好ましくは６５〜１１５℃の温度で０．０１〜５分間である。ただし、光重合性塗膜を形成する液晶性化合物の種類により、液晶相を発現する温度領域が変わるので、それに伴い処理温度・処理時間も異なる。
【００７３】
また、上記選択紫外線照射工程（ＩＩ）及びコレステリック規則性調整工程（ＩＩＩ）を複数回繰り返すのが好ましい。これらの工程を複数回繰り返すことにより、コレステリック規則性を有する樹脂層のピッチをより大きく変化させることが可能である。選択紫外線照射、コレステリック規則性調整の条件は、反射帯域を調整するために、回数毎にそれぞれ適宜調整される。繰り返しの回数に制限はないが、生産性、設備上の観点から２回以上であることが好ましい。なお、２回以上に分けて行うと、照射時間を短くすることができるので、重合度が大きくなり難く、従って分子が動き易くなるため、コレステリック規則性を有するコレステリック樹脂層のピッチを制御し易くなる。
【００７４】
ここで、工程（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を「繰り返す」とは、工程（ＩＩ）の実施とそれに続く工程（ＩＩＩ）の実施を含むシーケンスを繰り返すことをいう。即ち、工程（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）を２回繰り返すと、工程（ＩＩ）−（ＩＩＩ）−（ＩＩ）−（ＩＩＩ）の順で行われることになる。これらの工程の間には、前記冷却等の他の工程を行ってもよい。
【００７５】
次いで、前記塗膜を硬化させる（塗膜硬化工程（ＩＶ））。
硬化方法としては、前記塗膜が硬化してコレステリック規則性を有するような方法であれば特に制限されないが、本硬化紫外線を積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ２以上となるように照射する方法であることが好ましい。ここで、本硬化紫外線とは、塗膜を完全に硬化させることのできる波長範囲もしくは照度に設定した紫外線を意味する。なお、本硬化紫外線では、塗膜の中の液晶の架橋度を膜の厚さ方向に異ならせることは難しい。
【００７６】
本紫外線の積算光量は、好ましくは１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは５０〜８００ｍＪ／ｃｍ２の範囲で選定される。積算光量は基材面において、紫外線光量計を使用して測定、または照度計を使用して照度を測定し、積算光量＝照度×時間で算出することにより選定する。
本硬化紫外線の照射方向は、塗膜側と基材側のどちらからでも良いが、紫外線の照射効率が良い点から、塗膜側から照射することが好ましい。
【００７７】
また、上記本硬化紫外線照射を窒素ガス雰囲気下などの酸素ガスの存在量の少ない雰囲気下で行うことが好ましい。このような雰囲気下で行うことにより、酸素による重合阻害の影響を低減することが可能である。本硬化紫外線照射時の酸素ガス濃度は、好ましくは３％以下、より好ましくは１％以下、特に好ましくは５００ｐｐｍ以下である。
【００７８】
さらに、前記塗膜硬化工程（ＩＶ）の前に、基材上の光重合性塗膜を２０℃〜４０℃に冷却する工程を有することが好ましい。２０℃〜４０℃に維持された光重合性塗膜に上述の本紫外線を照射することにより、コレステリック規則性調整工程後のコレステリック規則性を有するコレステリック樹脂層のピッチの状態を維持することができる。
【００７９】
この塗膜硬化工程（ＩＶ）により、コレステリック規則性を有するコレステリック樹脂層の機械的特性を、その広帯域化を維持しつつ、向上させることができる。
コレステリック規則性を有するコレステリック樹脂層の厚みは、配向の乱れや透過率低下の防止、選択反射の波長範囲（反射波長域）の広さなどの観点から、通常、１〜１００μｍ、好ましくは１〜２０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。
【００８０】
８００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長領域において、入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上有するようにコレステリック規則性が調整されたコレステリック樹脂層（以下、「調整コレステリック樹脂層」ということがある。）の形成に好適な塗膜形成装置としては、従来公知のものを使用することができる。例えば、前記透明基材を連続的に送り出す繰り出し装置と、この繰り出し装置から送り出された基材上に光重合性組成物を塗布し塗膜を形成する塗工ヘッドとを備えるとともに、前記塗膜が形成された基材を冷却する手段、波長範囲および／または照度が選択された選択紫外線を前記塗膜に照射する選択紫外線照射装置、および前記基材を加熱する手段を、２系統以上備えている塗膜形成装置が挙げられる。
本発明において、前記繰り出し装置や塗工ヘッドとしては、特に制限されず、公知のもの等を用いることができる。
【００８１】
また、本発明において塗膜が形成された基材を冷却する手段としては、冷却ゾーン装置、冷却ロール等により構成することができ、冷却ゾーン装置から構成することが好ましい。当該冷却手段は、基材の搬送経路の一部分を囲み、その中の温度を、光重合性組成物の硬化に適した一定の温度に保つ装置とすることができる。
また、本発明においては、前記冷却手段すべてを、選択紫外線照射装置および本硬化紫外線照射装置それぞれよりも前に備えることが好ましく、選択紫外線照射装置および本硬化紫外線照射装置それぞれの直前に備えるのがより好ましい。
【００８２】
本発明の断熱部材の例（層構成断面図）を図１〜図４に示す。
図１に示すものは、２層の透明基材３、及び該透明基材のそれぞれの上に形成された２層の調整コレステリック樹脂層１を備え、且つ、該２層のコレステリック樹脂層の間に１／２波長の位相差を有する樹脂層２を備える断熱部材１０Ａである。
【００８３】
図２に示すものは、２層の透明基材３、及び該透明基材のそれぞれの上に形成された２層の調整コレステリック樹脂層１を備え、且つ、該２層のコレステリック樹脂層の間に１／２波長の位相差を有する樹脂層２および中間膜４を備える断熱部材１０Ｂである。中間膜を設けることによって、耐衝撃性が増すという利点がある。
【００８４】
図３に示すものは、それぞれが透明基材３ａと３ｂの積層体である２層の透明基材３、および該透明基材のそれぞれの上に形成された調整コレステリック樹脂層１を備え、且つ、該２層のコレステリック樹脂層の間に１／２波長の位相差を有する樹脂層２および中間膜４を備える断熱部材１０Ｃである。３ａがガラス、３ｂが有機材料の場合、有機材料と断熱部材を独立して作製し、ガラスと積層することによって、断熱ガラスを作製することもできる。
【００８５】
図４に示すものは、図３に示す断熱ガラスにおいて、さらに空気層６を設けた場合の断熱部材１０Ｄである。
【００８６】
本発明の断熱部材は、ガラスに貼り付けて断熱ガラスとしたり、合わせガラスの内側に配置した断熱ガラスとして使用することが好ましい。合わせガラスとは２枚のガラスの間に中間膜を配置して熱融着されたガラスや２枚のガラスの間に空気層を設けたガラスを指し、本発明の断熱部材を２枚のガラスの内側に配置することで断熱ガラスとすることができる。中間膜は本発明の断熱部材又は断熱部材を構成する各層とガラスを一体化できるよう配置することができる。本発明の断熱ガラスは例えば図５の合わせガラスとすることができる。
中間膜には公知の透明樹脂を使用することができ、例えば、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニル共重合体、中でもポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルブチラールがより好ましい。中間膜の厚さは、所望する合わせガラスの性能や製造適性に問題が無ければ特に限定されないが、例えば０．１ｍｍ〜２ｍｍである。
したがって、本発明の断熱ガラスは、２枚のガラス基板、及びそれらの間に設けられた前記本発明の断熱部材を備える。本発明の断熱ガラスは、２枚のガラス基板の間に、さらに他の任意の層を有していてもよい。例えば、本発明の耐熱ガラスは、２枚のガラス基板の間に２枚の透明樹脂フィルムを有し、当該２枚の透明樹脂フィルムの間に前記本発明の断熱部材を備えるものであってもよい。また、本発明の耐熱ガラスは、２枚のガラス基板の間に、上に説明したもの等の中間膜を備えていてもよく、当該中間膜は、ガラス基板と断熱部材との間に存在していてもよく、図２〜図４の例において示した通り、断熱部材を構成する層の間に設けられていてもよい。また、本発明の耐熱ガラスは、２枚のガラス基板の間に、例えば上に述べた態様で、空気層を備えていてもよい。
【００８７】
コレステリック樹脂層１層あたりの、選択反射帯域における反射率は最大で５０％であり、断熱部材全体としてはさらなる高反射率が求められる。選択反射帯域の反射率を５０％より大きくする方法としては、選択反射帯域の１／２波長である位相差層を同一螺旋方向である２層のコレステリック樹脂層の間に配置する方法がある。１／２波長層の２層のコレステリック層間への配置は、公知の位相差層を１／２波長層として使用し若しくは形成することにより達成できる。例えば透明樹脂を延伸したフィルム、配向させた液晶層を固定化した層などを使用することが出来る。
【００８８】
本発明の断熱部材において、１／２波長の位相差を有する樹脂層（１／２波長層）は従来公知の１／２波長板を用いて形成することができる。１／２波長板は、例えば、透明樹脂からなるフィルムを延伸して得られるものであって、幅方向に対して１５°±７°、又は−１５°±７°の方向に遅相軸を有するものである。
【００８９】
１／２波長板を構成する透明樹脂としては、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上のものであれば特に制限されず、トリアセチルセルロースの如きアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、鎖状ポリオレフィン系樹脂、脂環式構造を有する重合体樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、等が挙げられる。なかでも、ポリカーボネート系樹脂又は脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましい。
【００９０】
使用する透明樹脂からなる未延伸フィルムは、透明な樹脂からなるが、前記樹脂には、必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、分散剤、塩素捕捉剤、難燃剤、結晶化核剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、離型剤、顔料、有機又は無機の充填材、中和剤、滑剤、分解剤、金属不活性化剤、汚染防止材、抗菌剤や熱可塑性エラストマーなどの公知の添加剤を本発明の効果を損なわない範囲で添加することができる。これらの添加剤の添加量は、透明樹脂１００重量部に対して、通常０〜５重量部、好ましくは０〜３重量部である。
【００９１】
１／２波長板は、透明樹脂からなる未延伸フィルムを延伸して、その延伸の倍率を調整することにより得られる。透明な樹脂からなる未延伸フィルムを得る方法としては特に制約されず、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法などの加熱溶融成形法；溶液流延法などの公知の成形法を採用することができる。
各々の成形条件は、使用する透明な樹脂のガラス転移温度や溶剤などに応じて適宜調整すればよい。
１／２波長板の厚みは、通常１０〜３００μｍ、好ましくは３０〜２００μｍである。
【００９２】
１／２波長層を構成する、配向させた液晶層の固定化した層としては、本発明の断熱部材の使用環境において固定化されていれば特に制限されず、例えば、高分子液晶を高温で配向させた後に低温にクエンチして固定化させたり、重合性液晶を配向処理後に熱及び／又は光によって硬化させることが出来る。かかる高分子液晶や重合性液晶はネマチック相やスメクチック相を発現する棒状液晶化合物が好適に用いられ、より好ましくはネマチック相を発現する棒状液晶化合物を用いられる。１／２波長層の厚みｄは、所望する位相差Ｒｅと使用する液晶化合物の屈折率異方性Δｎによって、ｄ＝Ｒｅ／Δｎで与えられる。例えば、９００ｎｍ〜１３００ｎｍの近赤外領域に対する１／２波長は４５０ｎｍ〜６５０ｎｍであり、Δｎが０．１４の棒状液晶化合物を使用する場合には４μｍの厚みとすることでＲｅ５６０ｎｍの位相差層を形成することが出来る。かかる重合性液晶は多官能であることが好ましく、硬化時に架橋させることで高耐熱性の位相差層とすることができる。
また、上で説明した式（１）で表される化合物を含有するコレステリック液晶組成物から形成された１／２波長層も、好ましく用いうる。
１／２波長層はコレステリック樹脂層上に直接積層しても良いし、粘着剤や接着剤、配向膜を介して積層することができる。粘着剤や接着剤は公知の材料が使用でき、例えば、熱可塑性樹脂系のものや、熱硬化性樹脂系が挙げられる。
【００９３】
また、粘着剤層（又は接着剤層）の形成に用いる粘着剤又は接着剤としては、透明なものであれば特に制限されない。例えば、熱可塑性樹脂系のものや熱硬化性樹脂系のものが挙げられる。熱可塑性樹脂系の粘着剤又は接着剤としては、酢酸ビニル系、ポリビニルアルコール系、ポリビニルアセタール系、塩化ビニル系、アクリル系、ポリアミド系、ポリエチレン系、セルロース系などが挙げられる。中でも、アクリル系粘着剤又は接着剤が好ましい。アクリル系粘着剤又は接着剤における主成分としては、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル等と、メタクリル酸エステル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル等との共重合体が、好適である。
【００９４】
熱硬化性樹脂系の粘着剤又は接着剤としては、メラミン系、フェノール系、レゾルシノール系、ポリエステル系、ポリウレタン系、エポキシ系、ポリアロマティック系のものが挙げられる。中でも、ポリウレタン系粘着剤若しくは接着剤、又はエポキシ系粘着剤若しくは接着剤が好ましい。ポリウレタン系粘着剤若しくは接着剤は、イソシアネートとアルコールとをアルコール過剰で反応させたポリマーを主成分とし、ホットメルトとして又は溶剤溶解型として好適に使用される。ポリウレタン系粘着剤若しくは接着剤は、アミン硬化剤等の硬化剤を用いて常温下で、又は加熱により容易に硬化する。これら粘着剤または接着剤は、その使用形態としてフィルム、水溶液、エマルジョン等であってもよい。
【００９５】
粘着剤層（又は接着剤層）５の厚みは、適宜調節すればよいが、通常１〜２００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは５０〜１５０μｍの範囲である。
【００９６】
配向膜はコレステリック樹脂層上に位相差１／２波長の液晶層を形成する際に、配向性を向上させたり、コレステリック樹脂層と１／２波長層との密着性を向上させる目的で設けることが出来る。配向膜は公知の材料が使用でき、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミドなどのポリマーを含有するものである。配向膜は、このようなポリマーを含有する溶液をコレステリック樹脂層などの基材上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで得ることが出来る。配向膜の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。
【００９７】
本発明の断熱部材は、コレステリック樹脂層の数が少なくても、太陽エネルギー量の高い約９００〜約１３００ｎｍ付近の波長領域にある赤外線を高度に反射でき、かつ、可視光線領域の光線透過率が高く、かつ、工業的に有利に製造することができ、実用性が高いものである。
【００９８】
（用途）
本発明の断熱部材は、太陽エネルギー量の高い赤外線を高度に反射でき、かつ、可視光線領域の光線透過率が高いので、自動車、鉄道並びに住宅等の断熱窓、建築材料の断熱材、電子機器の断熱材料として好適に使用することができる。
【実施例】
【００９９】
以下、本発明を、実施例により、より詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。以下において、成分量比に関する「部」は別に断らない限り重量部を表す。【０１００】
（実施例１）
（１−１）コレステリック規則性が調整されたコレステリック樹脂層の形成
下記式で示される重合性液晶化合物（３）３０部（化合物（３）は特開２００８−２９１２１８号公報に記載された方法により合成した、Δｎは０．２２である）、【０１０１】
【化３】
2011007796.tif 000005
【０１０２】
下記式で示される重合性非液晶化合物（４）７．５部、【０１０３】
【化４】
2011007796.tif 000006
【０１０４】
カイラル剤（商品名「ＬＣ７５６」、ＢＡＳＦ社製）１．２部、重合開始剤（商品名「イルガキュアＯＸＥＯ２」、チバ・ジャパン社製）１．２部、界面活性剤（フッ素系界面活性剤、商品名「フタージェント２０９Ｆ」、ネオス社製）０．０４部、及びシクロペンタノン６０部を混合し、固形分濃度（溶媒であるシクロペンタノン以外の成分の割合）４０％のコレステリック液晶組成物を調製した。【０１０５】
調製したコレステリック液晶組成物を♯２０のワイヤーバーを使用して、ポリイミド配向膜付き配向処理ガラス基板（イーエッチシー社製、厚さ１．１ｍｍ）の配向膜を有する面に塗布し、１４０℃で２分間配向処理し、膜厚１０μｍのコレステリック液晶組成物の層を形成した。次に、ガラス基板側から１５ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、１００℃で１分間加温した。このものを３０℃まで冷却後、再度コレステリック液晶組成物の層のガラス基板側から１５ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、１００℃で１分間加温した。さらにコレステリック液晶組成物の層側から２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、コレステリック規則性の調整された樹脂層をガラス基板上に形成し、ガラス基板及びコレステリック樹脂層からなる複層物を得た。得られた複層物を偏光顕微鏡（ニコン社製、偏光顕微鏡ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｅ６００−ＰＯＬ）で観察したところ、配向欠陥は皆無であり、ヘイズのない透明なコレステリック樹脂層が形成されていた。複層物は２枚調製し、１枚は下記工程（１−２）に、もう１枚は下記工程（１−３）において用い、最終的にはこれらを貼り合せた。【０１０６】
（１−２）１／２波長層の形成
重合性液晶化合物（商品名「ＬＣ２４２」、Δｎ０．１４、ＢＡＳＦ社製）３８．５部、重合開始剤（商品名「イルガキュアＯＸＥ０２」、チバ・ジャパン社製）１．２部、界面活性剤（フッ素系界面活性剤、商品名「フタージェント２０９Ｆ」、ネオス社製）０．０４部、シクロペンタノン６０部を混合し、固形分濃度４０％（溶媒である２−ブタノンを除いた割合）のΔｎ０．１４の液晶化合物を含む、ネマチック液晶組成物を調製した。【０１０７】
（１−１）で作製したガラス基板及びコレステリック樹脂層からなる複層物の、コレステリック樹脂層側をコロナ処理し、調製したネマチック液晶組成物を♯８のワイヤーバーを使用して、コレステリック樹脂層上に塗布し、８５℃で２分間配向処理して膜厚４μｍのネマチック液晶組成物の層を形成した。次にネマチック液晶組成物の層側から２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、コレステリック樹脂層上にネマチック樹脂層を形成し、ガラス基板、コレステリック樹脂層及びネマチック樹脂層からなる複層物を得た。得られた複層物を偏光顕微鏡で観察したところ、配向欠陥は皆無であり、ヘイズのない透明なネマチック樹脂層が形成されていることが確認できた。尚、コレステリック樹脂層の空気界面側のダイレクターが揃っていたために特別な配向処理を施すことなく配向欠陥のないネマチック規則性が得られたものと考えられる。【０１０８】
（１−３）断熱ガラス１０１の作製
（１−１）で作製した複層物のコレステリック樹脂層側をコロナ処理し、（１−２）で作製した複層物のネマチック樹脂層側をコロナ処理し、ポリビニルブチラールシート（厚さ０．７ｍｍ）の両面に各コロナ処理した樹脂層が内側になるように配置し、１３０℃で融着処理して断熱ガラス１０１を作製した。断熱ガラス１０１の層構成断面図を図５に示す。得られた断熱ガラス１０１の４２０ｎｍ〜１９００ｎｍの透過スペクトルと反射スペクトルを紫外可視近赤外分光光度計（日本分光社製、Ｖ−５７０）で測定し、可視光線である４２０ｎｍ〜７８０ｎｍの平均透過率と、反射率が４０％以上となる選択反射帯域の中心波長及び帯域の幅を調べた。得られたスペクトルを図８に、数値結果を表１に示した。【０１０９】
（１−４）断熱ガラス１０１の断熱率の計算
断熱ガラス１０１の光線透過率の測定で得られたスペクトルを用いて、９００〜１３００ｎｍの太陽光線エネルギー量をどれだけ反射したかで断熱率を計算した。結果を表１にまとめた。計算式は以下のとおりである。【０１１０】
断熱率（％）＝（反射された９００〜１３００ｎｍのエネルギー量／９００〜１３００ｎｍの全エネルギー量）×１００【０１１１】
（実施例２）
実施例１の（１−１）で作製した複層物のコレステリック樹脂層側をコロナ処理し、ポリビニルアルコールの５％水溶液を当該コレステリック樹脂層に♯２のワイヤーバーを用いて塗布した。１００℃で１分間乾燥させ、膜厚０．１μｍの配向膜を形成した後、配向膜面をラビング処理し、ガラス基板、コレステリック樹脂層及び配向膜からなる複層物を得た。
実施例１の（１−２）と同様にして該配向膜上に１／２波長層を形成させ、実施例１と同様にして断熱ガラス１０２を作製した。即ち、（１−２）において、ガラス基板及びコレステリック樹脂層からなる複層物を用いる代わりに、上で得たガラス基板、コレステリック樹脂層及び配向膜からなる複層物を用い、且つ、ネマチック樹脂層をコレステリック樹脂層上ではなく配向膜上に形成した他は、実施例１と同様にして、断熱ガラス１０２を得た。断熱ガラス１０２の層構成断面図を図６に示す。実施例１と同様にして得られた断熱ガラスの透過スペクトルと反射スペクトルを測定し、断熱率の計算を実施した。数値結果を表１に示した。【０１１２】
（実施例３）
実施例１の（１−１）で作製した２枚の複層物のそれぞれのコレステリック樹脂層側をコロナ処理した。リターデーション５５０ｎｍの位相差フィルム（ゼオノア（登録商標；日本ゼオン株式会社製）を延伸したフィルム、厚さ１６０μｍ）２枚のそれぞれの両面をコロナ処理した。コレステリック樹脂層が内側になるように、コレステリック樹脂層と位相差フィルムの間にポリビニルブチラールシートを配置して融着処理をした。即ち、複層物、位相差フィルム、ポリビニルブチラールシート（厚さ０．７ｍｍ）、位相差フィルム、及び複層物を、この順に、複層物のコレステリック樹脂層側の面が位相差フィルムに接するように重ねて、融着処理した。この処理により、断熱ガラス１０３を作製した。断熱ガラス１０３の層構成断面図を図７に示す。実施例１と同様にして断熱ガラス１０３の透過率の測定、断熱率の計算を実施した。得られたスペクトルを図９に、数値結果を表１に示す。【０１１３】
【表１】
2011007796.tif 000007
【０１１４】
表１の結果より、本発明のコレステリック規則性を有する断熱層から、可視光透過率の高い断熱フィルムを得られることがわかる。【０１１５】
（実施例４）
実施例１、実施例２、実施例３で作製した各断熱ガラスを１３０℃、３時間処理した後、透過スペクトルを測定した。可視光線の平均透過率と断熱率の計算を実施した。数値結果を表２に示す。【０１１６】
【表２】
2011007796.tif 000008
【符号の説明】
【０１１７】
１，１１・・・・・コレステリック規則性が調整されたコレステリック樹脂層
２，２１，２２・・１／２波長の位相差を有する樹脂層
３，３ａ，３ｂ・・透明基材
３１・・・・・・・配向膜付のガラス基材
４，４１・・・・・中間膜
５，５１・・・・・配向膜
６・・・・・・・・空気層
【図１】
2011007796.tif 000011
【図２】
2011007796.tif 000012
【図３】
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【図４】
2011007796.tif 000014
【図５】
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【図６】
2011007796.tif 000016
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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